JP6658155B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents

Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus Download PDF

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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関する。   The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.

従来の電子写真方式の画像形成装置においては、帯電、静電潜像形成、現像、転写のプロセスを通じて電子写真感光体の表面上に形成したトナー像を記録媒体に転写させる。   In a conventional electrophotographic image forming apparatus, a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member is transferred to a recording medium through processes of charging, forming an electrostatic latent image, developing, and transferring.

例えば、特許文献1には、「転写工程後に感光体表面に残留したトナーがファーブラシにより除去される電子写真感光体であって、前記電子写真感光体は支持基体上に感光層が形成されており、前記感光層は表面付近に電荷発生剤を含有し、前記電荷発生剤を含有する層の露光波長に対する膜厚1μm当たりの吸光度が0.3以上であることを特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。
特許文献2には、「導電性基体上に設けられた下引き層上に、少なくとも電荷発生物質を含む電荷発生層および電荷輸送物質を含む電荷輸送層がこの順で積層された積層型感光層、あるいは電荷発生物質および電荷輸送物質を含む単層型感光層が積層された電子写真感光体であって、前記下引き層が金属酸化物微粒子および結着樹脂を含み、該感光体の最表面層が、少なくとも電荷輸送物質、結着樹脂、および、特定の4フッ化エチレン樹脂微粒子を含み、前記最表面層における結着樹脂が、特定の4フッ化エチレン樹脂微粒子を除いた電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成した電荷輸送層において、25〜35mJ/mm2の範囲の表面自由エネルギー値を示すことを特徴とする電子写真感光体。」が開示されている。
For example, Patent Literature 1 discloses “an electrophotographic photoconductor in which toner remaining on the surface of a photoconductor after a transfer process is removed by a fur brush, wherein the electrophotographic photoconductor has a photosensitive layer formed on a supporting substrate. An electrophotographic photoreceptor, wherein the photosensitive layer contains a charge generating agent in the vicinity of the surface, and the layer containing the charge generating agent has an absorbance of 0.3 or more per 1 μm of film thickness with respect to an exposure wavelength. . "Is disclosed.
Patent Document 2 discloses a “laminated photosensitive layer in which a charge generating layer containing at least a charge generating substance and a charge transporting layer containing a charge transporting substance are laminated in this order on an undercoat layer provided on a conductive substrate. Or an electrophotographic photosensitive member in which a single-layer type photosensitive layer containing a charge generating substance and a charge transporting substance is laminated, wherein the undercoat layer contains metal oxide fine particles and a binder resin, and the outermost surface of the photosensitive body The layer contains at least a charge transport material, a binder resin, and specific tetrafluoroethylene resin fine particles, and the binder resin in the outermost surface layer is a charge transport layer excluding the specific tetrafluoroethylene resin fine particles. An electrophotographic photoreceptor characterized by exhibiting a surface free energy value in the range of 25 to 35 mJ / mm 2 in a charge transport layer formed using a coating liquid for use.

特開2003−228183号公報JP 2003-228183 A 特開2015−114350号公報JP 2015-114350 A

本発明の課題は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式(1)で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが24mN/m未満又は30mN/m超えの感光層を有する場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体を提供することである。   An object of the present invention is to provide a photoconductor having a single-layer photosensitive layer including a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, and an electron transport material represented by the general formula (1). Electrophotography that suppresses the generation of color points that occur when an image is formed, as compared to the case where the photosensitive layer has a surface free energy of less than 24 mN / m or more than 30 mN / m when the outer peripheral surface of the photosensitive layer is measured. It is to provide a photoreceptor.

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
に係る発明は、
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、下記一般式(1)で表される電子輸送材料と、を含み、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが24mN/m以上30mN/m以下である感光層と、
を有する電子写真感光体。


(一般式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、及びR17は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。R18は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)
The above problem is solved by the following means. That is,
The invention according to < 1 > ,
A conductive substrate;
A single-layer photosensitive layer provided on the conductive substrate, wherein the binder resin, the charge generation material, the hole transport material, and the electron transport material represented by the following general formula (1): A photosensitive layer having a surface free energy of 24 mN / m or more and 30 mN / m or less when measuring the outer peripheral surface side of the photosensitive layer;
An electrophotographic photosensitive member having:


(In the general formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, R 18 represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.)

に係る発明は、
前記感光層の表面粗さSaが4.5nm以上6.0nm以下である1に記載の電子写真感光体。
The invention according to < 2 > ,
2. The electrophotographic photosensitive member according to < 1, wherein the photosensitive layer has a surface roughness Sa of 4.5 nm or more and 6.0 nm or less.

<3>に係る発明は、
<1>又は<2>に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
The invention according to <3> ,
Provided with the electrophotographic photosensitive member according to <1> or <2> ,
A process cartridge that is attached to and detached from the image forming apparatus.

<4>に係る発明は、
<1>又は<2>に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
The invention according to <4> ,
An electrophotographic photosensitive member according to <1> or <2> ,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor,
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member,
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor to form a toner image with a developer containing toner;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of a recording medium,
An image forming apparatus comprising:

に係る発明によれば、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式(1)で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが24mN/m未満又は30mN/m超えの感光層を有する場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体が提供される。
According to the invention according to < 1 > , there is provided a single-layer photosensitive layer including a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, and an electron transport material represented by the general formula (1). Compared to the case where the photoreceptor has a photosensitive layer having a surface free energy of less than 24 mN / m or more than 30 mN / m when the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is measured, generation of a color point caused when an image is formed is reduced. An electrophotographic photoreceptor is provided that suppresses.

に係る発明によれば、前記感光層の表面粗さSaが4.5nm未満又は6.0nm超えの場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する電子写真感光体が提供される。
According to the invention according to < 2 > , compared with the case where the surface roughness Sa of the photosensitive layer is less than 4.5 nm or more than 6.0 nm, the electrophotographic photosensitive member that suppresses the generation of a color point that occurs when an image is formed. A body is provided.

<3>又は<4>に係る発明によれば、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式(1)で表される電子輸送材料と、を含む単層型の感光層を有する感光体において、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが24mN/m未満又は30mN/m超えの感光層を有する電子写真感光体を適用した場合に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制するプロセスカートリッジ、又は画像形成装置が提供される。
According to the invention according to <3> or <4> , a single-layer type including a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, and an electron transport material represented by the general formula (1) is provided. In the photoreceptor having a photosensitive layer, the surface free energy measured on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is less than 24 mN / m or more than 30 mN / m. The present invention provides a process cartridge or an image forming apparatus that suppresses the occurrence of a color point that occurs when forming an image.

本実施形態に係る電子写真感光体を示す概略部分断面図である。FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view illustrating the electrophotographic photosensitive member according to the exemplary embodiment. 本実施形態における浸漬塗布装置を示す概略構成図である。It is a schematic structure figure showing the dip coating device in this embodiment. 本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating an image forming apparatus according to an embodiment. 他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram illustrating an image forming apparatus according to another embodiment.

以下、本発明の一例である実施形態について詳細に説明する。   Hereinafter, an embodiment which is an example of the present invention will be described in detail.

<電子写真感光体>
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び一般式(1)で表される電子輸送材料を含む感光層と、を有する。
そして、前記感光層は、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギー(以下、「感光層の外周面側の表面自由エネルギー」とも称する)が24mN/m以上30mN/m以下である。
<Electrophotographic photoreceptor>
The electrophotographic photoreceptor according to the present embodiment is a conductive substrate, a single-layer type photosensitive layer provided on the conductive substrate, a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, and a general formula A photosensitive layer containing the electron transporting material represented by (1).
The photosensitive layer has a surface free energy of 24 mN / m or more and 30 mN / m or less when the surface free energy of the photosensitive layer measured on the outer peripheral surface side (hereinafter, also referred to as “surface free energy of the photosensitive layer on the outer peripheral surface side”) is measured. is there.

従来、電子写真感光体(以下、「感光体」とも称する)としては、製造コスト及び画質安定性の観点から、単層型の感光層を有する感光体(単層型感光体)が望ましい。単層型感光体は、電荷発生能と、電荷輸送能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有するため、積層型感光体ほどの感度が得られにくい。しかし、近年の高画質化の要求に伴い、単層型感光体には更なる高感度化が求められている。
単層型感光体の感度を向上させるため、高い電荷輸送能を持つ、例えば一般式(1)で表される電子輸送材料を用いた感光体が知られている。しかし、上記電子輸送材料を用いた単層型感光体では、高い感度が得られるものの、感光体の帯電時に局所的な電荷の漏れ(以下、「電荷リーク」とも称する)が生じることがあり、この電荷リークに起因して、画像に色点が発生することがある。
電荷リークの発生は、例えば、吸湿性の高い填料(例えば、用紙の填料(炭酸カルシウム、カオリン、シリカ)が感光体表面に付着し、その箇所から電荷が注入されることで引き起こされると考えられている。
この感光体表面への填料の付着性は、感光体の表面自由エネルギーが低いほど抑制される傾向にあるため、填料の付着を抑制する観点から、上記表面自由エネルギーは低いほど望ましい。しかし、感光体の表面自由エネルギーを低くすると、感光体本来の機能である、感光体へのトナーの付着性、及び転写部材へのトナーの転写性(以下、「トナーの付着性及び転写性」とも称する)が低下しやすくなる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as an electrophotographic photoreceptor (hereinafter, also referred to as a “photoreceptor”), a photoreceptor having a single-layer type photosensitive layer (single-layer type photoreceptor) is desirable from the viewpoint of production cost and image quality stability. Since the single-layer type photoreceptor has a function-integrated type photosensitive layer having both charge generation ability and charge transport ability, it is difficult to obtain sensitivity as high as a stacked type photoreceptor. However, with the recent demand for higher image quality, single layer type photoconductors are required to have higher sensitivity.
In order to improve the sensitivity of the single-layer type photoreceptor, a photoreceptor using an electron transporting material having high charge transporting ability, for example, represented by the general formula (1) is known. However, in the single-layer photoconductor using the electron transport material, although high sensitivity is obtained, local charge leakage (hereinafter, also referred to as “charge leakage”) may occur when the photoconductor is charged, Due to this charge leak, a color point may occur in an image.
The charge leakage is considered to be caused by, for example, a highly hygroscopic filler (for example, a filler (calcium carbonate, kaolin, silica) of paper) adhering to the surface of the photoreceptor and injecting charges from that location. ing.
The lower the surface free energy of the photoreceptor is, the lower the surface free energy of the photoreceptor tends to be. The lower the surface free energy is, the more preferable the surface free energy is. However, if the surface free energy of the photoreceptor is reduced, toner adhesion to the photoreceptor and toner transferability to the transfer member (hereinafter, “toner adhesion and transferability”) (Also referred to as).

これに対し、本実施形態に係る感光体では、感光層に、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式(1)で表される電子輸送材料(以下、「特定の電子輸送材料」とも称する)と、を含ませた上で、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを24mN/m以上30mN/m以下の範囲まで低減する。これにより、感光体表面(本実施形態では感光層)に填料が付着しにくくなる。また、感光体本来の機能も確保される。
従って、本実施形態に係る感光体によれば、感光層への填料の付着が抑制されるため、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生が抑制される。この結果、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されることとなる。
On the other hand, in the photoreceptor according to the present embodiment, the photosensitive layer includes a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, and an electron transport material represented by the general formula (1) (hereinafter, “specified”). And the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is reduced to a range of 24 mN / m or more and 30 mN / m or less. This makes it difficult for the filler to adhere to the photoconductor surface (the photosensitive layer in the present embodiment). In addition, the original function of the photoconductor is secured.
Therefore, according to the photoreceptor according to the present embodiment, since the attachment of the filler to the photosensitive layer is suppressed, the occurrence of local charge leakage caused by the attachment of the filler is suppressed. As a result, the generation of color points that occur when an image is formed is suppressed.

また、感光層への填料の付着は、高湿環境下(例えば80%RH)で顕著に生じやすい。しかし、本実施形態に係る感光体によれば、高湿環境下においても、感光層に填料が付着しにくくなるため、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生が抑制され、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制される。   Further, the attachment of the filler to the photosensitive layer is liable to occur remarkably in a high humidity environment (for example, 80% RH). However, according to the photoreceptor according to the present embodiment, even in a high-humidity environment, the filler is less likely to adhere to the photosensitive layer, so that the occurrence of local charge leakage caused by the adhesion of the filler is suppressed. In addition, the occurrence of color points that occur when an image is formed is suppressed.

なお、感光層に一般式(1)で表される電子輸送材料(特定の電子輸送材料)を含ませた単層型感光体では、通常、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを24mN/m以上30mN/m以下まで低減すると、感光体本来の機能であるトナーの付着性、及び転写性が確保されにくくなるが、本実施形態の感光体によれば、その感光体本来の機能も確保される。
この理由は、定かではないが、以下に示す理由によるものと考えられる。
本実施形態では、感光層の外周面側の表面自由エネルギーの低減化を実現するため、感光層の表面側(外周面側)において、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料を適度に偏在させ、又は凝集させるように感光層を作製している。つまり、この感光層の表面側に偏在又は凝集して存在する材料(電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料)が上記表面自由エネルギーの低減化に寄与すると共に、感光体本来の機能の確保にも寄与していると考えられる。
In the case of a single-layer type photoconductor in which the electron transporting material (specific electron transporting material) represented by the general formula (1) is contained in the photosensitive layer, the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is usually 24 mN / When it is reduced to not less than m and not more than 30 mN / m, it becomes difficult to secure the toner adhesion and transferability, which are the original functions of the photoconductor. However, according to the photoconductor of the present embodiment, the original function of the photoconductor is also ensured. Is done.
The reason for this is not clear, but is presumed to be as follows.
In the present embodiment, in order to reduce the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer, the charge generating material, the hole transport material, and the specific electron transport material are provided on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer. The photosensitive layer is prepared such that is unevenly distributed or aggregated. That is, the materials (charge generating material, hole transporting material, and specific electron transporting material) unevenly distributed or agglomerated on the surface side of the photosensitive layer contribute to the reduction of the surface free energy, and the photoreceptor itself It is thought that it has also contributed to securing the functions of

−感光層の表面自由エネルギー−
本実施形態に係る感光体において、感光層の外周面側の表面自由エネルギーは、上述の通り、24mN/m以上30mN/m以下であるが、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する観点から、好ましくは24mN/m以上28mN/m以下、より好ましくは24mN/m以上25mN/m以下である。
-Surface free energy of photosensitive layer-
In the photoreceptor according to the present embodiment, the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is 24 mN / m or more and 30 mN / m or less as described above, but the generation of color points that occur when an image is formed is suppressed. From the viewpoint of performing, it is preferably from 24 mN / m to 28 mN / m, and more preferably from 24 mN / m to 25 mN / m.

感光層の外周面の側の表面自由エネルギーは以下の方法により測定される。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、温度25℃、湿度50%RH環境下にて、各成分の表面自由エネルギーが既知である試薬(純水、ヨウ化メチレン、α−ブロモナフタレン)を使用し、ポータブル接触角計PCA−1型(協和界面(株)製)を使用して、上記各試薬の「感光層の外周面の側での接触角」測定し、同社製表面自由エネルギー解析ソフトFAMASにて、感光層の外周面の側の表面自由エネルギー算出する。
Surface free energy of the side of the outer peripheral surface of the photosensitive layer is measured by the following method.
First, the photosensitive layer is peeled off from the photoreceptor to be measured, and a small piece is cut out to prepare a measurement sample. Next, at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 50% RH, using a reagent (pure water, methylene iodide, α-bromonaphthalene) having a known surface free energy of each component, a portable contact angle meter PCA- Using a Type 1 (manufactured by Kyowa Interface Co., Ltd.), the "contact angle on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer" of each of the above reagents was measured, and the surface free energy analysis software FAMAS manufactured by the company was used to measure the sensitivity of the photosensitive layer. The surface free energy on the side of the outer peripheral surface is calculated.

−感光層の表面粗さSa−
本実施形態に係る感光体において、感光層の表面粗さSaは、画像を形成したときに生じる色点の発生を抑制する観点から、好ましくは4.5nm以上6.0nm以下、より好ましくは5.0nm以上6.0nm以下、更に好ましくは5.5nm以上6.0nm以下である。
ここで、本実施形態における感光層の表面粗さSaとは、三次元表面性状国際規格であるISO25178にて規格化された表面粗さの指標である。
-Surface roughness of photosensitive layer Sa-
In the photoreceptor according to the exemplary embodiment, the surface roughness Sa of the photosensitive layer is preferably 4.5 nm or more and 6.0 nm or less, more preferably 5 nm or less, from the viewpoint of suppressing generation of a color point generated when an image is formed. It is not less than 0.0 nm and not more than 6.0 nm, and more preferably not less than 5.5 nm and not more than 6.0 nm.
Here, the surface roughness Sa of the photosensitive layer in the present embodiment is an index of the surface roughness standardized by ISO25178, which is an international standard for three-dimensional surface texture.

表面粗さSaを上記範囲とすることにより、感光層の表面側において、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料が適度に偏在又は凝集して存在しやすくなるため、感光層の外周面側の表面自由エネルギーが上記範囲を満たしやすくなる。
これにより、感光層に填料がより付着しにくくなり、上記填料の付着に起因して生じる局所的な電荷リークの発生がより抑制されやすくなる。この結果、画像を形成したときに生じる色点の発生がより抑制されやすくなる。
また、表面粗さSaを上記範囲とすることにより、感光層の表面側における上記材料(電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料)の適度な偏在又は凝集状態により、感光体本来の機能も確保されやすくなると考えられる。
なお、感光層の表面粗さSaを上記範囲に制御する方法については後述する。
When the surface roughness Sa is in the above range, the charge generation material, the hole transport material, and the specific electron transport material are likely to be appropriately unevenly or aggregated on the surface side of the photosensitive layer. , The surface free energy on the outer peripheral surface side easily falls within the above range.
As a result, the filler is less likely to adhere to the photosensitive layer, and the occurrence of local charge leakage caused by the adhesion of the filler is more easily suppressed. As a result, generation of color points that occur when an image is formed is more easily suppressed.
Further, by setting the surface roughness Sa within the above range, the photosensitive material is appropriately unevenly distributed or aggregated on the surface side of the photosensitive layer (the charge generation material, the hole transport material, and the specific electron transport material). It is thought that the original function is easily secured.
The method for controlling the surface roughness Sa of the photosensitive layer to the above range will be described later.

感光層の表面粗さSaは以下の方法により測定される。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、走査型プローブ顕微鏡(SPM)としての走査型プローブ顕微鏡AFM−5200S((株)日立ハイテクサイエンス製)を用いて、片持ちバネ(カンチレバー)のたわみ量が一定になるように深針及び試料間距離(Z)を制御しながら、水平(50μm(X)、50μm(Y))に走査することで感光層の外周面側の表面粗さSaを測定する。
The surface roughness Sa of the photosensitive layer is measured by the following method.
First, the photosensitive layer is peeled off from the photoreceptor to be measured, and a small piece is cut out to prepare a measurement sample. Next, using a scanning probe microscope AFM-5200S (manufactured by Hitachi High-Tech Science Corp.) as a scanning probe microscope (SPM), a deep needle and a cantilever are used so that the amount of deflection of the cantilever is constant. By scanning horizontally (50 μm (X), 50 μm (Y)) while controlling the inter-sample distance (Z), the surface roughness Sa on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is measured.

以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図1は、本実施形態に係る電子写真感光体10の一部の断面を概略的に示している。
図1に示した電子写真感光体10は、例えば、導電性基体3を備え、導電性基体3上に、下引層1及び単層型の感光層2がこの順で設けられている。
なお、下引層1は、必要に応じて設けられる層である。即ち、単層型の感光層2は、導電性基体3上に直接設けられていてもよく、下引層1を介して設けられてもよい。
Hereinafter, the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 schematically shows a cross section of a part of an electrophotographic photosensitive member 10 according to the present embodiment.
The electrophotographic photoreceptor 10 shown in FIG. 1 includes, for example, a conductive base 3, and an undercoat layer 1 and a single-layer type photosensitive layer 2 are provided on the conductive base 3 in this order.
The undercoat layer 1 is a layer provided as needed. That is, the single-layer type photosensitive layer 2 may be provided directly on the conductive substrate 3 or may be provided via the undercoat layer 1.

以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。   Hereinafter, each layer of the electrophotographic photosensitive member according to the exemplary embodiment will be described in detail. The description will be omitted with reference numerals omitted.

(導電性基体)
導電性基体としては、例えば、金属(アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等)又は合金(ステンレス鋼等)を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物(例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等)、金属(例えばアルミニウム、パラジウム、金等)又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が1013Ωcm未満であることをいう。
(Conductive substrate)
Examples of the conductive substrate include a metal plate containing a metal (aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or an alloy (stainless steel, etc.), a metal drum, a metal belt, and the like. Is mentioned. Examples of the conductive substrate include paper, resin films, belts, and the like, on which a conductive compound (for example, a conductive polymer, indium oxide, or the like), a metal (for example, aluminum, palladium, gold, or the like) or an alloy is applied, deposited, or laminated. Are also mentioned. Here, “conductive” means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さRaで0.04μm以上0.5μm以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。   When the electrophotographic photosensitive member is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm or less for the purpose of suppressing interference fringes generated when irradiating laser light. The surface is preferably roughened below. In the case where non-interfering light is used as a light source, roughening for preventing interference fringes is not particularly necessary. However, since generation of defects due to irregularities on the surface of the conductive substrate is suppressed, it is suitable for longer life.

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。   Examples of the surface roughening method include wet honing performed by suspending an abrasive in water and spraying the conductive substrate, and centerless grinding in which the conductive substrate is pressed against a rotating grindstone to perform continuous grinding. And anodizing treatment.

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。   As a method of surface roughening, without roughening the surface of the conductive substrate, a conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin to form a layer on the surface of the conductive substrate, A method of roughening the surface with particles dispersed in the layer may also be used.

陽極酸化による粗面化処理は、金属製(例えばアルミニウム製)の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中(ニッケル等の金属塩を加えてもよい)で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。   The surface roughening treatment by anodic oxidation is to form an oxide film on the surface of the conductive substrate by performing anodic oxidation in an electrolyte solution using a conductive substrate made of metal (for example, aluminum) as an anode. Examples of the electrolyte solution include a sulfuric acid solution and an oxalic acid solution. However, the porous anodic oxide film formed by anodic oxidation is chemically active as it is, is easily contaminated, and has a large resistance fluctuation due to the environment. Therefore, the pores of the oxide film are blocked by the volume expansion due to the hydration reaction with pressurized steam or boiling water (or a metal salt such as nickel may be added) with respect to the porous anodic oxide film. It is preferable to perform a sealing treatment for changing the material.

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、0.3μm以上15μm以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。   The thickness of the anodic oxide film is preferably, for example, 0.3 μm or more and 15 μm or less. When the film thickness is within the above range, a barrier property against injection tends to be exhibited, and an increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が10質量%以上11質量%以下の範囲、クロム酸が3質量%以上5質量%以下の範囲、フッ酸が0.5質量%以上2質量%以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は13.5質量%以上18質量%以下の範囲がよい。処理温度は例えば42℃以上48℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、0.3μm以上15μm以下が好ましい。
The conductive substrate may be subjected to treatment with an acidic treatment liquid or boehmite treatment.
The treatment with the acidic treatment liquid is performed, for example, as follows. First, an acidic treatment solution containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is, for example, in the range of 10% by mass to 11% by mass of phosphoric acid, in the range of 3% by mass to 5% by mass of chromic acid, The range is 0.5% by mass or more and 2% by mass or less, and the concentration of these acids as a whole is preferably 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The processing temperature is preferably, for example, 42 ° C. or more and 48 ° C. or less. The thickness of the coating is preferably 0.3 μm or more and 15 μm or less.

ベーマイト処理は、例えば90℃以上100℃以下の純水中に5分から60分間浸漬すること、又は90℃以上120℃以下の加熱水蒸気に5分から60分間接触させて行う。被膜の膜厚は、0.1μm以上5μm以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。   The boehmite treatment is performed, for example, by immersing in pure water at 90 ° C. or more and 100 ° C. or less for 5 minutes to 60 minutes, or by contacting with heated steam at 90 ° C. to 120 ° C. for 5 minutes to 60 minutes. The thickness of the coating is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This is further anodized using an electrolyte solution having low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. Good.

(下引層)
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
(Undercoat layer)
The undercoat layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗(体積抵抗率)10Ωcm以上1011Ωcm以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
Examples of the inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm to 10 11 Ωcm.
Among these, as the inorganic particles having the above resistance value, for example, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zinc oxide particles are particularly preferable.

無機粒子のBET法による比表面積は、例えば、10m/g以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、50nm以上2000nm以下(好ましくは60nm以上1000nm以下)がよい。
The specific surface area of the inorganic particles determined by the BET method is preferably, for example, 10 m 2 / g or more.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, preferably from 50 nm to 2000 nm (preferably from 60 nm to 1000 nm).

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、10質量%以上80質量%以下であることが好ましく、より好ましくは40質量%以上80質量%以下である。   The content of the inorganic particles is, for example, preferably from 10% by mass to 80% by mass, more preferably from 40% by mass to 80% by mass, based on the binder resin.

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを2種以上混合して用いてもよい。   The inorganic particles may have been subjected to a surface treatment. Inorganic particles having different surface treatments or particles having different particle diameters may be used as a mixture of two or more kinds.

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。   Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum coupling agent, and a surfactant. Particularly, a silane coupling agent is preferable, and a silane coupling agent having an amino group is more preferable.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Examples of the silane coupling agent having an amino group include 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, and N-2- (aminoethyl) -3-amino Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.

シランカップリング剤は、2種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Two or more silane coupling agents may be used as a mixture. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used in combination. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycol Sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- ( Aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like, but are not limited thereto. Not something.

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。   The surface treatment method using the surface treatment agent may be any known method, and may be either a dry method or a wet method.

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して0.5質量%以上10質量%以下が好ましい。   The treatment amount of the surface treatment agent is preferably, for example, 0.5% by mass or more and 10% by mass or less based on the inorganic particles.

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物(アクセプター化合物)を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。   Here, the undercoat layer preferably contains an electron-accepting compound (acceptor compound) together with the inorganic particles, from the viewpoint of increasing the long-term stability of electric characteristics and the carrier blocking property.

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物;2,4,7−トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ−9−フルオレノン等のフルオレノン化合物;2−(4−ビフェニル)−5−(4−t−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;キサントン系化合物;チオフェン化合物;3,3’,5,5’テトラ−t−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物;等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
Examples of the electron-accepting compound include quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, and the like. 2- (4-biphenyl) -5- (4-t-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (4-naphthyl) -1,3,4- Oxadiazole compounds such as oxadiazole and 2,5-bis (4-diethylaminophenyl) -1,3,4oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; 3,3 ', 5,5'tetra- electron transporting substances such as diphenoquinone compounds such as t-butyl diphenoquinone;
In particular, a compound having an anthraquinone structure is preferable as the electron accepting compound. As the compound having an anthraquinone structure, for example, a hydroxyanthraquinone compound, an aminoanthraquinone compound, an aminohydroxyanthraquinone compound and the like are preferable, and specifically, for example, anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthralphine, purpurin and the like are preferable.

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。   The electron-accepting compound may be contained in the undercoat layer in a state of being dispersed together with the inorganic particles, or may be contained in a state of being attached to the surface of the inorganic particles.

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。   Examples of a method for attaching the electron accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。   In the dry method, for example, while stirring inorganic particles with a mixer or the like having a large shearing force, an electron-accepting compound dissolved directly or dissolved in an organic solvent is dropped and sprayed together with dry air or nitrogen gas to form the electron-accepting compound. This is a method of attaching to the surface of inorganic particles. When the electron-accepting compound is dropped or sprayed, the temperature is preferably lower than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be performed at 100 ° C. or more. The printing is not particularly limited as long as the temperature and the time at which the electrophotographic characteristics can be obtained.

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に100℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。   The wet method includes, for example, stirring, ultrasonic waves, a sand mill, an attritor, a ball mill, etc., while dispersing the inorganic particles in a solvent, adding an electron-accepting compound, stirring or dispersing, removing the solvent, In this method, a receptive compound is attached to the surface of inorganic particles. The solvent is removed by filtration or distillation, for example. After removing the solvent, baking may be performed at 100 ° C. or more. The printing is not particularly limited as long as the temperature and the time at which the electrophotographic characteristics can be obtained. In the wet method, the water content of the inorganic particles may be removed before the addition of the electron-accepting compound, and examples thereof include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing by azeotropic distillation with the solvent. No.

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。   The attachment of the electron-accepting compound may be performed before or after the surface treatment with the surface-treating agent is performed on the inorganic particles, or may be performed simultaneously with the attachment of the electron-accepting compound and the surface treatment with the surface-treating agent.

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して0.01質量%以上20質量%以下がよく、好ましくは0.01質量%以上10質量%以下である。   The content of the electron-accepting compound is, for example, preferably from 0.01% by mass to 20% by mass, and more preferably from 0.01% by mass to 10% by mass, based on the inorganic particles.

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物;ジルコニウムキレート化合物;チタニウムキレート化合物;アルミニウムキレート化合物;チタニウムアルコキシド化合物;有機チタニウム化合物;シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂(例えばポリアニリン等)等も挙げられる。
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include an acetal resin (for example, polyvinyl butyral), a polyvinyl alcohol resin, a polyvinyl acetal resin, a casein resin, a polyamide resin, a cellulose resin, a gelatin, a polyurethane resin, a polyester resin, and an unsaturated polyester. Resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, Known polymer compounds such as urethane resin, alkyd resin, epoxy resin, etc .; zirconium chelate compound; titanium chelate compound; aluminum chelate compound; titanium alkoxide compound ; Organic titanium compounds; known materials silane coupling agent, and the like.
Examples of the binder resin used for the undercoat layer include a charge-transporting resin having a charge-transporting group, and a conductive resin (for example, polyaniline).

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも1種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を2種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
Among these, as the binder resin used for the undercoat layer, a resin that is insoluble in the coating solvent of the upper layer is preferable, and in particular, urea resin, phenol resin, phenol-formaldehyde resin, melamine resin, urethane resin, and unsaturated polyester Thermosetting resin such as resin, alkyd resin, epoxy resin; at least one resin selected from the group consisting of polyamide resin, polyester resin, polyether resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl alcohol resin and polyvinyl acetal resin; Resins obtained by reaction with a curing agent are preferred.
When two or more of these binder resins are used in combination, the mixing ratio is set as necessary.

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
The undercoat layer may contain various additives for improving electric characteristics, environmental stability, and image quality.
Examples of the additive include known materials such as a polycyclic fused system, an electron transporting pigment such as an azo system, a zirconium chelate compound, a titanium chelate compound, an aluminum chelate compound, a titanium alkoxide compound, an organic titanium compound, and a silane coupling agent. Can be The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, but may be further added to the undercoat layer as an additive.

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピル−トリス(2−メトキシエトキシ)シラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルメトキシシラン、N,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the silane coupling agent as an additive include vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris (2-methoxyethoxy) silane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, Glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropylmethylmethoxysilane, N, N-bis (2-hydroxyethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, and the like.

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。   As the zirconium chelate compound, for example, zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, acetylacetonate zirconium butoxide, ethyl zirconium butoxide acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octoate, Examples include zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, zirconium butoxide methacrylate, zirconium butoxide stearate, zirconium butoxide isostearate, and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ(2−エチルヘキシル)チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。   Examples of the titanium chelate compound include tetraisopropyl titanate, tetranormal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra (2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt , Titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanol aminate, polyhydroxytitanium stearate and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス(エチルアセトアセテート)等が挙げられる。   Examples of the aluminum chelate compound include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethyl acetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris (ethylacetoacetate).

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。   These additives may be used alone or as a mixture or a polycondensate of a plurality of compounds.

下引層は、ビッカース硬度が35以上であることがよい。
下引層の表面粗さ(十点平均粗さ)は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの1/(4n)(nは上層の屈折率)から1/2までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or more.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer ranges from 1 / (4n) (n is the refractive index of the upper layer) to 1/2 of the exposure laser wavelength λ used to suppress moire images. It is good to be adjusted to.
Resin particles and the like may be added to the undercoat layer for adjusting the surface roughness. Examples of the resin particles include silicone resin particles and cross-linked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished for adjusting the surface roughness. Examples of the polishing method include buffing, sand blasting, wet honing, and grinding.

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。   The formation of the undercoat layer is not particularly limited, and a well-known forming method is used.For example, a coating film of a coating liquid for forming an undercoat layer obtained by adding the above components to a solvent is formed, and the coating film is dried. Then, heating is performed as necessary.

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
As a solvent for preparing the coating liquid for forming the undercoat layer, known organic solvents, for example, alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents Solvents, ester solvents and the like.
Specific examples of these solvents include, for example, methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methylcellosolve, ethylcellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Usable organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, and toluene.

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。   Examples of the method of dispersing the inorganic particles when preparing the coating liquid for forming the undercoat layer include known methods such as a roll mill, a ball mill, a vibration ball mill, an attritor, a sand mill, a colloid mill, and a paint shaker.

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。   Examples of the method of applying the coating liquid for forming an undercoat layer on a conductive substrate include a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, and a curtain coating method. And the like.

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは15μm以上、より好ましくは20μm以上50μm以下の範囲内に設定される。   The thickness of the undercoat layer is set, for example, preferably in a range of 15 μm or more, more preferably in a range of 20 μm or more and 50 μm or less.

(中間層)
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂(例えばポリビニルブチラール等)、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
(Intermediate layer)
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
The intermediate layer is, for example, a layer containing a resin. Examples of the resin used for the intermediate layer include, for example, acetal resin (for example, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, casein resin, polyamide resin, cellulose resin, gelatin, polyurethane resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, Polymer compounds such as polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resin, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, and melamine resin are exemplified.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used for the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese, and silicon.
The compounds used for these intermediate layers may be used alone or as a mixture or a polycondensate of a plurality of compounds.

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。   Among them, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing a zirconium atom or a silicon atom.

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
The formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known forming method is used.For example, a coating film of the coating solution for forming an intermediate layer in which the above components are added to a solvent is formed, and the coating film is dried and dried. It is performed by heating according to.
As a coating method for forming the intermediate layer, a usual method such as a dip coating method, a push-up coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method, and a curtain coating method is used.

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは0.1μm以上3μm以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。   The thickness of the intermediate layer is, for example, preferably set in a range of 0.1 μm or more and 3 μm or less. In addition, you may use an intermediate | middle layer as an undercoat layer.

(単層型の感光層)
本実施形態における単層型の感光層は、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、一般式(1)で表される電子輸送材料(特定の電子輸送材料)と、必要に応じてその他添加剤と、を含む。以下、単層型の感光層に含まれる各成分について詳細に説明する。
(Single-layer type photosensitive layer)
The single-layer type photosensitive layer according to this embodiment includes a binder resin, a charge generation material, a hole transport material, an electron transport material represented by the general formula (1) (a specific electron transport material), and And other additives as required. Hereinafter, each component contained in the single-layer type photosensitive layer will be described in detail.

−結着樹脂−
結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、色点の発生を抑制の観点から、ポリカーボネート樹脂が好ましく、色点の発生を抑制と共に感光層の成膜性の観点から、例えば、粘度平均分子量30000以上80000以下のポリカーボネート樹脂がより好ましい。
感光層の全固形分に対する結着樹脂の含有量は、35質量%以上60質量%以下、望ましくは20質量%以上35質量%以下である。
-Binder resin-
Although there is no particular limitation on the binder resin, for example, polycarbonate resin, polyester resin, polyarylate resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene-butadiene Copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd Resins, poly-N-vinyl carbazole, polysilane, and the like are included. These binder resins may be used alone or in combination of two or more.
Among these binder resins, particularly, a polycarbonate resin is preferable from the viewpoint of suppressing the generation of a color point, and from the viewpoint of suppressing the generation of a color point and forming a photosensitive layer, for example, has a viscosity average molecular weight of 30,000 or more and 80,000. The following polycarbonate resins are more preferred.
The content of the binder resin based on the total solid content of the photosensitive layer is 35% by mass or more and 60% by mass or less, preferably 20% by mass or more and 35% by mass or less.

ここで、結着樹脂の粘度平均分子量の測定は、以下の一点測定法が用いられる。
まず、測定対象となる感光体から感光層を剥がし取り、小片を切り出して測定用試料を準備する。次に、測定試料から結着樹脂を抽出する。抽出した結着樹脂1g分をメチレンクロライド100cmに溶解し、25℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηspを測定する。そして、ηsp/c=〔η〕+0.45〔η〕cの関係式(ただしcは濃度(g/cm)より極限粘度〔η〕(cm/g)を求め、H.Schnellによって与えられている式、〔η〕=1.23×10−4Mv0.83の関係式より粘度平均分子量Mvを求める。
Here, the following one-point measurement method is used for measuring the viscosity average molecular weight of the binder resin.
First, the photosensitive layer is peeled off from the photoreceptor to be measured, and a small piece is cut out to prepare a measurement sample. Next, a binder resin is extracted from the measurement sample. 1 g of the extracted binder resin is dissolved in 100 cm 3 of methylene chloride, and its specific viscosity ηsp is measured with an Ubbelohde viscometer in a measurement environment at 25 ° C. Then, the intrinsic viscosity [η] (cm 3 / g) is obtained from the relational expression of ηsp / c = [η] +0.45 [η] 2 c (where c is the concentration (g / cm 3 ), and H. Schnell The viscosity average molecular weight Mv is determined from the given equation, [η] = 1.23 × 10 −4 Mv 0.83 .

−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料;ピロロピロール顔料;フタロシアニン顔料;酸化亜鉛;三方晶系セレン等が挙げられる。
-Charge generation material-
Examples of the charge generation material include azo pigments such as bisazo and trisazo; condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments; phthalocyanine pigments; zinc oxide; and trigonal selenium.

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平5−263007号公報、特開平5−279591号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン;特開平5−98181号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン;特開平5−140472号公報、特開平5−140473号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン;特開平4−189873号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。   Among these, in order to cope with laser exposure in the near infrared region, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279951; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181; Dichlorotin phthalocyanine disclosed in JP-A-140472 and JP-A-5-140473; and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873 and the like are more preferred.

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;チオインジゴ系顔料;ポルフィラジン化合物;酸化亜鉛;三方晶系セレン;特開2004−78147号公報、特開2005−181992号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。   On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near ultraviolet region, as a charge generation material, condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; trigonal selenium; Bisazo pigments disclosed in JP-A-2004-78147 and JP-A-2005-181992 are preferred.

すなわち電荷発生材料としては、例えば380nm以上500nmの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が好ましく、700nm以下800nmの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。   That is, as the charge generation material, for example, when a light source having an exposure wavelength of 380 nm or more and 500 nm is used, an inorganic pigment is preferable, and when a light source having an exposure wavelength of 700 nm or less and 800 nm is used, metal and metal-free phthalocyanine pigments are preferable.

ここで、電荷発生材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも1種が好ましく、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより好ましい。   Here, as the charge generation material, at least one selected from hydroxygallium phthalocyanine pigments and chlorogallium phthalocyanine pigments is preferable, and hydroxygallium phthalocyanine pigments are more preferable, from the viewpoint of increasing the sensitivity of the single-layer photoreceptor.

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、V型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、600nm以上900nm以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
The hydroxygallium phthalocyanine pigment is not particularly limited, but a V-type hydroxygallium phthalocyanine pigment is preferred.
In particular, as the hydroxygallium phthalocyanine pigment, for example, a hydroxygallium phthalocyanine pigment having a maximum peak wavelength in a range of 810 nm to 839 nm in a spectral absorption spectrum in a wavelength range of 600 nm to 900 nm can obtain more excellent dispersibility. Desirable from a viewpoint. When used as a material for an electrophotographic photoreceptor, excellent dispersibility and sufficient sensitivity, chargeability and dark decay characteristics are easily obtained.

また、上記の810nm以上839nm以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、BET比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が0.20μm以下であることが望ましく、0.01μm以上0.15μm以下であることがより望ましく、一方、BET比表面積が45m/g以上であることが望ましく、50m/g以上であることがより望ましく、55m/g以上120m/g以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径(d50平均粒径)でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置(LA−700、堀場製作所社製)にて測定した値である。また、BET式比表面積測定器(島津製作所製:フローソープII2300)を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が0.20μmより大きい場合、又は比表面積値が45m/g未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。
The hydroxygallium phthalocyanine pigment having the maximum peak wavelength in the range of 810 nm to 839 nm preferably has an average particle size in a specific range and a BET specific surface area in a specific range. Specifically, the average particle size is desirably 0.20 μm or less, more desirably 0.01 μm or more and 0.15 μm or less, while the BET specific surface area is desirably 45 m 2 / g or more. , 50 m 2 / g or more, and particularly preferably 55 m 2 / g or more and 120 m 2 / g or less. The average particle size is a value measured by a laser diffraction scattering type particle size distribution analyzer (LA-700, manufactured by HORIBA, Ltd.) using a volume average particle size (d50 average particle size). In addition, it is a value measured by a nitrogen displacement method using a BET type specific surface area measuring device (manufactured by Shimadzu Corporation: Flow Soap II2300).
Here, when the average particle size is larger than 0.20 μm, or when the specific surface area value is less than 45 m 2 / g, the pigment particles are coarsened or an aggregate of the pigment particles tends to be formed. In addition, there is a tendency that defects such as dispersibility, sensitivity, chargeability, and dark decay characteristics tend to occur, which may easily cause image quality defects.

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径(一次粒子径の最大値)は、1.2μm以下であることが望ましく、1.0μm以下であることがより望ましく、より望ましくは0.3μm以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。   The maximum particle size (maximum primary particle size) of the hydroxygallium phthalocyanine pigment is desirably 1.2 μm or less, more desirably 1.0 μm or less, and more desirably 0.3 μm or less. If the maximum particle size exceeds the above range, black spots tend to occur.

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が0.2μm以下、最大粒径が1.2μm以下であり、且つ、比表面積値が45m/g以上であることが望ましい。 The hydroxygallium phthalocyanine pigment has an average particle size of 0.2 μm or less, a maximum particle size of 1.2 μm or less, from the viewpoint of suppressing density unevenness caused by exposing the photoreceptor to a fluorescent lamp or the like, and It is desirable that the specific surface area value be 45 m 2 / g or more.

ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、CuKα特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜、16.0゜、24.9゜、28.0゜に回折ピークを有するV型であることが望ましい。   The hydroxygallium phthalocyanine pigment has a Bragg angle (2θ ± 0.2 °) of at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, 28.0 ° in an X-ray diffraction spectrum using CuKα characteristic X-ray. It is desirable to use a V type having a diffraction peak at

一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度(2θ±0.2°)7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
なお、クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径、及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
On the other hand, as chlorogallium phthalocyanine pigments, for example, Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.4 °, 16.6 °, 25.5 ° and 28, which can provide excellent sensitivity as an electrophotographic photoreceptor material, can be obtained. It is desirable that the compound has a diffraction peak at 0.3 °.
The maximum peak wavelength, average particle size, maximum particle size, and specific surface area of a suitable spectral absorption spectrum of the chlorogallium phthalocyanine pigment are the same as those of the hydroxygallium phthalocyanine pigment.

感光層の全固形分に対する電荷発生材料の含有量は、1質量%以上5質量%以下がよく、好ましくは1.2質量%以上4.5質量%以下である。   The content of the charge generating material with respect to the total solid content of the photosensitive layer is preferably from 1% by mass to 5% by mass, and more preferably from 1.2% by mass to 4.5% by mass.

−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、特に制限はないが、例えば、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体;1,3,5−トリフェニル−ピラゾリン、1−[ピリジル−(2)]−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリン等のピラゾリン誘導体;トリフェニルアミン、N,N′−ビス(3,4−ジメチルフェニル)ビフェニル−4−アミン、トリ(p−メチルフェニル)アミニル−4−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第3級アミノ化合物;N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−N,N′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第3級ジアミノ化合物、3−(4′−ジメチルアミノフェニル)−5,6−ジ−(4′−メトキシフェニル)−1,2,4−トリアジン等の1,2,4−トリアジン誘導体;4−ジエチルアミノベンズアルデヒド−1,1−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体;2−フェニル−4−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体;6−ヒドロキシ−2,3−ジ(p−メトキシフェニル)ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体;p−(2,2−ジフェニルビニル)−N,N−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体;エナミン誘導体;N−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体;ポリ−N−ビニルカルバゾール及びその誘導体等;上記した化合物で構成される基を主鎖又は側鎖に有する重合体;などが挙げられる。これらの正孔輸送材料は、1種又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
−Hole transport material−
The hole transporting material is not particularly limited. For example, oxadiazole derivatives such as 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole; Pyrazoline derivatives such as phenyl-pyrazoline, 1- [pyridyl- (2)]-3- (p-diethylaminostyryl) -5- (p-diethylaminostyryl) pyrazoline; triphenylamine, N, N'-bis (3 Aromatic tertiary amino compounds such as 4-dimethylphenyl) biphenyl-4-amine, tri (p-methylphenyl) aminyl-4-amine and dibenzylaniline; N, N'-bis (3-methylphenyl)- Aromatic tertiary diamino compounds such as N, N'-diphenylbenzidine; 3- (4'-dimethylaminophenyl) -5,6-di- (4'-methoxy 1) 1,2,4-triazine derivatives such as -1,2,4-triazine; hydrazone derivatives such as 4-diethylaminobenzaldehyde-1,1-diphenylhydrazone; quinazoline derivatives such as 2-phenyl-4-styryl-quinazoline A benzofuran derivative such as 6-hydroxy-2,3-di (p-methoxyphenyl) benzofuran; an α-stilbene derivative such as p- (2,2-diphenylvinyl) -N, N-diphenylaniline; an enamine derivative; Carbazole derivatives such as -ethylcarbazole; poly-N-vinylcarbazole and derivatives thereof; polymers having a group composed of the above compounds in the main chain or side chain; These hole transport materials may be used alone or in combination of two or more.

これらの中でも、電荷移動度の観点から、芳香族第3級アミノ化合物がよく、中でも、下記一般式(HT1)で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料、及び下記一般式(HT2)で示されるブタジエン系正孔輸送材料が好ましい。また、トリアリールアミン系正孔輸送材料としては、下記一般式(HT1a)で示されるベンジジン系正孔輸送材料を用いてもよい。   Among these, an aromatic tertiary amino compound is preferred from the viewpoint of charge mobility, and among them, a triarylamine-based hole transporting material represented by the following general formula (HT1) and a tertiary amine-based hole transporting material represented by the following general formula (HT2) Butadiene-based hole transport materials are preferred. As the triarylamine-based hole transporting material, a benzidine-based hole transporting material represented by the following general formula (HT1a) may be used.

トリアリールアミン系正孔輸送材料(HT1)について説明する。
トリアリールアミン系正孔輸送材料(HT1)は、下記一般式(HT1)で示される正孔輸送材料である。
The triarylamine-based hole transport material (HT1) will be described.
The triarylamine-based hole transport material (HT1) is a hole transport material represented by the following general formula (HT1).

一般式(HT1)中、ArT1、ArT2、及びArT3は、各々独立に、アリール基、又は−C−C(RT4)=C(RT5)(RT6)を示す。RT4、RT5、及びRT6は、各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。RT5及びRT6は、結合して炭化水素環構造を形成してもよい。 In the general formula (HT1), Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 each independently represent an aryl group or —C 6 H 4 —C ( RT 4 ) = C ( RT 5 ) ( RT 6 ). R T4 , R T5 , and R T6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R T5 and R T6 may combine to form a hydrocarbon ring structure.

一般式(HT1)において、ArT1、ArT2、及びArT3が表すアリール基としては、炭素数6以上15以下(好ましくは6以上9以下、より好ましくは6以上8以下)のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フルオレン基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基が好ましい。
In the general formula (HT1), examples of the aryl group represented by Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 include an aryl group having 6 to 15 carbon atoms (preferably 6 to 9 and more preferably 6 to 8). Can be
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and a fluorene group.
Among these, a phenyl group is preferable as the aryl group.

一般式(HT1)において、RT4、RT5、及びRT6が表すアルキル基としては、後述する一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表すアルキル基の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。 In formula (HT1), examples of the alkyl group represented by R T4 , R T5 , and R T6 are the same as the examples of the alkyl group represented by R C21 , R C22 , and R C23 in formula (HT1a) described below. Yes, the preferred range is also the same.

一般式(HT1)において、RT4、RT5、及びRT6が表すアリール基としては、ArT1、ArT2、及びArT3が表すアリール基の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。 In the general formula (HT1), the aryl group represented by R T4 , R T5 , and R T6 is the same as the example of the aryl group represented by Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 , and the preferable range is also the same.

なお、一般式(HT1)において、ArT1、ArT2、及びArT3、並びに、RT4、RT5、及びRT6が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、例えばハロゲン原子、炭素数1以上5以下のアルキル基、炭素数1以上5以下のアルコキシ基、炭素数6以上10以下アリール基などが挙げられる。また、上記各置換基の置換基としては、炭素数1以上3以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。 Note that in the general formula (HT1), the above substituents represented by Ar T1 , Ar T2 , and Ar T3 , and R T4 , R T5 , and R T6 also include a group having a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Examples of the substituent of each of the above substituents also include a substituted amino group substituted with an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

トリアリールアミン系正孔輸送材料(HT1)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As the triarylamine-based hole transporting material (HT1), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

ここで、電荷移動度の観点から、一般式(HT1)で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料のうち、特に、「−C−C(RT4)=C(RT5)(RT6)」を有するトリアリールアミン系正孔輸送材料が好ましい。中でも、後述するトリアリールアミン系正孔輸送材料(HT1)の具体例(HT1−4)で示されるトリアリールアミン系正孔輸送材料が好ましい。 Here, from the viewpoint of charge mobility, among the triarylamine-based hole transporting materials represented by the general formula (HT1), in particular, “—C 6 H 4 —C ( RT 4 ) = C ( RT 5 ) ( R T6 ) ”is preferred. Above all, a triarylamine-based hole transporting material represented by a specific example (HT1-4) of a triarylamine-based hole transporting material (HT1) described later is preferable.

ベンジジン系正孔輸送材料(HT1a)について説明する。
ベンジジン系正孔輸送材料(HT1a)は、下記一般式(HT1a)で示される正孔輸送材料である。
The benzidine-based hole transport material (HT1a) will be described.
The benzidine-based hole transport material (HT1a) is a hole transport material represented by the following general formula (HT1a).

一般式(HT1a)中、RC21、RC22、及びRC23は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上10以下のアルキル基、炭素数1以上10以下のアルコキシ基、又は、炭素数6以上10以下のアリール基を表す。 In the general formula (HT1a), R C21 , R C22 , and R C23 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or Represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.

一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。 In the general formula (HT1a), examples of the halogen atom represented by R C21 , R C22 , and R C23 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, as the halogen atom, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable, and a chlorine atom is more preferable.

一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表すアルキル基としては、炭素数1以上10以下(好ましくは1以上6以下、より好ましくは1以上4以下)の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基として具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、イソヘプチル基、sec−ヘプチル基、tert−ヘプチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、sec−ノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、sec−デシル基、tert−デシル基等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
In the general formula (HT1a), the alkyl group represented by R C21 , R C22 , and R C23 is a straight-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4). And a branched alkyl group.
Specific examples of the linear alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n- Examples include a nonyl group and an n-decyl group.
Specific examples of the branched alkyl group include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, an isohexyl group, a sec-hexyl group, and a tert-hexyl group. , Isoheptyl group, sec-heptyl group, tert-heptyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, isononyl group, sec-nonyl group, tert-nonyl group, isodecyl group, sec-decyl group, tert- Decyl group and the like.
Among them, the alkyl group is preferably a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group.

一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表すアルコキシ基としては、炭素数1以上10以下(好ましくは1以上6以下、より好ましくは1以上4以下)の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。
直鎖状のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基等が挙げられる。
分岐状のアルコキシ基として具体的には、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、sec−ヘキシルオキシ基、tert−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、sec−ヘプチルオキシ基、tert−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、sec−ノニルオキシ基、tert−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、sec−デシルオキシ基、tert−デシルオキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
In the general formula (HT1a), the alkoxy group represented by R C21 , R C22 , and R C23 is a linear or linear alkoxy group having 1 to 10 (preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 4). And a branched alkoxy group.
Specific examples of the linear alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propoxy, n-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy, n-heptyloxy, and n-octyloxy. Group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group and the like.
Specific examples of the branched alkoxy group include an isopropoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, an isopentyloxy group, a neopentyloxy group, a tert-pentyloxy group, an isohexyloxy group, and a sec. -Hexyloxy group, tert-hexyloxy group, isoheptyloxy group, sec-heptyloxy group, tert-heptyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, isononyloxy group, Examples include a sec-nonyloxy group, a tert-nonyloxy group, an isodecyloxy group, a sec-decyloxy group, a tert-decyloxy group, and the like.
Among these, a methoxy group is preferable as the alkoxy group.

一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表すアリール基としては、炭素数6以上10以下(好ましくは6以上9以下、より好ましくは6以上8以下)のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基が好ましい。
In the general formula (HT1a), examples of the aryl group represented by R C21 , R C22 , and R C23 include an aryl group having 6 to 10 carbon atoms (preferably 6 to 9 and more preferably 6 to 8). Can be
Specific examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
Among these, a phenyl group is preferable as the aryl group.

なお、一般式(HT1a)において、RC21、RC22、及びRC23が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子および基(例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基など)が挙げられる。 Note that in the general formula (HT1a), the substituents represented by R C21 , R C22 , and R C23 also include a group having a substituent. Examples of the substituent include the atoms and groups exemplified above (for example, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and an aryl group).

ベンジジン系正孔輸送材料(HT1a)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As the benzidine-based hole transport material (HT1a), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

以下に、トリアリールアミン系正孔輸送材料(HT1)、及びベンジジン系正孔輸送材料(HT1a)の具体例(HT1−1)〜(HT1−7)を示すが、これに限定されるわけではない。   Hereinafter, specific examples (HT1-1) to (HT1-7) of the triarylamine-based hole transporting material (HT1) and the benzidine-based hole transporting material (HT1a) are shown, but are not limited thereto. Absent.


ブタジエン系正孔輸送材料(HT2)について説明する。
ブタジエン系正孔輸送材料(HT2)は、下記一般式(HT2)で示される正孔輸送材料である。
The butadiene-based hole transport material (HT2) will be described.
The butadiene-based hole transport material (HT2) is a hole transport material represented by the following general formula (HT2).

一般式(HT2)中、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1以上20以下のアルキル基、炭素数1以上20以下のアルコキシ基、又は、炭素数6以上30以下のアリール基を表し、隣接する2つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。
n及びmは、各々独立に、0、1又は2を表す。
In the general formula (HT2), R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a carbon atom of 1 It represents an alkoxy group having 20 to 20 or less or an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and two adjacent substituents may be bonded to each other to form a hydrocarbon ring structure.
n and m each independently represent 0, 1 or 2.

一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。これらの中でも、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。 In the general formula (HT2), examples of the halogen atom represented by R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Among these, as the halogen atom, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable, and a chlorine atom is more preferable.

一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が表すアルキル基としては、炭素数1以上20以下(好ましくは1以上6以下、より好ましくは1以上4以下)の直鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられる。
直鎖状のアルキル基として具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−イコシル基等が挙げられる。
分岐状のアルキル基として具体的には、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、イソヘプチル基、sec−ヘプチル基、tert−ヘプチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、sec−ノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、sec−デシル基、tert−デシル基、イソウンデシル基、sec−ウンデシル基、tert−ウンデシル基、ネオウンデシル基、イソドデシル基、sec−ドデシル基、tert−ドデシル基、ネオドデシル基、イソトリデシル基、sec−トリデシル基、tert−トリデシル基、ネオトリデシル基、イソテトラデシル基、sec−テトラデシル基、tert−テトラデシル基、ネオテトラデシル基、1−イソブチル−4−エチルオクチル基、イソペンタデシル基、sec−ペンタデシル基、tert−ペンタデシル基、ネオペンタデシル基、イソヘキサデシル基、sec−ヘキサデシル基、tert−ヘキサデシル基、ネオヘキサデシル基、1−メチルペンタデシル基、イソヘプタデシル基、sec−ヘプタデシル基、tert−ヘプタデシル基、ネオヘプタデシル基、イソオクタデシル基、sec−オクタデシル基、tert−オクタデシル基、ネオオクタデシル基、イソノナデシル基、sec−ノナデシル基、tert−ノナデシル基、ネオノナデシル基、1−メチルオクチル基、イソイコシル基、sec−イコシル基、tert−イコシル基、ネオイコシル基等が挙げられる。
これらの中でも、アルキル基としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基等の低級アルキル基が好ましい。
In Formula (HT2), the alkyl group represented by R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 has 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 6). 4 or less) linear or branched alkyl groups.
Specific examples of the linear alkyl group include methyl, ethyl, n-propyl, n-butyl, n-pentyl, n-hexyl, n-heptyl, n-octyl, n- Nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n- Examples include a nonadecyl group and an n-icosyl group.
Specific examples of the branched alkyl group include an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group, a tert-pentyl group, an isohexyl group, a sec-hexyl group, and a tert-hexyl group. , Isoheptyl group, sec-heptyl group, tert-heptyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, isononyl group, sec-nonyl group, tert-nonyl group, isodecyl group, sec-decyl group, tert- Decyl, isoundecyl, sec-undecyl, tert-undecyl, neoundecyl, isododecyl, sec-dodecyl, tert-dodecyl, neododecyl, isotridecyl, sec-tridecyl, tert-tridecyl, neotridec Group, isotetradecyl group, sec-tetradecyl group, tert-tetradecyl group, neotetradecyl group, 1-isobutyl-4-ethyloctyl group, isopentadecyl group, sec-pentadecyl group, tert-pentadecyl group, neopentane Decyl group, isohexadecyl group, sec-hexadecyl group, tert-hexadecyl group, neohexadecyl group, 1-methylpentadecyl group, isoheptadecyl group, sec-heptadecyl group, tert-heptadecyl group, neoheptadecyl group, isooctadecyl group, sec-octadecyl group, tert-octadecyl group, neooctadecyl group, isononadecyl group, sec-nonadecyl group, tert-nonadecyl group, neononadecyl group, 1-methyloctyl group, isoicosyl group, sec-icosyl group, te t- eicosyl group, Neoikoshiru group and the like.
Among them, the alkyl group is preferably a lower alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group.

一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が表すアルコキシ基としては、炭素数1以上20以下(好ましくは1以上6以下、より好ましくは1以上4以下)の直鎖状又は分岐状のアルコキシ基が挙げられる。
直鎖状のアルコキシ基として具体的には、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、n−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基、n−トリデシルオキシ基、n−テトラデシルオキシ基、n−ペンタデシルオキシ基、n−ヘキサデシルオキシ基、n−ヘプタデシルオキシ基、n−オクタデシルオキシ基、n−ノナデシルオキシ基、n−イコシルオキシ基等が挙げられる。
分岐状のアルコキシ基として具体的には、イソプロポキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、sec−ヘキシルオキシ基、tert−ヘキシルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、sec−ヘプチルオキシ基、tert−ヘプチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチルオキシ基、tert−オクチルオキシ基、イソノニルオキシ基、sec−ノニルオキシ基、tert−ノニルオキシ基、イソデシルオキシ基、sec−デシルオキシ基、tert−デシルオキシ基、イソウンデシルオキシ基、sec−ウンデシルオキシ基、tert−ウンデシルオキシ基、ネオウンデシルオキシ基、イソドデシルオキシ基、sec−ドデシルオキシ基、tert−ドデシルオキシ基、ネオドデシルオキシ基、イソトリデシルオキシ基、sec−トリデシルオキシ基、tert−トリデシルオキシ基、ネオトリデシルオキシ基、イソテトラデシルオキシ基、sec−テトラデシルオキシ基、tert−テトラデシルオキシ基、ネオテトラデシルオキシ基、1−イソブチル−4−エチルオクチルオキシ基、イソペンタデシルオキシ基、sec−ペンタデシルオキシ基、tert−ペンタデシルオキシ基、ネオペンタデシルオキシ基、イソヘキサデシルオキシ基、sec−ヘキサデシルオキシ基、tert−ヘキサデシルオキシ基、ネオヘキサデシルオキシ基、1−メチルペンタデシルオキシ基、イソヘプタデシルオキシ基、sec−ヘプタデシルオキシ基、tert−ヘプタデシルオキシ基、ネオヘプタデシルオキシ基、イソオクタデシルオキシ基、sec−オクタデシルオキシ基、tert−オクタデシルオキシ基、ネオオクタデシルオキシ基、イソノナデシルオキシ基、sec−ノナデシルオキシ基、tert−ノナデシルオキシ基、ネオノナデシルオキシ基、1−メチルオクチルオキシ基、イソイコシルオキシ基、sec−イコシルオキシ基、tert−イコシルオキシ基、ネオイコシルオキシ基等が挙げられる。
これらの中でも、アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。
In Formula (HT2), the alkoxy group represented by R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 has 1 to 20 carbon atoms (preferably 1 to 6 and more preferably 1 to 6). 4 or less) linear or branched alkoxy groups.
Specific examples of the linear alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propoxy, n-butoxy, n-pentyloxy, n-hexyloxy, n-heptyloxy, and n-octyloxy. Group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-undecyloxy group, n-dodecyloxy group, n-tridecyloxy group, n-tetradecyloxy group, n-pentadecyloxy group, n-hexadecyl Examples thereof include an oxy group, an n-heptadecyloxy group, an n-octadecyloxy group, an n-nonadecyloxy group, and an n-icosyloxy group.
Specific examples of the branched alkoxy group include an isopropoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, an isopentyloxy group, a neopentyloxy group, a tert-pentyloxy group, an isohexyloxy group, and a sec. -Hexyloxy group, tert-hexyloxy group, isoheptyloxy group, sec-heptyloxy group, tert-heptyloxy group, isooctyloxy group, sec-octyloxy group, tert-octyloxy group, isononyloxy group, sec-nonyloxy group, tert-nonyloxy group, isodecyloxy group, sec-decyloxy group, tert-decyloxy group, isoundecyloxy group, sec-undecyloxy group, tert-undecyloxy group, neoundecyloxy group , Isodo Siloxy group, sec-dodecyloxy group, tert-dodecyloxy group, neododecyloxy group, isotridecyloxy group, sec-tridecyloxy group, tert-tridecyloxy group, neotridecyloxy group, isotetradecyloxy Group, sec-tetradecyloxy group, tert-tetradecyloxy group, neotetradecyloxy group, 1-isobutyl-4-ethyloctyloxy group, isopentadecyloxy group, sec-pentadecyloxy group, tert-pentadecyl Oxy group, neopentadecyloxy group, isohexadecyloxy group, sec-hexadecyloxy group, tert-hexadecyloxy group, neohexadecyloxy group, 1-methylpentadecyloxy group, isoheptadecyloxy group, sec -Heptadecyloxy Group, tert-heptadecyloxy group, neoheptadecyloxy group, isooctadecyloxy group, sec-octadecyloxy group, tert-octadecyloxy group, neooctadecyloxy group, isononadecyloxy group, sec-nonadecyloxy group, tert- Examples include a nonadecyloxy group, a neononadecyloxy group, a 1-methyloctyloxy group, an isoicosyloxy group, a sec-icosyloxy group, a tert-icosyloxy group, and a neoicosyloxy group.
Among these, a methoxy group is preferable as the alkoxy group.

一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が表すアリール基としては、炭素数6以上30以下(好ましくは6以上20以下、より好ましくは6以上16以下)のアリール基が挙げられる。
アリール基として具体的には、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられる。
これらの中でも、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基が好ましい。
In the general formula (HT2), the aryl group represented by R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 has a carbon number of 6 or more and 30 or less (preferably 6 or more and 20 or less, more preferably 6 or less). And 16 or less).
Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, a phenanthryl group, and a biphenylyl group.
Among these, a phenyl group and a naphthyl group are preferable as the aryl group.

なお、一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が表す上記各置換基は、さらに置換基を有する基も含む。この置換基としては、上記例示した原子および基(例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基など)が挙げられる。 Note that in the general formula (HT2), each of the substituents represented by R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 includes a group further having a substituent. Examples of the substituent include the atoms and groups exemplified above (for example, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and an aryl group).

一般式(HT2)において、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16の隣接する二つの置換基同士(例えばRC11及びRC12同士、RC13及びRC14同士、RC15及びRC16同士)が連結した炭化水素環構造における、当該置換基同士を連結する基としては、単結合、2,2’−メチレン基、2,2’−エチレン基、2,2’−ビニレン基などが挙げられ、これらの中でも単結合、2,2’−メチレン基が好ましい。
ここで、炭化水素環構造として具体的には、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造、シクロアルカンポリエン構造等が挙げられる。
In the general formula (HT2), two adjacent substituents of R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 (for example, R C11 and R C12 , R C13 and R C14 , R In the hydrocarbon ring structure in which C15 and R C16 are connected to each other, examples of the group connecting the substituents include a single bond, a 2,2'-methylene group, a 2,2'-ethylene group, and a 2,2'- Examples thereof include a vinylene group, and among these, a single bond and a 2,2′-methylene group are preferable.
Here, specific examples of the hydrocarbon ring structure include a cycloalkane structure, a cycloalkene structure, and a cycloalkanepolyene structure.

一般式(HT2)において、n及びmは、1であることが好ましい。   In the general formula (HT2), n and m are preferably 1.

一般式(HT2)において、正孔輸送能の高い感光層(正孔輸送層)形成の点から、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が水素原子、炭素数1以上20以下のアルキル基、又は炭素数1以上20以下のアルコキシ基を表し、m及びnが1又は2を表することが好ましく、RC11、RC12、RC13、RC14、RC15、及びRC16が水素原子を表し、m及びnが1を表すことがより好ましい。
つまり、ブタジエン系正孔輸送材料(HT2)は、下記構造式(HT2a)で示される正孔輸送材料(例示化合物(HT2−3))であることがより好ましい。
In the general formula (HT2), R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , and R C16 each represent a hydrogen atom or a carbon atom from the viewpoint of forming a photosensitive layer having a high hole transport ability (hole transport layer). Represents an alkyl group having 1 to 20 or less, or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, and m and n preferably represent 1 or 2, and R C11 , R C12 , R C13 , R C14 , R C15 , And R C16 represents a hydrogen atom, and m and n more preferably represent 1.
That is, the butadiene-based hole transport material (HT2) is more preferably a hole transport material (exemplified compound (HT2-3)) represented by the following structural formula (HT2a).

以下に、ブタジエン系正孔輸送材料(HT2)の具体例(HT2−1)〜(HT2−24)を示すが、これに限定されるわけではない。   Specific examples (HT2-1) to (HT2-24) of the butadiene-based hole transport material (HT2) are shown below, but the present invention is not limited thereto.

なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。また、置換基の前に付す番号は、ベンゼン環に対する置換位置を示している。
・CH:メチル基
・OCH:メトキシ基
In addition, the abbreviation symbol in the said exemplary compound has the following meaning. The number before the substituent indicates the position of substitution on the benzene ring.
・ CH 3 : methyl group ・ OCH 3 : methoxy group

ブタジエン系正孔輸送材料(HT2)は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。   As the butadiene-based hole transport material (HT2), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.

正孔輸送材料の含有量は、例えば、結着樹脂に対して10質量%以上98質量%以下がよく、望ましくは60質量%以上95質量%以下、より望ましくは70質量%以上90質量%以下である。   The content of the hole transporting material is, for example, preferably from 10% by mass to 98% by mass, more preferably from 60% by mass to 95% by mass, more preferably from 70% by mass to 90% by mass based on the binder resin. It is.

−電子輸送材料−
本実施形態では、電子輸送材料として、一般式(1)の電子輸送材料(特定の電子輸送材料)が適用される。
−Electron transport material−
In the present embodiment, as the electron transporting material, an electron transporting material of the general formula (1) (specific electron transporting material) is applied.

一般式(1)中、R11、R12.R13.R14、R15、R16、及びR17は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。R18は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。 In the general formula (1), R 11 , R 12 . R 13 . R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, or an aralkyl group. R 18 represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.

一般式(1)中、R11〜R17が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the halogen atom represented by R 11 to R 17 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

一般式(1)中、R11〜R17が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数1以上4以下(望ましくは1以上3以下)のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the alkyl group represented by R 11 to R 17 include a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (preferably 1 to 3). Specific examples include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.

一般式(1)中、R11〜R17が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数1以上4以下(望ましくは1以上3以下)のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the alkoxy group represented by R 11 to R 17 include an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms (preferably 1 to 3), specifically, a methoxy group, An ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like can be mentioned.

一般式(1)中、R11〜R17が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。これらの中でも、R11〜R17が示すアリール基としては、フェニル基が望ましい。
一般式(1)中、R11〜R17が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
In the general formula (1), examples of the aryl group represented by R 11 to R 17 include a phenyl group and a tolyl group. Among these, a phenyl group is preferable as the aryl group represented by R 11 to R 17 .
In the general formula (1), examples of the aralkyl group represented by R 11 to R 17 include a benzyl group, a phenethyl group, and a phenylpropyl group.

一般式(1)中、R18が示すアルキル基としては、例えば、炭素数1以上15以下(好ましくは炭素数3以上12以下)の直鎖状のアルキル基、炭素数3以上15以下(好ましくは炭素数3以上12以下)の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数1以上15以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。
炭素数3以上15以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、イソヘプチル基、sec−ヘプチル基、tert−ヘプチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、sec−ノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、sec−デシル基、tert−デシル基等が挙げられる。
In Formula (1), examples of the alkyl group represented by R 18 include a linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms (preferably 3 to 12 carbon atoms), and a linear alkyl group having 3 to 15 carbon atoms (preferably). Represents a branched alkyl group having 3 to 12 carbon atoms).
Examples of the linear alkyl group having 1 to 15 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, an n-pentyl group, an n-hexyl group, an n-heptyl group, and n -Octyl group, n-nonyl group, n-decyl group and the like.
Examples of the branched alkyl group having 3 to 15 carbon atoms include isopropyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, isopentyl, neopentyl, tert-pentyl, isohexyl, and sec-hexyl. Group, tert-hexyl group, isoheptyl group, sec-heptyl group, tert-heptyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, isononyl group, sec-nonyl group, tert-nonyl group, isodecyl group, sec -Decyl group, tert-decyl group and the like.

一般式(1)中、R18が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。 In the general formula (1), examples of the aryl group represented by R 18 include a phenyl group, a methylphenyl group, and a dimethylphenyl group.

一般式(1)中、R18が示すアラルキル基としては、−R19−Arで示される基が挙げられる。但し、R19は、アルキレン基を示す、Arは、アリール基を示す。
19が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数1以上8以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、イソプロピレン基、n−ブチレン基、イソブチレン基、sec−ブチレン基、tert−ブチレン基、n−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、tert−ペンチレン基等が挙げられる。
Arが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、等が挙げられる。
In the general formula (1), examples of the aralkyl group represented by R 18 include a group represented by —R 19 —Ar. Here, R 19 represents an alkylene group, and Ar represents an aryl group.
Examples of the alkylene group represented by R 19 include a linear or branched alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, and include a methylene group, an ethylene group, an n-propylene group, an isopropylene group, an n-butylene group, and an isobutylene. Group, sec-butylene group, tert-butylene group, n-pentylene group, isopentylene group, neopentylene group, tert-pentylene group and the like.
Examples of the aryl group represented by Ar include a phenyl group, a methylphenyl group, a dimethylphenyl group, and the like.

一般式(1)中、R18が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。 In formula (1), specific examples of the aralkyl group represented by R 18 include a benzyl group, a methylbenzyl group, a dimethylbenzyl group, a phenylethyl group, a methylphenylethyl group, a phenylpropyl group, and a phenylbutyl group. .

一般式(1)の電子輸送材料としては、単層型感光体の高感度化の点から、R18が炭素数3以上12以下のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。特に、式(1)の電子輸送材料としては、R11〜R17が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、R18が炭素数3以上12以下のアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。 As the electron transporting material of the general formula (1), an electron transporting material in which R 18 represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group having 3 to 12 carbon atoms from the viewpoint of increasing the sensitivity of the single-layer photoreceptor. preferable. In particular, as the electron transporting material of the formula (1), R 11 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group, and R 18 is an alkyl group having 3 to 12 carbon atoms; An electron transporting material showing an aryl group or an aralkyl group is preferable.

以下、一般式(1)の電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物(1−番号)と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物15は、「例示化合物(1−15)」と以下表記する。   Hereinafter, exemplary compounds of the electron transporting material represented by the general formula (1) are shown, but are not limited thereto. In addition, the following example compound numbers are described as an example compound (1-number) below. Specifically, for example, Exemplified Compound 15 is described below as “Exemplified Compound (1-15)”.

なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ph:フェニル基又はフェニレン基
・p−C:パラ位に置換したエチル基
In addition, the abbreviation symbol in the said exemplary compound has the following meaning.
· Ph: phenyl or phenylene group · p-C 2 H 5: substituted ethyl group in the para position

一般式(1)の電子輸送材料(特定の電子輸送材料)の含有量は、感光体の高感度化の観点、及び感光体の機能を確保する観点から、例えば、結着樹脂に対して4質量%以上70質量%以下がよく、好ましく8質量%以上50質量%以下、より好ましくは10質量%以上30質量%以下である。   The content of the electron transporting material (specific electron transporting material) of the general formula (1) is, for example, 4 to the binder resin from the viewpoint of increasing the sensitivity of the photoreceptor and ensuring the function of the photoreceptor. The content is preferably from 70% by mass to 70% by mass, more preferably from 8% by mass to 50% by mass, and more preferably from 10% by mass to 30% by mass.

一般式(1)の電子輸送材料は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。また、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて一般式(1)の電子輸送材料以外の他の電子輸送材料を併用してもよい。
なお、一般式(1)の電子輸送材料以外の他の電子輸送材料を含有させる場合の含有量としては、電子輸送材料全体に対し、例えば10質量%以下の範囲が好ましい。
The electron transport material of the general formula (1) may be used alone or in combination of two or more. Further, an electron transporting material other than the electron transporting material of the general formula (1) may be used as needed, as long as the object of the present embodiment is not impaired.
The content of the electron transport material other than the electron transport material of the general formula (1) is preferably, for example, 10% by mass or less based on the entire electron transport material.

他の電子輸送材料としては、例えば、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。これら他の電子輸送材料は1種を単独で又は2種以上を混合して用いてもよいが、これらに限定されるものではない。   Other electron transporting materials include, for example, p-benzoquinone, chloranyl, bromanyl, quinone-based compounds such as anthraquinone, tetracyanoquinodimethane-based compounds, xanthone-based compounds, benzophenone-based compounds, cyanovinyl-based compounds, ethylene-based compounds, and the like. And an electron transporting compound. These other electron transporting materials may be used alone or in combination of two or more, but are not limited thereto.

−正孔輸送材料と一般式(1)の電子輸送材料との比率−
正孔輸送材料と一般式(1)の電子輸送材料との比率は、質量比(正孔輸送材料/一般式(1)の電子輸送材料)で、50/50以上90/10以下が好ましく、より好ましくは55/45以上80/20以下である。
-Ratio of hole transport material to electron transport material of general formula (1)-
The ratio of the hole transporting material to the electron transporting material of the general formula (1) is preferably from 50/50 to 90/10 by mass ratio (hole transporting material / electron transporting material of the general formula (1)), More preferably, it is 55/45 or more and 80/20 or less.

−その他添加剤−
単層型の感光層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
-Other additives-
The single-layer type photosensitive layer may contain other known additives such as an antioxidant, a light stabilizer, and a heat stabilizer. Further, when the single-layer type photosensitive layer is to be the surface layer, it may contain fluororesin particles, silicone oil and the like.

<感光体の製造方法(単層型感光体の製造方法)>
本実施形態では、感光体の製造方法の一例として、導電性基体上に、下引層と、感光層(単層型の感光層)と、をこの順に有する感光体の製造方法について説明する。
本実施形態の感光体は、具体的には、下引層形成工程と、感光層形成工程と、を実施することにより製造される。
なお、下引層形成工程を実施せずに感光体を製造してもよい。即ち、導電性基体上に直接感光層を形成して感光体を製造してもよい。
<Method of Manufacturing Photoconductor (Method of Manufacturing Single-Layer Photoconductor)>
In the present embodiment, as an example of a method of manufacturing a photoconductor, a method of manufacturing a photoconductor having an undercoat layer and a photosensitive layer (single-layer type photosensitive layer) in this order on a conductive substrate will be described.
Specifically, the photoreceptor of the present embodiment is manufactured by performing an undercoat layer forming step and a photosensitive layer forming step.
The photoconductor may be manufactured without performing the undercoat layer forming step. That is, the photosensitive member may be manufactured by directly forming the photosensitive layer on the conductive substrate.

〔下引層形成工程〕
下引層形成工程では、下引層成分(前述の構成材料)と、溶剤と、を含む溶液を混合して得た下引層形成用塗布液を用いて下引層を形成する。具体的には、下引層形成用塗布液を導電性基体(以下、単に「基体」とも称する)上に塗布して、当該塗布液(塗膜)を乾燥させることにより下引層を形成する。
(Undercoat layer forming step)
In the undercoat layer forming step, an undercoat layer is formed using a coating liquid for forming an undercoat layer obtained by mixing a solution containing an undercoat layer component (the above-described constituent material) and a solvent. Specifically, a coating liquid for forming an undercoat layer is applied on a conductive substrate (hereinafter, also simply referred to as “substrate”), and the coating liquid (coating film) is dried to form an undercoat layer. .

下引層形成用塗布液を基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法が用いられる。   As a method of applying the coating liquid for forming an undercoat layer on a substrate, for example, known methods such as dip coating, push-up coating, wire bar coating, spray coating, blade coating, knife coating, and curtain coating are used. Is used.

溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、2−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は単独又は2種以上混合して用いる。   Examples of the solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene, ketones such as acetone and 2-butanone, halogenated aliphatic hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform and ethylene chloride, tetrahydrofuran, and ethyl ether. And ordinary organic solvents such as cyclic or linear ethers. These solvents are used alone or in combination of two or more.

下引層形成用塗布液中に粒子(例えば無機粒子)を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。   As a method of dispersing particles (for example, inorganic particles) in a coating liquid for forming an undercoat layer, a media dispersing machine such as a ball mill, a vibrating ball mill, an attritor, a sand mill, a horizontal sand mill, stirring, an ultrasonic dispersing machine, a roll mill, A medialess disperser such as a high-pressure homogenizer is used. Examples of the high-pressure homogenizer include a collision method in which the dispersion liquid is subjected to liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high-pressure state and dispersion, and a penetration method in which the dispersion liquid is penetrated and dispersed in a fine flow path in a high-pressure state.

〔感光層形成工程〕
感光層形成工程では、感光層成分(電荷発生材料、正孔輸送材料、特定の電子輸送材料、結着樹脂等)と、溶剤と、必要に応じてその他添加剤と、を含む溶液を混合して得た感光層形成用塗布液を用いて感光層を形成する。
本実施形態では、感光層形成用塗布液を下引層上に塗布し、当該塗布液(塗膜)を乾燥させることにより感光層を形成する。
溶剤としては、下引層形成用塗布液に用いる溶剤と同様のものが挙げられる。
感光層形成用塗布液中に粒子(例えば電荷発生材料)を分散させる方法、及び感光層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、下引層形成用塗布液に粒子を分散させる方法、及び下引層形成用塗布液を基体上に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。
(Photosensitive layer forming step)
In the photosensitive layer forming step, a solution containing the components of the photosensitive layer (charge generation material, hole transport material, specific electron transport material, binder resin, etc.), a solvent and, if necessary, other additives is mixed. The photosensitive layer is formed using the coating solution for forming a photosensitive layer thus obtained.
In this embodiment, the photosensitive layer is formed by applying a coating solution for forming a photosensitive layer on the undercoat layer and drying the coating solution (coating film).
Examples of the solvent include the same solvents as those used for the coating liquid for forming the undercoat layer.
As a method of dispersing particles (for example, a charge generating material) in a coating solution for forming a photosensitive layer and a method of applying the coating solution for forming a photosensitive layer on an undercoat layer, the particles are dispersed in a coating solution for forming an undercoat layer. And a method similar to the method of applying a coating liquid for forming an undercoat layer on a substrate.

本実施形態では、単層型の感光層形成工程の一例として、図2に示す浸漬塗布装置を用いた浸漬塗布法により下引層上に感光層を形成する方法について説明する。
先ず、浸漬塗布装置200について説明し、その後に、浸漬塗布装置200を用いて実施される単層型の感光層形成工程について説明する。
In this embodiment, as an example of a single-layer type photosensitive layer forming process, a method of forming a photosensitive layer on an undercoat layer by a dip coating method using a dip coating device shown in FIG. 2 will be described.
First, the dip coating apparatus 200 will be described, and then a single-layer type photosensitive layer forming process performed using the dip coating apparatus 200 will be described.

図2に示す浸漬塗布装置200は、感光層形成用塗布液L(以下、塗布液Lとも称する)を収容する塗布槽24と、塗布液Lを貯留する貯留槽30と、塗布槽24の上部外周面に設けられ、溢れ流れる塗布液Lを保持する液受け部(塗布液受け部)28と、液受け部28と貯留槽30とをつなぐ配管26Aと、貯留槽30の下部と塗布槽24とをポンプ32を介してつなぐ配管26Bと、塗布液Lを循環させるポンプ32と、を備えている。
なお、ポンプ32は、塗布液Lを予め定められた流量(循環流量)で、貯留槽30及び塗布槽24間を循環させ塗布槽24から常時塗布液を溢れさせる機能を担う。
また、浸漬塗布装置200は、基体22を塗布槽24の塗布液L中に浸漬及び引き上げる基体昇降機34と、塗布槽24中の塗布液Lから揮発する溶剤の蒸気を換気(外部に排出)する換気装置、即ち、溶剤蒸気を含む空気を換気する換気装置(不図示)と、塗布環境の露点温度を制御する蒸気圧制御装置(不図示)と、貯留槽30中の塗布液Lの濃度を保つための攪拌機(不図示)とを備えている。また、基体昇降機34は、基体22の上部を支持する支持部20と、支持部20を昇降するモータ36とを備えている。
The dip coating apparatus 200 shown in FIG. 2 includes a coating tank 24 that stores a coating liquid L for forming a photosensitive layer (hereinafter, also referred to as a coating liquid L), a storage tank 30 that stores the coating liquid L, and an upper part of the coating tank 24. A liquid receiving portion (coating liquid receiving portion) 28 provided on the outer peripheral surface and holding the overflowing coating liquid L, a pipe 26A connecting the liquid receiving portion 28 and the storage tank 30, a lower portion of the storage tank 30, and the coating tank 24. And a pump 32 that circulates the coating liquid L.
The pump 32 has a function of circulating the coating liquid L between the storage tank 30 and the coating tank 24 at a predetermined flow rate (circulating flow rate) to constantly overflow the coating liquid from the coating tank 24.
In addition, the dip coating apparatus 200 vents (discharges) the vapor of a solvent volatilized from the coating liquid L in the coating tank 24 and the substrate elevator 34 for dipping and lifting the substrate 22 in the coating liquid L in the coating tank 24. A ventilator, that is, a ventilator (not shown) that ventilates air containing solvent vapor, a vapor pressure controller (not shown) that controls the dew point temperature of the coating environment, and a concentration of the coating liquid L in the storage tank 30 And a stirrer (not shown) for maintaining. In addition, the base lift 34 includes the support section 20 that supports the upper portion of the base 22 and a motor 36 that moves the support section 20 up and down.

次に、浸漬塗布装置200の作用を、当該浸漬塗布装置200を用いて実施される感光層形成工程によって説明する。感光層形成工程は、具体的には、浸漬工程と、停止工程と、引き上げ工程と、乾燥工程と、を有する。   Next, the operation of the dip coating apparatus 200 will be described by a photosensitive layer forming process performed using the dip coating apparatus 200. The photosensitive layer forming step specifically includes a dipping step, a stopping step, a lifting step, and a drying step.

(浸漬工程)
浸漬工程では、下引層(不図示)が形成された基体22を下降させて、当該基体22を塗布液Lに浸漬する。具体的には、基体22の上部を基体昇降機34の支持部20で支持し、その支持部20で支持された基体22を、基体昇降機34により、塗布液Lが収容された塗布槽24の中へ下降させ、予め定められた位置(停止位置)で基体22の下降を停止させる。
なお、塗布液Lの粘度(25℃)は、例えば250mPa・s以上350mPa・s以下に調整することが好ましい。
(Immersion process)
In the dipping step, the base 22 on which the undercoat layer (not shown) is formed is lowered, and the base 22 is dipped in the coating liquid L. Specifically, the upper part of the base 22 is supported by the support part 20 of the base elevator 34, and the base 22 supported by the support part 20 is moved by the base elevator 34 into the coating tank 24 containing the coating liquid L. And the descent of the base 22 is stopped at a predetermined position (stop position).
The viscosity (25 ° C.) of the coating liquid L is preferably adjusted to, for example, 250 mPa · s or more and 350 mPa · s or less.

−基体22の浸漬速度−
浸漬工程では、基体22を予め定められた速度(浸漬速度)で塗布槽24の塗布液L中に浸漬させる。
基体22の浸漬速度としては、例えば100mm/分以上1500mm/分以下がよく、300mm/分以上1000mm/分以下が好ましく、500mm/分以上700mm/分以下がより好ましい。
基体22の浸漬速度が上記範囲であると、塗布液Lの乱れが適度に生じるため、感光層の表面側に、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料が適度に偏在又は凝集して存在しやすくなる。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
-Immersion speed of substrate 22-
In the dipping step, the substrate 22 is dipped in the coating liquid L in the coating tank 24 at a predetermined speed (immersion speed).
The immersion speed of the substrate 22 is, for example, preferably 100 mm / min to 1500 mm / min, more preferably 300 mm / min to 1000 mm / min, and even more preferably 500 mm / min to 700 mm / min.
When the immersion speed of the substrate 22 is in the above range, the disturbance of the coating liquid L occurs moderately, so that the charge generation material, the hole transport material, and the specific electron transport material are moderately unevenly distributed on the surface side of the photosensitive layer. It is likely to aggregate and be present. This makes it easier to control the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer to a specific range.

(停止工程)
停止工程では、塗布液L中に浸漬された上記基体22を予め定められた停止位置で、
予め定められた時間停止させる。
塗布液L中での基体22の停止時間は、例えば10秒以上20秒以下がよく11秒以上17秒以下が好ましく、12秒以上15秒以下がより好ましい。
塗布液L中での基体22の停止時間が上記範囲であると、塗布液Lを基体22上(本実施形態では下引層上)に塗布する際に、塗布液Lの乱れが適度に抑制される。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーが低減されやすくなる。
(Stop process)
In the stopping step, the base 22 immersed in the coating liquid L is placed at a predetermined stopping position,
Stop for a predetermined time.
The stopping time of the base 22 in the coating liquid L is, for example, preferably 10 seconds to 20 seconds, more preferably 11 seconds to 17 seconds, and more preferably 12 seconds to 15 seconds.
When the stopping time of the substrate 22 in the coating liquid L is within the above range, when the coating liquid L is applied onto the substrate 22 (on the undercoat layer in this embodiment), the disturbance of the coating liquid L is appropriately suppressed. Is done. Thereby, the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is easily reduced.

−塗布液Lの循環流量−
上述の浸漬工程、及び停止工程では、塗布液Lを予め定められた流量(循環流量)で、貯留槽30及び塗布槽24間を循環させながら基体22の浸漬を実施することが好ましい。なお、本実施形態において、循環流量はポンプ32により制御される。
塗布液Lの循環流量は、感光層形成用塗布液の分散性を向上させる観点、及び、塗布液中の感光層成分の沈降を抑制する観点から、通常、1L/分以上15L/分以下であることが好ましいとされている。しかし、本実施形態では、感光層の表面側に、電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料を適度に偏在又は凝集させて、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくするため、塗布液L中及び配管26中における上記材料(電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料)の分散性を、適度に低下させる傾向とする。
このため、本実施形態における塗布液Lの循環流量としては、例えば1L/分以上13L/分以下がよく、3L/分以上10L/分以下が好ましく、5L/分以上7L/分以下がより好ましい。
-Circulating flow rate of coating liquid L-
In the immersion step and the stop step described above, it is preferable to immerse the base 22 while circulating the coating liquid L between the storage tank 30 and the coating tank 24 at a predetermined flow rate (circulation flow rate). In the present embodiment, the circulation flow rate is controlled by the pump 32.
The circulation flow rate of the coating liquid L is usually 1 L / min or more and 15 L / min or less from the viewpoint of improving the dispersibility of the coating liquid for forming the photosensitive layer and suppressing the sedimentation of the photosensitive layer components in the coating liquid. It is preferred that there be. However, in this embodiment, the charge generation material, the hole transport material, and the specific electron transport material are appropriately unevenly distributed or aggregated on the surface side of the photosensitive layer, and the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is reduced. In order to easily control the dispersion to a specific range, the dispersibility of the above-mentioned materials (the charge generation material, the hole transport material, and the specific electron transport material) in the coating liquid L and the pipe 26 tends to be appropriately reduced. .
For this reason, the circulation flow rate of the coating liquid L in the present embodiment is, for example, preferably 1 L / min to 13 L / min, more preferably 3 L / min to 10 L / min, and more preferably 5 L / min to 7 L / min. .

−溶剤蒸気の換気(溶剤蒸気を含む空気の換気)−
上述の浸漬工程、停止工程、及び後述の引き上げ工程では、通常、換気装置により塗布槽24中の塗布液Lから揮発する溶剤蒸気を換気(外部に排出)しながら上記工程を実施する。即ち、溶剤蒸気を含む空気を換気しながら上記工程を実施する。
溶剤蒸気を含む空気の換気量は、通常、4m/分以上18m/分以下であることが好ましいとされている。しかし、本実施形態では、上記換気量を、好ましくは10m/分以上18m/分以下、より好ましくは13m/分以上18m/分以下、更に好ましくは15m/分以上18m/分以下とする。
換気量が上記範囲であると、溶剤の蒸気濃度が低減するため(溶剤が揮発されやすくなるため)、引き上げ工程において、塗布液L(塗膜)の乾燥が促進される。これにより、感光層の表面側において、上記材料(電荷発生材料、正孔輸送材料、及び特定の電子輸送材料)の偏在又は凝集が生じやすくなるため、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
なお、本実施形態において、溶剤蒸気の換気(溶剤蒸気を含む空気の換気)は換気装置(不図示)により行われる。
-Ventilation of solvent vapor (ventilation of air containing solvent vapor)-
In the above-described immersion step, stop step, and pulling step described later, the above-described step is usually performed while ventilating (discharging the solvent vapor) from the coating liquid L in the coating tank 24 with a ventilation device. That is, the above steps are performed while ventilating the air containing the solvent vapor.
It is generally said that the ventilation volume of the air containing the solvent vapor is preferably from 4 m 3 / min to 18 m 3 / min. However, in the present embodiment, the ventilation, preferably 10 m 3 / min or more 18m 3 / min or less, more preferably 13m 3 / min or more 18m 3 / min or less, more preferably 15 m 3 / min or more 18m 3 / Minutes or less.
When the ventilation rate is in the above range, the vapor concentration of the solvent is reduced (the solvent is easily volatilized), and thus the drying of the coating liquid L (coating film) is promoted in the lifting step. As a result, uneven distribution or aggregation of the above-mentioned materials (charge generation material, hole transport material, and specific electron transport material) easily occurs on the surface side of the photosensitive layer, and thus the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is increased. Is easily controlled to a specific range.
In this embodiment, ventilation of the solvent vapor (ventilation of air containing the solvent vapor) is performed by a ventilation device (not shown).

−塗布環境の露点温度−
上述の浸漬工程、停止工程、及び後述の引き上げ工程では、塗布環境の露点温度を制御しながら上記工程を実施することが好ましい。なお、本実施形態において、塗布環境の露点温度の制御は蒸気圧制御装置(不図示)により行われる。
塗布環境の露点温度としては、例えば6℃以上10℃以下がよく、7℃以上10℃以下が好ましく、8℃以上10℃以下がより好ましい。
塗布環境の露点温度が上記範囲であると、溶剤の揮発で熱が奪われる事による結露が抑えられるため、感光層表面に結露起因の欠陥が発生しにくくなる。これにより、感光層の外周面の側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなる。
−Dew point temperature of coating environment−
In the above-described immersion step, stop step, and pulling step described below, it is preferable to perform the above steps while controlling the dew point temperature of the coating environment. In this embodiment, the control of the dew point temperature of the coating environment is performed by a vapor pressure control device (not shown).
The dew point temperature of the coating environment is, for example, preferably from 6 ° C. to 10 ° C., more preferably from 7 ° C. to 10 ° C., and more preferably from 8 ° C. to 10 ° C.
When the dew point temperature of the coating environment is within the above range, dew condensation due to heat being taken off by evaporation of the solvent is suppressed, and thus, a defect due to dew condensation on the surface of the photosensitive layer hardly occurs. This makes it easier to control the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer to a specific range.

−塗布液Lの温度−
塗布液Lの温度は、塗布液L中の溶剤が著しく蒸発して、塗布液Lの粘度が変化することを抑制する観点から、26.5℃以上28.5℃以下であることがよい。
-Temperature of coating liquid L-
The temperature of the coating liquid L is preferably 26.5 ° C. or more and 28.5 ° C. or less from the viewpoint of preventing the solvent in the coating liquid L from evaporating remarkably and changing the viscosity of the coating liquid L.

上述のように、基体22の浸漬速度、塗布液L中での基体22の停止時間、塗布液Lの循環流量、溶剤蒸気を含む空気の換気量、又は塗布環境の露点温度を制御することで、塗布液Lの状態(例えば乱れ状態)が調整されると考えられる。これにより、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを特定の範囲に制御しやすくなると共に感光層の表面粗さSaについても特定の範囲に制御しやすくなると考えられる。
As described above, by controlling the immersion speed of the base 22, the stopping time of the base 22 in the coating liquid L, the circulating flow rate of the coating liquid L, the ventilation rate of air containing solvent vapor, or the dew point temperature of the coating environment. It is considered that the state of the coating liquid L (for example, a disordered state) is adjusted. Thus, considered to be easily controlled to a specific range also surface roughness Sa of the sensitive light layer co When the surface free energy of the outer peripheral surface of the photosensitive layer becomes easy to control in a specific range.

(引き上げ工程)
停止工程の後に、引き上げ工程が実施される。引き上げ工程では、停止工程で塗布液Lに浸漬された基体22を塗布液Lから引き上げる。これにより、下引層(不図示)上に塗布液Lが塗布された塗膜が形成される。
なお、感光層の膜厚は、主に基体22を塗布液Lから引き上げる速度によって調整され、好ましくは5μm以上60μm以下、より好ましくは10μm以上50μm以下の範囲に設定される。
(Pulling process)
After the stopping step, a lifting step is performed. In the lifting step, the substrate 22 immersed in the coating liquid L in the stopping step is pulled up from the coating liquid L. Thereby, a coating film in which the coating liquid L is applied on the undercoat layer (not shown) is formed.
The thickness of the photosensitive layer is adjusted mainly by the speed at which the substrate 22 is pulled up from the coating liquid L, and is preferably set in the range of 5 μm to 60 μm, more preferably 10 μm to 50 μm.

(乾燥工程)
乾燥工程では、塗布槽24から引き上げられた基体22の下端部分に付着した塗布液Lを拭き取り、塗膜を、例えば120℃以上140℃以下で乾燥(溶剤を蒸発により除去)させることで、単層型の感光層を形成する。
(Drying process)
In the drying step, the coating liquid L adhering to the lower end portion of the substrate 22 pulled up from the coating tank 24 is wiped off, and the coating film is dried at 120 ° C. or more and 140 ° C. or less (solvent is removed by evaporation). A layer type photosensitive layer is formed.

以上のように、下引層形成工程、及び感光層形成工程を経て、電子写真方式の画像形成装置に用いられる単層型の感光体が製造される。   As described above, through the undercoat layer forming step and the photosensitive layer forming step, a single-layer type photoconductor used for an electrophotographic image forming apparatus is manufactured.

以上、単層型感光体の製造方法について、一実施形態について説明したが、単層型感光体の製造方法は上記実施形態に限定されるものではない。
例えば、本実施形態では、基体22を塗布槽24の塗布液L中に浸漬及び引き上げる基体昇降機34、塗布槽24中の塗布液Lから揮発する溶剤蒸気を換気(外部に排出)する換気装置、塗布環境の露点温度を制御する蒸気圧制御装置、及び貯留槽30中の塗布液Lの濃度を保つための攪拌機を用いて、感光体を製造する方法について説明したが、これらの装置は適宜用いることができる。また、その他必要な装置と組み合わせて用いてもよい。
As mentioned above, although one embodiment was described about the manufacturing method of a single layer type photoreceptor, the manufacturing method of a single layer type photoreceptor is not limited to the said embodiment.
For example, in the present embodiment, a substrate elevator 34 that immerses and lifts the substrate 22 into the coating liquid L in the coating tank 24, a ventilator that ventilates (discharges) the solvent vapor volatilized from the coating liquid L in the coating tank 24, A method of manufacturing a photoconductor using a vapor pressure control device for controlling the dew point temperature of the coating environment and a stirrer for maintaining the concentration of the coating liquid L in the storage tank 30 has been described, but these devices are appropriately used. be able to. Moreover, you may use it in combination with another required apparatus.

[画像形成装置(及びプロセスカートリッジ)]
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
[Image forming apparatus (and process cartridge)]
The image forming apparatus according to the present exemplary embodiment includes an electrophotographic photosensitive member, a charging unit that charges a surface of the electrophotographic photosensitive member, and an electrostatic latent image forming unit that forms an electrostatic latent image on the charged surface of the electrophotographic photosensitive member. Means, developing means for developing an electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor with a developer containing toner to form a toner image, transfer means for transferring the toner image to the surface of the recording medium, Is provided. The electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment is applied as the electrophotographic photosensitive member.

本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置;電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置;トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置;トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置;電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。   The image forming apparatus according to this embodiment includes a fixing unit that fixes a toner image transferred to a surface of a recording medium; a direct transfer that directly transfers a toner image formed on a surface of an electrophotographic photosensitive member to a recording medium. -Type device; intermediate transfer in which a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member is primarily transferred to the surface of an intermediate transfer member, and the toner image transferred on the surface of the intermediate transfer member is secondarily transferred to a surface of a recording medium. Device having a cleaning means for cleaning the surface of the electrophotographic photosensitive member after transfer of the toner image and before charging; irradiating the surface of the electrophotographic photosensitive member with static elimination light before charging after transferring the toner image. A known image forming apparatus such as a device including an electrophotographic photosensitive member heating member for raising the temperature of the electrophotographic photosensitive member and reducing the relative temperature is applied.

中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。   In the case of an intermediate transfer type device, the transfer unit includes, for example, an intermediate transfer member on which a toner image is transferred on the surface, and a primary unit for primarily transferring the toner image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member to the surface of the intermediate transfer member. A configuration including a transfer unit and a secondary transfer unit that secondary-transfers the toner image transferred on the surface of the intermediate transfer body to the surface of the recording medium is applied.

本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式(液体現像剤を利用した現像方式)の画像形成装置のいずれであってもよい。   The image forming apparatus according to the present embodiment may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type (developing type using a liquid developer) image forming apparatus.

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造(プロセスカートリッジ)であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。   In the image forming apparatus according to the present embodiment, for example, the portion including the electrophotographic photoreceptor may have a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge provided with the electrophotographic photosensitive member according to the present embodiment is suitably used. The process cartridge may include, for example, at least one selected from the group consisting of a charging unit, an electrostatic latent image forming unit, a developing unit, and a transfer unit, in addition to the electrophotographic photosensitive member.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。   Hereinafter, an example of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described, but the present invention is not limited thereto. The main parts shown in the figure will be described, and the description of the other parts will be omitted.

図3は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置100は、図3に示すように、電子写真感光体7を備えるプロセスカートリッジ300と、露光装置9(静電潜像形成手段の一例)と、転写装置40(一次転写装置)と、中間転写体50とを備える。なお、画像形成装置100において、露光装置9はプロセスカートリッジ300の開口部から電子写真感光体7に露光し得る位置に配置されており、転写装置40は中間転写体50を介して電子写真感光体7に対向する位置に配置されており、中間転写体50はその一部が電子写真感光体7に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体50に転写されたトナー像を記録媒体(例えば用紙)に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体50、転写装置40(一次転写装置)、及び二次転写装置(不図示)が転写手段の一例に相当する。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating an example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
As shown in FIG. 3, the image forming apparatus 100 according to the present embodiment includes a process cartridge 300 having an electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9 (an example of an electrostatic latent image forming unit), and a transfer device 40 (primary image forming device). Transfer device) and an intermediate transfer member 50. In the image forming apparatus 100, the exposure device 9 is disposed at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed through the opening of the process cartridge 300, and the transfer device 40 is connected to the electrophotographic photosensitive member via the intermediate transfer member 50. 7, and the intermediate transfer body 50 is arranged such that a part thereof is in contact with the electrophotographic photosensitive member 7. Although not shown, it also has a secondary transfer device for transferring the toner image transferred to the intermediate transfer body 50 to a recording medium (for example, paper). The intermediate transfer body 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of a transfer unit.

図3におけるプロセスカートリッジ300は、ハウジング内に、電子写真感光体7、帯電装置8(帯電手段の一例)、現像装置11(現像手段の一例)、及びクリーニング装置13(クリーニング手段の一例)を一体に支持している。クリーニング装置13は、クリーニングブレード(クリーニング部材の一例)131を有しており、クリーニングブレード131は、電子写真感光体7の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード131の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード131と併用してもよい。   3 includes an electrophotographic photosensitive member 7, a charging device 8 (an example of a charging device), a developing device 11 (an example of a developing device), and a cleaning device 13 (an example of a cleaning device) in a housing. I support it. The cleaning device 13 has a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131, and the cleaning blade 131 is arranged so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7. The cleaning member is not limited to the cleaning blade 131, but may be a conductive or insulating fibrous member, which may be used alone or in combination with the cleaning blade 131.

なお、図3には、画像形成装置として、潤滑材14を電子写真感光体7の表面に供給する繊維状部材132(ロール状)、及び、クリーニングを補助する繊維状部材133(平ブラシ状)を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。   In FIG. 3, as an image forming apparatus, a fibrous member 132 (roll-like) for supplying the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 and a fibrous member 133 (flat brush-like) for assisting cleaning are provided. Are shown, but these are arranged as needed.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。   Hereinafter, each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described.

−帯電装置−
帯電装置8としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
-Charging device-
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semiconductive charging roller, a charging brush, a charging film, a charging rubber blade, a charging tube, or the like is used. In addition, a non-contact type roller charger, a charger known per se such as a scorotron charger and a corotron charger using corona discharge, and the like are also used.

−露光装置−
露光装置9としては、例えば、電子写真感光体7表面に、半導体レーザ光、LED光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、780nm付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、600nm台の発振波長レーザや青色レーザとして400nm以上450nm以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
-Exposure device-
Examples of the exposure device 9 include an optical device that exposes the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 with light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image. The wavelength of the light source is within the spectral sensitivity range of the electrophotographic photosensitive member. As a wavelength of a semiconductor laser, near-infrared light having an oscillation wavelength near 780 nm is mainly used. However, the laser is not limited to this wavelength, and a laser having an oscillation wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less as a blue laser may be used. For forming a color image, a surface emitting laser light source that can output multiple beams is also effective.

−現像装置−
現像装置11としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置11としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体7に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
-Developing device-
As the developing device 11, for example, a general developing device that performs development by contacting or non-contacting a developer can be used. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the above-described functions, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of attaching a one-component developer or a two-component developer to the electrophotographic photosensitive member 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among them, those using a developing roller holding a developer on the surface are preferable.

現像装置11に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。   The developer used in the developing device 11 may be a one-component developer containing only the toner or a two-component developer containing the toner and the carrier. Further, the developer may be magnetic or non-magnetic. Known developers are applied to these developers.

−クリーニング装置−
クリーニング装置13は、クリーニングブレード131を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
-Cleaning device-
As the cleaning device 13, a cleaning blade type device including a cleaning blade 131 is used.
In addition to the cleaning blade method, a fur brush cleaning method and a simultaneous development cleaning method may be employed.

−転写装置−
転写装置40としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
-Transfer device-
As the transfer device 40, for example, a known transfer charger such as a contact type transfer charger using a belt, a roller, a film, a rubber blade, or the like, a scorotron transfer charger or a corotron transfer charger using corona discharge, or the like. No.

−中間転写体−
中間転写体50としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの(中間転写ベルト)が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
-Intermediate transfer body-
As the intermediate transfer member 50, a belt-like one (intermediate transfer belt) containing semiconductive polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber, or the like is used. Further, as a form of the intermediate transfer member, a drum-shaped one may be used instead of the belt-shaped one.

図4は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図4に示す画像形成装置120は、プロセスカートリッジ300を4つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置120では、中間転写体50上に4つのプロセスカートリッジ300がそれぞれ並列に配置されており、1色に付き1つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置120は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置100と同様の構成を有している。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating another example of the image forming apparatus according to the present embodiment.
The image forming apparatus 120 shown in FIG. 4 is a tandem-type multicolor image forming apparatus in which four process cartridges 300 are mounted. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for one color. Note that the image forming apparatus 120 has the same configuration as the image forming apparatus 100 except that the image forming apparatus 120 is of a tandem type.

以下、実施例により本実施形態を詳細に説明するが、本実施形態は、これら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明において、特に断りのない限り、「部」及び「%」はすべて質量基準である。   Hereinafter, the present embodiment will be described in detail with reference to examples, but the present embodiment is not limited to these examples. In the following description, “parts” and “%” are all based on mass unless otherwise specified.

<実施例1>
−感光体(1)の作製−
電荷発生材料としてCukα特性X線を用いたX線回折スペクトルのブラッグ角度(2θ±0.2°)が少なくとも7.3゜、16.0゜、24.9゜、28.0゜の位置に回折ピークを有するV型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料(CG1)4質量部と、結着樹脂としてビスフェノールZポリカーボネート樹脂(粘度平均分子量5万:Binder1)58質量部と、表1に示す電子輸送材料(ETM1)15質量部と、表1に示す正孔輸送材料(HTM1)20質量部と、テトラヒドロフラン(THF)250質量部と、からなる混合物を、ナノマイザーにて分散し、粘度300mPa・sに調整した感光層形成用塗布液を得た。
<Example 1>
-Preparation of photoconductor (1)-
The Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-rays as the charge generating material are at least 7.3 °, 16.0 °, 24.9 °, and 28.0 °. 4 parts by mass of a V-type hydroxygallium phthalocyanine pigment (CG1) having a diffraction peak, 58 parts by mass of a bisphenol Z polycarbonate resin (viscosity average molecular weight: 50,000: Binder 1) as a binder resin, and an electron transport material (ETM1) shown in Table 1 A mixture of 15 parts by mass, 20 parts by mass of the hole transport material (HTM1) shown in Table 1, and 250 parts by mass of tetrahydrofuran (THF) was dispersed by a nanomizer to adjust the viscosity to 300 mPa · s. A coating liquid for forming a layer was obtained.

図2に示す浸漬塗布装置200を用い、以下の方法にて、直径300mm、長さ245mmのアルミニウム基体(以下、基体とも称する)上に単層型の感光層を形成した(感光層形成工程)。
まず、上記で得られた感光層形成用塗布液(以下、塗布液とも称する)を図2に示す浸漬塗布装置200の塗布槽及び貯留槽中に充填し、以下の条件で、膜厚22μmの単層型の感光層を形成した。
Using the dip coating apparatus 200 shown in FIG. 2, a single-layer type photosensitive layer was formed on an aluminum substrate (hereinafter also referred to as a substrate) having a diameter of 300 mm and a length of 245 mm by the following method (photosensitive layer forming step). .
First, the coating solution for forming a photosensitive layer obtained above (hereinafter also referred to as a coating solution) is filled in a coating tank and a storage tank of a dip coating apparatus 200 shown in FIG. A single-layer type photosensitive layer was formed.

−感光層の形成条件−
・基体の浸漬速度 500mm/分
・塗布液中での基体の停止時間 10秒
・塗布液からの基体の引き上げ速度 160mm/分
・塗膜の乾燥温度、乾燥時間 100℃、15分
・塗布液の循環流量 7L/分
・塗布液の温度 27.5℃
・溶剤蒸気を含む空気の換気量 18m/分
・塗布環境の露点温度 7℃
-Conditions for forming photosensitive layer-
Substrate immersion speed 500 mm / min. Stop time of substrate in coating solution 10 seconds. Pulling speed of substrate from coating solution 160 mm / min. Drying temperature and drying time of coating film 100 ° C., 15 minutes. Circulation flow rate 7 L / min., Temperature of coating liquid 27.5 ° C
・ Ventilation volume of air containing solvent vapor 18m 3 / min ・ Dew point temperature of coating environment 7 ℃

以上の工程を経て、実施例1の単層型の感光体(1)を作製した。   Through the above steps, the single-layer type photoconductor (1) of Example 1 was produced.

<実施例2〜8、比較例1〜6>
表1、2に従って、感光層形成用塗布液の組成において、電荷発生材料の量、電子輸送材料の種類と量、正孔輸送材料の種類と量、塗布条件を変更した以外は、実施例1の感光体(1)と同様にして、感光体(2)〜(8)、(C1)〜(C6)を作製した。
なお、表1、2中、CGは電荷発生材料を表し、ETMは電子輸送材料を表し、HTMは正孔輸送材料を表す。
<Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 6>
Example 1 was repeated except that the composition of the coating solution for forming a photosensitive layer was changed in accordance with Tables 1 and 2, except that the amount of the charge generating material, the type and amount of the electron transport material, the type and amount of the hole transport material, and the coating conditions were changed. In the same manner as photoconductor (1), photoconductors (2) to (8) and (C1) to (C6) were produced.
In Tables 1 and 2, CG represents a charge generation material, ETM represents an electron transport material, and HTM represents a hole transport material.

[評価]
(表面自由エネルギー)
各例で得られた感光体を用いて、既述の方法により、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを測定した。結果を表1、2に示す。
[Evaluation]
(Surface free energy)
Using the obtained photosensitive member in each example, Ri by the methods already described, the surface free energy was measured on the outer peripheral surface of the sensitive light layer. The results are shown in Tables 1 and 2.

(表面粗さSa)
各例で得られた感光体を用いて、既述の方法により、感光層の表面粗さSaを測定した。結果を表1、2に示す。
(Surface roughness Sa)
Using the photoconductor obtained in each example, the surface roughness Sa of the photosensitive layer was measured by the method described above. The results are shown in Tables 1 and 2.

(感度評価)
各例で得られた感光体を用いて、感光体の感度評価を行った。
感度評価は、+800Vに帯電させたときの半減露光量として評価した。具体的には、静電複写紙試験装置(エレクトロスタティックアナライザーEPA−8100、川口電機製作所社製)を用いて、20℃、40%RHの環境下、+800に帯電させた後、タングステンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nmの単色光にし、感光体表面上で1μW/cmになるように調整して、照射した。
そして、帯電直後における感光体表面の初期の表面電位V0(V)、感光体表面の光照射により表面電位が1/2×V0(V)となる半減露光量E1/2(μJ/cm)を測定した。
評価基準は、以下の通りである。半減露光量E1/2が0.2μJ/cm以下であるとき、高感度化されたと評価した。結果を表1、2に示す。
(Sensitivity evaluation)
Using the photoconductor obtained in each example, the sensitivity of the photoconductor was evaluated.
The sensitivity was evaluated as half-exposure when charged to + 800V. Specifically, using an electrostatic copying paper tester (Electrostatic Analyzer EPA-8100, manufactured by Kawaguchi Electric Works, Ltd.), it is charged to +800 in an environment of 20 ° C. and 40% RH, and then the light of a tungsten lamp is used. Was converted to monochromatic light of 800 nm using a monochromator, adjusted to 1 μW / cm 2 on the surface of the photoreceptor, and irradiated.
Then, the initial surface potential V0 (V) of the photoconductor surface immediately after charging, and the half-life exposure amount E 1/2 (μJ / cm 2 ) at which the surface potential becomes ×× V0 (V) by light irradiation on the photoconductor surface ) Was measured.
The evaluation criteria are as follows. When the half-life exposure amount E 1/2 was 0.2 μJ / cm 2 or less, it was evaluated that the sensitivity was increased. The results are shown in Tables 1 and 2.

−評価基準−
A(○):半減露光量E1/2が0.2μJ/cm以下
B(×):半減露光量E1/2が0.2μJ/cmを超える
-Evaluation criteria-
A (O): Half-exposure dose E 1/2 is 0.2 μJ / cm 2 or less B (X): Half-exposure dose E 1/2 exceeds 0.2 μJ / cm 2

(色点評価)
各例の感光体を改造機(Brother社製HL5340D)に搭載し、温度33℃、80%RHの環境下において、色点評価を行った。
色点評価は、前記改造機を用いて、白ベタ画像をA4用紙に12,000枚出力し、12,000枚目に出力した画像について、画像上に発生した色点の数を数え、以下の基準で評価した。なお、画像上に発生した色点は、感光層への填料の付着に伴う局所的な電荷リークの発生に起因して発生した色点とみなす。
また、評価基準2以下であると実用上問題を生ずることがあると評価した。結果を表1、2に示す。
(Color point evaluation)
The photoconductor of each example was mounted on a remodeling machine (HL5340D manufactured by Brother), and the color point was evaluated under an environment of a temperature of 33 ° C. and 80% RH.
The color point evaluation was performed by using the remodeling machine to output 12,000 sheets of a solid white image on A4 paper, and for the image output on the 12,000th sheet, counting the number of color points generated on the image. The evaluation was based on the following criteria. The color point generated on the image is regarded as a color point generated due to local charge leakage caused by the attachment of the filler to the photosensitive layer.
In addition, it was evaluated that if the evaluation criterion is 2 or less, a problem may occur in practical use. The results are shown in Tables 1 and 2.

−評価基準−
5: 0≦色点の数≦3
4: 4≦色点の数≦7
3: 8≦色点の数≦10
2: 11≦色点の数≦14
1: 15≦色点の数≦20
-Evaluation criteria-
5: 0 ≦ number of color points ≦ 3
4: 4 ≦ number of color points ≦ 7
3: 8 ≦ number of color points ≦ 10
2: 11 ≦ number of color points ≦ 14
1: 15 ≦ the number of color points ≦ 20


上記結果から、本実施例は、比較例2〜6に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されていることがわかる。
感光層の外周面側の表面自由エネルギーが24mN/m以上30mN/m以下で、かつ感光層の表面粗さSaが4.5nm以上6.0nm以下である実施例1〜5、7、8は、上記表面粗さSaが6.0nm超えの実施例6に比べ、画像を形成したときに生じる色点の発生が抑制されていることがわかる。
また、本実施例の感光体は、比較例1に比べ、感光層の外周面側の表面自由エネルギーを24mN/m以上30mN/m以下まで低減させても感度が良好であり、感光体としての機能することがわかる。
From the above results, it can be seen that in the present embodiment, the occurrence of color points that occur when an image is formed is suppressed as compared with Comparative Examples 2 to 6.
Examples 1 to 5, 7, and 8 in which the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is 24 mN / m or more and 30 mN / m or less, and the surface roughness Sa of the photosensitive layer is 4.5 nm or more and 6.0 nm or less. It can be seen that, compared to Example 6 in which the surface roughness Sa exceeds 6.0 nm, the occurrence of a color point that occurs when an image is formed is suppressed.
Further, the photoreceptor of the present example has good sensitivity even when the surface free energy on the outer peripheral surface side of the photosensitive layer is reduced to 24 mN / m or more and 30 mN / m or less, as compared with Comparative Example 1. It works.

以下、表中の略称の詳細について示す。
−電荷発生材料−
・CG1:下記構造式で示される電荷発生材料(ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料)
The details of the abbreviations in the table are shown below.
-Charge generation material-
CG1: charge generating material represented by the following structural formula (hydroxygallium phthalocyanine pigment)

−電子輸送材料−
・ETM1:下記構造式で示される電子輸送材料(例示化合物1−1)
−Electron transport material−
ETM1: an electron transporting material represented by the following structural formula (exemplary compound 1-1)

・ETM2:下記構造式で示される電子輸送材料

ETM2: an electron transport material represented by the following structural formula

・ETM3:下記構造式で示される電子輸送材料(例示化合物1−15)
ETM3: an electron transporting material represented by the following structural formula (exemplary compound 1-15)

・HTM1:下記構造式で示される正孔輸送材料(4−(2,2−ジフェニルエテニル)−N,N−ビス(4−メチルフェニル)ベンゼンアミン、例示化合物HT1−4)
HTM1: hole transporting material represented by the following structural formula (4- (2,2-diphenylethenyl) -N, N-bis (4-methylphenyl) benzeneamine, exemplary compound HT1-4)

1 下引層、2 感光層、3 導電性基体、7 電子写真感光体、8 帯電装置、9 露光装置、10 電子写真感光体、11 現像装置、13 クリーニング装置、14 潤滑材、40 転写装置、50 中間転写体、100 画像形成装置、120 画像形成装置、131 クリーニングブレード、132 繊維状部材、133 繊維状部材、300 プロセスカートリッジ支持部、20 支持部、22 導電性基体、24 塗布槽、26A,26B 配管、28 液受け部、30 貯留槽、32 ポンプ、34 基体昇降機、200 浸漬塗布装置 REFERENCE SIGNS LIST 1 undercoat layer, 2 photosensitive layer, 3 conductive substrate, 7 electrophotographic photosensitive member, 8 charging device, 9 exposing device, 10 electrophotographic photosensitive member, 11 developing device, 13 cleaning device, 14 lubricant, 40 transfer device, Reference Signs List 50 intermediate transfer member, 100 image forming device, 120 image forming device, 131 cleaning blade, 132 fibrous member, 133 fibrous member, 300 process cartridge support portion, 20 support portion, 22 conductive substrate, 24 coating tank, 26A, 26B piping, 28 liquid receiving part, 30 storage tank, 32 pump, 34 base lifting machine, 200 dip coating device

Claims (3)

導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、電荷発生材料と、正孔輸送材料と、下記一般式(1)で表される電子輸送材料と、を含み、感光層の外周面の側を測定したときの表面自由エネルギーが24mN/m以上30mN/m以下であり、
前記感光層の表面粗さSaが4.5nm以上6.0nm以下である感光層と、
を有する電子写真感光体。


(一般式(1)中、R11、R12、R13、R14、R15、R16、及びR17は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。R18は、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基を示す。)
A conductive substrate;
A single-layer type photosensitive layer provided on the conductive substrate, wherein the binder resin, the charge generation material, the hole transport material, and the electron transport material represented by the following general formula (1): hints, Ri surface free energy der less than 30mN / m 24mN / m when measuring the side of the outer peripheral surface of the photosensitive layer,
The photosensitive layer surface roughness Sa of the photosensitive layer is Ru der least 6.0nm below 4.5 nm,
An electrophotographic photosensitive member having:


(In the general formula (1), R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , and R 17 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, R 18 represents an alkyl group, an aryl group, or an aralkyl group.)
請求項1に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
An electrophotographic photosensitive member according to claim 1 ,
A process cartridge that is attached to and detached from the image forming apparatus.
請求項1に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
An electrophotographic photosensitive member according to claim 1 ,
Charging means for charging the surface of the electrophotographic photoreceptor,
Electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member,
Developing means for developing the electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photoreceptor to form a toner image with a developer containing toner;
Transfer means for transferring the toner image to the surface of a recording medium,
An image forming apparatus comprising:
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