JP6501486B2 - Sterilizer - Google Patents

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Description

本発明は、滅菌装置に関する。   The present invention relates to a sterilizer.

医療分野においては、細菌や微生物を完全に駆除するために滅菌装置が用いられる。特に、被処理物の形状に依存せず、またプラスチックなどの耐熱性の低い被処理物にも使用できる滅菌装置としては、エチレンオキサイドガスや過酸化水素を用いた滅菌装置が知られている。しかしながら、エチレンオキサイドや過酸化水素は、強毒性、発癌性、分解爆発性を有するため、これらの代替として窒素酸化物を用いた滅菌装置が提案されている。   In the medical field, sterilizers are used to completely eliminate bacteria and microorganisms. In particular, a sterilization apparatus using ethylene oxide gas or hydrogen peroxide is known as a sterilization apparatus that does not depend on the shape of the object to be treated and can also be used for an object having low heat resistance such as plastic. However, ethylene oxide and hydrogen peroxide are highly toxic, carcinogenic, and decomposable, so a sterilization apparatus using nitrogen oxide has been proposed as a substitute for these.

例えば、特許文献1〜9には、一酸化窒素(NO)や二酸化窒素(NO)等の窒素酸化物を含む滅菌性を有するガスを用いた滅菌装置(特許文献1、3〜9)及び滅菌ガスを生成するための材料(特許文献2)が開示されている。これらの滅菌装置においては、炭素系ジアゼニウムジオレート化合物(特許文献1、3、5、8)、液体状のNOを収容したタンク(特許文献4、9)、またはプラズマ放電(特許文献6、7)を用いて窒素酸化物を含む滅菌ガスを生成し、処理室内に生成した滅菌ガスを供給することにより、被処理物の滅菌処理を行っている。 For example, Patent Documents 1 to 9 each include a sterilizer using a sterilizable gas containing nitrogen oxides such as nitrogen monoxide (NO) and nitrogen dioxide (NO 2 ) (Patent Documents 1, 3 to 9) and A material for producing a sterile gas is disclosed (US Pat. In these sterilizers, carbon-based diazeniumdiolate compounds (patent documents 1, 3, 5, 8), tanks containing liquid NO 2 (patent documents 4, 9), or plasma discharge (patent documents) 6, 7) is used to generate a sterilizing gas containing nitrogen oxide, and the generated sterilizing gas is supplied into the processing chamber to sterilize the object to be treated.

特開第2007−521118号公報JP 2007-521118 A 特開第2007−523900号公報JP 2007-523900 A 特開第2009−542333号公報JP, 2009-542333, A 特開第2012−518485号公報JP, 2012-518485, A 特開第2013−223740号公報JP, 2013-223740, A 特開第2014−079301号公報JP, 2014-079301, A 特開第2014−082031号公報JP, 2014-082031, A 特開第2014−094302号公報JP, 2014-094302, A 国際公開第2013/022785号公報International Publication No. 2013/022785

特許文献1、3、5、8の活性酸素滅菌装置においては、滅菌ガスを生成するために特許文献2に開示されているような特殊かつ高価な材料又は薬剤を必要とし、高コストとなる。また特許文献4、9の活性酸素滅菌装置においては、滅菌ガスをボンベ等のNOを収容したタンクを用いて供給する場合も、ボンベが高価であり、高コストとなる。更に、ボンベ内のNOは毒性を有するため、輸送等の際の取り扱いにも十分な注意を要する。また、特許文献6、7の活性酸素滅菌装置においては、プラズマ放電により窒素と酸素を電離することで滅菌ガスを生成しているため、安定した量の滅菌ガスを継続的に供給することが難しい、という問題がある。 The active oxygen sterilization devices of Patent Documents 1, 3, 5, 8 require special and expensive materials or agents as disclosed in Patent Document 2 to generate sterilizing gas, resulting in high cost. Further, in the active oxygen sterilizers of Patent Documents 4 and 9, even when a sterilizing gas is supplied using a tank such as a cylinder containing NO 2 , the cylinder is expensive and expensive. Furthermore, since the NO 2 in the bomb is toxic, the handling at the time of transportation, etc. needs to be sufficiently careful. Further, in the active oxygen sterilizers of Patent Documents 6 and 7, the sterilization gas is generated by ionizing nitrogen and oxygen by plasma discharge, so it is difficult to continuously supply a stable amount of the sterilization gas. There is a problem of

本発明は、このような課題に鑑みてなされたもので、本発明の目的は、より安全にかつ低コストで窒素酸化物を含む滅菌ガスを供給することのできる滅菌装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a sterilizer capable of supplying a sterilizing gas containing nitrogen oxide more safely and at low cost. .

このような目的を達成するために、本発明による滅菌装置は、被処理物を収容する処理室と、処理室の内部を減圧する減圧部と、処理室の内部に亜酸化窒素(NO)ガスを供給するNOガス供給部と、紫外線をNOガスに照射する紫外線発光部(ランプ)とを備える。 In order to achieve such an object, the sterilizer according to the present invention comprises a treatment chamber for containing an object to be treated, a depressurization unit for depressurizing the inside of the treatment chamber, and nitrous oxide (N 2 O) in the treatment chamber. ) A N 2 O gas supply unit for supplying a gas, and an ultraviolet light emitting unit (lamp) for irradiating ultraviolet light to the N 2 O gas.

本発明によれば、NOを含むガスを用いてNOやNOなどの滅菌ガスを生成することができ、より安価で安全な滅菌処理を行うことができる。 According to the present invention, a sterilizing gas such as NO or NO 2 can be generated using a gas containing N 2 O, and a cheaper and safer sterilization process can be performed.

本発明の第1実施形態に係る滅菌装置の模式図である。It is a schematic diagram of the sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る処理室の断面図である。It is sectional drawing of the processing chamber which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the sterilization process by the sterilizer which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る滅菌装置の模式図である。It is a schematic diagram of the sterilizer which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the sterilization process by the sterilizer which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。It is a flowchart which shows the sterilization process by the sterilizer which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係る滅菌装置の模式図である。It is a schematic diagram of the sterilizer which concerns on 4th Embodiment of this invention.

以下、本発明を実施するための例示的な実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。ただし、以下の実施形態で説明する寸法、材料、形状、構成要素の相対的な位置等は任意であり、本発明が適用される装置の構造又は様々な条件に応じて変更できる。また、特別な記載がない限り、本発明の範囲は、以下に説明される実施形態で具体的に記載された形態に限定されるものではない。なお、以下で説明する図面で、同機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明を省略することもある。   Hereinafter, exemplary embodiments for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. However, the dimensions, materials, shapes, relative positions of components, etc. described in the following embodiments are arbitrary, and can be changed according to the structure of the apparatus to which the present invention is applied or various conditions. Further, unless otherwise specified, the scope of the present invention is not limited to the form specifically described in the embodiments described below. In the drawings described below, components having the same function are denoted by the same reference numerals, and repeated descriptions thereof may be omitted.

[第1実施形態]
図1は、本発明の第1実施形態に係る滅菌装置1の模式図である。滅菌装置1は、処理室10、減圧部12、排気ガス分解部13、NOガス供給部14、酸素ガス供給部15、マスフローコントローラ(MFC)161及び162、配管171〜163、バルブ181〜183、制御部19、測定部20を備える。
First Embodiment
FIG. 1 is a schematic view of a sterilization apparatus 1 according to a first embodiment of the present invention. The sterilizer 1 includes a processing chamber 10, a pressure reducing unit 12, an exhaust gas decomposition unit 13, an N 2 O gas supply unit 14, an oxygen gas supply unit 15, mass flow controllers (MFC) 161 and 162, pipes 171 to 163, and valves 181 to A control unit 19 and a measurement unit 20 are provided.

処理室10は、中空の箱形をなし、断熱性及び気密性を有する。処理室内部には被処理物が収容され、NO、NO等を含む滅菌性を有するガス(滅菌ガス)による滅菌処理が行われる。減圧部12は、真空ポンプ等で構成され、配管171を介して処理室10の内部を吸気して減圧する。排気ガス分解部13は、プラチナ、パラジウム、ロジウム、二酸化マンガンなどから構成される触媒、紫外線発光部(ランプ)、ヒータのいずれか、又はこれらの組み合わせから構成されている。排気ガス分解部13は減圧部12と処理室10とを繋ぐ配管162の途中に設けられ、処理室10の内部で発生した窒素酸化物、オゾン等を分解する。図中、排気ガス分解部13は処理室10の外部に設けられているが、処理室10の内部に設けられても良い。また、窒素酸化物を分解するための排気ガス分解部とオゾンを分解するための排気ガス分解部とが別個に設けられても良い。 The processing chamber 10 is in the form of a hollow box and has heat insulation and air tightness. An object to be processed is accommodated in the processing chamber, and sterilization processing is performed using a sterilizing gas (sterilizing gas) including NO, NO 2 and the like. The pressure reducing unit 12 is configured of a vacuum pump or the like, and sucks in the inside of the processing chamber 10 via the pipe 171 to reduce the pressure. The exhaust gas decomposition unit 13 is formed of any one of a catalyst made of platinum, palladium, rhodium, manganese dioxide or the like, an ultraviolet light emitting unit (lamp), a heater, or a combination thereof. The exhaust gas decomposition unit 13 is provided in the middle of a pipe 162 connecting the decompression unit 12 and the processing chamber 10, and decomposes nitrogen oxides, ozone and the like generated inside the processing chamber 10. Although the exhaust gas decomposition unit 13 is provided outside the processing chamber 10 in the drawing, it may be provided inside the processing chamber 10. Further, an exhaust gas decomposition unit for decomposing nitrogen oxides and an exhaust gas decomposition unit for decomposing ozone may be provided separately.

Oガス供給部14は、配管172を介して処理室10に接続され、亜酸化窒素を含有する気体(NOガス)を処理室10の内部に供給する。MFC161は、配管172の途中に設けられ、NOガス供給部14から処理室10へ供給されるNOガスの流量検出及び流量制御を行う。NOガスは、笑気ガスとも呼ばれ、その鎮静効果や麻酔効果が医療分野で広く応用されている。更にNOガスは、NOガスと比較して健康への影響が小さく、安価であるため、より安全かつ低コストであるという利点を有する。 The N 2 O gas supply unit 14 is connected to the processing chamber 10 via the pipe 172 and supplies a gas containing nitrous oxide (N 2 O gas) to the inside of the processing chamber 10. MFC161 is provided in the middle of the pipe 172, the flow rate detection and flow control of the N 2 O gas supplied from the N 2 O gas supply unit 14 into the processing chamber 10. N 2 O gas is also called a laughing gas, and its sedative effect and anesthetic effect are widely applied in the medical field. Furthermore, N 2 O gas has the advantage of being safer and less expensive because it has less impact on health and is cheaper than NO 2 gas.

酸素ガス供給部15は、配管173を介して処理室10に接続され、酸素を含有する気体(酸素ガス)を処理室10の内部に供給する。酸素ガスは、純酸素、又は酸素を含有する空気であっても良い。MFC162は、配管173の途中に設けられ、酸素ガス供給部15から処理室10へ供給される酸素ガスの流量検出及び流量制御を行う。   The oxygen gas supply unit 15 is connected to the processing chamber 10 via the pipe 173, and supplies an oxygen-containing gas (oxygen gas) to the inside of the processing chamber 10. The oxygen gas may be pure oxygen or air containing oxygen. The MFC 162 is provided in the middle of the pipe 173 and performs flow rate detection and flow rate control of oxygen gas supplied from the oxygen gas supply unit 15 to the processing chamber 10.

バルブ181は、処理室10と減圧部12との間の配管171に設けられ、配管171の流路を開閉する。即ち、バルブ181が開状態となると、処理室10と減圧部12との間の流路が開かれ、減圧部12によって処理室10が減圧される。一方、バルブ181が閉状態となると、処理室10と減圧部12との間の流路が遮断され、減圧部12による処理室10の減圧動作が停止する。バルブ182は、処理室10とNOガス供給部14との間の配管172に設けられ、配管172の流路を開閉する。即ち、バルブ182が開状態となると、処理室10とNOガス供給部14との間の流路が開かれ、NOガス供給部14によって処理室10へNOガスが供給される。一方、バルブ182が閉状態となると、処理室10とNOガス供給部14との間の流路が遮断され、NOガス供給部14による処理室10へのNOガスの供給動作が停止する。同様に、バルブ183は、処理室10と酸素ガス供給部15との間の配管173に設けられ、配管173の流路を開閉する。即ち、バルブ183が開状態となると、処理室10と酸素ガス供給部15との間の流路が開かれ、酸素ガス供給部15によって処理室10へ酸素ガスが供給される。一方、バルブ183が閉状態となると、処理室10と酸素ガス供給部15との間の流路が遮断され、酸素ガス供給部15による処理室10への酸素ガスの供給動作が停止する。 The valve 181 is provided in the pipe 171 between the processing chamber 10 and the pressure reducing unit 12, and opens and closes the flow path of the pipe 171. That is, when the valve 181 is opened, the flow path between the processing chamber 10 and the pressure reducing unit 12 is opened, and the pressure reducing unit 12 reduces the pressure in the processing chamber 10. On the other hand, when the valve 181 is closed, the flow path between the processing chamber 10 and the pressure reducing unit 12 is shut off, and the pressure reducing operation of the processing chamber 10 by the pressure reducing unit 12 is stopped. The valve 182 is provided in the pipe 172 between the processing chamber 10 and the N 2 O gas supply unit 14, and opens and closes the flow path of the pipe 172. That is, when the valve 182 is opened, the flow path between the processing chamber 10 and the N 2 O gas supply unit 14 is opened, and the N 2 O gas supply unit 14 supplies the N 2 O gas to the processing chamber 10. Ru. On the other hand, when the valve 182 is closed, the flow path between the process chamber 10 and the N 2 O gas supply unit 14 is shut off, and the N 2 O gas supply unit 14 supplies the N 2 O gas to the process chamber 10. Operation stops. Similarly, the valve 183 is provided in the pipe 173 between the processing chamber 10 and the oxygen gas supply unit 15, and opens and closes the flow path of the pipe 173. That is, when the valve 183 is opened, the flow path between the processing chamber 10 and the oxygen gas supply unit 15 is opened, and the oxygen gas supply unit 15 supplies oxygen gas to the processing chamber 10. On the other hand, when the valve 183 is closed, the flow path between the processing chamber 10 and the oxygen gas supply unit 15 is shut off, and the operation of supplying oxygen gas to the processing chamber 10 by the oxygen gas supply unit 15 is stopped.

制御部19は、プログラム等を記録するROM、ワーク用の記憶領域のRAM、プログラムを実行するマイクロプロセッサ、制御信号を出力するポートを含み得る。なお、必ずしも制御部をつかさどる電子機器がここになくとも、公知の通信手段(有線または無線)を介して外部で同様の信号処理を行い、その処理情報としての制御情報を受信し、同様に制御しても構わない。制御信号は、処理室10の内部の温度、圧力、湿度を制御し、またバルブ181〜183の開閉、減圧部12、NOガス供給部14、酸素ガス供給部15の動作を制御するための信号である。制御部19は、制御信号を送信することで処理室10、バルブ181〜184、減圧部12、NOガス供給部14、酸素ガス供給部15の動作を制御する。 The control unit 19 may include a ROM for recording a program or the like, a RAM for a storage area for work, a microprocessor for executing the program, and a port for outputting a control signal. It is to be noted that the same signal processing is performed outside via a well-known communication means (wired or wireless) even if the electronic device that controls the control unit is not necessarily here, and the control information as the processing information is received and controlled similarly. It does not matter. The control signal controls the temperature, pressure, and humidity inside the processing chamber 10, and controls the opening and closing of the valves 181 to 183, and the operation of the pressure reducing unit 12, the N 2 O gas supply unit 14, and the oxygen gas supply unit 15. Signal. The control unit 19 transmits the control signal to control the operations of the processing chamber 10, the valves 181 to 184, the pressure reducing unit 12, the N 2 O gas supply unit 14, and the oxygen gas supply unit 15.

測定部20は、温度計、圧力計、湿度計、窒素酸化物濃度計、オゾン濃度計等のセンサ、センサからの信号を出力する出力部から構成される。センサは、処理室10の内部に設けられ、出力部はセンサによって検出された処理室10の内部の温度や圧力等の検出データを、制御部19、または図示されていないモニタに出力する。制御部19は、測定部20から受信した検出データに基づいて、バルブ181〜183、及び後述する送風ファン102、バルブ184に制御信号を出力し、処理室10の内部の温度、圧力、湿度を制御する。   The measuring unit 20 includes a sensor such as a thermometer, a pressure gauge, a hygrometer, a nitrogen oxide densitometer, an ozone densitometer, and an output unit that outputs a signal from the sensor. The sensor is provided inside the processing chamber 10, and the output unit outputs detection data such as the temperature and pressure inside the processing chamber 10 detected by the sensor to the control unit 19 or a monitor (not shown). The control unit 19 outputs control signals to the valves 181 to 183, the blower fan 102 described later, and the valve 184 based on the detection data received from the measurement unit 20, and the temperature, pressure, and humidity in the processing chamber 10 are calculated. Control.

図2は、本発明の第1実施形態に係る処理室10の断面図である。処理室10は、処理台101、送風ファン102、紫外線発光部(ランプ)103、流体入出力口111〜113を備える。処理台101上には、滅菌袋122に収容された被処理物121が載置される。送風ファン102は、制御部19からの制御信号により作動又は停止し、ファンの回転により処理室10の内部を撹拌し、また処理室10の内部を冷却する。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the processing chamber 10 according to the first embodiment of the present invention. The processing chamber 10 includes a processing table 101, a blower fan 102, an ultraviolet light emitting unit (lamp) 103, and fluid input / output ports 111 to 113. The processing object 121 accommodated in the sterilization bag 122 is placed on the processing table 101. The blower fan 102 operates or stops in response to a control signal from the control unit 19, stirs the inside of the processing chamber 10 by the rotation of the fan, and cools the inside of the processing chamber 10.

紫外線発光部(ランプ)103は、発光管内に水銀を封入した水銀灯から構成される。水銀灯は、点灯中の水銀の蒸気圧が1〜10Pa程度の低圧水銀灯であって、主として185nm、194nm、254nm近傍の波長の紫外線を出力する。上記の波長の紫外線を処理室10の内部に照射することにより、以下に示すような種々の反応過程により、反応性が高く、強い殺菌力を有する滅菌ガスを発生させることができる。なお、このランプの代わりに同様の波長を発光する発光部、例えばLED光源やレーザ等を利用しても構わない。   The ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 is composed of a mercury lamp in which mercury is sealed in a luminous tube. A mercury vapor lamp is a low pressure mercury vapor lamp whose vapor pressure of mercury is on the order of 1 to 10 Pa, and mainly outputs ultraviolet light of wavelengths around 185 nm, 194 nm, and 254 nm. By irradiating the inside of the processing chamber 10 with the ultraviolet light of the above-mentioned wavelength, it is possible to generate a highly reactive sterilizing gas having strong bactericidal power by various reaction processes as described below. In addition, you may use the light emission part which light-emits the same wavelength instead of this lamp | ramp, for example, an LED light source, a laser, etc.

本発明の実施形態に係る滅菌装置内では、種々の化学反応により、滅菌ガスを発生させることができる。表1に、本発明の実施形態に係る滅菌装置内で発生し得る化学反応とその化学反応による主要な生成物を示す。   In the sterilizer according to the embodiment of the present invention, various chemical reactions can generate a sterilizing gas. Table 1 shows chemical reactions that may occur in the sterilizer according to an embodiment of the present invention and the major products resulting from the chemical reactions.

Figure 0006501486
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即ち、(1)194nm波長の紫外線は、処理室10の内部に導入されたNO分子に吸収され、NO分子は窒素分子と励起一重項酸素原子(励起状態酸素)に分解される。(2)励起状態酸素は、NO分子と反応し、NOを発生させる。(3)NOは、処理室10の内部に導入された酸素分子と反応し、NOを発生させる。(4)185nm波長の紫外線は、処理室10の内部に導入された酸素分子に吸収され、基底状態酸素原子に分解される。(5)基底状態酸素原子は、処理室10の内部に導入された酸素分子と反応し、オゾンを発生させる。(6)254nm波長の紫外線は、オゾンに吸収され、励起状態酸素と酸素分子とに分解される。(7)NOは、オゾンと反応し、NOを発生させる。(8)NOは、オゾンと反応し、三酸化窒素を発生させる。(9)三酸化窒素は、NOと反応し、五酸化二窒素を発生させる。(10)五酸化二窒素は、後述する処理室10の内部に導入された水分子と反応し、硝酸を発生させる。(11)硝酸は、光エネルギ又は熱エネルギを吸収し、NOを発生させる。このような反応過程によって、紫外線発光部(ランプ)103からの紫外線照射により、処理室10の内部に種々の窒素酸化物、オゾン、活性酸素が生成される。 That is, (1) ultraviolet light of 194 nm wavelength is absorbed by N 2 O molecules introduced into the processing chamber 10, and the N 2 O molecules are decomposed into nitrogen molecules and excited singlet oxygen atoms (excited oxygen) . (2) Excited state oxygen reacts with N 2 O molecules to generate NO. (3) NO reacts with molecular oxygen introduced into the processing chamber 10 to generate NO 2 . (4) Ultraviolet light of 185 nm wavelength is absorbed by oxygen molecules introduced into the processing chamber 10 and decomposed into ground state oxygen atoms. (5) The ground state oxygen atoms react with the oxygen molecules introduced into the processing chamber 10 to generate ozone. (6) Ultraviolet light of 254 nm wavelength is absorbed by ozone and decomposed into excited state oxygen and oxygen molecules. (7) NO reacts with ozone to generate NO 2 . (8) NO 2 reacts with ozone to generate nitrogen trioxide. (9) Nitrogen trioxide reacts with NO 2 to generate dinitrogen pentoxide. (10) Dinitrogen pentoxide reacts with water molecules introduced into the processing chamber 10 described later to generate nitric acid. (11) Nitric acid absorbs light energy or heat energy to generate NO 2 . According to such a reaction process, various nitrogen oxides, ozone, and active oxygen are generated inside the processing chamber 10 by ultraviolet irradiation from the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103.

紫外線発光部(ランプ)103の発光管としては、185nm、194nm、254nmの波長の紫外線を透過させる合成石英ガラス等が用いられる。また、処理室10の内部に設けられる紫外線発光部(ランプ)103の数は、処理室10の大きさ等に応じて任意の数に変更できる。また、エキシマランプを用いて紫外線発光部(ランプ)103を構成できる。エキシマランプとしては、例えば172nmの波長の紫外線を発生させるキセノンエキシマランプを用いることができる。紫外線発光部(ランプ)103は、低圧水銀灯とエキシマランプを組み合わせることにより構成することもできる。また、滅菌対象の領域が小さい場合、GaN系やダイヤモンド形の紫外線LEDを紫外線発光部(ランプ)103として用いることもできる。   As a light emitting tube of the ultraviolet light emitting portion (lamp) 103, synthetic quartz glass or the like which transmits ultraviolet rays of 185 nm, 194 nm and 254 nm is used. Further, the number of ultraviolet light emitting units (lamps) 103 provided inside the processing chamber 10 can be changed to any number according to the size of the processing chamber 10 or the like. Further, the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 can be configured using an excimer lamp. As an excimer lamp, for example, a xenon excimer lamp that generates ultraviolet light of a wavelength of 172 nm can be used. The ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 can also be configured by combining a low pressure mercury lamp and an excimer lamp. When the region to be sterilized is small, a GaN-based or diamond-shaped ultraviolet LED can be used as the ultraviolet light emitting portion (lamp) 103.

接続部111〜113は、処理室10の内部にNOガス、酸素ガスを供給し、また処理室10の内部を減圧するための外部装置との連絡口である。接続部111〜113のそれぞれは、配管171〜173のいずれか1つと接続される。本実施形態では、接続部111は、配管171と接続され、バルブ181を介して減圧部12と接続される。また、接続部112は、配管172と接続され、バルブ182を介してNOガス供給部14と接続される。また、接続部113は、配管173と接続され、バルブ183を介して酸素ガス供給部15と接続される。しかしながら、接続部111〜113のそれぞれを配管171〜173のいずれと接続するかは、装置寸法や被処理物の載置位置等の条件により適宜変更できる。 The connection parts 111 to 113 are communication ports with external devices for supplying N 2 O gas and oxygen gas to the inside of the processing chamber 10 and for reducing the pressure inside the processing chamber 10. Each of the connection parts 111-113 is connected with any one of the piping 171-173. In the present embodiment, the connection portion 111 is connected to the pipe 171 and is connected to the pressure reducing portion 12 via the valve 181. Further, the connection portion 112 is connected to the pipe 172 and is connected to the N 2 O gas supply portion 14 via the valve 182. Further, the connection portion 113 is connected to the pipe 173, and is connected to the oxygen gas supply unit 15 through the valve 183. However, which of the pipes 171 to 173 is to be connected to each of the connection parts 111 to 113 can be appropriately changed according to the conditions of the apparatus size, the mounting position of the object to be processed, and the like.

図3は、本発明の第1実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。ステップS301において、滅菌袋122に収容された被処理物121を処理室10の内部の処理台101に載置する。ステップS302において、制御部19は、紫外線発光部(ランプ)103を点灯させ、処理室10の内部に185nm、194nm、254nmの波長の紫外線を照射させる。ステップS303において、制御部19は、送風ファン102を作動させ、処理室10の内部の雰囲気を撹拌する。ステップS304において、制御部19は、バルブ181を開状態にするよう制御信号を送信する。バルブ181は制御信号を受信し、開状態となり、減圧部12が処理室10の内部を吸気することで処理室10の内部を減圧する。次いで、制御部19は、所定の時間の経過後、又は処理室10の内部が所定の圧力(例えば、500Pa以下)まで減圧された後、バルブ181を閉状態にするよう制御信号を送信し、減圧部12の減圧動作を停止させる。なお、ステップS302〜S304は、その実行手順を変更することができ、またこれらのステップは同時に実行されることもできる。   FIG. 3 is a flow chart showing sterilization processing by the sterilization apparatus according to the first embodiment of the present invention. In step S301, the workpiece 121 accommodated in the sterilization bag 122 is placed on the processing table 101 inside the processing chamber 10. In step S302, the control unit 19 turns on the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 to irradiate the inside of the processing chamber 10 with ultraviolet light having wavelengths of 185 nm, 194 nm, and 254 nm. In step S303, the control unit 19 operates the blower fan 102 to stir the atmosphere in the processing chamber 10. In step S304, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 181. The valve 181 receives the control signal, is opened, and the pressure reducing unit 12 sucks the inside of the processing chamber 10 to reduce the pressure inside the processing chamber 10. Next, the control unit 19 transmits a control signal to close the valve 181 after a predetermined time has elapsed or after the pressure in the processing chamber 10 has been reduced to a predetermined pressure (for example, 500 Pa or less), The decompression operation of the decompression unit 12 is stopped. Steps S302 to S304 can change the execution procedure, and these steps can be performed simultaneously.

ステップS305において、制御部19は、バルブ182を開状態にするよう制御信号を送信する。バルブ182が制御信号を受信し、開状態となり、N2Oガス供給部14が処理室10の内部にN2Oガスの供給を行う。N2Oガスが処理室10の内部に導入されると、紫外線発光部(ランプ)103から照射される紫外線と反応して表1の(1)及び(2)に示す反応が起こり、NOが生成される。生成されたNOは、減圧下の処理室10の内部で急速に拡散する。その結果、生成されたNOは、滅菌袋122内に効率よく浸透し、被処理物121に対して高い殺菌作用をもたらす。 In step S305, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 182. The valve 182 receives the control signal and is opened, and the N 2 O gas supply unit 14 supplies N 2 O gas into the processing chamber 10. When N 2 O gas is introduced into the processing chamber 10, it reacts with the ultraviolet light emitted from the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 to cause the reactions shown in (1) and (2) of Table 1 to generate NO. Ru. The generated NO diffuses rapidly inside the processing chamber 10 under reduced pressure. As a result, the generated NO efficiently penetrates into the sterile bag 122 and brings about a high sterilizing effect on the object 121.

ステップS306において、制御部19は、所定の時間の経過後、又は処理室10の内部が所定の圧力(例えば、50kPa程度)まで上昇した後、バルブ182を閉状態にするよう制御信号を送信する。バルブ182が制御信号を受信し、閉状態となり、NOガス供給部14が処理室10の内部へのNOガスの供給を停止する。 In step S306, the control unit 19 transmits a control signal to close the valve 182 after a predetermined time has elapsed or after the inside of the processing chamber 10 has risen to a predetermined pressure (for example, about 50 kPa). . The valve 182 receives the control signal and is closed, and the N 2 O gas supply unit 14 stops the supply of the N 2 O gas into the processing chamber 10.

ステップS307において、制御部19は、バルブ183を開状態にするよう制御信号を送信する。バルブ183が制御信号を受信し、開状態となり、酸素ガス供給部15が処理室10の内部に酸素ガスの供給を行う。酸素ガスが処理室10の内部に導入されると、紫外線発光部(ランプ)103から照射される紫外線と反応して表1の(3)〜(9)に示す反応が起こり、NO2などの種々の窒素酸化物を含む滅菌ガスが生成される。NO2は褐色の気体であるため、その発生を目視で確認できる。生成された滅菌ガスは、減圧下の処理室10の内部で急速に拡散する。その結果、生成された滅菌ガスは、滅菌袋122内に効率よく浸透し、被処理物121に対して高い殺菌作用をもたらす。なお、この時点で紫外線発光部(ランプ)103を消灯した場合でも、生成されたガス同士の反応は進行し、従って処理室10の内部での滅菌ガスの発生は継続する。 In step S307, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 183. The valve 183 receives the control signal and is opened, and the oxygen gas supply unit 15 supplies oxygen gas to the inside of the processing chamber 10. When oxygen gas is introduced into the processing chamber 10, it reacts with the ultraviolet light emitted from the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 to cause the reactions shown in (3) to (9) of Table 1 , and various reactions such as NO2 A sterilizing gas is produced which contains nitrogen oxides of Since NO2 is a brown gas, its generation can be visually confirmed. The generated sterilizing gas diffuses rapidly inside the processing chamber 10 under reduced pressure. As a result, the generated sterilizing gas efficiently penetrates into the sterilizing bag 122 and provides a high sterilizing effect on the object 121. Even when the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 is turned off at this time, the reaction between the generated gases proceeds, and thus the generation of the sterilizing gas in the processing chamber 10 continues.

ステップS308において、制御部19は、所定の時間の経過後、又は処理室10の内部が所定の圧力(例えば、95kPa程度)まで上昇した後、バルブ183を閉状態にするよう制御信号を送信する。バルブ183が制御信号を受信し、閉状態となり、酸素ガス供給部15が処理室10の内部への酸素ガスの供給を停止する。このとき、処理室10の内部の圧力が大気圧以上になると、処理室10の内部のガスが外部に漏出するおそれがある。そのため、処理室10の内部の圧力が大気圧よりも若干低い程度であることが望ましい。   In step S308, the control unit 19 transmits a control signal to close the valve 183 after a predetermined time has elapsed or after the inside of the processing chamber 10 has risen to a predetermined pressure (for example, about 95 kPa). . The valve 183 receives the control signal and is closed, and the oxygen gas supply unit 15 stops the supply of oxygen gas to the inside of the processing chamber 10. At this time, when the pressure inside the processing chamber 10 becomes equal to or higher than the atmospheric pressure, the gas inside the processing chamber 10 may leak to the outside. Therefore, it is desirable that the pressure inside the processing chamber 10 be slightly lower than the atmospheric pressure.

ステップS315において、制御部19は、所定の時間(例えば、5分〜4時間程度の範囲)だけ、バルブ181〜183の閉状態を維持する。一方で、制御部19は、送風ファン102の回転動作及び紫外線発光部(ランプ)103の紫外線照射を維持する。この間に、処理室内に閉じ込められた亜酸化窒素分子及び酸素分子の紫外線吸収反応とその結果生成されたガス同士の反応は継続し、かつ生成された滅菌ガスは処理室10の内部で撹拌される。その結果、滅菌袋122内に浸透した活性酸素の被処理物121に対する殺菌作用は継続する。   In step S315, the control unit 19 maintains the closed states of the valves 181 to 183 for a predetermined time (for example, in the range of about 5 minutes to 4 hours). Meanwhile, the control unit 19 maintains the rotation operation of the blower fan 102 and the ultraviolet radiation of the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103. During this time, the ultraviolet absorption reaction of the nitrous oxide molecules and oxygen molecules trapped in the processing chamber and the reaction between the resulting gases continue, and the generated sterilizing gas is agitated inside the processing chamber 10 . As a result, the bactericidal action of the active oxygen that has penetrated into the sterilization bag 122 on the object to be treated 121 continues.

ステップS319において、制御部19は、バルブ181を開状態にするよう制御信号を送信する。制御信号を受信すると、バルブ181が開状態となり、減圧部12が処理室10の内部を吸気する。このとき、処理室10の内部の雰囲気には滅菌ガスやオゾンが含まれている。滅菌ガス及びオゾンには毒性があり、特にオゾンはその強い酸化力によって減圧部12の構成部材を劣化させる可能性がある。そのため、制御部19は、排気ガス分解部13を介して処理室10の内部を吸気することが望ましい。   In step S319, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 181. When the control signal is received, the valve 181 is opened, and the pressure reducing unit 12 sucks the inside of the processing chamber 10. At this time, the atmosphere inside the processing chamber 10 contains sterilizing gas and ozone. Sterilization gas and ozone are toxic, and in particular, ozone may deteriorate the components of the depressurizing unit 12 due to its strong oxidizing power. Therefore, it is desirable that the control unit 19 intake the inside of the processing chamber 10 via the exhaust gas decomposition unit 13.

ステップS321において、制御部19は、送風ファン102の回転動作、紫外線発光部(ランプ)103の紫外線照射を停止させる。次いで、ステップS322において,制御部19は、バルブ183を開状態にするよう制御信号を送信する。バルブ183が制御信号を受信し、開状態となり、酸素ガス供給部15が処理室10の内部に酸素ガスの供給を行う。制御部19は、処理室10の内部が大気圧まで達した後に、バルブ183を閉状態にするよう制御信号を送信する。なお、制御部19は、酸素ガスの代わりに空気を処理室10の内部に供給しても良い。ステップS323において、被処理物を取り出して、滅菌処理を終了する。   In step S 321, the control unit 19 stops the rotation operation of the blower fan 102 and the ultraviolet radiation of the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103. Next, in step S322, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 183. The valve 183 receives the control signal and is opened, and the oxygen gas supply unit 15 supplies oxygen gas to the inside of the processing chamber 10. The control unit 19 transmits a control signal to close the valve 183 after the inside of the processing chamber 10 reaches the atmospheric pressure. The control unit 19 may supply air to the inside of the processing chamber 10 instead of the oxygen gas. In step S323, the object to be processed is taken out, and the sterilization process is ended.

以上の滅菌工程により、市販の過酸化水素水滅菌装置用のセルフコンテンド型バイオロジカルインジケータ(V241、芽胞型成菌、G.Stearo、初発菌数:2.1×10、ステリス)を用いて滅菌作用を確認するための実験を行った。その際、ステップS315における保持時間は2時間とした。その結果、インジケータは陰性を示し、本発明による滅菌効果を確認できた。 According to the above sterilization process, a commercially available self-contained biological indicator for hydrogen peroxide solution sterilizer (V241, spore type bacteria, G. Stearo, the number of initial outbreak: 2.1 × 10 6 , steris) is used. An experiment was conducted to confirm the sterilization effect. At this time, the holding time in step S315 is 2 hours. As a result, the indicator showed negative, and the sterilization effect according to the present invention could be confirmed.

なお、本実施形態では、最初に紫外線発光部(ランプ)103を点灯させ、次いでNOガスを処理室10の内部に導入し、最後に酸素ガスを処理室10の内部に導入する、としたが、本発明はこれに限定されない。例えば、酸素ガスを導入後にNOガスを導入しても同様の効果が得られる。また、NOガス及び酸素ガスを導入後に紫外線発光部(ランプ)103を点灯させるようにしても同様の効果が得られる。また、本実施形態では、NOガス及び酸素ガスの導入及び減圧は処理室10の側面部から行うこととしたが、本発明はこれに限定されない。例えば、ガスの供給及び減圧は処理室10の上面部又は下面部から行っても良い。これらガス供給系統及び減圧系統の数や接続位置は、処理室の寸法や被処理物の位置によって適宜変更できる。さらに、各ガスを導入する前に若干の水分を処理室10の内部に導入してから滅菌処理を行うようにしても良い。ガス滅菌において処理対象物を加湿することが滅菌効果を向上させることは周知の事実である。 In the present embodiment, first, the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 is turned on, then N 2 O gas is introduced into the processing chamber 10, and finally, oxygen gas is introduced into the processing chamber 10. However, the present invention is not limited to this. For example, similar effects can be obtained by introducing N 2 O gas after introducing oxygen gas. The same effect can be obtained by turning on the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103 after introducing the N 2 O gas and the oxygen gas. Further, in the present embodiment, the introduction and the pressure reduction of the N 2 O gas and the oxygen gas are performed from the side part of the processing chamber 10, but the present invention is not limited to this. For example, gas supply and decompression may be performed from the upper surface or lower surface of the processing chamber 10. The number and connection positions of the gas supply system and the pressure reduction system can be appropriately changed according to the size of the processing chamber and the position of the object to be processed. Furthermore, some moisture may be introduced into the inside of the processing chamber 10 before introducing each gas and then sterilization may be performed. It is a well-known fact that humidifying the object to be treated in gas sterilization improves the sterilization effect.

本発明によれば、紫外線と亜酸化窒素分子及び酸素分子との光化学反応を利用して滅菌ガスを生成している。光化学反応を利用した滅菌ガスの生成には、反応させるガスの量や滅菌処理中の処理室10の内部の圧力に依存せず、瞬時に所望の濃度の滅菌ガスを安定的に得ることができる、という利点がある。本発明と比較して、薬剤を利用した生成方法の場合、得られる滅菌ガスの濃度は当該薬剤の組成によって制限されてしまう。また、プラズマ放電を利用した生成方法の場合、プラズマ放電を発生及び維持できる圧力範囲や滅菌ガスの原料となるガスの組成比について予め条件出しをしておく必要がある。そのため、処理室が大きくなると滅菌ガスの生成が困難となり得る。また、プラズマ放電を利用した場合、処理室の内部のガスとの反応が数ミリ秒〜数十ミリ秒程度で進行するため、生成される滅菌ガスの量が安定せず時間的に変動してしまう、という原理的な問題がある。即ち、プラズマ放電による生成方法では、所望濃度の滅菌ガスを得ること自体が困難であり、よって安定的な滅菌作用の提供が難しい。従って、本発明による滅菌装置は、短時間で安定した滅菌処理を行える点で従来の滅菌装置よりも有利である。また本発明による滅菌装置は、滅菌ガスの原料としてNOガスよりも毒性が低くかつ安価なNOガスを用いているため、従来の滅菌装置よりも安全かつ低コストで滅菌処理を行うことができる。 According to the present invention, the sterilizing gas is generated utilizing the photochemical reaction of ultraviolet light with nitrous oxide molecules and oxygen molecules. For generation of sterilization gas utilizing photochemical reaction, sterilization gas of desired concentration can be stably obtained in an instant regardless of the amount of reaction gas or the pressure inside processing chamber 10 during sterilization processing. There is an advantage of. As compared to the present invention, in the case of drug-based production methods, the concentration of the sterilizing gas obtained is limited by the composition of the drug. In addition, in the case of the generation method using plasma discharge, it is necessary to predetermine the pressure range in which the plasma discharge can be generated and maintained, and the composition ratio of the gas serving as the raw material of the sterilizing gas. Therefore, the production of the sterilizing gas may be difficult when the processing chamber is enlarged. In addition, when plasma discharge is used, the reaction with the gas inside the processing chamber proceeds in about several milliseconds to several tens of milliseconds, so the amount of the sterilizing gas generated is not stable and fluctuates over time. There is a fundamental problem that That is, in the method of generation by plasma discharge, it is difficult to obtain a sterilizing gas of a desired concentration, and it is therefore difficult to provide a stable sterilizing action. Therefore, the sterilization apparatus according to the present invention is advantageous over conventional sterilization apparatuses in that stable sterilization can be performed in a short time. Further, since the sterilization apparatus according to the present invention uses N 2 O gas which is less toxic and cheaper than NO 2 gas as a raw material of sterilization gas, sterilization is performed safely and at a lower cost than conventional sterilization apparatuses. Can.

[第2実施形態]
本発明の第2実施形態に係る加湿部21を備える滅菌装置5について説明する。
Second Embodiment
The sterilizer 5 provided with the humidification part 21 which concerns on 2nd Embodiment of this invention is demonstrated.

図4は、本発明の第2実施形態に係る滅菌装置5の模式図である。本実施形態に係る滅菌装置5は、加湿部21、配管174、バルブ184を備える。加湿部21は、水を貯留する容器と、容器内の水を霧状化させ、霧状化した水分を含んだガス(加湿ガス)を噴射する噴射器とを備え、その上部が配管174を介して処理室10と接続されている。バルブ184は、処理室10と加湿部21との間に設けられ、配管174の流路を開閉する。バルブ184は、制御部19からの制御信号を受信し、開状態となり、加湿部21が処理室10の内部へ加湿ガスを供給する。その他の構成は第1実施形態と同一である。従って、重複する箇所についての説明を省略する。   FIG. 4 is a schematic view of a sterilizer 5 according to a second embodiment of the present invention. The sterilization apparatus 5 according to the present embodiment includes a humidifying unit 21, a pipe 174, and a valve 184. The humidifying unit 21 includes a container for storing water, and an injector for atomizing the water in the container and injecting a gas (humidified gas) containing the atomized water, and the upper portion thereof is provided with the pipe 174. It is connected to the processing chamber 10 via The valve 184 is provided between the processing chamber 10 and the humidifying unit 21 and opens and closes the flow path of the pipe 174. The valve 184 receives a control signal from the control unit 19 and is in an open state, and the humidifying unit 21 supplies humidified gas to the inside of the processing chamber 10. The other configuration is the same as that of the first embodiment. Therefore, the description of the overlapping part is omitted.

図5は、本発明の第2実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。酸素ガスの供給を停止(ステップS308)した後に、ステップS309において、制御部19は、バルブ184を開状態にするよう制御信号を送信する。バルブ184が制御信号を受信し、開状態となり、加湿部21が処理室10の内部に加湿ガスの供給を行う。加湿ガスが処理室10の内部に導入されると、表1の(10)及び(11)に示す反応が起こり、NO2を含む滅菌ガスが生成される。また、被処理物の近傍に加湿ガスを供給することで、滅菌ガスの被処理物への浸透性を高めることができる。
FIG. 5 is a flow chart showing sterilization processing by the sterilization apparatus according to the second embodiment of the present invention. After stopping the supply of oxygen gas (step S308), in step S309, the control unit 19 transmits a control signal to open the valve 184. The valve 184 receives the control signal and is opened, and the humidifying unit 21 supplies humidified gas to the inside of the processing chamber 10. When the humidified gas is introduced into the processing chamber 10, the reactions shown in (10) and (11) of Table 1 occur to generate a sterilizing gas containing NO2. Moreover, the permeability to the to-be-processed object of sterilization gas can be improved by supplying humidification gas to the vicinity of to-be-processed object.

ステップS310において、制御部19は、所定の時間の経過後、又は処理室10の内部が所定の圧力まで上昇した後、バルブ184を閉状態にするよう制御信号を送信する。バルブ184が制御信号を受信し、閉状態となり、加湿部21が処理室10の内部への加湿ガスの供給を停止する。このとき、処理室10の内部の圧力が大気圧以上になると、処理室10の内部のガスが外部に漏出するおそれがある。そのため、処理室10の内部の圧力が大気圧よりも若干低い程度であることが望ましい。本実施形態では、加湿ガスの供給(ステップS309)を、酸素ガスの供給を停止(ステップS308)した後としたが、本発明はこれに限定されない。例えば、NOガスの供給(ステップS305)の前に加湿ガスを導入しても同様の効果が得られる。また、酸素ガスの供給(ステップS307)の前に加湿ガスを導入しても同様の効果が得られる。なお、その他の構成は第1実施形態と同一である。従って、重複する箇所についての説明を省略する。 In step S310, the control unit 19 transmits a control signal to close the valve 184 after a predetermined time has elapsed or after the inside of the processing chamber 10 has risen to a predetermined pressure. The valve 184 receives the control signal and is closed, and the humidifying unit 21 stops the supply of the humidifying gas to the inside of the processing chamber 10. At this time, when the pressure inside the processing chamber 10 becomes equal to or higher than the atmospheric pressure, the gas inside the processing chamber 10 may leak to the outside. Therefore, it is desirable that the pressure inside the processing chamber 10 be slightly lower than the atmospheric pressure. In the present embodiment, the supply of the humidified gas (step S309) is after the supply of the oxygen gas is stopped (step S308), but the present invention is not limited to this. For example, the same effect can be obtained by introducing a humidified gas before the supply of N 2 O gas (step S 305). Also, the same effect can be obtained by introducing the humidified gas before the supply of the oxygen gas (step S307). The other configuration is the same as that of the first embodiment. Therefore, the description of the overlapping part is omitted.

[第3実施形態]
本発明の第3実施形態に係る滅菌装置1について説明する。
Third Embodiment
A sterilizer 1 according to a third embodiment of the present invention will be described.

図6は、本発明の第3実施形態に係る滅菌装置による滅菌処理を示す流れ図である。処理室10の内部を再度減圧(ステップS319)した後に、ステップS320において、制御部19は、ステップS305〜S315の滅菌工程のサイクル数が設定された所定の回数に到達したか否かを判断する。制御部19は、サイクル数がまだ設定された所定の回数に到達していないと判断した場合、ステップS305に戻り、NOガスを再び処理室内に供給させるよう制御信号を送信する。制御部19は、サイクル数が設定された所定の回数に到達するまで、ステップS305〜S315の滅菌工程を繰り返すようバルブ181〜183を制御する。制御部19は、サイクル数が設定された所定の回数に到達したと判断した場合、S305〜S315の滅菌工程を終了させ、ステップS321に進む。その他の構成は第1実施形態と同一である。従って、重複する箇所についての説明を省略する。なお、本実施形態は加湿部21を含む第2実施形態にも適用できる。このように滅菌工程を複数回繰り返すことにより、被処理物121に対する滅菌ガスの浸透性を高めることができる。特に、被処理物121が試験管の様な中空形状やデッドエンド部を有する場合に効果的である。 FIG. 6 is a flow chart showing sterilization processing by the sterilizer according to the third embodiment of the present invention. After depressurizing the inside of the processing chamber 10 again (step S319), in step S320, the control unit 19 determines whether or not the number of cycles of the sterilization process in steps S305 to S315 has reached a predetermined number. . If the control unit 19 determines that the number of cycles has not yet reached the set predetermined number, the control unit 19 returns to step S305, and transmits a control signal to supply the N 2 O gas again into the processing chamber. The control unit 19 controls the valves 181 to 183 so as to repeat the sterilization process of steps S305 to S315 until the number of cycles reaches the set predetermined number of times. When the control unit 19 determines that the number of cycles has reached the set predetermined number, the control unit 19 ends the sterilization process of S305 to S315, and proceeds to step S321. The other configuration is the same as that of the first embodiment. Therefore, the description of the overlapping part is omitted. In addition, this embodiment is applicable also to 2nd Embodiment containing the humidification part 21. FIG. Thus, the permeability of the sterilizing gas to the object to be treated 121 can be enhanced by repeating the sterilization step a plurality of times. In particular, it is effective when the workpiece 121 has a hollow shape such as a test tube or a dead end.

[第4実施形態]
本発明の第4実施形態に係る処理室81及び82を備える滅菌装置8について説明する。
Fourth Embodiment
A sterilization apparatus 8 provided with processing chambers 81 and 82 according to a fourth embodiment of the present invention will be described.

図7は、本発明の第4実施形態に係る滅菌装置8の模式図である。本実施形態に係る滅菌装置8は、処理室81、82、配管175〜177、バルブ185〜187を備える。処理室81は、紫外線発光部(ランプ)103を有し、NOガス供給部14及び酸素ガス供給部15からNOガス及び酸素ガスが供給される。これらのガスと紫外線発光部(ランプ)103から照射される紫外線とが反応し、処理室81には滅菌ガスが生成される。処理室82は、処理台101、送風ファン102を備え、処理室81と配管175を介して接続され、減圧部12と配管176を介して接続され、酸素ガス供給部15と配管177を介して接続されている。 FIG. 7 is a schematic view of a sterilizer 8 according to a fourth embodiment of the present invention. The sterilization apparatus 8 according to the present embodiment includes processing chambers 81 and 82, pipes 175 to 177, and valves 185 to 187. Processing chamber 81 has an ultraviolet light-emitting portion (lamp) 103, N 2 O gas and the oxygen gas is supplied from the N 2 O gas supply unit 14 and an oxygen gas supply unit 15. These gases react with the ultraviolet light emitted from the ultraviolet light emitting unit (lamp) 103, and a sterilizing gas is generated in the processing chamber 81. The processing chamber 82 includes a processing table 101 and a blower fan 102, is connected to the processing chamber 81 via a pipe 175, is connected to the depressurizing unit 12 via a pipe 176, and via an oxygen gas supply unit 15 and a pipe 177. It is connected.

バルブ185は、処理室81と処理室82との間に設けられ、配管175の流路を開閉する。バルブ185は、制御部19からの制御信号を受信し、開状態となり、処理室81において生成された滅菌ガスが処理室82に供給される。バルブ186は、処理室82と減圧部12との間に設けられ、配管176の流路を開閉する。バルブ186は、制御部19からの制御信号を受信し、開状態となり、処理室82の内部を減圧する。バルブ187は、処理室82と酸素ガス供給部15との間に設けられ、配管177の流路を開閉する。バルブ187は、制御部19からの制御信号を受信し、開状態となり、処理室82の内部に酸素ガスを供給する。その他の構成は第1実施形態と同一である。従って、重複する箇所についての説明を省略する。なお、本実施形態は加湿部21を含む第2実施形態及び滅菌工程を繰り返す第3実施形態にも適用できる。   The valve 185 is provided between the processing chamber 81 and the processing chamber 82 and opens and closes the flow path of the pipe 175. The valve 185 receives the control signal from the control unit 19 and is opened, and the sterilizing gas generated in the processing chamber 81 is supplied to the processing chamber 82. The valve 186 is provided between the processing chamber 82 and the pressure reducing unit 12 and opens and closes the flow path of the pipe 176. The valve 186 receives the control signal from the control unit 19, is opened, and depressurizes the inside of the processing chamber 82. The valve 187 is provided between the processing chamber 82 and the oxygen gas supply unit 15, and opens and closes the flow path of the pipe 177. The valve 187 receives the control signal from the control unit 19, is opened, and supplies oxygen gas to the inside of the processing chamber 82. The other configuration is the same as that of the first embodiment. Therefore, the description of the overlapping part is omitted. The present embodiment can also be applied to the second embodiment including the humidifying unit 21 and the third embodiment for repeating the sterilization process.

このように構成することで、滅菌ガスを被処理物121の載置されている処理室82とは別の処理室81に貯留させることができる。即ち、減圧部12は滅菌処理の間に処理室82のみを減圧し、一方処理室81内では滅菌ガスを継続的に生成及び貯留することができ、更に効率的に滅菌処理を行うことができる。また、滅菌処理後の被処理物121を取り出す際でも、処理室81内で生成した滅菌ガスを排気する必要が無く貯留させておくことができる。即ち、排気する必要のある滅菌ガスは処理室82の内部に存在するガスのみであり、生成した全ての滅菌ガスを排気する必要が無くなる。従って、有毒である滅菌ガスの排出が削減され、使用されるNOガス及び酸素ガスの量も削減されるため、より低コストで滅菌処理を実現できる。 With this configuration, the sterilizing gas can be stored in the processing chamber 81 different from the processing chamber 82 on which the object 121 is placed. That is, the decompression unit 12 decompresses only the treatment chamber 82 during the sterilization treatment, while the sterilization gas can be continuously generated and stored in the treatment chamber 81, and the sterilization treatment can be performed more efficiently. . Further, even when the object to be processed 121 after the sterilization processing is taken out, the sterilizing gas generated in the processing chamber 81 need not be exhausted and can be stored. That is, the sterilizing gas which needs to be exhausted is only the gas present inside the processing chamber 82, and there is no need to evacuate all the generated sterilizing gas. Accordingly, the emission of toxic sterilizing gas is reduced, and the amounts of N 2 O gas and oxygen gas used are also reduced, so sterilization can be realized at lower cost.

1、5、8 滅菌装置
10、81、82 処理室
12 減圧部
13 排気ガス分解部
14 NOガス供給部
15 酸素ガス供給部
19 制御部
20 測定部
21 加湿部
102 送風ファン
103 紫外線発光部(ランプ)
121 被処理物
122 滅菌袋
161、162 マスフローコントローラ
171〜177 配管
181〜187 バルブ
1, 5, 8 Sterilizer 10, 81, 82 Processing chamber 12 Decompression unit 13 Exhaust gas decomposition unit 14 N 2 O gas supply unit 15 Oxygen gas supply unit 19 Control unit 20 Measurement unit 21 Humidification unit 102 Blowing fan 103 Ultraviolet light emitting unit (lamp)
121 Object to be processed 122 Sterilization bags 161 and 162 Mass flow controllers 171 to 177 Pipings 181 to 187 Valves

Claims (7)

被処理物を収容する処理室と、
前記処理室の内部を減圧する減圧部と、
前記処理室の内部にNOガスを供給するNOガス供給部と、
紫外線を前記NOガスに照射する紫外線発光部(ランプ)と、
前記処理室内に酸素ガスを供給する酸素ガス供給部と、
前記処理室内に加湿ガスを供給する加湿ガス供給部と、
前記減圧部、前記N Oガス供給部、前記酸素ガス供給部、前記加湿ガス供給部、および前記紫外線発光部(ランプ)の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記制御部は、
前記N Oガス供給部による前記N Oガスの供給、前記紫外線発光部(ランプ)による前記紫外線の照射、及び前記酸素ガス供給部による前記酸素ガスの供給を制御して、一酸化窒素、二酸化窒素、五酸化二窒素、活性酸素を含む第1の滅菌ガスを生成させ、且つ、
前記加湿ガス供給部による前記加湿ガスの供給を制御して硝酸を生成させ、該硝酸から二酸化窒素を含む第2の滅菌ガスを生成させる、
滅菌装置。
A processing chamber for containing objects to be processed;
A decompression unit that decompresses the inside of the processing chamber;
And N 2 O gas supplying N 2 O gas supply unit to the inside of the processing chamber,
An ultraviolet light emitting unit (lamp) for irradiating the N 2 O gas with ultraviolet light;
An oxygen gas supply unit for supplying oxygen gas into the processing chamber;
A humidifying gas supply unit for supplying a humidifying gas into the processing chamber;
A control unit that controls the operation of the decompression unit, the N 2 O gas supply unit, the oxygen gas supply unit, the humidification gas supply unit, and the ultraviolet light emission unit (lamp);
Equipped with
The control unit
Nitrogen monoxide by controlling the supply of the N 2 O gas by the N 2 O gas supply unit , the irradiation of the ultraviolet light by the ultraviolet light emitting unit (lamp), and the supply of the oxygen gas by the oxygen gas supply unit Producing a first sterilizing gas comprising nitrogen dioxide, dinitrogen pentoxide, active oxygen, and
The supply of the humidified gas by the humidified gas supply unit is controlled to generate nitric acid, and a second sterilization gas containing nitrogen dioxide is generated from the nitric acid.
Sterilizer.
前記制御部は、前記NOガスの供給の前または後に、前記酸素ガス供給部による前記酸素ガスの供給を実行させる、請求項に記載の滅菌装置。 Wherein, the before or after the supply of the N 2 O gas, to execute the supply of the oxygen gas by the oxygen gas supply unit, the sterilization device according to claim 1. 前記制御部は、前記NOガスの供給の前または後に、前記加湿ガス供給部による前記加湿ガスの供給を実行させる、請求項又はに記載の滅菌装置。 Wherein, the before or after the supply of the N 2 O gas, to execute the supply of the humidified gas by the humidifying gas supply unit, the sterilization device according to claim 1 or 2. 前記紫外線発光部(ランプ)が200nm以下の波長を有する紫外線を前記NOガスに照射し、前記処理室内に一酸化窒素、二酸化窒素、オゾンの内の少なくとも一つを含む滅菌ガスを発生させる、請求項1乃至のいずれか1項に記載の滅菌装置。 The ultraviolet light emitting unit (lamp) irradiates the N 2 O gas with ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less to generate a sterilizing gas containing at least one of nitrogen monoxide, nitrogen dioxide, and ozone in the processing chamber. The sterilizer according to any one of claims 1 to 3 . 前記制御部が、前記減圧部による減圧、並びに前記NOガス供給部による前記Oガスの供給、前記酸素ガス供給部による前記酸素ガスの供給、及び前記加湿ガス供給部による前記加湿ガスの供給の内の少なくとも1つ以上の供給動作を繰り返し実行させる、
請求項乃至のいずれか1項に記載の滅菌装置。
The humidified gas and the control unit, according to the decompression by decompression unit, and the N 2 wherein the O-gas supply unit N 2 supply of O gas, the supply of the oxygen gas by the oxygen gas supply unit, and the humidified gas supply unit Causing at least one or more of the supply operations of
The sterilizer according to any one of claims 1 to 4 .
前記制御部は、前記減圧部による前記減圧の後で、前記処理室内の圧力が95kPa以上大気圧未満となるように、前記酸素ガス供給部による前記酸素ガスの供給、前記N  The control unit is configured to supply the oxygen gas by the oxygen gas supply unit such that the pressure in the processing chamber becomes 95 kPa or more and less than the atmospheric pressure after the pressure reduction by the pressure reduction unit. 2 Oガス供給部による前記NThe N by the O gas supply unit 2 Oガスの供給、及び前記加湿ガス供給部による前記加湿ガスの供給の内の少なくとも1つの供給を制御する、請求項5に記載の滅菌装置。The sterilizer according to claim 5, controlling at least one of the supply of O gas and the supply of the humidified gas by the humidified gas supply unit. 被処理物を処理室に収容するステップと、
減圧部が前記処理室の内部を減圧するステップと、
Oガス供給部が前記処理室の内部にNOガスを供給するステップと、
紫外線発光部(ランプ)が紫外線を照射するステップと、
酸素ガス供給部が前記処理室内に酸素ガスを供給するステップと、
加湿ガス供給部が前記処理室内に加湿ガスを供給するステップと、
制御部が前記減圧部、前記N Oガス供給部、前記酸素ガス供給部、前記加湿ガス供給部、および前記紫外線発光部(ランプ)の動作を制御するステップと、
を備え、
前記制御するステップは、
前記N Oガス供給部による前記N Oガスの供給、前記紫外線発光部(ランプ)による前記紫外線の照射、及び前記酸素ガス供給部による前記酸素ガスの供給を制御して、一酸化窒素、二酸化窒素、五酸化二窒素、活性酸素を含む第1の滅菌ガスを生成させるステップ、および、
前記加湿ガス供給部による前記加湿ガスの供給を制御して硝酸を生成させ、該硝酸から二酸化窒素を含む第2の滅菌ガスを生成させるステップ、
を含む、
滅菌方法。
Storing the object in the processing chamber;
A pressure reducing unit pressure reducing the inside of the processing chamber;
Supplying an N 2 O gas into the processing chamber by an N 2 O gas supply unit ;
A step of the ultraviolet light emitting unit (lamp) emitting ultraviolet light ;
An oxygen gas supply unit supplying oxygen gas into the processing chamber;
Supplying a humidified gas into the processing chamber with a humidified gas supply unit;
The control unit controls operations of the decompression unit, the N 2 O gas supply unit, the oxygen gas supply unit, the humidified gas supply unit, and the ultraviolet light emitting unit (lamp);
Equipped with
The controlling step comprises
Nitrogen monoxide by controlling the supply of the N 2 O gas by the N 2 O gas supply unit , the irradiation of the ultraviolet light by the ultraviolet light emitting unit (lamp), and the supply of the oxygen gas by the oxygen gas supply unit Generating a first sterilizing gas comprising nitrogen dioxide, dinitrogen pentoxide, active oxygen, and
Controlling supply of the humidified gas by the humidified gas supply unit to generate nitric acid, and generating a second sterilizing gas containing nitrogen dioxide from the nitric acid;
including,
Sterilization method.
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