JP6918468B2 - Reinforcing film with separator - Google Patents

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Description

本発明はセパレーター付補強用フィルムに関する。 The present invention relates to a reinforcing film with a separator.

光学部材や電子部材などに剛性や耐衝撃性を付与するために、該光学部材や電子部材などの露出面側に予めセパレーター付補強用フィルムを貼り合せて補強しておく場合がある(特許文献1)。 In order to impart rigidity and impact resistance to an optical member or an electronic member, a reinforcing film with a separator may be previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member to reinforce the optical member or the electronic member (Patent Document). 1).

ところが、光学部材や電子部材などの露出面側に貼り合せたセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離すると、剥離帯電が発生し、該光学部材や電子部材にダメージを与えてしまうという問題がある。 However, when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, there is a problem that the peeling charge is generated and the optical member or the electronic member is damaged.

特開2014−234460号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-234460

本発明の課題は、補強用フィルムとセパレーターを有するセパレーター付補強用フィルムであって、セパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電を抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージを軽減できる、セパレーター付補強用フィルムを提供することにある。 An object of the present invention is a reinforcing film with a separator having a reinforcing film and a separator, which can suppress peeling charge that may occur when the separator is peeled off, and is previously attached to an exposed surface side of an optical member, an electronic member, or the like. It is an object of the present invention to provide a reinforcing film with a separator, which can reduce damage to the optical member and the electronic member even if the separator is peeled off from the combined reinforcing film with the separator.

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、
補強用フィルムPとセパレーターQを有するセパレーター付補強用フィルムであって、
該補強用フィルムPが基材層A1と粘着剤層A2を含み、
該セパレーターQが離型層B1と基材層B2を含み、
該粘着剤層A2と該離型層B1が直接に積層されてなり、
温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、該補強用フィルムPから該セパレーターQを剥離したときの、該粘着剤層A2の表面の剥離帯電圧が5.0kV以下である。
The reinforcing film with a separator of the present invention
A reinforcing film with a separator having a reinforcing film P and a separator Q.
The reinforcing film P includes a base material layer A1 and an adhesive layer A2.
The separator Q contains a release layer B1 and a base material layer B2.
The pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated with each other.
When the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min, the peeling band voltage on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is 5. It is 0.0 kV or less.

一つの実施形態においては、上記粘着剤層A2が粘着剤組成物a2から形成された粘着剤層であり、該粘着剤組成物a2がシリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種を含む。 In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer A2 is a pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition a2, and the pressure-sensitive adhesive composition a2 is at least one selected from a silicone-based additive and a fluorine-based additive. including.

一つの実施形態においては、上記シリコーン系添加剤が、シロキサン結合含有化合物、水酸基含有シリコーン系化合物、および架橋性官能基含有シリコーン系化合物から選ばれる少なくとも1種である。 In one embodiment, the silicone-based additive is at least one selected from a siloxane bond-containing compound, a hydroxyl group-containing silicone-based compound, and a crosslinkable functional group-containing silicone-based compound.

一つの実施形態においては、上記フッ素系添加剤が、フッ素含有化合物、水酸基含有フッ素系化合物、および架橋性官能基含有フッ素系化合物から選ばれる少なくとも1種である。 In one embodiment, the fluorine-based additive is at least one selected from a fluorine-containing compound, a hydroxyl group-containing fluorine-based compound, and a crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound.

一つの実施形態においては、上記粘着剤組成物a2が導電成分を含む。 In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains a conductive component.

一つの実施形態においては、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、上記補強用フィルムPから上記セパレーターQを剥離したときの、上記粘着剤層A2の表面の表面抵抗値が1.0×10Ω〜1.0×1012Ωである。 In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer A2 when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. The surface resistance value of the surface is 1.0 × 10 4 Ω to 1.0 × 10 12 Ω.

一つの実施形態においては、上記補強用フィルムPが帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2をこの順に含む。 In one embodiment, the reinforcing film P includes an antistatic layer A3, a base material layer A1, and an adhesive layer A2 in this order.

一つの実施形態においては、上記セパレーターQが離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3をこの順に含む。 In one embodiment, the separator Q includes a release layer B1, a substrate layer B2, and an antistatic layer B3 in that order.

一つの実施形態においては、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、上記補強用フィルムPから上記セパレーターQを剥離した後における、ガラス板に対する上記粘着剤層A2の、温度23℃、湿度50%RH、剥離角度180度、引張速度300mm/分での初期粘着力が1.0N/25mm以上である。 In one embodiment, the pressure-sensitive adhesive to a glass plate after peeling the separator Q from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. The initial adhesive strength of layer A2 at a temperature of 23 ° C., a humidity of 50% RH, a peeling angle of 180 degrees, and a tensile speed of 300 mm / min is 1.0 N / 25 mm or more.

一つの実施形態においては、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度180度、引張速度300mm/分で、上記補強用フィルムPから上記セパレーターQを剥離したときの剥離力が0.30N/25mm以下である。 In one embodiment, the peeling force when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min is 0.30 N / min. It is 25 mm or less.

本発明によれば、補強用フィルムとセパレーターを有するセパレーター付補強用フィルムであって、セパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電を抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージを軽減できる、セパレーター付補強用フィルムを提供することができる。 According to the present invention, a reinforcing film with a separator having a reinforcing film and a separator can suppress peeling charge that may occur when the separator is peeled off, and is previously attached to an exposed surface side of an optical member, an electronic member, or the like. It is possible to provide a reinforcing film with a separator that can reduce damage to the optical member and the electronic member even if the separator is peeled off from the combined reinforcing film with the separator.

補強用フィルムPの一つの実施形態の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of one Embodiment of the reinforcing film P. 補強用フィルムPの別の一つの実施形態の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of another embodiment of the reinforcing film P. セパレーターQの一つの実施形態の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of one Embodiment of separator Q. セパレーターQの別の一つの実施形態の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of the separator Q. 本発明のセパレーター付補強用フィルムの一つの実施形態の概略断面図である。It is the schematic sectional drawing of one Embodiment of the reinforcing film with a separator of this invention. 本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態の概略断面図である。It is schematic cross-sectional view of another embodiment of the reinforcing film with a separator of this invention. 本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態の概略断面図である。It is schematic cross-sectional view of another embodiment of the reinforcing film with a separator of this invention. 本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態の概略断面図である。It is schematic cross-sectional view of another embodiment of the reinforcing film with a separator of this invention.

本明細書中で「質量」との表現がある場合は、従来一般に重さの単位として慣用されている「重量」と読み替えてもよく、逆に、本明細書中で「重量」との表現がある場合は、重さを示すSI系単位として慣用されている「質量」と読み替えてもよい。 When the expression "mass" is used in the present specification, it may be read as "weight" which is generally used as a unit of weight in the past, and conversely, the expression "weight" in the present specification. If there is, it may be read as "mass" which is commonly used as an SI system unit indicating weight.

本明細書中で「(メタ)アクリル」との表現がある場合は、「アクリルおよび/またはメタクリル」を意味し、「(メタ)アクリレート」との表現がある場合は、「アクリレートおよび/またはメタクリレート」を意味し、「(メタ)アリル」との表現がある場合は、「アリルおよび/またはメタリル」を意味し、「(メタ)アクロレイン」との表現がある場合は、「アクロレインおよび/またはメタクロレイン」を意味する。 In the present specification, the expression "(meth) acrylic" means "acrylic and / or methacrolein", and the expression "(meth) acrylate" means "acrylate and / or methacrylate". When the expression "(meth) allyl" is used, it means "allyl and / or methacrolein", and when the expression "(meth) acrolein" is used, "acrolein and / or methacrolein" is used. It means "rain".

≪≪セパレーター付補強用フィルム≫≫
本発明のセパレーター付補強用フィルムは、補強用フィルムPとセパレーターQを有するセパレーター付補強用フィルムである。本発明のセパレーター付補強用フィルムは、補強用フィルムPとセパレーターQを有していれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な他の層を有していてもよい。
≪≪Reinforcing film with separator≫≫
The reinforcing film with a separator of the present invention is a reinforcing film with a separator having a reinforcing film P and a separator Q. The reinforcing film with a separator of the present invention may have any suitable other layer as long as it has the reinforcing film P and the separator Q, as long as the effect of the present invention is not impaired.

本発明のセパレーター付補強用フィルムにおいては、補強用フィルムPが基材層A1と粘着剤層A2を含み、セパレーターQが離型層B1と基材層B2を含み、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなる。 In the reinforcing film with a separator of the present invention, the reinforcing film P contains the base material layer A1 and the pressure-sensitive adhesive layer A2, the separator Q contains the release layer B1 and the base material layer B2, and the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the mold release Layer B1 is directly laminated.

本発明のセパレーター付補強用フィルムの厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは9μm〜1300μmであり、より好ましくは20μm〜1050μmであり、さらに好ましくは35μm〜900μmであり、特に好ましくは45μm〜750μmである。 As the thickness of the reinforcing film with a separator of the present invention, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 9 μm to 1300 μm, more preferably 20 μm to 1050 μm, further preferably 35 μm to 900 μm, and particularly preferably 45 μm to 750 μm.

≪補強用フィルムP≫
補強用フィルムPの厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは5μm〜800μmであり、より好ましくは10μm〜650μmであり、さらに好ましくは20μm〜550μmであり、特に好ましくは25μm〜450μmである。
≪Reinforcing film P≫
As the thickness of the reinforcing film P, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effect of the present invention is not impaired. Such a thickness is preferably 5 μm to 800 μm, more preferably 10 μm to 650 μm, further preferably 20 μm to 550 μm, and particularly preferably 25 μm to 450 μm.

補強用フィルムPは、基材層A1と粘着剤層A2を含む。補強用フィルムPは、基材層A1と粘着剤層A2を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な他の層を含み得る。 The reinforcing film P includes a base material layer A1 and an adhesive layer A2. As long as the reinforcing film P contains the base material layer A1 and the pressure-sensitive adhesive layer A2, it may contain any other suitable layer depending on the purpose, as long as the effect of the present invention is not impaired.

補強用フィルムPの一つの実施形態は、図1に示すように、基材層A1と粘着剤層A2とからなる。 As shown in FIG. 1, one embodiment of the reinforcing film P comprises a base material layer A1 and an adhesive layer A2.

補強用フィルムPは、帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2をこの順に含んでいてもよい。 The reinforcing film P may include the antistatic layer A3, the base material layer A1, and the pressure-sensitive adhesive layer A2 in this order.

補強用フィルムPの別の一つの実施形態は、図2に示すように、帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2とからなる。 Another embodiment of the reinforcing film P comprises an antistatic layer A3, a base material layer A1 and an adhesive layer A2, as shown in FIG.

<基材層A1>
基材層A1としては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な材料から形成される基材を採用し得る。このような材料としては、例えば、樹脂シート、不織布、紙、金属箔、織布、ゴムシート、発泡シート、これらの積層体(特に、樹脂シートを含む積層体)などが挙げられる。
<Base material layer A1>
As the base material layer A1, a base material formed from any suitable material can be adopted depending on the intended purpose, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such materials include resin sheets, non-woven fabrics, paper, metal foils, woven fabrics, rubber sheets, foam sheets, and laminates thereof (particularly, laminates including resin sheets).

樹脂シートを構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリアミド(ナイロン)、全芳香族ポリアミド(アラミド)、ポリイミド(PI)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、フッ素系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、環状オレフィン系ポリマーなどが挙げられる。 Examples of the resin constituting the resin sheet include acrylic resins such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene terephthalate (PBT), and polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate, and triacetyl cellulose (TAC). ), Polysulfone, polyallylate, polyethylene (PE), polypropylene (PP), ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), polyamide (nylon), total aromatic polyamide (aramid), polyimide ( PI), polyvinyl chloride (PVC), polyvinyl acetate, polyphenylene sulfide (PPS), fluororesin, polyether ether ketone (PEEK), cyclic olefin polymer and the like.

不織布としては、マニラ麻を含む不織布等の耐熱性を有する天然繊維による不織布;ポリプロピレン樹脂不織布、ポリエチレン樹脂不織布、エステル系樹脂不織布等の合成樹脂不織布;などが挙げられる。 Examples of the non-woven fabric include non-woven fabrics made of natural fibers having heat resistance such as non-woven fabrics containing Manila hemp; synthetic resin non-woven fabrics such as polypropylene resin non-woven fabrics, polyethylene resin non-woven fabrics and ester resin non-woven fabrics.

基材層A1は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The base material layer A1 may be only one layer or may be two or more layers.

基材層A1の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは4μm〜500μmであり、より好ましくは10μm〜400μmであり、さらに好ましくは15μm〜350μmであり、特に好ましくは20μm〜300μmである。 As the thickness of the base material layer A1, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 4 μm to 500 μm, more preferably 10 μm to 400 μm, further preferably 15 μm to 350 μm, and particularly preferably 20 μm to 300 μm.

基材層A1は、帯電防止剤を含んでいてもよい。帯電防止剤を含む基材層A1としては、例えば、帯電防止剤が練り込まれた樹脂シートが用いられ得る。このような樹脂シートは、樹脂と帯電防止剤とを含む基材層A1形成用組成物から形成され得る。 The base material layer A1 may contain an antistatic agent. As the base material layer A1 containing the antistatic agent, for example, a resin sheet in which the antistatic agent is kneaded can be used. Such a resin sheet can be formed from a composition for forming a base material layer A1 containing a resin and an antistatic agent.

基材層A1そのものが帯電防止剤として作用してもよい。例えば、基材層A1の材料として金属箔を採用する場合は、基材層A1そのものが帯電防止剤として作用し得る。 The base material layer A1 itself may act as an antistatic agent. For example, when a metal foil is used as the material of the base material layer A1, the base material layer A1 itself can act as an antistatic agent.

基材層A1は、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理、下塗り剤によるコーティング処理などが挙げられる。 The base material layer A1 may be surface-treated. Examples of the surface treatment include corona treatment, plasma treatment, chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage impact exposure, ionizing radiation treatment, coating treatment with an undercoat agent, and the like.

有機コーティング材料としては、例えば、「プラスチックハードコート材料II」(CMC出版、(2004))に記載される材料が挙げられる。このような有機コーティング材料としては、好ましくは、ウレタン系ポリマーが挙げられ、より好ましくは、ポリアクリルウレタン、ポリエステルウレタン、またはこれらの前駆体が挙げられる。基材層A1への塗工・塗布が簡便であり、かつ、工業的に多種のものが選択でき安価に入手できるからである。このようなウレタン系ポリマーは、例えば、イソシアナートモノマーとアルコール性水酸基含有モノマー(例えば、水酸基含有アクリル化合物または水酸基含有エステル化合物)との反応混合物からなるポリマーが挙げられる。有機コーティング材料は、任意の添加剤として、ポリアミンなどの鎖延長剤、老化防止剤、酸化安定剤などを含んでいてもよい。 Examples of the organic coating material include the materials described in "Plastic Hard Coat Material II" (CMC Publishing, (2004)). Such organic coating materials preferably include urethane-based polymers, and more preferably polyacrylic urethane, polyester urethane, or precursors thereof. This is because coating / coating on the base material layer A1 is easy, and various types can be industrially selected and can be obtained at low cost. Examples of such urethane-based polymers include polymers composed of a reaction mixture of an isocyanato monomer and an alcoholic hydroxyl group-containing monomer (for example, a hydroxyl group-containing acrylic compound or a hydroxyl group-containing ester compound). The organic coating material may contain, as an optional additive, a chain extender such as polyamine, an antiaging agent, an oxidation stabilizer and the like.

基材層A1には、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な他の添加剤が含まれていてもよい。 The base material layer A1 may contain any other suitable additive, depending on the intended purpose, as long as the effects of the present invention are not impaired.

<粘着剤層A2>
粘着剤層A2の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは1μm〜300μmであり、より好ましくは2μm〜250μmであり、さらに好ましくは4μm〜200μmであり、特に好ましくは5μm〜150μmである。
<Adhesive layer A2>
As the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer A2, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 1 μm to 300 μm, more preferably 2 μm to 250 μm, further preferably 4 μm to 200 μm, and particularly preferably 5 μm to 150 μm.

粘着剤層A2は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The pressure-sensitive adhesive layer A2 may be only one layer or two or more layers.

粘着剤層A2は、好ましくは、粘着剤組成物a2から形成される。粘着剤層A2は、粘着剤組成物a2を層状に形成できる方法であれば、任意の適切な方法によって形成され得る。例えば、粘着剤層A2は、粘着剤組成物a2を、任意の適切な基材上に塗布して、必要に応じて加熱等や活性エネルギー線(紫外線など)照射等を行い、形成することが出来る。粘着剤組成物a2は、好ましくは、ポリマー成分を含む。 The pressure-sensitive adhesive layer A2 is preferably formed from the pressure-sensitive adhesive composition a2. The pressure-sensitive adhesive layer A2 can be formed by any suitable method as long as the pressure-sensitive adhesive composition a2 can be formed in layers. For example, the pressure-sensitive adhesive layer A2 can be formed by applying the pressure-sensitive adhesive composition a2 on an arbitrary suitable base material and subjecting it to heating or the like or irradiation with active energy rays (ultraviolet rays or the like) as necessary. You can. The pressure-sensitive adhesive composition a2 preferably contains a polymer component.

粘着剤組成物a2は、好ましくは、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種を含む。粘着剤組成物a2が、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種を含むことにより、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 preferably contains at least one selected from a silicone-based additive and a fluorine-based additive. By containing at least one selected from the silicone-based additive and the fluorine-based additive in the pressure-sensitive adhesive composition a2, the peeling charge that may occur when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator of the present invention is further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, damage to the optical member or the electronic member can be further reduced.

粘着剤組成物a2がシリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種を含む場合、粘着剤組成物a2中の、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種の含有割合は、粘着剤組成物a2中のポリマー成分(固形分)100重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜10重量部であり、より好ましくは0.02重量部〜5.0重量部であり、さらに好ましくは0.03重量部〜4.0重量部であり、特に好ましくは0.04重量部〜3.0重量部である。粘着剤組成物a2中のシリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種の含有割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains at least one selected from the silicone-based additive and the fluorine-based additive, the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains at least one selected from the silicone-based additive and the fluorine-based additive. The ratio is preferably 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, and more preferably 0.02 parts by weight to 5.0 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer component (solid content) in the pressure-sensitive adhesive composition a2. Parts, more preferably 0.03 parts by weight to 4.0 parts by weight, and particularly preferably 0.04 parts by weight to 3.0 parts by weight. If the content ratio of at least one selected from the silicone-based additive and the fluorine-based additive in the pressure-sensitive adhesive composition a2 is within the above range, it occurs when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator of the present invention. The obtained peeling charge can be further suppressed, and even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, the damage to the optical member or the electronic member can be further reduced. ..

シリコーン系添加剤としては、好ましくは、シロキサン結合含有化合物、水酸基含有シリコーン系化合物、および架橋性官能基含有シリコーン系化合物から選ばれる少なくとも1種である。 The silicone-based additive is preferably at least one selected from a siloxane bond-containing compound, a hydroxyl group-containing silicone-based compound, and a crosslinkable functional group-containing silicone-based compound.

シロキサン結合含有化合物としては、例えば、ポリオルガノシロキサン骨格(ポリジメチルシロキサンなど)の主鎖または側鎖にポリエーテル基を導入したポリエーテル変性ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖にポリエステル基を導入したポリエステル変性ポリオルガノシロキサン、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖に有機化合物を導入した有機化合物導入ポリオルガノシロキサン、(メタ)アクリル系樹脂にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂、有機化合物にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性有機化合物、有機化合物とシリコーン化合物を共重合したシリコーン含有有機化合物などが挙げられる。シロキサン結合含有化合物の市販品としては、例えば、商品名「LE−302」(共栄社化学株式会社製)、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYKシリーズのレベリング剤(「BYK−300」、「BYK−301/302」、「BYK−306」、「BYK−307」、「BYK−310」、「BYK−315」、「BYK−313」、「BYK−320」、「BYK−322」、「BYK−323」、「BYK−325」、「BYK−330」、「BYK−331」、「BYK−333」、「BYK−337」、「BYK−341」、「BYK−344」、「BYK−345/346」、「BYK−347」、「BYK−348」、「BYK−349」、「BYK−370」、「BYK−375」、「BYK−377」、「BYK−378」、「BYK−UV3500」、「BYK−UV3510」、「BYK−UV3570」、「BYK−3550」、「BYK−SILCLEAN3700」、「BYK−SILCLEAN3720」など)、Algin Chemie社製のACシリーズのレベリング剤(「AC FS180」、「AC FS360」、「AC S20」など)、共栄社化学(株)製のポリフローシリーズのレベリング剤(「ポリフローKL−400X」、「ポリフローKL−400HF」、「ポリフローKL−401」、「ポリフローKL−402」、「ポリフローKL−403」、「ポリフローKL−404」など)、信越化学工業(株)製のKPシリーズのレベリング剤(「KP−323」、「KP−326」、「KP−341」、「KP−104」、「KP−110」、「KP−112」など)、信越化学社製のX22シリーズ、KFシリーズなど、東レ・ダウコーニング(株)製のレベリング剤(「LP−7001」、「LP−7002」、「8032ADDITIVE」、「57ADDITIVE」、「L−7604」、「FZ−2110」、「FZ−2105」、「67ADDITIVE」、「8618ADDITIVE」、「3ADDITIVE」、「56ADDITIVE」など)などが挙げられる。シロキサン結合含有化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of the siloxane bond-containing compound include polyether-modified polyorganosiloxane in which a polyether group is introduced into the main chain or side chain of a polyorganosiloxane skeleton (polydimethylsiloxane, etc.), and the main chain or side chain of a polyorganosiloxane skeleton. Polyester-modified polyorganosiloxane with a polyester group introduced, organic compound-introduced polyorganosiloxane with an organic compound introduced into the main or side chains of the polyorganosiloxane skeleton, and silicone-modified with polyorganosiloxane introduced into a (meth) acrylic resin ( Meta) Acrylic resin, silicone-modified organic compound in which polyorganosiloxane is introduced into an organic compound, silicone-containing organic compound obtained by copolymerizing an organic compound and a silicone compound, and the like can be mentioned. Commercially available products of siloxane bond-containing compounds include, for example, the brand name "LE-302" (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the BYK series leveling agents ("BYK-300", "BYK-" manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd.). 301/302 ”,“ BYK-306 ”,“ BYK-307 ”,“ BYK-310 ”,“ BYK-315 ”,“ BYK-313 ”,“ BYK-320 ”,“ BYK-322 ”,“ BYK- 323 ”,“ BYK-325 ”,“ BYK-330 ”,“ BYK-331 ”,“ BYK-333 ”,“ BYK-337 ”,“ BYK-341 ”,“ BYK-344 ”,“ BYK-345 / 346 "," BYK-347 "," BYK-348 "," BYK-349 "," BYK-370 "," BYK-375 "," BYK-377 "," BYK-378 "," BYK-UV3500 " , "BYK-UV3510", "BYK-UV3570", "BYK-3550", "BYK-SILCLEAN3700", "BYK-SILCLEAN3720", etc.), AC series leveling agents manufactured by Algin Chemie ("AC FS180", "AC FS180", " AC FS360 ", AC S20", etc.), Polyflow series leveling agents manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. ("Polyflow KL-400X", "Polyflow KL-400HF", "Polyflow KL-401", "Polyflow KL-" 402 ”,“ Polyflow KL-403 ”,“ Polyflow KL-404 ”, etc.), KP series leveling agents manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (“KP-323”, “KP-326”, “KP-341” , "KP-104", "KP-110", "KP-112", etc.), Shin-Etsu Chemical's X22 series, KF series, etc., Toray Dow Corning Co., Ltd. leveling agent ("LP-7001" , "LP-7002", "8032ADDITIVE", "57ADDITIVE", "L-7604", "FZ-2110", "FZ-2105", "67ADDITIVE", "8618ADDITIVE", "3ADDITIVE", "56ADDITIVE", etc.) And so on. The siloxane bond-containing compound may be only one kind or two or more kinds.

水酸基含有シリコーン系化合物としては、例えば、ポリオルガノシロキサン骨格(ポリジメチルシロキサンなど)の主鎖または側鎖にポリエーテル基を導入したポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンであって水酸基を有するもの、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖にポリエステル基を導入したポリエステル変性ポリオルガノシロキサンであって水酸基を有するもの、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖に有機化合物を導入した有機化合物導入ポリオルガノシロキサンであって水酸基を有するもの、(メタ)アクリル系樹脂にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂であって水酸基を有するもの、有機化合物にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性有機化合物であって水酸基を有するもの、有機化合物とシリコーン化合物を共重合したシリコーン含有有機化合物であって水酸基を有するものなどが挙げられる。水酸基含有シリコーン系化合物の市販品としては、例えば、商品名「X−22−4015」、「X−22−4039」、「KF6000」、「KF6001」、「KF6002」、「KF6003」、「X−22−170BX」、「X−22−170DX」、「X−22−176DX」、「X−22−176F」(信越化学工業株式会社製)、ビックケミー・ジャパン(株)製の「BYK−370」、「BYK−SILCLEAN3700」、「BYK−SILCLEAN3720」などが挙げられる。水酸基含有シリコーン系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of the hydroxyl group-containing silicone compound include a polyether-modified polyorganosiloxane in which a polyether group is introduced into the main chain or side chain of a polyorganosiloxane skeleton (polydimethylsiloxane, etc.) and having a hydroxyl group, and a polyorganosiloxane. A polyester-modified polyorganosiloxane having a polyester group introduced into the main chain or side chain of the skeleton and having a hydroxyl group, or an organic compound-introduced polyorganosiloxane having an organic compound introduced into the main chain or side chain of the polyorganosiloxane skeleton. A silicone-modified (meth) acrylic resin in which polyorganosiloxane is introduced into a (meth) acrylic resin, which has a hydroxyl group, and a silicone-modified organic compound in which polyorganosiloxane is introduced into an organic compound. Examples thereof include those having a hydroxyl group, and silicone-containing organic compounds obtained by copolymerizing an organic compound and a silicone compound and having a hydroxyl group. Commercially available products of hydroxyl group-containing silicone compounds include, for example, trade names "X-22-4015", "X-22-4039", "KF6000", "KF6001", "KF6002", "KF6003", "X-". 22-170BX, "X-22-170DX", "X-22-176DX", "X-22-176F" (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), "BYK-370" manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. , "BYK-SILCLEAN3700", "BYK-SILCLEAN3720" and the like. The hydroxyl group-containing silicone compound may be only one kind or two or more kinds.

架橋性官能基含有シリコーン系化合物としては、例えば、ポリオルガノシロキサン骨格(ポリジメチルシロキサンなど)の主鎖または側鎖にポリエーテル基を導入したポリエーテル変性ポリオルガノシロキサンであって架橋性官能基を有するもの、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖にポリエステル基を導入したポリエステル変性ポリオルガノシロキサンであって架橋性官能基を有するもの、ポリオルガノシロキサン骨格の主鎖または側鎖に有機化合物を導入した有機化合物導入ポリオルガノシロキサンであって架橋性官能基を有するもの、(メタ)アクリル系樹脂にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性(メタ)アクリル系樹脂であって架橋性官能基を有するもの、有機化合物にポリオルガノシロキサンを導入したシリコーン変性有機化合物であって架橋性官能基を有するもの、有機化合物とシリコーン化合物を共重合したシリコーン含有有機化合物であって架橋性官能基を有するものなどが挙げられる。架橋性官能基としては、アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、カルボキシル基、イソシアネート基、メタクリレート基などが挙げられる。架橋性官能基含有シリコーン系化合物の市販品としては、例えば、東レ・ダウコーニング(株)製の「BY16−855」、BY16−855」、「SF8413」、「BY16−839」、「SF8421」、「BY16−750」、「BY16−880」、「BY16−152C」、信越化学工業株式会社製の「KF−868」、「KF−865」、「KF−864」、「KF−859」、「KF−393」、「KF−860」、「KF−880」、「KF−8004」、「KF−8002」、「KF−8005」、「KF−867」、「KF−8021」、「KF−869」、「KF−861」、「X−22−343」、「KF−101」、「X−22−9002」、「X−22−3710」、「X−22−2000」、「X−22−4741」、「KF−1002」、「KF−2001」、「X−22−3701E」、「X−22−164」、「X−22−164A」、「X−22−164B」、「X−22−164AS」、「X−22−2445」などが挙げられる。架橋性官能基含有シリコーン系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The crosslinkable functional group-containing silicone compound is, for example, a polyether-modified polyorganosiloxane in which a polyether group is introduced into the main chain or side chain of a polyorganosiloxane skeleton (polydimethylsiloxane, etc.) and has a crosslinkable functional group. Those having, polyester-modified polyorganosiloxane in which a polyester group is introduced into the main chain or side chain of the polyorganosiloxane skeleton and having a crosslinkable functional group, organic compounds introduced into the main chain or side chain of the polyorganosiloxane skeleton Organic compound-introduced polyorganosiloxane having a crosslinkable functional group, silicone-modified (meth) acrylic resin in which polyorganosiloxane is introduced into a (meth) acrylic resin and having a crosslinkable functional group, A silicone-modified organic compound obtained by introducing polyorganosiloxane into an organic compound and having a crosslinkable functional group, a silicone-containing organic compound obtained by copolymerizing an organic compound and a silicone compound and having a crosslinkable functional group, and the like can be mentioned. Be done. Examples of the crosslinkable functional group include an amino group, an epoxy group, a mercapto group, a carboxyl group, an isocyanate group and a methacrylate group. Commercially available products of the crosslinkable functional group-containing silicone-based compound include, for example, "BY16-855", BY16-855 "," SF8413 "," BY16-839 "," SF8421 "manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. "BY16-750", "BY16-880", "BY16-152C", "KF-868", "KF-865", "KF-864", "KF-859", "KF-859" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KF-393 "," KF-860 "," KF-880 "," KF-8004 "," KF-8002 "," KF-8005 "," KF-867 "," KF-8021 "," KF- 869 "," KF-861 "," X-22-343 "," KF-101 "," X-22-9002 "," X-22-3710 "," X-22-2000 "," X- 22-4471 "," KF-1002 "," KF-2001 "," X-22-3701E "," X-22-164 "," X-22-164A "," X-22-164B "," Examples thereof include "X-22-164AS" and "X-22-2445". The crosslinkable functional group-containing silicone compound may be only one kind or two or more kinds.

フッ素系添加剤としては、好ましくは、フッ素含有化合物、水酸基含有フッ素系化合物、および架橋性官能基含有フッ素系化合物から選ばれる少なくとも1種である。 The fluorine-based additive is preferably at least one selected from a fluorine-containing compound, a hydroxyl group-containing fluorine-based compound, and a crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound.

フッ素含有化合物としては、例えば、フルオロ脂肪族炭化水素骨格を有する化合物、有機化合物とフッ素化合物を共重合したフッ素含有有機化合物、有機化合物を含むフッ素含有化合物などが挙げられる。フルオロ脂肪族炭化水素骨格としては、例えば、フルオロメタン、フルオロエタン、フルオロプロパン、フルオロイソプロパン、フルオロブタン、フルオロイソブタン、フルオロt−ブタン、フルオロペンタン、フルオロヘキサンなどのフルオロC1−C10アルカンなどが挙げられる。フッ素含有化合物の市販品としては、例えば、AGCセイミケミカル(株)製のサーフロンシリーズのレベリング剤(「S−242」、「S−243」、「S−420」、「S−611」、「S−651」、「S−386」など)、ビックケミー・ジャパン(株)製のBYKシリーズのレベリング剤(「BYK−340」など)、Algin Chemie社製のACシリーズのレベリング剤(「AC 110a」、「AC 100a」など)、DIC(株)製のメガファックシリーズのレベリング剤(「メガファックF−114」、「メガファックF−410」、「メガファックF−444」、「メガファックEXP TP−2066」、「メガファックF−430」、「メガファックF−472SF」、「メガファックF−477」、「メガファックF−552」、「メガファックF−553」、「メガファックF−554」、「メガファックF−555」、「メガファックR−94」、「メガファックRS−72−K」、「メガファックRS−75」、「メガファックF−556」、「メガファックEXP TF−1367」、「メガファックEXP TF−1437」、「メガファックF−558」、「メガファックEXP TF−1537」など)、住友スリーエム(株)製のFCシリーズのレベリング剤(「FC−4430」、「FC−4432」など)、(株)ネオス製のフタージェントシリーズのレベリング剤(「フタージェント100」、「フタージェント100C」、「フタージェント110」、「フタージェント150」、「フタージェント150CH」、「フタージェントA−K」、「フタージェント501」、「フタージェント250」、「フタージェント251」、「フタージェント222F」、「フタージェント208G」、「フタージェント300」、「フタージェント310」、「フタージェント400SW」など)、北村化学産業(株)製のPFシリーズのレベリング剤(「PF−136A」、「PF−156A」、「PF−151N」、「PF−636」、「PF−6320」、「PF−656」、「PF−6520」、「PF−651」、「PF−652」、「PF−3320」など)などが挙げられる。フッ素含有化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of the fluorine-containing compound include a compound having a fluoroaliphatic hydrocarbon skeleton, a fluorine-containing organic compound obtained by copolymerizing an organic compound and a fluorine compound, and a fluorine-containing compound containing an organic compound. Examples of the fluoroaliphatic hydrocarbon skeleton include fluoroC1-C10 alkanes such as fluoromethane, fluoroethane, fluoropropane, fluoroisopropane, fluorobutane, fluoroisobutane, fluorot-butane, fluoropentane, and fluorohexane. Be done. Examples of commercially available fluorine-containing compounds include leveling agents of the Surflon series manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd. (“S-242”, “S-243”, “S-420”, “S-611”, etc. "S-651", "S-386", etc.), BYK series leveling agent manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. ("BYK-340", etc.), AC series leveling agent manufactured by Algin Chemie ("AC 110a", etc.) , "AC 100a", etc.), DIC Co., Ltd. Megafuck series leveling agents ("Megafuck F-114", "Megafuck F-410", "Megafuck F-444", "Megafuck EXP" TP-2066 "," Mega Fuck F-430 "," Mega Fuck F-472SF "," Mega Fuck F-477 "," Mega Fuck F-552 "," Mega Fuck F-553 "," Mega Fuck F- 554 "," Mega Fuck F-555 "," Mega Fuck R-94 "," Mega Fuck RS-72-K "," Mega Fuck RS-75 "," Mega Fuck F-556 "," Mega Fuck EXP TF " -1367 ”,“ Megafuck EXP TF-1437 ”,“ Megafuck F-558 ”,“ Megafuck EXP TF-1537 ”, etc.), FC series leveling agent manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd. (“FC-4430” , "FC-4432", etc.), Fluorent series leveling agents manufactured by Neos Co., Ltd. , "Futagent AK", "Futagent 501", "Futagent 250", "Futagent 251", "Futagent 222F", "Futagent 208G", "Futagent 300", "Futagent 310" , "Fluorent 400SW", etc.), PF series leveling agents manufactured by Kitamura Chemical Industry Co., Ltd. ("PF-136A", "PF-156A", "PF-151N", "PF-636", "PF" -6320 ”,“ PF-656 ”,“ PF-6520 ”,“ PF-651 ”,“ PF-652 ”,“ PF-3320 ”, etc.) and the like. The fluorine-containing compound may be only one kind or two or more kinds.

水酸基含有フッ素系化合物としては、例えば、従来公知の樹脂が使用でき、例えば、国際公開第94/06870号パンフレット、特開平8−12921号公報、特開平10−72569号公報、特開平4−275379号公報、国際公開第97/11130号パンフレット、国際公開第96/26254号パンフレットなどに記載された水酸基含有フッ素樹脂が挙げられる。その他の水酸基含有フッ素樹脂としては、例えば、特開平8−231919号公報、特開平10−265731号公報、特開平10−204374号公報、特開平8‐12922号公報などに記載されたフルオロオレフィン共重合体などが挙げられる。その他、水酸基含有化合物にフッ素化されたアルキル基を有する化合物の共重合体、水酸基含有化合物にフッ素含有化合物を共重合したフッ素含有有機化合物、水酸基含有有機化合物を含むフッ素含有化合物などが挙げられる。水酸基含有フッ素系化合物の市販品としては、例えば、商品名「ルミフロン」(旭硝子(株)製)、商品名「セフラルコート」(セントラル硝子(株)製)、商品名「ザフロン」(東亜合成(株)製)、商品名「ゼッフル」(ダイキン工業(株)製)、商品名「メガファックF−562」「メガファックF−571」、「フルオネート」(DIC(株)製)などが挙げられる。水酸基含有フッ素系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the hydroxyl group-containing fluoropolymer, for example, a conventionally known resin can be used. For example, International Publication No. 94/06870 Pamphlet, JP-A-8-12921, JP-A-10-72569, JP-A-4-275379 Examples thereof include hydroxyl group-containing fluororesins described in Japanese Patent Publication No. 97/11130 Pamphlet, International Publication No. 96/26254 Pamphlet and the like. Examples of other hydroxyl group-containing fluororesins include fluoroolefins described in JP-A-8-231919, JP-A-10-265731, JP-A-10-204374, and JP-A-8-12922. Examples include polymers. In addition, a copolymer of a compound having an alkyl group fluorinated in a hydroxyl group-containing compound, a fluorine-containing organic compound obtained by copolymerizing a fluorine-containing compound with a hydroxyl group-containing compound, a fluorine-containing compound containing a hydroxyl group-containing organic compound, and the like can be mentioned. Commercially available products of hydroxyl group-containing fluorine-based compounds include, for example, the product name "Lumiflon" (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), the product name "Cefral Coat" (manufactured by Central Glass Co., Ltd.), and the product name "Zaflon" (Toa Synthetic Co., Ltd.). ), Product name "Zefle" (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), product names "Mega Fuck F-562", "Mega Fuck F-571", "Fluoronate" (manufactured by DIC Co., Ltd.) and the like. The hydroxyl group-containing fluorine-based compound may be only one kind or two or more kinds.

架橋性官能基含有フッ素系化合物としては、例えば、ペルフルオロオクタン酸などのようなフッ素化されたアルキル基を有するカルボン酸化合物、架橋性官能基含有化合物にフッ素化されたアルキル基を有する化合物の共重合体、架橋性官能基含有化合物にフッ素含有化合物を共重合したフッ素含有有機化合物、架橋性官能基含有化合物を含むフッ素含有化合物などが挙げられる。架橋性官能基含有フッ素系化合物の市販品としては、例えば、商品名「メガファック F−570」、「メガファックRS−55」、「メガファックRS−56」、「メガファックRS−72−K」、「メガファックRS−75」、「メガファックRS−76−E」、「メガファックRS−76−NS」、「メガファックRS−78」、「メガファックRS−90」(DIC(株)製)などが挙げられる。架橋性官能基含有フッ素系化合物は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 Examples of the crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound include a carboxylic acid compound having a fluorinated alkyl group such as perfluorooctanoic acid and a compound having a fluorinated alkyl group in the crosslinkable functional group-containing compound. Examples thereof include a polymer, a fluorine-containing organic compound obtained by copolymerizing a fluorine-containing compound with a crosslinkable functional group-containing compound, and a fluorine-containing compound containing a crosslinkable functional group-containing compound. Commercially available products of the crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound include, for example, the trade names "Mega Fvck F-570", "Mega Fvck RS-55", "Mega Fvck RS-56", and "Mega Fvck RS-72-K". , "Mega Fvck RS-75", "Mega Fvck RS-76-E", "Mega Fvck RS-76-NS", "Mega Fvck RS-78", "Mega Fvck RS-90" (DIC Co., Ltd. (Made) and so on. The crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound may be only one kind or two or more kinds.

粘着剤組成物a2は、好ましくは、ポリマー成分としてアクリル系ポリマーを含む。このようなアクリル系ポリマーとしては、好ましくは、アルキル基の炭素数が4〜12の(メタ)アクリル酸アルキルエステル(「(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステル」と称する場合がある)を主成分とし、かつ、モノマー成分としてカルボキシル基含有モノマーをモノマー成分全量100重量部に対して1重量部〜10重量部含んでいるモノマー成分を重合して得られるアクリル系ポリマーである。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 preferably contains an acrylic polymer as a polymer component. As such an acrylic polymer, preferably, a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 4 to 12 carbon atoms (sometimes referred to as "(meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester") is mainly used. It is an acrylic polymer obtained by polymerizing a monomer component containing 1 part by weight to 10 parts by weight of a carboxyl group-containing monomer as a component and 100 parts by weight of the total amount of the monomer component.

粘着剤組成物a2中のアクリル系ポリマーの含有割合は、固形分換算で、好ましくは50重量%以上であり、より好ましくは50重量%〜99.99重量%であり、さらに好ましくは55重量%〜99重量%であり、特に好ましくは60重量%〜95重量%であり、最も好ましくは70重量%〜90重量%である。 The content ratio of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive composition a2 is preferably 50% by weight or more, more preferably 50% by weight to 99.99% by weight, still more preferably 55% by weight in terms of solid content. It is ~ 99% by weight, particularly preferably 60% by weight to 95% by weight, and most preferably 70% by weight to 90% by weight.

(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルとしては、アルキル基の炭素数が4〜12である(メタ)アクリル酸アルキルエステル(アクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル)であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルを採用し得る。このような(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルとしては、例えば、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシル、(メタ)アクリル酸ウンデシル、(メタ)アクリル酸ドデシルなどが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルの中でも、好ましくは、(メタ)アクリル酸n−ブチルである。 The effect of the present invention as the (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester as long as it is a (meth) acrylic acid alkyl ester (acrylic acid alkyl ester, methacrylic acid alkyl ester) having an alkyl group having 4 to 12 carbon atoms. Any suitable (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester may be used, as long as it does not impair. Examples of such (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester include (meth) acrylic acid n-butyl, (meth) acrylic acid isobutyl, (meth) acrylic acid s-butyl, and (meth) acrylic acid t-. Butyl, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Nonyl acid acid, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate and the like can be mentioned. Among such (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl esters, n-butyl (meth) acrylic acid is preferable.

モノマー成分の主成分としての(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester as the main component of the monomer component may be only one kind or two or more kinds.

モノマー成分全量中の(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルの含有割合は、好ましくは50重量%〜99重量%であり、より好ましくは80重量%〜98重量%であり、さらに好ましくは90重量%〜97重量%である。(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルの含有割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The content of the (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester in the total amount of the monomer components is preferably 50% by weight to 99% by weight, more preferably 80% by weight to 98% by weight, and further preferably 90% by weight. % To 97% by weight. When the content ratio of the (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the optical member and electrons can be further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the member or the like, damage to the optical member or the electronic member can be further reduced.

モノマー成分はカルボキシル基含有モノマーを含む。このようなカルボキシル基含有モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸(アクリル酸、メタクリル酸)、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などが挙げられる。また、これらのカルボキシル基含有モノマーの酸無水物(例えば、無水マレイン酸、無水イコタン酸などの酸無水物基含有モノマー)も、カルボキシル基含有モノマーとして挙げられる。 The monomer component includes a carboxyl group-containing monomer. Examples of such a carboxyl group-containing monomer include (meth) acrylic acid (acrylic acid, methacrylic acid), itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid and the like. Further, acid anhydrides of these carboxyl group-containing monomers (for example, acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and icotanic anhydride) can also be mentioned as carboxyl group-containing monomers.

モノマー成分全量中のカルボキシル基含有モノマーの含有割合は、好ましくは1重量%〜10重量%であり、より好ましくは3重量%〜10重量%であり、さらに好ましくは3重量%〜5重量%である。モノマー成分全量中のカルボキシル基含有モノマーの含有割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The content ratio of the carboxyl group-containing monomer in the total amount of the monomer components is preferably 1% by weight to 10% by weight, more preferably 3% by weight to 10% by weight, and further preferably 3% by weight to 5% by weight. be. When the content ratio of the carboxyl group-containing monomer in the total amount of the monomer components is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the optical member and the electronic member can be further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side such as, damage to the optical member or the electronic member can be further reduced.

アクリル系ポリマーを重合によって得るために用いるモノマー成分は、必要に応じて、(メタ)アクリル酸C4−C12アルキルエステルやカルボキシル基含有モノマーに対して共重合が可能なモノマー(共重合性モノマー)を含んでいてもよい。このような共重合性モノマーの含有割合は、モノマー成分全量に対して、好ましくは50重量%未満である。このような共重合性モノマーの含有割合は、良好な粘着性を発現させるために、得られるアクリル系ポリマーのガラス転移温度が、より好ましくは−20℃以下となるような含有割合であり、さらに好ましくは−70℃〜−35℃となるような含有割合である。 The monomer component used to obtain the acrylic polymer by polymerization is, if necessary, a monomer (copolymerizable monomer) capable of copolymerizing with (meth) acrylic acid C4-C12 alkyl ester or a carboxyl group-containing monomer. It may be included. The content ratio of such a copolymerizable monomer is preferably less than 50% by weight with respect to the total amount of the monomer components. The content ratio of such a copolymerizable monomer is such that the glass transition temperature of the obtained acrylic polymer is more preferably −20 ° C. or lower in order to exhibit good adhesiveness, and further. The content ratio is preferably −70 ° C. to −35 ° C.

共重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピルなどの(メタ)アクリル酸C1−C3アルキルエステル;(メタ)アクリル酸トリデシル、(メタ)アクリル酸テトラデシル、(メタ)アクリル酸ペンタデシル、(メタ)アクリル酸ヘキサデシル、(メタ)アクリル酸ヘプタデシル、(メタ)アクリル酸オクタデシル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシルなどの(メタ)アクリル酸C13−C20アルキルエステル;(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステル((メタ)アクリル酸シクロヘキシルなど)や、(メタ)アクリル酸イソボルニル等の非芳香族性環含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸アリールエステル((メタ)アクリル酸フェニルなど)、(メタ)アクリル酸アリールオキシアルキルエステル((メタ)アクリル酸フェノキシエチルなど)や、(メタ)アクリル酸アリールアルキルエステル((メタ)アクリル酸ベンジルエステル)等の芳香族性環含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル系モノマー;スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチルなどのヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエンなどのオレフィン系モノマー;ビニルエーテルなどのビニルエーテル系モノマー;等が挙げられる。 Examples of the copolymerizable monomer include (meth) acrylic acid C1-C3 alkyl esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and isopropyl (meth) acrylate; Tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, pentadecyl (meth) acrylate, hexadecyl (meth) acrylate, heptadecyl (meth) acrylate, octadecyl (meth) acrylate, nonadecil (meth) acrylate, (meth) ) C13-C20 alkyl ester of (meth) acrylic acid such as eicosyl acrylate; containing non-aromatic ring such as cycloalkyl ester of (meth) acrylic acid (cyclohexyl (meth) acrylic acid) and isobornyl (meth) acrylic acid. (Meta) acrylic acid ester; (meth) acrylic acid aryl ester ((meth) acrylic acid phenyl, etc.), (meth) acrylic acid aryloxyalkyl ester ((meth) acrylic acid phenoxyethyl, etc.), (meth) acrylic acid Aromatic ring-containing (meth) acrylic acid ester such as arylalkyl ester ((meth) acrylic acid benzyl ester); epoxy group-containing acrylic monomer such as (meth) glycidyl acrylate and (meth) methyl glycidyl acrylate; acetic acid Vinyl ester-based monomers such as vinyl and vinyl propionate; styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; hydroxyls such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate. Group-containing monomer; (meth) acrylate alkyl-based monomer such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate; olefin-based monomer such as ethylene, propylene, isoprene, and butadiene; vinyl ether-based monomer such as vinyl ether ; Etc. can be mentioned.

共重合性モノマーとしては、例えば、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートなどの多官能モノマーも挙げられる。 Examples of the copolymerizable monomer include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol. Di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropantri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, divinylbenzene , Butyldi (meth) acrylate, hexyldi (meth) acrylate and other polyfunctional monomers can also be mentioned.

共重合性モノマーとしては、窒素原子含有モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t−ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミドなどの(N−置換)アミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレート系モノマー;2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマーなど)も挙げられる。しかしながら、このような窒素原子含有モノマーは加熱下における粘着剤黄変の原因となり得るため、用いなくてもよい場合は用いないことが好ましい。 Examples of the copolymerizable monomer include (meth) nitrogen atom-containing monomers (for example, (meth) aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, and the like. Aminoalkyl acrylate monomers; (N-substituted) amide monomers such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide; acrylonitrile, Also included are cyanoacrylate-based monomers such as methacrylonitrile; isocyanate group-containing monomers such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate). However, since such a nitrogen atom-containing monomer can cause yellowing of the pressure-sensitive adhesive under heating, it is preferable not to use it when it is not necessary to use it.

アクリル系ポリマーは、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合方法により調製することができる。アクリル系ポリマーの重合方法としては、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、紫外線照射による重合方法などが挙げられ、透明性、耐水性、コストなどの点で、溶液重合方法が好ましい。 The acrylic polymer can be prepared by any suitable polymerization method as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the polymerization method of the acrylic polymer include a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, a polymerization method by irradiation with ultraviolet rays, and the like, and the solution polymerization method is preferable in terms of transparency, water resistance, cost, and the like. ..

アクリル系ポリマーの重合に際して用いられ得る重合開始剤、連鎖移動剤などは、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なものを採用し得る。 As the polymerization initiator, chain transfer agent, etc. that can be used in the polymerization of the acrylic polymer, any suitable one can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired.

重合開始剤の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な量を採用し得る。このような使用量としては、例えば、モノマー成分全量に対して0.01重量%〜1重量%が好ましい。 As the amount of the polymerization initiator used, any appropriate amount can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. As such an amount to be used, for example, 0.01% by weight to 1% by weight is preferable with respect to the total amount of the monomer components.

連鎖移動剤の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な量を採用し得る。このような使用量としては、例えば、モノマー成分全量に対して0.01重量%〜15重量%が好ましい。 As the amount of the chain transfer agent used, any appropriate amount may be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. As such an amount to be used, for example, 0.01% by weight to 15% by weight is preferable with respect to the total amount of the monomer components.

溶液重合方法においては、各種の一般的な溶剤を用いることができる。このような溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;などの有機溶剤が挙げられる。溶剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 In the solution polymerization method, various general solvents can be used. Examples of such a solvent include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; cyclohexane and methyl. Examples thereof include organic solvents such as alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; and ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; The solvent may be only one type or two or more types.

アクリル系ポリマーは、重量平均分子量が、好ましくは50万〜90万であり、より好ましくは55万〜85万であり、さらに好ましくは60万〜80万である。アクリル系ポリマーの重量平均分子量が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer is preferably 500,000 to 900,000, more preferably 550,000 to 850,000, and even more preferably 600,000 to 800,000. When the weight average molecular weight of the acrylic polymer is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the exposed surface side of the optical member, the electronic member, or the like can be further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that has been previously bonded to the above, damage to the optical member and the electronic member can be further reduced.

アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤や連鎖移動剤の種類やその使用量、重合の際の温度や時間の他、モノマー濃度、モノマー滴下速度などによりコントロールすることができる。 The weight average molecular weight of the acrylic polymer can be controlled by the type and amount of the polymerization initiator and chain transfer agent, the temperature and time at the time of polymerization, the monomer concentration, the monomer dropping rate, and the like.

粘着剤組成物a2は、オリゴマー成分を含んでいてもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 may contain an oligomer component.

オリゴマー成分としては、好ましくは、ホモポリマーを形成した際のガラス転移温度が60℃〜190℃であり、かつ、環状構造を有するエチレン性不飽和単量体(「Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体」と称する場合がある)を主成分とし、かつ、カルボキシル基含有モノマーをモノマー成分全量100重量部に対して1重量部〜10重量部含んでいるモノマー成分を重合して得られるオリゴマー成分である。 As the oligomer component, preferably, an ethylenically unsaturated monomer having a cyclic structure and a glass transition temperature of 60 ° C. to 190 ° C. when forming a homopolymer (“Tg of 60 ° C. to 190 ° C.” A monomer component containing (sometimes referred to as "ring-containing ethylenically unsaturated monomer") as a main component and containing 1 part by weight to 10 parts by weight of a carboxyl group-containing monomer with respect to 100 parts by weight of the total amount of the monomer component. It is an oligomer component obtained by polymerization.

オリゴマー成分としては、ホモポリマーを形成した際のガラス転移温度が60℃以上であり、かつ、環状構造を有するエチレン性不飽和単量体を重合して得られるオリゴマー成分も挙げられる。 Examples of the oligomer component include an oligomer component obtained by polymerizing an ethylenically unsaturated monomer having a cyclic structure and having a glass transition temperature of 60 ° C. or higher when a homopolymer is formed.

オリゴマー成分において、Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体としては、ホモポリマーを形成した際のガラス転移温度(Tg)が60℃〜190℃となり、かつ、分子内に環状構造を有するエチレン性不飽和単量体であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なモノマー成分を採用し得る。このようなTgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体における環としては、芳香族性環、非芳香族性環のいずれであってもよいが、非芳香族性環が好ましい。芳香族性環としては、例えば、芳香族炭化水素環(例えば、ベンゼン環や、ナフタレン等における縮合炭素環など)や各種芳香族性複素環などが挙げられる。非芳香族性環としては、非芳香族性脂環式環(シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環などのシクロアルカン環;シクロヘキセン環などのシクロアルケン環など)、非芳香族性橋かけ環(例えば、ピナン、ピネン、ボルナン、ノルボルナン、ノルボルネンなどにおける二環式炭化水素環;アダマンタンなどにおける三環式炭化水素環;四環式炭化水素環;などの橋かけ式炭化水素環など)などが挙げられる。 In the oligomer component, the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. has a glass transition temperature (Tg) of 60 ° C. to 190 ° C. when a homopolymer is formed, and is contained in the molecule. Any suitable monomer component can be adopted as long as it is an ethylenically unsaturated monomer having a cyclic structure, as long as the effects of the present invention are not impaired. The ring in the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. may be either an aromatic ring or a non-aromatic ring, but the non-aromatic ring is used. preferable. Examples of the aromatic ring include an aromatic hydrocarbon ring (for example, a benzene ring, a condensed carbon ring in naphthalene and the like), and various aromatic heterocycles. Examples of the non-aromatic ring include a non-aromatic alicyclic ring (cycloalkane ring such as cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring and cyclooctane ring; cycloalkene ring such as cyclohexene ring) and non-aromatic ring. Bi-cyclic hydrocarbon rings in sex bridging rings (eg, pinan, pinen, bornan, norbornane, norbornane, etc .; tricyclic hydrocarbon rings in adamantan, etc .; tetracyclic hydrocarbon rings; etc. Etc.) and so on.

Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル等の(メタ)アクリル酸シクロアルキルエステルや、(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの非芳香族性環含有(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸フェニル等の(メタ)アクリル酸アリールエステル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル等の(メタ)アクリル酸アリールオキシアルキルエステルや、(メタ)アクリル酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸アリールアルキルエステルなどの芳香族性環含有(メタ)アクリル酸エステル;スチレンや、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー;などの分子内に環状構造を有するエチレン性不飽和単量体の中から、ホモポリマーを形成した際のガラス転移温度が60℃〜190℃となるものを適宜選択し得る。 Examples of the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. include a (meth) acrylic acid cycloalkyl ester such as cyclohexyl (meth) acrylate and a non-aromatic such as isobornyl (meth) acrylate. Group ring-containing (meth) acrylic acid ester; (meth) acrylic acid aryl ester such as phenyl (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid aryloxyalkyl ester such as (meth) phenoxyethyl acrylate, and (meth) Aromatic ring-containing (meth) acrylic acid esters such as (meth) acrylic acid arylalkyl esters such as benzyl acrylate; styrene-based monomers such as styrene and α-methylstyrene; ethylene having a cyclic structure in the molecule. From the sex unsaturated monomers, those having a glass transition temperature of 60 ° C. to 190 ° C. when the homopolymer is formed can be appropriately selected.

Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体としては、好ましくは、メタクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの非芳香族性環を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられ、透明性の観点から、より好ましくは、メタクリル酸シクロヘキシルが挙げられる。 Examples of the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. include (meth) acrylic acid esters having a non-aromatic ring such as cyclohexyl methacrylate and isobornyl (meth) acrylate. Therefore, from the viewpoint of transparency, cyclohexyl methacrylate is more preferable.

Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. may be only one kind or two or more kinds.

Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体の含有割合は、モノマー成分全量に対して、好ましくは50重量%以上であり、より好ましくは80重量%〜99重量%であり、さらに好ましくは90重量%〜97重量%である。Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体の含有割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The content ratio of the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight to 99% by weight, based on the total amount of the monomer components. , More preferably 90% by weight to 97% by weight. When the content ratio of the ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator of the present invention is further increased. It can be suppressed, and even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, damage to the optical member or the electronic member can be further reduced.

オリゴマー成分は、モノマー成分としてカルボキシル基含有モノマーを含んでいてもよい。このようなカルボキシル基含有モノマーとしては、アクリル系ポリマーを構成し得るカルボキシル基含有モノマーと同様に、例えば、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸などが挙げられる。また、これらのカルボキシル基含有モノマーの酸無水物(例えば、無水マレイン酸、無水イコタン酸などの酸無水物基含有モノマー)も、カルボキシル基含有モノマーとして挙げられる。 The oligomer component may contain a carboxyl group-containing monomer as a monomer component. Examples of such a carboxyl group-containing monomer include (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, and the like, as in the case of the carboxyl group-containing monomer that can form an acrylic polymer. Further, acid anhydrides of these carboxyl group-containing monomers (for example, acid anhydride group-containing monomers such as maleic anhydride and icotanic anhydride) can also be mentioned as carboxyl group-containing monomers.

オリゴマー成分を構成し得るカルボキシル基含有モノマーの含有割合は、モノマー成分全量100重量部に対して、好ましくは1重量部〜10重量部であり、好ましくは3重量部〜10重量部であり、さらに好ましくは3重量部〜5重量部である。カルボキシル基含有モノマーの含有割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The content ratio of the carboxyl group-containing monomer that can constitute the oligomer component is preferably 1 part by weight to 10 parts by weight, preferably 3 parts by weight to 10 parts by weight, and further, based on 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. It is preferably 3 parts by weight to 5 parts by weight. When the content ratio of the carboxyl group-containing monomer is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the exposed surface side of the optical member, the electronic member, or the like can be further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that has been previously bonded to the above, damage to the optical member and the electronic member can be further reduced.

オリゴマー成分を構成し得るモノマー成分としては、必要に応じて、Tgが60℃〜190℃の環含有エチレン性不飽和単量体やカルボキシル基含有モノマーに対して共重合が可能なモノマー(共重合性モノマー)が含まれていてもよい。このような共重合性モノマーの含有割合は、モノマー成分全量100重量部に対して、好ましくは50重量%未満である。このような共重合性モノマーの含有割合は、良好な粘着性を発現させ得る点で、オリゴマー成分のガラス転移温度を、好ましくは60℃以上、より好ましくは65℃〜180℃とすることができるような含有割合であることが好ましい。 As the monomer component that can constitute the oligomer component, a monomer capable of copolymerizing with a ring-containing ethylenically unsaturated monomer having a Tg of 60 ° C. to 190 ° C. or a carboxyl group-containing monomer (copolymerization), if necessary. Sex monomer) may be contained. The content ratio of such a copolymerizable monomer is preferably less than 50% by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the monomer components. The content ratio of such a copolymerizable monomer can set the glass transition temperature of the oligomer component to preferably 60 ° C. or higher, more preferably 65 ° C. to 180 ° C. in that good adhesiveness can be exhibited. It is preferable that the content ratio is as such.

共重合性モノマーとしては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸s−ブチル、(メタ)アクリル酸t−ブチル、(メタ)アクリル酸ペンチル、(メタ)アクリル酸ヘキシル、(メタ)アクリル酸ヘプチル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸ノニル、(メタ)アクリル酸イソノニル、(メタ)アクリル酸デシル、(メタ)アクリル酸イソデシルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステル;(メタ)アクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸メチルグリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル系モノマー;(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸ヒドロキシブチルなどのヒドロキシル基含有モノマー;(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸エトキシエチルなどの(メタ)アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエンなどのオレフィン系モノマー;ビニルエーテルなどのビニルエーテル系モノマー;等が挙げられる。 Examples of the copolymerizable monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, and (meth) acrylic. Isobutyl acid, s-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, ( Alkyl (meth) acrylates such as 2-ethylhexyl acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate. Esters; epoxy group-containing acrylic monomers such as glycidyl (meth) acrylate and methyl glycidyl (meth) acrylate; vinyl ester monomers such as vinyl acetate and vinyl propionate; hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic Hydroxyl group-containing monomers such as hydroxypropyl acid and hydroxybutyl (meth) acrylate; (meth) alkoxyalkyl acrylate monomers such as methoxyethyl (meth) acrylate and ethoxyethyl (meth) acrylate; ethylene, propylene, isoprene , Olefin-based monomers such as butadiene; vinyl ether-based monomers such as vinyl ether; and the like.

共重合性モノマーとしては、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、ジビニルベンゼン、ブチルジ(メタ)アクリレート、ヘキシルジ(メタ)アクリレートなどの多官能モノマーも挙げられる。 Examples of the copolymerizable monomer include hexanediol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol di (poly). Meta) Acrylate, Glycerindi (Meta) Acrylate, Trimethylol Propanetri (Meta) Acrylate, Pentaerythritol Tri (Meta) Acrylate, Dipentaerythritol Hexa (Meta) Acrylate, Epoxy Acrylate, Polyester Acrylate, Urethane Acrylate, Divinylbenzene, Butyl Di Polyfunctional monomers such as (meth) acrylate and hexyldi (meth) acrylate can also be mentioned.

共重合性モノマーとしては、窒素原子含有モノマー(例えば、(メタ)アクリル酸アミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸t−ブチルアミノエチルなどの(メタ)アクリル酸アミノアルキル系モノマー;(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミドなどの(N−置換)アミド系モノマー;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレート系モノマー;2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有モノマーなど)も挙げられる。しかしながら、このような窒素原子含有モノマーは加熱下における粘着剤黄変の原因となり得るため、用いなくてもよい場合は用いないことが好ましい。 Examples of the copolymerizable monomer include (meth) nitrogen atom-containing monomers (for example, (meth) aminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, t-butylaminoethyl (meth) acrylate, and the like. Aminoalkyl acrylate monomers; (N-substituted) amide monomers such as (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide; acrylonitrile, Also included are cyanoacrylate-based monomers such as methacrylonitrile; isocyanate group-containing monomers such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate). However, since such a nitrogen atom-containing monomer can cause yellowing of the pressure-sensitive adhesive under heating, it is preferable not to use it when it is not necessary to use it.

オリゴマー成分は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な重合方法により調製することができる。アクリル系ポリマーの重合方法としては、例えば、溶液重合方法、乳化重合方法、塊状重合方法、紫外線照射による重合方法などが挙げられ、透明性、耐水性、コストなどの点で、溶液重合方法が好ましい。 The oligomer component can be prepared by any suitable polymerization method as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of the polymerization method of the acrylic polymer include a solution polymerization method, an emulsion polymerization method, a bulk polymerization method, a polymerization method by irradiation with ultraviolet rays, and the like, and the solution polymerization method is preferable in terms of transparency, water resistance, cost, and the like. ..

オリゴマー成分の重合に際して用いられ得る重合開始剤、連鎖移動剤などは、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なものを採用し得る。 As the polymerization initiator, chain transfer agent, etc. that can be used in the polymerization of the oligomer component, any suitable one can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired.

重合開始剤の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な量を採用し得る。このような使用量としては、例えば、モノマー成分全量に対して0.1重量%〜15重量%が好ましい。 As the amount of the polymerization initiator used, any appropriate amount can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. As such an amount to be used, for example, 0.1% by weight to 15% by weight is preferable with respect to the total amount of the monomer components.

連鎖移動剤の使用量は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な量を採用し得る。このような使用量としては、例えば、モノマー成分全量に対して0.01重量%〜15重量%が好ましい。 As the amount of the chain transfer agent used, any appropriate amount may be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. As such an amount to be used, for example, 0.01% by weight to 15% by weight is preferable with respect to the total amount of the monomer components.

溶液重合方法においては、各種の一般的な溶剤を用いることができる。このような溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸n−ブチル等のエステル類;トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類;n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素類;シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類;などの有機溶剤が挙げられる。溶剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 In the solution polymerization method, various general solvents can be used. Examples of such a solvent include esters such as ethyl acetate and n-butyl acetate; aromatic hydrocarbons such as toluene and benzene; aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane; cyclohexane and methyl. Examples thereof include organic solvents such as alicyclic hydrocarbons such as cyclohexane; and ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; The solvent may be only one type or two or more types.

オリゴマー成分は、重量平均分子量が、好ましくは3000〜6000であり、より好ましくは3300〜5500であり、さらに好ましくは3500〜5000である。オリゴマー成分の重量平均分子量が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The oligomer component has a weight average molecular weight of preferably 3000 to 6000, more preferably 3300 to 5500, and even more preferably 3500 to 5000. When the weight average molecular weight of the oligomer component is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the surface side of the exposed surface such as an optical member or an electronic member can be further suppressed. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with the separator bonded in advance, the damage to the optical member and the electronic member can be further reduced.

オリゴマー成分の重量平均分子量は、重合開始剤や連鎖移動剤の種類やその使用量、重合の際の温度や時間の他、モノマー濃度、モノマー滴下速度などによりコントロールすることができる。 The weight average molecular weight of the oligomer component can be controlled by the type and amount of the polymerization initiator and chain transfer agent, the temperature and time at the time of polymerization, the monomer concentration, the monomer dropping rate, and the like.

粘着剤組成物a2がアクリル系ポリマーとオリゴマー成分を含んでいると、優れた透明性を発現でき、接着界面で浮きや剥れが生じ難いという、優れた浮き・剥れ防止性(耐発泡剥れ性)を発現できる。 When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains an acrylic polymer and an oligomer component, excellent transparency can be exhibited, and floating and peeling are unlikely to occur at the adhesive interface, which is excellent floating / peeling prevention (foaming resistance). Can express transparency).

粘着剤組成物a2がアクリル系ポリマーとオリゴマー成分を含んでいる場合において、アクリル系ポリマーとオリゴマー成分との割合としては、オリゴマー成分が、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは10重量部〜35重量部であり、より好ましくは15重量部〜30重量部である。粘着剤組成物a2がアクリル系ポリマーとオリゴマー成分を含んでいる場合において、アクリル系ポリマーとオリゴマー成分との割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains an acrylic polymer and an oligomer component, the ratio of the acrylic polymer to the oligomer component is such that the oligomer component is preferably 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. It is ~ 35 parts by weight, more preferably 15 parts by weight to 30 parts by weight. When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains an acrylic polymer and an oligomer component, and the ratio of the acrylic polymer to the oligomer component is within the above range, when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator of the present invention. The peeling charge that may occur in the film can be further suppressed, and even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, damage to the optical member or the electronic member is caused. It can be reduced more.

粘着剤組成物a2は、好ましくは、導電成分を含む。粘着剤組成物a2が含み得る導電成分としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な導電成分を採用し得る。このような導電成分としては、好ましくは、イオン性液体、イオン伝導ポリマー、イオン伝導フィラー、電気伝導ポリマーから選ばれる少なくとも1種の化合物である。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 preferably contains a conductive component. As the conductive component that can be contained in the pressure-sensitive adhesive composition a2, any suitable conductive component can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a conductive component is preferably at least one compound selected from an ionic liquid, an ionic conductive polymer, an ionic conductive filler, and an electrically conductive polymer.

粘着剤組成物a2がアクリル系ポリマーと導電成分を含んでいる場合において、アクリル系ポリマーと導電成分との割合としては、導電成分が、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜10重量部であり、より好ましくは0.05重量部〜9.0重量部であり、さらに好ましくは0.075重量部〜8.0重量部であり、特に好ましくは0.1重量部〜7.0重量部である。粘着剤組成物a2がアクリル系ポリマーと導電成分を含んでいる場合において、アクリル系ポリマーと導電成分との割合が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains an acrylic polymer and a conductive component, the ratio of the acrylic polymer to the conductive component is preferably 0.01 with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. It is 10 parts by weight to 10 parts by weight, more preferably 0.05 parts by weight to 9.0 parts by weight, further preferably 0.075 parts by weight to 8.0 parts by weight, and particularly preferably 0.1 parts by weight. Parts to 7.0 parts by weight. When the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains an acrylic polymer and a conductive component, and the ratio of the acrylic polymer and the conductive component is within the above range, when the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator of the present invention. The peeling charge that may occur in the film can be further suppressed, and even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the optical member or the electronic member, damage to the optical member or the electronic member is caused. It can be reduced more.

イオン性液体としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なイオン性液体を採用し得る。ここで、イオン性液体とは、25℃で液状を呈する溶融塩(イオン性化合物)を意味する。イオン性液体は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the ionic liquid, any suitable ionic liquid can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Here, the ionic liquid means a molten salt (ionic compound) that exhibits a liquid at 25 ° C. The ionic liquid may be only one kind or two or more kinds.

このようなイオン性液体としては、好ましくは、フルオロ有機アニオンとオニウムカチオンから構成されるイオン性液体である。イオン性液体として、フルオロ有機アニオンとオニウムカチオンから構成されるイオン性液体を採用することにより、本発明のセパレーター付補強用フィルムは、粘着剤層A2の表面からセパレーターを剥離する際に生じ得る剥離帯電をより抑制でき、設備や他のフィルム等との擦れによって生じ得る帯電もより抑制できる。 Such an ionic liquid is preferably an ionic liquid composed of a fluoroorganic anion and an onium cation. By adopting an ionic liquid composed of a fluoroorganic anion and an onium cation as the ionic liquid, the reinforcing film with a separator of the present invention can be peeled off when the separator is peeled off from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2. The charge can be further suppressed, and the charge that may occur due to rubbing against equipment or other films can be further suppressed.

イオン性液体を構成し得るオニウムカチオンとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なオニウムカチオンを採用し得る。このようなオニウムカチオンとしては、好ましくは、窒素含有オニウムカチオン、硫黄含有オニウムカチオン、リン含有オニウムカチオンから選ばれる少なくとも1種である。これらのオニウムカチオンを選択することにより、本発明のセパレーター付補強用フィルムは、粘着剤層A2の表面からセパレーターを剥離する際に生じ得る剥離帯電をより一層抑制でき、設備や他のフィルム等との擦れによって生じ得る帯電もより一層抑制できる。 As the onium cation that can form an ionic liquid, any suitable onium cation can be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. The onium cation is preferably at least one selected from a nitrogen-containing onium cation, a sulfur-containing onium cation, and a phosphorus-containing onium cation. By selecting these onium cations, the reinforcing film with a separator of the present invention can further suppress the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2, and can be used with equipment, other films, etc. The charge that can be generated by the rubbing of the film can be further suppressed.

イオン性液体を構成し得るオニウムカチオンとしては、本発明の効果をより発現させ得る点で、好ましくは、一般式(1)〜(5)で表される構造を有するカチオンから選ばれる少なくとも1種である。

Figure 0006918468
As the onium cation that can constitute an ionic liquid, at least one selected from cations having structures represented by the general formulas (1) to (5) is preferable in that the effects of the present invention can be more exhibited. Is.
Figure 0006918468

一般式(1)において、Raは、炭素数4から20の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよく、RbおよびRcは、同一または異なって、水素または炭素数1から16の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい。ただし、窒素原子が2重結合を含む場合、Rcはない。 In the general formula (1), Ra represents a hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms and may contain a heteroatom, and Rb and Rc are the same or different, hydrogen or a hydrocarbon having 1 to 16 carbon atoms. It represents a hydrogen group and may contain a heteroatom. However, when the nitrogen atom contains a double bond, there is no Rc.

一般式(2)において、Rdは、炭素数2から20の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよく、Re、Rf、およびRgは、同一または異なって、水素または炭素数1から16の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい。 In the general formula (2), Rd represents a hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms and may contain a heteroatom, and Re, Rf, and Rg are the same or different from hydrogen or 1 carbon atom. It represents 16 hydrocarbon groups and may contain heteroatoms.

一般式(3)において、Rhは、炭素数2から20の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよく、Ri、Rj、およびRkは、同一または異なって、水素または炭素数1から16の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい。 In the general formula (3), Rh represents a hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms and may contain a heteroatom, and Ri, Rj, and Rk are the same or different from hydrogen or 1 carbon atom. It represents 16 hydrocarbon groups and may contain heteroatoms.

一般式(4)において、Zは、窒素原子、硫黄原子、またはリン原子を表し、R、Rm、Rn、およびRoは、同一または異なって、炭素数1から20の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい。ただしZが硫黄原子の場合、Roはない。 In general formula (4), Z, a nitrogen atom, a sulfur atom or represents a phosphorus atom,, R 1, Rm, Rn, and Ro are the same or different, represent a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, It may contain heteroatoms. However, when Z is a sulfur atom, there is no Ro.

一般式(5)において、Xは、Li原子、Na原子、またはK原子を表す。 In the general formula (5), X represents a Li atom, a Na atom, or a K atom.

一般式(1)で表されるカチオンとしては、例えば、ピリジニウムカチオン、ピロリジニウムカチオン、ピペリジニウムカチオン、ピロリン骨格を有するカチオン、ピロール骨格を有するカチオンなどが挙げられる。 Examples of the cation represented by the general formula (1) include a pyridinium cation, a pyrrolidinium cation, a piperidinium cation, a cation having a pyrroline skeleton, and a cation having a pyrrole skeleton.

一般式(1)で表されるカチオンの具体例としては、例えば、1−エチルピリジニウムカチオン、1−ブチルピリジニウムカチオン、1−へキシルピリジニウムカチオン、1−エチル−3−メチルピリジニウムカチオン、1−ブチル−3−メチルピリジニウムカチオン、1−へキシル−3−メチルピリジニウムカチオン、1−ブチル−4−メチルピリジニウムカチオン、1−オクチル−4−メチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン;1−エチル−1−メチルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−プロピルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−ブチルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−ペンチルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−へキシルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−ヘプチルピロリジニウムカチオン、1−エチル−1−プロピルピロリジニウムカチオン、1−エチル−1−ブチルピロリジニウムカチオン、1−エチル−1−ペンチルピロリジニウムカチオン、1−エチル−1−へキシルピロリジニウムカチオン、1−エチル−1−へプチルピロリジニウムカチオン等のピロリジニウムカチオン;1−メチル−1−エチルピペリジニウムカチオン、1−メチル−1−プロピルピペリジニウムカチオン、1−メチル−1−ブチルピペリジニウムカチオン、1−メチル−1−ペンチルピペリジニウムカチオン、1−メチル−1−ヘキシルピペリジニウムカチオン、1−メチル−1−へプチルピペリジニウムカチオン、1−エチル−1−プロピルピペリジニウムカチオン、1−エチル−1−ブチルピペリジニウムカチオン、1−エチル−1−ペンチルピペリジニウムカチオン、1−エチル−1−ヘキシルピペリジニウムカチオン、1−エチル−1−へプチルピペリジニウムカチオン、1−プロピル−1−ブチルピペリジニウムカチオン等のピペリジニウムカチオン;などが挙げられ、より好ましくは、1−へキシルピリジニウムカチオン、1−エチル−3−メチルピリジニウムカチオン、1−ブチル−3−メチルピリジニウムカチオン、1−オクチル−4−メチルピリジニウムカチオン、1−メチル−1−プロピルピロリジニウムカチオン、1−メチル−1−プロピルピペリジニウムカチオンである。 Specific examples of the cation represented by the general formula (1) include 1-ethylpyridinium cation, 1-butylpyridinium cation, 1-hexylpyridinium cation, 1-ethyl-3-methylpyridinium cation, and 1-butyl. Pyridinium cations such as -3-methylpyridinium cation, 1-hexyl-3-methylpyridinium cation, 1-butyl-4-methylpyridinium cation, 1-octyl-4-methylpyridinium cation; 1-ethyl-1-methylpyrroli Dinium cation, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium cation, 1-methyl-1-butylpyrrolidinium cation, 1-methyl-1-pentylpyrrolidinium cation, 1-methyl-1-hexylpyrrolidi Nium cation, 1-methyl-1-heptylpyrrolidinium cation, 1-ethyl-1-propylpyrrolidinium cation, 1-ethyl-1-butylpyrrolidinium cation, 1-ethyl-1-pentylpyrrolidinium cation , 1-Ethyl-1-hexylpyrrolidinium cation, 1-ethyl-1-heptylpyrrolidinium cation and other pyrrolidinium cations; 1-methyl-1-ethylpiperidinium cation, 1-methyl-1 -To propylpiperidinium cation, 1-methyl-1-butylpiperidinium cation, 1-methyl-1-pentylpiperidinium cation, 1-methyl-1-hexylpiperidinium cation, 1-methyl-1- Petilpiperidinium cation, 1-ethyl-1-propylpiperidinium cation, 1-ethyl-1-butylpiperidinium cation, 1-ethyl-1-pentylpiperidinium cation, 1-ethyl-1-hexylpi Examples thereof include peridinium cations, 1-ethyl-1-heptylpiperidinium cations, piperidinium cations such as 1-propyl-1-butylpiperidinium cations; and more preferably 1-hexylpyridinium cations. , 1-Ethyl-3-methylpyridinium cation, 1-butyl-3-methylpyridinium cation, 1-octyl-4-methylpyridinium cation, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium cation, 1-methyl-1-propyl It is a piperidinium cation.

一般式(2)で表されるカチオンとしては、例えば、イミダゾリウムカチオン、テトラヒドロピリミジニウムカチオン、ジヒドロピリミジニウムカチオンなどが挙げられる。 Examples of the cation represented by the general formula (2) include an imidazolium cation, a tetrahydropyrimidinium cation, and a dihydropyrimidinium cation.

一般式(2)で表されるカチオンの具体例としては、例えば、1,3−ジメチルイミダゾリウムカチオン、1,3−ジエチルイミダゾリウムカチオン、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−へキシル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−オクチル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−デシル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−ドデシル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−テトラデシル−3−メチルイミダゾリウムカチオン等のイミダゾリウムカチオンであり、より好ましくは、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−へキシル−3−メチルイミダゾリウムカチオンである。 Specific examples of the cation represented by the general formula (2) include 1,3-dimethylimidazolium cation, 1,3-diethylimidazolium cation, 1-ethyl-3-methylimidazolium cation, and 1-butyl. -3-Methylimidazolium cation, 1-hexyl-3-methylimidazolium cation, 1-octyl-3-methylimidazolium cation, 1-decyl-3-methylimidazolium cation, 1-dodecyl-3-methylimidazolium cation It is an imidazolium cation such as a lium cation or a 1-tetradecyl-3-methylimidazolium cation, more preferably a 1-ethyl-3-methylimidazolium cation or a 1-hexyl-3-methylimidazolium cation.

一般式(3)で表されるカチオンとしては、例えば、ピラゾリウムカチオン、ピラゾリニウムカチオンなどが挙げられる。 Examples of the cation represented by the general formula (3) include a pyrazolium cation and a pyrazolinium cation.

一般式(3)で表されるカチオンの具体例としては、例えば、1−メチルピラゾリウムカチオン、3−メチルピラゾリウムカチオン、1−エチル−2−メチルピラゾリニウムカチオン、1−エチル−2,3,5−トリメチルピラゾリウムカチオン、1−プロピル−2,3,5−トリメチルピラゾリウムカチオン、1−ブチル−2,3,5−トリメチルピラゾリウムカチオン等のピラゾリウムカチオン;1−エチル−2,3,5−トリメチルピラゾリニウムカチオン、1−プロピル−2,3,5−トリメチルピラゾリニウムカチオン、1−ブチル−2,3,5−トリメチルピラゾリニウムカチオン等のピラゾリニウムカチオン;などが挙げられる。 Specific examples of the cation represented by the general formula (3) include 1-methylpyrazolium cation, 3-methylpyrazolium cation, 1-ethyl-2-methylpyrazolinium cation, and 1-ethyl-. Pyrazolium cations such as 2,3,5-trimethylpyrazolium cation, 1-propyl-2,3,5-trimethylpyrazolium cation, 1-butyl-2,3,5-trimethylpyrazolium cation; Pila such as 1-ethyl-2,3,5-trimethylpyrazolinium cation, 1-propyl-2,3,5-trimethylpyrazolinium cation, 1-butyl-2,3,5-trimethylpyrazolinium cation Zolinium cation; and the like.

一般式(4)で表されるカチオンとしては、例えば、テトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンや、上記アルキル基の一部がアルケニル基やアルコキシル基、さらにはエポキシ基に置換されたものなどが挙げられる。 Examples of the cation represented by the general formula (4) include a tetraalkylammonium cation, a trialkylsulfonium cation, a tetraalkylphosphonium cation, and a part of the above alkyl group is replaced with an alkenyl group, an alkoxyl group, or an epoxy group. Examples include those that have been used.

一般式(4)で表されるカチオンの具体例としては、例えば、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、トリブチルエチルアンモニウムカチオン、トリメチルデシルアンモニウムカチオン、ジエチルメチルスルホニウムカチオン、ジブチルエチルスルホニウムカチオン、ジメチルデシルスルホニウムカチオン、トリエチルメチルホスホニウムカチオン、トリブチルエチルホスホニウムカチオン、トリメチルデシルホスホニウムカチオンなどの非対称のテトラアルキルアンモニウムカチオン、トリアルキルスルホニウムカチオン、テトラアルキルホスホニウムカチオンや、N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メトキシエチル)アンモニウムカチオン、グリシジルトリメチルアンモニウムカチオン、ジアリルジメチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−プロピルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−ブチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−ヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−エチル−N−ノニルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N,N−ジプロピルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−プロピル−N−ブチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−プロピル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−プロピル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−プロピル−N−ヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−ブチル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−ブチル−N−ヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N−ペンチル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジメチル−N,N−ジヘキシルアンモニウムカチオン、トリメチルヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−メチル−N−プロピルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−メチル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−メチル−N−ヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジエチル−N−プロピル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルプロピルアンモニウムカチオン、トリエチルペンチルアンモニウムカチオン、トリエチルヘプチルアンモニウムカチオン、N,N−ジプロピル−N−メチル−N−エチルアンモニウムカチオン、N,N−ジプロピル−N−メチル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、N,N−ジプロピル−N−ブチル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジプロピル−N,N−ジヘキシルアンモニウムカチオン、N,N−ジブチル−N−メチル−N−ペンチルアンモニウムカチオン、N,N−ジブチル−N−メチル−N−ヘキシルアンモニウムカチオン、トリオクチルメチルアンモニウムカチオン、N−メチル−N−エチル−N−プロピル−N−ペンチルアンモニウムカチオンなどが挙げられ、より好ましくは、トリメチルプロピルアンモニウムカチオンである。 Specific examples of the cation represented by the general formula (4) include triethylmethylammonium cation, tributylethylammonium cation, trimethyldecylammonium cation, diethylmethylsulfonium cation, dibutylethylsulfonium cation, dimethyldecylsulfonium cation, and triethylmethyl. Asymmetric tetraalkylammonium cations such as phosphonium cations, tributylethylphosphonium cations, trimethyldecylphosphonium cations, trialkylsulfonium cations, tetraalkylphosphonium cations, and N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-methoxyethyl) Ammonium cation, glycidyl trimethyl ammonium cation, diallyl dimethyl ammonium cation, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-propyl ammonium cation, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-butyl ammonium cation, N, N-dimethyl -N-ethyl-N-pentylammonary ammonium cation, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-hexylammonary cation, N, N-dimethyl-N-ethyl-N-heptylammonary ammonium cation, N, N-dimethyl-N -Ethyl-N-nonylammonium cation, N, N-dimethyl-N, N-dipropylammonary cation, N, N-diethyl-N-propyl-N-butylammonary cation, N, N-dimethyl-N-propyl- N-pentylammonium cation, N, N-dimethyl-N-propyl-N-hexylammonary cation, N, N-dimethyl-N-propyl-N-heptylammonium cation, N, N-dimethyl-N-butyl-N- Hexylammonium cations, N, N-diethyl-N-butyl-N-heptylammonium cations, N, N-dimethyl-N-pentyl-N-hexylammonium cations, N, N-dimethyl-N, N-dihexylammonium cations, Trimethylheptylammonium cation, N, N-diethyl-N-methyl-N-propylammonary cation, N, N-diethyl-N-methyl-N-pentylammonium cation, N, N-diethyl-N-methyl-N-heptyl Ammonium cation, N, N-diethyl-N-propyl-N-pentylammonium cation, triethylpropylammonium cation, triethylpentylammonium cation, Triethylheptylammonium cation, N, N-dipropyl-N-methyl-N-ethylammonary cation, N, N-dipropyl-N-methyl-N-pentylammonary cation, N, N-dipropyl-N-butyl-N-hexyl Ammonium cations, N, N-dipropyl-N, N-dihexylammonary cations, N, N-dibutyl-N-methyl-N-pentylammonary cations, N, N-dibutyl-N-methyl-N-hexylammonium cations, tri Examples thereof include octylmethylammonium cations, N-methyl-N-ethyl-N-propyl-N-pentylammonium cations, and more preferably trimethylpropylammonium cations.

イオン性液体を構成し得るフルオロ有機アニオンとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なフルオロ有機アニオンを採用し得る。このようなフルオロ有機アニオンは、完全にフッ素化(パーフルオロ化)されていてもよいし、部分的にフッ素化されていてもよい。 As the fluoroorganic anion that can form an ionic liquid, any suitable fluoroorganic anion can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Such fluoroorganic anions may be completely fluorinated (perfluoro) or partially fluorinated.

このようなフルオロ有機アニオンとしては、例えば、パーフルオロアルキルスルホネート、ビス(フルオロスルホニル)イミド、ビス(パーフルオロアルカンスルホニル)イミドであり、より具体的には、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、ペンタフルオロエタンスルホネート、ヘプタフルオロプロパンスルホネート、ノナフルオロブタンスルホネート、ビス(フルオロスルホニル)イミド、ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドである。 Examples of such fluoroorganic anions include perfluoroalkyl sulfonates, bis (fluorosulfonyl) imides, and bis (perfluoroalkanesulfonyl) imides, and more specifically, for example, trifluoromethanesulfonates and pentafluoroethane sulfonates. , Heptafluoropropane sulfonate, nonaflate butane sulfonate, bis (fluorosulfonyl) imide, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.

イオン性液体の具体例としては、上記カチオン成分と上記アニオン成分の組み合わせから適宜選択して用いられ得る。このようなイオン性液体の具体例としては、例えば、1−ヘキシルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、1−エチル−3−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、1−エチル−3−メチルピリジニウムペンタフルオロエタンスルホネート、1−エチル−3−メチルピリジニウムヘプタフルオロプロパンスルホネート、1−エチル−3−メチルピリジニウムノナフルオロブタンスルホネート、1−ブチル−3−メチルピリジニウムトリフルオロメタンスルホネート、1−ブチル−3−メチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−オクチル−4−メチルピリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、1−メチル−1−プロピルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−プロピルピロリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、1−メチル−1−プロピルピペリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−メチル−1−プロピルピペリジニウムビス(フルオロスルホニル)イミド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムトリフルオロメタンスルホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムヘプタフルオロプロパンスルホネート、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、1−ヘキシル−3−メチルイミダゾリウムビス(フルオロスルホニル)イミド、トリメチルプロピルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド、リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドである。 As a specific example of the ionic liquid, it can be appropriately selected and used from the combination of the above-mentioned cationic component and the above-mentioned anionic component. Specific examples of such an ionic liquid include 1-hexylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylpyridinium trifluoromethanesulfonate, 1-ethyl-3-methylpyridinium pentafluoroethanesulfonate, and the like. 1-Ethyl-3-methylpyridinium heptafluoropropanesulfonate, 1-ethyl-3-methylpyridinium nonafluorobutane sulfonate, 1-butyl-3-methylpyridinium trifluoromethanesulfonate, 1-butyl-3-methylpyridinium bis (trifluoromethane) Sulfonyl) imide, 1-octyl-4-methylpyridinium bis (fluorosulfonyl) imide, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-propylpyrrolidinium bis (fluoro) Sulfonyl) imide, 1-methyl-1-propyl piperidinium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-methyl-1-propyl piperidinium bis (fluorosulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium trifluoromethane Sulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium heptafluoropropane sulfonate, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide, 1 −Hexyl-3-methylimidazolium bis (fluorosulfonyl) imide, trimethylpropylammonbis (trifluoromethanesulfonyl) imide, lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, lithium bis (fluorosulfonyl) imide.

イオン性液体は、市販のものを使用してもよいが、下記のようにして合成することも可能である。イオン性液体の合成方法としては、目的とするイオン性液体が得られれば特に限定されないが、一般的には、文献「イオン性液体−開発の最前線と未来−」((株)シーエムシー出版発行)に記載されているような、ハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、および中和法などが用いられる。 As the ionic liquid, a commercially available one may be used, but it can also be synthesized as described below. The method for synthesizing an ionic liquid is not particularly limited as long as the desired ionic liquid can be obtained, but in general, the document "Ionic liquid-the forefront and future of development-" (CMC Publishing Co., Ltd.) The halide method, hydroxide method, acid ester method, complex formation method, neutralization method and the like as described in (Issued) are used.

下記にハロゲン化物法、水酸化物法、酸エステル法、錯形成法、および中和法について、窒素含有オニウム塩を例にその合成方法について示すが、その他の硫黄含有オニウム塩、リン含有オニウム塩など、その他のイオン性液体についても同様の手法により得ることができる。 The halide method, hydroxide method, acid ester method, complex formation method, and neutralization method are shown below by taking a nitrogen-containing onium salt as an example, but other sulfur-containing onium salts and phosphorus-containing onium salts are shown below. Other ionic liquids such as, etc. can also be obtained by the same method.

ハロゲン化物法は、反応式(1)〜(3)に示すような反応によって行われる方法である。まず3級アミンとハロゲン化アルキルと反応させてハロゲン化物を得る(反応式(1)、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が用いられる)。 The halide method is a method carried out by a reaction as shown in the reaction formulas (1) to (3). First, a halide is obtained by reacting a tertiary amine with an alkyl halide (reaction formula (1), chlorine, bromine, or iodine is used as the halogen).

得られたハロゲン化物を目的とするイオン性液体のアニオン構造(A)を有する酸(HA)あるいは塩(MA、Mはアンモニウム、リチウム、ナトリウム、カリウムなど目的とするアニオンと塩を形成するカチオン)と反応させて目的とするイオン性液体(RNA)が得られる。 An acid (HA) or salt (MA, M is ammonium, lithium, sodium, potassium, etc.) having an anion structure (A − ) of an ionic liquid intended for the obtained halide, and a cation forming a salt with the desired anion. ) is reacted with an objective ionic liquid (R 4 NA) is obtained.

Figure 0006918468
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水酸化物法は、反応式(4)〜(8)に示すような反応によって行われる方法である。まずハロゲン化物(RNX)をイオン交換膜法電解(反応式(4))、OH型イオン交換樹脂法(反応式(5))または酸化銀(AgO)との反応(反応式(6))で水酸化物(RNOH)を得る(ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が用いられる)。 The hydroxide method is a method carried out by a reaction as shown in the reaction formulas (4) to (8). First halide (R 4 NX) ion-exchange membrane method electrolysis (reaction equation (4)), OH-type ion exchange resin method (reaction equation (5)) or silver oxide (Ag 2 O) and of the reaction (reaction formula ( In 6)), a hydroxide (R 4 NOH) is obtained (chlorine, bromine, and iodine are used as halogens).

得られた水酸化物について上記ハロゲン化法と同様に反応式(7)〜(8)の反応を用いることにより、目的とするイオン性液体(RNA)が得られる。 By using the reaction of reaction formula as above halogenation process (7) - (8) The obtained hydroxide, the ionic liquid (R 4 NA) to obtain the objective.

Figure 0006918468
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酸エステル法は、反応式(9)〜(11)に示すような反応によって行われる方法である。まず3級アミン(RN)を酸エステルと反応させて酸エステル物を得る(反応式(9)、酸エステルとしては、硫酸、亜硫酸、リン酸、亜リン酸、炭酸などの無機酸のエステルやメタンスルホン酸、メチルホスホン酸、ギ酸などの有機酸のエステルなどが用いられる)。 The acid ester method is a method carried out by a reaction as shown in the reaction formulas (9) to (11). First tertiary amine (R 3 N) to obtain the ester was reacted with ester (Scheme (9), as acid ester, sulfuric, sulfurous, phosphoric acid, phosphorous acid, an inorganic acid such as carbonic acid Esters and esters of organic acids such as methanesulfonic acid, methylphosphonic acid, and formic acid are used).

得られた酸エステル物について上記ハロゲン化法と同様に反応式(10)〜(11)の反応を用いることにより、目的とするイオン性液体(RNA)が得られる。また、酸エステルとしてメチルトリフルオロメタンスルホネート、メチルトリフルオロアセテートなどを用いることにより、直接イオン性液体を得ることもできる。 By using the reaction of as above halogenation process reaction formulas (10) to (11) The obtained ester product, the ionic liquid (R 4 NA) to obtain the objective. Further, a direct ionic liquid can be obtained by using methyltrifluoromethanesulfonate, methyltrifluoroacetate or the like as the acid ester.

Figure 0006918468
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中和法は、反応式(12)に示すような反応によって行われる方法である。3級アミンとCFCOOH,CFSOH,(CFSONH、(CFSOCH、(CSONHなどの有機酸とを反応させることにより得ることができる。 The neutralization method is a method performed by a reaction as shown in the reaction formula (12). Reacting tertiary amines with organic acids such as CF 3 COOH, CF 3 SO 3 H, (CF 3 SO 2 ) 2 NH, (CF 3 SO 2 ) 3 CH, (C 2 F 5 SO 2 ) 2 NH Can be obtained by

Figure 0006918468
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上記の反応式(1)〜(12)に記載のRは、水素または炭素数1から20の炭化水素基を表し、ヘテロ原子を含んでいてもよい。 R represented by the above reaction formulas (1) to (12) represents hydrogen or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and may contain a hetero atom.

イオン伝導ポリマーとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なイオン伝導ポリマーを採用し得る。このようなイオン伝導ポリマーとしては、例えば、4級アンモニウム塩基)を有するモノマーを重合もしくは共重合して得られたイオン導電性重合体;ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール、ポリエチレンイミン、アリルアミン系重合体等の導電性ポリマー;などが挙げられる。イオン伝導ポリマーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the ionic conductive polymer, any suitable ionic conductive polymer can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such an ionic conductive polymer include an ionic conductive polymer obtained by polymerizing or copolymerizing a monomer having a quaternary ammonium base); polythiophene, polyaniline, polypyrrole, polyethyleneimine, an allylamine-based polymer, and the like. Conductive polymers; and the like. The ionic conduction polymer may be only one kind or two or more kinds.

イオン伝導フィラーとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切なイオン伝導フィラーを採用し得る。このようなイオン伝導フィラーとしては、例えば、酸化錫、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化チタン、酸化亜鉛、インジウム、錫、アンチモン、金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、チタン、鉄、コバルト、ヨウ化銅、ITO(酸化インジウム/酸化錫)、ATO(酸化アンチモン/酸化錫)などが挙げられる。イオン伝導フィラーは、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 As the ion conductive filler, any suitable ion conductive filler may be adopted as long as the effect of the present invention is not impaired. Examples of such ion conductive fillers include tin oxide, antimony oxide, indium oxide, cadmium oxide, titanium oxide, zinc oxide, indium, tin, antimony, gold, silver, copper, aluminum, nickel, chromium, titanium, and iron. , Cobalt, copper iodide, ITO (indium oxide / tin oxide), ATO (antimony oxide / tin oxide) and the like. The ion conduction filler may be only one type or two or more types.

電気伝導ポリマーとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な電気伝導ポリマーを採用し得る。このような電気伝導ポリマーとしては、例えば、(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリ(スチレンスルホン酸)などが挙げられる。 As the electrically conductive polymer, any suitable electrically conductive polymer may be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such an electrically conductive polymer include (3,4-ethylenedioxythiophene) -poly (styrene sulfonic acid).

粘着剤組成物a2には、必要に応じて架橋剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、老化防止剤、粘着付与剤、可塑剤、軟化剤、充填剤、着色剤(顔料や染料など)、界面活性剤、帯電防止剤などの公知の添加剤が含まれていてもよい。架橋剤を用いて、アクリル系ポリマーやオリゴマー成分を架橋させることにより、粘着剤としての凝集力を一層大きくすることができる。したがって、粘着剤組成物a2には、架橋剤が含まれていることが好ましい。架橋剤は、1種のみであってもよいし、2種以上であってもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 contains, if necessary, a cross-linking agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a light stabilizer, an anti-aging agent, an antistatic agent, a plasticizer, a softening agent, a filler, and a colorant (pigment or dye). Etc.), known additives such as surfactants and antistatic agents may be included. By cross-linking the acrylic polymer or the oligomer component with a cross-linking agent, the cohesive force as a pressure-sensitive adhesive can be further increased. Therefore, it is preferable that the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains a cross-linking agent. The cross-linking agent may be only one kind or two or more kinds.

イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、メラミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤の他、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤などが挙げられる。なかでも好ましくは、イソシアネート系架橋剤またはエポキシ系架橋剤である。 In addition to isocyanate-based cross-linking agents, epoxy-based cross-linking agents, melamine-based cross-linking agents, and peroxide-based cross-linking agents, urea-based cross-linking agents, metal alkoxide-based cross-linking agents, metal chelate-based cross-linking agents, metal salt-based cross-linking agents, and carbodiimide-based cross-linking agents. Examples thereof include agents, oxazoline-based cross-linking agents, aziridine-based cross-linking agents, and amine-based cross-linking agents. Of these, an isocyanate-based cross-linking agent or an epoxy-based cross-linking agent is preferable.

イソシアネート系架橋剤の含有量は、所望とする粘着力に応じて、任意の適切な量に設定され得、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜20重量部であり、より好ましくは0.01重量部〜10重量部であり、さらに好ましくは0.03重量部〜5重量部である。 The content of the isocyanate-based cross-linking agent can be set to an arbitrary appropriate amount according to the desired adhesive strength, preferably 0.01 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. Yes, more preferably 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, still more preferably 0.03 parts by weight to 5 parts by weight.

エポキシ系架橋剤の含有量は、所望とする粘着力に応じて、任意の適切な量に設定され得、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは0.01重量部〜20重量部であり、より好ましくは0.01重量部〜10重量部であり、さらに好ましくは0.03重量部〜5重量部である。 The content of the epoxy-based cross-linking agent can be set to an arbitrary appropriate amount depending on the desired adhesive strength, preferably 0.01 parts by weight to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. Yes, more preferably 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, still more preferably 0.03 parts by weight to 5 parts by weight.

粘着付与剤としては、任意の適切な粘着付与剤が用いられる。 As the tackifier, any suitable tackifier is used.

粘着付与剤の含有量は、アクリル系ポリマー100重量部に対して、好ましくは1重量部〜80重量部であり、より好ましくは5重量部〜70重量部であり、さらに好ましくは10重量部〜50重量部であり、特に好ましくは10重量部〜40重量部である。粘着付与剤を添加することにより粘着力を高めることができる。 The content of the tackifier is preferably 1 part by weight to 80 parts by weight, more preferably 5 parts by weight to 70 parts by weight, and further preferably 10 parts by weight to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic polymer. It is 50 parts by weight, and particularly preferably 10 parts by weight to 40 parts by weight. The adhesive strength can be increased by adding a tackifier.

粘着剤組成物a2は、例えば、アクリル系ポリマーと、シリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種と、必要に応じて導電成分と、必要に応じてオリゴマー成分と、必要に応じて架橋剤等の他の添加剤とを混合することにより、調製することができる。 The pressure-sensitive adhesive composition a2 contains, for example, an acrylic polymer, at least one selected from a silicone-based additive and a fluorine-based additive, a conductive component if necessary, an oligomer component if necessary, and an oligomer component if necessary. It can be prepared by mixing with other additives such as a cross-linking agent.

粘着剤組成物a2から粘着剤層A2を形成する方法としては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、任意の適切な基材(例えば、PET基材など)上に粘着剤組成物a2を塗布し、加熱・乾燥等を行い、粘着剤層A2を形成する。好ましくは、基材層A1上に粘着剤組成物a2を塗布し、加熱・乾燥等を行い、粘着剤層A2を形成する。粘着剤組成物a2を塗布するためには、例えば、任意の適切なコーティング法を用い得る。このようなコーティング法としては、例えば、グラビヤロールコーター、リバースロールコーター、キスロールコーター、ディップロールコーター、バーコーター、ナイフコーター、スプレーコーター、コンマコーター、ダイレクトコーターなどの慣用のコーターを用いるコーティング法が挙げられる。 As a method for forming the pressure-sensitive adhesive layer A2 from the pressure-sensitive adhesive composition a2, any suitable method can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. For example, the pressure-sensitive adhesive composition a2 is applied onto an arbitrary suitable base material (for example, PET base material) and heated, dried, or the like to form the pressure-sensitive adhesive layer A2. Preferably, the pressure-sensitive adhesive composition a2 is applied onto the base material layer A1 and heated, dried, or the like to form the pressure-sensitive adhesive layer A2. For applying the pressure-sensitive adhesive composition a2, for example, any suitable coating method can be used. Examples of such a coating method include a coating method using a conventional coater such as a gravure roll coater, a reverse roll coater, a kiss roll coater, a dip roll coater, a bar coater, a knife coater, a spray coater, a comma coater, and a direct coater. Can be mentioned.

<帯電防止層A3>
帯電防止層A3の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは1nm〜1000nmであり、より好ましくは5nm〜900nmであり、さらに好ましくは7.5nm〜800nmであり、特に好ましくは10nm〜700nmである。
<Antistatic layer A3>
As the thickness of the antistatic layer A3, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 1 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 900 nm, further preferably 7.5 nm to 800 nm, and particularly preferably 10 nm to 700 nm.

帯電防止層A3は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The antistatic layer A3 may be only one layer or two or more layers.

帯電防止層A3としては、帯電防止効果を奏することができる層であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な帯電防止層を採用し得る。このような帯電防止層としては、好ましくは、導電性ポリマーを含む導電コート液を任意の適切な基材層上にコーティングして形成される帯電防止層である。具体的には、例えば、導電性ポリマーを含む導電コート液を基材層A1上にコーティングして形成される帯電防止層である。具体的なコーティングの方法としては、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法などが挙げられる。 As the antistatic layer A3, any appropriate antistatic layer can be adopted as long as it is a layer capable of exerting an antistatic effect, as long as the effect of the present invention is not impaired. Such an antistatic layer is preferably an antistatic layer formed by coating a conductive coating liquid containing a conductive polymer on an arbitrary suitable base material layer. Specifically, for example, it is an antistatic layer formed by coating a conductive coating liquid containing a conductive polymer on a base material layer A1. Specific coating methods include a roll coating method, a bar coating method, and a gravure coating method.

導電性ポリマーとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な導電性ポリマーを採用し得る。このような導電性ポリマーとしては、例えば、π共役系導電性ポリマーにポリアニオンがドープされた導電性ポリマーなどが挙げられる。π共役系導電性ポリマーとしては、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンなどの鎖状導電性ポリマーが挙げられる。ポリアニオンとしては、ポリスチレンスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、ポリアクリル酸エチルスルホン酸、ポリメタクリルカルボン酸などが挙げられる。 As the conductive polymer, any suitable conductive polymer can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a conductive polymer include a conductive polymer in which a π-conjugated conductive polymer is doped with a polyanion. Examples of the π-conjugated conductive polymer include chain conductive polymers such as polythiophene, polypyrrole, polyaniline, and polyacetylene. Examples of the polyanion include polystyrene sulfonic acid, polyisoprene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, ethyl sulfonic acid polyacrylate, polymethacrylcarboxylic acid and the like.

≪セパレーターQ≫
セパレーターQの厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは4μm〜500μmであり、より好ましくは10μm〜400μmであり、さらに好ましくは15μm〜350μmであり、特に好ましくは20μm〜300μmである。
≪Separator Q≫
As the thickness of the separator Q, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effect of the present invention is not impaired. Such a thickness is preferably 4 μm to 500 μm, more preferably 10 μm to 400 μm, further preferably 15 μm to 350 μm, and particularly preferably 20 μm to 300 μm.

セパレーターQは離型層B1と基材層B2を含む。セパレーターQは、離型層B1と基材層B2を含んでいれば、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な他の層を含み得る。 The separator Q includes a release layer B1 and a base material layer B2. If the separator Q contains the release layer B1 and the base material layer B2, it may contain any other suitable layer depending on the purpose, as long as the effect of the present invention is not impaired.

離型層B1は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。 The release layer B1 may be one layer or two or more layers.

基材層B2は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。 The base material layer B2 may be one layer or two or more layers.

セパレーターQの一つの実施形態は、図3に示すように、離型層B1と基材層B2とからなる。 One embodiment of the separator Q comprises a release layer B1 and a base material layer B2, as shown in FIG.

セパレーターQは、好ましくは、離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3をこの順に含む。セパレーターQは、離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3をこの順に含んでいる場合、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な他の層を含み得る。 The separator Q preferably contains a release layer B1, a base material layer B2, and an antistatic layer B3 in this order. When the separator Q contains the release layer B1, the base material layer B2, and the antistatic layer B3 in this order, the separator Q contains any other suitable layer depending on the purpose, as long as the effect of the present invention is not impaired. obtain.

セパレーターQの一つの実施形態は、図4に示すように、離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3とからなる。 As shown in FIG. 4, one embodiment of the separator Q includes a release layer B1, a base material layer B2, and an antistatic layer B3.

帯電防止層B3は、1層であってもよいし、2層以上であってもよい。 The antistatic layer B3 may be one layer or two or more layers.

<離型層B1>
離型層B1は、粘着剤層A2からの剥離性を高めるために設けられる。離型層の形成材料は、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な形成材料を採用し得る。このような形成材料としては、例えば、シリコーン系離型剤、フッ素系離型剤、長鎖アルキル系離型剤、脂肪酸アミド系離型剤などが挙げられる。これらのなかでも、シリコーン系離型剤が好ましい。離型層B1は、塗布層として形成することができる。
<Release layer B1>
The release layer B1 is provided to enhance the releasability from the pressure-sensitive adhesive layer A2. As the material for forming the release layer, any suitable forming material can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a forming material include a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, a long-chain alkyl-based release agent, and a fatty acid amide-based release agent. Among these, a silicone-based release agent is preferable. The release layer B1 can be formed as a coating layer.

離型層B1の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは10nm〜2000nmであり、より好ましくは10nm〜1500nmであり、さらに好ましくは10nm〜1000nmであり、特に好ましくは10nm〜500nmである。 As the thickness of the release layer B1, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 10 nm to 2000 nm, more preferably 10 nm to 1500 nm, further preferably 10 nm to 1000 nm, and particularly preferably 10 nm to 500 nm.

離型層B1は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The release layer B1 may be only one layer or two or more layers.

シリコーン系離型層としては、例えば、付加反応型シリコーン樹脂が挙げられる。例えば、信越化学工業製のKS−774、KS−775、KS−778、KS−779H、KS−847H、KS−847T;東芝シリコーン製のTPR−6700、TPR−6710、TPR−6721;東レ・ダウ・コーニング製のSD7220、SD7226;などが挙げられる。シリコーン系離型層の塗布量(乾燥後)は、好ましくは0.01g/m〜2g/mであり、より好ましくは0.01g/m〜1g/mであり、さらに好ましくは0.01g/m〜0.5g/mである。 Examples of the silicone-based release layer include an addition reaction type silicone resin. For example, KS-774, KS-775, KS-778, KS-779H, KS-847H, KS-847T manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; TPR-6700, TPR-6710, TPR-6721 manufactured by Toshiba Silicone; Toray Dow -SD7220, SD7226; manufactured by Corning, etc. can be mentioned. The coating amount of the silicone-based release layer (after drying) is preferably from 0.01g / m 2 ~2g / m 2 , more preferably from 0.01g / m 2 ~1g / m 2 , more preferably it is 0.01g / m 2 ~0.5g / m 2 .

離型層B1の形成は、例えば、上記の形成材料を、任意の適切な層上に、リバースグラビアコート、バーコート、ダイコート等、従来公知の塗布方式により塗布した後に、通常、120〜200℃程度で熱処理を施すことにより硬化させることにより行うことができる。また、必要に応じて熱処理と紫外線照射等の活性エネルギー線照射とを併用してもよい。 The release layer B1 is usually formed at 120 to 200 ° C. after the above-mentioned forming material is applied onto any suitable layer by a conventionally known coating method such as reverse gravure coating, bar coating, and die coating. It can be carried out by curing by applying heat treatment to the extent. Further, if necessary, heat treatment and active energy ray irradiation such as ultraviolet irradiation may be used in combination.

<基材層B2>
基材層B2としては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な材料から形成される基材を採用し得る。このような材料としては、例えば、<基材層A1>の項目で例示したものが挙げられる。
<Base material layer B2>
As the base material layer B2, a base material formed from any suitable material can be adopted depending on the intended purpose, as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a material include those exemplified in the item of <Base material layer A1>.

基材層B2は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The base material layer B2 may be only one layer or may be two or more layers.

基材層B2の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは4μm〜500μmであり、より好ましくは10μm〜400μmであり、さらに好ましくは15μm〜350μmであり、特に好ましくは20μm〜300μmである。 As the thickness of the base material layer B2, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 4 μm to 500 μm, more preferably 10 μm to 400 μm, further preferably 15 μm to 350 μm, and particularly preferably 20 μm to 300 μm.

基材層B2は、帯電防止剤を含んでいてもよい。帯電防止剤を含む基材層B2としては、例えば、帯電防止剤が練り込まれた樹脂シートが用いられ得る。このような樹脂シートは、樹脂と帯電防止剤とを含む基材層B2形成用組成物から形成され得る。 The base material layer B2 may contain an antistatic agent. As the base material layer B2 containing the antistatic agent, for example, a resin sheet in which the antistatic agent is kneaded can be used. Such a resin sheet can be formed from a composition for forming a base material layer B2 containing a resin and an antistatic agent.

基材層B2そのものが帯電防止剤として作用してもよい。例えば、基材層B2の材料として金属箔を採用する場合は、基材層B2そのものが帯電防止剤として作用し得る。 The base material layer B2 itself may act as an antistatic agent. For example, when a metal foil is used as the material of the base material layer B2, the base material layer B2 itself can act as an antistatic agent.

基材層B2は、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理、下塗り剤によるコーティング処理などが挙げられる。 The base material layer B2 may be surface-treated. Examples of the surface treatment include corona treatment, plasma treatment, chromic acid treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage impact exposure, ionizing radiation treatment, coating treatment with an undercoat agent, and the like.

有機コーティング材料としては、例えば、<基材層A1>の項目で例示したものが挙げられる。 Examples of the organic coating material include those exemplified in the item of <Base material layer A1>.

基材層B2には、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な他の添加剤が含まれていてもよい。 The base material layer B2 may contain any other suitable additive, depending on the intended purpose, as long as the effects of the present invention are not impaired.

<帯電防止層B3>
帯電防止層B3の厚みとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、目的に応じて、任意の適切な厚みを採用し得る。このような厚みとしては、好ましくは1nm〜1000nmであり、より好ましくは5nm〜900nmであり、さらに好ましくは7.5nm〜800nmであり、特に好ましくは10nm〜700nmである。
<Antistatic layer B3>
As the thickness of the antistatic layer B3, any appropriate thickness can be adopted depending on the intended purpose as long as the effects of the present invention are not impaired. Such a thickness is preferably 1 nm to 1000 nm, more preferably 5 nm to 900 nm, further preferably 7.5 nm to 800 nm, and particularly preferably 10 nm to 700 nm.

帯電防止層B3は、1層のみであってもよいし、2層以上であってもよい。 The antistatic layer B3 may be only one layer or two or more layers.

帯電防止層B3としては、帯電防止効果を奏することができる層であれば、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な帯電防止層を採用し得る。このような帯電防止層としては、好ましくは、導電性ポリマーを含む導電コート液を任意の適切な基材層上にコーティングして形成される帯電防止層である。具体的には、例えば、導電性ポリマーを含む導電コート液を基材層B2上にコーティングして形成される帯電防止層である。具体的なコーティングの方法としては、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法などが挙げられる。 As the antistatic layer B3, any appropriate antistatic layer can be adopted as long as it is a layer capable of exerting an antistatic effect, as long as the effect of the present invention is not impaired. Such an antistatic layer is preferably an antistatic layer formed by coating a conductive coating liquid containing a conductive polymer on an arbitrary suitable base material layer. Specifically, for example, it is an antistatic layer formed by coating a conductive coating liquid containing a conductive polymer on a base material layer B2. Specific coating methods include a roll coating method, a bar coating method, and a gravure coating method.

導電性ポリマーとしては、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な導電性ポリマーを採用し得る。このような導電性ポリマーとしては、例えば、<帯電防止層A3>の項目で例示したものが挙げられる。 As the conductive polymer, any suitable conductive polymer can be adopted as long as the effects of the present invention are not impaired. Examples of such a conductive polymer include those exemplified in the item of <Antistatic layer A3>.

≪セパレーター付補強用フィルム≫
本発明のセパレーター付補強用フィルムは、補強用フィルムPとセパレーターQを、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなるように貼り合わせることにより得ることができる。
≪Reinforcing film with separator≫
The reinforcing film with a separator of the present invention can be obtained by laminating the reinforcing film P and the separator Q so that the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated.

本発明のセパレーター付補強用フィルムの一つの実施形態は、図5に示すように、基材層A1と粘着剤層A2とからなる補強用フィルムPと、離型層B1と基材層B2とからなるセパレーターQとが、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなるように貼り合わせられた形態である。 As shown in FIG. 5, one embodiment of the reinforcing film with a separator of the present invention includes a reinforcing film P composed of a base material layer A1 and an adhesive layer A2, a release layer B1 and a base material layer B2. The separator Q made of the above is in a form in which the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated and bonded to each other.

本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態は、図6に示すように、基材層A1と粘着剤層A2とからなる補強用フィルムPと、離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3とからなるセパレーターQとが、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなるように貼り合わせられた形態である。 Another embodiment of the reinforcing film with a separator of the present invention is, as shown in FIG. 6, a reinforcing film P composed of a base material layer A1 and an adhesive layer A2, a release layer B1 and a base material layer. The separator Q composed of B2 and the antistatic layer B3 is in a form in which the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated so as to be laminated.

本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態は、図7に示すように、帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2とからなる補強用フィルムPと、離型層B1と基材層B2とからなるセパレーターQとが、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなるように貼り合わせられた形態である。 Another embodiment of the reinforcing film with a separator of the present invention is, as shown in FIG. 7, a reinforcing film P composed of an antistatic layer A3, a base material layer A1 and an adhesive layer A2, and a release layer. The separator Q composed of B1 and the base material layer B2 is in a form in which the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated so as to be laminated.

本発明のセパレーター付補強用フィルムの別の一つの実施形態は、図8に示すように、帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2とからなる補強用フィルムPと、離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3とからなるセパレーターQとが、粘着剤層A2と離型層B1が直接に積層されてなるように貼り合わせられた形態である。 Another embodiment of the reinforcing film with a separator of the present invention is, as shown in FIG. 8, a reinforcing film P composed of an antistatic layer A3, a base material layer A1 and an adhesive layer A2, and a release layer. A separator Q composed of B1, a base material layer B2, and an antistatic layer B3 is bonded so that the pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated.

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、補強用フィルムPからセパレーターQを剥離したときの、粘着剤層A2の表面の剥離帯電圧が5.0kV以下である。上記粘着剤層A2の表面の剥離帯電圧が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電を抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージを軽減できる。 The reinforcing film with a separator of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer A2 when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. The peeling band voltage on the surface is 5.0 kV or less. When the peeling band voltage on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be suppressed, and the optical member, the electronic member, or the like can be used. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side, damage to the optical member and the electronic member can be reduced.

上記粘着剤層A2の表面の剥離帯電圧は、好ましくは0.01kV〜4.9kVであり、より好ましくは0.02kV〜4.8kVであり、さらに好ましくは0.03kV〜4.7kVであり、特に好ましくは0.04kV〜4.6kVであり、最も好ましくは0.05kV〜4.5kVである。 The peeling band voltage on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is preferably 0.01 kV to 4.9 kV, more preferably 0.02 kV to 4.8 kV, and further preferably 0.03 kV to 4.7 kV. Particularly preferably, it is 0.04 kV to 4.6 kV, and most preferably 0.05 kV to 4.5 kV.

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、補強用フィルムPからセパレーターQを剥離したときの、粘着剤層A2の表面の表面抵抗値が、好ましくは1.0×10Ω〜1.0×1012Ωであり、より好ましくは5.0×10Ω〜7.5×1011Ωであり、さらに好ましくは7.5×10Ω〜5.0×1011Ωであり、特に好ましくは1.0×10Ω〜1.0×1011Ωである。上記粘着剤層A2の表面の表面抵抗値が上記範囲内にあれば、本発明のセパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離する際に発生し得る剥離帯電をより抑制でき、光学部材や電子部材などの露出面側に予め貼り合せた該セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離しても、該光学部材や電子部材に与えるダメージをより軽減できる。 The reinforcing film with a separator of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer A2 when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. The surface resistance value of the surface is preferably 1.0 × 10 4 Ω to 1.0 × 10 12 Ω, more preferably 5.0 × 10 4 Ω to 7.5 × 10 11 Ω, and further preferably. Is 7.5 × 10 4 Ω to 5.0 × 10 11 Ω, and particularly preferably 1.0 × 10 5 Ω to 1.0 × 10 11 Ω. When the surface resistance value of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is within the above range, the peeling charge that may occur when the separator is peeled from the reinforcing film with a separator of the present invention can be further suppressed, and the optical member, electronic member, etc. Even if the separator is peeled off from the reinforcing film with a separator that is previously attached to the exposed surface side of the above, damage to the optical member and the electronic member can be further reduced.

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、補強用フィルムPからセパレーターQを剥離した後における、ガラス板に対する粘着剤層A2の、温度23℃、湿度50%RH、剥離角度180度、引張速度300mm/分での初期粘着力が、好ましくは1.0N/25mm以上であり、より好ましくは1.0N/25mm〜50N/25mmであり、さらに好ましくは1.0N/25mm〜45N/25mmであり、特に好ましくは1.0N/25mm〜40N/25mmである。上記ガラス板に対する粘着剤層A2の初期粘着力が上記範囲内にあれば、良好な密着力が得られ、被着体に対しての密着不良を軽減できる。 The reinforcing film with a separator of the present invention is an adhesive to a glass plate after peeling the separator Q from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. The initial adhesive strength of layer A2 at a temperature of 23 ° C., a humidity of 50% RH, a peeling angle of 180 degrees, and a tensile speed of 300 mm / min is preferably 1.0 N / 25 mm or more, and more preferably 1.0 N / 25 mm to. It is 50 N / 25 mm, more preferably 1.0 N / 25 mm to 45 N / 25 mm, and particularly preferably 1.0 N / 25 mm to 40 N / 25 mm. If the initial adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer A2 to the glass plate is within the above range, good adhesion can be obtained and poor adhesion to the adherend can be reduced.

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度180度、引張速度300mm/分で、補強用フィルムPからセパレーターQを剥離したときの剥離力が、好ましくは0.30N/25mm以下であり、より好ましくは0.005N/25mm〜0.30N/25mmであり、さらに好ましくは0.0075N/25mm〜0.30N/25mmであり、特に好ましくは0.01N/25mm〜0.30N/25mmである。上記剥離力が上記範囲内にあれば、セパレーター付補強用フィルムを取扱う際に、セパレーターが補強用フィルムから誤って剥がれてしまうことを軽減できるとともに、セパレーターを剥離する際に、補強用フィルムの粘着剤層の凝集破壊あるいは投錨破壊を軽減できる。 The reinforcing film with a separator of the present invention preferably has a peeling force when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min. It is 0.30N / 25mm or less, more preferably 0.005N / 25mm to 0.30N / 25mm, further preferably 0.0075N / 25mm to 0.30N / 25mm, and particularly preferably 0.01N /. It is 25 mm to 0.30 N / 25 mm. If the peeling force is within the above range, it is possible to prevent the separator from being accidentally peeled off from the reinforcing film when handling the reinforcing film with a separator, and when the separator is peeled off, the reinforcing film is adhered. It is possible to reduce the cohesive destruction or anchoring destruction of the agent layer.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、実施例等における、試験および評価方法は以下のとおりである。なお、「部」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量部」を意味し、「%」と記載されている場合は、特記事項がない限り「重量%」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. The tests and evaluation methods in the examples and the like are as follows. In addition, when it is described as "part", it means "part by weight" unless there is a special note, and when it is described as "%", it means "% by weight" unless there is a special note.

<重量平均分子量の測定>
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ(GPC)法により測定した。具体的には、GPC測定装置として、商品名「HLC−8220GPC」(東ソー株式会社製)を用いて、下記の条件にて測定し、標準ポリスチレン換算値により算出した。
(分子量測定条件)
・サンプル濃度:0.2重量%(テトラヒドロフラン溶液)
・サンプル注入量:10μL
・サンプルカラム:商品名「TSKguardcolumn SuperHZ−H(1本)+TSKgel SuperHZM−H(2本)」(東ソー株式会社製)
・リファレンスカラム:商品名「TSKgel SuperH−RC(1本)」(東ソー株式会社製)
・溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
・流量:0.6mL/min
・検出器:示差屈折計(RI)
・カラム温度(測定温度):40℃
<Measurement of weight average molecular weight>
The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) method. Specifically, it was measured under the following conditions using the trade name "HLC-8220 GPC" (manufactured by Tosoh Corporation) as a GPC measuring device, and calculated by a standard polystyrene conversion value.
(Molecular weight measurement conditions)
-Sample concentration: 0.2% by weight (tetrahydrofuran solution)
-Sample injection volume: 10 μL
-Sample column: Product name "TSKguardcolum SuperHZ-H (1) + TSKgel SuperHZM-H (2)" (manufactured by Tosoh Corporation)
-Reference column: Product name "TSKgel SuperH-RC (1)" (manufactured by Tosoh Corporation)
-Eluent: tetrahydrofuran (THF)
・ Flow rate: 0.6 mL / min
・ Detector: Differential refractometer (RI)
-Column temperature (measurement temperature): 40 ° C

<表面抵抗値の測定>
温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、セパレーター付補強用フィルムからセパレーターを剥離した。その後、残った補強用フィルム部分の基材層側表面および粘着剤層側表面、ならびに、剥離したセパレーター部分の基材層側表面の表面抵抗値を、TREK社製のMODEL152−1(152P−2Pプローブ)で測定した。測定は電圧10V、時間10sec、温度23℃、湿度50%RHで実施した。
<Measurement of surface resistance>
The separator was peeled from the reinforcing film with a separator at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min. After that, the surface resistance values of the base material layer side surface and the adhesive layer side surface of the remaining reinforcing film portion and the base material layer side surface of the peeled separator portion were set to MODEL152-1 (152P-2P) manufactured by TREK. Measured with a probe). The measurement was carried out at a voltage of 10 V, a time of 10 sec, a temperature of 23 ° C., and a humidity of 50% RH.

<粘着剤層表面の剥離帯電圧の測定>
予め除電しておいたセパレーター付補強用フィルムを幅70mm、長さ130mmサイズにカットし、セパレーターを剥離した後の粘着剤層表面の電位を、30mm離れた位置に固定した静電電位測定器(シシド静電気株式会社、STATIRON DZ4)にて測定した。測定は、温度23℃、湿度50%RHの環境下にて行った。なお、セパレーターの剥離は、セパレーターを自動巻き取り機に固定し、温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分となるようにして剥離した。
<Measurement of peeling band voltage on the surface of the adhesive layer>
An electrostatic potential measuring instrument (electrostatic potential measuring instrument) in which a reinforcing film with a separator, which has been static-free in advance, is cut into a size of 70 mm in width and 130 mm in length, and the potential on the surface of the adhesive layer after the separator is peeled off is fixed at a position 30 mm away. It was measured by Sisid Electrostatic Co., Ltd., STAIRON DZ4). The measurement was performed in an environment of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH. The separator was peeled off by fixing the separator to an automatic winder at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH so that the peeling angle was 150 ° C. and the peeling speed was 10 m / min.

<ガラス板に対する粘着剤層の初期粘着力の測定>
予め除電しておいたセパレーター付補強用フィルムを幅25mm、長さ150mmに切断し、評価用サンプルとした。温度23℃、湿度50%RHの雰囲気下で、評価用サンプルの粘着剤層表面をガラス板(松浪硝子工業株式会社製、商品名:マイクロスライドガラスS)に、2.0kgローラー1往復により貼り付けた。温度23℃、湿度50%RHの雰囲気下で30分間養生した後、万能引張試験機(ミネベア株式会社製、製品名:TCM−1kNB)を用い、剥離角度180度、引っ張り速度300mm/分で剥離し、粘着力を測定した。
<Measurement of initial adhesive force of adhesive layer on glass plate>
The reinforcing film with a separator, which had been statically eliminated in advance, was cut into a width of 25 mm and a length of 150 mm to prepare a sample for evaluation. In an atmosphere of temperature 23 ° C. and humidity 50% RH, the surface of the adhesive layer of the evaluation sample is attached to a glass plate (manufactured by Matsunami Glass Ind. Co., Ltd., trade name: microslide glass S) by one reciprocating 2.0 kg roller. Attached. After curing for 30 minutes in an atmosphere of temperature 23 ° C. and humidity 50% RH, peeling is performed at a peeling angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min using a universal tensile tester (manufactured by Minebea Co., Ltd., product name: TCM-1kNB). Then, the adhesive strength was measured.

<セパレーターの剥離力の測定>
予め除電しておいたセパレーター付補強用フィルムを幅25mm、長さ150mmに切断し、評価用サンプルとした。補強用フィルムの基材層面がアクリル板に接するように補強用フィルムを固定し、温度23℃、湿度50%RHの雰囲気下で、万能引張試験機(ミネベア株式会社製、製品名:TCM−1kNB)を用い、剥離角度180度、引っ張り速度300mm/分でセパレーターを剥離し、セパレーター剥離力を測定した。
<Measurement of separator peeling force>
The reinforcing film with a separator, which had been statically eliminated in advance, was cut into a width of 25 mm and a length of 150 mm to prepare a sample for evaluation. The reinforcing film is fixed so that the base material layer surface of the reinforcing film is in contact with the acrylic plate, and a universal tensile tester (manufactured by Minebea Co., Ltd., product name: TCM-1kNB) is used in an atmosphere of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH. ) Was used to peel off the separator at a peeling angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min, and the separator peeling force was measured.

〔製造例1〕:(メタ)アクリル系重合体(1)の製造
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた四つ口フラスコに、ブチルアクリレート(日本触媒社製):95重量部、アクリル酸(東亜合成社製):5重量部、重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル(和光純薬工業社製):0.2重量部、酢酸エチル:156重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を63℃付近に保って10時間重合反応を行い、重量平均分子量70万の(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液(40重量%)を調製した。
[Production Example 1]: Production of (meth) acrylic polymer (1) Butyl acrylate (manufactured by Nippon Catalyst Co., Ltd.): 95 in a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas introduction tube, and a cooler. By weight, acrylic acid (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.): 5 parts by weight, 2,2'-azobisisobutyronitrile (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a polymerization initiator: 0.2 parts by weight, ethyl acetate: 156 parts by weight A (meth) acrylic polymer having a weight average molecular weight of 700,000 (1) was charged with a weight portion, introduced with nitrogen gas while gently stirring, and the polymerization reaction was carried out for 10 hours while keeping the liquid temperature in the flask at around 63 ° C. ) Was prepared (40% by weight).

〔製造例2〕:アクリル系粘着剤組成物(1)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、エポキシ基含有シリコーンとしてX−22−9002(信越化学工業株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(1)を得た。
[Production Example 2]: Production of Acrylic Adhesive Composition (1) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. With respect to 100 parts by weight of the solid content of the solution, 0.075 parts by weight of TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a cross-linking agent in terms of solid content and X-22-9002 (Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) as an epoxy group-containing silicone (Manufactured by Co., Ltd.) is added by 0.1 parts by weight in terms of solid content, diluted with ethyl acetate so that the total solid content is 25% by weight, stirred with a disper, and an acrylic pressure-sensitive adhesive containing an acrylic resin. The composition (1) was obtained.

〔製造例3〕:アクリル系粘着剤組成物(2)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、カルボキシル基含有シリコーンとしてX−22−3710(信越化学工業株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(2)を得た。
[Production Example 3]: Production of Acrylic Adhesive Composition (2) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. With respect to 100 parts by weight of the solid content of the solution, 0.075 parts by weight of TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a cross-linking agent in terms of solid content and X-22-3710 (Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) as a carboxyl group-containing silicone (Manufactured by Co., Ltd.) is added by 0.1 parts by weight in terms of solid content, diluted with ethyl acetate so that the total solid content is 25% by weight, stirred with a disper, and an acrylic pressure-sensitive adhesive containing an acrylic resin. The composition (2) was obtained.

〔製造例4〕:アクリル系粘着剤組成物(3)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、フッ素含有ポリマーとしてF−562(DIC株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(3)を得た。
[Production Example 4]: Production of the acrylic pressure-sensitive adhesive composition (3) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. For 100 parts by weight of the solid content of the solution, use TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals Co., Ltd.) as a cross-linking agent at 0.075 parts by weight in terms of solid content, and use F-562 (manufactured by DIC Co., Ltd.) as a fluorine-containing polymer. Add 0.1 parts by weight in terms of solid content, dilute with ethyl acetate so that the total solid content is 25% by weight, stir with a disper, and make an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin (3). Got

〔製造例5〕:アクリル系粘着剤組成物(4)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、フッ素含有ポリマーとしてF−571(DIC株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(4)を得た。
[Production Example 5]: Production of Acrylic Adhesive Composition (4) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. For 100 parts by weight of the solid content of the solution, use TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals Co., Ltd.) as a cross-linking agent at 0.075 parts by weight in terms of solid content, and use F-571 (manufactured by DIC Co., Ltd.) as a fluorine-containing polymer. Add 0.1 parts by weight in terms of solid content, dilute with ethyl acetate so that the total solid content is 25% by weight, stir with a disper, and make an acrylic pressure-sensitive adhesive composition containing an acrylic resin (4). Got

〔製造例6〕:アクリル系粘着剤組成物(5)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、エポキシ基含有シリコーンとしてX−22−9002(信越化学工業株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を、導電成分としてCIL−312(日本カーリット社製)を固形分換算で3.0重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(5)を得た。
[Production Example 6]: Production of Acrylic Adhesive Composition (5) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. With respect to 100 parts by weight of the solid content of the solution, 0.075 parts by weight of TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a cross-linking agent in terms of solid content and X-22-9002 (Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) as an epoxy group-containing silicone Add 0.1 parts by weight of solid content (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) and 3.0 parts by weight of CIL-312 (manufactured by Nippon Carlit) as a conductive component, and the total solid content is 25% by weight. The composition was diluted with ethyl acetate and stirred with a disper to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (5) containing an acrylic resin.

〔製造例7〕:アクリル系粘着剤組成物(6)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、カルボキシル基含有シリコーンとしてX−22−3710(信越化学工業株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を、導電成分としてCIL−312(日本カーリット社製)を固形分換算で3.0重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(6)を得た。
[Production Example 7]: Production of Acrylic Adhesive Composition (6) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) was added to the solution. With respect to 100 parts by weight of the solid content of the solution, 0.075 parts by weight of TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) as a cross-linking agent in terms of solid content and X-22-3710 (Shinetsu Chemical Industry Co., Ltd.) as a carboxyl group-containing silicone Add 0.1 parts by weight of solid content (manufactured by Nippon Carlit Co., Ltd.) and 3.0 parts by weight of CIL-312 (manufactured by Nippon Carlit) as a conductive component, and the total solid content is 25% by weight. The composition was diluted with ethyl acetate and stirred with a disper to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (6) containing an acrylic resin.

〔製造例8〕:アクリル系粘着剤組成物(7)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、フッ素含有ポリマーとしてF−562(DIC株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を、導電成分としてCIL−312(日本カーリット社製)を固形分換算で3.0重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(7)を得た。
[Production Example 8]: Production of Acrylic Adhesive Composition (7) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) was added to the solution. For 100 parts by weight of the solid content of the solution, use TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals Co., Ltd.) as a cross-linking agent at 0.075 parts by weight in terms of solid content, and use F-562 (manufactured by DIC Co., Ltd.) as a fluorine-containing polymer. Add 0.1 parts by weight of solid content and 3.0 parts by weight of CIL-312 (manufactured by Nippon Carlit) as a conductive component to make the total solid content 25% by weight. The mixture was diluted with ethyl and stirred with a disper to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (7) containing an acrylic resin.

〔製造例9〕:アクリル系粘着剤組成物(8)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を、フッ素含有ポリマーとしてF−571(DIC株式会社製)を固形分換算で0.1重量部を、導電成分としてCIL−312(日本カーリット社製)を固形分換算で3.0重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(8)を得た。
[Production Example 9]: Production of Acrylic Adhesive Composition (8) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) was added to the solution. For 100 parts by weight of the solid content of the solution, use TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals Co., Ltd.) as a cross-linking agent at 0.075 parts by weight in terms of solid content, and use F-571 (manufactured by DIC Co., Ltd.) as a fluorine-containing polymer. Add 0.1 parts by weight of solid content and 3.0 parts by weight of CIL-312 (manufactured by Nippon Carlit) as a conductive component to make the total solid content 25% by weight. The mixture was diluted with ethyl and stirred with a disper to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (8) containing an acrylic resin.

〔製造例10〕:アクリル系粘着剤組成物(9)の製造
製造例1で得られた(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液に、該(メタ)アクリル系重合体(1)の溶液の固形分100重量部に対して、架橋剤としてTETRAD−C(三菱瓦斯化学社製)を固形分換算で0.075重量部を加えて、全体の固形分が25重量%となるように酢酸エチルで希釈し、ディスパーで攪拌し、アクリル系樹脂を含むアクリル系粘着剤組成物(9)を得た。
[Production Example 10]: Production of Acrylic Adhesive Composition (9) In the solution of the (meth) acrylic polymer (1) obtained in Production Example 1, the (meth) acrylic polymer (1) is added. To 100 parts by weight of the solid content of the solution, add 0.075 parts by weight of TETRAD-C (manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals, Inc.) as a cross-linking agent in terms of solid content so that the total solid content becomes 25% by weight. The composition was diluted with ethyl acetate and stirred with a disper to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (9) containing an acrylic resin.

〔製造例11〕:〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)の製造
シリコーン離型剤(信越化学工業株式会社製、KS−847):100重量部、触媒(信越化学工業株式会社製、CAT PL−50T):1.0重量部をトルエンで1.0重量%に希釈し、Si離型剤処理液を得た。得られたSi離型剤処理液を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)の一方の面に、ワイヤーバーで乾燥後の厚みが100nmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥し、〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)を製造した。
[Manufacturing Example 11]: Production of laminate (A) of [Release layer] / [Base material layer] Silicone mold release agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KS-847): 100 parts by weight, catalyst (Shin-Etsu Chemical) CAT PL-50T) manufactured by Kogyo Co., Ltd.): 1.0 part by weight was diluted with toluene to 1.0% by weight to obtain a Si release agent treatment liquid. The obtained Si mold release agent treatment liquid is applied to one surface of a base material "Lumirror S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin so that the thickness after drying is 100 nm with a wire bar. , The drying temperature was 130 ° C. and the drying time was 3 minutes, and the mixture was cured and dried to produce a laminate (A) of [release layer] / [base material layer].

〔製造例12〕:〔離型層〕/〔基材層〕/〔帯電防止層〕の積層体(B)の製造
導電コーティング剤として、S−948(中京油脂株式会社製):100重量部、P−795(中京油脂株式会社製):10重量部を、純水とエキネンF6(日本アルコール販売株式会社製)との混合溶液で0.3重量%に希釈し、導電コート液(a)を得た。得られた導電コート液(a)を、製造例11で得られた〔離形層〕/〔基材層〕の積層体(A)の基材層側の表面に、ワイヤーバーで乾燥後の厚みが20nmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥し、〔離形層〕/〔基材層〕/〔帯電防止層〕の積層体(B)を製造した。
[Production Example 12]: Production of a laminate (B) of [Release layer] / [Base material layer] / [Antistatic layer] As a conductive coating agent, S-948 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.): 100 parts by weight , P-795 (manufactured by Chukyo Yushi Co., Ltd.): 10 parts by weight is diluted to 0.3% by weight with a mixed solution of pure water and Ekinen F6 (manufactured by Japan Alcohol Trading Co., Ltd.), and the conductive coating liquid (a) Got The obtained conductive coating liquid (a) was dried on the surface of the laminate (A) of the [release layer] / [base material layer] obtained in Production Example 11 on the base material layer side with a wire bar. The laminate (B) of [release layer] / [base material layer] / [antistatic layer] is coated by coating so as to have a thickness of 20 nm, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. Manufactured.

〔製造例13〕:〔帯電防止層〕/〔基材層〕の積層体(C)の製造
製造例12で調製した導電コート液(a)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)の一方の面に、ワイヤーバーで乾燥後の厚みが20nmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥し、〔帯電防止層〕/〔基材層〕の積層体(C)を製造した。
[Manufacturing Example 13]: Production of Laminated Body (C) of [Antistatic Layer] / [Base Material Layer] The conductive coating liquid (a) prepared in Production Example 12 is used as a base material "Lumirer S10" made of polyester resin. On one surface (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.), apply with a wire bar so that the thickness after drying is 20 nm, cure under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dry. A laminated body (C) of [layer] / [base material layer] was produced.

〔実施例1〕
製造例2で得られたアクリル系粘着剤組成物(1)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P1)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P1)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(1)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(1)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 1]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (1) obtained in Production Example 2 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P1) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (P1) of [base material layer] / [adhesive layer] and the laminate (A) of [release layer] / [base material layer] obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (1) with a separator. The obtained reinforcing film (1) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例2〕
製造例3で得られたアクリル系粘着剤組成物(2)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P2)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P2)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(2)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(2)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 2]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (2) obtained in Production Example 3 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P2) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P2) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (2) with a separator. The obtained reinforcing film (2) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例3〕
製造例4で得られたアクリル系粘着剤組成物(3)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P3)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P3)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(3)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(3)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 3]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (3) obtained in Production Example 4 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P3) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P3) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (3) with a separator. The obtained reinforcing film (3) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例4〕
製造例5で得られたアクリル系粘着剤組成物(4)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P4)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P4)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(4)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(4)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 4]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (4) obtained in Production Example 5 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P4) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (P4) of [base material layer] / [adhesive layer] and the laminate (A) of [release layer] / [base material layer] obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (4) with a separator. The obtained reinforcing film (4) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例5〕
製造例6で得られたアクリル系粘着剤組成物(5)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P5)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P5)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(5)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(5)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 5]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (5) obtained in Production Example 6 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P5) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P5) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (5) with a separator. The obtained reinforcing film (5) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例6〕
製造例7で得られたアクリル系粘着剤組成物(6)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P6)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P6)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(6)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(6)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 6]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (6) obtained in Production Example 7 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P6) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P6) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (6) with a separator. The obtained reinforcing film (6) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例7〕
製造例8で得られたアクリル系粘着剤組成物(7)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P7)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P7)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(7)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(7)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 7]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (7) obtained in Production Example 8 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P7) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P7) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (7) with a separator. The obtained reinforcing film (7) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例8〕
製造例9で得られたアクリル系粘着剤組成物(8)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P8)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P8)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(8)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(8)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 8]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (8) obtained in Production Example 9 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P8) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base material layer] / [adhesive layer] laminate (P8) and the [release layer] / [base material layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (8) with a separator. The obtained reinforcing film (8) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例9〕
製造例4で得られたアクリル系粘着剤組成物(3)を、製造例13で得られた〔帯電防止層〕/〔基材層〕の積層体(C)の基材層側の表面に、ファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔帯電防止層〕/〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P9)を得た。得られた〔帯電防止層〕/〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P9)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(9)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(9)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 9]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (3) obtained in Production Example 4 was applied to the surface of the laminate (C) of the [antistatic layer] / [base material layer] obtained in Production Example 13 on the base material layer side. , A fountain roll was applied so that the thickness after drying was 25 μm, and the mixture was cured and dried under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes. In this way, a laminate (P9) of [antistatic layer] / [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (P9) of [antistatic layer] / [base layer] / [adhesive layer] and the laminate of [release layer] / [base layer] obtained in Production Example 11 ( A) was laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the release layer were directly laminated to obtain a reinforcing film (9) with a separator. The obtained reinforcing film (9) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔実施例10〕
製造例4で得られたアクリル系粘着剤組成物(3)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P10)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(P10)と、製造例12で得られた〔離型層〕/〔基材層〕/〔帯電防止層〕の積層体(B)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(10)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(10)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Example 10]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (3) obtained in Production Example 4 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminated body (P10) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (P10) of [base material layer] / [adhesive layer] and the laminate of [release layer] / [base material layer] / [antistatic layer] obtained in Production Example 12 ( B) was laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the release layer were directly laminated to obtain a reinforcing film (10) with a separator. The obtained reinforcing film (10) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔比較例1〕
製造例10で得られたアクリル系粘着剤組成物(9)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP1)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP1)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(C1)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(C1)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Comparative Example 1]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (9) obtained in Production Example 10 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminate (CP1) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained [base layer] / [adhesive layer] laminate (CP1) and the [release layer] / [base layer] laminate (A) obtained in Production Example 11 are adhered to each other. The agent layer and the release layer were laminated so as to be directly laminated to obtain a reinforcing film (C1) with a separator. The obtained reinforcing film (C1) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔比較例2〕
製造例10で得られたアクリル系粘着剤組成物(9)を、製造例13で得られた〔帯電防止層〕/〔基材層〕の積層体(C)の基材層側の表面に、ファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔帯電防止層〕/〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP2)を得た。得られた〔帯電防止層〕/〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP2)と、製造例11で得られた〔離型層〕/〔基材層〕の積層体(A)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(C2)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(C2)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Comparative Example 2]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (9) obtained in Production Example 10 was applied to the surface of the laminate (C) of the [antistatic layer] / [base material layer] obtained in Production Example 13 on the base material layer side. , A fountain roll was applied so that the thickness after drying was 25 μm, and the mixture was cured and dried under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes. In this way, a laminate (CP2) of [antistatic layer] / [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (CP2) of [antistatic layer] / [base layer] / [adhesive layer] and the laminate of [release layer] / [base layer] obtained in Production Example 11 ( A) was laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the release layer were directly laminated to obtain a reinforcing film (C2) with a separator. The obtained reinforcing film (C2) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

〔比較例3〕
製造例10で得られたアクリル系粘着剤組成物(9)を、ポリエステル樹脂からなる基材「ルミラーS10」(厚み38μm、東レ株式会社製)にファウンテンロールで乾燥後の厚みが25μmとなるよう塗布し、乾燥温度130℃、乾燥時間3分の条件でキュアーして乾燥した。このようにして、〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP3)を得た。得られた〔基材層〕/〔粘着剤層〕の積層体(CP3)と、製造例12で得られた〔離型層〕/〔基材層〕/〔帯電防止層〕の積層体(B)とを、粘着剤層と離型層が直接に積層されるように貼り合せて、セパレーター付補強用フィルム(C3)を得た。得られたセパレーター付補強用フィルム(C3)は、常温で7日間エージングを行い、その後、各種評価を行った。結果を表1に示した。
[Comparative Example 3]
The acrylic pressure-sensitive adhesive composition (9) obtained in Production Example 10 is applied to a base material "Lumilar S10" (thickness 38 μm, manufactured by Toray Industries, Inc.) made of polyester resin with a fountain roll so that the thickness after drying is 25 μm. The coating was applied, cured under the conditions of a drying temperature of 130 ° C. and a drying time of 3 minutes, and dried. In this way, a laminate (CP3) of [base material layer] / [adhesive layer] was obtained. The obtained laminate (CP3) of [base material layer] / [adhesive layer] and the laminate of [release layer] / [base material layer] / [antistatic layer] obtained in Production Example 12 ( B) was laminated so that the pressure-sensitive adhesive layer and the release layer were directly laminated to obtain a reinforcing film (C3) with a separator. The obtained reinforcing film (C3) with a separator was aged at room temperature for 7 days, and then various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

Figure 0006918468
Figure 0006918468

本発明のセパレーター付補強用フィルムは、半導体素子の基板の裏側などに貼り合せる補強用フィルムに利用可能である。 The reinforcing film with a separator of the present invention can be used as a reinforcing film to be bonded to the back side of a substrate of a semiconductor element or the like.

1000 セパレーター付補強用フィルム
100 補強用フィルムP
200 セパレーターQ
10 基材層A1
20 粘着剤層A2
30 離型層B1
40 帯電防止層B3
50 基材層B2
60 帯電防止層A3
1000 Reinforcing film with separator 100 Reinforcing film P
200 Separator Q
10 Base material layer A1
20 Adhesive layer A2
30 Release layer B1
40 Antistatic layer B3
50 Base material layer B2
60 Antistatic layer A3

Claims (7)

補強用フィルムPとセパレーターQを有するセパレーター付補強用フィルムの使用方法であって、
該補強用フィルムPが基材層A1と粘着剤層A2を含み、
該セパレーターQが離型層B1と基材層B2を含み、
該粘着剤層A2と該離型層B1が直接に積層されてなり、
該粘着剤層A2が粘着剤組成物a2から形成された粘着剤層であり、該粘着剤組成物a2がシリコーン系添加剤およびフッ素系添加剤から選ばれる少なくとも1種を含み、
該シリコーン系添加剤が、シロキサン結合含有化合物、水酸基含有シリコーン系化合物、および架橋性官能基含有シリコーン系化合物から選ばれる少なくとも1種であり、
該フッ素系添加剤が、フッ素含有化合物、水酸基含有フッ素系化合物、および架橋性官能基含有フッ素系化合物から選ばれる少なくとも1種であり、
温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、該補強用フィルムPから該セパレーターQを剥離したときの、該粘着剤層A2の表面の剥離帯電圧が5.0kV以下であり、
該セパレーター付補強用フィルムの該基材層A1を光学部材または電子部材に貼り合わせた後に該セパレーターQを剥離する、
セパレーター付補強用フィルムの使用方法
A method of using a reinforcing film with a separator having a reinforcing film P and a separator Q.
The reinforcing film P includes a base material layer A1 and an adhesive layer A2.
The separator Q contains a release layer B1 and a base material layer B2.
The pressure-sensitive adhesive layer A2 and the release layer B1 are directly laminated with each other.
The pressure-sensitive adhesive layer A2 is a pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition a2, and the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains at least one selected from a silicone-based additive and a fluorine-based additive.
The silicone-based additive is at least one selected from a siloxane bond-containing compound, a hydroxyl group-containing silicone-based compound, and a crosslinkable functional group-containing silicone-based compound.
The fluorine-based additive is at least one selected from a fluorine-containing compound, a hydroxyl group-containing fluorine-based compound, and a crosslinkable functional group-containing fluorine-based compound.
When the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min, the peeling band voltage on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is 5. .0kV Ri der below,
You peel the separator Q a base material layer A1 reinforcing film with the separator after bonding the optical member or an electronic member,
How to use the reinforcing film with separator.
前記粘着剤組成物a2が導電成分を含む、請求項に記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法 The method for using a reinforcing film with a separator according to claim 1 , wherein the pressure-sensitive adhesive composition a2 contains a conductive component. 温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、前記補強用フィルムPから前記セパレーターQを剥離したときの、前記粘着剤層A2の表面の表面抵抗値が1.0×10Ω〜1.0×1012Ωである、請求項に記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法When the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min, the surface resistance value of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer A2 is 1. .0 × 10 4 Ω to 1.0 × 10 12 Ω, the method of using the reinforcing film with a separator according to claim 2 . 前記補強用フィルムPが帯電防止層A3と基材層A1と粘着剤層A2をこの順に含む、請求項1からまでのいずれかに記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法 The method for using a reinforcing film with a separator according to any one of claims 1 to 3 , wherein the reinforcing film P includes an antistatic layer A3, a base material layer A1, and an adhesive layer A2 in this order. 前記セパレーターQが離型層B1と基材層B2と帯電防止層B3をこの順に含む、請求項1からまでのいずれかに記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法 The method for using a reinforcing film with a separator according to any one of claims 1 to 4 , wherein the separator Q includes a release layer B1, a base material layer B2, and an antistatic layer B3 in this order. 温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度150度、剥離速度10m/分で、前記補強用フィルムPから前記セパレーターQを剥離した後における、ガラス板に対する前記粘着剤層A2の、温度23℃、湿度50%RH、剥離角度180度、引張速度300mm/分での初期粘着力が1.0N/25mm以上である、請求項1からまでのいずれかに記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法After peeling the separator Q from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 150 degrees and a peeling speed of 10 m / min, the temperature of the pressure-sensitive adhesive layer A2 on the glass plate is 23 ° C. Use of the reinforcing film with a separator according to any one of claims 1 to 5 , wherein the humidity is 50% RH, the peeling angle is 180 degrees, and the initial adhesive force at a tensile speed of 300 mm / min is 1.0 N / 25 mm or more. Method . 温度23℃、湿度50%RHにおいて、剥離角度180度、引張速度300mm/分で、前記補強用フィルムPから前記セパレーターQを剥離したときの剥離力が0.30N/25mm以下である、請求項1からまでのいずれかに記載のセパレーター付補強用フィルムの使用方法


The claim that the peeling force when the separator Q is peeled from the reinforcing film P at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH at a peeling angle of 180 degrees and a tensile speed of 300 mm / min is 0.30 N / 25 mm or less. The method of using the reinforcing film with a separator according to any one of 1 to 6 .


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