JP6649507B2 - Curable composition - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性組成物、該硬化性組成物の硬化方法、該硬化性組成物を硬化した硬化物及び該硬化性組成物を硬化した硬化物を用いた波長カットフィルタに関する。   The present invention relates to a curable composition, a method for curing the curable composition, a cured product obtained by curing the curable composition, and a wavelength cut filter using the cured product obtained by curing the curable composition.

デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ、携帯電話用カメラ等に使用される固体撮像素子(CCDやC−MOS等)の感度は、光の波長の紫外領域から赤外領域に亘っている。一方、人間の視感度は光の波長の可視領域のみである。そのため、撮像レンズと固体撮像素子との間に波長カットフィルタの一種である赤外線カットフィルタを設けることで、人間の視感度に近づくように固体撮像素子の感度を補正している。   The sensitivities of solid-state imaging devices (CCD, C-MOS, etc.) used in digital still cameras, video cameras, mobile phone cameras, and the like range from the ultraviolet region to the infrared region of the wavelength of light. On the other hand, human visibility is only in the visible region of the wavelength of light. Therefore, by providing an infrared cut filter, which is a type of wavelength cut filter, between the imaging lens and the solid-state imaging device, the sensitivity of the solid-state imaging device is corrected so as to approach human visibility.

このような赤外線カットフィルタとしては、従来から各種の方法で製造されたものが使用されている。例えば、特許文献1等に記載の反射型フィルタや、特許文献2等に記載の吸収型フィルタが使用されている。特許文献1に記載の反射型フィルタは、金属等の、吸収特性を持たない物質を含有する層を組み合わせて多層に積層し、それらの屈折率の差を利用するものであり、特許文献2に記載の吸収型フィルタは、スクアリリウム構造を有する有機化合物を含有した樹脂製基板を有するものである。これらの波長カットフィルタには、人間の視感度に近づくように光吸収が特別に急峻であること、即ちλmaxの半値幅が小さいこと、また光や熱等により機能が失われない等の耐久性が高いことが求められている。   As such an infrared cut filter, filters manufactured by various methods have conventionally been used. For example, a reflective filter described in Patent Document 1 or the like and an absorption filter described in Patent Document 2 or the like are used. The reflection-type filter described in Patent Literature 1 combines layers containing a substance having no absorption characteristics, such as metal, to form a multilayer, and uses the difference in the refractive index between them. The absorption type filter described above has a resin substrate containing an organic compound having a squarylium structure. These wavelength cut filters have durability that light absorption is particularly steep so as to approach human visibility, that is, the half width of λmax is small, and the function is not lost by light or heat. Is required to be high.

特許文献1等に記載の反射型フィルタは、光の入射角により特性が変化するため、画面の中心と周辺で色合いが変化する等の弊害がある。また、反射された光が光路中において迷光となって、解像度の低下や、画像のシミ・ムラ、ゴーストと呼ばれる多重像等を引き起こす原因となるといった弊害もある。   Since the characteristics of the reflection type filter described in Patent Document 1 and the like change depending on the incident angle of light, there are adverse effects such as a change in color tone between the center and the periphery of the screen. Further, there is also a problem that reflected light becomes stray light in an optical path and causes degradation of resolution, image spots and unevenness, and multiple images called ghosts.

一方、特許文献2等に記載の吸収型フィルタは、光の入射角による特性の変化は無いものの、目的の特性を得るためにはかなりの厚さが必要になることがある。また、有機化合物を使用した光吸収剤を含有した樹脂基板の材料としては、アクリル樹脂等の硬化性樹脂や、環状オレフィン樹脂やポリカーボネート樹脂等の可塑性樹脂を用いるが、このような樹脂は耐熱性が劣ることが多い。   On the other hand, the absorption type filters described in Patent Literature 2 and the like do not change in characteristics due to the incident angle of light, but may require a considerable thickness to obtain desired characteristics. In addition, as a material of a resin substrate containing a light absorber using an organic compound, a curable resin such as an acrylic resin or a plastic resin such as a cyclic olefin resin or a polycarbonate resin is used. Is often inferior.

また、アクリル樹脂等の硬化性樹脂の硬化方法には、光酸発生剤、光ラジカル開始剤等の光重合開始剤を用いる光重合と、熱酸発生剤等の熱重合開始剤を用いる熱重合とがある。特許文献3には、非エステル系の脂環エポキシ化合物と熱酸発生剤とを含有する三次元架橋ポリマーマトリックス前駆体材料と、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤とを含有し、さらに、増感色素を含有する体積ホログラム記録用感光性組成物が開示されている。特許文献3においては、ラジカル重合開始剤の増感剤として色素が使用されている。同文献には、この増感色素は加熱や紫外線又は可視光を照射することにより分解し無色透明になるものが好ましいとの記載がある。このことから分かるように、色素を含む硬化性樹脂は、硬化時に色素が分解しやすく、これを光学フィルタとして使用した場合、十分な波長吸収能が得られない原因となることがある。   In addition, curing methods for curable resins such as acrylic resins include photopolymerization using a photopolymerization initiator such as a photoacid generator and a photoradical initiator, and thermal polymerization using a thermal polymerization initiator such as a thermal acid generator. There is. Patent Document 3 includes a three-dimensional crosslinked polymer matrix precursor material containing a non-ester-based alicyclic epoxy compound and a thermal acid generator, a radical polymerizable compound, and a radical polymerization initiator, There is disclosed a photosensitive composition for volume hologram recording containing a sensitizing dye. In Patent Document 3, a dye is used as a sensitizer for a radical polymerization initiator. The document states that the sensitizing dye is preferably one that is decomposed by heating or irradiated with ultraviolet light or visible light and becomes colorless and transparent. As can be seen from the above, in the curable resin containing a dye, the dye is easily decomposed at the time of curing, and when this is used as an optical filter, it may be a cause that a sufficient wavelength absorbing ability cannot be obtained.

また、特許文献4には、シアニン化合物等のカチオン染料、エポキシ化合物等のカチオン重合性有機物質、及び光酸発生剤を用いる光硬化性組成物が開示されている。   Patent Document 4 discloses a photocurable composition using a cationic dye such as a cyanine compound, a cationically polymerizable organic substance such as an epoxy compound, and a photoacid generator.

US2005/253048A1US2005 / 253048A1 特開2012−008532号公報JP 2012-008532 A 特開2011−118363号公報JP 2011-118363 A 国際公開第2013/172145号WO 2013/172145

特許文献4に記載の光硬化性組成物から得られる硬化物は、耐湿熱性に難があり、硬化物中で色素が析出してしまうという問題があった。   The cured product obtained from the photocurable composition described in Patent Literature 4 has a problem in that it has poor wet heat resistance, and has a problem that a dye is precipitated in the cured product.

したがって、本発明の目的は、耐湿熱性に優れ波長カットフィルタに好適な硬化物を形成することができる硬化性組成物を提供することにある。また、本発明の別の目的は、上記硬化性組成物の硬化方法、及び上記硬化性組成物を硬化した硬化物を提供することにある。本発明のさらに別の目的は、上記硬化物を用いた耐湿熱性に優れる波長カットフィルタを提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a curable composition having excellent wet heat resistance and capable of forming a cured product suitable for a wavelength cut filter. Another object of the present invention is to provide a method for curing the curable composition and a cured product obtained by curing the curable composition. Still another object of the present invention is to provide a wavelength cut filter using the above cured product and having excellent wet heat resistance.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、二種以上のカチオン染料、カチオン重合性有機物質、及び酸発生剤を含有する硬化性組成物が、耐湿熱性に優れることを知見し、また、この硬化性組成物が、波長カットフィルタの製造に好適であることを知見し、本発明に到達した。   The present inventors have conducted intensive studies and found that a curable composition containing two or more cationic dyes, a cationically polymerizable organic substance, and an acid generator is excellent in wet heat resistance, The inventors have found that this curable composition is suitable for producing a wavelength cut filter, and have reached the present invention.

すなわち、本発明は、二種以上のカチオン染料(A)、カチオン重合性有機物質(B)、及び酸発生剤(C)を含有する硬化性組成物を提供するものである。
また、本発明は、さらに有機溶媒を含有する上記硬化性組成物を、基材に塗布した後、活性エネルギー線又は加熱によって硬化させる、上記硬化性組成物の硬化方法を提供するものである。
また、本発明は、上記硬化性組成物の硬化物、及び該硬化物を少なくとも一部に具備してなる波長カットフィルタを提供するものである。
That is, the present invention provides a curable composition containing two or more cationic dyes (A), a cationically polymerizable organic substance (B), and an acid generator (C).
The present invention also provides a method for curing the curable composition, wherein the curable composition further containing an organic solvent is applied to a substrate and then cured by active energy rays or heating.
Further, the present invention provides a cured product of the curable composition, and a wavelength cut filter including the cured product in at least a part thereof.

本発明の波長カットフィルタの層構造の一例の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of an example of the layer structure of the wavelength cut filter of this invention. 本発明の波長カットフィルタの層構造の別の一例の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of another example of the layer structure of the wavelength cut filter of this invention.

以下、本発明の硬化性組成物について、好ましい実施形態に基づき説明する。
本発明の硬化性組成物は、二種以上のカチオン染料(A)、カチオン重合性有機物質(B)、及び酸発生剤(C)を含有する。以下、各成分について順に説明する。
Hereinafter, the curable composition of the present invention will be described based on preferred embodiments.
The curable composition of the present invention contains two or more cationic dyes (A), a cationically polymerizable organic substance (B), and an acid generator (C). Hereinafter, each component will be described in order.

まず、二種以上のカチオン染料(A)について説明する。
本発明の硬化性組成物に用いられる二種以上のカチオン染料(A)としては、特に限定されず公知の染料を用いることができるが、例えば、キノリンブルー等のポリメチン系染料、マラカイトグリーン、クリスタルバイオレット等のトリフェニルメタン系染料、オーラミン等のジフェニルメタン系染料、メチレンブルー等のチアジン系染料、ローダミンB等のキサンテン系染料、サフラニン等のアゾ系染料、ベーシックブルー3等のオキサジン系染料、アクリジンオレンジ等のアクリジン系染料、アントシアニジン類等のピリリウム系染料等の染料が使用できる。ここでいう「二種以上」には、例えば、同系統の染料を二種以上の場合(例えば、ポリメチン系染料と、それとは違う種類のポリメチン系染料)と、異系統の染料を二種以上の場合(例えば、ポリメチン系染料とトリフェニルメタン系染料)がある。
First, two or more cationic dyes (A) will be described.
The two or more cationic dyes (A) used in the curable composition of the present invention are not particularly limited, and known dyes can be used. Examples thereof include polymethine dyes such as quinoline blue, malachite green, and crystal. Triphenylmethane dyes such as violet, diphenylmethane dyes such as auramine, thiazine dyes such as methylene blue, xanthene dyes such as rhodamine B, azo dyes such as safranine, oxazine dyes such as Basic Blue 3, acridine orange, etc. Dyes such as acridine dyes and pyrylium dyes such as anthocyanidins can be used. The term “two or more types” used herein includes, for example, a case where two or more dyes of the same type are used (for example, a polymethine dye and a different type of polymethine type dye), and two or more types of dyes of different types are used. (For example, a polymethine dye and a triphenylmethane dye).

二種以上のカチオン染料(A)は、耐湿熱性の良さから、少なくとも一種がポリメチン系染料であることが好ましく、ポリメチン系染料と、それとは違う種類のポリメチン系染料との、二種であることがより好ましい。
ポリメチン系染料は、カチオン部分とアニオン部分から構成される化合物である。本発明においては、カチオン部分とアニオン部分の両方とも同一の構造の場合が、同じ種類のポリメチン系染料である。カチオン部分の構造が同一でも、アニオン部分の構造が異なる場合、違う種類のポリメチン系染料であり、これらを使用した場合、二種のポリメチン系染料を使用したことになる。また、アニオン部分の構造が同一でも、カチオン部分の構造が異なれば、違う種類のポリメチン系染料であり、当然ながら、カチオン部分の構造とアニオン部分の構造の両方とも異なる場合は、違う種類のポリメチン系染料である。本発明においては、カチオン部分が同一でアニオン部分が異なるもの、カチオン部分が異なってアニオン部分が同一のもの、カチオン部分とアニオン部分の両方とも異なるもの、のいずれでも、違う種類のポリメチン系染料として使用できるが、耐湿熱性の点から、カチオン部分が異なりアニオン部分が同一のもの、あるいは、カチオン部分とアニオン部分の両方が異なるものが好ましい。
It is preferable that at least one of the two or more cationic dyes (A) is a polymethine-based dye from the viewpoint of resistance to moist heat, and that the two or more cationic dyes are a polymethine-based dye and a different type of polymethine-based dye. Is more preferred.
A polymethine dye is a compound composed of a cation part and an anion part. In the present invention, the case where both the cation portion and the anion portion have the same structure is the same type of polymethine dye. If the structure of the cation portion is the same, but the structure of the anion portion is different, different types of polymethine dyes are used. When these are used, two types of polymethine dyes are used. Also, even if the structure of the anion portion is the same, if the structure of the cation portion is different, a different type of polymethine dye is used.If both the structure of the cation portion and the structure of the anion portion are different, naturally, a different type of polymethine dye is used. It is a system dye. In the present invention, any of those having the same cationic portion but different anionic portion, those having different cationic portions and the same anionic portion, and those having both different cationic and anionic portions, as different types of polymethine dyes From the viewpoint of resistance to moist heat, it is preferable that the cation moiety is different and the anion moiety is the same, or that both the cation moiety and the anion moiety are different.

本発明において、カチオン染料二種以上の含有比率としては、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化物の耐湿熱性が特に良好になることから、二種以上のカチオン染料(A)の総量中、一種類のカチオン染料の比率が、質量基準で25%〜95%であることが好ましく、35%〜80%がより好ましく、40%〜60%がより一層好ましい。とりわけ、二種以上のカチオン染料(A)が二種のカチオン染料からなり、これら二種のうちの一種のカチオン染料の比率が上記の範囲であることが好ましい。
二種のときの含有量の比率としては、耐湿熱性が良好であることから、質量比で、好ましくは99.99:0.01〜0.01:99.99、より好ましくは98:2〜2:98、更に好ましくは、95:5〜25:75、より一層好ましくは60:40〜40:60である。
In the present invention, the content ratio of two or more cationic dyes is not particularly limited. However, since the wet heat resistance of the cured product of the curable composition becomes particularly good, the content ratio of the two or more cationic dyes (A) is The proportion of one type of cationic dye is preferably 25% to 95%, more preferably 35% to 80%, even more preferably 40% to 60% by mass. In particular, it is preferable that two or more kinds of the cationic dyes (A) are composed of two kinds of the cationic dyes, and the ratio of one kind of the two kinds of the cationic dyes is within the above range.
The content ratio of the two types is preferably 99.99: 0.01 to 0.01: 99.99, more preferably 98: 2, in terms of mass ratio, because the wet heat resistance is good. 2:98, more preferably 95: 5 to 25:75, even more preferably 60:40 to 40:60.

上記ポリメチン系染料としては、例えば、下記一般式(1)で表される化合物が挙げられる。なお、本明細書中、化学式中の*は結合手を示す。   Examples of the polymethine dye include a compound represented by the following general formula (1). In the present specification, * in the chemical formula indicates a bond.

(式中、Aは下記の群Iの(a)〜(m)から選ばれる基を表し、A’は下記の群IIの(a’)〜(m’)から選ばれる基を表し、Qは、下記一般式(1−A)で表されるメチン鎖を含む連結基を表し、Anq−はq価のアニオンを表し、qは1又は2を表し、pは電荷を中性に保つ係数を表す。)(Wherein, A represents a group selected from the following group I (a) to (m), A ′ represents a group selected from the following group II (a ′) to (m ′), Represents a linking group containing a methine chain represented by the following general formula (1-A), An q- represents a q-valent anion, q represents 1 or 2, and p keeps a charge neutral. Represents a coefficient.)

(式中、環C及び環C’は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環又はピリジン環を表し、
式中、R及びR’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素原子数2〜16のジアルキルアミノ基、炭素原子数12〜40のジアリールアミノ基、炭素原子数7〜28のアリールアルキルアミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R及びR’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R及びR’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、R〜R及びR’〜R’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R〜R及びR’〜R’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R〜R及びR’〜R’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、X及びX’は、各々独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−CR5152−、炭素原子数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイル基、−NH−又は−NY−を表し、R51及びR52は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R51及びR52中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R51及びR52中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、Y、Y’及びYは、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、ニトロ基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該Y、Y’及びY中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、該Y、Y’及びY中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、r及びr’は、0又は(a)〜(e)、(g)〜(j)、(l)、(m)、(a’)〜(e’)、(g’)〜(j’)、(l’)及び(m’)において置換基数として可能な1以上の数を表す。)
(Wherein, ring C and ring C ′ each independently represent a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring or a pyridine ring;
In the formula, R 1 and R 1 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, a dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms, a carbon atom having 12 to 12 carbon atoms. 40 diarylamino groups, arylalkylamino groups having 7 to 28 carbon atoms, amide groups, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, arylalkyl groups having 7 to 30 carbon atoms or alkyl having 1 to 8 carbon atoms A hydrogen atom of a dialkylamino group, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and an alkyl group in R 1 and R 1 ′ are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group , a cyano group, a carboxyl group, an amino group, may be substituted with a amido group or a ferrocenyl group, Jiarukirua in said R 1 and R 1 ' M, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and a methylene group in the alkyl group each independently represent -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-. , -SO 2 -, - NH - , - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a carbon atom number of 6 to 20. An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein the aryl group, the arylalkyl group and the aryl group in R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ The hydrogen atom of the alkyl group may be independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the R 2 to R 9 and R 2 ′ aryl groups in to R 9 ', a methylene group in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, -NH-, -CONH- -NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, X and X ′ each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, —CR 51 R 52 —, a cycloalkane-1,1-diyl group having 3 to 6 carbon atoms, —NH— or —. NY 2 - represents, R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon Represents an arylalkyl group having 7 to 30 atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and hydrogen atoms of the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group in R 51 and R 52 are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, May be substituted with an atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the aryl group, arylalkyl group and alkyl group in R 51 and R 52 may be substituted. Methylene groups in the kill groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - May be substituted with N = CH- or -CH = CH-,
In the formula, Y, Y ′ and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a nitro group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon atom arylalkyl group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in the C7-30, the Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, a hydrogen atom in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, a hydroxyl group, a halogen group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amido group, may be substituted with a ferrocenyl group or a nitro group, said Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, arylalkyl group, and the alkyl group methylene groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH -Or -CH = C - it may be substituted with,
In the formula, r and r ′ are 0 or (a) to (e), (g) to (j), (1), (m), (a ′) to (e ′), (g ′) to (J '), (l') and (m ') represent one or more possible substituents. )

(式中、kは、0〜4の整数を表し、
式中、該メチン鎖の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、該アルキル基は、対応するアルキレン基となって該メチン鎖の任意の2つの炭素原子と結合して炭素原子数3〜10の環構造を構成する場合があり、該環構造の水素原子は各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、
該メチン鎖及び該環構造中のR及びR’は、各々独立に炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該メチン鎖及び該環構造中の−NRR’、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は更に、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基又は−NRR’で置換される場合があり、該メチン鎖及び該環構造中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合がある。)
(In the formula, k represents an integer of 0 to 4,
In the formula, the hydrogen atoms of the methine chain are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a carbon atom. It may be substituted with an alkyl group of 1 to 8, and the alkyl group becomes a corresponding alkylene group and bonds to any two carbon atoms of the methine chain to form a ring structure having 3 to 10 carbon atoms. And each hydrogen atom of the ring structure is independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a carbon atom. May be substituted with an alkyl group having 1 to 8 atoms,
R and R ′ in the methine chain and the ring structure each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. The hydrogen atom in the methine chain and -NRR 'in the ring structure, the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group may be further independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group or -NRR'. And the aryl group in the methine chain and the ring structure, the methylene group in the arylalkyl group and the methylene group in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-. )

上記一般式(1)におけるR〜R及びR’〜R’並びにX及びX’中のR51及びR52で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。Examples of the halogen atom represented by R 1 to R 9 and R 1 ′ to R 9 ′ in the general formula (1) and R 51 and R 52 in X and X ′ include fluorine, chlorine, bromine, and iodine. Can be

上記一般式(1)におけるR〜R及びR’〜R’並びにX及びX’中のR51及びR52で表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−iso−プロピルフェニル、4−iso−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−iso−ブチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル、2,6−ジ−tert−ブチルフェニル、2,4−ジ−tert−ペンチルフェニル、2,5−ジ−tert−アミルフェニル、2,5−ジ−tert−オクチルフェニル、2,4−ジクミルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、(1,1’−ビフェニル)−4−イル、2,4,5−トリメチルフェニル、フェロセニル等が挙げられる。The aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 1 to R 9 and R 1 ′ to R 9 ′ in the general formula (1) and R 51 and R 52 in X and X ′ is phenyl, Naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-iso-propylphenyl, 4-iso-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-iso-butylphenyl, 4- tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2, 5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, , 4-Di-tert-butylphenyl, 2,5-di-tert-butylphenyl, 2,6-di-tert-butylphenyl, 2,4-di-tert-pentylphenyl, 2,5-di-tert -Amylphenyl, 2,5-di-tert-octylphenyl, 2,4-dicumylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, (1,1'-biphenyl) -4-yl, 2,4,5-trimethylphenyl, Ferrocenyl and the like.

上記一般式(1)におけるR〜R及びR’〜R’並びにX及びX’中のR51及びR52で表される炭素原子数7〜30のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、フェロセニルメチル、フェロセニルプロピル、4−イソプロピルフェネチル等が挙げられる。The arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms represented by R 1 to R 9 and R 1 ′ to R 9 ′ in the general formula (1) and R 51 and R 52 in X and X ′ is benzyl. Phenethyl, 2-phenylpropan-2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, cinnamyl, ferrocenylmethyl, ferrocenylpropyl, 4-isopropylphenethyl and the like.

上記一般式(1)におけるR〜R及びR’〜R’並びにX及びX’中のR51及びR52で表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、iso−ブチル、アミル、iso−アミル、tert−アミル、n−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、n−ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、iso−ヘプチル、tert−ヘプチル、1−オクチル、iso−オクチル、tert−オクチル等が挙げられる。Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 1 to R 9 and R 1 ′ to R 9 ′ in the general formula (1) and R 51 and R 52 in X and X ′ include methyl, Ethyl, n-propyl, iso-propyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, iso-butyl, amyl, iso-amyl, tert-amyl, n-hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, Examples thereof include 1-methylcyclohexyl, n-heptyl, 2-heptyl, 3-heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, 1-octyl, iso-octyl, and tert-octyl.

上記一般式(1)におけるR及びR’で表される、炭素原子数2〜16のジアルキルアミノ基としては、上記アルキル基を有するアミノ基が挙げられ、炭素原子数12〜40のジアリールアミノ基としては、上記アリール基を有するアミノ基が挙げられ、炭素原子数7〜28のアリールアルキルアミノ基としては、上記アリール基及びアルキル基を有するアミノ基が挙げられる。Examples of the dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms represented by R 1 and R 1 ′ in the general formula (1) include an amino group having the alkyl group, and a diaryl having 12 to 40 carbon atoms. Examples of the amino group include an amino group having the aryl group. Examples of the arylalkylamino group having 7 to 28 carbon atoms include the amino group having the aryl group and the alkyl group.

上記炭素原子数2〜16のジアルキルアミノ基、炭素原子数12〜40のジアリールアミノ基、炭素原子数7〜28のアリールアルキルアミノ基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基及び炭素原子数1〜8のアルキル基中の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、これらの置換の数及び位置は任意である。The dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms, the diarylamino group having 12 to 40 carbon atoms, the arylalkylamino group having 7 to 28 carbon atoms, the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and the 7 to carbon atoms The hydrogen atoms in the 30 arylalkyl groups and the alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms are each independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group. In some cases, the methylene group in the dialkylamino group, diarylamino group, arylalkylamino group, aryl group, arylalkyl group and alkyl group is each independently -O-, -S-, -CO-,- COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or field to be replaced by -CH = CH- There are, number and position of these substitutions are arbitrary.

例えば、上記炭素原子数1〜8のアルキル基中の水素原子がハロゲン原子で置換された基としては、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ノナフルオロブチル等が挙げられ、
上記炭素原子数1〜8のアルキル基中のメチレン基が−O−で置換された基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、iso−プロピルオキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、ペンチルオキシ、iso−ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ等のアルコキシ基や、2−メトキシエチル、2−(2−メトキシ)エトキシエチル、2−エトキシエチル、2−ブトキシエチル、4−メトキシブチル、3−メトキシブチル等のアルコキシアルキル基等が挙げられ、
上記炭素原子数1〜8のアルキル基中の水素原子がハロゲン原子で置換され、且つ該アルキル基中のメチレン基が−O−で置換された基としては、例えば、クロロメチルオキシ、ジクロロメチルオキシ、トリクロロメチルオキシ、フルオロメチルオキシ、ジフルオロメチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ、ノナフルオロブチルオキシ等が挙げられる。
For example, as a group in which a hydrogen atom in the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is substituted with a halogen atom, for example, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, nonafluoro Butyl and the like,
Examples of the group in which the methylene group in the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is substituted with -O- include methyloxy, ethyloxy, iso-propyloxy, propyloxy, butyloxy, pentyloxy, iso-pentyloxy, hexyl Alkoxy groups such as oxy, heptyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, 2-methoxyethyl, 2- (2-methoxy) ethoxyethyl, 2-ethoxyethyl, 2-butoxyethyl, 4-methoxybutyl, Alkoxyalkyl groups such as methoxybutyl and the like,
Examples of the group in which a hydrogen atom in the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is substituted with a halogen atom and a methylene group in the alkyl group is substituted with -O- include, for example, chloromethyloxy, dichloromethyloxy , Trichloromethyloxy, fluoromethyloxy, difluoromethyloxy, trifluoromethyloxy, nonafluorobutyloxy and the like.

上記一般式(1)において、X及びX’で表される炭素原子数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイル基としては、シクロプロパン−1,1−ジイル、シクロブタン−1,1−ジイル、2,4−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、3,3−ジメチルシクロブタン−1,1−ジイル、シクロペンタン−1,1−ジイル、シクロヘキサン−1,1−ジイル等が挙げられる。   In the general formula (1), the cycloalkane-1,1-diyl group having 3 to 6 carbon atoms represented by X and X ′ includes cyclopropane-1,1-diyl, cyclobutane-1,1-diyl. Diyl, 2,4-dimethylcyclobutane-1,1-diyl, 3,3-dimethylcyclobutane-1,1-diyl, cyclopentane-1,1-diyl, cyclohexane-1,1-diyl and the like.

上記一般式(1)において、Y、Y’及びYで表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。In the general formula (1), Y, the halogen atom represented by Y 'and Y 2, fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

Y、Y’及びYで表される炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−iso−プロピルフェニル、4−iso−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−iso−ブチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル、2,6−ジ−tert−ブチルフェニル、2,4−ジ−tert−ペンチルフェニル、2,5−ジ−tert−アミルフェニル、2,5−ジ−tert−オクチルフェニル、2,4−ジクミルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、(1,1’−ビフェニル)−4−イル、2,4,5−トリメチルフェニル、フェロセニル等が挙げられる。The aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by Y, Y ′ and Y 2 includes phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-iso -Propylphenyl, 4-iso-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-iso-butylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2- Ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl , 2,4-di-tert-butylphenyl, 2,5-di-tert-butylphenyl 2,6-di-tert-butylphenyl, 2,4-di-tert-pentylphenyl, 2,5-di-tert-amylphenyl, 2,5-di-tert-octylphenyl, 2,4-dicumyl Phenyl, 4-cyclohexylphenyl, (1,1′-biphenyl) -4-yl, 2,4,5-trimethylphenyl, ferrocenyl and the like.

Y、Y’及びYで表される炭素原子数7〜30のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、フェロセニルメチル、フェロセニルプロピル、4−イソプロピルフェネチル等が挙げられる。Y, the aryl alkyl group having 7 to 30 carbon atoms represented by Y 'and Y 2, benzyl, phenethyl, 2-phenylpropan-2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, cinnamyl, Ferose Nylmethyl, ferrocenylpropyl, 4-isopropylphenethyl and the like.

Y、Y’及びYで表される炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、n−プロピル、iso−プロピル、n−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、iso−ブチル、アミル、iso−アミル、tert−アミル、n−ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、n−ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、iso−ヘプチル、tert−ヘプチル、1−オクチル、iso−オクチル、tert−オクチル等が挙げられる。Y, the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by Y 'and Y 2, methyl, ethyl, n- propyl, iso- propyl, n- butyl, sec- butyl, tert- butyl, iso- butyl , Amyl, iso-amyl, tert-amyl, n-hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, n-heptyl, 2-heptyl, 3-heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, Examples include 1-octyl, iso-octyl, tert-octyl and the like.

Y、Y’、Y中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、これらの置換の数及び位置は任意である。Y, Y ', aryl group in Y 2, a hydrogen atom in the arylalkyl and alkyl groups are each independently a hydroxyl group, a halogen group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, ferrocenyl group or a nitro group And the number and position of these substitutions are arbitrary.

また、上記一般式(1)において、Y、Y’、Y中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、これらの置換の数及び位置は任意である。
例えば、上記のメチレン基が上記の−O−、−S−等で置換されたものとしては、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、iso−ブチル、アミル、iso−アミル、tert−アミル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、iso−ヘプチル、tert−ヘプチル、1−オクチル、iso−オクチル、tert−オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、iso−ノニル、デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等のアルキル基;2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−iso−プロピルフェニル、4−iso−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−iso−ブチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、シクロヘキシルフェニル等のアリール基;ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基等の中のメチレン基が、−O−、−S−等で置換されたもの、例えば、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−フェノキシエチル、3−フェノキシプロピル、2−メチルチオエチル、2−フェニルチオエチル等が挙げられる。
In the general formula (1), the aryl group in Y, Y ′ and Y 2 , the arylalkyl group and the methylene group in the alkyl group each independently represent —O—, —S—, —CO—, -COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - may N = CH- or substituted with -CH = CH-, the number of these substitutions and The position is arbitrary.
For example, when the above methylene group is substituted with the above -O-, -S- or the like, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, iso-butyl, amyl , Iso-amyl, tert-amyl, hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, heptyl, 2-heptyl, 3-heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, 1-octyl, iso- Alkyl groups such as octyl, tert-octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, iso-nonyl, decyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl; 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl , 4-vinylphenyl, 3 iso-propylphenyl, 4-iso-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-iso-butylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4-hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2 -Ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2,6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethyl Aryl groups such as phenyl, 2,4-di-tert-butylphenyl and cyclohexylphenyl; and arylalkyl groups such as benzyl, phenethyl, 2-phenylpropan-2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, cinnamyl and the like. Methylene group in the -O-,- And the like, for example, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 2-butoxyethyl, methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-phenoxyethyl, 3 -Phenoxypropyl, 2-methylthioethyl, 2-phenylthioethyl and the like.

一般式(1)において、Aが(a)、(b)、(c)、(i)、(k)及び(m)から選ばれる基であり、A’が(a’)、(b’)、(c’)、(i’)、(k’)及び(m’)から選ばれる基であるものが、工業原料入手の容易さの点から好ましく、Aが(a)又は(c)から選ばれ、A’が(a’)又は(c’)で選ばれる基であるものがより好ましい。   In the general formula (1), A is a group selected from (a), (b), (c), (i), (k) and (m), and A ′ is (a ′), (b ′) ), (C '), (i'), (k ') and (m') are preferred from the viewpoint of easy availability of industrial raw materials, and A is (a) or (c) And A ′ is more preferably a group selected from (a ′) and (c ′).

一般式(1)において、AとA’は互いに対称な基であってもよく、非対称な基であってもよい。互いに対称な基とは、例えば、Aが(a)であり、A’が(a’)であって、(a)における環C、Y、R、r、X、がそれぞれ、(a’)における環C’、Y’、R’、r’、X’と同一である場合をいう。非対称な基とは、互いに対称でないことをいう。In the general formula (1), A and A ′ may be mutually symmetric groups or asymmetric groups. The mutually symmetric groups are, for example, A is (a), A ′ is (a ′), and the ring C, Y, R 1 , r, X in (a) is (a ′) ) Is the same as ring C ′, Y ′, R 1 ′, r ′, X ′. Asymmetrical groups are not symmetrical to each other.

上記一般式(1−A)で表わされる連結基中のメチン鎖及び炭素原子数3〜10の環構造を置換する場合もあるハロゲン原子、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基、並びに上記一般式(1−A)中のR及びR’で表される炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基としては、上記一般式(1)におけるR〜R及びR’〜R’並びにX及びX’中のR51及びR52で表されるものと同様のものが挙げられる。In the linking group represented by the general formula (1-A), a methine chain and a halogen atom which may substitute a ring structure having 3 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom having 7 carbon atoms may be substituted. To 30 arylalkyl groups or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms; an aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R and R 'in the general formula (1-A); The arylalkyl group having 1 to 30 carbon atoms or the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms includes R 1 to R 9 and R 1 ′ to R 9 ′ in the above general formula (1) and R 51 and R in X and X ′. The same thing as the thing represented by 52 is mentioned.

上記一般式(1−A)で表わされる連結基としては、下記(Q−1)〜(Q−11)の何れかで表される基が、製造が容易であるため好ましい。また、メチン鎖が短いために耐湿熱性が特に高いことから下記(Q−1)〜(Q−3)及び(Q−11)で表される基がより好ましく、下記(Q−1)、(Q−2)及び(Q−11)はさらに好ましい。また、(Q−4)〜(Q−9)も、メチン鎖中に環構造を有することから耐湿熱性が高いためより好ましい。   As the linking group represented by the general formula (1-A), a group represented by any one of the following (Q-1) to (Q-11) is preferable because production is easy. Further, the moist heat resistance is particularly high because the methine chain is short, and therefore the groups represented by the following (Q-1) to (Q-3) and (Q-11) are more preferable. Q-2) and (Q-11) are more preferred. Further, (Q-4) to (Q-9) are more preferable because they have a high moist heat resistance because they have a ring structure in the methine chain.

(式中、R14、R15、R16、R17、R18、R19及びZ’は、各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、R及びR’は、各々独立に、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R14、R15、R16、R17、R18、R19及びZ’中の−NRR’、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、該アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合がある。)(Where R 14 , R Fifteen , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 And Z ′ are each independently a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, —NRR ′, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or 1 to carbon atoms. 8 represents an alkyl group, R and R 'each independently represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, The R 14 , R Fifteen , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 And -NRR 'in Z', an aryl group, an arylalkyl group and a hydrogen atom in the alkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', a carboxyl group, an amino group, an amide group, a ferrocenyl. A methylene group in the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group may be each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO -, -SO 2 -, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N = CH- or -CH = CH- in some cases. )

上記R14、R15、R16、R17、R18、R19及びZ’で表わされるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。Examples of the halogen atom represented by R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and Z ′ include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

上記R14、R15、R16、R17、R18、R19、Z’、R及びR’で表わされる炭素原子数6〜20のアリール基としては、フェニル、ナフチル、2−メチルフェニル、3−メチルフェニル、4−メチルフェニル、4−ビニルフェニル、3−iso−プロピルフェニル、4−iso−プロピルフェニル、4−ブチルフェニル、4−iso−ブチルフェニル、4−tert−ブチルフェニル、4−ヘキシルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、4−オクチルフェニル、4−(2−エチルヘキシル)フェニル、4−ステアリルフェニル、2,3−ジメチルフェニル、2,4−ジメチルフェニル、2,5−ジメチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、3,4−ジメチルフェニル、3,5−ジメチルフェニル、2,4−ジ−tert−ブチルフェニル、2,5−ジ−tert−ブチルフェニル、2,6−ジ−tert−ブチルフェニル、2,4−ジ−tert−ペンチルフェニル、2,5−ジ−tert−アミルフェニル、2,5−ジ−tert−オクチルフェニル、2,4−ジクミルフェニル、4−シクロヘキシルフェニル、(1,1’−ビフェニル)−4−イル、2,4,5−トリメチルフェニル、フェロセニル等が挙げられる。The aryl group having 6 to 20 carbon atoms represented by R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , Z ′, R and R ′ includes phenyl, naphthyl, 2-methylphenyl, 3-methylphenyl, 4-methylphenyl, 4-vinylphenyl, 3-iso-propylphenyl, 4-iso-propylphenyl, 4-butylphenyl, 4-iso-butylphenyl, 4-tert-butylphenyl, 4- Hexylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, 4-octylphenyl, 4- (2-ethylhexyl) phenyl, 4-stearylphenyl, 2,3-dimethylphenyl, 2,4-dimethylphenyl, 2,5-dimethylphenyl, 2, 6-dimethylphenyl, 3,4-dimethylphenyl, 3,5-dimethylphenyl, 2,4-di-t rt-butylphenyl, 2,5-di-tert-butylphenyl, 2,6-di-tert-butylphenyl, 2,4-di-tert-pentylphenyl, 2,5-di-tert-amylphenyl, 2 , 5-di-tert-octylphenyl, 2,4-dicumylphenyl, 4-cyclohexylphenyl, (1,1′-biphenyl) -4-yl, 2,4,5-trimethylphenyl, ferrocenyl and the like. .

上記R14、R15、R16、R17、R18、R19、Z’、R及びR’で表わされる炭素原子数7〜30のアリールアルキル基としては、ベンジル、フェネチル、2−フェニルプロパン−2−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル、フェロセニルメチル、フェロセニルプロピル、4−イソプロピルフェネチル等が挙げられる。The arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms represented by R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , Z ′, R and R ′ includes benzyl, phenethyl, 2-phenylpropane -2-yl, diphenylmethyl, triphenylmethyl, styryl, cinnamyl, ferrocenylmethyl, ferrocenylpropyl, 4-isopropylphenethyl and the like.

上記R14、R15、R16、R17、R18、R19、Z’、R及びR’で表わされる炭素原子数1〜8のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、iso−ブチル、アミル、iso−アミル、tert−アミル、ヘキシル、2−ヘキシル、3−ヘキシル、シクロヘキシル、1−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、2−ヘプチル、3−ヘプチル、iso−ヘプチル、tert−ヘプチル、1−オクチル、iso−オクチル、tert−オクチル等が挙げられる。Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 , Z ′, R and R ′ include methyl, ethyl, propyl, and iso-propyl. Butyl, sec-butyl, tert-butyl, iso-butyl, amyl, iso-amyl, tert-amyl, hexyl, 2-hexyl, 3-hexyl, cyclohexyl, 1-methylcyclohexyl, heptyl, 2-heptyl, 3- Heptyl, iso-heptyl, tert-heptyl, 1-octyl, iso-octyl, tert-octyl and the like.

これらのアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン基、シアノ基、−NRR’、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、これらの置換の数及び位置は任意である。   Hydrogen atoms in these aryl groups, arylalkyl groups and alkyl groups are each independently substituted with a hydroxyl group, a halogen group, a cyano group, -NRR ', a carboxyl group, an amino group, an amide group, a ferrocenyl group or a nitro group. The number and position of these substitutions are arbitrary.

上記一般式(1)中のpAnq−で表されるq価のアニオンとしては、メタンスルホン酸アニオン、ドデシルスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ナフタレンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−4−スルホン酸アニオン、2−アミノ−4−メチル−5−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、2−アミノ−5−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン、特開平10−235999号公報、特開平10−337959号公報、特開平11−102088号公報、特開2000−108510号公報、特開2000−168233号公報、特開2001−209969号公報、特開2001−322354号公報、特開2006−248180号公報、特開2006−297907号公報、特開平8−253705号公報、特表2004−503379号公報、特開2005−336150号公報、国際公開第2006/28006号等に記載されたスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオンの他、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスホン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、励起状態にある活性分子を脱励起させる(クエンチングさせる)機能を有するクエンチャー陰イオン、シクロペンタジエニル環にカルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン基等の陰イオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物陰イオン等が挙げられる。The q-valent anion represented by pAn q- in the general formula (1), methanesulfonic acid anion, dodecyl sulfonate anion, benzenesulfonic acid anion, toluenesulfonic acid anion, trifluoromethanesulfonic acid anion, naphthalenesulfonic Acid anion, diphenylamine-4-sulfonic acid anion, 2-amino-4-methyl-5-chlorobenzenesulfonic acid anion, 2-amino-5-nitrobenzenesulfonic acid anion, JP-A-10-235999, JP-A-10-337959 JP-A-11-102888, JP-A-2000-108510, JP-A-2000-168233, JP-A-2001-209969, JP-A-2001-322354, JP-A-2006-248180 , JP Organic sulfonic acids such as sulfonic acid anions described in 2006-297907, JP-A-8-253705, JP-T-2004-503379, JP-A-2005-336150, and WO 2006/280006. Other than anions, chloride ion, bromide ion, iodide ion, fluoride ion, chlorate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, tetrafluoroborate ion, Octyl phosphate ion, dodecyl phosphate ion, octadecyl phosphate ion, phenyl phosphate ion, nonylphenyl phosphate ion, 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) phosphonate ion, tetrakis (pentane) Fluorophenyl) borate ion, A quencher anion having a function of de-exciting (quenching) an active molecule in an excited state, ferrocene, luteocene, etc. having an anionic group such as a carboxyl group, a phosphonic acid group or a sulfone group on a cyclopentadienyl ring. Metallocene compound anions.

これらの中でも耐湿熱性が特に高くなる点から、有機スルホン酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオンが好ましく、またN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸アニオン、N,N−ビス(フルオロスルホニル)イミド酸アニオン、N,N−ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、トリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオンがさらに好ましい。   Among these, organic sulfonic acid anion, hexafluorophosphate ion, and tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion are preferable, and N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate anion, N, N-bis (fluorosulfonyl) imidate anion, N, N-bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate anion, trifluoromethanesulfonic acid anion, tris (trifluoromethanesulfonyl) methide anion, hexafluorophosphate ion, Tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion is more preferred.

尚、上記一般式(1)及び(1−A)中の記号*は、*が付された箇所で隣接する基と結合することを示している。   Note that the symbol * in the above general formulas (1) and (1-A) indicates that the compound is bonded to an adjacent group at the position marked with *.

本発明で用いられるポリメチン化合物の具体例としては、下記化合物No.1〜107が挙げられる。なお、以下の例示では、アニオンを省いた化合物で示している。   Specific examples of the polymethine compound used in the present invention include the following compound No. 1 to 107. In addition, in the following examples, it shows with the compound which omitted the anion.

上記ポリメチン化合物は、その製造方法は特に限定されず、周知一般の反応を利用した方法で得ることができ、例えば、特開2010−209191号公報に記載されているルートの如く、該当する構造を有する化合物と、イミン誘導体との反応により合成する方法で得ることができる。   The method for producing the polymethine compound is not particularly limited, and can be obtained by a method utilizing a well-known general reaction. For example, as described in JP-A-2010-209191, the corresponding It can be obtained by a method of synthesizing by reacting a compound having the compound with an imine derivative.

また、本発明で用いられるカチオン染料(A)は、赤外線カット性能が高いことから、本発明の硬化性組成物の硬化物の極大吸収波長(λmax)が650〜1200nmとなるものが好ましく、650〜900nmとなるものがさらに好ましい。   In addition, the cationic dye (A) used in the present invention preferably has a maximum absorption wavelength (λmax) of 650 to 1200 nm of the cured product of the curable composition of the present invention because of its high infrared cut performance. Those having a thickness of up to 900 nm are more preferable.

次に、カチオン重合性有機物質(B)について説明する。
本発明の硬化性組成物に用いられるカチオン重合性有機物質(B)としては、熱又は活性エネルギー線照射により活性化した酸発生剤(C)により、高分子化又は架橋反応を起こす化合物であればどのような化合物でも使用することができ、特に限定されるものではないが、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状アセタール化合物、オキソラン化合物、環状ラクトン化合物、環状チオエーテル化合物、スピロオルトエステル化合物、ビニル化合物等が使用でき、これらの一種又は二種以上を使用することができる。これらの中でも、硬化物の耐湿熱性及び透明性が特に良好であることから、エポキシ化合物、オキセタン化合物及び環状アセタール化合物からなる群から選ばれる一種以上を使用することが好ましく、硬化物の耐湿熱性がとりわけ高いことからエポキシ化合物がより好ましく、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等がさらに好ましい。
Next, the cationically polymerizable organic substance (B) will be described.
The cationically polymerizable organic substance (B) used in the curable composition of the present invention is a compound that undergoes polymerization or crosslinking reaction by an acid generator (C) activated by heat or active energy ray irradiation. Any compound can be used, and it is not particularly limited, but an epoxy compound, an oxetane compound, a cyclic acetal compound, an oxolan compound, a cyclic lactone compound, a cyclic thioether compound, a spiro orthoester compound, a vinyl compound, and the like can be used. And one or more of these can be used. Among these, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of an epoxy compound, an oxetane compound, and a cyclic acetal compound because the wet heat resistance and transparency of the cured product are particularly good. An epoxy compound is more preferred because it is particularly high, and an alicyclic epoxy compound, an aromatic epoxy compound, an aliphatic epoxy compound, and the like are more preferred.

前記脂環族エポキシ化合物の具体例としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル、又はシクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、1,2−エポキシ−2−エポキシエチルシクロヘキサン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the alicyclic epoxy compound include polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring, or cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a cyclohexene or cyclopentene ring-containing compound with an oxidizing agent. And cyclopentene oxide-containing compounds. For example, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate , 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane- Metazioki Bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylcarboxylate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis (3,4- Epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxyhexahydrophthalate, di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane, 3, Examples thereof include 4-epoxycyclohexylmethyl acrylate and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate.

前記脂環族エポキシ化合物として好適に使用できる市販品としては、UVR−6100、UVR−6105、UVR−6110、UVR−6128、UVR−6200(以上、ユニオンカーバイド社製)、セロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、セロキサイド2000、セロキサイド3000、サイクロマーA200、サイクロマーM100、サイクロマーM101、エポリードGT−301、エポリードGT−302、エポリード401、エポリード403、ETHB、エポリードHD300、EHPE−3150(以上、(株)ダイセル製)、アデカアークルズKRM−2110、アデカアークルズKRM−2199(以上、(株)ADEKA製)等を挙げることができる。
前記脂環族エポキシ化合物の中でも、シクロヘキセンオキサイド構造を有するエポキシ樹脂は硬化が早く好ましい。
Commercial products that can be suitably used as the alicyclic epoxy compound include UVR-6100, UVR-6105, UVR-6110, UVR-6128, UVR-6200 (all manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), Celloxide 2021, Celloxide 2021P, Celloxide 2081, Celloxide 2083, Celloxide 2085, Celloxide 2000, Celloxide 3000, Cyclomer A200, Cyclomer M100, Cyclomer M101, Epolide GT-301, Epolide GT-302, Epolide 401, Epolide 403, ETHB, Epolide HD300, EHPE- 3150 (above, manufactured by Daicel Co., Ltd.), ADEKA ARKLE'S KRM-2110, ADEKA ARKLE'S KRM-2199 (above, manufactured by ADEKA Corporation) and the like. It can gel.
Among the alicyclic epoxy compounds, epoxy resins having a cyclohexene oxide structure are preferred because they cure quickly.

前記芳香族エポキシ化合物の具体例としては、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF又はこれらに更にアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテルや、エポキシノボラック樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the aromatic epoxy compound include a polyglycidyl ether of a polyhydric phenol having at least one aromatic ring or an alkylene oxide adduct thereof, for example, bisphenol A, bisphenol F or an alkylene oxide further added thereto. Glycidyl ethers of compounds, epoxy novolak resins and the like are mentioned.

また前記脂肪族エポキシ化合物の具体例としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートのビニル重合により合成したホモポリマー、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートとその他のビニルモノマーとのビニル重合により合成したコポリマー等が挙げられる。代表的な化合物として、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル等の多価アルコールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに一種又は二種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。更に、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルや、フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はこれらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。   As specific examples of the aliphatic epoxy compound, polyglycidyl ether of aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, polyglycidyl ester of aliphatic long-chain polybasic acid, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate was synthesized by vinyl polymerization. Examples thereof include homopolymers and copolymers synthesized by vinyl polymerization of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate with other vinyl monomers. Representative compounds include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, tetraglycidyl ether of sorbitol, and dipentaerythritol. Glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as hexaglycidyl ether, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, and one or more alkylenes in aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol, trimethylolpropane, and glycerin Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding oxides, and diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids. It is. Furthermore, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, phenol, cresol, butylphenol or monoglycidyl ethers of polyether alcohols obtained by adding alkylene oxides to these, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, epoxy stearin Octyl acid, butyl epoxystearate, epoxidized polybutadiene and the like can be mentioned.

前記芳香族及び脂肪族エポキシ化合物として好適に使用できる市販品としては、jER801、jER828、jER−1001、jER−1004、jER−1010、jERYX−4000、jERYDE−305、jER871、jER872(以上、三菱化学(株)製)、PY−306、0163、DY−022(以上、チバガイギー社製)、アデカアークルズKRM−2720、アデカレジンEP−4100、アデカレジンEP−4000、アデカレジンEP−4080、アデカレジンEP−4088、アデカレジンEP−4900、アデカグリシロールED−505、アデカグリシロールED−506(以上、(株)ADEKA製)、エポライトM−1230、エポライトEHDG−L、エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト4000、エポライト3002、エポライトFR−1500(以上、共栄社化学(株)製)、サントートST3000、エポトートYD−716、YH−300、PG−202、PG−207、エポトートYD−172、YDPN638(以上、新日鉄住金化学(株)製)デナコールEX321、デナコールEX313、デナコール314、デナコールEX−411、EM−150(ナガセケムテックス(株)製)、EPPN−201、EOCN−1020、EPPN−501H(日本化薬(株))、OGSOL PG−100、OGSOL EG−200(大阪ガスケミカル(株)製)等を挙げることができる。   Commercially available products that can be suitably used as the aromatic and aliphatic epoxy compounds include jER801, jER828, jER-1001, jER-1004, jER-1010, jERYX-4000, jERYDE-305, jER871, and jER872 (Mitsubishi Chemical Corporation). PY-306, 0163, DY-022 (all manufactured by Ciba-Geigy), Adeka Arkles KRM-2720, Adeka Resin EP-4100, Adeka Resin EP-4000, Adeka Resin EP-4080, Adeka Resin EP-4088, Adeka Resin EP-4900, Adeka Glysilol ED-505, Adeka Glysilol ED-506 (all manufactured by ADEKA Corporation), Epolite M-1230, Epolite EHDG-L, Epolite 40E, Epolite 100E Epolite 200E, Epolite 400E, Epolite 70P, Epolite 200P, Epolite 400P, Epolite 1500NP, Epolite 1600, Epolite 80MF, Epolite 100MF, Epolite 4000, Epolite 3002, Epolite FR-1500 (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Suntoto ST3000 , Epotote YD-716, YH-300, PG-202, PG-207, Epotote YD-172, YDPN638 (all manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.) Denacol EX321, Denacol EX313, Denacol 314, Denacol EX-411, EM -150 (manufactured by Nagase ChemteX Corporation), EPPN-201, EOCN-1020, EPPN-501H (Nippon Kayaku Co., Ltd.), OGSOL PG-10 And OGSOL EG-200 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.).

前記オキセタン化合物の具体例としては、例えば以下の化合物を挙げることができる。3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−(メタ)アリルオキシメチル−3−エチルオキセタン、(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチルベンゼン、4−フルオロ−[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、4−メトキシ−[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、[1−(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)エチル]フェニルエーテル、イソブトキシメチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、イソボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−エチルヘキシル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、エチルジエチレングリコール(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンタジエン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラヒドロフルフリル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−テトラブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−トリブロモフェノキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、2−ヒドロキシプロピル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ブトキシエチル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタクロロフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタブロモフェニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ボルニル(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサ−ノナン、3,3’−(1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン))ビス−(3−エチルオキセタン)、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、1,2−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]エタン、1,3−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]プロパン、エチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジシクロペンテニルビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、テトラエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、トリメチロールプロパントリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、1,4−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ブタン、1,6−ビス(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ポリエチレングリコールビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、PO変性水添ビスフェノールAビス(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル、EO変性ビスフェノールF(3−エチル−3−オキセタニルメチル)エーテル等を例示することができる。   Specific examples of the oxetane compound include, for example, the following compounds. 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3- (meth) allyloxymethyl-3-ethyloxetane, (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methylbenzene, 4-fluoro- [1- (3-ethyl-3) -Oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 4-methoxy- [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, [1- (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) ethyl] phenyl ether, isobutoxymethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, isobornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-ethylhexyl (3-ethyl- 3-oxetanylmethyl) ether, ethyldiethylenegly (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentadiene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyloxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl ( 3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrahydrofurfuryl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetrabromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tetrabromophenoxyethyl (3- Ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tribromophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-tribromophenoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 2-hydroxyethyl (3-ethyl -3- Xetanylmethyl) ether, 2-hydroxypropyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, butoxyethyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentachlorophenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, pentabromo Phenyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, bornyl (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 3,7-bis (3-oxetanyl) -5-oxa-nonane, 3,3 ′-(1 , 3- (2-Methylenyl) propanediylbis (oxymethylene)) bis- (3-ethyloxetane), 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] benzene, 1,2-bis [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] ethane, 1,3-bi S [(3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) methyl] propane, ethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dicyclopentenyl bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, triethylene glycol Bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tetraethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, tricyclodecanediyldimethylene (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, trimethylolpropane Tris (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, 1,4-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) butane, 1,6-bis (3-ethyl-3-oxetanylmethoxy) hexane, pentaerythritol tris (3-Echi -3-oxetanylmethyl) ether, pentaerythritol tetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, polyethylene glycol bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-3- Oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, dipentaerythritoltetrakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol hexakis (3-ethyl-) 3-oxetanylmethyl) ether, caprolactone-modified dipentaerythritol pentakis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, ditrimethylolpropanetetrakis (3- Tyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, EO-modified hydrogenated bisphenol A bis Examples thereof include (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, PO-modified hydrogenated bisphenol A bis (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether, and EO-modified bisphenol F (3-ethyl-3-oxetanylmethyl) ether. be able to.

前記オキセタン化合物として好適に使用できる市販品としては、アロンオキセタンOXT−101、アロンオキセタンOXT−121、アロンオキセタンOXT−221、アロンオキセタンOXT−212、アロンオキセタンOXT−211(以上、東亞合成(株)製)、エタナコールEHO、エタナコールOXBP、エタナコールOXTP、エタナコールOXMA(以上、宇部興産(株)製)等が挙げられる。これらは一種を単独であるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   Commercial products that can be suitably used as the oxetane compound include Alone oxetane OXT-101, Aron oxetane OXT-121, Aron oxetane OXT-221, Aron oxetane OXT-212, and Aron oxetane OXT-211 (all of which are manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ETANACOL EHO, ETANACOL OXBP, ETANACOL OXTP, ETANACOL OXMA (all manufactured by Ube Industries, Ltd.) and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

これらのオキセタン化合物は、特に可撓性を必要とする場合に使用すると効果的であり好ましい。   These oxetane compounds are effective and preferable when used particularly when flexibility is required.

前記環状アセタール化合物としては、トリオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,6−トリオキサンシクロオクタン等が挙げられる。   Examples of the cyclic acetal compound include trioxane, 1,3-dioxolan, 1,3,6-trioxane cyclooctane, and the like.

前記オキソラン化合物としては、テトラヒドロフラン、2,3−ジメチルテトラヒドロフラン等が挙げられる。
前記環状ラクトン化合物としては、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等が挙げられる。
前記環状チオエーテル化合物としては、テトラヒドロチオフェン誘導体等が挙げられる。
前記スピロオルトエステル化合物としては、エポキシ化合物とラクトンの反応によって得られるもの等が挙げられる。
前記ビニル化合物としては、エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、2−ヒドロキシエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、プロピレングリコールのプロペニルエーテル等のビニルエーテル化合物や、スチレン、ビニルシクロヘキセン等が挙げられる。
さらに、カチオン重合性有機物質(B)として使用することができる化合物として、イソブチレン、ポリブタジエン等のエチレン性不飽和化合物、エチレンスルフィド、チオエピクロルヒドリン等のチイラン化合物、1,3−プロピンスルフィド、3,3−ジメチルチエタン等のチエタン化合物、及びカチオン重合性有機物質(B)として以上に例示した各種化合物の誘導体等も挙げることができる。
Examples of the oxolane compound include tetrahydrofuran and 2,3-dimethyltetrahydrofuran.
Examples of the cyclic lactone compound include β-propiolactone and ε-caprolactone.
Examples of the cyclic thioether compound include a tetrahydrothiophene derivative.
Examples of the spiro orthoester compound include those obtained by a reaction between an epoxy compound and a lactone.
Examples of the vinyl compound include ethylene glycol divinyl ether, alkyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, 1,4-cyclohexane dimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, and propenyl propylene glycol. Examples include vinyl ether compounds such as ether, styrene, vinylcyclohexene, and the like.
Further, compounds that can be used as the cationic polymerizable organic substance (B) include ethylenically unsaturated compounds such as isobutylene and polybutadiene; thiirane compounds such as ethylene sulfide and thioepichlorohydrin; 1,3-propyne sulfide; Thietane compounds such as 3-dimethylthiethane and derivatives of the various compounds exemplified above as the cationically polymerizable organic substance (B) can also be mentioned.

次に酸発生剤(C)について説明する。
本発明の硬化性組成物に用いられる酸発生剤(C)としては、熱又は活性エネルギー線照射により酸を発生させることが可能な化合物であればどのようなものでも使用することができ、特に限定されるものではないが、好ましくは、熱又は活性エネルギー線照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体が、硬化性組成物を硬化した硬化物の耐湿熱性が特に良いため好適であり、それらの中でも、活性エネルギー線照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体が、硬化性組成物を硬化した硬化物の耐湿熱性がとりわけ良いため、より好ましい。
Next, the acid generator (C) will be described.
As the acid generator (C) used in the curable composition of the present invention, any compound can be used as long as it can generate an acid by irradiation with heat or active energy rays. Although not limited, preferably, a double salt or a derivative thereof which is an onium salt that releases a Lewis acid upon irradiation with heat or active energy rays, since the cured product obtained by curing the curable composition has particularly good wet heat resistance. Among them, a double salt which is an onium salt that releases a Lewis acid upon irradiation with active energy rays or a derivative thereof is more preferable, because a cured product obtained by curing the curable composition has particularly good wet heat resistance.

熱又は活性エネルギー線照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩又はその誘導体の代表的なものとしては、下記一般式
[A]m+[B]m−
で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができる。
A typical example of a double salt or a derivative thereof that is an onium salt that releases a Lewis acid upon irradiation with heat or active energy rays is represented by the following general formula [A] m + [B] m−
And a salt of a cation and an anion represented by

ここで、陽イオン[A]m+は特に限定されるものではないが、熱又は活性エネルギー線照射によってルイス酸を放出するオニウムであることが好ましく、その構造は例えば下記一般式
[(RQ]m+
で表すことができる。
式中、Rは炭素原子数が1〜60であり、炭素原子以外の原子を含む場合がある有機の基である。aは1〜5のいずれかの整数である。a個のRは各々独立で、同一である場合があり異なっている場合もある。また、少なくとも1つは、芳香族環を有する上記の如き有機の基であることが硬化性組成物の硬化性が良く、好ましい。Qは、S、N、Se、Te、P、As、Sb、Bi、O、I、Br、Cl、F、及びN=Nからなる群から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオン[A]m+中のQの原子価をqとしたとき、m=a−qなる関係が成り立つことが必要である(但し、N=Nは原子価0として扱う)。
Here, but not limited to cation [A] m + is particularly preferably an onium which emits a Lewis acid by heat or active energy ray irradiation, the structure following general formula [(R 3) a Q] m +
Can be represented by
In the formula, R 3 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and which may contain atoms other than carbon atoms. a is an integer of any of 1 to 5. a number of R 3 are each independently, in some cases be different may be the same. Further, it is preferable that at least one of them is an organic group having an aromatic ring as described above, since the curable composition has good curability. Q is an atom or an atomic group selected from the group consisting of S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, and N = N. Further, when the valence of Q in the cation [A] m + is q, it is necessary that the relationship m = a−q is satisfied (however, N = N is treated as valence 0).

また、陰イオン[B]m−は、特に限定されるものではないが、ハロゲン化物錯体であることが、硬化性組成物の硬化性が良い点で好ましく、その構造は例えば下記一般式
[LXm−
で表すことができる。
式中、Lは、ハロゲン化物錯体の中心原子である金属又は半金属(Metalloid)であり、B、P、As、Sb、Fe、Sn、Bi、Al、Ca、In、Ti、Zn、Sc、V、Cr、Mn、Co等である。Xはハロゲン原子である。bは3〜7のいずれかの整数である。また、陰イオン[B]m−中のLの原子価をpとしたとき、m=b−pなる関係が成り立つことが必要である。
上記一般式の陰イオン[LXm−の具体例としては、テトラフルオロボレート(BF、ヘキサフルオロフォスフェート(PF、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF、ヘキサフルオロアルセネート(AsF、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl等を挙げることができる。
The anion [B] m- is not particularly limited, but is preferably a halide complex in terms of good curability of the curable composition, and has a structure, for example, of the following general formula [LX b ] m-
Can be represented by
In the formula, L is a metal or metalloid which is a central atom of the halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co and the like. X is a halogen atom. b is an integer of any of 3 to 7. Further, when the valence of L in the anion [B] m− is p, it is necessary that the relationship m = bp is satisfied.
Specific examples of the anion [LX b ] m- in the above general formula include tetrafluoroborate (BF 4 ) , hexafluorophosphate (PF 6 ) , hexafluoroantimonate (SbF 6 ) , and hexafluoroarse sulfonate (AsF 6) -, hexachloroantimonate (SbCl 6) -, and the like.

また、陰イオン[B]m−は、下記一般式
[LXb−1(OH)]m−
で表される構造のものも好ましく用いることができる。L、X及びbは上記と同様である。また、用いることのできるその他の陰イオンとしては、過塩素酸イオン(ClO、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CFSO、フルオロスルホン酸イオン(FSO、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルフォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、ヘキサデカフロロオクタンスルフォネート、テトラアリールボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート[(CB]等を挙げることができる。
The anion [B] m- is represented by the following general formula [LX b-1 (OH)] m-
A structure represented by the following formula can also be preferably used. L, X and b are the same as above. Other anions that can be used include perchlorate ion (ClO 4 ) , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ) , fluorosulfonic acid ion (FSO 3 ) , and toluenesulfonic acid anion. ion, trinitrobenzene sulfonate anion, Kang Firth Gandolfo sulfonate, nonafluorobutane sulfonate, hexamethylene decafluoro octane sulfonate, tetraarylborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate [(C 6 F 5) 4 B] -, and the like can be given.

これらの中でも、熱によってルイス酸を放出する酸発生剤(以下、熱酸発生剤ともいう)としては、硬化性組成物の硬化性が良く、硬化物の耐湿熱性が特に高いことから、下記一般式(2)で表されるスルホニウム塩又は(3)で表されるスルホニウム塩が更に好ましい。   Among these, acid generators that release a Lewis acid by heat (hereinafter, also referred to as thermal acid generators) include those having good curability of a curable composition and particularly high wet heat resistance of a cured product. The sulfonium salt represented by the formula (2) or the sulfonium salt represented by the formula (3) is more preferable.

(式中、R21及びR22は、各々独立に、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、R21とR22は、一緒になって炭素原子数2〜7のアルキレン鎖を形成して、それらが結合するSと共に環構造を構成する場合があり、
23及びR24は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、シアノ基又はスルホン基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
Anq’−はq’価のアニオンを表し、q’は1又は2を表し、p’は電荷を中性に保つ係数を表す。)
(Wherein, R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; The hydrogen atom of the alkyl group, the aromatic group and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom having 7 to 7 carbon atoms. R 21 and R 22 may together form an alkylene chain of 2 to 7 carbon atoms, which may be substituted by 30 arylalkyl, nitro, sulfone or cyano group. May form a ring structure together with S +
R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, nitro Represents a group, a cyano group or a sulfone group, wherein the hydrogen atoms of the alkyl group, the aromatic group and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, An aromatic group of 20, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a nitro group, a sulfone group or a cyano group;
An q′- represents a q′- valent anion, q ′ represents 1 or 2, and p ′ represents a coefficient for keeping a charge neutral. )

(式中、R25は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、水酸基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基を表し、該アルキル基、芳香族基、アリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
26は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
27は、構成するメチレン基がハロゲン原子、−O−又は−S−で置換される場合がある、炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、
Anq”−はq”価のアニオンを表し、q”は1又は2を表し、p”は電荷を中性に保つ係数を表す。)
(Wherein, R 25 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a hydroxyl group, or a nitro group. , A sulfone group or a cyano group, wherein the hydrogen atoms of the alkyl group, the aromatic group, and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a carbon atom having 6 to 20 carbon atoms. An aromatic group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a nitro group, a sulfone group or a cyano group,
R 26 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and the alkyl group, the aromatic group and the aryl The hydrogen atom of the alkyl group is independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a nitro group. May be substituted with a sulfone group or a cyano group,
R 27 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, in which the constituent methylene group may be substituted with a halogen atom, -O- or -S-,
An q " -represents an anion having a valency of q", q "represents 1 or 2, and p" represents a coefficient for keeping a charge neutral. )

上記一般式(2)及び(3)で表される化合物において、R23、R24及びR25で表されるハロゲン原子並びにR21、R22、R23、R24、R25、R26及びR27で表される基を置換する場合があるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。In the compounds represented by the general formulas (2) and (3), the halogen atoms represented by R 23 , R 24 and R 25 , and R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 and the halogen atom which may be substituted with group represented by R 27, fluorine, chlorine, bromine, and iodine.

21、R22、R23、R24、R25、R26及びR27で表される炭素原子数1〜10のアルキル基並びにR21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される基を置換する場合がある炭素原子数1〜10のアルキル基は、該アルキル基中のメチレン基が、−O−、−S−、−CO−、−OCO−、−COO−、−C=C−、−NHCO−、−NH−又は−CONH−で置換される場合があり、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、エチルオクチル、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−メチルチオエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ジフルオロエチル、トリクロロエチル、ジクロロジフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、デカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル、ペンタデカフルオロヘプチル、ヘプタデカフルオロオクチル、メトキシメチル、1,2−エポキシエチル、メトキシエチル、メトキシエトキシメチル、メチルチオメチル、エトキシエチル、ブトキシメチル、t−ブチルチオメチル、4−ペンテニルオキシメチル、トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル、メトキシシクロヘキシル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、1−メチル−1−メトキシエチル、エチルジチオエチル、t−ブトキシカルボニルメチル、エチルオキシカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、t−ブトキシカルボニルメチル、アクリロイルオキシエチル、メタクリロイルオキシエチル、2−メチル−2−アダマンチルオキシカルボニルメチル、アセチルエチル、2−メトキシ−1−プロペニル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、1,2−ジヒドロキシエチル等が挙げられる。An alkyl group having 1 to 10 carbon atoms represented by R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25 , R 26 and R 27 , and R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , R 25, and R In the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may substitute the group represented by 26 , the methylene group in the alkyl group is -O-, -S-, -CO-, -OCO-, -COO -, -C = C-, -NHCO-, -NH- or -CONH-, and specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, s-butyl, t-butyl, Isobutyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl, octyl, nonyl, ethyloctyl, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxybutyl, 2-butoxyethyl , Methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-methylthioethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, tribromomethyl, difluoroethyl , Trichloroethyl, dichlorodifluoroethyl, pentafluoroethyl, heptafluoropropyl, nonafluorobutyl, decafluoropentyl, tridecafluorohexyl, pentadecafluoroheptyl, heptadecafluorooctyl, methoxymethyl, 1,2-epoxyethyl, methoxy Ethyl, methoxyethoxymethyl, methylthiomethyl, ethoxyethyl, butoxymethyl, t-butylthiomethyl, 4-pentenyloxymethyl, tri Loroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl, methoxycyclohexyl, 1- (2-chloroethoxy) ethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, ethyldithioethyl, t-butoxycarbonylmethyl, ethyloxycarbonylmethyl, Ethylcarbonylmethyl, t-butoxycarbonylmethyl, acryloyloxyethyl, methacryloyloxyethyl, 2-methyl-2-adamantyloxycarbonylmethyl, acetylethyl, 2-methoxy-1-propenyl, hydroxymethyl, 2-hydroxyethyl, 1- Examples include hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl, 3-hydroxybutyl, 4-hydroxybutyl, 1,2-dihydroxyethyl, and the like.

また、R21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される炭素原子数6〜20の芳香族基並びにR21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される基を置換する場合がある炭素原子数6〜20の芳香族基としては、フェニル、ナフチル、アントラニル等が挙げられ、
21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される炭素原子数7〜30のアリールアルキル基並びにR21、R22、R23、R24、R25及びR26で表される基を置換する場合がある炭素原子数7〜30のアリールアルキル基としては、上記で説明した炭素原子数1〜10のアルキル基と炭素原子数6〜20の芳香族基を組み合わせたものが使用できる。
Also, R 21, R 22, R 23, R 24, R 25 and aromatic groups and R 21 having 6 to 20 carbon atoms represented by R 26, R 22, R 23 , R 24, R 25 and R Examples of the aromatic group having 6 to 20 carbon atoms which may substitute the group represented by 26 include phenyl, naphthyl, and anthranyl.
In R 21, R 22, R 23 , R 24, R 25 and arylalkyl groups, and R 21 having 7 to 30 carbon atoms represented by R 26, R 22, R 23 , R 24, R 25 and R 26 As the arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms which may substitute the group represented, a combination of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and the aromatic group having 6 to 20 carbon atoms described above is used. Things can be used.

上記一般式(2)及び(3)中のAnq’−及びAnq”−で表されるq’又はq”価のアニオンとしては、メタンスルホン酸アニオン、ドデシルスルホン酸アニオン、ベンゼンスルホン酸アニオン、トルエンスルホン酸アニオン、トリフルオロメタンスルホン酸アニオン、ナフタレンスルホン酸アニオン、ジフェニルアミン−4−スルホン酸アニオン、2−アミノ−4−メチル−5−クロロベンゼンスルホン酸アニオン、2−アミノ−5−ニトロベンゼンスルホン酸アニオン、特開平10−235999号公報、特開平10−337959号公報、特開平11−102088号公報、特開2000−108510号公報、特開2000−168233号公報、特開2001−209969号公報、特開2001−322354号公報、特開2006−248180号公報、特開2006−297907号公報、特開平8−253705号公報、特表2004−503379号公報、特開2005−336150号公報、国際公開第2006/28006号等に記載されたスルホン酸アニオン等の有機スルホン酸アニオンの他、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)ホスホン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオン、励起状態にある活性分子を脱励起させる(クエンチングさせる)機能を有するクエンチャー陰イオン、シクロペンタジエニル環にカルボキシル基、ホスホン酸基、スルホン基等の陰イオン性基を有するフェロセン、ルテオセン等のメタロセン化合物陰イオン等が挙げられる。これらの中でも、耐湿熱性が特に高くなる点から、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸イオンが好ましい。In the general formulas (2) and (3), the anion of q ′ or q ″ valence represented by An q′− and An q ″ — is a methanesulfonic acid anion, a dodecylsulfonic acid anion, or a benzenesulfonic acid anion. , Toluenesulfonic acid anion, trifluoromethanesulfonic acid anion, naphthalenesulfonic acid anion, diphenylamine-4-sulfonic acid anion, 2-amino-4-methyl-5-chlorobenzenesulfonic acid anion, 2-amino-5-nitrobenzenesulfonic acid anion JP-A-10-235999, JP-A-10-337959, JP-A-11-102888, JP-A-2000-108510, JP-A-2000-168233, JP-A-2001-209969, JP 2001-322354 A, JP 2 006-248180, JP-A-2006-297907, JP-A-8-253705, JP-T-2004-503379, JP-A-2005-336150, and WO 2006/28006. In addition to organic sulfonic acid anions such as sulfonic acid anion, chloride ion, bromide ion, iodide ion, fluoride ion, chlorate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate Ion, tetrafluoroborate ion, octyl phosphate ion, dodecyl phosphate ion, octadecyl phosphate ion, phenyl phosphate ion, nonylphenyl phosphate ion, 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) ) Phosphonate ion, tetrakis (penta (Fluorophenyl) borate ion, quencher anion having a function of de-exciting (quenching) an active molecule in an excited state, anionic property such as carboxyl group, phosphonic acid group and sulfone group in cyclopentadienyl ring Metallocene compound anions such as ferrocene and luteocene having a group. Among them, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, and tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion are preferable because the wet heat resistance is particularly high.

式(2)で表される化合物の中でも、R21とR22が、一緒になって炭素原子数2〜7のアルキレン鎖を形成して、それらが結合するSと共に環構造を構成しているものが好ましい。Among the compounds represented by the formula (2), R 21 and R 22 together form an alkylene chain having 2 to 7 carbon atoms and form a ring structure together with S + to which they are bonded. Are preferred.

本発明の硬化性組成物に酸発生剤(C)として用いられる熱酸発生剤が熱により酸を発生し、硬化性組成物を硬化させることができる温度の範囲は、特に限定されないが、好適な耐湿熱性を有する硬化物が得られる点や、プロセス中の熱安定性が良好である点で、50℃〜250℃が好ましく、100℃から220℃がより好ましく、130℃から200℃がより一層好ましく、150℃から180℃がさらに好ましい。   The temperature range at which the thermal acid generator used as the acid generator (C) in the curable composition of the present invention can generate acid by heat and cure the curable composition is not particularly limited, but is preferably From the viewpoint that a cured product having excellent wet heat resistance is obtained and that the thermal stability during the process is good, 50 ° C to 250 ° C is preferable, 100 ° C to 220 ° C is more preferable, and 130 ° C to 200 ° C is more preferable. More preferred is 150 ° C to 180 ° C.

また、本発明の硬化性組成物に酸発生剤(C)として用いられる熱酸発生剤として好適に使用できる市販品としては、下記に表す化合物(具体的な商品名としては、サンエイドSI−B2A、サンエイドSI−B3A、サンエイドSI−B3、サンエイドSI−B4、サンエイドSI−60、サンエイドSI−80、サンエイドSI−100、サンエイドSI−110、サンエイドSI−150(以上三新化学工業(株)製)、アデカオプトンCP−66、アデカオプトンCP−77(以上(株)ADEKA製))等が挙げられる。これらは一種を単独であるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。   In addition, commercially available products that can be suitably used as the thermal acid generator used as the acid generator (C) in the curable composition of the present invention include the following compounds (specific trade names are Sun Aid SI-B2A , Sun-Aid SI-B3A, Sun-Aid SI-B3, Sun-Aid SI-B4, Sun-Aid SI-60, Sun-Aid SI-80, Sun-Aid SI-100, Sun-Aid SI-110, Sun-Aid SI-150 (all manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) ), Adeka Opton CP-66, Adeka Opton CP-77 (all manufactured by ADEKA Corporation), and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

次に、活性エネルギー線照射によってルイス酸を放出する酸発生剤(以下、光酸発生剤ともいう)としては、硬化性組成物の硬化性が良く、硬化物の耐湿熱性が特に高いことから、オニウム塩の中でも、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、特に下記の(イ)〜(ハ)の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効である。これらの中から、その一種を単独で、又は二種以上を混合して使用することができる。
(イ)フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、4−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩
(ロ)ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリルクミルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のジアリールヨードニウム塩
(ハ)下記群I又は群IIで表されるスルホニウムカチオンと、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン等とのスルホニウム塩
Next, as an acid generator that releases a Lewis acid upon irradiation with active energy rays (hereinafter, also referred to as a photoacid generator), since the curability of the curable composition is good, and the wet heat resistance of the cured product is particularly high, Among the onium salts, it is particularly effective to use aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, and particularly the following aromatic onium salts (a) to (c). Among these, one type thereof can be used alone, or two or more types can be used in combination.
(A) aryldiazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, and 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate (ii) diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) iodonium Diaryliodonium salts such as hexafluorophosphate, di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, and tricumyliodoniumtetrakis (pentafluorophenyl) borate (c) a sulfonium cation represented by the following group I or group II: , Sulfonium salts with hexafluoroantimonate ion, tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion, etc.

また、その他に好ましいものとしては、(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)〔(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベンゼン〕−アイアン−ヘキサフルオロホスフェート等の鉄−アレーン錯体や、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス(エチルアセトナトアセタト)アルミニウム、トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物等も挙げることができる。   Other preferable examples include (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl) benzene] -iron. An iron-arene complex such as hexafluorophosphate, an aluminum complex such as tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetonatoacetato) aluminum, tris (salicylaldehyde) aluminum and a silanol such as triphenylsilanol. And the like.

これらの中でも、実用面と光感度、硬化物の耐湿熱性の観点から、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄−アレーン錯体を用いることが好ましい。また、芳香族スルホニウム塩のうち、下記一般式(4)で表される芳香族スルホニウム塩は、硬化物の耐湿熱性がとりわけ高くなることから、更に好ましい。   Among them, it is preferable to use an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, and an iron-arene complex from the viewpoint of practical use, photosensitivity, and wet heat resistance of the cured product. Further, among the aromatic sulfonium salts, the aromatic sulfonium salt represented by the following general formula (4) is more preferable because the wet heat resistance of the cured product becomes particularly high.

(式中、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69及びR70は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基又は炭素原子数2〜10のエステル基を表し、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77及びR78は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、R84は水素原子又は下記一般式(4A)で示される基を表し、Tは1価の陰イオンを表す。)(Wherein, R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 and R 70 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom number of 1 to Represents an alkyl group having 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or an ester group having 2 to 10 carbon atoms, and R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 and R 78 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 84 represents a group represented by hydrogen atom or the following general formula (4A), T - represents a monovalent anion Represents an ion.)

(式中、R79、R80、R81、R82及びR83は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基又は炭素原子数2〜10のエステル基を表す。) (Wherein, R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or Represents an ester group having 2 to 10 carbon atoms.)

上記一般式(4)で表される化合物において、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82及びR83で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。In the compound represented by the general formula (4), R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R Examples of the halogen atom represented by 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 include fluorine, chlorine, bromine, iodine and the like. Can be

61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77、R78、R79、R80、R81、R82及びR83で表される炭素原子数1〜10のアルキル基は、該アルキル基中のメチレン基が−O−、−S−、−CO−、−OCO−、−COO−、−C=C−、−NHCO−、−NH−又は−CONH−で置換される場合があり、具体例としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、s−ブチル、t−ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、エチルオクチル、2−メトキシエチル、3−メトキシプロピル、4−メトキシブチル、2−ブトキシエチル、メトキシエトキシエチル、メトキシエトキシエトキシエチル、3−メトキシブチル、2−メチルチオエチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、ブロモメチル、ジブロモメチル、トリブロモメチル、ジフルオロエチル、トリクロロエチル、ジクロロジフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、ヘプタフルオロプロピル、ノナフルオロブチル、デカフルオロペンチル、トリデカフルオロヘキシル、ペンタデカフルオロヘプチル、ヘプタデカフルオロオクチル、メトキシメチル、1,2−エポキシエチル、メトキシエチル、メトキシエトキシメチル、メチルチオメチル、エトキシエチル、ブトキシメチル、t−ブチルチオメチル、4−ペンテニルオキシメチル、トリクロロエトキシメチル、ビス(2−クロロエトキシ)メチル、メトキシシクロヘキシル、1−(2−クロロエトキシ)エチル、1−メチル−1−メトキシエチル、エチルジチオエチル、t−ブトキシカルボニルメチル、エチルオキシカルボニルメチル、エチルカルボニルメチル、t−ブトキシカルボニルメチル、アクリロイルオキシエチル、メタクリロイルオキシエチル、2−メチル−2−アダマンチルオキシカルボニルメチル、アセチルエチル、2−メトキシ−1−プロペニル、ヒドロキシメチル、2−ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシプロピル、3−ヒドロキシブチル、4−ヒドロキシブチル、1,2−ジヒドロキシエチル等が挙げられる。R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 , R 78 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 , the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms has a methylene group in the alkyl group of -O-, -S-,- It may be substituted by CO-, -OCO-, -COO-, -C = C-, -NHCO-, -NH- or -CONH-, and specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, and butyl. , S-butyl, t-butyl, isobutyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl, octyl, nonyl, ethyloctyl, 2-methoxyethyl, 3-methoxypropyl, 4-methoxy Chill, 2-butoxyethyl, methoxyethoxyethyl, methoxyethoxyethoxyethyl, 3-methoxybutyl, 2-methylthioethyl, fluoromethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, chloromethyl, dichloromethyl, trichloromethyl, bromomethyl, dibromomethyl, Tribromomethyl, difluoroethyl, trichloroethyl, dichlorodifluoroethyl, pentafluoroethyl, heptafluoropropyl, nonafluorobutyl, decafluoropentyl, tridecafluorohexyl, pentadecafluoroheptyl, heptadecafluorooctyl, methoxymethyl, 1, 2-epoxyethyl, methoxyethyl, methoxyethoxymethyl, methylthiomethyl, ethoxyethyl, butoxymethyl, t-butylthiomethyl, 4-pen Tenyloxymethyl, trichloroethoxymethyl, bis (2-chloroethoxy) methyl, methoxycyclohexyl, 1- (2-chloroethoxy) ethyl, 1-methyl-1-methoxyethyl, ethyldithioethyl, t-butoxycarbonylmethyl, ethyl Oxycarbonylmethyl, ethylcarbonylmethyl, t-butoxycarbonylmethyl, acryloyloxyethyl, methacryloyloxyethyl, 2-methyl-2-adamantyloxycarbonylmethyl, acetylethyl, 2-methoxy-1-propenyl, hydroxymethyl, 2-hydroxy Ethyl, 1-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl, 3-hydroxybutyl, 4-hydroxybutyl, 1,2-dihydroxyethyl and the like can be mentioned.

61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R79、R80、R81、R82及びR83で表される炭素原子数1〜10のアルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、s−ブチルオキシ、t−ブチルオキシ、イソブチルオキシ、ペンチルオキシ、イソアミルオキシ、t−アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘキシルメチルオキシ、テトラヒドロフラニルオキシ、テトラヒドロピラニルオキシ、2−メトキシエチルオキシ、3−メトキシプロピルオキシ、4−メトキシブチルオキシ、2−ブトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエチルオキシ、メトキシエトキシエトキシエチルオキシ、3−メトキシブチルオキシ、2−メチルチオエチルオキシ、トリフルオロメチルオキシ等が挙げられる。
61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69、R70、R79、R80、R81、R82及びR83で表される炭素原子数2〜10のエステル基としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、アセトキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、クロロアセチルオキシ、ジクロロアセチルオキシ、トリクロロアセチルオキシ、トリフルオロアセチルオキシ、t−ブチルカルボニルオキシ、メトキシアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等が挙げられる。
Carbon atoms represented by R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 Examples of the alkoxy group of Formulas 1 to 10 include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butyloxy, s-butyloxy, t-butyloxy, isobutyloxy, pentyloxy, isoamyloxy, t-amyloxy, hexyloxy, cyclohexyloxy, cyclohexyl Methyloxy, tetrahydrofuranyloxy, tetrahydropyranyloxy, 2-methoxyethyloxy, 3-methoxypropyloxy, 4-methoxybutyloxy, 2-butoxyethyloxy, methoxyethoxyethyloxy, methoxyethoxyethoxyethyloxy, Methoxybutyloxy, 2-methylthioethyloxy, trifluoromethyloxy and the like can be mentioned.
Carbon atoms represented by R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 , R 70 , R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 Examples of the ester group having a number of 2 to 10 include methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl, phenoxycarbonyl, acetoxy, propionyloxy, butyryloxy, chloroacetyloxy, dichloroacetyloxy, trichloroacetyloxy, trifluoroacetyloxy, and t-butyl. Examples include carbonyloxy, methoxyacetyloxy, benzoyloxy and the like.

また、Tで表される1価の陰イオンとしては、前記陰イオン[B]m−として例示したもののうちの1価のものが挙げられ、具体例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート[(CB]、テトラフルオロボレート(BF、ヘキサフルオロフォスフェート(PF、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF、ヘキサフルオロアルセネート(AsF、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl、過塩素酸イオン(ClO、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CFSO、フルオロスルホン酸イオン(FSO、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルフォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、ヘキサデカフロロオクタンスルフォネート、テトラアリールボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を挙げることができる。Examples of the monovalent anion represented by T include monovalent ones exemplified as the anion [B] m− , and specific examples thereof include tetrakis (pentafluorophenyl) borate. [(C 6 F 5 ) 4 B] , tetrafluoroborate (BF 4 ) , hexafluorophosphate (PF 6 ) , hexafluoroantimonate (SbF 6 ) , hexafluoroarsenate (AsF 6 ) , Hexachloroantimonate (SbCl 6 ) , perchlorate ion (ClO 4 ) , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ) , fluorosulfonic acid ion (FSO 3 ) , toluenesulfonic acid anion, Nitrobenzenesulfonic acid anion, camphorsulfonate, nonafluorobutanes Foneto, hexa decafluoro octane sulfonate, tetraarylborate, may be mentioned tetrakis (pentafluorophenyl) borate.

本発明の硬化性組成物において、(C)成分の酸発生剤としては、熱酸発生剤の一種又は二種以上使用することができ、光酸発生剤の一種又は二種以上を使用することもでき、熱酸発生剤と光酸発生剤を併用することもできる。   In the curable composition of the present invention, as the acid generator of the component (C), one or more thermal acid generators can be used, and one or more photoacid generators can be used. Alternatively, a thermal acid generator and a photoacid generator can be used in combination.

本発明の硬化性組成物において、二種以上のカチオン染料(A)の含有量は特に限定されないが、二種以上の合計で、本発明の必須成分である(A)成分、(B)成分、(C)成分の合計量中、好ましくは0.5〜20.0質量%、より好ましくは2.0〜15.0質量%、より一層好ましくは3.0〜10.0質量%の範囲であり、これらの範囲内であれば硬化物の耐湿熱性が特に良好になる。また、波長カットフィルタに使用する場合には、二種以上のカチオン染料(A)の合計の含有量が、(A)成分、(B)成分、(C)成分の合計量中で3.0質量%以上であることが好ましく、3.0質量%未満の場合、透過率が高くなり、波長カット性能が充分に得られない場合がある。   In the curable composition of the present invention, the content of two or more cationic dyes (A) is not particularly limited, but the total of two or more cationic dyes (A) and (B) are essential components of the present invention. , (C), preferably 0.5 to 20.0% by mass, more preferably 2.0 to 15.0% by mass, and still more preferably 3.0 to 10.0% by mass in the total amount of the components. Within these ranges, the cured product has particularly good wet heat resistance. When used in a wavelength cut filter, the total content of two or more cationic dyes (A) is 3.0 in the total amount of the components (A), (B) and (C). It is preferable that the content is not less than 3.0% by mass, and if it is less than 3.0% by mass, the transmittance is increased, and the wavelength cut performance may not be sufficiently obtained.

また、本発明の硬化性組成物において、二種以上のカチオン染料(A)の含有量は、二種以上の合計で、上記カチオン重合性有機物質(B)に対し、好ましくは0.01〜30質量%、より好ましくは1〜25質量%、より一層好ましくは1〜10質量%の範囲であることが、硬化物の耐湿熱性が特に良好になる点で好ましい。   Further, in the curable composition of the present invention, the content of the two or more cationic dyes (A) is preferably from 0.01 to more than the total of the two or more cationic dyes with respect to the cationically polymerizable organic substance (B). The range of 30% by mass, more preferably 1% to 25% by mass, and still more preferably 1% to 10% by mass is preferable in that the wet heat resistance of the cured product becomes particularly good.

本発明の硬化性組成物において、上記カチオン重合性有機物質(B)の含有量は、特に限定されないが、硬化物の耐湿熱性が特に良好になることから、本発明の必須成分である(A)成分、(B)成分、(C)成分の合計量中、好ましくは70.0〜99.0質量%、より好ましくは80.0〜97.5質量%である。   In the curable composition of the present invention, the content of the cationically polymerizable organic substance (B) is not particularly limited, but is an essential component of the present invention (A) because the wet heat resistance of the cured product is particularly good. ), Preferably 70.0 to 99.0% by mass, more preferably 80.0 to 97.5% by mass, based on the total amount of component (B) and component (C).

本発明の硬化性組成物において、上記酸発生剤(C)の含有量は、特に限定されないが、硬化性組成物の硬化物の耐湿熱性が特に良好になることから、本発明の必須成分である(A)成分、(B)成分、(C)成分の合計量中、好ましくは0.1〜5.0質量%であり、より好ましくは0.5〜5.0質量%である。   In the curable composition of the present invention, the content of the acid generator (C) is not particularly limited. However, since the wet heat resistance of the cured product of the curable composition becomes particularly good, it is an essential component of the present invention. The total amount of certain components (A), (B), and (C) is preferably 0.1 to 5.0% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass.

また、上記カチオン重合性有機物質(B)に対する酸発生剤(C)の使用割合は、特に限定されず、本発明の目的を阻害しない範囲内で概ね通常の使用割合で使用すればよいが、例えば、カチオン重合性有機物質(B)100質量部に対して、酸発生剤(C)0.05〜10質量部、特に0.5〜10質量部が、硬化物の耐湿熱性が特に良好になる点で好適である。   Further, the use ratio of the acid generator (C) to the cationically polymerizable organic substance (B) is not particularly limited, and the acid generator (C) may be used at a generally normal use ratio within a range that does not inhibit the object of the present invention. For example, with respect to 100 parts by mass of the cationically polymerizable organic substance (B), 0.05 to 10 parts by mass, particularly 0.5 to 10 parts by mass of the acid generator (C) makes the cured product particularly excellent in wet heat resistance. It is suitable in that it becomes.

本発明の硬化性組成物には、必要に応じて前記各成分及び後述の任意成分を溶解又は分散し得る有機溶媒(D)、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、シクロヘキサノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリジノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMAc)、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を含有させることができる。本発明の硬化性組成物において、有機溶媒(D)の含有量は、硬化性組成物の用途等に応じて適宜選択され特に限定されないが、通常、本発明の硬化性組成物中で固形分(有機溶媒(D)以外の全成分の合計含有量)が1〜100質量%となる量であることが好ましく、特に、固形分が5〜90質量%となるように有機溶媒(D)を含有させると、波長カットフィルタの製造時のように塗布によって本発明の硬化性組成物を用いる場合に好適である。   In the curable composition of the present invention, an organic solvent (D) capable of dissolving or dispersing the above-described components and optional components described below, if necessary, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, methyl cellosolve , Ethyl cellosolve, chloroform, methylene chloride, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidinone, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMAc) , Ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate and the like. In the curable composition of the present invention, the content of the organic solvent (D) is appropriately selected according to the use of the curable composition and the like, and is not particularly limited. (Total content of all components other than the organic solvent (D)) is preferably in an amount of 1 to 100% by mass, and in particular, the organic solvent (D) is adjusted to have a solid content of 5 to 90% by mass. When it is contained, it is suitable when the curable composition of the present invention is used by application as in the production of a wavelength cut filter.

また、本発明の硬化性組成物は、必須成分である上記カチオン染料(A)、上記カチオン重合性有機物質(B)及び上記酸発生剤(C)並びに必要に応じて用いられる上記有機溶媒(D)の他に、任意成分として、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて、フェノール系、リン系、硫黄系の酸化防止剤又は潜在性酸化防止剤;ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ベンゾエート系の紫外線吸収剤;カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤;ハロゲン系化合物、リン酸エステル系化合物、リン酸アミド系化合物、メラミン系化合物、フッ素樹脂又は金属酸化物、(ポリ)リン酸メラミン、(ポリ)リン酸ピペラジン等の難燃剤;炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系又は金属石けん系の滑剤;顔料、カーボンブラック等の着色剤;フュームドシリカ、微粒子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオリン、シリカゲル、珪酸カルシウム、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マイカ、ミネソタイト、パイロフィライト、シリカ等の珪酸系無機添加剤;ガラス繊維、炭酸カルシウム等の充填剤;造核剤、結晶促進剤等の結晶化剤、シランカップリング剤、可撓性ポリマー等のゴム弾性付与剤、増感剤、他のモノマー、消泡剤、増粘剤、レべリング剤、可塑剤、重合禁止剤、静電防止剤、流動調整剤、カップリング剤、接着促進剤等の各種添加剤を単独で又は二種以上組み合わせて含有することができる。これらの各種添加剤の使用量は、本発明の硬化性組成物の固形分中、合計で50質量%以下とする。   Further, the curable composition of the present invention comprises the essential components of the cationic dye (A), the cationically polymerizable organic substance (B) and the acid generator (C), and the organic solvent ( In addition to D), as an optional component, as long as the effects of the present invention are not impaired, a phenol-based, phosphorus-based, sulfur-based antioxidant or latent antioxidant; benzotriazole-based, triazine-based, Benzoate UV absorbers; antistatic agents consisting of cationic surfactants, anionic surfactants, nonionic surfactants, amphoteric surfactants, etc .; halogen compounds, phosphoric ester compounds, phosphoric amide compounds Flame retardants such as compounds, melamine compounds, fluororesins or metal oxides, melamine (poly) phosphate, piperazine (poly) phosphate; hydrocarbons, fatty acids, and aliphatic alcohols Lubricant, aliphatic ester-based, aliphatic amide-based or metallic soap-based lubricant; pigment, colorant such as carbon black; fumed silica, fine-particle silica, silica, diatomaceous earth, clay, kaolin, silica gel, calcium silicate Silicate-based inorganic additives such as sericite, kaolinite, flint, feldspar powder, vermiculite, attapulgite, talc, mica, minesoteite, pyrophyllite and silica; fillers such as glass fiber and calcium carbonate; nucleating agents; Crystallizing agents such as crystallization accelerators, silane coupling agents, rubber elasticity imparting agents such as flexible polymers, sensitizers, other monomers, defoamers, thickeners, leveling agents, plasticizers, polymerization Various additives such as inhibitors, antistatic agents, flow regulators, coupling agents, and adhesion promoters can be contained alone or in combination of two or more. The use amount of these various additives is 50% by mass or less in total in the solid content of the curable composition of the present invention.

本発明の硬化性組成物中に必要に応じて添加することができる酸化防止剤としては、特に限定されるものではないが、具体的な製品としては、下記に示すアデカスタブAO−20、アデカスタブAO−30、アデカスタブAO−40、アデカスタブAO−50、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−80、アデカスタブAO−330(以上、(株)ADEKA製)等が好適に使用できる。   The antioxidant that can be added as necessary to the curable composition of the present invention is not particularly limited, but specific products include ADK STAB AO-20 and ADK STAB AO shown below. -30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-60, Adekastab AO-80, Adekastab AO-330 (all manufactured by ADEKA Corporation) and the like can be preferably used.

また、本発明の硬化性組成物中に必要に応じて添加することができる紫外線吸収剤としては、特に限定されるものではないが、具体的な製品としては、アデカスタブLA−29、アデカスタブLA−31G、アデカスタブLA−32、アデカスタブLA−46、アデカスタブLA−52、アデカスタブLA−57、アデカスタブLA−63P、アデカスタブLA−68、アデカスタブLA−72、アデカスタブLA−77Y、アデカスタブLA−81、アデカスタブLA−82、アデカスタブLA−87(以上、(株)ADEKA製)等が好適に使用できる。   The ultraviolet absorber that can be added as necessary to the curable composition of the present invention is not particularly limited, but specific products include ADK STAB LA-29 and ADK STAB LA- 31G, Adekastab LA-32, Adekastab LA-46, Adekastab LA-52, Adekastab LA-63P, Adekastab LA-68, Adekastab LA-72, Adekastab LA-77Y, Adekastab LA-81, Adekastab LA- 82, ADK STAB LA-87 (all manufactured by ADEKA Corporation) and the like can be preferably used.

本発明の硬化性組成物を硬化させる方法としては、特に制限されず、常法を用いることができる。例えば、上記有機溶媒(D)も含有する硬化性組成物を、基材に塗布した後、活性エネルギー線又は加熱によって硬化させる方法が挙げられる。   The method for curing the curable composition of the present invention is not particularly limited, and a conventional method can be used. For example, there is a method in which a curable composition also containing the organic solvent (D) is applied to a substrate, and then cured by active energy rays or heating.

上記有機溶媒(D)も含有する硬化性組成物は、用途に応じて適切な基材に適切な塗膜厚となるように、公知の塗布方法によって塗布することができ、塗布に際して特に制限はない。例えば、波長カットフィルタを製造する場合には、後に詳述するように、ガラス基板上に、厚さ1〜200μmのコーティング層が形成されるように、スピンコート法等によって塗布される。有機溶媒(D)も含有する硬化性組成物を塗布した後には、必要に応じて、塗膜に含まれる有機溶媒(D)を乾燥させる。   The curable composition that also contains the organic solvent (D) can be applied by a known application method so as to have an appropriate coating thickness on an appropriate substrate depending on the application. Absent. For example, when manufacturing a wavelength cut filter, as described later in detail, the wavelength cut filter is applied by a spin coating method or the like so that a coating layer having a thickness of 1 to 200 μm is formed on a glass substrate. After applying the curable composition also containing the organic solvent (D), the organic solvent (D) contained in the coating film is dried, if necessary.

本発明の硬化性組成物は、酸発生剤(C)として熱酸発生剤を含有し熱硬化させる場合、特に限定されないが、ホットプレート等の熱板や、大気オーブン、イナートガスオーブン、真空オーブン、熱風循環式オーブン等による加熱により、硬化させることができる。   When the curable composition of the present invention contains a thermal acid generator as the acid generator (C) and is thermally cured, the composition is not particularly limited. However, a hot plate such as a hot plate, an atmospheric oven, an inert gas oven, a vacuum oven, It can be cured by heating with a hot air circulation oven or the like.

本発明の硬化性組成物の熱硬化の際の加熱温度としては、特に限定されないが、好適な耐湿熱性を有する硬化物が得られる点で、130℃〜200℃が好ましく、150℃〜180℃がより好ましい。加熱温度が200℃を超えると、色素の分解、樹脂の変色等の熱劣化、又は組成成分の揮発等による性能の低下が懸念され、加熱温度が130℃未満であると、硬化温度が低く、反応不良の恐れがある。
本発明の硬化性組成物の熱硬化の際の硬化時間としては、特に限定されないが、好適な耐湿熱性を有する硬化物が得られる点で、10分〜1時間が好ましく、10分〜30分がより好ましい。硬化時間が1時間を超えると、硬化物の製造時間が長く、量産に適さない。また硬化時間が10分未満であると、硬化時間が短く、反応不良の恐れがある。
The heating temperature at the time of thermal curing of the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 130 ° C to 200 ° C, and is preferably 150 ° C to 180 ° C in that a cured product having suitable wet heat resistance is obtained. Is more preferred. When the heating temperature exceeds 200 ° C., there is a concern that decomposition of the dye, thermal deterioration such as discoloration of the resin, or a decrease in performance due to volatilization of the components, and the like, when the heating temperature is lower than 130 ° C., the curing temperature is low, There is a risk of poor reaction.
The curing time during the thermal curing of the curable composition of the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 minutes to 1 hour in that a cured product having suitable wet heat resistance is obtained, preferably 10 minutes to 30 minutes. Is more preferred. If the curing time exceeds 1 hour, the production time of the cured product is long, and it is not suitable for mass production. If the curing time is less than 10 minutes, the curing time is short, and there is a possibility that the reaction may be defective.

また、本発明の硬化性組成物は、酸発生剤(C)として光酸発生剤を含有し光硬化させる場合、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより硬化させることができ、通常は照射から0.1秒〜数分後に指触乾燥状態或いは溶媒不溶性の状態に硬化させることができる。適当な活性エネルギー線としては、光酸発生剤の分解を誘発する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、超高、高、中、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー、YAGレーザー、発光ダイオード、CRT光源等から得られる2000オングストロームから7000オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや、電子線、X線、放射線等の高エネルギー線を利用する。   In addition, when the curable composition of the present invention contains a photoacid generator as the acid generator (C) and is photocured, it can be cured by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays. After 0.1 seconds to several minutes, the composition can be cured to a touch-dry state or a solvent-insoluble state. Any suitable active energy ray may be used as long as it induces decomposition of the photoacid generator, but is preferably an ultra-high, high, medium, low-pressure mercury lamp, xenon lamp, carbon arc lamp, metal halide lamp, or fluorescent lamp. 2000 angstroms obtained from tungsten lamp, excimer lamp, germicidal lamp, excimer laser, nitrogen laser, argon ion laser, helium cadmium laser, helium neon laser, krypton ion laser, various semiconductor lasers, YAG laser, light emitting diode, CRT light source Electromagnetic wave energy having a wavelength of 7000 to 7000 angstroms and high energy rays such as electron beams, X-rays, and radiations are used.

活性エネルギー線の照射時間は、エネルギー線の強度、塗膜厚、カチオン重合性有機化合物の種類等によるが、通常は0.1秒〜10秒程度で十分である。しかし、比較的厚い塗装物等についてはそれ以上の照射時間をかける方が好ましい。活性エネルギー線照射から0.1秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、カチオン重合を促進するため加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーを併用することも場合によっては好ましい。   The irradiation time of the active energy ray depends on the intensity of the energy ray, the thickness of the coating film, the kind of the cationically polymerizable organic compound and the like, but usually about 0.1 second to 10 seconds is sufficient. However, it is preferable to apply a longer irradiation time to a relatively thick painted object or the like. After 0.1 seconds to a few minutes after the irradiation of the active energy ray, most compositions are dried to the touch by cationic polymerization.However, heat energy such as heating or a thermal head may be used in combination to promote cationic polymerization. Is preferred.

本発明の硬化性組成物及びその硬化物の具体的な用途としては、波長カットフィルタ、塗料、コーティング剤、ライニング剤、接着剤、印刷版、絶縁ワニス、絶縁シート、積層板、プリント基板、半導体装置用・LEDパッケージ用・液晶注入口用・有機EL用・光素子用・電気絶縁用・電子部品用・分離膜用等の封止剤、成形材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、半導体用・太陽電池用等のパッシベーション膜、層間絶縁膜、保護膜、プリント基板、或いはカラーテレビ、PCモニタ、携帯情報端末、CCDイメージセンサのカラーフィルタ、プラズマ表示パネル用の電極材料、印刷インク、歯科用組成物、光造形用樹脂、液状及び乾燥膜の双方、微小機械部品、ガラス繊維ケーブルコーティング、ホログラフィ記録用材料の各種の用途を挙げることができ、その用途に特に制限はないが、波長カットフィルタとして用いられることが好ましい。   Specific applications of the curable composition and the cured product of the present invention include a wavelength cut filter, a paint, a coating agent, a lining agent, an adhesive, a printing plate, an insulating varnish, an insulating sheet, a laminate, a printed board, and a semiconductor. Sealants, molding materials, putties, glass fiber impregnants, fillers for devices, LED packages, liquid crystal fillers, organic EL, optical devices, electrical insulation, electronic components, separation membranes, etc. , Passivation films for semiconductors and solar cells, interlayer insulating films, protective films, printed circuit boards, color filters for color televisions, PC monitors, portable information terminals, CCD image sensors, electrode materials for plasma display panels, printing inks , Dental compositions, stereolithography resins, both liquid and dry films, micromechanical parts, glass fiber cable coatings, holographic recording materials Can be mentioned developing, is not particularly limited in its applications, it is preferably used as a wavelength cut filter.

本発明の硬化性組成物を硬化した硬化物を波長カットフィルタとして使用した場合の主な用途としては、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、監視カメラ、車載用カメラ、ウェブカメラ、携帯電話用カメラ等の固体撮像装置におけるCCDやC−MOS等の固体撮像素子の視感度補正用;自動露出計用;プラズマディスプレイ等の表示装置用等が挙げられるほか、自動車や建物の窓ガラス等に装着される熱線カットフィルタ等として用いることもできる。   When the cured product obtained by curing the curable composition of the present invention is used as a wavelength cut filter, the main applications are a digital still camera, a digital video camera, a surveillance camera, a vehicle-mounted camera, a web camera, a camera for a mobile phone, and the like. For the visibility of solid-state imaging devices such as CCD and C-MOS in solid-state imaging devices; for automatic exposure meters; for display devices such as plasma displays; and mounted on window glasses of automobiles and buildings. It can also be used as a heat ray cut filter or the like.

本発明の波長カットフィルタは、本発明の硬化性組成物の硬化物を少なくとも一部に具備してなるものである。以下、本発明の波長カットフィルタについて、その実施形態の一例を、図面を参照しながら説明する。尚、本発明の波長カットフィルタは、下記に説明する実施形態に限定されることなく構成し使用することができる。   The wavelength cut filter of the present invention includes at least a part of a cured product of the curable composition of the present invention. Hereinafter, an example of an embodiment of the wavelength cut filter of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the wavelength cut filter of the present invention can be configured and used without being limited to the embodiment described below.

本実施形態の波長カットフィルタ1は、ガラス基板(H)の一方の面に本発明の硬化性組成物の硬化物よりなるコーティング層(I)を有し、且つガラス基板(H)の他方の面に赤外線反射膜(J)を積層してなるものであり、図1に示すように、コーティング層(I)を有する側を光の入射側とすることができ、図2に示すように、赤外線反射膜(J)を有する側を光の入射側とすることもできる。以下、各層について順に説明する。   The wavelength cut filter 1 of this embodiment has a coating layer (I) made of a cured product of the curable composition of the present invention on one surface of a glass substrate (H), and the other side of the glass substrate (H). The infrared reflective film (J) is laminated on the surface, and as shown in FIG. 1, the side having the coating layer (I) can be the light incident side, and as shown in FIG. The side having the infrared reflective film (J) may be the light incident side. Hereinafter, each layer will be described in order.

<ガラス基板(H)>
本実施形態の波長カットフィルタに用いられるガラス基板(H)としては、可視領域で無色又は有色の透明なガラス材料から適宜選択して使用することができるが、例えば、ソーダ石灰ガラス、白板ガラス、硼珪酸ガラス、強化ガラス、石英ガラス、リン酸塩系ガラス等を用いることができ、また、微量の金属成分を含有する赤外線吸収ガラス、ブルーガラス等を用いることもできる。これらの中でもソーダ石灰ガラスは、安価で入手容易なため好ましく、白板ガラス、硼珪酸ガラス及び強化ガラスは、入手容易で硬度が高く加工性に優れるため好ましい。また、赤外線吸収ガラスやブルーガラスは、波長カットフィルタの波長カット性能が更に向上するため好ましい。
<Glass substrate (H)>
The glass substrate (H) used for the wavelength cut filter of the present embodiment can be appropriately selected from colorless or colored transparent glass materials in the visible region and used, for example, soda-lime glass, white plate glass, Borosilicate glass, tempered glass, quartz glass, phosphate glass, or the like can be used, and infrared absorbing glass, blue glass, or the like containing a trace amount of a metal component can also be used. Among them, soda-lime glass is preferred because it is inexpensive and easily available, and white plate glass, borosilicate glass and tempered glass are preferred because they are easily available, have high hardness and are excellent in workability. In addition, infrared absorbing glass and blue glass are preferable because the wavelength cut performance of the wavelength cut filter is further improved.

さらに、ガラス基板(H)にシランカップリング剤等により前処理を施した後に、本発明の硬化性組成物を塗工液として塗布して後述の染料を含有するコーティング層(I)を形成すると、塗工液乾燥後の染料を含有するコーティング層(I)のガラス基板に対する密着性が高まる。
上記シランカップリング剤としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン等が挙げられる。
Further, after the glass substrate (H) is subjected to a pretreatment with a silane coupling agent or the like, the curable composition of the present invention is applied as a coating solution to form a coating layer (I) containing a dye described below. In addition, the adhesion of the coating layer (I) containing the dye after drying the coating liquid to the glass substrate is enhanced.
Examples of the silane coupling agent include epoxy-functional alkoxysilanes such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane. Amino-functional alkoxysilanes such as N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxy And mercapto-functional alkoxysilanes such as silane.

また、本実施形態の波長カットフィルタは、ガラス基板(H)とコーティング層(I)との間に、下地層を有することもできる。下地層は、平均一次粒子径が5〜100nmの一次粒子が凝集した平均二次粒子径が20〜250nmである金属酸化物微粒子の凝集体を適宜な溶媒に分散させた塗工液を塗工することにより得られ、厚さは好ましくは30〜1000nmである。上記金属酸化物微粒子の凝集体は、塗工液全量に対して0.1〜50質量%が好ましい。   Further, the wavelength cut filter of the present embodiment may have an underlayer between the glass substrate (H) and the coating layer (I). The base layer is coated with a coating liquid obtained by dispersing an aggregate of metal oxide fine particles having an average secondary particle diameter of 20 to 250 nm in which primary particles having an average primary particle diameter of 5 to 100 nm aggregated in an appropriate solvent. And the thickness is preferably 30 to 1000 nm. The aggregate of the metal oxide fine particles is preferably 0.1 to 50% by mass based on the total amount of the coating solution.

ガラス基板(H)の厚さは、特に限定されないが、0.05〜8mmが好ましく、軽量化及び強度の点から0.05〜1mmがさらに好ましい。   The thickness of the glass substrate (H) is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 8 mm, and more preferably 0.05 to 1 mm in terms of weight reduction and strength.

<コーティング層(I)>
本実施形態の波長カットフィルタに用いられる、本発明の硬化性組成物を硬化した硬化物よりなるコーティング層(I)は、例えば、実施例に記載の方法により塗工液(本発明の硬化性組成物)を調製し、得られた塗工液をガラス基板(H)上に塗布し、乾燥し、先に詳述したようにして活性エネルギー線又は加熱によって硬化することにより形成することができる。
<Coating layer (I)>
The coating layer (I) composed of a cured product obtained by curing the curable composition of the present invention, which is used in the wavelength cut filter of the present embodiment, may be, for example, a coating liquid (curable composition of the present invention) prepared by the method described in Examples. Composition), and the obtained coating liquid is applied onto a glass substrate (H), dried, and cured by actinic radiation or heating as described in detail above. .

塗工液の塗布方法としては、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ビードコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ホッパーを使用するエクストルージョンコート法等が挙げられる。
該コーティング層(I)の厚さは1〜200μmであるのが、均一な膜が得られ薄膜化に有利であるため好ましい。
As a coating method of the coating liquid, spin coating, dip coating, spray coating, bead coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, die coating, An extrusion coating method using a hopper is exemplified.
The thickness of the coating layer (I) is preferably 1 to 200 μm, since a uniform film can be obtained and this is advantageous for thinning.

<赤外線反射膜(J)>
本実施形態のカットフィルタに用いられる赤外線反射膜(J)は、700〜1200nmの波長域の光を遮断する機能を有するものであり、低屈折率層と高屈折率層とが交互に積層された誘電体多層膜により形成される。
<Infrared reflective film (J)>
The infrared reflective film (J) used in the cut filter according to the present embodiment has a function of blocking light in a wavelength region of 700 to 1200 nm, and low refractive index layers and high refractive index layers are alternately laminated. It is formed of a dielectric multilayer film.

上記低屈折率層を構成する材料としては、屈折率1.2〜1.6の材料を用いることができ、例えば、シリカ、アルミナ、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、六フッ化アルミニウムナトリウム等が挙げられる。   As the material constituting the low refractive index layer, a material having a refractive index of 1.2 to 1.6 can be used, and examples thereof include silica, alumina, lanthanum fluoride, magnesium fluoride, and sodium aluminum hexafluoride. No.

上記高屈折率層を構成する材料としては、屈折率が1.7〜2.5の材料を用いることができ、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、五酸化タンタル、五酸化ニオブ、酸化ランタン、酸化イットリウム、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化インジウム等が挙げられる他、これらを主成分とし、酸化チタン、酸化錫、酸化セリウム等を少量含有させたもの等が挙げられる。   As a material constituting the high refractive index layer, a material having a refractive index of 1.7 to 2.5 can be used. For example, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum pentoxide, niobium pentoxide, lanthanum oxide, oxidized oxide In addition to yttrium, zinc oxide, zinc sulfide, indium oxide, and the like, those containing these as main components and a small amount of titanium oxide, tin oxide, cerium oxide, or the like are also included.

上記低屈折率層と高屈折率層を積層する方法については、これらの層を積層した誘電体多層膜が形成される限り特に制限はないが、例えば、ガラス基板上に、CVD法、スパッタ法、真空蒸着法等により低屈折率層と高屈折率層を交互に積層した誘電体多層膜を形成する方法が挙げられる。また、あらかじめ誘電体多層膜を形成し、これをガラス基板に接着剤で貼り合わせることもできる。
積層数は、プロセス及び強度の点から、好ましくは10〜80層であり、より好ましくは25〜50層である。
The method of laminating the low-refractive-index layer and the high-refractive-index layer is not particularly limited as long as a dielectric multilayer film in which these layers are laminated is formed. For example, a CVD method, a sputtering method, And a method of forming a dielectric multilayer film in which low-refractive-index layers and high-refractive-index layers are alternately laminated by a vacuum deposition method or the like. Alternatively, a dielectric multilayer film can be formed in advance, and this can be bonded to a glass substrate with an adhesive.
The number of layers is preferably from 10 to 80 layers, more preferably from 25 to 50 layers, from the viewpoint of process and strength.

上記低屈折率層と高屈折率層の厚みは、それぞれ、通常、遮断しようとする光線の波長をλ(nm)として0.1λ〜0.5λの厚みである。厚みが0.1λ未満あるいは0.5λ超であると、屈折率(n)と物理膜厚(d)との積(nd)がλ/4の倍数で表される光学膜厚と大きく異なって特定波長の遮断・透過ができない恐れがある。
上記赤外線反射膜(J)としては、前記の誘電体多層膜の他、極大吸収波長が700〜1100nmの染料を含有する膜、高分子を積層させたもの、コレステリック液晶を塗布して形成した膜等の有機材料を用いたものを使用することもできる。
The thickness of the low refractive index layer and the thickness of the high refractive index layer are usually 0.1λ to 0.5λ, respectively, where λ (nm) is the wavelength of the light beam to be blocked. When the thickness is less than 0.1λ or more than 0.5λ, the product (nd) of the refractive index (n) and the physical thickness (d) greatly differs from the optical thickness expressed by a multiple of λ / 4. There is a possibility that blocking or transmission of a specific wavelength may not be possible.
As the infrared reflective film (J), in addition to the above dielectric multilayer film, a film containing a dye having a maximum absorption wavelength of 700 to 1100 nm, a laminate of polymers, and a film formed by applying a cholesteric liquid crystal A material using an organic material such as the above can also be used.

以下、実施例等を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and the like, but the present invention is not limited to these Examples and the like.

[実施例1〜24]硬化性組成物1〜24の調製
表1〜表4に示す配合にて、カチオン重合性有機物質(B)及び有機溶媒(D)を混合し、不溶物がなくなるまで撹拌し、溶液αを得た。また、表1〜表4に示す配合にて、カチオン染料(A)、酸発生剤(C)及び有機溶媒(D)、並びに場合により添加剤(E)を混合し、不溶物がなくなるまで撹拌し、溶液βを得た。後述する評価用試験片の作成に使用する直前に溶液αと溶液βとを混合し、均一になるまで撹拌し、実施例1〜24に対応する硬化性組成物1〜24を得た。
[Examples 1 to 24] Preparation of curable compositions 1 to 24 In the formulations shown in Tables 1 to 4, the cationically polymerizable organic substance (B) and the organic solvent (D) were mixed until no insoluble matter was present. After stirring, a solution α was obtained. In addition, in the formulations shown in Tables 1 to 4, the cationic dye (A), the acid generator (C), the organic solvent (D), and optionally the additive (E) were mixed, and the mixture was stirred until insolubles disappeared. Thus, a solution β was obtained. The solution α and the solution β were mixed immediately before being used for preparing a test piece to be described later, and the mixture was stirred until it became uniform, thereby obtaining curable compositions 1 to 24 corresponding to Examples 1 to 24.

[比較例1〜6]比較用硬化性組成物1〜6の調製
表5に示す配合とした以外は上記の硬化性組成物1〜24の調製方法と同様にして、比較例1〜6に対応する比較用硬化性組成物1〜6を得た。尚、比較用硬化性組成物1〜6は、カチオン染料(A)を一種類のみ配合したものである。
[Comparative Examples 1 to 6] Preparation of Comparative Curable Compositions 1 to 6 Comparative Examples 1 to 6 were prepared in the same manner as in the preparation method of the above curable compositions 1 to 24 except that the formulations shown in Table 5 were used. Corresponding curable compositions 1 to 6 were obtained. In addition, each of the curable compositions for comparison 1 to 6 contains only one kind of the cationic dye (A).

表1〜表5中の各符号は、それぞれ下記を表す。   Each symbol in Tables 1 to 5 represents the following, respectively.

カチオン染料(A)
A−1:化合物No.100のN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸塩
A−2:化合物No.100のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−3:化合物No.100のN,N−ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド酸塩
A−4:化合物No.65のN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸塩
A−5:化合物No.102のN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸塩
A−6:化合物No.103のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−7:化合物No.105のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−8:化合物No.100のN,N−ビス(フルオロスルホニル)イミド酸塩
A−9:化合物No.103のN,N−ビス(フルオロスルホニル)イミド酸塩
A−10:化合物No.104のN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸塩
A−11:化合物No.104のトリフルオロメタンスルホン酸塩
A−12:化合物No.104のノナフルオロブタンスルホン酸塩
A−13:化合物No.104のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−14:化合物No.104のトリス(トリフルオロメタンスルホニル)メチド酸塩
A−15:化合物No.104のヘキサフルオロリン酸塩
A−16:化合物No.106のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−17:化合物No.107のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−18:化合物No.76のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−19:化合物No.99のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−20:化合物No.101のテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ホウ酸塩
A−21:化合物No.103のトリフルオロメタンスルホン酸塩
A−22:化合物No.104のN,N−ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド酸塩
A−23:化合物No.104のN,N−ビス(フルオロスルホニル)イミド酸塩
A−24:化合物No.103のヘキサフルオロリン酸塩
A−25:化合物No.101のN,N−ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド酸塩
A−26:化合物No.100のトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸塩
A−27:化合物No.103のトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸塩
A−28:化合物No.76のN,N−ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド酸塩
A−29:化合物No.104のトリス(ペンタフルオロエチル)トリフルオロリン酸塩
A−30:化合物No.100のヘキサフルオロリン酸塩
Cationic dye (A)
A-1: Compound No. N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate A-2 of Compound No. 100: Compound No. 100 100 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-3: Compound No. N, N-bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate A-4: Compound No. 100 N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate A-5 of Compound No. 65: Compound No. 65 N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate A-6: Compound No. 102 Tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-7: Compound No. 103 105 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-8: Compound No. 105 N, N-bis (fluorosulfonyl) imidate A-9: Compound No. 100 103, N, N-bis (fluorosulfonyl) imidate A-10: Compound No. 103 104, N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate A-11: Compound No. 104 Trifluoromethanesulfonate A-12: Compound No. 104 Nonafluorobutanesulfonate A-13: Compound No. 104 Tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-14: Compound No. 104 No. 104 tris (trifluoromethanesulfonyl) methide salt A-15: Compound No. 104 Hexafluorophosphate A-16 of Compound No. 104: Compound No. 104 No. 106 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-17: Compound No. 106 107 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-18: Compound No. 107 76 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-19: Compound No. 76 99 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-20: Compound No. 99 101 tetrakis (pentafluorophenyl) borate A-21: Compound No. 101 Trifluoromethanesulfonate A-22: Compound No. 103 N, N-bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate A-23: Compound No. 104 N, N-bis (fluorosulfonyl) imidate A-24: Compound No. 104 Hexafluorophosphate A-25 of Compound 103: Compound No. 103 N, N-bis (nonafluorobutanesulfonyl) imidate A-26: Compound No. 101 Tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate A-27: Compound No. 100 103 tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate A-28: Compound No. 103 76, N, N-bis (trifluoromethanesulfonyl) imidate A-29: Compound No. 76 No. 104 tris (pentafluoroethyl) trifluorophosphate A-30: Compound No. 104 100 hexafluorophosphate

カチオン重合性有機物質(B)
B−1:セロキサイド2021P((株)ダイセル製エポキシ化合物)
B−2:アデカグリシロールED−503((株)ADEKA製エポキシ化合物)
B−3:アデカレジンEP―4100E((株)ADEKA製エポキシ化合物)
B−4:アロンオキセタンOXT−101(東亞合成(株)製オキセタン化合物)
B−5:EHPE−3150((株)ダイセル製エポキシ化合物)
B−6:アロンオキセタンOXT−221(東亞合成(株)製オキセタン化合物)
B−7:アデカレジンEP−4088S((株)ADEKA製エポキシ化合物)
B−8:EPPN−201(日本化薬(株)製エポキシ化合物)
Cationic polymerizable organic substance (B)
B-1: Celloxide 2021P (Epoxy compound manufactured by Daicel Corporation)
B-2: Adekaglycylol ED-503 (epoxy compound manufactured by ADEKA Corporation)
B-3: Adeka Resin EP-4100E (epoxy compound manufactured by ADEKA Corporation)
B-4: Aron oxetane OXT-101 (oxetane compound manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
B-5: EHPE-3150 (Epoxy compound manufactured by Daicel Corporation)
B-6: Aron oxetane OXT-221 (oxetane compound manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
B-7: ADEKA Resin EP-4088S (epoxy compound manufactured by ADEKA Corporation)
B-8: EPPN-201 (Nippon Kayaku Co., Ltd. epoxy compound)

酸発生剤(C)
C−1:サンエイドSI−100(三新化学工業(株)製熱酸発生剤)
C−2:サンエイドSI−110(三新化学工業(株)製熱酸発生剤)
C−3:下記構造式1で表される化合物(光酸発生剤)
C−4:サンエイドSI−60(三新化学工業(株)製熱酸発生剤)
C−5:サンエイドSI−80(三新化学工業(株)製熱酸発生剤)
C−6:サンエイドSI−150(三新化学工業(株)製熱酸発生剤)
C−7:CPI−100P(サンアプロ(株)製光酸発生剤)
Acid generator (C)
C-1: Sun-Aid SI-100 (thermal acid generator manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
C-2: Sun-Aid SI-110 (thermal acid generator manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
C-3: Compound represented by the following structural formula 1 (photoacid generator)
C-4: San-Aid SI-60 (thermal acid generator manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
C-5: Sun-Aid SI-80 (thermal acid generator manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
C-6: San-Aid SI-150 (thermal acid generator manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.)
C-7: CPI-100P (San Apro Co., Ltd. photoacid generator)

有機溶媒(D)
D−1:メチルエチルケトン
D−2:ジアセトンアルコール
D−3:ジメチルアセトアミド
D−4:シクロヘキサノン
添加剤(E)
E−1:アデカスタブAO−60((株)ADEKA製酸化防止剤)
E−2:アデカスタブAO−20((株)ADEKA製酸化防止剤)
E−3:アデカスタブAO−40((株)ADEKA製酸化防止剤)
E−4:アデカスタブAO−50((株)ADEKA製酸化防止剤)
E−5:アデカスタブAO−80((株)ADEKA製酸化防止剤)
Organic solvent (D)
D-1: methyl ethyl ketone D-2: diacetone alcohol D-3: dimethylacetamide D-4: cyclohexanone additive (E)
E-1: ADK STAB AO-60 (Antioxidant manufactured by ADEKA Corporation)
E-2: ADK STAB AO-20 (Antioxidant manufactured by ADEKA Corporation)
E-3: ADK STAB AO-40 (Antioxidant manufactured by ADEKA Corporation)
E-4: ADK STAB AO-50 (Antioxidant manufactured by ADEKA Corporation)
E-5: ADK STAB AO-80 (Antioxidant manufactured by ADEKA Corporation)


<熱硬化による評価用試験片の作成>
硬化性組成物1〜4、6〜9、11〜14、16〜19、21−24(それぞれ実施例1〜4、6〜9、11〜14、16〜19、21−24に対応)をそれぞれ、ガラス基板に800rpm×10秒の条件でスピンコートし、ホットプレートで乾燥(90℃、10分)した。溶媒乾燥後、塗工したガラス基板をオーブンに入れ、180℃にて20分、熱硬化して評価用試験片を作成した。
また、比較用硬化性組成物1〜3、6(それぞれ比較例1〜3、6に対応)を同様にして熱硬化させ、比較用の評価用試験片を作成した。
<Preparation of test pieces for evaluation by thermosetting>
Curable compositions 1-4, 6-9, 11-14, 16-19, 21-24 (corresponding to Examples 1-4, 6-9, 11-14, 16-19, 21-24, respectively) Each was spin-coated on a glass substrate under the condition of 800 rpm × 10 seconds, and dried on a hot plate (90 ° C., 10 minutes). After drying the solvent, the coated glass substrate was placed in an oven, and heat-cured at 180 ° C. for 20 minutes to prepare a test piece for evaluation.
In addition, the curable compositions for comparison 1 to 3 and 6 (corresponding to Comparative Examples 1 to 3 and 6, respectively) were thermally cured in the same manner to prepare test pieces for evaluation.

<光硬化による評価用試験片の作成>
硬化性組成物5、10、15、20(それぞれ実施例5、10、15、20に対応)をそれぞれ、ガラス基板に800rpm×10秒の条件でスピンコートし、ホットプレートで乾燥(90℃、10分)した。溶媒乾燥後、塗工したガラス基板ごと高圧水銀灯で露光(300mJ/cm)して光硬化させて評価用試験片を作成した。
また、比較用硬化性組成物4及び5(比較例4及び5に対応)を同様にして光硬化させ、比較用の評価用試験片を作成した。
<Preparation of test pieces for evaluation by light curing>
Each of the curable compositions 5, 10, 15, and 20 (corresponding to Examples 5, 10, 15, and 20, respectively) was spin-coated on a glass substrate under the conditions of 800 rpm × 10 seconds, and dried on a hot plate (90 ° C., 10 minutes). After drying the solvent, the coated glass substrate was exposed to light (300 mJ / cm 2 ) with a high-pressure mercury lamp and photo-cured to prepare a test piece for evaluation.
In addition, the curable compositions for comparison 4 and 5 (corresponding to Comparative Examples 4 and 5) were similarly photocured to prepare test specimens for comparison.

<耐湿熱性試験>
上記で得られた評価用試験片を、温度85℃、湿度85%の恒温恒湿槽に入れて5時間、10時間、20時間、50時間の経過時間ごとに、試験片からの色素の析出を目視で確認し、以下の評価基準で評価した。結果を表6−1、6−2及び6−3に示す。
(評価基準)
○:析出なし
△:一部析出あり(試験片表面積の10%未満)
×:析出あり(試験片表面積の10%以上)
<Moisture and heat resistance test>
The test piece for evaluation obtained above was placed in a thermo-hygrostat at a temperature of 85 ° C. and a humidity of 85%, and the dye was precipitated from the test piece every 5 hours, 10 hours, 20 hours, and 50 hours. Was visually observed and evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 6-1, 6-2 and 6-3.
(Evaluation criteria)
:: No precipitation △: Partial precipitation (less than 10% of test piece surface area)
×: Precipitation (10% or more of the test piece surface area)

尚、表6−1、6−2及び6−3には、使用したカチオン染料の種類(A−1〜A−30)を記載し、さらに、二種のカチオン染料の、カチオン部分とアニオン部分の構造それぞれについて、構造が同一の場合は「同一」と記載し、異なる場合は「異なる」と記載した。また硬化性組成物の(B)成分量に対するカチオン染料の割合についてもそれぞれ記載した。さらにカチオン染料総量に対する各カチオン染料の比率もそれぞれ記載した。   In Tables 6-1, 6-2 and 6-3, the types (A-1 to A-30) of the cationic dyes used are described. Are described as “identical” when the structures are the same, and as “different” when the structures are different. The ratio of the cationic dye to the component (B) of the curable composition is also described. Furthermore, the ratio of each cationic dye to the total amount of the cationic dye is also described.

<波長カットフィルタ透過率測定>
実施例1〜5、比較例6の評価用試験片について、波長カットフィルタとしての性能を評価するため、650〜1200nmの範囲における極大吸収波長の透過率を測定した。透過率は、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計V−570で測定した。結果を表7に示す。透過率の数値の小さいほど波長カット性能が優れているといえる。
<Wavelength cut filter transmittance measurement>
For the test pieces for evaluation of Examples 1 to 5 and Comparative Example 6, in order to evaluate the performance as a wavelength cut filter, the transmittance at the maximum absorption wavelength in the range of 650 to 1200 nm was measured. The transmittance was measured with an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer V-570 manufactured by JASCO Corporation. Table 7 shows the results. It can be said that the smaller the numerical value of the transmittance, the better the wavelength cut performance.


表6−1、6−2及び6−3の結果から、カチオン染料を二種以上含有する場合(実施例)は、一種類しか使用していない場合(比較例)に比べて、明らかに耐湿熱性に優れることがわかる。
また、二種のカチオン染料の、カチオン部分が同一でアニオン部分が異なる場合(実施例5、11、18、19、20)は、耐湿熱性試験50時間で、色素が10%以上析出する×判定であるが、カチオン部分が異なりアニオン部分が同一の場合、又はカチオン部分アニオン部分の両方とも異なる場合(実施例1〜4、6〜10、12〜17、21〜24)では、耐湿熱性試験50時間で、×判定のものはみられず、カチオン部分が同一でアニオン部分が異なる二種のカチオン染料を使用する場合よりも、より耐湿熱性に優れることがわかる。
From the results of Tables 6-1, 6-2 and 6-3, the case where two or more cationic dyes are contained (Example) is clearly more resistant to moisture than the case where only one kind is used (Comparative Example). It turns out that it is excellent in heat property.
When two cationic dyes had the same cation portion but different anion portions (Examples 5, 11, 18, 19, and 20), the dye was precipitated by 10% or more in a moist heat resistance test of 50 hours. However, when the cation part is different and the anion part is the same, or when both the cation part and the anion part are different (Examples 1-4, 6-10, 12-17, 21-24), the moist heat resistance test 50 With respect to the time, there was no X-determination, indicating that the wet heat resistance was better than when two kinds of cationic dyes having the same cation portion but different anion portions were used.

表7の実施例1〜5の結果から、本発明の硬化性組成物の硬化物は、透過率が低く、優れた波長カット性能を有するため、波長カットフィルタに有用であることがわかる。また比較例6の結果から、染料の総含有量が少ないと、透過率が高くなり波長カット性能に劣ることがわかる。   From the results of Examples 1 to 5 in Table 7, it can be seen that the cured product of the curable composition of the present invention is useful for a wavelength cut filter since it has low transmittance and excellent wavelength cut performance. Also, from the results of Comparative Example 6, it is understood that when the total content of the dye is small, the transmittance is increased and the wavelength cut performance is inferior.

以上より、二種以上のカチオン染料(A)、カチオン重合性有機物質(B)及び酸発生剤(C)を含有する本発明の硬化性組成物を硬化した硬化物は、耐湿熱性及び波長カット性能に優れ、本発明の硬化性組成物は波長カットフィルタに有用であることがわかる。   As described above, a cured product obtained by curing the curable composition of the present invention containing two or more kinds of cationic dye (A), cationically polymerizable organic substance (B) and acid generator (C) has wet heat resistance and wavelength cutoff. It shows that the curable composition of the present invention has excellent performance and is useful for a wavelength cut filter.

本発明の硬化性組成物を硬化した硬化物は、耐湿熱性に優れるものである。また、該硬化性組成物を硬化した硬化物は波長カットフィルタに好適なものである。
The cured product obtained by curing the curable composition of the present invention has excellent wet heat resistance. A cured product obtained by curing the curable composition is suitable for a wavelength cut filter.

Claims (10)

二種以上のカチオン染料(A)、カチオン重合性有機物質(B)、及び酸発生剤(C)を含有し、
上記二種以上のカチオン染料(A)が、下記一般式(1)で表されるポリメチン化合物であって互いにカチオン部分が異なる二種のカチオン染料を少なくとも有する、硬化性組成物。

(式中、Aは下記の群Iの(a)〜(m)から選ばれる基を表し、A’は下記の群IIの(a’)〜(m’)から選ばれる基を表し、Qは、下記一般式(1−A)で表されるメチン鎖を含む連結基を表し、An q− はq価のアニオンを表し、qは1又は2を表し、pは電荷を中性に保つ係数を表し、
Aが(a)〜(d)、(h)〜(k)から選ばれる基である場合、A’は(a’)〜(d’)、(h’)〜(k’)から選ばれる基であり、Aが(e)〜(g)、(l)〜(m)から選ばれる基である場合、A’は(e’)〜(g’)、(l’)〜(m’)から選ばれる基である。)


(式中、環C及び環C’は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環又はピリジン環を表し、
式中、R 及びR ’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素原子数2〜16のジアルキルアミノ基、炭素原子数12〜40のジアリールアミノ基、炭素原子数7〜28のアリールアルキルアミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R 及びR ’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R 及びR ’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO −、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、R 〜R 及びR ’〜R ’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R 〜R 及びR ’〜R ’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R 〜R 及びR ’〜R ’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO −、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、X及びX’は、各々独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−CR 51 52 −、炭素原子数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイル基、−NH−又は−NY −を表し、R 51 及びR 52 は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R 51 及びR 52 中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R 51 及びR 52 中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO −、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、Y、Y’及びY は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、ニトロ基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該Y、Y’及びY 中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、該Y、Y’及びY 中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO −、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、r及びr’は、0又は(a)〜(e)、(g)〜(j)、(l)、(m)、(a’)〜(e’)、(g’)〜(j’)、(l’)及び(m’)において置換基数として可能な1以上の数を表す。)
(式中、kは、0〜4の整数を表し、
式中、該メチン鎖の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、該アルキル基は、対応するアルキレン基となって該メチン鎖の任意の2つの炭素原子と結合して炭素原子数3〜10の環構造を構成する場合があり、該環構造の水素原子は各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、
該メチン鎖及び該環構造中のR及びR’は、各々独立に炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該メチン鎖及び該環構造中の−NRR’、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は更に、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基又は−NRR’で置換される場合があり、該メチン鎖及び該環構造中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO −、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合がある。)
It contains two or more cationic dyes (A), a cationically polymerizable organic substance (B), and an acid generator (C) ,
A curable composition wherein the two or more cationic dyes (A) are polymethine compounds represented by the following general formula (1) and have at least two cationic dyes having different cation moieties .

(Wherein, A represents a group selected from the following group I (a) to (m), A ′ represents a group selected from the following group II (a ′) to (m ′), Represents a linking group containing a methine chain represented by the following general formula (1-A), An q- represents a q-valent anion, q represents 1 or 2, and p keeps a charge neutral. Represents the coefficient,
When A is a group selected from (a) to (d) and (h) to (k), A ′ is selected from (a ′) to (d ′) and (h ′) to (k ′). When A is a group selected from (e) to (g) and (l) to (m), A ′ is (e ′) to (g ′), (l ′) to (m ′) ). )


(Wherein, ring C and ring C ′ each independently represent a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring or a pyridine ring;
In the formula, R 1 and R 1 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, a dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms, a carbon atom having 12 to 12 carbon atoms. 40 diarylamino groups, arylalkylamino groups having 7 to 28 carbon atoms, amide groups, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, arylalkyl groups having 7 to 30 carbon atoms or alkyl having 1 to 8 carbon atoms A hydrogen atom of a dialkylamino group, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and an alkyl group in R 1 and R 1 ′ are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group , a cyano group, a carboxyl group, an amino group, may be substituted with a amido group or a ferrocenyl group, Jiarukirua in said R 1 and R 1 ' M, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and a methylene group in the alkyl group each independently represent -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-. , -SO 2 -, - NH - , - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a carbon atom number of 6 to 20. An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein the aryl group, the arylalkyl group and the aryl group in R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ The hydrogen atom of the alkyl group may be independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the R 2 to R 9 and R 2 aryl groups in to R 9 ', a methylene group in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, -NH-, -CONH- -NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, X and X ′ each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, —CR 51 R 52 —, a cycloalkane-1,1-diyl group having 3 to 6 carbon atoms, —NH— or —. NY 2 - represents, R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon Represents an arylalkyl group having 7 to 30 atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and hydrogen atoms of the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group in R 51 and R 52 are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, May be substituted with an atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the aryl group, arylalkyl group and alkyl group in R 51 and R 52 may be substituted. Methylene groups in the kill groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - May be substituted with N = CH- or -CH = CH-,
In the formula, Y, Y ′ and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a nitro group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon atom arylalkyl group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in the C7-30, the Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, a hydrogen atom in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, a hydroxyl group, a halogen group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amido group, may be substituted with a ferrocenyl group or a nitro group, said Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, arylalkyl group, and the alkyl group methylene groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH -Or -CH = C - it may be substituted with,
In the formula, r and r ′ are 0 or (a) to (e), (g) to (j), (1), (m), (a ′) to (e ′), (g ′) to (J '), (l') and (m ') represent one or more possible substituents. )
(In the formula, k represents an integer of 0 to 4,
In the formula, the hydrogen atoms of the methine chain are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a carbon atom. It may be substituted with an alkyl group of 1 to 8, and the alkyl group becomes a corresponding alkylene group and bonds to any two carbon atoms of the methine chain to form a ring structure having 3 to 10 carbon atoms. And each hydrogen atom of the ring structure is independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a carbon atom. May be substituted with an alkyl group having 1 to 8 atoms,
R and R ′ in the methine chain and the ring structure each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. A hydrogen atom in the -NRR 'in the methine chain and the ring structure, an aryl group, an arylalkyl group and an alkyl group may be further independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group or -NRR'. And the aryl group in the methine chain and the ring structure, the methylene group in the arylalkyl group and the methylene group in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-. )
二種以上のカチオン染料(A)、カチオン重合性有機物質(B)、及び酸発生剤(C)を含有し、波長カットフィルタ用である、硬化性組成物。 A curable composition containing two or more cationic dyes (A), a cationically polymerizable organic substance (B), and an acid generator (C), and is used for a wavelength cut filter . 上記カチオン染料(A)が、下記一般式(1)で表されるポリメチン化合物である請求項に記載の硬化性組成物。
(式中、Aは下記の群Iの(a)〜(m)から選ばれる基を表し、A’は下記の群IIの(a’)〜(m’)から選ばれる基を表し、Qは、下記一般式(1−A)で表されるメチン鎖を含む連結基を表し、Anq−はq価のアニオンを表し、qは1又は2を表し、pは電荷を中性に保つ係数を表し、
Aが(a)〜(d)、(h)〜(k)から選ばれる基である場合、A’は(a’)〜(d’)、(h’)〜(k’)から選ばれる基であり、Aが(e)〜(g)、(l)〜(m)から選ばれる基である場合、A’は(e’)〜(g’)、(l’)〜(m’)から選ばれる基である。
(式中、環C及び環C’は、各々独立にベンゼン環、ナフタレン環、フェナントレン環又はピリジン環を表し、
式中、R及びR’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素原子数2〜16のジアルキルアミノ基、炭素原子数12〜40のジアリールアミノ基、炭素原子数7〜28のアリールアルキルアミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R及びR’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R及びR’中のジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、アリールアルキルアミノ基、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、R〜R及びR’〜R’は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R〜R及びR’〜R’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R〜R及びR’〜R’中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、X及びX’は、各々独立に酸素原子、硫黄原子、セレン原子、−CR5152−、炭素原子数3〜6のシクロアルカン−1,1−ジイル基、−NH−又は−NY−を表し、R51及びR52は、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該R51及びR52中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基又はフェロセニル基で置換される場合があり、該R51及びR52中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、Y、Y’及びYは、各々独立に水素原子、水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、ニトロ基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該Y、Y’及びY中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン基、シアノ基、カルボキシル基、アミノ基、アミド基、フェロセニル基又はニトロ基で置換される場合があり、該Y、Y’及びY中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合があり、
式中、r及びr’は、0又は(a)〜(e)、(g)〜(j)、(l)、(m)、(a’)〜(e’)、(g’)〜(j’)、(l’)及び(m’)において置換基数として可能な1以上の数を表す。)
(式中、kは、0〜4の整数を表し、
式中、該メチン鎖の水素原子は、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、該アルキル基は、対応するアルキレン基となって該メチン鎖の任意の2つの炭素原子と結合して炭素原子数3〜10の環構造を構成する場合があり、該環構造の水素原子は各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基、−NRR’、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基で置換される場合があり、
該メチン鎖及び該環構造中のR及びR’は、各々独立に炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基又は炭素原子数1〜8のアルキル基を表し、該メチン鎖及び該環構造中の−NRR’、アリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中の水素原子は更に、各々独立に水酸基、ハロゲン原子、シアノ基又は−NRR’で置換される場合があり、該メチン鎖及び該環構造中のアリール基、アリールアルキル基及びアルキル基中のメチレン基は、各々独立に、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−SO−、−NH−、−CONH−、−NHCO−、−N=CH−又は−CH=CH−で置換される場合がある。)
The curable composition according to claim 2 , wherein the cationic dye (A) is a polymethine compound represented by the following general formula (1).
(Wherein, A represents a group selected from the following group I (a) to (m), A ′ represents a group selected from the following group II (a ′) to (m ′), Represents a linking group containing a methine chain represented by the following general formula (1-A), An q- represents a q-valent anion, q represents 1 or 2, and p keeps a charge neutral. the coefficient table,
When A is a group selected from (a) to (d) and (h) to (k), A ′ is selected from (a ′) to (d ′) and (h ′) to (k ′). When A is a group selected from (e) to (g) and (l) to (m), A ′ is (e ′) to (g ′), (l ′) to (m ′) ). )
(Wherein, ring C and ring C ′ each independently represent a benzene ring, a naphthalene ring, a phenanthrene ring or a pyridine ring;
In the formula, R 1 and R 1 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, a dialkylamino group having 2 to 16 carbon atoms, a carbon atom having 12 to 12 carbon atoms. 40 diarylamino groups, arylalkylamino groups having 7 to 28 carbon atoms, amide groups, aryl groups having 6 to 20 carbon atoms, arylalkyl groups having 7 to 30 carbon atoms or alkyl having 1 to 8 carbon atoms A hydrogen atom of a dialkylamino group, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and an alkyl group in R 1 and R 1 ′ are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group , a cyano group, a carboxyl group, an amino group, may be substituted with a amido group or a ferrocenyl group, Jiarukirua in said R 1 and R 1 ' M, a diarylamino group, an arylalkylamino group, an aryl group, an arylalkyl group and a methylene group in the alkyl group each independently represent -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-. , -SO 2 -, - NH - , - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a carbon atom number of 6 to 20. An aryl group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein the aryl group, the arylalkyl group and the aryl group in R 2 to R 9 and R 2 ′ to R 9 ′ The hydrogen atom of the alkyl group may be independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the R 2 to R 9 and R 2 ′ aryl groups in to R 9 ', a methylene group in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, -NH-, -CONH- -NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-,
In the formula, X and X ′ each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, —CR 51 R 52 —, a cycloalkane-1,1-diyl group having 3 to 6 carbon atoms, —NH— or —. NY 2 - represents, R 51 and R 52 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon Represents an arylalkyl group having 7 to 30 atoms or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and hydrogen atoms of the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group in R 51 and R 52 are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, May be substituted with an atom, a nitro group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group or a ferrocenyl group, and the aryl group, arylalkyl group and alkyl group in R 51 and R 52 may be substituted. Methylene groups in the kill groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - May be substituted with N = CH- or -CH = CH-,
In the formula, Y, Y ′ and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amide group, a nitro group, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carbon atom arylalkyl group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms in the C7-30, the Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, a hydrogen atom in the arylalkyl and alkyl groups are each independently, a hydroxyl group, a halogen group, a cyano group, a carboxyl group, an amino group, an amido group, may be substituted with a ferrocenyl group or a nitro group, said Y, Y 'and Y 2 in the aryl group, arylalkyl group, and the alkyl group methylene groups are each independently, -O -, - S -, - CO -, - COO -, - OCO -, - SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH -Or -CH = C - it may be substituted with,
In the formula, r and r ′ are 0 or (a) to (e), (g) to (j), (1), (m), (a ′) to (e ′), (g ′) to (J '), (l') and (m ') represent one or more possible substituents. )
(In the formula, k represents an integer of 0 to 4,
In the formula, the hydrogen atoms of the methine chain are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms or a carbon atom. It may be substituted with an alkyl group of 1 to 8, and the alkyl group becomes a corresponding alkylene group and bonds to any two carbon atoms of the methine chain to form a ring structure having 3 to 10 carbon atoms. And each hydrogen atom of the ring structure is independently a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group, -NRR ', an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a carbon atom. May be substituted with an alkyl group having 1 to 8 atoms,
R and R ′ in the methine chain and the ring structure each independently represent an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. The hydrogen atom in the methine chain and -NRR 'in the ring structure, the aryl group, the arylalkyl group and the alkyl group may be further independently substituted with a hydroxyl group, a halogen atom, a cyano group or -NRR'. And the aryl group in the methine chain and the ring structure, the methylene group in the arylalkyl group and the methylene group in the alkyl group are each independently -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -, - NH -, - CONH -, - NHCO -, - N = CH- or may be replaced by -CH = CH-. )
A、A´が下記条件1又は条件2を満たすものである、請求項1又は3に記載の硬化性組成物。  The curable composition according to claim 1, wherein A and A ′ satisfy the following condition 1 or 2.
条件1:Aが(a)、(b)、(c)、(i)、及び(k)から選ばれる基であり、A’が(a’)、(b’)、(c’)、(i’)、及び(k’)から選ばれる基である。Condition 1: A is a group selected from (a), (b), (c), (i), and (k), and A ′ is (a ′), (b ′), (c ′), And a group selected from (i ') and (k').
条件2:Aが(a)、(b)、(c)、(h)及び(k)から選ばれる基であり、A’がCondition 2: A is a group selected from (a), (b), (c), (h) and (k), and A ′ is
(a’)、(b’)、(c’)、(h’)及び(k’)から選ばれる基であるか、Aが(e)、(l)及び(m)から選ばれる基であり、A’が(e’)、(l’)及び(m’)から選ばれる基である。(A ′), (b ′), (c ′), (h ′) and (k ′), or A is a group selected from (e), (l) and (m) A ′ is a group selected from (e ′), (l ′) and (m ′).
上記カチオン重合性有機物質(B)が、エポキシ化合物、オキセタン化合物及び環状アセタール化合物からなる群から選ばれる一種以上である請求項1〜のいずれか一項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein the cationically polymerizable organic substance (B) is at least one selected from the group consisting of an epoxy compound, an oxetane compound, and a cyclic acetal compound. 上記酸発生剤(C)が、下記一般式(2)〜(4)で表される化合物群より選ばれる一種以上である請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物。
(式中、R21及びR22は、各々独立に、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、R21とR22は、一緒になって炭素原子数2〜7のアルキレン鎖を形成して、それらが結合するSと共に環構造を構成している場合があり、
23及びR24は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、シアノ基又はスルホン基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
Anq’−はq’価のアニオンを表し、q’は1又は2を表し、p’は電荷を中性に保つ係数を表す。)
(式中、R25は、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、水酸基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基を表し、該アルキル基、芳香族基、アリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
26は、水素原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基又は炭素原子数7〜30のアリールアルキル基を表し、該アルキル基、芳香族基及びアリールアルキル基の水素原子は、各々独立に、水酸基、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数6〜20の芳香族基、炭素原子数7〜30のアリールアルキル基、ニトロ基、スルホン基又はシアノ基で置換される場合があり、
27は、構成するメチレン基がハロゲン原子、−O−又は−S−で置換される場合がある、炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、
Anq”−はq”価のアニオンを表し、q”は1又は2を表し、p”は電荷を中性に保つ係数を表す。)
(式中、R61、R62、R63、R64、R65、R66、R67、R68、R69及びR70は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基又は炭素原子数2〜10のエステル基を表し、R71、R72、R73、R74、R75、R76、R77及びR78は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、R84は水素原子又は下記一般式(4A)で示される基を表し、Tは1価の陰イオンを表す。)
(式中、R79、R80、R81、R82及びR83は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基又は炭素原子数2〜10のエステル基を表す。)
The curable composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the acid generator (C) is at least one selected from the group of compounds represented by the following general formulas (2) to (4).
(Wherein, R 21 and R 22 each independently represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms; The hydrogen atoms of the alkyl group, the aromatic group and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, and a carbon atom having 7 to 7 carbon atoms. R 21 and R 22 may together form an alkylene chain of 2 to 7 carbon atoms, which may be substituted by 30 arylalkyl, nitro, sulfone or cyano group. May form a ring structure with S +
R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, nitro Represents a group, a cyano group or a sulfone group, wherein the hydrogen atoms of the alkyl group, the aromatic group and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, An aromatic group of 20, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a nitro group, a sulfone group or a cyano group;
An q′- represents a q′- valent anion, q ′ represents 1 or 2, and p ′ represents a coefficient for keeping a charge neutral. )
(Wherein, R 25 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a hydroxyl group, or a nitro group. , A sulfone group or a cyano group, wherein the hydrogen atoms of the alkyl group, the aromatic group, and the arylalkyl group are each independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a carbon atom having 6 to 20 carbon atoms. An aromatic group, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a nitro group, a sulfone group or a cyano group,
R 26 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms or an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, and the alkyl group, the aromatic group and the aryl The hydrogen atom of the alkyl group is independently a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aromatic group having 6 to 20 carbon atoms, an arylalkyl group having 7 to 30 carbon atoms, or a nitro group. May be substituted with a sulfone group or a cyano group,
R 27 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, in which the constituent methylene group may be substituted with a halogen atom, -O- or -S-,
An q " -represents an anion having a valency of q", q "represents 1 or 2, and p" represents a coefficient for keeping a charge neutral. )
(Wherein, R 61 , R 62 , R 63 , R 64 , R 65 , R 66 , R 67 , R 68 , R 69 and R 70 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a carbon atom number of 1 to Represents an alkyl group having 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or an ester group having 2 to 10 carbon atoms, and R 71 , R 72 , R 73 , R 74 , R 75 , R 76 , R 77 and R 78 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 84 represents a group represented by hydrogen atom or the following general formula (4A), T - represents a monovalent anion Represents an ion.)
(Wherein, R 79 , R 80 , R 81 , R 82 and R 83 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms or Represents an ester group having 2 to 10 carbon atoms.)
さらに有機溶媒を含有する請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 The curable composition according to any one of claims 1 to 6 , further comprising an organic solvent. 請求項に記載の硬化性組成物を基材に塗布した後、活性エネルギー線又は加熱によって硬化させる、硬化性組成物の硬化方法。 A method for curing a curable composition, comprising applying the curable composition according to claim 7 to a substrate and curing the composition with active energy rays or heating. 請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物の硬化物。 A cured product of the curable composition according to any one of claims 1 to 7 . 請求項に記載の硬化物を少なくとも一部に具備してなる波長カットフィルタ。 A wavelength cut filter comprising at least a part of the cured product according to claim 9 .
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