JP6583232B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, a process cartridge, and an image forming apparatus.
電子写真感光体は、像担持体として電子写真方式の画像形成装置(例えば、プリンター又は複合機)において用いられる。電子写真感光体は、感光層を備える。電子写真感光体としては、例えば、単層型電子写真感光体又は積層型電子写真感光体が用いられる。単層型電子写真感光体は、電荷発生の機能と電荷輸送の機能とを有する単層の感光層を備える。積層型電子写真感光体は、感光層として、電荷発生の機能を有する電荷発生層と、電荷輸送の機能を有する電荷輸送層とを備える。 The electrophotographic photosensitive member is used as an image carrier in an electrophotographic image forming apparatus (for example, a printer or a multifunction machine). The electrophotographic photoreceptor includes a photosensitive layer. As the electrophotographic photosensitive member, for example, a single layer type electrophotographic photosensitive member or a multilayer type electrophotographic photosensitive member is used. The single-layer type electrophotographic photosensitive member includes a single-layer photosensitive layer having a charge generation function and a charge transport function. The multilayer electrophotographic photoreceptor includes, as a photosensitive layer, a charge generation layer having a charge generation function and a charge transport layer having a charge transport function.
特許文献1には、下記化学式で表されるポリアリレート樹脂の少なくとも1種を結合剤樹脂として含む電子写真感光体が記載されている。 Patent Document 1 describes an electrophotographic photosensitive member containing at least one polyarylate resin represented by the following chemical formula as a binder resin.
しかし、特許文献1に記載の電子写真感光体では、耐フィルミング性が不十分である。 However, the electrophotographic photoreceptor described in Patent Document 1 has insufficient filming resistance.
本発明は上述の課題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、耐フィルミング性に優れる電子写真感光体を提供することである。また、本発明の目的は、フィルミングに起因する画像不良の発生を抑制するプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供することである。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor excellent in filming resistance. It is another object of the present invention to provide a process cartridge and an image forming apparatus that suppress the occurrence of image defects due to filming.
本発明の電子写真感光体は、導電性基体と感光層とを備える。前記感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層とを含む。前記電荷発生層は、電荷発生剤を含む。前記電荷輸送層は、正孔輸送剤とバインダー樹脂とを含む。前記電荷輸送層は、一層であり最表面層として備えられる。前記バインダー樹脂は、一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂を含む。前記正孔輸送剤の融点は、200℃以上である。前記感光層の弾性仕事率は、47.0%以上である。 The electrophotographic photoreceptor of the present invention includes a conductive substrate and a photosensitive layer. The photosensitive layer includes a charge generation layer and a charge transport layer. The charge generation layer includes a charge generation agent. The charge transport layer includes a hole transport agent and a binder resin. The charge transport layer is a single layer and is provided as the outermost layer. The binder resin includes a polyarylate resin represented by the general formula (1), (2), or (3). The melting point of the hole transport agent is 200 ° C. or higher. The elastic power of the photosensitive layer is 47.0% or more.
前記一般式(1)中、X1及びY1は、各々、化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X1とY1とは互いに異なっている。kr及びktは、各々独立に、2又は3を表す。r1及びs1は、各々独立に、数式(1a)及び(1b)を満たす正の数を表す。t1及びu1は、各々独立に、前記数式(1a)及び(1b)を満たす0以上の数を表す。
r1+s1+t1+u1=100・・・(1a)
r1+t1=s1+u1 ・・・(1b)
In the general formula (1), X 1 and Y 1 are each a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F). X 1 and Y 1 are different from each other. kr and kt each independently represent 2 or 3. r 1 and s 1 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (1a) and (1b). t 1 and u 1 each independently represents a number of 0 or more that satisfies the mathematical formulas (1a) and (1b).
r 1 + s 1 + t 1 + u 1 = 100 (1a)
r 1 + t 1 = s 1 + u 1 (1b)
前記一般式(2)中、R21、R22、R23及びR24は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。X2及びY2は、各々、前記化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X2とY2とは互いに異なっている。r2、s2、t2及びu2は、各々独立に、数式(2a)、(2b)及び(2c)を満たす正の数を表す。
r2+s2+t2+u2=100 ・・・(2a)
r2+t2=s2+u2 ・・・(2b)
0.30≦s2/(s2+u2)≦0.70・・・(2c)
In the general formula (2), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. X 2 and Y 2 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F), and X 2 and Y 2 Are different from each other. r 2 , s 2 , t 2 and u 2 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (2a), (2b) and (2c).
r 2 + s 2 + t 2 + u 2 = 100 (2a)
r 2 + t 2 = s 2 + u 2 (2b)
0.30 ≦ s 2 / (s 2 + u 2 ) ≦ 0.70 (2c)
前記一般式(3)中、R31、R32、R33及びR34は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。X3及びY3は、各々、前記化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X3とY3とは互いに異なっている。r3、s3、t3及びu3は、各々独立に、数式(3a)、(3b)及び(3c)を満たす正の数を表す。
r3+s3+t3+u3=100 ・・・(3a)
r3+t3=s3+u3 ・・・(3b)
0.30≦s3/(s3+u3)≦0.70・・・(3c)
In the general formula (3), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. X 3 and Y 3 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F), and X 3 and Y 3 Are different from each other. r 3 , s 3 , t 3 and u 3 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (3a), (3b) and (3c).
r 3 + s 3 + t 3 + u 3 = 100 (3a)
r 3 + t 3 = s 3 + u 3 (3b)
0.30 ≦ s 3 / (s 3 + u 3 ) ≦ 0.70 (3c)
本発明のプロセスカートリッジは、上述の電子写真感光体を備える。 The process cartridge of the present invention includes the above-described electrophotographic photosensitive member.
本発明の画像形成装置は、上述の電子写真感光体と、帯電部と、露光部と、現像部と、転写部とを備える。前記帯電部は、前記電子写真感光体の表面を負極性に帯電する。前記露光部は、帯電された前記電子写真感光体の前記表面を露光して、前記電子写真感光体の前記表面に静電潜像を形成する。前記現像部は、前記静電潜像をトナー像として現像する。前記転写部は、前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体へ転写する。 An image forming apparatus of the present invention includes the above-described electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit. The charging unit charges the surface of the electrophotographic photosensitive member to a negative polarity. The exposure unit exposes the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member. The developing unit develops the electrostatic latent image as a toner image. The transfer unit transfers the toner image from the electrophotographic photosensitive member to a transfer target.
本発明の電子写真感光体は、耐フィルミング性に優れる。また、本発明のプロセスカートリッジ及び画像形成装置は、フィルミングに起因する画像不良の発生を抑制する。 The electrophotographic photoreceptor of the present invention is excellent in filming resistance. In addition, the process cartridge and the image forming apparatus of the present invention suppress the occurrence of image defects due to filming.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。しかし、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されない。本発明は、本発明の目的の範囲内で、適宜変更を加えて実施できる。なお、説明が重複する箇所については、適宜説明を省略する場合があるが、発明の要旨は限定されない。なお、本明細書において、化合物名の後に「系」を付けて、化合物及びその誘導体を包括的に総称する場合がある。化合物名の後に「系」を付けて重合体名を表す場合には、重合体の繰返し単位が化合物又はその誘導体に由来することを意味する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments. The present invention can be implemented with appropriate modifications within the scope of the object of the present invention. In addition, about the location where description overlaps, although description may be abbreviate | omitted suitably, the summary of invention is not limited. In the present specification, a compound and its derivatives may be generically named by adding “system” after the compound name. When the name of a polymer is expressed by adding “system” after the compound name, it means that the repeating unit of the polymer is derived from the compound or a derivative thereof.
反応式(r−1)〜(r−11)で表される反応を各々、反応(r−1)〜(r−11)と記載することがある。一般式(15)、(15−2)〜(15−6)、(15−6−1)、(15−6−2)、(15−6−3)、(15−7)及び(15−10)〜(15−18)で表される化合物を各々、化合物(15)、(15−2)〜(15−6)、(15−6−1)、(15−6−2)、(15−6−3)、(15−7)及び(15−10)〜(15−18)と記載することがある。 Reactions represented by reaction formulas (r-1) to (r-11) may be referred to as reactions (r-1) to (r-11), respectively. Formulas (15), (15-2) to (15-6), (15-6-1), (15-6-2), (15-6-3), (15-7) and (15 −10) to (15-18), the compounds (15), (15-2) to (15-6), (15-6-1), (15-6-2), (15-6-3), (15-7) and (15-10) to (15-18).
以下、ハロゲン原子、炭素原子数1以上8以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルキル基、炭素原子数1以上3以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基及び炭素原子数6以上14以下のアリール基は、何ら規定していなければ、各々次の意味である。 Hereinafter, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, carbon An alkoxy group having 1 to 6 atoms and an aryl group having 6 to 14 carbon atoms have the following meanings unless otherwise specified.
ハロゲン原子は、例えば、フッ素(フルオロ基)、塩素(クロロ基)又は臭素(ブロモ基)である。 The halogen atom is, for example, fluorine (fluoro group), chlorine (chloro group) or bromine (bromo group).
炭素原子数1以上8以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上4以下のアルキル基及び炭素原子数1以上3以下のアルキル基は、各々、直鎖状又は分枝鎖状で非置換である。炭素原子数1以上8以下のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基又はオクチル基が挙げられる。炭素原子数1以上6以下のアルキル基の例は、炭素原子数1以上8以下のアルキル基の例として述べた基のうち、炭素原子数が1以上6以下である基である。炭素原子数1以上4以下のアルキル基の例は、炭素原子数1以上8以下のアルキル基の例として述べた基のうち、炭素原子数が1以上4以下である基である。炭素原子数1以上3以下のアルキル基の例は、炭素原子数1以上8以下のアルキル基の例として述べた基のうち、炭素原子数が1以上3以下である基である。 The alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms are each linear. Or it is branched and unsubstituted. Examples of the alkyl group having 1 to 8 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, and neopentyl group. Hexyl group, heptyl group or octyl group. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms are groups having 1 to 6 carbon atoms among the groups described as examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms are groups having 1 to 4 carbon atoms among the groups described as examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms are groups having 1 to 3 carbon atoms among the groups described as examples of alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms.
炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換である。炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基又はヘキシルオキシ基が挙げられる。 The alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is linear or branched and unsubstituted. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, pentyloxy, iso A pentyloxy group, a neopentyloxy group, or a hexyloxy group may be mentioned.
炭素原子数6以上14以下のアリール基は、例えば、炭素原子数6以上14以下の非置換の芳香族単環炭化水素基、炭素原子数6以上14以下の非置換の芳香族縮合二環炭化水素基又は素原子数6以上14以下の非置換の芳香族縮合三環炭化水素基である。炭素原子数6以上14以下のアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基又はフェナントリル基が挙げられる。 Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms include an unsubstituted aromatic monocyclic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms and an unsubstituted aromatic condensed bicyclic carbon group having 6 to 14 carbon atoms. A hydrogen group or an unsubstituted aromatic condensed tricyclic hydrocarbon group having 6 to 14 elemental atoms. Examples of the aryl group having 6 to 14 carbon atoms include a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.
<電子写真感光体>
本実施形態は、電子写真感光体(以下、感光体と記載することがある)に関する。本実施形態の感光体は、耐フィルミング性に優れる。その理由は、以下のように推測される。
<Electrophotographic photoreceptor>
The present embodiment relates to an electrophotographic photoreceptor (hereinafter sometimes referred to as a photoreceptor). The photoreceptor of this embodiment is excellent in filming resistance. The reason is presumed as follows.
理解を助けるために、まず、感光体の表面のフィルミングについて説明する。フィルミングは、感光体の表面に微小成分が付着して固着する現象である。微小成分の一例は、トナー成分であり、より具体的には、トナー又はトナーから遊離した外添剤である。微小成分の別の例は、非トナー成分であり、より具体的には記録媒体の微小成分(例えば、紙粉)である。 To help understanding, first, filming on the surface of the photoreceptor will be described. Filming is a phenomenon in which minute components adhere to and adhere to the surface of the photoreceptor. An example of the minute component is a toner component, and more specifically, the toner or an external additive released from the toner. Another example of the minute component is a non-toner component, and more specifically, a minute component (for example, paper dust) of the recording medium.
本実施形態の感光体においては、電荷輸送層が、バインダー樹脂としての一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂(以下、それぞれをポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)と記載することがある)を含む。電荷輸送層がポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)を含むことで、感光層の弾性仕事率を高くすることができる。ここで、電荷輸送層にバインダー樹脂に加えて正孔輸送剤を添加すると、感光層の弾性仕事率は低下する傾向がある。しかし、本実施形態の感光体においては、正孔輸送剤の融点が200℃以上である。200℃以上の融点を有する正孔輸送剤を電荷輸送層に含有させることで、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)の含有によって向上した感光層の弾性仕事率が、低下することを抑制できる。本実施形態の感光体においては、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)と、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤とを電荷輸送層が含むことで、感光層の弾性仕事率を47.0%以上に調整することができる。その結果、感光体の表面にフィルミングが発生することを抑制できる。 In the photoreceptor of this embodiment, the charge transport layer is a polyarylate resin represented by the general formula (1), (2) or (3) as a binder resin (hereinafter, each of the polyarylate resin (1), (It may be described as (2) or (3)). When the charge transport layer contains the polyarylate resin (1), (2) or (3), the elastic power of the photosensitive layer can be increased. Here, when a hole transport agent is added to the charge transport layer in addition to the binder resin, the elastic power of the photosensitive layer tends to decrease. However, in the photoreceptor of this embodiment, the melting point of the hole transport agent is 200 ° C. or higher. By including a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher in the charge transport layer, the elastic work rate of the photosensitive layer improved by the inclusion of the polyarylate resin (1), (2) or (3) is lowered. This can be suppressed. In the photoconductor of the present embodiment, the charge transport layer contains the polyarylate resin (1), (2) or (3) and a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher, so that the elasticity of the photoconductive layer. The work rate can be adjusted to 47.0% or more. As a result, the occurrence of filming on the surface of the photoreceptor can be suppressed.
次に、図1を参照して、本実施形態に係る感光体30の構造について説明する。図1は、本実施形態に係る感光体30の構造を示す部分断面図である。
Next, the structure of the
図1(a)に示すように、感光体30は、導電性基体31と、感光層32とを備える。感光層32は、電荷発生層321と電荷輸送層322とを含む。感光体30は、積層型電子写真感光体である。電荷輸送層322は、一層である。電荷輸送層322は、感光体30の最表面層として備えられる。感光体30においては、例えば、導電性基体31の上に電荷発生層321が備えられ、電荷発生層321の上に電荷輸送層322が備えられる。感光層32は導電性基体31の上に直接備えられてもよい。電荷発生層321は、導電性基体31の上に直接備えられてもよい。
As shown in FIG. 1A, the
図1(b)に示すように、感光体30は、例えば、導電性基体31と、中間層33(下引層)と、感光層32とを備えていてもよい。感光層32は、導電性基体31の上に中間層33を介して備えられてもよい。中間層33は、導電性基体31と電荷発生層321との間に備えられてもよい。中間層33は、電荷発生層321と電荷輸送層322との間に備えられてもよい。
As shown in FIG. 1B, the
電荷発生層321の厚さは、0.01μm以上5μm以下であることが好ましく、0.1μm以上3μm以下であることがより好ましい。電荷輸送層322の厚さは、2μm以上100μm以下であることが好ましく、5μm以上50μm以下であることがより好ましい。以上、図1を参照して、感光体30の構造について説明した。以下、感光体について、更に詳細に説明する。
The thickness of the
<導電性基体>
導電性基体は、感光体の導電性基体として用いることができる限り、特に限定されない。導電性基体の少なくとも表面部が、導電性を有する材料であればよい。導電性基体の一例は、導電性を有する材料で構成された導電性基体である。導電性基体の別の例は、導電性を有する材料で被覆された導電性基体である。導電性を有する材料としては、例えば、アルミニウム、鉄、銅、錫、白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム又はインジウムが挙げられる。これらの導電性を有する材料を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。2種以上の組合せとしては、例えば、合金(より具体的には、アルミニウム合金、ステンレス鋼又は真鍮等)が挙げられる。これらの導電性を有する材料の中でも、アルミニウム又はアルミニウム合金が好ましい。
<Conductive substrate>
The conductive substrate is not particularly limited as long as it can be used as the conductive substrate of the photoreceptor. It is sufficient that at least the surface portion of the conductive substrate is a material having conductivity. An example of the conductive substrate is a conductive substrate made of a conductive material. Another example of the conductive substrate is a conductive substrate coated with a conductive material. Examples of the conductive material include aluminum, iron, copper, tin, platinum, silver, vanadium, molybdenum, chromium, cadmium, titanium, nickel, palladium, and indium. These materials having conductivity may be used alone or in combination of two or more. Examples of the combination of two or more include alloys (more specifically, aluminum alloy, stainless steel, brass, etc.). Among these materials having conductivity, aluminum or an aluminum alloy is preferable.
導電性基体の形状は、使用する画像形成装置の構造に合わせて適宜選択することができる。導電性基体の形状としては、例えば、シート状又はドラム状が挙げられる。また、導電性基体の厚みは、導電性基体の形状に応じて、適宜選択することができる。 The shape of the conductive substrate can be appropriately selected according to the structure of the image forming apparatus to be used. Examples of the shape of the conductive substrate include a sheet shape or a drum shape. Further, the thickness of the conductive substrate can be appropriately selected according to the shape of the conductive substrate.
<感光層>
感光層は電荷発生層と電荷輸送層とを含む。電荷発生層は、電荷発生剤を含む。電荷発生層は、電荷発生層用バインダー樹脂(以下、ベース樹脂と記載することがある)を含有してもよい。電荷輸送層は、正孔輸送剤と、バインダー樹脂とを含む。電荷発生層及び電荷輸送層は、必要に応じて、添加剤を含有してもよい。
<Photosensitive layer>
The photosensitive layer includes a charge generation layer and a charge transport layer. The charge generation layer includes a charge generation agent. The charge generation layer may contain a charge generation layer binder resin (hereinafter sometimes referred to as a base resin). The charge transport layer includes a hole transport agent and a binder resin. The charge generation layer and the charge transport layer may contain an additive as necessary.
(感光層の弾性仕事率)
感光層の弾性仕事率は、47.0%以上である。感光層の弾性仕事率が47.0%未満であると、既に述べたように感光体にフィルミングが発生する。本実施形態の感光体においては、電荷輸送層が一層であり最表面層として備えられることから、感光層の弾性仕事率は、電荷輸送層の弾性仕事率に相当する。
(Elastic power of photosensitive layer)
The elastic power of the photosensitive layer is 47.0% or more. When the elastic power of the photosensitive layer is less than 47.0%, filming occurs on the photosensitive member as described above. In the photoreceptor of this embodiment, since the charge transport layer is a single layer and is provided as the outermost surface layer, the elastic power of the photosensitive layer corresponds to the elastic power of the charge transport layer.
感光体の耐フィルミング性を更に向上させるためには、感光層の弾性仕事率は、50.0%以上であることが好ましい。また、感光層の弾性仕事率は、60.0%以下であることが好ましく、55.0%以下であることがより好ましい。 In order to further improve the filming resistance of the photosensitive member, the elastic power of the photosensitive layer is preferably 50.0% or more. Further, the elastic power of the photosensitive layer is preferably 60.0% or less, and more preferably 55.0% or less.
感光層の弾性仕事率は、温度23℃及び相対湿度50%RHの環境下で、ダイヤモンド圧子を備える微小硬度計(株式会社フィッシャー・インストルメンツ製「H−100」)を用いて、ステップA、ステップB及びステップCを行うことにより測定される。ステップAでは、ダイヤモンド圧子を用いて、最大荷重が9.8mmNになるように30秒間かけて感光層に負荷をかけ、負荷をかけたときの感光層の最大変形仕事量(EW1:塑性変形の仕事量+弾性変形の仕事量)を測定する。ステップBでは、30秒間かけて、ダイヤモンド圧子を感光層から離間させて感光層にかけられた負荷を除き、負荷を除いたときの感光層の復元量(EW2:弾性変形の仕事量)を測定する。ステップCでは、測定された感光層の最大変形仕事量(EW1)及び感光層の復元量(EW2)から、数式「弾性仕事率(%)=(100×EW2)/EW1」に従って、感光層の弾性仕事率を求める。以上、感光層の弾性仕事率の測定方法の概要を説明した。感光層の弾性仕事率の測定方法は、実施例で詳細に説明する。 The elastic power of the photosensitive layer was measured using a microhardness meter (“H-100” manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd.) equipped with a diamond indenter in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% RH. It is measured by performing Step B and Step C. In step A, a diamond indenter is used to apply a load to the photosensitive layer over 30 seconds so that the maximum load is 9.8 mmN, and the maximum deformation work (EW 1 : plastic deformation) when the load is applied. Work + elastic deformation work). In Step B, the amount of restoration of the photosensitive layer (EW 2 : work of elastic deformation) is measured when the load is removed by removing the load applied to the photosensitive layer by separating the diamond indenter from the photosensitive layer over 30 seconds. To do. In Step C, from the measured maximum deformation work (EW 1 ) of the photosensitive layer and the restoration amount (EW 2 ) of the photosensitive layer, the equation “elastic work rate (%) = (100 × EW 2 ) / EW 1 ” is used. The elastic power of the photosensitive layer is obtained. The outline of the method for measuring the elastic power of the photosensitive layer has been described above. A method for measuring the elastic power of the photosensitive layer will be described in detail in Examples.
(感光層の引っかき深さ)
感光層の引っかき深さは、0.50μm以下であることが好ましい。感光層は、引っかき深さが0.50μm以下であるような硬度を有することが好ましい。感光層の引っかき深さが0.50μm以下であると、画像形成時に画像形成装置の部材との接触により発生する感光層表面の傷を好適に抑制することができる。これにより、感光層表面の傷にトナー成分(例えばトナー又はトナーから遊離した外添剤)又は記録媒体の微小成分(例えば、紙粉)が入り込み、感光体の表面にこれらの成分が固着することを好適に抑制できる。その結果、感光体の耐フィルミング性を更に向上させることができる。
(Scratch depth of photosensitive layer)
The scratch depth of the photosensitive layer is preferably 0.50 μm or less. The photosensitive layer preferably has a hardness such that the scratch depth is 0.50 μm or less. When the scratch depth of the photosensitive layer is 0.50 μm or less, scratches on the surface of the photosensitive layer that are caused by contact with members of the image forming apparatus during image formation can be suitably suppressed. As a result, toner components (for example, toner or external additives released from the toner) or minute components (for example, paper dust) of the recording medium enter the scratches on the surface of the photosensitive layer, and these components adhere to the surface of the photoreceptor. Can be suitably suppressed. As a result, the filming resistance of the photoreceptor can be further improved.
本実施形態の感光体においては、電荷輸送層が一層であり最表面層として備えられることから、感光層の引っかき深さは、電荷輸送層の引っかき深さに相当する。電荷輸送層が、バインダー樹脂としての一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂と、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤とを少なくとも含むことで、感光層の引っかき深さを0.50μm以下に調整できる。 In the photoreceptor of this embodiment, since the charge transport layer is a single layer and is provided as the outermost surface layer, the scratch depth of the photosensitive layer corresponds to the scratch depth of the charge transport layer. The charge transporting layer contains at least a polyarylate resin represented by the general formula (1), (2) or (3) as a binder resin and a hole transporting agent having a melting point of 200 ° C. or higher. The scratch depth of the layer can be adjusted to 0.50 μm or less.
感光体の耐フィルミング性を更に抑制するためには、感光層の引っかき深さは、0.00μm以上0.50μm以下であることが好ましく、0.20μm以上0.45μm以下であることがより好ましい。 In order to further suppress the filming resistance of the photoreceptor, the scratch depth of the photosensitive layer is preferably 0.00 μm or more and 0.50 μm or less, and more preferably 0.20 μm or more and 0.45 μm or less. preferable.
感光層の引っかき深さは、以下の方法で測定される。感光層の引っかき深さは、温度23℃及び相対湿度50%RHの環境下で、JIS K5600−5−5で規定される引っかき装置を用いて、第一ステップ、第二ステップ、第三ステップ及び第四ステップを行うことにより測定される。引っかき装置は、固定台と引っかき針とを備える。引っかき針は、直径1mmの半球状のサファイアの先端を有している。第一ステップでは、感光体の長手方向が固定台の長手方向と平行になるように、感光体を固定台の上面に固定する。第二ステップでは、引っかき針を感光層の表面に対して垂直に当接させる。第三ステップでは、引っかき針を感光層の表面に対して垂直に当接させた状態で、引っかき針から感光層に10gの荷重を付与しながら、固定台及び固定台の上面に固定された感光体を、固定台の長手方向に30mm/分の速度で30mm移動させて、引っかき針によって感光層の表面に引っかき傷を形成する。第四ステップでは、引っかき傷の最大深さである引っかき深さを測定する。以上、引っかき深さの測定方法の概要を説明した。引っかき深さの測定方法は、実施例で詳細に説明する。 The scratch depth of the photosensitive layer is measured by the following method. The scratch depth of the photosensitive layer is determined by using a scratch device defined in JIS K5600-5-5 in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% RH. It is measured by performing the fourth step. The scratch device includes a fixed base and a scratch needle. The scratch needle has a hemispherical sapphire tip with a diameter of 1 mm. In the first step, the photosensitive member is fixed to the upper surface of the fixing base so that the longitudinal direction of the photosensitive member is parallel to the longitudinal direction of the fixing base. In the second step, the scratch needle is brought into perpendicular contact with the surface of the photosensitive layer. In the third step, the photosensitive needle fixed to the fixing base and the upper surface of the fixing base is applied while applying a load of 10 g from the scratching needle to the photosensitive layer while the scratching needle is in contact with the surface of the photosensitive layer perpendicularly. The body is moved 30 mm at a speed of 30 mm / min in the longitudinal direction of the fixed base, and scratches are formed on the surface of the photosensitive layer by the scratching needle. In the fourth step, the scratch depth, which is the maximum depth of the scratch, is measured. The outline of the scratch depth measurement method has been described above. A method for measuring the scratch depth will be described in detail in Examples.
(電荷発生剤)
電荷発生剤は、感光体用の電荷発生剤であれば、特に限定されない。電荷発生剤としては、例えば、フタロシアニン顔料、ペリレン顔料、ビスアゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、無金属ナフタロシアニン顔料、金属ナフタロシアニン顔料、スクアライン顔料、トリスアゾ顔料、インジゴ顔料、アズレニウム顔料、シアニン顔料、無機光導電材料(例えば、セレン、セレン−テルル、セレン−ヒ素、硫化カドミウム又はアモルファスシリコン)の粉末、ピリリウム塩、アンサンスロン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料又はキナクリドン系顔料が挙げられる。電荷発生剤は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Charge generator)
The charge generator is not particularly limited as long as it is a charge generator for a photoreceptor. Examples of the charge generator include phthalocyanine pigments, perylene pigments, bisazo pigments, dithioketopyrrolopyrrole pigments, metal-free naphthalocyanine pigments, metal naphthalocyanine pigments, squaraine pigments, trisazo pigments, indigo pigments, azurenium pigments, cyanine pigments, Powder of inorganic photoconductive material (for example, selenium, selenium-tellurium, selenium-arsenic, cadmium sulfide or amorphous silicon), pyrylium salt, ansanthrone pigment, triphenylmethane pigment, selenium pigment, toluidine pigment, pyrazoline pigment Examples thereof include pigments and quinacridone pigments. A charge generating agent may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
フタロシアニン顔料としては、例えば、無金属フタロシアニン又は金属フタロシアニンが挙げられる。無金属フタロシアニンは、化学式(CGM−1)で表される。金属フタロシアニンの例は、チタニルフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン又はクロロガリウムフタロシアニンである。チタニルフタロシアニンは、化学式(CGM−2)で表される。フタロシアニン顔料は、結晶であってもよく、非結晶であってもよい。フタロシアニン顔料の結晶形状(例えば、α型、β型、Y型、V型又はII型)については特に限定されない。 Examples of the phthalocyanine pigment include metal-free phthalocyanine or metal phthalocyanine. Metal-free phthalocyanine is represented by the chemical formula (CGM-1). Examples of metal phthalocyanines are titanyl phthalocyanine, hydroxygallium phthalocyanine or chlorogallium phthalocyanine. Titanyl phthalocyanine is represented by the chemical formula (CGM-2). The phthalocyanine pigment may be crystalline or non-crystalline. The crystal shape of the phthalocyanine pigment (for example, α-type, β-type, Y-type, V-type or II-type) is not particularly limited.
無金属フタロシアニンの結晶としては、例えば、無金属フタロシアニンのX型結晶(以下、X型無金属フタロシアニンと記載することがある)が挙げられる。チタニルフタロシアニンの結晶としては、例えば、チタニルフタロシアニンのα型、β型又はY型結晶(以下、それぞれを、α型、β型又はY型チタニルフタロシアニンと記載することがある)が挙げられる。 Examples of the crystal of metal-free phthalocyanine include an X-type crystal of metal-free phthalocyanine (hereinafter sometimes referred to as X-type metal-free phthalocyanine). Examples of the crystal of titanyl phthalocyanine include α-type, β-type, and Y-type crystals of titanyl phthalocyanine (hereinafter, each may be referred to as α-type, β-type, or Y-type titanyl phthalocyanine).
例えば、デジタル光学式の画像形成装置(例えば、半導体レーザーのような光源を使用した、レーザービームプリンター又はファクシミリ)には、700nm以上の波長領域に感度を有する感光体を用いることが好ましい。このような画像形成装置に備えられる感光体の電荷発生層には、電荷発生剤として、フタロシアニン顔料が含有されることが好ましく、無金属フタロシアニン又はチタニルフタロシアニンが含有されることがより好ましく、X型無金属フタロシアニン又はY型チタニルフタロシアニンが含有されることが更に好ましく、Y型チタニルフタロシアニンが含有されることが一層好ましく、Y型チタニルフタロシアニンのみが含有されることが特に好ましい。 For example, in a digital optical image forming apparatus (for example, a laser beam printer or a facsimile using a light source such as a semiconductor laser), it is preferable to use a photoreceptor having sensitivity in a wavelength region of 700 nm or more. The charge generation layer of the photoreceptor provided in such an image forming apparatus preferably contains a phthalocyanine pigment as a charge generation agent, more preferably contains a metal-free phthalocyanine or titanyl phthalocyanine, and an X type. More preferably, metal-free phthalocyanine or Y-type titanyl phthalocyanine is contained, more preferably Y-type titanyl phthalocyanine is contained, and particularly preferably only Y-type titanyl phthalocyanine is contained.
Y型チタニルフタロシアニンは、CuKα特性X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.2°)の27.2°に主ピークを有する。CuKα特性X線回折スペクトルにおける主ピークとは、ブラッグ角(2θ±0.2°)が3°以上40°以下である範囲において、1番目又は2番目に大きな強度を有するピークである。Y型チタニルフタロシアニンは、CuKα特性X線回折スペクトルにおいて、26.2℃にピークを有しないことが好ましい。 Y-type titanyl phthalocyanine has a main peak at 27.2 ° of the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in the CuKα characteristic X-ray diffraction spectrum. The main peak in the CuKα characteristic X-ray diffraction spectrum is a peak having the first or second highest intensity in a range where the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) is 3 ° or more and 40 ° or less. The Y-type titanyl phthalocyanine preferably has no peak at 26.2 ° C. in the CuKα characteristic X-ray diffraction spectrum.
CuKα特性X線回折スペクトルの測定方法の一例について説明する。試料(チタニルフタロシアニン)をX線回折装置(例えば、株式会社リガク製「RINT(登録商標)1100」)のサンプルホルダーに充填して、X線管球Cu、管電圧40kV、管電流30mA、かつCuKα特性X線の波長1.542Åの条件で、X線回折スペクトルを測定する。測定範囲(2θ)は、例えば3°以上40°以下(スタート角3°、ストップ角40°)であり、走査速度は、例えば10°/分である。得られたX線回折スペクトルから主ピークを決定し、主ピークのブラッグ角を読み取る。 An example of a method for measuring the CuKα characteristic X-ray diffraction spectrum will be described. A sample (titanyl phthalocyanine) is filled in a sample holder of an X-ray diffractometer (for example, “RINT (registered trademark) 1100” manufactured by Rigaku Corporation), and an X-ray tube Cu, tube voltage 40 kV, tube current 30 mA, and CuKα An X-ray diffraction spectrum is measured under the condition of a characteristic X-ray wavelength of 1.542 mm. The measurement range (2θ) is, for example, 3 ° to 40 ° (start angle 3 °, stop angle 40 °), and the scanning speed is, for example, 10 ° / min. The main peak is determined from the obtained X-ray diffraction spectrum, and the Bragg angle of the main peak is read.
短波長レーザー光源(例えば、350nm以上550nm以下の波長を有するレーザー光源)を用いた画像形成装置に適用される感光体の電荷発生層には、電荷発生剤として、アンサンスロン系顔料が含有されることが好ましい。 The charge generation layer of a photoreceptor applied to an image forming apparatus using a short wavelength laser light source (for example, a laser light source having a wavelength of 350 nm or more and 550 nm or less) contains an santhrone pigment as a charge generation agent. It is preferable.
電荷発生剤の含有量は、電荷発生層に含有されるベース樹脂1質量部に対して、0.1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上30質量部以下であることがより好ましく、0.5質量部以上4.5質量部以下であることが特に好ましい。また、電荷発生剤の含有量は、電荷輸送層に含有されるバインダー樹脂100質量部に対して、0.1質量部以上50質量部以下であることが好ましく、0.5質量部以上30質量部以下であることがより好ましく、0.5質量部以上4.5質量部以下であることが特に好ましい。 The content of the charge generating agent is preferably 0.1 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, and 0.5 parts by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 1 part by mass of the base resin contained in the charge generation layer. It is more preferable that it is 0.5 mass part or more and 4.5 mass part or less. The content of the charge generating agent is preferably 0.1 parts by weight or more and 50 parts by weight or less, and 0.5 parts by weight or more and 30 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin contained in the charge transport layer. The amount is more preferably 0.5 parts by mass or less and particularly preferably 0.5 parts by mass or more and 4.5 parts by mass or less.
(バインダー樹脂)
バインダー樹脂は、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)を含む。電荷輸送層がバインダー樹脂としてのポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)と、融点が200℃以上である正孔輸送剤とを含むことで、既に述べたように感光体の耐フィルミング性を向上させることができる。ポリアリレート樹脂(1)、(2)及び(3)の1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。以下、ポリアリレート樹脂(1)、(2)及び(3)の各々について説明する。
(Binder resin)
The binder resin contains polyarylate resin (1), (2) or (3). As described above, the charge transport layer contains the polyarylate resin (1), (2) or (3) as a binder resin and a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher. Filming properties can be improved. One of the polyarylate resins (1), (2) and (3) may be used alone, or two or more may be used in combination. Hereinafter, each of the polyarylate resins (1), (2), and (3) will be described.
(ポリアリレート樹脂(1))
ポリアリレート樹脂(1)は、下記一般式(1)で表される。
(Polyarylate resin (1))
The polyarylate resin (1) is represented by the following general formula (1).
一般式(1)中、X1及びY1は、各々、化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表す。X1とY1とは互いに異なっている。kr及びktは、各々独立に、2又は3を表す。r1及びs1は、各々独立に、数式(1a)及び(1b)を満たす正の数を表す。t1及びu1は、各々独立に、前記数式(1a)及び(1b)を満たす0以上の数を表す。
r1+s1+t1+u1=100・・・(1a)
r1+t1=s1+u1 ・・・(1b)
In the general formula (1), X 1 and Y 1 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F). . X 1 and Y 1 are different from each other. kr and kt each independently represent 2 or 3. r 1 and s 1 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (1a) and (1b). t 1 and u 1 each independently represents a number of 0 or more that satisfies the mathematical formulas (1a) and (1b).
r 1 + s 1 + t 1 + u 1 = 100 (1a)
r 1 + t 1 = s 1 + u 1 (1b)
ポリアリレート樹脂(1)は、一般式(1−10)で表される繰返し単位と、一般式(1−11)で表される繰返し単位と、一般式(1−12)で表される繰返し単位と、一般式(1−13)で表される繰返し単位とを有する。以下、一般式(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)で表される繰返し単位を、各々、繰返し単位(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)と記載することがある。 The polyarylate resin (1) includes a repeating unit represented by the general formula (1-10), a repeating unit represented by the general formula (1-11), and a repeating unit represented by the general formula (1-12). A unit and a repeating unit represented by formula (1-13). Hereinafter, the repeating units represented by the general formulas (1-10), (1-11), (1-12) and (1-13) are represented by repeating units (1-10) and (1-11), respectively. , (1-12) and (1-13).
一般式(1−10)中のkr、一般式(1−11)中のX1、一般式(1−12)中のkt、及び一般式(1−13)中のY1は、各々、一般式(1)中のkr、X1、kt及びY1と同義である。 Kr in the general formula (1-10), X 1 in the general formula (1-11), kt in the general formula (1-12), and Y 1 in the general formula (1-13) are respectively kr in the formula (1) have the same meanings as X 1, kt and Y 1.
一般式(1)中のr1は、ポリアリレート樹脂(1)に含まれる繰り返し単位(1−10)の数n1-10と繰り返し単位(1−11)の数n1-11と繰り返し単位(1−12)の数n1-12と繰り返し単位(1−13)の数n1-13との和に対する、繰り返し単位(1−10)の数n1-10の百分率を表す。r1は、数式「r1=100×n1-10/(n1-10+n1-11+n1-12+n1-13)」から求められる。一般式(1)中のs1は、ポリアリレート樹脂(1)に含まれる繰り返し単位(1−10)の数n1-10と繰り返し単位(1−11)の数n1-11と繰り返し単位(1−12)の数n1-12と繰り返し単位(1−13)の数n1-13との和に対する、繰り返し単位(1−11)の数n1-11の百分率を表す。s1は、数式「s1=100×n1-11/(n1-10+n1-11+n1-12+n1-13)」から求められる。一般式(1)中のt1は、ポリアリレート樹脂(1)に含まれる繰り返し単位(1−10)の数n1-10と繰り返し単位(1−11)の数n1-11と繰り返し単位(1−12)の数n1-12と繰り返し単位(1−13)の数n1-13との和に対する、繰り返し単位(1−12)の数n1-12の百分率を表す。t1は、数式「t1=100×n1-12/(n1-10+n1-11+n1-12+n1-13)」から求められる。一般式(1)中のu1は、ポリアリレート樹脂(1)に含まれる繰り返し単位(1−10)の数n1-10と繰り返し単位(1−11)の数n1-11と繰り返し単位(1−12)の数n1-12と繰り返し単位(1−13)の数n1-13との和に対する、繰り返し単位(1−13)の数n1-13の百分率を表す。u1は、数式「u1=100×n1-13/(n1-10+n1-11+n1-12+n1-13)」から求められる。 In the general formula (1), r 1 represents the number n 1-10 of the repeating unit ( 1-10 ) and the number n 1-11 of the repeating unit (1-11) contained in the polyarylate resin (1) and the repeating unit. to the sum of the number n 1-13 number n 1-12 repeating unit (1-13) of (1-12), representing a percentage of the number n 1-10 of repeat units (1-10). r 1 is obtained from the formula “r 1 = 100 × n 1−10 / (n 1−10 + n 1−11 + n 1−12 + n 1−13 )”. In the general formula (1), s 1 represents the number n 1-10 of the repeating unit ( 1-10 ) and the number n 1-11 of the repeating unit (1-11) contained in the polyarylate resin (1) and the repeating unit. to the sum of the number n 1-13 number n 1-12 repeating unit (1-13) of (1-12), representing a percentage of the number n 1-11 of repeat units (1-11). s 1 is obtained from the formula “s 1 = 100 × n 1-11 / (n 1-10 + n 1-11 + n 1-12 + n 1-13 )”. T 1 in the general formula (1) is the number n 1-10 of the repeating unit ( 1-10 ), the number n 1-11 of the repeating unit (1-11) and the repeating unit contained in the polyarylate resin (1). to the sum of the number n 1-13 number n 1-12 repeating unit (1-13) of (1-12), representing a percentage of the number n 1-12 of repeat units (1-12). t 1 is obtained from the formula “t 1 = 100 × n 1−12 / (n 1−10 + n 1−11 + n 1−12 + n 1−13 )”. U 1 of the general formula (1), polyarylate resin number n 1-11 repeating unit number n 1-10 repeating unit of repeating units contained in the (1) (1-10) (1-11) It represents the percentage of the number n 1-13 of the repeating unit (1-13) to the sum of the number n 1-12 of (1-12) and the number n 1-13 of the repeating unit (1-13). u 1 is obtained from the formula “u 1 = 100 × n 1-13 / (n 1-10 + n 1-11 + n 1-12 + n 1-13 )”.
一般式(1)中のr1、s1、t1及びu1の各々は、1本の分子鎖から得られる値ではなく、電荷輸送層に含有されるポリアリレート樹脂(1)の全体(複数の分子鎖)から得られる値の平均値である。r1、s1、t1及びu1の各々は、例えば、次の方法で測定される。プロトン核磁気共鳴分光計を用いて、ポリアリレート樹脂(1)の1H−NMRスペクトルを測定する。溶媒としてCDCl3を、内部標準試料としてテトラメチルシラン(TMS)を用いる。得られたポリアリレート樹脂(1)の1H−NMRスペクトルにおける、繰り返し単位(1−10)に特徴的なピークと、繰り返し単位(1−11)に特徴的なピークと、繰り返し単位(1−12)に特徴的なピークと、繰り返し単位(1−13)に特徴的なピークとの比率から、r1、s1、t1及びu1の各々を算出する。 Each of r 1 , s 1 , t 1 and u 1 in the general formula (1) is not a value obtained from one molecular chain, but the entire polyarylate resin (1) contained in the charge transport layer ( The average value of values obtained from a plurality of molecular chains. Each of r 1 , s 1 , t 1 and u 1 is measured, for example, by the following method. The 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (1) is measured using a proton nuclear magnetic resonance spectrometer. CDCl 3 is used as a solvent, and tetramethylsilane (TMS) is used as an internal standard sample. In the 1 H-NMR spectrum of the resulting polyarylate resin (1), a peak characteristic of the repeating unit (1-10), a peak characteristic of the repeating unit (1-11), a repeating unit (1- Each of r 1 , s 1 , t 1 and u 1 is calculated from the ratio of the peak characteristic to 12) and the peak characteristic to the repeating unit (1-13).
ポリアリレート樹脂(1)における繰返し単位(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)の配列は、芳香族ジオール由来の繰返し単位と芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位とが互いに隣接する限り、特に限定されない。芳香族ジオール由来の繰返し単位は、繰り返し単位(1−10)及び(1−12)である。芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位は、繰り返し単位(1−11)及び(1−13)である。例えば、繰返し単位(1−10)は、繰返し単位(1−11)又は繰返し単位(1−13)と隣接して互いに結合している。また、繰返し単位(1−12)は、繰返し単位(1−11)又は繰返し単位(1−13)と隣接して互いに結合している。ポリアリレート樹脂(1)は、例えば、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体又はブロック共重合体であってもよい。 The arrangement of the repeating units (1-10), (1-11), (1-12) and (1-13) in the polyarylate resin (1) is derived from the repeating unit derived from the aromatic diol and the aromatic dicarboxylic acid. There is no particular limitation as long as the repeating units are adjacent to each other. The repeating units derived from the aromatic diol are the repeating units (1-10) and (1-12). The repeating units derived from the aromatic dicarboxylic acid are the repeating units (1-11) and (1-13). For example, the repeating unit (1-10) is bonded to each other adjacent to the repeating unit (1-11) or the repeating unit (1-13). The repeating unit (1-12) is adjacent to and bonded to the repeating unit (1-11) or the repeating unit (1-13). The polyarylate resin (1) may be, for example, a random copolymer, an alternating copolymer, a periodic copolymer, or a block copolymer.
ポリアリレート樹脂(1)は、繰返し単位(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)以外の繰返し単位を更に有していてもよい。ポリアリレート樹脂(1)に含まれる繰返し単位の総数に対する、繰返し単位(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)の合計数の比率は、0.80以上であることが好ましく、0.90以上であることがより好ましく、1.00であることが更に好ましい。t1及びu1が0である場合、ポリアリレート樹脂(1)は、繰り返し単位として、繰り返し単位(1−10)及び(1−11)のみを有していてもよい。また、t1及びu1が0でない場合、ポリアリレート樹脂(1)は、繰り返し単位として、繰り返し単位(1−10)、(1−11)、(1−12)及び(1−13)のみを有していてもよい。 The polyarylate resin (1) may further have a repeating unit other than the repeating units (1-10), (1-11), (1-12) and (1-13). The ratio of the total number of repeating units (1-10), (1-11), (1-12) and (1-13) to the total number of repeating units contained in the polyarylate resin (1) is 0.80. It is preferable that it is above, it is more preferable that it is 0.90 or more, and it is still more preferable that it is 1.00. When t 1 and u 1 are 0, the polyarylate resin (1) may have only the repeating units (1-10) and (1-11) as repeating units. In addition, when t 1 and u 1 are not 0, the polyarylate resin (1) has only repeating units (1-10), (1-11), (1-12) and (1-13) as repeating units. You may have.
一般式(1)中のkr及びktは、各々、3を表すことが好ましい。 It is preferable that kr and kt in the general formula (1) each represent 3.
以下、一般式(1)中のt1及びu1が0でない場合について説明する。t1及びu1が0でないとき、ポリアリレート樹脂(1)は、下記一般式(1A)で表されるポリアリレート樹脂であることが好ましく、下記一般式(1B)で表されるポリアリレート樹脂であることがより好ましい。以下、一般式(1A)及び(1B)で表されるポリアリレート樹脂を、各々、ポリアリレート樹脂(1A)及び(1B)と記載することがある。 Hereinafter, a case where t 1 and u 1 in the general formula (1) are not 0 will be described. When t 1 and u 1 are not 0, the polyarylate resin (1) is preferably a polyarylate resin represented by the following general formula (1A), and the polyarylate resin represented by the following general formula (1B) It is more preferable that Hereinafter, the polyarylate resins represented by the general formulas (1A) and (1B) may be referred to as polyarylate resins (1A) and (1B), respectively.
一般式(1A)中のX1、Y1、kr及びktは、各々、一般式(1)中のX1、Y1、kr及びktと同義である。一般式(1B)中のX1及びY1は、各々、一般式(1)中のX1及びY1と同義である。一般式(1A)及び(1B)中、r11、s11、t11及びu11は、各々独立に、下記数式(1a’)、(1b’)及び(1c)を満たす正の数を表す。
r11+s11+t11+u11=100・・・(1a’)
r11+t11=s11+u11 ・・・(1b’)
0.30≦s11/(s11+u11)≦0.70・・・(1c)
X 1, Y 1, kr and kt in the general formula (1A), respectively, X 1 in the general formula (1) in, Y 1, the same meanings as kr and kt. X 1 and Y 1 in the general formula (1B), respectively, the same meanings as X 1 and Y 1 in formula (1). In the general formulas (1A) and (1B), r 11 , s 11 , t 11 and u 11 each independently represent a positive number satisfying the following mathematical formulas (1a ′), (1b ′) and (1c). .
r 11 + s 11 + t 11 + u 11 = 100 (1a ′)
r 11 + t 11 = s 11 + u 11 (1b ′)
0.30 ≦ s 11 / (s 11 + u 11 ) ≦ 0.70 (1c)
一般式(1A)及び(1B)中、r11、s11、t11及びu11は、各々独立に、数式(1a’)、(1b’)及び(1c)に加えて、下記数式(1d)を更に満たす正の数を表してもよい。
0.30≦r11/(r11+t11)≦0.70・・・(1d)
In the general formulas (1A) and (1B), r 11 , s 11 , t 11 and u 11 are each independently represented by the following formula (1d) in addition to the formulas (1a ′), (1b ′) and (1c): ) May further be expressed as a positive number.
0.30 ≦ r 11 / (r 11 + t 11 ) ≦ 0.70 (1d)
数式(1c)で示される「s11/(s11+u11)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。数式(1d)で示される「r11/(r11+t11)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。 “S 11 / (s 11 + u 11 )” represented by the mathematical formula (1c) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50. “R 11 / (r 11 + t 11 )” represented by the mathematical formula (1d) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50.
ポリアリレート樹脂(1B)は、化学式(1B−10)で表される繰り返し単位、一般式(1B−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1B−13)で表される繰り返し単位を含む。一般式(1B−11)中のX1及び一般式(1B−13)中のY1は、各々、一般式(1)中のX1及びY1と同義である。以下、化学式(1B−10)で表される繰り返し単位、一般式(1B−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1B−13)を、各々、繰り返し単位(1B−10)、(1B−11)及び(1B−13)と記載することがある。 The polyarylate resin (1B) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1B-10), a repeating unit represented by the general formula (1B-11), and a repeating unit represented by the general formula (1B-13). . X 1 in the general formula (1B-11) and Y 1 in the general formula (1B-13) are respectively synonymous with X 1 and Y 1 in the general formula (1). Hereinafter, the repeating unit represented by the chemical formula (1B-10), the repeating unit represented by the general formula (1B-11), and the general formula (1B-13) are respectively represented by the repeating units (1B-10) and (1B -11) and (1B-13).
ポリアリレート樹脂(1B)において、繰り返し単位(1B−10)の数n1B-10と繰り返し単位(1B−11)の数n1B-11と繰り返し単位(1B−13)の数n1B-13との和に対する、繰り返し単位(1B−10)の数n1B-10の百分率「100×n1B-10/(n1B-10+n1B-11+n1B-13)」は、50である。繰り返し単位(1B−10)の数n1B-10と繰り返し単位(1B−11)の数1B-11と繰り返し単位(1B−13)の数n1B-13との和に対する、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11と繰り返し単位(1B−13)の数n1B-13との和の百分率「100×(n1B-11+n1B-13)/(n1B-10+n1B-11+n1B-13)」は、50である。繰り返し単位(1B−11)の数1B-11と繰り返し単位(1B−13)の数n1B-13との和に対する、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11の比率「n1B-11/(n1B-11+n1B-13)」は、0.30以上0.70以下であることが好ましく、0.40以上0.60以下であることがより好ましく、0.50であることが特に好ましい。 In polyarylate resin (1B), the number n 1B-13 of the repeating unit number n 1B-11 and repeating units (1B-10) number n 1B-10 and repeating units of (1B-11) (1B- 13) The percentage “100 × n 1B-10 / (n 1B-10 + n 1B-11 + n 1B-13 )” of the number n 1B-10 of the repeating unit (1B-10) with respect to the sum of is 50. Repeat unit (1B-) for the sum of the number n 1B-10 of repeat units (1B-10), the number 1B-11 of repeat units (1B- 11 ) and the number n 1B-13 of repeat units (1B-13) 11) Percentage of the sum of the number 1B-11 and the number n 1B-13 of the repeating unit (1B-13) “100 × (n 1B-11 + n 1B-13 ) / (n 1B-10 + n 1B-11 + n 1B-13 ) ”is 50. Repeating unit (1B-11) to the sum of the number n 1B-13 number 1B-11 and the repeating unit (1B-13) of the repeating unit (1B-11) number 1B-11 ratio of the "n 1B-11 / (N 1B-11 + n 1B-13 ) ”is preferably 0.30 or more and 0.70 or less, more preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50. Particularly preferred.
一般式(1)中のt1及びu1が0でないとき、感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1)は、一般式(1−1)、(1−2)、(1−3)又は(1−4)で表されるポリアリレート樹脂であることが好ましい。一般式(1−1)、(1−2)、(1−3)及び(1−4)中のr11、s11、t11及びu11は、一般式(1A)及び(1B)中のr11、s11、t11及びu11と同義である。以下、一般式(1−1)、(1−2)、(1−3)及び(1−4)で表されるポリアリレート樹脂を、各々、ポリアリレート樹脂(1−1)、(1−2)、(1−3)及び(1−4)と記載することがある。ポリアリレート樹脂(1)のより好適な例は、ポリアリレート樹脂(1−1)である。ポリアリレート樹脂(1)のより好適な別の例は、ポリアリレート樹脂(1−2)である。 When t 1 and u 1 in the general formula (1) are not 0, in order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (1) has the general formulas (1-1), (1- It is preferable that it is a polyarylate resin represented by 2), (1-3) or (1-4). In formulas (1-1), (1-2), (1-3) and (1-4), r 11 , s 11 , t 11 and u 11 are the same in formulas (1A) and (1B). R 11 , s 11 , t 11, and u 11 are the same. Hereinafter, the polyarylate resins represented by the general formulas (1-1), (1-2), (1-3) and (1-4) are respectively represented by polyarylate resins (1-1), (1- 2), (1-3) and (1-4). A more preferred example of the polyarylate resin (1) is the polyarylate resin (1-1). Another more preferable example of the polyarylate resin (1) is the polyarylate resin (1-2).
ポリアリレート樹脂(1−1)は、化学式(1−1−10)で表される繰り返し単位、一般式(1−1−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1−1−13)で表される繰り返し単位を含む。ポリアリレート樹脂(1−1)における化学式(1−1−10)で表される繰り返し単位の数n1-1-10、一般式(1−1−11)で表される繰り返し単位の数n1-1-11及び一般式(1−1−13)で表される繰り返し単位の数n1-1-13の関係は、ポリアリレート樹脂(1B)における繰り返し単位(1B−10)の数1B-10、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11及び繰り返し単位(1B−13)の数1B-13の関係と同じである。 The polyarylate resin (1-1) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1-1-10), a repeating unit represented by the general formula (1-1-11), and a general formula (1-1-13). The repeating unit represented by is included. Number of repeating units n 1-1-10 represented by chemical formula (1-1-10) in polyarylate resin (1-1), number n of repeating units represented by general formula (1-1-11) The relationship between the number of repeating units represented by 1-1-11 and the general formula (1-1-13) n 1-1-13 is the number of repeating units (1B-10) in the polyarylate resin (1B) 1B. −10 , the number 1B-11 of the repeating unit (1B- 11 ) and the number 1B-13 of the repeating unit (1B-13) are the same.
ポリアリレート樹脂(1−2)は、化学式(1−2−10)で表される繰り返し単位、一般式(1−2−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1−2−13)で表される繰り返し単位を含む。ポリアリレート樹脂(1−2)における化学式(1−2−10)で表される繰り返し単位の数n1-2-10、一般式(1−2−11)で表される繰り返し単位の数n1-2-11及び一般式(1−2−13)で表される繰り返し単位の数n1-2-13の関係は、ポリアリレート樹脂(1B)における繰り返し単位(1B−10)の数1B-10、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11及び繰り返し単位(1B−13)の数1B-13の関係と同じである。 The polyarylate resin (1-2) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1-2-10), a repeating unit represented by the general formula (1-2-11), and a general formula (1-2-13). The repeating unit represented by is included. Number n 1-2-10 of repeating units represented by chemical formula (1-2-10) in polyarylate resin (1-2), number n of repeating units represented by general formula (1-2-11) relationship number n 1-2-13 of 1-2-11 and the repeating unit represented by formula (1-2-13), the number 1B of the repeating units (1B-10) in the polyarylate resin (1B) −10 , the number 1B-11 of the repeating unit (1B- 11 ) and the number 1B-13 of the repeating unit (1B-13) are the same.
ポリアリレート樹脂(1−3)は、化学式(1−3−10)で表される繰り返し単位、一般式(1−3−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1−3−13)で表される繰り返し単位を含む。ポリアリレート樹脂(1−3)における化学式(1−3−10)で表される繰り返し単位の数n1-3-10、一般式(1−3−11)で表される繰り返し単位の数n1-3-11及び一般式(1−3−13)で表される繰り返し単位の数n1-3-13の関係は、ポリアリレート樹脂(1B)における繰り返し単位(1B−10)の数1B-10、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11及び繰り返し単位(1B−13)の数1B-13の関係と同じである。 The polyarylate resin (1-3) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1-3-10), a repeating unit represented by the general formula (1-3-11), and a general formula (1-3-13). The repeating unit represented by is included. Number of repeating units n 1-3-10 represented by chemical formula (1-3-10) in polyarylate resin (1-3), number n of repeating units represented by general formula (1-3-11) The relationship between the number of repeating units represented by 1-3-11 and the general formula (1-3-13) n 1-3-13 is the number of repeating units (1B-10) in the polyarylate resin (1B) 1B. −10 , the number 1B-11 of the repeating unit (1B- 11 ) and the number 1B-13 of the repeating unit (1B-13) are the same.
ポリアリレート樹脂(1−4)は、化学式(1−4−10)で表される繰り返し単位、一般式(1−4−11)で表される繰り返し単位及び一般式(1−4−13)で表される繰り返し単位を含む。ポリアリレート樹脂(1−4)における化学式(1−4−10)で表される繰り返し単位の数n1-4-10、一般式(1−4−11)で表される繰り返し単位の数n1-4-11及び一般式(1−4−13)で表される繰り返し単位の数n1-4-13の関係は、ポリアリレート樹脂(1B)における繰り返し単位(1B−10)の数1B-10、繰り返し単位(1B−11)の数1B-11及び繰り返し単位(1B−13)の数1B-13の関係と同じである。 The polyarylate resin (1-4) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1-4-10), a repeating unit represented by the general formula (1-4-11), and a general formula (1-4-13). The repeating unit represented by is included. Number of repeating units represented by chemical formula (1-4-10) in polyarylate resin (1-4) n 1-4-10 , number of repeating units represented by general formula (1-4-11) n The relationship between the number of repeating units represented by 1-4-11 and general formula (1-4-13) n 1-4-13 is the number of repeating units (1B-10) in the polyarylate resin (1B) 1B. −10 , the number 1B-11 of the repeating unit (1B- 11 ) and the number 1B-13 of the repeating unit (1B-13) are the same.
以下、一般式(1)中のt1及びu1が0である場合について説明する。t1及びu1が0であるとき、一般式(1)中のr1及びs1は各々50を表す。t1及びu1が0であるときのポリアリレート樹脂(1)は、下記一般式(1C)で表されるポリアリレート樹脂であることが好ましく、下記一般式(1D)で表されるポリアリレート樹脂であることがより好ましい。以下、一般式(1C)及び(1D)で表されるポリアリレート樹脂を、各々、ポリアリレート樹脂(1C)及び(1D)と記載することがある。 Hereinafter, the case where t 1 and u 1 in the general formula (1) are 0 will be described. When t 1 and u 1 are 0, r 1 and s 1 in the general formula (1) each represents 50. The polyarylate resin (1) when t 1 and u 1 are 0 is preferably a polyarylate resin represented by the following general formula (1C), and the polyarylate represented by the following general formula (1D) More preferably, it is a resin. Hereinafter, the polyarylate resins represented by the general formulas (1C) and (1D) may be referred to as polyarylate resins (1C) and (1D), respectively.
一般式(1C)中のX1及びkrは、各々、一般式(1)中のX1及びkrと同義である。一般式(1D)中のX1は、各々、一般式(1)中のX1と同義である。 X 1 and kr in the formula (1C), respectively, the same meanings as X 1 and kr in the formula (1). X 1 in the general formula (1D), respectively, the same meaning as X 1 in the general formula (1).
ポリアリレート樹脂(1D)は、化学式(1D−10)で表される繰り返し単位及び一般式(1D−11)で表される繰り返し単位を含む。一般式(1D−11)中のX1は、各々、一般式(1)中のX1と同義である。以下、化学式(1D−10)で表される繰り返し単位及び一般式(1D−11)で表される繰り返し単位を、各々、繰り返し単位(1D−10)及び(1D−11)と記載することがある。 The polyarylate resin (1D) includes a repeating unit represented by the chemical formula (1D-10) and a repeating unit represented by the general formula (1D-11). X 1 in the general formula (1D-11), respectively, the same meaning as X 1 in the general formula (1). Hereinafter, the repeating unit represented by the chemical formula (1D-10) and the repeating unit represented by the general formula (1D-11) may be referred to as the repeating unit (1D-10) and (1D-11), respectively. is there.
ポリアリレート樹脂(1D)において、繰り返し単位(1D−10)の数n1D-10と繰り返し単位(1D−11)の数n1D-11との和に対する、繰り返し単位(1D−10)の数n1D-10の百分率「100×n1D-10/(n1D-10+n1D-11)」は、50である。繰り返し単位(1D−10)の数n1D-10と繰り返し単位(1D−11)の数n1D-11との和に対する、繰り返し単位(1D−11)の数n1D-11の百分率「100×n1D-11/(n1D-10+n1D-11)」は、50である。 In polyarylate resin (1D), to the sum of the number n 1D-11 number n 1D-10 and repeating units of the repeating unit (1D-10) (1D- 11), the number n of the repeating units (1D-10) The percentage of 1D-10 “100 × n 1D-10 / (n 1D-10 + n 1D-11 )” is 50. Percentage of the number n 1D-11 of repeating units (1D-11) to the sum of the number n 1D-10 of repeating units (1D-10) and the number n 1D-11 of repeating units (1D-11) “100 × n 1D-11 / (n 1D-10 + n 1D-11 ) ”is 50.
一般式(1)中のt1及びu1が0であるとき、感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1)は、化学式(1−5)又は(1−6)で表されるポリアリレート樹脂であることが好ましい。 When t 1 and u 1 in the general formula (1) are 0, in order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (1) is represented by the chemical formula (1-5) or (1- The polyarylate resin represented by 6) is preferable.
ポリアリレート樹脂(1)の粘度平均分子量は、35000以上であることが好ましく、40000以上であることがより好ましく、45000以上であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(1)の粘度平均分子量が35000以上である場合、電荷輸送層が摩耗しにくくなる。一方、ポリアリレート樹脂(1)の粘度平均分子量は、75000以下であることが好ましく、60000以下であることがより好ましく、55000以下であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(1)の粘度平均分子量が75000以下である場合、電荷輸送層形成用の溶剤にポリアリレート樹脂(1)が溶解し易くなり、電荷輸送層の形成が容易になる。 The viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (1) is preferably 35000 or more, more preferably 40000 or more, and further preferably 45000 or more. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (1) is 35000 or more, the charge transport layer is hardly worn. On the other hand, the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (1) is preferably 75000 or less, more preferably 60000 or less, and further preferably 55000 or less. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (1) is 75000 or less, the polyarylate resin (1) is easily dissolved in the solvent for forming the charge transport layer, and the charge transport layer is easily formed.
(ポリアリレート樹脂(2))
ポリアリレート樹脂(2)は、下記一般式(2)で表される。
(Polyarylate resin (2))
The polyarylate resin (2) is represented by the following general formula (2).
一般式(2)中、R21、R22、R23及びR24は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。X2及びY2は、各々、化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表す。一般式(2)中の化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基は、一般式(1)中の化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基と同じである。X2とY2とは互いに異なっている。r2、s2、t2及びu2は、各々独立に、下記数式(2a)、(2b)及び(2c)を満たす正の数を表す。
r2+s2+t2+u2=100 ・・・(2a)
r2+t2=s2+u2 ・・・(2b)
0.30≦s2/(s2+u2)≦0.70・・・(2c)
In the general formula (2), R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. X 2 and Y 2 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F). The divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F) in the general formula (2) is the chemical formula (1) in the general formula (1). It is the same as the divalent group represented by A), (B), (C), (D), (E) or (F). X 2 and Y 2 are different from each other. r 2 , s 2 , t 2 and u 2 each independently represent a positive number satisfying the following mathematical formulas (2a), (2b) and (2c).
r 2 + s 2 + t 2 + u 2 = 100 (2a)
r 2 + t 2 = s 2 + u 2 (2b)
0.30 ≦ s 2 / (s 2 + u 2 ) ≦ 0.70 (2c)
r2、s2、t2及びu2は、各々独立に、数式(2a)、(2b)及び(2c)に加えて、下記数式(2d)を更に満たす正の数を表してもよい。
0.30≦r2/(r2+t2)≦0.70・・・(2d)
r 2 , s 2 , t 2, and u 2 may each independently represent a positive number that further satisfies the following formula (2d) in addition to the formulas (2a), (2b), and (2c).
0.30 ≦ r 2 / (r 2 + t 2 ) ≦ 0.70 (2d)
感光体の耐フィルミング性を更に向上させるためには、一般式(2)中、R21、R22、R23及びR24は、各々、メチル基を表すことが好ましい。同じ理由から、X2及びY2の一方が化学式(C)で表される二価の基を表し、X2及びY2の他方が化学式(E)で表される二価の基を表すことが好ましい。 In order to further improve the filming resistance of the photoreceptor, it is preferable that R 21 , R 22 , R 23 and R 24 in the general formula (2) each represent a methyl group. For the same reason, one of X 2 and Y 2 represents a divalent group represented by the chemical formula (C), and the other of X 2 and Y 2 represents a divalent group represented by the chemical formula (E). Is preferred.
r2とs2とが互いに異なってもよい。r2とu2とが互いに異なってもよい。t2とs2とが互いに異なってもよい。t2とu2とが互いに異なってもよい。 r 2 and s 2 may be different from each other. r 2 and u 2 may be different from each other. t 2 and s 2 may be different from each other. t 2 and u 2 may be different from each other.
ポリアリレート樹脂(2)は、一般式(2−10)で表される繰返し単位と、一般式(2−11)で表される繰返し単位と、一般式(2−12)で表される繰返し単位と、一般式(2−13)で表される繰返し単位とを有する。以下、一般式(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)で表される繰返し単位を、各々、繰返し単位(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)と記載することがある。 The polyarylate resin (2) includes a repeating unit represented by the general formula (2-10), a repeating unit represented by the general formula (2-11), and a repeating unit represented by the general formula (2-12). A unit and a repeating unit represented by formula (2-13). Hereinafter, the repeating units represented by the general formulas (2-10), (2-11), (2-12) and (2-13) are represented by repeating units (2-10) and (2-11), respectively. , (2-12) and (2-13).
一般式(2−10)中のR21、R22、一般式(2−11)中のX2、一般式(2−12)中のR23、R24、及び一般式(2−13)中のY2は、各々、一般式(2)中のR21、R22、X2、R23、R24及びY2と同義である。 R 21 and R 22 in formula (2-10), X 2 in formula (2-11), R 23 and R 24 in formula (2-12), and formula (2-13) Y 2 therein is synonymous with R 21 , R 22 , X 2 , R 23 , R 24 and Y 2 in the general formula (2).
一般式(2)中のr2は、ポリアリレート樹脂(2)に含まれる繰り返し単位(2−10)の数n2-10と繰り返し単位(2−11)の数n2-11と繰り返し単位(2−12)の数n2-12と繰り返し単位(2−13)の数n2-13との和に対する、繰り返し単位(2−10)の数n2-10の百分率を表す。r2は、数式「r2=100×n2-10/(n2-10+n2-11+n2-12+n2-13)」から求められる。一般式(2)中のs2は、ポリアリレート樹脂(2)に含まれる繰り返し単位(2−10)の数n2-10と繰り返し単位(2−11)の数n2-11と繰り返し単位(2−12)の数n2-12と繰り返し単位(2−13)の数n2-13との和に対する、繰り返し単位(2−11)の数n2-11の百分率を表す。s2は、数式「s2=100×n2-11/(n2-10+n2-11+n2-12+n2-13)」から求められる。一般式(2)中のt2は、ポリアリレート樹脂(2)に含まれる繰り返し単位(2−10)の数n2-10と繰り返し単位(2−11)の数n2-11と繰り返し単位(2−12)の数n2-12と繰り返し単位(2−13)の数n2-13との和に対する、繰り返し単位(2−12)の数n2-12の百分率を表す。t2は、数式「t2=100×n2-12/(n2-10+n2-11+n2-12+n2-13)」から求められる。一般式(2)中のu2は、ポリアリレート樹脂(2)に含まれる繰り返し単位(2−10)の数n2-10と繰り返し単位(2−11)の数n2-11と繰り返し単位(2−12)の数n2-12と繰り返し単位(2−13)の数n2-13との和に対する、繰り返し単位(2−13)の数n2-13の百分率を表す。u2は、数式「u2=100×n2-13/(n2-10+n2-11+n2-12+n2-13)」から求められる。 In the general formula (2), r 2 represents the number n 2-10 of the repeating unit ( 2-10 ) and the number n 2-11 of the repeating unit (2-11) contained in the polyarylate resin (2) and the repeating unit. to the sum of the number n 2-13 number n 2-12 repeating unit (2-13) of (2-12), representing a percentage of the number n 2-10 of repeat units (2-10). r 2 is obtained from the formula “r 2 = 100 × n 2-10 / (n 2-10 + n 2-11 + n 2-12 + n 2-13 )”. In the general formula (2), s 2 represents the number n 2-10 of the repeating unit ( 2-10 ), the number n 2-11 of the repeating unit (2-11) and the repeating unit contained in the polyarylate resin (2). to the sum of the number n 2-13 number n 2-12 repeating unit (2-13) of (2-12), representing a percentage of the number n 2-11 of repeat units (2-11). s 2 is obtained from the formula “s 2 = 100 × n 2-11 / (n 2-10 + n 2-11 + n 2-12 + n 2-13 )”. T 2 in the general formula (2) represents the number n 2-10 of the repeating unit ( 2-10 ), the number n 2-11 of the repeating unit (2-11) and the repeating unit contained in the polyarylate resin (2). to the sum of the number n 2-13 number n 2-12 repeating unit (2-13) of (2-12), representing a percentage of the number n 2-12 of repeat units (2-12). t 2 is obtained from the formula “t 2 = 100 × n 2-12 / (n 2-10 + n 2-11 + n 2-12 + n 2-13 )”. In the general formula (2), u 2 represents the number n 2-10 of the repeating unit ( 2-10 ), the number n 2-11 of the repeating unit (2-11) and the repeating unit contained in the polyarylate resin (2). The percentage of the number n 2-13 of the repeating unit (2-13) to the sum of the number n 2-12 of (2-12) and the number n 2-13 of the repeating unit (2-13) is represented. u 2 is obtained from the formula “u 2 = 100 × n 2-13 / (n 2-10 + n 2-11 + n 2-12 + n 2-13 )”.
一般式(2)中のr2、s2、t2及びu2の各々は、1本の分子鎖から得られる値ではなく、電荷輸送層に含有されるポリアリレート樹脂(2)の全体(複数の分子鎖)から得られる値の平均値である。r2、s2、t2及びu2の各々は、例えば、次の方法で測定される。プロトン核磁気共鳴分光計を用いて、ポリアリレート樹脂(2)の1H−NMRスペクトルを測定する。溶媒としてCDCl3を、内部標準試料としてテトラメチルシラン(TMS)を用いる。得られたポリアリレート樹脂(2)の1H−NMRスペクトルにおける、繰り返し単位(2−10)に特徴的なピークと、繰り返し単位(2−11)に特徴的なピークと、繰り返し単位(2−12)に特徴的なピークと、繰り返し単位(2−13)に特徴的なピークとの比率から、r2、s2、t2及びu2の各々を算出する。 Each of r 2 , s 2 , t 2 and u 2 in the general formula (2) is not a value obtained from one molecular chain, but the entire polyarylate resin (2) contained in the charge transport layer ( The average value of values obtained from a plurality of molecular chains. Each of r 2 , s 2 , t 2 and u 2 is measured, for example, by the following method. Using a proton nuclear magnetic resonance spectrometer, the 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (2) is measured. CDCl 3 is used as a solvent, and tetramethylsilane (TMS) is used as an internal standard sample. In the 1 H-NMR spectrum of the obtained polyarylate resin (2), a peak characteristic of the repeating unit (2-10), a peak characteristic of the repeating unit (2-11), a repeating unit (2- Each of r 2 , s 2 , t 2 and u 2 is calculated from the ratio of the peak characteristic to 12) and the peak characteristic to the repeating unit (2-13).
ポリアリレート樹脂(2)における繰返し単位(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)の配列は、芳香族ジオール由来の繰返し単位と芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位とが互いに隣接する限り、特に限定されない。芳香族ジオール由来の繰返し単位は、繰り返し単位(2−10)及び(2−12)である。芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位は、繰り返し単位(2−11)及び(2−13)である。例えば、繰返し単位(2−10)は、繰返し単位(2−11)又は繰返し単位(2−13)と隣接して互いに結合している。また、繰返し単位(2−12)は、繰返し単位(2−11)又は繰返し単位(2−13)と隣接して互いに結合している。ポリアリレート樹脂(2)は、例えば、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体又はブロック共重合体であってもよい。 The sequence of the repeating units (2-10), (2-11), (2-12) and (2-13) in the polyarylate resin (2) is derived from the repeating unit derived from the aromatic diol and the aromatic dicarboxylic acid. There is no particular limitation as long as the repeating units are adjacent to each other. The repeating units derived from the aromatic diol are the repeating units (2-10) and (2-12). The repeating units derived from the aromatic dicarboxylic acid are the repeating units (2-11) and (2-13). For example, the repeating unit (2-10) is bonded to each other adjacent to the repeating unit (2-11) or the repeating unit (2-13). The repeating unit (2-12) is adjacent to and bonded to the repeating unit (2-11) or the repeating unit (2-13). The polyarylate resin (2) may be, for example, a random copolymer, an alternating copolymer, a periodic copolymer, or a block copolymer.
ポリアリレート樹脂(2)は、繰返し単位(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)以外の繰返し単位を更に有していてもよい。ポリアリレート樹脂(2)に含まれる繰返し単位の総数に対する、繰返し単位(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)の合計数の比率は、0.80以上であることが好ましく、0.90以上であることがより好ましく、1.00であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(2)は、繰り返し単位として、繰り返し単位(2−10)、(2−11)、(2−12)及び(2−13)のみを有していてもよい。 The polyarylate resin (2) may further have a repeating unit other than the repeating units (2-10), (2-11), (2-12) and (2-13). The ratio of the total number of repeating units (2-10), (2-11), (2-12) and (2-13) to the total number of repeating units contained in the polyarylate resin (2) is 0.80. It is preferable that it is above, more preferably 0.90 or more, and still more preferably 1.00. The polyarylate resin (2) may have only the repeating units (2-10), (2-11), (2-12) and (2-13) as repeating units.
数式(2c)で示される「s2/(s2+u2)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。数式(2d)で示される「r2/(r2+t2)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。 “S 2 / (s 2 + u 2 )” represented by the mathematical formula (2c) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50. “R 2 / (r 2 + t 2 )” represented by the mathematical formula (2d) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(2)は、一般式(2−1)で表されるポリアリレート樹脂(以下、ポリアリレート樹脂(2−1)と記載することがある)であることが好ましい。一般式(2−1)中のr2、s2、t2及びu2は、各々、一般式(2)中のr2、s2、t2及びu2と同義である。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (2) is described as a polyarylate resin represented by the general formula (2-1) (hereinafter referred to as polyarylate resin (2-1)). It is preferable that R 2, s 2, t 2 and u 2 in the general formula (2-1) are each a r of the general formula (2) in 2, s 2, synonymous with t 2 and u 2.
ポリアリレート樹脂(2−1)は、化学式(2−1−10)で表される繰り返し単位、化学式(2−1−11)で表される繰り返し単位及び化学式(2−1−13)で表される繰り返し単位を含む。 The polyarylate resin (2-1) is represented by the repeating unit represented by the chemical formula (2-1-10), the repeating unit represented by the chemical formula (2-1-11), and the chemical formula (2-1-13). Containing repeating units.
ポリアリレート樹脂(2−1)において、繰り返し単位(2−1−10)の数n2-1-10と繰り返し単位(2−1−11)の数n2-1-11と繰り返し単位(2−1−13)の数n2-1-13との和に対する、繰り返し単位(2−1−10)の数n2-1-10の百分率「100×n2-1-10/(n2-1-10+n2-1-11+n2-1-13)」は、50である。繰り返し単位(2−1−10)の数n2-1-10と繰り返し単位(2−1−11)の数2-1-11と繰り返し単位(2−1−13)の数n2-1-13との和に対する、繰り返し単位(2−1−11)の数2-1-11と繰り返し単位(2−1−13)の数n2-1-13との和の百分率「100×(n2-1-11+n2-1-13)/(n2-1-10+n2-1-11+n2-1-13)」は、50である。繰り返し単位(2−1−11)の数2-1-11と繰り返し単位(2−1−13)の数n2-1-13との和に対する、繰り返し単位(2−1−11)の数2-1-11の比率「n2-1-11/(n2-1-11+n2-1-13)」は、0.30以上0.70以下であることが好ましく、0.40以上0.60以下であることがより好ましく、0.50であることが特に好ましい。 In polyarylate resin (2-1), the number n 2-1-11 repeating unit number n 2-1-10 repeating unit of the repeating unit (2-1-10) (2-1-11) (2 The percentage of the number n 2-1-10 of the repeating unit (2-1-10) with respect to the sum of the number −1-13) and the number n 2-1-13 “100 × n 2-1-10 / (n 2 -1-10 + n 2-1-11 + n 2-1-13 ) "is 50. Number n 2-1-10 of repeating unit ( 2-1-10 ), number 2-1-11 of repeating unit ( 2-1-11 ), and number n 2-1 of repeating unit (2-1-13) to the sum of -13 sum of the percentage "100 × the number n 2-1-13 number 2-1-11 a repeating unit of the repeating unit (2-1-11) (2-1-13) ( n 2-1-11 + n 2-1-13 ) / (n 2-1-10 + n 2-1-11 + n 2-1-13 ) "is 50. To the sum of the number n 2-1-13 number 2-1-11 repeating unit (2-1-13) of the repeating unit (2-1-11), the number of repeating units (2-1-11) the ratio of 2-1-11 'n 2-1-11 / (n 2-1-11 + n 2-1-13) "is preferably 0.30 to 0.70, 0.40 or higher It is more preferably 0.60 or less, and particularly preferably 0.50.
ポリアリレート樹脂(2)の粘度平均分子量は、35000以上であることが好ましく、40000以上であることがより好ましく、45000以上であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(2)の粘度平均分子量が35000以上である場合、電荷輸送層が摩耗しにくくなる。一方、ポリアリレート樹脂(2)の粘度平均分子量は、75000以下であることが好ましく、60000以下であることがより好ましく、55000以下であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(2)の粘度平均分子量が75000以下である場合、電荷輸送層形成用の溶剤にポリアリレート樹脂(2)が溶解し易くなり、電荷輸送層の形成が容易になる。 The viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (2) is preferably 35000 or more, more preferably 40000 or more, and further preferably 45000 or more. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (2) is 35000 or more, the charge transport layer is hardly worn. On the other hand, the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (2) is preferably 75000 or less, more preferably 60000 or less, and further preferably 55000 or less. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (2) is 75000 or less, the polyarylate resin (2) is easily dissolved in the solvent for forming the charge transport layer, and the charge transport layer is easily formed.
(ポリアリレート樹脂(3))
ポリアリレート樹脂(3)は、下記一般式(3)で表される。
(Polyarylate resin (3))
The polyarylate resin (3) is represented by the following general formula (3).
一般式(3)中、R31、R32、R33及びR34は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。X3及びY3は、各々、前記化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表す。一般式(3)中の化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基は、一般式(1)中の化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基と同じである。X3とY3とは互いに異なっている。r3、s3、t3及びu3は、各々独立に、下記数式(3a)、(3b)及び(3c)を満たす正の数を表す。
r3+s3+t3+u3=100 ・・・(3a)
r3+t3=s3+u3 ・・・(3b)
0.30≦s3/(s3+u3)≦0.70・・・(3c)
In general formula (3), R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. X 3 and Y 3 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F). The divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F) in the general formula (3) is represented by the chemical formula (1) in the general formula (1). It is the same as the divalent group represented by A), (B), (C), (D), (E) or (F). X 3 and Y 3 are different from each other. r 3 , s 3 , t 3 and u 3 each independently represent a positive number satisfying the following mathematical formulas (3a), (3b) and (3c).
r 3 + s 3 + t 3 + u 3 = 100 (3a)
r 3 + t 3 = s 3 + u 3 (3b)
0.30 ≦ s 3 / (s 3 + u 3 ) ≦ 0.70 (3c)
r3、s3、t3及びu3は、各々独立に、数式(3a)、(3b)及び(3c)に加えて、下記数式(3d)を更に満たす正の数を表してもよい。
0.30≦r3/(r3+t3)≦0.70・・・(3d)
r 3 , s 3 , t 3, and u 3 may each independently represent a positive number that further satisfies the following formula (3d) in addition to the formulas (3a), (3b), and (3c).
0.30 ≦ r 3 / (r 3 + t 3 ) ≦ 0.70 (3d)
感光体の耐フィルミング性を更に向上させるためには、一般式(3)中、R31、R32、R33及びR34は、各々、水素原子を表すことが好ましい。同じ理由から、X3及びY3の一方が化学式(C)で表される二価の基を表し、X3及びY3の他方が化学式(E)で表される二価の基を表すことが好ましい。 In order to further improve the filming resistance of the photoreceptor, it is preferable that R 31 , R 32 , R 33, and R 34 in the general formula (3) each represent a hydrogen atom. For the same reason, one of X 3 and Y 3 represents a divalent group represented by the chemical formula (C), and the other of X 3 and Y 3 represents a divalent group represented by the chemical formula (E). Is preferred.
r3とs3とが互いに異なってもよい。r3とu3とが互いに異なってもよい。t3とs3とが互いに異なってもよい。t3とu3とが互いに異なってもよい。 r 3 and s 3 may be different from each other. r 3 and u 3 may be different from each other. t 3 and s 3 may be different from each other. t 3 and u 3 may be different from each other.
ポリアリレート樹脂(3)は、一般式(3−10)で表される繰返し単位と、一般式(3−11)で表される繰返し単位と、一般式(3−12)で表される繰返し単位と、一般式(3−13)で表される繰返し単位とを有する。以下、一般式(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)で表される繰返し単位を、各々、繰返し単位(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)と記載することがある。 The polyarylate resin (3) includes a repeating unit represented by the general formula (3-10), a repeating unit represented by the general formula (3-11), and a repeating unit represented by the general formula (3-12). A unit and a repeating unit represented by formula (3-13). Hereinafter, the repeating units represented by the general formulas (3-10), (3-11), (3-12) and (3-13) are represented by repeating units (3-10) and (3-11), respectively. , (3-12) and (3-13).
一般式(3−10)中のR31、R32、一般式(3−11)中のX3、一般式(3−12)中のR33、R34、及び一般式(3−13)中のY3は、各々、一般式(3)中のR31、R32、X3、R33、R34及びY3と同義である。 R 31 and R 32 in general formula (3-10), X 3 in general formula (3-11), R 33 and R 34 in general formula (3-12), and general formula (3-13) Y 3 therein is as defined in R 31 , R 32 , X 3 , R 33 , R 34 and Y 3 in the general formula (3).
一般式(3)中のr3は、ポリアリレート樹脂(3)に含まれる繰り返し単位(3−10)の数n3-10と繰り返し単位(3−11)の数n3-11と繰り返し単位(3−12)の数n3-12と繰り返し単位(3−13)の数n3-13との和に対する、繰り返し単位(3−10)の数n3-10の百分率を表す。r3は、数式「r3=100×n3-10/(n3-10+n3-11+n3-12+n3-13)」から求められる。一般式(3)中のs3は、ポリアリレート樹脂(3)に含まれる繰り返し単位(3−10)の数n3-10と繰り返し単位(3−11)の数n3-11と繰り返し単位(3−12)の数n3-12と繰り返し単位(3−13)の数n3-13との和に対する、繰り返し単位(3−11)の数n3-11の百分率を表す。s3は、数式「s3=100×n3-11/(n3-10+n3-11+n3-12+n3-13)」から求められる。一般式(3)中のt3は、ポリアリレート樹脂(3)に含まれる繰り返し単位(3−10)の数n3-10と繰り返し単位(3−11)の数n3-11と繰り返し単位(3−12)の数n3-12と繰り返し単位(3−13)の数n3-13との和に対する、繰り返し単位(3−12)の数n3-12の百分率を表す。t3は、数式「t3=100×n3-12/(n3-10+n3-11+n3-12+n3-13)」から求められる。一般式(3)中のu3は、ポリアリレート樹脂(3)に含まれる繰り返し単位(3−10)の数n3-10と繰り返し単位(3−11)の数n3-11と繰り返し単位(3−12)の数n3-12と繰り返し単位(3−13)の数n3-13との和に対する、繰り返し単位(3−13)の数n3-13の百分率を表す。u3は、数式「u3=100×n3-13/(n3-10+n3-11+n3-12+n3-13)」から求められる。 R 3 of the general formula (3), polyarylate resins number n 3-11 repeating unit number n 3-10 repeating unit (3-11) of the repeating units (3-10) included in (3) to the sum of the number n 3-13 number n 3-12 repeating unit (3-13) of (3-12), representing a percentage of the number n 3-10 of repeat units (3-10). r 3 is obtained from the formula “r 3 = 100 × n 3-10 / (n 3-10 + n 3-11 + n 3-12 + n 3-13 )”. In the general formula (3), s 3 represents the number n 3-10 of the repeating unit ( 3-10 ) and the number n 3-11 of the repeating unit (3-11) contained in the polyarylate resin (3). to the sum of the number n 3-13 number n 3-12 repeating unit (3-13) of (3-12), representing a percentage of the number n 3-11 of repeat units (3-11). s 3 is obtained from the formula “s 3 = 100 × n 3-11 / (n 3-10 + n 3-11 + n 3-12 + n 3-13 )”. T 3 in the general formula (3) represents the number n 3-10 of the repeating unit ( 3-10 ), the number n 3-11 of the repeating unit (3-11) and the repeating unit contained in the polyarylate resin (3). to the sum of the number n 3-13 number n 3-12 repeating unit (3-13) of (3-12), representing a percentage of the number n 3-12 of repeat units (3-12). t 3 is obtained from the formula “t 3 = 100 × n 3−12 / (n 3−10 + n 3−11 + n 3−12 + n 3−13 )”. U 3 of the general formula (3), polyarylate resins number n 3-11 repeating unit number n 3-10 repeating unit (3-11) of the repeating units (3-10) included in (3) to the sum of the number n 3-13 number n 3-12 repeating unit (3-13) of (3-12), representing a percentage of the number n 3-13 of repeat units (3-13). u 3 is obtained from the equation “u 3 = 100 × n 3-13 / (n 3-10 + n 3-11 + n 3-12 + n 3-13 )”.
一般式(3)中のr3、s3、t3及びu3の各々は、1本の分子鎖から得られる値ではなく、電荷輸送層に含有されるポリアリレート樹脂(3)の全体(複数の分子鎖)から得られる値の平均値である。r3、s3、t3及びu3の各々は、例えば、次の方法で測定される。プロトン核磁気共鳴分光計を用いて、ポリアリレート樹脂(3)の1H−NMRスペクトルを測定する。溶媒としてCDCl3を、内部標準試料としてテトラメチルシラン(TMS)を用いる。得られたポリアリレート樹脂(3)の1H−NMRスペクトルにおける、繰り返し単位(3−10)に特徴的なピークと、繰り返し単位(3−11)に特徴的なピークと、繰り返し単位(3−12)に特徴的なピークと、繰り返し単位(3−13)に特徴的なピークとの比率から、r3、s3、t3及びu3の各々を算出する。 Each of r 3 , s 3 , t 3 and u 3 in the general formula (3) is not a value obtained from one molecular chain, but the entire polyarylate resin (3) contained in the charge transport layer ( The average value of values obtained from a plurality of molecular chains. Each of r 3 , s 3 , t 3 and u 3 is measured, for example, by the following method. Using a proton nuclear magnetic resonance spectrometer, the 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (3) is measured. CDCl 3 is used as a solvent, and tetramethylsilane (TMS) is used as an internal standard sample. In the 1 H-NMR spectrum of the resulting polyarylate resin (3), a peak characteristic of the repeating unit (3-10), a peak characteristic of the repeating unit (3-11), a repeating unit (3- Each of r 3 , s 3 , t 3 and u 3 is calculated from the ratio of the peak characteristic to 12) and the peak characteristic to the repeating unit (3-13).
ポリアリレート樹脂(3)における繰返し単位(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)の配列は、芳香族ジオール由来の繰返し単位と芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位とが互いに隣接する限り、特に限定されない。芳香族ジオール由来の繰返し単位は、繰り返し単位(3−10)及び(3−12)である。芳香族ジカルボン酸由来の繰返し単位は、繰り返し単位(3−11)及び(3−13)である。例えば、繰返し単位(3−10)は、繰返し単位(3−11)又は繰返し単位(3−13)と隣接して互いに結合している。また、繰返し単位(3−12)は、繰返し単位(3−11)又は繰返し単位(3−13)と隣接して互いに結合している。ポリアリレート樹脂(3)は、例えば、ランダム共重合体、交互共重合体、周期的共重合体又はブロック共重合体であってもよい。 The sequences of the repeating units (3-10), (3-11), (3-12) and (3-13) in the polyarylate resin (3) are derived from the repeating units derived from the aromatic diol and the aromatic dicarboxylic acid. There is no particular limitation as long as the repeating units are adjacent to each other. The repeating units derived from the aromatic diol are the repeating units (3-10) and (3-12). The repeating units derived from the aromatic dicarboxylic acid are the repeating units (3-11) and (3-13). For example, the repeating unit (3-10) is bonded to each other adjacent to the repeating unit (3-11) or the repeating unit (3-13). The repeating unit (3-12) is adjacent to and bonded to the repeating unit (3-11) or the repeating unit (3-13). The polyarylate resin (3) may be, for example, a random copolymer, an alternating copolymer, a periodic copolymer, or a block copolymer.
ポリアリレート樹脂(3)は、繰返し単位(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)以外の繰返し単位を更に有していてもよい。ポリアリレート樹脂(3)に含まれる繰返し単位の総数に対する、繰返し単位(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)の合計数の比率は、0.80以上であることが好ましく、0.90以上であることがより好ましく、1.00であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(3)は、繰り返し単位として、繰り返し単位(3−10)、(3−11)、(3−12)及び(3−13)のみを有していてもよい。 The polyarylate resin (3) may further have a repeating unit other than the repeating units (3-10), (3-11), (3-12) and (3-13). The ratio of the total number of repeating units (3-10), (3-11), (3-12) and (3-13) to the total number of repeating units contained in the polyarylate resin (3) is 0.80. It is preferable that it is above, more preferably 0.90 or more, and still more preferably 1.00. The polyarylate resin (3) may have only the repeating units (3-10), (3-11), (3-12) and (3-13) as repeating units.
数式(3c)で示される「s3/(s3+u3)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。数式(3d)で示される「r3/(r3+t3)」は、0.40以上0.60以下であることが好ましく、0.50であることがより好ましい。 “S 3 / (s 3 + u 3 )” represented by the mathematical formula (3c) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50. “R 3 / (r 3 + t 3 )” represented by the mathematical formula (3d) is preferably 0.40 or more and 0.60 or less, and more preferably 0.50.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(3)は、一般式(3−1)で表されるポリアリレート樹脂(以下、ポリアリレート樹脂(3−1)と記載することがある)であることが好ましい。一般式(3−1)中のr3、s3、t3及びu3は、各々、一般式(3)中のr3、s3、t3及びu3と同義である。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (3) is described as a polyarylate resin represented by the general formula (3-1) (hereinafter referred to as polyarylate resin (3-1)). It is preferable that General r 3 of formula (3-1) in, s 3, t 3 and u 3 are each the same meaning as in formula (3) in the r 3, s 3, t 3, and u 3.
ポリアリレート樹脂(3−1)は、化学式(3−1−10)で表される繰り返し単位、化学式(3−1−11)で表される繰り返し単位及び化学式(3−1−13)で表される繰り返し単位を含む。 The polyarylate resin (3-1) is represented by the repeating unit represented by the chemical formula (3-1-10), the repeating unit represented by the chemical formula (3-1-11), and the chemical formula (3-1-13). Containing repeating units.
ポリアリレート樹脂(3−1)において、繰り返し単位(3−1−10)の数n3-1-10と繰り返し単位(3−1−11)の数n3-1-11と繰り返し単位(3−1−13)の数n3-1-13との和に対する、繰り返し単位(3−1−10)の数n3-1-10の百分率「100×n3-1-10/(n3-1-10+n3-1-11+n3-1-13)」は、50である。繰り返し単位(3−1−10)の数n3-1-10と繰り返し単位(3−1−11)の数3-1-11と繰り返し単位(3−1−13)の数n3-1-13との和に対する、繰り返し単位(3−1−11)の数3-1-11と繰り返し単位(3−1−13)の数n3-1-13との和の百分率「100×(n3-1-11+n3-1-13)/(n3-1-10+n3-1-11+n3-1-13)」は、50である。繰り返し単位(3−1−11)の数3-1-11と繰り返し単位(3−1−13)の数n3-1-13との和に対する、繰り返し単位(3−1−11)の数3-1-11の比率「n3-1-11/(n3-1-11+n3-1-13)」は、0.30以上0.70以下であることが好ましく、0.40以上0.60以下であることがより好ましく、0.50であることが特に好ましい。 In polyarylate resin (3-1), the number n 3-1-11 repeating unit number n 3-1-10 repeating unit of the repeating unit (3-1-10) (3-1-11) (3 The percentage of the number n 3-1-10 of the repeating unit (3-1-10) with respect to the sum of the number -1-13) and the number n 3-1-13 "100 × n 3-1-10 / (n 3 -1-10 + n 3-1-11 + n 3-1-13 ) "is 50. Number n 3-1-10 of repeating unit ( 3-1-10 ), number 3-1-11 of repeating unit ( 3-1-11 ), and number n 3-1 of repeating unit (3-1-13) % Of the sum of the number of repeating units (3-1-11) 3-1-11 and the number of repeating units (3-1-13) n 3-1-13 with respect to the sum of -13 “100 × ( “n 3-1-11 + n 3-1-13 ) / (n 3-1-10 + n 3-1-11 + n 3-1-13 )” is 50. Number of repeating units (3-1-11) with respect to the sum of number of repeating units (3-1-11) 3-1-11 and number of repeating units (3-1-13) n 3-1-13 the ratio of 3-1-11 'n 3-1-11 / (n 3-1-11 + n 3-1-13) "is preferably 0.30 to 0.70, 0.40 or higher It is more preferably 0.60 or less, and particularly preferably 0.50.
ポリアリレート樹脂(3)の粘度平均分子量は、35000以上であることが好ましく、40000以上であることがより好ましく、45000以上であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(3)の粘度平均分子量が35000以上である場合、電荷輸送層が摩耗しにくくなる。一方、ポリアリレート樹脂(3)の粘度平均分子量は、75000以下であることが好ましく、60000以下であることがより好ましく、55000以下であることが更に好ましい。ポリアリレート樹脂(3)の粘度平均分子量が75000以下である場合、電荷輸送層形成用の溶剤にポリアリレート樹脂(3)が溶解し易くなり、電荷輸送層の形成が容易になる。 The viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (3) is preferably 35000 or more, more preferably 40000 or more, and further preferably 45000 or more. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (3) is 35000 or more, the charge transport layer is hardly worn. On the other hand, the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (3) is preferably 75000 or less, more preferably 60000 or less, and further preferably 55000 or less. When the viscosity average molecular weight of the polyarylate resin (3) is 75000 or less, the polyarylate resin (3) is easily dissolved in the solvent for forming the charge transport layer, and the charge transport layer is easily formed.
電荷輸送層は、バインダー樹脂として、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)のみを含んでいてもよい。或いは、電荷輸送層は、バインダー樹脂として、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)に加えて、ポリアリレート樹脂(1)、(2)及び(3)以外の樹脂(その他の樹脂)を含んでいてもよい。その他の樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂(具体的には、ポリアリレート樹脂(1)、(2)及び(3)以外のポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、スチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、アクリル共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂又はポリエステル樹脂)、熱硬化性樹脂(具体的には、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂又はその他架橋性の熱硬化性樹脂)又は光硬化性樹脂(具体的には、エポキシ−アクリル酸系樹脂又はウレタン−アクリル酸系共重合体)が挙げられる。その他の樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The charge transport layer may contain only the polyarylate resin (1), (2) or (3) as the binder resin. Alternatively, the charge transport layer may be used as a binder resin in addition to the polyarylate resin (1), (2) or (3), or a resin other than the polyarylate resins (1), (2) and (3) (other resins ) May be included. Examples of other resins include thermoplastic resins (specifically, polyarylate resins other than polyarylate resins (1), (2) and (3), polycarbonate resins, styrene resins, and styrene-butadiene copolymers. , Styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, acrylic copolymer, polyethylene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, chlorinated polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, Polypropylene resin, ionomer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester resin, alkyd resin, polyamide resin, polyurethane resin, polysulfone resin, diallyl phthalate resin, ketone resin, polyvinyl butyral resin, polyether resin or polyester resin), thermosetting Resin Specifically, silicone resin, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin or other cross-linkable thermosetting resin) or photo-curing resin (specifically, epoxy-acrylic resin or urethane-acrylic acid) Type copolymer). Other resin may be used independently and may use 2 or more types together.
(ポリアリレート樹脂(1)、(2)及び(3)の製造方法)
ポリアリレート樹脂(1)の製造方法は、特に限定されない。一般式(1)中のt1及びu1が0であるときのポリアリレート樹脂(1)の製造方法は、例えば、一般式(BP−A)で表される第一芳香族ジオールと、一般式(DC−A)で表される第一芳香族ジカルボン酸とを縮重合させて、ポリアリレート樹脂(1)を得る。一般式(1)中のt1及びu1が0でないときのポリアリレート樹脂(1)の製造方法は、例えば、一般式(BP−A)で表される第一芳香族ジオールと、一般式(BP−B)で表される第二芳香族ジオールと、一般式(DC−A)で表される第一芳香族ジカルボン酸と、一般式(DC−B)で表される第二芳香族ジカルボン酸とを縮重合させて、ポリアリレート樹脂(1)を得る。一般式(BP−A)中のkr、一般式(BP−B)中のkt、一般式(DC−A)中のX1、及び一般式(DC−B)中のY1は、各々、一般式(1)中のkr、kt、X1及びY1と同義である。
(Production method of polyarylate resin (1), (2) and (3))
The manufacturing method of polyarylate resin (1) is not specifically limited. The production method of the polyarylate resin (1) when t 1 and u 1 in the general formula (1) are 0 is, for example, a first aromatic diol represented by the general formula (BP-A), A polyarylate resin (1) is obtained by condensation polymerization of the first aromatic dicarboxylic acid represented by the formula (DC-A). The production method of the polyarylate resin (1) when t 1 and u 1 in the general formula (1) are not 0 is, for example, the first aromatic diol represented by the general formula (BP-A) and the general formula The second aromatic diol represented by (BP-B), the first aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (DC-A), and the second aromatic diol represented by the general formula (DC-B). Polyarylate resin (1) is obtained by condensation polymerization with dicarboxylic acid. Kr in the general formula (BP-A), kt in the general formula (BP-B), X 1 in the general formula (DC-A), and Y 1 in the general formula (DC-B) are each represented by: It is synonymous with kr, kt, X 1 and Y 1 in the general formula (1).
ポリアリレート樹脂(2)の製造方法は、特に限定されない。ポリアリレート樹脂(2)の製造方法は、例えば、一般式(BP−C)で表される第一芳香族ジオールと、一般式(BP−D)で表される第二芳香族ジオールと、一般式(DC−C)で表される第一芳香族ジカルボン酸と、一般式(DC−D)で表される第二芳香族ジカルボン酸とを縮重合させて、ポリアリレート樹脂(2)を得る。一般式(BP−C)中のR21、R22、一般式(BP−D)中のR23、R24、一般式(DC−C)中のX2、及び一般式(DC−D)中のY2は、各々、一般式(2)中のR21、R22、R23、R24、X2及びY2と同義である。 The manufacturing method of polyarylate resin (2) is not specifically limited. The production method of the polyarylate resin (2) includes, for example, a first aromatic diol represented by the general formula (BP-C), a second aromatic diol represented by the general formula (BP-D), A polyarylate resin (2) is obtained by polycondensing a first aromatic dicarboxylic acid represented by the formula (DC-C) and a second aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (DC-D). . R 21 and R 22 in general formula (BP-C), R 23 and R 24 in general formula (BP-D), X 2 in general formula (DC-C), and general formula (DC-D) Y 2 therein is synonymous with R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , X 2 and Y 2 in the general formula (2).
ポリアリレート樹脂(3)の製造方法は、特に限定されない。ポリアリレート樹脂(3)の製造方法は、例えば、一般式(BP−E)で表される第一芳香族ジオールと、一般式(BP−F)で表される第二芳香族ジオールと、一般式(DC−E)で表される第一芳香族ジカルボン酸と、一般式(DC−F)で表される第二芳香族ジカルボン酸とを縮重合させて、ポリアリレート樹脂(3)を得る。一般式(BP−E)中のR31、R32、一般式(BP−F)中のR33、R34、一般式(DC−E)中のX3、及び一般式(DC−F)中のY3は、各々、一般式(3)中のR31、R32、R33、R34、X3及びY3と同義である。 The manufacturing method of polyarylate resin (3) is not specifically limited. The production method of the polyarylate resin (3) includes, for example, a first aromatic diol represented by the general formula (BP-E), a second aromatic diol represented by the general formula (BP-F), A polyarylate resin (3) is obtained by polycondensing a first aromatic dicarboxylic acid represented by the formula (DC-E) and a second aromatic dicarboxylic acid represented by the general formula (DC-F). . R 31 and R 32 in general formula (BP-E), R 33 and R 34 in general formula (BP-F), X 3 in general formula (DC-E), and general formula (DC-F) Y 3 in the same meaning as R 31 , R 32 , R 33 , R 34 , X 3 and Y 3 in the general formula (3).
芳香族ジオールである化合物(BP−A)〜(BP−F)の各々は、誘導体化して使用されてもよい。芳香族ジオールの誘導体の例は、芳香族ジアセテートである。芳香族ジカルボン酸である化合物(DC−A)〜(DC−F)の各々は、誘導体化して使用されてもよい。芳香族ジカルボン酸の誘導体の例は、芳香族ジカルボン酸ジクロリド、芳香族ジカルボン酸ジメチルエステル、芳香族ジカルボン酸ジエチルエステル又は芳香族ジカルボン酸無水物である。芳香族ジカルボン酸ジクロリドは、芳香族ジカルボン酸の2個の「−C(=O)−OH」基が各々「−C(=O)−Cl」基で置換された化合物である。 Each of the compounds (BP-A) to (BP-F) which are aromatic diols may be used after derivatization. An example of a derivative of an aromatic diol is an aromatic diacetate. Each of the compounds (DC-A) to (DC-F) which are aromatic dicarboxylic acids may be used after derivatization. Examples of derivatives of aromatic dicarboxylic acids are aromatic dicarboxylic acid dichloride, aromatic dicarboxylic acid dimethyl ester, aromatic dicarboxylic acid diethyl ester or aromatic dicarboxylic acid anhydride. An aromatic dicarboxylic acid dichloride is a compound in which two “—C (═O) —OH” groups of an aromatic dicarboxylic acid are each substituted with a “—C (═O) —Cl” group.
芳香族ジオールと芳香族ジカルボン酸とを縮重合させる方法は、公知の合成方法(より具体的には、溶液重合、溶融重合又は界面重合等)を採用することができる。重縮合反応は、アルカリ及び触媒の存在下で進行させてもよい。触媒としては、例えば、第三級アンモニウム(より具体的には、トリアルキルアミン等)又は第四級アンモニウム塩(より具体的には、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド等)が挙げられる。アルカリとしては、例えば、アルカリ金属の水酸化物(より具体的には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等)又はアルカリ土類金属の水酸化物(より具体的には、水酸化カルシウム等)が挙げられる。重縮合反応は、溶媒中及び不活性ガス雰囲気下で進行させてもよい。溶媒としては、例えば、水又はクロロホルムが挙げられる。不活性ガスとしては、例えば、アルゴンが挙げられる。重縮合反応の反応時間は、2時間以上5時間以下であることが好ましい。重縮合反応の反応温度は、5℃以上25℃以下であることが好ましい。必要に応じて、重縮合反応後にポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)は精製されてもよい。精製方法としては、例えば、公知の方法(より具体的には、ろ過、クロマトグラフィー又は晶折等)が挙げられる。 As a method for polycondensing an aromatic diol and an aromatic dicarboxylic acid, a known synthesis method (more specifically, solution polymerization, melt polymerization, interfacial polymerization, or the like) can be employed. The polycondensation reaction may proceed in the presence of an alkali and a catalyst. Examples of the catalyst include tertiary ammonium (more specifically, trialkylamine and the like) or quaternary ammonium salt (more specifically, benzyltrimethylammonium bromide and the like). Examples of the alkali include an alkali metal hydroxide (more specifically, sodium hydroxide or potassium hydroxide) or an alkaline earth metal hydroxide (more specifically, calcium hydroxide). Can be mentioned. The polycondensation reaction may proceed in a solvent and under an inert gas atmosphere. Examples of the solvent include water or chloroform. Examples of the inert gas include argon. The reaction time of the polycondensation reaction is preferably 2 hours or more and 5 hours or less. The reaction temperature of the polycondensation reaction is preferably 5 ° C. or more and 25 ° C. or less. If necessary, the polyarylate resin (1), (2) or (3) may be purified after the polycondensation reaction. Examples of the purification method include known methods (more specifically, filtration, chromatography, crystal folding, etc.).
化合物(DC−A)〜(DC−F)の好適な例は、化学式(DC−1)〜(DC−6)で表される化合物である。以下、化学式(DC−1)〜(DC−6)で表される化合物を、各々、化合物(DC−1)〜(DC−6)と記載することがある。なお、化合物(DC−A)としては、化合物(DC−B)と異なる化合物が選択される。化合物(DC−C)としては、化合物(DC−D)と異なる化合物が選択される。化合物(DC−E)としては、化合物(DC−F)と異なる化合物が選択される。 Preferable examples of the compounds (DC-A) to (DC-F) are compounds represented by chemical formulas (DC-1) to (DC-6). Hereinafter, the compounds represented by chemical formulas (DC-1) to (DC-6) may be referred to as compounds (DC-1) to (DC-6), respectively. As the compound (DC-A), a compound different from the compound (DC-B) is selected. As the compound (DC-C), a compound different from the compound (DC-D) is selected. A compound different from the compound (DC-F) is selected as the compound (DC-E).
化合物(BP−A)及び(BP−B)の各々の好適な例は、化学式(BP−1)又は(BP−2)で表される化合物である。以下、化学式(BP−1)及び(BP−2)で表される化合物を、各々、化合物(BP−1)及び(BP−2)と記載することがある。 A preferable example of each of the compounds (BP-A) and (BP-B) is a compound represented by the chemical formula (BP-1) or (BP-2). Hereinafter, the compounds represented by the chemical formulas (BP-1) and (BP-2) may be referred to as compounds (BP-1) and (BP-2), respectively.
化合物(BP−C)及び(BP−D)の各々の好適な例は、化学式(BP−3)、(BP−4)又は(BP−5)で表される化合物である。以下、化学式(BP−3)、(BP−4)及び(BP−5)で表される化合物を、各々、化合物(BP−3)、(BP−4)及び(BP−5)と記載することがある。 A suitable example of each of the compounds (BP-C) and (BP-D) is a compound represented by the chemical formula (BP-3), (BP-4) or (BP-5). Hereinafter, the compounds represented by the chemical formulas (BP-3), (BP-4), and (BP-5) are referred to as compounds (BP-3), (BP-4), and (BP-5), respectively. Sometimes.
化合物(BP−E)及び(BP−F)の好適な例は、化学式(BP−7)、(BP−8)又は(BP−9)で表される化合物である。以下、化学式(BP−7)、(BP−8)及び(BP−9)で表される化合物を、各々、化合物(BP−7)、(BP−8)及び(BP−9)と記載することがある。 Preferable examples of the compounds (BP-E) and (BP-F) are compounds represented by the chemical formula (BP-7), (BP-8) or (BP-9). Hereinafter, the compounds represented by the chemical formulas (BP-7), (BP-8), and (BP-9) are referred to as compounds (BP-7), (BP-8), and (BP-9), respectively. Sometimes.
(正孔輸送剤)
正孔輸送剤は、200℃以上の融点を有する。電荷輸送層が、200℃以上の正孔輸送剤と、バインダー樹脂としてのポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)とを含むことで、既に述べたように感光体の耐フィルミング性を向上させることができる。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、正孔輸送剤の融点は、200℃以上300℃以下であることが好ましく、200℃以上210℃以下であることがより好ましい。正孔輸送剤の融点は、融点測定装置(例えば、柴田科学株式会社製「簡易融点測定装置 MEL−280型」)
を用いて測定することができる。電荷輸送層は、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤のみを含んでいてもよい。また、電荷輸送層は、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤に加えて、200℃未満の正孔輸送剤を更に含んでいてもよい。
(Hole transport agent)
The hole transport agent has a melting point of 200 ° C. or higher. Since the charge transport layer contains a hole transport agent at 200 ° C. or higher and the polyarylate resin (1), (2) or (3) as a binder resin, the filming resistance of the photoreceptor is already described as described above. Can be improved. In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the melting point of the hole transfer agent is preferably 200 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, and more preferably 200 ° C. or higher and 210 ° C. or lower. The melting point of the hole transport agent is a melting point measuring device (for example, “Simple melting point measuring device MEL-280” manufactured by Shibata Kagaku Co., Ltd.)
Can be measured. The charge transport layer may contain only a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher. The charge transport layer may further include a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher and a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher.
200℃以上の融点を有する正孔輸送剤としては、例えば、一般式(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)で表される化合物が挙げられる。以下、一般式(10)、(11)、(12)、(13)、(14)及び(15)で表される化合物を、各々、化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)及び(15)と記載することがある。電荷輸送層は、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤として、化合物(10)〜(15)のうちの1種のみを含んでいてもよい。また、電荷輸送層は、200℃以上の融点を有する正孔輸送剤として、化合物(10)〜(15)の2種以上を含んでいてもよい。以下、化合物(10)〜(15)の各々について説明する。 Examples of the hole transporting agent having a melting point of 200 ° C. or higher include compounds represented by the general formula (10), (11), (12), (13), (14) or (15). Hereinafter, the compounds represented by the general formulas (10), (11), (12), (13), (14) and (15) are converted into the compounds (10), (11), (12), ( 13), (14) and (15). The charge transport layer may contain only one of compounds (10) to (15) as a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher. Moreover, the charge transport layer may contain two or more compounds (10) to (15) as a hole transport agent having a melting point of 200 ° C. or higher. Hereinafter, each of the compounds (10) to (15) will be described.
化合物(10)は、下記一般式(10)で表される。 Compound (10) is represented by the following general formula (10).
一般式(10)中、R101、R102、R103及びR104は、各々独立に、水素原子又は炭素原子数1以上3以下のアルキル基を表す。R101、R102、R103及びR104のうちの少なくとも2つは水素原子である。一般式(10)中、R101〜R104が表わす炭素原子数1以上3以下のアルキル基としては、メチル基が好ましい。 In general formula (10), R 101 , R 102 , R 103 and R 104 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. At least two of R 101 , R 102 , R 103 and R 104 are hydrogen atoms. In general formula (10), the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 101 to R 104 is preferably a methyl group.
化合物(10)の好適な例としては、化学式(10−1)で表される化合物(以下、化合物(10−1)と記載することがある)が挙げられる。化合物(10−1)の融点は、204℃である。 Preferable examples of compound (10) include a compound represented by chemical formula (10-1) (hereinafter sometimes referred to as compound (10-1)). Compound (10-1) has a melting point of 204 ° C.
化合物(11)は、下記一般式(11)で表される。 The compound (11) is represented by the following general formula (11).
一般式(11)中、R111、R112、R113及びR114は、各々、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を表す。一般式(11)中、R111〜R114が表わす炭素原子数1以上6以下のアルキル基としては、炭素原子数1以上4以下のアルキル基が好ましく、メチル基又はtert−ブチル基が好ましい。 In the general formula (11), R 111 , R 112 , R 113 and R 114 each represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. In general formula (11), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 111 to R 114 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and preferably a methyl group or a tert-butyl group.
化合物(11)の好適な例としては、化学式(11−1)で表される化合物(以下、化合物(11−1)と記載することがある)が挙げられる。化合物(11−1)の融点は、203℃である。 Preferable examples of compound (11) include a compound represented by chemical formula (11-1) (hereinafter sometimes referred to as compound (11-1)). Compound (11-1) has a melting point of 203 ° C.
化合物(12)は、下記一般式(12)で表される。 The compound (12) is represented by the following general formula (12).
一般式(12)中、R121、R122及びR123は、各々独立に、炭素原子数1以上3以下のアルキル基を表す。b1、b2及びb3は、各々独立に、0以上5以下の整数を表す。一般式(12)中、R121〜R123が表わす炭素原子数1以上3以下のアルキル基としては、メチル基が好ましい。 In general formula (12), R 121 , R 122 and R 123 each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. b 1 , b 2 and b 3 each independently represent an integer of 0 or more and 5 or less. In general formula (12), the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 121 to R 123 is preferably a methyl group.
b1が2以上5以下の整数を表す場合、複数のR121は、互いに同一でも異なっていてもよい。b2が2以上5以下の整数を表す場合、複数のR122は、互いに同一でも異なっていてもよい。b3が2以上5以下の整数を表す場合、複数のR123は、互いに同一でも異なっていてもよい。b1は、2を表すことが好ましい。b2及びb3は、各々、0を表すことが好ましい。 When b 1 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 121 may be the same as or different from each other. When b 2 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 122 may be the same as or different from each other. When b 3 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 123 may be the same as or different from each other. b 1 preferably represents 2. b 2 and b 3 each preferably represent 0.
化合物(12)の好適な例としては、化学式(12−1)で表される化合物(以下、化合物(12−1)と記載することがある)が挙げられる。化合物(12−1)の融点は、201℃である。 Preferable examples of compound (12) include a compound represented by chemical formula (12-1) (hereinafter sometimes referred to as compound (12-1)). The melting point of the compound (12-1) is 201 ° C.
化合物(13)は、下記一般式(13)で表される。 The compound (13) is represented by the following general formula (13).
一般式(13)中、R131、R132、R133、R134及びR135は、各々独立に、水素原子又は炭素原子数1以上3以下のアルキル基を表す。R131、R132、R133、R134及びR135のうちの少なくとも1つは、炭素原子数1以上3以下のアルキル基を表す。つまり、R131、R132、R133、R134及びR135の全てが水素原子を表すことはない。一般式(13)中、R131〜R135が表す炭素原子数1以上3以下のアルキル基としては、メチル基が好ましい。 In General Formula (13), R 131 , R 132 , R 133 , R 134, and R 135 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. At least one of R 131 , R 132 , R 133 , R 134 and R 135 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. That is, not all of R 131 , R 132 , R 133 , R 134, and R 135 represent a hydrogen atom. In general formula (13), the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 131 to R 135 is preferably a methyl group.
化合物(13)の好適な例としては、化学式(13−1)又は(13−2)で表される化合物(以下、それぞれを化合物(13−1)又は(13−2)と記載することがある)が挙げられる。化合物(13−1)の融点は、210℃である。化合物(13−2)の融点は、207℃である。 As a suitable example of the compound (13), a compound represented by the chemical formula (13-1) or (13-2) (hereinafter, each may be referred to as a compound (13-1) or (13-2)). There is). Compound (13-1) has a melting point of 210 ° C. The melting point of the compound (13-2) is 207 ° C.
化合物(14)は、下記一般式(14)で表される。 The compound (14) is represented by the following general formula (14).
一般式(14)中、R141、R142、R143、R144、R145及びR146、各々独立に、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基を表す。d1、d2、d3及びd4は、各々独立に、0以上5以下の整数を表す。d5及びd6は、各々独立に、0以上4以下の整数を表す。 In general formula (14), R 141 , R 142 , R 143 , R 144 , R 145 and R 146 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group. d 1 , d 2 , d 3 and d 4 each independently represent an integer of 0 or more and 5 or less. d 5 and d 6 each independently represents an integer of 0 or more and 4 or less.
一般式(14)中、R141〜R146が表わす炭素原子数1以上6以下のアルキル基としては、炭素原子数1以上4以下のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。 In general formula (14), the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 141 to R 146 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
一般式(14)中、d1が2以上5以下の整数を表すとき、複数のR141は、互いに同一でも異なっていてもよい。d2が2以上5以下の整数を表すとき、複数のR142は、互いに同一でも異なっていてもよい。d3が2以上4以下の整数を表すとき、複数のR143は、互いに同一でも異なっていてもよい。d4が2以上5以下の整数を表すとき、複数のR144は、互いに同一でも異なっていてもよい。d5が2以上4以下の整数を表すとき、複数のR145は、互いに同一でも異なっていてもよい。d6が2以上4以下の整数を表すとき、複数のR146は、互いに同一でも異なっていてもよい。 In the general formula (14), when d 1 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 141 may be the same as or different from each other. When d 2 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 142 may be the same as or different from each other. When d 3 represents an integer of 2 or more and 4 or less, the plurality of R 143s may be the same as or different from each other. When d 4 represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 144 may be the same as or different from each other. When d 5 represents an integer of 2 or more and 4 or less, the plurality of R 145s may be the same as or different from each other. When d 6 represents an integer of 2 or more and 4 or less, the plurality of R 146 may be the same as or different from each other.
一般式(14)中、d1〜d4は、各々独立に、0以上2以下の整数を表すことが好ましい。d1及びd2の一方が0を表し他方が2を表し、且つd3及びd4の一方が0を表し他方が2を表すことがより好ましい。或いはd1、d2、d3及びd4が各々1を表すことがより好ましい。d5及びd6は、各々、0を表すことが好ましい。 In the general formula (14), it is preferable that d 1 to d 4 each independently represents an integer of 0 or more and 2 or less. More preferably, one of d 1 and d 2 represents 0 and the other represents 2, and one of d 3 and d 4 represents 0 and the other represents 2. Alternatively, it is more preferable that d 1 , d 2 , d 3 and d 4 each represent 1. d 5 and d 6 each preferably represent 0.
一般式(14)中、R141〜R146は、各々独立に、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を表すことが好ましい。d1〜d4は、各々独立に、0以上2以下の整数を表すことが好ましい。d1及びd2の一方が0を表し他方が2を表し、且つd3及びd4の一方が0を表し他方が2を表すことがより好ましい。d5及びd6は、各々、0を表すことが好ましい。 In the general formula (14), R 141 to R 146 preferably each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. d 1 to d 4 are each independently preferably represents an integer of 0 to 2 or less. More preferably, one of d 1 and d 2 represents 0 and the other represents 2, and one of d 3 and d 4 represents 0 and the other represents 2. d 5 and d 6 each preferably represent 0.
化合物(14)の好適な例としては、化学式(14−1)で表される化合物(以下、化合物(14−1)と記載することがある)が挙げられる。化合物(14−1)の融点は、203℃である。 Preferable examples of compound (14) include a compound represented by chemical formula (14-1) (hereinafter sometimes referred to as compound (14-1)). The melting point of the compound (14-1) is 203 ° C.
化合物(15)は、下記一般式(15)で表される。 Compound (15) is represented by the following general formula (15).
一般式(15)中、R151、R152、R153、R154、R155及びR156は、各々独立して、ハロゲン原子、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基又は炭素原子数6以上14以下のアリール基を表す。aは、1以上3以下の整数を表す。b、c、d、e、f及びgは、各々独立して、0以上5以下の整数を表す。 In the general formula (15), R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 and R 156 are each independently a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 or more carbon atoms. An alkoxy group having 6 or less carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms is represented. a represents an integer of 1 to 3. b, c, d, e, f and g each independently represent an integer of 0 or more and 5 or less.
化合物(15)は、化学式「−CH=N−N=」で表される基を2個有し、更に所定の構造を有する。化学式「−CH=N−N=」で表される基は極性基である。極性基を2個有し、更に所定の構造を有することで、感光層形成用の溶剤に対する化合物(15)の溶解性を向上させることができる。また、バインダー樹脂が極性基(例えばカルボニル基)を有する場合に、極性基を2個有し更に所定の構造を有する化合物(15)とバインダー樹脂との相溶性を向上させることができる。これにより、化合物(15)が均一に分散した感光層が得られる傾向がある。その結果、感光層の弾性仕事率が低下することを抑制でき、感光体の表面にフィルミングが発生することを抑制できると考えられる。 The compound (15) has two groups represented by the chemical formula “—CH═N—N═”, and further has a predetermined structure. The group represented by the chemical formula “—CH═N—N═” is a polar group. By having two polar groups and further having a predetermined structure, the solubility of the compound (15) in the solvent for forming the photosensitive layer can be improved. Further, when the binder resin has a polar group (for example, a carbonyl group), the compatibility between the binder resin and the compound (15) having two polar groups and further having a predetermined structure can be improved. As a result, a photosensitive layer in which the compound (15) is uniformly dispersed tends to be obtained. As a result, it can be considered that the elastic power of the photosensitive layer can be prevented from decreasing, and filming can be prevented from occurring on the surface of the photoreceptor.
一般式(15)のR151〜R156で表される炭素原子数1以上6以下のアルキル基としては、炭素原子数1以上3以下のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。 The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 151 to R 156 in the general formula (15) is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably a methyl group.
一般式(15)のR151〜R156で表される炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基としては、炭素原子数1以上3以下のアルコキシ基が好ましく、エトキシ基がより好ましい。 The alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms represented by R 151 to R 156 in the general formula (15) is preferably an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an ethoxy group.
一般式(15)のR151〜R156で表される炭素原子数6以上14以下のアリール基としては、炭素原子数6以上14以下の芳香族単環炭化水素基又は炭素原子数6以上14以下の芳香族縮合二環炭化水素基が好ましく、フェニル基がより好ましい。 The aryl group having 6 to 14 carbon atoms represented by R 151 to R 156 in the general formula (15) is an aromatic monocyclic hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms or 6 to 14 carbon atoms. The following aromatic condensed bicyclic hydrocarbon groups are preferable, and a phenyl group is more preferable.
R151、R152、R153、R154、R155及びR156は、各々独立して、炭素原子数1以上6以下のアルキル基又は炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基を表すことが好ましく、炭素原子数1以上6以下のアルキル基を表すことがより好ましい。 R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 and R 156 preferably each independently represent an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. And more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
一般式(15)中、aは1を表すことが好ましい。 In general formula (15), a preferably represents 1.
一般式(15)中、b、c、d、e、f及びgは、各々独立して、0以上2以下の整数を表すことが好ましい。b及びeは、各々独立して1又は2を表すことがより好ましく、1を表すことが更に好ましい。c、d、f及びgは、各々、0を表すことがより好ましい。 In general formula (15), it is preferable that b, c, d, e, f, and g each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less. b and e each independently preferably represent 1 or 2, and more preferably represent 1. More preferably, c, d, f and g each represent 0.
bが2以上5以下の整数を表すとき複数のR151は同一でも異なっていてもよい。cが2以上5以下の整数を表すとき複数のR152は同一でも異なっていてもよい。dが2以上5以下の整数を表すとき複数のR153は同一でも異なっていてもよい。eが2以上5以下の整数を表すとき複数のR154は同一でも異なっていてもよい。fが2以上5以下の整数を表すとき複数のR155は同一でも異なっていてもよい。gが2以上5以下の整数を表すとき複数のR156は同一でも異なっていてもよい。即ち、b、c、d、e、f及びgが2以上5以下の整数を表すとき、対応する複数のR151、R152、R153、R154、R155及びR156は同一でも異なっていてもよい。例えば、bが2を表すとき、2個のR151は互いに同一であっても異なっていてもよい。例えば、bが2を表すとき、2個のR151は各々メチル基であってもよいし、2個のR151の一方がメチル基であり他方がメトキシ基であってもよい。 When b represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 151 may be the same or different. When c represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 152 may be the same or different. When d represents an integer of 2 to 5, a plurality of R 153 may be the same or different. When e represents an integer of 2 to 5, a plurality of R 154 may be the same or different. When f represents an integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 155 may be the same or different. When g represents an integer of 2 to 5, a plurality of R 156 may be the same or different. That is, when b, c, d, e, f and g represent an integer of 2 or more and 5 or less, a plurality of corresponding R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 and R 156 are the same or different. May be. For example, when b represents 2, two R 151 may be the same as or different from each other. For example, when b represents 2, two R 151 may each be a methyl group, or one of the two R 151 may be a methyl group and the other may be a methoxy group.
b、c、d、e、f及びgが1以上5以下の整数を表すとき、対応するR151、R152、R153、R154、R155及びR156の置換位置は特に限定されない。R151、R152、R153、R154、R155又はR156は、R151、R152、R153、R154、R155又はR156が結合するフェニル基のパラ位、メタ位又はオルト位の何れに結合してもよい。R151、R152、R153、R154、R155又はR156は、フェニル基のオルト位及び/又はパラ位に結合することが好ましい。 When b, c, d, e, f and g represent an integer of 1 or more and 5 or less, the substitution positions of corresponding R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 and R 156 are not particularly limited. R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 or R 156 is a para position, a meta position or an ortho position of the phenyl group to which R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 or R 156 is bonded. Any of these may be combined. R 151 , R 152 , R 153 , R 154 , R 155 or R 156 is preferably bonded to the ortho position and / or the para position of the phenyl group.
一般式(15)中、下記一般式(15−1−1)で表される基は、下記一般式(15−1−2)で表される基と同一であることが好ましい。感光体の耐フィルミング性を維持しつつ、反応工程を減らして効率的に化合物(15)を製造できるためである。 In general formula (15), the group represented by the following general formula (15-1-1) is preferably the same as the group represented by the following general formula (15-1-2). This is because the compound (15) can be produced efficiently by reducing the number of reaction steps while maintaining the filming resistance of the photoreceptor.
一般式(15−1−1)中、R151、R152、R153、b、c及びdは、一般式(15)中のR151、R152、R153、b、c及びdと同義である。一般式(15−1−1)中のR151、R152、R153、b、c及びdの好適な例は、一般式(15)中のR151、R152、R153、b、c及びdの好適な例と同じである。Y151は、結合部位を表す。 In the general formula (15-1-1), R 151, R 152, R 153, b, c and d, R 151 in the general formula (15), R 152, R 153, b, c and d as defined It is. R 151, R 152 in formula (15-1-1), R 153, b , preferred examples of the c and d, R 151 in the general formula (15), R 152, R 153, b, c And d are the same as the preferred examples. Y 151 represents a binding site.
一般式(15−1−2)中、R154、R155、R156、e、f及びgは、一般式(15)中のR154、R155、R156、e、f及びgと同義である。一般式(15−1−2)中のR154、R155、R156、e、f及びgの好適な例は、一般式(15)中のR154、R155、R156、e、f及びgの好適な例と同じである。Y152は、結合部位を表す。 In the general formula (15-1-2), R 154, R 155, R 156, e, f and g, R 154 in the general formula (15), R 155, R 156, e, f and g as defined It is. R 154 in formula (15-1-2), R 155, R 156, e, suitable examples of f and g, R 154 in the general formula (15), R 155, R 156, e, f And g are the same as the preferred examples. Y 152 represents a binding site.
一般式(15−1−1)で表される基のY151は、下記一般式(15−1−3)で表される基のY151と結合する。そして、一般式(15−1−1)中のY151が結合する窒素原子と、一般式(15−1−3)中のY151が結合する炭素原子との間に、単結合が形成される。一般式(15−1−2)で表される基のY152は、一般式(15−1−3)で表される基のY152と結合する。そして、一般式(15−1−2)中のY152が結合する窒素原子と、一般式(15−1−3)中のY152が結合する炭素原子との間に、単結合が形成される。 Y 151 of the group represented by the general formula (15-1-1) is bonded to Y 151 of the group represented by the following general formula (15-1-3). A single bond is formed between the nitrogen atom to which Y 151 in general formula (15-1-1) is bonded and the carbon atom to which Y 151 in general formula (15-1-3) is bonded. The Y 152 of the group represented by the general formula (15-1-2) is bonded to Y 152 of the group represented by the general formula (15-1-3). A single bond is formed between the nitrogen atom to which Y 152 in General Formula (15-1-2) is bonded and the carbon atom to which Y 152 in General Formula (15-1-3) is bonded. The
一般式(15−1−3)中、aは、一般式(15)中のaと同義である。一般式(15−1−3)中のaの好適な例は、一般式(15)中のaの好適な例と同じである。Y151及びY152は各々、結合部位を表す。 In general formula (15-1-3), a is synonymous with a in general formula (15). The suitable example of a in General formula (15-1-3) is the same as the suitable example of a in General formula (15). Y 151 and Y 152 each represent a binding site.
一般式(15−1−1)で表される基が一般式(15−1−2)で表される基と同一である場合、一般式(15)中のR151〜R156及びb〜gは次の関係を有する。一般式(15)中、R151及びR154は、互いに同じ基を表す。R152及びR155は、互いに同じ基を表す。R153及びR156は、互いに同じ基を表す。b及びeは、互いに同じ整数を表す。c及びfは、互いに同じ整数を表す。d及びgは、互いに同じ整数を表す。b及びeが互いに2以上5以下の同じ整数を表すとき、複数のR151は同一でも異なってもよく、複数のR154は同一でも異なってもよい。この場合、一のフェニル基の一の結合位置に結合するR151と、別のフェニル基のこのR151に対応する置換位置に結合するR154とは、同一である。理解を容易にするために一例を挙げて説明する。例えば、一のフェニル基のパラ位に結合するR151と、オルト位に結合するR151とは同一でも異なっていてもよい。この場合、別のフェニル基のパラ位に結合するR154と、オルト位に結合するR154とは同一でも異なっていてもよい。この場合、一のフェニル基のパラ位に結合するR151と、別のフェニル基のパラ位に結合するR154とは同一である。一のフェニル基のオルト位に結合するR151と、別のフェニル基のオルト位に結合するR154とは同一である。c及びfが互いに2以上5以下の同じ整数を表すときも、複数のR152及び複数のR155は同様の関係を有する。d及びgが互いに2以上5以下の同じ整数を表すときも、複数のR153及び複数のR156は同様の関係を有する。 When the group represented by the general formula (15-1-1) is the same as the group represented by the general formula (15-1-2), R 151 to R 156 and b to in the general formula (15) g has the following relationship: In general formula (15), R 151 and R 154 represent the same group. R 152 and R 155 represent the same group. R 153 and R 156 represent the same group. b and e represent the same integer. c and f represent the same integer. d and g represent the same integer. When b and e represent the same integer of 2 or more and 5 or less, a plurality of R 151 may be the same or different, and a plurality of R 154 may be the same or different. In this case, R 151 bonded to one bonding position of one phenyl group and R 154 bonded to the substitution position corresponding to R 151 of another phenyl group are the same. An example will be described to facilitate understanding. For example, the R 151 to bind to the para position of one phenyl group may be the same or different and R 151 is bonded to the ortho position. In this case, the R 154 to bind to the para position of another phenyl group may be the same or different and R 154 is bonded to the ortho position. In this case, R 151 bonded to the para position of one phenyl group and R 154 bonded to the para position of another phenyl group are the same. R 151 bonded to the ortho position of one phenyl group and R 154 bonded to the ortho position of another phenyl group are the same. Even when c and f each represent the same integer of 2 to 5, the plurality of R 152 and the plurality of R 155 have the same relationship. Even when d and g each represent the same integer of 2 or more and 5 or less, the plurality of R 153 and the plurality of R 156 have the same relationship.
一般式(15−1−1)で表される基が一般式(15−1−2)で表される基と同一である場合、一般式(15)中のR152、R153、R155及びR156は互いに同じ基を表し、c、d、f及びgは互いに同じ整数を表すことが好ましい。 When the group represented by the general formula (15-1-1) is the same as the group represented by the general formula (15-1-2), R 152 , R 153 and R 155 in the general formula (15) are used. And R 156 each represent the same group, and c, d, f and g preferably represent the same integer.
化合物(15)例としては、下記化学式(15−1A)、(15−1B)、(15−1C)、(15−1D)又は(15−1E)で表される化合物(以下、化合物(15−1A)、(15−1B)、(15−1C)、(15−1D)又は(15−1E)と記載することがある)が好ましく、化合物(15−1E)がより好ましい。化合物(15−1E)の融点は、211℃である。 Examples of the compound (15) include compounds represented by the following chemical formulas (15-1A), (15-1B), (15-1C), (15-1D) or (15-1E) (hereinafter referred to as compound (15). -1A), (15-1B), (15-1C), (15-1D) or (15-1E)) is preferred, and compound (15-1E) is more preferred. The melting point of the compound (15-1E) is 211 ° C.
化合物(15−1A)〜(15−1E)のうちの代表例として、化合物(15−1B)及び(15−1D)の赤外線吸収スペクトルを、各々、図12及び図13に示す。図12及び図13中、縦軸は吸収ピークの波数(単位:cm-1)を示し、横軸は透過度(単位:%)を示す。赤外線吸収スペクトルは、KBr(臭化カリウム)錠剤法により調製された試料を、フーリエ変換赤外分光光度計(PerkinElmer社製「SPECTRUMONE」)を用いて測定することにより得ることができる。 As representative examples of the compounds (15-1A) to (15-1E), infrared absorption spectra of the compounds (15-1B) and (15-1D) are shown in FIGS. 12 and 13, respectively. 12 and 13, the vertical axis indicates the wave number (unit: cm −1 ) of the absorption peak, and the horizontal axis indicates the transmittance (unit:%). The infrared absorption spectrum can be obtained by measuring a sample prepared by the KBr (potassium bromide) tablet method using a Fourier transform infrared spectrophotometer ("SPECTRUMONE" manufactured by PerkinElmer).
ここで、化合物(10)、(11)、(12)、(13)及び(14)は、各々、公知の方法を適宜選択することにより、製造することができる。化合物(15)は、例えば、以下の方法で製造することができる。 Here, each of the compounds (10), (11), (12), (13) and (14) can be produced by appropriately selecting a known method. Compound (15) can be produced, for example, by the following method.
[化合物(15)の製造方法]
化合物(15)は、例えば、下記の反応(r−1)〜(r−11)に従って又はこれに準ずる方法によって製造される。これらの反応以外に、必要に応じて適宜な工程が含まれてもよい。反応(r−1)〜(r−11)で示す反応式において、R151〜R156及びa〜gは、一般式(15)中のR151〜R156及びa〜gと同義である。X15は、ハロゲン原子を表す。
[Production Method of Compound (15)]
Compound (15) is produced, for example, according to the following reactions (r-1) to (r-11) or by a method analogous thereto. In addition to these reactions, appropriate steps may be included as necessary. In reaction (r-1) ~ the reaction formula indicated by (r-11), R 151 ~R 156 and a~g are general formula (15) the same meaning as R 151 to R 156 and a~g in. X 15 represents a halogen atom.
[化合物(15−6)の製造]
まず、化合物(15−6)を製造する。化合物(15−6)は、下記一般式(15−6)で表される。化合物(15−6)は、化合物(15)を製造するための原料である。化合物(15−6)の製造方法として、化合物(15−6−1)、(15−6−2)及び(15−6−3)の製造方法を例に挙げて説明する。化合物(15−6−1)、(15−6−2)及び(15−6−3)は各々、一般式(15−6)中のaが1、2及び3である化合物である。
[Production of Compound (15-6)]
First, a compound (15-6) is manufactured. The compound (15-6) is represented by the following general formula (15-6). Compound (15-6) is a raw material for producing compound (15). As a production method of the compound (15-6), production methods of the compounds (15-6-1), (15-6-2) and (15-6-3) will be described as an example. Compounds (15-6-1), (15-6-2) and (15-6-3) are compounds in which a in formula (15-6) is 1, 2 and 3, respectively.
化合物(15−6−1)は、下記反応(r−1)及び(r−2)に従って製造される。化合物(15−6−2)は、下記反応(r−1)及び(r−3)に従って製造される。 Compound (15-6-1) is produced according to the following reactions (r-1) and (r-2). Compound (15-6-2) is produced according to the following reactions (r-1) and (r-3).
反応(r−1)では、1モル当量の化合物(15−2)と1モル当量の亜リン酸トリエチルとを反応させて、1モル当量の化合物(15−3)を得る。反応(r−1)では、1モルの化合物(15−2)に対して、1モル以上2.5モル以下の亜リン酸トリエチルを添加することが好ましい。反応(r−1)の反応温度は160℃以上200℃以下であることが好ましい。反応(r−1)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。 In the reaction (r-1), 1 molar equivalent of the compound (15-2) and 1 molar equivalent of triethyl phosphite are reacted to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-3). In the reaction (r-1), it is preferable to add 1 mol to 2.5 mol of triethyl phosphite with respect to 1 mol of the compound (15-2). The reaction temperature for reaction (r-1) is preferably 160 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-1) is preferably 2 hours or longer and 10 hours or shorter.
反応(r−2)では、1モル当量の化合物(15−3)と1モル当量の化合物(15−4)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−6−1)を得る。反応(r−2)では、1モルの化合物(15−3)に対して、1モル以上5モル以下の化合物(15−4)を添加することが好ましい。反応(r−2)の反応温度は0℃以上50℃以下であることが好ましい。反応(r−2)の反応時間は2時間以上24時間以下であることが好ましい。 In the reaction (r-2), 1 molar equivalent of the compound (15-3) and 1 molar equivalent of the compound (15-4) are reacted to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-6-1). In reaction (r-2), it is preferable to add 1 mol or more and 5 mol or less of compound (15-4) with respect to 1 mol of compound (15-3). The reaction temperature for reaction (r-2) is preferably 0 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-2) is preferably 2 hours or longer and 24 hours or shorter.
反応(r−2)は、塩基の存在下で行われてもよい。塩基としては、例えば、ナトリウムアルコキシド(具体的には、ナトリウムメトキシド又はナトリウムエトキシド)、金属水素化物(具体的には、水素化ナトリウム又は水素化カリウム)又は金属塩(具体的には、n−ブチルリチウム)が挙げられる。これらの塩基は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。塩基の添加量は、1モルの化合物(15−3)に対して、1モル以上2モル以下であることが好ましい。 Reaction (r-2) may be performed in the presence of a base. Examples of the base include sodium alkoxide (specifically sodium methoxide or sodium ethoxide), metal hydride (specifically sodium hydride or potassium hydride) or metal salt (specifically n -Butyllithium). These bases may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The amount of the base added is preferably 1 mol or more and 2 mol or less with respect to 1 mol of the compound (15-3).
反応(r−2)は、溶媒中で行われてもよい。溶媒としては、例えば、エーテル類(具体的には、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル又はジオキサン)、ハロゲン化炭化水素(具体的には、塩化メチレン、クロロホルム又はジクロロエタン)又は芳香族炭化水素(具体的には、ベンゼン又はトルエン)が挙げられる。 Reaction (r-2) may be performed in a solvent. Examples of the solvent include ethers (specifically, tetrahydrofuran, diethyl ether or dioxane), halogenated hydrocarbons (specifically, methylene chloride, chloroform or dichloroethane) or aromatic hydrocarbons (specifically, Benzene or toluene).
反応(r−3)では、1モル当量の化合物(15−3)と1モル当量の化合物(15−5)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−6−2)を得る。反応(r−3)は、化合物(15−4)の代わりに化合物(15−5)を使用する以外は、反応(r−2)と同様の方法で行うことができる。 In the reaction (r-3), 1 molar equivalent of the compound (15-3) and 1 molar equivalent of the compound (15-5) are reacted to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-6-2). Reaction (r-3) can be carried out in the same manner as in reaction (r-2) except that compound (15-5) is used in place of compound (15-4).
化合物(15−6−3)は、下記反応(r−4)及び(r−5)に従って製造される。 Compound (15-6-3) is produced according to the following reactions (r-4) and (r-5).
反応(r−4)では、1モル当量の化合物(15−7)と2モル当量の亜リン酸トリエチルとを反応させて、1モル当量の化合物(15−8)を得る。反応(r−4)では、1モルの化合物(15−7)に対して、2モル以上5モル以下の亜リン酸トリエチルを添加することが好ましい。反応(r−4)の反応温度は160℃以上200℃以下であることが好ましい。反応(r−4)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。 In the reaction (r-4), 1 molar equivalent of the compound (15-7) is reacted with 2 molar equivalents of triethyl phosphite to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-8). In the reaction (r-4), it is preferable to add 2 mol or more and 5 mol or less of triethyl phosphite with respect to 1 mol of the compound (15-7). The reaction temperature for reaction (r-4) is preferably 160 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-4) is preferably 2 hours or longer and 10 hours or shorter.
反応(r−5)では、1モル当量の化合物(15−8)と2モル当量の化合物(15−4)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−6−3)を得る。反応(r−5)では、1モルの化合物(15−8)に対して、2モル以上10モル以下の化合物(15−4)を添加することが好ましい。反応(r−5)は、塩基の存在下で行われてもよい。反応(r−5)は、溶媒中で行われてもよい。反応(r−5)で使用される塩基及び溶媒の例は、反応(r−2)で使用される塩基及び溶媒の例と同様である。反応(r−5)の反応温度は0℃以上50℃以下であることが好ましい。反応(r−5)の反応時間は2時間以上24時間以下であることが好ましい。 In the reaction (r-5), 1 molar equivalent of the compound (15-8) and 2 molar equivalents of the compound (15-4) are reacted to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-6-3). In reaction (r-5), it is preferable to add 2 mol or more and 10 mol or less of compound (15-4) with respect to 1 mol of compound (15-8). Reaction (r-5) may be performed in the presence of a base. Reaction (r-5) may be performed in a solvent. Examples of the base and solvent used in the reaction (r-5) are the same as those of the base and solvent used in the reaction (r-2). The reaction temperature for reaction (r-5) is preferably 0 ° C. or higher and 50 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-5) is preferably 2 hours or longer and 24 hours or shorter.
[化合物(15−12)の製造]
次に、下記反応(r−6)及び(r−7)に従って、化合物(15−12)を製造する。化合物(15−12)は、化合物(15−16)を製造するための原料である。
[Production of Compound (15-12)]
Next, compound (15-12) is produced according to the following reactions (r-6) and (r-7). Compound (15-12) is a raw material for producing compound (15-16).
反応(r−6)では、1モル当量の化合物(15−3)と1モル当量の化合物(15−9)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−10)を得る。反応(r−6)は、化合物(15−4)の代わりに化合物(15−9)を使用する以外は、反応(r−2)と同様の方法で行うことができる。 In the reaction (r-6), 1 molar equivalent of the compound (15-3) and 1 molar equivalent of the compound (15-9) are reacted to obtain 1 molar equivalent of the compound (15-10). Reaction (r-6) can be carried out in the same manner as in reaction (r-2), except that compound (15-9) is used in place of compound (15-4).
反応(r−7)では、反応(r−6)で得られた化合物(15−10)1モル当量と、1モル当量の化合物(15−11、ジフェニルヒドラジン誘導体の塩酸塩)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−12)を得る。反応(r−7)では、1モルの化合物(15−10)に対して、1モル以上2.5モル以下の化合物(15−11)を添加することが好ましい。反応(r−7)の反応温度は80℃以上150℃以下であることが好ましい。反応(r−7)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。 In reaction (r-7), 1 molar equivalent of compound (15-10) obtained in reaction (r-6) and 1 molar equivalent of compound (15-11, hydrochloride of diphenylhydrazine derivative) are reacted. 1 mol equivalent of the compound (15-12) is obtained. In reaction (r-7), it is preferable to add 1 mol or more and 2.5 mol or less of compound (15-11) with respect to 1 mol of compound (15-10). The reaction temperature for reaction (r-7) is preferably 80 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-7) is preferably 2 hours or longer and 10 hours or shorter.
反応(r−7)は、触媒の存在下で行われてもよい。触媒としては、例えば、酸触媒が挙げられ、より具体的には、p−トルエンスルホン酸、カンファースルホン酸又はピリジニウム−p−トルエンスルホン酸が挙げられる。これらの触媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。触媒の添加量は、1モルの化合物(15−10)に対して、少量であり、具体的には0.01モル以上0.5モル以下であることが好ましい。 Reaction (r-7) may be carried out in the presence of a catalyst. Examples of the catalyst include an acid catalyst, and more specifically, p-toluenesulfonic acid, camphorsulfonic acid, or pyridinium-p-toluenesulfonic acid. These catalysts may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The addition amount of the catalyst is a small amount with respect to 1 mol of the compound (15-10), and specifically, it is preferably 0.01 mol or more and 0.5 mol or less.
反応(r−7)は、溶媒中で行われてもよい。反応(r−7)で使用される溶媒の例は、反応(r−2)で使用される溶媒の例と同様である。 Reaction (r-7) may be carried out in a solvent. The example of the solvent used by reaction (r-7) is the same as the example of the solvent used by reaction (r-2).
[化合物(15−14)の製造]
次に、下記反応(r−8)に従って、化合物(15−14)を製造する。化合物(15−14)は、化合物(15−18)を製造するための原料である。
[Production of Compound (15-14)]
Next, according to the following reaction (r-8), a compound (15-14) is manufactured. Compound (15-14) is a raw material for producing compound (15-18).
反応(r−8)では、反応(r−6)で得られた化合物(15−10)1モル当量と、1モル当量の化合物(15−13、ジフェニルヒドラジン誘導体の塩酸塩)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−14)を得る。反応(r−8)では、1モルの化合物(15−10)に対して、1モル以上2.5モル以下の化合物(15−13)を添加することが好ましい。反応(r−8)の反応温度は80℃以上150℃以下であることが好ましい。反応(r−8)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。反応(r−8)は、触媒の存在下で行われてもよい。反応(r−8)は、溶媒中で行われてもよい。反応(r−8)で使用される触媒及び溶媒の例は、反応(r−7)で使用される触媒及び溶媒の例と同様である。 In the reaction (r-8), 1 molar equivalent of the compound (15-10) obtained in the reaction (r-6) is reacted with 1 molar equivalent of the compound (15-13, hydrochloride of diphenylhydrazine derivative). 1 mol equivalent of the compound (15-14). In reaction (r-8), it is preferable to add 1 mol to 2.5 mol of compound (15-13) with respect to 1 mol of compound (15-10). The reaction temperature for reaction (r-8) is preferably from 80 ° C to 150 ° C. The reaction time for reaction (r-8) is preferably 2 to 10 hours. Reaction (r-8) may be carried out in the presence of a catalyst. Reaction (r-8) may be carried out in a solvent. Examples of the catalyst and solvent used in the reaction (r-8) are the same as those of the catalyst and solvent used in the reaction (r-7).
[化合物(15−16)の製造]
次に、下記反応(r−9)に従って、化合物(15−16)を製造する。化合物(15−16)は、化合物(15)を製造するための原料である。
[Production of Compound (15-16)]
Next, compound (15-16) is produced according to the following reaction (r-9). Compound (15-16) is a raw material for producing compound (15).
反応(r−9)では、反応(r−7)で得られた化合物(15−12)1モル当量と、1モル当量の化合物(15−15)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−16)を得る。反応(r−9)では、1モルの化合物(15−12)に対して、1モル以上2.5モル以下の化合物(15−15)を添加することが好ましい。反応(r−9)の反応温度は80℃以上140℃以下であることが好ましい。反応(r−9)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。 In the reaction (r-9), 1 molar equivalent of the compound (15-12) obtained in the reaction (r-7) and 1 molar equivalent of the compound (15-15) are reacted. (15-16) is obtained. In reaction (r-9), it is preferable to add 1 mol or more and 2.5 mol or less of compound (15-15) with respect to 1 mol of compound (15-12). The reaction temperature for reaction (r-9) is preferably from 80 ° C to 140 ° C. The reaction time for reaction (r-9) is preferably 2 hours or longer and 10 hours or shorter.
反応(r−9)では、触媒としてパラジウム化合物を用いてもよい。パラジウム化合物としては、例えば、四価パラジウム化合物、二価パラジウム化合物又はその他のパラジウム化合物が挙げられる。四価パラジウム化合物としては、例えば、ヘキサクロルパラジウム(IV)酸ナトリウム四水和物又はヘキサクロルパラジウム(IV)酸カリウム四水和物が挙げられる。二価パラジウム化合物としては、例えば、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、酢酸パラジウム(II)、パラジウムアセチルアセテート(II)、ジクロロビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)、ジクロルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)、ジクロロテトラミンパラジウム(II)又はジクロロ(シクロオクタ−1,5−ジエン)パラジウム(II)が挙げられる。その他のパラジウム化合物としては、例えば、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムクロロホルム錯体(0)又はテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)が挙げられる。パラジウム化合物は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。パラジウム化合物の添加量は、1モルの化合物(15−12)に対して、0.0005モル以上20モル以下であることが好ましく、0.001モル以上1モル以下であることがより好ましい。 In the reaction (r-9), a palladium compound may be used as a catalyst. Examples of the palladium compound include a tetravalent palladium compound, a divalent palladium compound, and other palladium compounds. Examples of the tetravalent palladium compound include sodium hexachloropalladium (IV) tetrahydrate or potassium hexachloropalladium (IV) tetrahydrate. Examples of the divalent palladium compound include palladium chloride (II), palladium bromide (II), palladium acetate (II), palladium acetyl acetate (II), dichlorobis (benzonitrile) palladium (II), dichlorobis (triphenylphosphine). ) Palladium (II), dichlorotetramine palladium (II) or dichloro (cycloocta-1,5-diene) palladium (II). Examples of other palladium compounds include tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium chloroform complex (0), and tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0). A palladium compound may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. The addition amount of the palladium compound is preferably 0.0005 mol or more and 20 mol or less, and more preferably 0.001 mol or more and 1 mol or less with respect to 1 mol of the compound (15-12).
パラジウム化合物は、配位子を含む構造であってもよい。これにより、反応(r−9)の反応性を向上させ易くなる。配位子としては、例えば、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフリルホスフィン、トリ(o−トリル)ホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、トリ(t−ブチル)ホスフィン、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビナフチル又は2,2’−ビス[(ジフェニルホスフィノ)ジフェニル]エーテルが挙げられる。配位子は1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。配位子の添加量は、1モルの化合物(15−12)に対して、0.0005モル以上20モル以下であることが好ましく、0.001モル以上1モル以下であることがより好ましい。 The palladium compound may have a structure including a ligand. Thereby, it becomes easy to improve the reactivity of reaction (r-9). Examples of the ligand include tricyclohexylphosphine, triphenylphosphine, methyldiphenylphosphine, trifurylphosphine, tri (o-tolyl) phosphine, dicyclohexylphenylphosphine, tri (t-butyl) phosphine, and 2,2′-bis. (Diphenylphosphino) -1,1′-binaphthyl or 2,2′-bis [(diphenylphosphino) diphenyl] ether. A ligand may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type. The addition amount of the ligand is preferably 0.0005 mol or more and 20 mol or less, and more preferably 0.001 mol or more and 1 mol or less with respect to 1 mol of the compound (15-12).
反応(r−9)は、塩基の存在下で行われてもよい。これにより、触媒活性を向上できると考えられる。塩基は、無機塩基であってもよいし、有機塩基であってもよい。有機塩基としては、例えば、アルカリ金属アルコシドが挙げられ、具体的には、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、リチウムtert−ブトキシド、ナトリウムtert−ブトキシド又はカリウムtert−ブトキシドが挙げられる。無機塩基としては、例えば、リン酸三カリウム又はフッ化セシウムが挙げられる。1モルの化合物(15−12)に対して、パラジウム化合物を0.0005モル以上20モル以下添加する場合、塩基の添加量は、1モル以上50モル以下であることが好ましく、1モル以上30モル以下であることがより好ましい。 Reaction (r-9) may be performed in the presence of a base. Thereby, it is thought that catalyst activity can be improved. The base may be an inorganic base or an organic base. Examples of the organic base include alkali metal alkoxides, specifically, sodium methoxide, sodium ethoxide, potassium methoxide, potassium ethoxide, lithium tert-butoxide, sodium tert-butoxide or potassium tert-butoxide. Can be mentioned. Examples of the inorganic base include tripotassium phosphate and cesium fluoride. When adding 0.0005 mol or more and 20 mol or less of a palladium compound with respect to 1 mol of compound (15-12), it is preferable that the addition amount of a base is 1 mol or more and 50 mol or less, and 1 mol or more and 30 mol or less. More preferably, it is less than or equal to mol.
反応(r−9)は、溶媒中で行われてもよい。溶媒としては、例えば、キシレン(具体的には、o−キシレン)、トルエン、テトラヒドロフラン又はジメチルホルムアミドが挙げられる。 Reaction (r-9) may be carried out in a solvent. Examples of the solvent include xylene (specifically, o-xylene), toluene, tetrahydrofuran, or dimethylformamide.
[化合物(15−18)の製造]
次に、下記反応(r−10)に従って、化合物(15−18)を製造する。化合物(15−18)は、化合物(15)を製造するための原料である。
[Production of Compound (15-18)]
Next, according to the following reaction (r-10), a compound (15-18) is manufactured. Compound (15-18) is a raw material for producing compound (15).
反応(r−10)では、反応(r−8)で得られた化合物(15−14)1モル当量と、1モル当量の化合物(15−17)とを反応させて、1モル当量の化合物(15−18)を得る。反応(r−10)は、化合物(15−12)の代わりに化合物(15−14)を使用すること、及び化合物(15−15)の代わりに化合物(15−17)を使用すること以外は、反応(r−9)と同様の方法で行うことができる。 In the reaction (r-10), 1 molar equivalent of the compound (15-14) obtained in the reaction (r-8) is reacted with 1 molar equivalent of the compound (15-17). (15-18) is obtained. In the reaction (r-10), the compound (15-14) is used in place of the compound (15-12), and the compound (15-17) is used in place of the compound (15-15). The reaction can be carried out in the same manner as in reaction (r-9).
[化合物(15)の製造]
次に、下記反応(r−11)に従って、目的化合物である化合物(15)を製造する。
[Production of Compound (15)]
Next, the target compound (15) is produced according to the following reaction (r-11).
反応(r−11)では、反応(r−2)、(r−3)又は(r−5)で得られた化合物(15−6)1モル当量と、反応(r−9)で得られた化合物(15−16)1モル当量と、反応(r−10)で得られた1モル当量の化合物(15−18)とを反応させて、1モル当量の化合物(15)を得る。反応(r−11)では、1モルの化合物(15−6)に対して、1モル以上2.5モル以下の化合物(15−16)及び1モル以上2.5モル以下の化合物(15−18)を添加することが好ましい。反応(r−11)の反応温度は80℃以上140℃以下であることが好ましい。反応(r−11)の反応時間は2時間以上10時間以下であることが好ましい。 In reaction (r-11), it is obtained by reaction (r-9) with 1 molar equivalent of the compound (15-6) obtained by reaction (r-2), (r-3) or (r-5). 1 mol equivalent of the compound (15-16) and 1 mol equivalent of the compound (15-18) obtained in the reaction (r-10) are reacted to obtain 1 mol equivalent of the compound (15). In the reaction (r-11), 1 mol to 2.5 mol of the compound (15-16) and 1 mol to 2.5 mol of the compound (15-) with respect to 1 mol of the compound (15-6). It is preferable to add 18). The reaction temperature for reaction (r-11) is preferably 80 ° C. or higher and 140 ° C. or lower. The reaction time for reaction (r-11) is preferably 2 hours or longer and 10 hours or shorter.
反応(r−11)では、触媒としてパラジウム化合物を用いてもよい。パラジウム化合物は、配位子を含む構造であってもよい。反応(r−11)は、塩基の存在下で行われてもよい。反応(r−11)は、溶媒中で行われてもよい。反応(r−11)で使用される触媒、配位子、塩基及び溶媒の例は、反応(r−9)で使用される触媒、配位子、塩基及び溶媒の例と同様である。 In the reaction (r-11), a palladium compound may be used as a catalyst. The palladium compound may have a structure including a ligand. Reaction (r-11) may be performed in the presence of a base. Reaction (r-11) may be performed in a solvent. Examples of the catalyst, ligand, base and solvent used in the reaction (r-11) are the same as those of the catalyst, ligand, base and solvent used in the reaction (r-9).
なお、一般式(15−1−1)で表される基が一般式(15−1−2)で表される基と同一である化合物(15)を製造する場合、化合物(15−16)と化合物(15−18)とは同じ化合物になる。この場合、反応(r−11)では、1モル当量の化合物(15−6)と、2モル当量の化合物(15−16)又は化合物(15−18)とを反応させて、1モル当量の化合物(15)を得ればよい。この場合、化合物(15−16)を製造する反応工程及び化合物(15−18)を製造する反応工程の何れかを割愛することができる。 In addition, when manufacturing the compound (15) whose group represented by general formula (15-1-1) is the same as the group represented by general formula (15-1-2), compound (15-16) And compound (15-18) are the same compound. In this case, in the reaction (r-11), 1 molar equivalent of the compound (15-6) and 2 molar equivalents of the compound (15-16) or the compound (15-18) are reacted, What is necessary is just to obtain a compound (15). In this case, either the reaction step for producing the compound (15-16) or the reaction step for producing the compound (15-18) can be omitted.
反応(r−11)で得られた反応生成物を、必要に応じて精製することにより、目的化合物である化合物(15)を単離することができる。精製方法としては、公知の方法が適宜採用される。精製は、例えば晶析又はシリカゲルクロマトグラフィーにより行われてもよい。精製に使用する溶媒として、例えば、クロロホルム及びヘキサンの混合溶媒を使用してもよい。 By purifying the reaction product obtained in the reaction (r-11) as necessary, the target compound (15) can be isolated. As a purification method, a known method is appropriately employed. Purification may be performed, for example, by crystallization or silica gel chromatography. As a solvent used for purification, for example, a mixed solvent of chloroform and hexane may be used.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、200℃以上である正孔輸送剤として、化合物(10)〜(15)のうちの化合物(10)、(11)、(12)、(13)又は(15)を含むことが好ましく、化合物(15)を含むことがより好ましい。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、200℃以上である正孔輸送剤として、化合物(10−1)、(11−1)、(12−1)、(13−1)、(13−2)、(14−1)又は(15−1E)を含むことが好ましく、化合物(10−1)、(11−1)、(12−1)、(13−1)、(13−2)又は(15−1E)を含むことがより好ましく、化合物(10−1)、(11−1)、(12−1)、(13−2)又は(15−1E)を含むことが更に好ましく、化合物(15−1E)を含むことが特に好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the compound (10), (11), (12), (12) of the compounds (10) to (15) is used as a hole transporting agent having a temperature of 200 ° C. or higher. 13) or (15) is preferably included, and compound (15) is more preferably included. In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the compounds (10-1), (11-1), (12-1), (13-1), It is preferable to contain (13-2), (14-1) or (15-1E), and the compounds (10-1), (11-1), (12-1), (13-1), (13) -2) or (15-1E) is more preferable, and the compound (10-1), (11-1), (12-1), (13-2) or (15-1E) is included. More preferably, the compound (15-1E) is particularly preferably included.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(1)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)又は(15)とを電荷輸送層が含むことがより好ましく、ポリアリレート樹脂(1)と化合物(15)とを電荷輸送層が含むことが更に好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (1) and the compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) are combined with the charge transport layer. The charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (1) and the compound (10), (11), (12), (13) or (15), and the polyarylate resin (1 And the compound (15) are more preferably contained in the charge transport layer.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1A)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(1A)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)又は(15)とを電荷輸送層が含むことがより好ましく、ポリアリレート樹脂(1A)と化合物(15)とを電荷輸送層が含むことが更に好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (1A) and the compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) are combined with the charge transport layer. It is more preferable that the charge transport layer contains the polyarylate resin (1A) and the compound (10), (11), (12), (13) or (15), and the polyarylate resin (1A And the compound (15) are more preferably contained in the charge transport layer.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1B)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(1B)と化合物(10)、(11)、(12)、(13)又は(15)とを電荷輸送層が含むことがより好ましく、ポリアリレート樹脂(1B)と化合物(15)とを電荷輸送層が含むことが更に好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the polyarylate resin (1B) and the compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) are combined with the charge transport layer. It is preferable that the charge transport layer contains the polyarylate resin (1B) and the compound (10), (11), (12), (13) or (15), and the polyarylate resin (1B And the compound (15) are more preferably contained in the charge transport layer.
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、以下に示すバインダー樹脂と正孔輸送剤とを電荷輸送層が含むことが好ましい。
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(10)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(11)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(12)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(13)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(14)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(15)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−2)であり、正孔輸送剤が化合物(13)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−3)であり、正孔輸送剤が化合物(13)であるか;又は
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−4)であり、正孔輸送剤が化合物(13)である。
In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains a binder resin and a hole transport agent described below.
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (10);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (11);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (12);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (13);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (14);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (15);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-2) and the hole transport agent is a compound (13);
The binder resin is a polyarylate resin (1-3) and the hole transport agent is a compound (13); or the binder resin is a polyarylate resin (1-4) and the hole transport agent is a compound (13). ).
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、以下に示すバインダー樹脂と正孔輸送剤とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(10−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(11−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(12−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(13−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(13−2)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(14−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−1)であり、正孔輸送剤が化合物(15−1E)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−2)であり、正孔輸送剤が化合物(13−1)であるか;
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−3)であり、正孔輸送剤が化合物(13−1)であるか;又は
バインダー樹脂がポリアリレート樹脂(1−4)であり、正孔輸送剤が化合物(13−1)である。
In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, it is more preferable that the charge transport layer contains the following binder resin and hole transport agent.
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (10-1);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (11-1);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (12-1);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (13-1);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (13-2);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (14-1);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-1) and the hole transport agent is a compound (15-1E);
Whether the binder resin is a polyarylate resin (1-2) and the hole transport agent is a compound (13-1);
The binder resin is a polyarylate resin (1-3) and the hole transport agent is a compound (13-1); or the binder resin is a polyarylate resin (1-4) and the hole transport agent is a compound. (13-1).
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(1C)と化合物(13)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(1D)と化合物(13)とを電荷輸送層が含むことがより好ましく、ポリアリレート樹脂(1−5)又は(1−6)と化合物(13)とを電荷輸送層が含むことが更に好ましく、ポリアリレート樹脂(1−5)又は(1−6)と化合物(13−1)とを電荷輸送層が含むことが特に好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (1C) and the compound (13), and the polyarylate resin (1D) and the compound (13) are charged. It is more preferable that the transport layer contains, more preferably the charge transport layer contains the polyarylate resin (1-5) or (1-6) and the compound (13), and the polyarylate resin (1-5) or ( It is particularly preferred that the charge transport layer contains 1-6) and compound (13-1).
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(2)と化合物(13)又は(15)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(2)と化合物(15)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(2)と化合物(13−1)又は(15−1E)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(2)と化合物(15−1E)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(2−1)と化合物(13−1)又は(15−1E)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(2−1)と化合物(15−1E)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (2) and the compound (13) or (15), and the polyarylate resin (2) and the compound (15 It is more preferable that the charge transport layer contains In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (2) and the compound (13-1) or (15-1E), and the polyarylate resin (2) And the compound (15-1E) are more preferably contained in the charge transport layer. In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, it is preferable that the charge transport layer contains the polyarylate resin (2-1) and the compound (13-1) or (15-1E). It is more preferable that the charge transport layer contains (2-1) and the compound (15-1E).
感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(3)と化合物(13)又は(15)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(3)と化合物(15)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(3)と化合物(13−1)又は(15−1E)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(3)と化合物(15−1E)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。感光体の耐フィルミング性を向上させるためには、ポリアリレート樹脂(3−1)と化合物(13−1)又は(15−1E)とを電荷輸送層が含むことが好ましく、ポリアリレート樹脂(3−1)と化合物(15−1E)とを電荷輸送層が含むことがより好ましい。 In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (3) and the compound (13) or (15), and the polyarylate resin (3) and the compound (15 It is more preferable that the charge transport layer contains In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, the charge transport layer preferably contains the polyarylate resin (3) and the compound (13-1) or (15-1E), and the polyarylate resin (3) And the compound (15-1E) are more preferably contained in the charge transport layer. In order to improve the filming resistance of the photoreceptor, it is preferable that the charge transport layer contains the polyarylate resin (3-1) and the compound (13-1) or (15-1E). More preferably, the charge transport layer contains 3-1) and the compound (15-1E).
電荷輸送層は、化合物(10)〜(15)に加えて、化合物(10)〜(15)以外の正孔輸送剤(その他の正孔輸送剤)を含有していてもよい。その他の正孔輸送剤としては、例えば、化合物(10)〜(15)以外の、トリフェニルアミン誘導体、ジアミン誘導体(例えば、N,N,N’,N’−テトラフェニルベンジジン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルフェニレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルナフチレンジアミン誘導体、N,N,N’,N’−テトラフェニルフェナントリレンジアミン誘導体又はジ(アミノフェニルエテニル)ベンゼン誘導体)、オキサジアゾール系化合物(例えば、2,5−ジ(4−メチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール)、スチリル系化合物(例えば、9−(4−ジエチルアミノスチリル)アントラセン)、カルバゾール系化合物(例えば、ポリビニルカルバゾール)、有機ポリシラン化合物、ピラゾリン系化合物(例えば、1−フェニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン)、ヒドラゾン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物又はトリアゾール系化合物が挙げられる。その他の正孔輸送剤は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。 The charge transport layer may contain a hole transport agent (other hole transport agents) other than the compounds (10) to (15) in addition to the compounds (10) to (15). Examples of other hole transporting agents include triphenylamine derivatives and diamine derivatives (for example, N, N, N ′, N′-tetraphenylbenzidine derivatives, N, N) other than compounds (10) to (15). , N ′, N′-tetraphenylphenylenediamine derivative, N, N, N ′, N′-tetraphenylnaphthylenediamine derivative, N, N, N ′, N′-tetraphenylphenanthrylenediamine derivative or di ( Aminophenylethenyl) benzene derivatives), oxadiazole compounds (eg, 2,5-di (4-methylaminophenyl) -1,3,4-oxadiazole), styryl compounds (eg, 9- ( 4-diethylaminostyryl) anthracene), carbazole compounds (eg, polyvinyl carbazole), organic polysilane compounds, Zolin compounds (eg, 1-phenyl-3- (p-dimethylaminophenyl) pyrazoline), hydrazone compounds, indole compounds, oxazole compounds, isoxazole compounds, thiazole compounds, thiadiazole compounds, imidazole compounds , Pyrazole compounds or triazole compounds. Other hole transport agents may be used alone or in combination of two or more.
化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)の含有量は、正孔輸送剤の質量に対して、80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましく、100質量%であることが特に好ましい。正孔輸送剤の質量に対する化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)の含有量100質量%であるとき、電荷輸送層は、正孔輸送剤として、化合物(10)、(11)、(12)、(13)、(14)又は(15)のみを含有する。 The content of the compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) is preferably 80% by mass or more based on the mass of the hole transporting agent, The content is more preferably at least mass%, particularly preferably 100 mass%. When the content of the compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) is 100% by mass with respect to the mass of the hole transport agent, the charge transport layer is used as the hole transport agent. As a compound, only compound (10), (11), (12), (13), (14) or (15) is contained.
(ベース樹脂)
ベース樹脂は、感光体に適用できる限り、特に限定されない。ベース樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−アクリル酸系共重合体、アクリル共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂又はポリエステル樹脂が挙げられる。熱硬化性樹脂としては、例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂又はその他架橋性の熱硬化性樹脂が挙げられる。光硬化性樹脂としては、例えば、エポキシアクリル酸系樹脂又はウレタン−アクリル酸系樹脂が挙げられる。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Base resin)
The base resin is not particularly limited as long as it can be applied to the photoreceptor. Examples of the base resin include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a photocurable resin. Examples of thermoplastic resins include styrene resins, styrene-butadiene copolymers, styrene-acrylonitrile copolymers, styrene-maleic acid copolymers, styrene-acrylic acid copolymers, acrylic copolymers, and polyethylene resins. , Ethylene-vinyl acetate copolymer, chlorinated polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, polypropylene resin, ionomer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, alkyd resin, polyamide resin, urethane resin, polycarbonate resin, polyarylate resin, polysulfone Examples include resins, diallyl phthalate resins, ketone resins, polyvinyl butyral resins, polyether resins, and polyester resins. Examples of the thermosetting resin include silicone resin, epoxy resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, and other crosslinkable thermosetting resins. Examples of the photocurable resin include epoxy acrylic resin or urethane-acrylic resin. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
電荷発生層に含有されるベース樹脂は、電荷輸送層に含有されるバインダー樹脂とは異なることが好ましい。積層型感光体の製造では、例えば、導電性基体上に電荷発生層が形成され、電荷発生層上に電荷輸送層が形成される。その際に、電荷発生層上に、電荷輸送層用塗布液が塗布される。そのため、電荷発生層は、電荷輸送層用塗布液の溶剤に溶解しないことが好ましいからである。 The base resin contained in the charge generation layer is preferably different from the binder resin contained in the charge transport layer. In the production of a multilayer photoreceptor, for example, a charge generation layer is formed on a conductive substrate, and a charge transport layer is formed on the charge generation layer. At that time, a charge transport layer coating solution is applied onto the charge generation layer. Therefore, the charge generation layer is preferably not dissolved in the solvent of the charge transport layer coating solution.
(添加剤)
添加剤としては、例えば、電子アクセプター化合物、劣化防止剤(より具体的には、酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、消光剤又は紫外線吸収剤等)、軟化剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、ドナー、界面活性剤又はレベリング剤が挙げられる。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール化合物、ヒンダードアミン化合物、チオエーテル化合物又はホスファイト化合物が挙げられる。これらの酸化防止剤の中でも、ヒンダードフェノール化合物及びヒンダードアミン化合物が好ましい。本実施形態に係る感光体では、感光層はフィラー粒子(例えば無機粒子、より具体的にはシリカ粒子又はアルミナ粒子等)を含まないことが好ましい。感光層がフィラー粒子を含まない場合であっても、本実施形態に係る感光体によれば、感光体の耐フィルミング性を向上させることができる。
(Additive)
Examples of additives include electron acceptor compounds, deterioration inhibitors (more specifically, antioxidants, radical scavengers, quenchers or ultraviolet absorbers), softeners, surface modifiers, extenders, Mention may be made of stickers, dispersion stabilizers, waxes, donors, surfactants or leveling agents. Examples of the antioxidant include hindered phenol compounds, hindered amine compounds, thioether compounds, and phosphite compounds. Among these antioxidants, hindered phenol compounds and hindered amine compounds are preferred. In the photoreceptor according to the exemplary embodiment, the photosensitive layer preferably does not include filler particles (for example, inorganic particles, more specifically silica particles or alumina particles). Even if the photosensitive layer does not contain filler particles, the filming resistance of the photoreceptor can be improved according to the photoreceptor of this embodiment.
<中間層>
中間層は、例えば、無機粒子及び中間層に用いられる樹脂(中間層用樹脂)を含有する。中間層を介在させると、リーク発生を抑制し得る程度の絶縁状態を維持しつつ、感光体を露光した時に発生する電流の流れを円滑にして、電気抵抗の上昇を抑えることができる。
<Intermediate layer>
An intermediate | middle layer contains resin (resin for intermediate | middle layers) used for an inorganic particle and an intermediate | middle layer, for example. When the intermediate layer is interposed, an increase in electrical resistance can be suppressed by smoothing the flow of current generated when the photosensitive member is exposed while maintaining an insulating state capable of suppressing the occurrence of leakage.
無機粒子としては、例えば、金属(より具体的には、アルミニウム、鉄又は銅等)の粒子、金属酸化物(より具体的には、酸化チタン、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ又は酸化亜鉛等)の粒子又は非金属酸化物(より具体的には、シリカ等)の粒子が挙げられる。これらの無機粒子は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。なお、無機粒子は、表面処理を施してもよい。 Examples of the inorganic particles include metal (more specifically, aluminum, iron, copper, etc.) particles, metal oxide (more specifically, titanium oxide, alumina, zirconium oxide, tin oxide, zinc oxide, etc.). Or particles of a non-metal oxide (more specifically, silica or the like). These inorganic particles may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The inorganic particles may be subjected to a surface treatment.
中間層用樹脂としては、中間層を形成する樹脂として用いることができる限り、特に限定されない。中間層は、添加剤を含有してもよい。中間層に含有される添加剤の例は、感光層に含有される添加剤の例と同じである。 The resin for the intermediate layer is not particularly limited as long as it can be used as a resin for forming the intermediate layer. The intermediate layer may contain an additive. Examples of the additive contained in the intermediate layer are the same as those of the additive contained in the photosensitive layer.
<感光体の製造方法>
感光体の製造方法は感光層形成工程を含む。感光層形成工程は、電荷発生層形成工程と電荷輸送層形成工程とを含む。電荷発生層形成工程では、まず、電荷発生層用塗布液を調製する。電荷発生層用塗布液は、電荷発生層を形成するための塗布液である。電荷発生層用塗布液を導電性基体上に塗布する。次いで、塗布した電荷発生層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去して電荷発生層を形成する。電荷発生層用塗布液は、例えば、電荷発生剤と、溶剤と、必要に応じて添加される成分(例えば、ベース樹脂又は添加剤)を含む。このような電荷発生層用塗布液は、電荷発生剤及び必要に応じて添加される成分を溶剤に溶解又は分散させることにより調製される。
<Method for producing photoconductor>
The method for producing a photoreceptor includes a photosensitive layer forming step. The photosensitive layer forming step includes a charge generation layer forming step and a charge transport layer forming step. In the charge generation layer forming step, first, a charge generation layer coating solution is prepared. The charge generation layer coating solution is a coating solution for forming the charge generation layer. A charge generation layer coating solution is applied onto the conductive substrate. Next, at least a part of the solvent contained in the applied charge generation layer coating solution is removed to form a charge generation layer. The charge generation layer coating solution includes, for example, a charge generation agent, a solvent, and a component (for example, a base resin or an additive) added as necessary. Such a coating solution for a charge generation layer is prepared by dissolving or dispersing a charge generation agent and components added as necessary in a solvent.
電荷輸送層形成工程では、まず、電荷輸送層用塗布液を調製する。電荷輸送層用塗布液は、電荷輸送層を形成するための塗布液である。電荷輸送層用塗布液を電荷発生層の上に塗布する。次いで、塗布した電荷輸送層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去して電荷輸送層を形成する。電荷輸送層用塗布液は、正孔輸送剤と、バインダー樹脂としてのポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)と、溶剤とを少なくとも含む。電荷輸送層用塗布液は、正孔輸送剤とバインダー樹脂とを溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。電荷輸送層用塗布液には、必要に応じて添加剤を加えてもよい。 In the charge transport layer forming step, first, a charge transport layer coating solution is prepared. The charge transport layer coating solution is a coating solution for forming the charge transport layer. A charge transport layer coating solution is applied onto the charge generation layer. Next, at least a part of the solvent contained in the applied charge transport layer coating solution is removed to form a charge transport layer. The coating liquid for charge transport layer contains at least a hole transport agent, polyarylate resin (1), (2) or (3) as a binder resin, and a solvent. The coating solution for the charge transport layer can be prepared by dissolving or dispersing the hole transport agent and the binder resin in a solvent. You may add an additive to the coating liquid for charge transport layers as needed.
電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液(以下、塗布液と記載することがある)に含有される溶剤は、塗布液に含まれる各成分を溶解又は分散できれば、特に限定されない。溶剤としては、例えば、アルコール(より具体的には、メタノール、エタノール、イソプロパノール又はブタノール等)、脂肪族炭化水素(より具体的には、n−ヘキサン、オクタン又はシクロヘキサン等)、芳香族炭化水素(より具体的には、ベンゼン、トルエン又はキシレン等)、ハロゲン化炭化水素(より具体的には、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素又はクロロベンゼン等)、エーテル(より具体的には、ジオキサン、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル又はジエチレングリコールジメチルエーテル等)、ケトン(より具体的には、アセトン、メチルエチルケトン又はシクロヘキサノン等)、エステル(より具体的には、酢酸エチル又は酢酸メチル等)、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド又はジメチルスルホキシドが挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの溶剤のうち、非ハロゲン溶剤(ハロゲン化炭化水素以外の溶剤)を用いることが好ましい。 The solvent contained in the charge generation layer coating solution and the charge transport layer coating solution (hereinafter sometimes referred to as a coating solution) is not particularly limited as long as each component contained in the coating solution can be dissolved or dispersed. Examples of the solvent include alcohol (more specifically, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, etc.), aliphatic hydrocarbon (more specifically, n-hexane, octane, cyclohexane, etc.), aromatic hydrocarbon ( More specifically, benzene, toluene, xylene, etc.), halogenated hydrocarbons (more specifically, dichloromethane, dichloroethane, carbon tetrachloride, chlorobenzene, etc.), ethers (more specifically, dioxane, dimethyl ether, diethyl) Ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol dimethyl ether or diethylene glycol dimethyl ether), ketone (more specifically, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, etc.), ester (more specifically, ethyl acetate or methyl acetate, etc.), Methyl formaldehyde include dimethylformamide or dimethyl sulfoxide. These solvents may be used alone or in combination of two or more. Of these solvents, non-halogen solvents (solvents other than halogenated hydrocarbons) are preferably used.
電荷輸送層用塗布液に含有される溶剤は、電荷発生層用塗布液に含有される溶剤と、異なることが好ましい。電荷発生層上に電荷輸送層用塗布液を塗布する場合に、電荷発生層が電荷輸送層用塗布液の溶剤に溶解しないことが好ましいからである。 The solvent contained in the charge transport layer coating solution is preferably different from the solvent contained in the charge generation layer coating solution. This is because when the charge transport layer coating solution is applied onto the charge generation layer, it is preferable that the charge generation layer does not dissolve in the solvent of the charge transport layer coating solution.
塗布液は、それぞれ各成分を混合し、溶剤に分散することにより調製される。混合又は分散には、例えば、ビーズミル、ロールミル、ボールミル、アトライター、ペイントシェーカー又は超音波分散器を用いることができる。 The coating liquid is prepared by mixing each component and dispersing in a solvent. For mixing or dispersing, for example, a bead mill, a roll mill, a ball mill, an attritor, a paint shaker, or an ultrasonic disperser can be used.
各成分の分散性又は形成される各々の層の表面平滑性を向上させるために、塗布液は、例えば、界面活性剤又はレベリング剤を含有してもよい。 In order to improve the dispersibility of each component or the surface smoothness of each formed layer, the coating solution may contain, for example, a surfactant or a leveling agent.
塗布液を塗布する方法としては、塗布液を均一に塗布できる方法であれば、特に限定されない。塗布方法としては、例えば、ディップコート法、スプレーコート法、スピンコート法又はバーコート法が挙げられる。 The method for applying the coating solution is not particularly limited as long as the method can uniformly apply the coating solution. Examples of the coating method include a dip coating method, a spray coating method, a spin coating method, and a bar coating method.
塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去する方法としては、塗布液中の溶剤を蒸発させ得る方法であれば、特に限定されない。除去する方法としては、例えば、加熱、減圧又は加熱と減圧との併用が挙げられる。より具体的には、高温乾燥機又は減圧乾燥機を用いて、熱処理(熱風乾燥)する方法が挙げられる。熱処理条件は、例えば、40℃以上150℃以下の温度、かつ3分間以上120分間以下の時間である。 The method for removing at least a part of the solvent contained in the coating solution is not particularly limited as long as it can evaporate the solvent in the coating solution. Examples of the removal method include heating, reduced pressure, or combined use of heating and reduced pressure. More specifically, a method of heat treatment (hot air drying) using a high-temperature dryer or a vacuum dryer can be mentioned. The heat treatment conditions are, for example, a temperature of 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower and a time of 3 minutes or longer and 120 minutes or shorter.
なお、感光体の製造方法は、必要に応じて中間層を形成する工程を更に有してもよい。中間層を形成する工程は、公知の方法を適宜選択することができる。 Note that the method for manufacturing a photoreceptor may further include a step of forming an intermediate layer as necessary. A known method can be selected as appropriate for the step of forming the intermediate layer.
<画像形成装置>
次に、図2を参照して、本実施形態に係る感光体30を備える画像形成装置100について説明する図2は画像形成装置100の構造の一例を示す図であり、この画像形成装置100は本実施形態に係る感光体30を備える。
<Image forming apparatus>
Next, with reference to FIG. 2, an
画像形成装置100は、電子写真方式の画像形成装置である限り、特に限定されない。画像形成装置100は例えば、モノクロ画像形成装置であってもよいし、カラー画像形成装置であってもよい。画像形成装置100がカラー画像形成装置である場合、画像形成装置100は、例えばタンデム方式を採用する。以下、タンデム方式の画像形成装置100を例に挙げて説明する。
The
画像形成装置100は、直接転写方式を採用してもよいし、中間転写方式を採用してもよい。以下、直接転写方式を採用する画像形成装置100を例に挙げて説明する。
The
画像形成装置100は、画像形成ユニット40a、40b、40c及び40dと、転写ベルト50と、定着部54とを備える。以下、区別する必要がない場合には、画像形成ユニット40a、40b、40c及び40dの各々を、画像形成ユニット40と記載する。なお、画像形成装置100がモノクロ画像形成装置である場合には、画像形成装置100は、画像形成ユニット40aを備え、画像形成ユニット40b〜40dは省略される。
The
画像形成ユニット40は、感光体30と、帯電部42と、露光部44と、現像部46と、転写部48とを備える。画像形成ユニット40の中央位置に、感光体30が設けられる。感光体30は、矢符方向(反時計回り)に回転可能に設けられる。感光体30の周囲には、帯電部42を基準として感光体30の回転方向の上流側から順に、帯電部42、露光部44、現像部46及び転写部48が設けられる。画像形成ユニット40には、クリーニング部(不図示)及び除電部(不図示)の一方又は両方が更に備えられてもよい。
The image forming unit 40 includes a
帯電部42は、感光体30の表面(具体的には、周面)を負極性に帯電する。帯電部42は、非接触方式又は接触方式である。非接触方式の帯電部42の例は、コロトロン帯電器又はスコロトロン帯電器である。接触方式の帯電部42の例は、帯電ローラー又は帯電ブラシである。
The charging
帯電部42が感光体30の表面と接触しながら、帯電部42は感光体30の表面を負極性に帯電することができる。つまり、帯電部42は、接触方式であり得る。接触方式の帯電部42を備える画像形成装置100においては、感光体30の表面に付着した微小成分(例えば、紙粉、トナー又は外添剤)が固着し易く、フィルミングが発生しやすい。しかし、本実施形態の感光体30は、既に述べたようにフィルミングの発生を抑制することができる。そのため、画像形成装置100が接触方式の帯電部42を備える場合であっても、好適にフィルミングの発生を抑制することができる。
The charging
接触方式の帯電部42としては、帯電ローラーを使用することができる。帯電ローラーは、例えば、感光体30の表面と接触しながら、感光体30の回転に従動して回転する。帯電ローラーは、例えば、少なくとも表面部が樹脂で形成される。帯電ローラーは、例えば、回転可能に軸支された芯金と、芯金上に形成された樹脂層と、芯金に電圧を印加する電圧印加部とを備える。このような帯電ローラーである帯電部42は、電圧印加部が芯金に電圧を印加することによって、樹脂層を介して接触する感光体30の表面を帯電させる。帯電ローラーの樹脂層に含有される樹脂の例は、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂又はシリコーン変性樹脂である。樹脂層には、無機充填材を含有させてもよい。
As the
露光部44は、帯電された感光体30の表面を露光する。これにより、感光体30の表面に静電潜像が形成される。静電潜像は、画像形成装置100に入力された画像データに基づいて形成される。
The
現像部46は、感光体30に形成された静電潜像にトナーを供給する。これにより、静電潜像がトナー像として現像される。感光体30は、トナー像を担持する像担持体に相当する。トナーは、一成分現像剤として用いられてもよい。或いは、トナーと所望のキャリアとを混合して、トナーを二成分現像剤において用いてもよい。トナーが一成分現像剤として用いられる場合、現像部46は、感光体30に形成された静電潜像に一成分現像剤であるトナーを供給する。トナーが二成分現像剤において用いられる場合、現像部46は、感光体30に形成された静電潜像に二成分現像剤に含まれるトナーとキャリアとのうちトナーを供給する。
The developing
現像部46は、感光体30と接触しながら静電潜像をトナー像として現像することができる。すなわち、画像形成装置100は、いわゆる接触現像方式を採用することができる。
The developing
現像部46は、感光体30の表面を清掃することができる。すなわち、画像形成装置100は、いわゆるクリーナーレス方式を採用することができる。現像部46は、感光体30の表面に残留する成分(以下、「残留成分」と記載することがある)を除去することができる。残留成分の一例は、トナー成分であり、より具体的には、トナー又は遊離した外添剤である。残留成分の別の例は、非トナー成分であり、より具体的には記録媒体Mの微小成分(例えば、紙粉)である。クリーナーレス方式を採用する画像形成装置100では、クリーニング部(例えば、クリーニングブレード)によって感光体30の表面の残留成分が掻き取られない。そのため、クリーナーレス方式を採用する画像形成装置100では、通常、感光体30の表面に残留成分が残り易く、残留成分によって感光体30の表面にフィルミングが発生し易い。しかし、画像形成装置100は、感光体30を備えている。感光体30は、既に述べたように、耐フィルミング性に優れる。このため、画像形成装置100がクリーナーレス方式を採用する場合であっても、画像形成装置100はフィルミングに起因する画像不良を抑制することができる。
The developing
現像部46が感光体30の表面を効率的に清掃するためには、以下に示す条件(a)及び条件(b)を満たすことが好ましい。
条件(a):接触現像方式を採用し、感光体30と現像部46との間に周速(回転速度)差が設けられる。
条件(b):感光体30の表面電位と、現像バイアスの電位とが以下の数式(b−1)及び数式(b−2)を満たす。
0(V)<現像バイアスの電位(V)<感光体30の未露光領域の表面電位(V)・・・(b−1)
現像バイアスの電位(V)>感光体30の露光領域の表面電位(V)>0(V)・・・(b−2)
In order for the developing
Condition (a): A contact developing method is adopted, and a circumferential speed (rotational speed) difference is provided between the
Condition (b): The surface potential of the
0 (V) <potential of developing bias (V) <surface potential of unexposed area of photoreceptor 30 (V) (b-1)
Development bias potential (V)> Surface potential (V) of exposed area of
条件(a)に示す接触現像方式を採用し、感光体30と現像部46との間に周速差が設けられていると、感光体30の表面は現像部46と接触し、感光体30の表面の付着成分が現像部46との摩擦により除去される。現像部46の周速は、感光体30の周速よりも速いことが好ましい。
When the contact development method shown in the condition (a) is employed and a peripheral speed difference is provided between the
条件(b)では、現像方式が反転現像方式である場合を想定している。トナーの帯電極性、感光体30の未露光領域の表面電位、感光体30の露光領域の表面電位及び現像バイアスの電位が何れも負極性であることが好ましい。なお、感光体30の未露光領域の表面電位及び露光領域の表面電位は、転写部48がトナー像を感光体30から記録媒体Mへ転写した後、帯電部42が次周回の感光体30の表面を帯電する前に測定される。
Condition (b) assumes a case where the development method is a reversal development method. It is preferable that the charging polarity of the toner, the surface potential of the unexposed area of the
条件(b)の数式(b−1)を満たすと、感光体30に残留したトナー(以下、残留トナーと記載することがある)と感光体30の未露光領域との間に作用する静電的斥力が、残留トナーと現像部46との間に作用する静電的斥力に比べ大きくなる。このため、感光体30の未露光領域の残留トナーは、感光体30の表面から現像部46へと移動し、回収される。
When the mathematical expression (b-1) of the condition (b) is satisfied, the electrostatic force acting between the toner remaining on the photoconductor 30 (hereinafter sometimes referred to as “residual toner”) and the unexposed area of the
条件(b)の数式(b−2)を満たすと、残留トナーと感光体30の露光領域との間に作用する静電的斥力が、残留トナーと現像部46との間に作用する静電的斥力に比べ小さくなる。このため、感光体30の露光領域の残留トナーは、感光体30の表面に保持される。感光体30の露光領域に保持されたトナーは、そのまま画像形成に使用される。
When the mathematical expression (b-2) of the condition (b) is satisfied, the electrostatic repulsive force acting between the residual toner and the exposed area of the photoconductor 30 acts on the electrostatic force acting between the residual toner and the developing
転写ベルト50は、感光体30と転写部48との間に記録媒体Mを搬送する。転写ベルト50は、無端状のベルトである。転写ベルト50は、矢符方向(時計回り)に回転可能に設けられる。
The
転写部48は、現像部46によって現像されたトナー像を、感光体30から被転写体へ転写する。画像形成装置100が直接転写方式を採用する場合、被転写体は記録媒体Mに相当する。画像形成装置100が直接転写方式を採用する場合、感光体30から記録媒体Mにトナー像が転写されるときに、感光体30は記録媒体Mと接触している。転写部48は、例えば転写ローラーである。
The
通常、直接転写方式を採用する画像形成装置では、感光体が記録媒体Mに接触するため、感光体の表面に記録媒体Mの微小成分が付着し易く、フィルミングに起因する画像不良が発生し易い。しかし、本実施形態の感光体30は、既に述べたように、耐フィルミング性に優れる。よって、画像形成装置100が直接転写方式を採用する場合であっても、感光体30を備える画像形成装置100は、フィルミングに起因する画像不良の発生を抑制することができる。
Normally, in an image forming apparatus that employs the direct transfer method, since the photosensitive member contacts the recording medium M, minute components of the recording medium M easily adhere to the surface of the photosensitive member, and image defects due to filming occur. easy. However, as already described, the
画像形成ユニット40a〜40dの各々によって、転写ベルト50上の記録媒体Mに、複数色(例えば、ブラック、シアン、マゼンタ及びイエローの4色)のトナー像が順に重ねられる。
By each of the
定着部54は、転写部48によって記録媒体Mに転写された未定着のトナー像を、加熱及び/又は加圧する。定着部54は、例えば、加熱ローラー及び加圧ローラーの一方又は両方である。トナー像を加熱及び/又は加圧することにより、記録媒体Mにトナー像が定着する。その結果、記録媒体Mに画像が形成される。
The fixing unit 54 heats and / or pressurizes the unfixed toner image transferred to the recording medium M by the
以上、図2を参照して、本実施形態の感光体30を備える画像形成装置100について説明した。
The
<プロセスカートリッジ>
図2を引き続き参照して、本実施形態の感光体30を備えるプロセスカートリッジについて説明する。プロセスカートリッジは、画像形成用のカートリッジである。プロセスカートリッジは、画像形成ユニット40a〜40dの各々に相当する。プロセスカートリッジは、感光体30を備える。プロセスカートリッジは、感光体30に加えて、帯電部42、露光部44、現像部46及び転写部48からなる群より選択される少なくとも1つを備える。プロセスカートリッジには、クリーニング部(不図示)及び除電部(不図示)の一方又は両方が更に備えられてもよい。しかし、プロセスカートリッジには、クリーナーレス方式が採用されていてもよい。プロセスカートリッジは、画像形成装置100に対して着脱自在に設計される。そのため、プロセスカートリッジは取り扱いが容易であり、感光体30の感度特性等が劣化した場合に、感光体30を含めて容易かつ迅速に交換することができる。以上、図2を参照して、本実施形態の感光体30を備えるプロセスカートリッジについて説明した。
<Process cartridge>
With continued reference to FIG. 2, a process cartridge including the
以下、実施例を用いて本発明を更に具体的に説明する。なお、本発明は実施例の範囲に何ら限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. The present invention is not limited to the scope of the examples.
感光体の電荷発生層を形成するための材料として、以下の電荷発生剤を準備した。また、感光体の電荷輸送層を形成するための材料として、以下の正孔輸送剤及びバインダー樹脂を準備した。 The following charge generating agents were prepared as materials for forming the charge generating layer of the photoreceptor. In addition, the following hole transport agent and binder resin were prepared as materials for forming the charge transport layer of the photoreceptor.
(電荷発生剤)
電荷発生剤として、実施形態で述べた化学式(CGM−2)で表されるY型チタニルフタロシアニンを準備した。
(Charge generator)
As a charge generating agent, Y-type titanyl phthalocyanine represented by the chemical formula (CGM-2) described in the embodiment was prepared.
(正孔輸送剤)
正孔輸送剤として、表1〜表4に示す化合物を準備した。各化合物の融点を、融点測定装置(柴田科学株式会社製「簡易融点測定装置 MEL−280型」)を用いて測定した。測定された各化合物の融点を表1〜表4に示す。表1及び表2に示す化合物(10−1)、(11−1)、(12−1)、(13−1)、(13−2)、(14−1)及び(15−1E)は、各々、200℃以上の融点を有していた。一方、表3及び表4に示す化合物(10−r)、(11−r)、(12−r)、(13−r)及び(14−r)は、各々、200℃未満の融点を有していた。
(Hole transport agent)
The compounds shown in Tables 1 to 4 were prepared as hole transport agents. Melting | fusing point of each compound was measured using melting | fusing point measuring apparatus ("Simple melting point measuring apparatus MEL-280 type | mold" by Shibata Kagaku Co., Ltd.). Tables 1 to 4 show the measured melting points of the respective compounds. The compounds (10-1), (11-1), (12-1), (13-1), (13-2), (14-1) and (15-1E) shown in Table 1 and Table 2 are Each had a melting point of 200 ° C. or higher. On the other hand, the compounds (10-r), (11-r), (12-r), (13-r) and (14-r) shown in Tables 3 and 4 each have a melting point of less than 200 ° C. Was.
実施例に係る感光体の電荷輸送層を作製するために、表1及び表2に示す化合物(10−1)、(11−1)、(12−1)、(13−1)、(13−2)、(14−1)及び(15−1E)を使用した。また、比較例に係る感光体の電荷輸送層を作製するために、表3及び表4に示す化合物のうちの化合物(12−r)、(13−r)及び(14−r)を使用した。 In order to produce the charge transport layer of the photoreceptor according to the example, the compounds (10-1), (11-1), (12-1), (13-1), (13) shown in Tables 1 and 2 are used. -2), (14-1) and (15-1E) were used. Moreover, in order to produce the charge transport layer of the photoreceptor according to the comparative example, compounds (12-r), (13-r) and (14-r) among the compounds shown in Table 3 and Table 4 were used. .
(バインダー樹脂)
バインダー樹脂として、化学式(R−1)〜(R−8)で表されるポリアリレート樹脂(以下、それぞれをポリアリレート樹脂(R−1)〜(R−8)と記載することがある)の各々を作製した。なお、化学式(R−5)及び(R−6)は、各々、実施形態で述べた化学式(1−5)及び(1−6)に相当する。
(Binder resin)
As the binder resin, a polyarylate resin represented by chemical formulas (R-1) to (R-8) (hereinafter sometimes referred to as polyarylate resins (R-1) to (R-8)). Each was made. Chemical formulas (R-5) and (R-6) correspond to chemical formulas (1-5) and (1-6) described in the embodiments, respectively.
[ポリアリレート樹脂(R−1)の作製]
三口フラスコを反応容器として用いた。この三口フラスコは、温度計、三方コック及び容量200mLの滴下ロートを備えていた。反応容器に1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン(実施形態で述べた化合物(BP−1))12.24g(41.28ミリモル)と、tert−ブチルフェノール0.062g(0.413ミリモル)と、水酸化ナトリウム3.92g(98ミリモル)と、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド0.120g(0.384ミリモル)とを投入した。次いで、反応容器内の空気をアルゴンガスで置換した。反応容器の内容物に水600mLを加えた。反応容器の内容物を20℃で1時間攪拌した。次いで、反応容器の内容物の温度が10℃になるまで反応容器の内容物を冷却して、アルカリ性水溶液Iを得た。
[Preparation of polyarylate resin (R-1)]
A three-necked flask was used as a reaction vessel. This three-necked flask was equipped with a thermometer, a three-way cock and a dropping funnel having a capacity of 200 mL. In a reaction vessel, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclohexane (compound (BP-1) described in the embodiment) 12.24 g (41.28 mmol) and tert-butylphenol 0.062 g ( 0.413 mmol), 3.92 g (98 mmol) of sodium hydroxide, and 0.120 g (0.384 mmol) of benzyltributylammonium chloride were added. Subsequently, the air in the reaction vessel was replaced with argon gas. 600 mL of water was added to the contents of the reaction vessel. The contents of the reaction vessel were stirred at 20 ° C. for 1 hour. Next, the content of the reaction vessel was cooled until the temperature of the content of the reaction vessel reached 10 ° C., and an alkaline aqueous solution I was obtained.
一方、ビフェニル−4,4’−ジカルボン酸ジクロリド(実施形態で述べた化合物(DC−3)のジクロリド)4.52g(16.2ミリモル)と、ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジクロリド(実施形態で述べた化合物(DC−4)のジクロリド)4.10g(16.2ミリモル)とを、クロロホルム300gに溶解させて、クロロホルム溶液IIを得た。 On the other hand, 4.52 g (16.2 mmol) of biphenyl-4,4′-dicarboxylic acid dichloride (dichloride of the compound (DC-3) described in the embodiment) and naphthalene-2,6-dicarboxylic acid dichloride (embodiment) 4.10 g (16.2 mmol) of the compound (DC-4) dichloride described in 1 above was dissolved in 300 g of chloroform to obtain a chloroform solution II.
次いで、アルカリ性水溶液Iを10℃で攪拌しながら、アルカリ性水溶液Iにクロロホルム溶液IIを投入した。これにより、重合反応を開始させた。反応容器の内容物の温度(液温)を13±3℃に調節しながら、反応容器の内容物を3時間攪拌して重合反応を進行させた。次いで、デカントを用いて反応容器の内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。次いで、容量2Lの三角フラスコに、イオン交換水500mLを入れた。フラスコ内容物に、得られた有機層を加えた。フラスコ内容物に、クロロホルム300g及び酢酸6mLを更に加えた。次いで、フラスコ内容物を、室温(25℃)で30分間攪拌した。その後、デカントを用いてフラスコ内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。分液ロートを用いて、得られた有機層をイオン交換水500mLで洗浄した。イオン交換水による洗浄を8回繰り返した。その結果、水洗した有機層が得られた。水洗した有機層をろ過し、ろ液を得た。容量3Lのビーカーに1.5Lのメタノールを投入した。メタノールを攪拌した状態で、ろ液(有機層)をゆっくりと滴下し、沈殿物を得た。沈殿物をろ過により取り出した。得られた沈殿物を温度70℃で12時間真空乾燥させた。その結果、ポリアリレート樹脂(R−1)が得られた。ポリアリレート樹脂(R−1)の12.2gであり、収率は77モル%であった。得られたポリアリレート樹脂(R−1)の粘度平均分子量は、46,000であった。 Subsequently, chloroform solution II was thrown into alkaline aqueous solution I, stirring alkaline aqueous solution I at 10 degreeC. This initiated a polymerization reaction. While adjusting the temperature (liquid temperature) of the contents of the reaction vessel to 13 ± 3 ° C., the contents of the reaction vessel were stirred for 3 hours to proceed the polymerization reaction. Subsequently, the upper layer (water layer) in the contents of the reaction vessel was removed using a decant to obtain an organic layer. Next, 500 mL of ion-exchanged water was put into a 2 L Erlenmeyer flask. The resulting organic layer was added to the flask contents. To the flask contents, 300 g of chloroform and 6 mL of acetic acid were further added. The flask contents were then stirred at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes. Thereafter, the upper layer (aqueous layer) in the flask contents was removed using a decant to obtain an organic layer. The obtained organic layer was washed with 500 mL of ion exchange water using a separatory funnel. Washing with ion-exchanged water was repeated 8 times. As a result, an organic layer washed with water was obtained. The organic layer washed with water was filtered to obtain a filtrate. 1.5 L of methanol was put into a 3 L beaker. The filtrate (organic layer) was slowly added dropwise with stirring methanol to obtain a precipitate. The precipitate was removed by filtration. The obtained precipitate was vacuum-dried at a temperature of 70 ° C. for 12 hours. As a result, polyarylate resin (R-1) was obtained. It was 12.2 g of polyarylate resin (R-1), and the yield was 77 mol%. The resulting polyarylate resin (R-1) had a viscosity average molecular weight of 46,000.
[ポリアリレート樹脂(R−2)の作製]
次の点を変更した以外は、ポリアリレート樹脂(R−1)の作製と同じ方法で、ポリアリレート樹脂(R−2)を作製した。化合物(DC−3)のジクロリド4.52g(16.2ミリモル)及び化合物(DC−4)のジクロリド4.10g(16.2ミリモル)を、化合物(DC−1)のジクロリド16.2ミリモル及び化合物(DC−4)のジクロリド16.2ミリモルに変更した。得られたポリアリレート樹脂(R−2)の粘度平均分子量は、47,500であった。
[Preparation of polyarylate resin (R-2)]
A polyarylate resin (R-2) was produced in the same manner as the production of the polyarylate resin (R-1) except that the following points were changed. 4.52 g (16.2 mmol) of dichloride of compound (DC-3) and 4.10 g (16.2 mmol) of dichloride of compound (DC-4) were converted to 16.2 mmol of dichloride of compound (DC-1) and Compound (DC-4) was changed to 16.2 mmol of dichloride. The resulting polyarylate resin (R-2) had a viscosity average molecular weight of 47,500.
[ポリアリレート樹脂(R−3)の作製]
次の点を変更した以外は、ポリアリレート樹脂(R−1)の作製と同じ方法で、ポリアリレート樹脂(R−3)を作製した。化合物(DC−3)のジクロリド4.52g(16.2ミリモル)及び化合物(DC−4)のジクロリド4.10g(16.2ミリモル)を、化合物(DC−3)のジクロリド16.2ミリモル及び化合物(DC−1)のジクロリド16.2ミリモルに変更した。得られたポリアリレート樹脂(R−3)の粘度平均分子量は、46,500であった。
[Preparation of polyarylate resin (R-3)]
A polyarylate resin (R-3) was produced in the same manner as the production of the polyarylate resin (R-1) except that the following points were changed. 4.52 g (16.2 mmol) of the dichloride of the compound (DC-3) and 4.10 g (16.2 mmol) of the dichloride of the compound (DC-4) were converted into 16.2 mmol of the dichloride of the compound (DC-3) and The compound (DC-1) was changed to 16.2 mmol of dichloride. The resulting polyarylate resin (R-3) had a viscosity average molecular weight of 46,500.
[ポリアリレート樹脂(R−4)の作製]
次の点を変更した以外は、ポリアリレート樹脂(R−1)の作製と同じ方法で、ポリアリレート樹脂(R−4)を作製した。化合物(DC−3)のジクロリド4.52g(16.2ミリモル)及び化合物(DC−4)のジクロリド4.10g(16.2ミリモル)を、化合物(DC−2)のジクロリド16.2ミリモル及び化合物(DC−1)のジクロリド16.2ミリモルに変更した。得られたポリアリレート樹脂(R−4)の粘度平均分子量は、48,200であった。
[Preparation of polyarylate resin (R-4)]
A polyarylate resin (R-4) was produced in the same manner as the production of the polyarylate resin (R-1) except that the following points were changed. 4.52 g (16.2 mmol) of the dichloride of the compound (DC-3) and 4.10 g (16.2 mmol) of the dichloride of the compound (DC-4) were converted into 16.2 mmol of the dichloride of the compound (DC-2) and The compound (DC-1) was changed to 16.2 mmol of dichloride. The resulting polyarylate resin (R-4) had a viscosity average molecular weight of 48,200.
[ポリアリレート樹脂(R−5)の作製]
次の点を変更した以外は、ポリアリレート樹脂(R−1)の作製と同じ方法で、ポリアリレート樹脂(R−5)を作製した。化合物(DC−3)のジクロリド4.52g(16.2ミリモル)及び化合物(DC−4)のジクロリド4.10g(16.2ミリモル)を、化合物(DC−1)のジクロリド32.4ミリモルに変更した。得られたポリアリレート樹脂(R−5)の粘度平均分子量は、49,000であった。
[Preparation of polyarylate resin (R-5)]
A polyarylate resin (R-5) was produced in the same manner as the production of the polyarylate resin (R-1) except that the following points were changed. 4.52 g (16.2 mmol) of dichloride of compound (DC-3) and 4.10 g (16.2 mmol) of dichloride of compound (DC-4) were converted to 32.4 mmol of dichloride of compound (DC-1). changed. The resulting polyarylate resin (R-5) had a viscosity average molecular weight of 49,000.
[ポリアリレート樹脂(R−6)の作製]
次の点を変更した以外は、ポリアリレート樹脂(R−1)の作製と同じ方法で、ポリアリレート樹脂(R−6)を作製した。化合物(DC−3)のジクロリド4.52g(16.2ミリモル)及び化合物(DC−4)のジクロリド4.10g(16.2ミリモル)を、化合物(DC−2)のジクロリド32.4ミリモルに変更した。得られたポリアリレート樹脂(R−6)の粘度平均分子量は、47,600であった。
[Preparation of polyarylate resin (R-6)]
A polyarylate resin (R-6) was produced in the same manner as the production of the polyarylate resin (R-1) except that the following points were changed. The dichloride 4.52 g (16.2 mmol) of the compound (DC-3) and the dichloride 4.10 g (16.2 mmol) of the compound (DC-4) were converted into 32.4 mmol of the dichloride of the compound (DC-2). changed. The resulting polyarylate resin (R-6) had a viscosity average molecular weight of 47,600.
[ポリアリレート樹脂(R−7)の作製]
三口フラスコを反応容器として用いた。この三口フラスコは、温度計、三方コック及び容量200mLの滴下ロートを備えていた。反応容器に1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(実施形態で述べた化合物(BP−7))25.63g(82.86ミリモル)と、tert−ブチルフェノール0.124g(0.826ミリモル)と、水酸化ナトリウム7.84g(196ミリモル)と、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド0.240g(0.768ミリモル)とを投入した。次いで、反応容器内の空気をアルゴンで置換した。その後、水600mLを反応容器に投入した。反応容器の内温20℃の条件下で、反応容器の内容物を1時間攪拌した。次いで、反応容器の内容物を冷却し、反応容器の内温を10℃まで下げた。その結果、アルカリ性水溶液IIIが得られた。
[Preparation of polyarylate resin (R-7)]
A three-necked flask was used as a reaction vessel. This three-necked flask was equipped with a thermometer, a three-way cock and a dropping funnel having a capacity of 200 mL. In a reaction vessel, 25.63 g (82.86 mmol) of 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,3,5-trimethylcyclohexane (compound (BP-7) described in the embodiment), tert-butylphenol 0.124 g (0.826 mmol), sodium hydroxide 7.84 g (196 mmol), and benzyltributylammonium chloride 0.240 g (0.768 mmol) were added. Subsequently, the air in the reaction vessel was replaced with argon. Thereafter, 600 mL of water was charged into the reaction vessel. The contents of the reaction vessel were stirred for 1 hour under the condition of the internal temperature of the reaction vessel of 20 ° C. Next, the contents of the reaction vessel were cooled, and the internal temperature of the reaction vessel was lowered to 10 ° C. As a result, alkaline aqueous solution III was obtained.
ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジクロリド(実施形態で述べた化合物(DC−4)のジクロリド)9.84g(38.9ミリモル)と、4,4’−オキシビス安息香酸クロリド(実施形態で述べた化合物(DC−1)のジクロリド)11.47g(38.9ミリモル)とをクロロホルム300gに溶解させて、クロロホルム溶液IVを調製した。 9.84 g (38.9 mmol) of naphthalene-2,6-dicarboxylic acid dichloride (dichloride of the compound (DC-4) described in the embodiment) and 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride (described in the embodiment) Compound (DC-1) dichloride) 11.47 g (38.9 mmol) was dissolved in chloroform 300 g to prepare chloroform solution IV.
アルカリ性水溶液IIIの温度を10℃とした。滴下ロートを用いて、クロロホルム溶液IVをアルカリ性水溶液IIIに110分間かけてゆっくりと滴下した。これにより、重合反応を開始させた。反応容器の内容物の温度(液温)を13±3℃に調節しながら、反応容器の内容物を3時間攪拌して重合反応を進行させた。次いで、デカントを用いて反応容器の内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。次いで、容量2Lの三角フラスコに、イオン交換水500mLを入れた。フラスコ内容物に、得られた有機層を加えた。フラスコ内容物に、クロロホルム300g及び酢酸6mLを更に加えた。次いで、フラスコ内容物を、室温(25℃)で30分間攪拌した。その後、デカントを用いてフラスコ内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。分液ロートを用いて、得られた有機層をイオン交換水500mLで洗浄した。イオン交換水による洗浄を8回繰り返した。その結果、水洗した有機層が得られた。水洗した有機層をろ過し、ろ液を得た。容量3Lのビーカーに1.5Lのメタノールを投入した。メタノールを攪拌した状態で、ろ液(有機層)をゆっくりと滴下し、沈殿物を得た。沈殿物をろ過により取り出した。得られた沈殿物を温度70℃で12時間真空乾燥させた。その結果、ポリアリレート樹脂(Resin−7)を得た。ポリアリレート樹脂(Resin−7)の収量は35.3gであり、収率は88.7モル%であった。得られたポリアリレート樹脂(R−7)の粘度平均分子量は、48,000であった。 The temperature of the alkaline aqueous solution III was 10 ° C. Using a dropping funnel, the chloroform solution IV was slowly added dropwise to the alkaline aqueous solution III over 110 minutes. This initiated a polymerization reaction. While adjusting the temperature (liquid temperature) of the contents of the reaction vessel to 13 ± 3 ° C., the contents of the reaction vessel were stirred for 3 hours to proceed the polymerization reaction. Subsequently, the upper layer (water layer) in the contents of the reaction vessel was removed using a decant to obtain an organic layer. Next, 500 mL of ion-exchanged water was put into a 2 L Erlenmeyer flask. The resulting organic layer was added to the flask contents. To the flask contents, 300 g of chloroform and 6 mL of acetic acid were further added. The flask contents were then stirred at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes. Thereafter, the upper layer (aqueous layer) in the flask contents was removed using a decant to obtain an organic layer. The obtained organic layer was washed with 500 mL of ion exchange water using a separatory funnel. Washing with ion-exchanged water was repeated 8 times. As a result, an organic layer washed with water was obtained. The organic layer washed with water was filtered to obtain a filtrate. 1.5 L of methanol was put into a 3 L beaker. The filtrate (organic layer) was slowly added dropwise with stirring methanol to obtain a precipitate. The precipitate was removed by filtration. The obtained precipitate was vacuum-dried at a temperature of 70 ° C. for 12 hours. As a result, a polyarylate resin (Resin-7) was obtained. The yield of polyarylate resin (Resin-7) was 35.3 g, and the yield was 88.7 mol%. The resulting polyarylate resin (R-7) had a viscosity average molecular weight of 48,000.
[ポリアリレート樹脂(R−8)の作製]
容量1Lの三口フラスコを反応容器として用いた。この三口フラスコは、温度計、三方コック及び容量200mLの滴下ロートを備えていた。反応容器に9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン(実施形態で述べた化合物(BP−3))31.25g(82.56ミリモル)と、tert−ブチルフェノール0.124g(0.826ミリモル)と、水酸化ナトリウム7.84g(196ミリモル)と、ベンジルトリブチルアンモニウムクロライド0.240g(0.768ミリモル)とを投入した。次いで、反応容器内の空気をアルゴンで置換した。その後、水600mLを反応容器に投入した。反応容器の内温20℃の条件下で、反応容器の内容物を1時間攪拌した。次いで、反応容器の内容物を冷却し、反応容器の内温を10℃まで下げた。その結果、アルカリ性水溶液Vが得られた。
[Preparation of polyarylate resin (R-8)]
A 1 L three-necked flask was used as a reaction vessel. This three-necked flask was equipped with a thermometer, a three-way cock and a dropping funnel having a capacity of 200 mL. In a reaction vessel, 31.25 g (82.56 mmol) of 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene (compound (BP-3) described in the embodiment) and 0.124 g of tert-butylphenol ( 0.826 mmol), 7.84 g (196 mmol) of sodium hydroxide, and 0.240 g (0.768 mmol) of benzyltributylammonium chloride. Subsequently, the air in the reaction vessel was replaced with argon. Thereafter, 600 mL of water was charged into the reaction vessel. The contents of the reaction vessel were stirred for 1 hour under the condition of the internal temperature of the reaction vessel of 20 ° C. Next, the contents of the reaction vessel were cooled, and the internal temperature of the reaction vessel was lowered to 10 ° C. As a result, an alkaline aqueous solution V was obtained.
ナフタレン−2,6−ジカルボン酸ジクロリド(実施形態で述べた化合物(DC−4)のジクロリド)9.84g(38.9ミリモル)と、4,4’−オキシビス安息香酸クロリド(実施形態で述べた化合物(DC−1)のジクロリド)11.47g(38.9ミリモル)とをクロロホルム300gに溶解させて、クロロホルム溶液VIを調製した。 9.84 g (38.9 mmol) of naphthalene-2,6-dicarboxylic acid dichloride (dichloride of the compound (DC-4) described in the embodiment) and 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride (described in the embodiment) Compound (DC-1) dichloride) 11.47 g (38.9 mmol) was dissolved in chloroform 300 g to prepare chloroform solution VI.
次いで、アルカリ性水溶液Vを10℃で攪拌しながら、アルカリ性水溶液Vにクロロホルム溶液VIを投入した。これにより、重合反応を開始させた。反応容器の内容物の温度(液温)を13±3℃に調節しながら、反応容器の内容物を3時間攪拌して重合反応を進行させた。次いで、デカントを用いて反応容器の内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。次いで、容量2Lの三角フラスコに、イオン交換水500mLを入れた。フラスコ内容物に、得られた有機層を加えた。フラスコ内容物に、クロロホルム300g及び酢酸6mLを更に加えた。次いで、フラスコ内容物を、室温(25℃)で30分間攪拌した。その後、デカントを用いてフラスコ内容物における上層(水層)を除去し、有機層を得た。分液ロートを用いて、得られた有機層をイオン交換水500mLで洗浄した。イオン交換水による洗浄を8回繰り返した。その結果、水洗した有機層が得られた。水洗した有機層をろ過し、ろ液を得た。容量3Lのビーカーに1.5Lのメタノールを投入した。メタノールを攪拌した状態で、ろ液(有機層)をゆっくりと滴下し、沈殿物を得た。沈殿物をろ過により取り出した。得られた沈殿物を温度70℃で12時間真空乾燥させた。その結果、ポリアリレート樹脂(R−8)が得られた。ポリアリレート樹脂(R−8)の収量は39.7gであり、収率は88.1%であった。得られたポリアリレート樹脂(R−8)の粘度平均分子量は、40,000であった。 Subsequently, chloroform solution VI was thrown into alkaline aqueous solution V, stirring alkaline aqueous solution V at 10 degreeC. This initiated a polymerization reaction. While adjusting the temperature (liquid temperature) of the contents of the reaction vessel to 13 ± 3 ° C., the contents of the reaction vessel were stirred for 3 hours to proceed the polymerization reaction. Subsequently, the upper layer (water layer) in the contents of the reaction vessel was removed using a decant to obtain an organic layer. Next, 500 mL of ion-exchanged water was put into a 2 L Erlenmeyer flask. The resulting organic layer was added to the flask contents. To the flask contents, 300 g of chloroform and 6 mL of acetic acid were further added. The flask contents were then stirred at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes. Thereafter, the upper layer (aqueous layer) in the flask contents was removed using a decant to obtain an organic layer. The obtained organic layer was washed with 500 mL of ion exchange water using a separatory funnel. Washing with ion-exchanged water was repeated 8 times. As a result, an organic layer washed with water was obtained. The organic layer washed with water was filtered to obtain a filtrate. 1.5 L of methanol was put into a 3 L beaker. The filtrate (organic layer) was slowly added dropwise with stirring methanol to obtain a precipitate. The precipitate was removed by filtration. The obtained precipitate was vacuum-dried at a temperature of 70 ° C. for 12 hours. As a result, polyarylate resin (R-8) was obtained. The yield of polyarylate resin (R-8) was 39.7 g, and the yield was 88.1%. The resulting polyarylate resin (R-8) had a viscosity average molecular weight of 40,000.
次に、プロトン核磁気共鳴分光計(日本分光株式会社製、300MHz)を用いて、作製したポリアリレート樹脂(R−1)〜(R−8)の1H−NMRスペクトルを測定した。溶媒としてCDCl3を用いた。内部標準試料としてテトラメチルシラン(TMS)を用いた。これらのうちポリアリレート樹脂(R−1)、(R−2)、(R−3)、(R−7)及び(R−8)を代表例として挙げる。図3は、ポリアリレート樹脂(R−1)の1H−NMRスペクトルを示す。図4は、ポリアリレート樹脂(R−2)の1H−NMRスペクトルを示す。図5は、ポリアリレート樹脂(R−3)の1H−NMRスペクトルを示す。図6は、ポリアリレート樹脂(R−7)の1H−NMRスペクトルを示す。図7は、ポリアリレート樹脂(R−8)の1H−NMRスペクトルを示す。図3〜図7の横軸は化学シフト(単位:ppm)を示し、縦軸は信号強度(単位:任意単位)を示す。以下に、ポリアリレート樹脂(R−7)及び(R−8)の化学シフト値を示す。
ポリアリレート樹脂(R−7):1H−NMR(300MHz,CDCl3) δ=8.81(d, 2H), 8.17−8.26(m, 6H), 8.09(d, 2H), 7.02−7.48(m, 20H), 2.74(brs, 2H), 2.50(brs, 2H), 2.02(brm, 4H), 1.41(brs, 2H), 1.23(brs, 2H), 0.99(d, 12H), 0.42(d, 6H).
ポリアリレート樹脂(R−8):1H−NMR(300MHz,CDCl3) δ=8.81(s, 1H), 8.26(d, 1H), 8.20(d, 2H), 8.09(d, 1H), 7.74−7.80(m, 2H), 7.28−7.48(m, 7H), 6.99−7.18(m, 7H), 2.11−2.18(m, 6H).
Next, 1 H-NMR spectra of the prepared polyarylate resins (R-1) to (R-8) were measured using a proton nuclear magnetic resonance spectrometer (manufactured by JASCO Corporation, 300 MHz). CDCl 3 was used as the solvent. Tetramethylsilane (TMS) was used as an internal standard sample. Among these, polyarylate resins (R-1), (R-2), (R-3), (R-7) and (R-8) are given as representative examples. FIG. 3 shows the 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (R-1). FIG. 4 shows the 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (R-2). FIG. 5 shows the 1 H-NMR spectrum of the polyarylate resin (R-3). FIG. 6 shows the 1 H-NMR spectrum of polyarylate resin (R-7). FIG. 7 shows the 1 H-NMR spectrum of polyarylate resin (R-8). 3 to 7, the horizontal axis represents chemical shift (unit: ppm), and the vertical axis represents signal intensity (unit: arbitrary unit). The chemical shift values of polyarylate resins (R-7) and (R-8) are shown below.
Polyarylate resin (R-7): 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ = 8.81 (d, 2H), 8.17-8.26 (m, 6H), 8.09 (d, 2H) ), 7.02-7.48 (m, 20H), 2.74 (brs, 2H), 2.50 (brs, 2H), 2.02 (brm, 4H), 1.41 (brs, 2H) , 1.23 (brs, 2H), 0.99 (d, 12H), 0.42 (d, 6H).
Polyarylate resin (R-8): 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ = 8.81 (s, 1H), 8.26 (d, 1H), 8.20 (d, 2H), 8. 09 (d, 1H), 7.74-7.80 (m, 2H), 7.28-7.48 (m, 7H), 6.99-7.18 (m, 7H), 2.11 2.18 (m, 6H).
1H−NMRスペクトル及び化学シフト値により、ポリアリレート樹脂(R−1)、(R−2)、(R−3)、(R−7)及び(R−8)が得られていることを確認した。他のポリアリレート樹脂(R−4)、(R−5)及び(R−6)についても同じように、1H−NMRスペクトル及び化学シフト値により、それぞれポリアリレート樹脂(R−4)、(R−5)及び(R−6)が得られていることを確認した。 According to 1 H-NMR spectrum and chemical shift value, polyarylate resins (R-1), (R-2), (R-3), (R-7) and (R-8) are obtained. confirmed. Other polyarylate resin (R-4), (R -5) and (R-6) in the same way also, by 1 H-NMR spectrum and chemical shift values, respectively polyarylate resin (R-4), ( It was confirmed that R-5) and (R-6) were obtained.
ポリアリレート樹脂(R−1)〜(R−8)に加えて、化学式(R−B1)〜(R−B4)で表されるポリアリレート樹脂(以下、それぞれをポリアリレート樹脂(R−B1)〜(R−B4)と記載することがある)も準備した。化学式(R−B1)〜(R−B4)中の繰り返し単位に付された添え字は、各々、樹脂に含まれる繰り返し単位の総数に対する、添え字が付された繰り返し単位の数の百分率を示す。ポリアリレート樹脂(R−B1)〜(R−B4)の粘度平均分子量は、各々、46,500、47200、49100及び48600であった。 In addition to the polyarylate resins (R-1) to (R-8), polyarylate resins represented by the chemical formulas (R-B1) to (R-B4) (hereinafter referred to as polyarylate resins (R-B1)) To (R-B4) may also be prepared. The subscripts attached to the repeating units in chemical formulas (R-B1) to (R-B4) each represent the percentage of the number of repeating units attached with the subscripts relative to the total number of repeating units contained in the resin. . The viscosity average molecular weights of the polyarylate resins (R-B1) to (R-B4) were 46,500, 47200, 49100 and 48600, respectively.
<感光体の製造>
上述した電荷発生剤、正孔輸送剤及びバインダー樹脂を用いて、感光体(A−1)〜(A−16)及び(B−1)〜(B−7)を製造した。
<Manufacture of photoconductor>
Photoconductors (A-1) to (A-16) and (B-1) to (B-7) were produced using the charge generator, hole transport agent and binder resin described above.
(感光体(A−1)の製造)
まず、中間層を形成した。表面処理された酸化チタン(テイカ株式会社製「試作品SMT−A」、数平均一次粒径10nm)を準備した。詳しくは、アルミナとシリカとを用いて酸化チタンを表面処理し、表面処理された酸化チタンを湿式分散しながらメチルハイドロジェンポリシロキサンを用いて更に表面処理したものを準備した。次いで、表面処理された酸化チタン(2質量部)と、ポリアミド樹脂(東レ株式会社製「アミラン(登録商標)CM8000」、ポリアミド6、ポリアミド12、ポリアミド66及びポリアミド610の四元共重合ポリアミド樹脂)(1質量部)とを、メタノール(10質量部)、ブタノール(1質量部)及びトルエン(1質量部)を含む溶剤に対して添加した。ビーズミルを用いて、これらの材料及び溶剤を5時間混合し、溶剤中に材料を分散させた。これにより、中間層用塗布液を得た。得られた中間層用塗布液を、目開き5μmのフィルターを用いてろ過した。その後、ディップコート法を用いて、導電性基体の表面に中間層用塗布液を塗布した。導電性基体としては、アルミニウム製のドラム状支持体(直径30mm、全長246mm)を用いた。続いて、塗布した中間層用塗布液を130℃で30分間乾燥させて、導電性基体上に中間層(膜厚2μm)を形成した。
(Manufacture of photoconductor (A-1))
First, an intermediate layer was formed. Surface-treated titanium oxide (“Prototype SMT-A” manufactured by Teika Co., Ltd., number average primary particle size 10 nm) was prepared. Specifically, titanium oxide was surface-treated with alumina and silica, and the surface-treated titanium oxide was further surface-treated with methylhydrogenpolysiloxane while being wet-dispersed. Next, surface-treated titanium oxide (2 parts by mass) and a polyamide resin (quaternary polyamide resin of “Amilan (registered trademark) CM8000”,
次に、電荷発生層を形成した。詳しくは、電荷発生剤としてのY型チタニルフタロシアニン(1.5質量部)と、ベース樹脂としてのポリビニルアセタール樹脂(積水化学工業株式会社製「エスレックBX−5」)(1質量部)とを、プロピレングリコールモノメチルエーテル(40質量部)及びテトラヒドロフラン(40質量部)を含む溶剤に添加した。ビーズミルを用いて、これらの材料及び溶剤を2時間混合し、溶剤中に材料を分散させて、電荷発生層用塗布液を作製した。得られた電荷発生層用塗布液を、目開き3μmのフィルターを用いてろ過した。次いで、得られたろ過液を、中間層上にディップコート法を用いて塗布し、50℃で5分間乾燥させた。これにより、中間層上に電荷発生層(膜厚0.3μm)を形成した。 Next, a charge generation layer was formed. Specifically, Y-type titanyl phthalocyanine (1.5 parts by mass) as a charge generating agent and polyvinyl acetal resin (“S-REC BX-5” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) (1 part by mass) as a base resin, It added to the solvent containing propylene glycol monomethyl ether (40 mass parts) and tetrahydrofuran (40 mass parts). Using a bead mill, these materials and the solvent were mixed for 2 hours, and the materials were dispersed in the solvent to prepare a charge generation layer coating solution. The obtained coating solution for charge generation layer was filtered using a filter having an opening of 3 μm. Next, the obtained filtrate was applied on the intermediate layer using a dip coating method and dried at 50 ° C. for 5 minutes. As a result, a charge generation layer (thickness: 0.3 μm) was formed on the intermediate layer.
次に、電荷輸送層を形成した。詳しくは、正孔輸送剤としての化合物(13−1)75質量部と、添加剤としてのヒンダードフェノール酸化防止剤(BASF株式会社製「イルガノックス(登録商標)1010」)0.5質量部と、バインダー樹脂としてのポリアリレート樹脂(R−1)100質量部と、溶剤としてのテトラヒドロフラン350質量部と、溶剤としてのトルエン350質量部とを混合し、溶剤中に材料を分散させた。これにより、電荷輸送層用塗布液を調製した。得られた電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上にディップコート法を用いて塗布し、120℃で40分間乾燥させた。これにより、電荷発生層上に電荷輸送層(膜厚20μm)を形成した。その結果、感光体(A−1)が得られた。感光体(A−1)は、積層型電子写真感光体であった。感光体(A−1)において、導電性基体上に中間層が、中間層上に電荷発生層が、電荷発生層上に電荷輸送層が備えられていた。感光体(A−1)において、電荷輸送層は、一層であり最表面層として備えられていた。 Next, a charge transport layer was formed. Specifically, 75 parts by mass of the compound (13-1) as a hole transport agent and 0.5 parts by mass of a hindered phenol antioxidant (“Irganox (registered trademark) 1010” manufactured by BASF Corporation) as an additive Then, 100 parts by mass of polyarylate resin (R-1) as a binder resin, 350 parts by mass of tetrahydrofuran as a solvent, and 350 parts by mass of toluene as a solvent were mixed, and the material was dispersed in the solvent. This prepared the coating liquid for charge transport layers. The obtained coating solution for charge transport layer was applied onto the charge generation layer using a dip coating method and dried at 120 ° C. for 40 minutes. Thereby, a charge transport layer (film thickness 20 μm) was formed on the charge generation layer. As a result, a photoreceptor (A-1) was obtained. The photoreceptor (A-1) was a multilayer electrophotographic photoreceptor. In the photoreceptor (A-1), an intermediate layer was provided on the conductive substrate, a charge generation layer was provided on the intermediate layer, and a charge transport layer was provided on the charge generation layer. In the photoreceptor (A-1), the charge transport layer is a single layer and is provided as the outermost surface layer.
(感光体(A−2)〜(A−16)及び(B−1)〜(B−7)の製造)
下記(1)及び(2)の点を変更した以外は、感光体(A−1)の製造と同じ方法で、感光体(A−2)〜(A−16)及び(B−1)〜(B−7)の各々を製造した。
(1)感光体(A−1)の製造においてはバインダー樹脂としてポリアリレート樹脂(R−1)を使用したが、感光体(A−2)〜(A−16)及び(B−1)〜(B−7)の各々の製造においては表5に示す種類のバインダー樹脂を使用した。
(2)感光体(A−1)の製造においては正孔輸送剤として化合物(HT−1)を使用したが、感光体(A−2)〜(A−16)及び(B−1)〜(B−7)の各々の製造においては表5に示す種類の正孔輸送剤を使用した。
(Production of photoconductors (A-2) to (A-16) and (B-1) to (B-7))
Photoconductors (A-2) to (A-16) and (B-1) to (B-1) are the same as the production of the photoconductor (A-1) except that the following points (1) and (2) are changed. Each of (B-7) was manufactured.
(1) In the production of the photoreceptor (A-1), the polyarylate resin (R-1) was used as the binder resin, but the photoreceptors (A-2) to (A-16) and (B-1) to In each production of (B-7), binder resins of the types shown in Table 5 were used.
(2) Although the compound (HT-1) was used as the hole transport agent in the production of the photoreceptor (A-1), the photoreceptors (A-2) to (A-16) and (B-1) to In each production of (B-7), hole transport agents of the types shown in Table 5 were used.
<弾性仕事率の測定>
感光体(A−1)〜(A−16)及び感光体(B−1)〜(B−7)の各々の感光層の弾性仕事率を測定した。感光層の弾性仕事率は、温度23℃及び相対湿度50%RHの環境下で、ダイヤモンド圧子を備える微小硬度計(株式会社フィッシャー・インストルメンツ製「H−100」)を用いて、ステップA、ステップB及びステップCを行うことにより測定した。ステップAでは、ダイヤモンド圧子を用いて、最大荷重が9.8mmNになるように30秒間かけて感光層に負荷をかけ、負荷をかけたときの感光層の最大変形仕事量(EW1:塑性変形の仕事量+弾性変形の仕事量)を測定した。ステップBでは、30秒間かけて、ダイヤモンド圧子を感光層から離間させて感光層にかけられた負荷を除き、負荷を除いたときの感光層の復元量(EW2:弾性変形の仕事量)を測定した。ステップCでは、測定された感光層の最大変形仕事量(EW1)及び感光層の復元量(EW2)から、数式「弾性仕事率(%)=(100×EW2)/EW1」に従って、感光層の弾性仕事率を算出した。なお、弾性仕事率測定条件は、下記のとおりであった。
[弾性仕事率測定条件]
測定モード:dF/dt=const
最大荷重:9.8mmN
負荷時間:30秒
除荷時間:30秒
クリープ時間:5秒
<Measurement of elastic power>
The elastic power of each photosensitive layer of the photoconductors (A-1) to (A-16) and the photoconductors (B-1) to (B-7) was measured. The elastic power of the photosensitive layer was measured using a microhardness meter (“H-100” manufactured by Fisher Instruments Co., Ltd.) equipped with a diamond indenter in an environment of a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% RH. Measurement was performed by performing Step B and Step C. In step A, a diamond indenter is used to apply a load to the photosensitive layer over 30 seconds so that the maximum load is 9.8 mmN, and the maximum deformation work (EW 1 : plastic deformation) when the load is applied. Work + elastic deformation work). In Step B, the amount of restoration of the photosensitive layer (EW 2 : work of elastic deformation) is measured when the load is removed by removing the load applied to the photosensitive layer by separating the diamond indenter from the photosensitive layer over 30 seconds. did. In Step C, from the measured maximum deformation work (EW 1 ) of the photosensitive layer and the restoration amount (EW 2 ) of the photosensitive layer, the equation “elastic work rate (%) = (100 × EW 2 ) / EW 1 ” is used. The elastic power of the photosensitive layer was calculated. The elastic power measurement conditions were as follows.
[Elastic power measurement conditions]
Measurement mode: dF / dt = const
Maximum load: 9.8mmN
Loading time: 30 seconds Unloading time: 30 seconds Creep time: 5 seconds
感光層の表面の5箇所について弾性仕事率を測定し、弾性仕事率の数平均値を求めた。弾性仕事率の数平均値を、表5に示す。 The elastic power was measured at five locations on the surface of the photosensitive layer, and the number average value of the elastic power was obtained. Table 5 shows the number average value of the elastic power.
<引っかき深さの測定>
感光体(A−1)〜(A−16)及び感光体(B−1)〜(B−7)の各々の感光層の引っかき深さを測定した。引っかき深さは、JIS K5600−5−5(日本工業規格K5600:塗料一般試験方法、第5部:塗膜の機械的性質、第5節:引っかき硬度(荷重針法))で規定される引っかき装置200を用いて測定した。
<Measurement of scratch depth>
The scratch depth of each photosensitive layer of the photoreceptors (A-1) to (A-16) and the photoreceptors (B-1) to (B-7) was measured. The scratch depth is stipulated by JIS K5600-5-5 (Japanese Industrial Standard K5600: Paint General Test Method, Part 5: Mechanical Properties of Coating Film, Section 5: Scratch Hardness (Load Needle Method)). Measurement was performed using the
以下、図8を参照して、引っかき装置200を説明する。図8は、引っかき装置200の構成の一例を示す図である。引っかき装置200は、固定台201と、固定具202と、引っかき針203と、支持腕部204と、2つの軸支持部205と、基台206と、2つのレール部207と、分銅皿208と、定速モーター(不図示)とを備える。
Hereinafter, the scratching
図8において、X軸方向及びY軸方向が水平方向であり、Z軸方向が鉛直方向である。X軸方向は固定台201の長手方向を示す。Y軸方向は、固定台201の上面201a(載置面)に平行な面内でX軸方向に直交する方向を示す。なお、後述する図9〜図11におけるX軸方向、Y軸方向及びZ軸方向も図8と同義である。
In FIG. 8, the X-axis direction and the Y-axis direction are horizontal directions, and the Z-axis direction is a vertical direction. The X-axis direction indicates the longitudinal direction of the fixed
固定台201は、JIS K5600−5−5における試験板固定台に相当する。固定台201は、上面201aと、一端201bと、他端201cとを備える。一端201bは、2つの軸支持部205に対向している。
The fixing table 201 corresponds to a test plate fixing table in JIS K5600-5-5. The fixed
固定具202は、固定台201の上面201aにおける他端201cの側に設けられる。固定具202は、固定台201の上面201aに測定対象(感光体30)を固定する。固定台201の上面201aは水平面である。
The fixing
引っかき針203は、先端203b(図9参照)を有する。先端203bの構造は、直径1mmの半球状である。先端203bの材質は、サファイアである。
The
支持腕部204は、引っかき針203を支持する。支持腕部204は、支軸204aを中心として、引っかき針203が感光体30に接近する方向及び離間する方向に回動する。
The
2つの軸支持部205は、支持腕部204を回動可能に支持する。
The two
基台206は、上面206aを備える。上面206aの一端側には、2つの軸支持部205が設けられる。
The
2つのレール部207は、上面206aの他端側に設けられる。2つのレール部207は、互いに平行に対向するように設けられる。2つのレール部207は、各々、固定台201の長手方向(X軸方向)と平行に設けられる。固定台201は、2つのレール部207の間に取り付けられる。固定台201は、レール部207に沿って、固定台201の長手方向(X軸方向)に、水平に移動可能である。
The two
分銅皿208は、支持腕部204を介して引っかき針203の上に設けられる。分銅皿208には、分銅209が載せられる。
The
定速モーターは、レール部207に沿って固定台201の長手方向(X軸方向)に移動させる。
The constant speed motor is moved along the
以下、引っかき深さの測定方法を説明する。引っかき深さの測定方法は、第一ステップと、第二ステップと、第三ステップと、第四ステップとを含んでいた。引っかき深さは、JIS K5600−5−5で規定される引っかき装置200を用いて測定した。引っかき装置200として、表面性測定機(新東科学株式会社製「HEIDON TYPE14」)を使用した。引っかき深さの測定は、温度23℃及び相対湿度50%RHの環境下で行った。感光体30の形状はドラム状(円筒状)であった。以下の引っ掻き深さの測定方法を採用することで、フィルミングの発生に影響する感光層32の特性を、精度よく測定することができた。
Hereinafter, a method for measuring the scratch depth will be described. The scratch depth measurement method included a first step, a second step, a third step, and a fourth step. The scratch depth was measured using a
(第一ステップ)
第一ステップでは、感光体30の長手方向が固定台201の長手方向と平行になるように、感光体30を固定台201の上面201aに固定した。感光体30の中心軸L2(回転軸)方向が感光体30の長手方向に相当していた。なお、感光体30がシート状である場合には、感光体30の長辺方向が感光体30の長手方向に相当する。
(First step)
In the first step, the
(第二ステップ)
第二ステップでは、引っかき針203を感光体30の感光層32の表面32aに対して垂直に当接させた。図8に加えて、図9及び図10を参照して、ドラム状の感光体30の感光層32の表面32aに、引っかき針203を垂直に当接させる方法を説明する。図9は、図8に示すIX−IX線における断面図である。図9は、感光体30に引っかき針203を当接させたときの断面図である。図10は、図8に示す固定台201と、引っかき針203と、感光体30との側面図である。
(Second step)
In the second step, the
引っかき針203の中心軸A1の延長線が固定台201の上面201aに対して垂直になるように、引っかき針203を感光体30に接近させた。そして、感光体30の感光層32の表面32aにおける、固定台201の上面201aから垂直方向(Z軸方向)に最も離れた点に、引っかき針203の先端203bを当接させた。これにより、引っかき針203の先端203bは、当接点P3で、感光体30の感光層32の表面32aと当接した。更に、引っかき針203の中心軸A1が接線A2に対して垂直になるように、引っかき針203の先端203bを感光体30に当接させた。なお、接線A2は、感光体30の中心軸L2に対して垂直な感光体30の断面が構成する外周円の当接点P3における接線である。これにより、感光体30の感光層32の表面32aに、引っかき針203が垂直に当接した。なお、感光体30がシート状である場合には、感光体30の感光層32の表面32a(平面)に対して、引っかき針203の中心軸A1の延長線が垂直になるように、引っかき針203を感光層32の表面32aに当接させる。
As an extension of the center axis A 1 of the scratching
上述の方法で引っかき針203を当接させたとき、固定台201、感光体30及び引っかき針203の位置関係は次のとおりであった。引っかき針203の中心軸A1の延長線と感光体30の中心軸L2とが、交点P2で垂直に交わっていた。感光層32及び上面201aの接点P1と、交点P2と、感光層32及び引っかき針203の先端203bの当接点P3とが、引っかき針203の中心軸A1の延長線上に位置していた。また、引っかき針203の中心軸A1の延長線は、固定台201の上面201a及び接線A2に対して、それぞれ垂直であった。
When the scratching
(第三ステップ)
第三ステップでは、引っかき針203を感光層32の表面32aに対して垂直に当接させた状態で、引っかき針203から感光層32に10gの荷重Wを付与した。具体的には、分銅皿208に10gの分銅209を載せた。この状態で、固定台201を移動させた。具体的には、定速モーターを駆動させ、レール部207に沿って、固定台201の長手方向(X軸方向)に水平に移動させた。すなわち、固定台201の一端201bを、第一位置N1から第二位置N2まで移動させた。なお、第二位置N2は、第一位置N1に対して、固定台201の長手方向であって固定台201が2つの軸支持部205から離間する方向の下流側に位置していた。固定台201の長手方向への移動に伴い、感光体30も、固定台201の長手方向へ水平に移動した。固定台201及び感光体30の移動速度は、30mm/分であった。固定台201及び感光体30の移動距離は、30mmであった。固定台201及び感光体30の移動距離は、第一位置N1及び第二位置N2の間の距離D1-2に相当していた。固定台201及び感光体30が移動した結果、引っかき針203によって感光体30の感光層32の表面32aに引っかき傷Sが形成された。図8〜図10に加えて図11を参照して、引っかき傷Sを説明する。図11は、感光層32の表面32aに形成された引っかき傷Sを示す。引っかき傷Sは、固定台201の上面201a及び接線A2に対して、それぞれ垂直に形成された。また、引っかき傷Sは、図10に示す線L3を通るように形成された。なお、線L3は複数の当接点P3から構成される線である。線L3は、固定台201の上面201a及び感光体30の中心軸L2に対して、それぞれ平行であった。線L3は、引っかき針203の中心軸A1に対して垂直であった。
(Third step)
In the third step, a load W of 10 g was applied from the scratching
(第四ステップ)
第四ステップでは、引っかき傷Sの最大深さDsmaxである引っかき深さを測定した。具体的には、感光体30を固定台201から取り外した。三次元干渉顕微鏡(Bruker社販売「WYKO NT−1100」)を用いて、感光体30の感光層32に形成された引っかき傷Sを倍率5倍で観察し、引っかき傷Sの深さDsを測定した。引っかき傷Sの深さDsは、接線A2から、引っかき傷Sの谷部までの距離に相当していた。引っかき傷Sの深さDsのうちの最大深さDsmaxを、引っかき深さとした。測定された引っかき深さ(単位:μm)を、表5に示す。
(Fourth step)
In the fourth step, the scratch depth which is the maximum depth Ds max of the scratch S was measured. Specifically, the
<耐フィルミング性の評価>
感光体(A−1)〜(A−16)及び感光体(B−1)〜(B−7)の各々に対して、耐フィルミング性を評価した。評価機は、カラープリンター(京セラドキュメントソリューションズ株式会社製「ECOSYS(登録商標)FS−C5400DN」)をクリーナーレス方式に改造した改造機であった。即ち、この評価機においては、クリーニングブレードが取り外され、現像部が感光体の表面を清掃する構成に改造されていた。この評価機は、直接転写方式を採用していた。この評価機は、帯電部として、帯電ローラーを備えていた。感光体の帯電電位を、−600Vに設定した。
<Evaluation of filming resistance>
Filming resistance was evaluated for each of the photoreceptors (A-1) to (A-16) and the photoreceptors (B-1) to (B-7). The evaluation machine was a modified machine obtained by modifying a color printer (“ECOSYS (registered trademark) FS-C5400DN” manufactured by Kyocera Document Solutions Co., Ltd.) into a cleaner-less system. That is, in this evaluation machine, the cleaning blade is removed, and the developing unit is modified to clean the surface of the photoreceptor. This evaluation machine adopted a direct transfer system. This evaluator was provided with a charging roller as a charging unit. The charging potential of the photoreceptor was set to -600V.
感光体を評価機に搭載した。評価機のトナーカートリッジにシアントナーを充填した。高温高湿環境(温度32℃及び相対湿度85%RHの環境:以下、HH環境と記載することがある)下で、評価機を用いて、2,000枚の用紙に16秒間隔で印刷した。次いで、低温低湿環境(温度10℃及び相対湿度15%RHの環境:以下、LL環境と記載することがある)下で、評価機を用いて、2,000枚の用紙に16秒間隔で印刷した。LL環境下で2,000枚の用紙に印刷した後、評価機を2時間静置した。次いで、LL環境下にてソリッド画像(画像濃度100%)を1枚の用紙に印刷した。得られたソリッド画像を評価画像とした。目視で評価画像を観察し、画像の欠けの有無を確認した。なお、感光体の表面にフィルミングが発生すると、画像に欠けが現れる傾向がある。下記基準で感光体の耐フィルミング性を評価した。耐フィルミング性の評価結果を、表5に示す。
[耐フィルミング性の評価基準]
◎(特に良好):画像の欠けが全く確認されなかった。
○(良好) :画像の欠けがわずかに確認されたが、実使用上問題ない程度の欠けであった。
×(不良) :画像の欠けが明確に確認された。
The photoconductor was mounted on an evaluation machine. The toner cartridge of the evaluator was filled with cyan toner. Printing was performed on 2,000 sheets at intervals of 16 seconds using an evaluation machine under a high temperature and high humidity environment (environment at a temperature of 32 ° C. and a relative humidity of 85% RH: hereinafter referred to as HH environment). . Next, printing is performed on 2,000 sheets at intervals of 16 seconds using an evaluator in a low-temperature and low-humidity environment (environment at a temperature of 10 ° C. and a relative humidity of 15% RH: hereinafter sometimes referred to as LL environment). did. After printing on 2,000 sheets in the LL environment, the evaluation machine was allowed to stand for 2 hours. Next, a solid image (
[Evaluation criteria for filming resistance]
A (particularly good): no missing image was confirmed.
◯ (Good): Slight chipping of the image was confirmed, but the chipping was not problematic to practical use.
X (defect): The lack of an image was confirmed clearly.
表5中、樹脂及びHTMは、各々、バインダー樹脂及び正孔輸送剤を示す。 In Table 5, resin and HTM represent a binder resin and a hole transport agent, respectively.
感光体(A−1)〜(A−16)の各々は、導電性基体と感光層とを備えていた。感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層とを含んでいた。電荷発生層は、電荷発生剤を含んでいた。電荷輸送層は、正孔輸送剤とバインダー樹脂とを含んでいた。電荷輸送層は、一層であり最表面層として備えられていた。バインダー樹脂は、ポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)を含んでいた。正孔輸送剤の融点は、200℃以上であった。感光層の弾性仕事率は、47.0%以上であった。そのため、表5から明らかなように、感光体(A−1)〜(A−16)では、耐フィルミング性の評価が良好(○)又は特に良好(◎)であった。 Each of the photoreceptors (A-1) to (A-16) was provided with a conductive substrate and a photosensitive layer. The photosensitive layer included a charge generation layer and a charge transport layer. The charge generation layer contained a charge generation agent. The charge transport layer contained a hole transport agent and a binder resin. The charge transport layer is a single layer and is provided as the outermost surface layer. The binder resin contained polyarylate resin (1), (2) or (3). The melting point of the hole transport agent was 200 ° C. or higher. The elastic power of the photosensitive layer was 47.0% or more. Therefore, as is clear from Table 5, in the photoreceptors (A-1) to (A-16), the evaluation of filming resistance was good (◯) or particularly good (◎).
感光体(B−1)及び(B−3)の各々では、電荷輸送層がバインダー樹脂としてポリアリレート樹脂(1)、(2)又は(3)を含んでいなかった。具体的には、感光体(B−1)では、電荷輸送層がポリアリレート樹脂(R−B1)を含んでいたが、ポリアリレート樹脂(R−B1)は一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂ではなかった。感光体(B−3)では、電荷輸送層がポリアリレート樹脂(R−B3)を含んでいたが、ポリアリレート樹脂(R−B3)は一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂ではなかった。また、感光体(B−1)及び(B−3)の各々では、感光層の弾性仕事率が、47.0%未満であった。そのため、表5から明らかなように、感光体(B−1)及び(B−3)の各々では、耐フィルミング性の評価が不良(×)であった。 In each of the photoreceptors (B-1) and (B-3), the charge transport layer did not contain the polyarylate resin (1), (2) or (3) as the binder resin. Specifically, in the photoreceptor (B-1), the charge transport layer contained the polyarylate resin (R-B1), but the polyarylate resin (R-B1) is represented by the general formulas (1) and (2). Or it was not the polyarylate resin represented by (3). In the photoreceptor (B-3), the charge transport layer contained the polyarylate resin (R-B3), but the polyarylate resin (R-B3) is represented by the general formula (1), (2) or (3). It was not the polyarylate resin represented. In each of the photoreceptors (B-1) and (B-3), the elastic power of the photosensitive layer was less than 47.0%. Therefore, as is clear from Table 5, in each of the photoreceptors (B-1) and (B-3), the evaluation of filming resistance was poor (x).
感光体(B−2)及び(B−4)の各々では、ポリアリレート樹脂(R−B2)及び(R−B4)が電荷輸送層形成用の溶剤に溶解し難く、電荷輸送層用塗布液がゲル化した。そのため、電荷輸送層を形成することができなかった。そのため、感光体(B−2)及び(B−4)の各々では、感光層の弾性仕事率、及び感光層の引っかき深さを測定することができなかった。更に、表5から明らかなように、感光体(B−2)及び(B−4)の各々では、耐フィルミング性を評価することができなかった。 In each of the photoreceptors (B-2) and (B-4), the polyarylate resins (R-B2) and (R-B4) are difficult to dissolve in the solvent for forming the charge transport layer, and the charge transport layer coating solution Gelled. Therefore, a charge transport layer could not be formed. Therefore, in each of the photoreceptors (B-2) and (B-4), the elastic power of the photosensitive layer and the scratch depth of the photosensitive layer could not be measured. Further, as is clear from Table 5, the filming resistance of each of the photoreceptors (B-2) and (B-4) could not be evaluated.
感光体(B−5)〜(B−7)の各々では、正孔輸送剤の融点が200℃未満であった。また、感光体(B−5)〜(B−7)の各々では、感光層の弾性仕事率が、47.0%未満であった。そのため、表5から明らかなように、感光体(B−5)〜(B−7)の各々では、耐フィルミング性の評価が不良(×)であった。 In each of the photoreceptors (B-5) to (B-7), the melting point of the hole transfer agent was less than 200 ° C. In each of the photoreceptors (B-5) to (B-7), the elastic power of the photosensitive layer was less than 47.0%. Therefore, as apparent from Table 5, in each of the photoreceptors (B-5) to (B-7), the evaluation of filming resistance was poor (x).
以上のことから、本発明に係る感光体は、耐フィルミング性に優れることが示された。また、本発明に係るプロセスカートリッジ及び画像形成装置は、フィルミングに起因する画像不良を抑制することが示された。 From the above, it was shown that the photoreceptor according to the present invention is excellent in filming resistance. In addition, it has been shown that the process cartridge and the image forming apparatus according to the present invention suppress image defects caused by filming.
本発明に係る感光体は、複合機のような画像形成装置に利用できる。本発明に係るプロセスカートリッジは、複合機のような画像形成装置に利用できる。本発明に係る画像形成装置は、記録媒体に画像を形成するために利用できる。 The photoreceptor according to the present invention can be used in an image forming apparatus such as a multifunction peripheral. The process cartridge according to the present invention can be used in an image forming apparatus such as a multifunction peripheral. The image forming apparatus according to the present invention can be used to form an image on a recording medium.
30 感光体
31 導電性基体
32 感光層
32a 表面
321 電荷発生層
322 電荷輸送層
42 帯電部
44 露光部
46 現像部
48 転写部
100 画像形成装置
M 記録媒体
DESCRIPTION OF
Claims (18)
前記感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層とを含み、
前記電荷発生層は、電荷発生剤を含み、
前記電荷輸送層は、正孔輸送剤とバインダー樹脂とを含み、前記電荷輸送層は、一層であり最表面層として備えられ、
前記バインダー樹脂は、一般式(1)、(2)又は(3)で表されるポリアリレート樹脂を含み、
前記正孔輸送剤の融点は、200℃以上であり、
前記感光層の弾性仕事率は、47.0%以上である、電子写真感光体。
X1及びY1は、各々、化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X1とY1とは互いに異なっており、
kr及びktは、各々、3を表し、
r1及びs1は、各々独立に、数式(1a)及び(1b)を満たす正の数を表し、
t1及びu1は、各々独立に、前記数式(1a)及び(1b)を満たす0以上の数を表す。
r1+s1+t1+u1=100・・・(1a)
r1+t1=s1+u1 ・・・(1b)
R21、R22、R23及びR24は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表し、
X2及びY2は、各々、前記化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X2とY2とは互いに異なっており、
r2、s2、t2及びu2は、各々独立に、数式(2a)、(2b)及び(2c)を満たす正の数を表す。
r2+s2+t2+u2=100 ・・・(2a)
r2+t2=s2+u2 ・・・(2b)
0.30≦s2/(s2+u2)≦0.70・・・(2c)
R31、R32、R33及びR34は、各々独立に、水素原子又はメチル基を表し、
X3及びY3は、各々、前記化学式(A)、(B)、(C)、(D)、(E)又は(F)で表される二価の基を表し、X3とY3とは互いに異なっており、
r3、s3、t3及びu3は、各々独立に、数式(3a)、(3b)及び(3c)を満たす正の数を表す。
r3+s3+t3+u3=100 ・・・(3a)
r3+t3=s3+u3 ・・・(3b)
0.30≦s3/(s3+u3)≦0.70・・・(3c) An electrophotographic photosensitive member comprising a conductive substrate and a photosensitive layer,
The photosensitive layer includes a charge generation layer and a charge transport layer,
The charge generation layer includes a charge generation agent,
The charge transport layer includes a hole transport agent and a binder resin, the charge transport layer is a single layer and provided as an outermost surface layer,
The binder resin includes a polyarylate resin represented by the general formula (1), (2) or (3),
The melting point of the hole transport agent is 200 ° C. or higher,
An electrophotographic photosensitive member, wherein the photosensitive layer has an elastic power of 47.0% or more.
X 1 and Y 1 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F), and X 1 and Y 1 Are different from each other
kr and kt each represents 3,
r 1 and s 1 each independently represent a positive number satisfying the formulas (1a) and (1b),
t 1 and u 1 each independently represents a number of 0 or more that satisfies the mathematical formulas (1a) and (1b).
r 1 + s 1 + t 1 + u 1 = 100 (1a)
r 1 + t 1 = s 1 + u 1 (1b)
R 21 , R 22 , R 23 and R 24 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group,
X 2 and Y 2 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F), and X 2 and Y 2 Are different from each other,
r 2 , s 2 , t 2 and u 2 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (2a), (2b) and (2c).
r 2 + s 2 + t 2 + u 2 = 100 (2a)
r 2 + t 2 = s 2 + u 2 (2b)
0.30 ≦ s 2 / (s 2 + u 2 ) ≦ 0.70 (2c)
R 31 , R 32 , R 33 and R 34 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group,
X 3 and Y 3 each represent a divalent group represented by the chemical formula (A), (B), (C), (D), (E) or (F), and X 3 and Y 3 Are different from each other,
r 3 , s 3 , t 3 and u 3 each independently represent a positive number satisfying the mathematical expressions (3a), (3b) and (3c).
r 3 + s 3 + t 3 + u 3 = 100 (3a)
r 3 + t 3 = s 3 + u 3 (3b)
0.30 ≦ s 3 / (s 3 + u 3 ) ≦ 0.70 (3c)
前記一般式(2)で表されるポリアリレート樹脂は、一般式(2−1)で表されるポリアリレート樹脂であり、
前記一般式(3)で表されるポリアリレート樹脂は、一般式(3−1)で表されるポリアリレート樹脂である、請求項1又は2に記載の電子写真感光体。
r11+s11+t11+u11=100・・・(1a’)
r11+t11=s11+u11 ・・・(1b’)
0.30≦s11/(s11+u11)≦0.70・・・(1c)
The polyarylate resin represented by the general formula (2) is a polyarylate resin represented by the general formula (2-1),
The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, wherein the polyarylate resin represented by the general formula (3) is a polyarylate resin represented by the general formula (3-1).
r 11 + s 11 + t 11 + u 11 = 100 (1a ′)
r 11 + t 11 = s 11 + u 11 (1b ′)
0.30 ≦ s 11 / (s 11 + u 11 ) ≦ 0.70 (1c)
R121、R122及びR123は、各々独立に、炭素原子数1以上3以下のアルキル基を表し、
b1、b2及びb3は、各々独立に、0以上5以下の整数を表す。
R141、R142、R143、R144、R145及びR146、各々独立に、炭素原子数1以上6以下のアルキル基、フェニル基又は炭素原子数1以上6以下のアルコキシ基を表し、
d1、d2、d3及びd4は、各々独立に、0以上5以下の整数を表し、
d5及びd6は、各々独立に、0以上4以下の整数を表す。
R 121 , R 122 and R 123 each independently represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,
b 1 , b 2 and b 3 each independently represent an integer of 0 or more and 5 or less.
R 141 , R 142 , R 143 , R 144 , R 145 and R 146 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms,
d 1 , d 2 , d 3 and d 4 each independently represent an integer of 0 to 5,
d 5 and d 6 each independently represents an integer of 0 or more and 4 or less.
前記帯電部は、前記電子写真感光体の表面を負極性に帯電し、
前記露光部は、帯電された前記電子写真感光体の前記表面を露光して、前記電子写真感光体の前記表面に静電潜像を形成し、
前記現像部は、前記静電潜像をトナー像として現像し、
前記転写部は、前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写体へ転写する、画像形成装置。 An image forming apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member according to any one of claims 1 to 13, a charging unit, an exposure unit, a developing unit, and a transfer unit,
The charging unit charges the surface of the electrophotographic photosensitive member to a negative polarity,
The exposing unit exposes the charged surface of the electrophotographic photosensitive member to form an electrostatic latent image on the surface of the electrophotographic photosensitive member;
The developing unit develops the electrostatic latent image as a toner image,
The transfer unit is an image forming apparatus that transfers the toner image from the electrophotographic photosensitive member to a transfer target.
前記転写部が前記トナー像を前記電子写真感光体から前記記録媒体へ転写するときに、前記電子写真感光体は前記記録媒体と接触している、請求項15に記載の画像形成装置。 The transfer object is a recording medium,
The image forming apparatus according to claim 15, wherein the electrophotographic photosensitive member is in contact with the recording medium when the transfer unit transfers the toner image from the electrophotographic photosensitive member to the recording medium.
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