JP6641720B2 - Low reflection sheet - Google Patents

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Description

本発明は、表面に多数の突起部を備える低反射シートに関する。   The present invention relates to a low reflection sheet having a large number of protrusions on a surface.

近年、光の反射を低減させる低反射シートとして、表面に多数の微細凹凸を有するシートが提案されている。微細凹凸を有する低反射シートは、モスアイ構造の原理を利用して、入射光に対する屈折率の急激な変化をなくすことで、物質界面での不連続な屈折率変化に起因する光の反射を抑制し、反射率を低減させる機能を有する。   In recent years, as a low reflection sheet for reducing light reflection, a sheet having a large number of fine irregularities on the surface has been proposed. The low-reflection sheet with fine irregularities uses the moth-eye structure principle to eliminate sudden changes in the refractive index for incident light, thereby suppressing light reflection due to discontinuous changes in the refractive index at the material interface. And has the function of reducing the reflectance.

このような低反射シートは、光透過性、遮光性等の機能に応じて様々な用途に適用されている。
光透過性を有する低反射シートは、例えば画像表示装置の出光面上に配置することで、表示装置の画面における日光等の外光反射を低減し、画像視認性を向上させることができる(特許文献1)。また、低反射シートの微細凹凸が形成された面上に酸化インジウム錫(ITO)等の透明導電層が設けられた透明導電性積層体は、タッチパネルに用いられるタッチパネル電極として用いることで、タッチパネル電極および隣接する各種部材間での光の反射を防止することができる(特許文献2)。
一方、遮光性を有する低反射シートは、例えば合成皮革として用いることで、表面のマット感がより鮮明となり、外観や質感、意匠性を向上させることができる。また、デジタルカメラなどの光学機器用のシャッター羽根表面に上記低反射シートを用いることで、撮像素子への外光照射を抑止することができる。
Such a low reflection sheet is applied to various uses depending on functions such as light transmittance and light blocking properties.
By arranging the light-transmitting low-reflection sheet on, for example, a light-emitting surface of an image display device, reflection of external light such as sunlight on a screen of the display device can be reduced, and image visibility can be improved. Reference 1). In addition, a transparent conductive laminate in which a transparent conductive layer such as indium tin oxide (ITO) is provided on the surface of the low reflection sheet on which the fine irregularities are formed is used as a touch panel electrode used for a touch panel. In addition, it is possible to prevent light reflection between various adjacent members (Patent Document 2).
On the other hand, when a low-reflection sheet having a light-shielding property is used as, for example, synthetic leather, the matte feeling on the surface becomes clearer, and the appearance, texture, and design can be improved. In addition, by using the low-reflection sheet on the surface of a shutter blade for an optical device such as a digital camera, external light irradiation to the image sensor can be suppressed.

特開2014−29366号公報JP 2014-29366 A 特開2001−35261号公報JP 2001-35261 A

しかし、遮光性を有する低反射シートにおいては、十分な反射率低減効果が得られていないという問題があった。   However, a low reflection sheet having a light shielding property has a problem that a sufficient effect of reducing the reflectance has not been obtained.

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、優れた反射率低減効果を発揮することが可能な低反射シートを提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a low reflection sheet capable of exhibiting an excellent effect of reducing reflectance.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、シートの表面に付される凹凸形状を微細化することで反射率低減効果が向上することを見出したが、単に凹凸構造を微細化しただけでは、その効果が十分に発揮されないという問題があることを更に見出した。そして、上記問題が、低反射シートの表面に付される個々の凸部(突起部)および凹部(溝部)の形状および配置の規則性により生じることを知得した。本発明は、このような知得に基づくものである。   The present inventor has conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, has found that the reflectance reduction effect is improved by miniaturizing the uneven shape provided on the surface of the sheet. It has further been found that there is a problem that the effect cannot be sufficiently exhibited only by miniaturization. Then, it has been found that the above problem occurs due to the regularity of the shape and arrangement of the individual projections (projections) and depressions (grooves) provided on the surface of the low reflection sheet. The present invention is based on such knowledge.

すなわち、本発明は、着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の突起部を備える低反射樹脂層を有し、上記突起部の底面の最大径の平均が250nm以上500nm以下の範囲内であり、一の上記突起部および上記一の突起部の底面の中心に最も近接した位置に底面の中心を有する他の上記突起部の中心間距離の平均が400nm以下であり、上記中心間距離の分散が10000以上であり、上記低反射樹脂層の上記突起部を有する面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において上記突起部の底面の中心からの上記突起部の頂部の位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示し、上記突起部の抽出点数をn(n≧30)としたときに、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25の関係を満たすことを特徴とする低反射シートを提供する。 That is, the present invention has a low-reflection resin layer having a large number of protrusions on at least one surface side of the colored base material, and the average of the maximum diameter of the bottom surface of the protrusions is within a range of 250 nm or more and 500 nm or less. The average of the distance between the centers of the other protrusions having the center of the bottom surface at the position closest to the center of the bottom of one of the protrusions and the one protrusion is 400 nm or less; The dispersion is 10,000 or more, and the length direction and the width direction in the plane of the low reflection resin layer having the protrusion are defined in the x-axis direction and the y-axis direction, and the center of the bottom surface of the protrusion in plan view. When the position of the top of the protrusion from the above is indicated by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °), and the number of extraction points of the protrusion is n (n ≧ 30), | Σ (k = 1 to n) cosφ k /n|≦0.25 and | Σ (k = 1 To n) A low reflection sheet characterized by satisfying a relationship of sinφ k /n|≦0.25.

本発明によれば、着色基材の色を呈する低反射シートの表面に、形状および配置位置に所望のばらつきを有する突起部が多数形成されていることから、突起部において光を多数回反射させることができ、また、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。さらに、上記突起部においては、光の多数回反射により低反射樹脂層内に光が吸収されるのに加えて、ミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収も起こるため、反射率を低下させることができる。
このため、本発明の低反射シートは、優れた反射率低減効果を発揮することができる。
According to the present invention, since a large number of projections having a desired variation in shape and arrangement position are formed on the surface of the low reflection sheet exhibiting the color of the colored base material, the projections reflect light many times. In addition, it is possible to prevent the intensity of light of a specific wavelength from increasing due to interference. Furthermore, in the above-mentioned projections, in addition to light being absorbed into the low-reflection resin layer by multiple reflections of light, light absorption into the low-reflection resin layer due to Mie scattering also occurs, thereby lowering the reflectance. Can be done.
Therefore, the low reflection sheet of the present invention can exhibit an excellent effect of reducing reflectance.

上記発明においては、上記着色基材および上記低反射樹脂層が一体化した単一層であることが好ましい。単一層とすることで、製造工程の簡略化や材料費の低減を図ることができるからである。   In the above invention, it is preferable that the coloring base material and the low-reflection resin layer be a single layer integrated. By using a single layer, the manufacturing process can be simplified and the material cost can be reduced.

本発明の低反射シートは、表面に有する多数の突起部について、形状および配置位置に所望のばらつきを付与することで、優れた反射率低減効果を発揮できるという効果を奏する。   The low-reflection sheet of the present invention has an effect that an excellent reflectance-reducing effect can be exerted by imparting a desired variation in the shape and arrangement position of a large number of projections on the surface.

本発明の低反射シートの一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating an example of the low reflection sheet of the present invention. 本発明における低反射樹脂層の一例を示す概略断面拡大図である。FIG. 3 is an enlarged schematic cross-sectional view illustrating an example of a low reflection resin layer in the present invention. 本発明における突起部の頂部の方位角φを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the azimuth (phi) of the top part of the protrusion in this invention. 本発明の低反射シートの一例を示す平面SEM画像である。It is a plane SEM image showing an example of the low reflection sheet of the present invention.

以下、本発明の低反射シートについて詳細に説明する。
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の突起部を備える低反射樹脂層を有し、上記突起部の底面の最大径の平均が250nm以上500nm以下の範囲内であり、一の上記突起部および上記一の突起部の底面の中心に最も近接した位置に底面の中心を有する他の上記突起部の中心間距離(以下、最近接中心間距離と称する場合がある。)の平均が400nm以下であり、上記中心間距離の分散が10000以上であり、上記低反射樹脂層の上記突起部を有する面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において上記突起部の底面の中心からの上記突起部の頂部の位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示し、上記突起部の抽出点数をn(n≧30)としたときに、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25の関係を満たすことを特徴とするものである。
Hereinafter, the low reflection sheet of the present invention will be described in detail.
The low-reflection sheet of the present invention has a low-reflection resin layer having a large number of projections on at least one surface side of the colored base material, and the average of the maximum diameter of the bottom surface of the projections is in a range of 250 nm or more and 500 nm or less. And the center distance between the other protrusions having the center of the bottom surface closest to the center of the bottom surface of the one protrusion and the one protrusion (hereinafter referred to as the closest center distance) Is 400 nm or less, the variance of the center-to-center distance is 10,000 or more, and the length direction and width direction in the plane of the low-reflection resin layer having the protrusions are the x-axis direction and the y-axis direction. The position of the top of the protrusion from the center of the bottom surface of the protrusion in plan view is indicated by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °), and the number of extraction points of the protrusion is n. when (n ≧ 30) and, | Σ (k = 1 n) cosφ k /n|≦0.25, and | is characterized in satisfying the Σ (k = 1~n) relationship sinφ k /n|≦0.25.

本発明の低反射シートについて図面を参照しながら説明する。図1は本発明の低反射シートの一例を示す概略断面図であり、図2は低反射樹脂層の一例を示す概略断面拡大図である。また、図3は本発明における突起部の頂部の方位角φを説明する説明図であり、図3(a)は突起部の側面図、図3(b)は図3(a)のz軸方向から見たときの、すなわち突起部の頂部側からの平面視における突起部の頂部の位置を説明する説明図である。
図1に示すように、本発明の低反射シート10は、着色基材1の少なくとも一方の面側に低反射樹脂層2を有するものである。また、図1および図2に例示するように、低反射樹脂層2の表面のうち、着色基材1と接する面に対向する表面上には、形状および配置位置に所望のばらつきを有する多数の突起部3を備える。
ここで、多数の突起部が有する所望のばらつきとは、3つのパラメータを定量化することで規定される。第1のパラメータは、突起部の大きさによるものである。すなわち、図2に示すように、突起部3の底面の最大径Rの平均が250nm以上500nm以下の範囲内である。
第2のパラメータは、隣接する突起部の位置関係によるものである。すわなち、図2に示すように、一の突起部3Aおよび一の突起部3Aの底面の中心Oに最も近接した位置に底面の中心Oを有する他の突起部3Bの中心間距離Lの平均が400nm以下であり、中心間距離Lの分散が10000以上である。
第3のパラメータは、突起部の頂点が示す方向によるものである。すなわち、図3に示すように、低反射樹脂層2の突起部3を有する面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において突起部3の底面の中心Oからの突起部3の頂部Tの位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示し、突起部3の抽出点数をn(n≧30)としたときに、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25の関係を満たす。
The low reflection sheet of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the low reflection sheet of the present invention, and FIG. 2 is a schematic enlarged sectional view showing an example of the low reflection resin layer. 3A and 3B are explanatory views for explaining the azimuth angle φ of the top of the projection in the present invention. FIG. 3A is a side view of the projection, and FIG. 3B is the z-axis of FIG. It is explanatory drawing explaining the position of the top part of a projection part when it sees from a direction, ie, the planar view from the top part side of a projection part.
As shown in FIG. 1, a low reflection sheet 10 of the present invention has a low reflection resin layer 2 on at least one surface of a colored substrate 1. As illustrated in FIGS. 1 and 2, among the surfaces of the low-reflection resin layer 2, many surfaces having a desired variation in shape and arrangement position are provided on a surface facing a surface in contact with the colored base material 1. A projection 3 is provided.
Here, the desired variation of a large number of protrusions is defined by quantifying three parameters. The first parameter depends on the size of the protrusion. That is, as shown in FIG. 2, the average of the maximum diameter R of the bottom surface of the projection 3 is in the range of 250 nm or more and 500 nm or less.
The second parameter is based on the positional relationship between adjacent protrusions. That is, as shown in FIG. 2, the distance L between the centers of the one projection 3A and the center of the bottom O of the one projection 3A is closest to the center O of the bottom of the other projection 3B. The average is 400 nm or less, and the dispersion of the center-to-center distance L is 10,000 or more.
The third parameter depends on the direction indicated by the vertex of the protrusion. That is, as shown in FIG. 3, the length direction and the width direction in the plane of the low reflection resin layer 2 having the protrusions 3 are defined in the x-axis direction and the y-axis direction, and the bottom surface of the protrusions 3 in plan view. When the position of the top T of the projection 3 from the center O is indicated by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °) and the number of extraction points of the projection 3 is n (n ≧ 30), | Σ ( k = 1 to n) cos φ k /n|≦0.25 and | Σ (k = 1 to n) sin φ k /n|≦0.25.

遮光性を有する従来の低反射シートにおいては、十分な反射率低減効果が得られていないという問題があった。本発明者が上記問題について検討したところ、シートの表面に付される凹凸形状を微細化することで反射率低減効果が向上することを見出した。
しかし、本発明者が上記問題について更に鋭意検討を重ねた結果、以下の理由から単に凹凸形状を微細化しただけでは、反射率低減効果が十分に得られないことを知得した。
すなわち、一般に低反射シートの表面に付される微細凹凸は、個々の凸部(突起部)および凹部(溝部)の形状や配置に規則性を有し、面全体として所望の表面粗さを有するものである。しかし、上記微細凹凸の有する上記規則性によっては、光が干渉し合うことで特定の波長光の強度が強まり、干渉縞が発生する等といった不具合が生じてしまう。このため、上記不具合の発生により反射率低減効果が阻害されるものと推量される。
The conventional low reflection sheet having a light-shielding property has a problem that a sufficient effect of reducing the reflectance has not been obtained. The present inventor has studied the above problem, and found that the effect of reducing the reflectance can be improved by making the irregularities formed on the surface of the sheet finer.
However, as a result of further intense study of the above problem, the present inventors have found that simply reducing the size of the concavo-convex shape does not provide a sufficient effect of reducing the reflectance for the following reasons.
That is, the fine irregularities generally provided on the surface of the low-reflection sheet have regularity in the shape and arrangement of the individual projections (projections) and depressions (grooves), and have a desired surface roughness as a whole surface. Things. However, depending on the regularity of the fine irregularities, the interference of light causes the intensity of light of a specific wavelength to increase, thereby causing problems such as generation of interference fringes. For this reason, it is inferred that the occurrence of the above-mentioned problem hinders the effect of reducing the reflectance.

本発明によれば、着色基材の色を呈する低反射シートの表面には、形状および配置位置に所望のばらつきを有する突起部が多数形成された低反射樹脂層を有することから、上記突起部に入射した光を多数回反射させて低反射樹脂層へ吸収させることができ、反射率を低下させることができる。
また、多数の突起部が所望のばらつきを有することで、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。
さらに、多数の突起部が所望のばらつきを有することで、上記突起部、中でも突起部の頂部においては、多数回反射により低反射樹脂層へ光が吸収されるのに加えて、突起部の形状により光をミー散乱させることで、低反射樹脂層への光の吸収量をさらに増加させることができ、反射率をより低減させることが可能となる。これは、ミー散乱が「前方散乱が強い」、「波長依存性が小さい」といった特長を有することによるものである。
すなわち、ミー散乱は前方散乱が強いため、突起部に入射した光は低反射樹脂層内で散乱されることとなり、散乱光を低反射樹脂層へ吸収させることができるからである。また、ミー散乱は波長依存性が小さいため、可視光領域380nm〜780nmの全域の光を散乱させ、その散乱光を低反射樹脂層に吸収させることが可能となるからである。
これにより、本発明の低反射シートは優れた反射率低減効果を発揮することができる。
According to the present invention, since the surface of the low-reflection sheet exhibiting the color of the colored base material has the low-reflection resin layer in which a large number of protrusions having a desired variation in shape and arrangement position are formed, Can be reflected many times and absorbed by the low-reflection resin layer, and the reflectance can be reduced.
In addition, since a large number of protrusions have a desired variation, it is possible to suppress an increase in intensity of light of a specific wavelength due to interference.
In addition, since a large number of projections have a desired variation, in addition to the fact that light is absorbed into the low-reflection resin layer by multiple reflections at the top of the projections, especially at the tops of the projections, the shape of the projections The Mie scattering of the light can further increase the amount of light absorbed by the low-reflection resin layer, and the reflectance can be further reduced. This is because Mie scattering has features such as "strong forward scattering" and "small wavelength dependence".
That is, since the Mie scattering has strong forward scattering, light incident on the protrusions is scattered in the low-reflection resin layer, and the scattered light can be absorbed by the low-reflection resin layer. In addition, since Mie scattering has a small wavelength dependency, light in the entire visible light region of 380 nm to 780 nm is scattered, and the scattered light can be absorbed by the low reflection resin layer.
Thereby, the low reflection sheet of the present invention can exhibit an excellent reflectance reduction effect.

以下、本発明の低反射シートにおける各構成について説明する。   Hereinafter, each configuration of the low reflection sheet of the present invention will be described.

A.低反射樹脂層
本発明における低反射樹脂層は、着色基材の少なくとも一方の面側に有し、多数の突起部を備えるものである。
また、低反射樹脂層が備える突起部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものである。
A. Low-reflection resin layer The low-reflection resin layer according to the invention is provided on at least one surface side of the colored base material and has a large number of projections.
Further, the projections provided in the low-reflection resin layer have a desired variation in shape and arrangement position.

1.突起部
突起部は、その形状および配置位置に所望のばらつきを有するものであり、多数の突起部が有するばらつきの程度により、本発明の低反射シートの反射率低減効果が決定される。
ここで、突起部の形状および配置位置のばらつきは、突起部の大きさ、隣接する突起部の位置関係、突起部の頂点が示す方向の3つのパラメータを定量化することで規定される。
以下、各パラメータの定量化方法、および上記定量化方法により規定される各パラメータについて説明する。
1. Projection The projection has a desired variation in its shape and arrangement position, and the degree of variation of a large number of projections determines the effect of reducing the reflectance of the low reflection sheet of the present invention.
Here, the variation in the shape and the arrangement position of the protrusion is defined by quantifying three parameters of the size of the protrusion, the positional relationship between the adjacent protrusions, and the direction indicated by the vertex of the protrusion.
Hereinafter, the quantification method of each parameter and each parameter defined by the quantification method will be described.

(1)パラメータの定量化方法
本発明における突起部の形状および配置位置のばらつきは、低反射樹脂層上に備わる多数の突起部のうち、所望の点数を抽出して算出され、定量化される。
突起部の抽出は、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)や原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)等を用い、倍率10000倍、視野範囲を縦4μm×横4μmとして低反射シートの突起部を有する面側から平面視観察を行い、上記視野範囲における突起部の面内配列を画像で検出し、その中から所望の点数を抽出する方法を用いる。
(1) Parameter Quantification Method Variations in the shapes and arrangement positions of the protrusions in the present invention are calculated by extracting a desired number of points from a large number of protrusions provided on the low-reflection resin layer and quantified. .
The projections were extracted using a scanning electron microscope (SEM) or an atomic force microscope (AFM) at a magnification of 10,000 times and a visual field range of 4 μm × 4 μm. A method is used in which planar observation is performed from the surface side having the projections, an in-plane arrangement of the projections in the visual field range is detected by an image, and a desired score is extracted therefrom.

本発明における各パラメータは、1つの視野範囲あたりの突起部の最低抽出点数を30点として算出したものである。突起部の抽出点数は多いほど好ましく、抽出点数は30点以上、中でも50点以上であることが好ましい。また、突起部の抽出を行うための上記視野範囲の検出数は、低反射シートの突起部を備える面の所望の単位面積(2500mm)当たり3箇所以上、中でも5箇所以上、特に10箇所以上であることが好ましい。
抽出点数および視野範囲の検出数を上記範囲で規定することで、3つのパラメータをより高い精度で定量化することができ、突起部の形状および配置位置のばらつきを正確に規定することができるからである。
Each parameter in the present invention is calculated by assuming that the minimum number of extraction points of a projection per one visual field range is 30 points. It is preferable that the number of extraction points of the protrusions is large, and the number of extraction points is preferably 30 or more, and more preferably 50 or more. In addition, the number of detections of the visual field range for extracting the protrusions is 3 or more, preferably 5 or more, particularly 10 or more per desired unit area (2500 mm 2 ) of the surface of the low reflection sheet provided with the protrusions. It is preferred that
By defining the number of extraction points and the number of detections of the visual field range in the above ranges, the three parameters can be quantified with higher accuracy, and the variation in the shape and arrangement position of the protrusion can be accurately defined. It is.

各パラメータは、以下の(a)〜(f)の手順により定量化される。
(a)まず、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)や原子間力顕微鏡(Atomic Force Microscope:AFM)を用いて突起部の面内配列を検出する。検出された面内配列から、所望の点数の突起部を抽出し、各突起部の高さの極大点および極小点を検出する。なお、極大点および極小点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって求める方法等、種々の手法を適用することができる。このとき得られた極大点を「突起部の頂部」と定義する。
Each parameter is quantified by the following procedures (a) to (f).
(A) First, an in-plane arrangement of protrusions is detected using a scanning electron microscope (SEM) or an atomic force microscope (AFM). A desired number of protrusions is extracted from the detected in-plane arrangement, and the maximum point and the minimum point of the height of each protrusion are detected. Various methods such as a method of successively comparing the enlarged shape photograph of the corresponding cross-sectional shape with a plan view shape and a method of obtaining the image by processing the enlarged plan view photograph are applied as a method of finding the maximum point and the minimum point. can do. The maximum point obtained at this time is defined as “the top of the protrusion”.

(b)SEM画像やAFM画像から、極大点を囲む極小点の集合を突起部の根元とし、根元の形状を決定するために上記根元の形状を多角形や円形に近似する。根元の形状とは、根元の輪郭の平面視形状(輪郭形状)であり、上記輪郭により囲まれた領域である。近似の際、部分的に途切れている線は補完する。補完する方法は、ある閾値を設けて、閉空間を作る方法を取る。近似された根元の輪郭形状としては、各パラメータを特定可能な形状であれば特に限定されるものではなく、例えば円、楕円等の丸形状、五角形、六角形、八角形、十二角形等の多角形状等とすることができる。
根元の形状の近似は、画像から形状を近似する際に用いられる従来公知の方法を適用することができ、上記方法については特に限定されないが、具体的な方法としては、例えば、テンプレートマッチング、一般化ハフ変換、Douglas-Peucker法等の方法を用いることができる。
テンプレートマッチングは、予め形状を表現したテンプレートを準備し、画像認識の対象となる画像データに対してテンプレートを移動させながら相関係数等の類似度の指標を調べることによって画像データに含まれる形状を認識する技術である。テンプレートマッチングによる画像近似手法については、例えば、「中田崇行、包躍、藤原直史:“三次元環境におけるLog-Polar変換を用いた図形認識”,電気情報通信学会論文誌(D-II), Vol.88, No.6, pp.985-993(2005.6)」、「斎藤文彦:“部分ランダム探索と適応型探索による半導体チップ画像テンプレートマッチング”, 精密工学会誌, Vol.61, No.11, pp.1604-1608(1995.11)」に開示される。
また、一般化ハフ変換は、無限に存在する直線の中から画像データ内の特徴点を最も多く通る直線を決定するハフ変換を一般化して曲線に応用したものであり、この一般化ハフ変換によっても、事前に用意した参照用のテーブルを利用して画像データの形状認識を行うことができる。一般化ハフ変換による画像近似手法については、例えば、「Ballad,D.H.: “GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES”, Pattern Recognition, Vol.13, No.2, pp.111-122(1981)」や、「木村彰男,渡辺孝志:“アフィン変換に不変な任意図形検出法として拡張された一般化ハフ変換”, 電気情報通信学会誌(D-II), Vol. J84-D-II, No. 5, pp.789-798(2001.5)」に開示される。
Douglas-Peucker法は、折れ線近似によって形状認識を行う手法である。Douglas-Peucker法による画像近似手法については、例えば、「Wu, S.T, M.R.G:“A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp.60-66(2003)」に開示される。
得られた多角形等の近似形状を「突起部の底面の形状」と定義する。また、以下の方法により特定される、突起部の底面の最も幅広の部分の長さを、「突起部の底面の最大径(以下、単に最大径とする場合がある。)」とし、上記最大径の中心を「突起部の底面の中心(以下、単に中心とする場合がある。)と定義する。
(c)突起部の底面の形状から、突起部の底面の中心を特定する。突起部の底面の中心は、一般的な線形代数の計算で求めることができる。例えば、突起部の底面の形状が正円である場合、円周上の3点を結ぶ三角形を描き、三角形のうち二辺の垂直2等分線をそれぞれ引いた交点を円の中心とすることができる。また、突起部の底面の形状が楕円である場合、楕円の外周上の2点を結ぶ2本の線分を平行となるように引き、平行する2本の線分の各中点を結び、結んだ線分の中点を中心とすることができる。
さらに突起部の底面の形状が多角形である場合、突起部の底面の中心は、以下の方法で算出できる。
(i)まず、多角形の1つの頂点から、上記1つの頂点に隣接する2つの頂点を除く他の各頂点へ対角線を結び、複数の三角形に分割する。
(ii)分割された各三角形の重心を求める。
(iii)次に、各三角形の重心を結び多角形を形成する。
(iv)突起部の底面の形状が奇数角形の場合、(iii)において形成される多角形が三角形となるまで、(i)〜(iii)の操作を繰り返す。一方、突起部の底面の形状が偶数角形の場合、(iii)において形成される多角形が四角形となるまで、(i)〜(iii)の操作を繰り返す。
(v)上述の(i)〜(iv)の操作により、分割された各三角形の重心から形成された形状が三角形となる場合、上記三角形の重心が突起部の底面の中心(重心)となる。
一方、上述の(i)〜(iv)の操作により、分割された各三角形の重心から形成された形状が四角形となる場合、以下の方法で上記四角形の重心を求める。まず、上記四角形を1つの対角線で2つの三角形に分割し、2つの三角形の各重心を求め、2つの重心を直線で結ぶ。次に、四角形を別の対角線で2つの三角形に分割して2つの三角形の各重心を求め、2つの重心を直線で結ぶ。2本の直線の交点が突起部の底面の中心(重心)となる。
(B) From the SEM image and the AFM image, a set of minimum points surrounding the maximum point is set as the root of the projection, and the root shape is approximated to a polygon or a circle in order to determine the root shape. The root shape is a planar shape (contour shape) of the root contour, and is a region surrounded by the contour. In the approximation, partially broken lines are complemented. As a complementing method, a method of creating a closed space by setting a certain threshold value is used. The contour shape of the approximated root is not particularly limited as long as each parameter can be specified.For example, a circle, a circle such as an ellipse, a pentagon, a hexagon, an octagon, a dodecagon, etc. It can be polygonal or the like.
For approximation of the root shape, a conventionally known method used when approximating a shape from an image can be applied, and the above method is not particularly limited. Specific methods include, for example, template matching, general Hough transform, Douglas-Peucker method and the like can be used.
In template matching, a template representing a shape is prepared in advance, and a shape included in the image data is determined by examining a similarity index such as a correlation coefficient while moving the template with respect to image data to be subjected to image recognition. It is a technology to recognize. For an image approximation method using template matching, see, for example, "Takayuki Nakata, Bakuro, Naofumi Fujiwara:" Figure Recognition Using Log-Polar Transformation in 3D Environment ", IEICE Transactions on Electronics (D-II), Vol. .88, No.6, pp.985-993 (2005.6), "Fumihiko Saito:" Semiconductor Chip Image Template Matching by Partial Random Search and Adaptive Search ", Journal of the Japan Society of Precision Engineering, Vol.61, No.11, pp. .1604-1608 (1995.11). "
The generalized Hough transform is a generalization of a Hough transform that determines a straight line that passes through the feature points in image data most from infinitely existing straight lines and is applied to a curve. Also, it is possible to perform shape recognition of image data using a reference table prepared in advance. The image approximation method using the generalized Hough transform is described in, for example, "Ballad, DH:" GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES ", Pattern Recognition, Vol. 13, No. 2, pp. 111-122 (1981)" , “Akio Kimura, Takashi Watanabe:“ Generalized Huff Transform extended as an arbitrary figure detection method invariant to affine transformation ”, IEICE (D-II), Vol. J84-D-II, No. 5 , pp. 789-798 (2001.5) ".
The Douglas-Peucker method is a method for performing shape recognition by broken line approximation. Regarding the image approximation method by the Douglas-Peucker method, for example, “Wu, ST, MRG:“ A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm ”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp.60 -66 (2003) ".
The obtained approximate shape such as a polygon is defined as “the shape of the bottom surface of the projection”. Further, the length of the widest part of the bottom surface of the protrusion, which is specified by the following method, is referred to as “the maximum diameter of the bottom surface of the protrusion (hereinafter, may be simply referred to as the maximum diameter)”, and The center of the diameter is defined as "the center of the bottom surface of the protrusion (hereinafter, simply referred to as the center)."
(C) Specify the center of the bottom surface of the projection from the shape of the bottom surface of the projection. The center of the bottom surface of the protrusion can be obtained by general linear algebra calculation. For example, if the shape of the bottom surface of the projection is a perfect circle, draw a triangle that connects three points on the circumference, and set the intersection of two perpendicular bisectors of the two sides of the triangle as the center of the circle. Can be. Further, when the shape of the bottom surface of the protrusion is an ellipse, two line segments connecting two points on the outer periphery of the ellipse are drawn so as to be parallel, and each midpoint of the two parallel line segments is connected, The center of the connected line segment can be set as the center.
Further, when the shape of the bottom surface of the projection is polygonal, the center of the bottom of the projection can be calculated by the following method.
(I) First, a diagonal line is connected from one vertex of the polygon to each of the other vertices except for the two vertices adjacent to the one vertex, and the polygon is divided into a plurality of triangles.
(Ii) Find the center of gravity of each divided triangle.
(Iii) Next, the center of gravity of each triangle is connected to form a polygon.
(Iv) When the shape of the bottom surface of the protrusion is an odd-numbered polygon, the operations (i) to (iii) are repeated until the polygon formed in (iii) becomes a triangle. On the other hand, when the shape of the bottom surface of the projection is an even-numbered polygon, the operations (i) to (iii) are repeated until the polygon formed in (iii) becomes a quadrangle.
(V) When the shape formed from the center of gravity of each divided triangle becomes a triangle by the above-described operations (i) to (iv), the center of gravity of the triangle becomes the center (center of gravity) of the bottom surface of the protrusion. .
On the other hand, when the shape formed from the center of gravity of each of the divided triangles becomes a quadrangle by the above-described operations (i) to (iv), the center of gravity of the quadrangle is obtained by the following method. First, the quadrangle is divided into two triangles by one diagonal line, the respective centers of gravity of the two triangles are obtained, and the two centers of gravity are connected by a straight line. Next, the quadrangle is divided into two triangles by another diagonal line, and the respective centers of gravity of the two triangles are obtained, and the two centers of gravity are connected by a straight line. The intersection of the two straight lines is the center (center of gravity) of the bottom surface of the projection.

(d)突起部の底面の最大径により突起部の大きさを規定する。突起部の底面の最大径の長さの決定は、SEM画像やAFM画像のスケールのピクセルサイズとピクセル数との対比から算出する。上記最大径は、突起部の底面の形状において最も幅広の部分であり、上記底面の中心を通り上記底面の形状の外周上の2点を結ぶ線分の長さのうち、最も幅広の線分をいう。具体的には、底面の形状が正円の場合では、上記最大径とは正円の直径をいい、底面の形状が楕円の場合では、上記最大幅とは楕円の中心を通過して外周上の2点間を結ぶ線分のうち、最も長い線分をいう。また、底面の形状が多角形の場合では、上記最大径とは、多角形の中心を通過して多角形の外周上の2点間を結ぶ線分のうち、最も長い線分をいう。
算出した最大径を統計処理することで、突起部の底面の最大径の平均値および分散を求める。統計処理には既存の表計算ソフトを使用する。なお、上記最大径の平均値および分散を求める際には、外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が3以上をいう。
標準化得点=(個々の突起部の最大径−最大径の平均値)/標準偏差
(D) The size of the projection is defined by the maximum diameter of the bottom surface of the projection. The length of the maximum diameter of the bottom surface of the projection is determined from the comparison between the pixel size and the number of pixels in the scale of the SEM image or the AFM image. The maximum diameter is the widest part in the shape of the bottom surface of the protrusion, and is the widest line segment among the lengths of line segments passing through the center of the bottom surface and connecting two points on the outer periphery of the shape of the bottom surface. Say. Specifically, when the shape of the bottom surface is a perfect circle, the maximum diameter refers to the diameter of the perfect circle, and when the shape of the bottom surface is an ellipse, the maximum width passes through the center of the ellipse and Means the longest line segment among the line segments connecting the two points. When the shape of the bottom surface is a polygon, the maximum diameter refers to the longest line segment among the line segments passing through the center of the polygon and connecting two points on the outer periphery of the polygon.
By performing statistical processing on the calculated maximum diameter, an average value and a variance of the maximum diameter of the bottom surface of the protrusion are obtained. The existing spreadsheet software is used for statistical processing. When calculating the average value and the variance of the maximum diameter, it is desirable to exclude outliers. The outlier means that the absolute value of the standardized score calculated by the following formula is 3 or more.
Standardized score = (maximum diameter of individual projections-average of maximum diameter) / standard deviation

(e)次に、各突起部の位置を座標化する。突起部の位置とは、「突起部の底面の中心の位置」を意味する。
まず、SEM画像やAFM画像内の所望の位置に原点を設定する。例えば、SEM画像やAFM画像中の左下を原点とする。次に、上記原点から上記画像内において低反射シートのシート面、すなわち低反射樹脂層の突起部を有する面内の長さ方向に相当する一方向をx軸、幅方向に相当する一方向をy軸と規定する。このように画像を座標平面とすることで、各突起部の位置を座標化することができる。
突起部の位置の座標から、特定の一の突起部と隣接する複数の突起部との突起部間の距離、すなわち中心間距離を算出する。中心間距離は以下の計算式によって算出され、算出される中心間距離のうち、最小の距離が「最近接中心間距離」と定義される。
中心間距離={(x−x+(y−y1/2
なお、式中のxおよびyは、特定の一の突起部の位置を示すx座標およびy座標である。また、xおよびyは、上記特定の一の突起部に隣接する突起部の位置を示すx座標およびy座標である。
上記中心間距離は、SEM画像またはAFM画像のスケールのピクセルサイズとピクセル数との対比から算出する。
上記の方法で各突起部の最近接中心間距離を抽出し、既存の表計算ソフトで統計処理することにより、最近接中心間距離の平均値および分散を計算する。なお、最近接中心間距離の平均値および分散を求める際には外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が3以上をいう。
標準化得点=(個々の突起部の最近接中心間距離−最近接中心間距離の平均値)/標準偏差
(E) Next, the position of each projection is converted into coordinates. The position of the projection means “the position of the center of the bottom surface of the projection”.
First, the origin is set at a desired position in the SEM image or the AFM image. For example, the lower left in the SEM image or the AFM image is set as the origin. Next, from the origin, the sheet surface of the low-reflection sheet in the image, that is, one direction corresponding to the length direction in the surface having the protrusions of the low-reflection resin layer is defined as the x-axis, and one direction corresponding to the width direction. Defined as the y-axis. By using an image as a coordinate plane in this way, the position of each projection can be converted to coordinates.
From the coordinates of the positions of the protrusions, the distance between the protrusions of one specific protrusion and a plurality of adjacent protrusions, that is, the center-to-center distance is calculated. The center-to-center distance is calculated by the following formula, and the minimum distance among the calculated center-to-center distances is defined as “nearest center-to-center distance”.
Center-to-center distance = {(x 1 −x 2 ) 2 + (y 1 −y 2 ) 2 } 1/2 }
Note that x 1 and y 1 in the formula are an x coordinate and ay coordinate indicating the position of a specific one protrusion. Further, x 2 and y 2 are the x and y coordinates indicate the position of protrusions adjacent to the protruding portion of the one particular.
The center-to-center distance is calculated from a comparison between the pixel size of the scale of the SEM image or the AFM image and the number of pixels.
The average value and the variance of the closest center distances are calculated by extracting the closest center distances of the respective protrusions by the above-described method and performing statistical processing with existing spreadsheet software. When calculating the average value and the variance of the closest center-to-center distance, it is desirable to exclude outliers. The outlier means that the absolute value of the standardized score calculated by the following formula is 3 or more.
Standardized score = (distance between closest centers of individual protrusions−average value of distance between closest centers) / standard deviation

(f)次に、突起部の底面の中心から頂部の位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示すことにより、突起部の頂点が示す方向を規定する。方位角φは、突起部の位置を座標化した際に設定した座標平面の平面視上において、x軸に対して突起部の中心および頂部を結ぶ辺が成す角度で規定される。
抽出した各突起部について方位角φを決定し、突起部の各方位角φのcos値の和を抽出点数で割った値の絶対値、および各方位角φのsin値の和を抽出点数で割った値の絶対値を算出する。この算出は既存の表計算ソフトを使用する。
(F) Next, the position of the top from the center of the bottom surface of the projection is indicated by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °), thereby defining the direction indicated by the vertex of the projection. The azimuth angle φ is defined by an angle formed by a side connecting the center and the top of the projection with respect to the x-axis in a plan view of a coordinate plane set when the position of the projection is coordinated.
The azimuth angle φ is determined for each of the extracted protrusions, the absolute value of the value obtained by dividing the sum of the cos values of the respective azimuth angles φ of the protrusions by the number of extraction points, and the sum of the sin values of the respective azimuth angles φ by the number of extraction points Calculate the absolute value of the divided value. This calculation uses existing spreadsheet software.

突起部の底面の「中心」および「最大径」は、上述の規定方法により規定されることから、近似された上記底面の形状に応じて「中心」を「重心」と言い換えることができ、また、「最大径」を「最大幅」と言い換えることができる。
同様に、隣接する突起部の「最近接中心間距離」を「最近接重心間距離」と言い換えることができ、方位角φを定義する「突起部の底面の中心からの上記突起部の頂部の位置」を、「突起部の底面の重心からの上記突起部の頂部の位置」と言い換えることができる。
すなわち、上記突起部の底面は、上記底面の重心を通る最大幅の平均が250nm以上500nm以下の範囲内であり、一の上記突起部と、上記一の突起部の底面の重心に最も近接した位置に底面の重心を有する他の上記突起部と、の重心間距離の平均が400nm以下であり、上記重心間距離の分散が10000以上であり、上記低反射樹脂層の上記突起部を有する面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において上記突起部の底面の重心からの上記突起部の頂部の位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示し、上記突起部の抽出点数をn(n≧30)としたときに、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25の関係を満たす。
Since the `` center '' and `` maximum diameter '' of the bottom surface of the projection are defined by the above-described method, the `` center '' can be rephrased as `` center of gravity '' according to the approximate shape of the bottom surface, , "Maximum diameter" can be rephrased as "maximum width".
Similarly, the “distance between closest centers” of adjacent protrusions can be rephrased as “distance between closest centers of gravity”, and the azimuth φ is defined as “the top of the protrusion from the center of the bottom surface of the protrusion. The “position” can be rephrased as “the position of the top of the projection from the center of gravity of the bottom of the projection”.
That is, the bottom surface of the protrusion has an average maximum width passing through the center of gravity of the bottom within the range of 250 nm or more and 500 nm or less, and is closest to the center of gravity of the one protrusion and the bottom of the one protrusion. The surface having the center of gravity between the other protrusions having the center of gravity of the bottom surface at the position is 400 nm or less, the dispersion of the distance between the centers of gravity is 10,000 or more, and the surface of the low reflection resin layer having the protrusions. The length direction and the width direction are defined by the x-axis direction and the y-axis direction, and the position of the top of the projection from the center of gravity of the bottom surface of the projection is defined by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ < 360 °) and when the number of extraction points of the protrusion is n (n ≧ 30), | Σ (k = 1 to n) cosφ k /n|≦0.25 and | Σ (k = 1 ~ N ) Satisfies the relationship sinφk / n | 0.25.

各パラメータの定量化において算出される分散の値は、一般に平均値から算出される値、すなわち測定値と測定値の平均値との差の二乗平均の和を抽出点数で割ることで算出される値である。   The value of the variance calculated in the quantification of each parameter is generally calculated by dividing the value calculated from the average value, that is, the sum of the root-mean-square differences between the measured value and the average value of the measured values, by the number of extraction points. Value.

(2)パラメータ
次に、本発明における突起部の形状および配置位置のばらつきを規定する各パラメータについて説明する。
(2) Parameters Next, parameters that define variations in the shapes and arrangement positions of the protrusions in the present invention will be described.

(a)突起部の大きさ
突起部の大きさとは、突起部の底面の最大径(最大幅)をいい、図2および図4(a)においてRで示す部分である。なお、図4は本発明の低反射シートにおける突起部を有する表面の平面SEM画像であり、図4(a)中のTは突起部の頂部を示す。
(A) Size of Projection The size of the projection refers to the maximum diameter (maximum width) of the bottom surface of the projection, and is a portion indicated by R in FIGS. 2 and 4A. FIG. 4 is a planar SEM image of the surface of the low reflection sheet according to the present invention having a projection, and T in FIG. 4A indicates the top of the projection.

本発明においては、突起部の底面の最大径の平均は250nm以上500nm以下の範囲内であればよく、中でも300nm以上400nm以下の範囲内であることが好ましい。突起部の底面の最大径の平均が上記範囲よりも大きいと、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなり、所望の反射率低減効果が得られない場合があるからである。これは、球形粒子では幾何光学散乱が支配する直径は数μm以上であるが、突起形状での散乱は異なる挙動を示し、本発明においては、突起部の底面が上記範囲内に最大径を有する形状である場合に、ミー散乱が支配的になると推測されるからである。
また、低反射樹脂層の単位面積あたりの突起部の個数が減少するため多数回反射が生じにくくなり、反射率を低減させることが困難となる場合があるからである。
一方、突起部の底面の最大径の平均が上記範囲よりも小さいと、レイリー散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる場合があるからである。
In the present invention, the average of the maximum diameters of the bottom surfaces of the protrusions may be in the range of 250 nm or more and 500 nm or less, and particularly preferably in the range of 300 nm or more and 400 nm or less. If the average of the maximum diameters of the bottom surfaces of the protrusions is larger than the above range, geometric optical scattering becomes more dominant than Mie scattering, so that forward scattering is less likely to occur, and light absorption to the low-reflection resin layer is reduced. This is because a desired reflectance reduction effect may not be obtained. This is because, in spherical particles, the diameter governed by geometrical optical scattering is several μm or more, but the scattering in the projection shape shows different behavior, and in the present invention, the bottom surface of the projection has the maximum diameter in the above range. This is because it is assumed that Mie scattering becomes dominant in the case of a shape.
Further, the number of projections per unit area of the low-reflection resin layer is reduced, so that it is difficult for reflection to occur many times, and it may be difficult to reduce the reflectance.
On the other hand, if the average of the maximum diameters of the bottom surfaces of the projections is smaller than the above range, Rayleigh scattering becomes dominant, so that forward scattering is unlikely to occur, and light absorption to the low-reflection resin layer may be reduced. Because.

突起部の底面の最大径の平均が上記範囲内にあるとき、上記突起部の底面の最大径の分散としては、10000以上であることが好ましい。干渉によって特定の波長の光の強度が強まる不具合を抑制できるためである。上記分散の上限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば18000以下であることが好ましい。
突起部の底面の最大径の分散の単位はnmとなる。
When the average of the maximum diameter of the bottom surface of the projection is within the above range, the dispersion of the maximum diameter of the bottom surface of the projection is preferably 10,000 or more. This is because it is possible to suppress a problem that the intensity of light of a specific wavelength is increased by interference. The upper limit of the dispersion is not particularly limited, and can be set in a range that can be designed for manufacturing, and is preferably, for example, 18000 or less.
The unit of dispersion of the maximum diameter of the bottom surface of the protrusion is nm 2 .

(b)隣接する突起部の位置関係
突起部の位置とは、突起部の底面の中心(重心)の位置をいう。すなわち突起部の底面の最大径(最大幅)の中心の位置をいい、図2、図3においてOで示す部分である。
本発明においては、隣接する突起部の位置関係は、一の突起部および上記一の突起部の底面の中心(重心)に最も近接した位置に底面の中心(重心)を有する他の突起部の中心(重心)間距離の平均により規定される。
(B) Positional relationship between adjacent protrusions The position of the protrusion refers to the position of the center (center of gravity) of the bottom surface of the protrusion. That is, it refers to the position of the center of the maximum diameter (maximum width) of the bottom surface of the projection, and is the portion indicated by O in FIGS.
In the present invention, the positional relationship between adjacent protrusions is determined by determining the position of one protrusion and the center of the bottom (center of gravity) closest to the center (center of gravity) of the bottom of the one protrusion. It is defined by the average of the distance between the centers (centroids).

ここで、最近接中心間距離は先に説明した方法で算出され定量化されるが、さらに図を示して説明する。すなわち、図4(b)で示すように、突起部3Aに隣接する突起部のうち、突起部3Aの中心Oと最も近い位置に中心Oを有する突起部3Bを抽出し、その中心間距離L1を最近接中心間距離として算出する。次に、突起部3Bに隣接する突起部のうち、突起部3Bの中心と最も近い位置に中心Oを有する突起部3Cを抽出し、その中心間距離L2を最近接中心間距離として算出する。
最近接中心間距離の平均とは、上記操作を繰り返し行い、突起部の抽出点数分の最近接中心間距離の総和を算出し、抽出点数で割ることで算出される。
Here, the closest center-to-center distance is calculated and quantified by the method described above, and will be described with reference to the drawings. That is, as shown in FIG. 4B, a protrusion 3B having a center O at a position closest to the center O of the protrusion 3A is extracted from the protrusions adjacent to the protrusion 3A, and the distance L1 between the centers is extracted. Is calculated as the closest center-to-center distance. Next, among the protrusions adjacent to the protrusion 3B, the protrusion 3C having the center O at the position closest to the center of the protrusion 3B is extracted, and the center distance L2 is calculated as the closest center distance.
The average of the closest center-to-center distances is calculated by repeating the above operation, calculating the total sum of the closest center-to-center distances for the number of extraction points of the protrusion, and dividing the sum by the number of extraction points.

本発明においては、最近接中心間距離の平均が400nm以下であればよく、中でも360nm以下、特に350nm以下であることが好ましい。最近接中心間距離の平均が上記範囲よりも大きいと、隣接する突起部が密接しておらず、突起部が形成されない平坦な領域(以下、非突起部領域と称する場合がある。)が多く存在することとなり、非突起部領域において生じる光の反射により、反射率低減効果が低下する場合がある。
最近接中心間距離の平均の下限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば280nm以上であることが好ましい。
In the present invention, the average of the closest center-to-center distances may be 400 nm or less, and particularly preferably 360 nm or less, particularly preferably 350 nm or less. If the average of the closest center-to-center distances is larger than the above range, adjacent projections are not in close contact, and there are many flat areas where no projections are formed (hereinafter, sometimes referred to as non-projection areas). As a result, the reflectance reduction effect may be reduced due to the reflection of light generated in the non-projection region.
The lower limit of the average of the closest center-to-center distances is not particularly limited, and can be set within a range that can be designed for manufacturing, and is preferably, for example, 280 nm or more.

また、最近接中心間距離の平均が上記範囲内にあるときの上記最近接中心間距離の分散は、10000以上であればよく、中でも11000以上、特に12000以上であることが好ましい。最近接中心間距離の分散が上記範囲よりも小さいと、多数の突起部が均等なピッチ幅で配置されることとなり、干渉によって特定の波長の光の強度が強まり、所望の反射率低減効果が発揮されにくい場合があるからである。
上記分散の上限については特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば14000以下であることが好ましい。
なお、最近接中心間距離の分散の単位はnmとなる。
Further, when the average of the closest center-to-center distances is within the above range, the dispersion of the closest center-to-center distances may be 10,000 or more, preferably 11,000 or more, particularly preferably 12,000 or more. If the variance of the distance between the nearest centers is smaller than the above range, a large number of protrusions will be arranged at a uniform pitch width, and the intensity of light of a specific wavelength will increase due to interference, and the desired reflectance reduction effect will be obtained. This is because it may be difficult to exhibit.
The upper limit of the dispersion is not particularly limited, and can be set within a range that can be designed for manufacturing, and is preferably, for example, 14,000 or less.
The unit of dispersion of the distance between the closest centers is nm 2 .

(c)突起部の頂点が示す方向
突起部の頂点が示す方向とは、低反射樹脂層の表面において、突起部の底面の中心(重心)に対して突起部の頂点が位置する方向をいう。
すなわち、図3に示すように、低反射樹脂層の面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において突起部の底面の中心Oからの突起部の頂部Tの位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示すことにより、突起部の頂点が示す方向が規定される。方位角φは、先に説明した方法により規定される。
(C) The direction indicated by the apex of the protrusion The direction indicated by the apex of the protrusion refers to the direction in which the apex of the protrusion is located with respect to the center (center of gravity) of the bottom surface of the protrusion on the surface of the low-reflection resin layer. .
That is, as shown in FIG. 3, the length direction and the width direction in the plane of the low-reflection resin layer are defined in the x-axis direction and the y-axis direction, and the projection from the center O of the bottom surface of the projection in plan view. Is indicated by the azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °), the direction indicated by the apex of the protrusion is defined. The azimuth angle φ is defined by the method described above.

本発明においては、低反射樹脂層の面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向と規定し、平面視上における上記突起部の頂部の位置を方位角φで示し、上記突起部の抽出点数をn(n≧30)としたとき、突起部の各方位角φのcos値の和を抽出点数で割った値の絶対値(すなわち|Σ(k=1〜n)cosφ/n|)、および各方位角φのsin値の和を抽出点数で割った値の絶対値(すなわち|Σ(k=1〜n)sinφ/n|)の値により、突起部のばらつきを規定することが可能である。 In the present invention, the in-plane length direction and width direction of the low-reflection resin layer are defined as the x-axis direction and the y-axis direction, and the position of the top of the projection in plan view is indicated by an azimuth angle φ. Assuming that the number of extraction points of the protrusion is n (n ≧ 30), the absolute value of the value obtained by dividing the sum of the cos values of the respective azimuth angles φ of the protrusion by the number of extraction points (that is, | Σ (k = 1 to n) cos φ k / n |) and the absolute value of the value obtained by dividing the sum of the sin values of each azimuth angle φ by the number of extraction points (that is, | Σ (k = 1 to n) sinφ k / n |), Variations can be defined.

ここで、複数の突起部の頂点が一定の同じ方向を向いて配置される場合、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|および|Σ(k=1〜n)sinφ/n|の値は大きくなる。一方、複数の突起部がそれぞれ異なる方向を向いてランダムに配置される場合、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|および|Σ(k=1〜n)sinφ/n|の値は小さくなる。
本発明においては、|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25の関係を満たすことで、複数の突起部の頂点が、光の入射角度に因らず反射率の低減が可能となるように、ランダムな方向に向くこととなる。中でも|(Σ(k=1〜n)cosφ)/n|≦0.15、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.15の関係を満たすことが好ましく、特に|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.10、かつ|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.10の関係を満たすことが好ましい。|Σ(k=1〜n)cosφ/n|および|Σ(k=1〜n)sinφ/n|の値が上記範囲よりも大きいと、複数の突起部の各頂点が一定の同じ方向を向き、高い規則性を有して配置されることになる。このため、特定の角度から入射される光に対しては、高い反射率で反射してしまい、光の入射角度に応じて反射率の低減の程度に差が生じる場合がある。
なお、抽出点数nは30点以上であればよく、より好適な点数については既に説明した抽出点数と同様である。
Here, in the case where the vertices of the plurality of protrusions are arranged facing in the same fixed direction, | Σ (k = 1 to n) cos φ k / n | and | Σ (k = 1 to n) sin φ k / n The value of | increases. On the other hand, when the plurality of protrusions are randomly arranged in different directions, | Σ (k = 1 to n) cosφ k / n | and | Σ (k = 1 to n) sinφ k / n | The value decreases.
In the present invention, by satisfying the relationship of | Σ (k = 1 to n) cos φ k /n|≦0.25 and | Σ (k = 1 to n) sin φ k /n|≦0.25, The vertices of the plurality of protrusions are oriented in random directions so that the reflectance can be reduced regardless of the incident angle of light. Above all, it is preferable to satisfy the relationship of | (Σ (k = 1 to n) cos φ k ) /n|≦0.15 and | Σ (k = 1 to n) sinφ k /n|≦0.15, and in particular, | Σ (k = 1 to n) cosφ k /n|≦0.10 and | Σ (k = 1 to n) sinφ k /n|≦0.10 are preferably satisfied. When the values of | Σ (k = 1 to n) cos φ k / n | and | Σ (k = 1 to n) sinφ k / n | are larger than the above ranges, the vertices of the plurality of protrusions are constant and the same. It is oriented in the direction and is arranged with high regularity. For this reason, light incident from a specific angle is reflected at a high reflectance, and the degree of reduction in the reflectance may differ depending on the incident angle of the light.
Note that the number of extraction points n may be 30 or more, and more preferable points are the same as those already described.

(3)その他
突起部の高さとしては、上述のパラメータを備えることが可能な大きさであれば特に限定されないが、例えば、100nm〜10μmの範囲内が好ましく、中でも300nm〜1μmの範囲内が好ましい。突起部の高さが上記範囲よりも小さい場合、突起部の頂部の曲率が大きくなるため、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になり、前方散乱が起こりにくくなるため低反射樹脂層への光の吸収が小さくなる可能性がある。一方、突起部の高さが上記範囲よりも大きい場合、所望の突起部の形状に製造することが困難となる可能性がある。
突起部の高さとは、突起部が形成された低反射樹脂層の表面から突起部の頂点までの長さをいい、図2においてhで示す部分である。突起部の高さは、「(1)パラメータの定量化方法」の項で説明した方法により検出した極大点から、特定の基準位置(例えば突起部の根元位置を高さ=0とする。)からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化し、ヒストグラムによる度数分布から算出し、平均化される。
(3) Others The height of the protrusion is not particularly limited as long as it is a size capable of providing the above-described parameters. For example, the height is preferably in the range of 100 nm to 10 μm, and particularly preferably in the range of 300 nm to 1 μm. preferable. If the height of the projection is smaller than the above range, the curvature of the top of the projection becomes large, so that geometric optical scattering becomes more dominant than Mie scattering, and forward scattering is less likely to occur. Light absorption may be reduced. On the other hand, if the height of the projection is larger than the above range, it may be difficult to manufacture the projection into a desired shape.
The height of the protrusion refers to a length from the surface of the low reflective resin layer protruding portion is formed to the apex of the protrusion, a portion indicated by h 1 in FIG. The height of the protrusion is determined from a local maximum point detected by the method described in the section “(1) Parameter quantification method” at a specific reference position (for example, the root position of the protrusion is set to height = 0). , The difference between the relative heights of the respective local maximum point positions is obtained and converted into a histogram, calculated from the frequency distribution based on the histogram, and averaged.

また、突起部の高さが上記範囲内にあるとき、突起部の底面の最大径に対する高さのアスペクト比(図2中におけるh/R)としては、所望の反射率低減効果を発揮することが可能なものであればよく、例えば、0.3〜30の範囲内が好ましく、中でも0.8〜3の範囲内が好ましい。上記アスペクト比が上記範囲よりも小さいと、突起部において光の反射が起こりにくくなり反射率低減効果が十分に発揮されない場合がある。一方、アスペクト比が上記範囲よりも大きいと、賦形が困難となり突起部が所望の形状とならない場合がある。 When the height of the projection is within the above range, the desired aspect ratio reduction effect (h 1 / R in FIG. 2) of the height with respect to the maximum diameter of the bottom surface of the projection exhibits a desired effect. Whatever is possible, for example, the range of 0.3 to 30 is preferable, and the range of 0.8 to 3 is particularly preferable. If the aspect ratio is smaller than the above range, light is less likely to be reflected at the projection, and the reflectivity reduction effect may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if the aspect ratio is larger than the above range, shaping becomes difficult and the projection may not have a desired shape.

突起部は、凸型の錐状構造体を成している。このため、本発明の低反射シートは、突起部の形状を精度良く賦型することが可能であり、生産性が向上するという製造上の利点を有する。
一般に、突起部が規則的に配置された低反射シートにおいては、反射率低減効果を向上させるために、突起部の形状を頂部が分岐した多峰形状とし、表面積を大きくする方法が用いられる。しかし、このような形状は、精度良く賦型できない場合がある。一方、本発明においては、突起部に所望のばらつきをもたせることで反射率低減効果を奏することから、突起部を多峰形状とする必要がなく、個々の突起部を精度良く賦型することが可能となるのである。
突起部の頂部の先端は、尖っていてもよく、曲率を有していてもよい。中でもミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が大きくなることから、先端が尖っていることが好ましい。
The protrusion has a convex conical structure. For this reason, the low reflection sheet of the present invention has a manufacturing advantage that the shape of the projection can be accurately shaped and the productivity is improved.
Generally, in a low-reflection sheet in which projections are regularly arranged, a method of increasing the surface area by changing the shape of the projections to a multi-peaked shape with a branched top in order to improve the reflectance reduction effect is used. However, such a shape may not be accurately formed. On the other hand, in the present invention, since the reflectance is reduced by giving the desired variation to the projections, the projections do not need to have a multimodal shape, and the individual projections can be accurately shaped. It is possible.
The tip of the top of the projection may be pointed or have a curvature. Above all, it is preferable that the tip is sharp because light absorption into the low-reflection resin layer by Mie scattering increases.

突起部の底面形状としては、近似により上述したパラメータの規定が可能な形状であれば特に限定されるものではなく、例えば円、楕円等の丸形状の他、五角形、六角形、八角形、十二角形等の多角形状等を挙げることができる。
また、突起部の側面形状としては、突起部の縦断面において直線状であってもよく、曲線状であってもよい。さらに、突起部の側面形状が多段状であってもよい。中でも突起部の側面が多段状であることが好ましい。突起部において多数回反射およびミー散乱がより起こりやすくなるからである。
The shape of the bottom surface of the projection is not particularly limited as long as the above-mentioned parameters can be specified by approximation. For example, in addition to a circular shape such as a circle and an ellipse, a pentagon, a hexagon, an octagon, and a ten Examples include polygonal shapes such as a diagonal shape.
Further, the side surface shape of the projection may be linear or curved in the longitudinal section of the projection. Furthermore, the side surface shape of the protrusion may be a multi-step shape. In particular, it is preferable that the side surfaces of the protrusions have a multi-stage shape. This is because reflection and Mie scattering many times occur more easily at the projection.

2.低反射樹脂層
本発明においては、所望の反射率低減効果を発揮するために、多数の突起部が上述のパラメータの定量化により規定されるばらつきを有する必要がある。本発明においては、樹脂組成物の硬化物からなる低反射樹脂層上に突起部が形成されることで、突起部ごとの形状の精度が高く、所望のばらつきを示すことが可能である。
2. Low Reflective Resin Layer In the present invention, in order to exhibit a desired reflectance reduction effect, it is necessary that a large number of protrusions have a variation defined by quantification of the above-described parameters. In the present invention, the projections are formed on the low-reflection resin layer made of the cured product of the resin composition, so that the accuracy of the shape of each projection is high and a desired variation can be exhibited.

上記樹脂組成物は、上述のばらつきを有する多数の突起部を賦形することが可能なものであれば特に限定されず、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等のその他の成分を含有する。   The resin composition is not particularly limited as long as it can form a large number of protrusions having the above-described variation, and includes at least a resin, and optionally includes other components such as a polymerization initiator. contains.

上記樹脂としては、所望の形状および配置のばらつきを有する突起部を形成可能なものであれば特に限定されない。このような樹脂としては、例えばアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料および各種硬化形態の賦型用樹脂を使用することができる。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線(UV−A、UV−B、UV−C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線等が挙げられる。
中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、硬度、耐傷性、平面性に優れるといった観点からポリエステル系樹脂が好ましい。また、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、柔軟性、触感等の観点からポリウレタン系樹脂が好ましい。
The resin is not particularly limited as long as it can form a protrusion having a desired shape and arrangement variation. Such resins include, for example, ionizing radiation curable resins such as acrylates, epoxies, and polyesters, thermosetting resins such as acrylates, urethanes, epoxies, and polysiloxanes, acrylates, polyesters, and polycarbonates. A variety of materials, such as thermoplastic resins such as polyethylene-based, polyethylene-based, and polypropylene-based resins, and molding resins in various cured forms can be used. In addition, ionizing radiation means an electromagnetic wave or a charged particle having energy capable of polymerizing and curing a molecule, for example, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible light, and gamma rays. , X-rays, electron beams and the like.
Above all, when the low reflection sheet of the present invention is used as a light shielding sheet, a polyester resin is preferred from the viewpoint of excellent hardness, scratch resistance and flatness. When the low-reflection sheet of the present invention is used as a skin material such as synthetic leather or a design sheet, a polyurethane resin is preferred from the viewpoint of flexibility, tactile sensation and the like.

上記樹脂組成物は、必要に応じて任意の材料を含んでいてもよい。任意の材料としては、例えば屈折率調整剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。屈折率調整剤としては、例えば特開2013−142821号公報等に開示される低屈折率材が挙げられる。   The resin composition may include an optional material as needed. Optional materials include, for example, a refractive index adjuster, a polymerization initiator, a mold release agent, a photosensitizer, an antioxidant, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, an infrared absorber, an antistatic agent, a viscosity adjuster, and an adhesive. An enhancer and the like can be contained. As the refractive index adjuster, for example, a low refractive index material disclosed in JP-A-2013-142821 or the like can be used.

低反射樹脂層は、透明であってもよく不透明なものであってもよい。また、上記低反射樹脂層は着色されていてもよい。低反射樹脂層が着色されている場合、着色基材と同色であってもよく、異なる色であってもよい。
低反射樹脂層に含有可能な着色剤としては特に限定されず、後述する「B.着色基材」の項で説明する着色剤等を用いることができる。
なお、低反射樹脂層に含有される着色剤の平均粒径としては、突起部のばらつきによる反射率低減効果に影響を及ぼさない大きさであればよい。
The low reflection resin layer may be transparent or opaque. Further, the low reflection resin layer may be colored. When the low reflection resin layer is colored, it may be the same color as the colored base material or may be a different color.
The colorant that can be contained in the low reflection resin layer is not particularly limited, and a colorant or the like described in the section of “B.
The average particle size of the colorant contained in the low-reflection resin layer may be any size that does not affect the reflectance reduction effect due to the unevenness of the projections.

低反射樹脂層の厚さは特に限定はされず、使用する材料、要求される強度等を考慮して適宜設定することができ、例えば3μm〜200μmの範囲内が好ましく、中でも5μm〜100μmの範囲内が好ましい。
なお、低反射樹脂層の厚さとは、低反射樹脂層の突起部が形成されていない面側から突起部の最も高い位置にある頂点までの長さをいい、図1においてhで示す部分である。
The thickness of the low-reflection resin layer is not particularly limited, and can be appropriately set in consideration of the material to be used, the required strength, and the like. For example, the thickness is preferably in a range of 3 μm to 200 μm, and particularly preferably in a range of 5 μm to 100 μm. Is preferred.
The portion of the thickness of the low-reflecting resin layer refers to a length from the surface on which the projecting portion of the low-reflecting resin layer is not formed to the apex at the highest point of the protrusion, indicated by h 2 1 It is.

低反射樹脂層は、ヘイズ値が高いことが好ましい。ヘイズ値が高い程、突起部の形状および配置位置のばらつきが大きくなることから、本発明の低反射シートが優れた反射率低減効果を奏することができるからである。具体的には、低反射樹脂層のヘイズ値が70%以上であればよく、中でも80%以上であることが好ましい。また、ヘイズ値の上限としては95%以下であることが好ましい。
ヘイズ値が上記範囲よりも小さいと、低反射シート表面に形成された突起部が形状および配置位置に所望のばらつきを有しておらず、光の多数回反射およびミー散乱による低反射樹脂層への光の吸収が起こりにくくなり、本発明の低反射シートによる反射率低減効果が発揮されない場合があるからである。一方、ヘイズ値が上限よりも大きいと、所望の突起部の形状に製造することが困難となる場合があるからである。
なお、ヘイズ値はヘイズメーター(東洋精機製作所製 商品名:ヘイズガード)を用いてJIS K7361に準拠した方法により測定することができる。
The low reflection resin layer preferably has a high haze value. This is because the higher the haze value, the greater the variation in the shapes and arrangement positions of the projections, so that the low-reflection sheet of the present invention can exhibit an excellent reflectance-reducing effect. Specifically, the haze value of the low reflection resin layer may be 70% or more, and particularly preferably 80% or more. The upper limit of the haze value is preferably 95% or less.
When the haze value is smaller than the above range, the projections formed on the surface of the low reflection sheet do not have a desired variation in shape and arrangement position, and the reflection to the low reflection resin layer by multiple reflection of light and Mie scattering. This is because light absorption hardly occurs, and the reflectivity reduction effect of the low reflection sheet of the present invention may not be exhibited. On the other hand, if the haze value is larger than the upper limit, it may be difficult to produce a desired projection shape.
The haze value can be measured using a haze meter (trade name: Haze Guard, manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.) by a method based on JIS K7361.

B.着色基材
本発明における着色基材は、少なくとも一方の面側に、多数の突起部を備える低反射樹脂層を有するものである。
着色基材の色については特に限定されず、本発明の低反射シートの用途に応じて適宜選択することができ、例えば黒色、白色等の無彩色、赤色、青色、黄色、緑色、灰色等の有彩色等が挙げられる。中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、可視光の全波長域に対する反射率低減効果をより高める観点から、黒色または黒色に準ずる暗色が好ましい。暗色とは、例えば濃灰色、褐色、紺色、深緑色、臙脂色、濃紫色等の、低明度で国際照明委員会CIEによる標準光源Cを用いたYxy表色系でのY値が10%以下を示す色が挙げられる。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、無彩色でもよく有彩色でもよい。
なお、無彩色及び有彩色とは、JIS Z8102:2001における定義に準じる。
B. Colored Substrate The colored substrate in the invention has a low-reflection resin layer having a large number of projections on at least one surface side.
The color of the colored base material is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the use of the low reflection sheet of the present invention.For example, black, achromatic color such as white, red, blue, yellow, green, gray and the like. And chromatic colors. Above all, when the low-reflection sheet of the present invention is used as a light-shielding sheet, black or a dark color similar to black is preferable from the viewpoint of further increasing the reflectance reduction effect over the entire visible light wavelength range. The dark color is, for example, dark gray, brown, dark blue, dark green, rouge, dark purple, or the like, with a low lightness and a Y value in a Yxy color system using a standard light source C by the International Commission on Illumination CIE of 10% or less. Color. On the other hand, when the low reflection sheet of the present invention is used as a skin material such as synthetic leather or a design sheet, it may be achromatic or chromatic.
The achromatic color and the chromatic color conform to the definitions in JIS Z8102: 2001.

本発明においては、所望の反射率低減効果を発揮するために、着色基材の光学濃度が高いことが好ましい。具体的には、着色基材の光学濃度が2以上であることが好ましく、中でも、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、上記光学濃度が3以上であることが好ましい。また、上記光学濃度の上限としては特に限定されないが、着色基材の材料選定の観点から6以下であることが好ましい。
なお、着色基材の上記光学濃度は、例えば、サカタインクスエンジニアリング株式会社製X-Rite 361T(V)で計測することができる。
In the present invention, the colored substrate preferably has a high optical density in order to exhibit a desired reflectance reduction effect. Specifically, the optical density of the colored base material is preferably 2 or more. In particular, when the low reflection sheet of the present invention is used as a light shielding sheet, the optical density is preferably 3 or more. The upper limit of the optical density is not particularly limited, but is preferably 6 or less from the viewpoint of material selection of the colored base material.
The optical density of the colored substrate can be measured, for example, with X-Rite 361T (V) manufactured by Sakata Inx Engineering Co., Ltd.

着色基材としては、所望の色を呈するものであれば特に限定されず、例えば樹脂に着色剤を混合させた着色樹脂基材、着色紙、着色布等が挙げられる。   The coloring substrate is not particularly limited as long as it exhibits a desired color, and examples thereof include a coloring resin substrate in which a coloring agent is mixed with a resin, a coloring paper, a coloring cloth, and the like.

着色樹脂基材に用いられる樹脂としては、特に限定されず、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等が硬化した硬化樹脂を用いることができる。
例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等を挙げることができる。また、「A.低反射樹脂層」の項で説明した低反射樹脂層を構成する樹脂と同じものを用いてもよい。
The resin used for the colored resin substrate is not particularly limited, and a cured resin obtained by curing a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation-curable resin, or the like can be used.
For example, acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, polyester resins such as polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, acrylic resins, polyurethane resins, polyether sulfone and polycarbonate, Examples thereof include polysulfone, polyether, polyether ketone, acronitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer and the like. Further, the same resin as the resin constituting the low-reflection resin layer described in the section “A. Low-reflection resin layer” may be used.

着色樹脂基材に含まれる着色剤としては、所望の色を呈することが可能なものであれば特に限定されず、一般に使用される無機顔料、有機顔料等を用いることができる。具体的には、チタン白、亜鉛華、弁柄、朱、群青、コバルトブルー、チタン黄、黄鉛、カーボンブラック、チタンブラック等の無機顔料;イソインドリノン、ハンザイエローA、キナクリドン、パーマネントレッド4R、フタロシアニンブルー、アニリンブラック等の有機顔料;染料;アルミニウム、真鍮等の箔粉からなる金属顔料;二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸亜鉛等の箔粉からなる真珠光沢顔料等が用いられる。これらは、1種または2種以上を選ぶことができる。   The colorant contained in the colored resin substrate is not particularly limited as long as it can exhibit a desired color, and generally used inorganic pigments, organic pigments, and the like can be used. Specifically, inorganic pigments such as titanium white, zinc white, red iron oxide, vermilion, ultramarine blue, cobalt blue, titanium yellow, graphite, carbon black, titanium black, etc .; isoindolinone, Hansa Yellow A, quinacridone, permanent red 4R Organic pigments such as phthalocyanine blue and aniline black; dyes; metal pigments composed of foil powders such as aluminum and brass; pearlescent pigments composed of foil powders such as titanium dioxide-coated mica and basic zinc carbonate. One or more of these can be selected.

着色剤の平均粒径としては、所望の色を呈することができれば特に限定されないが、例えば0.01μm以上1μm以下の範囲内、中でも0.01μm以上0.5μm以下の範囲内であることが好ましい。着色剤の平均粒径が上記範囲よりも小さいと、着色基材が所望の光学濃度を示さない場合があり、一方、上記範囲よりも大きいと、着色剤が凝集して着色樹脂内に分散されない場合がある。なお、着色剤の平均粒径は、遠心沈降法(測定装置:島津製作所社製 光透過型・遠心沈降式粒度分布測定装置「SA−CP3型」、測定モード:10μm〜0.02μm、加速度:120rpm/分)で測定した値である。   The average particle size of the colorant is not particularly limited as long as it can exhibit a desired color. For example, it is preferably in the range of 0.01 μm or more and 1 μm or less, and more preferably in the range of 0.01 μm or more and 0.5 μm or less. . When the average particle size of the colorant is smaller than the above range, the coloring base material may not exhibit a desired optical density, while when the average size is larger than the above range, the colorant is not dispersed in the coloring resin due to aggregation. There are cases. The average particle size of the colorant is determined by a centrifugal sedimentation method (measurement device: light transmission type / centrifugal sedimentation type particle size distribution analyzer “SA-CP3 type” manufactured by Shimadzu Corporation), measurement mode: 10 μm to 0.02 μm, acceleration: 120 rpm / min).

着色剤の含有量としては、所望の光学濃度を示すことが可能な量であればよく、着色剤の平均粒径等によって適宜選択することができる。   The content of the colorant may be an amount capable of exhibiting a desired optical density, and can be appropriately selected depending on the average particle size of the colorant.

着色樹脂基材は、必要に応じて充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ラジカル捕捉剤、軟質成分(例えばゴム)等の各種の添加剤が含まれていても良い。   The coloring resin base material may include a filler, a matting agent, a foaming agent, a flame retardant, a lubricant, an antistatic agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a radical scavenger, a soft component (for example, if necessary) Various additives such as rubber) may be included.

着色樹脂基材は所望の光学濃度を示すものであればよく、板状、シート状、フィルム状等の各種態様のものを用いることができる。   The colored resin substrate only needs to exhibit a desired optical density, and various forms such as a plate, a sheet, and a film can be used.

また、着色基材として用いられる着色紙としては、クラフト紙、上質紙、各種コート紙、キャストコート紙、合成紙等に上述の着色剤が塗布されたもの、または添加されたものが挙げられる。
着色布としては、上述した着色樹脂基材に用いられる樹脂に上述の着色剤を含有させて不織布としたもの等が挙げられる。
Examples of the colored paper used as the colored substrate include kraft paper, woodfree paper, various coated papers, cast coated paper, synthetic paper, and the like, to which the above-mentioned coloring agent is applied or added.
Examples of the colored cloth include a cloth formed by adding the above-mentioned coloring agent to the resin used for the above-mentioned colored resin base material to form a nonwoven fabric.

着色基材の厚さとしては、低反射樹脂層を支持することができ、所望の光学濃度を示すことが可能な厚さであれば特に限定されないが、例えば0.025mm〜20mmの範囲内が好ましい。   The thickness of the colored base material is not particularly limited as long as it can support the low-reflection resin layer and can exhibit a desired optical density, but is, for example, within a range of 0.025 mm to 20 mm. preferable.

C.その他
本発明の低反射シートは、着色基材の少なくとも一方の面側に上述の低反射樹脂層を有していればよいが、基材の両面に上述の低反射樹脂層を有していてもよく、用途に応じて積層態様を選択することができる。例えば、本発明の低反射シートを遮光シートとして用いる場合は、両面の遮光性、平坦性が求められることから、基材の両面に低反射樹脂層を有する態様が好ましい。一方、本発明の低反射シートを合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いる場合は、通常、基材の一方の面側に低反射樹脂層を有する態様とする。
C. Others The low-reflection sheet of the present invention may have the above-described low-reflection resin layer on at least one surface side of the colored base material, but has the above-described low-reflection resin layer on both surfaces of the base material. The lamination mode can be selected according to the application. For example, when the low-reflection sheet of the present invention is used as a light-shielding sheet, light-shielding properties and flatness on both sides are required, so that an embodiment having a low-reflection resin layer on both sides of the substrate is preferable. On the other hand, when the low-reflection sheet of the present invention is used as a skin material such as synthetic leather or a design sheet, the low-reflection resin layer is usually provided on one surface side of the substrate.

本発明の低反射シートは、着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層であってもよい。すなわち、本発明の低反射シートが、着色基材と低反射樹脂層とが同一の樹脂材料により形成され着色された単一層であり、上記単一層の少なくとも一方の表面に多数の突起部が所望のばらつきを有して形成されたものであってもよい。着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層とすることで、製造工程の簡略化や材料費の低減を図ることができる。
着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層とする場合の樹脂材料については、上述した「A.低反射樹脂層」の項で説明した樹脂材料が用いられる。また、上記単一層に用いられる着色剤およびその含有量については、「B.着色基材」の項で例示した着色剤およびその含有量と同様とすることができる。
なお、着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層とする場合、上記単一層の厚さとしては、上述した着色基材の厚さと同等とすることができる。
The low reflection sheet of the present invention may be a single layer in which the coloring base material and the low reflection resin layer are integrated. That is, the low-reflection sheet of the present invention is a colored single layer in which the colored base material and the low-reflection resin layer are formed of the same resin material, and a large number of protrusions are desired on at least one surface of the single layer. May be formed with the above-mentioned variation. By forming a single layer in which the coloring base material and the low-reflection resin layer are integrated, the manufacturing process can be simplified and the material cost can be reduced.
As the resin material in the case where the coloring base material and the low-reflection resin layer are integrated into a single layer, the resin material described in the section “A. Low-reflection resin layer” described above is used. In addition, the colorant used in the single layer and the content thereof can be the same as the colorant and the content exemplified in the section “B. Colored base material”.
When a single layer is formed by integrating the colored base and the low-reflection resin layer, the thickness of the single layer can be equal to the thickness of the above-described colored base.

本発明の低反射シートが、着色基材および低反射樹脂層が一体化した単一層である場合、多数の突起部は少なくとも低反射シートの一方の表面に形成されているが、両面に所望のばらつきを示す多数の突起部を有していてもよい。   When the low-reflection sheet of the present invention is a single layer in which the colored base material and the low-reflection resin layer are integrated, a number of protrusions are formed on at least one surface of the low-reflection sheet, It may have a large number of protrusions showing variations.

本発明の低反射シートは、必要に応じて任意の層を有することができる。任意の層としては、低反射樹脂層と着色基材との間に形成されるプライマー層(密着安定層)、低反射シートを被着体に貼り合せるための粘着層または接着層等を挙げることができる。   The low reflection sheet of the present invention can have an optional layer as needed. Examples of the optional layer include a primer layer (adhesion stabilizing layer) formed between the low-reflection resin layer and the colored base material, and an adhesive layer or an adhesive layer for bonding the low-reflection sheet to an adherend. Can be.

本発明の低反射シートの反射率としては、可視光領域380nm〜780nmにおける最大反射率が2.0%以下であることが好ましく、中でも1.5%以下であることが好ましい。低反射シートの最大反射率が上述の上限値以下であることで、可視光の全波長域に対して低い反射率を示すことができ、本発明の低反射シートによる反射率低減効果が十分に発揮され、その効果を目視でも確認できるからである。
なお、最大反射率は、計測装置としてScanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)を用い、8°入射光(波長領域380nm〜780nm)に対する全反射を測定することで得られる。
Regarding the reflectance of the low reflection sheet of the present invention, the maximum reflectance in the visible light region of 380 nm to 780 nm is preferably 2.0% or less, and particularly preferably 1.5% or less. When the maximum reflectance of the low-reflection sheet is equal to or less than the above upper limit, a low reflectance can be exhibited over the entire wavelength range of visible light, and the reflectance-reducing effect of the low-reflection sheet of the present invention is sufficient. This is because it is exhibited and its effect can be visually confirmed.
Note that the maximum reflectance can be obtained by measuring total reflection with respect to 8 ° incident light (wavelength region of 380 nm to 780 nm) using a Scanning Spectrophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation) as a measuring device.

D.製造方法
本発明の低反射シートの製造方法としては、着色基材上に、少なくとも形状および配置に所望のばらつきを有する突起部を有する低反射樹脂層を形成可能な方法であれば特に限定されず、例えば以下の方法により製造することができる。
まず、多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を準備する。上記凸型錐状構造体は、「A.低反射樹脂層」の項で説明した3つのパラメータの定量化により規定された形状および配置位置のばらつきを有するものとする。
次に、上記転写原版の上記凸型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含むソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化してソフトモールドを転写形成する。このとき、上記ソフトモールドの一方の表面には、凸型錐状構造体の反転形状である凹型錐状構造体が形成される。
続いて、上記ソフトモールドの凹型錐状構造体が形成された面上に、低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布層上にさらに着色基板を配置した状態で上記塗布層を硬化する。これにより、着色基材の一方の面側に多数の突起部を備える低反射樹脂層を有する低反射シートを得ることができる。なお、上記突起部は、上記転写原版の凸型錐状構造体と、形状および配置位置のばらつきが対応する。
D. Manufacturing method The method for manufacturing the low-reflection sheet of the present invention is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a low-reflection resin layer having a projection having at least a desired variation in shape and arrangement on a colored base material. For example, it can be manufactured by the following method.
First, a transfer master having a number of convex conical structures is prepared. It is assumed that the convex conical structure has a variation in shape and arrangement position defined by quantification of the three parameters described in the section “A. Low reflection resin layer”.
Next, a composition for forming a soft mold containing a curable resin is applied to the surface of the transfer master on which the convex conical structures are formed, and the applied layer is cured to transfer and form the soft mold. At this time, on one surface of the soft mold, a concave cone-shaped structure that is an inverted shape of the convex cone-shaped structure is formed.
Subsequently, the composition for forming a low-reflection resin layer is applied on the surface of the soft mold on which the concave conical structure is formed, and the application layer is cured with the colored substrate further disposed on the application layer. . This makes it possible to obtain a low reflection sheet having a low reflection resin layer having a large number of protrusions on one surface side of the colored base material. The protrusions correspond to the convex conical structures of the transfer original plate in terms of shape and arrangement variation.

また、他の製造方法として、上述の転写原版から得られたソフトモールドをロールに巻きつけて転写ロールを準備し、着色基板上に低反射樹脂層形成用組成物を塗布した後、上記転写ロールで塗布層を押圧するのと同時に所望の硬化方法を適用して硬化して成形する方法を用いることも可能である。   Further, as another manufacturing method, a soft mold obtained from the above-mentioned transfer original plate is wound around a roll to prepare a transfer roll, and after applying a composition for forming a low-reflection resin layer on a colored substrate, the transfer roll is formed. It is also possible to use a method in which a desired curing method is applied and the composition is cured and molded at the same time as the application layer is pressed.

上記転写原版の材質としては、所望のばらつきを有する凸型錐状構造体の形成が可能なものであれば特に限定されず、金属、樹脂等が挙げられるが、中でも金属が好ましい。
また、上記転写原版の製造方法としては、形状および配置位置に所望のばらつきを有する凸型錐状構造体を表面に有することができる方法であれば特に限定されないが、例えばステンレス板の表面をブラスト加工し、ステンレス板の加工表面に対して、段階的に電流値を小さくしながら電解ニッケルめっき、電解クロムめっき、電解スズめっき等の電解めっき処理を施すことにより形成することができる。
このときブラストの表面粗さを調整することにより、凸型錐状構造体の距離や方向性等のばらつきを調整できる。また、段階的に電流値を小さくする割合を調整することにより、凸型錐状構造体の高さを調整できる。
The material of the transfer master is not particularly limited as long as a convex conical structure having a desired variation can be formed, and examples thereof include metals and resins. Among them, metals are preferable.
The method of manufacturing the transfer master is not particularly limited as long as it can have a convex conical structure having a desired variation in shape and arrangement position on the surface. For example, the surface of a stainless steel plate is blasted. It can be formed by processing and subjecting the processed surface of the stainless steel plate to electrolytic plating such as electrolytic nickel plating, electrolytic chromium plating, and electrolytic tin plating while gradually reducing the current value.
At this time, by adjusting the surface roughness of the blast, variations in the distance, directionality, and the like of the convex conical structure can be adjusted. Further, by adjusting the ratio of decreasing the current value stepwise, the height of the convex conical structure can be adjusted.

ソフトモールド形成用組成物に含まれる硬化性樹脂は、転写原版の凸型錐状構造体の形状を精度良く転写することが可能な樹脂であればよく、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。また、必要に応じて「A.低反射樹脂層」の項で説明した任意の材料を含むものであっても良い。
ソフトモールド形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、一般に樹脂製原版の形成の際に用いられる方法と同様とすることができる。
The curable resin contained in the composition for forming a soft mold may be any resin capable of accurately transferring the shape of the convex conical structure of the transfer master, such as a photocurable resin or an electron beam curable resin. , A thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like is used. Further, if necessary, the material may include any of the materials described in the section “A. Low reflection resin layer”.
The method for applying the composition for forming a soft mold is not particularly limited, and may be the same as the method generally used for forming a resin original plate.

低反射樹脂層形成用組成物に含まれる樹脂が光硬化性または電子線硬化性樹脂である場合、ソフトモールドは光透過性を有することが好ましい。低反射樹脂層形成用組成物の塗布層上に着色基材が配置される場合や、低反射樹脂層形成用組成物に着色剤を含有して単一層を形成する場合に、ソフトモールド側から光や電子線等の照射を行い、上記塗布層を硬化させる必要があるからである。   When the resin contained in the composition for forming a low reflection resin layer is a photocurable or electron beam curable resin, the soft mold preferably has light transmittance. When a colored substrate is arranged on the coating layer of the composition for forming a low-reflection resin layer, or when forming a single layer containing a coloring agent in the composition for forming a low-reflection resin layer, from the soft mold side This is because it is necessary to irradiate light, an electron beam, or the like to cure the coating layer.

低反射樹脂層形成用組成物は、「A.低反射樹脂層」の項で説明した材料を含むものである。また、低反射樹脂層形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、従来公知の塗布方法を適用することができる。
低反射樹脂層形成用組成物の硬化方法および硬化条件については、含有される樹脂の種類に応じて適宜選択することができる。例えば、低反射樹脂層形成用組成物が紫外線硬化性樹脂を含む場合、ソフトモールドを介して紫外線照射を行うことにより硬化させることができる。
The composition for forming a low-reflection resin layer contains the materials described in the section “A. Low-reflection resin layer”. The method of applying the composition for forming a low-reflection resin layer is not particularly limited, and a conventionally known application method can be applied.
The curing method and curing conditions for the composition for forming a low-reflection resin layer can be appropriately selected according to the type of the contained resin. For example, when the composition for forming a low-reflection resin layer contains an ultraviolet-curable resin, the composition can be cured by irradiating ultraviolet rays through a soft mold.

E.用途
本発明の低反射シートは、反射率の低減が求められる用途に使用することができるが、中でも着色基材を有することから、高遮光性が要求され、光透過性が要求されない用途への使用が好ましい。例えば、本発明の低反射シートが黒色または暗色で且つ光学濃度の高いものである場合、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどのシャッター羽根または絞り羽根、カメラ付き携帯電話や車載モニターのレンズユニット内の固定絞り、プロジェクターの光量調整モジュールの絞り羽根等に用いることができる。
また、本発明の低反射シートは、反射率を低減することで表面にマット感を出すことができるため、外観性向上や意匠性付与を目的として、合成皮革等の表皮材や意匠シートとして用いることができる。
さらに、本発明の低反射シートは、分析機器や光学機器の迷光防止部材等に用いることができる。
E. FIG. Uses The low reflection sheet of the present invention can be used for applications in which a reduction in reflectance is required, but among others, since it has a colored base material, it is required to have high light-shielding properties, and to applications where light transmittance is not required. Use is preferred. For example, when the low-reflection sheet of the present invention is black or dark and has high optical density, shutter blades or aperture blades such as lens shutters for digital cameras and digital video cameras, lens units for camera-equipped mobile phones and on-vehicle monitors Can be used for a fixed diaphragm in the inside, a diaphragm blade of a light amount adjustment module of a projector, and the like.
In addition, the low-reflection sheet of the present invention can be used as a skin material or a design sheet of synthetic leather or the like for the purpose of improving appearance and imparting design, because the surface can be made matte by reducing the reflectance. be able to.
Furthermore, the low reflection sheet of the present invention can be used for a stray light preventing member of an analytical instrument or an optical instrument.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device having the same function and effect can be realized by the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

[実施例1]
以下の方法により、低反射シートを得た。
[Example 1]
A low reflection sheet was obtained by the following method.

(転写原版の作製)
ステンレス板にブラスト加工をして、三次元表面粗さ測定における算術平均面粗さ(以下、Saと略する。)が0.2μmとなるように仕上げた。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Aを版面に有した転写原版Aを得た。なお、錐状構造体Aの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Aの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
(Preparation of transcription master)
The stainless steel plate was blasted and finished to have an arithmetic mean surface roughness (hereinafter abbreviated as Sa) in the three-dimensional surface roughness measurement of 0.2 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master A having a large number of convex conical structures A on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure A and the shape and the variation of the protrusion A in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
以下の組成を含有するめっき浴を用い、陽極としてグラファイト電極を用いて、電流密度を80A/dmから1分毎に2.0A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<<めっき浴の組成>>
・塩化クロム:200g/dm(0.75mol/dm
・塩化アンモニウム:30g/dm(0.56mol/dm
・シュウ酸:3g/dm(0.024mol/dm
・炭酸バリウム:5g/dm(0.025mol/dm
・ホウ酸:30g/dm(0.49mol/dm
・フッ化バリウム:10g/dm(0.057mol/dm
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using a plating bath containing the following composition and using a graphite electrode as the anode, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 2.0 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2. Then, a black chromium plating film was formed on the stainless steel plate by electrolytic plating.
<< Plating bath composition >>
Chromium chloride: 200g / dm 3 (0.75mol / dm 3)
-Ammonium chloride: 30 g / dm 3 (0.56 mol / dm 3 )
Oxalic acid: 3g / dm 3 (0.024mol / dm 3)
Barium carbonate: 5 g / dm 3 (0.025 mol / dm 3 )
Boric acid: 30g / dm 3 (0.49mol / dm 3)
Barium fluoride: 10 g / dm 3 (0.057 mol / dm 3 )

(ソフトモールドの作製)
転写原版Aの錐状構造体Aが形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型のソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚さ0.2mmのポリカーボネート(PC)フィルム(パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、PCフィルム面側から波長365nm、照射エネルギー170mJ/cmでUV照射をした。転写原版Aの錐状構造体Aを転写し、ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、転写原版Aを剥離してソフトモールドを得た。
(Production of soft mold)
A UV-curable composition for forming a soft mold having the following composition was applied to the surface of the transfer master A on which the cone-shaped structure A was formed, and a polycarbonate (PC) film (Panlite) having a thickness of 0.2 mm was applied. UV irradiation with a wavelength of 365 nm and an irradiation energy of 170 mJ / cm 2 from the PC film side. After transferring the conical structure A of the transfer master A and curing the composition for forming a soft mold, the transfer master A was peeled off to obtain a soft mold.

<ソフトモールド形成用組成物>
・ウレタンアクリレート … 35質量%
・1,6‐ヘキサンジオールジアクリレート … 35質量%
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … 10質量%
・ビニルピロリドン … 15質量%
・1‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … 2質量%
・ベンゾフェノン … 2質量%
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … 1質量%
<Composition for forming soft mold>
・ Urethane acrylate: 35% by mass
・ 1,6-hexanediol diacrylate: 35% by mass
・ Pentaerythritol triacrylate: 10% by mass
・ Vinylpyrrolidone: 15% by mass
・ 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 2% by mass
・ Benzophenone: 2% by mass
・ Polyether-modified silicone oil: 1% by mass

(低反射シートの作製)
得られたソフトモールドの、錐状構造体Aの反転形状が形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型の低反射樹脂層形成用組成物を塗布し、塗布面上に厚さ2.0mmの黒色アクリル板(アクリライトL 三菱レイヨン株式会社製)を配置した。ソフトモールドのPCフィルム面側から波長365nm、照射エネルギー170mJ/cmでUV照射をして、低反射樹脂層形成用組成物を硬化させた。その後、ソフトモールドを剥離することで、多数の突起部Aを備える低反射樹脂層を黒色アクリル板上に有する低反射シートを得た。
(Production of low reflection sheet)
On the surface of the obtained soft mold, on which the inverted shape of the cone-shaped structure A was formed, a composition for forming an ultraviolet-curable low-reflection resin layer having the following composition was applied. A 2.0 mm black acrylic plate (Acrylite L manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) was arranged. UV irradiation was performed from the PC film side of the soft mold at a wavelength of 365 nm and irradiation energy of 170 mJ / cm 2 to cure the composition for forming a low-reflection resin layer. Thereafter, the soft mold was peeled off to obtain a low-reflection sheet having a low-reflection resin layer having a large number of protrusions A on a black acrylic plate.

<低反射樹脂層形成用組成物>
・ウレタンアクリレート … 35質量%
・1,6‐ヘキサンジオールジアクリレート … 35質量%
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … 10質量%
・ビニルピロリドン … 15質量%
・1‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … 2質量%
・ベンゾフェノン … 2質量%
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … 1質量%
<Composition for forming low reflection resin layer>
・ Urethane acrylate: 35% by mass
・ 1,6-hexanediol diacrylate: 35% by mass
・ Pentaerythritol triacrylate: 10% by mass
・ Vinylpyrrolidone: 15% by mass
・ 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 2% by mass
・ Benzophenone: 2% by mass
・ Polyether-modified silicone oil: 1% by mass

[実施例2]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.3μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Bを版面に有した転写原版Bを得た。なお、錐状構造体Bの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Bの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 2]
The stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master plate B having a large number of convex cone-shaped structures B on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure B and the shape and the variation of the protrusion B in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.0A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 1.0 A / dm 2 every minute to 20 A / dm 2 finally, and electrolytic plating was performed on a stainless steel plate. A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Bを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Bを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of protrusions B was obtained in the same manner as in Example 1 except that transfer master B was used instead of transfer master A.

[実施例3]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.2μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Cを版面に有した転写原版Cを得た。なお、錐状構造体Cの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Cの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 3]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.2 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master C having a large number of convex cone-shaped structures C on the plate surface. The shape and the variation of the conical structure C and the shape and the variation of the projection C in the obtained low reflection sheet coincided with each other.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.8A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 1.8A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Cを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Cを備える低反射シートを得た。   A low-reflection sheet having a large number of protrusions C was obtained in the same manner as in Example 1 except that transfer master C was used instead of transfer master A.

[実施例4]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.15μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Dを版面に有した転写原版Dを得た。なお、錐状構造体Dの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Dの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 4]
The stainless steel plate was blasted to Sa = 0.15 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master D having a large number of convex cone-shaped structures D on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure D and the shape and the variation of the protrusion D in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.6A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 1.6 A / dm 2 every minute to 20 A / dm 2 finally, and electrolytic plating was performed on a stainless steel plate. A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Dを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Dを備える低反射シートを得た。   A low-reflection sheet having a large number of protrusions D was obtained in the same manner as in Example 1 except that transfer master D was used instead of transfer master A.

[実施例5]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Eを版面に有した転写原版Eを得た。なお、錐状構造体Eの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Eの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 5]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master E having a large number of convex cone-shaped structures E on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure E and the shape and the variation of the protrusion E in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.4A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 1.4A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Eを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Eを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of projections E was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transfer master E was used instead of the transfer master A.

[実施例6]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Fを版面に有した転写原版Fを得た。なお、錐状構造体Fの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Fの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 6]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master F having a large number of convex cone-shaped structures F on the plate surface. The shape and variation of the conical structure F and the shape and variation of the projection F in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に5.0A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 5.0A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Fを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Fを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of projections F was obtained in the same manner as in Example 1 except that the transfer master F was used instead of the transfer master A.

[実施例7]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Gを版面に有した転写原版Gを得た。なお、錐状構造体Gの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Gの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 7]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master G having a large number of convex conical structures G on the plate surface. The shape and the variation of the conical structure G and the shape and the variation of the projection G in the obtained low reflection sheet coincided with each other.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に0.5A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 0.5 A / dm 2 every minute to 20 A / dm 2 finally, and electrolytic plating was performed on a stainless steel plate. A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Gを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Gを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of projections G was obtained in the same manner as in Example 1, except that the transfer master G was used instead of the transfer master A.

[比較例1]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Hを版面に有した転写原版Hを得た。なお、錐状構造体Hの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Hの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 1]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master H having a large number of convex cone-shaped structures H on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure H and the shape and the variation of the protrusion H in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に6.0A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 6.0 A / dm 2 every minute to 20 A / dm 2 finally, and electrolytic plating was performed on a stainless steel plate. A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Hを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Hを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of protrusions H was obtained in the same manner as in Example 1, except that the transfer master H was used instead of the transfer master A.

[比較例2]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Iを版面に有した転写原版Iを得た。なお、錐状構造体Iの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Iの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 2]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master plate I having a large number of convex cone-shaped structures I on the plate surface. The shape and the variation of the conical structure I and the shape and the variation of the projection I in the obtained low reflection sheet coincided with each other.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に0.4A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 0.4 A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Iを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Iを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of protrusions I was obtained in the same manner as in Example 1 except that transfer master I was used instead of transfer master A.

[比較例3]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.5μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Jを版面に有した転写原版Jを得た。なお、錐状構造体Jの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Jの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 3]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.5 μm. The surface was subjected to electrolytic chromium plating under the following conditions to obtain a transfer master J having a large number of convex conical structures J on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure J and the shape and the variation of the protrusion J in the obtained low reflection sheet coincided with each other.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.8A/dmずつ小さくして、最終的に20A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 1.8A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Jを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Jを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of protrusions J was obtained in the same manner as in Example 1, except that the transfer master J was used instead of the transfer master A.

[比較例4]
ステンレス板にブラスト加工をしてSa=0.25μmとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型の錐状構造体Kを版面に有した転写原版Kを得た。なお、錐状構造体Kの形状およびばらつきと、得られる低反射シートにおける突起部Kの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 4]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master K having a large number of convex cone-shaped structures K on the plate surface. In addition, the shape and the variation of the conical structure K and the shape and the variation of the projection K in the obtained low reflection sheet were the same.

<電解クロムめっきの条件>
実施例1と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を80A/dmから1分毎に1.4A/dmずつ小さくして、最終的に10A/dmとし、ステンレス板上に電解めっき処理により黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 1.4A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 10A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate A black chromium plating film was formed by the treatment.

転写原版Aに換えて、転写原版Kを用いたこと以外は、実施例1と同様にして多数の突起部Kを備える低反射シートを得た。   A low reflection sheet having a large number of protrusions K was obtained in the same manner as in Example 1, except that the transfer master K was used instead of the transfer master A.

[評価1]
実施例1〜7、比較例1〜4で得られた低反射シートについて、以下の条件にてSEM観察を行った。実施例ごとに低反射樹脂層上の多数の突起部の中から表1に示す点数を抽出し、平面視SEM像から突起部の底面の最大径(最大幅)の平均および分散、突起部の最近接中心間距離(最近接重心間距離)の平均および分散、ならびに|Σ(k=1〜n)cosφ/n|値および|Σ(k=1〜n)sinφ/n|値を求めた。なお、平面視SEM像を用いた各パラメータの定量化については、先に説明した方法を用いた。
各実施例における突起部の底面は、八角形に近似した。
(条件)
・SEM:電界放出形走査電子顕微鏡 S-4500(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製)
・観察方法:Top−View(突起部を有する面側から)
・前処理:Pt−Pdスパッタ
・観察倍率:×10k
・視野範囲:縦4μm×横4μm
[Evaluation 1]
The low-reflection sheets obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 were observed under SEM under the following conditions. The scores shown in Table 1 were extracted from a large number of protrusions on the low-reflection resin layer for each of the examples, and the average and dispersion of the maximum diameter (maximum width) of the bottom surface of the protrusion and the dispersion of the protrusion from the SEM image in plan view. mean and variance of nearest center distance (closest distance between centers of gravity), and | Σ (k = 1~n) cosφ k / n | values and | Σ (k = 1~n) sinφ k / n | values I asked. In addition, about the quantification of each parameter using a planar SEM image, the method explained previously was used.
The bottom surface of the protrusion in each example was approximated to an octagon.
(conditions)
・ SEM: Field emission scanning electron microscope S-4500 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
-Observation method: Top-View (from the side with the protrusion)
-Pretreatment: Pt-Pd sputter-Observation magnification: x10k
・ Field of view: 4 μm in length × 4 μm in width

[評価2]
実施例1〜7、比較例1〜4で得られた低反射シートについて、以下の条件にて最大反射率を計測した。
(条件)
・計測装置:Scanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)
・計測方法:8°入射光(波長領域380nm〜780nm)に対する全反射
[Evaluation 2]
The maximum reflectance of the low reflection sheets obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 was measured under the following conditions.
(conditions)
・ Measuring device: Scanning Spectrophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation)
・ Measurement method: Total reflection for 8 ° incident light (wavelength range 380 nm to 780 nm)

[評価3]
実施例1〜7、比較例1〜4で得られた低反射シートにおける低反射樹脂層のヘイズ値を以下の方法により測定した。
(測定方法)
実施例1〜7、比較例1〜4において、黒色アクリル板に換えてPCフィルムを用い、PCフィルム上に低反射樹脂層を形成し、評価用サンプルを作製した。ヘイズメーター(東洋精機製作所製 商品名:ヘイズガード)を用いてJIS K−7361に準拠した方法により各評価用サンプルのヘイズ値を測定した。
[Evaluation 3]
The haze value of the low reflection resin layer in the low reflection sheets obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4 was measured by the following method.
(Measuring method)
In Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, a low reflective resin layer was formed on a PC film using a PC film instead of the black acrylic plate, and an evaluation sample was prepared. The haze value of each evaluation sample was measured by a method based on JIS K-7361 using a haze meter (trade name: Haze Guard manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.).

評価1〜3の結果を表1に示す。なお、表1中のμは平均、σは分散を示す。 Table 1 shows the results of the evaluations 1 to 3. In Table 1, μ represents the average, and σ 2 represents the variance.

実施例1〜7で作製した低反射シートを光学計測機の遮光シートとして使用したところ、迷光の影響を十分に除去できた。
一方で比較例1〜4の低反射シートを光学計測機の遮光シートとして使用したところ、迷光の除去は不十分であった。
When the low-reflection sheets prepared in Examples 1 to 7 were used as a light-shielding sheet for an optical measurement device, the effects of stray light could be sufficiently removed.
On the other hand, when the low-reflection sheets of Comparative Examples 1 to 4 were used as a light-shielding sheet of an optical measuring instrument, the removal of stray light was insufficient.

1 … 着色基材
2 … 低反射樹脂層
3、3A、3B、3C … 突起部
10 … 低反射シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Colored base material 2 ... Low reflection resin layer 3, 3A, 3B, 3C ... Projection part 10 ... Low reflection sheet

Claims (4)

着色基材の少なくとも一方の面側に、多数の突起部を備える低反射樹脂層を有し、
前記突起部の底面の最大径の平均が250nm以上500nm以下の範囲内であり、
一の前記突起部および前記一の突起部の底面の中心に最も近接した位置に底面の中心を有する他の前記突起部の中心間距離の平均が400nm以下であり、前記中心間距離の分散が10000nm以上であり、
前記低反射樹脂層の前記突起部を有する面内の長さ方向および幅方向をx軸方向およびy軸方向で規定し、平面視上において前記突起部の底面の中心からの前記突起部の頂部の位置を方位角φ(0°≦φ<360°)で示し、前記突起部の抽出点数をn(n≧30)としたときに、
|Σ(k=1〜n)cosφ/n|≦0.25、かつ
|Σ(k=1〜n)sinφ/n|≦0.25
の関係を満たし、
前記着色基材の光学濃度が2以上であること
を特徴とする低反射シート。
On at least one surface side of the colored base material, a low-reflection resin layer having a large number of protrusions,
The average of the maximum diameter of the bottom surface of the protrusion is in the range of 250 nm or more and 500 nm or less,
The average of the center-to-center distances of the one protrusion and the center of the bottom of the one protrusion having the center of the bottom surface closest to the center of the bottom is 400 nm or less, and the variance of the center-to-center distance is less than 400 nm. 10,000 nm 2 or more,
The length direction and the width direction in the plane of the low reflection resin layer having the protrusion are defined in the x-axis direction and the y-axis direction, and the top of the protrusion from the center of the bottom surface of the protrusion in plan view. Is indicated by an azimuth angle φ (0 ° ≦ φ <360 °), and the number of extraction points of the protrusion is n (n ≧ 30),
| Σ (k = 1 to n) cosφ k /n|≦0.25 and | Σ (k = 1 to n) sinφ k /n|≦0.25
Meet the relationship,
The low reflection sheet, wherein the colored substrate has an optical density of 2 or more .
前記着色基材および前記低反射樹脂層が一体化した単一層であることを特徴とする請求項1に記載の低反射シート。   The low-reflection sheet according to claim 1, wherein the colored base and the low-reflection resin layer are a single layer integrated. 前記低反射樹脂層のヘイズ値は、80%以上であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の低反射シート。   The low reflection sheet according to claim 1 or 2, wherein the haze value of the low reflection resin layer is 80% or more. 前記突起部の底面の最大径の平均が300nm以上400nm以下の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の反射シート。  The reflection sheet according to claim 1, wherein an average of a maximum diameter of a bottom surface of the protrusion is in a range of 300 nm or more and 400 nm or less.
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