JP6539234B2 - Composite sheet and method for manufacturing the same - Google Patents

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Description

本発明は補強シートと、熱伝導性シリコーンゴムシート層とを含む層が積層されている複合シートに関する。   The present invention relates to a composite sheet in which a layer including a reinforcing sheet and a thermally conductive silicone rubber sheet layer is laminated.

シリコーンエラストマーとプラスチックフィルム又は金属シート等の基材シートとの複合シートとして、基材シート上にシリコーン組成物を接触させ、シリコーン組成物を硬化させた複合シートは知られている。例えば特許文献1〜3には樹脂などの基材とゴムをアルコキシシラン含有トリアジンチオール化合物からなる接着剤により熱圧着することが提案されている。特許文献4には樹脂とシリコーンゴムの接着面にコロナ放電、紫外線照射又はプラズマ処理をすることが提案されている。   A composite sheet obtained by bringing a silicone composition into contact with a substrate sheet and curing the silicone composition is known as a composite sheet of a silicone elastomer and a substrate sheet such as a plastic film or a metal sheet. For example, it is proposed in patent documents 1 to 3 that a base material such as a resin and a rubber are thermocompression-bonded by an adhesive composed of an alkoxysilane-containing triazine thiol compound. Patent Document 4 proposes performing corona discharge, ultraviolet irradiation or plasma treatment on the bonding surface of a resin and silicone rubber.

特開2007−119752号公報Japanese Patent Application Publication No. 2007-119752 特開2007−329302号公報JP 2007-329302 A 特許第5083926号公報Patent No. 5083926 特開2014−062224号公報JP, 2014-062224, A

しかし、熱伝導性シリコーンゴムは多量の熱伝導性フィラーを含有しているため、シリコーンポリマー相が少なく、一例として20体積%以下であり、硬化成形後のシート表面は平滑性が無く、基材シートとの積層一体化が困難であった。   However, since the thermally conductive silicone rubber contains a large amount of thermally conductive filler, the amount of the silicone polymer phase is small, for example, 20% by volume or less, and the sheet surface after curing and forming has no smoothness. It was difficult to laminate and integrate with the sheet.

本発明は前記従来の問題を解決するため、熱伝導性シリコーンゴム表面の平滑性を改善し、樹脂フィルムなどの基材シートと一体性を高めた複合シートを提供する。   In order to solve the above-mentioned conventional problems, the present invention provides a composite sheet which improves the smoothness of the thermally conductive silicone rubber surface and enhances the integrity with a substrate sheet such as a resin film.

本発明の複合シートは、ポリイミドフィルムからなる基材シートと、熱伝導性シリコーンゴムシート層とを含む層が積層一体化されている複合シートであって、前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の熱伝導率は0.6W/m・K以上であり、前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の積層一体化面はカレンダー加工により平滑面とされ、前記平滑面はコロナ、プラズマ、紫外線及び電子線照射から選ばれる少なくとも一つの表面活性化されており、前記基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層とは共有結合により積層一体化されており、積層面の剥離部は凝集破壊する状態であることを特徴とする。 The composite sheet of the present invention is a composite sheet in which a layer including a substrate sheet made of a polyimide film and a thermally conductive silicone rubber sheet layer is laminated and integrated, and the thermally conductive silicone rubber sheet layer The conductivity is 0.6 W / m · K or more, the laminated and integrated surface of the heat conductive silicone rubber sheet layer is made smooth by calendering, and the smooth surface is exposed to corona, plasma, ultraviolet light and electron beam irradiation. The substrate sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer are laminated and integrated by covalent bonding, and at least one selected surface activation is performed, and the peeling portion of the laminated surface is in a state of cohesive failure. It is characterized by

本発明の複合シートの製造方法は、前記複合シートを製造する方法であって、熱伝導率が0.6W/m・K以上の熱伝導性シリコーンゴムシートをカレンダー加工し、少なくとも積層面を平滑面とし、前記平滑面をコロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射処理及び電子線処理から選ばれる少なくとも一つの表面活性化処理し、基材シートの積層面に窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物をコーティングし、樹脂シート及び金属シートから選ばれる少なくとも一つの基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層を圧着して積層一体化することを特徴とする。   The method for producing a composite sheet according to the present invention is a method for producing the composite sheet, wherein a thermally conductive silicone rubber sheet having a thermal conductivity of 0.6 W / m · K or more is calendered to smooth at least the lamination surface. The smooth surface is subjected to at least one surface activation treatment selected from corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment and electron beam treatment, and the laminated surface of the substrate sheet contains nitrogen (N) and silicon (Si) A compound is coated, and at least one base sheet selected from a resin sheet and a metal sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer are pressure-bonded and integrally laminated.

本発明の複合シートは、熱伝導性シリコーンゴムシートの少なくとも積層面を平滑面としておき、表面活性化し、基材シートの積層面に窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物をコーティングし、両者を圧着することにより、熱伝導性シリコーンゴムシートと基材シートは共有結合により一体化し、積層面の剥離部は凝集破壊するほどの強力な一体化構造の複合シートにすることができる。   In the composite sheet of the present invention, at least the lamination surface of the heat conductive silicone rubber sheet is smooth and surface activated, and the lamination surface of the substrate sheet is coated with a compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) By pressure bonding the two, the thermally conductive silicone rubber sheet and the base sheet can be integrated by covalent bonding, and the peeling portion of the laminated surface can be made into a composite sheet having a strong integrated structure that causes cohesive failure.

図1Aは本発明の一実施形態の複合シートの斜視図、図1Bは図1AのI−I線拡大断面図である。FIG. 1A is a perspective view of a composite sheet according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view taken along the line II of FIG. 1A. 図2Aは同、熱伝導性シリコーンゴムシートのカレンダー加工による平滑処理を示す断面図、図2Bはカレンダー加工後の熱伝導性シリコーンゴムシートの断面図である。FIG. 2A is a cross-sectional view showing the smoothing process of the thermally conductive silicone rubber sheet by calendering, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the thermally conductive silicone rubber sheet after calendering. 図3A−Eは同、バーコーターによるポリイミドフィルムの表面処理の説明図である。FIGS. 3A to 3E are explanatory views of the surface treatment of the polyimide film by the bar coater. 図4A−Dは同、カレンダー加工による平滑処理とコロナ処理による表面活性化処理後の熱伝導性シリコーンゴムシートと、表面処理後のポリイミドフィルムを圧着する説明図である。FIGS. 4A to 4D are explanatory views of pressure bonding of the thermally conductive silicone rubber sheet after the smoothing treatment by calendering and the surface activation treatment by corona treatment, and the polyimide film after the surface treatment. 図5は本発明の一実施例の塗布溶液中のA-TES濃度と接着力を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing the A-TES concentration and adhesion in the coating solution of one embodiment of the present invention. 図6は本発明の一実施例の接着時間と接着力を示すグラフである。FIG. 6 is a graph showing adhesion time and adhesion of one embodiment of the present invention.

本発明は、樹脂シート及び金属シートから選ばれる少なくとも一つの基材シートと、熱伝導性シリコーンゴムシート層とを含む層が積層一体化されている複合シートである。熱伝導性シリコーンゴムシート層には織物層などの補強層を入れても良い。熱伝導性シリコーンゴムシート層の熱伝導率は0.6W/m・K以上である。一例として、シリコーンポリマー20体積%以下、熱伝導性粒子を80体積%以下とすることもできる。本発明の熱伝導性シリコーンゴムシートは、ゲル状の熱伝導性シリコーンゴムシートを含む。   The present invention is a composite sheet in which a layer including at least one base sheet selected from a resin sheet and a metal sheet, and a thermally conductive silicone rubber sheet layer is laminated and integrated. The heat conductive silicone rubber sheet layer may contain a reinforcing layer such as a fabric layer. The thermal conductivity of the thermally conductive silicone rubber sheet layer is 0.6 W / m · K or more. As an example, it is possible to make the silicone polymer 20 volume% or less and the thermally conductive particles 80 volume% or less. The thermally conductive silicone rubber sheet of the present invention comprises a gel-like thermally conductive silicone rubber sheet.

基材シートと熱伝導性シリコーンゴムシート層とは共有結合により積層一体化されている。共有結合は、窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物による共有結合が好ましい。より好ましくは、窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、アルコキシシリル基とアミノ基又はアジド基を含む化合物である。アミノ基又はアジド基は基材シートと共有結合しやすく、アルコキシシリル基は熱伝導性シリコーンゴムシートと共有結合し易い。   The base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer are integrally laminated by covalent bonding. The covalent bond is preferably a covalent bond by a compound containing nitrogen (N) and silicon (Si). More preferably, the compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is a compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group. The amino group or azide group tends to be covalently bonded to the base sheet, and the alkoxysilyl group easily bonds to the thermally conductive silicone rubber sheet.

積層面の剥離部は凝集破壊するほどの強力な一体化構造である。積層面の凝集破壊は熱伝導性シリコーンゴムシート層側で発生するのが好ましい。熱伝導性シリコーンゴムシート層のシリコーンポリマー相は少なく、この部分が凝集破壊し易い。この凝集破壊は薄膜状に凝集破壊するものも含む。   The peeling portion of the laminated surface is a strong integrated structure that causes cohesive failure. It is preferable that the cohesive failure of the laminated surface occurs on the heat conductive silicone rubber sheet layer side. The silicone polymer phase of the heat conductive silicone rubber sheet layer is small, and this portion is prone to cohesive failure. This cohesive failure includes those which cohesively break in a thin film.

基材シートと熱伝導性シリコーンゴムシート層との共有結合は、単分子接着又は複数分子接着の状態であるのが好ましい。このような状態とするには、接着分子を希薄溶液に溶解又は分散し、薄膜状態にコーティングすることにより得られる。接着分子を薄膜状態にコーティングすることにより、積層面を剥離したとき、凝集破壊するほどの強力な一体化構造が得られる。   The covalent bond between the substrate sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer is preferably in the state of single-molecule adhesion or multi-molecule adhesion. Such a state can be obtained by dissolving or dispersing adhesion molecules in a dilute solution and coating in a thin film state. By coating the adhesion molecules in a thin film state, when the laminated surface is peeled off, a strong integrated structure that can cause cohesive failure can be obtained.

樹脂シートはポリイミドフィルムであるのが好ましい。ポリイミドフィルムは前記接着分子のアミノ基又はアジド基と共有結合し易い。   The resin sheet is preferably a polyimide film. The polyimide film tends to be covalently bonded to the amino group or azide group of the adhesion molecule.

本発明の複合シートを製造する方法は、熱伝導率が0.6W/m・K以上の熱伝導性シリコーンゴムシートをカレンダー加工し、少なくとも積層面を平滑面とする。次いで、前記平滑面をコロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射処理及び電子線処理から選ばれる少なくとも一つの表面活性化処理をする。次に、基材シートの積層面に窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物をコーティングし、基材シートと熱伝導性シリコーンゴムシート層を積層一体化する。これにより基材シートとの強力な積層一体化構造が得られる。   In the method of producing the composite sheet of the present invention, a thermally conductive silicone rubber sheet having a thermal conductivity of 0.6 W / m · K or more is calendered to have at least a laminated surface as a smooth surface. Then, the smooth surface is subjected to at least one surface activation treatment selected from corona treatment, plasma treatment, ultraviolet radiation treatment and electron beam treatment. Next, a compound surface containing nitrogen (N) and silicon (Si) is coated on the laminated surface of the base sheet to integrally integrate the base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer. Thereby, a strong laminated integrated structure with the substrate sheet is obtained.

熱伝導性シリコーンゴムシート層の平滑面は、算術平均粗さRaが3μm以下であるのが好ましく、より好ましい算術平均粗さRaは2μm以下である。算術平均粗さRaが2μm以下になると光沢を有する平滑面となる。平滑であるほど強力な一体化ができる。 The smooth surface of the heat conductive silicone rubber sheet layer preferably has an arithmetic average roughness Ra of 3 μm or less, and more preferably 2 μm or less. When the arithmetic average roughness Ra is 2 μm or less, it becomes a smooth surface having gloss. The smoother, the stronger the integration.

前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、アルコキシシリル基とアミノ基又はアジド基を含む化合物であるのが好ましい。アミノ基又はアジド基は基材シートと共有結合しやすく、アルコキシシリル基は熱伝導性シリコーンゴムシートと共有結合し易い。例えば、Si(OR)3−A−NH2(但し、Rはメチル基、エチル基、プロピル基、Aは任意の有機基)の化合物の場合、熱伝導性シリコーンゴムシート−O−Si(OR)2−A−NH−基材シートの形で共有結合する。 The compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is preferably a compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group. The amino group or azide group tends to be covalently bonded to the base sheet, and the alkoxysilyl group easily bonds to the thermally conductive silicone rubber sheet. For example, in the case of a compound of Si (OR) 3 -A-NH 2 (where R is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and A is any organic group), the thermally conductive silicone rubber sheet -O-Si (OR 2 ) Covalently bond in the form of a 2- A-NH-substrate sheet.

前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、水及び有機溶媒から選ばれる少なくとも一つの希釈液で希釈してコーティングするのが好ましい。希釈液中の前記化合物の濃度は0.005質量%以上が好ましい。より好ましくは0.05〜1質量%である。前記化合物の単位面積当たりの塗布量は乾燥質量で0.0011g/m2以上が好ましく、より好ましくは0.0011〜0.2275g/m2である。有機溶媒としてはエタノール又はエタノール−水混合液が好ましい。 The compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is preferably diluted and coated with at least one diluent selected from water and an organic solvent. The concentration of the compound in the diluent is preferably 0.005% by mass or more. More preferably, it is 0.05-1 mass%. The coating amount per unit area of the compound is preferably 0.0011 g / m 2 or more, more preferably 0.0011 to 0.2275 g / m 2 , in dry mass. As the organic solvent, ethanol or ethanol-water mixed solution is preferable.

基材シートと熱伝導性シリコーンゴムシート層の積層一体化は、ロール加圧及びプレート加圧から選ばれる少なくとも一つの加圧で一体化するのが好ましい。プレート加圧は少量生産に好適であり、ロール加圧は大量生産に好適である。基材シートと熱伝導性シリコーンゴムシート層の積層一体化は、下記の条件が好ましい。
(a)圧力:0.01〜0.1MPaが好ましく、さらに好ましくは0.02〜0.09MPaである。
(b)温度:40〜130℃が好ましく、さらに好ましくは45〜125℃である。
(c)時間:0.2〜10時間が好ましく、さらに好ましくは0.5〜5時間である。
The lamination and integration of the base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer is preferably performed by at least one pressure selected from roll pressure and plate pressure. Plate pressurization is suitable for small volume production, and roll pressurization is suitable for mass production. The following conditions are preferable for lamination integration of a base material sheet and a heat conductive silicone rubber sheet layer.
(a) Pressure: 0.01 to 0.1 MPa is preferable, and more preferably 0.02 to 0.09 MPa.
(b) Temperature: 40-130 degreeC is preferable, More preferably, it is 45-125 degreeC.
(c) time: preferably 0.2 to 10 hours, more preferably 0.5 to 5 hours.

熱伝導性シリコーンゴムシートの主成分であるシリコーンポリマーは、一般的には線状のポリジオルガノシロサキンである。かかる線状ポリジオルガノシロキサンは、ジオルガノシロキサン単位で構成され、ポリマーの末端は、水酸基、水素原子、1価の有機基、トリメトキシシリル基などの加水分解性基を有するシリル基などで封鎖されている。一部にモノオルガノシロキサン単位も含む分岐状ポリシロキサンを使用することもできる。基材用組成物の主成分であるシリコーンポリマーには、トリオルガノシロキサン単位、ジオルガノシロキサン単位、モノオルガノシロキサン単位、SiO2単位で構成される網目状ポリシロキサン、樹脂状ポリシロキサンを使用することもできる。 The silicone polymer which is the main component of the heat conductive silicone rubber sheet is generally linear polydiorganosiloxacin. The linear polydiorganosiloxane is composed of diorganosiloxane units, and the end of the polymer is blocked with a hydroxyl group, a hydrogen atom, a monovalent organic group, or a silyl group having a hydrolyzable group such as trimethoxysilyl group. ing. It is also possible to use branched polysiloxanes which also contain monoorganosiloxane units in part. As a silicone polymer which is a main component of the composition for a substrate, a network-like polysiloxane composed of a triorganosiloxane unit, a diorganosiloxane unit, a monoorganosiloxane unit, and a SiO 2 unit, and a resinous polysiloxane are used. You can also.

かかるシリコーンポリマーの有機基には、メチル基などのアルキル基、フェニル基などのアリール基、1,1,1-トリフルオロプロピル基などの置換アルキル基、ビニル基などのアルケニル基などが使用される。特に大部分の有機基はメチル基であるのが一般的である。過酸化物による硬化をコントロールしたり、ヒドロシリル化反応による付加硬化させるためにはビニル基などのアルケニル基を適切な量使用する。高屈折率の基材や低温でゴム状を維持できる基材を形成する場合には、フェニル基を使用する。表面張力を低くする、耐油性を向上させるためには1,1,1-トリフルオロプロピル基などを使用する。   As the organic group of such silicone polymer, an alkyl group such as methyl group, an aryl group such as phenyl group, a substituted alkyl group such as 1,1,1-trifluoropropyl group, an alkenyl group such as vinyl group, etc. are used . In particular, most of the organic groups are generally methyl groups. An appropriate amount of an alkenyl group such as a vinyl group is used to control peroxide curing or addition curing by a hydrosilylation reaction. In the case of forming a substrate having a high refractive index or a substrate capable of maintaining a rubbery state at low temperature, a phenyl group is used. In order to lower surface tension and improve oil resistance, 1,1,1-trifluoropropyl group is used.

マトリックス樹脂がオルガノポリシロキサンの場合は、一例として下記組成のコンパウンドを硬化して得る。
(A)ベースポリマー成分:1分子中に平均2個以上かつ分子鎖両末端のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有する直鎖状オルガノポリシロキサン
(B)架橋成分:1分子中に平均2個以上のケイ素原子に結合した水素原子を含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンが、前記A成分中のケイ素原子結合アルケニル基1モルに対して、1モル未満の量
(C)白金系金属触媒:A成分に対して重量単位で0.01〜1000ppm
(D)熱伝導性粒子:マトリックス樹脂100重量部に対して100〜2000重量部
(E)その他の成分
When the matrix resin is an organopolysiloxane, a compound having the following composition is obtained by curing, as an example.
(A) Base polymer component: linear organopolysiloxane having an average of 2 or more per molecule and an alkenyl group bonded to a silicon atom at both ends of the molecular chain (B) Crosslinking component: 2 in average per molecule The amount of organohydrogenpolysiloxane containing hydrogen atoms bonded to the above silicon atoms is less than 1 mole relative to 1 mole of silicon-bonded alkenyl groups in the component A (C) Platinum-based metal catalyst: Component A Against 0.01 to 1000 ppm by weight
(D) thermally conductive particles: 100 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of matrix resin (E) other components

(1)ベースポリマー成分(A成分)
ベースポリマー成分(A成分)は、一分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上含有するオルガノポリシロキサンであり、アルケニル基を2個含有するオルガノポリシロキサンは本発明のシリコーンゴム組成物における主剤(ベースポリマー成分)である。このオルガノポリシロキサンは、アルケニル基として、ビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6の、ケイ素原子に結合したアルケニル基を一分子中に2個有する。粘度は25℃で10〜1000000mPa・s、特に100〜100000mPa・sであることが作業性、硬化性などから望ましい。
(1) Base polymer component (A component)
The base polymer component (component A) is an organopolysiloxane containing two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organopolysiloxane containing two alkenyl groups is the silicone rubber composition of the present invention Main component (base polymer component) in This organopolysiloxane has, as alkenyl groups, two alkenyl groups each having 2 to 8 carbon atoms, particularly 2 to 6 carbon atoms, such as a vinyl group or allyl group, bonded to a silicon atom in one molecule. It is desirable from the viewpoint of workability, curability, etc. that the viscosity is 10 to 1,000,000 mPa · s, particularly 100 to 100,000 mPa · s at 25 ° C.

具体的には、下記一般式(化1)で表される1分子中に平均2個以上かつ分子鎖末端のケイ素原子に結合したアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサンを使用する。側鎖はトリオルガノシロキシ基で封鎖された直鎖状オルガノポリシロキサンである。25℃における粘度は10〜1000000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。   Specifically, an organopolysiloxane having an average of 2 or more and an alkenyl group bonded to a silicon atom at the end of a molecular chain in one molecule represented by the following general formula (Formula 1) is used. The side chains are linear organopolysiloxanes blocked with triorganosiloxy groups. The viscosity at 25 ° C. is preferably 10 to 1,000,000 mPa · s from the viewpoint of workability and curability. In addition, this linear organopolysiloxane may contain a small amount of branched structure (trifunctional siloxane unit) in the molecular chain.

式中、R1は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R2はアルケニル基であり、kは0又は正の整数である。ここで、R1の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換の一価炭化水素基としては、例えば、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、並びに、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基、シアノエチル基等が挙げられる。R2のアルケニル基としては、例えば炭素原子数2〜6、特に2〜3のものが好ましく、具体的にはビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等が挙げられ、好ましくはビニル基である。一般式(1)において、kは、一般的には0≦k≦10000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦k≦2000、より好ましくは10≦k≦1200を満足する整数である。 In the formula, R 1 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no identical or different aliphatic unsaturated bond, R 2 is an alkenyl group, and k is 0 or a positive integer. Here, as the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond of R 1 , for example, one having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms is preferable, and specifically, Alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, neopentyl, hexyl, cyclohexyl, octyl, nonyl and decyl; Group, aryl groups such as tolyl group, xylyl group and naphthyl group, aralkyl groups such as benzyl group, phenylethyl group and phenylpropyl group, and part or all of hydrogen atoms of these groups are fluorine, bromine, chlorine, etc. Substituted by a halogen atom or cyano group, for example, a halogen such as chloromethyl group, chloropropyl group, bromoethyl group or trifluoropropyl group Alkyl group, cyanoethyl group and the like. The alkenyl group represented by R 2 is, for example, preferably one having 2 to 6 carbon atoms, and more preferably 2 to 3 carbon atoms, and specifically vinyl, allyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl and hexenyl groups. And a cyclohexenyl group etc., preferably a vinyl group. In the general formula (1), k is generally 0 or a positive integer satisfying 0 ≦ k ≦ 10,000, preferably an integer satisfying 5 ≦ k ≦ 2000, more preferably 10 ≦ k ≦ 1200. It is.

A成分のオルガノポリシロキサンとしては一分子中に例えばビニル基、アリル基等の炭素原子数2〜8、特に2〜6のケイ素原子に結合したアルケニル基を3個以上、通常、3〜30個、好ましくは、3〜20個程度有するオルガノポリシロキサンを併用しても良い。分子構造は直鎖状、環状、分岐状、三次元網状のいずれの分子構造のものであってもよい。好ましくは、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなり、分子鎖両末端がトリオルガノシロキシ基で封鎖された、25℃での粘度が10〜1000000mPa・s、特に100〜100000mPa・sの直鎖状オルガノポリシロキサンである。   As the organopolysiloxane of the component A, for example, 3 or more, usually 3 to 30 alkenyl groups bonded to silicon atoms having 2 to 8 carbon atoms, especially 2 to 6 carbon atoms, such as vinyl and allyl groups, in one molecule Preferably, organopolysiloxane having about 3 to 20 may be used in combination. The molecular structure may be linear, cyclic, branched or three-dimensional network molecular structure. Preferably, the main chain is a repeat of diorganosiloxane units, and both ends of the molecular chain are blocked with a triorganosiloxy group, and a linear chain having a viscosity of 10 to 1000000 mPa · s, particularly 100 to 100000 mPa · s at 25 ° C. -Like organopolysiloxane.

アルケニル基は分子のいずれかの部分に結合していればよい。例えば、分子鎖末端、あるいは分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合しているものを含んでも良い。なかでも下記一般式(化2)で表される分子鎖両末端のケイ素原子上にそれぞれ1〜3個のアルケニル基を有し(但し、この分子鎖末端のケイ素原子に結合したアルケニル基が、両末端合計で3個未満である場合には、分子鎖非末端(分子鎖途中)のケイ素原子に結合したアルケニル基を、(例えばジオルガノシロキサン単位中の置換基として)、少なくとも1個有する直鎖状オルガノポリシロキサンであって、上記でも述べた通り25℃における粘度が10〜1,000,000mPa・sのものが作業性、硬化性などから望ましい。なお、この直鎖状オルガノポリシロキサンは少量の分岐状構造(三官能性シロキサン単位)を分子鎖中に含有するものであってもよい。 The alkenyl group may be attached to any part of the molecule. For example, it may include one bound to a silicon atom at the end of a molecular chain or at the end of a molecular chain (in the middle of a molecular chain). Among them, one to three alkenyl groups are provided on the silicon atoms at both ends of the molecular chain represented by the following general formula (Formula 2) (however, the alkenyl group bonded to the silicon atom at the molecular chain ends is If it is less than 3 at both ends total, an alkenyl group bonded to a silicon atom at a molecular chain non-end (along the molecular chain), are closed at least one (as a substituent in the example diorganosiloxane units)) A linear organopolysiloxane having a viscosity of 10 to 1,000,000 mPa · s at 25 ° C. as described above is desirable from the viewpoint of workability and curability. In addition, this linear organopolysiloxane may contain a small amount of branched structure (trifunctional siloxane unit) in the molecular chain.

式中、R3は互いに同一又は異種の非置換又は置換一価炭化水素基であって、少なくとも1個がアルケニル基である。R4は互いに同一又は異種の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基であり、R5はアルケニル基であり、l,mは0又は正の整数である。ここで、R3の一価炭化水素基としては、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、オクテニル基等のアルケニル基や、これらの基の水素原子の一部又は全部をフッ素、臭素、塩素等のハロゲン原子、シアノ基等で置換したもの、例えばクロロメチル基、クロロプロピル基、ブロモエチル基、トリフロロプロピル基等のハロゲン置換アルキル基やシアノエチル基等が挙げられる。 In the formula, R 3 is an identical or different unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group, and at least one is an alkenyl group. R 4 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond which is the same as or different from one another, R 5 is an alkenyl group, and l and m are 0 or a positive integer. Here, as the monovalent hydrocarbon group for R 3 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, Alkyl group such as isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, neopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, octyl group, nonyl group and decyl group, aryl group such as phenyl group, tolyl group, xylyl group and naphthyl group, benzyl Groups, aralkyl groups such as phenylethyl group and phenylpropyl group, vinyl groups, allyl groups, propenyl groups, isopropenyl groups, butenyl groups, butenyl groups, hexenyl groups, alkenyl groups such as cyclohexenyl groups and octenyl groups, and hydrogens of these groups Some or all of the atoms are substituted with a halogen atom such as fluorine, bromine or chlorine, a cyano group or the like, for example, chloromethyl , Chloropropyl group, bromoethyl group, and a halogen-substituted alkyl group or cyanoethyl group such trifluoropropyl group.

また、R4の一価炭化水素基としても、炭素原子数1〜10、特に1〜6のものが好ましく、上記R1の具体例と同様のものが例示できるが、但しアルケニル基は含まない。R5のアルケニル基としては、例えば炭素数2〜6、特に炭素数2〜3のものが好ましく、具体的には前記式(化1)のR2と同じものが例示され、好ましくはビニル基である。 Also, as the monovalent hydrocarbon group for R 4 , those having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 6 carbon atoms are preferable, and the same ones as the specific examples of R 1 can be exemplified, but the alkenyl group is not included . The alkenyl group represented by R 5 is preferably, for example, one having 2 to 6 carbon atoms, and more preferably 2 to 3 carbon atoms, and specific examples thereof include the same as R 2 in the above formula (Formula 1). It is.

l,mは、一般的には0<l+m≦10000を満足する0又は正の整数であり、好ましくは5≦l+m≦2000、より好ましくは10≦l+m≦1200で、かつ0<l/(l+m)≦0.2、好ましくは、0.0011≦l/(l+m)≦0.1を満足する整数である。   l and m are generally 0 or a positive integer satisfying 0 <l + m ≦ 10000, preferably 5 ≦ l + m ≦ 2000, more preferably 10 ≦ l + m ≦ 1200, and 0 <l / (l + m And so forth), preferably 0.0011 ≦ l / (l + m) ≦ 0.1.

(2)架橋成分(B成分)
本発明のB成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンは架橋剤として作用するものであり、この成分中のSiH基とA成分中のアルケニル基とが付加反応(ヒドロシリル化)することにより硬化物を形成するものである。かかるオルガノハイドロジェンポリシロキサンは、一分子中にケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)を2個以上有するものであればいずれのものでもよく、このオルガノハイドロジェンポリシロキサンの分子構造は、直鎖状、環状、分岐状、三次元網状構造のいずれであってもよいが、一分子中のケイ素原子の数(即ち、重合度)は2〜1000、特に2〜300程度のものを使用することができる。
(2) Crosslinking component (component B)
The organohydrogenpolysiloxane of component B of the present invention acts as a crosslinking agent, and forms a cured product by the addition reaction (hydrosilylation) between the SiH group in this component and the alkenyl group in component A. It is a thing. The organohydrogenpolysiloxane may be any one having two or more hydrogen atoms (i.e., SiH groups) bonded to a silicon atom in one molecule, and the molecular structure of this organohydrogenpolysiloxane is May be any of linear, cyclic, branched, and three-dimensional network structures, but the number of silicon atoms in one molecule (that is, the degree of polymerization) is 2 to 1000, and particularly about 2 to 300. It can be used.

水素原子が結合するケイ素原子の位置は特に制約はなく、分子鎖の末端でも非末端(途中)でもよい。また、水素原子以外のケイ素原子に結合した有機基としては、前記一般式(化1)のR1と同様の脂肪族不飽和結合を有さない非置換又は置換一価炭化水素基が挙げられる。 The position of the silicon atom to which the hydrogen atom is bonded is not particularly limited, and may be at the end of the molecular chain or at the end (on the way). Further, examples of the organic group bonded to a silicon atom other than a hydrogen atom include an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having no aliphatic unsaturated bond similar to R 1 in the general formula (Formula 1). .

B成分のオルガノハイドロジェンポリシロキサンとしては下記構造のものが例示できる。   As the organohydrogenpolysiloxane of the component B, one having the following structure can be exemplified.

上記の式中、Phはフェニル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アルコキシ基の少なくとも1種を含む有機基である。Lは0〜1,000の整数、特には0〜300の整数であり、Mは1〜200の整数である。)   In the above formulae, Ph is an organic group containing at least one of a phenyl group, an epoxy group, an acryloyl group, a methacryloyl group and an alkoxy group. L is an integer of 0 to 1,000, particularly an integer of 0 to 300, and M is an integer of 1 to 200. )

(3)触媒成分(C成分)
C成分の触媒成分は、本組成物の硬化を促進させる成分である。C成分としては、ヒドロシリル化反応に用いられる触媒として周知の触媒を用いることができる。例えば白金黒、塩化第2白金、塩化白金酸、塩化白金酸と一価アルコールとの反応物、塩化白金酸とオレフィン類やビニルシロキサンとの錯体、白金ビスアセトアセテート等の白金系触媒、パラジウム系触媒、ロジウム系触媒などの白金族金属触媒が挙げられる。C成分の配合量は、硬化に必要な量であればよく、所望の硬化速度などに応じて適宜調整することができる。A成分に対して金属原子重量として0.01〜1000ppm添加する。
(3) Catalyst component (C component)
The catalyst component of component C is a component that accelerates the curing of the present composition. As component C, a known catalyst can be used as a catalyst used for the hydrosilylation reaction. For example, platinum black, second platinum chloride, chloroplatinic acid, reaction product of chloroplatinic acid and monohydric alcohol, complex of chloroplatinic acid with olefins and vinylsiloxane, platinum-based catalyst such as platinum bisacetoacetate, palladium-based The catalyst includes platinum group metal catalysts such as rhodium based catalysts. The compounding amount of the component C may be any amount necessary for curing, and can be appropriately adjusted according to the desired curing speed and the like. 0.01-1000 ppm is added as a metal atom weight with respect to A component.

(4)熱伝導性粒子(D成分)
D成分の熱伝導性粒子を加える場合は、マトリックス成分100重量部に対して100〜2000重量部添加する。これにより熱伝導率を上げることができる。熱伝導粒子としては、アルミナ,酸化亜鉛,酸化マグネシウム、窒化アルミ、窒化ホウ素、水酸化アルミ及びシリカから選ばれる少なくとも一つであることが好ましい。形状は球状,鱗片状,多面体状等様々なものを使用できる。アルミナを使用する場合は、純度99.5重量%以上のα−アルミナが好ましい。熱伝導性粒子の比表面積は0.06〜10m2/gの範囲が好ましい。比表面積はBET比表面積であり、測定方法はJIS R1626にしたがう。平均粒子径を用いる場合は、0.1〜100μmの範囲が好ましい。粒子径の測定はレーザー回折光散乱法により、50%粒子径を測定する。この測定器としては、例えば堀場製作所製社製のレーザー回折/散乱式粒子分布測定装置LA−950S2がある。
(4) Thermally conductive particles (D component)
When heat conductive particles of component D are added, 100 to 2000 parts by weight of 100 parts by weight of the matrix component are added. This can increase the thermal conductivity. The heat conductive particles are preferably at least one selected from alumina, zinc oxide, magnesium oxide, aluminum nitride, boron nitride, aluminum hydroxide and silica. Various shapes such as spherical, scaly and polyhedral shapes can be used. When alumina is used, α-alumina having a purity of 99.5% by weight or more is preferable. The specific surface area of the thermally conductive particles is preferably in the range of 0.06 to 10 m 2 / g. The specific surface area is a BET specific surface area, and the measurement method conforms to JIS R1626. When using an average particle diameter, the range of 0.1-100 micrometers is preferable. The particle diameter is measured by a laser diffraction light scattering method to measure the 50% particle diameter. As this measuring instrument, there is, for example, a laser diffraction / scattering particle distribution measuring apparatus LA-950S2 manufactured by Horiba, Ltd.

熱伝導性粒子は平均粒子径が異なる少なくとも2つの無機粒子を併用するのが好ましい。このようにすると大きな粒子径の間に小さな粒子径の熱伝導性無機粒子が埋まり、最密充填に近い状態で充填でき、熱伝導性が高くなるからである。   The heat conductive particles are preferably used in combination of at least two inorganic particles having different average particle sizes. In this way, the thermally conductive inorganic particles having a small particle size are embedded between the large particle sizes, and can be packed in a close-packed state, resulting in high thermal conductivity.

無機粒子は、R(CH3aSi(OR’)3-a(Rは炭素数1〜20の非置換または置換有機基、R’は炭素数1〜4のアルキル基、aは0もしくは1)で示されるシラン化合物、もしくはその部分加水分解物で表面処理するのが好ましい。R(CH3aSi(OR’)3-a(Rは炭素数1〜20の非置換または置換有機基、R’は炭素数1〜4のアルキル基、aは0もしくは1)で示されるアルコキシシラン化合物(以下単に「シラン」という。)は、一例としてメチルトリメトキシラン,エチルトリメトキシラン,プロピルトリメトキシラン,ブチルトリメトキシラン,ペンチルトリメトキシラン,ヘキシルトリメトキシラン,ヘキシルトリエトキシシラン,オクチルトリメトキシシラン,オクチルトリエトキシラン,デシルトリメトキシシラン,デシルトリエトキシシラン,ドデシルトリメトキシシラン,ドデシルトリエトキシシラン,ヘキサドデシルトリメトキシシラン,ヘキサドデシルトリエトキシシシラン,オクタデシルトリメトキシシラン,オクタデシルトリエトキシシシラン等のシラン化合物がある。前記シラン化合物は、一種又は二種以上混合して使用することができる。表面処理剤として、アルコキシシランと片末端シラノールシロキサンを併用してもよい。ここでいう表面処理とは共有結合のほか吸着なども含む。平均粒子径2μm以上の粒子は、粒子全体を100重量%としたとき50重量%以上添加するのが好ましい。 The inorganic particle is R (CH 3 ) a Si (OR ′) 3-a (R is an unsubstituted or substituted organic group having 1 to 20 carbon atoms, R ′ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a is 0 or It is preferable to surface-treat with the silane compound shown by 1), or its partial hydrolyzate. R (CH 3 ) a Si (OR ′) 3-a (R is an unsubstituted or substituted organic group having 1 to 20 carbon atoms, R ′ is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a is 0 or 1) The alkoxysilane compound (hereinafter referred to simply as "silane") is, by way of example, methyltrimethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, propyltrimethoxysilane, butyltrimethoxysilane, pentyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxy Silane, octyltrimethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, decyltriethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, dodecyltriethoxysilane, hexadodecyltrimethoxysilane, hexadodecyltriethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, Octadecyltriethoxy There are silane compounds such as Sisilane. The said silane compound can be used 1 type or in mixture of 2 or more types. As a surface treatment agent, alkoxysilane and one-end silanol siloxane may be used in combination. The surface treatment mentioned here includes adsorption as well as covalent bonding. The particles having an average particle diameter of 2 μm or more are preferably added in an amount of 50% by weight or more based on 100% by weight of the whole particles.

()その他の成分
本発明の組成物には、必要に応じて前記以外の成分を配合することができる。例えばベンガラなどの無機顔料、フィラーの表面処理等の目的でアルキルトリアルコキシシランなどを添加してもよい。フィラー表面処理などの目的で添加する材料として、アルコキシ基含有シリコーンを添加しても良い。
( 5 ) Other components In the composition of the present invention, other components can be blended as needed. For example, an inorganic pigment such as bengara, an alkyltrialkoxysilane or the like may be added for the purpose of surface treatment of a filler and the like. As a material to be added for the purpose of filler surface treatment, an alkoxy group-containing silicone may be added.

アルコキシシリル基とアミノ基又はアジド基を含む化合物の一例として、下記(化6)に示すトリエトキシシリルプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4-エチレンジアミン(以下「A-TES」という)、下記(化7)に示すトリエトキシシリルプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4-アジド(以下「P-TES」という)、アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン:(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCH2CH2NH3等がある。 As an example of a compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group, triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2,4-ethylenediamine (hereinafter referred to as “A-TES”) shown in the following (Chem. 6) ), Triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2,4-azide (hereinafter referred to as “P-TES”) shown in the following (chemical formula 7), aminoethylaminopropyltrimethoxysilane: (CH 3 O) ) there are 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 NH 3 or the like.

前記(化6)に示す化合物は下記(化8)に示すように基材シートと反応し共有結合する(但し、nは1以上の整数)。前記(化7)に示す化合物は下記(化9)に示すように基材シートと反応し共有結合する。とくに下記(化9)に示す反応は強力であり、ほとんどの樹脂に適用でき、金属にも適用できる。化8〜9において、アルコキシシリル基は、熱伝導性シリコーンゴムと反応し共有結合する。アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランも(化8)と同様な化学反応により共有結合する。   The compound shown in the above (Chemical formula 6) reacts with the base sheet and is covalently bonded as shown in the following (Chemical formula 8) (wherein n is an integer of 1 or more). The compound shown in the above (Chemical formula 7) reacts with the substrate sheet to be covalently bonded as shown in the following (Chemical formula 9). In particular, the reaction shown in the following (Chemical Formula 9) is strong, can be applied to most resins, and can be applied to metals. In Chemical Formulas 8 to 9, alkoxysilyl groups react with and thermally bond to a thermally conductive silicone rubber. Aminoethylaminopropyltrimethoxysilane is also covalently bonded by the same chemical reaction as (Chemical Formula 8).

以下図面により説明する。以下の図面において、同一符号は同一物を示す。図1Aは本発明の一実施形態の複合シートの斜視図、図1Bは図1AのI−I線拡大断面図である。この複合シート1は巻芯4にロール状に巻かれている。一例として、幅150mmの長尺状のロール体である。断面図において、基材シート3の表面に熱伝導性シリコーンゴムシート2が積層一体化されている。一例として基材シート3の厚さは0.025mm、熱伝導性シリコーンゴムシート2の厚さは0.175mm、トータル厚さは0.20mmである。   This will be described below with reference to the drawings. In the following drawings, the same symbols indicate the same things. FIG. 1A is a perspective view of a composite sheet according to an embodiment of the present invention, and FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view taken along the line II of FIG. 1A. The composite sheet 1 is wound around a winding core 4 in a roll shape. As an example, it is a long roll body 150 mm wide. In the cross-sectional view, the heat conductive silicone rubber sheet 2 is integrally laminated on the surface of the base sheet 3. As an example, the thickness of the substrate sheet 3 is 0.025 mm, the thickness of the thermally conductive silicone rubber sheet 2 is 0.175 mm, and the total thickness is 0.20 mm.

図2Aは同、熱伝導性シリコーンゴムシートのカレンダー加工による平滑処理を示す断面図、図2Bはカレンダー加工後の熱伝導性シリコーンゴムシートの断面図である。所定のクリアランスを有する一対のカレンダーロール7a,7bに、成形硬化後の熱伝導性シリコーンゴムシート2と、その表面側に表面が平滑のポリエチレンテレフタレートフィルム5と、裏面側にはエンボス加工したポリエチレンテレフタレートフィルム6を配置して供給し、カレンダー加工する。このようなカレンダー加工をすると、ポリエチレンテレフタレートフィルム5の平滑面が熱伝導性シリコーンゴムシート2に転写され、熱伝導性シリコーンゴムシート2の表面2aが平滑面になる。カレンダー加工前の通常の熱伝導性シリコーンゴムシートの表面2aは、算術平均粗さRaが5μm程度であるが、カレンダー加工後の算術平均粗さRaは4μm以下、好ましくは3μm以下、さらに好ましくは2μm以下である。下限値は小さい程好ましいが、実用的には0.1μm以上である。熱伝導性シリコーンゴムシート2の裏面2bはエンボスによる凹凸面となる。その後、巻き取り体8とする。エンボスによる凹凸面の算術平均粗さRaは取扱い性の良さから、5μm〜20μmが好ましい。   FIG. 2A is a cross-sectional view showing the smoothing process of the thermally conductive silicone rubber sheet by calendering, and FIG. 2B is a cross-sectional view of the thermally conductive silicone rubber sheet after calendering. A pair of calender rolls 7a and 7b having a predetermined clearance, the thermally conductive silicone rubber sheet 2 after molding and curing, the smooth polyethylene terephthalate film 5 on the surface side, and the polyethylene terephthalate embossed on the back surface The film 6 is placed, supplied and calendered. When such calendering is performed, the smooth surface of the polyethylene terephthalate film 5 is transferred to the thermally conductive silicone rubber sheet 2, and the surface 2a of the thermally conductive silicone rubber sheet 2 becomes a smooth surface. The surface 2a of a conventional heat conductive silicone rubber sheet before calendering has an arithmetic mean roughness Ra of about 5 μm, but the arithmetic mean roughness Ra after calendering is 4 μm or less, preferably 3 μm or less, more preferably It is 2 μm or less. The lower limit is preferably as small as possible, but is practically 0.1 μm or more. The back surface 2b of the heat conductive silicone rubber sheet 2 becomes an uneven surface by embossing. Thereafter, the wound body 8 is taken. Arithmetic mean roughness Ra of the uneven surface by embossing is preferably 5 μm to 20 μm from the viewpoint of good handleability.

図3A−Eは同、バーコーターによるポリイミドフィルムの表面塗布処理の説明図である。一例として、縦300mm,横200mm、厚さ50μmのポリイミドフィルム3を用意し(図3A)、上辺に樹脂テープ13を貼り付け、ポリイミドフィルム3の表面にスポイト11で接着化合物:A−TESをエタノール−水混合液で希釈した希釈液12を所定量垂らす(図3B)。次いでバーコーター14で薄膜15に伸ばす(図3C)。風乾後、カッターを使用して縦50mm,横100mmにカットする(図3D)。16a−fはカット線である。得られた表面塗布処理フィルム17を図3Eに示す。   FIGS. 3A to 3E are explanatory views of the surface coating process of the polyimide film by the bar coater. As an example, prepare a polyimide film 3 of 300 mm long, 200 mm wide, and 50 μm thickness (FIG. 3A), stick the resin tape 13 on the upper side, and use the dropper 11 on the surface of the polyimide film 3 -Drop a predetermined amount of diluted solution 12 diluted with the water mixture (Figure 3B). Then, it is stretched into a thin film 15 by a bar coater 14 (FIG. 3C). After air drying, cut 50 mm long and 100 mm wide using a cutter (FIG. 3D). 16a-f are cut lines. The resulting surface coated film 17 is shown in FIG. 3E.

図4A−Dは同、カレンダー加工による平滑処理とコロナ処理による表面活性化処理後の熱伝導性シリコーンゴムシート18と、表面処理後のポリイミドフィルム17を圧着する説明図である。熱伝導性シリコーンゴムシート18として、例えば富士高分子工業社製、商品名"サーコンTR"(縦50mm,横100mm,厚さ0.18mm)を使用し、カレンダー加工後の例えば算術平均粗さRa1〜1.5μmの平滑面に、コロナ処理する。コロナ処理は、例えば信光電気計装社製、商品名"コロナスキャナーASA-4"を使用し、14kV、速度1.8m/分、3回処理する。得られた熱伝導性シリコーンゴムシート18のコロナ処理面の一端部に、離形紙19(縦15mm,横100mm)を載せ、前記フィルム17の表面処理面側を貼り合わせる(図4A)。貼り合わせはゴムローラー掛けによって行った。次いで、貼り合わせ体24の外側にアクリル樹脂板20a,20bを重ね、その外側に鉄板21a,21bを重ね、ボルトとナット22a,22bで圧着する。このときの圧力は、例えば3.6cN(0.03MPa)である(図4B)。次いで、所定温度のオーブンに入れ1時間加熱する。連続生産の場合は、加熱室の中に加圧手段を備えた加熱加圧装置を使用する。このようにして圧着した複合シート25をオーブンから取り出し、カット線23a−dのようにカットし(図4C)、縦50mm、横25mmの複合シートサンプル26とした。複合シートサンプル26は、複合シート25の部分と離形紙19の部分からなり、離形紙19の部分は剥離試験の時の保持部分にするために使用する。通常の製品には離形紙19の部分は無い。   FIGS. 4A to 4D are explanatory views of pressure bonding of the thermally conductive silicone rubber sheet 18 after the smoothing process by calendar processing and the surface activation process by corona treatment, and the polyimide film 17 after the surface process. As the heat conductive silicone rubber sheet 18, for example, product name "Surcon TR" (50 mm in length, 100 mm in width, 0.18 mm in thickness) manufactured by Fuji Highpolymer Co., Ltd. is used, and, for example, arithmetic average roughness Ra1 after calendering Corona-treated to a smooth surface of ̃1.5 μm. The corona treatment is performed, for example, three times at 14 kV and a speed of 1.8 m / min using a trade name "Corona scanner ASA-4" manufactured by Shinko Electric Instruments Co., Ltd. A release paper 19 (15 mm in length, 100 mm in width) is placed on one end of the corona-treated surface of the heat conductive silicone rubber sheet 18 obtained, and the surface-treated surface of the film 17 is bonded (FIG. 4A). Bonding was performed by rubber roller hooking. Next, the acrylic resin plates 20a and 20b are stacked on the outside of the bonded body 24, the iron plates 21a and 21b are stacked on the outside, and the bolts and the nuts 22a and 22b are crimped. The pressure at this time is, for example, 3.6 cN (0.03 MPa) (FIG. 4B). Next, it is placed in an oven of a predetermined temperature and heated for 1 hour. In the case of continuous production, a heating and pressurizing apparatus provided with pressurizing means in the heating chamber is used. The composite sheet 25 thus pressure-bonded was taken out of the oven and cut as cut lines 23a-d (FIG. 4C) to obtain a composite sheet sample 26 of 50 mm long and 25 mm wide. The composite sheet sample 26 is composed of a portion of the composite sheet 25 and a portion of the release paper 19, and the portion of the release paper 19 is used to be a holding portion at the time of peeling test. There is no part of the release paper 19 in a normal product.

以下実施例を用いて説明する。本発明は実施例に限定されるものではない。   This will be described using the following examples. The invention is not limited to the examples.

<平均粗さの測定方法>
キーエンス社製、商品名"レーザフォーカス変位計 LT-8010"を使用して表面の粗さを測定した。測定数は3とし、その平均値を求めた。
<剥離試験>
JIS K6854−2に従い、引張試験機により剥離した。測定数は3とし、その平均値を求めた。
<Measurement method of average roughness>
The surface roughness was measured using a "Laser Focus Displacement Meter LT-8010" manufactured by Keyence Corporation. The number of measurements was 3 and the average value was calculated.
<Peeling test>
It peeled by the tension tester according to JISK6854-2. The number of measurements was 3 and the average value was calculated.

(実施例1〜6、比較例1)
(1)接着化合物
接着分子として、前記(化6)に示すA−TESを使用した。希釈用液は工業用70%エタノール−水混合液とし、A−TES濃度0.001〜0.1質量%の希薄溶液に調整して使用した。1質量%(実施例1)、0.5質量%(実施例2)、0.01質量%(実施例3)、0.005質量%(実施例4)、0.001質量%(実施例5)、0.005質量%(実施例6)、0.001質量%(比較例1)とした。
(2)基材シートとその表面塗布処理
基材シートとして、ポリイミドフィルム:東レ・デュポン社製、商品名"カプトン200H"(厚さ50μm)を使用した。このポリイミドフィルムを図3A−Eに示すように縦300mm,横200mmにカットし、上辺に樹脂テープを貼り付け、ポリイミドフィルム3の表面にスポイト11で接着化合物:A−TESを工業用70%エタノール−水混合液で希釈した希釈液12を所定量垂らした(図3B)。次いでバーコーター(安田精機製作所製、No.3)14で薄膜15に伸ばした(図3C)。風乾後、カッターを使用して縦50mm,横100mmにカットした(図3D)。工業用70%エタノール−水混合液で希釈したA−TES濃度が0.1質量%のサンプルの乾燥後のA−TESの塗布厚みは、6.9nmであり、同0.01質量%のサンプルの乾燥後の厚みは0.69nmであった。
(3)熱伝導性シリコーンゴムシートとその平滑処理及び表面活性化処理
熱伝導性シリコーンゴムシートとして、富士高分子工業社製、商品名"サーコンTR"(厚さ0.18mm)を使用した。この熱伝導性シリコーンゴムシートの熱伝導率は1.2W/m・Kである。この熱伝導性シリコーンゴムシートを図2Aに示す方法でカレンダー加工し、積層面側の算術平均粗さRaを1.2μmとした。この面は光沢を有する平滑面であった。非積層面側はエンボス加工した。次に、熱伝導性シリコーンゴムシートを縦50mm,横100mmにカットし、平滑面にコロナ処理した。コロナ処理は、信光電気計装社製、商品名"コロナスキャナーASA-4"を使用し、14kV、速度1.8m/分、3回処理した。
(4)積層一体化
得られた熱伝導性シリコーンゴムシートのコロナ処理面の一端部に、離形紙19(縦15mm,横100mm)を載せ、ポリイミドフィルムの表面処理面側を貼り合わせた(図4A)。貼り合わせはゴムローラー掛けによって行った。次いで、貼り合わせ体の外側にアクリル樹脂板を重ね、その外側に鉄板を重ね、ボルトとナットで圧着した。このときの圧力は3.6cN(0.03MPa)とした(図4B)。次いで、120℃の温度のオーブンに入れ1時間加熱した。このようにして圧着した複合シートをオーブンから取り出し、カット線23a−dのようにカットし(図4C)、縦50mm、横25mmの複合シートサンプル26とした。複合シートサンプル26は、複合シート25の部分と離形紙19の部分からなり、離形紙19の部分は剥離試験の時の保持部分にするために使用した。結果を表1及び図5にまとめて示す。
(Examples 1 to 6, Comparative Example 1)
(1) Adhesive Compound As an adhesive molecule, A-TES shown in the above (Chemical Formula 6) was used. The dilution solution was used as a 70% ethanol-water mixed solution for industrial use, adjusted to a dilute solution with an A-TES concentration of 0.001 to 0.1% by mass. 1% by mass (Example 1), 0.5% by mass (Example 2), 0.01% by mass (Example 3), 0.005% by mass (Example 4), 0.001% by mass (Examples) 5), 0.005% by mass (Example 6), and 0.001% by mass (Comparative Example 1).
(2) Base Material Sheet and Surface Coating Treatment As a base material sheet, a polyimide film: trade name "Kapton 200H" (a thickness of 50 μm) manufactured by Toray DuPont Co., Ltd. was used. This polyimide film is cut into a length of 300 mm and a width of 200 mm as shown in FIGS. 3A-E, a resin tape is attached to the upper side, and the adhesive compound: A-TES 70% ethanol -A predetermined amount of the diluted solution 12 diluted with the water mixture was dropped (Fig. 3B). Then, it was stretched into a thin film 15 by a bar coater (No. 3 manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.) 14 (FIG. 3C). After air drying, it was cut into 50 mm long and 100 mm wide using a cutter (FIG. 3D). The applied thickness of A-TES after drying of a sample having a concentration of 0.1% by mass of A-TES diluted with a 70% ethanol-water mixed solution for industrial use is 6.9 nm, and the sample of 0.01% by mass same The dry thickness of the powder was 0.69 nm.
(3) Thermally conductive silicone rubber sheet and its smoothing treatment and surface activation treatment As a thermally conductive silicone rubber sheet, Fuji Polymer Industries, Ltd. make, brand name "Surcon TR" (thickness 0.18 mm) was used. The thermal conductivity of this thermally conductive silicone rubber sheet is 1.2 W / m · K. This heat conductive silicone rubber sheet was calendered by the method shown in FIG. 2A, and the arithmetic mean roughness Ra on the side of the laminated surface was 1.2 μm. This surface was a smooth surface having gloss. The non-laminated side was embossed. Next, the heat conductive silicone rubber sheet was cut into a length of 50 mm and a width of 100 mm, and the smooth surface was corona treated. The corona treatment was performed three times at 14 kV and a speed of 1.8 m / min using Shinko Electric Instrumentation Co., Ltd. trade name "Corona scanner ASA-4".
(4) Lamination integration Release paper 19 (15 mm long, 100 mm wide) was placed on one end of the corona-treated surface of the obtained heat conductive silicone rubber sheet, and the surface-treated surface side of the polyimide film was bonded ( Figure 4A). Bonding was performed by rubber roller hooking. Next, an acrylic resin plate was stacked on the outside of the bonded body, an iron plate was stacked on the outside, and pressure bonding was performed using a bolt and a nut. The pressure at this time was 3.6 cN (0.03 MPa) (FIG. 4B). Then, it was placed in an oven at a temperature of 120 ° C. and heated for 1 hour. The composite sheet thus pressure-bonded was taken out of the oven and cut as cut lines 23a-d (FIG. 4C) to obtain a composite sheet sample 26 of 50 mm long and 25 mm wide. The composite sheet sample 26 was composed of a portion of the composite sheet 25 and a portion of the release paper 19, and the portion of the release paper 19 was used to be a holding portion at the time of the peeling test. The results are summarized in Table 1 and FIG.

(実施例7〜12、比較例2)
圧着温度を100℃とした以外は実施例1〜4、比較例1と同様に実施した。結果を表2及び図5にまとめて示す。なお、A-TES濃度とA-TES乾燥質量(塗布量)の関係は表1と同じであるので以下の表では省略する。
(Examples 7 to 12, Comparative Example 2)
It implemented similarly to Examples 1-4 and Comparative Example 1 except pressure bonding temperature having been 100 ° C. The results are summarized in Table 2 and FIG. The relationship between the A-TES concentration and the A-TES dry mass (coating amount) is the same as in Table 1 and therefore will be omitted in the following table.

(実施例13〜18、比較例3)
圧着温度を70℃とした以外は実施例1〜4、比較例1と同様に実施した。結果を表3及び図5にまとめて示す。
(Examples 13 to 18, Comparative Example 3)
It implemented similarly to Examples 1-4 and the comparative example 1 except pressure bonding temperature having been 70 degreeC. The results are summarized in Table 3 and FIG.

表1〜3及び図5に示すとおり、実施例1〜8は剥離状態が凝集破壊であり、接着力も高いことが確認できた。これに対して比較例1〜3はいずれも界面破壊であり、接着力はゼロであった。図5に示す通り、A-TE濃度が0.001質量%以下も同様に界面破壊であり、接着力はゼロであった。 As shown in Tables 1 to 3 and FIG. 5, it was confirmed that the peeling state is cohesive failure and Examples 1 to 8 have high adhesive strength. On the other hand, all of Comparative Examples 1 to 3 were interfacial failure, and adhesion was zero. As shown in FIG. 5, A-TE S concentration is likewise interfacial fracture 0.001 wt% or less, the adhesive force was zero.

(実施例19〜22)
熱伝導性シリコーンゴムシートとして、富士高分子工業社製、商品名"サーコンTR"(厚さ1.2mm)を使用し、プレス成形により両面とも算術平均粗さRa1.2μmの平滑面とした。この平滑面は光沢を有していた。積層面側をコロナ処理した。コロナ処理は、信光電気計装社製、商品名"コロナスキャナーASA-4"を使用し、14kV、速度1.8m/分、1回処理した。A−TESは工業用70%エタノール−水混合液で希釈し濃度0.1質量%とし、この溶液中にポリイミドフィルムを浸漬し、取り出して風乾した。圧着条件は45℃で0.2〜5時間、圧力は0.03MPaとした。結果を表4及び図6にまとめて示す。
(Examples 19 to 22)
As a heat conductive silicone rubber sheet, Fuji Polymer Industries, Ltd. make, brand name "Surcon TR" (thickness 1.2 mm) was used, and it was set as the smooth surface of arithmetic mean roughness Ra1.2micrometer on both surfaces by press molding. This smooth surface had a gloss. The laminated side was corona treated. The corona treatment was performed once at 14 kV and at a speed of 1.8 m / min using Shinko Electric Instrumentation Co., Ltd. trade name "Corona scanner ASA-4". A-TES was diluted with an industrial 70% ethanol-water mixed solution to a concentration of 0.1% by mass, and the polyimide film was immersed in this solution, taken out, and air-dried. The pressure bonding conditions were 45 ° C. for 0.2 to 5 hours, and the pressure was 0.03 MPa. The results are summarized in Table 4 and FIG.

(比較例4)
熱伝導性シリコーンゴムシートとして、富士高分子工業社製、商品名"サーコンTR"(厚さ0.18mm)をそのまま使用し、表面平滑処理はしなかった。それ以外は実施例4と同様に実験した。得られた積層体の接着力は0kgf/25mmであり、界面剥離であった。
(Comparative example 4)
As a heat conductive silicone rubber sheet, Fuji Polymer Industries, Ltd. make, brand name "Surcon TR" (thickness 0.18 mm) was used as it was, and surface smooth processing was not performed. The experiment was performed in the same manner as Example 4 except for the above. The adhesive strength of the obtained laminate was 0 kgf / 25 mm, and was interfacial peeling.

(実施例23〜31)
接着分子として、東レダウコーニング社製、商品名"OFS-6020":アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン:(CH3O)3SiCH2CH2CH2NHCH2CH2NH3(アミノシランという)を使用し、イオン交換水で希釈しシラン濃度1.0質量%とした。さらに1.0質量%のシラン水溶液を工業用エタノール(純度70質量%)で希釈し、シラン濃度0.1質量%と0.01質量%とした。それ以外は実施例1と同様とした。条件と結果を表5に示す。
(Examples 23 to 31)
As an adhesion molecule, Toray Dow Corning Co., Ltd. trade name "OFS-6020": aminoethylaminopropyltrimethoxysilane: (CH 3 O) 3 SiCH 2 CH 2 CH 2 NHCH 2 CH 2 NH 3 (referred to as aminosilane) is used And diluted with ion exchange water to a silane concentration of 1.0% by mass. Further, a 1.0% by mass aqueous silane solution was diluted with industrial ethanol (purity 70% by mass) to obtain a silane concentration of 0.1% by mass and 0.01% by mass. The other conditions were the same as in Example 1. Conditions and results are shown in Table 5.

表5に示す通り、アミノシラン濃度が0.01質量%のものは界面破壊の比率が高かったが、それ以外は凝集破壊であった。以上の結果から、アミノシランも効果が認められることが分かる。   As shown in Table 5, when the concentration of the aminosilane was 0.01% by mass, the ratio of interfacial failure was high, but the other was cohesive failure. From the above results, it can be seen that aminosilane is also effective.

本発明の複合シートは、寸法安定性、耐久性が高いことから、加熱加圧プレスの加圧部材と被プレス品との間に介在させるクッション材等に有用である。   The composite sheet of the present invention is useful as a cushioning material or the like interposed between a pressing member of a heating and pressing press and a product to be pressed because the dimensional stability and durability are high.

1 複合シート
2 熱伝導性シリコーンゴムシート
2a 平滑面
2b エンボス面
3 基材シート(ポリイミドフィルム)
4 巻芯
5 表面平滑ポリエチレンテレフタレートフィルム
6 エンボスポリエチレンテレフタレートフィルム
7a,7b カレンダーロール
8 巻き取り体
11 スポイト
12 接着化合物希釈液
13 樹脂テープ
14 バーコーター
15 薄膜
16a−16f,23a−23d カット線
17 表面処理後のポリイミドフィルム
18 表面活性化処理後の熱伝導性シリコーンゴムシート
19 離形紙
20a,20b アクリル樹脂板
21a,21b 鉄板
22a,22b ボルトとナット
24 貼り合わせ体
25 複合シート
26 複合シートサンプル
1 composite sheet 2 heat conductive silicone rubber sheet 2a smooth surface 2b embossed surface 3 substrate sheet (polyimide film)
Reference Signs List 4 core 5 surface smooth polyethylene terephthalate film 6 embossed polyethylene terephthalate film 7a, 7b calender roll 8 wound body 11 dropper 12 adhesive compound diluted solution 13 resin tape 14 bar coater 15 thin film 16a-16f, 23a-23d cut line 17 surface treatment Thermal conductivity silicone rubber sheet 19 after surface activation treatment of polyimide film 18 after release paper 20a, 20b acrylic resin plate 21a, 21b iron plate 22a, 22b bolt and nut 24 bonded body 25 composite sheet 26 composite sheet sample

Claims (11)

ポリイミドフィルムからなる基材シートと、熱伝導性シリコーンゴムシート層とを含む層が積層一体化されている複合シートであって、
前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の熱伝導率は0.6W/m・K以上であり、
前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の積層一体化面はカレンダー加工により平滑面とされ、前記平滑面はコロナ、プラズマ、紫外線及び電子線照射から選ばれる少なくとも一つの表面活性化されており、
前記基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層とは、窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物を介して共有結合により積層一体化されており、積層面の剥離部は凝集破壊する状態であることを特徴とする複合シート。
A composite sheet in which a layer including a substrate sheet made of a polyimide film and a thermally conductive silicone rubber sheet layer is integrally laminated,
The thermal conductivity of the thermally conductive silicone rubber sheet layer is 0.6 W / m · K or more,
The laminated and integrated surface of the heat conductive silicone rubber sheet layer is made to be a smooth surface by calendering, and the smooth surface is at least one surface activated selected from corona, plasma, ultraviolet light and electron beam irradiation,
The base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer are integrally laminated by covalent bonding through a compound containing nitrogen (N) and silicon (Si), and the peeling portion of the laminated surface is cohesively broken. A composite sheet characterized by being in a state.
前記積層面の凝集破壊は熱伝導性シリコーンゴムシート層側で発生する請求項1に記載の複合シート。   The composite sheet according to claim 1, wherein the cohesive failure of the laminated surface occurs on the heat conductive silicone rubber sheet layer side. 前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、アルコキシシリル基と、アミノ基又はアジド基を含む化合物である請求項1又は2に記載の複合シート。 The composite sheet according to claim 1 or 2 , wherein the compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is a compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group. 前記アルコキシシリル基とアミノ基又はアジド基を含む化合物は、トリエトキシシリルプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4-エチレンジアミン、トリエトキシシリルプロピルアミノ−1,3,5−トリアジン−2,4-アジド、及びアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシランから選ばれる少なくとも一つである請求項3に記載の複合シート。The compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group is triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2,4-ethylenediamine, triethoxysilylpropylamino-1,3,5-triazine-2 4. The composite sheet according to claim 3, wherein the composite sheet is at least one selected from 2,4-azido and aminoethylaminopropyltrimethoxysilane. 前記基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層との共有結合は、単分子接着又は複数分子接着の状態である請求項1〜4のいずれかに記載の複合シート。   The composite sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the covalent bond between the base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer is in a state of single molecule adhesion or multiple molecule adhesion. 請求項1〜のいずれかに記載の複合シートを製造する方法であって、
熱伝導率が0.6W/m・K以上の熱伝導性シリコーンゴムシートをカレンダー加工し、少なくとも積層面を平滑面とし、
前記平滑面をコロナ、プラズマ、紫外線及び電子線照射から選ばれる少なくとも一つの表面活性化処理し、
樹脂シート及び金属シートから選ばれる少なくとも一つの基材シートの積層面に窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物をコーティングし、
前記基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層を圧着して積層一体化することを特徴とする複合シートの製造方法。
A method of manufacturing the composite sheet according to any one of claims 1 to 5 ,
Calendering a thermally conductive silicone rubber sheet with a thermal conductivity of 0.6 W / m · K or more, making at least the laminated surface a smooth surface,
The smooth surface is subjected to at least one surface activation treatment selected from corona, plasma, ultraviolet light and electron beam irradiation,
Coating a compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) on the laminated surface of at least one substrate sheet selected from a resin sheet and a metal sheet,
A method of manufacturing a composite sheet, wherein the base sheet and the thermally conductive silicone rubber sheet layer are pressure-bonded and integrally laminated.
前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の平滑面は、算術平均粗さRaが3μm以下である請求項に記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to claim 6 , wherein the smooth surface of the thermally conductive silicone rubber sheet layer has an arithmetic average roughness Ra of 3 μm or less. 前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、アルコキシシリル基と、アミノ基又はアジド基を含む化合物である請求項6又は7に記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to claim 6 or 7 , wherein the compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is a compound containing an alkoxysilyl group and an amino group or an azide group. 前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物は、水及び有機溶媒から選ばれる少なくとも一つの希釈液で希釈してコーティングする請求項6〜8のいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 8 , wherein the compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is coated by diluting with at least one diluent selected from water and an organic solvent. 前記窒素(N)と珪素(Si)を含む化合物の単位面積当たりの塗布量は、乾燥質量で0.0011g/m2以上である請求項6〜9のいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The method for producing a composite sheet according to any one of claims 6 to 9 , wherein the coating amount per unit area of the compound containing nitrogen (N) and silicon (Si) is 0.0011 g / m 2 or more in dry mass. . 前記基材シートと前記熱伝導性シリコーンゴムシート層の積層一体化は、ロール加圧及びプレート加圧から選ばれる少なくとも一つの加圧で一体化する請求項6〜10のいずれかに記載の複合シートの製造方法。 The composite according to any one of claims 6 to 10 , wherein the lamination integration of the base sheet and the heat conductive silicone rubber sheet layer is performed by at least one pressure selected from roll pressure and plate pressure. Sheet manufacturing method.
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