JP6676793B2 - Display device - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、表示装置に関する。   Embodiments described herein relate generally to a display device.

表示パネルとして、例えば液晶表示パネルが知られている。液晶表示パネルは、コンピュータを中心とする情報機器分野およびテレビジョン受像機などを中心とする映像機器分野等において使用されている。一般に、液晶表示パネルは、アレイ基板と、対向基板と、これら両基板間に挟持された液晶層とを有している。アレイ基板は、有機絶縁膜などを有している。   For example, a liquid crystal display panel is known as a display panel. 2. Description of the Related Art Liquid crystal display panels are used in the field of information equipment, mainly computers, and in the field of video equipment, mainly television receivers. Generally, a liquid crystal display panel has an array substrate, a counter substrate, and a liquid crystal layer sandwiched between these two substrates. The array substrate has an organic insulating film and the like.

アレイ基板及び対向基板は表示領域を有している。アレイ基板及び対向基板の間には、複数のスペーサとして、例えば複数の柱状スペーサが配置され、両基板間の隙間を一定に保持している。アレイ基板及び対向基板は、両基板の表示領域外側の額縁領域に配設された矩形枠状のシール材により接合されている。   The array substrate and the counter substrate have a display area. For example, a plurality of columnar spacers are arranged between the array substrate and the counter substrate as a plurality of spacers, and a gap between the two substrates is kept constant. The array substrate and the opposing substrate are joined by a rectangular frame-shaped sealing material provided in a frame region outside a display region of both substrates.

特開2001−337334号公報JP 2001-337334 A

ところで、アレイ基板の有機絶縁膜は水分を浸透する性質を有している。そこで、アレイ基板の額縁領域の配線の外側の有機絶縁膜を幅200乃至300μmとして全周にわたって除去し、シール材を上記除去した領域に形成している。シール材は、水分を遮断する性質を有しているため、液晶表示パネル内部の配線への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線が腐食する懸念を排除することができる。   By the way, the organic insulating film of the array substrate has a property of permeating moisture. Therefore, the organic insulating film outside the wiring in the frame region of the array substrate is removed over the entire circumference with a width of 200 to 300 μm, and the sealing material is formed in the removed region. Since the sealing material has a property of blocking moisture, it can block penetration of moisture into the wiring inside the liquid crystal display panel. Thereby, the concern that the wiring is corroded can be eliminated.

上記のように有機絶縁膜が除去されると、狭額縁化は妨げられる。そこで、狭額縁化を図るため、額縁領域の配線の外側の有機絶縁膜ではなく、額縁領域の配線上の有機絶縁膜を除去することが考えられる。しかしながら、この場合、額縁領域の配線は、有機絶縁膜で保護されず剥き出しになる。このため、配線に静電気が侵入し、この配線の周辺回路を破壊する可能性が高くなる。すなわち、ESD(Electro Static Discharge)耐圧が低下し、絶縁膜がESD破壊を起こす可能性が高くなる。
この発明は以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、駆動回路の静電破壊を抑制することが可能な表示装置を提供することにある。
When the organic insulating film is removed as described above, narrowing of the frame is prevented. Therefore, in order to narrow the frame, it is conceivable to remove not the organic insulating film on the wiring in the frame region but the organic insulating film on the wiring in the frame region. However, in this case, the wiring in the frame region is exposed without being protected by the organic insulating film. For this reason, there is a high possibility that static electricity may enter the wiring and destroy peripheral circuits of the wiring. That is, the ESD (Electro Static Discharge) withstand voltage is reduced, and the possibility that the insulating film is destroyed by ESD increases.
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a display device capable of suppressing electrostatic breakdown of a driving circuit.

一実施形態に係る表示装置は、
表示領域と、前記表示領域を囲む周辺領域と、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた無機絶縁膜と、前記周辺領域において、前記無機絶縁膜の上に設けられた配線と、前記無機絶縁膜と前記配線に接触し、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた有機絶縁膜と、を有するアレイ基板と、前記アレイ基板に対向して配置される対向基板と、前記アレイ基板と前記対向基板とを接合するシール材と、を備え、前記配線は、前記周辺領域に位置するパッドと電気的に接続し、前記有機絶縁膜は、前記表示領域に位置し、平面視において少なくとも一部が前記周辺領域と重畳する第1領域と、前記第1領域と離間し前記周辺領域に位置する第2領域と、前記周辺領域に位置し前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域と、を有しており、前記第1領域と前記第3領域との間の第1間隙、及び、前記第3領域と前記第2領域との間の第2間隙において、前記シール材は、前記無機絶縁膜と接触し、前記表示領域において、前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置するスペーサを有しており、前記周辺領域の前記パッドが位置する側において、前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置し、前記スペーサと同一材料で形成された突起を有しており、平面視において、前記突起は、前記有機絶縁膜の前記第2領域と重畳し、前記第1間隙及び前記第2間隙の少なくとも一方は、前記表示領域を囲む枠状に形成され、10μm以上の幅を有している。
The display device according to one embodiment includes:
A display region, a peripheral region surrounding the display region, an inorganic insulating film provided in the display region and the peripheral region, and a wiring provided on the inorganic insulating film in the peripheral region; An array substrate having an organic insulating film in contact with a film and the wiring and provided in the display region and the peripheral region; a counter substrate disposed to face the array substrate; A sealant for bonding to a substrate, wherein the wiring is electrically connected to a pad located in the peripheral area, and the organic insulating film is located in the display area, and at least a part thereof is viewed in plan. A first area overlapping the peripheral area, a second area spaced from the first area and located in the peripheral area, and located in the peripheral area and between the first area and the second area; And the third area In a first gap between the first region and the third region, and in a second gap between the third region and the second region, the sealing material is The display region includes a spacer that is located between the array substrate and the counter substrate in the display region, and the spacer is located between the array substrate and the counter substrate on a side of the peripheral region where the pad is located. located in, has a protrusion formed in the spacer the same material, in a plan view, the projection, the overlap with the second region of the organic insulating film, before Symbol first gap and the second At least one of the gaps is formed in a frame shape surrounding the display area, and has a width of 10 μm or more.

図1は、第1の実施形態に係る液晶表示パネルを示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. 図2は、上記液晶表示パネルを示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing the liquid crystal display panel. 図3は、上記液晶表示パネルを示す概略平面図であり、配線の構造を示す図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel, and is a diagram showing a wiring structure. 図4は、図1乃至図3に示したアレイ基板の一部を示す概略平面図である。FIG. 4 is a schematic plan view showing a part of the array substrate shown in FIGS. 図5は、上記アレイ基板を示す拡大平面図であり、アレイ基板の配線構造を示す図である。FIG. 5 is an enlarged plan view showing the array substrate, and is a diagram showing a wiring structure of the array substrate. 図6は、上記液晶表示パネルを示す拡大断面図であり、液晶表示パネルの構造を示す図である。FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view illustrating the liquid crystal display panel, and is a diagram illustrating a structure of the liquid crystal display panel. 図7は、図3の線VII−VIIに沿った上記液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral portion of the liquid crystal display panel along a line VII-VII in FIG. 図8は、上記液晶表示パネルを示す概略平面図であり、スリットの構造を示す図である。FIG. 8 is a schematic plan view showing the liquid crystal display panel, showing the structure of the slit. 図9は、上記液晶表示パネルの製造工程において、マザーガラス上にアレイパターンを形成した状態を示す平面図である。FIG. 9 is a plan view showing a state in which an array pattern is formed on mother glass in a process of manufacturing the liquid crystal display panel. 図10は、図9に続き、マザーガラス上に受止めパターン等を形成し、6枚のアレイ基板を形成した状態を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a state in which a receiving pattern and the like are formed on the mother glass and six array substrates are formed, following FIG. 図11は、上記液晶表示パネルの製造工程において、マザーガラス上に6枚の対向基板を形成した状態を示す平面図である。FIG. 11 is a plan view showing a state where six opposing substrates are formed on mother glass in the manufacturing process of the liquid crystal display panel. 図12は、図10に続き、マザーガラスにシール材を塗布した状態を示す平面図である。FIG. 12 is a plan view showing a state where the sealing material is applied to the mother glass, following FIG. 図13は、図11及び図12に示した2枚のマザーガラスが、シール材を介して貼り合せられている状態を示す平面図である。FIG. 13 is a plan view showing a state in which the two mother glasses shown in FIGS. 11 and 12 are bonded via a sealing material. 図14は、図13の線XIV−XIVに沿った上記2枚のマザーガラスが、シール材を介して貼り合せられている状態を示す断面図である。FIG. 14 is a cross-sectional view showing a state in which the two mother glasses are bonded via a sealing material along a line XIV-XIV in FIG. 図15は、第2の実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略平面図であり、スリットの構造を示す図である。FIG. 15 is a schematic plan view illustrating the liquid crystal display panel according to the second embodiment, and is a diagram illustrating a structure of a slit. 図16は、図15の線XVI−XVIに沿った上記液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view schematically showing a peripheral portion of the liquid crystal display panel along a line XVI-XVI in FIG. 図17は、第3の実施形態に係る液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view schematically illustrating a peripheral portion of the liquid crystal display panel according to the third embodiment. 図18は、第4の実施形態に係る液晶表示パネルの周縁部を概略的に示す拡大断面図である。FIG. 18 is an enlarged cross-sectional view schematically illustrating a peripheral portion of the liquid crystal display panel according to the fourth embodiment.

以下、図面を参照しながら第1の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法について詳細に説明する。始めに、液晶表示パネルの構成について説明する。この実施の形態において、液晶表示パネルは対向CF型であり、対向基板側にカラーフィルタが形成されている。   Hereinafter, a liquid crystal display panel and a method for manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment will be described in detail with reference to the drawings. First, the configuration of the liquid crystal display panel will be described. In this embodiment, the liquid crystal display panel is a counter CF type, and a color filter is formed on the counter substrate side.

図1乃至図6に示すように、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、アレイ基板に所定の隙間を置いて対向配置された対向基板2と、これら両基板間に挟持された液晶層3と、カラーフィルタ4とを備えている。アレイ基板1及び対向基板2の外面には、図示しない偏光板がそれぞれ配置されている。アレイ基板1の外面側には、図示しないバックライトユニットが配置されている。アレイ基板1及び対向基板2は矩形状の表示領域R1を有している。カラーフィルタ4は、アレイ基板1の表示領域R1に設けられている。   As shown in FIGS. 1 to 6, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a counter substrate 2 facing the array substrate with a predetermined gap therebetween, and a liquid crystal layer 3 sandwiched between the two substrates. , A color filter 4. Polarizing plates (not shown) are arranged on the outer surfaces of the array substrate 1 and the opposing substrate 2, respectively. A backlight unit (not shown) is arranged on the outer surface side of the array substrate 1. The array substrate 1 and the counter substrate 2 have a rectangular display region R1. The color filter 4 is provided in the display region R1 of the array substrate 1.

アレイ基板1は、透明な絶縁基板としてガラス基板11を有している。表示領域R1において、ガラス基板11上には、行方向Xに延びているとともに行方向Xと直交した列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の走査線15と、複数の走査線15と交差して列方向Yに延びているとともに行方向Xに間隔を置いて並んだ複数の信号線21とが格子状に配置されている。   The array substrate 1 has a glass substrate 11 as a transparent insulating substrate. In the display region R1, on the glass substrate 11, a plurality of scanning lines 15 extending in the row direction X and arranged at intervals in a column direction Y orthogonal to the row direction X, and intersecting with the plurality of scanning lines 15 A plurality of signal lines 21 extending in the column direction Y and arranged at intervals in the row direction X are arranged in a grid.

ガラス基板11上には、補助容量素子24を構成し、かつ、複数の信号線21と交差して行方向Xに延びているとともに列方向Yに間隔を置いて並んだ複数の補助容量線17が形成されている。補助容量線17は走査線15と平行に延びている。   On the glass substrate 11, a plurality of auxiliary capacitance lines 24, which constitute an auxiliary capacitance element 24, extend in the row direction X crossing the plurality of signal lines 21 and are arranged at intervals in the column direction Y Are formed. The storage capacitance line 17 extends in parallel with the scanning line 15.

ここで、アレイ基板1及び対向基板2は、複数の信号線21及び複数の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられたマトリクス状の複数の画素20を有している。すなわち、各画素20は隣合う2本の信号線21及び隣合う2本の補助容量線17で囲まれた領域に重なって設けられている。アレイ基板1の画素20にはスイッチング素子としてのTFT(薄膜トランジスタ)19がそれぞれ設けられている。より詳しくは、TFT19は、走査線15と信号線21との各交差部近傍に設けられている。   Here, the array substrate 1 and the opposing substrate 2 have a plurality of pixels 20 in a matrix provided so as to overlap a region surrounded by the plurality of signal lines 21 and the plurality of auxiliary capacitance lines 17. That is, each pixel 20 is provided so as to overlap a region surrounded by two adjacent signal lines 21 and two adjacent storage capacitor lines 17. Each of the pixels 20 of the array substrate 1 is provided with a TFT (thin film transistor) 19 as a switching element. More specifically, the TFT 19 is provided near each intersection between the scanning line 15 and the signal line 21.

TFT19は、半導体としてのアモルファスシリコン(a−Si)又はポリシリコン(p−Si)からなる半導体層12と、走査線15の一部を延出してなるゲート電極16とを有している。本実施の形態では、半導体層12及び後述する補助容量電極13はp−Siで形成されている。   The TFT 19 has a semiconductor layer 12 made of amorphous silicon (a-Si) or polysilicon (p-Si) as a semiconductor, and a gate electrode 16 extending a part of the scanning line 15. In the present embodiment, the semiconductor layer 12 and an auxiliary capacitance electrode 13 described later are formed of p-Si.

詳細に述べると、表示領域R1において、ガラス基板11上には、半導体層12と、補助容量電極13とが形成され、これら半導体層及び補助容量電極を含むガラス基板上にゲート絶縁膜14が成膜されている。ゲート絶縁膜14上に、走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17が配設されている。補助容量線17及び補助容量電極13はゲート絶縁膜14を介し対向配置されている。走査線15、ゲート電極16及び補助容量線17を含むゲート絶縁膜14上には層間絶縁膜18が成膜されている。この実施形態において、層間絶縁膜18は無機絶縁膜である。   More specifically, in the display region R1, a semiconductor layer 12 and an auxiliary capacitance electrode 13 are formed on the glass substrate 11, and a gate insulating film 14 is formed on the glass substrate including the semiconductor layer and the auxiliary capacitance electrode. Is filmed. The scanning line 15, the gate electrode 16, and the auxiliary capacitance line 17 are provided on the gate insulating film 14. The auxiliary capacitance line 17 and the auxiliary capacitance electrode 13 are opposed to each other with the gate insulating film 14 interposed therebetween. An interlayer insulating film 18 is formed on the gate insulating film 14 including the scanning lines 15, the gate electrodes 16, and the auxiliary capacitance lines 17. In this embodiment, the interlayer insulating film 18 is an inorganic insulating film.

層間絶縁膜18上には、信号線21及びコンタクト電極22が形成されている。各コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のドレイン領域及び後述する画素電極26にそれぞれ接続されている。さらに、コンタクト電極22は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成された他のコンタクトホールを通って補助容量電極13に接続されている。ここで、補助容量線17は、補助容量電極13とコンタクト電極22との接続部を除いて形成されている。   A signal line 21 and a contact electrode 22 are formed on the interlayer insulating film 18. Each contact electrode 22 is connected to a drain region of the semiconductor layer 12 and a pixel electrode 26 to be described later through contact holes formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18, respectively. Further, the contact electrode 22 is connected to the auxiliary capacitance electrode 13 through another contact hole formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18. Here, the auxiliary capacitance line 17 is formed except for a connection portion between the auxiliary capacitance electrode 13 and the contact electrode 22.

信号線21は、ゲート絶縁膜14及び層間絶縁膜18に形成されたコンタクトホールを通って半導体層12のソース領域と接続されている。層間絶縁膜18、信号線21及びコンタクト電極22に重ねて保護絶縁膜23が形成されている。保護絶縁膜23は、基板上の配線等から生じる凹凸を平坦化する平坦化膜としての役割も果たす。この実施形態において、保護絶縁膜23は有機絶縁膜である。保護絶縁膜23は、表示領域R1だけでなく、表示領域R1を囲む額縁領域R2も覆っている。   The signal line 21 is connected to a source region of the semiconductor layer 12 through a contact hole formed in the gate insulating film 14 and the interlayer insulating film 18. A protective insulating film 23 is formed on the interlayer insulating film 18, the signal line 21, and the contact electrode 22. The protective insulating film 23 also plays a role as a flattening film for flattening irregularities caused by wiring and the like on the substrate. In this embodiment, the protective insulating film 23 is an organic insulating film. The protective insulating film 23 covers not only the display region R1 but also a frame region R2 surrounding the display region R1.

保護絶縁膜23上には、ITO(インジウム・すず酸化物)等の透明な導電膜により画素電極26がそれぞれ形成されている。補助容量線17に重なった保護絶縁膜23及び着色層30R、30G、30Bには複数のコンタクトホール25が形成されている。これらのコンタクトホール25は、複数の画素20に設けられている。   On the protective insulating film 23, the pixel electrodes 26 are respectively formed by a transparent conductive film such as ITO (indium tin oxide). A plurality of contact holes 25 are formed in the protective insulating film 23 and the colored layers 30R, 30G, and 30B overlapping the auxiliary capacitance line 17. These contact holes 25 are provided in the plurality of pixels 20.

各画素電極26は、コンタクトホール25を通ってコンタクト電極22に接続されている。各画素電極26の周縁部は、補助容量線17及び信号線21に重なっている。画素電極26は、画素20をそれぞれ形成している。   Each pixel electrode 26 is connected to the contact electrode 22 through the contact hole 25. The periphery of each pixel electrode 26 overlaps with the auxiliary capacitance line 17 and the signal line 21. The pixel electrodes 26 form the pixels 20 respectively.

上記のように、ガラス基板11上にアレイパターン1pが形成されている。表示領域R1において、アレイパターン1pは、ガラス基板11と画素電極26との間に積層されたものである。アレイパターン1p上には、複数のスペーサとしての複数の柱状スペーサ27が複数形成されている。柱状スペーサ27が形成されたアレイパターン1p(画素電極26等)上には配向膜28が形成されている。   As described above, the array pattern 1p is formed on the glass substrate 11. In the display region R1, the array pattern 1p is stacked between the glass substrate 11 and the pixel electrode 26. A plurality of columnar spacers 27 as a plurality of spacers are formed on the array pattern 1p. An alignment film 28 is formed on the array pattern 1p (the pixel electrode 26 and the like) on which the column spacer 27 is formed.

一方、図3及び図7に示すように、額縁領域R2において、ガラス基板11上には、アレイパターン1pと、受止めパターン60とが形成されている。額縁領域R2において、アレイパターン1pは、駆動回路6a、6bと、ゲート絶縁膜14と、層間絶縁膜18と、配線w1、w2、w3、w4、w7、w8と、保護絶縁膜23と、を有している。   On the other hand, as shown in FIGS. 3 and 7, in the frame region R2, the array pattern 1p and the receiving pattern 60 are formed on the glass substrate 11. In the frame region R2, the array pattern 1p includes the driving circuits 6a and 6b, the gate insulating film 14, the interlayer insulating film 18, the wirings w1, w2, w3, w4, w7, w8, and the protective insulating film 23. Have.

駆動回路6a、6bは、表示領域R1を挟んで行方向Xに対向配置されている。駆動回路6a、6bは、TFT19等を形成する際に、同一材料で同時に形成されている。駆動回路6a、6bは、走査線15及び補助容量線17に接続されたYドライバである。   The drive circuits 6a and 6b are arranged to face each other in the row direction X with the display region R1 interposed therebetween. The drive circuits 6a and 6b are simultaneously formed of the same material when forming the TFT 19 and the like. The driving circuits 6a and 6b are Y drivers connected to the scanning lines 15 and the auxiliary capacitance lines 17.

配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、額縁領域R2の左側と右側にそれぞれ設けられ駆動回路6a、6bを形成している。配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、列方向Yに延在し、行方向Xに間隔を置いて設けられている。配線w1、w2、w3、w4、w7、w8は、層間絶縁膜18上に形成され、保護絶縁膜23で覆われている。配線w1、w2、w3、w4は、ガラス基板11の端部まで引き延ばされ、アウターリードボンディングのパッドに接続されている。   The wirings w1, w2, w3, w4, w7, w8 are provided on the left and right sides of the frame region R2, respectively, and form the driving circuits 6a, 6b. The wirings w1, w2, w3, w4, w7, w8 extend in the column direction Y and are provided at intervals in the row direction X. The wirings w1, w2, w3, w4, w7, w8 are formed on the interlayer insulating film 18 and covered with the protective insulating film 23. The wirings w1, w2, w3, and w4 are extended to the ends of the glass substrate 11 and connected to pads for outer lead bonding.

配線w1、w2はそれぞれ第1配線としての制御信号配線であり、配線w3、w4はそれぞれ第2配線としての電源配線である。配線w1には、パッドを介してスタートパルス信号STが与えられる。配線w2には、パッドを介してクロック信号CLKが与えられる。配線w3には、パッドを介して図示しない高電位電源から電圧V1(VDD)が与えられる。配線w4には、パッドを介して図示しない低電位電源から電圧V2(VSS)が与えられる。配線w3及び配線w4は互いに電位の異なる電源配線である。例えば、電圧V1は+10Vであり、電圧V2は−5Vである。   The wirings w1 and w2 are control signal wirings as first wirings, and the wirings w3 and w4 are power supply wirings as second wirings. The start pulse signal ST is supplied to the wiring w1 via a pad. The clock signal CLK is supplied to the wiring w2 via a pad. A voltage V1 (VDD) is applied to the wiring w3 from a high-potential power supply (not shown) via a pad. A voltage V2 (VSS) is applied to the wiring w4 from a low-potential power supply (not shown) via a pad. The wiring w3 and the wiring w4 are power wirings having different potentials. For example, the voltage V1 is + 10V and the voltage V2 is -5V.

配線w5、w6は、接続配線であり、後述するスリット23h1と交差する方向に延出している。この実施形態において、配線w5、w6は行方向Xに延出している。配線w5、w6は、少なくとも額縁領域R2のゲート絶縁膜14上に形成されている。配線w5、w6は層間絶縁膜18で覆われている。この実施形態において、配線w5、w6は、表示領域R1まで延出して形成されている。額縁領域R2において、層間絶縁膜18は、配線w5に対向したスルーホールと、配線w6に対向したスルーホールとを有している。配線w3はスルーホールを通って配線w5に電気的に接続され、配線w4はスルーホールを通って配線w6に電気的に接続されている。   The wirings w5 and w6 are connection wirings and extend in a direction crossing a slit 23h1 described later. In this embodiment, the wirings w5 and w6 extend in the row direction X. The wirings w5 and w6 are formed at least on the gate insulating film 14 in the frame region R2. The wirings w5 and w6 are covered with the interlayer insulating film 18. In this embodiment, the wirings w5 and w6 are formed to extend to the display region R1. In the frame region R2, the interlayer insulating film 18 has a through hole facing the wiring w5 and a through hole facing the wiring w6. The wiring w3 is electrically connected to the wiring w5 through the through hole, and the wiring w4 is electrically connected to the wiring w6 through the through hole.

図3、図7及び図8に示すように、保護絶縁膜23はスリット23h1を有している。スリット23h1は貫通して形成されている。スリット23h1は、配線が剥き出しにならないように形成され、層間絶縁膜18を剥き出しの状態にするように形成されている。スリット23h1は、枠状に形成され、ここでは矩形枠状に連続して形成されている。額縁領域R2の左側又は右側において、スリット23h1は、配線w2及び配線w3の延出した方向に沿って延在して形成されている。ここで、スリット23h1は、5乃至10μmの幅を有している。   As shown in FIGS. 3, 7, and 8, the protective insulating film 23 has a slit 23h1. The slit 23h1 is formed to penetrate. The slit 23h1 is formed so that the wiring is not exposed, and is formed so that the interlayer insulating film 18 is exposed. The slit 23h1 is formed in a frame shape, and here is formed continuously in a rectangular frame shape. On the left or right side of the frame region R2, the slit 23h1 is formed to extend along the direction in which the wiring w2 and the wiring w3 extend. Here, the slit 23h1 has a width of 5 to 10 μm.

なお、配線w1、w2は、スリット23h1よりアレイ基板1の外縁側に位置している。配線w3、w4、w7、w8は、スリット23h1より表示領域R1側に位置している。なお、スリット23h1は、アレイパターン1pの最上部に位置している。スリットには、防湿部材29aが充填され層間絶縁膜18に接している。   The wirings w1 and w2 are located on the outer edge side of the array substrate 1 with respect to the slit 23h1. The wirings w3, w4, w7, w8 are located closer to the display region R1 than the slit 23h1. Note that the slit 23h1 is located at the top of the array pattern 1p. The slit is filled with a moisture-proof member 29 a and is in contact with the interlayer insulating film 18.

図3及び図7に示すように、受止めパターン60は、表示領域R1の周縁に間隔を置いて位置した樹脂膜の対応する部分にアレイ基板1及び対向基板2の少なくとも一方に設けられ、アレイ基板1及び対向基板2の少なくとも一方に隙間を置いて形成された壁状の突起を有している。   As shown in FIGS. 3 and 7, the receiving pattern 60 is provided on at least one of the array substrate 1 and the opposing substrate 2 at a portion corresponding to the resin film located at an interval on the periphery of the display region R <b> 1. At least one of the substrate 1 and the counter substrate 2 has a wall-shaped projection formed with a gap.

この実施形態において、受止めパターン60は、表示領域R1の周縁に間隔を置いてアレイ基板1に設けられ、対向基板2に隙間を置いて形成された壁状の突起61、62を有している。   In this embodiment, the receiving pattern 60 is provided on the array substrate 1 at intervals on the periphery of the display region R1, and has wall-shaped projections 61 and 62 formed with a gap on the opposing substrate 2. I have.

突起61、62は、保護絶縁膜23上に形成されている。突起61、62は、列方向Yに延出している。突起61は、駆動回路6aに対して表示領域R1の反対側で、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。突起62は、駆動回路6bに対して表示領域R1の反対側で、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。   The protrusions 61 and 62 are formed on the protective insulating film 23. The protrusions 61 and 62 extend in the column direction Y. The protrusion 61 is located on the opposite side of the display region R1 with respect to the drive circuit 6a and is spaced from the periphery of the array substrate 1 and the counter substrate 2 at intervals. The protrusion 62 is located on the opposite side of the display region R1 with respect to the drive circuit 6b and is spaced from the periphery of the array substrate 1 and the counter substrate 2 at intervals.

突起61、62は、アレイ基板1及び対向基板2の周縁側への後述するシール材51の広がりを抑制するものである。突起61、62は、アレイ基板1に柱状スペーサ27と同一材料で同時に形成されている。突起61、62は、柱状スペーサ27より低く形成されている。但し、突起61、62は柱状スペーサ27と同じ高さでも良い。受止めパターン60は、後述する液晶注入口52と対向した領域を除いて形成されている。   The protrusions 61 and 62 are for suppressing the later-described sealing material 51 from spreading to the peripheral edges of the array substrate 1 and the counter substrate 2. The protrusions 61 and 62 are simultaneously formed on the array substrate 1 with the same material as the columnar spacer 27. The protrusions 61 and 62 are formed lower than the columnar spacer 27. However, the protrusions 61 and 62 may have the same height as the columnar spacer 27. The receiving pattern 60 is formed except for a region facing a liquid crystal injection port 52 described later.

図1、図2、図3、図6及び図7に示すように、対向基板2は、透明な絶縁基板としてガラス基板41を備えている。このガラス基板41上には、カラーフィルタ4が設けられている。カラーフィルタ4は、遮光部31と、周辺遮光部32と、複数の着色層とを有している。複数の着色層は、例えば赤色の着色層30R、緑色の着色層30G、青色の着色層30Bを有している。   As shown in FIGS. 1, 2, 3, 6, and 7, the counter substrate 2 includes a glass substrate 41 as a transparent insulating substrate. The color filter 4 is provided on the glass substrate 41. The color filter 4 has a light shielding part 31, a peripheral light shielding part 32, and a plurality of coloring layers. The plurality of colored layers include, for example, a red colored layer 30R, a green colored layer 30G, and a blue colored layer 30B.

遮光部31は、格子状に形成されている。遮光部31は、補助容量線17及び信号線21に対向して形成されている。周辺遮光部32は、矩形枠状に形成され、額縁領域R2の全体に形成されている。周辺遮光部32は、表示領域R1の外側から漏れる光(バックライト)の遮光に寄与している。   The light shielding part 31 is formed in a lattice shape. The light shielding portion 31 is formed to face the auxiliary capacitance line 17 and the signal line 21. The peripheral light-shielding portion 32 is formed in a rectangular frame shape, and is formed over the entire frame region R2. The peripheral light-shielding portion 32 contributes to light-shielding of light (backlight) leaking from the outside of the display region R1.

着色層30R、30G、30Bは、ガラス基板41及び遮光部31上に形成されている。着色層30R、30G、30Bは、列方向Yに沿って帯状に延在している。着色層30R、30G、30Bは、行方向Xに互いに隣接し、交互に並べられている。着色層30R、30G、30Bの周縁部は、遮光部31に重なっている。
なお、カラーフィルタ4上には、図示しないオーバーコート層を配置してもよい。これにより、遮光部31及びカラーフィルタ4の表面の凹凸の影響を緩和することができる。
The coloring layers 30R, 30G, and 30B are formed on the glass substrate 41 and the light shielding portion 31. The coloring layers 30R, 30G, and 30B extend in a strip shape along the column direction Y. The coloring layers 30R, 30G, and 30B are adjacent to each other in the row direction X and are alternately arranged. The peripheral portions of the colored layers 30R, 30G, and 30B overlap the light-shielding portions 31.
Note that an overcoat layer (not shown) may be disposed on the color filter 4. Thereby, the influence of the unevenness on the surface of the light shielding portion 31 and the color filter 4 can be reduced.

カラーフィルタ4(オーバーコート層)上に、ITO等の透明な導電膜により対向電極42が形成されている。対向電極42上には配向膜43が形成されている。上記のように、ガラス基板41上に対向パターン2pが形成されている。対向パターン2pは、カラーフィルタ4、対向電極42及び配向膜43を有している。対向パターン2pは、オーバーコート層をさらに有していてもよい。   On the color filter 4 (overcoat layer), a counter electrode 42 is formed of a transparent conductive film such as ITO. An alignment film 43 is formed on the counter electrode 42. As described above, the opposing pattern 2p is formed on the glass substrate 41. The opposing pattern 2p includes the color filter 4, the opposing electrode 42, and the alignment film 43. The facing pattern 2p may further have an overcoat layer.

アレイ基板1及び対向基板2は、複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を置いて対向配置されている。シール材51は、額縁領域R2に対向し、アレイ基板1及び対向基板2間に設けられ、表示領域R1の周縁と突起61、62の間に位置し矩形枠状に連続して形成されている。アレイ基板1及び対向基板2の周縁全体に亘って、シール材51は、アレイ基板1及び対向基板2の周縁に間隔を置いて位置している。   The array substrate 1 and the opposing substrate 2 are opposingly arranged with a predetermined gap by a plurality of columnar spacers 27. The sealing material 51 is provided between the array substrate 1 and the opposing substrate 2 so as to face the frame region R2, and is located between the periphery of the display region R1 and the projections 61 and 62, and is formed continuously in a rectangular frame shape. . The sealing material 51 is located at intervals around the periphery of the array substrate 1 and the counter substrate 2 over the entire periphery of the array substrate 1 and the counter substrate 2.

アレイ基板1及び対向基板2は、シール材51により互いに接合されている。シール材51は、防湿部材29a上に形成されている。この実施形態において、防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接したシール材51の一部で形成されている。シール材51は、水分を遮断する性質を有している。シール材51は、アクリル等の樹脂を利用して形成することができる。このため、保護絶縁膜23や保護絶縁膜23の表面(界面)を伝い、スリット23h1より表示領域R1側の配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。   The array substrate 1 and the counter substrate 2 are joined to each other by a sealing material 51. The sealing material 51 is formed on the moisture-proof member 29a. In this embodiment, the moisture-proof member 29a is formed of a part of the sealing material 51 filled in the slit 23h1 and in contact with the interlayer insulating film 18. The sealing material 51 has a property of blocking moisture. The sealing material 51 can be formed using a resin such as acrylic. For this reason, it is possible to block moisture from penetrating the protective insulating film 23 or the surface (interface) of the protective insulating film 23 to the wirings w3, w4, w7, w8, and the like on the display region R1 side from the slit 23h1.

シール材51は、駆動回路6a、6b全体を覆っている。シール材51は、突起61、62(受止めパターン60)によりアレイ基板1及び対向基板2の周縁側への広がり(行方向Xへの広がり)が抑制されている。なお、突起61、62は、シール材51の側面で接するが、突起61、62は、シール材51の広がりを抑制するためのものであるため、すべての箇所で接しているとは限らず部分的に接している形状になる場合もある。   The seal member 51 covers the entire drive circuits 6a and 6b. The projections 61 and 62 (reception pattern 60) of the sealing material 51 prevent the array substrate 1 and the opposing substrate 2 from spreading toward the periphery (spreading in the row direction X). The protrusions 61 and 62 are in contact with the side surface of the sealing material 51. However, since the protrusions 61 and 62 are for suppressing the spread of the sealing material 51, the protrusions 61 and 62 are not necessarily in contact in all places and may be partially contacted. In some cases, the shapes may be in contact with each other.

液晶層3は、アレイ基板1、対向基板2及びシール材51で囲まれた空間に形成されている。
上記のように液晶表示パネルが形成されている。
The liquid crystal layer 3 is formed in a space surrounded by the array substrate 1, the counter substrate 2, and the sealing material 51.
The liquid crystal display panel is formed as described above.

次に、上記液晶表示パネルの一層詳しい構成を、その製造方法と併せて説明する。
図1乃至図8、及び図9に示すように、まず、透明な絶縁基板としてアレイ基板1よりも寸法の大きい第1マザー基板としてのマザーガラス101を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス101は、アレイ基板1を形成するため6つの矩形状のアレイ基板形成領域R6と、アレイ基板形成領域R6から外れた非有効領域R7とを有している。マザーガラス101は、アレイ基板形成領域R6の周縁に重なった第1分断予定線e1を有している。
Next, a more detailed configuration of the liquid crystal display panel will be described together with a method of manufacturing the same.
As shown in FIGS. 1 to 8 and 9, first, a mother glass 101 as a first mother substrate having a size larger than that of the array substrate 1 is prepared as a transparent insulating substrate. According to this embodiment, the mother glass 101 has six rectangular array substrate forming regions R6 for forming the array substrate 1, and a non-effective region R7 deviating from the array substrate forming region R6. The mother glass 101 has a first dividing line e1 overlapping the periphery of the array substrate forming region R6.

用意したマザーガラス101上には、成膜およびパターニングを繰り返す等、通常の製造工程により、TFT19、補助容量素子24、駆動回路6a、6b、スリット23h1を有した保護絶縁膜23等を含むアレイパターン1pを形成する。   An array pattern including the TFT 19, the auxiliary capacitance element 24, the drive circuits 6a and 6b, the protective insulating film 23 having the slit 23h1, and the like is formed on the prepared mother glass 101 by a normal manufacturing process such as repeating film formation and patterning. 1p is formed.

次いで、スピンナを用い、例えば感光性アクリル性の透明樹脂をマザーガラス101上全面に塗布する。続いて、透明樹脂を乾燥させる。次いで、所定のフォトマスクを用い、透明樹脂にパターニングを露光する。次に、露光された透明樹脂を現像した後、焼成し硬化させる。   Next, using a spinner, for example, a photosensitive acrylic transparent resin is applied to the entire surface of the mother glass 101. Subsequently, the transparent resin is dried. Next, using a predetermined photomask, patterning is exposed on the transparent resin. Next, after developing the exposed transparent resin, it is baked and cured.

図1乃至図8、及び図10に示すように、これにより、柱状スペーサ27及び突起61、62が同時に形成される。なお、突起61、62及び柱状スペーサ27を同時に形成できるため、製造工程を増やすことなく形成可能である。   Thus, as shown in FIGS. 1 to 8 and FIG. 10, the columnar spacer 27 and the projections 61 and 62 are simultaneously formed. Since the projections 61 and 62 and the columnar spacer 27 can be formed at the same time, they can be formed without increasing the number of manufacturing steps.

その後、表示領域R1を含むマザーガラス101上全面に、配向膜材料を塗布し、パターニングすることにより、配向膜28を形成する。なお、配向膜28には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス101にて6個のアレイ基板1が完成する。
Thereafter, an alignment film material is applied on the entire surface of the mother glass 101 including the display region R1, and is patterned to form the alignment film 28. The alignment film 28 is subjected to a predetermined alignment process (rubbing) as necessary.
Thereby, six array substrates 1 are completed with one mother glass 101.

図1、図2、図3、図6、図7及び図8、並びに図11に示すように、一方、対向基板2の製造方法においては、まず、透明な絶縁基板として対向基板2よりも寸法の大きい第2マザー基板としてのマザーガラス102を用意する。この実施形態によれば、マザーガラス102は、対向基板2を形成するため6つの矩形状の対向基板形成領域R8と、対向基板形成領域R8から外れた非有効領域R9とを有している。マザーガラス102は、対向基板形成領域R8の周縁に重なった第2分断予定線e2を有している。   As shown in FIGS. 1, 2, 3, 6, 7, 8, and 11, on the other hand, in the method of manufacturing the opposing substrate 2, first, the size of the opposing substrate 2 is set as a transparent insulating substrate. A mother glass 102 is prepared as a second mother substrate having a large size. According to this embodiment, the mother glass 102 has six rectangular opposing substrate forming regions R8 for forming the opposing substrate 2 and an ineffective region R9 deviating from the opposing substrate forming region R8. The mother glass 102 has a second scheduled dividing line e2 overlapping the periphery of the counter substrate formation region R8.

用意したマザーガラス102上には、通常の製造工程により、対向パターン2pを形成する。なお、配向膜43には、必要に応じて所定の配向処理(ラビング)が施される。
これにより、1枚のマザーガラス102にて6個の対向基板2が完成する。
On the prepared mother glass 102, an opposing pattern 2p is formed by a normal manufacturing process. The alignment film 43 is subjected to a predetermined alignment process (rubbing) as necessary.
Thereby, six opposing substrates 2 are completed with one mother glass 102.

次いで、図7、図8及び図12に示すように、アレイ基板1の額縁領域R2に全周に亘って、シール材51を形成する材料として、例えば紫外線硬化型の樹脂を印刷法により塗布する。これにより、枠状のシール材51が形成される。また、シール材51を形成する際、アレイ基板1から対向基板2に電圧を印加するための電極転移材をシール材51の周辺の図示しない電極転移電極上に形成することができる。   Next, as shown in FIG. 7, FIG. 8 and FIG. 12, for example, an ultraviolet curing resin is applied as a material for forming the sealing material 51 over the entire frame region R2 of the array substrate 1 by a printing method. . Thereby, the frame-shaped sealing material 51 is formed. When forming the seal material 51, an electrode transfer material for applying a voltage from the array substrate 1 to the counter substrate 2 can be formed on an electrode transfer electrode (not shown) around the seal material 51.

図11乃至図14に示すように、その後、シール材51で囲まれた領域に液晶材料を滴下する。続いて、配向膜28及び配向膜43が対向するよう、マザーガラス101及びマザーガラス102を対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2を複数の柱状スペーサ27により所定の隙間を保持して対向配置し、アレイ基板1及び対向基板2の周縁部同士をシール材51により貼り合せる。この際、シール材51は、スリット23h1に充填される。また、突起61、62によりシール材51の広がりが抑制される。   Thereafter, as shown in FIGS. 11 to 14, a liquid crystal material is dropped on a region surrounded by the sealant 51. Subsequently, the mother glass 101 and the mother glass 102 are arranged to face each other such that the alignment film 28 and the alignment film 43 face each other, and the array substrate 1 and the counter substrate 2 are arranged to face each other while maintaining a predetermined gap by a plurality of columnar spacers 27. Then, the peripheral edges of the array substrate 1 and the opposing substrate 2 are bonded to each other with a sealing material 51. At this time, the sealing material 51 is filled in the slit 23h1. In addition, the projections 61 and 62 suppress the spread of the sealing material 51.

次いで、外部よりシール材51に紫外線を照射してシール材51を硬化させ、さらに熱硬化処理を施し、本硬化させる。これにより、シール材51を介してマザーガラス101及びマザーガラス102が接合される。   Next, the sealing material 51 is cured by irradiating the sealing material 51 with ultraviolet rays from the outside. Thereby, the mother glass 101 and the mother glass 102 are joined via the sealing material 51.

続いて、マザーガラス101を第1分断予定線e1に沿って分割するとともに、マザーガラス102を第2分断予定線e2に沿って分割する。分割する際、例えば、第1分断予定線e1及び第2分断予定線e2に沿ってスクライブラインを引いて分割する。これにより、マザーガラス101からアレイ基板1が、マザーガラス102から対向基板2がそれぞれ切出される。
これにより、図3に示すように、分断されたマザーガラス101及びマザーガラス102から、液晶表示パネルが6組取出される。そして、6つの液晶表示パネルがそれぞれ完成する。
Subsequently, the mother glass 101 is divided along the first planned dividing line e1, and the mother glass 102 is divided along the second planned dividing line e2. At the time of division, for example, a scribe line is drawn along the first planned division line e1 and the second planned division line e2 to perform division. Thus, the array substrate 1 is cut out from the mother glass 101, and the opposing substrate 2 is cut out from the mother glass 102.
Thus, as shown in FIG. 3, six sets of liquid crystal display panels are taken out of the divided mother glass 101 and mother glass 102. Then, each of the six liquid crystal display panels is completed.

上記のように構成された第1の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。アレイ基板1は、配線w1乃至w8と、層間絶縁膜18と、保護絶縁膜23と、防湿部材29aとを有している。保護絶縁膜23は、表示領域R1及び額縁領域R2上に形成され、配線w1乃至w4、w7及びw8を覆っている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w3の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接したシール材51の一部で形成されている。   According to the liquid crystal display panel and the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a counter substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And The array substrate 1 has wirings w1 to w8, an interlayer insulating film 18, a protective insulating film 23, and a moisture-proof member 29a. The protective insulating film 23 is formed on the display region R1 and the frame region R2, and covers the wirings w1 to w4, w7, and w8. The protective insulating film 23 has a slit 23h1 formed to penetrate between the wiring w2 and the wiring w3. The moisture-proof member 29a is formed of a part of the sealing material 51 filled in the slit 23h1 and in contact with the interlayer insulating film 18.

シール材51は、水分を遮断する性質を有している。このため、有機絶縁膜である保護絶縁膜23や保護絶縁膜23と層間絶縁膜18との界面を伝う水分は、スリット23h1と防湿部材29aによって表示領域R1側への浸入が遮断される。なお、層間絶縁膜(無機絶縁膜)18は水分を遮断する性質を有している。この実施形態において、配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。特に、隣接配線との電位差が大きい配線間にスリット23h1と防湿部材29aを配置すると水分と電位差に起因する配線の腐食を防止することができる。本実施形態では、腐食が発生し易い配線w3、w4への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。   The sealing material 51 has a property of blocking moisture. For this reason, the moisture that travels along the interface between the protective insulating film 23, which is an organic insulating film, and the interface between the protective insulating film 23 and the interlayer insulating film 18, is blocked from entering the display region R1 by the slit 23h1 and the moisture-proof member 29a. The interlayer insulating film (inorganic insulating film) 18 has a property of blocking moisture. In this embodiment, it is possible to block the entry of moisture into the wirings w3, w4, w7, w8 and the like. In particular, when the slit 23h1 and the moisture-proof member 29a are arranged between the wirings having a large potential difference from the adjacent wiring, corrosion of the wiring due to moisture and the potential difference can be prevented. In the present embodiment, it is possible to block the entry of moisture into the wirings w3 and w4 where corrosion is likely to occur. Thereby, the concern that the wirings w3, w4, w7, w8, etc. corrode can be eliminated.

この実施形態において、スリット23h1は枠状に形成され、スリット23h1全域にシール材51が充填されているため、液晶表示パネル内部への水分の侵入を一層遮断することができ、配線の腐食など、水分による悪影響を一層排除することができる。   In this embodiment, since the slit 23h1 is formed in a frame shape and the entire area of the slit 23h1 is filled with the sealing material 51, the intrusion of moisture into the inside of the liquid crystal display panel can be further blocked. The adverse effect of moisture can be further eliminated.

スリット23h1は、5乃至10μmの幅を有している。これにより、空いているスペース(配線等の非利用スペース)にスリット23h1を形成することができる。なお、保護絶縁膜23のパターニングが可能であれば、スリット23h1の幅は、5μm未満でもよい。この場合も、上記防湿効果を得ることができる。また、配線等の非利用スペースに余裕がある場合、スリット23h1の幅は10μm以上であってもよい。また、配線と配線の間において、配線に沿ってスリット23h1を形成しても良い。例えば、コモン電位を持つ配線とHighレベルを電位を与える電源配線との間において、少なくとも一方の配線に沿って平行にスリット23h1を形成しても良い。   The slit 23h1 has a width of 5 to 10 μm. Thereby, the slit 23h1 can be formed in a vacant space (unused space such as wiring). Note that the width of the slit 23h1 may be less than 5 μm as long as the patterning of the protective insulating film 23 is possible. Also in this case, the above moisture-proof effect can be obtained. If there is room in the unused space such as the wiring, the width of the slit 23h1 may be 10 μm or more. Further, a slit 23h1 may be formed between the wirings along the wiring. For example, a slit 23h1 may be formed in parallel along at least one of the wirings between a wiring having a common potential and a power supply wiring providing a High level potential.

配線w2及び配線w3の間にスリット23h1を形成することができる。配線w1乃至w4、w7及びw8よりアレイ基板1の外縁側の保護絶縁膜23を幅200乃至300μmとして全周にわたって除去し、上記除去した空間にシール材を形成する必要がなくなる。このため、狭額縁化を図ることができる。   The slit 23h1 can be formed between the wiring w2 and the wiring w3. The protective insulating film 23 on the outer edge side of the array substrate 1 with the width of 200 to 300 μm is removed from the wirings w1 to w4, w7, and w8 over the entire circumference, so that there is no need to form a sealing material in the removed space. Therefore, the frame can be narrowed.

スリット23h1の幅は狭いため、配線w1乃至w4、w7及びw8等を剥き出しにすること無しにスリット23h1を形成することができる。配線w1乃至w4、w7及びw8への静電気の侵入を防止することができるため、上記配線の周辺回路(駆動回路6a、6b)の破壊を防止することができる。このため、ESD(Electro Static Discharge)耐圧の低下を防止することができる。
スリット23h1は、コンタクトホール25を形成する際、同時に形成できるため、製造工程を増やすことなく形成可能である。
Since the width of the slit 23h1 is narrow, the slit 23h1 can be formed without exposing the wirings w1 to w4, w7, w8, and the like. Since the intrusion of static electricity into the wirings w1 to w4, w7 and w8 can be prevented, destruction of the peripheral circuits (drive circuits 6a and 6b) of the wirings can be prevented. For this reason, it is possible to prevent a decrease in ESD (Electro Static Discharge) withstand voltage.
Since the slit 23h1 can be formed at the same time as the formation of the contact hole 25, it can be formed without increasing the number of manufacturing steps.

突起61、62は、表示領域R1の周縁に間隔を置いてアレイ基板1に設けられ、対向基板2に隙間を置いて形成されている。シール材51は、表示領域R1の周縁及び突起61の間、並びに表示領域R1の周縁及び突起62の間に位置している。シール材51は、突起61、62によりアレイ基板1及び対向基板2の周縁側への広がりが抑制されている。   The projections 61 and 62 are provided on the array substrate 1 at intervals on the periphery of the display region R1, and are formed on the opposing substrate 2 with a gap. The sealing material 51 is located between the periphery of the display region R1 and the protrusion 61, and between the periphery of the display region R1 and the protrusion 62. The spread of the sealing material 51 toward the peripheral edge of the array substrate 1 and the counter substrate 2 is suppressed by the protrusions 61 and 62.

アレイ基板1(対向基板2)の周縁に近い領域にシール材51を塗布することができる。このため、額縁幅の狭い液晶表示パネルにおいても、表示領域R1内へのシール材51の広がりを抑制することができ、表示異常を防止することができる。アレイ基板1及び対向基板2の周縁側へのシール材51の広がりは、突起61、62により抑制され、シール材51が第1分断予定線e1(第2分断予定線e2)に重なるまで広がることはないため、マザーガラス101、102からアレイ基板1及び対向基板2を良好に分断することができる。   The sealing material 51 can be applied to a region near the periphery of the array substrate 1 (opposite substrate 2). Therefore, even in the liquid crystal display panel having a narrow frame width, the spread of the sealing material 51 into the display region R1 can be suppressed, and display abnormalities can be prevented. The spreading of the sealing material 51 to the peripheral side of the array substrate 1 and the counter substrate 2 is suppressed by the protrusions 61 and 62, and spreads until the sealing material 51 overlaps the first scheduled cutting line e1 (second scheduled cutting line e2). Therefore, the array substrate 1 and the counter substrate 2 can be satisfactorily separated from the mother glasses 101 and 102.

また、マザーガラス101、102から液晶表示パネルを切り出す際に、ガラスを切断する刃は突起61、62の間、すなわち、分断予定線e1、e2にあたる。この刃がガラス面に接する時、壁状の突起61、62がガラスを支持することによって、ガラス面にかかる刃の圧力はガラス面で均等に分散される。したがって、ガラス切断の際にガラスが欠ける、割れる等の不具合が生じずに切断することが可能となる。   When the liquid crystal display panel is cut out from the mother glasses 101 and 102, the blade for cutting the glass hits between the projections 61 and 62, that is, the cut lines e1 and e2. When the blade comes into contact with the glass surface, the wall-shaped projections 61 and 62 support the glass, so that the blade pressure applied to the glass surface is evenly distributed on the glass surface. Therefore, the glass can be cut without causing defects such as chipping or breaking when the glass is cut.

本実施形態では、液晶表示パネルの表示領域R1の周囲の左右両側に突起61、62を配置している。すなわち、アウターリードボンディングのパッドが配置されている端辺と垂直に交わる端辺に沿って突起61、62は配置される。また、同じく上記パッドが配置されている端辺と垂直に交わる端辺に沿ってスリット23h1と防湿部材29aが配置されている。また、表示領域R1の周囲の上側及び/又は下側、すなわち、上記パッドが配置されている側の端辺と、この端辺に対向する端辺の側に突起を配置してもよい。
このように受止めパターン60を配置すれば、上述の通りガラス切断の際にガラスが欠ける等の不具合が生じずに、良好に切断することが可能となる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In the present embodiment, the projections 61 and 62 are arranged on the left and right sides around the display area R1 of the liquid crystal display panel. That is, the protrusions 61 and 62 are arranged along an end perpendicular to the end where the outer lead bonding pad is arranged. Similarly, a slit 23h1 and a moisture-proof member 29a are arranged along an edge perpendicular to an edge where the pad is arranged. Further, the protrusions may be arranged on the upper and / or lower sides of the display area R1, that is, on the side of the side where the pad is disposed and the side of the side opposite to this side.
By arranging the receiving pattern 60 in this manner, it becomes possible to cut the glass satisfactorily without causing a problem such as chipping of the glass when cutting the glass as described above.
From the above description, it is possible to obtain a liquid crystal display panel and a method for manufacturing a liquid crystal display device which can achieve a narrower frame and a high product yield.

次に、第2の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。   Next, a liquid crystal display panel according to a second embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed using the same method as the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional portions as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図3、図15及び図16に示すように、保護絶縁膜23はスリット23h1の他、スリット23h2及びスリット23h3を有している。スリット23h1と同様、スリット23h2及びスリット23h3も保護絶縁膜23を貫通して形成されている。また、スリット23h2、23h3は、配線が剥き出しにならないように形成され、層間絶縁膜18を剥き出しの状態にするように形成されている。スリット23h2、23h3は、帯状に形成され、列方向Yに枠状に延出して形成されている。スリット23h2、23h3は、それぞれ配線w3及び配線w4の延出した方向に沿って延在して形成されている。スリット23h2、23h3は、例えば、それぞれ5乃至10μmの幅を有している。   As shown in FIGS. 3, 15, and 16, the protective insulating film 23 has a slit 23h2, a slit 23h2, and a slit 23h3 in addition to the slit 23h1. Similarly to the slit 23h1, the slit 23h2 and the slit 23h3 are also formed penetrating the protective insulating film 23. The slits 23h2 and 23h3 are formed so that the wiring is not exposed, and are formed so that the interlayer insulating film 18 is exposed. The slits 23h2 and 23h3 are formed in a band shape, and are formed to extend in a column direction Y in a frame shape. The slits 23h2 and 23h3 are formed to extend along the extending directions of the wiring w3 and the wiring w4, respectively. Each of the slits 23h2 and 23h3 has, for example, a width of 5 to 10 μm.

額縁領域R2の左側で、スリット23h2は、配線w3及び配線w4の間に形成されている。額縁領域R2の右側で、スリット23h3は、配線w3及び配線w4の間に形成されている。スリット23h1、23h2、23h3は、アレイパターン1pの最上部に位置している。スリット23h1には防湿部材29aが充填され層間絶縁膜18に接している。スリット23h2には防湿部材29bが充填され層間絶縁膜18に接している。スリット23h3には防湿部材29cが充填され層間絶縁膜18に接している。シール材51は、防湿部材29a、29b、29c上に形成されている。この実施形態において、スリット23h1、23h2、23h3にそれぞれシール材51の一部が充填されることにより、防湿部材29a、29b、29cが形成されている。   On the left side of the frame region R2, the slit 23h2 is formed between the wiring w3 and the wiring w4. On the right side of the frame region R2, the slit 23h3 is formed between the wiring w3 and the wiring w4. The slits 23h1, 23h2, 23h3 are located at the top of the array pattern 1p. The slit 23h1 is filled with a moisture-proof member 29a and is in contact with the interlayer insulating film 18. The slit 23h2 is filled with a moisture-proof member 29b and is in contact with the interlayer insulating film 18. The slit 23h3 is filled with a moisture-proof member 29c and is in contact with the interlayer insulating film 18. The sealing material 51 is formed on the moisture-proof members 29a, 29b, 29c. In this embodiment, the moisture-proof members 29a, 29b, and 29c are formed by filling the slits 23h1, 23h2, and 23h3 with a part of the sealing material 51, respectively.

上記のように構成された第2の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w3及び配線w4の間を貫通して形成されたスリット23h2、23h3を有している。すなわち、スリットが二重に形成されている。スリット23h2、23h3には、それぞれシール材51の一部が充填され層間絶縁膜18に接し、防湿部材29b、29cを形成している。   According to the liquid crystal display panel and the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the second embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a counter substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And The protective insulating film 23 has slits 23h2 and 23h3 formed to penetrate between the wiring w3 and the wiring w4. That is, the slits are formed doubly. Each of the slits 23h2 and 23h3 is filled with a part of the sealing material 51 and is in contact with the interlayer insulating film 18 to form moisture-proof members 29b and 29c.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29a(シール材51)により配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができ、スリット23h2、23h3に形成された防湿部材29b、29c(シール材51)により配線w4、w7、w8等への水分の浸入を一層遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間の電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。   In this embodiment, moisture can be prevented from entering the wirings w3, w4, w7, w8, and the like by the moisture-proof member 29a (sealant 51) formed in the slit 23h1, and the moisture-proof formed in the slits 23h2, 23h3. The members 29b and 29c (seal material 51) can further prevent moisture from entering the wirings w4, w7, w8 and the like. Thereby, the concern that the wirings w3, w4, w7, w8, etc. corrode can be eliminated. As described above, the penetration of moisture into the wiring w4 can be further blocked, so that the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between adjacent wirings can be further reduced.

スリット23h2、23h3を、配線w3及び配線w4の間に形成することができる。スリット23h1同様、スリット23h2、23h3も空いているスペース(配線等の非利用スペース)に形成することができるため、狭額縁化を図ることができる。その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
The slits 23h2 and 23h3 can be formed between the wiring w3 and the wiring w4. Similarly to the slit 23h1, the slits 23h2 and 23h3 can be formed in an empty space (unused space for wiring or the like), so that the frame can be narrowed. In addition, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.
From the above description, it is possible to obtain a liquid crystal display panel and a method for manufacturing a liquid crystal display device which can achieve a narrower frame and a high product yield.

次に、第3の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。   Next, a liquid crystal display panel according to a third embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed using the same method as the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional portions as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図17に示すように、配向膜28は、保護絶縁膜23より水分浸透性の低い無機系の材料で形成されている。配向膜28は、水分を遮断する性質を有している。防湿部材29aは、配向膜28と同一の材料で形成されている。配向膜28は、額縁領域R2のスリット23h1と対向する位置まで延在して形成されている。好ましくは、配向膜28は、額縁領域R2のスリット23h1を越える位置まで延在して形成されている。防湿部材29aは、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接した配向膜28の一部で形成されている。上記のように、本実施形態において、表示領域R1の配向膜28と防湿部材29aとが一体に形成されているが、防湿部材29aが表示領域R1の配向膜28から分離して形成されていてもよい。   As shown in FIG. 17, the alignment film 28 is formed of an inorganic material having a lower moisture permeability than the protective insulating film 23. The alignment film 28 has a property of blocking moisture. The moisture-proof member 29a is formed of the same material as the alignment film 28. The alignment film 28 is formed to extend to a position facing the slit 23h1 in the frame region R2. Preferably, the alignment film 28 is formed to extend to a position beyond the slit 23h1 in the frame region R2. The moisture-proof member 29a is formed of a part of the alignment film 28 that is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18. As described above, in the present embodiment, the alignment film 28 of the display region R1 and the moisture-proof member 29a are formed integrally, but the moisture-proof member 29a is formed separately from the alignment film 28 of the display region R1. Is also good.

上記のように構成された第3の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w2の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。配向膜28が水分を遮断する性質を有している場合、配向膜28の一部をスリット23h1に充填し、防湿部材29aを形成してもよい。   According to the liquid crystal display panel and the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the third embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a counter substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And The protective insulating film 23 has a wiring w2 and a slit 23h1 formed to penetrate between the wiring w2. When the alignment film 28 has a property of blocking moisture, a part of the alignment film 28 may be filled in the slit 23h1 to form the moisture-proof member 29a.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29aにより配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間において電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。   In this embodiment, the infiltration of moisture into the wirings w3, w4, w7, w8, etc. can be blocked by the moisture-proof member 29a formed in the slit 23h1. Thereby, the concern that the wirings w3, w4, w7, w8, etc. corrode can be eliminated. As described above, the infiltration of moisture into the wiring w4 can be further blocked, so that the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between adjacent wirings can be further reduced.

なお、配向膜28を形成する材料をスリット23h1に充填することができれば、上記効果を得ることができる。スリット23h1の幅が5乃至10μmであれば、スリット23h1に配向膜28を形成する材料を充填することができる。配向膜28を形成する材料をスリット23h1に充填することができれば、スリット23h1の幅が10μmを超えてもよい。   Note that the above effects can be obtained if the material for forming the alignment film 28 can be filled in the slit 23h1. If the width of the slit 23h1 is 5 to 10 μm, the material for forming the alignment film 28 can be filled in the slit 23h1. As long as the material for forming the alignment film 28 can be filled in the slit 23h1, the width of the slit 23h1 may exceed 10 μm.

その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In addition, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.
From the above description, it is possible to obtain a liquid crystal display panel and a method for manufacturing a liquid crystal display device which can achieve a narrower frame and a high product yield.

次に、第4の実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、上記第1の実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法と同様の手法を利用して形成可能である。本実施形態において、上述した第1の実施形態と同一機能部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。   Next, a liquid crystal display panel according to a fourth embodiment will be described. The liquid crystal display panel according to the present embodiment can be formed using the same method as the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the first embodiment. In the present embodiment, the same functional portions as those in the above-described first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

図18に示すように、柱状スペーサ27は、保護絶縁膜23より水分浸透性の低い材料で形成されている。柱状スペーサ27を形成する材料は、水分を遮断する性質を有している。防湿部材29aは、柱状スペーサ27と同一の材料で形成されている。柱状スペーサ27を形成する材料は、スリット23h1に充填され層間絶縁膜18に接し、防湿部材29aを形成している。柱状スペーサ27、突起61、62及び防湿部材29aは、同一材料で同時に形成されている。   As shown in FIG. 18, the columnar spacer 27 is formed of a material having a lower moisture permeability than the protective insulating film 23. The material forming the columnar spacer 27 has a property of blocking moisture. The moisture-proof member 29a is formed of the same material as the columnar spacer 27. The material forming the columnar spacer 27 is filled in the slit 23h1 and is in contact with the interlayer insulating film 18 to form the moisture-proof member 29a. The columnar spacer 27, the protrusions 61 and 62, and the moisture-proof member 29a are simultaneously formed of the same material.

上記のように構成された第4の実施形態に係る液晶表示パネル及び液晶表示パネルの製造方法によれば、液晶表示パネルは、アレイ基板1と、対向基板2と、液晶層3とシール材51とを備えている。保護絶縁膜23は、配線w2及び配線w2の間を貫通して形成されたスリット23h1を有している。柱状スペーサ27を形成する材料が水分を遮断する性質を有している場合、柱状スペーサ27を形成する材料をスリット23h1に充填し、防湿部材29aを形成してもよい。   According to the liquid crystal display panel and the method of manufacturing the liquid crystal display panel according to the fourth embodiment configured as described above, the liquid crystal display panel includes an array substrate 1, a counter substrate 2, a liquid crystal layer 3, and a sealing material 51. And The protective insulating film 23 has a wiring w2 and a slit 23h1 formed to penetrate between the wiring w2. When the material forming the columnar spacer 27 has a property of blocking moisture, the material forming the columnar spacer 27 may be filled in the slit 23h1 to form the moisture-proof member 29a.

この実施形態において、スリット23h1に形成された防湿部材29aにより配線w3、w4、w7、w8等への水分の浸入を遮断することができる。これにより、配線w3、w4、w7、w8等が腐食する懸念を排除することができる。上記のように、配線w4への水分の浸入を一層遮断することができるため、隣接配線間において電位差の大きい配線w3、w4の腐食を一層低減することができる。その他、上記第1の実施形態と同様の効果を得ることができる。
上記したことから、狭額縁化を図ることができる、製品歩留まりの高い液晶表示パネル及び液晶表示装置の製造方法を得ることができる。
In this embodiment, the infiltration of moisture into the wirings w3, w4, w7, w8, etc. can be blocked by the moisture-proof member 29a formed in the slit 23h1. Thereby, the concern that the wirings w3, w4, w7, w8, etc. corrode can be eliminated. As described above, the penetration of moisture into the wiring w4 can be further blocked, so that the corrosion of the wirings w3 and w4 having a large potential difference between the adjacent wirings can be further reduced. In addition, the same effects as those of the first embodiment can be obtained.
From the above description, it is possible to obtain a liquid crystal display panel and a method for manufacturing a liquid crystal display device which can achieve a narrower frame and a high product yield.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。   Although several embodiments of the present invention have been described, these embodiments are provided by way of example and are not intended to limit the scope of the invention. These new embodiments can be implemented in other various forms, and various omissions, replacements, and changes can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are also included in the invention described in the claims and their equivalents.

例えば、複数の配線の中、最もアレイ基板1の外縁側に位置した配線を最外周配線とする。すると、最外周配線は、スリットより表示領域R1側に位置していてもよい。これにより、最外周配線を含む複数の配線への水分の浸入を一層遮断することができる。   For example, among the plurality of wirings, the wiring located closest to the outer edge of the array substrate 1 is defined as the outermost wiring. Then, the outermost wiring may be located closer to the display region R1 than the slit. Accordingly, it is possible to further prevent moisture from entering into a plurality of wirings including the outermost wiring.

防湿部材29a、29b、29cは、シール材51を形成する材料、配向膜28を形成する材料、柱状スペーサ27を形成する材料、以外の材料で形成されていてもよい。防湿部材29a、29b、29cを形成する材料は、無機系の材料に限定されるものではなく、保護絶縁膜23(有機絶縁膜)より水分浸透性の低い材料であれば上述した効果を得ることができる。   The moisture-proof members 29a, 29b, and 29c may be formed of a material other than the material forming the sealing material 51, the material forming the alignment film 28, and the material forming the columnar spacer 27. The material forming the moisture-proof members 29a, 29b, 29c is not limited to an inorganic material, and the above-described effects can be obtained as long as the material has lower moisture permeability than the protective insulating film 23 (organic insulating film). Can be.

上述した実施形態の技術は、上記液晶表示パネルに限定されるものではなく、各種の液晶表示パネルに適用可能である。液晶注入法は、滴下注入法の利用に限定されるものではなく、真空注入法を利用することも可能である。また、上述した実施形態の技術は、液晶表示パネル以外の表示パネルにも適用可能である。   The technology of the above-described embodiment is not limited to the above-described liquid crystal display panel, but can be applied to various liquid crystal display panels. The liquid crystal injection method is not limited to the use of the drop injection method, but may be a vacuum injection method. Further, the technology of the above-described embodiment can be applied to display panels other than the liquid crystal display panel.

以下に、本願出願の原出願に記載された発明を付記する。
[1]基板上に形成され表示領域及び前記表示領域を囲んだ額縁領域に位置した無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜上に間隔を置いて形成され前記額縁領域に位置した第1配線及び第2配線と、前記無機絶縁膜上に形成され前記表示領域及び額縁領域に位置し前記第1配線及び第2配線を覆う有機絶縁膜と、前記第1配線及び第2配線の間において前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、前記スリットに充填され前記無機絶縁膜に接している防湿部材と、を有したアレイ基板と、
前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備えている表示パネル。
[2]前記第1配線及び第2配線は、互いに電位の異なる配線である[1]に記載の表示パネル。
[3]前記第1配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置している電源配線であり、
前記第2配線は、前記スリットより前記アレイ基板の外縁側に位置している制御信号配線である[1]に記載の表示パネル。
[4]少なくとも前記基板の額縁領域上に形成された前記無機絶縁膜で覆われ前記スリットと交差した接続配線をさらに備え、
前記第1配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置し、
前記第2配線は、前記スリットより前記アレイ基板の外縁側に位置し、前記接続配線に電気的に接続されている[1]に記載の表示パネル。
[5]前記スリットは、前記第1配線及び第2配線の延出した方向に沿って延在して形成されている[1]に記載の表示パネル。
[6]前記有機絶縁膜は、前記第1配線及び第2配線より前記アレイ基板の外縁側に位置し、貫通して形成された枠状の他のスリットを有し、
前記アレイ基板は、前記他のスリットに充填され前記無機絶縁膜に接している他の防湿部材を有している[1]に記載の表示パネル。
[7]基板上に形成され表示領域及び前記表示領域を囲んだ額縁領域に位置した無機絶縁膜と、前記無機絶縁膜上に間隔を置いて形成され前記額縁領域に位置した最外周配線と、前記無機絶縁膜上に形成され前記表示領域及び額縁領域に位置し前記最外周配線を覆う有機絶縁膜と、前記有機絶縁膜を貫通して形成されたスリットと、前記スリットに充填され前記無機絶縁膜に接している防湿部材と、を有したアレイ基板と、
前記アレイ基板に隙間を置いて対向配置された対向基板と、を備え、
前記最外周配線は、前記スリットより前記表示領域側に位置している表示パネル。
[8]前記スリットは、前記最外周配線の延出した方向に沿って延在して形成されている[7]に記載の表示パネル。
[9]前記スリットは、枠状に形成されている[7]に記載の表示パネル。
[10]前記額縁領域に対向し、前記アレイ基板及び対向基板を接合したシール材をさらに備え、
前記防湿部材は、前記スリットに充填された前記シール材の一部で形成されている[1]又は[7]に記載の表示パネル。
[11]前記額縁領域に対向し、前記アレイ基板及び対向基板を接合し、前記防湿部材に接したシール材をさらに備え、
前記防湿部材は、前記シール材と異なる材料で形成されている[1]又は[7]に記載の表示パネル。
[12]前記アレイ基板、対向基板及びシール材で囲まれた空間に形成された液晶層をさらに備え、
前記アレイ基板は、少なくとも前記表示領域に形成され前記額縁領域の前記スリットと対向する位置まで延在して形成された無機系の配向膜をさらに有し、
前記防湿部材は、前記スリットに充填された前記配向膜の一部で形成されている[11]に記載の表示パネル。
[13]前記アレイ基板は、前記アレイ基板と前記対向基板との間の前記隙間を保持する柱状スペーサをさらに有し、
前記防湿部材は、前記柱状スペーサを形成する材料で形成されている[11]に記載の表示パネル。
[14]前記スリットは、5乃至10μmの幅を有している[1]又は[7]に記載の表示パネル。
Hereinafter, the invention described in the original application of the present application will be additionally described.
[1] An inorganic insulating film formed on a substrate and located in a display region and a frame region surrounding the display region; a first wiring formed on the inorganic insulating film at intervals and located in the frame region; A second wiring, an organic insulating film formed on the inorganic insulating film and located in the display area and the frame area and covering the first wiring and the second wiring, and the organic insulating film between the first wiring and the second wiring. An array substrate having a slit formed through the film and a moisture-proof member filled in the slit and in contact with the inorganic insulating film,
A display panel, comprising: a counter substrate facing the array substrate with a gap therebetween.
[2] The display panel according to [1], wherein the first wiring and the second wiring are wirings having different potentials from each other.
[3] The first wiring is a power supply wiring located closer to the display area than the slit,
The display panel according to [1], wherein the second wiring is a control signal wiring located on the outer edge side of the array substrate with respect to the slit.
[4] further comprising a connection wiring covered with the inorganic insulating film formed at least on a frame region of the substrate and intersecting with the slit,
The first wiring is located closer to the display area than the slit,
The display panel according to [1], wherein the second wiring is located on an outer edge side of the array substrate with respect to the slit, and is electrically connected to the connection wiring.
[5] The display panel according to [1], wherein the slit is formed to extend along a direction in which the first wiring and the second wiring extend.
[6] The organic insulating film is located closer to the outer edge of the array substrate than the first wiring and the second wiring, and has another frame-shaped slit formed therethrough,
The display panel according to [1], wherein the array substrate has another moisture-proof member filled in the other slit and in contact with the inorganic insulating film.
[7] an inorganic insulating film formed on the substrate and located in a display region and a frame region surrounding the display region; an outermost wiring formed on the inorganic insulating film at intervals and positioned in the frame region; An organic insulating film formed on the inorganic insulating film and covering the outermost wiring located in the display region and the frame region; a slit formed through the organic insulating film; and the inorganic insulating film filled in the slit. An array substrate having a moisture-proof member in contact with the film,
And a counter substrate disposed to face the array substrate with a gap,
The display panel, wherein the outermost wiring is located closer to the display area than the slit.
[8] The display panel according to [7], wherein the slit is formed to extend along a direction in which the outermost peripheral wiring extends.
[9] The display panel according to [7], wherein the slit is formed in a frame shape.
[10] a sealing material that faces the frame region and joins the array substrate and the counter substrate,
The display panel according to [1] or [7], wherein the moisture-proof member is formed of a part of the sealing material filled in the slit.
[11] a sealing material that faces the frame region, joins the array substrate and the counter substrate, and is in contact with the moisture-proof member;
The display panel according to [1] or [7], wherein the moisture-proof member is formed of a material different from the sealing material.
[12] The liquid crystal display further includes a liquid crystal layer formed in a space surrounded by the array substrate, the counter substrate, and a sealing material.
The array substrate further includes an inorganic alignment film formed at least in the display region and extending to a position facing the slit in the frame region,
The display panel according to [11], wherein the moisture-proof member is formed by a part of the alignment film filled in the slit.
[13] The array substrate further includes a columnar spacer that holds the gap between the array substrate and the counter substrate,
The display panel according to [11], wherein the moisture-proof member is formed of a material forming the columnar spacer.
[14] The display panel according to [1] or [7], wherein the slit has a width of 5 to 10 μm.

1…アレイ基板、2…対向基板、3…液晶層、6a,6b…駆動回路、11…ガラス基板、18…層間絶縁膜、23…保護絶縁膜、23h1,23h2,23h3…スリット、27…柱状スペーサ、28…配向膜、29a,29b,29c…防湿部材、51…シール材、w1,w2,w3,w4,w5,w6,w7,w8…配線、R1…表示領域、R2…額縁領域、X…行方向、Y…列方向。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Array substrate, 2 ... Counter substrate, 3 ... Liquid crystal layer, 6a, 6b ... Drive circuit, 11 ... Glass substrate, 18 ... Interlayer insulating film, 23 ... Protective insulating film, 23h1, 23h2, 23h3 ... Slit, 27 ... Column shape Spacer, 28: alignment film, 29a, 29b, 29c: moisture-proof member, 51: sealing material, w1, w2, w3, w4, w5, w6, w7, w8: wiring, R1: display area, R2: frame area, X ... row direction, Y ... column direction.

Claims (13)

表示領域と、
前記表示領域を囲む周辺領域と、
前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた無機絶縁膜と、
前記周辺領域において、前記無機絶縁膜の上に設けられた配線と、
前記無機絶縁膜と前記配線に接触し、前記表示領域及び前記周辺領域に設けられた有機絶縁膜と、を有するアレイ基板と、
前記アレイ基板に対向して配置される対向基板と、
前記アレイ基板と前記対向基板とを接合するシール材と、を備え、
前記配線は、前記周辺領域に位置するパッドと電気的に接続し、
前記有機絶縁膜は、前記表示領域に位置し、平面視において少なくとも一部が前記周辺領域と重畳する第1領域と、前記第1領域と離間し前記周辺領域に位置する第2領域と、前記周辺領域に位置し前記第1領域と前記第2領域との間に位置する第3領域と、を有しており、
前記第1領域と前記第3領域との間の第1間隙、及び、前記第3領域と前記第2領域との間の第2間隙において、前記シール材は、前記無機絶縁膜と接触し、
前記表示領域において、前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置するスペーサを有しており、
前記周辺領域の前記パッドが位置する側において、前記アレイ基板と前記対向基板との間に位置し、前記スペーサと同一材料で形成された突起を有しており
平面視において、前記突起は、前記有機絶縁膜の前記第2領域と重畳し、
前記第1間隙及び前記第2間隙の少なくとも一方は、前記表示領域を囲む枠状に形成され、10μm以上の幅を有している、表示装置。
A display area;
A peripheral area surrounding the display area;
An inorganic insulating film provided in the display region and the peripheral region,
In the peripheral region, a wiring provided on the inorganic insulating film,
An array substrate having an organic insulating film provided in the display region and the peripheral region in contact with the inorganic insulating film and the wiring;
A counter substrate disposed to face the array substrate,
A sealing material for joining the array substrate and the counter substrate,
The wiring is electrically connected to a pad located in the peripheral region,
The organic insulating film is located in the display area, at least a portion of the first area overlaps with the peripheral area in a plan view, a second area separated from the first area and located in the peripheral area, A third region located in a peripheral region and located between the first region and the second region;
In a first gap between the first region and the third region, and in a second gap between the third region and the second region, the sealing material contacts the inorganic insulating film;
In the display region, a spacer is provided between the array substrate and the counter substrate,
On the side of the peripheral area where the pad is located, between the array substrate and the counter substrate, and has a protrusion formed of the same material as the spacer ,
In a plan view, the protrusion overlaps with the second region of the organic insulating film,
At least one of the first gap and the second gap is formed in a frame shape surrounding the display area, and has a width of 10 μm or more.
前記配線は、前記パッドから第1方向に延在する第1配線と、前記第1配線と交差する方向に延在する第2配線と、を有しており、
前記パッドが位置する側においては、前記第1配線は、前記第1間隙及び前記第2間隙の少なくとも一方と交差する、請求項1に記載の表示装置。
The wiring has a first wiring extending in a first direction from the pad, and a second wiring extending in a direction intersecting with the first wiring.
The display device according to claim 1, wherein on a side where the pad is located, the first wiring intersects at least one of the first gap and the second gap.
さらに、前記無機絶縁膜は、第1無機絶縁膜と、前記第1無機絶縁膜の上に設けられた第2無機絶縁膜と、を有し、
前記第2配線は、前記第1無機絶縁膜と前記第2無機絶縁膜との間に位置し、
前記第1配線は、前記第2無機絶縁膜の上に位置する、請求項2に記載の表示装置。
Further, the inorganic insulating film has a first inorganic insulating film, and a second inorganic insulating film provided on the first inorganic insulating film,
The second wiring is located between the first inorganic insulating film and the second inorganic insulating film,
The display device according to claim 2, wherein the first wiring is located on the second inorganic insulating film.
前記第2配線は、前記第2無機絶縁膜に形成されたスルーホールを介して、前記第1配線と接続する、請求項3に記載の表示装置。   The display device according to claim 3, wherein the second wiring is connected to the first wiring via a through hole formed in the second inorganic insulating film. 前記第1間隙は、前記第2間隙よりも前記表示領域側に位置する請求項1乃至4の何れか1項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the first gap is located closer to the display area than the second gap. 前記シール材は、防湿部材である請求項1乃至5の何れか1項に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the seal member is a moisture-proof member. 前記シール材で囲まれた空間に形成された液晶層をさらに備え、
前記アレイ基板は、少なくとも前記表示領域に形成された配向膜をさらに有し、
前記配向膜の一部は、前記第1間隙及び前記第2間隙の少なくとも一方にまで形成されている請求項1乃至5の何れか1項に記載の表示装置。
Further comprising a liquid crystal layer formed in a space surrounded by the sealing material,
The array substrate further has an alignment film formed at least in the display area,
The display device according to claim 1, wherein a part of the alignment film is formed up to at least one of the first gap and the second gap.
前記配向膜は、防湿部材である請求項7に記載の表示装置。   The display device according to claim 7, wherein the alignment film is a moisture-proof member. さらに、前記第1配線に隣接し、前記第1配線とは異なるパッドから前記第1方向に延在する第3配線を有し、
前記第1間隙及び前記第2間隙の少なくとも一方は、前記第1配線と前記第3配線との間に形成されている、請求項2に記載の表示装置。
A third wiring that is adjacent to the first wiring and extends from the pad different from the first wiring in the first direction;
The display device according to claim 2, wherein at least one of the first gap and the second gap is formed between the first wiring and the third wiring.
前記第1配線及び前記第3配線の一方は、Highレベルの電位を供給する電源配線である、請求項9に記載の表示装置。   The display device according to claim 9, wherein one of the first wiring and the third wiring is a power supply wiring that supplies a High-level potential. 前記前記第1配線及び前記第3配線の他方は、コモン電位を供給する配線である、請求項10に記載の表示装置。   The display device according to claim 10, wherein the other of the first wiring and the third wiring is a wiring that supplies a common potential. 前記突起は、前記パッドが位置する側の前記対向基板の端部と前記シール材との間に位置している、請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the protrusion is located between an end of the counter substrate on a side where the pad is located and the sealing material. 前記突起の一部は、前記シール材と接触している、請求項12に記載の表示装置。   The display device according to claim 12, wherein a part of the protrusion is in contact with the sealing material.
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