JP6749055B2 - Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board - Google Patents

Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board Download PDF

Info

Publication number
JP6749055B2
JP6749055B2 JP2016176687A JP2016176687A JP6749055B2 JP 6749055 B2 JP6749055 B2 JP 6749055B2 JP 2016176687 A JP2016176687 A JP 2016176687A JP 2016176687 A JP2016176687 A JP 2016176687A JP 6749055 B2 JP6749055 B2 JP 6749055B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
component
resin composition
mass
prepreg
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2016176687A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2018039950A (en
Inventor
智恵 主税
智恵 主税
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Corp filed Critical Kyocera Corp
Priority to JP2016176687A priority Critical patent/JP6749055B2/en
Publication of JP2018039950A publication Critical patent/JP2018039950A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6749055B2 publication Critical patent/JP6749055B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、樹脂組成物、この樹脂組成物を用いたプリプレグ、金属張積層板および配線基板に関する。 The present invention relates to a resin composition, a prepreg using the resin composition, a metal-clad laminate, and a wiring board.

近年、LSIの高速化や高集積化、メモリーの大容量化などが進み、それに伴って各種電子部品の小型化、軽量化、薄型化などが急速に進んでいる。そのため、材料の面でもより優れた耐熱性、寸法安定性、電気特性などが要求されている。 2. Description of the Related Art In recent years, the speed and integration of LSIs have increased, and the capacity of memories has increased, and along with that, various electronic components have rapidly become smaller, lighter, and thinner. Therefore, superior heat resistance, dimensional stability, and electrical characteristics are required in terms of materials.

近年、プリント配線板用の樹脂組成物として、従来より用いられているエポキシ樹脂に代わり、ポリフェニレンエーテル系樹脂や環状オレフィン系樹脂などを用いることにより、各種の性能をバランスよく発揮させるための改良が行われている(例えば、特許文献1、2を参照)。 In recent years, as a resin composition for a printed wiring board, by using a polyphenylene ether-based resin or a cyclic olefin-based resin or the like instead of the conventionally used epoxy resin, an improvement for exerting various performances in a balanced manner has been achieved. (See, for example, Patent Documents 1 and 2).

特表2004−523615号公報Special table 2004-523615 gazette 特開2010−100843号公報JP, 2010-100843, A

しかしながら、特許文献1、2に開示された樹脂組成物においても、未だ、硬化体にしたときには、誘電正接が大きいか、あるいはガラス転移点(Tg)が低いという問題がある。 However, the resin compositions disclosed in Patent Documents 1 and 2 still have a problem that when they are cured, they have a large dielectric loss tangent or a low glass transition point (Tg).

本発明は、誘電正接が小さく、かつガラス転移点(Tg)の高い樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板および配線基板を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a resin composition having a low dielectric loss tangent and a high glass transition point (Tg), a prepreg, a metal-clad laminate, and a wiring board.

本発明の樹脂組成物は、成分(A)として、両端のヒドロキシル基がエチレン性不飽和化合物によって変性されたポリフェニレンエーテルと、成分(B)として、側鎖部分に架橋性の2重結合を複数有する環状オレフィンコポリマーと、成分(C)として、トリアリルイソシアヌレートおよびトリアリルシアヌレートのうちの少なくとも1種と、成分(D)として、有機過酸化物とを含有する。 The resin composition of the present invention comprises, as the component (A), a polyphenylene ether having hydroxyl groups at both ends modified by an ethylenically unsaturated compound, and as the component (B), a plurality of crosslinkable double bonds in the side chain portion. It contains the cyclic olefin copolymer which has, at least 1 sort(s) of triallyl isocyanurate and triallyl cyanurate as a component (C), and an organic peroxide as a component (D).

本発明のプリプレグは、上記の樹脂組成物と、基材とで構成されている。 The prepreg of the present invention comprises the above resin composition and a base material.

本発明の金属張積層板は、上記のプリプレグの表面に金属箔を備えている。 The metal-clad laminate of the present invention includes a metal foil on the surface of the prepreg.

本発明の配線基板は、複数の絶縁層と該絶縁層間に配置された導体層とを具備し、前記絶縁層が上記の樹脂組成物から得られる高分子体を含む硬化体と基材とを有するものである。 Wiring board of the present invention includes a plurality of insulating layers; and a and insulating interlayer disposed conductor layer, the insulating layer is a polymer body including cured product obtained from the above resin composition base material Is to have.

本発明によれば、誘電正接が小さく、かつガラス転移点(Tg)の高い樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板および配線基板を得ることができる。 According to the present invention, a resin composition having a small dielectric loss tangent and a high glass transition point (Tg), a prepreg, a metal-clad laminate, and a wiring board can be obtained.

以下、樹脂組成物の一実施形態を基に本発明を説明する。本開示の樹脂組成物は、成分(A)として、両端のヒドロキシル基がエチレン性不飽和化合物によって変性されたポリフェニレンエーテルと、成分(B)として、側鎖部分に架橋性の炭素間2重結合を複数有する環状オレフィンコポリマーと、成分(C)として、トリアリルイソシアヌレートおよびトリアリルシアヌレートのうちの少なくとも1種と、成分(D)として、有機過酸化物と、を含有する。 Hereinafter, the present invention will be described based on an embodiment of the resin composition. The resin composition of the present disclosure comprises, as component (A), polyphenylene ether in which hydroxyl groups at both ends are modified with an ethylenically unsaturated compound, and as component (B), a crosslinkable carbon-carbon double bond in a side chain portion. A cyclic olefin copolymer having a plurality of:, at least one of triallyl isocyanurate and triallyl cyanurate as the component (C), and an organic peroxide as the component (D).

樹脂組成物が、上記のように、成分(A)、成分(B)、成分(C)および成分(D)を含んだものであると、誘電正接(周波数:10GHz)が0.0030以下、ガラス転移点(Tg)が190℃以上となる硬化体を得ることができる。この場合、同周波数における誘電率も3.0以下を有するものとなる。 When the resin composition contains the component (A), the component (B), the component (C) and the component (D) as described above, the dielectric loss tangent (frequency: 10 GHz) is 0.0030 or less, A cured product having a glass transition point (Tg) of 190° C. or higher can be obtained. In this case, the dielectric constant at the same frequency is also 3.0 or less.

ここで、硬化体とは、上記した4成分を含む樹脂組成物が加熱あるいは加熱加圧された後に形成される状態のものを言う。 Here, the hardened body means a state in which the resin composition containing the above-mentioned four components is formed after being heated or heated and pressed.

ここで、成分(A)、成分(B)、成分(C)、および成分(D)の各成分について説明すると、成分(A)としては、例えば、下記の構造式(I)で示される化合物を挙げることができる。 Here, each component of the component (A), the component (B), the component (C), and the component (D) will be described. As the component (A), for example, a compound represented by the following structural formula (I): Can be mentioned.

Figure 0006749055
Figure 0006749055

ここで、構造式(I)として示した有機化合物は、ポリフェニレンエーテルの主鎖の両端にヒドロキシル基を基にした官能基が備わっている。このポリフェニレンエーテルでは、ヒドロキシル基を基にした官能基の水素原子の部分にエチレン性不飽和化合物が結合したものとなっている。なお、構造式(I)中、R〜R22は、それぞれ独立していて水素原子または以下に示す官能基(置換基)が該当するものとなる。官能基を例示すると、炭素数が1〜8個の直鎖または分岐アルキル基、炭素数が2〜8個の直鎖または分岐アルケニル基、炭素数が2〜8個の直鎖または分岐アルキニル基、および炭素数が6〜10個のアリール基のうちのいずれかが好適なものとなる。具体的な置換基としては、例えば、カルボキシル基、アルデヒド基、ヒドロキシル基、アミノ基などが挙げられる。X、Y、Zは、それぞれ独立しており、カルボニル基(>C=O)、チオカルボニル基(>C=S)、メチレン基(−CH−)、エチレン基(ジメチレン基)(−CH−CH−)、イソプロペニル基(−C(CH)−)トリメチレン基(−CH−CH−CH−)またはテトラメチレン基(−CH−CH−CH−CH−)を示す。nは1〜100の整数である。 Here, the organic compound represented by the structural formula (I) has a functional group based on a hydroxyl group at both ends of the main chain of polyphenylene ether. In this polyphenylene ether, an ethylenically unsaturated compound is bonded to the hydrogen atom portion of the functional group based on the hydroxyl group. In the structural formula (I), R 1 to R 22 are each independently a hydrogen atom or a functional group (substituent) shown below. Examples of the functional group include a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 8 carbon atoms, and a linear or branched alkynyl group having 2 to 8 carbon atoms. , And an aryl group having 6 to 10 carbon atoms are preferable. Specific examples of the substituent include a carboxyl group, an aldehyde group, a hydroxyl group, an amino group and the like. X, Y, Z are each independent and a carbonyl group (> C = O), thiocarbonyl (> C = S), methylene (-CH 2 -), ethylene group (dimethylene group) (- CH 2 -CH 2 -), isopropenyl (-C (CH 3) 2 - ) trimethylene (-CH 2 -CH 2 -CH 2 - ) or tetramethylene group (-CH 2 -CH 2 -CH 2 -CH 2 −) is shown. n is an integer of 1 to 100.

この場合、成分(A)の分子量は、成分(B)である環状オレフィンポリマーとの混和性を高められるという点から1000〜5000、特に、1000〜3000の範囲にあるものが良い。 In this case, the molecular weight of the component (A) is preferably in the range of 1000 to 5000, particularly 1000 to 3000 from the viewpoint of improving the miscibility with the cyclic olefin polymer which is the component (B).

次に、成分(B)としては、下記の構造式(II)を分子内に複数有する環状オレフィン共重合体を挙げることができる。 Next, as the component (B), a cyclic olefin copolymer having a plurality of the following structural formulas (II) in the molecule can be mentioned.

Figure 0006749055
Figure 0006749055

構造式(II)中、R23〜R42は、それぞれ独立した水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のハロゲン化アルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基または炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基であり、このうちR39〜R42に1つ以上の架橋性の2重結合を有する置換基を有する。置換基としては、ビニル基、アルケニル基、アクリル基、メタクリル基を挙げることができる。これらの官能基は、過酸化物由来のラジカルによって、環状オレフィンコポリマーの架橋性の2重結合間、もしくは同様の構造を有するその他の分子との間で架橋反応が進行し得るものとなる。具体的には、例えば、三井化学製のLCOC−4を挙げることができる。 In structural formula (II), R23 to R42 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a halogenated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an alkyl group having 3 to 15 carbon atoms. It is a cycloalkyl group or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms, in which R39 to R42 have one or more substituents having a crosslinkable double bond. Examples of the substituent include a vinyl group, an alkenyl group, an acryl group, and a methacryl group. These functional groups allow the crosslinking reaction to proceed between the crosslinkable double bonds of the cyclic olefin copolymer or with other molecules having a similar structure by radicals derived from the peroxide. Specific examples thereof include LCOC-4 manufactured by Mitsui Chemicals.

次に、成分(C)として挙げているトリアリルイソシアヌレート(TAIC)およびトリアリルシアヌレート(TAC)のうちの少なくとも1種は、主に、成分(A)および成分(B)に対して架橋剤として作用するものとなる。 Next, at least one of the triallyl isocyanurate (TAIC) and the triallyl cyanurate (TAC) listed as the component (C) is mainly crosslinked to the component (A) and the component (B). It acts as an agent.

次に、成分(D)である有機過酸化物(以下、過酸化物と表記する場合がある。)はラジカル開始剤として作用する。つまり、成分(D)は、成分(A)と成分(B)と成分(C)とをラジカル反応させて、成分(A)と成分(B)と成分(C)との架橋物を得るために用いられる。成分(D)としては、例えばジ−t−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキサイド)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキサイド)ヘキシン−3などが挙げられ、特に限定されない。なお、これらの化合物は、例えば「パーブチルD」、「パーヘキサ25B」、「パーヘキシン25B」(いずれも日油(株)製)などとして市販されている。成分(D)としては、ベンゼン環を含まない有機過酸化物を用いるのが良い。 Next, the component (D), an organic peroxide (hereinafter, sometimes referred to as a peroxide) acts as a radical initiator. That is, the component (D) is obtained by radically reacting the component (A), the component (B), and the component (C) to obtain a crosslinked product of the component (A), the component (B), and the component (C). Used for. Examples of the component (D) include di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di(t-butyl peroxide)hexane, and 2,5-dimethyl-2,5-di(t-). Butyl peroxide) hexyne-3 and the like are mentioned, but not particularly limited. Note that these compounds are commercially available, for example, as "Perbutyl D", "Perhexa 25B", "Perhexin 25B" (all manufactured by NOF Corporation). As the component (D), it is preferable to use an organic peroxide containing no benzene ring.

ここで、4成分の構成に至った経緯を説明すると、近年、高周波基板やアンテナ基板用の絶縁材料において、高速伝送化のため、絶縁層部分に使用される樹脂の低誘電率化および低誘電正接化が望まれている。本分野においては従来使用されてきたエポキシ系樹脂やポリフェニレンエーテル系樹脂よりもさらに低い誘電率と誘電正接が求められている。そこで本出願人は、その候補材料として、環状オレフィン系樹脂に着目した。 Here, the background of the four-component structure will be described. In recent years, in an insulating material for a high-frequency substrate or an antenna substrate, in order to achieve high-speed transmission, a resin used in an insulating layer has a low dielectric constant and a low dielectric constant. Tangentization is desired. In this field, even lower dielectric constants and dielectric loss tangents are required than the epoxy resins and polyphenylene ether resins used conventionally. Therefore, the applicant has focused on a cyclic olefin resin as the candidate material.

ところが、これらポリフェニレンエーテル系樹脂と環状オレフィン系樹脂とを組み合わせようにも、従来のポリフェニレンエーテル系樹脂と環状オレフィン系樹脂とは、元来、混和性(相溶性)がほとんど無いことから、ポリフェニレンエーテル系樹脂および環状オレフィン系樹脂成分の利点を同時に発揮できる樹脂組成物を得ることができていなかった。 However, even if these polyphenylene ether-based resins and cyclic olefin-based resins are combined, the conventional polyphenylene ether-based resin and the cyclic olefin-based resin originally have almost no miscibility (compatibility). It has not been possible to obtain a resin composition capable of simultaneously exhibiting the advantages of the base resin and the cyclic olefin resin component.

そこで、本出願人は、ポリフェニレンエーテル系樹脂として、両端のヒドロキシル基がエチレン性不飽和化合物によって変性されたポリフェニレンエーテル(成分(A))を用い、また、環状オレフィン系樹脂として、側鎖部分に架橋性の2重結合を複数有する環状オレフィンコポリマー(成分(B))を組み合わせるようにした。これに架橋剤(成分(C))と硬化触媒となる過酸化物(成分(D))とを組み合わせて配合するようにした。
こうして、本開示の樹脂組成物およびこれにより得られる硬化体を得ることができた。
Therefore, the present applicant uses polyphenylene ether (component (A)) in which hydroxyl groups at both ends are modified with an ethylenically unsaturated compound as the polyphenylene ether-based resin, and the side chain portion is used as the cyclic olefin-based resin. A cyclic olefin copolymer having a plurality of crosslinkable double bonds (component (B)) was combined. A crosslinking agent (component (C)) and a peroxide serving as a curing catalyst (component (D)) were combined and added thereto.
In this way, the resin composition of the present disclosure and the cured product obtained thereby could be obtained.

この場合、成分(A)として、分子量が1000〜5000の範囲のものを用いた。また、成分(B)と成分(C)との混合物を先に調製しておき、これに成分(A)および成分(D)を混ぜ合わせる方法を採用した。これにより、成分(A)と成分(B)との混和性(相溶性)が高まり、これら成分(A)および成分(B)の利点を有する樹脂組成物(硬化体)を得るに至った。 In this case, the component (A) used had a molecular weight in the range of 1,000 to 5,000. Further, a method of preparing a mixture of the component (B) and the component (C) in advance and then mixing the component (A) and the component (D) therein was adopted. As a result, miscibility (compatibility) between the component (A) and the component (B) was enhanced, and a resin composition (cured product) having the advantages of the component (A) and the component (B) was obtained.

なお、上記した4つの成分の組成を限定すると、種々の特性を向上させることが可能となる。例えば、成分(A)を42〜66質量%、成分(B)を4〜28質量%、成分(C)を20〜28質量%および成分(D)を2〜10質量%の範囲に限定したときには、誘電率が2.9以下、誘電正接が0.0029以下であり、さらには、ガラス転移点(Tg)が191℃以上となる硬化体を得ることができる。 When the composition of the above-mentioned four components is limited, various characteristics can be improved. For example, the component (A) is limited to 42 to 66% by mass, the component (B) to 4 to 28% by mass, the component (C) to 20 to 28% by mass, and the component (D) to 2 to 10% by mass. In some cases, a cured product having a dielectric constant of 2.9 or less, a dielectric loss tangent of 0.0029 or less, and a glass transition point (Tg) of 191° C. or more can be obtained.

また、この組成範囲の樹脂組成物は、平滑でアンカー効果が小さい銅箔との接着性も向上させることができる。例えば、銅箔の表面粗さ(Ra)が、MD(Machine Direction
)方向およびTD(Transverse direction)方向ともに0.2μm以下、特に、0.15〜0.19μmであるような銅箔においても、硬化体に対する銅箔の剥離強度を0.52kN/m以上にできる。
Further, the resin composition in this composition range can also improve the adhesiveness to the copper foil which is smooth and has a small anchoring effect. For example, the surface roughness (Ra) of the copper foil is MD (Machine Direction)
) Direction and TD (Transverse direction) direction both are 0.2 μm or less, and even in a copper foil having a thickness of 0.15 to 0.19 μm, the peel strength of the copper foil from the cured product can be 0.52 kN/m or more. ..

さらに、この樹脂組成物の場合、成分(A)を42〜56質量%、成分(B)を14〜28質量%、成分(C)を22〜26質量%および成分(D)を4〜8質量%にそれぞれ限定した場合には、誘電率が2.8以下、誘電正接が0.0026以下となり、また、ガラス転移点(Tg)が192℃以上、銅箔との剥離強度が0.62kN/m以上となる硬化体を得ることができる。 Further, in the case of this resin composition, the component (A) is 42 to 56% by mass, the component (B) is 14 to 28% by mass, the component (C) is 22 to 26% by mass, and the component (D) is 4 to 8%. When each is limited to mass %, the dielectric constant is 2.8 or less, the dielectric loss tangent is 0.0026 or less, the glass transition point (Tg) is 192° C. or more, and the peel strength from the copper foil is 0.62 kN. It is possible to obtain a cured product having a hardness of /m or more.

本開示の樹脂組成物には、当該樹脂組成物の効果を阻害しない範囲で、必要に応じて、シリカ、難燃剤、応力緩和剤などが含まれていてもよい。シリカとしては、例えば、粉砕シリカ、溶融シリカなどが挙げられ、単独または2種以上を混合して用いてもよい。具体的には、メタクリルシラン処理溶融シリカ:SFP−130MC(電気化学工業(株)製)、FUSELEX E−2、Adma FineSO−C5、PLV−3(いずれも(株)龍森製)などが挙げられる。 The resin composition of the present disclosure may contain silica, a flame retardant, a stress relaxation agent, and the like, if necessary, within a range that does not impair the effects of the resin composition. Examples of silica include pulverized silica and fused silica, which may be used alone or in admixture of two or more. Specifically, methacrylsilane-treated fused silica: SFP-130MC (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.), FUSELEX E-2, Adma FineSO-C5, PLV-3 (all manufactured by Tatsumori Co., Ltd.) and the like can be mentioned. To be

シリカとしては、好ましくは5μm以下の平均粒径を有するシリカ粒子が用いられる。このような平均粒径を有するシリカ粒子を用いることによって、樹脂組成物が、例えば金属張積層板などに用いられる場合に、金属箔との密着性を向上させることができる。この場合、シリカは、成分(A)と成分(B)と成分(C)と成分(D)との合計量を100質量部としたときに、5〜40質量部の割合で含ませることができる。シリカがこのような割合で含まれることによって樹脂組成物の溶融流動性が向上する。さらに、樹脂組成物が、例えば金属張積層板などに用いられる場合に、金属箔との密着性を向上させることができ、スルーホールの接続信頼性も向上させることができる。 As the silica, silica particles having an average particle diameter of 5 μm or less are preferably used. By using the silica particles having such an average particle diameter, when the resin composition is used in, for example, a metal-clad laminate, it is possible to improve the adhesion to the metal foil. In this case, silica may be contained in a proportion of 5 to 40 parts by mass when the total amount of the components (A), (B), (C) and (D) is 100 parts by mass. it can. By including silica in such a ratio, the melt fluidity of the resin composition is improved. Furthermore, when the resin composition is used in, for example, a metal-clad laminate, the adhesion with the metal foil can be improved and the connection reliability of the through holes can be improved.

難燃剤は特に限定されず、例えば、リン酸メラミン、ポリリン酸メラム、ポリリン酸メレム、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸アンモニウム、赤燐、芳香族リン酸エステル、ホスホン酸エステル、ホスフィン酸エステル、ホスフィンオキサイド、ホスファゼン、メラミンシアノレート、エチレンビスペンタブロモベンゼン、エチレンビステトラブロモフタルイミドなどが挙げられる。これらの難燃剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。この場合、誘電特性並びに難燃性、耐熱性、密着性、耐湿性、耐薬品性、信頼性等の観点から、ピロリン酸メラミン、ポリリン酸メラミン、ポリリン酸メラム、ポリリン酸アンモニウム、エチレンビスペンタブロモベンゼンが好適なものとして用いられる。 The flame retardant is not particularly limited and includes, for example, melamine phosphate, melam polyphosphate, melem polyphosphate, melamine pyrophosphate, ammonium polyphosphate, red phosphorus, aromatic phosphate ester, phosphonate ester, phosphinate ester, phosphine oxide, Examples include phosphazene, melamine cyanolate, ethylenebispentabromobenzene, ethylenebistetrabromophthalimide and the like. These flame retardants may be used alone or in combination of two or more. In this case, from the viewpoints of dielectric properties, flame resistance, heat resistance, adhesion, moisture resistance, chemical resistance, reliability, etc., melamine pyrophosphate, melamine polyphosphate, melam polyphosphate, ammonium polyphosphate, ethylenebispentabromo Benzene is preferably used.

難燃剤は、成分(A)と成分(B)と成分(C)と成分(D)との合計量を100質量部としたときに、15〜45質量部の割合で含ませることができる。難燃剤がこのような割合で含まれることによって誘電特性、密着性および耐湿性にほとんど影響を与えることなく、耐燃性を向上させることができる。 The flame retardant can be contained in a proportion of 15 to 45 parts by mass when the total amount of the components (A), (B), (C) and (D) is 100 parts by mass. When the flame retardant is contained in such a ratio, the flame resistance can be improved with almost no influence on the dielectric properties, adhesion and moisture resistance.

応力緩和剤は特に限定されず、例えば、シリコーン樹脂粒子などが挙げられる。シリコーン樹脂粒子としては、例えば、シリコンゴムパウダーとして、KMP-597(信越化
学工業(株)製)、X−52−875(信越化学工業(株)製)、シリコンレジンパウダーとして、KMP-590(信越化学工業(株)製)、X−52−1621(信越化学工
業(株)製)などが挙げられる。これらの応力緩和剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The stress relaxation agent is not particularly limited, and examples thereof include silicone resin particles. Examples of the silicone resin particles include KMP-597 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and X-52-875 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as silicone rubber powder, and KMP-590 (Silicone resin powder). Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product, X-52-1621 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product), etc. are mentioned. These stress relaxation agents may be used alone or in combination of two or more kinds.

応力緩和剤としては、10μm以下の平均粒径を有するものを用いることができる。このような平均粒径を有する応力緩和剤を用いることによって、樹脂組成物が、例えば金属張積層板などに用いられる場合に、金属箔との密着性を向上させることができる。応力緩和剤がこのような割合で含まれることによって、樹脂組成物が、例えば金属張積層板などに用いられる場合に、金属箔との密着性および耐吸湿性を向上させることができ、スルーホール接続信頼性も向上させることができる。 As the stress relaxation agent, those having an average particle diameter of 10 μm or less can be used. By using the stress relaxation agent having such an average particle diameter, the adhesiveness with the metal foil can be improved when the resin composition is used for, for example, a metal-clad laminate. By including the stress relaxation agent in such a ratio, when the resin composition is used, for example, in a metal-clad laminate, it is possible to improve the adhesion with the metal foil and the moisture absorption resistance, and to improve the through hole. Connection reliability can also be improved.

本開示の樹脂組成物には、上述の成分以外にも、その用途に応じて充填剤、添加剤などが適宜添加されていてもよい。充填剤としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、チタン酸バリウム、ガラスビーズ、ガラス中空球などが挙げられる。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、可塑剤、顔料、染料、着色剤などが挙げられる。添加剤の具体的なものは、例えば、R−42(堺化学(株)製)、IRGANOX1010(BASF社製)などが挙げられる。充填剤や添加剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 In addition to the above components, the resin composition of the present disclosure may be appropriately added with a filler, an additive, or the like depending on the application. Examples of the filler include carbon black, titanium oxide, barium titanate, glass beads, glass hollow spheres and the like. Examples of the additive include an antioxidant, a heat stabilizer, an antistatic agent, a plasticizer, a pigment, a dye and a colorant. Specific examples of the additive include R-42 (manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) and IRGANOX1010 (manufactured by BASF). The fillers and additives may be used alone or in combination of two or more.

さらに、本開示の樹脂組成物には、熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂の少なくとも1種が添加されていてもよい。熱可塑性樹脂としては、例えば、GPPS(汎用ポリスチレン)、HIPS(耐衝撃性ポリスチレン)、ポリブタジエン、スチレンブタジエンブロックコポリマーなどが挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えばエポキシ樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 Furthermore, at least one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be added to the resin composition of the present disclosure. Examples of the thermoplastic resin include GPPS (general-purpose polystyrene), HIPS (impact-resistant polystyrene), polybutadiene, and styrene-butadiene block copolymer. Examples of the thermosetting resin include epoxy resin. These resins may be used alone or in combination of two or more.

本開示の樹脂組成物は、例えば、上述の成分(A)〜(D)を上述のように混合し、これに必要に応じて他の成分を混合して得られるが、混合方法としては、例えば、各成分を溶媒中に均一に溶解または分散させる溶液混合法、押出機などにより加熱して行う溶融ブレンド法などが挙げられる。溶液混合法で用いられる溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、テトラヒドロフランおよびシクロヘキサンなどが挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The resin composition of the present disclosure can be obtained, for example, by mixing the above-mentioned components (A) to (D) as described above, and then by mixing other components as necessary, as a mixing method. Examples thereof include a solution mixing method in which each component is uniformly dissolved or dispersed in a solvent, and a melt blending method in which heating is performed by an extruder or the like. Examples of the solvent used in the solution mixing method include aromatic solvents such as benzene, toluene and xylene, tetrahydrofuran and cyclohexane. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

次に、本開示のプリプレグについて説明する。本開示のプリプレグは、本開示の樹脂組成物と基材とを含む。例えば、本開示の樹脂組成物を常法に従って基材に塗布または含浸後、乾燥して得られる。基材としては、例えば、ガラス、ポリイミドなど繊維の織布または不織布、紙などが挙げられる。ガラスの材質は、通常のEガラスの他、Dガラス、Sガラス、クォーツガラスなどが挙げられる。 Next, the prepreg of the present disclosure will be described. The prepreg of the present disclosure includes the resin composition of the present disclosure and a base material. For example, it is obtained by applying or impregnating a substrate with the resin composition of the present disclosure according to a conventional method, and then drying. Examples of the base material include woven or non-woven fabric of fibers such as glass and polyimide, and paper. Examples of the material of glass include ordinary E glass, D glass, S glass, and quartz glass.

プリプレグの中で基材の占める割合としては、プリプレグ全体中、20〜80質量%とすることができる。本開示のプリプレグには、必要に応じてシラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤などのカップリング剤を基材に塗布して使用することができる
The proportion of the base material in the prepreg may be 20 to 80 mass% in the entire prepreg. In the prepreg of the present disclosure, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent may be applied to a base material and used as necessary.

プリプレグ中の樹脂組成(成分)および含有量はガスクロマトグラフィー質量分析(GC−MS)および核磁気共鳴分析(H−NMR及び13C−NMR)、フーリエ変換型赤外吸収スペクトル分析(FT−IR)、熱分解ガスクロマトグラフィーよる熱分解物の定量分析にて分析することで確認できる。 The resin composition (component) and content in the prepreg are gas chromatography mass spectrometry (GC-MS) and nuclear magnetic resonance analysis ( 1 H-NMR and 13 C-NMR), Fourier transform infrared absorption spectrum analysis (FT-). It can be confirmed by analysis by quantitative analysis of thermal decomposition products by IR) and thermal decomposition gas chromatography.

本開示のプリプレグを製造する方法は特に限定されず、例えば、本開示の樹脂組成物を、必要に応じて溶媒(例えば、上述の芳香族系溶媒、メチルエチルケトンのようなケトン系溶媒など)に均一に溶解または分散させて、基材に塗布または含浸後、乾燥する方法が挙げられる。 The method for producing the prepreg of the present disclosure is not particularly limited, and, for example, the resin composition of the present disclosure is uniformly dispersed in a solvent (for example, the aromatic solvent described above, a ketone solvent such as methyl ethyl ketone, etc.) as necessary. Examples thereof include a method of dissolving or dispersing in a base material, coating or impregnating the base material, and then drying.

また、樹脂組成物を溶融させて、基材中に含浸させてもよい。塗布方法および含浸方法は特に限定されず、例えば、樹脂組成物の溶解液または分散液をスプレー、刷毛、バーコーターなどを用いて塗布する方法、樹脂組成物の溶解液または分散液に基材を浸漬する方法(ディッピング)などが挙げられる。塗布または含浸は、必要に応じて複数回繰り返すことも可能である。あるいは、樹脂濃度の異なる複数の溶解液または分散液を用いて、塗布または含浸を繰り返すことも可能である。 Alternatively, the resin composition may be melted and impregnated into the base material. The coating method and the impregnation method are not particularly limited, and for example, a method of applying a solution or dispersion of the resin composition using a spray, a brush, a bar coater, or the like, a substrate for the solution or dispersion of the resin composition is used. Examples include a method of dipping (dipping). The application or impregnation can be repeated a plurality of times as necessary. Alternatively, the application or impregnation can be repeated using a plurality of solutions or dispersions having different resin concentrations.

本開示のプリプレグは、例えば加熱成形に供されて積層板に加工される。積層板は、例えば、所望の厚さに応じてプリプレグを複数枚重ね合わせ、加熱加圧成形することによって得られる。さらに、得られた積層板と別のプリプレグとを組み合わせて、より厚い積層板を得ることもできる。積層成形および硬化は、通常熱プレス機を用いて同時に行われるが、両者を分けて行ってもよい。 The prepreg of the present disclosure is subjected to, for example, thermoforming to be processed into a laminated plate. The laminated plate can be obtained, for example, by stacking a plurality of prepregs in accordance with a desired thickness and heat-pressing. Furthermore, a thicker laminate can be obtained by combining the obtained laminate with another prepreg. The lamination molding and curing are usually performed simultaneously using a hot press machine, but both may be performed separately.

すなわち、最初に積層成形して半硬化の積層板を得、次に熱処理機で処理して完全に硬化させてもよい。加熱加圧成形は、80〜300℃、0.1〜50MPaの加圧下、1分〜10時間程度行うことができる。また、150〜250℃、0.5〜10MPaの加圧下、30分〜5時間程度行うこともできる。 That is, it is possible to first laminate and mold to obtain a semi-cured laminate, and then treat with a heat treatment machine to completely cure. The heat and pressure molding can be performed under a pressure of 80 to 300° C. and a pressure of 0.1 to 50 MPa for about 1 minute to 10 hours. Moreover, it can also be performed under 150-250 degreeC and 0.5-10 MPa pressurization for about 30 minutes-5 hours.

次に、本開示の金属張積層板について説明する。本開示の金属張積層板は、本開示のプリプレグの表面に金属箔を備えている。例えば、本開示の金属張積層板は、本開示のプリプレグと金属箔とを重ね合わせ加熱加圧を伴う成形によって得られる。金属箔としては特に限定されず、例えば、電解銅箔、圧延銅箔などの銅箔、アルミニウム箔、これらの金属箔を重ね合わせた複合箔などが挙げられる。これらの金属箔の中でも、銅箔が好ましい。金属箔の厚みは特に限定されず、5〜105μm程度のものを使用できる。本開示の金属張積層板は、本開示のプリプレグと金属箔とをそれぞれ所望の枚数重ね合わせ、加熱加圧成形しても得ることができる。この場合、金属張積層板は、プリプレグ中の樹脂組成物が、上記した成分(A)、成分(B)、成分(C)および成分(D)の群から選ばれる少なくとの2種以上の組合せから得られる高分子体を含有するものとなる。この場合、高分子体としては、ビニル基、プロペニル基およびメタクリル基の群から選ばれる少なくとも1種の架橋性の官能基を有するものが良く、特に、これらの官能基をシクロアルキル基とエーテル基との間に有するものが良い。こうして本開示の金属張積層板は、上述した硬化体を有するものとなり、誘電率および誘電正接が低く、高い耐熱性を有し、かつ銅箔との接着性に優れたプリント基板などに用いることが可能になる。 Next, the metal-clad laminate of the present disclosure will be described. The metal-clad laminate of the present disclosure includes a metal foil on the surface of the prepreg of the present disclosure. For example, the metal-clad laminate of the present disclosure can be obtained by stacking the prepreg and the metal foil of the present disclosure on each other and molding with heating and pressing. The metal foil is not particularly limited, and examples thereof include electrolytic copper foil, copper foil such as rolled copper foil, aluminum foil, and composite foil obtained by stacking these metal foils. Among these metal foils, copper foil is preferable. The thickness of the metal foil is not particularly limited, and one having a thickness of about 5 to 105 μm can be used. The metal-clad laminate of the present disclosure can also be obtained by stacking a desired number of the prepreg and the metal foil of the present disclosure on each other and heat-pressing. In this case, in the metal-clad laminate, the resin composition in the prepreg has at least two kinds selected from the group of the above-mentioned component (A), component (B), component (C) and component (D). It will contain a polymer obtained from the combination. In this case, the polymer preferably has at least one crosslinkable functional group selected from the group consisting of a vinyl group, a propenyl group and a methacryl group, and in particular, these functional groups are preferably a cycloalkyl group and an ether group. What you have between and is good. Thus, the metal-clad laminate of the present disclosure has the above-mentioned cured body, and has a low dielectric constant and dielectric loss tangent, high heat resistance, and is used for a printed circuit board excellent in adhesiveness with a copper foil. Will be possible.

次に、本開示の配線基板について説明する。本開示の配線基板は、複数の絶縁層と該絶縁層間に配置された導体層とを具備しており、絶縁層が本開示の樹脂組成物から得られる高分子体を含む硬化体と基材とで形成されている。 Next, the wiring board of the present disclosure will be described. The wiring board of the present disclosure includes a plurality of insulating layers and a conductor layer disposed between the insulating layers, and the insulating layer includes a cured body containing a polymer obtained from the resin composition of the present disclosure and a base material. It is formed by and.

本開示の配線基板は、例えば、本開示の金属張積層板に回路およびスルーホールが形成された内層板とプリプレグとを重ね合わせ、プリプレグの表面に導電性金属箔を積層させた後、加熱加圧成形して得られる。さらに、表面の導電性金属箔に回路およびスルーホールを形成して、多層プリント配線基板としてもよい。 A wiring board according to the present disclosure includes, for example, a metal-clad laminate of the present disclosure, an inner layer board having a circuit and a through hole formed thereon, and a prepreg, and a conductive metal foil is laminated on the surface of the prepreg and then heated. Obtained by pressure molding. Furthermore, a circuit and a through hole may be formed in the conductive metal foil on the surface to form a multilayer printed wiring board.

本開示の樹脂組成物によれば、誘電率および誘電正接の低い硬化体を得ることができる。また、このような樹脂組成物を用いることによって、誘電率および誘電正接の低いプリプレグおよび金属張積層板、ならびに優れた高周波特性を有する配線基板を得ることができる。 According to the resin composition of the present disclosure, a cured product having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be obtained. Further, by using such a resin composition, it is possible to obtain a prepreg and a metal-clad laminate having a low dielectric constant and dielectric loss tangent, and a wiring board having excellent high frequency characteristics.

以下、実施例を挙げて本開示の樹脂組成物を具体的に説明するが、本開示の樹脂組成物はこれらの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the resin composition of the present disclosure will be specifically described with reference to examples, but the resin composition of the present disclosure is not limited to these examples.

試料で使用した成分は、下記のとおりである。 The components used in the sample are as follows.

SA9000:メタクリル変性ポリフェニレンエーテル(分子量:2300)(サビックス社製)
LCOC−4:側鎖部分に架橋性の2重結合を複数有する環状オレフィンコポリマー(
三井化学製)
LCOC−3:側鎖部分に架橋性の2重結合を有さない環状オレフィンコポリマー(三
井化学製)
TAIC:トリアリルイソシアヌレート(日本化成(株)製)
パーブチルD:ジ−t−ブチルパーオキサイド(ベンゼン環無し)(日油(株)製)
シリカ粒子:SFP−130MC(平均粒径5μm)(電気化学工業(株)製)
銅箔:EXP−WS(厚み=18μm、Ra=0.18μm)
(試料No.1〜11)
表1に示す成分を表1に示す割合で混合し、さらに難燃剤として「SAYTEX8010」(アルベマール浅野(株)製)を、成分(A)、成分(B)、成分(C)および成分(D)の合計量100質量部に対して30質量部添加し、室温(25℃)にて撹拌して樹脂組成物を得た。得られた樹脂組成物をトルエンに溶解させて樹脂ワニスを得た。樹脂組成物とトルエンとの質量比は50:50とした。
SA9000: Methacryl-modified polyphenylene ether (molecular weight: 2300) (manufactured by Savix)
LCOC-4: a cyclic olefin copolymer having a plurality of crosslinkable double bonds in the side chain (
(Mitsui Chemicals)
LCOC-3: Cyclic olefin copolymer having no crosslinkable double bond in the side chain (Mitsui Chemicals)
TAIC: triallyl isocyanurate (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
Perbutyl D: di-t-butyl peroxide (without benzene ring) (NOF Corporation)
Silica particles: SFP-130MC (average particle size 5 μm) (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)
Copper foil: EXP-WS (thickness=18 μm, Ra=0.18 μm)
(Sample Nos. 1 to 11)
The components shown in Table 1 were mixed in the proportions shown in Table 1, and "SAYTEX 8010" (manufactured by Albemarle Asano Co., Ltd.) was added as a flame retardant to the components (A), (B), (C) and (D). 30 parts by mass was added to 100 parts by mass of the total amount) and stirred at room temperature (25° C.) to obtain a resin composition. The obtained resin composition was dissolved in toluene to obtain a resin varnish. The mass ratio of the resin composition and toluene was 50:50.

得られた樹脂ワニスをバーコーターを用いてPETフィルム(キャリアフィルム)上に成形し、この後に170℃で4分間乾燥し、樹脂フィルムを得た。 The obtained resin varnish was molded on a PET film (carrier film) using a bar coater and then dried at 170° C. for 4 minutes to obtain a resin film.

得られた樹脂フィルムをラミネーターによる積層およびキャリアフィルムの剥離を繰り返して樹脂板を作製した。 The obtained resin film was repeatedly laminated with a laminator and the carrier film was peeled off to prepare a resin plate.

次に、得られた樹脂板の両面を厚み18μmの銅箔で挟み、圧力4MPa、温度200℃にて120分間加熱加圧を行い、厚みが約1mmの銅張積層板を作製した。 Next, both sides of the obtained resin plate were sandwiched between copper foils having a thickness of 18 μm and heated and pressed at a pressure of 4 MPa and a temperature of 200° C. for 120 minutes to produce a copper clad laminate having a thickness of about 1 mm.

次に、得られた銅張積層板を所望のサイズに加工して試料を作製し、特性評価を行った。 Next, the obtained copper clad laminate was processed into a desired size to prepare a sample, and the characteristics were evaluated.

誘電率および誘電正接は、インピーダンスアナライザを用いて円板共振器法により測定した。測定周波数は10GHzとした。試料には、銅張積層板から銅箔を剥離した後の樹脂板を用いた。測定用試料のサイズは50mm角、厚み0.95mmとした。インピーダンスアナライザは、キーサイト社製のスカラーネットワークアナライザーを用いた。 The dielectric constant and the dielectric loss tangent were measured by the disk resonator method using an impedance analyzer. The measurement frequency was 10 GHz. A resin plate after peeling the copper foil from the copper-clad laminate was used as a sample. The size of the measurement sample was 50 mm square and the thickness was 0.95 mm. As the impedance analyzer, a scalar network analyzer manufactured by Keysight, Inc. was used.

次に、樹脂板のガラス転移点(Tg)を動的粘弾性(DMA)分析により求めた。この測定には、長さ30mm、幅5mm、厚み0.95mmに切り出した試料を大気雰囲気下、室温から260℃まで昇温速度5℃/min、加速周波数1Hzの条件で加熱し、力学特性を曲げモードで測定した。動的粘弾性測定装置には、SIIDMS110、日立ハイテクサイエンス社製)を用いた。 Next, the glass transition point (Tg) of the resin plate was determined by dynamic viscoelasticity (DMA) analysis. For this measurement, a sample cut into a length of 30 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 0.95 mm was heated in the atmosphere from room temperature to 260° C. under the conditions of a heating rate of 5° C./min and an acceleration frequency of 1 Hz to determine the mechanical properties. Measured in bending mode. As the dynamic viscoelasticity measuring device, SIIDMS110, manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.) was used.

銅箔の剥離強度は、作製した銅張積層板を、長さ150mm、幅5mm、厚み1mmに切り出した試料を用いて、室温にて、90°剥離試験により測定した。
結果を表1に示した。
The peel strength of the copper foil was measured by a 90° peel test at room temperature using a sample obtained by cutting the produced copper-clad laminate into a length of 150 mm, a width of 5 mm, and a thickness of 1 mm.
The results are shown in Table 1.

Figure 0006749055
Figure 0006749055

表1から、成分(B)を含まない試料No.10は、ガラス転移点が190℃であったものの、誘電率が3.1、誘電正接が0.0032であった。一方、成分(A)を含まない試料No.11は、誘電率が2.7、誘電正接が0.0028であったが、ガラス転移点が157℃であった。 From Table 1, sample No. containing no component (B). No. 10 had a glass transition point of 190° C., but had a dielectric constant of 3.1 and a dielectric loss tangent of 0.0032. On the other hand, sample No. containing no component (A). No. 11 had a dielectric constant of 2.7 and a dielectric loss tangent of 0.0028, but had a glass transition point of 157°C.

これに対し、成分(A)を42〜66質量%、成分(B)を4〜28質量%、成分(C)を20〜28質量%および成分(D)を2〜10質量%の範囲とした試料No.1〜9は、誘電率が2.9以下、誘電正接が0.0029以下であり、さらには、ガラス転移点(Tg)が191℃以上、かつ銅箔の剥離強度が0.52kN/m以上であった。 On the other hand, the range of the component (A) is 42 to 66 mass %, the component (B) is 4 to 28 mass %, the component (C) is 20 to 28 mass %, and the component (D) is 2 to 10 mass %. Sample No. Nos. 1 to 9 have a dielectric constant of 2.9 or less, a dielectric loss tangent of 0.0029 or less, a glass transition point (Tg) of 191° C. or more, and a copper foil peel strength of 0.52 kN/m or more. Met.

さらに、成分(A)を42〜56質量%、成分(B)を14〜28質量%、成分(C)を22〜26質量%および成分(D)を4〜8質量%とした試料No.2〜5は、誘電率が2.8、誘電正接が0.0026以下となり、また、ガラス転移点(Tg)が192℃以上、銅箔との剥離強度が0.62kN/m以上であった。 Furthermore, sample No. 4 which made the component (A) 42-56 mass %, the component (B) 14-28 mass %, the component (C) 22-26 mass %, and the component (D) 4-8 mass %. In Nos. 2 to 5, the dielectric constant was 2.8, the dielectric loss tangent was 0.0026 or less, the glass transition point (Tg) was 192° C. or higher, and the peel strength from the copper foil was 0.62 kN/m or higher. ..

Claims (7)

成分(A)として、両端のヒドロキシル基がエチレン性不飽和化合物によって変性されたポリフェニレンエーテルと、
成分(B)として、側鎖部分に架橋性の2重結合を複数有する環状オレフィンコポリマーと、
成分(C)として、トリアリルイソシアヌレートおよびトリアリルシアヌレートのうちの少なくとも1種と、
成分(D)として、有機過酸化物と、
を含有することを特徴とする樹脂組成物。
As component (A), a polyphenylene ether having hydroxyl groups at both ends modified with an ethylenically unsaturated compound,
As the component (B), a cyclic olefin copolymer having a plurality of crosslinkable double bonds in the side chain portion,
As component (C), at least one of triallyl isocyanurate and triallyl cyanurate;
As a component (D), an organic peroxide,
A resin composition comprising:
前記成分(A)が42〜66質量%、
前記成分(B)が4〜28質量%、
前記成分(C)が20〜28質量%、
前記成分(D)が2〜10質量%、
の割合で含まれることを特徴とする請求項1に記載の樹脂組成物。
42 to 66% by mass of the component (A),
The component (B) is 4 to 28% by mass,
20 to 28% by mass of the component (C),
2 to 10% by mass of the component (D),
The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition is contained in the following ratio.
前記成分(A)が42〜56質量%、
前記成分(B)が14〜28質量%、
前記成分(C)が22〜26質量%、
前記成分(D)が4〜8質量%、
の割合で含まれることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂組成物。
42 to 56% by mass of the component (A),
14-28% by mass of the component (B),
22 to 26 mass% of the component (C),
4 to 8 mass% of the component (D),
The resin composition according to claim 1 or 2, wherein the resin composition is contained in the following ratio.
請求項1〜3のいずれかに記載の樹脂組成物と、基材とで構成されていることを特徴とするプリプレグ。 A prepreg comprising the resin composition according to claim 1 and a base material. 請求項4に記載のプリプレグの表面に金属箔を備えていることを特徴とする金属張積層板。 A metal-clad laminate comprising the surface of the prepreg according to claim 4 and a metal foil. 前記プリプレグ中の樹脂組成物は、前記成分(A)、前記成分(B)、前記成分(C)および前記成分(D)の群から選ばれる少なくとも2種以上の組合せから得られる高分子体を含有することを特徴とする請求項5に記載の金属張積層板。 The resin composition in the prepreg is a polymer obtained from a combination of at least two selected from the group consisting of the component (A), the component (B), the component (C) and the component (D). The metal-clad laminate according to claim 5, which contains. 複数の絶縁層と該絶縁層間に配置された導体層とを具備し、前記絶縁層が請求項1乃至3のうちいずれかに記載の樹脂組成物から得られる高分子体を含む硬化体と基材とを有す
るものであることを特徴とする配線基板。
And a plurality of insulating layers and conductive layer disposed on the insulating interlayer, and the insulating layer according to claim 1 including curing body polymeric object obtained from the resin composition according to any one of the three A wiring board having a base material .
JP2016176687A 2016-09-09 2016-09-09 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board Active JP6749055B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016176687A JP6749055B2 (en) 2016-09-09 2016-09-09 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016176687A JP6749055B2 (en) 2016-09-09 2016-09-09 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018039950A JP2018039950A (en) 2018-03-15
JP6749055B2 true JP6749055B2 (en) 2020-09-02

Family

ID=61625353

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016176687A Active JP6749055B2 (en) 2016-09-09 2016-09-09 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6749055B2 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6811240B2 (en) * 2016-07-22 2021-01-13 京セラ株式会社 Organic insulators, metal-clad laminates and wiring boards
JPWO2020004225A1 (en) * 2018-06-26 2021-07-08 京セラ株式会社 Organic board, metal-clad laminate and wiring board
CN114174419B (en) * 2019-08-06 2024-03-08 日本曹达株式会社 Resin composition for metal-clad laminate, prepreg, and metal-clad laminate
WO2021153315A1 (en) * 2020-01-31 2021-08-05 京セラ株式会社 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
CN116745332A (en) 2021-02-26 2023-09-12 日本瑞翁株式会社 Resin composition
CN117616097A (en) * 2021-07-20 2024-02-27 琳得科株式会社 Curable adhesive composition and curable adhesive sheet
CN117836339A (en) * 2021-09-29 2024-04-05 日本瑞翁株式会社 Resin composition

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170086558A (en) * 2015-02-19 2017-07-26 쿄세라 코포레이션 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
WO2016147984A1 (en) * 2015-03-13 2016-09-22 京セラ株式会社 Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
JP2018034419A (en) * 2016-08-31 2018-03-08 三井化学株式会社 Laminate, metal-clad laminate, printed wiring board, and electronic equipment
JP2018037525A (en) * 2016-08-31 2018-03-08 三井化学株式会社 Printed wiring board and electronic equipment
JP6770854B2 (en) * 2016-08-31 2020-10-21 三井化学株式会社 Laminates, metal-clad laminates, printed wiring boards and electronic devices

Also Published As

Publication number Publication date
JP2018039950A (en) 2018-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6749055B2 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board
JP6335384B2 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board
US10887984B2 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
WO2020196718A1 (en) Resin composition and use thereof
JP6998448B2 (en) Laminated board for prepreg and circuit board
JP6811240B2 (en) Organic insulators, metal-clad laminates and wiring boards
JPWO2018179682A1 (en) Copper foil with adhesive, copper-clad laminate and wiring board
JP2017082200A (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
JP2020100759A (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate and wiring board
KR102478957B1 (en) Resin composition, resin layer-provided support, prepreg, laminate sheet, multilayer printed wiring board, and printed wiring board for millimeter-wave radar
WO2019004223A1 (en) Organic insulator, metal-clad laminate and wiring board
TW201522463A (en) Curable compositions which form interpenetrating polymer networks
WO2021153315A1 (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
JP2020172588A (en) Resin composition and use therefor
CN115003717B (en) Resin composition, prepreg, metal-clad laminate, and wiring board
JPWO2019142570A1 (en) Organic insulators, metal-clad laminates and wiring boards

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200331

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200511

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200716

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200808

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6749055

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150