JP6839567B2 - Reaction vessel - Google Patents
Reaction vessel Download PDFInfo
- Publication number
- JP6839567B2 JP6839567B2 JP2017036795A JP2017036795A JP6839567B2 JP 6839567 B2 JP6839567 B2 JP 6839567B2 JP 2017036795 A JP2017036795 A JP 2017036795A JP 2017036795 A JP2017036795 A JP 2017036795A JP 6839567 B2 JP6839567 B2 JP 6839567B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow path
- hole
- bottomed tubular
- tubular body
- reaction vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
本開示は、99mTc生成用の99mTc反応容器に関する。 The present disclosure relates to a 99m Tc reaction vessel for 99m Tc production.
現在、医療の現場ではポジトロン断層法(PET;POSITRON EMISSION TOMOGRAPHY)や単光子放出コンピューター断層撮影(SPECT;SINGLE PHOTON EMISSION COMPUTER TOMOGRAPHY)などの診断法がなくてはならない技術となっている。これらの診断法は、放射性同位体を含む薬剤を体内に注入し、その放射性同位体が放出する放射線を測定することで、血流の診断、初期の悪性腫瘍の発見などを行なうことができる。用いられる放射性同位体は目的に応じて多種多様であり、PETには19Fが用いられ、SPECTでは、テクネシウム99(99mTc)の使用が主流となっている。 Currently, in the medical field, diagnostic methods such as POSITRON EMISSION TOMOGRAPHY (PET) and single photon emission computed tomography (SPECT) have become indispensable technologies. These diagnostic methods can diagnose blood flow, detect early malignant tumors, and the like by injecting a drug containing a radioisotope into the body and measuring the radiation emitted by the radioisotope. The radioisotopes used are diverse depending on the purpose, 19 F is used for PET, and technetium-99 ( 99 m Tc) is mainly used for SPECT.
99mTcは、半減期が6時間で、ガンマ線のみを放出し、臓器に付着させることによってSPECTにより画像を得ることができ、癌、心筋梗塞、脳血管障害、脳卒中などの疾病の早期発見のための画像診断として欠かせない放射性同位体である。 99m Tc has a half-life of 6 hours, emits only gamma rays, and can obtain images by SPECT by attaching it to organs, for early detection of diseases such as cancer, myocardial infarction, cerebrovascular accident, and stroke. It is a radioisotope that is indispensable for diagnostic imaging of.
PETで用いられる19F(半減期:約2時間)のほとんどは国内で生産されている。これに対して99mTcは、海外で生産された半減期が66時間と長い99Moを定期的に輸入し、そして、専用の処理施設において99Moのベータ崩壊により生成される99mTcを抽出して薬剤を製造し、この薬剤を各医療施設へ配送することにより各医療施設での画像診断に用いられている。 Most of the 19 F (half-life: about 2 hours) used in PET is produced domestically. On the other hand, 99 m Tc is produced overseas and has a long half-life of 66 hours. 99 Mo is regularly imported, and 99 m Tc produced by beta decay of 99 Mo is extracted in a dedicated processing facility. It is used for diagnostic imaging at each medical facility by manufacturing the drug and delivering this drug to each medical facility.
99Moは、カナダ、ベルギー、フランス、オランダおよび南アフリカの5か国の研究機関が運営する原子炉で製造されているが、昨今、原子炉の老朽化に伴う99Moの供給問題が顕在化している。このため99Moの製造方法が種々検討されている。また同時に、99mTcの抽出方法として、低コストで製造が容易な昇華法が検討されている。 99 Mo is manufactured in nuclear reactors operated by research institutes in five countries: Canada, Belgium, France, the Netherlands and South Africa. Recently, the supply problem of 99 Mo due to the aging of nuclear reactors has become apparent. There is. Therefore, various methods for producing 99 Mo have been studied. At the same time, as a method for extracting 99 m Tc, a sublimation method that is low in cost and easy to manufacture is being studied.
昇華法とは、以下に示す方法である。まず、容器中に100Mo箔を封入し、容器に15〜20MeVのエネルギーを持つガンマ線を照射する100Mo(γ,n)99Mo反応によって99Moが生成される。その後、Mo99のベータ崩壊により99mTcが生成され、容器に少量の酸素を混入させた高温のヘリウムガスを流すとともに、約800℃の温度に加熱することにより、99mTcが雰囲気中の少量の酸素と化合して四酸化テクネシウム(TcO4)となり蒸発する。その後、この蒸気をヘリウムガスと共に容器より取り出し、水酸化ナトリウム溶液に溶解させる。さらに、吸着剤であるアルミニウム酸化物(Al2O3)を詰めた容器中を通過させることにより99mTcをアルミニウム酸化物に吸着させ、その後、生理食塩水を流すことにより99mTcを抽出することができる。 The sublimation method is the method shown below. First, 100 Mo foil is sealed in a container, and 99 Mo is produced by a 100 Mo (γ, n) 99 Mo reaction in which the container is irradiated with gamma rays having an energy of 15 to 20 MeV. After that, 99 m Tc is generated by the beta decay of Mo 99, and by flowing high-temperature helium gas mixed with a small amount of oxygen into the container and heating it to a temperature of about 800 ° C., 99 m Tc is produced in a small amount in the atmosphere. It combines with oxygen to form technetium-tetraoxide (TcO 4 ) and evaporates. Then, this vapor is taken out from the container together with helium gas and dissolved in a sodium hydroxide solution. Further, 99 m Tc is adsorbed on the aluminum oxide by passing through a container filled with aluminum oxide (Al 2 O 3 ) which is an adsorbent, and then 99 m Tc is extracted by flowing physiological saline. Can be done.
昇華法の利点は、容器内に封入した100Mo箔を何らかの化学的処理を施すことなく半永久的に再利用できることである。したがって、容器を開封する必要がないので100Moの取扱いが容易となり、各医療施設で99mTcを直接生成することができる可能が見込まれている。 The advantage of the sublimation method is that the 100 Mo foil sealed in the container can be reused semi-permanently without any chemical treatment. Therefore, since it is not necessary to open the container, it is easy to handle 100 Mo, and it is expected that 99 m Tc can be directly generated at each medical facility.
なお、容器は、高温の酸素が容器を酸化して劣化させてしまうおそれがあるので、セラミックス製の容器の使用が検討されている。 Since high-temperature oxygen may oxidize and deteriorate the container, the use of a ceramic container is being considered.
また、100Mo箔は非常に高価格であることから、100Mo箔に比べて格段に低価
格なMoO3粉末の利用も検討されている。
In addition, since 100 Mo foil is very expensive, the use of MoO 3 powder, which is much cheaper than 100 Mo foil, is being considered.
99mTcと酸素とを化合して四酸化テクネシウムを安定して生成させるには、容器内のガス温度を一定の範囲内で保持する必要がある。そのため、容器内に導入するガス温度を容器内のガス温度に一致または近似させる必要がある。しかしながら、容器内のガス温度と一致または近似した温度のガスを容器外より安定して継続的に導入するには、ガスの導入管を加熱する機構や、導入前にガスを加熱する機構を外部に設けなければならなかった。 In order to stably produce technetium-tetraoxide by combining 99 m Tc and oxygen, it is necessary to keep the gas temperature in the container within a certain range. Therefore, it is necessary to match or approximate the gas temperature introduced into the container with the gas temperature inside the container. However, in order to stably and continuously introduce gas with a temperature that matches or approximates the gas temperature inside the container, a mechanism that heats the gas introduction pipe or a mechanism that heats the gas before introduction is externally used. Had to be provided in.
本開示は、上記事情に鑑みて案出されたものであり、簡易な構成において、容器内の温度を一定の範囲内に保持して四酸化テクネシウムを安定的に抽出することが可能な99mTc反応容器を提供することを目的とする。 The present disclosure has been devised in view of the above circumstances, and in a simple configuration, 99 m Tc capable of stably extracting technetium tetroxide while maintaining the temperature inside the container within a certain range. It is an object of the present invention to provide a reaction vessel.
本開示の99mTc反応容器は、セラミックスからなり、内部に隔壁を備える流路体と、セラミックスからなる有底筒状体とを備える。流路体は、有底筒状体の開口部を覆っている。流路体は、外部に繋がる第1孔と、有底筒状体に繋がる第2孔とを有し、第1孔と第2孔との間が少なくとも流路である。第1孔および第2孔は、隔壁を挟んで位置しており、流路体、有底筒状体、または、流路体と有底筒状体との間に、流路を介さず外部へ繋がる第3孔を有する。 The 99 m Tc reaction vessel of the present disclosure includes a flow path body made of ceramics and having a partition wall inside, and a bottomed tubular body made of ceramics. The flow path body covers the opening of the bottomed tubular body. The flow path body has a first hole connected to the outside and a second hole connected to the bottomed tubular body, and at least the flow path is between the first hole and the second hole. The first hole and the second hole are located so as to sandwich the partition wall, and are external to the flow path body, the bottomed tubular body, or between the flow path body and the bottomed tubular body without passing through the flow path. It has a third hole leading to.
本開示の99mTc反応容器は、簡易な構成において、容器内のガス温度を一定の範囲内に保持することができることから、四酸化テクネシウムを安定的に抽出することが可能となる。 Since the 99 m Tc reaction vessel of the present disclosure can maintain the gas temperature in the vessel within a certain range in a simple configuration, it is possible to stably extract technetium tetroxide.
以下、図面を適宜参照して、本開示の99mTc反応容器について詳細に説明する。 Hereinafter, the 99 m Tc reaction vessel of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings as appropriate.
図1および図2は、本開示の99mTc反応容器の一例を示す斜視図および分解斜視図であり、いずれの図においてもガス導入およびガス排出用の管を併せて示している。 1 and 2 are a perspective view and an exploded perspective view showing an example of the 99 m Tc reaction vessel of the present disclosure, and both views also show a pipe for gas introduction and gas discharge.
本開示の99mTc反応容器100(以下、単に「容器100」と記載する場合もある)は、セラミックスからなり、内部に隔壁24を備える流路体20と、セラミックスからなる有底筒状体10とを備えている。流路体20は有底筒状体10の開口部10aを覆っ
ている。
The 99 m
流路体20は、外部に繋がる第1孔31と、有底筒状体10に繋がる第2孔32とを有し、第1孔31と第2孔32との間が少なくとも流路23となっている。第1孔31と第2孔32とは、隔壁24を挟んで位置しており、流路体20、有底筒状体10、または、流路体20と有底筒状体10との間に、流路23を介さずに外部へ繋がる第3孔33を有している。
The
なお、図1および図2においては、ガスの導入管である第1管31aおよびガスの排出管である第3管33aを備えている例を示している。また、流路体20から有底筒状体10の内部へガスを導入するための第2管32aも例示している。
Note that FIGS. 1 and 2 show an example in which the
図1および図2に示す容器100の一例において、ガスの導入経路としては、第1管31aから流路体20の第1孔31を通って流路23へ導入され、第2孔32に向かって隔壁24に沿って流路23内を流れ、その後、第2孔32および第2管32aを通って有底筒状体10の内部へ導入される。
In the example of the
また、ガスの排出経路としては、有底筒状体10の内部から流路23を介さずに第3孔33、第3管33aを通って外部へ排出される。なお、排出は、図1および図2に示すような第3孔33から必ず排出されるものであることはなく、有底筒状体10の側面上部や、流路体20と有底筒状体10との間から排出されるものであってもよい。また、図1および図2に示すように、第1孔31および第3孔33が流路体20の上面に開口しているものであるときには、容器100の取扱いを容易なものとすることができる。
Further, as a gas discharge path, the gas is discharged from the inside of the bottomed
本開示の容器100では、有底筒状体10の内部にガスが直接導入されるのではなく、流路体20を流れた後に導入されるものであることから、容器100を加熱するための熱によってガスを加熱することができる。このように、ガスを直接容器100内に導入するのではなく、流路体20を流した後に容器100に導入する構成であることから、ガスの導入管を加熱する機構や、導入前にガスを加熱する機構を外部に設けることなく、導入するガスの温度を、有底筒状体10の内部のガス温度に一致または近似させることができる。その結果、容器100内のガス温度と一致または近似した温度のガスを安定して継続的に導入することができ、容器100内のガス温度は、一定の範囲内に保持されることから、四酸化テクネシウムを安定的に生成させることが可能となる。
In the
なお、流路体20から有底筒状体10の内部へガスを導入するための第2管32aを有していれば、これを有していないときよりも、有底筒状体10の内部のガス温度に一致またはより近似させることができる。
If the
また、図2に示す分解斜視図の一例では、第1孔31から第2孔32までの流路23を構成するにあたり、C形状の隔壁24を示しているが、この形状限らず、流路体20の内部の隔壁24の形状や設け方によって、第1孔31から第2孔32までの流路長を所望の長さに設定することができる。また、図1および図2において、ガスの排出は、流路23を介さずに外部へ繋がる第3孔33を通って第3管33aから行なっているが、流路体20に、流路23とはガスが混在することがないように、隔壁24の配置を行なって流路体20内を流した後に排出するようにすれば、導入するガスを有底筒状体10の内部のガス温度に一致または近似させることができる。
Further, in an example of the exploded perspective view shown in FIG. 2, a C-shaped
そして、本開示の容器100は、有底筒状体10と流路体20とがセラミックスからなることから、容器100を800℃程度の温度に加熱して、酸素(O2)を含有させたガスを導入した場合においても、金属製の容器に比べて酸化による劣化が起こりにくく、容
器100を長期間に亘って使用することができる。
In the
なお、本開示の容器100は、容器100内のガス温度の均一化や容器100の取扱い易さという観点からは、外形は、直径10mm〜100mm、高さ50mm〜200mmの円柱状とすればよく、壁の厚さは、外部より15〜20MeVのエネルギーを持つガンマ線を外部より容器100内部の試料に照射する、あるいは、取扱い上の強度という観点からは、0.5mm〜5mmとすればよい。
From the viewpoint of making the gas temperature in the
また、本開示では、流路体20と有底筒状体10との間に第1接合層41が位置していてもよい。
Further, in the present disclosure, the
内部に流路23および空間10b等の中空部を有する構造のセラミックスを一体的に成形・焼成することは一般には困難であるが、図2に示すように、第1部材21、第2部材22および有底筒状体10を個別に成形・焼成し、その後、第1接合層41および第2接合層42となるガラスペーストやセラミックペースト等の接合材を用いて接合すれば、内部に流路23および空間10b等の中空部を有する構造のセラミックスを比較的容易に製作をすることができる。
It is generally difficult to integrally mold and fire ceramics having a structure having a
なお、第1接合層41および第2接合層42がガラスからなる場合は、容器100の加熱温度にもよるが、例えば珪素酸化物と各種酸化物、窒化物などを混合して融点を1200℃以上に調整したガラスペーストを使用すればよい。
When the
また、第1接合層41および第2接合層42がセラミックスからなる場合は、流路体20および有底筒状体10に適応したセラミック材料と同材質のセラミック材料粉末をペースト状として使用すればよい。
When the
流路体20が第1部材21および第2部材22の2つの部材からなる構成だけでなく、3つ以上の部材を複数の第2接合層42で接合してなる構成としてもよい。このような構成とすることで流路体20内の流路長さをより自由に設計することができ、内部を流れる導入ガスへの伝熱面積を増加させより良好な加熱を実施することができる。
The
また、本開示では、セラミックスが炭化珪素(SiC)質焼結体であってもよい。また、金属である鉄の熱伝導率(84W/(m/K))に比べて高い熱伝導率、例えば熱伝導率が200W/(m/K)の炭化珪素質焼結体であれば、熱伝導性が良好なことから、外部より受けた熱を容器100の内部に効率よく伝えることができる。
Further, in the present disclosure, the ceramic may be a silicon carbide (SiC) material sintered body. Further, if it is a silicon carbide sintered body having a higher thermal conductivity than the thermal conductivity of iron, which is a metal (84 W / (m / K)), for example, a thermal conductivity of 200 W / (m / K). Since the thermal conductivity is good, the heat received from the outside can be efficiently transferred to the inside of the
次に、第1孔31に繋がる第1管31a、第3孔33に繋がる第3管33a、有底筒状体10の空間に位置する、第2孔32に繋がる第2管32aについて説明する。
Next, the
第1孔31に繋がる第1管31aおよび第3孔33に繋がる第3管33aを備えた場合、他の装置からの配管との接続を容易なものとすることができる。また、有底筒状体10の空間10bに位置する、第2孔32に繋がる第2管32aを有している場合、これを有していないときよりも、有底筒状体10の内部のガス温度に一致またはより近似させることができる。
When the
なお、第1管31a、第2管32aおよび第3管33aは円柱状の筒であり、長さや外形、内径は、容器100の大きさやガスの流量に応じて決めればよい。
The
また、本開示では、第1管31aおよび第3管33aがアルミナ質焼結体からなり、流路体20、有底筒状体10および第2管32aが炭化珪素質焼結体からなる構成であって
もよい。
Further, in the present disclosure, the
流路体20、有底筒状体10および第2管32aが、金属である鉄の熱伝導率(84W/(m/K))に比べて高い熱伝導率、例えば熱伝導率が200W/(m/K)の炭化珪素質焼結体であれば、熱伝導性が良好なことから、外部より容器100を加熱した際に、容器100内の温度を外部の温度に一致あるいは近似させやすくなり、容器100内の温度コントロールが容易となる。
The
また、第1管31aおよび第3管33aがアルミナ質焼結体からなる場合、アルミナがセラミック原料の中では低価格ではあるものの強度等の機械的特性においては必要十分な実用性を有しており、他の装置からの配管との接続において高い信頼性を得ることができるとともに安価で製作することができる。
Further, when the
そして本開示の99mTc反応容器100によれば、この容器100に100Mo箔あるいはMoO3粉末を封入し、その後、図3に示すガンマ線照射および加熱機構を有する加熱炉200内にセットし、しかる後、密閉した状態の容器100に15〜20MeVのエネルギーを持つガンマ線を照射して100Mo(γ,n)99Mo反応によって99Moを生成する。その後、容器100に少量の酸素を加えたヘリウムガスからなる導入ガス51を導入しながら約800℃に加熱することにより、99mTcを含む排出ガス52として取り出すことができる。なお、容器100へのガンマ線照射と、容器100の加熱とは、それぞれ異なる装置を用いて行なってもよい。
Then, according to the 99 m
次に、本開示の99mTc反応容器の製造方法の一例について説明する。 Next, an example of the method for producing the 99 m Tc reaction vessel of the present disclosure will be described.
最初に、有底筒状体10、流路体20、第1管31a、第2管32aおよび第3管33aが炭化珪素質焼結体からなる場合について説明する。
First, a case where the bottomed
まず平均粒径0.5〜10μm、純度99〜99.8%以上の炭化珪素1次原料を準備する。次に、この炭化珪素1次原料に炭素(C)やホウ素(B)、アルミナ(Al2O3)、イットリア(Y2O3)などの焼結助剤を添加して調合原料とする。次に、前記調合原料と同質量以上の水を加えてスラリーとし、これをボールミル等の粉砕機により平均粒径1μm以下となるように整粒する。次に、ボールミル内のスラリーにポリエチレングリコールやポリエチレンオキサイド等のバインダと分散剤とを適量添加し、その後、スラリーをスプレードライヤーにより噴霧造粒して炭化珪素2次原料を得る。 First, a silicon carbide primary raw material having an average particle size of 0.5 to 10 μm and a purity of 99 to 99.8% or more is prepared. Next, a sintering aid such as carbon (C), boron (B), alumina (Al 2 O 3 ), and yttria (Y 2 O 3 ) is added to the silicon carbide primary raw material to prepare a compounding raw material. Next, water having the same mass or more as that of the compounding raw material is added to form a slurry, which is sized by a crusher such as a ball mill so that the average particle size is 1 μm or less. Next, an appropriate amount of a binder such as polyethylene glycol or polyethylene oxide and a dispersant are added to the slurry in the ball mill, and then the slurry is spray-granulated with a spray dryer to obtain a silicon carbide secondary raw material.
そしてこの炭化珪素2次原料を静水圧プレス成形法(ラバープレス)や粉末プレス成形法、押出成形法にて成形し、必要に応じて切削加工を施した後、これを焼成炉にて非酸化雰囲気中1800〜2200℃の温度で焼成する。焼成後、研削加工により最終仕上げすることにより、純度99%以上の炭化珪素質焼結体からなる有底筒状体10、流路体20、第1管31a、第2管32aおよび第3管33aを得ることができる。
Then, this silicon carbide secondary raw material is molded by a hydrostatic pressure press molding method (rubber press), a powder press molding method, or an extrusion molding method, cut if necessary, and then non-oxidized in a firing furnace. Bake at a temperature of 1800 to 2200 ° C. in the atmosphere. After firing, it is finally finished by grinding to make a bottomed
次に、有底筒状体10、流路体20、第1管31a、第2管32aおよび第3管33aがアルミナ質焼結体からなる場合について説明する。
Next, a case where the bottomed
まず、平均粒径1μm程度、純度95%以上のアルミナ1次原料を準備する。次に、この1次原料を100質量%として、カルシウム(Ca)、珪素(Si)、マグネシウム(Mg)の酸化物からなる焼結助剤を1〜5質量%,ポリビニルアルコール等のバインダを1〜1.5質量%、溶媒として水を100質量%、分散剤を0.5質量%計量し、攪拌機の容器内に投入して混合・撹拌しスラリーとし、その後、スラリースプレードライヤーにより噴霧造粒しアルミナ2次原料を得る。 First, an alumina primary raw material having an average particle size of about 1 μm and a purity of 95% or more is prepared. Next, assuming that this primary raw material is 100% by mass, a sintering aid composed of oxides of calcium (Ca), silicon (Si), and magnesium (Mg) is 1 to 5% by mass, and a binder such as polyvinyl alcohol is 1 by mass. ~ 1.5% by mass, 100% by mass of water as a solvent, 0.5% by mass of a dispersant, put into a container of a stirrer to mix and stir to form a slurry, and then spray granulation with a slurry spray dryer. Alumina secondary raw material is obtained.
そしてこのアルミナ2次原料を静水圧プレス成形(ラバープレス)法や粉末プレス成形法、押出成形法にて成形し、必要に応じて切削加工を施した後、これを焼成炉にて大気雰囲気中1550〜1700℃の焼成温度で焼成する。焼成後、研削加工により最終仕上げすることにより、純度95%以上のアルミナ質焼結体からなる有底筒状体10、流路体20、第1管31a、第2管32aおよび第3管33aを得ることができる。
Then, this alumina secondary raw material is molded by a hydrostatic press molding (rubber press) method, a powder press molding method, or an extrusion molding method, and if necessary, cutting is performed, and then this is placed in an air atmosphere in a firing furnace. It is fired at a firing temperature of 1550 to 1700 ° C. After firing, it is finally finished by grinding to make a bottomed
そして、上記製造方法により得られた有底筒状体10および流路体20、第1管31a、第2管32a、第3管33aを、図2に示すように各部材を耐熱性ガラスペーストやセラミックペーストを用いて接合することで本開示の99mTc反応容器100を得ることができる。
Then, the bottomed
なお、容器が炭化珪素質焼結体、アルミナ質焼結体のいずれからなる場合も、有底筒状体10および流路体20を接続する第1接合層41、および、流路体20を構成する第1部材21および第2部材22を接続する第2接合層42は、各部材を焼成、研削加工して所望の形状にした後、接合面にガラスペーストやセラミックペーストを塗布した後に焼成することにより形成することができる。
When the container is made of either a silicon carbide sintered body or an alumina-based sintered body, the
第1接合層41および第2接合層42がガラスからなる場合、容器の加熱温度にもよるが、例えば珪素酸化物と各種酸化物、窒化物などを混合して融点を1200℃以上に調整したガラスペーストを使用すればよい。
When the
また、第1接合層41および第2接合層42がセラミックスからなる場合は、接合する各部材に適応したセラミック材料と同材質のセラミック材料粉末と、溶媒として水または有機溶剤と、各種バインダと、分散剤とを混合した接合用セラミックペーストを作製し、これを流路体20および有底筒状体10成形体の接合面に塗布して成形体同士を接合した後、乾燥、焼成する接合方法を用いることもできる。
When the
100 :99mTc反応容器
10 :有底筒状体
10a :開口部
10b :空間
20 :流路体
21 :第1部材
22 :第2部材
23 :流路
24 :隔壁
31 :第1孔
32 :第2孔
33 :第3孔
31a :第1管
32a :第2管
33a :第3管
41 :第1接合層
42 :第2接合層
51 :導入ガス
52 :排出ガス
200 :加熱炉
100: 99m Tc reaction vessel 10: bottomed
Claims (8)
セラミックスからなる有底筒状体とを備え、
前記流路体が前記有底筒状体の開口部を覆っており、
前記流路体は、外部に繋がる第1孔と、前記有底筒状体の内部空間に繋がる第2孔とを有し、前記第1孔と前記第2孔との間が少なくとも流路であり、
前記第1孔および前記第2孔は、前記隔壁を挟んで位置しており、
前記流路体、前記有底筒状体、または、前記流路体と前記有底筒状体との間に、前記流路を介さず前記有底筒状体の内部空間から外部へ繋がる第3孔を有する、99mTc反応容器。 A flow path body made of ceramics with a partition wall inside,
Equipped with a bottomed tubular body made of ceramics
The flow path body covers the opening of the bottomed tubular body, and the flow path body covers the opening of the bottomed tubular body.
The flow path body has a first hole connected to the outside and a second hole connected to the internal space of the bottomed tubular body, and at least the flow path is between the first hole and the second hole. Yes,
The first hole and the second hole are located so as to sandwich the partition wall.
A third that connects the flow path body, the bottomed tubular body, or between the flow path body and the bottomed tubular body from the internal space of the bottomed tubular body to the outside without passing through the flow path. A 99m Tc reaction vessel with 3 holes.
前記有底筒状体の内部空間に位置する、前記第2孔に繋がる第2管とをさらに備える、請求項1乃至請求項6のいずれかに記載の99mTc反応容器。 A first pipe connected to the first hole and a third pipe connected to the third hole, which are located outside the outside,
The 99 m Tc reaction vessel according to any one of claims 1 to 6, further comprising a second tube connected to the second hole, which is located in the internal space of the bottomed tubular body.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017036795A JP6839567B2 (en) | 2017-02-28 | 2017-02-28 | Reaction vessel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017036795A JP6839567B2 (en) | 2017-02-28 | 2017-02-28 | Reaction vessel |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018141725A JP2018141725A (en) | 2018-09-13 |
JP6839567B2 true JP6839567B2 (en) | 2021-03-10 |
Family
ID=63526607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017036795A Active JP6839567B2 (en) | 2017-02-28 | 2017-02-28 | Reaction vessel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6839567B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111760538A (en) * | 2020-07-10 | 2020-10-13 | 杭州三泽科技有限公司 | Ready-package chemical reaction cauldron |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL2580763T3 (en) * | 2010-06-09 | 2016-01-29 | General Atomics | Methods and apparatus for selective gaseous extraction of molybdenum-99 and other fission product radioisotopes |
JP5590527B2 (en) * | 2010-07-02 | 2014-09-17 | 独立行政法人日本原子力研究開発機構 | Molybdenum recovery from technetium 99m generator |
-
2017
- 2017-02-28 JP JP2017036795A patent/JP6839567B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018141725A (en) | 2018-09-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
González et al. | Organ-dedicated molecular imaging systems | |
Ahenkorah et al. | Bismuth-213 for targeted radionuclide therapy: from atom to bedside | |
Müller et al. | Direct in vitro and in vivo comparison of 161 Tb and 177 Lu using a tumour-targeting folate conjugate | |
CN105750538B (en) | The mthods, systems and devices that cyclotron for Tc 99m produces | |
US10371831B2 (en) | Mixed garnet oxide scintillators and corresponding systems and methods | |
Liu et al. | In vivo repeatedly activated persistent luminescence nanoparticles by radiopharmaceuticals for long‐lasting tumor optical imaging | |
JP6839567B2 (en) | Reaction vessel | |
JP2017504666A (en) | Polymer radiation source | |
US9165692B2 (en) | Radioactive glass source | |
Schwarz et al. | Preparation of 211At-labeled humanized anti-Tac using 211At produced in disposable internal and external bismuth targets | |
TW202038681A (en) | Manufacturing method for neutron moderating material | |
KR20220134691A (en) | Rechargeable Atomic Batteries by Pre-Activation Encapsulation Manufacturing | |
JP2013127446A (en) | Method of manufacturing radioactive molybdenum | |
CN109874346A (en) | Ceramic scintillators array, X-ray detector and X ray checking device | |
CN101757644A (en) | Structure of radioactive micro balls and preparation method | |
CN213424610U (en) | Target device for producing radioactive isotope | |
Zhang et al. | Sarcomatoid carcinoma of the lung mimics aspergilloma on ¹⁸F-FDG PET/CT | |
US20190284062A1 (en) | Radiation source for intra-lumen imaging capsule | |
KR20210082438A (en) | Gallium radionuclide manufacturing method | |
Moskvicheva et al. | The possibilities of modern methods of ablation in non-resectable locally advanced pancreatic cancer | |
CN203413818U (en) | Air heating device | |
CN110089201A (en) | For generating radioisotopic gas target system | |
KR101462520B1 (en) | Pet-mri complex medical device and method for treating using it | |
Mukherjee et al. | Development of semiautomated module for preparation of 131I labeled lipiodol for liver cancer therapy | |
Mukherjee et al. | Single vial kit formulation of DOTATATE for preparation of 177Lu‐labeled therapeutic radiopharmaceutical at hospital radiopharmacy |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20190712 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190819 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200818 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200907 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210202 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6839567 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |