JP6931911B2 - Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film - Google Patents
Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film Download PDFInfo
- Publication number
- JP6931911B2 JP6931911B2 JP2016144780A JP2016144780A JP6931911B2 JP 6931911 B2 JP6931911 B2 JP 6931911B2 JP 2016144780 A JP2016144780 A JP 2016144780A JP 2016144780 A JP2016144780 A JP 2016144780A JP 6931911 B2 JP6931911 B2 JP 6931911B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- antibacterial
- thin film
- metal ion
- zeolite
- ion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
本発明は、電子ビーム真空蒸着等に利用可能な抗菌薄膜成膜用抗菌材料、及びその抗菌薄膜の製造方法に関する。 The present invention relates to an antibacterial material for forming an antibacterial thin film that can be used for electron beam vacuum deposition and the like , and a method for producing the antibacterial thin film.
抗菌剤として、下記特許文献１の背景技術の記載された有機系殺菌剤や無機系抗菌剤が知られている。
これらの抗菌剤の多くは、樹脂に分散し塗料としたうえで基材に塗布されて膜状となる（湿式成膜）。
しかし、湿式成膜では、抗菌剤の樹脂への分散が難しく、又塗布後に乾燥工程が必要となるため、膜厚や膜特性の精密な制御が困難である。
これに対し、イオンプレーティングや真空蒸着（乾式成膜）に利用可能な抗菌剤として、下記特許文献１の特許請求の範囲に記載された酸化亜鉛が知られている。
この酸化亜鉛による成膜では、樹脂への分散や乾燥工程は不要で、膜厚や膜特性を精密に制御することが可能である。
As the antibacterial agent, an organic bactericidal agent and an inorganic antibacterial agent described in the background technology of Patent Document 1 below are known.
Most of these antibacterial agents are dispersed in a resin to form a paint, and then applied to a base material to form a film (wet film formation).
However, in wet film formation, it is difficult to disperse the antibacterial agent in the resin, and a drying step is required after coating, so that it is difficult to precisely control the film thickness and film characteristics.
On the other hand, zinc oxide described in the claims of Patent Document 1 below is known as an antibacterial agent that can be used for ion plating and vacuum deposition (dry film deposition).
This film formation with zinc oxide does not require dispersion in a resin or a drying step, and it is possible to precisely control the film thickness and film characteristics.
しかし、成膜された酸化亜鉛では、透過率が十分ではなく、透過率を向上させるためには成膜時に基材を加熱する必要があり、プラスチック製基材等の加熱の不適な基材に対して透過率の高い抗菌薄膜を形成することができない。
そこで、本発明の目的は、高透過率で抗菌性を有する抗菌薄膜を乾式成膜で容易に形成するための抗菌薄膜成膜用抗菌材料を提供し、並びに高透過率で抗菌性を有する抗菌薄膜の乾式での製造方法を提供することにある。
However, the film-formed zinc oxide does not have sufficient transmittance, and it is necessary to heat the base material at the time of film formation in order to improve the transmittance. On the other hand, it is not possible to form an antibacterial thin film with high transmittance.
An object of the present invention is to provide an antimicrobial film film-forming antimicrobial material to easily form an antimicrobial film having antimicrobial properties with a high transmittance in a dry film formation, has antibacterial properties with high transmittance in parallel beauty It is an object of the present invention to provide a dry method for producing an antibacterial thin film.
上記目的を達成するため、請求項１に記載の発明は、抗菌薄膜成膜用抗菌材料であって、金属イオン担持ゼオライト、及び無機誘電体から成る、抗菌薄膜を電子ビームで成膜するためのペレット状焼結体であり、前記金属イオン担持ゼオライトの全体に対する重量比率は、１ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であり、前記ペレット状焼結体は、前記金属イオン担持ゼオライトと前記無機誘電体との混合物のペレット状成形体の焼成物であることを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、上記発明にあって、前記重量比率は、２２ｗｔ％以上であることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、上記発明にあって、前記無機誘電体は、ＳｉＯ２を含んでいることを特徴とする。
上記目的を達成するため、請求項４に記載の発明は、抗菌薄膜の製造方法であって、請求項１ないし請求項３の何れかに記載の抗菌薄膜成膜用抗菌材料を電子ビーム蒸着することにより、基材の表面に対し抗菌薄膜が蒸着されることを特徴とする。
上記目的を達成するため、請求項５に記載の発明は、抗菌薄膜の製造方法であって、無機誘電体に対し、金属イオン担持ゼオライトを、１ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下の重量比率で混合して混合物を調合し、前記混合物をペレット状に成形してペレット状成形体を得、前記ペレット状成形体を焼成してペレット状焼結体を得て、前記ペレット状焼結体を電子ビーム蒸着することにより、基材の表面に対し抗菌薄膜を成膜することを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、上記発明において、前記重量比率を、２２ｗｔ％以上としたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is an antibacterial material for forming an antibacterial thin film, for forming an antibacterial thin film composed of a metal ion-supporting zeolite and an inorganic dielectric with an electron beam. It is a pellet-shaped sintered body, and the weight ratio of the metal ion-supported zeolite to the whole is 1 wt% or more and 30 wt% or less, and the pellet-shaped sintered body is a mixture of the metal ion-supported zeolite and the inorganic dielectric. It is characterized in that it is a fired product of the pellet-shaped molded product of.
The invention according to claim 2 is the above invention, wherein the weight ratio is 22 wt% or more.
According to a third aspect of the invention, in the above invention, the inorganic dielectric, characterized in that it contains SiO 2.
In order to achieve the above object, the invention according to claim 4 is a method for producing an antibacterial thin film, and the antibacterial material for forming an antibacterial thin film according to any one of claims 1 to 3 is deposited with an electron beam. As a result, an antibacterial thin film is deposited on the surface of the base material.
In order to achieve the above object, the invention according to claim 5 is a method for producing an antibacterial thin film, in which a metal ion-supporting zeolite is mixed with an inorganic dielectric in a weight ratio of 1 wt% or more and 30 wt% or less. The mixture is blended, the mixture is molded into pellets to obtain a pellet-shaped molded product, the pellet-shaped molded product is fired to obtain a pellet-shaped sintered body, and the pellet-shaped sintered body is deposited with an electron beam. As a result, an antibacterial thin film is formed on the surface of the base material.
The invention according to claim 6 is characterized in that, in the above invention, the weight ratio is 22 wt% or more.
本発明は、高透過率で抗菌性を有する抗菌薄膜を乾式成膜で容易に形成するための抗菌薄膜成膜用抗菌材料を提供し、並びに高透過率で抗菌性を有する抗菌薄膜の乾式での製造方法を提供することができる、という効果を奏する。 The present invention is high in transmittance antibacterial thin film having antimicrobial properties that provides antibacterial thin film forming antimicrobial material for easily formed by a dry film formation, dry antimicrobial films with antimicrobial at a high transmittance in parallel beauty It has the effect of being able to provide a manufacturing method in.
以下、本発明に係る実施の形態の例が説明される。 Hereinafter, examples of embodiments according to the present invention will be described.
本発明に係る抗菌薄膜は、所定の抗菌材料が基材に対して蒸着されることで製造される。
抗菌材料は、金属イオン担持ゼオライトを含有する。
金属イオン担持ゼオライトは、金属イオンがゼオライト（アルミノケイ酸塩）にイオン交換反応によって担持されたものである。
ゼオライトとしては、天然ゼオライト（沸石）や人工ゼオライトが利用可能であり、又Ａ型，Ｙ型，Ｐ型等の各種の型のゼオライトが利用可能である。
ゼオライトに担持される金属イオンは、例えば銀イオン，亜鉛イオン，銅イオン，マグネシウムイオン，錫イオン，鉄イオン，ニッケルイオン，白金イオン，金イオン，ナトリウムイオン，カルシウムイオン，カリウムイオン及び銅イオンのうちの少なくとも１つであり、好ましくは銀イオン，銅イオン，亜鉛イオン、より好ましくは銀イオンである。
ゼオライトには、これらの金属イオンから選択される１種類の金属イオンを担持させても良いが、２種以上の金属イオンを担持させることもできる。又、ゼオライトとして、金属イオン担持ゼオライトが１種単独で使用されてもよいが、２種以上の金属イオン担持ゼオライトが組み合わせられても良い。
The antibacterial thin film according to the present invention is produced by depositing a predetermined antibacterial material on a base material.
The antibacterial material contains a metal ion-supported zeolite.
The metal ion-supported zeolite is one in which metal ions are supported on zeolite (aluminosilicate) by an ion exchange reaction.
As the zeolite, natural zeolite (boiling stone) and artificial zeolite can be used, and various types of zeolite such as A type, Y type, and P type can be used.
The metal ions supported on the zeolite are, for example, silver ion, zinc ion, copper ion, magnesium ion, tin ion, iron ion, nickel ion, platinum ion, gold ion, sodium ion, calcium ion, potassium ion and copper ion. It is at least one of, preferably silver ion, copper ion, zinc ion, and more preferably silver ion.
The zeolite may carry one kind of metal ion selected from these metal ions, but it may also carry two or more kinds of metal ions. Further, as the zeolite, one kind of metal ion-supported zeolite may be used alone, or two or more kinds of metal ion-supported zeolite may be combined.
金属イオンは、金属イオン担持ゼオライト中に、どのような比率で含まれていても良いが、好ましくは０．０１〜２０重量％程度、より好ましくは０．１〜１５重量％程度、更に好ましくは１〜１０重量％程度の比率で担持されている。例えば、金属イオンが銀イオンの場合、銀イオンは０．１〜１５重量％程度の範囲であることが好ましい。また、金属イオンが亜鉛イオンの場合、亜鉛イオンとして０．１〜２０重量％程度、好ましくは０．１〜１０重量％程度の範囲である。
又、２種以上の金属イオン担持ゼオライトが組み合わせられる場合、金属イオン担持ゼオライト総量中の各金属イオンの含有比率としては、特に限定されず、適宜設定され得る。例えば、金属イオン担持ゼオライトとして銀イオン担持ゼオライトと亜鉛イオン担持ゼオライトが併用される場合、金属イオンの重量に換算した比率は、銀イオン１重量部に対して亜鉛イオン０．００５〜１００重量部程度、好ましくは０．０５〜８０重量部程度、より好ましくは０．５〜２０重量部程度である。従って、２種以上の金属イオン担持ゼオライトが併用される場合は、上記各金属イオンの含有比率を参考に適宜配合量を設定することができる。
The metal ion may be contained in the metal ion-supporting zeolite in any ratio, but is preferably about 0.01 to 20% by weight, more preferably about 0.1 to 15% by weight, still more preferably. It is supported at a ratio of about 1 to 10% by weight. For example, when the metal ion is a silver ion, the silver ion is preferably in the range of about 0.1 to 15% by weight. When the metal ion is a zinc ion, the zinc ion is in the range of about 0.1 to 20% by weight, preferably about 0.1 to 10% by weight.
When two or more kinds of metal ion-supported zeolites are combined, the content ratio of each metal ion in the total amount of the metal ion-supported zeolite is not particularly limited and may be appropriately set. For example, when a silver ion-supporting zeolite and a zinc ion-supporting zeolite are used in combination as the metal ion-supporting zeolite, the ratio converted to the weight of the metal ion is about 0.005 to 100 parts by weight of the zinc ion with respect to 1 part by weight of the silver ion. It is preferably about 0.05 to 80 parts by weight, more preferably about 0.5 to 20 parts by weight. Therefore, when two or more kinds of metal ion-supporting zeolites are used in combination, the blending amount can be appropriately set with reference to the content ratio of each metal ion.
抗菌材料では、かようなゼオライトが、ベース物質に混合されている。
ベース物質は、波長が可視域（例えば４００ｎｍ以上８００ｎｍ以下）に属する可視光に対する透過率を高く確保することができ（例えば９０％以上）、蒸着可能であればどのようなものでも良いが、好ましくは無機誘電体である。
無機誘電体は、例えば、シリカ（ＳｉＯ２），アルミナ（Ａｌ２Ｏ３），ジルコニア（ＺｒＯ２），酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）の少なくとも何れかである。
In antibacterial materials, such zeolites are mixed with the base material.
The base substance may be any material as long as it can secure a high transmittance for visible light having a wavelength in the visible region (for example, 400 nm or more and 800 nm or less) (for example, 90% or more) and can be vapor-deposited. Is an inorganic dielectric.
The inorganic dielectric is, for example, at least one of silica (SiO 2 ), alumina (Al 2 O 3 ), zirconia (ZrO 2 ), and indium tin oxide (ITO).
抗菌材料の成膜は、膜厚や膜特性を良好に制御する観点から、好ましくは乾式で行われ、より好ましくは蒸着により行われ、更に好ましくは真空蒸着により行われる。
又、酸素イオン及びアルゴンイオンの少なくとも一方等のイオンでアシストしながら、あるいはプラズマ処理をしながら蒸着がなされても良い。
成膜対象としての基材は、特に限定されず、好ましくは抗菌性を付与しようとするものであり、例えば、カメラや眼鏡等のレンズ、家電製品の筐体、各種フィルム、窓、水回り部分、装用品、各種製品のグリップや操作部やケースである。
The film formation of the antibacterial material is preferably performed by a dry method, more preferably by vapor deposition, and further preferably by vacuum deposition, from the viewpoint of satisfactorily controlling the film thickness and film characteristics.
Further, the vapor deposition may be performed while assisting with ions such as at least one of oxygen ions and argon ions, or while performing plasma treatment.
The base material to be formed is not particularly limited, and is preferably intended to impart antibacterial properties. For example, lenses such as cameras and eyeglasses, housings of home appliances, various films, windows, and water-related parts. , Equipment, grips of various products, operation parts and cases.
抗菌材料における、金属イオン担持ゼオライトの全体に対する重量比率は、安定した蒸着並びに成膜された薄膜の高透過率及び抗菌効果の確保の観点から、１ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であり、より好ましくは１０ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であり、更に好ましくは１０ｗｔ％以上２０ｗｔ％以下である。
かような抗菌材料を用いて成膜された抗菌薄膜中の金属イオン担持ゼオライトの重量比率は、当該抗菌材料と同様である。
The weight ratio of the metal ion-supporting zeolite to the whole in the antibacterial material is 1 wt% or more and 30 wt% or less, more preferably 10 wt%, from the viewpoint of stable vapor deposition and ensuring high transmittance and antibacterial effect of the formed thin film. % Or more and 30 wt% or less, and more preferably 10 wt% or more and 20 wt% or less.
The weight ratio of the metal ion-supported zeolite in the antibacterial thin film formed by using such an antibacterial material is the same as that of the antibacterial material.
本発明に属する実施例、及び本発明に属さない比較例が以下に示される。
以下では、各種の検討例が評価され、その評価により、その検討例が実施例に該当するかあるいは比較例に該当するかについて決定される。
以下の実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
尚、本発明の捉え方によって、下記の実施例の一部が実質的には比較例となり得、あるいは下記の比較例の一部が実質的には実施例となり得る。
Examples belonging to the present invention and comparative examples not belonging to the present invention are shown below.
In the following, various study examples are evaluated, and the evaluation determines whether the study example corresponds to an example or a comparative example.
The following examples do not limit the scope of the invention.
Depending on the way of thinking of the present invention, a part of the following examples may be substantially a comparative example, or a part of the following comparative examples may be a substantial example.
＜抗菌材料の調製等＞
金属イオン担持ゼオライトがベース物質に対して所定の比率で添加されてこれらが調合され、更に調合物が電子ビーム蒸着に用いるためにペレット状に成形され、その成形体が焼成されて、焼結体として抗菌材料が調製された。
調合では、金属イオン担持ゼオライトとベース物質の混合が、ボールミルにより１時間行われた。
成形では、調合物が、プレス機により２０キロニュートンの加重をかけられ、直径１８ｍｍ（ミリメートル），厚さ７ｍｍ程度のペレット形状の成形体とされた。
焼成では、成形体が、８００℃程度の大気炉に、ピーク温度保持時間を５時間として投入され、焼結体とされた。
金属イオン担持ゼオライトは、銀イオン担持ゼオライト（Ａｇ＋ Ｚｅｏｌｉｔｅ，株式会社シナネンゼオミック製ＡＧ１０Ｎ），銅イオン担持ゼオライト（Ｃｕ２＋ Ｚｅｏｌｉｔｅ，同社製ＣＡ１０Ｎ），又は亜鉛イオン担持ゼオライト（Ｚｎ２＋ Ｚｅｏｌｉｔｅ，同社製ＺＡ１０Ｎ）である。
ベース物質は、低屈折材料としてのＳｉＯ２，中間屈折率材料としてのＡｌ２Ｏ３，又は高屈折材料としてのＺｒＯ２，あるいは透光性を有する導電性材料としてのＩＴＯである。
各検討例における、ベース物質の種類と、金属イオン担持ゼオライトの種類ないし全体重量に対する所定の比率（重量パーセント；ｗｔ％）が、次の［表１］の左部に示される。
<Preparation of antibacterial materials, etc.>
Metal ion-supported zeolite is added in a predetermined ratio to the base material to prepare these, and the preparation is further molded into pellets for use in electron beam deposition, and the molded body is fired to obtain a sintered body. As an antibacterial material was prepared .
In the preparation, the metal ion-supported zeolite and the base material were mixed by a ball mill for 1 hour.
In the molding, the compound was subjected to a load of 20 kilonewtons by a press machine to obtain a pellet-shaped molded product having a diameter of 18 mm (millimeters) and a thickness of about 7 mm.
In the firing, the molded product was put into an air furnace at about 800 ° C. with a peak temperature holding time of 5 hours to obtain a sintered body.
The metal ion-supported zeolite is silver ion-supported zeolite (Ag + Zeolite, AG10N manufactured by Sinanen Zeolimic Co., Ltd.), copper ion-supported zeolite (Cu 2+ Zeolite, CA10N manufactured by the same company), or zinc ion-supported zeolite (Zn 2+ Zeolite, ZA10N manufactured by the same company). ).
The base material is SiO 2 as a low-refractive index material , Al 2 O 3 as an intermediate refractive index material, ZrO 2 as a high-refractive index material, or ITO as a translucent conductive material.
The type of base substance and the type of metal ion-supporting zeolite or a predetermined ratio (weight percent; wt%) to the total weight in each study example are shown in the left part of the following [Table 1].
＜抗菌薄膜の形成及び各種の評価の方法等＞
これら各検討例に対して、電子ビーム蒸着での安定性の評価と、透過率の評価と、抗菌性の評価が行われた。
<Formation of antibacterial thin film and various evaluation methods, etc.>
For each of these study examples, the stability in electron beam deposition, the transmittance, and the antibacterial property were evaluated.
抗菌薄膜形成時の電子ビーム蒸着での安定性は、次の基準で評価された。
即ち、電子ビームでの蒸着時において、電子ビームを抗菌材料に照射した際、周囲に抗菌材料が飛散する現象（スプラッシュ）が全く出なければ評価が「Ａ」とされ、初期のみにスプラッシュが発生する場合に評価が「Ｂ」とされ、初期以外にもスプラッシュが発生する場合に評価が「Ｃ」とされた。
蒸着は、次の条件で行われた。
即ち、蒸着装置は、ドーム径１１００ｍｍ，蒸着距離８２０ｍｍであり、蒸着源が電子銃である。
又、基材は、透明な板状のポリカーボネート基材である。
更に、成膜条件は、膜厚１５０ｎｍ（ナノメートル），基材加熱なし，成膜レート０．５ｎｍ毎秒で、電子ビームは検討例１〜３６で８０ｍＡ（ミリアンペア）であり、検討例３７〜３９で１８０ｍＡである。
かような蒸着により、各種の抗菌材料と同様の成分を同様の重量比率で含有する抗菌薄膜が、基材の表面上に成膜された。
The stability of electron beam deposition during the formation of antibacterial thin films was evaluated according to the following criteria.
That is, during vapor deposition with an electron beam, when the antibacterial material is irradiated with the electron beam, if there is no phenomenon (splash) in which the antibacterial material scatters around, the evaluation is "A" and a splash occurs only at the initial stage. The rating was set to "B" when the test was performed, and the rating was set to "C" when a splash occurred other than the initial stage.
The vapor deposition was carried out under the following conditions.
That is, the vapor deposition apparatus has a dome diameter of 1100 mm and a vapor deposition distance of 820 mm, and the vapor deposition source is an electron gun.
The base material is a transparent plate-shaped polycarbonate base material.
Further, the film forming conditions were a film thickness of 150 nm (nanometers), no substrate heating, a film forming rate of 0.5 nm per second, and the electron beam was 80 mA (milliampere) in Examination Examples 1-36, and Examination Examples 37 to 39. It is 180mA.
By such vapor deposition, an antibacterial thin film containing the same components as various antibacterial materials in the same weight ratio was formed on the surface of the base material.
透過率は、次の基準で評価された。
即ち、上記各種の抗菌材料により上述の条件で成膜された薄膜の可視光透過率が測定され、その測定値が可視域全体において８０％以上であれば評価が「Ａ」とされ、６０％以上８０％未満であれば評価が「Ｂ」とされ、６０％未満であれば評価が「Ｃ」とされた。
The transmittance was evaluated according to the following criteria.
That is, the visible light transmittance of the thin film formed under the above conditions by the various antibacterial materials is measured, and if the measured value is 80% or more in the entire visible region, the evaluation is "A" and 60%. If it is more than 80%, the evaluation is "B", and if it is less than 60%, the evaluation is "C".
抗菌性は、次の基準で評価された。
即ち、ＪＩＳ Ｚ２８０１の抗菌力評価法に準拠し、大腸菌及び黄色ブドウ球菌のそれぞれに対して、無加工品（成膜前の基材）と比較して抗菌効果が認められ、抗菌活性値が２以上である場合に評価が「Ａ」とされ、無加工品と比較して抗菌効果が認められる可能性のある場合に評価が「Ｂ」とされ、無加工品と比較して効果がない場合に評価が「Ｃ」とされた。
金属イオン担持ゼオライトの性質は、抗菌力を含め、担持している金属イオンの種類によって定まる。各種金属イオンの殺菌力は、銀イオン（Ａｇ＋）が最も高く、ｐｐｂ（１０億分の１）の濃度のオーダーで含まれていれば発揮され、次いで亜鉛イオン（Ｚｎ２＋）、銅イオン（Ｃｕ２＋）の順で高い殺菌力を有する。
Antibacterial properties were evaluated according to the following criteria.
That is, in accordance with the antibacterial activity evaluation method of JIS Z2801, an antibacterial effect was observed against each of Escherichia coli and Staphylococcus aureus as compared with the unprocessed product (base material before film formation), and the antibacterial activity value was 2. If the above is the case, the evaluation is "A", and if there is a possibility that the antibacterial effect is recognized as compared with the unprocessed product, the evaluation is as "B", and if there is no effect as compared with the unprocessed product. The evaluation was "C".
The properties of the metal ion-supported zeolite are determined by the type of metal ion supported, including antibacterial activity. The bactericidal activity of various metal ions is highest for silver ions (Ag + ), and is exhibited if they are contained on the order of ppb (1/1 billion) concentration, followed by zinc ions (Zn 2+ ) and copper ions (Zn 2+). It has the highest bactericidal activity in the order of Cu 2+).
＜各種の評価の結果等＞
これら評価の結果は、上記［表１］の右部に示される。尚、表中「−−−」は、評価の未実施を示す。
<Results of various evaluations>
The results of these evaluations are shown in the right part of the above [Table 1]. In the table, "---" indicates that the evaluation has not been carried out.
電子ビーム蒸着での安定性は、金属イオン担持ゼオライトが２４ｗｔ％以下であれば、担持する金属イオンの種類によらず、又ベース物質の種類によらず、極めて良好に確保される（評価Ａ；検討例１〜７，１３〜１９，２５〜３１，３７〜３９）。
又、安定性は、金属イオン担持ゼオライトが３０ｗｔ％以下であれば、良好に確保される（評価Ｂ；検討例８〜１０，２０〜２２，３２〜３４）。尚、銅イオン担持ゼオライトの場合、金属イオン担持ゼオライトが５０ｗｔ％以下であれば、安定性が確保される（評価Ｂ；検討例２３〜２４）。
Stability in electron beam deposition is extremely well ensured as long as the metal ion-supporting zeolite is 24 wt% or less, regardless of the type of metal ion supported and the type of base substance (evaluation A; Examples 1 to 7, 13 to 19, 25 to 31, 37 to 39).
Further, the stability is satisfactorily ensured when the metal ion-supported zeolite is 30 wt% or less (Evaluation B; Examination Examples 8 to 10, 20 to 22, 32 to 34). In the case of copper ion-supported zeolite, stability is ensured when the metal ion-supported zeolite is 50 wt% or less (Evaluation B; Examination Examples 23 to 24).
透過率は、金属イオン担持ゼオライトが２０ｗｔ％以下であれば、担持する金属イオンの種類によらず、又ベース物質の種類によらず、極めて良好に確保される（評価Ａ；検討例１〜５，１３〜１７，２５〜２９，３７〜３９）。
又、金属イオン担持ゼオライトが２０ｗｔ％を超えて４０ｗｔ％以下であれば、透過率は良好に確保される（評価Ｂ；検討例６〜１１，１８〜２３，３０〜３５）。
When the metal ion-supporting zeolite is 20 wt% or less, the transmittance is extremely well secured regardless of the type of the metal ion supported and the type of the base substance (Evaluation A; Examination Examples 1 to 5). , 13-17, 25-29, 37-39).
Further, when the metal ion-supported zeolite is more than 20 wt% and 40 wt% or less, the transmittance is well secured (Evaluation B; Examination Examples 6 to 11, 18 to 23, 30 to 35).
抗菌性は、担持される金属イオンの種類により相違があるものの、どの種類でも金属イオン担持ゼオライトが２０ｗｔ％以下であれば、大腸菌及び黄色ブドウ球菌のうちの少なくとも一方に対して抗菌力が認められる（検討例１〜５，１３〜１７，３７〜３９）。
更に、ベース物質がＳｉＯ２である場合において金属イオン担持ゼオライトが１０ｗｔ％以上であれば、大腸菌及び黄色ブドウ球菌の双方に対して優れた抗菌力が発揮されることとなる（双方とも評価Ａ；検討例３〜５，１５〜１７；但し検討例１６は大腸菌の評価Ｂ）。
尚、亜鉛イオン担持ゼオライトの抗菌性について、定量的な評価は実施されなかったが、大腸菌や黄色ブドウ球菌と接触させた状態での観察は試みられ、その様子はほぼ銅イオン担持ゼオライトの場合と同様であった。
Although the antibacterial activity differs depending on the type of metal ion supported, if the metal ion-supporting zeolite is 20 wt% or less in any type, antibacterial activity is recognized against at least one of Escherichia coli and Staphylococcus aureus. (Examination Examples 1 to 5, 13 to 17, 37 to 39).
Further, when the base substance is SiO 2 , and the metal ion-supporting zeolite is 10 wt% or more, excellent antibacterial activity against both Escherichia coli and Staphylococcus aureus is exhibited (both evaluation A; Study Examples 3 to 5, 15 to 17; However, Study Example 16 is Escherichia coli evaluation B).
Although the antibacterial properties of the zinc ion-supported zeolite were not quantitatively evaluated, observations were made in contact with Escherichia coli and Staphylococcus aureus, and the appearance was almost the same as that of the copper ion-supported zeolite. It was similar.
＜まとめ等＞
以上より、まず、無機誘電体（ベース物質）に金属イオン担持ゼオライトが１ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下において混合された抗菌材料（検討例１〜１０，１３〜２２，２５〜３４，３７〜３９）は、安定して蒸着可能であり（評価Ｂ以上）、且つ良好な透過率を確保でき（評価Ｂ以上）、更に抗菌性を兼ね備える（大腸菌及び黄色ブドウ球菌の少なくとも一方の評価がＢ以上）こととなる。よって、検討例１〜１０，１３〜２２，２５〜３４，３７〜３９は、実施例１〜１０，１１〜２０，２１〜３０，３１〜３３と評価され、検討例１１〜１２，２３〜２４，３５〜３６は、比較例１〜２，３〜４，５〜６と評価される。
<Summary, etc.>
From the above, first, the antibacterial material (Study Examples 1 to 10, 13 to 22, 25 to 34, 37 to 39) in which a metal ion-supporting zeolite is mixed in an inorganic dielectric (base substance) in an amount of 1 wt% or more and 30 wt% or less It can be stably vapor-deposited (evaluation B or higher), can secure good transmittance (evaluation B or higher), and has antibacterial properties (evaluation of at least one of Escherichia coli and Staphylococcus aureus is B or higher). Become. Therefore, Examination Examples 1 to 10, 13 to 22, 25 to 34, 37 to 39 are evaluated as Examples 1 to 10, 11 to 20, 21 to 30, 31 to 33, and Examination Examples 11 to 12, 23 to 24,35 to 36 are evaluated as Comparative Examples 1 to 2, 3 to 4, 5 to 6.
次いで、金属イオン担持ゼオライトの重量比率範囲の下限が１ｗｔ％以上ではなく１０ｗｔ％以上とされた抗菌材料（検討例３〜１０，１５〜２２，２７〜３４，３７〜３９）は、蒸着安定性と透過率を維持した状態で、より優れた抗菌性を確保することができる（大腸菌及び黄色ブドウ球菌の少なくとも一方の評価がＡ）。ここで、ベース物質がＳｉＯ２であれば（検討例３〜１０，１５〜２２，２７〜３４）、極めて優れた抗菌性が確保される（大腸菌及び黄色ブドウ球菌の双方の評価がＡ，但し検討例１６は大腸菌の評価がＢ）。 Next, the antibacterial material (Study Examples 3 to 10, 15 to 22, 27 to 34, 37 to 39) in which the lower limit of the weight ratio range of the metal ion-supporting zeolite was 10 wt% or more instead of 1 wt% or more was deposited stable. It is possible to secure better antibacterial properties while maintaining the transmittance (A is evaluated by at least one of Escherichia coli and Staphylococcus aureus). Here, if the base substance is SiO 2 (Examination Examples 3 to 10, 15 to 22, 27 to 34), extremely excellent antibacterial properties are ensured (the evaluation of both Escherichia coli and Staphylococcus aureus is A, but In Study Example 16, the evaluation of Escherichia coli was B).
あるいは、上述の何れかの重量比率範囲において、更に金属イオン担持ゼオライトの重量比率範囲の上限が２０ｗｔ％以下とされた抗菌材料（検討例５以下，１１以下，２９以下，３７〜３９）は、電子ビーム安定性及び透過率が双方共に極めて優れることとなり（評価Ａ）、この抗菌材料によれば、透過率及び抗菌力の極めて高い膜が、蒸着により優れた安定性のもとで成膜される。 Alternatively, the antibacterial material (Study Example 5 or less, 11 or less, 29 or less, 37 to 39) in which the upper limit of the weight ratio range of the metal ion-supporting zeolite is 20 wt% or less in any of the above weight ratio ranges is further selected. Both electron beam stability and transmittance are extremely excellent (evaluation A), and according to this antibacterial material, a film having extremely high transmittance and antibacterial activity is formed by vapor deposition under excellent stability. NS.
尚、ベース物質がＡｌ２Ｏ３である場合（検討例３７）、蒸着により安定して成膜可能であり、成膜後に中間屈折率を呈し、成膜後の透過率及び抗菌力が良好である蒸着材料が提供される。
又、ベース物質がＺｒＯ２である場合（検討例３８）、蒸着により安定して成膜可能であり、成膜後に高屈折率を呈し、成膜後の透過率及び抗菌力が良好である蒸着材料が提供される。
更に、ベース物質がＩＴＯである場合（検討例３９）、蒸着により安定して成膜可能であり、成膜後に導電性を呈し、成膜後の透過率及び抗菌力が良好である蒸着材料が提供される。
When the base substance is Al 2 O 3 (Examination Example 37), stable film formation is possible by vapor deposition, an intermediate refractive index is exhibited after film formation, and transmittance and antibacterial activity after film formation are good. A vapor deposition material is provided.
Further, when the base substance is ZrO 2 (Examination Example 38), the film can be stably formed by thin film deposition, exhibits a high refractive index after the film formation, and has good transmittance and antibacterial activity after the film formation. The material is provided.
Further, when the base substance is ITO (Examination Example 39), a vapor-deposited material which can stably form a film by vapor deposition, exhibits conductivity after film formation, and has good transmittance and antibacterial activity after film formation. Provided.
Claims (6)
前記金属イオン担持ゼオライトの全体に対する重量比率は、１ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下であり、
前記ペレット状焼結体は、前記金属イオン担持ゼオライトと前記無機誘電体との混合物のペレット状成形体の焼成物である
ことを特徴とする抗菌薄膜成膜用抗菌材料。 A pellet-like sintered body for forming an antibacterial thin film formed of a metal ion-supported zeolite and an inorganic dielectric by an electron beam.
The weight ratio of the metal ion-supported zeolite to the whole is 1 wt% or more and 30 wt% or less.
The pellet-shaped sintered body is an antibacterial material for forming an antibacterial thin film , which is a calcined product of a pellet-shaped molded product of a mixture of the metal ion-supporting zeolite and the inorganic dielectric material.
ことを特徴とする請求項１に記載の抗菌薄膜成膜用抗菌材料。 The antibacterial material for forming an antibacterial thin film according to claim 1, wherein the weight ratio is 22 wt% or more.
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の抗菌薄膜成膜用抗菌材料。 The antibacterial material for forming an antibacterial thin film according to claim 1 or 2 , wherein the inorganic dielectric contains SiO 2.
ことを特徴とする抗菌薄膜の製造方法。 A method for producing an antibacterial thin film, which comprises depositing an antibacterial thin film on the surface of a base material by electron beam deposition of the antibacterial thin film forming antibacterial material according to any one of claims 1 to 3. ..
前記混合物をペレット状に成形してペレット状成形体を得、
前記ペレット状成形体を焼成してペレット状焼結体を得て、
前記ペレット状焼結体を電子ビーム蒸着することにより、基材の表面に対し抗菌薄膜を成膜する
ことを特徴とする抗菌薄膜の製造方法。 A metal ion-supported zeolite is mixed with the inorganic dielectric at a weight ratio of 1 wt% or more and 30 wt% or less to prepare a mixture.
The mixture was molded into pellets to obtain a pellet-shaped molded product.
The pellet-shaped molded product was fired to obtain a pellet-shaped sintered body.
A method for producing an antibacterial thin film, which comprises forming an antibacterial thin film on the surface of a base material by depositing an electron beam on the pellet-shaped sintered body.
ことを特徴とする請求項５に記載の抗菌薄膜の製造方法。 The method for producing an antibacterial thin film according to claim 5 , wherein the weight ratio is 22 wt% or more.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016144780A JP6931911B2 (en) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016144780A JP6931911B2 (en) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018012877A JP2018012877A (en) | 2018-01-25 |
| JP6931911B2 true JP6931911B2 (en) | 2021-09-08 |
Family
ID=61019104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016144780A Active JP6931911B2 (en) | 2016-07-22 | 2016-07-22 | Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6931911B2 (en) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4242733A1 (en) * | 2020-11-09 | 2023-09-13 | Hoya Lens Thailand Ltd. | Method for producing eyeglass lens |
| JP7203147B2 (en) * | 2020-11-09 | 2023-01-12 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | Spectacle lens manufacturing method |
| EP4296726A1 (en) * | 2021-03-29 | 2023-12-27 | Tokai Optical Co., Ltd. | Eyeglass plastic lens |
| JP2023150496A (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-16 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | Method for manufacturing spectacle lens |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0631894U (en) * | 1992-09-30 | 1994-04-26 | 大阪フイルター工業株式会社 | Filter material for water treatment |
| JPH11255538A (en) * | 1998-03-10 | 1999-09-21 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Antibacterial sintered glass article and its production |
| JP2008274410A (en) * | 2007-03-30 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | Hydrophilic element |
| JP2013228065A (en) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Taikoh Co Ltd | Lining agent for drain pipe, and lining method of drain pipe using the same |
-
2016
- 2016-07-22 JP JP2016144780A patent/JP6931911B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2018012877A (en) | 2018-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6931911B2 (en) | Antibacterial material for film formation of antibacterial thin film and manufacturing method of antibacterial thin film | |
| US10676394B2 (en) | Antimicrobial glass articles and methods of making and using same | |
| US10155691B2 (en) | Antimicrobial glass articles and methods of making and using same | |
| TWI540111B (en) | Antimicrobial action of cu, cuo and cu2o nanoparticles on glass surfaces and durable coatings | |
| CN106575005B (en) | Infra Red reflective films | |
| WO2016028554A1 (en) | Antimicrobial articles with copper nanoparticles and methods of making and using same | |
| JP5663947B2 (en) | Antibacterial glass and manufacturing method thereof | |
| TWI753877B (en) | Colorless material with improved antimicrobial performance | |
| US10723652B2 (en) | Tempered and colorless antimicrobial soda lime glass and methods of making and using same | |
| JP7170022B2 (en) | Materials containing colorless copper | |
| WO2017185341A1 (en) | Antimicrobial chemically strengthened glass and optimization method for the manufacture thereof | |
| KR20160099593A (en) | A surface coating | |
| CN106458704B (en) | Method for making antimicrobial glass articles | |
| JP2000264674A (en) | Antimicrobial glass and resin composition | |
| CN116802523A (en) | Ophthalmic lens with antibacterial and/or antiviral properties and method for manufacturing same | |
| CN116324591A (en) | Ophthalmic lens with antibacterial and/or antiviral properties and method for manufacturing same | |
| EP2843019A1 (en) | Antibacterial hybrid layer operating against pathogenic bacterial strains, particularly against the bacterial strain MRSA, and a method for its preparation | |
| JP2023009170A (en) | Method of fabricating spectacle lenses | |
| WO2022097751A1 (en) | Spectacle lens and eyeglasses | |
| JP2013010892A (en) | Composition for forming antibacterial transparent film, antibacterial transparent film, plastic base material including the transparent film, and display device | |
| JP2000302478A (en) | Microbicidal glass and polystyrene resin composition containing the same | |
| CN106427116A (en) | Anti-fingerprint glass panel having bactericidal function | |
| WO2023189159A1 (en) | Method for producing spectacle lens | |
| JP7203147B2 (en) | Spectacle lens manufacturing method | |
| RU2633536C1 (en) | Composition for producing transparent bactericide oxide coating |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190626 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200325 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200331 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20201027 |
|
| A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20201225 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210222 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210720 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210810 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6931911 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |