JP6637364B2 - Vacuum valve control device and vacuum valve unit - Google Patents

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Description

本発明は、真空弁制御装置及び真空弁ユニットに関する。   The present invention relates to a vacuum valve control device and a vacuum valve unit.

従来、平坦で広い地域等、汚水用の配管を連続的な下り勾配で配置できない場合に、真空式下水道収集システムが用いられている。この種の真空式下水道収集システムとして、特許文献1に記載された真空式下水道収集システムが知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a vacuum-type sewer collection system has been used when sewage pipes cannot be arranged with a continuous downward slope, such as in a flat and wide area. As this type of vacuum sewer collection system, a vacuum sewer collection system described in Patent Document 1 is known.

特許文献1の真空式下水道収集システムでは、真空タンクに連通するライン(真空系)が真空弁ユニットに接続されている。真空弁ユニットは、第一端部が汚水ます内に配置された吸込管及び圧力センサ管と、吸込管とラインとの間に配置された真空弁と、真空弁の開閉動作を制御する真空弁制御装置とを備えている。   In the vacuum sewer collection system of Patent Document 1, a line (vacuum system) communicating with a vacuum tank is connected to a vacuum valve unit. The vacuum valve unit includes a suction pipe and a pressure sensor pipe whose first end is disposed in a sewage basin, a vacuum valve disposed between the suction pipe and the line, and a vacuum valve that controls opening and closing operations of the vacuum valve. A control device.

真空弁制御装置内には、第一ダイヤフラムを挟んで第一室及び第二室が形成され、第二ダイヤフラムを挟んで第三室及び第四室が形成されている。真空弁制御装置内には、各ダイヤフラムの厚さ方向に延びるシャフト(軸状体)が配置されている。真空弁制御装置内には隔壁を介して隣り合う第五室及び第六室が形成されている。シャフトの端部には弁体が固定されている。第五室と第六室との間の隔壁、及び第六室におけるこの隔壁に対向する壁には、貫通孔が形成された弁座が設けられている。シャフトがシャフトの軸線方向に往復動することで、一対の弁座の一方を封止する。
吸込管、圧力センサ管、及び真空弁と、真空弁制御装置の各室とは、フレキシブルチューブで接続されている。
In the vacuum valve control device, a first chamber and a second chamber are formed with the first diaphragm interposed therebetween, and a third chamber and a fourth chamber are formed with the second diaphragm interposed therebetween. A shaft (shaft) extending in the thickness direction of each diaphragm is arranged in the vacuum valve control device. A fifth chamber and a sixth chamber adjacent to each other via a partition are formed in the vacuum valve control device. A valve body is fixed to an end of the shaft. The partition wall between the fifth chamber and the sixth chamber, and the wall of the sixth chamber facing the partition wall are provided with a valve seat having a through hole. The shaft reciprocates in the axial direction of the shaft to seal one of the pair of valve seats.
The suction pipe, the pressure sensor pipe, the vacuum valve, and each chamber of the vacuum valve control device are connected by a flexible tube.

以上のように構成された真空弁ユニットは、以下のように動作する。予め、真空弁は閉じ、弁座は隔壁の弁座を封止している。
汚水ます内の汚水の水位が所定の高さ以上になると、圧力センサ管内の汚水の水位が高くなることにより、真空弁制御装置の第一室内の空気の圧力と第二室内の空気の圧力とに差が生じる。この圧力差により、真空弁制御装置のシャフトが移動する。弁座が壁の弁座を封止し、真空弁を開かせる。真空タンクの吸引力により、吸込管、真空弁、ラインを通して汚水が流れ、汚水が汚水処理施設等で処理される。このとき、吸込管内を流れる汚水により、第三室内の空気の圧力と第四室内の空気の圧力とに差が生じる。これにより、弁座が壁の弁座に押付けられる。
The vacuum valve unit configured as described above operates as follows. In advance, the vacuum valve is closed and the valve seat seals the valve seat of the partition.
When the water level of the sewage in the sewage basin is higher than a predetermined height, the water level of the sewage in the pressure sensor pipe increases, and the air pressure in the first chamber and the air pressure in the second chamber of the vacuum valve control device become Differences occur. This pressure difference causes the shaft of the vacuum valve controller to move. The valve seat seals the valve seat on the wall and opens the vacuum valve. By the suction force of the vacuum tank, sewage flows through a suction pipe, a vacuum valve, and a line, and the sewage is treated in a sewage treatment facility or the like. At this time, a difference occurs between the pressure of the air in the third room and the pressure of the air in the fourth room due to the sewage flowing in the suction pipe. Thereby, the valve seat is pressed against the valve seat on the wall.

汚水の水位が下がり第一室内の空気の圧力が大気圧になっても、第三室内の空気の圧力と第四室内の空気の圧力とに差が生じている間は、真空弁は開いたままである。
汚水ます内の汚水の水位が吸込管の第一端部よりも下がると、吸込管内を汚水が流れなくなり、第三室内の空気の圧力と第四室内の空気の圧力との差が小さくなる。このため、バネの反力でシャフトが移動して、弁座が隔壁の弁座を封止する。真空弁が閉じ、吸込管内等を通して汚水が流れなくなる。
Even if the water level of the sewage drops and the pressure of the air in the first room reaches the atmospheric pressure, the vacuum valve remains open while there is a difference between the air pressure in the third room and the air pressure in the fourth room. Up to.
When the level of the sewage in the sewage tank falls below the first end of the suction pipe, the sewage does not flow through the suction pipe, and the difference between the pressure of the air in the third chamber and the pressure of the air in the fourth chamber decreases. For this reason, the shaft is moved by the reaction force of the spring, and the valve seat seals the valve seat of the partition wall. The vacuum valve closes and sewage stops flowing through the suction pipe and the like.

特開2011−196113号公報JP 2011-196113 A

しかしながら、この真空弁制御装置では、真空弁制御装置の制御により自動的に真空弁が開かない場合等に、真空弁を強制的に開かせて吸込管内を汚水が流れる状態に切り換えることができない。   However, in this vacuum valve control device, when the vacuum valve is not automatically opened by the control of the vacuum valve control device, the vacuum valve cannot be forcibly opened to switch to a state in which sewage flows in the suction pipe.

本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであって、手動により操作することで吸込管内を汚水が流れない状態から吸込管内を汚水が流れる状態に切り換えることができる真空弁制御装置、及びこの真空弁制御装置を備える真空弁ユニットを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and is a vacuum valve control device that can be manually operated to switch from a state in which sewage does not flow in a suction pipe to a state in which sewage flows in a suction pipe. , And a vacuum valve unit provided with the vacuum valve control device.

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の真空弁制御装置は、第一端部が汚水ます内に配置された吸込管と汚水を真空吸引力によって移送させる真空系との間に配置され、真空及び大気圧を供給することで開閉動作する真空弁を制御する真空弁制御装置であって、前記真空弁の開閉動作のために供給する真空及び大気圧を切換える真空弁開閉機構と、前記真空弁開閉機構を作動させる往復動可能な軸状体と、前記軸状体を、前記真空弁を閉じる方向に付勢するバネと、前記軸状体と一体に往復動可能な第一ダイヤフラム及び第二ダイヤフラムと、前記第一ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第一室及び第二室と、前記第二ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第三室及び第四室と、前記第一ダイヤフラムにおける前記軸状体の径方向の外側に取付けられた第一磁力発生体と、前記第一室、前記第二室、前記第三室、及び前記第四室が内部に形成された筐体と、前記筐体の前記第一室を形成するとともに前記第一ダイヤフラムに対向する壁部に取付けられ、前記第一磁力発生体との間で引き合う磁力を生じ、前記第一磁力発生体とが接近したときに前記真空弁が閉じ、前記第一磁力発生体と離間したときに前記真空弁が開く第二磁力発生体と、前記壁部に設けられ、前記軸状体の軸線方向に移動可能であって、前記軸状体を前記軸線方向に移動させる移動部材と、
を備え、前記第二磁力発生体は、前記軸線周りに間隔を空けて複数配置されていることを特徴としている。
In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
The vacuum valve control device of the present invention is arranged between a suction pipe arranged at one end in a sewage basin and a vacuum system for transferring sewage by a vacuum suction force to supply vacuum and atmospheric pressure. A vacuum valve control device that controls a vacuum valve that opens and closes, a vacuum valve opening and closing mechanism that switches between vacuum and atmospheric pressure supplied for opening and closing the vacuum valve, and a reciprocating mechanism that operates the vacuum valve opening and closing mechanism. A shaft body, a spring for urging the shaft body in a direction to close the vacuum valve, a first diaphragm and a second diaphragm that can reciprocate integrally with the shaft body, and a first diaphragm. A first chamber and a second chamber for generating a differential pressure on both sides to move the shaft in the direction in which the vacuum valve is opened, and a differential pressure on both sides of the second diaphragm to generate the shaft, The third chamber for moving the vacuum valve in the opening direction A fourth magnetic chamber, a first magnetic force generator attached to the first diaphragm radially outside the shaft body, the first chamber, the second chamber, the third chamber, and the fourth chamber. A housing in which a chamber is formed, and a first chamber of the housing, which forms the first chamber and is attached to a wall facing the first diaphragm to generate a magnetic force attracting the first magnetic force generator. The second magnetic force generator, wherein the vacuum valve closes when the first magnetic force generator approaches and the second magnetic force generator opens when the vacuum valve opens when separated from the first magnetic force generator, A moving member that is movable in the axial direction of the shaft body, and that moves the shaft body in the axial direction;
Bei example, the second magnetic force generating member and is characterized by being more spaced around said axis.

この発明によれば、真空弁を強制的に開かせる前には、第一磁力発生体と第二磁力発生体とが接近して真空弁が閉じ、吸込管内を汚水が流れない状態になっている。使用者が移動部材を操作して軸状体を軸線方向に移動させ第一磁力発生体と第二磁力発生体とを離間させると、真空弁が開いて吸込管内を汚水が流れる。
また、第一磁力発生体と第二磁力発生体との間で軸線周りにほぼ均等に磁力を生じさせ、壁部に対して軸状体が傾くのを抑えることができる。
According to the present invention, before the vacuum valve is forcibly opened, the first magnetic force generator and the second magnetic force generator approach to close the vacuum valve, so that no wastewater flows in the suction pipe. I have. When the user operates the moving member to move the shaft in the axial direction to separate the first magnetic force generator from the second magnetic force generator, the vacuum valve is opened and sewage flows through the suction pipe.
In addition, a magnetic force is generated almost uniformly around the axis between the first magnetic force generator and the second magnetic force generator, and the inclination of the shaft body with respect to the wall can be suppressed.

また、本発明の真空弁制御装置は、第一端部が汚水ます内に配置された吸込管と汚水を真空吸引力によって移送させる真空系との間に配置され、真空及び大気圧を供給することで開閉動作する真空弁を制御する真空弁制御装置であって、前記真空弁の開閉動作のために供給する真空及び大気圧を切換える真空弁開閉機構と、前記真空弁開閉機構を作動させる往復動可能な軸状体と、前記軸状体を、前記真空弁を閉じる方向に付勢するバネと、前記軸状体と一体に往復動可能な第一ダイヤフラム及び第二ダイヤフラムと、前記第一ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第一室及び第二室と、前記第二ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第三室及び第四室と、前記第一ダイヤフラムにおける前記軸状体の径方向の外側に取付けられた第一磁力発生体と、前記第一室、前記第二室、前記第三室、及び前記第四室が内部に形成された筐体と、前記筐体の前記第一室を形成するとともに前記第一ダイヤフラムに対向する壁部に取付けられ、前記第一磁力発生体との間で引き合う磁力を生じ、前記第一磁力発生体とが接近したときに前記真空弁が閉じ、前記第一磁力発生体と離間したときに前記真空弁が開く第二磁力発生体と、前記壁部に設けられ、前記軸状体の軸線方向に移動可能であって、前記軸状体を前記軸線方向に移動させる移動部材と、を備え、前記第二磁力発生体は、前記軸線を中心軸とするリング状に形成されていることを特徴としている。
この発明によれば、真空弁を強制的に開かせる前には、第一磁力発生体と第二磁力発生体とが接近して真空弁が閉じ、吸込管内を汚水が流れない状態になっている。使用者が移動部材を操作して軸状体を軸線方向に移動させ第一磁力発生体と第二磁力発生体とを離間させると、真空弁が開いて吸込管内を汚水が流れる。
また、第一磁力発生体と第二磁力発生体との間で軸線周りにより均等に磁力を生じさせ、壁部に対して軸状体が傾くのをより確実に抑えることができる。
In addition, the vacuum valve control device of the present invention is arranged between a suction pipe whose first end is disposed in a sewage basin and a vacuum system that transfers sewage by vacuum suction, and supplies vacuum and atmospheric pressure. A vacuum valve control device that controls a vacuum valve that opens and closes by switching between a vacuum and an atmospheric pressure supplied for opening and closing the vacuum valve, and a reciprocating mechanism that operates the vacuum valve opening and closing mechanism. A movable shaft, a spring that biases the shaft in a direction to close the vacuum valve, a first diaphragm and a second diaphragm that can reciprocate integrally with the shaft, A first chamber and a second chamber for generating a differential pressure on both sides of the diaphragm to move the shaft in a direction to open the vacuum valve, and a differential pressure on both sides of the second diaphragm to generate the differential pressure, Moving the body in the direction to open the vacuum valve A third chamber and a fourth chamber, a first magnetic force generator attached to the first diaphragm radially outside the shaft-like body, the first chamber, the second chamber, the third chamber, and the A housing in which four chambers are formed, and a magnetic force attracting between the first magnetic force generator and being attached to a wall that forms the first chamber of the housing and faces the first diaphragm. Occurs, the vacuum valve is closed when the first magnetic force generator approaches, and the second magnetic force generator that opens when the vacuum valve is separated from the first magnetic force generator, provided on the wall portion, A moving member that is movable in the axial direction of the shaft-like body, and that moves the shaft-like body in the axial direction, wherein the second magnetic force generator has a ring shape with the axis as a central axis. It is characterized by being formed .
According to the present invention, before the vacuum valve is forcibly opened, the first magnetic force generator and the second magnetic force generator approach to close the vacuum valve, so that no wastewater flows in the suction pipe. I have. When the user operates the moving member to move the shaft in the axial direction to separate the first magnetic force generator from the second magnetic force generator, the vacuum valve is opened and sewage flows through the suction pipe.
In addition, a magnetic force can be generated more uniformly around the axis between the first magnetic force generator and the second magnetic force generator, and the inclination of the shaft-like body with respect to the wall can be suppressed more reliably.

また、上記の真空弁制御装置において、前記第一磁力発生体は鉄板であり、前記第二磁力発生体は永久磁石であってもよい。
この発明によれば、鉄板及び永久磁石という簡単な構成で鉄板と永久磁石との間に磁力を発生させることができる。
In the above-described vacuum valve control device, the first magnetic force generator may be an iron plate, and the second magnetic force generator may be a permanent magnet.
According to the present invention, a magnetic force can be generated between the iron plate and the permanent magnet with a simple configuration including the iron plate and the permanent magnet.

また、本発明の真空弁ユニットは、上記のいずれかに記載の真空弁制御装置と、前記吸込管と、前記真空弁と、を備えることを特徴としている。
この発明によれば、手動により操作することで吸込管内を汚水が流れる状態に切り換えることができる真空弁制御装置で、真空弁を開閉させることができる。
Further, a vacuum valve unit according to the present invention includes any one of the above-described vacuum valve control devices, the suction pipe, and the vacuum valve.
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, a vacuum valve can be opened and closed by the vacuum valve control apparatus which can switch to the state in which sewage flows in a suction pipe by operating manually.

本発明の真空弁制御装置及び真空弁ユニットによれば、手動により操作することで吸込管内を汚水が流れない状態から吸込管内を汚水が流れる状態に切り換えることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to the vacuum valve control apparatus and the vacuum valve unit of this invention, it can switch by the manual operation from the state in which sewage does not flow in a suction pipe to the state in which sewage flows in a suction pipe.

本発明の一実施形態の真空弁ユニットの側面図である。It is a side view of the vacuum valve unit of one embodiment of the present invention. 同真空弁ユニットを模式的に示す側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface which shows the same vacuum valve unit typically. 同真空弁ユニットを模式的に示す平面図である。It is a top view which shows the same vacuum valve unit typically. 同真空弁ユニットの作用を説明するための模式的に示す側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface shown typically for demonstrating the effect | action of the same vacuum valve unit. 同真空弁ユニットの作用を説明するための模式的に示す側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface shown typically for demonstrating the effect | action of the same vacuum valve unit. 同真空弁ユニットの真空弁を強制的に開かせる場合の手順を説明するための模式的に示す側面の断面図である。It is sectional drawing of the side surface typically shown for demonstrating the procedure at the time of forcibly opening the vacuum valve of the same vacuum valve unit. 本発明の変形例の実施形態における真空弁ユニットを模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the vacuum valve unit in embodiment of the modification of this invention.

以下、本発明に係る真空弁ユニットの一実施形態を、図1から図7を参照しながら説明する。
図1は、後述する汚水ます101、真空弁12、真空弁制御装置21等の寸法及び形状を、図2以下に比べて比較的正確に示したものである。図2以下は、説明の便宜のために汚水ます101等の寸法及び形状を調節して模式的に示したものである。
図1及び図2に示すように、本真空弁ユニット1は、吸込管11と、真空弁12と、本実施形態の真空弁制御装置21と、を備えている。
地面G内に埋設された汚水ます101内には、吸込管11の第一端部及び圧力センサ管14の第一端部が配置されている。汚水ます101の上部の開口は、蓋101aで覆われている。
Hereinafter, an embodiment of a vacuum valve unit according to the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 shows the sizes and shapes of a sewage chamber 101, a vacuum valve 12, a vacuum valve control device 21, and the like, which will be described later, relatively more accurately than those shown in FIG. FIG. 2 et seq. Schematically shows the size and shape of the sewage tank 101 and the like adjusted for convenience of explanation.
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the present vacuum valve unit 1 includes a suction pipe 11, a vacuum valve 12, and a vacuum valve control device 21 of the present embodiment.
A first end of the suction pipe 11 and a first end of the pressure sensor pipe 14 are arranged in a sewage trough 101 buried in the ground G. The upper opening of the sewage trough 101 is covered with a lid 101a.

本真空弁制御装置21は、吸込管11と汚水Wを真空吸引力によって移送させるライン(真空系)103との間に配置されている前述の真空弁12を制御する。真空弁制御装置21は、ケーシング(筐体)22と、ケーシング22内に配置されたシャフト(軸状体)23、シャフト付勢バネ(バネ)24、第一ダイヤフラム25、第二ダイヤフラム26、第一室27、第二室28、第三室29、及び第四室30、とを備えている。   The vacuum valve control device 21 controls the above-described vacuum valve 12 disposed between the suction pipe 11 and a line (vacuum system) 103 for transferring the sewage W by a vacuum suction force. The vacuum valve control device 21 includes a casing (housing) 22, a shaft (shaft) 23 disposed in the casing 22, a shaft urging spring (spring) 24, a first diaphragm 25, a second diaphragm 26, A first chamber 27, a second chamber 28, a third chamber 29, and a fourth chamber 30 are provided.

本実施形態では、図2及び図3に示すように、ケーシング22は、円柱形に形成された本体33と、本体33にボルト34で取付けられた蓋部(壁部)35と、を有する。ボルト34は、本体33の軸線となるシャフト23の軸線C周りに間隔を空けて複数配置されている。
本体33には、本体33の軸線C方向の第一端部33aから第二端部33bに向けて第一隔壁37、第二隔壁38、及び第三隔壁39が互いに間隔を空けて形成されている。
ケーシング22は、第一端部33aよりも第二端部33bが下方Z1になるように配置されている。すなわち、本体33は、本体33の軸線に沿う方向が上下方向になるように配置されている。
In this embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the casing 22 has a main body 33 formed in a cylindrical shape, and a lid (wall) 35 attached to the main body 33 with bolts 34. The plurality of bolts 34 are arranged at intervals around the axis C of the shaft 23 which is the axis of the main body 33.
In the main body 33, a first partition 37, a second partition 38, and a third partition 39 are formed at an interval from the first end 33a in the direction of the axis C of the main body 33 toward the second end 33b. I have.
The casing 22 is arranged such that the second end 33b is lower Z1 than the first end 33a. That is, the main body 33 is arranged so that the direction along the axis of the main body 33 is the vertical direction.

蓋部35と第一隔壁37との間に形成される内部空間の軸線C方向の中間部には、前述の第一ダイヤフラム25が配置されている。第一ダイヤフラム25は、この内部空間を第二端部33bから遠い内部空間である第一室27と、第二端部33bに近い内部空間である第二室28と、に区画する。第二室28内の空気の圧力よりも第一室27内の空気の圧力が高くなることで、第一室27及び第二室28は第一ダイヤフラム25の両側に差圧を生じさせて、シャフト23を真空弁12を開く方向に移動させる。真空弁12を開く方向は、第一端部33aから第二端部33bに向かう方向、すなわち下方Z1である。
第二室28は、図示しない配管を介して外気に連通する。
The above-mentioned first diaphragm 25 is arranged at an intermediate portion in the direction of the axis C of the internal space formed between the lid 35 and the first partition 37. The first diaphragm 25 divides this internal space into a first chamber 27, which is an internal space far from the second end 33b, and a second chamber 28, which is an internal space near the second end 33b. Since the pressure of the air in the first chamber 27 is higher than the pressure of the air in the second chamber 28, the first chamber 27 and the second chamber 28 generate a differential pressure on both sides of the first diaphragm 25, The shaft 23 is moved in a direction to open the vacuum valve 12. The direction in which the vacuum valve 12 is opened is a direction from the first end 33a to the second end 33b, that is, the downward direction Z1.
The second chamber 28 communicates with outside air via a pipe (not shown).

第一ダイヤフラム25は、ゴム等の弾性を有する材料で円板形に形成されている。第一ダイヤフラム25には、鉄板(鉄製の板材、第一磁力発生体)41が取付けられている。鉄板41は、例えばフェライト等の材料で円板形に形成されている。すなわち、鉄板41は、少なくとも第一ダイヤフラム25におけるシャフト23の径方向の外側に取付けられている。鉄板41は十分に薄く形成されていて、第一ダイヤフラム25が変形したときに鉄板41は第一ダイヤフラム25と一体となって変形する。   The first diaphragm 25 is formed in a disc shape with an elastic material such as rubber. An iron plate (iron plate material, first magnetic force generator) 41 is attached to the first diaphragm 25. The iron plate 41 is formed in a disk shape with a material such as ferrite, for example. That is, the iron plate 41 is attached to at least the radial outer side of the shaft 23 in the first diaphragm 25. The iron plate 41 is formed sufficiently thin, and when the first diaphragm 25 is deformed, the iron plate 41 is deformed integrally with the first diaphragm 25.

図2及び図3に示すように、ケーシング22の第一室27を形成するとともに第一ダイヤフラム25に対向する蓋部35には、永久磁石(第二磁力発生体)43が複数取付けられている。なお、ここで言う対向とは、第一ダイヤフラム25と蓋部35とが離間している場合だけでなく接触している場合も含む。第一ダイヤフラム25と蓋部35との間に、他の部材が配置されている場合も含む。
複数の永久磁石43は、軸線C周りに間隔を空けて配置されている。複数の永久磁石43は、軸線C周りに等角度ごとに配置されていることが好ましい。各永久磁石43は、蓋部35における第一ダイヤフラム25に対向する面に接着剤等により取付けられている。
As shown in FIGS. 2 and 3, a plurality of permanent magnets (second magnetic force generators) 43 are attached to the lid 35 that forms the first chamber 27 of the casing 22 and faces the first diaphragm 25. . Here, the term “opposite” includes not only a case where the first diaphragm 25 and the cover 35 are separated but also a case where the first diaphragm 25 and the cover 35 are in contact with each other. The case where another member is arranged between the first diaphragm 25 and the lid 35 is also included.
The plurality of permanent magnets 43 are arranged at intervals around the axis C. The plurality of permanent magnets 43 are preferably arranged at equal angles around the axis C. Each permanent magnet 43 is attached to a surface of the lid 35 facing the first diaphragm 25 by an adhesive or the like.

各永久磁石43は、鉄板41との間で引き合う磁力を生じる。各永久磁石43に第一ダイヤフラム25が接触する等により永久磁石43と鉄板41とが接近すると、永久磁石43と鉄板41とに作用する磁力が強くなる。複数の永久磁石43が軸線C周りに間隔を空けて配置されていることで、永久磁石43と鉄板41との間で軸線C周りにほぼ均等に磁力が生じ、蓋部35に対してシャフト23を構成する第一シャフト23aが傾くのが抑えられる。
一方で、各永久磁石43と鉄板41とが離間すると、永久磁石43と鉄板41とに作用する磁力が弱くなる。
第一磁力発生体が鉄板41であり、第二磁力発生体が永久磁石43である。鉄板41及び永久磁石43という簡単な構成で、鉄板41と永久磁石43との間に磁力が発生する。
Each permanent magnet 43 generates a magnetic force attracting the iron plate 41. When the permanent magnet 43 and the iron plate 41 approach each other due to the first diaphragm 25 contacting each permanent magnet 43, the magnetic force acting on the permanent magnet 43 and the iron plate 41 increases. Since the plurality of permanent magnets 43 are arranged at intervals around the axis C, a magnetic force is generated substantially uniformly around the axis C between the permanent magnet 43 and the iron plate 41, and the shaft 23 Of the first shaft 23a is suppressed.
On the other hand, when the permanent magnets 43 and the iron plate 41 are separated from each other, the magnetic force acting on the permanent magnets 43 and the iron plate 41 becomes weak.
The first magnetic force generator is the iron plate 41, and the second magnetic force generator is the permanent magnet 43. With a simple configuration of the iron plate 41 and the permanent magnet 43, a magnetic force is generated between the iron plate 41 and the permanent magnet 43.

蓋部35には、蓋部35に対して軸線C方向に移動可能なスイッチ(移動部材)45が設けられている。より詳しくは、蓋部35には軸線C上に軸線C方向に貫通する貫通孔35aが形成されていて、この貫通孔35aにスイッチ45が挿通されている。スイッチ45は、軸線Cを軸とする円柱状に形成されている。スイッチ45は、例えばつる巻きバネであるスイッチ付勢バネ46内に挿通されている。スイッチ45及びスイッチ付勢バネ46は、蓋部35の貫通孔35aを封止するカバー47で覆われている。スイッチ45の端部は、第一ダイヤフラム25の上面に接触している。
スイッチ45に外力が作用していないときには、スイッチ45はスイッチ付勢バネ46の付勢力により上方Z2(本体33の第二端部33bから第一端部33aに向かう方向)に移動している。一方で、使用者が、スイッチ付勢バネ46の付勢力に抗して蓋部35に対してスイッチ45を下方Z1に移動させると、第一シャフト23aが下方Z1に移動する。
The cover (35) is provided with a switch (moving member) 45 that can move in the direction of the axis C with respect to the cover (35). More specifically, a through hole 35a is formed in the lid 35 on the axis C in the direction of the axis C, and the switch 45 is inserted through the through hole 35a. The switch 45 is formed in a column shape having the axis C as an axis. The switch 45 is inserted into a switch biasing spring 46 which is, for example, a helical spring. The switch 45 and the switch biasing spring 46 are covered with a cover 47 that seals the through hole 35 a of the lid 35. The end of the switch 45 is in contact with the upper surface of the first diaphragm 25.
When no external force is applied to the switch 45, the switch 45 is moved upward Z2 (in a direction from the second end 33b of the main body 33 toward the first end 33a) by the urging force of the switch urging spring 46. On the other hand, when the user moves the switch 45 downward Z1 with respect to the lid 35 against the urging force of the switch urging spring 46, the first shaft 23a moves downward Z1.

第一ダイヤフラム25には、第一シャフト23aが第一ダイヤフラム25から下方Z1に延びるように固定されている。すなわち、第一ダイヤフラム25は第一シャフト23aと一体になって軸線C方向に往復動する。第一シャフト23aは、第一隔壁37に固定されず、第一隔壁37に対して軸線C方向に移動可能に第一隔壁37を挿通している。第一隔壁37と第一シャフト23aとの間には、符号を省略したシール機構が設けられている。
第一シャフト23aは、シャフト付勢バネ24を構成する第一シャフト付勢バネ24a内に挿通されている。第一シャフト付勢バネ24aは、本体33に対して第一シャフト23a及び第一ダイヤフラム25を、後述する真空弁12を閉じる方向、すなわち上方Z2に付勢する。
第一シャフト23aの端部は、第二ダイヤフラム26の上面に接触している。
A first shaft 23a is fixed to the first diaphragm 25 so as to extend downward Z1 from the first diaphragm 25. That is, the first diaphragm 25 reciprocates in the direction of the axis C integrally with the first shaft 23a. The first shaft 23a is not fixed to the first partition 37, but passes through the first partition 37 so as to be movable in the direction of the axis C with respect to the first partition 37. Between the first partition 37 and the first shaft 23a, there is provided a seal mechanism whose reference numeral is omitted.
The first shaft 23a is inserted into the first shaft urging spring 24a constituting the shaft urging spring 24. The first shaft urging spring 24a urges the first shaft 23a and the first diaphragm 25 with respect to the main body 33 in a direction in which the vacuum valve 12 described later is closed, that is, in the upward direction Z2.
The end of the first shaft 23a is in contact with the upper surface of the second diaphragm 26.

第一隔壁37と第二隔壁38との間に形成される内部空間の軸線C方向の中間部には、前述の第二ダイヤフラム26が配置されている。第二ダイヤフラム26は、この内部空間を第一端部33aに近い内部空間である第三室29と、第二端部33bに近い内部空間である第四室30と、に区画する。第四室30内の空気の圧力よりも第三室29内の空気の圧力が高くなることで、第三室29及び第四室30は第二ダイヤフラム26の両側に差圧を生じさせて、シャフト23を下方Z1に移動させる。   The above-mentioned second diaphragm 26 is disposed at an intermediate portion of the internal space formed between the first partition 37 and the second partition 38 in the direction of the axis C. The second diaphragm 26 partitions this internal space into a third chamber 29, which is an internal space near the first end 33a, and a fourth chamber 30, which is an internal space near the second end 33b. Since the pressure of the air in the third chamber 29 is higher than the pressure of the air in the fourth chamber 30, the third chamber 29 and the fourth chamber 30 generate a differential pressure on both sides of the second diaphragm 26, The shaft 23 is moved downward Z1.

第二ダイヤフラム26には、シャフト23を構成する第二シャフト23bが第二ダイヤフラム26から下方Z1に延びるように固定されている。すなわち、第二ダイヤフラム26は第二シャフト23bと一体になって軸線C方向に往復動する。第二シャフト23bは、第二隔壁38に固定されず、第二隔壁38に対して軸線C方向に移動可能に第二隔壁38を挿通している。第二隔壁38と第二シャフト23bとの間には、符号を省略したシール機構が設けられている。
第二シャフト23bは、シャフト付勢バネ24を構成する第二シャフト付勢バネ24b内に挿通されている。第二シャフト付勢バネ24bは、第二シャフト23b及び第二ダイヤフラム26を上方Z2に付勢する。
A second shaft 23b constituting the shaft 23 is fixed to the second diaphragm 26 so as to extend downward Z1 from the second diaphragm 26. That is, the second diaphragm 26 reciprocates in the direction of the axis C integrally with the second shaft 23b. The second shaft 23b is not fixed to the second partition 38, but passes through the second partition 38 so as to be movable in the direction of the axis C with respect to the second partition 38. Between the second partition wall 38 and the second shaft 23b, a seal mechanism whose reference numeral is omitted is provided.
The second shaft 23b is inserted into a second shaft urging spring 24b constituting the shaft urging spring 24. The second shaft urging spring 24b urges the second shaft 23b and the second diaphragm 26 upward Z2.

本体33における第四室30よりも下方Z1には、第五室50及び第六室51が形成されている。すなわち、ケーシング22の内部には、第一室27、第二室28、第三室29、第四室30、第五室50、及び第六室51が形成されている。本体33には、第二隔壁38を挟んで第四室30とは反対の位置に第五室50が形成されている。本体33には、第三隔壁39を挟んで第五室50とは反対の位置に第六室51が形成されている。
第三隔壁39には、貫通孔が形成された弁座53が軸線C上に配置されている。
本体33における第三隔壁39に対向する壁部には、貫通孔54aが形成された弁座54が軸線C上に配置されている。弁座54は、弁座53よりも下方Z1に配置されている。弁座54の貫通孔54aにより、第六室51は外気に連通している。
Below the fourth chamber 30 in the main body 33, a fifth chamber 50 and a sixth chamber 51 are formed. That is, the first chamber 27, the second chamber 28, the third chamber 29, the fourth chamber 30, the fifth chamber 50, and the sixth chamber 51 are formed inside the casing 22. A fifth chamber 50 is formed in the main body 33 at a position opposite to the fourth chamber 30 with the second partition 38 interposed therebetween. A sixth chamber 51 is formed in the main body 33 at a position opposite to the fifth chamber 50 with the third partition wall 39 interposed therebetween.
In the third partition wall 39, a valve seat 53 having a through hole is arranged on the axis C.
A valve seat 54 having a through-hole 54 a is arranged on the axis C in a wall portion of the main body 33 facing the third partition wall 39. The valve seat 54 is disposed below the valve seat 53 at Z1. The sixth chamber 51 communicates with the outside air by the through hole 54 a of the valve seat 54.

第二シャフト23bの第六室51内に配置されている端部には、弁体56が固定されている。なお、第五室50、第六室51、弁体56、及び貫通孔54aは、真空弁12の開閉動作のために供給する真空及び大気圧を切換える真空弁開閉機構55を構成する。シャフト23a、23bを有するシャフト23は、後述するように軸線C方向に往復動することで真空弁開閉機構55を作動させる。
第二シャフト23bが上方Z2に移動して弁座53に弁体56が接触すると、弁座53の貫通孔が弁体56により封止される。このとき、弁座54の貫通孔54aが封止されていないことで、第六室51が外気に連通する。
一方で、第二シャフト23bが下方Z1に移動して弁座54に弁体56が接触すると、弁座54の貫通孔54aが弁体56により封止される。このとき、弁座53の貫通孔が封止されていないことで、第五室50と第六室51とが連通する。
A valve body 56 is fixed to an end of the second shaft 23b disposed in the sixth chamber 51. The fifth chamber 50, the sixth chamber 51, the valve body 56, and the through-hole 54a constitute a vacuum valve opening / closing mechanism 55 that switches between vacuum and atmospheric pressure supplied for opening / closing the vacuum valve 12. The shaft 23 having the shafts 23a and 23b operates the vacuum valve opening / closing mechanism 55 by reciprocating in the direction of the axis C as described later.
When the second shaft 23b moves upward Z2 and the valve body 56 comes into contact with the valve seat 53, the through hole of the valve seat 53 is sealed by the valve body 56. At this time, since the through hole 54a of the valve seat 54 is not sealed, the sixth chamber 51 communicates with the outside air.
On the other hand, when the second shaft 23b moves downward Z1 and the valve body 56 comes into contact with the valve seat 54, the through hole 54a of the valve seat 54 is sealed by the valve body 56. At this time, the fifth chamber 50 and the sixth chamber 51 communicate with each other because the through hole of the valve seat 53 is not sealed.

図2に示すように、吸込管11には、吸込管11の長手方向である上下方向に間隔を空けて連通孔11a、11bが形成されている。連通孔11aは、連通孔11bよりも上方Z2に形成されている。吸込管11におけるライン103との接続部と連通孔11aとの間には、外気に連通する空気吸込管11cが設けられている。
連通孔11aは、連結管61を介して第四室30に連通している。連通孔11bは、連結管62を介して第三室29に連通している。圧力センサ管14は、連結管63を介して第一室27に連通している。
As shown in FIG. 2, communication holes 11 a and 11 b are formed in the suction pipe 11 at intervals in a vertical direction which is a longitudinal direction of the suction pipe 11. The communication hole 11a is formed above Z2 above the communication hole 11b. An air suction pipe 11c communicating with the outside air is provided between the connection part of the suction pipe 11 with the line 103 and the communication hole 11a.
The communication hole 11a communicates with the fourth chamber 30 via the connection pipe 61. The communication hole 11b communicates with the third chamber 29 via the connection pipe 62. The pressure sensor pipe 14 communicates with the first chamber 27 via a connection pipe 63.

真空弁12は、ピストン室12a内に配置されたダイヤフラム12b、及び、ダイヤフラム12bを付勢する真空弁用バネ12cを有している。ダイヤフラム12bには、弁体12dが固定されている。
シャフト23が上方Z2に移動して後述するように真空弁12のピストン室12a内の空気の圧力が大気圧PMのときは、真空弁用バネ12cが伸びて弁体12dが吸込管11とライン103との接続部に接触する。これにより吸込管11とライン103とが弁体12dにより遮断された状態になり、真空弁12が閉じる。
一方で、シャフト23が下方Z1に移動して後述するようにピストン室12a内が負圧(真空)PLのときは、真空弁用バネ12cが縮んで弁体12dが吸込管11とライン103との接続部から離間する。これにより吸込管11とライン103とが連通された状態になり、真空弁12が開く。
このように、真空弁12は、ピストン室12a内に真空及び大気圧を供給することで開閉動作する。
The vacuum valve 12 has a diaphragm 12b arranged in the piston chamber 12a, and a vacuum valve spring 12c for urging the diaphragm 12b. A valve element 12d is fixed to the diaphragm 12b.
When the shaft 23 moves upward Z2 and the pressure of the air in the piston chamber 12a of the vacuum valve 12 is the atmospheric pressure PM as described later, the spring 12c for the vacuum valve is extended, and the valve body 12d is connected to the suction pipe 11 by a line. It comes into contact with the connection portion with 103. Thus, the suction pipe 11 and the line 103 are cut off by the valve body 12d, and the vacuum valve 12 is closed.
On the other hand, when the shaft 23 moves downward Z1 and the inside of the piston chamber 12a is at a negative pressure (vacuum) PL as described later, the vacuum valve spring 12c contracts, and the valve body 12d moves between the suction pipe 11 and the line 103. Away from the connection. As a result, the suction pipe 11 and the line 103 are in communication with each other, and the vacuum valve 12 is opened.
Thus, the vacuum valve 12 opens and closes by supplying vacuum and atmospheric pressure into the piston chamber 12a.

ピストン室12aは、連結管65を介して第六室51に連通している。ライン103は、連結管66を介して第五室50に連通している。
連結管61、62、63、65、66は、長手方向の中間部が束ねられて連結管セット67を構成している。連結管セット67は、ポリエチレン等の樹脂で形成することができる。連結管セット67の長手方向の中間部は、汚水ます101に取付けられた仕切り板105の連通孔105aに挿通されている。仕切り板105は、使用者の足場として用いられる。
The piston chamber 12a communicates with the sixth chamber 51 via the connection pipe 65. The line 103 communicates with the fifth chamber 50 via the connecting pipe 66.
The connecting pipes 61, 62, 63, 65, and 66 form a connecting pipe set 67 by bundling the intermediate portions in the longitudinal direction. The connection pipe set 67 can be formed of a resin such as polyethylene. An intermediate portion in the longitudinal direction of the connection pipe set 67 is inserted into a communication hole 105 a of a partition plate 105 attached to the sewage tank 101. The partition plate 105 is used as a scaffold for the user.

次に、以上のように構成された真空弁ユニット1の作用について説明する。
図2では、汚水ます101内の汚水Wの水位が比較的低い。圧力センサ管14内の空気の圧力、第一室27内の空気の圧力、及び第二室28内の空気の圧力は大気圧PMである。以下では、正圧PH(大気圧PMよりも高い圧力)の空気を、比較的濃い灰色のドットで示す。負圧PL(大気圧PMよりも低い圧力)の空気を、比較的薄い灰色のドットで示す。大気圧PMの空気を、比較的濃い灰色と比較的薄い灰色との中間の濃さの灰色のドットで示す。第二室28内は常に大気圧PMなので、ドットの記載を省略する。第三室29及び第四室30は、ドットの記載を省略する。
Next, the operation of the vacuum valve unit 1 configured as described above will be described.
In FIG. 2, the water level of the sewage W in the sewage tank 101 is relatively low. The pressure of the air in the pressure sensor tube 14, the pressure of the air in the first chamber 27, and the pressure of the air in the second chamber 28 are the atmospheric pressure PM. In the following, air at a positive pressure PH (pressure higher than the atmospheric pressure PM) is indicated by relatively dark gray dots. Air at negative pressure PL (pressure lower than atmospheric pressure PM) is indicated by relatively light gray dots. Air at atmospheric pressure PM is indicated by gray dots of a medium density between relatively dark gray and relatively light gray. Since the inside of the second chamber 28 is always the atmospheric pressure PM, the description of the dots is omitted. In the third chamber 29 and the fourth chamber 30, the description of dots is omitted.

図2では吸込管11内に汚水Wが流れていないため、第三室29と第四室30との間で空気の圧力差は生じない。シャフト23a、23bは、シャフト付勢バネ24a、24bの付勢力により上方Z2に移動している。スイッチ45は、スイッチ付勢バネ46の付勢力により上方Z2に移動している。
このため、弁座53に弁体56が接触している。弁座54の貫通孔54aが封止されていないことで、第六室51内の空気の圧力は大気圧PMである。第六室51内に連結管65を介して連通するピストン室12a内の空気の圧力は、大気圧PMである。
In FIG. 2, since the waste water W does not flow in the suction pipe 11, there is no air pressure difference between the third chamber 29 and the fourth chamber 30. The shafts 23a and 23b are moved upward Z2 by the urging force of the shaft urging springs 24a and 24b. The switch 45 is moved upward Z2 by the urging force of the switch urging spring 46.
Therefore, the valve body 56 is in contact with the valve seat 53. Since the through hole 54a of the valve seat 54 is not sealed, the pressure of the air in the sixth chamber 51 is the atmospheric pressure PM. The pressure of the air in the piston chamber 12a communicating with the sixth chamber 51 via the connection pipe 65 is the atmospheric pressure PM.

ライン103内は図示しない真空タンクに連通しているため、ライン103内の空気の圧力は負圧PLである。真空弁12のダイヤフラム12bは、ピストン室12a内とライン103内との圧力差により吸込管11とライン103との接続部に近づいている。真空弁用バネ12cが伸び、真空弁12が閉じている。
ライン103に連結管66を介して連通する第五室50内の空気の圧力は負圧PLである。
Since the inside of the line 103 communicates with a vacuum tank (not shown), the pressure of the air in the line 103 is a negative pressure PL. The diaphragm 12b of the vacuum valve 12 approaches the connection between the suction pipe 11 and the line 103 due to the pressure difference between the piston chamber 12a and the line 103. The vacuum valve spring 12c is extended, and the vacuum valve 12 is closed.
The pressure of the air in the fifth chamber 50 communicating with the line 103 via the connection pipe 66 is a negative pressure PL.

図2の状態から、汚水ます101内の汚水Wの水位が上昇すると、真空弁制御装置21は以下に説明する真空弁開き工程を行う。図4に示すように、圧力センサ管14内の空気の圧力が高くなり、正圧PHになる。圧力センサ管14内に連結管63を介して連通する第一室27内の空気の圧力は、正圧PHになる。
第一室27と第二室28との圧力差により、ダイヤフラム25、26はシャフト付勢バネ24a、24bの付勢力及び鉄板41と永久磁石43とに作用する磁力に抗して、シャフト23a、23bとともに下方Z1に移動する。鉄板41と永久磁石43とに作用する磁力が弱くなる。
弁座53から弁体56が離間し、弁座54に弁体56が接触する。弁座53の貫通孔が封止されていないことで、第五室50と第六室51とが連通する。第六室51内の空気の圧力、及び第六室51に連結管65を介して連通するピストン室12a内の空気の圧力が、負圧PLになる。真空弁用バネ12cが縮んで真空弁12が開く。
When the water level of the sewage W in the sewage tank 101 rises from the state of FIG. 2, the vacuum valve control device 21 performs a vacuum valve opening process described below. As shown in FIG. 4, the pressure of the air in the pressure sensor tube 14 increases, and the pressure becomes a positive pressure PH. The pressure of the air in the first chamber 27 communicating with the pressure sensor pipe 14 via the connection pipe 63 becomes a positive pressure PH.
Due to the pressure difference between the first chamber 27 and the second chamber 28, the diaphragms 25, 26 resist the urging force of the shaft urging springs 24a, 24b and the magnetic force acting on the iron plate 41 and the permanent magnet 43, and the shafts 23a, It moves downward Z1 together with 23b. The magnetic force acting on the iron plate 41 and the permanent magnet 43 is weakened.
The valve body 56 is separated from the valve seat 53, and the valve body 56 contacts the valve seat 54. Since the through hole of the valve seat 53 is not sealed, the fifth chamber 50 and the sixth chamber 51 communicate with each other. The pressure of the air in the sixth chamber 51 and the pressure of the air in the piston chamber 12a communicating with the sixth chamber 51 via the connection pipe 65 become the negative pressure PL. The vacuum valve spring 12c contracts and the vacuum valve 12 opens.

吸込管11内の空気の圧力が負圧PLになることで、汚水Wが吸込管11及びライン103内を流れる。このとき、空気吸込管11cを通して吸込管11内に流れ込んだ空気と汚水Wとが混ざり合う。
吸込管11内に汚水Wが流れることで、連結管61及び第四室30内の空気の圧力よりも、連結管62及び第三室29内の空気の圧力が高くなる。第二ダイヤフラム26及び第二シャフト23bが、さらに下方Z1に押付けられる。
吸込管11内に汚水Wが流れて、汚水Wの水面が位置L1まで下がる。このとき、図5に示すように、圧力センサ管14内の空気の圧力及び第一室27内の空気の圧力は大気圧PMになり、第一ダイヤフラム25の両側の室27、28内の空気の圧力はほぼ等しくなる。第一シャフト付勢バネ24aの付勢力により、第一シャフト23a及び第一ダイヤフラム25が上方Z2に移動する。鉄板41と永久磁石43とに作用する磁力が強くなる。
第三室29内と第四室30内との圧力差により、図4に示すように第二ダイヤフラム26及び第二シャフト23bが下方Z1に押付けられ、弁座54に弁体56が接触したままである。
When the pressure of the air in the suction pipe 11 becomes the negative pressure PL, the sewage W flows through the suction pipe 11 and the line 103. At this time, the air flowing into the suction pipe 11 through the air suction pipe 11c and the sewage W are mixed.
The flow of the sewage W into the suction pipe 11 causes the pressure of the air in the connection pipe 62 and the third chamber 29 to be higher than the pressure of the air in the connection pipe 61 and the fourth chamber 30. The second diaphragm 26 and the second shaft 23b are pressed further downward Z1.
The sewage W flows into the suction pipe 11, and the surface of the sewage W drops to the position L1. At this time, as shown in FIG. 5, the pressure of the air in the pressure sensor tube 14 and the pressure of the air in the first chamber 27 become the atmospheric pressure PM, and the air in the chambers 27 and 28 on both sides of the first diaphragm 25 is changed. Are approximately equal. The first shaft 23a and the first diaphragm 25 move upward Z2 by the urging force of the first shaft urging spring 24a. The magnetic force acting on the iron plate 41 and the permanent magnet 43 increases.
Due to the pressure difference between the third chamber 29 and the fourth chamber 30, the second diaphragm 26 and the second shaft 23b are pressed downward Z1 as shown in FIG. 4, and the valve body 56 remains in contact with the valve seat 54. It is.

図5に示すように、汚水Wの水面の位置L2が吸込管11の第一端部よりも下方Z1になり、吸込管11の第一端部が空気を吸うようになると、以下に説明する真空弁閉じ工程を行う。
第三室29内の空気の圧力と第四室30内の空気の圧力とが、ほぼ等しくなる。第二シャフト付勢バネ24bの付勢力により、第二シャフト23b及び第二ダイヤフラム26が上方Z2に移動する。弁座54から弁体56が離間し、弁座53に弁体56が接触する。弁座54の貫通孔54aが封止されていないことで、第六室51内の空気の圧力は大気圧PMになる。第六室51に連結管65を介して連通するピストン室12a内の空気の圧力が、大気圧PMになる。真空弁12が閉じる。
As shown in FIG. 5, it will be described below that the position L2 of the water surface of the sewage W is located below Z1 below the first end of the suction pipe 11 and the first end of the suction pipe 11 starts to suck air. A vacuum valve closing step is performed.
The pressure of the air in the third chamber 29 and the pressure of the air in the fourth chamber 30 become substantially equal. The second shaft 23b and the second diaphragm 26 move upward Z2 by the urging force of the second shaft urging spring 24b. The valve body 56 is separated from the valve seat 54, and the valve body 56 contacts the valve seat 53. Since the through hole 54a of the valve seat 54 is not sealed, the pressure of the air in the sixth chamber 51 becomes the atmospheric pressure PM. The pressure of the air in the piston chamber 12a communicating with the sixth chamber 51 via the connection pipe 65 becomes the atmospheric pressure PM. The vacuum valve 12 closes.

汚水ます101内の汚水Wの水位が再び上昇すると、前述の真空弁開き工程及び真空弁閉じ工程を行い、汚水ます101内の汚水Wを吸込管11内に流す。
このように、通常は、真空弁制御装置21の制御により真空弁12が自動的に閉じたり開いたりする。
When the water level of the sewage W in the sewage tank 101 rises again, the vacuum valve opening step and the vacuum valve closing step described above are performed, and the sewage W in the sewage tank 101 flows into the suction pipe 11.
As described above, normally, the vacuum valve 12 is automatically closed or opened under the control of the vacuum valve control device 21.

真空弁12を強制的に開かせる場合には、以下に説明する工程を行う。
すなわち、使用者は、図6に示すように汚水ます101から蓋101aを取外す。このとき、各永久磁石43に鉄板41が接近していて、真空弁12は閉じている。指Q1等で、スイッチ付勢バネ46の付勢力及び鉄板41と永久磁石43とに作用する磁力に抗してスイッチ45を下方Z1に移動させる。スイッチ45が汚水ます101内で上方Z2にあることで、外部からスイッチ45を操作することが容易である。
スイッチ45とともに第一ダイヤフラム25、第一シャフト23a、第二ダイヤフラム26、及び第二シャフト23bが下方Z1に移動する。
弁座53から弁体56が離間し、弁座54に弁体56が接触する。第五室50と第六室51とが連通し、第六室51内の空気の圧力、及びピストン室12a内の空気の圧力が、負圧PLになる。真空弁用バネ12cが縮んで真空弁12が開く。汚水Wが吸込管11及びライン103内を流れる。
When the vacuum valve 12 is forcibly opened, a process described below is performed.
That is, the user removes the lid 101a from the sewage chamber 101 as shown in FIG. At this time, the iron plate 41 is approaching each permanent magnet 43, and the vacuum valve 12 is closed. The switch 45 is moved downward Z1 with the finger Q1 or the like against the urging force of the switch urging spring 46 and the magnetic force acting on the iron plate 41 and the permanent magnet 43. Since the switch 45 is located in the upper part Z2 in the sewage chamber 101, it is easy to operate the switch 45 from outside.
With the switch 45, the first diaphragm 25, the first shaft 23a, the second diaphragm 26, and the second shaft 23b move downward Z1.
The valve body 56 is separated from the valve seat 53, and the valve body 56 contacts the valve seat 54. The fifth chamber 50 and the sixth chamber 51 communicate with each other, and the pressure of the air in the sixth chamber 51 and the pressure of the air in the piston chamber 12a become negative pressure PL. The vacuum valve spring 12c contracts and the vacuum valve 12 opens. Sewage W flows through the suction pipe 11 and the line 103.

連結管61及び第四室30内の空気の圧力よりも、連結管62及び第三室29内の空気の圧力が高くなることで、第二シャフト23bが下方Z1に押付けられる。スイッチ45から指Q1を離すと、スイッチ付勢バネ46の付勢力によりスイッチ45が上方Z2に移動する。しかし、弁座54に弁体56が接触したままであるため、吸込管11の第一端部が空気を吸うようになるまで、吸込管11内を汚水Wが流れ続ける。   When the pressure of the air in the connection pipe 62 and the third chamber 29 becomes higher than the pressure of the air in the connection pipe 61 and the fourth chamber 30, the second shaft 23b is pressed downward Z1. When the finger Q1 is released from the switch 45, the switch 45 moves upward Z2 by the urging force of the switch urging spring 46. However, since the valve body 56 remains in contact with the valve seat 54, the sewage W continues to flow through the suction pipe 11 until the first end of the suction pipe 11 starts to suck air.

以上説明したように、本実施形態の真空弁制御装置21によれば、真空弁12を強制的に開かせる前には、永久磁石43と鉄板41とが接近して真空弁12が閉じ、吸込管11内を汚水Wが流れない状態になっている。使用者がスイッチ45を操作してシャフト23を軸線C方向に移動させ永久磁石43と鉄板41とを離間させると、真空弁12が開いて吸込管11内を汚水Wが流れる。
したがって、スイッチ45を手動により操作することで、吸込管11内を汚水Wが流れない状態から吸込管11内を汚水Wが流れる状態に切り換えることができる。
As described above, according to the vacuum valve control device 21 of the present embodiment, before the vacuum valve 12 is forcibly opened, the permanent magnet 43 and the iron plate 41 approach to close the vacuum valve 12, and The sewage W does not flow in the pipe 11. When the user operates the switch 45 to move the shaft 23 in the direction of the axis C to separate the permanent magnet 43 from the iron plate 41, the vacuum valve 12 is opened and the dirty water W flows through the suction pipe 11.
Therefore, by manually operating the switch 45, it is possible to switch from a state in which the sewage W does not flow in the suction pipe 11 to a state in which the sewage W flows in the suction pipe 11.

永久磁石43は、軸線C周りに間隔を空けて複数配置されている。このため、永久磁石43と鉄板41との間で軸線C周りにほぼ均等に磁力を生じさせ、蓋部35に対してシャフト23が傾くのを抑えることができる。
第一磁力発生体は鉄板41であり、第二磁力発生体は永久磁石43である。これにより、鉄板41及び永久磁石43という簡単な構成で鉄板41と永久磁石43との間に磁力を発生させることができる。
また、本実施形態の真空弁ユニット1によれば、手動により操作することで吸込管11内を汚水Wが流れる状態に切り換えることができる真空弁制御装置21で、真空弁12を開閉させることができる。
The plurality of permanent magnets 43 are arranged around the axis C at intervals. For this reason, a magnetic force is generated almost uniformly around the axis C between the permanent magnet 43 and the iron plate 41, and the inclination of the shaft 23 with respect to the lid 35 can be suppressed.
The first magnetic force generator is an iron plate 41, and the second magnetic force generator is a permanent magnet 43. Thereby, a magnetic force can be generated between the iron plate 41 and the permanent magnet 43 with a simple configuration including the iron plate 41 and the permanent magnet 43.
Further, according to the vacuum valve unit 1 of the present embodiment, the vacuum valve 12 can be opened and closed by the vacuum valve control device 21 which can be manually operated to switch the state in which the waste water W flows in the suction pipe 11. it can.

以上、本発明の一実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の構成の変更、組み合わせ、削除等も含まれる。
例えば、前記実施形態では、図7に示す真空弁ユニット2のように、永久磁石71は、軸線Cを中心軸とするリング状に形成されていてもよい。このように構成することで、永久磁石71と鉄板41との間で軸線C周りにより均等に磁力を生じさせ、蓋部35に対してシャフト23が傾くのをより確実に抑えることができる。
As described above, one embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to this embodiment, and the configuration can be changed, combined, or deleted without departing from the gist of the present invention. Etc. are also included.
For example, in the above embodiment, the permanent magnet 71 may be formed in a ring shape with the axis C as the central axis, as in the vacuum valve unit 2 shown in FIG. With this configuration, a magnetic force is more uniformly generated around the axis C between the permanent magnet 71 and the iron plate 41, and the inclination of the shaft 23 with respect to the lid 35 can be suppressed more reliably.

第一シャフト23aと第二シャフト23bとは分離されているとしたが、シャフト23a、23bが一体となってシャフトを構成してもよい。同様に、第一シャフト付勢バネ24aと第二シャフト付勢バネ24bとは分離されているとしたが、シャフト付勢バネ24a、24bが一体となってシャフト付勢バネを構成してもよい。
第一磁力発生体が鉄板41であり第二磁力発生体が永久磁石43であるとした。しかし、第一、第二磁力発生体はこれに限定されず、例えば第一磁力発生体が永久磁石であり第二磁力発生体が鉄板であってもよいし、第一、第二磁力発生体が互いに引き合う磁力を生じる永久磁石であってもよい。
真空弁制御装置21は、スイッチ付勢バネ46、カバー47を備えなくてよい。
Although the first shaft 23a and the second shaft 23b are described as being separated from each other, the shafts 23a and 23b may be integrated to form a shaft. Similarly, the first shaft urging spring 24a and the second shaft urging spring 24b are separated, but the shaft urging springs 24a and 24b may be integrated to form a shaft urging spring. .
It is assumed that the first magnetic force generator is the iron plate 41 and the second magnetic force generator is the permanent magnet 43. However, the first and second magnetic force generators are not limited to this, for example, the first magnetic force generator may be a permanent magnet and the second magnetic force generator may be an iron plate, or the first and second magnetic force generators May be permanent magnets that generate a magnetic force that attracts each other.
The vacuum valve control device 21 does not need to include the switch urging spring 46 and the cover 47.

1、2 真空弁ユニット
11 吸込管
12 真空弁
21 真空弁制御装置
22 ケーシング(筐体)
23 シャフト(軸状体)
24 シャフト付勢バネ(バネ)
25 第一ダイヤフラム
26 第二ダイヤフラム
27 第一室
28 第二室
29 第三室
30 第四室
35 蓋部(壁部)
41 鉄板(第一磁力発生体)
43、71 永久磁石(第二磁力発生体)
45 スイッチ(移動部材)
101 汚水ます
103 ライン(真空系)
C 軸線
W 汚水
1, 2 vacuum valve unit 11 suction pipe 12 vacuum valve 21 vacuum valve controller 22 casing (housing)
23 Shaft (shaft)
24 Shaft biasing spring (spring)
25 first diaphragm 26 second diaphragm 27 first room 28 second room 29 third room 30 fourth room 35 lid (wall)
41 Iron plate (first magnetic force generator)
43, 71 Permanent magnet (second magnetic force generator)
45 switch (moving member)
101 Sewage water tank 103 line (vacuum system)
C axis W Sewage

Claims (4)

第一端部が汚水ます内に配置された吸込管と汚水を真空吸引力によって移送させる真空系との間に配置され、真空及び大気圧を供給することで開閉動作する真空弁を制御する真空弁制御装置であって、
前記真空弁の開閉動作のために供給する真空及び大気圧を切換える真空弁開閉機構と、
前記真空弁開閉機構を作動させる往復動可能な軸状体と、
前記軸状体を、前記真空弁を閉じる方向に付勢するバネと、
前記軸状体と一体に往復動可能な第一ダイヤフラム及び第二ダイヤフラムと、
前記第一ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第一室及び第二室と、
前記第二ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第三室及び第四室と、
前記第一ダイヤフラムにおける前記軸状体の径方向の外側に取付けられた第一磁力発生体と、
前記第一室、前記第二室、前記第三室、及び前記第四室が内部に形成された筐体と、
前記筐体の前記第一室を形成するとともに前記第一ダイヤフラムに対向する壁部に取付けられ、前記第一磁力発生体との間で引き合う磁力を生じ、前記第一磁力発生体とが接近したときに前記真空弁が閉じ、前記第一磁力発生体と離間したときに前記真空弁が開く第二磁力発生体と、
前記壁部に設けられ、前記軸状体の軸線方向に移動可能であって、前記軸状体を前記軸線方向に移動させる移動部材と、
を備え、
前記第二磁力発生体は、前記軸線周りに間隔を空けて複数配置されていることを特徴とする真空弁制御装置。
The first end is disposed between a suction pipe arranged in a sewage basin and a vacuum system for transferring sewage by vacuum suction, and a vacuum for controlling a vacuum valve that opens and closes by supplying vacuum and atmospheric pressure. A valve control device,
A vacuum valve opening and closing mechanism for switching between vacuum and atmospheric pressure supplied for opening and closing the vacuum valve,
A reciprocally movable shaft that operates the vacuum valve opening and closing mechanism,
A spring that biases the shaft in a direction to close the vacuum valve,
A first diaphragm and a second diaphragm that can reciprocate integrally with the shaft-like body,
A first chamber and a second chamber for generating a differential pressure on both sides of the first diaphragm to move the shaft in a direction to open the vacuum valve,
A third chamber and a fourth chamber for generating a differential pressure on both sides of the second diaphragm to move the shaft in a direction to open the vacuum valve,
A first magnetic force generator attached to a radially outer side of the shaft-shaped body in the first diaphragm;
The first chamber, the second chamber, the third chamber, and a housing in which the fourth chamber is formed,
The first chamber of the housing is formed and attached to a wall portion facing the first diaphragm, and generates a magnetic force attracting between the first magnetic force generator and the first magnetic force generator approaches. When the vacuum valve is closed, the second magnetic force generator that opens when the vacuum valve opens when separated from the first magnetic force generator,
A moving member that is provided on the wall portion and is movable in the axial direction of the shaft-like body, and that moves the shaft-like body in the axial direction;
Bei to give a,
A plurality of the second magnetic force generators are arranged at intervals around the axis .
第一端部が汚水ます内に配置された吸込管と汚水を真空吸引力によって移送させる真空系との間に配置され、真空及び大気圧を供給することで開閉動作する真空弁を制御する真空弁制御装置であって、
前記真空弁の開閉動作のために供給する真空及び大気圧を切換える真空弁開閉機構と、
前記真空弁開閉機構を作動させる往復動可能な軸状体と、
前記軸状体を、前記真空弁を閉じる方向に付勢するバネと、
前記軸状体と一体に往復動可能な第一ダイヤフラム及び第二ダイヤフラムと、
前記第一ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第一室及び第二室と、
前記第二ダイヤフラムの両側に差圧を生じさせて、前記軸状体を前記真空弁を開く方向に移動させる第三室及び第四室と、
前記第一ダイヤフラムにおける前記軸状体の径方向の外側に取付けられた第一磁力発生体と、
前記第一室、前記第二室、前記第三室、及び前記第四室が内部に形成された筐体と、
前記筐体の前記第一室を形成するとともに前記第一ダイヤフラムに対向する壁部に取付けられ、前記第一磁力発生体との間で引き合う磁力を生じ、前記第一磁力発生体とが接近したときに前記真空弁が閉じ、前記第一磁力発生体と離間したときに前記真空弁が開く第二磁力発生体と、
前記壁部に設けられ、前記軸状体の軸線方向に移動可能であって、前記軸状体を前記軸線方向に移動させる移動部材と、
を備え、
前記第二磁力発生体は、前記軸線を中心軸とするリング状に形成されていることを特徴とする真空弁制御装置。
The first end is disposed between a suction pipe arranged in a sewage basin and a vacuum system for transferring sewage by vacuum suction, and a vacuum for controlling a vacuum valve that opens and closes by supplying vacuum and atmospheric pressure. A valve control device,
A vacuum valve opening and closing mechanism for switching between vacuum and atmospheric pressure supplied for opening and closing the vacuum valve,
A reciprocally movable shaft that operates the vacuum valve opening and closing mechanism,
A spring that biases the shaft in a direction to close the vacuum valve,
A first diaphragm and a second diaphragm that can reciprocate integrally with the shaft-like body,
A first chamber and a second chamber for generating a differential pressure on both sides of the first diaphragm to move the shaft in a direction to open the vacuum valve,
A third chamber and a fourth chamber for generating a differential pressure on both sides of the second diaphragm to move the shaft in a direction to open the vacuum valve,
A first magnetic force generator attached to a radially outer side of the shaft-shaped body in the first diaphragm;
The first chamber, the second chamber, the third chamber, and a housing in which the fourth chamber is formed,
The first chamber of the housing is formed and attached to a wall facing the first diaphragm, and generates a magnetic force attracting between the first magnetic force generator and the first magnetic force generator approaches. When the vacuum valve is closed, the second magnetic force generator that opens when the vacuum valve opens when separated from the first magnetic force generator,
A moving member that is provided on the wall portion and is movable in the axial direction of the shaft-like body, and that moves the shaft-like body in the axial direction;
With
Said second magnetic force generating member, the vacuum valve controller is characterized in that it is formed in a ring shape centering around axis the axis.
前記第一磁力発生体は鉄板であり、
前記第二磁力発生体は永久磁石であることを特徴とする請求項1又は2に記載の真空弁制御装置。
The first magnetic force generator is an iron plate,
The said 2nd magnetic force generation body is a permanent magnet, The vacuum valve control apparatus of Claim 1 or 2 characterized by the above-mentioned.
請求項1からのいずれか一項に記載の真空弁制御装置と、
前記吸込管と、
前記真空弁と、
を備えることを特徴とする真空弁ユニット。
A vacuum valve control device according to any one of claims 1 to 3 ,
Said suction tube;
Said vacuum valve;
A vacuum valve unit comprising:
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