JP6478673B2 - Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus - Google Patents
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Description
本発明は、電子写真感光体、ならびに、電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。 The present invention relates to an electrophotographic photosensitive member, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.
近年、複写機やレーザービームプリンターなどの電子写真装置には、有機化合物である電荷発生物質および正孔輸送物質(電荷輸送物質)を含有する感光層を有する電子写真感光体(有機電子写真感光体)が広く用いられている。 In recent years, electrophotographic apparatuses such as copying machines and laser beam printers have an electrophotographic photosensitive member (organic electrophotographic photosensitive member) having a photosensitive layer containing a charge generating material and a hole transporting material (charge transporting material) which are organic compounds. ) Is widely used.
電荷発生物質の中でも、高い感度を有する電荷発生物質としては、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が知られている。 Among charge generation materials, phthalocyanine pigments and azo pigments are known as charge generation materials having high sensitivity.
ところが、フタロシアニン顔料やアゾ顔料を用いた電子写真感光体は、フォトキャリア(正孔および電子)の発生量が多いため、正孔輸送物質によって移動した正孔の対としての電子が感光層(電荷発生層)中に滞留しやすい。このため、フタロシアニン顔料やアゾ顔料を用いた電子写真感光体には、ゴーストと呼ばれる現象が発生しやすいという問題があった。具体的には、出力画像中、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が濃くなるポジゴーストや、前回転時に光が照射された部分のみ濃度が薄くなるネガゴーストが見られる。 However, electrophotographic photoreceptors using phthalocyanine pigments or azo pigments generate a large amount of photocarriers (holes and electrons), so that electrons as pairs of holes transferred by the hole transport material are transferred to the photosensitive layer (charges). It tends to stay in the generation layer). For this reason, electrophotographic photoreceptors using phthalocyanine pigments or azo pigments have a problem that a phenomenon called ghost is likely to occur. Specifically, in the output image, a positive ghost in which the density is increased only in a portion irradiated with light during the previous rotation, or a negative ghost in which the density is decreased only in a portion irradiated with light during the previous rotation.
特許文献1には、導電性支持体と感光層との間に設けられた下引き層に電子輸送材料とポリアミド樹脂とを含有させて、露光電位や残留電位の環境変動を小さくする技術が開示されている。 Patent Document 1 discloses a technique for reducing an environmental change in exposure potential and residual potential by including an electron transport material and a polyamide resin in an undercoat layer provided between a conductive support and a photosensitive layer. Has been.
特許文献2では、電荷発生層、および下引き層に電子輸送材料を含有させて、ゴーストを抑制する技術が開示されている。 Patent Document 2 discloses a technique for suppressing a ghost by containing an electron transport material in a charge generation layer and an undercoat layer.
特許文献3には、下引き層に白色の金属酸化物または金属フッ化物とチオ尿素誘導体とを含有させて、高感度で繰り返し使用後の残留電位の上昇を抑制する技術が開示されている。
現在、様々な環境下においてゴーストを抑制することが望まれている。様々な環境の中でも、ゴーストが特に発生しやすいのは低温低湿環境下であるが、上記の従来技術は、低温低湿環境下におけるゴーストを抑制する効果が十分ではなかった。 Currently, it is desired to suppress ghosts in various environments. Among various environments, ghosts are particularly likely to occur in a low-temperature and low-humidity environment, but the above-described conventional technology has not been sufficiently effective in suppressing ghosts in a low-temperature and low-humidity environment.
本発明の目的は、低温低湿環境下であっても、ゴーストが抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an electrophotographic photosensitive member in which ghosts are suppressed even in a low temperature and low humidity environment, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.
本発明は、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および該下引き層上に形成された電荷発生物質および正孔輸送物質を含有する感光層を有する電子写真感光体であって、
該下引き層が、ウレア化合物を含有し、
該ウレア化合物は、カルボニル基と2つの窒素原子とを有するウレア部位を1つ以上3つ以下有し、
それぞれの該ウレア部位において、該2つの窒素原子の少なくとも1つが、
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、および置換もしくは無置換のアリーレン基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基
を有することを特徴とする電子写真感光体である。
The present invention is an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer containing a charge generation material and a hole transport material formed on the undercoat layer. And
The undercoat layer contains a urea compound;
The urea compound has one or more and three or less urea moieties having a carbonyl group and two nitrogen atoms,
At each of the urea sites, at least one of the two nitrogen atoms is
An electrophotographic photoreceptor having at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted arylene group.
また、本発明は、上記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも1つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。 Further, the present invention integrally supports the electrophotographic photosensitive member and at least one means selected from the group consisting of a charging means, a developing means, a transfer means, and a cleaning means, and is detachable from the main body of the electrophotographic apparatus. It is a process cartridge characterized by being.
また、本発明は、上記電子写真感光体、ならびに、帯電手段、像露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。 The present invention also provides an electrophotographic apparatus comprising the electrophotographic photosensitive member, a charging unit, an image exposing unit, a developing unit, and a transfer unit.
本発明によれば、低温低湿環境下であっても、ゴーストが抑制された電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an electrophotographic photosensitive member in which ghosts are suppressed even in a low temperature and low humidity environment, and a process cartridge and an electrophotographic apparatus having the electrophotographic photosensitive member.
本発明の電子写真感光体は、支持体、該支持体上に形成された下引き層ならびに該下引き層上に形成された電荷発生物質および正孔輸送物質を含有する感光層を有する電子写真感光体である。そして、本発明は、該下引き層が、ウレア化合物を含有し、
該ウレア化合物は、カルボニル基と2つの窒素原子とを有するウレア部位を1つ以上3つ以下有し、
それぞれの該ウレア部位において、該2つの窒素原子の少なくとも1つが、
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、および置換もしくは無置換のアリーレン基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基を有することを特徴とする。
The electrophotographic photosensitive member of the present invention includes a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer containing a charge generation material and a hole transport material formed on the undercoat layer. It is a photoreceptor. In the present invention, the undercoat layer contains a urea compound,
The urea compound has one or more and three or less urea moieties having a carbonyl group and two nitrogen atoms,
At each of the urea sites, at least one of the two nitrogen atoms is
It has at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted arylene group.
本発明の電子写真感光体が、ゴーストの抑制効果に優れる理由について、本発明者らは、以下のように推察している。 The present inventors infer the reason why the electrophotographic photosensitive member of the present invention is excellent in the ghost suppression effect as follows.
すなわち、本発明の電子写真感光体の下引き層に含有される前記ウレア化合物の強い極性と、カルボニル基の電子求引性によって、電荷発生物質から電子を引き抜くことで、電荷発生物質からの電子の流れを良好にする。これに加えて、ウレア化合物の持つ包接性と、カルボニル基に対して窒素原子が対称配置していることにより、下引き層内において電子を滞留させるトラップサイトの形成を解消し、また、電気的特性の偏在を抑制する。これらにより、電子写真感光体における電子の滞留や移動度の低下を抑制し、露光部と非露光部の濃度差であるゴーストを改善すると考えている。 That is, by extracting electrons from the charge generation material by the strong polarity of the urea compound contained in the undercoat layer of the electrophotographic photoreceptor of the present invention and the electron withdrawing property of the carbonyl group, Make the flow better. In addition to this, the inclusion of the urea compound and the symmetrical arrangement of nitrogen atoms with respect to the carbonyl group eliminates the formation of trap sites that retain electrons in the undercoat layer. The uneven distribution of physical characteristics. By these, it is considered that the stagnation of electrons and the decrease in mobility in the electrophotographic photosensitive member are suppressed, and the ghost which is the density difference between the exposed portion and the non-exposed portion is improved.
また、前記ウレア化合物の中でも、下記式(1)で示される化合物、および下記式(2)で示される化合物からなる群より選択される少なくとも1種のウレア化合物であることが好ましい。 Among the urea compounds, at least one urea compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2) is preferable.
前記式(1)、(2)で示されるウレア化合物の窒素原子が持つアリール基は、下引き層内で電子を移動させる導電パスとして機能するので、さらにゴースト抑制能を向上させると推察される。 The aryl group possessed by the nitrogen atom of the urea compound represented by the above formulas (1) and (2) functions as a conductive path that moves electrons in the undercoat layer, and is thus presumed to further improve the ghost suppression ability. .
また、前記式(2)で示されるウレア化合物の中でも、Ar22が、フェニレン基であることが好ましい。 Of the urea compounds represented by the formula (2), Ar 22 is preferably a phenylene group.
また、前記式(1)、(2)中のR11、R12、R21〜R24が、それぞれ独立に置換もしくは無置換のメチル基、置換もしくは無置換のエチル基、または、置換もしくは無置換のプロピル基であることが好ましい。 In the formulas (1) and (2), R 11 , R 12 and R 21 to R 24 are each independently a substituted or unsubstituted methyl group, a substituted or unsubstituted ethyl group, or a substituted or unsubstituted group. A substituted propyl group is preferred.
さらに、前記式(1)、(2)中のR11、R12、R21〜R24のうち少なくとも1つが、ヒドロキシアルキル基であることが好ましい。ヒドロキシアルキル基の水素結合性が、下引き層内のトラップサイトの形成を解消させるのにさらに効果的に働くためと推察される。 Furthermore, at least one of R 11 , R 12 and R 21 to R 24 in the formulas (1) and (2) is preferably a hydroxyalkyl group. It is surmised that the hydrogen bonding property of the hydroxyalkyl group works more effectively to eliminate the formation of trap sites in the undercoat layer.
また、前記式(1)、(2)中のAr11、Ar12、Ar21、Ar23が、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のフェニル基(但し、置換のフェニル基の置換基は、水酸基、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、アルコキシ基、ジアルキルアミノ基およびハロゲン原子からなる群より選択される基である。)であることが好ましい。前記ウレア化合物のカルボニル基に対してフェニル基が対称配置する場合、フェニル基同士が向かい合う構造をとり、フェニル基同士の距離が縮まることで、この二つのフェニル基が異方性を持つ導電パスとして作用し、電子の流れを良好にしてゴースト抑制能を向上させるからだと推察される。 In the formulas (1) and (2), Ar 11 , Ar 12 , Ar 21 and Ar 23 are each independently a substituted or unsubstituted phenyl group (provided that the substituent of the substituted phenyl group is a hydroxyl group) And a group selected from the group consisting of an alkyl group, a hydroxyalkyl group, an alkoxy group, a dialkylamino group and a halogen atom. When the phenyl group is symmetrically arranged with respect to the carbonyl group of the urea compound, the phenyl group has a structure in which the phenyl groups face each other, and the distance between the phenyl groups is shortened so that the two phenyl groups have an anisotropic conductive path. This is presumed to be due to the fact that it acts and improves the ghost suppression ability by improving the flow of electrons.
さらに、前記式(1)、(2)中のAr11、Ar12、Ar21、Ar23のうち少なくとも1つが、水酸基置換フェニル基またはヒドロキシアルキル基置換フェニル基であることが好ましい。水酸基またはヒドロキシアルキル基の水素結合性が、下引き層内のトラップサイトの形成を解消させるのにさらに効果的に働くためと推察される。 Furthermore, it is preferable that at least one of Ar 11 , Ar 12 , Ar 21 and Ar 23 in the formulas (1) and (2) is a hydroxyl group-substituted phenyl group or a hydroxyalkyl group-substituted phenyl group. It is presumed that the hydrogen bonding property of the hydroxyl group or hydroxyalkyl group works more effectively to eliminate the formation of trap sites in the undercoat layer.
また、前記下引き層における前記ウレア化合物の含有量が、前記下引き層の全質量に対して0.05質量%以上15質量%以下であることが好ましい。前記下引き層における前記ウレア化合物の含有量が少なすぎると、ゴースト抑制能が十分ではなく、含有量が多すぎると、前記ウレア化合物が析出しやすくなるためである。より好ましくは、0.1質量%以上10質量%以下である。 Moreover, it is preferable that content of the said urea compound in the said undercoat layer is 0.05 to 15 mass% with respect to the total mass of the said undercoat layer. This is because if the content of the urea compound in the undercoat layer is too small, the ghost suppressing ability is not sufficient, and if the content is too large, the urea compound tends to precipitate. More preferably, it is 0.1 mass% or more and 10 mass% or less.
また、前記下引き層が、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。金属酸化物粒子による電子伝導機構は、イオン伝導機構に比べて繰り返し使用や環境変動による電気特性の変動が少ないためである。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化亜鉛粒子、酸化チタン粒子などが挙げられる。 The undercoat layer preferably contains metal oxide particles. This is because the electronic conduction mechanism using metal oxide particles is less subject to variations in electrical characteristics due to repeated use and environmental fluctuations than the ion conduction mechanism. Examples of the metal oxide particles include zinc oxide particles and titanium oxide particles.
さらに、前記下引き層における前記ウレア化合物の含有量が、前記金属酸化物粒子の全質量に対して0.1質量%以上10質量%以下であることが好ましい。この範囲であれば、電気特性変動を十分に抑制され、クラックの発生が抑制される。 Furthermore, the content of the urea compound in the undercoat layer is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the total mass of the metal oxide particles. If it is this range, an electrical property fluctuation | variation will fully be suppressed and generation | occurrence | production of a crack will be suppressed.
また、前記感光層が、前記電荷発生物質を含有する電荷発生層、および、該電荷発生層上に形成された前記正孔輸送物質を含有する正孔輸送層を有することが好ましい。 The photosensitive layer preferably includes a charge generation layer containing the charge generation material and a hole transport layer containing the hole transport material formed on the charge generation layer.
さらに、前記電荷発生層が、前記電荷発生物質および前記ウレア化合物を含有することが好ましい。電荷発生層と下引き層の両方に前記ウレア化合物を含有することで、電荷発生層と下引き層の界面における電子のやりとりがより良好になるためであると推察される。 Furthermore, the charge generation layer preferably contains the charge generation material and the urea compound. It is assumed that the exchange of electrons at the interface between the charge generation layer and the undercoat layer becomes better by containing the urea compound in both the charge generation layer and the undercoat layer.
さらに、前記下引き層が含有する前記ウレア化合物と、前記電荷発生層が含有する前記ウレア化合物が、同一の構造のウレア化合物であることが好ましい。電荷発生層と下引き層の含有する前記ウレア化合物が同一であることで、電荷発生層と下引き層の界面における電子のやりとりがさらに良好になるためであると推察される。 Furthermore, it is preferable that the urea compound contained in the undercoat layer and the urea compound contained in the charge generation layer are urea compounds having the same structure. It is assumed that the exchange of electrons at the interface between the charge generation layer and the undercoat layer is further improved when the urea compound contained in the charge generation layer and the undercoat layer is the same.
また、前記電荷発生物質がガリウムフタロシアニン結晶であることが好ましい。 The charge generation material is preferably a gallium phthalocyanine crystal.
さらに、前記ガリウムフタロシアニン結晶がCuKα線のX線回折におけるブラッグ角2θの7.4°±0.3°および28.2°±0.3°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶であることが好ましい。ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を電荷発生物質として用いることにより、環境変動に対する電気特性の安定性が向上し、本発明がさらに有効に作用するためである。 Further, the gallium phthalocyanine crystal is a crystalline gallium phthalocyanine crystal having peaks at 7.4 ° ± 0.3 ° and 28.2 ° ± 0.3 ° of the Bragg angle 2θ in the X-ray diffraction of CuKα ray. It is preferable. This is because the use of a hydroxygallium phthalocyanine crystal as a charge generation material improves the stability of electrical characteristics against environmental fluctuations, and the present invention works more effectively.
さらに、前記ガリウムフタロシアニン結晶が、前記ウレア化合物を結晶内に含有するガリウムフタロシアニン結晶であることが好ましい。結晶内に前記ウレア化合物を含有することにより、ガリウムフタロシアニン結晶からの電子の流れが良好になり、電子発生部(ガリウムフタロシアニン結晶)から電荷発生層を通って下引き層まで、電子が滞留することなく流れるようになるためであると推察される。 Furthermore, the gallium phthalocyanine crystal is preferably a gallium phthalocyanine crystal containing the urea compound in the crystal. By containing the urea compound in the crystal, the flow of electrons from the gallium phthalocyanine crystal becomes good, and the electrons stay from the electron generation part (gallium phthalocyanine crystal) through the charge generation layer to the undercoat layer. It is inferred that it will flow without any problems.
さらに、前記ガリウムフタロシアニン結晶内における前記ウレア化合物の含有量が、0.02質量%以上2質量%以下であることが好ましい。前記ガリウムフタロシアニン結晶内における前記ウレア化合物の含有量が少なすぎると、ゴースト抑制能が十分ではなく、含有量が多すぎると、前記ウレア化合物がガリウムフタロシアニン結晶の分散性を損なう可能性があるためである。 Furthermore, the content of the urea compound in the gallium phthalocyanine crystal is preferably 0.02% by mass or more and 2% by mass or less. If the content of the urea compound in the gallium phthalocyanine crystal is too small, the ghost suppressing ability is not sufficient, and if the content is too large, the urea compound may impair the dispersibility of the gallium phthalocyanine crystal. is there.
以下に、本発明のウレア化合物の具体例(例示化合物)を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。 Specific examples (exemplary compounds) of the urea compound of the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
本発明の電子写真感光体は、上述のとおり、支持体、該支持体上に形成された下引き層、および、該下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。 As described above, the electrophotographic photoreceptor of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a support, an undercoat layer formed on the support, and a photosensitive layer formed on the undercoat layer.
図1は、本発明に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図1中、101は支持体であり、102は下引き層であり、103は電荷発生層であり、104は正孔輸送層であり、105は感光層(積層型感光層)である。 FIG. 1 is a diagram showing an example of the layer structure of the electrophotographic photosensitive member according to the present invention. In FIG. 1, 101 is a support, 102 is an undercoat layer, 103 is a charge generation layer, 104 is a hole transport layer, and 105 is a photosensitive layer (laminated photosensitive layer).
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましい。例えば、アルミニウム、ステンレス鋼、ニッケルなどの金属(合金)製の支持体や、表面に導電性皮膜を設けた金属、プラスチック、紙製の支持体などが挙げられる。また、支持体の形状としては、例えば、円筒状、フィルム状などが挙げられる。これらの中でも、円筒状のアルミニウム製の支持体が、機械強度、電子写真特性およびコストの点で優れている。また、素管のまま支持体として用いてもよいが、素管の表面に対して切削、ホーニングなどの物理処理や、陽極酸化処理や、酸などを用いた化学処理などを施したものを支持体として用いてもよい。素管に対して切削、ホーニングなどの物理処理を行うことにより、表面粗さをJIS B0601:2001で規定される十点平均粗さRzjis値で0.8μm以上に処理した支持体は、優れた干渉縞抑制機能を有している。 As a support body, what has electroconductivity (conductive support body) is preferable. For example, a support made of metal (alloy) such as aluminum, stainless steel, or nickel, or a support made of metal, plastic, or paper having a conductive film on the surface can be used. Examples of the shape of the support include a cylindrical shape and a film shape. Among these, a cylindrical aluminum support is excellent in terms of mechanical strength, electrophotographic characteristics, and cost. The raw tube may be used as a support, but the surface of the raw tube is supported by physical treatment such as cutting or honing, anodizing treatment, chemical treatment using acid, etc. It may be used as a body. By performing physical processing such as cutting and honing on the raw tube, the support processed to a surface roughness of 0.8 μm or more with a 10-point average roughness Rzjis value defined in JIS B0601: 2001 is excellent. Has interference fringe suppression function.
支持体と下引き層との間には、必要に応じて、導電層を設けてもよい。導電層を形成することにより、干渉縞抑制機能を付与することができる。 A conductive layer may be provided between the support and the undercoat layer as necessary. By forming the conductive layer, an interference fringe suppression function can be imparted.
導電層は、導電層用塗布液を支持体上に塗布した後、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。導電層用塗布液は、導電性粒子、結着樹脂および溶剤を分散処理することによって調製することができる。導電性粒子としては、例えば、酸化スズ粒子、酸化インジウム粒子、酸化チタン粒子、硫酸バリウム粒子、カーボンブラックなどが挙げられる。結着樹脂としては、フェノール樹脂などが挙げられる。また、必要に応じて、導電層用塗布液に粗し粒子を加えてもよい。 The conductive layer can be formed by applying the conductive layer coating liquid onto the support and then drying the obtained coating film. The coating liquid for the conductive layer can be prepared by dispersing the conductive particles, the binder resin, and the solvent. Examples of the conductive particles include tin oxide particles, indium oxide particles, titanium oxide particles, barium sulfate particles, and carbon black. Examples of the binder resin include phenol resin. Moreover, you may add a rough particle to the coating liquid for conductive layers as needed.
導電層の膜厚は、干渉縞抑制機能、支持体上の欠陥の隠蔽(被覆)などの観点から、5〜40μmであることが好ましく、10〜30μmであることがより好ましい。 The film thickness of the conductive layer is preferably 5 to 40 μm, and more preferably 10 to 30 μm, from the viewpoints of interference fringe suppression function, concealment (coating) of defects on the support, and the like.
支持体または導電層上には、下引き層が設けられる。 An undercoat layer is provided on the support or the conductive layer.
下引き層は、本発明のウレア化合物、および、樹脂を溶剤に溶解させることによって調製された下引き層用塗布液を、支持体または導電層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。 For the undercoat layer, the urea compound of the present invention and the coating solution for the undercoat layer prepared by dissolving the resin in a solvent are applied onto the support or the conductive layer, and the resulting coating film is dried. Can be formed.
下引き層に用いられる樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、アリル樹脂、アルキッド樹脂、エチルセルロース樹脂、エチレン−アクリル酸コポリマー、エポキシ樹脂、カゼイン樹脂、シリコーン樹脂、ゼラチン樹脂、フェノール樹脂、ブチラール樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアリルエーテル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ユリア樹脂、アガロース樹脂、セルロース樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂が好ましい。 Examples of the resin used for the undercoat layer include acrylic resin, allyl resin, alkyd resin, ethyl cellulose resin, ethylene-acrylic acid copolymer, epoxy resin, casein resin, silicone resin, gelatin resin, phenol resin, butyral resin, polyacrylate. Resin, polyacetal resin, polyamideimide resin, polyamide resin, polyallyl ether resin, polyimide resin, polyurethane resin, polyester resin, polyethylene resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, polysulfone resin, polyvinyl alcohol resin, polybutadiene resin, polypropylene resin, urea resin , Agarose resin, cellulose resin and the like. Among these, a polyurethane resin and a polyamide resin are preferable.
下引き層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラリン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサン、メチラール、テトラヒドロフラン、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、メトキシプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。 Examples of the solvent used in the coating solution for the undercoat layer include benzene, toluene, xylene, tetralin, chlorobenzene, dichloromethane, chloroform, trichloroethylene, tetrachloroethylene, carbon tetrachloride, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, and formic acid. Ethyl, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ether, dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dioxane, methylal, tetrahydrofuran, water, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, methoxypropanol, dimethylformamide, dimethyl Examples include acetamide and dimethyl sulfoxide.
下引き層の膜厚は、0.1〜30.0μmであることが好ましい。 The thickness of the undercoat layer is preferably 0.1 to 30.0 μm.
下引き層に含有させる本発明のウレア化合物は、非晶質であっても結晶質であってもよい。また、本発明のウレア化合物を2種類以上組み合わせて用いることもできる。 The urea compound of the present invention contained in the undercoat layer may be amorphous or crystalline. Also, two or more urea compounds of the present invention can be used in combination.
下引き層上には、電荷発生物質および正孔輸送物質を含有する感光層が設けられる。 A photosensitive layer containing a charge generation material and a hole transport material is provided on the undercoat layer.
電荷発生物質としては、高い感度を有する点で、フタロシアニン顔料やアゾ顔料が好ましく、その中でも、フタロシアニン顔料がより好ましい。 As the charge generation material, a phthalocyanine pigment or an azo pigment is preferable in terms of high sensitivity, and among these, a phthalocyanine pigment is more preferable.
フタロシアニン顔料としては、無金属フタロシアニンや、金属フタロシアニンが挙げられ、これらは軸配位子や置換基を有してもよい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、ガリウムフタロシアニンは、高い感度を有する一方で、ゴーストが発生しやすいため、本発明が有効に作用し、好ましい。 Examples of the phthalocyanine pigment include metal-free phthalocyanine and metal phthalocyanine, which may have an axial ligand or a substituent. Among the phthalocyanine pigments, oxytitanium phthalocyanine and gallium phthalocyanine are preferable because they have high sensitivity and easily generate ghosts, so that the present invention works effectively.
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層の結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アガロース樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの樹脂(絶縁性樹脂)が挙げられる。また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマーを用いることもできる。 When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, examples of the binder resin for the charge generation layer include polyvinyl butyral, polyarylate, polycarbonate, polyester, phenoxy resin, polyvinyl acetate, acrylic resin, polyacrylamide, polyvinyl pyridine, and cellulose. And resins (insulating resins) such as resin, urethane resin, epoxy resin, agarose resin, casein, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone. Moreover, organic photoconductive polymers, such as poly-N-vinyl carbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, can also be used.
電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラリン、クロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサン、メチラール、テトラヒドロフラン、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、メトキシプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。 Examples of the solvent used in the charge generation layer coating solution include toluene, xylene, tetralin, chlorobenzene, dichloromethane, chloroform, trichloroethylene, tetrachloroethylene, carbon tetrachloride, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, ethyl formate, Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ether, dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dioxane, methylal, tetrahydrofuran, water, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, methoxypropanol, dimethylformamide, dimethylacetamide, Examples thereof include dimethyl sulfoxide.
電荷発生層は、電荷発生物質および必要に応じて結着樹脂を含有する電荷発生層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。 The charge generation layer can be formed by applying a charge generation layer coating solution containing a charge generation material and, if necessary, a binder resin, and drying the obtained coating film.
電荷発生層用塗布液は、電荷発生物質だけを溶剤に加えて分散処理した後に結着樹脂を加えて調製してもよいし、電荷発生物質と結着樹脂を一緒に溶剤に加えて分散処理して調製してもよい。 The coating solution for the charge generation layer may be prepared by adding only the charge generation material to the solvent and then dispersing and then adding the binder resin. Alternatively, the charge generation material and the binder resin may be added to the solvent together and dispersed. May be prepared.
電荷発生層の膜厚は、0.05μm以上5μm以下であることが好ましい。 The thickness of the charge generation layer is preferably 0.05 μm or more and 5 μm or less.
電荷発生層における電荷発生物質の含有量は、電荷発生層の全質量に対して30質量%以上90質量%以下であることが好ましく、50質量%以上80質量%以下であることがより好ましい。 The content of the charge generation material in the charge generation layer is preferably 30% by mass or more and 90% by mass or less, and more preferably 50% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the total mass of the charge generation layer.
正孔輸送物質としては、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物、トリアリルメタン化合物などが挙げられる。 Examples of the hole transport material include triarylamine compounds, hydrazone compounds, stilbene compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, thiazole compounds, triallylmethane compounds, and the like.
感光層が積層型感光層である場合、正孔輸送層の結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース系樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アガロース樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどの樹脂(絶縁性樹脂)が挙げられる。また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレンなどの有機光導電性ポリマーを用いることもできる。 When the photosensitive layer is a laminated photosensitive layer, examples of the binder resin for the hole transport layer include polyvinyl butyral, polyarylate, polycarbonate, polyester, phenoxy resin, polyvinyl acetate, acrylic resin, polyacrylamide resin, and polyamide resin. , Polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, agarose resin, casein, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, and other resins (insulating resin). Moreover, organic photoconductive polymers, such as poly-N-vinyl carbazole, polyvinyl anthracene, polyvinyl pyrene, can also be used.
正孔輸送層用塗布液に用いられる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラリン、モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、四塩化炭素、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジオキサン、メチラール、テトラヒドロフラン、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルセロソルブ、メトキシプロパノール、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドおよびジメチルスルホキシドなどが挙げられる。 Examples of the solvent used for the coating solution for the hole transport layer include toluene, xylene, tetralin, monochlorobenzene, dichloromethane, chloroform, trichloroethylene, tetrachloroethylene, carbon tetrachloride, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, methyl formate, formic acid. Ethyl, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, diethyl ether, dipropyl ether, propylene glycol monomethyl ether, dioxane, methylal, tetrahydrofuran, water, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, butanol, methyl cellosolve, methoxypropanol, dimethylformamide, dimethyl Examples include acetamide and dimethyl sulfoxide.
正孔輸送層は、正孔輸送物質および必要に応じて結着樹脂を溶剤に溶解させることによって得られる正孔輸送層用塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥させることによって形成することができる。 The hole transport layer is formed by applying a hole transport material and, if necessary, a coating solution for a hole transport layer obtained by dissolving a binder resin in a solvent, and drying the obtained coating film. be able to.
正孔輸送層の膜厚は、5μm以上40μm以下であることが好ましい。 The thickness of the hole transport layer is preferably 5 μm or more and 40 μm or less.
正孔輸送物質の含有量は、正孔輸送層の全質量に対して20質量%以上80質量%以下であることが好ましく、30質量%以上60質量%以下であることがより好ましい。 The content of the hole transport material is preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less with respect to the total mass of the hole transport layer.
積層型感光層における電荷発生層に含有させる本発明のウレア化合物も、非晶質であっても結晶質であってもよい。また、本発明のウレア化合物を2種類以上組み合わせて用いることもできる。 The urea compound of the present invention contained in the charge generation layer in the multilayer photosensitive layer may be either amorphous or crystalline. Also, two or more urea compounds of the present invention can be used in combination.
感光層上には、感光層を保護することを目的として、保護層を設けてもよい。
保護層は、ポリビニルブチラール、ポリエステル、ポリカーボネート(ポリカーボネートZや変性ポリカーボネートなど)、ナイロン、ポリイミド、ポリアリレート、ポリウレタン、スチレン−ブタジエンコポリマー、スチレン−アクリル酸コポリマー、スチレン−アクリロニトリルコポリマーなどの樹脂を溶剤に溶解させることによって調製された保護層用塗布液を感光層上に塗布し、得られた塗膜を乾燥/硬化させることによって形成することができる。塗膜を硬化させる場合には、加熱、電子線、紫外線を用いることができる。
保護層の膜厚は、0.05〜20μmであることが好ましい。
A protective layer may be provided on the photosensitive layer for the purpose of protecting the photosensitive layer.
The protective layer dissolves resins such as polyvinyl butyral, polyester, polycarbonate (such as polycarbonate Z and modified polycarbonate), nylon, polyimide, polyarylate, polyurethane, styrene-butadiene copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-acrylonitrile copolymer in a solvent. It can form by apply | coating the coating liquid for protective layers prepared by making it apply | coat on a photosensitive layer, and drying / curing the obtained coating film. When the coating film is cured, heating, electron beam, or ultraviolet light can be used.
The thickness of the protective layer is preferably 0.05 to 20 μm.
また、保護層には、導電性粒子、紫外線吸収剤、フッ素原子含有樹脂粒子などの潤滑性粒子を含有させてもよい。導電性粒子としては、例えば、酸化スズ粒子などの金属酸化物粒子が挙げられる。 Further, the protective layer may contain lubricating particles such as conductive particles, an ultraviolet absorber, and fluorine atom-containing resin particles. Examples of the conductive particles include metal oxide particles such as tin oxide particles.
各層用の塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法(ディッピング法)、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、ビームコーティング法などが挙げられる。 Examples of the coating method for the coating solution for each layer include a dip coating method (dipping method), a spray coating method, a spinner coating method, a bead coating method, a blade coating method, and a beam coating method.
図2は、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。 FIG. 2 is a diagram showing an example of a schematic configuration of an electrophotographic apparatus provided with a process cartridge having the electrophotographic photosensitive member of the present invention.
1は円筒状(ドラム状)の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度(プロセススピード)をもって回転駆動される。 Reference numeral 1 denotes a cylindrical (drum-shaped) electrophotographic photosensitive member, which is rotationally driven around a shaft 2 at a predetermined peripheral speed (process speed) in the direction of an arrow.
電子写真感光体1の表面は、回転過程において、帯電手段3により、正または負の所定電位に帯電される。次いで、電子写真感光体1の表面には、像露光手段(不図示)から像露光光4が照射され、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。像露光光4は、目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して強度変調された光であり、例えば、スリット露光やレーザービーム走査露光などの像露光手段から出力される。
The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is charged to a predetermined positive or negative potential by the charging
電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5内に収容されたトナーで現像(正規現像または反転現像)され、電子写真感光体1の表面にトナー像が形成される。電子写真感光体1の表面に形成されたトナー像は、転写手段6により、転写材7に転写される。このとき、転写手段6には、バイアス電源(不図示)からトナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧が印加される。また、転写材7が紙である場合、転写材7は給紙部(不図示)から取り出されて、電子写真感光体1と転写手段6との間に電子写真感光体1の回転と同期して給送される。
The electrostatic latent image formed on the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is developed (regular development or reversal development) with toner contained in the developing
電子写真感光体1からトナー像が転写された転写材7は、電子写真感光体1の表面から分離されて、像定着手段8へ搬送されて、トナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物(プリント、コピー)として電子写真装置の外へプリントアウトされる。 The transfer material 7 onto which the toner image has been transferred from the electrophotographic photosensitive member 1 is separated from the surface of the electrophotographic photosensitive member 1, conveyed to the image fixing means 8, and subjected to a toner image fixing process, thereby forming an image. Printed out as an object (print, copy) out of the electrophotographic apparatus.
転写材7にトナー像を転写した後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段9により、トナー(転写残トナー)などの付着物の除去を受けて清浄される。近年、クリーナレスシステムも開発されているので、それを採用すれば、転写残トナーを直接、現像器などで除去することもできる。さらに、電子写真感光体1の表面は、前露光手段(不図示)からの前露光光10により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、帯電手段3が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光手段は必ずしも必要ではない。
The surface of the electrophotographic photosensitive member 1 after the toner image is transferred to the transfer material 7 is cleaned by the cleaning means 9 after removal of deposits such as toner (transfer residual toner). In recent years, a cleanerless system has also been developed. If it is adopted, the transfer residual toner can be directly removed by a developing device or the like. Further, the surface of the electrophotographic photosensitive member 1 is subjected to charge removal treatment with pre-exposure light 10 from a pre-exposure unit (not shown), and then repeatedly used for image formation. When the charging
本発明においては、上述の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5、転写手段6およびクリーニング手段9などから選択される構成要素のうち、複数の構成要素を容器に納め、一体に支持してプロセスカートリッジを形成し、それを電子写真装置本体に対して着脱自在に構成できる。例えば以下のように構成する。帯電手段3、現像手段5およびクリーニング手段9から選択される少なくとも1つを、電子写真感光体1とともに一体に支持してカートリッジ化する。これを、電子写真装置本体のレールなどの案内手段12を用いて、電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ11とすることができる。
In the present invention, among the components selected from the above-described electrophotographic photosensitive member 1, charging
像露光光4は、電子写真装置が複写機やプリンターである場合には、原稿からの反射光や透過光であってもよい。または、センサーで原稿を読み取り、信号化し、この信号に従って行われるレーザービームの走査、LEDアレイの駆動もしくは液晶シャッターアレイの駆動などにより放射される光であってもよい。 The image exposure light 4 may be reflected light or transmitted light from an original when the electrophotographic apparatus is a copying machine or a printer. Alternatively, it may be light emitted by reading a document with a sensor, converting it into a signal, scanning a laser beam performed according to this signal, driving an LED array, driving a liquid crystal shutter array, or the like.
本発明の電子写真感光体は、レーザービームプリンター、CRTプリンター、LEDプリンター、FAX、液晶プリンターおよびレーザー製版などの電子写真応用分野にも幅広く適用することができる。 The electrophotographic photosensitive member of the present invention can be widely applied to electrophotographic application fields such as laser beam printers, CRT printers, LED printers, FAX, liquid crystal printers, and laser plate making.
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、これらに限定されるものではない。なお、実施例および比較例の電子写真感光体の各層の膜厚は、渦電流式膜厚計(Fischerscope、フィッシャーインスツルメント社製)または単位面積当たりの質量からの比重換算で求めた。また、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples. However, the present invention is not limited to these. In addition, the film thickness of each layer of the electrophotographic photoconductors of Examples and Comparative Examples was determined by specific gravity conversion from an eddy current film thickness meter (Fischerscope, manufactured by Fischer Instrument Co.) or mass per unit area. In the examples, “part” means “part by mass”.
(実施例1)
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
Example 1
An aluminum cylinder having a diameter of 24 mm and a length of 257 mm was used as a support (cylindrical support).
次に、酸化スズで被覆されている硫酸バリウム粒子(商品名:パストランPC1、三井金属鉱業(株)製)60部、
酸化チタン粒子(商品名:TITANIX JR、テイカ(株)製)15部、
レゾール型フェノール樹脂(商品名:フェノライト J−325、DIC(株)製、固形分70質量%)43部、
シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レシリコーン(株)製)0.015部、
シリコーン樹脂粒子(商品名:トスパール120、東芝シリコーン(株)製)3.6部、
2−メトキシ−1−プロパノール50部、および、メタノール50部
をボールミルに入れ、20時間分散処理することによって、導電層用塗布液を調製した。
この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を140℃で1時間加熱し、塗膜を硬化させることによって、膜厚が20μmの導電層を形成した。
Next, 60 parts of barium sulfate particles (trade name: Pastoran PC1, manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.) coated with tin oxide,
15 parts of titanium oxide particles (trade name: TITANIX JR, manufactured by Teika)
43 parts of a resol type phenolic resin (trade name: Phenolite J-325, manufactured by DIC Corporation, solid content 70% by mass),
0.015 part of silicone oil (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Silicone Co., Ltd.)
3.6 parts of silicone resin particles (trade name: Tospearl 120, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.)
A conductive layer coating solution was prepared by placing 50 parts of 2-methoxy-1-propanol and 50 parts of methanol in a ball mill and dispersing the mixture for 20 hours.
This conductive layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was heated at 140 ° C. for 1 hour to cure the coating film, thereby forming a conductive layer having a thickness of 20 μm.
次に、アルキッド樹脂(商品名:ベッコライトM6401−50−S(固形分50%)、DIC(株)製)36部、
メラミン樹脂(商品名:スーパーベッカミンL−121−60(固形分60%)、DIC(株)製)20部、
表面未処理ルチル型酸化チタン粒子(商品名:CR−EL、平均粒径0.25μm、石原産業(株)製)120部、
例示化合物(39)0.88部、および、
2−ブタノン280部を混合して、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を導電層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を130℃で45分間乾燥させることによって、膜厚が3μmの下引き層を形成した。
Next, 36 parts of alkyd resin (trade name: Beckolite M6401-50-S (solid content 50%), manufactured by DIC Corporation),
20 parts of melamine resin (trade name: Super Becamine L-121-60 (solid content 60%), manufactured by DIC Corporation),
Surface untreated rutile type titanium oxide particles (trade name: CR-EL, average particle size 0.25 μm, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 120 parts,
0.88 parts of exemplary compound (39), and
Undercoat layer coating solution was prepared by mixing 280 parts of 2-butanone.
The undercoat layer coating solution was applied onto the conductive layer by dip coating, and the resulting coating film was dried at 130 ° C. for 45 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 3 μm.
次に、特開2011−94101号公報に記載の(合成例1)に続いて(実施例1−1)と同様に処理して得られたヒドロキシガリウムフタロシアニンを用意した。以下、このヒドロキシガリウムフタロシアニンを、ヒドロキシガリウムフタロシアニンAと称する。ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(39)0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.45部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図3に示す。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(39)が0.05質量%含有されていることが確認された。
Next, hydroxygallium phthalocyanine obtained by processing in the same manner as in Example 1-1 following (Synthesis Example 1) described in JP2011-94101A was prepared. Hereinafter, this hydroxygallium phthalocyanine is referred to as hydroxygallium phthalocyanine A. Milling treatment of 0.5 parts of hydroxygallium phthalocyanine A, 0.5 parts of the exemplified compound (39) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature (23 C.) for 52 hours. Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.45 part of a hydroxygallium phthalocyanine crystal. A powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals is shown in FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.05 mass% of the exemplified compound (39) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
次に、得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部、下記式(3)で示されるカリックスアレーン化合物0.2部、
この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。
Next, 20 parts of the obtained hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generating substance), 0.2 part of a calixarene compound represented by the following formula (3),
This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.
次に、下記式(4)で示されるトリアリールアミン化合物(正孔輸送物質)70部、
この正孔輸送層用塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を120℃で1時間乾燥させることによって、膜厚が19μmの正孔輸送層を形成した。
Next, 70 parts of a triarylamine compound (hole transport material) represented by the following formula (4),
This hole transport layer coating solution was dip coated on the charge generation layer, and the resulting coating film was dried at 120 ° C. for 1 hour to form a hole transport layer having a thickness of 19 μm.
導電層、下引き層、電荷発生層および正孔輸送層の塗膜の乾燥は、各温度に設定されたオーブンを用いて行った。以下同様である。
以上のようにして、円筒状(ドラム状)の電子写真感光体1を製造した。
The coating films of the conductive layer, undercoat layer, charge generation layer and hole transport layer were dried using an oven set at each temperature. The same applies hereinafter.
As described above, a cylindrical (drum-shaped) electrophotographic photosensitive member 1 was manufactured.
〔実施例2〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)の使用量を0.88部から0.018部に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体2を製造した。
[Example 2]
In Example 1, the usage-amount of exemplary compound (39) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.88 part to 0.018 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 2 was produced in the same manner as in Example 1.
〔実施例3〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)の使用量を0.88部から0.18部に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体3を製造した。
Example 3
In Example 1, the usage-amount of exemplary compound (39) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.88 part to 0.18 part. Other than that was carried out similarly to Example 1, and manufactured the
〔実施例4〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)の使用量を0.88部から3.52部に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体4を製造した。
Example 4
In Example 1, the usage-amount of exemplary compound (39) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.88 part to 3.52 parts. Other than that was carried out similarly to Example 1, and manufactured the electrophotographic photoreceptor 4. FIG.
〔実施例5〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)の使用量を0.88部から17.6部に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体5を製造した。
Example 5
In Example 1, the usage-amount of exemplary compound (39) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.88 part to 17.6 parts. Other than that was carried out similarly to Example 1, and manufactured the
〔実施例6〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)の使用量を0.88部から35.2部に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体6を製造した。
Example 6
In Example 1, the usage-amount of exemplary compound (39) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.88 part to 35.2 parts. Otherwise, the electrophotographic
〔実施例7〕
実施例1において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散および濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体7を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(39)2.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.46部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(39)が0.18質量%含有されていることが確認された。
Example 7
In Example 1, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Other than that was carried out similarly to Example 1, and manufactured the electrophotographic photoreceptor 7. FIG.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 2.0 parts of the exemplified compound (39) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.18% by mass of the exemplified compound (39) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例8〕
実施例1において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過および電荷発生層用塗布液の調製を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体8を製造した。
Example 8
In Example 1, the dispersion and filtration of the hydroxygallium phthalocyanine crystal and the preparation of the coating solution for the charge generation layer were changed as follows. Other than that was carried out similarly to Example 1, and manufactured the
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.44部得た。得られた結晶の粉末X線回折図を図4に示す。 Milling of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm was performed at room temperature (23 ° C.) for 52 hours. Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.44 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals is shown in FIG.
次に、得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部、
上記式(3)で示されるカリックスアレーン化合物0.2部、
例示化合物(39)1部、
ポリビニルブチラール(商品名:BX−1、積水化学工業(株)製)10部、および、
シクロヘキサノン519部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル764部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
Next, 20 parts of the obtained hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generation material),
0.2 part of a calixarene compound represented by the above formula (3),
1 part of exemplary compound (39),
10 parts of polyvinyl butyral (trade name: BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
519 parts of cyclohexanone was placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm and dispersed for 4 hours. Thereafter, 764 parts of ethyl acetate was added to prepare a coating solution for charge generation layer.
〔実施例9〕
実施例1において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体9を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(29)0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.43部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(29)が0.09質量%含有されていることが確認された。
Example 9
In Example 1, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 9 was produced in the same manner as in Example 1.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 0.5 parts of the exemplified compound (29) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.43 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.09% by mass of the exemplified compound (29) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例10〕
実施例8において、電荷発生層用塗布液を調製する際に例示化合物(39)を使用しなかった。それ以外は、実施例8と同様にして、電子写真感光体10を製造した。
Example 10
In Example 8, the exemplary compound (39) was not used when preparing the coating solution for charge generation layer. Otherwise, the
〔実施例11〕
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
次に、ブチラール樹脂(商品名:BM−1、積水化学社製)56部、
ブロック化イソシアネート(商品名:スミジュール3175、住友バイエルウレタン社製)56部、
酸化亜鉛微粒子(シランカップリング剤:N-2-(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(商品名:KBM602、信越化学社製)により表面処理)300部、
例示化合物(39)2.2部、および、
2−ブタノン/n−ブタノール=1/1の混合溶液596部を混合し、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミル装置で3.3時間分散した。その後、シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レダウコーニングシリコーン(株)製)0.04部、および、ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子(PMMA、積水化成品工業社製、SSX−102、平均粒径2.5μm)21部を添加して、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を160℃で30分間乾燥させることによって、膜厚が16μmの下引き層を形成した。
次に、電荷発生層と正孔輸送層を実施例1と同様にして形成して、電子写真感光体11を作製した。
Example 11
An aluminum cylinder having a diameter of 24 mm and a length of 257 mm was used as a support (cylindrical support).
Next, 56 parts of butyral resin (trade name: BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
56 parts of blocked isocyanate (trade name: Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.)
300 parts of zinc oxide fine particles (Silane coupling agent: N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane (trade name: KBM602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) 300 parts,
2.2 parts of exemplary compound (39), and
596 parts of a mixed solution of 2-butanone / n-butanol = 1/1 were mixed and dispersed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm for 3.3 hours. Thereafter, 0.04 part of silicone oil (trade name: SH28PA, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) and polymethyl methacrylate resin particles (PMMA, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., SSX-102, average particle size 2) 0.5 μm) was added to prepare an undercoat layer coating solution.
This undercoat layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried at 160 ° C. for 30 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 16 μm.
Next, a charge generation layer and a hole transport layer were formed in the same manner as in Example 1 to produce an
〔実施例12〕
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
次に、N−メトキシメチル化ナイロン6(商品名:トレジンEF−30T、ナガセケムテックス(株)製)25部をn−ブタノール225部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(商品名:FP−022、孔径:0.22μm、住友電気工業(株)製)で濾過した。次いで、濾液にスズ原子を含むルチル型酸性チタニアゾル56部を加え、平均直径0.8mmのガラスビーズ500部を用いたサンドミル装置に入れ、800rpmで30分間分散処理した。分散処理後、ガラスビーズをメッシュ濾過により分離した。そして、分離液を、メタノールとn−ブタノールを用いて固形分が3.0質量%、溶剤比がメタノール:n−ブタノール=2:1になるように希釈した。この希釈液500部に、例示化合物(39)0.08部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。下引き層用塗布液に含有される酸化チタン結晶粒子の含有量は、下引き層用塗布液中の乾燥固形分の全質量に対して25質量%であった。
この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.45μmの下引き層を形成した。
次に、電荷発生層と正孔輸送層を実施例1と同様にして形成して、電子写真感光体12を作製した。
Example 12
An aluminum cylinder having a diameter of 24 mm and a length of 257 mm was used as a support (cylindrical support).
Next, 25 parts of N-methoxymethylated nylon 6 (trade name: Toresin EF-30T, manufactured by Nagase ChemteX Corporation) was dissolved in 225 parts of a mixed solvent of n-butanol (dissolved by heating at 65 ° C.). The resulting solution was cooled. Thereafter, the solution was filtered through a membrane filter (trade name: FP-022, pore size: 0.22 μm, manufactured by Sumitomo Electric Industries, Ltd.). Next, 56 parts of rutile acid titania sol containing tin atoms was added to the filtrate, and the mixture was placed in a sand mill apparatus using 500 parts of glass beads having an average diameter of 0.8 mm and dispersed at 800 rpm for 30 minutes. After the dispersion treatment, the glass beads were separated by mesh filtration. The separated liquid was diluted with methanol and n-butanol so that the solid content was 3.0% by mass and the solvent ratio was methanol: n-butanol = 2: 1. An undercoat layer coating solution was prepared by adding 0.08 part of Exemplified Compound (39) to 500 parts of this diluted solution. The content of the titanium oxide crystal particles contained in the undercoat layer coating solution was 25% by mass with respect to the total mass of the dry solid content in the undercoat layer coating solution.
The undercoat layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 0.45 μm.
Next, a charge generation layer and a hole transport layer were formed in the same manner as in Example 1 to produce an
〔実施例13〕
直径24mm、長さ257mmのアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
次に、N−メトキシメチル化ナイロン6(商品名:トレジンEF−30T)25部をメタノール320部/n−ブタノール160部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(商品名:FP−022)で濾過し、濾液に例示化合物(39)0.13部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。
この下引き層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.45μmの下引き層を形成した。
次に、電荷発生層と正孔輸送層を実施例1と同様にして形成して、電子写真感光体13を作製した。
Example 13
An aluminum cylinder having a diameter of 24 mm and a length of 257 mm was used as a support (cylindrical support).
Next, a solution prepared by dissolving 25 parts of N-methoxymethylated nylon 6 (trade name: Toresin EF-30T) in a mixed solvent of 320 parts of methanol / 160 parts of n-butanol (heating and dissolving at 65 ° C.) is cooled. did. Thereafter, the solution was filtered through a membrane filter (trade name: FP-022), and 0.13 part of the exemplified compound (39) was added to the filtrate to prepare an undercoat layer coating solution.
The undercoat layer coating solution was dip-coated on a support, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 0.45 μm.
Next, a charge generation layer and a hole transport layer were formed in the same manner as in Example 1 to produce an electrophotographic photoreceptor 13.
〔実施例14〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(26)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体14を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(26)1.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.46部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(26)が1.6質量%含有されていることが確認された。
Example 14
In Example 1, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (26), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 14 was produced in the same manner as in Example 1.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 1.0 part of the exemplified compound (26) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 1.6 mass% of the exemplified compound (26) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例15〕
実施例14において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例14と同様にして、電子写真感光体15を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(26)0.2部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.45部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(26)が0.37質量%含有されていることが確認された。
Example 15
In Example 14, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photoreceptor 15 was manufactured in the same manner as in Example 14.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A, 0.2 parts of the exemplified compound (26) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.45 part of a hydroxygallium phthalocyanine crystal. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.37 mass% of the exemplified compound (26) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例16〕
実施例14において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例14と同様にして、電子写真感光体16を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(26)2.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.46部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(26)が2.9質量%含有されていることが確認された。
Example 16
In Example 14, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 16 was produced in the same manner as in Example 14.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A, 2.0 parts of the exemplified compound (26) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 2.9 mass% of the exemplified compound (26) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例17〕
実施例10において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(26)に変更した。それ以外は、実施例10と同様にして、電子写真感光体17を製造した。
Example 17
In Example 10, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (26). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 17 was produced in the same manner as in Example 10.
〔実施例18〕
実施例14において、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した。それ以外は、実施例14と同様にして、電子写真感光体18を製造した。
N−メトキシメチル化ナイロン6(商品名:トレジンEF−30T)25部をメタノール320部/n−ブタノール160部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(商品名:FP−022)で濾過し、濾液に例示化合物(26)0.13部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。
Example 18
In Example 14, the preparation of the coating solution for the undercoat layer was changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 18 was manufactured in the same manner as in Example 14.
A solution prepared by dissolving 25 parts of N-methoxymethylated nylon 6 (trade name: Toresin EF-30T) in a mixed solvent of 320 parts of methanol / 160 parts of n-butanol (heating and dissolving at 65 ° C.) was cooled. Thereafter, the solution was filtered through a membrane filter (trade name: FP-022), and 0.13 part of the exemplified compound (26) was added to the filtrate to prepare an undercoat layer coating solution.
〔実施例19〕
実施例17において、下引き層用塗布液の調製を以下のように変更した。それ以外は、実施例17と同様にして、電子写真感光体19を製造した。
N−メトキシメチル化ナイロン6(商品名:トレジンEF−30T)25部をメタノール320部/n−ブタノール160部の混合溶剤に溶解(65℃での加熱溶解)させてなる溶液を冷却した。その後、溶液をメンブランフィルター(商品名:FP−022)で濾過し、濾液に例示化合物(26)0.13部を添加することによって、下引き層用塗布液を調製した。
Example 19
In Example 17, the preparation of the coating solution for the undercoat layer was changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 19 was produced in the same manner as in Example 17.
A solution prepared by dissolving 25 parts of N-methoxymethylated nylon 6 (trade name: Toresin EF-30T) in a mixed solvent of 320 parts of methanol / 160 parts of n-butanol (heating and dissolving at 65 ° C.) was cooled. Thereafter, the solution was filtered through a membrane filter (trade name: FP-022), and 0.13 part of the exemplified compound (26) was added to the filtrate to prepare an undercoat layer coating solution.
〔実施例20〕
実施例11において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(40)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体20を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.44部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図4と同様であった。
Example 20
In Example 11, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (40), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the
Milling of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm was performed at room temperature (23 ° C.) for 52 hours. Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.44 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
〔実施例21〕
実施例12において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(47)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例12と同様にして、電子写真感光体21を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.44部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図4と同様であった。
Example 21
In Example 12, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (47), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 21 was produced in the same manner as in Example 12.
Milling of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm was performed at room temperature (23 ° C.) for 52 hours. Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.44 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
〔実施例22〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)の使用量を0.08部から0.005部に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、電子写真感光体22を製造した。
[Example 22]
In Example 21, the usage-amount of exemplary compound (47) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.08 part to 0.005 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 22 was manufactured in the same manner as in Example 21.
〔実施例23〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)の使用量を0.08部から0.02部に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、電子写真感光体23を製造した。
Example 23
In Example 21, the usage-amount of exemplary compound (47) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.08 part to 0.02 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 23 was manufactured in the same manner as in Example 21.
〔実施例24〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)の使用量を0.08部から0.23部に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、電子写真感光体24を製造した。
Example 24
In Example 21, the usage-amount of exemplary compound (47) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.08 part to 0.23 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 24 was produced in the same manner as in Example 21.
〔実施例25〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)の使用量を0.08部から0.75部に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、電子写真感光体25を製造した。
Example 25
In Example 21, the usage-amount of exemplary compound (47) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.08 part to 0.75 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 25 was produced in the same manner as in Example 21.
〔実施例26〕
実施例10において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(5)に変更した。それ以外は、実施例10と同様にして、電子写真感光体26を製造した。
Example 26
In Example 10, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (5). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 26 was manufactured in the same manner as in Example 10.
〔実施例27〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(5)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体27を製造した。
Example 27
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (5). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 27 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例28〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(10)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体28を製造した。
Example 28
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (10). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 28 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例29〕
実施例13において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(13)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過および電荷発生層用塗布液の調製を以下のように変更した。それ以外は、実施例13と同様にして、電子写真感光体29を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(13)2.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.49部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(13)が3.5質量%含有されていることが確認された。
Example 29
In Example 13, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (13), and dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals and preparation of the coating solution for the charge generation layer were performed. Was changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 29 was produced in the same manner as in Example 13.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A, 2.0 parts of the exemplified compound (13) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.49 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 3.5 mass% of the exemplified compound (13) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
次に、得られたヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)20部、上記式(3)で示されるカリックスアレーン化合物0.2部、例示化合物(13)1部、ポリビニルブチラール(商品名:BX−1)製)10部、および、シクロヘキサノン519部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル764部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。 Next, 20 parts of the obtained hydroxygallium phthalocyanine crystal (charge generating substance), 0.2 part of calixarene compound represented by the above formula (3), 1 part of exemplary compound (13), polyvinyl butyral (trade name: BX- 1) 10 parts) and 519 parts of cyclohexanone were placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm and dispersed for 4 hours. Thereafter, 764 parts of ethyl acetate was added to prepare a coating solution for charge generation layer.
〔実施例30〕
実施例11において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(13)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を実施例29と同様にして行った。それ以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体30を製造した。
Example 30
In Example 11, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (13), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were carried out in the same manner as in Example 29. It was. Otherwise, the electrophotographic photoreceptor 30 was manufactured in the same manner as in Example 11.
〔実施例31〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(15)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体31を製造した。
Example 31
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (15). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 31 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例32〕
実施例13において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(18)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例13と同様にして、電子写真感光体32を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(18)1.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.46部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(18)が0.9質量%含有されていることが確認された。
[Example 32]
In Example 13, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (18), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 32 was produced in the same manner as in Example 13.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 1.0 part of the exemplified compound (18) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.9 mass% of the exemplified compound (18) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例33〕
実施例12において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(18)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を実施例32と同様にして行った。それ以外は、実施例12と同様にして、電子写真感光体33を製造した。
Example 33
In Example 12, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (18), and the dispersion and filtration of the hydroxygallium phthalocyanine crystals were carried out in the same manner as in Example 32. It was. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 33 was produced in the same manner as in Example 12.
〔実施例34〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(20)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体34を製造した。
Example 34
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (20). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 34 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例35〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(25)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体35を製造した。
Example 35
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (25). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 35 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例36〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(28)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体36を製造した。
Example 36
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (28). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 36 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例37〕
実施例8において、下引き層用塗布液の調製を実施例36と同様にして行い、電荷発生層用塗布液の調製の際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(28)に変更した。それ以外は、実施例8と同様にして、電子写真感光体37を製造した。
Example 37
In Example 8, the undercoat layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 36, and the exemplified compound (39) used in the preparation of the charge generation layer coating solution was changed to the exemplified compound (28). . Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 37 was manufactured in the same manner as in Example 8.
〔実施例38〕
実施例36において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例36と同様にして、電子写真感光体38を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(28)0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.48部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(28)が1.48質量%含有されていることが確認された。
Example 38
In Example 36, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 38 was produced in the same manner as in Example 36.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 0.5 parts of the exemplary compound (28) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.48 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 1.48% by mass of the exemplified compound (28) was converted from the proton ratio in the phthalocyanine crystal.
〔実施例39〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体39を製造した。
Example 39
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (29). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 39 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例40〕
実施例39において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(29)の使用量を0.13部から0.005部に変更した。それ以外は、実施例39と同様にして、電子写真感光体40を製造した。
Example 40
In Example 39, the usage-amount of exemplary compound (29) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.13 part to 0.005 part. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 40 was manufactured in the same manner as in Example 39.
〔実施例41〕
実施例39において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(29)の使用量を0.13部から1.25部に変更した。それ以外は、実施例39と同様にして、電子写真感光体41を製造した。
Example 41
In Example 39, the usage-amount of exemplary compound (29) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.13 parts to 1.25 parts. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 41 was produced in the same manner as in Example 39.
〔実施例42〕
実施例39において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(29)の使用量を0.13部から5部に変更した。それ以外は、実施例39と同様にして、電子写真感光体42を製造した。
Example 42
In Example 39, the usage-amount of exemplary compound (29) used when preparing the coating liquid for undercoat layers was changed from 0.13 parts to 5 parts. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 42 was manufactured in the same manner as in Example 39.
〔実施例43〕
実施例8において、下引き層用塗布液の調製を実施例39と同様にして行い、電荷発生層用塗布液の調製の際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例8と同様にして、電子写真感光体43を製造した。
Example 43
In Example 8, the undercoat layer coating solution was prepared in the same manner as in Example 39, and the exemplified compound (39) used in the preparation of the charge generation layer coating solution was changed to the exemplified compound (29). . Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 43 was produced in the same manner as in Example 8.
〔実施例44〕
実施例39において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例39と同様にして、電子写真感光体44を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(29)0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.43部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(29)が0.09質量%含有されていることが確認された。
Example 44
In Example 39, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 44 was produced in the same manner as in Example 39.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 0.5 parts of the exemplified compound (29) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.43 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.09% by mass of the exemplified compound (29) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例45〕
実施例44において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散および濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例44と同様にして、電子写真感光体45を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(29)1.0部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.46部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(29)が0.18質量%含有されていることが確認された。
Example 45
In Example 44, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 45 was produced in the same manner as in Example 44.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A, 1.0 part of the exemplary compound (29) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.46 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.18% by mass of the exemplified compound (29) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例46〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体46を製造した。
Example 46
In Example 1, the exemplified compound (39) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (29). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 46 was manufactured in the same manner as in Example 1.
〔実施例47〕
実施例10において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例10と同様にして、電子写真感光体47を製造した。
Example 47
In Example 10, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (29). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 47 was produced in the same manner as in Example 10.
〔実施例48〕
実施例20において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(40)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例20と同様にして、電子写真感光体48を製造した。
Example 48
In Example 20, the exemplified compound (40) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (29). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 48 was produced in the same manner as in Example 20.
〔実施例49〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)を例示化合物(29)に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、電子写真感光体49を製造した。
Example 49
In Example 21, the exemplified compound (47) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (29). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 49 was produced in the same manner as in Example 21.
〔実施例50〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(30)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体50を製造した。
Example 50
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (30). Otherwise, the electrophotographic photoreceptor 50 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例51〕
実施例50において、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例50と同様にして、電子写真感光体51を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(30)0.5部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.49部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(30)が0.04質量%含有されていることが確認された。
Example 51
In Example 50, the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 51 was produced in the same manner as in Example 50.
Milling treatment of 0.5 parts of the above hydroxygallium phthalocyanine A, 0.5 parts of the exemplified compound (30) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.49 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.04% by mass of the exemplified compound (30) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例52〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(33)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体52を製造した。
Example 52
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (33). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 52 was produced in the same manner as in Example 19.
〔実施例53〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(34)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体53を製造した。
Example 53
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (34). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 53 was produced in the same manner as in Example 19.
〔実施例54〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(37)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体54を製造した。
Example 54
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (37). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 54 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例55〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(42)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体55を製造した。
Example 55
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (42). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 55 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例56〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(42)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体56を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン0.5部、例示化合物(42)0.2部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.45部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(42)が0.05質量%含有されていることが確認された。
Example 56
In Example 1, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (42), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 56 was manufactured in the same manner as in Example 1.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine, 0.2 part of the exemplified compound (42) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.45 part of a hydroxygallium phthalocyanine crystal. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.05 mass% of the exemplified compound (42) was contained in the phthalocyanine crystal in terms of the proton ratio.
〔実施例57〕
実施例11において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(42)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を実施例56と同様にして行った。それ以外は、実施例11と同様にして、電子写真感光体57を製造した。
Example 57
In Example 11, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (42), and dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were carried out in the same manner as in Example 56. It was. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 57 was manufactured in the same manner as in Example 11.
〔実施例58〕
実施例12において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(42)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を実施例56と同様にして行った。それ以外は、実施例12と同様にして、電子写真感光体58を製造した。
Example 58
In Example 12, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (42), and dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were carried out in the same manner as in Example 56. It was. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 58 was manufactured in the same manner as in Example 12.
〔実施例59〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(43)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体59を製造した。
Example 59
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (43). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 59 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例60〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を例示化合物(45)に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、電子写真感光体60を製造した。
Example 60
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the undercoat layer coating solution was changed to the exemplified compound (45). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 60 was manufactured in the same manner as in Example 19.
〔実施例61〕
実施例1において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(39)を例示化合物(45)に変更し、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体61を製造した。
上記ヒドロキシガリウムフタロシアニンA0.5部、例示化合物(45)0.2部、および、N,N−ジメチルホルムアミド9.5部を、直径0.8mmのガラスビーズ15部とともにボールミルでミリング処理を室温(23℃)下で52時間行った。この分散液からガリウムフタロシアニン結晶をN,N−ジメチルホルムアミドを用いて取り出し、濾過し、濾過器上をN,N−ジメチルホルムアミドで十分に洗浄し、続いてテトラヒドロフランで十分に洗浄した。濾取物を真空乾燥させて、ヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を0.48部得た。得られた結晶の粉末X線回折図は図3と同様であった。
NMR測定によりフタロシアニン結晶中にプロトン比率から換算し例示化合物(45)が0.20質量%含有されていることが確認された。
Example 61
In Example 1, the exemplified compound (39) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (45), and the dispersion and filtration of hydroxygallium phthalocyanine crystals were changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photoreceptor 61 was manufactured in the same manner as in Example 1.
Milling treatment of 0.5 parts of the hydroxygallium phthalocyanine A, 0.2 parts of the exemplified compound (45) and 9.5 parts of N, N-dimethylformamide together with 15 parts of glass beads having a diameter of 0.8 mm at room temperature ( 23 hours). Gallium phthalocyanine crystals were taken out of this dispersion using N, N-dimethylformamide, filtered, and the filter was thoroughly washed with N, N-dimethylformamide and then thoroughly washed with tetrahydrofuran. The filtered product was vacuum-dried to obtain 0.48 parts of hydroxygallium phthalocyanine crystals. The powder X-ray diffraction pattern of the obtained crystals was the same as FIG.
It was confirmed by NMR measurement that 0.20% by mass of the exemplified compound (45) was converted from the proton ratio in the phthalocyanine crystal.
〔実施例62〕
実施例56において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(42)を例示化合物(45)に変更した。それ以外は、実施例56と同様にして、電子写真感光体62を製造した。
Example 62
In Example 56, the exemplified compound (42) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to the exemplified compound (45). Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 62 was manufactured in the same manner as in Example 56.
〔実施例63〕
実施例1において、電荷発生層を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体63を製造した。
特開2011−94101号公報に記載の(合成例1)に示す方法で得られたクロロガリウムフタロシアニン顔料(電荷発生物質)を用意した。このクロロガリウムフタロシアニン顔料20部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX―1、積水化学工業(株)製)10部、および、シクロヘキサノン519部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル764部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.27μmの電荷発生層を形成した。
Example 63
In Example 1, the charge generation layer was changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 63 was manufactured in the same manner as in Example 1.
A chlorogallium phthalocyanine pigment (charge generation material) obtained by the method described in (Synthesis Example 1) described in JP2011-94101A was prepared. 20 parts of this chlorogallium phthalocyanine pigment, 10 parts of polyvinyl butyral (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 519 parts of cyclohexanone are placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm. Time distributed processing. Thereafter, 764 parts of ethyl acetate was added to prepare a coating solution for charge generation layer. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.27 μm.
〔実施例64〕
実施例1において、電荷発生層を以下のように変更した。それ以外は、実施例1と同様にして、電子写真感光体64を製造した。
CuKα線の特性X線回折におけるブラッグ角2θ±0.2°の9.0°、14.2°、23.9°および27.1°にピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶(電荷発生物質)を用意した。このオキシチタニウムフタロシアニン結晶20部、ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX―1、積水化学工業(株)製)10部、および、シクロヘキサノン519部を、直径1mmのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、4時間分散処理した。その後、酢酸エチル764部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。この電荷発生層用塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を100℃で10分間乾燥させることによって、膜厚が0.18μmの電荷発生層を形成した。
[Example 64]
In Example 1, the charge generation layer was changed as follows. Otherwise, the electrophotographic photosensitive member 64 was manufactured in the same manner as in Example 1.
Characteristic X-ray diffraction of CuKα ray Crystalline oxytitanium phthalocyanine crystals having peaks at 9.0 °, 14.2 °, 23.9 ° and 27.1 ° with a Bragg angle 2θ ± 0.2 ° (charge generation) Substance). 20 parts of this oxytitanium phthalocyanine crystal, 10 parts of polyvinyl butyral (trade name: ESREC BX-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 519 parts of cyclohexanone are placed in a sand mill using glass beads having a diameter of 1 mm. Time distributed processing. Thereafter, 764 parts of ethyl acetate was added to prepare a coating solution for charge generation layer. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer, and the resulting coating film was dried at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer having a thickness of 0.18 μm.
〔比較例1〕
実施例1において、下引き層用塗布液の調製およびヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶の分散と濾過をする際に例示化合物(39)を使用しなかった。それ以外は、実施例1と同様にして、比較電子写真感光体1を製造した。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the exemplified compound (39) was not used when preparing the coating solution for the undercoat layer and dispersing and filtering the hydroxygallium phthalocyanine crystals. Otherwise, the comparative electrophotographic photosensitive member 1 was produced in the same manner as in Example 1.
〔比較例2〕
実施例20において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(40)を下記式(6)で示されるウレア化合物に変更した。それ以外は、実施例20と同様にして、比較電子写真感光体2を製造した。
In Example 20, the exemplified compound (40) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to a urea compound represented by the following formula (6). Otherwise, the comparative electrophotographic photosensitive member 2 was produced in the same manner as in Example 20.
〔比較例3〕
実施例21において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(47)を下記式(7)で示されるウレア化合物に変更した。それ以外は、実施例21と同様にして、比較電子写真感光体3を製造した。
In Example 21, the exemplified compound (47) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to a urea compound represented by the following formula (7). Otherwise, the comparative electrophotographic
〔比較例4〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を下記式(8)で示されるウレア化合物に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、比較電子写真感光体4を製造した。
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to a urea compound represented by the following formula (8). Otherwise, the comparative electrophotographic photosensitive member 4 was produced in the same manner as in Example 19.
〔比較例5〕
実施例19において、下引き層用塗布液を調製する際に用いた例示化合物(26)を下記式(9)で示されるウレア化合物に変更した。それ以外は、実施例19と同様にして、比較電子写真感光体5を製造した。
In Example 19, the exemplified compound (26) used in preparing the coating solution for the undercoat layer was changed to a urea compound represented by the following formula (9). Otherwise, the comparative electrophotographic
〔実施例1〜64および比較例1〜5の評価〕
実施例1〜64および比較例1〜5で製造した電子写真感光体について、温度23℃/湿度50%RHの常温常湿環境下および温度15℃/湿度10%RHの低温低湿環境下でゴーストの評価を行った。
[Evaluation of Examples 1 to 64 and Comparative Examples 1 to 5]
For the electrophotographic photoreceptors produced in Examples 1 to 64 and Comparative Examples 1 to 5, the ghost was used in a normal temperature and humidity environment at a temperature of 23 ° C./humidity of 50% RH and in a low temperature and low humidity environment of a temperature of 15 ° C./humidity of 10% RH. Was evaluated.
評価用の電子写真装置として、実施例1〜10、12〜19、21〜29、31〜47、49〜56、58〜64および比較例1、3〜5については、ヒューレットパッカード社製のレーザービームプリンター(商品名:Color Laser Jet CP3525dn)の改造機を用いた。改造点としては、前露光を点灯せず、帯電条件とレーザー露光量は可変で作動するようにした。また、製造した電子写真感光体をシアン色用のプロセスカートリッジに装着して、シアンのプロセスカートリッジのステーションに取り付け、他の色用のプロセスカートリッジをレーザービームプリンター本体に装着しなくても作動するようにした。 As examples of the electrophotographic apparatus for evaluation, lasers manufactured by Hewlett-Packard Company were used for Examples 1 to 10, 12 to 19, 21 to 29, 31 to 47, 49 to 56, 58 to 64 and Comparative Examples 1 and 3 to 5. A modified machine of a beam printer (trade name: Color Laser Jet CP3525dn) was used. As a remodeling point, the pre-exposure was not turned on, and the charging conditions and laser exposure were variable. In addition, the manufactured electrophotographic photosensitive member is mounted on a cyan process cartridge, mounted on a cyan process cartridge station, and operates without mounting a process cartridge for another color on the laser beam printer body. I made it.
一方、実施例11、20、30、48、57および比較例2については、キヤノン(株)製の複写機(商品名:imageRUNNER iR−ADV C5051)の改造機を用いた。改造点としては、帯電条件とレーザー露光量を可変で作動するようにした。また、製造した電子写真感光体をシアン色用のプロセスカートリッジに装着して、シアンのプロセスカートリッジのステーションに取り付け、他の色用のプロセスカートリッジを複写機本体に装着しなくても作動するようにした。 On the other hand, in Examples 11, 20, 30, 48, 57 and Comparative Example 2, a modified machine of a copying machine (trade name: imageRUNNER iR-ADV C5051) manufactured by Canon Inc. was used. As a remodeling point, the charging condition and the laser exposure amount can be changed. In addition, the manufactured electrophotographic photosensitive member is mounted on a cyan color process cartridge and mounted on a cyan process cartridge station so that it operates without mounting a process cartridge for another color on the copying machine main body. did.
画像の出力に際しては、シアン色用のプロセスカートリッジのみをレーザービームプリンター本体または複写機本体に取り付け、シアントナーのみによる単色画像を出力した。 When outputting the image, only the cyan process cartridge was attached to the laser beam printer main body or the copying machine main body, and a monochromatic image only with cyan toner was output.
電子写真感光体の表面電位は、実施例1〜10、12〜19、21〜29、31〜47、49〜56、58〜64および比較例1、3〜5については、初期暗部電位が−500V、明部電位が−120Vとなるように設定した。一方、実施例11、20、30、48、57および比較例2については、初期暗部電位が−600V、明部電位が−220Vとなるように設定した。電位設定の際の電子写真感光体の表面電位の測定には、プロセスカートリッジの現像位置に電位プローブ(商品名:model6000B−8、トレック・ジャパン(株)製)を装着したものを用い、電子写真感光体の長手方向中央部の電位を表面電位計(商品名:model344、トレック・ジャパン(株)製)を使用して測定した。 As for the surface potential of the electrophotographic photosensitive member, the initial dark portion potential was-for Examples 1 to 10, 12 to 19, 21 to 29, 31 to 47, 49 to 56, 58 to 64 and Comparative Examples 1 and 3 to 5. The voltage was set to 500 V and the bright part potential to be −120 V. On the other hand, in Examples 11, 20, 30, 48, 57 and Comparative Example 2, the initial dark part potential was set to −600 V and the bright part potential was set to −220 V. For the measurement of the surface potential of the electrophotographic photosensitive member at the time of potential setting, an electrophotographic sensor using a potential probe (trade name: model6000B-8, manufactured by Trek Japan Co., Ltd.) mounted at the development position of the process cartridge is used. The potential at the center in the longitudinal direction of the photoreceptor was measured using a surface electrometer (trade name: model 344, manufactured by Trek Japan Co., Ltd.).
まず、温度23℃/湿度50%RHの常温常湿環境下で、ゴーストの評価を行った。その後、同環境下で1,000枚の通紙耐久試験を行い、耐久試験直後でのゴーストの評価を行った。常温常湿環境下における評価結果を表1に示す。 First, a ghost was evaluated in a normal temperature and humidity environment with a temperature of 23 ° C./humidity of 50% RH. Thereafter, 1,000 paper passing durability tests were performed under the same environment, and ghosts were evaluated immediately after the durability testing. Table 1 shows the evaluation results in a room temperature and normal humidity environment.
次に、電子写真感光体を評価用の電子写真装置とともに温度15℃/湿度10%RHの低温低湿環境下で3日間放置した後、ゴーストの評価を行った。そして、同環境下で1,000枚の通紙耐久試験を行い、耐久試験直後でのゴーストの評価を行った。低温低湿環境下における評価結果を表1に示す。
通紙耐久試験時は、印字率1%のE文字画像を、A4サイズの普通紙にシアン単色で形成した。
Next, the electrophotographic photoreceptor was allowed to stand for 3 days in a low-temperature and low-humidity environment at a temperature of 15 ° C./humidity of 10% RH together with an electrophotographic apparatus for evaluation, and ghost was evaluated. Then, 1,000 paper passing durability tests were performed under the same environment, and ghosts were evaluated immediately after the durability testing. Table 1 shows the evaluation results in a low temperature and low humidity environment.
During the paper passing durability test, an E character image with a printing rate of 1% was formed on A4 size plain paper in a single cyan color.
評価の基準は、以下のとおりである。
ゴースト評価用画像は、図5に示すように、画像の先頭部に、ベタ白302の中にベタ黒301で四角の画像を出した後、1ドット桂馬パターンのハーフトーン画像304を出力することによって形成した。まず、1枚目にベタ白画像を出力し、その後、ゴースト評価用画像を連続して5枚出力し、次に、ベタ黒画像を1枚出力した後、再度、ゴースト評価用画像を5枚出力する、という順番で画像出力を行い、合計10枚のゴースト評価用画像で評価した。
The criteria for evaluation are as follows.
As shown in FIG. 5, the ghost evaluation image is obtained by outputting a square image of solid black 301 in solid white 302 at the head of the image and then outputting a
ゴーストの評価は、1ドット桂馬パターン画像濃度とゴースト部(ベタ黒301に起因するゴーストが生じうる部分303)の画像濃度との濃度差を、分光濃度計(商品名:X−Rite504/508、X−Rite(株)製)で測定することで行った。1枚のゴースト評価用画像で10点測定し、それら10点の平均をとって1枚の結果とした。そして、10枚のゴースト評価用画像すべてを同様に測定した後、それらの平均値を求め、各例の濃度差とした。この濃度差は、値が小さいほど、ゴーストの程度が小さく、良好であることを意味する。結果を表1に示す。表1中、「初期」とは、常温常湿環境下または低温低湿環境下での1,000枚の通紙耐久試験を行う前における濃度差を意味する。「耐久後」とは、常温常湿環境下または低温低湿環境下での1,000枚の通紙耐久試験を行った後における濃度差を意味する。 The evaluation of the ghost is performed by measuring the density difference between the 1-dot Keima pattern image density and the image density of the ghost portion (the portion 303 where the ghost caused by the solid black 301 can be generated) by a spectral densitometer (trade name: X-Rite 504/508, X-Rite Co., Ltd.). Ten points were measured on one ghost evaluation image, and the average of these ten points was taken as one result. And after measuring all the 10 images for ghost evaluation similarly, those average values were calculated | required and it was set as the density | concentration difference of each example. This density difference means that the smaller the value, the smaller the degree of ghost and the better. The results are shown in Table 1. In Table 1, “Initial” means a density difference before a 1,000 sheet passing durability test is performed under a normal temperature and normal humidity environment or a low temperature and low humidity environment. “After endurance” means a density difference after a 1,000 sheet passing durability test in a normal temperature and normal humidity environment or a low temperature and low humidity environment.
101 支持体
102 下引き層
103 電荷発生層
104 正孔輸送層
105 感光層
1 電子写真感光体
2 軸
3 帯電手段
4 像露光光
5 現像手段
6 転写手段
7 転写材
8 像定着手段
9 クリーニング手段
10 前露光光
11 プロセスカートリッジ
12 案内手段
DESCRIPTION OF
Claims (16)
該下引き層が、ウレア化合物を含有し、
該ウレア化合物が、下記式(1)で示される化合物、および下記式(2)で示される化合物からなる群より選択される少なくとも1種のウレア化合物であることを特徴とする電子写真感光体。
The undercoat layer contains a urea compound;
An electrophotographic photoreceptor, wherein the urea compound is at least one urea compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2).
該下引き層が、ウレア化合物を含有し、The undercoat layer contains a urea compound;
該ウレア化合物が、下記式(1)で示される化合物、および下記式(2)で示される化合物からなる群より選択される少なくとも1種のウレア化合物であることを特徴とする電子写真感光体。An electrophotographic photoreceptor, wherein the urea compound is at least one urea compound selected from the group consisting of a compound represented by the following formula (1) and a compound represented by the following formula (2).
該下引き層が、ウレア化合物を含有し、The undercoat layer contains a urea compound;
該ウレア化合物は、カルボニル基と2つの窒素原子とを有するウレア部位を1つ以上3つ以下有し、The urea compound has one or more and three or less urea moieties having a carbonyl group and two nitrogen atoms,
それぞれの該ウレア部位において、該2つの窒素原子の少なくとも1つが、At each of the urea sites, at least one of the two nitrogen atoms is
無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、および置換もしくは無置換のアリーレン基からなる群より選択される少なくとも1つの置換基を有し、Having at least one substituent selected from the group consisting of an unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, and a substituted or unsubstituted arylene group;
前記電荷発生物質が、前記ウレア化合物を結晶内に含有するガリウムフタロシアニン結晶であることを特徴とする電子写真感光体。An electrophotographic photoreceptor, wherein the charge generation material is a gallium phthalocyanine crystal containing the urea compound in the crystal.
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