JP6424055B2 - LOADPORT DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND LOADING METHOD FOR SUBSTRATE CONTAINER - Google Patents

LOADPORT DEVICE, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE, AND LOADING METHOD FOR SUBSTRATE CONTAINER Download PDF

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Description

本発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板など(以下、単に「基板」と称する)を収容する基板収納容器に適用可能なロードポート装置および基板処理装置と、基板収納容器のローディング方法に関する。   The present invention relates to a load port device applicable to a substrate storage container that accommodates a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for an optical disk, etc. (hereinafter simply referred to as “substrate”). The present invention also relates to a substrate processing apparatus and a loading method of a substrate storage container.

従来、基板を2つの位置で支持可能な基板収納容器がある。この種の基板収納容器は、MAC(Multi Application Carrier)とも呼ばれる。基板収納容器は、筐体と蓋と棚とクッションを備えている。筐体は基板を収容する。蓋は筐体に着脱する。棚とクッションは、筐体の内部に設けられる。クッションは基板を第1位置で支持する。棚は基板を第2位置で支持する。第2位置は、第1位置よりも下方であり、かつ、第1位置よりも開口に近い。蓋が筐体に取り付けられるとき、第2位置から第1位置に移動する。基板が第1位置にあるとき、基板収納容器を好適に輸送できる。蓋が筐体から離脱するとき、基板は第1位置から第2位置に移動する。基板が第2位置にあるとき、筐体から基板を好適に搬出できる。   Conventionally, there is a substrate storage container that can support a substrate at two positions. This type of substrate storage container is also called MAC (Multi Application Carrier). The substrate storage container includes a housing, a lid, a shelf, and a cushion. The housing accommodates the substrate. The lid is attached to and detached from the housing. The shelf and the cushion are provided inside the housing. The cushion supports the substrate in the first position. The shelf supports the substrate in the second position. The second position is lower than the first position and closer to the opening than the first position. When the lid is attached to the housing, it moves from the second position to the first position. When the substrate is in the first position, the substrate storage container can be suitably transported. When the lid is detached from the housing, the substrate moves from the first position to the second position. When the substrate is in the second position, the substrate can be suitably unloaded from the housing.

特開2009−49096号公報JP 2009-49096 A

しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、蓋が筐体から離脱するとき、基板がクッションから外れず、第2位置に適切に移動しない場合がある。その原因としては、クッションの表面に損傷が形成されたことや、クッションと基板との摩耗粉がクッションに堆積したことなどが考えられる。蓋が筐体から離脱しても基板が第2位置に移動しない場合、筐体から基板を適切に搬出することが困難となる。
However, the conventional example having such a configuration has the following problems.
That is, when the lid is detached from the housing, the substrate may not be removed from the cushion and may not move appropriately to the second position. Possible causes are that damage was formed on the surface of the cushion, and wear powder between the cushion and the substrate was accumulated on the cushion. If the substrate does not move to the second position even when the lid is detached from the housing, it is difficult to properly carry the substrate out of the housing.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板収納容器内の基板の位置を適切に補正できるロードポート装置と、基板処理装置と、基板収納容器のローディング方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a load port device, a substrate processing apparatus, and a method for loading a substrate storage container that can appropriately correct the position of the substrate in the substrate storage container. For the purpose.

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明は、基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、前記基板収納容器は、その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、前記筐体に着脱して前記開口を開閉する前記蓋と、前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、を備え、前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、前記ロードポート装置は、前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、を備えているロードポート装置である。
In order to achieve such an object, the present invention has the following configuration.
That is, the present invention is a load port device for opening and closing a substrate storage container, wherein the substrate storage container can store a substrate therein and has an opening on the front surface thereof, and the housing A shelf member that is provided inside the body and supports the substrate in a substantially horizontal posture in contact with the lower surface of the substrate, and a support for the case that is provided inside the housing and supports the end of the substrate. And a lid that opens and closes the opening by attaching to and detaching from the housing, and a lid support member that is attached to the back surface of the lid and supports an end of the substrate, and the lid closes the opening. The housing support member and the lid support member support the substrate at the first position, and when the opening is open, the shelf member is below the first position. And the substrate at a second position closer to the opening than the first position. The load port device is configured to move the lid relative to the casing, so that the opening is in a half-open state in which the opening is opened while facing the lid, and the casing. By moving the substrate in the body toward the opening, the substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate, the lid position adjusting unit, and the substrate position correcting unit are controlled, and the opening is in the half-open state. And a control unit that sometimes moves the substrate in the housing toward the opening.

[作用・効果]本発明によれば、ロードポート装置は、蓋位置調整部と基板位置補正部と制御部とを備えているので、開口が半開状態であるときに基板収納容器内の基板を開口に向かって移動させることができる。これにより、筐体内の基板の位置を好適に補正できる。   [Operation / Effect] According to the present invention, the load port device includes the lid position adjustment unit, the substrate position correction unit, and the control unit, so that the substrate in the substrate storage container is removed when the opening is in a half-open state. It can be moved towards the opening. Thereby, the position of the board | substrate in a housing | casing can be correct | amended suitably.

なお、「基板の位置を補正する」とは、基板の位置を第2位置に変更する態様、および、基板の位置を第2位置以外の位置に変更する態様を含む。   Note that “correcting the position of the substrate” includes an aspect of changing the position of the substrate to the second position and an aspect of changing the position of the substrate to a position other than the second position.

本発明において、前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋は、基板が前記第2位置に移動することを妨げず、かつ、基板が前記棚部材から脱落することを防止することが好ましい。基板位置補正部は、基板の位置を効果的かつ安全に補正できる。   In this invention, when the said board | substrate position correction | amendment part correct | amends the position of a board | substrate, the said lid does not prevent that a board | substrate moves to the said 2nd position, and prevents that a board | substrate falls from the said shelf member. It is preferable. The substrate position correcting unit can correct the position of the substrate effectively and safely.

本発明において、前記蓋が前記開口と向かい合い、かつ、前記蓋用支持部材が前記第2位置にある基板の端部と当接するときの前記蓋の位置を基準位置として、前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋位置調整部は前記蓋を前記基準位置に位置させることが好ましい。蓋は、基板を第2位置に揃えることができる。また、基板の位置を補正することと、基板を第2位置に揃えることを、一挙同時に実行できる。   In the present invention, the substrate position correction unit may be configured such that the position of the lid when the lid faces the opening and the lid support member contacts the end of the substrate at the second position is a reference position. When correcting the position of the substrate, the lid position adjusting unit preferably positions the lid at the reference position. The lid can align the substrate in the second position. Further, it is possible to simultaneously correct the position of the substrate and align the substrate at the second position.

本発明において、前記蓋が前記開口と向かい合い、かつ、前記蓋用支持部材が前記第2位置にある基板の端部と当接するときの前記蓋の位置を基準位置として、前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋位置調整部は前記基準位置よりも前記開口から遠い位置で前記蓋を前記開口と向かい合わせ、前記筐体内の基板の位置を補正した後、前記蓋を前記基準位置に移動させることによって前記筐体内の基板を前記第2位置に揃えることが好ましい。基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、蓋は基準位置よりも開口から遠い位置にあるので、筐体が蓋とぶつかることを一層確実に回避できる。   In the present invention, the substrate position correction unit may be configured such that the position of the lid when the lid faces the opening and the lid support member contacts the end of the substrate at the second position is a reference position. When correcting the position of the substrate, the lid position adjusting unit faces the lid at the position farther from the opening than the reference position, and after correcting the position of the substrate in the housing, the lid is moved to the position. It is preferable that the substrate in the housing is aligned with the second position by moving to a reference position. When the substrate position correcting unit corrects the position of the substrate, since the lid is located farther from the opening than the reference position, it is possible to more reliably avoid the housing from colliding with the lid.

本発明において、前記基板位置補正部は、前記筐体を振動させる振動機構、前記筐体を傾斜させる傾斜機構、および、前記筐体に衝撃を与える衝撃機構の少なくともいずれかを含むことが好ましい。基板位置補正部は、基板を開口に向かって好適に移動させることができる。   In this invention, it is preferable that the said board | substrate position correction | amendment part contains at least any one of the vibration mechanism which vibrates the said housing | casing, the inclination mechanism which inclines the said housing | casing, and the impact mechanism which gives an impact to the said housing | casing. The substrate position correcting unit can suitably move the substrate toward the opening.

本発明において、前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記制御部は前記筐体の動きと前記蓋の動きを同期させることが好ましい。基板位置補正部は基板の位置を一層適切に補正できる。   In the present invention, it is preferable that when the substrate position correcting unit corrects the position of the substrate, the control unit synchronizes the movement of the casing and the movement of the lid. The substrate position correction unit can correct the position of the substrate more appropriately.

本発明において、前記筐体内の基板の位置を検出する基板検出部を備え、前記制御部は、前記基板検出部の検出結果に基づいて前記筐体内の基板の少なくともいずれかが前記第2位置にないと判定した場合、基板の位置を補正することが好ましい。基板の位置の補正を適時に実行できる。   In the present invention, a substrate detection unit that detects a position of the substrate in the housing is provided, and the control unit determines that at least one of the substrates in the housing is in the second position based on a detection result of the substrate detection unit. If it is determined that there is not, it is preferable to correct the position of the substrate. Correction of the position of the substrate can be executed in a timely manner.

また、本発明は、上述したロードポート装置を備えた基板処理装置である。   Moreover, this invention is a substrate processing apparatus provided with the load port apparatus mentioned above.

[作用・効果]本発明に係る基板処理装置によれば、基板収納容器を好適にローディングできる。   [Operation / Effect] According to the substrate processing apparatus of the present invention, the substrate storage container can be suitably loaded.

また、本発明は、蓋と筐体とを備え、基板を第1位置と、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記筐体の開口に近い第2位置で支持可能な基板収納容器のローディング方法であって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする過程と、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる過程と、を備えている基板収納容器のローディング方法である。   The present invention also includes a lid and a housing, and supports the substrate at a first position and a second position below the first position and closer to the opening of the housing than the first position. A loading method of a possible substrate storage container, the step of opening the opening in a half-open state facing the lid, and opening the substrate in the housing when the opening is in the half-open state And a method of loading the substrate storage container.

[作用・効果]本発明によれば、開口が半開状態であるときに基板収納容器内の基板を開口に向かって移動させることができる。これにより、筐体内の基板の位置を好適に補正できる。   [Operation and Effect] According to the present invention, the substrate in the substrate storage container can be moved toward the opening when the opening is in a half-open state. Thereby, the position of the board | substrate in a housing | casing can be correct | amended suitably.

なお、本明細書は、次のようなロードポート装置に係る発明も開示している。   The present specification also discloses an invention relating to the following load port device.

(1)上述した発明に係るロードポート装置において、前記筐体を載置可能なステージを備え、前記蓋位置調整部は、前記ステージに載置された前記筐体に対して前記蓋を移動させ、前記基板位置補正部は、前記ステージに載置された前記筐体内の基板の位置を補正するロードポート装置。   (1) The load port device according to the above-described invention includes a stage on which the casing can be placed, and the lid position adjusting unit moves the lid with respect to the casing placed on the stage. The substrate position correcting unit corrects the position of the substrate in the casing placed on the stage.

前記(1)に記載の発明によれば、ステージを備えているので、蓋位置調整部は蓋の位置を好適に調整できる。また、基板位置補正部は、筐体内の基板の位置を好適に補正できる。   According to the invention described in (1) above, since the stage is provided, the lid position adjusting unit can suitably adjust the position of the lid. Further, the substrate position correcting unit can suitably correct the position of the substrate in the housing.

(2)上述した発明に係るロードポート装置において、前記基板位置補正部は、前記筐体を動かすことによって、前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させるロードポート装置。   (2) In the load port device according to the above-described invention, the substrate position correcting unit moves the substrate in the housing toward the opening by moving the housing.

前記(2)に記載の発明によれば、基板位置補正部は、基板の位置を好適に補正できる。   According to the invention as described in said (2), the board | substrate position correction | amendment part can correct | amend the position of a board | substrate suitably.

(3)上述した発明に係るロードポート装置において、前記ロードポート装置は、さらに、前記筐体の動きに追従して伸縮し、前記開口が開放されている前記筐体内の雰囲気を清浄に保つ遮蔽部材を備えているロードポート装置。   (3) In the load port device according to the above-described invention, the load port device further expands and contracts following the movement of the casing, and is a shield that keeps the atmosphere inside the casing open with the opening open. A load port device comprising a member.

前記(3)に記載の発明によれば、基板の位置を補正するときであっても、基板が汚損されることを好適に防止できる。   According to the invention described in (3) above, even when the position of the substrate is corrected, the substrate can be suitably prevented from being soiled.

この発明に係るロードポート装置、基板処理装置および基板収納容器のローディング方法によれば、基板収納容器内の基板の位置を適切に補正できる。よって、基板収納容器内の基板を好適に搬出できる。   According to the load port device, the substrate processing apparatus, and the loading method of the substrate storage container according to the present invention, the position of the substrate in the substrate storage container can be appropriately corrected. Therefore, the board | substrate in a board | substrate storage container can be carried out suitably.

図1(a)は蓋が筐体に装着されているときの基板収納容器の内部を示す斜視図であり、図1(b)は蓋が筐体から離脱しているときの基板収納容器の内部を示す斜視図である。FIG. 1A is a perspective view showing the inside of the substrate storage container when the lid is attached to the casing, and FIG. 1B is a perspective view of the substrate storage container when the lid is detached from the casing. It is a perspective view which shows an inside. 図2(a)は筐体2の内部を示す側面図であり、図2(b)は筐体2の内部を示す側面図である。FIG. 2A is a side view showing the inside of the housing 2, and FIG. 2B is a side view showing the inside of the housing 2. 図3(a)は実施例に係る基板処理装置の側面図であり、図3(b)は蓋位置調整部の側面図であり、図3(c)は基板検出部の側面図である。3A is a side view of the substrate processing apparatus according to the embodiment, FIG. 3B is a side view of the lid position adjustment unit, and FIG. 3C is a side view of the substrate detection unit. 基板収納容器の側面図である。It is a side view of a substrate storage container. マッピングセンサの配置を示す平面図である。It is a top view which shows arrangement | positioning of a mapping sensor. 図6(a)、6(c)は、筐体と基板検出部の側面図である。6A and 6C are side views of the housing and the substrate detection unit. 実施例に係るロードポート装置の制御ブロック図である。It is a control block diagram of the load port device concerning an example. 実施例に係るローディング処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the loading process which concerns on an Example. 図9(a)乃至9(i)は、ロードポート装置の動きを模式的に示す図である。FIGS. 9A to 9I are diagrams schematically illustrating the movement of the load port device. 変形実施例に係るローディング処理の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the loading process which concerns on a modified example. 図11(a)乃至11(c)は、ロードポート装置の動きを模式的に示す図である。FIGS. 11A to 11C are diagrams schematically illustrating the movement of the load port device. 図12(a)、12(b)は、変形実施例に係るロードポート装置の側面図である。FIGS. 12A and 12B are side views of a load port device according to a modified embodiment. 図13(a)、13(b)は、変形実施例に係るロードポート装置の側面図である。13 (a) and 13 (b) are side views of a load port device according to a modified embodiment. 図14(a)、14(b)は、変形実施例に係るロードポート装置の側面図である。14 (a) and 14 (b) are side views of a load port device according to a modified embodiment. 変形実施例に係る隔壁の構造を説明するための模式的な断面図である。It is typical sectional drawing for demonstrating the structure of the partition which concerns on a modified example. 隔壁と筐体との位置関係を説明するための模式的な側面図である。It is a typical side view for demonstrating the positional relationship of a partition and a housing | casing. 隔壁と筐体との位置関係を説明するための模式的な側面図である。It is a typical side view for demonstrating the positional relationship of a partition and a housing | casing. 隔壁と筐体との位置関係を説明するための模式的な側面図である。It is a typical side view for demonstrating the positional relationship of a partition and a housing | casing. 隔壁と筐体との位置関係を説明するための模式的な側面図である。It is a typical side view for demonstrating the positional relationship of a partition and a housing | casing.

まず、本実施例に適用される基板収納容器の構成を説明し、続いて、実施例に係るロードポート装置および基板処理装置の構成を説明する。   First, the configuration of the substrate storage container applied to the present embodiment will be described, and then the configurations of the load port apparatus and the substrate processing apparatus according to the embodiment will be described.

1.基板収納容器の構成
図1(a)、1(b)を参照する。基板収納容器1の外形は略直方体である。基板収納容器1は、複数の基板Wを収容可能である。「基板W」は、例えば、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、プラズマディスプレイ用の基板、光ディスク用の基板、磁気ディスク用の基板、光磁気ディスク用の基板などである。
1. Configuration of Substrate Storage Container Referring to FIGS. 1 (a) and 1 (b). The outer shape of the substrate storage container 1 is a substantially rectangular parallelepiped. The substrate storage container 1 can store a plurality of substrates W. “Substrate W” is, for example, a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display device, a substrate for a plasma display, a substrate for an optical disk, a substrate for a magnetic disk, a substrate for a magneto-optical disk, etc. It is.

基板収納容器1は筐体2と蓋3とを備えている。蓋3は筐体2の前面に取り付けられる。図1(b)に示すように、筐体2の前面には開口Aが形成されている。蓋3は開口Aを開閉する。蓋3が筐体2に着脱するとき、蓋3は、開口Aと向かい合ったまま、開口Aに対して略垂直な前後方向に移動する。前後方向は略水平である。筐体2の内部には、基板Wを収容するための空間Sが形成されている。基板収納容器1は少なくとも1枚の基板Wを収納可能に構成されている。基板収納容器1は標準的には25枚の基板Wを収納するが、以下では便宜上、基板Wを3枚まで収納可能な基板収納容器1を例にとって説明する。   The substrate storage container 1 includes a housing 2 and a lid 3. The lid 3 is attached to the front surface of the housing 2. As shown in FIG. 1B, an opening A is formed on the front surface of the housing 2. The lid 3 opens and closes the opening A. When the lid 3 is attached to and detached from the housing 2, the lid 3 moves in the front-rear direction substantially perpendicular to the opening A while facing the opening A. The front-rear direction is substantially horizontal. A space S for accommodating the substrate W is formed inside the housing 2. The substrate storage container 1 is configured to store at least one substrate W. Although the substrate storage container 1 normally stores 25 substrates W, for the sake of convenience, the substrate storage container 1 capable of storing up to three substrates W will be described below as an example.

図2(a)、2(b)を参照する。筐体2は、上板部4と底板部5と右側壁部6と左側壁部7と後壁部8とを有する。各部4乃至8は、上述した空間Sを画定する。図2(a)では右側壁部6と左側壁部7の図示を省略している。図2(b)では後壁部8の図示を省略している。   Reference is made to FIGS. 2 (a) and 2 (b). The housing 2 includes an upper plate part 4, a bottom plate part 5, a right side wall part 6, a left side wall part 7, and a rear wall part 8. Each part 4 thru | or 8 demarcates the space S mentioned above. In FIG. 2A, illustration of the right side wall part 6 and the left side wall part 7 is omitted. In FIG. 2B, illustration of the rear wall portion 8 is omitted.

図2(a)、2(b)に示すように、上板部4と底板部5と右側壁部6と左側壁部7の前方向側の端面4a、5a、6a、7aは、開口Aを画定する。本命書では、端面4a、5a、6a、7aを、適宜に「開口端面2a」と総称する(図1(a)、図1(b)参照)。   As shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), front end surfaces 4a, 5a, 6a, and 7a of the upper plate portion 4, the bottom plate portion 5, the right side wall portion 6, and the left side wall portion 7 have openings A. Is defined. In this written order, the end faces 4a, 5a, 6a, and 7a are collectively referred to as “open end face 2a” as appropriate (see FIGS. 1A and 1B).

本明細書では、前後方向のうち、後壁部8から開口Aに向かう方向を「前方向」と呼び、その反対方向を「後方向」と呼ぶ。前方向は、筐体2内の基板Wが開口Aに近づく方向である。また、本明細書では、前方向から筐体2を見たときに、左側壁部7から右側壁部6に向かう方向を「右方向」と呼び、その反対方向を「左方向」と呼ぶ。   In the present specification, of the front and rear directions, the direction from the rear wall 8 toward the opening A is referred to as “front direction”, and the opposite direction is referred to as “rear direction”. The forward direction is a direction in which the substrate W in the housing 2 approaches the opening A. Further, in this specification, when the housing 2 is viewed from the front, the direction from the left side wall 7 toward the right side wall 6 is referred to as “right direction”, and the opposite direction is referred to as “left direction”.

筐体2の内部には、棚部材11a、11b、11cが設けられている。棚部材11a、11b、11cは、上下方向に並ぶように配置されている。各棚部材11a、11b、11cは、基板Wを略水平姿勢で下方向から支持する。各棚部材11a、11b、11cは、基板Wの下面とのみ接触する。なお、本明細書において基板Wの下面とは基板Wの下部周縁を含む概念である。以下では、棚部材11a、11b、11cを特に区別しない場合には、単に「棚部材11」と呼ぶ。後述するように、各棚部材11には基板Wが1枚ずつ載置される。後述する保持アーム47aは各棚部材11に対して基板Wを搬入および基板Wを搬出する。したがって、各棚部材11の間には保持アーム47aによる基板Wの搬入および搬出が安全に行えるだけの上下間隔(クリアランス)が設けられている。   Inside the case 2, shelf members 11a, 11b, and 11c are provided. The shelf members 11a, 11b, and 11c are arranged in the vertical direction. Each shelf member 11a, 11b, 11c supports the substrate W from below in a substantially horizontal posture. Each shelf member 11a, 11b, 11c contacts only the lower surface of the substrate W. In the present specification, the lower surface of the substrate W is a concept including the lower peripheral edge of the substrate W. Hereinafter, when the shelf members 11a, 11b, and 11c are not particularly distinguished, they are simply referred to as “shelf members 11”. As will be described later, one substrate W is placed on each shelf member 11. A holding arm 47a to be described later carries the substrate W into and out of each shelf member 11. Therefore, a vertical space (clearance) is provided between the shelf members 11 so that the substrate W can be safely carried in and out by the holding arm 47a.

本実施例では、各棚部材11は右棚部材12と左棚部材13とを含む。右棚部材12は右側壁部6から張り出しており、左棚部材13は左側壁部7から張り出している。   In the present embodiment, each shelf member 11 includes a right shelf member 12 and a left shelf member 13. The right shelf member 12 projects from the right wall portion 6, and the left shelf member 13 projects from the left wall portion 7.

筐体2の内部には、さらに、筐体用支持ブロック14が設けられている。筐体用支持ブロック14は、筐体2(後壁部8)に固定されている。筐体用支持ブロック14には、筐体用支持部材16a、16b、16cが形成されている。筐体用支持部材16a、16b、16cは、上下方向に並ぶように配置されている。各筐体用支持部材16a、16b、16cは、基板Wの端部を支持する。以下、筐体用支持部材16a、16b、16cを特に区別しない場合には、単に「筐体用支持部材16」と呼ぶ。   A housing support block 14 is further provided inside the housing 2. The housing support block 14 is fixed to the housing 2 (rear wall portion 8). The housing support block 14 is formed with housing support members 16a, 16b, and 16c. The casing support members 16a, 16b, and 16c are arranged in the vertical direction. Each housing support member 16a, 16b, 16c supports the end of the substrate W. Hereinafter, the housing support members 16a, 16b, and 16c are simply referred to as “housing support members 16” unless otherwise distinguished.

筐体用支持部材16の材質は、例えば、樹脂である。各筐体用支持部材16には、1つの溝部17が形成されている。図2(a)に示すように、溝部17は後方向に凹んでいる。溝部17は側面視で略Vの字形状を呈する。   The material of the housing support member 16 is, for example, resin. Each housing support member 16 is formed with one groove portion 17. As shown in FIG. 2A, the groove portion 17 is recessed backward. The groove portion 17 has a substantially V-shape when viewed from the side.

溝部17は下傾斜部17aと最奥部17bと上傾斜部17cを有する。下傾斜部17aは最奥部17bの下側に隣接しており、上傾斜部17cは最奥部17bの上側に隣接している。   The groove portion 17 has a lower inclined portion 17a, an innermost portion 17b, and an upper inclined portion 17c. The lower inclined portion 17a is adjacent to the lower side of the innermost portion 17b, and the upper inclined portion 17c is adjacent to the upper side of the innermost portion 17b.

図1(a)、1(b)を参照する。蓋3が筐体2に装着されているとき、筐体2の内部と接する蓋3の面を「裏面3b」と呼ぶ。裏面3bには、蓋用支持ブロック21が固定されている。蓋用支持ブロック21には、蓋用支持部材23a、23b、23cが形成されている。蓋用支持部材23a、23b、23cは、上下方向に並ぶように配置されている。各蓋用支持部材23a、23b、23cは、基板Wの端部を支持する。以下、蓋用支持部材23a、23b、23cを特に区別しない場合には、単に「蓋用支持部材23」と呼ぶ。   Reference is made to FIGS. 1 (a) and 1 (b). When the lid 3 is attached to the housing 2, the surface of the lid 3 that contacts the inside of the housing 2 is referred to as a “back surface 3 b”. A lid support block 21 is fixed to the back surface 3b. The lid support block 21 is provided with lid support members 23a, 23b, and 23c. The lid support members 23a, 23b, and 23c are arranged in the vertical direction. Each lid support member 23 a, 23 b, 23 c supports the end portion of the substrate W. Hereinafter, when the lid support members 23a, 23b, and 23c are not particularly distinguished, they are simply referred to as the “lid support member 23”.

蓋用支持部材23の材質は、例えば、樹脂である。より好ましくは、蓋用支持部材23の材質は、弾力性を有する樹脂である。蓋用支持部材23は、筐体用支持部材16と同様な形状を有している。すなわち、各蓋用支持部材23には、溝部24が形成されている。各溝部24は下傾斜部24aと最奥部24bと上傾斜部24cを有する。   The material of the lid support member 23 is, for example, resin. More preferably, the material for the lid support member 23 is a resin having elasticity. The lid support member 23 has the same shape as the housing support member 16. That is, a groove 24 is formed in each lid support member 23. Each groove portion 24 has a lower inclined portion 24a, an innermost portion 24b, and an upper inclined portion 24c.

蓋3が開口Aと向かい合っているとき、筐体用支持部材16aの下傾斜部17aおよび蓋用支持部材23aの下傾斜部24aの位置はそれぞれ、棚部材11aに載置される基板Wの端部と接触可能な高さに設定されている。支持部材16b、23bと棚部材11bとの高さ関係、および、支持部材16c、23cと棚部材11cとの高さ関係も、同様である。蓋3を筐体2に装着すると、基板Wの前方向側端部と後方向側端部とが筐体用支持部材16および蓋用支持部材23によって前後方向から挟み込まれて、基板Wは下傾斜部17a、24aを滑り上がる。これにより、基板Wは下面が棚部材11から離隔した状態で筐体用支持部材16と蓋用支持部材23によって支持されるようになる(図1(a)参照)。一方、蓋3が筐体2から取り外されると、基板Wは下傾斜部17a、24aを滑り落ち、その下面が棚部材11に支持されるようになる。   When the lid 3 faces the opening A, the positions of the lower inclined portion 17a of the housing support member 16a and the lower inclined portion 24a of the cover support member 23a are respectively the ends of the substrate W placed on the shelf member 11a. It is set to a height that allows contact with the part. The same applies to the height relationship between the support members 16b and 23b and the shelf member 11b, and the height relationship between the support members 16c and 23c and the shelf member 11c. When the lid 3 is attached to the housing 2, the front side edge and the rear side edge of the substrate W are sandwiched by the housing support member 16 and the lid support member 23 from the front-rear direction, and the substrate W is The slopes 17a and 24a are slid up. Thus, the substrate W is supported by the housing support member 16 and the lid support member 23 in a state where the lower surface is separated from the shelf member 11 (see FIG. 1A). On the other hand, when the lid 3 is removed from the housing 2, the substrate W slides down the lower inclined portions 17 a and 24 a and the lower surface thereof is supported by the shelf member 11.

図1(a)に示すように、筐体用支持部材16と蓋用支持部材23とが基板Wを支持しているとき、各支持部材16、23は、最奥部17b、24bで基板Wを保持する。ここで、筐体用支持部材16と蓋用支持部材23とによって支持される基板Wの位置を、「第1位置」と呼ぶ。   As shown in FIG. 1A, when the housing support member 16 and the lid support member 23 support the substrate W, each of the support members 16 and 23 has the substrate W at the innermost portions 17b and 24b. Hold. Here, the position of the substrate W supported by the housing support member 16 and the lid support member 23 is referred to as a “first position”.

開口Aが開放されているとき(すなわち、蓋3が開口Aを閉塞していないとき)、棚部材11が基板Wを支持する(図1(b)参照)。棚部材11は、基板Wを所定の位置(以下、「第2位置」という)で支持可能である。基板Wが第2位置にあるとき、基板Wは略水平姿勢であり、基板Wの下面が棚部材11と接触している。第2位置は、例えば、基板Wを筐体2から搬出するのに適した位置である。第2位置は、例えば、筐体用支持部材16(下傾斜部17a)と接する位置である。   When the opening A is open (that is, when the lid 3 does not close the opening A), the shelf member 11 supports the substrate W (see FIG. 1B). The shelf member 11 can support the substrate W at a predetermined position (hereinafter referred to as “second position”). When the substrate W is in the second position, the substrate W is in a substantially horizontal posture, and the lower surface of the substrate W is in contact with the shelf member 11. The second position is a position suitable for unloading the substrate W from the housing 2, for example. The second position is, for example, a position in contact with the housing support member 16 (lower inclined portion 17a).

図1(b)では、第2位置にある基板Wを実線で示し、第1位置にある基板Wを点線で示す。図示するように、第2位置は、第1位置よりも下方である。さらに、第2位置は、第1位置よりも開口Aに近い。換言すれば、第2位置は第1位置よりも前にある。   In FIG. 1B, the substrate W at the second position is indicated by a solid line, and the substrate W at the first position is indicated by a dotted line. As illustrated, the second position is lower than the first position. Furthermore, the second position is closer to the opening A than the first position. In other words, the second position is ahead of the first position.

このように、基板収納容器1は、第1位置および第2位置で基板Wを支持可能であり、MAC(Multi Application Carrier)の一形態である。   Thus, the substrate storage container 1 can support the substrate W at the first position and the second position, and is a form of MAC (Multi Application Carrier).

2.ロードポート装置および基板処理装置の構成
図3(a)乃至3(c)を参照する。基板処理装置25は、ロードポート装置30と処理部60を備えている。基板処理装置25に関する説明においても、後述するステージ32に載置された基板収納容器1にとっての前後方向および上下方向を便宜上、使用する。
2. Configuration of Load Port Device and Substrate Processing Device Referring to FIGS. 3 (a) to 3 (c). The substrate processing apparatus 25 includes a load port device 30 and a processing unit 60. Also in the description regarding the substrate processing apparatus 25, the front-rear direction and the vertical direction for the substrate storage container 1 placed on the stage 32 described later are used for convenience.

図3(a)乃至3(c)に示すように、ロードポート装置30は、基板処理装置25の側部に配置されている。ロードポート装置30は、載置台31とステージ32と蓋位置調整部34と振動機構35と基板検出部36とを備えている。処理部60は隔壁63を有する。隔壁63は略垂直である。隔壁63は通過孔63aを有する。   As shown in FIGS. 3A to 3C, the load port device 30 is disposed on the side portion of the substrate processing apparatus 25. The load port device 30 includes a mounting table 31, a stage 32, a lid position adjustment unit 34, a vibration mechanism 35, and a substrate detection unit 36. The processing unit 60 has a partition wall 63. The partition wall 63 is substantially vertical. The partition wall 63 has a passage hole 63a.

載置台31は隔壁63の側方に配置されている。載置台31の上部にはステージ32が配置されている。ステージ32は載置台31に対して前後方向に移動可能に設けられている。ステージ32には、基板収納容器1(筐体2)が載置される。   The mounting table 31 is disposed on the side of the partition wall 63. A stage 32 is disposed on the mounting table 31. The stage 32 is provided to be movable in the front-rear direction with respect to the mounting table 31. On the stage 32, the substrate storage container 1 (housing 2) is placed.

蓋位置調整部34は、シャッター部材34aとシャッター部材駆動機構34bとを備えている(図3(b)参照)。   The lid position adjusting unit 34 includes a shutter member 34a and a shutter member driving mechanism 34b (see FIG. 3B).

シャッター部材34aは、通過孔63aに着脱可能に嵌め込まれており、通過孔63aを開閉する。シャッター部材34aは、さらに、蓋3を保持可能である。   The shutter member 34a is detachably fitted in the passage hole 63a, and opens and closes the passage hole 63a. The shutter member 34 a can further hold the lid 3.

シャッター部材駆動機構34bはシャッター部材34aを通過孔63aに着脱する。このとき、シャッター部材34aが蓋3を保持していれば、シャッター部材34aはステージ32上の筐体2に対して蓋3を着脱する。   The shutter member drive mechanism 34b attaches / detaches the shutter member 34a to / from the passage hole 63a. At this time, if the shutter member 34 a holds the lid 3, the shutter member 34 a attaches and detaches the lid 3 with respect to the housing 2 on the stage 32.

さらに、シャッター部材駆動機構34bはシャッター部材34aを移動させることによって、蓋3を位置P1、P2、P3に移動可能である。位置P1はステージ32上の筐体2の開口Aを閉塞する蓋3の位置である。位置P2は位置P1から前方向に平行移動した位置である。位置P3は、位置P2から下方向に移動した位置である。ここで、「前方向」および「下方向」は、ステージ32に載置された基板収納容器1にとっての前方向および下方向と同じである。   Furthermore, the shutter member drive mechanism 34b can move the lid 3 to positions P1, P2, and P3 by moving the shutter member 34a. The position P1 is the position of the lid 3 that closes the opening A of the housing 2 on the stage 32. The position P2 is a position translated from the position P1 in the forward direction. The position P3 is a position moved downward from the position P2. Here, the “forward direction” and the “downward direction” are the same as the forward direction and the downward direction for the substrate storage container 1 placed on the stage 32.

蓋3が位置P2および位置P3にあるとき、開口Aは開放されている。特に、蓋3が位置P1と位置P2とを結ぶ直線経路上にあるとき(ただし、位置P1を除く)、開口Aは、蓋3と向かい合ったまま、開放されている。本明細書では、開口Aが蓋3と向かい合ったまま開放されている状態を「半開状態」という。   When the lid 3 is in the position P2 and the position P3, the opening A is open. In particular, when the lid 3 is on a straight path connecting the position P1 and the position P2 (however, excluding the position P1), the opening A is opened while facing the lid 3. In the present specification, a state where the opening A is opened while facing the lid 3 is referred to as a “half-open state”.

シャッター部材駆動機構34bは、さらに、半開状態における蓋3の位置を調整可能である。具体的には、シャッター部材駆動機構34bは、位置P1、P2間の直線経路上における任意の位置でシャッター部材34aを静止させることができる。   The shutter member drive mechanism 34b can further adjust the position of the lid 3 in the half-open state. Specifically, the shutter member drive mechanism 34b can stop the shutter member 34a at an arbitrary position on the linear path between the positions P1 and P2.

例えば、図4に示すように、シャッター部材駆動機構34bは蓋3を基準位置Psに位置させることができる。基準位置Psは、蓋3が開口Aと向かい合い、かつ、蓋用支持部材23が第2位置にある基板Wの端部と当接するときの蓋3の位置である。   For example, as shown in FIG. 4, the shutter member drive mechanism 34b can position the lid 3 at the reference position Ps. The reference position Ps is the position of the lid 3 when the lid 3 faces the opening A and the lid support member 23 contacts the end of the substrate W at the second position.

図3(b)を参照して、シャッター部材駆動機構34bの構成例を説明する。シャッター部材駆動機構34bは、第1駆動機構41と第2駆動機構45を備えている。第1駆動機構41は、シャッター部材34aを上下方向に移動させる。第2駆動機構45は、シャッター部材34aを前後方向に移動させる。   A configuration example of the shutter member driving mechanism 34b will be described with reference to FIG. The shutter member drive mechanism 34 b includes a first drive mechanism 41 and a second drive mechanism 45. The first drive mechanism 41 moves the shutter member 34a in the vertical direction. The second drive mechanism 45 moves the shutter member 34a in the front-rear direction.

第1駆動機構41は、第1送り機構42と第1電動モータ43と可動ベース44を備えている。第1送り機構42は、可動ベース44を載置台31に対して上下方向に移動可能に支持する。第1電動モータ43は、載置台31に固定され、第1送り機構42を駆動する。可動ベース44は、第2駆動機構45を支持する。   The first drive mechanism 41 includes a first feed mechanism 42, a first electric motor 43, and a movable base 44. The first feed mechanism 42 supports the movable base 44 so as to be movable in the vertical direction with respect to the mounting table 31. The first electric motor 43 is fixed to the mounting table 31 and drives the first feeding mechanism 42. The movable base 44 supports the second drive mechanism 45.

第2駆動機構45は、第2送り機構46と第2電動モータ47と連結アーム48を備えている。第2送り機構46は、連結アーム48を可動ベース44に対して前後方向に移動可能に支持する。第2電動モータ47は、可動ベース44に固定され、第2送り機構46を駆動する。連結アーム48は、シャッター部材34aに固定されている。   The second drive mechanism 45 includes a second feed mechanism 46, a second electric motor 47, and a connecting arm 48. The second feed mechanism 46 supports the connecting arm 48 so as to be movable in the front-rear direction with respect to the movable base 44. The second electric motor 47 is fixed to the movable base 44 and drives the second feed mechanism 46. The connecting arm 48 is fixed to the shutter member 34a.

図3(a)を参照する。振動機構35は筐体2を振動させる。これにより、振動機構35は、筐体2内の基板Wの位置を補正する。本実施例では、振動機構35は、筐体2を前後方向に移動させることによって、通過孔63aに嵌め込まれたシャッター部材34aに蓋3を接離させる機能をさらに有する。振動機構35は、本発明における基板位置補正部の例である。   Reference is made to FIG. The vibration mechanism 35 vibrates the housing 2. Thereby, the vibration mechanism 35 corrects the position of the substrate W in the housing 2. In the present embodiment, the vibration mechanism 35 further has a function of bringing the lid 3 into contact with and separating from the shutter member 34a fitted in the passage hole 63a by moving the housing 2 in the front-rear direction. The vibration mechanism 35 is an example of a substrate position correction unit in the present invention.

振動機構35の構成例を説明する。振動機構35は、例えば、連結板51と送り機構52と電動モータ53とを備えている。連結板51は、ステージ32に固定されている。送り機構52は、連結板51を載置台31に対して前後方向に移動可能に支持する。電動モータ53は、載置台31に固定され、送り機構52を駆動する。電動モータ53の駆動によって、ステージ32およびステージ32上の筐体2は前後方向に移動する。また、電動モータ53の駆動方向を短い時間間隔で切り替えることによって、ステージ32およびステージ32上の筐体2は微小幅で往復振動する。   A configuration example of the vibration mechanism 35 will be described. The vibration mechanism 35 includes, for example, a connecting plate 51, a feed mechanism 52, and an electric motor 53. The connecting plate 51 is fixed to the stage 32. The feed mechanism 52 supports the connecting plate 51 so as to be movable in the front-rear direction with respect to the mounting table 31. The electric motor 53 is fixed to the mounting table 31 and drives the feed mechanism 52. By driving the electric motor 53, the stage 32 and the casing 2 on the stage 32 move in the front-rear direction. Further, by switching the driving direction of the electric motor 53 at short time intervals, the stage 32 and the casing 2 on the stage 32 reciprocate with a minute width.

基板検出部36は、筐体2内の基板Wの位置を検出する。   The substrate detection unit 36 detects the position of the substrate W in the housing 2.

図3(c)を参照する。基板検出部36は、マッピングセンサ36a、36bと、位置センサ36cと、センサ支持部36dと、センサ進退機構36eと、センサ昇降機構36fを備えている。マッピングセンサ36a、36bは、基板Wの有無を検出する。位置センサ36cは、マッピングセンサ36a、36bの位置を検出する。センサ支持部36dはマッピングセンサ36a、36bを固定的に支持する。センサ進退機構36eは、マッピングセンサ36a、36bを筐体2内に進入させ、かつ、マッピングセンサ36a、36bを筐体2内から退出させる。センサ昇降機構36fは、マッピングセンサ36a、36bを上下方向に移動させる。   Reference is made to FIG. The board detector 36 includes mapping sensors 36a and 36b, a position sensor 36c, a sensor support 36d, a sensor advance / retreat mechanism 36e, and a sensor elevating mechanism 36f. The mapping sensors 36a and 36b detect the presence or absence of the substrate W. The position sensor 36c detects the positions of the mapping sensors 36a and 36b. The sensor support portion 36d fixedly supports the mapping sensors 36a and 36b. The sensor advance / retreat mechanism 36e causes the mapping sensors 36a and 36b to enter the housing 2 and causes the mapping sensors 36a and 36b to exit from the housing 2. The sensor elevating mechanism 36f moves the mapping sensors 36a and 36b in the vertical direction.

図5を参照する。マッピングセンサ36a、36bは、例えば、透過型センサである。マッピングセンサ36aは、光を照射する投光部55と、投光部55の光軸L1上に配置される受光部56を備え、投光部55と受光部56との間に基板Wがあるか否かを検出する。同様に、マッピングセンサ36bは、光を照射する投光部57と、投光部57の光軸L2上に配置される受光部58を備え、投光部57と受光部58との間に基板Wがあるか否かを検出する。   Please refer to FIG. The mapping sensors 36a and 36b are, for example, transmissive sensors. The mapping sensor 36 a includes a light projecting unit 55 that emits light and a light receiving unit 56 that is disposed on the optical axis L <b> 1 of the light projecting unit 55, and the substrate W is between the light projecting unit 55 and the light receiving unit 56. Whether or not is detected. Similarly, the mapping sensor 36 b includes a light projecting unit 57 that emits light and a light receiving unit 58 that is disposed on the optical axis L <b> 2 of the light projecting unit 57, and a substrate is provided between the light projecting unit 57 and the light receiving unit 58. Whether or not there is W is detected.

光軸L1、L2の位置は、マッピングセンサ36a、36bの配置によって規定される。光軸L1、L2は、前後方向にずれており、平面視で重なっていない。光軸L1、L2の向きはそれぞれ略水平方向であり、かつ、前後方向と略直交することが好ましい。また、光軸L1、L2は、同じ高さであることが好ましい。   The positions of the optical axes L1 and L2 are defined by the arrangement of the mapping sensors 36a and 36b. The optical axes L1 and L2 are shifted in the front-rear direction and do not overlap in plan view. The directions of the optical axes L1 and L2 are preferably substantially horizontal and are preferably substantially orthogonal to the front-rear direction. The optical axes L1 and L2 are preferably the same height.

図6(a)、(b)を参照する。基板検出部36が筐体2内の基板Wを検出するとき、まず、センサ進退機構36eがマッピングセンサ36a、36bを筐体2内に進入させる。続いて、センサ昇降機構36fがマッピングセンサ36a、36bを昇降させながら、マッピングセンサ36a、36bが基板Wを検出し、位置センサ36cがマッピングセンサ36a、36bの位置を検出する。その結果、基板Wが検出された検出点qa1、qa2、qa3、qb1、qb2、qb3の位置が得られる。   Reference is made to FIGS. When the substrate detection unit 36 detects the substrate W in the housing 2, first, the sensor advance / retreat mechanism 36 e causes the mapping sensors 36 a and 36 b to enter the housing 2. Subsequently, while the sensor elevating mechanism 36f moves the mapping sensors 36a and 36b up and down, the mapping sensors 36a and 36b detect the substrate W, and the position sensor 36c detects the positions of the mapping sensors 36a and 36b. As a result, the positions of the detection points qa1, qa2, qa3, qb1, qb2, and qb3 where the substrate W is detected are obtained.

なお、図6(a)は、各基板W1乃至W3が第2位置にある場合の例である。図6(b)は、基板W1−W3のうち、基板W2のみが第2位置にない場合の例である。   FIG. 6A shows an example in which each of the substrates W1 to W3 is in the second position. FIG. 6B shows an example of the case where only the substrate W2 is not in the second position among the substrates W1-W3.

図7を参照する。ロードポート装置30は、さらに、制御部37を備えている。制御部37は、ロードポート装置30の各構成を制御する。制御部37は、基板状態取得部38と判定部39と駆動制御部40を有する。   Please refer to FIG. The load port device 30 further includes a control unit 37. The control unit 37 controls each configuration of the load port device 30. The control unit 37 includes a substrate state acquisition unit 38, a determination unit 39, and a drive control unit 40.

基板状態取得部38には、基板検出部36(マッピングセンサ36a、36bおよび位置センサ36c)の検出結果が入力される。基板状態取得部38は、基板検出部36の検出結果に基づいて、筐体2内の基板Wの傾きを取得する。例えば、基板状態取得部38は、検出点qa1、qb1の位置に基づいて、検出点qa1、qb1を結ぶ直線の傾きを、基板W1の傾きとして、算出する。   The substrate state acquisition unit 38 receives detection results of the substrate detection unit 36 (the mapping sensors 36a and 36b and the position sensor 36c). The substrate state acquisition unit 38 acquires the inclination of the substrate W in the housing 2 based on the detection result of the substrate detection unit 36. For example, the substrate state acquisition unit 38 calculates the inclination of the straight line connecting the detection points qa1 and qb1 as the inclination of the substrate W1 based on the positions of the detection points qa1 and qb1.

判定部39は、基板Wの傾きに基づいて、筐体2内の各基板Wが第2位置にあるか否かを判定する。例えば、判定部39は、基板Wの傾きを所定の閾値と比較する。その結果、基板Wの傾きが閾値以下である場合には、判定部39は、その基板Wが第2位置にあると判定する。そうでない場合には、判定部39は、その基板Wが第2位置にないと判定する。   The determination unit 39 determines whether each substrate W in the housing 2 is in the second position based on the inclination of the substrate W. For example, the determination unit 39 compares the inclination of the substrate W with a predetermined threshold value. As a result, when the inclination of the substrate W is equal to or smaller than the threshold value, the determination unit 39 determines that the substrate W is in the second position. Otherwise, the determination unit 39 determines that the substrate W is not in the second position.

駆動制御部40は、判定部39の判定結果および予め設定されている処理レシピに基づいて、蓋位置調整部34(第1、第2電動モータ43、47)と振動機構35(電動モータ53)と基板検出部36(センサ進退機構36eとセンサ昇降機構36f)を駆動制御する。処理レシピは、例えば、基板収納容器1のローディング処理が規定された情報である。   The drive control unit 40 includes a lid position adjustment unit 34 (first and second electric motors 43 and 47) and a vibration mechanism 35 (electric motor 53) based on the determination result of the determination unit 39 and a preset processing recipe. And the board detection unit 36 (sensor advance / retreat mechanism 36e and sensor elevating mechanism 36f). The processing recipe is information defining a loading process for the substrate storage container 1, for example.

制御部37は、中央演算処理装置(CPU)、ROM(Read-only Memory)、RAM(Random-Access Memory)、固定ディスク等の記憶媒体、駆動回路等によって構成されている。   The control unit 37 includes a central processing unit (CPU), a ROM (Read-only Memory), a RAM (Random-Access Memory), a storage medium such as a fixed disk, a drive circuit, and the like.

続いて、基板処理装置25の他の要素である処理部60を説明する。図3に示すように、処理部60は、搬送機構61と処理ユニット62を備える。搬送機構61は、載置台31に載置された基板収納容器1と処理ユニット62にアクセスする。搬送機構61は、基板Wを保持するための保持アーム61aと、保持アーム61aを移動させるための保持アーム用駆動機構61bを備えている。処理ユニット62は基板Wに処理を行う。処理ユニット62が行う処理は、例えば、塗布処理、現像処理、洗浄処理、加熱処理、冷却処理である。   Next, the processing unit 60 that is another element of the substrate processing apparatus 25 will be described. As shown in FIG. 3, the processing unit 60 includes a transport mechanism 61 and a processing unit 62. The transport mechanism 61 accesses the substrate storage container 1 and the processing unit 62 mounted on the mounting table 31. The transport mechanism 61 includes a holding arm 61a for holding the substrate W and a holding arm driving mechanism 61b for moving the holding arm 61a. The processing unit 62 processes the substrate W. The processes performed by the processing unit 62 are, for example, a coating process, a developing process, a cleaning process, a heating process, and a cooling process.

3.動作例
図8は、実施例に係るロードポート装置30および基板処理装置25のローディング処理の手順を示すフローチャートである。図9(a)乃至9(i)は、ロードポート装置30の動きを模式的に示す図である。なお、以下の説明において、蓋位置調整部34、振動機構35および基板検出部36の各動作は、制御部37(駆動制御部40)の制御に基づいて実行される。
3. Example of Operation FIG. 8 is a flowchart illustrating a loading process procedure of the load port apparatus 30 and the substrate processing apparatus 25 according to the embodiment. FIGS. 9A to 9I are diagrams schematically illustrating the movement of the load port device 30. FIG. In the following description, the operations of the lid position adjustment unit 34, the vibration mechanism 35, and the substrate detection unit 36 are executed based on the control of the control unit 37 (drive control unit 40).

<ステップS1> 基板収納容器が載置される
基板収納容器1がステージ32に載置される(図9(a))。蓋3は開口Aを閉塞している。基板収納容器1内の基板Wは、筐体用支持部材16および蓋用支持部材23によって第1位置で支持されている。
<Step S1> The substrate storage container is placed. The substrate storage container 1 is placed on the stage 32 (FIG. 9A). The lid 3 closes the opening A. The substrate W in the substrate storage container 1 is supported at the first position by the housing support member 16 and the lid support member 23.

振動機構35は、ステージ32上の基板収納容器1を前方向に移動させ、蓋3をシャッター部材34aに接触させる(図9(b))。   The vibration mechanism 35 moves the substrate storage container 1 on the stage 32 in the forward direction, and brings the lid 3 into contact with the shutter member 34a (FIG. 9B).

<ステップS2> 蓋を外す
蓋位置調整部34は、ステージ32上の筐体2から蓋3を離脱させ、蓋3を位置P3に移動させる(図9(c))。開口Aは開放される。筐体2内の基板Wは、第1位置から第2位置に移動し、不図示の棚部材11によって支持される。ただし、図9(c)に示すように、第2位置に移動しない基板Waが発生する場合がある。
<Step S2> Remove the lid The lid position adjusting unit 34 removes the lid 3 from the housing 2 on the stage 32 and moves the lid 3 to the position P3 (FIG. 9C). Opening A is opened. The substrate W in the housing 2 moves from the first position to the second position and is supported by a shelf member 11 (not shown). However, as shown in FIG. 9C, a substrate Wa that does not move to the second position may occur.

<ステップS3> 基板を検出する
基板検出部36は、筐体2内の基板Wの位置を検出する(図9(d)、9(e))。このとき、マッピングセンサ36a、36bは、図9(d)に示すように、筐体2内に進入し、図9(e)に示すように、上下方向に移動する。
<Step S3> Substrate Detection The substrate detection unit 36 detects the position of the substrate W in the housing 2 (FIGS. 9D and 9E). At this time, the mapping sensors 36a and 36b enter the housing 2 as shown in FIG. 9D and move in the vertical direction as shown in FIG. 9E.

<ステップS4> 全ての基板が第2位置にあるか?
基板検出部36は検出結果を制御部37に出力する。制御部37は、基板検出部36の検出結果に基づいて、筐体2内の各基板Wが第2位置にあるか否かを判定する。その結果、少なくともいずれかの基板Wが第2位置にないと判断された場合、ステップS5に進む。そうでない場合、ステップS7に進む。
<Step S4> Are all the substrates in the second position?
The substrate detection unit 36 outputs the detection result to the control unit 37. The control unit 37 determines whether or not each substrate W in the housing 2 is at the second position based on the detection result of the substrate detection unit 36. As a result, if it is determined that at least one of the substrates W is not in the second position, the process proceeds to step S5. Otherwise, the process proceeds to step S7.

例えば、図9(c)または図6(b)に示すように、第2位置に移動しない基板Wa、W2が存在する場合、ステップS5に進む。他方、図6(a)に示すように基板W1乃至W3の全てが第2位置に移動している場合、ステップS7に進む。   For example, as shown in FIG. 9C or FIG. 6B, when there are substrates Wa and W2 that do not move to the second position, the process proceeds to step S5. On the other hand, if all of the substrates W1 to W3 have moved to the second position as shown in FIG. 6A, the process proceeds to step S7.

<ステップS5> 開口を半開状態にする
蓋位置調整部34は、蓋3を位置P3から位置P2に移動させる(図9(f))。開口Aは半開状態になる。蓋位置調整部34は、さらに、蓋3を位置P2から基準位置Psに移動させる(図9(g))。蓋用支持部材23は第2位置にある基板Wの端部と接する。本ステップS5は、本発明における「前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする過程」の例である。
<Step S5> Making the Opening Half Open The lid position adjusting unit 34 moves the lid 3 from the position P3 to the position P2 (FIG. 9 (f)). The opening A is in a half-open state. The lid position adjusting unit 34 further moves the lid 3 from the position P2 to the reference position Ps (FIG. 9 (g)). The lid support member 23 contacts the end of the substrate W at the second position. This step S5 is an example of “a process in which the opening is opened in a half-open state while facing the lid” in the present invention.

<ステップS6> 基板を開口に向かって移動させる
振動機構35は筐体2を振動させる(図9(h))。これにより、基板Waは、筐体用支持部材16から外れ、開口Aに向かって移動する。換言すれば、基板Waは、前方向に移動する。このとき、蓋用支持部材23は基準位置Psに位置しているので、基板Wおよび基板Waは第2位置で止められ、第2位置を越えて前方向に移動しない。本ステップS6は、本発明における「前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる過程」の例である。
<Step S6> The substrate 35 is moved toward the opening. The vibration mechanism 35 vibrates the housing 2 (FIG. 9H). As a result, the substrate Wa moves away from the housing support member 16 and moves toward the opening A. In other words, the substrate Wa moves in the forward direction. At this time, since the lid support member 23 is located at the reference position Ps, the substrate W and the substrate Wa are stopped at the second position and do not move forward beyond the second position. This step S6 is an example of “a process of moving the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state” in the present invention.

<ステップS7> 基板を搬出する
蓋位置調整34は、蓋3を位置P3に移動させる(図9(i))。続いて、搬送機構61(保持アーム61a)は、上下方向に隣り合う基板Wと基板Wとの間に進入し、1枚の基板Wを保持し、筐体2の外部に退出する。搬送機構61は、筐体2から搬出した基板Wを、処理ユニット62に搬入する。
<Step S7> Unloading the substrate The lid position adjustment 34 moves the lid 3 to the position P3 (FIG. 9 (i)). Subsequently, the transport mechanism 61 (holding arm 61 a) enters between the substrates W adjacent to each other in the vertical direction, holds one substrate W, and exits outside the housing 2. The transport mechanism 61 carries the substrate W unloaded from the housing 2 into the processing unit 62.

4.実施例の効果
上述した実施例によれば、ロードポート装置30は、蓋位置調整部34と振動機構35と制御部37を備える。そして、ロードポート装置30は、開口Aが半開状態であるときに筐体2内の基板Wを開口Aに向かって移動させる(ステップS6)。これにより、筐体2内の基板Wの位置を好適に補正できる。よって、搬送機構61は、筐体2内の基板Wを好適に搬出できる。
4). Effects of the Embodiments According to the above-described embodiments, the load port device 30 includes the lid position adjustment unit 34, the vibration mechanism 35, and the control unit 37. Then, the load port device 30 moves the substrate W in the housing 2 toward the opening A when the opening A is in a half-open state (step S6). Thereby, the position of the board | substrate W in the housing | casing 2 can be correct | amended suitably. Therefore, the transport mechanism 61 can suitably carry out the substrate W in the housing 2.

振動機構35が基板Wの位置を補正するとき、蓋位置調整部34は蓋3を基準位置Psに位置させる。このため、蓋3は、基板Wが第2位置に移動することを妨げない。よって、振動機構35は基板Wの位置を効果的に補正できる。また、蓋3は、基板Wが過度に前方に移動することを防止でき、基板Wが棚部材11から脱落することを防止できる。よって、振動機構35は、基板Wを損傷させることなく安全に、基板Wの位置を補正できる。   When the vibration mechanism 35 corrects the position of the substrate W, the lid position adjustment unit 34 positions the lid 3 at the reference position Ps. For this reason, the lid 3 does not prevent the substrate W from moving to the second position. Therefore, the vibration mechanism 35 can effectively correct the position of the substrate W. Further, the lid 3 can prevent the substrate W from moving excessively forward, and can prevent the substrate W from dropping from the shelf member 11. Therefore, the vibration mechanism 35 can correct the position of the substrate W safely without damaging the substrate W.

振動機構35は、電動モータ53を備えているので、筐体2を好適に振動させることができる。   Since the vibration mechanism 35 includes the electric motor 53, the housing 2 can be preferably vibrated.

さらに、蓋3は基準位置Psに位置しているので、振動機構35による基板Wの位置の補正と同時に、蓋3は基板Wを第2位置に揃えることができる。   Furthermore, since the lid 3 is located at the reference position Ps, the lid 3 can align the substrate W with the second position simultaneously with the correction of the position of the substrate W by the vibration mechanism 35.

蓋位置調整部34は、位置P1、P2間の直線経路上においてシャッター部材34aを移動させる第2電動モータ47を備えているので、半開状態における蓋3の位置をきめ細かく調整できる。   Since the lid position adjustment unit 34 includes the second electric motor 47 that moves the shutter member 34a on the linear path between the positions P1 and P2, the position of the lid 3 in the half-open state can be finely adjusted.

ロードポート装置30は基板検出部36を備えるので、制御部37は筐体2内の各基板Wが第2位置にあるか否かを好適に判定できる。また、制御部37は、筐体2内の基板Wの少なくともいずれかが第2位置にないと判定した場合にのみ、基板Wの位置を補正させる。すなわち、制御部37は、筐体2内の全ての基板Wが第2位置にあると判定した場合、基板Wの位置を補正させない。これにより、ローディング処理に要する時間を適切に短縮できる。   Since the load port device 30 includes the substrate detection unit 36, the control unit 37 can preferably determine whether or not each substrate W in the housing 2 is in the second position. The control unit 37 corrects the position of the substrate W only when it is determined that at least one of the substrates W in the housing 2 is not in the second position. That is, when it is determined that all the substrates W in the housing 2 are in the second position, the control unit 37 does not correct the position of the substrate W. Thereby, the time required for the loading process can be appropriately shortened.

基板処理装置25は、基板収納容器1に収容される基板Wに対して液処理や熱処理などの処理を行うことができる。   The substrate processing apparatus 25 can perform processing such as liquid processing and heat treatment on the substrate W accommodated in the substrate storage container 1.

この発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施例では、振動機構35が基板Wの位置を補正するとき、蓋位置調整部34は蓋3を基準位置Psに位置させたが、これに限られない。例えば、振動機構35が基板Wの位置を補正するとき、蓋位置調整部34は基準位置Psよりも開口Aから遠い位置で蓋3を開口Aと向かい合わせてもよい。この場合、基板Wが棚部材11から脱落することを防止できる範囲内に蓋3が位置することが好ましい。本変形実施例では、さらに、基板位置補正部34が基板Wの位置を補正した後、蓋位置調整部34が蓋3を基準位置Psに移動させることによって筐体2内の基板Wを第2位置に揃えることが好ましい。   (1) In the above-described embodiment, when the vibration mechanism 35 corrects the position of the substrate W, the lid position adjusting unit 34 has positioned the lid 3 at the reference position Ps, but this is not restrictive. For example, when the vibration mechanism 35 corrects the position of the substrate W, the lid position adjustment unit 34 may cause the lid 3 to face the opening A at a position farther from the opening A than the reference position Ps. In this case, it is preferable that the lid 3 is located within a range in which the substrate W can be prevented from falling off the shelf member 11. In the present modified example, after the substrate position correcting unit 34 corrects the position of the substrate W, the lid position adjusting unit 34 moves the lid 3 to the reference position Ps, thereby moving the substrate W in the housing 2 to the second position. It is preferable to align the positions.

図10、図11を参照する。変形実施例の処理のうち、実施例と異なる処理は、ステップS8、S9、S10である。なお、実施例と同じ構成/処理については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   Please refer to FIG. 10 and FIG. Of the processes of the modified embodiment, the processes different from the embodiment are steps S8, S9, and S10. In addition, about the same structure / process as an Example, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting a same sign.

<ステップS8> 開口を半開状態にする
蓋位置調整部34は、蓋3を位置P3から位置P2に移動させる(図11(a))。開口Aは半開状態になる。本ステップS8は、本発明における「前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする過程」の例である。
<Step S8> Opening the Opening Halfway The lid position adjusting unit 34 moves the lid 3 from the position P3 to the position P2 (FIG. 11A). The opening A is in a half-open state. This step S8 is an example of “a process in which the opening is opened in a half-open state while facing the lid” in the present invention.

<ステップS9> 基板を開口に向かって移動させる
振動機構35は筐体2を振動させる(図11(b))。これにより、基板Waは、筐体用支持部材16から外れ、開口Aに向かって移動する。このとき、蓋用支持部材23は位置P2に位置しているので、基板W、Waが第2位置に移動でき、さらに、第2位置よりも前に移動できる。基板W、Waが棚部材11から脱落することは、蓋3によって阻止される。本ステップS9は、本発明における「前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる過程」の例である。
<Step S9> The substrate 35 is moved toward the opening. The vibration mechanism 35 vibrates the housing 2 (FIG. 11B). As a result, the substrate Wa moves away from the housing support member 16 and moves toward the opening A. At this time, since the lid support member 23 is located at the position P2, the substrates W and Wa can be moved to the second position, and further, can be moved before the second position. The lid 3 prevents the substrates W and Wa from falling off the shelf member 11. This step S9 is an example of “a process of moving the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state” in the present invention.

<ステップS10> 蓋を基準位置に移動させる
蓋位置調整部34は、さらに、蓋3を位置P2から基準位置Psに移動させる(図11(c))。蓋用支持部材23は第2位置より前に移動した基板W、Waを第2位置に押し戻す。このようにして、蓋位置調整部34は、筐体2内の基板W、Waを第2位置に揃える。
<Step S10> The lid position adjusting unit 34 moves the lid to the reference position, and further moves the lid 3 from the position P2 to the reference position Ps (FIG. 11C). The lid support member 23 pushes the substrates W and Wa moved before the second position back to the second position. In this way, the lid position adjusting unit 34 aligns the substrates W and Wa in the housing 2 at the second position.

上述した変形実施例によっても、筐体2内の全ての基板Wを第2位置に矯正できる。また、振動機構35が基板Wの位置を補正するとき、蓋3は基準位置Psよりも開口Aから遠い位置(例えば、位置P2)に位置しているので、筐体2が蓋3とぶつかることを一層確実に回避できる。   Also according to the above-described modified embodiment, all the substrates W in the housing 2 can be corrected to the second position. Further, when the vibration mechanism 35 corrects the position of the substrate W, the lid 3 is located farther from the opening A than the reference position Ps (for example, the position P2), so that the casing 2 collides with the lid 3. Can be avoided more reliably.

(2)上述した実施例では、基板位置補正部として振動機構35を例示したが、これに限られない。基板Wの位置を補正できれば、基板位置補正部として種々の機構を採用できる。例えば、基板位置補正部は、筐体2を傾斜させる傾斜機構または筐体2に衝撃を与える衝撃機構で構成されていてもよい。また、例えば、基板位置補正部は、振動機構、傾斜機構および衝撃機構の少なくともいずれかを含んでもよい。   (2) In the above-described embodiment, the vibration mechanism 35 is exemplified as the substrate position correction unit, but the present invention is not limited to this. If the position of the substrate W can be corrected, various mechanisms can be employed as the substrate position correction unit. For example, the substrate position correction unit may be configured by a tilt mechanism that tilts the housing 2 or an impact mechanism that applies an impact to the housing 2. Further, for example, the substrate position correction unit may include at least one of a vibration mechanism, a tilt mechanism, and an impact mechanism.

図12(a)、12(b)を参照して、傾斜機構を説明する。なお、実施例と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   With reference to FIGS. 12A and 12B, the tilting mechanism will be described. In addition, about the same structure as an Example, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

ロードポート装置30は、傾斜機構71を備えている。傾斜機構71はエアシリンダ73を備える。エアシリンダ73は、シリンダチューブ73aとピストンロッド73bと有する。シリンダチューブ73aは、載置台31に固定されている。ピストンロッド73bはシリンダチューブ73aに対して上下方向に移動する。ピストンロッド73bの先端は、ステージ32上に載置された筐体2の底板部5の後部と当接可能である。   The load port device 30 includes an inclination mechanism 71. The tilt mechanism 71 includes an air cylinder 73. The air cylinder 73 has a cylinder tube 73a and a piston rod 73b. The cylinder tube 73 a is fixed to the mounting table 31. The piston rod 73b moves up and down with respect to the cylinder tube 73a. The tip of the piston rod 73b can come into contact with the rear part of the bottom plate part 5 of the housing 2 placed on the stage 32.

図12(b)に示すように、エアシリンダ73が筐体2の後部を上方向に持ち上げると、筐体2の前部が筐体2の後部に比べて低くなるように、筐体2が傾斜する。このような傾斜機構71によっても、基板Wを開口Aに向かって移動させることができるので、基板Wの位置を好適に補正できる。また、傾斜機構71は、ステージ32を動かさすことなく、ステージ32上の筐体2を動かすので、傾斜機構71の構造を簡素化、小型化できる。   As shown in FIG. 12B, when the air cylinder 73 lifts the rear part of the casing 2 upward, the casing 2 is positioned so that the front part of the casing 2 is lower than the rear part of the casing 2. Tilt. Since the tilt mechanism 71 can also move the substrate W toward the opening A, the position of the substrate W can be suitably corrected. Further, since the tilt mechanism 71 moves the housing 2 on the stage 32 without moving the stage 32, the structure of the tilt mechanism 71 can be simplified and miniaturized.

ロードポート装置30は、さらに筐体進退機構81を備えている。筐体進退機構81は、筐体2を前後方向に移動させることによって、通過孔63aに嵌め込まれたシャッター部材34aに蓋3を接離させる。筐体進退機構81は、連結板83とエアシリンダ85とを備えている。連結板83は、ステージ32に固定されている。エアシリンダ85は、連結板83を前後方向に移動させる。エアシリンダ85は、シリンダチューブ85aとピストンロッド85bと有する。シリンダチューブ85aは、載置台31に固定されている。ピストンロッド85bはシリンダチューブ85aに対して前後方向に移動する。ピストンロッド85bの先端は、連結板83に連結されている。エアシリンダ85が連結板83を移動させると、ステージ32およびステージ32上の筐体2は前後方向に移動する。このように、筐体進退機構81は、基板位置補正部として機能する傾斜機構71とは別体である。   The load port device 30 further includes a housing advance / retreat mechanism 81. The case advancing / retracting mechanism 81 moves the case 2 in the front-rear direction to bring the lid 3 into contact with and away from the shutter member 34a fitted in the passage hole 63a. The housing advance / retreat mechanism 81 includes a connecting plate 83 and an air cylinder 85. The connecting plate 83 is fixed to the stage 32. The air cylinder 85 moves the connecting plate 83 in the front-rear direction. The air cylinder 85 has a cylinder tube 85a and a piston rod 85b. The cylinder tube 85 a is fixed to the mounting table 31. The piston rod 85b moves in the front-rear direction with respect to the cylinder tube 85a. The tip of the piston rod 85b is connected to the connecting plate 83. When the air cylinder 85 moves the connecting plate 83, the stage 32 and the housing 2 on the stage 32 move in the front-rear direction. Thus, the case advancing / retracting mechanism 81 is separate from the tilting mechanism 71 that functions as the substrate position correcting unit.

図13(a)、13(b)を参照して、衝撃機構を説明する。なお、実施例と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   The impact mechanism will be described with reference to FIGS. 13 (a) and 13 (b). In addition, about the same structure as an Example, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol.

ロードポート装置30は、衝撃機構75を備えている。衝撃機構75は電動モータ76と打撃部77を備えている。電動モータ76が打撃部77を回動させると、打撃部77は筐体2(後壁部8)を叩く。このような衝撃機構75によっても、基板Wを開口Aに向かって移動させることができるので、基板Wの位置を好適に補正できる。   The load port device 30 includes an impact mechanism 75. The impact mechanism 75 includes an electric motor 76 and a striking portion 77. When the electric motor 76 rotates the striking portion 77, the striking portion 77 strikes the housing 2 (rear wall portion 8). Since the impact mechanism 75 can also move the substrate W toward the opening A, the position of the substrate W can be suitably corrected.

本変形実施例においても、ロードポート装置30は、基板位置補正部として機能する衝撃機構75とは別個に、上述した筐体進退機構81を備えている。   Also in this modified embodiment, the load port device 30 includes the above-described housing advance / retreat mechanism 81 separately from the impact mechanism 75 that functions as a substrate position correction unit.

(3)上述した実施例では、振動機構35はステージ32を振動させるものであったが、これに限られない。すなわち、振動機構35はステージ32を振動させること無く、筐体2を振動させてもよい。   (3) In the above-described embodiment, the vibration mechanism 35 vibrates the stage 32, but is not limited thereto. That is, the vibration mechanism 35 may vibrate the housing 2 without vibrating the stage 32.

(4)上述した実施例では、振動機構35が筐体2を振動させる方向は、前後方向であったが、これに限られない。振動機構35は、筐体2を任意の方向に振動させてもよい。また、振動機構35は、超音波振動で筐体2を振動させてもよい。   (4) In the above-described embodiment, the vibration mechanism 35 vibrates the housing 2 in the front-rear direction, but is not limited thereto. The vibration mechanism 35 may vibrate the housing 2 in an arbitrary direction. Further, the vibration mechanism 35 may vibrate the housing 2 by ultrasonic vibration.

(5)上述した実施例では、振動機構35の構成例を説明したが、これに限られない。例えば、振動機構35は、筐体2を振動させる圧電素子などの振動源を備えてもよい。   (5) In the above-described embodiment, the configuration example of the vibration mechanism 35 has been described. However, the configuration is not limited thereto. For example, the vibration mechanism 35 may include a vibration source such as a piezoelectric element that vibrates the housing 2.

(6)上述した実施例において、基板Wを開口Aに向かって移動させるとき(ステップS6)、制御部37は、蓋位置調整部34を制御することによって、蓋3の動きを筐体2の動きに同期させてもよい。具体的には、基板Wを開口Aに向かって移動させるとき、制御部37は、筐体2と蓋3との相対的な位置関係を一定に保ってもよい。これによれば、基板Wの位置を精度よく補正できる。また、筐体2が蓋3とぶつかることを一層確実に回避できる。   (6) In the embodiment described above, when the substrate W is moved toward the opening A (step S6), the control unit 37 controls the movement of the lid 3 by controlling the lid position adjusting unit 34. It may be synchronized with the movement. Specifically, when the substrate W is moved toward the opening A, the control unit 37 may keep the relative positional relationship between the housing 2 and the lid 3 constant. According to this, the position of the substrate W can be accurately corrected. Moreover, it can avoid more reliably that the housing | casing 2 collides with the lid | cover 3. FIG.

あるいは、基板Wを開口Aに向かって移動させるとき(ステップS6)、制御部37は、蓋3を静止させてもよい。これによれば、制御部37の処理を簡素化できる。   Or when moving the board | substrate W toward the opening A (step S6), the control part 37 may make the lid | cover 3 stand still. According to this, the process of the control part 37 can be simplified.

(7)上述した実施例において、蓋位置調整部34の構成を適宜に変更してもよい。例えば、第1駆動機構41を省略し、シャッター部材駆動機構34bは第2駆動機構45のみを備えてもよい。本変形実施例におけるシャッター部材駆動機構においても、蓋3を位置P1、P2間の直線経路上における任意の位置でシャッター部材34aを静止させることができ、開口Aを半開状態にさせることができる。   (7) In the embodiment described above, the configuration of the lid position adjustment unit 34 may be changed as appropriate. For example, the first drive mechanism 41 may be omitted, and the shutter member drive mechanism 34b may include only the second drive mechanism 45. Also in the shutter member driving mechanism in the present modified example, the shutter member 34a can be stopped at an arbitrary position on the linear path between the positions P1 and P2, and the opening A can be in a half-open state.

(8)上述した実施例において、制御部37は、基板検出部36の検出結果に基づいて基板Wの位置を補正するか否かを選択したが、これに限られない。例えば、制御部37は、基板検出部36の検出結果に関係なく、一律に基板Wの位置を補正してもよい。本変形実施例では、図8に示すフローチャートにおいて、ステップS4の処理、または、ステップS4、S5の各処理を省略してもよい。本変形実施例の場合、基板検出部36を適宜に省略してもよい。   (8) In the above-described embodiment, the control unit 37 has selected whether or not to correct the position of the substrate W based on the detection result of the substrate detection unit 36, but is not limited thereto. For example, the control unit 37 may uniformly correct the position of the substrate W regardless of the detection result of the substrate detection unit 36. In the present modified example, the process of step S4 or the processes of steps S4 and S5 may be omitted in the flowchart shown in FIG. In the case of this modified embodiment, the substrate detector 36 may be omitted as appropriate.

(9)上述した実施例では、基板W1の傾きとして、検出点qa1、qb1を結ぶ直線の傾きを例示したが、これに限られない。例えば、検出点qa1、qb1の上下方向における差分(いわゆる高低差)を、基板W1の傾きと扱ってもよい。あるいは、検出点qa1、qb1の高低差を、検出点qa1、qb1の前後方向における差分で除した値(いわゆる前後方向における勾配)を、基板W1の傾きと扱ってもよい。   (9) In the above-described embodiment, the inclination of the straight line connecting the detection points qa1 and qb1 is exemplified as the inclination of the substrate W1, but the present invention is not limited to this. For example, the difference (so-called height difference) in the vertical direction between the detection points qa1 and qb1 may be treated as the inclination of the substrate W1. Alternatively, a value obtained by dividing the height difference between the detection points qa1 and qb1 by the difference in the front-rear direction of the detection points qa1 and qb1 (so-called gradient in the front-rear direction) may be treated as the inclination of the substrate W1.

(10)上述した実施例において、制御部37が基板Wの傾きを算出する際、制御部37は、マッピングセンサ36a、36bの配置に関する情報を適宜に利用してもよい。マッピングセンサ36a、36bの配置に関する情報は、例えば、マッピングセンサ36a、36bの各位置や、前後方向における光軸L1、L2の間隔(「センシングピッチ」と呼ばれる)である。これによれば、制御部37が基板Wの傾きを算出する処理を簡素化できる。   (10) In the embodiment described above, when the control unit 37 calculates the inclination of the substrate W, the control unit 37 may appropriately use information regarding the arrangement of the mapping sensors 36a and 36b. The information regarding the arrangement of the mapping sensors 36a and 36b is, for example, the positions of the mapping sensors 36a and 36b and the distance between the optical axes L1 and L2 in the front-rear direction (referred to as “sensing pitch”). According to this, the process which the control part 37 calculates the inclination of the board | substrate W can be simplified.

(11)上述した実施例において、制御部37は、基板Wの傾きに基づいて、基板Wが第2位置にあるか否かを判定したが、これに限られない。例えば、制御部37は、基板Wの前後方向における位置に基づいて、基板Wが第2位置にあるか否かを判定してもよい。例えば、制御部37は、第2位置に対する基板Wのずれ量に基づいて、基板Wが第2位置にあるか否かを判定してもよい。   (11) In the embodiment described above, the control unit 37 determines whether or not the substrate W is in the second position based on the inclination of the substrate W, but is not limited thereto. For example, the control unit 37 may determine whether or not the substrate W is in the second position based on the position of the substrate W in the front-rear direction. For example, the control unit 37 may determine whether or not the substrate W is in the second position based on the shift amount of the substrate W with respect to the second position.

(12)上述した実施例において、基板検出部36は、2つのマッピングセンサ36a、36bを備えていたが、これに限られない。基板検出部36が有するマッピングセンサの数は、3つ以上であってもよいし、1つであってもよい。基板検出部36が有するマッピングセンサの数が1つである場合、センサ進退機構36eおよびセンサ昇降機構36fは、そのマッピングセンサを前後方向に異なる位置で昇降させる。これにより、基板検出部36は、各基板Wについて2つ以上の検出点を取得できる。   (12) In the above-described embodiment, the substrate detection unit 36 includes the two mapping sensors 36a and 36b, but is not limited thereto. The number of mapping sensors included in the substrate detection unit 36 may be three or more, or one. When the number of mapping sensors included in the board detection unit 36 is one, the sensor advance / retreat mechanism 36e and the sensor elevating mechanism 36f elevate / lower the mapping sensor at different positions in the front-rear direction. Thereby, the board | substrate detection part 36 can acquire two or more detection points about each board | substrate W. FIG.

(13)上述した実施例では、位置センサ36cによって、マッピングセンサ36a、36bの位置を検出したが、これに限られない。制御部37がセンサ進退機構36eおよびセンサ昇降機構36fを制御した制御量、または、制御部37がセンサ進退機構36eおよびセンサ昇降機構36fに与えた制御命令に基づいて、マッピングセンサ36a、36bの位置を検出してもよい。   (13) In the above-described embodiment, the positions of the mapping sensors 36a and 36b are detected by the position sensor 36c, but the present invention is not limited to this. The positions of the mapping sensors 36a, 36b based on the control amount that the control unit 37 controls the sensor advance / retreat mechanism 36e and the sensor elevating mechanism 36f or the control command that the control unit 37 gives to the sensor advance / retreat mechanism 36e and the sensor elevating mechanism 36f. May be detected.

(14)上述した実施例において、ステージ32は、ステージ32上の筐体2を係止するためのクランプ機構(不図示)を備えてもよい。クランプ機構が筐体2を係止しているとき、筐体2はステージ32に対して滑るおそれがない。よって、振動機構35はステージ32を介して筐体2を一層好適に振動させることができる。   (14) In the embodiment described above, the stage 32 may include a clamp mechanism (not shown) for locking the casing 2 on the stage 32. When the clamp mechanism holds the housing 2, the housing 2 does not slide with respect to the stage 32. Therefore, the vibration mechanism 35 can more suitably vibrate the housing 2 via the stage 32.

(15)上述した実施例において、ロードポート装置30は、筐体2の動きに追従して伸縮し、開口Aが開放されている筐体2内の雰囲気を清浄に保つ遮蔽部材を備えてもよい。   (15) In the embodiment described above, the load port device 30 may include a shielding member that expands and contracts following the movement of the housing 2 and keeps the atmosphere in the housing 2 in which the opening A is open clean. Good.

図14(a)、(b)を参照する。ロードポート装置30は、遮蔽部材87を備えている。遮蔽部材87は、例えば、ベローズ(蛇腹管)である。遮蔽部材87の一端は、隔壁63に固定されている。遮蔽部材87の一端は、通過孔63aの周囲を囲むように、取り付けられている。遮蔽部材87の他端は自由端である。ステージ32に筐体2が載置されると、遮蔽部材87の他端は筐体2と当接する。遮蔽部材87の他端は、開口Aを囲むように筐体2と接触する。これにより、開口Aが開放されると、筐体2内の空間Sは通過孔63aを通じて隔壁63の内部とのみ連通し、筐体2内の雰囲気と載置台31の周囲の雰囲気とは遮蔽部材87によって遮断される。さらに、遮蔽部材87は、筐体2の動きに追従して伸縮する。これにより、筐体2が動いても遮蔽部材87と筐体2との接触状態は保たれる。よって、振動機構35が筐体2を前後方向に移動させるときも、筐体2を振動させるときも、筐体2内の雰囲気は清浄に保たれる。   Reference is made to FIGS. The load port device 30 includes a shielding member 87. The shielding member 87 is, for example, a bellows (bellows tube). One end of the shielding member 87 is fixed to the partition wall 63. One end of the shielding member 87 is attached so as to surround the periphery of the passage hole 63a. The other end of the shielding member 87 is a free end. When the housing 2 is placed on the stage 32, the other end of the shielding member 87 contacts the housing 2. The other end of the shielding member 87 is in contact with the housing 2 so as to surround the opening A. Thus, when the opening A is opened, the space S in the housing 2 communicates only with the inside of the partition wall 63 through the passage hole 63a, and the atmosphere in the housing 2 and the atmosphere around the mounting table 31 are shield members. Blocked by 87. Further, the shielding member 87 expands and contracts following the movement of the housing 2. Thereby, even if the housing | casing 2 moves, the contact state of the shielding member 87 and the housing | casing 2 is maintained. Therefore, the atmosphere in the housing 2 is kept clean both when the vibration mechanism 35 moves the housing 2 in the front-rear direction and when the housing 2 is vibrated.

(16)上述した実施例において、基板Wを開口Aに向かって移動させるとき、通過孔63aの内壁に筐体2を気密に接触させた状態に保ってもよい。これにより、通過孔63aが筐体2によって閉塞された状態に保つことができ、基板処理装置25の内部を清浄に保つことができる。また、筐体2の開口Aは基板処理装置25の外部に対して閉塞された状態に保つことができ、筐体2内の雰囲気も清浄に保つことができる。   (16) In the embodiment described above, when the substrate W is moved toward the opening A, the housing 2 may be kept in airtight contact with the inner wall of the passage hole 63a. Thereby, the passage hole 63a can be kept closed by the housing 2, and the inside of the substrate processing apparatus 25 can be kept clean. Further, the opening A of the housing 2 can be kept closed with respect to the outside of the substrate processing apparatus 25, and the atmosphere in the housing 2 can be kept clean.

以下、図15乃至図19を参照して、本変形実施例の具体的な意構成を説明する。図15に示すように、隔壁63の後方向側の表面である外面63bには、凹部63cが形成されている。凹部63cは前方向に凹んでいる。凹部63cは、筐体2の開口端面2aがはまり込むサイズを有している。より詳細には凹部63cは筐体2の開口端面2aの外形に一致する形状とされている。これにより、筐体2が凹部63cに挿入されているとき、筐体2と凹部63cとが互いに密着した状態に保たれる。   Hereinafter, with reference to FIG. 15 to FIG. 19, a specific configuration of the present modified example will be described. As shown in FIG. 15, a recess 63 c is formed on the outer surface 63 b that is a surface on the rear side of the partition wall 63. The recess 63c is recessed in the forward direction. The recess 63c has a size that allows the opening end surface 2a of the housing 2 to be fitted. More specifically, the recess 63 c has a shape that matches the outer shape of the opening end surface 2 a of the housing 2. Thereby, when the housing | casing 2 is inserted in the recessed part 63c, the housing | casing 2 and the recessed part 63c are maintained in the mutually contact | adhered state.

通過孔63aは、凹部63cの中央に形成されている。通常、通過孔63aはシャッター部材34aによって塞がれている。通過孔63aは凹部63cよりも若干小さく、凹部63cは通過口63aを囲む底面63dを有している。底面63dは垂直な(より厳密には、前後方向に直交する)平坦面である。底面63dは、筐体2の開口端面2aと当接可能である。   The passage hole 63a is formed at the center of the recess 63c. Usually, the passage hole 63a is closed by the shutter member 34a. The passage hole 63a is slightly smaller than the recess 63c, and the recess 63c has a bottom surface 63d surrounding the passage port 63a. The bottom surface 63d is a flat surface that is vertical (more precisely, orthogonal to the front-rear direction). The bottom surface 63 d can contact the opening end surface 2 a of the housing 2.

図16および図17は、基板収納容器1が載置されるステップS1における隔壁63と筐体2の位置関係を示す。まず、図16に示すように、筐体2がステージ32上に載置される。次に、図17に示すように、筐体2が移動機構35によって前方向に移動される。これにより、筐体2の開口端面2aが凹63cの底面63dに接触し、蓋3がシャッター部材34aに接触する。なお、図16乃至図19では、筐体用支持部材16や蓋用支持部材23などの図示を省略する。   16 and 17 show the positional relationship between the partition wall 63 and the housing 2 in step S1 where the substrate storage container 1 is placed. First, as shown in FIG. 16, the housing 2 is placed on the stage 32. Next, as shown in FIG. 17, the housing 2 is moved forward by the moving mechanism 35. Thereby, the opening end surface 2a of the housing 2 contacts the bottom surface 63d of the recess 63c, and the lid 3 contacts the shutter member 34a. In FIG. 16 to FIG. 19, illustration of the housing support member 16 and the lid support member 23 is omitted.

図18は、開口Aを半開状態にするステップS5における隔壁63と筐体2の位置関係を示す。   FIG. 18 shows the positional relationship between the partition wall 63 and the housing 2 in step S5 for setting the opening A in a half-open state.

図19は、基板Wを開口Aに向かって移動させるステップS6における隔壁63と筐体2の位置関係を示す。振動機構35は、筐体2を前後方向に振動させる。このとき、開口端面2aが外面63bより後方向に移動しないように、筐体2が振動する範囲が制限されている。すなわち、筐体2が振動するとき、開口端面2aは、外面63bと底面63dとの間の範囲R内で前後方向に往復する。その結果、基板Wを開口Aに向かって移動させるとき、筐体2が凹部63cに挿入された状態に保たれる。   FIG. 19 shows the positional relationship between the partition wall 63 and the housing 2 in step S6 in which the substrate W is moved toward the opening A. The vibration mechanism 35 vibrates the housing 2 in the front-rear direction. At this time, the range in which the housing 2 vibrates is limited so that the opening end surface 2a does not move backward from the outer surface 63b. That is, when the housing 2 vibrates, the opening end surface 2a reciprocates in the front-rear direction within a range R between the outer surface 63b and the bottom surface 63d. As a result, when the substrate W is moved toward the opening A, the housing 2 is kept inserted in the recess 63c.

筐体2の振動範囲がこのように設定されているので、筐体2の振動中に、筐体2が凹部63cから脱落することがない。また、凹部63cの形状が筐体2の開口端面2aの形状に一致しているため、筐体2の振動中に、基板処理装置25の外気が通過孔63aを通って基板処理装置25の内部に進入することを防止または抑制できる。   Since the vibration range of the housing 2 is set in this way, the housing 2 is not dropped from the recess 63c during the vibration of the housing 2. In addition, since the shape of the recess 63c matches the shape of the opening end surface 2a of the housing 2, the outside air of the substrate processing apparatus 25 passes through the passage hole 63a and the inside of the substrate processing apparatus 25 during the vibration of the housing 2. Can be prevented or suppressed.

また、筐体2は基板処理装置25の内部のみに対して開放し、基板処理装置25の外部に対して閉塞した状態に保たれる。よって、筐体2内の雰囲気も清浄に保つことができる。   Further, the housing 2 is opened only to the inside of the substrate processing apparatus 25 and is kept closed with respect to the outside of the substrate processing apparatus 25. Therefore, the atmosphere in the housing 2 can be kept clean.

(17)上述した実施例では、基板収納容器1を例示したが、基板収納容器1の構造はこれに限られない。ロードポート装置30および基板処理装置25は、MACタイプに属する種々の基板収納容器を好適にローディングできる。   (17) In the above-described embodiment, the substrate storage container 1 is exemplified, but the structure of the substrate storage container 1 is not limited to this. The load port device 30 and the substrate processing apparatus 25 can suitably load various substrate storage containers belonging to the MAC type.

(18)上述した実施例および上記(1)から(17)で説明した各変形実施例については、さらに各構成を他の実施例の構成または他の変形実施例の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。   (18) For each of the above-described embodiments and each modified embodiment described in (1) to (17) above, each configuration is further replaced or combined with the configuration of another embodiment or the configuration of another modified embodiment. May be changed as appropriate.

1 … 基板収納容器
2 … 筐体
3 … 蓋
3b … 裏面
11a、11b、11c、11 … 棚部材
16a、16b、16c、16 … 筐体用支持部材
23a、23b、23c、23 … 蓋用支持部材
25 … 基板処理装置
30 … ロードポート装置
60 … 処理部
31 … 載置台31
32 … ステージ
34 … 蓋位置調整部
35 … 振動機構(基板位置補正部)
36 … 基板検出部
37 … 制御部
63 … 隔壁
71 … 傾斜機構(基板位置補正部)
75 … 衝撃機構(基板位置補正部)
87 … 遮蔽部材
A … 開口
Ps … 基準位置
W、W1、W2、W3、Wa … 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate storage container 2 ... Housing 3 ... Lid 3b ... Back surface 11a, 11b, 11c, 11 ... Shelf member 16a, 16b, 16c, 16 ... Housing support member 23a, 23b, 23c, 23 ... Lid support member 25... Substrate processing apparatus 30... Load port apparatus 60... Processing section 31.
32 ... Stage 34 ... Lid position adjustment unit 35 ... Vibration mechanism (substrate position correction unit)
36 ... Substrate detection unit 37 ... Control unit 63 ... Bulkhead 71 ... Inclination mechanism (substrate position correction unit)
75 ... Impact mechanism (substrate position correction unit)
87 ... Shielding member A ... Opening Ps ... Reference position W, W1, W2, W3, Wa ... Substrate

Claims (9)

基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
備え、
前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋は、基板が前記第2位置に移動することを妨げず、かつ、基板が前記棚部材から脱落することを防止するロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with a,
When the substrate position correcting unit corrects the position of the substrate, the lid does not prevent the substrate from moving to the second position, and prevents the substrate from dropping from the shelf member .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
備え、
前記蓋が前記開口と向かい合い、かつ、前記蓋用支持部材が前記第2位置にある基板の端部と当接するときの前記蓋の位置を基準位置として、
前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋位置調整部は前記蓋を前記基準位置に位置させるロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with a,
The position of the lid when the lid faces the opening and the lid support member abuts against the end of the substrate in the second position is a reference position.
When the substrate position correcting unit corrects the position of the substrate, the lid position adjusting unit positions the lid at the reference position .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
備え、
前記蓋が前記開口と向かい合い、かつ、前記蓋用支持部材が前記第2位置にある基板の端部と当接するときの前記蓋の位置を基準位置として、
前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記蓋位置調整部は前記基準位置よりも前記開口から遠い位置で前記蓋を前記開口と向かい合わせ、
前記筐体内の基板の位置を補正した後、前記蓋を前記基準位置に移動させることによって前記筐体内の基板を前記第2位置に揃えるロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with a,
The position of the lid when the lid faces the opening and the lid support member abuts against the end of the substrate in the second position is a reference position.
When the substrate position correction unit corrects the position of the substrate, the lid position adjustment unit faces the lid to the opening at a position farther from the opening than the reference position,
A load port device that aligns the substrate in the housing at the second position by moving the lid to the reference position after correcting the position of the substrate in the housing .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
備え、
前記基板位置補正部は、前記筐体を振動させる振動機構、前記筐体を傾斜させる傾斜機構、および、前記筐体に衝撃を与える衝撃機構の少なくともいずれかを含むロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with a,
The substrate position correcting unit includes a load port device including at least one of a vibration mechanism that vibrates the casing, a tilt mechanism that tilts the casing, and an impact mechanism that applies an impact to the casing .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
備え、
前記基板位置補正部が基板の位置を補正するとき、前記制御部は前記筐体の動きと前記蓋の動きを同期させるロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with a,
When the substrate position correcting unit corrects the position of the substrate, the control unit synchronizes the movement of the casing and the movement of the lid .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
前記筐体内の基板の位置を検出する基板検出部と、
備え、
前記制御部は、前記基板検出部の検出結果に基づいて前記筐体内の基板の少なくともいずれかが前記第2位置にないと判定した場合、基板の位置を補正するロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correcting unit that corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
A substrate detector for detecting the position of the substrate in the housing;
Equipped with a,
The control unit is a load port device that corrects a position of a substrate when it is determined that at least one of the substrates in the housing is not in the second position based on a detection result of the substrate detection unit .
基板収納容器を開閉するためのロードポート装置であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉すると、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記ロードポート装置は、
前記筐体に対して前記蓋を移動させることによって、前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする蓋位置調整部と、
前記基板収納容器の外部に設けられ、前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させることよって、基板の位置を補正する基板位置補正部と、
前記蓋位置調整部および前記基板位置補正部を制御して、前記開口が前記半開状態であるときに前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる制御部と、
を備えているロードポート装置。
A load port device for opening and closing a substrate storage container,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The load port device is:
A lid position adjusting unit that moves the lid relative to the housing to bring the opening into a half-opened state while facing the lid;
A substrate position correction unit that is provided outside the substrate storage container and corrects the position of the substrate by moving the substrate in the housing toward the opening;
A control unit that controls the lid position adjustment unit and the substrate position correction unit to move the substrate in the housing toward the opening when the opening is in the half-open state;
Equipped with load port device.
請求項1から7のいずれかに記載のロードポート装置を備えた基板処理装置。   A substrate processing apparatus comprising the load port device according to claim 1. 基板収納容器のローディング方法であって、
前記基板収納容器は、
その内部で基板を収容可能な、かつ、その前面に開口を有する筐体と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の下面と接触している状態で、基板を略水平姿勢で支持する棚部材と、
前記筐体の内部に設けられ、基板の端部を支持する筐体用支持部材と、
前記筐体に着脱して前記開口を開閉する蓋と、
前記蓋の裏面に取り付けられ、基板の端部を支持する蓋用支持部材と、
を備え、
前記蓋が前記開口を閉塞しているときには、前記筐体用支持部材と前記蓋用支持部材とが基板を第1位置で支持し、
前記開口が開放されているときには、前記棚部材は、前記第1位置よりも下方で、かつ、前記第1位置よりも前記開口に近い第2位置で基板を支持可能であり、
前記基板収納容器のローディング方法は、
前記開口を、前記蓋と向かい合ったまま開放された半開状態にする過程と、
前記開口が前記半開状態であるときに、基板位置補正部によって、前記筐体内の基板を前記開口に向かって移動させる補正過程と、
備え、
前記補正過程では、前記蓋は、基板が前記第2位置に移動することを妨げず、かつ、基板が前記棚部材から脱落することを防止する基板収納容器のローディング方法。
A method for loading a substrate storage container ,
The substrate container is
A housing capable of accommodating a substrate therein and having an opening on the front surface thereof;
A shelf member that is provided inside the housing and supports the substrate in a substantially horizontal posture in a state of being in contact with the lower surface of the substrate;
A housing support member provided inside the housing and supporting an end of the substrate;
A lid that is attached to and detached from the housing to open and close the opening;
A lid support member attached to the back surface of the lid and supporting an end of the substrate;
With
When the lid closes the opening, the housing support member and the lid support member support the substrate at the first position;
When the opening is open, the shelf member can support the substrate at a second position below the first position and closer to the opening than the first position;
The substrate storage container loading method is:
A process of making the opening in a half-open state opened facing the lid;
When the opening is in the half-open state, a correction process for moving the substrate in the housing toward the opening by the substrate position correction unit ;
Equipped with a,
In the correction process, the lid does not prevent the substrate from moving to the second position, and prevents the substrate from dropping from the shelf member .
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