JP6839423B2 - Stereolithography slurry and method for manufacturing stereolithography using it - Google Patents

Stereolithography slurry and method for manufacturing stereolithography using it Download PDF

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Description

本発明は、三次元の造形物を製造する光造形技術に使用されるスラリー及びそれを用いた光造形物の製造方法に関する。 The present invention relates to a slurry used in a stereolithography technique for producing a three-dimensional model and a method for producing a stereolithography using the slurry.

三次元の造形物を製造する技術として、光造形技術が知られている。
光造形技術は、光硬化性樹脂に光を照射して硬化する工程を繰り返して、三次元の造形物を製造する技術である。また、光硬化性樹脂にセラミックや金属の無機粒子を混合したスラリーに光を照射して硬化させ、得られた光硬化物から樹脂成分を除去し、無機成分を焼結させることによって、無機成分の骨格を有する三次元の造形物を得る方法も知られている。例えば特許文献1に示す光造形装置を用い、造形テーブル上にスラリーの薄層を塗布し、紫外線レーザーを走査し、所定のパターン形状にスラリーを硬化させるという工程を繰り返し、立体的に硬化された光硬化物を形成し、未硬化のスラリーを除去後、脱脂・焼結して樹脂成分を除去することにより、三次元の造形物を製造する。
光造形技術に使用されるスラリーは、リコータにより均一な層を塗布する際には良好な流動性を備え、塗布完了後は形状を維持するというチクソトロピー性を備える必要がある。
Stereolithography technology is known as a technology for manufacturing a three-dimensional modeled object.
The stereolithography technique is a technique for manufacturing a three-dimensional model by repeating a process of irradiating a photocurable resin with light to cure it. Further, a slurry in which inorganic particles of ceramic or metal are mixed with a photocurable resin is irradiated with light to be cured, the resin component is removed from the obtained photocurable product, and the inorganic component is sintered to obtain an inorganic component. A method of obtaining a three-dimensional model having the skeleton of is also known. For example, using the stereolithography apparatus shown in Patent Document 1, a thin layer of slurry was applied on a modeling table, an ultraviolet laser was scanned, and the process of curing the slurry into a predetermined pattern shape was repeated to cure the slurry three-dimensionally. A stereolithographic product is formed, and after removing the uncured slurry, a three-dimensional model is produced by degreasing and sintering to remove the resin component.
The slurry used in the stereolithography technique needs to have good fluidity when the uniform layer is applied by the recoater, and thixotropy to maintain the shape after the application is completed.

また、精密で微細な構造を有する造形物を製造するには、一度に塗布するスラリー層の厚みを薄くする必要があるが、スラリーに含有させる無機粒子の粒径が10[μm]より大きいと、スラリー層の表面の平滑性が低下して、高精細な造形が困難になる。そのため10[μm]以下という微細な粒径の無機粒子を混合したスラリーが必要である。(例えば特許文献2、3) Further, in order to produce a model having a precise and fine structure, it is necessary to reduce the thickness of the slurry layer to be applied at one time, but if the particle size of the inorganic particles contained in the slurry is larger than 10 [μm]. , The smoothness of the surface of the slurry layer is lowered, and high-definition modeling becomes difficult. Therefore, a slurry in which inorganic particles having a fine particle size of 10 [μm] or less are mixed is required. (For example, Patent Documents 2 and 3)

特開2018−20521号公報JP-A-2018-20521 特開2001−26609号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-26609 特開2007−237683号公報JP-A-2007-237683

高精細な造形物を製造するため、スラリーに含有させる無機粒子の粒径を小さくすると、無機粒子の凝集により、樹脂に無機粒子を均一に混合させることが困難になる。これを避けるために、無機粒子の含有率を低くすると、硬化した光硬化物を焼結した際に収縮しクラック等の不具合が発生し、光造形物の歩留まりを低下させるという問題がある。
また、スラリーは、塗布時には低い粘度を有し、塗布後には高い粘度を有するというチクソトロピー性を備える必要があるが、含有させる無機粒子の粒径を大きくすると、十分なチクソトロピー性を実現することが困難になる。
When the particle size of the inorganic particles contained in the slurry is reduced in order to produce a high-definition model, it becomes difficult to uniformly mix the inorganic particles in the resin due to the aggregation of the inorganic particles. In order to avoid this, if the content of the inorganic particles is lowered, there is a problem that when the cured photocured product is sintered, it shrinks and problems such as cracks occur, and the yield of the stereolithographic product is lowered.
Further, the slurry needs to have a thixotropy property of having a low viscosity at the time of coating and a high viscosity after coating, but if the particle size of the inorganic particles to be contained is increased, sufficient thixotropy property can be realized. It will be difficult.

上記課題を鑑み、本発明は、微細な粒径の無機粒子を含有するとともに、十分なチクソトロピー性を実現することができる光造形用スラリー及びそれを用いた光造形物の製造方法を提供することを課題とする。 In view of the above problems, the present invention provides a stereolithography slurry containing inorganic particles having a fine particle size and capable of achieving sufficient thixotropy, and a method for producing a stereolithography product using the slurry. Is the subject.

本発明に係る光造形用スラリーは、
第1の無機粒子と第2の無機粒子と光硬化性樹脂とを含み、
前記第1の無機粒子の平均粒径は1〜5[μm]であり、
前記第2の無機粒子の平均粒径は、前記第1の無機粒子の平均粒径の0.22倍以下であり、
前記第1の無機粒子に対する前記第2の無機粒子の体積比率は、0.01以上であり、
せん断速度10[1/s]における粘度は50[Pa・s]以下であり、
せん断速度0.01[1/s]における粘度は500[Pa・s]以上である、
ことを特徴とする。
The stereolithography slurry according to the present invention
It contains a first inorganic particle, a second inorganic particle, and a photocurable resin.
The average particle size of the first inorganic particles is 1 to 5 [μm].
The average particle size of the second inorganic particles is 0.22 times or less the average particle size of the first inorganic particles.
The volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.01 or more.
The viscosity at a shear rate of 10 [1 / s] is 50 [Pa · s] or less.
The viscosity at a shear rate of 0.01 [1 / s] is 500 [Pa · s] or more.
It is characterized by that.

このような光造形用スラリーとすることで、良好なチクソトロピー性を備えた高精細な光造形物を製造するためのスラリーを得ることができる。 By using such a slurry for stereolithography, it is possible to obtain a slurry for producing a high-definition stereolithography product having good thixotropy.

このような特性を有するスラリーとすることで、スラリーを均一に塗布するとともに、スラリーの積層が可能となり、高精細な3次元構造の光造形物の製造が容易になる。 By using a slurry having such characteristics, the slurry can be uniformly applied and the slurries can be laminated, which facilitates the production of a stereolithographic object having a high-definition three-dimensional structure.

また、本発明に係る光造形用スラリーは、
前記第1の無機粒子の体積比率が固化限界値以上であることを特徴とする。
Moreover, the slurry for stereolithography according to the present invention is
The first inorganic particles are characterized in that the volume ratio is equal to or greater than the solidification limit value.

また、本発明に係る光造形用スラリーは、
前記第1の無機粒子と前記第2の無機粒子を合わせた体積比率は65〜70[vol%]であることを特徴とする。
Moreover, the slurry for stereolithography according to the present invention is
The total volume ratio of the first inorganic particles and the second inorganic particles is 65 to 70 [vol%].

また、本発明に係る光造形用スラリーは、
前記第1の無機粒子に対する前記第2の無機粒子の体積比率が、0.10〜0.15であることを特徴とする。
Moreover, the slurry for stereolithography according to the present invention is
The volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.10 to 0.15.

このような光造形用スラリーを用いることにより、前記光造形用スラリーから形成される光硬化物を焼結する際の収縮を低減し、高精細な光造形物を、精度良く製造することが可能となる。 By using such a stereolithography slurry, it is possible to reduce shrinkage when sintering a photocured product formed from the stereolithography slurry, and to produce a high-definition stereolithography product with high accuracy. It becomes.

本発明に係る光造形物の製造方法は、
上記の光造形用スラリーを吐出する第1の工程と、
前記光造形用スラリーを引き延ばし厚さ5〜200[μm]のスラリー層を形成する第2の工程と、
所定のパターン形状に走査してレーザー光を前記スラリー層に照射する第3の工程と、
前記第1、第2及び第3の工程を繰り返し、前記スラリー層から光硬化物を形成する工程と、
前記光硬化物を熱処理し前記光硬化性樹脂を除去する第1の熱処理工程と、
前記第1の熱処理工程の後に前記光硬化物を熱処理し焼結する第2の熱処理工程と
を含むことを特徴とする。
The method for manufacturing a stereolithographic object according to the present invention is
The first step of discharging the above-mentioned stereolithography slurry and
The second step of stretching the stereolithography slurry to form a slurry layer having a thickness of 5 to 200 [μm], and
A third step of scanning the slurry layer into a predetermined pattern shape and irradiating the slurry layer with laser light.
A step of forming a photocured product from the slurry layer by repeating the first, second and third steps, and
The first heat treatment step of heat-treating the photocurable product to remove the photocurable resin, and
It is characterized by including a second heat treatment step of heat-treating and sintering the photocured product after the first heat treatment step.

本発明に係る光造形物の製造方法は、
前記第1の工程又は前記第1の工程と前記第2の工程において、前記光造形用スラリーの温度を35〜60[℃]に保持することを特徴とする。
The method for manufacturing a stereolithographic object according to the present invention is
In the first step or the first step and the second step, the temperature of the stereolithography slurry is maintained at 35 to 60 [° C.].

このような光造形物の製造方法により、高精細な光造形物を容易に再現性よく製造することができる。 By such a method for manufacturing a stereolithographic object, a high-definition stereolithographic object can be easily produced with good reproducibility.

本発明によれば、微細な粒径の無機粒子を高密度で含有するとともに、十分なチクソトロピー性を実現することができる光造形用スラリー及びそれを用いた光造形方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a stereolithography slurry capable of containing inorganic particles having a fine particle size at a high density and realizing sufficient thixotropy, and a stereolithography method using the slurry.

光造形装置の主要部分を示す概念図。The conceptual diagram which shows the main part of a stereolithography apparatus. 2種の粒子による最密充填状態を示す図。The figure which shows the close-packed state by two kinds of particles. 粘度のせん断速度依存性。Viscosity shear rate dependence.

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は、いずれも本発明の要旨の認定において限定的な解釈を与えるものではない。また、同一又は同種の部材については同じ参照符号を付して、説明を省略することがある。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. However, none of the following embodiments give a limiting interpretation in finding the gist of the present invention. Further, the same or the same type of members may be designated by the same reference numerals and the description thereof may be omitted.

なお、無機粒子の粒子径は対数正規分布に従い、無機粒子の「平均粒径」とは、粒子径の粒度分布における積算値50%での粒子径のことを意味する。粒子径(粒径)の測定は、湿式レーザー回折・散乱法(Microtrac MT330)及びSEM観察測定を用いた。 The particle size of the inorganic particles follows a lognormal distribution, and the "average particle size" of the inorganic particles means the particle size at an integrated value of 50% in the particle size distribution of the particle size. The particle size (particle size) was measured by using a wet laser diffraction / scattering method (Microtrac MT330) and SEM observation measurement.

(実施形態1)
以下、光造形技術に使用する光硬化性樹脂に無機粒子を含有するスラリーについて説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, a slurry containing inorganic particles in a photocurable resin used in a stereolithography technique will be described.

<光造形物の製造工程>
図1は、特許文献1に開示される光造形装置の主要部分を示す概念図である。
図1(a)に示すように、光造形用スラリー1は、ディスペンサー2から吐出され、補助テーブル3の上面に堆積される。
その後、図1(b)に示すように、リコータ4は、造形テーブル5の上方で図中Y方向に、例えば速度1〜5[mm/s]で移動し、補助テーブル3の上面に堆積されたスラリー1を、造形テーブル5の造形面5a上に引き延ばし、均一な厚さのスラリー層1aを形成する。なお、リコータ4の移動速度は、スラリー1の粘度特性、塗布厚により適宜調整される。
リコータ4の速度は、例えば、スラリー層1aの厚み50[μm]に対して、典型的なせん断速度として20〜200[1/s]となるように設定するのであれば、上記の速度1〜5[mm/s]となる。なお、リコータ4の速度はスラリー1の特性、特に後述するチクソトロピー性に依存する。
スラリー層1aの厚さは、5〜200[μm]であり、さらに、高精細な光造形物を製造するために好適なスラリー層1aの厚さは5〜50[μm]である。
スラリー層1aの厚さは、リコータ4のZ方向の高さにより調整することができる。
すなわち、造形面5a(又は後述する、直前に形成されたスラリー層1a)の上面(表面)が構成するXY平面とリコータ4の下端部が通過するXY平面とがZ方向に形成する間隔により、リコータ4の移動によって形成するスラリー層1aの厚さが決定される。
<Manufacturing process of stereolithography>
FIG. 1 is a conceptual diagram showing a main part of the stereolithography apparatus disclosed in Patent Document 1.
As shown in FIG. 1A, the stereolithography slurry 1 is discharged from the dispenser 2 and deposited on the upper surface of the auxiliary table 3.
After that, as shown in FIG. 1 (b), the recorder 4 moves above the modeling table 5 in the Y direction in the drawing, for example, at a speed of 1 to 5 [mm / s], and is deposited on the upper surface of the auxiliary table 3. The slurry 1 is stretched on the modeling surface 5a of the modeling table 5 to form a slurry layer 1a having a uniform thickness. The moving speed of the recorder 4 is appropriately adjusted according to the viscosity characteristics of the slurry 1 and the coating thickness.
For example, if the speed of the recorder 4 is set to be 20 to 200 [1 / s] as a typical shearing speed with respect to the thickness of the slurry layer 1a of 50 [μm], the above speeds 1 to 1 It becomes 5 [mm / s]. The speed of the recorder 4 depends on the characteristics of the slurry 1, especially the thixotropy property described later.
The thickness of the slurry layer 1a is 5 to 200 [μm], and the thickness of the slurry layer 1a suitable for producing a high-definition stereolithography is 5 to 50 [μm].
The thickness of the slurry layer 1a can be adjusted by adjusting the height of the recoater 4 in the Z direction.
That is, due to the interval formed in the Z direction between the XY plane formed by the upper surface (surface) of the modeling surface 5a (or the slurry layer 1a formed immediately before) and the XY plane through which the lower end of the recoater 4 passes. The thickness of the slurry layer 1a formed by the movement of the recorder 4 is determined.

その後、形成されたスラリー層1aには、スラリー1に含有される光硬化性樹脂の感光波長を有するレーザー光が走査露光される。
レーザー光の光路は、図示しないレンズやミラーを用いた光学系により制御され、XY平面上の所定のパターンにレーザー光が走査される。
レーザー光が照射された箇所では、スラリー1に含有される光硬化性樹脂が光化学反応により硬化する。その結果、スラリー層1a内のスラリー1のうち、走査露光された所定のパターンの箇所が硬化され、硬化層6が形成される。レーザー光が照射されなかった箇所は、未硬化のスラリー1のまま残る。
After that, the formed slurry layer 1a is scanned and exposed to laser light having a photosensitive wavelength of the photocurable resin contained in the slurry 1.
The optical path of the laser beam is controlled by an optical system using a lens or a mirror (not shown), and the laser beam is scanned in a predetermined pattern on the XY plane.
At the portion irradiated with the laser light, the photocurable resin contained in the slurry 1 is cured by a photochemical reaction. As a result, in the slurry 1 in the slurry layer 1a, the portion of the predetermined pattern that has been scanned and exposed is cured, and the cured layer 6 is formed. The portion not irradiated with the laser beam remains as the uncured slurry 1.

その後、造形テーブル5が、スラリー層1aの厚さに相当する距離、例えば5〜200[μm]、Z方向に移動(降下)する。その結果、硬化層6の上面が、補助テーブル3と同じ高さになり、図1(a)に示した状態となる。
ここで、光造形用スラリー1をディスペンサー2から吐出する第1の工程と、光造形用スラリー1をリコータ4により引き延ばし、硬化層6上に新たなスラリー層1aを形成する第2の工程と、スラリー層1aにレーザー光を所定のパターン形状に照射する第3の工程を繰り返す。
After that, the modeling table 5 moves (descends) in the Z direction at a distance corresponding to the thickness of the slurry layer 1a, for example, 5 to 200 [μm]. As a result, the upper surface of the cured layer 6 has the same height as the auxiliary table 3, and is in the state shown in FIG. 1 (a).
Here, a first step of discharging the stereolithography slurry 1 from the dispenser 2 and a second step of stretching the stereolithography slurry 1 by the recoater 4 to form a new slurry layer 1a on the cured layer 6. The third step of irradiating the slurry layer 1a with laser light in a predetermined pattern shape is repeated.

以上の工程が所定の回数繰り返され、硬化層6がZ方向に積層される。積層された硬化層6は、所定の3次元形状に硬化された光硬化物を形成している。 The above steps are repeated a predetermined number of times, and the cured layers 6 are laminated in the Z direction. The laminated cured layer 6 forms a photocured product cured into a predetermined three-dimensional shape.

スラリー1は、上記のように吐出工程と引き延ばす工程に使用され、吐出工程と引き延ばす工程が繰り返されてスラリー層が積層されるため、チクソトロピー性を有することが好ましい。チクソトロピー性とは、静止状態では高い粘度を有し、せん断速度が高くなると粘度が低下することをいう。せん断速度が高い状態で低い粘度を有することにより、スラリー1を吐出し、引き延ばすことが可能となる。静止状態で高い粘度を有することにより、積層されたスラリー層の形状維持が可能となる。せん断速度が高い状態で低い粘度を有するとは、好適には、せん断速度10[1/s]において、50[Pa・s]以下である。ここで、せん断速度10[1/s]は、リコータ4の移動速度を考慮した値である。静止状態で高い粘度を有するとは、好適には、せん断速度0.01[1/s]において、500[Pa・s]以上である。 The slurry 1 is used in the discharging step and the stretching step as described above, and since the slurry layer is laminated by repeating the discharging step and the stretching step, it is preferable to have thixotropic property. Thixotropy means that it has a high viscosity in a stationary state, and the viscosity decreases as the shear rate increases. Having a low viscosity while the shear rate is high makes it possible to discharge and stretch the slurry 1. Having a high viscosity in a stationary state makes it possible to maintain the shape of the laminated slurry layers. Having a low viscosity in a high shear rate is preferably 50 [Pa · s] or less at a shear rate of 10 [1 / s]. Here, the shear rate 10 [1 / s] is a value in consideration of the moving speed of the recorder 4. Having a high viscosity in a stationary state is preferably 500 [Pa · s] or more at a shear rate of 0.01 [1 / s].

上記チクソトロピー性を有するスラリーを用いて、例えばせん断速度10[1/s]以上の速さで、リコータ4により引き延ばすことで均一に再現性よくスラリーの層を順次積層することができる。ここで、積層数が増大するに従って、積層された未硬化のスラリーに加わる重力が増大するため、積層された状態で塗布後の形状を維持するためにはスラリーに高い粘度が要求される。せん断速度0.01[1/s]において、500[Pa・s]以上であるスラリーを用いれば、積層されたスラリー層の形状を維持でき、その結果として、精度の高い三次元造形物を得ることができる。 Using the above-mentioned slurry having thixotropy, for example, by stretching the slurry with a recoater 4 at a shear rate of 10 [1 / s] or more, the layers of the slurry can be sequentially laminated uniformly and with good reproducibility. Here, as the number of layers increases, the gravity applied to the laminated uncured slurry increases, so that the slurry is required to have a high viscosity in order to maintain the shape after coating in the laminated state. By using a slurry having a shear rate of 0.01 [1 / s] and 500 [Pa · s] or more, the shape of the laminated slurry layers can be maintained, and as a result, a highly accurate three-dimensional model can be obtained. be able to.

なお、塗布時の粘度を低減するため、ディスペンサー2、リコータ4及び補助テーブル3の温度をコントロールし、スラリー1の温度を35℃〜60℃に保持してもよい。特に、チクソトロピー性により、静止時の粘度が非常に高い場合、ディスペンサー2からの吐出が困難になることがある。
その場合、少なくともディスペンサー2及びリコータ4の温度を35〜60℃の範囲で保持することにより、スラリー1の粘度が低減し、スラリー1の吐出を滑らかに行うことができる。
ただし、保持温度が60℃を超えると、光硬化性樹脂が熱的に反応し、光硬化性能が劣化する場合があるため、保持温度は60℃を超えないことが好ましい。
In addition, in order to reduce the viscosity at the time of coating, the temperature of the dispenser 2, the recoater 4 and the auxiliary table 3 may be controlled, and the temperature of the slurry 1 may be maintained at 35 ° C to 60 ° C. In particular, due to thixotropy, when the viscosity at rest is very high, it may be difficult to discharge from the dispenser 2.
In that case, by keeping the temperatures of the dispenser 2 and the recoater 4 at least in the range of 35 to 60 ° C., the viscosity of the slurry 1 can be reduced and the slurry 1 can be discharged smoothly.
However, if the holding temperature exceeds 60 ° C., the photocurable resin may thermally react and the photocuring performance may deteriorate. Therefore, it is preferable that the holding temperature does not exceed 60 ° C.

その後、未硬化のスラリー1を、有機溶媒等により溶解させて除去し、所定の3次元形状に硬化された領域を光硬化物として残存させる。 Then, the uncured slurry 1 is dissolved and removed with an organic solvent or the like, and the region cured into a predetermined three-dimensional shape remains as a photocured product.

その後、3次元パターン形状に硬化された光硬化物を、大気雰囲気(酸素含有雰囲気)で、例えば500〜600℃まで徐々に昇温し、熱処理を施し、光硬化物に含有されている樹脂成分を分解して、気化させることにより脱脂する。
その後、さらに昇温し、例えば無機材料としてセラミックス粒子を用いる場合では1500−1600℃の熱処理により、光硬化物に含有されている無機粒子を焼結した後、室温まで降温する。
上記脱脂の工程と、焼結の工程は引き続いて連続して行ってもよいが、別工程として実行してもよい。
After that, the photo-cured product cured into a three-dimensional pattern shape is gradually heated to, for example, 500 to 600 ° C. in an air atmosphere (oxygen-containing atmosphere) and heat-treated to obtain a resin component contained in the photo-cured product. Is degreased by decomposing and vaporizing.
After that, the temperature is further raised, and when ceramic particles are used as the inorganic material, for example, the inorganic particles contained in the photocured product are sintered by heat treatment at 1500-1600 ° C., and then the temperature is lowered to room temperature.
The degreasing step and the sintering step may be continuously performed, but may be performed as separate steps.

以上の工程により、無機材料焼結体からなる高精細な3次元の光造形物を提供することができる。 Through the above steps, it is possible to provide a high-definition three-dimensional stereolithography made of an inorganic material sintered body.

<スラリー>
高精細な光造形物を得るためのスラリーに要求される事項としては、(1)光硬化体を形成する際の工程上の要求からのチクソトロピー性を有すること、(2)焼結工程における収縮が低減されていることの2点が挙げられる。本発では、光硬化性樹脂と無機粒子を主たる構成成分とし、無機粒子の粒径及び含有率を特定の範囲にすることによって、上記の要求を同時に満たすスラリーを提供する。
<Slurry>
The requirements for the slurry to obtain a high-definition stereolithography are (1) having thixotropy from the process requirements for forming a photocured body, and (2) shrinkage in the sintering process. There are two points that is reduced. In this invention, a slurry that simultaneously satisfies the above requirements is provided by using a photocurable resin and inorganic particles as main constituents and setting the particle size and content of the inorganic particles within a specific range.

<無機粒子の粒径>
本発明にかかるスラリーは、2種の異なる平均粒径を有する無機粒子及び液状の光硬化性樹脂を含有する。異なる平均粒径を有する無機粒子のうち、粒径の大きい方を第1の無機粒子、小さい方を第2の無機粒子とする。
<Diameter of inorganic particles>
The slurry according to the present invention contains two kinds of inorganic particles having different average particle diameters and a liquid photocurable resin. Among the inorganic particles having different average particle diameters, the one having the larger particle size is referred to as the first inorganic particle, and the smaller one is referred to as the second inorganic particle.

第1の無機粒子の平均粒径の好適な範囲は1〜5μmである。第1の無機粒子の平均粒径が5μmを超えると、スラリー層の厚みに対して無機粒子が大きくなり過ぎ、引き延ばし工程においてスラリー層が均一に形成されない場合が生じ、また形成されるスラリー層の平滑性が不十分となる。1μm未満であると、無機粒子による凝集力が強くなり、スラリーの粘度が高くなり、工程上要求される流動性を確保できなくなる。 A preferable range of the average particle size of the first inorganic particles is 1 to 5 μm. If the average particle size of the first inorganic particles exceeds 5 μm, the inorganic particles become too large with respect to the thickness of the slurry layer, and the slurry layer may not be uniformly formed in the stretching step, and the slurry layer formed may not be uniformly formed. Insufficient smoothness. If it is less than 1 μm, the cohesive force of the inorganic particles becomes strong, the viscosity of the slurry becomes high, and the fluidity required in the process cannot be secured.

第2の無機粒子は、第1の無機粒子と比較して充分小さいことを特徴とする。充分小さいとは、第1の無機粒子が充填された隙間に、第2の無機粒子が入り込むことができる程度の差があることをいう。このように大きさが充分異なる2種の粒子が混在することによって、第2の無機粒子が無ければ光硬化性樹脂によって占められたであろうスラリー内の空間が、第2の無機粒子によって置き換えられる。この結果、第1の無機粒子が単独で配合される場合との比較において、単位体積あたりのスラリーにおける無機粒子が占める体積の割合、即ち無機粒子の含有率を高めることができる。無機粒子の含有率が高いことは、焼結工程での収縮を抑制するうえで有効である。 The second inorganic particle is characterized in that it is sufficiently small as compared with the first inorganic particle. “Sufficiently small” means that there is a difference in the gap filled with the first inorganic particles to the extent that the second inorganic particles can enter. By mixing two kinds of particles having sufficiently different sizes in this way, the space in the slurry that would have been occupied by the photocurable resin without the second inorganic particles is replaced by the second inorganic particles. Be done. As a result, the ratio of the volume occupied by the inorganic particles in the slurry per unit volume, that is, the content rate of the inorganic particles can be increased as compared with the case where the first inorganic particles are blended alone. A high content of inorganic particles is effective in suppressing shrinkage in the sintering process.

さらに、第1の無機粒子の隙間に第2の無機粒子が存在し、その関係が特定の範囲であることによって、チクソトロピー性が呈される。チクソトロピー性を示す理由は必ずしも明確になってはいないが、以下の理由から、粒子の幾何学的配置に依存すると考えられる。 Further, the thixotropic property is exhibited by the presence of the second inorganic particles in the gaps between the first inorganic particles and the relationship between them within a specific range. The reason for showing thixotropic property is not always clear, but it is considered that it depends on the geometrical arrangement of particles for the following reasons.

有機樹脂からなる分散媒にミクロンオーダーの無機粒子が高充填された系では、無機粒子同士は、互いに斥力で反発し合い、周辺に存在する粒子との斥力が釣り合った配置まで動いて止まるため、最密充填構造に近い構造を取ると考えられる。このとき、斥力によって粒子同士が影響を及ぼし合って拘束しているため、これがマクロの視点からは、粘性が高い状態として観察される。外部から力を加えると、粒子が拘束し合って形成しているネットワーク構造が壊れ、粘度が下がりはじめる。ネットワーク構造の強さは、粒子の幾何学的配置に依存する。また、対象とする現象に相当するせん断力と、ネットワーク構造を解くために要する力との関係も、その現象においてチクソトロピー性が得られるかに関与する。 In a system in which a dispersion medium made of an organic resin is highly filled with micron-order inorganic particles, the inorganic particles repel each other by repulsive force, and move to a position where the repulsive force with surrounding particles moves and stops. It is considered to have a structure close to the close-packed structure. At this time, since the particles affect each other by the repulsive force and restrain them, this is observed as a highly viscous state from the macro viewpoint. When an external force is applied, the network structure formed by the particles restraining each other breaks, and the viscosity begins to decrease. The strength of the network structure depends on the geometry of the particles. In addition, the relationship between the shearing force corresponding to the target phenomenon and the force required to solve the network structure is also related to whether thixotropic property can be obtained in the phenomenon.

第2の無機粒子の平均粒径の好適な範囲は、第1の無機粒子の平均粒径の0.22倍以下である。第1の無機粒子の粒径が1〜5μmである場合、第2の無機粒子の粒径は、1.1μm以下であることが好ましい。1.1μmを超えると、第1の無機粒子に対して大きくなり過ぎ、無機粒子の含有率を高めると同時にチクソトロピー性を呈する効果が期待できない。第2の粒子の粒子径は、0.05 μm未満であると、第2の無機粒子が凝集しやすくなり、凝集粒塊が生じ、粒塊を解砕することが難しくなる。下限値としての0.05μmを、粒子径1〜5μmに対する倍率に換算すると、0.05倍以下となる。 The preferred range of the average particle size of the second inorganic particles is 0.22 times or less the average particle size of the first inorganic particles. When the particle size of the first inorganic particles is 1 to 5 μm, the particle size of the second inorganic particles is preferably 1.1 μm or less. If it exceeds 1.1 μm, it becomes too large with respect to the first inorganic particles, and the effect of increasing the content of the inorganic particles and at the same time exhibiting thixotropy cannot be expected. If the particle size of the second particles is less than 0.05 μm, the second inorganic particles are likely to aggregate, and aggregated agglomerates are generated, making it difficult to crush the agglomerates. When 0.05 μm as the lower limit value is converted into a magnification with respect to the particle size of 1 to 5 μm, it becomes 0.05 times or less.

第1の無機粒子に対する第2の無機粒子の体積比率は、0.01以上である。0.01未満であると、第1の無機粒子の間の隙間を置換する効果が小さ過ぎる。さらに好適には、0.1〜0.15である。なお、体積比率の算出において、粒子の体積が直接計測できないときは、重量と密度から算出した体積の値を用いる。第1の無機粒子と第2の無機粒子として同種の素材を用いるときは、体積比率は、重量比率と等しい。 The volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.01 or more. If it is less than 0.01, the effect of replacing the gap between the first inorganic particles is too small. More preferably, it is 0.1 to 0.15. In the calculation of the volume ratio, when the volume of the particles cannot be measured directly, the value of the volume calculated from the weight and the density is used. When the same kind of material is used as the first inorganic particle and the second inorganic particle, the volume ratio is equal to the weight ratio.

図2は、2種の粒子による最密充填状態を示す。まず樹脂がない状態で異なる粒径を有する2種の無機粒子を配列させる状況を想定する。理想的には、球形粒子の六方最密充填構造の第1の無機粒子の配置を想定し、第1の無機粒子間に、小さい粒径の第2の無機粒子を内接するように配置することで稠密構造を実現させることができる。
図2は、2つの異なる粒子による最密充填の状態を示し、点線は、第1の無機粒子に相当し、実線は第2の無機粒子に相当する。
最密充填の状態での第2の無機粒子の平均粒径は、幾何学的考察により、第1の無機粒子の平均粒径の0.22倍となる。このときの第1の無機粒子の体積比率:第2の無機粒子の体積比率の比は、1:0.01である。
<スラリーの各成分>
無機粒子としては、金属粒子、セラミック粒子を使用することができる。セラミック材料として、例えばアルミナを使用できるが、その他シリカ、ジルコニア等が使用できる。
FIG. 2 shows a close-packed state with two types of particles. First, assume a situation in which two types of inorganic particles having different particle sizes are arranged in the absence of resin. Ideally, the arrangement of the first inorganic particles in the hexagonal close-packed structure of the spherical particles is assumed, and the second inorganic particles having a small particle size are arranged inscribed between the first inorganic particles. A dense structure can be realized with.
FIG. 2 shows a state of closest packing by two different particles, the dotted line corresponds to the first inorganic particle, and the solid line corresponds to the second inorganic particle.
The average particle size of the second inorganic particles in the tightly packed state is 0.22 times the average particle size of the first inorganic particles according to geometrical considerations. At this time, the volume ratio of the first inorganic particles: the volume ratio of the second inorganic particles is 1: 0.01.
<Each component of slurry>
As the inorganic particles, metal particles and ceramic particles can be used. As the ceramic material, for example, alumina can be used, but silica, zirconia and the like can also be used.

光硬化性樹脂としては、特に限定しないが、光造形精度の良好な、例えばアクリル系樹脂を好適に使用することができる。
レーザー光による微細なパターンを形成するため、レーザー光の侵入深さとして、例えば5〜200[μm]の樹脂を好適に使用できる。
また、無機粒子との濡れ性を調整するため、界面活性剤を含有させてもよい。
The photocurable resin is not particularly limited, but for example, an acrylic resin having good stereolithography accuracy can be preferably used.
Since a fine pattern is formed by the laser light, a resin having a depth of penetration of the laser light of, for example, 5 to 200 [μm] can be preferably used.
Further, a surfactant may be contained in order to adjust the wettability with the inorganic particles.

<スラリー組成と粘度特性の検証>
無機粒子の粒径や体積比を変えてスラリーを作製し、得られたスラリーの粘度特性を検証した。第1の無機粒子として平均粒径1.6[μm]のアルミナ粒子、第2の無機粒子として平均粒径0.18[μm]のアルミナ粒子、液状の光硬化性樹脂として以下に示す組成のものを用いた。
・メトキシプロピレングリコールアクリレート11.1g
・トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリアクリレート4.1g
・1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン0.8g
・日本油脂(株)製アリルエーテルコポリマー(分散剤)1.0g
これらの無機粒子と光硬化性樹脂との混合は、混合対象物を容器に収容し、容器に対して公転及び自転運動を付与することで撹拌及び脱泡処理を行う公・自転型撹拌脱泡装置を用いて実行した。
作製されたスラリーは、チクソトロピー特性を評価するため、粘度のせん断速度依存性を、アントンパール・ジャパン社製レオメータ 型式MCR302ST、パラレルプレート25mmφを用い、設定温度23℃にて測定した。
<Verification of slurry composition and viscosity characteristics>
Slurries were prepared by changing the particle size and volume ratio of the inorganic particles, and the viscosity characteristics of the obtained slurry were verified. Alumina particles with an average particle size of 1.6 [μm] as the first inorganic particles, alumina particles with an average particle size of 0.18 [μm] as the second inorganic particles, and the composition shown below as a liquid photocurable resin. I used the one.
・ Methoxypropylene glycol acrylate 11.1g
-Tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate triacrylate 4.1 g
・ 1-Hydroxycyclohexylphenyl ketone 0.8g
・ Allyl ether copolymer (dispersant) 1.0 g manufactured by NOF CORPORATION
In the mixing of these inorganic particles and the photocurable resin, the object to be mixed is housed in a container, and the container is subjected to revolution and rotation motion to perform stirring and defoaming treatment. It was performed using the device.
In order to evaluate the thixotropy characteristics of the produced slurry, the shear rate dependence of the viscosity was measured at a set temperature of 23 ° C. using a rheometer model MCR302ST manufactured by Anton Pearl Japan Co., Ltd. and a parallel plate 25 mmφ.

第1の無機粒子、第2の無機粒子及び光硬化性樹脂の体積比率を変え、種々のスラリーのサンプルを作製した。表1に各サンプルの条件をまとめる。
表1にはスラリーの各サンプルに対して、チクソトロピー性についての判定結果を記載する。判定基準は、せん断速度10[1/s]において、50[Pa・s]以下、せん断速度0.01[1/s]において、500[Pa・s]以上をOKとし、それ以外をNGとした。なお、粘度測定不能の場合(例えば固化した場合)もNGと判定した。
表1では、1種類の平均粒径の無機粒子を含有するスラリーを比較例と記載している。
また、図3に、サンプル1、4−10、12−13の粘度のせん断速度依存性を比較して示す。
Samples of various slurries were prepared by changing the volume ratios of the first inorganic particles, the second inorganic particles, and the photocurable resin. Table 1 summarizes the conditions for each sample.
Table 1 shows the determination results of thixotropy for each sample of the slurry. Judgment criteria are 50 [Pa · s] or less at a shear rate of 10 [1 / s], 500 [Pa · s] or more at a shear rate of 0.01 [1 / s] is OK, and the others are NG. did. In addition, even when the viscosity could not be measured (for example, when it was solidified), it was determined to be NG.
In Table 1, a slurry containing one kind of average particle size inorganic particles is described as a comparative example.
In addition, FIG. 3 shows a comparison of the shear rate dependence of the viscosities of Samples 1, 4-10, and 12-13.

表1

Figure 0006839423
Table 1
Figure 0006839423

まず比較対象として、1種の平均粒径の無機粒子を用いたスラリーの特性について説明し、その後、2種の平均粒径の無機粒子を用いたスラリーの特性について説明する。
サンプル1(比較例1)
無機粒子として、第1の無機粒子のみを光硬化性樹脂に60[vol%]添加し、公自転撹拌装置により撹拌・脱泡処理し、混合した。
サンプル1はチクソトロピー性を有し、高いせん断速度での判定基準は満足するが、図3の×に示すように、低いせん断速度での判定基準を満足せず、積層数が増大するに従って未硬化スラリー層の高さ保持が困難となり、その上に描画した時に高さ変位による造形形状の歪みを発生する危険性があり、高精細な光造形用スラリーとしての使用は困難である。
First, as a comparison target, the characteristics of the slurry using one kind of average particle size inorganic particles will be described, and then the characteristics of the slurry using two kinds of average particle size inorganic particles will be described.
Sample 1 (Comparative Example 1)
As the inorganic particles, only the first inorganic particles were added to the photocurable resin in an amount of 60 [vol%], and the particles were stirred and defoamed by a rotating stirrer and mixed.
Sample 1 has thixotropy and satisfies the criterion at a high shear rate, but does not satisfy the criterion at a low shear rate as shown by x in FIG. 3, and is uncured as the number of layers increases. It is difficult to maintain the height of the slurry layer, and there is a risk of distortion of the modeling shape due to height displacement when drawing on the slurry layer, and it is difficult to use it as a high-definition optical modeling slurry.

サンプル2(比較例2)
無機粒子として、第1の無機粒子のみを光硬化性樹脂に65[vol%]添加し、公自転撹拌装置により撹拌・脱泡処理し、混合して、サンプル2のスラリーを作製した。
第1の無機粒子は凝集することなく光硬化性樹脂との混合は可能であるが、混合後のサンプル2は固化してしまい、粘度の測定が不可能であった。そのため、単独で光硬化性樹脂に第1の無機粒子を添加した場合に、スラリーが固化する限界値(スラリーが固化する最小の体積比率、以下、”固化限界値”と称す)が、60〜65[vol%]の範囲に存在することが理解できる。
すなわち、サンプル2のスラリーは、静止状態での形状の維持を確保することは可能であるが、光造形装置のリコータ4により、均一なスラリー層を塗布することはできず、光造形用スラリーとしての使用は困難である。
Sample 2 (Comparative Example 2)
As the inorganic particles, only the first inorganic particles were added to the photocurable resin in an amount of 65 [vol%], and the mixture was stirred and defoamed by a rotating stirrer and mixed to prepare a slurry of Sample 2.
The first inorganic particles can be mixed with the photocurable resin without agglutination, but the mixed sample 2 solidifies and the viscosity cannot be measured. Therefore, when the first inorganic particles are added to the photocurable resin alone, the limit value at which the slurry solidifies (the minimum volume ratio at which the slurry solidifies, hereinafter referred to as "solidification limit value") is 60 to It can be understood that it exists in the range of 65 [vol%].
That is, although it is possible to secure the shape of the slurry of the sample 2 in a stationary state, it is not possible to apply a uniform slurry layer by the recorder 4 of the stereolithography apparatus, and the slurry is used as a stereolithography slurry. Is difficult to use.

サンプル1及びサンプル2の結果から、第1の無機粒子のみの組成では、無機粒子の含有率(体積比率)を変化させることで粘度の調整は可能ではあるが、含有率が高いと固化により塗布に適さず、含有率が低いと静止状態での形状維持が困難であり、光造形に適したチクソトロピー性を有するスラリーを再現性良く供給することが困難であることが理解できる。 From the results of Sample 1 and Sample 2, it is possible to adjust the viscosity by changing the content (volume ratio) of the inorganic particles in the composition of only the first inorganic particles, but if the content is high, it is applied by solidification. It can be understood that if the content is low, it is difficult to maintain the shape in a stationary state, and it is difficult to supply a slurry having thixotropy suitable for stereolithography with good reproducibility.

サンプル3(比較例3)
無機粒子として、第2の無機粒子のみを光硬化性樹脂に60[vol%]添加し、公自転撹拌装置により撹拌・脱泡処理し、混合し、サンプル3を作製した。しかしながら、第2の無機粒子が凝集してしまい、光硬化性樹脂との均一な混合ができず、粘度の測定が不可能であった。
なお、第2の無機粒子を光硬化性樹脂に65[vol%]添加した場合も同様に第2の無機粒子が凝集し、光硬化性樹脂との均一な混合ができなかった。
サンプル1、2及びサンプル3との比較から、無機粒子の含有率が同一の体積比率であっても、無機粒子の粒径が微細化することにより、樹脂との混合が困難になることが理解できる。
Sample 3 (Comparative Example 3)
As the inorganic particles, only the second inorganic particles were added to the photocurable resin in an amount of 60 [vol%], and the particles were stirred and defoamed by a rotating stirrer and mixed to prepare Sample 3. However, the second inorganic particles aggregated and could not be uniformly mixed with the photocurable resin, making it impossible to measure the viscosity.
When 65 [vol%] of the second inorganic particles were added to the photocurable resin, the second inorganic particles also aggregated and could not be uniformly mixed with the photocurable resin.
From the comparison with Samples 1, 2 and 3, it is understood that even if the content of the inorganic particles is the same volume ratio, it becomes difficult to mix with the resin due to the finer particle size of the inorganic particles. it can.

サンプル4〜13(実施例及び比較例)
サンプル4〜13は、光硬化性樹脂に第1の無機粒子及び第2の無機粒子の体積比率を変えて、公自転撹拌装置により撹拌・脱泡処理し、混合したスラリーである。
表1において、第1の無機粒子に対する第2の無機粒子の体積比率が0.1以上0.15以下のサンプル7〜10、13は、チクソトロピー性の判定基準を満たし、光造形用スラリーに適したサンプルであることが理解できる。なお、サンプル11は、混合後の静止状態で固化してしまい、粘度測定不能であるため判定はNGとした。
図3に、サンプル4(■)、5(□)、6(▲)、7(●)、8(◇)、9(○)、10(◆)、12(+)、13(△)の粘度のせん断速度依存性を示す。サンプル4−6、12は、せん断速度10[1/s]での粘度の値が高いため、このスラリーを、リコータ等を用いて引き延ばすことによってスラリー層を形成しようとした場合は、塗膜切れが起こり、連続したスラリー層を安定して作成することができない。
Samples 4 to 13 (Examples and Comparative Examples)
Samples 4 to 13 are slurries in which the volume ratios of the first inorganic particles and the second inorganic particles are changed in the photocurable resin, and the slurry is agitated and defoamed by a public rotation agitator and mixed.
In Table 1, the samples 7 to 10 and 13 in which the volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.1 or more and 0.15 or less satisfy the criteria for thixotropy and are suitable for the stereolithography slurry. It can be understood that it is a sample. The sample 11 was solidified in a stationary state after mixing, and the viscosity could not be measured. Therefore, the judgment was NG.
In FIG. 3, samples 4 (■), 5 (□), 6 (▲), 7 (●), 8 (◇), 9 (○), 10 (◆), 12 (+), and 13 (△) are shown. Shows the shear rate dependence of viscosity. Samples 4-6 and 12 have a high viscosity value at a shear rate of 10 [1 / s]. Therefore, when the slurry is stretched using a recoater or the like to form a slurry layer, the coating film is cut off. , And it is not possible to stably create a continuous slurry layer.

体積比率が同等の65[vol%]付近のサンプル同士を比較すると、含有する無機粒子が第1の無機粒子のみの場合、スラリーは固化してしまう(サンプル2)。第2の無機粒子のみであると、凝集が起こりやすい粒径のため、スラリーを調製すること自体ができない(サンプル3)。しかしながら、第1の無機粒子と第2の無機粒子を組み合わせて用いると、低速域(<1[1/s])及び高速域(>1[1/s])ともに粘性を示すスラリーが得られる(サンプル4)。しかしながら、このスラリーを用いて高精細な光造形物を製造するには、この段階ではまだ高速域における粘性が高過ぎ、適当でない。第2の粒子の比率を増すことによって、良好なチクソトロピー性を実現するスラリーが得られる領域がある(サンプル7〜10、13)。このとき、第1の粒子の体積比率は、すなわち、第1の無機粒子を単独で添加した場合にスラリーが固化してしまうような(固化限界値以上の)体積比率で無機粒子を含有するサンプルに対しても、第1の無機粒子と第2の無機粒子を組み合わせて用いることによって、(判定がOKの)良好なチクソトロピー性を有するスラリーを得ることができる。
サンプル7〜10、13は、第1の無機粒子のみによるサンプル1及び2における含有量より高い含有量で無機粒子を含むため、これらのサンプルを用いて光造形物を製造すれば、光硬化物中の無機粒子の密度が高く、すなわち除去及び焼結の工程時に除去される樹脂成分が少ないために、焼結時の収縮を低減できる。
Comparing samples with the same volume ratio of around 65 [vol%], if the inorganic particles contained are only the first inorganic particles, the slurry will solidify (Sample 2). If only the second inorganic particles are used, the slurry itself cannot be prepared because the particle size is likely to cause agglutination (Sample 3). However, when the first inorganic particles and the second inorganic particles are used in combination, a slurry showing viscosity in both the low speed region (<1 [1 / s]) and the high speed region (> 1 [1 / s]) can be obtained. (Sample 4). However, in order to produce a high-definition stereolithography using this slurry, the viscosity in the high-speed range is still too high at this stage, which is not suitable. By increasing the proportion of the second particles, there is a region where a slurry that achieves good thixotropy can be obtained (Samples 7-10, 13). At this time, the volume ratio of the first particles is, that is, a sample containing the inorganic particles at a volume ratio (greater than or equal to the solidification limit value) at which the slurry solidifies when the first inorganic particles are added alone. However, by using the first inorganic particles and the second inorganic particles in combination, it is possible to obtain a slurry having good thixotropic properties (the determination is OK).
Samples 7 to 10 and 13 contain inorganic particles in a content higher than that in Samples 1 and 2 containing only the first inorganic particles. Therefore, if a stereolithographic product is produced using these samples, a photocured product can be obtained. Since the density of the inorganic particles inside is high, that is, the amount of resin components removed during the removal and sintering steps is small, shrinkage during sintering can be reduced.

上記結果から、第1の無機粒子と第2の無機粒子を合わせた体積比率は65〜70[vol%]であることが好適である。また、本発明における無機粒子の組み合わせによれば、上記体積比率であっても良好なチクソトロピー性を有し、光造形物を製造するために適したスラリーを提供できる。 From the above results, it is preferable that the total volume ratio of the first inorganic particles and the second inorganic particles is 65 to 70 [vol%]. Further, according to the combination of inorganic particles in the present invention, it is possible to provide a slurry having good thixotropy even at the above volume ratio and suitable for producing a stereolithographic product.

また、第1の無機粒子の粒径(平均粒径1.6μm)に対する第2の無機粒子の粒径を、0.22倍以下、好適には0.11倍(平均粒径0.18[μm])とし、第1の無機粒子の体積比率に対する第2の無機粒子の体積比率を0.10〜0.15に設定することで、高精度な光造形技術に使用可能なスラリーを得ることができる。 Further, the particle size of the second inorganic particles is 0.22 times or less, preferably 0.11 times (average particle size 0.18 [) with respect to the particle size of the first inorganic particles (average particle size 1.6 μm). μm]), and by setting the volume ratio of the second inorganic particles to the volume ratio of the first inorganic particles to 0.10 to 0.15, a slurry that can be used for high-precision optical modeling technology can be obtained. Can be done.

なお、本発明のスラリーによれば、せん断速度が高速領域における粘度のせん断速度依存性が小さく、安定した状態で、スラリーを光造形装置の造形ステージに塗布できる。 According to the slurry of the present invention, the slurry can be applied to the molding stage of the stereolithography apparatus in a stable state with little dependence of the viscosity on the shearing speed in the high-speed region.

<結論>
光硬化性樹脂に、1〜5[μm]の微細な第1の無機粒子と、粒子径が第1の無機粒子の粒子径の0.22倍以下、0.05倍以上の粒子径の第2の無機粒子とを混合し、分散させることで、良好なチクソトロピー性を有するスラリーを得ることができる。
得られたスラリーを、光造形装置において、10[1/s]以上のせん断速度で塗布することにより、5〜200[μm]の薄いスラリー層を形成し、レーザー光により、所定のパターンにスキャンする工程を繰り返すことで、高精細な3次元形状にパターニングされた硬化スラリーの光硬化物を製作することができる。スラリーが硬化された3次元構造の光硬化物を脱脂及び焼結することで3次元の光造形物を再現性よく製造することができる。
<Conclusion>
In the photocurable resin, fine first inorganic particles of 1 to 5 [μm] and particles having a particle size of 0.22 times or less and 0.05 times or more the particle size of the first inorganic particles are used. By mixing and dispersing the two inorganic particles, a slurry having good thixotropic properties can be obtained.
The obtained slurry is applied at a shear rate of 10 [1 / s] or more in a stereolithography apparatus to form a thin slurry layer of 5 to 200 [μm], and scanned into a predetermined pattern by laser light. By repeating the above steps, a photocured product of the cured slurry patterned into a high-definition three-dimensional shape can be produced. By degreasing and sintering a photocured product having a three-dimensional structure in which the slurry is cured, a three-dimensional stereolithographic product can be produced with good reproducibility.

本発明によれば、高精細な三次元の造形物を製造するためのスラリー及びそれを用いた光造形物の製造方法を提供することができ、産業上の利用可能性は高い。 According to the present invention, it is possible to provide a slurry for producing a high-definition three-dimensional model and a method for producing a stereolithography using the slurry, and the industrial applicability is high.

1 スラリー
1a スラリー層
2 ディスペンサー
3 補助テーブル
4 リコータ
5 造形テーブル
5a 造形面
6 硬化層
1 Slurry 1a Slurry layer 2 Dispenser 3 Auxiliary table 4 Recoater 5 Modeling table 5a Modeling surface 6 Hardened layer

Claims (6)

第1の無機粒子と第2の無機粒子と光硬化性樹脂とを含み、
前記第1の無機粒子の平均粒径は1〜5[μm]であり、
前記第2の無機粒子の平均粒径は、前記第1の無機粒子の平均粒径の0.22倍以下であり、
前記第1の無機粒子に対する前記第2の無機粒子の体積比率は、0.01以上であり、
せん断速度10[1/s]における粘度は50[Pa・s]以下であり、
せん断速度0.01[1/s]における粘度は500[Pa・s]以上である、
ことを特徴とする光造形用スラリー。
It contains a first inorganic particle, a second inorganic particle, and a photocurable resin.
The average particle size of the first inorganic particles is 1 to 5 [μm].
The average particle size of the second inorganic particles is 0.22 times or less the average particle size of the first inorganic particles.
The volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.01 or more.
The viscosity at a shear rate of 10 [1 / s] is 50 [Pa · s] or less.
The viscosity at a shear rate of 0.01 [1 / s] is 500 [Pa · s] or more.
A slurry for stereolithography characterized by this.
前記第1の無機粒子の体積比率が固化限界値以上である
ことを特徴とする請求項1記載の光造形用スラリー。
The slurry for stereolithography according to claim 1, wherein the volume ratio of the first inorganic particles is equal to or greater than a solidification limit value.
前記第1の無機粒子と前記第2の無機粒子を合わせた体積比率は65〜70[vol%]である
ことを特徴とする請求項1又は2記載の光造形用スラリー。
The slurry for stereolithography according to claim 1 or 2, wherein the volume ratio of the first inorganic particles and the second inorganic particles combined is 65 to 70 [vol%].
前記第1の無機粒子に対する前記第2の無機粒子の体積比率が、0.10〜0.15である
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載の光造形用スラリー。
The slurry for stereolithography according to any one of claims 1 to 3, wherein the volume ratio of the second inorganic particles to the first inorganic particles is 0.10 to 0.15.
請求項1乃至4のいずれか1項記載の光造形用スラリーを吐出する第1の工程と、
前記光造形用スラリーを引き延ばし厚さ5〜200[μm]のスラリー層を形成する第2の工程と、
所定のパターン形状に走査してレーザー光を前記スラリー層に照射する第3の工程と、
前記第1、第2及び第3の工程を繰り返し、前記スラリー層から光硬化物を形成する工程と、
前記光硬化物を熱処理し前記光硬化性樹脂を除去する第1の熱処理工程と、
前記第1の熱処理工程の後に前記光硬化物を熱処理し焼結する第2の熱処理工程と
を含むことを特徴とする光造形物の製造方法。
The first step of discharging the stereolithography slurry according to any one of claims 1 to 4, and the first step.
The second step of stretching the stereolithography slurry to form a slurry layer having a thickness of 5 to 200 [μm], and
A third step of scanning the slurry layer into a predetermined pattern shape and irradiating the slurry layer with laser light.
A step of forming a photocured product from the slurry layer by repeating the first, second and third steps, and
The first heat treatment step of heat-treating the photocurable product to remove the photocurable resin, and
A method for producing a stereolithographic product, which comprises a second heat treatment step of heat-treating and sintering the photocured product after the first heat treatment step.
前記第1の工程又は前記第1の工程と前記第2の工程において、前記スラリーの温度を35〜60[℃]に保持することを特徴とする請求項5記載の光造形物の製造方法。 The method for producing a stereolithographic product according to claim 5, wherein the temperature of the slurry is maintained at 35 to 60 [° C.] in the first step or the first step and the second step.
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