JP6395881B2 - Optical scanning device and image forming apparatus having the same - Google Patents

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Description

本発明は、複数の光ビームによりそれぞれの被走査体を走査する光走査装置、及びそれを備えた画像形成装置に関する。   The present invention relates to an optical scanning apparatus that scans each scanning object with a plurality of light beams, and an image forming apparatus including the optical scanning apparatus.

例えば、電子写真方式のカラー画像形成装置では、複数の色に対応する各感光体表面を均一に帯電させてから、各光ビームにより各感光体表面を走査して、各感光体表面にそれぞれの静電潜像を形成し、各色のトナーにより各感光体表面の静電潜像を現像して、各感光体表面に各色のトナー像を形成し、各色のトナー像を各感光体から中間転写体に重ね合わせ転写して、中間転写体上にカラーのトナー像を形成し、このカラーのトナー像を中間転写体から記録用紙に転写している。   For example, in an electrophotographic color image forming apparatus, the surface of each photoconductor corresponding to a plurality of colors is uniformly charged, and then the surface of each photoconductor is scanned with each light beam. Form an electrostatic latent image, develop the electrostatic latent image on the surface of each photoconductor with each color toner, form each color toner image on the surface of each photoconductor, and transfer each color toner image from each photoconductor to the intermediate transfer A color toner image is formed on the intermediate transfer body by superimposing and transferring the image on the body, and the color toner image is transferred from the intermediate transfer body to the recording paper.

各光ビームによる各感光体表面の走査は、光走査装置により行われる。一般的には、ブラック、シアン、マゼンタ、イエローの4色のトナーを用いており、よって少なくとも4本の光ビームにより4つの感光体表面を走査する必要があって、4本の光ビームを出射する4つの発光素子を必用とする。   The surface of each photoconductor is scanned with each light beam by an optical scanning device. Generally, four color toners of black, cyan, magenta, and yellow are used. Therefore, it is necessary to scan the surface of the four photosensitive members with at least four light beams, and the four light beams are emitted. Four light emitting elements are required.

また、近年は、画像形成装置の小型化や薄型化が要求されており、光走査装置の小型化や薄型化が必要となっている。このため、ポリゴンミラーを光走査装置の概ね中央に配置し、ポリゴンミラーを中心にして2つの光学系を対称に配置し、各発光素子から出射されたそれぞれの光ビームをポリゴンミラーで反射して各光学系に振り分けて入射させ、各光学系においては、各光ビームを複数の反射ミラーで反射してそれぞれの感光体に入射させている。   In recent years, the image forming apparatus is required to be reduced in size and thickness, and the optical scanning device is required to be reduced in size and thickness. For this reason, the polygon mirror is arranged in the approximate center of the optical scanning device, the two optical systems are arranged symmetrically around the polygon mirror, and the respective light beams emitted from the respective light emitting elements are reflected by the polygon mirror. In each optical system, each light beam is reflected by a plurality of reflecting mirrors and is incident on each photosensitive member.

例えば、特許文献1及び2には、そのような構成の光走査装置が記載されており、各光ビームを複数の反射ミラーで反射してそれぞれの感光体に入射させている。反射ミラーの数は、ポリゴンミラーから各感光体までのそれぞれの光路毎に異なり、ポリゴンミラーからブラック用の感光体までの光路には1個の反射ミラーが設けられ、ポリゴンミラーからシアン用の感光体までの光路には2個の反射ミラーが設けられ、ポリゴンミラーからマゼンタ用の感光体までの光路には3個の反射ミラーが設けられ、ポリゴンミラーからイエロー用の感光体までの光路には2個の反射ミラーが設けられている。   For example, Patent Documents 1 and 2 describe such an optical scanning device, in which each light beam is reflected by a plurality of reflecting mirrors and is incident on each photoconductor. The number of reflection mirrors is different for each optical path from the polygon mirror to each photoconductor, and one reflection mirror is provided in the optical path from the polygon mirror to the black photoconductor, and from the polygon mirror to the cyan photoconductor. Two reflecting mirrors are provided in the optical path to the body, three reflecting mirrors are provided in the optical path from the polygon mirror to the magenta photosensitive member, and the optical path from the polygon mirror to the yellow photosensitive member is provided in the optical path. Two reflecting mirrors are provided.

特開2006−323279号公報JP 2006-323279 A 特開2010−262245号公報JP 2010-262245 A

ところで、反射ミラーの反射率は100%未満であって、反射損失が生じる。従って、反射ミラーによる光ビームの反射回数が多くなる程、光ビームの強度が低減する。このため、特許文献1、2のようにブラック、シアン、マゼンタ、イエローの各色別に、ポリゴンミラーから感光体までの光路に設けられた反射ミラーの数が異なる場合は、各色の感光体に入射するそれぞれの光ビームの強度に大きなバラツキが生じる。例えば、反射ミラーの反射率が90%である場合は、1個の反射ミラーが設けられた光路では発光素子の光ビームの強度が90%に低下し、また3個の反射ミラーが設けられた光路では発光素子の光ビームの強度が73%に低下し、光ビームの強度の差が17%となる。このため、各光ビームの強度を互いに一致させるための調整が困難になる。   By the way, the reflectance of the reflection mirror is less than 100%, and a reflection loss occurs. Therefore, the intensity of the light beam decreases as the number of reflections of the light beam by the reflection mirror increases. For this reason, if the number of reflection mirrors provided in the optical path from the polygon mirror to the photoconductor is different for each color of black, cyan, magenta, and yellow as in Patent Documents 1 and 2, the light enters the photoconductor of each color. Large variations occur in the intensity of each light beam. For example, when the reflectivity of the reflection mirror is 90%, the intensity of the light beam of the light emitting element is reduced to 90% in the optical path provided with one reflection mirror, and three reflection mirrors are provided. In the optical path, the intensity of the light beam of the light emitting element is reduced to 73%, and the difference in intensity of the light beam is 17%. This makes it difficult to adjust the intensity of each light beam to match each other.

尚、特許文献1、2のいずれにおいても、各発光素子の光ビームが1個のハーフミラーを経てポリゴンミラーに入射している。このハーフミラーについては、反射率だけではなく、その透過率が光ビームの強度に影響をもたらすので、反射ミラーの数には入れていないが、反射ミラーと同等以上の影響があると考えられる。   In both Patent Documents 1 and 2, the light beam of each light-emitting element is incident on the polygon mirror through one half mirror. For this half mirror, not only the reflectance but also its transmittance affects the intensity of the light beam, so it is not included in the number of reflecting mirrors, but is considered to have an effect equal to or greater than that of the reflecting mirror.

そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、反射ミラーの反射損失が原因となって、各色の感光体に入射するそれぞれの光ビームの強度に大きなバラツキが生じることのない光走査装置及びそれを備えた画像形成装置を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and due to the reflection loss of the reflecting mirror, there is a great variation in the intensity of each light beam incident on the photosensitive member of each color. It is an object of the present invention to provide a non-optical scanning device and an image forming apparatus including the same.

上記課題を解決するために、次の第1態様及び第2態様の光走査装置並びに画像形成装置を提供する。
(1)第1態様の光走査装置
本発明に係る第1態様の光走査装置は、複数の発光素子と、光ビームを偏向させる偏向部と、前記各発光素子の光ビームを前記偏向部へと導き、前記偏向部で偏向された前記各発光素子の光ビームを複数の被走査体へとそれぞれ導く複数の光路を形成する光学系とを備えた光走査装置であって、前記各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを、前記偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように前記偏向部へと導いており、前記2つの光ビームのうち、一方の光ビームが前記反射ミラーで反射されて前記偏向部へと導かれ、他方の光ビームが前記反射ミラーから前記偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過して前記偏向部へと導かれ、前記光学系において前記一方の光ビームを前記偏向部に導く前記反射ミラーと前記偏向部との間の光路上かつ前記他方の光ビームを出射する前記発光素子と前記偏向部との間の光路上に、前記2つの発光素子の前記光ビームを通過させる単一のシリンドリカルレンズが配設されており、前記反射ミラーは、筐体に設けた支持部により支持されており、前記反射ミラーの下方には該反射ミラーと前記支持部と前記筐体とで構成される空間が形成されており、前記他方の光ビームが、前記空間を通過する。
(2)第2態様の光走査装置
本発明に係る第2態様の光走査装置は、複数の発光素子と、光ビームを偏向させる偏向部と、前記各発光素子の光ビームを前記偏向部へと導き、前記偏向部で偏向された前記各発光素子の光ビームを複数の被走査体へとそれぞれ導く複数の光路を形成する光学系とを備えた光走査装置であって、前記各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、底板及び前記底板を囲む複数の側板を有する筐体と、前記各発光素子を一方の平面に搭載した単一の基板とを備え、前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを、前記偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように前記偏向部へと導いており、前記2つの光ビームのうち、一方の光ビームが前記反射ミラーで反射されて前記偏向部へと導かれ、他方の光ビームが前記反射ミラーから前記偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過して前記偏向部へと導かれ、前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを前記偏向部の入射スポットへと導き、前記各発光素子が前記基板の前記平面上に配設されて、前記各発光素子の光ビームの出射方向が前記平面と直交し、前記平面上において、前記各発光素子は、前記偏向部の回転軸と直交する方向の2ライン上に配設され、かつ前記偏向部の回転軸方向の2ライン上にそれぞれ配設され、前記筐体の前記複数の側板のうち1つの側板の外側には、前記各発光素子を搭載した前記基板が固定されており、前記側板には、前記各発光素子のそれぞれに対応して貫通孔が形成されており、前記各発光素子は、それぞれ、前記1つの側板に形成された前記各貫通孔を通じて前記筐体の内側を臨んでおり、前記反射ミラーは、筐体に設けた支持部により支持されており、前記反射ミラーの下方には該反射ミラーと前記支持部と前記筐体とで構成される空間が形成されており、前記他方の光ビームが、前記空間を通過する。
In order to solve the above problems, an optical scanning device and an image forming apparatus according to the following first and second aspects are provided.
(1) Optical Scanning Device According to the First Aspect The optical scanning device according to the first aspect of the present invention includes a plurality of light emitting elements, a deflecting unit that deflects a light beam, and the light beam of each light emitting element to the deflecting unit. And an optical system that forms a plurality of optical paths that guide the light beams of the light emitting elements deflected by the deflecting unit to a plurality of scanned objects, respectively, Both are provided with a reflecting mirror that reflects the light beam, and the optical system receives the light beams of the two light emitting elements when viewed from the rotation axis direction of the deflecting unit. The light beam is guided to the deflection unit so as to overlap each other on the same straight line in the rotation axis direction, and one of the two light beams is reflected by the reflection mirror and guided to the deflection unit, and the other Light beam from the reflecting mirror to the deflection unit On the optical path between the reflection mirror and the deflection unit, which is guided to the deflection unit through the position separated in the rotation axis direction and guides the one light beam to the deflection unit in the optical system, and the other A single cylindrical lens that passes the light beams of the two light emitting elements is disposed on an optical path between the light emitting element that emits the light beam and the deflection unit, and the reflection mirror includes: It is supported by a support portion provided in the housing, and a space formed by the reflection mirror, the support portion, and the housing is formed below the reflection mirror, and the other light beam is Pass through the space .
(2) Optical Scanning Device According to Second Embodiment An optical scanning device according to the second aspect of the present invention includes a plurality of light emitting elements, a deflecting unit that deflects a light beam, and the light beam of each light emitting element to the deflecting unit. And an optical system that forms a plurality of optical paths that guide the light beams of the light emitting elements deflected by the deflecting unit to a plurality of scanned objects, respectively, Each includes a reflecting mirror that reflects a light beam, and includes a bottom plate and a casing having a plurality of side plates surrounding the bottom plate, and a single substrate on which the light emitting elements are mounted on one plane, and the optical When the light beams of the two light emitting elements are viewed from the direction of the rotation axis of the deflection unit, the light beams of the two light emitting elements overlap with each other on the same straight line in the direction of the rotation axis. One of the two light beams. A light beam is reflected by the reflecting mirror and guided to the deflecting unit, and the other light beam is guided to the deflecting unit through a position separated from the reflecting mirror in the rotation axis direction of the deflecting unit, The optical system guides light beams of two light emitting elements to an incident spot of the deflecting unit, and the light emitting elements are arranged on the plane of the substrate, so that the light beams are emitted from the light emitting elements. Is orthogonal to the plane, and on the plane, each light emitting element is disposed on two lines in a direction orthogonal to the rotation axis of the deflection unit, and on two lines in the rotation axis direction of the deflection unit. The substrate on which the light emitting elements are mounted is fixed to the outside of one side plate of the plurality of side plates of the housing, and the side plate is attached to each of the light emitting elements. A corresponding through-hole is formed Each light-emitting element, respectively, wherein and faces one of the inside of the housing through the formed said through holes in the side plate, the reflecting mirror is supported by a supporting portion provided in the housing, said reflector A space formed by the reflecting mirror, the support portion, and the housing is formed below the mirror, and the other light beam passes through the space .

このような第1態様及び第2態様の構成の本発明では、各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、各光路の反射ミラーの数が互いに等しくされている。このため、各光路のいずれにおいても、反射ミラーの反射損失が等しくなり、各光路を通じてそれぞれの被走査体へと導かれる各光ビームの強度が等しくなる。   In the present invention configured as described above in the first aspect and the second aspect, each of the optical paths is provided with a reflecting mirror that reflects the light beam, and the number of reflecting mirrors in each optical path is made equal to each other. For this reason, the reflection loss of the reflecting mirror is equal in each of the optical paths, and the intensities of the respective light beams guided to the respective scan objects through the respective optical paths are equal.

しかも、前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを、前記偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように前記偏向部へと導いており、前記2つの光ビームのうち、一方の光ビームが前記反射ミラーで反射されて前記偏向部へと導かれ、前記他方の光ビームが前記反射ミラーから前記偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過して前記偏向部へと導かれている。 Moreover, pre-Symbol light science system, the light beam of the two light emitting elements, the light beam of the two light-emitting element when viewed from a direction of a rotation axis of the deflection unit overlap each other on the same straight line in the direction of the rotation axis The one of the two light beams is reflected by the reflecting mirror and guided to the deflecting unit, and the other light beam is transmitted from the reflecting mirror to the deflecting unit. It passes through a position spaced apart in the rotation axis direction of the deflection unit and is guided to the deflection unit.

このように光学系において、2つの発光素子の光ビームを、偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように偏向部へと導くので、それらの光ビームが入射する偏向部のサイズを小さくすることができ、光走査装置の小型化を図ることができる。また、2つの光ビームの一方が反射ミラーで反射され、他方が反射ミラーから偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過するので、2つの光ビームが反射ミラーで反射されるそれぞれの回数を調節することができる。
さらに、本発明に係る第2態様の光走査装置では、各発光素子を基板の平面上に配設しているので、各発光素子を同一の基板に搭載することができ、部品点数を減少させることができる。また、各発光素子を横方向の2ライン上に配設し、各発光素子を縦方向のライン上にそれぞれ配設しているので、主に縦方向のピッチを狭くすることができ、光走査装置の小型化を図ることができる。
Thus, in the optical science system, the light beam of the two light emitting elements, so that the light beam of the two light-emitting element when viewed from the rotational axis of the deflecting portion overlap each other on the same straight line in the direction of the rotation axis Since the light is guided to the deflecting unit, the size of the deflecting unit on which these light beams are incident can be reduced, and the optical scanning device can be downsized. Also, since one of the two light beams is reflected by the reflecting mirror and the other passes through a position separated from the reflecting mirror in the direction of the rotation axis of the deflecting unit, the number of times each of the two light beams is reflected by the reflecting mirror is determined. Can be adjusted.
Furthermore, in the optical scanning device according to the second aspect of the present invention, since each light emitting element is arranged on the plane of the substrate, each light emitting element can be mounted on the same substrate, and the number of components is reduced. be able to. Further, the light emitting elements are arranged on two lines in the transverse direction, since the disposed respectively each of the light-emitting element in the longitudinal direction on the two lines, it is possible to mainly narrow longitudinal pitch, light It is possible to reduce the size of the scanning device.

また、本発明に係る第1態様及び第2態様の光走査装置においては、前記反射ミラーと前記光走査装置の筐体の内面との間に、前記2つの光ビームの他方が通過する空きスペースを設けている。   Moreover, in the optical scanning device of the first aspect and the second aspect according to the present invention, an empty space through which the other of the two light beams passes between the reflection mirror and the inner surface of the housing of the optical scanning device. Is provided.

このような空きスペースを設けることにより、光ビームを反射ミラーから離間した位置に通過させることが可能になる。   By providing such an empty space, it becomes possible to pass the light beam to a position away from the reflecting mirror.

また、本発明に係る第1態様の光走査装置においては、前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを前記偏向部の入射スポットへと導き前記各発光素子が同一の平面上に配設されて、前記各発光素子の光ビームの出射方向が前記平面と直交し、前記平面上において、前記各発光素子は、前記偏向部の回転軸と直交する方向の2ライン上に配設され、かつ前記偏向部の回転軸方向のライン上にそれぞれ配設されている。 In the optical scanning device of the first embodiment according to the present invention, prior Symbol optical science system, the light beam of the two light emitting elements leading to inlet morphism spot of the deflection unit, each light emitting element is the same plane is disposed above the perpendicular to the light beam emitting direction to the plane of each light-emitting element, on the plane, the respective light emitting elements, the two lines on the direction orthogonal to the rotation axis of the deflection unit distribution is set, and are disposed respectively in two lines on the rotational axis of the deflection unit.

このように各発光素子を同一の平面上に配設しているので、各発光素子を同一の基板に搭載することができ、部品点数を減少させることができる。   Thus, since each light emitting element is arrange | positioned on the same plane, each light emitting element can be mounted on the same board | substrate, and a number of parts can be reduced.

また、各発光素子を横方向の2ライン上に配設し、各発光素子を縦方向のライン上にそれぞれ配設しているので、主に縦方向のピッチを狭くすることができ、光走査装置の小型化を図ることができる。
本発明に係る第1態様及び第2態様の光走査装置において、例えば、前記各発光素子は、前記平面上において前記偏向部の回転軸方向に対して傾斜した直線上に配設されている。
Further, the light emitting elements are arranged on two lines in the transverse direction, since the disposed respectively each of the light-emitting element in the longitudinal direction on the two lines, it is possible to mainly narrow longitudinal pitch, light It is possible to reduce the size of the scanning device.
In the optical scanning devices according to the first and second aspects of the present invention, for example, each of the light emitting elements is arranged on a straight line inclined with respect to the rotation axis direction of the deflection unit on the plane.

次に、本発明の画像形成装置は、上記本発明に係る第1態様又は第2態様の光走査装置を備え、前記光走査装置により被走査体上に潜像を形成し、前記被走査体上の潜像を可視像に現像して、前記可視像を前記被走査体から用紙に転写形成している。   Next, an image forming apparatus according to the present invention includes the optical scanning device according to the first aspect or the second aspect according to the present invention, and forms a latent image on a scanned body by the optical scanning apparatus, and the scanned body. The upper latent image is developed into a visible image, and the visible image is transferred from the scanned body to a sheet.

このような画像形成装置においても、上記本発明の光走査装置と同様の作用効果を奏する。   Even in such an image forming apparatus, the same effects as those of the optical scanning apparatus of the present invention can be obtained.

本発明では、各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、各光路の反射ミラーの数が互いに等しくされている。このため、各光路のいずれにおいても、反射ミラーの反射損失が等しくなり、各光路を通じてそれぞれの被走査体へと導かれる各光ビームの強度が等しくなる。   In the present invention, each of the optical paths is provided with a reflecting mirror that reflects the light beam, and the number of reflecting mirrors in each optical path is made equal to each other. For this reason, the reflection loss of the reflecting mirror is equal in each of the optical paths, and the intensities of the respective light beams guided to the respective scan objects through the respective optical paths are equal.

本発明の光走査装置の一実施形態を備えた画像形成装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an image forming apparatus including an embodiment of an optical scanning device of the present invention. 光走査装置の筐体の内部を斜め上方から視て示す斜視図であって、上蓋を外した状態を示している。It is a perspective view which shows the inside of the housing | casing of an optical scanning device from diagonally upward, Comprising: The state which removed the upper cover is shown. 光走査装置の複数の光学部材を抽出して示す斜視図であり、図2の背面側から視た状態を示している。It is the perspective view which extracts and shows the some optical member of an optical scanning device, and has shown the state seen from the back side of FIG. 光走査装置の複数の光学部材を抽出して示す平面図である。It is a top view which extracts and shows a plurality of optical members of an optical scanning device. 光走査装置の複数の光学部材を抽出して示す側面図である。It is a side view which extracts and shows a plurality of optical members of an optical scanning device. 第1入射光学系の各反射ミラー及び第2入射光学系を拡大して示す平面図である。It is a top view which expands and shows each reflective mirror of a 1st incident optical system, and a 2nd incident optical system. (a)、(b)は、4組の柱状部を示す正面図及び各反射ミラーを支持した状態を示す正面図である。(A), (b) is a front view which shows four sets of columnar parts, and a front view which shows the state which supported each reflective mirror.

以下、本発明の実施形態を添付図面に基づき説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

図1は、本発明の光走査装置の一実施形態を備えた画像形成装置を示す断面図である。この画像形成装置1において扱われる画像データは、ブラック(K)、シアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)の各色を用いたカラー画像に応じたもの、又は単色(例えばブラック)を用いたモノクロ画像に応じたものである。このため、現像装置12、感光体ドラム13、ドラムクリーニング装置14、及び帯電器15等は、各色に応じた4種類のトナー像を形成するためにそれぞれ4個ずつ設けられ、それぞれがブラック、シアン、マゼンタ、及びイエローに対応付けられて、4つの画像ステーションPa、Pb、Pc、Pdが構成されている。   FIG. 1 is a sectional view showing an image forming apparatus provided with an embodiment of an optical scanning device of the present invention. The image data handled in the image forming apparatus 1 corresponds to a color image using each color of black (K), cyan (C), magenta (M), yellow (Y), or a single color (for example, black). This corresponds to the monochrome image used. Therefore, four each of the developing device 12, the photosensitive drum 13, the drum cleaning device 14, and the charger 15 are provided in order to form four types of toner images corresponding to the respective colors. , Magenta, and yellow are associated with four image stations Pa, Pb, Pc, and Pd.

各画像ステーションPa、Pb、Pc、Pdのいずれにおいても、ドラムクリーニング装置14により感光体ドラム13表面の残留トナーを除去及び回収した後、帯電器15により感光体ドラム13の表面を所定の電位に均一に帯電させ、光走査装置11により感光体ドラム13表面を露光して、その表面に静電潜像を形成し、現像装置12により感光体ドラム13表面の静電潜像を現像して、感光体ドラム13表面にトナー像を形成する。これにより、各感光体ドラム13表面に各色のトナー像が形成される。   In each of the image stations Pa, Pb, Pc, and Pd, after the residual toner on the surface of the photosensitive drum 13 is removed and collected by the drum cleaning device 14, the surface of the photosensitive drum 13 is set to a predetermined potential by the charger 15. It is charged uniformly, the surface of the photosensitive drum 13 is exposed by the optical scanning device 11, an electrostatic latent image is formed on the surface, and the electrostatic latent image on the surface of the photosensitive drum 13 is developed by the developing device 12, A toner image is formed on the surface of the photosensitive drum 13. As a result, a toner image of each color is formed on the surface of each photosensitive drum 13.

引き続いて、中間転写ベルト21を矢印方向Cに周回移動させつつ、ベルトクリーニング装置22により中間転写ベルト21の残留トナーを除去及び回収した後、各感光体ドラム13表面の各色のトナー像を中間転写ベルト21に順次転写して重ね合わせ、中間転写ベルト21上にカラーのトナー像を形成する。   Subsequently, while the intermediate transfer belt 21 is moved in the direction of the arrow C, the residual toner on the intermediate transfer belt 21 is removed and collected by the belt cleaning device 22, and then each color toner image on the surface of each photoconductive drum 13 is intermediate transferred. The toner images are sequentially transferred onto the belt 21 and overlapped to form a color toner image on the intermediate transfer belt 21.

中間転写ベルト21と2次転写装置23の転写ローラ23aとの間にはニップ域が形成されており、S字状の用紙搬送経路R1を通じて搬送されて来た記録用紙をそのニップ域に挟み込んで搬送しつつ、中間転写ベルト21表面のカラーのトナー像を記録用紙上に転写する。そして、定着装置17の加熱ローラ24と加圧ローラ25との間に記録用紙を挟み込んで加熱及び加圧し、記録用紙上のカラーのトナー像を定着させる。   A nip area is formed between the intermediate transfer belt 21 and the transfer roller 23a of the secondary transfer device 23, and the recording sheet conveyed through the S-shaped sheet conveyance path R1 is sandwiched in the nip area. While being conveyed, the color toner image on the surface of the intermediate transfer belt 21 is transferred onto the recording paper. Then, the recording paper is sandwiched between the heating roller 24 and the pressure roller 25 of the fixing device 17 and heated and pressed to fix the color toner image on the recording paper.

一方、記録用紙は、ピックアップローラ33により給紙カセット18から引出されて、用紙搬送経路R1を通じて搬送され、2次転写装置23や定着装置17を経由し、排紙ローラ36を介して排紙トレイ39へと搬出される。この用紙搬送経路R1には、記録用紙を一旦停止させて、記録用紙の先端を揃えた後、中間転写ベルト21と転写ローラ23a間のニップ域でのトナー像の転写タイミングに合わせて記録用紙の搬送を開始するレジストローラ34、記録用紙の搬送を促す搬送ローラ35、排紙ローラ36等が配置されている。   On the other hand, the recording paper is pulled out from the paper feeding cassette 18 by the pickup roller 33 and is transported through the paper transporting path R 1, via the secondary transfer device 23 and the fixing device 17, and through the paper discharge roller 36. To 39. In this paper transport path R1, after the recording paper is temporarily stopped and the leading edges of the recording paper are aligned, the recording paper is fed in accordance with the transfer timing of the toner image in the nip area between the intermediate transfer belt 21 and the transfer roller 23a. A registration roller 34 that starts conveyance, a conveyance roller 35 that prompts conveyance of the recording paper, a paper discharge roller 36, and the like are arranged.

次に、本実施形態の光走査装置11の構成を、図2乃至図5を用いて詳細に説明する。図2は、図1の光走査装置11の筐体41の内部を斜め上方から視て示す斜視図であって、上蓋を外した状態を示している。また、図3は、光走査装置11の複数の光学部材を抽出して示す斜視図であり、図2の背面側から視た状態を示している。更に、図4及び図5は、光走査装置11の複数の光学部材を抽出して示す平面図及び側面図である。尚、図5には、光走査装置11外側に配置された各感光体ドラム13も示されている。   Next, the configuration of the optical scanning device 11 of this embodiment will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 2 is a perspective view showing the inside of the housing 41 of the optical scanning device 11 of FIG. 1 as viewed obliquely from above, and shows a state where the upper lid is removed. FIG. 3 is a perspective view showing a plurality of optical members extracted from the optical scanning device 11, and shows a state viewed from the back side of FIG. 4 and 5 are a plan view and a side view showing a plurality of optical members extracted from the optical scanning device 11. FIG. FIG. 5 also shows the photosensitive drums 13 arranged outside the optical scanning device 11.

筐体41は、矩形状の底板41a及び底板41aを囲む4つの側板41b、41cを有している。底板41aの略中央には、平面視すると正方形のポリゴンミラー42が配置されている。また、底板41aの略中央にポリゴンモータ43が固定され、ポリゴンモータ43の回転軸にポリゴンミラー42の中心が接続固定され、ポリゴンモータ43によりポリゴンミラー42が回転される。   The housing 41 has a rectangular bottom plate 41a and four side plates 41b and 41c surrounding the bottom plate 41a. A square polygon mirror 42 in a plan view is arranged at the approximate center of the bottom plate 41a. Further, the polygon motor 43 is fixed substantially at the center of the bottom plate 41 a, the center of the polygon mirror 42 is connected and fixed to the rotation axis of the polygon motor 43, and the polygon mirror 42 is rotated by the polygon motor 43.

また、筐体41の1つの側板41bの外側には、2個の第1半導体レーザ44a、44b及び2個の第2半導体レーザ45a、45b(合計4個の半導体レーザ)を搭載した駆動基板46が固定されている。各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bは、側板41bに形成されたそれぞれの孔を通じて筐体41の内側を臨む。   In addition, on the outer side of one side plate 41b of the housing 41, a driving substrate 46 on which two first semiconductor lasers 44a and 44b and two second semiconductor lasers 45a and 45b (four semiconductor lasers in total) are mounted. Is fixed. The first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b face the inside of the housing 41 through the respective holes formed in the side plate 41b.

各第1半導体レーザ44a、44bと各第2半導体レーザ45a、45bとは、ポリゴンミラー42の中心を通って主走査方向Xに延びる仮想直線Mを想定すると、仮想直線Mを中心にして対称に配置されている。尚、主走査方向Xと直交する方向を副走査方向Yとし、主走査方向X及び副走査方向Yと直交する方向(ポリゴンモータ43の回転軸の長手方向)を高さ方向Zとする。   Assuming a virtual straight line M extending in the main scanning direction X through the center of the polygon mirror 42, the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are symmetrical about the virtual straight line M. Is arranged. A direction perpendicular to the main scanning direction X is defined as a sub-scanning direction Y, and a direction perpendicular to the main scanning direction X and the sub-scanning direction Y (longitudinal direction of the rotation axis of the polygon motor 43) is defined as a height direction Z.

駆動基板46は、平板状のプリント基板であって、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bを駆動する回路を有している。各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bは、平板状のプリント基板に搭載されることにより概ね同一の平面(YZ平面)上に配置され、またその平面に対しては垂直方向(主走査方向X)にかつ筐体41の内側向きにそれぞれの光ビームL1〜L4を出射する。   The drive board 46 is a flat printed board and has circuits for driving the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b. Each of the first semiconductor lasers 44a and 44b and each of the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged on a substantially same plane (YZ plane) by being mounted on a flat printed board, and with respect to the plane, The respective light beams L1 to L4 are emitted in the vertical direction (main scanning direction X) and inward of the housing 41.

駆動基板46(YZ平面)上では、各第1半導体レーザ44a、44bが副走査方向Y及び高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置され、同様に各第2半導体レーザ45a、45bも副走査方向Y及び高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置され、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bが一点鎖線で示す逆等脚台形Qの4つの角q1〜q4に配置されている。   On the drive substrate 46 (YZ plane), the first semiconductor lasers 44a and 44b are arranged at different positions in the sub-scanning direction Y and the height direction Z, and similarly, the second semiconductor lasers 45a and 45b are also in the sub-scanning direction. The first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at four corners q1 to q4 of an inverted isosceles trapezoid Q indicated by a one-dot chain line. Has been.

ここで、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bを逆等脚台形Qの4つの角q1〜q4に配置した場合は、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bを正方形の4つの角に配置した場合と比較して、各第1半導体レーザ44a、44bの間隔及び各第2半導体レーザ45a、45bの間隔を一定に保ちながらも、高さ方向Z(縦方向)について、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bの配置スペースを低減させることができ、光走査装置11の高さを低減させることができる。   Here, when the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at the four corners q1 to q4 of the inverted isosceles trapezoid Q, the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 44a and 44b Compared with the case where the two semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at the four corners of the square, the distance between the first semiconductor lasers 44a and 44b and the distance between the second semiconductor lasers 45a and 45b are kept high. With respect to the vertical direction Z (longitudinal direction), the arrangement space of the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b can be reduced, and the height of the optical scanning device 11 can be reduced.

また、各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2をポリゴンミラー42へと導く第1入射光学系51と、各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4をポリゴンミラー42へと導く第2入射光学系52とを設けている。第1入射光学系51は、2個のコリメータレンズ53a、53b、2個のアパーチャー54、第1半導体レーザ44aと同一高さに配置された2個の反射ミラー55a、55b、及びシリンドリカルレンズ56等からなる。同様に、第2入射光学系52は、2個のコリメータレンズ57a、57b、2個のアパーチャー58、第2半導体レーザ45bと同一高さに配置された2個の反射ミラー59a、59b、及びシリンドリカルレンズ56等からなる。第1入射光学系51の各コリメータレンズ53a、53b、各アパーチャー54、及び各反射ミラー55a、55bと、第2入射光学系52の各コリメータレンズ57a、57b、各アパーチャー58、及び各反射ミラー59a、59bとは、仮想直線Mを中心にして対称に配置されている。また、仮想直線Mは、シリンドリカルレンズ56の中心を通っており、仮想直線Mにより区分されるシリンドリカルレンズ56の片側半分が第1入射光学系51に配置され、シリンドリカルレンズ56の他の片側半分が第2入射光学系52に配置されている。   Further, the first incident optical system 51 that guides the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b to the polygon mirror 42, and the light beams L3 and L4 of the second semiconductor lasers 45a and 45b to the polygon mirror 42. A second incident optical system 52 is provided. The first incident optical system 51 includes two collimator lenses 53a and 53b, two apertures 54, two reflecting mirrors 55a and 55b arranged at the same height as the first semiconductor laser 44a, a cylindrical lens 56, and the like. Consists of. Similarly, the second incident optical system 52 includes two collimator lenses 57a and 57b, two apertures 58, two reflecting mirrors 59a and 59b arranged at the same height as the second semiconductor laser 45b, and a cylindrical. The lens 56 and the like. Each collimator lens 53a, 53b, each aperture 54, and each reflection mirror 55a, 55b of the first incident optical system 51, each collimator lens 57a, 57b, each aperture 58, and each reflection mirror 59a of the second incident optical system 52. , 59b are arranged symmetrically about the virtual straight line M. The virtual straight line M passes through the center of the cylindrical lens 56, one half of the cylindrical lens 56 divided by the virtual straight line M is disposed in the first incident optical system 51, and the other half of the cylindrical lens 56 is half-sided. Arranged in the second incident optical system 52.

更に、ポリゴンミラー42で反射された各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2をブラック用及びシアン用の2つの感光体ドラム13へと導く第1結像光学系61と、ポリゴンミラー42で反射された各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4をマゼンタ用及びイエロー用の2つの感光体ドラム13へと導く第2結像光学系62とを設けている。第1結像光学系61は、fθレンズ63及び4つの各反射ミラー64a、64b、64c、64d等からなる。同様に、第2結像光学系62は、fθレンズ65及び4つの各反射ミラー66a、66b、66c、66d等からなる。第1結像光学系61のfθレンズ63及び各反射ミラー64a、64b、64c、64dと、第2結像光学系62のfθレンズ65及び各反射ミラー66a、66b、66c、66dとは、仮想直線Mを中心にして対称に配置されている。   Further, a first imaging optical system 61 that guides the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b reflected by the polygon mirror 42 to the two photosensitive drums 13 for black and cyan, and a polygon mirror A second imaging optical system 62 is provided that guides the light beams L3 and L4 of the second semiconductor lasers 45a and 45b reflected by 42 to the two photosensitive drums 13 for magenta and yellow. The first imaging optical system 61 includes an fθ lens 63 and four reflecting mirrors 64a, 64b, 64c, 64d, and the like. Similarly, the second imaging optical system 62 includes an fθ lens 65 and four reflecting mirrors 66a, 66b, 66c, 66d, and the like. The fθ lens 63 and the reflection mirrors 64a, 64b, 64c, and 64d of the first imaging optical system 61, and the fθ lens 65 and the reflection mirrors 66a, 66b, 66c, and 66d of the second imaging optical system 62 are virtual. They are arranged symmetrically about the straight line M.

また、第1結像光学系61側にBDミラー71及びBDセンサ72を搭載した基板73を設け、第2結像光学系62側にもBDミラー74及びBDセンサ75を搭載した基板76を設けている。第1結像光学系61側のBDミラー71及びBDセンサ72と、第2結像光学系62側のBDミラー74及びBDセンサ75とは、仮想直線Mを中心にして対称に配置されている。   A substrate 73 on which the BD mirror 71 and the BD sensor 72 are mounted is provided on the first imaging optical system 61 side, and a substrate 76 on which the BD mirror 74 and the BD sensor 75 are mounted is also provided on the second imaging optical system 62 side. ing. The BD mirror 71 and the BD sensor 72 on the first imaging optical system 61 side and the BD mirror 74 and the BD sensor 75 on the second imaging optical system 62 side are arranged symmetrically about the virtual straight line M. .

次に、各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2がそれぞれの感光体ドラム13に入射するまでの各光路、及び各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4がそれぞれの感光体ドラム13に入射するまでの各光路について説明する。   Next, the optical paths until the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b enter the respective photosensitive drums 13 and the light beams L3 and L4 of the second semiconductor lasers 45a and 45b are respectively Each optical path until it enters the photosensitive drum 13 will be described.

第1半導体レーザ44aの光ビームL1は、コリメータレンズ53aを透過して平行光にされ、アパーチャー54で絞られて、各反射ミラー55a、55bに入射して反射され、シリンドリカルレンズ56を透過してポリゴンミラー42の反射面42aに入射する。また、第1半導体レーザ44bの光ビームL2は、コリメータレンズ53bを透過して平行光にされ、アパーチャー54で絞られて、反射ミラー55bの下方(高さ方向Zの下向き)の空きスペースEを通過し、シリンドリカルレンズ56を透過してポリゴンミラー42の反射面42aに入射する。シリンドリカルレンズ56は、高さ方向Zのみについて、各光ビームL1、L2をポリゴンミラー42の反射面42aでほぼ収束するように集光して出射する。   The light beam L1 of the first semiconductor laser 44a is transmitted through the collimator lens 53a to be collimated, is focused by the aperture 54, is incident on the reflecting mirrors 55a and 55b, is reflected, and passes through the cylindrical lens 56. The light enters the reflecting surface 42 a of the polygon mirror 42. In addition, the light beam L2 of the first semiconductor laser 44b is transmitted through the collimator lens 53b to be collimated, and is narrowed down by the aperture 54 to pass through the empty space E below the reflecting mirror 55b (downward in the height direction Z). Passes through the cylindrical lens 56 and enters the reflecting surface 42 a of the polygon mirror 42. The cylindrical lens 56 condenses and emits the light beams L1 and L2 so that the light beams L1 and L2 are substantially converged by the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 only in the height direction Z.

ここで、駆動基板46(YZ平面)上では各第1半導体レーザ44a、44bが副走査方向Yにおいて互いに異なる位置に配置されているものの、第1半導体レーザ44aの光ビームL1は、各反射ミラー55a、55bで反射されて第1光路重複領域J1まで副走査方向Yに変位されている。第1光路重複領域J1は、反射ミラー55bからシリンドリカルレンズ56を介してポリゴンミラー42の反射面42aまでの各光ビームL1、L2の光路を含む領域である。この第1光路重複領域J1では、図4に示すように平面視した(ポリゴンミラー42の回転軸方向に視た)ときに各光ビームL1、L2が重なって直線状の同一ラインを通っている。つまり、各光ビームL1、L2が高さ方向Zで重なっている。   Here, although the first semiconductor lasers 44a and 44b are arranged at different positions in the sub-scanning direction Y on the drive substrate 46 (YZ plane), the light beam L1 of the first semiconductor laser 44a is reflected by each reflection mirror. Reflected by 55a and 55b and displaced in the sub-scanning direction Y to the first optical path overlapping region J1. The first optical path overlapping region J1 is a region including the optical paths of the light beams L1 and L2 from the reflecting mirror 55b to the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 through the cylindrical lens 56. In the first optical path overlap region J1, the light beams L1 and L2 overlap each other and pass through the same straight line when viewed in plan (as viewed in the rotation axis direction of the polygon mirror 42) as shown in FIG. . That is, the light beams L1 and L2 overlap in the height direction Z.

また、駆動基板46(YZ平面)上では各第1半導体レーザ44a、44bが高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置されているものの、各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2の出射方向又は各反射ミラー55a、55bの向きの設定により、ポリゴンミラー42の反射面42a上で各光ビームL1、L2の入射スポット(第1入射スポット)が略重なるようにされている。このため、第1光路重複領域J1では、各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2が斜め上方向及び斜め下方向からポリゴンミラー42の反射面42aへと入射する。そして、各光ビームL1、L2は、ポリゴンミラー42の反射面42aで反射されると斜め下方向及び斜め上方向へと互いに離れて行く。一方の光ビームL1は、ポリゴンミラー42の反射面42aで斜め下方向に反射され、fθレンズ63を透過して1つの反射ミラー64aで反射され、ブラックのトナー像が形成される感光体ドラム13に入射する。また、他方の光ビームL2は、ポリゴンミラー42の反射面42aで斜め上方向に反射され、fθレンズ63を透過して3つの反射ミラー64b、64c、64dで順次反射され、シアンのトナー像が形成される感光体ドラム13に入射する。   Further, although the first semiconductor lasers 44a and 44b are arranged at different positions in the height direction Z on the drive substrate 46 (YZ plane), the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b The incident spots (first incident spots) of the light beams L1 and L2 are substantially overlapped on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 by setting the emission direction or the direction of the reflecting mirrors 55a and 55b. For this reason, in the first optical path overlapping region J1, the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b are incident on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 from diagonally upward and diagonally downward directions. Then, when the light beams L1 and L2 are reflected by the reflection surface 42a of the polygon mirror 42, they are separated from each other in the diagonally downward direction and the diagonally upward direction. One light beam L1 is reflected obliquely downward by the reflection surface 42a of the polygon mirror 42, passes through the fθ lens 63 and is reflected by one reflection mirror 64a, and forms a black toner image. Is incident on. The other light beam L2 is reflected obliquely upward by the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, passes through the fθ lens 63, and is sequentially reflected by the three reflecting mirrors 64b, 64c, and 64d. The light enters the photosensitive drum 13 to be formed.

また、ポリゴンミラー42は、ポリゴンモータ43により等角速度で回転されて、各反射面42aで各光ビームL1、L2を逐次反射し、各光ビームL1、L2を主走査方向Xに繰り返し等角速度で偏向させる。fθレンズ63は、主走査方向X及び副走査方向Yのいずれについても各光ビームL1、L2をそれぞれの感光体ドラム13の表面で所定のビーム径となるように集光して出射し、かつポリゴンミラー42により主走査方向Xに等角速度で偏向されている各光ビームL1、L2をそれぞれの感光体ドラム13上の主走査線に沿って等線速度で移動するように変換する。これにより、各光ビームL1、L2がそれぞれの感光体ドラム13の表面を主走査方向Xに繰返し走査する。   Further, the polygon mirror 42 is rotated at a constant angular velocity by a polygon motor 43, sequentially reflects each light beam L1, L2 on each reflecting surface 42a, and repeats each light beam L1, L2 in the main scanning direction X at a constant angular velocity. To deflect. The fθ lens 63 condenses and emits the light beams L1 and L2 so as to have a predetermined beam diameter on the surface of each photosensitive drum 13 in both the main scanning direction X and the sub-scanning direction Y, and The light beams L1 and L2 deflected at a constant angular velocity in the main scanning direction X by the polygon mirror 42 are converted so as to move at a constant linear velocity along the main scanning lines on the respective photosensitive drums 13. Thus, the light beams L1 and L2 repeatedly scan the surface of the photosensitive drum 13 in the main scanning direction X.

また、一方の光ビームL1は、各光ビームL1、L2による各感光体ドラム13の主走査が開始される直前に、BDミラー71で反射されてBDセンサ72に入射する。BDセンサ72は、各感光体ドラム13の主走査が開始される直前のタイミングで光ビームL1を受光して、この主走査開始直前のタイミングを示すBD信号を出力する。このBD信号に応じてブラック及びシアンのトナー像が形成される各感光体ドラム13の主走査の開始タイミングが設定され、ブラック及びシアンの各画像データに応じた各光ビームL1、L2の変調が開始される。   One light beam L1 is reflected by the BD mirror 71 and enters the BD sensor 72 immediately before the main scanning of each photosensitive drum 13 by the light beams L1 and L2 is started. The BD sensor 72 receives the light beam L1 at a timing immediately before the main scanning of each photosensitive drum 13 is started, and outputs a BD signal indicating the timing immediately before the start of the main scanning. The start timing of main scanning of each photosensitive drum 13 on which black and cyan toner images are formed is set in accordance with the BD signal, and the light beams L1 and L2 are modulated in accordance with the black and cyan image data. Be started.

その一方で、ブラック及びシアンのトナー像が形成される各感光体ドラム13が回転駆動されて、各光ビームL1、L2により該各感光体ドラム13の2次元表面(周面)が走査され、該各感光体ドラム13の表面にそれぞれの静電潜像が形成される。   On the other hand, the photosensitive drums 13 on which the black and cyan toner images are formed are driven to rotate, and the two-dimensional surface (circumferential surface) of each photosensitive drum 13 is scanned by the light beams L1 and L2. Each electrostatic latent image is formed on the surface of each photosensitive drum 13.

次に、第2半導体レーザ45aの光ビームL3は、コリメータレンズ57aを透過して平行光にされ、アパーチャー58で絞られて、反射ミラー59aの下方(高さ方向Zの下向き)の空きスペースEを通過し、シリンドリカルレンズ56を透過してポリゴンミラー42の反射面42aに入射する。また、第2半導体レーザ45bの光ビームL4は、コリメータレンズ57bを透過して平行光にされ、アパーチャー58で絞られて、各反射ミラー59a、59bに入射して反射され、シリンドリカルレンズ56を透過してポリゴンミラー42の反射面42aに入射する。   Next, the light beam L3 of the second semiconductor laser 45a is transmitted through the collimator lens 57a to be collimated, is narrowed down by the aperture 58, and is vacant space E below the reflection mirror 59a (downward in the height direction Z). , Passes through the cylindrical lens 56, and enters the reflecting surface 42 a of the polygon mirror 42. In addition, the light beam L4 of the second semiconductor laser 45b is transmitted through the collimator lens 57b to be collimated, is focused by the aperture 58, is incident on the reflection mirrors 59a and 59b, is reflected, and is transmitted through the cylindrical lens 56. Then, the light enters the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42.

駆動基板46(YZ平面)上では各第2半導体レーザ45a、45bが副走査方向Yにおいて互いに異なる位置に配置されているものの、第2半導体レーザ45bの光ビームL4は、各反射ミラー59a、59bで反射されて第2光路重複領域J2まで副走査方向Yに変位されている。第2光路重複領域J2は、反射ミラー59aからシリンドリカルレンズ56を介してポリゴンミラー42の反射面42aまでの各光ビームL3、L4の光路を含む領域である。この第2光路重複領域J2では、図4に示すように平面視した(ポリゴンミラー42の回転軸方向に視た)ときに各光ビームL3、L4が重なって直線状の同一ラインを通っている。つまり、各光ビームL3、L4が高さ方向Zで重なっている。   Although the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at different positions in the sub-scanning direction Y on the drive substrate 46 (YZ plane), the light beam L4 of the second semiconductor laser 45b is reflected by the reflection mirrors 59a and 59b. And is displaced in the sub-scanning direction Y to the second optical path overlap region J2. The second optical path overlapping region J2 is a region including the optical paths of the light beams L3 and L4 from the reflecting mirror 59a through the cylindrical lens 56 to the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42. In the second optical path overlap region J2, the light beams L3 and L4 overlap each other and pass through the same straight line when viewed in plan (as viewed in the rotation axis direction of the polygon mirror 42) as shown in FIG. . That is, the light beams L3 and L4 overlap in the height direction Z.

また、駆動基板46(YZ平面)上では各第2半導体レーザ45a、45bが高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置されているものの、各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4の出射方向又は各反射ミラー59a、59bの向きの設定により、ポリゴンミラー42の反射面42a上で各光ビームL3、L4の入射スポット(第2入射スポット)が略重なるようにされている。このため、第2光路重複領域J2では、各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4が斜め下方向及び斜め上方向からポリゴンミラー42の反射面42aへと入射する。そして、各光ビームL3、L4は、ポリゴンミラー42の反射面42aで反射されると斜め上方向及び斜め下方向へと互いに離れて行く。一方の光ビームL3は、ポリゴンミラー42の反射面42aで斜め上方向に反射され、fθレンズ65を透過して3つの反射ミラー66b、66c、66dで順次反射されて、マゼンタのトナー像が形成される感光体ドラム13に入射する。また、他方の光ビームL4は、ポリゴンミラー42の反射面42aで斜め下方向に反射され、fθレンズ65を透過して1つの反射ミラー66aで反射されて、イエローのトナー像が形成される感光体ドラム13に入射する。   In addition, although the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at different positions in the height direction Z on the drive substrate 46 (YZ plane), the light beams L3 and L4 of the second semiconductor lasers 45a and 45b The incident spots (second incident spots) of the light beams L3 and L4 are substantially overlapped on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 by setting the emission direction or the direction of the reflecting mirrors 59a and 59b. For this reason, in the second optical path overlapping region J2, the light beams L3 and L4 of the second semiconductor lasers 45a and 45b are incident on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42 from obliquely downward and obliquely upward directions. Then, when the light beams L3 and L4 are reflected by the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, they are separated from each other in the diagonally upward direction and the diagonally downward direction. One light beam L3 is reflected obliquely upward by the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, passes through the fθ lens 65, and is sequentially reflected by the three reflecting mirrors 66b, 66c, and 66d to form a magenta toner image. Is incident on the photosensitive drum 13. The other light beam L4 is reflected obliquely downward by the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, passes through the fθ lens 65 and is reflected by one reflecting mirror 66a, and forms a yellow toner image. Incident on the body drum 13.

また、他方の光ビームL4は、各光ビームL3、L4による各感光体ドラム13の主走査が開始される直前に、BDミラー74で反射されてBDセンサ75に入射し、BDセンサ75からは各光ビームL3、L4による各感光体ドラム13の主走査開始直前のタイミングを示すBD信号が出力され、このBD信号に応じてマゼンタ及びイエローのトナー像が形成される各感光体ドラム13の主走査の開始タイミングが設定され、マゼンタ及びイエローの各画像データに応じた各光ビームL3、L4の変調が開始される。   The other light beam L4 is reflected by the BD mirror 74 and incident on the BD sensor 75 immediately before the main scanning of each photosensitive drum 13 by the light beams L3 and L4 is started. A BD signal indicating the timing immediately before the start of main scanning of each photosensitive drum 13 by each of the light beams L3 and L4 is output, and a magenta and yellow toner image is formed according to this BD signal. The scanning start timing is set, and modulation of the light beams L3 and L4 corresponding to the magenta and yellow image data is started.

その一方で、マゼンタ及びイエローのトナー像が形成される各感光体ドラム13が回転駆動されて、各光ビームL3、L4により該各感光体ドラム13の2次元表面(周面)が走査され、該各感光体ドラム13の表面にそれぞれの静電潜像が形成される。   On the other hand, the respective photosensitive drums 13 on which magenta and yellow toner images are formed are driven to rotate, and the two-dimensional surfaces (peripheral surfaces) of the respective photosensitive drums 13 are scanned by the respective light beams L3 and L4. Each electrostatic latent image is formed on the surface of each photosensitive drum 13.

このような構成の光走査装置11においては、筐体41の底板41aの略中央にポリゴンミラー42を配置し、ポリゴンミラー42の中心を通る仮想直線Mを中心にして、各第1半導体レーザ44a、44bと各第2半導体レーザ45a、45bとを対称に配置し、第1入射光学系51と第2入射光学系52とを対称に配置し、第1結像光学系61と第2結像光学系62とを対称に配置しているので、側方から視ると、ポリゴンミラー42、各第1半導体レーザ44a、44b、各第2半導体レーザ45a、45b、第1入射光学系51、及び第2入射光学系52等が小さなスペースに集約され、光走査装置11を概ね小型化することができる。   In the optical scanning device 11 having such a configuration, the polygon mirror 42 is disposed substantially at the center of the bottom plate 41a of the housing 41, and each first semiconductor laser 44a is centered on a virtual straight line M passing through the center of the polygon mirror 42. 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged symmetrically, the first incident optical system 51 and the second incident optical system 52 are arranged symmetrically, and the first imaging optical system 61 and the second imaging Since the optical system 62 is arranged symmetrically, when viewed from the side, the polygon mirror 42, the first semiconductor lasers 44a and 44b, the second semiconductor lasers 45a and 45b, the first incident optical system 51, and The second incident optical system 52 and the like are concentrated in a small space, and the optical scanning device 11 can be generally downsized.

また、各第1半導体レーザ44a、44bの光ビームL1、L2をポリゴンミラー42の反射面42a上の略同一の第1入射スポットに入射させ、かつ各第2半導体レーザ45a、45bの光ビームL3、L4をポリゴンミラー42の反射面42a上の略同一の第2入射スポットに入射させているので、ポリゴンミラー42の厚さを薄くすることができ、ポリゴンミラー42が、光走査装置11の高さを高くする原因になることはない。   Further, the light beams L1 and L2 of the first semiconductor lasers 44a and 44b are made incident on substantially the same first incident spot on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, and the light beams L3 of the second semiconductor lasers 45a and 45b. , L4 is incident on substantially the same second incident spot on the reflecting surface 42a of the polygon mirror 42, the thickness of the polygon mirror 42 can be reduced, and the polygon mirror 42 can increase the height of the optical scanning device 11. There is no cause to increase the height.

また、各反射ミラー55a、55bにより第1半導体レーザ44aの光ビームL1を仮想直線M(装置の中央)近くの第1光路重複領域J1まで副走査方向Yに変位させてからポリゴンミラー42に入射させ、かつ各反射ミラー59a、59bにより第2半導体レーザ45bの光ビームL4を仮想直線M(装置の中央)近くの第2光路重複領域J2まで副走査方向Yに変位させてからポリゴンミラー42に入射させているので、ポリゴンミラー42の直径を小さくすることができ、第1結像光学系61と第2結像光学系62とを接近させることができ、光走査装置11の横幅を抑えて、光走査装置11の小型化を図ることができる。   In addition, the light beam L1 of the first semiconductor laser 44a is displaced in the sub-scanning direction Y to the first optical path overlap region J1 near the virtual straight line M (center of the apparatus) by the reflecting mirrors 55a and 55b, and then enters the polygon mirror 42. And the reflecting mirrors 59a and 59b displace the light beam L4 of the second semiconductor laser 45b to the second optical path overlapping region J2 near the virtual straight line M (center of the apparatus) in the sub-scanning direction Y, and then to the polygon mirror 42. Since it is incident, the diameter of the polygon mirror 42 can be reduced, the first imaging optical system 61 and the second imaging optical system 62 can be brought close to each other, and the lateral width of the optical scanning device 11 can be suppressed. The optical scanning device 11 can be downsized.

また、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bを同一の駆動基板46に搭載しているので、部品点数を減少させて、各半導体レーザ44a、44b、45a、45bの配線を簡略化することができる。   Further, since the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are mounted on the same drive substrate 46, the number of parts is reduced, and the semiconductor lasers 44a, 44b, 45a and 45b are reduced. Wiring can be simplified.

ところで、ポリゴンミラー42の回転に伴い、各光ビームL1〜L4をそれぞれの感光体ドラム13上の主走査線に沿って同一の等線速度で移動させるべく、ポリゴンミラー42から各感光体ドラム13までの各光ビームL1〜L4の光路長を等しくする必要がある。このため、第1結像光学系61においては、光ビームL1を1個の反射ミラー64aのみで反射して、光ビームL1の光路を1回だけ屈曲させ短く設定し、また光ビームL2を3個の反射ミラー64b〜64dで反射して、光ビームL2の光路を3回屈曲させ、光ビームL2の光路を延ばしている。同様に、第2結像光学系62においても、光ビームL4を1個の反射ミラー66aのみで反射して、光ビームL4の光路を1回だけ屈曲させ短く設定し、光ビームL3を3個の反射ミラー66b〜66dで反射して、光ビームL3の光路を3回屈曲させ、光ビームL3の光路を延ばしている。これにより、ポリゴンミラー42に対する各感光体ドラム13の位置が異なっていても、各光ビームL1〜L4の光路長が互いに等しくなる。   By the way, in accordance with the rotation of the polygon mirror 42, each light beam L <b> 1 to L <b> 4 is moved from the polygon mirror 42 to each photoconductor drum 13 so as to move along the main scanning line on the respective photoconductor drum 13 at the same linear velocity. It is necessary to equalize the optical path lengths of the light beams L1 to L4. For this reason, in the first imaging optical system 61, the light beam L1 is reflected by only one reflecting mirror 64a, the optical path of the light beam L1 is bent only once and set short, and the light beam L2 is set to 3 Reflected by the reflecting mirrors 64b to 64d, the optical path of the light beam L2 is bent three times to extend the optical path of the light beam L2. Similarly, also in the second imaging optical system 62, the light beam L4 is reflected by only one reflecting mirror 66a, the optical path of the light beam L4 is bent once and set short, and three light beams L3 are set. Are reflected by the reflection mirrors 66b to 66d, and the optical path of the light beam L3 is bent three times to extend the optical path of the light beam L3. Thereby, even if the positions of the photosensitive drums 13 with respect to the polygon mirror 42 are different, the optical path lengths of the light beams L1 to L4 are equal to each other.

しかしながら、各光ビームL1、L4については、1個の反射ミラー64a、66aのみで反射されるため、反射損失が小さく、それらの光強度の低下が少なく、これに対して各光ビームL2、L3については、3個の反射ミラー64b〜64d、66b〜66dで反射されるため、反射損失が大きく、それらの光強度の低下が大きい。仮に、各光ビームL1、L4と各光ビームL2、L3との光強度の差が大きい状態で、各光ビームL1〜L4の強度を互いに一致させるための調整を行ったならば、この調整が困難になる。   However, since each of the light beams L1 and L4 is reflected by only one reflection mirror 64a and 66a, the reflection loss is small and the light intensity is hardly reduced. In contrast, the light beams L2 and L3 are not reflected. Is reflected by the three reflecting mirrors 64b to 64d and 66b to 66d, the reflection loss is large and the light intensity is greatly reduced. If an adjustment is made to make the intensities of the light beams L1 to L4 coincide with each other in a state where the difference in light intensity between the light beams L1 and L4 and the light beams L2 and L3 is large, this adjustment is performed. It becomes difficult.

そこで、本実施形態では、第1入射光学系51においては光ビームL1を2個の反射ミラー55a、55bで反射してからポリゴンミラー42に入射させ、また光ビームL2を反射せずにポリゴンミラー42に入射させ、同様に第2入射光学系52においては光ビームL4を2個の反射ミラー59a、59bで反射してからポリゴンミラー42に入射させ、また光ビームL3を反射せずにポリゴンミラー42に入射させている。このため、光ビームL1については2個の反射ミラー55a、55bと1個の反射ミラー64aで3回反射され、光ビームL2については3個の反射ミラー64b〜64dで3回反射され、光ビームL3については3個の反射ミラー66b〜66dで3回反射され、光ビームL4については2個の反射ミラー59a、59bと1個の反射ミラー66aで3回反射され、よって各光ビームL1〜L4のいずれも3個の反射ミラーで3回反射されることになる。この結果、各光ビームL1、L2、L3、L4の光路における反射損失が同一になって、各感光体ドラム13に入射する各光ビームL1〜L4の光強度が概ね同一となり、各光ビームL1〜L4の光強度を互いに一致させるための調整が容易になる。   Therefore, in the present embodiment, in the first incident optical system 51, the light beam L1 is reflected by the two reflecting mirrors 55a and 55b and then incident on the polygon mirror 42, and the polygon mirror without reflecting the light beam L2 is used. Similarly, in the second incident optical system 52, the light beam L4 is reflected by the two reflecting mirrors 59a and 59b and then incident on the polygon mirror 42, and the light beam L3 is not reflected and is reflected by the polygon mirror. 42 is incident. Therefore, the light beam L1 is reflected three times by the two reflecting mirrors 55a and 55b and the one reflecting mirror 64a, and the light beam L2 is reflected three times by the three reflecting mirrors 64b to 64d. L3 is reflected three times by the three reflecting mirrors 66b to 66d, and the light beam L4 is reflected three times by the two reflecting mirrors 59a and 59b and one reflecting mirror 66a, and thus each of the light beams L1 to L4. Each of these is reflected three times by three reflecting mirrors. As a result, the reflection losses in the optical paths of the light beams L1, L2, L3, and L4 are the same, and the light intensities of the light beams L1 to L4 incident on the photosensitive drums 13 are substantially the same. Adjustment for making the light intensities of L4 coincide with each other becomes easy.

尚、各光ビームL1、L4の光路長は、各反射ミラー55a、55bの離間距離の分及び各反射ミラー59a、59bの離間距離の分それぞれ長くなるが、これらの離間距離が短いので、各光ビームL2、L3の光路長をそれらの離間距離だけ長くして各光ビームL1、L4の光路長に容易に等しくすることができる。   The optical path length of each of the light beams L1 and L4 is increased by the distance of the reflection mirrors 55a and 55b and the distance of the reflection mirrors 59a and 59b, respectively. The optical path lengths of the light beams L2 and L3 can be increased by the distance between them so that the optical path lengths of the light beams L1 and L4 can be easily made equal.

次に、そのような第1入射光学系51の2個の反射ミラー55a、55b及び第2入射光学系52の2個の反射ミラー59a、59bについて詳しく説明する。   Next, the two reflecting mirrors 55a and 55b of the first incident optical system 51 and the two reflecting mirrors 59a and 59b of the second incident optical system 52 will be described in detail.

図6は、第1入射光学系51及び第2入射光学系52を拡大して示す平面図である。図6に示すように筐体41の底板41aには、4組の柱状部81a〜81hが突設されており、各柱状部81a、81bの間に反射ミラー55aが支持され、各柱状部81c、81dの間に反射ミラー55bが支持され、各柱状部81e、81fの間に反射ミラー59aが支持され、各柱状部81g、81hの間に反射ミラー59bが支持されている。   FIG. 6 is an enlarged plan view showing the first incident optical system 51 and the second incident optical system 52. As shown in FIG. 6, the bottom plate 41a of the housing 41 is provided with four sets of columnar portions 81a to 81h. The reflection mirror 55a is supported between the columnar portions 81a and 81b, and each columnar portion 81c. 81d, the reflection mirror 55b is supported, the reflection mirror 59a is supported between the columnar portions 81e and 81f, and the reflection mirror 59b is supported between the columnar portions 81g and 81h.

図7(a)、(b)は、4組の柱状部81a〜81hを示す正面図及び各反射ミラー55a、55b、59a、59bを支持した状態を示す正面図である。図7(a)、(b)に示すように各柱状部81a、81bの対向面、各柱状部81c、81dの対向面、各柱状部81e、81fの対向面、及び各柱状部81g、81hの対向面には、それぞれの溝82がそれらの柱状部の先端から中央近くまで形成されており、各柱状部81a、81bの溝82に反射ミラー55aの両端が挿入されて接着され、各柱状部81s、81dの溝82に反射ミラー55bの両端が挿入されて接着され、各柱状部81e、81fの溝82に反射ミラー59aの両端が挿入されて接着され、各柱状部81g、81hの溝82に反射ミラー59bの両端が挿入されて接着されている。   FIGS. 7A and 7B are a front view showing four sets of columnar portions 81a to 81h and a front view showing a state in which the reflecting mirrors 55a, 55b, 59a, and 59b are supported. As shown in FIGS. 7A and 7B, the opposing surfaces of the columnar portions 81a and 81b, the opposing surfaces of the columnar portions 81c and 81d, the opposing surfaces of the columnar portions 81e and 81f, and the columnar portions 81g and 81h. Grooves 82 are formed on the opposing surfaces of the columnar portions from the tips of the columnar portions to near the center, and both ends of the reflection mirror 55a are inserted and bonded to the grooves 82 of the columnar portions 81a and 81b. Both ends of the reflection mirror 55b are inserted and bonded to the grooves 82 of the portions 81s and 81d, and both ends of the reflection mirror 59a are inserted and bonded to the grooves 82 of the columnar portions 81e and 81f, and the grooves of the columnar portions 81g and 81h. Both ends of the reflection mirror 59b are inserted and bonded to 82.

また、各反射ミラー55a、55b、59a、59bは、4組の柱状部81a〜81hにより底板41aから離間して支持され、各反射ミラー55a、55b、59a、59bと底板41aの間、つまり各反射ミラー55a、55b、59a、59bの下方(高さ方向Zの下向き)には空きスペースEが形成されている。   Each reflection mirror 55a, 55b, 59a, 59b is supported by four sets of columnar portions 81a-81h so as to be separated from the bottom plate 41a, and between each reflection mirror 55a, 55b, 59a, 59b and the bottom plate 41a, that is, each An empty space E is formed below the reflection mirrors 55a, 55b, 59a, 59b (downward in the height direction Z).

ここで、図5を参照して先に述べたように駆動基板46(YZ平面)においては、各第1半導体レーザ44a、44bが副走査方向Y及び高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置され、同様に各第2半導体レーザ45a、45bも副走査方向Y及び高さ方向Zにおいて互いに異なる位置に配置され、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bが一点鎖線で示す逆等脚台形Qの4つの角q1〜q4に配置されている。   Here, as described above with reference to FIG. 5, in the drive substrate 46 (YZ plane), the first semiconductor lasers 44 a and 44 b are arranged at different positions in the sub-scanning direction Y and the height direction Z. Similarly, the second semiconductor lasers 45a and 45b are also arranged at mutually different positions in the sub-scanning direction Y and the height direction Z, and the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are shown by alternate long and short dash lines. Arranged at four corners q1 to q4 of the inverted isosceles trapezoid Q shown.

また、図5から明らかなように第1入射光学系51においては、各反射ミラー55a、55bが第1半導体レーザ44aと同一高さに配置され、各反射ミラー55a、55bの下方に空きスペースEが形成されている。同様に、第2入射光学系52においては、各反射ミラー59a、59bが第2半導体レーザ45bと同一高さに配置され、各反射ミラー59a、59bの下方に空きスペースEが形成されている。   Further, as apparent from FIG. 5, in the first incident optical system 51, the reflecting mirrors 55a and 55b are arranged at the same height as the first semiconductor laser 44a, and an empty space E is provided below the reflecting mirrors 55a and 55b. Is formed. Similarly, in the second incident optical system 52, the reflecting mirrors 59a and 59b are arranged at the same height as the second semiconductor laser 45b, and an empty space E is formed below the reflecting mirrors 59a and 59b.

そして、図6に示すように第1入射光学系51においては、第1半導体レーザ44aの光ビームL1が、各反射ミラー55a、55bで2回反射されて第1光路重複領域J1まで副走査方向Yに変位され、第1光路重複領域J1では各光ビームL1、L2が高さ方向Zで重なって直線状の同一ラインを通るようにしている。また、図5に示すように第1半導体レーザ44bの光ビームL2が反射ミラー55bの下方の空きスペースEを通過するようにしている。従って、光ビームL1が2個の反射ミラー55a、55bで反射され、また光ビームL2が反射されずに反射ミラー55bの下方の空きスペースEを通過する。   As shown in FIG. 6, in the first incident optical system 51, the light beam L1 of the first semiconductor laser 44a is reflected twice by each of the reflection mirrors 55a and 55b and reaches the first optical path overlapping region J1 in the sub-scanning direction. In the first optical path overlap region J1, the light beams L1 and L2 are overlapped in the height direction Z so as to pass through the same straight line. Further, as shown in FIG. 5, the light beam L2 of the first semiconductor laser 44b passes through the empty space E below the reflection mirror 55b. Therefore, the light beam L1 is reflected by the two reflecting mirrors 55a and 55b, and the light beam L2 passes through the empty space E below the reflecting mirror 55b without being reflected.

同様に、第2入射光学系52においては、第2半導体レーザ45bの光ビームL4が、各反射ミラー59a、59bで2回反射されて第2光路重複領域J2まで副走査方向Yに変位され、第2光路重複領域J2では各光ビームL3、L4が高さ方向Zで重なって直線状の同一ラインを通るようにしている。また、図5に示すように第2半導体レーザ45aの光ビームL3が反射ミラー59aの下方の空きスペースEを通過するようにしている。従って、光ビームL4が2個の反射ミラー55a、55bで反射され、光ビームL3が反射されずに反射ミラー59aの下方の空きスペースEを通過する。   Similarly, in the second incident optical system 52, the light beam L4 of the second semiconductor laser 45b is reflected twice by the respective reflection mirrors 59a and 59b and displaced in the sub-scanning direction Y to the second optical path overlapping region J2, In the second optical path overlap region J2, the light beams L3 and L4 are overlapped in the height direction Z so as to pass through the same straight line. Further, as shown in FIG. 5, the light beam L3 of the second semiconductor laser 45a passes through the empty space E below the reflection mirror 59a. Accordingly, the light beam L4 is reflected by the two reflecting mirrors 55a and 55b, and the light beam L3 passes through the empty space E below the reflecting mirror 59a without being reflected.

すなわち、第1入射光学系51においては光ビームL1を2個の反射ミラー55a、55bで反射し、また光ビームL2を反射せず、同様に第2入射光学系52においては光ビームL4を2個の反射ミラー59a、59bで反射し、また光ビームL3を反射しないようにしている。   That is, in the first incident optical system 51, the light beam L1 is reflected by the two reflecting mirrors 55a and 55b, and the light beam L2 is not reflected. The light is reflected by the reflecting mirrors 59a and 59b, and the light beam L3 is not reflected.

このように第1及び第2入射光学系51、52においては、各第1半導体レーザ44a、44b及び各第2半導体レーザ45a、45bを逆等脚台形Qの4つの角q1〜q4に配置した上で、第1半導体レーザ44aと各反射ミラー55a、55bとを同一高さに配置すると共に、第2半導体レーザ45bと各反射ミラー59a、59bとを同一高さに配置し、第1半導体レーザ44aの光ビームL1を2個の反射ミラー55a、55bで反射し、第2半導体レーザ45bの光ビームL4を2個の反射ミラー59a、59bで反射し、また第1半導体レーザ44aの光ビームL2及び第2半導体レーザ45bの光ビームL3を反射しないようにしている。これにより、各光ビームL1、L2、L3、L4の光路のいずれにも3個の反射ミラーが設けられて、これらの光路における光ビームの反射損失が同一に設定される。このため、各感光体ドラム13に入射する各光ビームL1〜L4の光強度が概ね同一となり、各光ビームL1〜L4との光強度を互いに一致させるための調整が容易になる。   As described above, in the first and second incident optical systems 51 and 52, the first semiconductor lasers 44a and 44b and the second semiconductor lasers 45a and 45b are arranged at four angles q1 to q4 of the inverted isosceles trapezoid Q, respectively. The first semiconductor laser 44a and the reflection mirrors 55a and 55b are arranged at the same height, and the second semiconductor laser 45b and the reflection mirrors 59a and 59b are arranged at the same height. The light beam L1 of 44a is reflected by the two reflecting mirrors 55a and 55b, the light beam L4 of the second semiconductor laser 45b is reflected by the two reflecting mirrors 59a and 59b, and the light beam L2 of the first semiconductor laser 44a is reflected. The light beam L3 of the second semiconductor laser 45b is not reflected. Thereby, three reflection mirrors are provided in any of the optical paths of the light beams L1, L2, L3, and L4, and the reflection loss of the light beams in these optical paths is set to be the same. For this reason, the light intensities of the light beams L1 to L4 incident on the photoconductor drums 13 are substantially the same, and adjustment for making the light intensities of the light beams L1 to L4 coincide with each other is facilitated.

以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと解される。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to the example which concerns. It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made within the scope of the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood.

1 画像形成装置
11 光走査装置
12 現像装置
13 感光体ドラム(被走査体)
14 ドラムクリーニング装置
15 帯電器
17 定着装置
21 中間転写ベルト
22 ベルトクリーニング装置
23 2次転写装置
33 ピックアップローラ
34 レジストローラ
35 搬送ローラ
36 排紙ローラ
41 筐体
42 ポリゴンミラー(偏向部)
43 ポリゴンモータ
44a、44b 第1半導体レーザ(発光素子)
45a、45b 第2半導体レーザ(発光素子)
46 駆動基板
51 第1入射光学系(第1光学系)
52 第2入射光学系(第2光学系)
53a、53b、57a、57b コリメータレンズ
55a、55b、59a、59b 反射ミラー
56 シリンドリカルレンズ
61 第1結像光学系(第1光学系)
62 第2結像光学系(第2光学系)
63、65 fθレンズ
64a〜64d、66a〜66d 反射ミラー
71、74 BDミラー
72、75 BDセンサ
73、76 基板
81a〜81h 柱状部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image forming apparatus 11 Optical scanning apparatus 12 Developing apparatus 13 Photosensitive drum (to-be-scanned body)
14 Drum cleaning device 15 Charger 17 Fixing device 21 Intermediate transfer belt 22 Belt cleaning device 23 Secondary transfer device 33 Pickup roller 34 Registration roller 35 Transport roller 36 Paper discharge roller 41 Housing 42 Polygon mirror (deflection unit)
43 Polygon motors 44a, 44b First semiconductor laser (light emitting element)
45a, 45b Second semiconductor laser (light emitting element)
46 drive substrate 51 first incident optical system (first optical system)
52 Second incident optical system (second optical system)
53a, 53b, 57a, 57b Collimator lenses 55a, 55b, 59a, 59b Reflection mirror 56 Cylindrical lens 61 First imaging optical system (first optical system)
62 Second imaging optical system (second optical system)
63, 65 fθ lenses 64a-64d, 66a-66d Reflective mirrors 71, 74 BD mirror 72, 75 BD sensor 73, 76 Substrate 81a-81h Columnar part

Claims (6)

複数の発光素子と、光ビームを偏向させる偏向部と、前記各発光素子の光ビームを前記偏向部へと導き、前記偏向部で偏向された前記各発光素子の光ビームを複数の被走査体へとそれぞれ導く複数の光路を形成する光学系とを備えた光走査装置であって、
前記各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、
前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを、前記偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように前記偏向部へと導いており、
前記2つの光ビームのうち、一方の光ビームが前記反射ミラーで反射されて前記偏向部へと導かれ、他方の光ビームが前記反射ミラーから前記偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過して前記偏向部へと導かれ、
前記光学系において前記一方の光ビームを前記偏向部に導く前記反射ミラーと前記偏向部との間の光路上かつ前記他方の光ビームを出射する前記発光素子と前記偏向部との間の光路上に、前記2つの発光素子の前記光ビームを通過させる単一のシリンドリカルレンズが配設されており、
前記反射ミラーは、筐体に設けた支持部により支持されており、
前記反射ミラーの下方には該反射ミラーと前記支持部と前記筐体とで構成される空間が形成されており、
前記他方の光ビームが、前記空間を通過することを特徴とする光走査装置。
A plurality of light emitting elements, a deflecting unit that deflects a light beam, and a light beam of each light emitting element is guided to the deflecting unit, and the light beam of each light emitting element deflected by the deflecting unit is a plurality of scanned objects. An optical scanning device including an optical system that forms a plurality of optical paths respectively leading to
Each of the optical paths is provided with a reflection mirror that reflects the light beam,
The optical system deflects the light beams of two light emitting elements so that the light beams of the two light emitting elements overlap each other on the same straight line in the rotation axis direction when viewed from the rotation axis direction of the deflection unit. To the department,
Of the two light beams, one light beam is reflected by the reflection mirror and guided to the deflection unit, and the other light beam passes through a position separated from the reflection mirror in the rotation axis direction of the deflection unit. And led to the deflection unit,
In the optical system, on the optical path between the deflection mirror that guides the one light beam to the deflecting unit and on the optical path between the light emitting element that emits the other light beam and the deflecting unit. In addition, a single cylindrical lens that allows the light beams of the two light emitting elements to pass therethrough is disposed,
The reflection mirror is supported by a support portion provided in the housing,
A space formed by the reflection mirror, the support portion, and the housing is formed below the reflection mirror,
The optical scanning device characterized in that the other light beam passes through the space .
請求項1に記載の光走査装置であって、
前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを前記偏向部の入射スポットへと導き、
前記各発光素子が同一の平面上に配設されて、前記各発光素子の光ビームの出射方向が前記平面と直交し、前記平面上において、前記各発光素子は、前記偏向部の回転軸と直交する方向の2ライン上に配設され、かつ前記偏向部の回転軸方向の2ライン上にそれぞれ配設されたことを特徴とする光走査装置。
The optical scanning device according to claim 1,
The optical system guides the light beams of two light emitting elements to the incident spot of the deflection unit,
Each of the light emitting elements is disposed on the same plane, and the light beam emission direction of each of the light emitting elements is orthogonal to the plane, and on the plane, each of the light emitting elements is connected to the rotation axis of the deflection unit. An optical scanning device, which is disposed on two lines in a direction perpendicular to each other and on two lines in the rotation axis direction of the deflecting unit.
複数の発光素子と、光ビームを偏向させる偏向部と、前記各発光素子の光ビームを前記偏向部へと導き、前記偏向部で偏向された前記各発光素子の光ビームを複数の被走査体へとそれぞれ導く複数の光路を形成する光学系とを備えた光走査装置であって、
前記各光路のいずれにも光ビームを反射する反射ミラーが設けられ、
底板及び前記底板を囲む複数の側板を有する筐体と、前記各発光素子を一方の平面に搭載した単一の基板とを備え、
前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを、前記偏向部の回転軸方向から視たときに該2つの発光素子の光ビームが前記回転軸方向で同一直線上に互いに重なるように前記偏向部へと導いており、
前記2つの光ビームのうち、一方の光ビームが前記反射ミラーで反射されて前記偏向部へと導かれ、他方の光ビームが前記反射ミラーから前記偏向部の回転軸方向に離間した位置を通過して前記偏向部へと導かれ、
前記光学系は、2つの発光素子の光ビームを前記偏向部の入射スポットへと導き、
前記各発光素子が前記基板の前記平面上に配設されて、前記各発光素子の光ビームの出射方向が前記平面と直交し、前記平面上において、前記各発光素子は、前記偏向部の回転軸と直交する方向の2ライン上に配設され、かつ前記偏向部の回転軸方向の2ライン上にそれぞれ配設され、
前記筐体の前記複数の側板のうち1つの側板の外側には、前記各発光素子を搭載した前記基板が固定されており、
前記側板には、前記各発光素子のそれぞれに対応して貫通孔が形成されており、
前記各発光素子は、それぞれ、前記1つの側板に形成された前記各貫通孔を通じて前記筐体の内側を臨んでおり、
前記反射ミラーは、筐体に設けた支持部により支持されており、
前記反射ミラーの下方には該反射ミラーと前記支持部と前記筐体とで構成される空間が形成されており、
前記他方の光ビームが、前記空間を通過することを特徴とする光走査装置。
A plurality of light emitting elements, a deflecting unit that deflects a light beam, and a light beam of each light emitting element is guided to the deflecting unit, and the light beam of each light emitting element deflected by the deflecting unit is a plurality of scanned objects. An optical scanning device including an optical system that forms a plurality of optical paths respectively leading to
Each of the optical paths is provided with a reflection mirror that reflects the light beam,
A housing having a bottom plate and a plurality of side plates surrounding the bottom plate, and a single substrate on which each light emitting element is mounted on one plane,
The optical system deflects the light beams of two light emitting elements so that the light beams of the two light emitting elements overlap each other on the same straight line in the rotation axis direction when viewed from the rotation axis direction of the deflection unit. To the department,
Of the two light beams, one light beam is reflected by the reflection mirror and guided to the deflection unit, and the other light beam passes through a position separated from the reflection mirror in the rotation axis direction of the deflection unit. And led to the deflection unit,
The optical system guides the light beams of two light emitting elements to the incident spot of the deflection unit,
Each of the light emitting elements is disposed on the plane of the substrate, and an emission direction of a light beam of each of the light emitting elements is orthogonal to the plane, and each of the light emitting elements is rotated by the deflection unit. Arranged on two lines in a direction perpendicular to the axis, and arranged on two lines in the direction of the rotation axis of the deflection unit,
The substrate on which each of the light emitting elements is mounted is fixed to the outside of one side plate of the plurality of side plates of the housing,
The side plate has a through hole corresponding to each of the light emitting elements,
Each of the light emitting elements faces the inside of the casing through the through holes formed in the one side plate,
The reflection mirror is supported by a support portion provided in the housing,
A space formed by the reflection mirror, the support portion, and the housing is formed below the reflection mirror,
The optical scanning device characterized in that the other light beam passes through the space .
請求項2又は請求項3に記載の光走査装置であって、
前記各発光素子は、前記平面上において前記偏向部の回転軸方向に対して傾斜した直線上に配設されたことを特徴とする光走査装置。
The optical scanning device according to claim 2 or 3, wherein
Each of the light emitting elements is arranged on a straight line inclined with respect to the rotation axis direction of the deflection unit on the plane.
請求項1から請求項4までの何れか1つに記載の光走査装置であって、
前記支持部は、一対の柱状部であり、前記反射ミラーは、前記一対の柱状部の間に支持され、前記空間は、前記反射ミラーと前記一対の柱状部と前記筐体とで囲まれた空きスペースであることを特徴とする光走査装置。
An optical scanning device according to any one of claims 1 to 4, wherein
The support portion is a pair of columnar portions, the reflection mirror is supported between the pair of columnar portions, and the space is surrounded by the reflection mirror, the pair of columnar portions, and the housing. An optical scanning device characterized by being an empty space .
請求項1から請求項までのいずれか1つに記載の光走査装置を備え、前記光走査装置により被走査体上に潜像を形成し、前記被走査体上の潜像を可視像に現像して、前記可視像を前記被走査体から用紙に転写形成する画像形成装置。 Includes the optical scanning apparatus according to any one of claims 1 to 5, to form a latent image on the scanned object by the optical scanning apparatus, a visible image of the latent image on the scanning target An image forming apparatus that develops the visible image and transfers the visible image from the scanned body onto a sheet.
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