JP6429106B2 - Indentation adjusting device and polishing apparatus equipped with indentation adjusting device - Google Patents

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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Description

本発明は、工具本体の押込状態を調整する押込調整装置、及びこの押込調整装置を備えた研磨装置に関する。   The present invention relates to an indentation adjusting device that adjusts an indentation state of a tool body, and a polishing apparatus including the indentation adjustment device.

航空機や自動車の外装面には、耐候性の向上や装飾等を目的として塗装が施されている。外装面への塗装では、塗料の密着性を向上させるために前処理として母材上に下地材を塗布して下地層を形成し、下地層の上から塗料を塗布することで塗膜を形成している。このような塗装が施された航空機や自動車の外装面を再塗装する方法としては、再塗装したい部位の塗膜のみを研磨工具等で剥離させ、下地層を残した状態で再び塗料を塗布する方法が用いられている。このように研磨工具で塗膜のみを剥離させ下地層を残すことで、再塗装の際に下地層を再び形成する手間を低減することができる。   The exterior surfaces of aircraft and automobiles are painted for the purpose of improving weather resistance and decoration. When painting on the exterior surface, as a pre-treatment, a base material is applied on the base material to form a base layer, and then a paint film is formed on top of the base layer to improve paint adhesion. doing. As a method of repainting the exterior surfaces of aircraft and automobiles that have been painted in this way, remove only the paint film on the part you want to repaint with a polishing tool, etc., and apply the paint again with the base layer left. The method is used. Thus, by removing only the coating film with the polishing tool and leaving the base layer, it is possible to reduce the trouble of forming the base layer again at the time of repainting.

再塗装時に塗膜を剥離するための研磨工具として、例えば、特許文献１には、研磨ディスクを回転させながら加工対象物の表面を研磨し、研磨により生じる粉塵を同時に吸引し除去することが可能な小型の研磨工具が開示されている。このような研磨工具は、小型でありながら研磨と同時に粉塵の除去ができるため、作業性に優れている。   As a polishing tool for peeling the coating film at the time of repainting, for example, in Patent Document 1, it is possible to polish the surface of the object to be processed while rotating the polishing disk, and simultaneously suck and remove dust generated by the polishing. A small abrasive tool is disclosed. Such a polishing tool is excellent in workability because it is small and can remove dust simultaneously with polishing.

米国特許第６９６９３１１号明細書US Pat. No. 6,969,311

しかしながら、特許文献１に記載の研磨工具では、加工対象物の表面への押し付け荷重の大きさや荷重の押し付け方向は作業者の技量に依存しており、作業者の違いによって下地層も大幅に剥離させてしまったり、逆に十分に剥離できなかったりするおそれがあり、効率的に加工対象面の加工を行うことが難しい。   However, in the polishing tool described in Patent Document 1, the magnitude of the pressing load on the surface of the workpiece and the pressing direction of the load depend on the skill of the operator, and the underlying layer is also greatly peeled off due to the difference in the operator. However, it may be difficult to peel the surface, and it is difficult to efficiently process the surface to be processed.

本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、加工対象面を容易に、かつ、安定して効率的に加工することが可能な押込調整装置、及び研磨装置を提供する。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and provides an indentation adjusting device and a polishing device that can easily, stably and efficiently process a surface to be processed.

上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
本発明の一態様に係る押込調整装置は、加工対象面に当接可能とされる工具本体を支持する把持部と、前記把持部と前記工具本体との間に設けられて、該工具本体が前記加工対象面に当接した際に、前記工具本体を前記加工対象面に対して傾斜して支持可能な傾斜機構と、を備え、前記傾斜機構は、前記工具本体における前記加工対象面に対向する対向面の前記加工対象面に対する傾斜状態を変化させる調整部と、前記工具本体における前記対向面の傾斜方向を所定の時間が経過する毎に変化させるように前記調整部を制御する制御部と、を有する。 In order to solve the above problems, the present invention proposes the following means.
An indentation adjusting apparatus according to one aspect of the present invention is provided between a gripping part that supports a tool body that can be brought into contact with a surface to be processed, and between the gripping part and the tool body. An inclination mechanism capable of supporting the tool body by inclining with respect to the surface to be processed when abutting against the surface to be processed , wherein the inclination mechanism is opposed to the surface to be processed in the tool body. An adjustment unit that changes an inclination state of the opposed surface with respect to the processing target surface, and a control unit that controls the adjustment unit so as to change the inclination direction of the opposed surface of the tool body every time a predetermined time elapses. Have.

このような押込調整装置によると、加工が行われる際に、工具本体が加工対象面に当接され、傾斜機構によって工具本体を傾斜させることができる。従って、工具本体の加工対象面に対する接触状態を変化させることができる。即ち、加工対象面に対して工具本体を片当たり（偏荷重）の状態にすることができる。そしてこのような状態とすることで、片当たりの位置で工具本体から加工対象面へ付与される荷重を大きくすることができる。従って、作業者の技量の違いによらず、より短時間で加工対象面の加工を行うことができる。
また、調整部を設けることで、作業者の作業スペースや作業の足場の位置等の制約によって作業姿勢を変えることが難しい場合であっても、自動的に工具本体における対向面の傾斜状態、即ち、傾斜方向及び傾斜角度を変化させることが可能となる。従って、さらに効率的に加工対象面の加工が必要となる。
また、制御部によって調整部を制御することで、工具本体から加工対象面への荷重が大きくなっている領域を自動的に変化させることができる。このため、作業者が加工対象面の形状に合わせて適宜、調整部を手動で調整して工具本体の対向面の傾斜方向を変更する必要がなくなる。従って、加工対象面の加工を容易に、均一に行うことが可能となる。さらに、工具本体における対向面の傾斜方向を時間変化させることで、対向面の消耗度合いを均一にすることができ、工具本体の耐久性を向上することができる。 According to such an indentation adjusting device, when machining is performed, the tool body is brought into contact with the surface to be machined, and the tool body can be tilted by the tilt mechanism. Therefore, the contact state with respect to the processing target surface of the tool body can be changed. That is, the tool body can be in a single-contact (uneven load) state with respect to the surface to be processed. And by setting it as such a state, the load provided to a process target surface from a tool main body in the position per piece can be enlarged. Therefore, the processing target surface can be processed in a shorter time regardless of the difference in the skill of the operator.
In addition, by providing an adjustment unit, even if it is difficult to change the work posture due to constraints such as the work space of the worker and the position of the work scaffold, The inclination direction and the inclination angle can be changed. Therefore, it is necessary to process the surface to be processed more efficiently.
Further, by controlling the adjustment unit by the control unit, it is possible to automatically change the region where the load from the tool body to the processing target surface is large. For this reason, it is not necessary for the operator to manually adjust the adjustment unit appropriately according to the shape of the surface to be processed to change the inclination direction of the opposing surface of the tool body. Therefore, the processing target surface can be easily and uniformly processed. Furthermore, the degree of wear of the opposing surface can be made uniform by changing the inclination direction of the opposing surface in the tool body over time, and the durability of the tool body can be improved.

このような調整部を設けることで、作業者の作業スペースや作業の足場の位置等の制約によって作業姿勢を変えることが難しい場合であっても、自動的に工具本体における対向面の傾斜状態、即ち、傾斜方向及び傾斜角度を変化させることが可能となる。従って、さらに効率的に加工対象面の加工が必要となる。   By providing such an adjustment unit, even if it is difficult to change the work posture due to constraints such as the work space of the worker and the position of the work scaffold, the inclined state of the opposing surface in the tool body automatically, That is, the tilt direction and tilt angle can be changed. Therefore, it is necessary to process the surface to be processed more efficiently.

このような制御部によって調整部を制御することで、工具本体から加工対象面への荷重が大きくなっている領域を自動的に変化させることができる。このため、作業者が加工対象面の形状に合わせて適宜、調整部を手動で調整して工具本体の対向面の傾斜方向を変更する必要がなくなる。従って、加工対象面の加工を容易に、均一に行うことが可能となる。さらに、工具本体における対向面の傾斜方向を時間変化させることで、対向面の消耗度合いを均一にすることができ、工具本体の耐久性を向上することができる。   By controlling the adjustment unit with such a control unit, it is possible to automatically change the region where the load from the tool body to the processing target surface is large. For this reason, it is not necessary for the operator to manually adjust the adjustment unit appropriately according to the shape of the surface to be processed to change the inclination direction of the opposing surface of the tool body. Therefore, the processing target surface can be easily and uniformly processed. Furthermore, the degree of wear of the opposing surface can be made uniform by changing the inclination direction of the opposing surface in the tool body over time, and the durability of the tool body can be improved.

また、前記傾斜機構は、前記工具本体における前記対向面の傾斜角度を所定の時間が経過する毎に変化させるように前記調整部を制御する制御部を有していてもよい。
さらに、本発明の一態様に係る押込調整装置は、加工対象面に当接可能とされる工具本体を支持する把持部と、前記把持部と前記工具本体との間に設けられて、該工具本体が前記加工対象面に当接した際に、前記工具本体を前記加工対象面に対して傾斜して支持可能な傾斜機構と、を備え、前記傾斜機構は、前記工具本体における前記加工対象面に対向する対向面の前記加工対象面に対する傾斜状態を変化させる調整部と、前記工具本体における前記対向面の傾斜角度を一定とした状態で所定時間が経過した後に、該傾斜角度を変化させるように前記調整部を制御する制御部と、を有する。 Moreover, the said inclination mechanism may have a control part which controls the said adjustment part so that the inclination angle of the said opposing surface in the said tool main body may be changed whenever predetermined time passes.
Furthermore, the indentation adjusting apparatus according to one aspect of the present invention is provided with a gripping portion that supports a tool body that can be brought into contact with a surface to be processed, and is provided between the gripping portion and the tool body. An inclination mechanism capable of supporting the tool body by inclining with respect to the surface to be processed when the main body abuts on the surface to be processed, and the inclination mechanism includes the surface to be processed in the tool body. And an adjustment unit that changes the inclination state of the opposing surface with respect to the surface to be processed, and the inclination angle is changed after a predetermined time has passed with the inclination angle of the opposing surface in the tool body being constant. And a control unit for controlling the adjustment unit.

このような制御部によって調整部を制御することで、対向面の内側から外側（又は外側から内側）に向かって、工具本体から加工対象面へ付与される荷重が大きくなっている領域を自動的に変化させることができる。このため、作業者が加工対象面の形状に合わせて適宜、調整部を手動で調整して工具本体における対向面の傾斜角度を変更する必要がなくなる。従って、加工対象面の加工を容易に、均一に行うことが可能となる。さらに、工具本体における対向面の傾斜角度を時間変化させることで、対向面の消耗度合いを均一にすることができ、工具本体の耐久性を向上することができる。   By controlling the adjustment unit with such a control unit, the region where the load applied from the tool body to the processing target surface is increased automatically from the inside to the outside (or from the outside to the inside) of the opposing surface. Can be changed. For this reason, it is not necessary for the operator to manually adjust the adjustment unit appropriately according to the shape of the surface to be processed to change the inclination angle of the facing surface in the tool body. Therefore, the processing target surface can be easily and uniformly processed. Furthermore, the degree of wear of the opposing surface can be made uniform by changing the inclination angle of the opposing surface in the tool body over time, and the durability of the tool body can be improved.

また、本発明の一態様に係る研磨装置は、上記の押込調整装置と、前記押込調整装置によって支持されるとともに前記加工対象面の研磨加工を行う工具本体と、を備えている。   A polishing apparatus according to an aspect of the present invention includes the above-described indentation adjusting apparatus, and a tool main body that is supported by the indentation adjusting apparatus and that polishes the surface to be processed.

このような研磨装置によれば、押込調整装置を備えていることで、加工対象面に対して工具本体を片当たりの状態とすることができ、この片当たりの位置で工具本体から加工対象面への荷重を大きくすることができる。従って、作業者の技量の違いによらず、より短時間で加工対象面の加工を行うことができる。   According to such a polishing apparatus, by providing the indentation adjusting device, the tool body can be brought into a piece-to-piece state with respect to the machining target surface, and the machining target surface is moved from the tool body to the position of the piece. The load on can be increased. Therefore, the processing target surface can be processed in a shorter time regardless of the difference in the skill of the operator.

本発明の押込調整装置、及び研磨装置によれば、工具本体を加工対象面に対して傾斜して支持する傾斜機構を設けたことで、加工対象面を容易に、かつ、安定して効率的に加工することが可能となる。   According to the indentation adjusting device and the polishing device of the present invention, by providing the tilt mechanism for tilting and supporting the tool body with respect to the surface to be processed, the surface to be processed can be easily, stably and efficiently. Can be processed.

本発明の参考例に係る研磨装置を説明する斜視図である。It is a perspective view explaining the polish device concerning a reference example of the present invention. 本発明の参考例に係る研磨装置を説明する上面図である。It is a top view explaining the polish device concerning a reference example of the present invention. 本発明の参考例に係る研磨装置を説明する側面図である。It is a side view explaining the polish device concerning a reference example of the present invention. 本発明の参考例に係る研磨装置を説明する概略側面図であって、（ａ）は研磨加工を行う前後の状態を示し、（ｂ）は研磨工具が加工対象面に片当たりしつつ研磨加工を行う場合の状態を示す。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a schematic side view explaining the grinding | polishing apparatus which concerns on the reference example of this invention, Comprising : (a) shows the state before and behind performing a grinding process, (b) The state when performing is shown. 本発明の参考例に係る研磨装置における研磨工具が、加工対象面に片当たりしている際の加工対象面に付与される荷重の大きさの分布を示す概略斜視図であって、（ａ）に第一の例を、（ｂ）に第二の例を示す。It is a schematic perspective view which shows distribution of the magnitude | size of the load provided to the process target surface at the time of the polishing tool in the polishing apparatus which concerns on the reference example of this invention hitting the process target surface, (a) A first example is shown in FIG. 2, and a second example is shown in FIG. 本発明の第一実施形態に係る研磨装置における研磨工具が、加工対象面に片当たりしている場合の加工対象面に付与される荷重の分布、及び研磨工具の状態を示す図であって、（ａ）から（ｃ）は加工対象面での荷重の大きさの分布の変化を時系列で示す上面図であり、（ｄ）は研磨工具の状態を示す側面図であり、（ｅ）は研磨ディスクにおける研磨領域を示す上面図である。The polishing tool in the polishing apparatus according to the first embodiment of the present invention is a diagram showing the distribution of the load applied to the processing target surface when the polishing tool hits the processing target surface, and the state of the polishing tool, (A) to (c) are top views showing the change in the distribution of the magnitude of the load on the surface to be processed in time series, (d) is a side view showing the state of the polishing tool, and (e) is a side view. It is a top view which shows the grinding | polishing area | region in a grinding | polishing disk. 本発明の第二実施形態に係る研磨装置における研磨工具が、加工対象面に片当たりしていない場合の加工対象面に付与される荷重の分布、及び研磨工具の状態を示す図であって、（ａ）は加工対象面での荷重の大きさの分布を示す上面図であり、（ｂ）は研磨工具の状態を示す側面図であり、（ｃ）は研磨ディスクにおける研磨領域を示す上面図である。The polishing tool in the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention is a diagram showing the distribution of the load applied to the processing target surface when the polishing tool does not hit the processing target surface, and the state of the polishing tool, (A) is a top view showing the distribution of the magnitude of the load on the surface to be processed, (b) is a side view showing the state of the polishing tool, and (c) is a top view showing the polishing region in the polishing disk. It is. 本発明の第二実施形態に係る研磨装置における研磨工具が、加工対象面に片当たりしている場合の加工対象面に付与される荷重の分布、及び研磨工具の状態を示す図であって、（ａ）から（ｃ）は加工対象面での荷重の大きさの分布の変化を時系列で示す上面図であり、（ｄ）は研磨工具の状態を示す側面図であり、（ｅ）は研磨ディスクにおける研磨領域を示す上面図である。The polishing tool in the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention is a diagram showing the distribution of the load applied to the surface to be processed when the polishing tool is in contact with the surface to be processed, and the state of the polishing tool, (A) to (c) are top views showing the change in the distribution of the magnitude of the load on the surface to be processed in time series, (d) is a side view showing the state of the polishing tool, and (e) is a side view. It is a top view which shows the grinding | polishing area | region in a grinding | polishing disk. 本発明の第二実施形態に係る研磨装置における研磨工具が、加工対象面に対して最も大きく傾いた状態で片当たりしている場合の加工対象面に付与される荷重の分布、及び研磨工具の状態を示す図であって、（ａ）から（ｃ）は加工対象面での荷重の大きさの分布の変化を時系列で示す上面図であり、（ｄ）は研磨工具の状態を示す側面図であり、（ｅ）は研磨ディスクにおける研磨領域を示す上面図である。The distribution of the load applied to the surface to be processed when the polishing tool in the polishing apparatus according to the second embodiment of the present invention is in a state of being most inclined with respect to the surface to be processed, and the polishing tool It is a figure which shows a state, Comprising: (a)-(c) is a top view which shows the change of the distribution of the magnitude | size of the load in a process target surface in time series, (d) is a side view which shows the state of a polishing tool It is a figure and (e) is a top view which shows the grinding | polishing area | region in a grinding | polishing disk.

〔参考例〕
以下、本発明に係る参考例の研磨装置１について説明する。
本参考例の研磨装置１は、研磨ディスク部１０ａを有する公知の加工工具である研磨工具１０（工具本体）と、研磨工具１０を支持して加工対象面２０に対して研磨加工を行う際に使用される押込調整装置３とを備えている。 [ Reference example ]
Hereinafter, a polishing apparatus 1 of a reference example according to the present invention will be described.
The polishing apparatus 1 according to the present reference example performs polishing on the processing target surface 20 while supporting the polishing tool 10 (tool body), which is a known processing tool having the polishing disk portion 10a, and the polishing tool 10. And an indentation adjusting device 3 to be used.

本参考例で使用する研磨工具１０としては、図１から図３に示すような３Ｍ社製のダブルアクションサンダーを用いている。そして、研磨工具１０は、加工対象面２０に当接可能とされた円盤状の研磨ディスク部１０ａと、研磨ディスク部１０ａを回転させるエアモータ（不図示）に空気を供給するエア源１０ｃと、エア源１０ｃから上記エアモータへの空気の供給量を調整する電磁バルブ１０ｄと、研磨工具１０の上部に配置されるレバー１０ｆと、レバー１０ｆと連動し電磁バルブ１０ｄの開閉量を調整するスイッチ部１０ｅと、を有している。 As the polishing tool 10 used in this reference example , a double action sander manufactured by 3M as shown in FIGS. 1 to 3 is used. The polishing tool 10 includes a disk-shaped polishing disk portion 10a that can be brought into contact with the processing target surface 20, an air source 10c that supplies air to an air motor (not shown) that rotates the polishing disk portion 10a, An electromagnetic valve 10d that adjusts the amount of air supplied from the source 10c to the air motor, a lever 10f that is disposed above the polishing tool 10, and a switch portion 10e that adjusts the opening and closing amount of the electromagnetic valve 10d in conjunction with the lever 10f. ,have.

研磨工具１０では、上部からレバー１０ｆが押しこまれることでスイッチ部１０ｅによって電磁バルブ１０ｄが開放され、上記エアモータにエア源１０ｃから空気が供給されて研磨ディスク部１０ａが軸線Ｏを中心として回転し、加工対象面２０を研磨する。そして、研磨ディスク部１０ａでは、レバー１０ｆによってスイッチ部１０ｅが押されることで電磁バルブ１０ｄの開閉量が調整され、上記エアモータへの空気の供給量が調整されて回転数が調整可能となっている。   In the polishing tool 10, the electromagnetic valve 10d is opened by the switch portion 10e when the lever 10f is pushed in from above, and air is supplied from the air source 10c to the air motor, and the polishing disc portion 10a rotates about the axis O. The surface 20 to be processed is polished. In the polishing disk portion 10a, the opening / closing amount of the electromagnetic valve 10d is adjusted by pressing the switch portion 10e by the lever 10f, and the amount of air supplied to the air motor is adjusted so that the rotation speed can be adjusted. .

加工対象面２０は、塗装が施された加工対象物の塗装面である。即ち、下地層の上から下地層と色の異なる塗料が吹き付けられることで形成された塗膜の表面である。本参考例では、再塗装するために下地層を残して塗膜のみを研磨し剥離する場合に研磨工具１０を用いることを想定している。また、本参考例の加工対象面２０は、曲面形状をなしている場合を想定している。 The processing target surface 20 is a painted surface of a processing target that has been coated. That is, the surface of the coating film formed by spraying a paint having a color different from that of the base layer from above the base layer. In this reference example , it is assumed that the polishing tool 10 is used in the case where only the coating film is polished and peeled while leaving the base layer for repainting. Further, it is assumed that the processing target surface 20 of this reference example has a curved surface shape.

押込調整装置３は、図１から図４に示すように、研磨工具１０を支持する把持部４と、把持部４と研磨工具１０との間に設けられた傾斜機構６０とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 4, the indentation adjusting device 3 includes a grip portion 4 that supports the polishing tool 10, and an inclination mechanism 60 that is provided between the grip portion 4 and the polishing tool 10.

把持部４は、研磨ディスク部１０ａを加工対象面２０に押し付ける際に、作業者によって把持可能であるとともに研磨工具１０に一体に固定されて研磨工具１０を支持している。
この把持部４は、研磨工具１０の外周に沿って配置される外周把持部材４２を有している。 The gripping part 4 supports the polishing tool 10 by being fixed to the polishing tool 10 and being fixed integrally with the polishing tool 10 when the polishing disk part 10a is pressed against the surface 20 to be processed.
The grip portion 4 has an outer peripheral grip member 42 disposed along the outer periphery of the polishing tool 10.

外周把持部材４２は、薄板状をなす金属板によって形成され、一端を切り欠かれたリング状をなして研磨工具１０の外周に沿って配置されている。   The outer periphery gripping member 42 is formed of a thin metal plate and is arranged along the outer periphery of the polishing tool 10 in a ring shape with one end cut out.

傾斜機構６０は、把持部４と研磨ディスク部１０ａとの間に配されて、研磨ディスク部１０ａを加工対象面２０に対して近接する方向、及び離間する方向に移動させる。そして、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に当接した状態で加工対象面２０に対して荷重Ｆを作用させるように、把持部４に対する研磨ディスク部１０ａの相対位置を調整する。   The tilt mechanism 60 is disposed between the grip portion 4 and the polishing disc portion 10a, and moves the polishing disc portion 10a in a direction toward and away from the processing target surface 20. Then, the relative position of the polishing disk portion 10a with respect to the grip portion 4 is adjusted so that the load F is applied to the processing target surface 20 in a state where the polishing disk portion 10a is in contact with the processing target surface 20.

この傾斜機構６０は、把持部４と研磨ディスク部１０ａとの間に配されて流体ＦＬの圧力によって駆動されるアクチュエータ６１、及び研磨ディスク部１０ａに付勢力を付与する付勢部材６２と、アクチュエータ６１へ流体ＦＬを供給する流体供給部６５と、アクチュエータ６１及び付勢部材６２と、把持部４との間に介在されるとともに研磨工具１０を加工対象面２０上に支持する支持部５１とを有している。   The tilt mechanism 60 includes an actuator 61 disposed between the grip portion 4 and the polishing disk portion 10a and driven by the pressure of the fluid FL, a biasing member 62 that applies a biasing force to the polishing disk portion 10a, and an actuator. A fluid supply unit 65 that supplies fluid FL to 61, an actuator 61 and a biasing member 62, and a support unit 51 that is interposed between the gripping unit 4 and supports the polishing tool 10 on the processing target surface 20. Have.

流体供給部６５は、流体ＦＬとして、例えば空気等の圧力によってアクチュエータ６１を駆動する。流体ＦＬは、工場エア等の流体源７３からアクチュエータ６１に導入される。また、流体供給部６５は、流体源７３とアクチュエータ６１との間を接続する配管７１を有し、さらに、この配管７１に設けられた電磁弁装置７０を有している。
なお、アクチュエータ６１を駆動する流体ＦＬには油を用いることも可能であるし、油と空気を併用することも可能である。 The fluid supply unit 65 drives the actuator 61 as the fluid FL by a pressure such as air. The fluid FL is introduced into the actuator 61 from a fluid source 73 such as factory air. The fluid supply unit 65 includes a pipe 71 that connects between the fluid source 73 and the actuator 61, and further includes an electromagnetic valve device 70 provided in the pipe 71.
In addition, oil can be used for the fluid FL that drives the actuator 61, and oil and air can be used in combination.

電磁弁装置７０は不図示の制御装置で制御され、アクチュエータ６１への流体ＦＬの供給圧力、及び供給の有無を切り替えることで、アクチュエータ６１の動作を制御する。   The solenoid valve device 70 is controlled by a control device (not shown), and controls the operation of the actuator 61 by switching the supply pressure of the fluid FL to the actuator 61 and the presence or absence of the supply.

アクチュエータ６１は、複数が研磨ディスク部１０ａの周方向に互いに等間隔に設けられている。なお、本参考例ではこのアクチュエータ６１は三つが設けられている。 A plurality of actuators 61 are provided at equal intervals in the circumferential direction of the polishing disk portion 10a. In this reference example , three actuators 61 are provided.

各々のアクチュエータ６１は、筒状のシリンダ８０と、シリンダ８０に対して摺動しながら把持部４から研磨工具１０に向かって進退可能に設けられたピストン８１とを有している。   Each actuator 61 includes a cylindrical cylinder 80 and a piston 81 that is slidable with respect to the cylinder 80 and that is capable of moving forward and backward from the grip portion 4 toward the polishing tool 10.

シリンダ８０の側面であって、ピストン８１よりも研磨工具１０側の位置には流体供給ポート８０ａが形成されている。流体供給ポート８０ａには電磁弁装置７０からの配管７１が接続されており、流体ＦＬが導入されるようになっている。流体ＦＬがシリンダ８０内に導入されると、ピストン８１を把持部４に向かって押し上げることで、把持部４に対する研磨ディスク部１０ａの相対位置が調整される。   A fluid supply port 80 a is formed on the side surface of the cylinder 80 at a position closer to the polishing tool 10 than the piston 81. A pipe 71 from the electromagnetic valve device 70 is connected to the fluid supply port 80a so that the fluid FL is introduced. When the fluid FL is introduced into the cylinder 80, the relative position of the polishing disk portion 10a with respect to the grip portion 4 is adjusted by pushing up the piston 81 toward the grip portion 4.

ここで、本参考例では、傾斜機構６０は、各々のアクチュエータ６１におけるピストン８１の移動量を個別に調整可能な調整部１００を有している。 Here, in the present reference example , the tilt mechanism 60 includes the adjustment unit 100 that can individually adjust the movement amount of the piston 81 in each actuator 61.

調整部１００としては、各々のアクチュエータ６１と電磁弁装置７０との間で配管７１に設けられた弁装置等が用いられる。   As the adjustment unit 100, a valve device or the like provided in the pipe 71 between each actuator 61 and the electromagnetic valve device 70 is used.

そして、作業者が調整部１００を手動で調整し、即ち、手動で上記弁装置の開度を調整することで、研磨工具１０における加工対象面２０に対向する対向面である研磨ディスク部１０ａの表面の加工対象面２０に対する傾斜状態を変化させるようになっている（図４（ｂ）参照）。ここでいう傾斜状態とは、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向及び傾斜角度のうちの少なくとも一方を示す。
なお、調整部１００と電磁弁装置７０とは、上述のように別体で設けられてもよいし、一体で設けられてもよい。 Then, the operator manually adjusts the adjustment unit 100, that is, manually adjusts the opening degree of the valve device, so that the polishing disk 10 has a polishing disk unit 10 a that is a surface facing the processing target surface 20. The inclination state of the surface with respect to the processing target surface 20 is changed (see FIG. 4B). The tilted state here indicates at least one of the tilt direction and the tilt angle of the surface of the polishing disk portion 10a.
The adjustment unit 100 and the electromagnetic valve device 70 may be provided separately as described above or may be provided integrally.

付勢部材６２は、例えばコイルバネ等の弾性部材であって、シリンダ８０内のピストン８１よりも把持部４側で、シリンダ８０の底面とピストン８１との間に介在されている。
この付勢部材６２は、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に対して荷重Ｆを付与し、加工対象面２０に当接している状態で、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０から離間するように付勢力を付与している。 The biasing member 62 is an elastic member such as a coil spring, for example, and is interposed between the bottom surface of the cylinder 80 and the piston 81 on the grip 4 side of the piston 81 in the cylinder 80.
The urging member 62 applies a load F to the processing target surface 20 by the polishing disk portion 10 a so that the polishing disc portion 10 a is separated from the processing target surface 20 in a state of being in contact with the processing target surface 20. Is given an urging force.

より具体的には、付勢部材６２は、流体供給部６５からの流体ＦＬの圧力がシリンダ８０内に作用しない状態で、付勢部材６２の付勢力によって研磨工具１０を把持部４側に持ち上げ可能な程度に、研磨工具１０の自重等を考慮してバネ定数が決定されている。
なお、付勢部材６２には、ゴム部材や板バネ等、様々な弾性部材を適用可能である。 More specifically, the urging member 62 lifts the polishing tool 10 toward the gripper 4 by the urging force of the urging member 62 in a state where the pressure of the fluid FL from the fluid supply unit 65 does not act on the cylinder 80. The spring constant is determined in consideration of the weight of the polishing tool 10 and the like as much as possible.
Note that various elastic members such as a rubber member and a leaf spring can be applied to the urging member 62.

支持部５１は、各アクチュエータ６１に対応するように、把持部４の周りに離間して複数配置されている。本参考例では、三つが互いに周方向に等間隔に離間して配置されている。（なお、図示都合上、図４では三つの支持部５１のうち二つのみが記載されている。） A plurality of support portions 51 are arranged around the grip portion 4 so as to correspond to the actuators 61. In this reference example , the three are arranged at equal intervals in the circumferential direction. (For convenience of illustration, only two of the three support portions 51 are shown in FIG. 4).

各々の支持部５１は、研磨加工の前後にわたって加工対象面２０上に接触して研磨工具１０を加工対象面２０上に支持する。また研磨加工を行う前後の初期状態では、支持部５１が加工対象面２０上に接触した状態で、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０から離間するように、支持部５１が研磨ディスク部１０ａよりも加工対象面２０側に突出するように設けられている（図４（ａ）参照）。   Each supporting portion 51 supports the polishing tool 10 on the processing target surface 20 by contacting the processing target surface 20 before and after the polishing process. Further, in the initial state before and after performing the polishing process, the support unit 51 is more than the polishing disk unit 10a so that the polishing disk unit 10a is separated from the processing target surface 20 while the support unit 51 is in contact with the processing target surface 20. Is also provided so as to protrude toward the processing target surface 20 (see FIG. 4A).

この支持部５１は、加工対象面２０に当接した状態で回転する球面ローラ部５１ａと、球面ローラ部５１ａと一体に接続される支持部ロッド５１ｂと、支持部ロッド５１ｂを外周把持部材４２に固定する支持部接続部材５１ｃとを有している。   The support portion 51 includes a spherical roller portion 51a that rotates while being in contact with the processing target surface 20, a support portion rod 51b that is integrally connected to the spherical roller portion 51a, and the support portion rod 51b that serves as the outer gripping member 42. It has the support part connection member 51c to fix.

球面ローラ部５１ａは、回転可能に配置された球状部材を有しており、加工対象面２０に当接して球状部材が回転することで、加工対象面２０上で研磨装置１全体を移動可能としている。   The spherical roller portion 51 a has a spherical member that is rotatably arranged. The spherical member rotates by contacting the processing target surface 20, so that the entire polishing apparatus 1 can be moved on the processing target surface 20. Yes.

支持部ロッド５１ｂは、球面ローラ部５１ａから鉛直方向上方に円柱状をなして延びる棒部材であり、球面ローラ部５１ａが設けられた端部とは反対側の端部に、雄ねじ部５１ｂ１が形成されている。   The support rod 51b is a rod member that extends in a columnar shape vertically upward from the spherical roller portion 51a, and a male screw portion 51b1 is formed at the end opposite to the end where the spherical roller portion 51a is provided. Has been.

支持部接続部材５１ｃは、矩形板状の金属板で、雌ねじ部５１ｃ１が形成された孔部が一方の端部に形成されている。そして、この雌ねじ部５１ｃ１に支持部ロッド５１ｂの雄ねじ部５１ｂ１が螺合することで、支持部接続部材５１ｃが支持部ロッド５１ｂに固定されている。また、この支持部接続部材５１ｃは、雌ねじ部５１ｃ１の形成されていない側の他方の端部で外周把持部材４２に固定されている。   The support portion connecting member 51c is a rectangular plate-like metal plate, and a hole portion in which the female screw portion 51c1 is formed is formed at one end portion. And the support part connecting member 51c is being fixed to the support part rod 51b because the external thread part 51b1 of the support part rod 51b is screwed to this internal thread part 51c1. Further, the support portion connecting member 51c is fixed to the outer peripheral gripping member 42 at the other end portion on the side where the female screw portion 51c1 is not formed.

ここで、図４、及び図５を参照して、研磨加工時の研磨工具１０の傾斜動作の様子を説明する。
加工対象面２０の研磨加工を行う際には、加工対象面２０に支持部５１の球面ローラ部５１ａを接触させる。その後、図４（ｂ）に示すように、電磁弁装置７０を制御し、流体ＦＬを流体源７３からアクチュエータ６１へ導入する。 Here, with reference to FIG. 4 and FIG. 5, the state of the tilting operation of the polishing tool 10 during the polishing process will be described.
When polishing the processing target surface 20, the spherical roller portion 51 a of the support portion 51 is brought into contact with the processing target surface 20. Thereafter, as shown in FIG. 4B, the electromagnetic valve device 70 is controlled to introduce the fluid FL from the fluid source 73 to the actuator 61.

さらに、調整部１００を調整し、各々のアクチュエータ６１におけるピストン８１の移動量を調整する。即ち、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示すように、研磨工具１０の軸線Ｏが加工対象面２０と交わる点Ｐを中心とした仮想円周Ｃ上で、互いに周方向に等間隔で離間する位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３での荷重を変化させる。
これら位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３は各々のアクチュエータ６１が設けられた位置に対応している。 Further, the adjustment unit 100 is adjusted to adjust the movement amount of the piston 81 in each actuator 61. That is, as shown in FIG. 5A and FIG. 5B, on the virtual circumference C centered on the point P where the axis O of the polishing tool 10 intersects the surface 20 to be machined, they are equally spaced in the circumferential direction. The load at the positions P 1 , P 2 , and P 3 that are separated from each other is changed.
These positions P 1 , P 2 , and P 3 correspond to the positions where the respective actuators 61 are provided.

具体的には、図５（ａ）に示す例では、周方向に隣接する位置Ｐ２と位置Ｐ３に対応するアクチュエータ６１におけるピストン８１の移動量を大きくし、アクチュエータ６１の伸び量を大きくすることで、位置Ｐ２、Ｐ３での荷重を大きくする。一方で、位置Ｐ２、Ｐ３に隣接する位置Ｐ１に対応するアクチュエータ６１の伸び量を小さくする（又は、動作させない）ことで位置Ｐ１での荷重を小さくする。 Specifically, in the example shown in FIG. 5 (a), to increase the amount of movement of the piston 81 of the actuator 61 corresponding to the position P 2 to the position P 3 adjacent in the circumferential direction, to increase the stretch amount of the actuator 61 Thus, the load at the positions P 2 and P 3 is increased. On the other hand, the load at the position P 1 is reduced by reducing (or not operating) the extension amount of the actuator 61 corresponding to the position P 1 adjacent to the positions P 2 and P 3 .

このように加工対象面２０での荷重分布を調整し、位置Ｐ２と位置Ｐ３との間の仮想円周Ｃに沿う領域Ａ１で加工対象面２０に研磨工具１０から作用する荷重Ｆ（研磨力）が大きくなった状態で研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に当接して、研磨加工が行われる。 Such a load distribution on the processed surface 20 is adjusted, the position the virtual circumference C in along the load acting from the polishing tool 10 to the processed surface 20 in the region A1 F (polishing between P 2 and the position P 3 The polishing disk portion 10a comes into contact with the processing target surface 20 in a state where the force) is increased, and polishing processing is performed.

また、図５（ｂ）に示す例では、位置Ｐ２での荷重を最大とし、位置Ｐ３での荷重を最小とし、位置Ｐ１での荷重を位置Ｐ２と位置Ｐ３との間の中間値に設定する。これにより、位置Ｐ２と位置Ｐ１との間の仮想円周Ｃに沿う領域であって、かつ、位置Ｐ２寄りの領域Ａ２で、加工対象面２０に研磨工具１０から作用する荷重Ｆ（研磨力）が大きくなった状態で研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に当接して、研磨加工が行われる。 Further, in the example shown in FIG. 5 (b), the load at the position P 2 to the maximum, the minimum load at position P 3, between positions P 2 and the position P 3 of the load at the position P 1 Set to an intermediate value. Thus, an area along the virtual circumference C between the position P 2 to the position P 1, and, at the position P 2 side of the region A2, a load acting from the polishing tool 10 to the processed surface 20 F ( In a state where the polishing force is increased, the polishing disk portion 10a comes into contact with the processing target surface 20, and polishing is performed.

このような研磨装置１によると、加工対象面２０の研磨加工を行う際には、アクチュエータ６１、即ち、押込調整装置３の傾斜機構６０によって、研磨工具１０が把持部４に対して相対移動される。さらに、加工対象面２０に対して研磨工具１０が傾斜した状態で研磨ディスク部１０ａを加工対象面２０に近接させ、当接させることができ、加工対象面２０に対して研磨工具１０を片当たり（偏荷重）の状態とし、研磨工具１０の加工対象面２０に対する接触状態を変化させることができる。そして、この片当たりの位置で加工対象面２０への荷重Ｆを大きくすることができる。   According to such a polishing apparatus 1, when polishing the processing target surface 20, the polishing tool 10 is moved relative to the grip portion 4 by the actuator 61, that is, the tilting mechanism 60 of the push adjustment device 3. The Furthermore, the polishing disc 10 a can be brought close to and brought into contact with the processing target surface 20 with the polishing tool 10 tilted with respect to the processing target surface 20. It is possible to change the contact state of the polishing tool 10 with respect to the processing target surface 20 in a state of (uneven load). And the load F to the process target surface 20 can be enlarged at the position per piece.

即ち、加工対象面２０の形状に応じて傾斜機構６０における各々のアクチュエータ６１の伸縮量を調整部１００によって調整することで、加工対象面２０上の任意の領域で、加工対象面２０への荷重Ｆを大きく作用させ、研磨加工することが可能となる。   In other words, the adjustment unit 100 adjusts the amount of expansion / contraction of each actuator 61 in the tilt mechanism 60 according to the shape of the processing target surface 20, so that the load applied to the processing target surface 20 in an arbitrary region on the processing target surface 20. F can be made to act greatly and polishing can be performed.

従って、作業者の技量の違いによらず、より短時間で加工対象面２０の加工を行うことができる。   Therefore, the processing target surface 20 can be processed in a shorter time regardless of the difference in the skill of the operator.

本参考例の研磨装置１によると、研磨工具１０を加工対象面２０に対して傾斜して支持する傾斜機構６０を設けたことで、加工対象面２０を容易に、かつ、安定して効率的に加工することが可能となる。 According to the polishing apparatus 1 of the present reference example , by providing the tilt mechanism 60 that tilts and supports the polishing tool 10 with respect to the processing target surface 20, the processing target surface 20 can be easily, stably and efficiently performed. Can be processed.

ここで、本参考例の研磨装置１では、傾斜機構６０によって研磨ディスク部１０ａを傾斜させる場合、加工対象面２０の傾斜方向に交差する方向で研磨ディスク部１０ａが片当たりするように傾斜させるとよい。即ち、加工対象面２０の傾斜方向と研磨ディスク部１０ａの傾斜方向とが交差しているとよい。特に、これらの加工対象面２０と研磨ディスク部１０ａの傾斜方向が直交する場合が好ましい。 Here, in the polishing apparatus 1 of the present reference example , when the polishing disk portion 10a is tilted by the tilt mechanism 60, if the polishing disk portion 10a is tilted so as to come into contact with one another in a direction crossing the tilt direction of the processing target surface 20. Good. That is, it is preferable that the inclination direction of the processing target surface 20 and the inclination direction of the polishing disk portion 10a intersect each other. In particular, it is preferable that the surface 20 to be processed and the inclination direction of the polishing disk portion 10a are orthogonal to each other.

〔第一実施形態〕
次に、図６を参照して、本発明の第一実施形態の研磨装置１Ａについて説明する。
参考例と同様の構成要素には同一の符号を付して詳細説明を省略する。
本実施形態の研磨装置１Ａは、傾斜機構６０が、さらに調整部１００を制御する制御部１１０を有している点で、参考例と異なっている。 [ First embodiment]
Next, with reference to FIG. 6, 1 A of polishing apparatuses of 1st embodiment of this invention are demonstrated.
The same components as those in the reference example are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
The polishing apparatus 1A of the present embodiment is different from the reference example in that the tilt mechanism 60 further includes a control unit 110 that controls the adjustment unit 100.

即ち、制御部１１０は、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向を所定の時間が経過する毎に変化させるように調整部１００を制御する。   That is, the control unit 110 controls the adjustment unit 100 so as to change the inclination direction of the surface of the polishing disk unit 10a every time a predetermined time elapses.

具体的には、制御部１１０は調整部１００に対して、予め定めた所定時間が経過する毎に、位置Ｐ１、Ｐ３での荷重が大きく、位置Ｐ２での荷重が小さい状態（図６（ａ）に示す状態）から、位置Ｐ２、Ｐ３での荷重が大きく、位置Ｐ１での荷重が小さい状態（図６（ｂ）に示す状態）へ変化させ、さらに、位置Ｐ１、Ｐ２での荷重が大きく、位置Ｐ３での荷重が小さい状態（図６（ｃ）に示す状態）へ変化させるように指令信号を発信する。 Specifically, with respect to the adjustment unit 100, the control unit 110 has a large load at the positions P 1 and P 3 and a small load at the position P 2 every time a predetermined time elapses (see FIG. 6 (a)) to a state where the load at the positions P 2 and P 3 is large and the load at the position P 1 is small (the state shown in FIG. 6 (b)), and further, the position P 1 , load at P 2 is large, transmits a command signal to change to state load is small at the position P 3 (the state shown in Figure 6 (c)).

そして、これらの状態変化を繰り返すことで、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜角度を一定として仮想円周Ｃの周方向に荷重が大きい位置を移動させていく。換言すると、研磨工具１０を加工対象面２０上で歳差運動させる。   Then, by repeating these state changes, the position at which the load is large is moved in the circumferential direction of the virtual circumference C with the inclination angle of the surface of the polishing disk portion 10a being constant. In other words, the polishing tool 10 is precessed on the processing target surface 20.

これにより、図６（ｄ）に示すように研磨工具１０の傾斜方向を時間変化させることで、図６（ｅ）に示す環状領域Ａ５のように、軸線Ｏを中心とした環状に、研磨ディスク部１０ａが摩耗する。   Accordingly, the polishing disk 10 is annularly formed around the axis O as shown in FIG. 6E by changing the inclination direction of the polishing tool 10 with time as shown in FIG. 6D. The portion 10a is worn.

本実施形態の研磨装置１Ａによると、制御部１１０によって調整部１００を制御することで、研磨工具１０から加工対象面２０への荷重Ｆが大きくなっている領域を自動的に変化させることができる。   According to the polishing apparatus 1A of the present embodiment, by controlling the adjustment unit 100 by the control unit 110, the region where the load F from the polishing tool 10 to the processing target surface 20 is large can be automatically changed. .

このため、作業者が加工対象面２０の形状に合わせて適宜、調整部１００を手動で調整して研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向を変更する必要がなくなる。従って、加工対象面２０の加工を容易に、均一に行うことが可能となる。   For this reason, it is not necessary for the operator to manually adjust the adjusting unit 100 according to the shape of the processing target surface 20 to change the inclination direction of the surface of the polishing disk unit 10a. Therefore, the processing target surface 20 can be processed easily and uniformly.

また、研磨工具１０の傾斜方向を時間変化させることで、軸線Ｏを中心とした環状に、加工対象面２０を研磨加工することができる。従って、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に接触する領域を時間変化させることができるため、研磨ディスク部１０ａの消耗度合いを均一にすることができる。   In addition, by changing the inclination direction of the polishing tool 10 with time, it is possible to polish the processing target surface 20 in an annular shape around the axis O. Therefore, since the region where the polishing disk portion 10a contacts the processing target surface 20 can be changed over time, the degree of wear of the polishing disk portion 10a can be made uniform.

さらに、研磨ディスク１０ａ全体を加工対象面２０に接触させることが可能となるため、研磨ディスク部１０ａの短時間での目詰まりを抑制することができる。この結果、研磨工具１０の耐久性を向上することができる。   Furthermore, since the entire polishing disc 10a can be brought into contact with the processing target surface 20, clogging of the polishing disc portion 10a in a short time can be suppressed. As a result, the durability of the polishing tool 10 can be improved.

〔第二実施形態〕
次に、図７から図９を参照して、本発明の第二実施形態の研磨装置１Ｂについて説明する。
参考例及び第一実施形態と同様の構成要素には同一の符号を付して詳細説明を省略する。
本実施形態の研磨装置１Ｂは、傾斜機構６０が第一実施形態の制御部１１０に加え、さらに調整部１００を制御する制御部１２０を有している点で、参考例及び第一実施形態と異なっている。
[ Second Embodiment]
Next, a polishing apparatus 1B according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
Constituent elements similar to those of the reference example and the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
Polishing device 1B of the present embodiment, the tilt mechanism 60 in addition to the control unit 110 of the first embodiment in that it includes a control unit 120 to further control the adjustment unit 100, the reference example and the first embodiment Is different.

即ち、制御部１２０は、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向及び傾斜角度を所定の時間が経過する毎に変化させるように調整部１００を制御する。   That is, the control unit 120 controls the adjustment unit 100 so as to change the tilt direction and tilt angle of the surface of the polishing disk unit 10a every time a predetermined time elapses.

具体的には、加工開始の時点では、図７（ｂ）に示すように、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜角度が０となっている場合、即ち、点Ｐを通る加工対象面２０上の任意の曲線の法線方向に軸線Ｏが一致している場合、位置Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３での荷重は均一な状態（図７（ａ）に示す状態）となっている。この状態では、図７（ｃ）に示す円状領域Ａ７のように、軸線Ｏを中心とした円状に、研磨ディスク部１０ａが摩耗する。 Specifically, at the start of processing, as shown in FIG. 7B, when the inclination angle of the surface of the polishing disk portion 10a is 0, that is, on the processing target surface 20 passing through the point P. When the axis O coincides with the normal direction of an arbitrary curve, the loads at the positions P 1 , P 2 , and P 3 are in a uniform state (the state shown in FIG. 7A). In this state, the polishing disc portion 10a is worn in a circular shape with the axis O as the center, as in a circular region A7 shown in FIG.

その後、図８（ｄ）に示すように、制御部１２０は調整部１００に対して、予め定めた所定時間が経過後に研磨ディスク部１０ａの表面に傾斜角度を付与するように制御を行う。
さらに、傾斜角度を一定とした状態で、制御部１２０は調整部１００に対して、予め定めた所定時間が経過する毎に研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向を変化させる。
即ち、制御部１２０は調整部１００に対して、位置Ｐ１、Ｐ３での荷重が大きく、位置Ｐ２での荷重が小さい状態（図８（ａ）に示す状態）から、位置Ｐ２、Ｐ３での荷重が大きく、位置Ｐ１での荷重が小さい状態（図８（ｂ）に示す状態）へ変化させるように指令信号を発信する。その後さらに、位置Ｐ１、Ｐ２での荷重が大きく、位置Ｐ３での荷重が小さい状態（図８（ｃ）に示す状態）へ変化させるように指令信号を発信する。
そしてこれらの状態変化を繰り返すことで、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜角度を一定として、仮想円周Ｃの周方向に荷重が大きい位置を移動させていく。 Thereafter, as shown in FIG. 8D, the control unit 120 controls the adjustment unit 100 so as to give an inclination angle to the surface of the polishing disk unit 10a after a predetermined time has elapsed.
Further, the control unit 120 changes the inclination direction of the surface of the polishing disk unit 10a to the adjustment unit 100 every time a predetermined time elapses with the inclination angle being constant.
That is, the control unit 120 for adjusting portion 100, a large load at the position P 1, P 3, the state load at position P 2 is small (the state shown in FIG. 8 (a)), the position P 2, A command signal is transmitted so that the load at P 3 is large and the load at position P 1 is small (the state shown in FIG. 8B). After that, a command signal is transmitted so that the load at the positions P 1 and P 2 is large and the load at the position P 3 is small (the state shown in FIG. 8C).
By repeating these state changes, the inclination angle of the surface of the polishing disk portion 10a is made constant, and the position where the load is large is moved in the circumferential direction of the virtual circumference C.

これにより、図８（ｅ）に示す第一環状領域Ａ１０のように、軸線Ｏを中心とした環状に、研磨ディスク部１０ａが摩耗する。   As a result, as in the first annular region A10 shown in FIG. 8 (e), the polishing disk portion 10a is worn in an annular shape centered on the axis O.

さらにその後、図９（ｄ）に示すように、制御部１２０は調整部１００に対して予め定めた所定時間が経過後に研磨ディスク部１０ａの表面にさらに大きな傾斜角度を付与するように制御を行う。
そして、傾斜角度を一定とした状態で、制御部１２０は調整部１００に対して、予め定めた所定時間が経過する毎に研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向を変化させる。
即ち、制御部１２０は調整部１００に対して、上述した図８に示す場合と同様に、図９（ａ）、図９（ｂ）、及び図９（ｃ）に示す状態間で変化を繰り返すように、指令信号を発信し、研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜角度を一定として、仮想円周Ｃの周方向に荷重が大きい位置を移動させていく。 After that, as shown in FIG. 9D, the control unit 120 controls the adjustment unit 100 to give a larger inclination angle to the surface of the polishing disk unit 10a after a predetermined time has elapsed. .
And the control part 120 changes the inclination direction of the surface of the grinding | polishing disk part 10a with respect to the adjustment part 100, every time the predetermined predetermined time passes in the state which made the inclination angle constant.
That is, the control unit 120 repeats the change between the states shown in FIGS. 9A, 9B, and 9C with respect to the adjusting unit 100, as in the case shown in FIG. As described above, the command signal is transmitted, and the position where the load is large is moved in the circumferential direction of the virtual circumference C, with the inclination angle of the surface of the polishing disk portion 10a being constant.

これにより、図９（ｅ）に示す第二環状領域Ａ２０のように、軸線Ｏを中心とした環状に、研磨ディスク部１０ａが摩耗する。そして、この第二環状領域Ａ２０は、第一環状領域Ａ１０よりも軸線Ｏの径方向外側に位置している。   As a result, as in the second annular region A20 shown in FIG. 9E, the polishing disk portion 10a is worn in an annular shape centered on the axis O. And this 2nd cyclic | annular area | region A20 is located in the radial direction outer side of the axis line O rather than 1st cyclic | annular area | region A10.

本実施形態の研磨装置１Ｂによると、制御部１２０によって調整部１００を制御することで、研磨工具１０から加工対象面２０への荷重Ｆが大きくなっている領域を周方向及び径方向に自動的に変化させることができる。   According to the polishing apparatus 1B of the present embodiment, the control unit 120 controls the adjustment unit 100, so that the region where the load F from the polishing tool 10 to the processing target surface 20 is large is automatically performed in the circumferential direction and the radial direction. Can be changed.

このため、作業者が適宜、調整部１００を手動で調整して研磨ディスク部１０ａの表面の傾斜方向及び傾斜角度を変更する必要がなくなり、加工対象面２０の加工を容易に、均一に行うことが可能となる。   For this reason, it is not necessary for the operator to manually adjust the adjustment unit 100 to change the inclination direction and the inclination angle of the surface of the polishing disk unit 10a, and the processing target surface 20 can be processed easily and uniformly. Is possible.

また、研磨工具１０の傾斜方向及び傾斜角度を時間変化させることで軸線Ｏを中心とした環状に、加工対象面２０を研磨加工することができるとともに、軸線Ｏの径方向に広がるように加工を行うことができる。   In addition, by changing the inclination direction and the inclination angle of the polishing tool 10 over time, the processing target surface 20 can be polished in an annular shape around the axis O and processed so as to spread in the radial direction of the axis O. It can be carried out.

従って、研磨ディスク部１０ａが加工対象面２０に接触する領域を時間変化させることができるため、研磨ディスク部１０ａの消耗度合いを均一にすることができる。また、研磨ディスク１０ａの表面の広い範囲を加工対象面２０に接触させることができ、研磨ディスク部１０ａの短時間での目詰まりを抑制することができる。この結果、研磨工具１０の耐久性を向上することができる。   Therefore, since the region where the polishing disk portion 10a contacts the processing target surface 20 can be changed over time, the degree of wear of the polishing disk portion 10a can be made uniform. In addition, a wide range of the surface of the polishing disc 10a can be brought into contact with the processing target surface 20, and clogging of the polishing disc portion 10a in a short time can be suppressed. As a result, the durability of the polishing tool 10 can be improved.

なお、本実施形態では、制御部１２０が研磨工具１０の傾斜方向と傾斜角度との両方を変更するように調整部１００を制御するようにしているが、傾斜角度のみを制御し、研磨工具１０が往復動作するようにしてもよい。   In the present embodiment, the control unit 120 controls the adjustment unit 100 so as to change both the tilt direction and the tilt angle of the polishing tool 10, but only the tilt angle is controlled and the polishing tool 10 is controlled. May reciprocate.

以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は実施形態によって限定されることはなく、クレームの範囲によってのみ限定される。   The embodiment of the present invention has been described in detail with reference to the drawings, but each configuration in the embodiment and combinations thereof are examples, and additions, omissions, and configurations of the configurations are within the scope not departing from the gist of the present invention. Substitutions and other changes are possible. Further, the present invention is not limited by the embodiments, and is limited only by the scope of the claims.

例えば、上述の実施形態では、傾斜機構６０におけるアクチュエータ６１は、少なくとも二つが、互いに研磨ディスク部１０ａの周方向に離間して設けられていればよい。   For example, in the above-described embodiment, at least two actuators 61 in the tilt mechanism 60 need only be provided apart from each other in the circumferential direction of the polishing disk portion 10a.

また、上述の実施形態では、研磨ディスク部１０ａが回転することで加工対象面２０の研磨加工を行うようになっている回転式の研磨装置について説明したが、研磨ディスク部１０ａが振動や揺動することで研磨加工を行う振動式や揺動式の研磨装置に、上述の実施形態の構成を適用してもよい。   Further, in the above-described embodiment, the description has been given of the rotary type polishing apparatus in which the polishing target surface 20 is polished by the rotation of the polishing disk unit 10a. However, the polishing disk unit 10a is vibrated or oscillated. Thus, the configuration of the above-described embodiment may be applied to a vibration-type or swing-type polishing apparatus that performs polishing.

上記の押込調整装置、及び研磨装置よると、工具本体を加工対象面に対して傾斜して支持する傾斜機構を設けたことで、加工対象面を容易に、かつ、安定して効率的に加工することが可能となる。   According to the indentation adjusting device and the polishing device described above, by providing an inclination mechanism that supports the tool body in an inclined manner with respect to the surface to be processed, the surface to be processed is easily and stably processed efficiently. It becomes possible to do.

１、１Ａ、１Ｂ…研磨装置
３…押込調整装置
４…把持部
１０…研磨工具
１０ａ…研磨ディスク部
１０ｃ…エア源
１０ｄ…電磁バルブ
１０ｆ…レバー
１０ｅ…スイッチ部
２０…加工対象面
４２…外周把持部材
５１…支持部
５１ａ…球面ローラ部
５１ｂ…支持部ロッド
５１ｂ１…雄ねじ部
５１ｃ…支持部接続部材
５１ｃ１…雌ねじ部
６０…傾斜機構
６１…アクチュエータ
６２…付勢部材
６５…流体供給部
７０…電磁弁装置
７１…配管
７３…流体源
８０…シリンダ
８０ａ…流体供給ポート
８１…ピストン
１００…調整部
１１０…制御部
１２０…制御部
Ｏ…軸線
Ｃ…仮想円周
Ｐ…点
Ｐ１、Ｐ２、Ｐ３…位置
Ａ１…領域
Ａ２…領域
Ａ５…環状領域
Ａ７…円状領域
Ａ１０…第一環状領域
Ａ２０…第二環状領域
Ｆ…荷重
ＦＬ…流体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1B ... Polishing apparatus 3 ... Push adjustment apparatus 4 ... Gripping part 10 ... Polishing tool 10a ... Polishing disk part 10c ... Air source 10d ... Electromagnetic valve 10f ... Lever 10e ... Switch part 20 ... Processing object surface 42 ... Grasping outer periphery Member 51 ... Supporting part 51a ... Spherical roller part 51b ... Supporting part rod 51b1 ... Male thread part 51c ... Supporting part connecting member 51c1 ... Female thread part 60 ... Inclining mechanism 61 ... Actuator 62 ... Burning member 65 ... Fluid supply part 70 ... Solenoid valve 71 ... pipe 73 ... fluid source 80 ... cylinder 80a ... fluid supply port 81 ... piston 100 ... adjusting unit 110 ... control unit 120 ... control unit O ... axis C ... virtual circular P ... points P 1, P 2, P 3 ... position A1 ... area A2 ... area A5 ... annular area A7 ... circular area A10 ... first annular area A20 ... second annular area F ... load FL ... fluid

Claims (4)

加工対象面に当接可能とされる工具本体を支持する把持部と、
前記把持部と前記工具本体との間に設けられて、該工具本体が前記加工対象面に当接した際に、前記工具本体を前記加工対象面に対して傾斜して支持可能な傾斜機構と、
を備え、
前記傾斜機構は、
前記工具本体における前記加工対象面に対向する対向面の前記加工対象面に対する傾斜状態を変化させる調整部と、
前記工具本体における前記対向面の傾斜方向を所定の時間が経過する毎に変化させるように前記調整部を制御する制御部と、
を有する押込調整装置。 A gripping part that supports the tool body that can be brought into contact with the surface to be processed;
An inclination mechanism that is provided between the grip portion and the tool main body and is capable of supporting the tool main body while being inclined with respect to the processing target surface when the tool main body abuts on the processing target surface; ,
Equipped with a,
The tilt mechanism is
An adjustment unit that changes an inclination state of the facing surface of the tool main body facing the processing target surface with respect to the processing target surface;
A control unit that controls the adjustment unit to change the inclination direction of the facing surface of the tool body every time a predetermined time elapses;
An indentation adjusting device. 前記傾斜機構は、前記工具本体における前記対向面の傾斜角度を所定の時間が経過する毎に変化させるように前記調整部を制御する制御部を有する請求項１に記載の押込調整装置。 The indentation adjusting apparatus according to claim 1 , wherein the tilt mechanism includes a control unit that controls the adjustment unit so as to change the tilt angle of the facing surface of the tool body every time a predetermined time elapses. 加工対象面に当接可能とされる工具本体を支持する把持部と、
前記把持部と前記工具本体との間に設けられて、該工具本体が前記加工対象面に当接した際に、前記工具本体を前記加工対象面に対して傾斜して支持可能な傾斜機構と、
を備え、
前記傾斜機構は、
前記工具本体における前記加工対象面に対向する対向面の前記加工対象面に対する傾斜状態を変化させる調整部と、
前記工具本体における前記対向面の傾斜角度を一定とした状態で所定時間が経過した後に、該傾斜角度を変化させるように前記調整部を制御する制御部と、
を有する押込調整装置。 A gripping part that supports the tool body that can be brought into contact with the surface to be processed;
An inclination mechanism that is provided between the grip portion and the tool main body and is capable of supporting the tool main body while being inclined with respect to the processing target surface when the tool main body abuts on the processing target surface; ,
With
The tilt mechanism is
An adjustment unit that changes an inclination state of the facing surface of the tool main body facing the processing target surface with respect to the processing target surface;
A control unit that controls the adjustment unit so as to change the tilt angle after a predetermined time has passed in a state where the tilt angle of the facing surface in the tool body is constant;
An indentation adjusting device. 請求項１から３のいずれか一項に記載の押込調整装置と、
前記押込調整装置によって支持されるとともに前記加工対象面の研磨加工を行う工具本体と、
を備える研磨装置。 The indentation adjusting device according to any one of claims 1 to 3 ,
A tool body that is supported by the indentation adjusting device and that polishes the surface to be processed, and
A polishing apparatus comprising:
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