JP6444213B2 - Constant voltage generation circuit, semiconductor device, electronic device, and vehicle - Google Patents

Constant voltage generation circuit, semiconductor device, electronic device, and vehicle Download PDF

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Description

本発明は、定電圧生成回路、半導体装置、電子機器、及び、車両に関する。   The present invention relates to a constant voltage generation circuit, a semiconductor device, an electronic device, and a vehicle.

近年、半導体装置の低消費電流化(例えば半導体装置全体の消費電流が10μA以下)が求められている。このような要求に応えるためには、半導体装置の内部電源として用いられる定電圧生成回路の消費電流をできる限り小さく抑えることが望ましい。   In recent years, there has been a demand for lower current consumption of semiconductor devices (for example, the current consumption of the entire semiconductor device is 10 μA or less). In order to meet such a demand, it is desirable to keep the current consumption of the constant voltage generation circuit used as the internal power supply of the semiconductor device as small as possible.

図7は、定電圧生成回路の一従来例を示す回路図である。本従来例の定電圧生成回路200において、その消費電流を低減するためには、抵抗208の抵抗値を大きく設定してカレントミラーの入力側に流れる電流Ia(トランジスタ201のコレクタ電流)を小さく絞る必要がある。また、チップイネーブル信号ENの入力端子に流れる電流Ibを低減するためには、抵抗209及び210の抵抗値を大きく設定する必要がある。   FIG. 7 is a circuit diagram showing a conventional example of a constant voltage generation circuit. In the constant voltage generating circuit 200 of the conventional example, in order to reduce the current consumption, the resistance value of the resistor 208 is set large, and the current Ia (collector current of the transistor 201) flowing to the input side of the current mirror is reduced. There is a need. Further, in order to reduce the current Ib flowing through the input terminal of the chip enable signal EN, it is necessary to set the resistance values of the resistors 209 and 210 large.

特開2012−226422号公報JP 2012-226422 A

しかしながら、定電圧生成回路200の消費電流を低減するために、抵抗208〜210の抵抗値を大きく設定するほど、各々の素子サイズが大きくなってしまう。そのため、本従来例の定電圧生成回路200では、抵抗208〜210の抵抗値の増大がそのままチップ面積の増大に繋がっていた。   However, as the resistance values of the resistors 208 to 210 are set larger in order to reduce the current consumption of the constant voltage generation circuit 200, each element size becomes larger. Therefore, in the constant voltage generation circuit 200 of this conventional example, an increase in the resistance values of the resistors 208 to 210 directly leads to an increase in the chip area.

例えば、電源電圧VCCを16Vとし、トランジスタ201〜203の順方向飽和電圧Vfを0.65Vとした場合、電流Iaを1μAまで絞るためには、抵抗208の抵抗値を15.35MΩ(=(16V−0.65V)/(1×10-6A))としなければならず、定電圧生成回路200の小型化を阻害する要因となっていた。 For example, when the power supply voltage VCC is 16V and the forward saturation voltage Vf of the transistors 201 to 203 is 0.65V, in order to reduce the current Ia to 1 μA, the resistance value of the resistor 208 is 15.35 MΩ (= (16V −0.65 V) / (1 × 10 −6 A)), which is a factor that hinders downsizing of the constant voltage generation circuit 200.

また、例えば、チップイネーブル信号ENを5Vとした場合、電流Ibを1μAまで絞るためには、抵抗209及び210の合成抵抗値を5MΩ(=5V/1×10-6A)としなければならず、やはり定電圧生成回路200の小型化が阻害されていた。 For example, when the chip enable signal EN is 5 V, the combined resistance value of the resistors 209 and 210 must be 5 MΩ (= 5 V / 1 × 10 −6 A) in order to reduce the current Ib to 1 μA. Also, downsizing of the constant voltage generation circuit 200 has been hindered.

さらに、本従来例の定電圧生成回路200では、電源電圧VCCないしチップイネーブル信号ENの電圧値が高いほど、電流IaないしIbが大きくなる。そのため、高電圧の入力に対応しつつ、定電圧生成回路200の消費電流を抑えるためには、抵抗208〜210の抵抗値をより大きく設定しなければならず、チップ面積の更なる増大が招かれる。   Further, in the constant voltage generation circuit 200 of the conventional example, the currents Ia and Ib increase as the power supply voltage VCC or the chip enable signal EN increases. Therefore, in order to suppress the current consumption of the constant voltage generation circuit 200 while supporting a high voltage input, the resistance values of the resistors 208 to 210 must be set larger, resulting in a further increase in chip area. It is burned.

なお、本願出願人による特許文献1では、デプレッション型トランジスタを用いて基準電圧を生成する基準電圧生成部と、前記基準電圧から基準電流を生成する電圧/電流変換部と、を有する基準電流生成回路が提案されている。このような基準電流生成回路であれば、回路規模縮小と低消費電流化のトレードオフを解消することが可能となる。   In Patent Document 1 by the present applicant, a reference current generation circuit having a reference voltage generation unit that generates a reference voltage using a depletion type transistor and a voltage / current conversion unit that generates a reference current from the reference voltage. Has been proposed. With such a reference current generation circuit, it is possible to eliminate the trade-off between circuit scale reduction and low current consumption.

ただし、特許文献1では、チップイネーブル機能について開示も示唆もされておらず、当該機能部の回路規模縮小と低消費電流化については、さらなる検討の余地があった。   However, Patent Document 1 does not disclose or suggest the chip enable function, and there is room for further study on the circuit scale reduction and low current consumption of the functional unit.

本明細書中に開示されている発明は、本願の発明者らによって見出された上記の課題に鑑み、消費電流を一定に維持しつつ回路規模縮小と低消費電流化のトレードオフを解消することのできるチップイネーブル機能付きの定電圧生成回路、半導体装置、電子機器、及び、車両を提供することを目的とする。   In view of the above-described problems found by the inventors of the present application, the invention disclosed in the present specification eliminates the trade-off between circuit scale reduction and low current consumption while maintaining the current consumption constant. An object of the present invention is to provide a constant voltage generation circuit with a chip enable function, a semiconductor device, an electronic device, and a vehicle.

本明細書中に開示された定電圧生成回路は、半導体装置に集積化されるものであって、ED型基準電圧源を用いて電源電圧から所定の定電圧を生成する定電圧生成部と、チップイネーブル信号の入力を受け付ける遮断制御部と、を有し、前記遮断制御部は、ドレインが前記チップイネーブル信号の入力端に接続されてゲートが前記ED型基準電圧源の出力端に接続されたエンハンスメント型の第1NMOSFET[N-channel type metal oxide semiconductor field effect transistor]と、ドレインが前記第1NMOSFETのソースに接続されてゲート及びソースがいずれも接地端に接続されたデプレッション型の第2NMOSFETと、を含み、前記第1NMOSFETと前記第2NMOSFETとの接続ノードに現れるノード電圧を用いて前記定電圧生成部及び前記半導体装置各部の動作可否を制御する構成(第1の構成)とされている。   A constant voltage generation circuit disclosed in the present specification is integrated in a semiconductor device, and a constant voltage generation unit that generates a predetermined constant voltage from a power supply voltage using an ED type reference voltage source; A cutoff control unit that receives an input of a chip enable signal, wherein the cutoff control unit has a drain connected to an input end of the chip enable signal and a gate connected to an output end of the ED type reference voltage source. An enhancement type first NMOSFET [N-channel type metal oxide semiconductor field effect transistor] and a depletion type second NMOSFET in which a drain is connected to a source of the first NMOSFET and a gate and a source are both connected to a ground terminal. The constant voltage generator using a node voltage that appears at a connection node between the first NMOSFET and the second NMOSFET. And a configuration (first configuration) for controlling the operation of each part of the semiconductor device.

なお、上記第1の構成から成る定電圧生成回路において、前記遮断制御部は、さらに、ゲートが前記ノード電圧の印加端に接続されてドレインが遮断信号の出力端に接続されてソースが接地端に接続されたエンハンスメント型の第3NMOSFETを含む構成(第2の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having the first configuration, the cutoff controller further includes a gate connected to the node voltage application terminal, a drain connected to the cutoff signal output terminal, and a source connected to the ground terminal. It is preferable to adopt a configuration (second configuration) including an enhancement type third NMOSFET connected to the first and second NMOSFETs.

また、上記第2の構成から成る定電圧生成回路において、前記遮断制御部は、さらに、前記電源電圧の入力端と前記遮断信号の出力端との間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型の第4NMOSFETを少なくとも1つ含む構成(第3の構成)にするとよい。   Further, in the constant voltage generation circuit having the second configuration, the cutoff control unit further includes a depletion in which a gate and a source are connected to each other between an input end of the power supply voltage and an output end of the cutoff signal. A configuration including at least one type of fourth NMOSFET (third configuration) is preferable.

また、上記第1〜第3いずれかの構成から成る定電圧生成回路において、前記ED型基準電圧源は、ゲートとソースがいずれも基準電圧の出力端に接続されたデプレッション型の第5NMOSFETと、ゲートとドレインがいずれも前記基準電圧の出力端に接続されたエンハンスメント型の第6NMOSFETとを含む構成(第4の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having any one of the first to third configurations, the ED type reference voltage source includes a depletion type fifth NMOSFET in which a gate and a source are both connected to an output terminal of the reference voltage, A configuration (fourth configuration) including an enhancement-type sixth NMOSFET in which the gate and the drain are both connected to the output terminal of the reference voltage is preferable.

また、上記第4の構成から成る定電圧生成回路において、前記定電圧生成部は、前記電源電圧の入力端と前記ED型基準電圧源との間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型の第7NMOSFETを少なくとも1つ含む構成(第5の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having the fourth configuration, the constant voltage generation unit includes a depletion type in which a gate and a source are connected to each other between an input terminal of the power supply voltage and the ED type reference voltage source. The seventh NMOSFET may be configured to include at least one of the seventh NMOSFETs (fifth configuration).

また、上記第1〜第5いずれかの構成から成る定電圧生成回路において、前記定電圧生成部は、ゲートが前記ED型基準電圧源の出力端に接続されたエンハンスメント型の第8NMOSFETと、第1端が前記第8NMOSFETのソースに接続された抵抗と、入力端が前記第8NMOSFETのドレインに接続されたカレントミラーと、カソードが前記カレントミラーの出力端に接続されてアノードが接地端に接続されたツェナーダイオードと、ドレインが前記電源電圧の入力端に接続されてゲートが前記ツェナーダイオードのカソードに接続されてソースが前記定電圧の出力端に接続されたエンハンスメント型の第9NMOSFETと、を含む構成(第6の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having any one of the first to fifth configurations, the constant voltage generation unit includes an enhancement type eighth NMOSFET having a gate connected to an output terminal of the ED type reference voltage source, A resistor having one end connected to the source of the eighth NMOSFET, a current mirror connected to the drain of the eighth NMOSFET, a cathode connected to the output end of the current mirror, and an anode connected to the ground end A Zener diode having a drain connected to the input terminal of the power supply voltage, a gate connected to the cathode of the Zener diode, and a source connected to the output terminal of the constant voltage. (Sixth configuration) is preferable.

また、上記第6の構成から成る定電圧生成回路において、前記定電圧生成部は、さらに前記ED型基準電圧源と接地端との間に、ゲートとドレインが互いに接続されたエンハンスメント型の第10NMOSFETを含む構成(第7の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having the sixth configuration, the constant voltage generation unit further includes an enhancement type 10th NMOSFET in which a gate and a drain are connected to each other between the ED type reference voltage source and a ground terminal. (7th configuration).

また、上記第6または第7の構成から成る定電圧生成回路において、前記定電圧生成部は、さらに、前記ED型基準電圧源と接地端との間に、ベースとコレクタが互いに接続されたnpn型バイポーラトランジスタを含む構成(第8の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having the sixth or seventh configuration, the constant voltage generation unit further includes an npn in which a base and a collector are connected between the ED type reference voltage source and a ground terminal. A configuration including an bipolar transistor (eighth configuration) is preferable.

また、上記第6〜第8いずれかの構成から成る定電圧生成回路において、前記定電圧生成部は、さらに、ドレインが前記抵抗の第2端に接続されてソースが接地端に接続されてゲートが前記ノード電圧の印加端に接続されたエンハンスメント型の第11NMOSFETを含む構成(第9の構成)にするとよい。   In the constant voltage generation circuit having any one of the sixth to eighth configurations, the constant voltage generation unit further includes a gate having a drain connected to the second end of the resistor and a source connected to a ground end. Is configured to include an enhancement type eleventh NMOSFET connected to the node voltage application end (the ninth configuration).

また、本明細書中に開示された半導体装置は、内部回路と、電源電圧から所定の定電圧を生成して前記内部回路へ供給するとともにチップイネーブル信号に応じて前記内部回路の動作可否を制御する上記第1〜第9いずれかの構成から成る定電圧生成回路と、を集積化して成る構成(第10の構成)とされている。   In addition, the semiconductor device disclosed in this specification generates a predetermined constant voltage from an internal circuit and a power supply voltage, supplies the constant voltage to the internal circuit, and controls whether the internal circuit operates according to a chip enable signal. The constant voltage generation circuit having any one of the first to ninth configurations is integrated (tenth configuration).

なお、上記第10の構成から成る半導体装置において、前記内部回路は、前記定電圧の供給を受けて所定の参照電圧を生成する参照電圧生成回路と、出力電圧またはこれに応じた帰還電圧と前記参照電圧とが一致するように前記電源電圧から前記出力電圧を生成する電源回路と、を含む構成(第11の構成)にするとよい。   In the semiconductor device having the tenth configuration, the internal circuit includes a reference voltage generation circuit that generates a predetermined reference voltage upon receiving the supply of the constant voltage, an output voltage or a feedback voltage corresponding thereto, and the A power supply circuit that generates the output voltage from the power supply voltage so as to match a reference voltage may be used (an eleventh structure).

また、本明細書中に開示された電子機器は、機器各部への電力供給手段として上記第11の構成から成る半導体装置を有する構成(第12の構成)とされている。   Further, the electronic device disclosed in the present specification has a configuration (a twelfth configuration) including the semiconductor device having the eleventh configuration as power supply means to each part of the device.

また、本明細書中に開示された車両は、バッテリと、前記バッテリから電源電圧の供給を受けて動作する上記第12の構成から成る電子機器と、を有する構成(第13の構成)とされている。   Further, the vehicle disclosed in the present specification has a configuration (a thirteenth configuration) including a battery and the electronic apparatus having the twelfth configuration that operates by receiving supply of a power supply voltage from the battery. ing.

本明細書中に開示されている発明によれば、消費電流を一定に維持しつつ回路規模縮小と低消費電流化のトレードオフを解消することのできるチップイネーブル機能付きの定電圧生成回路、半導体装置、電子機器、及び、車両を提供することが可能となる。   According to the invention disclosed in this specification, a constant voltage generation circuit with a chip enable function and a semiconductor capable of eliminating the trade-off between circuit scale reduction and low current consumption while maintaining current consumption constant An apparatus, an electronic device, and a vehicle can be provided.

電源装置の一構成例を示す図The figure which shows one structural example of a power supply device 定電圧生成回路の第1実施形態を示す回路図Circuit diagram showing a first embodiment of a constant voltage generation circuit 電源電圧VCCと電流I1及び電圧V1との関係を示す図The figure which shows the relationship between the power supply voltage VCC, the electric current I1, and the voltage V1. 定電圧生成回路の第2実施形態を示す回路図Circuit diagram showing a second embodiment of the constant voltage generation circuit 定電圧生成回路の第3実施形態を示す回路図Circuit diagram showing a third embodiment of the constant voltage generation circuit 車両Xの一構成例を示す外観図External view showing a configuration example of the vehicle X 定電圧生成回路の一従来例を示す回路図Circuit diagram showing a conventional example of a constant voltage generation circuit

<電源装置>
図1は、電源装置の一構成例を示すブロック図である。本構成例の電源装置1は、直流電圧源(バッテリ)E1から供給される電源電圧VCCを降圧して所望の出力電圧Voutを生成する降圧型レギュレータ(本構成例ではLDO[low drop out]レギュレータ)であり、半導体装置100と、これに外付けされる種々のディスクリート部品(キャパシタC1及びC2、パワーツェナダイオード(またはショットキーダイオード)D1、ダイオードD2、及び、負荷Z1)と、を有する。
<Power supply unit>
FIG. 1 is a block diagram illustrating a configuration example of a power supply device. The power supply device 1 of this configuration example is a step-down regulator that generates a desired output voltage Vout by stepping down the power supply voltage VCC supplied from the DC voltage source (battery) E1 (in this configuration example, an LDO [low drop out] regulator) The semiconductor device 100 and various discrete components (capacitors C1 and C2, a power Zener diode (or Schottky diode) D1, a diode D2, and a load Z1) attached to the semiconductor device 100.

半導体装置100は、定電圧生成回路110と、参照電圧生成回路120と、エラーアンプ130と、ドライバ140と、出力トランジスタ150と、抵抗160〜180とを集積化したシリコンモノリシック集積回路(いわゆるLDOレギュレータIC)である。なお、半導体装置100には、上記の構成要素以外にも、各種の保護回路や保護素子(温度保護回路、過電流保護回路、ないし、静電破壊保護素子など)を適宜内蔵してもよい。   The semiconductor device 100 includes a silicon monolithic integrated circuit (a so-called LDO regulator) in which a constant voltage generation circuit 110, a reference voltage generation circuit 120, an error amplifier 130, a driver 140, an output transistor 150, and resistors 160 to 180 are integrated. IC). In addition to the above components, the semiconductor device 100 may appropriately include various protection circuits and protection elements (such as a temperature protection circuit, an overcurrent protection circuit, or an electrostatic breakdown protection element).

また、半導体装置100は、外部との電気的な接続を確立するための手段として、8本の外部端子を有する。1ピン(VOUT)は電圧出力端子である。2ピン〜4ピン(N.C.)は未接続端子である。5ピン(EN)はチップイネーブル信号入力端子である。6ピン(GND)はグラウンド端子である。7ピン(N.C.)は未接続端子である。8ピン(VCC)は電源電圧入力端子である。もちろん、ピン数は任意に設計することが可能である。例えば、上記の未接続端子(2ピン〜4ピン、5ピン、及び、7ピン)を排除して4端子ICを構成しても構わない。   Further, the semiconductor device 100 has eight external terminals as means for establishing electrical connection with the outside. Pin 1 (VOUT) is a voltage output terminal. Pins 2 to 4 (NC) are unconnected terminals. Pin 5 (EN) is a chip enable signal input terminal. Pin 6 (GND) is a ground terminal. Pin 7 (NC) is an unconnected terminal. Pin 8 (VCC) is a power supply voltage input terminal. Of course, the number of pins can be designed arbitrarily. For example, the four-terminal IC may be configured by removing the unconnected terminals (2 to 4 pins, 5 pins, and 7 pins).

定電圧生成回路(プリレギュレータ回路)110は、電源電圧VCCから所定の定電圧Vregを生成して半導体装置100の各部(参照電圧生成回路120及びエラーアンプ130など)へ供給する。また、定電圧生成回路110は、チップイネーブル信号ENに応じた遮断信号S1を生成して半導体装置100の各部(参照電圧生成回路120、エラーアンプ130、ドライバ140など)に出力するチップイネーブル機能も備えている。   The constant voltage generation circuit (preregulator circuit) 110 generates a predetermined constant voltage Vreg from the power supply voltage VCC and supplies it to each unit (the reference voltage generation circuit 120, the error amplifier 130, etc.) of the semiconductor device 100. The constant voltage generation circuit 110 also has a chip enable function that generates a cutoff signal S1 according to the chip enable signal EN and outputs it to each unit (the reference voltage generation circuit 120, the error amplifier 130, the driver 140, etc.) of the semiconductor device 100. I have.

参照電圧生成回路120は、定電圧Vregの供給を受けて所定の参照電圧Vrefを生成する。   The reference voltage generation circuit 120 receives the supply of the constant voltage Vreg and generates a predetermined reference voltage Vref.

エラーアンプ130は、電源電圧VCCと定電圧Vregの供給を受けて動作し、非反転入力端(+)に入力される帰還電圧Vfb(=出力電圧Voutの分圧電圧)と、反転入力端(−)に入力される参照電圧Vrefとの差分に応じた誤差電圧Verrを生成する。誤差電圧Verrは、帰還電圧Vfbが参照電圧Vrefよりも高いときに上昇し、帰還電圧Vfbが参照電圧Vrefよりも低いときに低下する。   The error amplifier 130 operates by receiving supply of the power supply voltage VCC and the constant voltage Vreg, the feedback voltage Vfb (= the divided voltage of the output voltage Vout) input to the non-inverting input terminal (+), and the inverting input terminal ( An error voltage Verr corresponding to a difference from the reference voltage Vref input to −) is generated. The error voltage Verr increases when the feedback voltage Vfb is higher than the reference voltage Vref, and decreases when the feedback voltage Vfb is lower than the reference voltage Vref.

ドライバ140は、電源電圧VCCの供給を受けて動作し、誤差電圧Verrに応じて出力トランジスタ150のゲート信号G1を生成する。ゲート信号G1は、誤差電圧Verrが高いほど高くなり、誤差電圧Verrが低いほど低くなる。   The driver 140 operates in response to the supply of the power supply voltage VCC, and generates the gate signal G1 of the output transistor 150 according to the error voltage Verr. The gate signal G1 increases as the error voltage Verr increases, and decreases as the error voltage Verr decreases.

出力トランジスタ150は、電源電圧VCCの入力端と出力電圧Voutの出力端との間に接続されたパワートランジスタである。高い電源電圧VCCの入力を受け付ける必要がある場合、出力トランジスタ150としては、高耐圧(例えば60V耐圧)のPDMOSFET[P-channel type Double-diffused MOSFET])を用いることが望ましい。出力トランジスタ150のソースは、電源電圧VCCの入力端に接続されている。出力トランジスタ150のドレインは、出力電圧Voutの出力端に接続されている。出力トランジスタ150のゲートは、ドライバ140の出力端(ゲート信号G1の出力端)に接続されている。出力トランジスタ150の導通度は、ゲート信号G1の電圧値に応じて制御される。具体的に述べると、ゲート信号G1が高いほど出力トランジスタ150の導通度は小さくなり、ゲート信号G1が低いほど出力トランジスタ150の導通度は大きくなる。   The output transistor 150 is a power transistor connected between the input terminal of the power supply voltage VCC and the output terminal of the output voltage Vout. When it is necessary to receive an input of a high power supply voltage VCC, it is desirable to use a PDMOSFET (P-channel type Double-diffused MOSFET)) having a high breakdown voltage (for example, a 60V breakdown voltage) as the output transistor 150. The source of the output transistor 150 is connected to the input terminal of the power supply voltage VCC. The drain of the output transistor 150 is connected to the output terminal of the output voltage Vout. The gate of the output transistor 150 is connected to the output terminal of the driver 140 (the output terminal of the gate signal G1). The conductivity of the output transistor 150 is controlled according to the voltage value of the gate signal G1. More specifically, the higher the gate signal G1, the smaller the conductivity of the output transistor 150, and the lower the gate signal G1, the greater the conductivity of the output transistor 150.

抵抗160及び170は、出力電圧Voutの印加端と接地端との間に直列接続されており、相互間の接続ノードは帰還電圧Vfbの出力端としてエラーアンプ130の非反転入力端(+)に接続されている。すなわち、抵抗160及び170は、出力電圧Voutを分圧して帰還電圧Vfbを生成する分圧回路として機能する。出力電圧Voutがエラーアンプ130の入力ダイナミックレンジに収まっている場合には、抵抗160及び170を省略して、出力電圧Voutをエラーアンプ130の非反転入力端(+)に直接入力することも可能である。   The resistors 160 and 170 are connected in series between the application terminal of the output voltage Vout and the ground terminal, and the connection node between them is the non-inverting input terminal (+) of the error amplifier 130 as the output terminal of the feedback voltage Vfb. It is connected. That is, the resistors 160 and 170 function as a voltage dividing circuit that divides the output voltage Vout to generate the feedback voltage Vfb. When the output voltage Vout is within the input dynamic range of the error amplifier 130, the resistors 160 and 170 can be omitted and the output voltage Vout can be directly input to the non-inverting input terminal (+) of the error amplifier 130. It is.

抵抗180は、電源電圧VCCの印加端と出力トランジスタ150のゲートとの間に接続されている。抵抗180は、ドライバ140が非動作状態となったときに、ゲート信号G1をハイレベル(電源電圧VCC)に引き上げて、出力トランジスタ150をオフさせるためのプルアップ抵抗として機能する。なお、抵抗180に代えて能動素子(トランジスタ)を用いてもよい。また、抵抗180はドライバ140に内蔵することもできる。   The resistor 180 is connected between the application terminal of the power supply voltage VCC and the gate of the output transistor 150. The resistor 180 functions as a pull-up resistor for turning off the output transistor 150 by raising the gate signal G1 to a high level (power supply voltage VCC) when the driver 140 is in an inoperative state. Note that an active element (transistor) may be used instead of the resistor 180. The resistor 180 can also be built in the driver 140.

なお、上記したエラーアンプ130、ドライバ140、出力トランジスタ150、及び抵抗160〜180は、帰還電圧Vfb(または出力電圧Vout)と参照電圧Vrefとが一致するように出力トランジスタ150の駆動制御を行うことにより、電源電圧VCCから所望の出力電圧Voutを生成する電源回路に相当する。   The error amplifier 130, the driver 140, the output transistor 150, and the resistors 160 to 180 described above perform drive control of the output transistor 150 so that the feedback voltage Vfb (or the output voltage Vout) matches the reference voltage Vref. This corresponds to a power supply circuit that generates a desired output voltage Vout from the power supply voltage VCC.

8ピン(VCC)に50Vを超えるサージが印加される場合には、8ピン(VCC)と接地端との間にパワーツェナダイオードD1の挿入を行うことが望ましい。8ピン(VCC)が接地端よりも低電圧となる可能性がある場合には、パワーツェナダイオードD1に代えてショットキーダイオードの挿入を行うことが望ましい。また、8ピン(VCC)と接地端との間には、入力平滑用のキャパシタC1を挿入することが望ましい。   When a surge exceeding 50 V is applied to the 8th pin (VCC), it is desirable to insert the power Zener diode D1 between the 8th pin (VCC) and the ground terminal. When there is a possibility that the pin 8 (VCC) has a lower voltage than the ground terminal, it is desirable to insert a Schottky diode instead of the power Zener diode D1. Also, it is desirable to insert an input smoothing capacitor C1 between pin 8 (VCC) and the ground terminal.

1ピン(VOUT)に大きなインダクタンス成分を含む負荷Z1が接続されて、起動時及び出力オフ時に逆起電力の発生が考えられる場合には、1ピン(VOUT)と接地端との間に保護用のダイオードD2を挿入することが望ましい。また、1ピン(VOUT)と接地端との間には、出力平滑用のキャパシタC2を挿入することが望ましい。   When load Z1 including a large inductance component is connected to pin 1 (VOUT), and back electromotive force is expected to be generated at startup and when the output is turned off, protection is provided between pin 1 (VOUT) and the ground terminal. It is desirable to insert the diode D2. Further, it is desirable to insert an output smoothing capacitor C2 between pin 1 (VOUT) and the ground terminal.

なお、上記構成から成る半導体装置100は、バッテリ直結システム(例えば、ボディ系機器、カーステレオ、カーナビゲーションなどに電力の供給を行う車載電源システム)の低消費電流化(低暗電流化)に最適である。   The semiconductor device 100 having the above-described configuration is optimal for reducing current consumption (reducing dark current) of a battery direct connection system (for example, an in-vehicle power supply system that supplies power to body equipment, car stereos, car navigation, etc.). It is.

<定電圧生成回路(第1実施形態)>
図2は、定電圧生成回路110の第1実施形態を示す回路図である。本実施形態の定電圧生成回路110は、定電圧生成部111と、遮断制御部112と、を含む。
<Constant Voltage Generation Circuit (First Embodiment)>
FIG. 2 is a circuit diagram showing a first embodiment of the constant voltage generation circuit 110. The constant voltage generation circuit 110 according to the present embodiment includes a constant voltage generation unit 111 and a cutoff control unit 112.

定電圧生成部111は、ED型基準電圧源Aを用いて電源電圧VCCから所定の定電圧Vregを生成する回路部であり、NMOSFET(N1、N2、N3(1)〜(x)、N4〜N6)(ただしx≧1)と、PMOSFET(P1、P2)と、抵抗R1と、ツェナダイオードZD1と、を含む。なお、NMOSFET(N1、N3(1)〜(x))はいずれもデプレッション型であり、NMOSFET(N2、N4〜N6)及びPMOSFET(P1、P2)はいずれもエンハンスメント型である。   The constant voltage generation unit 111 is a circuit unit that generates a predetermined constant voltage Vreg from the power supply voltage VCC using the ED type reference voltage source A, and includes NMOSFETs (N1, N2, N3 (1) to (x), N4 to N6) (where x ≧ 1), PMOSFETs (P1, P2), a resistor R1, and a Zener diode ZD1. The NMOSFETs (N1, N3 (1) to (x)) are all depletion type, and the NMOSFETs (N2, N4 to N6) and the PMOSFETs (P1, P2) are all enhancement type.

遮断制御部112は、チップイネーブル信号ENの入力を受け付けて定電圧生成部111や半導体装置100各部の動作可否を制御する回路部であり、NMOSFET(N7〜N9、N10(1)〜(y))(ただしy≧1)を含む。   The shut-off control unit 112 is a circuit unit that receives input of the chip enable signal EN and controls whether the constant voltage generation unit 111 and each part of the semiconductor device 100 operate, and includes NMOSFETs (N7 to N9, N10 (1) to (y)). ) (Where y ≧ 1).

上記各素子の接続関係について具体的な説明を行う。NMOSFET(N1)のゲートとソース、及び、NMOSFET(N2)のゲートとドレインは、いずれも基準電圧V1の出力端に接続されている。NMOSFET(N1)のドレインは、NMOSFET(N3(1)〜(x))を介して、電源電圧VCCの入力端に接続されている。NMOSFET(N2)のソースは、接地端に接続されている。このように、電源電圧VCCの入力端と接地端との間に直列接続されたNMOSFET(N1、N2)は、所定の基準電圧V1を生成するED型基準電圧源Aとして機能する。   A specific description will be given of the connection relationship of the above elements. The gate and source of the NMOSFET (N1) and the gate and drain of the NMOSFET (N2) are both connected to the output terminal of the reference voltage V1. The drain of the NMOSFET (N1) is connected to the input terminal of the power supply voltage VCC via the NMOSFETs (N3 (1) to (x)). The source of the NMOSFET (N2) is connected to the ground terminal. Thus, the NMOSFETs (N1, N2) connected in series between the input terminal of the power supply voltage VCC and the ground terminal function as an ED type reference voltage source A that generates a predetermined reference voltage V1.

NMOSFET(N3(1))のドレインは、電源電圧VCCの印加端に接続されている。NMOSFET(N3(i))(ただし、i=1,2,…,x−1)のゲートとソースは、いずれもNMOSFET(N3(i+1))のドレインに接続されている。NMOSFET(N3(x))のゲートとソースは、いずれもNMOSFET(N1)のドレインに接続されている。このように、定電圧生成部111は、電源電圧VCCの入力端とED型基準電圧源Aとの間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型のNMOSFETを少なくとも1つ含む。   The drain of the NMOSFET (N3 (1)) is connected to the application terminal of the power supply voltage VCC. The gate and source of the NMOSFET (N3 (i)) (where i = 1, 2,..., X−1) are both connected to the drain of the NMOSFET (N3 (i + 1)). The gate and source of the NMOSFET (N3 (x)) are both connected to the drain of the NMOSFET (N1). As described above, the constant voltage generator 111 includes at least one depletion type NMOSFET having a gate and a source connected to each other between the input terminal of the power supply voltage VCC and the ED type reference voltage source A.

このような構成とすることにより、NMOSFET(N1、N3(1)〜(x))に各々印加される電圧を分散して、回路全体としての耐圧を高めることが可能となる。特に、低暗電流化と高耐圧化の両方が要求される車載デバイス用電源ICとして、半導体装置100を用いる場合には、上記の構成が非常に有効であると言える。   With such a configuration, it is possible to disperse the voltages applied to the NMOSFETs (N1, N3 (1) to (x)) and increase the breakdown voltage of the entire circuit. In particular, it can be said that the above configuration is very effective when the semiconductor device 100 is used as an in-vehicle device power supply IC that requires both low dark current and high breakdown voltage.

NMOSFET(N4)のゲートは、ED型基準電圧源Aの出力端(=基準電圧V1の出力端)に接続されている。NMOSFET(N4)のソースは、抵抗R1の第1端に接続されている。抵抗R1の第2端は、NMOSFET(N5)のドレインに接続されている。NMOSFET(N5)のソースは、接地端に接続されている。   The gate of the NMOSFET (N4) is connected to the output terminal of the ED type reference voltage source A (= the output terminal of the reference voltage V1). The source of the NMOSFET (N4) is connected to the first end of the resistor R1. A second end of the resistor R1 is connected to the drain of the NMOSFET (N5). The source of the NMOSFET (N5) is connected to the ground terminal.

PMOSFET(P1、P2)のソースは、いずれも電源電圧VCCの入力端に接続されている。PMOSFET(P1、P2)のゲートは、いずれもPMOSFET(P1)のドレインに接続されている。このように接続されたPMOSFET(P1、P2)は、PMOSFET(P1)のドレイン電流I2に応じたミラー電流I3(=α×I2、αはミラー比)を生成するカレントミラーとして機能する。なお、カレントミラーの入力端に相当するPMOSFET(P1)のドレインは、NMOSFET(N4)のドレインに接続されている。   The sources of the PMOSFETs (P1, P2) are all connected to the input terminal of the power supply voltage VCC. The gates of the PMOSFETs (P1, P2) are all connected to the drain of the PMOSFET (P1). The PMOSFETs (P1, P2) connected in this way function as a current mirror that generates a mirror current I3 (= α × I2, α is a mirror ratio) corresponding to the drain current I2 of the PMOSFET (P1). The drain of the PMOSFET (P1) corresponding to the input end of the current mirror is connected to the drain of the NMOSFET (N4).

カレントミラーの出力端に相当するPMOSFET(P2)のドレインは、ツェナダイオードZD1のカソードに接続されている。ツェナダイオードZD1のアノードは、接地端に接続されている。NMOSFET(N6)のドレインは、電源電圧VCCの入力端に接続されている。NMOSFET(N6)のゲートは、ツェナダイオードZD1のカソードに接続されている。NMOSFET(N6)のソースは、定電圧Vregの出力端に接続されている。   The drain of the PMOSFET (P2) corresponding to the output end of the current mirror is connected to the cathode of the Zener diode ZD1. The anode of the Zener diode ZD1 is connected to the ground terminal. The drain of the NMOSFET (N6) is connected to the input terminal of the power supply voltage VCC. The gate of the NMOSFET (N6) is connected to the cathode of the Zener diode ZD1. The source of the NMOSFET (N6) is connected to the output terminal of the constant voltage Vreg.

なお、電源電圧VCCが高電圧である場合、PMOSFET(P1、P2)やNMOSFET(N6)としては、電源電圧VCCの印加に耐え得る高耐圧(例えば60V耐圧)のPDMOSFETやNDMOSFETなどを用いることが望ましい。   When the power supply voltage VCC is high, a PDMOSFET or NDMOSFET having a high withstand voltage (for example, 60V withstand voltage) that can withstand the application of the power supply voltage VCC is used as the PMOSFET (P1, P2) or NMOSFET (N6). desirable.

NMOSFET(N7)のドレインは、チップイネーブル信号ENの入力端に接続されている。NMOSFET(N7)のゲートは、ED型基準電圧源Aの出力端(=基準電圧V1の出力端)に接続されている。NMOSFET(N7)のソースは、NMOSFET(N8)のドレインに接続されている。NMOSFET(N8)のゲートとソースは、いずれも接地端に接続されている。   The drain of the NMOSFET (N7) is connected to the input terminal of the chip enable signal EN. The gate of the NMOSFET (N7) is connected to the output terminal of the ED type reference voltage source A (= the output terminal of the reference voltage V1). The source of the NMOSFET (N7) is connected to the drain of the NMOSFET (N8). The gate and source of the NMOSFET (N8) are both connected to the ground terminal.

なお、チップイネーブル信号ENとして高電圧が印加され得る場合には、NMOSFET(N7)として、その印加に耐え得る高耐圧(例えば60V耐圧)のNDMOSFETなどを用いることが望ましい。   When a high voltage can be applied as the chip enable signal EN, it is desirable to use an NDMOSFET having a high breakdown voltage (for example, 60V breakdown voltage) that can withstand the application as the NMOSFET (N7).

NMOSFET(N7)とNMOSFET(N8)との接続ノードは、ノード電圧V4の出力端として、NMOSFET(N5、N9)の各ゲートにそれぞれ接続されている。NMOSFET(N9)のソースは、接地端に接続されている。NMOSFET(N9)のドレインは、NMOSFET(N10(1)〜(y))を介して、電源電圧VCCの入力端に接続されるとともに、遮断信号S1の出力端にも接続されている。   A connection node between the NMOSFET (N7) and the NMOSFET (N8) is connected to each gate of the NMOSFET (N5, N9) as an output terminal of the node voltage V4. The source of the NMOSFET (N9) is connected to the ground terminal. The drain of the NMOSFET (N9) is connected to the input terminal of the power supply voltage VCC through the NMOSFETs (N10 (1) to (y)) and is also connected to the output terminal of the cutoff signal S1.

NMOSFET(N10(1))のドレインは、電源電圧VCCの印加端に接続されている。NMOSFET(N10(j))(ただし、j=1,2,…,y−1)のゲートとソースは、いずれもNMOSFET(N10(j+1))のドレインに接続されている。NMOSFET(N10(y))のゲートとソースは、いずれもNMOSFET(N9)のドレインに接続されている。このように、遮断制御部112は、電源電圧VCCの入力端と遮断信号S1の出力端との間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型のNMOSFETを少なくとも1つ含む。   The drain of the NMOSFET (N10 (1)) is connected to the application terminal of the power supply voltage VCC. The gate and source of the NMOSFET (N10 (j)) (where j = 1, 2,..., Y−1) are both connected to the drain of the NMOSFET (N10 (j + 1)). The gate and source of the NMOSFET (N10 (y)) are both connected to the drain of the NMOSFET (N9). As described above, the cutoff control unit 112 includes at least one depletion type NMOSFET in which the gate and the source are connected to each other between the input terminal of the power supply voltage VCC and the output terminal of the cutoff signal S1.

このような構成とすることにより、先出のNMOSFET(N3(1)〜(x))と同様、NMOSFET(N10(1)〜(y))に各々印加される電圧を分散して、回路全体としての耐圧を高めることが可能となる。   By adopting such a configuration, the voltage applied to each of the NMOSFETs (N10 (1) to (y)) is dispersed in the same manner as the previous NMOSFETs (N3 (1) to (x)), and the entire circuit is distributed. As a result, the withstand voltage can be increased.

次に、上記構成から成る定電圧生成部111の動作について詳細な説明を行う。ED型基準電圧源Aでは、デプレッション型のNMOSFET(N1)が一種の定電流源として機能するので、NMOSFET(N2)に一定のバイアス電流I1が供給される。その結果、ED型基準電圧源Aの出力端には、NMOSFET(N2)のオンスレッショルド電圧Vth(N2)に相当する一定の基準電圧V1が現れる。   Next, the operation of the constant voltage generator 111 having the above configuration will be described in detail. In the ED type reference voltage source A, since the depletion type NMOSFET (N1) functions as a kind of constant current source, a constant bias current I1 is supplied to the NMOSFET (N2). As a result, a constant reference voltage V1 corresponding to the on-threshold voltage Vth (N2) of the NMOSFET (N2) appears at the output terminal of the ED type reference voltage source A.

なお、ED型基準電圧源Aで消費されるバイアス電流I1は、NMOSFET(N1、N2)のW/L比を適宜設計することにより、電源電圧VCCに依存することなく、非常に小さい電流値(0.1μA程度)に設定することができる(図3の上段を参照)。従って、ED型基準電圧源Aは、電源電圧VCCが高くなっても、バイアス電流I1の増大を招くことなく、一定の基準電圧V1を出力し続けることができる(図3の下段を参照)。   The bias current I1 consumed by the ED type reference voltage source A is a very small current value (independent of the power supply voltage VCC) by appropriately designing the W / L ratio of the NMOSFETs (N1, N2). (Refer to the upper part of FIG. 3). Therefore, the ED type reference voltage source A can continue to output the constant reference voltage V1 without increasing the bias current I1 even when the power supply voltage VCC increases (see the lower part of FIG. 3).

上記の基準電圧V1は、NMOSFET(N4)のゲートに印加されている。従って、抵抗R1の第1端には、基準電圧V1よりもNMOSFET(N4)のオンスレッショルド電圧Vth(N4)だけ低い一定のノード電圧V2(=V1−Vth(N4))が印加される。このとき、抵抗R1に流れる定電流(=トランジスタN4のドレイン電流I2)は、V2/R1={V1−Vth(N4)}/R1で表すことができる。   The reference voltage V1 is applied to the gate of the NMOSFET (N4). Therefore, a constant node voltage V2 (= V1−Vth (N4)) lower than the reference voltage V1 by the on-threshold voltage Vth (N4) of the NMOSFET (N4) is applied to the first end of the resistor R1. At this time, the constant current flowing through the resistor R1 (= the drain current I2 of the transistor N4) can be expressed by V2 / R1 = {V1−Vth (N4)} / R1.

ドレイン電流I2に応じたミラー電流I3(=α×I2)は、ツェナダイオードZD1を介して接地端に流れる。このとき、NMOSFET(N6)のゲートには、ツェナダイオードZD1の降伏電圧V3が印加される。従って、NMOSFET(N6)のソースには、降伏電圧V3からNMOSFET(N6)のオンスレッショルド電圧Vth(N6)だけ低い定電圧Vreg(=V3−Vth(N6))が現れる。   A mirror current I3 (= α × I2) corresponding to the drain current I2 flows to the ground terminal via the Zener diode ZD1. At this time, the breakdown voltage V3 of the Zener diode ZD1 is applied to the gate of the NMOSFET (N6). Therefore, a constant voltage Vreg (= V3−Vth (N6)) that is lower than the breakdown voltage V3 by the on-threshold voltage Vth (N6) of the NMOSFET (N6) appears at the source of the NMOSFET (N6).

このように、定電圧生成部111では、図7の従来構成と異なり、バイアス電流I1の生成手段として抵抗素子が用いられていないので、電源電圧VCCが上昇してもバイアス電流I1の増大を招くことがなく、かつ、回路規模縮小と低消費電流化のトレードオフを解消することも可能となる。   In this way, unlike the conventional configuration of FIG. 7, the constant voltage generator 111 does not use a resistance element as a means for generating the bias current I1, so that the bias current I1 increases even when the power supply voltage VCC increases. In addition, the trade-off between circuit scale reduction and low current consumption can be eliminated.

例えば、電源電圧VCCを16Vとしてバイアス電流I1を1μAとした場合には、図7の従来構成と比べて、50%〜75%の回路面積削減を実現することが可能となる。また、電源電圧VCCがさらに高ければ、バイアス電流I1の削減効果がより顕著となる。   For example, when the power supply voltage VCC is 16 V and the bias current I1 is 1 μA, the circuit area can be reduced by 50% to 75% compared to the conventional configuration of FIG. Further, if the power supply voltage VCC is higher, the effect of reducing the bias current I1 becomes more remarkable.

次に、上記構成から成る遮断制御部112の動作について詳述する。遮断制御部112では、デプレッション型のNMOSFET(N8)が一種の定電流源(ないしはプルダウン抵抗)として機能するので、NMOSFET(N7)に一定のバイアス電流I4が供給される。また、NMOSFET(N7)のゲートには、ED型基準電圧源Aから所定の基準電圧V1が印加されている。   Next, the operation of the cutoff control unit 112 configured as described above will be described in detail. In the cutoff control unit 112, the depletion type NMOSFET (N8) functions as a kind of constant current source (or pull-down resistor), so that a constant bias current I4 is supplied to the NMOSFET (N7). A predetermined reference voltage V1 is applied from the ED type reference voltage source A to the gate of the NMOSFET (N7).

従って、チップイネーブル信号ENがハイレベル(例えば5V)である場合には、NMOSFET(N7)のソースに基準電圧V1よりもNMOSFET(N7)のオンスレッショルド電圧Vth(N7)だけ低い一定のノード電圧V4(=V1−Vth(N7))が現れる。一方、チップイネーブル信号ENがローレベル(0V)である場合には、NMOSFET(N7)が動作しないので、ノード電圧V4はNMOSFET(N8)を介して接地電圧(=0V)まで引き下げられる。すなわち、ノード電圧V4は、チップイネーブル信号ENがハイレベルであるときにハイレベル(=V1−Vth(N7))となり、チップイネーブル信号ENがローレベルであるときにローレベル(=0V)となる。   Therefore, when the chip enable signal EN is at a high level (for example, 5 V), a constant node voltage V4 that is lower than the reference voltage V1 by the on-threshold voltage Vth (N7) of the NMOSFET (N7) at the source of the NMOSFET (N7). (= V1-Vth (N7)) appears. On the other hand, when the chip enable signal EN is at the low level (0 V), the NMOSFET (N7) does not operate, so the node voltage V4 is lowered to the ground voltage (= 0 V) via the NMOSFET (N8). That is, the node voltage V4 is at a high level (= V1-Vth (N7)) when the chip enable signal EN is at a high level, and is at a low level (= 0 V) when the chip enable signal EN is at a low level. .

ノード電圧V4がハイレベルであるときには、NMOSFET(N5)がオン状態となるので、ドレイン電流I2の流れる電流経路が導通される。従って、定電圧生成部111はイネーブル状態(動作許可状態)となる。一方、ノード電圧V4がローレベルであるときには、NMOSFET(N5)がオフ状態となるので、ドレイン電流I2の流れる電流経路が遮断される。従って、定電圧生成部111はディセーブル状態(動作禁止状態)となる。すなわち、遮断制御部112は、ノード電圧V4を用いて定電圧生成部111の動作可否を制御する。   When the node voltage V4 is at a high level, the NMOSFET (N5) is turned on, so that the current path through which the drain current I2 flows is conducted. Accordingly, the constant voltage generation unit 111 is enabled (operation permitted state). On the other hand, when the node voltage V4 is at a low level, the NMOSFET (N5) is turned off, so that the current path through which the drain current I2 flows is interrupted. Accordingly, the constant voltage generator 111 is disabled (operation prohibited state). That is, the cutoff control unit 112 controls whether the constant voltage generation unit 111 can operate using the node voltage V4.

また、ノード電圧V4がハイレベルであるときには、NMOSFET(N9)がオン状態となるので、遮断信号S1がローレベルとなる。一方、ノード電圧V4がローレベルであるときには、NMOSFET(N9)がオフ状態となるので、遮断信号S1がハイレベルとなる。遮断信号S1がローレベルであるときには、その入力を受けた内部回路がイネーブル状態(動作許可状態)となる。一方、遮断信号S1がハイレベルであるときには、その入力を受けた内部回路がディセーブル状態(動作禁止状態)となる。すなわち、遮断制御部112は、ノード電圧V4を用いて半導体装置100各部の動作可否も制御する。   When the node voltage V4 is at a high level, the NMOSFET (N9) is turned on, so that the cutoff signal S1 is at a low level. On the other hand, when the node voltage V4 is at the low level, the NMOSFET (N9) is turned off, so that the cutoff signal S1 is at the high level. When the cut-off signal S1 is at a low level, the internal circuit that receives the input is enabled (operation permitted). On the other hand, when the cutoff signal S1 is at a high level, the internal circuit that receives the input is disabled (operation disabled state). In other words, the cutoff control unit 112 also controls whether each part of the semiconductor device 100 operates by using the node voltage V4.

このように、定電圧生成回路110にチップイネーブル機能を組み込んでおけば、セット設計の自由度を高めることが可能となる。   As described above, if the chip enable function is incorporated in the constant voltage generation circuit 110, the degree of freedom in set design can be increased.

なお、遮断制御部112では、図7の従来構成と異なり、バイアス電流I4の生成手段として抵抗素子が用いられていない。従って、チップイネーブル信号ENが上昇してもバイアス電流I4の増大を招くことがなく、かつ、回路規模縮小と低消費電流化のトレードオフを解消することが可能となる。   In the cutoff control unit 112, unlike the conventional configuration of FIG. 7, no resistive element is used as a means for generating the bias current I4. Therefore, even if the chip enable signal EN rises, the bias current I4 does not increase, and the trade-off between circuit scale reduction and low current consumption can be eliminated.

例えば、チップイネーブル信号ENを16Vとしてバイアス電流I4を1μAとした場合には、図7の従来構成と比べて、50%〜75%の回路面積削減を実現することが可能となる。また、チップイネーブル信号ENがさらに高電圧であるときには、バイアス電流I4の削減効果がより顕著となる。   For example, when the chip enable signal EN is set to 16 V and the bias current I4 is set to 1 μA, the circuit area can be reduced by 50% to 75% as compared with the conventional configuration of FIG. Further, when the chip enable signal EN is at a higher voltage, the effect of reducing the bias current I4 becomes more prominent.

<定電圧生成回路(第2実施形態)>
図4は、定電圧生成回路110の第2実施形態を示す回路図である。本実施形態の定電圧生成回路110は、先の第1実施形態(図2)と基本的に同様の構成であるが、ED型基準電圧源Aと接地端との間に、エンハンスメント型のNMOSFET(N11)を挿入した点に特徴を有している。そこで、第1実施形態と同様の構成要素については、図2と同一の符号を付すことで重複した説明を割愛し、以下では、第2実施形態の特徴部分について重点的な説明を行う。
<Constant Voltage Generation Circuit (Second Embodiment)>
FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the constant voltage generation circuit 110. The constant voltage generation circuit 110 of the present embodiment has basically the same configuration as that of the first embodiment (FIG. 2), but is an enhancement type NMOSFET between the ED type reference voltage source A and the ground terminal. It is characterized in that (N11) is inserted. Therefore, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 2, and redundant descriptions are omitted. In the following, the characteristic portions of the second embodiment are mainly described.

NMOSFET(N11)のゲートとドレインは、いずれもNMOSFET(N2)のソースに接続されている。NMOSFET(N11)のソースは、接地端に接続されている。このような構成とすることにより、NMOSFET(N11)のオンスレッショルド電圧Vth(N11)だけ嵩上げされた基準電圧V1(=Vth(N2)+Vth(N11))を得ることが可能となる。   The gate and drain of the NMOSFET (N11) are both connected to the source of the NMOSFET (N2). The source of the NMOSFET (N11) is connected to the ground terminal. With such a configuration, it is possible to obtain the reference voltage V1 (= Vth (N2) + Vth (N11)) raised by the on-threshold voltage Vth (N11) of the NMOSFET (N11).

ここで、NMOSFET(N4)とNMOSFET(N11)とは、半導体基板上でペア性が取れるようにレイアウトしておくとよい。このような構成とすることにより、NMOSFET(N4)のオンスレッショルド電圧Vth(N4)と、NMOSFET(N11)のオンスレッショルド電圧Vth(N11)とを同一値(ないしはほぼ同一値)とすることができる。従って、抵抗R1の第1端に印加されるノード電圧V2(=Vth(N2)+Vth(N11)−Vth(N4))をNMOSFET(N2)のオンスレッショルド電圧Vth(N2)(すなわちED型基準電圧源Aのみで設定される電圧値)と一致(ないしはほぼ一致)させることが可能となる。   Here, the NMOSFET (N4) and the NMOSFET (N11) are preferably laid out so as to be paired on the semiconductor substrate. With this configuration, the on-threshold voltage Vth (N4) of the NMOSFET (N4) and the on-threshold voltage Vth (N11) of the NMOSFET (N11) can be set to the same value (or almost the same value). . Therefore, the node voltage V2 (= Vth (N2) + Vth (N11) −Vth (N4)) applied to the first end of the resistor R1 is changed to the on-threshold voltage Vth (N2) (that is, the ED type reference voltage) of the NMOSFET (N2). It is possible to match (or almost match) the voltage value set only by the source A).

基本的に、ED型基準電圧源Aで生成される基準電圧V1は、その温度特性がフラットである。また、NMOSFET(N4、N11)のペア性を確保することにより、NMOSFET(N4、N11)の特性ばらつきは、相対的にキャンセルすることができる。従って、基準電圧V1を電圧/電流変換することにより、温度特性のフラットなドレイン電流I2を生成することが可能となる。   Basically, the reference voltage V1 generated by the ED type reference voltage source A has a flat temperature characteristic. Further, by ensuring the pair property of the NMOSFETs (N4, N11), the characteristic variation of the NMOSFETs (N4, N11) can be canceled relatively. Therefore, it is possible to generate a drain current I2 having a flat temperature characteristic by performing voltage / current conversion on the reference voltage V1.

<定電圧生成回路(第3実施形態)>
図5は、定電圧生成回路110の第3実施形態を示す回路図である。本実施形態の定電圧生成回路110は、先の第2実施形態(図4)と基本的に同様の構成であるが、ED型基準電圧源Aと接地端との間に、さらに、npn型のバイポーラトランジスタQ1を挿入した点に特徴を有している。そこで、第2実施形態と同様の構成要素については、図4と同一の符号を付すことで重複した説明を割愛し、以下では、第3実施形態の特徴部分について重点的な説明を行う。
<Constant Voltage Generation Circuit (Third Embodiment)>
FIG. 5 is a circuit diagram showing a third embodiment of the constant voltage generation circuit 110. The constant voltage generation circuit 110 according to the present embodiment has basically the same configuration as that of the second embodiment (FIG. 4), but further includes an npn type between the ED type reference voltage source A and the ground terminal. This is characterized in that the bipolar transistor Q1 is inserted. Therefore, the same components as those in the second embodiment are denoted by the same reference numerals as those in FIG. 4, and redundant descriptions are omitted. In the following, the characteristic portions of the third embodiment are mainly described.

トランジスタQ1のベースとコレクタは、いずれもNMOSFET(N11)のソースに接続されている。トランジスタQ1のエミッタは、接地端に接続されている。このような構成とすることにより、トランジスタQ1の順方向飽和電圧Vfだけ嵩上げされた基準電圧V1(=Vth(N2)+Vth(N11)+Vf)を得ることができる。なお、MOSFETを用いるよりもバイポーラトランジスタを用いた方が精度の面で有利である。   The base and collector of the transistor Q1 are both connected to the source of the NMOSFET (N11). The emitter of the transistor Q1 is connected to the ground terminal. With such a configuration, it is possible to obtain the reference voltage V1 (= Vth (N2) + Vth (N11) + Vf) raised by the forward saturation voltage Vf of the transistor Q1. Note that the use of a bipolar transistor is more advantageous in terms of accuracy than the use of a MOSFET.

<車両への適用>
図6は、車両Xの一構成例を示す外観図である。本構成例の車両Xは、不図示のバッテリと、バッテリから電源電圧VCCの供給を受けて動作する種々の電子機器X11〜X18を搭載している。なお、本図における電子機器X11〜X18の搭載位置については、図示の便宜上、実際とは異なる場合がある。
<Application to vehicles>
FIG. 6 is an external view showing a configuration example of the vehicle X. The vehicle X of this configuration example includes a battery (not shown) and various electronic devices X11 to X18 that operate by receiving supply of the power supply voltage VCC from the battery. In addition, about the mounting position of the electronic devices X11-X18 in this figure, it may differ from the actual for convenience of illustration.

電子機器X11は、エンジンに関連する制御(インジェクション制御、電子スロットル制御、アイドリング制御、酸素センサヒータ制御、及び、オートクルーズ制御など)を行うエンジンコントロールユニットである。   The electronic device X11 is an engine control unit that performs control related to the engine (injection control, electronic throttle control, idling control, oxygen sensor heater control, auto cruise control, and the like).

電子機器X12は、HID[high intensity discharged lamp]やDRL[daytime running lamp]などの点消灯制御を行うランプコントロールユニットである。   The electronic device X12 is a lamp control unit that performs on / off control such as HID [high intensity discharged lamp] and DRL [daytime running lamp].

電子機器X13は、トランスミッションに関連する制御を行うトランスミッションコントロールユニットである。   The electronic device X13 is a transmission control unit that performs control related to the transmission.

電子機器X14は、車両Xの運動に関連する制御(ABS[anti-lock brake system]制御、EPS[electric power steering]制御、電子サスペンション制御など)を行うボディコントロールユニットである。   The electronic device X14 is a body control unit that performs control (ABS [anti-lock brake system] control, EPS [electric power steering] control, electronic suspension control, etc.) related to the motion of the vehicle X.

電子機器X15は、ドアロックや防犯アラームなどの駆動制御を行うセキュリティコントロールユニットである。   The electronic device X15 is a security control unit that performs drive control such as a door lock and a security alarm.

電子機器X16は、ワイパー、電動ドアミラー、パワーウィンドウ、ダンパー(ショックアブソーバー)、電動サンルーフ、及び、電動シートなど、標準装備品やメーカーオプション品として、工場出荷段階で車両Xに組み込まれている電子機器である。   The electronic device X16 is an electronic device that is incorporated into the vehicle X at the factory shipment stage as a standard equipment item or manufacturer's option product, such as a wiper, an electric door mirror, a power window, a damper (shock absorber), an electric sunroof, and an electric seat. It is.

電子機器X17は、車載A/V[audio/visual]機器、カーナビゲーションシステム、及び、ETC[electronic toll collection system]など、ユーザオプション品として任意で車両Xに装着される電子機器である。   The electronic device X17 is an electronic device that is optionally mounted on the vehicle X as a user option product such as an in-vehicle A / V [audio / visual] device, a car navigation system, and an ETC [electronic toll collection system].

電子機器X18は、車載ブロア、オイルポンプ、ウォーターポンプ、バッテリ冷却ファンなど、高耐圧系モータを備えた電子機器である。   The electronic device X18 is an electronic device that includes a high-voltage motor such as an in-vehicle blower, an oil pump, a water pump, and a battery cooling fan.

なお、先に説明した電源装置1は、機器各部への電力供給手段として、電子機器X11〜X18のいずれにも組み込むことが可能である。   In addition, the power supply device 1 demonstrated previously can be integrated in any of the electronic devices X11-X18 as a power supply means to each part of an apparatus.

<その他の変形例>
なお、本発明の構成は、上記実施形態のほか、発明の主旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることが可能である。すなわち、上記実施形態は、全ての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきであり、本発明の技術的範囲は、上記実施形態の説明ではなく、特許請求の範囲によって示されるものであり、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内に属する全ての変更が含まれると理解されるべきである。
<Other variations>
The configuration of the present invention can be variously modified in addition to the above-described embodiment without departing from the gist of the invention. That is, the above-described embodiment is an example in all respects and should not be considered as limiting, and the technical scope of the present invention is not the description of the above-described embodiment, but the claims. It should be understood that all modifications that come within the meaning and range of equivalents of the claims are included.

本発明は、例えば、シリーズレギュレータやLDOレギュレータなどのリニアレギュレータ、一般民生用電源、車載用電源IC、ないしは、内部電源を必要とする高耐圧ICに広く利用することが可能である。特に、本発明は、車載用LDOレギュレータICの付加価値を高めるために利用することが可能である。   The present invention can be widely used in, for example, linear regulators such as series regulators and LDO regulators, general consumer power supplies, in-vehicle power supply ICs, or high voltage ICs that require internal power supplies. In particular, the present invention can be used to increase the added value of an in-vehicle LDO regulator IC.

1 電源装置
100 半導体装置(LDOレギュレータIC)
110 定電圧生成回路
111 定電圧生成部
112 遮断制御部
120 参照電圧生成回路
130 エラーアンプ
140 ドライバ
150 出力トランジスタ(PDMOSFET)
160〜180 抵抗
E1 直流電圧源(バッテリ)
C1、C2 キャパシタ
D1 パワーツェナダイオード(またはショットキーダイオード)
D2 ダイオード
Z1 負荷
A ED型基準電圧源
N1、N3、N8、N10 デプレッション型NMOSFET
N2、N4〜N7、N9、N11 エンハンスメント型NMOSFET
P1、P2 エンハンスメント型PMOSFET
Q1 npn型バイポーラトランジスタ
R1 抵抗
ZD1 ツェナダイオード
X 車両
X11〜X18 電子機器
1 Power supply device 100 Semiconductor device (LDO regulator IC)
110 Constant Voltage Generation Circuit 111 Constant Voltage Generation Unit 112 Blocking Control Unit 120 Reference Voltage Generation Circuit 130 Error Amplifier 140 Driver 150 Output Transistor (PDMOSFET)
160 to 180 Resistance E1 DC voltage source (battery)
C1, C2 Capacitor D1 Power Zener diode (or Schottky diode)
D2 Diode Z1 Load A ED type reference voltage source N1, N3, N8, N10 Depletion type NMOSFET
N2, N4 to N7, N9, N11 Enhancement type NMOSFET
P1, P2 Enhancement type PMOSFET
Q1 npn type bipolar transistor R1 resistance ZD1 Zener diode X vehicle X11 to X18 electronic equipment

Claims (13)

半導体装置に集積化される定電圧生成回路であって、
ED型基準電圧源を用いて電源電圧から所定の定電圧を生成する定電圧生成部と、
チップイネーブル信号の入力を受け付ける遮断制御部と、
を有し、
前記遮断制御部は、ドレインが前記チップイネーブル信号の入力端に接続されてゲートが前記ED型基準電圧源の出力端に接続されたエンハンスメント型の第1NMOSFET[N-channel type metal oxide semiconductor field effect transistor]と、ドレインが前記第1NMOSFETのソースに接続されてゲート及びソースがいずれも接地端に接続されたデプレッション型の第2NMOSFETと、を含み、前記第1NMOSFETと前記第2NMOSFETとの接続ノードに現れるノード電圧を用いて前記定電圧生成部及び前記半導体装置各部の動作可否を制御することを特徴とする定電圧生成回路。
A constant voltage generation circuit integrated in a semiconductor device,
A constant voltage generation unit that generates a predetermined constant voltage from a power supply voltage using an ED type reference voltage source;
A shut-off control unit for receiving an input of a chip enable signal;
Have
The cutoff controller includes an enhancement type first NMOSFET [N-channel type metal oxide semiconductor field effect transistor] having a drain connected to an input terminal of the chip enable signal and a gate connected to an output terminal of the ED type reference voltage source. And a depletion type second NMOSFET whose drain is connected to the source of the first NMOSFET and whose gate and source are both connected to the ground terminal, and which appears at the connection node between the first NMOSFET and the second NMOSFET A constant voltage generation circuit that controls whether or not the constant voltage generation unit and each part of the semiconductor device operate by using a voltage.
前記遮断制御部は、さらに、ゲートが前記ノード電圧の印加端に接続されてドレインが遮断信号の出力端に接続されてソースが接地端に接続されたエンハンスメント型の第3NMOSFETを含むことを特徴とする請求項1に記載の定電圧生成回路。   The cutoff control unit further includes an enhancement type third NMOSFET having a gate connected to the node voltage application terminal, a drain connected to the cutoff signal output terminal, and a source connected to the ground terminal. The constant voltage generation circuit according to claim 1. 前記遮断制御部は、さらに、前記電源電圧の入力端と前記遮断信号の出力端との間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型の第4NMOSFETを少なくとも1つ含むことを特徴とする請求項2に記載の定電圧生成回路。   The cutoff control unit further includes at least one depletion type fourth NMOSFET having a gate and a source connected to each other between an input end of the power supply voltage and an output end of the cutoff signal. Item 3. The constant voltage generation circuit according to Item 2. 前記ED型基準電圧源は、
ゲートとソースがいずれも基準電圧の出力端に接続されたデプレッション型の第5NMOSFETと、
ゲートとドレインがいずれも前記基準電圧の出力端に接続されたエンハンスメント型の第6NMOSFETと、
を含むことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の定電圧生成回路。
The ED type reference voltage source is:
A depletion type fifth NMOSFET in which the gate and the source are both connected to the output terminal of the reference voltage;
An enhancement type sixth NMOSFET in which a gate and a drain are both connected to an output terminal of the reference voltage;
The constant voltage generation circuit according to claim 1, wherein the constant voltage generation circuit includes:
前記定電圧生成部は、前記電源電圧の入力端と前記ED型基準電圧源との間に、ゲートとソースが互いに接続されたデプレッション型の第7NMOSFETを少なくとも1つ含むことを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の定電圧生成回路。   The constant voltage generator includes at least one depletion type seventh NMOSFET having a gate and a source connected to each other between an input terminal of the power supply voltage and the ED type reference voltage source. The constant voltage generation circuit as described in any one of Claims 1-4. 前記定電圧生成部は、
ゲートが前記ED型基準電圧源の出力端に接続されたエンハンスメント型の第8NMOSFETと、
第1端が前記第8NMOSFETのソースに接続された抵抗と、
入力端が前記第8NMOSFETのドレインに接続されたカレントミラーと、
カソードが前記カレントミラーの出力端に接続されてアノードが接地端に接続されたツェナーダイオードと、
ドレインが前記電源電圧の入力端に接続されてゲートが前記ツェナーダイオードのカソードに接続されてソースが前記定電圧の出力端に接続されたエンハンスメント型の第9NMOSFETと、
を含むことを特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の定電圧生成回路。
The constant voltage generator is
An enhancement type eighth NMOSFET having a gate connected to the output terminal of the ED type reference voltage source;
A resistor having a first end connected to a source of the eighth NMOSFET;
A current mirror having an input terminal connected to the drain of the eighth NMOSFET;
A Zener diode having a cathode connected to the output end of the current mirror and an anode connected to the ground end;
An enhancement-type ninth NMOSFET having a drain connected to the input terminal of the power supply voltage, a gate connected to the cathode of the Zener diode, and a source connected to the output terminal of the constant voltage;
The constant voltage generation circuit according to any one of claims 1 to 5, further comprising:
前記定電圧生成部は、さらに、前記ED型基準電圧源と接地端との間に、ゲートとドレインが互いに接続されたエンハンスメント型の第10NMOSFETを含むことを特徴とする請求項6に記載の定電圧生成回路。   The constant voltage generator according to claim 6, further comprising an enhancement type 10th NMOSFET in which a gate and a drain are connected to each other between the ED type reference voltage source and a ground terminal. Voltage generation circuit. 前記定電圧生成部は、さらに、前記ED型基準電圧源と接地端との間に、ベースとコレクタが互いに接続されたnpn型バイポーラトランジスタを含むことを特徴とする請求項6または請求項7に記載の定電圧生成回路。   8. The constant voltage generation unit according to claim 6, further comprising an npn bipolar transistor having a base and a collector connected to each other between the ED reference voltage source and a ground terminal. The constant voltage generation circuit described. 前記定電圧生成部は、さらに、ドレインが前記抵抗の第2端に接続されてソースが接地端に接続されてゲートが前記ノード電圧の印加端に接続されたエンハンスメント型の第11NMOSFETを含むことを特徴とする請求項6〜請求項8のいずれか一項に記載の定電圧生成回路。   The constant voltage generation unit further includes an enhancement type 11th NMOSFET having a drain connected to the second end of the resistor, a source connected to the ground terminal, and a gate connected to the node voltage application terminal. The constant voltage generation circuit according to any one of claims 6 to 8, wherein the constant voltage generation circuit is characterized in that: 内部回路と、
電源電圧から所定の定電圧を生成して前記内部回路へ供給するとともにチップイネーブル信号に応じて前記内部回路の動作可否を制御する請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載の定電圧生成回路と、
を集積化して成ることを特徴とする半導体装置。
Internal circuitry,
The constant voltage according to any one of claims 1 to 9, wherein a predetermined constant voltage is generated from a power supply voltage and supplied to the internal circuit, and the operation of the internal circuit is controlled according to a chip enable signal. A generation circuit;
An integrated semiconductor device.
前記内部回路は、
前記定電圧の供給を受けて所定の参照電圧を生成する参照電圧生成回路と、
出力電圧またはこれに応じた帰還電圧と前記参照電圧とが一致するように前記電源電圧から前記出力電圧を生成する電源回路と、
を含むことを特徴とする請求項10に記載の半導体装置。
The internal circuit is
A reference voltage generation circuit for generating a predetermined reference voltage in response to the supply of the constant voltage;
A power supply circuit that generates the output voltage from the power supply voltage so that the output voltage or a feedback voltage corresponding thereto matches the reference voltage;
The semiconductor device according to claim 10, comprising:
機器各部への電力供給手段として請求項11に記載の半導体装置を有することを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the semiconductor device according to claim 11 as power supply means to each part of the apparatus. バッテリと、
前記バッテリから電源電圧の供給を受けて動作する請求項12に記載の電子機器と、
を有することを特徴とする車両。
Battery,
The electronic device according to claim 12, wherein the electronic device operates by receiving a power supply voltage from the battery.
The vehicle characterized by having.
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