JP6600078B2 - Manufacturing method of optical film - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルムの製造方法、及び、金型に関する。より詳しくは、ナノメートルサイズの凹凸構造を有する光学フィルムの製造方法、及び、上記光学フィルムの製造方法に好ましく用いられる金型に関するものである。 The present invention relates to an optical film manufacturing method and a mold. More specifically, the present invention relates to a method for producing an optical film having a nanometer-sized concavo-convex structure and a mold preferably used in the method for producing an optical film.

ナノメートルサイズの凹凸構造(ナノ構造)を有する光学フィルムは、優れた反射防止性を有することが知られている。このような凹凸構造によれば、空気層から基材フィルムにかけて屈折率が連続的に変化するために、反射光を劇的に減少させることができる。 It is known that an optical film having a nanometer-sized uneven structure (nanostructure) has excellent antireflection properties. According to such a concavo-convex structure, since the refractive index continuously changes from the air layer to the base film, the reflected light can be dramatically reduced.

ナノサイエンス株式会社、「XPS分析の豆知識」、「カーボンの化学状態(C1sの結合エネルギーのシフト(化学シフト))」、[online]、2014年、[平成28年2月17日検索]、インターネット(URL:http://www.nanoscience.co.jp/knowledge/XPS/knowledge02.html)Nano Science Co., Ltd., “Knowledge of XPS analysis”, “Chemical state of carbon (C1s binding energy shift (chemical shift))”, [online], 2014, [searched on February 17, 2016], Internet (URL: http://www.nanoscience.co.jp/knowledge/XPS/knowledge02.html) A.M.Ferraria等、「直接フッ素化されたHDPEに関するXPSの研究:問題及び解決策(XPS studies of directly fluorinated HDPE:problems and solutions)」、Polymer 44、2003、pp.7241−7249A. M.M. Ferraria et al., "XPS studies on direct fluorinated HDPE: problems and solutions" (Polymers and solutions), Polymer 44, 2003, pp. 7241-7249 サーモフィッシャーサイエンティフィック株式会社(Thermo Fisher Scientific Inc.)、「Oxygen」、「一般的な化学状態の結合エネルギー(Binding energies of common chemical states)」、[online]、2013年、[平成28年2月17日検索]、インターネット(URL:http://xpssimplified.com/elements/oxygen.php)Thermo Fisher Scientific Inc., “Oxygen”, “Binding energies of common chemical states”, [online], 2013, [2016]. Search on the 17th of the month], Internet (URL: http://xpsimplified.com/elements/oxygen.php) N.Stobie等、「銀ドープされたパーフルオロポリエーテルウレタン塗布:抗菌性及び表面解析(Silver Doped Perfluoropolyether−Urethane Coatings:Antibacterial Activity and Surface Analysis)」、Colloids and Surfaces B:Biointerfaces、Vol.72、2009、pp.62−67N. Stobie et al., “Silver Doped Perfluoropolyether Urethane Coating: Antibacterial and Surface Analysis (Silver Doped Perfluoropolyethers: Antibacterial Activity and Surface Analysis. BioFols. 72, 2009, pp. 62-67

このような光学フィルムを製造する際には、通常、凹凸構造を形成するための金型が用いられる。そして、離型性を高めるために、金型に対して、離型剤による表面処理、すなわち、離型処理を施すことがあった。しかしながら、本発明者らが検討したところ、離型剤による離型効果が不充分である金型を用いる場合、得られる光学フィルムの撥水性及び撥油性、すなわち、防汚性が不充分であることが分かった。そのため、光学フィルムの表面に付着した指紋、油等の汚れが広がりやすく、更に、凸部間に入り込んだ汚れを拭き取ることが困難となる問題があった。また、光学フィルムの表面の摩擦抵抗が大きくなり(滑り性が低下し)、耐擦性が低下してしまう問題もあった。 When manufacturing such an optical film, a mold for forming a concavo-convex structure is usually used. And in order to improve mold release property, the surface treatment by a mold release agent, ie, the mold release process, was sometimes performed with respect to the metal mold | die. However, as a result of studies by the present inventors, when a mold having insufficient release effect by a release agent is used, the resulting optical film has insufficient water repellency and oil repellency, that is, antifouling property. I understood that. For this reason, there is a problem that dirt such as fingerprints and oil attached to the surface of the optical film is likely to spread, and it is difficult to wipe off dirt that has entered between the convex portions. In addition, the frictional resistance of the surface of the optical film is increased (sliding property is lowered), and there is a problem that the abrasion resistance is lowered.

本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムの製造方法を提供することを目的とするものである。また、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムを製造する際に用いられる金型を提供することを目的とするものである。 This invention is made | formed in view of the said present condition, and aims at providing the manufacturing method of the optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance. Moreover, it aims at providing the metal mold | die used when manufacturing the optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance.

本発明者らは、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムの製造方法について種々検討したところ、下層樹脂及び上層樹脂を塗布し、その2層が積層された状態で、2層に金型を押し付け、ナノメートルサイズの凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成した後、その樹脂層を硬化させる方法に着目した。そして、上層樹脂にフッ素含有モノマーを含ませることで、光学フィルムの表面(凹凸構造の表面)におけるフッ素原子の濃度が高まり、その結果、防汚性及び耐擦性が高まることを見出した。更に、フッ素原子を含む離型剤が表面に塗布された金型を用い、離型剤が塗布された金型の表面における、ヘキサデカンの接触角とフッ素原子の濃度とを所定の範囲とすることで、光学フィルムの表面におけるフッ素原子の濃度が顕著に高まり、その結果、防汚性及び耐擦性が顕著に高まることを見出した。以上により、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 The inventors of the present invention have studied various methods for producing an optical film having excellent antifouling properties and abrasion resistance. As a result, a lower layer resin and an upper layer resin are applied, and the two layers are laminated. We focused on the method of pressing the mold and forming a resin layer having a nanometer-sized uneven structure on the surface and then curing the resin layer. And it discovered that the density | concentration of the fluorine atom in the surface (surface of an uneven structure) of an optical film increased by including a fluorine-containing monomer in upper layer resin, and as a result, antifouling property and abrasion resistance increased. Further, a mold having a release agent containing fluorine atoms applied to the surface thereof is used, and the contact angle of hexadecane and the concentration of fluorine atoms on the surface of the mold applied with the release agent are set within a predetermined range. Thus, the inventors have found that the concentration of fluorine atoms on the surface of the optical film is remarkably increased, and as a result, the antifouling property and abrasion resistance are remarkably increased. As a result, the inventors have conceived that the above problems can be solved brilliantly and have reached the present invention.

すなわち、本発明の一態様は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、下層樹脂及び上層樹脂を塗布する工程(1)と、塗布された上記下層樹脂及び上記上層樹脂が積層された状態で、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に金型を上記上層樹脂側から押し付け、上記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程(2)と、上記樹脂層を硬化させる工程(3)とを含み、上記上層樹脂は、フッ素含有モノマーを含み、上記金型の表面には、離型剤が塗布されており、上記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、上記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、上記離型剤が塗布された上記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下であり、X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、上記離型剤が塗布された上記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上である光学フィルムの製造方法であってもよい。That is, one embodiment of the present invention is a method for producing an optical film having a concavo-convex structure on the surface where a plurality of convex portions are provided at a pitch equal to or less than the wavelength of visible light, and a step of applying a lower layer resin and an upper layer resin (1 ) And the applied lower layer resin and the upper layer resin are laminated, a mold is pressed against the lower layer resin and the upper layer resin from the upper layer resin side to form a resin layer having the uneven structure on the surface. Including a step (2) and a step (3) for curing the resin layer, wherein the upper layer resin includes a fluorine-containing monomer, and a release agent is applied to a surface of the mold, and the release agent The mold includes carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms, and the mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms, and the mold to which the release agent is applied. Hexadeca on the surface Was added dropwise, theta / measured by 2 methods, the contact angle immediately after hexadecane dropwise theta A (Unit: °), the contact angle after hexadecane dropwise 4 minutes theta B (unit: °) and by defining, theta A And θ B is 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less, the X-ray beam diameter is 100 μm, the analysis area is 1000 μm × 500 μm, and the photoelectron extraction angle is 45 °. The number of carbon atoms, the number of aluminum atoms, the number of oxygen atoms, and the number of fluorine atoms on the surface of the mold coated with the release agent, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy under conditions The ratio of the number of fluorine atoms to the total number may be a method for producing an optical film that is 30 atom% or more.

本発明の別の一態様は、複数の凹部が可視光の波長以下のピッチで表面に設けられる金型であって、上記金型の表面には、離型剤が配置されており、上記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、上記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、上記離型剤が配置された上記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下であり、X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、上記離型剤が配置された上記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上である金型であってもよい。Another aspect of the present invention is a mold in which a plurality of recesses are provided on the surface with a pitch equal to or smaller than the wavelength of visible light, and a mold release agent is disposed on the surface of the mold. The mold includes carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms, the mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms, and the mold in which the release agent is disposed. When hexadecane is dropped on the surface and measured by the θ / 2 method, the contact angle immediately after hexadecane drop is defined as θ A (unit: °), and the contact angle after 4 minutes of hexadecane drop is defined as θ B (unit: °). , Θ A and θ B are 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less, the X-ray beam diameter is 100 μm, the analysis area is 1000 μm × 500 μm, and the photoelectron extraction angle By X-ray photoelectron spectroscopy at 45 ° The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of carbon atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms measured on the surface of the mold on which the release agent is disposed is The mold may be 30 atom% or more.

本発明によれば、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムの製造方法を提供することができる。また、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムを製造する際に用いられる金型を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance can be provided. Moreover, the metal mold | die used when manufacturing the optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance can be provided.

実施形態1の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜d)。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the optical film of Embodiment 1 (process ad). 実施形態1の金型を示す断面模式図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a mold according to Embodiment 1. FIG. 実施形態2の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜e)。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the optical film of Embodiment 2. (process ae). 実施形態3の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜d)。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the optical film of Embodiment 3. (process ad). 実施形態4の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜e)。It is a cross-sectional schematic diagram for demonstrating the manufacturing process of the optical film of Embodiment 4. (process ae). 実施例1〜3、及び、比較例1、2の光学フィルムの表面のナロースペクトルを示すグラフであり、(a)はC1sピークを示し、(b)はN1sピークを示し、(c)はO1sピークを示し、(d)はF1sピークを示す。It is a graph which shows the narrow spectrum of the surface of the optical film of Examples 1-3 and Comparative Examples 1 and 2, (a) shows a C1s peak, (b) shows a N1s peak, (c) shows O1s. A peak is shown, (d) shows an F1s peak. 図6(a)中の実施例1のC1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the C1s peak of Example 1 in Fig.6 (a). 図6(a)中の実施例2のC1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the C1s peak of Example 2 in Fig.6 (a). 図6(a)中の実施例3のC1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the C1s peak of Example 3 in Fig.6 (a). 図6(a)中の比較例1のC1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the C1s peak of the comparative example 1 in Fig.6 (a). 図6(a)中の比較例2のC1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the C1s peak of the comparative example 2 in Fig.6 (a). 図6(c)中の実施例1のO1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the O1s peak of Example 1 in FIG.6 (c). 図6(c)中の実施例2のO1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the O1s peak of Example 2 in FIG.6 (c). 図6(c)中の実施例3のO1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the O1s peak of Example 3 in FIG.6 (c). 図6(c)中の比較例1のO1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the O1s peak of the comparative example 1 in FIG.6 (c). 図6(c)中の比較例2のO1sピークの解析結果を示すグラフである。It is a graph which shows the analysis result of the O1s peak of the comparative example 2 in FIG.6 (c).

以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。また、各実施形態の構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜組み合わされてもよいし、変更されてもよい。 Embodiments will be described below, and the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited only to these embodiments. In addition, the configurations of the respective embodiments may be appropriately combined or changed within a range not departing from the gist of the present invention.

[実施形態1]
実施形態1の光学フィルムの製造方法について、図1を参照して以下に説明する。図1は、実施形態1の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜d)。
[Embodiment 1]
The manufacturing method of the optical film of Embodiment 1 is demonstrated below with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the optical film of Embodiment 1 (steps a to d).

(a)下層樹脂及び上層樹脂の塗布
まず、図1(a)に示すように、下層樹脂5aを基材フィルム2上に塗布する。一方、上層樹脂5bを金型6上に塗布する。金型6の表面には、離型剤7が予め塗布されている。
(A) Application of lower layer resin and upper layer resin First, the lower layer resin 5a is applied on the base film 2 as shown in FIG. On the other hand, the upper layer resin 5 b is applied on the mold 6. A mold release agent 7 is applied to the surface of the mold 6 in advance.

下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bの塗布方法としては特に限定されず、例えば、スプレー方式、グラビア方式、スロットダイ方式等で塗布する方法が挙げられる。膜厚が容易に調整可能であり、かつ、装置コストを低減する観点からは、スプレー方式で塗布する方法が好ましい。中でも、スワールノズル、静電ノズル、又は、超音波ノズルを用いて塗布することが特に好ましい。 The coating method of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b is not particularly limited, and examples thereof include a method of coating by a spray method, a gravure method, a slot die method, or the like. From the viewpoint of easily adjusting the film thickness and reducing the apparatus cost, a method of applying by a spray method is preferable. Among these, application using a swirl nozzle, electrostatic nozzle, or ultrasonic nozzle is particularly preferable.

(b)凹凸構造の形成
図1(b)に示すように、上層樹脂5bが塗布された金型6を、上層樹脂5b側から、基材フィルム2上に塗布された下層樹脂5aに押し付けることによって、下層樹脂5a上に上層樹脂5bを積層させると同時に凹凸構造を形成する。その結果、凹凸構造を基材フィルム2とは反対側の表面に有する樹脂層8が形成される。樹脂層8は、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bが一体化し、両者の界面が存在しないものである。
(B) Formation of concavo-convex structure As shown in FIG. 1 (b), the mold 6 coated with the upper layer resin 5b is pressed against the lower layer resin 5a coated on the base film 2 from the upper layer resin 5b side. Thus, the upper resin 5b is laminated on the lower resin 5a, and at the same time, the concavo-convex structure is formed. As a result, a resin layer 8 having a concavo-convex structure on the surface opposite to the base film 2 is formed. In the resin layer 8, the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are integrated, and there is no interface between them.

(c)樹脂層の硬化
凹凸構造が形成された樹脂層8を硬化(重合)させる。その結果、図1(c)に示すような重合体層3(樹脂層8の硬化物)が形成される。
(C) The resin layer 8 on which the cured uneven structure of the resin layer is formed is cured (polymerized). As a result, a polymer layer 3 (cured product of the resin layer 8) as shown in FIG. 1C is formed.

樹脂層8の硬化は、活性エネルギー線の照射によって行われることが好ましい。本明細書中、活性エネルギー線は、紫外線、可視光線、赤外線、プラズマ等を指す。樹脂層8は、紫外線によって硬化するものであることが好ましい。活性エネルギー線の照射は、基材フィルム2側から行ってもよく、樹脂層8側から行ってもよい。また、樹脂層8に対する活性エネルギー線の照射回数は特に限定されず、1回のみであってもよいし、複数回であってもよい。 The resin layer 8 is preferably cured by irradiation with active energy rays. In this specification, active energy rays refer to ultraviolet rays, visible rays, infrared rays, plasma, and the like. The resin layer 8 is preferably cured by ultraviolet rays. The active energy ray may be irradiated from the base film 2 side or from the resin layer 8 side. Moreover, the frequency | count of irradiation of the active energy ray with respect to the resin layer 8 is not specifically limited, One time may be sufficient and multiple times may be sufficient.

(d)金型の剥離
離型剤7が表面に塗布された金型6を、重合体層3から剥離する。その結果、図1(d)に示すような光学フィルム1が完成する。重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面に形成された凹凸構造は、複数の凸部(突起)4が可視光の波長以下のピッチ(隣接する凸部4の頂点間の距離)Pで設けられる構造、すなわち、モスアイ構造(蛾の目状の構造)に相当する。よって、光学フィルム1は、モスアイ構造を表面に有する反射防止フィルムに相当する。これにより、光学フィルム1は、モスアイ構造による優れた反射防止性(低反射性)を示すことができる。
(D) Mold Release The mold 6 having the release agent 7 applied on its surface is released from the polymer layer 3. As a result, the optical film 1 as shown in FIG. The concavo-convex structure formed on the surface of the polymer layer 3 opposite to the base film 2 has a plurality of convex portions (projections) 4 having a pitch less than the wavelength of visible light (distance between vertices of adjacent convex portions 4). ) Corresponds to a structure provided by P, that is, a moth-eye structure (an eye-like structure). Therefore, the optical film 1 corresponds to an antireflection film having a moth-eye structure on the surface. Thereby, the optical film 1 can show the excellent antireflection property (low reflectivity) by a moth-eye structure.

上述した製造プロセスにおいて、例えば、基材フィルム2をロール状にすれば、上記工程(a)〜(d)を連続的に効率良く行うことができる。 In the manufacturing process described above, for example, if the base film 2 is formed into a roll shape, the steps (a) to (d) can be performed continuously and efficiently.

続いて、光学フィルム1を製造する際に用いられる各部材について、以下に説明する。 Then, each member used when manufacturing the optical film 1 is demonstrated below.

基材フィルム2の材料としては、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリメチルメタクリレート(PMMA)、シクロオレフィンポリマー(COP)、ポリカーボネート(PC)等が挙げられ、使用環境に応じて選択すればよい。このような材料によれば、硬度が高く、透明性及び耐候性に優れた基材フィルム2が得られる。基材フィルム2には易接着処理が施されていてもよく、例えば、易接着処理が施されたトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等が用いられる。また、基材フィルム2にはケン化処理が施されていてもよく、例えば、ケン化処理が施されたトリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等が用いられる。 Examples of the material for the base film 2 include triacetyl cellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polymethyl methacrylate (PMMA), cycloolefin polymer (COP), and polycarbonate (PC). You may choose according to it. According to such a material, the base film 2 having high hardness and excellent transparency and weather resistance can be obtained. The base film 2 may be subjected to an easy adhesion treatment. For example, a triacetyl cellulose film (TAC film) subjected to the easy adhesion treatment or the like is used. Further, the base film 2 may be subjected to saponification treatment. For example, a triacetyl cellulose film (TAC film) subjected to saponification treatment or the like is used.

基材フィルム2の厚みは特に限定されないが、透明性及び加工性を確保する観点から、10μm以上、120μm以下であることが好ましく、40μm以上、80μm以下であることがより好ましい。 Although the thickness of the base film 2 is not particularly limited, it is preferably 10 μm or more and 120 μm or less, and more preferably 40 μm or more and 80 μm or less from the viewpoint of ensuring transparency and workability.

上層樹脂5bは、フッ素含有モノマーを含んでいる。上層樹脂5bがフッ素含有モノマーを含むことによって、重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面におけるフッ素原子の濃度が高まる。その結果、重合体層3の表面エネルギーが低くなり、防汚性に優れた光学フィルム1が得られる。また、重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面の滑り性が高まり、耐擦性に優れた光学フィルム1が得られる。 The upper layer resin 5b contains a fluorine-containing monomer. When the upper layer resin 5b contains the fluorine-containing monomer, the concentration of fluorine atoms on the surface of the polymer layer 3 opposite to the base film 2 is increased. As a result, the surface energy of the polymer layer 3 is lowered, and the optical film 1 having excellent antifouling properties can be obtained. Moreover, the slipperiness of the surface on the opposite side to the base film 2 of the polymer layer 3 increases, and the optical film 1 excellent in abrasion resistance is obtained.

フッ素含有モノマーは、反応性部位と、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選択される少なくとも1つを含む部位とを有することが好ましい。 The fluorine-containing monomer has a reactive site and a site containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group. It is preferable to have.

反応性部位は、光、熱等の外部エネルギーによって他の成分と反応する部位を指す。このような反応性部位としては、アルコキシシリル基、シリルエーテル基、アルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等が挙げられる。反応性部位としては、反応性及び取り扱い性の観点から、アルコキシシリル基、シリルエーテル基、シラノール基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基が好ましく、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基がより好ましく、アクリロイル基、又は、メタクリロイル基が特に好ましい。 The reactive site refers to a site that reacts with other components by external energy such as light and heat. Examples of such reactive sites include alkoxysilyl groups, silyl ether groups, hydrolyzed silanol groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, epoxy groups, vinyl groups, allyl groups, acryloyl groups, methacryloyl groups, and the like. It is done. The reactive site is preferably an alkoxysilyl group, a silyl ether group, a silanol group, an epoxy group, a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, or a methacryloyl group from the viewpoint of reactivity and handling properties, and a vinyl group or an allyl group. An acryloyl group or a methacryloyl group is more preferable, and an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly preferable.

フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基は、各々、アルキル基、オキシアルキル基、アルケニル基、アルカンジイル基、及び、オキシアルカンジイル基が有する水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された置換基である。フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基は、いずれも主にフッ素原子及び炭素原子から構成される置換基であり、その構造中に分岐部が存在してもよく、これらの置換基は複数連結していてもよい。 A fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group are respectively an alkyl group, an oxyalkyl group, an alkenyl group, an alkanediyl group, and an oxyalkanediyl group. It is a substituent in which at least part of the hydrogen atoms it has are substituted with fluorine atoms. A fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group are all substituents mainly composed of fluorine atoms and carbon atoms, and are branched in the structure. May be present, and a plurality of these substituents may be linked.

フッ素含有モノマーの一例は、下記一般式(A)で表される。
f1−R−D (A)
上記一般式(A)中、Rf1は、フルオロアルキル基、フルオロオキシアルキル基、フルオロアルケニル基、フルオロアルカンジイル基、及び、フルオロオキシアルカンジイル基からなる群より選択される少なくとも1つを含む部位を表す。Rは、アルカンジイル基、アルカントリイル基、又は、それらから導出されるエステル構造、ウレタン構造、エーテル構造、トリアジン構造を表す。Dは、反応性部位を表す。
An example of the fluorine-containing monomer is represented by the following general formula (A).
R f1 -R 2 -D 1 (A)
In the general formula (A), R f1 is a moiety containing at least one selected from the group consisting of a fluoroalkyl group, a fluorooxyalkyl group, a fluoroalkenyl group, a fluoroalkanediyl group, and a fluorooxyalkanediyl group. Represents. R 2 represents an alkanediyl group, an alkanetriyl group, or an ester structure, urethane structure, ether structure, or triazine structure derived therefrom. D 1 represents a reactive site.

上記一般式(A)で表されるフッ素含有モノマーとしては、例えば、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフロオロプロピルアクリレート、2−パーフルオロブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロデシルエチルアクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−3−メトキシブチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルアクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、2−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、2−パーフルオロ−3−メチルブチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−3−メチルブチル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−5−メチルヘキシルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−5−メチルヘキシル−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、3−パーフルオロ−7−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレート、トリアクリロイル−ヘプタデカフルオロノネニル−ペンタエリスリトール等が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing monomer represented by the general formula (A) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, and 2-perfluorobutyl. Ethyl acrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexyl ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorooctyl ethyl acrylate, 3-perfluorooctyl-2 -Hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorodecylethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl acrylate, 3-perfluoro-3-methoxybutyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5 Methylhexylethyl acrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoropentyl acrylate, dodecafluoroheptyl Acrylate, hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate, 2-perfluorobutylethyl methacrylate, 3-par Fluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorooctylethyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropylene Methacrylate, 2-perfluorodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3-methylbutylethyl methacrylate, 3-perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3 -Perfluoro-5-methylhexyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodeca Fluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-trifluoromethyl trifluoroethyl methacrylate, hexafluorobut Examples include til methacrylate, triacryloyl-heptadecafluorononenyl-pentaerythritol, and the like.

フッ素含有モノマーの好ましい材料としては、例えば、フルオロポリエーテル部位を有する材料が挙げられる。フルオロポリエーテル部位は、フルオロアルキル基、オキシフルオロアルキル基、オキシフルオロアルキルジイル基等からなる部位であり、下記一般式(B)又は(C)に代表される構造である。
CFn1(3−n1)−(CFn2(2−n2)O−(CFn3(2−n3)O− (B)
−(CFn4(2−n4)O−(CFn5(2−n5)O− (C)
上記一般式(B)及び(C)中、n1は1〜3の整数であり、n2〜n5は1又は2であり、k、m、p、及び、sは0以上の整数である。n1〜n5の好ましい組み合わせとしては、n1が2又は3、n2〜n5が1又は2である組み合わせであり、より好ましい組み合わせとしては、n1が3、n2及びn4が2、n3及びn5が1又は2である組み合わせである。
As a preferable material of the fluorine-containing monomer, for example, a material having a fluoropolyether moiety can be mentioned. The fluoropolyether moiety is a moiety composed of a fluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyl group, an oxyfluoroalkyldiyl group, etc., and has a structure represented by the following general formula (B) or (C).
CF n1 H (3-n1) - (CF n2 H (2-n2)) k O- (CF n3 H (2-n3)) m O- (B)
- (CF n4 H (2- n4)) p O- (CF n5 H (2-n5)) s O- (C)
In the general formulas (B) and (C), n1 is an integer of 1 to 3, n2 to n5 are 1 or 2, and k, m, p, and s are integers of 0 or more. A preferable combination of n1 to n5 is a combination in which n1 is 2 or 3, and n2 to n5 is 1 or 2, and a more preferable combination is n1 is 3, n2 and n4 are 2, n3 and n5 are 1 or 2 is a combination.

フルオロポリエーテル部位に含まれる炭素数は、4以上、12以下であることが好ましく、4以上、10以下であることがより好ましく、6以上、8以下であることが更に好ましい。炭素数が4未満である場合、表面エネルギーが低下する懸念がある。炭素数が12よりも多い場合、溶媒への溶解性が低下する懸念がある。なお、フッ素含有モノマーは、1分子当たりに複数のフルオロポリエーテル部位を有していてもよい。 The number of carbon atoms contained in the fluoropolyether moiety is preferably 4 or more and 12 or less, more preferably 4 or more and 10 or less, and still more preferably 6 or more and 8 or less. When the number of carbon atoms is less than 4, there is a concern that the surface energy is reduced. When the number of carbon atoms is more than 12, there is a concern that the solubility in a solvent is lowered. In addition, the fluorine-containing monomer may have a plurality of fluoropolyether sites per molecule.

フッ素含有モノマーを構成成分として含むフッ素含有化合物のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツール(登録商標)DAC−HP)、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツールDSX)、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツールAES4)、旭硝子社製のフッ素系添加剤(製品名:Afluid)、DIC社製のフッ素系添加剤(製品名:メガファック(登録商標)RS−76−NS)、DIC社製のフッ素系添加剤(製品名:メガファックRS−75)、油脂製品社製のフッ素系添加剤(製品名:C10GACRY)、油脂製品社製のフッ素系添加剤(製品名:C8HGOL)等が挙げられる。フッ素含有モノマーは、紫外線によって重合するものであることが好ましく、−OCF−鎖及び/又は=NCO−鎖を有することが好ましい。上層樹脂5bは、1種類のフッ素含有モノマーを含んでいてもよく、複数種類のフッ素含有モノマーを含んでいてもよい。Known fluorine-containing compounds containing a fluorine-containing monomer as a constituent component include, for example, a fluorine-based additive (product name: OPTOOL (registered trademark) DAC-HP) manufactured by Daikin Industries, Ltd. and fluorine manufactured by Daikin Industries, Ltd. Additive (Product name: Optool DSX), Fluorine additive manufactured by Daikin Industries, Ltd. (Product name: Optool AES4), Fluorine additive manufactured by Asahi Glass (Product name: Afluid), Fluorine additive manufactured by DIC Agent (product name: MegaFac (registered trademark) RS-76-NS), fluorine-based additive manufactured by DIC (product name: Megafac RS-75), fluorine-based additive manufactured by Yushi Co., Ltd. (product name: C10GACRY), a fluorine-based additive (product name: C8HGOL) manufactured by Yushi Co., Ltd., and the like. The fluorine-containing monomer is preferably one that is polymerized by ultraviolet rays, and preferably has a —OCF 2 — chain and / or a = NCO— chain. The upper resin 5b may contain one type of fluorine-containing monomer or may contain a plurality of types of fluorine-containing monomers.

フッ素含有モノマーは、下層樹脂5aにも含まれていてもよい。この場合、上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーの濃度は、下層樹脂5a中のフッ素含有モノマーの濃度よりも高いことが好ましい。下層樹脂5aは、フッ素含有モノマーを含まないことが好ましい。 The fluorine-containing monomer may also be contained in the lower layer resin 5a. In this case, the concentration of the fluorine-containing monomer in the upper resin 5b is preferably higher than the concentration of the fluorine-containing monomer in the lower resin 5a. The lower layer resin 5a preferably does not contain a fluorine-containing monomer.

上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーの濃度は、0重量%よりも高く、10重量%以下であることが好ましい。上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーの濃度が10重量%よりも高い場合、フッ素含有モノマーが多過ぎることによる、ブリードアウトの発生、及び、コストの上昇が懸念される。 The concentration of the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b is preferably higher than 0% by weight and 10% by weight or less. When the concentration of the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b is higher than 10% by weight, there is a concern about the occurrence of bleed-out and an increase in cost due to too much fluorine-containing monomer.

下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bは、各々、多官能アクリレート、単官能アクリレート、重合開始剤等を適宜含んでいてもよい。 Each of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b may appropriately include a polyfunctional acrylate, a monofunctional acrylate, a polymerization initiator, and the like.

多官能アクリレートとしては、例えば、ウレタンアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトールアクリレートと、モノ及びジペンタエリスリトールアクリレートと、ポリペンタエリスリトールアクリレートとの混合物、エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート、ポリエチレングリコール200ジアクリレート、ポリエチレングリコール300ジアクリレート、ポリエチレングリコール400ジアクリレート、ポリエチレングリコール600ジアクリレート、6官能ポリエステルアクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エトキシ化(4モル付加物)ビスフェノールAジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート等が挙げられる。ウレタンアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、共栄社化学社製の多官能アクリレート(製品名:UA−306H)、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:U−10PA)、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:UA−7100)等が挙げられる。エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:ATM−35E)等が挙げられる。ペンタエリスリトールトリアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−TMM−3LM−N)、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−TMM−3L)、第一工業製薬社製の多官能アクリレート(製品名:PET−3)等が挙げられる。1,9−ノナンジオールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−NOD−N)等が挙げられる。ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、共栄社化学社製の多官能アクリレート(製品名:ライトアクリレートDPE−6A)、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−DPH)等が挙げられる。トリペンタエリスリトールアクリレートと、モノ及びジペンタエリスリトールアクリレートと、ポリペンタエリスリトールアクリレートとの混合物としては、例えば、大阪有機化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:ビスコート#802)等が挙げられる。エトキシ化ポリグリセリンポリアクリレートとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:NK ECONOMER(登録商標) A−PG5027E)等が挙げられる。トリメチロールプロパントリアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、共栄社化学社製の多官能アクリレート(製品名:ライトアクリレートTMP−A)等が挙げられる。アルコキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、日本化薬社製の多官能アクリレート(製品名:KAYARAD(登録商標) DPEA−12)、日本化薬社製の多官能アクリレート(製品名:KAYARAD DPCA−30)等が挙げられる。ポリエチレングリコール200ジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、第一工業製薬社製の多官能アクリレート(製品名:PE−200)等が挙げられる。ポリエチレングリコール300ジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、第一工業製薬社製の多官能アクリレート(製品名:PE−300)等が挙げられる。ポリエチレングリコール400ジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−400)等が挙げられる。ポリエチレングリコール600ジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−600)等が挙げられる。6官能ポリエステルアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、ダイセル・オルネクス社製の多官能アクリレート(製品名:EBECRYL(登録商標)450)等が挙げられる。エトキシ化グリセリントリアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−GLY−9E)等が挙げられる。1,6−ヘキサンジオールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−HD−N)等が挙げられる。トリプロピレングリコールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:APG−200)等が挙げられる。エトキシ化(4モル付加物)ビスフェノールAジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:A−BPE−4)等が挙げられる。ジプロピレングリコールジアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の多官能アクリレート(製品名:APG−100)等が挙げられる。下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bは、各々、1種類の多官能アクリレートを含んでいてもよく、複数種類の多官能アクリレートを含んでいてもよい。 Examples of polyfunctional acrylates include urethane acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tripentaerythritol acrylate, and mono and dipentaerythritol acrylate. And polypentaerythritol acrylate, ethoxylated polyglycerin polyacrylate, trimethylolpropane triacrylate, alkoxylated dipentaerythritol polyacrylate, polyethylene glycol 200 diacrylate, polyethylene glycol 300 diacrylate, polyethylene glycol 400 diacrylate, polyethylene Glycol 600 Diac Relay , Hexafunctional polyester acrylate, ethoxylated glycerin triacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, ethoxylated (4 mol adduct) Bisphenol A diacrylate, dipropylene glycol diacrylate, and the like. Known urethane acrylates include, for example, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. polyfunctional acrylate (product name: UA-306H), Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. polyfunctional acrylate (product name: U-10PA), Shin-Nakamura. Examples thereof include polyfunctional acrylate (product name: UA-7100) manufactured by Chemical Industries. Examples of known ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate include polyfunctional acrylate (product name: ATM-35E) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Known examples of pentaerythritol triacrylate include, for example, polyfunctional acrylate (product name: A-TMM-3LM-N) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., polyfunctional acrylate (product name) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. : A-TMM-3L), a polyfunctional acrylate (product name: PET-3) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., and the like. Known examples of 1,9-nonanediol diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: A-NOD-N) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Known examples of dipentaerythritol hexaacrylate include, for example, polyfunctional acrylate (product name: Light acrylate DPE-6A) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., and polyfunctional acrylate (product name: A-) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. DPH) and the like. Examples of the mixture of tripentaerythritol acrylate, mono- and dipentaerythritol acrylate, and polypentaerythritol acrylate include polyfunctional acrylate (product name: Biscote # 802) manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. Examples of the ethoxylated polyglycerin polyacrylate include polyfunctional acrylate (product name: NK ECONOMER (registered trademark) A-PG5027E) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Examples of known trimethylolpropane triacrylate include polyfunctional acrylate (product name: light acrylate TMP-A) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Known examples of the alkoxylated dipentaerythritol polyacrylate include, for example, a polyfunctional acrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (product name: KAYARAD (registered trademark) DPEA-12), a polyfunctional acrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. ( Product name: KAYARAD DPCA-30) and the like. Examples of known polyethylene glycol 200 diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: PE-200) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Examples of known polyethylene glycol 300 diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: PE-300) manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Examples of known polyethylene glycol 400 diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: A-400) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Examples of known polyethylene glycol 600 diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: A-600) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. As a well-known thing among hexafunctional polyester acrylates, the polyfunctional acrylate (product name: EBECRYL (trademark) 450) by Daicel Ornex, etc. are mentioned, for example. Examples of known ethoxylated glycerin triacrylate include polyfunctional acrylate (product name: A-GLY-9E) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Known examples of 1,6-hexanediol diacrylate include, for example, polyfunctional acrylate (product name: A-HD-N) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Examples of known tripropylene glycol diacrylate include polyfunctional acrylate (product name: APG-200) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Known examples of ethoxylated (4 mol adduct) bisphenol A diacrylate include, for example, polyfunctional acrylate (product name: A-BPE-4) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. As a well-known thing among dipropylene glycol diacrylate, the Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. polyfunctional acrylate (product name: APG-100) etc. are mentioned, for example. Each of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b may include one type of polyfunctional acrylate, or may include a plurality of types of polyfunctional acrylates.

単官能アクリレートのうち、アルキル基を含有するものとしては、例えば、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート等が挙げられる。ラウリルアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の単官能アクリレート(製品名:LA)等が挙げられる。ステアリルアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、日油社製の単官能アクリレート(製品名:ブレンマー(登録商標)SA)等が挙げられる。 Examples of monofunctional acrylates containing an alkyl group include lauryl acrylate and stearyl acrylate. Examples of known lauryl acrylate include monofunctional acrylate (product name: LA) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Known examples of stearyl acrylate include a monofunctional acrylate (product name: Blemmer (registered trademark) SA) manufactured by NOF Corporation.

単官能アクリレートのうち、エチレンオキサイド基又はプロポレンオキサイド基を含有するものとしては、例えば、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコールモノアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、新中村化学工業社製の単官能アクリレート(製品名:AM−90G)等が挙げられる。ポリプロピレングリコールモノアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、日油社製の単官能アクリレート(製品名:ブレンマーAP−400)等が挙げられる。 Among monofunctional acrylates, those containing an ethylene oxide group or a propylene oxide group include, for example, polyethylene glycol monoacrylate and polypropylene glycol monoacrylate. Examples of known polyethylene glycol monoacrylates include monofunctional acrylates (product name: AM-90G) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. As a well-known thing among polypropylene glycol monoacrylates, the monofunctional acrylate (product name: BLEMMER AP-400) by NOF Corporation etc. are mentioned, for example.

単官能アクリレートのうち、水酸基を含有するものとしては、例えば、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート等が挙げられる。2−ヒドロキシエチルメタクリレートのうち公知のものとしては、例えば、日本触媒社製の単官能アクリレート(製品名:2HEMA)等が挙げられる。4−ヒドロキシブチルアクリレートのうち公知のものとしては、例えば、日本化成社製の単官能アクリレート(製品名:4HBA)等が挙げられる。 Among monofunctional acrylates, those containing a hydroxyl group include, for example, 2-hydroxyethyl methacrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, and the like. Examples of known 2-hydroxyethyl methacrylate include monofunctional acrylate (product name: 2HEMA) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. Known examples of 4-hydroxybutyl acrylate include, for example, a monofunctional acrylate (product name: 4HBA) manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.

単官能アクリレートのうち、アミド基を含有するもの(以下、単官能アミドモノマーとも言う。)としては、例えば、N−アクリロイルモルホリン、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、N−ビニル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルメタクリルアミド、N−メトキシ−N−メチル−3−フェニル−アクリルアミド等が挙げられる。N−アクリロイルモルホリンのうち公知のものとしては、例えば、KJケミカルズ社製の単官能アミドモノマー(製品名:ACMO(登録商標))等が挙げられる。N,N−ジメチルアクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、KJケミカルズ社製の単官能アミドモノマー(製品名:DMAA(登録商標))等が挙げられる。N,N−ジエチルアクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、KJケミカルズ社製の単官能アミドモノマー(製品名:DEAA(登録商標))等が挙げられる。N−ビニル−2−ピロリドンのうち公知のものとしては、例えば、日本触媒社製の単官能アミドモノマー(製品名:N−ビニルピロリドン)等が挙げられる。N,N−ジメチルメタクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、東京化成工業社製の単官能アミドモノマー(製品コード:D0745)等が挙げられる。N−メトキシ−N−メチル−3−フェニル−アクリルアミドのうち公知のものとしては、例えば、シグマアルドリッチ社製の単官能アミドモノマー等が挙げられる。 Examples of monofunctional acrylates containing amide groups (hereinafter also referred to as monofunctional amide monomers) include, for example, N-acryloylmorpholine, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, and N-vinyl. -2-pyrrolidone, N, N-dimethylmethacrylamide, N-methoxy-N-methyl-3-phenyl-acrylamide and the like. Known examples of N-acryloylmorpholine include monofunctional amide monomers (product name: ACMO (registered trademark)) manufactured by KJ Chemicals. Known examples of N, N-dimethylacrylamide include monofunctional amide monomers (product name: DMAA (registered trademark)) manufactured by KJ Chemicals. Known examples of N, N-diethylacrylamide include monofunctional amide monomers (product name: DEAA (registered trademark)) manufactured by KJ Chemicals. Known examples of N-vinyl-2-pyrrolidone include a monofunctional amide monomer (product name: N-vinylpyrrolidone) manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. Known examples of N, N-dimethylmethacrylamide include monofunctional amide monomers (product code: D0745) manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. Examples of known N-methoxy-N-methyl-3-phenyl-acrylamide include monofunctional amide monomers manufactured by Sigma-Aldrich.

下層樹脂5aが単官能アミドモノマーを含む場合、アミド基の水素結合力によって、基材フィルム2と重合体層3との密着性を高めることができる。特に、基材フィルム2が極性の高いトリアセチルセルロースを含む場合、より具体的には、基材フィルム2の少なくとも重合体層3側の表面にトリアセチルセルロースが存在する場合であっても、基材フィルム2と重合体層3との密着性を高めることができる。単官能アミドモノマーは、N,N−ジメチルアクリルアミド、及び、N,N−ジエチルアクリルアミドのうちの少なくとも一方を含むことが好ましい。N,N−ジメチルアクリルアミド、及び、N,N−ジエチルアクリルアミドは、単官能アミドモノマーの中でも分子量が多く、ガラス転移温度が低いため、含有量が少量であっても、基材フィルム2と重合体層3との密着性を好ましく高めることができる。 When the lower layer resin 5a contains a monofunctional amide monomer, the adhesion between the base film 2 and the polymer layer 3 can be enhanced by the hydrogen bonding force of the amide group. In particular, when the base film 2 contains highly polar triacetyl cellulose, more specifically, even when triacetyl cellulose is present on at least the surface of the base film 2 on the polymer layer 3 side, The adhesion between the material film 2 and the polymer layer 3 can be enhanced. The monofunctional amide monomer preferably contains at least one of N, N-dimethylacrylamide and N, N-diethylacrylamide. Since N, N-dimethylacrylamide and N, N-diethylacrylamide have a large molecular weight among monofunctional amide monomers and a low glass transition temperature, even if the content is small, the base film 2 and the polymer Adhesiveness with the layer 3 can be preferably increased.

下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bは、各々、1種類の単官能アクリレートを含んでいてもよく、複数種類の単官能アクリレートを含んでいてもよい。 Each of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b may include one type of monofunctional acrylate, or may include a plurality of types of monofunctional acrylates.

重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤等が挙げられる。光重合開始剤は、活性エネルギー線に対して活性であり、モノマーを重合する重合反応を開始させるために添加されるものである。光重合開始剤としては、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合開始剤、カチオン重合開始剤等を用いることができる。このような光重合開始剤としては、例えば、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、2,2’−ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のアセトフェノン類;ベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、2−クロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等のケトン類;ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類;ベンジルジメチルケタール、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のベンジルケタール類;2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフィンオキサイド類;1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン等のアルキルフェノン類、等が挙げられる。2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイドのうち公知のものとしては、例えば、BASF社製の光重合開始剤(製品名:IRGACURE(登録商標) TPO)等が挙げられる。ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイドのうち公知のものとしては、例えば、BASF社製の光重合開始剤(製品名:IRGACURE 819)等が挙げられる。1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンのうち公知のものとしては、例えば、BASF社製の光重合開始剤(製品名:IRGACURE 184)等が挙げられる。 Examples of the polymerization initiator include a photopolymerization initiator. The photopolymerization initiator is active with respect to active energy rays, and is added to initiate a polymerization reaction for polymerizing the monomer. As the photopolymerization initiator, for example, a radical polymerization initiator, an anionic polymerization initiator, a cationic polymerization initiator and the like can be used. Examples of such a photopolymerization initiator include acetophenones such as p-tert-butyltrichloroacetophenone, 2,2′-diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Ketones such as benzophenone, 4,4′-bisdimethylaminobenzophenone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone; benzoin, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc. Benzoin ethers; benzyl ketals such as benzyl dimethyl ketal and hydroxycyclohexyl phenyl ketone; 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide; Scan (2,4,6-trimethylbenzoyl) - acylphosphine oxides such as triphenylphosphine oxide; 1-hydroxy - cyclohexyl - phenyl - phenones such as ketones, and the like. Known examples of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide include, for example, a photopolymerization initiator (product name: IRGACURE (registered trademark) TPO) manufactured by BASF. Examples of known bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide include a photopolymerization initiator (product name: IRGACURE 819) manufactured by BASF. Known examples of 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone include a photopolymerization initiator (product name: IRGACURE 184) manufactured by BASF.

下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bのうちの少なくとも一方は、溶剤を含有しないことが好ましい。すなわち、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bのうちの少なくとも一方は、無溶剤系であることが好ましい。下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bのうちの少なくとも一方が無溶剤系である場合、溶剤の使用に係るコスト、及び、環境面での負荷(使用時の臭気等)を低減することができる。更に、溶剤を乾燥させて除去するための装置が不要であり、装置コストを低減することができる。一方、上層樹脂5bが溶剤を含有する場合、フッ素含有モノマーが混ざり過ぎてしまい、フッ素原子が重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面に配向しにくくなる懸念がある。 It is preferable that at least one of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b does not contain a solvent. That is, at least one of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b is preferably solventless. When at least one of the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b is a solventless system, it is possible to reduce the cost associated with the use of the solvent and the environmental load (odor during use, etc.). Furthermore, an apparatus for drying and removing the solvent is unnecessary, and the apparatus cost can be reduced. On the other hand, when the upper layer resin 5b contains a solvent, the fluorine-containing monomer is excessively mixed, and there is a concern that the fluorine atoms are less likely to be oriented on the surface of the polymer layer 3 opposite to the base film 2.

下層樹脂5aの厚みDaは特に限定されないが、5μm以上、10μm以下であることが好ましい。下層樹脂5aの厚みDaが5μm未満である場合、下層樹脂5aの塗布性が低下する(斑、レンズ欠陥等の欠点が発生する)懸念がある。下層樹脂5aの厚みDaが10μmよりも大きい場合、得られる光学フィルム1がカールしやすくなる懸念がある。本実施形態における下層樹脂5aの厚みDaは、図1(a)に示すように、基材フィルム2側の表面から基材フィルム2とは反対側の表面までの距離を指す。 The thickness Da of the lower layer resin 5a is not particularly limited, but is preferably 5 μm or more and 10 μm or less. When the thickness Da of the lower layer resin 5a is less than 5 μm, the applicability of the lower layer resin 5a may be deteriorated (defects such as spots and lens defects occur). When the thickness Da of the lower layer resin 5a is larger than 10 μm, the obtained optical film 1 may be easily curled. The thickness Da of the lower layer resin 5a in the present embodiment indicates the distance from the surface on the base film 2 side to the surface on the opposite side to the base film 2 as shown in FIG.

下層樹脂5aの粘度は、25℃において、10cpよりも高く、10000cp未満であることが好ましい。下層樹脂5aの25℃における粘度が10cpよりも高い場合、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bが積層された状態で、上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーが下層樹脂5a中に混入しにくく、上層樹脂5b(重合体層3)の基材フィルム2とは反対側の表面におけるフッ素原子の濃度が高まりやすくなる。下層樹脂5aの25℃における粘度が10000cp未満である場合、下層樹脂5aの塗布性が高まり、下層樹脂5aの厚みを容易に制御することができる。 The viscosity of the lower layer resin 5a is preferably higher than 10 cp and lower than 10,000 cp at 25 ° C. When the viscosity at 25 ° C. of the lower layer resin 5a is higher than 10 cp, the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b is less likely to be mixed into the lower layer resin 5a in a state where the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are laminated. The concentration of fluorine atoms on the surface of the resin 5b (polymer layer 3) opposite to the base film 2 tends to increase. When the viscosity of the lower layer resin 5a at 25 ° C. is less than 10,000 cp, the coating property of the lower layer resin 5a is improved, and the thickness of the lower layer resin 5a can be easily controlled.

上層樹脂5bの厚みDbは特に限定されないが、0.5μm以上、2μm以下であることが好ましい。本実施形態における上層樹脂5bの厚みDbは、図1(a)に示すように、金型6の凹部の底点に対応する位置から、金型6(離型剤7)とは反対側の表面までの距離を指す。 The thickness Db of the upper layer resin 5b is not particularly limited, but is preferably 0.5 μm or more and 2 μm or less. As shown in FIG. 1A, the thickness Db of the upper layer resin 5b in the present embodiment is on the side opposite to the mold 6 (release agent 7) from the position corresponding to the bottom point of the recess of the mold 6. Refers to the distance to the surface.

上層樹脂5bの粘度は、25℃において、0.1cpよりも高く、100cp未満であることが好ましい。上層樹脂5bの25℃における粘度が0.1cpよりも高い場合、上層樹脂5bの塗布性が高まり、上層樹脂5bの厚みを容易に制御することができる。上層樹脂5bの25℃における粘度が100cp未満である場合、上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーの流動性が好ましく確保される。そのため、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bが積層された状態で、上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーが下層樹脂5a中に混入しにくく、上層樹脂5b(重合体層3)の基材フィルム2とは反対側の表面におけるフッ素原子の濃度が高まりやすくなる。 The viscosity of the upper layer resin 5b is preferably higher than 0.1 cp and lower than 100 cp at 25 ° C. When the viscosity of the upper resin 5b at 25 ° C. is higher than 0.1 cp, the applicability of the upper resin 5b is enhanced, and the thickness of the upper resin 5b can be easily controlled. When the viscosity of the upper resin 5b at 25 ° C. is less than 100 cp, the fluidity of the fluorine-containing monomer in the upper resin 5b is preferably ensured. Therefore, in a state where the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are laminated, the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b is not easily mixed into the lower layer resin 5a, and the base film 2 of the upper layer resin 5b (polymer layer 3). It becomes easy to increase the concentration of fluorine atoms on the opposite surface.

金型6は、可視光の波長以下のピッチ(隣接する凹部の底点間の距離)Qで設けられる複数の凹部を表面に有している。よって、金型6によれば、樹脂層8の表面にモスアイ構造を形成することができる。 The mold 6 has a plurality of recesses provided on the surface at a pitch Q (distance between the bottom points of adjacent recesses) Q that is equal to or less than the wavelength of visible light. Therefore, according to the mold 6, a moth-eye structure can be formed on the surface of the resin layer 8.

金型6は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含んでいる。金型6としては、例えば、下記の方法で作製されるものを用いることができる。まず、金型6の材料となるアルミニウムを、支持基板上にスパッタリング法によって成膜する。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、モスアイ構造の雌型(金型6)を作製することができる。この際、陽極酸化を行う時間、及び、エッチングを行う時間を調整することによって、金型6の凹凸構造を変化させることができる。 The mold 6 contains aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms. As the mold 6, for example, one produced by the following method can be used. First, aluminum as a material for the mold 6 is formed on the support substrate by sputtering. Next, a female mold (mold 6) having a moth-eye structure can be produced by alternately repeating anodic oxidation and etching on the formed aluminum layer. At this time, the concavo-convex structure of the mold 6 can be changed by adjusting the time for performing anodic oxidation and the time for performing etching.

支持基板の材料としては特に限定されず、例えば、ガラス;ステンレス、ニッケル等の金属材料;ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、環状オレフィン系高分子(代表的には、ノルボルネン系樹脂等である、日本ゼオン社製の高分子(製品名:ゼオノア(登録商標))、JSR社製の高分子(製品名:アートン(登録商標)))等のポリオレフィン系樹脂;ポリカーボネート樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、トリアセチルセルロース等の樹脂材料、等が挙げられる。また、支持基板上にアルミニウムを成膜したものの代わりに、アルミニウム製の基板を用いてもよい。 The material of the support substrate is not particularly limited. For example, glass; metal material such as stainless steel and nickel; polypropylene, polymethylpentene, cyclic olefin polymer (typically, norbornene resin, etc., Nippon Zeon Co., Ltd.) Polyolefin resins such as polymers (product name: ZEONOR (registered trademark)) and polymers manufactured by JSR (product name: ARTON (registered trademark)); polycarbonate resins; polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl Examples thereof include resin materials such as cellulose. An aluminum substrate may be used instead of the aluminum film formed on the support substrate.

金型6の形状としては特に限定されず、例えば、平板状、ロール状等が挙げられる。 The shape of the mold 6 is not particularly limited, and examples thereof include a flat plate shape and a roll shape.

隣接する凹部間のピッチQは、可視光の波長(780nm)以下であれば特に限定されないが、後述する光学フィルム1の隣接する凸部4間の好ましいピッチPを実現する観点から、100nm以上、400nm以下であることが好ましく、100nm以上、200nm以下であることがより好ましい。本明細書中、金型の隣接する凹部間のピッチは、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡(製品名:S−4700)で撮影される平面写真の1μm角の領域内における、すべての隣接する凹部間の距離の平均値を指す。 The pitch Q between adjacent concave portions is not particularly limited as long as it is equal to or less than the wavelength of visible light (780 nm), but from the viewpoint of realizing a preferable pitch P between adjacent convex portions 4 of the optical film 1 described later, 100 nm or more, It is preferably 400 nm or less, and more preferably 100 nm or more and 200 nm or less. In this specification, the pitch between the adjacent concave portions of the mold is all in a 1 μm square region of a planar photograph taken with a scanning electron microscope (product name: S-4700) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. The average value of the distance between adjacent recessed parts is indicated.

金型6の表面には、離型剤7が塗布されている。よって、上記工程(d)において、金型6を重合体層3から容易に剥離することができる。更に、金型6の表面エネルギーを低くすることができる。そのため、上記工程(b)において、金型6を上層樹脂5b側から下層樹脂5aに押し付ける際に、フッ素原子を上層樹脂5bの基材フィルム2とは反対側の表面に効率的に配向させることができる。更に、樹脂層8を硬化させる前に、フッ素原子が樹脂層8の基材フィルム2とは反対側の表面から離れてしまうことを防止することができる。その結果、光学フィルム1において、フッ素原子を重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面に効率的に配向させることができる。 A mold release agent 7 is applied to the surface of the mold 6. Therefore, the mold 6 can be easily peeled from the polymer layer 3 in the step (d). Furthermore, the surface energy of the mold 6 can be lowered. Therefore, in the step (b), when the mold 6 is pressed from the upper resin 5b side to the lower resin 5a, fluorine atoms are efficiently oriented on the surface of the upper resin 5b opposite to the base film 2. Can do. Furthermore, before hardening the resin layer 8, it can prevent that a fluorine atom leaves | separates from the surface on the opposite side to the base film 2 of the resin layer 8. FIG. As a result, in the optical film 1, fluorine atoms can be efficiently oriented on the surface of the polymer layer 3 opposite to the base film 2.

離型剤7は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含んでいる。離型剤7はフッ素原子を含んでいるため、上層樹脂5b中のフッ素含有モノマーとの相互作用が強くなり、上層樹脂5b中のフッ素原子を基材フィルム2とは反対側の表面により効率的に配向させることができる。 The release agent 7 contains carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms. Since the release agent 7 contains a fluorine atom, the interaction with the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b is strengthened, and the fluorine atom in the upper layer resin 5b is more efficient on the surface opposite to the base film 2. Can be oriented.

離型剤7としては、例えば、フッ素含有化合物を含むものが挙げられる。フッ素含有化合物のうち公知のものとしては、例えば、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツール(登録商標)DAC−HP)、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツールDSX)、ダイキン工業社製のフッ素系添加剤(製品名:オプツールAES4)、旭硝子社製のフッ素系添加剤(製品名:Afluid)、DIC社製のフッ素系添加剤(製品名:メガファック(登録商標)RS−76−NS)、DIC社製のフッ素系添加剤(製品名:メガファックRS−75)、油脂製品社製のフッ素系添加剤(製品名:C10GACRY)、油脂製品社製のフッ素系添加剤(製品名:C8HGOL)等が挙げられる。 Examples of the release agent 7 include those containing a fluorine-containing compound. Known fluorine-containing compounds include, for example, a fluorine-based additive (product name: OPTOOL (registered trademark) DAC-HP) manufactured by Daikin Industries, Ltd., and a fluorine-based additive (product name: OPTOOL manufactured by Daikin Industries, Ltd.). DSX), a fluorine-based additive (product name: OPTOOL AES4) manufactured by Daikin Industries, Ltd., a fluorine-based additive manufactured by Asahi Glass (product name: Afluid), a fluorine-based additive manufactured by DIC (product name: Megafuck ( (Registered trademark) RS-76-NS), a fluorine-based additive (product name: MegaFac RS-75) manufactured by DIC, a fluorine-based additive (product name: C10GACRY) manufactured by Yushi Co., Ltd. Fluorine-based additives (product name: C8HGOL) and the like.

例えば、ダイキン工業社製の「オプツールDAC−HP」は、下記材料を配合したものである。なお、各材料に付した数値は、各材料の配合比率を示す。
・フッ素含有化合物:15重量%以上、25重量%以下
・1,1,2,2,3,3,4−ヘプタフルオロシクロペンタン:45重量%以上、55重量%以下
・プロピレングリコールモノメチルエーテル:25重量%以上、35重量%以下
For example, “OPTOOL DAC-HP” manufactured by Daikin Industries, Ltd. is a blend of the following materials. In addition, the numerical value attached | subjected to each material shows the mixture ratio of each material.
Fluorine-containing compound: 15% by weight or more and 25% by weight or less 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane: 45% by weight or more and 55% by weight or lessPropylene glycol monomethyl ether: 25 % By weight to 35% by weight

例えば、ダイキン工業社製の「オプツールDSX」は、下記材料を配合したものである。なお、各材料に付した数値は、各材料の配合比率を示す。
・フッ素含有化合物:15重量%以上、25重量%以下
・パーフルオロヘキサン:75重量%以上、85重量%以下
For example, “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Industries, Ltd. is a blend of the following materials. In addition, the numerical value attached | subjected to each material shows the mixture ratio of each material.
-Fluorine-containing compound: 15 wt% or more, 25 wt% or less-Perfluorohexane: 75 wt% or more, 85 wt% or less

離型剤7が塗布された金型6の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下である。θ及びθは90°以上であり、かつ、θとθとの差は3°以下であることが好ましい。θ及びθは大きければ大きいほど望ましいが、θ及びθの好ましい上限値は、150°である。本明細書中、離型剤が塗布(配置)された金型の表面は、実質的に、金型上に塗布(配置)された離型剤の表面(金型とは反対側の表面)を含む。本明細書中、ヘキサデカン滴下直後は、滴下されたヘキサデカンが、離型剤が塗布(配置)された金型の表面に接触してから0.5秒以内を指す。本明細書中、接触角は、協和界面科学社製のポータブル接触角計(製品名:PCA−1)を用いて、θ/2法(θ/2=arctan(h/r)、θ:接触角、r:液滴の半径、h:液滴の高さ)で測定される、3箇所の接触角の平均値を指す。ここで、1箇所目の測定点としては、試料の中央部分を選択し、2箇所目及び3箇所目の測定点としては、1箇所目の測定点から試料の長手方向に25mm離れ、かつ、1箇所目の測定点に対して互いに点対称な位置にある2点を選択するものとする。Hexadecane is dropped on the surface of the mold 6 to which the release agent 7 is applied, and the contact angle immediately after the hexadecane drop measured by the θ / 2 method is θ A (unit: °), contact after 4 minutes of hexadecane drop. If the angle is defined as θ B (unit: °), θ A and θ B are 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less. θ A and θ B are preferably 90 ° or more, and the difference between θ A and θ B is preferably 3 ° or less. θ A and θ B are preferably as large as possible, but a preferable upper limit value of θ A and θ B is 150 °. In this specification, the surface of the mold to which the release agent is applied (arranged) is substantially the surface of the release agent applied (arranged) on the mold (the surface opposite to the mold). including. In the present specification, immediately after the hexadecane is added, it refers to within 0.5 seconds after the dropped hexadecane contacts the surface of the mold on which the release agent is applied (arranged). In this specification, the contact angle is the θ / 2 method (θ / 2 = arctan (h / r), θ: contact) using a portable contact angle meter (product name: PCA-1) manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. Angle, r: droplet radius, h: droplet height) and the average value of three contact angles. Here, as the first measurement point, the center portion of the sample is selected, and as the second and third measurement points, 25 mm away from the first measurement point in the longitudinal direction of the sample, and Two points that are point-symmetric with respect to the first measurement point are selected.

X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法(XPS:X−ray Photoelectron Spectroscopy)によって測定される、離型剤7が塗布された金型6の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率(以下、フッ素含有率とも言う。)は、30atom%以上である。離型剤7が塗布された金型6の表面におけるフッ素含有率は、43atom%以上であることが好ましく、49atom%以上であることがより好ましい。離型剤7が塗布された金型6の表面におけるフッ素含有率の好ましい上限値は55atom%であり、より好ましい上限値は50atom%である。離型剤7が塗布された金型6の表面におけるフッ素含有率が55atom%よりも高い場合、得られる重合体層3が白濁する懸念がある。本明細書中、フッ素含有率は、アルバック・ファイ社製のX線光電子分光分析装置(製品名:PHI Quantera SXM)を用いて測定され、その装置仕様は下記の通りであった。
・X線源:単色化AlKα線(1486.6eV)
・分光器:静電同心半球型分析器
・増幅器:多チャンネル式
A release agent 7 is applied which is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) under conditions of an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 °. The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of carbon atoms, the number of aluminum atoms, the number of oxygen atoms, and the number of fluorine atoms (hereinafter also referred to as fluorine content) on the surface of the mold 6 formed. , 30 atom% or more. The fluorine content on the surface of the mold 6 to which the release agent 7 is applied is preferably 43 atom% or more, and more preferably 49 atom% or more. A preferable upper limit of the fluorine content on the surface of the mold 6 to which the release agent 7 is applied is 55 atom%, and a more preferable upper limit is 50 atom%. When the fluorine content on the surface of the mold 6 to which the release agent 7 is applied is higher than 55 atom%, the resulting polymer layer 3 may become cloudy. In the present specification, the fluorine content was measured using an X-ray photoelectron spectroscopic analyzer (product name: PHI Quantera SXM) manufactured by ULVAC-PHI, and the apparatus specifications were as follows.
X-ray source: Monochromatic AlKα ray (1486.6 eV)
・ Spectroscope: Electrostatic concentric hemisphere analyzer ・ Amplifier: Multi-channel type

上層樹脂5bにフッ素含有モノマーを含ませることに加えて、離型剤7が塗布された金型6の表面におけるヘキサデカンの接触角とフッ素含有率とを上記範囲とすれば、重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面におけるフッ素原子の濃度が顕著に高まる。その結果、防汚性及び耐擦性を顕著に高めることができる。これに対して、離型剤7による離型効果が不充分である場合、離型剤7が塗布された金型6の表面における、ヘキサデカンの接触角とフッ素含有率とのうちの少なくとも一方は上記範囲外となってしまう。例えば、上記工程(b)を連続的に長期間行う場合、離型剤7による離型効果が徐々に低下してしまう。そのため、上記工程(b)をそのまま続けて行えば、金型6の材料(アルミニウム)が剥離してしまい、凹凸構造を形成することができなくなる懸念がある。なお、離型剤7が表面に塗布されていない金型6を用いる場合も同様に、金型6の材料(アルミニウム)が剥離してしまうことがあった。以上より、離型剤7による離型効果を維持する観点から、光学フィルム1の製造プロセスにおいて、金型6の表面に離型剤7を供給可能な(例えば、所定の時間毎に離型剤7を供給する)機構を設けることが好ましい。 In addition to including the fluorine-containing monomer in the upper layer resin 5b, if the contact angle of hexadecane and the fluorine content on the surface of the mold 6 coated with the release agent 7 are within the above ranges, the polymer layer 3 The density | concentration of the fluorine atom in the surface on the opposite side to the base film 2 increases notably. As a result, antifouling property and abrasion resistance can be remarkably enhanced. On the other hand, when the mold release effect by the mold release agent 7 is insufficient, at least one of the contact angle of hexadecane and the fluorine content on the surface of the mold 6 coated with the mold release agent 7 is It will be outside the above range. For example, when the step (b) is continuously performed for a long period of time, the release effect by the release agent 7 is gradually reduced. Therefore, if the step (b) is continued as it is, there is a concern that the material (aluminum) of the mold 6 will be peeled off and the uneven structure cannot be formed. In addition, when using the metal mold | die 6 by which the mold release agent 7 was not apply | coated to the surface, the material (aluminum) of the metal mold | die 6 might peel similarly. As described above, from the viewpoint of maintaining the release effect by the release agent 7, the release agent 7 can be supplied to the surface of the mold 6 in the manufacturing process of the optical film 1 (for example, the release agent every predetermined time) 7) is preferably provided.

離型剤7の厚みDcは特に限定されないが、1nm以上、5nm以下であることが好ましい。離型剤7の厚みDcが1nm未満である場合、離型剤7と金型6の表面(水酸基)とが効率的に結合して密着せず、更に、離型剤7中のフッ素含有モノマー(フッ素系単分子モノマー)同士の架橋によって形成される鎖が長くならず(架橋強度が高まらず)、その結果、離型剤7による離型効果が低下する懸念がある。離型剤7の厚みDcが5nmよりも大きい場合、離型剤7の表面形状が金型6の凹凸構造を反映した形状にならず、その結果、金型6によって形成されるモスアイ構造が変化し、その反射防止性及び機械性能が低下する懸念がある。本実施形態における離型剤7の厚みDcは、図1(a)に示すように、金型6側の表面から金型6とは反対側の表面までの距離を指す。 The thickness Dc of the release agent 7 is not particularly limited, but is preferably 1 nm or more and 5 nm or less. When the thickness Dc of the mold release agent 7 is less than 1 nm, the mold release agent 7 and the surface (hydroxyl group) of the mold 6 are efficiently bonded and do not adhere to each other. Further, the fluorine-containing monomer in the mold release agent 7 There is a concern that the chain formed by cross-linking of the (fluorine-based monomolecular monomers) does not become long (the cross-linking strength does not increase), and as a result, the release effect by the release agent 7 is reduced. When the thickness Dc of the release agent 7 is larger than 5 nm, the surface shape of the release agent 7 does not reflect the uneven structure of the mold 6, and as a result, the moth-eye structure formed by the mold 6 changes. However, there is a concern that the antireflection property and the mechanical performance are lowered. The thickness Dc of the release agent 7 in the present embodiment indicates the distance from the surface on the mold 6 side to the surface on the opposite side to the mold 6 as shown in FIG.

重合体層3の厚みDは特に限定されないが、フッ素原子を重合体層3の基材フィルム2とは反対側の表面に高濃度で配向させる観点から、薄いことが好ましい。具体的には、5μm以上、10μm以下であることが好ましい。重合体層3の厚みDが5μm未満である場合、重合体層3の形成時に、斑、レンズ欠陥等の欠点が発生する懸念がある。重合体層3の厚みDが10μmよりも大きい場合、得られる光学フィルム1がカールしやすくなる懸念がある。本実施形態における重合体層3の厚みDは、図1(d)に示すように、基材フィルム2側の表面から凸部4の頂点までの距離を指す。 The thickness D of the polymer layer 3 is not particularly limited, but it is preferably thin from the viewpoint of orienting fluorine atoms on the surface of the polymer layer 3 opposite to the base film 2 at a high concentration. Specifically, it is preferably 5 μm or more and 10 μm or less. When the thickness D of the polymer layer 3 is less than 5 μm, there is a concern that defects such as spots and lens defects may occur when the polymer layer 3 is formed. When the thickness D of the polymer layer 3 is larger than 10 μm, the obtained optical film 1 may be easily curled. The thickness D of the polymer layer 3 in the present embodiment indicates the distance from the surface on the base film 2 side to the apex of the convex portion 4 as shown in FIG.

凸部4の形状は特に限定されず、例えば、柱状の下部と半球状の上部とによって構成される形状(釣鐘状)、錐体状(コーン状、円錐状)等の、先端に向かって細くなる形状(テーパー形状)が挙げられる。また、凸部4は、枝突起を有する形状であってもよい。枝突起とは、モスアイ構造を形成する金型を作製するための陽極酸化及びエッチングを行う過程で形成されてしまった、間隔が不規則な部分に対応する凸部を示す。図1(d)中、隣接する凸部4の間隙の底辺は傾斜した形状となっているが、傾斜せずに水平な形状であってもよい。 The shape of the convex portion 4 is not particularly limited, and for example, it is narrower toward the tip, such as a shape (bell shape) constituted by a columnar lower portion and a hemispherical upper portion, a cone shape (cone shape, conical shape), or the like. The shape (taper shape) which becomes. Further, the convex portion 4 may have a shape having a branch protrusion. The branch protrusion indicates a convex portion corresponding to a portion having an irregular interval, which has been formed in the process of anodizing and etching for producing a mold for forming a moth-eye structure. In FIG. 1D, the bottom of the gap between adjacent convex portions 4 has an inclined shape, but it may have a horizontal shape without being inclined.

隣接する凸部4間のピッチPは、可視光の波長(780nm)以下であれば特に限定されないが、モアレ、虹ムラ等の光学現象を充分に防止する観点からは、100nm以上、400nm以下であることが好ましく、100nm以上、200nm以下であることがより好ましい。本明細書中、光学フィルムの隣接する凸部間のピッチは、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡(製品名:S−4700)で撮影される平面写真の1μm角の領域内における、枝突起を除くすべての隣接する凸部間の距離の平均値を指す。なお、隣接する凸部間のピッチは、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター(製品名:Neoc−ST)を用いて、重合体層の凹凸構造上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムVIII(厚み:5nm)を塗布した状態で測定される。 The pitch P between the adjacent convex portions 4 is not particularly limited as long as it is equal to or less than the wavelength of visible light (780 nm). However, from the viewpoint of sufficiently preventing optical phenomena such as moire and rainbow unevenness, it is 100 nm or more and 400 nm or less. It is preferable that it is 100 nm or more and 200 nm or less. In the present specification, the pitch between adjacent convex portions of the optical film is a branch in a 1 μm square region of a planar photograph taken with a scanning electron microscope (product name: S-4700) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. The average value of the distance between all adjacent convex parts excluding the protrusions. In addition, the pitch between adjacent convex portions is osmium oxide VIII (thickness made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) on the concavo-convex structure of the polymer layer using an osmium coater (product name: Neoc-ST) made by Meiwa Forsys. : 5 nm) applied.

凸部4の高さは特に限定されないが、後述する凸部4の好ましいアスペクト比と両立させる観点から、50nm以上、600nm以下であることが好ましく、100nm以上、300nm以下であることがより好ましい。本明細書中、凸部の高さは、日立ハイテクノロジーズ社製の走査型電子顕微鏡(製品名:S−4700)で撮影される断面写真における、枝突起を除く連続して並んだ10個の凸部の高さの平均値を示す。ただし、10個の凸部を選択する際は、欠損や変形した部分(試料を準備する際に変形させてしまった部分等)がある凸部を除くものとする。試料としては、光学フィルムの特異的な欠陥がない領域でサンプリングされたものが用いられ、例えば、光学フィルムが連続的に製造されるロール状である場合、その中央付近でサンプリングされたものを用いる。なお、凸部の高さは、メイワフォーシス社製のオスミウムコーター(製品名:Neoc−ST)を用いて、重合体層の凹凸構造上に和光純薬工業社製の酸化オスミウムVIII(厚み:5nm)を塗布した状態で測定される。 Although the height of the convex part 4 is not specifically limited, From the viewpoint of making it compatible with the preferable aspect ratio of the convex part 4 mentioned later, it is preferable that it is 50 nm or more and 600 nm or less, and it is more preferable that it is 100 nm or more and 300 nm or less. In the present specification, the height of the convex portion is 10 pieces arranged continuously except for branch protrusions in a cross-sectional photograph taken with a scanning electron microscope (product name: S-4700) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation. The average value of the height of a convex part is shown. However, when selecting ten convex portions, the convex portion having a defect or a deformed portion (such as a portion deformed when preparing a sample) is excluded. As the sample, one sampled in an area where there is no specific defect of the optical film is used. For example, when the optical film is a roll produced continuously, the one sampled near the center is used. . In addition, the height of a convex part is osmium oxide VIII (thickness: 5 nm) made from a Wako Pure Chemical Industries Ltd. on the uneven structure of a polymer layer using the osmium coater (product name: Neoc-ST) made from Meiwaforsys. ) Is applied.

凸部4のアスペクト比は特に限定されないが、0.8以上、1.5以下であることが好ましい。凸部4のアスペクト比が1.5以下である場合、モスアイ構造の加工性が充分に高まり、スティッキングが発生したり、モスアイ構造を形成する際の転写具合が悪化したりする(金型が詰まったり、巻き付いてしまう、等)懸念が低くなる。凸部4のアスペクト比が0.8以上である場合、モアレ、虹ムラ等の光学現象を充分に防止し、良好な反射特性を実現することができる。本明細書中、凸部のアスペクト比は、上述したような方法で測定される、隣接する凸部間のピッチと凸部の高さとの比(高さ/ピッチ)を指す。 Although the aspect ratio of the convex part 4 is not specifically limited, It is preferable that it is 0.8 or more and 1.5 or less. When the aspect ratio of the convex portion 4 is 1.5 or less, the workability of the moth-eye structure is sufficiently increased, sticking occurs, or the transfer condition when forming the moth-eye structure is deteriorated (the mold is clogged). Or concerns about it) When the aspect ratio of the convex portion 4 is 0.8 or more, optical phenomena such as moire and rainbow unevenness can be sufficiently prevented, and good reflection characteristics can be realized. In this specification, the aspect ratio of a convex part refers to the ratio (height / pitch) of the pitch between adjacent convex parts and the height of a convex part measured by the method as mentioned above.

凸部4の配置は特に限定されず、ランダムに配置されていても、規則的に配置されていてもよい。モアレの発生を充分に防止する観点からは、ランダムに配置されていることが好ましい。 The arrangement of the protrusions 4 is not particularly limited, and may be arranged randomly or regularly. From the viewpoint of sufficiently preventing the occurrence of moiré, it is preferably arranged randomly.

以上より、実施形態1の光学フィルムの製造方法によれば、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルム1を製造することができる。 As mentioned above, according to the manufacturing method of the optical film of Embodiment 1, the optical film 1 excellent in antifouling property and abrasion resistance can be manufactured.

次に、実施形態1の金型について、図2を参照して以下に説明する。図2は、実施形態1の金型を示す断面模式図である。 Next, the metal mold | die of Embodiment 1 is demonstrated below with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating the mold according to the first embodiment.

金型6は、可視光の波長以下のピッチ(隣接する凹部の底点間の距離)Qで設けられる複数の凹部を表面に有している。よって、金型6によれば、対象物(例えば、樹脂層)の表面にモスアイ構造を形成することができる。金型6は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含んでいる。 The mold 6 has a plurality of recesses provided on the surface at a pitch Q (distance between the bottom points of adjacent recesses) Q that is equal to or less than the wavelength of visible light. Therefore, according to the mold 6, a moth-eye structure can be formed on the surface of the object (for example, a resin layer). The mold 6 contains aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms.

金型6の表面には、離型剤7が配置されている。離型剤7は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含んでいる。これにより、離型性を有し、表面エネルギーが低い金型6が得られる。 A mold release agent 7 is disposed on the surface of the mold 6. The release agent 7 contains carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms. Thereby, the mold 6 having releasability and low surface energy is obtained.

離型剤7が配置された金型6の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下である。Hexadecane is dropped on the surface of the mold 6 on which the mold release agent 7 is disposed, and the contact angle immediately after the hexadecane dropping measured by the θ / 2 method is θ A (unit: °), contact after 4 minutes of hexadecane dropping. If the angle is defined as θ B (unit: °), θ A and θ B are 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less.

X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、離型剤7が配置された金型6の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上である。 Carbon on the surface of the mold 6 on which the release agent 7 is disposed, measured by X-ray photoelectron spectroscopy under conditions of an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 ° The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms is 30 atom% or more.

離型剤7が配置された金型6の表面における、ヘキサデカンの接触角とフッ素含有率とを上記範囲とすれば、離型剤7による離型効果が充分に得られる。よって、実施形態1の金型は、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムを製造する際に好ましく用いられる。 If the contact angle and fluorine content of hexadecane on the surface of the mold 6 on which the release agent 7 is disposed are within the above ranges, the release effect by the release agent 7 can be sufficiently obtained. Therefore, the metal mold | die of Embodiment 1 is preferably used when manufacturing the optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance.

実施形態1の金型の一例としては、上述した実施形態1の光学フィルムの製造方法に用いられる金型が挙げられる。 As an example of the metal mold | die of Embodiment 1, the metal mold | die used for the manufacturing method of the optical film of Embodiment 1 mentioned above is mentioned.

[実施形態2]
実施形態2の光学フィルムの製造方法について、図3を参照して以下に説明する。図3は、実施形態2の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜e)。実施形態2の光学フィルムの製造方法は、下層樹脂及び上層樹脂を基材フィルム上に順に塗布すること以外、実施形態1の光学フィルムの製造方法と同様であるため、重複する点については説明を適宜省略する。なお、実施形態2の金型は、実施形態1の金型と同様であるため、説明を省略する。
[Embodiment 2]
The manufacturing method of the optical film of Embodiment 2 is demonstrated below with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view for explaining a manufacturing process of the optical film of Embodiment 2 (steps a to e). Since the manufacturing method of the optical film of Embodiment 2 is the same as the manufacturing method of the optical film of Embodiment 1 except that the lower layer resin and the upper layer resin are sequentially applied onto the base film, the overlapping points will be described. Omitted as appropriate. In addition, since the metal mold | die of Embodiment 2 is the same as the metal mold | die of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

(a)下層樹脂の塗布
まず、図3(a)に示すように、下層樹脂5aを基材フィルム2上に塗布する。
(A) Application of lower layer resin First, the lower layer resin 5a is applied on the base film 2 as shown in FIG.

(b)上層樹脂の塗布
図3(b)に示すように、塗布された下層樹脂5a上に上層樹脂5bを塗布する。その結果、上層樹脂5bは、下層樹脂5aの基材フィルム2とは反対側に形成される。
(B) Application of upper layer resin As shown in FIG. 3B, an upper layer resin 5b is applied on the applied lower layer resin 5a. As a result, the upper layer resin 5b is formed on the side opposite to the base film 2 of the lower layer resin 5a.

(c)凹凸構造の形成
図3(c)に示すように、塗布された下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bが基材フィルム2側から順に積層された状態で、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bに金型6を上層樹脂5b側から押し付け、凹凸構造を表面に有する樹脂層8を形成する。金型6の表面には、離型剤7が予め塗布されている。
(C) Formation of concavo-convex structure As shown in FIG. 3 (c), the lower layer resin 5a and the upper layer are applied in a state where the applied lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are sequentially laminated from the base film 2 side. A mold 6 is pressed against the resin 5b from the upper resin 5b side to form a resin layer 8 having an uneven structure on the surface. A mold release agent 7 is applied to the surface of the mold 6 in advance.

(d)樹脂層の硬化
凹凸構造が形成された樹脂層8を硬化させる。その結果、図3(d)に示すような重合体層3が形成される。
(D) The resin layer 8 on which the concavo-convex structure of the resin layer is formed is cured. As a result, a polymer layer 3 as shown in FIG. 3 (d) is formed.

(e)金型の剥離
離型剤7が表面に塗布された金型6を、重合体層3から剥離する。その結果、図3(e)に示すような光学フィルム1が完成する。
(E) Mold Release The mold 6 having the release agent 7 applied on the surface thereof is released from the polymer layer 3. As a result, the optical film 1 as shown in FIG.

[実施形態3]
実施形態3の光学フィルムの製造方法について、図4を参照して以下に説明する。図4は、実施形態3の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜d)。実施形態3の光学フィルムの製造方法は、下層樹脂及び上層樹脂を基材フィルム上に同時に塗布すること以外、実施形態1の光学フィルムの製造方法と同様であるため、重複する点については説明を適宜省略する。なお、実施形態3の金型は、実施形態1の金型と同様であるため、説明を省略する。
[Embodiment 3]
The manufacturing method of the optical film of Embodiment 3 is demonstrated below with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the optical film of Embodiment 3 (steps a to d). Since the manufacturing method of the optical film of Embodiment 3 is the same as the manufacturing method of the optical film of Embodiment 1 except that the lower layer resin and the upper layer resin are simultaneously coated on the base film, the overlapping points will be described. Omitted as appropriate. In addition, since the metal mold | die of Embodiment 3 is the same as the metal mold | die of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

(a)下層樹脂及び上層樹脂の塗布
まず、図4(a)に示すように、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bを基材フィルム2上に同時に塗布する。その結果、上層樹脂5bは、下層樹脂5aの基材フィルム2とは反対側に形成される。下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bを同時に塗布する方法としては、例えば、共押し出し方式で塗布する方法が挙げられる。
(A) Application of lower layer resin and upper layer resin First, as shown in FIG. 4A, the lower layer resin 5 a and the upper layer resin 5 b are simultaneously applied onto the base film 2. As a result, the upper layer resin 5b is formed on the side opposite to the base film 2 of the lower layer resin 5a. As a method of applying the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b at the same time, for example, a method of applying by a coextrusion method can be mentioned.

(b)凹凸構造の形成
図4(b)に示すように、塗布された下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bが基材フィルム2側から順に積層された状態で、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bに金型6を上層樹脂5b側から押し付け、凹凸構造を表面に有する樹脂層8を形成する。金型6の表面には、離型剤7が予め塗布されている。
(B) Formation of concavo-convex structure As shown in FIG. 4 (b), the lower layer resin 5a and the upper layer are applied in the state where the applied lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are sequentially laminated from the base film 2 side. A mold 6 is pressed against the resin 5b from the upper resin 5b side to form a resin layer 8 having an uneven structure on the surface. A mold release agent 7 is applied to the surface of the mold 6 in advance.

(c)樹脂層の硬化
凹凸構造が形成された樹脂層8を硬化させる。その結果、図4(c)に示すような重合体層3が形成される。
(C) The resin layer 8 on which the cured uneven structure of the resin layer is formed is cured. As a result, a polymer layer 3 as shown in FIG. 4C is formed.

(d)金型の剥離
離型剤7が表面に塗布された金型6を、重合体層3から剥離する。その結果、図4(d)に示すような光学フィルム1が完成する。
(D) Mold Release The mold 6 having the release agent 7 applied on its surface is released from the polymer layer 3. As a result, the optical film 1 as shown in FIG.

実施形態3の光学フィルムの製造方法によれば、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bを同時に塗布するため、実施形態2の光学フィルムの製造方法と比較して、工程数を減らすことができる。 According to the manufacturing method of the optical film of Embodiment 3, since the lower layer resin 5a and the upper layer resin 5b are applied simultaneously, the number of steps can be reduced as compared with the manufacturing method of the optical film of Embodiment 2.

[実施形態4]
実施形態4の光学フィルムの製造方法について、図5を参照して以下に説明する。図5は、実施形態4の光学フィルムの製造プロセスを説明するための断面模式図である(工程a〜e)。実施形態4の光学フィルムの製造方法は、上層樹脂及び下層樹脂を金型上に順に塗布すること以外、実施形態1の光学フィルムの製造方法と同様であるため、重複する点については説明を適宜省略する。なお、実施形態4の金型は、実施形態1の金型と同様であるため、説明を省略する。
[Embodiment 4]
The manufacturing method of the optical film of Embodiment 4 is demonstrated below with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic cross-sectional view for explaining the manufacturing process of the optical film of Embodiment 4 (steps a to e). Since the manufacturing method of the optical film of Embodiment 4 is the same as the manufacturing method of the optical film of Embodiment 1 except that the upper layer resin and the lower layer resin are sequentially applied onto the mold, the explanation of overlapping points is appropriately given. Omitted. In addition, since the metal mold | die of Embodiment 4 is the same as the metal mold | die of Embodiment 1, description is abbreviate | omitted.

(a)上層樹脂の塗布
まず、図5(a)に示すように、上層樹脂5bを金型6上に塗布する。金型6の表面には、離型剤7が予め塗布されている。
(A) Application of upper layer resin First, as shown in FIG. 5A, the upper layer resin 5 b is applied on the mold 6. A mold release agent 7 is applied to the surface of the mold 6 in advance.

(b)下層樹脂の塗布
図5(b)に示すように、塗布された上層樹脂5b上に下層樹脂5aを塗布する。その結果、下層樹脂5aは、上層樹脂5bの金型6とは反対側に形成される。
(B) Application of lower layer resin As shown in FIG. 5B, a lower layer resin 5a is applied on the applied upper layer resin 5b. As a result, the lower layer resin 5a is formed on the side opposite to the mold 6 of the upper layer resin 5b.

(c)凹凸構造の形成
図5(c)に示すように、塗布された上層樹脂5b、及び、下層樹脂5aが金型6側から順に積層された状態で、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bに基材フィルム2を下層樹脂5a側から押し付け、すなわち、下層樹脂5a、及び、上層樹脂5bに金型6を上層樹脂5b側から押し付け、凹凸構造を表面に有する樹脂層8を形成する。
(C) Formation of concavo-convex structure As shown in FIG. 5 (c), the applied upper layer resin 5b and lower layer resin 5a are sequentially laminated from the mold 6 side, and the lower layer resin 5a and the upper layer resin. The base film 2 is pressed against the lower resin 5a side, that is, the mold 6 is pressed against the lower resin 5a and the upper resin 5b from the upper resin 5b side, thereby forming the resin layer 8 having a concavo-convex structure on the surface.

(d)樹脂層の硬化
凹凸構造が形成された樹脂層8を硬化させる。その結果、図5(d)に示すような重合体層3が形成される。
(D) The resin layer 8 on which the concavo-convex structure of the resin layer is formed is cured. As a result, a polymer layer 3 as shown in FIG. 5 (d) is formed.

(e)金型の剥離
離型剤7が表面に塗布された金型6を、重合体層3から剥離する。その結果、図5(e)に示すような光学フィルム1が完成する。
(E) Mold Release The mold 6 having the release agent 7 applied on the surface thereof is released from the polymer layer 3. As a result, the optical film 1 as shown in FIG.

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples.

(材料及び部材)
実施例及び比較例において、光学フィルムを製造するために用いた材料及び部材は以下の通りである。
(Materials and components)
In Examples and Comparative Examples, materials and members used for producing optical films are as follows.

(下層樹脂LR−1)
下記材料の混合物(アクリル系樹脂)を用いた。なお、各材料に付した数値は、下層樹脂中の各成分の濃度を示す。
・ウレタンアクリレート(新中村化学工業社製の「UA−7100」):31.8重量%
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(新中村化学工業社製の「A−TMM−3LM−N」):28.2重量%
・エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート(新中村化学工業社製の「ATM−35E」):40重量%
(Lower layer resin LR-1)
A mixture of the following materials (acrylic resin) was used. In addition, the numerical value attached | subjected to each material shows the density | concentration of each component in lower layer resin.
Urethane acrylate (“UA-7100” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 31.8% by weight
Pentaerythritol triacrylate (“A-TMM-3LM-N” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 28.2% by weight
Ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate (“ATM-35E” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.): 40% by weight

(上層樹脂UR−1)
下記材料の混合物(フッ素系樹脂)を用いた。なお、各材料に付した数値は、上層樹脂中の各成分の濃度を示す。上層樹脂UR−1の有効成分濃度(固形分濃度)は、20重量%であった。
・4−アクリロイルモルホリン:75重量%以上、85重量%以下
・パーフルオロポリエーテル:15重量%以上、25重量%以下
(Upper layer resin UR-1)
A mixture of the following materials (fluorine resin) was used. In addition, the numerical value attached | subjected to each material shows the density | concentration of each component in upper layer resin. The active ingredient concentration (solid content concentration) of the upper layer resin UR-1 was 20% by weight.
4-acryloylmorpholine: 75% by weight or more and 85% by weight or less Perfluoropolyether: 15% by weight or more and 25% by weight or less

(上層樹脂UR−2)
有効成分濃度(固形分濃度)を10重量%に変更したこと以外、上層樹脂UR−1と同様なものを用いた。
(Upper layer resin UR-2)
The same thing as upper layer resin UR-1 was used except having changed the active ingredient density | concentration (solid content density | concentration) into 10 weight%.

(上層樹脂UR−3)
有効成分濃度(固形分濃度)を5重量%に変更したこと以外、上層樹脂UR−1と同様なものを用いた。
(Upper layer resin UR-3)
The same thing as upper resin UR-1 was used except having changed the active ingredient density | concentration (solid content density | concentration) into 5 weight%.

(金型M−1)
まず、アルミニウムを、10cm角のガラス基板上にスパッタリング法によって成膜した。成膜されたアルミニウムの層の厚みは、1.0μmであった。次に、成膜されたアルミニウムの層に対して、陽極酸化及びエッチングを交互に繰り返すことによって、多数の微小な穴(隣り合う穴の底点間の距離が可視光の波長以下)が設けられた陽極酸化層を形成した。具体的には、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、陽極酸化、エッチング、及び、陽極酸化を順に行う(陽極酸化:5回、エッチング:4回)ことによって、アルミニウムの内部に向かって細くなる形状(テーパー形状)を有する微小な穴(凹部)を多数形成し、その結果、凹凸構造を有する金型M−1が得られた。金型M−1のサイズは、5cm×10cmであった。陽極酸化は、シュウ酸(濃度:0.03重量%)を用いて、液温5℃、印加電圧80Vの条件下で行った。1回の陽極酸化を行う時間は、25秒とした。エッチングは、リン酸(濃度:1mol/l)を用いて、液温30℃の条件下で行った。1回のエッチングを行う時間は、25分とした。金型M−1の表面仕様は、下記の通りであった。
・隣接する凹部間のピッチQ:200nm
・凹部の深さ:400nm
(Mold M-1)
First, aluminum was deposited on a 10 cm square glass substrate by a sputtering method. The thickness of the formed aluminum layer was 1.0 μm. Next, by repeating the anodic oxidation and etching alternately on the formed aluminum layer, a large number of minute holes (the distance between the bottom points of adjacent holes is less than the wavelength of visible light) are provided. An anodized layer was formed. Specifically, anodization, etching, anodization, etching, anodization, etching, anodization, etching, and anodization are sequentially performed (anodization: 5 times, etching: 4 times), thereby forming the inside of aluminum. A large number of minute holes (concave portions) having a shape (tapered shape) that narrows toward the surface are formed, and as a result, a mold M-1 having an uneven structure is obtained. The size of the mold M-1 was 5 cm × 10 cm. Anodization was performed using oxalic acid (concentration: 0.03% by weight) under conditions of a liquid temperature of 5 ° C. and an applied voltage of 80V. The time for one anodic oxidation was 25 seconds. Etching was performed using phosphoric acid (concentration: 1 mol / l) at a liquid temperature of 30 ° C. The time for performing one etching was set to 25 minutes. The surface specification of the mold M-1 was as follows.
・ Pitch Q between adjacent recesses: 200 nm
-Depth of recess: 400nm

その後、金型M−1の表面に離型剤を塗布することによって、離型処理を施した。離型剤としては、ダイキン工業社製の「オプツールDSX」をパーフルオロヘキサンで希釈し、固形分濃度を0.1重量%とした溶液を用いた。離型剤の厚みDcは、2〜3nmであった。 Then, the mold release process was performed by apply | coating a mold release agent to the surface of metal mold | die M-1. As a release agent, a solution in which “OPTOOL DSX” manufactured by Daikin Industries, Ltd. was diluted with perfluorohexane to a solid content concentration of 0.1% by weight was used. The release agent thickness Dc was 2 to 3 nm.

(金型M−2〜M−6)
金型M−1と同様な金型を用いて樹脂の転写を連続的に行い、その使用期間の短い順に、金型M−2、金型M−3、金型M−4、金型M−5、及び、金型M−6(使用期間が最も長い金型)を準備した。
(Mold M-2 to M-6)
Resin is continuously transferred using a mold similar to the mold M-1, and the mold M-2, the mold M-3, the mold M-4, and the mold M are arranged in the order of short usage period. -5 and mold M-6 (mold with the longest use period) were prepared.

[金型の評価]
金型M−1〜M−6について、離型剤が塗布された表面における、(i)接触角(水及びヘキサデカン)と、(ii)フッ素含有率とを測定した。測定結果を、表1及び表2に示す。
[Evaluation of molds]
For the molds M-1 to M-6, (i) contact angles (water and hexadecane) and (ii) fluorine content on the surface to which the release agent was applied were measured. The measurement results are shown in Tables 1 and 2.

(i)接触角
離型剤が塗布された各金型の表面に対して、水(純水)及びヘキサデカンを滴下し、滴下直後、1分後、2分後、3分後、及び、4分後の接触角を測定した。表1及び表2には、滴下直後の接触角と滴下4分後の接触角との差も示した。なお、「着滴不可」とは、接触角が大き過ぎて着滴できない状態を指す。
(I) Water (pure water) and hexadecane are dropped on the surface of each mold coated with the contact angle release agent, immediately after dropping, 1 minute, 2 minutes, 3 minutes later, and 4 The contact angle after minutes was measured. Tables 1 and 2 also show the difference between the contact angle immediately after dropping and the contact angle 4 minutes after dropping. Note that “impregnation impossible” refers to a state where the contact angle is too large to allow droplet deposition.

(ii)フッ素含有率
離型剤が塗布された各金型の表面に対して、X線光電子分光法による測定を行った。具体的には、まず、離型剤が塗布された各金型の表面のサーベイスペクトルを測定した。サーベイスペクトルの測定条件は、下記の通りであった。
・X線ビーム径:100μm(12.5W、15kV)
・分析面積:1000μm×500μm
・光電子の取り出し角度:45°
・パスエネルギー:224eV
(Ii) Measurement by X-ray photoelectron spectroscopy was performed on the surface of each mold coated with a fluorine content release agent. Specifically, first, a survey spectrum of the surface of each mold coated with a release agent was measured. The measurement conditions for the survey spectrum were as follows.
・ X-ray beam diameter: 100 μm (12.5 W, 15 kV)
・ Analysis area: 1000 μm × 500 μm
-Photoelectron extraction angle: 45 °
・ Pass energy: 224eV

サーベイスペクトルを測定した結果、各金型において、C1sピーク、Al2pピーク、O1sピーク、及び、F1sピークが検出された。各金型の表面に塗布された離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含んでおり、F1sピークは離型剤由来のものであった。また、各金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含んでおり、Al2pピークは金型由来のものであった。 As a result of measuring the survey spectrum, C1s peak, Al2p peak, O1s peak, and F1s peak were detected in each mold. The release agent applied to the surface of each mold contained carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms, and the F1s peak was derived from the release agent. Each die contained aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms, and the Al2p peak was derived from the die.

次に、得られたサーベイスペクトルから、離型剤が塗布された各金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率(フッ素含有率)を算出した。なお、X線光電子分光法による測定で得られる、離型剤が塗布された金型の表面におけるフッ素含有率は、離型剤の最表面から深さ方向に6nm以内の領域におけるフッ素含有率を指す。 Next, from the obtained survey spectrum, fluorine atoms relative to the total number of carbon atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms on the surface of each mold coated with a release agent The ratio of the number (fluorine content) was calculated. The fluorine content on the surface of the mold coated with the mold release agent, obtained by measurement by X-ray photoelectron spectroscopy, is the fluorine content in the region within 6 nm in the depth direction from the outermost surface of the mold release agent. Point to.

Figure 0006600078
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Figure 0006600078
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表1に示すように、金型M−1〜M−3はいずれも、表面に対するヘキサデカン滴下直後の接触角、及び、ヘキサデカン滴下4分後の接触角が85°以上であり、かつ、両者の差が3.5°以下であった。更に、金型M−1〜M−3はいずれも、表面におけるフッ素含有率が30atom%以上であった。 As shown in Table 1, in each of the molds M-1 to M-3, the contact angle immediately after dropping the hexadecane on the surface and the contact angle after 4 minutes of dropping the hexadecane are 85 ° or more, and both The difference was 3.5 ° or less. Further, all of the molds M-1 to M-3 had a fluorine content of 30 atom% or more on the surface.

一方、表2に示すように、金型M−4は、表面に対するヘキサデカン滴下直後の接触角、及び、ヘキサデカン滴下4分後の接触角が85°未満であった。更に、金型M−4は、表面におけるフッ素含有率が30atom%未満であった。 On the other hand, as shown in Table 2, in the mold M-4, the contact angle immediately after dropping of hexadecane on the surface and the contact angle after 4 minutes of dropping of hexadecane were less than 85 °. Furthermore, the mold M-4 had a fluorine content of less than 30 atom% on the surface.

表2に示すように、金型M−5は、表面に対するヘキサデカン滴下直後の接触角が85°以上であったものの、ヘキサデカン滴下4分後の接触角が85°未満であり、両者の差が3.5°よりも大きかった。更に、金型M−5は、表面におけるフッ素含有率が30atom%未満であった。 As shown in Table 2, the mold M-5 had a contact angle of 85 ° or more immediately after the hexadecane dropping on the surface, but the contact angle after 4 minutes of hexadecane dropping was less than 85 °, and the difference between the two was It was larger than 3.5 °. Furthermore, the mold M-5 had a fluorine content on the surface of less than 30 atom%.

表2に示すように、金型M−6は、表面に対するヘキサデカン滴下直後の接触角、及び、ヘキサデカン滴下4分後の接触角が85°未満であり、かつ、両者の差が3.5°よりも大きかった。更に、金型M−6は、表面におけるフッ素含有率が30atom%未満であった。 As shown in Table 2, in the mold M-6, the contact angle immediately after dropping hexadecane on the surface and the contact angle after 4 minutes from dropping hexadecane were less than 85 °, and the difference between the two was 3.5 °. It was bigger than. Further, the mold M-6 had a fluorine content of less than 30 atom% on the surface.

(実施例1)
実施例1の光学フィルムを、実施形態4の光学フィルムの製造方法によって作製した。
Example 1
The optical film of Example 1 was produced by the optical film manufacturing method of Embodiment 4.

(a)上層樹脂の塗布
まず、上層樹脂5bを金型6上(離型剤7が塗布された金型6の表面上)に、スポイトで滴下することによって塗布した。
(A) Application of upper layer resin First, the upper layer resin 5b was applied onto the mold 6 (on the surface of the mold 6 coated with the release agent 7) by dropping it with a dropper.

上層樹脂5bとしては、上述した上層樹脂UR−1を用いた。上層樹脂5bの厚みDbは、1μmであった。離型剤7が表面に塗布された金型6としては、上述した金型M−2を用いた。 The upper layer resin UR-1 described above was used as the upper layer resin 5b. The thickness Db of the upper layer resin 5b was 1 μm. The mold M-2 described above was used as the mold 6 with the release agent 7 applied on the surface.

(b)下層樹脂の塗布
塗布された上層樹脂5b上(上層樹脂5bの金型6とは反対側の表面上)に、下層樹脂5aをスポイトで滴下することによって塗布した。
(B) Coating of the lower layer resin The lower layer resin 5a was coated on the upper layer resin 5b (on the surface opposite to the mold 6 of the upper layer resin 5b) by dropping with a dropper.

下層樹脂5aとしては、上述した下層樹脂LR−1を用いた。下層樹脂5aの厚みDaは、8μmであった。 As the lower layer resin 5a, the lower layer resin LR-1 described above was used. The thickness Da of the lower layer resin 5a was 8 μm.

(c)凹凸構造の形成
塗布された上層樹脂5b、及び、下層樹脂5aが金型6側から順に積層された状態で、下層樹脂5a上(下層樹脂5aの上層樹脂5bとは反対側の表面上)に基材フィルム2を被せ、基材フィルム2を下層樹脂5a側にローラーで押し付けた。すなわち、基材フィルム2に、上層樹脂5b、及び、下層樹脂5aが塗布された金型6を押し付けた。その結果、凹凸構造を基材フィルム2とは反対側の表面に有する樹脂層8が形成された。
(C) Convex / concave structure formation The upper layer resin 5b and the lower layer resin 5a are laminated in order from the mold 6 side, and on the lower layer resin 5a (the surface opposite to the upper layer resin 5b of the lower layer resin 5a) The upper film was covered with the base film 2, and the base film 2 was pressed against the lower resin 5a side with a roller. That is, the mold 6 coated with the upper layer resin 5b and the lower layer resin 5a was pressed against the base film 2. As a result, a resin layer 8 having an uneven structure on the surface opposite to the base film 2 was formed.

基材フィルム2としては、東洋紡社製の易接着層付きポリエチレンテレフタレートフィルム(製品名:コスモシャイン(登録商標)A4300)を用いた。基材フィルム2の厚みは、60μmであった。 As the base film 2, a polyethylene terephthalate film with an easy-adhesion layer (product name: Cosmo Shine (registered trademark) A4300) manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used. The thickness of the base film 2 was 60 μm.

(d)樹脂層の硬化
凹凸構造が形成された樹脂層8に、基材フィルム2側から紫外線(照射量:1.2J/cm)を照射して硬化(重合)させた。その結果、重合体層3(樹脂層8の硬化物)が形成された。
(D) The resin layer 8 on which the cured uneven structure of the resin layer was formed was cured (polymerized) by irradiation with ultraviolet rays (irradiation amount: 1.2 J / cm 2 ) from the base film 2 side. As a result, the polymer layer 3 (cured product of the resin layer 8) was formed.

(e)金型の剥離
離型剤7が表面に塗布された金型6を、重合体層3から剥離した。その結果、光学フィルム1が完成した。光学フィルム1の表面仕様は、下記の通りであった。
・凸部4の形状:釣鐘状
・隣接する凸部4間のピッチP:200nm
・凸部4の高さ:250nm
・凸部4のアスペクト比:1.25
(E) Mold Release The mold 6 having the release agent 7 applied on its surface was released from the polymer layer 3. As a result, the optical film 1 was completed. The surface specification of the optical film 1 was as follows.
・ Shape of convex part 4: bell shape ・ Pitch P between adjacent convex parts 4: 200 nm
-Height of convex part 4: 250 nm
-Aspect ratio of convex part 4: 1.25

(実施例2〜5、及び、比較例1〜5)
表3〜8に示すような材料及び部材に変更したこと以外、実施例1と同様にして、各例の光学フィルムを作製した。なお、表3〜8中の各材料及び各部材の表記は、下記の通りである。
<下層樹脂>
・「LR−1」:下層樹脂LR−1
<上層樹脂>
・「UR−1」〜「UR−3」:上層樹脂UR−1〜UR−3
<金型>
・「M−1」〜「M−6」:金型M−1〜M−6
(Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 5)
Optical films of respective examples were produced in the same manner as in Example 1 except that the materials and members were changed as shown in Tables 3 to 8. In addition, the description of each material and each member in Tables 3-8 is as follows.
<Lower layer resin>
"LR-1": Lower layer resin LR-1
<Upper layer resin>
"UR-1" to "UR-3": Upper resin UR-1 to UR-3
<Mold>
・ "M-1" to "M-6": Molds M-1 to M-6

[光学フィルムの評価]
実施例1〜5、及び、比較例1〜5の光学フィルムについて、防汚性及び耐擦性を評価した。結果を表3〜8に示す。
[Evaluation of optical film]
The optical films of Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 5 were evaluated for antifouling properties and abrasion resistance. The results are shown in Tables 3-8.

(防汚性)
防汚性としては、各例の光学フィルムの表面における、(i)接触角(水及びヘキサデカン)と、(ii)フッ素含有率とを評価した。
(Anti-fouling property)
As antifouling property, (i) contact angles (water and hexadecane) and (ii) fluorine content on the surface of the optical film of each example were evaluated.

(i)接触角
各例の光学フィルムの表面(重合体層の基材フィルムとは反対側の表面)に対して、水(純水)及びヘキサデカンを滴下し、滴下直後、1分後、2分後、3分後、及び、4分後の接触角を測定した。
(I) Contact angle Water (pure water) and hexadecane are dropped on the surface of the optical film of each example (the surface opposite to the base film of the polymer layer), and immediately after dropping, 1 minute later, 2 The contact angles after 3 minutes, 3 minutes and 4 minutes were measured.

(ii)フッ素含有率
各例の光学フィルムの表面(重合体層の基材フィルムとは反対側の表面)に対して、X線光電子分光法による測定を行った。具体的には、まず、各例の光学フィルムの表面のサーベイスペクトルを測定した。サーベイスペクトルの測定条件は、下記の通りであった。
・X線ビーム径:100μm(12.5W、15kV)
・分析面積:1000μm×500μm
・光電子の取り出し角度:45°
・パスエネルギー:224eV
(Ii) Fluorine Content A measurement by X-ray photoelectron spectroscopy was performed on the surface of the optical film of each example (the surface on the side opposite to the base film of the polymer layer). Specifically, first, a survey spectrum of the surface of the optical film of each example was measured. The measurement conditions for the survey spectrum were as follows.
・ X-ray beam diameter: 100 μm (12.5 W, 15 kV)
・ Analysis area: 1000 μm × 500 μm
-Photoelectron extraction angle: 45 °
・ Pass energy: 224eV

サーベイスペクトルを測定した結果、各例の光学フィルムにおいて、C1sピーク、N1sピーク、O1sピーク、及び、F1sピークが検出された。すなわち、各例の光学フィルムの重合体層は、炭素原子、窒素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含むことが分かった。 As a result of measuring the survey spectrum, C1s peak, N1s peak, O1s peak, and F1s peak were detected in the optical film of each example. That is, it was found that the polymer layer of the optical film in each example contained carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms.

次に、得られたサーベイスペクトルから、重合体層の表面における炭素原子の数、窒素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率(フッ素含有率)を算出した。なお、X線光電子分光法による測定で得られる、重合体層の表面におけるフッ素含有率は、重合体層の最表面から深さ方向に6nm以内の領域におけるフッ素含有率を指す。 Next, from the obtained survey spectrum, the ratio of the number of fluorine atoms to the total number of carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms on the surface of the polymer layer (fluorine content) Rate) was calculated. Note that the fluorine content on the surface of the polymer layer obtained by measurement by X-ray photoelectron spectroscopy refers to the fluorine content in a region within 6 nm in the depth direction from the outermost surface of the polymer layer.

(耐擦性)
耐擦性としては、各例の光学フィルムの表面における、(i)摩擦抵抗と、(ii)スチールウール耐性とを評価した。
(Abrasion resistance)
As the abrasion resistance, (i) friction resistance and (ii) steel wool resistance on the surface of the optical film of each example were evaluated.

(i)摩擦抵抗
各例の光学フィルムの表面(重合体層の基材フィルムとは反対側の表面)を、日本スチールウール社製のスチールウール(製品名:#0000)に荷重400gを加えた状態で1回擦り、その際の動摩擦抵抗値を測定した。スチールウールで擦る際、試験機として新東科学社製の表面性測定機(製品名:14FW)を用い、ストローク幅を20mm、速度を0.5mm/sとした。
(I) Friction resistance The surface of the optical film of each example (the surface opposite to the base film of the polymer layer) was applied to steel wool (product name: # 0000) manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd. with a load of 400 g. The state was rubbed once, and the dynamic friction resistance value at that time was measured. When rubbing with steel wool, a surface property measuring machine (product name: 14FW) manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. was used as a testing machine, and the stroke width was 20 mm and the speed was 0.5 mm / s.

(ii)スチールウール耐性
各例の光学フィルムの表面(重合体層の基材フィルムとは反対側の表面)を、日本スチールウール社製のスチールウール(製品名:#0000)に所定の荷重を加えた状態で擦り、傷が付いた時点の荷重を評価指標とした。スチールウールで擦る際、試験機として新東科学社製の表面性測定機(製品名:14FW)を用い、ストローク幅を10mm、速度を100mm/s、擦る回数を10往復とした。また、傷の有無の確認は、照度100lx(蛍光灯)の環境下での目視観察により行った。判定基準は、下記の通りとした。
○:スチールウール耐性が80g以上であった。
△:スチールウール耐性が30g以上、80g未満であった。
×:スチールウール耐性が30g未満であった。
(Ii) Steel wool resistance The surface of the optical film of each example (surface opposite to the base film of the polymer layer) is subjected to a predetermined load on steel wool (product name: # 0000) manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd. The load at the time of rubbing and scratching in the applied state was used as an evaluation index. When rubbing with steel wool, a surface property measuring machine (product name: 14FW) manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. was used as a tester, the stroke width was 10 mm, the speed was 100 mm / s, and the number of times of rubbing was 10 reciprocations. Also, the presence or absence of scratches was confirmed by visual observation under an environment with an illuminance of 100 lx (fluorescent lamp). Judgment criteria were as follows.
○: Steel wool resistance was 80 g or more.
Δ: Steel wool resistance was 30 g or more and less than 80 g.
X: Steel wool resistance was less than 30 g.

Figure 0006600078
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表3〜8に示すように、実施例1〜5は、比較例1〜5よりも、光学フィルムの表面(重合体層の表面)におけるフッ素含有率が高かった。実施例1〜5は、比較例1〜5よりも、光学フィルムの表面に対する水及びヘキサデカンの接触角(特に、滴下直後の接触角)が大きかった。例えば、下層樹脂及び上層樹脂の種類が同じである実施例1と比較例1とを比較すると、光学フィルムの表面に対する水の接触角(滴下直後)が、実施例1では140°よりも大きく着滴できなかったのに対して、比較例1では101.3°であった。よって、実施例1は比較例1よりも撥水性が優れていた。また、光学フィルムの表面に対するヘキサデカンの接触角(滴下直後)が、実施例1では89.5°であったのに対して、比較例1では20°よりも小さかった。よって、実施例1は比較例1よりも撥油性が優れていた。以上より、実施例1〜5は、比較例1〜5よりも防汚性が優れていた。 As shown in Tables 3-8, Examples 1-5 had higher fluorine content on the surface of the optical film (the surface of the polymer layer) than Comparative Examples 1-5. In Examples 1 to 5, the contact angles of water and hexadecane (particularly, the contact angle immediately after dropping) with respect to the surface of the optical film were larger than those of Comparative Examples 1 to 5. For example, when Example 1 and Comparative Example 1 in which the types of the lower layer resin and the upper layer resin are the same are compared, the contact angle of water with respect to the surface of the optical film (immediately after dropping) is larger than 140 ° in Example 1. Although it could not be dropped, in Comparative Example 1, it was 101.3 °. Therefore, Example 1 was superior in water repellency to Comparative Example 1. Further, the contact angle of hexadecane with respect to the surface of the optical film (immediately after dropping) was 89.5 ° in Example 1, whereas it was smaller than 20 ° in Comparative Example 1. Therefore, Example 1 was more excellent in oil repellency than Comparative Example 1. From the above, Examples 1 to 5 were superior in antifouling properties to Comparative Examples 1 to 5.

表3〜8に示すように、実施例1〜5は、比較例1〜5よりも、摩擦抵抗が小さく、スチールウール耐性が良好であった。よって、実施例1〜5は、比較例1〜5よりも耐擦性が優れていた。 As shown in Tables 3-8, Examples 1-5 had smaller frictional resistance and better steel wool resistance than Comparative Examples 1-5. Therefore, Examples 1-5 were more excellent in abrasion resistance than Comparative Examples 1-5.

以上より、実施例1〜5は、比較例1〜5よりも防汚性及び耐擦性が優れていた。すなわち、表面に対するヘキサデカン滴下直後の接触角、及び、ヘキサデカン滴下4分後の接触角が85°以上であり、かつ、両者の差が3.5°以下であり、表面におけるフッ素含有率が30atom%以上である金型(金型M−1〜M−3)を用いれば、防汚性及び耐擦性に優れた光学フィルムが得られることが分かった。 From the above, Examples 1 to 5 were more excellent in antifouling properties and abrasion resistance than Comparative Examples 1 to 5. That is, the contact angle immediately after dropping of hexadecane on the surface and the contact angle after 4 minutes of dropping of hexadecane are 85 ° or more, the difference between them is 3.5 ° or less, and the fluorine content on the surface is 30 atom%. It was found that if the above molds (molds M-1 to M-3) were used, an optical film excellent in antifouling property and abrasion resistance was obtained.

実施例1〜3、及び、比較例1、2の光学フィルムを更に解析した結果について、以下に説明する。 The result of further analyzing the optical films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 will be described below.

まず、上述した方法で得られたサーベイスペクトルから、重合体層の表面における炭素原子の数、窒素原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対する、フッ素原子以外の各原子の数の比率を算出した。算出結果を表9に示す。表9には、上述したフッ素含有率(フッ素原子の数の比率)も示した。 First, from the survey spectrum obtained by the method described above, each number other than fluorine atoms with respect to the total number of carbon atoms, nitrogen atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms on the surface of the polymer layer. The ratio of the number of atoms was calculated. Table 9 shows the calculation results. Table 9 also shows the above-described fluorine content (ratio of the number of fluorine atoms).

Figure 0006600078
Figure 0006600078

表9に示すように、実施例1〜3は、比較例1、2よりも、フッ素原子が重合体層の表面に高濃度で配向していることが分かった。 As shown in Table 9, in Examples 1 to 3, it was found that the fluorine atoms were oriented at a higher concentration on the surface of the polymer layer than in Comparative Examples 1 and 2.

次に、X線光電子分光法によって、各例の光学フィルムの表面のナロースペクトルを測定した。図6は、実施例1〜3、及び、比較例1、2の光学フィルムの表面のナロースペクトルを示すグラフであり、(a)はC1sピークを示し、(b)はN1sピークを示し、(c)はO1sピークを示し、(d)はF1sピークを示す。図6中の縦軸の「c/s」は、「counts/秒」の略である。これは、他図においても同様である。ナロースペクトルの測定条件は、下記の通りであった。
・X線ビーム径:100μm(12.5W、15kV)
・分析面積:1000μm×500μm
・光電子の取り出し角度:45°
・パスエネルギー:112eV
Next, the narrow spectrum of the surface of the optical film of each example was measured by X-ray photoelectron spectroscopy. 6 is a graph showing the narrow spectra of the optical films of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, wherein (a) shows the C1s peak, (b) shows the N1s peak, c) shows the O1s peak, and (d) shows the F1s peak. “C / s” on the vertical axis in FIG. 6 is an abbreviation for “counts / second”. The same applies to other drawings. The measurement conditions for the narrow spectrum were as follows.
・ X-ray beam diameter: 100 μm (12.5 W, 15 kV)
・ Analysis area: 1000 μm × 500 μm
-Photoelectron extraction angle: 45 °
・ Pass energy: 112eV

次に、得られたナロースペクトルのC1sピーク及びO1sピークの各々を複数のピークに分離し、各ピーク位置及び形状から、各ピークに対応する結合種を同定した。 Next, each of the C1s peak and O1s peak of the obtained narrow spectrum was separated into a plurality of peaks, and a binding species corresponding to each peak was identified from each peak position and shape.

図7は、図6(a)中の実施例1のC1sピークの解析結果を示すグラフである。図8は、図6(a)中の実施例2のC1sピークの解析結果を示すグラフである。図9は、図6(a)中の実施例3のC1sピークの解析結果を示すグラフである。図10は、図6(a)中の比較例1のC1sピークの解析結果を示すグラフである。図11は、図6(a)中の比較例2のC1sピークの解析結果を示すグラフである。図7〜11中、ピークCsは、図6(a)中の各例のC1sピークに相当する。一方、ピークC1〜C7は、ピークCs(C1sピーク)に対して各結合種由来のピークでカーブフィッティングして得られたスペクトルである。なお、ピークC1の位置が284.6eVとなるように、得られたスペクトルの帯電補正を行った。 FIG. 7 is a graph showing the analysis result of the C1s peak of Example 1 in FIG. FIG. 8 is a graph showing the analysis result of the C1s peak of Example 2 in FIG. FIG. 9 is a graph showing the analysis result of the C1s peak of Example 3 in FIG. FIG. 10 is a graph showing the analysis result of the C1s peak of Comparative Example 1 in FIG. FIG. 11 is a graph showing the analysis result of the C1s peak of Comparative Example 2 in FIG. 7 to 11, the peak Cs corresponds to the C1s peak of each example in FIG. On the other hand, the peaks C1 to C7 are spectra obtained by curve fitting with peaks derived from each bond type with respect to the peak Cs (C1s peak). Note that the obtained spectrum was subjected to charge correction so that the position of the peak C1 was 284.6 eV.

ピークC1〜C7の位置、及び、同定された結合種を表10に示す。各結合種を同定する際には、上記非特許文献1に記載の情報、及び、上記非特許文献2の表1を用いた。 Table 10 shows the positions of the peaks C1 to C7 and the identified binding species. In identifying each binding species, the information described in Non-Patent Document 1 and Table 1 of Non-Patent Document 2 were used.

Figure 0006600078
Figure 0006600078

表10に示すように、ピークC7は、「CF結合及びOCF結合」と同定されているが、上記非特許文献2の表1に示すように、CF結合由来のピークとOCF結合由来のピークとはほぼ同じ位置にあるため、両者のピークに分離することが困難であった。As shown in Table 10, the peak C7 is identified as “CF 3 bond and OCF 2 bond”. However, as shown in Table 1 of Non-Patent Document 2, the peak derived from the CF 3 bond and the OCF 2 bond are shown. Since it is located at almost the same position as the peak derived from it, it was difficult to separate the two peaks.

図12は、図6(c)中の実施例1のO1sピークの解析結果を示すグラフである。図13は、図6(c)中の実施例2のO1sピークの解析結果を示すグラフである。図14は、図6(c)中の実施例3のO1sピークの解析結果を示すグラフである。図15は、図6(c)中の比較例1のO1sピークの解析結果を示すグラフである。図16は、図6(c)中の比較例2のO1sピークの解析結果を示すグラフである。図12〜16中、ピークOsは、図6(c)中の各例のO1sピークに相当する。一方、ピークO1〜O3は、ピークOs(O1sピーク)に対して各結合種由来のピークでカーブフィッティングして得られたスペクトルである。 FIG. 12 is a graph showing the analysis result of the O1s peak of Example 1 in FIG. FIG. 13 is a graph showing the analysis result of the O1s peak of Example 2 in FIG. FIG. 14 is a graph showing the analysis result of the O1s peak of Example 3 in FIG. FIG. 15 is a graph showing the analysis result of the O1s peak of Comparative Example 1 in FIG. FIG. 16 is a graph showing the analysis result of the O1s peak of Comparative Example 2 in FIG. 12 to 16, the peak Os corresponds to the O1s peak in each example in FIG. On the other hand, the peaks O1 to O3 are spectra obtained by curve fitting with peaks derived from each bond type with respect to the peak Os (O1s peak).

ピークO1〜O3の位置、及び、同定された結合種を表11に示す。各結合種を同定する際には、上記非特許文献3に記載の情報、及び、上記非特許文献4の図2を用いた。 Table 11 shows the positions of the peaks O1 to O3 and the identified binding species. In identifying each binding species, the information described in Non-Patent Document 3 and FIG. 2 of Non-Patent Document 4 were used.

Figure 0006600078
Figure 0006600078

以上より、実施例1〜3、及び、比較例1、2について、光学フィルムの表面のナロースペクトルのC1sピーク及びO1sピークの各々を、各結合種由来のピークに分離することができた。 From the above, in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, each of the C1s peak and the O1s peak of the narrow spectrum on the surface of the optical film could be separated into peaks derived from each bond type.

次に、得られたナロースペクトルから、重合体層の表面における各結合種の組成比を算出した。算出結果を表12及び表13に示す。 Next, the composition ratio of each bond type on the surface of the polymer layer was calculated from the obtained narrow spectrum. The calculation results are shown in Tables 12 and 13.

Figure 0006600078
Figure 0006600078

Figure 0006600078
Figure 0006600078

表12及び表13に示すように、実施例1〜3は、比較例1、2よりも、フッ素原子が重合体層の表面に高濃度で配向していることが分かった。 As shown in Table 12 and Table 13, in Examples 1 to 3, it was found that the fluorine atoms were oriented at a higher concentration on the surface of the polymer layer than in Comparative Examples 1 and 2.

[付記]
本発明の一態様は、複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、下層樹脂及び上層樹脂を塗布する工程(1)と、塗布された上記下層樹脂及び上記上層樹脂が積層された状態で、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に金型を上記上層樹脂側から押し付け、上記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程(2)と、上記樹脂層を硬化させる工程(3)とを含み、上記上層樹脂は、フッ素含有モノマーを含み、上記金型の表面には、離型剤が塗布されており、上記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、上記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、上記離型剤が塗布された上記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下であり、X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、上記離型剤が塗布された上記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上である光学フィルムの製造方法であってもよい。
[Appendix]
One aspect of the present invention is a method for producing an optical film having a concavo-convex structure provided on the surface with a plurality of convex portions provided at a pitch equal to or less than the wavelength of visible light, the step of applying a lower layer resin and an upper layer resin (1); In the state where the applied lower layer resin and the upper layer resin are laminated, a mold is pressed against the lower layer resin and the upper layer resin from the upper layer resin side to form a resin layer having the concavo-convex structure on the surface ( 2) and the step (3) of curing the resin layer, the upper layer resin contains a fluorine-containing monomer, and a mold release agent is applied to the surface of the mold, and the mold release agent Includes carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms, and the mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms, on the surface of the mold on which the release agent is applied. Hexadecane is dropped measured by theta / 2 method, the contact angle immediately after hexadecane dropwise theta A (Unit: °), the contact angle after hexadecane dropwise 4 minutes theta B (unit: °) Defining a, theta A and theta B is 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less, an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 °. Fluorine relative to the total number of carbon atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms on the surface of the mold coated with the release agent, as measured by X-ray photoelectron spectroscopy The ratio of the number of atoms may be a method for producing an optical film that is 30 atom% or more.

上記工程(1)中の「下層樹脂及び上層樹脂を塗布する」とは、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を同じ部材上に重ねて塗布する場合だけではなく、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を異なる部材上に塗布する場合も含む。上記下層樹脂及び上記上層樹脂を異なる部材上に塗布する場合としては、例えば、上記下層樹脂を基材フィルム上に塗布し、上記上層樹脂を上記金型上に塗布するものであってもよい。 “Applying the lower layer resin and the upper layer resin” in the step (1) is not limited to the case where the lower layer resin and the upper layer resin are applied on the same member, but the lower layer resin and the upper layer resin are different. This includes the case where it is applied onto a member. As a case where the lower layer resin and the upper layer resin are applied on different members, for example, the lower layer resin may be applied onto a base film and the upper layer resin may be applied onto the mold.

また、上記工程(2)中の「塗布された上記下層樹脂及び上記上層樹脂が積層された状態で、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に金型を上記上層樹脂側から押し付ける」とは、上記下層樹脂及び上記上層樹脂が積層された後に上記金型を押し付ける場合だけではなく、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を積層しつつ上記金型を押し付ける場合も含む。言い換えれば、上記工程(2)において、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を積層させること(以下、積層化ステップとも言う。)と、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に上記金型を上記上層樹脂側から押し付けること(以下、押し付けステップとも言う。)とを、同じタイミング又は異なるタイミングで行う方法を含む。 In the step (2), “pressing a mold from the upper layer resin side to the lower layer resin and the upper layer resin in a state where the applied lower layer resin and the upper layer resin are laminated” means the lower layer This includes not only the case where the mold is pressed after the resin and the upper layer resin are laminated, but also the case where the mold is pressed while the lower layer resin and the upper layer resin are laminated. In other words, in the step (2), the lower layer resin and the upper layer resin are laminated (hereinafter also referred to as a lamination step), and the mold is attached to the lower layer resin and the upper layer resin from the upper layer resin side. It includes a method of performing pressing (hereinafter also referred to as pressing step) at the same timing or at different timings.

上記積層化ステップと上記押し付けステップとを同じタイミングで行う方法としては、以下の方法(i)が好ましい。 As a method of performing the lamination step and the pressing step at the same timing, the following method (i) is preferable.

(i)上記下層樹脂を基材フィルム上に塗布し、上記上層樹脂を上記金型上に塗布し、その後、上記上層樹脂が塗布された上記金型を、上記上層樹脂側から、上記基材フィルム上に塗布された上記下層樹脂に押し付けつつ(上記押し付けステップ)、上記下層樹脂上に上記上層樹脂を積層させる(上記積層化ステップ)。
すなわち、上記工程(1)は、上記下層樹脂を基材フィルム上に塗布し、上記上層樹脂を上記金型上に塗布することによって行われ、上記工程(2)は、上記上層樹脂が塗布された上記金型を、上記上層樹脂側から、上記基材フィルム上に塗布された上記下層樹脂に押し付けることによって行われてもよい。この場合、上記上層樹脂を上記下層樹脂上へ積層させつつ、上記凹凸構造を形成することができる。更に、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を上記基材フィルム上に順に塗布する場合(後述する方法(ii))よりも、工程数を減らすことができる。また、本方法によれば、防汚性を好ましく高めることができ、特に上記上層樹脂の構成材料のロスを最小限に抑えることができる。
(I) The lower layer resin is coated on a base film, the upper layer resin is coated on the mold, and then the mold coated with the upper layer resin is moved from the upper layer resin side to the base material. The upper layer resin is laminated on the lower layer resin (the laminating step) while pressing against the lower layer resin applied on the film (the pressing step).
That is, the step (1) is performed by applying the lower layer resin on a base film and applying the upper layer resin on the mold, and the step (2) is performed by applying the upper layer resin. Alternatively, the mold may be pressed from the upper layer resin side against the lower layer resin coated on the base film. In this case, the concavo-convex structure can be formed while laminating the upper layer resin on the lower layer resin. Furthermore, the number of steps can be reduced as compared with the case where the lower layer resin and the upper layer resin are sequentially applied onto the base film (method (ii) described later). Further, according to this method, the antifouling property can be preferably increased, and in particular, the loss of the constituent material of the upper layer resin can be minimized.

上記積層化ステップと上記押し付けステップとを異なるタイミングで行う方法としては、以下の方法(ii)〜(v)が好ましい。 As a method of performing the lamination step and the pressing step at different timings, the following methods (ii) to (v) are preferable.

(ii)上記下層樹脂及び上記上層樹脂を基材フィルム上に順に塗布し(上記積層化ステップ)、その後、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に上記金型を上記上層樹脂側から押し付ける(上記押し付けステップ)。
すなわち、上記工程(1)は、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を基材フィルム上に順に塗布することによって行われてもよい。この場合、一般的な塗布方式(例えば、グラビア方式、スロットダイ方式等)の装置を併設することによって、上記下層樹脂及び上記上層樹脂の塗布を効率的に行うことができる。
(Ii) The lower layer resin and the upper layer resin are sequentially applied onto the base film (the lamination step), and then the mold is pressed against the lower layer resin and the upper layer resin from the upper layer resin side (the pressing step). ).
That is, the said process (1) may be performed by apply | coating the said lower layer resin and the said upper layer resin in order on a base film. In this case, the lower layer resin and the upper layer resin can be efficiently applied by providing an apparatus of a general application method (for example, gravure method, slot die method, etc.).

(iii)上記下層樹脂及び上記上層樹脂を基材フィルム上に同時に塗布し(上記上層樹脂は、上記下層樹脂の基材フィルムとは反対側に形成される)(上記積層化ステップ)、その後、上記下層樹脂及び上記上層樹脂に上記金型を上記上層樹脂側から押し付ける(上記押し付けステップ)。
すなわち、上記工程(1)は、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を基材フィルム上に同時に塗布することによって行われてもよい。この場合、上記下層樹脂及び上記上層樹脂の塗布を効率的に行うことができる。更に、上記下層樹脂及び上記上層樹脂を上記基材フィルム上に順に塗布する場合(上述した方法(ii))よりも、塗布装置を簡略化し、工程数を減らすことができるため、生産性が高まる。
(Iii) The lower layer resin and the upper layer resin are simultaneously coated on the base film (the upper layer resin is formed on the side opposite to the base film of the lower layer resin) (the layering step), and then The mold is pressed against the lower layer resin and the upper layer resin from the upper layer resin side (the pressing step).
That is, the said process (1) may be performed by apply | coating the said lower layer resin and the said upper layer resin simultaneously on a base film. In this case, the lower layer resin and the upper layer resin can be efficiently applied. Furthermore, since the coating apparatus can be simplified and the number of steps can be reduced as compared with the case where the lower layer resin and the upper layer resin are sequentially applied onto the base film (the method (ii) described above), the productivity is increased. .

(iv)上記上層樹脂及び上記下層樹脂を上記金型上に順に塗布し(上記積層化ステップ)、その後、基材フィルムに、上記上層樹脂及び上記下層樹脂が塗布された上記金型を押し付ける(上記押し付けステップ)。
すなわち、上記工程(1)は、上記上層樹脂及び上記下層樹脂を上記金型上に順に塗布することによって行われてもよい。この場合、例えば、上記金型としてフレキシブルなものを用いれば、上記基材フィルムの形状によらず、上記凹凸構造を容易に形成することができる。
(Iv) The upper layer resin and the lower layer resin are sequentially applied onto the mold (the laminating step), and then the mold on which the upper layer resin and the lower layer resin are applied is pressed against the base film ( Pressing step above).
That is, the step (1) may be performed by sequentially applying the upper layer resin and the lower layer resin onto the mold. In this case, for example, if a flexible mold is used as the mold, the uneven structure can be easily formed regardless of the shape of the base film.

(v)上記上層樹脂及び上記下層樹脂を上記金型上に同時に塗布し(上記下層樹脂は、上記上層樹脂の上記金型とは反対側に形成される)(上記積層化ステップ)、その後、基材フィルムに、上記上層樹脂及び上記下層樹脂が塗布された上記金型を押し付ける(上記押し付けステップ)。
すなわち、上記工程(1)は、上記上層樹脂及び上記下層樹脂を上記金型上に同時に塗布することによって行われてもよい。この場合、例えば、上記金型としてフレキシブルなものを用いれば、上記基材フィルムの形状によらず、上記凹凸構造を容易に形成することができる。
(V) The upper layer resin and the lower layer resin are simultaneously coated on the mold (the lower layer resin is formed on the opposite side of the mold of the upper layer resin) (the laminating step), and then The mold on which the upper layer resin and the lower layer resin are applied is pressed against the base film (the pressing step).
That is, the step (1) may be performed by simultaneously applying the upper layer resin and the lower layer resin on the mold. In this case, for example, if a flexible mold is used as the mold, the uneven structure can be easily formed regardless of the shape of the base film.

1:光学フィルム
2:基材フィルム
3:重合体層
4:凸部
5a:下層樹脂
5b:上層樹脂
6:金型
7:離型剤
8:樹脂層
P、Q:ピッチ
D:重合体層の厚み
Da:下層樹脂の厚み
Db:上層樹脂の厚み
Dc:離型剤の厚み
C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、Cs、O1、O2、O3、Os:ピーク
1: Optical film 2: Base film 3: Polymer layer 4: Convex part 5a: Lower layer resin 5b: Upper layer resin 6: Mold 7: Release agent 8: Resin layer P, Q: Pitch D: Polymer layer Thickness Da: Lower layer resin thickness Db: Upper layer resin thickness Dc: Release agent thickness C1, C2, C3, C4, C5, C6, C7, Cs, O1, O2, O3, Os: Peak

Claims (3)

複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、
下層樹脂を基材フィルム上に塗布し、上層樹脂を金型上に塗布する工程(1)と、
前記上層樹脂が塗布された前記金型を、前記上層樹脂側から、前記基材フィルム上に塗布された前記下層樹脂に押し付け、前記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程(2)と、
前記樹脂層を硬化させる工程(3)とを含み、
前記上層樹脂は、フッ素含有モノマーを含み、
前記金型の表面には、離型剤が塗布されており、
前記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、
前記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、
前記離型剤が塗布された前記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθ(単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(単位:°)と定義すると、θ及びθは85°以上であり、かつ、θとθとの差は3.5°以下であり、
X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、前記離型剤が塗布された前記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
A method for producing an optical film having a concavo-convex structure provided on the surface with a plurality of convex portions provided at a pitch equal to or less than the wavelength of visible light,
Applying the lower layer resin on the base film and applying the upper layer resin on the mold (1);
(2) forming the resin layer having the concavo-convex structure on the surface by pressing the mold coated with the upper layer resin from the upper layer resin side against the lower layer resin coated on the base film; ,
Curing the resin layer (3),
The upper layer resin contains a fluorine-containing monomer,
A mold release agent is applied to the surface of the mold,
The release agent contains carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms,
The mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms,
Hexadecane is dropped on the surface of the mold on which the release agent is applied, and the contact angle immediately after the hexadecane drop measured by the θ / 2 method is θ A (unit: °), contact after 4 minutes of hexadecane drop. If the angle is defined as θ B (unit: °), θ A and θ B are 85 ° or more, and the difference between θ A and θ B is 3.5 ° or less,
Carbon on the surface of the mold coated with the release agent, measured by X-ray photoelectron spectroscopy under conditions of an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 ° The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms is 30 atom% or more.
複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、A method for producing an optical film having a concavo-convex structure provided on the surface with a plurality of convex portions provided at a pitch equal to or less than the wavelength of visible light
下層樹脂及び上層樹脂を基材フィルム上に同時に塗布する工程(1)と、A step (1) of simultaneously applying a lower layer resin and an upper layer resin on a base film;
前記基材フィルム上に塗布された前記下層樹脂及び前記上層樹脂に、金型を前記上層樹脂側から押し付け、前記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程(2)と、A step (2) of pressing a mold from the upper layer resin side to the lower layer resin and the upper layer resin applied on the base film to form a resin layer having the concavo-convex structure on the surface;
前記樹脂層を硬化させる工程(3)とを含み、Curing the resin layer (3),
前記上層樹脂は、フッ素含有モノマーを含み、The upper layer resin contains a fluorine-containing monomer,
前記金型の表面には、離型剤が塗布されており、A mold release agent is applied to the surface of the mold,
前記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、The release agent contains carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms,
前記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、The mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms,
前記離型剤が塗布された前記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθHexadecane is dropped on the surface of the mold coated with the release agent, and the contact angle immediately after dropping of hexadecane is measured by the θ / 2 method. A (単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(Unit: °), the contact angle after 4 minutes of hexadecane dripping is θ B (単位:°)と定義すると、θIf defined as (unit: °), θ A 及びθAnd θ B は85°以上であり、かつ、θIs 85 ° or more and θ A とθAnd θ B との差は3.5°以下であり、And the difference is 3.5 ° or less,
X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、前記離型剤が塗布された前記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。Carbon on the surface of the mold coated with the release agent, measured by X-ray photoelectron spectroscopy under conditions of an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 ° The method for producing an optical film, wherein a ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms is 30 atom% or more.
複数の凸部が可視光の波長以下のピッチで設けられる凹凸構造を表面に有する光学フィルムの製造方法であって、A method for producing an optical film having a concavo-convex structure provided on the surface with a plurality of convex portions provided at a pitch equal to or less than the wavelength of visible light
上層樹脂及び下層樹脂を金型上に順に塗布する工程(1)と、A step (1) of sequentially applying an upper layer resin and a lower layer resin on the mold;
基材フィルムに、前記上層樹脂及び前記下層樹脂が塗布された前記金型を前記下層樹脂側から押し付け、前記凹凸構造を表面に有する樹脂層を形成する工程(2)と、A step (2) of pressing the mold coated with the upper layer resin and the lower layer resin on the base film from the lower layer resin side to form a resin layer having the concavo-convex structure on the surface;
前記樹脂層を硬化させる工程(3)とを含み、Curing the resin layer (3),
前記上層樹脂は、フッ素含有モノマーを含み、The upper layer resin contains a fluorine-containing monomer,
前記金型の表面には、離型剤が塗布されており、A mold release agent is applied to the surface of the mold,
前記離型剤は、炭素原子、酸素原子、及び、フッ素原子を構成原子として含み、The release agent contains carbon atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms as constituent atoms,
前記金型は、アルミニウム原子、及び、酸素原子を構成原子として含み、The mold includes aluminum atoms and oxygen atoms as constituent atoms,
前記離型剤が塗布された前記金型の表面にヘキサデカンを滴下し、θ/2法によって測定される、ヘキサデカン滴下直後の接触角をθHexadecane is dropped on the surface of the mold coated with the release agent, and the contact angle immediately after dropping of hexadecane is measured by the θ / 2 method. A (単位:°)、ヘキサデカン滴下4分後の接触角をθ(Unit: °), the contact angle after 4 minutes of hexadecane dripping is θ B (単位:°)と定義すると、θIf defined as (unit: °), θ A 及びθAnd θ B は85°以上であり、かつ、θIs 85 ° or more and θ A とθAnd θ B との差は3.5°以下であり、And the difference is 3.5 ° or less,
X線ビーム径100μm、分析面積1000μm×500μm、及び、光電子の取り出し角度45°の条件下でのX線光電子分光法によって測定される、前記離型剤が塗布された前記金型の表面における炭素原子の数、アルミニウム原子の数、酸素原子の数、及び、フッ素原子の数の合計数に対するフッ素原子の数の比率は、30atom%以上であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。Carbon on the surface of the mold coated with the release agent, measured by X-ray photoelectron spectroscopy under conditions of an X-ray beam diameter of 100 μm, an analysis area of 1000 μm × 500 μm, and a photoelectron extraction angle of 45 ° The method for producing an optical film, wherein a ratio of the number of fluorine atoms to the total number of atoms, aluminum atoms, oxygen atoms, and fluorine atoms is 30 atom% or more.
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