JP6719550B2 - Conductive adhesive and shield film - Google Patents

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Description

本発明は導電性接着剤およびシールドフィルムに関する。 The present invention relates to a conductive adhesive and a shield film.

プリント配線板におけるノイズカットの手法として、SUSなどの金属補強板を導電性接着剤によって接着してシールド性能を保持する方法が主に用いられており、また、フレキシブルプリント配線板(FPC)などの屈曲する部位については、薄い金属箔層および導電性接着剤よりなる屈曲性のシールドフィルムを用いる方法がとられている。
これに関する従来法として、例えば特許文献1、2に記載のものが挙げられる。
As a method of noise reduction in a printed wiring board, a method in which a metal reinforcing plate such as SUS is adhered with a conductive adhesive to maintain the shielding performance is mainly used, and a flexible printed wiring board (FPC) or the like is used. Regarding the bent portion, a method of using a flexible shield film made of a thin metal foil layer and a conductive adhesive is adopted.
Examples of conventional methods relating to this include those described in Patent Documents 1 and 2.

このような導電性接着剤には、雰囲気温度を低温(例えば−45℃)から高温(例えば125℃)内へ変化させ、再度、低温へ戻し、その後、高温へ変化させることを繰り返すヒートサイクル試験に供した場合に、その特性が優れるものが求められている。例えば携帯電話の内部に用いられる場合、ヒートサイクルを1000回繰り返してもほとんど性能が劣化しないことが求められている。 For such a conductive adhesive, a heat cycle test in which the atmosphere temperature is changed from a low temperature (for example, −45° C.) to a high temperature (for example, 125° C.), the temperature is returned to the low temperature again, and then the temperature is changed to the high temperature is repeated. It is required that the material has excellent characteristics when subjected to the above. For example, when used in a mobile phone, it is required that the performance hardly deteriorates even if the heat cycle is repeated 1000 times.

また、導電性組成物には、上記のヒートサイクル性に加えて、リフロー性が良好で、かつ、基板に対して剥がれ難いことが求められていた。 Further, in addition to the above heat cycle property, the conductive composition has been required to have good reflow property and be difficult to peel off from the substrate.

特開2003−298285号公報JP, 2003-298285, A 特許第5139156号公報Patent No. 5139156

しかしながら、従来、金属板を接着する導電性接着剤、およびシールドフィルムの導電性接着剤は、電子機器を使用時の湿度、温度や、その繰り返しにより抵抗値が上昇してしまい、十分なシールド性能を示さないという問題点を有している。すなわち、温度湿度、繰り返し熱処理によって、導電性接着剤と金属板の間にひずみが生じ、界面の接点が低下して、抵抗値上昇が発生するという課題がある。 However, conventionally, the conductive adhesive for bonding a metal plate and the conductive adhesive for a shield film have a sufficient shield performance because the resistance value increases due to humidity and temperature during use of an electronic device and the repetition thereof. It has a problem that it does not show. That is, there is a problem that strain is generated between the conductive adhesive and the metal plate due to temperature and humidity and repeated heat treatment, the contact point at the interface is lowered, and the resistance value is increased.

本発明者は上記課題を解決するため鋭意検討し、上記のヒートサイクル性に優れ、リフロー性が良好で、かつ、基板に対して剥がれ難い導電性接着剤およびそれを含むシールドフィルムを見出し、本発明を完成させた。
本発明は以下の(1)〜(5)である。
(1)熱硬化性樹脂と、導電性フィラーとを含む導電性接着剤であって、
硬化した後において、
Tg(TMA法)が35℃以上、
引っ張り弾性率が1.5GPa〜4GPa、
線膨張係数が−25℃〜125℃において250ppm/℃以上、
湿度膨張率が、20℃において55%から75%に増加させたときに0.05%以下であり、20℃において55%から95%に増加させたときに0.15%以下である、導電性接着剤。
(2)前記熱硬化性樹脂が、ウレタン樹脂と、ポリエステル樹脂と、エポキシ樹脂とを含む、上記(1)に記載の導電性接着剤。
(3)前記導電性フィラーが、銀メッキをした樹木状結晶構造を有する電解銅粉である、上記(1)または(2)に記載の導電性接着剤。
(4)前記電解銅粉における銀メッキの含有率が5質量%以上であり、前記電解銅粉を45質量%以上含む、上記(3)に記載の導電性接着剤。
(5)ポリイミドからなる絶縁層の一方の主面上に、上記(1)〜(4)のいずれか一項に記載の導電性接着剤からなる層を有する、シールドフィルム。
The present inventor has conducted diligent studies to solve the above problems, has excellent heat cycle properties, has good reflow properties, and has found a conductive adhesive that is difficult to peel off from a substrate and a shield film containing the same, and Completed the invention.
The present invention is the following (1) to (5).
(1) A conductive adhesive containing a thermosetting resin and a conductive filler,
After curing,
Tg (TMA method) is 35°C or higher,
Tensile elastic modulus of 1.5 GPa to 4 GPa,
When the linear expansion coefficient is -25°C to 125°C, 250 ppm/°C or more,
The coefficient of humidity expansion is 0.05% or less when increased from 55% to 75% at 20°C, and is 0.15% or less when increased from 55% to 95% at 20°C. Adhesive.
(2) The conductive adhesive according to (1) above, wherein the thermosetting resin contains a urethane resin, a polyester resin, and an epoxy resin.
(3) The conductive adhesive according to (1) or (2) above, wherein the conductive filler is electrolytic copper powder having a silver-plated dendritic crystal structure.
(4) The conductive adhesive according to (3), wherein the content of silver plating in the electrolytic copper powder is 5% by mass or more and the electrolytic copper powder contains 45% by mass or more.
(5) A shield film having a layer made of the conductive adhesive according to any one of (1) to (4) above on one main surface of an insulating layer made of polyimide.

本発明によれば、ヒートサイクル性に優れ、リフロー性が良好で、かつ、基板に対して剥がれ難い導電性接着剤およびそれを含むシールドフィルムを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a conductive adhesive having excellent heat cycle properties, good reflow properties, and hard to peel off from a substrate, and a shield film containing the same.

実施例で用いた評価基板[1]の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the evaluation board [1] used in the Example.

本発明について説明する。
本発明は、熱硬化性樹脂と、導電性フィラーとを含む導電性接着剤であって、硬化した後において、Tg(TMA法)が35℃以上、引っ張り弾性率が1.5GPa〜4GPa、線膨張係数が−25℃〜125℃において250ppm/℃以上、湿度膨張率が、20℃において55%から75%に増加させたときに0.05%以下であり、20℃において55%から95%に増加させたときに0.15%以下である、導電性接着剤である。
このような導電性接着剤を、以下では「本発明の接着剤」ともいう。
The present invention will be described.
The present invention is a conductive adhesive containing a thermosetting resin and a conductive filler, which has a Tg (TMA method) of 35°C or higher, a tensile elastic modulus of 1.5 GPa to 4 GPa, and a line after curing. The expansion coefficient is 250 ppm/°C or higher at -25°C to 125°C, and the humidity expansion coefficient is 0.05% or less when increased from 55% to 75% at 20°C, and 55% to 95% at 20°C. It is a conductive adhesive that is 0.15% or less when increased to 0.1%.
Hereinafter, such a conductive adhesive will also be referred to as the “adhesive of the present invention”.

このような導電性接着剤は、ヒートサイクル特性に優れ、さらにリフロー性が良好となり、加えて基板に対して剥がれ難いという特性を備えることを、本発明者は見出した。
なお、本発明の接着剤におけるTg(TMA法)、引っ張り弾性率、線膨張係数および湿度膨張率は、後述する実施例に記した方法によって測定して得た値を意味するものとする。
The present inventor has found that such a conductive adhesive has excellent heat cycle characteristics, good reflow characteristics, and is hardly peeled off from the substrate.
The Tg (TMA method), the tensile modulus of elasticity, the coefficient of linear expansion and the coefficient of humidity expansion of the adhesive of the present invention mean the values obtained by measurement by the methods described in Examples described later.

本発明の接着剤は、熱硬化性樹脂と、導電性フィラーとを含む。ここで、熱硬化性樹脂と導電性フィラーとの合計含有率は70質量%以上であることが好ましい。この合計含有率は80質量%以上であることがより好ましく、95質量%以上であることがさらに好ましい。
本発明の接着剤は熱硬化性樹脂および導電性フィラーの他に、従来公知の接着剤に含まれる添加剤等を含んでよい。例えば、ヒンダードアミン系、ヒンダードフェノール系、リン系などの酸化防止剤、臭素系、リン系、窒素系、水酸化金属化合物などの難燃剤、レベリング剤、顔料、染料などの添加剤を適宜配合することができる。
The adhesive of the present invention contains a thermosetting resin and a conductive filler. Here, the total content of the thermosetting resin and the conductive filler is preferably 70% by mass or more. The total content is more preferably 80% by mass or more, further preferably 95% by mass or more.
The adhesive of the present invention may contain additives and the like contained in conventionally known adhesives, in addition to the thermosetting resin and the conductive filler. For example, an additive such as hindered amine-based, hindered phenol-based, phosphorus-based antioxidant, bromine-based, phosphorus-based, nitrogen-based, flame retardant such as metal hydroxide compound, leveling agent, pigment, dye, etc. is appropriately mixed. be able to.

本発明の接着剤において熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、合成ゴム、UV硬化アクリレート樹脂等が挙げられ、これらを1種類もしくは複数使用することができる。
また、本発明の接着剤は、ウレタン樹脂と、ポリエステル樹脂と、エポキシ樹脂とを含むものであることがより好ましく、次に示す樹脂組成物であることがさらに好ましい。
Examples of the thermosetting resin in the adhesive of the present invention include an epoxy resin, a phenol resin, an amino resin, an alkyd resin, a urethane resin, a synthetic rubber, and a UV curable acrylate resin, and one or more of these can be used. ..
The adhesive of the present invention more preferably contains a urethane resin, a polyester resin, and an epoxy resin, and more preferably a resin composition shown below.

樹脂組成物は、カルボキシル基を含有し、酸価が100当量/106g以上1000当量/106g以下であり、数平均分子量が5.0×103以上1.0×105以下であり、ガラス転移温度が30℃以上80℃以下であるポリウレタン樹脂(a−1)、数平均分子量が5.0×103以上1.0×105以下であり、ガラス転移温度が0℃以下であるポリエステル樹脂(a−2)、エポキシ樹脂(b)、からなり、前記ポリウレタン樹脂(a−1)と前記ポリエステル樹脂(a−2)の合計に対する前記ポリウレタン樹脂(a−1)の含有率が70質量%以上95質量%以下であり、前記ポリウレタン樹脂(a−1)と前記ポリエステル樹脂(a−2)の合計に対する樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂全体の含有率が5質量%以上30質量%以下であり、前記エポキシ樹脂(b)の配合比率が、樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂全体の0.1質量%以上20質量%以下である。
また、樹脂組成物において、前記ポリウレタン樹脂(a−1)は、ポリエステルポリオール(c)、1つのカルボン酸基と2つの水酸基を有する化合物(d)、ポリイソシアネート(e)の反応によって得られるものであることが好ましい。
また、樹脂組成物は、さらに有機溶剤を含有することが好ましい。
The resin composition contains a carboxyl group, has an acid value of 100 equivalents/10 6 g or more and 1000 equivalents/10 6 g or less, and has a number average molecular weight of 5.0×10 3 or more and 1.0×10 5 or less. And a polyurethane resin (a-1) having a glass transition temperature of 30° C. or higher and 80° C. or lower, a number average molecular weight of 5.0×10 3 or higher and 1.0×10 5 or lower, and a glass transition temperature of 0° C. or lower. The content ratio of the polyurethane resin (a-1) to the total of the polyurethane resin (a-1) and the polyester resin (a-2), which is composed of the polyester resin (a-2) and the epoxy resin (b). Is 70% by mass or more and 95% by mass or less, and the total content of the epoxy resins contained in the resin composition with respect to the total of the polyurethane resin (a-1) and the polyester resin (a-2) is 5% by mass or more and 30% by mass or more. The content of the epoxy resin (b) is 0.1% by mass or more and 20% by mass or less based on the whole epoxy resin contained in the resin composition.
In the resin composition, the polyurethane resin (a-1) is obtained by reacting a polyester polyol (c), a compound (d) having one carboxylic acid group and two hydroxyl groups, and a polyisocyanate (e). Is preferred.
Further, the resin composition preferably further contains an organic solvent.

樹脂組成物について詳細に説明する。
樹脂組成物は、特定のポリウレタン樹脂(a−1)、特定のポリエステル樹脂(a−2)、エポキシ樹脂(b)からなり、さらに有機溶剤を含有していても良い。
The resin composition will be described in detail.
The resin composition comprises a specific polyurethane resin (a-1), a specific polyester resin (a-2) and an epoxy resin (b), and may further contain an organic solvent.

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)の数平均分子量は、5.0×103以上1.0×105である。ポリウレタン樹脂(a−1)の数平均分子量が5.0×103未満だと塗布直後の密着性が不充分で作業性が悪くなり、また、可とう性が低下し、接着性が低下する傾向にある。ポリウレタン樹脂(a−1)の数平均分子量が1.0×105を超えると、塗布時の溶液粘度が高すぎて、均一な塗膜が得られないことがある。ポリウレタン樹脂(a−1)の数平均分子量の下限値は、好ましくは8.0×103であり、さらに好ましくは1.0×104である。また、ポリウレタン樹脂(a−1)の数平均分子量の上限値は、好ましくは5.0×104、さらに好ましくは3.5×104である。The number average molecular weight of the polyurethane resin (a-1) used in the resin composition is 5.0×10 3 or more and 1.0×10 5 . When the number average molecular weight of the polyurethane resin (a-1) is less than 5.0×10 3 , the adhesion immediately after coating is insufficient and the workability deteriorates, and the flexibility decreases and the adhesion decreases. There is a tendency. When the number average molecular weight of the polyurethane resin (a-1) exceeds 1.0×10 5 , the solution viscosity at the time of application is too high, and a uniform coating film may not be obtained. The lower limit of the number average molecular weight of the polyurethane resin (a-1) is preferably 8.0×10 3 , and more preferably 1.0×10 4 . Moreover, the upper limit of the number average molecular weight of the polyurethane resin (a-1) is preferably 5.0×10 4 , and more preferably 3.5×10 4 .

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)の酸価は100当量/106g以上1000当量/106g以下である。ポリウレタン樹脂(a−1)の酸価が100当量/106g未満だと、金属製基材への密着性が不充分になる傾向にある。また、エポキシ樹脂との架橋が不十分であり、耐熱性が低下する傾向にある。ポリウレタン樹脂(a−1)の酸価が1000当量/106gを超えると、溶剤に溶解した際のワニスの保存安定性が低下し、また接着性シートの架橋反応が常温下で進行し易く、安定したシートライフが得られないといった傾向にある。また、エポキシ樹脂との架橋が密になりすぎ、接着性が低下する傾向にある。ポリウレタン樹脂(a−1)の酸価の下限は、好ましくは150当量/106g、より好ましくは200当量/106g、さらに好ましくは400当量/106gである。ポリウレタン樹脂(a−1)の酸価の上限は、好ましくは900当量/106g、より好ましくは800当量/106g、さらに好ましくは700当量/106gである。酸価を導入する方法は、ポリウレタンを構成するポリエステルポリオールに3官能以上の多官能のカルボン酸を共重合する方法、鎖延長剤にカルボン酸を含有するジオールを使用する方法などがある。The acid value of the polyurethane resin (a-1) used in the resin composition is 100 equivalents/10 6 g or more and 1000 equivalents/10 6 g or less. When the acid value of the polyurethane resin (a-1) is less than 100 equivalent/10 6 g, the adhesion to the metal base material tends to be insufficient. In addition, the crosslinking with the epoxy resin is insufficient, and the heat resistance tends to decrease. When the acid value of the polyurethane resin (a-1) exceeds 1000 equivalents/10 6 g, the storage stability of the varnish when dissolved in a solvent decreases, and the crosslinking reaction of the adhesive sheet easily proceeds at room temperature. However, there is a tendency that a stable seat life cannot be obtained. Further, the cross-linking with the epoxy resin becomes too dense, and the adhesiveness tends to decrease. The lower limit of the acid value of the polyurethane resin (a-1) is preferably 150 equivalents/10 6 g, more preferably 200 equivalents/10 6 g, and further preferably 400 equivalents/10 6 g. The upper limit of the acid value of the polyurethane resin (a-1) is preferably 900 equivalents/10 6 g, more preferably 800 equivalents/10 6 g, and further preferably 700 equivalents/10 6 g. Examples of the method of introducing an acid value include a method of copolymerizing a polyester polyol constituting polyurethane with a polyfunctional carboxylic acid having a functionality of 3 or more, and a method of using a diol containing a carboxylic acid as a chain extender.

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)のガラス転移温度は、30℃以上80℃以下である。ガラス転移温度が30℃未満だと、高温高湿度下での接着性が不十分になる傾向がある。ガラス転移温度が80℃を超えると、基材との貼り合せが不十分になり、また常温での弾性率が高くなり、常温での接着性が不十分になる傾向がある。好ましくはガラス転移温度の下限は35℃、より好ましくはガラス転移温度の下限は40℃である。好ましい上限は75℃、より好ましい上限は70℃である。 The polyurethane resin (a-1) used in the resin composition has a glass transition temperature of 30° C. or higher and 80° C. or lower. If the glass transition temperature is less than 30°C, the adhesiveness under high temperature and high humidity tends to be insufficient. When the glass transition temperature exceeds 80° C., the bonding with the substrate becomes insufficient, the elastic modulus at room temperature becomes high, and the adhesiveness at room temperature tends to be insufficient. The lower limit of the glass transition temperature is preferably 35°C, more preferably the lower limit of the glass transition temperature is 40°C. A preferred upper limit is 75°C, and a more preferred upper limit is 70°C.

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)は、その原料としてポリエステルポリオール(c)と、ポリイソシアネート(e)と、鎖延長剤と、を使用することが好ましい。
前記ポリエステルポリオール(c)の数平均分子量は、2000以上50000以下であることが好ましく、6000以上35000以下であることがより好ましい。数平均分子量が2000未満であれば、分子内のウレタン結合の数が多くなりすぎ半田耐熱性に劣り、接着性も低下する。反対に数平均分子量が50000を超える場合にはエポキシ樹脂との架橋点間距離が長くなりすぎ半田耐熱性が劣る。
The polyurethane resin (a-1) used in the resin composition preferably uses a polyester polyol (c), a polyisocyanate (e), and a chain extender as its raw materials.
The number average molecular weight of the polyester polyol (c) is preferably 2000 or more and 50000 or less, and more preferably 6000 or more and 35000 or less. If the number average molecular weight is less than 2000, the number of urethane bonds in the molecule will be too large and the solder heat resistance will be poor, and the adhesiveness will also be reduced. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 50,000, the distance between crosslinking points with the epoxy resin becomes too long and the solder heat resistance becomes poor.

前記ポリエステルポリオール(c)は、ポリエステルポリオール(c)を構成する全酸成分の合計量を100モル%としたとき、芳香族酸が30モル%以上であることが好ましく、より好ましくは45モル%以上、さらに好ましくは60モル%以上である。芳香族酸が30モル%未満の場合、塗膜の凝集力が弱く、各種基材への接着強度の低下が見られる。 The polyester polyol (c) preferably has an aromatic acid content of 30 mol% or more, more preferably 45 mol %, when the total amount of all the acid components constituting the polyester polyol (c) is 100 mol %. Or more, and more preferably 60 mol% or more. If the aromatic acid content is less than 30 mol %, the cohesive force of the coating film is weak and the adhesive strength to various substrates is reduced.

芳香族酸の例としてはテレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸、ビフェニルジカルボン酸、ジフェン酸、5−ヒドロキシイソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸が例示できる。また、スルホテレフタル酸、5−スルホイソフタル酸、4−スルホフタル酸、4−スルホナフタレン−2,7−ジカルボン酸、5−(4−スルホフェノキシ)イソフタル酸、および、それらの金属塩、アンモニウム塩などのスルホン酸基またはスルホン酸塩基を有する芳香族ジカルボン酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシフェニルプロピオン酸、p−ヒドロキシフェニル酢酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、4,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)バレリック酸などの芳香族オキシカルボン酸などを挙げることができる。これらのうちでもテレフタル酸、イソフタル酸、およびその混合物が塗膜の凝集力を上げる点で特に好ましい。 Examples of aromatic acids include aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, orthophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, biphenyldicarboxylic acid, diphenic acid and 5-hydroxyisophthalic acid. Further, sulfoterephthalic acid, 5-sulfoisophthalic acid, 4-sulfophthalic acid, 4-sulfonaphthalene-2,7-dicarboxylic acid, 5-(4-sulfophenoxy)isophthalic acid, and their metal salts and ammonium salts. An aromatic dicarboxylic acid having a sulfonic acid group or a sulfonate group, p-hydroxybenzoic acid, p-hydroxyphenylpropionic acid, p-hydroxyphenylacetic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, 4,4-bis(p Examples thereof include aromatic hydroxycarboxylic acids such as -hydroxyphenyl)valeric acid. Among these, terephthalic acid, isophthalic acid, and a mixture thereof are particularly preferable in terms of increasing the cohesive force of the coating film.

なお、その他の酸成分としては、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族ジカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸などの脂肪族ジカルボン酸を挙げることができる。 Incidentally, other acid components include alicyclic dicarboxylic acids such as 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacine. Examples thereof include acids, dodecanedioic acid, and aliphatic dicarboxylic acids such as dimer acid.

一方、グリコール成分は脂肪族グリコール、脂環族グリコール、芳香族含有グリコール、エーテル結合含有グリコールなどからなることが好ましく、脂肪族グリコールの例としては、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールエステル、ジメチロールヘプタン、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールなどを挙げることができ、脂環族グリコールの例としては、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメチロール、スピログリコール、水素化ビスフェノールA、水素化ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物などを挙げることができる。エーテル結合含有グリコールの例としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、さらに、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ネオペンチルグリコールエチレンオキサイド付加物、ネオペンチルグリコールプロピレンオキサイド付加物などを挙げることができる。芳香族含有グリコールの例としてはパラキシレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキシレングリコール、1,4−フェニレングリコール、1,4−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールA、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物などの、ビスフェノール類の2つのフェノール性水酸基にエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドをそれぞれ1〜数モル付加して得られるグリコール類などを例示できる。 On the other hand, the glycol component is preferably an aliphatic glycol, an alicyclic glycol, an aromatic-containing glycol, an ether bond-containing glycol or the like, and examples of the aliphatic glycol include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1, 3-propanediol, 1,4-butanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentane Diol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, hydroxypivalic acid neopentyl glycol ester, dimethylolheptane, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol And the like. Examples of the alicyclic glycol include 1,4-cyclohexanediol, 1,4-cyclohexanedimethanol, tricyclodecanediol, tricyclodecane dimethylol, spiroglycol, hydrogenated bisphenol A, Examples thereof include an ethylene oxide adduct and a propylene oxide adduct of hydrogenated bisphenol A. Examples of the ether bond-containing glycol include diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, neopentyl glycol ethylene oxide adduct, neopentyl glycol propylene oxide adduct, and the like. be able to. Examples of the aromatic-containing glycol include para-xylene glycol, meta-xylene glycol, ortho-xylene glycol, 1,4-phenylene glycol, 1,4-phenylene glycol ethylene oxide adduct, bisphenol A, bisphenol A ethylene oxide adduct, and Examples thereof include glycols obtained by adding 1 to several moles of ethylene oxide or propylene oxide to two phenolic hydroxyl groups of bisphenol such as propylene oxide adduct.

また、分子構造の中に水酸基とカルボキシル基を有するオキシカルボン酸化合物もポリエステル原料として使用することができ、5−ヒドロキシイソフタル酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシフェニルプロピオン酸、p−ヒドロキシフェニル酢酸、6−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、4,4−ビス(p−ヒドロキシフェニル)バレリック酸などを例示できる。 An oxycarboxylic acid compound having a hydroxyl group and a carboxyl group in its molecular structure can also be used as a polyester raw material, and 5-hydroxyisophthalic acid, p-hydroxybenzoic acid, p-hydroxyphenylpropionic acid, p-hydroxyphenyl. Examples thereof include acetic acid, 6-hydroxy-2-naphthoic acid, and 4,4-bis(p-hydroxyphenyl)valeric acid.

樹脂組成物で使用されるポリエステルポリオール(c)中には、分岐骨格を導入する目的で、ポリエステルポリオール(c)を構成する全酸成分または全グリコール成分の合計を100モル%としたとき、0.1モル%以上5モル%以下の範囲内の3官能以上のポリカルボン酸類および/または3官能以上のポリオール類を共重合しても構わない。樹脂組成物にはエポキシ樹脂が配合されているので、分岐骨格を導入することにより、樹脂(a−1)の末端基、すなわち架橋剤と反応できる官能基が増え、架橋密度が高い、強度の高い塗膜を得ることができる。このような効果を示す3官能以上のポリカルボン酸の例としてはトリメリット酸、トリメシン酸、エチレングルコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸(PMDA)、オキシジフタル酸二無水物(ODPA)、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3',4,4'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、4,4'−(ヘキサフロロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、2,2'−ビス[(ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(BSAA)などの化合物を挙げることができ、一方、3官能以上のポリオールの例としてはグリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを挙げることができる。3官能以上のポリカルボン酸および/または3官能以上のポリオールを使用する場合は、それぞれ全酸成分あるいは全グリコール成分に対し0.1モル%以上5モル%以下、好ましくは0.1モル%以上3モル%以下の範囲で共重合するのが良く、5モル%を超えると塗膜の破断点伸度などの力学物性の低下が生じることがあり、また重合中にゲル化を起こす可能性がある。 In the polyester polyol (c) used in the resin composition, for the purpose of introducing a branched skeleton, when the total of all acid components or all glycol components constituting the polyester polyol (c) is 100 mol %, 0 It is also possible to copolymerize trifunctional or higher polycarboxylic acids and/or trifunctional or higher polyols within a range of 1 mol% or more and 5 mol% or less. Since the epoxy resin is blended in the resin composition, by introducing a branched skeleton, the number of terminal groups of the resin (a-1), that is, the functional groups capable of reacting with the crosslinking agent, increases, the crosslinking density is high, and the strength is high. A high coating film can be obtained. Examples of trifunctional or higher functional polycarboxylic acids that exhibit such effects include trimellitic acid, trimesic acid, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), glycerol tris (anhydrotrimellitate), trimellitic anhydride, Pyromellitic dianhydride (PMDA), oxydiphthalic dianhydride (ODPA), 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3',4,4'-diphenyltetra Carboxylic dianhydride (BPDA), 3,3′,4,4′-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA), 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) , 2,2′-bis[(dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride (BSAA) and the like, while examples of trifunctional or higher functional polyols include glycerin, trimethylolethane, and trimethylol. Examples thereof include propane and pentaerythritol. When using a trifunctional or higher functional polycarboxylic acid and/or a trifunctional or higher functional polyol, each is 0.1 mol% or more and 5 mol% or less, preferably 0.1 mol% or more, based on the total acid component or total glycol component. Copolymerization is preferable in the range of 3 mol% or less, and if it exceeds 5 mol %, mechanical properties such as elongation at break of the coating film may decrease, and gelation may occur during polymerization. is there.

樹脂組成物で使用されるポリエステルポリオール(c)中には、必要によりカルボキシル基を導入する目的で、0.1モル%以上10モル%以下の範囲内での酸付加を行うことができる。酸付加にモノカルボン酸、ジカルボン酸、多官能カルボン酸化合物を用いると、エステル交換により分子量の低下が起こるので、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物としては、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、2,5−ノルボルネンジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸(PMDA)、オキシジフタル酸二無水物(ODPA)、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)、3,3',4,4'−ジフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDA)、3,3',4,4'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物(DSDA)、4,4'−(ヘキサフロロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、2,2'−ビス[(ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物(BSAA)などの化合物が使用できる。本発明で使用されるポリエステルポリオール(c)を構成する全酸成分を100モル%としたとき、10モル%以上の酸付加を行うと、ゲル化を起こすことがあり、またポリエステルの解重合を起こし樹脂分子量を下げてしまうことがある。酸付加を行う方法としては、たとえば、ポリエステル重縮合後バルク状態で直接行う方法と、ポリエステルを溶液化し付加する方法がある。バルク状態での反応は、速度が速いが、多量に付加するとゲル化が起こることがあり、かつ高温での反応になるので、酸素ガスを遮断し酸化を防ぐなどの注意が必要である。一方、溶液状態での付加は、反応は遅いが、多量のカルボキシル基を安定に導入することができる。 In the polyester polyol (c) used in the resin composition, acid addition can be carried out within the range of 0.1 mol% or more and 10 mol% or less for the purpose of introducing a carboxyl group if necessary. When a monocarboxylic acid, a dicarboxylic acid, or a polyfunctional carboxylic acid compound is used for acid addition, transesterification causes a decrease in the molecular weight, and therefore it is preferable to use an acid anhydride. Examples of acid anhydrides include succinic anhydride, maleic anhydride, phthalic anhydride, 2,5-norbornene dicarboxylic acid anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic dianhydride (PMDA), and oxydiphthalic dianhydride. (ODPA), 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride (BTDA), 3,3′,4,4′-diphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3,3 ',4,4'-Diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride (DSDA), 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA), 2,2'-bis[(dicarboxyphenoxy ) Compounds such as phenyl]propane dianhydride (BSAA) can be used. When the total acid component constituting the polyester polyol (c) used in the present invention is 100 mol %, 10 mol% or more of acid addition may cause gelation, and depolymerization of polyester may occur. The resin molecular weight may be lowered. As the method of acid addition, for example, there are a method of directly carrying out the polycondensation of the polyester in a bulk state and a method of solutionizing and adding the polyester. The reaction in the bulk state is fast, but if a large amount is added, gelation may occur, and the reaction will occur at a high temperature, so care must be taken to block oxygen gas and prevent oxidation. On the other hand, addition in a solution state is slow in reaction, but a large amount of carboxyl groups can be stably introduced.

樹脂組成物において用いるポリウレタン樹脂(a−1)の製造に使用するポリイソシアネート(e)は、ジイソシアネート、その二量体(ウレトジオン)、その三量体(イソシアヌレート、トリオール付加物、ビューレット)などの一種、またはそれら二種以上の混合物であってもよい。たとえば、ジイソシアネート成分としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、p−フェニレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、3,3'−ジメトキシ−4,4'−ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネート、2,6−ナフタレンジイソシアネート、4,4'−ジイソシアネートジフェニルエーテル、1,5−キシリレンジイソシアネート、1,3−ジイソシアネートメチルシクロヘキサン、1,4−ジイソシアネ−トメチルシクロヘキサン、4,4'−ジイソシアネートシクロヘキサン、4,4'−ジイソシアネートシクロヘキシルメタン、イソホロンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネートなどが挙げられるが、黄変性の問題から、脂肪族・脂環族のジイソシアネートが好ましい。さらに入手の容易さと経済的な理由で、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートが特に好ましい。 The polyisocyanate (e) used for producing the polyurethane resin (a-1) used in the resin composition includes diisocyanate, its dimer (uretdione), its trimer (isocyanurate, triol adduct, burette), etc. , Or a mixture of two or more thereof. For example, the diisocyanate component may be 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tetramethylene diisocyanate, 3,3′-dimethoxy. -4,4'-biphenylene diisocyanate, 1,5-naphthalene diisocyanate, 2,6-naphthalene diisocyanate, 4,4'-diisocyanate diphenyl ether, 1,5-xylylene diisocyanate, 1,3-diisocyanate methylcyclohexane, 1,4 -Diisocyanate-methylcyclohexane, 4,4'-diisocyanate cyclohexane, 4,4'-diisocyanate cyclohexylmethane, isophorone diisocyanate, dimer acid diisocyanate, norbornene diisocyanate and the like, but due to the problem of yellowing, aliphatic/alicyclic Group diisocyanates are preferred. Further, hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate are particularly preferable because they are easily available and economical.

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)を製造する上で、必要により鎖延長剤を使用してもよい。鎖延長剤としては、ポリエステルポリオール(c)の構成成分として既に記載した低分子量ジオール、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸などの1つのカルボン酸と2つの水酸基を有する化合物(d)などが挙げられる。その中で、酸価導入の容易さと、汎用溶剤への溶解性からジメチロールブタン酸が好ましい。また、水酸基導入の容易さから、トリメチロールプロパンの使用も好ましい。 In producing the polyurethane resin (a-1) used for the resin composition, a chain extender may be used if necessary. Examples of the chain extender include compounds (d) having one carboxylic acid and two hydroxyl groups such as low molecular weight diols, dimethylolpropionic acid, and dimethylolbutanoic acid which have already been described as constituent components of the polyester polyol (c). To be Of these, dimethylolbutanoic acid is preferred because of its ease of introduction of acid value and solubility in general-purpose solvents. Further, trimethylolpropane is preferably used because it is easy to introduce a hydroxyl group.

樹脂組成物に用いるポリウレタン樹脂(a−1)の製造方法としては、前記ポリエステルポリオール(c)および前記ポリイソシアネート(e)、必要により前記鎖延長剤を一括して反応容器に仕込んでも良いし、分割して仕込んでもよい。いずれにしても、系内のポリエステルポリオール、鎖延長剤の水酸基価の合計と、ポリイソシアネートのイソシアネート基の合計について、イソシアネート基/水酸基の官能基の比率が1以下で反応させる。またこの反応は、イソシアネート基に対して不活性な溶媒の存在下または非存在下に反応させることにより製造することができる。その溶媒としては、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル、酪酸エチルなど)、エーテル系溶媒(ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど)、ケトン系溶媒(シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど)、芳香族炭化水素系溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレンなど)およびこれらの混合溶媒が挙げられるが、環境負荷の低減の観点から、酢酸エチル、メチルエチルケトンが好ましい。反応装置としては、撹拌装置の具備した反応缶に限らず、ニーダー、二軸押出機のような混合混練装置も使用できる。 As a method for producing the polyurethane resin (a-1) used in the resin composition, the polyester polyol (c) and the polyisocyanate (e), and optionally the chain extender may be charged all at once in a reaction vessel, You may prepare by dividing. In any case, the total of the hydroxyl values of the polyester polyol and the chain extender in the system and the total of the isocyanate groups of the polyisocyanate are reacted at a ratio of isocyanate group/functional group of hydroxyl group of 1 or less. In addition, this reaction can be produced by reacting in the presence or absence of a solvent inert to the isocyanate group. As the solvent, ester solvents (ethyl acetate, butyl acetate, ethyl butyrate, etc.), ether solvents (dioxane, tetrahydrofuran, diethyl ether, etc.), ketone solvents (cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, etc.), aromatic carbonization Examples of the solvent include hydrogen solvents (benzene, toluene, xylene, etc.) and mixed solvents thereof, and ethyl acetate and methyl ethyl ketone are preferable from the viewpoint of reducing environmental load. The reaction device is not limited to the reaction can equipped with the stirring device, and a mixing and kneading device such as a kneader or a twin-screw extruder can also be used.

ウレタン反応を促進させるため、通常のウレタン反応において用いられる触媒、たとえば錫系触媒(トリメチルチンラウレート、ジメチルチンジラウレート、トリメチルチンヒドロキサイド、ジメチルチンジヒドロキサイド、スタナスオクトエートなど)、鉛系触媒(レッドオレート、レッド−2−エチルヘキソエートなど)、アミン系触媒(トリエチルアミン、トリブチルアミン、モルホリン、ジアザビシクロオクタン、ジアザビシクロウンデセンなど)などを使用することができるが、有害性の観点からアミン系触媒が好ましい。 Catalysts used in ordinary urethane reactions to accelerate the urethane reaction, such as tin-based catalysts (trimethyltin laurate, dimethyltin dilaurate, trimethyltin dioxide, dimethyltin dihydroxide, stannas octoate), lead-based catalysts (Red oleate, red-2-ethylhexoate, etc.), amine-based catalysts (triethylamine, tributylamine, morpholine, diazabicyclooctane, diazabicycloundecene, etc.) can be used, but they are not harmful. From the viewpoint, amine-based catalysts are preferable.

樹脂組成物に用いるポリエステル樹脂(a−2)の数平均分子量は、5.0×103以上1.0×105以下であることが好ましい。ポリエステル樹脂(a−2)の数平均分子量が5.0×103未満だと接着剤の機械的強度が低下し、耐熱性、接着性が低下する傾向があり、数平均分子量が1.0×105を超えると、塗布時の溶液粘度が高すぎて、均一な塗膜が得られないことがある。ポリエステル樹脂(a−2)の数平均分子量の下限値は、好ましくは8.0×103であり、さらに好ましくは1.0×104である。またポリエステル樹脂(a−2)の数平均分子量の上限値は、好ましくは5.0×104であり、さらに好ましくは3.5×104である。The number average molecular weight of the polyester resin (a-2) used in the resin composition is preferably 5.0×10 3 or more and 1.0×10 5 or less. If the number average molecular weight of the polyester resin (a-2) is less than 5.0×10 3 , the mechanical strength of the adhesive tends to be low, and the heat resistance and adhesiveness tend to be low, and the number average molecular weight is 1.0. When it exceeds ×10 5 , the solution viscosity at the time of coating is too high, and a uniform coating film may not be obtained. The lower limit of the number average molecular weight of the polyester resin (a-2) is preferably 8.0×10 3 , and more preferably 1.0×10 4 . The upper limit of the number average molecular weight of the polyester resin (a-2) is preferably 5.0×10 4 , and more preferably 3.5×10 4 .

樹脂組成物に用いるポリエステル樹脂(a−2)のガラス転移温度は0℃以下である。ガラス転移温度が0℃を超えると、接着性シートが硬く脆くなる傾向にあり、製造時に接着性シートがひび割れ作業性を低下させる場合がある。また接着剤が硬くなり、接着性が不十分になる傾向がある。ガラス転移温度は好ましくは−5℃以下、より好ましくは−10℃以下である。 The glass transition temperature of the polyester resin (a-2) used in the resin composition is 0°C or lower. When the glass transition temperature is higher than 0°C, the adhesive sheet tends to be hard and brittle, and the adhesive sheet may be deteriorated in workability for cracking during production. Further, the adhesive tends to be hard and the adhesiveness tends to be insufficient. The glass transition temperature is preferably −5° C. or lower, more preferably −10° C. or lower.

樹脂組成物におけるポリエステル樹脂(a−2)に用いられる酸成分およびグリコール成分としては、前記ポリエステルポリオール(c)に用いられる酸成分およびグリコール成分として挙げたものと同様の化合物を好適に用いることが可能である。ポリエステル樹脂(a−2)のガラス転移温度を0℃以下とする方法としては、脂肪族ジカルボン酸を共重合する方法、長鎖グリコールを共重合する方法、ポリアルキレングリコールを共重合する方法、ラクトンを共重合する方法などがある。 As the acid component and glycol component used for the polyester resin (a-2) in the resin composition, the same compounds as those mentioned as the acid component and glycol component used for the polyester polyol (c) are preferably used. It is possible. As a method of setting the glass transition temperature of the polyester resin (a-2) to 0° C. or lower, a method of copolymerizing an aliphatic dicarboxylic acid, a method of copolymerizing a long chain glycol, a method of copolymerizing a polyalkylene glycol, a lactone And the like.

脂肪族カルボン酸の例としては、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、ダイマー酸などが挙げられる。長鎖グリコールの例としては、ノナンジオール、デカンジオール、ダイマー酸ジオールなどが挙げられる。ポリアルキレングリコールの例としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、さらに、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどが挙げられる。ラクトンの例としては、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンなどが挙げられる。ラクトンの中では、入手の容易さと経済的理由からε−カプロラクトンが好ましく、共重合方法としては、重縮合後にバルク状態でラクトンモノマーを投入しポリエステル樹脂に開環重合させる方法が好ましい。 Examples of the aliphatic carboxylic acid include succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, dodecanedioic acid, dimer acid and the like. Examples of long-chain glycols include nonanediol, decanediol, dimer acid diol, and the like. Examples of the polyalkylene glycol include diethylene glycol, triethylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, and the like. Examples of lactones include β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone and the like. Among the lactones, ε-caprolactone is preferable from the viewpoint of easy availability and economic reasons, and as the copolymerization method, a method in which a lactone monomer is added in a bulk state after polycondensation and the polyester resin is subjected to ring-opening polymerization is preferable.

樹脂組成物においてポリウレタン樹脂(a−1)およびポリエステル樹脂(a−2)の配合割合は、質量比で95/5〜70/30であり、好ましくは95/5〜80/20、より好ましくは93/7〜85/15である。ポリエステル樹脂(a−2)の配合量が30質量%より大きいと、室温および高温、高温高湿での接着性が低下する傾向にあり、5質量%未満であると、接着性シートが硬く脆くなる傾向にあり、製造時に接着性シートがひび割れ、作業性を低下させる傾向にある。 In the resin composition, the mixing ratio of the polyurethane resin (a-1) and the polyester resin (a-2) is 95/5 to 70/30 by mass ratio, preferably 95/5 to 80/20, and more preferably It is 93/7 to 85/15. If the blending amount of the polyester resin (a-2) is larger than 30% by mass, the adhesiveness at room temperature, high temperature and high temperature and high humidity tends to decrease, and if it is less than 5% by mass, the adhesive sheet becomes hard and brittle. The adhesive sheet tends to crack during production, resulting in a decrease in workability.

樹脂組成物が含むエポキシ樹脂(b)としては、分子内に少なくとも2個以上エポキシ基を含むものであれば、特に限定されない。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂などのノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族鎖状エポキシ樹脂、ジシクロペンタンジエン型エポキシ樹脂、3官能型(又は4官能型)のグリシジルアミン化物、ナフタレンジオールのジグリシジルエーテル化物、フェノール類のジグリシジルエーテル化物、アルコール類のジグリシジルエーテル化物、及びこれらのアルキル置換体、水素添加物などが例示されるが、より好ましくはジシクロペンタジエン骨格を有するジクロロペンタンジエン型エポキシ樹脂を用いる。
ジクロロペンタンジエン型エポキシ樹脂を用いると、硬化塗膜は、極めて吸湿率が小さくなり、また、硬化塗膜の架橋密度を下げて、基材からの剥離時の応力を緩和させることができるため、高湿度下での接着性が更に向上する効果を得る事ができる。
エポキシ樹脂は、1種類のものを単独で用いても良いし、2種類以上を混合して用いても良い。
その他のエポキシ樹脂としては、さらに、ヘキサヒドロフタル酸グリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのグリシジルエステルタイプ、あるいは3,4−エポキシシクロヘキシルメチルカルボキシレート、エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化大豆油などの脂環族あるいは脂肪族エポキサイドが挙げられる。
The epoxy resin (b) contained in the resin composition is not particularly limited as long as it contains at least two epoxy groups in the molecule.
Novolak type epoxy resin such as bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin and other bisphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin, etc. Cyclic epoxy resin, aliphatic chain epoxy resin, dicyclopentanediene type epoxy resin, trifunctional (or tetrafunctional) glycidyl amine compound, naphthalene diol diglycidyl ether compound, phenol diglycidyl ether compound, Examples thereof include diglycidyl ethers of alcohols, alkyl-substituted products of these, hydrogenated products, and the like. More preferably, a dichloropentanediene type epoxy resin having a dicyclopentadiene skeleton is used.
When a dichloropentanediene type epoxy resin is used, the cured coating film has a very low moisture absorption rate, and the crosslink density of the cured coating film can be lowered, so that the stress at the time of peeling from the substrate can be relaxed. It is possible to obtain the effect of further improving the adhesiveness under high humidity.
As the epoxy resin, one kind may be used alone, or two or more kinds may be mixed and used.
Other epoxy resins further include glycidyl ester type such as hexahydrophthalic acid glycidyl ester and dimer acid glycidyl ester, or alicyclic group such as 3,4-epoxycyclohexylmethyl carboxylate, epoxidized polybutadiene, and epoxidized soybean oil. Alternatively, an aliphatic epoxide may be mentioned.

樹脂組成物に配合するエポキシ樹脂全体の配合量は、前記ポリウレタン樹脂(a−1)と前記ポリエステル樹脂(a−2)の合計100質量部に対して5質量部以上30質量部以下である。エポキシ樹脂全体の配合量が前記ポリウレタン樹脂(a−1)と前記ポリエステル樹脂(a−2)の合計100質量部に対して5質量部未満であると、架橋が不十分になり耐熱性が低下する傾向にあり、30質量部より大きくなると、未反応のエポキシ樹脂が多量に残存し、耐熱性、耐湿性が低下する傾向にある。 The total amount of the epoxy resin compounded in the resin composition is 5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less based on 100 parts by mass of the total of the polyurethane resin (a-1) and the polyester resin (a-2). When the total amount of the epoxy resin is less than 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total of the polyurethane resin (a-1) and the polyester resin (a-2), the crosslinking becomes insufficient and the heat resistance decreases. If the amount exceeds 30 parts by mass, a large amount of unreacted epoxy resin remains, and heat resistance and moisture resistance tend to decrease.

樹脂組成物に使用するエポキシ樹脂(b)の硬化反応に、硬化触媒を使用することができる。たとえば2−メチルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどのイミダゾール系化合物、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、N'−メチル−N−(2−ジメチルアミノエチル)ピペラジン、1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7などの三級アミン類、ならびに、これらの三級アミン類をフェノール、オクチル酸、四級化テトラフェニルボレート塩などでアミン塩にした化合物、トリアリルスルフォニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジアリルヨードニウムヘキサフルオロアンチモナートなどのカチオン触媒、トリフェニルフォスフィンなどが挙げられる。これらのうち1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−ノネン−5、6−ジブチルアミノ−1,8−ジアザビシクロ(5,4,0)−ウンデセン−7などの三級アミン類、ならびに、これらの三級アミン類をフェノール、オクチル酸、四級化テトラフェニルボレート塩などでアミン塩にした化合物が、熱硬化性および耐熱性、金属への接着性、配合後の保存安定性の点で好ましい。その際の配合量はポリウレタン樹脂(a−1)100質量部に対して0.01質量部以上1.0質量部以下の配合量であることが好ましい。この範囲であればポリウレタン樹脂(a−1)とエポキシ化合物の反応に対する効果が一段と増し、強固な接着性能を得ることができる。 A curing catalyst can be used in the curing reaction of the epoxy resin (b) used in the resin composition. For example, 2-methylimidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole and other imidazole compounds, triethylamine , Triethylenediamine, N'-methyl-N-(2-dimethylaminoethyl)piperazine, 1,8-diazabicyclo(5,4,0)-undecene-7,1,5-diazabicyclo(4,3,0)- Nonene-5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo(5,4,0)-undecene-7 and other tertiary amines, as well as these tertiary amines with phenol, octylic acid and quaternized tetra Examples thereof include compounds obtained by converting phenyl borate salts into amine salts, cationic catalysts such as triallyl sulfonium hexafluoroantimonate and diallyl iodonium hexafluoroantimonate, and triphenylphosphine. Of these, 1,8-diazabicyclo(5,4,0)-undecene-7,1,5-diazabicyclo(4,3,0)-nonene-5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo(5,5) 4,0)-undecene-7 and other tertiary amines, and compounds obtained by converting these tertiary amines into amine salts with phenol, octylic acid, quaternized tetraphenylborate salts, etc. It is preferable from the viewpoints of stability, adhesiveness to metal, and storage stability after compounding. The compounding amount at that time is preferably 0.01 part by mass or more and 1.0 part by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polyurethane resin (a-1). Within this range, the effect on the reaction between the polyurethane resin (a-1) and the epoxy compound is further increased, and a strong adhesive performance can be obtained.

本発明の接着剤は、上記のような熱硬化性樹脂(上記の樹脂組成物であることが好ましい)と、導電性フィラーとを含む導電性接着剤であって、硬化した後において特定のTg(TMA法)、特定の引っ張り弾性率、特定の線膨張係数、特定の湿度膨張率を備えるものである。 The adhesive of the present invention is a conductive adhesive containing the above thermosetting resin (preferably the above resin composition) and a conductive filler, and has a specific Tg after curing. (TMA method), specific tensile elastic modulus, specific linear expansion coefficient, specific humidity expansion coefficient.

本発明の接着剤において導電性フィラーは特に限定されず、銅粉、銀粉、金粉であってよく、電解銅粉であることが好ましい。 The conductive filler in the adhesive of the present invention is not particularly limited, and may be copper powder, silver powder, gold powder, and is preferably electrolytic copper powder.

導電性フィラーの形状等も特に限定されず、柱状や鱗片状のものが挙げられるが、樹木状結晶構造(デンドライト状結晶構造)のものであることが好ましい。 The shape and the like of the conductive filler are not particularly limited, and examples thereof include a columnar shape and a scaly shape, but a dendritic crystal structure (dendritic crystal structure) is preferable.

導電性フィラーは、銀メッキをした樹木状結晶構造(デンドライト状結晶構造)を有する電解銅粉であることがより好ましい。 The conductive filler is more preferably an electrolytic copper powder having a silver-plated dendritic crystal structure (dendritic crystal structure).

また、本発明の接着剤が含む導電性フィラーの含有率は特に限定されないが、10〜80質量%であることが好ましい。80質量%を超えると接着性が低下する傾向があり、10質量%未満であると導電性が低くなる傾向がある。 The content of the conductive filler contained in the adhesive of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 80% by mass. If it exceeds 80% by mass, the adhesiveness tends to decrease, and if it is less than 10% by mass, the conductivity tends to decrease.

導電性フィラーは、銀メッキの含有率が5質量%以上である電解銅粉であることが好ましい。また、前記電解銅粉を45質量%以上含むことがより好ましい。 The conductive filler is preferably electrolytic copper powder having a silver plating content of 5% by mass or more. It is more preferable that the electrolytic copper powder is contained in an amount of 45% by mass or more.

本発明は、このような本発明の接着剤の他、さらに、ポリイミドからなる絶縁層の一方の主面上に、本発明の接着剤からなる層を有するシールドフィルムを含む。
このようなシールドフィルムを、以下では「本発明のフィルム」ともいう。
The present invention includes, in addition to the adhesive of the present invention, a shield film having a layer made of the adhesive of the present invention on one main surface of an insulating layer made of polyimide.
Hereinafter, such a shield film is also referred to as a “film of the present invention”.

本発明の接着剤からなる層はシールド性を備えるため、フレキシブルプリント配線板用の電磁波シールドフィルムとして用いることができる。 Since the layer made of the adhesive of the present invention has a shielding property, it can be used as an electromagnetic wave shielding film for a flexible printed wiring board.

本発明のフィルムは、ポリイミドからなる絶縁層の一方の主面上に、本発明の接着剤からなる層を有する。
ポリイミドとしては、一般的な酸無水物とジアミンからなるポリアミドイミド溶液を塗工、乾燥、環化させたフィルムを用いるが、意匠性の問題で黒色ポリイミドを使うことが好ましい。黒色の工法はとくに限定されないが、カーボンブラックをポリアミドイミド溶液に混合してフィルム化したものが良い。
The film of the present invention has a layer made of the adhesive of the present invention on one main surface of an insulating layer made of polyimide.
As the polyimide, a film obtained by coating, drying and cyclizing a general polyamide-imide solution containing an acid anhydride and a diamine is used, but black polyimide is preferably used because of problems in design. The black construction method is not particularly limited, but it is preferable that carbon black is mixed with a polyamideimide solution to form a film.

本発明のフィルムは、ポリイミドからなる絶縁層の一方の主面上に、本発明の接着剤からなる層を有し、さらに、その上に保護膜(レリース)を有してもよい。この場合、保護膜(レリース)と絶縁層とで本発明の接着剤からなる層を挟む態様となる。
保護膜としてPETフィルム単独、紙を基材としたPETもしくは、OPPの積層物などが挙げられる。接着剤層が密着してしまう場合は、必要に応じて、離型剤を塗布したものを用いても良い。
The film of the present invention may have a layer made of the adhesive of the present invention on one main surface of an insulating layer made of polyimide, and may further have a protective film (release) thereon. In this case, the layer made of the adhesive of the present invention is sandwiched between the protective film (release) and the insulating layer.
Examples of the protective film include a PET film alone, a PET using paper as a base material, and a laminate of OPP. If the adhesive layer is in close contact, a release agent may be applied if necessary.

本発明のフィルムは、本発明の接着剤を、常法に従い、ポリイミドからなる絶縁層に塗布し、乾燥することにより得ることができる。また乾燥後、本発明の接着剤からなる層に保護膜を貼付けると、基材への裏移りを起こすことなく巻き取りが可能になり操業性に優れるとともに、本発明の接着剤からなる層が保護されることから保存性に優れ、使用も容易である。 The film of the present invention can be obtained by applying the adhesive of the present invention to an insulating layer made of polyimide according to a conventional method and drying it. Further, after drying, when a protective film is attached to the layer comprising the adhesive of the present invention, the film can be wound without causing offset to the base material and is excellent in operability, and the layer comprising the adhesive of the present invention. Since it is protected, it has excellent storage stability and is easy to use.

本発明のフィルムにおいて本発明の接着剤からなる層の厚さは特に限定されないが、1〜500μmであることが好ましく、10〜300μmであることがより好ましく、20〜100μmであることがさらに好ましい。 In the film of the present invention, the thickness of the layer comprising the adhesive of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 500 μm, more preferably 10 to 300 μm, and further preferably 20 to 100 μm. ..

以下に本発明にかかる実施例および比較例を記す。
以下の示す合成方法によってポリエステルウレタン樹脂A、ポリエステルウレタン樹脂Bおよびポリエステル樹脂Cを得た。そして、各々の数平均分子量、ガラス転移温度、酸価を求めた。これらの測定評価項目の測定方法を以下に記す。
Examples and comparative examples according to the present invention will be described below.
Polyester urethane resin A, polyester urethane resin B and polyester resin C were obtained by the following synthesis method. Then, each number average molecular weight, glass transition temperature, and acid value were determined. The measuring methods of these measurement evaluation items are described below.

<酸価>
試料0.2gを20mlのクロロホルムに溶解し、指示薬としてフェノールフタレインを用い、0.1Nの水酸化カリウムエタノール溶液で滴定し、樹脂106gあたりの当量(当量/106g)を算出した。
<Acid value>
0.2 g of the sample was dissolved in 20 ml of chloroform, and titrated with 0.1 N potassium hydroxide ethanol solution using phenolphthalein as an indicator to calculate the equivalent per 10 6 g of resin (equivalent/10 6 g). ..

<ガラス転移温度>
測定試料10mgをアルミパンに入れ、蓋を押さえて密封し、セイコーインスツルメンツ(株)製示差走査熱量分析計(DSC)DSC−200を用いて、20℃/minの昇温速度で測定し、低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点をガラス転移温度とした。
<Glass transition temperature>
10 mg of a measurement sample was placed in an aluminum pan, the lid was pressed and sealed, and a differential scanning calorimeter (DSC) DSC-200 manufactured by Seiko Instruments Inc. was used to measure at a temperature rising rate of 20° C./min, and the temperature was low. The glass transition temperature was defined as the intersection of the straight line extending the side baseline to the high temperature side and the tangent line drawn at the point where the slope of the curve of the stepwise change portion of the glass transition becomes maximum.

<数平均分子量>
試料を、樹脂濃度が0.5質量%程度となるようにテトラヒドロフランで溶解および/または希釈し、孔径0.5μmのポリ四フッ化エチレン製メンブランフィルターで濾過したものを測定用試料として、テトラヒドロフランを移動相とし示差屈折計を検出器とするゲル浸透クロマトグラフィーにより分子量を測定した。流速は1mL/分、カラム温度は30℃とした。カラムには昭和電工製KF−802、804L、806Lを用いた。分子量標準には単分散ポリスチレンを使用した。
<Number average molecular weight>
Tetrahydrofuran was used as a measurement sample by dissolving and/or diluting the sample with tetrahydrofuran so that the resin concentration becomes about 0.5% by mass, and filtering with a membrane filter made of polytetrafluoroethylene having a pore size of 0.5 μm. The molecular weight was measured by gel permeation chromatography using a mobile phase as a detector and a differential refractometer as a detector. The flow rate was 1 mL/min and the column temperature was 30°C. Showa Denko KF-802, 804L, and 806L were used for the column. Monodisperse polystyrene was used as the molecular weight standard.

<ポリエステルウレタン樹脂Aの合成>
撹拌器、温度計、流出用冷却器を装備した反応缶内に、テレフタル酸50質量部、イソフタル酸49質量部、無水トリメリット酸1質量部、2−メチル−1,3−プロパンジオール83質量部、1,4−ブタンジオール17質量部を仕込み、4時間かけて230℃まで徐々に昇温し、留出する水を系外に除きつつエステル化反応を行った。エステル化反応終了後30分かけて10mmHgまで減圧初期重合を行うと共に温度を240℃まで昇温し、更に1mmHg以下で30分後期重合を行った。その後、窒素にて常圧に戻し、無水トリメリット酸1質量部を投入し、220℃で1時間反応させることによってポリエステル樹脂を得た。
<Synthesis of polyester urethane resin A>
50 parts by mass of terephthalic acid, 49 parts by mass of isophthalic acid, 1 part by mass of trimellitic anhydride, 83 parts by mass of 2-methyl-1,3-propanediol, in a reaction can equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooler for outflow. Parts, 17 parts by mass of 1,4-butanediol were charged, the temperature was gradually raised to 230° C. over 4 hours, and the esterification reaction was performed while removing distilled water out of the system. After the completion of the esterification reaction, the initial polymerization under reduced pressure was carried out to 10 mmHg over 30 minutes, the temperature was raised to 240° C., and the latter polymerization was carried out at 1 mmHg or less for 30 minutes. Then, the pressure was returned to normal pressure with nitrogen, 1 part by mass of trimellitic anhydride was added, and the mixture was reacted at 220° C. for 1 hour to obtain a polyester resin.

このようにして得られたポリエステル樹脂650質量部を、温度計、攪拌機、還流式冷却管および蒸留管を具備した反応容器に仕込み、さらにトルエン650質量部を仕込み溶解後、トルエン413質量部を蒸留させ、トルエン/水の共沸により反応系を脱水した。60℃まで冷却後、2,2−ジメチロールブタン酸(DMBA)を29.3質量部、メチルエチルケトン237質量部を加えた。DMBAが溶解後、ヘキサメチレンジイソシアネートを30.6質量部、さらに反応触媒としてジアザビシクロウンデセン(DBU)を0.03質量部加え、80℃で7時間反応させてから、メチルエチルケトン444質量部、トルエン148質量部を投入して固形分濃度を40重量%に調整し、ポリエステルウレタン樹脂Aを含む溶液を得た。ポリエステルウレタン樹脂Aを含む溶液を120℃で1時間乾燥することにより溶剤を除いたフィルムを用いて、上述した各測定評価項目に従い測定した。
その結果、酸価:360当量/106g、ガラス転移温度:40℃、数平均分子量:18,000であった。
650 parts by mass of the polyester resin thus obtained is charged into a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube and a distillation tube. Further, 650 parts by mass of toluene is charged and dissolved, and then 413 parts by mass of toluene is distilled. Then, the reaction system was dehydrated by azeotropic distillation with toluene/water. After cooling to 60° C., 22.3 parts by mass of 2,2-dimethylolbutanoic acid (DMBA) and 237 parts by mass of methyl ethyl ketone were added. After DMBA was dissolved, 30.6 parts by mass of hexamethylene diisocyanate, 0.03 parts by mass of diazabicycloundecene (DBU) as a reaction catalyst were further added, and after reacting at 80° C. for 7 hours, 444 parts by mass of methyl ethyl ketone, 148 parts by mass of toluene was added to adjust the solid content concentration to 40% by weight to obtain a solution containing the polyester urethane resin A. The solution containing the polyester urethane resin A was dried at 120° C. for 1 hour to measure the solvent-free film according to the above-described measurement evaluation items.
As a result, the acid value was 360 equivalents/10 6 g, the glass transition temperature was 40° C., and the number average molecular weight was 18,000.

<ポリエステルウレタン樹脂Bの合成>
撹拌器、温度計、流出用冷却器を装備した反応缶内に、テレフタル酸29質量部、イソフタル酸70質量部、無水トリメリット酸1質量部、2−メチル−1,3−プロパンジオール30質量部、1,4−ブタンジオール70質量部を仕込み、4時間かけて230℃まで徐々に昇温し、留出する水を系外に除きつつエステル化反応を行った。エステル化反応終了後30分かけて10mmHgまで減圧初期重合を行うと共に温度を240℃まで昇温し、更に1mmHg以下で30分後期重合を行った。その後、窒素にて常圧に戻し、無水トリメリット酸1質量部を投入し、220℃で1時間反応させることによってポリエステル樹脂を得た。
<Synthesis of polyester urethane resin B>
29 parts by mass of terephthalic acid, 70 parts by mass of isophthalic acid, 1 part by mass of trimellitic anhydride, 30 parts by mass of 2-methyl-1,3-propanediol were placed in a reaction can equipped with a stirrer, a thermometer, and an outflow cooler. Part, 70 parts by mass of 1,4-butanediol were charged, the temperature was gradually raised to 230° C. over 4 hours, and the esterification reaction was carried out while removing distilled water out of the system. After the completion of the esterification reaction, the initial polymerization under reduced pressure was carried out to 10 mmHg over 30 minutes, the temperature was raised to 240° C., and the latter polymerization was carried out at 1 mmHg or less for 30 minutes. Then, the pressure was returned to normal pressure with nitrogen, 1 part by mass of trimellitic anhydride was added, and the mixture was reacted at 220° C. for 1 hour to obtain a polyester resin.

このようにして得られたポリエステル樹脂650質量部を、温度計、攪拌機、還流式冷却管および蒸留管を具備した反応容器に仕込み、さらにトルエン650質量部を仕込み溶解後、トルエン413質量部を蒸留させ、トルエン/水の共沸により反応系を脱水した。60℃まで冷却後、2,2−ジメチロールブタン酸(DMBA)を29.3質量部、メチルエチルケトン237質量部を加えた。DMBAが溶解後、ヘキサメチレンジイソシアネートを53.4質量部、さらに反応触媒としてジアザビシクロウンデセン(DBU)を0.03質量部加え、80℃で7時間反応させてから、メチルエチルケトン444質量部、トルエン148質量部を投入して固形分濃度を40重量%に調整し、ポリエステルウレタン樹脂Bを含む溶液を得た。ポリエステルウレタン樹脂Bを含む溶液を120℃で1時間乾燥することにより溶剤を除いたフィルムを用いて、上述した各測定評価項目に従い測定した。
その結果、酸価:630当量/106g、ガラス転移温度:10℃、数平均分子量:13,000であった。
650 parts by mass of the polyester resin thus obtained is charged into a reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a reflux cooling tube and a distillation tube. Further, 650 parts by mass of toluene is charged and dissolved, and then 413 parts by mass of toluene is distilled. Then, the reaction system was dehydrated by azeotropic distillation with toluene/water. After cooling to 60° C., 22.3 parts by mass of 2,2-dimethylolbutanoic acid (DMBA) and 237 parts by mass of methyl ethyl ketone were added. After DMBA was dissolved, 53.4 parts by mass of hexamethylene diisocyanate, 0.03 parts by mass of diazabicycloundecene (DBU) as a reaction catalyst were further added, and after reacting at 80° C. for 7 hours, 444 parts by mass of methyl ethyl ketone, 148 parts by mass of toluene was added to adjust the solid content concentration to 40% by weight to obtain a solution containing polyester urethane resin B. The solution containing the polyester urethane resin B was dried at 120° C. for 1 hour to measure the solvent-free film according to the above-described measurement evaluation items.
As a result, the acid value was 630 equivalent/10 6 g, the glass transition temperature was 10° C., and the number average molecular weight was 13,000.

<ポリエステル樹脂Cの合成>
撹拌器、温度計、流出用冷却器を装備した反応缶内に、テレフタル酸49質量部、イソフタル酸49質量部、無水トリメリット酸2質量部、エチレングリコール50質量部、ネオペンチルグリコール50質量部を仕込み、4時間かけて250℃まで徐々に昇温し、留出する水を系外に除きつつエステル化反応を行った。エステル化反応終了後30分かけて10mmHgまで減圧初期重合を行うと共に温度を250℃まで昇温し、更に1mmHg以下で30分後期重合を行った。その後、窒素にて常圧に戻し、ε−カプロラクトン140質量部を投入し、200℃で1時間反応させることによってポリエステル樹脂Cを得た。そして、ポリエステル樹脂Cを含む溶液を120℃で1時間乾燥することにより溶剤を除いたフィルムを用いて、上述した各測定評価項目に従い測定した。
その結果、酸価:40当量/106g未満、ガラス転移温度:−18℃、数平均分子量:28,000であった。
<Synthesis of polyester resin C>
49 parts by mass of terephthalic acid, 49 parts by mass of isophthalic acid, 2 parts by mass of trimellitic anhydride, 50 parts by mass of ethylene glycol, 50 parts by mass of neopentyl glycol are placed in a reaction can equipped with a stirrer, a thermometer, and a cooling device for outflow. Was gradually heated to 250° C. over 4 hours, and an esterification reaction was carried out while removing distilled water out of the system. After the completion of the esterification reaction, the initial polymerization under reduced pressure was carried out to 10 mmHg over 30 minutes, the temperature was raised to 250° C., and the latter polymerization was carried out at 1 mmHg or less for 30 minutes. Then, the pressure was returned to normal pressure with nitrogen, 140 parts by mass of ε-caprolactone was added, and the reaction was performed at 200° C. for 1 hour to obtain a polyester resin C. Then, the solution containing the polyester resin C was dried at 120° C. for 1 hour, and the solvent-free film was used to perform the measurement according to the above-described measurement evaluation items.
As a result, the acid value was 40 equivalents/less than 10 6 g, the glass transition temperature was −18° C., and the number average molecular weight was 28,000.

<エポキシ樹脂D>
エポキシ樹脂Dとして、東部化成社製、YDCN703(o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂)を用意した。
<Epoxy resin D>
As the epoxy resin D, YDCN703 (o-cresol novolac type epoxy resin) manufactured by Tobu Kasei Co., Ltd. was prepared.

<エポキシ樹脂E>
エポキシ樹脂Eとして、大日本インキ工業株式会社製、HP7200−H(ジシクロペンタンジエン型エポキシ樹脂)を用意した。
<Epoxy resin E>
As the epoxy resin E, HP7200-H (dicyclopentanediene type epoxy resin) manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. was prepared.

<電解銅粉F>
電解銅粉Fとして、10%銀メッキ品であるACAX−2(三井金属鉱業社製)を用意した。
<Electrolytic copper powder F>
As the electrolytic copper powder F, 10% silver plated ACAX-2 (manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) was prepared.

<電解銅粉G>
電解銅粉Gとして、7%銀メッキ品であるACAX−2(三井金属鉱業社製)を用意した。
<Electrolytic copper powder G>
As the electrolytic copper powder G, ACAX-2 (manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.), which is a 7% silver-plated product, was prepared.

<実施例1〜5>
上記のポリエステルポリウレタン樹脂A、ポリエステルポリウレタン樹脂B、ポリエステル樹脂C、エポキシ樹脂D、エポキシ樹脂E、電解銅粉Fおよび電解銅粉Gについて、下記第1表に示す比(質量部)で混合した。具体的には、電解銅粉F、G以外について、メチルエチルケトンとトルエンとを1:1(質量比)で混合して得た混合溶剤に加えて溶解した後、ここへ電解銅粉Fまたは電解銅粉Gを添加して撹拌分散して、導電性接着剤溶液を得た。
<Examples 1 to 5>
The above polyester polyurethane resin A, polyester polyurethane resin B, polyester resin C, epoxy resin D, epoxy resin E, electrolytic copper powder F and electrolytic copper powder G were mixed in the ratio (parts by mass) shown in Table 1 below. Specifically, other than the electrolytic copper powders F and G, methyl ethyl ketone and toluene are mixed at a ratio of 1:1 (mass ratio) and dissolved in a mixed solvent, and then the electrolytic copper powder F or electrolytic copper powder is added to the mixed solvent. Powder G was added and dispersed by stirring to obtain a conductive adhesive solution.

Figure 0006719550
Figure 0006719550

次に、第1表に示した実施例1〜5に係る導電性接着剤溶液に対する比較例として、市販の導電性接着剤を3種類用意した。そして、各々を比較例1、比較例2および比較例3に係る導電性接着剤溶液とした。また、実施例1の組成から電解銅粉Fを除いたもの、すなわち、ポリエステルポリウレタン樹脂A、ポリエステル樹脂Cおよびエポキシ樹脂Eを30:5:5の質量比で混合したものを用意し、これを比較例4に係る導電性接着剤溶液とした。 Next, three types of commercially available conductive adhesives were prepared as comparative examples for the conductive adhesive solutions according to Examples 1 to 5 shown in Table 1. And each was made into the electroconductive adhesive agent solution which concerns on the comparative example 1, the comparative example 2, and the comparative example 3. Further, a composition obtained by removing the electrolytic copper powder F from the composition of Example 1, that is, a mixture of the polyester polyurethane resin A, the polyester resin C and the epoxy resin E in a mass ratio of 30:5:5 was prepared. The conductive adhesive solution according to Comparative Example 4 was used.

次に、第1表に示した実施例1〜5に係る各々の導電性接着剤溶液および比較例1〜4に係る各々の導電性接着剤溶液について、片面離型処理を行ったPETフィルムの片側に、乾燥後厚みが60μmとなるように塗布し、乾燥し、導電性接着剤溶液からなる層(接着剤層)がPETフィルムに付いてなる評価用フィルムを得た。
次に、評価用フィルムから接着剤層を剥離し、2枚のテフロン性の板に挟み、180℃、200秒の真空プレス(2MPa)を行い、続いてN2オーブン内におき、140℃、4時間のキュアを施した。
このようにして得られた処理後の接着剤層について、以下の方法でTg測定、線膨張係数測定、引張弾性率の測定、および湿度膨張率の測定を行った。
Next, for each of the conductive adhesive solutions according to Examples 1 to 5 and each of the conductive adhesive solutions according to Comparative Examples 1 to 4 shown in Table 1, the PET films subjected to the one-side release treatment were used. It was coated on one side so that the thickness after drying was 60 μm, and dried to obtain a film for evaluation in which a layer (adhesive layer) made of a conductive adhesive solution was attached to a PET film.
Next, the adhesive layer was peeled from the evaluation film, sandwiched between two Teflon plates, vacuum pressed (2 MPa) at 180° C. for 200 seconds, and subsequently placed in an N 2 oven at 140° C. It was cured for 4 hours.
The thus-treated adhesive layer thus obtained was subjected to Tg measurement, linear expansion coefficient measurement, tensile elastic modulus measurement, and humidity expansion coefficient measurement by the following methods.

<Tg測定・線膨張係数測定>
熱機械分析装置(TMA:Thermal Mechanical Analysis)を用いて、ガラス転移温度を求めた。
また、線膨張係数の測定はサンプル長さを15mmとて、一定の引張荷重0.05Nで固定し、室温から5℃/分の割合で昇温させて線熱膨張係数(CTE)を求めた。フィルム測定はTD方向とした。
<Tg measurement/linear expansion coefficient measurement>
The glass transition temperature was determined using a thermomechanical analyzer (TMA).
Further, the linear expansion coefficient was measured by fixing the sample length to 15 mm with a constant tensile load of 0.05 N, and raising the temperature from room temperature at a rate of 5° C./min to obtain the linear thermal expansion coefficient (CTE). .. The film measurement was in the TD direction.

<引っ張り弾性率の測定>
JIS−K6251に準拠して測定した。サンプル幅を10mm、標点間距離を100mm、引張スピードを50mm/分とした。
<Measurement of tensile modulus>
It was measured according to JIS-K6251. The sample width was 10 mm, the gauge length was 100 mm, and the pulling speed was 50 mm/min.

<湿度膨張率>
サンプルサイズをMD200×TD250mmとし、測定装置として光学式非接触三次元測定機を用いて、20穴測定を行った。ここで穴あけは、IPC TM650 2,2,4に準記した。そして、調湿条件を20℃、55%RH、24時間とし、加湿条件を20℃、75%RH、24時間とした。すなわち、20℃において湿度を55%から75%に増やし、24経過後の湿度膨張率を測定した。得られた吸湿膨張率を「吸湿膨張率A」とした。
また、吸湿膨張率Aを得る場合と加湿条件のみを、20℃、95%RH、24時間に変更した場合についても吸湿膨張率を測定した。すなわち、20℃において湿度を55%から95%に増やし、24経過後の湿度膨張率を測定した。得られた吸湿膨張率を「吸湿膨張率B」とした。
<Humidity expansion rate>
The sample size was MD200×TD250 mm, and 20-hole measurement was performed using an optical non-contact three-dimensional measuring machine as a measuring device. Here, the drilling was described in accordance with IPC TM650 2,2,4. The humidity control conditions were 20° C. and 55% RH for 24 hours, and the humidification conditions were 20° C. and 75% RH for 24 hours. That is, the humidity was increased from 55% to 75% at 20° C., and the humidity expansion coefficient after 24 hours was measured. The obtained hygroscopic expansion coefficient was designated as "hygroscopic expansion coefficient A".
The hygroscopic expansion coefficient was measured also when the hygroscopic expansion coefficient A was obtained and when the humidifying conditions were changed to 20° C., 95% RH, and 24 hours. That is, the humidity was increased from 55% to 95% at 20° C., and the humidity expansion coefficient after 24 hours was measured. The obtained hygroscopic expansion coefficient was defined as "hygroscopic expansion coefficient B".

上記のようにして得た、処理後の接着剤層についてのTg測定、線膨張係数測定、引張弾性率の測定、および湿度膨張率を第2表に示す。 Table 2 shows the Tg measurement, the linear expansion coefficient measurement, the tensile elastic modulus measurement, and the humidity expansion coefficient of the treated adhesive layer obtained as described above.

次に、上記のようにして得た、第1表に示した実施例1〜5に係る各々の導電性接着剤溶液および比較例1〜4に係る各々の導電性接着剤溶液からなる評価用フィルムから、図1に示す評価基板[1]を作成した。作成方法を説明する。
まず、上記のようにして得た、第1表に示した実施例1〜5に係る各々の導電性接着剤溶液および比較例1〜4に係る各々の導電性接着剤溶液からなる評価用フィルムから接着剤層3を剥離し、Ni−SUS板1の主面に載置した。ここでNi−SUS板3はNiメッキを施したSUS304(厚さ:0.12mm)である。そして、真空プレス機を用いて100℃、10秒の真空プレス(2MPa)を行った。得られたNi−SUS板に接着剤層が付いたものをSUS補材5とする。
次に、真空プレス機を用いて180℃、200秒の真空プレス(2MPa)を行ってSUS補材5とFPC13を貼り合わせた。FPC13は銅箔11の上に金メッキからなる回路9が形成され、さらにそれらの一部を被覆するポリイミド製のカバーフィルム7が形成されたものである。ここ金メッキからなる回路9における、カバーフィルム7から露出した部分の開口面積は4mm2である。
次に、SUS補材5とFPC13とを貼り合わせて得られたものを、N2オーブン内におき、140℃、4時間のキュアを施し、続いて、最高温度260℃、10秒の条件のリフロー処理を施して、図1に示す評価基板[1](10)を得た。
Next, for evaluation, each conductive adhesive solution according to Examples 1 to 5 and each conductive adhesive solution according to Comparative Examples 1 to 4 shown in Table 1 obtained as described above are used. The evaluation board [1] shown in FIG. 1 was prepared from the film. How to create is explained.
First, an evaluation film obtained from each of the conductive adhesive solutions according to Examples 1 to 5 shown in Table 1 and the conductive adhesive solutions according to Comparative Examples 1 to 4 obtained as described above. Then, the adhesive layer 3 was peeled off and placed on the main surface of the Ni-SUS plate 1. Here, the Ni-SUS plate 3 is Ni-plated SUS304 (thickness: 0.12 mm). Then, vacuum pressing (2 MPa) was performed at 100° C. for 10 seconds using a vacuum press machine. The obtained Ni-SUS plate with an adhesive layer is designated as SUS auxiliary material 5.
Next, the SUS auxiliary material 5 and the FPC 13 were bonded by performing vacuum pressing (2 MPa) at 180° C. for 200 seconds using a vacuum press machine. The FPC 13 is formed by forming a circuit 9 made of gold plating on a copper foil 11 and further forming a polyimide cover film 7 covering a part of the circuit 9. The opening area of the portion exposed from the cover film 7 in the circuit 9 made of gold plating is 4 mm 2 .
Next, the one obtained by pasting the SUS auxiliary material 5 and the FPC 13 was placed in an N 2 oven and cured at 140° C. for 4 hours, and subsequently, at a maximum temperature of 260° C. for 10 seconds. Reflow treatment was performed to obtain an evaluation substrate [1] (10) shown in FIG.

このようにして得た評価基板[1]について、以下の方法で初期抵抗値、吸湿後抵抗値、ヒートサイクル後抵抗値、およびリフロー後抵抗値を測定した。 With respect to the evaluation substrate [1] thus obtained, the initial resistance value, the resistance value after moisture absorption, the resistance value after heat cycle, and the resistance value after reflow were measured by the following methods.

<初期抵抗値>
図1に示した2か所の測定部間における抵抗値を測定した。結果を第2表に示す。
なお、第2表では、初期抵抗値の他、吸湿後抵抗値、ヒートサイクル後抵抗値、およびリフロー後抵抗値についても、100mΩ未満であった場合を◎、100mΩ以上500mΩ未満であった場合を〇、500mΩ以上であった場合を×と示した。
<Initial resistance value>
The resistance value between the two measurement parts shown in FIG. 1 was measured. The results are shown in Table 2.
In addition, in Table 2, in addition to the initial resistance value, the resistance value after moisture absorption, the resistance value after heat cycle, and the resistance value after reflow are ◎ when the resistance value is less than 100 mΩ, and when the resistance value is 100 mΩ or more and less than 500 mΩ. ◯, when it was 500 mΩ or more, it was shown as x.

<吸湿後抵抗値>
評価基板[1]を85℃、85%RHの雰囲気内に500時間保持した後、上記の初期抵抗値の場合と同様の方法で、抵抗値を測定した。結果を第2表に示す。
<Resistance value after moisture absorption>
After holding the evaluation substrate [1] in an atmosphere of 85° C. and 85% RH for 500 hours, the resistance value was measured by the same method as in the case of the above initial resistance value. The results are shown in Table 2.

<ヒートサイクル後抵抗値>
評価基板[1]を−45℃の雰囲気内に30分保持した後、125℃の雰囲気内に30分保持する処理を1サイクルとし、これを1000サイクル繰り返した後、上記の初期抵抗値の場合と同様の方法で、抵抗値を測定した。結果を第2表に示す。
<Resistance value after heat cycle>
When the evaluation substrate [1] is held in an atmosphere of −45° C. for 30 minutes, and then held in an atmosphere of 125° C. for 30 minutes, which is set as one cycle, and this cycle is repeated 1000 times. The resistance value was measured by the same method. The results are shown in Table 2.

<リフロー後抵抗値>
評価基板[1]を最高温度260℃の雰囲気内に10秒を保持する処理を4回繰り返した後、上記の初期抵抗値の場合と同様の方法で、抵抗値を測定した。結果を第2表に示す。
<Reflow resistance>
After the process of holding the evaluation substrate [1] in the atmosphere having the maximum temperature of 260° C. for 10 seconds was repeated 4 times, the resistance value was measured by the same method as in the case of the above initial resistance value. The results are shown in Table 2.

Figure 0006719550
Figure 0006719550

次にシールド性能を測定した。具体的に記す。
前述の実施例1および比較例1における接着剤層を用いて、図1に示した評価基板[1]おけるNi−SUS板の部分を黒ポリイミドフィルム(カーボンブラックを含むポリイミドからなるフィルム)に変えた評価基板[2]を各々得た。評価基板[2]は評価基板[1]と同様の方法で製造することができる。
そして、実施例1および比較例1の接着剤層を含む各々の評価基板[2]について、シールド性能を測定した。
シールド性能は、信号発信機:Anritsu SIGNAL GENERATOR MG3601A、スペクトラムアナライザー:Agilent E4403B、増幅器:Anritsu PRE AMPLIFIER MH648Aを含むKEC(一般社団法人 関西電子工業振興センター)所有の装置を用いた。
その結果、実施例1および比較例1の接着剤層を含む各々の評価基板[2]は、シールド性能に差異はなかった。
Next, the shield performance was measured. Specifically,
By using the adhesive layer in Example 1 and Comparative Example 1 described above, the portion of the Ni-SUS plate in the evaluation substrate [1] shown in FIG. 1 was changed to a black polyimide film (a film made of a polyimide containing carbon black). Evaluation substrates [2] were obtained. The evaluation substrate [2] can be manufactured by the same method as the evaluation substrate [1].
Then, the shield performance was measured for each evaluation substrate [2] including the adhesive layer of Example 1 and Comparative Example 1.
For the shielding performance, a device owned by KEC (Kansai Electronics Industry Promotion Center) including a signal transmitter: Anritsu SIGNAL GENERATOR MG3601A, a spectrum analyzer: Agilent E4403B, an amplifier: Anritsu PRE AMPLIFIER MH648A was used.
As a result, there was no difference in the shielding performance between the evaluation substrates [2] including the adhesive layers of Example 1 and Comparative Example 1.

Claims (4)

熱硬化性樹脂と、導電性フィラーとを含む導電性接着剤であって、
前記熱硬化性樹脂は、カルボキシル基を含有し、酸価が100当量/10 6 g以上1000当量/10 6 g以下であり、数平均分子量が5.0×10 3 以上1.0×10 5 以下であり、ガラス転移温度が30℃以上80℃以下であるポリウレタン樹脂、数平均分子量が5.0×10 3 以上1.0×10 5 以下であり、ガラス転移温度が0℃以下であるポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、からなり、前記ポリウレタン樹脂と前記ポリエステル樹脂の合計に対する前記ポリウレタン樹脂の含有率が70質量%以上95質量%以下であり、前記ポリウレタン樹脂と前記ポリエステル樹脂の合計に対する樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂全体の含有率が5質量%以上30質量%以下であり、前記エポキシ樹脂の配合比率が、樹脂組成物に含まれるエポキシ樹脂全体の0.1質量%以上20質量%以下であり、
硬化した後において、
Tg(TMA法)が35℃以上、
引っ張り弾性率が1.5GPa〜4GPa、
線膨張係数が−25℃〜125℃において250ppm/℃以上、
湿度膨張率が、20℃において55%から75%に増加させたときに0.05%以下であり、20℃において55%から95%に増加させたときに0.15%以下である、導電性接着剤。
A conductive adhesive containing a thermosetting resin and a conductive filler,
The thermosetting resin contains a carboxyl group, has an acid value of 100 equivalents/10 6 g or more and 1000 equivalents/10 6 g or less, and has a number average molecular weight of 5.0×10 3 or more and 1.0×10 5 or more. Polyurethane resin having a glass transition temperature of 30° C. to 80° C., polyester having a number average molecular weight of 5.0×10 3 to 1.0×10 5 and a glass transition temperature of 0° C. or less A resin, an epoxy resin, and a content of the polyurethane resin with respect to the total of the polyurethane resin and the polyester resin is 70% by mass or more and 95% by mass or less, and a resin composition with respect to the total of the polyurethane resin and the polyester resin The content rate of the whole epoxy resin contained is 5 mass% or more and 30 mass% or less, and the compounding ratio of the epoxy resin is 0.1 mass% or more and 20 mass% or less of the whole epoxy resin contained in the resin composition. ,
After curing,
Tg (TMA method) is 35°C or higher,
Tensile elastic modulus of 1.5 GPa to 4 GPa,
When the linear expansion coefficient is -25°C to 125°C, 250 ppm/°C or more,
The coefficient of humidity expansion is 0.05% or less when increased from 55% to 75% at 20°C, and is 0.15% or less when increased from 55% to 95% at 20°C. Adhesive.
前記導電性フィラーが、銀メッキをした樹木状結晶構造を有する電解銅粉である、請求項1に記載の導電性接着剤。 The conductive adhesive according to claim 1, wherein the conductive filler is an electrolytic copper powder having a silver-plated dendritic crystal structure. 前記電解銅粉における銀メッキの含有率が5質量%以上であり、前記電解銅粉を45質量%以上含む、請求項に記載の導電性接着剤。 The conductive adhesive according to claim 2 , wherein the content of silver plating in the electrolytic copper powder is 5% by mass or more, and the electrolytic copper powder contains 45% by mass or more. ポリイミドからなる絶縁層の一方の主面上に、請求項1〜のいずれか一項に記載の導電性接着剤からなる層を有する、シールドフィルム。 On one main surface of the insulating layer made of polyimide, having a layer of a conductive adhesive according to any one of claims 1 to 3 shielding film.
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