JP6899733B2 - Multi-layer structure and its manufacturing method, packaging materials and products using it, and protective sheet for electronic devices - Google Patents

Multi-layer structure and its manufacturing method, packaging materials and products using it, and protective sheet for electronic devices Download PDF

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本発明は、多層構造体およびその製造方法、それを用いた包装材および製品、ならびに電子デバイスの保護シートに関する。 The present invention relates to a multilayer structure and a method for producing the same, packaging materials and products using the same, and a protective sheet for an electronic device.

アルミニウムや酸化アルミニウムを構成成分とするガスバリア層をプラスチックフィルム上に形成した多層構造体は従来からよく知られており、例えば酸素によって変質しやすい物品(例えば、食品)を保護するための包装材やガスバリア性および水蒸気バリア性が要求される電子デバイスの保護シートの構成部材として用いられる。係るガスバリア層の多くは、物理気相成長法(PVD)や化学気相成長法(CVD)といったドライプロセスによってプラスチックフィルム上に形成される。 A multi-layer structure in which a gas barrier layer containing aluminum or aluminum oxide is formed on a plastic film has been well known in the past, and for example, a packaging material for protecting an article (for example, food) that is easily denatured by oxygen. It is used as a component of a protective sheet for electronic devices that require gas barrier properties and water vapor barrier properties. Most of the gas barrier layers are formed on the plastic film by a dry process such as physical vapor deposition (PVD) or chemical vapor deposition (CVD).

一方、近年コーティング液を塗工する工程を経てバリア層を構築する手法がもちいられている。特許文献1には、アルミニウムを含むガスバリア層を有する複合構造体として、例えば、酸化アルミニウム粒子とリン化合物との反応生成物によって構成される透明ガスバリア層を有する複合構造体が記載されており、該ガスバリア層を形成する方法の1つとして、プラスチックフィルム上に酸化アルミニウム粒子とリン化合物を含むコーティング液を塗工し、次いで乾燥および熱処理を行う方法が記載されている。 On the other hand, in recent years, a method of constructing a barrier layer through a process of applying a coating liquid has been used. Patent Document 1 describes, for example, a composite structure having a transparent gas barrier layer composed of a reaction product of aluminum oxide particles and a phosphorus compound as a composite structure having a gas barrier layer containing aluminum. As one of the methods for forming the gas barrier layer, a method of applying a coating liquid containing aluminum oxide particles and a phosphorus compound on a plastic film, and then drying and heat-treating is described.

一方、特許文献2には、基材層と蒸着層との間にアンカーコート層を設けることで、高温高湿下保管後におけるバリア性低下が抑制されることが記載されている。 On the other hand, Patent Document 2 describes that by providing an anchor coat layer between the base material layer and the thin-film deposition layer, deterioration of the barrier property after storage under high temperature and high humidity is suppressed.

国際公開2011/122036号International Publication 2011/122030 特開2013−199066号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-199066

しかしながら、特許文献1および2に記載の多層構造体を包装材として用いた場合、内容物が含気した状態、包装材が折れ曲がった状態等、包装材に物理的ストレスがかかる状態で120℃を上回る(例えば125℃)条件下(以下、「過酷条件下」と標記する場合がある)でレトルト処理した場合、基材とガスバリア層との層間が剥離し、外観不良が生じる場合があった。 However, when the multilayer structure described in Patent Documents 1 and 2 is used as a packaging material, the temperature is 120 ° C. in a state where the packaging material is physically stressed, such as a state in which the contents are aerated or a state in which the packaging material is bent. When the retort treatment is performed under conditions exceeding (for example, 125 ° C.) (hereinafter, may be referred to as “harsh conditions”), the layers between the base material and the gas barrier layer may be peeled off, resulting in poor appearance.

そのため、過酷条件下でのレトルト処理後も良好な特性を有するガスバリア性多層構造体が求められている。 Therefore, there is a demand for a gas barrier multilayer structure having good properties even after retort treatment under harsh conditions.

本発明の目的は、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、過酷な条件下でのレトルト処理後もそのバリア性を維持できるとともに、層間剥離等の外観不良を起こさない高い層間接着力(剥離強度)を有する新規な多層構造体、それを用いた包装材および製品を提供することにある。本発明の他の目的の1つは、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、かつ、ダンプヒート試験後も、そのバリア性を維持できる新規な多層構造体を用いた電子デバイスの保護シートを提供することにある。 An object of the present invention is to have excellent gas barrier property and water vapor barrier property, maintain the barrier property even after retort treatment under harsh conditions, and have high interlayer adhesive strength (peeling strength) that does not cause appearance defects such as delamination. It is an object of the present invention to provide a novel multilayer structure having the above, packaging materials and products using the same. One of the other objects of the present invention is to provide a protective sheet for an electronic device using a novel multilayer structure which is excellent in gas barrier property and water vapor barrier property and can maintain the barrier property even after a dump heat test. There is.

本発明によれば、上記目的は、
[1]基材(X)と、前記基材(X)上に積層された層(Z)と、前記層(Z)上に積層された層(Y)とを含み、前記層(Z)が、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)を含み、前記層(Y)がアルミニウムを含む化合物(A)を含み、前記アルミニウムを含む化合物(A)が、アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)との反応生成物(D)を含む化合物(Ab)を含む、多層構造体;
[2]前記リン化合物(BH)の極性基がカルボキシル基または水酸基である、[1]の多層構造体;
[3]前記リン化合物(BH)の少なくとも1つの水酸基を有するリン原子が、リン酸基、亜リン酸基、ホスホン酸基、亜ホスホン酸基、ホスフィン酸基、および亜ホスフィン酸基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基である、[1]または[2]の多層構造体;
[4]20℃、85%RHの条件下における酸素透過度が2.0mL/(m2・day・atm)以下である、[1]〜[3]のいずれかの多層構造体;
[5]40℃、90/0%RHの条件下における透湿度が2.0g/(m2・day)以下である、[1]〜[4]のいずれかの多層構造体;
[6]前記基材(X)が、熱可塑性樹脂フィルムおよび紙からなる群より選ばれる少なくとも1種の層を含む、[1]〜[5]のいずれかの多層構造体;
[7][1]の多層構造体の製造方法であって、基材(X)上に、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)と溶媒とを含むコーティング液(R)を塗工することによって、層(Z)を形成する工程(I)と、アルミニウムを含む化合物(A)と無機リン化合物(BI)と溶媒とを含むコーティング液(S)を層(Z)上に塗工することによって、層(Y)前駆体を形成する工程(II)と、前記層(Y)前駆体を熱処理することで層(Y)を形成する工程(III)とを含む、製造方法。
[8][1]〜[6]のいずれかの多層構造体を含む、包装材;
[9]押出しコートラミネートにより形成された層をさらに有する、[8]の包装材;
[10]縦製袋充填シール袋、真空包装袋、パウチ、ラミネートチューブ容器、輸液バッグ、紙容器、ストリップテープ、容器用蓋材、またはインモールドラベル容器である、[8]または[9]の包装材;
[11][8]〜[10]のいずれかの包装材が少なくとも一部に用いられている製品;
[12]製品が内容物を含み、前記内容物が芯材であり、前記製品の内部が減圧されており、真空断熱体として機能する、[11]の製品;
[13][1]〜[6]のいずれかの多層構造体を含む、電子デバイスの保護シート;
[14]光電変換装置、情報表示装置、または照明装置の表面を保護する保護シートである、[13]の電子デバイスの保護シート;
[15][13]または[14]に記載の保護シートを有する電子デバイス;
を提供することで達成される。
According to the present invention, the above object is
[1] The layer (Z) includes a base material (X), a layer (Z) laminated on the base material (X), and a layer (Y) laminated on the layer (Z). However, a compound (BH) in which a phosphorus atom having at least one hydroxyl group and a polar group are bonded by an alkylene chain having 20 or less carbon atoms or a polyoxyalkylene chain, and the layer (Y) contains aluminum ( A multilayer structure in which the compound (A) containing aluminum containing A) contains a compound (Ab) containing a reaction product (D) of a metal oxide containing aluminum (Aa) and an inorganic phosphorus compound (BI). body;
[2] The multilayer structure of [1] in which the polar group of the phosphorus compound (BH) is a carboxyl group or a hydroxyl group;
[3] A group in which a phosphorus atom having at least one hydroxyl group of the phosphorus compound (BH) is composed of a phosphoric acid group, a phosphorous acid group, a phosphonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a phosphinic acid group. A multilayer structure of [1] or [2], which is at least one functional group selected from the above;
[4] The multilayer structure according to any one of [1] to [3], which has an oxygen permeability of 2.0 mL / (m 2 · day · atm) or less under the conditions of 20 ° C. and 85% RH;
[5] The multilayer structure according to any one of [1] to [4], which has a moisture permeability of 2.0 g / (m 2 · day) or less under the conditions of 40 ° C. and 90/0% RH;
[6] The multilayer structure according to any one of [1] to [5], wherein the base material (X) contains at least one layer selected from the group consisting of a thermoplastic resin film and paper;
[7] The method for producing a multilayer structure according to [1], wherein a phosphorus atom and a polar group having at least one hydroxyl group are formed on the base material (X) by an alkylene chain having 20 or less carbon atoms or a polyoxyalkylene chain. A step (I) of forming a layer (Z) by applying a coating liquid (R) containing a bonded phosphorus compound (BH) and a solvent, a compound (A) containing aluminum, and an inorganic phosphorus compound. A step (II) of forming a layer (Y) precursor by applying a coating liquid (S) containing (BI) and a solvent onto the layer (Z), and a heat treatment of the layer (Y) precursor. A production method comprising the step (III) of forming a layer (Y) by the above-mentioned.
[8] A packaging material containing the multilayer structure according to any one of [1] to [6];
[9] The packaging material of [8] further having a layer formed by the extruded coat laminate;
[10] A vertical bag filling seal bag, a vacuum packaging bag, a pouch, a laminated tube container, an infusion bag, a paper container, a strip tape, a lid material for a container, or an in-mold label container, [8] or [9]. Packaging material;
[11] A product in which at least a part of the packaging material according to any one of [8] to [10] is used;
[12] The product of [11], wherein the product contains a content, the content is a core material, the inside of the product is depressurized, and the product functions as a vacuum insulator;
[13] A protective sheet for an electronic device containing the multilayer structure according to any one of [1] to [6];
[14] A protective sheet for an electronic device according to [13], which is a protective sheet for protecting the surface of a photoelectric conversion device, an information display device, or a lighting device;
[15] An electronic device having the protective sheet according to [13] or [14];
Is achieved by providing.

本発明によれば、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、過酷条件下での耐レトルト性に優れる新規な多層構造体が得られる。すなわち、本発明によれば、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れるだけでなく、過酷条件下でのレトルト処理後も優れたガスバリア性および水蒸気バリア性を維持できるとともに、層間剥離等の外観不良を生じない高い層間接着力(剥離強度)を有する新規な多層構造体、それを用いた包装材および製品が得られる。また、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、かつ、ダンプヒート試験後もそのバリア性を維持できる新規な多層構造体を用いた電子デバイスの保護シートが得られる。 According to the present invention, a novel multilayer structure having excellent gas barrier properties and water vapor barrier properties and excellent retort resistance under harsh conditions can be obtained. That is, according to the present invention, not only the gas barrier property and the water vapor barrier property are excellent, but also the excellent gas barrier property and the water vapor barrier property can be maintained even after the retort treatment under harsh conditions, and appearance defects such as delamination occur. A novel multilayer structure having no high interlayer adhesive strength (peeling strength), and packaging materials and products using the same can be obtained. In addition, a protective sheet for an electronic device using a novel multilayer structure having excellent gas barrier properties and water vapor barrier properties and capable of maintaining the barrier properties even after a dump heat test can be obtained.

本発明の製品の一例である縦製袋充填シール袋の一形態を示す背面図。The rear view which shows one form of the vertical bag filling seal bag which is an example of the product of this invention. 本発明の製品の一例である平パウチの一形態を示す斜視図。The perspective view which shows one form of the flat pouch which is an example of the product of this invention. 本発明の製品の一例である輸血バックの一形態を示す正面図。The front view which shows one form of the blood transfusion bag which is an example of the product of this invention. 本発明の製品の一例であるインモールドラベル容器の一形態を示す模式図。The schematic diagram which shows one form of the in-mold label container which is an example of the product of this invention. 本発明の一実施形態に係る多層構造体の製造に用いる押出コートラミネート装置の一部を模式的に示す斜視図。The perspective view which shows a part of the extrusion coat laminating apparatus used for manufacturing the multilayer structure which concerns on one Embodiment of this invention typically. 本発明の製品の一例である真空断熱体の一例を示す模式図。The schematic diagram which shows an example of the vacuum insulation body which is an example of the product of this invention. 本発明の製品の一例である真空断熱体の他の一例を示す模式図。The schematic diagram which shows another example of the vacuum insulation body which is an example of the product of this invention. 本発明の製品の一例である電子デバイスの一部断面図。A partial cross-sectional view of an electronic device which is an example of the product of the present invention.

本発明について、以下に例を挙げて説明する。なお、以下の説明において、物質、条件、方法、数値範囲等を例示する場合があるが、本発明はそのような例示に限定されない。また、例示される物質は、特に注釈がない限り、1種を単独で使用してもよいし2種以上を併用してもよい。 The present invention will be described below with an example. In the following description, substances, conditions, methods, numerical ranges, etc. may be exemplified, but the present invention is not limited to such examples. Further, unless otherwise specified, the exemplified substances may be used alone or in combination of two or more.

特に注釈がない限り、この明細書において、「特定の部材(基材、層等)上に特定の層を積層する」という記載の意味には、該部材と接触するように該特定の層を積層する場合に加え、他の層を挟んで該部材の上方に該特定の層を積層する場合が含まれる。「特定の部材(基材、層等)上に特定の層を形成する」、「特定の部材(基材、層等)上に特定の層を配置する」という記載も同様である。また、特に注釈がない限り、「特定の部材(基材、層等)上に液体(コーティング液等)を塗工する」という記載の意味には、該部材に該液体を直接塗工する場合に加え、該部材上に形成された他の層に該液体を塗工する場合が含まれる。 Unless otherwise noted, in the present specification, the meaning of "laminating a specific layer on a specific member (base material, layer, etc.)" means that the specific layer is brought into contact with the member. In addition to the case of laminating, the case of laminating the specific layer on the member with another layer sandwiched between them is included. The same applies to the descriptions of "forming a specific layer on a specific member (base material, layer, etc.)" and "arranging a specific layer on a specific member (base material, layer, etc.)". Further, unless otherwise specified, the meaning of "coating a liquid (coating liquid, etc.) on a specific member (base material, layer, etc.)" means that the liquid is directly applied to the member. In addition, the case where the liquid is applied to another layer formed on the member is included.

この明細書において、「層(Y)」のように、符号(Y)を付して層(Y)を他の層と区別する場合がある。特に注釈がない限り、符号(Y)には技術的な意味はない。基材(X)、化合物(A)およびその他の符号についても同様である。ただし、水素原子(H)のように、特定の元素を示すことが明らかである場合を除く。 In this specification, a reference numeral (Y) may be added to distinguish the layer (Y) from other layers, such as “layer (Y)”. Unless otherwise noted, sign (Y) has no technical meaning. The same applies to the base material (X), the compound (A) and other codes. However, this excludes cases where it is clear that a specific element is exhibited, such as a hydrogen atom (H).

[多層構造体]
本発明の多層構造体は、基材(X)と、前記基材(X)上に積層された層(Z)と、前記層(Z)上に積層された層(Y)とを備える。層(Y)は、アルミニウムを含む化合物(A)(以下、単に「化合物(A)」ともいう)を含む。また、化合物(A)は、アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)(以下、単に「金属酸化物(Aa)」ともいう)と無機リン化合物(BI)との反応生成物(D)(以下、単に「反応生成物(D)」ともいう)を含む化合物(Ab)(以下、単に「化合物(Ab)」ともいう)を含む。層(Z)は、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)(以下、単に「リン化合物(BH)」ともいう)とを含む。以下の説明において、特に注釈がない限り、「多層構造体」という用語は基材(X)と層(Y)と層(Z)を含む多層構造体を意味する。
[Multi-layer structure]
The multilayer structure of the present invention includes a base material (X), a layer (Z) laminated on the base material (X), and a layer (Y) laminated on the layer (Z). The layer (Y) contains a compound (A) containing aluminum (hereinafter, also simply referred to as “compound (A)”). Further, the compound (A) is a reaction product (D) (hereinafter, hereinafter, a reaction product (D)) of a metal oxide (Aa) containing aluminum (hereinafter, also simply referred to as “metal oxide (Aa)”) and an inorganic phosphorus compound (BI). It includes a compound (Ab) containing (hereinafter, also simply referred to as “reaction product (D)”) (hereinafter, also simply referred to as “compound (Ab)”). The layer (Z) is a phosphorus compound (BH) in which a polar group is bonded to a phosphorus atom having at least one hydroxyl group by an alkylene chain or a polyoxyalkylene chain having 20 or less carbon atoms (hereinafter, simply "phosphorus compound (BH)). ”). In the following description, unless otherwise noted, the term "multilayer structure" means a multi-layer structure including a substrate (X), a layer (Y) and a layer (Z).

[基材(X)]
基材(X)の材質は特に制限されず、様々な材質からなる基材を用いることができる。基材(X)の材質としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂;布帛、紙類等の繊維集合体;木材;ガラス等が挙げられる。中でも、熱可塑性樹脂および繊維集合体が好ましく、熱可塑性樹脂がより好ましい。基材(X)の形態は特に制限されず、フィルムまたはシート等の層状であってもよい。基材(X)としては、熱可塑性樹脂フィルムおよび紙からなる群より選ばれる少なくとも1種を含むものが好ましく、熱可塑性樹脂フィルムを含むものがより好ましく、熱可塑性樹脂フィルムがさらに好ましい。
[Base material (X)]
The material of the base material (X) is not particularly limited, and a base material made of various materials can be used. Examples of the material of the base material (X) include resins such as thermoplastic resins and thermosetting resins; fiber aggregates such as cloth and paper; wood; glass and the like. Among them, a thermoplastic resin and a fiber aggregate are preferable, and a thermoplastic resin is more preferable. The form of the base material (X) is not particularly limited, and may be a layer such as a film or a sheet. The base material (X) preferably contains at least one selected from the group consisting of a thermoplastic resin film and paper, more preferably a thermoplastic resin film, and even more preferably a thermoplastic resin film.

基材(X)に用いられる熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂;ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリブチレンテレフタレートやこれらの共重合体等のポリエステル系樹脂;ナイロン−6、ナイロン−66、ナイロン−12等のポリアミド系樹脂;ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体等の水酸基含有ポリマー;ポリスチレン;ポリ(メタ)アクリル酸エステル;ポリアクリロニトリル;ポリ酢酸ビニル;ポリカーボネート;ポリアリレート;再生セルロース;ポリイミド;ポリエーテルイミド;ポリスルフォン;ポリエーテルスルフォン;ポリエーテルエーテルケトン;アイオノマー樹脂等が挙げられる。多層構造体を包装材に用いる場合、基材(X)の材質は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ナイロン−6、およびナイロン−66からなる群より選ばれる少なくとも1種の熱可塑性樹脂が好ましい。 Examples of the thermoplastic resin used for the base material (X) include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, and copolymers thereof. Polyester resin; Polyamide resin such as nylon-6, nylon-66, nylon-12; hydroxyl group-containing polymer such as polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer; polystyrene; poly (meth) acrylic acid ester; polyacrylonitrile; Examples thereof include polyvinyl acetate; polycarbonate; polyarylate; regenerated cellulose; polyimide; polyetherimide; polysulphon; polyethersulphon; polyether ether ketone; ionomer resin and the like. When the multilayer structure is used as a packaging material, the material of the base material (X) is preferably at least one thermoplastic resin selected from the group consisting of polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, nylon-6, and nylon-66.

基材(X)の表面は、後述するリン化合物(BH)が有する極性基と反応可能な官能基を有することが好ましい。基材(X)の材質の選択または基材(X)に親水処理等の表面処理を行うことで、そのような基材(X)を用意できる。 The surface of the base material (X) preferably has a functional group capable of reacting with the polar group of the phosphorus compound (BH) described later. Such a base material (X) can be prepared by selecting the material of the base material (X) or performing a surface treatment such as a hydrophilic treatment on the base material (X).

基材(X)の表面処理の方法には、例えば、UVオゾン処理、高濃度オゾン水処理、エキシマオゾン処理、コロナ処理、酸素プラズマ処理、またはAPプラズマ処理等が挙げられ、工業的な実施容易性の観点から、コロナ処理が好ましい。 Examples of the method for surface treatment of the base material (X) include UV ozone treatment, high-concentration ozone water treatment, excimer ozone treatment, corona treatment, oxygen plasma treatment, AP plasma treatment, and the like, which are easy to carry out industrially. From the viewpoint of sex, corona treatment is preferable.

前記熱可塑性樹脂からなるフィルムを前記基材(X)として用いる場合、基材(X)は延伸フィルムでも無延伸フィルムでもよい。得られる多層構造体の加工適性(印刷やラミネート等)が優れることから、延伸フィルム、特に二軸延伸フィルムが好ましい。二軸延伸フィルムは、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法、およびチューブラ延伸法のいずれの方法で製造された二軸延伸フィルムでもよい。 When the film made of the thermoplastic resin is used as the base material (X), the base material (X) may be a stretched film or a non-stretched film. A stretched film, particularly a biaxially stretched film, is preferable because the obtained multilayer structure is excellent in processability (printing, laminating, etc.). The biaxially stretched film may be a biaxially stretched film produced by any of a simultaneous biaxial stretching method, a sequential biaxial stretching method, and a tubular stretching method.

基材(X)に用いられる紙としては、例えば、クラフト紙、上質紙、模造紙、グラシン紙、パーチメント紙、合成紙、白板紙、マニラボール、ミルクカートン原紙、カップ原紙、アイボリー紙等が挙げられる。基材(X)に紙を用いると、紙容器用の多層構造体を得ることができる。 Examples of the paper used for the base material (X) include kraft paper, high-quality paper, imitation paper, glassin paper, parchment paper, synthetic paper, white paperboard, Manila balls, milk carton base paper, cup base paper, and ivory paper. Be done. When paper is used as the base material (X), a multilayer structure for a paper container can be obtained.

基材(X)が層状である場合、その厚さは、得られる多層構造体の機械的強度および加工性が良好になる観点から1〜1,000μmが好ましく、5〜500μmがより好ましく、9〜200μmがさらに好ましい。 When the base material (X) is layered, the thickness thereof is preferably 1 to 1,000 μm, more preferably 5 to 500 μm, and 9 to 5 from the viewpoint of improving the mechanical strength and workability of the obtained multilayer structure. ~ 200 μm is more preferable.

[層(Z)]
層(Z)は、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)を含む。なお、層(Z)は、本発明の作用を阻害しない範囲で、添加剤等の他の成分を含有していてもよい。リン化合物(BH)について以下に説明する。
[Layer (Z)]
The layer (Z) contains a phosphorus compound (BH) in which a phosphorus atom having at least one hydroxyl group and a polar group are bonded by an alkylene chain having 20 or less carbon atoms or a polyoxyalkylene chain. The layer (Z) may contain other components such as additives as long as the action of the present invention is not impaired. The phosphorus compound (BH) will be described below.

[リン化合物(BH)]
本発明の多層構造体は、層(Z)中にリン化合物(BH)を含む。リン化合物(BH)は、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖を介して、少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されている。リン化合物(BH)は、基材(X)との親和性が高い極性基と、層(Y)に含まれる成分と反応可能な少なくとも1つの水酸基を有するリン原子の両方を有するため、基材(X)と層(Z)および層(Z)と層(Y)間の密着性が向上し、レトルト処理後も層間接着力を維持できる観点から、層間剥離等の外観不良を抑制することが可能となる。なお、基材(X)の表面が前記極性基と反応可能な官能基を有する場合、基材(X)とリン化合物(BH)間で反応が進行し、より層間接着力を高めることができる。
[Phosphorus compound (BH)]
The multilayer structure of the present invention contains a phosphorus compound (BH) in the layer (Z). The phosphorus compound (BH) has a polar group bonded to a phosphorus atom having at least one hydroxyl group via an alkylene chain or a polyoxyalkylene chain having 20 or less carbon atoms. Since the phosphorus compound (BH) has both a polar group having a high affinity for the base material (X) and a phosphorus atom having at least one hydroxyl group capable of reacting with the component contained in the layer (Y), the base material (BH) has a base material. From the viewpoint of improving the adhesion between the (X) and the layer (Z) and the layer (Z) and the layer (Y) and maintaining the interlayer adhesive force even after the retort treatment, it is possible to suppress appearance defects such as delamination. It will be possible. When the surface of the base material (X) has a functional group capable of reacting with the polar group, the reaction proceeds between the base material (X) and the phosphorus compound (BH), and the interlayer adhesion can be further enhanced. ..

リン化合物(BH)は、例えば、下記一般式〔I〕
1−R5−U2 〔I〕
(式中、U1は少なくとも1つの水酸基を有するリン原子含有基を表し、R5は炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基またはポリオキシアルキレン基を表し、U2は極性基を表す。)
で示される。一般式〔I〕のR5の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基またはポリオキシアルキレン基としては、後述するコーティング液(R)において使用する溶媒への溶解性を良好とする観点から、炭素数20以下であることが好ましく、18以下であることがより好ましく、14以下であることがさらに好ましい。
The phosphorus compound (BH) is, for example, the following general formula [I].
U 1 −R 5 −U 2 [I]
(In the formula, U 1 represents a phosphorus atom-containing group having at least one hydroxyl group, R 5 represents a linear or branched alkylene group or polyoxyalkylene group having 1 to 20 carbon atoms, and U 2 is polar. Represents a group.)
Indicated by. The linear or branched alkylene group or polyoxyalkylene group of R 5 of the general formula [I] has a carbon number of carbon atoms from the viewpoint of improving the solubility in the solvent used in the coating liquid (R) described later. It is preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and even more preferably 14 or less.

1が表す少なくとも1つの水酸基を有するリン原子含有基(前記一般式〔I〕のU1)の例には、リン酸基、亜リン酸基、ホスホン酸基、亜ホスホン酸基、ホスフィン酸基、亜ホスフィン酸基等が挙げられ、中でもリン酸基およびホスホン酸基が好ましく、ホスホン酸基がより好ましい。U2が表す極性基は、インク層、接着層(I)等の隣接する他の部材と反応し得る。そのような極性基の例には、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられ、中でも水酸基、カルボキシル基が好ましく、水酸基が特に好ましい。 Examples of a phosphorus atom-containing group having at least one hydroxyl group represented by U 1 (U 1 of the general formula [I]) include a phosphoric acid group, a phosphorous acid group, a phosphonic acid group, a phosphonic acid group, and a phosphinic acid. Examples thereof include a group and a phosphinic acid group. Among them, a phosphoric acid group and a phosphonic acid group are preferable, and a phosphonic acid group is more preferable. The polar group represented by U 2 can react with other adjacent members such as an ink layer and an adhesive layer (I). Examples of such a polar group include a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group and the like. Among them, a hydroxyl group and a carboxyl group are preferable, and a hydroxyl group is particularly preferable.

リン化合物(BH)の具体例としては、3−ヒドロキシプロピルホスホン酸、4−ヒドロキシブチルホスホン酸、5−ヒドロキシペンチルホスホン酸、6−ヒドロキシヘキシルホスホン酸、7−ヒドロキシヘプチルホスホン酸、8−ヒドロキシオクチルホスホン酸、9−ヒドロキシノニルホスホン酸、10−ヒドロキシデシルホスホン酸、11−ヒドロキシウンデシルホスホン酸、12−ヒドロキシドデシルホスホン酸、13−ヒドロキシトリデシルホスホン酸、14−ヒドロキシテトラデシルホスホン酸、15−ヒドロキシペンタデシルホスホン酸、16−ヒドロキシヘキサデシルホスホン酸、17−ヒドロキシヘプタデシルホスホン酸、18−ヒドロキシオクタデシルホスホン酸、19−ヒドロキシノナデシルホスホン酸、20−ヒドロキシイコシルホスホン酸、3−ヒドロキシプロピルジハイドロジェンホスフェート、4−ヒドロキシブチルジハイドロジェンホスフェート、5−ヒドロキシペンチルジハイドロジェンホスフェート、6−ヒドロキシヘキシルジハイドロジェンホスフェート、7−ヒドロキシヘプチルジハイドロジェンホスフェート、8−ヒドロキシオクチルジハイドロジェンホスフェート、9−ヒドロキシノニルジハイドロジェンホスフェート、10−ヒドロキシデシルジハイドロジェンホスフェート、11−ヒドロキシウンデシルジハイドロジェンホスフェート、12−ヒドロキシドデシルジハイドロジェンホスフェート、13−ヒドロキシトリデシルジハイドロジェンホスフェート、14−ヒドロキシテトラデシルジハイドロジェンホスフェート、15−ヒドロキシペンタデシルジハイドロジェンホスフェート、16−ヒドロキシヘキサデシルジハイドロジェンホスフェート、17−ヒドロキシヘプタデシルジハイドロジェンホスフェート、18−ヒドロキシオクタデシルジハイドロジェンホスフェート、19−ヒドロキシノナデシルジハイドロジェンホスフェート、20−ヒドロキシイコシルジハイドロジェンホスフェート、3−カルボキシプロピルホスホン酸、4−カルボキシブチルホスホン酸、5−カルボキシペンチルホスホン酸、6−カルボキシヘキシルホスホン酸、7−カルボキシヘプシルホスホン酸、8−カルボキシオクチルホスホン酸、9−カルボキシノニルホスホン酸、10−カルボキシデシルホスホン酸、11−カルボキシウンデシルホスホン酸、12−カルボキシドデシルホスホン酸、13−カルボキシドトリデシルホスホン酸、14−カルボキシテトラデシルホスホン酸、15−カルボキシペンタデシルホスホン酸、16−カルボキシヘキサデシルホスホン酸、17−カルボキシヘプタデシルホスホン酸、18−カルボキシオクタデシルホスホン酸、19−カルボキシノナデシルホスホン酸、20−カルボキシイコシルホスホン酸等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用してもよく、2種以上のリン化合物(BH)を併用してもよい。 Specific examples of the phosphorus compound (BH) include 3-hydroxypropylphosphonic acid, 4-hydroxybutylphosphonic acid, 5-hydroxypentylphosphonic acid, 6-hydroxyhexylphosphonic acid, 7-hydroxyheptylphosphonic acid, and 8-hydroxyoctyl. Phosphonate, 9-hydroxynonylphosphonic acid, 10-hydroxydecylphosphonic acid, 11-hydroxyundecylphosphonic acid, 12-hydroxydodecylphosphonic acid, 13-hydroxytridecylphosphonic acid, 14-hydroxytetradecylphosphonic acid, 15- Hydroxypentadecylphosphonic acid, 16-hydroxyhexadecylphosphonic acid, 17-hydroxyheptadecylphosphonic acid, 18-hydroxyoctadecylphosphonic acid, 19-hydroxynonadesylphosphonic acid, 20-hydroxyicosylphosphonic acid, 3-hydroxypropyldi Hydrogen phosphate, 4-hydroxybutyl dihydrogen phosphate, 5-hydroxypentyl dihydrogen phosphate, 6-hydroxyhexyl dihydrogen phosphate, 7-hydroxyheptyl dihydrogen phosphate, 8-hydroxyoctyl dihydrogen phosphate, 9 -Hydroxynonyldihydrogen phosphate, 10-hydroxydecyldihydrogen phosphate, 11-hydroxyundecyldihydrogen phosphate, 12-hydroxydodecyldihydrogen phosphate, 13-hydroxytridecyldihydrogen phosphate, 14-hydroxytetra Decyldihydrogen phosphate, 15-hydroxypentadecyldihydrogen phosphate, 16-hydroxyhexadecyldihydrogen phosphate, 17-hydroxyheptadecyldihydrogen phosphate, 18-hydroxyoctadecyldihydrogen phosphate, 19-hydroxynonadecil Dihydrogen phosphate, 20-hydroxyicosyl dihydrogen phosphate, 3-carboxypropyl phosphonic acid, 4-carboxybutyl phosphonic acid, 5-carboxypentyl phosphonic acid, 6-carboxyhexyl phosphonic acid, 7-carboxyhepcil phosphonic acid , 8-carboxyoctylphosphonic acid, 9-carboxynonylphosphonic acid, 10-carboxydecylphosphonic acid, 11-carboxyundecylphosphonic acid, 12-carboxydodecylphoate Shonic acid, 13-carboxydotridecylphosphonic acid, 14-carboxytetradecylphosphonic acid, 15-carboxypentadecylphosphonic acid, 16-carboxyhexadecylphosphonic acid, 17-carboxyheptadecylphosphonic acid, 18-carboxyoctadecylphosphonic acid , 19-carboxynonadesylphosphonic acid, 20-carboxyicosylphosphonic acid and the like. These may be used alone or in combination of two or more phosphorus compounds (BH).

層(Z)の形成方法としては、例えば、オフセット印刷法、グラビア印刷法、シルクスクリーン印刷法等の周知の印刷方式;ロールコート、ナイフエッジコート、グラビアコート等の周知の塗布方式を用いることができる。また反応を促進させるために、室温以上のエージング室等に数日間保管することも可能である。 As a method for forming the layer (Z), for example, a well-known printing method such as an offset printing method, a gravure printing method, or a silk screen printing method; a well-known coating method such as a roll coat, a knife edge coat, or a gravure coat may be used. it can. It is also possible to store it in an aging room or the like at room temperature or higher for several days in order to promote the reaction.

層(Z)の厚さは0.001〜0.2μmの範囲が好ましく、密着性向上の観点から0.003〜0.1μmの範囲がより好ましく、0.005〜0.05μmの範囲が特に好ましい。層(Z)の厚さは、後記する実施例に記載の方法で測定できる。 The thickness of the layer (Z) is preferably in the range of 0.001 to 0.2 μm, more preferably in the range of 0.003 to 0.1 μm from the viewpoint of improving adhesion, and particularly preferably in the range of 0.005 to 0.05 μm. preferable. The thickness of the layer (Z) can be measured by the method described in Examples described later.

[層(Y)]
層(Y)は、アルミニウムを含む化合物(A)を含み、化合物(A)は、アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)との反応生成物(D)を含む化合物(Ab)を含む。化合物(A)および無機リン化合物(BI)について以下に説明する。
[Layer (Y)]
The layer (Y) contains an aluminum-containing compound (A), and the compound (A) is a compound (D) containing a reaction product (D) of an aluminum-containing metal oxide (Aa) and an inorganic phosphorus compound (BI). Ab) is included. The compound (A) and the inorganic phosphorus compound (BI) will be described below.

[アルミニウムを含む化合物(A)]
化合物(A)は、少なくとも化合物(Ab)を含む。その他に、アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)を含んでも、アルミニウム蒸着層である化合物(Ac)を含んでも、酸化アルミニウム蒸着層である化合物(Ad)を含んでもよい。アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)は、通常、粒子の形態で無機リン化合物(BI)と反応させる。
[Aluminum-containing compound (A)]
Compound (A) includes at least compound (Ab). In addition, it may contain a metal oxide (Aa) containing aluminum, a compound (Ac) which is an aluminum vapor deposition layer, or a compound (Ad) which is an aluminum oxide vapor deposition layer. Metal oxides (Aa), including aluminum, usually react with inorganic phosphorus compounds (BI) in the form of particles.

[アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)]
アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)を構成する金属原子(これらを総称して「金属原子(M)」という場合がある)は、周期表の2〜14族に属する金属原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、少なくともアルミニウムを含む。金属原子(M)はアルミニウム単独であってもよいし、アルミニウムとそれ以外の金属原子とを含んでもよい。なお、金属酸化物(Aa)として、2種以上の金属酸化物(Aa)を併用してもよい。
[Metal oxide containing aluminum (Aa)]
The metal atom constituting the metal oxide (Aa) containing aluminum (these may be collectively referred to as "metal atom (M)") is at least one selected from the metal atoms belonging to groups 2 to 14 of the periodic table. A species of metal atom, including at least aluminum. The metal atom (M) may be aluminum alone, or may contain aluminum and other metal atoms. As the metal oxide (Aa), two or more kinds of metal oxides (Aa) may be used in combination.

金属原子(M)に占めるアルミニウムの割合は、50モル%以上が好ましく、60〜100モル%がより好ましく、80〜100モル%がさらに好ましい。金属酸化物(Aa)の例には、液相合成法、気相合成法、固体粉砕法等の方法によって製造された金属酸化物が含まれる。 The ratio of aluminum to the metal atom (M) is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 to 100 mol%, still more preferably 80 to 100 mol%. Examples of the metal oxide (Aa) include a metal oxide produced by a method such as a liquid phase synthesis method, a gas phase synthesis method, or a solid pulverization method.

金属酸化物(Aa)は、加水分解可能な特性基が結合した金属原子(M)を含有する化合物(E)の加水分解縮合物であってもよい。該特性基の例には、後述する一般式〔II〕のR1が含まれる。化合物(E)の加水分解縮合物は、実質的に金属酸化物(Aa)とみなすことが可能である。そのため、本明細書では、化合物(E)の加水分解縮合物を「金属酸化物(Aa)」という場合がある。すなわち、本明細書において、「金属酸化物(Aa)」は「化合物(E)の加水分解縮合物」と読み替えることができ、また、「化合物(E)の加水分解縮合物」を「金属酸化物(Aa)」と読み替えることもできる。 The metal oxide (Aa) may be a hydrolyzed condensate of the compound (E) containing a metal atom (M) to which a hydrolyzable characteristic group is bonded. Examples of the characteristic group include R 1 of the general formula [II] described later. The hydrolyzed condensate of compound (E) can be considered substantially as a metal oxide (Aa). Therefore, in the present specification, the hydrolyzed condensate of compound (E) may be referred to as "metal oxide (Aa)". That is, in the present specification, "metal oxide (Aa)" can be read as "hydrolyzed condensate of compound (E)", and "hydrolyzed condensate of compound (E)" can be read as "metal oxidation". It can also be read as "thing (Aa)".

[加水分解可能な特性基が結合した金属原子(M)を含有する化合物(E)]
無機リン化合物(BI)との反応の制御が容易になり、得られる多層構造体のガスバリア性が優れることから、化合物(E)は、下記一般式〔II〕で表される化合物(Ea)を少なくとも1種含むことが好ましい。
Al(R1k(R23-k 〔II〕
式中、R1は、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、NO3、置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数5〜9のアリールオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜9のアシロキシ基、置換基を有していてもよい炭素数3〜9のアルケニルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数5〜15のβ−ジケトナト基、または置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアシル基を有するジアシルメチル基を表す。R2は、置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数7〜10のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜9のアルケニル基、または置換基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基を表す。kは1〜3の整数を表す。R1が複数存在する場合、R1は互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。R2が複数存在する場合、R2は互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
[Compound (E) containing a metal atom (M) to which a hydrolyzable characteristic group is bonded]
Since the reaction with the inorganic phosphorus compound (BI) can be easily controlled and the obtained multilayer structure has excellent gas barrier properties, the compound (E) is a compound (Ea) represented by the following general formula [II]. It is preferable to contain at least one kind.
Al (R 1 ) k (R 2 ) 3-k [II]
In the formula, R 1 has a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), NO 3 , an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. An aryloxy group having 5 to 9 carbon atoms, an asyloxy group having 2 to 9 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyloxy group having 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and the like. It represents a β-diketonato group having 5 to 15 carbon atoms which may have a substituent or a diacylmethyl group having an acyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent. R 2 may have an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and a carbon which may have a substituent. It represents an alkenyl group of number 2-9 or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent. k represents an integer of 1-3. When there are a plurality of R 1 , R 1 may be the same as or different from each other. When there are a plurality of R 2 , R 2 may be the same as or different from each other.

化合物(E)は、化合物(Ea)に加えて、下記一般式〔III〕で表される化合物(Eb)を少なくとも1種含んでいてもよい。
1(R3m(R4n-m 〔III〕
式中、M1は、アルミニウム原子以外の金属原子であって周期表の2〜14族に属する金属原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子を表す。R3は、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、NO3、置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数5〜9のアリールオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜9のアシロキシ基、置換基を有していてもよい炭素数3〜9のアルケニルオキシ基、置換基を有していてもよい炭素数5〜15のβ−ジケトナト基、または置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアシル基を有するジアシルメチル基を表す。R4は、置換基を有していてもよい炭素数1〜9のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数7〜10のアラルキル基、置換基を有していてもよい炭素数2〜9のアルケニル基、または置換基を有していてもよい炭素数6〜10のアリール基を表す。mは1〜nの整数を表す。nはM1の原子価に等しい。R3が複数存在する場合、R3は互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。R4が複数存在する場合、R4は互いに同一であってもよいし異なっていてもよい。
The compound (E) may contain at least one compound (Eb) represented by the following general formula [III] in addition to the compound (Ea).
M 1 (R 3 ) m (R 4 ) nm [III]
In the formula, M 1 represents at least one metal atom other than the aluminum atom and selected from the metal atoms belonging to groups 2 to 14 of the periodic table. R 3 may have a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), NO 3 , an alkoxy group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. An aryloxy group having 5 to 9 carbon atoms, an asyloxy group having 2 to 9 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyloxy group having 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent. It represents a β-diketonato group having 5 to 15 carbon atoms which may have a substituent, or a diacylmethyl group having an acyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent. R 4 has an alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, an aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and a carbon which may have a substituent. It represents an alkenyl group of number 2-9 or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent. m represents an integer of 1 to n. n is equal to the valence of M 1. If R 3 there are a plurality, R 3 may be different may be identical or different. If R 4 there are a plurality, R 4 may be different may be identical or different.

1およびR3が表すアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ベンジロキシ基、ジフェニルメトキシ基、トリチルオキシ基、4−メトキシベンジロキシ基、メトキシメトキシ基、1−エトキシエトキシ基、ベンジルオキシメトキシ基、2−トリメチルシリルエトキシ基、2−トリメチルシリルエトキシメトキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkoxy group represented by R 1 and R 3 include a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, and a benzyloxy group. Examples thereof include a diphenylmethoxy group, a trityloxy group, a 4-methoxybenzyloxy group, a methoxymethoxy group, a 1-ethoxyethoxy group, a benzyloxymethoxy group, a 2-trimethylsilylethoxy group and a 2-trimethylsilylethoxymethoxy group.

1およびR3が表すアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、4−メトキシフェノキシ基等が挙げられる。 Examples of the aryloxy group represented by R 1 and R 3 include a phenoxy group and a 4-methoxyphenoxy group.

1およびR3が表すアシロキシ基としては、例えば、アセトキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、n−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、sec−ブチルカルボニルオキシ基、tert−ブチルカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the asyloxy group represented by R 1 and R 3 include acetoxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group, isobutylcarbonyloxy group and sec-butylcarbonyl. Examples thereof include an oxy group, a tert-butylcarbonyloxy group and an n-octylcarbonyloxy group.

1およびR3が表すアルケニルオキシ基としては、例えば、アリルオキシ基、2−プロペニルオキシ基、2−ブテニルオキシ基、1−メチル−2−プロペニルオキシ基、3−ブテニルオキシ基、2−メチル−2−プロペニルオキシ基、2−ペンテニルオキシ基、3−ペンテニルオキシ基、4−ペンテニルオキシ基、1−メチル−3−ブテニルオキシ基、1,2−ジメチル−2−プロペニルオキシ基、1,1−ジメチル−2−プロペニルオキシ基、2−メチル−2−ブテニルオキシ基、3−メチル−2−ブテニルオキシ基、2−メチル−3−ブテニルオキシ基、3−メチル−3−ブテニルオキシ基、1−ビニル−2−プロペニルオキシ基、5−ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkenyloxy group represented by R 1 and R 3 include an allyloxy group, a 2-propenyloxy group, a 2-butenyloxy group, a 1-methyl-2-propenyloxy group, a 3-butenyloxy group, and a 2-methyl-2-. Propenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 3-pentenyloxy group, 4-pentenyloxy group, 1-methyl-3-butenyloxy group, 1,2-dimethyl-2-propenyloxy group, 1,1-dimethyl-2 -Propenyloxy group, 2-methyl-2-butenyloxy group, 3-methyl-2-butenyloxy group, 2-methyl-3-butenyloxy group, 3-methyl-3-butenyloxy group, 1-vinyl-2-propenyloxy group , 5-Hexenyloxy group and the like.

1およびR3が表すβ−ジケトナト基としては、例えば、2,4−ペンタンジオナト基、1,1,1−トリフルオロ−2,4−ペンタンジオナト基、1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタンジオナト基、2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト基、1,3−ブタンジオナト基、2−メチル−1,3−ブタンジオナト基、2−メチル−1,3−ブタンジオナト基、ベンゾイルアセトナト基等が挙げられる。 Examples of the β-diketonato group represented by R 1 and R 3 include 2,4-pentanedionato group, 1,1,1-trifluoro-2,4-pentanedionato group, 1,1,1,5. , 5,5-Hexafluoro-2,4-pentandionato group, 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptandionat group, 1,3-butandionato group, 2-methyl-1,3- Examples thereof include a butandionato group, a 2-methyl-1,3-butandionato group, a benzoylacetonato group and the like.

1およびR3が表すジアシルメチル基のアシル基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基(プロパノイル基)、ブチリル基(ブタノイル基)、バレリル基(ペンタノイル基)、ヘキサノイル基等の炭素数1〜6の脂肪族アシル基;ベンゾイル基、トルオイル基等の芳香族アシル基(アロイル基)等が挙げられる。 Examples of the acyl group of the diacylmethyl group represented by R 1 and R 3 include carbons such as formyl group, acetyl group, propionyl group (propanoyl group), butyryl group (butanoyl group), valeryl group (pentanoyl group) and hexanoyl group. The number 1 to 6 aliphatic acyl groups; aromatic acyl groups (aroyl groups) such as benzoyl groups and toluoil groups can be mentioned.

2およびR4が表すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、1,2−ジメチルブチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group represented by R 2 and R 4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, and an isopentyl. Examples thereof include a group, an n-hexyl group, an isohexyl group, a 3-methylpentyl group, a 2-methylpentyl group, a 1,2-dimethylbutyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.

2およびR4が表すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基(フェネチル基)等が挙げられる。 Examples of the aralkyl group represented by R 2 and R 4 include a benzyl group and a phenylethyl group (phenethyl group).

2およびR4が表すアルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、イソプロペニル基、3−ブテニル基、2−ブテニル基、1−ブテニル基、1−メチル−2−プロペニル基、1−メチル−1−プロペニル基、1−エチル−1−エテニル基、2−メチル−2−プロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、3−メチル−2−ブテニル基、4−ペンテニル基等が挙げられる。 Examples of the alkenyl group represented by R 2 and R 4 include a vinyl group, a 1-propenyl group, a 2-propenyl group, an isopropenyl group, a 3-butenyl group, a 2-butenyl group, a 1-butenyl group and a 1-methyl-. 2-propenyl group, 1-methyl-1-propenyl group, 1-ethyl-1-ethenyl group, 2-methyl-2-propenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, 3-methyl-2-butenyl group, 4-Pentenyl group and the like can be mentioned.

2およびR4が表すアリール基としては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。 Examples of the aryl group represented by R 2 and R 4 include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like.

1、R2、R3、およびR4が表す各基が有していてもよい置換基としては、例えば、炭素数1〜6のアルキル基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロブチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基等の炭素数1〜6のアルコキシカルボニル基;フェニル基、トリル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子;炭素数1〜6のアシル基;炭素数7〜10のアラルキル基;炭素数7〜10のアラルキルオキシ基;炭素数1〜6のアルキルアミノ基;炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基等が挙げられる。 Substituents that each group represented by R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 may have include, for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and the like. Isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group, n-hexyloxy group, cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyl An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms such as an oxy group and a cyclohexyloxy group; a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, an n-butoxycarbonyl group, an isobutoxycarbonyl group, a sec-butoxy. An alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a carbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, an n-pentyloxycarbonyl group, an isopentyloxycarbonyl group, a cyclopropyloxycarbonyl group, a cyclobutyloxycarbonyl group, and a cyclopentyloxycarbonyl group; Aromatic hydrocarbon groups such as phenyl group, trill group and naphthyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; acyl group having 1 to 6 carbon atoms; aralkyl group having 7 to 10 carbon atoms; Examples thereof include an aralkyloxy group having 7 to 10 carbon atoms; an alkylamino group having 1 to 6 carbon atoms; and a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

1およびR3としては、ハロゲン原子、NO3、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数2〜6のアシロキシ基、置換基を有していてもよい炭素数5〜10のβ−ジケトナト基、または置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアシル基を有するジアシルメチル基が好ましく、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルコキシ基がより好ましい。 Examples of R 1 and R 3 include a halogen atom, NO 3 , an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, and an acyloxy group having 2 to 6 carbon atoms which may have a substituent. A β-diketonato group having 5 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a diacylmethyl group having an acyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent is preferable and has a substituent. An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms which may be used is more preferable.

2としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。式〔II〕のkは、好ましくは3である。 As R 2 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent is preferable. The k of the formula [II] is preferably 3.

4としては、置換基を有していてもよい炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。M1としては、周期表の4族に属する金属原子が好ましく、チタン、ジルコニウムがより好ましい。M1が周期表の4族に属する金属原子の場合、式〔III〕のmは好ましくは4である。なお、ホウ素およびケイ素は半金属に分類される場合があるが、本明細書ではこれらを金属に含めるものとする。 As R 4 , an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent is preferable. As M 1 , metal atoms belonging to Group 4 of the periodic table are preferable, and titanium and zirconium are more preferable. When M 1 is a metal atom belonging to Group 4 of the periodic table, m in the formula [III] is preferably 4. Boron and silicon may be classified as metalloids, but these are included in the metals in the present specification.

化合物(Ea)としては、例えば、塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム、酢酸アルミニウム、トリス(2,4−ペンタンジオナト)アルミニウム、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリ−n−プロポキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、トリ−n−ブトキシアルミニウム、トリ−sec−ブトキシアルミニウム、トリ−tert−ブトキシアルミニウム等が挙げられ、中でも、トリイソプロポキシアルミニウムおよびトリ−sec−ブトキシアルミニウムが好ましい。化合物(E)として、2種以上の化合物(Ea)を併用してもよい。 Examples of the compound (Ea) include aluminum chloride, aluminum nitrate, aluminum acetate, tris (2,4-pentandionato) aluminum, trimethoxyaluminum, triethoxyaluminum, tri-n-propoxyaluminum, and triisopropoxyaluminum. Examples thereof include tri-n-butoxyaluminum, tri-sec-butoxyaluminum, and tri-tert-butoxyaluminum, and among them, triisopropoxyaluminum and tri-sec-butoxyaluminum are preferable. As the compound (E), two or more kinds of compounds (Ea) may be used in combination.

化合物(Eb)としては、例えば、テトラキス(2,4−ペンタンジオナト)チタン、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ−n−ブトキシチタン、テトラキス(2−エチルヘキソキシ)チタン等のチタン化合物;テトラキス(2,4−ペンタンジオナト)ジルコニウム、テトラ−n−プロポキシジルコニウム、テトラ−n−ブトキシジルコニウム等のジルコニウム化合物等が挙げられる。これらは、1種を単独で使用してもよく、2種以上の化合物(Eb)を併用してもよい。 Examples of the compound (Eb) include tetrakis (2,4-pentandionato) titanium, tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium, tetraisopropoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, and tetrakis (2-ethylhexoxy) titanium. Titanium compounds; examples thereof include zirconium compounds such as tetrakis (2,4-pentandionato) zirconium, tetra-n-propoxyzirconium, and tetra-n-butoxyzirconium. These may be used alone or in combination of two or more compounds (Eb).

化合物(E)において、本発明の効果が得られる限り、化合物(E)に占める化合物(Ea)の割合に特に限定はない。化合物(Ea)以外の化合物(例えば、化合物(Eb))が化合物(E)に占める割合は20モル%以下が好ましく、10モル%以下がより好ましく、5モル%以下がさらに好ましく、0モル%であってもよい。 In the compound (E), the ratio of the compound (Ea) to the compound (E) is not particularly limited as long as the effect of the present invention can be obtained. The ratio of the compound other than the compound (Ea) (for example, the compound (Eb)) to the compound (E) is preferably 20 mol% or less, more preferably 10 mol% or less, further preferably 5 mol% or less, and 0 mol%. It may be.

化合物(E)が加水分解されることによって、化合物(E)が有する加水分解可能な特性基の少なくとも一部が水酸基に変換される。さらに、その加水分解物が縮合することによって、金属原子(M)が酸素原子(O)を介して結合された化合物が形成される。この縮合が繰り返されると、実質的に金属酸化物とみなしうる化合物が形成される。なお、このようにして形成された金属酸化物(Aa)の表面には、通常、水酸基が存在する。 When compound (E) is hydrolyzed, at least a part of the hydrolyzable characteristic groups of compound (E) is converted into hydroxyl groups. Further, the hydrolyzate is condensed to form a compound in which a metal atom (M) is bonded via an oxygen atom (O). When this condensation is repeated, a compound that can be regarded as a metal oxide is formed. A hydroxyl group is usually present on the surface of the metal oxide (Aa) thus formed.

本明細書においては、[金属原子(M)のみに結合している酸素原子(O)のモル数]/[金属原子(M)のモル数]の比が0.8以上である化合物を金属酸化物(Aa)に含めるものとする。ここで、金属原子(M)のみに結合している酸素原子(O)は、M−O−Mで表される構造における酸素原子(O)であり、M−O−Hで表される構造における酸素原子(O)のように金属原子(M)と水素原子(H)に結合している酸素原子は除外される。金属酸化物(Aa)における前記比は、0.9以上が好ましく、1.0以上がより好ましく、1.1以上がさらに好ましい。この比の上限は特に限定されないが、金属原子(M)の原子価をnとすると、通常、n/2で表される。 In the present specification, a compound having a ratio of [the number of moles of an oxygen atom (O) bonded only to a metal atom (M)] / [the number of moles of a metal atom (M)] of 0.8 or more is a metal. It shall be included in the oxide (Aa). Here, the oxygen atom (O) bonded only to the metal atom (M) is the oxygen atom (O) in the structure represented by MOOM, and the structure represented by MOH. The oxygen atom bonded to the metal atom (M) and the hydrogen atom (H), such as the oxygen atom (O) in, is excluded. The ratio of the metal oxide (Aa) is preferably 0.9 or more, more preferably 1.0 or more, and even more preferably 1.1 or more. The upper limit of this ratio is not particularly limited, but is usually represented by n / 2, where n is the valence of the metal atom (M).

前記加水分解縮合が起こるためには、化合物(E)が加水分解可能な特性基を有していることが重要である。それらの基が結合していない場合、加水分解縮合反応が起こらないもしくは極めて緩慢となるため、目的とする金属酸化物(Aa)の調製が困難になる。 In order for the hydrolysis condensation to occur, it is important that the compound (E) has a hydrolyzable characteristic group. If these groups are not bonded, the hydrolysis condensation reaction does not occur or becomes extremely slow, which makes it difficult to prepare the desired metal oxide (Aa).

化合物(E)の加水分解縮合物は、例えば、公知のゾルゲル法で採用される手法によって特定の原料から製造してもよい。該原料には、化合物(E)、化合物(E)の部分加水分解物、化合物(E)の完全加水分解物、化合物(E)が部分的に加水分解縮合してなる化合物および化合物(E)の完全加水分解物の一部が縮合してなる化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を用いることができる。 The hydrolyzed condensate of compound (E) may be produced from a specific raw material by, for example, a method adopted in a known sol-gel method. The raw materials include compound (E), a partial hydrolyzate of compound (E), a complete hydrolyzate of compound (E), a compound obtained by partially hydrolyzing and condensing compound (E), and compound (E). At least one selected from the group consisting of a compound formed by condensing a part of the complete hydrolyzate of the above can be used.

なお、後述の無機リン化合物(BI)含有物(無機リン化合物(BI)または無機リン化合物(BI)を含む組成物)との混合に供される金属酸化物(Aa)は、リン原子を実質的に含有しないことが好ましい。 The metal oxide (Aa) to be mixed with the inorganic phosphorus compound (BI) -containing material (composition containing the inorganic phosphorus compound (BI) or the inorganic phosphorus compound (BI)), which will be described later, substantially contains a phosphorus atom. It is preferable not to contain it.

[無機リン化合物(BI)]
無機リン化合物(BI)は、金属酸化物(Aa)と反応可能な部位を含有し、典型的には、かかる部位(原子団または官能基)を複数含有し、好適には2〜20個含有する。かかる部位には、金属酸化物(Aa)の表面に存在する官能基(例えば、水酸基)と縮合反応可能な部位が含まれ、例えば、リン原子に直接結合したハロゲン原子、リン原子に直接結合した酸素原子等が挙げられる。金属酸化物(Aa)の表面に存在する官能基(例えば、水酸基)は、通常、金属酸化物(Aa)を構成する金属原子(M)に結合している。
[Inorganic phosphorus compound (BI)]
The inorganic phosphorus compound (BI) contains a site that can react with the metal oxide (Aa), and typically contains a plurality of such sites (atomic groups or functional groups), preferably 2 to 20. To do. Such a site includes a site capable of condensation reaction with a functional group (for example, a hydroxyl group) existing on the surface of the metal oxide (Aa), for example, a halogen atom directly bonded to a phosphorus atom or a site directly bonded to a phosphorus atom. Oxygen atoms and the like can be mentioned. A functional group (for example, a hydroxyl group) existing on the surface of the metal oxide (Aa) is usually bonded to a metal atom (M) constituting the metal oxide (Aa).

無機リン化合物(BI)としては、例えば、リン酸、二リン酸、三リン酸、4分子以上のリン酸が縮合したポリリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸、ホスフィン酸、亜ホスフィン酸等のリンのオキソ酸およびこれらの誘導体(例えば、塩(例えば、リン酸ナトリウム)、ハロゲン化物(例えば、塩化ホスホリル)、脱水物(例えば、五酸化二リン))等が挙げられる。 Examples of the inorganic phosphorus compound (BI) include phosphoric acid, diphosphoric acid, triphosphoric acid, and polyphosphoric acid, phosphite, phosphonic acid, phosphonic acid, phosphinic acid, and phosphine in which four or more molecules of phosphoric acid are condensed. Examples thereof include oxo acids of phosphorus such as acids and derivatives thereof (for example, salts (for example, sodium phosphate), halides (for example, phosphoryl chloride), dehydrated products (for example, diphosphorus pentoxide)) and the like.

これらの無機リン化合物(BI)は、1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。中でも、リン酸を単独で使用するか、リン酸とそれ以外の無機リン化合物(BI)を併用することが好ましい。リン酸を用いると、後述するコーティング液(S)の安定性および得られる多層構造体のガスバリア性が向上する。リン酸とそれ以外の無機リン化合物(BI)とを併用する場合、無機リン化合物(BI)の50モル%以上がリン酸であることが好ましい。 One of these inorganic phosphorus compounds (BI) may be used alone, or two or more thereof may be used in combination. Of these, it is preferable to use phosphoric acid alone or to use phosphoric acid in combination with other inorganic phosphorus compounds (BI). When phosphoric acid is used, the stability of the coating liquid (S) described later and the gas barrier property of the obtained multilayer structure are improved. When phosphoric acid and other inorganic phosphorus compound (BI) are used in combination, it is preferable that 50 mol% or more of the inorganic phosphorus compound (BI) is phosphoric acid.

[有機リン化合物(BO)]
層(Y)は有機リン化合物(BO)を含んでいてもよい。有機リン化合物(BO)が有するリン原子を含む官能基としては、例えばリン酸基、亜リン酸基、ホスホン酸基、亜ホスホン酸基、ホスフィン酸基、亜ホスフィン酸基、およびこれらから誘導される官能基(例えば、塩、(部分)エステル化合物、ハロゲン化物(例えば、塩化物)、脱水物)等が挙げられ、中でもリン酸基およびホスホン酸基が好ましく、ホスホン酸基がより好ましい。
[Organophosphorus compound (BO)]
The layer (Y) may contain an organic phosphorus compound (BO). Examples of the functional group containing a phosphorus atom contained in the organic phosphorus compound (BO) include a phosphoric acid group, a phosphite group, a phosphonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, a phosphinic acid group, and derived from these. Examples thereof include functional groups (eg, salts, (partial) ester compounds, halides (eg, chlorides), dehydrated products), and among them, a phosphate group and a phosphonic acid group are preferable, and a phosphonic acid group is more preferable.

有機リン化合物(BO)は前記リン原子を含む官能基を有する重合体(BOa)であることが好ましい。該重合体(BOa)としては、例えば、アクリル酸6−[(2−ホスホノアセチル)オキシ]ヘキシル、メタクリル酸2−ホスホノオキシエチル、メタクリル酸ホスホノメチル、メタクリル酸11−ホスホノウンデシル、メタクリル酸1,1−ジホスホノエチル等のホスホノ(メタ)アクリル酸エステル類の重合体;ビニルホスホン酸、2−プロペン−1−ホスホン酸、4−ビニルベンジルホスホン酸、4−ビニルフェニルホスホン酸等のビニルホスホン酸類の重合体;ビニルホスフィン酸、4−ビニルベンジルホスフィン酸等のビニルホスフィン酸類の重合体;リン酸化デンプン等が挙げられる。重合体(BOa)は、少なくとも1種のリン原子を含む官能基を有する単量体の単独重合体であってもよいし、2種以上の単量体の共重合体であってもよい。また、重合体(BOa)として、単一の単量体からなる重合体を2種以上併用してもよい。中でも、ホスホノ(メタ)アクリル酸エステル類の重合体およびビニルホスホン酸類の重合体が好ましく、ビニルホスホン酸類の重合体がより好ましい。すなわち、重合体(BOa)としては、ポリ(ビニルホスホン酸)が好ましい。また、重合体(BOa)は、ビニルホスホン酸ハロゲン化物あるいはビニルホスホン酸エステル等のビニルホスホン酸誘導体を単独または共重合した後、加水分解することによっても得ることができる。 The organic phosphorus compound (BO) is preferably a polymer (BOa) having a functional group containing the phosphorus atom. Examples of the polymer (BOa) include 6-[(2-phosphonoacetyl) oxy] hexyl acrylate, 2-phosphonooxyethyl methacrylate, phosphonomethyl methacrylate, 11-phosphonoundesyl methacrylate, and methacrylic acid. Polymers of phosphono (meth) acrylic acid esters such as 1,1-diphosphonoethyl; vinylphosphonic acids such as vinylphosphonic acid, 2-propen-1-phosphonic acid, 4-vinylbenzylphosphonic acid, 4-vinylphenylphosphonic acid Polymers of vinyl phosphinic acids such as vinylphosphinic acid and 4-vinylbenzylphosphinic acid; phosphorylated starch and the like. The polymer (BOa) may be a homopolymer of a monomer having a functional group containing at least one phosphorus atom, or may be a copolymer of two or more kinds of monomers. Further, as the polymer (BOa), two or more kinds of polymers composed of a single monomer may be used in combination. Among them, a polymer of phosphono (meth) acrylic acid esters and a polymer of vinyl phosphonic acids are preferable, and a polymer of vinyl phosphonic acids is more preferable. That is, as the polymer (BOa), poly (vinyl phosphonic acid) is preferable. The polymer (BOa) can also be obtained by hydrolyzing a vinyl phosphonic acid derivative such as a vinyl phosphonic acid halide or a vinyl phosphonic acid ester alone or after copolymerization.

また、前記重合体(BOa)は、少なくとも1種のリン原子を含む官能基を有する単量体と他のビニル単量体との共重合体であってもよい。リン原子を含む官能基を有する単量体と共重合できる他のビニル単量体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、核置換スチレン類、アルキルビニルエーテル類、アルキルビニルエステル類、パーフルオロアルキルビニルエーテル類、パーフルオロアルキルビニルエステル類、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、マレイミド、フェニルマレイミド等が挙げられ、中でも(メタ)アクリル酸エステル類、アクリロニトリル、スチレン、マレイミド、およびフェニルマレイミドが好ましい。 Further, the polymer (BOa) may be a copolymer of a monomer having a functional group containing at least one phosphorus atom and another vinyl monomer. Other vinyl monomers that can be copolymerized with a monomer having a functional group containing a phosphorus atom include, for example, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, styrene, and nuclear substitution. Examples include styrenes, alkyl vinyl ethers, alkyl vinyl esters, perfluoroalkyl vinyl ethers, perfluoroalkyl vinyl esters, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, maleimide, phenylmaleimide, etc., among others (meth). ) Acrylic acid esters, acrylonitrile, styrene, maleimide, and phenylmaleimide are preferred.

より優れた耐屈曲性を有する多層構造体を得るために、リン原子を含む官能基を有する単量体に由来する構成単位が重合体(BOa)の全構成単位に占める割合は、10モル%以上が好ましく、20モル%以上がより好ましく、40モル%以上がさらに好ましく、70モル%以上が特に好ましく、100モル%であってもよい。 In order to obtain a multilayer structure having better bending resistance, the ratio of the structural unit derived from the monomer having a functional group containing a phosphorus atom to the total structural unit of the polymer (BOa) is 10 mol%. The above is preferable, 20 mol% or more is more preferable, 40 mol% or more is further preferable, 70 mol% or more is particularly preferable, and it may be 100 mol%.

前記重合体(BOa)の分子量に特に制限はないが、数平均分子量が1,000〜100,000の範囲にあることが好ましい。数平均分子量がこの範囲にあると、層(Y)を積層することによる耐屈曲性の改善効果と、後述するコーティング液(T)を使用する場合にコーティング液(T)の粘度安定性とを、高いレベルで両立できる。 The molecular weight of the polymer (BOa) is not particularly limited, but the number average molecular weight is preferably in the range of 1,000 to 100,000. When the number average molecular weight is in this range, the effect of improving the bending resistance by laminating the layers (Y) and the viscosity stability of the coating liquid (T) when the coating liquid (T) described later is used can be obtained. , Compatible at a high level.

多層構造体の層(Y)において、無機リン化合物(BI)と有機リン化合物(BO)とを含む場合、層(Y)における有機リン化合物(BO)の質量WBOと無機リン化合物(BI)の質量WBIの比WBO/WBIが0.01/99.99≦WBO/WBI<6.00/94.00の関係を満たすものが好ましく、バリア性能に優れる点から、0.10/99.90≦WBO/WBI<4.50/95.50の関係を満たすものがより好ましく、0.20/99.80≦WBO/WBI<4.00/96.00の関係を満たすものがさらに好ましく、0.50/99.50≦WBO/WBI<3.50/96.50の関係を満たすものが特に好ましい。すなわち、WBOは0.01以上6.00未満の微量であるのに対して、WBIは94.00より多く99.99以下という多量に用いるのが好ましい。なお、層(Y)において無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)が反応している場合でも、反応生成物を構成する無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)の部分を無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)とみなす。この場合、反応生成物の形成に用いられた無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)の質量(反応前の無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)の質量)、を層(Y)中の無機リン化合物(BI)および/または有機リン化合物(BO)の質量に含める。 In the layer of the multilayer structure (Y), if it contains inorganic phosphorus compound (BI) organic phosphorus compound and (BO), a layer organophosphorus compound in the (Y) Weight W BO and inorganic phosphorus compounds (BO) (BI) It is preferable that the ratio W BO / W BI of the mass W BI satisfies the relationship of 0.01 / 99.99 ≤ W BO / W BI <6.00 / 94.00, and the barrier performance is excellent. It is more preferable that the relationship of 10 / 99.90 ≦ W BO / W BI <4.50 / 95.50 is satisfied, and 0.20 / 99.80 ≦ W BO / W BI <4.00 / 96.00. Those satisfying the relationship are more preferable, and those satisfying the relationship of 0.50 / 99.50 ≦ W BO / W BI <3.50 / 96.50 are particularly preferable. That is, W BO is preferably used in a small amount of 0.01 or more and less than 6.00, whereas W BI is preferably used in a large amount of more than 94.00 and 99.99 or less. Even when the inorganic phosphorus compound (BI) and / or the organic phosphorus compound (BO) is reacting in the layer (Y), the inorganic phosphorus compound (BI) and / or the organic phosphorus compound (BO) constituting the reaction product is reacted. ) Is regarded as an inorganic phosphorus compound (BI) and / or an organic phosphorus compound (BO). In this case, the mass of the inorganic phosphorus compound (BI) and / or the organophosphorus compound (BO) used to form the reaction product (the mass of the inorganic phosphorus compound (BI) and / or the organophosphorus compound (BO) before the reaction). ), Is included in the mass of the inorganic phosphorus compound (BI) and / or the organic phosphorus compound (BO) in the layer (Y).

[化合物(Ab)]
化合物(Ab)に含まれる反応生成物(D)は、金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)との反応で得られる。ここで、金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)とさらに他の化合物とが反応することで生成する化合物も反応生成物(D)に含まれる。化合物(Ab)は、反応に関与していない金属酸化物(Aa)および/または無機リン化合物(BI)を部分的に含んでいてもよい。
[Compound (Ab)]
The reaction product (D) contained in the compound (Ab) is obtained by the reaction of the metal oxide (Aa) with the inorganic phosphorus compound (BI). Here, the reaction product (D) also includes a compound produced by the reaction of the metal oxide (Aa), the inorganic phosphorus compound (BI), and another compound. The compound (Ab) may partially contain a metal oxide (Aa) and / or an inorganic phosphorus compound (BI) that are not involved in the reaction.

化合物(Ab)において、金属酸化物(Aa)を構成する金属原子と無機リン化合物(BI)に由来するリン原子とのモル比は、[金属酸化物(Aa)を構成する金属原子]:[無機リン化合物(BI)に由来するリン原子]=1.0:1.0〜3.6:1.0の範囲にあることが好ましく、1.1:1.0〜3.0:1.0の範囲にあることがより好ましい。この範囲外ではガスバリア性能が低下する。化合物(Ab)における該モル比は、化合物(Ab)を形成するためのコーティング液における金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)との混合比率によって調整できる。化合物(Ab)における該モル比は、通常、コーティング液における比と同じである。 In the compound (Ab), the molar ratio of the metal atom constituting the metal oxide (Aa) to the phosphorus atom derived from the inorganic phosphorus compound (BI) is [metal atom constituting the metal oxide (Aa)]: [ A phosphorus atom derived from an inorganic phosphorus compound (BI)] = preferably in the range of 1.0: 1.0 to 3.6: 1.0, and 1.1: 1.0 to 3.0: 1. It is more preferably in the range of 0. Outside this range, the gas barrier performance deteriorates. The molar ratio of the compound (Ab) can be adjusted by the mixing ratio of the metal oxide (Aa) and the inorganic phosphorus compound (BI) in the coating liquid for forming the compound (Ab). The molar ratio of compound (Ab) is usually the same as that of the coating solution.

層(Y)の赤外線吸収スペクトルにおいて、800〜1,400cm-1の領域における最大吸収波数は1,080〜1,130cm-1の範囲にあることが好ましい。金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)とが反応して反応生成物(D)となる過程において、金属酸化物(Aa)に由来する金属原子(M)と無機リン化合物(BI)に由来するリン原子(P)とが酸素原子(O)を介してM−O−Pで表される結合を形成する。その結果、反応生成物(D)の赤外線吸収スペクトルにおいて該結合由来の特性吸収帯が生じる。本発明者らによる検討の結果、M−O−Pの結合に基づく特性吸収帯が1,080〜1,130cm-1の領域に見られる場合には、得られた多層構造体が優れたガスバリア性を発現することが判明した。特に、該特性吸収帯が、一般に各種の原子と酸素原子との結合に由来する吸収が見られる800〜1,400cm-1の領域において最も強い吸収である場合には、得られた多層構造体がさらに優れたガスバリア性を発現することが判明した。 In the infrared absorption spectrum of the layer (Y), the maximum absorption wave number in the region of 800~1,400Cm -1 is preferably in the range of 1,080~1,130cm -1. In the process of reacting the metal oxide (Aa) with the inorganic phosphorus compound (BI) to form the reaction product (D), the metal atom (M) derived from the metal oxide (Aa) and the inorganic phosphorus compound (BI) The phosphorus atom (P) derived from the above forms a bond represented by MOP via an oxygen atom (O). As a result, a characteristic absorption band derived from the bond is generated in the infrared absorption spectrum of the reaction product (D). As a result of the study by the present inventors, when the characteristic absorption band based on the bond of MOP is found in the region of 1,080 to 1,130 cm -1 , the obtained multilayer structure is an excellent gas barrier. It was found to express sex. In particular, when the characteristic absorption band is the strongest absorption in the region of 800 to 1,400 cm -1 where absorption derived from the bond between various atoms and oxygen atoms is generally observed, the obtained multilayer structure is obtained. Was found to exhibit even better gas barrier properties.

これに対し、金属アルコキシドや金属塩等の金属化合物と無機リン化合物(BI)とを予め混合した後に加水分解縮合させた場合には、金属化合物に由来する金属原子と無機リン化合物(BI)に由来するリン原子とがほぼ均一に混ざり合い反応した複合体が得られる。その場合、赤外線吸収スペクトルにおいて、800〜1,400cm-1の領域における最大吸収波数が1,080〜1,130cm-1の範囲から外れるようになる。 On the other hand, when a metal compound such as a metal alkoxide or a metal salt and an inorganic phosphorus compound (BI) are mixed in advance and then hydrolyzed and condensed, a metal atom derived from the metal compound and an inorganic phosphorus compound (BI) are obtained. A complex is obtained in which the derived phosphorus atom is mixed almost uniformly and reacted. In that case, in the infrared absorption spectrum, the maximum absorption wave number in the region of 800~1,400Cm -1 comes to deviate from the scope of 1,080~1,130cm -1.

層(Y)の赤外線吸収スペクトルにおいて、800〜1,400cm-1の領域における最大吸収帯の半値幅は、得られる多層構造体のガスバリア性の観点から、200cm-1以下が好ましく、150cm-1以下がより好ましく、100cm-1以下がさらに好ましく、50cm-1以下が特に好ましい。 In the infrared absorption spectrum of the layer (Y), the half-value width of the maximum absorption band in the region of 800~1,400Cm -1 from gas barrier property aspect of the resulting multilayer structure, 200 cm -1 or less is preferable, 150 cm -1 The following is more preferable, 100 cm -1 or less is further preferable, and 50 cm -1 or less is particularly preferable.

層(Y)の赤外線吸収スペクトルは実施例に記載の方法で測定できる。ただし、実施例に記載の方法で測定できない場合には、反射吸収法、外部反射法、減衰全反射法等の反射測定、多層構造体から層(Y)をかきとり、ヌジョール法、錠剤法等の透過測定という方法で測定してもよいが、これらに限定されるものではない。 The infrared absorption spectrum of layer (Y) can be measured by the method described in Examples. However, if the measurement cannot be performed by the method described in the examples, the reflection measurement such as the reflection absorption method, the external reflection method, the attenuation total reflection method, the scraping of the layer (Y) from the multilayer structure, the Nujor method, the tablet method, etc. It may be measured by a method called transmission measurement, but the measurement is not limited to these.

[無機蒸着層、化合物(Ac)、化合物(Ad)]
多層構造体は、さらに無機蒸着層を含んでもよい。無機蒸着層は、金属(例えば、アルミニウム)、金属酸化物(例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム)、金属窒化物(例えば、窒化ケイ素)、金属窒化酸化物(例えば、酸窒化ケイ素)、または金属炭化窒化物(例えば、炭窒化ケイ素)等から形成されていてもよい。本発明の多層構造体中の層(Y)は、アルミニウムを含有する無機蒸着層を含んでいてもよい。例えば、層(Y)は、アルミニウムの蒸着層(Ac)および/または酸化アルミニウムの蒸着層(Ad)を含んでいてもよい。
[Inorganic vapor deposition layer, compound (Ac), compound (Ad)]
The multilayer structure may further include an inorganic thin-film deposition layer. The inorganic vapor deposition layer can be a metal (eg, aluminum), a metal oxide (eg, silicon oxide, aluminum oxide), a metal nitride (eg, silicon nitride), a metal nitride oxide (eg, silicon oxynitride), or a metal carbide. It may be formed of a nitride (for example, silicon carbide) or the like. The layer (Y) in the multilayer structure of the present invention may include an inorganic vapor-deposited layer containing aluminum. For example, the layer (Y) may include an aluminum vapor deposition layer (Ac) and / or an aluminum oxide vapor deposition layer (Ad).

無機蒸着層の形成方法は、特に限定されず、真空蒸着法(例えば、抵抗加熱蒸着、電子ビーム蒸着、分子線エピタキシー法等)、スパッタリング法やイオンプレーティング法等の物理気相成長法;熱化学気相成長法(例えば、触媒化学気相成長法)、光化学気相成長法、プラズマ化学気相成長法(例えば、容量結合プラズマ、誘導結合プラズマ、表面波プラズマ、電子サイクロトロン共鳴、デュアルマグネトロン、原子層堆積法等)、有機金属気相成長法等の化学気相成長法を用いることができる。 The method for forming the inorganic vapor deposition layer is not particularly limited, and is a vacuum vapor deposition method (for example, resistance heating vapor deposition, electron beam deposition, molecular beam epitaxy method, etc.), a physical vapor deposition method such as a sputtering method or an ion plating method; Chemical Vapor Deposition (eg, Catalytic Chemical Vapor Deposition), Photochemical Vapor Deposition, Plasma Chemical Vapor Deposition (eg, Capacitive Bonded Plasma, Induced Bonded Plasma, Surface Wave Plasma, Electron Cyclotron Resonance, Dual Magnetron, Chemical vapor deposition methods such as atomic layer deposition method) and organic metal vapor deposition method can be used.

無機蒸着層の厚さは、無機蒸着層を構成する成分の種類によって異なるが、0.002〜0.5μmが好ましく、0.005〜0.2μmがより好ましく、0.01〜0.1μmがさらに好ましい。この範囲で、多層構造体のバリア性や機械的物性が良好になる厚さを選択すればよい。無機蒸着層の厚さが0.002μm未満であると、酸素や水蒸気に対する無機蒸着層のバリア性発現の再現性が低下する傾向があり、また、無機蒸着層が充分なバリア性を発現しない場合もある。また、無機蒸着層の厚さが0.5μmを超えると、多層構造体を引張ったり屈曲させた場合に無機蒸着層のバリア性が低下する傾向がある。 The thickness of the inorganic thin-film deposition layer varies depending on the type of the components constituting the inorganic thin-film deposition layer, but is preferably 0.002 to 0.5 μm, more preferably 0.005 to 0.2 μm, and preferably 0.01 to 0.1 μm. More preferred. Within this range, a thickness that improves the barrier properties and mechanical properties of the multilayer structure may be selected. If the thickness of the inorganic thin-film deposition layer is less than 0.002 μm, the reproducibility of the barrier property development of the inorganic vapor-filming layer against oxygen and water vapor tends to decrease, and when the inorganic thin-film deposition layer does not exhibit sufficient barrier property. There is also. Further, when the thickness of the inorganic thin-film deposition layer exceeds 0.5 μm, the barrier property of the inorganic-deposited layer tends to decrease when the multilayer structure is pulled or bent.

[高分子化合物(F)]
層(Y)は、高分子化合物(F)を含んでいてもよい。高分子化合物(F)は、水酸基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、およびカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する重合体である。高分子化合物(F)は、水酸基、カルボキシル基、カルボン酸無水物基、およびカルボキシル基の塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の官能基を有する単量体の単独重合体であっても、該単量体を有する共重合体であってもよい。
[Polymer compound (F)]
The layer (Y) may contain the polymer compound (F). The polymer compound (F) is a polymer having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a salt of the carboxyl group. The polymer compound (F) may be a homopolymer of a monomer having at least one functional group selected from the group consisting of a hydroxyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid anhydride group, and a salt of the carboxyl group. It may be a copolymer having the monomer.

高分子化合物(F)としては、例えば、ポリエチレングリコール;ポリビニルアルコール、炭素数4以下のα−オレフィン単位を1〜50モル%含有する変性ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール(ポリビニルブチラールなど)などのポリビニルアルコール系重合体;セルロース、デンプンなどの多糖類;ポリヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリ(メタ)アクリル酸、エチレン−アクリル酸共重合体などの(メタ)アクリル酸系重合体;エチレン−無水マレイン酸共重合体の加水分解物、スチレン−無水マレイン酸共重合体の加水分解物、イソブチレン−無水マレイン酸交互共重合体の加水分解物などのマレイン酸系重合体などが挙げられる。中でも、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール系重合体が好ましい。なお、高分子化合物(F)として、2種以上の高分子化合物(F)を混合して用いてもよい。 Examples of the polymer compound (F) include polyethylene glycol; polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol containing 1 to 50 mol% of α-olefin units having 4 or less carbon atoms, and polyvinyl alcohols such as polyvinyl acetal (polyvinyl butyral, etc.). Polymers; polysaccharides such as cellulose and starch; (meth) acrylic acid-based polymers such as polyhydroxyethyl (meth) acrylate, poly (meth) acrylic acid, ethylene-acrylic acid copolymers; ethylene-maleic anhydride Examples thereof include a polymer hydrolyzate, a styrene-maleic anhydride copolymer hydrolyzate, and a maleic acid-based polymer such as an isobutylene-maleic anhydride copolymer hydrolyzate. Of these, polyethylene glycol and polyvinyl alcohol-based polymers are preferable. As the polymer compound (F), two or more kinds of polymer compounds (F) may be mixed and used.

高分子化合物(F)の分子量に特に制限はないが、より優れたガスバリア性および力学的物性(落下衝撃強さなど)を有する多層構造体を得るために、高分子化合物(F)の数平均分子量は、5,000以上であることが好ましく、8,000以上であることがより好ましく、10,000以上であることがさらに好ましい。高分子化合物(F)の数平均分子量の上限は特に限定されず、例えば、1,500,000以下である。 The molecular weight of the polymer compound (F) is not particularly limited, but the number average of the polymer compound (F) is obtained in order to obtain a multilayer structure having better gas barrier properties and mechanical properties (drop impact strength, etc.). The molecular weight is preferably 5,000 or more, more preferably 8,000 or more, and even more preferably 10,000 or more. The upper limit of the number average molecular weight of the polymer compound (F) is not particularly limited, and is, for example, 1,500,000 or less.

層(Y)が高分子化合物(F)を含む場合、その含有量は層(Y)の重量を基準として50質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましく、30質量%以下がさらに好ましく、20質量%以下であってもよい。高分子化合物(F)は層(Y)中の他の成分と反応していても、反応していなくてもよい。 When the layer (Y) contains the polymer compound (F), the content thereof is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 30% by mass or less based on the weight of the layer (Y). , 20% by mass or less. The polymer compound (F) may or may not react with other components in the layer (Y).

層(Y)は他の成分をさらに含むことができる。かかる他の成分としては、例えば、炭酸塩、塩酸塩、硝酸塩、炭酸水素塩、硫酸塩、硫酸水素塩、ホウ酸塩等の無機酸金属塩;シュウ酸塩、酢酸塩、酒石酸塩、ステアリン酸塩等の有機酸金属塩;シクロペンタジエニル金属錯体(例えば、チタノセン)、シアノ金属錯体(例えば、プルシアンブルー)等の金属錯体;層状粘土化合物;架橋剤;高分子化合物(F)以外の高分子化合物;可塑剤;酸化防止剤;紫外線吸収剤;難燃剤等が挙げられる。多層構造体中の層(Y)における前記の他の成分の含有量は50質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましく、10質量%以下がさらに好ましく、5質量%以下が特に好ましく、0質量%(他の成分を含まない)でもよい。 The layer (Y) can further contain other components. Such other components include, for example, inorganic acid metal salts such as carbonates, hydrochlorides, nitrates, hydrogen carbonates, sulfates, hydrogen sulfates, borates; oxalates, acetates, tartrates, stearic acids. Organic acid metal salts such as salts; metal complexes such as cyclopentadienyl metal complex (eg, titanosen), cyano metal complex (eg, Prussian blue); layered clay compound; cross-linking agent; high other than polymer compound (F) Molecular compounds; plasticizers; antioxidants; UV absorbers; flame retardants and the like. The content of the other component in the layer (Y) in the multilayer structure is preferably 50% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, further preferably 10% by mass or less, and particularly preferably 5% by mass or less. It may be 0% by mass (does not contain other components).

層(Y)の厚さ(多層構造体が2層以上の層(Y)を有する場合には各層(Y)の厚さの合計)は0.05μm〜4.0μmの範囲にあることが好ましく、0.1μm〜2.0μmの範囲にあることがより好ましい。層(Y)を薄くすることによって、印刷やラミネート等の加工時における多層構造体の寸法変化を抑制できる。層(Y)の厚さは、多層構造体の断面を走査型電子顕微鏡または透過型電子顕微鏡で観察することによって測定できる。 The thickness of the layer (Y) (when the multilayer structure has two or more layers (Y), the total thickness of each layer (Y)) is preferably in the range of 0.05 μm to 4.0 μm. , More preferably in the range of 0.1 μm to 2.0 μm. By thinning the layer (Y), it is possible to suppress a dimensional change of the multilayer structure during processing such as printing or laminating. The thickness of the layer (Y) can be measured by observing the cross section of the multilayer structure with a scanning electron microscope or a transmission electron microscope.

[多層構造体の製造方法]
本発明の多層構造体について説明した事項は本発明の製造方法に適用できるため、重複する説明を省略する場合がある。また、本発明の製造方法について説明した事項は、本発明の多層構造体に適用できる。
[Manufacturing method of multilayer structure]
Since the matters described about the multilayer structure of the present invention can be applied to the manufacturing method of the present invention, duplicate description may be omitted. In addition, the matters described about the production method of the present invention can be applied to the multilayer structure of the present invention.

本発明の多層構造体の製造方法としては、例えば、リン化合物(BH)と溶媒とを含むコーティング液(R)を基材(X)上に塗工した後、溶媒を除去し層(Z)を形成する工程(I)、アルミニウムを含む化合物(A)と、無機リン化合物(BI)と溶媒とを含むコーティング液(S)を層(Z)上に塗工して、反応生成物(D)前駆体を含む層(Y)前駆体層を形成する工程(II)、およびかかる層(Y)前駆体層を熱処理することによって、反応生成物(D)を含む層(Y)の形成工程(III)を含む製造方法が挙げられる。また、前記製造方法は、工程(II)に用いるコーティング液(S)に有機リン化合物(BO)を含んでいてもよく、工程(II)に用いるコーティング液(S)に有機リン化合物(BO)を含まない場合に、有機リン化合物(BO)含有コーティング液(T)を工程(II)で得られた前駆体層表面に塗工する工程(II’)を含んでいてもよい。なお、化合物(A)、無機リン化合物(BI)、有機リン化合物(BO)、およびそれらの質量比については上述のとおりであり、製造方法においては重複する説明を省略する。 As a method for producing a multilayer structure of the present invention, for example, a coating liquid (R) containing a phosphorus compound (BH) and a solvent is applied onto a substrate (X), and then the solvent is removed to form a layer (Z). In the step (I) of forming the reaction product (D), a coating liquid (S) containing an aluminum-containing compound (A), an inorganic phosphorus compound (BI) and a solvent is applied onto the layer (Z). ) A step (II) of forming a layer (Y) precursor layer containing a precursor, and a step (Y) of forming a layer (Y) containing a reaction product (D) by heat-treating the layer (Y) precursor layer. Examples thereof include a production method including (III). Further, in the above-mentioned production method, the coating liquid (S) used in the step (II) may contain an organic phosphorus compound (BO), and the coating liquid (S) used in the step (II) contains the organic phosphorus compound (BO). In the case of not containing, the step (II') of applying the organic phosphorus compound (BO) -containing coating liquid (T) to the surface of the precursor layer obtained in the step (II) may be included. The compound (A), the inorganic phosphorus compound (BI), the organic phosphorus compound (BO), and their mass ratios are as described above, and redundant description will be omitted in the production method.

[工程(I)]
工程(I)では、リン化合物(BH)と溶媒とを含むコーティング液(R)を基材(X)上に塗工することによって層(Z)を形成する。コーティング液(R)は、リン化合物(BH)と溶媒とを混合することによって得られる。
[Step (I)]
In the step (I), the layer (Z) is formed by applying a coating liquid (R) containing a phosphorus compound (BH) and a solvent onto the base material (X). The coating liquid (R) is obtained by mixing a phosphorus compound (BH) and a solvent.

コーティング液(R)に用いる溶媒としては、特に限定されないが、好適には水を主成分とし、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類と水との混合溶媒としてもよく、水のみであってもよい。 The solvent used for the coating liquid (R) is not particularly limited, but preferably water is the main component and may be a mixed solvent of alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol and water, or water alone. Good.

コーティング液(R)の固形分濃度は、該コーティング液の保存安定性および基材に対する塗工性の観点から、0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%がより好ましく、1〜5質量%がさらに好ましい。前記固形分濃度は、例えば、コーティング液(R)の溶媒留去後に残存した固形分の質量を、処理に供したコーティング液(R)の質量で除して算出できる。 The solid content concentration of the coating liquid (R) is preferably 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, from the viewpoint of storage stability of the coating liquid and coatability on the substrate. 1 to 5% by mass is more preferable. The solid content concentration can be calculated, for example, by dividing the mass of the solid content remaining after distilling off the solvent of the coating liquid (R) by the mass of the coating liquid (R) subjected to the treatment.

コーティング液(R)の塗工は特に限定されず、例えば、キャスト法、ディッピング法、ロールコーティング法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、リバースコート法、スプレーコート法、キスコート法、ダイコート法、メタリングバーコート法、チャンバードクター併用コート法、カーテンコート法、バーコート法等の公知の塗工方法を採用できる。 The coating of the coating liquid (R) is not particularly limited, and for example, a casting method, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a screen printing method, a reverse coating method, a spray coating method, a kiss coating method, a die coating method, and a metering method. Known coating methods such as a bar coating method, a chamber doctor combined coating method, a curtain coating method, and a bar coating method can be adopted.

コーティング液(R)を基材(X)に塗工後形成された層(Z)の厚さは、コーティング液(R)の固形分濃度もしくは塗工方法によって制御できる。例えば、グラビアコート法の場合、グラビアロールのセル容積の変更により制御できる。 The thickness of the layer (Z) formed after coating the coating liquid (R) on the base material (X) can be controlled by the solid content concentration of the coating liquid (R) or the coating method. For example, in the case of the gravure coating method, it can be controlled by changing the cell volume of the gravure roll.

通常、工程(I)において、コーティング液(R)中の溶媒を除去することによって、層(Z)が形成される。溶媒の除去方法に特に制限はなく、例えば、熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法等の公知の乾燥方法を適用できる。 Usually, in step (I), the layer (Z) is formed by removing the solvent in the coating liquid (R). The method for removing the solvent is not particularly limited, and for example, a known drying method such as a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, or a microwave heating method can be applied.

[工程(II)]
工程(II)では、アルミニウムを含む化合物(A)と無機リン化合物(BI)と溶媒とを含むコーティング液(S)を層(Z)上に塗工することによって、反応生成物(D)の前駆体を含む層(Y)前駆体層を形成する。コーティング液(S)は、アルミニウムを含む化合物(A)、リン化合物(B)および溶媒を混合することによって得られる。層(Y)が、アルミニウムの蒸着層(Ac)または酸化アルミニウムの蒸着層(Ad)を含む場合には、それらの層は上述した一般的な蒸着法によって形成できる。以下、好適な実施態様として、金属酸化物(Aa)、無機リン化合物(BI)、および溶媒を用いる態様を用いて説明する。
[Step (II)]
In the step (II), a coating liquid (S) containing an aluminum-containing compound (A), an inorganic phosphorus compound (BI) and a solvent is applied onto the layer (Z) to obtain a reaction product (D). A layer containing a precursor (Y) A precursor layer is formed. The coating liquid (S) is obtained by mixing the compound (A) containing aluminum, the phosphorus compound (B) and a solvent. When the layer (Y) includes an aluminum vapor deposition layer (Ac) or an aluminum oxide vapor deposition layer (Ad), these layers can be formed by the above-mentioned general vapor deposition method. Hereinafter, as a preferred embodiment, an embodiment using a metal oxide (Aa), an inorganic phosphorus compound (BI), and a solvent will be described.

好適な実施態様として、コーティング液(S)は、金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)を溶媒中で混合して反応させることによって調製できる。具体的に、コーティング液(S)は、金属酸化物(Aa)の分散液と、無機リン化合物(BI)を含む溶液とを混合する方法;金属酸化物(Aa)の分散液に無機リン化合物(BI)を添加し、混合する方法等によって調製できる。これらの混合時の温度は、50℃以下が好ましく、30℃以下がより好ましく、20℃以下がさらに好ましい。コーティング液(S)は、他の化合物(例えば、高分子化合物(F)(好ましくはポリビニルアルコール系重合体を除く))を含んでいてもよく、必要に応じて、酢酸、塩酸、硝酸、トリフルオロ酢酸、およびトリクロロ酢酸からなる群から選ばれる少なくとも1種の酸化合物(Q)を含んでいてもよい。 In a preferred embodiment, the coating liquid (S) can be prepared by mixing a metal oxide (Aa) and an inorganic phosphorus compound (BI) in a solvent and reacting them. Specifically, the coating liquid (S) is a method of mixing a dispersion liquid of a metal oxide (Aa) and a solution containing an inorganic phosphorus compound (BI); an inorganic phosphorus compound in a dispersion liquid of the metal oxide (Aa). It can be prepared by a method of adding (BI) and mixing. The temperature at the time of mixing these is preferably 50 ° C. or lower, more preferably 30 ° C. or lower, and even more preferably 20 ° C. or lower. The coating liquid (S) may contain other compounds (for example, polymer compound (F) (preferably excluding polyvinyl alcohol-based polymer)), and acetic acid, hydrochloric acid, nitrate, and trichloroacetic acid, hydrochloric acid, trichloroacetic acid, and trichloroacetic acid, if necessary. It may contain at least one acid compound (Q) selected from the group consisting of fluoroacetic acid and trichloroacetic acid.

金属酸化物(Aa)の分散液は、例えば、公知のゾルゲル法で採用されている手法に従い、例えば、化合物(E)、水、および必要に応じて酸触媒もしくは有機溶媒を混合し、化合物(E)を縮合または加水分解縮合することによって調製できる。化合物(E)を縮合または加水分解縮合することによって金属酸化物(Aa)の分散液を得た場合、必要に応じて、得られた分散液に対して特定の処理(前記酸化合物(Q)の存在下の解膠等)を行ってもよい。金属酸化物(Aa)の分散液の調製に使用する溶媒は特に限定されないが、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類;水;またはこれらの混合溶媒が好ましい。 The dispersion liquid of the metal oxide (Aa) is prepared by mixing, for example, the compound (E), water, and, if necessary, an acid catalyst or an organic solvent according to the method adopted in the known sol-gel method. It can be prepared by condensing or hydrolyzing E). When a dispersion liquid of the metal oxide (Aa) is obtained by condensing or hydrolyzing the compound (E), a specific treatment (the acid compound (Q)) is applied to the obtained dispersion liquid, if necessary. (Glue, etc. in the presence of) may be performed. The solvent used for preparing the dispersion liquid of the metal oxide (Aa) is not particularly limited, but alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; water; or a mixed solvent thereof is preferable.

無機リン化合物(BI)を含む溶液は、無機リン化合物(BI)を溶媒に溶解させて調製できる。溶媒としては、無機リン化合物(BI)の種類に応じて適宜選択すればよいが、水を含むことが好ましい。無機リン化合物(BI)の溶解の妨げにならない限り、溶媒は有機溶媒(例えば、メタノール等のアルコール類)を含んでいてもよい。 The solution containing the inorganic phosphorus compound (BI) can be prepared by dissolving the inorganic phosphorus compound (BI) in a solvent. The solvent may be appropriately selected depending on the type of the inorganic phosphorus compound (BI), but preferably contains water. The solvent may contain an organic solvent (for example, alcohols such as methanol) as long as it does not interfere with the dissolution of the inorganic phosphorus compound (BI).

コーティング液(S)の固形分濃度は、該コーティング液の保存安定性および基材に対する塗工性の観点から、1〜20質量%が好ましく、2〜15質量%がより好ましく、3〜10質量%がさらに好ましい。前記固形分濃度は、例えば、コーティング液(S)の溶媒留去後に残存した固形分の質量を、処理に供したコーティング液(S)の質量で除して算出できる。 The solid content concentration of the coating liquid (S) is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 2 to 15% by mass, and 3 to 10% by mass from the viewpoint of storage stability of the coating liquid and coatability to the substrate. % Is more preferable. The solid content concentration can be calculated, for example, by dividing the mass of the solid content remaining after distilling off the solvent of the coating liquid (S) by the mass of the coating liquid (S) subjected to the treatment.

コーティング液(S)は、ブルックフィールド形回転粘度計(SB型粘度計:ローターNo.3、回転速度60rpm)で測定された粘度が、塗工時の温度において3,000mPa・s以下であることが好ましく、2,500mPa・s以下であることがより好ましく、2,000mPa・s以下であることがさらに好ましい。当該粘度が3,000mPa・s以下であることによって、コーティング液(S)のレベリング性が向上し、外観により優れる多層構造体を得ることができる。また、コーティング液(S)の粘度は50mPa・s以上が好ましく、100mPa・s以上がより好ましく、200mPa・s以上がさらに好ましい。 The coating liquid (S) has a viscosity measured by a Brookfield type viscometer (SB type viscometer: rotor No. 3, rotation speed 60 rpm) of 3,000 mPa · s or less at the temperature at the time of coating. Is more preferable, and it is more preferably 2,500 mPa · s or less, and further preferably 2,000 mPa · s or less. When the viscosity is 3,000 mPa · s or less, the leveling property of the coating liquid (S) is improved, and a multilayer structure having a better appearance can be obtained. The viscosity of the coating liquid (S) is preferably 50 mPa · s or more, more preferably 100 mPa · s or more, and even more preferably 200 mPa · s or more.

コーティング液(S)において、特に限定されないが、アルミニウム原子とリン原子とのモル比は、アルミニウム原子:リン原子=1.0:1.0〜3.6:1.0の範囲にあることが好ましく、1.1:1.0〜3.0:1.0の範囲にあることがより好ましく、1.11:1.00〜1.50:1.00であることが特に好ましい。アルミニウム原子とリン原子とのモル比は、コーティング液(S)の乾固物の蛍光X線分析を行い、算出できる。 In the coating liquid (S), the molar ratio of aluminum atom to phosphorus atom is not particularly limited, but may be in the range of aluminum atom: phosphorus atom = 1.0: 1.0 to 3.6: 1.0. It is preferably in the range of 1.1: 1.0 to 3.0: 1.0, and particularly preferably 1.11: 1.00 to 1.50: 1.00. The molar ratio of aluminum atoms to phosphorus atoms can be calculated by performing fluorescent X-ray analysis of the dry matter of the coating liquid (S).

コーティング液(S)の塗工は特に限定されず、例えば、キャスト法、ディッピング法、ロールコーティング法、グラビアコート法、スクリーン印刷法、リバースコート法、スプレーコート法、キスコート法、ダイコート法、メタリングバーコート法、チャンバードクター併用コート法、カーテンコート法、バーコート法等の公知の方法を採用できる。 The coating of the coating liquid (S) is not particularly limited, and for example, a casting method, a dipping method, a roll coating method, a gravure coating method, a screen printing method, a reverse coating method, a spray coating method, a kiss coating method, a die coating method, and a metering method. Known methods such as a bar coat method, a chamber doctor combined coat method, a curtain coat method, and a bar coat method can be adopted.

通常、工程(II)において、コーティング液(S)中の溶媒を除去することによって、層(Y)前駆体層が形成される。溶媒の除去方法に特に制限はなく、例えば、熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法等の公知の乾燥方法を適用できる。乾燥後の溶媒含有率および反応生成物(D)前駆体の平均粒子径が特定範囲にあることが、得られる多層構造体がレトルト処理後においても優れたガスバリア性を有するために肝要である。 Usually, in step (II), the layer (Y) precursor layer is formed by removing the solvent in the coating liquid (S). The method for removing the solvent is not particularly limited, and for example, a known drying method such as a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, or a microwave heating method can be applied. It is essential that the solvent content after drying and the average particle size of the reaction product (D) precursor are within a specific range in order for the obtained multilayer structure to have excellent gas barrier properties even after retort treatment.

乾燥処理後の層(Y)前駆体層の溶媒含有率は0.4質量%以下が好ましく、より厳しいレトルト処理後でも優れたバリア性能を示す点から0.3質量%以下がより好ましい。乾燥処理後の層(Y)前駆体層の溶媒含有率が前記範囲にあることで、反応生成物(D)前駆体の粒子サイズを小さくでき、続く熱処理工程(III)において得られる層(Y)における反応生成物(D)の平均粒子径が小さくなり、より優れたバリア性能が得られる。また、溶媒含有率の下限に特に制限はないが、製造コストの観点から通常0.01質量%以上であることが好ましい。 The solvent content of the layer (Y) precursor layer after the drying treatment is preferably 0.4% by mass or less, and more preferably 0.3% by mass or less from the viewpoint of exhibiting excellent barrier performance even after a stricter retort treatment. When the solvent content of the layer (Y) precursor layer after the drying treatment is within the above range, the particle size of the reaction product (D) precursor can be reduced, and the layer (Y) obtained in the subsequent heat treatment step (III) can be reduced. ), The average particle size of the reaction product (D) becomes smaller, and better barrier performance can be obtained. The lower limit of the solvent content is not particularly limited, but is usually preferably 0.01% by mass or more from the viewpoint of manufacturing cost.

乾燥処理後の層(Y)前駆体層の反応生成物(D)前駆体の平均粒子径は5nm未満が好ましく、より厳しいレトルト処理後でも優れたバリア性能を示す点から4nm未満がより好ましく、3nm未満がさらに好ましい。乾燥処理後の層(Y)前駆体層の反応生成物(D)前駆体の平均粒子径が前記範囲にあることで、得られる層(Y)における反応生成物(D)の平均粒子径が小さくなり、より優れたバリア性能が得られる。また、反応生成物(D)前駆体の平均粒子径の下限に特に制限はないが、例えば0.1nm以上であってもよく、1nm以上であってもよい。 The average particle size of the reaction product (D) precursor of the layer (Y) precursor layer after the drying treatment is preferably less than 5 nm, and more preferably less than 4 nm from the viewpoint of showing excellent barrier performance even after a stricter retort treatment. Less than 3 nm is more preferable. When the average particle size of the reaction product (D) precursor of the layer (Y) precursor layer after the drying treatment is within the above range, the average particle size of the reaction product (D) in the obtained layer (Y) is It becomes smaller and better barrier performance can be obtained. The lower limit of the average particle size of the reaction product (D) precursor is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 nm or more, or 1 nm or more.

特に、前記溶媒含有率および反応生成物(D)前駆体の平均粒子径を満たすことにより、得られる多層構造体の層(Y)に含まれる反応生成物(D)の平均粒子径を50nm以下にすることができ、より優れたバリア性能が得られる。 In particular, by satisfying the solvent content and the average particle size of the reaction product (D) precursor, the average particle size of the reaction product (D) contained in the layer (Y) of the obtained multilayer structure is 50 nm or less. And better barrier performance can be obtained.

また、層(Y)前駆体の赤外線吸収スペクトルにおいて、1,080〜1,130cm-1の範囲における吸光度の極大値ARと850〜950cm-1の範囲における吸光度の極大値APとの比AR/APが2.0以下であることが好ましく、1.4以下がより好ましい。1,080〜1,130cm-1の範囲における吸光度の極大値ARは上述したようにM−O−Pの結合に基づき、850〜950cm-1の範囲における吸光度の極大値APはM−O−Mの結合に基づく。すなわち前記比AR/APはアルミニウムを含む金属酸化物(Aa)の反応生成物(D)への反応率を表す指標と考えることが可能である。本発明では、乾燥工程後の層(Y)前駆体において、金属酸化物(Aa)の反応生成物(D)への反応が一定量以下に抑えられていることが、良好なバリア性能を有する多層構造体を得るために効果的であると考えられる。したがって、比AR/APが前記範囲より大きいと、得られる多層構造体のバリア性能が不十分となることがある。 The ratio of the addition, in the infrared absorption spectrum of the layer (Y) precursor, a local maximum value A P absorbance in the region of the maximum value A R and 850~950Cm -1 absorbance in the range 1,080~1,130Cm -1 preferably A R / A P is 2.0 or less, more preferably 1.4 or less. The maximum value A R of the absorbance in the range 1,080~1,130Cm -1 based on the binding of M-O-P as described above, the maximum value A P absorbance in the range 850~950cm -1 M- Based on OM binding. That the ratio A R / A P can be thought of as an index representing the reaction of the metal oxide containing aluminum reaction product of (Aa) to (D). In the present invention, in the layer (Y) precursor after the drying step, the reaction of the metal oxide (Aa) with the reaction product (D) is suppressed to a certain amount or less, which has good barrier performance. It is considered to be effective for obtaining a multi-layer structure. Therefore, if the ratio A R / AP is larger than the above range, the barrier performance of the obtained multilayer structure may be insufficient.

乾燥温度は、基材(X)の流動開始温度より低いことが好ましい。コーティング液(S)の塗工後の乾燥温度は、例えば80〜180℃程度であってもよいが、前記溶媒含有率および反応生成物(D)前駆体の平均粒子径を満たすために、コーティング液(S)の塗工後の乾燥温度は140℃未満が好ましく、60℃以上140℃未満がより好ましく、70℃以上130℃未満がさらに好ましく、80℃以上120℃未満が特に好ましい。乾燥時間は特に限定されないが、1秒以上1時間未満が好ましく、5秒以上15分未満がより好ましく、5秒以上300秒未満がさらに好ましい。特に、乾燥温度が100℃以上の場合(例えば、100〜140℃)は、乾燥時間は1秒以上4分未満が好ましく、5秒以上4分未満がより好ましく、5秒以上3分未満がさらに好ましい。乾燥温度が100℃を下回る場合は(例えば、60〜99℃)、乾燥時間は3分以上1時間未満が好ましく、6分以上30分未満がより好ましく、8分以上25分未満がさらに好ましい。 The drying temperature is preferably lower than the flow start temperature of the base material (X). The drying temperature of the coating liquid (S) after coating may be, for example, about 80 to 180 ° C., but in order to satisfy the solvent content and the average particle size of the reaction product (D) precursor, the coating is applied. The drying temperature of the liquid (S) after coating is preferably less than 140 ° C., more preferably 60 ° C. or higher and lower than 140 ° C., further preferably 70 ° C. or higher and lower than 130 ° C., and particularly preferably 80 ° C. or higher and lower than 120 ° C. The drying time is not particularly limited, but is preferably 1 second or more and less than 1 hour, more preferably 5 seconds or more and less than 15 minutes, and further preferably 5 seconds or more and less than 300 seconds. In particular, when the drying temperature is 100 ° C. or higher (for example, 100 to 140 ° C.), the drying time is preferably 1 second or more and less than 4 minutes, more preferably 5 seconds or more and less than 4 minutes, and further 5 seconds or more and less than 3 minutes. preferable. When the drying temperature is lower than 100 ° C. (for example, 60 to 99 ° C.), the drying time is preferably 3 minutes or more and less than 1 hour, more preferably 6 minutes or more and less than 30 minutes, and further preferably 8 minutes or more and less than 25 minutes.

[工程(III)]
工程(III)では、工程(II)で形成された層(Y)前駆体層を、140℃以上の温度で熱処理することによって層(Y)を形成する。本発明では、上述した特定の溶媒含有率および平均粒子径を有する層(Y)前駆体を140℃以上の温度で熱処理することが、より優れたバリア性能を得るために重要である。工程(III)の熱処理温度は、工程(II)の乾燥温度よりも高いことが好ましい。
[Step (III)]
In the step (III), the layer (Y) precursor layer formed in the step (II) is heat-treated at a temperature of 140 ° C. or higher to form the layer (Y). In the present invention, it is important to heat-treat the layer (Y) precursor having the above-mentioned specific solvent content and average particle size at a temperature of 140 ° C. or higher in order to obtain better barrier performance. The heat treatment temperature in step (III) is preferably higher than the drying temperature in step (II).

工程(III)では、反応生成物(D)が生成する反応が進行する。該反応を充分に進行させるため、熱処理の温度は140℃以上であり、170℃以上が好ましく、180℃以上がより好ましく、190℃以上がさらに好ましい。熱処理温度が低いと、充分な反応率を得るのにかかる時間が長くなり、生産性が低下する原因となる。熱処理の温度は、基材(X)の種類等によって異なるため、特に限定されないが、270℃以下であってもよい。例えば、ポリアミド系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルムを基材(X)として用いる場合には、熱処理の温度は270℃以下が好ましい。また、ポリエステル系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルムを基材(X)として用いる場合には、熱処理の温度は240℃以下であることが好ましい。熱処理は、空気雰囲気下、窒素雰囲気下、アルゴン雰囲気下等で実施してもよい。熱処理時間は1秒〜1時間が好ましく、1秒〜15分がより好ましく、5〜300秒がさらに好ましい。 In step (III), the reaction produced by the reaction product (D) proceeds. In order to allow the reaction to proceed sufficiently, the heat treatment temperature is 140 ° C. or higher, preferably 170 ° C. or higher, more preferably 180 ° C. or higher, still more preferably 190 ° C. or higher. If the heat treatment temperature is low, it takes a long time to obtain a sufficient reaction rate, which causes a decrease in productivity. The temperature of the heat treatment is not particularly limited because it differs depending on the type of the base material (X) and the like, but may be 270 ° C. or lower. For example, when a thermoplastic resin film made of a polyamide resin is used as the base material (X), the heat treatment temperature is preferably 270 ° C. or lower. When a thermoplastic resin film made of a polyester resin is used as the base material (X), the heat treatment temperature is preferably 240 ° C. or lower. The heat treatment may be carried out in an air atmosphere, a nitrogen atmosphere, an argon atmosphere or the like. The heat treatment time is preferably 1 second to 1 hour, more preferably 1 second to 15 minutes, and even more preferably 5 to 300 seconds.

熱処理は、前記溶媒含有率および反応生成物(D)前駆体の平均粒子径を満たすために、処理温度を変化させて2段階以上で行うことが好ましい。すなわち、工程(III)は、第1熱処理工程(III−1)と第2熱処理工程(III−2)を含むことが好ましい。熱処理を2段階以上で行う場合、2段階目の熱処理(以下、第2熱処理)の温度は、1段階目の熱処理(以下、第1熱処理)の温度より高いことが好ましく、第1熱処理の温度より15℃以上高いことがより好ましく、25℃以上高いことがさらに好ましく、35℃以上高いことが特に好ましい。 The heat treatment is preferably carried out in two or more steps by changing the treatment temperature in order to satisfy the solvent content and the average particle size of the reaction product (D) precursor. That is, the step (III) preferably includes a first heat treatment step (III-1) and a second heat treatment step (III-2). When the heat treatment is performed in two or more stages, the temperature of the second stage heat treatment (hereinafter, second heat treatment) is preferably higher than the temperature of the first stage heat treatment (hereinafter, first heat treatment), and the temperature of the first heat treatment. It is more preferably 15 ° C. or higher, further preferably 25 ° C. or higher, and particularly preferably 35 ° C. or higher.

また、工程(III)の熱処理温度(2段階以上の熱処理の場合は、第1熱処理の温度)は、良好な特性を有する多層構造体が得られる点から、工程(II)の乾燥温度より30℃以上高いことが好ましく、50℃以上高いことがより好ましく、55℃以上高いことがさらに好ましく、60℃以上高いことが特に好ましい。 Further, the heat treatment temperature of the step (III) (in the case of a heat treatment of two or more steps, the temperature of the first heat treatment) is 30 higher than the drying temperature of the step (II) because a multilayer structure having good characteristics can be obtained. It is preferably higher than ° C., more preferably 50 ° C. or higher, further preferably 55 ° C. or higher, and particularly preferably 60 ° C. or higher.

工程(III)の熱処理を2段階以上で行う場合、第2熱処理の温度が第1熱処理の温度より高く、第1熱処理の温度が140℃以上200℃未満であり、かつ第2熱処理の温度が180℃以上270℃以下であることが好ましく、第2熱処理の温度が第1熱処理の温度より15℃以上高く、第1熱処理の温度が140℃以上200℃未満であり、かつ第2熱処理の温度が180℃以上270℃以下であることがより好ましく、第2熱処理の温度が第1熱処理の温度より25℃以上高く、第1熱処理の温度が140℃以上200℃未満であり、かつ第2熱処理の温度が180℃以上270℃以下であることがさらに好ましい。特に、各熱処理温度が200℃以上の場合、各熱処理時間は0.1秒〜10分が好ましく、0.5秒〜15分がより好ましく、1秒〜3分がさらに好ましい。各熱処理温度が200℃を下回る場合は、各熱処理時間は1秒〜15分が好ましく、5秒〜10分がより好ましく、10秒〜5分がさらに好ましい。 When the heat treatment in step (III) is performed in two or more steps, the temperature of the second heat treatment is higher than the temperature of the first heat treatment, the temperature of the first heat treatment is 140 ° C. or higher and less than 200 ° C., and the temperature of the second heat treatment is high. It is preferably 180 ° C. or higher and 270 ° C. or lower, the temperature of the second heat treatment is 15 ° C. or higher higher than the temperature of the first heat treatment, the temperature of the first heat treatment is 140 ° C. or higher and lower than 200 ° C., and the temperature of the second heat treatment. Is more preferably 180 ° C. or higher and 270 ° C. or lower, the temperature of the second heat treatment is 25 ° C. or higher than the temperature of the first heat treatment, the temperature of the first heat treatment is 140 ° C. or higher and lower than 200 ° C., and the second heat treatment It is more preferable that the temperature of the temperature is 180 ° C. or higher and 270 ° C. or lower. In particular, when each heat treatment temperature is 200 ° C. or higher, each heat treatment time is preferably 0.1 seconds to 10 minutes, more preferably 0.5 seconds to 15 minutes, still more preferably 1 second to 3 minutes. When each heat treatment temperature is lower than 200 ° C., each heat treatment time is preferably 1 second to 15 minutes, more preferably 5 seconds to 10 minutes, still more preferably 10 seconds to 5 minutes.

[工程(II’)]
前記製造方法において有機リン化合物(BO)を用いる場合であって、かつ工程(II)に用いるコーティング液(S)に有機リン化合物(BO)を含まない場合、工程(II’)では、有機リン化合物(BO)および溶媒を混合することによって得たコーティング液(T)(第2コーティング液)を工程(III)で得た層(Y)上に塗工してもよい。工程(II’)では、有機リン化合物(BO)および溶媒を混合することによって得たコーティング液(T)(第2コーティング液)を工程(III)の第1熱処理工程(III−1)後の層(Y)上に塗工した後に、続いて工程(III)の第2熱処理工程(III−2)に供することが好ましい。
[Step (II')]
When the organic phosphorus compound (BO) is used in the production method and the coating liquid (S) used in the step (II) does not contain the organic phosphorus compound (BO), the organic phosphorus is contained in the step (II'). The coating liquid (T) (second coating liquid) obtained by mixing the compound (BO) and the solvent may be applied onto the layer (Y) obtained in the step (III). In the step (II'), the coating liquid (T) (second coating liquid) obtained by mixing the organic phosphorus compound (BO) and the solvent is applied after the first heat treatment step (III-1) of the step (III). It is preferable that after coating on the layer (Y), it is subsequently subjected to the second heat treatment step (III-2) of the step (III).

工程(II’)では、工程(III)で得た層(Y)上に、有機リン化合物(BO)を含むコーティング液(T)を塗工する工程(II’)を含む。 The step (II') includes a step (II') of applying a coating liquid (T) containing an organic phosphorus compound (BO) on the layer (Y) obtained in the step (III).

コーティング液(T)は、有機リン化合物(BO)および溶媒を混合することによって調製できる。得られたコーティング液(T)を、工程(III)で得た層(Y)上に塗工する。 The coating liquid (T) can be prepared by mixing an organic phosphorus compound (BO) and a solvent. The obtained coating liquid (T) is applied onto the layer (Y) obtained in the step (III).

コーティング液(T)に用いられる溶媒は、有機リン化合物(BO)の種類に応じて適宜選択すればよいが、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類;水;またはそれらの混合溶媒であることが好ましい。 The solvent used for the coating liquid (T) may be appropriately selected depending on the type of the organic phosphorus compound (BO), but may be alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol; water; or a mixed solvent thereof. preferable.

コーティング液(T)における固形分の濃度は、溶液の保存安定性や塗工性の観点から0.01〜60質量%が好ましく、0.1〜50質量%がより好ましく、0.2〜40質量%がさらに好ましい。固形分濃度は、コーティング液(S)に関して記載した方法と同様の方法によって求めることができる。また、本発明の効果が得られる限り、コーティング液(T)は、上述した層(Y)に含まれる他の成分(例えば、高分子化合物(F))を含んでもよい。 The concentration of the solid content in the coating liquid (T) is preferably 0.01 to 60% by mass, more preferably 0.1 to 50% by mass, and 0.2 to 40% from the viewpoint of storage stability and coatability of the solution. Mass% is more preferred. The solid content concentration can be determined by the same method as described for the coating liquid (S). Further, as long as the effect of the present invention can be obtained, the coating liquid (T) may contain other components (for example, the polymer compound (F)) contained in the above-mentioned layer (Y).

コーティング液(S)の塗工と同様に、コーティング液(T)を塗工する方法は特に限定されず、公知の方法を採用できる。 Similar to the coating of the coating liquid (S), the method of applying the coating liquid (T) is not particularly limited, and a known method can be adopted.

コーティング液(T)を塗工した後、溶媒を除去する。コーティング液(T)の溶媒の除去方法は特に限定されず、例えば、熱風乾燥法、熱ロール接触法、赤外線加熱法、マイクロ波加熱法等の公知の乾燥方法を適用できる。乾燥温度は、基材(X)の流動開始温度よりも0〜15℃以上低いことが好ましい。コーティング液(T)の塗工後の乾燥温度は、例えば90〜240℃程度でもよく、100〜200℃が好ましい。 After applying the coating liquid (T), the solvent is removed. The method for removing the solvent of the coating liquid (T) is not particularly limited, and for example, a known drying method such as a hot air drying method, a hot roll contact method, an infrared heating method, or a microwave heating method can be applied. The drying temperature is preferably 0 to 15 ° C. or more lower than the flow start temperature of the base material (X). The drying temperature of the coating liquid (T) after coating may be, for example, about 90 to 240 ° C., preferably 100 to 200 ° C.

工程(III)は工程(II)に連続する、または加熱温度を段階的に変更可能な同一の加熱設備を使用できる。さらに、工程(III)は工程(II’)に先んじることができる。 Step (III) can use the same heating equipment that is continuous with step (II) or can change the heating temperature stepwise. Further, step (III) can precede step (II').

本発明の多層構造体の製造方法の好ましい一態様では、工程(II)でコーティング液(S)の塗工後に、乾燥処理を行って層(Y)前駆体層を形成し、さらに工程(III)の熱処理を行う。このとき、熱処理の温度が乾燥処理の温度より30℃以上高いことが好ましく、50℃以上高いことがより好ましい。 In a preferred embodiment of the method for producing a multilayer structure of the present invention, after coating the coating liquid (S) in step (II), a drying treatment is performed to form a layer (Y) precursor layer, and further step (III). ) Is heat-treated. At this time, the temperature of the heat treatment is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, higher than the temperature of the drying treatment.

前記製造方法が工程(II’)を含む場合、本発明の多層構造体の製造方法の他の好ましい一態様では、工程(II)のコーティング液(S)を塗工し、乾燥処理を行って層(Y)前駆体層を形成した後、工程(III)の第1熱処理工程(III−1)を行う。続いて工程(II’)のコーティング液(T)を塗工し、乾燥処理を行った後、さらに工程(III)の第2熱処理工程(III−2)を行う。このとき、第1熱処理の温度が工程(II)の乾燥処理の温度より30℃以上高いことが好ましく、50℃以上高いことがより好ましい。また、第2熱処理の温度が第1熱処理の温度より高いことが好ましい。 When the production method includes step (II'), in another preferred embodiment of the method for producing a multilayer structure of the present invention, the coating liquid (S) of step (II) is applied and dried. After forming the layer (Y) precursor layer, the first heat treatment step (III-1) of the step (III) is performed. Subsequently, the coating liquid (T) of the step (II') is applied, dried, and then the second heat treatment step (III-2) of the step (III) is further performed. At this time, the temperature of the first heat treatment is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, higher than the temperature of the drying treatment in step (II). Further, it is preferable that the temperature of the second heat treatment is higher than the temperature of the first heat treatment.

[接着層(I)]
本発明の多層構造体において、接着層(I)を用いて、層(Y)と他の部材(例えば、他の層(J)等)との接着性を高めることができる場合がある。接着層(I)は、接着性樹脂から構成されていてもよい。該接着性樹脂としては、ポリイソシアネート成分とポリオール成分とを混合し反応させる2液反応型ポリウレタン系接着剤が好ましい。また、アンカーコーティング剤または接着剤に、公知のシランカップリング剤等の少量の添加剤を加えると、さらに接着性を高めることができる場合がある。シランカップリング剤としては、例えば、イソシアネート基、エポキシ基、アミノ基、ウレイド基、メルカプト基等の反応性基を有するシランカップリング剤が挙げられるが、これらに限定されない。層(Y)と他の部材とを接着することによって、本発明の多層構造体に対して印刷またはラミネート等の加工を施す際に、ガスバリア性または外観の悪化をより効果的に抑制でき、さらに、本発明の多層構造体を用いた包装材の落下強度を高めることができる。接着層(I)の厚さは0.01〜10.0μmが好ましく、0.03〜5.0μmがより好ましい。
[Adhesive layer (I)]
In the multilayer structure of the present invention, the adhesive layer (I) may be used to enhance the adhesiveness between the layer (Y) and another member (for example, another layer (J)). The adhesive layer (I) may be made of an adhesive resin. As the adhesive resin, a two-component reaction type polyurethane adhesive in which a polyisocyanate component and a polyol component are mixed and reacted is preferable. Further, by adding a small amount of additive such as a known silane coupling agent to the anchor coating agent or adhesive, the adhesiveness may be further enhanced. Examples of the silane coupling agent include, but are not limited to, a silane coupling agent having a reactive group such as an isocyanate group, an epoxy group, an amino group, a ureido group, and a mercapto group. By adhering the layer (Y) to another member, deterioration of gas barrier property or appearance can be more effectively suppressed when the multilayer structure of the present invention is processed such as printing or laminating, and further. , The drop strength of the packaging material using the multilayer structure of the present invention can be increased. The thickness of the adhesive layer (I) is preferably 0.01 to 10.0 μm, more preferably 0.03 to 5.0 μm.

[他の層(J)]
本発明の多層構造体は、様々な特性(例えば、ヒートシール性、バリア性、力学物性)を向上させるために、他の層(J)を含んでもよい。このような本発明の多層構造体は、例えば、基材(X)に層(Z)を介して層(Y)を積層させた後に、さらに該他の層(J)を直接または接着層を介して接着または形成することによって製造できる。他の層(J)としては、例えば、インク層;ポリオレフィン層、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂層等の熱可塑性樹脂層等が挙げられるが、これらに限定されない。
[Other layer (J)]
The multilayer structure of the present invention may contain another layer (J) in order to improve various properties (for example, heat-sealing property, barrier property, mechanical property). In such a multilayer structure of the present invention, for example, after laminating a layer (Y) on a base material (X) via a layer (Z), the other layer (J) is directly or an adhesive layer is formed. It can be manufactured by adhering or forming through. Examples of the other layer (J) include, but are not limited to, an ink layer; a polyolefin layer, a thermoplastic resin layer such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer resin layer, and the like.

本発明の多層構造体は、商品名または絵柄等を印刷するためにインク層を含んでもよい。インク層としては、例えば、溶剤に顔料(例えば、二酸化チタン)を包含したポリウレタン樹脂を分散した液体を乾燥した皮膜が挙げられるが、顔料を含まないポリウレタン樹脂、その他の樹脂を主剤とするインクや電子回路配線形成用レジストを乾燥した皮膜でもよい。インク層の塗工方法としては、グラビア印刷法のほか、ワイヤーバー、スピンコーター、ダイコーター等各種の塗工方法が挙げられる。インク層の厚さは0.5〜10.0μmが好ましく、1.0〜4.0μmがより好ましい。 The multilayer structure of the present invention may include an ink layer for printing a trade name, a pattern, or the like. Examples of the ink layer include a film obtained by drying a liquid in which a polyurethane resin containing a pigment (for example, titanium dioxide) is dispersed in a solvent, but a polyurethane resin containing no pigment or an ink containing another resin as a main component is used. A dry film may be used as the resin for forming the electronic circuit wiring. Examples of the ink layer coating method include a gravure printing method and various coating methods such as a wire bar, a spin coater, and a die coater. The thickness of the ink layer is preferably 0.5 to 10.0 μm, more preferably 1.0 to 4.0 μm.

本発明の多層構造体の最表面層をポリオレフィン層とすることによって、多層構造体にヒートシール性を付与したり、多層構造体の力学的特性を向上できる。ヒートシール性や力学的特性の向上等の観点から、ポリオレフィンはポリプロピレンまたはポリエチレンであることが好ましい。また、多層構造体の力学的特性を向上させるために、ポリエステルからなるフィルム、ポリアミドからなるフィルム、および水酸基含有ポリマーからなるフィルムからなる群より選ばれる少なくとも1つのフィルムを積層することが好ましい。力学的特性の向上の観点から、ポリエステルとしてはポリエチレンテレフタレートが好ましく、ポリアミドとしてはナイロン−6が好ましく、水酸基含有ポリマーとしてはエチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましい。なお、各層の間には必要に応じて、アンカーコート層または接着剤からなる層を設けてもよい。 By forming the outermost surface layer of the multilayer structure of the present invention as a polyolefin layer, it is possible to impart heat-sealing properties to the multilayer structure and improve the mechanical properties of the multilayer structure. From the viewpoint of improving heat sealability and mechanical properties, the polyolefin is preferably polypropylene or polyethylene. Further, in order to improve the mechanical properties of the multilayer structure, it is preferable to laminate at least one film selected from the group consisting of a film made of polyester, a film made of polyamide, and a film made of a hydroxyl group-containing polymer. From the viewpoint of improving mechanical properties, polyethylene terephthalate is preferable as the polyester, nylon-6 is preferable as the polyamide, and ethylene-vinyl alcohol copolymer is preferable as the hydroxyl group-containing polymer. If necessary, an anchor coat layer or a layer made of an adhesive may be provided between the layers.

[押出しコートラミネート]
本発明の多層構造体は、例えば、基材(X)に層(Z)を介して層(Y)を積層させた後に、さらに他の層(J)を直接または接着層を介して押出しコートラミネート法により形成させ、かかる押出しコートラミネートにより形成された層をさらに有することができる。前記押出しコートラミネート法に特に限定はなく、公知の方法を適用できる。典型的な押出しコートラミネート法では、溶融した熱可塑性樹脂をTダイに送り、Tダイのフラットスリットから取り出した熱可塑性樹脂を冷却することによって、ラミネートフィルムが製造される。
[Extruded coat laminate]
In the multilayer structure of the present invention, for example, after laminating a layer (Y) on a base material (X) via a layer (Z), another layer (J) is extruded and coated directly or via an adhesive layer. It can be formed by a laminating method and further have a layer formed by such an extruded coat laminate. The extruded coat laminating method is not particularly limited, and a known method can be applied. In a typical extrusion coat laminating method, a laminated film is produced by sending a molten thermoplastic resin to a T-die and cooling the thermoplastic resin taken out from a flat slit of the T-die.

押出しコートラミネート法の中でも最も一般的なシングルラミネート法の一例について、図面を参照しながら以下に説明する。シングルラミネート法に用いられる装置の一例を図5に示す。なお、図5は装置の主要部のみを模式的に示した図であり、実際の装置とは異なっている。図5の装置50は、押出機51、Tダイ52、冷却ロール53、およびゴムロール54を含む。冷却ロール53およびゴムロール54は、そのロール面が互いに接触した状態で配置されている。 An example of the most common single laminating method among the extruded coat laminating methods will be described below with reference to the drawings. FIG. 5 shows an example of the apparatus used in the single laminating method. Note that FIG. 5 is a diagram schematically showing only the main part of the device, which is different from the actual device. The device 50 of FIG. 5 includes an extruder 51, a T-die 52, a cooling roll 53, and a rubber roll 54. The cooling roll 53 and the rubber roll 54 are arranged so that their roll surfaces are in contact with each other.

熱可塑性樹脂は、押出機内で加熱溶融され、Tダイ52のフラットスリットから押し出されて樹脂フィルム502となる。一方、シート給送装置(図示せず)からは積層体501が送られ、樹脂フィルム502とともに、冷却ロール53とゴムロール54との間に挟まれる。冷却ロール53とゴムロール54との間に、積層体501と樹脂フィルム502とが積層された状態で挟まれることによって、積層体501と樹脂フィルム502とが一体化されたラミネートフィルム(多層構造体)503が製造される。 The thermoplastic resin is heated and melted in the extruder and extruded from the flat slit of the T-die 52 to form the resin film 502. On the other hand, the laminated body 501 is fed from the sheet feeding device (not shown) and sandwiched between the cooling roll 53 and the rubber roll 54 together with the resin film 502. A laminated film (multilayer structure) in which the laminated body 501 and the resin film 502 are integrated by being sandwiched between the cooling roll 53 and the rubber roll 54 in a state where the laminated body 501 and the resin film 502 are laminated. 503 is manufactured.

前記シングルラミネート法以外の押出しコートラミネート法としては、サンドイッチラミネート法、タンデムラミネート法等が挙げられる。サンドイッチラミネート法は、溶融した熱可塑性樹脂を一方の基材に押出し、別のアンワインダー(巻出し機)から第2基材を供給して貼り合わせて積層体を作製する方法である。タンデムラミネート法は、シングルラミネート機を2台つないで一度に5層構成の積層体を作製する方法である。 Examples of the extrusion coat laminating method other than the single laminating method include a sandwich laminating method and a tandem laminating method. The sandwich laminating method is a method in which a molten thermoplastic resin is extruded onto one base material, and a second base material is supplied from another unwinder (unwinding machine) and bonded to each other to prepare a laminated body. The tandem laminating method is a method of connecting two single laminating machines to produce a laminated body having a five-layer structure at a time.

上述した積層体を用いることによって、押出しコートラミネート後も高いバリア性能を維持し、かつ光の透過性の低下が小さい多層構造体が得られる。 By using the above-mentioned laminate, a multilayer structure that maintains high barrier performance even after extrusion coat lamination and has a small decrease in light transmission can be obtained.

[多層構造体の構成]
本発明の多層構造体の構成の具体例を以下に示す。多層構造体は基材(X)、層(Z)、層(Y)以外の他の部材(例えば、接着層(I)、他の層(J))を有していてもよいが、以下の具体例において、層(Z)および他の部材の記載は省略している。層(Z)は基材(X)上に積層され、層(Y)は層(Z)上に積層されるものである。また、以下具体例を複数層積層したり組み合わせたりしてもよい。
(1)層(Y)/ポリエステル層、
(2)層(Y)/ポリエステル層/層(Y)、
(3)層(Y)/ポリアミド層、
(4)層(Y)/ポリアミド層/層(Y)、
(5)層(Y)/ポリオレフィン層、
(6)層(Y)/ポリオレフィン層/層(Y)、
(7)層(Y)/水酸基含有ポリマー層、
(8)層(Y)/水酸基含有ポリマー層/層(Y)、
(9)層(Y)/紙層、
(10)層(Y)/紙層/層(Y)、
(11)層(Y)/無機蒸着層/ポリエステル層、
(12)層(Y)/無機蒸着層/ポリアミド層、
(13)層(Y)/無機蒸着層/ポリオレフィン層、
(14)層(Y)/無機蒸着層/水酸基含有ポリマー層、
(15)層(Y)/ポリエステル層/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(16)層(Y)/ポリエステル層/層(Y)/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(17)ポリエステル層/層(Y)/ポリエステル層/層(Y)/無機蒸着層/水酸基含有ポリマー層/ポリオレフィン層、
(18)ポリエステル層/層(Y)/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(19)層(Y)/ポリアミド層/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(20)層(Y)/ポリアミド層/層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(21)ポリアミド層/層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(22)層(Y)/ポリオレフィン層/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(23)層(Y)/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(24)ポリオレフィン層/層(Y)/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(25)層(Y)/ポリオレフィン層/ポリオレフィン層、
(26)層(Y)/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(27)ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(28)層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(29)層(Y)/ポリエステル層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(30)ポリエステル層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(31)層(Y)/ポリアミド層/ポリオレフィン層、
(32)層(Y)/ポリアミド層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(33)ポリアミド層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(34)層(Y)/ポリエステル層/紙層、
(35)層(Y)/ポリアミド層/紙層、
(36)層(Y)/ポリオレフィン層/紙層、
(37)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(38)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリアミド層/ポリ
オレフィン層、
(39)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(40)紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(41)ポリオレフィン層/紙層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(42)紙層/層(Y)/ポリエステル層/ポリオレフィン層、
(43)紙層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(44)層(Y)/紙層/ポリオレフィン層、
(45)層(Y)/ポリエステル層/紙層/ポリオレフィン層、
(46)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層/水酸基含有ポリマー層、
(47)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層/ポリアミド層、
(48)ポリオレフィン層/紙層/ポリオレフィン層/層(Y)/ポリオレフィン層/ポリエステル層、
(49)無機蒸着層/層(Y)/ポリエステル層、
(50)無機蒸着層/層(Y)/ポリエステル層/層(Y)/無機蒸着層、
(51)無機蒸着層/層(Y)/ポリアミド層、
(52)無機蒸着層/層(Y)/ポリアミド層/層(Y)/無機蒸着層、
(53)無機蒸着層/層(Y)/ポリオレフィン層、
(54)無機蒸着層/層(Y)/ポリオレフィン層/層(Y)/無機蒸着層
[Structure of multi-layer structure]
Specific examples of the configuration of the multilayer structure of the present invention are shown below. The multilayer structure may have members other than the base material (X), the layer (Z), and the layer (Y) (for example, the adhesive layer (I) and the other layer (J)). In the specific example of, the description of the layer (Z) and other members is omitted. The layer (Z) is laminated on the base material (X), and the layer (Y) is laminated on the layer (Z). Further, the following specific examples may be laminated or combined in a plurality of layers.
(1) Layer (Y) / polyester layer,
(2) Layer (Y) / Polyester layer / Layer (Y),
(3) Layer (Y) / Polyamide layer,
(4) Layer (Y) / Polyamide layer / Layer (Y),
(5) Layer (Y) / polyolefin layer,
(6) Layer (Y) / polyolefin layer / layer (Y),
(7) Layer (Y) / hydroxyl group-containing polymer layer,
(8) Layer (Y) / hydroxyl group-containing polymer layer / layer (Y),
(9) Layer (Y) / Paper layer,
(10) Layer (Y) / Paper layer / Layer (Y),
(11) Layer (Y) / Inorganic vapor deposition layer / Polyester layer,
(12) Layer (Y) / Inorganic vapor deposition layer / Polyamide layer,
(13) Layer (Y) / Inorganic vapor deposition layer / Polyolefin layer,
(14) Layer (Y) / Inorganic vapor deposition layer / Hydroxyl group-containing polymer layer,
(15) Layer (Y) / Polyester layer / Polyamide layer / Polyolefin layer,
(16) Layer (Y) / Polyester layer / Layer (Y) / Polyamide layer / Polyolefin layer,
(17) Polyester layer / layer (Y) / polyester layer / layer (Y) / inorganic vapor deposition layer / hydroxyl group-containing polymer layer / polyolefin layer,
(18) Polyester layer / layer (Y) / polyamide layer / polyolefin layer,
(19) Layer (Y) / Polyamide layer / Polyester layer / Polyolefin layer,
(20) Layer (Y) / Polyamide layer / Layer (Y) / Polyester layer / Polyolefin layer,
(21) Polyamide layer / layer (Y) / polyester layer / polyolefin layer,
(22) Layer (Y) / Polyolefin layer / Polyamide layer / Polyolefin layer,
(23) Layer (Y) / Polyolefin layer / Layer (Y) / Polyamide layer / Polyolefin layer,
(24) Polyolefin layer / layer (Y) / polyamide layer / polyolefin layer,
(25) Layer (Y) / polyolefin layer / polyolefin layer,
(26) Layer (Y) / Polyolefin layer / Layer (Y) / Polyolefin layer,
(27) Polyethylene layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(28) Layer (Y) / Polyester layer / Polyolefin layer,
(29) Layer (Y) / Polyester layer / Layer (Y) / Polyolefin layer,
(30) Polyester layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(31) Layer (Y) / Polyamide layer / Polyolefin layer,
(32) Layer (Y) / Polyamide layer / Layer (Y) / Polyolefin layer,
(33) Polyamide layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(34) Layer (Y) / Polyester layer / Paper layer,
(35) Layer (Y) / Polyamide layer / Paper layer,
(36) Layer (Y) / polyolefin layer / paper layer,
(37) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyester layer / polyolefin layer,
(38) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyamide layer / polyolefin layer,
(39) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(40) Paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyester layer / polyolefin layer,
(41) Polyolefin layer / paper layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(42) Paper layer / layer (Y) / polyester layer / polyolefin layer,
(43) Paper layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(44) Layer (Y) / Paper layer / Polyolefin layer,
(45) Layer (Y) / Polyester layer / Paper layer / Polyolefin layer,
(46) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyolefin layer / hydroxyl group-containing polymer layer,
(47) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyolefin layer / polyamide layer,
(48) Polyolefin layer / paper layer / polyolefin layer / layer (Y) / polyolefin layer / polyester layer,
(49) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyester layer,
(50) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyester layer / layer (Y) / inorganic vapor deposition layer,
(51) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyamide layer,
(52) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyamide layer / layer (Y) / inorganic vapor deposition layer,
(53) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyolefin layer,
(54) Inorganic vapor deposition layer / layer (Y) / polyolefin layer / layer (Y) / inorganic vapor deposition layer

本発明によれば、レトルト処理前およびレトルト処理後において、20℃、85%RHの条件下における酸素透過度が2.0mL/(m2・day・atm)以下である多層構造体を得ることが可能である。本発明の多層構造体の酸素透過度は、レトルト処理前およびレトルト処理後において0.5mL/(m2・day・atm)以下が好ましく、0.3mL/(m2・day・atm)以下がより好ましい。レトルト処理の条件、酸素透過度の測定方法および測定条件は、後記する実施例に記載のとおりである。 According to the present invention, it is possible to obtain a multilayer structure having an oxygen permeability of 2.0 mL / (m 2 · day · atm) or less under the conditions of 20 ° C. and 85% RH before and after the retort treatment. Is possible. The oxygen permeability of the multilayer structure of the present invention is preferably 0.5 mL / (m 2 · day · atm) or less, preferably 0.3 mL / (m 2 · day · atm) or less, before and after the retort treatment. More preferred. The conditions for the retort treatment, the method for measuring the oxygen permeability, and the measurement conditions are as described in Examples described later.

また、本発明によれば、レトルト処理前およびレトルト処理後において、40℃、90/0%RHの条件下における透湿度が2.0g/(m2・day)以下である多層構造体を得ることが可能である。本発明の多層構造体の透湿度は、レトルト処理前およびレトルト処理後において1.0g/(m2・day)以下が好ましく、0.5g/(m2・day)以下がより好ましい。レトルト処理の条件、透湿度の測定方法および測定条件は、後述する実施例に記載のとおりである。 Further, according to the present invention, a multilayer structure having a moisture permeability of 2.0 g / (m 2 · day) or less under the conditions of 40 ° C. and 90/0% RH is obtained before and after the retort treatment. It is possible. The moisture permeability of the multilayer structure of the present invention is preferably 1.0 g / (m 2 · day) or less, more preferably 0.5 g / (m 2 · day) or less before and after the retort treatment. The conditions for the retort treatment, the method for measuring the moisture permeability, and the measurement conditions are as described in Examples described later.

また、本発明の多層構造体は、レトルト処理後の層(Y)と接着層(I)や他の層(例えば、インク層)との剥離強度が100g/15mmを超えるものが好ましく、110g/15mm以上のものがより好ましい。レトルト処理の条件、剥離強度の測定方法および測定条件は、後記する実施例に記載のとおりである。 Further, the multilayer structure of the present invention preferably has a peel strength of more than 100 g / 15 mm between the layer (Y) after the retort treatment and the adhesive layer (I) or another layer (for example, an ink layer), preferably 110 g /. Those having a thickness of 15 mm or more are more preferable. The conditions for the retort treatment, the method for measuring the peel strength, and the measurement conditions are as described in Examples described later.

[用途]
本発明の多層構造体およびこれを用いた包装材は、レトルト処理時にフィルム屈曲部において高い密着性を有する。また、本発明の多層構造体およびこれを用いた包装材は、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れるとともに、耐レトルト性に優れる。そのため、本発明の多層構造体およびこれを用いた包装材は、様々な用途に適用できる。
[Use]
The multilayer structure of the present invention and the packaging material using the same have high adhesion at the film bent portion during the retort treatment. Further, the multilayer structure of the present invention and the packaging material using the same are excellent in gas barrier property and water vapor barrier property, and also in excellent retort resistance. Therefore, the multilayer structure of the present invention and the packaging material using the same can be applied to various uses.

[包装材]
本発明の包装材は、基材(X)と、基材(X)上に積層された層(Z)と、前記層(Z)上に積層された層(Y)とを含む多層構造体を含む。包装材は、多層構造体のみによって構成されてもよい。すなわち、以下の説明において、「包装材」を「多層構造体」に読み替えてもよい。包装材は、多層構造体と他の部材とによって構成されてもよい。本発明の包装材は、前述した押出コートラミネートにより形成された層を有することが好ましい。
[Packaging material]
The packaging material of the present invention is a multilayer structure including a base material (X), a layer (Z) laminated on the base material (X), and a layer (Y) laminated on the layer (Z). including. The packaging material may be composed only of the multilayer structure. That is, in the following description, "packaging material" may be read as "multilayer structure". The packaging material may be composed of a multilayer structure and other members. The packaging material of the present invention preferably has a layer formed by the extrusion-coated laminate described above.

本発明の好ましい実施形態による包装材は、無機ガス(例えば、水素、ヘリウム、窒素、酸素、二酸化炭素)、天然ガス、水蒸気および常温常圧で液体状の有機化合物(例えば、エタノール、ガソリン蒸気)に対するバリア性を有する。 Packaging materials according to preferred embodiments of the present invention include inorganic gases (eg hydrogen, helium, nitrogen, oxygen, carbon dioxide), natural gas, water vapor and organic compounds that are liquid at room temperature and pressure (eg ethanol, gasoline vapor). Has a barrier property against.

本発明の包装材が包装袋である場合、その包装袋のすべてに多層構造体が用いられていてもよいし、その包装袋の一部に多層構造体が用いられていてもよい。例えば、包装袋の面積の50%〜100%が、多層構造体によって構成されていてもよい。包装材が包装袋以外のもの(例えば、容器、蓋材)である場合も同様である。 When the packaging material of the present invention is a packaging bag, a multilayer structure may be used for all of the packaging bags, or a multilayer structure may be used for a part of the packaging bag. For example, 50% to 100% of the area of the packaging bag may be composed of a multilayer structure. The same applies when the packaging material is something other than a packaging bag (for example, a container or a lid material).

本発明の包装材は、様々な方法で作製できる。例えば、シート状の多層構造体または該多層構造体を含むフィルム材(以下、単に「フィルム材」という)を接合して所定の容器の形状に成形することによって、容器(包装材)を作製してもよい。成形方法は、熱成形、射出成形、押出ブロー成形等が挙げられる。また、所定の容器の形状に成形された基材(X)の上に層(Z)および層(Y)を形成することによって、容器(包装材)を作製してもよい。これらのように作製された容器を、本明細書では「包装容器」という場合がある。 The packaging material of the present invention can be produced by various methods. For example, a container (packaging material) is produced by joining a sheet-shaped multilayer structure or a film material containing the multilayer structure (hereinafter, simply referred to as “film material”) and molding the container into a predetermined container shape. You may. Examples of the molding method include thermoforming, injection molding, extrusion blow molding and the like. Further, a container (packaging material) may be produced by forming a layer (Z) and a layer (Y) on a base material (X) formed into a predetermined container shape. Containers manufactured as described above may be referred to as "packaging containers" in the present specification.

本発明による包装材は、食品用包装材として好ましく用いられる。また、本発明による包装材は、食品用包装材以外にも、農薬、医薬等の薬品;医療器材;機械部品、精密材料等の産業資材;衣料等を包装するための包装材として好ましく用いることができる。 The packaging material according to the present invention is preferably used as a food packaging material. In addition to food packaging materials, the packaging materials according to the present invention are preferably used as packaging materials for packaging chemicals such as pesticides and pharmaceuticals; medical equipment; industrial materials such as machine parts and precision materials; and clothing. Can be done.

また、本発明の多層構造体を含む包装材は、種々の成形品に二次加工して使用できる。このような成形品は、縦製袋充填シール袋、真空包装袋、パウチ、ラミネートチューブ容器、輸液バッグ、紙容器、ストリップテープ、容器用蓋材、インモールドラベル容器、真空断熱体、または電子デバイスであってもよい。これらの成形品では、ヒートシールが行われてもよい。 Further, the packaging material containing the multilayer structure of the present invention can be used by secondary processing into various molded products. Such molded products can be vertical bag-filled seal bags, vacuum packaging bags, pouches, laminated tube containers, infusion bags, paper containers, strip tape, container lids, in-mold label containers, vacuum insulation, or electronic devices. It may be. Heat sealing may be performed on these molded articles.

[縦製袋充填シール袋]
本発明の多層構造体を含む包装材は、縦製袋充填シール袋であってもよい。一例を図1に示す。図1に示す縦製袋充填シール袋10は、本発明の多層構造体11が、2つの端部11aと胴体部11bとの三方でシールされることによって形成されている。縦製袋充填シール袋10は、縦型製袋充填機により製造できる。縦型製袋充填機による製袋には様々な方法が適用されるが、いずれの方法においても、内容物は袋の上方の開口からその内部へと供給され、その後にその開口がシールされて縦製袋充填シール袋が製造される。縦製袋充填シール袋は、例えば、上端、下端、および側部の三方においてヒートシールされた1枚のフィルム材により構成される。本発明による包装容器としての縦製袋充填シール袋は、レトルト処理時にフィルム屈曲部において高い密着性を有する。また、本発明による包装容器としての縦製袋充填シール袋は、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、レトルト処理後にもバリア性能が維持されるため、該縦製袋充填シール袋によれば、内容物の品質劣化を長期間にわたって抑制できる。
[Vertical bag filling seal bag]
The packaging material containing the multilayer structure of the present invention may be a vertical bag-filled seal bag. An example is shown in FIG. The vertical bag filling seal bag 10 shown in FIG. 1 is formed by sealing the multilayer structure 11 of the present invention on three sides of two end portions 11a and a body portion 11b. The vertical bag filling seal bag 10 can be manufactured by a vertical bag filling machine. Various methods are applied to bag making with a vertical bag filling machine, but in each method, the contents are supplied from the upper opening of the bag to the inside of the bag, and then the opening is sealed. A vertical bag filling seal bag is manufactured. The vertical bag filling seal bag is composed of, for example, a single film material that is heat-sealed at the upper end, the lower end, and the side portion. The vertical bag-filled seal bag as a packaging container according to the present invention has high adhesion at the film bent portion during retort treatment. Further, the vertical bag-filled seal bag as a packaging container according to the present invention has excellent gas barrier properties and water vapor barrier properties, and the barrier performance is maintained even after retort treatment. Therefore, according to the vertical bag-filled seal bag, the contents Deterioration of product quality can be suppressed for a long period of time.

[パウチ]
本発明の多層構造体を含む包装材はパウチであってもよい。一例を図2に示す。図2の平パウチ20は、2枚の多層構造体11が、その周縁部11cで互いに接合されることによって形成されている。本明細書において、「パウチ」という語句は、主として食品、日用品または医薬品を内容物とする、フィルム材を壁部材として備えた容器を意味する。パウチは、例えば、その形状および用途から、スパウト付きパウチ、チャックシール付きパウチ、平パウチ、スタンドアップパウチ、横製袋充填シールパウチ、レトルトパウチ等が挙げられる。パウチは、多層構造体と、少なくとも1層の他の層(J)とを積層することによって形成してもよい。本発明による包装容器としてのパウチは、レトルト処理時にフィルム屈曲部において高い密着性を有する。また、本発明による包装容器としてのパウチは、ガスバリア性および水蒸気バリア性に優れ、レトルト処理後においてもそのバリア性能が維持される。そのため該パウチを用いることによって、輸送後または長期保存後においても、内容物の変質を防ぐことが可能である。また、該パウチの一例では、透明性を良好に保持できるため、内容物の確認、劣化による内容物の変質の確認が容易である。
[Pouch]
The packaging material containing the multilayer structure of the present invention may be a pouch. An example is shown in FIG. The flat pouch 20 of FIG. 2 is formed by joining two multilayer structures 11 to each other at a peripheral edge portion 11c thereof. As used herein, the term "pouch" means a container with a film material as a wall member, which mainly contains food, daily necessities or pharmaceuticals. Examples of the pouch include a pouch with a spout, a pouch with a zipper seal, a flat pouch, a stand-up pouch, a horizontal bag-filled seal pouch, a retort pouch, and the like, depending on the shape and use thereof. The pouch may be formed by laminating a multilayer structure and at least one other layer (J). The pouch as a packaging container according to the present invention has high adhesion at the film bent portion during retort treatment. Further, the pouch as a packaging container according to the present invention is excellent in gas barrier property and water vapor barrier property, and its barrier performance is maintained even after retort treatment. Therefore, by using the pouch, it is possible to prevent deterioration of the contents even after transportation or long-term storage. Further, in one example of the pouch, since the transparency can be maintained well, it is easy to confirm the contents and the deterioration of the contents due to deterioration.

[輸液バッグ]
本発明の多層構造体を含む包装材は、輸液バッグであってもよい。輸液バッグは、輸液製剤をその内容物とする容器であり、輸液製剤を収容するための内部と外部とを隔てる隔壁としてフィルム材(本発明の多層構造体)を備える。一例を図3に示す。図3に示されるように、輸液バッグ401は、内容物を収容するバッグ本体431に加え、バッグ本体431の周縁部412に口栓部材432を備えていてもよい。口栓部材432は、バッグ本体431の内部に収容された輸液類を取り出す経路として機能する。また、輸液バッグは、バッグを吊り下げるために、口栓部材432が取り付けられた周縁部412の反対側の周縁部411に吊り下げ孔433を備えていてもよい。バッグ本体431は、2枚のフィルム材410a、410bがその周縁部411、412、413、414において互いに接合されることによって形成されている。フィルム材410a、410bは、バッグ本体431の周縁部411、412、413、414に囲まれた中央部において、バッグ内部とバッグ外部とを隔てる隔壁420として機能する。本発明による包装容器としての輸液バッグは、レトルト処理時にフィルム屈曲部において高い密着性を有する。また、本発明による包装容器としての輸液バッグは、ガスバリア性に優れ、熱水処理等の加熱処理後にもそのガスバリア性が維持される。そのため、該輸液バッグによれば、加熱殺菌処理前、加熱殺菌処理中、加熱殺菌処理後、輸送後、保存後においても、充填されている液状医薬品が変質することを防止できる。
[Infusion bag]
The packaging material containing the multilayer structure of the present invention may be an infusion bag. The infusion bag is a container containing the infusion preparation as its content, and includes a film material (multilayer structure of the present invention) as a partition wall separating the inside and the outside for accommodating the infusion preparation. An example is shown in FIG. As shown in FIG. 3, the infusion bag 401 may include a spout member 432 on the peripheral edge portion 412 of the bag main body 431 in addition to the bag main body 431 that houses the contents. The spout member 432 functions as a route for taking out the infusion solution contained in the bag body 431. Further, the infusion bag may be provided with a hanging hole 433 in the peripheral edge portion 411 on the opposite side of the peripheral edge portion 412 to which the spout member 432 is attached in order to suspend the bag. The bag body 431 is formed by joining two film materials 410a and 410b to each other at peripheral portions 411, 421, 413, and 414 thereof. The film materials 410a and 410b function as a partition wall 420 that separates the inside of the bag from the outside of the bag in the central portion surrounded by the peripheral edges 411, 421, 413, and 414 of the bag body 431. The infusion bag as a packaging container according to the present invention has high adhesion at the film bent portion during retort treatment. Further, the infusion bag as a packaging container according to the present invention has excellent gas barrier properties, and the gas barrier properties are maintained even after heat treatment such as hot water treatment. Therefore, according to the infusion bag, it is possible to prevent the filled liquid drug from being denatured even before the heat sterilization treatment, during the heat sterilization treatment, after the heat sterilization treatment, after transportation, and after storage.

[インモールドラベル容器]
本発明の多層構造体を含む包装材は、インモールドラベル容器であってもよい。インモールドラベル容器は、容器本体と、容器本体の表面に配置された本発明の多層ラベル(多層構造体)とを含む。容器本体は、型の内部に溶融樹脂を注入することによって形成される。容器本体の形状に特に限定はなく、カップ状、ボトル状等であってもよい。
[In-mold label container]
The packaging material containing the multilayer structure of the present invention may be an in-mold label container. The in-mold label container includes a container body and a multilayer label (multilayer structure) of the present invention arranged on the surface of the container body. The container body is formed by injecting molten resin into the mold. The shape of the container body is not particularly limited, and may be cup-shaped, bottle-shaped, or the like.

容器を製造するための本発明の方法の一例は、メス型部とオス型部との間のキャビティ内に本発明の多層ラベルを配置する第1ステップと、該キャビティ内に溶融樹脂を注入することによって、容器本体の成形と該容器本体への本発明の多層ラベルの貼着とを同時に行う第2ステップとを含む。本発明の多層ラベルを用いることを除いて、各ステップは、公知の方法で実施することが可能である。 An example of the method of the present invention for manufacturing a container is the first step of arranging the multilayer label of the present invention in the cavity between the female mold part and the male mold part, and injecting the molten resin into the cavity. This includes a second step of simultaneously molding the container body and attaching the multilayer label of the present invention to the container body. Each step can be performed in a known manner, except that the multilayer label of the present invention is used.

本発明の容器の一例の断面図を図4に示す。容器360は、カップ状の容器本体370と、容器本体370の表面に貼着された多層ラベル361〜363とを含む。多層ラベル361〜363は、本発明の多層ラベルである。容器本体370は、フランジ部371と胴体部372と底部373とを含む。フランジ部371は、その先端に、上下に突出している凸部371aを有する。多層ラベル361は、底部373の外側の表面を覆うように配置されている。多層ラベル361の中央には、インモールドラベル成形の際に樹脂を注入するための貫通孔361aが形成されている。多層ラベル362は、胴体部372の外側の表面とフランジ部371の下面とを覆うように配置されている。多層ラベル363は、胴体部372の内側の表面の一部とフランジ部371の上面とを覆うように配置されている。多層ラベル361〜363は、インモールドラベル成形法によって、容器本体370に融着され、容器本体360と一体となっている。図4に示すように、多層ラベル363の端面は、容器本体360に融着されており、外部に露出していない。 A cross-sectional view of an example of the container of the present invention is shown in FIG. The container 360 includes a cup-shaped container body 370 and a multilayer label 361 to 363 attached to the surface of the container body 370. Multi-layer labels 361-363 are multi-layer labels of the present invention. The container body 370 includes a flange portion 371, a body portion 372, and a bottom portion 373. The flange portion 371 has a convex portion 371a projecting vertically at its tip. The multilayer label 361 is arranged so as to cover the outer surface of the bottom 373. A through hole 361a for injecting resin during in-mold label molding is formed in the center of the multilayer label 361. The multilayer label 362 is arranged so as to cover the outer surface of the body portion 372 and the lower surface of the flange portion 371. The multilayer label 363 is arranged so as to cover a part of the inner surface of the body portion 372 and the upper surface of the flange portion 371. The multilayer labels 361 to 363 are fused to the container body 370 by the in-mold label molding method and are integrated with the container body 360. As shown in FIG. 4, the end face of the multilayer label 363 is fused to the container body 360 and is not exposed to the outside.

[真空断熱体]
前記した包装材を少なくとも一部に用いる本発明の製品は、真空断熱体であってもよい。真空断熱体は、被覆材と、被覆材により囲まれた内部に配置された芯材とを備える断熱体であり、芯材が配置された内部は減圧されている。真空断熱体は、ウレタンフォームからなる断熱体による断熱特性と同等の断熱特性を、より薄くより軽い断熱体で達成することを可能にする。本発明の真空断熱体は、冷蔵庫、給湯設備および炊飯器等の家電製品用
の断熱材;壁部、天井部、屋根裏部および床部等に用いられる住宅用断熱材、車両屋根材、自動販売機等の断熱パネル;蓄熱機器、ヒートポンプ応用機器等の熱移動機器等に利用できる。被覆材として用いられる本発明の多層構造体は、エチレン−ビニルアルコール共重合体樹脂層および無機蒸着層を含むことも好ましく、例えば、ポリエステル層/層(Y)/ポリエステル層/層(Y)/無機蒸着層/エチレン−ビニルアルコール共重合体層/ポリオレフィン層の構成を有していてもよい。
[Vacuum insulation]
The product of the present invention using at least a part of the above-mentioned packaging material may be a vacuum insulation body. The vacuum heat insulating body is a heat insulating body including a covering material and a core material arranged inside surrounded by the covering material, and the inside where the core material is arranged is depressurized. Vacuum insulation makes it possible to achieve insulation properties equivalent to those of urethane foam insulation with thinner and lighter insulation. The vacuum heat insulating body of the present invention is a heat insulating material for home appliances such as refrigerators, hot water supply facilities and rice cookers; a residential heat insulating material used for walls, ceilings, attics, floors, etc., vehicle roofing materials, automatic sales. Insulation panel for machines, etc .; Can be used for heat transfer equipment such as heat storage equipment and heat pump application equipment. The multilayer structure of the present invention used as a coating material preferably includes an ethylene-vinyl alcohol copolymer resin layer and an inorganic vapor-deposited layer, for example, a polyester layer / layer (Y) / polyester layer / layer (Y) /. It may have a structure of an inorganic vapor deposition layer / an ethylene-vinyl alcohol copolymer layer / a polyolefin layer.

本発明の真空断熱体の一例を図6に示す。図6の真空断熱体601は、粒子状の芯材651と、それを覆う被覆材として2枚の本発明の多層構造体631,632とを含む。2枚の多層構造体631,632は、周縁部611において互いに接合されている。2枚の多層構造体631,632によって形成された内部空間には芯材651が充填されており、その内部空間は減圧されている。多層構造体631,632は、芯材651が収容された内部と外部とを隔てる隔壁620として機能し、真空断熱体601の内部と外部との圧力差によって芯材651に密着している。芯材651が配置された内部は減圧されている。 An example of the vacuum insulation body of the present invention is shown in FIG. The vacuum heat insulating body 601 of FIG. 6 includes a particulate core material 651 and two multilayer structures 631, 632 of the present invention as a covering material for covering the core material 651. The two multilayer structures 631,632 are joined to each other at the peripheral edge portion 611. The internal space formed by the two multilayer structures 631 and 632 is filled with the core material 651, and the internal space thereof is depressurized. The multilayer structure 631, 632 functions as a partition wall 620 that separates the inside and the outside in which the core material 651 is housed, and is in close contact with the core material 651 due to the pressure difference between the inside and the outside of the vacuum heat insulating body 601. The inside where the core material 651 is arranged is depressurized.

本発明の真空断熱体の別の一例を図7に示す。真空断熱体602は、芯材651の代わりに一体に成形された芯材652を備えていることを除き、真空断熱体601と同一の構成を有する。成形体である芯材652は、典型的には樹脂の発泡体である。 Another example of the vacuum insulation body of the present invention is shown in FIG. The vacuum heat insulating body 602 has the same configuration as the vacuum heat insulating body 601 except that the core material 652 is integrally formed instead of the core material 651. The core material 652, which is a molded product, is typically a resin foam.

芯材の材料および形状は、断熱に適している限り特に制限されない。芯材としては、例えば、パーライト粉末、シリカ粉末、沈降シリカ粉末、ケイソウ土、ケイ酸カルシウム、ガラスウール、ロックウール、人工(合成)ウール、樹脂の発泡体(例えば、スチレンフォーム、ウレタンフォーム)等が挙げられる。芯材としては、所定形状に成形された中空容器、ハニカム構造体等を用いることもできる。 The material and shape of the core material are not particularly limited as long as they are suitable for heat insulation. Examples of the core material include pearlite powder, silica powder, precipitated silica powder, diatomaceous earth, calcium silicate, glass wool, rock wool, artificial (synthetic) wool, resin foam (for example, styrene foam, urethane foam) and the like. Can be mentioned. As the core material, a hollow container molded into a predetermined shape, a honeycomb structure, or the like can also be used.

[電子デバイス]
本発明の多層構造体を含む包装材は、電子デバイスにも使用できる。本発明の電子デバイスの一例について、一部断面図を図8に示す。図8の電子デバイス40は、電子デバイス本体41と、電子デバイス本体41を封止するための封止材42と、電子デバイス本体41の表面を保護するための保護シート(多層構造体)43と、を備える。封止材42は、電子デバイス本体41の表面全体を覆う。保護シート43は、電子デバイス本体41の一方の表面上に、封止材42を介して配置されている。保護シート43が配置された表面とは反対側の表面にも、保護シート43が配置されてもよい。その場合、その反対側の表面に配置される保護シートは、保護シート43と同じものであってもよいし異なっていてもよい。保護シート43は、封止材42等の他の部材を介して電子デバイス本体41上に配置されていてもよく、電子デバイス本体41の表面に直接配置されていてもよい。
[Electronic device]
The packaging material containing the multilayer structure of the present invention can also be used for electronic devices. A partial cross-sectional view of an example of the electronic device of the present invention is shown in FIG. The electronic device 40 of FIG. 8 includes an electronic device main body 41, a sealing material 42 for sealing the electronic device main body 41, and a protective sheet (multilayer structure) 43 for protecting the surface of the electronic device main body 41. , Equipped with. The sealing material 42 covers the entire surface of the electronic device main body 41. The protective sheet 43 is arranged on one surface of the electronic device main body 41 via a sealing material 42. The protective sheet 43 may also be arranged on the surface opposite to the surface on which the protective sheet 43 is arranged. In that case, the protective sheet arranged on the surface on the opposite side may be the same as or different from the protective sheet 43. The protective sheet 43 may be arranged on the electronic device main body 41 via another member such as a sealing material 42, or may be arranged directly on the surface of the electronic device main body 41.

電子デバイス本体41としては、特に限定されず、例えば、太陽電池等の光電変換装置;有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ、電子ペーパー等の情報表示装置;有機EL発光素子等の照明装置等が挙げられる。封止材42は、電子デバイス本体41の種類および用途等に応じて適宜付加される任意の部材である。封止材42としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール等が挙げられる。 The electronic device main body 41 is not particularly limited, and examples thereof include a photoelectric conversion device such as a solar cell; an information display device such as an organic EL display, a liquid crystal display, and an electronic paper; and a lighting device such as an organic EL light emitting element. The sealing material 42 is an arbitrary member that is appropriately added depending on the type and application of the electronic device main body 41. Examples of the sealing material 42 include ethylene-vinyl acetate copolymer and polyvinyl butyral.

電子デバイス本体41の好ましい一例は、太陽電池である。太陽電池としては、例えば、シリコン系太陽電池、化合物半導体太陽電池、有機薄膜太陽電池等が挙げられる。シリコン系太陽電池としては、例えば、単結晶シリコン太陽電池、多結晶シリコン太陽電池、非晶質シリコン太陽電池等が挙げられる。化合物半導体太陽電池としては、例えば、III−V族化合物半導体太陽電池、II−VI族化合物半導体太陽電池、I−III−VI族化合物半導体太陽電池等が挙げられる。また、太陽電池は、複数のユニットセルが直列接続された集積形の太陽電池であってもよいし、集積形の太陽電池でなくてもよい。 A preferred example of the electronic device body 41 is a solar cell. Examples of the solar cell include a silicon-based solar cell, a compound semiconductor solar cell, an organic thin-film solar cell, and the like. Examples of the silicon-based solar cell include a single crystal silicon solar cell, a polycrystalline silicon solar cell, an amorphous silicon solar cell, and the like. Examples of the compound semiconductor solar cell include a III-V group compound semiconductor solar cell, an II-VI group compound semiconductor solar cell, and an I-III-VI group compound semiconductor solar cell. Further, the solar cell may be an integrated solar cell in which a plurality of unit cells are connected in series, or may not be an integrated solar cell.

本発明の多層構造体およびこれを含む包装材は、LCD用基板フィルム、有機EL用基板フィルム、電子ペーパー用基板フィルム、電子デバイス用封止フィルム、PDP用フィルム等のディスプレイ部材;ICタグ用フィルム、太陽電池モジュール、太陽電池用バックシート、太陽電池用保護フィルム等の太陽電池部材として好適に用いられる。多層構造体をディスプレイの部材として用いる場合には、例えば低反射性フィルムとして用いられる。いずれの場合でも、多層構造体の透光性が要求される場合、層(Y)として、透光性を有する層(Y)が用いられる。 The multilayer structure of the present invention and the packaging material containing the same are display members such as LCD substrate films, organic EL substrate films, electronic paper substrate films, electronic device encapsulation films, and PDP films; IC tag films. , A solar cell module, a back sheet for a solar cell, a protective film for a solar cell, and the like. When the multilayer structure is used as a member of a display, it is used, for example, as a low-reflection film. In any case, when the translucency of the multilayer structure is required, the translucent layer (Y) is used as the layer (Y).

電子デバイス本体41は、その種類によっては、いわゆるロール・ツー・ロール方式で作製することが可能である。ロール・ツー・ロール方式では、送り出しロールに巻かれたフレキシブルな基板(例えば、ステンレス基板、樹脂基板等)が送り出され、この基板上に素子を形成することによって電子デバイス本体41が作製され、この電子デバイス本体41が巻き取りロールで巻き取られる。この場合、保護シート43も、可撓性を有する長尺のシートの形態、より具体的には長尺のシートの捲回体の形態として準備しておくとよい。一例では、送り出しロールから送り出された保護シート43は、巻き取りロールに巻き取られる前の電子デバイス本体41上に積層され、電子デバイス本体41とともに巻き取られる。他の一例では、巻き取りロールに巻き取った電子デバイス本体41を改めてロールから送り出し、保護シート43と積層してもよい。本発明の好ましい一例では、電子デバイス自体が可撓性を有する。 Depending on the type of the electronic device main body 41, the electronic device main body 41 can be manufactured by a so-called roll-to-roll method. In the roll-to-roll method, a flexible substrate (for example, a stainless steel substrate, a resin substrate, etc.) wound on a delivery roll is sent out, and an element is formed on this substrate to manufacture an electronic device main body 41. The electronic device body 41 is taken up by a take-up roll. In this case, the protective sheet 43 may also be prepared in the form of a long sheet having flexibility, more specifically, in the form of a wound body of the long sheet. In one example, the protective sheet 43 delivered from the delivery roll is laminated on the electronic device main body 41 before being wound on the take-up roll, and is wound together with the electronic device main body 41. In another example, the electronic device main body 41 wound on the winding roll may be sent out from the roll again and laminated with the protective sheet 43. In a preferred example of the present invention, the electronic device itself has flexibility.

保護シート43は、本発明の多層構造体を含む。保護シート43は多層構造体のみから構成されていても、多層構造体と多層構造体に積層された他の部材(例えば、他の層(J))とを含んでもよい。保護シート43は、電子デバイスの表面の保護に適した層状の積層体であって前記多層構造体を含んでいる限り、その厚さおよび材料に特に制限はない。 The protective sheet 43 includes the multilayer structure of the present invention. The protective sheet 43 may be composed of only the multilayer structure, or may include the multilayer structure and other members (for example, another layer (J)) laminated on the multilayer structure. The thickness and material of the protective sheet 43 are not particularly limited as long as the protective sheet 43 is a layered laminate suitable for protecting the surface of the electronic device and includes the multilayer structure.

保護シートは、例えば、多層構造体の一方の表面または両方の表面に配置された表面保護層を含んでもよい。表面保護層としては、傷がつきにくい樹脂からなる層が好ましい。また、太陽電池のように室外で利用されることがあるデバイスの表面保護層は、耐候性(例えば、耐光性)が高い樹脂からなることが好ましい。また、光を透過させる必要がある面を保護する場合には、透光性が高い表面保護層が好ましい。表面保護層(表面保護フィルム)の材料としては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレート、ポリフッ化ビニル(PVF)、ポリフッ化ビニリデン(PVDF)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)等が挙げられる。保護シートの一例は、一方の表面に配置されたポリ(メタ)アクリル酸エステル層を含む。 The protective sheet may include, for example, a surface protective layer arranged on one surface or both surfaces of the multilayer structure. As the surface protective layer, a layer made of a resin that is not easily scratched is preferable. Further, the surface protective layer of a device such as a solar cell that may be used outdoors is preferably made of a resin having high weather resistance (for example, light resistance). Further, when protecting a surface that needs to transmit light, a surface protective layer having high translucency is preferable. Examples of the material of the surface protective layer (surface protective film) include poly (meth) acrylic acid ester, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polyvinyl fluoride (PVF), polyvinylidene fluoride (PVDF), and the like. Polytetrafluoroethylene (PTFE), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), ethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether Examples thereof include a copolymer (PFA) and a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP). An example of a protective sheet comprises a poly (meth) acrylic acid ester layer disposed on one surface.

表面保護層の耐久性を高めるために、表面保護層に各種の添加剤(例えば、紫外線吸収剤)を添加してもよい。耐候性が高い表面保護層の好ましい一例は、紫外線吸収剤が添加されたアクリル樹脂層である。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリシレート系、シアノアクリレート系、ニッケル系、トリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられるが、これらに限定されない。また、他の安定剤、光安定剤、酸化防止剤等を併用してもよい。 In order to increase the durability of the surface protective layer, various additives (for example, ultraviolet absorbers) may be added to the surface protective layer. A preferable example of a surface protective layer having high weather resistance is an acrylic resin layer to which an ultraviolet absorber is added. Examples of the ultraviolet absorber include, but are not limited to, benzotriazole-based, benzophenone-based, salicylate-based, cyanoacrylate-based, nickel-based, and triazine-based ultraviolet absorbers. Further, other stabilizers, light stabilizers, antioxidants and the like may be used in combination.

次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されず、多くの変形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により可能である。以下の実施例および比較例における分析および評価は以下のとおり行った。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples, and many modifications are common knowledge in the art within the technical idea of the present invention. It is possible by those who have. The analysis and evaluation in the following examples and comparative examples were performed as follows.

実施例および比較例で使用したフィルムの詳細を示す。
1)PET12:二軸延伸ポリエチレンレテフタレートフィルム;東レ株式会社製、「ルミラー P60」(商品名)、厚さ12μm
2)ONY15:二軸延伸ナイロンフィルム;ユニチカ株式会社製、「エンブレム ONBC」(商品名)、厚さ15μm
3)CPP60:無延伸ポリプロピレンフィルム;三井化学東セロ株式会社製、「RXC−22」(商品名)、厚さ60μm
4)CPP100:無延伸ポリプロピレンフィルム;三井化学東セロ株式会社製、「RXC−22」(商品名)、厚さ100μm
Details of the films used in Examples and Comparative Examples are shown.
1) PET12: Biaxially stretched polyethylene lethalate film; manufactured by Toray Industries, Inc., "Lumirror P60" (trade name), thickness 12 μm
2) ONY15: Biaxially stretched nylon film; manufactured by Unitika Ltd., "emblem ONBC" (trade name), thickness 15 μm
3) CPP60: Unstretched polypropylene film; manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd., "RXC-22" (trade name), thickness 60 μm
4) CPP100: Unstretched polypropylene film; manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd., "RXC-22" (trade name), thickness 100 μm

(1)赤外線吸収スペクトルの測定
多層構造体の層(Y)の赤外吸収スペクトルを、フーリエ変換赤外分光光度計を用い、減衰全反射法で測定した。測定条件は以下の通りとした。
装置:パーキンエルマー株式会社製Spectrum One
測定モード:減衰全反射法
測定領域:800〜1,400cm-1
(1) Measurement of Infrared Absorption Spectrum The infrared absorption spectrum of the layer (Y) of the multilayer structure was measured by the attenuation total reflection method using a Fourier transform infrared spectrophotometer. The measurement conditions were as follows.
Equipment: Spectrum One manufactured by PerkinElmer Co., Ltd.
Measurement mode: Attenuated total reflection method Measurement area: 800 to 1,400 cm -1

(2)各層の厚さ測定
収束イオンビーム(FIB)を用いて多層構造体を切削し、断面観察用の切片(厚さ0.3μm)を作製した。作製した切片を試料台座にカーボンテープで固定し、加速電圧30kVで30秒間白金イオンスパッタを行った。電界放出形透過型電子顕微鏡を用いて多層構造体の断面を観察し、各層の厚さを算出した。測定条件は以下の通りとした。
装置:日本電子株式会社製JEM−2100F
加速電圧:200kV
倍率:250,000倍
(2) Measurement of thickness of each layer A multilayer structure was cut using a focused ion beam (FIB) to prepare a section (thickness 0.3 μm) for cross-sectional observation. The prepared section was fixed to a sample pedestal with carbon tape, and platinum ion sputtering was performed at an acceleration voltage of 30 kV for 30 seconds. The cross section of the multilayer structure was observed using a field emission transmission electron microscope, and the thickness of each layer was calculated. The measurement conditions were as follows.
Equipment: JEM-2100F manufactured by JEOL Ltd.
Acceleration voltage: 200kV
Magnification: 250,000 times

(3)多層構造体の酸素透過度の測定
酸素透過量測定装置にキャリアガス側に基材の層が向くように多層構造体を取り付け、等圧法により酸素透過度を測定した。測定条件は以下の通りとした。
装置:モダンコントロールズ社製MOCON OX−TRAN2/21
温度:20℃
酸素供給側の湿度:85%RH
キャリアガス側の湿度:85%RH
酸素圧:1.0atm
キャリアガス圧力:1.0atm
(3) Measurement of oxygen permeability of the multilayer structure The multilayer structure was attached to the oxygen permeability measuring device so that the layer of the base material faces the carrier gas side, and the oxygen permeability was measured by the isobaric method. The measurement conditions were as follows.
Equipment: MOCON OX-TRAN2 / 21 manufactured by Modern Controls
Temperature: 20 ° C
Humidity on the oxygen supply side: 85% RH
Humidity on the carrier gas side: 85% RH
Oxygen pressure: 1.0 atm
Carrier gas pressure: 1.0 atm

(4)多層構造体の透湿度の測定
水蒸気透過量測定装置にキャリアガス側に基材の層が向くように多層構造体を取り付け、等圧法により透湿度(水蒸気透過度)を測定した。測定条件は以下の通りとした。
装置:モダンコントロールズ社製MOCON PERMATRAN W3/33
温度:40℃
水蒸気供給側の湿度:90%RH
キャリアガス側の湿度:0%RH
(4) Measurement of moisture permeability of the multilayer structure The multilayer structure was attached to the water vapor transmission rate measuring device so that the layer of the base material faces the carrier gas side, and the moisture permeability (water vapor transmission rate) was measured by the isobaric method. The measurement conditions were as follows.
Equipment: MOCON PERMATRAN W3 / 33 manufactured by Modern Controls
Temperature: 40 ° C
Humidity on the steam supply side: 90% RH
Humidity on the carrier gas side: 0% RH

(5)レトルト折り曲げ試験によるデラミ発生率の測定
基材(X)/層(Z)/層(Y)の順に塗工した多層構造体上に接着層を形成し、該接着層上にONYをラミネートすることによって積層体を得た。次に、該積層体のONY上に接着層を形成した後、該接着層上に、CPP60をラミネートし、40℃で5日間静置してエージングした。前記2つの接着層はそれぞれ、乾燥後の厚さが3μmとなるようにバーコーターを用いて2液型接着剤(三井化学株式会社製の「タケラック」(登録商標)の「A−520」(銘柄)と三井化学株式会社製の「タケネート」(登録商標)の「A−50」(銘柄))を塗工し、乾燥させることによって形成した。このようにして得た基材(X)/層(Z)/層(Y)/接着層/ONY/接着層/CPP60を、CPP60を接触面として2枚重ね、130℃で熱ラミネートした。次に160mm×40mmの短冊を切り出し、20mm感覚で計14箇所に直径6mmの穴を開けた。該短冊を8.5mmの曲率半径で長尺方向に巻き、端部をホッチキスで固定することで円筒形にした。続いて得られた円筒を以下の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った。
レトルト処理装置:株式会社日阪製作所製 フレーバーエースRSC−60
温度:125℃
時間:30分間
圧力:0.17MPaG
1サンプルにつき同様の穴あき円筒を4つ作製し、レトルト処理後にデラミネーションが生じた穴の数をカウントし穴の総計(56箇所)で除することによりデラミ発生率(%)を算出した。
(5) Measurement of Delamination Occurrence Rate by Retort Bending Test An adhesive layer is formed on a multilayer structure coated in the order of base material (X) / layer (Z) / layer (Y), and ONY is applied on the adhesive layer. A laminate was obtained by laminating. Next, after forming an adhesive layer on the ONY of the laminated body, CPP60 was laminated on the adhesive layer and allowed to stand at 40 ° C. for 5 days for aging. Each of the two adhesive layers is a two-component adhesive (Mitsui Chemicals, Inc.'s "Takelac" (registered trademark) "A-520" (registered trademark) using a bar coater so that the thickness after drying is 3 μm. It was formed by coating (brand) and "A-50" (brand) of "Takenate" (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and drying. Two base materials (X) / layer (Z) / layer (Y) / adhesive layer / ONY / adhesive layer / CPP60 thus obtained were laminated with CPP60 as a contact surface and heat-laminated at 130 ° C. Next, a strip of 160 mm × 40 mm was cut out, and holes with a diameter of 6 mm were made in a total of 14 places with a feeling of 20 mm. The strip was wound in the long direction with a radius of curvature of 8.5 mm, and the end was stapled to form a cylinder. Subsequently, the obtained cylinder was subjected to retort treatment (hot water storage type) under the following conditions.
Retort processing equipment: Flavor Ace RSC-60 manufactured by Hisaka Works, Ltd.
Temperature: 125 ° C
Time: 30 minutes Pressure: 0.17 MPaG
Four similar perforated cylinders were prepared for each sample, and the number of holes in which delamination occurred after the retort treatment was counted and divided by the total number of holes (56 locations) to calculate the delamination rate (%).

<リン化合物(BH−1)の合成例>
窒素雰囲気下、11−ブロモウンデカノール5.0質量部およびトリエチルアミン2.0質量部をジクロロメタン5.0質量部と混合し、0℃に冷却した。この溶液に、ジクロロメタン2.0質量部に混合したアセチルクロリド1.9質量部の溶液を滴下し、0℃で2時間撹拌した。この溶液をpHが6になるまで水で洗浄した後、ジクロロメタン層を単離し、硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去することで11−ブロモウンデシルアセテート5.5質量部を得た。
<Synthesis example of phosphorus compound (BH-1)>
Under a nitrogen atmosphere, 5.0 parts by mass of 11-bromoundecanol and 2.0 parts by mass of triethylamine were mixed with 5.0 parts by mass of dichloromethane and cooled to 0 ° C. A solution of 1.9 parts by mass of acetyl chloride mixed with 2.0 parts by mass of dichloromethane was added dropwise to this solution, and the mixture was stirred at 0 ° C. for 2 hours. The solution was washed with water until pH 6 and then the dichloromethane layer was isolated and dried over sodium sulfate. By distilling off the solvent, 5.5 parts by mass of 11-bromoundecyl acetate was obtained.

得られた11−ブロモウンデシルアセテート3.0質量部とトリエチルホスファイト4.0質量部を混合し、150℃で15時間撹拌した。続いて、減圧下で過剰なトリエチルホスファイトを留去することで、ジエチル(11−アセトキシウンデシル)ホスホナート3.3質量部を得た。 3.0 parts by mass of the obtained 11-bromoundecyl acetate and 4.0 parts by mass of triethylphosphite were mixed, and the mixture was stirred at 150 ° C. for 15 hours. Subsequently, excess triethylphosphite was distilled off under reduced pressure to obtain 3.3 parts by mass of diethyl (11-acetoxyundecyl) phosphonate.

得られたジエチル(11−アセトキシウンデシル)ホスホナート3.3質量部をジオキサン5.0質量部に溶解し、濃塩酸2.4質量部を添加した後、100℃で3日間撹拌した。冷却後ジエチルエーテルを加えて水層を単離し、0.1質量%の水酸化ナトリウム水溶液で水層がpH7になるまで中和した。析出体を濾過により回収し、水とメタノールで再沈殿することで、11−ヒドロキシウンデシルホスホン酸のナトリウム塩3.0質量部を得た。これをイオン交換樹脂で脱塩することにより、リン化合物(BH−1)を得た。リン化合物(BH−1)は11−ヒドロキシウンデシルホスホン酸(11−HUPA)である。 3.3 parts by mass of the obtained diethyl (11-acetoxyundecyl) phosphonate was dissolved in 5.0 parts by mass of dioxane, 2.4 parts by mass of concentrated hydrochloric acid was added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 3 days. After cooling, diethyl ether was added to isolate the aqueous layer, and the aqueous layer was neutralized with 0.1% by mass aqueous sodium hydroxide solution until the pH of the aqueous layer reached 7. The precipitate was collected by filtration and reprecipitated with water and methanol to obtain 3.0 parts by mass of a sodium salt of 11-hydroxyundecylphosphonic acid. This was desalted with an ion exchange resin to obtain a phosphorus compound (BH-1). The phosphorus compound (BH-1) is 11-hydroxyundecylphosphonic acid (11-HUPA).

<リン化合物(BH−2)の合成例>
11−ブロモウンデカノールの代わりに2−ブロモエタノールを使用したこと以外はリン化合物(BH−1)の合成例と同様にして、2−ヒドロキシエチルホスホン酸(2−HEPA)を得た。
<Synthesis example of phosphorus compound (BH-2)>
2-Hydroxyethylphosphonic acid (2-HEPA) was obtained in the same manner as in the synthesis example of the phosphorus compound (BH-1) except that 2-bromoethanol was used instead of 11-bromoundecanol.

<リン化合物(BH−3)の合成例>
11−ブロモウンデカノールの代わりに20−ブロモエイコサノールを使用したこと以外はリン化合物(BH−1)の合成例と同様にして、20−ヒドロキシエイコシルホスホン酸(20−HEPA)を得た。
<Synthesis example of phosphorus compound (BH-3)>
20-Hydroxyeicosylphosphonic acid (20-HEPA) was obtained in the same manner as in the synthetic example of the phosphorus compound (BH-1) except that 20-bromoeicosanol was used instead of 11-bromoundecanol. It was.

<コーティング液(R−1)の製造例>
前記合成例で得たリン化合物(BH−1)を水とメタノールの混合溶媒(質量比で水:メタノール=7:3)に25℃で溶解させ、固形分濃度1.0質量%のコーティング液(R−1)を得た。
<Production example of coating liquid (R-1)>
The phosphorus compound (BH-1) obtained in the synthesis example was dissolved in a mixed solvent of water and methanol (water: methanol = 7: 3 by mass ratio) at 25 ° C., and a coating solution having a solid content concentration of 1.0% by mass was dissolved. (R-1) was obtained.

<コーティング液(R−2)および(R−3)の製造例>
前記合成例で得たリン化合物(BH−1)を水とメタノールの混合溶媒(質量比で水:メタノール=7:3)に25℃で溶解させ、固形分濃度8.0質量%のコーティング液(R−2)および固形分濃度12.0質量%のコーティング液(R−3)を得た。
<Production examples of coating liquids (R-2) and (R-3)>
The phosphorus compound (BH-1) obtained in the synthesis example was dissolved in a mixed solvent of water and methanol (water: methanol = 7: 3 by mass ratio) at 25 ° C., and a coating liquid having a solid content concentration of 8.0% by mass was dissolved. (R-2) and a coating liquid (R-3) having a solid content concentration of 12.0% by mass were obtained.

<コーティング液(R−4)〜(R−7)及び(CR−1)〜(CR−2)の製造例>
リン化合物(BH)との種類を表1のとおりに変更した以外はコーティング液(R−1)の調製と同様にして、コーティング液(R−4)〜(R−7)及び(CR−1)〜(CR−2)を調製した。なお、コーティング液(R−6)の調製においてはリン化合物(BH−4)としてCHEMOS Gmbh&Co.KG製の4−ヒドロキシブチルジハイドロジェンホスフェート(4−HBDP)を使用した。コーティング液(R−7)の調製においてはリン化合物(BH−5)として株式会社同仁化学研究所製の10−カルボキシデシルホスホン酸(10−CDPA)を使用した。コーティング液(CR−1)の調製においてはリン化合物(BH−1)の代わりに株式会社和光ケミカル製のドデシルホスホン酸を使用した。コーティング液(CR−2)の調製においてはリン化合物(BH−1)の代わりに東京化成工業株式会社製の1−ドデカノールを使用した。
<Production examples of coating liquids (R-4) to (R-7) and (CR-1) to (CR-2)>
The coating liquids (R-4) to (R-7) and (CR-1) were prepared in the same manner as the coating liquid (R-1) except that the type with the phosphorus compound (BH) was changed as shown in Table 1. )-(CR-2) were prepared. In the preparation of the coating liquid (R-6), CHEMOS GmbH & Co. 4-Hydroxybutyl dihydrogen phosphate (4-HBDP) manufactured by KG was used. In the preparation of the coating liquid (R-7), 10-carboxydecylphosphonic acid (10-CDPA) manufactured by Dojin Chemical Laboratory Co., Ltd. was used as the phosphorus compound (BH-5). In the preparation of the coating liquid (CR-1), dodecylphosphonic acid manufactured by Wako Chemical Co., Ltd. was used instead of the phosphorus compound (BH-1). In the preparation of the coating liquid (CR-2), 1-dodecanol manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used instead of the phosphorus compound (BH-1).

<コーティング液(CR−3)の製造例>
主剤として、樹脂骨格中にシラノール基を有するポリウレタン系樹脂[三井化学株式会社製「タケラックWS−5000」(以下、「WS−5000」と略記する場合がある)]とイソシアネート系硬化剤[三井化学株式会社製「タケネートWD−725」(以下、「WD−725」と略記する場合がある)]を、WS−5000/WD−725=10/1、固形分濃度3.0質量%となるように水とメタノールの混合溶媒(質量比で水:メタノール=7:3)で希釈した。
<Production example of coating liquid (CR-3)>
As the main agent, a polyurethane resin having a silanol group in the resin skeleton [“Takelac WS-5000” manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd. (hereinafter, may be abbreviated as “WS-5000”)] and an isocyanate-based curing agent [Mitsui Chemicals] "Takenate WD-725" manufactured by Co., Ltd. (hereinafter, may be abbreviated as "WD-725")] so as to have WS-5000 / WD-725 = 10/1 and a solid content concentration of 3.0% by mass. Was diluted with a mixed solvent of water and methanol (water: methanol = 7: 3 by mass ratio).

<コーティング液(S−1)の製造例>
蒸留水230質量部を撹拌しながら70℃に昇温した。その蒸留水に、トリイソプロポキシアルミニウム88質量部を1時間かけて滴下し、液温を徐々に95℃まで上昇させ、発生するイソプロパノールを留出させることによって加水分解縮合を行った。得られた液体に、60質量%の硝酸水溶液4.0質量部を添加し、95℃で3時間撹拌することによって加水分解縮合物の粒子の凝集体を解膠させた。その後、その液体を、固形分濃度が酸化アルミニウム換算で10質量%になるように濃縮し、溶液を得た。こうして得られた溶液22.50質量部に対して、蒸留水54.29質量部およびメタノール18.80質量部を加え、均一になるように撹拌することによって、分散液を得た。続いて、液温を15℃に維持した状態で分散液を攪拌しながら85質量%のリン酸水溶液4.41質量部を滴下して加えた。さらに、メタノール溶液18.80質量部を滴下して加え、粘度が1,500mPa・sになるまで15℃で攪拌を続け、目的のコーティング液(S1−1)を得た。該コーティング液(S1−1)における、アルミニウム原子とリン原子とのモル比は、アルミニウム原子:リン原子=1.15:1.00であった。
<Production example of coating liquid (S-1)>
The temperature was raised to 70 ° C. with stirring 230 parts by mass of distilled water. 88 parts by mass of triisopropoxyaluminum was added dropwise to the distilled water over 1 hour, the liquid temperature was gradually raised to 95 ° C., and the generated isopropanol was distilled off to carry out hydrolysis condensation. To the obtained liquid, 4.0 parts by mass of a 60% by mass nitric acid aqueous solution was added, and the mixture was stirred at 95 ° C. for 3 hours to deflocce the aggregates of the particles of the hydrolyzed condensate. Then, the liquid was concentrated so that the solid content concentration was 10% by mass in terms of aluminum oxide to obtain a solution. To 22.50 parts by mass of the solution thus obtained, 54.29 parts by mass of distilled water and 18.80 parts by mass of methanol were added and stirred so as to be uniform to obtain a dispersion liquid. Subsequently, 4.41 parts by mass of an 85% by mass phosphoric acid aqueous solution was added dropwise while stirring the dispersion while maintaining the liquid temperature at 15 ° C. Further, 18.80 parts by mass of a methanol solution was added dropwise, and stirring was continued at 15 ° C. until the viscosity became 1,500 mPa · s to obtain a target coating liquid (S1-1). The molar ratio of aluminum atom to phosphorus atom in the coating liquid (S1-1) was aluminum atom: phosphorus atom = 1.15: 1.00.

<有機リン化合物(BO−1)の合成例>
窒素雰囲気下、ビニルホスホン酸10gおよび2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)2塩酸塩0.025gを水5gに溶解させ、80℃で3時間攪拌した。冷却後、重合溶液に水15gを加えて希釈し、セルロース膜であるスペクトラムラボラトリーズ社製の「Spectra/Por」(登録商標)を用いてろ過した。ろ液中の水を留去した後、50℃で24時間真空乾燥することによって、重合体(BO−1)を得た。重合体(BO−1)は、ポリ(ビニルホスホン酸)である。GPC分析の結果、該重合体の数平均分子量はポリエチレングリコール換算で10,000であった。
<Synthesis example of organic phosphorus compound (BO-1)>
Under a nitrogen atmosphere, 10 g of vinyl phosphonic acid and 0.025 g of 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride were dissolved in 5 g of water and stirred at 80 ° C. for 3 hours. After cooling, 15 g of water was added to the polymerization solution to dilute the solution, and the mixture was filtered using "Spectra / Por" (registered trademark) manufactured by Spectrum Laboratories, which is a cellulose film. After distilling off the water in the filtrate, the polymer (BO-1) was obtained by vacuum drying at 50 ° C. for 24 hours. The polymer (BO-1) is poly (vinyl phosphonic acid). As a result of GPC analysis, the number average molecular weight of the polymer was 10,000 in terms of polyethylene glycol.

<コーティング液(T−1)の製造例>
前記合成例で得た有機リン化合物(BO−1)を67質量%、高分子化合物(F)として重量平均分子量20,000のポリエチレングリコール(三洋化成工業株式会社製「PEG−20000)を33質量%含む混合物を準備した。この混合物を、水とメタノールの混合溶媒(質量比で水:メタノール=7:3)に溶解させ、固形分濃度が1質量%のコーティング液(T−1)を得た。
<Production example of coating liquid (T-1)>
67% by mass of the organophosphorus compound (BO-1) obtained in the synthesis example, and 33% by mass of polyethylene glycol ("PEG-20000" manufactured by Sanyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) having a weight average molecular weight of 20,000 as the polymer compound (F). A mixture containing% was prepared. This mixture was dissolved in a mixed solvent of water and methanol (water: methanol = 7: 3 in terms of mass ratio) to obtain a coating liquid (T-1) having a solid content concentration of 1% by mass. It was.

[実施例1]
<実施例1−1>
基材(X)として、PET12(基材(X−1))を準備した。この基材上に、乾燥後の厚さが0.010μmとなるようにバーコーターを用いてコーティング液(R−1)を塗工した。塗工後のフィルムを140℃で1分間乾燥させて、基材上に層(Z−1−1)を形成した。続いて、乾燥後の厚さが0.3μmとなるようにバーコーターを用いてコーティング液(S−1)を塗工した。塗工後のフィルムを、120℃で3分間乾燥させた後、180℃で1分間熱処理し、基材上に層(Y−1)前駆体を形成した。次いで、無機リン化合物(BI)の質量WBIと有機リン化合物(BO)の質量WBOの比WBO/WBI=1.10/98.90となるようにバーコーターを用いてコーティング液(T−1)を塗工し、110℃で3分間乾燥させた。このようにして、基材(X−1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)前駆体という構造を有する構造体を得た。続いて、前記構造体を220℃で1分間熱処理することで層(Y−1)を形成した。このようにして、基材(X−1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)という構造を有する多層構造体(1−1)を得た。
[Example 1]
<Example 1-1>
PET12 (base material (X-1)) was prepared as the base material (X). A coating liquid (R-1) was applied onto this substrate using a bar coater so that the thickness after drying was 0.010 μm. The coated film was dried at 140 ° C. for 1 minute to form a layer (Z-1-1) on the substrate. Subsequently, the coating liquid (S-1) was applied using a bar coater so that the thickness after drying was 0.3 μm. The coated film was dried at 120 ° C. for 3 minutes and then heat treated at 180 ° C. for 1 minute to form a layer (Y-1) precursor on the substrate. Then, the inorganic phosphorus compound (BI) Weight W BI and the organic phosphorus compound (BO) ratio W BO / W coating solution with a bar coater such that BI = 1.10 / 98.90 mass W BO of ( T-1) was applied and dried at 110 ° C. for 3 minutes. In this way, a structure having a structure of a base material (X-1) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) precursor was obtained. Subsequently, the structure was heat-treated at 220 ° C. for 1 minute to form a layer (Y-1). In this way, a multilayer structure (1-1) having a structure of a base material (X-1) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) was obtained.

多層構造体(1−1)の赤外線吸収スペクトルを前記(1)の方法で測定した結果、800〜1,400cm-1の領域における最大吸収波数は1,108cm-1であり、該最大吸収帯の半値幅は37cm-1であった。 Multilayer structure (1-1) Results of the infrared absorption spectrum was measured by the method (1), the maximum absorption wave number in the region of 800~1,400Cm -1 is 1,108Cm -1, said maximum absorption band The half-value width of was 37 cm -1 .

得られた多層構造体(1−1)上に接着層を形成し、該接着層上にONY15をラミネートすることによって積層体を得た。次に、該積層体のONY15上に接着層を形成した後、該接着層上にCPP60をラミネートし、40℃で5日間静置してエージングした。このようにして、基材(X)/層(Z−1−1)/層(Y−1)/接着層/ONY15/接着層/CPP60という構造を有する多層構造体(1−2)を得た。前記2つの接着層はそれぞれ、乾燥後の厚さが4μmとなるようにバーコーターを用いて2液型接着剤を塗工し、乾燥させることによって形成した。2液型接着剤には、三井化学株式会社製の「タケラック」(登録商標)の「A−520」(銘柄)と三井化学株式会社製の「タケネート」(登録商標)の「A−50」(銘柄)とからなる2液反応型ポリウレタン系接着剤を用いた。多層構造体(1−2)の酸素透過度および透湿度を前記(3)及び(4)の方法で測定した。結果を表2に示す。 An adhesive layer was formed on the obtained multilayer structure (1-1), and ONY15 was laminated on the adhesive layer to obtain a laminated body. Next, after forming an adhesive layer on ONY15 of the laminated body, CPP60 was laminated on the adhesive layer and allowed to stand at 40 ° C. for 5 days for aging. In this way, a multilayer structure (1-2) having a structure of a base material (X) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) / adhesive layer / ONY15 / adhesive layer / CPP60 is obtained. It was. Each of the two adhesive layers was formed by applying a two-component adhesive using a bar coater so that the thickness after drying was 4 μm, and drying the adhesive layer. Two-component adhesives include "A-520" (brand) of "Takelac" (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and "A-50" of "Takenate" (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. A two-component reaction type polyurethane adhesive consisting of (brand) was used. The oxygen permeability and moisture permeability of the multilayer structure (1-2) were measured by the methods (3) and (4) above. The results are shown in Table 2.

多層構造体(1−2)をヒートシールすることによってパウチを作製し、水100gをパウチ内に充填した。続いて、得られたパウチに対して以下の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った。
レトルト処理装置:株式会社日阪製作所製 フレーバーエースRSC−60
温度:125℃
時間:30分間
圧力:0.17MPaG
A pouch was prepared by heat-sealing the multilayer structure (1-2), and 100 g of water was filled in the pouch. Subsequently, the obtained pouch was subjected to retort treatment (hot water storage type) under the following conditions.
Retort processing equipment: Flavor Ace RSC-60 manufactured by Hisaka Works, Ltd.
Temperature: 125 ° C
Time: 30 minutes Pressure: 0.17 MPaG

熱水処理後すぐに、パウチから測定用サンプルを切り出し、該サンプルの酸素透過度、透湿度を前記(3)及び(4)の方法で測定した。結果を表2に示す。 Immediately after the hot water treatment, a measurement sample was cut out from the pouch, and the oxygen permeability and moisture permeability of the sample were measured by the methods (3) and (4) above. The results are shown in Table 2.

多層構造体(1−2)を用いて、レトルト折り曲げ試験によるデラミ発生率の測定を前記(5)の方法で実施した。結果を表2に示す。 Using the multilayer structure (1-2), the delamination occurrence rate was measured by the retort bending test by the method (5) above. The results are shown in Table 2.

<実施例1−2〜1−7>
コーティング液(R−1)に代えてコーティング液(R−2)〜(R−7)を用いたこと以外は、実施例1の多層構造体(1−1)と同様の方法により多層構造体(2−1)〜(7−1)を作製した。多層構造体(1−1)の代わりに多層構造体(2−1)〜(7−1)を用いた以外は実施例1の多層構造体(1−2)と同様の方法により多層構造体(2−2)〜(7−2)を作製し、評価した。結果を表1および表2に示す。
<Examples 1-2-1-7>
The multilayer structure is the same as that of the multilayer structure (1-1) of Example 1 except that the coating liquids (R-2) to (R-7) are used instead of the coating liquid (R-1). (2-1) to (7-1) were prepared. The multilayer structure is the same as that of the multilayer structure (1-2) of Example 1 except that the multilayer structures (2-1) to (7-1) are used instead of the multilayer structure (1-1). (2-2) to (7-2) were prepared and evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

<比較例1−1>
コーティング液(R−1)使用しなかったこと以外は実施例1と同様の方法により多層構造体(C1−1)および(C1−2)を作製し、評価した。結果を表1および表2に示す。
<Comparative Example 1-1>
Multilayer structures (C1-1) and (C1-2) were prepared and evaluated by the same method as in Example 1 except that the coating liquid (R-1) was not used. The results are shown in Tables 1 and 2.

<比較例1−2〜1−4>
コーティング液(R−1)に代えてコーティング液(CR−1)〜(CR−3)を用いたこと以外は、実施例1の多層構造体(1−1)と同様の方法により多層構造体(C2−1)〜(C4−1)を作製した。多層構造体(1−1)の代わりに多層構造体(C2−1)〜(C4−1)を用いた以外は実施例1の多層構造体(1−2)と同様の方法により多層構造体(C2−2)〜(C4−2)を作製し、評価した。結果を表1および表2に示す。
<Comparative Examples 1-2 to 1-4>
The multilayer structure is the same as that of the multilayer structure (1-1) of Example 1 except that the coating liquids (CR-1) to (CR-3) are used instead of the coating liquid (R-1). (C2-1) to (C4-1) were prepared. The multilayer structure is the same as that of the multilayer structure (1-2) of Example 1 except that the multilayer structures (C2-1) to (C4-1) are used instead of the multilayer structure (1-1). (C2-2) to (C4-2) were prepared and evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.

Figure 0006899733
Figure 0006899733

Figure 0006899733
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[実施例2]平パウチ
<実施例2−1>
実施例1−1で作製した多層構造体(1−2)を幅120mm×120mmに裁断し、CPP層が内側になるように2枚の多層構造体を重ね合わせ、長方形の3辺をヒートシールすることによって平パウチ(2−1−3)を形成した。その平パウチに水100mLを充填した。得られた平パウチに対して、実施例1−1と同一の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った結果、破袋および層間剥離の発生が無く良好な外観を保持した。
[Example 2] Flat pouch <Example 2-1>
The multilayer structure (1-2) produced in Example 1-1 is cut into a width of 120 mm × 120 mm, the two multilayer structures are overlapped so that the CPP layer is on the inside, and the three sides of the rectangle are heat-sealed. By doing so, a flat pouch (2-1-3) was formed. The flat pouch was filled with 100 mL of water. As a result of performing a retort treatment (hot water storage type) on the obtained flat pouch under the same conditions as in Example 1-1, good appearance was maintained without occurrence of bag breakage and delamination.

[実施例3]輸液バッグ
<実施例3−1>
実施例1−1で作製した多層構造体(1−2)から、120mm×100mmの多層構造体を2枚切り出した。続いて、切り出した2枚の多層構造体を、CPP層が内側になるように重ね合わせ、周縁をヒートシールするとともに、ポリプロピレン製のスパウト(口栓部材)をヒートシールによって取り付けて、図3と同様の構造を備えた輸液バッグ(3−1−3)を作製した。輸液バッグ(3−1−3)に水100mLを充填し、実施例1−1と同一の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った結果、破袋および層間剥離の発生無く良好な外観を保持した。
[Example 3] Infusion bag <Example 3-1>
From the multilayer structure (1-2) produced in Example 1-1, two 120 mm × 100 mm multilayer structures were cut out. Subsequently, the two cut-out multilayer structures are superposed so that the CPP layer is on the inside, the peripheral edge is heat-sealed, and a polypropylene spout (spout member) is attached by heat-sealing. An infusion bag (3-1-3) having a similar structure was prepared. As a result of filling the infusion bag (3-1-3) with 100 mL of water and performing retort treatment (hot water storage type) under the same conditions as in Example 1-1, the appearance was good without bag breakage and delamination. Was held.

[実施例4]容器用蓋材
<実施例4−1>
実施例1−1で作製した多層構造体(1−2)から、直径100mmの円形の多層構造体を切り取り、容器用の蓋材とした。また、容器本体として、フランジ付きの容器(東洋製罐株式会社製、「ハイレトフレックス」(登録商標)、「HR78−84」(商品名))を準備した。この容器は、上面の直径が78mmで高さが30mmのカップ形状を有する。容器の上面は解放されており、その周縁に形成されたフランジ部の幅は6.5mmである。容器は、オレフィン層/スチール層/オレフィン層の3層の積層体によって構成されている。次に、上記容器本体に水をほぼ満杯に充填し、蓋材をフランジ部にヒートシールして、蓋付き容器(4−1−3)を得た。このとき、蓋材のCPP層がフランジ部に接触するように配置して蓋材をヒートシールした。蓋付き容器(4−1−3)を、実施例1−1と同一の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った結果、容器の破損および層間剥離の発生が無く良好な外観を保持した。
[Example 4] Container lid material <Example 4-1>
From the multilayer structure (1-2) produced in Example 1-1, a circular multilayer structure having a diameter of 100 mm was cut out and used as a lid material for a container. Further, as the container body, a container with a flange (manufactured by Toyo Seikan Co., Ltd., "Hiretflex" (registered trademark), "HR78-84" (trade name)) was prepared. This container has a cup shape with an upper surface diameter of 78 mm and a height of 30 mm. The upper surface of the container is open, and the width of the flange portion formed on the peripheral edge thereof is 6.5 mm. The container is composed of a three-layer laminate of an olefin layer / a steel layer / an olefin layer. Next, the container body was filled with water almost completely, and the lid material was heat-sealed to the flange portion to obtain a container with a lid (4-1-3). At this time, the CPP layer of the lid material was arranged so as to be in contact with the flange portion, and the lid material was heat-sealed. As a result of performing a retort treatment (hot water storage type) on the container with a lid (4-1-3) under the same conditions as in Example 1-1, the container was not damaged and delamination did not occur, and a good appearance was maintained. did.

[実施例5]インモールドラベル容器
<実施例5−1>
2枚のCPP100のそれぞれに、乾燥後の厚さが3μmとなるようにバーコーターを用いて2液型接着剤を塗工して乾燥させた。2液型接着剤には、三井化学株式会社製の「タケラック」(登録商標)の「A−520」と三井化学株式会社製の「タケネート」(登録商標)の「A−50」とからなる2液反応型ポリウレタン系接着剤を用いた。次に、2枚のCPP100と実施例1−1の多層構造体(1−1)とをラミネートし、40℃で5日間静置してエージングして、CPP100/接着層/基材(X−1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)/接着層/CPP100という構造を有する多層ラベル(5−1−2)を得た。
[Example 5] In-mold label container <Example 5-1>
Each of the two CPP100s was coated with a two-component adhesive using a bar coater so that the thickness after drying was 3 μm, and dried. The two-component adhesive consists of "A-520" of "Takelac" (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and "A-50" of "Takenate" (registered trademark) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. A two-component reactive polyurethane adhesive was used. Next, the two CPP100s and the multilayer structure (1-1) of Example 1-1 were laminated, allowed to stand at 40 ° C. for 5 days for aging, and then CPP100 / adhesive layer / substrate (X-). A multilayer label (5-1-2) having a structure of 1) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) / adhesive layer / CPP100 was obtained.

多層ラベル(5−1−2)を容器成形型のメス型部の内壁表面の形状にあわせて切断し、メス型部の内壁表面に取り付けた。次に、オス型部をメス型部に押し込んだ。次に、溶融させたポリプロピレン(日本ポリプロ株式会社製の「ノバテック」(登録商標)の「EA7A」)をオス型部とメス型部との間のキャビティに220℃で注入して、射出成形を実施し、目的の容器(5−1−3)を成形した。容器本体の厚さは700μmであり、表面積は83cm2であった。容器の外側全体が多層ラベル(5−1−2)で覆われ、つなぎ目は多層ラベル(5−1−2)が重なり、多層ラベル(5−1−2)が容器の外側を覆わない箇所はなかった。容器(5−1−3)の外観は良好であった。 The multilayer label (5-1-2) was cut according to the shape of the inner wall surface of the female mold portion of the container molding mold, and attached to the inner wall surface of the female mold portion. Next, the male mold part was pushed into the female mold part. Next, molten polypropylene (“EA7A” of “Novatec” (registered trademark) manufactured by Japan Polypropylene Corporation) is injected into the cavity between the male and female molds at 220 ° C. for injection molding. This was carried out and the target container (5-1-3) was molded. The thickness of the container body was 700 μm, and the surface area was 83 cm 2 . The entire outside of the container is covered with the multi-layer label (5-1-2), the joints are overlapped with the multi-layer label (5-1-2), and the multi-layer label (5-1-2) does not cover the outside of the container. There wasn't. The appearance of the container (5-1-3) was good.

[実施例6]押出しコートラミネート
<実施例6−1>
実施例1−1において多層構造体(1−1)上の層(Y−1)上に接着層を形成した後、ポリエチレン樹脂(密度;0.917g/cm3、メルトフローレート;8g/10分)を厚さが20μmになるように該接着層上に295℃で押出しコートラミネートして、基材(X―1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)/接着層/ポリエチレンという構造を有するラミネート体(6−1−2)を得た。上記の接着層は、乾燥後の厚さが0.3μmとなるようにバーコーターを用いて2液型接着剤を塗工し、乾燥させることによって形成した。この2液型接着剤には、三井化学株式会社製の「タケラック」(登録商標)の「A−3210」と三井化学株式会社製の「タケネート」(登録商標)の「A−3070」とからなる2液反応型ポリウレタン系接着剤を用いた。ラミネート体(6−1−2)を、実施例1−1と同一の条件でレトルト処理(熱水貯湯式)を行った結果、層間剥離の発生が無く良好な外観を保持した。
[Example 6] Extruded coat laminate <Example 6-1>
After forming an adhesive layer on the layer (Y-1) on the multilayer structure (1-1) in Example 1-1, the polyethylene resin (density; 0.917 g / cm 3 , melt flow rate; 8 g / 10). Minutes) are extruded and coated-laminated on the adhesive layer at 295 ° C. so as to have a thickness of 20 μm, and the base material (X-1) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) / adhesive A laminated body (6-1-2) having a layer / polyethylene structure was obtained. The above-mentioned adhesive layer was formed by applying a two-component adhesive using a bar coater so that the thickness after drying was 0.3 μm, and drying the adhesive layer. This two-component adhesive consists of "Takelac" (registered trademark) "A-3210" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and "Takenate" (registered trademark) "A-3070" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. A two-component reaction type polyurethane adhesive was used. As a result of performing a retort treatment (hot water storage type) on the laminated body (6-1-2) under the same conditions as in Example 1-1, delamination did not occur and a good appearance was maintained.

[実施例7]充填物の影響
<実施例7−1>
実施例2−1で作製した平パウチ(2−1−3)に1.5%エタノール水溶液500mLを充填し、レトルト処理装置(日阪製作所製、フレーバーエースRCS−60)を使用して、120℃、2.5atmで30分間熱水中においてレトルト処理を行った結果、デラミネーションの発生が無く良好な外観を保持した。
[Example 7] Effect of packing <Example 7-1>
The flat pouch (2-1-3) prepared in Example 2-1 was filled with 500 mL of a 1.5% ethanol aqueous solution, and 120 using a retort processing device (Flavor Ace RCS-60 manufactured by Hisaka Works). As a result of retort treatment in hot water at 2.5 atm for 30 minutes, no delamination occurred and a good appearance was maintained.

<実施例7−2〜7−9>
1.5%エタノール水溶液500mLの代わりに他の充填物500mLを平パウチ(2−1−3)に充填したことを除き、実施例7−1と同様にレトルト処理を行った。そして、レトルト処理後の平パウチから測定用サンプルを切り出し、該サンプルの酸素透過度を測定した。他の充填物としては、1.0%エタノール水溶液(実施例7−2)、食酢(実施例7−3)、pH2のクエン酸水溶液(実施例7−4)、食用油(実施例7−5)、ケチャップ(実施例7−6)、醤油(実施例7−7)、しょうがペースト(実施例7−8)を用いた。いずれの場合も、レトルト処理後のサンプルの酸素透過度は、0.2mL/(m2・day・atm)であった。さらに、実施例5−1で作製した蓋付き容器(5−1−3)にみかんシロップをほぼ満杯に充填し、実施例7−1と同様にレトルト処理を行った(実施例7−9)。レトルト処理後は層間剥離の発生が無く良好な外観を保持した。
<Examples 7-2 to 7-9>
The retort treatment was carried out in the same manner as in Example 7-1, except that the flat pouch (2-1-3) was filled with 500 mL of another filling instead of 500 mL of the 1.5% ethanol aqueous solution. Then, a measurement sample was cut out from the flat pouch after the retort treatment, and the oxygen permeability of the sample was measured. Other fillings include 1.0% aqueous ethanol solution (Example 7-2), vinegar (Example 7-3), aqueous citric acid solution at pH 2 (Example 7-4), and cooking oil (Example 7-). 5), ketchup (Example 7-6), soy sauce (Example 7-7), and ginger paste (Example 7-8) were used. In each case, the oxygen permeability of the sample after the retort treatment was 0.2 mL / (m2 · day · atm). Further, the container with a lid (5-1-3) prepared in Example 5-1 was filled with mandarin orange syrup almost completely, and retort treatment was performed in the same manner as in Example 7-1 (Example 7-9). .. After the retort treatment, delamination did not occur and a good appearance was maintained.

実施例7−1〜7−9から明らかなように、本発明の包装材は、様々な食品を充填した状態でレトルト処理を行った後でも、良好な外観を保持した。 As is clear from Examples 7-1 to 7-9, the packaging material of the present invention maintained a good appearance even after being retort-packed with various foods.

[実施例8]真空断熱体
<実施例8−1>
CPP60上に、実施例5−1で用いた2液型接着剤を乾燥後の厚さが3μmとなるように塗工し、乾燥させることによって接着層を形成した。このCPPと実施例1−1で作製した多層構造体(1−1−1)のPET層とを貼り合せることによって積層体(8−1−1)を得た。続いて、ONYの上に、前記2液反応型ポリウレタン系接着剤を乾燥後の厚さが3μmとなるように塗工し、乾燥させることによって接着層を形成した。そして、このONYと積層体(8−1−1)とを貼り合わせることによって、CPP/接着層/基材(X−1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)/接着層/ONY、という構造を有する多層構造体(8−1−2)を得た。
[Example 8] Vacuum insulation <Example 8-1>
The two-component adhesive used in Example 5-1 was applied onto CPP60 so that the thickness after drying was 3 μm, and the adhesive layer was formed by drying. A laminate (8-1-1) was obtained by laminating this CPP with the PET layer of the multilayer structure (1-1-1) produced in Example 1-1. Subsequently, the two-component reaction type polyurethane adhesive was applied onto ONY so that the thickness after drying was 3 μm, and the adhesive layer was formed by drying. Then, by laminating this ONY and the laminated body (8-1-1), CPP / adhesive layer / base material (X-1) / layer (Z-1-1) / layer (Y-1) / A multilayer structure (8-1-2) having a structure of an adhesive layer / ONY was obtained.

多層構造体(8−1−2)を裁断し、サイズが700mm×300mmであるラミネート体を2枚得た。その2枚のラミネート体をCPP層同士が内面となるように重ね合わせ、3方を10mm幅でヒートシールして3方袋を作製した。次に、3方袋の開口部から断熱性の芯材を充填し、真空包装機を用いて20℃、内部圧力10Paの状態で3方袋を密封して、真空断熱体(8−1−3)を得た。断熱性の芯材にはシリカ微粉末を用いた。真空断熱体(8−1−3)を40℃、15%RHの条件下において360日間放置した後、ピラニー真空計を用いて真空断熱体の内部の圧力を測定した結果、37.0Paであった。 The multilayer structure (8-1-2) was cut to obtain two laminated bodies having a size of 700 mm × 300 mm. The two laminated bodies were laminated so that the CPP layers were on the inner surface, and heat-sealed on three sides with a width of 10 mm to prepare a three-sided bag. Next, a heat-insulating core material is filled from the opening of the three-sided bag, and the three-sided bag is sealed using a vacuum packaging machine at 20 ° C. and an internal pressure of 10 Pa to form a vacuum insulation body (8-1- 3) was obtained. Silica fine powder was used as the heat insulating core material. After leaving the vacuum insulation body (8-1-3) at 40 ° C. and 15% RH for 360 days, the pressure inside the vacuum insulation body was measured using a Pirani vacuum gauge and found to be 37.0 Pa. It was.

[実施例9]保護シート
<実施例9−1>
実施例1−1で作製した多層構造体(1−1)上に接着層を形成し、該接着層上にアクリル樹脂フィルム(厚さ50μm)をラミネートすることによって積層体を得た。続いて、該積層体の多層構造体(1−1)上に接着層を形成した後、PET50をラミネートして、PET/接着層/基材(X−1)/層(Z−1−1)/層(Y−1)/接着層/アクリル樹脂フィルム、という構成を有する保護シート(9−1−1)を得た。前記2つの接着層はそれぞれ、2液型接着剤を乾燥後の厚さが3μmとなるように塗工し、乾燥させることによって形成した。2液型接着剤には、三井化学株式会社製の「タケラック」(登録商標)の「A−1102」と三井化学株式会社製の「タケネート」(登録商標)の「A−3070」とからなる2液反応型ポリウレタン系接着剤を用いた。
[Example 9] Protective sheet <Example 9-1>
An adhesive layer was formed on the multilayer structure (1-1) produced in Example 1-1, and an acrylic resin film (thickness 50 μm) was laminated on the adhesive layer to obtain a laminate. Subsequently, after forming an adhesive layer on the multilayer structure (1-1) of the laminated body, PET50 is laminated, and PET / adhesive layer / base material (X-1) / layer (Z-1-1). ) / Layer (Y-1) / Adhesive layer / Acrylic resin film, a protective sheet (9-1-1) was obtained. Each of the two adhesive layers was formed by applying a two-component adhesive so that the thickness after drying was 3 μm and drying. The two-component adhesive consists of "Takelac" (registered trademark) "A-1102" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. and "Takenate" (registered trademark) "A-3070" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. A two-component reactive polyurethane adhesive was used.

続いて、得られた保護シート(9−1−1)の耐久性試験として、恒温恒湿試験機を用いて、大気圧下、85℃、85%RHの雰囲気下に1,000時間保護シートを保管する試験(ダンプヒート試験)を行った結果、層間剥離の発生無く良好な外観を保持した。 Subsequently, as a durability test of the obtained protective sheet (9-1-1), a protective sheet was used for 1,000 hours under atmospheric pressure, 85 ° C., and 85% RH using a constant temperature and humidity tester. As a result of a test (dump heat test) in which the waste was stored, a good appearance was maintained without delamination.

本発明は、多層構造体およびそれを用いた包装材、ならびに多層構造体の製造方法に利用できる。本発明によれば、レトルト処理後においても優れたバリア性を維持できるとともに、層間剥離等の外観不良を起こさず、高い層間接着力(剥離強度)を有する多層構造体を得ることが可能である。また、本発明の多層構造体を用いることによって、優れた包装材および電子デバイスが得られる。 The present invention can be used for a multilayer structure, a packaging material using the multilayer structure, and a method for producing the multilayer structure. According to the present invention, it is possible to obtain a multilayer structure having high interlayer adhesive strength (peeling strength) without causing appearance defects such as delamination while maintaining excellent barrier properties even after retort treatment. .. Further, by using the multilayer structure of the present invention, excellent packaging materials and electronic devices can be obtained.

10 縦製充填シール袋
11 多層構造体
11a 端部
11b 胴体部
20 平パウチ
11c 周縁部
401 輸液バッグ
410a、410b フィルム材(多層構造体)
411、412、413、414 周縁部
420 隔壁
431 バッグ本体
432 口栓部材
433 吊り下げ孔
360 容器
361、362、363 多層ラベル
361a 貫通孔
370 容器本体
371 フランジ部
372 胴体部
373 底部
371a 凸部
50 装置
51 押出機
52 Tダイ
53 冷却ロール
54 ゴムロール
501 積層体
502 樹脂フィルム
503 ラミネートフィルム(多層構造体)
601、602 真空断熱体
611 周縁部
620 隔壁
610、631、632 多層構造体
651、652 芯材
40 電子デバイス
41 電子デバイス本体
42 封止材
43 保護シート(多層構造体)
10 Vertical filling seal bag 11 Multi-layer structure 11a End 11b Body 20 Flat pouch 11c Periphery 401 Infusion bag 410a, 410b Film material (multi-layer structure)
411, 421, 413, 414 Peripheral part 420 Partition 431 Bag body 432 Plug member 433 Hanging hole 360 Container 361, 362, 363 Multi-layer label 361a Through hole 370 Container body 371 Flange part 372 Body part 373 Bottom part 371a Convex part 50 Device 51 Extruder 52 T-die 53 Cooling roll 54 Rubber roll 501 Laminated body 502 Resin film 503 Laminated film (multilayer structure)
601 and 602 Vacuum insulation 611 Peripheral part 620 Partition 610, 631, 632 Multilayer structure 651, 652 Core material 40 Electronic device 41 Electronic device body 42 Encapsulant 43 Protective sheet (multilayer structure)

Claims (14)

基材(X)と、前記基材(X)上に積層された層(Z)と、前記層(Z)上に積層された層(Y)とを含み、
前記層(Z)が、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)を含み、
前記層(Y)がアルミニウムを含む化合物(A)を含み、前記アルミニウムを含む化合物(A)が、アルミニウムを含む金属酸化物(Aa)と無機リン化合物(BI)との反応生成物(D)を含む化合物(Ab)を含み、
前記リン化合物(BH)の極性基がカルボキシル基または水酸基である、多層構造体。
A base material (X), a layer (Z) laminated on the base material (X), and a layer (Y) laminated on the layer (Z) are included.
The layer (Z) contains a phosphorus compound (BH) in which a polar group is bonded to a phosphorus atom having at least one hydroxyl group by an alkylene chain having 20 or less carbon atoms or a polyoxyalkylene chain.
The layer (Y) contains an aluminum-containing compound (A), and the aluminum-containing compound (A) is a reaction product (D) of an aluminum-containing metal oxide (Aa) and an inorganic phosphorus compound (BI). a compound containing an (Ab) seen including,
A multilayer structure in which the polar group of the phosphorus compound (BH) is a carboxyl group or a hydroxyl group.
前記リン化合物(BH)の少なくとも1つの水酸基を有するリン原子が、リン酸基、亜リン酸基、ホスホン酸基、亜ホスホン酸基、ホスフィン酸基、および亜ホスフィン酸基からなる群から選ばれる少なくとも1種の官能基である、請求項1に記載の多層構造体。 The phosphorus atom having at least one hydroxyl group of the phosphorus compound (BH) is selected from the group consisting of a phosphoric acid group, a phosphorous acid group, a phosphonic acid group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a phosphinic acid group. The multilayer structure according to claim 1, which is at least one functional group. 20℃、85%RHの条件下における酸素透過度が2.0mL/(m・day・atm)以下である、請求項1または2に記載の多層構造体。 The multilayer structure according to claim 1 or 2 , wherein the oxygen permeability under the conditions of 20 ° C. and 85% RH is 2.0 mL / (m 2 · day · atm) or less. 40℃、90/0%RHの条件下における透湿度が2.0g/(m・day)以下で
ある、請求項1〜のいずれか1項に記載の多層構造体。
The multilayer structure according to any one of claims 1 to 3 , wherein the moisture permeability under the conditions of 40 ° C. and 90/0% RH is 2.0 g / (m 2 · day) or less.
前記基材(X)が、熱可塑性樹脂フィルムおよび紙からなる群より選ばれる少なくとも1種の層を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の多層構造体。 The multilayer structure according to any one of claims 1 to 4 , wherein the base material (X) contains at least one layer selected from the group consisting of a thermoplastic resin film and paper. 請求項1に記載の多層構造体の製造方法であって、
基材(X)上に、炭素数20以下のアルキレン鎖またはポリオキシアルキレン鎖により少なくとも1つの水酸基を有するリン原子と極性基が結合されているリン化合物(BH)と溶媒とを含むコーティング液(R)を塗工することによって、層(Z)を形成する工程(I)と、
アルミニウムを含む化合物(A)と無機リン化合物(BI)と溶媒とを含むコーティング液(S)を層(Z)上に塗工することによって、層(Y)前駆体を形成する工程(II)と、
前記層(Y)前駆体を熱処理することで層(Y)を形成する工程(III)とを含む、製造方法。
The method for manufacturing a multilayer structure according to claim 1.
A coating liquid (BH) containing a phosphorus compound (BH) in which a phosphorus atom having at least one hydroxyl group and a polar group are bonded to a base material (X) by an alkylene chain having 20 or less carbon atoms or a polyoxyalkylene chain, and a solvent ( The step (I) of forming the layer (Z) by applying R) and
Step (II) of forming a layer (Y) precursor by applying a coating liquid (S) containing an aluminum-containing compound (A), an inorganic phosphorus compound (BI), and a solvent onto the layer (Z). When,
A production method comprising a step (III) of forming a layer (Y) by heat-treating the layer (Y) precursor.
請求項1〜のいずれか1項に記載の多層構造体を含む、包装材。 A packaging material comprising the multilayer structure according to any one of claims 1 to 5. 押出しコートラミネートにより形成された層をさらに有する、請求項に記載の包装材。 The packaging material according to claim 7 , further comprising a layer formed by an extruded coat laminate. 縦製袋充填シール袋、真空包装袋、パウチ、ラミネートチューブ容器、輸液バッグ、紙容器、ストリップテープ、容器用蓋材、またはインモールドラベル容器である、請求項またはに記載の包装材。 The packaging material according to claim 7 or 8 , which is a vertical bag filling seal bag, a vacuum packaging bag, a pouch, a laminated tube container, an infusion bag, a paper container, a strip tape, a lid material for a container, or an in-mold label container. 請求項のいずれか1項に記載の包装材が少なくとも一部に用いられている製品。 A product in which at least a part of the packaging material according to any one of claims 7 to 9 is used. 製品が内容物を含み、前記内容物が芯材であり、前記製品の内部が減圧されており、真空断熱体として機能する、請求項10に記載の製品。 The product according to claim 10 , wherein the product contains a content, the content is a core material, the inside of the product is depressurized, and the product functions as a vacuum heat insulating body. 請求項1〜のいずれか1項に記載の多層構造体を含む、電子デバイスの保護シート。 A protective sheet for an electronic device, comprising the multilayer structure according to any one of claims 1 to 5. 光電変換装置、情報表示装置、または照明装置の表面を保護する保護シートである、請求項12に記載の電子デバイスの保護シート。 The protective sheet for an electronic device according to claim 12 , which is a protective sheet for protecting the surface of a photoelectric conversion device, an information display device, or a lighting device. 請求項12または13に記載の保護シートを有する電子デバイス。 An electronic device having the protective sheet according to claim 12 or 13.
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