JP6521518B2 - Apparatus for producing conductive material / article with microstructure, and method for producing conductive material / article with microstructure - Google Patents
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Description
本発明は、導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置および導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法に関する。 The present invention relates to an apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure and a method for producing an article with a conductive material / microstructure.
図1に、樹脂フィルム301に微細な構造体303と電極305とを設けた物品(導電性材料・微細構造体付き物品)307を示す。この物品307は、有機ELディスプレイの有機発光体を封止するセル構造体としての使用が期待されている。
An article (an article with a conductive material and a microstructure) 307 in which a
従来、物品307を製造する場合、樹脂フィルム301に構造体になる素材を設けた後、上記素材からフォトリソグラフィー法(フォトレジスト塗布、露光(パターニング)、現像、エッチング、レジスト剥離)によって微細な構造体303を形成し、この後、蒸着法によって電極305を設けている(たとえば、特許文献1参照)。
Conventionally, when manufacturing the
ところで、上記従来の製造方法では、フォトリソグラフィー法と蒸着法を用いているので、製造工程が煩雑化しているという問題がある。また、上記従来の製造方法では、フォトリソグラフィー法、蒸着法を実行するための高価な専用装置が必要であり、製造コストが上昇してしまうという問題がある。 By the way, in the above-mentioned conventional manufacturing method, since the photolithography method and the vapor deposition method are used, there is a problem that the manufacturing process is complicated. Further, in the above-mentioned conventional manufacturing method, an expensive dedicated device for performing the photolithography method and the vapor deposition method is required, and there is a problem that the manufacturing cost is increased.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置および導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、製造工程を簡素化することができるとともに、低コストで製造することができるものを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and it is an object of the present invention to simplify the manufacturing process in a device for producing an article with a conductive material / microstructure and a method for producing an article with a conductive material / microstructure. To provide products that can be manufactured at low cost.
請求項1に記載の発明は、基材に未硬化の樹脂層を設ける樹脂層設置工程と、微細な転写パターンが設けられている原版に未硬化の導電性材料を設ける導電性材料設置工程と、前記樹脂層設置工程で設けられた樹脂層に、前記原版の微細な転写パターンと前記導電性材料設置工程で設けられた導電性材料とを転写する転写工程と、前記転写工程での転写による転写がなされた樹脂層と導電性材料とを硬化する硬化工程とを有し、前記基材は所定の幅のフィルム状に形成されていて、ロール・トゥ・ロールでロール原反から巻き取りロールに送られるように構成されており、前記原版は円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記微細な転写パターンは前記原版の外周に設けられており、前記樹脂層設置工程は、前記ロール原反と前記巻き取りロールとの間の基材の厚さ方向の一方の面に、未硬化の樹脂層を設ける工程であり、前記転写工程は、前記ロール原反と前記巻き取りロールとの間の基材であって前記樹脂層設置工程で未硬化の樹脂層が設けられた基材を、前記樹脂層が接するようにして前記原版に巻き掛けることで、前記転写を行う工程である導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。 The invention according to claim 1 includes a resin layer setting step of providing an uncured resin layer on a substrate, and a conductive material setting step of providing an uncured conductive material on an original plate provided with a fine transfer pattern. A transfer step of transferring the fine transfer pattern of the original plate and the conductive material provided in the conductive material setting step onto the resin layer provided in the resin layer setting step; and the transfer step in the transfer step possess a curing step of curing the transferred and made resin layer and the conductive material, the substrate is formed into a film shape having a predetermined width, a take-up roll from the roll in a roll-to-roll The original plate is formed in a cylindrical or cylindrical shape, the fine transfer pattern is provided on the outer periphery of the original plate, and the resin layer setting step is performed by Anti and the said winding It is a process of providing an uncured resin layer on one side in the thickness direction of the substrate between the rolls, and the transfer step is a substrate between the raw material roll and the take-up roll. Conductive material / microstructure in which the transfer is performed by winding the base material on which the uncured resin layer is provided in the resin layer setting step so that the resin layer is in contact with the original plate It is a manufacturing method of an attached article.
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記硬化工程は、前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、前記導電性材料を硬化する導電性材料硬化工程とを備えており、前記樹脂層硬化工程は、前記基材が前記原版に巻き掛けられているときに、前記樹脂層を硬化する工程であり、前記導電性材料硬化工程は、前記基材の送り方向における前記原版よりも下流側で前記導電性材料を硬化する工程である導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。 The invention according to claim 2 is the method according to claim 1 , wherein the curing step includes a resin layer curing step of curing the resin layer, and the conductive material. Conductive material curing step of curing the resin layer, and the resin layer curing step is a step of curing the resin layer when the base material is wound around the original plate, the conductive material The curing step is a method of producing an article with a conductive material / microstructure, which is a step of curing the conductive material downstream of the original plate in the feed direction of the substrate.
請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールを用いて前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設ける工程である導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。
The invention according to
請求項4に記載の発明は、請求項または請求項2に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整工程を有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。 In the method according to the fourth aspect of the present invention, in the method of manufacturing an article with a conductive material / microstructure according to the second aspect or the second aspect , the conductive material installing step includes uncured conductive material in an anilox roll. Providing the uncured conductive material on the original plate by transferring the uncured conductive material provided on the anilox roll to the original plate, and providing the uncured conductive material provided on the anilox roll It is a manufacturing method of the article with a conductive material and a microstructure, which has a conductive material dryness adjustment step of adjusting the dryness of the conductive material before transferring the material to the original plate.
請求項5に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、前記導電性材料設置工程で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃工程を有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。
The invention according to
請求項6に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整工程と、前記導電性材料設置工程で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃工程とを有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。 The invention according to claim 6 relates to the method for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 or 2 , wherein the conductive material setting step is a conductive material which is not cured on the anilox roll. Forming the uncured conductive material on the original plate by transferring the uncured conductive material provided on the anilox roll to the original plate, and providing the uncured conductive material provided on the anilox roll. The conductive material is not transferred from the anilox roll to the original plate in the conductive material dryness adjustment step of adjusting the dryness of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate, and the conductive material installation step. And a cleaning step of cleaning the anilox roll after transferring the conductive material of curing, which is a method for producing an article with a conductive material and a microstructure.
請求項7に記載の発明は請求項4〜請求項6のいずれか1項に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、前記導電性材料設置工程は、前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設ける工程であることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法である。 In the method according to the seventh aspect of the present invention, in the method of manufacturing an article with a conductive material / microstructure according to any one of the fourth to sixth aspects, the conductive material setting step includes It is a process of providing an uncured conductive material at the tip of a transfer pattern, which is a method for producing a conductive material / microstructure-attached article.
請求項8に記載の発明は、基材に未硬化の樹脂層を設ける樹脂層設置部と、微細な転写パターンが設けられている原版に未硬化の導電性材料を設ける導電性材料設置部と、前記樹脂層設置部で設けられた樹脂層に、前記原版の微細な転写パターンと前記導電性材料設置部で設けられた導電性材料とを転写する転写部と、前記転写部での転写による転写がなされた樹脂層と導電性材料とを硬化する硬化部とを有し、前記基材は所定の幅のフィルム状に形成されており、前記フィルム状の基材がロール状に巻かれているロール原反を設置するロール原反設置部と、前記ロール原反設置部に設置されたロール原反から繰り出された基材を巻き取る巻き取りロールが設置される巻き取りロール設置部とを有し、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材が、ロール・トゥ・ロールでロール原反から巻き取りロールに送られるように構成されており、前記樹脂層設置部は、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材の厚さ方向の一方の面に未硬化の樹脂層を設けるように構成されており、前記原版は円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記微細な転写パターンは前記原版の外周に設けられており、前記転写部は、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材であって前記樹脂層設置部で未硬化の樹脂層が設けられた基材を、前記樹脂層が接するようにして前記原版に巻き掛けることで、前記転写を行うように構成されている導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。 The invention according to claim 8 comprises a resin layer installation part for providing an uncured resin layer on a substrate, and a conductive material installation part for providing an uncured conductive material on an original plate provided with a fine transfer pattern. A transfer portion for transferring the fine transfer pattern of the original plate and the conductive material provided in the conductive material setting portion to the resin layer provided in the resin layer setting portion; transfer by the transfer portion a curing section for curing the transferred resin layer was made and the conductive material possess, the substrate is formed into a film having a predetermined width, the film-like substrate is wound into a roll A roll material installation section for installing a roll material roll, and a take-up roll installation unit provided with a take-up roll for taking up a substrate fed from the roll material fabric installed in the roll material installation section Have been installed in the roll material installation section The base material between the roll material roll and the take-up roll installed in the take-up roll setting portion is configured to be sent from the roll material roll to the take-up roll by roll-to-roll, The resin layer installation portion is one surface of the base material in the thickness direction between the roll material roll installed in the roll material installation portion and the winding roll installed in the winding roll installation portion. The original plate is formed in a cylindrical or cylindrical shape, the fine transfer pattern is provided on the outer periphery of the original plate, and the transfer portion is formed by It is a base material between the roll material roll installed in the roll material roll installation part and the winding roll installed in the winding roll installation part, and the uncured resin layer is the resin layer installation part The resin layer provided on the substrate Way that wound around the original contact, a manufacturing apparatus of a conductive material, the microstructure with the article being configured to perform the transfer.
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記硬化部は、前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化部と、前記導電性材料を硬化する導電性材料硬化部とを備えており、前記樹脂層硬化部は、前記基材が前記原版に巻き掛けられているときに、前記樹脂層を硬化するように構成されており、前記導電性材料硬化部は、前記基材の送り方向における前記原版よりも下流側で前記導電性材料を硬化するように構成されている導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。
The invention according to
請求項10に記載の発明は、請求項8または請求項9に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記導電性材料設置部は、アニロックスロールを用いて前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設けるように構成されている導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。
The invention according to claim 10 is the apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 or
請求項11に記載の発明は、請求項8または請求項9に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整部を有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。
The invention according to
請求項12に記載の発明は、請求項8または請求項9に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、前記導電性材料設置部で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃部を有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。
The invention according to claim 12 is the apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure according to
請求項13に記載の発明は、請求項8または請求項9に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整部と、前記導電性材料設置部で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃部とを有する導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。 The invention according to a thirteenth aspect is the apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure according to the eighth aspect or the ninth aspect , wherein the conductive material setting portion is a conductive material not cured on the anilox roll. And the uncured conductive material provided on the anilox roll is transferred to the original plate to provide the uncured conductive material on the original plate, and the uncured conductive material provided on the anilox roll is provided. A conductive material drying degree adjusting unit for adjusting the drying degree of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate, and the conductive material installation portion from the anilox roll in the conductive material setting portion. It is an apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure having a cleaning unit for cleaning the anilox roll after transferring an uncured conductive material to an original plate.
請求項14に記載の発明は、請求項11〜請求項13のいずれか1項に記載の導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置において、前記導電性材料設置部は、前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設けるように構成されている導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置である。
The invention according to claim 14 is the apparatus for manufacturing an article with a conductive material and a fine structure according to any one of
本発明によれば、導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置および導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法において、製造工程を簡素化することができるとともに、低コストで製造することができるという効果を奏する。 According to the present invention, it is possible to simplify the manufacturing process and to manufacture at low cost, in an apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure and a method for manufacturing an article with a conductive material / microstructure. The effect of being able to
本発明の実施形態に係る導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法で製造された物品1は、従来のものと同様に使用されるものである。 An article 1 produced by the method for producing a conductive material / microstructure-attached article according to an embodiment of the present invention is used in the same manner as the conventional one.
導電性材料・微細構造体付き物品(以下、「物品」という場合がある。)1は、図1で示すように、樹脂フィルム(基材)3と、微細構造体5と、電極7とを備えて構成されている。
A conductive material / microstructure-attached article (hereinafter sometimes referred to as "article") 1 comprises a resin film (base material) 3, a
基材3は、所定の幅で長い(長尺の)薄い板状(フィルム状)に形成されており、微細構造体5は、基材3の厚さ方向の一方の面に設けられている。電極7は、微細構造体5の凹部9の底部に設けられている。
The
また、微細構造体5は、たとえば、所定の厚さで層状になって基材3の厚さ方向の一方の面を覆っており、凹部9は、微細構造体5の表面(基材3に接している面とは反対側の面)から所定の深さだけ基材3側に凹んでいる。凹部9は、複数設けられており、お互いが所定の間隔をあけてならんでいる。
次に、物品(製品もしくは半製品)1の製造方法について、図2を参照しつつ説明する。 Next, a method of manufacturing the article (product or semi-finished product) 1 will be described with reference to FIG.
まず、フィルム状の基材3の厚さ方向の一方の面に未硬化(硬化前)の樹脂層(たとえば、紫外光硬化樹脂の層;光硬化性樹脂の層)11を設ける(樹脂層設置工程)。
First, an uncured (before curing) resin layer (for example, a layer of an ultraviolet light curable resin; a layer of a photocurable resin) 11 is provided on one surface of the film-
樹脂層設置工程で樹脂層11を設けた状態では、基材3の厚さ方向と樹脂層11の厚さ方向とはお互いに一致しており、基材3の厚さ方向の一方の面は未硬化の樹脂層11で覆われている。
When the
続いて、微細な転写パターン(微細な凹凸で形成された転写パターン;凸型微細構造体)13が設けられている原版15の微細な転写パターン13に未硬化の導電性材料(たとえば、導電性インク)17を設ける(導電性材料設置工程)。
Subsequently, an uncured conductive material (for example, a conductive material) is applied to the
続いて、樹脂層設置工程で設けられた未硬化の樹脂層11に、原版15の微細な転写パターン13と、導電性材料設置工程で設けられた未硬化の導電性材料17とを同時に転写する(転写工程)。
Subsequently, the
続いて、転写工程での転写による転写がなされた樹脂層11と導電性材料17とを硬化する(硬化工程)。
Subsequently, the
硬化工程では、転写工程で形成された微細構造体5の形状がそのまま維持されて樹脂層11が硬化するようになっており、転写工程で形成された導電性材料17の形状がそのまま維持されて導電性材料17が硬化するようになっている。
In the curing step, the shape of the
なお、硬化工程によって硬化した樹脂層11が、微細構造体5になり、硬化工程によって硬化した導電性材料17が電極7になる。
The
また、図2に示すものでは、転写工程によって基材3に設けられ、微細な転写パターンが転写された樹脂層11(微細構造体5)に、導電性材料17(電極7)が設けられているが、電極7を基材3に接触させて基材3に直接設けてもよい。この場合であっても電極7の一部は、微細構造体5と接している。
Further, in the case shown in FIG. 2, the conductive material 17 (electrode 7) is provided on the resin layer 11 (fine structure 5) provided on the
ところで、基材3は所定の幅で長いフィルム状に形成されていて、ロール・トゥ・ロールでロール原反19から巻き取りロール21に送られるように構成されている。
By the way, the
原版15は円柱状もしくは円筒状に形成されており、微細な転写パターン13は原版15の外周に、たとえば、シームレスで設けられている。
The
樹脂層設置工程では、ロール原反19と巻き取りロール21との間で、たとえば、水平方向に長くなっている基材(ロール原反19から巻き取りロール21に一定の速度で送られている基材)3の厚さ方向の一方の面(たとえば、上面)に、未硬化の樹脂層11を設けるようになっている。
In the resin layer setting step, for example, a horizontally long base material between the
転写工程では、ロール原反19と巻き取りロール21との間の基材3であって樹脂層設置工程で未硬化の樹脂層11が設けられた基材3を、樹脂層11が接するようにして原版15の、たとえば、下側に巻き掛けるとともに、ロール原反19から巻き取りロール21への基材3の送り速度に同期させて原版15を回転させることで、転写を行うようになっている。
In the transfer step, the
硬化工程では、基材3がロール原反19から巻き取りロール21に一定の速度で送られている状態で、樹脂層11と導電性材料17とを硬化するようになっている。
In the curing step, the
また、硬化工程は、樹脂層11を硬化する樹脂層硬化工程と、導電性材料17を硬化する導電性材料硬化工程とで構成されている。
Further, the curing process is configured of a resin layer curing process of curing the
樹脂層硬化工程では、ロール原反19と巻き取りロール21との間の基材3が原版15に巻き掛けられているときに、樹脂層11を硬化するようになっている。
In the resin layer curing step, the
導電性材料硬化工程では、ロール原反19と巻き取りロール21との間で原版15に巻き掛けられた基材3が原版15から離れた後に、基材3の送り方向(ロール原反19から巻き取りロール21に向かう方向)における原版15よりも下流側(巻き取りロール21側)で、導電性材料17を硬化するようになっている。
In the conductive material curing step, after the
導電性材料設置工程では、アニロックスロール23を用いて原版15の微細な転写パターン13の先端25のみに未硬化の導電性材料17を設けるようになっている。
In the conductive material setting step, the uncured
また、導電性材料設置工程では、アニロックスロール23に未硬化の導電性材料17を設ける。そして、アニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17を原版15に移すことで、原版15に未硬化の導電性材料17を設けるようになっている。
In the conductive material installation step, the
アニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17は、導電性材料17が原版15に移される前に、たとえば、ヒータ51の加熱を用いた導電性材料乾燥度調整工程によって、半乾きの状態(セミドライ状態のインク)にされるようになっている。
The uncured
また、導電性材料設置工程でアニロックスロール23から原版15に未硬化の導電性材料17を移した後に、たとえば、粘着剤を用いた清掃工程によって、アニロックスロール23に残っている導電性材料17を粘着させて除去し、アニロックスロール23を清掃するようになっている。
Further, after transferring the uncured
物品1の製造方法によれば、従来のようにフォトリソグラフィー法や蒸着法を用いることに代えて、原版15を用いて微細な転写パターン13と導電性材料17とを基材3の樹脂材料11に設けているので、製造工程が簡素化されるとともに、低コストで物品1を製造することができる。
According to the manufacturing method of the article 1, the
また、物品1の製造方法によれば、原版15を用いて微細な転写パターン13と導電性材料17とを基材3の樹脂材料11に設けているので、物品1の面積を大きくする場合(物品1を大型化する場合)に原版15を大きくすればよい。これにより、従来のようなフォトリソグラフィー法と蒸着法とを用いる場合に比べて、物品1の面積を大きくすることが容易になる。
Moreover, according to the method of manufacturing the article 1, since the
また、物品1の製造方法によれば、基材3がロール・トゥ・ロールでロール原反19から巻き取りロール21に送られるように構成されており、ロール原反19と巻き取りロール21との間の基材3であって未硬化の樹脂層11が設けられた基材3を原版15に巻き掛けることで転写工程の転写を行うので、物品1を連続して効率良く製造することができるとともに、物品1の面積をさらに大きくすることができる。
Further, according to the method of manufacturing the article 1, the
また、物品1の製造方法によれば、基材3が原版15に巻き掛けられているときに樹脂層11を硬化するので、原版15から樹脂層11に転写された微細な転写パターン13の形状が崩れることがなく、正確な形状の微細な転写パターン13を樹脂層11に設けることができる。
Further, according to the manufacturing method of the article 1, since the
また、物品1の製造方法によれば、原版15よりも下流側で導電性材料17を硬化するので、硬化したときに樹脂層11よりも弾性変形しにくい導電性材料17に外力(基材3の原版15への巻き掛けによって発生する外力)が加えられることがなく、電極7が変形する等の不具合を防ぐことができる。
Further, according to the method of manufacturing the article 1, since the
また、物品1の製造方法によれば、原版15の微細な転写パターン13の先端25にアニロックスロール23を用いて未硬化の導電性材料17を設けるようにしているので、原版15の微細な転写パターン13の先端25に均一に導電性材料17を設けることができ、樹脂層11に形成された微細構造体5の底部にのみ、導電性材料17を設けることができ、さらに、原版15に設けられている微細な転写パターン13の導電性材料17による目詰まりを減少させることができる。
Further, according to the manufacturing method of the article 1, since the uncured
また、物品1の製造方法において、導電性インク17に代えて金属ペーストを使用すれば、たとえば、従来のように微細構造体5作成後に金属を蒸着して電極を作成していた偏向板等の光学素子(ワイヤグリッド型偏光子)を、さらに、大面積、低コストで製造することができる。
Further, in the manufacturing method of the article 1, if a metal paste is used instead of the
また、物品1の製造方法によれば、導電性材料乾燥度調整工程によって、アニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17をこの導電性材料17が原版15に移される前に半乾きの状態にするので、導電性材料17の形がくずれにくくなっており、導電性材料17を正確な形で樹脂層11に設けることができる。
Further, according to the manufacturing method of the article 1, the uncured
また、導電性材料乾燥度調整工程によって導電性材料17の乾燥度を調整することで、アニロックスロール23から原版15へ導電性材料17が移りやすくなり、アニロックスロール23から原版15に導電性材料17を移し終えたときに、アニロックスロール23に導電性材料17が残りにくくなる。
In addition, the
また、物品1の製造方法によれば、清掃工程によって、アニロックスロール23から原版15に未硬化の導電性材料17を移した後に、アニロックスロール23を清掃するので、導電性材料17をアニロックスロール23から原版15に正確な態様で移すことができる。
Further, according to the manufacturing method of the article 1, since the anilox roll 23 is cleaned after transferring the uncured
また、物品1の製造方法によれば、導電性材料乾燥度調整工程によって、アニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17をこの導電性材料17が原版15に移される前に半乾きの状態にし、清掃工程によって、アニロックスロール23から原版15に未硬化の導電性材料17を移した後にアニロックスロール23を清掃するので、アニロックスロール23を清掃するときに半乾きの導電性材料17をアニロックスロール23から除去すればよく、アニロックスロール23の清掃がしやすくなる。
Further, according to the manufacturing method of the article 1, the uncured
ところで、上述した物品1の製造方法を、たとえば、次に示す1台の製造装置27によって行うことができる。
By the way, the method of manufacturing the article 1 described above can be performed, for example, by one
製造装置(導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置)27は、樹脂層設置部61と、導電性材料設置部63と、転写部65と、硬化部35とを備えて構成されている。
The manufacturing apparatus (apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure) 27 is configured to include a resin
樹脂層設置部61では、基材3に未硬化の樹脂層11を設けるようになっている。導電性材料設置部63では、微細な転写パターン13が設けられている原版15に未硬化の導電性材料17を設けるようになっている。
In the resin
転写部65では、樹脂層設置部61で設けられた樹脂層11に、原版15の微細な転写パターン13と、導電性材料設置部63で設けられた導電性材料17とを転写するようになっている。
In the
硬化部35は、転写部65での転写による転写がなされた樹脂層11と導電性材料17とを硬化するようになっている。
The curing
また、製造装置27には、ロール原反設置部29と、巻き取りロール設置部31とが設けられている。
Further, the
ロール原反設置部29には、フィルム状の基材3がロール状に巻かれているロール原反19が設置されるようになっている。
In the roll
巻き取りロール設置部31には、ロール原反設置部29に設置されたロール原反19から繰り出された基材3を巻き取る巻き取りロール21が設置されるようになっている。
A take-
そして、ロール原反設置部29に設置されているロール原反19と、巻き取りロール設置部31に設置されている巻き取りロール21との間の基材3が、ロール・トゥ・ロールでロール原反19から巻き取りロール21に、たとえば、一定の速度で送られるように構成されている。
And the
樹脂層設置部61は、ロール原反設置部29に設置されているロール原反19と巻き取りロール設置部31に設置されている巻き取りロール21との間の基材3の厚さ方向の一方の面に未硬化の樹脂層11を設けるように構成されている。
The resin
原版15は円柱状もしくは円筒状に形成されており、微細な転写パターン13は原版15の外周の、たとえば、全周にわたってシームレスで設けられている。
The
転写部65は、ロール原反設置部29に設置されているロール原反19と、巻き取りロール設置部31に設置されている巻き取りロール21との間の基材3であって樹脂層設置部61で未硬化の樹脂層11が設けられた基材3を、樹脂層11が接するようにして原版15に巻き掛けることで、転写を行うように構成されている。
The
硬化部35は、樹脂層11を硬化する樹脂層硬化部37と、導電性材料17を硬化する導電性材料硬化部39とを備えて構成されている。
The curing
樹脂層硬化部37は、基材3が原版15に巻き掛けられているときに、樹脂層11を硬化するように構成されている。
The resin
導電性材料硬化部39は、基材3の送り方向における原版15よりも下流側(取りロール設置部31側)で導電性材料17を硬化するように構成されている。
The conductive
なお、硬化部35では、基材3がロール原反19から巻き取りロール21に一定の速度で送られている状態で、樹脂層11と導電性材料17とを硬化するようになっている。
In the
導電性材料設置部63は、アニロックスロール23を用いて原版15の微細な転写パターン13の先端25に未硬化の導電性材料17を設けるように構成されている。
The conductive
また、導電性材料設置部63は、アニロックスロール23に未硬化の導電性材料17を設け、このアニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17を原版15に移すことで、原版15に未硬化の導電性材料17を設けるように構成されている。
Further, the conductive
また、製造装置27には、導電性材料乾燥度調整部67と、図3に示す清掃部69とが設けられている。
In addition, the
導電性材料乾燥度調整部67は、アニロックスロール23に設けられた未硬化の導電性材料17を、この導電性材料17が原版15に移される前に、たとえば、ヒータ51で加熱することで所定の乾燥度(セミドライ状態のインク)にする。
The conductive material
清掃部(クリーニングモジュール)69は、導電性材料設置部63でアニロックスロール23から原版15に未硬化の導電性材料17を移した後に、たとえば、粘着剤を用いてアニロックスロール23に残っている導電性材料(半乾きの導電性材料の残り)17を粘着させて除去することで、アニロックスロール23を清掃するようになっている。
After the cleaning section (cleaning module) 69 transfers the uncured
さらに説明すると、製造装置27は、1つのベース体(図示せず)を備えて構成されており、ロール原反設置部29と、巻き取りロール設置部31と、樹脂層設置部61と、アニロックスロール23と、原版15と、硬化部35等は、上記1つのベース体に設けられている。これによって、製造装置27は、1台の装置として形成されている。したがって、製造装置27を搬送し設置するときには、上記1つのベース体を搬送し設置すればよい。
To explain further, the
ロール原反19は、円柱状の芯材41に所定の幅の長いフィルム状の基材3をロール状に巻き付けたことで円柱状に形成されている。巻き取りロール21も、円柱状の芯材43に所定の幅の長い基材3をロール状に巻き取ることで円柱状になる。そして、ロール原反19と巻き取りロール21とを適宜回転させることで、ロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)で、基材3がロール原反19から巻き取りロール21に所定の速度で移動するようになっている。なお、原版15、アニロックスロール23も、円柱状に形成されている。
The
基材3は、原版15の外周の下側に半周程度巻き掛けられるようになっている。なお、製造装置27には、円柱状の第1のフィルム搬送用ロール45と、円柱状の第2のフィルム搬送用ロール47とが設けられている。
The
第1のフィルム搬送用ロール45と第2のフィルム搬送用ロール47には、基材3が巻き掛けられるようになっている。これにより、基材3がガイドされて、原版15に半周程度巻き掛けられるようになっている。
The
ロール原反設置部29に設置されたロール原反19の中心軸と、巻き取りロール設置部31に設置された巻き取りロール21の中心軸と、アニロックスロール23の中心軸と、原版15の中心軸と、各フィルム搬送用ロール45,47の中心軸とはお互いが平行になっており、図2の紙面に直交する方向に延びている。また、図2の紙面に直交する方向が基材3の幅方向になっている。
The central axis of the
アニロックスロール23の外周には、図示しないインク供給装置からドクターブレード49を経由して未硬化の導電性材料17が供給されるようになっている。また、アニロックスロール23の外周に供給された未硬化の導電性材料17は、ドクターブレード49によってならされ調整されるようになっている。
An uncured
原版15の外周とアニロックスロール23の外周とは、お互いが所定の付勢力をもって接触しており、アニロックスロール23はこの中心軸を中心にして回転し、原版15はこの中心軸を中心にしてアニロックスロール23とは逆方向に回転するようになっている。アニロックスロール23と原版15とはお互いがころがり対偶をなしており、アニロックスロール23の外周における周速度と、原版15の外周における周速度とはお互いが一致している。
The outer periphery of the
そして、アニロックスロール23から原版15の外周(たとえば、微細な転写パターン13の平面状の先端25)に未硬化の導電性材料17が移されるようになっている。
Then, the uncured
原版15には、上述したように基材3が半周程度巻き掛けられている。この巻き掛けられた基材3は、ロール原反設置部29に設置されているロール原反19と、巻き取りロール設置部31に設置されている巻き取りロール21と、原版15と、各フィルム搬送用ロール45,47の回転にともなってこの長手方向に所定の速度で移動するようになっている(ロール原反19から巻き取りロール21に送られるようになっている)。
As described above, the
基材3の移動速度(送り速度)と、原版15の外周の周速度と、各フィルム搬送用ロール45,47の外周の周速度とは、お互いが一致している。
The moving speed (feed speed) of the
そして、原版15に巻き掛けられている基材3の未硬化の樹脂層11に原版15から未硬化の導電性材料17が移るとともに、原版15の微細な転写パターン13が転写されるようになっている。
Then, the uncured
樹脂層硬化部37は、紫外光を発生するようになっており、たとえば、原版15の下方に配置されており、原版15に巻き掛けられている基材3の外側から、上方に向かって紫外光を照射し、基材3に設けられている光硬化性樹脂層(微細な転写パターン13が転写された樹脂層)11を硬化するようになっている。なお、紫外光は基材3を透過するようになっている。
The resin
導電性材料硬化部39は、たとえば、ヒータで構成されており、原版15の下流側で水平方向に長くなっている基材(微細な転写パターン13が転写され、硬化した樹脂層11と導電性材料17が設けられている基材)3の上方に配置されている。そして、基材3(導電性材料17)を加熱するようになっている。この加熱によって導電性材料17が結晶化し、電極7が形成される。
The conductive
このようにして、1台の製造装置27によって、微細構造体5の形成と、電極7の形成とを連続して行うことができ、物品1を連続的に効率良く製造することができる。
In this manner, the formation of the
ここで、図3(a)を参照しつつ清掃部69について詳しく説明する。
Here, the
清掃部69は、上述したように、アニロックスロール23の残留物を除去する装置であり、たとえば、アニロックスロール23の外周の不要物(原版15に移されずに残っている導電性材料17等)を除去することによって、アニロックスロール23を掃除する装置である。
As described above, the
清掃部69は、繰り出しロール設置部71と、粘着フィルム巻き取り部73と、粘着フィルム用バックアップロール75とを備えて構成されている。
The
繰り出しロール設置部71には、繰り出しロール77が設置されるようになっている。繰り出しロール77は、粘着フィルム79を巻くことによってロール状(円柱状もしくは円筒状)に形成されている。
A
詳しく説明すると、繰り出しロール77は、使用前の粘着フィルム79を、円柱状もしくは円筒状の芯材81の外周に重ねて巻き付けることによって、円柱状もしくは円筒状に形成されている。使用前の粘着フィルム79は、所定の幅で長く形成されたシート状の基材83の厚さ方向の一方の面に層状の粘着部(粘着剤)85が設けられている。なお、粘着フィルム79の幅方法は、図3の紙面に直交する方向になっている。
Describing in detail, the
粘着フィルム巻き取り部73では、繰り出しロール設置部71に設置された繰り出しロール77から繰り出している粘着フィルム79が巻き取られてロール状に形成されるようになっている。
In the adhesive
詳しく説明すると、粘着フィルム巻き取り部73には、円柱状もしくは円筒状の芯材87が設置されるようになっており、芯材87は、繰り出しロール77から繰り出している粘着フィルム79を巻き取って、粘着フィルム79をロール状に形成するようになっている(巻き取りロール89を形成するようになっている)。
Specifically, a cylindrical or
円柱状もしくは円筒状の粘着フィルム用バックアップロール75には、繰り出しロール設置部71に設置された繰り出しロール77から繰り出している粘着フィルム79が巻き掛けられるようになっている。
A cylindrical or cylindrical adhesive
そして、粘着フィルム用バックアップロール75は、繰り出しロール設置部71に設置された繰り出しロール77から繰り出している粘着フィルム79(繰り出しロール77と巻き取りロール89との間で所定の張力をもって弛むことなく延びているシート状の粘着フィルム79)を、この粘着フィルム79の粘着剤85がアニロックスロール23に接するようにして、アニロックスロール23と協働して挟み込むようになっている。
Then, the adhesive
そして、アニロックスロール23と粘着フィルム用バックアップロール75とで粘着フィルム79を挟んでいる状態でアニロックスロール23が回転すると、粘着フィルム用バックアップロール75もアニロックスロール23と同期して回転するようになっている。
Then, when the
そして、アニロックスロール23と粘着フィルム用バックアップロール75とが粘着フィルム79を挟み込んで同期して回転することにより、粘着フィルム79の粘着剤85が設けられている面が、アニロックスロール23に一時的に貼り付き、アニロックスロール23に付着している不要物を粘着剤85にくっつけて除去し、アニロックスロール23を清掃するようになっている。
Then, the
このように構成された清掃部69で、必ずしも、アニロックスロール23を常に清掃することなく、清掃部69(粘着フィルム79)を、断続的にアニロックスロール23に接触させ、間歇的にアニロックスロール23を清掃するように構成してもよい。
In the
また、清掃部69を、図3(b)で示すように構成してもよい。すなわち、アニロックスロール23の外周に付着している不要物をブレード93で掻き取り、この掻き取った不要物を吸引部95で吸引するようにしてもよい。
Also, the
1 導電性材料・微細構造体付き物品
3 基材
11 樹脂層
13 転写パターン
15 原版
17 導電性材料
19 ロール原反
21 巻き取りロール
23 アニロックスロール
25 微細な転写パターンの先端
27 導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置
29 ロール原反設置部
31 巻き取りロール設置部
35 硬化部
37 樹脂層硬化部
39 導電性材料硬化部
61 樹脂層設置部
63 導電性材料設置部
65 転写部
67 導電性材料乾燥度調整部
69 清掃部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 electroconductive material and articles with
Claims (14)
微細な転写パターンが設けられている原版に未硬化の導電性材料を設ける導電性材料設置工程と、
前記樹脂層設置工程で設けられた樹脂層に、前記原版の微細な転写パターンと前記導電性材料設置工程で設けられた導電性材料とを転写する転写工程と、
前記転写工程での転写による転写がなされた樹脂層と導電性材料とを硬化する硬化工程とを有し、前記基材は所定の幅のフィルム状に形成されていて、ロール・トゥ・ロールでロール原反から巻き取りロールに送られるように構成されており、
前記原版は円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記微細な転写パターンは前記原版の外周に設けられており、
前記樹脂層設置工程は、前記ロール原反と前記巻き取りロールとの間の基材の厚さ方向の一方の面に、未硬化の樹脂層を設ける工程であり、
前記転写工程は、前記ロール原反と前記巻き取りロールとの間の基材であって前記樹脂層設置工程で未硬化の樹脂層が設けられた基材を、前記樹脂層が接するようにして前記原版に巻き掛けることで、前記転写を行う工程であることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 A resin layer setting step of providing an uncured resin layer on the substrate;
A conductive material setting step of providing an uncured conductive material on an original plate provided with a fine transfer pattern;
A transfer step of transferring the fine transfer pattern of the original plate and the conductive material provided in the conductive material setting step onto the resin layer provided in the resin layer setting step;
And a curing step of curing the conductive layer and the resin layer on which the transfer has been performed in the transfer step , wherein the substrate is formed into a film having a predetermined width, and is roll-to-roll. It is configured to be sent from the roll material to the take-up roll,
The original plate is formed in a cylindrical or cylindrical shape, and the fine transfer pattern is provided on the outer periphery of the original plate,
The resin layer setting step is a step of providing an uncured resin layer on one surface of the base material in the thickness direction between the raw material roll and the winding roll,
In the transfer step, the resin layer is in contact with the base material between the raw material roll and the take-up roll, on which the uncured resin layer is provided in the resin layer installation step. It is a process which performs the said transfer by winding on the said original plate, The manufacturing method of the electroconductive material and the article with a microstructure characterized by the above-mentioned .
前記硬化工程は、前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化工程と、前記導電性材料を硬化する導電性材料硬化工程とを備えており、
前記樹脂層硬化工程は、前記基材が前記原版に巻き掛けられているときに、前記樹脂層を硬化する工程であり、
前記導電性材料硬化工程は、前記基材の送り方向における前記原版よりも下流側で前記導電性材料を硬化する工程であることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 ,
The curing step includes a resin layer curing step of curing the resin layer, and a conductive material curing step of curing the conductive material.
The resin layer curing step is a step of curing the resin layer when the base material is wound around the original plate,
The method for manufacturing a conductive material / microstructure-containing article, wherein the conductive material curing step is a step of curing the conductive material on the downstream side of the original plate in the feed direction of the base material.
前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールを用いて前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設ける工程であることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 or 2 ,
The conductive material setting step is a step of providing an uncured conductive material at the tip of the fine transfer pattern of the original plate using an anilox roll, and producing an article with a conductive material and a microstructure. Method.
前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、
前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整工程を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 or 2 ,
In the conductive material setting step, the anilox roll is provided with an uncured conductive material, and the uncured conductive material provided in the anilox roll is transferred to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Process of providing
The uncured conductive material provided on the anilox roll is characterized by having a conductive material dryness adjustment step for adjusting the dryness of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate. Method of producing an article with a conductive material and a microstructure.
前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、
前記導電性材料設置工程で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃工程を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 or 2 ,
In the conductive material setting step, the anilox roll is provided with an uncured conductive material, and the uncured conductive material provided in the anilox roll is transferred to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Process of providing
An article with a conductive material and a microstructure, comprising a cleaning step of cleaning the anilox roll after transferring the uncured conductive material from the anilox roll to the original plate in the conductive material setting step Production method.
前記導電性材料設置工程は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設ける工程であり、
前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整工程と、
前記導電性材料設置工程で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃工程と、
を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 1 or 2 ,
In the conductive material setting step, the anilox roll is provided with an uncured conductive material, and the uncured conductive material provided in the anilox roll is transferred to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Process of providing
A conductive material drying degree adjusting step of adjusting the degree of drying of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate, the uncured conductive material provided on the anilox roll;
A cleaning step of cleaning the anilox roll after transferring the uncured conductive material from the anilox roll to the original plate in the conductive material setting step;
A method for producing a conductive material / microstructure-attached article characterized by comprising:
前記導電性材料設置工程は、前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設ける工程であることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造方法。 In the method of producing an article with a conductive material / microstructure according to any one of claims 4 to 6 ,
The method for producing an article with a conductive material / microstructure, wherein the conductive material setting step is a step of providing an uncured conductive material at the tip of the fine transfer pattern of the original plate.
微細な転写パターンが設けられている原版に未硬化の導電性材料を設ける導電性材料設置部と、
前記樹脂層設置部で設けられた樹脂層に、前記原版の微細な転写パターンと前記導電性材料設置部で設けられた導電性材料とを転写する転写部と、
前記転写部での転写による転写がなされた樹脂層と導電性材料とを硬化する硬化部と、
を有し、前記基材は所定の幅のフィルム状に形成されており、
前記フィルム状の基材がロール状に巻かれているロール原反を設置するロール原反設置部と、
前記ロール原反設置部に設置されたロール原反から繰り出された基材を巻き取る巻き取りロールが設置される巻き取りロール設置部と、
を有し、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材が、ロール・トゥ・ロールでロール原反から巻き取りロールに送られるように構成されており、
前記樹脂層設置部は、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材の厚さ方向の一方の面に未硬化の樹脂層を設けるように構成されており、
前記原版は円柱状もしくは円筒状に形成されており、前記微細な転写パターンは前記原版の外周に設けられており、
前記転写部は、前記ロール原反設置部に設置されているロール原反と前記巻き取りロール設置部に設置されている巻き取りロールとの間の基材であって前記樹脂層設置部で未硬化の樹脂層が設けられた基材を、前記樹脂層が接するようにして前記原版に巻き掛けることで、前記転写を行うように構成されていることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 A resin layer setting unit for providing an uncured resin layer on a substrate;
A conductive material setting unit for providing an uncured conductive material on an original plate provided with a fine transfer pattern;
A transfer unit for transferring the fine transfer pattern of the original plate and the conductive material provided in the conductive material setting unit onto the resin layer provided in the resin layer setting unit;
A curing portion for curing the resin layer on which the transfer has been performed by the transfer at the transfer portion and the conductive material;
Have a, the substrate is formed into a film having a predetermined width,
A roll material installation section for installing a roll material fabric in which the film-like substrate is wound in a roll shape;
A take-up roll setting unit on which a take-up roll for taking up a base material fed from a roll material roll installed in the roll material roll installation unit is installed;
The base material between the roll material roll installed in the roll material roll installation part and the winding roll set in the winding roll installation part is a roll material roll by roll-to-roll Are configured to be sent to the take-up roll from
The resin layer installation portion is one surface of the base material in the thickness direction between the roll material roll installed in the roll material installation portion and the winding roll installed in the winding roll installation portion. To provide an uncured resin layer on the
The original plate is formed in a cylindrical or cylindrical shape, and the fine transfer pattern is provided on the outer periphery of the original plate,
The transfer portion is a base material between a roll material roll installed in the roll material roll installation portion and a winding roll installed in the winding roll installation portion, and has not been transferred by the resin layer installation portion A conductive material / microstructure characterized in that the transfer is performed by winding a base material provided with a cured resin layer on the original plate so that the resin layer is in contact with the base material. Equipment for manufacturing of attached items.
前記硬化部は、前記樹脂層を硬化する樹脂層硬化部と、前記導電性材料を硬化する導電性材料硬化部とを備えており、
前記樹脂層硬化部は、前記基材が前記原版に巻き掛けられているときに、前記樹脂層を硬化するように構成されており、
前記導電性材料硬化部は、前記基材の送り方向における前記原版よりも下流側で前記導電性材料を硬化するように構成されていることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 In the apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 ,
The curing unit includes a resin layer curing unit that cures the resin layer, and a conductive material curing unit that cures the conductive material.
The resin layer curing unit is configured to cure the resin layer when the base material is wound around the original plate,
The conductive material cured portion is configured to cure the conductive material on the downstream side of the original plate in the feed direction of the base material, the conductive material / microstructure-attached article manufacturing device.
前記導電性材料設置部は、アニロックスロールを用いて前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設けるように構成されていることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 In the apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 or 9 ,
The conductive material installation portion is configured to provide an uncured conductive material at the tip of the fine transfer pattern of the original plate using an anilox roll. Article manufacturing equipment.
前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、
前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整部を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 In the apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 or 9 ,
The conductive material installation unit provides an anilox roll with an uncured conductive material, and transfers the uncured conductive material provided in the anilox roll to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Are configured to provide
The uncured conductive material provided on the anilox roll is characterized by having a conductive material drying degree adjusting portion for adjusting the drying degree of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate. Manufacturing equipment for conductive materials and articles with microstructures.
前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、
前記導電性材料設置部で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃部を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 In the apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 or 9 ,
The conductive material installation unit provides an anilox roll with an uncured conductive material, and transfers the uncured conductive material provided in the anilox roll to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Are configured to provide
An article provided with a conductive material / microstructure, comprising: a cleaning unit that cleans the anilox roll after transferring the uncured conductive material from the anilox roll to the original plate at the conductive material setting unit manufacturing device.
前記導電性材料設置部は、アニロックスロールに未硬化の導電性材料を設け、このアニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を前記原版に移すことで、前記原版に未硬化の導電性材料を設けるように構成されており、
前記アニロックスロールに設けられた未硬化の導電性材料を、この導電性材料が前記原版に移される前に、導電性材料の乾燥度を調整する導電性材料乾燥度調整部と、
前記導電性材料設置部で前記アニロックスロールから前記原版に未硬化の導電性材料を移した後に、前記アニロックスロールを清掃する清掃部と、
を有することを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 In the apparatus for producing an article with a conductive material / microstructure according to claim 8 or 9 ,
The conductive material installation unit provides an anilox roll with an uncured conductive material, and transfers the uncured conductive material provided in the anilox roll to the original plate to obtain an uncured conductive material in the original plate. Are configured to provide
An uncured conductive material provided on the anilox roll, a conductive material dryness adjusting portion for adjusting the dryness of the conductive material before the conductive material is transferred to the original plate;
A cleaning unit configured to clean the anilox roll after transferring the uncured conductive material from the anilox roll to the original plate at the conductive material installation unit;
An apparatus for producing a conductive material / microstructure-attached article characterized by comprising:
前記導電性材料設置部は、前記原版の微細な転写パターンの先端に未硬化の導電性材料を設けるように構成されていることを特徴とする導電性材料・微細構造体付き物品の製造装置。 The apparatus for producing a conductive material / microstructure-attached article according to any one of claims 11 to 13 ,
The apparatus for manufacturing an article with a conductive material / microstructure, wherein the conductive material setting unit is configured to provide an uncured conductive material at the tip of the fine transfer pattern of the original plate.
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