JP6497289B2 - Curable composition, cured product, and optical semiconductor device - Google Patents

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Description

本発明は、硬化性組成物、硬化物および光半導体装置に関する。   The present invention relates to a curable composition, a cured product, and an optical semiconductor device.

シリコーン樹脂は、LEDを始めとする半導体装置の封止材として広く利用されている。LEDでは通電や点灯の際に生じる熱衝撃や高温高湿環境などにより、封止材の形状が変化し、LEDの寿命が低下するという問題がある。   Silicone resins are widely used as sealing materials for semiconductor devices such as LEDs. The LED has a problem that the shape of the sealing material changes due to a thermal shock or a high temperature and high humidity environment that occurs during energization or lighting, and the life of the LED is reduced.

このような熱衝撃などによるLEDの寿命の低下を防止する技術として、特許文献1に、アルケニル基含有ポリシロキサンと、ハイドロジェンポリシロキサンと、白金のアルケニル錯体とを含む付加型硬化性ポリシロキサン組成物において、白金のアルケニル錯体が、塩化白金酸6水和物と、6当量以上の2官能以上であるアルケニル化合物とを反応させることにより得られる白金のアルケニル錯体であり、アルケニル基含有ポリシロキサンのアルケニル基の数の、ハイドロジェンポリシロキサンのケイ素原子結合水素原子の数に対する比が、1.0以上、2.5以下である付加型硬化性ポリシロキサン組成物が開示されている。   As a technique for preventing a decrease in the lifetime of an LED due to such thermal shock, Patent Document 1 discloses an addition-type curable polysiloxane composition containing an alkenyl group-containing polysiloxane, a hydrogen polysiloxane, and an alkenyl complex of platinum. The platinum alkenyl complex is a platinum alkenyl complex obtained by reacting chloroplatinic acid hexahydrate with 6 equivalents or more of a bifunctional or higher alkenyl compound. Addition-type curable polysiloxane compositions in which the ratio of the number of alkenyl groups to the number of silicon-bonded hydrogen atoms in the hydrogen polysiloxane is 1.0 or more and 2.5 or less are disclosed.

WO2011/162294号公報WO2011 / 162294

本発明は、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下でも形状が変化しにくい硬化物、前記硬化物を形成できる硬化性組成物、前記硬化物を有する光半導体装置を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a cured product whose shape hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity, a curable composition capable of forming the cured product, and an optical semiconductor device having the cured product. And

本発明は、例えば以下の[1]〜[7]である。
[1]酸化セリウム粒子、及び酸化鉄(II)粒子から選ばれる少なくとも1種の無機酸化物粒子(A)、1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有し、且つケイ素原子結合アリール基を有するポリシロキサン(B)、1分子当たり少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するポリシロキサン(C)、並びにヒドロシリル化反応用触媒(D)を含有し、
前記無機酸化物粒子(A)の含有量が、前記ポリシロキサン(B)および前記ポリシロキサン(C)の合計100質量部に対して、5質量部未満であることを特徴とする硬化性組成物。
The present invention includes, for example, the following [1] to [7].
[1] At least one inorganic oxide particle (A) selected from cerium oxide particles and iron (II) oxide particles, having at least two alkenyl groups per molecule, and having a silicon-bonded aryl group A polysiloxane (B), a polysiloxane (C) having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, and a hydrosilylation catalyst (D),
Content of the said inorganic oxide particle (A) is less than 5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said polysiloxane (B) and the said polysiloxane (C), The curable composition characterized by the above-mentioned. .

[2]前記ポリシロキサン(B)中に含まれるアリール基の含有割合が、ポリシロキサン(B)中に含まれる全ケイ素原子の数を100モル%に対して、20モル%以上である前記[1]に記載の硬化性組成物。 [2] The content ratio of the aryl group contained in the polysiloxane (B) is 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total number of silicon atoms contained in the polysiloxane (B). [1] The curable composition according to [1].

[3]前記ポリシロキサン(B)が、下記式(1)に示すポリシロキサンである前記[1]または[2]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [3] The curable composition according to any one of [1] or [2], wherein the polysiloxane (B) is a polysiloxane represented by the following formula (1).


(式(1)中、Rは互いに同一でもよく異なっていてもよく、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアラルキル基、若しくはこれらの基の水素原子を水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜10のオキシシラニル基、又は炭素数6〜30のアリール基に置き換えた基を示す。複数あるRのうち少なくとも2つは炭素数2〜10のアルケニル基を示し、複数あるRのうち少なくとも一つはアリール基を示す。Xは水素原子、又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。aおよびcはそれぞれ独立に1以上の整数を示す。b、d、およびfはそれぞれ独立に0以上の整数を示す。c/(a+b+c+d)≧0.2以上である。)

(In Formula (1), R 1 may be the same as or different from each other, and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or the number of carbon atoms. 7 to 30 aralkyl groups, or groups in which the hydrogen atoms of these groups are replaced with hydroxyl groups, alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, oxysilanyl groups having 2 to 10 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms . plurality of at least two of R 1 represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a plurality of at least one .X hydrogen atoms an aryl group of R 1, or alkyl of 1 to 3 carbon atoms A and c each independently represents an integer of 1 or more, b, d and f each independently represents an integer of 0 or more, and c / (a + b + c + d) ≧ 0.2.

[4]前記ポリシロキサン(C)が、下記式(2)に示す構造単位を有する前記[1]〜[3]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [4] The curable composition according to any one of [1] to [3], wherein the polysiloxane (C) has a structural unit represented by the following formula (2).


(式(2)中、Arは炭素数6〜30のアリール基を示す。)

(In the formula (2), Ar represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.)

[5]さらに、蛍光体粒子(E)を含有する前記[1]〜[4]のいずれかに記載の硬化性組成物。 [5] The curable composition according to any one of [1] to [4], further containing phosphor particles (E).

[6]前記[1]〜[5]のいずれかに記載の硬化性組成物を硬化して得られる硬化物。 [6] A cured product obtained by curing the curable composition according to any one of [1] to [5].

[7]前記[6]に記載の硬化物を有する光半導体装置。 [7] An optical semiconductor device having the cured product according to [6].

本発明の硬化物は、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下でも形状は変化しにくい。本発明によれば、前記特性を有する硬化性組成物、前記組成物から形成される硬化物、および前記硬化物を有する光半導体装置を提供することができる。   The shape of the cured product of the present invention hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. According to the present invention, it is possible to provide a curable composition having the above characteristics, a cured product formed from the composition, and an optical semiconductor device having the cured product.

図1は、光半導体装置の一具体例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a specific example of an optical semiconductor device. 図2は、光半導体装置の一具体例を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a specific example of the optical semiconductor device.

以下、発明を実施するための形態について好適態様も含めて説明する。
1.硬化性組成物
本発明の硬化性組成物は、酸化セリウム粒子、及び酸化鉄(II)粒子から選ばれる少なくとも1種の無機酸化物粒子(A)、1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有し、且つケイ素原子結合アリール基を有するポリシロキサン(B)、1分子当たり少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するポリシロキサン(C)、並びにヒドロシリル化反応用触媒(D)を含有し、
前記無機酸化物粒子(A)の含有量が、前記ポリシロキサン(B)および前記ポリシロキサン(C)の合計量100質量部に対して、5質量部以下であることを特徴とする。
また、必要に応じて蛍光体粒子(E)、およびその他成分を含有することができる。
Hereinafter, modes for carrying out the invention will be described including preferred embodiments.
1. Curable composition The curable composition of the present invention has at least two alkenyl groups per molecule of at least one inorganic oxide particle (A) selected from cerium oxide particles and iron (II) oxide particles. And a polysiloxane (B) having a silicon-bonded aryl group, a polysiloxane (C) having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, and a hydrosilylation reaction catalyst (D),
Content of the said inorganic oxide particle (A) is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of total amounts of the said polysiloxane (B) and the said polysiloxane (C), It is characterized by the above-mentioned.
Moreover, a fluorescent substance particle (E) and other components can be contained as needed.

1−1.無機酸化物粒子(A)
無機酸化物粒子(A)は、酸化セリウム粒子、並びに酸化鉄(II)粒子から選ばれる少なくとも1種である。これらの中でも酸化セリウム粒子が好ましい。
前記酸化セリウム粒子は、特開平4−300644号公報等に記載の公知の方法で製造できる。具体的には、炭酸セリウムなどの酸化セリウム前駆体を焼成、または酸化剤を用いて酸化セリウム粒子を得る方法;硝酸セリウムや硝酸セリウムアンモニウムなどのセリウム塩化合物水溶液をアルカリ金属ナトリウム塩やアンモニア等と反応させ酸化セリウムコロイドゲルを得るゾルゲル法により酸化セリウム粒子を得る方法; 酢酸セリウムや塩化セリウムなどの水溶液からなる酸化セリウム前駆体溶液を火炎中に噴霧して気相熱分化して酸化セリウム粒子を得る方法などが挙げられる。これらの中でも、火炎中に噴霧して得られる酸化セリウム粒子が、表面活性が高く、分散性に優れることから好ましい。
1-1. Inorganic oxide particles (A)
The inorganic oxide particles (A) are at least one selected from cerium oxide particles and iron (II) oxide particles. Among these, cerium oxide particles are preferable.
The cerium oxide particles can be produced by a known method described in JP-A-4-300644. Specifically, a method of firing a cerium oxide precursor such as cerium carbonate or obtaining cerium oxide particles using an oxidizing agent; an aqueous solution of a cerium salt compound such as cerium nitrate or cerium ammonium nitrate with an alkali metal sodium salt or ammonia A method of obtaining cerium oxide particles by a sol-gel method to obtain a cerium oxide colloidal gel by reaction; a cerium oxide precursor solution comprising an aqueous solution of cerium acetate, cerium chloride, or the like is sprayed into a flame to thermally vaporize the cerium oxide particles. The method of obtaining is mentioned. Among these, cerium oxide particles obtained by spraying in a flame are preferable because of high surface activity and excellent dispersibility.

無機酸化物粒子(A)は、硬化性組成物中での分散安定性を向上させるため、シランカップリング剤等の公知の表面処理剤を用いて表面処理を行ってもよい。本発明においては、表面処理を行っていない無機酸化物粒子(A)の方が、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状は変化しにくいため好ましい。   In order to improve the dispersion stability in the curable composition, the inorganic oxide particles (A) may be subjected to a surface treatment using a known surface treatment agent such as a silane coupling agent. In the present invention, the inorganic oxide particles (A) not subjected to the surface treatment are cured products obtained from the curable composition even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. The shape is preferable because it hardly changes.

無機酸化物粒子(A)の一次粒子径は、通常1〜100nm、好ましくは1〜50nmである。前記一次粒子径が上述の範囲にあると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいため好ましい。前記一次粒子径は、透過型電子顕微鏡により測定することができる。
硬化性組成物中に含まれる無機酸化物粒子(A)の動的光散乱法による数平均粒子径は、通常、1〜100nm、好ましくは1〜50nmである。前記数平均粒子径が上述の範囲にあると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいため好ましい。
無機酸化物粒子(A)のガス吸着法による比表面積は、通常10m/g以上、好ましくは10〜500m/g、より好ましくは50〜300m/gである。前記比表面積が上述の範囲にあると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいため好ましい。
The primary particle diameter of the inorganic oxide particles (A) is usually 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm. When the primary particle diameter is in the above-described range, a cured product obtained from the curable composition is preferable because the shape hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. The primary particle diameter can be measured with a transmission electron microscope.
The number average particle diameter of the inorganic oxide particles (A) contained in the curable composition by the dynamic light scattering method is usually 1 to 100 nm, preferably 1 to 50 nm. When the number average particle diameter is in the above-mentioned range, a cured product obtained from the curable composition is preferable because the shape hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity.
The specific surface area by gas adsorption method of the inorganic oxide particles (A) is usually 10 m 2 / g or more, preferably 10 to 500 m 2 / g, more preferably 50 to 300 m 2 / g. When the specific surface area is in the above-described range, a cured product obtained from the curable composition is preferable because the shape hardly changes even under a severe environment such as thermal shock and high temperature and high humidity.

本発明の硬化性組成物中に蛍光体粒子(E)を含有する場合、無機酸化物粒子(A)の動的光散乱法による数平均粒子径は、蛍光体粒子(E)の動的光散乱法による数平均粒子径に対して、好ましくは0.0001〜0.1倍、より好ましくは0.01〜0.001倍である。前記範囲内であると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいため好ましい。 When phosphor particles (E) are contained in the curable composition of the present invention, the number average particle diameter of the inorganic oxide particles (A) by the dynamic light scattering method is the dynamic light of the phosphor particles (E). It is preferably 0.0001 to 0.1 times, more preferably 0.01 to 0.001 times the number average particle size by the scattering method. Within the above range, a cured product obtained from the curable composition is preferable because the shape hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity.

無機酸化物粒子(A)の含有量が、前記ポリシロキサン(B)および前記ポリシロキサン(C)の合計量100質量部に対して、5質量部未満であり、好ましくは0.01〜3質量部、より好ましくは0.05〜1質量部である。無機酸化物粒子(A)の含有量が上述の範囲にあると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいため好ましい。また、0.01〜3質量部であると、光透過率の低下が少なくLED封止材用途により好ましい。   Content of an inorganic oxide particle (A) is less than 5 mass parts with respect to 100 mass parts of total amounts of the said polysiloxane (B) and the said polysiloxane (C), Preferably it is 0.01-3 mass. Part, more preferably 0.05 to 1 part by mass. When the content of the inorganic oxide particles (A) is in the above range, the shape of the cured product obtained from the curable composition changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. It is preferable because it is difficult. Moreover, it is preferable for LED sealing material use that there is little fall of the light transmittance as it is 0.01-3 mass parts.

1−2.ポリシロキサン(B)
ポリシロキサン(B)は、1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有し、且つケイ素原子結合アリール基を有するポリシロキサンである。ポリシロキサン(B)は本組成物の主成分であり、ポリシロキサン(C)とのヒドロシリル化反応により硬化し、硬化物の主体となる。
1-2. Polysiloxane (B)
The polysiloxane (B) is a polysiloxane having at least two alkenyl groups per molecule and having a silicon atom-bonded aryl group. The polysiloxane (B) is a main component of the composition, and is cured by a hydrosilylation reaction with the polysiloxane (C) to become a main body of the cured product.

ポリシロキサン(B)は、ポリシロキサン(C)とのヒドロシリル化反応により硬化しうる限り特に制限はない。
ポリシロキサン(B)は、ポリシロキサン(C)と同一の化合物であってもよい。すなわち、ポリシロキサン(B)およびポリシロキサン(C)は、同一分子内にアルケニル基と少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子とを有するポリシロキサンであってもよい。
The polysiloxane (B) is not particularly limited as long as it can be cured by a hydrosilylation reaction with the polysiloxane (C).
The polysiloxane (B) may be the same compound as the polysiloxane (C). That is, the polysiloxane (B) and the polysiloxane (C) may be a polysiloxane having an alkenyl group and at least two silicon-bonded hydrogen atoms in the same molecule.

ポリシロキサン(B)が有するアルケニル基としては、たとえば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基およびシクロヘキセニル基等が挙げられる。これらの中でも、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基が好ましい。 Examples of the alkenyl group of the polysiloxane (B) include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, an isobutenyl group, a pentenyl group, a heptenyl group, a hexenyl group, and a cyclohexenyl group. Among these, a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group are preferable.

ポリシロキサン(B)におけるアルケニル基の含有量は、ポリシロキサン(B)中に含まれる全ケイ素原子の数を100モル%とするとき、3〜50モル%であることが好ましく、より好ましくは5〜40モル%であり、さらに好ましくは10〜30モル%である。アルケニル基の含有量が前記範囲内であると、ポリシロキサン(B)とポリシロキサン(C)とのヒドロシリル化反応が好適に進み、強度の強い硬化物を得られる。   The alkenyl group content in the polysiloxane (B) is preferably 3 to 50 mol%, more preferably 5 when the number of all silicon atoms contained in the polysiloxane (B) is 100 mol%. It is -40 mol%, More preferably, it is 10-30 mol%. When the content of the alkenyl group is within the above range, the hydrosilylation reaction between the polysiloxane (B) and the polysiloxane (C) suitably proceeds, and a cured product having high strength can be obtained.

ポリシロキサン(B)は、ケイ素原子結合アリール基を有するポリシロキサンである。ポリシロキサン(B)にアリール基を有すると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいという特性が発現する。
前記アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、およびナフチル基等が挙げられる。
The polysiloxane (B) is a polysiloxane having a silicon atom-bonded aryl group. When the polysiloxane (B) has an aryl group, the cured product obtained from the composition exhibits a characteristic that the shape hardly changes even under a severe environment such as thermal shock and high temperature and high humidity.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.

ポリシロキサン(B)中に含まれる全ケイ素原子の数を100モル%に対して、アリール基の含有割合が20モル%以上であることが好ましい。ポリシロキサン(B)中に含まれるアリール基の含有割合が前記範囲であるとき、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいという特性が発現する。 It is preferable that the content ratio of the aryl group is 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total number of silicon atoms contained in the polysiloxane (B). When the content ratio of the aryl group contained in the polysiloxane (B) is in the above range, the cured product obtained from the curable composition has a shape even under a severe environment such as thermal shock and high temperature and high humidity. The characteristic that it is difficult to change is developed.

前記、ポリシロキサン(B)中に含まれる全ケイ素原子の数を100モル%に対して、アリール基の含有割合が20モル%以上であるポリシロキサン(B1)の使用量は、ポリシロキサン(B)100質量部中、50質量部以上、より好ましくは70〜100質量部、さらに好ましくは80〜100質量部である。前記ポリシロキサン(B1)の使用量が前記範囲であると熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいという特性が発現する。 The amount of the polysiloxane (B1) having an aryl group content of 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total number of silicon atoms contained in the polysiloxane (B) is the polysiloxane (B ) In 100 parts by mass, 50 parts by mass or more, more preferably 70 to 100 parts by mass, and still more preferably 80 to 100 parts by mass. When the amount of the polysiloxane (B1) is within the above range, the cured product obtained from the curable composition is less likely to change its shape even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. Is expressed.

ポリシロキサン(B)は、下記式(1)に示すポリシロキサンであることが、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいことから好ましい。   The polysiloxane (B) is a polysiloxane represented by the following formula (1), and the cured product obtained from the composition changes in shape even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. It is preferable because it is difficult to do.


(式(1)中、Rは互いに同一でもよく異なっていてもよく、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアラルキル基、若しくはこれらの基の水素原子を水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜10のオキシシラニル基、又は炭素数6〜30のアリール基に置き換えた基を示す。複数あるRのうち少なくとも2つは炭素数2〜10のアルケニル基を示し、複数あるRのうち少なくとも一つはアリール基を示す。Xは水素原子、又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。aおよびcはそれぞれ独立に1以上の整数を示す。b、d、およびfはそれぞれ独立に0以上の整数を示す。c/(a+b+c+d)≧0.2以上である。)

(In Formula (1), R 1 may be the same as or different from each other, and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or the number of carbon atoms. 7 to 30 aralkyl groups, or groups in which the hydrogen atoms of these groups are replaced with hydroxyl groups, alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, oxysilanyl groups having 2 to 10 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms . plurality of at least two of R 1 represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a plurality of at least one .X hydrogen atoms an aryl group of R 1, or alkyl of 1 to 3 carbon atoms A and c each independently represents an integer of 1 or more, b, d and f each independently represents an integer of 0 or more, and c / (a + b + c + d) ≧ 0.2.

前記Rの炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ボルニル基、ノルボルニル基、およびアダマンチル基等を挙げることができる。これらの中でも、メチル基が好ましい。 Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 1 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, A cyclooctyl group, a bornyl group, a norbornyl group, an adamantyl group, and the like can be given. Among these, a methyl group is preferable.

前記Rの炭素数2〜10のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘプテニル基、ヘキセニル基、およびシクロヘキセニル基等を挙げることができる。これらの中でも、ビニル基、アリル基およびヘキセニル基が好ましい。 Examples of the alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms of R 1 include a vinyl group, allyl group, propenyl group, isopropenyl group, butenyl group, isobutenyl group, pentenyl group, heptenyl group, hexenyl group, and cyclohexenyl group. be able to. Among these, a vinyl group, an allyl group, and a hexenyl group are preferable.

前記Rの炭素数6〜30のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、これらに中でもフェニル基が好ましい。 Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms of R 1 include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. Among these, a phenyl group is preferable among these.

前記Rの炭素数7〜30のアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルエチル基、ナフチルプロピル基、アントラセニルエチル基、フェナントリルエチル基、およびピレニルエチル基等を挙げることができる。 Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms of R 1 include benzyl group, phenethyl group, naphthylethyl group, naphthylpropyl group, anthracenylethyl group, phenanthrylethyl group, and pyrenylethyl group. .

前記炭素数1〜10のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、tert−ブトキシ基等を挙げることができる。前記炭素数2〜10のオキシシラニル基としては、グリシドキシ基、3−グリシドキシプロピル基等のグリシドキシアルキル基、並びに3,4−エポキシシクロペンチル基、3,4−エポキシシクロヘキシル基、2−(3,4−エポキシシクロペンチル)エチル基、および2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等のエポキシシクロアルキル基等が挙げることができる。前記炭素数6〜30のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等を挙げることができる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, and a tert-butoxy group. Examples of the oxysilanyl group having 2 to 10 carbon atoms include glycidoxyalkyl group such as glycidoxy group and 3-glycidoxypropyl group, 3,4-epoxycyclopentyl group, 3,4-epoxycyclohexyl group, 2- ( An epoxycycloalkyl group such as a 3,4-epoxycyclopentyl) ethyl group and a 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group can be exemplified. Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.

前記Xの炭素数1〜3のアルキル基としては、メチル基、エチル基、iso−プロピル基が挙げられる。
c/(a+b+c+d)≧0.2以上であり、好ましくは0.5〜1である。c/(a+b+c+d)が前記範囲内であると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくくなる。
Examples of the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms of X include a methyl group, an ethyl group, and an iso-propyl group.
c / (a + b + c + d) ≧ 0.2 or more, preferably 0.5-1. When c / (a + b + c + d) is within the above range, the shape of a cured product obtained from the curable composition is less likely to change even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity.

ポリシロキサン(B)は、下記式(2)に示す構造単位を有することが、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくいという特性が発現することから好ましい。   Even if the polysiloxane (B) has a structural unit represented by the following formula (2) under a severe environment such as thermal shock or high temperature and high humidity, the cured product obtained from the curable composition has a shape. Is preferable because it exhibits the characteristic that it is difficult to change.


(式(2)中、Arは炭素数6〜30のアリール基を示す。)

(In the formula (2), Ar represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.)

前記Arの炭素数6〜30のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、これらに中でもフェニル基が好ましい。   Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms of Ar include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. Among these, a phenyl group is preferable among these.

ポリシロキサン(B)の製造方法としては、特開平6−9659号公報、特開2003−183582号公報、特開2007−008996号公報、特開2007−106798号公報、特開2007−169427号公報および特開2010−059359号公報等に記載された公知の方法、たとえば、適当な合成溶媒中で各単位源となるクロロシランやアルコキシシランを共加水分解する方法や、共加水分解物をアルカリ金属触媒などにより平衡化反応する方法などが挙げられる。   As a method for producing the polysiloxane (B), JP-A-6-9659, JP-A-2003-183582, JP-A-2007-008996, JP-A-2007-106798, JP-A-2007-169427. And a known method described in JP 2010-059359 A, for example, a method of co-hydrolyzing chlorosilane or alkoxysilane as each unit source in an appropriate synthesis solvent, or a co-hydrolyzate as an alkali metal catalyst. For example, a method of equilibrating reaction may be mentioned.

本発明の硬化性組成物中に含まれるポリシロキサン(B)の含有割合は、通常、10〜90質量%、より好ましくは30〜80質量%、さらに好ましくは50〜70質量%である。
ポリシロキサン(B)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定される重量平均分子量(Mw)が、ポリスチレン換算で、通常、100〜50,000である。
ポリシロキサン(B)は1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The content ratio of the polysiloxane (B) contained in the curable composition of the present invention is usually 10 to 90% by mass, more preferably 30 to 80% by mass, and further preferably 50 to 70% by mass.
The weight average molecular weight (Mw) measured by the gel permeation chromatography method of polysiloxane (B) is 100-50,000 normally in polystyrene conversion.
Polysiloxane (B) may be used by 1 type and may use 2 or more types together.

1−3.ポリシロキサン(C)
ポリシロキサン(C)は、1分子当たり少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するポリシロキサンである。すなわちポリシロキサン(C)は、1分子当たり少なくとも2個のSi−H基(ヒドロシリル基)を有する。ポリシロキサン(C)はポリシロキサン(B)に対する架橋剤であり、ポリシロキサン(B)とのヒドロシリル化反応により硬化物を形成する。
1-3. Polysiloxane (C)
Polysiloxane (C) is a polysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule. That is, the polysiloxane (C) has at least two Si—H groups (hydrosilyl groups) per molecule. Polysiloxane (C) is a crosslinking agent for polysiloxane (B), and forms a cured product by a hydrosilylation reaction with polysiloxane (B).

ポリシロキサン(C)としては、付加型硬化性ポリシロキサン組成物において架橋剤として使用されている、1分子当たり少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するポリシロキサンであれば特に制限されることなく使用することができる。   The polysiloxane (C) is not particularly limited as long as it is a polysiloxane having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, which is used as a crosslinking agent in an addition-type curable polysiloxane composition. Can be used.

ポリシロキサン(C)の具体例としては、特開2007−327019号公報、特開2007−008996号公報、特開2010−229402号公報、および特開2013−231160号公報に記載されたオルガノハイドロジェンポリシロキサンなどを挙げることができる。   Specific examples of the polysiloxane (C) include organohydrogens described in JP2007-327019A, JP2007-008996A, JP2010-229402A, and JP2013-231160A. Examples include polysiloxane.

ポリシロキサン(C)は、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランなどのアルコキシシランと、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンなどのハイドロジェンシロキサンとを公知の方法により反応させることにより得ることができる。   Polysiloxane (C) is obtained by reacting an alkoxysilane such as phenyltrimethoxysilane or diphenyldimethoxysilane with a hydrogensiloxane such as 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane by a known method. Can do.

本発明の硬化性組成物におけるポリシロキサン(C)の含有量としては、ポリシロキサン(B)中のアルケニル基量に対するポリシロキサン(C)中のケイ素原子結合水素原子量のモル比が0.1〜5となる量であることが好ましく、より好ましくは0.5〜2、さらに好ましくは0.7〜1.4となる量である。ポリシロキサン(C)の含有量が前記範囲内であると、組成物の硬化は十分に進行し、また、得られる硬化物は十分な耐熱性を有する。   As content of polysiloxane (C) in the curable composition of this invention, the molar ratio of the silicon atom bond hydrogen atom amount in polysiloxane (C) with respect to the amount of alkenyl groups in polysiloxane (B) is 0.1-0.1. 5 is preferable, more preferably 0.5 to 2, and still more preferably 0.7 to 1.4. When the content of the polysiloxane (C) is within the above range, the composition is sufficiently cured, and the obtained cured product has sufficient heat resistance.

ポリシロキサン(C)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定される重量平均分子量(Mw)が、ポリスチレン換算で、通常、100〜50,000である。
ポリシロキサン(C)は1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The weight average molecular weight (Mw) measured by the gel permeation chromatography method of polysiloxane (C) is 100-50,000 normally in polystyrene conversion.
Polysiloxane (C) may be used alone or in combination of two or more.

1−4.ヒドロシリル化反応用触媒(D)
ヒドロシリル化反応用触媒(D)は、ヒドロシリル化反応を促進するための触媒である。ヒドロシリル化反応用触媒(D)としては、従来のヒドロシリル系ポリシロキサン組成物においてヒドロシリル化反応用触媒として使用されている触媒であれば特に制限されることなく使用することができる。
1-4. Catalyst for hydrosilylation reaction (D)
The hydrosilylation catalyst (D) is a catalyst for promoting the hydrosilylation reaction. The catalyst for hydrosilylation reaction (D) can be used without particular limitation as long as it is a catalyst used as a catalyst for hydrosilylation reaction in a conventional hydrosilyl polysiloxane composition.

ヒドロシリル化反応用触媒(D)の具体例としては、白金系触媒、ロジウム系触媒、パラジウム系触媒を挙げることができる。これらの中で、本組成物の硬化促進の観点から白金系触媒が好ましい。白金系触媒としては、白金−アルケニルシロキサン錯体等が挙げられる。アルケニルシロキサンとしては、たとえば、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3,5,7−テトラメチル−1,3,5,7−テトラビニルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。特に、錯体の安定性の観点から、1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンが好ましい。   Specific examples of the hydrosilylation catalyst (D) include a platinum catalyst, a rhodium catalyst, and a palladium catalyst. Among these, a platinum-based catalyst is preferable from the viewpoint of promoting the curing of the present composition. Examples of platinum-based catalysts include platinum-alkenylsiloxane complexes. Examples of the alkenyl siloxane include 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetravinylcyclotetrasiloxane. Etc. In particular, 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane is preferable from the viewpoint of the stability of the complex.

本発明の硬化性組成物におけるヒドロシリル化反応用触媒(D)は、ポリシロキサン(B)とポリシロキサン(C)とのヒドロシリル化反応が現実的に進行する量、通常、硬化性組成物中0.01ppm〜10000ppmを用いる。
ヒドロシリル化反応用触媒(D)は1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The hydrosilylation reaction catalyst (D) in the curable composition of the present invention is an amount in which the hydrosilylation reaction of the polysiloxane (B) and the polysiloxane (C) actually proceeds, usually 0 in the curable composition. Use 0.01 ppm to 10000 ppm.
The hydrosilylation reaction catalyst (D) may be used alone or in combination of two or more.

1−4.蛍光体粒子(E)
蛍光体粒子(E)は、LEDなどの発光装置の波長変換用に用いられるものであり、本発明の硬化性組成物においては、蛍光体粒子(E)を含有することで、無機酸化物粒子(A)の分散安定性が向上し、また、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくくなる。
1-4. Phosphor particles (E)
The phosphor particles (E) are used for wavelength conversion of light-emitting devices such as LEDs. In the curable composition of the present invention, the phosphor particles (E) are contained to form inorganic oxide particles. The dispersion stability of (A) is improved, and the shape of a cured product obtained from the curable composition is less likely to change even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity.

蛍光体粒子(E)としては、特に限定されることなく、LEDなどの発光装置の波長変換用に用いられる任意のものを使用することができ、(Sr,Ca)S:Eu、Y(Al,Ga)12:Ce、(Y,Gd)l512:Ce、CaGa:Eu、(Ca,Sr)Si:Eu、SrSiO:Eu、CaSiN:Eu、CaScSi12:Ce、CaGa:Eu、2SiO:Euなどの化合物を挙げることができる。 The phosphor particles (E) are not particularly limited, and any particles used for wavelength conversion of light emitting devices such as LEDs can be used, and (Sr, Ca) S: Eu, Y 3 ( Al, Ga) 5 O 12 : Ce, (Y, Gd) 3 A 15 O 12 : Ce, CaGa 2 S 4 : Eu, (Ca, Sr) 2 Si 5 N 8 : Eu, SrSiO 2 N 2 : Eu, CaSiN 2: Eu, Ca 3 Sc 2 Si 3 O 12: Ce, CaGa 2 S 4: Eu, 2SiO 4: can be mentioned compounds such as Eu.

蛍光体粒子(E)の数平均粒子径は動的光散乱法による測定で、通常1〜30μmであり、好ましくは5〜20μmである。蛍光体粒子(E)の数平均粒子径が前記範囲であると、本組成物から形成される蛍光体粒子含有膜によりLEDなどの波長変換を効率的に実現できる。   The number average particle diameter of the phosphor particles (E) is usually 1 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm, as measured by a dynamic light scattering method. When the number average particle diameter of the phosphor particles (E) is in the above range, wavelength conversion of an LED or the like can be efficiently realized by the phosphor particle-containing film formed from the present composition.

蛍光体粒子(E)の含有量は、前記ポリシロキサン(B)および前記ポリシロキサン(C)の合計量100質量部に対して、通常、0〜50質量部であり、好ましくは10〜40質量部、より好ましくは15〜30質量部である。蛍光体粒子(E)の含有量が前記範囲内であると、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、硬化性組成物から得られる硬化物は、形状が変化しにくくなる。
蛍光体粒子(E)は1種で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The content of the phosphor particles (E) is usually 0 to 50 parts by mass, preferably 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polysiloxane (B) and the polysiloxane (C). Part, more preferably 15 to 30 parts by mass. If the content of the phosphor particles (E) is within the above range, the shape of the cured product obtained from the curable composition is less likely to change even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. Become.
A fluorescent substance particle (E) may be used by 1 type, and may use 2 or more types together.

1−5.その他成分
本発明の硬化性組成物は、本発明の目的が達成されるかぎり、必要に応じて、たとえば、フュームドシリカ、石英粉末等の微粒子状シリカ、エチニルシクロヘキサノール、シクロ−テトラメチルテトラビニルテトラシロキサン等の反応遅延剤、ジフェニルビス(ジメチルビニルシロキシ)シラン、フェニルトリス(ジメチルビニルシロキシ)シラン、ジフェニルビス(ジメチルヒドロキシシロキシ)シラン等の希釈剤、顔料、難燃剤、耐熱剤、酸化防止剤、溶剤等の成分を含有することができる。
1-5. Other components As long as the object of the present invention is achieved, the curable composition of the present invention can contain, for example, fumed silica, fine particle silica such as quartz powder, ethynylcyclohexanol, cyclo-tetramethyltetravinyl, and the like. Reaction retarders such as tetrasiloxane, diluents such as diphenylbis (dimethylvinylsiloxy) silane, phenyltris (dimethylvinylsiloxy) silane, diphenylbis (dimethylhydroxysiloxy) silane, pigments, flame retardants, heat-resistant agents, antioxidants And components such as a solvent can be contained.

1−6.硬化性組成物の製造方法
本発明の硬化性組成物は、無機酸化物粒子(A)、ポリシロキサン(B)、ポリシロキサン(C)、およびヒドロシリル化反応用触媒(D)並びに必要に応じて、蛍光体粒子(E)、および/または前記その他成分をミキサー等公知の方法により均一に混合することによって製造することができる。また、ゴミを取り除くために、各成分を均一に混合した後、得られた混合物をフィルター等で濾過してもよい。
1-6. Production method of curable composition The curable composition of the present invention comprises inorganic oxide particles (A), polysiloxane (B), polysiloxane (C), hydrosilylation catalyst (D) and, if necessary, The phosphor particles (E) and / or the other components can be produced by uniformly mixing them by a known method such as a mixer. Moreover, in order to remove dust, after mixing each component uniformly, you may filter the obtained mixture with a filter.

本発明の硬化性組成物の25℃における粘度としては、好ましくは1〜100,0000mPa・sであり、より好ましくは10〜10,000mPa・sである。粘度がこの範囲内であると、本組成物の操作性が向上する。   The viscosity at 25 ° C. of the curable composition of the present invention is preferably 1 to 100,000 mPa · s, more preferably 10 to 10,000 mPa · s. When the viscosity is within this range, the operability of the composition is improved.

本発明の硬化性組成物は、1液として使用することもできるし、2液以上に分けて製造し、使用時に混合して使用することもできる。 The curable composition of the present invention can be used as one liquid, or can be produced by dividing into two or more liquids, and can be mixed and used at the time of use.

2.硬化物
本発明の硬化性組成物を硬化することにより硬化物を得られる。
本発明の硬化性組成物を硬化する方法としては、例えば、硬化性組成物を基板上に塗布した後、100〜180℃で1〜13時間加熱する方法を挙げられる。また、第一の加熱の後、第一の加熱より高い温度で第二の加熱を行う、二段階による加熱硬化方法を採ることもできる。
2. Cured product A cured product can be obtained by curing the curable composition of the present invention.
Examples of the method for curing the curable composition of the present invention include a method in which the curable composition is applied on a substrate and then heated at 100 to 180 ° C. for 1 to 13 hours. In addition, a two-stage heat curing method in which the second heating is performed at a temperature higher than the first heating after the first heating can be employed.

本発明の硬化物は、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、形状が変化しにくい。特に硬化物が薄膜の場合、本発明の硬化物を用いれば、その効果は顕著である。なお、前記薄膜とは平均膜厚が1mm以下の膜を示す。   The shape of the cured product of the present invention hardly changes even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. In particular, when the cured product is a thin film, the effect is remarkable if the cured product of the present invention is used. In addition, the said thin film shows a film | membrane with an average film thickness of 1 mm or less.

3.光半導体装置
本発明の光半導体装置は、半導体発光素子と、該半導体発光素子を被覆する前記硬化物とを有する。本発明の光半導体装置は、半導体発光素子に前記硬化性組成物を被覆し、その組成物を硬化することによって得られる。硬化性組成物を硬化する方法は上述のとおりである。
3. Optical Semiconductor Device An optical semiconductor device of the present invention includes a semiconductor light emitting element and the cured product that covers the semiconductor light emitting element. The optical semiconductor device of the present invention is obtained by coating a semiconductor light emitting element with the curable composition and curing the composition. The method for curing the curable composition is as described above.

光半導体装置としては、LED(Light Emitting Diode、発光ダイオード)およびLD(Laser Diode)等が挙げられる。
図1は、本発明の光半導体装置の一具体例の模式図である。光半導体装置1は、電極6と、電極6上に設置され、ワイヤー7により電極6と電気的に接続された半導体発光素子2と、半導体発光素子2を収容するように配置されたリフレクター3と、リフレクター3内に充填され、半導体発光素子2を封止する封止材4を有する。封止材4は、本発明の硬化性組成物を硬化して得られる。封止材4中には、シリカや蛍光体などの粒子5が分散している。
Examples of the optical semiconductor device include an LED (Light Emitting Diode) and an LD (Laser Diode).
FIG. 1 is a schematic view of a specific example of the optical semiconductor device of the present invention. The optical semiconductor device 1 includes an electrode 6, a semiconductor light emitting element 2 that is installed on the electrode 6 and electrically connected to the electrode 6 through a wire 7, and a reflector 3 that is disposed so as to accommodate the semiconductor light emitting element 2. The sealing material 4 is filled in the reflector 3 and seals the semiconductor light emitting element 2. The sealing material 4 is obtained by curing the curable composition of the present invention. In the sealing material 4, particles 5 such as silica and phosphor are dispersed.

図2は、本発明の光半導体装置の一具体例の模式図である。光半導体装置10は、配線基板11上に、電気的に接続された半導体発光素子12を有し、半導体発光素子12を収容するように、封止材13を有する。封止材13は、蛍光層13aと、透明層13bを有しており、蛍光体層13aは、前記蛍光体粒子(E)を含有する本発明の硬化性組成物を硬化して得られ、透明層13bは前記蛍光体粒子(E)を含有しない本発明の硬化性組成物を硬化して得られる。   FIG. 2 is a schematic view of a specific example of the optical semiconductor device of the present invention. The optical semiconductor device 10 includes a semiconductor light emitting element 12 that is electrically connected to a wiring substrate 11, and a sealing material 13 so as to accommodate the semiconductor light emitting element 12. The sealing material 13 has a fluorescent layer 13a and a transparent layer 13b, and the phosphor layer 13a is obtained by curing the curable composition of the present invention containing the phosphor particles (E), The transparent layer 13b is obtained by curing the curable composition of the present invention that does not contain the phosphor particles (E).

本発明の光半導体装置は、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても、形状が変化しにくい硬化物を備えることから、熱衝撃や高温高湿などの過酷な環境下であっても使用することが可能である。   Since the optical semiconductor device of the present invention includes a cured product whose shape does not easily change even under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity, the optical semiconductor device can be used under severe environments such as thermal shock and high temperature and high humidity. Even if it exists, it can be used.

1.ポリシロキサンの合成
1−1.重量平均分子量
ポリシロキサンの重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により下記条件で測定し、ポリスチレン換算値として求めた。
装置:HLC−8120C(東ソー社製)
カラム:TSK−gel MultiporeHXL−M(東ソー社製)
溶離液:THF、流量0.5mL/min、負荷量5.0%、100μL
1. Synthesis of polysiloxane
1-1. Weight average molecular weight The weight average molecular weight (Mw) of the polysiloxane was measured by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions and determined as a polystyrene equivalent value.
Apparatus: HLC-8120C (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: TSK-gel Multipore HXL-M (manufactured by Tosoh Corporation)
Eluent: THF, flow rate 0.5 mL / min, load 5.0%, 100 μL

1−2.ポリシロキサンの合成
[合成例1]
攪拌機、還流冷却管、投入口、温度計付き四口フラスコに1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン20g、フェニルトリメトキシシラン120g、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン6g、水15g、トリフルオロメタンスルホン酸0.1g、およびトルエン500gを投入して混合し、1時間加熱還流した。冷却後、反応液に0.5重量%の水酸化カリウム水溶液2.5g を加え4時間加熱還流した後、余剰の水を共沸脱水で除いた。冷却後、反応液を酢酸で中和し、水洗した。反応液から溶剤を除去することによりポリシロキサン(B1) を得た。ポリシロキサン(B1)の重量平均分子量は4,000であった。
1-2. Synthesis of polysiloxane [Synthesis Example 1]
In a four-necked flask equipped with a stirrer, reflux condenser, inlet, and thermometer, 20 g of 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, 120 g of phenyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxy) (Cyclohexyl) propyltrimethoxysilane (6 g), water (15 g), trifluoromethanesulfonic acid (0.1 g), and toluene (500 g) were added and mixed, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. After cooling, 2.5 g of a 0.5 wt% aqueous potassium hydroxide solution was added to the reaction solution, and the mixture was heated to reflux for 4 hours, and then excess water was removed by azeotropic dehydration. After cooling, the reaction solution was neutralized with acetic acid and washed with water. Polysiloxane (B1) was obtained by removing the solvent from the reaction solution. The weight average molecular weight of the polysiloxane (B1) was 4,000.

2.評価方法
硬化性組成物の性能を、下記、2−1、及び2−2の手法にて、評価した。
2−1−1.重量変化率(膜厚8mm)
硬化性組成物を石英ガラス上に塗布した後、100℃で1時間、次いで150℃で5時間加熱し、石英ガラス上に膜厚8mmの硬化物を形成した。この硬化物を200℃で500時間保管した前後の硬化物の重量を測定し、以下の式にて重量変化率を算出した。
[(保管する前の硬化物の重量)−(保管した後の硬化物の重量)]÷(保管する前の硬化物の重量)×100(%)
2. Evaluation method The performance of the curable composition was evaluated by the following methods 2-1 and 2-2.
2-1-1. Weight change rate (film thickness 8mm)
After the curable composition was applied on quartz glass, it was heated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 5 hours to form a cured product having a thickness of 8 mm on the quartz glass. The weight of the cured product before and after storing the cured product at 200 ° C. for 500 hours was measured, and the weight change rate was calculated by the following formula.
[(Weight of cured product before storage) − (weight of cured product after storage)] ÷ (weight of cured product before storage) × 100 (%)

2−1−2.重量変化率(膜厚0.7mm)
硬化性組成物を石英ガラス上に塗布した後、100℃で1時間、次いで150℃で5時間加熱し、石英ガラス上に膜厚0.7mmの硬化物を形成した。この硬化物を200℃で500時間又は200℃で1000時間保管した前後の硬化物の重量を測定し、以下の式にて重量変化率を算出した。
[(保管する前の硬化物の重量)−(保管した後の硬化物の重量)]÷(保管する前の硬化物の重量)×100(%)
2-1-2. Weight change rate (film thickness 0.7mm)
After the curable composition was applied on quartz glass, it was heated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 5 hours to form a cured product having a thickness of 0.7 mm on the quartz glass. The weight of the cured product before and after storing this cured product at 200 ° C. for 500 hours or 200 ° C. for 1000 hours was measured, and the weight change rate was calculated by the following formula.
[(Weight of cured product before storage) − (weight of cured product after storage)] ÷ (weight of cured product before storage) × 100 (%)

2−2.光透過変化率
硬化性組成物を石英ガラス上に塗布した後、100℃で1時間、次いで150℃で5時間加熱し、石英ガラス上に膜厚1mmの硬化物を形成した。この硬化物を200℃で500時間又は200℃で1000時間保管した前後の波長460nmにおける光透過率を測定し、以下の式にて光透過変化率を算出した。
[(保管する前の硬化物の光透過率)−(保管した後の硬化物の光透過率)]÷(保管する前の硬化物の光透過率)×100(%)
2-2. Light transmission change rate After the curable composition was applied on quartz glass, it was heated at 100C for 1 hour and then at 150C for 5 hours to form a cured product having a thickness of 1 mm on the quartz glass. The light transmittance at a wavelength of 460 nm before and after storing the cured product at 200 ° C. for 500 hours or at 200 ° C. for 1000 hours was measured, and the light transmission change rate was calculated by the following formula.
[(Light transmittance of cured product before storage) − (Light transmittance of cured product after storage)] ÷ (Light transmittance of cured product before storage) × 100 (%)

3.硬化性組成物の評価
[製造例1〜4]組成物1〜4の製造
表1に示す成分を、表1に示す配合量で混合し、無機酸化物粒子(A)以外の成分を含有する組成物(組成物1〜4)を製造した。表1中の「部」は質量部を示す。また、表1中の各成分の詳細は以下の通りである。
3. Evaluation of Curable Composition [Production Examples 1 to 4] Production of Compositions 1 to 4 The components shown in Table 1 are mixed in the blending amounts shown in Table 1 and contain components other than the inorganic oxide particles (A). Compositions (Compositions 1 to 4) were produced. “Parts” in Table 1 indicates parts by mass. The details of each component in Table 1 are as follows.

以下に挙げるシロキサン単位は、次に示す記号で示す。
M(Vi):(ViMeSiO1/2
M(H):(HMeSiO1/2
D(H):(HMeSiO2/2
D(Ph)(PhSiO2/2
T(Ph):(PhSiO3/2
(Meはメチル基、Phはフェニル基、Viはビニル基を示す。)
The following siloxane units are indicated by the following symbols.
M (Vi) :( ViMe 2 SiO 1/2 )
M (H): (HMe 2 SiO 1/2 )
D (H) :( HMeSiO 2/2 )
D (Ph) (Ph 2 SiO 2/2 )
T (Ph) :( PhSiO 3/2 )
(Me represents a methyl group, Ph represents a phenyl group, and Vi represents a vinyl group.)

B1:合成例1で合成したポリシロキサン(B1)
B2: M(Vi)0.2T(Ph)0.8(重量平均分子量は2,000)
B3:下記式(3)に示す化合物
B1: Polysiloxane (B1) synthesized in Synthesis Example 1
B2: M (Vi) 0.2 T (Ph) 0.8 (weight average molecular weight is 2,000)
B3: Compound represented by the following formula (3)


C1:下記式(4)に示す化合物

C1: Compound represented by the following formula (4)

C2:M(H)0.5D(Ph)0.3D(H)0.2(重量平均分子量は1,000)
D1:白金と1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサンとの錯体(白金金属量4質量%)
E1:蛍光体粒子(商品名「Y3957」、Intematiex社製)
F1:エチニルシクロヘキサノール
F2:シリカ微粒子(商品名「RX300」、日本アエロジル(株)製)
C2: M (H) 0.5 D (Ph) 0.3 D (H) 0.2 (weight average molecular weight is 1,000)
D1: Complex of platinum and 1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane (platinum metal amount 4% by mass)
E1: Phosphor particles (trade name “Y3957”, manufactured by Intematex)
F1: Ethynylcyclohexanol F2: Silica fine particles (trade name “RX300”, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)

[実験例1]
組成物1に、それぞれ、0部、0.3部、0.5部、又は1部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚8mm)を製造し、200℃500時間保管前後の重量変化率を評価した。その結果を表2に示す。
[Experimental Example 1]
In composition 1, 0 part, 0.3 part, 0.5 part, or 1 part of ceria (manufactured by TECNAN, trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m, respectively. 2 / g, no surface treatment) was mixed to prepare a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 8mm) was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the weight change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 2.

[実験例2]
組成物2に、それぞれ、0部、又は0.5部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚8mm)を製造し、200℃500時間保管前後の重量変化率を評価した。その結果を表2に示す。
[Experiment 2]
In composition 2, 0 part or 0.5 part of ceria (trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m 2 / g, no surface treatment, manufactured by TECNAN) Were mixed to produce a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 8mm) was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the weight change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 2.

[実験例3]
組成物3に、それぞれ、0部、又は0.3部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚8mm)を製造し、200℃500時間保管前後の重量変化率を評価した。その結果を表2に示す。
[Experiment 3]
In composition 3, 0 part or 0.3 part of ceria (trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m 2 / g, manufactured by TECNAN, no surface treatment), respectively. Were mixed to produce a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 8mm) was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the weight change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 2.

[実験例4]
組成物4に、それぞれ、0部、又は0.5部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚8mm)を製造し、200℃500時間保管前後の重量変化率を評価した。その結果を表2に示す。
[Experimental Example 4]
In composition 4, 0 part or 0.5 part of ceria (manufactured by TECNAN, trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m 2 / g, no surface treatment) Were mixed to produce a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 8mm) was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the weight change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 2.

[実験例5]
組成物1に、それぞれ、0部、0.3部、0.5部、又は1部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物を製造し、200℃500時間保管前後の光透過変化率を評価した。その結果を表3に示す。
[Experimental Example 5]
In composition 1, 0 part, 0.3 part, 0.5 part, or 1 part of ceria (manufactured by TECNAN, trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m, respectively. 2 / g, no surface treatment) was mixed to prepare a curable composition. About these curable compositions, the hardened | cured material was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the light transmission change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 3.

[実験例6]
組成物1に、1部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)、又は1部のジルコニア(第一稀元素化学工業社製、商品名「UEP−100」、比表面積80〜120m/g、表面処理無し)を混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚8mm)を製造し、200℃500時間保管前後の重量変化率を評価した。その結果を表4に示す。
[Experimental Example 6]
In composition 1, 1 part of ceria (manufactured by TECNAN, trade name “TECNAPOW-CEO2”, primary particle diameter 5 to 10 nm, specific surface area 85 to 170 m 2 / g, no surface treatment), or 1 part of zirconia (No. 1) 1 rare element chemical industry make, a brand name "UEP-100", specific surface area 80-120 m < 2 > / g, no surface treatment) were mixed, and the curable composition was manufactured. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 8mm) was manufactured by the method as described in said "2. Evaluation of a chemical composition", and the weight change rate before and behind 200 degreeC 500 hours storage was evaluated. The results are shown in Table 4.

[実験例7、8]
組成物4に、それぞれ、0部、0.1部、0.15部又は0.3部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を3本ロールミルで混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚0.7mm)を製造し、200℃500時間保管前後(実験例7)および200℃1000時間保管前後(実験例8)の重量変化率を評価した。その結果を表5に示す。
[Experimental Examples 7 and 8]
In composition 4, 0 parts, 0.1 parts, 0.15 parts, or 0.3 parts of ceria (trade name “TECNAPOW-CEO2” manufactured by TECNAN, primary particle diameter of 5 to 10 nm, specific surface area of 85 to 85 parts, respectively. 170 m 2 / g, no surface treatment) was mixed with a three roll mill to produce a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 0.7mm) is manufactured by the method as described in the said "2. Evaluation of a chemical composition", 200 degreeC before and after storage for 500 hours (Experimental example 7), and 200 degreeC The weight change rate before and after storage for 1000 hours (Experimental Example 8) was evaluated. The results are shown in Table 5.

[実験例9、10]
組成物4に、それぞれ、0部、0.1部、0.15部又は0.3部のセリア(TECNAN社製、商品名「TECNAPOW−CEO2」、一次粒子径5〜10nm、比表面積85〜170m/g、表面処理無し)を3本ロールミルで混合し、硬化性組成物を製造した。これら硬化性組成物について、前記「2.化性組成物の評価」に記載の方法で硬化物(膜厚1mm)を製造し、200℃500時間保管前後(実験例9)および200℃1000時間保管前後(実験例10)の光透過変化率を評価した。その結果を表6に示す。
[Experimental Examples 9 and 10]
In composition 4, 0 parts, 0.1 parts, 0.15 parts, or 0.3 parts of ceria (trade name “TECNAPOW-CEO2” manufactured by TECNAN, primary particle diameter of 5 to 10 nm, specific surface area of 85 to 85 parts, respectively. 170 m 2 / g, no surface treatment) was mixed with a three roll mill to produce a curable composition. About these curable compositions, hardened | cured material (film thickness 1mm) is manufactured by the method as described in the said "2. Evaluation of a chemical composition", before and after 200 degreeC 500-hour storage (Experimental example 9), and 200 degreeC 1000 hours. The light transmission change rate before and after storage (Experimental Example 10) was evaluated. The results are shown in Table 6.

Claims (6)

酸化セリウム粒子、及び酸化鉄(II)粒子から選ばれる少なくとも1種の無機酸化物粒子(A)、1分子当たり少なくとも2個のアルケニル基を有し、且つケイ素原子結合アリール基を有するポリシロキサン(B)、1分子当たり少なくとも2個のケイ素原子結合水素原子を有するポリシロキサン(C)、並びにヒドロシリル化反応用触媒(D)を含有し、
前記無機酸化物粒子(A)の含有量が、前記ポリシロキサン(B)および前記ポリシロキサン(C)の合計100質量部に対して、5質量部未満であり、
前記ポリシロキサン(B)中に含まれるアリール基の含有割合が、ポリシロキサン(B)中に含まれる全ケイ素原子の数を100モル%に対して、20モル%以上であることを特徴とする硬化性組成物。
At least one inorganic oxide particle (A) selected from cerium oxide particles and iron (II) oxide particles (A), a polysiloxane having at least two alkenyl groups per molecule and having silicon-bonded aryl groups ( B) containing a polysiloxane (C) having at least two silicon-bonded hydrogen atoms per molecule, and a catalyst for hydrosilylation reaction (D),
The content of the inorganic oxide particles (A) is less than 5 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the polysiloxane (B) and the polysiloxane (C),
The content ratio of the aryl group contained in the polysiloxane (B) is 20 mol% or more with respect to 100 mol% of the total number of silicon atoms contained in the polysiloxane (B). Curable composition.
前記ポリシロキサン(B)が、下記式(1)に示すポリシロキサンである請求項1に記載の硬化性組成物。

(式(1)中、Rは互いに同一でもよく異なっていてもよく、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜30のアリール基、又は炭素数7〜30のアラルキル基、若しくはこれらの基の水素原子を水酸基、炭素数1〜10のアルコキシ基、炭素数2〜10のオキシシラニル基、又は炭素数6〜30のアリール基に置き換えた基を示す。複数あるRのうち少なくとも2つは炭素数2〜10のアルケニル基を示し、複数あるRのうち少なくとも一つはアリール基を示す。Xは水素原子、又は炭素数1〜3のアルキル基を示す。aおよびcはそれぞれ独立に1以上の整数を示す。b、d、およびfはそれぞれ独立に0以上の整数を示す。c/(a+b+c+d)≧0.2以上である。)
The curable composition according to claim 1, wherein the polysiloxane (B) is a polysiloxane represented by the following formula (1).

(In Formula (1), R 1 may be the same as or different from each other, and is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or the number of carbon atoms. 7 to 30 aralkyl groups, or groups in which the hydrogen atoms of these groups are replaced with hydroxyl groups, alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms, oxysilanyl groups having 2 to 10 carbon atoms, or aryl groups having 6 to 30 carbon atoms . plurality of at least two of R 1 represents an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a plurality of at least one .X hydrogen atoms an aryl group of R 1, or alkyl of 1 to 3 carbon atoms A and c each independently represents an integer of 1 or more, b, d and f each independently represents an integer of 0 or more, and c / (a + b + c + d) ≧ 0.2.
前記ポリシロキサン(C)が、下記式(2)に示す構造単位を有する請求項1または2のいずれか一項に記載の硬化性組成物。

(式(2)中、Arは炭素数6〜30のアリール基を示す。)
The curable composition according to claim 1, wherein the polysiloxane (C) has a structural unit represented by the following formula (2).

(In the formula (2), Ar represents an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.)
さらに、蛍光体粒子(E)を含有する請求項1〜3のいずれか一項に記載の硬化性組成物。   Furthermore, the curable composition as described in any one of Claims 1-3 containing fluorescent substance particle (E). 請求項1〜4のいずれか一項に記載の硬化性組成物を硬化して得られる硬化物。 Hardened | cured material obtained by hardening | curing the curable composition as described in any one of Claims 1-4. 請求項5に記載の硬化物を有する光半導体装置。
An optical semiconductor device having the cured product according to claim 5.
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