JP6410640B2 - Satin nickel plating bath and satin nickel plating method - Google Patents

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本発明は、被めっき物にサテン状外観のニッケルめっき皮膜を形成させることを可能にしたサテンニッケルめっき浴およびサテンニッケルめっき方法に関する。   The present invention relates to a satin nickel plating bath and a satin nickel plating method capable of forming a nickel plating film having a satin-like appearance on an object to be plated.

従来、サテン状外観のニッケルめっき皮膜を形成する方法としては、素地をサンドブラストやショットブラストなどの機械的な処理で荒らす方法、ニッケルめっき浴中に非導電性微粒子を物理的に分散させ共析させる方法(コンポジット法)、ニッケルめっき浴中に第4級アンモニウム塩と有機アニオン物質を添加し、エマルションを形成させ電解による皮膜析出を阻害させてサテン状外観を得る方法(エマルション法)等が行われてきた。   Conventional methods for forming a nickel-plated film with a satin-like appearance include a method of roughing the substrate by a mechanical treatment such as sand blasting or shot blasting, and physically dispersing non-conductive fine particles in a nickel plating bath and co-depositing them. The method (composite method), the method of adding a quaternary ammonium salt and an organic anionic substance in a nickel plating bath, forming an emulsion and inhibiting the film deposition by electrolysis to obtain a satin appearance (emulsion method), etc. I came.

しかしながら、ブラスト加工は極めて高価となり現在のめっき工程において適当ではない。コンポジット法は微粒子を均一に分散させるための装置構築において高価であり、得られるサテン状外観にムラを生じやすい。また、従来のエマルション法は比較的短時間でエマルションが凝集し、外観不良を生じてしまう。そのため、めっき稼働時間が非常に短いという問題を抱えており、長時間稼動が可能となるサテンニッケルめっき方法の提供が求められていた。   However, blasting is extremely expensive and is not suitable for current plating processes. The composite method is expensive in constructing an apparatus for uniformly dispersing fine particles, and the resulting satin-like appearance tends to be uneven. Further, in the conventional emulsion method, the emulsion aggregates in a relatively short time, resulting in poor appearance. Therefore, there is a problem that the plating operation time is very short, and there has been a demand for providing a satin nickel plating method capable of operating for a long time.

従来のエマルション法の先行技術例として、例えば特許文献1はベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムクロリドと有機アニオン物質を含むニッケルまたはニッケル/コバルトめっき浴を開示している。特許文献2は第4級アンモニウム塩とスルホコハク酸エステルを含むニッケルまたはニッケル/コバルトめっき浴を開示している。特許文献3は第4級アンモニウム塩とポリエーテル化合物を含むニッケルまたはニッケル/コバルトめっき浴を開示している。   As a prior art example of a conventional emulsion method, for example, Patent Document 1 discloses a nickel or nickel / cobalt plating bath containing benzyldimethyltetradecyl ammonium chloride and an organic anionic substance. Patent Document 2 discloses a nickel or nickel / cobalt plating bath containing a quaternary ammonium salt and a sulfosuccinate. Patent Document 3 discloses a nickel or nickel / cobalt plating bath containing a quaternary ammonium salt and a polyether compound.

これら先行技術はいずれもめっき浴の長時間稼動が可能となるとのものだが、実際にはめっき浴建浴後数時間のうちにめっき皮膜の著しい外観変動が確認された。また、めっき浴表面にはエマルションの凝集体が浮遊し、被めっき物表面に付着し外観不良を誘発する事象も確認された。   Although these prior arts are all capable of operating the plating bath for a long time, in reality, a significant change in the appearance of the plating film was confirmed within a few hours after the plating bath was built. It was also confirmed that emulsion aggregates floated on the surface of the plating bath and adhered to the surface of the object to be plated, leading to poor appearance.

特開平3−39495号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-39495 米国特許第6,919,014号US Pat. No. 6,919,014 特許第4382656号公報Japanese Patent No. 4382656

本発明は、上記した従来技術の現状に鑑みてなされたものであり、長時間安定稼動可能なサテンニッケルめっき浴およびめっき方法を提供することをその目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above-described state of the art, and an object of the present invention is to provide a satin nickel plating bath and a plating method that can be stably operated for a long time.

本発明者らは、上記のような課題を解決すべく鋭意研究を行なった結果、意外にも従来はサテンニッケルめっき浴の必須成分とされていた第4級アンモニウム化合物に代えて少なくとも1種の第1級、第2級および第3級アミンを用い、更にそれと特定の構造のシロキサン化合物の少なくとも1種を組み合わせて用いることにより、長時間安定してサテン外観が得られることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have surprisingly found that at least one quaternary ammonium compound, which has conventionally been an essential component of a satin nickel plating bath, is replaced with at least one kind. It has been found that a satin appearance can be obtained stably for a long time by using primary, secondary and tertiary amines, and further using at least one siloxane compound having a specific structure in combination. Was completed.

すなわち、本発明は以下の内容をその要旨とするものである。
(1)一般式(1)

Figure 0006410640
(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して水素、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルキル、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルケニル、ジアルキルエーテル、アミノアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選ばれる基を示す(ただし、R1、R2およびR3の全てが水素の場合を除く))
で表される第1級、第2級および第3級アミンの少なくとも1種と、
一般式(2)または(3)
Figure 0006410640
(式中、R4は、水素、アルキル、アミノアルキル、ポリエーテル、エポキシ、脂環式エポキシ、アラルキル、カルビノールおよびカルボキシルからなる群から選ばれる基を示し、mは0〜20の整数を示し、nは1〜20の整数を示す)
Figure 0006410640
(式中、R5およびR6は、それぞれ独立してアルキル、アミノアルキル、エポキシ、脂環式エポキシ、カルビノール、ジオール、メタクリル、ポリエーテル、カルボキシル、フェノール、シラノール、アクリルおよびカルボン酸無水物からなる群から選ばれる基を示し、pは1〜20の整数を示す)
で表されるシロキサン化合物の少なくとも1種とを、
含有することを特徴とするサテンニッケルめっき浴。
(2)被めっき物を上記(1)に記載のサテンニッケルめっき浴で電気めっきすることを特徴とするサテンニッケルめっき方法。
(3)上記(2)方法により得られるサテンニッケル被覆製品。 That is, the gist of the present invention is as follows.
(1) General formula (1)
Figure 0006410640
(Wherein, R1, R2 and R3 are each independently hydrogen, straight or branched chain alkyl having a carbon number of C 1 -C 18, linear or branched alkenyl of a carbon number of C 1 -C 18, dialkyl ethers, A group selected from the group consisting of aminoalkyl, phenyl and benzyl is shown (except when R1, R2 and R3 are all hydrogen)
At least one of a primary, secondary and tertiary amine represented by:
General formula (2) or (3)
Figure 0006410640
(Wherein R4 represents a group selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aminoalkyl, polyether, epoxy, alicyclic epoxy, aralkyl, carbinol and carboxyl, m represents an integer of 0 to 20, n represents an integer of 1 to 20)
Figure 0006410640
Wherein R5 and R6 are each independently a group consisting of alkyl, aminoalkyl, epoxy, cycloaliphatic epoxy, carbinol, diol, methacryl, polyether, carboxyl, phenol, silanol, acrylic and carboxylic anhydride. And p represents an integer of 1 to 20)
At least one of siloxane compounds represented by:
A satin nickel plating bath characterized by containing.
(2) A satin nickel plating method characterized by electroplating an object to be plated with the satin nickel plating bath described in (1) above.
(3) A satin nickel-coated product obtained by the method (2).

本発明によれば、サテン外観を発現させるエマルションが長期に渡り安定してめっき液中に存在するため、従来のエマルション法と比較し長時間の連続稼動が可能となる。また、めっき浴表面への浮遊物質の形成も認められず、これに起因する外観不良を抑制することが可能となる。   According to the present invention, since an emulsion that develops a satin appearance is stably present in the plating solution for a long period of time, continuous operation for a long time is possible as compared with the conventional emulsion method. In addition, the formation of floating substances on the plating bath surface is not recognized, and it is possible to suppress appearance defects due to this.

本発明のサテンニッケルめっき浴(以下、「本発明浴」という)は、従来公知のニッケルめっき浴に、一般式(1)で示される第1級、第2級および第3級アミンの少なくとも1種と、一般式(2)または(3)で示されるシロキサン化合物の少なくとも1種とを含有させたものである。   The satin nickel plating bath of the present invention (hereinafter referred to as “the bath of the present invention”) is a conventionally known nickel plating bath, and is at least one of primary, secondary and tertiary amines represented by the general formula (1). A seed and at least one siloxane compound represented by the general formula (2) or (3) are contained.

本発明浴の必須成分である一般式(1)

Figure 0006410640
で表される第1級、第2級および第3級アミンにおいて、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して水素、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルキル、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルケニル、ジアルキルエーテル、アミノアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選ばれる基を示し、好ましくは水素、C〜C18の直鎖アルキル、アミノアルキルおよびベンジルからなる群から選ばれる基であり、より好ましくはC〜C18の直鎖アルキルである。なお、上記一般式(1)において、R1、R2およびR3の全てが水素の場合は除かれる。 General formula (1) which is an essential component of the bath of the present invention
Figure 0006410640
In primary, secondary and tertiary amines represented in, R1, R2 and R3 are each independently hydrogen, straight or branched chain alkyl having a carbon number of C 1 -C 18, carbon atoms C 1 straight or branched chain alkenyl, dialkyl ethers -C 18, aminoalkyl, represents a group selected from the group consisting of phenyl and benzyl, comprising preferably hydrogen, straight chain alkyl of C 1 -C 18, aminoalkyl and benzyl a group selected from the group, more preferably a straight chain alkyl of C 1 -C 18. In the above general formula (1), the case where all of R1, R2, and R3 are hydrogen is excluded.

より具体的な第1級、第2級および第3級アミンとしては、ラウリルアミン、オクチルアミン、ミリスチルアミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルミリスチルアミン、ジメチル硬化牛脂アルキルアミン、アルキル−3−アミノプロピルエーテル、N−イソプロピルベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリベンジルアミン等が挙げられる。これらの中でも好ましくはオクチルアミンまたはジメチルラウリルアミンである。これらの第1級、第2級および第3級アミンは2種以上組み合わせて用いてもよい。   More specific primary, secondary and tertiary amines include laurylamine, octylamine, myristylamine, dimethyllaurylamine, dimethylmyristylamine, dimethyl-cured tallow alkylamine, alkyl-3-aminopropyl ether, N-isopropylbenzylamine, N, N-dimethylbenzylamine, tribenzylamine and the like can be mentioned. Among these, octylamine or dimethyllaurylamine is preferable. These primary, secondary and tertiary amines may be used in combination of two or more.

本発明浴における第1級、第2級および第3級アミンの含有量は特に限定されないが、例えば、0.0001〜0.1g/Lであり、好ましくは0.0005〜0.05g/L、より好ましくは0.001〜0.01g/Lである。   The primary, secondary, and tertiary amine contents in the bath of the present invention are not particularly limited, but are, for example, 0.0001 to 0.1 g / L, preferably 0.0005 to 0.05 g / L. More preferably, it is 0.001 to 0.01 g / L.

本発明浴のもう一方の必須成分であるシロキサン化合物のうち一般式(2)

Figure 0006410640
で表されるシロキサン化合物において、R4は水素、アルキル、アミノアルキル、ポリエーテル、エポキシ、脂環式エポキシ、アラルキル、カルビノールおよびカルボキシルからなる群から選ばれる基であり、これらの基の中でも好ましくはポリエーテルまたはアラルキルであり、より好ましくはポリエーテルであり、特に好ましくは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールコポリマー(アルキレンオキシド付加モル数5〜30)である。また、mは0〜20の整数、好ましくは2〜10であり、nは1〜20の整数、好ましくは2〜10である。 Of the siloxane compounds that are another essential component of the bath of the present invention, the general formula (2)
Figure 0006410640
In the siloxane compound represented by R4, R4 is a group selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aminoalkyl, polyether, epoxy, alicyclic epoxy, aralkyl, carbinol, and carboxyl, and preferably among these groups Polyether or aralkyl, more preferably polyether, particularly preferably polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene glycol / polypropylene glycol copolymer (alkylene oxide addition mole number: 5 to 30). M is an integer of 0 to 20, preferably 2 to 10, and n is an integer of 1 to 20, preferably 2 to 10.

また、一般式(3)

Figure 0006410640
で表されるシロキサン化合物において、R5およびR6は、それぞれ独立してアルキル、アミノアルキル、エポキシ、脂環式エポキシ、カルビノール、ジオール、メタクリル、ポリエーテル、カルボキシル、フェノール、シラノール、アクリルおよびカルボン酸無水物からなる群から選択される基であり、これらの基の中でも好ましくはポリエーテルであり、特に好ましくは、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール・ポリプロピレングリコールコポリマー(アルキレンオキシド付加モル数5〜30)である。また、pは1〜20の整数、好ましくは2〜10である。 In addition, the general formula (3)
Figure 0006410640
R5 and R6 are each independently alkyl, aminoalkyl, epoxy, cycloaliphatic epoxy, carbinol, diol, methacryl, polyether, carboxyl, phenol, silanol, acrylic and carboxylic anhydride Among these groups, a polyether is preferable, and a polyethylene glycol, a polypropylene glycol, a polyethylene glycol / polypropylene glycol copolymer (5-30 alkylene oxide addition moles) is particularly preferable. It is. P is an integer of 1 to 20, preferably 2 to 10.

より具体的なシロキサン化合物としては、メチルフェニルポリシロキサン、アミノエチルアミノプロピルメチルシロキサン・ジメチルシロキサンコポリマー、ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサンコポリマー、ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)メチルポリシロキサンコポリマー等が挙げられ、好ましくはポリオキシエチレン・メチルポリシロキサンコポリマー、ポリ(オキシエチレン・オキシプロピレン)メチルポリシロキサンコポリマーである。これらシロキサン化合物は2種以上組み合わせて用いてもよい。   More specific siloxane compounds include methylphenyl polysiloxane, aminoethylaminopropylmethylsiloxane / dimethylsiloxane copolymer, polyoxyethylene / methylpolysiloxane copolymer, poly (oxyethylene / oxypropylene) methylpolysiloxane copolymer, and the like. Preferred are polyoxyethylene / methylpolysiloxane copolymer and poly (oxyethylene / oxypropylene) methylpolysiloxane copolymer. Two or more of these siloxane compounds may be used in combination.

本発明浴におけるシロキサン化合物の含有量は特に限定されないが、例えば、0.0001〜0.1g/Lであり、好ましくは0.0005〜0.05g/L、より好ましくは0.001〜0.01g/Lである。   Although content of the siloxane compound in this invention bath is not specifically limited, For example, it is 0.0001-0.1g / L, Preferably it is 0.0005-0.05g / L, More preferably, it is 0.001-0.00. 01 g / L.

本発明浴のベースとなるニッケルめっき浴は、従来公知のニッケル電気めっき浴の中から選択すればよい。従来公知のニッケル電気めっき浴としては、例えば、硫酸ニッケルベースのワット浴、スルファミン酸ニッケル浴等が挙げられる。   What is necessary is just to select the nickel plating bath used as the base of this invention bath from conventionally well-known nickel electroplating baths. Examples of conventionally known nickel electroplating baths include nickel sulfate-based Watt baths and nickel sulfamate baths.

本発明浴のベースとなるニッケルめっき浴の好ましい例としては、以下の組成を有する硫酸ニッケルベースのワット浴やスルファミン酸ニッケル浴が挙げられる。
<硫酸ニッケルベース浴>
硫酸ニッケル:280〜500g/L、好ましくは350〜480g/L
塩化ニッケル:20〜100g/L、好ましくは30〜60g/L
ほう酸:20〜60g/L、好ましくは30〜50g/L
<スルファミン酸ニッケルベース浴>
スルファミン酸ニッケル:280〜650g/L、好ましくは400〜550g/L
塩化ニッケル:0〜40g/L、好ましくは0〜20g/L
ほう酸:20〜60g/L、好ましくは30〜50g/L
なお、上記ニッケルベース浴において、塩化ニッケルは臭化ニッケルに置き換えられてもよく、ほう酸はクエン酸に置き換えられてもよい。
Preferable examples of the nickel plating bath used as the base of the present invention include a nickel sulfate-based Watt bath and a nickel sulfamate bath having the following composition.
<Nickel sulfate base bath>
Nickel sulfate: 280-500 g / L, preferably 350-480 g / L
Nickel chloride: 20 to 100 g / L, preferably 30 to 60 g / L
Boric acid: 20-60 g / L, preferably 30-50 g / L
<Nickel sulfamate base bath>
Nickel sulfamate: 280-650 g / L, preferably 400-550 g / L
Nickel chloride: 0 to 40 g / L, preferably 0 to 20 g / L
Boric acid: 20-60 g / L, preferably 30-50 g / L
In the nickel base bath, nickel chloride may be replaced with nickel bromide, and boric acid may be replaced with citric acid.

本発明浴には、最適なサテン外観を得るために、更に、サッカリン酸、ベンゼンスルホン酸、ナフタリンジスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルスルホン酸、プロパギルスルホン酸およびそれらのナトリウム塩、カリウム塩等の一次光沢剤を添加することが好ましい。これら一次光沢剤は、1種または2種以上を同時に用いることもできる。   In order to obtain an optimum satin appearance, the bath of the present invention further includes saccharic acid, benzene sulfonic acid, naphthalene disulfonic acid, allyl sulfonic acid, vinyl sulfonic acid, propargyl sulfonic acid and their sodium salts, potassium salts, etc. It is preferred to add a primary brightener. These primary brighteners can be used alone or in combination of two or more.

本発明浴における一次光沢剤の含有量は特に限定されないが、例えば、0.001〜20g/L、好ましくは0.05〜10g/Lである。   Although content of the primary brightener in this invention bath is not specifically limited, For example, it is 0.001-20 g / L, Preferably it is 0.05-10 g / L.

本発明浴には、形成されるエマルションはより安定となり、長期に渡り安定したサテン外観を得るために、更に、有機アニオン物質を添加することが好ましい。   In order to obtain a stable satin appearance over a long period of time, it is preferable to add an organic anionic substance to the bath of the present invention in order to make the formed emulsion more stable.

上記有機アニオン物質としては、従来公知のニッケルめっき浴にピット防止剤として用いられている一般式(4)で示されるスルホコハク酸エステルが挙げられる。

Figure 0006410640
式中、R7およびR8は、それぞれ独立して水素、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオン、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルキル、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルケニルおよび環状のアルキル鎖からなる群から選ばれる基である。また、Aは水素、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンからなる群から選ばれる基である。 Examples of the organic anionic substance include sulfosuccinic acid ester represented by the general formula (4) used as a pit inhibitor in a conventionally known nickel plating bath.
Figure 0006410640
Wherein, R7 and R8 are each independently hydrogen, an alkali metal ion, alkaline earth metal ions, ammonium ions, linear or branched chain alkyl having a carbon number of C 1 -C 18, the number of C 1 -C 18 carbon atoms It is a group selected from the group consisting of linear or branched alkenyl and cyclic alkyl chains. A is a group selected from the group consisting of hydrogen, alkali metal ions and alkaline earth metal ions.

より具体的なスルホコハク酸エステルとしては、ジ(1,3−ジメチルブチル)スルホコハク酸ナトリウム、ジイソオクチルスルホコハク酸ナトリウム、ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム、ジイソプロピルスルホコハク酸ナトリウム、ジブチルスルホコハク酸ナトリウム等が挙げられ、好ましくはジ(1,3−ジメチルブチル)スルホコハク酸ナトリウム、ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウムである。これらスルホコハク酸エステルは2種以上組み合わせて用いてもよい。   More specific sulfosuccinic acid esters include sodium di (1,3-dimethylbutyl) sulfosuccinate, sodium diisooctylsulfosuccinate, sodium dihexylsulfosuccinate, sodium diisopropylsulfosuccinate, sodium dibutylsulfosuccinate, and the like. Are sodium di (1,3-dimethylbutyl) sulfosuccinate and sodium dihexylsulfosuccinate. Two or more of these sulfosuccinic acid esters may be used in combination.

本発明浴における有機アニオン物質の含有量は特に限定されないが、例えば、0.001〜0.5g/L、好ましくは0.01〜0.1g/Lである。   Although content of the organic anion substance in this invention bath is not specifically limited, For example, it is 0.001-0.5 g / L, Preferably it is 0.01-0.1 g / L.

本発明浴には、本発明の効果を損なわない範囲で、従来公知のサテンニッケルめっき浴に添加し得る成分を更に含有させることもできる。   The bath of the present invention may further contain components that can be added to a conventionally known satin nickel plating bath within a range not impairing the effects of the present invention.

本発明浴は、例えば、上記した各成分を上記したニッケルベース浴に添加し、エマルションが形成されるまで攪拌機や液循環設備で30〜60分、十分に撹拌することにより調製することができる。   The bath of the present invention can be prepared, for example, by adding each of the above-described components to the above-described nickel base bath and sufficiently stirring for 30 to 60 minutes with an agitator or a liquid circulation facility until an emulsion is formed.

以上説明した本発明浴を用いて、これを従来公知のニッケルめっきと同様に被めっき物へ電気めっきすることによりサテン状の外観を有するサテンニッケル被覆製品が得られる。また、本発明浴はサテン外観を発現させるエマルションが長期に渡り安定してめっき液中に存在するため、従来法と比較し長時間の連続稼動が可能となる。   A satin nickel-coated product having a satin appearance can be obtained by electroplating an object to be plated using the bath of the present invention described above in the same manner as a conventionally known nickel plating. Moreover, since the emulsion which expresses a satin appearance exists stably in a plating solution for a long time in this invention bath, compared with the conventional method, continuous operation for a long time is attained.

電気めっきの条件は、特に限定されず、通常のニッケルめっきの条件を用いればよい。例えば、浴のpHは3〜6の範囲内であればよく、好ましくは3.8〜4.6の範囲である。浴温は70℃までの範囲であればよく、好ましくは50〜60℃の範囲内である。陰極電流密度は1〜6A/dmの範囲であればよく、好ましくは2〜5A/dmの範囲内である。本発明浴による電解処理時間は1〜20分であり、好ましくは8〜15分である。また、電気めっきの際には撹拌装置によりめっき浴の撹拌や、揺動装置により被めっき物の揺動を行うことが好ましい。 The conditions for electroplating are not particularly limited, and normal nickel plating conditions may be used. For example, the pH of the bath may be in the range of 3 to 6, and preferably in the range of 3.8 to 4.6. The bath temperature may be in the range up to 70 ° C, and preferably in the range of 50-60 ° C. Cathode current density may be in the range of 1~6A / dm 2, preferably in the range of 2 to 5 A / dm 2. The electrolytic treatment time in the bath of the present invention is 1 to 20 minutes, preferably 8 to 15 minutes. In electroplating, it is preferable to stir the plating bath with a stirrer or swing the object to be plated with a swinging device.

なお、本発明浴を用いてサテンニッケルをすることのできる被めっき物は、一般にニッケルめっきをすることができる材質のものであれば特に限定されず、また、その形状も特に限定されない。具体的な被めっき物としては、自動車用フロントグリル、エンブレムや内装部品、携帯電話に使用されるボタンなどの各種装飾めっき用部品等が挙げられる。なお、被めっき物は電気めっき前に、必要によりアルカリ脱脂、酸活性等の金属素材上の前処理や、エッチング、触媒付与、触媒活性、化学ニッケルめっき等の樹脂素材上の前処理を行ってもよい。   In addition, the to-be-plated object which can be satin nickel using this invention bath will not be specifically limited if it is a material which can generally be nickel-plated, and the shape is also not specifically limited. Specific objects to be plated include various parts for decorative plating such as a front grille for automobiles, emblems and interior parts, buttons used for mobile phones, and the like. In addition, before electroplating, the pre-treatment on the metal material such as alkaline degreasing and acid activity and pre-treatment on the resin material such as etching, catalyst application, catalytic activity and chemical nickel plating are performed on the object to be plated, if necessary. Also good.

更に、サテンニッケルめっき後は、従来公知の方法に従って、クロムめっき、スズ/コバルトめっき、スズ/ニッケルめっき、金めっき等の仕上げめっきを行ってもよい。   Further, after the satin nickel plating, finish plating such as chromium plating, tin / cobalt plating, tin / nickel plating, gold plating or the like may be performed according to a conventionally known method.

以下に、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

実 施 例 1
サテンニッケルめっき浴の調製:
下記組成のサテンニッケルめっきベース浴を52℃に加温し、スターラー撹拌(300rpm)により液循環を保持した状態で、表1に示す成分を添加しサテンニッケルめっき浴(本発明浴1〜5および比較浴1〜4)を調製した。なお、調製後も試験終了時まで浴温および液循環を保持した。
<サテンニッケルめっきベース浴組成>
硫酸ニッケル 430g/L
塩化ニッケル 45g/L
ほう酸 45g/L
アリルスルホン酸ナトリウム 2g/L
サッカリン酸ナトリウム 4g/L
ジヘキシルスルホコハク酸ナトリウム 20mg/L
Example 1
Preparation of a satin nickel plating bath:
A satin nickel plating base bath having the following composition was heated to 52 ° C., and the components shown in Table 1 were added in a state where the liquid circulation was maintained by stirring with a stirrer (300 rpm). Comparative baths 1-4) were prepared. After preparation, the bath temperature and liquid circulation were maintained until the end of the test.
<Satin nickel plating base bath composition>
Nickel sulfate 430g / L
Nickel chloride 45g / L
Boric acid 45g / L
Sodium allyl sulfonate 2g / L
Sodium saccharinate 4g / L
Sodium dihexyl sulfosuccinate 20mg / L

Figure 0006410640
Figure 0006410640

実 施 例 2
サテンニッケルめっき皮膜の形成:
真鍮製の基板(60×100mm)に、アルカリ脱脂(50℃、5分)および酸活性(25℃、1分)を行った後、実施例1で調製したサテンニッケルめっき浴に以下の条件で浸漬して電気めっきを行い、サテンニッケルめっき皮膜を得た。なお、各浴ともに、サテンニッケルめっき浴調製後1時間および5時間経過時におけるめっき皮膜を形成した。
Example 2
Satin nickel plating film formation:
After performing alkaline degreasing (50 ° C., 5 minutes) and acid activity (25 ° C., 1 minute) on a brass substrate (60 × 100 mm), the satin nickel plating bath prepared in Example 1 was subjected to the following conditions. It was immersed and electroplated to obtain a satin nickel plating film. In each bath, a plating film was formed at the lapse of 1 hour and 5 hours after preparation of the satin nickel plating bath.

<めっき条件>
pH: 4.2
液温: 52℃
浴量: 10L
アノード: ニッケル
陰極電流密度: 4A/dm
めっき時間: 10分
撹拌: スターラー撹拌(300rpm)および陰極揺動(3m/分)
<Plating conditions>
pH: 4.2
Liquid temperature: 52 ° C
Bath volume: 10L
Anode: Nickel Cathode current density: 4 A / dm 2
Plating time: 10 minutes Stirring: Stirrer stirring (300 rpm) and cathode swing (3 m / min)

サテンニッケルめっき皮膜を形成した後、仕上げめっきとして以下の条件でクロムめっきEBACHROM E−300(株式会社JCU製)を行った。
<クロムめっき条件>
液温: 40℃
陰極電流密度: 10A/dm
めっき時間: 3分
After forming the satin nickel plating film, chromium plating EBACHROM E-300 (manufactured by JCU Corporation) was performed as finish plating under the following conditions.
<Chrome plating conditions>
Liquid temperature: 40 ° C
Cathode current density: 10 A / dm 2
Plating time: 3 minutes

試 験 例 1
表面粗さ測定
実施例2で得られためっき皮膜の表面形状を光干渉式表面粗さ計(Veeco Instruments Inc.製WYKO NT9100)で観察し、算術平均粗さの測定を実施した。めっき浴調製後1時間後に対する5時間後の表面粗さの変動率を表2に示した。
Test example 1
Surface Roughness Measurement The surface shape of the plating film obtained in Example 2 was observed with an optical interference type surface roughness meter (WYKO NT9100 manufactured by Veeco Instruments Inc.), and the arithmetic average roughness was measured. Table 2 shows the variation rate of the surface roughness after 5 hours with respect to 1 hour after the preparation of the plating bath.

Figure 0006410640
Figure 0006410640

比較浴では、めっき浴調製後1時間から5時間の間にエマルションが凝集し、表面粗さが著しく増大していた。それに対し本発明浴では、表面粗さの変動が小さくめっき浴中にエマルションが安定して存在していることが分かった。なお、比較浴3は本発明浴1からシロキサン化合物を除いた浴組成であるが、この浴から得られるめっき外観は光沢外観であった。   In the comparative bath, the emulsion aggregated during 1 to 5 hours after the preparation of the plating bath, and the surface roughness was remarkably increased. On the other hand, in the bath of the present invention, it was found that the fluctuation of the surface roughness was small and the emulsion was stably present in the plating bath. The comparative bath 3 has a bath composition obtained by removing the siloxane compound from the inventive bath 1, but the plating appearance obtained from this bath was a glossy appearance.

試 験 例 2
色差測定
サテン調の外観評価として、実施例2で得られためっき皮膜の明度(L*)および色度(a*,b*)を多角度分光測色計(x-rite社製MA-94)にて以下の条件で測定を実施した。
<明度・色度測定条件>
光源: D65
光源入射角度:45°
測定角度: 25°(正反射偏角)
めっき浴調製後1時間後に得られるめっき皮膜の明度および色度を基準値とし、めっき浴調製後5時間後に得られるめっき皮膜の色差(ΔL*,Δa*,Δb*)を測定し、全色差(ΔE*ab)を求め外観評価を行った。その結果を表3に示した。なお、全色差(ΔE*ab)は下式により求めた(JIS Z8730に準拠)。
<全色差計算式>

Figure 0006410640
Test example 2
Color difference measurement For the appearance evaluation of satin tone, the lightness (L *) and chromaticity (a *, b *) of the plating film obtained in Example 2 were measured using a multi-angle spectrocolorimeter (MA-94 manufactured by x-rite). ) Was measured under the following conditions.
<Lightness / chromaticity measurement conditions>
Light source: D65
Light source incident angle: 45 °
Measurement angle: 25 ° (regular reflection declination)
Measure the color difference (ΔL *, Δa *, Δb *) of the plating film obtained 5 hours after the preparation of the plating bath using the lightness and chromaticity of the plating film obtained 1 hour after the preparation of the plating bath as the standard values. The appearance was evaluated by obtaining (ΔE * ab). The results are shown in Table 3. The total color difference (ΔE * ab) was determined by the following formula (conforming to JIS Z8730).
<All color difference calculation formula>
Figure 0006410640

色差値による評価は本来、当事者間での協議のうえ許容範囲が設けられるものであるが、例えば、文献(日本印刷学会誌 第47巻第5号(2010)P295)には、目視評価における一般的な目安として色差値の適用範囲の記載がある(表4)。そのため、本発明の評価においてはΔE*ab<6.0の範囲を許容範囲とした。   Although the evaluation based on the color difference value is originally provided with an allowable range after discussion between the parties, for example, the literature (Japan Printing Society Journal, Vol. 47, No. 5, (2010) P295) describes general visual evaluation. As a general guideline, there is a description of the application range of color difference values (Table 4). Therefore, in the evaluation of the present invention, the range of ΔE * ab <6.0 was set as the allowable range.

Figure 0006410640
Figure 0006410640

Figure 0006410640
Figure 0006410640

比較浴では、ΔE*abがいずれも15以上の値を示し、めっき浴調製後1時間後に得られるめっき皮膜と5時間後に得られるめっき皮膜の色調が大きく異なった。それに対し本発明浴では、ΔE*abがいずれも4以下の値を示し、めっき浴調製後5時間経過時においてもめっき浴調製後1時間後に得られるめっき皮膜と同等の色調が得られていることが分かった。   In the comparative baths, ΔE * ab showed a value of 15 or more, and the color tone of the plating film obtained 1 hour after the preparation of the plating bath and the plating film obtained 5 hours later were greatly different. On the other hand, in the bath of the present invention, ΔE * ab shows a value of 4 or less, and even when 5 hours have elapsed after the preparation of the plating bath, the same color tone as that of the plating film obtained 1 hour after the preparation of the plating bath is obtained. I understood that.

実 施 例 3
添加成分の分離状態確認:
実施例1で調製したサテンニッケルめっき浴を以下の条件で放置し、めっき浴表面に浮遊物質が生じるか確認した。その結果を表5に示した。
<サテンニッケルめっき浴放置条件>
pH: 4.2
液温: 52℃
浴量: 10L
撹拌: スターラー撹拌(300rpm)
放置時間: 16時間
Example 3
Confirmation of separation of added components:
The satin nickel plating bath prepared in Example 1 was allowed to stand under the following conditions, and it was confirmed whether floating substances were generated on the plating bath surface. The results are shown in Table 5.
<Satin nickel plating bath leaving condition>
pH: 4.2
Liquid temperature: 52 ° C
Bath volume: 10L
Stirring: Stirrer stirring (300 rpm)
Leaving time: 16 hours

Figure 0006410640
Figure 0006410640

比較浴1、2および4ではめっき浴を放置することにより、めっき浴表面に浮遊物質が形成されていることが確認された。それに対し、本発明浴では浮遊物質の形成は確認されず、めっき浴中に長時間エマルションが安定して存在していることが分かった。なお、比較浴3についても浮遊物質の形成は認められなかったが、得られるめっき外観が光沢外観であることから、エマルション自体が形成されていないものと理解されるべきである。   In comparative baths 1, 2 and 4, it was confirmed that floating substances were formed on the surface of the plating bath by leaving the plating bath. On the other hand, formation of suspended solids was not confirmed in the bath of the present invention, and it was found that the emulsion was stably present in the plating bath for a long time. In addition, although formation of a suspended | floating matter was not recognized also about the comparative bath 3, it should be understood that the emulsion itself is not formed since the plating appearance obtained is a glossy appearance.

本発明は、従来のエマルション法によるサテンニッケルめっき浴より長寿命であり作業性に優れる。従って、本発明は、自動車用フロントグリル、エンブレムや内装部品、携帯電話に使用されるボタンなどの各種装飾めっき用部品などの分野に利用することができる。

以 上
The present invention has a longer life than the conventional satin nickel plating bath by the emulsion method and is excellent in workability. Therefore, the present invention can be used in fields such as automotive front grills, emblems and interior parts, and various decorative plating parts such as buttons used in mobile phones.

that's all

Claims (6)

一般式(1)
Figure 0006410640
(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して水素、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルキル、炭素数C〜C18の直鎖または分岐鎖アルケニル、ジアルキルエーテル、アミノアルキル、フェニルおよびベンジルからなる群から選ばれる基を示す(ただし、R1、R2およびR3の全てが水素の場合を除く))
で表される第1級、第2級および第3級アミンの少なくとも1種と、
一般式(2)または(3)
Figure 0006410640
(式中、R4は、水素、アルキル、アミノアルキル、ポリエーテル、エポキシ、脂環式エポキシ、アラルキル、カルビノールおよびカルボキシルからなる群から選ばれる基を示し、mは0〜20の整数を示し、nは1〜20の整数を示す)
Figure 0006410640
(式中、R5およびR6は、それぞれ独立してアルキル、アミノアルキル、エポキシ、脂環式エポキシ、カルビノール、ジオール、メタクリル、ポリエーテル、カルボキシル、フェノール、シラノール、アクリルおよびカルボン酸無水物からなる群から選ばれる基を示し、pは1〜20の整数を示す)
で表されるシロキサン化合物の少なくとも1種とを、
含有することを特徴とするサテンニッケルめっき浴。
General formula (1)
Figure 0006410640
(Wherein, R1, R2 and R3 are each independently hydrogen, straight or branched chain alkyl having a carbon number of C 1 -C 18, linear or branched alkenyl of a carbon number of C 1 -C 18, dialkyl ethers, A group selected from the group consisting of aminoalkyl, phenyl and benzyl is shown (except when R1, R2 and R3 are all hydrogen)
At least one of a primary, secondary and tertiary amine represented by:
General formula (2) or (3)
Figure 0006410640
(Wherein R4 represents a group selected from the group consisting of hydrogen, alkyl, aminoalkyl, polyether, epoxy, alicyclic epoxy, aralkyl, carbinol and carboxyl, m represents an integer of 0 to 20, n represents an integer of 1 to 20)
Figure 0006410640
Wherein R5 and R6 are each independently a group consisting of alkyl, aminoalkyl, epoxy, cycloaliphatic epoxy, carbinol, diol, methacryl, polyether, carboxyl, phenol, silanol, acrylic and carboxylic anhydride. And p represents an integer of 1 to 20)
At least one of siloxane compounds represented by:
A satin nickel plating bath characterized by containing.
第1級、第2級および第3級アミンが、ラウリルアミン、オクチルアミン、ミリスチルアミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルミリスチルアミン、ジメチル硬化牛脂アルキルアミン、アルキル−3−アミノプロピルエーテル、N−イソプロピルベンジルアミン、N,N−ジメチルベンジルアミン、トリベンジルアミンからなる群から選ばれる1種または2種以上である請求項1記載のサテンニッケルめっき浴。   Primary, secondary and tertiary amines are laurylamine, octylamine, myristylamine, dimethyllaurylamine, dimethylmyristylamine, dimethyl-cured tallow alkylamine, alkyl-3-aminopropyl ether, N-isopropylbenzylamine The satin nickel plating bath according to claim 1, which is one or more selected from the group consisting of N, N-dimethylbenzylamine and tribenzylamine. 第1級、第2級および第3級アミンの濃度が0.0001〜0.1g/Lである請求項1または2に記載のサテンニッケルめっき浴。   The satin nickel plating bath according to claim 1 or 2, wherein the concentration of primary, secondary and tertiary amines is 0.0001 to 0.1 g / L. シロキサン化合物の濃度が0.0001〜0.1g/Lである請求項1〜3の何れかに記載のサテンニッケルめっき浴。   The satin nickel plating bath according to any one of claims 1 to 3, wherein the concentration of the siloxane compound is 0.0001 to 0.1 g / L. 更に、少なくとも1種の有機アニオン物質を含むものである請求項1〜4の何れかに記載のサテンニッケルめっき浴。   The satin nickel plating bath according to any one of claims 1 to 4, further comprising at least one organic anionic substance. 被めっき物を請求項1〜5の何れかに記載のサテンニッケルめっき浴で電気めっきすることを特徴とするサテンニッケルめっき方法。
A satin nickel plating method, wherein the object to be plated is electroplated with the satin nickel plating bath according to any one of claims 1 to 5.
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