JP6676930B2 - Optical film - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルムに関する。より詳しくは、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルム等に関する。   The present invention relates to an optical film. More specifically, the present invention relates to an optical film or the like in which when an optical film is used as a protective film for a polarizing plate, the generation of cracks and chips when punching the polarizing plate is reduced.

従来、偏光板を液晶表示装置用にカットする際の形状は長方形であったが、デザイン性の向上等の観点で、近年ではカーナビゲーションシステムなどの車載のディスプレイでは、多角形や曲線を持つディスプレイが登場してきているため、多様な形状に対応させて偏光板をカットすることが必要である。   Conventionally, when a polarizing plate was cut for a liquid crystal display device, the shape was rectangular.However, from the viewpoint of improving design, in recent years, displays with polygons and curves have been used in in-vehicle displays such as car navigation systems. It is necessary to cut the polarizing plate so as to correspond to various shapes.

また、車載のディスプレイは高温高湿等過酷な環境にさらされるため、シクロオレフィン系樹脂フィルム等、耐熱性、耐湿性に優れた樹脂を用いた光学フィルムが好ましく用いられている。   Further, since a display mounted on a vehicle is exposed to a severe environment such as high temperature and high humidity, an optical film using a resin having excellent heat resistance and moisture resistance such as a cycloolefin resin film is preferably used.

前述の偏光板を長方形以外の形にカットする場合は、フリーフォームで打ち抜きを行う必要があるが、曲線部分等は偏光子や保護フィルムの配向方向が均一でないため、打ち抜いた際に端面にササクレや割れ等のクラックが生じたり、切断による切粉が生じやすいことが問題となっており、偏光板の薄膜化に伴いこの問題はより深刻な問題となっている。   When cutting the above-mentioned polarizing plate into a shape other than a rectangle, it is necessary to perform punching with a free form. There is a problem that cracks such as cracks and cracks are generated and chips are easily generated by cutting, and this problem becomes more serious as the thickness of the polarizing plate is reduced.

一般に、フィルム製造工程や加工工程におけるハンドリング性向上のためにシリカ粒子等のマット剤(微粒子)が好適に用いられるが、シクロオレフィン系樹脂中ではシリカ粒子は凝集しやすく、凝集したシリカ粒子が偏光板の打ち抜きを行った際に、前記クラックの起点になりやすい。   Generally, a matting agent (fine particles) such as silica particles is preferably used for improving the handling property in a film manufacturing process and a processing process. However, silica particles are easily aggregated in a cycloolefin resin, and the aggregated silica particles are polarized. When a plate is punched, the crack tends to be a starting point.

特許文献1には、シクロオレフィン系樹脂フィルムにマット剤微粒子を含有させる例が記載されているが、たしかに当該技術によって、ハンドリング性を向上させることはできるが、前記フリーフォームでの打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減するには不十分であった。   Patent Literature 1 describes an example in which fine particles of a matting agent are contained in a cycloolefin-based resin film. Although it is possible to improve the handleability by the technique, cracks at the time of punching with the free form can be achieved. And it was not enough to reduce the generation of cuttings.

特開2007−98643号公報JP 2007-98843 A

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することである。   The present invention has been made in view of the above-described problems and circumstances, and a problem to be solved is to reduce the occurrence of cracks and chips when punching a polarizing plate when using an optical film as a protective film for the polarizing plate. It is to provide an improved optical film.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、及びメタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有する光学フィルムによって、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムが得られることを見出した。   In order to solve the above problems, the present inventor, in a process of examining the cause of the above problems, etc., has a cycloolefin resin having at least one hydrogen bond accepting group, an alcohol solvent, a hindered phenol compound, and methanol. The degree of hydrophobicity measured by the wettability method, the optical film containing a specific amount of silica particles satisfying a specific range, when the optical film is used as a protective film of the polarizing plate, cracks and the like when punching the polarizing plate. It has been found that an optical film with reduced generation of chips can be obtained.

すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。   That is, the above object according to the present invention is solved by the following means.

1.シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒を10〜1000ppmの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、0.1〜0.5質量%の範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とする光学フィルム。
1. An optical film containing a cycloolefin-based resin,
The cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group,
The film contains an alcohol solvent in a range of 10 to 1000 ppm, a hindered phenol compound in a range of 0.1 to 0.5% by mass , and
The degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is such that when the first solution having a volume ratio of methanol to pure water of 3: 7 is used, the degree of hydrophobicity is 20% or less, and the volume of methanol and pure water is not more than 20%. Optics characterized by containing silica particles having a hydrophobicity of 80% or more when the second solution having a ratio of 6: 4 is used is 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film. the film.

2.前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、100〜400nmの範囲内であることを特徴とする第1項に記載の光学フィルム。   2. 2. The optical film according to claim 1, wherein the silica particles have a secondary average particle size in a range of 100 to 400 nm.

3.前記光学フィルムの膜厚dが5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることを特徴とする第1項又は第2項に記載の光学フィルム。 3. The film thickness d of the optical film is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane retardation Ro and the thickness direction retardation Rt at a measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. 3. The optical film according to item 1 or 2.

4.シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒とヒンダードフェノール系化合物と、さらに、水を50〜500ppmの範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とする光学フィルム。
4. An optical film containing a cycloolefin-based resin,
The cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group,
The film contains an alcohol-based solvent and a hindered phenolic compound, and further contains water in a range of 50 to 500 ppm, and
The degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is such that when the first solution having a volume ratio of methanol to pure water of 3: 7 is used, the degree of hydrophobicity is 20% or less, and the volume of methanol and pure water is not more than 20%. Optics characterized by containing silica particles having a hydrophobicity of 80% or more when the second solution having a ratio of 6: 4 is used is 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film. the film.

5.前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、100〜400nmの範囲内であることを特徴とする第4項に記載の光学フィルム。
6.前記光学フィルムの膜厚dが5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることを特徴とする第4項又は第5項に記載の光学フィルム。
5. The optical film according to claim 4, wherein a secondary average particle diameter of the silica particles in the film is in a range of 100 to 400 nm .
6. The film thickness d of the optical film is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane retardation Ro and the thickness direction retardation Rt at a measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. Item 6. The optical film according to item 4 or 5 .

本発明の上記手段により、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することができる。   By the above means of the present invention, it is possible to provide an optical film in which, when the optical film is used as a protective film for a polarizing plate, the generation of cracks and chips when punching the polarizing plate is reduced.

本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。   Although the mechanism of manifesting or acting the effects of the present invention has not been clarified, it is speculated as follows.

前記特許文献1に開示されているマット剤微粒子を含有させる技術では、ハンドリング性を向上させることができるが、フリーフォームでの打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減するには不十分であった。   The technique of containing the matting agent fine particles disclosed in Patent Document 1 can improve the handleability, but is insufficient to reduce the generation of cracks and chips when punching with a free form. Was.

そこで、本発明者らはシクロオレフィン系樹脂からなる光学フィルムに、特定の化合物を含有させることで製造工程におけるハンドリングに優れ偏光板打ち抜き時にクラックや切粉の発生が低減した光学フィルムが得られることを見出した。   Therefore, the present inventors have found that by including a specific compound in an optical film made of a cycloolefin-based resin, it is possible to obtain an optical film which is excellent in handling in the manufacturing process and in which cracks and chips are reduced when punching a polarizing plate. Was found.

本発明の光学フィルムは、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、及びメタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有する光学フィルムであることが特徴である。かかる構成の光学フィルムによって、偏光板の保護フィルムに用いた際に、樹脂とマット剤の相互作用を維持することがきるため、フィルムの強度が上がり、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減できることが分かった。   The optical film of the present invention has a cycloolefin resin having at least one hydrogen bond accepting group, an alcohol solvent, a hindered phenol compound, and a degree of hydrophobicity measured by a methanol wettability method, having a specific range. It is a feature that the optical film contains a specific amount of silica particles to be filled. With the optical film having such a configuration, when used as a protective film for a polarizing plate, the interaction between the resin and the matting agent can be maintained, so that the strength of the film is increased, and cracks and chips at the time of punching the polarizing plate are reduced. It has been found that generation can be reduced.

一般的にシクロオレフィン系樹脂は疎水性の樹脂であるため、フィルム化した際に水分があると分離しやすく透明性の観点から好ましくないが、本発明で用いられるシクロオレフィン系樹脂は少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されているため、アルコールのヒドロキシ基やヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と水素結合できることから、水分を多少含んだ状態であっても、透明性も維持でき、逆に水素結合によりフィルム強度が向上するという特徴がある。   Generally, cycloolefin-based resin is a hydrophobic resin, so it is not preferable from the viewpoint of transparency because it easily separates when there is moisture when formed into a film, but the cycloolefin-based resin used in the present invention is at least one. Because it is formed from a resin composition containing a hydrogen bond-accepting group, it can form a hydrogen bond with a hydroxy group of an alcohol or a hydroxy group of a hindered phenol compound, so that even if it contains a little water, the transparency is also high. It is characterized in that it can be maintained, and conversely, the film strength is improved by hydrogen bonding.

これは、樹脂がフィルム中のアルコール、シリカ粒子表面の極性成分及びヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と相互作用することによって、さらにフィルム系外から取り込まれる空気中の水分子を介した相互作用もしやすくなるため、前述のとおりフィルムの強度が上がるものと推察される。   This is because the resin interacts with the alcohol in the film, the polar component on the surface of the silica particles, and the hydroxy group of the hindered phenolic compound, and further, through the water molecules in the air taken in from outside the film system. As described above, it is presumed that the strength of the film increases.

また、ヒンダードフェノール系の化合物を入れることで、当該化合物が凝集防止剤として働き、シクロオレフィン系樹脂フィルム中でのシリカ粒子の凝集を抑制し、シリカ粒子のフィルム中の二次粒径を適切な範囲に制御できることも見出した。   In addition, by adding a hindered phenolic compound, the compound functions as an agglomeration inhibitor, suppresses aggregation of silica particles in the cycloolefin resin film, and appropriately adjusts the secondary particle size of the silica particles in the film. It was also found that it could be controlled within a certain range.

上記相互作用の指標として、シリカ粒子の疎水化度を尺度として用いることができ、当該疎水化度が特定の範囲を満たすシリカ粒子を特定量含有することによって、樹脂とマット剤、マット剤とアルコール、及びマット剤とヒンダードフェノール系化合物との相互作用をも促進して、フィルム強度がより向上することを見出した。   As an index of the interaction, the degree of hydrophobicity of the silica particles can be used as a scale. By containing a specific amount of the silica particles whose hydrophobicity satisfies a specific range, a resin and a matting agent, a matting agent and an alcohol , And also promoted the interaction between the matting agent and the hindered phenol compound, thereby further improving the film strength.

すなわち、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いてシリカ粒子の疎水化度を求めたときに、当該疎水化度が20%以下であれば、マット剤とシクロオレフィン系樹脂との相溶性に優れ、さらにヒンダードフェノール系化合物の存在下、粒子が凝集しにくいためクラックの発生源が低減する。同様に、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いてシリカ粒子の疎水化度を求めたときに、当該疎水化度が80%以上であれば、マット剤とアルコールとの相互作用によって、ドープ中でのシリカ粒子が凝集しにくくなるため、クラックの発生源そのものを低減することによって、クラックや切り粉の発生が低減するものと推察される。そのため、上記フィルムを用いた偏光板は、上記偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生といった問題の発生を抑制することができる。   That is, when the hydrophobicity of silica particles is determined using a first solution of methanol and pure water at a volume ratio of 3: 7, if the hydrophobicity is 20% or less, a matting agent and a cycloolefin-based It has excellent compatibility with the resin, and in the presence of the hindered phenol compound, the particles are less likely to aggregate, so that the number of crack sources is reduced. Similarly, when the hydrophobicity of silica particles is determined using a second solution of methanol and pure water at a volume ratio of 6: 4, if the hydrophobicity is 80% or more, the matting agent and the alcohol It is presumed that the silica particles in the dope are less likely to aggregate due to the interaction, and that the generation of cracks and chips is reduced by reducing the number of crack sources. Therefore, the polarizing plate using the film can suppress the occurrence of problems such as generation of cracks and chips when punching the polarizing plate.

本発明に好ましい溶液流延製膜方法のドープ調製工程、流延工程、乾燥工程及び巻取り工程の一例を示す模式図Schematic diagram showing an example of a dope preparation step, a casting step, a drying step and a winding step of a preferred solution casting film forming method of the present invention.

本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、フィルム中にアルコール系溶媒を10〜1000ppmの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、0.1〜0.5質量%の範囲内で含有し、かつ、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とし、かかる構成によって、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを提供することができる。 The optical film of the present invention is an optical film containing a cycloolefin-based resin, wherein the cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group, and an alcohol-based solvent is contained in the film. Is contained within the range of 10 to 1000 ppm, the hindered phenol compound is contained within the range of 0.1 to 0.5% by mass , and the degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is methanol. And pure water have a hydrophobicity of not more than 20% when the first solution having a volume ratio of 3: 7 is used, and methanol and pure water have a hydrophobicity of not more than 20% when a second solution having a volume ratio of 6: 4 is used. The silica film having a hydrophobicity of 80% or more is contained in an amount of 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film. When used in protective film, it is possible to provide an optical film that reduces the occurrence of cracks and chips during punching of the polarizing plate.

この特徴は、請求項1から請求項までの各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。 This feature is a technical feature common to the inventions according to claims 1 to 6 .

本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、100〜400nmの範囲内であることが、製造時や加工時のハンドリング性を向上し、かつ偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減する観点から、好ましい粒径の範囲である。   As an embodiment of the present invention, from the viewpoint of the effect manifestation of the present invention, it is preferable that the secondary average particle diameter of the silica particles in the film is in the range of 100 to 400 nm. From the viewpoint of improving the particle size and reducing the generation of cracks and chips when punching the polarizing plate.

ィルム中に、前記アルコール系溶媒を10〜1000ppmの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、0.1〜0.5質量%の範囲内で含有することが、前記マット剤との相互作用において、フィルム強度を向上するという本発明の効果を発現する観点から、必要な含有量である。 During off Irumu, the alcohol solvent comprises in the range of 10-1000 ppm, the hindered phenolic compound, may contain in the range of 0.1 to 0.5 wt%, and said matting agent In the interaction, the content is necessary from the viewpoint of exhibiting the effect of the present invention of improving the film strength.

樹脂組成物中に含まれる残留溶媒成分として、アルコール系溶媒に加えて、さらに水が含まれていることが好ましく、その含有量は50〜500ppmである。50ppm以上であれば、得られるフィルムの機械強度や脆性が向上するが、フィルムの透明性の観点から500ppm以下である。ここで水とは、水道水、脱イオン水、超純水、及び蒸留水等が挙げられるが、不純物、コスト等生産性の観点から好ましくは蒸留水である。 As the residual solvent component contained in the resin composition, in addition to the alcohol solvent, preferably contain more water. The content of Ru 50~500ppm der. If 50ppm or more, but mechanical strength and brittleness of the obtained film is improved, Ru der 500ppm or less from the viewpoint of transparency of the film. Here, the water includes tap water, deionized water, ultrapure water, distilled water and the like, and preferably distilled water from the viewpoint of productivity such as impurities and cost.

また、前記光学フィルムの膜厚dが5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることが、偏光板保護フィルムとして用いる際に、軽量で薄膜な偏光板を提供することができ、またIPSモード型液晶表示装置用の偏光板として最適な位相差を付与できる観点から、好ましい。   The thickness d of the optical film is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane phase difference Ro and the thickness direction phase difference Rt at the measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. However, when used as a protective film for a polarizing plate, it is preferable from the viewpoint that a lightweight and thin polarizing plate can be provided, and an optimum retardation can be given as a polarizing plate for an IPS mode liquid crystal display device.

また、本発明の光学フィルムは、溶液流延製膜法によって製膜し、かつ、前記少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、前記疎水化度を満たすシリカ粒子、前記ヒンダードフェノール系化合物、及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを、溶解温度15〜50℃の範囲内で調製することが、好ましい製造方法である。   Further, the optical film of the present invention is formed by a solution casting film forming method, and further comprises a cycloolefin resin having the at least one hydrogen bond accepting group, silica particles satisfying the degree of hydrophobicity, and the hindered It is a preferable production method to prepare a dope containing a phenolic compound and an organic solvent including an alcoholic solvent at a dissolution temperature of 15 to 50 ° C.

溶解温度が、15℃以上であれば十分に樹脂や添加剤を溶解できるため、異物の少ないフィルムが得られる。また50℃以下であれば、アルコールとヒンダードフェノール化合物の反応によるドープ及び、得られるフィルムの着色を抑制できる観点から好ましく、アルコールと親和性が良いシリカ粒子を添加することでも着色を抑制する効果がある。   When the dissolution temperature is 15 ° C. or higher, the resin and additives can be sufficiently dissolved, so that a film with less foreign matter can be obtained. In addition, when the temperature is 50 ° C. or less, the effect of suppressing coloring by adding silica particles having a good affinity with alcohol is preferable from the viewpoint that the doping due to the reaction of the alcohol and the hindered phenol compound and the coloring of the obtained film can be suppressed. There is.

さらに、生産性向上の観点からヒドロキシ基を有するアルコール系溶媒と水とを組み合わせて用いることがより好ましい。   Further, it is more preferable to use a combination of an alcoholic solvent having a hydroxy group and water from the viewpoint of improving productivity.

水は一分子中に水素結合性供与基を複数持つため、フィルムの強度を上げるために好ましく用いることができる。水は全溶媒量に対して0.1〜1質量%含むことが好ましい。0.1質量%以上であれば、他のアルコール系溶媒や水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂やシリカ粒子と相互作用しやすくなるため好ましいが、1質量%を超えると疎水性の強いシクロオレフィン系樹脂がゲル化してしまい、異物が発生しやすくなる。   Since water has a plurality of hydrogen bonding donor groups in one molecule, water can be preferably used to increase the strength of the film. It is preferable that water contains 0.1 to 1% by mass based on the total amount of the solvent. When the content is 0.1% by mass or more, it is preferable because it easily interacts with another alcohol-based solvent or a cycloolefin-based resin or a silica particle containing a hydrogen bond-accepting group. The cycloolefin-based resin gels, and foreign matter is easily generated.

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。   Hereinafter, the present invention, its components, and embodiments and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In addition, in this application, "-" is used in the meaning including the numerical value described before and after it as a lower limit and an upper limit.

≪本発明の光学フィルムの概要≫
本発明の光学フィルムは、シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、フィルム中にアルコール系溶媒を10〜1000ppmの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、0.1〜0.5質量%の範囲内で含有し、かつ、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とする。
<< Outline of Optical Film of the Present Invention >>
The optical film of the present invention is an optical film containing a cycloolefin-based resin, wherein the cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group, and an alcohol-based solvent is contained in the film. Is contained within the range of 10 to 1000 ppm, the hindered phenol compound is contained within the range of 0.1 to 0.5% by mass , and the degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is methanol. And pure water have a hydrophobicity of not more than 20% when the first solution having a volume ratio of 3: 7 is used, and methanol and pure water have a hydrophobicity of not more than 20% when a second solution having a volume ratio of 6: 4 is used. The film is characterized by containing 0.1 to 2.5% by mass of the silica particles having a hydrophobicity of 80% or more based on the total mass of the film.

〈メタノールウエッタビリティ法〉
本発明に係るシリカ粒子の疎水化度は、アルコール系を含む溶媒や純水などを用いて定量することができる。疎水化度を定量化する方法としては、メタノールウエッタビリティ法(以下、「MW法」と称する。)が好ましい。本発明において、疎水化度は、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値(以下、「MW値」と称する。)で表す。
<Methanol wettability method>
The degree of hydrophobicity of the silica particles according to the present invention can be determined using a solvent containing an alcohol-based solvent, pure water, or the like. As a method for quantifying the degree of hydrophobicity, a methanol wettability method (hereinafter, referred to as “MW method”) is preferable. In the present invention, the degree of hydrophobicity is represented by a methanol wettability value (hereinafter, referred to as “MW value”) determined by the present method.

上記のMW法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第1溶液及び第2溶液をそれぞれ用いる。このとき、メタノールと純水との配合比は、第1溶液においては体積比が3:7であり、また、第2溶液では体積比が6:4である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第1溶液における微粒子の沈降物の体積をtmLとし、第2溶液における微粒子の沈降物の体積をsmLとしたときに、それぞれMW値を、第1溶液におけるMW値=(t/A)×100[%]、及び第2溶液におけるMW値=(s/A)×100[%]から求める。ここで、Aは、初めに添加したシリカ粒子の体積(AmL)である。   In the above-mentioned MW method, in order to quantify the degree of hydrophobicity of the fine particles, a first solution and a second solution in which methanol and pure water are mixed are used. At this time, the mixing ratio of methanol to pure water is 3: 7 in the first solution and 6: 4 in the second solution. Then, the same amount of the fine particles is added to each solution and stirred and mixed. Each mixed solution is centrifuged to determine the volume of the precipitate of the fine particles, and the volume of the precipitate of the fine particles in the first solution is determined. MW value in the first solution = (t / A) × 100 [%], and MW value in the second solution, where tmL and the volume of the sediment of the fine particles in the second solution were smL. = (S / A) x 100 [%]. Here, A is the volume (AmL) of the silica particles added first.

〔MW法〕
(1)メタノール溶液Cと純水Dとを、体積比で3:7になるように混合して、第1溶液Aを調製する(例えば、メタノール溶液Cが40mLに対して、純水Dが60mL)
(2)次に、10mLの沈降管Fに、0.2gのシリカ粒子粉末Eと7mLの第1溶液Aとを入れる。
(3)沈降管Fにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Eを第1溶液A中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は90rpmで30秒間である。
(4)シリカ粒子粉末Eを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、3500rpmで10分間である。
(5)沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Eの沈降物量を体積として読み取り、その値をtmLとする。
(6)新たに、メタノール溶液Cと純水Dとが、体積比で6:4となるように混合して、第2溶液Bを調製する(例えば、メタノール溶液Cが60mLに対して、純水Dが40mL)。
(7)第2溶液Bを用いて、上記(2)〜(5)と同じ手順(8)〜(11)により、シリカ粒子粉末Eの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Eの沈降物量を体積として読み取り、その値をsmLとする。
(12)下記式によりMW値(%)を求める。
[MW method]
(1) A first solution A is prepared by mixing a methanol solution C and pure water D at a volume ratio of 3: 7 (for example, 40 ml of methanol solution C and pure water D 60mL)
(2) Next, 0.2 g of the silica particle powder E and 7 mL of the first solution A are put into a 10 mL settling tube F.
(3) Cap the sedimentation tube F, and shake and mix the fine particle powder E into the first solution A using a Turbula mixer. At this time, the condition of the turbulator mixer is 90 rpm for 30 seconds.
(4) A centrifugal separator is used to settle the silica particle powder E. The condition of the centrifuge is 3500 rpm for 10 minutes.
(5) The volume of the sediment amount of the settled fine particle powder E that can be read on the scale of the sedimentation tube is read, and the value is set to tmL.
(6) A second solution B is prepared by newly mixing the methanol solution C and the pure water D so that the volume ratio becomes 6: 4 (for example, the methanol solution C is pure (Water D is 40 mL).
(7) Using the second solution B, prepare a precipitate of the silica particle powder E by the same procedure (8) to (11) as in the above (2) to (5), and read it on the scale of the sedimentation tube. The amount of sediment of the precipitated silica particle powder E is read as a volume, and the value is defined as smL.
(12) The MW value (%) is obtained by the following equation.

第1溶液におけるMW値=(t/A)×100[%]
第2溶液におけるMW値=(s/A)×100[%]
ここで、Aは、初めに添加したシリカ粒子の体積(AmL)である。
MW value in first solution = (t / A) × 100 [%]
MW value in second solution = (s / A) × 100 [%]
Here, A is the volume (AmL) of the silica particles added first.

例えば、第1溶液Aを用いた際に得られた微粒子の沈降物の体積が1mLであり、初めに添加したシリカ粒子の体積(AmL)が5mLであれば、
第1溶液におけるMW値=(1/5)×100[%]であり、疎水化度MW値は20%となる。
For example, if the volume of the sediment of fine particles obtained when using the first solution A is 1 mL and the volume (AmL) of the silica particles added first is 5 mL,
The MW value in the first solution = (1/5) × 100 [%], and the MW value of the hydrophobicity is 20%.

<本発明の光学フィルムの構成>
〔1〕シクロオレフィン系樹脂
本発明の実施態様としては、生産性向上の観点から、溶媒成分として水を含むことが好ましく、出来上がりのフィルムとしても、水分を含むことが好ましい。
<Configuration of Optical Film of the Present Invention>
[1] Cycloolefin Resin As an embodiment of the present invention, it is preferable to contain water as a solvent component from the viewpoint of improving productivity, and it is preferable that the finished film also contains water.

一般的にシクロオレフィン系樹脂疎水性の樹脂であるため、フィルム化した際に水分があると分離しやすく透明性の観点から好ましくないが、本発明で用いられる、シクロオレフィン系樹脂は、少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されているため、アルコールのヒドロキシ基やヒンダードフェノール系化合物のヒドロキシ基と水素結合できることから、水分を多少含んだ状態であっても、透明性も維持でき、逆に水素結合によりフィルム強度が向上するという特徴がある。「水素結合受容性基」とは、水素結合を形成する際に水素原子を受容する官能基をいう。   Generally, since cycloolefin resin is a hydrophobic resin, it is not preferable from the viewpoint of transparency because it is easy to separate when there is moisture when formed into a film, but the cycloolefin resin used in the present invention is at least one. Since it is formed from a resin composition containing two hydrogen bond-accepting groups, it can form a hydrogen bond with a hydroxy group of an alcohol or a hydroxy group of a hindered phenol compound, so that even if it contains a little water, it is transparent. And the strength of the film is improved by hydrogen bonding. “Hydrogen bond accepting group” refers to a functional group that accepts a hydrogen atom when forming a hydrogen bond.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂は、少なくとも一つの水素結合受容性基を含む樹脂組成物から形成されることを特徴としている。   The cycloolefin-based resin according to the present invention is characterized by being formed from a resin composition containing at least one hydrogen bond-accepting group.

水素結合受容性基としては、例えば、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数1〜10のアシルオキシ基、炭素原子数2〜10のアルコキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド環含有基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アシル基、炭素原子数1〜10のアルコキシシリル基、スルホニル含有基、及びカルボキシ基など挙げられる。これらの極性基についてさらに具体的に説明すると、上記アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等が挙げられ;アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、及びベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基が挙げられ;アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等が挙げられ;アリルオキシカルボニル基としては、例えば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等が挙げられ;トリオルガノシロキシ基としては、例えば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等が挙げられ;トリオルガノシリル基としてはトリメチルシリル基、トリエチルシリル基等が挙げられ;アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。   Examples of the hydrogen bond-accepting group include an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 10 carbon atoms, an allyloxycarbonyl group, a cyano group, and an amide. Groups, an imide ring-containing group, a triorganosiloxy group, a triorganosilyl group, an acyl group, an alkoxysilyl group having 1 to 10 carbon atoms, a sulfonyl-containing group, and a carboxy group. More specifically describing these polar groups, examples of the alkoxy group include a methoxy group and an ethoxy group; examples of the acyloxy group include an alkylcarbonyloxy group such as an acetoxy group and a propionyloxy group; And an arylcarbonyloxy group such as a benzoyloxy group; examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group; examples of the allyloxycarbonyl group include a phenoxycarbonyl group and a naphthyloxycarbonyl group; Group, fluorenyloxycarbonyl group, biphenylyloxycarbonyl group and the like; triorganosiloxy group includes, for example, trimethylsiloxy group and triethylsiloxy group; and triorganosilyl group Trimethylsilyl group, triethylsilyl group and the like; the alkoxysilyl group, for example, trimethoxysilyl groups, triethoxysilyl group, and the like.

樹脂成分中に含まれる上記水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂の量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、含有割合が10〜100質量%である。10質量%以上であると、得られる開環共重合体がトルエンやジクロロメタンなどの溶媒への溶解性を示しやすくなるため好ましく、更に溶解性やフィルムの強度、透明性の観点から、30〜100質量%の範囲にあると更に好ましい。   Although the amount of the cycloolefin-based resin containing the hydrogen bond-accepting group contained in the resin component is not particularly limited, the content is preferably 10 to 100% by mass. When the content is 10% by mass or more, the obtained ring-opened copolymer tends to exhibit solubility in a solvent such as toluene or dichloromethane, which is preferable. From the viewpoints of solubility, film strength, and transparency, 30 to 100% is preferable. It is more preferable that the content be in the range of mass%.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂としては、例えば、次のような(共)重合体が挙げられる。   Examples of the cycloolefin-based resin according to the present invention include the following (co) polymers.

Figure 0006676930
Figure 0006676930

〔式中、pは0又は1であり、mは0又は1以上の整数である。R〜Rは、それぞれ独立に、水素原子、炭化水素基、ハロゲン原子、又は水素結合受容性基を表す。また、R〜Rは、二つ以上が互いに結合して、不飽和結合、単環又は多環を形成していてもよく、この単環又は多環は、二重結合を有していても、芳香環を形成してもよい。〕
本発明において、シクロオレフィン系樹脂の好ましい水素結合受容性基の保有比率は一般式(I)でR〜Rのうち1〜2個が水素結合受容性基を有することが好ましい。
[In the formula, p is 0 or 1, and m is 0 or an integer of 1 or more. R 1 to R 4 each independently represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, a halogen atom, or a hydrogen bond-accepting group. Further, two or more of R 1 to R 4 may be bonded to each other to form an unsaturated bond, a monocyclic or polycyclic ring, and the monocyclic or polycyclic ring has a double bond. Or an aromatic ring may be formed. ]
In the present invention, the cycloolefin-based resin preferably has a preferred hydrogen bond-accepting group holding ratio in which 1 to 2 of R 1 to R 4 in the general formula (I) have a hydrogen bond-accepting group.

また、シクロオレフィン系樹脂の水素結合受容性基の保有比率は例えば、カーボン-13核磁気共鳴(13CNMR)スペクトル法を用いて同定することができる。 Further, the holding ratio of the hydrogen bond-accepting group of the cycloolefin-based resin can be identified, for example, by using a carbon-13 nuclear magnetic resonance ( 13 CNMR) spectrum method.

また一般式(I)中、R及びRが水素原子又は炭素数1〜10、さらに好ましくは1〜4、特に好ましくは1〜2の炭化水素基であり、R及びRの少なくとも一つは水素原子及び炭化水素基以外の極性を有する水素結合受容性基を示し、pとmは、ガラス転移温度が高くかつ機械的強度が優れるという観点から、m=1、p=0であるものが好ましい。 Further, in the general formula (I), R 1 and R 3 are a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10, more preferably 1 to 4, and particularly preferably 1 to 2, and at least one of R 2 and R 4 One shows a hydrogen bond-accepting group having a polarity other than a hydrogen atom and a hydrocarbon group, and p and m are m = 1 and p = 0 from the viewpoint that the glass transition temperature is high and the mechanical strength is excellent. Some are preferred.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。炭素原子数1〜30の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基;フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の芳香族基等が挙げられる。これらの炭化水素基は置換されていてもよく、置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、フェニルスルホニル基等が挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms include alkyl groups such as methyl group, ethyl group and propyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group and propenyl group. Groups; aromatic groups such as phenyl, biphenyl, naphthyl, and anthracenyl groups. These hydrocarbon groups may be substituted, and examples of the substituent include a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom, and a phenylsulfonyl group.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂の好ましい分子量は、固有粘度〔η〕inhで0.2〜5cm/g、さらに好ましくは0.3〜3cm/g、特に好ましくは0.4〜1.5cm/gであり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)は8000〜100000、さらに好ましくは10000〜80000、特に好ましくは12000〜50000であり、重量平均分子量(Mw)は20000〜300000、さらに好ましくは30000〜250000、特に好ましくは40000〜200000の範囲のものが好適である。 The preferred molecular weight of the cycloolefin resin according to the present invention is 0.2 to 5 cm 3 / g, more preferably 0.3 to 3 cm 3 / g, particularly preferably 0.4 to 1. a 5 cm 3 / g, number average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) (Mn) is 8,000 to 100,000, more preferably 10,000 to 80,000, particularly preferably from 12,000 to 50,000, a weight average The molecular weight (Mw) is preferably from 20,000 to 300,000, more preferably from 30,000 to 250,000, and particularly preferably from 40,000 to 200,000.

固有粘度〔η〕inh、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、シクロオレフィン樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性と、本発明に係るシクロオレフィン系樹脂フィルムとしての成形加工性が良好となる。   When the intrinsic viscosity [η] inh, the number average molecular weight and the weight average molecular weight are in the above ranges, the heat resistance, water resistance, chemical resistance, and mechanical properties of the cycloolefin resin, and the cycloolefin resin film according to the present invention Molding processability becomes good.

本発明に係るシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)としては、通常、110℃以上、好ましくは110〜350℃、さらに好ましくは120〜250℃、特に好ましくは120〜220℃である。Tgが110℃以上の場合は、高温条件下での使用、又はコーティング、印刷などの二次加工による変形が抑制されるため好ましい。また、Tgが350℃以下であると、成形加工や成形加工時の熱による樹脂劣化が抑制されるため好ましい。   The glass transition temperature (Tg) of the cycloolefin-based resin according to the present invention is usually 110 ° C or higher, preferably 110 to 350 ° C, more preferably 120 to 250 ° C, and particularly preferably 120 to 220 ° C. A Tg of 110 ° C. or higher is preferable because deformation under secondary processing such as use under high-temperature conditions or coating and printing is suppressed. In addition, it is preferable that the Tg is 350 ° C. or lower, because resin deterioration due to molding processing and heat during molding processing is suppressed.

以上説明したシクロオレフィン系樹脂は、市販品を好ましく用いることができ、市販品の例としては、JSR(株)からアートン(Arton)G、アートンF、アートンR、及びアートンRXという商品名で発売されており、これらを使用することができる。   Commercially available products can be preferably used as the cycloolefin-based resin described above. Examples of the commercially available products are sold under the trade names Arton G, Arton F, Arton R, and Arton RX from JSR Corporation. And they can be used.

〔2〕シリカ粒子
本発明の光学フィルムには、製造されたフィルムがハンドリングされる際に、傷が付いたり、搬送性が悪化することを防止するとともに、光学フィルムを偏光板の保護フィルムに用いた際に、偏光板の打ち抜き時のクラックや切り粉の発生を低減した光学フィルムを得るために、特定の疎水化度を有するシリカ粒子を含有する。
[2] Silica Particles In the optical film of the present invention, while the manufactured film is handled, it is possible to prevent the film from being damaged or the transportability from deteriorating, and to use the optical film as a protective film for a polarizing plate. In order to obtain an optical film with reduced occurrence of cracks and chips when punching a polarizing plate, silica particles having a specific degree of hydrophobicity are contained.

本発明に係るシリカ粒子は、メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子である。疎水化度は前述のMW法によって測定する。   The silica particles according to the present invention have a degree of hydrophobicity measured by a methanol wettability method of 20% or less when the first solution having a volume ratio of methanol and pure water of 3: 7 is used. And silica particles having a hydrophobicity of 80% or more when a second solution of methanol and pure water having a volume ratio of 6: 4 is used. The degree of hydrophobicity is measured by the MW method described above.

シリカ粒子とは、二酸化ケイ素を主成分とする粒子である。主成分とは、粒子を構成する成分の50%以上を含有することをいい、好ましくは70%以上、より好ましくは80%以上、特に好ましくは90%以上含まれることをいう。   Silica particles are particles containing silicon dioxide as a main component. The main component means that it contains 50% or more of the components constituting the particles, preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and particularly preferably 90% or more.

また、二酸化ケイ素系の粒子で、かつ表面がアルキル化処理により疎水化処理された微粒子を添加すると、溶媒に対しての分散性がよく、異物の発生を抑制できることから、好ましい。   Further, it is preferable to add fine particles which are silicon dioxide particles and whose surface is subjected to a hydrophobic treatment by an alkylation treatment, since the dispersibility in a solvent is good and the generation of foreign substances can be suppressed.

シリカ粒子に対する上記疎水化処理は、アルキル化処理であることが好ましい。アルキル化処理された微粒子の表面はアルキル基を有し、そのアルキル基の炭素数は1〜20の範囲であることが好ましく、より好ましくは炭素数1〜12の範囲であり、特に好ましくは、炭素数1〜8の範囲である。   It is preferable that the above-mentioned hydrophobic treatment for the silica particles is an alkylation treatment. The surface of the alkylated fine particles has an alkyl group, and the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably, It is in the range of 1-8 carbon atoms.

前記シリカ粒子において、表面に炭素数1〜20の範囲のアルキル基を有するものは、例えば、前記の二酸化ケイ素の粒子をオクチルシランで処理することにより得ることができる。また、表面にオクチル基を有するものの一例としては、アエロジルR805(日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、好ましく用いられる。   The silica particles having an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms on the surface can be obtained, for example, by treating the silicon dioxide particles with octylsilane. Further, as an example having an octyl group on the surface, it is commercially available under the trade name of Aerosil R805 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and is preferably used.

シリカ粒子の一次粒子の平均粒径は、5〜400nmの範囲内が好ましく、さらに好ましいのは10〜300nmの範囲内である。   The average primary particle size of the silica particles is preferably in the range of 5 to 400 nm, and more preferably in the range of 10 to 300 nm.

シリカ粒子の二次粒子の平均粒径は、100〜400nmの範囲内であることが、好ましく、一次粒子の平均粒径が100〜400nmの範囲内であれば、凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。   The average particle size of the secondary particles of the silica particles is preferably in the range of 100 to 400 nm, and if the average particle size of the primary particles is in the range of 100 to 400 nm, it is included as a primary particle without aggregation. It is also preferred that the

〈シリカ粒子の平均粒径の測定方法〉
光学フィルム中におけるシリカ粒子の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットしたフィルム断面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる100個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とする。
<Measurement method of average particle size of silica particles>
The measurement of the particle diameter of the silica particles in the optical film is performed by taking a cross section of the film cut by a microtome at an appropriate magnification with a scanning electron microscope (SEM), and measuring 100 particles included in the tomographic cut photograph. Is measured, and the average value is determined to be the average particle size. When the cross section of the particle is circular, the particle diameter is defined as the diameter. When the particle is not circular, the area is calculated, and the diameter is calculated as a circle.

SEM:JSM−6060LA(JEOL:日本電子株式会社)
ミクロトーム:ライカ製EM UC6
フィルム中のシリカ粒子の含有量は、フィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有する必要があり、0.5〜2.0質量%の範囲内であることが好ましく、特に1.0〜2.0質量%の範囲内であることが、本発明の効果を発現する上で好ましい。
SEM: JSM-6060LA (JEOL: JEOL Ltd.)
Microtome: Leica EM UC6
The content of the silica particles in the film must be 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film, and is preferably in the range of 0.5 to 2.0% by mass, In particular, it is preferable to be within the range of 1.0 to 2.0% by mass in order to exhibit the effects of the present invention.

シリカ粒子は、市販品を好ましく使用することができ、上記アエロジルR805以外に、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R976S、R812、R812S、RY300、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル株式会社製)の商品名で市販されており、使用することができる。   As the silica particles, commercially available products can be preferably used. In addition to the above-mentioned Aerosil R805, for example, Aerosil R972, R972V, R974, R976S, R812, R812S, RY300, 300, R202, OX50, TT600 (above, Nippon Aerosil Co., Ltd.) The product is commercially available under the trade name of the company) and can be used.

これらの中でもアエロジルR805、R812、R976Sが、本発明に係る疎水化度を満たすことから、ハンドリング時の取り扱い性を向上しかつ光学フィルムのヘイズを低く保つことができ、好ましい。   Among these, Aerosil R805, R812, and R976S are preferable because they satisfy the degree of hydrophobicity according to the present invention, so that the handleability during handling can be improved and the haze of the optical film can be kept low.

本発明の光学フィルムにおいては、シリカ粒子を含有し、少なくとも一方の面の動摩擦係数が0.2〜1.0の範囲内であることが好ましい。動摩擦係数は、「JIS K7125 プラスチック−フィルム及びシート摩擦係数試験方法」に準じて測定することができる。   The optical film of the present invention preferably contains silica particles and has a dynamic friction coefficient of at least one surface in the range of 0.2 to 1.0. The dynamic friction coefficient can be measured according to “JIS K7125 Plastic-film and sheet friction coefficient test method”.

本発明に係るシリカ粒子の添加方法については、以下の第1〜第3の方法が挙げられるが、いずれの方法を用いてもよい。   Examples of the method for adding the silica particles according to the present invention include the following first to third methods, and any method may be used.

〔第1添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行い、これをドープに加えて撹拌することで流延ドープを得る。
[First addition method]
After stirring and mixing the solvent and the particles, dispersion is performed using a disperser, and this is added to the dope and stirred to obtain a casting dope.

〔第2添加方法〕
溶媒と粒子とを撹拌混合した後、分散機を用いて分散を行ない、粒子分散液を作製する。次に、溶剤に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させたものに前記粒子分散液を加えて撹拌した後、これを原料ドープ液に加えて十分に混合させて流延ドープを得る。
[Second addition method]
After stirring and mixing the solvent and the particles, the particles are dispersed using a disperser to prepare a particle dispersion. Next, a small amount of resin is added to a solvent, and the above-mentioned particle dispersion is added to a solution obtained by stirring and dissolving, and then the resultant is added to a raw material dope solution and mixed well to obtain a casting dope.

〔第3添加方法〕
溶媒に少量の樹脂を加え、撹拌溶解させた後、粒子を加えて分散機を用いて分散を行う。これをドープに加えて十分に混合させる。
[Third addition method]
After adding a small amount of resin to the solvent and dissolving with stirring, the particles are added and dispersed using a disperser. This is added to the dope and mixed well.

完成した流延ドープに含有するシリカ粒子は、ドープの調製に再生フィルムを用いた場合には、この中に含有されるものでもよいが、再生フィルムチップの元となるフィルムを製造する際の流延ドープは、本発明によるものであることが好ましい。   When a recycled film is used for preparing the dope, the silica particles contained in the completed casting dope may be those contained therein. The rolled dope is preferably according to the invention.

〔3〕ヒンダードフェノール系化合物
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第4839405号明細書の第12〜14欄に記載されており、2,6−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式(A)で表される化合物が好ましい。
[3] Hindered phenolic compound The phenolic compound is a known compound and is described in, for example, columns 12 to 14 of US Pat. No. 4,839,405, and includes a 2,6-dialkylphenol derivative compound. . As a preferable compound among such compounds, a compound represented by the following general formula (A) is preferable.

Figure 0006676930
Figure 0006676930

式中、R51〜R56は水素原子又は置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子等)、アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、t−ブチル基等)、シクロアルキル基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、2−フェネチル基等)、アリール基(例えば、フェニル基、ナフチル基、p−トリル基、p−クロロフェニル基等)、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等)、アリールオキシ基(例えば、フェノキシ基等)、シアノ基、アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等)、アルキルチオ基(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等)、アリールチオ基(例えば、フェニルチオ基等)、スルホニルアミノ基(例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等)、ウレイド基(例えば、3−メチルウレイド基、3,3−ジメチルウレイド基、1,3−ジメチルウレイド基等)、スルファモイルアミノ基(ジメチルスルファモイルアミノ基等)、カルバモイル基(例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等)、スルファモイル基(例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等)、アルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フェノキシカルボニル基等)、スルホニル基(例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等)、アシル基(例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等)、アミノ基(メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等)、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基(例えば、ピリジン−オキシド基)、イミド基(例えば、フタルイミド基等)、ジスルフィド基(例えば、ベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−2−ジスルフィド基等)、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基(例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等)等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。 In the formula, R 51 to R 56 represent a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (eg, a fluorine atom, a chlorine atom, etc.), an alkyl group (eg, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, a hydroxyethyl group, a methoxymethyl group, a trifluoromethyl group, a t-butyl group, etc.) ), A cycloalkyl group (eg, cyclopentyl group, cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group (eg, benzyl group, 2-phenethyl group, etc.), an aryl group (eg, phenyl group, naphthyl group, p-tolyl group, p-chlorophenyl) Group), an alkoxy group (eg, a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, etc.), an aryloxy group (eg, a phenoxy group, etc.), a cyano group, an acylamino group (eg, an acetylamino group, a propionylamino group) Etc.), alkylthio groups (eg, methylthio group, ethylthio group, butylthio group) Group), an arylthio group (eg, a phenylthio group), a sulfonylamino group (eg, a methanesulfonylamino group, a benzenesulfonylamino group, etc.), a ureido group (eg, a 3-methylureido group, a 3,3-dimethylureido group) , 1,3-dimethylureido group, etc.), sulfamoylamino group (dimethylsulfamoylamino group, etc.), carbamoyl group (eg, methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, dimethylcarbamoyl group, etc.), sulfamoyl group (eg, Ethylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, etc.), alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (eg, phenoxycarbonyl group, etc.), sulfonyl group (eg, methanesulfonyl) Group Sulfonyl group, phenylsulfonyl group, etc.), acyl group (eg, acetyl group, propanoyl group, butyroyl group, etc.), amino group (methylamino group, ethylamino group, dimethylamino group, etc.), cyano group, hydroxy group, nitro group Group, nitroso group, amine oxide group (for example, pyridine-oxide group), imide group (for example, phthalimide group), disulfide group (for example, benzene disulfide group, benzothiazolyl-2-disulfide group, etc.), carboxyl group, sulfo group And heterocyclic groups (eg, pyrrole group, pyrrolidyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, pyridyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, benzoxazolyl group, etc.). These substituents may be further substituted.

また、R51は水素原子、R52、R56はt−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。 Further, a phenol compound in which R 51 is a hydrogen atom and R 52 and R 56 are t-butyl groups is preferable.

本発明に係るヒンダードフェノール系化合物は、特に限定されるものではないが、以下の具体例を挙げることができる。   Although the hindered phenol compound according to the present invention is not particularly limited, the following specific examples can be given.

当該化合物の具体例としては、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−プロピオネート、n−オクタデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)−アセテート、n−オクタデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、n−ヘキシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、n−ドデシル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ドデシルβ(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、エチルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルフェニル)イソブチレート、オクタデシルα−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(n−オクチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンゾエート、2−(2−ヒドロキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−フェニル)プロピオネート、2−(n−オクタデシルチオ)エチル3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、ステアルアミドN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、n−ブチルイミノN,N−ビス−[エチレン3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−(2−ステアロイルオキシエチルチオ)エチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,2−プロピレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ネオペンチルグリコールビス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、エチレングリコールビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、グリセリン−l−n−オクタデカノエート−2,3−ビス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルアセテート)、ペンタエリスリトール−テトラキス−[3−(3′,5′−ジ−t−ブチル−4′−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,1,1−トリメチロールエタン−トリス−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ソルビトールヘキサ−[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2−ヒドロキシエチル7−(3−メチル−5−tブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2−ステアロイルオキシエチル7−(3−メチル−5−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)ヘプタノエート、1,6−n−ヘキサンジオール−ビス[(3′,5′−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリトリトール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)等が挙げられる。   Specific examples of the compound include n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) -propionate, n-octadecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-). (Hydroxyphenyl) -acetate, n-octadecyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, n-hexyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, n-dodecyl 3,5- Di-t-butyl-4-hydroxyphenylbenzoate, neo-dodecyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, dodecyl β (3,5-di-t-butyl-4- (Hydroxyphenyl) propionate, ethyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4 Hydroxy-3,5-di-t-butylphenyl) isobutyrate, octadecyl α- (4-hydroxy-3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2- (n-octylthio) ethyl 3, 5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (n-octylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-phenylacetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3, 5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl acetate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzoate, 2- (2-hydroxyethylthio) ethyl 3 , 5-Di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate, diethyl glycol bis- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxy -Phenyl) propionate, 2- (n-octadecylthio) ethyl 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, stearamide N, N-bis- [ethylene 3- (3,5- Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], n-butylimino N, N-bis- [ethylene 3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2- (2 -Stearoyloxyethylthio) ethyl 3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, 2- (2-stearoyloxyethylthio) ethyl 7- (3-methyl-5-t-butyl-4-hydroxyphenyl ) Heptanoate, 1,2-propylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) pro Onate], ethylene glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], neopentyl glycol bis- [3- (3,5-di-t-butyl-4- Hydroxyphenyl) propionate], ethylene glycol bis- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenylacetate), glycerin-1-n-octadecanoate-2,3-bis- (3,5- Di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl acetate), pentaerythritol-tetrakis- [3- (3 ', 5'-di-tert-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate], 1,1,1-triene Methylolethane-tris- [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], sorbitol hexa- 3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], 2-hydroxyethyl 7- (3-methyl-5-tbutyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2-stearoyloxyethyl 7 -(3-Methyl-5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) heptanoate, 1,6-n-hexanediol-bis [(3 ', 5'-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] Pentaerythritol-tetrakis (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyhydrocinnamate) and the like.

中でも有用なヒンダードフェノール系酸化防止剤の具体例として、下記の例示化合物を示すが、これに限定されるものではない。   Above all, the following exemplified compounds are shown as specific examples of useful hindered phenolic antioxidants, but are not limited thereto.

Figure 0006676930
Figure 0006676930

また、上記タイプのフェノール化合物は、例えば、BASFジャパン株式会社から、”Irganox1035”、”Irganox1076”及び”Irganox1010”という商品名で市販されている。   Further, phenol compounds of the above type are commercially available, for example, from BASF Japan Ltd. under the trade names “Irganox1035”, “Irganox1076” and “Irganox1010”.

シクロオレフィン系樹脂100質量部に対する前記フェノール系化合物の添加量は適宜設計できるが、0.1〜1.0質量部の範囲であることが好ましく、0.3〜0.5質量部の範囲であることがより好ましい。   The addition amount of the phenolic compound to 100 parts by mass of the cycloolefin-based resin can be appropriately designed, but is preferably in the range of 0.1 to 1.0 part by mass, and more preferably in the range of 0.3 to 0.5 part by mass. More preferably, there is.

〔4〕その他の添加剤
〔4.1〕可塑剤
可塑剤とは、可塑剤の例には、ポリエステル化合物、多価アルコールエステル化合物、多価カルボン酸エステル化合物(フタル酸エステル化合物を含む)、グリコレート化合物、及びエステル化合物(脂肪酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などを含む)が含まれる。これらは、単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
[4] Other additives [4.1] Plasticizer A plasticizer is, for example, a polyester compound, a polyhydric alcohol ester compound, a polycarboxylic acid ester compound (including a phthalate ester compound), Glycolate compounds and ester compounds (including fatty acid ester compounds and phosphate ester compounds) are included. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明の光学フィルムに好ましい可塑剤は、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含むポリエステル化合物である。   A preferred plasticizer for the optical film of the present invention is a polyester compound containing a repeating unit obtained by reacting a dicarboxylic acid and a diol.

ポリエステル化合物を構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、1種類であっても、2種類以上の混合物であってもよい。   The dicarboxylic acid constituting the polyester compound is an aromatic dicarboxylic acid, an aliphatic dicarboxylic acid or an alicyclic dicarboxylic acid, and is preferably an aromatic dicarboxylic acid. The dicarboxylic acid may be one type or a mixture of two or more types.

ポリエステル化合物を構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数1〜4のジオールである。ジオールは、1種類であっても、2種類以上の混合物であってもよい。   The diol constituting the polyester compound is an aromatic diol, an aliphatic diol or an alicyclic diol, preferably an aliphatic diol, and more preferably a diol having 1 to 4 carbon atoms. The diol may be one kind or a mixture of two or more kinds.

中でも、ポリエステル化合物は、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数1〜4のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数1〜4のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。   Among them, the polyester compound preferably contains a repeating unit obtained by reacting a dicarboxylic acid containing at least an aromatic dicarboxylic acid and a diol having 1 to 4 carbon atoms, and the aromatic dicarboxylic acid and the aliphatic dicarboxylic acid It is more preferable to include a repeating unit obtained by reacting a dicarboxylic acid containing the compound with a diol having 1 to 4 carbon atoms.

ポリエステル化合物の分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよいが、フィルムの透湿性を低減する観点からは、封止されていることが好ましい。   Both ends of the molecule of the polyester compound may or may not be sealed, but are preferably sealed from the viewpoint of reducing the moisture permeability of the film.

また、多価アルコールエステル化合物は、2価以上の脂肪族多価アルコールと、モノカルボン酸とのエステル化合物(アルコールエステル)であり、好ましくは2〜20価の脂肪族多価アルコールエステルである。多価アルコールエステル化合物は、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。   Further, the polyhydric alcohol ester compound is an ester compound (alcohol ester) of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and a monocarboxylic acid, and is preferably a divalent to 20-valent aliphatic polyhydric alcohol ester. The polyhydric alcohol ester compound preferably has an aromatic ring or a cycloalkyl ring in the molecule.

脂肪族多価アルコールの好ましい例には、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、キシリトール等が含まれる。中でも、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールなどが好ましい。   Preferred examples of the aliphatic polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2- Butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, trimethylolpropane , Pentaerythritol, trimethylolethane, xylitol and the like. Among them, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, xylitol and the like are preferable.

モノカルボン酸は、特に制限はなく、脂肪族モノカルボン酸、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸等でありうる。フィルムの透湿性を高め、かつ揮発しにくくするためには、脂環式モノカルボン酸又は芳香族モノカルボン酸が好ましい。モノカルボン酸は、1種類であってもよいし、2種以上の混合物であってもよい。また、脂肪族多価アルコールに含まれるOH基の全部をエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。   The monocarboxylic acid is not particularly limited, and may be an aliphatic monocarboxylic acid, an alicyclic monocarboxylic acid, an aromatic monocarboxylic acid, or the like. An alicyclic monocarboxylic acid or an aromatic monocarboxylic acid is preferred in order to increase the moisture permeability of the film and make it less likely to volatilize. The monocarboxylic acid may be one kind or a mixture of two or more kinds. Further, all of the OH groups contained in the aliphatic polyhydric alcohol may be esterified, or some of them may be left as OH groups.

脂肪族モノカルボン酸は、炭素数1〜32の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸であることが好ましい。脂肪族モノカルボン酸の炭素数はより好ましくは1〜20であり、さらに好ましくは1〜10である。脂肪族モノカルボン酸の例には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸;ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等が含まれる。中でも、セルロースアセテートとの相溶性を高めるためには、酢酸、又は酢酸とその他のモノカルボン酸との混合物が好ましい。   The aliphatic monocarboxylic acid is preferably a fatty acid having 1 to 32 carbon atoms and having a straight or side chain. The carbon number of the aliphatic monocarboxylic acid is more preferably 1 to 20, and further preferably 1 to 10. Examples of aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanoic acid, undecylic acid, lauric acid, and tridecylic acid. , Myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachiic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotinic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, saturated fatty acids such as lacseric acid; undecylenic acid, Unsaturated fatty acids such as oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid, and arachidonic acid are included. Above all, acetic acid or a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid is preferable in order to increase the compatibility with cellulose acetate.

脂環式モノカルボン酸の例には、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸などが含まれる。   Examples of alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentanecarboxylic acid, cyclohexanecarboxylic acid, cyclooctanecarboxylic acid, and the like.

芳香族モノカルボン酸の例には、安息香酸;安息香酸のベンゼン環にアルキル基又はアルコキシ基(例えば、メトキシ基やエトキシ基)を1〜3個を導入したもの(例えば、トルイル酸など);ベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸(例えば、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸など)が含まれ、好ましくは安息香酸である。   Examples of the aromatic monocarboxylic acid include benzoic acid; one in which 1 to 3 alkyl groups or alkoxy groups (for example, methoxy group or ethoxy group) are introduced into a benzene ring of benzoic acid (for example, toluic acid and the like); Aromatic monocarboxylic acids having two or more benzene rings (eg, biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, tetralincarboxylic acid, etc.) are included, and benzoic acid is preferable.

多価アルコールエステル化合物の具体例は、特開2006−113239号公報段落〔0058〕〜〔0061〕記載の化合物が挙げられる。   Specific examples of the polyhydric alcohol ester compound include compounds described in paragraphs [0058] to [0061] of JP-A-2006-113239.

多価カルボン酸エステル化合物は、2価以上、好ましくは2〜20価の多価カルボン酸と、アルコール化合物とのエステル化合物である。多価カルボン酸は、2〜20価の脂肪族多価カルボン酸であるか、3〜20価の芳香族多価カルボン酸又は3〜20価の脂環式多価カルボン酸であることが好ましい。   The polycarboxylic acid ester compound is an ester compound of a polyvalent carboxylic acid having a valency of 2 or more, preferably 2 to 20 and an alcohol compound. The polycarboxylic acid is preferably a divalent to divalent aliphatic polycarboxylic acid, or a trivalent to divalent aromatic polycarboxylic acid or a trivalent to divalent alicyclic polycarboxylic acid. .

多価カルボン酸エステル化合物の例には、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート(ATEC)、アセチルトリブチルシトレート(ATBC)、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が含まれる。   Examples of polycarboxylic acid ester compounds include triethyl citrate, tributyl citrate, acetyl triethyl citrate (ATEC), acetyl tributyl citrate (ATBC), benzoyl tributyl citrate, acetyl triphenyl citrate, and acetyl tribenzyl citrate. Rates, dibutyl tartrate, diacetyl dibutyl tartrate, tributyl trimellitate, tetrabutyl pyromellitate, and the like.

グリコレート化合物の例には、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が含まれる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類の例には、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が含まれ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。   Examples of glycolate compounds include alkyl phthalyl alkyl glycolates. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl Ethyl glycolate, ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl Glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl glycolate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalyl ethyl Glycolate and the like, preferably ethyl phthalyl ethyl glycolate.

エステル化合物には、脂肪酸エステル化合物、クエン酸エステル化合物やリン酸エステル化合物などが含まれる。   The ester compound includes a fatty acid ester compound, a citrate ester compound, a phosphate ester compound, and the like.

脂肪酸エステル化合物の例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、及びセバシン酸ジブチル等が含まれる。クエン酸エステル化合物の例には、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、及びクエン酸アセチルトリブチル等が含まれる。リン酸エステル化合物の例には、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、及びトリブチルホスフェート等が含まれ、好ましくはトリフェニルホスフェートである。   Examples of the fatty acid ester compound include butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate and the like. Examples of the citrate compound include acetyltrimethyl citrate, acetyltriethyl citrate, acetyltributyl citrate, and the like. Examples of phosphate ester compounds include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, octyl diphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate, trioctyl phosphate, tributyl phosphate, and the like, preferably triphenyl phosphate. .

中でも、ポリエステル化合物、グリコレート化合物、リン酸エステル化合物が好ましく、ポリエステル化合物が特に好ましい。   Among them, a polyester compound, a glycolate compound and a phosphate compound are preferred, and a polyester compound is particularly preferred.

可塑剤の含有量は、シクロオレフィン系樹脂100質量部に対して、好ましくは1〜20質量%の範囲であり、より好ましくは1.5〜15質量%の範囲である。可塑剤の含有量が上記範囲内であると、可塑性の付与効果が発現でき、光学フィルムからの可塑剤の耐染みだし性にも優れる。   The content of the plasticizer is preferably in the range of 1 to 20% by mass, and more preferably in the range of 1.5 to 15% by mass, based on 100 parts by mass of the cycloolefin-based resin. When the content of the plasticizer is within the above range, the effect of imparting plasticity can be exhibited, and the exudation resistance of the plasticizer from the optical film is excellent.

〔4.2〕位相差上昇剤
本発明の光学フィルムは、位相差を調整するために位相差上昇剤を含有することができる。
[4.2] Retardation Raising Agent The optical film of the present invention can contain a retardation raising agent for adjusting the retardation.

本願でいう位相差上昇剤とは、シクロオレフィン系樹脂100質量部に対して当該化合物を3質量部含有した光学フィルムの厚さ方向の位相差値Rt(光波長590nm測定)が、未添加の光学フィルムと比べて1.1倍以上の値を示す機能を有する化合物をいう。   The retardation increasing agent referred to in the present application refers to a retardation value Rt (measured at a light wavelength of 590 nm) in a thickness direction of an optical film containing 3 parts by mass of the compound with respect to 100 parts by mass of a cycloolefin-based resin. A compound having a function of exhibiting a value of 1.1 times or more as compared with an optical film.

本発明に用いられる位相差上昇剤は、特に制限されるものではなく、例えば、従来知られている、特開2006−113239号公報段落〔0143〕〜〔0179〕に記載の芳香族環を有する円盤状化合物(1,3,5−トリアジン系化合物等)、特開2006−113239号公報段落〔0106〕〜〔0112〕記載の棒状化合物、特開2012−214682号公報段落〔0118〕〜〔0133〕記載のピリミジン系化合物等を用いることができる。   The retardation increasing agent used in the present invention is not particularly limited, and has, for example, an aromatic ring described in JP-A-2006-113239, paragraphs [0143] to [0179], which are conventionally known. Discotic compounds (1,3,5-triazine-based compounds and the like), rod-shaped compounds described in paragraphs [0106] to [0112] of JP-A-2006-113239, paragraphs [0118] to [0133] of JP-A-2012-214682 And the like.

〔4.3〕紫外線吸収剤
本発明の光学フィルムは、偏光板や液晶表示装置に照射される不要な紫外線を遮蔽するために、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
[4.3] Ultraviolet Absorber The optical film of the present invention preferably contains an ultraviolet absorber in order to block unnecessary ultraviolet rays emitted to the polarizing plate and the liquid crystal display device.

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報に記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。   Examples of the ultraviolet absorber include, for example, oxybenzophenone-based compounds, benzotriazole-based compounds, salicylic acid ester-based compounds, benzophenone-based compounds, cyanoacrylate-based compounds, nickel complex salt-based compounds, and the like. Compounds are preferred. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-10-182621 and JP-A-8-337574, and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A-6-148430 are also preferably used.

本発明の光学フィルムを、光学補償フィルムのほかに、偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ液晶の表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ない特性を備えていることが好ましい。   When the optical film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate in addition to the optical compensation film, the ultraviolet absorber is excellent in the ability to absorb ultraviolet light having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizer and liquid crystal. In addition, from the viewpoint of the display properties of the liquid crystal, it is preferable that the liquid crystal display has characteristics that absorb less visible light having a wavelength of 400 nm or more.

紫外線吸収剤の添加量は、高分子組成物に対して0.1〜5.0質量%の範囲内であることが好ましく、0.5〜5.0質量%の範囲内であることがさらに好ましい。   The amount of the ultraviolet absorber added is preferably in the range of 0.1 to 5.0% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5.0% by mass, based on the polymer composition. preferable.

本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−[2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル]ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール]、2−(2′−ヒドロキシ−3′−t−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−[3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル]プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。   Examples of the benzotriazole-based ultraviolet absorber useful in the present invention include 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole and 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t. -Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butyl Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- [2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl] benzotriazole, 2,2 -Methylenebis [4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol], 2- (2'-hydroxy-3 -T-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol, octyl-3 -[3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- ( 5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate, but is not limited thereto.

また、市販品として、「チヌビン(TINUVIN)109」、「チヌビン(TINUVIN)171」、「チヌビン(TINUVIN)326」、「チヌビン(TINUVIN)328」(以上、商品名、BASFジャパン社製)を好ましく使用できる。   As commercial products, “Tinuvin (TINUVIN) 109”, “Tinuvin (TINUVIN) 171”, “Tinuvin (TINUVIN) 326”, and “Tinuvin (TINUVIN) 328” (all trade names, manufactured by BASF Japan) are preferable. Can be used.

〔5〕光学フィルムの製造方法
本発明の光学フィルムの製造方法は、溶液流延製膜法又は溶融流延製膜法を採用することができるが、溶液流延製膜法によって製造することが好ましい。
[5] Method for Producing Optical Film The method for producing an optical film of the present invention can employ a solution casting film forming method or a melt casting film forming method. preferable.

本発明の光学フィルムは、溶液流延製膜法によって製膜し、かつ、前記少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、前記疎水化度を満たすシリカ粒子、前記ヒンダードフェノール系化合物、及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを、溶解温度15〜50℃の範囲内で調製することが好ましい。   The optical film of the present invention is formed by a solution casting method, and has a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group, silica particles satisfying the degree of hydrophobicity, and the hindered phenol-based resin. It is preferable to prepare a dope containing a compound and an organic solvent including an alcohol-based solvent at a dissolution temperature of 15 to 50 ° C.

溶解温度が、15℃以上であれば十分に樹脂や添加剤を溶解できるため、異物の少ないフィルムが得られる。また50℃以下であれば、アルコールとヒンダードフェノール化合物の反応によるドープ及び、得られるフィルムの着色を抑制できる観点から好ましく、アルコールと親和性が良いシリカ粒子を添加することでも着色を抑制する効果がある。   When the dissolution temperature is 15 ° C. or higher, the resin and additives can be sufficiently dissolved, so that a film with less foreign matter can be obtained. In addition, when the temperature is 50 ° C. or less, the effect of suppressing coloring by adding silica particles having a good affinity with alcohol is preferable from the viewpoint that the doping due to the reaction of the alcohol and the hindered phenol compound and the coloring of the obtained film can be suppressed. There is.

本発明の光学フィルムは、少なくともシクロオレフィン系樹脂、シリカ粒子、ヒンダードフェノール系化合物及びアルコール系溶媒を含む有機溶媒を含有するドープを調製する工程(ドープ調製工程)と、前記ドープを支持体上に流延してウェブ(流延膜ともいう。)を形成する工程(流延工程)と、支持体上でウェブから溶媒を蒸発させる工程(溶媒蒸発工程)、ウェブを支持体から剥離する工程(剥離工程)、得られたフィルムを乾燥させる工程(予備乾燥工程)、フィルムを延伸する工程(延伸工程)、延伸後のフィルムを更に乾燥させる工程(乾燥工程)、得られた光学フィルムを巻取る工程(巻取り工程)によって製造されることが好ましい。   The optical film of the present invention comprises a step of preparing a dope containing at least a cycloolefin-based resin, silica particles, an organic solvent containing a hindered phenol compound and an alcohol-based solvent (dope preparation step), Forming a web (also referred to as a casting film) by casting into a web (casting step), evaporating a solvent from the web on a support (solvent evaporation step), and separating the web from the support (Peeling step), a step of drying the obtained film (preliminary drying step), a step of stretching the film (stretching step), a step of further drying the stretched film (drying step), and winding the obtained optical film. It is preferably manufactured by a taking step (winding step).

以上の工程を図をもって説明する。   The above steps will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明に好ましい溶液流延製膜法のドープ調製工程、流延工程、乾燥工程及び巻取り工程の一例を模式的に示した図である。   FIG. 1 is a diagram schematically illustrating an example of a dope preparation step, a casting step, a drying step, and a winding step of a solution casting film forming method preferred for the present invention.

分散機によって溶媒と本発明に係るシリカ粒子を分散させた微粒子分散液は仕込み釜41から濾過器44を通過しストック釜42にストックされる。一方主ドープであるシクロオレフィン系樹脂は溶媒とともに溶解釜1にて溶解され、適宜ストック釜42に保管されている微粒子分散液が添加されて混合され主ドープを形成する。得られた主ドープは、濾過器3、ストック釜4から濾過器6によって濾過され、合流管20によって添加剤が添加されて、混合機21で混合されて加圧ダイ30に液送される。   The fine particle dispersion in which the solvent and the silica particles according to the present invention are dispersed by the disperser passes from the charging tank 41 through the filter 44 and is stored in the stock tank 42. On the other hand, the cycloolefin-based resin as the main dope is dissolved in the dissolving tank 1 together with the solvent, and the fine particle dispersion stored in the stock pot 42 is appropriately added and mixed to form the main dope. The obtained main dope is filtered from the filter 3 and the stock pot 4 by the filter 6, the additive is added by the merging pipe 20, mixed by the mixer 21, and sent to the pressure die 30.

一方、添加剤(本発明に係るヒンダードフェノール系化合物や、紫外線吸収剤、位相差上昇剤など)は、溶媒に溶解され、添加剤仕込み釜10から濾過器12を通過してストック釜13にストックされる。その後、濾過器15を通して導管16を経由して合流管20、混合機21によって主ドープと混合される。   On the other hand, additives (such as the hindered phenolic compound according to the present invention, an ultraviolet absorber, and a phase difference increasing agent) are dissolved in a solvent, pass through the filter 12 from the additive preparation tank 10 and into the stock tank 13. Be stocked. Thereafter, the mixture is mixed with the main dope by the confluent pipe 20 and the mixer 21 via the conduit 16 through the filter 15.

加圧ダイ30に液送された主ドープは、金属ベルト状の支持体31上に流延されてウェブ32を形成し、所定の乾燥後剥離位置33で剥離されフィルムを得る。剥離されたウェブ32は、多数の搬送ローラーに通しながら、所定の残留溶媒量になるまで乾燥された後、延伸装置34によって長手方向又は幅手方向に延伸される。延伸後、乾燥装置35によって所定の残留溶媒量になるまで、搬送ローラー36に通しながら乾燥し、巻取り装置37によって、ロール状に巻取られる。   The main dope fed to the pressure die 30 is cast on a metal belt-shaped support 31 to form a web 32, and is peeled off at a peeling position 33 after predetermined drying to obtain a film. The peeled web 32 is dried to a predetermined residual solvent amount while passing through a number of transport rollers, and then stretched in the longitudinal direction or the width direction by the stretching device 34. After the stretching, the film is dried by passing it through the transport roller 36 until it reaches a predetermined residual solvent amount by the drying device 35, and is wound into a roll by the winding device 37.

以下、各工程について説明する。   Hereinafter, each step will be described.

(1)ドープ調製工程
シクロオレフィン系樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で当該シクロオレフィン系樹脂及びヒンダードフェノール系化合物、場合によって、位相差上昇剤、シリカ粒子又はその他の化合物を撹拌しながら溶解しドープを調製する工程、又は当該シクロオレフィン系樹脂溶液に、前記ヒンダードフェノール系化合物、場合によっては位相差上昇剤、シリカ粒子又はその他の化合物溶液を混合して主溶解液であるドープを調製する工程である。
(1) Dope preparation step In a dissolving vessel, an organic solvent mainly containing a good solvent for the cycloolefin resin, and the cycloolefin resin and the hindered phenol compound, optionally, a retardation increasing agent, silica particles or other. A step of preparing a dope by dissolving the compound with stirring, or mixing the hindered phenol compound, the phase difference enhancer, silica particles or other compound solution with the cycloolefin-based resin solution, and mainly dissolving the compound. This is a step of preparing a dope as a liquid.

本発明の光学フィルムを溶液流延法で製造する場合、ドープを形成するのに有用な有機溶媒は、シクロオレフィン系樹脂、ヒンダードフェノール系化合物、又は位相差上昇剤及びその他の化合物を同時に溶解するものであることが好ましい。   When the optical film of the present invention is produced by a solution casting method, an organic solvent useful for forming a dope includes a cycloolefin-based resin, a hindered phenol-based compound, or a phase difference enhancer and other compounds simultaneously dissolved therein. It is preferable that

用いられる有機溶媒として、以下の溶媒が好ましく用いられる。   The following solvents are preferably used as the organic solvent used.

溶液流延法に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどの塩素系溶媒;トルエン、キシレン、ベンゼン、及びこれらの混合溶媒などの芳香族系溶媒;メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2−ブタノールなどのアルコール系溶媒;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、酢酸エチル、ジエチルエーテル;などが挙げられる。これら溶剤は1種のみ用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   Solvents used in the solution casting method include, for example, chlorinated solvents such as chloroform and dichloromethane; aromatic solvents such as toluene, xylene, benzene, and a mixed solvent thereof; methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol, Alcohol solvents such as 2-butanol; and methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dioxane, cyclohexanone, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), ethyl acetate, diethyl ether, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

本発明に係る溶媒が良溶媒と貧溶媒の混合溶媒である場合、当該良溶媒は、例えば、塩素系有機溶媒としては、ジクロロメタン、非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プロパノール、ニトロエタン、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタノール等が挙げられ、中でもジクロロメタンであることが好ましい。   When the solvent according to the present invention is a mixed solvent of a good solvent and a poor solvent, the good solvent is, for example, dichloromethane as a chlorinated organic solvent, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate as a non-chlorinated organic solvent. , Acetone, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolan, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-Difluoro-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol , 2,2,3,3,3-pentafluoro-1-propanol, nitroethane, methanol, ethanol, n-propanol, is - propanol, n- butanol, sec- butanol, tert- butanol and the like, is preferably Among them, dichloromethane.

貧溶媒は本発明に係るアルコール系溶媒であり、光学フィルム中に10〜1000ppm含有されることが、本発明の効果を発現する上で必要である。   The poor solvent is the alcohol solvent according to the present invention, and it is necessary that the poor solvent be contained in the optical film in an amount of 10 to 1000 ppm in order to exert the effects of the present invention.

本発明の光学フィルム中に含有される上記アルコール系溶媒の含有量は、いわゆる残留溶媒量であって、フィルム製造後にフィルム中に含有される含有量をいう。当該溶媒量は、後述するヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより定量することができるが、その測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をいう。通常、フィルムは、製造されて巻き取られた後に保護シート等にくるまれて準密閉状態で保管され、加工されるまではその状態であるため、残留溶媒量の変動は小さい。したがって、残留溶媒量の測定はフィルム製造後からフィルム加工前までの期間に測定されたときの値をもって、本願発明の構成であるかを判断することができる。   The content of the alcohol-based solvent contained in the optical film of the present invention is a so-called residual solvent amount, and refers to the content contained in the film after the film is produced. The amount of the solvent can be quantified by head space gas chromatography, which will be described later, and the measurement refers to a value measured during a period from the film production to before the film processing. Usually, the film is wrapped in a protective sheet or the like after being manufactured and wound up, stored in a semi-closed state, and remains in that state until processed, so that the amount of residual solvent varies little. Therefore, it is possible to determine whether or not the configuration of the present invention is based on the value of the residual solvent amount measured during the period from the film production to before the film processing.

残留溶媒量の制御は、溶媒の構成比率、製膜中における乾燥温度、乾燥時間等の乾燥条件、膜厚等で行うことができる。   The amount of the residual solvent can be controlled by controlling the composition ratio of the solvent, drying conditions such as drying temperature and drying time during film formation, and film thickness.

本発明の光学フィルム中に含有されるアルコール系溶媒の含有量は、10〜500ppmの範囲内であることが好ましく、20〜200ppmの範囲であることがより好ましい。10ppm以上で本発明の効果を発現し、また溶液流延製膜における金属支持体からの剥離性も向上する。1000ppm以下では、ヘイズと環境安全性の観点から好ましい。   The content of the alcohol-based solvent contained in the optical film of the present invention is preferably in the range of 10 to 500 ppm, and more preferably in the range of 20 to 200 ppm. When the content is 10 ppm or more, the effect of the present invention is exhibited, and the releasability from the metal support in the solution casting film is also improved. If it is 1000 ppm or less, it is preferable from the viewpoint of haze and environmental safety.

本発明に係るアルコール系溶媒は、メタノール、エタノール及びブタノールから選択されることが、本発明の効果とともに、剥離性を改善し、高速度流延を可能にする観点から好ましい。中でもエタノールが上記観点から好ましい。   The alcoholic solvent according to the present invention is preferably selected from methanol, ethanol and butanol from the viewpoint of improving the peelability and enabling high-speed casting, together with the effects of the present invention. Among them, ethanol is preferred from the above viewpoint.

本発明では、混合溶媒であれば、前記良溶媒を溶媒全体量に対して55質量%以上を用いることが好ましく、より好ましくは70質量%以上、更に好ましくは80質量%以上用いることである。   In the present invention, if it is a mixed solvent, the good solvent is preferably used in an amount of 55% by mass or more based on the total amount of the solvent, more preferably 70% by mass or more, and further preferably 80% by mass or more.

また、本発明の光学フィルムは、生産性向上の観点からヒドロキシ基を有するアルコール系溶媒と水とを組み合わせて用いることがより好ましく、前記ドープに水を加えて、残留溶媒量として水を50〜500ppmの範囲内でフィルム中に含有する。 Further, the optical film of the present invention is more preferably used in combination with an alcohol-based solvent having a hydroxy group and water from the viewpoint of improving productivity. It contained in the film in the range of 500 ppm.

水は一分子中に水素結合性供与基を複数持つため、フィルムの強度を上げるために好ましく用いることができる。水は全溶媒量に対して0.1〜1質量%含むことが好ましい。0.1質量%以上であれば、他のアルコール系溶媒や水素結合受容性基を含むシクロオレフィン系樹脂やシリカ粒子と相互作用しやすくなるため好ましいが、1質量%以内であれば疎水性の強いシクロオレフィン系樹脂のゲル化を抑制し、異物の発生を抑えることができる。   Since water has a plurality of hydrogen bonding donor groups in one molecule, water can be preferably used to increase the strength of the film. It is preferable that water contains 0.1 to 1% by mass based on the total amount of the solvent. When the content is 0.1% by mass or more, it is easy to interact with another alcohol-based solvent or a cycloolefin-based resin or a silica particle containing a hydrogen bond-accepting group. Gelling of the strong cycloolefin-based resin can be suppressed, and generation of foreign matter can be suppressed.

<残留溶媒量>
溶媒成分として、用いた前記アルコール及び水の残留量は以下の測定方法によって行う。
<Amount of residual solvent>
The residual amount of the alcohol and water used as the solvent component is measured by the following measurement method.

一定の形状に切り取った光学フィルムを20mLの密閉ガラス容器に入れ、120℃で20分間処理したあと、ガスクロマトグラフィー(機器:HP社 5890SERIES II、カラム:J&W社 DB−WAX(内径0.32mm、長さ30m)、検出:FID)でGC昇温条件を40℃で5分間保持したあと、80℃/分で100℃まで昇温して求めた。   The optical film cut into a certain shape was placed in a 20 mL closed glass container, and treated at 120 ° C. for 20 minutes, followed by gas chromatography (equipment: HP 5890SERIES II, column: J & W DB-WAX (0.32 mm inner diameter, The length was measured at a temperature of 40 ° C. for 5 minutes, and then the temperature was raised to 100 ° C. at 80 ° C./min.

シクロオレフィン系樹脂及びヒンダードフェノール系化合物、場合によっては位相差上昇剤、その他の化合物の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、又は特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、0.8〜4MPaの範囲で行うことが溶解性の観点から好ましい。   For dissolving the cycloolefin resin and the hindered phenolic compound, and in some cases, the retardation increasing agent and other compounds, a method of dissolving at ordinary pressure, a method of dissolving at a temperature lower than the boiling point of the main solvent, and a method of pressurizing at a temperature higher than the boiling point of the main solvent. A cooling and melting method as described in JP-A-9-95544, JP-A-9-95557, or JP-A-9-95538, and a method described in JP-A-11-21379. Although various dissolving methods such as a method of performing at a high pressure can be used, it is preferable to perform the dissolving in the range of 0.8 to 4 MPa from the viewpoint of solubility.

ドープ中のシクロオレフィン系樹脂の濃度は、10〜40質量%の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。   The concentration of the cycloolefin-based resin in the dope is preferably in the range of 10 to 40% by mass. The compound is added to the dope during or after dissolution to dissolve and disperse, and then filtered with a filter medium, defoamed, and sent to the next step by a liquid sending pump.

ドープの濾過については、好ましくはリーフディスクフィルターを具備する主な濾過器3で、ドープを例えば、90%捕集粒子径が微粒子の平均粒子径の10倍〜100倍の濾材で濾過することが好ましい。   Regarding the filtration of the dope, preferably, the dope is filtered with a filter medium having a 90% trapping particle diameter of 10 to 100 times the average particle diameter of the fine particles, preferably in the main filter 3 having a leaf disk filter. preferable.

本発明において、濾過に使用する濾材は、絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さすぎると、濾過材の目詰まりが発生しやすく、濾材の交換を頻繁に行わなければならず、生産性を低下させるという問題点ある。   In the present invention, the filter medium used for filtration preferably has a small absolute filtration precision, but if the absolute filtration precision is too small, clogging of the filter medium is likely to occur, and the filter medium must be replaced frequently. However, there is a problem that productivity is reduced.

このため、本発明において、シクロオレフィン系樹脂含有ドープに使用する濾材は、絶対濾過精度0.008mm以下のものが好ましく、0.001〜0.008mmの範囲が、より好ましく、0.003〜0.006mmの範囲の濾材がさらに好ましい。   Therefore, in the present invention, the filter medium used for the cycloolefin-based resin-containing dope preferably has an absolute filtration accuracy of 0.008 mm or less, more preferably 0.001 to 0.008 mm, and more preferably 0.003 to 0. Filter media in the range of 0.006 mm are more preferred.

濾材の材質には、特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン(登録商標)等のプラスチック繊維製の濾材やステンレス繊維等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。   There is no particular limitation on the material of the filter medium, and ordinary filter mediums can be used. However, the filter medium made of plastic fiber such as polypropylene or Teflon (registered trademark) or the metal filter medium such as stainless steel fiber may fall off the fiber. Is preferred because there is no

本発明において、濾過の際のドープの流量が、10〜80kg/(h・m)、好ましくは20〜60kg/(h・m)であることが好ましい。ここで、濾過の際のドープの流量が、10kg/(h・m)以上であれば、効率的な生産性となり、濾過の際のドープの流量が、80kg/(h・m)以内であれば、濾材にかかる圧力が適正となり、濾材を破損させることがなく、好ましい。 In the present invention, the flow rate of the dope during filtration, 10~80kg / (h · m 2 ), it is preferable preferably is 20~60kg / (h · m 2) . Here, if the flow rate of the dope at the time of filtration is 10 kg / (h · m 2 ) or more, efficient productivity is obtained, and the flow rate of the dope at the time of filtration is within 80 kg / (h · m 2 ). In this case, the pressure applied to the filter medium is appropriate, and the filter medium is not damaged, which is preferable.

濾圧は、3500kPa以下であることが好ましく、3000kPa以下が、より好ましく、2500kPa以下であることがさらに好ましい。なお、濾圧は、濾過流量と濾過面積を適宜選択することで、コントロールできる。   The filtration pressure is preferably 3500 kPa or less, more preferably 3000 kPa or less, even more preferably 2500 kPa or less. The filtration pressure can be controlled by appropriately selecting the filtration flow rate and the filtration area.

多くの場合、主ドープには返材が10〜50質量%程度含まれることがある。   In many cases, the main dope may contain about 10 to 50% by mass of a return material.

返材とは、例えば、光学フィルムを細かく粉砕した物で、光学フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでフィルムの規定値を越えた光学フィルム原反が使用される。   Returned material is, for example, an optical film that is finely pulverized, which is generated when an optical film is formed, a material that has been cut off on both sides of the film, or an optical film that exceeds the specified value of the film due to abrasion or the like. The web is used.

また、ドープ調製に用いられる樹脂の原料としては、あらかじめシクロオレフィン系樹脂及びその他の化合物などをペレット化したものも、好ましく用いることができる。   As a raw material of the resin used for preparing the dope, a material obtained by pelletizing a cycloolefin-based resin and other compounds in advance can also be preferably used.

(2)流延工程
(2.1)ドープの流延
ドープを、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイ30に送液し、無限に移送する無端の金属支持体31、例えば、ステンレスベルト、又は回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
(2) Casting Step (2.1) Casting of Dope An endless metal support 31, which sends a dope to a pressurizing die 30 through a liquid sending pump (for example, a pressurized metering gear pump) and transfers it endlessly, For example, a step of casting a dope from a pressing die slit to a casting position on a metal support such as a stainless steel belt or a rotating metal drum.

流延(キャスト)工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルト若しくは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は1〜4mの範囲、好ましくは1.3〜3mの範囲、さらに好ましくは1.5〜2.8mの範囲とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−50℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度以下、さらに好ましくは−30〜0℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブ(流延用金属支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜をウェブという。)の乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高すぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては0〜100℃で適宜決定され、5〜30℃の範囲が更に好ましい。または、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。   The metal support in the casting step is preferably one whose surface is mirror-finished. As the metal support, a stainless steel belt or a drum whose surface is plated with a casting is preferably used. The width of the cast can be in the range of 1-4 m, preferably in the range of 1.3-3 m, more preferably in the range of 1.5-2.8 m. The surface temperature of the metal support in the casting step is set at -50 ° C to a temperature not higher than the temperature at which the solvent does not boil and foam, more preferably at -30 to 0 ° C. A higher temperature is preferred because the drying speed of the web (the dope is cast on a casting metal support and the formed dope film is called a web) can be increased. However, if the temperature is too high, the web may foam. In some cases, the flatness may deteriorate. The preferable temperature of the support is appropriately determined at 0 to 100 ° C, and more preferably at 5 to 30 ° C. Alternatively, it is also a preferable method to gel the web by cooling and to peel the web from the drum while containing a large amount of residual solvent.

金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。   The method of controlling the temperature of the metal support is not particularly limited, and there are a method of blowing hot or cold air, and a method of bringing hot water into contact with the back side of the metal support. It is preferable to use hot water since the time required for the temperature of the metal support to become constant is short because heat is transferred more efficiently. When using hot air, in consideration of the temperature drop of the web due to the latent heat of evaporation of the solvent, while using hot air at the boiling point of the solvent or higher, air with a higher temperature than the target temperature may be used while preventing foaming. . In particular, it is preferable to change the temperature of the support and the temperature of the drying air during the period from the casting to the peeling to efficiently perform the drying.

ダイは、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して積層してもよい。   The die is preferably a pressure die which can adjust the slit shape of the die portion of the die and can easily make the film thickness uniform. Examples of the pressure die include a coat hanger die and a T die, all of which are preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film formation speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the doping amounts may be divided and stacked.

(2.2)溶媒蒸発工程
ウェブを流延用金属支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程であり、後述する剥離時の残留溶媒量を制御する工程である。
(2.2) Solvent Evaporation Step This is a step of heating the web on the casting metal support to evaporate the solvent, and is a step of controlling the amount of residual solvent at the time of peeling described later.

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを30〜100℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。30〜100℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか赤外線等の手段により加熱することが好ましい。   To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side, a method of transferring heat with liquid from the back of the support, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, and the like. Is preferred. Further, a method of combining them is also preferably used. The web on the support after casting is preferably dried on the support in an atmosphere of 30 to 100 ° C. In order to maintain the temperature in an atmosphere of 30 to 100 ° C., it is preferable to apply hot air at this temperature to the upper surface of the web or to heat the web by means such as infrared rays.

面品質、透湿性、剥離性の観点から、30〜180秒以内で当該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。   From the viewpoint of surface quality, moisture permeability, and releasability, the web is preferably released from the support within 30 to 180 seconds.

(2.3)剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブはフィルムとして次工程に送られる。
(2.3) Peeling Step This is a step of peeling the web from which the solvent has evaporated on the metal support at the peeling position. The peeled web is sent to the next step as a film.

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは10〜40℃の範囲であり、さらに好ましくは11〜30℃の範囲である。   The temperature at the peeling position on the metal support is preferably in the range of 10 to 40C, more preferably in the range of 11 to 30C.

本発明では、前記溶媒蒸発工程でウェブ中の溶媒を蒸発するが、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの残留溶媒量は、15〜100質量%の範囲内とすることが好ましい。残留溶媒量の制御は、前記溶媒蒸発工程における乾燥温度及び乾燥時間で行うことが好ましい。   In the present invention, the solvent in the web is evaporated in the solvent evaporation step, but the residual solvent amount of the web on the metal support at the time of peeling is preferably in the range of 15 to 100% by mass. It is preferable to control the amount of the residual solvent by controlling the drying temperature and the drying time in the solvent evaporation step.

前記残留溶媒量が15質量%以上であると、支持体上での乾燥過程において、シリカ粒子が厚さ方向に分布を持たずフィルム中に均一に分散した状態になるため、好ましい。   When the amount of the residual solvent is 15% by mass or more, the silica particles have a distribution in the thickness direction and are uniformly dispersed in the film during the drying process on the support, which is preferable.

また、前記残留溶媒量が100質量%以内であれば、フィルムが自己支持性を有し、フィルムの剥離不良を回避でき、ウェブの機械的強度も保持できることから剥離時の平面性が向上し、剥離張力によるツレや縦スジの発生を抑制できる。   Further, when the amount of the residual solvent is within 100% by mass, the film has self-supporting properties, can prevent poor peeling of the film, and can maintain the mechanical strength of the web, so that the flatness at the time of peeling is improved. It is possible to suppress the occurrence of rubbing and vertical stripes due to the peeling tension.

ウェブ又はフィルムの残留溶媒量は下記式(Z)で定義される。   The residual solvent amount of the web or film is defined by the following formula (Z).

式(Z)
残留溶媒量(%)=(ウェブ又はフィルムの加熱処理前質量−ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量)/(ウェブ又はフィルムの加熱処理後質量)×100
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
Formula (Z)
Residual solvent amount (%) = (mass before heat treatment of web or film−mass after heat treatment of web or film) / (mass after heat treatment of web or film) × 100
Note that the heat treatment at the time of measuring the amount of the residual solvent means performing heat treatment at 115 ° C. for one hour.

金属支持体からウェブを剥離してフィルムとする際の剥離張力は、通常、196〜245N/mの範囲内であるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、190N/m以下の張力で剥離することが好ましい。   The peeling tension when peeling the web from the metal support to form a film is usually in the range of 196 to 245 N / m. However, when wrinkles are likely to occur during peeling, the peeling is performed at a tension of 190 N / m or less. Is preferred.

本発明においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃の範囲内とするのが好ましく、10〜40℃の範囲内がより好ましく、15〜30℃の範囲内とするのが最も好ましい。   In the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support is preferably in the range of −50 to 40 ° C., more preferably in the range of 10 to 40 ° C., and in the range of 15 to 30 ° C. Is most preferred.

(3)乾燥及び延伸工程
乾燥工程は予備乾燥工程、本乾燥工程に分けて行うこともできる。
(3) Drying and Stretching Step The drying step can be performed by dividing into a preliminary drying step and a main drying step.

(3.1)予備乾燥工程
金属支持体からウェブ剥離して得られたフィルムは、予備乾燥させる。フィルムの予備乾燥は、フィルムを、上下に配置した多数のローラーにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにフィルムの両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
(3.1) Preliminary drying step The film obtained by peeling the web from the metal support is preliminarily dried. For preliminary drying of the film, the film may be dried while being conveyed by a number of rollers arranged vertically, or may be dried while being conveyed while fixing both ends of the film with clips like a tenter dryer. Good.

ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。   The means for drying the web is not particularly limited, and can be generally performed by hot air, infrared rays, a heating roller, a microwave, or the like, but is preferably performed by hot air in terms of simplicity.

ウェブの予備乾燥工程における乾燥温度は好ましくはフィルムのガラス転移点−5℃以下であって、30℃以上の温度で1分以上30分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は40〜150℃の範囲内、更に好ましくは50〜100℃の範囲内で乾燥が行われる。   The drying temperature in the predrying step of the web is preferably the glass transition point of the film −5 ° C. or less, and it is effective to perform the heat treatment at a temperature of 30 ° C. or more for 1 minute to 30 minutes. The drying is performed at a drying temperature in the range of 40 to 150 ° C, more preferably in the range of 50 to 100 ° C.

(3.2)延伸工程
本発明の光学フィルムは、延伸装置34にて残留溶媒量下で延伸処理を行うことで、フィルム中の樹脂にシリカ粒子を均一に分散させたり、フィルムの平面性を向上したり、フィルム内の分子の配向を制御することで、所望の位相差値Ro及びRtを得ることができる。
(3.2) Stretching Step The optical film of the present invention is subjected to a stretching treatment in a stretching device 34 in the amount of residual solvent to uniformly disperse silica particles in a resin in the film or to improve the flatness of the film. Desired retardation values Ro and Rt can be obtained by improving or controlling the orientation of molecules in the film.

本発明の光学フィルムの製造方法は、当該フィルムを延伸する工程において、延伸開始時の残留溶媒量を1質量%以上15質量%未満とすることが好ましい。より好ましくは2〜10質量%の範囲内であり、前記残留溶媒量の範囲であると、延伸時に不均一な応力がフィルムにかかることを回避することができる。   In the method for producing an optical film of the present invention, in the step of stretching the film, the amount of residual solvent at the start of stretching is preferably 1% by mass or more and less than 15% by mass. More preferably, it is in the range of 2 to 10% by mass, and when it is in the range of the amount of the residual solvent, it is possible to avoid applying uneven stress to the film during stretching.

本発明の光学フィルムは、長手方向(MD方向、流延方向ともいう。)及び/又は幅手方向(TD方向ともいう。)、及び/又は斜め方向に延伸することが好ましく、少なくとも延伸装置によって、幅手方向に延伸して製造することが好ましい。   The optical film of the present invention is preferably stretched in the longitudinal direction (also referred to as the MD direction or the casting direction) and / or the width direction (also referred to as the TD direction) and / or in an oblique direction, and at least by a stretching device. It is preferable to manufacture by stretching in the width direction.

延伸操作は多段階に分割して実施してもよい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。   The stretching operation may be performed in multiple stages. When performing biaxial stretching, simultaneous biaxial stretching may be performed or stepwise may be performed. In this case, stepwise means, for example, that stretching in different stretching directions can be performed sequentially, or that stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any of the stages. Is also possible.

すなわち、例えば、次のような延伸ステップも可能である:
・長手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→幅手方向に延伸→長手方向に延伸→長手方向に延伸
・幅手方向に延伸→斜め方向に延伸
また、同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
Thus, for example, the following stretching steps are also possible:
・ Stretch in the longitudinal direction → stretch in the width direction → stretch in the longitudinal direction → stretch in the longitudinal direction ・ Stretch in the transverse direction → stretch in the transverse direction → stretch in the longitudinal direction → stretch in the longitudinal direction ・ Stretch in the transverse direction → Stretching in an oblique direction Simultaneous biaxial stretching also includes a case where the film is stretched in one direction and the other is contracted by relaxing the tension.

本発明の光学フィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように長手方向及び/又は幅手方向に、好ましくは幅手方向に、フィルムのガラス転移温度をTgとしたときに、(Tg+5)〜(Tg+50)℃の温度範囲で延伸することが好ましい。上記温度範囲で延伸すると、位相差の調整がしやすく、また延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性、フィルム自身の着色性に優れた光学フィルムが得られる。延伸温度は、(Tg+10)〜(Tg+40)℃の範囲で行うことが好ましい。   When the glass transition temperature of the optical film of the present invention is Tg in the longitudinal direction and / or the width direction such that the film thickness after stretching is in a desired range, preferably in the width direction, It is preferable to stretch in a temperature range of (Tg + 5) to (Tg + 50) ° C. When the film is stretched in the above temperature range, the phase difference can be easily adjusted and the stretching stress can be reduced, so that the haze is reduced. Further, the occurrence of breakage is suppressed, and an optical film having excellent flatness and coloring properties of the film itself can be obtained. The stretching temperature is preferably in the range of (Tg + 10) to (Tg + 40) ° C.

なお、ここでいうガラス転移温度Tgとは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度20℃/分で測定し、JIS K7121(1987)に従い求めた中間点ガラス転移温度(Tmg)である。具体的な光学フィルムのガラス転移温度Tgの測定方法は、JIS K7121(1987)に従って、セイコーインスツル(株)製の示差走査熱量計DSC220を用いて測定する。   The glass transition temperature Tg as used herein is a midpoint glass transition temperature (Tmg) measured using a commercially available differential scanning calorimeter at a heating rate of 20 ° C./min and determined according to JIS K7121 (1987). It is. A specific method of measuring the glass transition temperature Tg of the optical film is measured using a differential scanning calorimeter DSC220 manufactured by Seiko Instruments Inc. according to JIS K7121 (1987).

本発明の光学フィルムは、フィルムを少なくとも幅手方向に、元幅に対して5〜40%の範囲内の延伸率で延伸することが好ましく、さらにフィルムの長手方向及び幅手方向において、それぞれ5〜40%の範囲内の延伸率で延伸することがより好ましい。特に当該延伸率の範囲は、元幅に対して10〜30%の範囲内で延伸することがさらに好ましい。上記範囲内であれば、特に位相差上昇剤を含む場合は所望の位相差値が得られるばかりではなく、フィルムを薄膜化できる。本発明でいう延伸率とは、延伸前のフィルムの長手又は幅手の長さに対して、延伸後のフィルムの長手又は幅手の長さの比率(%)をいう。   The optical film of the present invention preferably stretches the film at least in the width direction at a stretch ratio in the range of 5 to 40% with respect to the original width. It is more preferred that the film be stretched at a stretching ratio in the range of 4040%. In particular, the stretching ratio is more preferably stretched within the range of 10 to 30% with respect to the original width. Within the above range, not only a desired retardation value can be obtained but also a film can be made thinner, particularly when a retardation increasing agent is contained. The stretching ratio in the present invention refers to the ratio (%) of the length of the film after stretching to the length or width of the film before stretching.

長手方向に延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、又は縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。   The method of stretching in the longitudinal direction is not particularly limited. For example, a method in which a circumferential speed difference is applied to a plurality of rolls, and a longitudinal stretching is performed using the circumferential speed difference between the rolls, and both ends of the web are fixed with clips or pins, and the intervals between the clips and pins are widened in the traveling direction. And a method of stretching in the vertical and horizontal directions simultaneously and stretching in both the vertical and horizontal directions. Of course, these methods may be used in combination.

幅手方向に延伸するには、例えば、特開昭62−46625号公報に示されているような乾燥全工程又は一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法(テンター方式と呼ばれる)、中でもクリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。   In order to stretch in the width direction, for example, as shown in JP-A-62-46625, the entire width of the web is held at both ends by clips or pins in the width direction or a part of the drying process. A method of drying while drying (referred to as a tenter method), in particular, a tenter method using a clip and a pin tenter method using a pin are preferably used.

幅手方向への延伸に際し、フィルム幅手方向に250〜500%/minの延伸速度で延伸することが、フィルムの平面性を向上する観点から、好ましい。   In stretching in the width direction, it is preferable to stretch the film in the width direction at a stretching speed of 250 to 500% / min from the viewpoint of improving the flatness of the film.

延伸速度は250%/min以上であれば、平面性が向上し、またフィルムを高速で処理することができるため、生産適性の観点で好ましく、500%/min以内であれば、フィルムが破断することなく処理することができ、好ましい。   When the stretching speed is 250% / min or more, the flatness is improved, and the film can be processed at a high speed. Therefore, it is preferable from the viewpoint of production suitability. It can be processed without any problem, which is preferable.

好ましい延伸速度は、300〜400%/minの範囲内であり、低倍率の延伸時に有効である。延伸速度は下記式1によって定義されるものである。   The preferred stretching speed is in the range of 300 to 400% / min, which is effective at the time of stretching at a low magnification. The stretching speed is defined by the following formula 1.

式1 延伸速度(%/min)=[(d/d)−1]×100(%)/t
(式1において、dは延伸後の本発明の光学フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、dは延伸前の光学フィルムの前記延伸方向の幅寸法であり、tは延伸に要する時間(min)である。)
本発明の光学フィルムは、延伸することにより所望の位相差値を付与することができる。
Formula 1 Stretching speed (% / min) = [(d 1 / d 2 ) −1] × 100 (%) / t
(In Formula 1, d 1 is the width in the stretching direction of the optical film of the present invention after stretching, d 2 is the width in the stretching direction of the optical film before stretching, and t is the time required for stretching. (Min).
The optical film of the present invention can be provided with a desired retardation value by stretching.

本発明の光学フィルムの膜厚は5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることが、偏光板保護フィルムとして用いる際に、軽量で薄膜な偏光板を提供することができ、またIPSモード型液晶表示装置用の偏光板として最適な位相差を付与できる観点から、好ましい。   The film thickness of the optical film of the present invention is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane phase difference Ro and the thickness direction phase difference Rt at the measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. When it is used as a polarizing plate protective film, it is preferable from the viewpoint that a light and thin polarizing plate can be provided, and an optimum retardation can be given as a polarizing plate for an IPS mode liquid crystal display device.

面内位相差値Ro、及び厚さ方向の位相差値Rtは自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)を用いて、23℃・55%RHの環境下、590nmの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率nx、ny、nzから算出することができる。   The in-plane retardation value Ro and the retardation value Rt in the thickness direction were measured using an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics) under an environment of 23 ° C. and 55% RH. At a wavelength of 590 nm, three-dimensional refractive index measurement is performed, and the refractive index can be calculated from the obtained refractive indexes nx, ny, and nz.

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
式(ii):Rt={(n+n)/2−n}×d(nm)
〔式(i)及び式(ii)において、nは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表す。nは、フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表す。nは、フィルムの厚さ方向zにおける屈折率を表す。dは、フィルムの厚さ(nm)を表す。〕
延伸工程では、通常、延伸した後、保持・緩和が行われる。すなわち、本工程は、フィルムを延伸する延伸段階、フィルムを延伸状態で保持する保持段階及びフィルムを延伸した方向に緩和する緩和段階をこれらの順序で行うことが好ましい。保持段階では、延伸段階で達成された延伸率での延伸を、延伸段階における延伸温度で保持する。緩和段階では、延伸段階における延伸を保持段階で保持した後、延伸のための張力を解除することによって、延伸を緩和する。緩和段階は、延伸段階における延伸温度以下で行えば良い。
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
Formula (ii): Rt = {( n x + n y) / 2-n z} × d (nm)
In [Equation (i) and Formula (ii), n x represents a refractive index in the direction x in which the refractive index is maximized in the plane direction of the film. n y, in-plane direction of the film, the refractive index in the direction y perpendicular to the direction x. nz represents the refractive index in the thickness direction z of the film. d represents the thickness (nm) of the film. ]
In the stretching step, holding and relaxation are usually performed after stretching. That is, in this step, it is preferable to perform a stretching step of stretching the film, a holding step of holding the film in a stretched state, and a relaxation step of relaxing the film in the stretching direction in these order. In the holding stage, the stretching at the stretching ratio achieved in the stretching stage is held at the stretching temperature in the stretching stage. In the relaxation stage, after the stretching in the stretching stage is held in the holding stage, the stretching is released by releasing the tension for stretching. The relaxation step may be performed at a temperature equal to or lower than the stretching temperature in the stretching step.

(3.3)乾燥工程
乾燥工程では、乾燥装置35によって延伸後のフィルムを加熱して乾燥させる。
(3.3) Drying Step In the drying step, the stretched film is heated and dried by the drying device 35.

光学フィルム中に含有する有機溶媒量を調整するのに、乾燥工程の条件を適宜調整して行うことが好ましい。   In order to adjust the amount of the organic solvent contained in the optical film, it is preferable to appropriately adjust the conditions of the drying step.

熱風等によりフィルムを加熱する場合、使用済みの熱風(溶媒を含んだエアーや濡れ込みエアー)を排気できるノズルを設置して、使用済み熱風の混入を防ぐ手段も好ましく用いられる。熱風温度は、40〜350℃の範囲がより好ましい。また、乾燥時間は5秒〜60分程度が好ましく、10秒〜30分がより好ましい。   When the film is heated by hot air or the like, a means for preventing used hot air from being mixed is preferably used by installing a nozzle capable of exhausting used hot air (air containing solvent or wetting air). The hot air temperature is more preferably in the range of 40 to 350 ° C. The drying time is preferably about 5 seconds to 60 minutes, more preferably 10 seconds to 30 minutes.

また、加熱乾燥手段は熱風に制限されず、例えば、赤外線、加熱ローラー、マイクロ波等を用いることができる。簡便さの観点からは、千鳥状に配置した搬送ローラー36でフィルムを搬送しながら、熱風等で乾燥を行うことが好ましい。乾燥温度は残留溶媒量、搬送における伸縮率等を考慮して、40〜350℃の範囲がより好ましい。   The heating and drying means is not limited to hot air, and for example, an infrared ray, a heating roller, a microwave, or the like can be used. From the viewpoint of simplicity, it is preferable to perform drying with hot air or the like while transporting the film with the transport rollers 36 arranged in a staggered manner. The drying temperature is more preferably in the range of 40 to 350 ° C. in consideration of the amount of the residual solvent, the expansion and contraction rate in conveyance, and the like.

乾燥工程においては、残留溶媒量が一般的には0.5質量%以下になるまで、フィルムを乾燥することが好ましい。   In the drying step, it is preferable to dry the film until the amount of the residual solvent is generally 0.5% by mass or less.

(4)巻取り工程
(4.1)ナーリング加工
所定の熱処理又は冷却処理の後、巻取り前にスリッターを設けて端部を切り落とすことが良好な巻姿を得るため好ましい。更に、幅手両端部にはナーリング加工をすることが好ましい。
(4) Winding Step (4.1) Knurling After a predetermined heat treatment or cooling treatment, it is preferable to provide a slitter and cut off the end before winding to obtain a good winding shape. Further, it is preferable to apply knurling to both ends of the width.

ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーをフィルム幅手端部に押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。   The knurling process can be formed by pressing a heated embossing roller against a film width end. The embossing roller is formed with fine irregularities, and by pressing this, irregularities are formed on the film, and the ends can be made bulky.

本発明の光学フィルムの幅手両端部のナーリングの高さは4〜20μmの範囲、幅5〜20mmの範囲が好ましい。   The height of the knurling at both ends of the width of the optical film of the present invention is preferably in the range of 4 to 20 μm and in the range of 5 to 20 mm.

(4.2)
良好な巻姿を得る別の手段として、巻き取る前に、フィルム同士のブロッキングを防止する目的で、マスキングフィルム(プロテクトフィルムともいう。)を重ねて同時に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方、好ましくは両方の端にテープ等を張り合わせながら巻き取ってもよい。マスキングフィルムとしては、上記フィルムを保護することができるものであれば特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルムなどが挙げられる。
(4.2)
As another means for obtaining a good winding form, before winding, a masking film (also referred to as a protective film) may be stacked and wound simultaneously for the purpose of preventing blocking between films, or at least a stretched film. On the other hand, preferably, the tape may be wound while both ends are taped together. The masking film is not particularly limited as long as it can protect the above film, and includes, for example, a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film and the like.

また、本発明においては、上記のナーリング加工は、フィルムの製膜工程において乾燥終了後、巻取りの前に設けることが好ましい。   Further, in the present invention, it is preferable that the above-mentioned knurling process is provided after drying is completed and before winding in the film forming process.

(4.3)巻取り工程
フィルム中の残留溶媒量が2質量%以下となってからフィルムとして巻取る工程であり、残留溶媒量を好ましくは1質量%以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
(4.3) Winding Step This is a step of winding the film as a film after the amount of the residual solvent in the film has become 2% by mass or less. Film can be obtained.

巻取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使い分ければよい。   As the winding method, a generally used method may be used, and there are a constant torque method, a constant tension method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, and the like, and these may be properly used.

〔6〕光学フィルムの物性
〈ヘイズ〉
本発明の光学フィルムは、ヘイズが1%未満であることが好ましく、0.5%未満であることがより好ましい。ヘイズを1%未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。本発明の光学フィルムは、均一な粒子径を有するシリカ粒子が分散しているため、粒子による光散乱の程度が低く、透明性に優れる。
[6] Physical properties of optical film <Haze>
The haze of the optical film of the present invention is preferably less than 1%, more preferably less than 0.5%. By setting the haze to less than 1%, there is an advantage that the transparency of the film becomes higher and the film can be more easily used as a film for optical use. In the optical film of the present invention, since silica particles having a uniform particle diameter are dispersed, the degree of light scattering by the particles is low, and the optical film is excellent in transparency.

ヘイズ値の測定は、23℃・50%RHの環境下、ヘイズメーター(日本電色工業社製、NDH2000)により、フィルムの幅手方向に等間隔で10点の測定を行い、その平均値を求めヘイズとする。   The haze value was measured at equal intervals in the width direction of the film by using a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., NDH2000) in an environment of 23 ° C. and 50% RH, and the average value was calculated. The required haze is assumed.

〈平衡含水率〉
本発明の光学フィルムは、25℃、相対湿度60%における平衡含水率が4%以下であることが好ましく、3%以下であることがより好ましい。平衡含水率を4%以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。
<Equilibrium moisture content>
The optical film of the present invention preferably has an equilibrium moisture content at 25 ° C. and a relative humidity of 60% of 4% or less, more preferably 3% or less. By setting the equilibrium water content to 4% or less, it is preferable to easily cope with a change in humidity, and the optical characteristics and dimensions are less likely to change.

平衡含水率は、試料フィルムを23℃・20%RHに調湿された部屋に4時間以上放置した後、23℃・80%RHに調湿された部屋に24時間放置し、サンプルを微量水分計(例えば、三菱化学アナリテック(株)製、CA−20型)を用いて、温度150℃で水分を乾燥・気化させた後、カールフィッシャー法により定量する。   The equilibrium moisture content is determined by leaving the sample film in a room conditioned at 23 ° C. and 20% RH for 4 hours or more, and then leaving it in a room conditioned at 23 ° C. and 80% RH for 24 hours. The water is dried and vaporized at a temperature of 150 ° C. using a meter (for example, Model CA-20 manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.), and then quantified by the Karl Fischer method.

〈フィルム長、幅、膜厚〉
本発明の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、100〜10000m程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本発明の光学フィルムの幅は1m以上であることが好ましく、更に好ましくは1.3m以上であり、特に1.3〜4mであることが好ましい。
<Film length, width, film thickness>
The optical film of the present invention is preferably long, specifically, preferably about 100 to 10,000 m long, and is wound into a roll. Further, the width of the optical film of the present invention is preferably 1 m or more, more preferably 1.3 m or more, and particularly preferably 1.3 to 4 m.

延伸後のフィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、5〜40μmの範囲内であることが好ましい。膜厚が5μm以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が40μm以下であれば、所望の位相差を具備し、かつ偏光板及び表示装置の薄型化に適用できる。好ましくは、フィルムの膜厚は10〜30μmの範囲内である。   The film thickness of the stretched film is preferably in the range of 5 to 40 μm from the viewpoint of reducing the thickness of the display device and productivity. When the film thickness is 5 μm or more, a certain or more film strength and retardation can be exhibited. When the film thickness is 40 μm or less, the film has a desired retardation and can be applied to thin polarizing plates and display devices. Preferably, the thickness of the film is in the range of 10 to 30 μm.

〔7〕光学フィルムの応用
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置、有機EL表示装置等の各種表示装置やタッチパネルに用いられる機能フィルムであることが好ましい。具体的には、本発明の光学フィルムは、液晶表示装置又は有機EL表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルムなどでありうる。典型的には、本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルムである。本発明の光学フィルムは、前記位相差フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムとして用いることもできる。
[7] Application of Optical Film The optical film of the present invention is preferably a functional film used for various display devices such as a liquid crystal display device and an organic EL display device, and a touch panel. Specifically, the optical film of the present invention is a polarizing plate protective film, a retardation film, an antireflection film, a brightness enhancement film, a hard coat film, an antiglare film, and an antistatic film for a liquid crystal display device or an organic EL display device. And an optical compensation film for expanding the viewing angle. Typically, the optical film of the present invention is a polarizing plate protective film. The optical film of the present invention can also be used as a polarizing plate protective film that also serves as the retardation film.

〔7.1〕偏光板
〔7.1.1〕偏光子
偏光子は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、その例には、ポリビニルアルコール系偏光フィルムが含まれる。
[7.1] Polarizing plate [7.1.1] Polarizer A polarizer is an element that transmits only light having a polarization plane in a certain direction, and examples thereof include a polyvinyl alcohol-based polarizing film.

ポリビニルアルコール系偏光フィルムには、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと、二色性染料を染色させたものとがある。   Polyvinyl alcohol-based polarizing films include those obtained by dyeing a polyvinyl alcohol-based film with iodine and those obtained by dyeing a dichroic dye.

偏光子は、ポリビニルアルコールフィルムを一軸延伸した後、染色するか又はポリビニルアルコールフィルムを染色した後、一軸延伸して、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理をさらに行って得ることができる。   The polarizer can be obtained by uniaxially stretching the polyvinyl alcohol film and then dyeing, or dyeing the polyvinyl alcohol film and then uniaxially stretching the film, and preferably further performing a durability treatment with a boron compound.

偏光子の膜厚は、5〜30μmの範囲内が好ましく、5〜15μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the polarizer is preferably in the range of 5 to 30 μm, and more preferably in the range of 5 to 15 μm.

ポリビニルアルコールフィルムとしては、特開2003−248123号公報、特開2003−342322号公報等に記載のエチレン単位の含有量1〜4モル%、重合度2000〜4000、ケン化度99.0〜99.99モル%のエチレン変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。また、特開2011−100161号公報、特許第4691205号公報、特許第4804589号公報に記載の方法で、偏光子を作製し本発明の光学と貼り合わせて偏光板を作製することが好ましい。   Examples of the polyvinyl alcohol film include a content of ethylene units of 1 to 4 mol%, a degree of polymerization of 2,000 to 4,000, and a degree of saponification of 99.0 to 99 described in JP-A-2003-248123, JP-A-2003-342322, and the like. .99 mol% of ethylene-modified polyvinyl alcohol is preferably used. In addition, it is preferable that a polarizer is manufactured by a method described in JP-A-2011-100161, Japanese Patent No. 4691205, and Japanese Patent No. 4804589 and bonded to the optics of the present invention to manufacture a polarizing plate.

〔7.1.2〕接着剤
[水糊]
本発明に用いられる偏光板は、本発明の光学フィルムを完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液(水糊)を用いて偏光子に貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明の光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の外側のフィルムは、本発明の光学フィルム、及び従来の偏光板保護フィルムのどちらでも用いることができる。
[7.1.2] Adhesive [water glue]
In the polarizing plate used in the present invention, it is preferable that the optical film of the present invention is bonded to a polarizer using a completely saponified polyvinyl alcohol aqueous solution (water paste). Another polarizing plate protective film can be bonded to the other surface. When the optical film of the present invention is used as a liquid crystal display device, it is preferable that the optical film of the present invention be provided on the liquid crystal cell side of the polarizer. Either can be used.

例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタック KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC6UA、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC8UX−RHA、KC8UXW−RHA−C、KC8UXW−RHA−NC、KC4UXW−RHA−NC、以上コニカミノルタ(株)製)が好ましく用いられる。   For example, as a conventional polarizing plate protective film, commercially available cellulose ester films (for example, Konica Minolta Tac KC8UX, KC5UX, KC8UCR3, KC8UCR4, KC8UCR5, KC8UY, KC6UY, KC6UA, KC4UY, KC4UE, KC8UE, KC8UE, XC8UE, XC8UE, XC8UE, XC8UE) RHA, KC8UXW-RHA-C, KC8UXW-RHA-NC, and KC4UXW-RHA-NC, all of which are manufactured by Konica Minolta, Inc.) are preferably used.

[活性エネルギー線硬化性接着剤]
また、本発明に用いられる偏光板においては、本発明の光学フィルムと偏光子とが、活性エネルギー線硬化性接着剤により貼合されていることが好ましい。
[Active energy ray-curable adhesive]
Further, in the polarizing plate used in the present invention, it is preferable that the optical film of the present invention and the polarizer are bonded with an active energy ray-curable adhesive.

活性エネルギー線硬化性接着剤は、下記紫外線硬化型接着剤を用いることが好ましい。   As the active energy ray-curable adhesive, the following ultraviolet-curable adhesive is preferably used.

本発明においては、光学フィルムと偏光子との貼合に紫外線硬化型接着剤を適用することにより、薄膜でも強度が高く、平面性に優れた偏光板を得ることができる。   In the present invention, by applying an ultraviolet curable adhesive to the bonding of the optical film and the polarizer, it is possible to obtain a polarizing plate having high strength even in a thin film and excellent in flatness.

〈紫外線硬化型接着剤の組成〉
偏光板用の紫外線硬化型接着剤組成物としては、光ラジカル重合を利用した光ラジカル重合型組成物、光カチオン重合を利用した光カチオン重合型組成物、並びに光ラジカル重合及び光カチオン重合を併用したハイブリッド型組成物が知られている。
<Composition of UV-curable adhesive>
As an ultraviolet-curable adhesive composition for a polarizing plate, a photo-radical polymerization type composition using photo-radical polymerization, a photo-cation polymerization type composition using photo-cation polymerization, and a combination of photo-radical polymerization and photo-cation polymerization Hybrid compositions are known.

光ラジカル重合型組成物としては、特開2008−009329号公報に記載のヒドロキシ基やカルボキシ基等の極性基を含有するラジカル重合性化合物及び極性基を含有しないラジカル重合性化合物を特定割合で含む組成物)等が知られている。特に、ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の好ましい例には、(メタ)アクリロイル基を有する化合物が含まれる。(メタ)アクリロイル基を有する化合物の例には、N置換(メタ)アクリルアミド系化合物、(メタ)アクリレート系化合物などが含まれる。(メタ)アクリルアミドは、アクリアミド又はメタクリアミドを意味する。   As the photoradical polymerization type composition, a specific ratio of a radical polymerizable compound containing a polar group such as a hydroxy group or a carboxy group and a radical polymerizable compound not containing a polar group described in JP-A-2008-09329 are included. Compositions) are known. In particular, the radical polymerizable compound is preferably a compound having a radically polymerizable ethylenically unsaturated bond. Preferred examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond capable of undergoing radical polymerization include a compound having a (meth) acryloyl group. Examples of the compound having a (meth) acryloyl group include an N-substituted (meth) acrylamide compound, a (meth) acrylate compound, and the like. (Meth) acrylamide means acrylamide or methacrylamide.

また、光カチオン重合型組成物としては、特開2011−028234号公報に開示されているような、(α)カチオン重合性化合物、(β)光カチオン重合開始剤、(γ)380nmより長い波長の光に極大吸収を示す光増感剤、及び(δ)ナフタレン系光増感助剤の各成分を含有する紫外線硬化型接着剤組成物が挙げられる。ただし、これ以外の紫外線硬化型接着剤が用いられてもよい。   Further, as the cationic photopolymerizable composition, (α) cationic polymerizable compound, (β) cationic photopolymerization initiator, and (γ) wavelength longer than 380 nm as disclosed in JP-A-2011-028234. UV-curable adhesive compositions containing each component of a photosensitizer exhibiting a maximum absorption of the above-mentioned light and (δ) a naphthalene-based photosensitizer. However, other UV-curable adhesives may be used.

(1)前処理工程
前処理工程は、光学フィルムの偏光子との接着面に易接着処理を行う工程である。易接着処理としては、コロナ処理、プラズマ処理等が挙げられる。
(1) Pretreatment Step The pretreatment step is a step of performing an easy adhesion treatment on the surface of the optical film to be adhered to the polarizer. Examples of the easy adhesion treatment include a corona treatment and a plasma treatment.

(紫外線硬化型接着剤の塗布工程)
紫外線硬化型接着剤の塗布工程としては、偏光子と光学フィルムとの接着面のうち少なくとも一方に、上記紫外線硬化型接着剤を塗布する。偏光子又は光学フィルムの表面に直接、紫外線硬化型接着剤を塗布する場合、その塗布方法に特段の限定はない。例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の湿式塗布方式が利用できる。また、偏光子と光学フィルムの間に、紫外線硬化型接着剤を流延させたのち、ローラー等で加圧して均一に押し広げる方法も利用できる。
(Application process of UV curable adhesive)
In the step of applying the ultraviolet-curable adhesive, the ultraviolet-curable adhesive is applied to at least one of the bonding surfaces of the polarizer and the optical film. When an ultraviolet-curable adhesive is directly applied to the surface of a polarizer or an optical film, there is no particular limitation on the application method. For example, various wet coating methods such as a doctor blade, a wire bar, a die coater, a comma coater, and a gravure coater can be used. Further, a method in which an ultraviolet-curable adhesive is cast between the polarizer and the optical film, and then uniformly spread by pressing with a roller or the like can also be used.

(2)貼合工程
上記の方法により紫外線硬化型接着剤を塗布した後は、貼合工程で処理される。この貼合工程では、例えば、先の塗布工程で偏光子の表面に紫外線硬化型接着剤を塗布した場合、そこに光学フィルムが重ね合わされる。また、はじめに光学フィルムの表面に紫外線硬化型接着剤を塗布する方式の場合には、そこに偏光子が重ね合わされる。また、偏光子と光学フィルムの間に紫外線硬化型接着剤を流延させた場合は、その状態で偏光子と光学フィルムとが重ね合わされる。そして、通常は、この状態で両面の光学フィルム側から加圧ローラー等で挟んで加圧することになる。加圧ローラーの材質は、金属やゴム等を用いることが可能である。両面に配置される加圧ローラーは、同じ材質であってもよいし、異なる材質であってもよい。
(2) Laminating Step After applying the ultraviolet-curable adhesive by the above method, it is processed in the laminating step. In this bonding step, for example, when an ultraviolet curable adhesive is applied to the surface of the polarizer in the previous coating step, the optical film is superposed thereon. In the case of a method in which an ultraviolet curable adhesive is first applied to the surface of an optical film, a polarizer is superposed thereon. When an ultraviolet curable adhesive is cast between the polarizer and the optical film, the polarizer and the optical film are superposed in that state. Usually, in this state, pressure is applied between both sides of the optical film by a pressure roller or the like. As the material of the pressure roller, metal, rubber, or the like can be used. The pressure rollers arranged on both sides may be made of the same material or different materials.

(3)硬化工程
硬化工程では、未硬化の紫外線硬化型接着剤に紫外線を照射して、カチオン重合性化合物(例えば、エポキシ化合物やオキセタン化合物)やラジカル重合性化合物(例えば、アクリレート系化合物、アクリルアミド系化合物等)を含む紫外線硬化型接着剤層を硬化させ、紫外線硬化型接着剤を介して重ね合わせた偏光子と光学フィルムを接着させる。偏光子の片面に光学フィルムを貼合する場合、活性エネルギー線は、偏光子側又は光学フィルム側のいずれから照射してもよい。また、偏光子の両面に光学フィルムを貼合する場合、偏光子の両面にそれぞれ紫外線硬化型接着剤を介して光学フィルムを重ね合わせた状態で、紫外線を照射し、両面の紫外線硬化型接着剤を同時に硬化させるのが有利である。
(3) Curing Step In the curing step, an uncured UV-curable adhesive is irradiated with ultraviolet light to emit a cationically polymerizable compound (for example, an epoxy compound or an oxetane compound) or a radically polymerizable compound (for example, an acrylate compound or acrylamide). An ultraviolet curable adhesive layer containing the compound (e.g., a base compound or the like) is cured, and the laminated polarizer and the optical film are adhered via the ultraviolet curable adhesive. When bonding an optical film to one surface of a polarizer, the active energy ray may be irradiated from either the polarizer side or the optical film side. In addition, when bonding the optical film to both sides of the polarizer, irradiate ultraviolet rays in a state where the optical film is laminated on both sides of the polarizer via the ultraviolet-curable adhesive respectively, and the ultraviolet-curable adhesive on both sides is applied. Are simultaneously cured.

紫外線の照射条件は、本発明に適用する紫外線硬化型接着剤を硬化しうる条件であれば、任意の適切な条件を採用できる。紫外線の照射量は積算光量で50〜1500mJ/cmの範囲であることが好ましく、100〜500mJ/cmの範囲であるのがさらに好ましい。 As the irradiation condition of the ultraviolet ray, any appropriate condition can be adopted as long as it can cure the ultraviolet curable adhesive applied to the present invention. Preferably the dose of ultraviolet rays in the range of 50~1500mJ / cm 2 in accumulated light quantity, and even more preferably in the range of 100 to 500 mJ / cm 2.

偏光板の製造工程を連続ラインで行う場合、ライン速度は、接着剤の硬化時間によるが、好ましくは1〜500m/minの範囲、より好ましくは5〜300m/minの範囲、さらに好ましくは10〜100m/minの範囲である。ライン速度が1m/min以上であれば、生産性を確保することができ、又は光学フィルムへのダメージを抑制することができ、耐久性に優れた偏光板を作製することができる。また、ライン速度が500m/min以下であれば、紫外線硬化型接着剤の硬化が十分となり、目的とする硬度を備え、接着性に優れた紫外線硬化型接着剤層を形成することができる。   When the manufacturing process of the polarizing plate is performed in a continuous line, the line speed depends on the curing time of the adhesive, but is preferably in the range of 1 to 500 m / min, more preferably in the range of 5 to 300 m / min, and still more preferably in the range of 10 to 300 m / min. The range is 100 m / min. When the line speed is 1 m / min or more, productivity can be secured, or damage to the optical film can be suppressed, and a polarizing plate having excellent durability can be manufactured. When the line speed is 500 m / min or less, the curing of the ultraviolet-curable adhesive is sufficient, and the ultraviolet-curable adhesive layer having the desired hardness and excellent adhesiveness can be formed.

〔7.1.3〕保護フィルム
偏光子の本発明の光学フィルムとは反対側に配置されるフィルムは、偏光子の保護フィルムとして機能するフィルムであることが好ましい。
[7.1.3] Protective film The film disposed on the side of the polarizer opposite to the optical film of the present invention is preferably a film that functions as a protective film for the polarizer.

このような保護フィルムとしては、本発明の光学フィルムを用いてもよいが、例えば、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UAKC、2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製)も好ましく用いることができる。   As such a protective film, the optical film of the present invention may be used. , KC4UH, KC6UAH, KC6UAH, KC6UAH, KC6UAH, KC6UAH, KC6UAH, KC6UAH, KC4UA, KC4UAH TD60UL, FUJITAC TD40UL, FUJITAC R02, FUJITAC R06, all of which are manufactured by FUJIFILM Corporation. Can.

また、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルム、脂環式ポリオレフィン(例えば、日本ゼオン株式会社製、ゼオノア(登録商標)、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、シクロオレフィンコポリマー、ポリイミド(例えば、三菱ガス化学株式会社製、ネオプリム(登録商標))、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、アクリロイル化合物等の樹脂フィルムが挙げられる(括弧内はガラス転移温度Tgを示す。)。これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート(略称:PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート(略称:PEN)、ポリカーボネート(略称:PC)等のフィルムが保護フィルムとして好ましく用いられる。   Further, for example, resin films such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate, alicyclic polyolefins (for example, ZEONOR (registered trademark), polyarylate, polyether sulfone, polysulfone, cycloolefin copolymer, polyimide manufactured by Zeon Corporation) (For example, NeoPrim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Ltd.), resin films such as fluorene ring-modified polycarbonate, alicyclic-modified polycarbonate, and acryloyl compounds (the glass transition temperature Tg is shown in parentheses). Among the resin base materials, in terms of cost and availability, polyethylene terephthalate (abbreviation: PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (abbreviation: PEN), polycarbonate (abbreviation: PC) Film etc. is preferably used as a protective film.

上記保護フィルムの厚さは、特に制限されないが、10〜200μm程度とすることができ、好ましくは10〜100μmの範囲内であり、より好ましくは10〜70μmの範囲内である。   The thickness of the protective film is not particularly limited, but can be about 10 to 200 μm, preferably in the range of 10 to 100 μm, and more preferably in the range of 10 to 70 μm.

〔7.2〕液晶表示装置
上記本発明の光学フィルムを貼合した偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明に用いられる液晶表示装置を作製することができる。
[7.2] Liquid crystal display device By using a polarizing plate to which the optical film of the present invention is pasted for a liquid crystal display device, various liquid crystal display devices excellent in visibility and used in the present invention can be manufactured. .

また、本発明の光学フィルムは、多角形や曲線を持つディスプレイ用途の偏光板に好ましく使用され、フリーフォームで打ち抜きを行った際に端面にササクレや割れ等のクラックが生じたり、切断による切粉が生じやすいという、従来の問題を解決することができる。   Further, the optical film of the present invention is preferably used for a polarizing plate for display applications having a polygonal or curved line, and when punching with a free form, cracks such as sacrifices and cracks are generated on the end face or cutting chips due to cutting. Can be solved.

本発明に用いられる偏光板は、STN、TN、OCB、HAN、VA(MVA、PVA)、IPS、OCBなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。好ましくはVA(MVA,PVA)型液晶表示装置及びIPS型液晶表示装置である。   The polarizing plate used in the present invention can be used for liquid crystal display devices of various driving systems such as STN, TN, OCB, HAN, VA (MVA, PVA), IPS, and OCB. Preferably, a VA (MVA, PVA) type liquid crystal display device and an IPS type liquid crystal display device are used.

液晶表示装置には、通常視認側の偏光板とバックライト側の偏光板の2枚の偏光板が用いられるが、本発明に用いられる偏光板を両方の偏光板として用いることも好ましく、片側の偏光板として用いることも好ましい。特に本発明に用いられる偏光板は外部環境に直接触れる視認側の偏光板として用いることが好ましく、本発明の光学フィルムが保護フィルムである場合は視認側表面、又は本発明の光学フィルムが光学補償フィルムである場合は、液晶セル側に配置されることが好ましい。IPS型液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合には、液晶セルの両側に配置されることが好ましい。   In a liquid crystal display device, two polarizing plates, a polarizing plate on the viewing side and a polarizing plate on the backlight side, are usually used. However, it is also preferable to use the polarizing plate used in the present invention as both polarizing plates. It is also preferable to use it as a polarizing plate. In particular, the polarizing plate used in the present invention is preferably used as a polarizing plate on the viewing side that directly contacts the external environment. When the optical film of the present invention is a protective film, the viewing side surface, or the optical film of the present invention is optically compensated. In the case of a film, it is preferably arranged on the liquid crystal cell side. When used as an optical compensation film for an IPS-type liquid crystal display device, it is preferable to dispose it on both sides of a liquid crystal cell.

また、バックライト側の偏光板は本発明以外の偏光板を用いることもでき、その場合は偏光子の両面を、例えば、市販のセルロースエステルフィルム(例えば、コニカミノルタタックKC8UX、KC5UX、KC4UX、KC8UCR3、KC4SR、KC4BR、KC4CR、KC4DR、KC4FR、KC4KR、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY−HA、KC2UA、KC4UA、KC6UA、KC2UAH、KC4UAH、KC6UAH、以上コニカミノルタ(株)製、フジタックT40UZ、フジタックT60UZ、フジタックT80UZ、フジタックTD80UL、フジタックTD60UL、フジタックTD40UL、フジタックR02、フジタックR06、以上富士フイルム(株)製等)を貼合した偏光板が好ましく用いられる。   In addition, a polarizing plate other than the present invention can be used as the polarizing plate on the backlight side. In this case, both surfaces of the polarizer may be coated on a commercially available cellulose ester film (for example, Konica Minoltac KC8UX, KC5UX, KC4UX, KC8UCR3). , KC4SR, KC4BR, KC4CR, KC4DR, KC4FR, KC4KR, KC8UY, KC6UY, KC4UY, KC4UE, KC8UE, KC8UY-HA, KC2UA, KC4UA, KC6UA, KC4UAH, CC4UAH, CC4UAHK FUJITAC T60UZ, FUJITAC T80UZ, FUJITAC TD80UL, FUJITAC TD60UL, FUJITAC TD40UL, FUJITAC R02, FUJITAC R06, Fujifilm Corporation Polarizing plate stuck to manufacturing, etc.) are preferably used.

また、バックライト側の偏光板として、偏光子の液晶セル側に本発明の光学フィルムを用い、反対側の面に上記市販の保護フィルムや位相差フィルム、ポリエステルフィルム、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、又は他のシクロオレフィンフィルムを貼合した偏光板も好ましく用いることができる。   Further, as the backlight-side polarizing plate, using the optical film of the present invention on the liquid crystal cell side of the polarizer, the commercially available protective film or retardation film on the opposite surface, a polyester film, an acrylic film, a polycarbonate film, or A polarizing plate bonded with another cycloolefin film can also be preferably used.

本発明に用いられる偏光板を用いることで、特に画面が30型以上の大画面の液晶表示装置であっても、表示ムラ、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。   By using the polarizing plate used in the present invention, a liquid crystal display device having excellent visibility such as display unevenness and front contrast can be obtained even for a large-sized liquid crystal display device having a screen of 30 inches or more.

〔7.3〕有機エレクトロルミネッセンス表示装置
本発明のシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムは滑り性が良好であるため加工適性が高く、例えば、曲面形状を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置にも好適である。
[7.3] Organic electroluminescent display device The optical film using the cycloolefin resin of the present invention has good workability due to good slipperiness, and is also suitable for an organic electroluminescent display device having, for example, a curved surface shape. is there.

本発明に用いられる有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用可能な有機EL素子の概要については、例えば、特開2013−157634号公報、特開2013−168552号公報、特開2013−177361号公報、特開2013−187211号公報、特開2013−191644号公報、特開2013−191804号公報、特開2013−225678号公報、特開2013−235994号公報、特開2013−243234号公報、特開2013−243236号公報、特開2013−242366号公報、特開2013−243371号公報、特開2013−245179号公報、特開2014−003249号公報、特開2014−003299号公報、特開2014−013910号公報、特開2014−017493号公報、特開2014−017494号公報等に記載されている構成を挙げることができる。   For an outline of an organic EL device applicable to the organic electroluminescence display device used in the present invention, for example, JP-A-2013-157634, JP-A-2013-168552, JP-A-2013-177361, and JP-A-2013-177361. JP-A-2013-187221, JP-A-2013-191644, JP-A-2013-191804, JP-A-2013-225678, JP-A-2013-235994, JP-A-2013-243234, JP-A-2013-2013 JP-A-243236, JP-A-2013-242366, JP-A-2013-243371, JP-A-2013-245179, JP-A-2014-003249, JP-A-2014-003299, and JP-A-2014-139910. Gazette, JP 2014-01 493 JP include a configuration described in JP-2014-017494 Patent Publication.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「%」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量%」を表す。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto. In the examples, “parts” or “%” is used, but “parts by mass” or “% by mass” is used unless otherwise specified.

<光学フィルム101の作製>
(シクロオレフィン系樹脂Pの合成)
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5 .17,10]−3−ドデセン(DNM)75質量%、ジシクロペンタジエン(DCP)24質量%、2−ノルボルネン1質量%、分子量調節剤の1−ヘキセン9部及びトルエン200部を、窒素置換した反応容器に仕込んで110℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム0.005部、メタノール変性WCl6(無水メタノール:PhPOCl2 :WCl6=103:630:427質量比)0.005部を加え1時間反応させることにより重合体を得た。得られた重合体の溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを200部加えた。次に、水素添加触媒であるRuHCl(CO)[P(C)]を0.006部添加し、90℃まで加熱した後、水素ガスを反応器へ投入し、圧力を10MPaとした。その後、圧力を10MPaに保ったまま、165℃、3時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させ、更に沈殿物をトルエン及びメタノールを用いて再沈殿精製して共重合体Pを得た。
<Preparation of optical film 101>
(Synthesis of cycloolefin resin P)
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12,5. 17,10] -3-Dodecene (DNM) 75% by mass, dicyclopentadiene (DCP) 24% by mass, 2-norbornene 1% by mass, 9 parts of 1-hexene as a molecular weight regulator and 200 parts of toluene were replaced with nitrogen. The reaction vessel was charged and heated to 110 ° C. 0.005 part of triethylaluminum and 0.005 part of methanol-modified WCl6 (anhydrous methanol: PhPOCl2: WCl6 = 103: 630: 427 mass ratio) were added and reacted for 1 hour to obtain a polymer. The obtained polymer solution was put in an autoclave, and 200 parts of toluene was further added. Next, 0.006 parts of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 )] 3 as a hydrogenation catalyst was added and heated to 90 ° C., and then hydrogen gas was charged into the reactor, and the pressure was increased to 10 MPa. did. Thereafter, the reaction was performed at 165 ° C. for 3 hours while maintaining the pressure at 10 MPa. After completion of the reaction, the resultant was precipitated in a large amount of a methanol solution, and the precipitate was purified by reprecipitation using toluene and methanol to obtain a copolymer P.

共重合体Pは、ゲルパーミエ−ションクロマトグラフィー(GPC)測定による重量平均分子量(Mw)=7.2×10、分子量分布(Mw/Mn)=3.3、固有粘度(ηinh)=0.59、ガラス転移温度(Tg)=143℃であった。なお、13CNMR測定により共重合体Pのメトキシカルボニル基添加率を求めたところ、メトキシカルボニル基を有する単量体が75質量%添加されていることが確認された。上記で得られた共重合体Pは水素結合受容性基としてメトキシカルボニル基を有する単量体を75質量%保有するシクロオレフィン樹脂Pである。 The copolymer P had a weight-average molecular weight (Mw) of 7.2 × 10 4 , a molecular weight distribution (Mw / Mn) of 3.3, and an intrinsic viscosity (ηinh) of 0.3 as determined by gel permeation chromatography (GPC). 59, the glass transition temperature (Tg) was 143 ° C. When the methoxycarbonyl group addition rate of the copolymer P was determined by 13 CNMR measurement, it was confirmed that 75% by mass of the monomer having a methoxycarbonyl group was added. The copolymer P obtained above is a cycloolefin resin P containing 75% by mass of a monomer having a methoxycarbonyl group as a hydrogen bond-accepting group.

(微粒子分散液の調製)
シリカ微粒子(アエロジルR812 日本アエロジル(株)製) 11質量%
ジクロロメタン 89質量%
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
(微粒子添加液1の調製)
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を50質量%となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過して、微粒子添加液1を調製した。
(ドープAの調製)
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Pを撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を表1に記載の添加量になるように添加した後、表1に記載の溶解温度で3時間加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープAを調製した。ドープAの組成を下記に示す。
(Preparation of fine particle dispersion)
Silica fine particles (Aerosil R812, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11% by mass
89% by mass of dichloromethane
After stirring and mixing the above with a dissolver for 50 minutes, dispersion was performed using a Manton-Gaulin disperser to prepare a fine particle dispersion.
(Preparation of fine particle addition liquid 1)
Dichloromethane was placed in a dissolution tank, and the above-prepared fine particle dispersion was slowly added to 50 mass% while sufficiently stirring dichloromethane. Further, dispersion was performed with an attritor so that the particle size of the secondary particles became a predetermined size. This was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle-added liquid 1.
(Preparation of dope A)
The cycloolefin resin P synthesized above was charged into a pressurized dissolution tank containing ethanol while stirring. Next, the fine particle addition liquid was added so as to have the addition amount shown in Table 1, and then heated at the dissolution temperature shown in Table 3 for 3 hours and completely dissolved with stirring. Thereafter, Azumi Filter Paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Filtration was performed using 244 to prepare Dope A. The composition of the dope A is shown below.

シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
微粒子添加液 27.3質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.1質量%
バンド流延装置を用い、前記調製したドープAをステンレス製の流延支持体(支持体温度22℃)に流延した。ドープA中の残留溶媒量が略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が10質量%の状態で、125℃の温度下で幅方向に1.01倍(1%)延伸しつつ乾燥した。その後、90℃の熱処理装置のロール間を30分かけて搬送することによりさらに乾燥させ、光学フィルム101を作製した。厚さは15μm、幅は1492mmであった。
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Fine particle addition liquid 27.3% by mass
Hindered phenolic compound (aggregation inhibitor A) 0.1% by mass
The dope A prepared above was cast on a stainless steel casting support (support temperature: 22 ° C.) using a band casting apparatus. The film was peeled off in a state where the amount of the residual solvent in the dope A was approximately 20% by mass, and both ends in the width direction of the film were gripped with a tenter. It was dried while being stretched 1.01 times (1%). Thereafter, the film was further dried by being conveyed between rolls of a heat treatment apparatus at 90 ° C. for 30 minutes to produce an optical film 101. The thickness was 15 μm and the width was 1492 mm.

ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A)は、IRGANOX1076(BSFジャパン(株)製)を用いた。   As the hindered phenol compound (anticoagulant A), IRGANOX1076 (manufactured by BSF Japan Ltd.) was used.

<光学フィルム102の作製>
(微粒子分散液の調製)
シリカ微粒子(アエロジルR812:トリメチルシラン処理品 日本アエロジル(株)製) 11質量%
エタノール 89質量%
以上をディゾルバーで50分間撹拌混合した後、マントンゴーリン分散機を用いて分散を行い、微粒子分散液を調製した。
(微粒子添加液1の調製)
溶解タンクにジクロロメタンを入れ、ジクロロメタンを十分に撹拌しながら上記調製した微粒子分散液を50質量%となるようにゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が、所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過して、微粒子添加液1を調製した。
<Preparation of optical film 102>
(Preparation of fine particle dispersion)
Silica fine particles (Aerosil R812: Trimethylsilane treated product, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 11% by mass
89% by mass of ethanol
After stirring and mixing the above with a dissolver for 50 minutes, dispersion was performed using a Manton-Gaulin disperser to prepare a fine particle dispersion.
(Preparation of fine particle addition liquid 1)
Dichloromethane was placed in a dissolution tank, and the above-prepared fine particle dispersion was slowly added to 50 mass% while sufficiently stirring dichloromethane. Further, dispersion was performed with an attritor so that the particle size of the secondary particles became a predetermined size. This was filtered with Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle-added liquid 1.

(ドープBの調製)
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Pを撹拌しながら投入した。次いで、微粒子添加液を表1に記載の添加量になるように添加した後、表1に記載の溶解温度で3時間加熱し、撹拌しながら、完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープBを調製した。ドープBの組成を下記に示す。
(Preparation of dope B)
The cycloolefin resin P synthesized above was charged into a pressurized dissolution tank containing ethanol while stirring. Next, the fine particle addition liquid was added so as to have the addition amount shown in Table 1, and then heated at the dissolution temperature shown in Table 3 for 3 hours and completely dissolved with stirring. Thereafter, Azumi Filter Paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Filtration was performed using 244 to prepare Dope B. The composition of the dope B is shown below.

シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
エタノール 10.0質量%
蒸留水 1.0質量%
微粒子添加液 27.3質量%
バンド流延装置を用い、前記調製したドープBをステンレス製の流延支持体(支持体温度22℃)に流延した。ドープB中の残留溶媒量が略20質量%の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が10質量%の状態で、125℃の温度下で幅方向に1.01倍(1%)延伸しつつ乾燥した。その後、90℃の熱処理装置のロール間を30分かけて搬送することによりさらに乾燥させ、光学フィルム101を作製した。厚さは15μm、幅は1492mmであった。
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Ethanol 10.0% by mass
Distilled water 1.0% by mass
Fine particle addition liquid 27.3% by mass
Using a band casting apparatus, the prepared dope B was cast on a stainless steel casting support (support temperature: 22 ° C.). The film was peeled off in a state where the amount of the residual solvent in the dope B was approximately 20% by mass, and both ends in the width direction of the film were gripped with a tenter. It was dried while being stretched 1.01 times (1%). Thereafter, the film was further dried by being conveyed between rolls of a heat treatment apparatus at 90 ° C. for 30 minutes to produce an optical film 101. The thickness was 15 μm and the width was 1492 mm.

<光学フィルム103の作製>
光学フィルム102の作製において、下記ドープCを用いた以外は同様にして光学フィルム103を作製した。
<Preparation of optical film 103>
An optical film 103 was produced in the same manner as in the production of the optical film 102 except that the following dope C was used.

(ドープCの調製)
エタノールの入った加圧溶解タンクに、上記合成したシクロオレフィン樹脂Pを撹拌しながら投入し、次いで表1に記載の溶解温度で3時間加熱し、撹拌しながら完全に溶解した。その後、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、ドープCを調製した。ドープCの組成を下記に示す。
(Preparation of dope C)
The cycloolefin resin P synthesized above was charged into a pressurized dissolution tank containing ethanol while stirring, and then heated at a dissolution temperature shown in Table 1 for 3 hours, and completely dissolved while stirring. Thereafter, Azumi Filter Paper No. No. manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. Filtration was performed using 244 to prepare Dope C. The composition of the dope C is shown below.

シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
エタノール 10.0質量%
蒸留水 1.0質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.3質量%
<光学フィルム104の作製>
光学フィルム102の作製において、下記ドープDを用いた以外は同様にして光学フィルム104を作製した。
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Ethanol 10.0% by mass
Distilled water 1.0% by mass
Hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) 0.3% by mass
<Preparation of optical film 104>
An optical film 104 was produced in the same manner as in the production of the optical film 102 except that the following dope D was used.

(ドープD)
シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
エタノール 10.0質量%
蒸留水 1.0質量%
微粒子添加液 0.91質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.3質量%
<光学フィルム105〜108の作製>
光学フィルム104の作製において、シリカ粒子の添加量を表1に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム105〜108を作製した。
(Dope D)
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Ethanol 10.0% by mass
Distilled water 1.0% by mass
Particle addition liquid 0.91% by mass
Hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) 0.3% by mass
<Preparation of optical films 105 to 108>
In the production of the optical film 104, optical films 105 to 108 were produced in the same manner except that the addition amount of the silica particles was changed as shown in Table 1.

<光学フィルム109〜113の作製>
光学フィルム104の作製において、シリカ粒子の種類を表1に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム109〜113を作製した。
<Preparation of optical films 109 to 113>
In the production of the optical film 104, optical films 109 to 113 were produced in the same manner except that the kind of the silica particles was changed as shown in Table 1.

表中、R805、R976S、RY300、200V及びR812Sはいずれも、日本アエロジル株式会社製のアエロジルシリーズの製品である。   In the table, R805, R976S, RY300, 200V and R812S are all products of the Aerosil series manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.

R805:オクチルシラン処理品
R976S:ジメチルシラン処理品
RY300:ジメチルポリシロキサン処理品
200V:未処理品
R812S:トリメチルシラン処理品
<光学フィルム114〜118の作製>
光学フィルム104の作製において、ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A)の添加量を表1に記載のように変化させた以外は同様にして、光学フィルム114〜118を作製した。
R805: Octylsilane treated product R976S: Dimethylsilane treated product RY300: Dimethylpolysiloxane treated product 200V: Untreated product R812S: Trimethylsilane treated product <Preparation of optical films 114 to 118>
Optical films 114 to 118 were produced in the same manner as in the production of the optical film 104 except that the amount of the hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) was changed as shown in Table 1.

また、光学フィルム118は、ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A)の代わりに、ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤B):IRGANOX1010(BSFジャパン(株)製)を用いた。   Further, for the optical film 118, a hindered phenol-based compound (anti-aggregation agent B): IRGANOX1010 (manufactured by BSF Japan Ltd.) was used instead of the hindered phenol-based compound (anti-aggregation agent A).

<光学フィルム119〜122の作製>
光学フィルム104の作製において、フィルム中のエタノール量を表2記載の量になるように、エタノールの添加量及び乾燥温度・乾燥時間を変化させた以外は同様にして光学フィルム119〜122を作製した。
<Preparation of optical films 119 to 122>
In the production of the optical film 104, the optical films 119 to 122 were produced in the same manner except that the amount of ethanol and the drying temperature and the drying time were changed so that the amount of ethanol in the film became the amount shown in Table 2. .

具体的には、以下の条件でそれぞれ作製した。
光学フィルム119は、ドープ組成のエタノール添加量を5質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を110℃、50分かけて搬送した。
Specifically, they were manufactured under the following conditions.
The optical film 119 was conveyed by adding 5 parts by mass of ethanol of the dope composition and maintaining the temperature of the drying heat treatment apparatus after stretching at 110 ° C. for 50 minutes.

光学フィルム120はドープ組成のエタノール添加量を5質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を90℃、30分かけて搬送した。   The optical film 120 was conveyed by adding 5 parts by weight of ethanol of the dope composition and the temperature of the drying heat treatment apparatus after stretching at 90 ° C. for 30 minutes.

光学フィルム121はドープ組成のエタノール添加量を20質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を9℃、30分かけて搬送した。   The optical film 121 was conveyed by adding 20 parts by mass of ethanol of the dope composition and the temperature of the drying heat treatment apparatus after stretching at 9 ° C. for 30 minutes.

光学フィルム122ドープ組成のエタノール添加量を22質量部、延伸後の乾燥熱処理装置の温度を90℃、30分かけて搬送した。   The optical film 122 was transported at a dope composition of 22 parts by mass of ethanol and at a temperature of 90 ° C. for 30 minutes at 90 ° C. after stretching.

<光学フィルム123及び124の作製>
光学フィルム106の作製において、ドープの溶解温度を55℃及び10℃にそれぞれ変化させた以外は同様にして、光学フィルム123及び124を作製した。
<Preparation of optical films 123 and 124>
The optical films 123 and 124 were produced in the same manner as in the production of the optical film 106 except that the dissolution temperature of the dope was changed to 55 ° C. and 10 ° C., respectively.

<光学フィルム125の作製>
(シクロオレフィン系樹脂Q合成液の調製)
下記のノルボルネン系モノマー混合液にシリカ微粒子、10−ウンデセン酸、フェノール系安定剤、リン系安定剤、ヒンダードアミン系光安定剤を加えて溶化し又は分散させ、さらにトリフェニルホスフィン、下記化合物Cで示したルテニウム触媒を添加し、ラインミキサーで混合し、水素結合受容性基を有しないシクロオレフィン系樹脂Q合成液を調製した。シクロオレフィン樹脂Q合成液の組成を下記に示す。
(シクロオレフィン系樹脂Q合成液の組成)
ノルボルネン系モノマー混合液(ジシクロペンタジエン90部、トリシクロペンタジエン10部) 100.0質量%
シリカ微粒子(アエロジル R812 日本アエロジル(株)製) 1.6質量%
10−ウンデセン酸 0.3質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.1質量%
リン系安定剤 1.0質量%
トリフェニルホスフィン 1.0質量%
ルテニウム触媒 1.6質量%

Figure 0006676930
<Preparation of optical film 125>
(Preparation of cycloolefin resin Q synthesis solution)
Silica fine particles, 10-undecenoic acid, a phenol-based stabilizer, a phosphorous-based stabilizer, a hindered amine-based light stabilizer are added to the following norbornene-based monomer mixture to dissolve or disperse, and further triphenylphosphine, represented by the following compound C The ruthenium catalyst was added and mixed with a line mixer to prepare a cycloolefin resin Q synthetic solution having no hydrogen bond-accepting group. The composition of the cycloolefin resin Q synthesis solution is shown below.
(Composition of cycloolefin resin Q synthesis solution)
Norbornene-based monomer mixture (90 parts of dicyclopentadiene, 10 parts of tricyclopentadiene) 100.0% by mass
Silica fine particles (Aerosil R812 Nippon Aerosil Co., Ltd.) 1.6% by mass
10-undecenoic acid 0.3% by mass
Hindered phenolic compound (aggregation inhibitor A) 0.1% by mass
Phosphorus stabilizer 1.0% by mass
1.0% by mass of triphenylphosphine
1.6 mass% ruthenium catalyst
Figure 0006676930

上記で調製したシクロオレフィン系樹脂Q合成液を25℃で、厚さ0.075mmのポリエチレンテレフタレート製キャリアフィルム上に塗工しキャスト製膜を行い、次いで直ぐに、塗布層の上から別に用意した前記同様のキャリアフィルムをラミネートした。その後、200℃で3分間加熱を行い、その後、20℃まで冷却した後、上下のキャリアフィルムをそれぞれ剥離し、水素結合性受容基のないシクロオレフィン系樹脂Qが主成分である光学フィルム125(厚さは15μm、幅は1492mm)を作製した。   The cycloolefin-based resin Q synthetic solution prepared above was coated at 25 ° C. on a 0.075 mm-thick polyethylene terephthalate carrier film to form a cast film, and then immediately, separately prepared from the top of the coating layer. A similar carrier film was laminated. Thereafter, heating is performed at 200 ° C. for 3 minutes, and then, after cooling to 20 ° C., the upper and lower carrier films are separated from each other, and the optical film 125 mainly composed of cycloolefin-based resin Q having no hydrogen bonding acceptor group ( The thickness was 15 μm and the width was 1492 mm).

<光学フィルム126の作製>
光学フィルム106の作製において、下記ドープEを用いた以外は同様にして光学フィルム126を作製した。
<Preparation of optical film 126>
An optical film 126 was produced in the same manner as in the production of the optical film 106 except that the following dope E was used.

(ドープE)
シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
エタノール 10.0質量%
微粒子添加液 27.3質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.3質量%
<光学フィルム127の作製>
光学フィルム106の作製において、下記ドープFを用いた以外は同様にして光学フィルム127を作製した。
(Dope E)
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Ethanol 10.0% by mass
Fine particle addition liquid 27.3% by mass
Hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) 0.3% by mass
<Preparation of optical film 127>
An optical film 127 was produced in the same manner as in the production of the optical film 106 except that the following dope F was used.

(ドープF)
シクロオレフィン樹脂P 100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
メタノール 8.0質量%
蒸留水 1.0質量%
微粒子添加液 27.3質量%
ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A) 0.3質量%
<光学フィルム128の作製>
光学フィルム106の作製において、下記ドープGを用いた以外は同様にして光学フィルム128を作製した。ここで使用したシクロオレフィン樹脂Rとして、ヒンダードフェノール系化合物(凝集防止剤A)を100質量部に対して0.25質量%含んでいる、JSR(株)製のアートンG7810を用いた。
(Dope F)
Cycloolefin resin P 100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
8.0% by mass of methanol
Distilled water 1.0% by mass
Fine particle addition liquid 27.3% by mass
Hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) 0.3% by mass
<Preparation of optical film 128>
An optical film 128 was produced in the same manner as in the production of the optical film 106 except that the following dope G was used. As the cycloolefin resin R used here, Arton G7810 manufactured by JSR Corporation and containing 0.25% by mass of a hindered phenol compound (aggregation inhibitor A) based on 100 parts by mass was used.

(ドープG)
シクロオレフィン樹脂R(JSR(株)ARTON G7810)
100.0質量%
ジクロロメタン 290.0質量%
エタノール 10.0質量%
蒸留水 1.0質量%
微粒子添加液 27.3質量%
<光学フィルム129及び130の作製>
光学フィルム106の作製において、ドープを25℃で、厚さ0.075mmのポリエチレンテレフタレート製キャリアフィルム上に塗工しキャスト製膜を行い、次いで直ぐに、塗布層の上から別に用意した前記同様のキャリアフィルムをラミネートした。その後、200℃で3分間加熱を行い、その後、20℃まで冷却した後、上下のキャリアフィルムをそれぞれ剥離し、光学フィルム129(厚さは3μm、幅は1492mm)、及び光学フィルム130(厚さは5μm、幅は1492mm)を作製した。
(Dope G)
Cycloolefin resin R (JSR Corporation ARTON G7810)
100.0% by mass
290.0% by mass of dichloromethane
Ethanol 10.0% by mass
Distilled water 1.0% by mass
Fine particle addition liquid 27.3% by mass
<Preparation of optical films 129 and 130>
In the production of the optical film 106, the dope was coated at 25 ° C. on a 0.075 mm-thick polyethylene terephthalate carrier film to form a cast film. The film was laminated. Thereafter, heating is performed at 200 ° C. for 3 minutes, and then, after cooling to 20 ° C., the upper and lower carrier films are peeled off, and the optical film 129 (thickness is 3 μm, the width is 1492 mm) and the optical film 130 (thickness Is 5 μm and the width is 1492 mm).

≪評価≫
以上作製した光学フィルム101〜130を用いて以下の評価を行った。
≪Evaluation≫
The following evaluation was performed using the optical films 101 to 130 produced above.

[1]シリカ粒子の疎水化度測定
シリカ粒子の疎水化度は、メタノールウエッタビリティ法(以下、MW法と称する。)を用いて、本法で求められるメタノールウエッタビリティ値(以下、MW値と称する。)で表した。
[1] Measurement of Hydrophobicity of Silica Particles The hydrophobicity of silica particles can be measured by the methanol wettability method (hereinafter referred to as MW method) using the methanol wettability value (hereinafter referred to as MW value) obtained by the present method. ).

上記のMW法において、微粒子の疎水化度を定量化するためには、メタノールと純水とを混合させた第1溶液及び第2溶液をそれぞれ用いた。このとき、メタノールと純水との配合比は、第1溶液においては体積比が3:7であり、また、第2溶液では体積比が6:4である。そして、各溶液に前記微粒子を同量添加して撹拌混合し、この混合した各溶液を遠心分離させて、前記微粒子の沈降物の体積をそれぞれ求め、第1溶液における微粒子の沈降物の体積をtmLとし、第2溶液における微粒子の沈降物の体積をsmLとしたときに、それぞれMW値を、第1溶液におけるMW値=(t/A)×100[%]、及び第2溶液におけるMW値=(s/A)×100[%]から求めた。ここで、Aは、初めに添加したシリカ粒子の体積(AmL)である。   In the above-mentioned MW method, in order to quantify the degree of hydrophobicity of the fine particles, a first solution and a second solution in which methanol and pure water were mixed were used. At this time, the mixing ratio of methanol to pure water is 3: 7 in the first solution and 6: 4 in the second solution. Then, the same amount of the fine particles is added to each solution and stirred and mixed. Each mixed solution is centrifuged to determine the volume of the precipitate of the fine particles, and the volume of the precipitate of the fine particles in the first solution is determined. MW value in the first solution = (t / A) × 100 [%], and MW value in the second solution, where tmL and the volume of the sediment of the fine particles in the second solution were smL. = (S / A) x 100 [%]. Here, A is the volume (AmL) of the silica particles added first.

〔MW法〕
(1)メタノール溶液Cと純水Dとを、体積比で3:7になるように混合して、第1溶液Aを調製する(例えば、メタノール溶液Cが40mLに対して、純水Dが60mL)
(2)次に、10mLの沈降管Fに、0.2gのシリカ粒子粉末Eと7mLの第1溶液Aとを入れる。
(3)沈降管Fにふたをして、ターブラーミキサを用いて、微粒子粉末Eを第1溶液A中に振盪混合する。この際、ターブラーミキサの条件は90rpmで30秒間である。
(4)シリカ粒子粉末Eを沈降させるため、遠心分離機を用いる。遠心分離機の条件は、3500rpmで10分間である。
(5)沈降管の目盛で読み取ることができる沈降した微粒子粉末Eの沈降物量を体積として読み取り、その値をtmLとする。
(6)新たに、メタノール溶液Cと純水Dとが、体積比で6:4となるように混合して、第2溶液Bを調製する(例えば、メタノール溶液Cが60mLに対して、純水Dが40mL)。
(7)第2溶液Bを用いて、上記(2)〜(5)と同じ手順(8)〜(11)により、シリカ粒子粉末Eの沈降物を作製して、沈降管の目盛で読み取ることができる沈降したシリカ粒子粉末Eの沈降物量を体積として読み取り、その値をsmLとする。
(12)下記の式によりMW値(%)を求める。
[MW method]
(1) A first solution A is prepared by mixing a methanol solution C and pure water D at a volume ratio of 3: 7 (for example, 40 ml of methanol solution C and pure water D 60mL)
(2) Next, 0.2 g of the silica particle powder E and 7 mL of the first solution A are put into a 10 mL settling tube F.
(3) Cap the sedimentation tube F, and shake and mix the fine particle powder E into the first solution A using a Turbula mixer. At this time, the condition of the turbulator mixer is 90 rpm for 30 seconds.
(4) A centrifugal separator is used to settle the silica particle powder E. The condition of the centrifuge is 3500 rpm for 10 minutes.
(5) The volume of the sediment amount of the settled fine particle powder E that can be read on the scale of the sedimentation tube is read, and the value is set to tmL.
(6) A second solution B is prepared by newly mixing the methanol solution C and the pure water D so that the volume ratio becomes 6: 4 (for example, the methanol solution C is pure water with respect to 60 mL. (Water D is 40 mL).
(7) Using the second solution B, prepare a sediment of the silica particle powder E by the same procedure (8) to (11) as in the above (2) to (5) and read it on the scale of the sedimentation tube. The amount of sediment of the precipitated silica particle powder E is read as a volume, and the value is defined as smL.
(12) The MW value (%) is obtained by the following equation.

第1溶液におけるMW値=(t/A)×100[%]
第2溶液におけるMW値=(s/A)×100[%]
ここで、Aは、初めに添加したシリカ粒子の体積(AmL)である。
MW value in first solution = (t / A) × 100 [%]
MW value in second solution = (s / A) × 100 [%]
Here, A is the volume (AmL) of the silica particles added first.

[2]シリカ粒子の平均粒径
シリカ粒子の平均粒径の測定は以下の方法で行った。
[2] Average particle size of silica particles The average particle size of the silica particles was measured by the following method.

光学フィルム中におけるシリカ粒子の粒子径の測定は、ミクロトームで断層カットしたフィルム断面を走査型電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)で適当な倍率で撮影し、断層カット写真に含まれる100個の粒子の粒子径を測定し、平均値を求め平均粒径とする。粒子径は、粒子の断面が円形状の場合はその直径とし、円形状以外の場合は面積を算出し、それを円形状に換算したときの直径とした。   The measurement of the particle diameter of the silica particles in the optical film is performed by taking a cross section of the film cut by a microtome at an appropriate magnification with a scanning electron microscope (SEM), and measuring 100 particles included in the tomographic cut photograph. Is measured, and the average value is determined to be the average particle size. The particle diameter was the diameter when the cross section of the particle was circular, and the area was calculated when the cross section was not circular, and the diameter was converted to a circular shape.

SEM:JSM−6060LA(JEOL:日本電子株式会社)
ミクロトーム:ライカ製EM UC6
[3]フィルム中のエタノール量、メタノール量及び蒸留水量
フィルム中のエタノール量及びメタノール量は以下の方法によって測定した。
SEM: JSM-6060LA (JEOL: JEOL Ltd.)
Microtome: Leica EM UC6
[3] Amount of ethanol, methanol and distilled water in the film The amount of ethanol and methanol in the film were measured by the following method.

溶媒成分として、用いた前記アルコール及び蒸留水の残留量は以下の測定方法によって行った。   The residual amounts of the alcohol and distilled water used as solvent components were measured by the following measurement methods.

一定の形状に切り取った光学フィルムを20mLの密閉ガラス容器に入れ、120℃で20分間処理したあと、ガスクロマトグラフィー(機器:HP社 5890SERIES II、カラム:J&W社 DB−WAX(内径0.32mm、長さ30m)、検出:FID)でGC昇温条件を40℃で5分間保持したあと、80℃/分で100℃まで昇温して求めた。   The optical film cut into a certain shape was placed in a 20 mL closed glass container, and treated at 120 ° C. for 20 minutes, followed by gas chromatography (equipment: HP 5890SERIES II, column: J & W DB-WAX (0.32 mm inner diameter, The length was measured at a temperature of 40 ° C. for 5 minutes, and then the temperature was raised to 100 ° C. at 80 ° C./min.

[4]縦シワ
作製した光学フィルムから幅90cm、長さ100cmの大きさの試料を切り出し、台の上に置いた。40Wの蛍光灯(パナソニック社製の「FLR40S−EX−D/M」)を5本並べ、台上の試料に対して45°の角度から光が照射されるように、台から1.5mの高さに固定した。蛍光灯のスイッチを入れて試料を照らし、試料の表面を目視で観察し、次の基準で評価した。
○:蛍光灯が5本とも真っ直ぐに見える
△:蛍光灯が少し曲がって見える部分がある
×:蛍光灯が全体的に曲がって見える
[4] Vertical Wrinkle A sample having a size of 90 cm in width and 100 cm in length was cut out from the produced optical film and placed on a table. Five 40 W fluorescent lamps (“FLR40S-EX-D / M” manufactured by Panasonic Corporation) are arranged, and 1.5 m from the table is illuminated so that the sample is irradiated with light from a 45 ° angle. Fixed to height. The sample was illuminated by turning on the fluorescent lamp, the surface of the sample was visually observed, and evaluated according to the following criteria.
○: All five fluorescent lamps appear straight △: Some fluorescent lamps appear to be bent
×: The fluorescent lamp appears to be bent as a whole

[5]偏光板打ち抜きクラック
上記作製した光学フィルム101〜130を用いて偏光板を作製した。
厚さ30μmのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して5倍に延伸し、乾燥して厚さ7μmの偏光子を得た。
[5] Polarizing plate punching crack A polarizing plate was produced using the optical films 101 to 130 produced above.
A roll-shaped polyvinyl alcohol film having a thickness of 30 μm was continuously stretched 5 times in an aqueous iodine solution and dried to obtain a polarizer having a thickness of 7 μm.

次いで、上記作製した偏光子を、前記作製した光学フィルム101〜130で両面から挟持して、下記紫外線硬化型接着剤液を介して、接着し偏光板を作製した。   Next, the above-prepared polarizer was sandwiched from both sides by the produced optical films 101 to 130, and bonded via an ultraviolet-curable adhesive liquid described below to produce a polarizing plate.

その際、偏光子の吸収軸と本発明の光学フィルムの遅相軸とが直交するように貼合した。   At that time, they were bonded so that the absorption axis of the polarizer was orthogonal to the slow axis of the optical film of the present invention.

〔紫外線硬化型接着剤液1の調製〕
下記の各成分を混合した後、脱泡して、紫外線硬化型接着剤液1を調製した。なお、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートは、50%プロピレンカーボネート溶液として配合し、下記にはトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェートの固形分量を表示した。
[Preparation of UV-curable adhesive liquid 1]
After mixing the following components, the mixture was defoamed to prepare an ultraviolet-curable adhesive liquid 1. The triarylsulfonium hexafluorophosphate was blended as a 50% propylene carbonate solution, and the solid content of the triarylsulfonium hexafluorophosphate is shown below.

3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート 45質量部
エポリードGT−301(ダイセル社製の脂環式エポキシ樹脂) 40質量部
1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル 15質量部
トリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェート 2.3質量部
9,10−ジブトキシアントラセン 0.1質量部
1,4−ジエトキシナフタレン 2.0質量部
なお、偏光板作製は、フィルムの表面にコロナ出力強度2.0kW、ライン速度18m/分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した紫外線硬化型接着剤液1を、硬化後の膜厚が約3μmとなるようにバーコーターで塗工して紫外線硬化型接着剤層を形成した。
3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate 45 parts by mass Eporide GT-301 (alicyclic epoxy resin manufactured by Daicel) 40 parts by mass 1,4-butanediol diglycidyl ether 15 parts by mass Tria Reel sulfonium hexafluorophosphate 2.3 parts by mass 9,10-dibutoxyanthracene 0.1 part by mass 1,4-diethoxynaphthalene 2.0 parts by mass In the production of a polarizing plate, the corona output strength was 2. A corona discharge treatment is performed at 0 kW and a line speed of 18 m / min, and the ultraviolet curable adhesive liquid 1 prepared above is coated on the corona discharge treated surface with a bar coater so that the film thickness after curing becomes about 3 μm. Thus, an ultraviolet curable adhesive layer was formed.

上記偏光板は一方の光学フィルム側から、ベルトコンベヤー付き紫外線照射装置(ランプは、フュージョンUVシステムズ社製のDバルブを使用)を用いて、積算光量が750mJ/cmとなるように紫外線を照射し、紫外線硬化型接着剤層を硬化させた。 The polarizing plate is irradiated with ultraviolet light from one optical film side using an ultraviolet irradiation device with a belt conveyor (the lamp uses a D bulb manufactured by Fusion UV Systems) so that the integrated light amount becomes 750 mJ / cm 2. Then, the ultraviolet curable adhesive layer was cured.

得られた偏光板を偏光子の吸収軸方向を20cm、吸収軸に対し直角方向を10cmの大きさで長方形の角を2Rの曲げ加工した刃型で打ち抜きし、粘着層を介してガラス板に貼り合わせを行いサンプルを得る。そのサンプルを−40℃の雰囲気下に30分放置した後、90℃の雰囲気下に30分放置し、この操作を1サイクルとする。以下にある基準でサイクルを繰り返した後、偏光板を観察し、クラックが発生している場合は、その長さを測定した。同時に、偏光板の偏光度の測定も行い、下に示すような基準で評価を行った。
〈クラック評価〉
○:500サイクルでもクラック発生なし又は発生しても1cm以下
△:250〜500サイクルまでクラック発生なし又は発生しても1cm以下
×:250サイクルまではクラック発生なし、又は発生しても1cm以下
The obtained polarizing plate is punched with a blade having a size of 20 cm in a direction of an absorption axis of a polarizer and a size of 10 cm in a direction perpendicular to the absorption axis, and a rectangular corner having a 2R bent corner, and formed into a glass plate via an adhesive layer. Lamination is performed to obtain a sample. After leaving the sample in an atmosphere of -40 ° C for 30 minutes, it is left in an atmosphere of 90 ° C for 30 minutes, and this operation is defined as one cycle. After repeating the cycle according to the following criteria, the polarizing plate was observed, and if a crack had occurred, its length was measured. At the same time, the degree of polarization of the polarizing plate was also measured and evaluated according to the criteria shown below.
<Crack evaluation>
:: No crack generation even at 500 cycles or 1 cm or less even if generated. Δ: No crack generation or even 1 cm or less from 250 to 500 cycles. ×: No crack generation or 250 cm or less until 250 cycles.

[6]打ち抜き切り粉評価
偏光板を裁断した際の切粉の発生状態を光学顕微鏡にて観察し、裁断部から1cmのところの5μm以上の裁断切り粉の発生有無を見た。
○:切粉発生なし
×:切粉発生あり
[6] Evaluation of Cutting Chips The state of generation of chips when the polarizing plate was cut was observed with an optical microscope, and the presence or absence of cut chips of 5 μm or more at 1 cm from the cut portion was observed.
○: No chip generation ×: Chip generation

[7]透明性(ヘイズ)
光学フィルムを、市販されているヘイズメーター(日本電色社製、製品名「NDH 2000」)を用いて、JISK−7136に準拠してヘイズ(%)を測定し、下記の基準で評価した。ヘイズが0.5%未満であれば、透明光学フィルムとして様々なデバイスに使用が可能である。
○:0.5%未満
×:0.5%以上
[7] Transparency (haze)
The haze (%) of the optical film was measured using a commercially available haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd., product name "NDH 2000") in accordance with JIS K-7136, and evaluated according to the following criteria. If the haze is less than 0.5%, it can be used for various devices as a transparent optical film.
:: less than 0.5% ×: 0.5% or more

[8]位相差
面内位相差値Ro、及び厚さ方向の位相差値Rtは自動複屈折率計アクソスキャン(Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter:アクソメトリックス社製)を用いて、23℃・55%RHの環境下、590nmの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率nx、ny、nzから下記式を用いて算出する。
[8] Retardation The in-plane retardation value Ro and the thickness direction retardation value Rt are measured at 23 ° C. and 55% using an automatic birefringence meter Axoscan (Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter: manufactured by Axometrics). The three-dimensional refractive index is measured at a wavelength of 590 nm in an environment of RH, and is calculated from the obtained refractive indices nx, ny, and nz using the following equation.

式(i):Ro=(n−n)×d(nm)
式(ii):Rt={(n+n)/2−n}×d(nm)
〔式(i)及び式(ii)において、nは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向xにおける屈折率を表す。nは、フィルムの面内方向において、前記方向xと直交する方向yにおける屈折率を表す。nは、フィルムの厚さ方向zにおける屈折率を表す。dは、フィルムの厚さ(nm)を表す。〕
[9]視認性:液晶表示装置としての特性評価
IPS型のタブレット型液晶表示装置であるソニーモバイルコミュニケーションズ株式会社製の商品名『XPERIA Z4 Tablet』の偏光板を剥がし、液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板2枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、偏光板で挟まれていないところは光が漏れないように表示側から、黒いテープを張り、簡易的なIPS型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての特性を評価したところ、本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は、偏光板を剥がす前の液晶テレビと比べても、遜色ないコントラスト性能、更に色ムラもない優れた表示性を示した。
○:コントラスト、色ムラともに問題ない
×:コントラスト、色ムラのどちらかでも明らかな劣化が見られた
Formula (i): Ro = (n x -n y) × d (nm)
Formula (ii): Rt = {( n x + n y) / 2-n z} × d (nm)
In [Equation (i) and Formula (ii), n x represents a refractive index in the direction x in which the refractive index is maximized in the plane direction of the film. n y, in-plane direction of the film, the refractive index in the direction y perpendicular to the direction x. nz represents the refractive index in the thickness direction z of the film. d represents the thickness (nm) of the film. ]
[9] Visibility: Characteristic evaluation as liquid crystal display device The polarizing plate of the product name “XPERIA Z4 Tablet” manufactured by Sony Mobile Communications Inc., which is an IPS type tablet type liquid crystal display device, was peeled off, and the liquid crystal cell was sandwiched. Attach the two polarizing plates so that they are orthogonal to each other so that the polarizing axes of the polarizing plates do not change from the original. Attach black tape from the display side so that light does not leak in places not sandwiched between the polarizing plates. When a simple IPS-type color liquid crystal display was manufactured and the characteristics of the optical film as a polarizing plate were evaluated, the liquid crystal display device using the polarizing plate of the present invention was compared with a liquid crystal television before the polarizing plate was removed. Also exhibited excellent contrast performance and excellent display properties without color unevenness.
:: No problem in both contrast and color unevenness X: Clear deterioration was observed in either contrast or color unevenness

[10]着色
得られたシートについて、白い紙を敷いた上に当該シートを置き、目視にて着色度合いを評価した。
○:着色が見られない
△:やや黄色い着色が見られる
×:黄色い着色が明らかに見られる
[11]輝点異物
フィルムの輝点異物を以下の測定法によって行った。
2枚の偏光板を直交状態(クロスニコル)に配置して透過光を遮断し、2枚の偏光板の間に作製した試料を置く。偏光板はガラス製保護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡(50倍)で100cm当たりの直径0.01mm以上の輝点の数をカウントした。輝点異物の数は少ないほど良好な特性である。
○:0〜2個
△:3〜12個
×:13個以上
○、△であれば実用に供することができる。
[10] Coloring The obtained sheet was placed on white paper and the degree of coloring was visually evaluated.
:: No coloring is observed Δ: Slightly yellow coloring is observed X: Yellow coloring is clearly observed [11] Bright spot foreign matter The bright spot foreign matter of the film was measured by the following method.
Two polarizing plates are arranged in an orthogonal state (crossed Nicols) to block transmitted light, and the prepared sample is placed between the two polarizing plates. The polarizing plate used was a glass protective plate. Light was irradiated from one side, and the number of bright spots having a diameter of 0.01 mm or more per 100 cm 2 was counted from the opposite side with an optical microscope (50 times). The smaller the number of bright spot foreign substances, the better the characteristics.
○: 0 to 2 pieces
Δ: 3 to 12 ×: 13 or more ○, Δ can be used practically.

光学フィルムの構成と、以上の評価結果をまとめて表1及び表2に示した。   Tables 1 and 2 collectively show the structure of the optical film and the above evaluation results.

Figure 0006676930
Figure 0006676930

Figure 0006676930
Figure 0006676930

表1及び表2から、本発明の光学フィルムは、水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂、アルコール系溶媒、ヒンダードフェノール系化合物、水及び特定の疎水化度を有するシリカ粒子を含有することで、打ち抜きクラック、及び打ち抜き切り粉の発生が顕著に低減し、併せて縦シワ、透明性、位相差、IPSモード型液晶表示装置の視認性、着色及び輝点異物にも優れる、総合的に優れたシクロオレフィン系樹脂を用いた光学フィルムが得られたことが分かる。   From Tables 1 and 2, the optical film of the present invention contains a cycloolefin-based resin having a hydrogen bond-accepting group, an alcohol-based solvent, a hindered phenol-based compound, water, and silica particles having a specific hydrophobicity. As a result, the generation of punch cracks and cutting chips is remarkably reduced, and at the same time, it is excellent in vertical wrinkles, transparency, phase difference, visibility of IPS mode type liquid crystal display devices, coloring and bright spot foreign matter. It can be seen that an optical film using a cycloolefin-based resin having excellent excellent properties was obtained.

1 溶解釜
3、6、12、15 濾過器
4、13 ストック釜
2、5、11、14 送液ポンプ
8、16 導管
10 添加剤仕込釜
20 合流管
21 混合機
30 加圧ダイ
31 金属支持体
32 ウェブ
33 剥離位置
34 延伸装置
35 乾燥装置
36 搬送ローラー
37 巻取り装置
41 仕込釜
42 ストック釜
43 ポンプ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Dissolution pot 3, 6, 12, 15 Filtration device 4, 13 Stock pot 2, 5, 11, 14 Liquid feed pump 8, 16 Conduit 10 Additive supply pot 20 Confluence pipe 21 Mixer 30 Pressure die 31 Metal support 32 Web 33 Peeling position 34 Stretching device 35 Drying device 36 Conveying roller 37 Winding device 41 Charging pot 42 Stock pot 43 Pump

Claims (6)

シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒を10〜1000ppmの範囲内で含有し、ヒンダードフェノール系化合物を、0.1〜0.5質量%の範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とする光学フィルム。
An optical film containing a cycloolefin-based resin,
The cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group,
The film contains an alcohol solvent in a range of 10 to 1000 ppm, a hindered phenol compound in a range of 0.1 to 0.5% by mass , and
The degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is such that when the first solution having a volume ratio of methanol to pure water of 3: 7 is used, the degree of hydrophobicity is 20% or less, and the volume of methanol and pure water is not more than 20%. Optics characterized by containing silica particles having a hydrophobicity of 80% or more when the second solution having a ratio of 6: 4 is used is 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film. the film.
前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、100〜400nmの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein a secondary average particle diameter of the silica particles in the film is in a range of 100 to 400 nm. 前記光学フィルムの膜厚dが5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学フィルム。 The film thickness d of the optical film is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane retardation Ro and the thickness direction retardation Rt at a measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. The optical film according to claim 1 or 2, wherein シクロオレフィン系樹脂を含有する光学フィルムであって、
前記シクロオレフィン系樹脂が、少なくとも一つの水素結合受容性基を有するシクロオレフィン系樹脂であり、
フィルム中にアルコール系溶媒とヒンダードフェノール系化合物と、さらに、水を50〜500ppmの範囲内で含有し、かつ、
メタノールウエッタビリティ法で測定される疎水化度が、メタノールと純水が体積比で3:7の第1溶液を用いたときの当該疎水化度が20%以下であり、メタノールと純水が体積比で6:4の第2溶液を用いたときの当該疎水化度80%以上であるシリカ粒子をフィルムの全質量に対して0.1〜2.5質量%含有することを特徴とする光学フィルム。
An optical film containing a cycloolefin-based resin,
The cycloolefin-based resin is a cycloolefin-based resin having at least one hydrogen bond-accepting group,
The film contains an alcohol-based solvent and a hindered phenolic compound, and further contains water in a range of 50 to 500 ppm , and
The degree of hydrophobicity measured by the methanol wettability method is such that when the first solution having a volume ratio of methanol to pure water of 3: 7 is used, the degree of hydrophobicity is 20% or less, and the volume of methanol and pure water is not more than 20%. Optics characterized by containing silica particles having a hydrophobicity of 80% or more when the second solution having a ratio of 6: 4 is used is 0.1 to 2.5% by mass based on the total mass of the film. the film.
前記シリカ粒子のフィルム中の二次平均粒径が、100〜400nmの範囲内であることを特徴とする請求項に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 4 , wherein a secondary average particle diameter of the silica particles in the film is in a range of 100 to 400 nm. 前記光学フィルムの膜厚dが5μm≦d≦40μmであり、測定波長590nmにおける面内位相差Roと厚さ方向の位相差RtがそれぞれRo≦5nm、−15nm≦Rt≦15nmであることを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の光学フィルム。 The film thickness d of the optical film is 5 μm ≦ d ≦ 40 μm, and the in-plane retardation Ro and the thickness direction retardation Rt at a measurement wavelength of 590 nm are Ro ≦ 5 nm and −15 nm ≦ Rt ≦ 15 nm, respectively. The optical film according to claim 4 or 5, wherein
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