JP6584073B2 - Organometallic complex and light emitting device - Google Patents
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Description
本発明の一態様は、有機金属錯体に関する。特に、三重項励起状態におけるエネルギーを発光に変換できる有機金属錯体に関する。また、有機金属錯体を用いた発光素子、発光装置、電子機器、および照明装置に関する。なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、液晶表示装置、蓄電装置、記憶装置、撮像装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。 One embodiment of the present invention relates to an organometallic complex. In particular, the present invention relates to an organometallic complex that can convert energy in a triplet excited state into light emission. In addition, the present invention relates to a light-emitting element, a light-emitting device, an electronic device, and a lighting device each using an organometallic complex. Note that one embodiment of the present invention is not limited to the above technical field. The technical field of one embodiment of the invention disclosed in this specification and the like relates to an object, a method, or a manufacturing method. Alternatively, one embodiment of the present invention relates to a process, a machine, a manufacture, or a composition (composition of matter). Therefore, the technical field of one embodiment of the present invention disclosed in this specification more specifically includes a semiconductor device, a display device, a liquid crystal display device, a power storage device, a memory device, an imaging device, a driving method thereof, or An example of the production method is as follows.
一対の電極間に発光物質を含むEL層を挟んで形成される有機EL素子(発光素子)の発光機構は、キャリア注入型である。すなわち、電極間に電圧を印加することにより、電極から注入された電子およびホールが再結合して発光物質が励起状態となり、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。なお、励起状態の種類としては、一重項励起状態(S*)と三重項励起状態(T*)とがあり、一重項励起状態からの発光が蛍光、三重項励起状態からの発光が燐光と呼ばれている。また、発光素子におけるそれらの統計的な生成比率は、S*:T*=1:3であると考えられている。 A light emitting mechanism of an organic EL element (light emitting element) formed by sandwiching an EL layer containing a light emitting substance between a pair of electrodes is a carrier injection type. That is, when a voltage is applied between the electrodes, electrons and holes injected from the electrodes are recombined to make the luminescent substance in an excited state and emit light when the excited state returns to the ground state. The types of excited states include a singlet excited state (S * ) and a triplet excited state (T * ). Light emitted from the singlet excited state is fluorescent, and light emitted from the triplet excited state is phosphorescent. being called. In addition, the statistical generation ratio of the light emitting elements is considered to be S * : T * = 1: 3.
また、上記発光物質のうち、一重項励起状態におけるエネルギーを発光に変換することが可能な化合物は蛍光性化合物(蛍光材料)と呼ばれ、三重項励起状態におけるエネルギーを発光に変換することが可能な化合物は燐光性化合物(燐光材料)と呼ばれる。 Among the above luminescent substances, compounds that can convert energy in singlet excited state into light emission are called fluorescent compounds (fluorescent materials), and can convert energy in triplet excited state into light emission. Such a compound is called a phosphorescent compound (phosphorescent material).
従って、蛍光材料を用いた発光素子における内部量子効率(注入したキャリアに対して発生するフォトンの割合)の理論的限界は、S*:T*=1:3であることを根拠に25%とされるが、燐光材料を用いた発光素子における内部量子効率の理論的限界は、75%となる。 Therefore, the theoretical limit of the internal quantum efficiency (ratio of photons generated with respect to injected carriers) in a light emitting device using a fluorescent material is 25% on the basis of S * : T * = 1: 3. However, the theoretical limit of the internal quantum efficiency in a light-emitting element using a phosphorescent material is 75%.
つまり、蛍光材料を用いた発光素子に比べて、燐光材料を用いた発光素子では、より高い効率を得ることが可能となる。従って、様々な種類の燐光材料の開発が近年盛んに行われている。特に、その燐光量子収率の高さゆえに、イリジウム等を中心金属とする有機金属錯体が注目されている(例えば、特許文献1、特許文献2参照。)。 That is, it is possible to obtain higher efficiency in a light emitting element using a phosphorescent material than in a light emitting element using a fluorescent material. Accordingly, various types of phosphorescent materials have been actively developed in recent years. In particular, due to the high phosphorescent quantum yield, organometallic complexes having iridium or the like as a central metal have attracted attention (see, for example, Patent Document 1 and Patent Document 2).
上述した特許文献1乃至特許文献2において報告されているように様々な発光色を示す燐光材料の開発が進んでいるが、より高効率な新規材料の開発が望まれている。 As reported in Patent Documents 1 and 2 described above, phosphorescent materials exhibiting various emission colors are being developed. However, development of new materials with higher efficiency is desired.
そこで、本発明の一態様では、新規物質として、発光効率および耐熱性が良好で、黄色発光を呈しする有機金属錯体を提供する。また、電流効率の高い発光素子を提供する。また、消費電力が低い発光装置、電子機器、または照明装置を提供する Therefore, in one embodiment of the present invention, an organometallic complex which has favorable light emission efficiency and heat resistance and exhibits yellow light emission is provided as a novel substance. In addition, a light-emitting element with high current efficiency is provided. In addition, a light-emitting device, an electronic device, or a lighting device with low power consumption is provided.
本発明の一態様は、金属と、配位子とを有し、配位子は、ピリミジン環と、ピリミジン環の2位、4位、および5位でそれぞれ結合する3つの置換または無置換のフェニル基と、を有し、ピリミジン環の1位と、ピリミジン環の2位で結合するフェニル基の2位と、においてそれぞれ金属と結合することを特徴とする有機金属錯体である。 One embodiment of the present invention includes a metal and a ligand, and the ligand includes a pyrimidine ring and three substituted or unsubstituted groups bonded to the 2-position, the 4-position, and the 5-position of the pyrimidine ring, respectively. An organometallic complex having a phenyl group and bonded to a metal at each of the first position of the pyrimidine ring and the second position of the phenyl group bonded at the second position of the pyrimidine ring.
本発明の別の一態様は、金属と結合する、第1の配位子と、第2の配位子と、を有し、第1の配位子は、ピリミジン環と、ピリミジン環の2位、4位、および5位でそれぞれ結合する3つの置換または無置換のフェニル基と、を有し、第2の配位子は、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、又は2つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子であり、第1の配位子のピリミジン環の1位と、およびピリミジン環の2位で結合するフェニル基の2位と、においてそれぞれ金属と結合することを特徴とする有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention includes a first ligand and a second ligand that are bonded to a metal, and the first ligand includes a pyrimidine ring and a pyrimidine ring 2. A mono-anionic bidentate chelate coordination having a β-diketone structure, with three substituted or unsubstituted phenyl groups bonded respectively at positions 4, 4 and 5 A monoanionic bidentate chelate ligand having a carboxyl group, a monoanionic bidentate chelate ligand having a phenolic hydroxyl group, or a monoanionic bidentate ligand in which the two coordination elements are both nitrogen An organic ligand characterized in that it is a bidentate chelate ligand and binds to a metal at the first position of the pyrimidine ring of the first ligand and at the second position of the phenyl group bonded at the 2-position of the pyrimidine ring. It is a metal complex.
また、上記各構成において、金属は、イリジウムまたは白金であることを特徴とする。 In each of the above structures, the metal is iridium or platinum.
また、本発明の一態様は、下記一般式(G1)で表される構造を有する有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex having a structure represented by the following general formula (G1).
但し、一般式(G1)中、Mはイリジウム又は白金を表し、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 However, in General Formula (G1), M represents iridium or platinum, and R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G2)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by General Formula (G2) below.
但し、一般式(G2)中、Mはイリジウム又は白金を表し、Lはモノアニオン性の配位子を表す。また、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。また、Mがイリジウムのとき、mは3を表しnは1乃至3を表し、Mが白金のとき、mは2を表しnは1または2を表す。 However, in General Formula (G2), M represents iridium or platinum, and L represents a monoanionic ligand. R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When M is iridium, m represents 3 and n represents 1 to 3, and when M is platinum, m represents 2 and n represents 1 or 2.
また、一般式(G2)において、モノアニオン性の配位子は、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、又は2つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子であることが好ましい。特に、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であると、β−ジケトン構造を有することで、有機金属錯体の有機溶媒への溶解性が高まり、精製が容易となり好ましい。また、β−ジケトン構造を有することで、発光効率の高い有機金属錯体を得ることができるため好ましい。また、β−ジケトン構造を有することで昇華性が高まり、蒸着性能に優れるという利点がある。 In the general formula (G2), the monoanionic ligand is a monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure, a monoanionic bidentate chelate ligand having a carboxyl group, A monoanionic bidentate chelate ligand having a phenolic hydroxyl group or a monoanionic bidentate chelate ligand in which both two coordination elements are nitrogen is preferable. In particular, a monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure is preferable because the β-diketone structure increases the solubility of the organometallic complex in an organic solvent and facilitates purification. Further, it is preferable to have a β-diketone structure because an organometallic complex having high luminous efficiency can be obtained. Moreover, there exists an advantage that sublimation property increases and it has the outstanding vapor deposition performance by having (beta) -diketone structure.
また、モノアニオン性の配位子は、一般式(L1)乃至(L7)のいずれか一であることが好ましい。これらの配位子は、配位能力が高く、また、安価に入手することができるため有効である。 The monoanionic ligand is preferably any one of the general formulas (L1) to (L7). These ligands are effective because they have high coordination ability and can be obtained at low cost.
但し、式中、R71〜R109は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキルチオ基を表す。また、A1〜A3は、それぞれ独立に、窒素、水素と結合するsp2混成炭素、又は置換基を有するsp2炭素を表し、前記置換基は炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1〜6のハロアルキル基、又はフェニル基を表す。 In the formula, R 71 to R 109 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a vinyl group, a substituted or unsubstituted haloalkyl having 1 to 6 carbon atoms Represents a group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms. A 1 to A 3 each independently represent nitrogen, sp 2 hybrid carbon bonded to hydrogen, or sp 2 carbon having a substituent, and the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen group. Represents a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G3)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by General Formula (G3) below.
但し、一般式(G3)中、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。また、R20乃至R22は、それぞれ独立に水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキルチオ基を表す。 However, in General Formula (G3), R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 20 to R 22 are each independently hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a vinyl group, a substituted or unsubstituted haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group; It represents an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms.
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G4)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by General Formula (G4) below.
但し、一般式(G4)中、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 However, in General Formula (G4), R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(100)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by the following structural formula (100).
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(101)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by the following structural formula (101).
また、本発明の別の一態様は、下記構造式(200)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by the following structural formula (200).
また、本発明の一態様である有機金属錯体は燐光を発光することができる、すなわち三重項励起状態からの発光を得られ、かつ発光を呈することが可能であるため、発光素子に適用することにより高効率化が可能となり、非常に有効である。したがって、本発明の一態様である有機金属錯体を用いた発光素子は、本発明の一態様に含まれるものとする。 In addition, since the organometallic complex which is one embodiment of the present invention can emit phosphorescence, that is, can emit light from a triplet excited state and can emit light, it can be used for a light-emitting element. This makes it possible to increase the efficiency and is very effective. Therefore, a light-emitting element using the organometallic complex which is one embodiment of the present invention is included in one embodiment of the present invention.
また、本発明の一態様は、発光素子を有する発光装置だけでなく、発光装置を有する照明装置も範疇に含めるものである。従って、本明細書中における発光装置とは、画像表示デバイス、または光源(照明装置含む)を指す。また、発光装置にコネクター、例えばFPC(Flexible printed circuit)もしくはTCP(Tape Carrier Package)が取り付けられたモジュール、TCPの先にプリント配線板が設けられたモジュール、または発光素子にCOG(Chip On Glass)方式によりIC(集積回路)が直接実装されたモジュールも全て発光装置に含むものとする。 One embodiment of the present invention includes not only a light-emitting device having a light-emitting element but also a lighting device having a light-emitting device. Therefore, the light-emitting device in this specification refers to an image display device or a light source (including a lighting device). Also, a connector such as a flexible printed circuit (FPC) or TCP (Tape Carrier Package) attached to the light emitting device, a module provided with a printed wiring board at the end of the TCP, or a COG (Chip On Glass) attached to the light emitting element. It is assumed that the light emitting device also includes all modules on which IC (integrated circuit) is directly mounted by the method.
本発明の一態様は、新規物質として、発光効率および耐熱性が良好であり、発光色として黄色発光(発光波長:555nm付近)を呈する有機金属錯体を提供することができる。また、その発光スペクトルがブロードである有機金属錯体を提供することができる。なお、新たな有機金属錯体を用いることにより、電流効率の高い発光素子を提供することができる。また、消費電力が低い発光装置、電子機器、または照明装置を提供することができる。または、新規な材料、新規な物質、新規な発光装置、新規な表示装置、新規な電子機器、または新規な照明装置を提供することができる。なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。 One embodiment of the present invention can provide an organometallic complex as a novel substance that has favorable emission efficiency and heat resistance and exhibits yellow emission (emission wavelength: around 555 nm) as an emission color. In addition, an organometallic complex whose emission spectrum is broad can be provided. Note that a light-emitting element with high current efficiency can be provided by using a new organometallic complex. In addition, a light-emitting device, an electronic device, or a lighting device with low power consumption can be provided. Alternatively, a novel material, a novel substance, a novel light-emitting device, a novel display device, a novel electronic device, or a novel lighting device can be provided. Note that the description of these effects does not disturb the existence of other effects. Note that one embodiment of the present invention does not necessarily have all of these effects. It should be noted that the effects other than these are naturally obvious from the description of the specification, drawings, claims, etc., and it is possible to extract the other effects from the descriptions of the specification, drawings, claims, etc. It is.
以下、本発明の実施の態様について図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることが可能である。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following description, and various changes can be made in form and details without departing from the spirit and scope of the present invention. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiments below.
なお、「膜」という言葉と、「層」という言葉とは、場合によっては、または、状況に応じて、互いに入れ替えることが可能である。例えば、「導電層」という用語を、「導電膜」という用語に変更することが可能な場合がある。または、例えば、「絶縁膜」という用語を、「絶縁層」という用語に変更することが可能な場合がある。 Note that the terms “film” and “layer” can be interchanged with each other depending on the case or circumstances. For example, the term “conductive layer” may be changed to the term “conductive film”. Alternatively, for example, the term “insulating film” may be changed to the term “insulating layer” in some cases.
(実施の形態1)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体について説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, an organometallic complex which is one embodiment of the present invention will be described.
本発明の一態様である有機金属錯体は、金属と、配位子とを有し、配位子は、ピリミジン環と、ピリミジン環の2位、4位、および5位でそれぞれ結合する3つの置換または無置換のフェニル基と、を有し、ピリミジン環の1位と、ピリミジン環の2位で結合するフェニル基の2位と、においてそれぞれ金属と結合することを特徴とする有機金属錯体である。なお、本実施の形態で説明する、有機金属錯体の一態様は、下記一般式(G1)で表される構造を有する有機金属錯体である。 The organometallic complex which is one embodiment of the present invention includes a metal and a ligand, and the ligand includes three pyrimidine rings that are bonded to the pyrimidine ring at the 2-position, the 4-position, and the 5-position, respectively. An organometallic complex having a substituted or unsubstituted phenyl group, wherein the organometallic complex is bonded to a metal at each of the 1-position of the pyrimidine ring and the 2-position of the phenyl group bonded at the 2-position of the pyrimidine ring. is there. Note that one embodiment of the organometallic complex described in this embodiment is an organometallic complex having a structure represented by the following general formula (G1).
一般式(G1)において、Mはイリジウム又は白金を表し、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 In General Formula (G1), M represents iridium or platinum, and R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
また、本実施の形態で説明する、有機金属錯体の一態様は、下記一般式(G2)で表される有機金属錯体である。 One embodiment of the organometallic complex described in this embodiment is an organometallic complex represented by General Formula (G2) below.
一般式(G2)において、Mはイリジウム又は白金を表し、Lはモノアニオン性の配位子を表す。また、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。また、Mがイリジウムのとき、mは3を表しnは1乃至3を表し、Mが白金のとき、mは2を表しnは1または2を表す。 In General Formula (G2), M represents iridium or platinum, and L represents a monoanionic ligand. R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. When M is iridium, m represents 3 and n represents 1 to 3, and when M is platinum, m represents 2 and n represents 1 or 2.
なお、一般式(G2)におけるモノアニオン性の配位子は、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、又は2つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子であることが好ましい。特に、β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子が好ましい。 Note that the monoanionic ligand in the general formula (G2) is a monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure, a monoanionic bidentate chelate ligand having a carboxyl group, or phenol. A monoanionic bidentate chelate ligand having an ionic hydroxyl group or a monoanionic bidentate chelate ligand in which the two coordination elements are both nitrogen is preferable. In particular, a monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure is preferred.
具体的には、モノアニオン性の配位子は、一般式(L1)乃至(L7)のいずれか一であることが好ましい。 Specifically, the monoanionic ligand is preferably any one of the general formulas (L1) to (L7).
但し、式中、R71〜R109は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキルチオ基を表す。また、A1〜A3は、それぞれ独立に、窒素、水素と結合するsp2混成炭素、又は置換基を有するsp2炭素を表し、前記置換基は炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1〜6のハロアルキル基、又はフェニル基を表す。 In the formula, R 71 to R 109 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a vinyl group, a substituted or unsubstituted haloalkyl having 1 to 6 carbon atoms Represents a group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms. A 1 to A 3 each independently represent nitrogen, sp 2 hybrid carbon bonded to hydrogen, or sp 2 carbon having a substituent, and the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen group. Represents a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.
なお、本発明の一態様である有機金属錯体は、配位子のピリミジン環において、ピリミジン環の2位、4位、および5位で、それぞれ置換または無置換の3つのフェニル基と結合する構造を有する。このように、ピリミジン環に3つのフェニル基が結合した構造とすることにより、有機金属錯体の耐熱性を向上させることができるので、発光素子に用いた場合に素子の信頼性を向上させることができる。また、ピリミジン環を含むことで発光効率を高めることができるので、本発明の一態様である有機金属錯体により、発光効率の高い黄色発光材料が得られる。 Note that the organometallic complex which is one embodiment of the present invention has a structure in which, in the pyrimidine ring of the ligand, bonds to three substituted or unsubstituted phenyl groups at the 2-position, 4-position, and 5-position of the pyrimidine ring, respectively. Have In this manner, the structure in which three phenyl groups are bonded to the pyrimidine ring can improve the heat resistance of the organometallic complex, so that the reliability of the element can be improved when used in a light-emitting element. it can. In addition, since the emission efficiency can be increased by including a pyrimidine ring, a yellow light-emitting material with high emission efficiency can be obtained with the organometallic complex which is one embodiment of the present invention.
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G3)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by General Formula (G3) below.
一般式(G3)において、R1〜R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。また、R20〜R22は、それぞれ独立に水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキルチオ基を表す。 In General Formula (G3), R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 20 to R 22 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a vinyl group, a substituted or unsubstituted haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group; It represents an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms.
また、本発明の別の一態様は、下記一般式(G4)で表される有機金属錯体である。 Another embodiment of the present invention is an organometallic complex represented by General Formula (G4) below.
一般式(G4)において、R1〜R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 In General Formula (G4), R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
なお、上記一般式(G1)、(G2)、(G3)、(G4)中の、R1〜R15またはR20〜R22における炭素数1〜6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ネオヘキシル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基等が挙げられる。 The above general formula (G1), (G2), (G3), (G4) in the, specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 to R 15 or R 20 to R 22 are methyl Group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, neopentyl group, hexyl group, isohexyl Group, sec-hexyl group, tert-hexyl group, neohexyl group, 3-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 2-ethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, etc. It is done.
次に、上述した本発明の一態様である有機金属錯体の具体的な構造式を下記に示す。ただし、本発明はこれらに限定されることはない。 Next, specific structural formulas of the organometallic complex which is one embodiment of the present invention described above are shown below. However, the present invention is not limited to these.
なお、上記構造式(100)〜(114)、構造式(200)〜(202)、構造式(300)、構造式(301)、構造式(400)、構造式(401)で表される有機金属錯体は、燐光を発光することが可能な新規物質である。なお、これらの物質は、配位子の種類によっては幾何異性体と立体異性体が存在しうるが、本発明の一態様である有機金属錯体にはこれらの異性体も全て含まれる。 The structural formulas (100) to (114), the structural formulas (200) to (202), the structural formula (300), the structural formula (301), the structural formula (400), and the structural formula (401). An organometallic complex is a novel substance that can emit phosphorescence. Note that these substances may have geometric isomers and stereoisomers depending on the type of the ligand, but the organometallic complex which is one embodiment of the present invention includes all of these isomers.
次に、上記一般式(G2)で表される有機金属錯体の合成方法の一例について説明する。 Next, an example of a method for synthesizing the organometallic complex represented by the general formula (G2) will be described.
≪一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体の合成法≫
まず、下記一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体の合成方法の一例について説明する。
<< Method for Synthesizing Pyrimidine Derivatives Represented by General Formula (G0) >>
First, an example of a synthesis method of a pyrimidine derivative represented by the following general formula (G0) will be described.
一般式(G0)において、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 In General Formula (G0), R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
以下に、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体の合成スキーム(A)を示す。なお、合成スキーム(A)において、Q1乃至Q3はハロゲンを表す。 A synthesis scheme (A) of the pyrimidine derivative represented by the general formula (G0) is shown below. Note that in Synthesis Scheme (A), Q 1 to Q 3 represent halogen.
上記合成スキーム(A)において、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体は、ハロゲン化ピリミジン化合物(A1)とボロン酸(A2)、(A2’)、(A2’’)とをカップリングすることにより得られる。Q1乃至Q3で表されるハロゲンの種類によりボロン酸との反応は、順番を任意に選択可能、もしくは同時に進行させることも可能である。また、ボロン酸はボロン酸エステルまたは環状トリオールボレート塩等を用いても良い。 In the above synthesis scheme (A), the pyrimidine derivative represented by the general formula (G0) couples the halogenated pyrimidine compound (A1) to the boronic acids (A2), (A2 ′), and (A2 ″). Can be obtained. Depending on the type of halogen represented by Q 1 to Q 3 , the reaction with boronic acid can be arbitrarily selected in order, or can proceed simultaneously. The boronic acid may be a boronic acid ester or a cyclic triol borate salt.
上述の化合物(A1)、(A2)、(A2’)、(A2’’)は、様々な種類が市販されているか、あるいは合成可能であるため、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体は数多くの種類を合成することができる。したがって、本発明の一態様である有機金属錯体は、その配位子のバリエーションが豊富であるという特徴がある。 Since the above-mentioned compounds (A1), (A2), (A2 ′) and (A2 ″) are commercially available or can be synthesized, the pyrimidine derivatives represented by the general formula (G0) Can synthesize many types. Therefore, the organometallic complex which is one embodiment of the present invention has a feature that the variation of the ligand is abundant.
≪一般式(G2)で表される本発明の一態様の有機金属錯体の合成方法≫
次に、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体を用いて形成される、一般式(G2)で示される本発明の一態様である有機金属錯体の合成方法について説明する。
Next, a method for synthesizing the organometallic complex which is one embodiment of the present invention represented by the general formula (G2) and is formed using the pyrimidine derivative represented by the general formula (G0) will be described.
なお、一般式(G2)において、Mはイリジウムまたは白金を表す。また、Mがイリジウムのときmは3を表しnは2を表し、Mが白金のときmは2を表しnは1を表す。 Note that in General Formula (G2), M represents iridium or platinum. When M is iridium, m represents 3 and n represents 2. When M is platinum, m represents 2 and n represents 1.
まず、複核錯体(P)の合成スキーム(B−1)を以下に示す。 First, a synthesis scheme (B-1) of the binuclear complex (P) is shown below.
なお、合成スキーム(B−1)において、Mはイリジウム又は白金を表す。また、Mがイリジウムのとき、mは3を表しnは2を表し、Mが白金のとき、mは2を表しnは1を表す。 Note that in Synthesis Scheme (B-1), M represents iridium or platinum. When M is iridium, m represents 3 and n represents 2. When M is platinum, m represents 2 and n represents 1.
上記合成スキーム(B−1)に示すように、複核錯体(P)は、ハロゲンを含む金属化合物(塩化パラジウム、塩化イリジウム、臭化イリジウム、ヨウ化イリジウム、テトラクロロ白金酸カリウムなど)と、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体と、を用いて、不活性ガス雰囲気にて加熱することにより、ハロゲンで架橋された構造を有する有機金属錯体の一種であり、新規物質である複核錯体(P)を得ることができる。なお、この際、アルコール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノールなど)や、アルコール系溶媒1種類以上と水との混合溶媒等を用いてもよい。 As shown in the above synthesis scheme (B-1), the binuclear complex (P) includes a halogen-containing metal compound (such as palladium chloride, iridium chloride, iridium bromide, iridium iodide, potassium tetrachloroplatinate) and the like. Using a pyrimidine derivative represented by the formula (G0) and heating in an inert gas atmosphere, it is a kind of organometallic complex having a structure cross-linked with halogen, and is a novel compound of a multinuclear complex ( P) can be obtained. In this case, an alcohol solvent (glycerol, ethylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, etc.), a mixed solvent of one or more alcohol solvents and water, or the like may be used.
また、合成スキーム(B−1)における加熱手段として特に限定はなく、オイルバス、サンドバス、又はアルミブロックを用いてもよい。また、マイクロ波を加熱手段として用いることも可能である。 Moreover, there is no limitation in particular as a heating means in a synthesis scheme (B-1), You may use an oil bath, a sand bath, or an aluminum block. Moreover, it is also possible to use a microwave as a heating means.
さらに、下記合成スキーム(B−2)に示すように、上述の合成スキーム(B−1)で得られる複核錯体(P)と、モノアニオン性の配位子の原料HLとを、不活性ガス雰囲気にて反応させることにより、HLのプロトンが脱離してLが中心金属に配位し、一般式(G2)で表される本発明の一態様である有機金属錯体が得られる。 Further, as shown in the following synthesis scheme (B-2), the dinuclear complex (P) obtained by the above-mentioned synthesis scheme (B-1) and the monoanionic ligand raw material HL are converted into an inert gas. By reacting in an atmosphere, the proton of HL is eliminated, L is coordinated to the central metal, and the organometallic complex which is one embodiment of the present invention represented by General Formula (G2) is obtained.
なお、合成スキーム(B−2)において、Mはイリジウム又は白金を表し、Lはモノアニオン性の配位子を表し、Qはハロゲンを表し、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 Note that in Synthesis Scheme (B-2), M represents iridium or platinum, L represents a monoanionic ligand, Q represents halogen, and R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is represented.
また、合成スキーム(B−2)の場合も加熱手段として特に限定はなく、オイルバス、サンドバス、又はアルミブロックを用いてもよい。また、マイクロ波を加熱手段として用いることも可能である。 In the case of the synthesis scheme (B-2), the heating means is not particularly limited, and an oil bath, a sand bath, or an aluminum block may be used. Moreover, it is also possible to use a microwave as a heating means.
なお、一般式(G2)中におけるモノアニオン性の配位子Lは、ベータジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、カルボキシル基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、フェノール性水酸基を有するモノアニオン性の二座キレート配位子、又は2つの配位元素がいずれも窒素であるモノアニオン性の二座キレート配位子であることが好ましい。特に、ベータジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子であると、ベータジケトン構造を有することで、有機金属錯体の有機溶媒への溶解性が高まり、精製が容易となり好ましい。また、ベータジケトン構造を有することで、発光効率の高い有機金属錯体を得ることができるため好ましい。また、ベータジケトン構造を有することで昇華性が高まり、蒸着性能に優れるという利点がある。 In addition, the monoanionic ligand L in the general formula (G2) is a monoanionic bidentate chelate ligand having a beta diketone structure, a monoanionic bidentate chelate ligand having a carboxyl group, A monoanionic bidentate chelate ligand having a phenolic hydroxyl group or a monoanionic bidentate chelate ligand in which both two coordination elements are nitrogen is preferable. In particular, a monoanionic bidentate chelate ligand having a beta diketone structure is preferable because the beta diketone structure increases the solubility of the organometallic complex in an organic solvent and facilitates purification. Further, it is preferable to have a beta diketone structure because an organometallic complex having high luminous efficiency can be obtained. Moreover, sublimation property increases by having a beta diketone structure, and there exists an advantage that it is excellent in vapor deposition performance.
また、モノアニオン性の配位子は、一般式(L1)乃至(L7)のいずれか一であることが好ましい。これらの配位子は、配位能力が高く、また、安価に入手することができるため有効である。 The monoanionic ligand is preferably any one of the general formulas (L1) to (L7). These ligands are effective because they have high coordination ability and can be obtained at low cost.
但し、式中、R71〜R109は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、ビニル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のハロアルキル基、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基、又は置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキルチオ基を表す。また、A1〜A3は、それぞれ独立に、窒素、水素と結合するsp2混成炭素、又は置換基を有するsp2炭素を表し、前記置換基は炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン基、炭素数1〜6のハロアルキル基、又はフェニル基を表す。 In the formula, R 71 to R 109 are each independently hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen group, a vinyl group, a substituted or unsubstituted haloalkyl having 1 to 6 carbon atoms Represents a group, a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms. A 1 to A 3 each independently represent nitrogen, sp 2 hybrid carbon bonded to hydrogen, or sp 2 carbon having a substituent, and the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a halogen group. Represents a haloalkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.
なお、R1およびR2における置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、イソヘキシル基、sec−ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ネオヘキシル基、3−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、2−エチルブチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基等が挙げられる。 In addition, specific examples of the substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a sec-butyl group, an isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, neopentyl group, hexyl group, isohexyl group, sec-hexyl group, tert-hexyl group, neohexyl group, 3-methylpentyl group, 2 -Methylpentyl group, 2-ethylbutyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group and the like can be mentioned.
また、上記一般式(G2)において、Lで表されるモノアニオン性の配位子を有さない構造を有する有機金属錯体、すなわち下記一般式(G2’)で表される有機金属錯体の合成方法の一例について説明する。 In addition, in the above general formula (G2), synthesis of an organometallic complex having a structure having no monoanionic ligand represented by L, that is, an organometallic complex represented by the following general formula (G2 ′) An example of the method will be described.
なお、一般式(G2’)において、Mはイリジウムまたは白金を表す。また、Mがイリジウムのときnは3を表し、Mが白金のときnは2を表す。 Note that in the general formula (G2 ′), M represents iridium or platinum. When M is iridium, n represents 3. When M is platinum, n represents 2.
一般式(G2’)の合成スキーム(C)を以下に示す。 A synthesis scheme (C) of the general formula (G2 ′) is shown below.
なお、合成スキーム(C)において、Mはイリジウム又は白金を表す。また、Mがイリジウムのときnは3を表し、Mが白金のときnは2を表す。また、R1乃至R15は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。 Note that in Synthesis Scheme (C), M represents iridium or platinum. When M is iridium, n represents 3. When M is platinum, n represents 2. R 1 to R 15 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
上記合成スキーム(C)に示すように、一般式(G2’)で表される構造を有する有機金属錯体は、ハロゲンを含むイリジウムもしくは白金の金属化合物(塩化イリジウム水和物、ヘキサクロロイリジウム酸アンモニウム、テトラクロロ白金酸カリウム等)、またはイリジウムもしくは白金の原料錯体化合物(アセチルアセトナト錯体、ジエチルスルフィド錯体等)と、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体と、を混合した後、加熱することにより得ることができる。 As shown in the synthesis scheme (C), the organometallic complex having the structure represented by the general formula (G2 ′) is a halogen-containing iridium or platinum metal compound (iridium chloride hydrate, ammonium hexachloroiridate, Potassium tetrachloroplatinate, etc.) or a raw material complex compound of iridium or platinum (acetylacetonato complex, diethylsulfide complex, etc.) and a pyrimidine derivative represented by the general formula (G0) are mixed and then heated. Can be obtained.
なお、上記の加熱プロセスは、ハロゲンを含むイリジウムもしくは白金の金属化合物、またはイリジウムもしくは白金の有機金属錯体化合物と、一般式(G0)で表されるピリミジン誘導体と、をアルコール系溶媒(グリセロール、エチレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール等)に溶解した後で行ってもよい。 Note that in the above heating process, an iridium or platinum metal compound containing halogen, or an organometallic complex compound of iridium or platinum and a pyrimidine derivative represented by the general formula (G0) are mixed with an alcohol solvent (glycerol, ethylene Glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol and the like).
以上、本発明の一態様である有機金属錯体の合成方法の一例について説明したが、本発明はこれに限定されることはなく、他のどのような合成方法によって合成されても良い。 As described above, the example of the method for synthesizing the organometallic complex which is one embodiment of the present invention has been described, but the present invention is not limited to this and may be synthesized by any other synthesis method.
なお、上述した本発明の一態様である有機金属錯体は、燐光を発光することが可能であるため、発光材料や発光素子の発光物質として利用できる。 Note that the organometallic complex which is one embodiment of the present invention described above can emit phosphorescence, and thus can be used as a light-emitting material or a light-emitting substance of a light-emitting element.
また、本発明の一態様である有機金属錯体を用いることで、発光効率の高い発光素子、発光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。また、消費電力が低い発光素子、発光装置、電子機器、または照明装置を実現することができる。 In addition, by using the organometallic complex which is one embodiment of the present invention, a light-emitting element, a light-emitting device, an electronic device, or a lighting device with high emission efficiency can be realized. In addition, a light-emitting element, a light-emitting device, an electronic device, or a lighting device with low power consumption can be realized.
なお、本実施の形態において、本発明の一態様について述べた。また、他の実施の形態において、本発明の一態様について述べる。ただし、本発明の一態様は、これらに限定されない。つまり、本実施の形態および他の実施の形態では、様々な発明の態様が記載されているため、本発明の一態様は、特定の態様に限定されない。例えば、本発明の一態様として、発光素子に適用した場合の例を示したが、本発明の一態様は、これに限定されない。また、状況に応じて、本発明の一態様は、発光素子以外のものに適用してもよい。また、状況に応じて、本発明の一態様は、発光素子に適用しなくてもよい。例えば、本発明の一態様として、イリジウムを用いた場合の例を示したが、本発明の一態様は、これに限定されない。また、本発明の一態様は、イリジウム以外のものを用いてもよい。また、状況に応じて、本発明の一態様は、イリジウムを用いなくてもよい。 Note that one embodiment of the present invention is described in this embodiment. In another embodiment, one embodiment of the present invention will be described. Note that one embodiment of the present invention is not limited thereto. That is, in this embodiment and other embodiments, various aspects of the invention are described; therefore, one embodiment of the present invention is not limited to a particular aspect. For example, although an example in which the present invention is applied to a light-emitting element has been described as one embodiment of the present invention, one embodiment of the present invention is not limited thereto. One embodiment of the present invention may be applied to a device other than a light-emitting element depending on circumstances. One embodiment of the present invention may not be applied to a light-emitting element depending on circumstances. For example, although the example at the time of using iridium was shown as 1 aspect of this invention, 1 aspect of this invention is not limited to this. One embodiment of the present invention may use materials other than iridium. Further, depending on circumstances, one embodiment of the present invention may not use iridium.
本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。 The structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態2)
本実施の形態では、本発明の一態様として実施の形態1で示した有機金属錯体を発光層に用いた発光素子について図1を用いて説明する。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a light-emitting element using the organometallic complex described in Embodiment 1 as a light-emitting layer as one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
本実施の形態に示す発光素子は、一対の電極(第1の電極(陽極)101と第2の電極(陰極)103)間に発光層113を含むEL層102が挟まれており、EL層102は、発光層113の他に、正孔(または、ホール)注入層111、正孔(または、ホール)輸送層112、電子輸送層114、電子注入層115などを含んで形成される。 In the light-emitting element described in this embodiment, an EL layer 102 including a light-emitting layer 113 is sandwiched between a pair of electrodes (a first electrode (anode) 101 and a second electrode (cathode) 103). In addition to the light emitting layer 113, the hole 102 is formed to include a hole (or hole) injection layer 111, a hole (or hole) transport layer 112, an electron transport layer 114, an electron injection layer 115, and the like.
このような発光素子に対して電圧を印加すると、第1の電極側から注入された正孔と第2の電極側から注入された電子とが、発光層において再結合し、それにより生じたエネルギーに起因して、発光層に含まれる有機金属錯体などの発光物質が発光する。 When a voltage is applied to such a light emitting element, holes injected from the first electrode side and electrons injected from the second electrode side recombine in the light emitting layer, and energy generated thereby. As a result, a light-emitting substance such as an organometallic complex contained in the light-emitting layer emits light.
なお、EL層102における正孔注入層111は、正孔輸送性の高い物質とアクセプター性物質を含む層であり、アクセプター性物質によって正孔輸送性の高い物質から電子が引き抜かれることにより正孔(ホール)が発生する。従って、正孔注入層111から正孔輸送層112を介して発光層113に正孔が注入される。 Note that the hole-injection layer 111 in the EL layer 102 includes a substance having a high hole-transport property and an acceptor substance, and holes are extracted by extraction of electrons from the substance having a high hole-transport property by the acceptor substance. (Hole) occurs. Accordingly, holes are injected from the hole injection layer 111 into the light emitting layer 113 through the hole transport layer 112.
以下に本実施の形態に示す発光素子を作製する上での具体例について説明する。 Specific examples for manufacturing the light-emitting element described in this embodiment will be described below.
第1の電極(陽極)101および第2の電極(陰極)103には、金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる。具体的には、酸化インジウム−酸化スズ(Indium Tin Oxide)、珪素若しくは酸化珪素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸化インジウム−酸化亜鉛(Indium Zinc Oxide)、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム、金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、チタン(Ti)の他、元素周期表の第1族または第2族に属する元素、すなわちリチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびカルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等のアルカリ土類金属、マグネシウム(Mg)、およびこれらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Yb)等の希土類金属およびこれらを含む合金、その他グラフェン等を用いることができる。なお、第1の電極(陽極)101および第2の電極(陰極)103は、例えばスパッタリング法や蒸着法(真空蒸着法を含む)等により形成することができる。 For the first electrode (anode) 101 and the second electrode (cathode) 103, a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like can be used. Specifically, indium oxide-tin oxide (Indium Tin Oxide), indium oxide-tin oxide containing silicon or silicon oxide, indium zinc oxide (Indium Zinc Oxide), indium oxide containing tungsten oxide and zinc oxide , Gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), palladium (Pd) In addition to titanium (Ti), elements belonging to Group 1 or Group 2 of the periodic table of elements, that is, alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), and calcium (Ca) and strontium (Sr) Alkaline earth metals, magnesium (Mg), and alloys containing them (MgAg, AlLi , Europium (Eu), ytterbium (Yb), an alloy containing these can be used, such as other graphene like. Note that the first electrode (anode) 101 and the second electrode (cathode) 103 can be formed by, for example, a sputtering method, an evaporation method (including a vacuum evaporation method), or the like.
正孔注入層111、および正孔輸送層112に用いる正孔輸送性の高い物質としては、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPBまたはα−NPD)やN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’,4’’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(略称:TCTA)、4,4’,4’’−トリス(N,N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン(略称:TDATA)、4,4’,4’’−トリス[N−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ]トリフェニルアミン(略称:MTDATA)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳香族アミン化合物、3−[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA1)、3,6−ビス[N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)−N−フェニルアミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCA2)、3−[N−(1−ナフチル)−N−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)アミノ]−9−フェニルカルバゾール(略称:PCzPCN1)等が挙げられる。その他、4,4’−ジ(N−カルバゾリル)ビフェニル(略称:CBP)、1,3,5−トリス[4−(N−カルバゾリル)フェニル]ベンゼン(略称:TCPB)、9−[4−(10−フェニル−9−アントラセニル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)等のカルバゾール誘導体、等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。 As a substance having a high hole-transport property used for the hole-injection layer 111 and the hole-transport layer 112, for example, 4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl (abbreviation: NPB or α-NPD), N, N′-bis (3-methylphenyl) -N, N′-diphenyl- [1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine (abbreviation: TPD), 4, 4 ′, 4 ″ -tris (carbazol-9-yl) triphenylamine (abbreviation: TCTA), 4,4 ′, 4 ″ -tris (N, N-diphenylamino) triphenylamine (abbreviation: TDATA) 4,4 ′, 4 ″ -tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA), 4,4′-bis [N- (spiro-9,9 '-Bifluoren-2-yl) -N-phenylami An aromatic amine compound such as biphenyl (abbreviation: BSPB), 3- [N- (9-phenylcarbazol-3-yl) -N-phenylamino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCA1), 3,6- Bis [N- (9-phenylcarbazol-3-yl) -N-phenylamino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCA2), 3- [N- (1-naphthyl) -N- (9-phenylcarbazole- 3-yl) amino] -9-phenylcarbazole (abbreviation: PCzPCN1) and the like. In addition, 4,4′-di (N-carbazolyl) biphenyl (abbreviation: CBP), 1,3,5-tris [4- (N-carbazolyl) phenyl] benzene (abbreviation: TCPB), 9- [4- ( Carbazole derivatives such as 10-phenyl-9-anthracenyl) phenyl] -9H-carbazole (abbreviation: CzPA), and the like can be used. The substances described here are mainly substances having a hole mobility of 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Note that other than these substances, any substance that has a property of transporting more holes than electrons may be used.
さらに、ポリ(N−ビニルカルバゾール)(略称:PVK)、ポリ(4−ビニルトリフェニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニルアミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](略称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)などの高分子化合物を用いることもできる。 Further, poly (N-vinylcarbazole) (abbreviation: PVK), poly (4-vinyltriphenylamine) (abbreviation: PVTPA), poly [N- (4- {N ′-[4- (4-diphenylamino)] Phenyl] phenyl-N′-phenylamino} phenyl) methacrylamide] (abbreviation: PTPDMA), poly [N, N′-bis (4-butylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) benzidine] (abbreviation: Polymer compounds such as Poly-TPD can also be used.
また、正孔注入層111に用いるアクセプター性物質としては、元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化モリブデンが特に好ましい。 As an acceptor substance used for the hole injection layer 111, an oxide of a metal belonging to Groups 4 to 8 in the periodic table can be given. Specifically, molybdenum oxide is particularly preferable.
発光層113は、発光物質を含む層である。なお、発光物質としては、実施の形態1で示した有機金属錯体を用いることができ、さらにこの有機金属錯体(ゲスト材料)よりも三重項励起エネルギーの大きい物質をホスト材料として含む層であってもよい。また、発光物質に加えて、発光層におけるキャリア(電子及びホール)の再結合の際に励起錯体(エキサイプレックスとも言う)を形成することができる組み合わせとなる2種類の有機化合物(上記ホスト材料のいずれかであってもよい)を含む構成としてもよい。 The light emitting layer 113 is a layer containing a light emitting substance. Note that as the light-emitting substance, the organometallic complex described in Embodiment 1 can be used, and the layer further includes a substance having triplet excitation energy higher than that of the organometallic complex (guest material) as a host material. Also good. In addition to the light-emitting substance, two kinds of organic compounds (a combination of the above host materials) that can form an exciplex (also referred to as an exciplex) upon recombination of carriers (electrons and holes) in the light-emitting layer Any of them may be included).
なお、上記2種類の有機化合物に用いることができる有機化合物としては、例えば、2,3−ビス(4−ジフェニルアミノフェニル)キノキサリン(略称:TPAQn)、NPBのようなアリールアミン骨格を有する化合物の他、CBP、4,4’,4’’−トリス(カルバゾール−9−イル)トリフェニルアミン(略称:TCTA)等のカルバゾール誘導体や、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ピリジナト]亜鉛(略称:Znpp2)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンズオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)等の金属錯体が好ましい。また、PVKのような高分子化合物を用いることもできる。 Note that examples of organic compounds that can be used for the above two kinds of organic compounds include compounds having an arylamine skeleton such as 2,3-bis (4-diphenylaminophenyl) quinoxaline (abbreviation: TPAQn) and NPB. In addition, CBP, carbazole derivatives such as 4,4 ′, 4 ″ -tris (carbazol-9-yl) triphenylamine (abbreviation: TCTA), bis [2- (2-hydroxyphenyl) pyridinato] zinc (abbreviation) : Znpp 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazolate] zinc (abbreviation: Zn (BOX) 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (4-phenylphenolato) aluminum ( Abbreviations: BAlq), metal complexes such as tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ) are preferable. A polymer compound such as PVK can also be used.
なお、発光層113において、上述した有機金属錯体(ゲスト材料)とホスト材料とを含んで形成することにより、発光層113からは、発光効率の高い燐光発光を得ることができる。 Note that when the light-emitting layer 113 is formed to include the above-described organometallic complex (guest material) and a host material, phosphorescence with high light emission efficiency can be obtained from the light-emitting layer 113.
また、発光層113は、発光素子において図1(A)に示す単層構造だけに限らず、図1(B)に示すような2層以上の積層構造であってもよい。但し、この場合には、積層された各層からそれぞれの発光が得られる構成とする。例えば、1層目の発光層113(a1)からは、蛍光発光が得られる構成とし、1層目に積層される2層目の発光層113(a2)からは燐光発光が得られる構成とすればよい。なお、積層順については、この逆であってもよい。また、燐光発光が得られる層においては、励起錯体からドーパントへのエネルギー移動による発光が得られる構成とするのが好ましい。また、発光色については、一方の層から青色発光が得られる構成とする場合、他方の層からは橙色発光または黄色発光などが得られる構成とすることができる。また、各層において、複数種のドーパントが含まれる構成としてもよい。 In addition, the light-emitting layer 113 is not limited to a single-layer structure illustrated in FIG. 1A in the light-emitting element, and may have a stacked structure including two or more layers as illustrated in FIG. However, in this case, each light emission is obtained from each stacked layer. For example, the first light-emitting layer 113 (a1) is configured to obtain fluorescence, and the second light-emitting layer 113 (a2) stacked as the first layer is configured to obtain phosphorescence. That's fine. The order of stacking may be reversed. In addition, the layer that can emit phosphorescence preferably has a structure in which light emission by energy transfer from the exciplex to the dopant can be obtained. As for the emission color, when blue light emission is obtained from one layer, orange light emission or yellow light emission can be obtained from the other layer. Each layer may include a plurality of types of dopants.
なお、発光層113が積層構造を有する場合には、実施の形態1で示した有機金属錯体だけでなく、一重項励起エネルギーを発光に変える発光物質、または三重項励起エネルギーを発光に変える発光物質等を各々単独または組み合わせて用いることができる。この場合には、例えば、以下のようなものが挙げられる。 Note that in the case where the light-emitting layer 113 has a stacked structure, not only the organometallic complex described in Embodiment 1 but also a light-emitting substance that changes singlet excitation energy into light emission or a light-emitting substance that changes triplet excitation energy into light emission Etc. can be used alone or in combination. In this case, for example, the following can be cited.
一重項励起エネルギーを発光に変える発光物質としては、例えば、蛍光を発する物質(蛍光性化合物)が挙げられる。 Examples of the light-emitting substance that converts singlet excitation energy into light emission include substances that emit fluorescence (fluorescent compounds).
蛍光を発する物質としては、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAPPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,11−テトラ−tert−ブチルペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルアミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPPA)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマリン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPhA)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YGABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAPhA)、クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン、(略称:DPQd)、ルブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニルテトラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DCM1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロピル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:BisDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJTM)などが挙げられる。 As a substance that emits fluorescence, N, N′-bis [4- (9H-carbazol-9-yl) phenyl] -N, N′-diphenylstilbene-4,4′-diamine (abbreviation: YGA2S), 4- (9H-carbazol-9-yl) -4 ′-(10-phenyl-9-anthryl) triphenylamine (abbreviation: YGAPA), 4- (9H-carbazol-9-yl) -4 ′-(9,10 -Diphenyl-2-anthryl) triphenylamine (abbreviation: 2YGAPPA), N, 9-diphenyl-N- [4- (10-phenyl-9-anthryl) phenyl] -9H-carbazol-3-amine (abbreviation: PCAPA) ), Perylene, 2,5,8,11-tetra-tert-butylperylene (abbreviation: TBP), 4- (10-phenyl-9-anthryl) -4 '-(9- Enyl-9H-carbazol-3-yl) triphenylamine (abbreviation: PCBAPA), N, N ″-(2-tert-butylanthracene-9,10-diyldi-4,1-phenylene) bis [N, N ', N'-triphenyl-1,4-phenylenediamine] (abbreviation: DPABPA), N, 9-diphenyl-N- [4- (9,10-diphenyl-2-anthryl) phenyl] -9H-carbazole- 3-amine (abbreviation: 2PCAPPA), N- [4- (9,10-diphenyl-2-anthryl) phenyl] -N, N ′, N′-triphenyl-1,4-phenylenediamine (abbreviation: 2DPAPPA) , N, N, N ′, N ′, N ″, N ″, N ′ ″, N ′ ″-octaphenyldibenzo [g, p] chrysene-2,7,10,15-tetraa (Abbreviation: DBC1), coumarin 30, N- (9,10-diphenyl-2-anthryl) -N, 9-diphenyl-9H-carbazol-3-amine (abbreviation: 2PCAPA), N- [9,10- Bis (1,1′-biphenyl-2-yl) -2-anthryl] -N, 9-diphenyl-9H-carbazol-3-amine (abbreviation: 2PCABPhA), N- (9,10-diphenyl-2-anthryl) ) -N, N ′, N′-triphenyl-1,4-phenylenediamine (abbreviation: 2DPAPA), N- [9,10-bis (1,1′-biphenyl-2-yl) -2-anthryl] -N, N ', N'-triphenyl-1,4-phenylenediamine (abbreviation: 2DPABPhA), 9,10-bis (1,1'-biphenyl-2-yl) -N- [4- (9H- Carba Zol-9-yl) phenyl] -N-phenylanthracen-2-amine (abbreviation: 2YGABPhA), N, N, 9-triphenylanthracen-9-amine (abbreviation: DPhAPhA), coumarin 545T, N, N'- Diphenylquinacridone, (abbreviation: DPQd), rubrene, 5,12-bis (1,1′-biphenyl-4-yl) -6,11-diphenyltetracene (abbreviation: BPT), 2- (2- {2- [ 4- (dimethylamino) phenyl] ethenyl} -6-methyl-4H-pyran-4-ylidene) propanedinitrile (abbreviation: DCM1), 2- {2-methyl-6- [2- (2,3,6) , 7-Tetrahydro-1H, 5H-benzo [ij] quinolizin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran-4-ylidene} propanedinitrile (abbreviation: DC 2), N, N, N ′, N′-tetrakis (4-methylphenyl) tetracene-5,11-diamine (abbreviation: p-mPhTD), 7,14-diphenyl-N, N, N ′, N ′ -Tetrakis (4-methylphenyl) acenaphtho [1,2-a] fluoranthene-3,10-diamine (abbreviation: p-mPhAFD), 2- {2-isopropyl-6- [2- (1,1,7, 7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H-benzo [ij] quinolizin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran-4-ylidene} propanedinitrile (abbreviation: DCJTI), 2 -{2-tert-butyl-6- [2- (1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H-benzo [ij] quinolidin-9-yl) ethenyl ] -4H- Lan-4-ylidene} propanedinitrile (abbreviation: DCJTB), 2- (2,6-bis {2- [4- (dimethylamino) phenyl] ethenyl} -4H-pyran-4-ylidene) propanedinitrile ( Abbreviation: BisDCM), 2- {2,6-bis [2- (8-methoxy-1,1,7,7-tetramethyl-2,3,6,7-tetrahydro-1H, 5H-benzo [ij]. Quinolizin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran-4-ylidene} propanedinitrile (abbreviation: BisDCJTM), and the like.
三重項励起エネルギーを発光に変える発光物質としては、例えば、燐光を発する物質(燐光性化合物)や熱活性化遅延蛍光(TADF)を示すTADF材料(熱活性化遅延蛍光性化合物)が挙げられる。なお、TADF材料における遅延蛍光とは、通常の蛍光と同様のスペクトルを持ちながら、寿命が著しく長い発光をいう。その寿命は、10−6秒以上、好ましくは10−3秒以上である。 Examples of the light-emitting substance that changes triplet excitation energy into light emission include a substance that emits phosphorescence (phosphorescent compound) and a TADF material (thermally activated delayed fluorescent compound) that exhibits thermally activated delayed fluorescence (TADF). Note that delayed fluorescence in a TADF material refers to light emission having a remarkably long lifetime while having a spectrum similar to that of normal fluorescence. The lifetime is 10 −6 seconds or longer, preferably 10 −3 seconds or longer.
燐光を発する物質としては、ビス{2−[3’,5’−ビス(トリフルオロメチル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)ピコリナート(略称:[Ir(CF3ppy)2(pic)])、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:FIracac)、トリス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(ppy)3])、ビス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(ppy)2(acac)])、トリス(アセチルアセトナト)(モノフェナントロリン)テルビウム(III)(略称:[Tb(acac)3(Phen)])、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(bzq)2(acac)])、ビス(2,4−ジフェニル−1,3−オキサゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(dpo)2(acac)])、ビス{2−[4’−(パーフルオロフェニル)フェニル]ピリジナト−N,C2’}イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(p−PF−ph)2(acac)])、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(bt)2(acac)])、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5−α]チエニル)ピリジナト−N,C3’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(btp)2(acac)])、ビス(1−フェニルイソキノリナト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:[Ir(piq)2(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリナト]イリジウム(III)(略称:[Ir(Fdpq)2(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(3,5−ジメチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−Me)2(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(5−イソプロピル−3−メチル−2−フェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(mppr−iPr)2(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)2(acac)])、ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)(ジピバロイルメタナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppr)2(dpm)])、(アセチルアセトナト)ビス(6−tert−ブチル−4−フェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(tBuppm)2(acac)])、(アセチルアセトナト)ビス(4,6−ジフェニルピリミジナト)イリジウム(III)(略称:[Ir(dppm)2(acac)])、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタエチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)、トリス(1,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(DBM)3(Phen)])、トリス[1−(2−テノイル)−3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III)(略称:[Eu(TTA)3(Phen)])などが挙げられる。 As a substance which emits phosphorescence, bis {2- [3 ′, 5′-bis (trifluoromethyl) phenyl] pyridinato-N, C 2 ′ } iridium (III) picolinate (abbreviation: [Ir (CF 3 ppy) 2 (Pic)]), bis [2- (4 ′, 6′-difluorophenyl) pyridinato-N, C 2 ′ ] iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: FIracac), tris (2-phenylpyridinato) Iridium (III) (abbreviation: [Ir (ppy) 3 ]), bis (2-phenylpyridinato) iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [Ir (ppy) 2 (acac)]), tris (acetyl) Asetonato) (monophenanthroline) terbium (III) (abbreviation: [Tb (acac) 3 ( Phen)]), bis (benzo [h] reluctant G) iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [Ir (bzq) 2 ( acac)]), bis (2,4-diphenyl-1,3 oxazolato -N, C 2 ') iridium (III) acetylacetonate Nert (abbreviation: [Ir (dpo) 2 (acac)]), bis {2- [4 ′-(perfluorophenyl) phenyl] pyridinato-N, C 2 ′ } iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [ Ir (p-PF-ph) 2 (acac)]), bis (2-phenylbenzothiazolate-N, C2 ' ) iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [Ir (bt) 2 (acac)) ], Bis [2- (2′-benzo [4,5-α] thienyl) pyridinato-N, C 3 ′ ] iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [Ir (btp ) 2 (acac)]), bis (1-phenylisoquinolinato-N, C 2 ′ ) iridium (III) acetylacetonate (abbreviation: [Ir (piq) 2 (acac)]), (acetylacetonato) Bis [2,3-bis (4-fluorophenyl) quinoxalinato] iridium (III) (abbreviation: [Ir (Fdpq) 2 (acac)]), (acetylacetonato) bis (3,5-dimethyl-2-phenyl) Pyrazinato) iridium (III) (abbreviation: [Ir (mppr-Me) 2 (acac)]), (acetylacetonato) bis (5-isopropyl-3-methyl-2-phenylpyrazinato) iridium (III ) (Abbreviation: [Ir (mppr-iPr) 2 (acac)]), (acetylacetonato) bis (2,3,5-triphenylpyrazinato) Iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppr) 2 (acac)]), bis (2,3,5-triphenylpyrazinato) (dipivaloylmethanato) iridium (III) (abbreviation: [Ir ( tppr) 2 (dpm)]), (acetylacetonato) bis (6-tert-butyl-4-phenylpyrimidinato) iridium (III) (abbreviation: [Ir (tBupppm) 2 (acac)]), (acetyl Acetonato) bis (4,6-diphenylpyrimidinato) iridium (III) (abbreviation: [Ir (dppm) 2 (acac)]), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl -21H, 23H-porphyrin platinum (II) (abbreviation: PtOEP), tris (1,3-diphenyl-1,3-propanedionate) (monophenanthroline) Europium (III) (abbreviation: [Eu (DBM) 3 ( Phen)]), tris [1- (2-thenoyl) -3,3,3-trifluoroacetonato] (monophenanthroline) europium (III) (abbreviation : [Eu (TTA) 3 (Phen)]) and the like.
また、TADF材料としては、例えば、フラーレンやその誘導体、プロフラビン等のアクリジン誘導体、エオシン等が挙げられる。また、マグネシウム(Mg)、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd)、スズ(Sn)、白金(Pt)、インジウム(In)、もしくはパラジウム(Pd)等を含む金属含有ポルフィリンが挙げられる。該金属含有ポルフィリンとしては、例えば、プロトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF2(Proto IX))、メソポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF2(Meso IX))、ヘマトポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF2(Hemato IX))、コプロポルフィリンテトラメチルエステル−フッ化スズ錯体(SnF2(Copro III−4Me))、オクタエチルポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF2(OEP))、エチオポルフィリン−フッ化スズ錯体(SnF2(Etio I))、オクタエチルポルフィリン−塩化白金錯体(PtCl2OEP)等が挙げられる。さらに、2−ビフェニル−4,6−ビス(12−フェニルインドロ[2,3−a]カルバゾール−11−イル)−1,3,5−トリアジン(PIC−TRZ)等のπ電子過剰型複素芳香環及びπ電子不足型複素芳香環を有する複素環化合物を用いることもできる。なお、π電子過剰型複素芳香環とπ電子不足型複素芳香環とが直接結合した物質は、π電子過剰型複素芳香環のドナー性とπ電子不足型複素芳香環のアクセプター性が共に強くなり、S1とT1のエネルギー差が小さくなるため、特に好ましい。 Examples of the TADF material include fullerene and derivatives thereof, acridine derivatives such as proflavine, and eosin. In addition, metal-containing porphyrins including magnesium (Mg), zinc (Zn), cadmium (Cd), tin (Sn), platinum (Pt), indium (In), palladium (Pd), and the like can be given. Examples of the metal-containing porphyrin include a protoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Proto IX)), a mesoporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (Meso IX)), and a hematoporphyrin-tin fluoride complex (SnF). 2 (Hemato IX)), coproporphyrin tetramethyl ester-tin fluoride complex (SnF 2 (Copro III-4Me)), octaethylporphyrin-tin fluoride complex (SnF 2 (OEP)), etioporphyrin-tin fluoride And a complex (SnF 2 (Etio I)), octaethylporphyrin-platinum chloride complex (PtCl 2 OEP), and the like. Furthermore, π-electron rich complex such as 2-biphenyl-4,6-bis (12-phenylindolo [2,3-a] carbazol-11-yl) -1,3,5-triazine (PIC-TRZ) A heterocyclic compound having an aromatic ring and a π-electron deficient heteroaromatic ring can also be used. In addition, a substance in which a π-electron rich heteroaromatic ring and a π-electron deficient heteroaromatic ring are directly bonded increases both the donor property of the π-electron rich heteroaromatic ring and the acceptor property of the π-electron deficient heteroaromatic ring. , Because the energy difference between S1 and T1 is small.
電子輸送層114は、電子輸送性の高い物質(電子輸送性化合物ともいう)を含む層である。電子輸送層114には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Alq3)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(略称:BeBq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンズオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)2)、ビス[2−(2−ヒドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ)2)などの金属錯体を用いることができる。また、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−7)、3−(4’−tert−ブチルフェニル)−4−フェニル−5−(4’’−ビフェニル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、3−(4−tert−ブチルフェニル)−4−(4−エチルフェニル)−5−(4−ビフェニリル)−1,2,4−トリアゾール(略称:p−EtTAZ)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、4,4’−ビス(5−メチルベンゾオキサゾール−2−イル)スチルベン(略称:BzOs)などの複素芳香族化合物も用いることができる。また、ポリ(2,5−ピリジンジイル)(略称:PPy)、ポリ[(9,9−ジヘキシルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(ピリジン−3,5−ジイル)](略称:PF−Py)、ポリ[(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−co−(2,2’−ビピリジン−6,6’−ジイル)](略称:PF−BPy)のような高分子化合物を用いることもできる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層114として用いてもよい。 The electron-transport layer 114 is a layer that contains a substance having a high electron-transport property (also referred to as an electron-transport compound). The electron-transport layer 114 includes tris (8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Alq 3 ), tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato). Beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (4-phenylphenolato) aluminum (abbreviation: BAlq), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzoxazolate] zinc (abbreviation) : Zn (BOX) 2 ), bis [2- (2-hydroxyphenyl) benzothiazolate] zinc (abbreviation: Zn (BTZ) 2 ), and the like can be used. 2- (4-biphenylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole (abbreviation: PBD), 1,3-bis [5- (p-tert-butyl) Phenyl) -1,3,4-oxadiazol-2-yl] benzene (abbreviation: OXD-7), 3- (4′-tert-butylphenyl) -4-phenyl-5- (4 ″ -biphenyl) ) -1,2,4-triazole (abbreviation: TAZ), 3- (4-tert-butylphenyl) -4- (4-ethylphenyl) -5- (4-biphenylyl) -1,2,4-triazole (Abbreviation: p-EtTAZ), bathophenanthroline (abbreviation: BPhen), bathocuproin (abbreviation: BCP), 4,4′-bis (5-methylbenzoxazol-2-yl) stilbene (abbreviation: BzOs), etc. Aromatic aromatic compounds can also be used. In addition, poly (2,5-pyridinediyl) (abbreviation: PPy), poly [(9,9-dihexylfluorene-2,7-diyl) -co- (pyridine-3,5-diyl)] (abbreviation: PF -Py), poly [(9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -co- (2,2′-bipyridine-6,6′-diyl)] (abbreviation: PF-BPy) Molecular compounds can also be used. The substances mentioned here are mainly substances having an electron mobility of 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Note that any substance other than the above substances may be used for the electron-transport layer 114 as long as it has a property of transporting more electrons than holes.
また、電子輸送層114は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が2層以上積層された構造としてもよい。 Further, the electron-transport layer 114 is not limited to a single layer, and may have a structure in which two or more layers including the above substances are stacked.
電子注入層115は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層115には、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(CsF)、フッ化カルシウム(CaF2)、リチウム酸化物(LiOx)等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を用いることができる。また、フッ化エルビウム(ErF3)のような希土類金属化合物を用いることができる。また、電子注入層115にエレクトライドを用いてもよい。該エレクトライドとしては、例えば、カルシウムとアルミニウムの混合酸化物に電子を高濃度添加した物質等が挙げられる。なお、上述した電子輸送層114を構成する物質を用いることもできる。 The electron injection layer 115 is a layer containing a substance having a high electron injection property. The electron injection layer 115 includes an alkali metal, an alkaline earth metal such as lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium oxide (LiOx), or the like. Compounds can be used. Alternatively, a rare earth metal compound such as erbium fluoride (ErF 3 ) can be used. Further, electride may be used for the electron injection layer 115. Examples of the electride include a substance obtained by adding a high concentration of electrons to a mixed oxide of calcium and aluminum. Note that the substance forming the electron transport layer 114 described above can also be used.
また、電子注入層115に、有機化合物と電子供与体(ドナー)とを混合してなる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した電子輸送層114を構成する物質(金属錯体や複素芳香族化合物等)を用いることができる。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的には、アルカリ金属やアルカリ土類金属や希土類金属が好ましく、リチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げられる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン(略称:TTF)等の有機化合物を用いることもできる。 Alternatively, a composite material obtained by mixing an organic compound and an electron donor (donor) may be used for the electron injection layer 115. Such a composite material is excellent in electron injecting property and electron transporting property because electrons are generated in the organic compound by the electron donor. In this case, the organic compound is preferably a material excellent in transporting the generated electrons. Specifically, for example, a substance (metal complex, heteroaromatic compound, or the like) constituting the electron transport layer 114 described above is used. Can be used. The electron donor may be any substance that exhibits an electron donating property to the organic compound. Specifically, alkali metals, alkaline earth metals, and rare earth metals are preferable, and lithium, cesium, magnesium, calcium, erbium, ytterbium, and the like can be given. Alkali metal oxides and alkaline earth metal oxides are preferable, and lithium oxide, calcium oxide, barium oxide, and the like can be given. A Lewis base such as magnesium oxide can also be used. Alternatively, an organic compound such as tetrathiafulvalene (abbreviation: TTF) can be used.
なお、上述した正孔注入層111、正孔輸送層112、発光層113、電子輸送層114、電子注入層115は、それぞれ、蒸着法(真空蒸着法を含む)、印刷法(例えば、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、平版印刷法、孔版印刷法等)、インクジェット法、塗布法等の方法を単独または組み合わせて用いて形成することができる。 Note that the hole injection layer 111, the hole transport layer 112, the light emitting layer 113, the electron transport layer 114, and the electron injection layer 115 described above are formed by a vapor deposition method (including a vacuum vapor deposition method) and a printing method (for example, relief printing). For example, an intaglio printing method, a gravure printing method, a lithographic printing method, a stencil printing method, etc.), an ink jet method, a coating method, or the like.
上述した発光素子は、第1の電極101および第2の電極103との間に与えられる電位差により電流が流れ、EL層102において正孔と電子とが再結合することにより発光する。そして、この発光は、第1の電極101および第2の電極103のいずれか一方または両方を通って外部に取り出される。従って、第1の電極101および第2の電極103のいずれか一方、または両方が透光性を有する電極となる。 In the above light-emitting element, current flows due to a potential difference applied between the first electrode 101 and the second electrode 103, and light is emitted by recombination of holes and electrons in the EL layer 102. Then, the emitted light is extracted outside through one or both of the first electrode 101 and the second electrode 103. Therefore, one or both of the first electrode 101 and the second electrode 103 is a light-transmitting electrode.
以上により説明した発光素子は、有機金属錯体に基づく燐光発光が得られることから、蛍光性化合物のみを用いた発光素子に比べて、高効率な発光素子を実現することができる。 Since the light-emitting element described above can emit phosphorescence based on an organometallic complex, a highly efficient light-emitting element can be realized as compared with a light-emitting element using only a fluorescent compound.
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示す構成と適宜組み合わせて用いることができるものとする。 Note that the structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態3)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体をEL材料としてEL層に用い、電荷発生層を挟んでEL層を複数有する構造の発光素子(以下、タンデム型発光素子という)について説明する。
(Embodiment 3)
In this embodiment, a light-emitting element having a structure in which an organometallic complex which is one embodiment of the present invention is used for an EL layer as an EL material and includes a plurality of EL layers with a charge generation layer interposed therebetween (hereinafter referred to as a tandem light-emitting element) explain.
本実施の形態に示す発光素子は、図2(A)に示すように一対の電極(第1の電極201および第2の電極204)間に、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))を有するタンデム型発光素子である。 As shown in FIG. 2A, the light-emitting element described in this embodiment includes a plurality of EL layers (first EL layer 202 (first EL layer 202 (first electrode 201 and second electrode 204)). 1) a tandem light-emitting element having a second EL layer 202 (2)).
本実施の形態において、第1の電極201は、陽極として機能する電極であり、第2の電極204は陰極として機能する電極である。なお、第1の電極201および第2の電極204は、実施の形態2と同様な構成を用いることができる。また、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))は、実施の形態2で示したEL層と両方とも同様な構成であっても良いが、いずれか一方が同様の構成であっても良い。すなわち、第1のEL層202(1)と第2のEL層202(2)は、同じ構成であっても異なる構成であってもよく、その構成は実施の形態2と同様なものを適用することができる。 In this embodiment mode, the first electrode 201 is an electrode functioning as an anode, and the second electrode 204 is an electrode functioning as a cathode. Note that the first electrode 201 and the second electrode 204 can have a structure similar to that in Embodiment 2. The plurality of EL layers (the first EL layer 202 (1) and the second EL layer 202 (2)) may both have the same structure as the EL layer described in Embodiment 2. Any one of them may have the same configuration. That is, the first EL layer 202 (1) and the second EL layer 202 (2) may have the same structure or different structures, and the structure is similar to that of Embodiment Mode 2. can do.
また、複数のEL層(第1のEL層202(1)、第2のEL層202(2))の間には、電荷発生層205が設けられている。電荷発生層205は、第1の電極201と第2の電極204に電圧を印加したときに、一方のEL層に電子を注入し、他方のEL層に正孔を注入する機能を有する。本実施の形態の場合には、第1の電極201に第2の電極204よりも電位が高くなるように電圧を印加すると、電荷発生層205から第1のEL層202(1)に電子が注入され、第2のEL層202(2)に正孔が注入される。 Further, a charge generation layer 205 is provided between the plurality of EL layers (the first EL layer 202 (1) and the second EL layer 202 (2)). The charge generation layer 205 has a function of injecting electrons into one EL layer and injecting holes into the other EL layer when voltage is applied to the first electrode 201 and the second electrode 204. In this embodiment mode, when a voltage is applied to the first electrode 201 so that the potential is higher than that of the second electrode 204, electrons are transferred from the charge generation layer 205 to the first EL layer 202 (1). Then, holes are injected into the second EL layer 202 (2).
なお、電荷発生層205は、光の取り出し効率の点から、可視光に対して透光性を有する(具体的には、電荷発生層205の可視光の透過率が、40%以上)ことが好ましい。また、電荷発生層205は、第1の電極201や第2の電極204よりも低い導電率であっても機能する。 Note that the charge generation layer 205 has a property of transmitting visible light from the viewpoint of light extraction efficiency (specifically, the charge generation layer 205 has a visible light transmittance of 40% or more). preferable. In addition, the charge generation layer 205 functions even when it has lower conductivity than the first electrode 201 and the second electrode 204.
電荷発生層205は、正孔輸送性の高い有機化合物に電子受容体(アクセプター)が添加された構成であっても、電子輸送性の高い有機化合物に電子供与体(ドナー)が添加された構成であってもよい。また、これらの両方の構成が積層されていても良い。 The charge generation layer 205 has a structure in which an electron acceptor (acceptor) is added to an organic compound having a high hole-transport property, and an electron donor (donor) is added to an organic compound having a high electron-transport property. It may be. Moreover, both these structures may be laminated | stacked.
正孔輸送性の高い有機化合物に電子受容体が添加された構成とする場合において、正孔輸送性の高い有機化合物としては、例えば、NPBやTPD、TDATA、MTDATA、BSPBなどの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。 In the case where an electron acceptor is added to an organic compound having a high hole transporting property, examples of the organic compound having a high hole transporting property include aromatic amine compounds such as NPB, TPD, TDATA, MTDATA, and BSPB. Etc. can be used. The substances described here are mainly substances having a hole mobility of 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Note that other than the above substances, any organic compound that has a property of transporting more holes than electrons may be used.
また、電子受容体としては、7,7,8,8−テトラシアノ−2,3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル等を挙げることができる。また元素周期表における第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい。中でも特に、酸化モリブデンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。 Examples of the electron acceptor include 7,7,8,8-tetracyano-2,3,5,6-tetrafluoroquinodimethane (abbreviation: F 4 -TCNQ), chloranil, and the like. In addition, oxides of metals belonging to Groups 4 to 8 in the periodic table can be given. Specifically, vanadium oxide, niobium oxide, tantalum oxide, chromium oxide, molybdenum oxide, tungsten oxide, manganese oxide, and rhenium oxide are preferable because of their high electron accepting properties. Among these, molybdenum oxide is especially preferable because it is stable in the air, has a low hygroscopic property, and is easy to handle.
一方、電子輸送性の高い有機化合物に電子供与体が添加された構成とする場合において、電子輸送性の高い有機化合物としては、例えば、Alq、Almq3、BeBq2、BAlqなど、キノリン骨格またはベンゾキノリン骨格を有する金属錯体等を用いることができる。また、この他、Zn(BOX)2、Zn(BTZ)2などのオキサゾール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属錯体以外にも、PBDやOXD−7、TAZ、BPhen、BCPなども用いることができる。ここに述べた物質は、主に10−6cm2/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よりも電子の輸送性の高い有機化合物であれば、上記以外の物質を用いても構わない。 On the other hand, in the case where an electron donor is added to an organic compound having a high electron transporting property, examples of the organic compound having a high electron transporting property include Alq, Almq 3 , BeBq 2 , BAlq, and the like, a quinoline skeleton or a benzo A metal complex having a quinoline skeleton or the like can be used. In addition, a metal complex having an oxazole-based or thiazole-based ligand such as Zn (BOX) 2 or Zn (BTZ) 2 can also be used. In addition to metal complexes, PBD, OXD-7, TAZ, BPhen, BCP, and the like can also be used. The substances mentioned here are mainly substances having an electron mobility of 10 −6 cm 2 / Vs or higher. Note that other than the above substances, any organic compound that has a property of transporting more electrons than holes may be used.
また、電子供与体としては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属または希土類金属または元素周期表における第2、第13族に属する金属およびその酸化物、炭酸塩を用いることができる。具体的には、リチウム(Li)、セシウム(Cs)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、イッテルビウム(Yb)、インジウム(In)、酸化リチウム、炭酸セシウムなどを用いることが好ましい。また、テトラチアナフタセンのような有機化合物を電子供与体として用いてもよい。 As the electron donor, an alkali metal, an alkaline earth metal, a rare earth metal, a metal belonging to Groups 2 and 13 of the periodic table, or an oxide or carbonate thereof can be used. Specifically, lithium (Li), cesium (Cs), magnesium (Mg), calcium (Ca), ytterbium (Yb), indium (In), lithium oxide, cesium carbonate, or the like is preferably used. An organic compound such as tetrathianaphthacene may be used as an electron donor.
なお、上述した材料を用いて電荷発生層205を形成することにより、EL層が積層された場合における駆動電圧の上昇を抑制することができる。また、電荷発生層205の形成方法としては、蒸着法(真空蒸着法を含む)、印刷法(例えば、凸版印刷法、凹版印刷法、グラビア印刷法、平版印刷法、孔版印刷法等)、インクジェット法、塗布法等の方法を単独または組み合わせて用いて形成することができる。 Note that by forming the charge generation layer 205 using the above-described material, an increase in driving voltage in the case where an EL layer is stacked can be suppressed. The charge generation layer 205 can be formed by vapor deposition (including vacuum vapor deposition), printing (eg, relief printing, intaglio printing, gravure printing, lithographic printing, stencil printing, etc.), inkjet It can be formed by using a method such as a method or a coating method alone or in combination.
本実施の形態では、EL層を2層有する発光素子について説明したが、図2(B)に示すように、n層(ただし、nは、3以上)のEL層(202(1)〜202(n))を積層した発光素子についても、同様に適用することが可能である。本実施の形態に係る発光素子のように、一対の電極間に複数のEL層を有する場合、EL層とEL層との間にそれぞれ電荷発生層(205(1)〜205(n−1))を配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度領域での発光が可能である。電流密度を低く保てるため、長寿命素子を実現できる。 In this embodiment mode, a light-emitting element having two EL layers is described; however, as shown in FIG. 2B, an n-layer (where n is 3 or more) EL layers (202 (1) to 202). The same applies to a light emitting element in which (n)) is laminated. In the case where a plurality of EL layers are provided between a pair of electrodes as in the light-emitting element according to this embodiment, charge generation layers (205 (1) to 205 (n-1) are provided between the EL layers. ) Can emit light in a high-luminance region while keeping the current density low. Since the current density can be kept low, a long-life element can be realized.
また、それぞれのEL層の発光色を異なるものにすることで、発光素子全体として、所望の色の発光を得ることができる。例えば、2つのEL層を有する発光素子において、第1のEL層の発光色と第2のEL層の発光色を補色の関係になるようにすることで、発光素子全体として白色発光する発光素子を得ることも可能である。なお、補色とは、混合すると無彩色になる色同士の関係をいう。つまり、補色の関係にある色の光を互いに混合すると、白色発光を得ることができる。具体的には、第1のEL層から青色発光が得られ、第2のEL層から黄色発光または橙色発光が得られる組み合わせが挙げられる。この場合、青色発光と黄色発光(または橙色発光)が両方とも同じ蛍光発光、または燐光発光である必要はなく、青色発光が蛍光発光であり、黄色発光(または橙色発光)が燐光発光である組み合わせや、その逆の組み合わせとしてもよい。 Further, by making the light emission colors of the respective EL layers different, light emission of a desired color can be obtained as the whole light emitting element. For example, in a light-emitting element having two EL layers, a light-emitting element that emits white light as a whole of the light-emitting element by making the emission color of the first EL layer and the emission color of the second EL layer have a complementary relationship It is also possible to obtain The complementary color refers to a relationship between colors that become achromatic when mixed. That is, when light of complementary colors is mixed with each other, white light emission can be obtained. Specifically, a combination in which blue light emission can be obtained from the first EL layer and yellow light emission or orange light emission can be obtained from the second EL layer can be given. In this case, both blue light emission and yellow light emission (or orange light emission) need not be the same fluorescent light emission or phosphorescent light emission, and blue light emission is fluorescent light emission and yellow light emission (or orange light emission) is phosphorescence light emission. Or the reverse combination may be used.
また、3つのEL層を有する発光素子の場合でも同様であり、例えば、第1のEL層の発光色が赤色であり、第2のEL層の発光色が緑色であり、第3のEL層の発光色が青色である場合、発光素子全体としては、白色発光を得ることができる。 The same applies to a light-emitting element having three EL layers. For example, the emission color of the first EL layer is red, the emission color of the second EL layer is green, and the third EL layer. When the emission color of is blue, the entire light emitting element can emit white light.
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。 Note that the structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態4)
本実施の形態では、本発明の一態様である有機金属錯体をEL層に用いた発光素子を有する発光装置について説明する。
(Embodiment 4)
In this embodiment, a light-emitting device including a light-emitting element using the organometallic complex which is one embodiment of the present invention for an EL layer will be described.
なお、上記発光装置は、パッシブマトリクス型の発光装置でもアクティブマトリクス型の発光装置でもよい。また、本実施の形態に示す発光装置には、他の実施形態で説明した発光素子を適用することが可能である。 Note that the light-emitting device may be a passive matrix light-emitting device or an active matrix light-emitting device. The light-emitting element described in any of the other embodiments can be applied to the light-emitting device described in this embodiment.
本実施の形態では、まずアクティブマトリクス型の発光装置について図3を用いて説明する。 In this embodiment, first, an active matrix light-emitting device is described with reference to FIGS.
なお、図3(A)は発光装置を示す上面図であり、図3(B)は図3(A)を鎖線A−A’で切断した断面図である。本実施の形態に係るアクティブマトリクス型の発光装置は、素子基板301上に設けられた画素部302と、駆動回路部(ソース線駆動回路)303と、駆動回路部(ゲート線駆動回路)304(304a及び304b)と、を有する。画素部302、駆動回路部303、及び駆動回路部304は、シール材305によって、素子基板301と封止基板306との間に封止されている。 3A is a top view illustrating the light-emitting device, and FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the chain line A-A ′ in FIG. 3A. An active matrix light-emitting device according to this embodiment includes a pixel portion 302 provided over an element substrate 301, a driver circuit portion (source line driver circuit) 303, and a driver circuit portion (gate line driver circuit) 304 ( 304a and 304b). The pixel portion 302, the driver circuit portion 303, and the driver circuit portion 304 are sealed between the element substrate 301 and the sealing substrate 306 with a sealant 305.
また、素子基板301上には、駆動回路部303、及び駆動回路部304に外部からの信号(例えば、ビデオ信号、クロック信号、スタート信号、又はリセット信号等)や電位を伝達する外部入力端子を接続するための引き回し配線307が設けられる。ここでは、外部入力端子としてFPC(フレキシブルプリントサーキット)308を設ける例を示している。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものとする。 Further, on the element substrate 301, external input terminals that transmit external signals (eg, a video signal, a clock signal, a start signal, or a reset signal) and a potential to the driver circuit portion 303 and the driver circuit portion 304 are provided. A lead wiring 307 for connection is provided. In this example, an FPC (flexible printed circuit) 308 is provided as an external input terminal. Although only the FPC is shown here, a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC. The light-emitting device in this specification includes not only a light-emitting device body but also a state in which an FPC or a PWB is attached thereto.
次に、断面構造について図3(B)を用いて説明する。素子基板301上には駆動回路部及び画素部が形成されているが、ここでは、ソース線駆動回路である駆動回路部303と、画素部302が示されている。 Next, a cross-sectional structure will be described with reference to FIG. A driver circuit portion and a pixel portion are formed over the element substrate 301. Here, a driver circuit portion 303 which is a source line driver circuit and a pixel portion 302 are shown.
駆動回路部303はFET309とFET310とを組み合わせた構成について例示している。なお、駆動回路部303が有するFET309とFET310は、単極性(N型またはP型のいずれか一方のみ)のトランジスタを含む回路で形成されても良いし、N型のトランジスタとP型のトランジスタを含むCMOS回路で形成されても良い。また、本実施の形態では、基板上に駆動回路を形成したドライバー一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、基板上ではなく外部に駆動回路を形成することもできる。 The drive circuit unit 303 illustrates a configuration in which the FET 309 and the FET 310 are combined. Note that the FET 309 and the FET 310 included in the driver circuit unit 303 may be formed using a circuit including a unipolar transistor (N-type or P-type only), or an N-type transistor and a P-type transistor may be included. It may be formed of a CMOS circuit including the same. In this embodiment mode, a driver integrated type in which a driver circuit is formed over a substrate is shown; however, this is not necessarily required, and the driver circuit can be formed outside the substrate.
また、画素部302はスイッチング用FET311と、電流制御用FET312と電流制御用FET312の配線(ソース電極又はドレイン電極)に電気的に接続された第1の電極(陽極)313とを含む複数の画素により形成される。また、本実施の形態においては、画素部302はスイッチング用FET311と、電流制御用FET312との2つのFETにより画素部302を構成する例について示したが、これに限定されない。例えば、3つ以上のFETと、容量素子とを組み合わせた画素部302としてもよい。 The pixel unit 302 includes a plurality of pixels including a switching FET 311, a current control FET 312, and a first electrode (anode) 313 electrically connected to the wiring (source electrode or drain electrode) of the current control FET 312. It is formed by. In this embodiment mode, the pixel portion 302 is described as an example in which the pixel portion 302 is configured by two FETs, ie, the switching FET 311 and the current control FET 312; however, the present invention is not limited to this. For example, the pixel portion 302 may be a combination of three or more FETs and a capacitor.
FET309、310、311、312としては、例えば、スタガ型や逆スタガ型のトランジスタを適用することができる。FET309、310、311、312に用いることのできる半導体材料としては、例えば、13族(ガリウム等)半導体、14族(ケイ素等)半導体、化合物半導体、酸化物半導体、有機半導体材料を用いることができる。また、該半導体材料の結晶性については、特に限定されず、例えば、非晶質半導体膜、または結晶性半導体膜を用いることができる。特に、FET309、310、311、312としては、酸化物半導体を用いると好ましい。該酸化物半導体としては、例えば、In−Ga酸化物、In−M−Zn酸化物(Mは、Al、Ga、Y、Zr、La、Ce、またはNd)等が挙げられる。FET309、310、311、312として、例えば、エネルギーギャップが2eV以上、好ましくは2.5eV以上、さらに好ましくは3eV以上の酸化物半導体材料を用いることで、トランジスタのオフ電流を低減することができる。 As the FETs 309, 310, 311, and 312, for example, staggered or inverted staggered transistors can be applied. As a semiconductor material that can be used for the FETs 309, 310, 311, 312, for example, a group 13 (gallium etc.) semiconductor, a group 14 (silicon etc.) semiconductor, a compound semiconductor, an oxide semiconductor, an organic semiconductor material can be used. . Further, there is no particular limitation on the crystallinity of the semiconductor material, and for example, an amorphous semiconductor film or a crystalline semiconductor film can be used. In particular, an oxide semiconductor is preferably used as the FETs 309, 310, 311, and 312. Examples of the oxide semiconductor include In—Ga oxide and In—M—Zn oxide (M is Al, Ga, Y, Zr, La, Ce, or Nd). By using an oxide semiconductor material with an energy gap of 2 eV or more, preferably 2.5 eV or more, more preferably 3 eV or more as the FETs 309, 310, 311 and 312, the off-state current of the transistor can be reduced.
また、第1の電極313の端部を覆って絶縁物314が形成されている。ここでは、絶縁物314として、ポジ型の感光性アクリル樹脂を用いることにより形成する。また、本実施の形態においては、第1の電極313を陽極として用いる。 An insulator 314 is formed so as to cover an end portion of the first electrode 313. Here, the insulator 314 is formed using a positive photosensitive acrylic resin. In this embodiment, the first electrode 313 is used as an anode.
また、絶縁物314の上端部または下端部に曲率を有する曲面が形成されるようにするのが好ましい。絶縁物314の形状を上記のように形成することで、絶縁物314の上層に形成される膜の被覆性を良好なものとすることができる。例えば、絶縁物314の材料として、ネガ型の感光性樹脂、或いはポジ型の感光性樹脂のいずれかを使用することができ、有機化合物に限らず無機化合物、例えば、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、窒化シリコン等を使用することができる。 In addition, a curved surface having a curvature is preferably formed on the upper end portion or the lower end portion of the insulator 314. By forming the shape of the insulator 314 as described above, the coverage of a film formed over the insulator 314 can be improved. For example, the material of the insulator 314 can be either a negative photosensitive resin or a positive photosensitive resin, and is not limited to an organic compound, but can be an inorganic compound such as silicon oxide, silicon oxynitride, Silicon nitride or the like can be used.
発光素子317は、第1の電極(陽極)313、EL層315及び第2の電極(陰極)316との積層構造であり、EL層315は、少なくとも発光層が設けられている。また、EL層315には、発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、電荷発生層等を適宜設けることができる。 The light-emitting element 317 has a stacked structure of a first electrode (anode) 313, an EL layer 315, and a second electrode (cathode) 316, and the EL layer 315 is provided with at least a light-emitting layer. In addition to the light-emitting layer, the EL layer 315 can be provided with a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a charge generation layer, and the like as appropriate.
なお、第1の電極(陽極)313、EL層315及び第2の電極(陰極)316に用いる材料としては、実施の形態2に示す材料を用いることができる。また、ここでは図示しないが、第2の電極(陰極)316は外部入力端子であるFPC308に電気的に接続されている。 Note that as a material used for the first electrode (anode) 313, the EL layer 315, and the second electrode (cathode) 316, the material described in Embodiment 2 can be used. Although not shown here, the second electrode (cathode) 316 is electrically connected to the FPC 308 which is an external input terminal.
また、図3(B)に示す断面図では発光素子317を1つのみ図示しているが、画素部302において、複数の発光素子がマトリクス状に配置されているものとする。画素部302には、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子をそれぞれ選択的に形成し、フルカラー表示可能な発光装置を形成することができる。また、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子の他に、例えば、ホワイト(W)、イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン(C)等の発光が得られる発光素子を形成してもよい。例えば、3種類(R、G、B)の発光が得られる発光素子に上述の数種類の発光が得られる発光素子を追加することにより、色純度の向上、消費電力の低減等の効果が得ることができる。また、カラーフィルタと組み合わせることによってフルカラー表示可能な発光装置としてもよい。さらに、量子ドットとの組み合わせにより発光効率を向上させ、消費電力を低減させた発光装置としてもよい。 3B illustrates only one light-emitting element 317, it is assumed that a plurality of light-emitting elements are arranged in a matrix in the pixel portion 302. In the pixel portion 302, light emitting elements capable of emitting three types (R, G, and B) of light emission can be selectively formed, so that a light emitting device capable of full color display can be formed. In addition to the light emitting element that can obtain three types of light emission (R, G, B), for example, light emission that can emit light such as white (W), yellow (Y), magenta (M), and cyan (C). An element may be formed. For example, by adding the above-described light emitting elements capable of obtaining several types of light emission (R, G, B) to the light emitting elements capable of obtaining three types of light emission (R, G, B), effects such as improvement in color purity and reduction in power consumption can be obtained. Can do. Alternatively, a light emitting device capable of full color display may be obtained by combining with a color filter. Furthermore, it is good also as a light-emitting device which improved luminous efficiency and reduced power consumption by the combination with a quantum dot.
さらに、シール材305で封止基板306を素子基板301と貼り合わせることにより、素子基板301、封止基板306、およびシール材305で囲まれた空間318に発光素子317が備えられた構造になっている。なお、空間318には、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材305で充填される構成も含むものとする。また、シール材を塗布して貼り合わせる場合には、UV処理や熱処理等のいずれか、またはこれらを組み合わせて行うのが好ましい。 Further, the sealing substrate 306 is bonded to the element substrate 301 with the sealant 305, whereby the light-emitting element 317 is provided in the space 318 surrounded by the element substrate 301, the sealing substrate 306, and the sealant 305. ing. Note that the space 318 includes a structure filled with the sealant 305 in addition to a case where the space 318 is filled with an inert gas (nitrogen, argon, or the like). In addition, when a sealing material is applied and bonded, it is preferable to perform either UV treatment or heat treatment, or a combination thereof.
なお、シール材305にはエポキシ系樹脂やガラスフリットを用いるのが好ましい。また、これらの材料はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板306に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiber−Reinforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステルまたはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。シール材としてガラスフリットを用いる場合には、接着性の観点から素子基板301及び封止基板306はガラス基板であることが好ましい。 Note that an epoxy resin or glass frit is preferably used for the sealant 305. Moreover, it is desirable that these materials are materials that do not transmit moisture and oxygen as much as possible. In addition to a glass substrate and a quartz substrate, a plastic substrate made of FRP (Fiber-Reinforced Plastics), PVF (polyvinyl fluoride), polyester, acrylic, or the like can be used as a material for the sealing substrate 306. When glass frit is used as the sealing material, the element substrate 301 and the sealing substrate 306 are preferably glass substrates from the viewpoint of adhesiveness.
以上のようにして、アクティブマトリクス型の発光装置を得ることができる。 As described above, an active matrix light-emitting device can be obtained.
また、本発明の一態様である有機金属錯体をEL層に用いた発光素子を有する発光装置としては、上述したアクティブマトリクス型の発光装置のみならずパッシブマトリクス型の発光装置とすることもできる。 In addition, a light-emitting device including a light-emitting element using the organometallic complex which is one embodiment of the present invention for an EL layer can be a passive matrix light-emitting device as well as the above active matrix light-emitting device.
パッシブマトリクス型の発光装置の場合における画素部の断面図を図3(C)に示す。 A cross-sectional view of the pixel portion in the case of a passive matrix light-emitting device is shown in FIG.
図3(C)に示すように、基板351上には、第1の電極352と、EL層354と、第2の電極353とを有する発光素子350が形成される。なお、第1の電極352は、島状であり、一方向にストライプ状に複数形成されている。また、第1の電極352上および第1の電極352の端部を埋めるように絶縁膜355が形成されている。 As illustrated in FIG. 3C, a light-emitting element 350 including a first electrode 352, an EL layer 354, and a second electrode 353 is formed over the substrate 351. Note that the first electrode 352 has an island shape and is formed in a plurality of stripes in one direction. An insulating film 355 is formed so as to fill the first electrode 352 and the end portion of the first electrode 352.
また、絶縁膜355上には絶縁材料を用いてなる隔壁356が設けられる。隔壁356の側壁は、基板面に近くなるに伴って、一方の側壁と他方の側壁との間隔が狭くなるような傾斜を有する。つまり、隔壁356の短辺方向の断面は、台形状であり、底辺(絶縁膜355の面方向と同様の方向を向き、絶縁膜355と接する辺)の方が上辺(絶縁膜355の面方向と同様の方向を向き、絶縁膜355と接しない辺)よりも短い。このように、隔壁356を設けることで、静電気等に起因した発光素子の不良を防ぐことができる。なお、この絶縁膜355は、第1の電極352上の一部に開口部を有しており、隔壁356を形成した後、EL層354を形成することによりその開口部において、第1の電極352と接するEL層354が形成される。 Further, a partition wall 356 made of an insulating material is provided over the insulating film 355. The side wall of the partition wall 356 has an inclination such that the distance between one side wall and the other side wall becomes narrower as it approaches the substrate surface. That is, the cross section in the short side direction of the partition wall 356 has a trapezoidal shape, and the bottom side (the side facing the insulating film 355 in the same direction as the surface direction of the insulating film 355) is the upper side (the surface direction of the insulating film 355). The direction is the same as that of the insulating film 355. In this manner, by providing the partition wall 356, a defect in the light-emitting element due to static electricity or the like can be prevented. Note that the insulating film 355 has an opening in part over the first electrode 352. After the partition wall 356 is formed, the EL layer 354 is formed, whereby the first electrode is formed in the opening. An EL layer 354 in contact with 352 is formed.
さらに、EL層354形成後、第2の電極353が形成される。従って、第2の電極353は、EL層354上、場合によっては、絶縁膜355上に第1の電極352と接することなく形成される。なお、EL層354と第2の電極353は、隔壁356を形成した後に形成されるので、隔壁356上にも順次積層される。 Further, after the EL layer 354 is formed, the second electrode 353 is formed. Therefore, the second electrode 353 is formed over the EL layer 354 and, in some cases, over the insulating film 355 without being in contact with the first electrode 352. Note that since the EL layer 354 and the second electrode 353 are formed after the partition 356 is formed, the EL layer 354 and the second electrode 353 are sequentially stacked over the partition 356.
なお、封止の方法については、アクティブマトリクス型の発光装置の場合と同様に行うことができるので、説明は省略する。 Note that the sealing method can be performed in the same manner as in the case of the active matrix light-emitting device, and thus description thereof is omitted.
以上のようにして、パッシブマトリクス型の発光装置を得ることができる。 As described above, a passive matrix light-emitting device can be obtained.
例えば、本明細書等において、様々な基板を用いて、トランジスタまたは発光素子を形成することが出来る。基板の種類は、特定のものに限定されることはない。その基板の一例としては、半導体基板(例えば単結晶基板又はシリコン基板)、SOI基板、ガラス基板、石英基板、プラスチック基板、金属基板、ステンレス・スチル基板、ステンレス・スチル・ホイルを有する基板、タングステン基板、タングステン・ホイルを有する基板、可撓性基板、貼り合わせフィルム、繊維状の材料を含む紙、又は基材フィルムなどがある。ガラス基板の一例としては、バリウムホウケイ酸ガラス、アルミノホウケイ酸ガラス、又はソーダライムガラスなどがある。可撓性基板、貼り合わせフィルム、基材フィルムなどの一例としては、以下のものがあげられる。例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるプラスチックがある。または、一例としては、アクリル等の合成樹脂などがある。または、一例としては、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、又はポリ塩化ビニルなどがある。または、一例としては、ポリアミド、ポリイミド、アラミド、エポキシ、無機蒸着フィルム、又は紙類などがある。特に、半導体基板、単結晶基板、又はSOI基板などを用いてトランジスタを製造することによって、特性、サイズ、又は形状などのばらつきが少なく、電流能力が高く、サイズの小さいトランジスタを製造することができる。このようなトランジスタによって回路を構成すると、回路の低消費電力化、又は回路の高集積化を図ることができる。 For example, in this specification and the like, a transistor or a light-emitting element can be formed using various substrates. The kind of board | substrate is not limited to a specific thing. Examples of the substrate include a semiconductor substrate (for example, a single crystal substrate or a silicon substrate), an SOI substrate, a glass substrate, a quartz substrate, a plastic substrate, a metal substrate, a stainless steel substrate, a substrate having stainless steel foil, and a tungsten substrate. , A substrate having a tungsten foil, a flexible substrate, a laminated film, a paper containing a fibrous material, or a base film. Examples of the glass substrate include barium borosilicate glass, aluminoborosilicate glass, and soda lime glass. Examples of the flexible substrate, the laminated film, and the base film include the following. For example, there are plastics represented by polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), and polytetrafluoroethylene (PTFE). Another example is a synthetic resin such as acrylic. Alternatively, examples include polypropylene, polyester, polyvinyl fluoride, and polyvinyl chloride. As an example, there are polyamide, polyimide, aramid, epoxy, an inorganic vapor deposition film, papers, and the like. In particular, by manufacturing a transistor using a semiconductor substrate, a single crystal substrate, an SOI substrate, or the like, a transistor with small variation in characteristics, size, or shape, high current capability, and small size can be manufactured. . When a circuit is formed using such transistors, the power consumption of the circuit can be reduced or the circuit can be highly integrated.
また、基板として、可撓性基板を用い、可撓性基板上に直接、トランジスタまたは発光素子を形成してもよい。または、基板とトランジスタまたは発光素子との間に剥離層を設けてもよい。剥離層は、その上に半導体装置を一部あるいは全部完成させた後、基板より分離し、他の基板に転載するために用いることができる。その際、トランジスタまたは発光素子は耐熱性の劣る基板や可撓性の基板にも転載できる。なお、上述の剥離層には、例えば、タングステン膜と酸化シリコン膜との無機膜の積層構造の構成や、基板上にポリイミド等の有機樹脂膜が形成された構成等を用いることができる。 Alternatively, a flexible substrate may be used as a substrate, and a transistor or a light-emitting element may be formed directly over the flexible substrate. Alternatively, a separation layer may be provided between the substrate and the transistor or the light-emitting element. The separation layer can be used to separate a semiconductor device from another substrate and transfer it to another substrate after a semiconductor device is partially or entirely completed thereon. At that time, the transistor or the light-emitting element can be transferred to a substrate having poor heat resistance or a flexible substrate. Note that, for example, a structure of a laminated structure of an inorganic film of a tungsten film and a silicon oxide film or a structure in which an organic resin film such as polyimide is formed over a substrate can be used for the above-described release layer.
つまり、ある基板を用いてトランジスタまたは発光素子を形成し、その後、別の基板にトランジスタまたは発光素子を転置し、別の基板上にトランジスタまたは発光素子を配置してもよい。トランジスタまたは発光素子が転置される基板の一例としては、上述したトランジスタまたは発光素子を形成することが可能な基板に加え、紙基板、セロファン基板、アラミドフィルム基板、ポリイミドフィルム基板、石材基板、木材基板、布基板(天然繊維(絹、綿、麻)、合成繊維(ナイロン、ポリウレタン、ポリエステル)若しくは再生繊維(アセテート、キュプラ、レーヨン、再生ポリエステル)などを含む)、皮革基板、又はゴム基板などがある。これらの基板を用いることにより、特性のよいトランジスタの形成、消費電力の小さいトランジスタの形成、壊れにくい装置の製造、耐熱性の付与、軽量化、又は薄型化を図ることができる。 That is, a transistor or a light-emitting element may be formed using a certain substrate, and then the transistor or the light-emitting element may be transferred to another substrate, and the transistor or the light-emitting element may be provided over another substrate. Examples of a substrate on which a transistor or a light emitting element is transferred include a paper substrate, a cellophane substrate, an aramid film substrate, a polyimide film substrate, a stone substrate, and a wood substrate in addition to the above-described substrate on which the transistor or the light emitting element can be formed. , Cloth substrates (including natural fibers (silk, cotton, hemp), synthetic fibers (nylon, polyurethane, polyester) or recycled fibers (including acetate, cupra, rayon, recycled polyester), leather substrates, rubber substrates, etc.) . By using these substrates, it is possible to form a transistor with good characteristics, a transistor with low power consumption, manufacture a device that is not easily broken, impart heat resistance, reduce weight, or reduce thickness.
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成を適宜組み合わせて用いることができる。 Note that the structure described in this embodiment can be combined with any of the structures described in other embodiments as appropriate.
(実施の形態5)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光装置を適用して完成させた様々な電子機器の一例について、図4を用いて説明する。
(Embodiment 5)
In this embodiment, examples of various electronic devices completed by applying the light-emitting device which is one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
発光装置を適用した電子機器として、例えば、テレビジョン装置(テレビ、又はテレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともいう)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機などが挙げられる。これらの電子機器の具体例を図4に示す。 As electronic devices to which the light-emitting device is applied, for example, a television set (also referred to as a television or a television receiver), a monitor for a computer, a digital camera, a digital video camera, a digital photo frame, a mobile phone (a mobile phone, a mobile phone) Also referred to as a telephone device), portable game machines, portable information terminals, sound reproduction devices, large game machines such as pachinko machines, and the like. Specific examples of these electronic devices are shown in FIGS.
図4(A)は、テレビジョン装置の一例を示している。テレビジョン装置7100は、筐体7101に表示部7103が組み込まれている。表示部7103により、映像を表示することが可能であり、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。なお、本発明の一態様である発光装置を表示部7103に用いることができる。また、ここでは、スタンド7105により筐体7101を支持した構成を示している。 FIG. 4A illustrates an example of a television device. In the television device 7100, a display portion 7103 is incorporated in a housing 7101. The display unit 7103 can display an image, and may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device). Note that the light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display portion 7103. Here, a structure in which the housing 7101 is supported by a stand 7105 is shown.
テレビジョン装置7100の操作は、筐体7101が備える操作スイッチや、別体のリモコン操作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー7109により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示される映像を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機7110から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。 The television device 7100 can be operated with an operation switch included in the housing 7101 or a separate remote controller 7110. Channels and volume can be operated with an operation key 7109 provided in the remote controller 7110, and an image displayed on the display portion 7103 can be operated. The remote controller 7110 may be provided with a display portion 7107 for displaying information output from the remote controller 7110.
なお、テレビジョン装置7100は、受信機やモデムなどを備えた構成とする。受信機により一般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線又は無線による通信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)又は双方向(送信者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。 Note that the television device 7100 is provided with a receiver, a modem, and the like. General TV broadcasts can be received by a receiver, and connected to a wired or wireless communication network via a modem, so that it can be unidirectional (sender to receiver) or bidirectional (sender and receiver). It is also possible to perform information communication between each other or between recipients).
図4(B)はコンピュータであり、本体7201、筐体7202、表示部7203、キーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む。なお、コンピュータは、本発明の一態様である発光装置をその表示部7203に用いることにより作製することができる。また、表示部7203は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。 FIG. 4B illustrates a computer, which includes a main body 7201, a housing 7202, a display portion 7203, a keyboard 7204, an external connection port 7205, a pointing device 7206, and the like. Note that the computer can be manufactured using the light-emitting device which is one embodiment of the present invention for the display portion 7203. The display unit 7203 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
図4(C)は、スマートウオッチであり、筐体7302、表示部7304、操作ボタン7311、7312、接続端子7313、バンド7321、留め金7322、等を有する。 FIG. 4C illustrates a smart watch, which includes a housing 7302, a display portion 7304, operation buttons 7311 and 7312, a connection terminal 7313, a band 7321, a clasp 7322, and the like.
ベゼル部分を兼ねる筐体7302に搭載された表示部7304は、非矩形状の表示領域を有している。表示部7304は、時刻を表すアイコン7305、その他のアイコン7306等を表示することができる。また、表示部7304は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。 A display portion 7304 mounted on a housing 7302 serving also as a bezel portion has a non-rectangular display region. The display portion 7304 can display an icon 7305 representing time, other icons 7306, and the like. The display unit 7304 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device).
なお、図4(C)に示すスマートウオッチは、様々な機能を有することができる。例えば、様々な情報(静止画、動画、テキスト画像など)を表示部に表示する機能、タッチパネル機能、カレンダー、日付又は時刻などを表示する機能、様々なソフトウェア(プログラム)によって処理を制御する機能、無線通信機能、無線通信機能を用いて様々なコンピュータネットワークに接続する機能、無線通信機能を用いて様々なデータの送信又は受信を行う機能、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出して表示部に表示する機能、等を有することができる。 Note that the smart watch illustrated in FIG. 4C can have a variety of functions. For example, a function for displaying various information (still images, moving images, text images, etc.) on the display unit, a touch panel function, a function for displaying a calendar, date or time, a function for controlling processing by various software (programs), Wireless communication function, function for connecting to various computer networks using the wireless communication function, function for transmitting or receiving various data using the wireless communication function, and reading and displaying programs or data recorded on the recording medium It can have a function of displaying on the section.
また、筐体7302の内部に、スピーカ、センサ(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン等を有することができる。なお、スマートウオッチは、発光装置をその表示部7304に用いることにより作製することができる。 In addition, a speaker, a sensor (force, displacement, position, velocity, acceleration, angular velocity, rotation speed, distance, light, liquid, magnetism, temperature, chemical substance, sound, time, hardness, electric field, current are included in the housing 7302. , Voltage, power, radiation, flow rate, humidity, gradient, vibration, odor or infrared measurement function), microphone, and the like. Note that the smart watch can be manufactured using the light-emitting device for the display portion 7304.
図4(D)は、携帯電話機(スマートフォンを含む)の一例を示している。携帯電話機7400は、筐体7401に、表示部7402、マイク7406、スピーカ7405、カメラ7407、外部接続部7404、操作用ボタン7403などを備えている。また、本発明の一態様に係る発光素子を、可撓性を有する基板に形成して発光装置を作製した場合、図4(D)に示すような曲面を有する表示部7402に適用することが可能である。 FIG. 4D illustrates an example of a mobile phone (including a smartphone). A cellular phone 7400 is provided with a display portion 7402, a microphone 7406, a speaker 7405, a camera 7407, an external connection portion 7404, an operation button 7403, and the like in a housing 7401. In the case where a light-emitting element is manufactured by forming the light-emitting element according to one embodiment of the present invention over a flexible substrate, the light-emitting element can be applied to the display portion 7402 having a curved surface as illustrated in FIG. Is possible.
図4(D)に示す携帯電話機7400は、表示部7402を指などで触れることで、情報を入力することができる。また、電話を掛ける、或いはメールを作成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。 Information can be input to the cellular phone 7400 illustrated in FIG. 4D by touching the display portion 7402 with a finger or the like. In addition, operations such as making a call or creating a mail can be performed by touching the display portion 7402 with a finger or the like.
表示部7402の画面は主として3つのモードがある。第1は、画像の表示を主とする表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。 There are mainly three screen modes of the display portion 7402. The first mode is a display mode mainly for displaying an image. The first is a display mode mainly for displaying images, and the second is an input mode mainly for inputting information such as characters. The third is a display + input mode in which the display mode and the input mode are mixed.
例えば、電話を掛ける、或いはメールを作成する場合は、表示部7402を文字の入力を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場合、表示部7402の画面のほとんどにキーボード又は番号ボタンを表示させることが好ましい。 For example, when making a call or creating a mail, the display portion 7402 may be set to a character input mode mainly for inputting characters, and an operation for inputting characters displayed on the screen may be performed. In this case, it is preferable to display a keyboard or number buttons on most of the screen of the display portion 7402.
また、携帯電話機7400内部に、ジャイロセンサや加速度センサ等の検出装置を設けることで、携帯電話機7400の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。 In addition, by providing a detection device such as a gyro sensor or an acceleration sensor inside the mobile phone 7400, the orientation (portrait or horizontal) of the mobile phone 7400 is determined, and the screen display of the display portion 7402 is automatically switched. Can be.
また、画面モードの切り替えは、表示部7402を触れること、又は筐体7401の操作用ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。 The screen mode is switched by touching the display portion 7402 or operating the operation button 7403 of the housing 7401. Further, switching can be performed depending on the type of image displayed on the display portion 7402. For example, if the image signal to be displayed on the display unit is moving image data, the display mode is switched, and if the image signal is text data, the mode is switched to the input mode.
また、入力モードにおいて、表示部7402の光センサで検出される信号を検知し、表示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モードから表示モードに切り替えるように制御してもよい。 Further, in the input mode, when a signal detected by the optical sensor of the display unit 7402 is detected and there is no input by a touch operation of the display unit 7402 for a certain period, the screen mode is switched from the input mode to the display mode. You may control.
表示部7402は、イメージセンサとして機能させることもできる。例えば、表示部7402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。また、表示部に近赤外光を発光するバックライト又は近赤外光を発光するセンシング用光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。 The display portion 7402 can function as an image sensor. For example, personal authentication can be performed by touching the display portion 7402 with a palm or a finger and capturing an image of a palm print, a fingerprint, or the like. In addition, if a backlight that emits near-infrared light or a sensing light source that emits near-infrared light is used for the display portion, finger veins, palm veins, and the like can be imaged.
さらに、携帯電話機(スマートフォンを含む)の別の構成として、図4(D’−1)や図4(D’−2)のような構造を有する携帯電話機に適用することもできる。 Furthermore, as another configuration of the cellular phone (including a smartphone), the present invention can be applied to a cellular phone having a structure as illustrated in FIG. 4 (D′-1) or FIG. 4 (D′-2).
なお、図4(D’−1)や図4(D’−2)のような構造を有する場合には、文字情報や画像情報などを筐体7500(1)、7500(2)の第1面7501(1)、7501(2)だけでなく、第2面7502(1)、7502(2)に表示させることができる。このような構造を有することにより、携帯電話機を胸ポケットに収納したままの状態で、第2面7502(1)、7502(2)などに表示された文字情報や画像情報などを使用者が容易に確認することができる。 Note that in the case of the structure shown in FIG. 4D′-1 or FIG. 4D′-2, character information, image information, or the like is sent to the first of the housings 7500 (1) and 7500 (2). In addition to the surfaces 7501 (1) and 7501 (2), the images can be displayed on the second surfaces 7502 (1) and 7502 (2). By having such a structure, the user can easily use the character information and image information displayed on the second surface 7502 (1), 7502 (2), etc. while the mobile phone is stored in the breast pocket. Can be confirmed.
また、図5(A)〜(C)に、折りたたみ可能な携帯情報端末9310を示す。図5(A)に展開した状態の携帯情報端末9310を示す。図5(B)に展開した状態又は折りたたんだ状態の一方から他方に変化する途中の状態の携帯情報端末9310を示す。図5(C)に折りたたんだ状態の携帯情報端末9310を示す。携帯情報端末9310は、折りたたんだ状態では可搬性に優れ、展開した状態では、継ぎ目のない広い表示領域により表示の一覧性に優れる。 5A to 5C show a foldable portable information terminal 9310. FIG. FIG. 5A illustrates the portable information terminal 9310 in a developed state. FIG. 5B illustrates the portable information terminal 9310 in a state in which the expanded state or the folded state is changed from one to the other. FIG. 5C illustrates the portable information terminal 9310 in a folded state. The portable information terminal 9310 is excellent in portability in the folded state and excellent in display listability due to a seamless wide display area in the expanded state.
表示部9311はヒンジ9313によって連結された3つの筐体9315に支持されている。なお、表示部9311は、タッチセンサ(入力装置)を搭載したタッチパネル(入出力装置)であってもよい。また、表示部9311は、ヒンジ9313を介して2つの筐体9315間を屈曲させることにより、携帯情報端末9310を展開した状態から折りたたんだ状態に可逆的に変形させることができる。本発明の一態様の発光装置を表示部9311に用いることができる。表示部9311における表示領域9312は折りたたんだ状態の携帯情報端末9310の側面に位置する表示領域である。表示領域9312には、情報アイコンや使用頻度の高いアプリやプログラムのショートカットなどを表示させることができ、情報の確認やアプリなどの起動をスムーズに行うことができる。 The display portion 9311 is supported by three housings 9315 connected by a hinge 9313. Note that the display unit 9311 may be a touch panel (input / output device) equipped with a touch sensor (input device). In addition, the display portion 9311 can be reversibly deformed from the expanded state to the folded state by bending the two housings 9315 via the hinge 9313. The light-emitting device of one embodiment of the present invention can be used for the display portion 9311. A display region 9312 in the display portion 9311 is a display region located on a side surface of the portable information terminal 9310 in a folded state. In the display area 9312, information icons, frequently used applications, program shortcuts, and the like can be displayed, so that information can be confirmed and applications can be activated smoothly.
以上のようにして、本発明の一態様である発光装置を適用して電子機器を得ることができる。なお、適用できる電子機器は、本実施の形態に示したものに限らず、あらゆる分野の電子機器に適用することが可能である。 As described above, an electronic device can be obtained by using the light-emitting device which is one embodiment of the present invention. Note that applicable electronic devices are not limited to those described in this embodiment, and can be applied to electronic devices in various fields.
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。 Note that the structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態6)
本実施の形態では、本発明の一態様である発光素子を適用して作製される照明装置の構成について図6を用いて説明する。
(Embodiment 6)
In this embodiment, a structure of a lighting device manufactured using the light-emitting element which is one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図6(A)、(B)、(C)、(D)、(E)には、照明装置の断面図の一例を示す。なお、図6(A)、(B)は基板側に光を取り出すボトムエミッション型の照明装置であり、図6(C)、(D)は、封止基板側に光を取り出すトップエミッション型の照明装置である。 FIGS. 6A, 6B, 6C, 6D, and 6E each show an example of a cross-sectional view of a lighting device. 6A and 6B are bottom emission type lighting devices that extract light to the substrate side, and FIGS. 6C and 6D are top emission type lighting devices that extract light to the sealing substrate side. It is a lighting device.
図6(A)に示す照明装置4000は、基板4001上に発光素子4002を有する。また、基板4001の外側に凹凸を有する基板4003を有する。発光素子4002は、第1の電極4004と、EL層4005と、第2の電極4006を有する。 A lighting device 4000 illustrated in FIG. 6A includes a light-emitting element 4002 over a substrate 4001. In addition, a substrate 4003 having unevenness is provided outside the substrate 4001. The light-emitting element 4002 includes a first electrode 4004, an EL layer 4005, and a second electrode 4006.
第1の電極4004は、電極4007と電気的に接続され、第2の電極4006は電極4008と電気的に接続される。また、第1の電極4004と電気的に接続される補助配線4009を設けてもよい。なお、補助配線4009上には、絶縁層4010が形成されている。 The first electrode 4004 is electrically connected to the electrode 4007, and the second electrode 4006 is electrically connected to the electrode 4008. Further, an auxiliary wiring 4009 that is electrically connected to the first electrode 4004 may be provided. Note that an insulating layer 4010 is formed over the auxiliary wiring 4009.
また、基板4001と封止基板4011は、シール材4012で接着されている。また、封止基板4011と発光素子4002の間には、乾燥剤4013が設けられていることが好ましい。なお、基板4003は、図6(A)のような凹凸を有するため、発光素子4002で生じた光の取り出し効率を向上させることができる。 In addition, the substrate 4001 and the sealing substrate 4011 are bonded with a sealant 4012. In addition, a desiccant 4013 is preferably provided between the sealing substrate 4011 and the light-emitting element 4002. Note that the substrate 4003 has unevenness as shown in FIG. 6A; thus, extraction efficiency of light generated in the light-emitting element 4002 can be improved.
また、基板4003に代えて、図6(B)の照明装置4100のように、基板4001の外側に拡散板4015を設けてもよい。 Further, instead of the substrate 4003, a diffusion plate 4015 may be provided outside the substrate 4001 as in the lighting device 4100 in FIG.
図6(C)の照明装置4200は、基板4201上に発光素子4202を有する。発光素子4202は第1の電極4204と、EL層4205と、第2の電極4206とを有する。 A lighting device 4200 in FIG. 6C includes a light-emitting element 4202 over a substrate 4201. The light-emitting element 4202 includes a first electrode 4204, an EL layer 4205, and a second electrode 4206.
第1の電極4204は、電極4207と電気的に接続され、第2の電極4206は電極4208と電気的に接続される。また第2の電極4206と電気的に接続される補助配線4209を設けてもよい。また、補助配線4209の下部に、絶縁層4210を設けてもよい。 The first electrode 4204 is electrically connected to the electrode 4207, and the second electrode 4206 is electrically connected to the electrode 4208. Further, an auxiliary wiring 4209 that is electrically connected to the second electrode 4206 may be provided. Further, an insulating layer 4210 may be provided below the auxiliary wiring 4209.
基板4201と凹凸のある封止基板4211は、シール材4212で接着されている。また、封止基板4211と発光素子4202の間にバリア膜4213および平坦化膜4214を設けてもよい。なお、封止基板4211は、図6(C)のような凹凸を有するため、発光素子4202で生じた光の取り出し効率を向上させることができる。 The substrate 4201 and the uneven sealing substrate 4211 are bonded with a sealant 4212. Further, a barrier film 4213 and a planarization film 4214 may be provided between the sealing substrate 4211 and the light-emitting element 4202. Note that the sealing substrate 4211 has unevenness as illustrated in FIG. 6C, so that extraction efficiency of light generated in the light-emitting element 4202 can be improved.
また、封止基板4211に代えて、図6(D)の照明装置4300のように、発光素子4202の上に拡散板4215を設けてもよい。 Further, instead of the sealing substrate 4211, a diffusion plate 4215 may be provided over the light-emitting element 4202 as in the lighting device 4300 in FIG.
なお、本実施の形態で示すEL層4005、4205に、本発明の一態様である有機金属錯体を適用することができる。この場合、消費電力の低い照明装置を提供することができる。 Note that the organometallic complex which is one embodiment of the present invention can be applied to the EL layers 4005 and 4205 described in this embodiment. In this case, a lighting device with low power consumption can be provided.
なお、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。 Note that the structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態7)
本実施の形態では、実施の形態4で説明した発光装置を適用した応用品である照明装置の一例について、図7を用いて説明する。
(Embodiment 7)
In this embodiment, an example of a lighting device to which the light-emitting device described in Embodiment 4 is applied is described with reference to FIGS.
図7は、発光装置を室内の照明装置8001として用いた例である。なお、発光装置は大面積化も可能であるため、大面積の照明装置を形成することもできる。その他、曲面を有する筐体を用いることで、発光領域が曲面を有する照明装置8002を形成することもできる。本実施の形態で示す発光装置に含まれる発光素子は薄膜状であり、筐体のデザインの自由度が高い。したがって、様々な意匠を凝らした照明装置を形成することができる。さらに、室内の壁面に大型の照明装置8003を備えても良い。 FIG. 7 illustrates an example in which the light-emitting device is used as an indoor lighting device 8001. Note that since the light-emitting device can have a large area, a large-area lighting device can also be formed. In addition, by using a housing having a curved surface, the lighting device 8002 in which the light emitting region has a curved surface can be formed. A light-emitting element included in the light-emitting device described in this embodiment has a thin film shape, and the degree of freedom in designing a housing is high. Therefore, it is possible to form a lighting device with various designs. Further, a large lighting device 8003 may be provided on the wall surface of the room.
また、発光装置をテーブルの表面に用いることによりテーブルとしての機能を備えた照明装置8004とすることができる。なお、その他の家具の一部に発光装置を用いることにより、家具としての機能を備えた照明装置とすることができる。 Further, by using the light-emitting device on the surface of the table, the lighting device 8004 having a function as a table can be obtained. Note that a lighting device having a function as furniture can be obtained by using a light-emitting device for part of other furniture.
以上のように、発光装置を適用した様々な照明装置が得られる。なお、これらの照明装置は本発明の一態様に含まれるものとする。 As described above, various lighting devices to which the light-emitting device is applied can be obtained. Note that these lighting devices are included in one embodiment of the present invention.
また、本実施の形態に示す構成は、他の実施の形態に示した構成と適宜組み合わせて用いることができる。 The structure described in this embodiment can be combined as appropriate with any of the structures described in the other embodiments.
(実施の形態8)
本実施の形態においては、本発明の一態様の発光素子または本発明の一態様の発光装置を有するタッチパネルについて、図8〜図12を用いて説明を行う。
(Embodiment 8)
In this embodiment, a touch panel including the light-emitting element of one embodiment of the present invention or the light-emitting device of one embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
図8(A)(B)は、タッチパネル2000の斜視図である。なお、図8(A)(B)において、明瞭化のため、タッチパネル2000の代表的な構成要素を示す。 8A and 8B are perspective views of the touch panel 2000. FIG. 8A and 8B, typical components of the touch panel 2000 are shown for clarity.
タッチパネル2000は、表示部2501とタッチセンサ2595とを有する(図8(B)参照)。また、タッチパネル2000は、基板2510、基板2570、及び基板2590を有する。なお、基板2510、基板2570、及び基板2590はいずれも可撓性を有する。 The touch panel 2000 includes a display portion 2501 and a touch sensor 2595 (see FIG. 8B). The touch panel 2000 includes a substrate 2510, a substrate 2570, and a substrate 2590. Note that the substrate 2510, the substrate 2570, and the substrate 2590 are all flexible.
表示部2501は、基板2510上に複数の画素及び該画素に信号を供給することができる複数の配線2511を有する。複数の配線2511は、基板2510の外周部にまで引き回され、その一部が端子2519を構成している。端子2519はFPC2509(1)と電気的に接続する。 The display portion 2501 includes a plurality of pixels and a plurality of wirings 2511 that can supply signals to the pixels over the substrate 2510. The plurality of wirings 2511 are routed to the outer periphery of the substrate 2510, and a part of them constitutes a terminal 2519. A terminal 2519 is electrically connected to the FPC 2509 (1).
基板2590には、タッチセンサ2595と、タッチセンサ2595と電気的に接続する複数の配線2598とを有する。複数の配線2598は、基板2590の外周部に引き回され、その一部は端子2599を構成する。そして、端子2599はFPC2509(2)と電気的に接続される。なお、図8(B)では明瞭化のため、基板2590の裏面側(基板2590と対向する面側)に設けられるタッチセンサ2595の電極や配線等を実線で示している。 The substrate 2590 includes a touch sensor 2595 and a plurality of wirings 2598 electrically connected to the touch sensor 2595. The plurality of wirings 2598 are routed around the outer periphery of the substrate 2590, and part of them constitutes a terminal 2599. The terminal 2599 is electrically connected to the FPC 2509 (2). Note that in FIG. 8B, for clarity, electrodes, wirings, and the like of the touch sensor 2595 provided on the back surface side of the substrate 2590 (the surface side facing the substrate 2590) are shown by solid lines.
タッチセンサ2595として、例えば静電容量方式のタッチセンサを適用できる。静電容量方式としては、表面型静電容量方式、投影型静電容量方式等がある。 As the touch sensor 2595, for example, a capacitive touch sensor can be used. Examples of the electrostatic capacity method include a surface electrostatic capacity method and a projection electrostatic capacity method.
投影型静電容量方式としては、主に駆動方式の違いから自己容量方式、相互容量方式などがある。相互容量方式を用いると同時多点検出が可能となるため好ましい。 As the projected capacitance method, there are mainly a self-capacitance method and a mutual capacitance method due to a difference in driving method. The mutual capacitance method is preferable because simultaneous multipoint detection is possible.
まず、投影型静電容量方式のタッチセンサを適用する場合について、図8(B)を用いて説明する。なお、投影型静電容量方式の場合には、指等の検知対象の近接または接触を検知することができる、様々なセンサを適用することができる。 First, the case of using a projected capacitive touch sensor will be described with reference to FIG. Note that in the case of the projected capacitance method, various sensors that can detect the proximity or contact of a detection target such as a finger can be applied.
投影型静電容量方式のタッチセンサ2595は、電極2591と電極2592とを有する。電極2591と電極2592は、複数の配線2598のうちのそれぞれ異なる配線と電気的に接続する。また、電極2592は、図8(A)(B)に示すように、一方向に繰り返し配置された複数の四辺形が角部で配線2594により、一方向に接続される形状を有する。電極2591も同様に複数の四辺形が角部で接続される形状を有するが、接続される方向は、電極2592が接続される方向と交差する方向となる。なお、電極2591が接続される方向と、電極2592が接続される方向とは、必ずしも直交する関係にある必要はなく、0度を超えて90度未満の角度をなすように配置されてもよい。 The projected capacitive touch sensor 2595 includes an electrode 2591 and an electrode 2592. The electrode 2591 and the electrode 2592 are electrically connected to different wirings of the plurality of wirings 2598. 8A and 8B, the electrode 2592 has a shape in which a plurality of quadrilaterals repeatedly arranged in one direction are connected in one direction by wiring 2594 at corners. Similarly, the electrode 2591 has a shape in which a plurality of quadrilaterals are connected at corners, but the connection direction is a direction that intersects the direction in which the electrode 2592 is connected. Note that the direction in which the electrode 2591 is connected and the direction in which the electrode 2592 is connected do not necessarily have to be orthogonal to each other, and may be arranged to form an angle greater than 0 degree and less than 90 degrees. .
なお、配線2594の電極2592との交差部の面積は、できるだけ小さくなる形状が好ましい。これにより、電極が設けられていない領域の面積を低減でき、透過率のバラツキを低減できる。その結果、タッチセンサ2595を透過する光の輝度のバラツキを低減することができる。 Note that a shape where the area of the intersection of the wiring 2594 and the electrode 2592 is as small as possible is preferable. Thereby, the area of the area | region in which the electrode is not provided can be reduced, and the dispersion | variation in the transmittance | permeability can be reduced. As a result, variation in luminance of light transmitted through the touch sensor 2595 can be reduced.
なお、電極2591及び電極2592の形状はこれに限定されず、様々な形状を取りうる。例えば、複数の電極2591をできるだけ隙間が生じないように配置し、絶縁層を介して電極2592を複数設ける構成としてもよい。このとき、隣接する2つの電極2592の間に、これらとは電気的に絶縁されたダミー電極を設けると、透過率の異なる領域の面積を低減できるため好ましい。 Note that the shapes of the electrode 2591 and the electrode 2592 are not limited thereto, and various shapes can be employed. For example, a plurality of electrodes 2591 may be arranged so as not to generate a gap as much as possible, and a plurality of electrodes 2592 may be provided with an insulating layer interposed therebetween. At this time, it is preferable to provide a dummy electrode electrically insulated from two adjacent electrodes 2592 because the area of regions having different transmittances can be reduced.
次に、図9を用いて、タッチパネル2000の詳細について説明する。図9は、図8(A)に示す一点鎖線X1−X2間の断面図に相当する。 Next, details of the touch panel 2000 will be described with reference to FIG. FIG. 9 corresponds to a cross-sectional view taken along alternate long and short dash line X1-X2 in FIG.
タッチセンサ2595は、基板2590上に千鳥格子状に配置された電極2591及び電極2592と、電極2591及び電極2592を覆う絶縁層2593と、隣り合う電極2591を電気的に接続する配線2594とを有する。 The touch sensor 2595 includes an electrode 2591 and an electrode 2592 arranged in a staggered pattern on the substrate 2590, an insulating layer 2593 covering the electrode 2591 and the electrode 2592, and a wiring 2594 that electrically connects the adjacent electrodes 2591. Have.
また、配線2594の下方には、接着層2597が設けられる。接着層2597は、タッチセンサ2595が表示部2501に重なるように、基板2590を基板2570に貼り合わせている。 Further, an adhesive layer 2597 is provided below the wiring 2594. The adhesive layer 2597 attaches the substrate 2590 to the substrate 2570 so that the touch sensor 2595 overlaps the display portion 2501.
電極2591及び電極2592は、透光性を有する導電材料を用いて形成する。透光性を有する導電性材料としては、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。なお、グラフェンを含む膜を用いることもできる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法等を挙げることができる。 The electrodes 2591 and 2592 are formed using a light-transmitting conductive material. As the light-transmitting conductive material, a conductive oxide such as indium oxide, indium tin oxide, indium zinc oxide, zinc oxide, or zinc oxide to which gallium is added can be used. Note that a film containing graphene can also be used. The film containing graphene can be formed, for example, by reducing a film containing graphene oxide formed in a film shape. Examples of the reduction method include a method of applying heat.
例えば、透光性を有する導電性材料を基板2590上にスパッタリング法により成膜した後、フォトリソグラフィ法等の様々なパターニング技術により、不要な部分を除去して、電極2591及び電極2592を形成することができる。 For example, after forming a light-transmitting conductive material over the substrate 2590 by a sputtering method, unnecessary portions are removed by various patterning techniques such as a photolithography method, so that the electrode 2591 and the electrode 2592 are formed. be able to.
また、絶縁層2593に用いる材料としては、例えば、アクリル、エポキシなどの樹脂、シロキサン結合を有する樹脂の他、酸化シリコン、酸化窒化シリコン、酸化アルミニウムなどの無機絶縁材料を用いることもできる。 As a material used for the insulating layer 2593, for example, an inorganic insulating material such as silicon oxide, silicon oxynitride, or aluminum oxide can be used in addition to a resin such as acrylic or epoxy, or a resin having a siloxane bond.
また、絶縁層2593に設けられた開口部に配線2594を形成することにより、隣接する電極2591が電気的に接続される。透光性の導電性材料は、タッチパネルの開口率を高めることができるため、配線2594に好適に用いることができる。また、電極2591及び電極2592より導電性の高い材料は、電気抵抗を低減できるため配線2594に好適に用いることができる。 Further, by forming a wiring 2594 in an opening provided in the insulating layer 2593, adjacent electrodes 2591 are electrically connected. Since the light-transmitting conductive material can increase the aperture ratio of the touch panel, it can be preferably used for the wiring 2594. A material having higher conductivity than the electrodes 2591 and 2592 can be preferably used for the wiring 2594 because electric resistance can be reduced.
一対の電極2591は、配線2594により電気的に接続されている。また、一対の電極2591の間には、電極2592が設けられている。 The pair of electrodes 2591 are electrically connected by a wiring 2594. An electrode 2592 is provided between the pair of electrodes 2591.
また、配線2598は、電極2591または電極2592と電気的に接続される。なお、配線2598の一部は、端子として機能する。配線2598には、例えば、アルミニウム、金、白金、銀、ニッケル、チタン、タングステン、クロム、モリブデン、鉄、コバルト、銅、またはパラジウム等の金属材料や、該金属材料を含む合金材料を用いることができる。 The wiring 2598 is electrically connected to the electrode 2591 or the electrode 2592. Note that part of the wiring 2598 functions as a terminal. For the wiring 2598, for example, a metal material such as aluminum, gold, platinum, silver, nickel, titanium, tungsten, chromium, molybdenum, iron, cobalt, copper, or palladium, or an alloy material containing the metal material is used. it can.
また、端子2599により、配線2598とFPC2509(2)とが電気的に接続される。なお、端子2599には、様々な異方性導電フィルム(ACF:Anisotropic Conductive Film)や、異方性導電ペースト(ACP:Anisotropic Conductive Paste)などを用いることができる。 In addition, the wiring 2598 and the FPC 2509 (2) are electrically connected to each other through a terminal 2599. Note that various anisotropic conductive films (ACF: Anisotropic Conductive Film), anisotropic conductive pastes (ACP: Anisotropic Conductive Paste), or the like can be used for the terminal 2599.
また、接着層2597は、透光性を有する。例えば、熱硬化性樹脂や紫外線硬化樹脂を用いることができ、具体的には、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、またはシロキサン系樹脂を用いることができる。 The adhesive layer 2597 has a light-transmitting property. For example, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin can be used, and specifically, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, or a siloxane resin can be used.
表示部2501は、マトリクス状に配置された複数の画素を有する。該画素は表示素子と、該表示素子を駆動する画素回路とを有する。 The display portion 2501 includes a plurality of pixels arranged in a matrix. The pixel includes a display element and a pixel circuit that drives the display element.
基板2510及び基板2570としては、例えば、水蒸気の透過率が10−5g/m2・day以下、好ましくは10−6g/m2・day以下である可撓性を有する材料を好適に用いることができる。または、基板2510の熱膨張率と、基板2570の熱膨張率とが、およそ等しい材料を用いると好適である。例えば、線膨張率が1×10−3/K以下、好ましくは5×10−5/K以下、より好ましくは1×10−5/K以下である材料を好適に用いることができる。 As the substrate 2510 and the substrate 2570, for example, a flexible material having a water vapor permeability of 10 −5 g / m 2 · day or less, preferably 10 −6 g / m 2 · day or less is suitably used. be able to. Alternatively, a material in which the thermal expansion coefficient of the substrate 2510 and the thermal expansion coefficient of the substrate 2570 are approximately equal is preferably used. For example, a material having a linear expansion coefficient of 1 × 10 −3 / K or less, preferably 5 × 10 −5 / K or less, more preferably 1 × 10 −5 / K or less can be suitably used.
また、封止層2560は、空気より大きい屈折率を有すると好ましい。また、図9に示すように、封止層2560側に光を取り出す場合は、封止層2560は光学接合層を兼ねることができる。 In addition, the sealing layer 2560 preferably has a refractive index larger than that of air. In addition, as illustrated in FIG. 9, in the case where light is extracted to the sealing layer 2560 side, the sealing layer 2560 can also serve as an optical bonding layer.
また、表示部2501は、画素2502Rを有する。また、画素2502Rは発光モジュール2580Rを有する。 In addition, the display portion 2501 includes a pixel 2502R. In addition, the pixel 2502R includes a light emitting module 2580R.
画素2502Rは、発光素子2550Rと、発光素子2550Rに電力を供給することができるトランジスタ2502tとを有する。なお、トランジスタ2502tは、画素回路の一部として機能する。また、発光モジュール2580Rは、発光素子2550Rと、着色層2567Rとを有する。 The pixel 2502R includes a light-emitting element 2550R and a transistor 2502t that can supply power to the light-emitting element 2550R. Note that the transistor 2502t functions as part of the pixel circuit. The light emitting module 2580R includes a light emitting element 2550R and a colored layer 2567R.
発光素子2550Rは、下部電極と、上部電極と、下部電極と上部電極の間にEL層とを有する。 The light-emitting element 2550R includes a lower electrode, an upper electrode, and an EL layer between the lower electrode and the upper electrode.
また、封止層2560が光を取り出す側に設けられている場合、封止層2560は、発光素子2550Rと着色層2567Rに接する。 In the case where the sealing layer 2560 is provided on the light extraction side, the sealing layer 2560 is in contact with the light-emitting element 2550R and the coloring layer 2567R.
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。これにより、発光素子2550Rが発する光の一部は着色層2567Rを透過して、図中に示す矢印の方向の発光モジュール2580Rの外部に射出される。 The coloring layer 2567R is in a position overlapping with the light-emitting element 2550R. Thus, part of the light emitted from the light emitting element 2550R passes through the colored layer 2567R and is emitted to the outside of the light emitting module 2580R in the direction of the arrow shown in the drawing.
また、表示部2501には、光を射出する方向に遮光層2567BMが設けられる。遮光層2567BMは、着色層2567Rを囲むように設けられている。 The display portion 2501 is provided with a light-blocking layer 2567BM in the direction of emitting light. The light-blocking layer 2567BM is provided so as to surround the colored layer 2567R.
また、表示部2501は、画素に重なる位置に反射防止層2567pを有する。反射防止層2567pとして、例えば円偏光板を用いることができる。 In addition, the display portion 2501 includes an antireflection layer 2567p at a position overlapping with the pixel. As the antireflection layer 2567p, for example, a circularly polarizing plate can be used.
表示部2501には、絶縁層2521が設けられる。絶縁層2521はトランジスタ2502tを覆う。なお、絶縁層2521は、画素回路に起因する凹凸を平坦化するための機能を有する。また、絶縁層2521に不純物の拡散を抑制できる機能を付与してもよい。これにより、不純物の拡散によるトランジスタ2502t等の信頼性の低下を抑制できる。 The display portion 2501 is provided with an insulating layer 2521. The insulating layer 2521 covers the transistor 2502t. Note that the insulating layer 2521 has a function of planarizing unevenness caused by the pixel circuit. Further, the insulating layer 2521 may have a function of suppressing impurity diffusion. Accordingly, a decrease in reliability of the transistor 2502t and the like due to impurity diffusion can be suppressed.
また、発光素子2550Rは、絶縁層2521の上方に形成される。また、発光素子2550Rが有する下部電極には、該下部電極の端部に重なる隔壁2528が設けられる。なお、基板2510と、基板2570との間隔を制御するスペーサを、隔壁2528上に形成してもよい。 The light-emitting element 2550R is formed above the insulating layer 2521. In addition, the lower electrode included in the light-emitting element 2550R is provided with a partition wall 2528 which overlaps with an end portion of the lower electrode. Note that a spacer for controlling the distance between the substrate 2510 and the substrate 2570 may be formed over the partition wall 2528.
走査線駆動回路2503g(1)は、トランジスタ2503tと、容量素子2503cとを有する。なお、駆動回路を画素回路と同一の工程で同一基板上に形成することができる。 The scan line driver circuit 2503g (1) includes a transistor 2503t and a capacitor 2503c. Note that the driver circuit can be formed over the same substrate in the same process as the pixel circuit.
また、基板2510上には、信号を供給することができる配線2511が設けられる。また、配線2511上には、端子2519が設けられる。また、端子2519には、FPC2509(1)が電気的に接続される。また、FPC2509(1)は、画素信号及び同期信号等の信号を供給する機能を有する。なお、FPC2509(1)にはプリント配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。 A wiring 2511 capable of supplying a signal is provided over the substrate 2510. A terminal 2519 is provided over the wiring 2511. In addition, the FPC 2509 (1) is electrically connected to the terminal 2519. In addition, the FPC 2509 (1) has a function of supplying signals such as a pixel signal and a synchronization signal. Note that a printed wiring board (PWB) may be attached to the FPC 2509 (1).
また、表示部2501には、様々な構造のトランジスタを適用することができる。なお、図9(A)においては、ボトムゲート型のトランジスタを適用する場合について、例示している。図9(A)に示す、トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tには、酸化物半導体を含む半導体層をチャネル領域として用いることができる。または、トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tには、アモルファスシリコンを含む半導体層をチャネル領域として用いることができる。または、トランジスタ2502t及びトランジスタ2503tには、レーザーアニールなどの処理により結晶化させた多結晶シリコンを含む半導体層をチャネル領域として用いることができる。 Further, transistors with various structures can be used for the display portion 2501. Note that FIG. 9A illustrates the case where a bottom-gate transistor is used. For the transistor 2502t and the transistor 2503t illustrated in FIG. 9A, a semiconductor layer including an oxide semiconductor can be used as a channel region. Alternatively, a semiconductor layer containing amorphous silicon can be used as the channel region for the transistor 2502t and the transistor 2503t. Alternatively, for the transistor 2502t and the transistor 2503t, a semiconductor layer containing polycrystalline silicon that is crystallized by treatment such as laser annealing can be used as a channel region.
また、トップゲート型のトランジスタを適用する場合の表示部2501の構成を図9(B)に示す。 FIG. 9B illustrates the structure of the display portion 2501 in the case of using a top-gate transistor.
トップゲート型のトランジスタの場合、ボトムゲート型のトランジスタに用いることのできる半導体層と同様の構成の他、多結晶シリコンまたは単結晶シリコン基板等から転置された単結晶シリコン膜等を含む半導体層をチャネル領域として用いてもよい。 In the case of a top-gate transistor, a semiconductor layer including a single-crystal silicon film transferred from a polycrystalline silicon or single-crystal silicon substrate is used in addition to the same structure as a semiconductor layer that can be used for a bottom-gate transistor. It may be used as a channel region.
次に、図9に示す構成と異なる構成のタッチパネルについて、図10を用いて説明する。 Next, a touch panel having a configuration different from the configuration illustrated in FIG. 9 will be described with reference to FIG.
図10は、タッチパネル2001の断面図である。図10に示すタッチパネル2001は、図9に示すタッチパネル2000と、表示部2501に対するタッチセンサ2595の位置が異なる。ここでは異なる構成について詳細に説明し、同様の構成を用いることができる部分は、タッチパネル2000の説明を援用する。 FIG. 10 is a cross-sectional view of the touch panel 2001. A touch panel 2001 shown in FIG. 10 is different from the touch panel 2000 shown in FIG. 9 in the position of the touch sensor 2595 with respect to the display unit 2501. Here, different configurations will be described in detail, and the description of the touch panel 2000 is used for a portion where a similar configuration can be used.
着色層2567Rは、発光素子2550Rと重なる位置にある。また、図10(A)に示す発光素子2550Rは、トランジスタ2502tが設けられている側に光を射出する。これにより、発光素子2550Rが発する光の一部は、着色層2567Rを透過して、図中に示す矢印の方向の発光モジュール2580Rの外部に射出される。 The coloring layer 2567R is in a position overlapping with the light-emitting element 2550R. Further, the light-emitting element 2550R illustrated in FIG. 10A emits light to the side where the transistor 2502t is provided. Thus, part of the light emitted from the light emitting element 2550R passes through the colored layer 2567R and is emitted to the outside of the light emitting module 2580R in the direction of the arrow shown in the drawing.
表示部2501は、光を射出する方向に遮光層2567BMを有する。遮光層2567BMは、着色層2567Rを囲むように設けられている。 The display portion 2501 includes a light-blocking layer 2567BM in the direction of emitting light. The light-blocking layer 2567BM is provided so as to surround the colored layer 2567R.
タッチセンサ2595は、表示部2501の基板2510側に設けられている(図10(A)参照)。 The touch sensor 2595 is provided on the substrate 2510 side of the display portion 2501 (see FIG. 10A).
接着層2597は、基板2510と基板2590の間にあり、表示部2501とタッチセンサ2595を貼り合わせる。 An adhesive layer 2597 is provided between the substrate 2510 and the substrate 2590 and attaches the display portion 2501 and the touch sensor 2595 to each other.
また、表示部2501には、様々な構造のトランジスタを適用することができる。なお、図10(A)においては、ボトムゲート型のトランジスタを適用する場合について例示している。また、図10(B)には、トップゲート型のトランジスタを適用する場合について例示している。 Further, transistors with various structures can be used for the display portion 2501. Note that FIG. 10A illustrates the case where a bottom-gate transistor is used. FIG. 10B illustrates the case where a top-gate transistor is used.
次に、タッチパネルの駆動方法の一例について、図11を用いて説明を行う。 Next, an example of a touch panel driving method will be described with reference to FIG.
図11(A)は、相互容量方式のタッチセンサの構成を示すブロック図である。図11(A)では、パルス電圧出力回路2601、電流検出回路2602を示している。なお、図11(A)では、パルス電圧が与えられる電極2621をX1−X6として、電流の変化を検知する電極2622をY1−Y6として、それぞれ6本の配線で例示している。また、図11(A)は、電極2621と、電極2622とが重畳することで形成される容量2603を示している。なお、電極2621と電極2622とはその機能を互いに置き換えてもよい。 FIG. 11A is a block diagram illustrating a structure of a mutual capacitive touch sensor. FIG. 11A illustrates a pulse voltage output circuit 2601 and a current detection circuit 2602. In FIG. 11A, an electrode 2621 to which a pulse voltage is applied is represented by X1-X6, and an electrode 2622 for detecting a change in current is represented by Y1-Y6. FIG. 11A illustrates a capacitor 2603 formed by overlapping an electrode 2621 and an electrode 2622. Note that the functions of the electrode 2621 and the electrode 2622 may be interchanged.
パルス電圧出力回路2601は、X1−X6の配線に順にパルスを印加するための回路である。X1−X6の配線にパルス電圧が印加されることで、容量2603を形成する電極2621と電極2622との間に電界が生じる。この電極間に生じる電界が遮蔽等により容量2603の相互容量に変化を生じさせることを利用して、被検知体の近接、または接触を検出することができる。 The pulse voltage output circuit 2601 is a circuit for sequentially applying pulses to the wiring lines X1 to X6. When a pulse voltage is applied to the wiring of X1-X6, an electric field is generated between the electrode 2621 and the electrode 2622 forming the capacitor 2603. By utilizing the fact that the electric field generated between the electrodes causes a change in the mutual capacitance of the capacitor 2603 due to shielding or the like, it is possible to detect the proximity or contact of the detection object.
電流検出回路2602は、容量2603での相互容量の変化による、Y1〜Y6の配線での電流の変化を検出するための回路である。Y1−Y6の配線では、被検知体の近接、または接触がないと検出される電流値に変化はないが、検出する被検知体の近接、または接触により相互容量が減少する場合には電流値が減少する変化を検出する。なお電流の検出は、積分回路等を用いて行えばよい。 The current detection circuit 2602 is a circuit for detecting a change in current in the wirings Y1 to Y6 due to a change in mutual capacitance in the capacitor 2603. In the wiring of Y1-Y6, there is no change in the current value detected when there is no proximity or contact with the detected object, but the current value when the mutual capacitance decreases due to the proximity or contact with the detected object. Detect changes that decrease. Note that current detection may be performed using an integration circuit or the like.
次に、図11(B)には、図11(A)で示す相互容量方式のタッチセンサにおける入出力波形のタイミングチャートを示す。図11(B)では、1フレーム期間で各行列での被検知体の検出を行うものとする。また図11(B)では、被検知体を検出しない場合(非タッチ)と被検知体を検出する場合(タッチ)との2つの場合について示している。なおY1−Y6の配線については、検出される電流値に対応する電圧値とした波形を示している。 Next, FIG. 11B shows a timing chart of input / output waveforms in the mutual capacitance type touch sensor shown in FIG. In FIG. 11B, the detection target is detected in each matrix in one frame period. FIG. 11B shows two cases, that is, a case where the detected object is not detected (non-touch) and a case where the detected object is detected (touch). In addition, about the wiring of Y1-Y6, the waveform made into the voltage value corresponding to the detected electric current value is shown.
X1−X6の配線には、順にパルス電圧が与えられ、該パルス電圧にしたがってY1−Y6の配線での波形が変化する。被検知体の近接または接触がない場合には、X1−X6の配線の電圧の変化に応じてY1−Y6の波形が一様に変化する。一方、被検知体が近接または接触する箇所では、電流値が減少するため、これに対応する電圧値の波形も変化する。このように、相互容量の変化を検出することにより、被検知体の近接または接触を検知することができる。 A pulse voltage is sequentially applied to the X1-X6 wiring, and the waveform of the Y1-Y6 wiring changes according to the pulse voltage. When there is no proximity or contact of the detection object, the waveform of Y1-Y6 changes uniformly according to the change of the voltage of the wiring of X1-X6. On the other hand, since the current value decreases at the location where the detection object is close or in contact, the waveform of the voltage value corresponding to this also changes. In this way, by detecting the change in mutual capacitance, the proximity or contact of the detection target can be detected.
また、図11(A)ではタッチセンサとして配線の交差部に容量2603のみを設けるパッシブ型のタッチセンサの構成を示したが、トランジスタと容量とを備えたアクティブ型のタッチセンサとしてもよい。図12にアクティブ型のタッチセンサに含まれる一つのセンサ回路の例を示している。 11A illustrates the structure of a passive touch sensor in which only a capacitor 2603 is provided at a wiring intersection as a touch sensor, an active touch sensor including a transistor and a capacitor may be used. FIG. 12 shows an example of one sensor circuit included in the active touch sensor.
図12に示すセンサ回路は、容量2603と、トランジスタ2611と、トランジスタ2612と、トランジスタ2613とを有する。 The sensor circuit illustrated in FIG. 12 includes a capacitor 2603, a transistor 2611, a transistor 2612, and a transistor 2613.
トランジスタ2613はゲートに信号G2が与えられ、ソースまたはドレインの一方に電圧VRESが与えられ、他方が容量2603の一方の電極およびトランジスタ2611のゲートと電気的に接続する。トランジスタ2611は、ソースまたはドレインの一方がトランジスタ2612のソースまたはドレインの一方と電気的に接続し、他方に電圧VSSが与えられる。トランジスタ2612は、ゲートに信号G2が与えられ、ソースまたはドレインの他方が配線MLと電気的に接続する。容量2603の他方の電極には電圧VSSが与えられる。 The gate of the transistor 2613 is supplied with the signal G2, the voltage VRES is supplied to one of a source and a drain, and the other is electrically connected to one electrode of the capacitor 2603 and the gate of the transistor 2611. In the transistor 2611, one of a source and a drain is electrically connected to one of a source and a drain of the transistor 2612, and the voltage VSS is supplied to the other. In the transistor 2612, a signal G2 is supplied to a gate, and the other of the source and the drain is electrically connected to the wiring ML. The voltage VSS is applied to the other electrode of the capacitor 2603.
次に、図12に示すセンサ回路の動作について説明する。まず信号G2としてトランジスタ2613をオン状態とする電位が与えられることで、トランジスタ2611のゲートが接続されるノードnに電圧VRESに対応した電位が与えられる。次に、信号G2としてトランジスタ2613をオフ状態とする電位が与えられることで、ノードnの電位が保持される。続いて、指等の被検知体の近接または接触により、容量2603の相互容量が変化することに伴い、ノードnの電位がVRESから変化する。 Next, the operation of the sensor circuit shown in FIG. 12 will be described. First, a potential for turning on the transistor 2613 is applied as the signal G2, so that a potential corresponding to the voltage VRES is applied to the node n to which the gate of the transistor 2611 is connected. Next, a potential for turning off the transistor 2613 is supplied as the signal G2, so that the potential of the node n is held. Subsequently, the potential of the node n changes from VRES as the mutual capacitance of the capacitor 2603 changes due to the proximity or contact of a detection object such as a finger.
読み出し動作は、信号G1にトランジスタ2612をオン状態とする電位を与える。ノードnの電位に応じてトランジスタ2611に流れる電流、すなわち配線MLに流れる電流が変化する。この電流を検出することにより、被検知体の近接または接触を検出することができる。 In the reading operation, a potential for turning on the transistor 2612 is supplied to the signal G1. The current flowing through the transistor 2611, that is, the current flowing through the wiring ML is changed in accordance with the potential of the node n. By detecting this current, the proximity or contact of the detection object can be detected.
トランジスタ2611、トランジスタ2612、及びトランジスタ2613としては、酸化物半導体層をチャネル領域が形成される半導体層に用いることが好ましい。とくにトランジスタ2613にこのようなトランジスタを適用することにより、ノードnの電位を長期間に亘って保持することが可能となり、ノードnにVRESを供給しなおす動作(リフレッシュ動作)の頻度を減らすことができる。 As the transistor 2611, the transistor 2612, and the transistor 2613, an oxide semiconductor layer is preferably used for a semiconductor layer in which a channel region is formed. In particular, when such a transistor is used as the transistor 2613, the potential of the node n can be held for a long time, and the frequency of the operation of supplying VRES to the node n (refresh operation) can be reduced. it can.
本実施の形態は、少なくともその一部を本明細書中に記載する他の実施の形態と適宜組み合わせて実施することができる。 This embodiment can be implemented in appropriate combination with at least part of the other embodiments described in this specification.
≪合成例1≫
本実施例では、実施の形態1の構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、ビス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2(acac)])の合成方法について説明する。なお、[Ir(tppm2)2(acac)]の構造を以下に示す。
<< Synthesis Example 1 >>
In this example, an organometallic complex which is one embodiment of the present invention represented by the structural formula (100) of Embodiment 1, bis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC ] A synthesis method of (2,4-pentanedionato-κ 2 O, O ′) iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 (acac)]) will be described. The structure of [Ir (tppm2) 2 (acac)] is shown below.
<ステップ1:2,4,5−トリフェニルピリミジンの合成>
2,4,5−トリクロロピリミジン5.1g(27.8mmol)、フェニルボロン酸10.7g(87.4mmol)、リン酸三カリウム18.6g(87.4mmol)、2−ジシクロヘキシルホスフィノ−2’,6’−ジメトキシビフェニル(S−phos)0.672g(1.6mmol)、トルエン100mLを200mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した後、フラスコ内を減圧しながら攪拌し、脱気した。脱気後、フラスコ内を窒素置換し、酢酸パラジウム(II)0.184g(0.819mmol)を加え、窒素気流下、100℃で7時間攪拌した。得られた反応溶液に水を加え、水層をトルエンで抽出した。有機層と得られた抽出溶液を合わせて飽和食塩水で洗浄し、有機層に無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。得られた混合物を自然ろ過し、ろ液を濃縮して固体を得た。固体をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製した。展開溶媒には、トルエンを用いた。得られた目的物のフラクションを濃縮して、白色固体を6.6g、収率77%で得た。核磁気共鳴法(NMR)により得られた白色固体が2,4,5−トリフェニルピリミジンであることを確認した。ステップ1の合成スキームを下記式(a−0)に示す。
<Step 1: Synthesis of 2,4,5-triphenylpyrimidine>
2,4,5-trichloropyrimidine 5.1 g (27.8 mmol), phenylboronic acid 10.7 g (87.4 mmol), tripotassium phosphate 18.6 g (87.4 mmol), 2-dicyclohexylphosphino-2 ′ , 6′-dimethoxybiphenyl (S-phos) 0.672 g (1.6 mmol) and toluene 100 mL were placed in a 200 mL three-necked flask, and the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen. After deaeration, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen, 0.184 g (0.819 mmol) of palladium (II) acetate was added, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 7 hours under a nitrogen stream. Water was added to the resulting reaction solution, and the aqueous layer was extracted with toluene. The organic layer and the obtained extraction solution were combined and washed with saturated brine, and anhydrous magnesium sulfate was added to the organic layer for drying. The obtained mixture was naturally filtered, and the filtrate was concentrated to obtain a solid. The solid was purified by silica column chromatography. Toluene was used as the developing solvent. The obtained fraction of the target product was concentrated to obtain 6.6 g of a white solid in a yield of 77%. It was confirmed that the white solid obtained by nuclear magnetic resonance (NMR) was 2,4,5-triphenylpyrimidine. The synthesis scheme of Step 1 is shown by the following formula (a-0).
<ステップ2:ジ−μ−クロロ−テトラキス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC]ジイリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2Cl]2)の合成>
ステップ1で合成した2,4,5−トリフェニルピリミジン(略称:Htppm2)3.1g(10.0mmol)、塩化イリジウム水和物1.43g(4.8mmol)、2−エトキシエタノール30mL、水10mLを100mL丸底フラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。この反応容器にマイクロ波(2.45GHz 100W)を30分間照射することで、反応させた。反応後、反応溶液にエタノールを加えて超音波を照射し塊を粉砕した後、吸引ろ過で黄色固体を2.6g、収率64%で得た。ステップ2の合成スキームを下記式(b−0)に示す。
<Step 2: Di-μ-chloro-tetrakis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] diiridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 ) Synthesis>
2,4,5-Triphenylpyrimidine (abbreviation: Htppm2) 3.1 g (10.0 mmol) synthesized in Step 1, iridium chloride hydrate 1.43 g (4.8 mmol), 2-ethoxyethanol 30 mL, water 10 mL Was placed in a 100 mL round bottom flask, and the atmosphere in the flask was replaced with argon. This reaction vessel was reacted by irradiating with microwaves (2.45 GHz, 100 W) for 30 minutes. After the reaction, ethanol was added to the reaction solution, and ultrasonic waves were applied to pulverize the lump, followed by suction filtration to obtain 2.6 g of a yellow solid with a yield of 64%. The synthesis scheme of Step 2 is shown by the following formula (b-0).
<ステップ3:ビス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC](2,4−ペンタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2(acac)])の合成>
2−エトキシエタノール30mL、ステップ2で合成した[Ir(tppm2)2Cl]21.1g(0.7mmol)、アセチルアセトン0.651g(6.5mmol)、炭酸ナトリウム0.689g(6.5mmol)を100mL丸底フラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。この反応容器にマイクロ波(2.45GHz 120W)を1.5時間照射することで、反応させた。反応後、反応混合物を濃縮し、残渣を得た。得られた残渣に水とジクロロメタンを加え、有機層を分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。得られた混合物を自然ろ過してろ液を得た。このろ液を濃縮して橙色固体を得た。得られた固体を酢酸エチル/エタノールの混合溶媒で再結晶し、橙色固体を0.58g、収率49%で得た。ステップ3の合成スキームを下記式(c−0)に示す。
<Step 3: Bis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] (2,4-pentanedionato-κ 2 O, O ′) iridium (III) (abbreviation: [Ir Synthesis of (tppm2) 2 (acac)])>
2-Ethoxyethanol 30 mL, [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 1.1 g (0.7 mmol) synthesized in Step 2, 0.651 g (6.5 mmol) acetylacetone, 0.689 g (6.5 mmol) sodium carbonate were added. The flask was placed in a 100 mL round bottom flask, and the atmosphere in the flask was replaced with argon. The reaction vessel was reacted by irradiating with microwaves (2.45 GHz 120 W) for 1.5 hours. After the reaction, the reaction mixture was concentrated to obtain a residue. Water and dichloromethane were added to the resulting residue, and the organic layer was separated. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate. The obtained mixture was naturally filtered to obtain a filtrate. The filtrate was concentrated to give an orange solid. The obtained solid was recrystallized with a mixed solvent of ethyl acetate / ethanol to obtain 0.58 g of an orange solid in a yield of 49%. The synthesis scheme of Step 3 is shown in the following formula (c-0).
上記ステップ3で得られた橙色固体の核磁気共鳴分光法(1H−NMR)による分析結果を下記に示す。また、1H−NMRチャートを図13に示す。この結果から、本合成例により、上述の構造式(100)で表される本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)]が得られたことがわかった。 The analysis result by nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) of the orange solid obtained in Step 3 is shown below. A 1 H-NMR chart is shown in FIG. From this result, it was found that the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] which is one embodiment of the present invention represented by the above structural formula (100) was obtained by this synthesis example.
1H−NMR.δ(CDCl3):1.81(s,6H),5.29(s,1H),6.52(d,2H),6.85(t,2H),6.90(t,2H),7.26−7.30(m,5H),7.34−7.47(m,11H),7.69(d,4H),8.11(d,2H),8.67(s,2H). 1 H-NMR. δ (CDCl 3 ): 1.81 (s, 6H), 5.29 (s, 1H), 6.52 (d, 2H), 6.85 (t, 2H), 6.90 (t, 2H) 7.26-7.30 (m, 5H), 7.34-7.47 (m, 11H), 7.69 (d, 4H), 8.11 (d, 2H), 8.67 (s). , 2H).
また、得られた有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)]の分解温度TdをTG−DTAにより測定したところ、Td=336℃であり、良好な耐熱性を示すことがわかった。 Moreover, when the decomposition temperature Td of the obtained organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] was measured by TG-DTA, it was found that T d = 336 ° C. and good heat resistance was exhibited. .
次に、[Ir(tppm2)2(acac)]のジクロロメタン溶液の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用い、ジクロロメタン溶液(0.011mmol/L)を石英セルに入れ、室温で測定を行った。また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用い、脱気したジクロロメタン溶液(0.011mmol/L)を石英セルに入れ、室温で測定を行った。得られた吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図14に示す。横軸は波長、縦軸は吸収強度および発光強度を表す。なお、図14に示す吸収スペクトルは、ジクロロメタン溶液(0.011mmol/L)を石英セルに入れて測定した吸収スペクトルから、ジクロロメタンのみを石英セルに入れて測定した吸収スペクトルを差し引いた結果を示している。 Next, an ultraviolet-visible absorption spectrum (hereinafter, simply referred to as “absorption spectrum”) and an emission spectrum of [Ir (tppm2) 2 (acac)] in a dichloromethane solution were measured. For the measurement of the absorption spectrum, an ultraviolet-visible spectrophotometer (model V550 manufactured by JASCO Corporation) was used, and a dichloromethane solution (0.011 mmol / L) was placed in a quartz cell and measured at room temperature. For measurement of the emission spectrum, a defluorinated dichloromethane solution (0.011 mmol / L) was placed in a quartz cell using a fluorometer (FS920 manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) and measured at room temperature. The measurement results of the obtained absorption spectrum and emission spectrum are shown in FIG. The horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents absorption intensity and emission intensity. The absorption spectrum shown in FIG. 14 shows the result of subtracting the absorption spectrum measured by putting only dichloromethane in the quartz cell from the absorption spectrum measured by putting the dichloromethane solution (0.011 mmol / L) in the quartz cell. Yes.
図14に示す通り、有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)]は、600nmに発光ピークを有しており、ジクロロメタン溶液からは橙色の発光が観測された。 As shown in FIG. 14, the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] had an emission peak at 600 nm, and orange emission was observed from the dichloromethane solution.
次に、本実施例で得られた[Ir(tppm2)2(acac)]を液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry,略称:LC/MS分析)によって質量(MS)分析した。 Next, [Ir (tppm2) 2 (acac)] obtained in this example was subjected to mass (MS) analysis by liquid chromatograph mass spectrometry (abbreviation: LC / MS analysis).
LC/MS分析は、LC(液体クロマトグラフィー)分離をウォーターズ社製Acquity UPLCにより、MS分析(質量分析)をウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSにより行った。LC分離で用いたカラムはAcquity UPLC BEH C8 (2.1×100mm 1.7μm)、カラム温度は40℃とした。移動相は移動相Aをアセトニトリル、移動相Bを0.1%ギ酸水溶液とした。また、サンプルは任意の濃度の[Ir(tppm2)2(acac)]をクロロホルムに溶解し、アセトニトリルで希釈して調整し、注入量は5.0μLとした。 In LC / MS analysis, LC (liquid chromatography) separation was performed by Acquity UPLC manufactured by Waters, and MS analysis (mass spectrometry) was performed by Xevo G2 Tof MS manufactured by Waters. The column used for the LC separation was Acquity UPLC BEH C8 (2.1 × 100 mm 1.7 μm), and the column temperature was 40 ° C. As the mobile phase, mobile phase A was acetonitrile and mobile phase B was 0.1% formic acid aqueous solution. The sample was prepared by dissolving [Ir (tppm2) 2 (acac)] of an arbitrary concentration in chloroform and diluting with acetonitrile, and the injection volume was 5.0 μL.
LC分離には移動相の組成を変化させるグラジエント法を用い、測定開始後0分から1分までが、移動相A:移動相B=65:35、その後組成を変化させ、10分後における移動相Aと移動相Bとの比が移動相A:移動相B=95:5となるようにした。比率はリニアに変化させた。 For the LC separation, a gradient method for changing the composition of the mobile phase was used. From the start of measurement to 0 to 1 minute, mobile phase A: mobile phase B = 65: 35, and then the composition was changed and the mobile phase after 10 minutes. The ratio of A to mobile phase B was set to mobile phase A: mobile phase B = 95: 5. The ratio was changed linearly.
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization、略称:ESI)によるイオン化を行い、キャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30V、検出はポジティブモードで行った。なお、測定する質量範囲はm/z=100〜1200とした。 In the MS analysis, ionization by electrospray ionization (abbreviation: ESI) was performed, the capillary voltage was 3.0 kV, the sample cone voltage was 30 V, and the detection was performed in the positive mode. The mass range to be measured was m / z = 100 to 1200.
以上の条件で分離、イオン化されたm/z=907.26の成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンに衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は30eVとした。解離させたプロダクトイオンを飛行時間(TOF)型MSで検出した結果を図15に示す。 The component of m / z = 907.26 separated and ionized under the above conditions was collided with argon gas in a collision chamber (collision cell) and dissociated into product ions. The energy (collision energy) for collision with argon was 30 eV. FIG. 15 shows the result of detection of dissociated product ions by time-of-flight (TOF) type MS.
図15の結果から、[Ir(tppm2)2(acac)]は、主としてm/z=807付近にプロダクトイオンが検出されることがわかった。なお、図15に示す結果は、[Ir(tppm2)2(acac)]に由来する特徴的な結果を示すものであることから、混合物中に含まれる[Ir(tppm2)2(acac)]を同定する上での重要なデータであるといえる。 From the results of FIG. 15, it was found that [Ir (tppm2) 2 (acac)] detects product ions mainly in the vicinity of m / z = 807. Incidentally, the results shown in FIG. 15, the [Ir (tppm2) 2 (acac )] [Ir (tppm2) 2 (acac)] Since shows the characteristic results from, contained in the mixture It can be said that this is important data for identification.
なお、m/z=807付近のプロダクトイオンは、[Ir(tppm2)2(acac)]におけるアセチルアセトンとプロトンが離脱した状態のカチオンと推定され、[Ir(tppm2)2(acac)]が、アセチルアセトンを含んでいることを示唆するものである。 Note that product ions around m / z = 807, it [Ir (tppm2) 2 (acac )] acetylacetone and protons are presumed cationic state that has left in, [Ir (tppm2) 2 (acac )] , acetylacetone It is suggested that it contains.
≪合成例2≫
本実施例では、実施の形態1の構造式(101)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、ビス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC](2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2(dpm)])の合成方法について説明する。なお、[Ir(tppm2)2(dpm)]の構造を以下に示す。
<< Synthesis Example 2 >>
In this example, an organometallic complex which is one embodiment of the present invention represented by the structural formula (101) of Embodiment 1, bis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC ] A synthesis method of (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato-κ 2 O, O ′) iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 (dpm)]) will be described. . The structure of [Ir (tppm2) 2 (dpm)] is shown below.
<ステップ1:ジ−μ−クロロ−テトラキス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC]ジイリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2Cl]2)の合成>
2,4,5−トリフェニルピリミジン(略称:Htppm2)2.5g(8.1mmol)、塩化イリジウム水和物1.2g(4.0mmol)、2−エトキシエタノール30mL、水10mLを100mL丸底フラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。この反応容器にマイクロ波(2.45GHz 100W)を1.5時間照射することで、反応させた。反応後、反応溶液にエタノールを加えて超音波を照射して塊を粉砕した後、吸引ろ過で黄色固体を3.0g、収率90%で得た。なお、本ステップで用いたHtppm2は、実施例1のステップ1と同じ方法により合成することができるので、説明は省略した。また、本ステップで説明した[Ir(tppm2)2Cl]2の合成も実施例1のステップ2と同じ方法により合成することができるので、スキームは省略した。
<Step 1: Di-μ-chloro-tetrakis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] diiridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 ) Synthesis>
100 mL round bottom flask of 2,4,5-triphenylpyrimidine (abbreviation: Htppm2) 2.5 g (8.1 mmol), iridium chloride hydrate 1.2 g (4.0 mmol), 2-ethoxyethanol 30 mL, water 10 mL The flask was purged with argon. The reaction vessel was reacted by irradiating with microwaves (2.45 GHz, 100 W) for 1.5 hours. After the reaction, ethanol was added to the reaction solution and ultrasonic waves were applied to pulverize the lump, followed by suction filtration to obtain 3.0 g of a yellow solid with a yield of 90%. Since Htppm2 used in this step can be synthesized by the same method as in Step 1 of Example 1, the description thereof is omitted. In addition, since the synthesis of [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 described in this step can be performed by the same method as in Step 2 of Example 1, the scheme is omitted.
<ステップ2;ビス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC](2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオナト−κ2O,O’)イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2(dpm)])の合成>
2−エトキシエタノール40mL、ステップ1で合成した[Ir(tppm2)2Cl]23.0g(1.8mmol)、ジピバロイルメタン3.3g(18.0mmol)、炭酸ナトリウム1.9g(18.0mmol)を100mL丸底フラスコに入れ、フラスコ内をアルゴン置換した。この反応容器にマイクロ波(2.45GHz 120W)を2時間照射することで、反応させた。反応後、反応混合物を濃縮し、残渣を得た。得られた残渣に水とジクロロメタンを加え有機層を分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥させた。得られた混合物を自然ろ過してろ液を得た。このろ液を濃縮して橙色固体を得た。得られた固体をシリカカラムクロマトグラフィーにより精製した。展開溶媒には、ヘキサン:酢酸エチル=5:1の混合溶媒を用いた。得られた目的物のフラクションを濃縮して、橙色固体を得た。得られた固体をジクロロメタン/酢酸エチルの混合溶媒で再結晶し、橙色固体を0.96g、収率27%で得た。得られた固体0.95gをトレインサブリメーション法により昇華精製した。圧力3.6×10−2Pa、アルゴン流量0mL/minの条件で、285℃で16時間加熱して行った。昇華精製後、0.65g回収した。ステップ2の合成スキームを下記式(c−1)に示す。
<Step 2; bis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] (2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionato-κ 2 O, O ′) Synthesis of Iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 (dpm)])>
2-Ethoxyethanol 40 mL, [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 3.0 g (1.8 mmol) synthesized in Step 1, dipivaloylmethane 3.3 g (18.0 mmol), sodium carbonate 1.9 g (18 0.0 mmol) was put into a 100 mL round bottom flask, and the inside of the flask was purged with argon. This reaction vessel was reacted by irradiating with microwaves (2.45 GHz 120 W) for 2 hours. After the reaction, the reaction mixture was concentrated to obtain a residue. Water and dichloromethane were added to the resulting residue, and the organic layer was separated. The obtained organic layer was washed with saturated brine, dried over anhydrous magnesium sulfate. The obtained mixture was naturally filtered to obtain a filtrate. The filtrate was concentrated to give an orange solid. The obtained solid was purified by silica column chromatography. As a developing solvent, a mixed solvent of hexane: ethyl acetate = 5: 1 was used. The obtained fraction of the target product was concentrated to obtain an orange solid. The obtained solid was recrystallized with a mixed solvent of dichloromethane / ethyl acetate to obtain 0.96 g of an orange solid in a yield of 27%. 0.95 g of the obtained solid was purified by sublimation by a train sublimation method. The heating was performed at 285 ° C. for 16 hours under the conditions of a pressure of 3.6 × 10 −2 Pa and an argon flow rate of 0 mL / min. After sublimation purification, 0.65 g was recovered. The synthesis scheme of Step 2 is shown in the following formula (c-1).
上記ステップ2で得られた橙色固体の核磁気共鳴分光法(1H−NMR)による分析結果を下記に示す。また、1H−NMRチャートを図16に示す。この結果から、本合成例により、上述の構造式(101)で表される本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(dpm)]が得られたことがわかった。 The analysis result by nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) of the orange solid obtained in Step 2 is shown below. Further, the 1 H-NMR chart is shown in FIG. From this result, it was found that the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (dpm)] which is one embodiment of the present invention represented by the above structural formula (101) was obtained by this synthesis example.
1H−NMR.δ(CDCl3):0.92(s,18H),5.62(s,1H),6.60(d,2H),6.84(t,2H),6.6.91(t,2H),7.23−7.26(m,5H),7.34−7.42(m,11H),7.67(d,4H),8.11(d,2H),8.57(s,2H). 1 H-NMR. δ (CDCl 3 ): 0.92 (s, 18H), 5.62 (s, 1H), 6.60 (d, 2H), 6.84 (t, 2H), 6.6.91 (t, 2H), 7.23-7.26 (m, 5H), 7.34-7.42 (m, 11H), 7.67 (d, 4H), 8.11 (d, 2H), 8.57. (S, 2H).
次に、[Ir(tppm2)2(dpm)]のジクロロメタン溶液の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用い、ジクロロメタン溶液(0.0098mmol/L)を石英セルに入れ、室温で測定を行った。また、発光スペクトルの測定には、絶対PL量子収率測定装置((株)浜松ホトニクス製 C11347−01)を用い、グローボックス((株)ブライド製 LABstarM13(1250/780)にて、窒素雰囲気下でジクロロメタン脱酸素溶液(0.0098mmol/L)を石英セルに入れ、密栓し、室温で測定を行った。得られた吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図17に示す。横軸は波長、縦軸は吸収強度および発光強度を表す。なお、図17に示す吸収スペクトルは、ジクロロメタン溶液(0.0098mmol/L)を石英セルに入れて測定した吸収スペクトルから、ジクロロメタンのみを石英セルに入れて測定した吸収スペクトルを差し引いた結果を示している。 Next, an ultraviolet-visible absorption spectrum (hereinafter, simply referred to as “absorption spectrum”) and an emission spectrum of [Ir (tppm2) 2 (dpm)] in a dichloromethane solution were measured. For the measurement of the absorption spectrum, an ultraviolet-visible spectrophotometer (V550 type manufactured by JASCO Corporation) was used, and a dichloromethane solution (0.0098 mmol / L) was put in a quartz cell and measured at room temperature. In addition, for the measurement of the emission spectrum, an absolute PL quantum yield measuring device (C11347-01 manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) was used, and a LABstar M13 (1250/780 manufactured by Bride Co., Ltd.) was used in a nitrogen atmosphere. A dichloromethane deoxygenated solution (0.0098 mmol / L) was put in a quartz cell, sealed, and measured at room temperature, and the measurement results of the obtained absorption spectrum and emission spectrum are shown in FIG. The vertical axis represents the absorption intensity and the emission intensity, and the absorption spectrum shown in Fig. 17 is obtained by placing only dichloromethane in the quartz cell from the absorption spectrum measured by placing the dichloromethane solution (0.0098 mmol / L) in the quartz cell. The result of subtracting the measured absorption spectrum is shown.
図17に示す通り、有機金属錯体[Ir(tppm2)2(dpm)]は、605nmに発光ピークを有しており、ジクロロメタンからは橙色の発光が観測された。 As shown in FIG. 17, the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (dpm)] had an emission peak at 605 nm, and orange emission was observed from dichloromethane.
次に、本実施例で得られた[Ir(tppm2)2(dpm)]を液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry(略称:LC/MS分析))によって質量(MS)分析した。 Next, [Ir (tppm2) 2 (dpm)] obtained in this example was subjected to mass (MS) analysis by liquid chromatograph mass spectrometry (abbreviation: LC / MS analysis).
LC/MS分析は、LC(液体クロマトグラフィー)分離をウォーターズ社製Acquity UPLCにより、MS分析(質量分析)をウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSにより行った。LC分離で用いたカラムはAcquity UPLC BEH C8 (2.1×100mm 1.7μm)、カラム温度は40℃とした。移動相は移動相Aをアセトニトリル、移動相Bを0.1%ギ酸水溶液とした。また、サンプルは任意の濃度の[Ir(tppm2)2(dpm)]をクロロホルムに溶解し、アセトニトリルで希釈して調整し、注入量は5.0μLとした。 In LC / MS analysis, LC (liquid chromatography) separation was performed by Acquity UPLC manufactured by Waters, and MS analysis (mass spectrometry) was performed by Xevo G2 Tof MS manufactured by Waters. The column used for the LC separation was Acquity UPLC BEH C8 (2.1 × 100 mm 1.7 μm), and the column temperature was 40 ° C. As the mobile phase, mobile phase A was acetonitrile and mobile phase B was 0.1% formic acid aqueous solution. The sample was prepared by dissolving [Ir (tppm2) 2 (dpm)] of an arbitrary concentration in chloroform and diluting with acetonitrile, and the injection volume was 5.0 μL.
LC分離には移動相の組成を変化させるグラジエント法を用い、測定開始後0分から1分までが、移動相A:移動相B=60:40、その後組成を変化させ、4分後における移動相Aと移動相Bとの比が移動相A:移動相B=80:20となるようにし、10分における移動相Aと移動相Bとの比が移動相A:移動相B=95:5となるようにした。比率はリニアに変化させた。 For the LC separation, a gradient method for changing the composition of the mobile phase is used, and from 0 to 1 minute after the start of measurement, the mobile phase A: mobile phase B = 60: 40, then the composition is changed and the mobile phase after 4 minutes. The ratio of A to mobile phase B is mobile phase A: mobile phase B = 80: 20, and the ratio of mobile phase A to mobile phase B in 10 minutes is mobile phase A: mobile phase B = 95: 5. It was made to become. The ratio was changed linearly.
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization(略称:ESI))によるイオン化を行い、キャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30V、検出はポジティブモードで行った。なお、測定する質量範囲はm/z=100〜1200とした。 In the MS analysis, ionization by electrospray ionization (electrospray ionization (abbreviation: ESI)) was performed, the capillary voltage was 3.0 kV, the sample cone voltage was 30 V, and the detection was performed in the positive mode. The mass range to be measured was m / z = 100 to 1200.
以上の条件で分離、イオン化されたm/z=991.35の成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンに衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は70eVとした。解離させたプロダクトイオンを飛行時間(TOF)型MSで検出した結果を図18に示す。 The component of m / z = 991.35 separated and ionized under the above conditions was collided with argon gas in a collision chamber (collision cell) and dissociated into product ions. The energy (collision energy) when colliding with argon was set to 70 eV. FIG. 18 shows the result of detecting the dissociated product ions by time-of-flight (TOF) type MS.
図18の結果から、[Ir(tppm2)2(dpm)]は、主としてm/z=807付近およびm/z=499付近にプロダクトイオンが検出されることがわかった。なお、図18に示す結果は、[Ir(tppm2)2(dpm)]に由来する特徴的な結果を示すものであることから、混合物中に含まれる[Ir(tppm2)2(dpm)]を同定する上での重要なデータであるといえる。 From the results of FIG. 18, it was found that [Ir (tppm2) 2 (dpm)] detects product ions mainly in the vicinity of m / z = 807 and m / z = 499. Incidentally, the results shown in Figure 18, the [Ir (tppm2) 2 (dpm )] [Ir (tppm2) 2 (dpm)] Since shows the characteristic results from, contained in the mixture It can be said that this is important data for identification.
なお、m/z=807付近のプロダクトイオンは、[Ir(tppm2)2(dpm)]におけるジピバロイルメタンが離脱した状態のカチオンと推定され、[Ir(tppm2)2(dpm)]が、ジピバロイルメタンを含んでいることを示唆するものであり、m/z=499付近のプロダクトイオンはさらに2,配位子である4,5−トリフェニルピリミジン1分子の脱離が進んだことを示唆するものである。 Note that product ions around m / z = 807 is, [Ir (tppm2) 2 ( dpm)] dipivaloylmethane it is estimated that the cations of the state that has left in, [Ir (tppm2) 2 ( dpm)] is This suggests that dipivaloylmethane is contained, and the product ion near m / z = 499 further proceeds with elimination of one molecule of 2,5-triphenylpyrimidine as a ligand. It is a suggestion.
≪合成例3≫
本実施例では、実施の形態1の構造式(200)で表される本発明の一態様である有機金属錯体、トリス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC]イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)3])の合成方法について説明する。なお、[Ir(tppm2)3]の構造を以下に示す。
<< Synthesis Example 3 >>
In this example, an organometallic complex which is one embodiment of the present invention represented by the structural formula (200) of Embodiment 1, tris [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC A method for synthesizing iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 3 ]) will be described. The structure of [Ir (tppm2) 3 ] is shown below.
<トリス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC]イリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)3])の合成>
ジ−μ−クロロ−テトラキス[2−(4,5−ジフェニル−2−ピリミジニル−κN)フェニル−κC]ジイリジウム(III)(略称:[Ir(tppm2)2Cl]2)1.5g(0.890mmol)、2,4,5−トリフェニルピリミジン0.824g(2.7mmol)、炭酸カリウム1.2g(8.9mmol)、フェノール15gを200mL三口フラスコに加え、窒素気流下、200℃で15時間加熱した。この反応混合物にメタノールを加えて超音波を照射し塊を粉砕した後、吸引ろ過をして黄色固体を得た。得られた固体を水、次いでメタノールで洗浄した。得られた固体にトルエン50mLを加えて、1時間加熱還流し、自然ろ過して不溶物を除去した。得られたろ液を濃縮し、固体を得た。得られた固体をトルエン/エタノールの混合溶媒で再結晶し、黄色固体を1.4g、収率68%で得た。本ステップの合成スキームを下記式(c−2)に示す。
<Synthesis of Tris [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] iridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 3 ])>
1.5 g of di-μ-chloro-tetrakis [2- (4,5-diphenyl-2-pyrimidinyl-κN) phenyl-κC] diiridium (III) (abbreviation: [Ir (tppm2) 2 Cl] 2 ) .890 mmol), 2,4,5-triphenylpyrimidine 0.824 g (2.7 mmol), potassium carbonate 1.2 g (8.9 mmol) and phenol 15 g were added to a 200 mL three-necked flask, and the mixture was added at a temperature of 200 ° C. under a nitrogen stream. Heated for hours. Methanol was added to the reaction mixture and ultrasonic waves were applied to pulverize the mass, followed by suction filtration to obtain a yellow solid. The resulting solid was washed with water and then methanol. To the obtained solid, 50 mL of toluene was added, heated under reflux for 1 hour, and naturally filtered to remove insoluble matters. The obtained filtrate was concentrated to obtain a solid. The obtained solid was recrystallized with a mixed solvent of toluene / ethanol to obtain 1.4 g of a yellow solid with a yield of 68%. The synthesis scheme of this step is shown in the following formula (c-2).
上記ステップで得られた黄色固体の核磁気共鳴分光法(1H−NMR)による分析結果を下記に示す。また、1H−NMRチャートを図19に示す。この結果から、本合成例において、上述の構造式(200)で表される本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)3]が得られたことがわかった。 The analysis result by nuclear magnetic resonance spectroscopy ( 1 H-NMR) of the yellow solid obtained in the above step is shown below. Further, the 1 H-NMR chart is shown in FIG. From this result, it was found that the organometallic complex [Ir (tppm2) 3 ], which is one embodiment of the present invention represented by the above structural formula (200), was obtained in this synthesis example.
1H−NMR.δ(CDCl3):6.93−7.02(m,15H),7.20−7.29(m,15H),7.33−7.36(m,3H),7.49−7.50(m,6H),7.90(s,3H),8.25−8.26(m,3H). 1 H-NMR. δ (CDCl 3 ): 6.93-7.02 (m, 15H), 7.20-7.29 (m, 15H), 7.33-7.36 (m, 3H), 7.49-7 .50 (m, 6H), 7.90 (s, 3H), 8.25-8.26 (m, 3H).
また、得られた有機金属錯体[Ir(tppm2)3]の分解温度Td をTG−DTAにより測定したところ、Td =402℃であり、良好な耐熱性を示すことがわかった。 Further, when a decomposition temperature T d of the obtained organometallic complex [Ir (tppm2) 3] was measured by TG-DTA, a T d = 402 ° C., it was found to exhibit excellent heat resistance.
次に、[Ir(tppm2)3]のジクロロメタン溶液の紫外可視吸収スペクトル(以下、単に「吸収スペクトル」という)及び発光スペクトルを測定した。吸収スペクトルの測定には、紫外可視分光光度計((株)日本分光製 V550型)を用い、ジクロロメタン溶液(0.010mmol/L)を石英セルに入れ、室温で測定を行った。また、発光スペクトルの測定には、蛍光光度計((株)浜松ホトニクス製 FS920)を用い、脱気した、ジクロロメタン溶液(0.010mmol/L)を石英セルに入れ、室温で測定を行った。得られた吸収スペクトル及び発光スペクトルの測定結果を図20示す。横軸は波長、縦軸は吸収強度および発光強度を表す。なお、図20に示す吸収スペクトルは、ジクロロメタン溶液(0.010mmol/L)を石英セルに入れて測定した吸収スペクトルから、ジクロロメタンのみを石英セルに入れて測定した吸収スペクトルを差し引いた結果を示している。 Next, an ultraviolet-visible absorption spectrum (hereinafter, simply referred to as “absorption spectrum”) and an emission spectrum of [Ir (tppm2) 3 ] in a dichloromethane solution were measured. For the measurement of the absorption spectrum, an ultraviolet-visible spectrophotometer (V550 type, manufactured by JASCO Corporation) was used, and a dichloromethane solution (0.010 mmol / L) was placed in a quartz cell and measured at room temperature. For measurement of the emission spectrum, a degassed dichloromethane solution (0.010 mmol / L) was placed in a quartz cell using a fluorometer (FS920 manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.), and measurement was performed at room temperature. The measurement results of the obtained absorption spectrum and emission spectrum are shown in FIG. The horizontal axis represents wavelength, and the vertical axis represents absorption intensity and emission intensity. The absorption spectrum shown in FIG. 20 shows the result of subtracting the absorption spectrum measured by putting only dichloromethane in a quartz cell from the absorption spectrum measured by putting a dichloromethane solution (0.010 mmol / L) in the quartz cell. Yes.
図20に示す通り、有機金属錯体[Ir(tppm2)3]は、622nmに発光ピークを有しており、ジクロロメタンからは橙色の発光が観測された。 As shown in FIG. 20, the organometallic complex [Ir (tppm2) 3 ] had an emission peak at 622 nm, and orange emission was observed from dichloromethane.
次に、本実施例で得られた[Ir(tppm2)3]を液体クロマトグラフ質量分析(Liquid Chromatography Mass Spectrometry(略称:LC/MS分析))によって質量(MS)分析した。 [Ir (tppm2) 3 ] obtained in this example was subjected to mass (MS) analysis by liquid chromatography mass spectrometry (abbreviation: LC / MS analysis).
LC/MS分析は、LC(液体クロマトグラフィー)分離をウォーターズ社製Acquity UPLCにより、MS分析(質量分析)をウォーターズ社製Xevo G2 Tof MSにより行った。LC分離で用いたカラムはAcquity UPLC BEH C8 (2.1×100mm 1.7μm)、カラム温度は40℃とした。移動相は移動相Aをアセトニトリル、移動相Bを0.1%ギ酸水溶液とした。また、サンプルは任意の濃度の[Ir(tppm2)3]をクロロホルムに溶解し、アセトニトリルで希釈して調整し、注入量は5.0μLとした。 In LC / MS analysis, LC (liquid chromatography) separation was performed by Acquity UPLC manufactured by Waters, and MS analysis (mass spectrometry) was performed by Xevo G2 Tof MS manufactured by Waters. The column used for the LC separation was Acquity UPLC BEH C8 (2.1 × 100 mm 1.7 μm), and the column temperature was 40 ° C. As the mobile phase, mobile phase A was acetonitrile and mobile phase B was 0.1% formic acid aqueous solution. The sample was prepared by dissolving [Ir (tppm2) 3 ] of an arbitrary concentration in chloroform and diluting with acetonitrile, and the injection amount was 5.0 μL.
LC分離には移動相の組成を変化させるグラジエント法を用い、測定開始後0分から1分までが、移動相A:移動相B=80:20、その後組成を変化させ、10分後における移動相Aと移動相Bとの比が移動相A:移動相B=95:5となるようにした。比率はリニアに変化させた。 For the LC separation, a gradient method for changing the composition of the mobile phase is used, and from 0 to 1 minute after the start of measurement, the mobile phase A: mobile phase B = 80: 20, then the composition is changed and the mobile phase after 10 minutes. The ratio of A to mobile phase B was set to mobile phase A: mobile phase B = 95: 5. The ratio was changed linearly.
MS分析では、エレクトロスプレーイオン化法(ElectroSpray Ionization(略称:ESI))によるイオン化を行い、キャピラリー電圧は3.0kV、サンプルコーン電圧は30V、検出はポジティブモードで行った。なお、測定する質量範囲はm/z=100〜1500とした。 In the MS analysis, ionization by electrospray ionization (electrospray ionization (abbreviation: ESI)) was performed, the capillary voltage was 3.0 kV, the sample cone voltage was 30 V, and the detection was performed in the positive mode. The mass range to be measured was m / z = 100-1500.
以上の条件で分離、イオン化されたm/z=1115.34の成分を衝突室(コリジョンセル)内でアルゴンガスと衝突させてプロダクトイオンに解離させた。アルゴンに衝突させる際のエネルギー(コリジョンエネルギー)は30eVとした。解離させたプロダクトイオンを飛行時間(TOF)型MSで検出した結果を図21に示す。 The component of m / z = 1115.34 separated and ionized under the above conditions was collided with argon gas in the collision chamber (collision cell) and dissociated into product ions. The energy (collision energy) for collision with argon was 30 eV. FIG. 21 shows the result of detecting the dissociated product ions by time-of-flight (TOF) type MS.
図21の結果から、本発明の一態様である有機金属錯体、[Ir(tppm2)3]は、主としてm/z=807付近、およびm/z=309付近 にプロダクトイオンが検出されることがわかった。なお、図21に示す結果は、[Ir(tppm2)3]に由来する特徴的な結果を示すものであることから、混合物中に含まれる[Ir(tppm2)3]略称)を同定する上での重要なデータであるといえる。 From the results of FIG. 21, it is found that the product ions are detected mainly in the vicinity of m / z = 807 and in the vicinity of m / z = 309 for [Ir (tppm2) 3 ], which is one embodiment of the present invention. all right. Incidentally, the results shown in FIG. 21, in identifying [Ir (tppm2) 3] Since shows the characteristic results from a, contained in the mixture [Ir (tppm2) 3] Abbreviation) It can be said that this is important data.
なお、m/z=807付近のプロダクトイオンは、[Ir(tppm2)3]における配位子Htppm2が離脱した状態のカチオンと推定され、[Ir(tppm2)3]の特徴の一つである。また、m/z=309付近のプロダクトイオンは配位子Htppm2にプロトンが付加した状態のカチオンと推定され、[Ir(tppm2)3]の特徴の一つである。 The product ion in the vicinity of m / z = 807 is presumed to be a cation in a state in which the ligand Htppm2 in [Ir (tppm2) 3 ] is detached, and is one of the characteristics of [Ir (tppm2) 3 ]. The product ion near m / z = 309 is presumed to be a cation in which a proton is added to the ligand Htppm2, and is one of the characteristics of [Ir (tppm2) 3 ].
本実施例では、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)](構造式(100))を発光層に用いた発光素子1を作製し、発光スペクトルの測定を行った。なお、発光素子1の作製については、図22を用いて説明する。また、本実施例で用いる材料の化学式を以下に示す。 In this example, a light-emitting element 1 using the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] (structural formula (100)) which is one embodiment of the present invention for a light-emitting layer was manufactured, and an emission spectrum was measured. went. Note that fabrication of the light-emitting element 1 will be described with reference to FIGS. In addition, chemical formulas of materials used in this example are shown below.
≪発光素子1の作製≫
まず、ガラス製の基板900上に酸化珪素を含むインジウム錫酸化物(ITSO)をスパッタリング法により成膜し、陽極として機能する第1の電極901を形成した。なお、その膜厚は110nmとし、電極面積は2mm×2mmとした。
<< Production of Light-Emitting Element 1 >>
First, indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO) was formed over a glass substrate 900 by a sputtering method, so that a first electrode 901 functioning as an anode was formed. The film thickness was 110 nm and the electrode area was 2 mm × 2 mm.
次に、基板900上に発光素子1を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。 Next, as a pretreatment for forming the light-emitting element 1 on the substrate 900, the substrate surface was washed with water and baked at 200 ° C. for 1 hour, and then UV ozone treatment was performed for 370 seconds.
その後、10−4Pa程度まで内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において、170℃で30分間の真空焼成を行った後、基板900を30分程度放冷した。 Thereafter, the substrate is introduced into a vacuum vapor deposition apparatus whose internal pressure is reduced to about 10 −4 Pa, vacuum baking is performed at 170 ° C. for 30 minutes in a heating chamber in the vacuum vapor deposition apparatus, and then the substrate 900 is formed for about 30 minutes. Allowed to cool.
次に、第1の電極901が形成された面が下方となるように、基板900を真空蒸着装置内に設けられたホルダーに固定した。本実施例では、真空蒸着法により、EL層902を構成する正孔注入層911、正孔輸送層912、発光層913、電子輸送層914、電子注入層915が順次形成される場合について説明する。 Next, the substrate 900 was fixed to a holder provided in the vacuum evaporation apparatus so that the surface on which the first electrode 901 was formed faced down. In this embodiment, the case where the hole injection layer 911, the hole transport layer 912, the light-emitting layer 913, the electron transport layer 914, and the electron injection layer 915 that form the EL layer 902 are sequentially formed by vacuum deposition will be described. .
真空装置内を10−4Paに減圧した後、1,3,5−トリ(ジベンゾチオフェン−4−イル)ベンゼン(略称:DBT3P−II)と酸化モリブデンとを、DBT3P−II:酸化モリブデン=4:2(質量比)となるように共蒸着することにより、第1の電極901上に正孔注入層911を形成した。膜厚は20nmとした。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。 After depressurizing the inside of the vacuum apparatus to 10 −4 Pa, 1,3,5-tri (dibenzothiophen-4-yl) benzene (abbreviation: DBT3P-II) and molybdenum oxide, DBT3P-II: molybdenum oxide = 4 : A hole injection layer 911 was formed over the first electrode 901 by co-evaporation so as to be 2 (mass ratio). The film thickness was 20 nm. Note that co-evaporation is an evaporation method in which a plurality of different substances are simultaneously evaporated from different evaporation sources.
次に、4−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:BPAFLP)を20nm蒸着することにより、正孔輸送層912を形成した。 Next, 4-phenyl-4 ′-(9-phenylfluoren-9-yl) triphenylamine (abbreviation: BPAFLP) was deposited to a thickness of 20 nm, whereby the hole transport layer 912 was formed.
次に、正孔輸送層912上に発光層913を形成した。2−[3’−(ジベンゾチオフェン−4−イル)ビフェニル−3−イル]ジベンゾ[f,h]キノキサリン(略称:2mDBTBPDBq−II)、N−(1,1’−ビフェニル−4−イル)−9,9−ジメチル−N−[4−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)フェニル]−9H−フルオレン−2−アミン(略称:PCBBiF)、[Ir(tppm2)2(acac)]を、2mDBTBPDBq−II:PCBBiF:[Ir(tppm2)2(acac)]=0.8:0.2:0.01(質量比)となるように共蒸着した。なお、膜厚は、40nmの膜厚とした。 Next, a light-emitting layer 913 was formed over the hole transport layer 912. 2- [3 ′-(Dibenzothiophen-4-yl) biphenyl-3-yl] dibenzo [f, h] quinoxaline (abbreviation: 2mDBTBPDBq-II), N- (1,1′-biphenyl-4-yl)- 9,9-dimethyl-N- [4- (9-phenyl-9H-carbazol-3-yl) phenyl] -9H-fluoren-2-amine (abbreviation: PCBBiF), [Ir (tppm2) 2 (acac)] Was co-evaporated so that 2mDBTBPDBq-II: PCBBiF: [Ir (tppm2) 2 (acac)] = 0.8: 0.2: 0.01 (mass ratio). The film thickness was 40 nm.
次に、発光層913上に2mDBTBPDBq−IIを20nm蒸着した後、バソフェナントロリン(略称:Bphen)を10nm蒸着することにより、電子輸送層914を形成した。さらに電子輸送層914上に、フッ化リチウムを1nm蒸着することにより、電子注入層915を形成した。 Next, 2 mDBTBPDBq-II was deposited to a thickness of 20 nm on the light-emitting layer 913, and then bathophenanthroline (abbreviation: Bphen) was deposited to a thickness of 10 nm, whereby the electron transport layer 914 was formed. Further, an electron injection layer 915 was formed on the electron transport layer 914 by depositing 1 nm of lithium fluoride.
最後に、電子注入層915上にアルミニウムを200nmの膜厚となるように蒸着し、陰極となる第2の電極903形成し、発光素子1を得た。なお、上述した蒸着過程において、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。 Finally, aluminum was deposited on the electron injection layer 915 so as to have a thickness of 200 nm, and a second electrode 903 serving as a cathode was formed, whereby the light-emitting element 1 was obtained. Note that, in the above-described vapor deposition process, the vapor deposition was all performed by a resistance heating method.
以上により得られた発光素子1の素子構造を表1に示す。 Table 1 shows an element structure of the light-emitting element 1 obtained as described above.
また、作製した発光素子1は、大気に曝されないように窒素雰囲気のグローブボックス内において封止した(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、及び80℃にて1時間熱処理)。 The produced light-emitting element 1 was sealed in a glove box in a nitrogen atmosphere so as not to be exposed to the atmosphere (a sealing material was applied around the element, UV treatment was performed at the time of sealing, and heat treatment was performed at 80 ° C. for 1 hour. ).
≪発光素子1の動作特性≫
作製した発光素子1の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
<< Operating Characteristics of Light-Emitting Element 1 >>
The operating characteristics of the manufactured light-emitting element 1 were measured. The measurement was performed at room temperature (atmosphere kept at 25 ° C.).
発光素子1の電流密度−輝度特性を図23、発光素子1の電圧−輝度特性を図24、発光素子1の輝度−電流効率特性を図25、発光素子1の電圧−電流特性を図26にそれぞれ示す。 23 shows current density-luminance characteristics of the light-emitting element 1, FIG. 24 shows voltage-luminance characteristics of the light-emitting element 1, FIG. 25 shows luminance-current efficiency characteristics of the light-emitting element 1, and FIG. 26 shows voltage-current characteristics of the light-emitting element 1. Each is shown.
これらの結果より、本発明の一態様である発光素子1は、高効率な素子であることがわかった。また、1000cd/m2付近における発光素子1の主な初期特性値を以下の表2に示す。 From these results, it was found that the light-emitting element 1 which is one embodiment of the present invention is a highly efficient element. In addition, Table 2 below shows main initial characteristic values of the light-emitting element 1 around 1000 cd / m 2 .
上記結果から、本実施例で作製した発光素子1は、高輝度であり、良好な電流効率を示していることが分かる。さらに、色純度に関しては、純度の良い黄色発光を示すことが分かる。 From the above results, it can be seen that the light-emitting element 1 manufactured in this example has high luminance and good current efficiency. Furthermore, regarding color purity, it turns out that yellow light emission with sufficient purity is shown.
また、発光素子1に25mA/cm2の電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを、図27に示す。図27に示す通り、発光素子1の発光スペクトルは566nm付近にピークを有しており、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)]の発光に由来していることが示唆される。 In addition, FIG. 27 shows an emission spectrum when current is passed through the light-emitting element 1 at a current density of 25 mA / cm 2 . As shown in FIG. 27, the emission spectrum of the light-emitting element 1 has a peak around 566 nm and is derived from light emission of the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] which is one embodiment of the present invention. It is suggested.
本実施例では、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(dpm)](構造式(101))を発光層に用いた発光素子2を作製し、発光スペクトルの測定を行った。なお、発光素子2の作製については、実施例4と同様であるので省略する。また、実施例4で用いた材料以外で、本実施例に用いた材料の化学式を以下に示す。 In this example, a light-emitting element 2 using the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (dpm)] (structural formula (101)) which is one embodiment of the present invention for a light-emitting layer was manufactured, and an emission spectrum was measured. went. Note that the fabrication of the light-emitting element 2 is the same as that in Example 4, and therefore will be omitted. In addition to the materials used in Example 4, the chemical formulas of the materials used in this example are shown below.
≪発光素子2の作製≫
本実施例で作製した発光素子2の素子構造を表2に示す。
<< Production of Light-Emitting Element 2 >>
Table 2 shows an element structure of the light-emitting element 2 manufactured in this example.
また、作製した発光素子2は、大気に曝されないように窒素雰囲気のグローブボックス内において封止した(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、及び80℃にて1時間熱処理)。 The produced light-emitting element 2 was sealed in a glove box in a nitrogen atmosphere so as not to be exposed to the atmosphere (a sealing material was applied around the element, UV treatment was performed at the time of sealing, and heat treatment was performed at 80 ° C. for 1 hour. ).
≪発光素子2の動作特性≫
作製した発光素子2の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
<< Operation characteristics of light-emitting element 2 >>
The operating characteristics of the manufactured light-emitting element 2 were measured. The measurement was performed at room temperature (atmosphere kept at 25 ° C.).
発光素子2の電流密度−輝度特性を図28、発光素子2の電圧−輝度特性を図29、発光素子2の輝度−電流効率特性を図30、発光素子2の電圧−電流特性を図31にそれぞれ示す。 28 shows current density-luminance characteristics of the light-emitting element 2, FIG. 29 shows voltage-luminance characteristics of the light-emitting element 2, FIG. 30 shows luminance-current efficiency characteristics of the light-emitting element 2, and FIG. 31 shows voltage-current characteristics of the light-emitting element 2. Each is shown.
これらの結果より、本発明の一態様である発光素子2は、高効率な素子であることがわかった。また、1000cd/m2付近における発光素子2の主な初期特性値を以下の表4に示す。 From these results, it was found that the light-emitting element 2 which is one embodiment of the present invention is a highly efficient element. In addition, Table 4 below shows main initial characteristic values of the light-emitting element 2 around 1000 cd / m 2 .
上記結果から、本実施例で作製した発光素子2は、高輝度であり、良好な電流効率を示していることが分かる。さらに、色純度に関しては、純度の良い黄色発光を示すことが分かる。 From the above results, it can be seen that the light-emitting element 2 manufactured in this example has high luminance and good current efficiency. Furthermore, regarding color purity, it turns out that yellow light emission with sufficient purity is shown.
また、発光素子2に25mA/cm2の電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを、図32に示す。図32に示す通り、発光素子2の発光スペクトルは566nm付近にピークを有しており、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)2(acac)]の発光に由来していることが示唆される。 Further, FIG. 32 shows an emission spectrum obtained when a current is passed through the light-emitting element 2 at a current density of 25 mA / cm 2 . As shown in FIG. 32, the emission spectrum of the light-emitting element 2 has a peak around 566 nm and is derived from light emission of the organometallic complex [Ir (tppm2) 2 (acac)] which is one embodiment of the present invention. It is suggested.
本実施例では、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)3](構造式(200))を発光層に用いた発光素子3を作製し、発光スペクトルの測定を行った。なお、発光素子3の作製については、実施例4および実施例5と同様であるので省略する。また、実施例4および実施例5で用いた材料以外で、本実施例に用いた材料の化学式を以下に示す。 In this example, a light-emitting element 3 using the organometallic complex [Ir (tppm2) 3 ] (structural formula (200)) which is one embodiment of the present invention for a light-emitting layer was manufactured, and an emission spectrum was measured. Note that the fabrication of the light-emitting element 3 is the same as in Example 4 and Example 5, and thus will be omitted. In addition to the materials used in Examples 4 and 5, the chemical formulas of the materials used in this example are shown below.
≪発光素子3の作製≫
本実施例で作製した発光素子3の素子構造を表5に示す。
<< Production of Light-Emitting Element 3 >>
Table 5 shows an element structure of the light-emitting element 3 manufactured in this example.
また、作製した発光素子3は、大気に曝されないように窒素雰囲気のグローブボックス内において封止した(シール材を素子の周囲に塗布し、封止時にUV処理、及び80℃にて1時間熱処理)。 The produced light-emitting element 3 was sealed in a glove box in a nitrogen atmosphere so as not to be exposed to the atmosphere (a sealing material was applied around the element, UV treatment was performed at the time of sealing, and heat treatment was performed at 80 ° C. for 1 hour. ).
≪発光素子3の動作特性≫
作製した発光素子3の動作特性について測定した。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
<< Operation characteristics of light-emitting element 3 >>
The operating characteristics of the manufactured light-emitting element 3 were measured. The measurement was performed at room temperature (atmosphere kept at 25 ° C.).
発光素子3の電流密度−輝度特性を図34、発光素子3の電圧−輝度特性を図35、発光素子3の輝度−電流効率特性を図36、発光素子3の電圧−電流特性を図37にそれぞれ示す。 34 shows the current density-luminance characteristics of the light-emitting element 3, FIG. 35 shows the voltage-luminance characteristics of the light-emitting element 3, FIG. 36 shows the luminance-current efficiency characteristics of the light-emitting element 3, and FIG. 37 shows the voltage-current characteristics of the light-emitting element 3. Each is shown.
これらの結果より、本発明の一態様である発光素子3は、高効率な素子であることがわかった。また、1000cd/m2付近における発光素子3の主な初期特性値を以下の表6に示す。 From these results, it was found that the light-emitting element 3 which is one embodiment of the present invention is a highly efficient element. In addition, Table 6 below shows main initial characteristic values of the light-emitting element 3 around 1000 cd / m 2 .
上記結果から、本実施例で作製した発光素子3は、高輝度であり、良好な電流効率を示していることが分かる。さらに、色純度に関しては、純度の良い黄色発光を示すことが分かる。 From the above results, it can be seen that the light-emitting element 3 manufactured in this example has high luminance and good current efficiency. Furthermore, regarding color purity, it turns out that yellow light emission with sufficient purity is shown.
また、発光素子3に25mA/cm2の電流密度で電流を流した際の発光スペクトルを、図38に示す。図38に示す通り、発光素子3の発光スペクトルは569nm付近にピークを有しており、本発明の一態様である有機金属錯体[Ir(tppm2)3]の発光に由来していることが示唆される。 Further, FIG. 38 shows an emission spectrum obtained when a current is passed through the light-emitting element 3 at a current density of 25 mA / cm 2 . As shown in FIG. 38, the light-emitting spectrum of the light-emitting element 3 has a peak around 569 nm, suggesting that the light-emitting element 3 is derived from light emission of the organometallic complex [Ir (tppm2) 3 ] which is one embodiment of the present invention. Is done.
101 第1の電極
102 EL層
103 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
115 電子注入層
201 第1の電極
202(1) 第1のEL層
202(2) 第2のEL層
202(n−1) 第(n−1)のEL層
202(n) 第(n)のEL層
204 第2の電極
205 電荷発生層
205(1) 第1の電荷発生層
205(2) 第2の電荷発生層
205(n−2) 第(n−2)の電荷発生層
205(n−1) 第(n−1)の電荷発生層
301 素子基板
302 画素部
303 駆動回路部(ソース線駆動回路)
304a、304b 駆動回路部(ゲート線駆動回路)
305 シール材
306 封止基板
307 配線
308 FPC(フレキシブルプリントサーキット)
309 FET
310 FET
311 スイッチング用FET
312 電流制御用FET
313 第1の電極(陽極)
314 絶縁物
315 EL層
316 第2の電極(陰極)
317 発光素子
318 空間
351 基板
352 第1の電極
353 第2の電極
354 EL層
355 絶縁膜
356 隔壁
900 基板
901 第1の電極
902 EL層
903 第2の電極
911 正孔注入層
912 正孔輸送層
913 発光層
914 電子輸送層
915 電子注入層
7100 テレビジョン装置
7101 筐体
7103 表示部
7105 スタンド
7107 表示部
7109 操作キー
7110 リモコン操作機
7201 本体
7202 筐体
7203 表示部
7204 キーボード
7205 外部接続ポート
7206 ポインティングデバイス
7302 筐体
7304 表示部
7305 時刻を表すアイコン
7306 その他のアイコン
7311 操作ボタン
7312 操作ボタン
7313 接続端子
7321 バンド
7322 留め金
7400 携帯電話機
7401 筐体
7402 表示部
7403 操作用ボタン
7404 外部接続部
7405 スピーカ
7406 マイク
7407 カメラ
7500(1)、7500(2) 筐体
7501(1)、7501(2) 第1面
7502(1)、7502(2) 第2面
8001 照明装置
8002 照明装置
8003 照明装置
8004 照明装置
9310 携帯情報端末
9311 表示部
9312 表示領域
9313 ヒンジ
9315 筐体
101 1st electrode 102 EL layer 103 2nd electrode 111 Hole injection layer 112 Hole transport layer 113 Light emitting layer 114 Electron transport layer 115 Electron injection layer 201 1st electrode 202 (1) 1st EL layer 202 ( 2) Second EL layer 202 (n-1) (n-1) EL layer 202 (n) (n) EL layer 204 Second electrode 205 Charge generation layer 205 (1) First charge Generation layer 205 (2) Second charge generation layer 205 (n-2) (n-2) charge generation layer 205 (n-1) (n-1) charge generation layer 301 Element substrate 302 Pixel portion 303 Drive circuit section (source line drive circuit)
304a, 304b Drive circuit section (gate line drive circuit)
305 Sealing material 306 Sealing substrate 307 Wiring 308 FPC (flexible printed circuit)
309 FET
310 FET
311 Switching FET
312 Current control FET
313 First electrode (anode)
314 Insulator 315 EL layer 316 Second electrode (cathode)
317 Light-emitting element 318 Space 351 Substrate 352 First electrode 353 Second electrode 354 EL layer 355 Insulating film 356 Partition wall 900 Substrate 901 First electrode 902 EL layer 903 Second electrode 911 Hole injection layer 912 Hole transport layer 913 Light-emitting layer 914 Electron transport layer 915 Electron injection layer 7100 Television apparatus 7101 Case 7103 Display unit 7105 Stand 7107 Display unit 7109 Operation key 7110 Remote control device 7201 Main body 7202 Case 7203 Display unit 7204 Keyboard 7205 External connection port 7206 Pointing device 7302 Case 7304 Display portion 7305 Time icon 7306 Other icons 7311 Operation button 7312 Operation button 7313 Connection terminal 7321 Band 7322 Clasp 7400 Mobile phone 7401 Body 7402 Display portion 7403 Operation button 7404 External connection portion 7405 Speaker 7406 Microphone 7407 Camera 7500 (1), 7500 (2) Cases 7501 (1), 7501 (2) First surface 7502 (1), 7502 (2) Second surface 8001 Lighting device 8002 Lighting device 8003 Lighting device 8004 Lighting device 9310 Portable information terminal 9311 Display unit 9312 Display area 9313 Hinge 9315 Case
Claims (5)
(但し、式(G2)中、R1乃至R12、R14は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。R13およびR15は、それぞれ独立に、水素を表す。Mはイリジウムを表し、Lはβ−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子を表す。mは3を表し、nは2を表す。) An organometallic complex represented by the formula (G2).
(In the formula (G2), R 1 to R 12 and R 14 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 13 and R 15 are each independently And M represents iridium, L represents a monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure, m represents 3 and n represents 2.
前記β−ジケトン構造を有するモノアニオン性の二座キレート配位子は、下記式(L1)で表される配位子である有機金属錯体。
(但し、式(L1)中、R71〜R73は、それぞれ独立に、水素、置換もしくは無置換の炭素数1〜6のアルキル基を表す。) In claim 1,
The monoanionic bidentate chelate ligand having a β-diketone structure is an organometallic complex that is a ligand represented by the following formula (L1).
(However, in formula (L1), R 71 to R 73 each independently represents hydrogen, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
(但し、式(G4)中、R1乃至R12、R14は、それぞれ独立に、水素又は置換もしくは無置換の炭素数1乃至6のアルキル基を表す。R13およびR15は、それぞれ独立に、水素を表す。) An organometallic complex represented by the formula (G4).
(In the formula (G4), R 1 to R 12 and R 14 each independently represent hydrogen or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. R 13 and R 15 are each independently Represents hydrogen.)
Emitting device having an organic metal complex according to any one of claims 1 to 4.
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