JP6689227B2 - ジャイロスコープ - Google Patents
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- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 7
- 238000013461 design Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 4
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 4
- 238000000708 deep reactive-ion etching Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 102100034626 Germ cell nuclear acidic protein Human genes 0.000 description 2
- 101000995459 Homo sapiens Germ cell nuclear acidic protein Proteins 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000011960 computer-aided design Methods 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 2
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009412 basement excavation Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000001010 compromised effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 231100000989 no adverse effect Toxicity 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000009461 vacuum packaging Methods 0.000 description 1
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-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
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Description
(1)可動部品の周りの空気または他の流動物質によって引き起こされる粘性減衰。
(2)熱弾性減衰などの材料損失。
(3)基板を介して機械エネルギーが漏れることによるアンカーロス。
外側シャトルOSHから外側質量MS2(MS2は図11には示されていない)までのU字ばね1102。ばね1102は、軸線方向軸に垂直な方向で弾性であり、ラジアル方向では剛性である。
アンカーACRと外側シャトルOSHとの間のU字ばね1104。ばね1104は、ラジアル方向で可撓性であり、垂直方向では剛性である。
MS2 第2の質量
ACR アンカー
SH シャトル
OSH 外側シャトル
ISH 内側シャトル
CU 接続ユニット
DF 駆動フォーサ
DP 駆動ピックオフ
SP 感知ピックオフ
SF 感知フォーサ
RL 剛性リンク
FS 可撓性ばね
Claims (12)
- 半導体チップを含むジャイロスコープであって、
前記半導体チップが、
基板と、
X−Y面の任意の方向で移動することができる第1の質量と、
前記X−Y面の任意の方向で移動することができる第2の質量と、
前記第1の質量と前記第2の質量との間に位置し、前記第1の質量および前記第2の質量を機械的に接続する接続ユニットとを備え、
前記接続ユニットが、
前記基板に固着されたアンカーと、
前記アンカーと前記第1の質量との間に位置する第1のシャトルと、
前記アンカーと前記第2の質量との間に位置する第2のシャトルと、
前記アンカーおよび前記第1のシャトルを接続する第1のビームと、
前記アンカーおよび前記第2のシャトルを接続する第2のビームと、
前記第1の質量および前記第1のシャトルを接続する第3のビームと、
前記第2の質量および前記第2のシャトルを接続する第4のビームと、
前記第1のシャトルおよび前記第2のシャトルを接続する第5のビームとを備え、
前記アンカーが前記第1のシャトルと前記第2のシャトル,との間に位置し、
前記第1のシャトルおよび前記第2のシャトルが異なる形状を有し、それぞれ電極を有
する、ジャイロスコープ。 - 前記第1のビームがY方向よりもX方向で可撓性であり、
前記第2のビームがY方向よりもX方向で可撓性であり、
前記第3のビームがX方向よりもY方向で可撓性であり、
前記第4のビームがX方向よりもY方向で可撓性である、請求項1に記載のジャイロスコープ。 - 前記第1のビーム、前記第2のビーム、前記第3のビーム、前記第4のビーム、および前記第5のビームのうち少なくとも1つがU字形の曲げビームである、請求項2に記載のジャイロスコープ。
- 前記第1の質量の質量および前記第2の質量の質量が実質的に同じである、請求項1に記載のジャイロスコープ。
- 前記第1の質量の質量中心および前記第2の質量の質量中心が、実質的に同じ位置にあって質量中心CMを規定する、請求項4に記載のジャイロスコープ。
- 前記質量中心CMおよび前記アンカーの中心をリンクする線Sを規定し、前記線Sに垂直な前記アンカーの前記中心を通る線SYを規定したとき、
前記第1のシャトルおよび前記第2のシャトルが前記線Sに対して対称性を示し、
前記第1のシャトルおよび前記第2のシャトルが前記線SYに対して非対称性を示す、請求項5に記載のジャイロスコープ。 - 前記第1のシャトルの質量および前記第2のシャトルの質量が実質的に同じである、請求項1に記載のジャイロスコープ。
- 前記第1の質量が中心に向かって凹部を有し、
前記第2の質量が、前記第1の質量を取り囲み、前記凹部に対向する凸部を有し、
前記接続ユニットが前記凹部と前記凸部との間に位置する、請求項1に記載のジャイロスコープ。 - 第1のシャトルの前記電極が前記第1のシャトルを一方向で振動させ、
前記第2のシャトルの前記電極が、前記一方向での前記第2のシャトルの振動を感知する、請求項1に記載のジャイロスコープ。 - 第1のシャトルの前記電極が、一方向での前記第1のシャトルの振動を感知し、
前記第2のシャトルの前記電極が、前記一方向での前記第2のシャトルの振動を感知する、請求項1に記載のジャイロスコープ。 - 面積Acを前記半導体チップの面積として、面積Asを前記接続ユニットすべてを包含する面積として規定したとき、
As対Acの比が0.7未満である、請求項1に記載のジャイロスコープ。 - As対Acの比が0.5未満である、請求項11に記載のジャイロスコープ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017050201A JP6689227B2 (ja) | 2017-03-15 | 2017-03-15 | ジャイロスコープ |
US15/911,270 US10520314B2 (en) | 2017-03-15 | 2018-03-05 | Gyroscope |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017050201A JP6689227B2 (ja) | 2017-03-15 | 2017-03-15 | ジャイロスコープ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018155499A JP2018155499A (ja) | 2018-10-04 |
JP6689227B2 true JP6689227B2 (ja) | 2020-04-28 |
Family
ID=63520024
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017050201A Expired - Fee Related JP6689227B2 (ja) | 2017-03-15 | 2017-03-15 | ジャイロスコープ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10520314B2 (ja) |
JP (1) | JP6689227B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2560334A (en) * | 2017-03-07 | 2018-09-12 | Atlantic Inertial Systems Ltd | Gyroscope in-field prognostics |
JP6689227B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2020-04-28 | 株式会社日立製作所 | ジャイロスコープ |
WO2019032179A1 (en) * | 2017-08-11 | 2019-02-14 | Hrl Laboratories, Llc | SILICON MULTI-MODE CORIOLIS VIBRATORY GYROSCOPES HAVING A HIGH-RODING SYMMETRIC MECHANICAL STRUCTURE AND 32 ELECTRODES |
FR3098295B1 (fr) * | 2018-12-20 | 2021-11-19 | Thales Sa | Capteur inertiel amélioré |
US11656077B2 (en) | 2019-01-31 | 2023-05-23 | Analog Devices, Inc. | Pseudo-extensional mode MEMS ring gyroscope |
EP3696502B1 (en) * | 2019-02-15 | 2022-04-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Gyroscope with double input |
JP7188311B2 (ja) * | 2019-07-31 | 2022-12-13 | セイコーエプソン株式会社 | ジャイロセンサー、電子機器、及び移動体 |
CN110514189B (zh) * | 2019-09-03 | 2020-12-01 | 深迪半导体(上海)有限公司 | 陀螺仪及熔断修正陀螺仪正交误差的方法 |
CN113842646B (zh) * | 2021-09-27 | 2023-04-07 | 广州市三宝动漫玩具有限公司 | 一种陀螺盖和陀螺玩具 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7036372B2 (en) * | 2003-09-25 | 2006-05-02 | Kionix, Inc. | Z-axis angular rate sensor |
EP1677073B1 (en) * | 2004-12-29 | 2013-06-19 | STMicroelectronics Srl | Micro-electro-mechanical gyroscope having electrically insulated regions |
JP5301767B2 (ja) * | 2006-06-13 | 2013-09-25 | 日立オートモティブシステムズ株式会社 | 慣性センサ |
US7900512B2 (en) * | 2006-07-25 | 2011-03-08 | Denso Corporation | Angular rate sensor |
JP5450451B2 (ja) * | 2008-02-05 | 2014-03-26 | インベンセンス,インク. | 垂直方向に集積した電子回路およびウェハスケール密封包装を含むx−y軸二重質量音叉ジャイロスコープ |
IT1394007B1 (it) * | 2009-05-11 | 2012-05-17 | St Microelectronics Rousset | Struttura microelettromeccanica con reiezione migliorata di disturbi di accelerazione |
JP4968298B2 (ja) * | 2009-09-04 | 2012-07-04 | 株式会社デンソー | 振動型角速度センサ |
JP4858662B2 (ja) * | 2010-01-12 | 2012-01-18 | ソニー株式会社 | 角速度センサ、電子機器及び角速度の検出方法 |
JP5773844B2 (ja) * | 2011-10-31 | 2015-09-02 | 三菱プレシジョン株式会社 | 出力安定性に優れた振動型ジャイロ |
DE102013208817A1 (de) * | 2013-05-14 | 2014-11-20 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor mit einem eine Haupterstreckungsebene aufweisenden Substrat zur Detektion einer Drehrate |
US10247554B2 (en) * | 2014-09-24 | 2019-04-02 | The Regents Of The University Of California | Fully balanced micro-machined inertial sensor |
JP6689227B2 (ja) * | 2017-03-15 | 2020-04-28 | 株式会社日立製作所 | ジャイロスコープ |
-
2017
- 2017-03-15 JP JP2017050201A patent/JP6689227B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-03-05 US US15/911,270 patent/US10520314B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180266822A1 (en) | 2018-09-20 |
JP2018155499A (ja) | 2018-10-04 |
US10520314B2 (en) | 2019-12-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200108 |
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