JP6391621B2 - Titanium copper foil, copper products, electronic equipment parts and autofocus camera module - Google Patents

Titanium copper foil, copper products, electronic equipment parts and autofocus camera module Download PDF

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Description

本発明は、チタン銅箔、伸銅品、電子機器部品およびオートフォーカスカメラモジュールに関するものであり、特に、オートフォーカスカメラモジュール等の導電性ばね材に用いることに適した良好なはんだ付け性を有するCu−Ti系銅合金箔に関するものである。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a titanium copper foil, a wrought copper product, an electronic device component, and an autofocus camera module, and particularly has good solderability suitable for use in a conductive spring material such as an autofocus camera module. The present invention relates to a Cu-Ti copper alloy foil.

携帯電話のカメラレンズ部には、オートフォーカスカメラモジュールと呼ばれる電子部品が使用される。携帯電話のカメラのオートフォーカス機能は、オートフォーカスカメラモジュールに使用される材料のばね力により、レンズを一定方向に動かすとともに、周囲に巻かれたコイルに電流を流すことで発生する電磁力により、レンズを材料のばね力が働く方向とは反対方向へ動かす。このような機構でカメラレンズが駆動してオートフォーカス機能が発揮される。   An electronic component called an autofocus camera module is used for a camera lens portion of a cellular phone. The autofocus function of the mobile phone camera is based on the electromagnetic force generated by moving the lens in a certain direction and passing a current through the coil wound around the lens by the spring force of the material used for the autofocus camera module. The lens is moved in the direction opposite to the direction in which the spring force of the material works. The camera lens is driven by such a mechanism, and the autofocus function is exhibited.

オートフォーカスカメラモジュールには、箔厚0.1mm以下で、1100MPa以上の引張強さまたは0.2%耐力を有するCu−Ni−Sn系銅合金箔が使用されてきた。しかし、近年のコストダウン要求により、Cu−Ni−Sn系銅合金より比較的材料価格が安いCu−Ti系銅合金箔が使用されるようになり、その需要は増加しつつある。   For an autofocus camera module, a Cu—Ni—Sn-based copper alloy foil having a foil thickness of 0.1 mm or less and a tensile strength of 1100 MPa or more or a 0.2% proof stress has been used. However, due to the recent cost reduction demand, Cu-Ti-based copper alloy foils, which are relatively cheaper than Cu-Ni-Sn-based copper alloys, have come to be used, and the demand is increasing.

なお、この種のCu−Ti系銅合金箔に関し、たとえば特許文献1では、箔厚が0.1mm以下と薄い場合、材料に荷重を加え変形させた後に荷重を除去すると、へたりが生じるという問題に着目されている。そして特許文献1では、この問題を解決するため、「箔厚が0.1mm以下であり、1.5〜4.5質量%Tiを含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向に平行な方向での0.2%耐力が1100MPa以上であり、且つ、圧延方向に直角な方向での算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下である」ものが提案されている。   In addition, regarding this type of Cu-Ti-based copper alloy foil, for example, in Patent Document 1, when the foil thickness is as thin as 0.1 mm or less, if the load is removed after the material is loaded and deformed, a sag occurs. Attention is focused on the problem. And in patent document 1, in order to solve this problem, "The foil thickness is 0.1 mm or less, contains 1.5-4.5 mass% Ti, the remainder consists of copper and an unavoidable impurity, and rolling direction. The 0.2% proof stress in the direction parallel to the direction is 1100 MPa or more, and the arithmetic average roughness (Ra) in the direction perpendicular to the rolling direction is 0.1 μm or less ”.

ところで、Cu−Ti合金は、極めて活性で酸化しやすい元素であるTiを含有することから、最終工程の時効処理において強固な酸化膜が生成される。このような強固な酸化膜は、はんだ付け性を著しく低下させることから、チタン銅板・条等といった比較的厚みが厚いCu−Ti合金では、たとえば特許文献2に記載されているように、時効処理後に、化学研磨(酸洗)、さらに機械研磨を実施して、酸化膜を除去することが一般に行われている。   By the way, since the Cu—Ti alloy contains Ti, which is an extremely active and easily oxidizable element, a strong oxide film is generated in the aging treatment in the final process. Since such a strong oxide film remarkably lowers the solderability, a relatively thick Cu—Ti alloy such as a titanium copper plate or strip is subjected to an aging treatment as described in Patent Document 2, for example. Later, chemical polishing (pickling) and mechanical polishing are generally performed to remove the oxide film.

Cu−Ti合金で酸化膜を除去するには、まず化学研磨を行う。チタン酸化物を含有するCu−Ti合金の酸化膜は酸に対して非常に安定であることから、化学研磨では、弗酸または硫酸に過酸化水素を混合した溶液などの極めて腐食力の高い化学研磨液を用いる必要がある。
但し、このように極めて強い腐食力を有する化学研磨液を用いた場合、酸化膜だけでなく未酸化部分も腐食されることがあり、化学研磨後の表面には不均一な凹凸や変色が生じるおそれがある。また、腐食が均一に進行せず、酸化膜が局部的に残留するおそれもある。そこで、表面の凹凸、変色および残留酸化膜を除去するため、上記化学研磨を施した後に例えばバフなどを用いて機械研磨を施す。
機械研磨の後は、最終の表面処理として防錆処理を行い板・条製品とする。チタン銅箔の防錆処理には、一般の銅および銅合金の板・条に用いるものと同じく、ベンゾトリアゾル(BTA)の水溶液が用いられる。
To remove the oxide film with the Cu—Ti alloy, first, chemical polishing is performed. Since the oxide film of Cu-Ti alloy containing titanium oxide is very stable against acid, chemical polishing is highly corrosive chemical such as a solution of hydrogen peroxide in hydrofluoric acid or sulfuric acid. It is necessary to use a polishing liquid.
However, when a chemical polishing solution having such a strong corrosive force is used, not only the oxide film but also the non-oxidized portion may be corroded, and uneven unevenness or discoloration occurs on the surface after chemical polishing. There is a fear. Further, the corrosion does not proceed uniformly, and the oxide film may remain locally. Therefore, in order to remove surface irregularities, discoloration, and residual oxide film, mechanical polishing is performed using, for example, a buff after the chemical polishing.
After mechanical polishing, the final surface treatment is a rust prevention treatment to produce a plate / strip product. An aqueous solution of benzotriazole (BTA) is used for the rust-proofing treatment of the titanium copper foil, similar to the one used for general copper and copper alloy plates and strips.

特許第5723849号公報Japanese Patent No. 5723849 特許第4068413号公報Japanese Patent No. 4068413

しかしながら、チタン銅板・条の場合とは異なり、たとえば厚みが0.1μm以下と薄いチタン銅箔では、時効処理で生成される酸化膜を除去してはんだ付け性を向上させるための機械研磨を行うことが難しい。その理由は二つあり、一つ目は機械研磨ラインの通箔に関するものであり、また二つ目は機械研磨ラインでの板厚制御に関するものである。   However, unlike the case of a titanium copper plate / strip, for example, with a thin titanium copper foil having a thickness of 0.1 μm or less, mechanical polishing is performed to improve the solderability by removing the oxide film generated by the aging treatment. It is difficult. There are two reasons for this, the first is related to foil passing through the mechanical polishing line, and the second is related to thickness control in the mechanical polishing line.

一つ目の理由である機械研磨ラインの通箔に関しては、バフを用いる場合、バフロールの回転に伴い、バフがチタン銅箔に引っ掛かり、引っ掛かった箇所を起点にチタン銅箔が破断する場合がある。バフ研磨は、円柱形のバフロールの中心軸を軸に回転しチタン銅箔の表面を研磨するものである。バフロールは、研磨粒(SiCなどの砥粒)が分散した樹脂を海綿状の有機繊維に固定したもので、樹脂のかたまりがチタン銅箔のエッジで凹凸の大きいところに引っ掛かり、チタン銅箔の強度を超える張力が作用すると破断する。   Regarding the foil passing through the mechanical polishing line, which is the first reason, when a buff is used, the buff is caught on the titanium copper foil as the baffle rotates, and the titanium copper foil may break starting from the caught point. . In the buffing, the surface of the titanium copper foil is polished by rotating around the central axis of a cylindrical buffule. The bafrol is a resin in which abrasive grains (SiC and other abrasive grains) are dispersed and fixed to a sponge-like organic fiber. The lump of resin is caught by the edge of the titanium copper foil where it is uneven, and the strength of the titanium copper foil It breaks when a tension exceeding is applied.

二つ目の理由である機械研磨ラインでの板厚制御に関しては、円柱形のバフロールには研磨するために圧下荷重が負荷されており、また、チタン銅箔にはラインを通箔するために張力が付与されている。この圧下荷重および張力は、いずれも多かれ少なかれ周期性のある震動成分を有しており、この震動はチャタリングと呼ばれる。チャタリングの震動周期によってはそれぞれの震動が共振することもあり得る。共振が大きい場合、チャタリングにより機械研磨する対象の研磨面に畳状の模様が現出する。チャタリングにより生じた模様はチャタマークと呼ばれる。これは、模様に応じて研磨量が異なること、言い換えるとチタン銅箔の研磨量がばらつくことを示すものである。ここで、チタン銅箔の場合、チタン銅板・条に比べ厚みが薄いので、研磨量のばらつきが及ぼす影響は大きい。すなわち、チタン銅箔をバフ研磨すると厚みの変動が大きくなり、これをばねとして用いるとばね特性のばらつきが大きくなり、これは好ましいことではない。   Regarding the plate thickness control in the mechanical polishing line, which is the second reason, the cylindrical baffle is loaded with a rolling load to polish, and the titanium copper foil has a line passing through it. Tension is applied. This rolling load and tension both have a more or less periodic vibration component, and this vibration is called chattering. Depending on the chattering period, each vibration may resonate. When the resonance is large, a tatami pattern appears on the polished surface to be mechanically polished by chattering. A pattern generated by chattering is called a chatter mark. This indicates that the amount of polishing differs according to the pattern, in other words, the amount of polishing of the titanium copper foil varies. Here, in the case of titanium copper foil, since the thickness is smaller than that of the titanium copper plate / strip, the influence of the variation in the polishing amount is large. That is, when the titanium copper foil is buffed, the variation in thickness increases, and when this is used as a spring, the variation in spring characteristics increases, which is not preferable.

したがって、厚みの薄いチタン銅箔では、チタン銅板・条に比べて、バフなどを用いて機械研磨をすることが難しい。加えて、近年は、健康上の理由から鉛フリーはんだが広く用いられるようになっており、この鉛フリーはんだは、これまでの鉛入りはんだに比べて、はんだ付け性が劣る。   Therefore, it is difficult to mechanically polish a thin titanium copper foil using a buff or the like as compared with a titanium copper plate / strip. In addition, in recent years, lead-free solder has been widely used for health reasons, and this lead-free solder is inferior in solderability compared to conventional lead-containing solder.

それにより、厚みの薄いチタン銅箔では、はんだ付け性の低下が否めず、特にオートフォーカスカメラモジュールを製造する際に必要なはんだ濡れ性及びはんだ密着性を確保できないという問題があった。   As a result, the thin titanium copper foil inevitably deteriorates the solderability, and there is a problem that the solder wettability and the solder adhesion necessary for manufacturing an autofocus camera module cannot be ensured.

本発明は、このような問題を解決することを課題とするものであり、箔厚が0.1μm以下と薄いチタン銅箔で、はんだ濡れ性およびはんだ密着強度に優れ、オートフォーカスカメラモジュール等の電子機器部品に使用される導電性ばね材として好適に用いることのできるチタン銅箔およびその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to solve such a problem, a thin titanium copper foil having a foil thickness of 0.1 μm or less, excellent solder wettability and solder adhesion strength, and an autofocus camera module or the like. It aims at providing the titanium copper foil which can be used suitably as an electroconductive spring material used for electronic device components, and its manufacturing method.

発明者は鋭意検討の結果、箔厚が0.1mm以下のチタン銅箔で、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDを、所定の範囲内に調整することにより、良好なはんだ濡れ性を確保できるとともに、いわゆるアンカー効果に基く高い密着強度を発揮できることを見出した。
また、チタン銅箔を製造する際には、最終冷間圧延前に実施する酸洗工程においてバフ研磨を実施するため、バフの研磨目が材料表面にできる。このバフ研磨目は最終冷間圧延の1パスの圧延のみでは消えずに残存するため表面光沢がでにくい。そこで、最終冷間圧延のパス数を増やすことで光沢度を制御して、上述したような所定の範囲の60度光沢度G60RDを実現できることが解かった。
As a result of intensive studies, the inventor has adjusted the 60 degree gloss G60 RD of the surface measured in a direction parallel to the rolling direction to a predetermined range with a titanium copper foil having a foil thickness of 0.1 mm or less, It has been found that good solder wettability can be secured and high adhesion strength based on the so-called anchor effect can be exhibited.
Moreover, when manufacturing titanium copper foil, since the buffing is performed in the pickling process performed before the final cold rolling, the buffing marks can be formed on the surface of the material. Since the buffing marks remain without disappearing only by one-pass rolling of the final cold rolling, the surface gloss is hardly generated. Thus, it has been found that the glossiness is controlled by increasing the number of passes of the final cold rolling to realize the 60 ° glossiness G60 RD in the predetermined range as described above.

かかる知見の下、本発明のチタン銅箔は、箔厚が0.1mm以下であり、Tiを1.5〜4.5質量%で含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDが200〜600であるものである。 Under such knowledge, the titanium copper foil of the present invention has a foil thickness of 0.1 mm or less, contains Ti in an amount of 1.5 to 4.5% by mass, the balance is made of copper and inevitable impurities, and the rolling direction. The 60 degree glossiness G60 RD of the surface measured in the direction parallel to the surface is 200-600.

ここで、本発明のチタン銅箔は、圧延方向に平行な方向での引張強さが1100MPa以上であることが好ましい。   Here, the titanium copper foil of the present invention preferably has a tensile strength in the direction parallel to the rolling direction of 1100 MPa or more.

またここで、本発明のチタン銅箔は、Ag、B、Co、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、P、Si、CrおよびZrのうちの1種以上を総量で0〜1.0質量%含有するものとすることができる。   Moreover, here, the titanium copper foil of the present invention is composed of one or more of Ag, B, Co, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, P, Si, Cr and Zr in a total amount of 0 to 1.0 mass. % Content.

本発明の伸銅品は、上記の何れかのチタン銅箔を備えたものである。   The copper-stretched product of the present invention is provided with any of the above-described titanium copper foils.

本発明の電子機器部品は、上記の何れかのチタン銅箔を備えたものである。
この電子機器部品は、オートフォーカスカメラモジュールであることが好適である。
The electronic device component of the present invention is provided with any of the above-described titanium copper foils.
The electronic device component is preferably an autofocus camera module.

また本発明のオートフォーカスカメラモジュールは、レンズと、このレンズを光軸方向の初期位置に弾性付勢するばね部材と、このばね部材の付勢力に抗する電磁力を生起して前記レンズを光軸方向へ駆動可能な電磁駆動手段を備え、前記ばね部材が上記の何れかのチタン銅箔であるものである。   The autofocus camera module of the present invention includes a lens, a spring member that elastically urges the lens to an initial position in the optical axis direction, and an electromagnetic force that resists the urging force of the spring member to generate the lens. Electromagnetic drive means that can be driven in the axial direction is provided, and the spring member is any one of the above-described titanium copper foils.

本発明によれば、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDを200〜600としたことにより、はんだ付け性および密着強度に優れたチタン銅箔を提供することができる。このようなチタン銅箔は、電子機器部品、なかでもオートフォーカスカメラモジュールの用途に特に適している。 According to the present invention, when the surface 60 degree gloss G60 RD measured in a direction parallel to the rolling direction is set to 200 to 600, a titanium copper foil excellent in solderability and adhesion strength can be provided. . Such a titanium copper foil is particularly suitable for use as an electronic device component, in particular, an autofocus camera module.

本発明の一の実施形態のオートフォーカスカメラモジュールを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the autofocus camera module of one Embodiment of this invention. 図1のオートフォーカスカメラモジュールの分解斜視図である。FIG. 2 is an exploded perspective view of the autofocus camera module of FIG. 1. 図1のオートフォーカスカメラモジュールの動作を示す断面図である。It is sectional drawing which shows operation | movement of the auto-focus camera module of FIG. 実施例における半田密着強度試験の測定結果の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the measurement result of the solder adhesion strength test in an example.

以下に、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明の一の実施形態のチタン銅箔は、箔厚が0.1mm以下であり、Tiを1.5〜4.5質量%で含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDが200〜600であるものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
The titanium copper foil of one embodiment of the present invention has a foil thickness of 0.1 mm or less, contains Ti at 1.5 to 4.5% by mass, the balance is made of copper and unavoidable impurities, and the rolling direction. The 60 degree glossiness G60 RD of the surface measured in the direction parallel to the surface is 200-600.

(Ti濃度)
本発明のチタン銅箔では、Ti濃度を1.5〜4.5質量%とする。チタン銅は、溶体化処理によりCuマトリックス中へTiを固溶させ、時効処理により微細な析出物を合金中に分散させることにより、強度及び導電率を上昇させる。
Ti濃度が1.5質量%未満になると、析出物の析出が不充分となり所望の強度が得られない。Ti濃度が4.5質量%を超えると、加工性が劣化し、圧延の際に材料が割れやすくなる。強度および加工性のバランスを考慮すると、好ましいTi濃度は2.9〜3.5質量%である。
(Ti concentration)
In the titanium copper foil of the present invention, the Ti concentration is 1.5 to 4.5 mass%. Titanium copper increases strength and electrical conductivity by dissolving Ti in a Cu matrix by solution treatment and dispersing fine precipitates in the alloy by aging treatment.
If the Ti concentration is less than 1.5% by mass, precipitation of precipitates is insufficient and desired strength cannot be obtained. When the Ti concentration exceeds 4.5% by mass, workability deteriorates and the material is easily cracked during rolling. Considering the balance between strength and workability, the preferable Ti concentration is 2.9 to 3.5% by mass.

(その他の添加元素)
本発明に係るチタン銅箔においては、Ag、B、Co、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、P、Si、CrおよびZrのうちの1種以上を総量で0〜1.0質量%含有させることにより、強度を更に向上させることができる。これら元素の合計含有量は0、つまり、これら元素は含まなくてもよい。これら元素の合計含有量の上限を1.0質量%としたのは、1.0質量%を超えると、加工性が劣化し、熱間圧延の際に材料が割れやすくなるからである。
(Other additive elements)
In the titanium copper foil according to the present invention, the total amount of one or more of Ag, B, Co, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, P, Si, Cr and Zr is 0 to 1.0% by mass. By doing so, the strength can be further improved. The total content of these elements is 0, that is, these elements may not be included. The reason why the upper limit of the total content of these elements is set to 1.0% by mass is that if it exceeds 1.0% by mass, the workability deteriorates and the material is easily cracked during hot rolling.

(引張強さ)
オートフォーカスカメラモジュールの導電性ばね材等として好適なチタン銅箔に必要な引張強さは1100MPa以上であり、好ましくは1200MPa以上、より好ましくは1300MPa以上である。本発明においては、チタン銅箔の圧延方向に平行な方向の引張強さを測定し、引張強さはJIS Z2241(金属材料引張試験方法)に準拠して測定する。
(Tensile strength)
The tensile strength required for a titanium copper foil suitable as a conductive spring material for an autofocus camera module is 1100 MPa or more, preferably 1200 MPa or more, more preferably 1300 MPa or more. In the present invention, the tensile strength in a direction parallel to the rolling direction of the titanium copper foil is measured, and the tensile strength is measured in accordance with JIS Z2241 (metal material tensile test method).

(光沢度)
本発明のチタン銅箔は、その表面の、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDが200〜600の範囲内にある。これにより、所要の優れたはんだ濡れ性を確保することができ、また、はんだによる密着強度を高めることができるので、特にオートフォーカスカメラモジュールに用いる場合のその製造に有利である。なお、圧延方向と直角な方向の表面の60度光沢度G60LDも、圧延方向と平行な方向と同等の範囲とすることができる。
(Glossiness)
The titanium copper foil of the present invention has a surface 60-degree glossiness G60 RD measured in a direction parallel to the rolling direction of 200 to 600. As a result, the required excellent solder wettability can be ensured, and the adhesion strength by the solder can be increased, which is advantageous in the production of the autofocus camera module. The 60 degree gloss G60 LD on the surface in a direction perpendicular to the rolling direction can also be in the same range as the direction parallel to the rolling direction.

より詳細には、60度光沢度G60RDが200〜600の範囲内であれば、実表面積が大きすぎないことからはんだが濡れ広がりやすく、また、適度な凹凸があることからはんだの密着性に優れるからである。 More specifically, if the 60-degree glossiness G60 RD is in the range of 200 to 600, the actual surface area is not too large, so that the solder tends to spread out, and there are moderate unevenness, so that the solder adhesion is improved. Because it is excellent.

これを言い換えれば、圧延方向に平行な方向の60度光沢度G60RDが200未満であると、はんだ濡れに要する時間が多くかかることになり、はんだ濡れ性が悪い。一方、圧延方向に平行な方向の60度光沢度G60RDが600を超える場合、アンカー効果が得られず、密着性が悪い。
この観点より、圧延方向に平行な方向における表面の60度光沢度G60RDは、300〜580であることがより好ましく、さらに450〜550であることが特に好ましい。
In other words, if the 60 ° glossiness G60 RD in the direction parallel to the rolling direction is less than 200, it takes a long time for solder wetting, and the solder wettability is poor. On the other hand, when the 60 degree gloss G60 RD in the direction parallel to the rolling direction exceeds 600, the anchor effect cannot be obtained and the adhesion is poor.
From this viewpoint, the 60-degree glossiness G60 RD of the surface in the direction parallel to the rolling direction is more preferably 300 to 580, and particularly preferably 450 to 550.

60度光沢度G60RDは、JIS Z8741に準拠し、たとえば日本電色工業株式会社製光沢度計ハンディーグロスメーターPG−1等の種々の光沢度計を用いて、圧延方向に平行な方向の入射角60°での光沢度を測定することにより求めることが可能である。 60 degree glossiness G60 RD conforms to JIS Z8741 and uses, for example, various glossiness meters such as a gloss meter handy gloss meter PG-1 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in the direction parallel to the rolling direction. It can be determined by measuring the glossiness at an angle of 60 °.

(銅箔の厚み)
本発明のチタン銅箔は、箔厚が0.1mm以下であり、典型的な実施形態では箔厚が0.018mm〜0.08mmであり、より典型的な実施形態では箔厚が0.02mm〜0.05mmである。
(Thickness of copper foil)
The titanium copper foil of the present invention has a foil thickness of 0.1 mm or less, a typical embodiment has a foil thickness of 0.018 mm to 0.08 mm, and a more typical embodiment has a foil thickness of 0.02 mm. ~ 0.05 mm.

(製造方法)
上述したようなチタン銅箔を製造するには、まず溶解炉で電気銅、Ti等の原料を溶解し、所望の組成の溶湯を得る。そして、この溶湯をインゴットに鋳造する。チタンの酸化磨耗を防止するため、溶解及び鋳造は真空中又は不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。その後、インゴットに対し、典型的には、熱間圧延、第一冷間圧延、溶体化処理、第二冷間圧延、時効処理、化学研磨(酸洗、機械研磨)、第三冷間圧延、防錆処理をこの順で実施し、所望の厚み及び特性を有する箔に仕上げる。
(Production method)
In order to manufacture the titanium copper foil as described above, first, raw materials such as electrolytic copper and Ti are melted in a melting furnace to obtain a molten metal having a desired composition. Then, this molten metal is cast into an ingot. In order to prevent oxidative wear of titanium, melting and casting are preferably performed in a vacuum or in an inert gas atmosphere. After that, typically for ingots, typically hot rolling, first cold rolling, solution treatment, second cold rolling, aging treatment, chemical polishing (pickling, mechanical polishing), third cold rolling, Rust prevention treatment is carried out in this order to finish a foil having a desired thickness and characteristics.

熱間圧延及びその後の第一冷間圧延の条件はチタン銅の製造で行われている慣例的な条件で行えば足り、ここでは特段要求される条件はない。また、溶体化処理についても慣例的な条件で構わないが、例えば700〜1000℃の温度で5秒間〜30分間の間にわたって行うことができる。   The conditions for the hot rolling and the subsequent first cold rolling may be the conventional conditions used in the production of titanium copper, and there are no special requirements here. The solution treatment may be performed under conventional conditions, but can be performed at a temperature of 700 to 1000 ° C. for 5 seconds to 30 minutes, for example.

上述の強度を得るため、第二冷間圧延の圧下率は55%以上に設定することが好ましい。より好ましくは60%以上、更に好ましくは65%以上である。この圧下率が55%未満になると、1100MPa以上の引張強さを得るのは困難になる。圧下率の上限は、本発明が目的とする強度の点からは特に規定されないが、工業的に99.8%を超えることはない。   In order to obtain the above-mentioned strength, it is preferable to set the reduction ratio of the second cold rolling to 55% or more. More preferably, it is 60% or more, More preferably, it is 65% or more. When the rolling reduction is less than 55%, it becomes difficult to obtain a tensile strength of 1100 MPa or more. The upper limit of the rolling reduction is not particularly defined from the viewpoint of the strength intended by the present invention, but industrially does not exceed 99.8%.

時効処理の加熱温度は200〜300℃とし、加熱時間は2時間〜20時間とする。加熱温度が200℃未満であると1100MPa以上の引張強さを得ることが困難になる。300℃を超えると酸化膜または酸素濃化層が過剰に生成することとなる。加熱時間が2時間未満又は20時間を越えると1100MPa以上の引張強さを得ることが困難になる。   The heating temperature for the aging treatment is 200 to 300 ° C., and the heating time is 2 to 20 hours. When the heating temperature is less than 200 ° C., it becomes difficult to obtain a tensile strength of 1100 MPa or more. If it exceeds 300 ° C., an oxide film or an oxygen-enriched layer is excessively generated. When the heating time is less than 2 hours or exceeds 20 hours, it becomes difficult to obtain a tensile strength of 1100 MPa or more.

熱処理後は、表面に生成した酸化皮膜または酸化物層の除去を目的として、表面の化学研磨および機械研磨を行う。化学研磨では、酸に対して安定なチタン銅箔の酸化膜を除去するため、従来技術と同様に、弗酸または硫酸に過酸化水素を混合した溶液などの極めて腐食力の高い化学研磨液を用いることができる。化学研磨および機械研磨はこれまでと同様の条件にて行うことができる。   After the heat treatment, chemical polishing and mechanical polishing of the surface are performed for the purpose of removing the oxide film or oxide layer formed on the surface. In chemical polishing, in order to remove the oxide film of titanium copper foil that is stable against acid, a chemical polishing solution with extremely high corrosive power such as a solution in which hydrogen peroxide is mixed with hydrofluoric acid or sulfuric acid is used, as in the prior art. Can be used. Chemical polishing and mechanical polishing can be performed under the same conditions as before.

機械研磨でのバフ研磨により、材料表面には研磨目が生じ、これが製品の光沢度を低下させて、はんだ濡れ性およびはんだ密着強度の悪化を招く。これに対しては、その後の最終冷間圧延で、所定の板厚になった後の圧延のパス数を増やすことが、チタン銅箔の光沢度を向上できる点で有効である。言い換えると、1パスのみの圧延では、バフ研磨の研磨目が消えず、表面光沢度を有効に高めることができない。この一方で、この圧延のパス数を多くし過ぎると、光沢度が高くなりすぎ、光沢度が600を超えてはんだ密着性が悪くなる。   Due to the buffing by mechanical polishing, polishing eyes are formed on the surface of the material, which lowers the glossiness of the product and causes deterioration of solder wettability and solder adhesion strength. For this, it is effective to increase the glossiness of the titanium-copper foil by increasing the number of passes of the rolling after reaching the predetermined plate thickness in the subsequent final cold rolling. In other words, in the rolling of only one pass, the buffing polishing eyes do not disappear and the surface glossiness cannot be effectively increased. On the other hand, if the number of passes in this rolling is increased too much, the glossiness becomes too high, the glossiness exceeds 600, and the solder adhesion deteriorates.

したがって、機械研磨の圧延のパス数は、たとえば厚み0.14mmから40μmまでの圧延の場合、8パス〜24パスとすることが好ましく、さらに12パス〜24パス、なかでも18パス〜22パスとすることがより一層好ましい。
このようなパス数の圧延は、板厚が0.14mmになった後とすることが有効である。
Therefore, the number of mechanical polishing rolling passes is preferably 8 to 24 passes, for example, in the case of rolling from a thickness of 0.14 mm to 40 μm, and more preferably 12 to 24 passes, especially 18 to 22 passes. It is even more preferable to do this.
It is effective to perform the rolling with such a number of passes after the plate thickness reaches 0.14 mm.

さらに最終冷間圧延では、たとえば、表面にクロムめっきを施したクロムめっきロール等の固く平滑なロールで圧延することにより、ロールの表面が材料に転写されて平滑な圧延ができる。   Further, in the final cold rolling, for example, by rolling with a hard and smooth roll such as a chromium plating roll having a chromium plating on the surface, the surface of the roll is transferred to the material, and smooth rolling can be performed.

その後は、防錆処理を施すことができる。この防錆処理は従来と同様の条件で行うことが可能であり、ベンゾトリアゾル(BTA)の水溶液等を用いることができる。
なお、第二冷間圧延の後に低温焼鈍を行ってもよい。
Thereafter, a rust prevention treatment can be performed. This rust prevention treatment can be performed under the same conditions as before, and an aqueous solution of benzotriazole (BTA) or the like can be used.
Note that low temperature annealing may be performed after the second cold rolling.

(用途)
本発明のチタン銅箔は様々な用途に用いることが可能であるが、特に、スイッチ、コネクタ、ジャック、端子、リレー等の電子機器用部品の材料として好適に使用することができ、なかでもオートフォーカスカメラモジュール等の電子機器部品に使用される導電性ばね材として好適に使用することができる。
(Use)
The titanium copper foil of the present invention can be used for various applications, and in particular, it can be suitably used as a material for electronic equipment parts such as switches, connectors, jacks, terminals, relays, etc. It can be suitably used as a conductive spring material used for electronic device parts such as a focus camera module.

オートフォーカスカメラモジュールは、たとえば、レンズと、このレンズを光軸方向の初期位置に弾性付勢するばね部材と、このばね部材の付勢力に抗する電磁力を生起して前記レンズを光軸方向へ駆動可能な電磁駆動手段を備えるものとすることができる。そしてここでは、当該ばね部材を、本発明のチタン銅箔とすることができる。
電磁駆動手段は例示的には、コの字形円筒形状のヨークと、ヨークの内周壁の内側に収容されるコイルと、コイルを囲繞すると共にヨークの外周壁の内側に収容されるマグネットを備えることができる。
The autofocus camera module is, for example, a lens, a spring member that elastically biases the lens to an initial position in the optical axis direction, and an electromagnetic force that resists the biasing force of the spring member to generate the lens in the optical axis direction. It is possible to provide electromagnetic drive means that can be driven. And here, the said spring member can be made into the titanium copper foil of this invention.
For example, the electromagnetic driving means includes a U-shaped cylindrical yoke, a coil accommodated inside the inner peripheral wall of the yoke, and a magnet surrounding the coil and accommodated inside the outer peripheral wall of the yoke. Can do.

図1は、本発明に係るオートフォーカスカメラモジュールの一例を示す断面図であり、図2は、図1のオートフォーカスカメラモジュールの分解斜視図であり、図3は、図1のートフォーカスカメラモジュールの動作を示す断面図である。   1 is a sectional view showing an example of an autofocus camera module according to the present invention, FIG. 2 is an exploded perspective view of the autofocus camera module of FIG. 1, and FIG. 3 is a focus camera of FIG. It is sectional drawing which shows operation | movement of a module.

オートフォーカスカメラモジュール1は、コの字形円筒形状のヨーク2と、ヨーク2の外壁に取付けられるマグネット4と、中央位置にレンズ3を備えるキャリア5と、キャリア5に装着されるコイル6と、ヨーク2が装着されるベース7と、ベース7を支えるフレーム8と、キャリア5を上下で支持する2個のばね部材9a、9bと、これらの上下を覆う2個のキャップ10a、10bとを備えている。2個のばね部材9a、9bは同一品であり、同一の位置関係でキャリア5を上下から挟んで支持すると共に、コイル6への給電経路として機能している。コイル6に電流を印加することによってキャリア5は上方に移動する。尚、本明細書においては、上及び下の文言を適宜、使用するが、図1における上下を指し、上はカメラから被写体に向う位置関係を表わす。   The autofocus camera module 1 includes a U-shaped cylindrical yoke 2, a magnet 4 attached to the outer wall of the yoke 2, a carrier 5 having a lens 3 at a central position, a coil 6 attached to the carrier 5, a yoke 2, a frame 8 that supports the base 7, two spring members 9 a and 9 b that support the carrier 5 at the top and bottom, and two caps 10 a and 10 b that cover these top and bottom. Yes. The two spring members 9a and 9b are the same product, support the carrier 5 sandwiched from above and below in the same positional relationship, and function as a power feeding path to the coil 6. By applying a current to the coil 6, the carrier 5 moves upward. In the present specification, the terms “upper” and “lower” are used as appropriate. The upper and lower parts in FIG.

ヨーク2は軟鉄等の磁性体であり、上面部が閉じたコの字形の円筒形状を成し、円筒状の内壁2aと外壁2bを持つ。コの字形の外壁2bの内面には、リング状のマグネット4が装着(接着)される。   The yoke 2 is a magnetic material such as soft iron, has a U-shaped cylindrical shape with a closed upper surface portion, and has a cylindrical inner wall 2a and an outer wall 2b. A ring-shaped magnet 4 is attached (adhered) to the inner surface of the U-shaped outer wall 2b.

キャリア5は底面部を持った円筒形状構造の合成樹脂等による成形品であり、中央位置でレンズを支持し、底面外側上に予め成形されたコイル6が接着されて搭載される。矩形上樹脂成形品のベース7の内周部にヨーク2を嵌合させて組込み、更に樹脂成形品のフレーム8でヨーク2全体を固定する。   The carrier 5 is a molded product made of a synthetic resin or the like having a cylindrical structure having a bottom surface portion, supports a lens at a central position, and is mounted with a pre-formed coil 6 bonded to the outside of the bottom surface. The yoke 2 is fitted and incorporated in the inner peripheral portion of the base 7 of the rectangular upper resin molded product, and the entire yoke 2 is fixed by the frame 8 of the resin molded product.

ばね部材9a、9bは、いずれも最外周部がそれぞれフレーム8とベース7に挟まれて固定され、内周部120°毎の切欠き溝部がキャリア5に嵌合し、熱カシメ等にて固定される。   The spring members 9a and 9b are both fixed with the outermost peripheral part sandwiched between the frame 8 and the base 7, respectively, and the notch groove part for each inner peripheral part 120 ° is fitted to the carrier 5 and fixed by thermal caulking or the like. Is done.

ばね部材9bとベース7およびばね部材9aとフレーム8間は接着および熱カシメ等にて固定され更に、キャップ10bはベース7の底面に取付け、キャップ10aはフレーム8の上部に取付けられ、それぞればね部材9bをベース7とキャップ10b間に、ばね部材9aをフレーム8とキャップ10a間に挟み込み固着している。   The spring member 9b and the base 7 and the spring member 9a and the frame 8 are fixed by adhesion, heat caulking, or the like. Further, the cap 10b is attached to the bottom surface of the base 7, and the cap 10a is attached to the upper portion of the frame 8, respectively. 9b is sandwiched between the base 7 and the cap 10b, and the spring member 9a is sandwiched and fixed between the frame 8 and the cap 10a.

コイル6の一方のリード線は、キャリア5の内周面に設けた溝内を通って上に伸ばし、ばね部材9aに半田付けする。他方のリード線はキャリア5底面に設けた溝内を通って下方に伸ばし、ばね部材9bに半田付けする。   One lead wire of the coil 6 extends upward through a groove provided on the inner peripheral surface of the carrier 5 and is soldered to the spring member 9a. The other lead wire extends downward through a groove provided on the bottom surface of the carrier 5 and is soldered to the spring member 9b.

ばね部材9a、9bは、本発明に係るチタン銅箔の板バネである。バネ性を持ち、レンズ3を光軸方向の初期位置に弾性付勢する。同時に、コイル6への給電経路としても作用する。ばね部材9a、9bの外周部の一箇所は外側に突出させて、給電端子として機能させている。   The spring members 9a and 9b are titanium copper foil leaf springs according to the present invention. It has springiness and elastically biases the lens 3 to the initial position in the optical axis direction. At the same time, it acts as a power feeding path to the coil 6. One part of the outer peripheral part of the spring members 9a and 9b is projected outward to function as a power supply terminal.

円筒状のマグネット4はラジアル(径)方向に磁化されており、コの字形状ヨーク2の内壁2a、上面部及び外壁2bを経路とした磁路を形成し、マグネット4と内壁2a間のギャップには、コイル6が配置される。   The cylindrical magnet 4 is magnetized in the radial direction, forms a magnetic path with the inner wall 2a, the upper surface portion and the outer wall 2b of the U-shaped yoke 2 as a path, and a gap between the magnet 4 and the inner wall 2a. The coil 6 is arranged.

ばね部材9a、9bは同一形状であり、図1及び2に示すように同一の位置関係で取付けているので、キャリア5が上方へ移動したときの軸ズレを抑制することができる。コイル6は、巻線後に加圧成形して製作するので、仕上がり外径の精度が向上し、所定の狭いギャップに容易に配置することができる。キャリア5は、最下位置でベース7に突当り、最上位置でヨーク2に突当るので、上下方向に突当て機構を備えることとなり、脱落することを防いでいる。   Since the spring members 9a and 9b have the same shape and are attached with the same positional relationship as shown in FIGS. 1 and 2, it is possible to suppress the axial displacement when the carrier 5 moves upward. Since the coil 6 is manufactured by pressure molding after winding, the accuracy of the finished outer diameter is improved, and the coil 6 can be easily arranged in a predetermined narrow gap. Since the carrier 5 hits the base 7 at the lowermost position and hits the yoke 2 at the uppermost position, the carrier 5 is provided with an abutting mechanism in the vertical direction, thereby preventing the carrier 5 from falling off.

図3は、コイル6に電流を印加して、オートフォーカス用にレンズ3を備えたキャリア5を上方に移動させた時の断面図を示している。ばね部材9a、9bの給電端子に電源が印加されると、コイル6に電流が流れてキャリア5には上方への電磁力が働く。一方、キャリア5には、連結された2個のばね部材9a、9bの復元力が下方に働く。従って、キャリア5の上方への移動距離は電磁力と復元力が釣合った位置となる。これによって、コイル6に印加する電流量によって、キャリア5の移動量を決定することができる。   FIG. 3 shows a cross-sectional view when a current is applied to the coil 6 to move the carrier 5 having the lens 3 for autofocus upward. When power is applied to the power supply terminals of the spring members 9a and 9b, a current flows through the coil 6 and an upward electromagnetic force acts on the carrier 5. On the other hand, the restoring force of the two connected spring members 9a and 9b acts downward on the carrier 5. Accordingly, the upward moving distance of the carrier 5 is a position where the electromagnetic force and the restoring force are balanced. Thereby, the amount of movement of the carrier 5 can be determined by the amount of current applied to the coil 6.

上側ばね部材9aはキャリア5の上面を支持し、下側ばね部材9bはキャリア5の下面を支持しているので、復元力はキャリア5の上面及び下面で均等に下方に働くこととなり、レンズ3の軸ズレを小さく抑えることができる。   Since the upper spring member 9 a supports the upper surface of the carrier 5 and the lower spring member 9 b supports the lower surface of the carrier 5, the restoring force acts equally downward on the upper surface and lower surface of the carrier 5, so that the lens 3 Axis misalignment can be kept small.

従って、キャリア5の上方への移動に当って、リブ等によるガイドは必要なく、使っていない。ガイドによる摺動摩擦がないので、キャリア5の移動量は、純粋に電磁力と復元力の釣合いで支配されることとなり、円滑で精度良いレンズ3の移動を実現している。これによってレンズブレの少ないオートフォーカスを達成している。   Therefore, when the carrier 5 is moved upward, a guide by ribs or the like is not necessary and used. Since there is no sliding friction due to the guide, the movement amount of the carrier 5 is governed purely by the balance between the electromagnetic force and the restoring force, and the lens 3 can be moved smoothly and accurately. This achieves autofocus with little lens blur.

なお、マグネット4は円筒形状として説明したが、これに拘わるものでなく、3乃至4分割してラジアル方向に磁化し、これをヨーク2の外壁2bの内面に貼付けて固着してもよい。   Although the magnet 4 has been described as having a cylindrical shape, the present invention is not limited to this, and the magnet 4 may be divided into three or four parts and magnetized in the radial direction, and this may be attached to the inner surface of the outer wall 2b of the yoke 2 and fixed.

次に、本発明のチタン銅箔を試作し、その効果を確認したので以下に説明する。但し、ここでの説明は単なる例示を目的としたものであり、それに限定されることを意図するものではない。   Next, the titanium copper foil of the present invention was prototyped and its effect was confirmed, and will be described below. However, the description here is for illustrative purposes only and is not intended to be limiting.

<製造条件>
試作品の製造は次のようにして行った。まず真空溶解炉にて電気銅2.5kgを溶解し、所定のTi濃度が得られるようTiを添加した。この溶湯を鋳鉄製の鋳型に鋳込み、厚さ30mm、幅60mm、長さ120mmのインゴットを製造した。
このインゴットを950℃で3時間加熱し、厚さ10mmまで圧延する熱間圧延を行った。熱間圧延で生成した酸化スケールをグラインダーで除去して研削を行った。なお、この研削後の厚みは9mmであった。次いで、第一冷間圧延を実施し、厚さ1mmまで圧延した。その後の溶体化処理では、800℃に昇温した電気炉に試料を装入し、5分間保持した後、試料を水槽に入れて急冷却した。そして、第二冷間圧延を行い、ここでは圧下率96%にて0.04mmの箔厚まで圧延した。その後は、時効処理として、280℃で10時間加熱した。ここで、時効処理のこの温度は、時効後の引張強さが最大になるように選択した。時効処理の後、化学研磨(酸洗、機械研磨)、最終冷間圧延を行った。化学研磨では、化学研磨液として硫酸、過酸化水素を用いた。最終冷間圧延では、クロムめっきロールを使用し、表1に示すように、板厚が0.14mmとなった後の圧延のパス数を変化させた。
以上のように作製した試作品に対し、次の各評価を行った。
<Production conditions>
The prototype was manufactured as follows. First, 2.5 kg of electrolytic copper was melted in a vacuum melting furnace, and Ti was added so as to obtain a predetermined Ti concentration. This molten metal was cast into a cast iron mold to produce an ingot having a thickness of 30 mm, a width of 60 mm, and a length of 120 mm.
This ingot was heated at 950 ° C. for 3 hours and subjected to hot rolling for rolling to a thickness of 10 mm. Grinding was performed by removing the oxidized scale produced by hot rolling with a grinder. The thickness after this grinding was 9 mm. Next, the first cold rolling was carried out and rolled to a thickness of 1 mm. In the subsequent solution treatment, the sample was placed in an electric furnace heated to 800 ° C. and held for 5 minutes, and then the sample was placed in a water bath and rapidly cooled. Then, second cold rolling was performed, and rolling was performed to a foil thickness of 0.04 mm at a reduction rate of 96%. After that, it was heated at 280 ° C. for 10 hours as an aging treatment. Here, this temperature of the aging treatment was selected so that the tensile strength after aging was maximized. After aging treatment, chemical polishing (pickling, mechanical polishing) and final cold rolling were performed. In chemical polishing, sulfuric acid and hydrogen peroxide were used as the chemical polishing liquid. In the final cold rolling, a chromium plating roll was used, and as shown in Table 1, the number of rolling passes after the plate thickness reached 0.14 mm was changed.
The following evaluations were performed on the prototype manufactured as described above.

<光沢度>
試作品の表面における圧延平行方向の60度光沢度G60RDを、JIS Z8741に基き、日本電色工業株式会社製の光沢度計ハンディーグロスメーターPG−1を用いて測定した。
<Glossiness>
The 60 degree gloss G60 RD in the rolling parallel direction on the surface of the prototype was measured using a gloss meter handy gloss meter PG-1 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. based on JIS Z8741.

<はんだ濡れ性・はんだ密着性>
千住金属製Pbフリー半田M705系はんだを用い、はんだ付け試験を行った。はんだ濡れ性の評価では、JISC60068−2−54に準じ、ソルダーチェッカ(レスカ社製SAT−2000)によりメニスコグラフ法と同じ手順ではんだ付けをし、はんだ付け部の外観を観察した。測定条件はつぎのとおりである。試料の前処理としてアセトンを用いて脱脂した。次に10vol%硫酸水溶液を用いて酸洗を施した。はんだの試験温度は245±5℃とした。フラックスは特に指定はないが、(株)アサヒ化学研究所製GX5を使用した。また、浸漬深さは2mm、浸漬時間は10秒、浸漬速度は25mm/秒、試料の幅は10mmとした。評価基準は、20倍の実体顕微鏡にて目視観察し、はんだ付け部の全面がはんだで覆われているものを良好(○)とし、はんだ付け部の一部又は全面がはんだで覆われていないものを不良(×)とした。また、はんだ密着性の評価では、剥離強度1N以上を○、剥離強度1N未満を×と判定した。この剥離強度は、めっき層を有するチタン銅箔及び純銅箔(JIS H3100−2012に規定する合金番号C1100、箔厚0.02mm〜0.05mm)を鉛フリー半田(Sn−3.0質量%Ag−0.5質量%Cu)を介して接合する。チタン銅箔は幅15mm、長さ200mmの短冊状とし、純銅箔は幅20mm、長さ200mmの短冊状とし、長さ方向に対して中央部30mm×15mmの面積に鉛フリー半田(直径0.4±0.02mm、長さ120±1mm)を上記の面積内に収まるように配置した上で、接合温度を245℃±5℃として接合する。接合後、180°引き剥がし試験を100mm/minの速度で行うことにより、その密着強度を測定する。引き剥がし変位の30mmから70mmまでの40mmの区間における荷重(N)の平均値を密着強度とする。半田密着強度試験における測定結果の一例を図4に示す。
これらの結果を表1に示す。
<Solder wettability and solder adhesion>
A soldering test was performed using Senju Metal Pb-free solder M705 solder. In the evaluation of solder wettability, soldering was performed by a solder checker (SAT-2000 manufactured by Reska Co., Ltd.) according to JIS C60068-2-54 in the same procedure as the meniscograph method, and the appearance of the soldered portion was observed. The measurement conditions are as follows. The sample was degreased using acetone as a pretreatment. Next, it pickled using 10 vol% sulfuric acid aqueous solution. The test temperature of the solder was 245 ± 5 ° C. The flux is not particularly specified, but GX5 manufactured by Asahi Chemical Laboratory was used. The immersion depth was 2 mm, the immersion time was 10 seconds, the immersion speed was 25 mm / second, and the sample width was 10 mm. The evaluation criteria are a visual observation with a 20-fold stereo microscope, and the case where the entire surface of the soldering part is covered with solder is judged as good (◯), and part or the whole surface of the soldering part is not covered with solder. The thing was made into bad (x). In the evaluation of solder adhesion, a peel strength of 1N or more was judged as ◯, and a peel strength of less than 1N was judged as x. This peel strength is obtained by using a titanium copper foil having a plating layer and a pure copper foil (alloy number C1100 defined in JIS H3100-2012, foil thickness 0.02 mm to 0.05 mm) with lead-free solder (Sn-3.0 mass% Ag). -0.5% by mass Cu). The titanium copper foil has a strip shape with a width of 15 mm and a length of 200 mm, the pure copper foil has a strip shape with a width of 20 mm and a length of 200 mm, and has a lead-free solder (diameter: 0. 4 ± 0.02 mm and length 120 ± 1 mm) are arranged so as to be within the above-mentioned area, and then the joining temperature is 245 ° C. ± 5 ° C. After joining, the adhesion strength is measured by performing a 180 ° peeling test at a speed of 100 mm / min. The average value of the load (N) in the section of 40 mm from 30 mm to 70 mm of the peeling displacement is defined as the adhesion strength. An example of the measurement result in the solder adhesion strength test is shown in FIG.
These results are shown in Table 1.

表1に示すように、最終冷間圧延での所定の板厚からのパス数を所定の範囲に設定した発明例1〜22はいずれも、60度光沢度G60RDが好ましい範囲内となり、その結果、良好なはんだ濡れ広がり及びはんだ密着性となった。
一方、比較例1、2は、最終冷間圧延のパス数が多すぎたことに起因して、60度光沢度G60RDが高くなり過ぎて、はんだ密着性が悪化した。比較例3、4は、最終冷間圧延のパス数が少なかったことにより、60度光沢度G60RDが低くなって、はんだ濡れ性が悪化した。比較例5は、Ti濃度が低すぎたことによって、引張強さが低下した。比較例6、7は、Ti又は副成分の濃度が高すぎたことにより、圧延で割れが生じて試作品を作製することができなかった。
As shown in Table 1, in each of Invention Examples 1 to 22 in which the number of passes from a predetermined plate thickness in the final cold rolling is set within a predetermined range, the 60 ° gloss G60 RD is within a preferable range, As a result, good solder wetting spread and solder adhesion were obtained.
On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, the 60 ° gloss G60 RD became too high due to the excessive number of passes of the final cold rolling, and the solder adhesion deteriorated. In Comparative Examples 3 and 4, since the number of passes of the final cold rolling was small, the 60-degree glossiness G60 RD was lowered and the solder wettability was deteriorated. In Comparative Example 5, the tensile strength decreased due to the Ti concentration being too low. In Comparative Examples 6 and 7, since the concentration of Ti or the subcomponent was too high, cracks were generated by rolling and a prototype could not be produced.

以上より、この発明によれば、箔厚が0.1μm以下と薄いチタン銅箔で、はんだ濡れ性およびはんだ密着強度を有効に向上できることが解かった。   As described above, according to the present invention, it has been found that the solder wettability and the solder adhesion strength can be effectively improved with a thin titanium copper foil having a foil thickness of 0.1 μm or less.

1 オートフォーカスカメラモジュール
2 ヨーク
3 レンズ
4 マグネット
5 キャリア
6 コイル
7 ベース
8 フレーム
9a 上側のばね部材
9b 下側のばね部材
10a、10b キャップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Autofocus camera module 2 Yoke 3 Lens 4 Magnet 5 Carrier 6 Coil 7 Base 8 Frame 9a Upper spring member 9b Lower spring member 10a, 10b Cap

Claims (7)

箔厚が0.1mm以下であり、Tiを1.5〜4.5質量%で含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、圧延方向と平行な方向に測定した表面の60度光沢度G60RDが200〜600であるチタン銅箔。 The foil thickness is 0.1 mm or less, Ti is contained in an amount of 1.5 to 4.5% by mass, the balance is made of copper and inevitable impurities, and the surface has a 60 degree glossiness measured in a direction parallel to the rolling direction. Titanium copper foil whose G60 RD is 200-600. 圧延方向に平行な方向での引張強さが1100MPa以上である請求項1に記載のチタン銅箔。   The titanium copper foil according to claim 1, wherein the tensile strength in a direction parallel to the rolling direction is 1100 MPa or more. Ag、B、Co、Fe、Mg、Mn、Mo、Ni、P、Si、CrおよびZrのうちの1種以上を総量で0〜1.0質量%含有する請求項1又は2に記載のチタン銅箔。   3. The titanium according to claim 1, comprising at least one of Ag, B, Co, Fe, Mg, Mn, Mo, Ni, P, Si, Cr and Zr in a total amount of 0 to 1.0 mass%. Copper foil. 請求項1〜3の何れか一項に記載のチタン銅箔を備えた伸銅品。   The copper-stretched article provided with the titanium copper foil as described in any one of Claims 1-3. 請求項1〜3の何れか一項に記載のチタン銅箔を備えた電子機器部品。   The electronic device component provided with the titanium copper foil as described in any one of Claims 1-3. 電子機器部品がオートフォーカスカメラモジュールである請求項5に記載の電子機器部品。   The electronic device component according to claim 5, wherein the electronic device component is an autofocus camera module. レンズと、このレンズを光軸方向の初期位置に弾性付勢するばね部材と、このばね部材の付勢力に抗する電磁力を生起して前記レンズを光軸方向へ駆動可能な電磁駆動手段を備え、前記ばね部材が請求項1〜3の何れか一項に記載のチタン銅箔であることを特徴とするオートフォーカスカメラモジュール。   A lens, a spring member that elastically biases the lens to an initial position in the optical axis direction, and an electromagnetic drive means that can drive the lens in the optical axis direction by generating an electromagnetic force that resists the biasing force of the spring member An autofocus camera module, wherein the spring member is the titanium copper foil according to any one of claims 1 to 3.
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