JP6594156B2 - Heat-curing conductive paste - Google Patents

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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys

Description

本発明は、加熱硬化型の導電性ペーストに関する。   The present invention relates to a thermosetting conductive paste.

近年、各種電気・電子機器では、小型化や高密度化、動作速度の高速化等といった高性能化が進行している。これに伴って、電気・電子機器用の電子部品には、電極の更なる高密度細線化が求められている。しかしながら、電極形成時に従来汎用されている印刷法では、細線状の電極、例えばライン幅とその間のスペース(ラインアンドスペース:L/S)が80μm/80μm以下、さらには50μm/50μm以下の電極を精度よく形成することが困難である。   In recent years, various electric / electronic devices have been improved in performance, such as downsizing, higher density, and higher operation speed. Along with this, electronic parts for electric and electronic devices are required to have finer and finer electrodes. However, in a printing method that has been widely used at the time of electrode formation, a thin line-like electrode, for example, an electrode having a line width and a space (line and space: L / S) of 80 μm / 80 μm or less, and further 50 μm / 50 μm or less is used. It is difficult to form with high accuracy.

そこで、レーザー光を利用したレーザーエッチング法の利用が検討されている。この方法では、まず従来と同様に導電性ペーストを調製する。次に、調製した導電性ペーストを所望の基板上に印刷し、導電性の被膜(導電膜)を形成する。そして、形成した導電膜が所望の細線形状となるように残して、それ以外の部位にレーザー光を照射する。レーザー光を照射した部位では導電膜が熱分解・除去され、レーザー光を照射しなかった部位の導電膜から電極が形成される。   Then, utilization of the laser etching method using a laser beam is examined. In this method, first, a conductive paste is prepared as in the prior art. Next, the prepared conductive paste is printed on a desired substrate to form a conductive film (conductive film). Then, the other part is irradiated with laser light, leaving the formed conductive film in a desired thin line shape. The conductive film is thermally decomposed and removed at the portion irradiated with the laser light, and an electrode is formed from the conductive film at the portion not irradiated with the laser light.

特許文献1〜4には、このような用途に使用し得るレーザーエッチング用導電性ペーストが開示されている。例えば特許文献1には、熱可塑性樹脂からなるバインダ樹脂と導電性粉末と有機溶剤とを含む導電性ペーストが開示されている。特許文献1の段落0025,0026等には、上記導電性粉末として、形状が球状、凝集状(球状の1次粒子が3次元状に凝集した形状)、あるいは鱗片状であって、中心径(D50)が4μm以下のものを使用することが好ましいことが記載されている。 Patent Documents 1 to 4 disclose a conductive paste for laser etching that can be used for such applications. For example, Patent Document 1 discloses a conductive paste containing a binder resin made of a thermoplastic resin, a conductive powder, and an organic solvent. In paragraphs 0025 and 0026 of Patent Document 1, the conductive powder has a spherical shape, agglomerated shape (a shape in which spherical primary particles are aggregated three-dimensionally), or a scaly shape with a center diameter ( It is described that it is preferable to use one having a D 50 ) of 4 μm or less.

国際公開2014/013899号公報International Publication No. 2014/013899 特開2014−225709号公報JP 2014-225709 A 特開2014−2992号公報JP 2014-29992 A 特開2014−107533号公報JP 2014-107533 A

特許文献1等に記載される通り、レーザーエッチング用導電性ペーストでは、接着成分として熱可塑性樹脂を用いることが一般的である。これには、バインダ樹脂の熱分解性を高めることで、レーザー光による熱分解・除去をし易くする目的がある。しかしながら、電極として残す部分の樹脂にレーザーの熱が伝わると、樹脂の劣化を生じたり、必要以上に導電膜が削れてしまったりすることがある。また、熱可塑性樹脂を用いてなる電極は、バインダ樹脂の熱分解性の高さゆえに、耐熱性や耐薬品性、膜硬度(機械的強度)が低下傾向となり、使用用途等によっては耐久性や信頼性に欠けることがある。
そこで、本発明者らは、熱硬化性樹脂を用いた導電膜の形成を試みた。しかしながら、特に熱硬化性樹脂を用いた電極形成を考慮すると、レーザーエッチングによって電気伝導性の高い電極を形成するのが困難な現状があった。
As described in Patent Document 1 and the like, it is common to use a thermoplastic resin as an adhesive component in a conductive paste for laser etching. This has the purpose of facilitating thermal decomposition / removal by laser light by increasing the thermal decomposability of the binder resin. However, if the heat of the laser is transmitted to the resin remaining as an electrode, the resin may be deteriorated or the conductive film may be scraped more than necessary. In addition, electrodes made of thermoplastic resin tend to have lower heat resistance, chemical resistance, and film hardness (mechanical strength) due to the high thermal decomposability of the binder resin. May be unreliable.
Therefore, the present inventors tried to form a conductive film using a thermosetting resin. However, considering electrode formation using a thermosetting resin in particular, it has been difficult to form an electrode with high electrical conductivity by laser etching.

このことについて、図2,3を参照しながら詳しく説明する。
図2は、凝集状の導電性粉末(以下、「凝集導電性粉末」ともいう。)を用いた導電膜の説明図である。図2に示すように、凝集導電性粉末を用いてなる導電膜20では、凝集導電性粉末を構成する凝集粒子13が緻密に詰められている。これにより、非凝集状の(例えば球状の)導電性粉末を用いる場合と比べて、導電膜20でのスタッキング性が向上する。また、凝集粒子13内あるいは凝集粒子13間の接点が増える。このことは、抵抗を低減する観点から有利である。
This will be described in detail with reference to FIGS.
FIG. 2 is an explanatory diagram of a conductive film using aggregated conductive powder (hereinafter also referred to as “aggregated conductive powder”). As shown in FIG. 2, in the conductive film 20 using the aggregated conductive powder, the aggregated particles 13 constituting the aggregated conductive powder are densely packed. Thereby, the stacking property in the conductive film 20 is improved as compared with the case of using non-aggregated (for example, spherical) conductive powder. Further, the number of contacts in the aggregated particles 13 or between the aggregated particles 13 increases. This is advantageous from the viewpoint of reducing resistance.

しかしながら、凝集粒子13は概してバインダ樹脂との馴染みが悪い。このため、導電性ペースト中で凝集粒子13とバインダ樹脂とが混じり合い難く、導電膜20が不均質になることがある。つまり、導電膜20中に、凝集粒子13が局所的に偏在する部位と、バインダ樹脂が局所的に偏在する樹脂溜まり16とを生じることがある。さらに、上述の通り、熱硬化性樹脂は、熱分解性が低い特徴がある。したがって、バインダ樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合、レーザー照射部位18にレーザー光を照射したとしても、樹脂溜まり16の部位はなかなか熱分解・除去されず、歩留まりが悪化したり、当該部位が「残渣」として残ったりすることがある。その結果、レーザーエッチング後の電極22では、局所的に幅が太くなったり突起状の部分が生じたりして加工精度が低下したり、あるいは隣り合う電極22同士が接触して微短絡したりすることがある。かかる事象は、電極の細線化が進むほど深刻になる。   However, the agglomerated particles 13 are generally unfamiliar with the binder resin. For this reason, the aggregated particles 13 and the binder resin are difficult to mix in the conductive paste, and the conductive film 20 may become inhomogeneous. That is, in the conductive film 20, there may be a portion where the aggregated particles 13 are locally unevenly distributed and a resin pool 16 where the binder resin is locally unevenly distributed. Furthermore, as described above, thermosetting resins are characterized by low thermal decomposability. Therefore, when a thermosetting resin is used as the binder resin, even if the laser irradiation part 18 is irradiated with laser light, the part of the resin reservoir 16 is not easily decomposed and removed, and the yield deteriorates or the part is “ It may remain as a “residue”. As a result, in the electrode 22 after laser etching, the width is locally increased or a protrusion-like portion is generated, and the processing accuracy is reduced, or the adjacent electrodes 22 are brought into contact with each other and slightly short-circuited. Sometimes. Such an event becomes more serious as the electrode becomes thinner.

また、図3は非凝集状の導電性粉末(以下、「非凝集導電性粉末」ともいう。)を用いた導電膜の説明図である。非凝集導電性粉末を構成する非凝集粒子14は、凝集粒子と比べてバインダ樹脂17との馴染みが良い。このため、図3に示すように、非凝集導電性粉末を用いてなる導電膜30では、バインダ樹脂17がほぐれた状態となり、樹脂溜まりの発生が抑制されている。つまり、凝集導電性粉末を用いる場合と比べて均質性が高くなっている。したがって、バインダ樹脂として熱硬化性樹脂を用いる場合であっても、レーザー照射部位18を熱分解・除去し易くなる。このことは、レーザー加工の精度を向上する観点から有利である。   FIG. 3 is an explanatory diagram of a conductive film using non-aggregated conductive powder (hereinafter also referred to as “non-aggregated conductive powder”). The non-aggregated particles 14 constituting the non-aggregated conductive powder are more familiar with the binder resin 17 than the aggregated particles. For this reason, as shown in FIG. 3, in the conductive film 30 using the non-aggregated conductive powder, the binder resin 17 is loosened, and the occurrence of the resin pool is suppressed. That is, the homogeneity is higher than in the case of using the aggregated conductive powder. Therefore, even when a thermosetting resin is used as the binder resin, the laser irradiated portion 18 can be easily decomposed and removed. This is advantageous from the viewpoint of improving the accuracy of laser processing.

しかしながら、導電膜30中に非凝集粒子14とバインダ樹脂とが均質に分散されていると、個々の非凝集粒子14の周りがバインダ樹脂で覆われるようになる。その結果、電極32では、非凝集粒子14間の距離が遠いうえにバインダ樹脂によって非凝集粒子14同士の直接接触が阻まれ、抵抗が高くなりやすい背反がある。   However, when the non-aggregated particles 14 and the binder resin are uniformly dispersed in the conductive film 30, the periphery of each non-aggregated particle 14 is covered with the binder resin. As a result, in the electrode 32, the distance between the non-aggregated particles 14 is long, and the direct contact between the non-aggregated particles 14 is hindered by the binder resin, so that the resistance tends to increase.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的は、レーザー加工適性に優れ、且つ電気伝導性の高い電極を形成可能な導電性ペーストを提供することにある。   This invention is made | formed in view of this point, The objective is to provide the electrically conductive paste which is excellent in laser processing suitability and can form an electrode with high electrical conductivity.

本発明者らは鋭意検討を重ね、導電性粉末としての所定の2種類の導電性粉末を混合することに想到した。そして、更なる鋭意検討の末に、本発明を完成させた。
本発明によって、加熱硬化型の導電性ペーストが提供される。この加熱硬化型導電性ペーストは、導電性粉末と熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む。上記導電性粉末は、電子顕微鏡観察に基づく個数基準の平均粒子径(SEM−D50)と、レーザー回折散乱式粒度分布測定法に基づく体積基準の平均粒子径(L−D50)との比(L−D50/SEM−D50)で表される凝集度が相互に異なる非凝集導電性粉末と凝集導電性粉末とを含む。上記非凝集導電性粉末の上記凝集度は、1.5以下である。上記凝集導電性粉末の上記凝集度は、1.5を超えて3以下である。上記凝集導電性粉末の上記L−D50は、上記非凝集導電性粉末の上記L−D50を上回らない。
The inventors of the present invention have intensively studied and conceived of mixing predetermined two kinds of conductive powders as conductive powders. And after further earnest study, the present invention was completed.
According to the present invention, a thermosetting conductive paste is provided. This heat curable conductive paste includes a conductive powder, a thermosetting resin, and a curing agent. The ratio of the conductive powder has a mean particle size based on the number based on electron microscopy (SEM-D 50), and the average particle diameter on a volume basis, based on the laser diffraction scattering particle size distribution measuring method (L-D 50) (L-D 50 / SEM- D 50) cohesion which is expressed by and a cohesive conductive powder and the non-agglomerated conductive powder mutually different. The degree of aggregation of the non-aggregated conductive powder is 1.5 or less. The aggregation degree of the aggregated conductive powder is more than 1.5 and 3 or less. The LD 50 of the aggregated conductive powder does not exceed the LD 50 of the non-aggregated conductive powder.

上記構成によれば、熱硬化性樹脂を用いるにもかかわらず、レーザー加工性を良好に維持しつつ電気伝導性の高い電極を実現することができる。つまり、レーザー加工時の削り残しを減らして、所望の細線形状を安定的に実現することができる。また、例えば体積抵抗率(加熱硬化条件130℃・30分)が130μΩ・cm以下の低抵抗な電極を実現することができる。さらに、上記構成によれば、熱硬化性樹脂の本質的な性質が発揮されて、熱可塑性樹脂を用いる場合に比べて耐熱性や耐久性に優れた電極を得ることができる。   According to the above configuration, it is possible to realize an electrode having high electrical conductivity while maintaining good laser processability despite using a thermosetting resin. That is, it is possible to stably realize a desired thin line shape by reducing uncut residue during laser processing. Further, for example, a low resistance electrode having a volume resistivity (heat curing condition of 130 ° C., 30 minutes) of 130 μΩ · cm or less can be realized. Furthermore, according to the said structure, the essential property of a thermosetting resin is exhibited and the electrode excellent in heat resistance and durability compared with the case where a thermoplastic resin is used can be obtained.

なお、本明細書において「L−D50」とは、レーザー回折散乱式粒度分布測定法に基づく体積基準の粒度分布において、粒子径の小さい方から累積50%に相当する粒子径D50値(メジアン径)をいう。なお、レーザー回折散乱式粒度分布測定は、サンプル濃度が装置に基づいて設定される所定の濃度の範囲内となるように、分散媒としてのイソプロピルアルコールを用いて適宜希釈した後、超音波を用いて分散処理してから行うものとする。
また、本明細書において「SEM−D50」とは、電子顕微鏡観察に基づく個数基準の粒度分布において、粒子径の小さい方から累積50%に相当する粒子径D50値(メジアン径)をいう。
また、「凝集度」は、上記L−D50と上記SEM−D50とが等しいとき、つまり全く凝集していない場合に1となり、値が大きいほど激しく凝集していることを示している。
In this specification, “LD 50 ” means a particle diameter D 50 value corresponding to a cumulative 50% from the smaller particle diameter in the volume-based particle size distribution based on the laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method ( Median diameter). The laser diffraction / scattering particle size distribution measurement is performed using ultrasonic waves after appropriately diluting with isopropyl alcohol as a dispersion medium so that the sample concentration falls within a predetermined concentration range set based on the apparatus. And distributed processing.
In the present specification, “SEM-D 50 ” refers to a particle diameter D 50 value (median diameter) corresponding to a cumulative 50% from the smallest particle diameter in a number-based particle size distribution based on electron microscope observation. .
The “aggregation degree” is 1 when the L-D 50 is equal to the SEM-D 50 , that is, when the aggregation is not at all, and indicates that the larger the value is, the more intense the aggregation is.

ここで開示される好ましい一態様では、上記非凝集導電性粉末の上記L−D50が、5μm以下である。導電性粉末を構成する粒子(二次粒子)を所定値以下の大きさとすることで、レーザー加工時に、レーザー照射部位(レーザーで熱分解・除去する部位)と電極として残す部位とにまたがった状態で存在する導電性粉末を減らすことができる。その結果、レーザー加工性を向上することができる。したがって、より安定的に細線状の電極を形成することができる。 In a preferred embodiment disclosed herein, the LD 50 of the non-aggregated conductive powder is 5 μm or less. By making the particles (secondary particles) that make up the conductive powder below the specified value, the laser irradiation site (site that is thermally decomposed and removed by laser) and the area that remains as an electrode during laser processing The conductive powder present in can be reduced. As a result, laser processability can be improved. Therefore, a thin wire electrode can be formed more stably.

ここで開示される好ましい一態様では、上記非凝集導電性粉末の上記SEM−D50が、1.1μm以上3μm以下である。また、上記凝集導電性粉末の上記SEM−D50が、0.1μm以上1μm以下である。これにより、上記L−D50を維持しつつ、上記凝集度の範囲をより良く実現することができる。また、導電性粉末の取扱性や基材との接着性を向上することができる。 In a preferred embodiment disclosed herein, the SEM-D 50 of the non-aggregated conductive powder is 1.1 μm or more and 3 μm or less. Further, the SEM-D 50 of the aggregated conductive powder is not less than 0.1 μm and not more than 1 μm. Thereby, the range of the aggregation degree can be better realized while maintaining the LD 50 . Moreover, the handleability of electroconductive powder and adhesiveness with a base material can be improved.

ここで開示される好ましい一態様では、上記非凝集導電性粉末の上記L−D50が、上記凝集導電性粉末の上記L−D50の1.5倍以上である。これにより、非凝集導電性粉末の隙間に凝集導電性粉末がより良く充填されて、スタッキング性が高まる。その結果、より高密度で低抵抗な電極を実現することができる。 In a preferred embodiment disclosed herein, the LD 50 of the non-aggregated conductive powder is 1.5 times or more of the LD 50 of the aggregated conductive powder. Thereby, the gap between the non-aggregated conductive powders is better filled with the aggregated conductive powder, and the stacking property is improved. As a result, an electrode with higher density and lower resistance can be realized.

ここで開示される好ましい一態様では、上記非凝集導電性粉末と上記凝集導電性粉末との混合比率が、30:70〜95:5である。これにより、良好なレーザー加工性と電極の低抵抗化とを高いレベルでバランスすることができる。   In a preferred embodiment disclosed herein, the mixing ratio of the non-aggregated conductive powder and the aggregated conductive powder is 30:70 to 95: 5. As a result, it is possible to balance good laser processability and low electrode resistance at a high level.

ここで開示される好ましい一態様では、上記非凝集導電性粉末が、アスペクト比2以下の球状粒子で構成されている。これにより、例えば平均アスペクト比が2以上の非凝集導電性粉末を用いる場合に比べて、レーザー加工性が一層向上する。このため、本発明の効果をより高いレベルで奏することができる。
なお、本明細書において「アスペクト比」とは、導電性粒子(非凝集粒子)の長径/短径比の平均をいう。例えば、電子顕微鏡を用いて導電性粒子を観察する。そして、粒子画像について外接する最小の長方形を描き、かかる長方形の短辺の長さ(例えば厚み)Bに対する長辺の長さAの比(A/B)をアスペクト比として算出することができる。
In a preferred embodiment disclosed herein, the non-aggregated conductive powder is composed of spherical particles having an aspect ratio of 2 or less. Thereby, for example, laser workability is further improved as compared with the case of using non-aggregated conductive powder having an average aspect ratio of 2 or more. For this reason, the effect of the present invention can be achieved at a higher level.
In the present specification, the “aspect ratio” means the average of the major axis / minor axis ratio of conductive particles (non-aggregated particles). For example, the conductive particles are observed using an electron microscope. Then, a minimum rectangle circumscribing the particle image can be drawn, and the ratio (A / B) of the long side length A to the short side length (eg, thickness) B of the rectangle can be calculated as the aspect ratio.

ここで開示される好ましい一態様では、上記導電性粉末が、銀粉末および/または銀コート銅粉末である。これにより、電気伝導性に一層優れた電極を実現することができる。   In a preferred embodiment disclosed herein, the conductive powder is silver powder and / or silver-coated copper powder. Thereby, an electrode with further excellent electrical conductivity can be realized.

ここで開示される好ましい一態様では、上記熱硬化性樹脂の数平均分子量が10000以下である。これにより、電気伝導性に一層優れた電極を実現することができる。
なお、本明細書において「数平均分子量」とは、ゲルクロマトグラフィー(Gel Permeation Chromatography:GPC)によって測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した平均分子量をいう。
In a preferred embodiment disclosed herein, the number average molecular weight of the thermosetting resin is 10,000 or less. Thereby, an electrode with further excellent electrical conductivity can be realized.
In the present specification, the “number average molecular weight” means an average molecular weight measured by gel chromatography (Gel Permeation Chromatography: GPC) and converted using a standard polystyrene calibration curve.

ここで開示される好ましい一態様では、上記導電性粉末を100重量部としたときに、上記熱硬化性樹脂と上記硬化剤との合計が30重量部以下である。これにより、導電膜がレーザー光で熱分解・除去され易くなり、レーザー加工性を向上することができる。また、電気伝導性に一層優れた電極を実現することができる。   In a preferred embodiment disclosed herein, when the conductive powder is 100 parts by weight, the total of the thermosetting resin and the curing agent is 30 parts by weight or less. As a result, the conductive film is easily thermally decomposed and removed by laser light, and laser processability can be improved. In addition, an electrode with further excellent electrical conductivity can be realized.

本発明の一実施形態に係る導電膜の説明図である。It is explanatory drawing of the electrically conductive film which concerns on one Embodiment of this invention. 凝集導電性粉末を用いた導電膜の説明図である。It is explanatory drawing of the electrically conductive film using the aggregation electroconductive powder. 非凝集導電性粉末を用いた導電膜の説明図である。It is explanatory drawing of the electrically conductive film using non-aggregated conductive powder. 電極のレ−ザー顕微鏡画像であり、(a)は例4、(b)は参考例1、(c)は参考例2に係る画像である。It is a laser microscope image of an electrode, (a) is Example 4, (b) is Reference Example 1, (c) is an image concerning Reference Example 2.

以下、本発明の好適な実施形態を説明する。なお、本明細書において特に言及している事項(例えば、加熱硬化型導電性ペーストの組成)以外の事柄であって本発明の実施に必要な事柄(例えば、加熱硬化型導電性ペーストの調製方法や電極(導電膜)の形成方法等)は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書に開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. It should be noted that matters other than matters specifically mentioned in the present specification (for example, composition of heat-curable conductive paste) and matters necessary for carrying out the present invention (for example, a method for preparing heat-curable conductive paste) And a method for forming an electrode (conductive film) and the like can be understood as a design matter of a person skilled in the art based on the prior art in the field. The present invention can be carried out based on the contents disclosed in this specification and common technical knowledge in the field.

<加熱硬化型導電性ペースト>
ここで開示される加熱硬化型導電性ペースト(以下、単に「ペースト」ということがある。)は、必須構成成分として、(A)導電性粉末と、(B)熱硬化性樹脂と、(C)硬化剤とを含んでいる。そして、上記(A)が少なくとも所定の2種類の粉末を含むことで特徴づけられる。したがって、その他については特に限定されず、種々の基準に照らして任意に決定し得る。例えば、上記(A)〜(C)以外の成分を配合したり、それら構成成分の組成比を適宜に変更したりすることができる。以下、ペーストの構成成分等について説明する。
<Heat-curing type conductive paste>
The thermosetting conductive paste disclosed herein (hereinafter sometimes simply referred to as “paste”) includes (A) conductive powder, (B) thermosetting resin, and (C ) Hardener. The above (A) is characterized by containing at least two predetermined types of powders. Therefore, the other is not particularly limited, and can be arbitrarily determined in light of various criteria. For example, components other than the above (A) to (C) can be blended, or the composition ratio of these components can be appropriately changed. Hereinafter, the components of the paste will be described.

<(A)導電性粉末(混合粉末)>
ペーストに含まれる導電性粉末は、電極に電気伝導性を付与するための成分である。
ここで開示される導電性粉末は、主成分として、凝集度(L−D50/SEM−D50)が相互に異なる2種類の成分、つまり、非凝集導電性粉末と凝集導電性粉末とを含んでいる。2種類の粉末は、それぞれ単独で用いた場合には上述のような課題を生じ得るものであるが、これらを混合して用いることにより、レーザー加工性を良好に維持しつつ、低抵抗な電極を実現することができる。
<(A) Conductive powder (mixed powder)>
The conductive powder contained in the paste is a component for imparting electrical conductivity to the electrode.
The conductive powder disclosed here comprises two types of components having different aggregation degrees (LD 50 / SEM-D 50 ) as main components, that is, a non-aggregated conductive powder and an aggregated conductive powder. Contains. The two types of powders can cause the above-mentioned problems when used alone, but by mixing these, the low resistance electrode can be maintained while maintaining good laser processability. Can be realized.

図1は、本発明の一実施形態に係る導電膜の説明図である。つまり、図1に示すように、導電性粉末が凝集粒子13を含むことで、導電膜10でのスタッキング性が向上して、導電性粒子間の接点が増加する。その結果、非凝集導電性粉末を単独で用いる場合に比べて、導電膜10の抵抗が低減される。また、導電性粉末が非凝集粒子14を含むことで、バインダ樹脂15が好適にほぐれた状態となり、導電膜10中に偏在する「樹脂溜まり」の発生が抑制される。その結果、凝集導電性粉末を単独で使用する場合に比べて、導電膜10のレーザー加工性を向上することができ、レーザー加工精度の高い電極12を得ることができる。   FIG. 1 is an explanatory diagram of a conductive film according to an embodiment of the present invention. That is, as shown in FIG. 1, the conductive powder includes the aggregated particles 13, so that the stacking property in the conductive film 10 is improved and the contact points between the conductive particles are increased. As a result, the resistance of the conductive film 10 is reduced as compared with the case where the non-aggregated conductive powder is used alone. Further, since the conductive powder includes the non-aggregated particles 14, the binder resin 15 is suitably loosened, and the occurrence of “resin pool” unevenly distributed in the conductive film 10 is suppressed. As a result, the laser processability of the conductive film 10 can be improved and the electrode 12 with high laser processing accuracy can be obtained as compared with the case where the aggregated conductive powder is used alone.

<(A1)非凝集導電性粉末>
非凝集導電性粉末は、凝集度が1以上1.5以下である。つまり、非凝集導電性粉末を構成する非凝集粒子の多く(例えば50個数%以上)は、凝集せずに一粒子の状態で安定に存在している。非凝集導電性粉末の凝集度は、例えば1.1以上であって、例えば1.3以下であり得る。
<(A1) Non-aggregated conductive powder>
The non-aggregated conductive powder has an aggregation degree of 1 or more and 1.5 or less. That is, most of the non-aggregated particles (for example, 50% by number or more) constituting the non-aggregated conductive powder are stably present in a single particle state without agglomeration. The degree of aggregation of the non-aggregated conductive powder is, for example, 1.1 or more and can be 1.3 or less, for example.

非凝集導電性粉末を構成する非凝集粒子としては特に限定されず、所望の導電性やその他の物性を備える各種の導電性材料、例えば金属や合金等を、用途等に応じて適宜用いることができる。一好適例として、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)、ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、イリジウム(Ir)、オスミウム(Os)、ニッケル(Ni)、アルミニウム(Al)等の金属、およびそれらの被覆混合物や合金等が挙げられる。なかでも、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)等の貴金属の単体、およびそれらの混合物(例えば、銀コート銅、銀コートニッケル等)や、それらの合金(例えば、銀−パラジウム(Ag−Pd)、銀−白金(Ag−Pt)、銀−銅(Ag−Cu)等)が好ましい。特には、比較的コストが安く電気伝導性にも優れることから、銀および銀コート品、ならびに銀を含む合金が好ましい。   The non-aggregated particles constituting the non-aggregated conductive powder are not particularly limited, and various conductive materials having desired conductivity and other physical properties, such as metals and alloys, may be appropriately used depending on applications. it can. As a preferable example, gold (Au), silver (Ag), copper (Cu), platinum (Pt), palladium (Pd), ruthenium (Ru), rhodium (Rh), iridium (Ir), osmium (Os), Examples thereof include metals such as nickel (Ni) and aluminum (Al), and coating mixtures and alloys thereof. Among them, simple metals such as silver (Ag), platinum (Pt), palladium (Pd), and mixtures thereof (for example, silver-coated copper, silver-coated nickel, etc.) and alloys thereof (for example, silver-palladium) (Ag—Pd), silver-platinum (Ag—Pt), silver-copper (Ag—Cu), etc.) are preferred. In particular, silver, a silver coated product, and an alloy containing silver are preferable because of relatively low cost and excellent electrical conductivity.

非凝集粒子のSEM−D50(電子顕微鏡観察に基づく個数基準の平均粒子径)は、上記凝集度の範囲を満たす限りにおいて特に限定されない。通常は0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1.1μm以上、例えば1.4μm以上であって、概ね5μm以下、好ましくは4μm以下、より好ましくは3μm以下、例えば2.8μm以下であるとよい。これにより、上記凝集度の範囲をより良く実現することができる。 The SEM-D 50 (number-based average particle diameter based on electron microscope observation) of the non-aggregated particles is not particularly limited as long as it satisfies the above range of the aggregation degree. Usually 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, more preferably 1.1 μm or more, for example 1.4 μm or more, and generally 5 μm or less, preferably 4 μm or less, more preferably 3 μm or less, for example 2.8 μm. It may be the following. Thereby, the range of the said aggregation degree can be implement | achieved better.

非凝集粒子の形状は特に限定されず、球状、鱗片状(フレーク状)、針状等、種々のものを考慮することができる。なかでも、真球状または球状が好ましい。これにより、ペーストの粘度を低く維持して、取扱い性や保存安定性、印刷時の作業性を向上することができる。したがって、導電膜を安定的に形成することができる。
なお、本明細書において「球状」とは、球状、ラグビーボール状、多角体状等をも包含する用語であり、例えば、平均アスペクト比(長径/短径比)が2以下、典型的には1.5以下、例えば1.1〜1.4程度のものをいう。
The shape of the non-aggregated particles is not particularly limited, and various shapes such as a spherical shape, a scale shape (flake shape), and a needle shape can be considered. Of these, a true spherical shape or a spherical shape is preferable. Thereby, the viscosity of a paste can be maintained low and handling property, storage stability, and workability | operativity at the time of printing can be improved. Therefore, the conductive film can be stably formed.
In the present specification, the term “spherical” is a term including a spherical shape, a rugby ball shape, a polygonal shape, and the like. For example, the average aspect ratio (major axis / minor axis ratio) is 2 or less, typically 1.5 or less, for example, about 1.1 to 1.4.

好適な一態様において、非凝集導電性粉末は、アスペクト比が10を超える、典型的には5を超える、例えば3を超える、特には2を超える導電性粒子を含まない。つまり、非凝集導電性粉末は、鱗片状の粒子を含まないことが好ましい。特には、非凝集導電性粉末が、アスペクト比2以下の球状の粒子によって構成されていることが好ましい。これにより、レーザー加工性が格段に向上して、細線状の電極を所定の加工線幅でより良く形成することができる。
つまり、アスペクト比の大きな非凝集粒子は、概して一粒子の平面視での面積が大きくなる。このため、レーザーエッチング時に、一粒子がレーザー照射部位(レーザー加工によって除去する部位)と電極として残す部位とにまたがった状態で存在することがある。この状態でレーザー光を照射すると、電極として残すはずの部位が必要以上に削られてしまい、電極の幅が既定より細くなることがあり得る。鱗片状の粒子を含まないことで、レーザー加工精度を向上することができる。さらに、ペーストを基板上に印刷する際には、製版からの脱離性(メッシュからの抜け)が良好となるため、印刷精度を向上することができる。
In a preferred embodiment, the non-agglomerated conductive powder does not comprise conductive particles having an aspect ratio of greater than 10, typically greater than 5, such as greater than 3, especially greater than 2. That is, the non-aggregated conductive powder preferably does not contain scale-like particles. In particular, the non-aggregated conductive powder is preferably composed of spherical particles having an aspect ratio of 2 or less. Thereby, the laser processability is remarkably improved, and the fine wire electrode can be better formed with a predetermined processing line width.
That is, the non-aggregated particles having a large aspect ratio generally have a large area in the plan view of one particle. For this reason, at the time of laser etching, one particle may exist in a state straddling the part irradiated with laser (part removed by laser processing) and the part left as an electrode. When laser light is irradiated in this state, a portion that should be left as an electrode is scraped more than necessary, and the width of the electrode may be narrower than the default. By not including scale-like particles, the laser processing accuracy can be improved. Furthermore, when the paste is printed on the substrate, the detachability from the plate making (disengagement from the mesh) becomes good, so that the printing accuracy can be improved.

非凝集導電性粉末のL−D50(レーザー回折散乱式粒度分布測定法に基づく体積基準の平均粒子径)は、上記凝集度の範囲を満たす限りにおいて特に限定されない。通常は0.5μm以上、好ましくは1μm以上、例えば2μm以上であって、概ね7μm以下、好ましくは5μm以下、より好ましくは4μm以下、例えば3.6μm以下であるとよい。
L−D50が所定値以上であると、内部抵抗が低減されて、電気伝導性に優れた電極をより良く実現することができる。また、ペーストの粘性を低く抑えて、取扱性や印刷作業性をも向上することができる。L−D50が所定値以下であると、薄膜状にあるいは細線状の電極を一層安定的に形成することができる。例えば、レーザーエッチング時に除去する部位と電極として残す部位とにまたがった状態となる粒子の数を効果的に減らすことができる。その結果、レーザー加工適性が飛躍的に向上して、細線状の電極を安定した加工線幅でより良く形成することができる。
The L-D 50 (volume-based average particle diameter based on the laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method) of the non-aggregated conductive powder is not particularly limited as long as it satisfies the above range of aggregation degree. Usually, it is 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more, for example, 2 μm or more, and is generally 7 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 4 μm or less, for example 3.6 μm or less.
When the LD 50 is equal to or greater than a predetermined value, the internal resistance is reduced, and an electrode having excellent electrical conductivity can be realized better. In addition, the viscosity of the paste can be kept low, and handling and printing workability can be improved. When LD 50 is less than or equal to a predetermined value, a thin-film or thin-line electrode can be formed more stably. For example, it is possible to effectively reduce the number of particles that are in a state straddling a portion to be removed during laser etching and a portion to be left as an electrode. As a result, the suitability for laser processing is dramatically improved, and a thin wire electrode can be formed better with a stable processing line width.

好適な一態様において、非凝集粒子は、表面に脂肪酸を含む皮膜を備える。上記構成によれば、非凝集粒子表面の水酸基(ヒドロキシル基)が増加して、親水性が高められる。熱硬化性樹脂は典型的には疎水性のため、これにより非凝集粒子と熱硬化性樹脂の濡れ性が低下する。その結果、熱硬化性樹脂が非凝集粒子にまとわりつきにくくなり、非凝集粒子同士あるいは非凝集粒子と凝集粒子とが接点を形成し易くなる。したがって、電気伝導性に一層優れた電極を形成することができる。なお、脂肪酸の典型例としては、例えば、炭素原子数が10以上である飽和高級脂肪酸や不飽和脂肪酸が挙げられる。上記効果を高いレベルで発揮する観点からは、アルキルコハク酸やアルケニルコハク酸等の多価不飽和脂肪酸が好適である。   In a preferred embodiment, the non-aggregated particles are provided with a coating containing a fatty acid on the surface. According to the said structure, the hydroxyl group (hydroxyl group) on the surface of a non-aggregated particle increases, and hydrophilicity is improved. Since thermosetting resins are typically hydrophobic, this reduces the wettability of the non-aggregated particles and the thermosetting resin. As a result, the thermosetting resin is less likely to cling to the non-aggregated particles, and the non-aggregated particles or the non-aggregated particles and the aggregated particles easily form a contact. Therefore, it is possible to form an electrode with further excellent electrical conductivity. Typical examples of fatty acids include saturated higher fatty acids and unsaturated fatty acids having 10 or more carbon atoms. From the viewpoint of exhibiting the above effect at a high level, polyunsaturated fatty acids such as alkyl succinic acid and alkenyl succinic acid are preferable.

<(A2)凝集導電性粉末>
凝集導電性粉末は、凝集度が1.5を超えて3以下である。つまり、凝集導電性粉末を構成する凝集粒子は、平均で1.5〜3個程度の微粒子が凝集して構成されている。このような凝集度を満たすことで、凝集導電性粉末でありながらも優れたレーザー加工性を実現することができる。凝集導電性粉末の凝集度は、例えば1.6以上であって、概ね2.5以下、例えば2.1以下であり得る。
<(A2) Aggregated conductive powder>
The agglomerated conductive powder has a degree of aggregation of more than 1.5 and 3 or less. That is, the aggregated particles constituting the aggregated conductive powder are configured by aggregating about 1.5 to 3 fine particles on average. By satisfying such a degree of aggregation, excellent laser processability can be realized while being an aggregated conductive powder. The aggregation degree of the aggregated conductive powder is, for example, 1.6 or more, and can be approximately 2.5 or less, for example, 2.1 or less.

凝集導電性粉末を構成する凝集粒子としては特に限定されず、所望の導電性やその他の物性を備える各種の金属、混合物、合金等を、用途等に応じて適宜用いることができる。一好適例として、(A1)で上述したものが挙げられる。なお、非凝集導電性粉末を構成する非凝集粒子と、凝集導電性粉末を構成する凝集粒子とでは、同種の導電性材料を使用してもよいし、異なる導電性材料を使用してもよい。   The agglomerated particles constituting the agglomerated conductive powder are not particularly limited, and various metals, mixtures, alloys, and the like having desired conductivity and other physical properties can be appropriately used depending on the application. As a suitable example, the above-mentioned thing in (A1) is mentioned. Note that the non-aggregated particles constituting the non-aggregated conductive powder and the aggregated particles constituting the aggregated conductive powder may use the same type of conductive material or different conductive materials. .

凝集粒子を構成している微粒子(一次粒子)のSEM−D50(電子顕微鏡観察に基づく個数基準の平均粒子径)は、上記凝集度の範囲を満たす限りにおいて特に限定されない。通常は(A1)の非凝集粒子のSEM−D50よりも小さく、典型的には非凝集粒子の1/2以下、例えば1/10〜1/2程度である。具体的には、概ね0.01μm以上、好ましくは0.05μm以上、より好ましくは0.1μm以上、例えば0.2μm以上であって、概ね3μm以下、好ましくは2μm以下、より好ましくは1μm以下、例えば0.7μm以下であるとよい。これにより、上記凝集度の範囲をより良く実現することができる。また、SEM−D50を所定値以上とすることで、導電性粉末の取扱性を向上することができる。 The SEM-D 50 (number-based average particle diameter based on observation with an electron microscope) of the fine particles (primary particles) constituting the aggregated particles is not particularly limited as long as the range of the aggregation degree is satisfied. Usually, it is smaller than the SEM-D 50 of the non-aggregated particles of (A1), and is typically 1/2 or less, for example, about 1/10 to 1/2 of the non-aggregated particles. Specifically, it is generally 0.01 μm or more, preferably 0.05 μm or more, more preferably 0.1 μm or more, for example 0.2 μm or more, and is generally 3 μm or less, preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less, For example, it may be 0.7 μm or less. Thereby, the range of the said aggregation degree can be implement | achieved better. Further, by the SEM-D 50 equal to or higher than a predetermined value, it is possible to improve the handling properties of the conductive powder.

凝集導電性粉末のL−D50(レーザー回折散乱式粒度分布測定法に基づく体積基準の平均粒子径)は、上記(A1)のL−D50を上回らない。つまり、(A2)凝集導電性粉末のL−D50は、(A1)非凝集導電性粉末のL−D50と同じか、それよりも小さい。具体的には、概ね0.1μm以上、好ましくは0.5μm以上、例えば1μm以上であって、概ね5μm以下、好ましくは3μm以下、より好ましくは2μm以下、例えば1.2μm以下であるとよい。L−D50が所定の範囲を満たすことで、良好なレーザー加工性と電極の低抵抗化とを高いレベルでバランスすることができる。 The LD 50 (volume average particle diameter based on the laser diffraction / scattering particle size distribution measurement method) of the aggregated conductive powder does not exceed the LD 50 of the above (A1). That, (A2) L-D 50 of the aggregate conductive powder is equal to or L-D 50 of the (A1) non-agglomerated conductive powder is smaller than that. Specifically, it is about 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, for example 1 μm or more, and is about 5 μm or less, preferably 3 μm or less, more preferably 2 μm or less, for example 1.2 μm or less. When the LD 50 satisfies the predetermined range, it is possible to balance good laser processability and low resistance of the electrode at a high level.

好適な一態様において、(A1)非凝集導電性粉末のL−D50が、(A2)凝集導電性粉末のL−D50の1倍を超え、概ね1.5倍以上、例えば2倍以上である。これにより、非凝集導電性粉末を構成する非凝集粒子の隙間に、凝集導電性粉末を構成する凝集粒子がより良く充填され、スタッキング性が高まる。その結果、高密度・低抵抗な電極を、より良く実現することができる。 In a preferred embodiment, (A1) the non-aggregated conductive powder has an LD 50 that is more than 1 times the LD 50 of (A2) the aggregated conductive powder, and is approximately 1.5 times or more, for example, 2 times or more. It is. Thereby, the clearance gap between the non-aggregated particles constituting the non-aggregated conductive powder is better filled with the aggregated particles constituting the aggregated conductive powder, and the stacking property is improved. As a result, a high-density, low-resistance electrode can be realized better.

好ましい一態様では、(A)導電性粉末が、質量比率で、以下の成分:
(A1)非凝集導電性粉末 20〜97質量%(好ましくは30〜95質量%);
(A2)凝集導電性粉末 3〜80質量%(好ましくは 5〜70質量%);
を含む。導電性粉末が上記質量比率で(A1)と(A2)とを含有することにより、2種類の粉末を併用することの効果が極めて高いレベルで発揮される。なかでも、細線状電極の形成にあたって、レーザー加工性を一層高める観点からは、(A1)が導電性粉末全体の50質量%以上を占めるとよい。あるいは、低抵抗の観点からは、(A2)が導電性粉末全体の50質量%以上を占めるとよい。
In a preferred embodiment, (A) the conductive powder is, by mass ratio, the following components:
(A1) Non-aggregated conductive powder 20 to 97% by mass (preferably 30 to 95% by mass);
(A2) Aggregated conductive powder 3 to 80% by mass (preferably 5 to 70% by mass);
including. When the conductive powder contains (A1) and (A2) at the above mass ratio, the effect of using two kinds of powders together is exhibited at a very high level. In particular, in forming the thin wire electrode, from the viewpoint of further improving the laser workability, (A1) may occupy 50% by mass or more of the entire conductive powder. Alternatively, from the viewpoint of low resistance, (A2) may occupy 50% by mass or more of the entire conductive powder.

ペーストの必須構成成分の総質量(つまり、(A)+(B)+(C))に占める(A)導電性粉末の割合は特に限定されないが、通常50質量%以上、典型的には60〜98質量%、例えば70〜95質量%であるとよい。上記範囲を満たすことで、優れた作業性やペーストのハンドリング性を維持しつつ、電気伝導性の高い電極を形成することができる。   The proportion of the (A) conductive powder in the total mass (that is, (A) + (B) + (C)) of the essential constituents of the paste is not particularly limited, but is usually 50% by mass or more, typically 60%. It is good in it being -98 mass%, for example, 70-95 mass%. By satisfying the above range, it is possible to form an electrode having high electrical conductivity while maintaining excellent workability and paste handling.

<(B)熱硬化性樹脂>
ペーストに含まれる熱硬化性樹脂は、電極に接着性や耐久性を付与するための成分である。熱硬化性樹脂は、硬化剤を加えて加熱すると網目状の架橋構造が形成され、硬化する。一旦硬化した後は溶媒にも溶けにくく、加熱しても可塑性が現れない(変形しない)。このため、熱硬化性樹脂を用いた場合は、熱可塑性樹脂を用いた場合に比べて、レーザーエッチングによって劣化することが少なく、且つ、耐熱性、耐薬品性、機械的強度、ならびに耐久性に優れた電極を好適に実現することができる。
<(B) Thermosetting resin>
The thermosetting resin contained in the paste is a component for imparting adhesion and durability to the electrode. When the thermosetting resin is heated by adding a curing agent, a network-like crosslinked structure is formed and cured. Once cured, it is difficult to dissolve in a solvent, and plasticity does not appear even when heated (does not deform). Therefore, when a thermosetting resin is used, it is less likely to be deteriorated by laser etching than when a thermoplastic resin is used, and the heat resistance, chemical resistance, mechanical strength, and durability are improved. An excellent electrode can be suitably realized.

熱硬化性樹脂としては特に限定されず、用途等に応じて従来知られているものを適宜用いることができる。一好適例として、エポキシ樹脂、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、アルキルフェノール樹脂等のフェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、シリコン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、レーザー加工性(熱分解性)や接着性の観点からは、エポキシ樹脂やフェノール樹脂が好ましい。   It does not specifically limit as a thermosetting resin, According to a use etc., what is conventionally known can be used suitably. Preferable examples include phenol resins such as epoxy resins, novolak resins, resol resins, alkylphenol resins, urea resins, melamine resins, alkyd resins, silicone resins, urethane resins, and the like. These thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more. Of these, epoxy resins and phenol resins are preferred from the viewpoint of laser processability (thermal decomposability) and adhesiveness.

熱硬化性樹脂の数平均分子量は特に限定されないが、概ね1万以下、好ましくは9000以下、典型的には100〜9000、より好ましくは5000以下、例えば200〜5000程度であるとよい。数平均分子量が所定値以下であると、基板上にペーストを印刷する際に、製版からの脱離性(離型性)が良好になり、糸ひき等の不具合が抑えられる。したがって、印刷精度を向上することができる。また、熱硬化性樹脂のなかでは数平均分子量が小さいものほど熱分解性が高まる傾向にあるため、レーザーエッチングでの易加工性を向上することもできる。さらに、数平均分子量が所定値以上であると、基板と電極との接着性が高まり、電子部材としての形状一体性を向上することができる。   The number average molecular weight of the thermosetting resin is not particularly limited, but is generally about 10,000 or less, preferably 9000 or less, typically 100 to 9000, more preferably 5000 or less, for example, about 200 to 5000. When the number average molecular weight is not more than a predetermined value, when the paste is printed on the substrate, the detachability (release property) from the plate making becomes good, and problems such as stringing can be suppressed. Therefore, printing accuracy can be improved. Further, among thermosetting resins, those having a smaller number average molecular weight tend to have higher thermal decomposability, so that the ease of processing by laser etching can be improved. Furthermore, when the number average molecular weight is a predetermined value or more, the adhesion between the substrate and the electrode is increased, and the shape integrity as an electronic member can be improved.

好適な一態様において、熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂を含んでいる。なお、本明細書において「エポキシ樹脂」とは、3員環のエーテルであるエポキシ基を分子中に1つ以上有する化合物全般をいう。エポキシ樹脂は、熱硬化性樹脂の中でも接着性、耐熱性、耐薬品性、機械的耐久性に優れる。したがって、エポキシ樹脂を含むことで耐久特性や信頼性に一層優れた電極配線を実現することができる。   In a preferred embodiment, the thermosetting resin includes an epoxy resin. In the present specification, “epoxy resin” refers to all compounds having one or more epoxy groups in the molecule, which are ethers of three-membered rings. Epoxy resins are excellent in adhesiveness, heat resistance, chemical resistance, and mechanical durability among thermosetting resins. Therefore, by including an epoxy resin, it is possible to realize an electrode wiring having further excellent durability characteristics and reliability.

エポキシ樹脂のエポキシ当量は特に限定されないが、上述の特性(特には接着性)を高いレベルで発揮させる目的から、概ね100〜3000g/eq程度であるとよい。
なお、本明細書において「エポキシ当量」とは、JIS K7236(2009)に従って測定された値をいう。
The epoxy equivalent of the epoxy resin is not particularly limited, but is preferably about 100 to 3000 g / eq for the purpose of exhibiting the above-described characteristics (particularly adhesiveness) at a high level.
In this specification, “epoxy equivalent” means a value measured according to JIS K7236 (2009).

なかでも、熱硬化性樹脂が、分子内にグリシジルエーテル基を含むグリシジルエーテル型、および/または、分子内にグリシジルエステル基を含有するグリシジルエステル型のエポキシ樹脂を含むことが好ましい。これにより、本願発明の効果をより高いレベルで発揮することができる。   Especially, it is preferable that thermosetting resin contains the glycidyl ether type epoxy resin which contains a glycidyl ether group in a molecule | numerator, and / or a glycidyl ester group in a molecule | numerator. Thereby, the effect of this invention can be exhibited at a higher level.

エポキシ樹脂を用いる場合、レーザーエッチングに適する薄膜状の(例えば厚みが10μm以下の)電極を得る観点からは、分子内にエポキシ基を1つ有する1官能エポキシ樹脂(単官能エポキシ樹脂)が好適である。1官能エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂のなかでは粘度が低いため、ペーストに充分な流動性を持たせるために有効である。これにより、ペースト塗工(印刷)時の作業性を向上することができ、薄膜状の導電膜を精度よく形成することができる。また、1官能エポキシ樹脂を用いることで熱硬化性樹脂の柔軟性が高まり、ペーストの加熱硬化中に熱硬化性樹脂が流動し易くなる。その結果、導電性粒子間から熱硬化性樹脂が押し出され、導電性粒子間の接点が増加し易くなる傾向がある。したがって、電極の抵抗を一層低く抑えることができる。   When using an epoxy resin, a monofunctional epoxy resin (monofunctional epoxy resin) having one epoxy group in the molecule is preferable from the viewpoint of obtaining a thin film electrode (for example, a thickness of 10 μm or less) suitable for laser etching. is there. The monofunctional epoxy resin is effective in giving the paste sufficient fluidity because of its low viscosity among epoxy resins. Thereby, workability | operativity at the time of paste coating (printing) can be improved, and a thin film-like electrically conductive film can be formed accurately. Moreover, the flexibility of the thermosetting resin is increased by using the monofunctional epoxy resin, and the thermosetting resin easily flows during the heat curing of the paste. As a result, the thermosetting resin is extruded from between the conductive particles, and the number of contacts between the conductive particles tends to increase. Therefore, the resistance of the electrode can be further reduced.

1官能エポキシ樹脂としては、例えば、アルキルグリシジルエーテル、アルキルフェニルグリシジルエーテル、アルケニルグリシジルエーテル、アルキニルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル系エポキシ樹脂;アルキルグリシジルエステル、アルケニルグリシジルエステル、フェニルグリシジルエステル等のグリシジルエステル系エポキシ樹脂;等が挙げられる。これらの樹脂は1種を単独で用いてもよく、2種以上を適宜組み合わせて用いることもできる。   Examples of monofunctional epoxy resins include glycidyl ether-based epoxy resins such as alkyl glycidyl ether, alkylphenyl glycidyl ether, alkenyl glycidyl ether, alkynyl glycidyl ether, and phenyl glycidyl ether; alkyl glycidyl esters, alkenyl glycidyl esters, phenyl glycidyl esters, and the like. Glycidyl ester epoxy resin; and the like. These resins may be used alone or in a suitable combination of two or more.

あるいはまた、密着性や表面平滑性が高い電極を得る観点からは、アクリル系グリシジルエステル共重合体が好適である。アクリル系グリシジルエステル共重合体はアクリロイル基を有するため、種々の基板と電極とを強く密着させるために有効である。また、アクリル系グリシジルエステル共重合体は、表面調整剤(レベリング剤)としても機能し得る。つまり、樹脂が完全硬化する前に導電膜の表面に浮き広がって、表面張力を均質化するように機能し得る。これにより、電極表面の平滑性を向上することができる。   Alternatively, an acrylic glycidyl ester copolymer is suitable from the viewpoint of obtaining an electrode having high adhesion and surface smoothness. Since the acrylic glycidyl ester copolymer has an acryloyl group, it is effective for strongly adhering various substrates and electrodes. The acrylic glycidyl ester copolymer can also function as a surface conditioner (leveling agent). That is, it can function to float on the surface of the conductive film before the resin is completely cured, and to homogenize the surface tension. Thereby, the smoothness of the electrode surface can be improved.

アクリル系グリシジルエステル共重合体としては、エポキシ基を含有するエポキシ基含有重合性モノマーの単独重合体や、上記エポキシ基含有重合性モノマーとその他の重合性モノマーとの共重合体等が挙げられる。上記エポキシ基含有重合性モノマーとしては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルメタクリレート(GMA)、α−メチルグリシジルメタクリレート、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等が挙げられる。上記その他の重合性モノマーとしては、例えば、アクリル酸、(メタ)アクリル酸メチル等のアクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸メチル(MMA)等のメタクリル酸エステルが挙げられる。上記エポキシ基含有重合性モノマーとその他の重合性モノマーとの混合比率は特に限定されないが、おおよその目安として、一好適例では3:1〜1:3程度、例えば2:1〜1:2程度であるとよい。   Examples of the acrylic glycidyl ester copolymer include a homopolymer of an epoxy group-containing polymerizable monomer containing an epoxy group, a copolymer of the epoxy group-containing polymerizable monomer and another polymerizable monomer, and the like. Examples of the epoxy group-containing polymerizable monomer include glycidyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate (GMA), α-methyl glycidyl methacrylate, vinyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether. Examples of the other polymerizable monomers include acrylic acid and acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, and methacrylic acid esters such as methacrylic acid and methyl methacrylate (MMA). The mixing ratio of the epoxy group-containing polymerizable monomer and the other polymerizable monomer is not particularly limited, but as a rough guide, in a preferred example, about 3: 1 to 1: 3, for example, about 2: 1 to 1: 2. It is good to be.

熱硬化性樹脂の含有割合は特に限定されないが、基材との密着性や電極の一体性を高める観点からは、導電性粉末を100質量部としたときに、典型的には5質量部以上、好ましくは10質量部以上、例えば15質量部以上であるとよい。また、低抵抗の観点からは、概ね30質量部以下、好ましくは25質量部以下、例えば20質量部以下であるとよい。これにより、基板との接着性や耐久性、電気伝導性に一層優れた電極を得ることができる。   The content of the thermosetting resin is not particularly limited, but from the viewpoint of improving the adhesion with the base material and the integrity of the electrode, typically 5 parts by mass or more when the conductive powder is 100 parts by mass. The amount is preferably 10 parts by mass or more, for example, 15 parts by mass or more. Further, from the viewpoint of low resistance, it is generally 30 parts by mass or less, preferably 25 parts by mass or less, for example, 20 parts by mass or less. Thereby, the electrode which was further excellent in adhesiveness with a board | substrate, durability, and electrical conductivity can be obtained.

ペーストの必須構成成分の総質量(つまり、(A)+(B)+(C))に占める(B)熱硬化性樹脂(混合物)の割合は特に限定されないが、典型的には5質量%以上、好ましくは7質量%以上、例えば10質量%以上であって、概ね25質量%以下、好ましくは20質量%以下、例えば15質量%以下であるとよい。上記範囲を満たすことで、本発明の効果をより高いレベルで奏することができる。   The proportion of (B) thermosetting resin (mixture) in the total mass (that is, (A) + (B) + (C)) of the essential constituents of the paste is not particularly limited, but is typically 5% by mass. Above, preferably 7% by mass or more, for example 10% by mass or more, and generally 25% by mass or less, preferably 20% by mass or less, for example 15% by mass or less. By satisfying the above range, the effect of the present invention can be achieved at a higher level.

<(C)硬化剤>
ペーストに含まれる硬化剤は、熱硬化性樹脂の分子間に3次元的な架橋構造を形成して、硬化させるための成分である。硬化剤としては特に限定されず、熱硬化性樹脂の種類等によって適宜用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合は、エポキシ基と反応して架橋構造を形成し得る化合物を用いるとよい。硬化剤の一好適例として、アミン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、有機ホスフィン類、およびそれらの誘導体等が挙げられる。高耐久性、例えば耐熱性や機械的強度、耐薬品性(特に耐アルカリ性)等の観点からは、アミン系硬化剤が好ましい。これらの化合物は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
<(C) Curing agent>
The curing agent contained in the paste is a component for forming a three-dimensional crosslinked structure between the molecules of the thermosetting resin and curing it. It does not specifically limit as a hardening | curing agent, According to the kind etc. of thermosetting resin, it can use suitably. For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, a compound that can react with an epoxy group to form a crosslinked structure may be used. Preferable examples of the curing agent include amine-based curing agents, imidazole-based curing agents, phenol-based curing agents, amide-based curing agents, organic phosphines, and derivatives thereof. From the viewpoint of high durability, for example, heat resistance, mechanical strength, chemical resistance (particularly alkali resistance) and the like, an amine-based curing agent is preferable. These compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

硬化剤の含有割合は特に限定されないが、導電性粉末を100質量部としたときに、典型的には0.1質量部以上、好ましくは0.5質量部以上、例えば1質量部以上であって、概ね7質量部以下、好ましくは5質量部以下、例えば3質量部以下であるとよい。これにより、硬化不良が生じることを防止して硬化反応をスムーズに進行させることができる。また、未反応の硬化剤が電極内に残留することを抑制して、抵抗をより低く抑えることができる。
また、低抵抗の観点からは、導電性粉末を100質量部としたときに、熱硬化性樹脂と硬化剤との合計((B)+(C))が概ね35質量部以下、好ましくは30質量部以下、より好ましくは20質量部以下、特には15質量部以下であるとよい。
The content ratio of the curing agent is not particularly limited, but is typically 0.1 parts by mass or more, preferably 0.5 parts by mass or more, for example, 1 part by mass or more when the conductive powder is 100 parts by mass. In general, it is 7 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, for example, 3 parts by mass or less. Thereby, it is possible to prevent the curing failure from occurring and allow the curing reaction to proceed smoothly. Moreover, it can suppress that unreacted hardening | curing agent remains in an electrode, and can suppress resistance lower.
Further, from the viewpoint of low resistance, when the conductive powder is 100 parts by mass, the total of the thermosetting resin and the curing agent ((B) + (C)) is approximately 35 parts by mass or less, preferably 30 It is good if it is not more than part by mass, more preferably not more than 20 parts by mass, especially not more than 15 parts by mass.

ペーストの必須構成成分の総質量(つまり、(A)+(B)+(C))に占める硬化剤の割合は特に限定されないが、典型的には0.1質量%以上、好ましくは0.5質量%以上、例えば1質量%以上であって、概ね7質量%以下、好ましくは5質量%以下、例えば3質量%以下であるとよい。上記範囲を満たすことで、抵抗の低減された電極を安定的に形成することができる。   The proportion of the curing agent in the total mass (that is, (A) + (B) + (C)) of the essential constituents of the paste is not particularly limited, but is typically 0.1% by mass or more, preferably 0.8. It is 5 mass% or more, for example, 1 mass% or more, and is generally 7 mass% or less, preferably 5 mass% or less, for example, 3 mass% or less. By satisfying the above range, an electrode with reduced resistance can be stably formed.

<(D)その他の成分>
ここで開示されるペーストは、典型的には、上記(A)〜(C)の成分を分散させる有機系分散媒(典型的には有機溶剤)を含有する。これにより、ペーストの粘度やチキソ性を調整することができ、作業性や塗工性(印刷性)を向上することができる。
有機系分散媒としては特に限定されないが、例えば、グリコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、グリコールエステル系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、炭化水素系溶剤等の有機溶剤が挙げられる。上記(B)としてエポキシ樹脂を使用する場合には、粘度調整や印刷適性向上の観点から、グリコールエステル系溶剤が好ましい。
<(D) Other ingredients>
The paste disclosed here typically contains an organic dispersion medium (typically an organic solvent) in which the components (A) to (C) are dispersed. Thereby, the viscosity and thixotropy of a paste can be adjusted and workability | operativity and applicability | paintability (printability) can be improved.
The organic dispersion medium is not particularly limited, and examples thereof include organic solvents such as glycol solvents, glycol ether solvents, glycol ester solvents, ether solvents, ester solvents, alcohol solvents, and hydrocarbon solvents. . When an epoxy resin is used as the (B), a glycol ester solvent is preferable from the viewpoint of viscosity adjustment and printability improvement.

有機系分散媒の含有割合は特に限定されないが、導電性粉末を100質量部としたときに、概ね100質量部以下であり、環境負荷低減の観点からは、できるだけ少量にとどめることが好ましく、典型的には50質量部以下、好ましくは30質量部以下、例えば10質量部以下であるとよい。   The content of the organic dispersion medium is not particularly limited, but when the conductive powder is 100 parts by mass, it is generally 100 parts by mass or less, and from the viewpoint of reducing environmental burden, it is preferable to keep it as small as possible. Specifically, it is 50 parts by mass or less, preferably 30 parts by mass or less, for example, 10 parts by mass or less.

ここで開示されるペーストは、必要に応じてさらに種々の添加成分を含有し得る。そのような添加成分の一例として、反応促進剤(助触媒)、レーザー光吸収剤、分散剤、増粘剤、界面活性剤、消泡剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、顔料等が挙げられる。これらの添加成分としては、一般的な導電性ペーストに使用し得ることが知られているものを適宜用いることができる。   The paste disclosed here may further contain various additive components as necessary. Examples of such additive components include reaction accelerators (promoters), laser light absorbers, dispersants, thickeners, surfactants, antifoaming agents, plasticizers, stabilizers, antioxidants, pigments, and the like. Can be mentioned. As these additive components, those known to be usable for general conductive pastes can be appropriately used.

反応促進剤(助触媒)としては、例えば、ジルコニウム(Zr)、チタン(Ti)、アルミニウム(Al)、スズ(Sn)等の金属元素を含むアルコキシド、キレート(錯体)、アシレートが挙げられる。これらの化合物は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。なかでも、有機ジルコニウム化合物が好ましい。レーザー光吸収剤としては、使用するレーザー光の波長に強い吸収帯を有する材料であればよい。例えば、IRファイバーレーザー(基本波長;1064nm)を使用する場合は、1060nm付近に吸収波長を有する材料が好ましい。一例として、カーボンブラック等のカーボン粉末が挙げられる。分散剤としては、例えば、ポリエーテル系等の高分子型分散剤が挙げられる。   Examples of the reaction accelerator (promoter) include alkoxides containing metal elements such as zirconium (Zr), titanium (Ti), aluminum (Al), tin (Sn), chelate (complex), and acylate. These compounds may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. Of these, an organozirconium compound is preferable. As the laser light absorber, any material having an absorption band strong against the wavelength of the laser light to be used may be used. For example, when an IR fiber laser (fundamental wavelength: 1064 nm) is used, a material having an absorption wavelength in the vicinity of 1060 nm is preferable. An example is carbon powder such as carbon black. Examples of the dispersant include a polyether type polymer dispersant.

添加成分の含有割合は特に限定されないが、導電性を向上する観点からは、導電性粉末を100質量部としたときに、例えば10質量部以下、好ましくは5質量部以下、より好ましくは3質量部以下であるとよい。   The content ratio of the additive component is not particularly limited, but from the viewpoint of improving conductivity, when the conductive powder is 100 parts by mass, for example, 10 parts by mass or less, preferably 5 parts by mass or less, more preferably 3 parts by mass. Or less.

<ペーストの調製>
このようなペーストは、上述した材料を所定の含有率(質量比率)となるよう秤量し、均質に撹拌混合することで調製し得る。材料の撹拌混合は、従来公知の種々の攪拌混合装置、例えばロールミル、マグネチックスターラー、プラネタリーミキサー、ディスパー等を用いて行うことができる。
ペーストの好適な粘度は、導電膜の形成厚み等によっても異なるため特に限定されない。例えばレーザーエッチングに適する薄膜状の(例えば厚みが10μm以下の)電極を形成する場合には、25℃の温度下において、ブルックフィールド型粘度計により、SC−4−14番のスピンドルを用いて回転速度100rpmの条件で測定した粘度が概ね10〜100Pa・s、例えば20〜50Pa・sとなるように調製するとよい。これによって、薄膜状の導電膜を安定的に形成することができる。
<Preparation of paste>
Such a paste can be prepared by weighing the above-described materials so as to have a predetermined content (mass ratio) and stirring and mixing them uniformly. Stirring and mixing of materials can be performed using various conventionally known stirring and mixing devices such as a roll mill, a magnetic stirrer, a planetary mixer, a disper, and the like.
The suitable viscosity of the paste is not particularly limited because it varies depending on the formation thickness of the conductive film. For example, when forming a thin film electrode (for example, a thickness of 10 μm or less) suitable for laser etching, it is rotated by a Brookfield viscometer using a SC-4-14 spindle at a temperature of 25 ° C. It is good to prepare so that the viscosity measured on condition of speed 100rpm may become about 10-100 Pa * s, for example, 20-50 Pa * s in general. Thereby, a thin film-like conductive film can be stably formed.

<ペーストの使用方法>
ペーストの一使用例では、先ず、基板を準備する。基板としては、例えば、プラスチック基板、アモルファスシリコン基板、ガラス基板等を考慮し得る。特には、耐熱性の低い材料からなる基板を好適に採用し得る。
次に、この基板上に、調製したペーストを所望の厚み(例えば1〜50μm、好ましくは10μm以下、例えば1〜10μm、より好ましくは7μm以下)になるように付与する。ペーストの付与(塗工)は、例えばスクリーン印刷、バーコーター、スリットコーター、グラビアコーター、ディップコーター、スプレーコーター等を用いて行うことができる。
次に、基板上に付与したペーストを加熱乾燥する。基板の損傷を抑える観点や生産性を向上する観点からは、加熱乾燥温度を可撓性基板の耐熱温度よりも十分低く設定することが好ましく、耐熱性の低い基板を使用する場合には、概ね200℃以下、好ましくは180℃以下、より好ましくは100〜150℃、特には100〜130℃とするとよい。また、加熱乾燥時間は、生産性等を考慮して、典型的には1〜60分程度、例えば10〜30分とするとよい。加熱乾燥によって、ペースト中の熱硬化性樹脂が硬化し、基板上に膜状の導電膜が形成される。
<How to use the paste>
In one example of using the paste, first, a substrate is prepared. As the substrate, for example, a plastic substrate, an amorphous silicon substrate, a glass substrate, or the like can be considered. In particular, a substrate made of a material having low heat resistance can be preferably used.
Next, the prepared paste is applied onto the substrate so as to have a desired thickness (for example, 1 to 50 μm, preferably 10 μm or less, for example 1 to 10 μm, more preferably 7 μm or less). The application (coating) of the paste can be performed using, for example, screen printing, bar coater, slit coater, gravure coater, dip coater, spray coater or the like.
Next, the paste applied on the substrate is heated and dried. From the viewpoint of suppressing damage to the substrate and improving productivity, it is preferable to set the heating and drying temperature sufficiently lower than the heat resistant temperature of the flexible substrate, and when using a substrate with low heat resistance, It is good to set it as 200 degrees C or less, Preferably it is 180 degrees C or less, More preferably, it is 100-150 degreeC, Especially 100-130 degreeC is good. The heat drying time is typically about 1 to 60 minutes, for example, 10 to 30 minutes, considering productivity and the like. By heat drying, the thermosetting resin in the paste is cured, and a film-like conductive film is formed on the substrate.

次に、細線状の電極を形成する場合には、上記導電膜にレーザーエッチングを施すとよい。つまり、上記導電膜が所望の細線形状となるように残して、それ以外の部位にレーザー光を照射するとよい。レーザーの種類は特に限定されず、この種の用途に使用し得ることが知られているものを適宜用いることができる。一好適例として、IRレーザー、ファイバーレーザー、COレーザー、エキシマレーザー、YAGレーザー、半導体レーザー等が挙げられる。 Next, in the case of forming a thin line electrode, the conductive film is preferably subjected to laser etching. In other words, it is preferable to leave the conductive film in a desired thin line shape and irradiate other portions with laser light. The type of laser is not particularly limited, and those known to be usable for this type of application can be used as appropriate. As a suitable example, an IR laser, a fiber laser, a CO 2 laser, an excimer laser, a YAG laser, a semiconductor laser, and the like can be given.

好適な一態様では、基板の吸収波長領域とレーザー光の基本波長とが一致しないようにレーザー種を選択する。これにより、基板への損傷を最小限に抑えることができる。
さらに好ましくは、レーザー光の波長が導電膜を構成する成分の吸収波長領域と一致するようにレーザー種を選択する。これにより、導電膜がレーザー光の波長に吸収帯を有することとなり、レーザーエッチング時の作業性や生産性を向上することができる。例えば、導電膜を構成する硬化膜(具体的には、熱硬化性樹脂を硬化剤で硬化させた硬化物)の吸収波長領域が、概ね9000〜10000cm−1(例えば9300〜9900cm−1)の範囲にある場合は、IRレーザー(基本波長1064nm)を好ましく用いることができる。
In a preferred embodiment, the laser type is selected so that the absorption wavelength region of the substrate does not match the fundamental wavelength of the laser beam. As a result, damage to the substrate can be minimized.
More preferably, the laser type is selected so that the wavelength of the laser light matches the absorption wavelength region of the component constituting the conductive film. As a result, the conductive film has an absorption band at the wavelength of the laser beam, and workability and productivity during laser etching can be improved. For example, the absorption wavelength region of the cured film constituting the conductive film (specifically, a cured product obtained by curing a thermosetting resin with a curing agent) is approximately 9000 to 10000 cm −1 (for example, 9300 to 9900 cm −1 ). When it is within the range, an IR laser (fundamental wavelength: 1064 nm) can be preferably used.

レーザー光の照射条件は特に限定されない。例えばレーザー出力は、導電膜の厚み等によっても異なり得る。好適な一態様では、基板への損傷を回避しつつ導電膜の不要な部位を適切に除去する観点から、概ね0.5〜100Wとするとよい。例えばIRレーザーを用いて1〜10μm程度の厚みの導電膜を加工する場合には、レーザー出力を1〜10W程度とするとよい。また、レーザーの走査速度は、生産性を高く維持しつつ導電膜の不要な部位を適切に除去する観点から、概ね1000〜10000mm/s、例えば1500〜5000mm/sとするとよい。   The irradiation condition of the laser beam is not particularly limited. For example, the laser output may vary depending on the thickness of the conductive film. In a preferred embodiment, the power is generally set to 0.5 to 100 W from the viewpoint of appropriately removing unnecessary portions of the conductive film while avoiding damage to the substrate. For example, when an electrically conductive film having a thickness of about 1 to 10 μm is processed using an IR laser, the laser output is preferably about 1 to 10 W. The laser scanning speed is preferably about 1000 to 10000 mm / s, for example 1500 to 5000 mm / s, from the viewpoint of appropriately removing unnecessary portions of the conductive film while maintaining high productivity.

レーザーの光エネルギーは熱エネルギーへと変換されて、導電膜に到達する。これにより、レーザー光の照射部位では導電膜が熱分解され、溶融、除去される。そして、レーザー光を照射しなかった部位のみが残存して、所望の形状の電極が成形される。
以上のように、ペーストを用いて基板上に電極(配線)を形成することができる。
The light energy of the laser is converted into thermal energy and reaches the conductive film. As a result, the conductive film is thermally decomposed, melted and removed at the laser light irradiation site. And only the part which was not irradiated with a laser beam remains, and the electrode of a desired shape is shape | molded.
As described above, an electrode (wiring) can be formed on a substrate using a paste.

<ペーストの用途>
ここで開示されるペーストはレーザー加工性に優れるため、特にL/S=80μm/80μm以下、例えばL/S=50μm/50μm以下の細線状の電極を形成するために好ましく用いることができる。このため、小型化や軽量化、薄型化、高機能化等が進行する用途で好ましく使用することができる。
また、ここで開示されるペーストは、低温短時間の熱硬化によって低抵抗な電極を形成することができる。例えば、加熱硬化条件を130℃・30分としたときの体積抵抗率が130μΩcm以下、好ましくは120μΩcm以下、より好ましくは100μΩcm以下、さらに好ましくは70μΩcm以下、特には50μΩcm以下の電極を実現することができる。したがって、高温に曝されると性能が低下してしまうような耐熱性の低い基板上に高導電性の電極を形成する用途で特に好ましく用いることができる。
<Use of paste>
Since the paste disclosed here is excellent in laser processability, it can be preferably used to form a thin wire electrode having L / S = 80 μm / 80 μm or less, for example, L / S = 50 μm / 50 μm or less. For this reason, it can be preferably used in applications where miniaturization, weight reduction, thinning, high functionality, etc. proceed.
Moreover, the paste disclosed here can form a low-resistance electrode by low-temperature and short-time thermosetting. For example, it is possible to realize an electrode having a volume resistivity of 130 μΩcm or less, preferably 120 μΩcm or less, more preferably 100 μΩcm or less, further preferably 70 μΩcm or less, particularly 50 μΩcm or less when the heat curing conditions are 130 ° C. and 30 minutes. it can. Therefore, it can be particularly preferably used in an application where a highly conductive electrode is formed on a substrate having low heat resistance, whose performance deteriorates when exposed to a high temperature.

ここで開示されるペーストの代表的な一使用用途として、各種電子部品の電極形成や、耐熱性の低い基板を有するタッチパネルや液晶ディスプレイ、電子ペーパー等の導体回路の形成が挙げられる。上記耐熱性の低い基板としては、例えば、ポリプロピレン(PP)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、ポリアミド等の樹脂からなるプラスチック基板やITO膜(Indium Tin Oxide:酸化インジウムスズ膜)付きのガラス基板等が例示される。   One typical use of the paste disclosed herein is to form electrodes for various electronic components, and to form conductive circuits such as touch panels, liquid crystal displays, and electronic paper having a substrate with low heat resistance. Examples of the substrate having low heat resistance include plastic substrates made of resins such as polypropylene (PP), polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), and polyamide, and ITO films (Indium Tin Oxide: Examples thereof include a glass substrate with an indium tin oxide film).

以下、本発明に関するいくつかの実施例を説明するが、本発明を係る実施例に示すものに限定することを意図したものではない。   Hereinafter, some examples relating to the present invention will be described, but the present invention is not intended to be limited to those shown in the examples.

先ず、加熱硬化型導電性ペーストの構成成分となる以下の材料を準備した。   First, the following materials to be constituent components of the thermosetting conductive paste were prepared.

≪導電性粉末≫
≪Conductive powder≫

≪熱硬化性樹脂≫
≪Thermosetting resin≫

≪分散媒(有機溶剤)≫
・グリコール系
≪硬化剤≫
・硬化剤1:イミダゾール系硬化剤(味の素ファインテクノ株式会社製)
・硬化剤2:第3級アミン系硬化剤(味の素ファインテクノ株式会社製)
≪反応促進剤(助触媒)≫
・ジルコニウム系キレート(マツモトファインケミカル株式会社製)
≪レーザー光吸収剤≫
・カーボンブラック(ライオン株式会社製、ケッチェンブラックEC 600JD)
≪分散剤≫
・分散剤1:ポリエーテル酸系分散剤(楠本化成株式会社製)
・分散剤2: ポリエーテルリン酸エステル系分散剤(楠本化成株式会社製)
≪Dispersion medium (organic solvent) ≫
・ Glycol-based << curing agent >>
・ Curing agent 1: Imidazole-based curing agent (Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)
Curing agent 2: Tertiary amine curing agent (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd.)
≪Reaction accelerator (cocatalyst) ≫
・ Zirconium chelate (Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
≪Laser light absorber≫
・ Carbon black (manufactured by Lion Corporation, Ketjen Black EC 600JD)
≪Dispersant≫
・ Dispersant 1: Polyether acid dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.)
-Dispersant 2: Polyether phosphate ester dispersant (manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.)

〔導電膜の形成〕
上記準備した材料を表4,表5に示す質量比率になるよう秤量、混合して、加熱硬化型導電性ペーストを調製した。
上記調製したペーストを、スクリーン印刷の手法によって、以下の4種類の基材上に、□2cm×2cmの正方形状にべた塗りし、130℃・30分間または200℃・30分の加熱乾燥を行った。これにより、導電膜(硬化膜)を形成した。
≪基材≫
・ITO膜付きのPETフィルム(日東電工株式会社製)
・PETフィルム(東レ株式会社製、アニール処理済み)
・PCフィルム(旭硝子株式会社製)
・ガラス基板(日本電気硝子株式会社製)
[Formation of conductive film]
The prepared materials were weighed and mixed so as to have the mass ratios shown in Tables 4 and 5 to prepare a thermosetting conductive paste.
The prepared paste is applied in a square shape of □ 2 cm × 2 cm on the following four types of substrates by the screen printing method, followed by heat drying at 130 ° C. for 30 minutes or 200 ° C. for 30 minutes. It was. Thereby, the electrically conductive film (cured film) was formed.
≪Base material≫
・ PET film with ITO film (Nitto Denko Corporation)
・ PET film (Toray Industries, Inc., annealed)
・ PC film (Asahi Glass Co., Ltd.)
・ Glass substrate (Nippon Electric Glass Co., Ltd.)

〔接着性評価〕
上記130℃・30分間の加熱乾燥条件で形成した導電膜について、JIS K5400(1990)に従って付着性評価(クロスカット法−100マス碁盤目試験)を行った。結果を表4,表5の「接着性」の欄にそれぞれ示す。なお、当該欄において、「○」は剥離がなかったこと(0/100)を、「△」は剥離が1〜5マスだったことを、「×」は剥離が5マスより多かったことを、それぞれ表している。
[Adhesion evaluation]
With respect to the conductive film formed under the above-mentioned heating and drying conditions at 130 ° C. for 30 minutes, adhesion evaluation (cross-cut method—100 grid cross-cut test) was performed according to JIS K5400 (1990). The results are shown in the column of “Adhesiveness” in Tables 4 and 5, respectively. In this column, “◯” indicates that there was no peeling (0/100), “△” indicates that the peeling was 1 to 5 squares, and “×” indicates that the peeling was more than 5 squares. , Respectively.

〔体積抵抗率の測定〕
上記形成した導電膜について、抵抗率計(株式会社三菱化学アナリテック製、型式:ロレスタGP MCP−T610)を用いて、4端子法で体積抵抗率を測定した。結果を表4,表5の「体積抵抗率」の欄にそれぞれ示す。
(Measurement of volume resistivity)
About the formed electrically conductive film, the volume resistivity was measured by the 4 terminal method using the resistivity meter (The Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. make, type | model: Loresta GP MCP-T610). The results are shown in the “volume resistivity” column of Tables 4 and 5, respectively.

〔レーザー加工性の評価〕
上記130℃・30分間の加熱乾燥条件でガラス基板上に形成した導電膜について、以下の条件でレーザーを照射し、細線状電極の形成を試みた。
≪レーザー加工条件≫
・レーザー種:IRファイバーレーザー(基本波長;1064nm)
・レーザー出力:7W
・走査速度:2500mm/s
・周波数:300khz
・スキャン回数:3回
[Evaluation of laser processability]
About the electrically conductive film formed on the glass substrate on the said 130 degreeC and 30-minute heat-drying conditions, the laser was irradiated on the following conditions, and formation of a thin wire-shaped electrode was tried.
≪Laser processing conditions≫
・ Laser type: IR fiber laser (fundamental wavelength: 1064 nm)
・ Laser output: 7W
・ Scanning speed: 2500mm / s
・ Frequency: 300khz
・ Number of scans: 3 times

レーザー加工によって形成した細線状電極をレーザー顕微鏡(倍率10倍、3視野)で観察し、所望の細線が形成されているか否かを確認した。結果を表4,表5の「レーザー加工性」の欄に示す。なお、当該欄において、
・「◎」は、細線に凹凸部が無く滑らかであり、細線同士がつながっていないことを、
・「○」は、細線に突起状の凸部が略無く、細線同士がつながっていないことを、
・「△」は、細線に突起状の凸部が認められるが、細線同士はつながっていないことを、
・「×」は、細線に突起状の凸部が認められ、細線同士はつながっていることを、
それぞれ表している。
また、一例として、例4に係る観察画像を図4(a)に、参考例1,2に係る観察画像を図4(b),(c)に示す。
The thin wire electrode formed by laser processing was observed with a laser microscope (magnification 10 ×, 3 fields of view) to confirm whether or not a desired thin wire was formed. The results are shown in the column of “Laser workability” in Tables 4 and 5. In this column,
・ "◎" means that the fine lines are smooth with no irregularities, and the fine lines are not connected.
・ "○" means that there are almost no protruding protrusions on the thin lines, and the thin lines are not connected.
・ "△" indicates that protruding lines are recognized on the thin lines, but the thin lines are not connected.
・ "X" means that the protrusions on the thin lines are recognized and the thin lines are connected.
Represents each.
As an example, the observation image according to Example 4 is shown in FIG. 4A, and the observation images according to Reference Examples 1 and 2 are shown in FIGS. 4B and 4C.

表4,表5に示すように、例1〜23は、2種類の導電性粉末(つまり、凝集度1.5以下の非凝集導電性粉末と、凝集度1.5〜3の凝集導電性粉末と)を混合し、凝集導電性粉末のL−D50が、非凝集導電性粉末のL−D50を上回らない試験例である。これらは、基材との接着性が良好であり、また参考例1,3〜7に比べてレーザー加工性も高く、さらに参考例2に比べて体積抵抗率も低く抑えられていた。この結果から、凝集度が相互に異なる2種類の粉末を併用することで、それぞれ単独で使用する場合に比べて、レーザー加工性と低抵抗(良電導性)とを高いレベルでバランスできることが確認された。 As shown in Tables 4 and 5, Examples 1 to 23 include two types of conductive powders (that is, non-aggregated conductive powder having an aggregation degree of 1.5 or less and aggregated conductivity having an aggregation degree of 1.5 to 3). This is a test example in which the LD 50 of the aggregated conductive powder is not higher than the LD 50 of the non-aggregated conductive powder. These had good adhesion to the base material, had higher laser processability than Reference Examples 1 and 3-7, and further had a low volume resistivity compared to Reference Example 2. From these results, it is confirmed that using two types of powders with different cohesion levels can balance laser workability and low resistance (good electrical conductivity) at a high level compared to using them individually. It was done.

次に、非凝集導電性粉末と凝集導電性粉末との混合割合が異なる例1〜8を比較すると、例2〜8がレーザー加工性に一層優れていた。このことから、レーザー加工適性を向上する観点からは、導電性粉末全体の30質量%以上を非凝集導電性粉末が占めることが好ましいとわかった。また、低抵抗の観点からは、導電性粉末全体の5質量%以上を凝集導電性粉末が占めることが好ましいとわかった。これにより、体積抵抗率(130℃・30分)を100μΩ・cm以下にまで抑えることができた。   Next, when Examples 1 to 8 having different mixing ratios of the non-aggregated conductive powder and the aggregated conductive powder were compared, Examples 2 to 8 were more excellent in laser processability. From this, it was found that from the viewpoint of improving the laser processing suitability, it is preferable that the non-aggregated conductive powder accounts for 30% by mass or more of the entire conductive powder. Moreover, it turned out that it is preferable that the aggregated electroconductive powder occupies 5 mass% or more of the whole electroconductive powder from a viewpoint of low resistance. Thereby, volume resistivity (130 degreeC * 30 minutes) was able to be suppressed to 100 microhm * cm or less.

なお、バインダの含有割合を5質量部とした例22は、接着性がやや低かった。このことから、高い接着性が要求される用途等では、バインダの含有割合を5質量部よりも多くするとよいことがわかった。また、バインダの含有割合を30質量部とした例23は、体積抵抗率(130℃・30分)がやや高かった。このことから、130℃程度の低温乾燥を行う場合には、バインダの含有割合を30質量部よりも少なくするとよいことがわかった。また、数平均分子量が5万のバインダを使用した参考例8は、レーザー加工性だけでなく電気伝導性も大きく低下した。このことから、バインダの数平均分子量は5万より小さく、例えば1万以下であるとよいことがわかった。   In addition, in Example 22 in which the binder content was 5 parts by mass, the adhesiveness was slightly low. From this, it was found that the content of the binder should be more than 5 parts by mass in applications where high adhesiveness is required. Further, in Example 23 in which the binder content was 30 parts by mass, the volume resistivity (130 ° C., 30 minutes) was slightly high. From this, it was found that when performing low temperature drying at about 130 ° C., the binder content should be less than 30 parts by mass. Further, in Reference Example 8 using a binder having a number average molecular weight of 50,000, not only laser processability but also electrical conductivity was greatly reduced. From this, it was found that the number average molecular weight of the binder is smaller than 50,000, for example, 10,000 or less.

以上、本発明の具体例を詳細に説明したが、これらは例示にすぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。   Specific examples of the present invention have been described in detail above, but these are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and changes of the specific examples illustrated above.

10 導電膜
12 電極
13 凝集粒子
14 非凝集粒子
16 樹脂溜まり
18 レーザー照射部位
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conductive film 12 Electrode 13 Aggregated particle 14 Non-aggregated particle 16 Resin pool 18 Laser irradiation site

Claims (10)

導電性粉末と、熱硬化性樹脂と、硬化剤と、を含み、
前記導電性粉末は、電子顕微鏡観察に基づく個数基準の平均粒子径(SEM−D50)とレーザー回折散乱式粒度分布測定法に基づく体積基準の平均粒子径(L−D50)との比(L−D50/SEM−D50)で表される凝集度が相互に異なる非凝集導電性粉末と凝集導電性粉末とを含み、
前記非凝集導電性粉末は、
平均アスペクト比(長径/短径比)が、2以下であり、
前記L−D 50 が、0.5μm以上7μm以下であり、
前記凝集度、1.5以下であり、
前記凝集導電性粉末は、
前記L−D 50 が、0.1μm以上5μm以下であり、
前記凝集度、1.5を超えて3以下であり、且つ、
前記凝集導電性粉末の前記L−D50は、前記非凝集導電性粉末の前記L−D50を上回らない、加熱硬化型導電性ペースト。
Including a conductive powder, a thermosetting resin, and a curing agent,
Wherein the conductive powder, the ratio of the average particle diameter based on a volume average particle diameter based on the number based on electron microscopy (SEM-D 50) based on the laser diffraction scattering particle size distribution measuring method (L-D 50) ( L-D 50 / SEM-D 50 ), the non-aggregated conductive powder and the aggregated conductive powder having different degrees of aggregation,
The non-aggregated conductive powder is
The average aspect ratio (major axis / minor axis ratio) is 2 or less,
The L-D 50 is 0.5 μm or more and 7 μm or less,
The degree of aggregation is 1.5 or less,
The agglomerated conductive powder is:
The L-D 50 is 0.1 μm or more and 5 μm or less,
The degree of aggregation is more than 1.5 and 3 or less, and
The thermosetting conductive paste, wherein the LD 50 of the aggregated conductive powder does not exceed the LD 50 of the non-aggregated conductive powder.
前記非凝集導電性粉末の前記L−D50が、5μm以下である、
請求項1に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The LD 50 of the non-aggregated conductive powder is 5 μm or less.
The thermosetting conductive paste according to claim 1.
前記非凝集導電性粉末の前記SEM−D50が、1.1μm以上3μm以下であり、
前記凝集導電性粉末の前記SEM−D50が、0.1μm以上1μm以下である、
請求項1または2に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The SEM-D 50 of the non-aggregated conductive powder is 1.1 μm or more and 3 μm or less,
The SEM-D 50 of the aggregated conductive powder is 0.1 μm or more and 1 μm or less,
The heat-curable conductive paste according to claim 1 or 2.
前記非凝集導電性粉末の前記L−D50が、前記凝集導電性粉末の前記L−D50の1.5倍以上である、
請求項1から3のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The LD 50 of the non-aggregated conductive powder is 1.5 times or more of the LD 50 of the aggregated conductive powder.
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 3.
前記非凝集導電性粉末と前記凝集導電性粉末との混合比率が、30:70〜95:5である、
請求項1から4のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The mixing ratio of the non-aggregated conductive powder and the aggregated conductive powder is 30:70 to 95: 5.
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 4.
前記非凝集導電性粉末が、アスペクト比2以下の球状粒子で構成されている、
請求項1から5のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The non-aggregated conductive powder is composed of spherical particles having an aspect ratio of 2 or less.
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 5.
前記導電性粉末が、銀粉末および/または銀コート銅粉末である、
請求項1から6のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The conductive powder is silver powder and / or silver-coated copper powder,
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 6.
前記熱硬化性樹脂の数平均分子量が10000以下である、
請求項1から7のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
The number average molecular weight of the thermosetting resin is 10,000 or less,
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 7.
前記導電性粉末を100重量部としたときに、前記熱硬化性樹脂と前記硬化剤との合計が30重量部以下である、
請求項1から8のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。
When the conductive powder is 100 parts by weight, the total of the thermosetting resin and the curing agent is 30 parts by weight or less.
The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 8.
レーザーエッチングに用いられる、Used for laser etching,
請求項1から9のいずれか一項に記載の加熱硬化型導電性ペースト。The thermosetting conductive paste according to any one of claims 1 to 9.
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