JP6574327B2 - Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition - Google Patents

Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP6574327B2
JP6574327B2 JP2014230918A JP2014230918A JP6574327B2 JP 6574327 B2 JP6574327 B2 JP 6574327B2 JP 2014230918 A JP2014230918 A JP 2014230918A JP 2014230918 A JP2014230918 A JP 2014230918A JP 6574327 B2 JP6574327 B2 JP 6574327B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acrylate
insulating film
resin
core
composition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014230918A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016094527A (en
Inventor
伊藤 卓
卓 伊藤
敦司 浅野
敦司 浅野
伸匡 中嶋
伸匡 中嶋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Priority to JP2014230918A priority Critical patent/JP6574327B2/en
Publication of JP2016094527A publication Critical patent/JP2016094527A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6574327B2 publication Critical patent/JP6574327B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、分散媒中に、夾雑物の低減されたコアシェルポリマーが一次粒子の状態で分散してなり、絶縁性、熱サイクル時のクラック抑制、フォトリソグラフ法やレーザー加工法により形成するビア等の微細形状物の形成性のバランスに優れた絶縁膜改質用組成物、及びこれら諸特性に優れた絶縁膜用硬化性樹脂組成物に関する。   The present invention is a dispersion medium in which the core-shell polymer with reduced impurities is dispersed in the form of primary particles, insulating properties, crack suppression during thermal cycling, vias formed by photolithography or laser processing, etc. The present invention relates to a composition for modifying an insulating film excellent in the balance of the formability of the finely shaped product, and a curable resin composition for an insulating film excellent in these various characteristics.

プリント配線板では、レジスト材料、ビルドアップ材料、プリプレグ材料、FPC用接着剤などの種々の絶縁性膜形成材料が使用されている。これら材料はいずれも所望の電気絶縁性を有する絶縁膜である事が求められている。プリント配線板における同一層内にある複数の銅配線の隙間部分にこれら材料が充填され、前記銅配線間を絶縁すること、および異なる層内にある銅回路を絶縁することが求められる。他方で、この絶縁膜には、高い信頼性確保の為に熱サイクル時のクラックを発生させないこと(靭性の向上)や同じく高い信頼性確保の為にフォトリソグラフ法やレーザー加工法によるビア等の微細形状物は良好な形状をしていることが好ましく、微細形状形成性の向上も必要とされる。   In the printed wiring board, various insulating film forming materials such as a resist material, a build-up material, a prepreg material, and an FPC adhesive are used. All of these materials are required to be insulating films having desired electrical insulation properties. It is required that gaps between a plurality of copper wirings in the same layer in the printed wiring board are filled with these materials to insulate the copper wirings and insulate copper circuits in different layers. On the other hand, this insulating film does not generate cracks during thermal cycling to ensure high reliability (improvement of toughness), and vias such as photolithographic methods and laser processing methods to ensure high reliability. It is preferable that the finely shaped object has a good shape, and improvement of the fine shape forming property is also required.

特許文献1では、レジスト材料にパウダー状のコアシェル構造の架橋ゴム粒子を配合した技術が開示され、このコアシェルパウダーを使用し冷熱サイクル特性を改善することを試みている。   Patent Document 1 discloses a technique in which a crosslinked rubber particle having a powdery core-shell structure is blended with a resist material, and attempts to improve the thermal cycle characteristics using this core-shell powder.

特許文献2では、無機フィラー由来の不純物や再凝集物による絶縁性の低下を改善する為、パウダー状のコアシェル多層構造の有機微粒子を熱硬化性樹脂と配合する事が開示され、絶縁特性の改善を試みている。   Patent Document 2 discloses that organic fine particles having a powdery core-shell multilayer structure are mixed with a thermosetting resin in order to improve the insulation deterioration due to impurities derived from inorganic fillers and re-aggregates, thereby improving the insulation characteristics. Are trying.

特許文献3では、エラストマーを所定量とすることにより諸物性が改善される感光性樹脂組成物が開示され、シリコーン系エラストマーとしてパウダー状コアシェル型シリコーンゴムが例示されている。   Patent Document 3 discloses a photosensitive resin composition in which various physical properties are improved by setting a predetermined amount of elastomer, and a powdery core-shell type silicone rubber is exemplified as a silicone elastomer.

いずれの文献もパウダー状コアシェルポリマー粒子を使用するが、これらは一次粒子の集合体(凝集体)として、粒子径が数十〜数百ミクロンのパウダー状で市販されている。このため、分散媒に混合するに際しては、これらのパウダー状のコアシェルポリマーを混合に先立って予め10μm未満の粒子径に微粉末化したり、混合に際し高温及び高い剪断力を掛けて混合すること等が必要となる。また、このような煩雑な操作を経て分散媒に混合した場合でも、一旦分散したコアシェルポリマーが容易に沈殿あるいは浮上して分離する事、あるいは凝集体が完全に一次粒子の状態で分散せず凝集分散する事などの問題がしばしば発生する。
この様に、凝集粒子の全てを一次粒子まで分散させることは困難であり、凝集粒子が残存したままでは熱サイクルを受けた時の応力をうまく分散できずにクラックが発生し、該クラック間に水分等が浸入し、絶縁信頼性の低下を招いたり、また凝集物のサイズが同一層内にある複数の銅配線の隙間と比較し、充分小さくない場合、凝集物が銅配線間の絶縁性を低下させる原因となったり、凝集物が大きく、突起状に突き出ている場合、接触等の物理的外力により、凝集物が脱落し、そのことが絶縁性を低下させる原因となったりする。更に凝集物がフォトリソグラフ法やレーザー加工法によるビア等の微細形状形成性も不十分なものとなる。
また、銅配線の隙間、絶縁膜の厚み、ビアのサイズは年々小さくなる傾向があり、凝集物は益々許容されない状況になっている。
All of these documents use powdery core-shell polymer particles, which are commercially available in the form of powder having a particle diameter of several tens to several hundreds of microns as an aggregate (aggregate) of primary particles. For this reason, when mixing with a dispersion medium, these powdery core-shell polymers may be pulverized to a particle diameter of less than 10 μm in advance prior to mixing, or may be mixed by applying high temperature and high shearing force during mixing. Necessary. In addition, even when mixed in a dispersion medium through such complicated operations, the core-shell polymer once dispersed can be easily precipitated or floated and separated, or the aggregates are not completely dispersed in the state of primary particles. Problems such as dispersion often occur.
As described above, it is difficult to disperse all of the aggregated particles up to the primary particles, and if the aggregated particles remain, the stress generated during the thermal cycle cannot be dispersed well and cracks are generated. If moisture or the like enters, causing a decrease in insulation reliability, or if the size of the agglomerates is not sufficiently small compared to the gaps between multiple copper wirings in the same layer, the agglomerates are insulating between the copper wirings. When the aggregate is large and protrudes like a protrusion, the aggregate falls off due to a physical external force such as contact, which causes the insulation to decrease. Further, the agglomerates are insufficient in forming fine shapes such as vias by a photolithographic method or a laser processing method.
In addition, the gap between the copper wiring, the thickness of the insulating film, and the size of the via tend to decrease year by year, and the aggregates are becoming increasingly unacceptable.

更に、上記に加えて、コアシェルポリマーの重合に際して添加される乳化剤等の電解質や夾雑物は、パウダー状のポリマーから効率よく除去することが通常困難である。このため、これらの電解質或いは夾雑物が、しばしばクラックの発生、或いは電気絶縁特性の低下等の原因となる。   Furthermore, in addition to the above, it is usually difficult to efficiently remove electrolytes and impurities such as emulsifiers added during the polymerization of the core-shell polymer from the powdered polymer. For this reason, these electrolytes or contaminants often cause cracking or deterioration of electrical insulation characteristics.

国際公開第2013/172435号パンフレットInternational Publication No. 2013/172435 Pamphlet 国際公開第2007/125806号パンフレットInternational Publication No. 2007/125806 Pamphlet 特開2010−169809号公報JP 2010-169809 A

そこで、本発明は、絶縁性、熱サイクル時のクラック抑制、フォトリソグラフ法やレーザー加工法により形成するビア等の微細形状物の形成性が改善された絶縁膜改質用組成物や絶縁膜用硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention provides an insulating film modifying composition and insulating film with improved insulation, crack suppression during thermal cycling, and improved formation of fine shapes such as vias formed by photolithography and laser processing. An object is to provide a curable resin composition.

即ち上記の問題を解決できた本発明は、分散媒(A)と、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)とを含み、該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)が分散媒(A)中に1次粒子の状態で分散していることを特徴とする絶縁膜改質用組成物に関する。 That is, the present invention that has solved the above problems includes a dispersion medium (A) and a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer, and at least 70% (number basis) of the core-shell polymer (B). The present invention relates to a composition for modifying an insulating film, wherein the composition is dispersed in a state of primary particles in a dispersion medium (A).

好ましい実施態様は、前記コアシェルポリマー(B)の80%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散している絶縁膜改質用組成物である。 A preferred embodiment is an insulating film modifying composition in which 80% (number basis) or more of the core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles.

好ましい実施態様は、前記コアシェルポリマー(B)の体積平均粒子径が、10nm〜2000nmである絶縁膜改質用組成物である。   A preferred embodiment is a composition for modifying an insulating film, wherein the core-shell polymer (B) has a volume average particle diameter of 10 nm to 2000 nm.

好ましい実施態様は、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)を含有する水性ラテックスを、有機溶媒(I)と水とに接触させ、有機溶媒(I)を含有しつつ水相中に凝集するコアシェルポリマー(B)の凝集体(G)を生成させ、この凝集体(G)を液相から分離し、分散媒(A)と混合することによって得られる絶縁膜改質用組成物である。   In a preferred embodiment, an aqueous latex containing a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer is brought into contact with an organic solvent (I) and water, and aggregated in an aqueous phase while containing the organic solvent (I). An insulating film modifying composition obtained by forming an aggregate (G) of the core-shell polymer (B) to be separated, separating the aggregate (G) from the liquid phase, and mixing with the dispersion medium (A). .

好ましい実施態様は、前記凝集体(G)の分離後であって、前記分散媒(A)の混合前に有機溶媒(I)を前記凝集体(G)に添加する絶縁膜改質用組成物である。   In a preferred embodiment, the composition for insulating film modification is the method of adding the organic solvent (I) to the aggregate (G) after the separation of the aggregate (G) and before mixing the dispersion medium (A). It is.

好ましい実施態様は、アルカリ金属イオン含有量が、200ppm(質量基準)以下である絶縁膜改質用組成物である。   A preferred embodiment is an insulating film modifying composition having an alkali metal ion content of 200 ppm (mass basis) or less.

好ましい実施態様は、アニオン性乳化剤含有量が、2000ppm(質量基準)以下である絶縁膜改質用組成物である。   A preferred embodiment is an insulating film modifying composition having an anionic emulsifier content of 2000 ppm (mass basis) or less.

好ましい実施態様は、前記分散媒が熱硬化性樹脂、重合性モノマー、重合性オリゴマー及び有機溶媒からなる群より選択される1種以上である絶縁膜改質用組成物である。   A preferred embodiment is an insulating film modifying composition in which the dispersion medium is at least one selected from the group consisting of a thermosetting resin, a polymerizable monomer, a polymerizable oligomer, and an organic solvent.

好ましい実施態様は、前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂からなる群より選択される1種以上であり、
前記重合性モノマーが、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上であり、
前記重合性オリゴマーが、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーである絶縁膜改質用組成物である。
In a preferred embodiment, the thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, and a polyurethane resin,
The polymerizable monomer is at least one selected from the group consisting of monofunctional acrylates, polyfunctional acrylates, epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds;
The polymerizable oligomer is composed of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, and vinyl ether compound. The insulating film modifying composition is one or more oligomers selected from the group.

本発明には、絶縁膜改質用組成物と、マトリックス化し得る成分とを含有する絶縁膜用硬化性樹脂組成物、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)と、マトリックス化し得る成分とを含有し、該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)がマトリックス化し得る成分中に1次粒子の状態で分散していることを特徴とする絶縁膜用硬化性樹脂組成物が包含される。 In the present invention, a curable resin composition for an insulating film containing a composition for modifying an insulating film and a component that can be matrixed, a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer, and a component that can be matrixed And a curable resin composition for insulating films, wherein at least 70% (based on the number ) of the core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles in a component capable of forming a matrix. Is done.

好ましい実施態様は、アルカリ金属イオン含有量が、30ppm(質量基準)以下である絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film having an alkali metal ion content of 30 ppm (mass basis) or less.

好ましい実施態様は、アニオン性乳化剤含有量が、100ppm(質量基準)以下である絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film having an anionic emulsifier content of 100 ppm (mass basis) or less.

好ましい実施態様は、前記マトリックス化し得る成分が、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーからなる群より選択される1種以上である絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   In a preferred embodiment, the component capable of forming a matrix is selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, a polyurethane resin, a polymerizable monomer, and a polymerizable oligomer. It is the curable resin composition for insulating films which is a seed or more.

好ましい実施態様は、前記重合性モノマーが、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上である絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   In a preferred embodiment, the polymerizable monomer is at least one selected from the group consisting of monofunctional acrylates, polyfunctional acrylates, epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds. It is.

好ましい実施態様は、前記重合性オリゴマーが、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーである絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   In a preferred embodiment, the polymerizable oligomer is an epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, And a curable resin composition for an insulating film, which is one or more oligomers selected from the group consisting of vinyl ether compounds.

好ましい実施態様は、前記重合性オリゴマーがカルボキシ基又は水酸基とエチレン性不飽和基とを有する光重合性プレポリマーを含む絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film, wherein the polymerizable oligomer includes a photopolymerizable prepolymer having a carboxy group or a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group.

好ましい実施態様は、前記重合性モノマー及び前記重合性オリゴマーの重合物がアルカリ可溶性樹脂を含む絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film, in which a polymer of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer contains an alkali-soluble resin.

好ましい実施態様は、前記重合性モノマー及び前記重合性オリゴマーの重合物がアルカリ不溶性樹脂を含む絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film, in which a polymer of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer contains an alkali-insoluble resin.

好ましい実施態様は、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ材料、プリプレグ材料、又はフレキシブルプリント基板用接着剤に使用される絶縁膜用硬化性樹脂組成物である。   A preferred embodiment is a curable resin composition for an insulating film used for a solder resist material, a build-up material, a prepreg material, or an adhesive for a flexible printed circuit board.

本発明の絶縁膜改質用組成物は、コアシェルポリマーが予め一次粒子の状態で安定に分散し、好ましくは夾雑物が有意に低減された硬化性樹脂組成物とすることができる為、クラック発生の抑制、高絶縁性、フォトリソグラフ法やレーザー加工法により形成するビア等の微細形状物の形成性を達成することができる。   The composition for modifying an insulating film of the present invention is a curable resin composition in which the core-shell polymer is stably dispersed in the state of primary particles in advance, and preferably contains a significantly reduced amount of impurities. Suppression, high insulation, and formability of fine shapes such as vias formed by a photolithographic method or a laser processing method can be achieved.

1.絶縁膜改質用組成物
本発明の絶縁膜改質用組成物は、分散媒(A)と、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)とを含み、該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)が分散媒(A)中に1次粒子の状態で分散していることを特徴とする。このような改質用組成物は、弾性に優れたコアシェルポリマー(B)を含有しているため、絶縁膜用の硬化性樹脂組成物に配合することで、該樹脂組成物の硬化物の靱性を改善できる。また本発明の改質用組成物は、前記コアシェルポリマー(B)が一次粒子の状態で分散しているため、改質後の絶縁膜が熱サイクルを受けた時でも、そのクラックの発生も低減できる。さらには該樹脂組成物を感光性材料として使用した時でも、マスク形状との相同性(マスクエラーファクターなど)を高めることができ、良好な形状のビアホールの形成が可能となる。
1. Composition for insulating film modification The composition for insulating film modification of the present invention comprises a dispersion medium (A) and a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer, and at least the core-shell polymer (B). 70% (based on the number) is dispersed in the state of primary particles in the dispersion medium (A). Since such a modifying composition contains the core-shell polymer (B) excellent in elasticity, the toughness of the cured product of the resin composition can be obtained by blending with the curable resin composition for the insulating film. Can be improved. In the modifying composition of the present invention, since the core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles, the occurrence of cracks is reduced even when the modified insulating film is subjected to a thermal cycle. it can. Furthermore, even when the resin composition is used as a photosensitive material, homology (mask error factor, etc.) with the mask shape can be increased, and a via hole having a good shape can be formed.

本願明細書において、一次粒子は、個々の粒子が独立して分散媒(或いは組成物、それらの硬化物)全体に亘って分散しているものを指す。一次粒子は、コアシェルポリマーを含む組成物を硬化し、得られた硬化物の切片を電子顕微鏡で観察することができる。
例えば、一次粒子の分散率は、所定の面積当たりの一次粒子の個数及び一次粒子以外の凝集粒子の個数を算出し、{一次粒子の個数/(一次粒子の個数+一次粒子以外の凝集粒子の個数)}×100から求めることができる。
In the present specification, primary particles refer to particles in which individual particles are independently dispersed throughout the dispersion medium (or composition, cured product thereof). The primary particles cure the composition containing the core-shell polymer, and a section of the obtained cured product can be observed with an electron microscope.
For example, the dispersion ratio of primary particles is calculated by calculating the number of primary particles per predetermined area and the number of aggregated particles other than primary particles, {number of primary particles / (number of primary particles + number of aggregated particles other than primary particles). Number)} × 100.

特に、前記コアシェルポリマー(B)の80%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散していることが好ましく、より好ましくは前記コアシェルポリマーの85%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散しており、さらに好ましくは前記コアシェルポリマーの90%(個数基準)以上が、1次分散の状態で分散している。コアシェルポリマーは、絶縁膜改質用組成物中で70%(個数基準)以上が1次粒子の状態で分散していれば、その上限は特に限定されない。70%(個数基準)未満であると、凝集粒子の割合が多くなり、物性の改善が見込めない虞がある。 In particular, 80% (number basis) or more of the core-shell polymer (B) is preferably dispersed in the form of primary particles, and more preferably 85% (number basis) or more of the core-shell polymer is primary. More preferably, 90% (number basis) or more of the core-shell polymer is dispersed in a primary dispersion state. The upper limit of the core-shell polymer is not particularly limited as long as 70% (number basis) or more is dispersed in the state of primary particles in the insulating film modifying composition. If it is less than 70% (number basis) , the proportion of aggregated particles increases, and physical properties may not be improved.

コアシェルポリマー(B)は、少なくとも1種のゴム状弾性体層を有するコアシェルポリマーであり、ゴム弾性を有するポリマーを主成分とするポリマーからなるゴム粒子コア(B−1)と、これにグラフト重合されたポリマー成分からなるシェル層(B−2)より構成されるポリマーであることが好ましい。   The core-shell polymer (B) is a core-shell polymer having at least one rubber-like elastic layer, and a rubber particle core (B-1) made of a polymer mainly composed of a polymer having rubber elasticity, and graft polymerization thereon. It is preferable that it is a polymer comprised from the shell layer (B-2) which consists of the polymer component made.

前記ゴム粒子コア(B−1)を構成するポリマーは架橋されており、該ポリマーの良溶媒に対して膨潤しうるが実質的には溶解せず、分散媒(例えばエポキシ樹脂等の硬化性樹脂)に不溶であることが好ましい。前記コア部分のゲル含量は60質量%以上であることが好ましく、より好ましくは80質量%以上、特に好ましくは90質量%以上、最も好ましくは95質量%以上である。前記コア部分を構成するポリマーは、ゴムとしての性質を有することが好ましいことから、ガラス転移温度(Tg)が0℃以下であることが好ましく、−10℃以下であることがより好ましい。   The polymer constituting the rubber particle core (B-1) is cross-linked and can swell in a good solvent of the polymer but does not substantially dissolve and is a dispersion medium (for example, a curable resin such as an epoxy resin). It is preferable that it is insoluble. The gel content of the core part is preferably 60% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more, and most preferably 95% by mass or more. Since the polymer constituting the core portion preferably has rubber properties, the glass transition temperature (Tg) is preferably 0 ° C. or lower, and more preferably −10 ° C. or lower.

ゴム粒子コア(B−1)を構成するポリマーは、ジエン系ゴム、アクリル系ゴム、あるいはポリシロキサンゴム、またはこれらを併用することが好ましい。
ジエン系ゴムおよび/またはアクリル系ゴムは、ジエン系単量体(共役ジエン系単量体)および(メタ)アクリル酸エステル系単量体からなる群より選ばれる少なくとも1種以上の単量体(X)50質量%以上100質量%以下、および他の共重合可能なビニル単量体(Y)0質量%以上50質量%以下から構成されるゴム弾性体であることが好ましい。単量体(X)が50質量%未満の場合には、靭性が低下する傾向にある。
単量体(X)は、より好ましくは60質量%以上、さらに好ましくは65質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上であり、より好ましくは95質量%以下又は90質量%以下である。
単量体(Y)は、より好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上、さらにより好ましくは15質量%以上であり、より好ましくは45質量%以下、さらに好ましくは40質量%以下である。
なお、本発明において(メタ)アクリルとは、アクリル及び/又はメタクリルを意味するものとする。
The polymer constituting the rubber particle core (B-1) is preferably a diene rubber, an acrylic rubber, a polysiloxane rubber, or a combination thereof.
The diene rubber and / or the acrylic rubber is at least one monomer selected from the group consisting of a diene monomer (conjugated diene monomer) and a (meth) acrylic acid ester monomer ( X) It is preferably a rubber elastic body composed of 50% by mass or more and 100% by mass or less and other copolymerizable vinyl monomer (Y) by 0% by mass or more and 50% by mass or less. When the monomer (X) is less than 50% by mass, the toughness tends to decrease.
The monomer (X) is more preferably 60% by mass or more, further preferably 65% by mass or more, further preferably 70% by mass or more, and more preferably 95% by mass or less or 90% by mass or less.
The monomer (Y) is more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, still more preferably 15% by mass or more, more preferably 45% by mass or less, and further preferably 40% by mass or less. It is.
In the present invention, (meth) acryl means acryl and / or methacryl.

前記ゴム弾性体を構成する共役ジエン系単量体としては、例えばブタジエン、イソプレン、クロロプレン等を挙げることができるが、ブタジエンが特に好ましい。(メタ)アクリル酸エステル系単量体としては、例えばブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレートなどが挙げられるが、ブチルアクリレートと2−エチルヘキシルアクリレートが特に好ましい。これらは1種類あるいは組み合わせて使用できる。   Examples of the conjugated diene monomer constituting the rubber elastic body include butadiene, isoprene, chloroprene and the like, and butadiene is particularly preferable. Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer include butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, and the like, but butyl acrylate and 2-ethylhexyl acrylate are particularly preferable. These can be used alone or in combination.

さらに、前記ゴム弾性体は、共役ジエン系単量体または(メタ)アクリル酸エステル系単量体の他に、これらと共重合可能なビニル単量体との共重合体であってもよい。共役ジエン系単量体または(メタ)アクリル酸エステル系単量体と共重合可能なビニル単量体としては、芳香族ビニル系単量体、シアン化ビニル系単量体からなる群より選ばれるビニル単量体が例示できる。芳香族ビニル系単量体としては、例えばスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン等が使用可能であり、シアン化ビニル系単量体としては、例えば(メタ)アクリロニトリル若しくは置換(メタ)アクリロニトリル等が使用可能である。これらは1種類あるいは組み合わせて使用できる。   Further, the rubber elastic body may be a copolymer of a conjugated diene monomer or a (meth) acrylic acid ester monomer and a vinyl monomer copolymerizable therewith. The vinyl monomer copolymerizable with the conjugated diene monomer or the (meth) acrylate monomer is selected from the group consisting of aromatic vinyl monomers and vinyl cyanide monomers. A vinyl monomer can be illustrated. As the aromatic vinyl monomer, for example, styrene, α-methylstyrene, vinyl naphthalene and the like can be used. As the vinyl cyanide monomer, for example, (meth) acrylonitrile or substituted (meth) acrylonitrile is used. It can be used. These can be used alone or in combination.

また、前記ゴム弾性体を構成する成分として、架橋度を調節するために、多官能性単量体を含んでいてもよい。多官能性単量体としては、ジビニルベンゼン、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、(イソ)シアヌル酸トリアリル、(メタ)アクリル酸アリル、イタコン酸ジアリル、フタル酸ジアリル等を例示できる。これらの使用量は、例えばコア部(B−1)の全質量に対して10質量%以下、好ましくは5質量%以下、更に好ましくは3質量%以下である。多官能性単量体の使用量が10質量%を超えると、ゴム粒子コア(B−1)による、靭性が低下する傾向がある。   Further, as a component constituting the rubber elastic body, a polyfunctional monomer may be included in order to adjust the degree of crosslinking. Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, butanediol di (meth) acrylate, triallyl (iso) cyanurate, allyl (meth) acrylate, diallyl itaconate, diallyl phthalate and the like. These usage-amounts are 10 mass% or less with respect to the total mass of a core part (B-1), for example, Preferably it is 5 mass% or less, More preferably, it is 3 mass% or less. When the usage-amount of a polyfunctional monomer exceeds 10 mass%, there exists a tendency for the toughness by a rubber particle core (B-1) to fall.

また、前記ゴム弾性体を構成するポリマーの分子量や架橋度を調節するために、連鎖移動剤を使用してもよい。具体的には炭素数5〜20のアルキルメルカプタン等が例示できる。これらの使用量はコア部(B−1)の全質量に対して、好ましくは5質量%以下、より好ましくは3質量%以下である。連鎖移動剤の使用量が5質量%を超えると、ゴム粒子コア(B−1)の未架橋成分の量が増加し、分散媒が硬化性樹脂である場合耐熱性、粘度等に悪影響を与える場合がある。   A chain transfer agent may be used to adjust the molecular weight and the degree of crosslinking of the polymer constituting the rubber elastic body. Specific examples include alkyl mercaptans having 5 to 20 carbon atoms. These usage-amounts are 5 mass% or less preferably with respect to the total mass of a core part (B-1), More preferably, it is 3 mass% or less. When the amount of the chain transfer agent used exceeds 5% by mass, the amount of the uncrosslinked component of the rubber particle core (B-1) increases, and when the dispersion medium is a curable resin, the heat resistance, viscosity, etc. are adversely affected. There is a case.

さらに、ゴム粒子コア(B−1)として、前記ゴム弾性体に替えて、またはこれらと併用して、ポリシロキサンゴムを使用することも可能である。ゴム粒子コア(B−1)としてポリシロキサンゴムを使用する場合には、例えばジメチルシリルオキシ、メチルフェニルシリルオキシ、ジフェニルシリルオキシ等の、アルキル或いはアリール2置換シリルオキシ単位から構成されるポリシロキサンゴムが使用可能である。また、このようなポリシロキサンゴムを使用する場合には、必要に応じて、(i)重合時に多官能性のアルコキシシラン化合物を一部併用する方法、或いは(ii)ビニル反応性基、メルカプト基等の反応性基を導入してからその後ビニル重合性の単量体或いは有機過酸化物等を添加してラジカル反応させる方法、或いは(iii)ポリシロキサンゴムの重合後に多官能ビニル化合物やメルカプト基含有化合物等の架橋性単量体を添加して重合する方法等により、架橋構造を導入することが好ましい。   Furthermore, it is also possible to use a polysiloxane rubber as the rubber particle core (B-1) instead of the rubber elastic body or in combination with them. When polysiloxane rubber is used as the rubber particle core (B-1), for example, polysiloxane rubber composed of alkyl or aryl disubstituted silyloxy units such as dimethylsilyloxy, methylphenylsilyloxy, diphenylsilyloxy, etc. It can be used. When such a polysiloxane rubber is used, if necessary, (i) a method in which a polyfunctional alkoxysilane compound is partially used at the time of polymerization, or (ii) a vinyl reactive group or a mercapto group. A method in which a reactive group such as a vinyl group is introduced and then a vinyl polymerizable monomer or an organic peroxide is added to cause a radical reaction, or (iii) a polyfunctional vinyl compound or a mercapto group after polymerization of a polysiloxane rubber It is preferable to introduce a cross-linked structure by a method of polymerizing by adding a cross-linkable monomer such as a containing compound.

前記シェル層(B−2)を構成するポリマーは、エポキシ樹脂等の硬化性樹脂とコアシェルポリマーの親和性の点から、ゴム粒子コア(B−1)を構成するポリマーにグラフト重合されており、実質的にゴム粒子コア(B−1)を構成するポリマーと結合していることが好ましい。シェル層(B−2)を構成するポリマーのうち、好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上がゴム粒子コア(B−1)に結合していることが望ましい。   The polymer constituting the shell layer (B-2) is graft-polymerized to the polymer constituting the rubber particle core (B-1) from the viewpoint of the affinity between the curable resin such as an epoxy resin and the core-shell polymer. It is preferably bonded to the polymer constituting the rubber particle core (B-1) substantially. Of the polymers constituting the shell layer (B-2), preferably 70% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and still more preferably 90% by mass or more are bonded to the rubber particle core (B-1). It is desirable.

シェル層(B−2)は、コアシェルポリマー(B)が絶縁膜改質用組成物中で安定に一次粒子の状態で分散する為、分散媒(A)に対する親和性を与えてもよく、シェル層(B−2)は、後述する有機溶媒(I)及び分散媒(A)に対して膨潤性、相溶性もしくは親和性を有するものが好ましい。   The shell layer (B-2) may have an affinity for the dispersion medium (A) because the core-shell polymer (B) is stably dispersed in the state of primary particles in the insulating film modifying composition. The layer (B-2) preferably has swelling, compatibility or affinity for the organic solvent (I) and the dispersion medium (A) described later.

また、シェル層(B−2)は、必要に応じて、エポキシ樹脂等の分散媒(A)もしくは使用時に配合される硬化剤との反応性を有することが好ましく、これによりエポキシ樹脂等の分散媒(A)が硬化剤と反応して硬化する条件下において、これらと化学反応し結合を生成できる機能を有することにより、硬化条件下にコアシェルポリマー同士が再凝集し分散状態が悪化することを効果的に抑制することができる。   Moreover, it is preferable that the shell layer (B-2) has reactivity with a dispersion medium (A) such as an epoxy resin or a curing agent blended at the time of use, if necessary, thereby dispersing the epoxy resin or the like. Under the condition that the medium (A) reacts with the curing agent and cures, it has the function of chemically reacting with these to form a bond, so that the core-shell polymers are reaggregated under the curing condition and the dispersion state is deteriorated. It can be effectively suppressed.

シェル層(B−2)を構成するポリマーは、(メタ)アクリル酸エステル系単量体、芳香族ビニル系単量体、シアン化ビニル系単量体、不飽和酸誘導体、(メタ)アクリルアミド誘導体、およびマレイミド誘導体より選ばれる1種以上の成分を共重合して得られる(共)重合体が好ましい。さらに、特にシェル層(B−2)にエポキシ樹脂等の分散媒硬化時の化学反応性を求める場合には、(メタ)アクリル酸エステル系単量体、芳香族ビニル系単量体、シアン化ビニル系単量体、不飽和酸誘導体、(メタ)アクリルアミド誘導体、またはマレイミド誘導体に加えて、エポキシ基、カルボキシル基、水酸基、及び炭素−炭素2重結合から選ばれる官能基を含有する単量体を1種類以上共重合して得られる共重合体を用いることがより好ましい。これらの官能基は、後述するエポキシ樹脂等の分散媒(A)あるいはその硬化剤、硬化触媒等との反応性を有していてもよい。   The polymer constituting the shell layer (B-2) is a (meth) acrylic acid ester monomer, an aromatic vinyl monomer, a vinyl cyanide monomer, an unsaturated acid derivative, or a (meth) acrylamide derivative. And (co) polymers obtained by copolymerizing at least one component selected from maleimide derivatives. Furthermore, in particular, when the chemical reactivity of the shell layer (B-2) when curing a dispersion medium such as an epoxy resin is required, a (meth) acrylic acid ester monomer, an aromatic vinyl monomer, cyanide is used. Monomers containing functional groups selected from epoxy groups, carboxyl groups, hydroxyl groups, and carbon-carbon double bonds in addition to vinyl monomers, unsaturated acid derivatives, (meth) acrylamide derivatives, or maleimide derivatives It is more preferable to use a copolymer obtained by copolymerizing at least one kind. These functional groups may have reactivity with a dispersion medium (A) such as an epoxy resin, which will be described later, or a curing agent or curing catalyst thereof.

前記の(メタ)アクリル酸エステル系単量体としては、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステルがあげられる。芳香族ビニル系単量体としては、スチレン、α−メチルスチレン、アルキル置換スチレン、さらにブロモスチレン、クロロスチレン等のハロゲン置換スチレン類などがあげられる。また、シアン化ビニル系単量体としては、(メタ)アクリロニトリルおよび置換(メタ)アクリロニトリルが例示される。また、反応性を有する官能基を含有する単量体としては、例えば反応性側鎖を有する(メタ)アクリル酸エステル類として、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2−アミノエチル、(メタ)アクリル酸グリシジルなど;反応性基を含有するビニルエーテルとして、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテルなどがあげられる。不飽和カルボン酸誘導体として、例えば(メタ)アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、無水マレイン酸などがあげられる。(メタ)アクリルアミド誘導体としては、(メタ)アクリルアミド(N−置換物を含む)などがあげられる。マレイミド誘導体としては、マレイン酸イミド(N−置換物を含む)があげられる。   Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer include (meth) such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate. Examples thereof include alkyl acrylates. Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, α-methylstyrene, alkyl-substituted styrene, and halogen-substituted styrenes such as bromostyrene and chlorostyrene. Examples of the vinyl cyanide monomer include (meth) acrylonitrile and substituted (meth) acrylonitrile. Moreover, as a monomer containing the functional group which has reactivity, (meth) acrylic acid ester which has a reactive side chain, for example, (meth) acrylic acid 2-hydroxyethyl, (meth) acrylic acid 2- Aminoethyl, glycidyl (meth) acrylate and the like; Examples of the vinyl ether containing a reactive group include glycidyl vinyl ether and allyl vinyl ether. Examples of the unsaturated carboxylic acid derivative include (meth) acrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic anhydride and the like. Examples of the (meth) acrylamide derivative include (meth) acrylamide (including N-substituted product). Examples of maleimide derivatives include maleic imide (including N-substituents).

本発明では、例えば、芳香族ビニル系単量体(特にスチレン)0〜50質量%(好ましくは5〜40質量%)、シアン化ビニル系単量体(特にアクリロニトリル)0〜50質量%(好ましくは1〜30質量%、より好ましくは10〜25質量%)、(メタ)アクリル酸エステル系単量体(特にメタクリル酸メチル)0〜50質量%(好ましくは5〜45質量%)、反応性を有する官能基を含有する単量体(特にメタクリル酸グリシジル)0〜50質量%(好ましくは5〜30質量%、より好ましくは10〜25質量%)を組み合わせたシェル層形成用モノマー(合計100質量%)のポリマーであるシェル層とすることが好ましい。   In the present invention, for example, aromatic vinyl monomer (especially styrene) 0 to 50% by mass (preferably 5 to 40% by mass), vinyl cyanide monomer (especially acrylonitrile) 0 to 50% by mass (preferably 1-30% by mass, more preferably 10-25% by mass), (meth) acrylic acid ester monomers (particularly methyl methacrylate) 0-50% by mass (preferably 5-45% by mass), reactivity Monomers for forming a shell layer in which 0 to 50% by mass (preferably 5 to 30% by mass, more preferably 10 to 25% by mass) of monomers (particularly glycidyl methacrylate) containing functional groups containing It is preferable that the shell layer be a polymer (mass%).

コアシェルポリマー(B)のゴム粒子コア(B−1)/シェル(B−2)比率(質量比)は、例えば40/60〜95/5の範囲であり、好ましくは60/40〜90/10である。(B−1)/(B−2)比率が40/60をはずれてコア(B−1)の比率が低下すると、低応力化効果が低下する傾向がある。比率が95/5をはずれてシェル(B−2)の比率が低下すると、本発明における取扱い時に凝集をきたし易く、操作性に問題が生じるとともに所望の物性が得られない場合がある。   The rubber particle core (B-1) / shell (B-2) ratio (mass ratio) of the core-shell polymer (B) is, for example, in the range of 40/60 to 95/5, preferably 60/40 to 90/10. It is. When the ratio (B-1) / (B-2) deviates from 40/60 and the ratio of the core (B-1) decreases, the stress reduction effect tends to decrease. When the ratio falls outside 95/5 and the ratio of the shell (B-2) decreases, aggregation tends to occur at the time of handling in the present invention, which may cause problems in operability and may not provide desired physical properties.

コアシェルポリマー(B)の製造は、特に制限されず、周知の方法、例えば、乳化重合、懸濁重合、マイクロサスペンジョン重合などにより製造することができる。この中でも特に、多段乳化重合による製造方法が好適である。水媒体中での乳化(分散)剤としては、具体的には、ジオクチルスルホコハク酸やドデシルベンゼンスルホン酸等に代表される様なアルキルまたはアリールスルホン酸、アルキルまたはアリールエーテルスルホン酸、ドデシル硫酸に代表されるようなアルキルまたはアリール硫酸、アルキルまたはアリールエーテル硫酸、アルキルまたはアリール置換燐酸、アルキルまたはアリールエーテル置換燐酸、ドデシルザルコシン酸に代表されるようなN−アルキルまたはアリールザルコシン酸、オレイン酸やステアリン酸等に代表されるようなアルキルまたはアリールカルボン酸、アルキルまたはアリールエーテルカルボン酸等の、各種の酸類のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩、アルキルまたはアリール置換ポリエチレングリコール等の非イオン性乳化剤或いは分散剤、ポリビニルアルコール、アルキル置換セルロース、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸誘導体等の分散剤が例示される。これらは1種類または適宜組み合わせて使用できる。   The production of the core-shell polymer (B) is not particularly limited, and can be produced by a known method such as emulsion polymerization, suspension polymerization, microsuspension polymerization and the like. Among these, the production method by multistage emulsion polymerization is particularly preferable. Specific examples of the emulsifying (dispersing) agent in the aqueous medium include alkyl or aryl sulfonic acids such as dioctyl sulfosuccinic acid and dodecyl benzene sulfonic acid, alkyl or aryl ether sulfonic acids, and dodecyl sulfuric acid. Alkyl or aryl sulfuric acid, alkyl or aryl ether sulfuric acid, alkyl or aryl ether-substituted phosphoric acid, alkyl or aryl ether-substituted phosphoric acid, N-alkyl or aryl sarcosine acid represented by dodecyl sarcosine acid, oleic acid or Alkali metal salts or ammonium salts of various acids, such as alkyl or aryl carboxylic acids, alkyl or aryl ether carboxylic acids such as stearic acid, etc. Emissions emulsifiers or dispersing agents, polyvinyl alcohol, alkyl substituted cellulose, polyvinyl pyrrolidone, dispersants such as polyacrylic acid derivatives. These can be used alone or in appropriate combination.

乳化剤は、重合安定性の観点から、好ましくはアニオン性乳化剤であり、より好ましくはアルカリ金属塩のアニオン性乳化剤、さらに好ましくはナトリウム塩及び/又はカリウム塩のアニオン性乳化剤である。   The emulsifier is preferably an anionic emulsifier from the viewpoint of polymerization stability, more preferably an anionic emulsifier of an alkali metal salt, and still more preferably an anionic emulsifier of a sodium salt and / or a potassium salt.

これら乳化(分散)剤は、本発明の好ましい実施形態の趣旨から言えば、コアシェルポリマー(B)を含む水性ラテックスの作製過程において分散安定性に支障を来さない範囲でできる限り少量を使用してもよい。あるいは、本発明の絶縁膜改質用組成物を作製する過程において、製造される分散媒の物性に影響を及ぼさない程度の残存量まで抽出除去されてもよい。この為、乳化剤(分散剤)は、水溶性を有していることがより好ましい。   These emulsifying (dispersing) agents are used in as little amount as possible within the range that does not hinder the dispersion stability in the preparation process of the aqueous latex containing the core-shell polymer (B), in the sense of the preferred embodiment of the present invention. May be. Alternatively, in the process of producing the insulating film modifying composition of the present invention, the remaining amount may be extracted and removed so as not to affect the physical properties of the produced dispersion medium. For this reason, it is more preferable that the emulsifier (dispersant) has water solubility.

本発明において使用され得るコアシェルポリマー(B)は、分散媒(A)とコアシェルポリマー(B)の合計に対して、通常1〜70質量%、好ましくは2〜60質量%、より好ましくは5〜50質量%の範囲で配合され得、絶縁膜改質用組成物となる。   The core-shell polymer (B) that can be used in the present invention is usually 1 to 70% by mass, preferably 2 to 60% by mass, more preferably 5 to 5%, based on the total of the dispersion medium (A) and the core-shell polymer (B). It can be mix | blended in 50 mass%, and becomes a composition for insulation film modification | reformation.

前記コアシェルポリマー(B)の体積平均粒子径は、コアシェルポリマー(B)を水性ラテックスの状態で安定的に得ることができるものであれば問題なく使用できるが、工業生産性の面からは、製造が容易であるという点で、10nm〜2000nmであることが好ましく、より好ましくは30nm〜1000nm、さらに好ましくは50nm〜500nmである。10nm未満または2000nm超である場合、製造が困難となり、水性ラテックスの状態で安定的に得ることができない虞がある。また、2000nm超である場合、微細な銅配線と銅配線の間に入り込んだ際に絶縁性を低下させる虞がある。体積平均粒子径は、例えばマイクロトラックUPA(日機装社製)を用いて測定することができる。   The volume average particle diameter of the core-shell polymer (B) can be used without any problem as long as the core-shell polymer (B) can be stably obtained in the state of an aqueous latex. Is preferably 10 nm to 2000 nm, more preferably 30 nm to 1000 nm, and still more preferably 50 nm to 500 nm. If it is less than 10 nm or more than 2000 nm, the production becomes difficult, and there is a possibility that it cannot be stably obtained in the state of an aqueous latex. Moreover, when it is over 2000 nm, there is a possibility that the insulating property may be lowered when it enters between the fine copper wiring and the copper wiring. The volume average particle diameter can be measured using, for example, Microtrac UPA (manufactured by Nikkiso Co., Ltd.).

前記コアシェルポリマー(B)の一次粒子の分散性は、以下の手段を採用することにより達成されることが好ましい。
すなわち、本発明の絶縁膜改質用組成物は、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)を含有する水性ラテックスを、有機溶媒(I)(以下、凝集体形成用有機溶媒と称する場合がある)と水とに接触させ、有機溶媒(I)を含有しつつ水相中に凝集するコアシェルポリマー(B)の凝集体(G)を生成させ、この凝集体(G)を液相から分離し、分散媒(A)と混合することによって得られることが好ましい。水性ラテックスを有機溶媒に接触させることで、コアシェルポリマー(B)を凝集させることが可能である。またこの時に水を共存させておくことで、水性ラテックス中の水溶性の夾雑物を水相側に除去できる。そして有機溶媒相を回収する事で、凝集体(G)を分離取得できる。なお前記水溶性の夾雑物とは、水性ラテックスの調製に際して使用された乳化剤若しくは分散剤、或いは水溶性を有する重合開始剤、還元剤等の電解質あるいは水溶性物質などを指し、特にアニオン性乳化剤やアルカリ金属イオンなどが代表的である。
The dispersibility of the primary particles of the core-shell polymer (B) is preferably achieved by employing the following means.
That is, in the composition for insulating film modification of the present invention, the aqueous latex containing the core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer is referred to as an organic solvent (I) (hereinafter referred to as an aggregate-forming organic solvent). And an aggregate (G) of the core-shell polymer (B) that contains the organic solvent (I) and aggregates in the aqueous phase while containing the organic solvent (I). It is preferably obtained by separating and mixing with the dispersion medium (A). The core-shell polymer (B) can be aggregated by bringing the aqueous latex into contact with an organic solvent. In addition, by coexisting water at this time, water-soluble impurities in the aqueous latex can be removed to the aqueous phase side. The aggregate (G) can be separated and acquired by collecting the organic solvent phase. The water-soluble contaminant refers to an emulsifier or dispersant used in the preparation of the aqueous latex, an electrolyte or a water-soluble substance such as a water-soluble polymerization initiator or a reducing agent, and particularly an anionic emulsifier or Alkali metal ions are typical.

ここでコアシェルポリマー(B)を含有する水性ラテックスと混合する特定の有機溶媒(I)としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、エタノール、(イソ)プロパノール、ブタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類等から選ばれる1種以上の有機溶媒或いはその混合物が例示され、特に20℃における水に対する溶解度が5質量%以上、40質量%以下を満たすものが好ましく例示され得る。有機溶媒(I)の水に対する溶解度が5質量%未満である場合にはコアシェルポリマー(B)を含有する水性ラテックスとの混合がやや困難になる傾向にあり、逆に40質量%を越える場合には、水溶性電解質或いは水性ラテックスと非混合性の有機溶剤を添加した後に水相を効率的に分離除去することが次第に難しくなる傾向にある。なお、分散体(E)を調製する際の凝集体(G)に添加する第2の有機溶媒(II)は、必ずしもコアシェルポリマー(B)の水性ラテックスと混合する特定の有機溶媒(I)(凝集体形成用有機溶媒)と同種のものを用いる必要はない。   Here, the specific organic solvent (I) mixed with the aqueous latex containing the core-shell polymer (B) includes, for example, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, Ketones such as methyl isobutyl ketone, alcohols such as ethanol, (iso) propanol and butanol, ethers such as tetrahydrofuran, tetrahydropyran, dioxane and diethyl ether, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene, methylene chloride Examples thereof include one or more organic solvents selected from halogenated hydrocarbons such as chloroform or a mixture thereof, and those having a solubility in water at 20 ° C. of 5% by mass to 40% by mass are particularly preferable. obtain. When the solubility of the organic solvent (I) in water is less than 5% by mass, mixing with the aqueous latex containing the core-shell polymer (B) tends to be somewhat difficult, and conversely when it exceeds 40% by mass. However, after adding a water-soluble electrolyte or an aqueous latex and an immiscible organic solvent, it tends to become increasingly difficult to efficiently separate and remove the aqueous phase. The second organic solvent (II) added to the aggregate (G) when preparing the dispersion (E) is not necessarily limited to the specific organic solvent (I) (which is mixed with the aqueous latex of the core-shell polymer (B) ( It is not necessary to use the same kind of organic solvent for forming aggregates).

本発明では、前記凝集体(G)の分離後であって、前記分散媒(A)の混合前に第2の有機溶媒(II)を前記凝集体(G)に添加することが好ましい。この分散方法は、種々の分散媒においてコアシェルポリマーを一次分散させる点で有利である。この有機溶媒(II)としては、前述の凝集体形成用有機溶媒(I)と同様のものが使用できる。
またこの第2の有機溶媒(II)添加後に、コアシェルポリマー(B)を水洗してもよい。水洗の回数は、1回でもよく、好ましくは2回以上である。
In the present invention, it is preferable to add the second organic solvent (II) to the aggregate (G) after the separation of the aggregate (G) and before mixing of the dispersion medium (A). This dispersion method is advantageous in that the core-shell polymer is primarily dispersed in various dispersion media. As the organic solvent (II), the same organic solvent (I) for forming aggregates as described above can be used.
Further, the core-shell polymer (B) may be washed with water after the addition of the second organic solvent (II). The number of times of washing with water may be one, preferably two or more.

アルカリ金属イオン含有量は、絶縁膜改質用組成物中に200ppm(質量基準)以下であることが好ましく、より好ましくは100ppm(質量基準)以下、さらに好ましくは50ppm(質量基準)以下である。アルカリ金属イオン量が200ppm超であると、絶縁性が低下する虞がある。アルカリ金属イオン含有量の下限は、0ppmに近い程好ましい。   The alkali metal ion content is preferably 200 ppm (mass basis) or less, more preferably 100 ppm (mass basis) or less, and further preferably 50 ppm (mass basis) or less in the composition for insulating film modification. If the amount of alkali metal ions is more than 200 ppm, the insulating property may be lowered. The lower limit of the alkali metal ion content is preferably closer to 0 ppm.

アニオン性乳化剤含有量は、2000ppm(質量基準)以下であることが好ましく、より好ましくは1000ppm(質量基準)以下、さらに好ましくは500ppm(質量基準)以下である。アニオン性乳化剤含有量が2000ppm超であると、アルカリ金属イオンなどの夾雑物が残存することになり、絶縁性が低下する虞がある。   The anionic emulsifier content is preferably 2000 ppm (mass basis) or less, more preferably 1000 ppm (mass basis) or less, and still more preferably 500 ppm (mass basis) or less. If the content of the anionic emulsifier exceeds 2000 ppm, impurities such as alkali metal ions remain, and there is a possibility that the insulating property is lowered.

前記分散媒には、コアシェルポリマー(B)を分散可能な種々の液体が使用できる。該分散媒は、溶媒(特に有機溶媒(III))などの非反応性分散媒に限られず、後述する絶縁膜のマトリックス形成材としても使用可能な反応性分散媒であってもよい。この様な反応性分散媒には、熱硬化性樹脂、重合性モノマー、重合性オリゴマーなどが含まれる。これら熱硬化性樹脂、重合性モノマー、重合性オリゴマー及び有機溶媒(III)は、1種を用いてもよく、2種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。前記反応性分散媒は、熱硬化、光重合などの配合対象となる絶縁膜用硬化性樹脂組成物の用途乃至はマトリックス成分に応じて選択してもよく、マトリックス成分と分散媒とが同じであってもよい。
分散媒が反応性分散媒(熱硬化性樹脂、重合性モノマー、重合性オリゴマーなど)の場合、前記凝集体形成用有機溶媒(I)又は添加有機溶媒(II)とコアシェルポリマー(B)にまず反応性分散媒を混合し、次いで有機溶媒(I)又は(II)を留去してもよい。
以上のようにして得られる絶縁膜改質用組成物では、分散媒の含有量が、絶縁膜改質用組成物(有機溶媒は含まない)100質量%に対し、例えば30〜99質量%、好ましくは40〜98質量%、より好ましくは50〜95質量%である。
As the dispersion medium, various liquids capable of dispersing the core-shell polymer (B) can be used. The dispersion medium is not limited to a non-reactive dispersion medium such as a solvent (particularly an organic solvent (III)), and may be a reactive dispersion medium that can also be used as a matrix forming material for an insulating film described later. Such reactive dispersion media include thermosetting resins, polymerizable monomers, polymerizable oligomers, and the like. These thermosetting resins, polymerizable monomers, polymerizable oligomers, and organic solvents (III) may be used singly or in appropriate combination of two or more. The reactive dispersion medium may be selected according to the use or matrix component of the insulating film curable resin composition to be blended such as thermosetting and photopolymerization, and the matrix component and the dispersion medium are the same. There may be.
When the dispersion medium is a reactive dispersion medium (thermosetting resin, polymerizable monomer, polymerizable oligomer, etc.), the aggregate-forming organic solvent (I) or added organic solvent (II) and the core-shell polymer (B) The reactive dispersion medium may be mixed, and then the organic solvent (I) or (II) may be distilled off.
In the insulating film modifying composition obtained as described above, the content of the dispersion medium is, for example, 30 to 99% by mass with respect to 100% by mass of the insulating film modifying composition (not including the organic solvent). Preferably it is 40-98 mass%, More preferably, it is 50-95 mass%.

分散媒として使用される有機溶媒(III)としては、前述の凝集体形成用有機溶媒(I)と同じ範囲から適宜選択して使用できる。   The organic solvent (III) used as the dispersion medium can be appropriately selected and used from the same range as the above-mentioned aggregate-forming organic solvent (I).

前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂からなる群より選択される1種以上であることが好ましい。   The thermosetting resin is preferably at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, and a polyurethane resin.

前記エポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する化合物(多価エポキシ化合物)を重合した樹脂であり、例えば、フェノール類、ビフェノール類或いはナフトール類をアルデヒド類と縮合して得られるノボラック樹脂をグリシジルエーテル化したフェノールノボラック型エポキシ樹脂又はクレゾールノボラック型エポキシ樹脂;2,2’,6,6’−テトラメチルビフェノールジグリシジルエーテル等のビフェニル型エポキシ樹脂;ビフェノール、芳香核置換ビフェノール類、ビスフェノールA、F、S、トリメチロールプロパン等の多価フェノール類又は多価アルコール類のポリグリシジルエーテル或いはその縮合物;或いは1分子中にシクロオレフィンオキシド構造骨格を含有する脂環式エポキシ樹脂等が幅広く使用可能である。
これらのなかでも、エポキシ樹脂が、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、1分子中にシクロオレフィンオキシド構造骨格を含有する脂環式エポキシ樹脂から選ばれる1種以上のエポキシ樹脂を、分散媒(A)としてのエポキシ樹脂の全量に対して50質量%以上含有することが好ましい。
The epoxy resin is a resin obtained by polymerizing a compound (polyvalent epoxy compound) having two or more epoxy groups (oxirane rings) in one molecule. For example, phenols, biphenols or naphthols are condensed with aldehydes. Phenol novolac epoxy resin or cresol novolac epoxy resin obtained by glycidyl etherification of the novolak resin obtained in this manner; biphenyl epoxy resin such as 2,2 ′, 6,6′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether; biphenol, aromatic nucleus Substituted biphenols, polyphenols such as bisphenol A, F, S, trimethylolpropane or polyglycidyl ethers of polyhydric alcohols or condensates thereof; or alicyclic compounds containing a cycloolefin oxide structure skeleton in one molecule Epoxy resin etc. Widely available.
Among these, the epoxy resin is selected from a phenol novolak type epoxy resin, a cresol novolak type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a bisphenol type epoxy resin, and an alicyclic epoxy resin containing a cycloolefin oxide structure skeleton in one molecule. It is preferable to contain 50% by mass or more of the one or more epoxy resins to be added to the total amount of the epoxy resin as the dispersion medium (A).

エポキシ樹脂は、上記以外に、DGBEA型、ビスフェノールAノボラック型、ハロゲン化ビスフェノールA型、ハロゲン化ノボラック型の各エポキシ樹脂、グリシジルアミン型(アミノフェノールやキシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン等から誘導されるものを含む)、トリグリシジルイソシアヌレート(TGIC)等の他官能エポキシの他、臭素化ビスフェノールA型エポキシを使用できる。   In addition to the above, the epoxy resin is DGBEA type, bisphenol A novolak type, halogenated bisphenol A type, halogenated novolak type epoxy resin, glycidylamine type (derived from aminophenol, xylylenediamine, diaminodiphenylmethane, etc.) In addition to other functional epoxy such as triglycidyl isocyanurate (TGIC), brominated bisphenol A type epoxy can be used.

エポキシ樹脂には、反応性希釈剤としてモノエポキシド、例えば、脂肪族グリシジルエーテル、例えばブチルグリシジルエーテル、或いはフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテルを含んでいても良い。一般的に知られているように、モノエポキシドはエポキシ樹脂であるポリエポキシド配合物の化学量論に影響を及ぼすが、この調整は硬化剤の量、或いはその他周知の方法で行われる。   The epoxy resin may contain a monoepoxide as a reactive diluent, for example, an aliphatic glycidyl ether such as butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, or cresyl glycidyl ether. As is generally known, monoepoxides affect the stoichiometry of polyepoxide blends, which are epoxy resins, but this adjustment is made by the amount of curing agent or other well-known methods.

前記不飽和ポリエステル樹脂は、例えば、多価アルコールと不飽和多価カルボン酸或いはその無水物を重縮合させて不飽和ポリエステルを得、さらに不飽和結合を有するビニルモノマーを共重合させて得られる樹脂である。   The unsaturated polyester resin is, for example, a resin obtained by polycondensation of a polyhydric alcohol and an unsaturated polyvalent carboxylic acid or anhydride thereof to obtain an unsaturated polyester, and further copolymerization with a vinyl monomer having an unsaturated bond. It is.

前記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジ−1,2プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、ネオペンチルグリコールなどの、炭素原子が2〜12個の二価アルコールが挙げられる。これらの二価アルコールは単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the polyhydric alcohol include carbon such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, diethylene glycol, di-1,2 propylene glycol, 1,4-butanediol, and neopentyl glycol. Examples thereof include dihydric alcohols having 2 to 12 atoms. These dihydric alcohols may be used alone or in combination of two or more.

前記不飽和多価カルボン酸としては、例えば、炭素原子が3〜12個の二価のカルボン酸が挙げられる。具体的には、フマル酸やマレイン酸等が挙げられる。これらの二価のカルボン酸は、単独でも用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the unsaturated polyvalent carboxylic acid include divalent carboxylic acids having 3 to 12 carbon atoms. Specific examples include fumaric acid and maleic acid. These divalent carboxylic acids may be used alone or in combination of two or more.

前記ビニルモノマーは、例えば芳香族ビニル系単量体であり、好ましくはスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレンである。   The vinyl monomer is, for example, an aromatic vinyl monomer, and is preferably styrene, α-methylstyrene, or vinylnaphthalene.

前記フェノール樹脂は、フェノール類、及びナフトール類から選ばれる1種以上と、ホルムアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物であるホルムアルデヒド類とを(共)縮合して得られる樹脂であり、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂等が例示される。   The phenol resin is a resin obtained by (co) condensation of one or more selected from phenols and naphthols and formaldehyde which is a compound having an aldehyde group such as formaldehyde, a novolac type phenol resin, Examples include resol-type phenol resins.

前記フェノール類としては、フェノール、クレゾール、ビスフェノールA、ビスフェノールF、カテコール、レゾルシノール等が挙げられる。前記ナフトール類としては、α−ナフトール、β−ナフトール等が挙げられる。   Examples of the phenols include phenol, cresol, bisphenol A, bisphenol F, catechol, and resorcinol. Examples of the naphthols include α-naphthol and β-naphthol.

前記ホルムアルデヒド類としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキシメチレン、ヘキサメチレンテトラミン、トリオキサン等が挙げられる。   Examples of the formaldehydes include formaldehyde, paraformaldehyde, trioxymethylene, hexamethylenetetramine, and trioxane.

前記シリコーン樹脂は、樹脂骨格中にシロキサン(−SiOSi−)単位を有する樹脂であればよく、ジクロロジメチルシラン、トリクロロメチルシラン、テトラクロロシラン等のシラン類を加水分解し、生成したシラノールが脱水縮合されたものであってもよく、ジアルコキシジメチルシラン、トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランなどのシラン類を加水分解し、生成したシラノールが脱水縮合されたものであってもよい。例えば、シロキサン単位のみからなるものや、構成元素がC、H、N、O、Sおよびハロゲンからなる有機骨格を含むシロキサン−有機ブロックポリマー、シロキサン−有機グラフトポリマーといったものが含まれる。   The silicone resin may be a resin having a siloxane (—SiOSi—) unit in the resin skeleton, and silanes such as dichlorodimethylsilane, trichloromethylsilane, and tetrachlorosilane are hydrolyzed, and the generated silanol is dehydrated and condensed. It may also be one obtained by hydrolyzing silanes such as dialkoxydimethylsilane, trialkoxysilane, tetraalkoxysilane and the like, and the resulting silanol being dehydrated and condensed. For example, those composed only of siloxane units, siloxane-organic block polymers having an organic skeleton composed of C, H, N, O, S and halogen as constituent elements, and siloxane-organic graft polymers are included.

前記シアナートエステル樹脂は、分子内に2個以上のシアナト基−OCN(シアン酸エステル)を有する化合物であり、たとえば、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパン、ビス(4−シアナトフェニル)エタン、2,2−ビス(3,5−ジメチル−4−シアナトフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナトフェニル)−1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン、ジシクロペンタジエン骨格を有するシアネートエステル化合物等が挙げられる。シアネートエステル化合物は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を混合して用いてもよい。   The cyanate ester resin is a compound having two or more cyanate groups —OCN (cyanate ester) in the molecule, and examples thereof include 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane and bis (4-cyanate). Anatophenyl) ethane, 2,2-bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) -1,1,1,3,3,3- Examples thereof include hexafluoropropane and a cyanate ester compound having a dicyclopentadiene skeleton. A cyanate ester compound may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.

前記ポリウレタン樹脂は、イソシアネート基を含有するポリイソシアネートと、水酸基を含有するポリオールとの縮合により生成される樹脂である。   The polyurethane resin is a resin produced by condensation of a polyisocyanate containing an isocyanate group and a polyol containing a hydroxyl group.

ポリオールは、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、2,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、2,2’−ジメチル−1,3−プロパンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,5−ペンダメチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサメチレングリコール、シクロヘキサン−1,4−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジオール、シクロヘキサン−1,4−ジメタノール、2−ブテン−1,4−ジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール等のジオール、トリメチロールプロパン等のトリオール、ペンタエリスリトール等のテトラオール、ジペンタエリスリトール等のヘキサオールが挙げられる。これらは単独で、または2種類以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the polyol include ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, 2,3-butylene glycol, 1,4-butanediol, 2,2′-dimethyl- 1,3-propanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,5-pentamethylene glycol, dipropylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexamethylene glycol, cyclohexane-1,4-diol, cyclohexane-1,4 -Diols such as diol, cyclohexane-1,4-dimethanol, 2-butene-1,4-diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, triols such as trimethylolpropane, pentaerythritol, etc. Tetraol, the Hexa all of pentaerythritol, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

ポリイソシアネートとしては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m−キシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルヒフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4−(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート化合物等が挙げられる。これらのジイソシアネートは1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。必要に応じて鎖延長剤等を使用してもよい。   As polyisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, dimer of 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, 4,4′- Aromatic diisocyanate compounds such as diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 3,3′-dimethylhyphenyl-4,4′-diisocyanate; hexamethylene diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer diisocyanate, etc. Aliphatic diisocyanate compound; isophorone diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4- (or 2,6) diisocyanate Sulfonates, 1,3 alicyclic diisocyanate compounds such as (isocyanatomethyl) cyclohexane. These diisocyanates can be used alone or in combination of two or more. You may use a chain extender etc. as needed.

前記重合性モノマーは、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上であることが好ましい。   The polymerizable monomer is preferably at least one selected from the group consisting of monofunctional acrylates, polyfunctional acrylates, epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds.

前記単官能性アクリレートは、(メタ)アクリロイルオキシ基を1つ有する化合物であり、低粘度で重合性オリゴマーの溶解性に優れるものであればよく、希釈モノマーとして機能し得る。
前記単官能性アクリレートは、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に1個有する(メタ)アクリレートモノマーであり、ブチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレートなどの鎖状アルキル(メタ)アクリレート;シクロへキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等の脂環式アルキル(メタ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;2−ヒドロキシエチルメタアクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のエポキシ基含有(メタ)アクリレート;アリル(メタ)アクリレート等のエチレン性不飽和二重結合を有する(メタ)アクリレートなどが例示される。
The monofunctional acrylate is a compound having one (meth) acryloyloxy group, and may have a low viscosity and excellent solubility of the polymerizable oligomer, and can function as a dilution monomer.
The monofunctional acrylate is, for example, a (meth) acrylate monomer having one (meth) acryloyloxy group in the molecule, and has a chain shape such as butyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and hexyl (meth) acrylate. Alkyl (meth) acrylate; Cyclohexyl (meth) acrylate, cycloaliphatic alkyl (meth) acrylate such as isobornyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethoxy Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as ethyl (meth) acrylate and 2-phenoxyethyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) ) Hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as acrylate; epoxy group-containing (meth) acrylates such as glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylates having an ethylenically unsaturated double bond such as allyl (meth) acrylate, etc. The

前記多官能性アクリレートは、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に2個有する(メタ)アクリレートモノマーであり、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート;トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(600)ジ(メタ)アクリレートなどのポリアルキレングリコールジ(メタ)アクリレートなどが例示される。   The polyfunctional acrylate is, for example, a (meth) acrylate monomer having two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, and includes ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) ) Acrylate, alkylene glycol di (meth) acrylate such as cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate; triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Examples include polyalkylene glycol di (meth) acrylate such as (600) di (meth) acrylate.

前記多官能性アクリレートは、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に3個有する(メタ)アクリレートモノマーであってもよく、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等の分岐状アルキル基を有するトリ(メタ)アクリレート;グリセロールプロポキシトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ(メタ)アクリレート等の分岐状アルキレンエーテル基を有するトリ(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート等の複素環を含有するトリ(メタ)アクリレートなどが例示される。   The polyfunctional acrylate may be, for example, a (meth) acrylate monomer having three (meth) acryloyloxy groups in the molecule, such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate. Tri (meth) acrylate having a branched alkyl group; Tri (meth) acrylate having a branched alkylene ether group such as glycerol propoxy tri (meth) acrylate and trimethylolpropane triethoxytri (meth) acrylate; Tris (2-hydroxy Examples include tri (meth) acrylates containing a heterocyclic ring such as ethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate.

前記多官能性アクリレートは、例えば(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に4個以上有する(メタ)アクリレートモノマーであってもよく、ジ(トリメチロールプロパン)テトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどの複数の分岐状アルキル基を有するポリ(メタ)アクリレート;ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート等の複数の分岐状アルキル基と水酸基とを有するポリ(メタ)アクリレートなどが例示される。これらの(メタ)アクリル酸エステル系モノマーは、単独で用いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   The polyfunctional acrylate may be, for example, a (meth) acrylate monomer having four or more (meth) acryloyloxy groups in the molecule, such as di (trimethylolpropane) tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa ( Examples include poly (meth) acrylates having a plurality of branched alkyl groups such as (meth) acrylate; poly (meth) acrylates having a plurality of branched alkyl groups such as dipentaerythritol penta (meth) acrylate and hydroxyl groups, and the like. . These (meth) acrylic acid ester monomers may be used alone or in combination of two or more.

前記エポキシ化合物は、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ヘキサンジオールグリシジルエーテル等のエポキシ基を1個有する化合物であってもよく、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ノボラック型エポキシ化合物等のエポキシ基を2個以上有する化合物等であってもよい。   The epoxy compound may be, for example, a compound having one epoxy group such as phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, hexanediol glycidyl ether, tetraethylene glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, bisphenol A A compound having two or more epoxy groups such as diglycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, and novolak type epoxy compound may be used.

前記オキセタン化合物は、オキセタン環を有する化合物であればよく、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、ジ[1−エチル(3−オキセタニル)]メチルエーテル、1,4−ビス{[3−エチル−(3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン、3,3’−ジメチル−2−(p−メトキシフェニル)−オキセタン等の化合物が挙げられる。   The oxetane compound may be a compound having an oxetane ring, such as 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 3-ethyl-3- (phenoxymethyl) oxetane, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether. 1,4-bis {[3-ethyl- (3-oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, 3,3′-dimethyl-2- (p-methoxyphenyl) -oxetane, and the like.

前記ビニルエーテル化合物は、分子内に1個以上のビニルエーテル構造を有しており、かつ、分子内に2個以下のビニル基を有するものであればよい。ビニルエーテル化合物は、1,4−ブタンジオールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、1,4−ブタンジオールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、酢酸ビニルなどが例示される。   The said vinyl ether compound should just have 1 or more vinyl ether structures in a molecule | numerator, and has 2 or less vinyl groups in a molecule | numerator. Vinyl ether compounds are 1,4-butanediol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, tetraethylene glycol divinyl ether, neopentyl glycol divinyl ether, cyclohexane dimethanol divinyl ether, butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, ethylene glycol mono Examples include vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, 1,4-butanediol monovinyl ether, neopentyl glycol monovinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, vinyl acetate and the like.

前記重合性オリゴマーは、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーであることが好ましい。前記重合性オリゴマーは、例えば構造単位の繰り返しの数が2〜20程度の低重合体であってもよく、前記樹脂は、前記重合性オリゴマーよりも構造単位の繰り返しの数が多いものであってもよい。   The polymerizable oligomer is composed of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, and vinyl ether compound. One or more oligomers selected from the group are preferred. The polymerizable oligomer may be a low polymer having, for example, about 2 to 20 repeating structural units, and the resin has a larger number of repeating structural units than the polymerizable oligomer. Also good.

エポキシアクリレートは、例えばグリシジルエーテル化合物とアクリル酸類との付加反応によって得られるものであってもよい。
グリシジルエーテル化合物は、1,6−ヘキサンジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂が挙げられる。
アクリル酸類は、アクリル酸、メタクリル酸;アクリル酸メチルエステル、アクリル酸エチルエステル、アクリル酸プロピルエステル、メタクリル酸メチルエステル、メタクリル酸エチルエステル、メタクリル酸プロピルエステル等の低級アルキルエステルなどが挙げられる。さらに、エポキシアクリレートの水酸基に多塩基酸化合物を反応させて得られるエステル結合を有する化合物としてもよい。
多塩基酸化合物としては、例えば無水マレイン酸、無水コハク酸、無水イタコン酸、ドデシル無水コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物などが挙げられる。
The epoxy acrylate may be obtained, for example, by an addition reaction between a glycidyl ether compound and acrylic acid.
Examples of the glycidyl ether compound include 1,6-hexane diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, and cresol novolac type epoxy resin.
Examples of acrylic acids include acrylic acid, methacrylic acid; lower alkyl esters such as acrylic acid methyl ester, acrylic acid ethyl ester, acrylic acid propyl ester, methacrylic acid methyl ester, methacrylic acid ethyl ester, and methacrylic acid propyl ester. Furthermore, it is good also as a compound which has an ester bond obtained by making a polybasic acid compound react with the hydroxyl group of an epoxy acrylate.
Examples of polybasic acid compounds include maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, dodecyl succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenonetetracarboxylic anhydride And methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride.

前記ウレタンアクリレートは、ポリオールとポリイソシアネートとの反応物と水酸基を含有するアクリレートとの付加反応により得られるものであってもよい。
前記ポリオールは、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール等が挙げられる。
前記ポリイソシアネートとしては、公知のものを用いることができ、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等のジイソシアネート化合物からなるイソシアヌレート型ポリイソシアネート;前記ジイソシアネート化合物とトリメチロールプロパンとのアダクト型ポリイソシアネート;前記ジイソシアネート化合物からなるビューレット型ポリイソシアネートが好ましい。
前記水酸基を含有するアクリレートは、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレートが挙げられる。更に、共重合可能な他のモノマーを用いてもよく、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、スチレン、α−メチルスチレン等を用いてもよい。
The urethane acrylate may be obtained by an addition reaction between a reaction product of a polyol and a polyisocyanate and an acrylate containing a hydroxyl group.
Examples of the polyol include 1,6-hexanediol diglycidyl ether, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polycarbonate diol, and polyester diol.
As the polyisocyanate, known ones can be used. For example, an isocyanurate type comprising a diisocyanate compound such as hexamethylene diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, isophorone diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, or lysine diisocyanate. Polyisocyanate; Adduct type polyisocyanate of the diisocyanate compound and trimethylolpropane; Burette type polyisocyanate comprising the diisocyanate compound is preferable.
Examples of the acrylate containing a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate. Furthermore, other copolymerizable monomers may be used, and methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, t-butyl acrylate, styrene, α-methyl styrene, and the like may be used.

前記ポリエステルアクリレートは、ポリオールと多塩基酸からなるポリエステルポリオールとアクリル酸とのエステル化により得られるものであってもよい。
前記ポリエステルアクリレートの合成に用いるポリオールとしては、例えば、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールエタン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、ジグリセロール、グリセリン、その他、数々のポリシロキサンポリオール、ポリ(オキシアルキレン)ポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエーテルポリエステルポリオール、ポリオレフィンポリオール、ポリ(アルキルアクリレート)ポリオール、ポリカーボネートポリオール等が挙げられる。
前記ポリエステルアクリレートの合成に用いる多塩基酸としては、例えば、アジピン酸、コハク酸、セバチン酸等の飽和多塩基酸;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸等の不飽和多塩基酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸等の芳香族多塩基酸を挙げることができる。
The polyester acrylate may be obtained by esterification of a polyester polyol composed of a polyol and a polybasic acid and acrylic acid.
Examples of the polyol used for the synthesis of the polyester acrylate include 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, trimethylolethane, trimethylolpropane, ditrimethylolethane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, Tripentaerythritol, diglycerol, glycerin, other polysiloxane polyols, poly (oxyalkylene) polyols, polyester polyols, polyether polyols, polyether polyester polyols, polyolefin polyols, poly (alkyl acrylate) polyols, polycarbonate polyols, etc. Can be mentioned.
Examples of the polybasic acid used for the synthesis of the polyester acrylate include saturated polybasic acids such as adipic acid, succinic acid, and sebacic acid; unsaturated polybasic acids such as maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, and citraconic acid; Aromatic polybasic acids such as acid, isophthalic acid, terephthalic acid and trimellitic acid can be mentioned.

前記ポリエーテルアクリレートは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリエーテルポリオールと、不飽和カルボン酸とからの反応物であってもよい。   The polyether acrylate may be a reaction product from a polyether polyol such as polyethylene glycol or polypropylene glycol and an unsaturated carboxylic acid.

前記共重合系アクリレートは、アクリル酸エステル共重合体の側鎖に(メタ)アクリロイル基を付与したアクリル化合物であってもよい。前記共重合系アクリレートは、例えば、グリシジルメタクリレートを共重合させ、アクリル酸を付加して得られる化合物、アクリル酸、メタクリル酸を共重合させグリシジルメタクリレートを付加して得られる化合物、2−HEMA(2−ヒドロキシエチルメタクリレート)と2−HEA(2−ヒドロキシエチルアクリレート)を共重合させ、イソシアネート含有アクリレートを付加して得られる化合物が挙げられる。   The copolymer acrylate may be an acrylic compound in which a (meth) acryloyl group is added to the side chain of the acrylate copolymer. Examples of the copolymer acrylate include a compound obtained by copolymerizing glycidyl methacrylate and adding acrylic acid, a compound obtained by copolymerizing acrylic acid and methacrylic acid and adding glycidyl methacrylate, 2-HEMA (2 -Hydroxyethyl methacrylate) and 2-HEA (2-hydroxyethyl acrylate) are copolymerized, and the compound obtained by adding an isocyanate containing acrylate is mentioned.

前記ポリブタジエンアクリレートは、ポリブタジエン又は水添ポリブタジエン骨格を有するアクリル化合物であってもよい。
前記ポリブタジエンアクリレートは、例えば、水酸基含有ポリブタジエンをアクリレート化する方法、水酸基含有ポリブタジエンにジイソシアネートを介して水酸基含有アクリレートを付加する方法により得られる。
The polybutadiene acrylate may be an acrylic compound having a polybutadiene or hydrogenated polybutadiene skeleton.
The polybutadiene acrylate can be obtained, for example, by a method of acrylate-forming a hydroxyl group-containing polybutadiene or a method of adding a hydroxyl group-containing acrylate to a hydroxyl group-containing polybutadiene via a diisocyanate.

前記脂環式エポキシ化合物、前記グリシジルエーテル型エポキシ化合物、前記多官能性オキセタン化合物、前記ビニルエーテル化合物は、カチオン重合性反応に適した化合物であればよく、光照射が途絶えても硬化反応が進む為、ラジカル重合では付与できない特性を付与できる。これら化合物は、重合性モノマーとして例示したものをオリゴマー化したものであってもよく、重合性モノマーよりも分子量が高いものであればよい。
前記脂環式エポキシ化合物は、例えば1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル 3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート等のオリゴマーが挙げられる。
前記グリシジルエーテル型エポキシ化合物は、例えばフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ヘキサンジオールグリシジルエーテル等のオリゴマーが挙げられる。
前記多官能性オキセタン化合物は、(3−エチルオキセタン−3−イル)メチルメタクリレート、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン等のオリゴマーが挙げられる。
前記ビニルエーテル化合物は、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、n−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエーテル等のオリゴマーであればよい。
The alicyclic epoxy compound, the glycidyl ether type epoxy compound, the polyfunctional oxetane compound, and the vinyl ether compound may be any compound that is suitable for a cationic polymerizable reaction, and the curing reaction proceeds even when light irradiation is interrupted. , It can impart properties that cannot be imparted by radical polymerization. These compounds may be those obtained by oligomerizing those exemplified as the polymerizable monomer, as long as the molecular weight is higher than that of the polymerizable monomer.
Examples of the alicyclic epoxy compound include oligomers such as 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane, 3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate. Is mentioned.
Examples of the glycidyl ether type epoxy compound include oligomers such as phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, and hexanediol glycidyl ether.
Examples of the polyfunctional oxetane compound include oligomers such as (3-ethyloxetane-3-yl) methyl methacrylate and 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane.
The vinyl ether compound is ethylene glycol divinyl ether, diethylene glycol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, propylene glycol divinyl ether, dipropylene glycol divinyl ether, butanediol divinyl ether, hexanediol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, trimethylolpropane. Any oligomer such as di- or trivinyl ether compounds such as trivinyl ether, ethyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, octadecyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, and 2-ethylhexyl vinyl ether may be used.

上記の分散媒の中でも、好ましい分散媒は、エポキシ樹脂であり、より好ましくはオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、DGEBA型エポキシ樹脂である。   Among the above dispersion media, preferred dispersion media are epoxy resins, more preferably orthocresol novolac type epoxy resins, phenol novolac type epoxy resins, and DGEBA type epoxy resins.

2.絶縁膜用硬化性樹脂組成物
本発明には、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)と、マトリックス化し得る成分とを含有し、該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)がマトリックス化し得る成分中に1次粒子の状態で分散していることを特徴とする絶縁膜用硬化性樹脂組成物が包含される。このような絶縁膜用硬化性樹脂組成物は、コアシェルポリマー(B)を含有するために、絶縁膜の靱性を改善できる。また前記コアシェルポリマー(B)が一次粒子の状態で分散しているため、絶縁膜が熱サイクルを受けた時でも、そのクラックの発生も低減でき、絶縁性も示す。レーザー加工法により微細加工した際にも良好な形状のビア等を形成することが可能となる。さらには該樹脂組成物を感光性材料として使用した時でも、マスク形状との相同性(マスクエラーファクターなど)を高めることができ、良好な形状のビアホールの形成が可能となる。
2. Curable resin composition for insulating film The present invention contains a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer and a component that can be matrixed, and at least 70% of the core-shell polymer (B) (number basis) Is dispersed in the form of primary particles in a component that can be formed into a matrix, and includes a curable resin composition for an insulating film. Since such a curable resin composition for an insulating film contains the core-shell polymer (B), the toughness of the insulating film can be improved. In addition, since the core-shell polymer (B) is dispersed in the state of primary particles, the occurrence of cracks can be reduced even when the insulating film is subjected to a thermal cycle, and insulation is also exhibited. It becomes possible to form a via having a good shape even when finely processed by a laser processing method. Furthermore, even when the resin composition is used as a photosensitive material, homology (mask error factor, etc.) with the mask shape can be increased, and a via hole having a good shape can be formed.

マトリックス化し得る成分は、絶縁膜用硬化性樹脂組成物中に、50〜95質量%であることが好ましく、より好ましくは60〜90質量%である。
コアシェルポリマー(B)は、絶縁膜用硬化性樹脂組成物中に、通常1〜50質量%、好ましくは2〜30質量%、より好ましくは5〜25質量%である。コアシェルポリマー(B)の配合量が1質量%に満たない場合には、得られた絶縁膜において、クラック抑制効果が得られない場合がある。また、コアシェルポリマー(B)の配合量が50質量%を越える場合には、得られた絶縁膜において、充分な絶縁性が得られない場合がある。
The component capable of forming a matrix is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 60 to 90% by mass in the curable resin composition for an insulating film.
A core-shell polymer (B) is 1-50 mass% normally in the curable resin composition for insulating films, Preferably it is 2-30 mass%, More preferably, it is 5-25 mass%. When the amount of the core-shell polymer (B) is less than 1% by mass, the obtained insulating film may not have a crack suppressing effect. Moreover, when the compounding quantity of a core shell polymer (B) exceeds 50 mass%, sufficient insulation may not be acquired in the obtained insulating film.

絶縁膜用硬化性樹脂組成物において、前記コアシェルポリマー(B)の70%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散していることが好ましく、より好ましくは前記コアシェルポリマーの80%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散しており、さらに好ましくは前記コアシェルポリマーの90%(個数基準)以上が、1次分散の状態で分散している。コアシェルポリマーは、絶縁膜用硬化性樹脂組成物中で70%(個数基準)以上が1次粒子の状態で分散していれば、その上限は特に限定されない。70%(個数基準)未満であると、凝集粒子の割合が多くなり、絶縁性、熱サイクル時のクラック抑制、微細形状形成性等の物性の改善が見込めない虞がある。 In the curable resin composition for an insulating film, it is preferable that 70% (number basis) or more of the core-shell polymer (B) is dispersed in a primary particle state, more preferably 80% ( number basis) or more, are dispersed in the state of primary particles, more preferably the 90% of the core-shell polymer (number basis) or more, are dispersed in the state of primary dispersion. The upper limit of the core-shell polymer is not particularly limited as long as 70% (number basis) or more is dispersed in the state of primary particles in the curable resin composition for an insulating film. If it is less than 70% (based on the number) , the ratio of the aggregated particles increases, and there is a possibility that improvement in physical properties such as insulation, crack suppression during thermal cycling, and fine shape formability may not be expected.

アルカリ金属イオン含有量は、絶縁膜用硬化性樹脂組成物において、30ppm(質量基準)以下であることが好ましく、より好ましくは15ppm(質量基準)以下、特に好ましくは10ppm(質量基準)以下である。アルカリ金属イオン含有量が30ppmを超えると、絶縁性が低下する。
アルカリ金属イオンの含有量は、例えば、エポキシ樹脂組成物(C)を加圧酸分解した後の高周波誘導プラズマ発光分光分析により求めることができる。
In the curable resin composition for an insulating film, the alkali metal ion content is preferably 30 ppm (mass basis) or less, more preferably 15 ppm (mass basis) or less, particularly preferably 10 ppm (mass basis) or less. . When the alkali metal ion content exceeds 30 ppm, the insulating property is lowered.
The content of alkali metal ions can be determined, for example, by high frequency induction plasma emission spectroscopy after pressure acid decomposition of the epoxy resin composition (C).

アニオン性乳化剤含有量は、絶縁膜用硬化性樹脂組成物において、100ppm(質量基準)以下であることが好ましく、より好ましくは60ppm(質量基準)以下、特に好ましくは30ppm(質量基準)以下である。残存乳化剤の分析方法は、例えばエポキシ樹脂(A)と混合する前の分散体(E)を乾固した後、乳化剤をエタノール抽出したサンプルを用いて、メチレンブルーを用いた、波長650nmにおける比色定量法により求めることができる。   In the curable resin composition for insulating films, the anionic emulsifier content is preferably 100 ppm (mass basis) or less, more preferably 60 ppm (mass basis) or less, particularly preferably 30 ppm (mass basis) or less. . The method for analyzing the residual emulsifier is, for example, colorimetric determination at a wavelength of 650 nm using methylene blue using a sample obtained by drying the dispersion (E) before mixing with the epoxy resin (A) and then extracting the emulsifier with ethanol. It can be determined by law.

なおこの様な絶縁膜用硬化性樹脂組成物は、例えば、前記絶縁膜改質用組成物とマトリックス化し得る成分とを混合することで調製できる。前記絶縁膜改質用組成物では、コアシェルポリマー(B)が一次粒子の状態で分散しているため、これとマトリックス化し得る成分とを混合すれば、得られる絶縁膜用硬化性樹脂組成物でも、コアシェルポリマー(B)が一次粒子の状態で分散することになる。また前記絶縁膜改質用組成物は、通常、アルカリ金属イオン含有量やアニオン性乳化剤含有量が抑制されているため、絶縁膜用硬化性樹脂組成物でも、アルカリ金属イオン含有量やアニオン性乳化剤含有量を抑制可能である。これらの量を抑制することで絶縁性を改善できる。   Such a curable resin composition for an insulating film can be prepared, for example, by mixing the composition for modifying an insulating film and a component capable of forming a matrix. In the insulating film modifying composition, since the core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles, the resulting curable resin composition for insulating film can be obtained by mixing this with a component that can be matrixed. The core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles. Moreover, since the composition for modifying an insulating film is usually suppressed in the content of an alkali metal ion or an anionic emulsifier, the content of an alkali metal ion or an anionic emulsifier in a curable resin composition for an insulating film The content can be suppressed. Insulating properties can be improved by suppressing these amounts.

前記マトリックス化し得る成分は、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーからなる群より選択される1種以上であることが好ましい。
これらのものは、分散媒(A)として例示したものと同様の範囲から適宜選択できる。なお分散媒(A)とマトリックス化し得る成分とは、同じであってもよく、異なっていてもよい。
The component capable of forming a matrix is at least one selected from the group consisting of epoxy resins, unsaturated polyester resins, phenol resins, silicone resins, cyanate ester resins, polyurethane resins, polymerizable monomers, and polymerizable oligomers. Is preferred.
These can be appropriately selected from the same ranges as those exemplified as the dispersion medium (A). The dispersion medium (A) and the component that can be matrixed may be the same or different.

前記マトリックス化し得る成分は、絶縁膜用硬化性樹脂組成物の用途に応じて適宜選定できる。そこで絶縁膜用硬化性樹脂組成物を構成する具体的なマトリックス化し得る成分の内容及び他の構成成分を、その用途に応じて、説明する。なお絶縁膜用硬化性樹脂組成物は、例えば、熱硬化性ソルダーレジスト、熱硬化性ビルドアップ材料、熱硬化性プリプレグ、FPC用接着剤などの熱硬化性用途;UV硬化性ソルダーレジストなどのUV硬化性用途;感光性ソルダーレジスト、感光性ビルドアップ材料などの感光・現像用途などに使用できる。   The component that can be formed into a matrix can be appropriately selected according to the use of the curable resin composition for an insulating film. Then, the content of the component which can be made into the specific matrix which comprises the curable resin composition for insulating films, and another structural component are demonstrated according to the use. Note that the curable resin composition for the insulating film includes, for example, thermosetting applications such as a thermosetting solder resist, a thermosetting buildup material, a thermosetting prepreg, and an adhesive for FPC; UV such as a UV curable solder resist. Curing use: Can be used for photosensitive / developing applications such as photosensitive solder resists and photosensitive build-up materials.

2−1.熱硬化性用途
絶縁膜用硬化性樹脂組成物を前記熱硬化性用途に使用する場合、マトリックス化し得る成分としては、熱硬化性樹脂を使用する。熱硬化性樹脂としては、前述したエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などを単独で、又は適宜組み合わせて使用できる。
熱硬化性樹脂を使用する場合、硬化性樹脂組成物は、必要に応じて硬化剤(K)或いは硬化触媒、無機充填剤(L)、さらに必要に応じて硬化促進剤(M)、難燃剤、カップリング剤、離型剤、顔料等の添加物、配合剤を適宜配合することによって得ることができる。これらの添加物、配合物は、本分野において一般的に使用されるものが問題なく使用可能である。
2-1. Thermosetting application When the insulating resin curable resin composition is used for the thermosetting application, a thermosetting resin is used as a component that can be formed into a matrix. As the thermosetting resin, the aforementioned epoxy resin, unsaturated polyester resin, phenol resin, silicone resin, cyanate ester resin, polyurethane resin and the like can be used alone or in appropriate combination.
When a thermosetting resin is used, the curable resin composition comprises a curing agent (K) or a curing catalyst, an inorganic filler (L) as necessary, and a curing accelerator (M) or a flame retardant as necessary. , A coupling agent, a mold release agent, an additive such as a pigment, and a compounding agent can be appropriately blended. As these additives and blends, those generally used in this field can be used without any problem.

例えば、硬化剤(K)としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、ナフタレン型フェノール樹脂等のフェノール樹脂、アミノ樹脂、ユリア樹脂、メラミン、ジシアンジアミド等が挙げられ、これらを単独で又は2種類以上を組み合わせて使用できる。この中では特に、得られる硬化物の耐熱性が高くなるという点より、フェノール樹脂を使用することがより好ましい。これらは、絶縁膜用硬化性樹脂組成物(エポキシ樹脂組成物)に対して、通常1〜300質量部の割合で使用される。   Examples of the curing agent (K) include phenolic resins such as phenol novolac resin, cresol novolac resin, naphthalene type phenol resin, amino resin, urea resin, melamine, dicyandiamide, and the like alone or in combination of two or more. Can be used in combination. Among these, it is particularly preferable to use a phenol resin from the viewpoint that the heat resistance of the resulting cured product is increased. These are normally used at a ratio of 1 to 300 parts by mass with respect to the curable resin composition for an insulating film (epoxy resin composition).

硬化触媒として、アミン類、該アミン類の塩化物等のアミン塩類や第四級アンモニウム塩類、環状脂肪族酸無水物、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物等の酸無水物類、ポリアミド類、イミダゾール類、トリアジン化合物等の窒素含有複素環化合物類、有機金属化合物等を使用することができる。硬化触媒の使用量は、熱硬化性樹脂100質量部(エポキシ樹脂組成物)に対して好ましくは0.5〜20質量部、より好ましくは1〜10質量部である。   Curing catalysts include amines, amine salts such as chlorides of the amines and quaternary ammonium salts, cyclic aliphatic acid anhydrides, aliphatic acid anhydrides, acid anhydrides such as aromatic acid anhydrides, polyamides, etc. , Imidazoles, nitrogen-containing heterocyclic compounds such as triazine compounds, organometallic compounds, and the like can be used. Preferably the usage-amount of a curing catalyst is 0.5-20 mass parts with respect to 100 mass parts of thermosetting resins (epoxy resin composition), More preferably, it is 1-10 mass parts.

また硬化促進剤(M)としては、イミダゾール化合物、第3級アミン化合物、トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が例示され得る。あるいは光硬化を適用する場合には、硬化触媒として、例えば芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩等を使用することができ、アントラセン誘導体のような公知の増感剤を適宜組み合わせて使用できる。これらは、絶縁膜用硬化性樹脂組成物(エポキシ樹脂組成物)100質量部に対して、通常0.01〜50質量部の割合で使用される。   Examples of the curing accelerator (M) include phosphine compounds such as imidazole compounds, tertiary amine compounds, and triphenylphosphine. Alternatively, when photocuring is applied, for example, an aromatic sulfonium salt, an aromatic diazonium salt, an aromatic iodonium salt, or the like can be used as a curing catalyst, and a known sensitizer such as an anthracene derivative is appropriately combined. Can be used. These are normally used in a ratio of 0.01 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the curable resin composition for an insulating film (epoxy resin composition).

無機充填剤(L)としては、例えば溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、炭酸カルシウム、窒化ホウ素、炭化珪素等が使用できる。これらは、絶縁膜改質用組成物(エポキシ樹脂組成物)100質量部に対して、通常0〜2000質量部の割合で使用される。   As the inorganic filler (L), for example, fused silica, crystalline silica, alumina, calcium carbonate, boron nitride, silicon carbide and the like can be used. These are usually used at a ratio of 0 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the insulating film modifying composition (epoxy resin composition).

難燃剤としては、例えば臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、その他の臭素系難燃剤、縮合リン酸エステルに代表されるリン系難燃剤、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物系難燃剤、ポリシロキサン誘導体等のシリコーン樹脂系難燃剤が使用できる。これらは、絶縁膜改質用組成物(エポキシ樹脂組成物)100質量部に対して、通常0〜100質量部程度の割合で単独或いは適宜組み合わせて使用できる。   Examples of the flame retardant include brominated bisphenol A type epoxy resin, other brominated flame retardants, phosphorus flame retardants typified by condensed phosphate esters, metal hydroxide flame retardants such as magnesium hydroxide and aluminum hydroxide Silicone resin flame retardants such as polysiloxane derivatives can be used. These can be used alone or in appropriate combination at a ratio of usually about 0 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the insulating film modifying composition (epoxy resin composition).

またカップリング剤としては、例えばエポキシシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ビニルシラン、有機チタネート等、さらに離型材としては、例えば天然ワックス、合成ワックス、及びエステル類、着色剤としては、例えばカーボンブラック等を幅広く使用できる。これらは、使用される半導体封止の形態により異なるが、絶縁膜改質用組成物(エポキシ樹脂組成物)100質量部に対して、それぞれ通常0〜50質量部程度の範囲で適宜使用できる。   As coupling agents, for example, epoxy silane, amino silane, alkyl silane, vinyl silane, organic titanate, etc., as mold release materials, for example, natural wax, synthetic wax and esters, as colorants, for example, carbon black, etc. are widely used. Can be used. Although these differ depending on the form of semiconductor encapsulation used, they can be suitably used in the range of usually about 0 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the insulating film modifying composition (epoxy resin composition).

2−2.UV硬化性用途、感光・現像用途
UV硬化性用途とは、絶縁膜用硬化性樹脂組成物をUVで硬化することで足り、現像をともなわない用途をいう。UV硬化性用途では、マトリックス化し得る成分としては、光硬化性樹脂を使用する。また感光・現像用途では、マトリックス化し得る成分としては、UV硬化性用途で使用した前述の光硬化性樹脂に加えて、アルカリ可溶性樹脂またはアルカリ不溶性樹脂を使用する。アルカリ可溶性樹脂は、ネガ型フォトレジスト材料として使用され、アルカリ不溶性樹脂は、ポジ型フォトレジスト材料として使用される。
2-2. UV curable application, photosensitive / development application The UV curable application is an application that does not involve development and is sufficient to cure the curable resin composition for insulating film with UV. For UV curable applications, a photocurable resin is used as the component that can be matrixed. In the photosensitive / development application, as a component capable of forming a matrix, an alkali-soluble resin or an alkali-insoluble resin is used in addition to the above-described photo-curable resin used in the UV curable application. The alkali-soluble resin is used as a negative photoresist material, and the alkali-insoluble resin is used as a positive photoresist material.

マトリックス化し得る成分が光硬化性樹脂である場合、絶縁膜用硬化性樹脂組成物は、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーの1種以上、好ましくは両方を含む。両方を含むことで、光硬化性がより良好になる。   When the component which can be matrixed is a photocurable resin, the curable resin composition for insulating films contains at least one of a polymerizable monomer and a polymerizable oligomer, preferably both. By including both, the photocurability becomes better.

前記重合性モノマーは、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上であってもよく、これらは絶縁膜改質用組成物で例示したものと同様であってもよい。   The polymerizable monomer may be one or more selected from the group consisting of monofunctional acrylates, polyfunctional acrylates, epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds, and these are compositions for insulating film modification It may be the same as that exemplified in.

前記重合性オリゴマーは、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーであってもよく、これらは絶縁膜改質用組成物で例示したものと同様であってもよい。   The polymerizable oligomer is composed of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, and vinyl ether compound. One or more kinds of oligomers selected from the group may be used, and these may be the same as those exemplified in the composition for insulating film modification.

前記重合性オリゴマーは、カルボキシ基又は水酸基とエチレン性不飽和基とを有する光重合性プレポリマーを含んでいてもよく、炭素数4〜20の(メタ)アクリル酸エステルと、1分子中に1個のエチレン性不飽和基と少なくとも1個のカルボキシル基又は水酸基を有する化合物とを共重合させて得られるカルボキシル基又は水酸基含有(メタ)アクリル系共重合樹脂であってもよい。   The polymerizable oligomer may contain a photopolymerizable prepolymer having a carboxy group or a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group, and a (meth) acrylic acid ester having 4 to 20 carbon atoms and one per molecule. It may be a carboxyl group- or hydroxyl group-containing (meth) acrylic copolymer resin obtained by copolymerizing a single ethylenically unsaturated group and a compound having at least one carboxyl group or hydroxyl group.

(メタ)アクリル酸エステルとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸アルキルエステル類、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等のグリコール変性(メタ)アクリレート類などが挙げられる。   (Meth) acrylic acid esters such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, etc. Glycol modification (meta) such as acid alkyl esters, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, isooctyloxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, and methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate ) Acrylates and the like.

1分子中に1個のエチレン性不飽和基と少なくとも1個のカルボキシ基を有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。1分子中に1個のエチレン性不飽和基と少なくとも1個の水酸基を有する化合物としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル類が挙げられる。   Examples of the compound having one ethylenically unsaturated group and at least one carboxy group in one molecule include acrylic acid and methacrylic acid. Examples of the compound having one ethylenically unsaturated group and at least one hydroxyl group in one molecule include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, caprolactone-modified 2 -Hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid esters such as hydroxyethyl (meth) acrylate.

重合性モノマーは、全組成物100質量%に対し、5〜70質量%を含有させることが好ましく、より好ましくは10〜60質量%含有する。重合性オリゴマーは、全組成物100質量%に対し、20〜90質量%含有するのが好ましく、より好ましくは30〜80質量%である。   It is preferable to contain 5 to 70 mass% of polymerizable monomers with respect to 100 mass% of all compositions, More preferably, it contains 10 to 60 mass%. It is preferable to contain 20-90 mass% of polymerizable oligomers with respect to 100 mass% of all compositions, More preferably, it is 30-80 mass%.

アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシ基又は水酸基とエチレン性不飽和基とを有する光重合性プレポリマーを重合したものや、これに共重合可能な重合性モノマーを共重合させたものであってもよい。
アルカリ不溶性樹脂は、アルカリに不溶な保護基を有していてもよい。
The alkali-soluble resin may be one obtained by polymerizing a photopolymerizable prepolymer having a carboxy group or a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group, or one obtained by copolymerizing a polymerizable monomer copolymerizable therewith.
The alkali-insoluble resin may have a protective group that is insoluble in alkali.

アルカリ可溶性樹脂やアルカリ不溶性樹脂は、溶剤に溶解させてもよく、溶剤としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類;プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、及びピルビン酸エチル等のエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類;γ−ブチロラクトン等の環状エステル類;等を挙げることができる。   The alkali-soluble resin or alkali-insoluble resin may be dissolved in a solvent. Examples of the solvent include glycol ether esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate and butyl acetate. And esters such as ethyl pyruvate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone;

アルカリ不溶性樹脂は、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、(2−ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムヒドロキシド(通称コリン)のアルカリ性水溶液等で洗浄されてもよい。一方、アルカリ可溶性樹脂は、2−ヘキサノン、2−ヘプタノンなどのケトン溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコールエーテルエステル溶剤;酢酸ブチル等のエステル溶剤;プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル溶剤;N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド溶剤;アニソールなどの芳香族炭化水素溶剤等の有機溶剤で洗浄されてもよい。   The alkali-insoluble resin may be washed with, for example, an alkaline aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide or (2-hydroxyethyl) trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline). On the other hand, alkali-soluble resins include: ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycol ether solvents such as propylene glycol monomethyl ether; It may be washed with an amide solvent such as N-dimethylacetamide; an organic solvent such as an aromatic hydrocarbon solvent such as anisole.

UV硬化性用途、感光・現像用途に絶縁膜用硬化性樹脂組成物を使用する場合、この樹脂組成物は、光重合開始剤も含有することが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−(ジメチルアミノ)−2−[(4−メチルフェニル)メチル]−1−[4−(4−モルフォリニル)フェニル]−1−ブタノン等のアミノアルキルフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリーブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類;キサントン類;(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−ペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォスフィネイト等のフォスフィンオキサイド類;各種パーオキサイド類;チタノセン系開始剤などが挙げられる。光重合開始剤の配合量は、重合性モノマー及び重合性オリゴマーの合計100質量部に対して、0.1質量部〜20質量部が好ましく、0.2質量部〜10質量部がより好ましい。   When using the curable resin composition for insulating films for UV curable applications and photosensitive / development applications, the resin composition preferably also contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin and benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy- Acetophenones such as 2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1- ON, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2- (dimethylamino) -2-[(4-methylphenyl) methyl] -1- [4- ( 4-morpholinyl) phenyl] -1-butanone Aminoalkylphenones; anthraquinones such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tertiarybutylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone Thioxanthones such as 2,4-diisopropylthioxanthone; ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone; xanthones; (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-pentylphosphine Oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, ethyl-2,4 Phosphine oxide such as 6-trimethyl benzoyl phenyl phosphinothricin Nate; various peroxides; and titanocene initiators. The blending amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 part by mass to 20 parts by mass, and more preferably 0.2 part by mass to 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer.

感光・現像用途に前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物を使用する場合、この樹脂組成物は、酸発生剤を含有していてもよい。光照射で酸を発生することによって、アルカリ不溶性樹脂をアルカリ可溶にすることができ、またアルカリ可溶性樹脂をアルカリ不溶にすることもできる。
酸発生剤は、スルホニウム塩系、ヨードニウム塩系、非イオン系の酸発生剤であればよく、カチオン部で光を吸収し、アニオン部で酸を発生させ、光照射部分でアルカリ不溶性樹脂の保護基を外し、アルカリ可溶化してもよい。酸発生剤の含有量は、重合性モノマーと重合性オリゴマー100質量部に対して、好ましくは1質量部以上であり、より好ましくは3質量部以上である。また、好ましくは30質量部以下であり、より好ましくは25質量部以下である。
When using the said curable resin composition for insulating films for a photosensitivity / image development use, this resin composition may contain the acid generator. By generating an acid by light irradiation, the alkali-insoluble resin can be made alkali-soluble, and the alkali-soluble resin can be made insoluble in alkali.
The acid generator may be a sulfonium salt-based, iodonium salt-based, or nonionic acid generator that absorbs light at the cation portion, generates an acid at the anion portion, and protects the alkali-insoluble resin at the light-irradiated portion. The group may be removed and solubilized with alkali. The content of the acid generator is preferably 1 part by mass or more and more preferably 3 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer. Moreover, Preferably it is 30 mass parts or less, More preferably, it is 25 mass parts or less.

酸発生剤を使用する場合、酸発生剤と共に架橋剤を用いてもよい。架橋剤は、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシグリコールユリル(TMGU)などが用いられ、光照射部位で酸発生剤のカチオン部で光を吸収し、アニオン部で酸を発生させ、架橋剤により光照射部位の重合物を架橋し、アルカリ不溶化してもよい。   When using an acid generator, you may use a crosslinking agent with an acid generator. Hexamethoxymethylmelamine, tetramethoxyglycoluril (TMGU), etc. are used as the cross-linking agent. Light is irradiated at the cation part of the acid generator at the light irradiation site, acid is generated at the anion part, and light is irradiated by the cross-linking agent The polymer at the site may be crosslinked to make it insoluble in alkali.

光硬化性樹脂は、光重合開始剤以外に、必要に応じて、重合禁止剤、消泡剤、シランカップリング剤、可塑剤、充填材、レベリング材、顔料、染料を含んでいてもよい。   In addition to the photopolymerization initiator, the photocurable resin may contain a polymerization inhibitor, an antifoaming agent, a silane coupling agent, a plasticizer, a filler, a leveling material, a pigment, and a dye as necessary.

本発明の絶縁膜改質用組成物及び絶縁膜用硬化性樹脂組成物は、ソルダーレジスト材料、ビルドアップ材料、プリプレグ材料、又はフレキシブルプリント基板用接着剤に使用されてもよい。   The composition for modifying an insulating film and the curable resin composition for an insulating film of the present invention may be used for a solder resist material, a build-up material, a prepreg material, or an adhesive for a flexible printed circuit board.

熱硬化性ソルダーレジスト材料、熱硬化性ビルドアップ材料、熱硬化性プリプレグ、FPC用接着剤などの熱硬化性用途
前記組成物が、熱硬化性用途である場合、プリント配線板の最外層(ソルダーレジスト)、多層プリント配線板の内層(ビルドアップ材料、プリプレグ材料)、FPC用接着剤として使用可能である。(FPC:フレキシブル配線板)
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物を熱硬化性ソルダーレジスト材料として使用する場合、プリント配線板(片面、両面又は多層)或いはCOF、TABに使用できる。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物を熱硬化性ビルドアップ材料として使用する場合、ビルドアップ多層配線板に使用できる。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物をプリプレグ材料として使用する場合、ビルドアップ多層配線板、プリント配線板(片面、両面或いは多層)、又は多層FPC使用できる。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物をFPC用接着剤として使用する場合、3層FCCL(Flexible Copper Clad Laminate)用接着剤、カバーレイ用接着剤として使用でき、FPC(片面、両面或いは多層)に使用できる。
Thermosetting applications such as thermosetting solder resist materials, thermosetting build-up materials, thermosetting prepregs, adhesives for FPC, etc. When the composition is a thermosetting application, the outermost layer of the printed wiring board (solder) Resist), inner layers of multilayer printed wiring boards (build-up materials, prepreg materials), and FPC adhesives. (FPC: Flexible wiring board)
When using the said curable resin composition for insulating films as a thermosetting soldering resist material, it can be used for a printed wiring board (single-sided, double-sided, or multilayer) or COF, TAB.
When using the said curable resin composition for insulating films as a thermosetting buildup material, it can be used for a buildup multilayer wiring board.
When using the said curable resin composition for insulating films as a prepreg material, a buildup multilayer wiring board, a printed wiring board (single side, both sides, or multilayer), or multilayer FPC can be used.
When the curable resin composition for an insulating film is used as an adhesive for FPC, it can be used as an adhesive for three-layer FCCL (Flexible Copper Clad Laminate) and an adhesive for coverlay, and can be used for FPC (single side, double side or multilayer). Can be used.

UV硬化性ソルダーレジストなどのUV硬化性用途
前記組成物が、UV硬化性用途である場合、プリント配線板の最外層(ソルダーレジスト)として使用可能である。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物をUV硬化ソルダーレジスト材料として使用する場合、COF、TABに使用できる。
UV curable application such as UV curable solder resist When the composition is used for UV curable, it can be used as an outermost layer (solder resist) of a printed wiring board.
When the curable resin composition for an insulating film is used as a UV curable solder resist material, it can be used for COF and TAB.

感光性ソルダーレジスト、感光性ビルドアップ材料などの感光・現像用途
前記組成物が、感光・現像用途である場合、プリント配線板の最外層(ソルダーレジスト)、多層プリント配線板の内層(ビルドアップ材料)として使用可能である。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物を感光性ソルダーレジストとして使用する場合、ビルドアップ多層配線板、プリント配線板(片面、両面或いは多層)、又はFPC(片面、両面或いは多層)に使用できる。
前記絶縁膜用硬化性樹脂組成物を感光性ビルドアップ材料として使用する場合、ビルドアップ多層配線板に使用できる。
Photosensitivity / development applications such as photosensitive solder resist and photosensitive buildup materials When the composition is used for photosensitivity / development, the outermost layer of the printed wiring board (solder resist), the inner layer of the multilayer printed wiring board (buildup material) ) Can be used.
When the curable resin composition for an insulating film is used as a photosensitive solder resist, it can be used for a build-up multilayer wiring board, a printed wiring board (single side, double side or multilayer), or FPC (single side, double side or multilayer).
When using the said curable resin composition for insulating films as a photosensitive buildup material, it can be used for a buildup multilayer wiring board.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.

なお、以下において、不純物の残存量は、乳化剤量(アニオン系界面活性剤)、全イオンを指標として分析した。また、エポキシ樹脂成分中のコアシェルポリマーの分散状態は、得られたエポキシ樹脂組成物より作製した硬化物より超薄切片を作製した後、透過型電子顕微鏡(TEM)にて観察し判断した。   In the following, the residual amount of impurities was analyzed using the amount of emulsifier (anionic surfactant) and total ions as indicators. The dispersion state of the core-shell polymer in the epoxy resin component was determined by observing with a transmission electron microscope (TEM) after preparing an ultrathin section from a cured product prepared from the obtained epoxy resin composition.

実施例に先立ち、本発明で用いた分析測定方法について以下に説明する。   Prior to the examples, the analytical measurement method used in the present invention will be described below.

[1]残存乳化剤量
残存乳化剤量は、分散媒(A)のエポキシ樹脂と混合する前の分散体(E)中に残存する乳化剤量を下記の分析方法により測定し、これをコアシェルポリマー(B)の重合に使用された乳化剤全量を100質量%とした際の割合(質量%)、および、エポキシ樹脂組成物作製後に系中に含まれる質量比率(ppm)として数値化し、指標とした。
[1] Residual emulsifier amount The residual emulsifier amount was determined by measuring the amount of emulsifier remaining in the dispersion (E) before mixing with the epoxy resin of the dispersion medium (A) by the following analytical method. ) Was quantified as a ratio (mass%) when the total amount of the emulsifier used in the polymerization of 100) was 100 mass%, and a mass ratio (ppm) contained in the system after the preparation of the epoxy resin composition.

[1−1]サンプル前処理
下記の実施例に記載の方法において分散媒(A)のエポキシ樹脂と混合する前のコアシェルポリマー(B)が分散した分散体(E)を5ml分取し、乾固後、ビーカー内にエタノール50mlとともに投入し、10分間撹拌した後、上澄み液をメチレンブルー法による分析試料とした。
[1-1] Sample pretreatment 5 ml of the dispersion (E) in which the core-shell polymer (B) before mixing with the epoxy resin of the dispersion medium (A) in the method described in the following examples is dispersed, and dried. After solidification, 50 ml of ethanol was put into a beaker and stirred for 10 minutes, and then the supernatant was used as an analysis sample by the methylene blue method.

[1−2]メチレンブルー法による測定
分液ロートに水30ml、アルカリ性ホウ酸ナトリウム溶液10ml、メチレンブルー溶液(0.025質量%水溶液)5mlを投入した。クロロホルム20mlを加え、3〜5分間振とうし、クロロホルム層を分離除去した。クロロホルムの添加および除去の操作をクロロホルム層の着色がなくなるまで繰り返した。次に、希硫酸(2.9質量%水溶液)3mlとクロロホルム20mlと[1−1]で調製した試料2mlを加え、3〜5分間振とう後、クロロホルム層を分光光度計((株)島津製作所製、分光光度計UV−2200)を用い、波長650nmの吸収において、分散媒(A)のエポキシ樹脂を混合する前の分散体(E)中の残存乳化剤量を測定した。なお、アルカリ性ホウ酸ナトリウム溶液は、四ホウ酸ナトリウム十水和物1.9質量%水溶液500mlに0.4質量%水酸化ナトリウム溶液500mlを混合し、作製した。
[1-2] Measurement by methylene blue method 30 ml of water, 10 ml of an alkaline sodium borate solution, and 5 ml of a methylene blue solution (0.025 mass% aqueous solution) were put into a separating funnel. 20 ml of chloroform was added and shaken for 3 to 5 minutes to separate and remove the chloroform layer. The operation of adding and removing chloroform was repeated until the chloroform layer disappeared. Next, 3 ml of dilute sulfuric acid (2.9 mass% aqueous solution), 20 ml of chloroform and 2 ml of the sample prepared in [1-1] were added, and after shaking for 3 to 5 minutes, the chloroform layer was spectrophotometer (Shimadzu Corporation). The amount of the remaining emulsifier in the dispersion (E) before mixing the epoxy resin of the dispersion medium (A) was measured in absorption at a wavelength of 650 nm using a spectrophotometer UV-2200 manufactured by Seisakusho. The alkaline sodium borate solution was prepared by mixing 500 ml of a 0.4 mass% sodium hydroxide solution with 500 ml of a 1.9 mass% aqueous solution of sodium tetraborate decahydrate.

[2]アルカリ金属イオン含有量の分析
[2―1]前処理
エポキシ樹脂組成物に硫酸及び硝酸を添加し、マイクロウェーブ分解装置(マイルストーンゼネラル社製MLS−1200MEGA)を用いて加圧酸分解した。
[2] Analysis of alkali metal ion content [2-1] Pretreatment Sulfuric acid and nitric acid are added to the epoxy resin composition, and pressure acid decomposition is performed using a microwave decomposition apparatus (MLS-1200MEGA manufactured by Milestone General). did.

[2―2]ICP質量分析法による電解質量の分析(ICP−MS定量)
横河アナリティカルシステムズ製HP−4500型を使用し、クールプラズマ条件下、Coを内部標準に用い、絶対検量線法で、高周波誘導プラズマ発光分析によりNaイオン量及びKイオン量を分析した。得られた分析数値の合計数値を、アルカリ金属イオン含有量とした。
[2-2] Analysis of electrolytic mass by ICP mass spectrometry (ICP-MS determination)
The HP-4500 type manufactured by Yokogawa Analytical Systems was used, and the amount of Na ions and the amount of K ions were analyzed by high-frequency induction plasma emission analysis by an absolute calibration curve method using Co as an internal standard under cool plasma conditions. The total numerical value of the obtained analytical values was defined as the alkali metal ion content.

[3]凝集体(G)中の有機溶媒の比率
凝集体(G)中の有機溶媒の比率は、実施例および比較例の方法により得られた凝集体(G)の固形分濃度(SC)および含水率(WC)を下記の方法により測定し、次式により算出した。
凝集体(G)中の有機溶媒の比率=100−(SC+WC)
[3−1]凝集体(G)の固形分濃度(SC)の測定
凝集体(G)を所定量分取し、熱風乾燥機内にて乾燥し、乾燥前後の質量変化から、凝集体(G)の固形分濃度(SC)を算出した。
[3] Ratio of the organic solvent in the aggregate (G) The ratio of the organic solvent in the aggregate (G) is determined by the solid content concentration (SC) of the aggregate (G) obtained by the methods of Examples and Comparative Examples. The water content (WC) was measured by the following method and calculated by the following formula.
Ratio of organic solvent in aggregate (G) = 100− (SC + WC)
[3-1] Measurement of solid content concentration (SC) of aggregate (G) A predetermined amount of the aggregate (G) is collected and dried in a hot air dryer, and the aggregate (G ) Solid content concentration (SC) was calculated.

[3−2]凝集体(G)の含水率(WC)の測定
凝集体(G)を所定量分取し、可溶性溶媒に分散させた後、カールフィッシャー法により、凝集体(G)中の水分量を測定し、凝集体(G)全体に対する含水率(WC)を算出した。
[3-2] Measurement of water content (WC) of aggregate (G) A predetermined amount of the aggregate (G) was collected and dispersed in a soluble solvent, and then the aggregate (G) was analyzed by Karl Fischer method. The water content was measured, and the water content (WC) relative to the entire aggregate (G) was calculated.

[4]水相中に含まれるコアシェルポリマー(B)成分の定量
実施例および比較例で記載の方法により排出された水相の一部を取り、120℃にて十分乾燥させて得られる残渣を、これを水相中に含まれるコアシェルポリマー(B)成分量とした。
[4] Quantification of the core-shell polymer (B) component contained in the aqueous phase A part of the aqueous phase discharged by the method described in Examples and Comparative Examples is taken and sufficiently dried at 120 ° C. to obtain a residue This was defined as the amount of the core-shell polymer (B) component contained in the aqueous phase.

[5]エポキシ樹脂組成物中の揮発成分
実施例および比較例においては、エポキシ樹脂組成物を得るために、下記に定義する揮発成分が5000ppmに達するまで減圧留去を継続した。エポキシ樹脂組成物約3gを精秤後、熱風乾燥機内にて設定温度170℃で20分間加熱し、加熱前後の質量を測定し、揮発による質量減少分の比率を揮発成分(ppm)として算出した。
[5] Volatile component in epoxy resin composition In Examples and Comparative Examples, in order to obtain an epoxy resin composition, vacuum distillation was continued until the volatile component defined below reached 5000 ppm. After precisely weighing about 3 g of the epoxy resin composition, it was heated in a hot air dryer at a set temperature of 170 ° C. for 20 minutes, the mass before and after heating was measured, and the ratio of the mass loss due to volatilization was calculated as the volatile component (ppm) .

[6]エポキシ樹脂組成物中のコアシェルポリマーの分散状態
[6−1]エポキシ樹脂硬化物の作製
作製したエポキシ樹脂組成物100質量部、硬化剤としてフェノール樹脂(群栄化学工業製PSM−4261)50質量部(オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を使用した実施例1、2)、あるいは硬化剤としてフェノール樹脂(三井化学製ミレックスXLC−LL)85質量部(フェノール型エポキシ樹脂を使用した実施例3、4)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィン(TPP)(ケイ・アイ化成製)2質量部、カルナバワックス(東亜化成製)2質量部、溶融シリカ(電気化学工業製FB−940A)900質量部、カップリング剤(信越化学製KBM−403)5質量部を石川式攪拌擂潰機((株)石川工場製)を用いて10分間予備混合した後、混練用2本ロール((株)井上製作所製)を用いて100℃にて5分間混練した。得られたエポキシ樹脂成形材料を、トランスファー成型機((株)丸七鉄工所製)を用いて、仕込量45g、成型温度175℃、成型圧力70kgf/cm2、トランスファーラム速度5cm/sec、成型時間3分の条件にてトランスファー成型し、短冊状(10×70×3mm)の硬化物を作製した。
[6] Dispersion state of core-shell polymer in epoxy resin composition [6-1] Preparation of cured epoxy resin 100 parts by mass of prepared epoxy resin, phenol resin as curing agent (PSM-4261 manufactured by Gunei Chemical Industry) 50 parts by mass (Examples 1 and 2 using ortho-cresol novolac type epoxy resin) or 85 parts by mass of phenol resin (Mirex XLC-LL manufactured by Mitsui Chemicals) as a curing agent (Example 3 using phenol type epoxy resin) 4) As a curing accelerator, 2 parts by mass of triphenylphosphine (TPP) (manufactured by Kei-I Kasei), 2 parts by mass of carnauba wax (manufactured by Toa Kasei), 900 parts by mass of fused silica (FB-940A manufactured by Denki Kagaku Kogyo), 5 parts by weight of coupling agent (Shin-Etsu Chemical KBM-403) was added to the Ishikawa-type stirring crusher (Ishikawa Factory Co., Ltd.) After premixing for 10 minutes we had was kneaded for 5 minutes at 100 ° C. using two rolls for kneading (Co. Inoue Seisakusho). The obtained epoxy resin molding material was prepared using a transfer molding machine (manufactured by Maru Nantu Iron Works Co., Ltd.) with a charge amount of 45 g, a molding temperature of 175 ° C., a molding pressure of 70 kgf / cm 2 , a transfer ram speed of 5 cm / sec, and molding. Transfer molding was carried out under conditions of 3 minutes to produce a strip-shaped (10 × 70 × 3 mm) cured product.

[6−2]透過型電子顕微鏡によるコアシェルポリマーの分散状態の観察
得られた硬化物の一部を切り出し、酸化オスミウムでコアシェルポリマー或いはゴム粒子を染色処理した後に薄片を切り出し、透過型電子顕微鏡(日本電子製、JEM1200EX型)を用いて倍率10000倍にて観察してエポキシ樹脂硬化物中のコアシェルポリマーまたはゴム粒子の分散状態を下記の様に判定した。
○:90%(個数基準)以上の数の個々のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散している。
○〜△:70%(個数基準)以上、90%(個数基準)未満の数の個々のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散している。
△:10%(個数基準)以上、70%(個数基準)未満の数のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散している。
×:10%(個数基準)未満の数のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散している。
[6-2] Observation of dispersion state of core-shell polymer by transmission electron microscope A part of the obtained cured product was cut out, the core-shell polymer or rubber particles were dyed with osmium oxide, and then a slice was cut out to obtain a transmission electron microscope ( The dispersion state of the core-shell polymer or the rubber particles in the cured epoxy resin was determined as follows by observation using a JEM 1200EX type manufactured by JEOL Ltd. at a magnification of 10,000 times.
◯: 90% (number basis) The number of individual core-shell polymer particles is not agglomerated with each other in the epoxy resin and is dispersed independently.
○ to Δ: 70% (number basis) or more and less than 90% (number basis) of individual core-shell polymer particles do not aggregate with each other in the epoxy resin and are dispersed independently.
Δ: Core-shell polymer particles having a number of 10% (number basis) or more and less than 70% (number basis) do not aggregate with each other in the epoxy resin and are dispersed independently.
X: Core-shell polymer particles having a number of less than 10% (number basis) do not aggregate with each other in the epoxy resin and are dispersed independently of each other.

(製造例1) コアシェルポリマー(B)ラテックスの製造
100L耐圧重合機中に、水200質量部、リン酸三カリウム0.03質量部、リン酸二水素カリウム0.25質量部、エチレンジアミン4酢酸0.002質量部、硫酸第一鉄0.001質量部およびドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム1.5質量部を投入し、攪拌しつつ十分に窒素置換を行なって酸素を除いた後、ブタジエン75質量部およびスチレン25質量部を系中に投入し、45℃に昇温した。パラメンタンハイドロパーオキサイド0.015質量部、続いてナトリウムホルムアルデヒドスルホキシレート0.04質量部を投入し重合を開始した。重合開始から4時間目に、パラメンタンハイドロパーオキサイド0.01質量部、エチレンジアミン4酢酸0.0015質量部および硫酸第一鉄0.001質量部を投入した。重合10時間目に減圧下残存モノマーを脱揮除去し、重合を終了した。重合転化率は98%、得られたスチレン−ブタジエンゴムラテックスの体積平均粒径は0.1μmであった。
Production Example 1 Production of Core-Shell Polymer (B) Latex In a 100 L pressure-resistant polymerization machine, 200 parts by mass of water, 0.03 parts by mass of tripotassium phosphate, 0.25 parts by mass of potassium dihydrogen phosphate, 0 ethylenediaminetetraacetic acid 0.002 part by mass, ferrous sulfate 0.001 part by mass and sodium dodecylbenzenesulfonate 1.5 part by mass were charged with sufficient nitrogen substitution while stirring to remove oxygen, and then 75 parts by mass of butadiene and 25 parts by mass of styrene was charged into the system, and the temperature was raised to 45 ° C. Polymerization was initiated by adding 0.015 parts by mass of paramentane hydroperoxide and then 0.04 parts by mass of sodium formaldehyde sulfoxylate. Four hours after the start of polymerization, 0.01 part by mass of paramentane hydroperoxide, 0.0015 part by mass of ethylenediaminetetraacetic acid and 0.001 part by mass of ferrous sulfate were added. At 10 hours after the polymerization, the residual monomer was removed by devolatilization under reduced pressure to complete the polymerization. The polymerization conversion was 98%, and the volume average particle size of the obtained styrene-butadiene rubber latex was 0.1 μm.

3Lガラス容器に、前記ゴムラテックス1300g(スチレン−ブタジエンゴム粒子420gを含み、乳化剤としてゴムの固形分に対して1.5質量%のドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを含む)および純水440gを仕込み、窒素置換を行いながら70℃で攪拌した。アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)1.2gを加えた後、スチレン60g、メタクリル酸メチル50g、アクリロニトリル30g、メタクリル酸グリシジル40gの混合物を3時間かけて連続的に添加しグラフト重合した。添加終了後、更に2時間攪拌して反応を終了させ、コアシェルポリマー(B)のラテックスを得た。重合転化率は99.5%であった。得られたラテックスはそのまま使用した。   Into a 3 L glass container, 1300 g of the rubber latex (containing 420 g of styrene-butadiene rubber particles and 1.5% by mass of sodium dodecylbenzenesulfonate based on the solid content of the rubber as an emulsifier) and 440 g of pure water were charged. It stirred at 70 degreeC, performing substitution. After 1.2 g of azobisisobutyronitrile (AIBN) was added, a mixture of 60 g of styrene, 50 g of methyl methacrylate, 30 g of acrylonitrile, and 40 g of glycidyl methacrylate was continuously added over 3 hours for graft polymerization. After completion of the addition, the reaction was terminated by further stirring for 2 hours to obtain a latex of the core-shell polymer (B). The polymerization conversion rate was 99.5%. The obtained latex was used as it was.

(実施例1)
攪拌機付き1L槽(内径100mm、翼径75mmの4枚平パドル翼を軸方向に3段設置した攪拌機)にメチルエチルケトン(20℃での水の溶解度、10質量%)126gを入れ、500rpmの撹拌下に製造例1で得られたコアシェルポリマー(B)の水性ラテックス126gを投入した。均一に混合後、500rpmの撹拌下に水200gを80g/分の供給速度で添加した。供給終了後、速やかに攪拌を停止したところ、浮上性の凝集体(G)および有機溶媒を一部含む水相からなるスラリー液を得た。次に、一部の水相を含む凝集体(G)を残し、水相を槽下部の払い出し口より348g排出させた。一部の水相を含む凝集体(G)は104gであり、その有機溶媒の比率は、凝集体全体の質量に対して39質量%であった。凝集体(G)は浮上性を有しており、凝集体は粒径分布をもつ粒子であり、一部をサンプリングして画像解析したところ、その数平均粒径は約5mmであった。また、排出された水相中のコアシェルポリマー(B)成分の濃度は0.1質量%であった。得られた凝集体(G)を吸引瓶つきフィルタで濾過脱水し、箱型乾燥機を用いて窒素雰囲気で40℃にて12時間乾燥してコアシェルポリマー(B)粒子を得た。得られた凝集体の一部をサンプリングして、メチルエチルケトンを加えて、分散ドープを作製して、残存する乳化剤および電解質を測定した結果、除去率はそれぞれ95%、90%であった。得られた凝集体50.0gにメチルエチルケトン65gを加え、毎分500回転の撹拌条件で30分混合し、コアシェルポリマーを均一に分散した分散体を得た。この分散体をジャケットおよび撹拌機付き1L槽(内径100mm、翼型90mmのアンカー翼を設置した攪拌機)に移し、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友化学(株)製スミエポキシESCN 195XL−4)169.0gを加えて均一混合後、ジャケット温度を110℃に設定し、真空ポンプ(油回転式真空ポンプ、佐藤真空株式会社製TSW−150)を用い、揮発成分が減圧下に所定の濃度(5000ppm)に達するまで留去を継続した。槽内に窒素ガスを導入して内圧を大気圧に戻した後、内容物を溶融状態のままフッ素系樹脂シートの上に払い出して放冷固化させ、粉砕して淡黄色のフレーク状のエポキシ樹脂組成物(絶縁膜用硬化性樹脂組成物)を得た。揮発に要した時間は4時間であった。このエポキシ樹脂組成物中のアルカリ金属イオン含有量は9.0ppmであった。また残存乳化剤量は53ppmであった。このエポキシ樹脂組成物より得られた硬化物中のコアシェルポリマーの分散状態を観察した結果、凝集なく均一に分散されていた(90%(個数基準)以上の数の個々のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散していた)。
Example 1
126 g of methyl ethyl ketone (water solubility at 20 ° C., 10% by mass) in a 1 L tank with a stirrer (a stirrer in which three flat paddle blades with an inner diameter of 100 mm and a blade diameter of 75 mm are installed in three stages in the axial direction) are placed and stirred at 500 rpm. 126 g of the aqueous latex of the core-shell polymer (B) obtained in Production Example 1 was added. After mixing uniformly, 200 g of water was added at a feed rate of 80 g / min with stirring at 500 rpm. When the stirring was stopped immediately after completion of the supply, a slurry liquid composed of a floating phase (G) and an aqueous phase partially containing an organic solvent was obtained. Next, an agglomerate (G) containing a part of the aqueous phase was left, and 348 g of the aqueous phase was discharged from the discharge port at the bottom of the tank. The aggregate (G) containing a part of the aqueous phase was 104 g, and the ratio of the organic solvent was 39% by mass with respect to the mass of the entire aggregate. Aggregate (G) has floating properties, and the aggregate is a particle having a particle size distribution. When a part of the aggregate (G) was subjected to image analysis, the number average particle size was about 5 mm. Moreover, the density | concentration of the core-shell polymer (B) component in the discharged | emitted aqueous phase was 0.1 mass%. The obtained aggregate (G) was filtered and dehydrated with a filter with a suction bottle, and dried in a nitrogen atmosphere at 40 ° C. for 12 hours using a box dryer to obtain core-shell polymer (B) particles. A part of the obtained aggregate was sampled, methyl ethyl ketone was added to prepare a dispersion dope, and the remaining emulsifier and electrolyte were measured. As a result, the removal rates were 95% and 90%, respectively. 65 g of methyl ethyl ketone was added to 50.0 g of the obtained aggregate and mixed for 30 minutes under a stirring condition of 500 revolutions per minute to obtain a dispersion in which the core-shell polymer was uniformly dispersed. This dispersion was transferred to a 1 L tank equipped with a jacket and a stirrer (stirrer equipped with an anchor blade having an inner diameter of 100 mm and an airfoil of 90 mm), and ortho-cresol novolac type epoxy resin (Sumitomo Chemical Co., Ltd. Sumiepoxy ESCN 195XL-4) 169. After adding 0 g and mixing uniformly, the jacket temperature was set to 110 ° C., and the vacuum pump (oil rotary vacuum pump, TSW-150 manufactured by Sato Vacuum Co., Ltd.) was used, and the volatile components were at a predetermined concentration (5000 ppm) under reduced pressure. Distillation was continued until reached. After introducing nitrogen gas into the tank and returning the internal pressure to atmospheric pressure, the contents are discharged in a molten state onto a fluororesin sheet, allowed to cool and solidify, and pulverized to give a pale yellow flaky epoxy resin A composition (curable resin composition for insulating film) was obtained. The time required for volatilization was 4 hours. The alkali metal ion content in the epoxy resin composition was 9.0 ppm. The residual emulsifier amount was 53 ppm. As a result of observing the dispersion state of the core-shell polymer in the cured product obtained from this epoxy resin composition, it was found that 90% (number basis) individual core-shell polymer particles were uniformly dispersed without aggregation. They did not aggregate with each other in the resin and were dispersed independently).

(実施例2)
攪拌機付き1L槽(内径100mm、翼径56mmの三方後退翼を設置した攪拌機)にメチルエチルケトン144gを入れ、400rpmの撹拌下に製造例1で得られたコアシェルポリマー(B)の水性ラテックス144gを投入し、均一に混合した。攪拌を停止した状態で、水207gを槽下部の払い出し口より静かに導入した後、400rpmの撹拌下に2分間攪拌した。攪拌終了後、凝集体(G)(浮上性)と有機溶媒を含む水相からなるスラリー液を得た。次に、一部の水相を含む凝集体(G)を残し、水相を槽下部の払い出し口より373g排出させた。一部の水相を含む凝集体(G)は122gであり、その有機溶媒の比率は、凝集体(G)全体の質量に対して45質量%であった。凝集体(G)の数平均粒径は約5mmであった。また、排出された水相中のコアシェルポリマー(B)成分の濃度は0.2質量%であった。以下、実施例1と同様の操作により、コアシェルポリマー(B)粒子を得た。得られた凝集体の一部をサンプリングして、メチルエチルケトンを加えて、分散ドープを作製し、残存する乳化剤および電解質を測定した結果、除去率はそれぞれ92%、87%であった。得られた凝集体70.0gにメチルエチルケトン120gを加え、毎分500回転の撹拌条件で30分混合し、コアシェルポリマー(B)を均一に分散した分散体(E)を得た。この分散体(E)をジャケットおよび撹拌機付き1L槽(内径100mm、翼型90mmのアンカー翼を設置した攪拌機)に移し、ビフェニル型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製YX4000H)117.8gを加えて均一混合後、ジャケット温度を90℃に設定し、真空ポンプ(油回転式真空ポンプ、佐藤真空株式会社製TSW−150)を用い、揮発成分が減圧下に所定の濃度(5000ppm)に達するまで留去を継続した。槽内に窒素ガスを導入して内圧を大気圧に戻した後、内容物を溶融状態のままフッ素系樹脂シートの上に払い出して放冷固化させ、粉砕して淡黄色のフレーク状のエポキシ樹脂組成物を得た。揮発に要した時間は5時間であった。このエポキシ樹脂組成物中のアルカリ金属イオン含有量は19.6ppmであった。また残存乳化剤量は47ppmであった。このエポキシ樹脂組成物より得られた硬化物中のコアシェルポリマー(B)の分散状態を観察した結果、凝集なく均一に分散されていた(90%(個数基準)以上の数の個々のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散していた)。
(Example 2)
Into a 1 L tank with a stirrer (stirrer equipped with a three-way receding blade having an inner diameter of 100 mm and a blade diameter of 56 mm), 144 g of methyl ethyl ketone was added, and 144 g of the aqueous latex of the core-shell polymer (B) obtained in Production Example 1 was added while stirring at 400 rpm. And mixed uniformly. While stirring was stopped, 207 g of water was gently introduced from the outlet at the bottom of the tank, and then stirred for 2 minutes under stirring at 400 rpm. After the completion of stirring, a slurry liquid composed of an aqueous phase containing an aggregate (G) (floating property) and an organic solvent was obtained. Next, agglomerates (G) containing a part of the aqueous phase remained, and 373 g of the aqueous phase was discharged from the discharge port at the bottom of the tank. The aggregate (G) containing a part of the aqueous phase was 122 g, and the ratio of the organic solvent was 45% by mass with respect to the mass of the entire aggregate (G). The number average particle diameter of the aggregate (G) was about 5 mm. Moreover, the density | concentration of the core-shell polymer (B) component in the discharged | emitted aqueous phase was 0.2 mass%. Thereafter, core-shell polymer (B) particles were obtained in the same manner as in Example 1. A part of the obtained aggregate was sampled, methyl ethyl ketone was added to prepare a dispersion dope, and the remaining emulsifier and electrolyte were measured. As a result, the removal rates were 92% and 87%, respectively. 120 g of methyl ethyl ketone was added to 70.0 g of the obtained aggregate and mixed for 30 minutes under a stirring condition of 500 revolutions per minute to obtain a dispersion (E) in which the core-shell polymer (B) was uniformly dispersed. This dispersion (E) was transferred to a 1 L tank with a jacket and a stirrer (stirrer provided with an anchor blade having an inner diameter of 100 mm and a wing shape of 90 mm), and 117.8 g of a biphenyl type epoxy resin (YX4000H manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) In addition, after uniform mixing, the jacket temperature is set to 90 ° C., and a volatile component reaches a predetermined concentration (5000 ppm) under reduced pressure using a vacuum pump (oil rotary vacuum pump, TSW-150 manufactured by Sato Vacuum Co., Ltd.). Distillation was continued until. After introducing nitrogen gas into the tank and returning the internal pressure to atmospheric pressure, the contents are discharged in a molten state onto a fluororesin sheet, allowed to cool and solidify, and pulverized to give a pale yellow flaky epoxy resin A composition was obtained. The time required for volatilization was 5 hours. The alkali metal ion content in this epoxy resin composition was 19.6 ppm. The residual emulsifier amount was 47 ppm. As a result of observing the dispersion state of the core-shell polymer (B) in the cured product obtained from this epoxy resin composition, it was uniformly dispersed without aggregation (90% (number basis) or more individual core-shell polymer particles) However, they did not aggregate with each other in the epoxy resin and were dispersed independently).

(比較例1)
攪拌機付き1L槽(内径100mm、翼径75mmの4枚平パドル翼を軸方向に3段設置した攪拌機)に製造例1のコアシェルポリマー(B)の水性ラテックス500gを入れ、400rpmの撹拌下に凝固剤として35質量%塩化カルシウムCaCl2水溶液13gを投入し凝集物を生成させた。この凝集物を含むスラリーを攪拌下に60℃に加熱後、23℃まで冷却した。このスラリーを吸引瓶付きフィルタでろ過脱水した後、凝集物を箱型乾燥機を用いて40℃にて12時間乾燥してコアシェルポリマー(B)粒子パウダーを得た。
(Comparative Example 1)
500 g of the aqueous latex of the core-shell polymer (B) of Production Example 1 was placed in a 1 L tank with a stirrer (stirrer in which four flat paddle blades having an inner diameter of 100 mm and a blade diameter of 75 mm were installed in three stages in the axial direction), and coagulated with stirring at 400 rpm. As an agent, 13 g of 35% by mass calcium chloride CaCl 2 aqueous solution was added to form aggregates. The slurry containing the aggregate was heated to 60 ° C. with stirring, and then cooled to 23 ° C. This slurry was filtered and dehydrated with a filter with a suction bottle, and then the agglomerate was dried at 40 ° C. for 12 hours using a box dryer to obtain a core-shell polymer (B) particle powder.

得られたコアシェルポリマー(B)粒子パウダーをビフェニル型エポキシ樹脂成分に対して10質量%の割合で配合した以外は実施例2と同様の方法にて行った。このエポキシ樹脂組成物中のアルカリ金属イオン含有量は148ppmであった。このエポキシ樹脂組成物より得られた硬化物中のコアシェルポリマー(B)の分散状態を観察した結果、10%(個数基準)未満の数のコアシェルポリマー粒子が、エポキシ樹脂中でお互いに凝集せず、それぞれ独立して分散していた。 The same procedure as in Example 2 was performed except that the obtained core-shell polymer (B) particle powder was blended at a ratio of 10% by mass with respect to the biphenyl type epoxy resin component. The alkali metal ion content in this epoxy resin composition was 148 ppm. As a result of observing the dispersion state of the core-shell polymer (B) in the cured product obtained from this epoxy resin composition, core-shell polymer particles having a number of less than 10% (number basis) did not aggregate with each other in the epoxy resin. , Each was distributed independently.

以上の結果より、コアシェルポリマーの良好な分散が得られると同時にクラック発生の原因となる乳化剤及び金属イオンの残存量を低減することができ、クラック発生の抑制、高絶縁性、露光時の微細形状形成性が達成可能となる。   From the above results, good dispersion of the core-shell polymer can be obtained, and at the same time, the residual amount of emulsifier and metal ions that cause cracking can be reduced, cracking suppression, high insulation, fine shape during exposure Formability can be achieved.

Claims (14)

分散媒(A)と、ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)とを含み、
該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)が分散媒(A)中に1次粒子の状態で分散し、
前記分散媒が熱硬化性樹脂、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーからなる群より選択される1種以上であり、
前記熱硬化性樹脂が、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、及びポリウレタン樹脂からなる群より選択される1種以上であり、
前記重合性モノマーが、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上であり、
前記重合性オリゴマーが、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーであることを特徴とする絶縁膜改質用組成物。
A dispersion medium (A) and a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer,
At least 70% (based on the number) of the core-shell polymer (B) is dispersed in the state of primary particles in the dispersion medium (A),
The dispersion medium is a thermosetting resin, polymerizable monomers, and polymerizable oligomers over or Ranaru least one selected from the group,
The thermosetting resin is at least one selected from the group consisting of an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, and a polyurethane resin;
The polymerizable monomer is at least one selected from the group consisting of monofunctional acrylates, polyfunctional acrylates, epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl ether compounds;
The polymerizable oligomer is composed of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, and vinyl ether compound. A composition for modifying an insulating film, wherein the composition is one or more oligomers selected from the group.
前記コアシェルポリマー(B)の80%(個数基準)以上が、1次粒子の状態で分散している請求項1に記載の絶縁膜改質用組成物。   2. The composition for modifying an insulating film according to claim 1, wherein 80% (based on the number) of the core-shell polymer (B) is dispersed in the form of primary particles. 前記コアシェルポリマー(B)の体積平均粒子径が、10nm〜2000nmである請求項1又は2に記載の絶縁膜改質用組成物。   The composition for insulating film modification according to claim 1 or 2, wherein the core-shell polymer (B) has a volume average particle diameter of 10 nm to 2000 nm. アルカリ金属イオン含有量が、200ppm(質量基準)以下である請求項1〜3のいずれかに記載の絶縁膜改質用組成物。   The composition for insulating film modification according to claim 1, wherein the alkali metal ion content is 200 ppm (mass basis) or less. アニオン性乳化剤含有量が、2000ppm(質量基準)以下である請求項1〜4のいずれかに記載の絶縁膜改質用組成物。   The composition for modifying an insulating film according to any one of claims 1 to 4, wherein the anionic emulsifier content is 2000 ppm (mass basis) or less. 請求項1〜5のいずれかに記載の絶縁膜改質用組成物と、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーからなる群より選択される1種以上であるマトリックス化し得る成分とを含有し、該重合性オリゴマーがカルボキシ基又は水酸基とエチレン性不飽和基とを有する光重合性プレポリマーを含むことを特徴とする絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The composition for modifying an insulating film according to any one of claims 1 to 5, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, a polyurethane resin, a polymerizable monomer, and a polymerizable oligomer A matrix-forming component that is at least one selected from the group consisting of: and the polymerizable oligomer contains a photopolymerizable prepolymer having a carboxy group or a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group. A curable resin composition for an insulating film. ゴム状弾性コア層を有するコアシェルポリマー(B)と、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シアナートエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、重合性モノマー、及び重合性オリゴマーからなる群より選択される1種以上であり、かつ重合性オリゴマーが必ず選択されるマトリックス化し得る成分とを含有し、該コアシェルポリマー(B)の少なくとも70%(個数基準)がマトリックス化し得る成分中に1次粒子の状態で分散し、該重合性オリゴマーがカルボキシ基又は水酸基とエチレン性不飽和基とを有する光重合性プレポリマーを含むことを特徴とする絶縁膜用硬化性樹脂組成物。 Selected from the group consisting of a core-shell polymer (B) having a rubber-like elastic core layer, an epoxy resin, an unsaturated polyester resin, a phenol resin, a silicone resin, a cyanate ester resin, a polyurethane resin, a polymerizable monomer, and a polymerizable oligomer. that der 1 or more is, and contains a component polymerizable oligomer can always matrixed Ru is selected, the core-shell polymer (B) of at least 70% (number basis) of primary particles in the component that may be matrixed A curable resin composition for an insulating film, wherein the polymerizable oligomer is dispersed in a state of the above, and the polymerizable oligomer contains a photopolymerizable prepolymer having a carboxy group or a hydroxyl group and an ethylenically unsaturated group. アルカリ金属イオン含有量が、30ppm(質量基準)以下である請求項6又は7に記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an insulating film according to claim 6 or 7, wherein the alkali metal ion content is 30 ppm (mass basis) or less. アニオン性乳化剤含有量が、100ppm(質量基準)以下である請求項6〜8のいずれかに記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an insulating film according to any one of claims 6 to 8, wherein an anionic emulsifier content is 100 ppm (mass basis) or less. 前記重合性モノマーが、単官能性アクリレート、多官能性アクリレート、エポキシ化合物、オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上である請求項6又は7に記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable composition for an insulating film according to claim 6 or 7, wherein the polymerizable monomer is at least one selected from the group consisting of a monofunctional acrylate, a polyfunctional acrylate, an epoxy compound, an oxetane compound, and a vinyl ether compound. Resin composition. 前記重合性オリゴマーが、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、共重合系アクリレート、ポリブタジエンアクリレート、脂環式エポキシ化合物、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、多官能性オキセタン化合物、及びビニルエーテル化合物からなる群より選択される1種以上のオリゴマーをさらに含む請求項6又は7に記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The polymerizable oligomer is composed of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, copolymer acrylate, polybutadiene acrylate, alicyclic epoxy compound, glycidyl ether type epoxy compound, polyfunctional oxetane compound, and vinyl ether compound. The curable resin composition for an insulating film according to claim 6 or 7, further comprising at least one oligomer selected from the group. 前記重合性モノマー及び前記重合性オリゴマーの重合物がアルカリ可溶性樹脂を含む請求項6〜11のいずれかに記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an insulating film according to any one of claims 6 to 11, wherein a polymer of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer contains an alkali-soluble resin. 前記重合性モノマー及び前記重合性オリゴマーの重合物がアルカリ不溶性樹脂を含む請求項6〜11のいずれかに記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for an insulating film according to any one of claims 6 to 11, wherein a polymer of the polymerizable monomer and the polymerizable oligomer contains an alkali-insoluble resin. ソルダーレジスト材料、ビルドアップ材料、プリプレグ材料、又はフレキシブルプリント基板用接着剤に使用される請求項6〜13のいずれかに記載の絶縁膜用硬化性樹脂組成物。   The curable resin composition for insulating films according to any one of claims 6 to 13, which is used for a solder resist material, a build-up material, a prepreg material, or an adhesive for a flexible printed circuit board.
JP2014230918A 2014-11-13 2014-11-13 Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition Active JP6574327B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014230918A JP6574327B2 (en) 2014-11-13 2014-11-13 Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014230918A JP6574327B2 (en) 2014-11-13 2014-11-13 Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016094527A JP2016094527A (en) 2016-05-26
JP6574327B2 true JP6574327B2 (en) 2019-09-11

Family

ID=56071576

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014230918A Active JP6574327B2 (en) 2014-11-13 2014-11-13 Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6574327B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3626777A4 (en) * 2017-05-19 2021-04-07 Kaneka Corporation Solvent composition and production method therefor
CN109054622A (en) * 2018-07-17 2018-12-21 佛山市龙谊电子科技有限公司 A kind of LED circuit board surface layer protective paint and preparation method thereof
EP3929226A4 (en) * 2019-02-18 2022-04-13 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9701822B2 (en) * 2012-02-07 2017-07-11 Kaneka Corporation Toughness modifier for curable resin, and curable resin composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016094527A (en) 2016-05-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI389968B (en) Epoxy resin composition and epoxy resin molding material for sealing semiconductor
JP4668788B2 (en) Method for producing modified epoxy resin
JP5605825B2 (en) Liquid resin composition and cured product using the liquid resin composition
TWI761514B (en) Solvent composition and method for producing the same
JP6215712B2 (en) Toughness modifier for curable resin and curable resin composition
JP6574327B2 (en) Insulating film modifying composition and insulating film curable resin composition
JP5045239B2 (en) Thermosetting resin composition, core-shell polymer, cured product
JP2004315572A (en) Method for producing epoxy resin composition
JP5205811B2 (en) Thermosetting resin composition, cured product
TW201309110A (en) Printed wiring board encapsulated by adhesive laminate comprising a di-isoimide, and process for preparing same
JPWO2020027189A1 (en) Metal-clad laminate, printed wiring board and its manufacturing method
JP2010001346A (en) Thermosetting resin composition and cured product
JP2012092356A (en) Core-shell polymer and cured product
JP2008291153A (en) Thermosetting resin composition, core-shell polymer and cured product
JP2010174066A (en) Polymer fine particle dispersion composition and method for producing the same
JP2022135755A (en) Method for measuring density of polymer fine particles, and method for producing resin composition containing polymer fine particles
TW201311445A (en) Laminate comprising curable epoxy film layer comprising a di-isoimide and process for preparing same
JP5268233B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof
JP2011094069A (en) Cross-linked polymer particle-dispersed solid epoxy resin composition, and method for producing the same
JP2011026503A (en) Liquid resin composition containing polymer fine particles, and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170919

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180528

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180626

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180724

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181218

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190215

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20190215

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190723

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190816

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6574327

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250