JP6326140B2 - Compound, composition, film, optical instrument - Google Patents

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    • H05B33/22Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers

Description

本発明は、所定の構造の化合物、この化合物を含む組成物、および、この組成物より得られる膜、この膜を含む光学機器に関する。   The present invention relates to a compound having a predetermined structure, a composition containing the compound, a film obtained from the composition, and an optical apparatus including the film.

従来、光学材料等に使用される化合物に対して、高い屈折率が求められている。
例えば、特許文献1には、高屈折率材料として、トリアジン環含有重合体が開示されている。より具体的には、トリアジン環構造を部分構造として有する重合体が、優れた屈折率を示す点が開示されている。
Conventionally, a high refractive index is required for a compound used in an optical material or the like.
For example, Patent Document 1 discloses a triazine ring-containing polymer as a high refractive index material. More specifically, it is disclosed that a polymer having a triazine ring structure as a partial structure exhibits an excellent refractive index.

国際公開第2012/111682号International Publication No. 2012/111682

近年、光学機器(固体撮像素子、表示装置など)の高機能化や小型化などの要求に伴い、段差がある領域においても平坦な膜を形成することができる光学材料が求められている。つまり、屈折率が優れると共に、段差がある領域においても平坦性に優れる膜を形成しうる光学材料が求められている。なお、以後、形成される膜表面の平坦性が優れることを、表面平坦性に優れると称する。
本発明者らが、特許文献1に記載の光学材料の特性について検討を行ったところ、上記2つの特性の両立ができず、さらなる改良が必要であることが確認された。
2. Description of the Related Art In recent years, an optical material capable of forming a flat film even in a region having a step has been demanded in accordance with a demand for high functionality and miniaturization of an optical device (a solid-state imaging device, a display device, etc.). That is, there is a demand for an optical material that can form a film having excellent refractive index and excellent flatness even in a region having a step. Hereinafter, the excellent flatness of the formed film surface is referred to as excellent surface flatness.
When the present inventors examined the characteristics of the optical material described in Patent Document 1, it was confirmed that the above two characteristics could not be satisfied and further improvement was necessary.

本発明は、上記実情を鑑みて、高い屈折率を示すと共に、表面平坦性に優れる膜を形成しえる化合物を提供することを課題とする。
また、本発明は、上記化合物を含む組成物、上記組成物より形成される膜、および、上記膜を含む光学機器を提供することも課題とする。
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to provide a compound that exhibits a high refractive index and can form a film having excellent surface flatness.
Another object of the present invention is to provide a composition containing the above compound, a film formed from the above composition, and an optical instrument including the above film.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定構造の化合物を使用することで、所望の効果が得られることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a desired effect can be obtained by using a compound having a specific structure, and completed the present invention.
That is, the present inventors have found that the above problem can be solved by the following configuration.

(1) 後述する一般式(1)で表される化合物を含む組成物。
(2) 後述する一般式(2)中、ArとArとが連結している、(1)に記載の組成物。
(3) 一般式(1)中、Xが、後述する一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す、(1)または(2)に記載の組成物。
(4) 一般式(3)中、Ar〜Ar、および、Ar〜Arの少なくとも1つが多環芳香族基である、(3)に記載の組成物。
(5) 一般式(3)中、Ar〜Arの少なくとも1つが多環芳香族基である、(3)または(4)に記載の組成物。
(6) 一般式(1)中、Aが第4級炭素原子を1つ以上含む、(1)〜(5)のいずれかに記載の組成物。
(7) 一般式(1)中、Aが、後述する一般式(4)で表される部分構造を有する基、または、後述する一般式(5)で表される部分構造を有する基である、(1)〜(6)のいずれかに記載の組成物。
(8) 一般式(1)中、Yが、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも1つ有する1価の有機基である、(1)〜(7)のいずれかに記載の化合物。
(9) 一般式(1)中、nに対するmの比が0.5〜5.0である、(1)〜(8)のいずれかに記載の組成物。なお、上記比は、m/nを表す。
(10) さらに、重合性化合物を含む、(1)〜(9)のいずれかに記載の組成物。
(11) 重合性化合物が、重合性基を2つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物を含む、(10)に記載の組成物。
(12) (1)〜(11)のいずれかに記載の組成物より形成される膜。
(13) (12)に記載の膜を含む光学機器。
(14) 後述する一般式(1)で表される化合物。
(15) 後述する一般式(2)中、ArとArとが連結している、(14)に記載の化合物。
(16) 一般式(1)中、Xが、後述する一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す、(14)または(15)に記載の化合物。
(17) 一般式(3)中、Ar〜Ar、および、Ar〜Arの少なくとも1つが多環芳香族基である、(16)に記載の化合物。
(18) 一般式(3)中、Ar〜Arの少なくとも1つが多環芳香族基である、(16)または(17)に記載の化合物。
(19) 一般式(1)中、Aが第4級炭素原子を1つ以上含む、(14)〜(18)のいずれかに記載の化合物。
(20) 一般式(1)中、Aが、後述する一般式(4)で表される部分構造を有する基、または、後述する一般式(5)で表される部分構造を有する基である、(14)〜(19)のいずれかに記載の化合物。
(21) 一般式(1)中、Yが、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも1つ有する1価の有機基である、(14)〜(20)のいずれかに記載の化合物。
(22) 一般式(1)中、nに対するmの比が0.5〜5.0である、(14)〜(21)のいずれかに記載の化合物。なお、上記比は、m/nを表す。
(1) A composition comprising a compound represented by the general formula (1) described later.
(2) The composition according to (1), wherein Ar 3 and Ar 4 are linked in General Formula (2) described below.
(3) The composition according to (1) or (2), wherein in general formula (1), X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from a compound represented by general formula (3) described later. object.
(4) The composition according to (3), wherein in general formula (3), at least one of Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
(5) The composition according to (3) or (4), wherein in general formula (3), at least one of Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
(6) The composition according to any one of (1) to (5), wherein A in Formula (1) includes one or more quaternary carbon atoms.
(7) In general formula (1), A is a group having a partial structure represented by general formula (4) described later, or a group having a partial structure represented by general formula (5) described later. The composition according to any one of (1) to (6).
(8) In the general formula (1), Y is a monovalent organic group having at least one group selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group. A compound according to any one.
(9) The composition according to any one of (1) to (8), wherein a ratio of m to n is 0.5 to 5.0 in the general formula (1). In addition, the said ratio represents m / n.
(10) The composition according to any one of (1) to (9), further comprising a polymerizable compound.
(11) The composition according to (10), wherein the polymerizable compound includes a polymerizable compound having two or more polymerizable groups and having a fluorene skeleton.
(12) A film formed from the composition according to any one of (1) to (11).
(13) An optical apparatus including the film according to (12).
(14) A compound represented by the following general formula (1).
(15) The compound according to (14), wherein Ar 3 and Ar 4 are linked in General Formula (2) described below.
(16) The compound according to (14) or (15), wherein in general formula (1), X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from a compound represented by general formula (3) described later. .
(17) The compound according to (16), wherein in general formula (3), at least one of Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
(18) The compound according to (16) or (17), wherein in general formula (3), at least one of Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
(19) The compound according to any one of (14) to (18), wherein in formula (1), A contains one or more quaternary carbon atoms.
(20) In general formula (1), A is a group having a partial structure represented by general formula (4) described later or a group having a partial structure represented by general formula (5) described later. , (14)-(19).
(21) In the general formula (1), Y is a monovalent organic group having at least one group selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group. A compound according to any one.
(22) The compound according to any one of (14) to (21), wherein a ratio of m to n is 0.5 to 5.0 in the general formula (1). In addition, the said ratio represents m / n.

本発明によれば、高い屈折率を示すと共に、表面平坦性に優れる膜を形成しえる化合物を提供することができる。
また、本発明によれば、上記化合物を含む組成物、上記組成物より形成される膜、および、上記膜を含む光学機器を提供することもできる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, while showing a high refractive index, the compound which can form the film | membrane excellent in surface flatness can be provided.
Moreover, according to this invention, the optical instrument containing the composition containing the said compound, the film | membrane formed from the said composition, and the said film | membrane can also be provided.

本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の1画素分の断面図である。It is sectional drawing for 1 pixel of the one aspect | mode of the display apparatus which uses the composition of this invention as a base material of a color filter. 表面平坦性評価の方法を説明するための概略断面図である。It is a schematic sectional drawing for demonstrating the method of surface flatness evaluation. A−1のH−NMR(Nuclear Magnetic Resonance)チャートである。It is a 1 H-NMR (Nuclear Magnetic Resonance) chart of A-1.

以下に、本発明の化合物等について説明する。
なお、本明細書において、(メタ)アクリレートとは、アクリレートまたはメタクリレートを表し、(メタ)アクリロイルオキシとは、アクリロイルオキシまたはメタクリロイルオキシを表す。
さらに、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
Below, the compound of this invention etc. are demonstrated.
In the present specification, (meth) acrylate represents acrylate or methacrylate, and (meth) acryloyloxy represents acryloyloxy or methacryloyloxy.
Furthermore, the numerical range expressed using “to” in the present specification means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.

本発明の化合物の特徴点としては、Aで表される(m+n)価の連結基を中心にして、屈折率の高い、一般式(2)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基が放射状に配置されている点が挙げられる。このような構造をとることにより、化合物自体の運動性が向上し、化合物の柔軟性が高まると推測される。そのため、段差がある領域に膜を形成しようとした際に、膜表面での化合物の運動性が高くなり、結果として形成される膜の平坦性が高まっていると推測される。   As a characteristic point of the compound of the present invention, one hydrogen atom is removed from the compound represented by the general formula (2) having a high refractive index with the (m + n) -valent linking group represented by A as the center. In that the residues are arranged radially. By taking such a structure, it is presumed that the mobility of the compound itself is improved and the flexibility of the compound is increased. Therefore, when trying to form a film in a region having a step, it is presumed that the mobility of the compound on the film surface is increased, and the flatness of the formed film is increased as a result.

<化合物>
以下、一般式(1)で表される化合物中の各基について詳述する。
<Compound>
Hereinafter, each group in the compound represented by the general formula (1) will be described in detail.

一般式(1)中、Aは(m+n)価の連結基を表す。
Aで表される(m+n)価の連結基の分子量は特に制限されないが、形成される膜の屈折率がより優れる、および/または、形成される膜の表面平坦性がより優れる点(以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する)で、100以上が好ましく、200以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、合成上の点から、2000以下が好ましく、1500以下がより好ましく、1000以下がさらに好ましい。
In general formula (1), A represents a (m + n) -valent linking group.
The molecular weight of the (m + n) -valent linking group represented by A is not particularly limited, but the refractive index of the formed film is more excellent and / or the surface flatness of the formed film is more excellent (hereinafter, 100 or more is preferable, and 200 or more is more preferable because it is simply referred to as “the point where the effect of the present invention is more excellent”. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less, and still more preferably 1000 or less from the viewpoint of synthesis.

(m+n)価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれることが好ましく、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
(m+n)価の連結基は、具体的な例として、下記の構造単位、または、これら構造単位が組み合わさって構成される基(環構造を形成していてもよい)を挙げることができる。
(M + n) -valent linking groups include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and It is preferred that a group consisting of 0 to 20 sulfur atoms is included, which may be unsubstituted or may further have a substituent.
Specific examples of the (m + n) -valent linking group include the following structural units or groups formed by combining these structural units (which may form a ring structure).

(m+n)価の連結基は下記一般式のいずれかで表される基であることが好ましい。   The (m + n) -valent linking group is preferably a group represented by any one of the following general formulas.

上記一般式中、
は3価の基を表す。Tは単結合または2価の連結基を表し、3個存在するTは互いに同一であっても異なっていてもよい。
は4価の基を表す。Tは単結合または2価の連結基を表し、4個存在するTは互いに同一であっても異なっていてもよい。
は5価の基を表す。Tは単結合または2価の連結基を表し、5個存在するTは互いに同一であっても異なっていてもよい。
は6価の基を表す。Tは単結合または2価の連結基を表し、6個存在するTは互いに同一であっても異なっていてもよい。
なお、T〜Tで表される2価の連結基の具体例および好適な態様は、後述するLおよびLで表される2価の連結基と同じである。
Aで表される(m+n)価の連結基の具体的な例〔具体例(1)〜(17)、(35)〕を以下に示す。但し、本発明においては、これらに制限されるものではない。
In the above general formula,
L 3 represents a trivalent group. T 3 represents a single bond or a divalent linking group, and three T 3 s may be the same or different from each other.
L 4 represents a tetravalent group. T 4 represents a single bond or a divalent linking group, and four T 4 s may be the same or different from each other.
L 5 represents a pentavalent group. T 5 represents a single bond or a divalent linking group, and five T 5 s may be the same or different from each other.
L 6 represents a hexavalent group. T 6 represents a single bond or a divalent linking group, and the six T 6 present may be the same or different from each other.
Incidentally, specific examples and preferred embodiments of the divalent linking group represented by T 3 through T 6 is the same as the divalent linking group represented by L 1 and L 2 will be described later.
Specific examples [specific examples (1) to (17) and (35)] of the (m + n) -valent linking group represented by A are shown below. However, the present invention is not limited to these.

上記の具体例の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、最も好ましい(m+n)価の連結基は下記(1)、(2)、(10)、(11)、(16)、(17)、(35)の基である。   Among the above specific examples, the most preferable (m + n) -valent linking groups are the following (1), (2), (10), from the viewpoint of availability of raw materials, ease of synthesis, and solubility in various solvents. (11), (16), (17) and (35).

上記Aの好適態様の一つとしては、形成される膜の表面平坦性がより優れる点で、Aに第4級炭素原子が少なくとも1つ含まれることが好ましい。
また、Aの最好適態様としては、一般式(4)で表される部分構造を有する基、または、一般式(5)で表される部分構造を有する基が挙げられる。
As one of the preferable embodiments of A, it is preferable that A contains at least one quaternary carbon atom from the viewpoint that the surface flatness of the formed film is more excellent.
Moreover, as the most suitable aspect of A, group which has the partial structure represented by General formula (4), or group which has the partial structure represented by General formula (5) is mentioned.

一般式(5)中、Rはアルキル基を表す。なお、一般式(4)および(5)中、*は結合位置を表す。   In general formula (5), R represents an alkyl group. In general formulas (4) and (5), * represents a bonding position.

およびLは、それぞれ独立に、単結合または2価の連結基を表す。mが2以上である場合、複数のLは同一であっても異なっていてもよく、nが2以上である場合、複数のLは同一であっても異なっていてもよい。
2価の連結基としては、1から100個までの炭素原子、0個から10個までの窒素原子、0個から50個までの酸素原子、1個から200個までの水素原子、および0個から20個までの硫黄原子から成り立つ基が含まれ、無置換でも置換基をさらに有していてもよい。
より具体的には、2価の連結基としては、例えば、2価の鎖状飽和炭化水素基(直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数1〜20であることが好ましい)、2価の環状飽和炭化水素基(炭素数3〜20であることが好ましい)、2価の芳香族基(炭素数5〜20であることが好ましく、例えば、フェニレン基)、−O−、−S−、−SO−、−NR−、−CO−、−NH−、−COO−、−CONR−、−O−CO−O−、−SO−、−NHCOO−、−SONR−、−NH−CO−NH−、または、これらを2種以上組み合わせた基(例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など)などが挙げられる。ここで、Rは、水素原子またはアルキル基(好ましくは炭素数1〜10)を表す。
なかでも、LおよびLで表される2価の連結基としては、−S−、−O−、−CO−、アルキレン基、および、これらを組み合わせた基が好ましい。
L 1 and L 2 each independently represents a single bond or a divalent linking group. When m is 2 or more, the plurality of L 1 may be the same or different, and when n is 2 or more, the plurality of L 2 may be the same or different.
Divalent linking groups include 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 To 20 sulfur atoms are included, which may be unsubstituted or further substituted.
More specifically, as the divalent linking group, for example, a divalent chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched and preferably has 1 to 20 carbon atoms), A divalent cyclic saturated hydrocarbon group (preferably having 3 to 20 carbon atoms), a divalent aromatic group (preferably having 5 to 20 carbon atoms, for example, a phenylene group), -O-,- S—, —SO 2 —, —NR L —, —CO—, —NH—, —COO—, —CONL L —, —O—CO—O—, —SO 3 —, —NHCOO—, —SO 2 NR L- , -NH-CO-NH-, or a group in which two or more of these are combined (for example, an alkyleneoxy group, an alkyleneoxycarbonyl group, an alkylenecarbonyloxy group, or the like) can be given. Here, RL represents a hydrogen atom or an alkyl group (preferably having 1 to 10 carbon atoms).
Among them, the divalent linking group represented by L 1 and L 2, -S -, - O -, - CO-, an alkylene group, and a group composed of a combination of these are preferred.

2価の連結基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、メチル基、エチル基等の炭素数1から20までのアルキル基、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6から16までのアリール基、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、スルホンアミド基、N−スルホニルアミド基、アセトキシ基等の炭素数1から6までのアシルオキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1から6までのアルコキシ基、塩素、臭素等のハロゲン原子、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数2から7までのアルコキシカルボニル基、シアノ基、t−ブチルカーボネート等の炭酸エステル基等が挙げられる。   The divalent linking group may have a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms such as a methyl group and an ethyl group, and a carbon number of 6 such as a phenyl group and a naphthyl group. From 1 to 16 carbon atoms such as aryl groups, hydroxyl groups, amino groups, carboxyl groups, sulfonamido groups, N-sulfonylamido groups, acetoxy groups and the like, acyloxy groups having 1 to 6 carbon atoms, methoxy groups, ethoxy groups and the like. Carbonate esters such as alkoxy groups of up to 6 carbon atoms, halogen atoms such as chlorine and bromine, alkoxycarbonyl groups of 2 to 7 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group and cyclohexyloxycarbonyl group, cyano groups and t-butyl carbonate Groups and the like.

Xは、一般式(2)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す。つまり、Xは、一般式(2)で表される構造式中の任意の位置から水素原子が1個引き抜かれ、水素原子が引き抜かれた位置で結合可能な構造の基をいう。水素原子が引き抜かれる位置は特に制限されず、Ar〜Ar中のいずれかに含まれる水素原子が1個引き抜かれる。X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound represented by the general formula (2). That is, X is a group having a structure in which one hydrogen atom is extracted from an arbitrary position in the structural formula represented by the general formula (2) and can be bonded at the position where the hydrogen atom is extracted. The position at which the hydrogen atom is extracted is not particularly limited, and one hydrogen atom contained in any of Ar 1 to Ar 4 is extracted.

一般式(2)中、Ar〜Arは、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ar〜Arは、それぞれ互いに単結合または2価の連結基を介して連結していてもよい。
芳香環基の種類は特に制限されず、芳香族炭化水素基(アリール基)、芳香族複素環基(ヘテロアリール基)、または、これらを組み合わせた基などが挙げられる。
芳香族炭化水素基を構成する環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、トリフェニレン環、ピレン環、ナフタセン環、ビフェニル環(2個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい)、ターフェニル環(3個のフェニル基は任意の連結様式で連結してもよい)などが挙げられる。
芳香族複素環基としては、例えば、5員、6員もしくは7員の環またはその縮合環からなる芳香族複素環基が挙げられる。芳香族複素環基に含まれるヘテロ原子としては、酸素原子、硫黄原子、窒素原子など挙げられる。芳香族複素環基を構成する環の具体例としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環、ベンゾフラン環、イソベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、インドリン環、イソインドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、インダゾール環、ベンゾイミダゾール環、キノリン環、イソキノリン環、シンノリン環、フタラジン環、キナゾリン環、キノキサリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、ナフチリジン環、プリン環、プテリジン環などが挙げられる。
In General Formula (2), Ar 1 to Ar 4 each independently represents an aromatic ring group. Ar 1 to Ar 4 may be linked to each other via a single bond or a divalent linking group.
The type of the aromatic ring group is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic hydrocarbon group (aryl group), an aromatic heterocyclic group (heteroaryl group), or a group obtained by combining these.
Specific examples of the ring constituting the aromatic hydrocarbon group include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a phenanthrene ring, a fluorene ring, a triphenylene ring, a pyrene ring, a naphthacene ring, and a biphenyl ring. And a terphenyl ring (the three phenyl groups may be connected in an arbitrary connection mode) and the like.
As an aromatic heterocyclic group, the aromatic heterocyclic group which consists of a 5-membered, 6-membered or 7-membered ring or its condensed ring is mentioned, for example. Examples of the hetero atom contained in the aromatic heterocyclic group include an oxygen atom, a sulfur atom, and a nitrogen atom. Specific examples of the ring constituting the aromatic heterocyclic group include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, oxadiazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, thiadiazole ring, imidazole ring, pyrazole. Ring, triazole ring, furazane ring, tetrazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, tetrazine ring, benzofuran ring, isobenzofuran ring, benzothiophene ring, indole ring, indoline ring, isoindole ring, Benzoxazole ring, benzothiazole ring, indazole ring, benzimidazole ring, quinoline ring, isoquinoline ring, cinnoline ring, phthalazine ring, quinazoline ring, quinoxaline ring, dibenzofuran ring, dibenzothiophene ring, carbazole ring, azole Lysine ring, phenanthridine ring, phenanthroline ring, phenazine ring, naphthyridine ring, purine ring and pteridine ring.

Ar〜Arで表される芳香環基の好適態様としては、多環芳香族基が挙げられる。つまり、Ar〜Arの少なくとも1つが多環芳香族基であることが好ましく、Ar〜Arのうち2〜4つが多環芳香族基であることがより好ましい。
多環芳香族基とは、複数の芳香環基が縮合して形成された基であり、具体的には、多環芳香族炭化水素基(多環芳香族炭化水素環基)または多環芳香族複素環基が挙げられる。
ここで、多環芳香族炭化水素基とは、2個以上の環を有する芳香族炭化水素環からなる基であり、より具体的には、2個以上の単環芳香族炭化水素環(ベンゼン環)を有する縮合環の基である。なかでも、2個以上の単環芳香族炭化水素環同士が縮環した環からなる基であるのが好ましい。
多環芳香族炭化水素基を構成する環の具体例としては、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環、アセナフチレン環、クリセン環、フルオランテン環、ピレン環、トリフェニレン環、テトラセン環、ベンゾピレン環、ピセン環、ペリレン環、ペンタセン環、ヘキサセン環、ヘプタセン環、コロネン環などが挙げられる。なかでも、ナフタレン環が好ましい。
また、多環芳香族複素環基とは、2個以上の環を有する芳香族複素環からなる基であり、より具体的には、2個以上の環を有し、かつ、1個以上の単環芳香族複素環を有する縮合環の基である。なかでも、1個以上の単環芳香族炭化水素環と1個以上の単環複素環とが縮環した環からなる基、または、2個以上の単環複素環が縮環した環からなる基であるのが好ましい。
多環芳香族複素環基を構成する環の具体例としては、アクリジン環、ベンゾキノリン環、カルバゾール環、フェナジン環、フェナントリジン環、フェナントロリン環、カルボリン環、サイクラジン環、キンドリン環、テペニジン環、キニンドリン環、トリフェノジチアジン環、トリフェノジオキサジン環、フェナントラジン環、アントラジン環、ペリミジン環、ジアザカルバゾール環(カルボリン環を構成する炭素原子の任意の1つが窒素原子で置き換わったものを表す)、フェナントロリン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、ナフトフラン環、ナフトチオフェン環、ベンゾジフラン環、ベンゾジチオフェン環、ナフトジフラン環、ナフトジチオフェン環、アントラフラン環、アントラジフラン環、アントラチオフェン環、アントラジチオフェン環、チアントレン環、フェノキサチイン環、チオファントレン環(ナフトチオフェン環)などが挙げられる。
多環芳香族複素環基を構成する単環複素環は特に制限されないが、その具体例としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、フラザン環、テトラゾール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、テトラジン環などが挙げられる。
Preferable embodiments of the aromatic ring group represented by Ar 1 to Ar 4 include polycyclic aromatic groups. That is, at least one of Ar 1 to Ar 4 is preferably a polycyclic aromatic group, and more preferably 2 to 4 of Ar 1 to Ar 4 are polycyclic aromatic groups.
A polycyclic aromatic group is a group formed by condensing a plurality of aromatic ring groups, and specifically, a polycyclic aromatic hydrocarbon group (polycyclic aromatic hydrocarbon ring group) or a polycyclic aromatic group. Group heterocyclic group.
Here, the polycyclic aromatic hydrocarbon group is a group composed of an aromatic hydrocarbon ring having two or more rings, and more specifically, two or more monocyclic aromatic hydrocarbon rings (benzene). A condensed ring group having a ring). Of these, a group consisting of a ring in which two or more monocyclic aromatic hydrocarbon rings are condensed is preferable.
Specific examples of the ring constituting the polycyclic aromatic hydrocarbon group include a naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, fluorene ring, acenaphthylene ring, chrysene ring, fluoranthene ring, pyrene ring, triphenylene ring, tetracene ring, benzopyrene ring, Examples include a picene ring, a perylene ring, a pentacene ring, a hexacene ring, a heptacene ring, and a coronene ring. Among these, a naphthalene ring is preferable.
The polycyclic aromatic heterocyclic group is a group composed of an aromatic heterocyclic ring having two or more rings, more specifically, having two or more rings, and one or more A condensed ring group having a monocyclic aromatic heterocycle. Among them, a group composed of a ring in which one or more monocyclic aromatic hydrocarbon rings and one or more monocyclic heterocycles are condensed, or a ring in which two or more monocyclic heterocycles are condensed. A group is preferred.
Specific examples of the ring constituting the polycyclic aromatic heterocyclic group include acridine ring, benzoquinoline ring, carbazole ring, phenazine ring, phenanthridine ring, phenanthroline ring, carboline ring, cyclazine ring, kindrin ring, tepenidine ring, A quinindrine ring, triphenodithiazine ring, triphenodioxazine ring, phenanthrazine ring, anthrazine ring, perimidine ring, diazacarbazole ring (representing a carbon atom constituting a carboline ring replaced by a nitrogen atom) ), Phenanthroline ring, dibenzofuran ring, dibenzothiophene ring, naphthofuran ring, naphthothiophene ring, benzodifuran ring, benzodithiophene ring, naphthodifuran ring, naphthodithiophene ring, anthrafuran ring, anthradifuran ring, anthrathiophene ring, anth Raj thiophene ring, thianthrene ring, phenoxathiin ring, thio fan train ring (naphthothiophene ring) and the like.
The monocyclic heterocyclic ring constituting the polycyclic aromatic heterocyclic group is not particularly limited, and specific examples thereof include, for example, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, oxadiazole ring, thiazole. Ring, isothiazole ring, thiadiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, furazane ring, tetrazole ring, pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, triazine ring, tetrazine ring and the like.

Xの好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、ArとArとが連結しているのが好ましい。ここで、「ArとArとが連結している」とは、ArとArとが単結合または2価の連結基を介して連結していることを表す。2価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したLおよびLで表される2価の連結基と同じである。As a preferred embodiment of X, Ar 3 and Ar 4 are preferably linked from the viewpoint that the effects of the present invention are more excellent. Here, “Ar 3 and Ar 4 are linked” means that Ar 3 and Ar 4 are linked through a single bond or a divalent linking group. Specific examples and preferred embodiments of the divalent linking group are the same as the divalent linking group represented by L 1 and L 2 described above.

Xの最好適態様としては、本発明の効果がより優れる点で、一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す。   The most preferred embodiment of X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound represented by the general formula (3) in that the effect of the present invention is more excellent.

一般式(3)中、Ar〜Ar、および、Ar〜Arは、それぞれ独立に、芳香環基を表す。芳香環基の定義は、上述の通りである。なお、Ar〜Arは、それぞれ一般式(3)中の2つの炭素原子を含む形で芳香環基を構成する。
一般式(3)で表される化合物からは1個の水素原子が除かれるが、水素原子が除かれる位置は特に制限されず、Ar〜Ar、および、Ar〜Ar中のいずれの基であってもよい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、Ar〜Arのいずれかから水素原子が除かれることが好ましく、例えば、Arから水素原子が除かれる場合、一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基は、以下の一般式(3−1)で表される基を表す。なお、以下式中、「*」は結合位置を表す。また、一般式(3−1)中、Arは、いわゆる2価の芳香環基(アリーレン基またはヘテロアリーレン基)を表す。
In General Formula (3), Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 each independently represent an aromatic ring group. The definition of the aromatic ring group is as described above. Ar 5 to Ar 6 each constitute an aromatic ring group in a form containing two carbon atoms in the general formula (3).
Although one hydrogen atom is removed from the compound represented by the general formula (3), the position at which the hydrogen atom is removed is not particularly limited, and any one of Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 may be used. It may be a group of
Among them, Table at the point where the effect of the present invention is more excellent, it is preferable that a hydrogen atom is removed from any one of Ar 1 to Ar 2, for example, when a hydrogen atom is removed from Ar 1, general formula (3) The residue remove | excluding one hydrogen atom from the compound shown represents group represented by the following general formula (3-1). In the following formulae, “*” represents a bonding position. In General Formula (3-1), Ar 1 represents a so-called divalent aromatic ring group (arylene group or heteroarylene group).

なかでも、本発明の効果がより優れる点で、ArおよびArの少なくとも1つが多環芳香族基であることが好ましく、ArおよびArの両方が多環芳香族基であることがより好ましい。
なお、多環芳香族基の定義は、上述の通りである。
Among them, in terms of the effect of the present invention is more excellent, it is preferable that at least one of Ar 5 and Ar 6 is a polycyclic aromatic group, that both Ar 5 and Ar 6 are polycyclic aromatic group More preferred.
The definition of the polycyclic aromatic group is as described above.

Ar〜Arには、置換基が含まれていてもよい。
置換基の種類としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基(シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、トリシクロアルキル基を含む)、アルケニル基(シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む)、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基(アニリノ基を含む)、アンモニオ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールまたはヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、ホスホノ基、シリル基、ヒドラジノ基、ウレイド基、ボロン酸基(−B(OH))、ホスファト基(−OPO(OH))、スルファト基(−OSOH)、または、これらの基を組み合わせた基などが挙げられる。
Ar 1 to Ar 4 may contain a substituent.
Examples of the substituent include halogen atoms, alkyl groups (including cycloalkyl groups, bicycloalkyl groups, and tricycloalkyl groups), alkenyl groups (including cycloalkenyl groups and bicycloalkenyl groups), alkynyl groups, and aryl groups. , Heteroaryl group, cyano group, hydroxy group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heteroaryloxy group, acyloxy group, carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, Amino group (including anilino group), ammonio group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl or arylsulfonylamino Group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, acyl group, aryloxycarbonyl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, aryl Or heterocyclic azo group, imide group, phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, phosphono group, silyl group, hydrazino group, ureido group, boronic acid group (-B (OH) 2 ) , A phosphato group (—OPO (OH) 2 ), a sulfato group (—OSO 3 H), or a group in which these groups are combined.

Yは、1価の有機基を表す。有機基の構造は特に制限されないが、例えば、酸基、重合性基、ウレア基、ウレタン基、配位性酸素原子を有する基、塩基性窒素原子を有する基、フェノール基、アルキル基、アリール基、アルキレンオキシ鎖を有する基、イミド基、アルキルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、カルボン酸塩基、スルホンアミド基、複素環基、アルコキシシリル基、イソシアネート基および水酸基よりなる群から選択される基(以後、官能基Xとも称する)を少なくとも1つ有する1価の有機基が好ましく挙げられる。
また、1価の有機基としては、ポリマー鎖(高分子骨格)であってもよい。
なお、1価の有機基中には、上述した官能基Xが2つ以上含まれていてもよい。上述した官能基Xが2つ以上含まれる態様としては、鎖状飽和炭化水素基(直鎖状でも分岐状であってもよく、炭素数1〜10であることが好ましい)、環状飽和炭化水素基(炭素数3〜10であることが好ましい)、芳香族基(炭素数5〜10であることが好ましく、例えば、フェニレン基)等を介して2個以上の官能基Xが結合し1価の有機基を形成する態様等が挙げられ、鎖状飽和炭化水素基を介して2個以上の官能基Xが結合し1価の有機基を形成する態様が好ましい。
また、ポリマー鎖に、上述した官能基Xが2つ以上含まれていてもよい。その場合、官能基Xはポリマー鎖の側鎖としてポリマー鎖の主鎖に直接結合していてもよいし、官能基Xは2価の連結基を介してポリマー鎖の主鎖に結合していてもよい。
Y represents a monovalent organic group. Although the structure of the organic group is not particularly limited, for example, an acid group, a polymerizable group, a urea group, a urethane group, a group having a coordinating oxygen atom, a group having a basic nitrogen atom, a phenol group, an alkyl group, an aryl group A group selected from the group consisting of a group having an alkyleneoxy chain, an imide group, an alkyloxycarbonyl group, an alkylaminocarbonyl group, a carboxylate group, a sulfonamide group, a heterocyclic group, an alkoxysilyl group, an isocyanate group and a hydroxyl group ( Hereinafter, a monovalent organic group having at least one functional group X) is preferred.
The monovalent organic group may be a polymer chain (polymer skeleton).
The monovalent organic group may contain two or more functional groups X described above. As an aspect in which two or more of the functional groups X described above are included, a chain saturated hydrocarbon group (which may be linear or branched and preferably has 1 to 10 carbon atoms), a cyclic saturated hydrocarbon 2 or more functional groups X are bonded to each other via a group (preferably having 3 to 10 carbon atoms), an aromatic group (preferably having 5 to 10 carbon atoms, for example, a phenylene group), and the like. An embodiment in which an organic group is formed, and a mode in which two or more functional groups X are bonded via a chain saturated hydrocarbon group to form a monovalent organic group is preferable.
In addition, two or more functional groups X described above may be included in the polymer chain. In that case, the functional group X may be directly bonded to the main chain of the polymer chain as a side chain of the polymer chain, or the functional group X is bonded to the main chain of the polymer chain via a divalent linking group. Also good.

「酸基」として、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基、ホウ酸基が好ましい例として挙げられ、カルボン酸基、スルホン酸基、モノ硫酸エステル基、リン酸基、モノリン酸エステル基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がより好ましく、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基がさらに好ましく、カルボン酸基が特に好ましい。   Preferred examples of the “acid group” include a carboxylic acid group, a sulfonic acid group, a monosulfate group, a phosphoric acid group, a monophosphate group, a phosphonic acid group, a phosphinic acid group, and a boric acid group. Group, sulfonic acid group, monosulfate group, phosphoric acid group, monophosphate group, phosphonic acid group, phosphinic acid group are more preferable, carboxylic acid group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, phosphonic acid group, phosphinic acid group Are more preferred, and carboxylic acid groups are particularly preferred.

「重合性基」としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。
ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとしてラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性基を挙げることができ、具体的にはビニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基などを挙げることができる。中でも、(メタ)アクリロイルオキシ基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。
カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。
Examples of the “polymerizable group” include a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group.
As the radically polymerizable group, generally known radically polymerizable groups can be used, and preferable examples thereof include a polymerizable group having an ethylenically unsaturated bond capable of radical polymerization. Specifically, Examples thereof include a vinyl group and a (meth) acryloyloxy group. Among these, a (meth) acryloyloxy group is preferable, and an acryloyloxy group is more preferable.
As the cationic polymerizable group, generally known cationic polymerizable groups can be used. Specifically, the alicyclic ether group, the cyclic acetal group, the cyclic lactone group, the cyclic thioether group, the spiro orthoester group, the vinyloxy group, and the like. Examples include groups. Of these, alicyclic ether groups and vinyloxy groups are preferable, and epoxy groups, oxetanyl groups, and vinyloxy groups are particularly preferable.

「ウレア基」として、例えば、−NR15CONR1617(ここで、R15、R16、およびR17は各々独立に、水素原子、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が好ましい例として挙げられ、−NR15CONHR17(ここで、R15およびR17は各々独立に、水素原子、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)がより好ましく、−NHCONHR17(ここで、R17は、水素原子、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)が特に好ましい。As the “urea group”, for example, —NR 15 CONR 16 R 17 (wherein R 15 , R 16 , and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, 6 or more carbon atoms) And an aryl group having a carbon number of 7 or more.) —NR 15 CONHR 17 (wherein R 15 and R 17 are each independently a hydrogen atom, from 1 carbon atom) An alkyl group having up to 10 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms is more preferable, and —NHCONHR 17 (where R 17 is a hydrogen atom, 1 to 10 carbon atoms). Or an alkyl group having 6 or more carbon atoms or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms) is particularly preferable.

「ウレタン基」として、例えば、−NHCOOR18、−NR19COOR20、−OCONHR21、−OCONR2223(ここで、R18、R19、R20、R21、R22およびR23は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが好ましい例として挙げられ、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などがより好ましく、−NHCOOR18、−OCONHR21(ここで、R18、R21は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)などが特に好ましい。As the “urethane group”, for example, —NHCOOR 18 , —NR 19 COOR 20 , —OCONHR 21 , —OCONR 22 R 23 (where R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 and R 23 are each Independently, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms) may be mentioned as preferred examples, and -NHCOOR 18 , -OCONHR 21 ( Here, R 18 and R 21 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms. NHCOOR 18, -OCONHR 21 (wherein, each independently R 18, R 21 is an alkyl group having from 1 to 10 carbon atoms, carbon atoms Or aryl group, or a number of 7 or more aralkyl group having a carbon.), Etc. are particularly preferred.

「配位性酸素原子を有する基」としては、例えば、アセチルアセトナト基、クラウンエーテルなどが挙げられる。
「塩基性窒素原子を有する基」として、例えば、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、およびR10は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。)、下記式(a1)で表されるグアニジル基、下記式(a2)で表されるアミジニル基などが好ましい例として挙げられる。
Examples of the “group having a coordinating oxygen atom” include an acetylacetonato group and a crown ether.
Examples of the “group having a basic nitrogen atom” include an amino group (—NH 2 ), a substituted imino group (—NHR 8 , —NR 9 R 10 , where R 8 , R 9 , and R 10 are each independently Represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms), a guanidyl group represented by the following formula (a1), a formula (a2 And the like.

式(a1)中、R11およびR12は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
式(a2)中、R13およびR14は各々独立に、炭素数1から20までのアルキル基、炭素数6以上のアリール基、または、炭素数7以上のアラルキル基を表す。
In formula (a1), R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.
In formula (a2), R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 or more carbon atoms, or an aralkyl group having 7 or more carbon atoms.

これらの中でも、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、およびR10は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。)、式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11およびR12は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13およびR14は各々独立に、炭素数1から10までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などがより好ましい。
特に、アミノ基(−NH)、置換イミノ基(−NHR、−NR10、ここで、R、R、およびR10は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。)、式(a1)で表されるグアニジル基〔式(a1)中、R11およびR12は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕、式(a2)で表されるアミジニル基〔式(a2)中、R13およびR14は各々独立に、炭素数1から5までのアルキル基、フェニル基、または、ベンジル基を表す。〕などが好ましく用いられる。
Among these, an amino group (—NH 2 ), a substituted imino group (—NHR 8 , —NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 each independently has 1 to 10 carbon atoms. An alkyl group, a phenyl group or a benzyl group), a guanidyl group represented by the formula (a1) [in the formula (a1), R 11 and R 12 are each independently an alkyl having 1 to 10 carbon atoms; Represents a group, a phenyl group, or a benzyl group. Amidinyl group represented by formula (a2) [in formula (a2), R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group. ] Is more preferable.
In particular, an amino group (—NH 2 ), a substituted imino group (—NHR 8 , —NR 9 R 10 , wherein R 8 , R 9 , and R 10 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. , A phenyl group or a benzyl group), a guanidyl group represented by the formula (a1) [in the formula (a1), R 11 and R 12 are each independently an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, Represents a phenyl group or a benzyl group. Amidinyl group represented by formula (a2) [in formula (a2), R 13 and R 14 each independently represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a phenyl group, or a benzyl group. Etc. are preferably used.

「アルキル基」としては、直鎖状であっても、分岐状であってもよく、炭素数1〜40のアルキル基が好ましく、炭素数4〜30のアルキル基がより好ましく、炭素数10〜18のアルキル基がさらに好ましい。
「アリール基」としては、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。
「アルキレンオキシ鎖を有する基」としては、末端がアルキルオキシ基を形成していることが好ましく、炭素数1〜20のアルキルオキシ基を形成していることがより好ましい。また、アルキレンオキシ鎖としては、少なくとも1つのアルキレンオキシ基を有する限り特に制限はないが、炭素数1〜6のアルキレンオキシ基からなることが好ましい。アルキレンオキシ基としては、例えば、−CHCHO−、−CHCHCHO−等が挙げられる。
「アルキルオキシカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1から20までのアルキル基であることが好ましい。
「アルキルアミノカルボニル基」におけるアルキル基部分としては、炭素数1から20までのアルキル基であることが好ましい。
「カルボン酸塩基」としては、カルボン酸のアンモニウム塩からなる基などが挙げられる。
「スルホンアミド基」としては、窒素原子に結合する水素原子がアルキル基(メチル基等)、アシル基(アセチル基、トリフルオロアセチル基など)等で置換されていてもよい。
The “alkyl group” may be linear or branched, preferably an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 4 to 30 carbon atoms, and 10 to 10 carbon atoms. 18 alkyl groups are more preferred.
The “aryl group” is preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms.
As the “group having an alkyleneoxy chain”, the terminal preferably forms an alkyloxy group, and more preferably an alkyloxy group having 1 to 20 carbon atoms. The alkyleneoxy chain is not particularly limited as long as it has at least one alkyleneoxy group, but preferably comprises an alkyleneoxy group having 1 to 6 carbon atoms. The alkylene group, for example, -CH 2 CH 2 O -, - CH 2 CH 2 CH 2 O- and the like.
The alkyl group moiety in the “alkyloxycarbonyl group” is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
The alkyl group moiety in the “alkylaminocarbonyl group” is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
Examples of the “carboxylic acid group” include groups composed of ammonium salts of carboxylic acids.
In the “sulfonamide group”, a hydrogen atom bonded to a nitrogen atom may be substituted with an alkyl group (such as a methyl group), an acyl group (such as an acetyl group or a trifluoroacetyl group), and the like.

「複素環基」としては、例えば、チオフェン、フラン、キサンテン、ピロール、ピロリン、ピロリジン、ジオキソラン、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、トリアゾール、チアジアゾール、ピラン、ピリジン、ピペリジン、ジオキサン、モルホリン、ピリダジン、ピリミジン、ピペラジン、トリアジン、トリチアン、イソインドリン、イソインドリノン、ベンズイミダゾロン、ベンゾチアゾール、ヒダントイン、インドール、キノリン、カルバゾール、アクリジン、アクリドン、アントラキノンなどからなる基が好ましい例として挙げられる。
「イミド基」としては、コハクイミド、フタルイミド、ナフタルイミド等が挙げられる。
Examples of the “heterocyclic group” include thiophene, furan, xanthene, pyrrole, pyrroline, pyrrolidine, dioxolane, pyrazole, pyrazoline, pyrazolidine, imidazole, oxazole, thiazole, oxadiazole, triazole, thiadiazole, pyran, pyridine, piperidine, Preferred examples include groups consisting of dioxane, morpholine, pyridazine, pyrimidine, piperazine, triazine, trithiane, isoindoline, isoindolinone, benzimidazolone, benzothiazole, hydantoin, indole, quinoline, carbazole, acridine, acridone, anthraquinone, etc. It is done.
Examples of the “imide group” include succinimide, phthalimide, naphthalimide and the like.

「アルコキシシリル基」としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基のいずれでもよいが、トリアルコキシシリル基であることが好ましく、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基などが挙げられる。   The “alkoxysilyl group” may be any of monoalkoxysilyl group, dialkoxysilyl group, trialkoxysilyl group, but is preferably trialkoxysilyl group, such as trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, etc. Is mentioned.

上述したように、1価の有機基はポリマー鎖(高分子骨格)であってもよい。ポリマー鎖とは、ポリマー由来の基を意図し、ポリマー主鎖部分で結合可能であることが好ましい。
ポリマー鎖としては、公知のポリマーなどから目的等に応じて選択することができる。
ポリマーの中でも、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、アミド系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコーン系ポリマー、およびこれらの変性物、または共重合体〔例えば、ポリエーテル/ポリウレタン共重合体、ポリエーテル/ビニルモノマーの重合体の共重合体など(ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体のいずれであってもよい。)を含む。〕からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体、エステル系ポリマー、エーテル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、およびこれらの変性物または共重合体からなる群より選択される少なくとも一種がより好ましく、ビニルモノマーの重合体もしくは共重合体が特に好ましい。
有機基が上記ポリマー鎖である場合、化合物が長い分子鎖を有することとなり、ガラス転移温度の低下により、形成される膜の平坦性が向上する。
また、ポリマー鎖は各種官能基(例えば、カルボン酸基などの酸基や、重合性基など)が含まれていてもよい。なお、上記各種官能基は、ポリマー鎖中の側鎖部分に配置されていてもよく、2価の連結基を介してポリマー種鎖と結合していてもよい。2価の連結基の定義は、上述の通りである。
As described above, the monovalent organic group may be a polymer chain (polymer skeleton). The polymer chain means a group derived from a polymer, and it is preferable that the polymer chain can be bonded at a polymer main chain part.
The polymer chain can be selected from known polymers according to the purpose.
Among the polymers, polymers or copolymers of vinyl monomers, ester polymers, ether polymers, urethane polymers, amide polymers, epoxy polymers, silicone polymers, and modified products or copolymers thereof (for example, , Polyether / polyurethane copolymers, copolymers of polyether / vinyl monomers, etc. (any of random copolymers, block copolymers, and graft copolymers may be used). At least one selected from the group consisting of: a vinyl monomer polymer or copolymer, an ester polymer, an ether polymer, a urethane polymer, and a modified product or copolymer thereof. At least one kind is more preferred, and a polymer or copolymer of vinyl monomers is particularly preferred.
When the organic group is the above polymer chain, the compound has a long molecular chain, and the flatness of the formed film is improved due to a decrease in the glass transition temperature.
The polymer chain may contain various functional groups (for example, acid groups such as carboxylic acid groups, polymerizable groups, and the like). The various functional groups may be arranged in the side chain portion in the polymer chain or may be bonded to the polymer seed chain via a divalent linking group. The definition of a bivalent coupling group is as the above-mentioned.

なかでも、硬化される膜に対して現像性を付与できる点、および/または、形成される膜の強度が向上する点で、Yは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも1つ有する1価の有機基であることが好ましい。
なお、Yで表される有機基には、酸基が2つ以上含まれていても、重合性基が2つ以上含まれていてもよい。
特に、酸基が含まれる場合、化合物を現像処理に好適に適用することができ、好ましい。
Among them, Y is selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group in that developability can be imparted to the cured film and / or the strength of the formed film is improved. It is preferably a monovalent organic group having at least one group.
Note that the organic group represented by Y may contain two or more acid groups or two or more polymerizable groups.
In particular, when an acid group is contained, the compound can be suitably applied to development processing, which is preferable.

mは2以上の整数を表し、本発明の効果がより優れる点で、2〜6が好ましく、2〜5がより好ましく、3〜4がさらに好ましい。
nは0以上の整数を表し、本発明の効果がより優れる点で、0〜5が好ましく、1〜4がより好ましい。
なお、m+nの合計数は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。
なかでも、本発明の効果がより優れる点で、nに対するmの比(m/n)が0.5〜5.0であることが好ましく、1〜3であることがより好ましい。
m represents an integer greater than or equal to 2, and 2-6 are preferable, 2-5 are more preferable, and 3-4 are more preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
n represents an integer greater than or equal to 0, and 0-5 are preferable and 1-4 are more preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
In addition, the total number of m + n is not particularly limited, but 3 to 10 is preferable and 3 to 6 is more preferable in that the effect of the present invention is more excellent.
Especially, it is preferable that ratio (m / n) of m with respect to n is 0.5-5.0, and it is more preferable that it is 1-3 with the point which the effect of this invention is more excellent.

(化合物の合成方法)
一般式(1)で表される化合物の合成方法は特に制限されないが、特開2007−277514号公報段落0114〜0140および0266〜0348(対応する米国特許出願公開第2010/233595号明細書においては段落0145〜0173、および0289〜0429)に記載の合成方法に準じて合成することができる。
特に、複数のメルカプト基を有する化合物と、(メタ)アクリロイルオキシ基やビニル基などの炭素−炭素二重結合を有する化合物とを反応(チオール−エン反応法)させる方法が好ましい。
(Method for synthesizing compounds)
The method for synthesizing the compound represented by the general formula (1) is not particularly limited. However, paragraphs 0114 to 0140 and 0266 to 0348 and 0266 to 0348 of JP 2007-277514 A It can be synthesized according to the synthesis method described in paragraphs 0145 to 0173 and 0289 to 0429).
In particular, a method of reacting a compound having a plurality of mercapto groups with a compound having a carbon-carbon double bond such as a (meth) acryloyloxy group or a vinyl group (thiol-ene reaction method) is preferable.

複数のメルカプト基を有する化合物の具体的な例〔具体例(18)〜(34)、(36)〕としては、以下の化合物が挙げられる。   Specific examples of the compound having a plurality of mercapto groups [specific examples (18) to (34), (36)] include the following compounds.

上記の中でも、原料の入手性、合成の容易さ、各種溶媒への溶解性の観点から、特に好ましい化合物は、上記(18)、(19)、(27)、(28)、(33)、(34)、(36)の化合物である。   Among the above, from the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and solubility in various solvents, particularly preferred compounds are the above (18), (19), (27), (28), (33), (34) and (36).

上記は、市販品として、(例えば(33)はジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート):堺化学工業(株)製)などが入手可能である。   The above is commercially available (for example, (33) is dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate): Sakai Chemical Industry Co., Ltd.).

また、一般式(1)中の「L−X」部分を得るために使用される、炭素−炭素二重結合を有する化合物としては、例えば、以下の一般式(6)で表される化合物が挙げられる。Also used to obtain the general formula (1) in the "L 1 -X 'portion, carbon - The compound having a carbon double bond, for example, compounds represented by the following general formula (6) Is mentioned.

一般式(6)中、Ar〜Arの定義は、上述の通りである。
は、単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したLおよびLで表される2価の連結基と同じである。
Wは、炭素−炭素二重結合を含む基であり、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基、ビニル基などが挙げられる。
In general formula (6), the definitions of Ar 1 to Ar 4 are as described above.
L A represents a single bond or a divalent linking group. Specific examples and preferred embodiments of the divalent linking group are the same as the divalent linking group represented by L 1 and L 2 described above.
W is a group containing a carbon-carbon double bond, and examples thereof include a (meth) acryloyloxy group and a vinyl group.

チオール−エン反応法で用いられる適当な溶媒は特に制限されず、上述した反応基質を溶解できればよく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、2−エチルヘキサノール、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メトキシプロピルアセテート、乳酸エチル、酢酸エチル、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、クロロホルム、トルエンが挙げられる。
これらの溶媒は、二種以上を混合して使用してもよい。
A suitable solvent used in the thiol-ene reaction method is not particularly limited, and may be any solvent as long as it can dissolve the above-described reaction substrate. For example, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, 1-methoxy-2-propanol, 2-ethylhexanol, 1 -Methoxy-2-propyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methoxypropyl acetate, ethyl lactate, ethyl acetate, acetonitrile, tetrahydrofuran, dimethylformamide, chloroform, toluene.
These solvents may be used as a mixture of two or more.

<組成物>
本発明の組成物は、上記一般式(1)で表される化合物を含む。なお、組成物中においては、一般式(1)で表される化合物は1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
本発明の組成物より形成される膜を高屈折率膜として使用する場合、組成物中に含まれる一般式(1)で表される化合物の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましく、30質量%以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、100質量%が挙げられ、後述する他の任意成分が含まれる場合、80質量%以下の場合が多く、60質量%以下の場合が多い。
なお、固形分とは、後述する膜を形成する成分を意図し、溶剤は含まれない。
<Composition>
The composition of this invention contains the compound represented by the said General formula (1). In addition, in a composition, the compound represented by General formula (1) may use only 1 type, and may use 2 or more types together.
When the film formed from the composition of the present invention is used as a high refractive index film, the content of the compound represented by the general formula (1) contained in the composition is more excellent in the effects of the present invention. Therefore, 5% by mass or more is preferable, 10% by mass or more is more preferable, and 30% by mass or more is more preferable with respect to the total solid content in the composition. The upper limit is not particularly limited, but may be 100% by mass. When other optional components described later are included, the upper limit is often 80% by mass or less, and in many cases is 60% by mass or less.
In addition, solid content intends the component which forms the film | membrane mentioned later, and a solvent is not contained.

<その他任意成分>
組成物には、上記一般式(1)で表される化合物以外の他の化合物が含まれていてもよく、例えば、重合性化合物、重合開始剤、界面活性剤、シランカップリング剤、無機粒子、溶剤、重合禁止剤などが含まれていてもよい。
以下、組成物に含まれていてもよい任意成分の代表例について詳述する。
<Other optional components>
The composition may contain other compounds other than the compound represented by the general formula (1), such as a polymerizable compound, a polymerization initiator, a surfactant, a silane coupling agent, and inorganic particles. , A solvent, a polymerization inhibitor and the like may be contained.
Hereinafter, representative examples of optional components that may be contained in the composition will be described in detail.

(重合性化合物)
組成物中には、重合性化合物が含まれていてよい。重合性化合物が使用され、かつ、硬化処理が施されることにより、形成される膜の強度が向上する。
重合性化合物の種類は特に制限されず、公知の重合性化合物を使用することができる。重合性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、上述した一般式(1)中のYがとり得る重合性基などが挙げられる。
重合性化合物中における重合性基の数は特に制限されないが、形成される膜の強度がより優れる点で、2つ以上の重合性基が含まれることが好ましい。言い換えると、多官能重合性化合物であることが好ましい。
なお、組成物中には、1種の重合性化合物のみを含有させても、2種以上の重合性化合物を含有させてもよい。
重合性化合物としては特に制限されないが、例えば、エチレン性不飽和結合を含む化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合を含む化合物の例としては、特開2013−253224号公報の段落0033〜0034の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和結合を含む化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としてはNKエステルATM−35E;新中村化学社製)、ジペンタエリスリトールトリアクリレート(市販品としては KAYARAD D−330;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート(市販品としては KAYARAD D−320;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート(市販品としては KAYARAD D−310;日本化薬株式会社製)、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート(市販品としては KAYARAD DPHA ;日本化薬株式会社製)、およびこれらの(メタ)アクリロイル基がエチレングリコール、プロピレングリコール残基を介している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。
また、特開2012−251125号公報(対応する国際公開第2012/153826号)の段落[0107]〜[0118]や特開2012−255148号公報(対応する国際公開第2012−157784号)の段落[0114]〜[0128]等に記載の重合性化合物が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
さらに、カチオン重合性基(特に、エポキシ基)を有する重合性化合物も好適に用いられる。
(Polymerizable compound)
A polymerizable compound may be contained in the composition. By using a polymerizable compound and being subjected to a curing treatment, the strength of the formed film is improved.
The kind in particular of a polymeric compound is not restrict | limited, A well-known polymeric compound can be used. The kind in particular of the polymeric group contained in a polymeric compound is not restrict | limited, The polymeric group etc. which Y in General formula (1) mentioned above can take are mentioned.
The number of the polymerizable groups in the polymerizable compound is not particularly limited, but it is preferable that two or more polymerizable groups are included in that the strength of the formed film is more excellent. In other words, a polyfunctional polymerizable compound is preferable.
In the composition, only one type of polymerizable compound may be contained, or two or more types of polymerizable compounds may be contained.
Although it does not restrict | limit especially as a polymeric compound, For example, the compound containing an ethylenically unsaturated bond is mentioned. As examples of the compound containing an ethylenically unsaturated bond, the description in paragraphs 0033 to 0034 of JP2013-253224A can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
Examples of the compound containing an ethylenically unsaturated bond include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330). Manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (as a commercial product, KAYARAD D-320; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD D-310; Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa (meth) acrylate (as a commercial product, KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and these (meth) acryloyl groups are ethylene glycol, propylene glycol Structures through Lumpur residues are preferred. These oligomer types can also be used.
Also, paragraphs [0107] to [0118] of JP2012-251125A (corresponding international publication 2012/153826) and paragraphs of JP2012-255148A (corresponding international publication 2012-157784). The polymerizable compounds described in [0114] to [0128] can be used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
Furthermore, a polymerizable compound having a cationic polymerizable group (particularly an epoxy group) is also preferably used.

重合性化合物の好適態様の一つとしては、重合性基を2つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物が挙げられる。なお、フルオレン骨格とは、フルオレン構造を少なくとも含む骨格であり、フルオレン構造中の芳香環基は、いわゆる単環構造(ベンゼン環)でも、多環構造(多環芳香族環構造)でもよい。   One preferred embodiment of the polymerizable compound is a polymerizable compound having two or more polymerizable groups and having a fluorene skeleton. The fluorene skeleton is a skeleton containing at least a fluorene structure, and the aromatic ring group in the fluorene structure may be a so-called monocyclic structure (benzene ring) or a polycyclic structure (polycyclic aromatic ring structure).

重合性化合物の最好適態様としては、下記一般式(M1)で表される重合性化合物が挙げられる。   As a most suitable aspect of a polymeric compound, the polymeric compound represented by the following general formula (M1) is mentioned.

上記一般式(M1)中、Ar11〜Ar14は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい芳香環基を表し、Ar11〜Ar14のうち1つ以上は重合性基を有する置換基を含む。また、Ar11〜Ar14は、それぞれ互いに連結していてもよく、Ar13とAr14とが連結していることが好ましい。
Ar11〜Ar14で表される芳香環基の定義は、一般式(2)中のAr〜Arで表される芳香環基の定義と同義であり、好適態様も同じである。
また、Ar11〜Ar14が含む置換基が有する上記重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基(特に、エポキシ基)であることが好ましい。
In the general formula (M1), Ar 11 to Ar 14 each independently represents an aromatic ring group which may have a substituent, and one or more of Ar 11 to Ar 14 have a polymerizable group. Contains substituents. Ar 11 to Ar 14 may be connected to each other, and Ar 13 and Ar 14 are preferably connected to each other.
The definition of the aromatic ring group represented by Ar < 11 > -Ar < 14 > is synonymous with the definition of the aromatic ring group represented by Ar < 1 > -Ar < 4 > in General formula (2), and its suitable aspect is also the same.
Moreover, it is preferable that the said polymeric group which the substituent which Ar < 11 > -Ar < 14 > has is a radically polymerizable group or a cationically polymerizable group (especially epoxy group).

Ar11〜Ar14のうち1つ以上は重合性基を有する置換基を含む。なかでも、形成される膜の強度がより優れる点で、Ar11〜Ar14のうち2〜4個が重合性基を有する置換基を含むことが好ましく、Ar11〜Ar14のうち2または3個が重合性基を有する置換基を含むことがより好ましく、Ar11〜Ar14のうち2個が重合性基を有する置換基を含むことが特に好ましい。
なお、重合性基を有する置換基の構造は特に限定されないが、本発明の効果がより優れる点で、以下一般式(M2)で表される基が好ましい。
一般式(M2) *−L−V
は、単結合または2価の連結基を表す。2価の連結基の具体例および好適な態様は、上述したLおよびLで表される2価の連結基と同じである。
Vは、重合性基を表す。重合性基の定義は、上述の通りである。
One or more of Ar 11 to Ar 14 include a substituent having a polymerizable group. Especially, it is preferable that 2-4 of Ar < 11 > -Ar < 14 > contains the substituent which has a polymeric group at the point which the intensity | strength of the film | membrane formed is more excellent, and 2 or 3 among Ar < 11 > -Ar < 14 >. It is more preferable that each includes a substituent having a polymerizable group, and it is particularly preferable that two of Ar 11 to Ar 14 include a substituent having a polymerizable group.
In addition, although the structure of the substituent which has a polymeric group is not specifically limited, The group represented with the following general formula (M2) is preferable at the point which the effect of this invention is more excellent.
The general formula (M2) * -L B -V
L B represents a single bond or a divalent linking group. Specific examples and preferred embodiments of the divalent linking group are the same as the divalent linking group represented by L 1 and L 2 described above.
V represents a polymerizable group. The definition of the polymerizable group is as described above.

上記一般式(M1)中、Ar11〜Ar14は、それぞれ互いに連結していてもよい。Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結したときに形成されることとなる環は、脂環であることが好ましい。Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結するときの連結基としては、単結合、−O−などを挙げることができ、単結合であることが好ましい。Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結するときに形成される環(Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結するときの連結基を含む1つの環を意味し、Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結した結果として形成された縮合環全体ではない)の環員数は5または6であることが好ましく、5であることがより好ましい。
Ar11〜Ar14がそれぞれ互いに連結している場合、Ar11〜Ar14のうち互いに隣り合う2つが連結していることが好ましく、Ar13およびAr14が連結していることがより好ましく、Ar11〜Ar14のうちAr13およびAr14のみが連結していることが特に好ましい。
In the general formula (M1), Ar 11 to Ar 14 may be connected to each other. The ring that is formed when Ar 11 to Ar 14 are connected to each other is preferably an alicyclic ring. Examples of the linking group when Ar 11 to Ar 14 are linked to each other include a single bond and —O—, and a single bond is preferable. Ar 11 to Ar 14 is means one ring containing a linking group when the ring (Ar 11 to Ar 14 which are formed when connecting to each other are linked to each other, Ar 11 to Ar 14 are linked to each other The number of ring members of the condensed ring formed as a result is preferably 5 or 6, and more preferably 5.
If Ar 11 to Ar 14 are linked to each other, Ar 11 is preferably linked are two mutually adjacent of to Ar 14, it is more preferable that Ar 13 and Ar 14 are linked, Ar It is particularly preferable that only Ar 13 and Ar 14 of 11 to Ar 14 are linked.

組成物に重合性化合物が含まれる場合、組成物中に含まれる重合性化合物の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、20〜95質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましく、35〜60質量%がさらに好ましい。
また、一般式(1)で表される化合物と重合性化合物との質量比は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、一般式(1)で表される化合物100質量部に対して、重合性化合物の含有量が10〜120質量部であることが好ましく、10〜90質量部であることがより好ましく、30〜80質量部であることがさらに好ましい。
なお、組成物中においては、重合性化合物は1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
When a polymerizable compound is contained in the composition, the content of the polymerizable compound contained in the composition is 20 to 95 with respect to the total solid content in the composition in that the effect of the present invention is more excellent. % By mass is preferable, 30 to 80% by mass is more preferable, and 35 to 60% by mass is further preferable.
In addition, the mass ratio of the compound represented by the general formula (1) and the polymerizable compound is not particularly limited. On the other hand, it is preferable that content of a polymeric compound is 10-120 mass parts, It is more preferable that it is 10-90 mass parts, It is further more preferable that it is 30-80 mass parts.
In the composition, only one type of polymerizable compound may be used, or two or more types may be used in combination.

(重合開始剤)
重合開始剤としては、光、熱のいずれか、または、その双方により重合性化合物の重合を開始する能力を有する限り、特に制限はないが、光重合開始剤であることが好ましい。光で重合を開始させる場合、紫外線領域から可視の光線に対して感光性を有するものが好ましい。
また、熱で重合を開始させる場合には、150〜250℃で分解する重合開始剤が好ましい。
重合開始剤としては、少なくとも芳香族基を有する化合物であることが好ましく、例えば、アシルホスフィン化合物、アセトフェノン化合物、α−アミノケトン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ケタール誘導体化合物、チオキサントン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、トリハロメチル化合物、アゾ化合物、有機過酸化物、ジアゾニウム化合物、ヨードニウム化合物、スルホニウム化合物、アジニウム化合物、メタロセン化合物等のオニウム塩化合物、有機硼素塩化合物、ジスルホン化合物、チオール化合物などが挙げられる。
上記重合開始剤としては、特開2013−253224号公報の段落0217〜0228の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
オキシム化合物としては、市販品であるIRGACURE−OXE01(BASF社製)、IRGACURE−OXE02(BASF社製)を用いることができる。アセトフェノン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−907、IRGACURE−369、および、IRGACURE−379(商品名:いずれもBASFジャパン社製)を用いることができる。また、アシルホスフィン系開始剤としては、市販品であるIRGACURE−819やDAROCUR−TPO(商品名:いずれもBASFジャパン社製)を用いることができる。
また、フッ素原子を有するオキシム開始剤を用いることも可能である。そのような開始剤の具体例としては、特開2010−262028号公報に記載されている化合物、特表2014−500852号公報の段落番号0345に記載されている化合物24、36〜40、特開2013−164471号公報の段落番号0101に記載されている化合物(C−3)が挙げられる。
また、特開2012−251125号公報(対応する国際公開第2012/153826号)の段落[0119]〜[0215]や特開2012−255148号公報(対応する国際公開第2012−157784号)の段落[0129]〜[0226]等に記載の重合開始剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
組成物に重合開始剤が含まれる場合、組成物中に含まれる重合開始剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、0.1〜10質量%が好ましく、0.5〜5質量%がより好ましい。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is not particularly limited as long as it has the ability to initiate polymerization of the polymerizable compound by either light, heat, or both, but is preferably a photopolymerization initiator. When polymerization is initiated by light, those having photosensitivity to visible light from the ultraviolet region are preferred.
Moreover, when starting superposition | polymerization with a heat | fever, the polymerization initiator decomposed | disassembled at 150-250 degreeC is preferable.
The polymerization initiator is preferably a compound having at least an aromatic group. For example, an acylphosphine compound, an acetophenone compound, an α-aminoketone compound, a benzophenone compound, a benzoin ether compound, a ketal derivative compound, a thioxanthone compound, an oxime compound, Hexaarylbiimidazole compounds, trihalomethyl compounds, azo compounds, organic peroxides, diazonium compounds, iodonium compounds, onium salt compounds such as sulfonium compounds, azinium compounds, metallocene compounds, organic boron salt compounds, disulfone compounds, thiol compounds, etc. Can be mentioned.
As the polymerization initiator, the description in paragraphs 0217 to 0228 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
As the oxime compound, commercially available products IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF) and IRGACURE-OXE02 (manufactured by BASF) can be used. As the acetophenone-based initiator, commercially available products IRGACURE-907, IRGACURE-369, and IRGACURE-379 (trade names: all manufactured by BASF Japan Ltd.) can be used. In addition, as the acylphosphine-based initiator, commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (trade names: both manufactured by BASF Japan Ltd.) can be used.
It is also possible to use an oxime initiator having a fluorine atom. Specific examples of such an initiator include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24, 36-40 described in paragraph No. 0345 of JP 2014-500852 A, JP The compound (C-3) described in paragraph number 0101 of 2013-164471 gazette is mentioned.
Further, paragraphs [0119] to [0215] of JP2012-251125A (corresponding international publication 2012/153826) and paragraphs of JP2012-255148A (corresponding international publication 2012-157784). The polymerization initiators described in [0129] to [0226] can be used, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
When a polymerization initiator is contained in the composition, the content of the polymerization initiator contained in the composition is 0.1% relative to the total solid content in the composition in that the effect of the present invention is more excellent. 10 mass% is preferable, and 0.5-5 mass% is more preferable.

(界面活性剤)
界面活性剤としては特に制限されないが、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックF171、同F172、同F173、同F176、同F177、同F141、同F142、同F143、同F144、同R30、同F437、同F475、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781、F781F(以上、DIC(株)製)、フロラードFC430、同FC431、同FC171(以上、住友スリーエム(株)製)、サーフロンS−382、同SC−101、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC1068、同SC−381、同SC−383、同S393、同KH−40(以上、旭硝子(株)製)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA社製)等が挙げられる。
界面活性剤としては、特開2012−251125号公報(対応する国際公開第2012/153826号)の段落[0256]〜[0264]や特開2012−255148号公報(対応する国際公開第2012−157784号)の段落[0295]〜[0303]等に記載の界面活性剤が援用でき、これらの内容は本願明細書に取り込まれる。
組成物に界面活性剤が含まれる場合、組成物中に含まれる界面活性剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
(Surfactant)
Although it does not restrict | limit especially as surfactant, Various surfactants, such as a fluorochemical surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone surfactant, can be used.
Examples of the fluorosurfactant include Megafac F171, F172, F173, F176, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780, F781, F781F (above, DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC- 101, SC-103, SC-104, SC-105, SC1068, SC-381, SC-383, SC-383, S393, KH-40 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PF636, PF656 PF6320, PF6520, PF7002 (manufactured by OMNOVA) and the like.
As the surfactant, paragraphs [0256] to [0264] of JP2012-251125A (corresponding to International Publication No. 2012/153826) and JP2012-255148A (corresponding to International Publication No. 2012-157784). No.), the surfactants described in paragraphs [0295] to [0303] and the like can be used, and the contents thereof are incorporated herein.
When a surfactant is contained in the composition, the content of the surfactant contained in the composition is 0.01 with respect to the total solid content in the composition in that the effect of the present invention is more excellent. 10 mass% is preferable, and 0.01-5 mass% is more preferable.

(シランカップリング剤)
シランカップリング剤としては特に制限されないが、例えば、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−602)、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−603)、N−β−アミノエチル−γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBE−602)、γ−アミノプロピル−トリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−903)、γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBE−903)、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製商品名 KBM−503)などが挙げられる。
組成物にシランカップリング剤が含まれる場合、組成物中に含まれるシランカップリング剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、0.01〜10質量%が好ましく、0.01〜5質量%がより好ましい。
(Silane coupling agent)
The silane coupling agent is not particularly limited. For example, N-β-aminoethyl-γ-aminopropyl-methyldimethoxysilane (trade name KBM-602 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), N-β-aminoethyl-γ- Aminopropyl-trimethoxysilane (trade name KBM-603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), N-β-aminoethyl-γ-aminopropyl-triethoxysilane (trade name KBE-602 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), γ-amino Propyl-trimethoxysilane (trade name KBM-903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), γ-aminopropyl-triethoxysilane (trade name KBE-903 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical) Industrial brand name KBM-503) and the like.
When the composition contains a silane coupling agent, the content of the silane coupling agent contained in the composition is 0 with respect to the total solid content in the composition in that the effect of the present invention is more excellent. 0.01 to 10% by mass is preferable, and 0.01 to 5% by mass is more preferable.

(重合禁止剤)
本発明の組成物の製造中あるいは保存中において重合性化合物の不要な重合を阻止するために、組成物には重合禁止剤が含まれていてもよい。
重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物、N−オキシド化合物類、ピペリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン1−オキシルフリーラジカル化合物類、N−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類、ジアゾニウム化合物類、カチオン染料類、スルフィド基含有化合物類、ニトロ基含有化合物類、FeCl、CuCl等の遷移金属化合物類が挙げられる。
組成物に重合禁止剤が含まれる場合、組成物中に含まれる重合禁止剤の含有量としては、本発明の効果がより優れる点で、組成物中の全固形分に対して、0.001〜1質量%が好ましく、0.001〜0.5質量%がより好ましい。
(Polymerization inhibitor)
In order to prevent unnecessary polymerization of the polymerizable compound during production or storage of the composition of the present invention, the composition may contain a polymerization inhibitor.
Polymerization inhibitors include phenolic hydroxyl group-containing compounds, N-oxide compounds, piperidine 1-oxyl free radical compounds, pyrrolidine 1-oxyl free radical compounds, N-nitrosophenylhydroxylamines, diazonium compounds, cationic dyes , Transition group compounds such as sulfide group-containing compounds, nitro group-containing compounds, FeCl 3 , CuCl 2 and the like.
When the composition contains a polymerization inhibitor, the content of the polymerization inhibitor contained in the composition is 0.001 with respect to the total solid content in the composition in that the effect of the present invention is more excellent. -1 mass% is preferable and 0.001-0.5 mass% is more preferable.

(無機粒子)
無機粒子としては、屈折率が高く、無色、白色または透明な無機粒子であることが好ましく、チタン(Ti)、ジルコニウム(Zr)、アルミニウム(Al)、ケイ素(Si)、亜鉛(Zn)またはマグネシウム(Mg)の酸化物粒子が挙げられ、二酸化チタン(TiO2)粒子、酸化ジルコニウム(ZrO2)粒子または二酸化珪素(SiO2)粒子であることがより好ましい。
無機粒子の一次粒子径は特に制限されず、1〜100nmが好ましく、1〜80nmがより好ましく、1〜50nmが特に好ましい。無機粒子の一次粒子径が上記範囲内であれば、分散性が優れると共に、屈折率および透過率が向上する。
無機粒子の屈折率は特に制限はないが、高屈折率を得る観点から、1.75〜2.70であることが好ましく、1.90〜2.70であることがより好ましい。
無機粒子の比表面積は特に制限はないが、10〜400m2/gが好ましく、20〜200m2/gがより好ましく、30〜150m2/gがさらに好ましい。
また、無機粒子の形状には特に制限はなく、例えば、米粒状、球形状、立方体状、紡錘形状または不定形状などが挙げられる。
無機粒子は、有機化合物により表面処理されたものであってもよい。表面処理に用いる有機化合物の例には、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤またはチタネートカップリング剤が含まれる。なかでも、ステアリン酸またはシランカップリング剤が好ましい。
また、無機粒子の表面は、耐候性がより向上する点で、アルミニウム、ケイ素、ジルコニアなどの酸化物により覆われていることも好ましい。
無機粒子としては、市販されているものを好ましく用いることができる。
無機粒子は、1種単独でも、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Inorganic particles)
The inorganic particles are preferably colorless, white or transparent inorganic particles having a high refractive index, and titanium (Ti), zirconium (Zr), aluminum (Al), silicon (Si), zinc (Zn) or magnesium. Examples thereof include oxide particles of (Mg), and titanium dioxide (TiO 2 ) particles, zirconium oxide (ZrO 2 ) particles, or silicon dioxide (SiO 2 ) particles are more preferable.
The primary particle diameter of the inorganic particles is not particularly limited and is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 80 nm, and particularly preferably 1 to 50 nm. When the primary particle diameter of the inorganic particles is within the above range, the dispersibility is excellent and the refractive index and the transmittance are improved.
The refractive index of the inorganic particles is not particularly limited, but is preferably 1.75 to 2.70, more preferably 1.90 to 2.70 from the viewpoint of obtaining a high refractive index.
Although the specific surface area is not particularly limited in the inorganic particles is preferably from 10 to 400 m 2 / g, more preferably from 20 to 200 m 2 / g, more preferably 30 to 150 m 2 / g.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the shape of an inorganic particle, For example, a rice grain shape, a spherical shape, a cube shape, a spindle shape, or an indefinite shape is mentioned.
The inorganic particles may be those that have been surface-treated with an organic compound. Examples of the organic compound used for the surface treatment include polyol, alkanolamine, stearic acid, silane coupling agent or titanate coupling agent. Of these, stearic acid or a silane coupling agent is preferable.
Moreover, it is also preferable that the surface of the inorganic particles is covered with an oxide such as aluminum, silicon, or zirconia in that the weather resistance is further improved.
As the inorganic particles, commercially available particles can be preferably used.
Inorganic particles may be used singly or in combination of two or more.

(硬化促進剤)
本発明の組成物は、特に重合性化合物にエポキシ基などのカチオン重合性基を含む場合、硬化促進剤を含むことが好ましい。
硬化速度を向上させる硬化促進剤としては、酸無水物、塩基(脂肪族アミン、芳香族アミン、変性アミン)、酸(スルホン酸、リン酸、カルボン酸等)、ポリメルカプタンなどが挙げられる。なかでも、好ましくは酸無水物で、さらに好ましくは脂肪族酸無水物が好ましい。
(Curing accelerator)
The composition of the present invention preferably contains a curing accelerator, particularly when the polymerizable compound contains a cationic polymerizable group such as an epoxy group.
Examples of the curing accelerator that improves the curing rate include acid anhydrides, bases (aliphatic amines, aromatic amines, modified amines), acids (sulfonic acids, phosphoric acids, carboxylic acids, etc.), polymercaptans, and the like. Among these, an acid anhydride is preferable, and an aliphatic acid anhydride is more preferable.

本発明の組成物は、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、フィルタで濾過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているものであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等のフッ素樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)等のポリオレフィン樹脂(高密度、超高分子量を含む)等によるフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)およびナイロンが好ましい。
フィルタの孔径は、0.1〜7.0μm程度が適しており、好ましくは0.2〜2.5μm程度、より好ましくは0.2〜1.5μm程度、さらに好ましくは0.3〜0.7μmである。この範囲とすることにより、ろ過詰まりを抑えつつ、組成物に含まれる不純物や凝集物など、微細な異物を確実に除去することが可能となる。
フィルタを使用する際、異なるフィルタを組み合わせてもよい。その際、第1のフィルタでのフィルタリングは、1回のみでもよいし、2回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて2回以上フィルタリングを行う場合は1回目のフィルタリングの孔径より2回目以降の孔径が同じ、または、大きい方が好ましい。また、上述した範囲内で異なる孔径の第1のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)、または、株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
第2のフィルタは、上述した第1のフィルタと同様の材料等で形成されたものを使用することができる。第2のフィルタの孔径は、0.2〜10.0μm程度が適しており、好ましくは0.2〜7.0μm程度、さらに好ましくは0.3〜6.0μm程度である。この範囲とすることにより、組成物に含有されている成分粒子を残存させたまま、組成物に混入している異物を除去することができる。
例えば、第1のフィルタでのフィルタリングは、分散液のみで行い、他の成分を混合した後で、第2のフィルタリングを行ってもよい。
The composition of the present invention is preferably filtered with a filter for the purpose of removing foreign substances or reducing defects. Any filter can be used without particular limitation as long as it has been conventionally used for filtration. For example, a filter made of fluorine resin such as PTFE (polytetrafluoroethylene), polyamide resin such as nylon, polyolefin resin (including high density and ultra high molecular weight) such as polyethylene and polypropylene (PP), and the like can be given. Among these materials, polypropylene (including high density polypropylene) and nylon are preferable.
The filter has a pore size of about 0.1 to 7.0 μm, preferably about 0.2 to 2.5 μm, more preferably about 0.2 to 1.5 μm, and still more preferably 0.3 to 0.0 μm. 7 μm. By setting it within this range, it becomes possible to reliably remove fine foreign matters such as impurities and aggregates contained in the composition while suppressing filtration clogging.
When using filters, different filters may be combined. At that time, the filtering by the first filter may be performed only once or may be performed twice or more. When filtering two or more times by combining different filters, it is preferable that the second and subsequent pore diameters are the same or larger than the pore diameter of the first filtering. Moreover, you may combine the 1st filter of a different hole diameter within the range mentioned above. The pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer. As a commercially available filter, for example, select from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Japan Microlith Co., Ltd.), KITZ Micro Filter Co., Ltd., etc. Can do.
As the second filter, a filter formed of the same material as the first filter described above can be used. The pore size of the second filter is suitably about 0.2 to 10.0 μm, preferably about 0.2 to 7.0 μm, and more preferably about 0.3 to 6.0 μm. By setting it as this range, the foreign material mixed in the composition can be removed while the component particles contained in the composition remain.
For example, the filtering by the first filter may be performed only with the dispersion, and the second filtering may be performed after mixing other components.

<用途>
本発明の化合物および組成物の用途は特に制限されないが、例えば、表示装置や固体撮像素子の高屈折部材(マイクロレンズ、カラーフィルタの下地層や隣接層などの透明膜、カラーフィルタのホワイトピクセル)、レンズ(眼鏡レンズ、デジタルカメラ用レンズ、フレネルレンズ、プリズムレンズなど)、光学用オーバーコート剤、ハードコート剤、反射防止膜、光ファイバー、光導波路、LED(Light Emitting Diode)用封止材料、LED用平坦化材料、太陽光電池用コーティング材として有用である。
<Application>
The use of the compound and composition of the present invention is not particularly limited. For example, a high-refractive member of a display device or a solid-state imaging device (a microlens, a transparent film such as a base layer or an adjacent layer of a color filter, a white pixel of a color filter) , Lenses (glass lenses, digital camera lenses, Fresnel lenses, prism lenses, etc.), optical overcoat agents, hard coat agents, antireflection films, optical fibers, optical waveguides, LED (Light Emitting Diode) sealing materials, LEDs It is useful as a flattening material for solar cells and a coating material for solar cells.

<膜>
本発明の膜は、本発明の組成物から得られる膜である。組成物中に重合性基を有する成分(例えば、重合性化合物)が含まれる場合は、組成物に硬化処理を施すことにより、硬化膜を得ることができる。
本発明の膜の屈折率は特に制限されないが、1.55以上であることが好ましく、1.6〜2.0であることがより好ましい。
本発明の膜の光透過率は特に制限されないが、400〜700nmの波長領域全域に渡って90%以上であることが好ましく、95%以上であることがより好ましく、100%であることがさらに好ましい。
本発明の膜の厚みは特に制限されないが、0.1〜20μmであることが好ましく、0.1〜10μmであることがより好ましく、0.5〜4μmであることがさらに好ましい。
本発明の組成物を硬化させる方法は特に制限されず、加熱や露光などが挙げられる。加熱に使用する装置は特に制限されず、送風乾燥機、オーブン、赤外線乾燥機、加熱ドラムなどを用いることができる。露光に使用装置は特に制限されず、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン(Xe)ランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯などを用いることができる。
上記膜は、各種用途に適用でき、例えば、固体撮像素子や表示装置などの光学機器に適用できる。
<Membrane>
The film of the present invention is a film obtained from the composition of the present invention. When a component having a polymerizable group (for example, a polymerizable compound) is contained in the composition, a cured film can be obtained by subjecting the composition to a curing treatment.
The refractive index of the film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 1.55 or more, and more preferably 1.6 to 2.0.
The light transmittance of the film of the present invention is not particularly limited, but is preferably 90% or more over the entire wavelength region of 400 to 700 nm, more preferably 95% or more, and even more preferably 100%. preferable.
Although the thickness in particular of the film | membrane of this invention is not restrict | limited, It is preferable that it is 0.1-20 micrometers, It is more preferable that it is 0.1-10 micrometers, It is further more preferable that it is 0.5-4 micrometers.
The method for curing the composition of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include heating and exposure. The apparatus used for heating is not particularly limited, and an air dryer, an oven, an infrared dryer, a heating drum, or the like can be used. The apparatus used for the exposure is not particularly limited, and a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon (Xe) lamp, a chemical lamp, a carbon arc lamp, or the like can be used.
The film can be applied to various uses, for example, optical devices such as a solid-state imaging device and a display device.

<固体撮像素子>
本発明の膜は、固体撮像素子に好適に適用できる。
例えば、基板上に、固体撮像素子(CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサ等)の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる受光素子を有するとともに、カラーフィルタの下に本発明の膜である下塗り膜を備えた構成などが挙げられる。
<Solid-state imaging device>
The film of the present invention can be suitably applied to a solid-state image sensor.
For example, a light receiving element made of a plurality of photodiodes and polysilicon constituting a light receiving area of a solid-state imaging device (CCD (Charge Coupled Device) image sensor, CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor, etc.) is provided on a substrate. In addition, a configuration in which an undercoat film, which is a film of the present invention, is provided under the color filter, and the like.

<表示装置>
本発明の膜は、表示装置に好適に適用できる。
本発明の表示装置は、デジタル一眼レフカメラのビューファインダやヘッドマウント形ディスプレイなどに用いられる小型・高精細有機EL表示装置(例えば、マイクロOLED)であることが好ましく、例えば、ガラスなどの基板の上に、各画素がマトリクス状に配置されてなる表示領域が設けられたものであることが好ましい。
以下に図面を参照して、本発明の表示装置の一実施態様について説明する。
図1は、本発明の組成物をカラーフィルタの下地剤として使用した表示装置の一態様の1画素分の断面図である。各画素は、例えば、白色光を発生する複数の有機EL素子20と、カラーフィルタ50(50R、50G、50B)との組み合わせにより三原色(赤,緑および青)のいずれかの光を発生するものである。複数の有機EL素子20のピッチ(中心間距離)pは、例えば30μm以下、具体的には例えば約2μmないし3μmである。すなわち、この表示装置は、有機EL素子20の寸法が極めて小さい、いわゆるマイクロディスプレイと呼ばれるものである。なお、この表示装置上には接眼レンズ(図示せず)が設けられており、使用者は、表示装置に表示された画像を、接眼レンズを通して拡大して見るようになっている。そのため、使用者が見ることができるのは、表示装置に表示された画像のうち、接眼レンズの取り込み角の範囲内の部分のみである。
有機EL素子20は、基板10上に行列状に配置されると共に、保護膜30により被覆されている。保護膜30上には、接着層(図示せず)を間にして、ガラスなどよりなる封止用基板(図示せず)が全面にわたって貼り合わせられている。この封止用基板の基板10側の表面にカラーフィルタ50が設けられている。
カラーフィルタ50は、複数の有機EL素子20に対向する透過赤色領域(図示せず)を有している。透過色領域の一部には、半透過領域(図示せず)が設けられている。これにより、この表示装置では、有機EL素子20の寸法が小さい場合にも、隣接する透過色領域を通過した光の回折による混色を抑えることが可能となっている。
カラーフィルタ50の下には、本発明の膜である下地層40が設けられている。
<Display device>
The film of the present invention can be suitably applied to a display device.
The display device of the present invention is preferably a small and high-definition organic EL display device (for example, a micro OLED) used for a viewfinder or a head mounted display of a digital single lens reflex camera. It is preferable that a display area in which each pixel is arranged in a matrix is provided.
An embodiment of a display device of the present invention will be described below with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of one pixel of one embodiment of a display device using the composition of the present invention as a base material for a color filter. Each pixel generates light of one of the three primary colors (red, green, and blue) by combining a plurality of organic EL elements 20 that generate white light and a color filter 50 (50R, 50G, 50B), for example. It is. The pitch (distance between centers) p of the plurality of organic EL elements 20 is, for example, 30 μm or less, specifically, for example, about 2 μm to 3 μm. That is, this display device is a so-called micro display in which the size of the organic EL element 20 is extremely small. Note that an eyepiece lens (not shown) is provided on the display device, and the user views an image displayed on the display device in an enlarged manner through the eyepiece lens. Therefore, the user can see only a portion of the image displayed on the display device within the range of the eyepiece lens capture angle.
The organic EL elements 20 are arranged in a matrix on the substrate 10 and are covered with a protective film 30. A sealing substrate (not shown) made of glass or the like is bonded to the entire surface of the protective film 30 with an adhesive layer (not shown) in between. A color filter 50 is provided on the surface of the sealing substrate on the substrate 10 side.
The color filter 50 has a transmissive red region (not shown) that faces the plurality of organic EL elements 20. A semi-transmissive area (not shown) is provided in a part of the transmissive color area. Thereby, in this display device, even when the dimension of the organic EL element 20 is small, it is possible to suppress color mixing due to diffraction of light that has passed through the adjacent transmission color region.
Under the color filter 50, an underlayer 40 which is a film of the present invention is provided.

以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、本実施例に関しては組成物の調製後に、全て日本ポール製DFA4201NXEY(0.45μmナイロンフィルター)を用いてろ過を行った。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these.
In addition, about the present Example, after preparing the composition, it filtered all using Nippon Pole DFA4201NXEY (0.45 micrometer nylon filter).

<化合物の合成>
公知の方法により下記A−1〜A−5を合成した。なお、各化合物の同定はH−NMRにより行った。図3にA−1のH−NMRチャートを示す。
<Synthesis of compounds>
The following A-1 to A-5 were synthesized by a known method. Each compound was identified by 1 H-NMR. FIG. 3 shows a 1 H-NMR chart of A-1.

<合成例1:A−1(X)> <Synthesis Example 1: A-1 (X)>

(単官能フルオレンモノマーXの合成)
以下に示す合成スキームおよび合成方法(工程A〜D)に従って、単官能フルオレンモノマーXを合成した。
(Synthesis of monofunctional fluorene monomer X)
Monofunctional fluorene monomer X was synthesized according to the following synthesis scheme and synthesis method (steps A to D).

(工程A)
マグネシウム,削り状(和光純薬(株)製)15.8g(0.2171mol)を含むテトラヒドロフラン200mLを攪拌しているところに、2−ブロモナフタレン(東京化成工業(株)製)134.9g(0.6514mol)のテトラヒドロフラン溶液600mLを滴下し、Grignard試薬を作製した。その後、0℃に冷却し、11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オン(東京化成工業製)50gのテトラヒドロフラン(THF)溶液600mLを滴下した。滴下後、30分攪拌した後に飽和塩化アンモニウム水溶液を滴下し、反応を停止した。分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=4/1)による精製を行い、目的の三級アルコール65g(収率:83.5%)を得た。
(Process A)
While stirring 200 mL of tetrahydrofuran containing 15.8 g (0.2171 mol) of magnesium and shavings (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 134.9 g of 2-bromonaphthalene (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) A solution of 0.6514 mol) in tetrahydrofuran was added dropwise to prepare a Grignard reagent. Thereafter, the mixture was cooled to 0 ° C., and 600 mL of a tetrahydrofuran (THF) solution of 50 g of 11H-benzo [b] fluoren-11-one (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise. After dripping, after stirring for 30 minutes, saturated ammonium chloride aqueous solution was dripped, and reaction was stopped. The oil obtained by liquid separation and concentration was purified by column chromatography (hexane / ethyl acetate = 4/1) to obtain 65 g (yield: 83.5%) of the target tertiary alcohol.

(工程B)
工程Aで得られた三級アルコール62g(0.1730mol)と2−ナフトール(東京化成工業(株)製)29.9g(0.2076mol)、3−メルカプトプロピオン酸(東京化成工業(株)製)2.8g(0.02595mol)のトルエン600mL溶液を60℃に加熱した。その溶液にメタンスルホン酸(東京化成工業(株)製)249.9g(2.595mol)を滴下した。滴下後、1時間攪拌した後に水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルをカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)による精製を行い、目的のナフトール付加体77g(収率:91.9%)を得た。
(Process B)
62 g (0.1730 mol) of the tertiary alcohol obtained in Step A, 29.9 g (0.2076 mol) of 2-naphthol (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 3-mercaptopropionic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) ) A solution of 2.8 g (0.02595 mol) in 600 mL of toluene was heated to 60 ° C. To the solution, 249.9 g (2.595 mol) of methanesulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 1 hour, water and ethyl acetate were added, and the oil obtained by liquid separation and concentration was purified by column chromatography (hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the desired naphthol adduct. 77 g (yield: 91.9%) was obtained.

(工程C)
工程Bで得られたナフトール付加体74g(0.1527mol)と炭酸エチレン(東京化成工業(株)製)26.9g(0.3054mol)、炭酸カリウム(和光純薬(株)製)42.2g(0.3054mol)のジメチルホルムアルデヒド溶液740mLを110℃で3時間攪拌した。原料の消失を確認後、水酸化カリウム18.8%水溶液91gを添加した。原料の炭酸エチレンの消失を確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して、目的のアルコール68g(収率:84.3%)を得た。
(Process C)
74 g (0.1527 mol) of naphthol adduct obtained in Step B, 26.9 g (0.3054 mol) of ethylene carbonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 42.2 g of potassium carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 740 mL of a dimethylformaldehyde solution (0.3054 mol) was stirred at 110 ° C. for 3 hours. After confirming disappearance of the raw materials, 91 g of an aqueous 18.8% potassium hydroxide solution was added. After confirming the disappearance of the starting ethylene carbonate, water and ethyl acetate were added, and the mixture was separated and concentrated to obtain 68 g of the desired alcohol (yield: 84.3%).

(工程D)
工程Cで得られたアルコールを68g(0.1286mol)のテトラヒドロフラン1000mL溶液にトリエチルアミン(和光純薬(株)製)52.1g(0.5145mol)を加え、0℃に冷却した。次にアクリル酸クロライド(東京化成工業(株)製)23.3g(0.2573mol)を滴下し、30分攪拌した。原料が消失していることを確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルに酢酸エチルを加え30%溶液にし、0℃に冷却したメタノールに滴下し、析出してきた目的の単官能フルオレンモノマーX(45g)(収率:60.0%)をろ過により回収した。
(Process D)
Triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) (52.1 g, 0.5145 mol) was added to a solution of 68 g (0.1286 mol) of tetrahydrofuran obtained in Step C in 1000 mL of tetrahydrofuran and cooled to 0 ° C. Next, 23.3 g (0.2573 mol) of acrylic acid chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise and stirred for 30 minutes. After confirming the disappearance of the raw materials, water and ethyl acetate were added, followed by liquid separation and concentration. Ethyl acetate was added to the resulting oil to make a 30% solution, which was then added dropwise to methanol cooled to 0 ° C. The target monofunctional fluorene monomer X (45 g) (yield: 60.0%) was recovered by filtration.

単官能フルオレンモノマーX(5g)とジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(DPMP)(SC有機化学製)1.68gのシクロヘキサノン(和光純薬製)65g溶液にトリエチルアミン(和光純薬製)0.1gを添加し、65℃で12時間攪拌した。その溶液にイタコン酸(和光純薬製)0.56gとV−601(和光純薬製)0.01gを添加し、90℃で加熱攪拌した。さらに2時間後、V−601(和光純薬製)0.01gを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきたA−1(X)をろ過により回収した(7g、収率97%)。得られたA−1(X)をシクロヘキサノンに溶解させ、A−1(X)の33.6%溶液を得た。
なお、A−1(X)においては、m=4、n=2であった。
Monofunctional fluorene monomer X (5 g) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP) (manufactured by SC Organic Chemical) 1.68 g of cyclohexanone (manufactured by Wako Pure Chemical) 65 g solution in triethylamine (Wako Pure Chemical) 0.1 g) was added and stirred at 65 ° C. for 12 hours. 0.56 g of itaconic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 0.01 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added to the solution, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. Two hours later, 0.01 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to methanol, and the precipitated A-1 (X) was recovered by filtration (7 g, yield 97%). The obtained A-1 (X) was dissolved in cyclohexanone to obtain a 33.6% solution of A-1 (X).
In A-1 (X), m = 4 and n = 2.

また、使用する単官能フルオレンモノマーXおよびイタコン酸の量を変更した以外は、上記A−1(X)の製造手順と同様にして、m=3、n=3であるA−1(Y)を製造した。
さらに、使用する単官能フルオレンモノマーXおよびイタコン酸の量を変更した以外は、上記A−1(X)の製造手順と同様にして、m=2、n=4であるA−1(Z)を製造した。
In addition, A-1 (Y) where m = 3 and n = 3 in the same manner as the production procedure of A-1 (X) except that the amounts of monofunctional fluorene monomer X and itaconic acid used were changed. Manufactured.
Further, A-1 (Z) where m = 2 and n = 4 in the same manner as in the production procedure of A-1 (X) except that the amounts of the monofunctional fluorene monomer X and itaconic acid used were changed. Manufactured.

<合成例2:A−2> <Synthesis Example 2: A-2>

以下のスキームに従って、フルオレノンXを合成した。
5−ブロモ−1−インダノン50g(和光純薬製)とo−フタルアルデヒド32gのメタノール1500mL溶液を40℃に加熱し完溶させた。そこに水酸化カリウム(和光純薬製)40gのメタノール100mLを30℃以下に保持しながら滴下した。滴下後55℃で2時間加熱した後、0℃に冷却した。ろ過することで目的のフルオレノンXを37g得た。
Fluorenone X was synthesized according to the following scheme.
A solution of 50 g of 5-bromo-1-indanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 32 g of o-phthalaldehyde in 1500 mL of methanol was heated to 40 ° C. and completely dissolved. Thereto, 100 mL of methanol of 40 g of potassium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped while being kept at 30 ° C. or lower. After dropping, the mixture was heated at 55 ° C. for 2 hours and then cooled to 0 ° C. By filtration, 37 g of the desired fluorenone X was obtained.

11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オンの代わりに上記フルオレノンXを用い、かつ、DPMPの代わりにペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)(PEMP)(SC有機化学製)を用いた以外は、合成例1と同様の手順に従って、A−2を合成した。なお、A−2中のmは2、nは2であった。   Except for using 11H-benzo [b] fluoren-11-one in place of the above fluorenone X, and in place of DPMP pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) (PEMP) (manufactured by SC Organic Chemical). Prepared A-2 according to the same procedure as in Synthesis Example 1. In A-2, m was 2 and n was 2.

<合成例3:A−3> <Synthesis Example 3: A-3>

DPMPの代わりに、カレンズMT NR1(昭和電工製)を用いた以外は、合成例1と同様の手順に従って、A−3を合成した。なお、A−3中のmは2、nは1であった。   A-3 was synthesized according to the same procedure as in Synthesis Example 1 except that Karenz MT NR1 (manufactured by Showa Denko) was used instead of DPMP. In A-3, m was 2 and n was 1.

<合成例4:A−4> <Synthesis Example 4: A-4>

(化合物Xの合成)
以下スキームに従って、化合物Xを合成した。
5−ブロモ−1−インダノン50g(和光純薬製)とo−フタルアルデヒド32gのメタノール1500mL溶液を40℃に加熱し完溶させた。そこに水酸化カリウム(和光純薬製)40gのメタノール100mLを30℃以下に保持しながら滴下した。滴下後55℃で2時間加熱した後、0℃に冷却した。ろ過することで目的のフルオレノンを37g得た。
窒素雰囲気下、得られたフルオレノン30gと2−ナフタレンボロン酸(東京化成工業製)20gのTHF500mL溶液に炭酸カリウム35g(和光純薬製)の水250mL溶液を加え65℃に加熱した。そこにテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(東京化成工業製)1.1gを添加した。5時間加熱攪拌した後、分液し得られた有機層にメタノールを500mL加えた。析出してきた目的物である化合物Xをろ過により得た(31g、収率90%)。
(Synthesis of Compound X)
Compound X was synthesized according to the following scheme.
A solution of 50 g of 5-bromo-1-indanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 32 g of o-phthalaldehyde in 1500 mL of methanol was heated to 40 ° C. and completely dissolved. Thereto, 100 mL of methanol of 40 g of potassium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped while being kept at 30 ° C. or lower. After dropping, the mixture was heated at 55 ° C. for 2 hours and then cooled to 0 ° C. Filtration gave 37 g of the desired fluorenone.
Under a nitrogen atmosphere, a solution of 30 g of the obtained fluorenone and 20 g of 2-naphthaleneboronic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) in 500 mL of THF was added with a solution of 250 g of water of 35 g of potassium carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and heated to 65 ° C. Thereto was added 1.1 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) (manufactured by Tokyo Chemical Industry). After stirring with heating for 5 hours, 500 mL of methanol was added to the organic layer obtained by liquid separation. Compound X, which was the target product that had precipitated, was obtained by filtration (31 g, yield 90%).

11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オンの代わりに上記化合物Xを用い、2−ブロモナフタレンの代わりに2−(4−ブロモフェニル)−ベンゾチアゾール(東京化成製)を用いた以外は、合成例1の(単官能フルオレンモノマーXの合成)と同様の手順に従って、単官能フルオレンモノマーYを合成した。   Synthesis except that the above compound X was used in place of 11H-benzo [b] fluoren-11-one and 2- (4-bromophenyl) -benzothiazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was used in place of 2-bromonaphthalene. A monofunctional fluorene monomer Y was synthesized according to the same procedure as in Example 1 (Synthesis of monofunctional fluorene monomer X).

単官能フルオレンモノマーY(5g)とジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(DPMP)(SC有機化学製)1.68gのシクロヘキサノン(和光純薬製)65g溶液にトリエチルアミン(和光純薬製)0.1gを添加し、65℃で12時間攪拌した。その溶液をメタノール650mLに滴下し、ろ過して、固体を得た。得られた固体をシクロヘキサノン17gに溶解させた後に、イタコン酸(和光純薬製)0.56gとV−601(和光純薬製)0.01gを添加し、90℃で加熱攪拌した。さらに2時間後、V−601(和光純薬製)0.01gを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した(7g、収率97%)。
次に、得られた化合物(7g)のシクロヘキサノン溶液(16g)に対して、グリシジルメタクリレート(0.84g)(和光純薬製)、テトラブチルアンモニウムブロミド(0.29g)(和光純薬製)、p−メトキシフェノール(0.01g)(和光純薬製)を添加し、90℃で12時間攪拌したことでA−4のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、A−4中のmは3、nは3であった。
Monofunctional fluorene monomer Y (5 g) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP) (manufactured by SC Organic Chemical) 1.68 g of cyclohexanone (manufactured by Wako Pure Chemical) 65 g solution in triethylamine (Wako Pure Chemical) 0.1 g) was added and stirred at 65 ° C. for 12 hours. The solution was dropped into 650 mL of methanol and filtered to obtain a solid. After the obtained solid was dissolved in 17 g of cyclohexanone, 0.56 g of itaconic acid (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 0.01 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) were added, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. Two hours later, 0.01 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to methanol, and the precipitated compound was recovered by filtration (7 g, yield 97%).
Next, to the cyclohexanone solution (16 g) of the obtained compound (7 g), glycidyl methacrylate (0.84 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), tetrabutylammonium bromide (0.29 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), p-Methoxyphenol (0.01 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred at 90 ° C. for 12 hours to obtain a cyclohexanone solution of A-4. In A-4, m was 3, and n was 3.

<合成例5:A−5> <Synthesis Example 5: A-5>

11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オン(東京化成工業製)の代わりに9−フルオレノン(東京化成工業(株)製)を用い、2−ブロモナフタレンの代わりにブロモベンゼンを用い、2−ナフトールの代わりにフェノールを用いた以外は、合成例1と同様の手順に従って、A−5を合成した。なお、A−5中のmは3、nは3であった。   Instead of 11H-benzo [b] fluoren-11-one (manufactured by Tokyo Chemical Industry), 9-fluorenone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used, and bromobenzene was used instead of 2-bromonaphthalene, and 2-naphthol was used. A-5 was synthesized according to the same procedure as in Synthesis Example 1 except that phenol was used instead of. In addition, m in A-5 was 3, and n was 3.

<合成例6:A−6(X)> <Synthesis Example 6: A-6 (X)>

合成例4と同様に単官能フルオレンモノマーYを合成した。
単官能フルオレンモノマーY(3.65g)とジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(DPMP)(SC有機化学製)0.90gのシクロヘキサノン(和光純薬製)50g溶液にトリエチルアミン(和光純薬製)0.19gを添加し、65℃で12時間攪拌した。その溶液をメタノール500mLに滴下し、ろ過して、固体を得た。得られた固体をシクロヘキサノン16gに溶解させた後に、その溶液をアクリル酸(東京化成製)1.05gと130A(共栄社化学製)1.11gとV−601(和光純薬製)0.12gを添加し、90℃で加熱攪拌した。さらに2時間後、V−601(和光純薬製)0.12gを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した(6.5g、収率97%)。
次に、得られた化合物(6.5g)のシクロヘキサノン溶液(16g)に対して、グリシジルメタクリレート(0.30g)(和光純薬製)、テトラブチルアンモニウムブロミド(0.13g)(和光純薬製)、p−メトキシフェノール(0.01g)(和光純薬製)を添加し、90℃で12時間攪拌したことでA−6(X)のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、A−6(X)中のmは4、nは2であった(Mw:7800、Mn:5000)。
なお、使用する化合物の量を調整することにより、mが3、nが3のA−6(Y)も合成した。
Monofunctional fluorene monomer Y was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 4.
Monofunctional fluorene monomer Y (3.65 g) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP) (manufactured by SC Organic Chemical) 0.90 g of cyclohexanone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.19 g (manufactured by Koyo Pure Chemical) was added and stirred at 65 ° C. for 12 hours. The solution was dropped into 500 mL of methanol and filtered to obtain a solid. After the obtained solid was dissolved in 16 g of cyclohexanone, 1.05 g of acrylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry), 1.11 g of 130A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) The mixture was added and heated and stirred at 90 ° C. Two hours later, 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to methanol, and the precipitated compound was recovered by filtration (6.5 g, yield 97%).
Next, with respect to the cyclohexanone solution (16 g) of the obtained compound (6.5 g), glycidyl methacrylate (0.30 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), tetrabutylammonium bromide (0.13 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ), P-methoxyphenol (0.01 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred at 90 ° C. for 12 hours to obtain a cyclohexanone solution of A-6 (X). In A-6 (X), m was 4 and n was 2 (Mw: 7800, Mn: 5000).
In addition, A-6 (Y) in which m is 3 and n is 3 was also synthesized by adjusting the amount of the compound used.

<合成例7:A−7> <Synthesis Example 7: A-7>

合成例4と同様に単官能フルオレンモノマーYを合成した。
単官能フルオレンモノマーY(3.65g)とジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(DPMP)(SC有機化学製)(0.90g)とのシクロヘキサノン(和光純薬製)50g溶液に、トリエチルアミン(和光純薬製)0.19gを添加し、65℃で12時間攪拌した。その溶液をメタノール500mLに滴下し得られた固体をろ過により得た。得られた固体をシクロヘキサノン16gに溶解させた後にその溶液をM−5300(共栄社)1.14gとV−601(和光純薬製)0.12gを添加し、90℃で加熱攪拌した。さらに2時間後、V−601(和光純薬製)0.12gを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物(A−7)をろ過により回収した(6.5g、収率97%)。なお、A−7中のmは4、nは2であった(Mw8500、Mn6500)。
Monofunctional fluorene monomer Y was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 4.
In a 50 g solution of monofunctional fluorene monomer Y (3.65 g) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP) (SC Organic Chemical) (0.90 g) in a 50 g solution Triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.19 g was added and stirred at 65 ° C. for 12 hours. The solution was added dropwise to 500 mL of methanol to obtain a solid obtained by filtration. After the obtained solid was dissolved in 16 g of cyclohexanone, 1.14 g of M-5300 (Kyoeisha) and 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) were added to the solution, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. Two hours later, 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to methanol, and the precipitated compound (A-7) was recovered by filtration (6.5 g, yield 97%). In A-7, m was 4 and n was 2 (Mw8500, Mn6500).

<合成例8:A−8> <Synthesis Example 8: A-8>

合成例4と同様に単官能フルオレンモノマーYを合成した。
単官能フルオレンモノマーY(3.65g)とジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)(DPMP)(SC有機化学製)(0.90g)とのシクロヘキサノン(和光純薬製)50g溶液に、トリエチルアミン(和光純薬製)0.19gを添加し、65℃で12時間攪拌した。その溶液をメタノール500mLに滴下し得られた固体をろ過により得た。得られた固体をシクロヘキサノン16gに溶解させた後にその溶液をアクリル酸(東京化成製)1.05gとV−601(和光純薬製)0.12gを添加し、90℃で加熱攪拌した。さらに2時間後、V−601(和光純薬製)0.12gを添加した。反応終了後、反応液をメタノールに滴下し、析出してきた化合物をろ過により回収した(5.3g、収率95%)。
次に、得られた化合物(5.3g)のシクロヘキサノン溶液(16g)に対して、グリシジルメタクリレート(2.67g)(和光純薬製)、テトラブチルアンモニウムブロミド(0.30g)(和光純薬製)、p−メトキシフェノール(0.01g)(和光純薬製)を添加し、90℃で12時間攪拌したことでA−8のシクロヘキサノン溶液を得た。なお、A−8中のmは4、nは2であった(Mw8000、Mn6000)。
Monofunctional fluorene monomer Y was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 4.
In a 50 g solution of monofunctional fluorene monomer Y (3.65 g) and dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) (DPMP) (SC Organic Chemical) (0.90 g) in a 50 g solution Triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.19 g was added and stirred at 65 ° C. for 12 hours. The solution was added dropwise to 500 mL of methanol to obtain a solid obtained by filtration. After dissolving the obtained solid in 16 g of cyclohexanone, 1.05 g of acrylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry) and 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) were added to the solution, and the mixture was heated and stirred at 90 ° C. Two hours later, 0.12 g of V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added. After completion of the reaction, the reaction solution was added dropwise to methanol, and the precipitated compound was recovered by filtration (5.3 g, yield 95%).
Next, to the cyclohexanone solution (16 g) of the obtained compound (5.3 g), glycidyl methacrylate (2.67 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), tetrabutylammonium bromide (0.30 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) ), P-methoxyphenol (0.01 g) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added and stirred at 90 ° C. for 12 hours to obtain a cyclohexanone solution of A-8. In addition, m in A-8 was 4, and n was 2 (Mw8000, Mn6000).

上記M−1は、以下の手順に従って合成した。
11H−ベンゾ[b]フルオレン−11−オン(東京化成工業製)100g、2−ナフトール156.6g(東京化成工業(株)製)、3−メルカプトプロピオン酸(東京化成工業(株)製)6.9gにトルエン1200gを加え、60℃に加熱攪拌した。溶解後、メタンスルホン酸(東京化成工業(株)製)166.9gを滴下し、60℃にて2時間攪拌した。その後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮を行った。得られた濃縮物をカラムクロマトグラフィーで精製することにより目的のナフトール付加体101g(収率:46.5%)を得た。
得られたナフトール付加体101gのジメチルホルムアミド(DMF)1000g溶液に炭酸エチレン(東京化成工業(株)製)71.1g、炭酸カリウム(和光純薬(株)製)111.5gを加え、110℃で2時間撹拌した。原料の消失を確認後、水酸化カリウム18.5%水溶液245gを添加した。原料の炭酸エチレンの消失を確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して、目的のアルコール100g(収率:84.0%)を得た。
得られたアルコールを69gのテトラヒドロフラン1000mL溶液にトリエチルアミン(和光純薬(株)製)95.0gを加え、0℃に冷却した。次に、アクリル酸クロライド(東京化成工業(株)製)42.5gを滴下し、30分攪拌した。原料が消失していることを確認後、水と酢酸エチルを添加し、分液、濃縮して得られたオイルに酢酸エチルを加え30%溶液にし、0℃に冷却したメタノールに滴下し、析出してきた目的のM−1(57g)(収率:70.0%)をろ過により回収した。
The M-1 was synthesized according to the following procedure.
11H-benzo [b] fluoren-11-one (manufactured by Tokyo Chemical Industry) 100 g, 2-naphthol 156.6 g (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 3-mercaptopropionic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 6 1.9 g of toluene was added to 9 g, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. After dissolution, 166.9 g of methanesulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise and stirred at 60 ° C. for 2 hours. Then, water and ethyl acetate were added, and liquid separation and concentration were performed. The obtained concentrate was purified by column chromatography to obtain 101 g of the desired naphthol adduct (yield: 46.5%).
71.1 g of ethylene carbonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 111.5 g of potassium carbonate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) were added to a solution of 101 g of the resulting naphthol adduct 101 g of dimethylformamide (DMF) at 110 ° C. For 2 hours. After confirming disappearance of the raw materials, 245 g of a 18.5% aqueous solution of potassium hydroxide was added. After confirming the disappearance of the starting ethylene carbonate, water and ethyl acetate were added, followed by liquid separation and concentration to obtain 100 g (yield: 84.0%) of the target alcohol.
95.0 g of triethylamine (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to a solution of 69 g of tetrahydrofuran in 69 g of tetrahydrofuran, and the resulting alcohol was cooled to 0 ° C. Next, 42.5 g of acrylic acid chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was added dropwise and stirred for 30 minutes. After confirming the disappearance of the raw materials, water and ethyl acetate were added, followed by liquid separation and concentration. Ethyl acetate was added to the resulting oil to make a 30% solution, which was then added dropwise to methanol cooled to 0 ° C. The target M-1 (57 g) (yield: 70.0%) was recovered by filtration.

上記C−1は、特許文献1(段落0083)に記載の合成法を参照して、合成した。
上記C−2は、以下の手順に従って合成した。
窒素下で90℃に加熱したシクロヘキサノン7.2gに、ビニルナフタレン10g(Alfa Aesar社製)、アクリル酸2.0g(東京化成工業(株)製)、V−601 0.85g(和光純薬(株)製)のシクロヘキサノン溶液10.8gを2時間かけて滴下した。2時間攪拌後、V−601 0.4gを追加し、さらに5時間攪拌した。そこにグリシジルメタクリレート2.63g(東京化成工業(株)製)、テトラブチルアンモニウムブロミド 0.30g(東京化成工業(株)製)、p−メトキシフェノール0.005g(和光純薬(株)製)を添加し、終夜攪拌を行うことでC−2のシクロヘキサノン溶液を得た(Mw:5400、Mn:3200)。
The C-1 was synthesized with reference to the synthesis method described in Patent Document 1 (paragraph 0083).
C-2 was synthesized according to the following procedure.
To 7.2 g of cyclohexanone heated to 90 ° C. under nitrogen, 10 g of vinylnaphthalene (manufactured by Alfa Aesar), 2.0 g of acrylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 0.85 g of V-601 (Wako Pure Chemical ( 10.8 g of a cyclohexanone solution (manufactured) was added dropwise over 2 hours. After stirring for 2 hours, 0.4 g of V-601 was added, and the mixture was further stirred for 5 hours. There, 2.63 g of glycidyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 0.30 g of tetrabutylammonium bromide (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 0.005 g of p-methoxyphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) Was added, and a cyclohexanone solution of C-2 was obtained by stirring overnight (Mw: 5400, Mn: 3200).

なお、後述する「M−2」として、東亞合成(株)製アロニックスTO−2349を用いた。   In addition, Toagosei Co., Ltd. Aronix TO-2349 was used as "M-2" mentioned later.

重合性化合物M−4は、特開2014−208804号公報の比較例5を参考にして合成した。
「M−5」として、株式会社ダイセル製EHPE3150を用いた。
「P−1」として、東京化成工業株式会社製シクロヘキサンジカルボン酸無水物を用いた。
「P−2」として、東京化成工業株式会社製フタル酸無水物を用いた。
The polymerizable compound M-4 was synthesized with reference to Comparative Example 5 in JP2014-208804A.
As “M-5”, EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation was used.
As “P-1”, a cyclohexanedicarboxylic acid anhydride manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used.
As “P-2”, phthalic anhydride manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd. was used.

<組成物1〜11の調製>
上記化合物A−1の33.6%溶液(5.0質量部)と、重合性化合物M−1(1.3質量部)と、重合性化合物M−2(0.33質量部)と、IRGACURE OXE01(BASF社製)0.16質量部と、添加剤Megafac F−781F(DIC社製、含フッ素ポリマー型界面活性剤)0.17質量部と、KBM−602(信越化学工業社製)0.02質量部と、p−メトキシフェノール(和光純薬製)0.01質量部と、プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート(PGMEA)(13質量部)とを混合することで組成物1を調製した。
組成物2〜11に関しては、後述する表1に示すように、一般式(1)で表される化合物および重合性化合物の種類を変更して、組成物1と同様の手順で調製した。
<Preparation of compositions 1-11>
A 33.6% solution (5.0 parts by mass) of the compound A-1, a polymerizable compound M-1 (1.3 parts by mass), a polymerizable compound M-2 (0.33 parts by mass), IRGACURE OXE01 (manufactured by BASF) 0.16 parts by mass, additive Megafac F-781F (manufactured by DIC, fluorine-containing polymer surfactant) 0.17 parts by mass, and KBM-602 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Composition 1 by mixing 0.02 parts by mass, 0.01 parts by mass of p-methoxyphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries), and propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (PGMEA) (13 parts by mass). Was prepared.
The compositions 2 to 11 were prepared in the same procedure as the composition 1 by changing the type of the compound represented by the general formula (1) and the polymerizable compound as shown in Table 1 described later.

<屈折率の評価>
各組成物をシリコンウエハ上にスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレート上にて100℃で2分間加熱して膜厚1μmの感光性膜を得た。次いでExecure3000(HOYA(株)社製)を用いて10mW/cmの紫外線を照射することで、硬化膜を調製した。
得られた膜について屈折率(波長:500nm)(装置:大日本スクリーン製造(株)製エリプソ式膜厚測定装置 REシリーズ、RE−3320)を用いて測定した。そして、以下の基準から屈折率を評価した。結果を表1に示す。実用上、A〜Cであることが好ましい。
・A:屈折率が1.65以上
・B:屈折率が1.60以上1.65未満
・C:屈折率が1.55以上1.60未満
・D:屈折率が1.55未満
<Evaluation of refractive index>
Each composition was applied onto a silicon wafer by spin coating, and then heated on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes to obtain a photosensitive film having a thickness of 1 μm. Next, a cured film was prepared by irradiating ultraviolet rays of 10 mW / cm 2 using Execute 3000 (manufactured by HOYA Corporation).
About the obtained film | membrane, it measured using the refractive index (wavelength: 500 nm) (apparatus: Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. ellipso type film thickness measuring apparatus RE series, RE-3320). And the refractive index was evaluated from the following criteria. The results are shown in Table 1. Practically, it is preferably A to C.
-A: Refractive index is 1.65 or more-B: Refractive index is 1.60 or more and less than 1.65-C: Refractive index is 1.55 or more and less than 1.60-D: Refractive index is less than 1.55

<平坦性の評価>
平坦性の評価方法に関して、図2を用いて詳述する。
まず、図2に示す、深さD1が1400nmで、幅Wが3000nmの溝が形成された基板110を用意し、各組成物を基板110上にスピンコート法で塗布する。なお、塗布の際には、後述する手順によって得られる硬化膜120のT1の厚みが200nmとなるように調整した。
その後、ホットプレート上にて100℃で2分間加熱して感光性膜を得た。次いでExecure3000(HOYA(株)社製)を用いて10mW/cmの紫外線を照射することで、硬化膜を作製した。
得られた硬化膜の溝上に位置する硬化膜の凹部の深さD2の最大値を走査型プローブ顕微鏡(Veeco Instruments社製 AFM Nano Scope IV)を用いて測定し、以下の基準から平坦性を評価した。結果を表1に示す。実用上、A〜Bであることが好ましい。
・A:深さD2が600nm未満
・B:深さD2が600nm以上800nm未満
・C:深さD2が800nm以上
<Evaluation of flatness>
The flatness evaluation method will be described in detail with reference to FIG.
First, as shown in FIG. 2, a substrate 110 having a groove with a depth D1 of 1400 nm and a width W of 3000 nm is prepared, and each composition is applied onto the substrate 110 by spin coating. In addition, in the case of application | coating, it adjusted so that the thickness of T1 of the cured film 120 obtained by the procedure mentioned later might be set to 200 nm.
Then, it heated at 100 degreeC on the hotplate for 2 minutes, and obtained the photosensitive film | membrane. Subsequently, the cured film was produced by irradiating ultraviolet rays of 10 mW / cm 2 using Execute 3000 (manufactured by HOYA Corporation).
The maximum value of the depth D2 of the concave portion of the cured film located on the groove of the obtained cured film was measured using a scanning probe microscope (AFM Nano Scope IV manufactured by Veeco Instruments), and the flatness was evaluated from the following criteria did. The results are shown in Table 1. Practically, it is preferably A to B.
A: Depth D2 is less than 600 nm B: Depth D2 is 600 nm or more and less than 800 nm C: Depth D2 is 800 nm or more

表1に示すように、本発明の化合物を含む組成物より得られた膜は、優れた屈折率および表面平坦性を示した。
特に、実施例7と他の実施例との比較より、一般式(2)中のAr〜Arのいずれかが多環芳香族基である場合、屈折率がより優れることが確認された。
また、実施例2と実施例5との比較より、一般式(1)中のAが一般式(4)で表される部分構造を有する基である場合、表面平坦性がより優れることが確認された。
なお、本発明の化合物を含まない組成物を用いた比較例1〜3では、屈折率と表面平坦性とを両立することができなかった。
As shown in Table 1, the film obtained from the composition containing the compound of the present invention exhibited excellent refractive index and surface flatness.
In particular, a comparison between Example 7 and other examples confirmed that the refractive index is more excellent when any of Ar 1 to Ar 4 in the general formula (2) is a polycyclic aromatic group. .
Moreover, it is confirmed from the comparison between Example 2 and Example 5 that when A in the general formula (1) is a group having a partial structure represented by the general formula (4), the surface flatness is more excellent. It was done.
In Comparative Examples 1 to 3 using the composition not containing the compound of the present invention, it was impossible to achieve both refractive index and surface flatness.

<組成物12〜21の調製>
上記化合物A−6(X)の30.0%溶液(5.0質量部)と、重合性化合物M−1(0.5質量部)と、重合性化合物M−2(0.38質量部)と、硬化促進剤P−1(東京化成工業製)0.13質量部と、IRGACURE OXE01(BASF社製)0.16質量部と、添加剤Megafac F−781F(DIC社製、含フッ素ポリマー型界面活性剤)0.17質量部と、KBM−602(信越化学工業社製)0.02質量部と、p−メトキシフェノール(和光純薬製)0.01質量部と、シクロヘキサノン(13質量部)とを混合することで組成物12を調製した。
組成物13〜21に関しては、後述する表2に示すように、一般式(1)で表される化合物および重合性化合物の種類などを変更して、組成物12と同様の手順で調製した。
<Preparation of compositions 12-21>
30.0% solution (5.0 parts by mass) of the above compound A-6 (X), polymerizable compound M-1 (0.5 parts by mass), and polymerizable compound M-2 (0.38 parts by mass) ), 0.13 parts by mass of a curing accelerator P-1 (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 0.16 parts by mass of IRGACURE OXE01 (manufactured by BASF), and additive Megafac F-781F (manufactured by DIC, fluorine-containing polymer) Type surfactant) 0.17 parts by mass, KBM-602 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.02 parts by mass, p-methoxyphenol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.01 parts by mass, and cyclohexanone (13 parts by mass) Part) was mixed to prepare composition 12.
The compositions 13 to 21 were prepared in the same procedure as the composition 12 by changing the type of the compound represented by the general formula (1) and the polymerizable compound as shown in Table 2 described later.

得られた組成物(組成物12〜21)を用いて、上述した<平坦性の評価>を実施した。   <Evaluation of flatness> described above was performed using the obtained compositions (compositions 12 to 21).

<評価サンプル(マイクロレンズ用厚膜基盤)の作製方法>
ガラス基板にFFEM製CT−4000をスピンコート法で塗布した。その後、220℃で1時間加熱処理を実施して、下地層付きガラス基板を作製した。下地層の膜厚は0.1μmであった。
得られた組成物(組成物12〜21)を下地層付きガラス基板上にスピンコート法で塗布した。その後、100℃で2分間プレベークを実施した後、さらに、265℃で10分間加熱処理を実施してポストベークを行った。得られた硬化膜の膜厚は3μmであった。
<Production method of evaluation sample (thick film substrate for microlenses)>
FFEM CT-4000 was applied to a glass substrate by spin coating. Then, heat processing was implemented at 220 degreeC for 1 hour, and the glass substrate with a base layer was produced. The film thickness of the underlayer was 0.1 μm.
The obtained composition (compositions 12-21) was apply | coated by the spin coat method on the glass substrate with a base layer. Then, after performing prebaking at 100 degreeC for 2 minutes, it heat-processed at 265 degreeC for 10 minutes, and performed post-baking. The film thickness of the obtained cured film was 3 μm.

上述した<屈折率の評価>で述べた方法により、得られた硬化膜の屈折率を測定した。また、上述した<平坦性の評価>で述べた方法により、平坦性を評価した。   The refractive index of the obtained cured film was measured by the method described in <Evaluation of Refractive Index> described above. Further, the flatness was evaluated by the method described in <Evaluation of flatness> described above.

<耐熱性の評価>
上記で得られた評価サンプルを用いて、硬化膜の波長400nmでの透過率を測定し、以下の基準に従って評価した。
A:95%以上
B:90%以上95%未満
C:80%以上90%未満
D:80%未満
<Evaluation of heat resistance>
The transmittance | permeability in wavelength 400nm of a cured film was measured using the evaluation sample obtained above, and it evaluated in accordance with the following references | standards.
A: 95% or more B: 90% or more and less than 95% C: 80% or more and less than 90% D: less than 80%

<耐溶剤性の評価>
上記で得られた評価サンプルをシクロヘキサノンに5分間浸漬した後、硬化膜の残存率(%)[{(浸漬前の硬化膜の質量−浸漬後の硬化膜の質量)/浸漬前の硬化膜の質量}×100]を測定した。結果を表1に示す。実用上、A〜Bであることが好ましい。
A:残存率が95%以上
B:残存率が85%以上95%未満
C:残存率が85%未満
<Evaluation of solvent resistance>
After the evaluation sample obtained above is immersed in cyclohexanone for 5 minutes, the residual ratio of the cured film (%) [{(the mass of the cured film before immersion−the mass of the cured film after immersion) / the cured film before the immersion] Mass} × 100]. The results are shown in Table 1. Practically, it is preferably A to B.
A: Residual rate is 95% or more B: Residual rate is 85% or more and less than 95% C: Residual rate is less than 85%

<クラックの評価>
上記で得られた評価サンプルを用いて、硬化膜を光学顕微鏡にて観察し、以下の基準に従って評価した。
A:ヒビなし
B:小さなヒビあり
C:大きなひびあり
D:膜形成できず
<Evaluation of crack>
Using the evaluation sample obtained above, the cured film was observed with an optical microscope and evaluated according to the following criteria.
A: No crack B: Small crack C: Large crack D: Film cannot be formed


表2に示すように、本発明の化合物を含む組成物より得られた膜は、優れた屈折率および表面平坦性を示した。
なお、実施例9と10との比較より、重合性化合物がエポキシ基を有する場合、耐溶剤性がより優れることが確認された。
また、実施例12と13との比較より、酸基(カルボン酸基)が連結基を介してポリマー鎖を結合している場合、耐溶剤性およびクラックがより優れることが確認された。
As shown in Table 2, the film obtained from the composition containing the compound of the present invention exhibited excellent refractive index and surface flatness.
In addition, it was confirmed from the comparison with Example 9 and 10 that solvent resistance is more excellent when a polymeric compound has an epoxy group.
Moreover, it was confirmed from the comparison with Example 12 and 13 that solvent resistance and a crack are more excellent when the acid group (carboxylic acid group) has couple | bonded the polymer chain via the coupling group.

10 基板
20 有機EL素子
30 保護膜
40 下地層
50R 赤色カラーフィルタ
50G 緑色カラーフィルタ
50B 青色カラーフィルタ
100 表示装置(マイクロOLED)
110 基板
120 硬化膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Substrate 20 Organic EL element 30 Protective film 40 Underlayer 50R Red color filter 50G Green color filter 50B Blue color filter 100 Display device (micro OLED)
110 Substrate 120 Cured film

Claims (16)

一般式(1)で表される化合物を含む組成物。

一般式(1)中、Aは(m+n)価の連結基を表す。LおよびLは、それぞれ独立に、−S−を含む2価の連結基を表す。Xは、一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す。Yは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも1つ有する1価の有機基を表す。mは2以上の整数を表し、nは1〜4の整数を表す。

一般式(3)中、Ar〜Ar、および、Ar〜Arは、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ar〜Arの少なくとも1つは多環芳香族基である。
The composition containing the compound represented by General formula (1).

In general formula (1), A represents a (m + n) -valent linking group. L 1 and L 2 each independently represents a divalent linking group containing —S— . X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound represented by the general formula (3). Y represents a monovalent organic group having at least one group selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group . m represents an integer of 2 or more, and n represents an integer of 1 to 4 .

In General Formula (3), Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 each independently represent an aromatic ring group. Note that at least one of Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
一般式(1)中、Aが第4級炭素原子を1つ以上含む、請求項1に記載の組成物。   The composition of Claim 1 in which A contains one or more quaternary carbon atoms in General formula (1). 一般式(1)中、Aが、一般式(4)で表される部分構造を有する基、または、一般式(5)で表される部分構造を有する基である、請求項1または2に記載の組成物。

一般式(5)中、Rはアルキル基を表す。なお、一般式(4)および(5)中、*は結合位置を表す。
In General Formula (1), A is a group having a partial structure represented by General Formula (4) or a group having a partial structure represented by General Formula (5). The composition as described.

In general formula (5), R represents an alkyl group. In general formulas (4) and (5), * represents a bonding position.
一般式(1)中、nに対するmの比が0.5〜5.0である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の組成物。なお、前記比は、m/nを表す。   The composition of any one of Claims 1-3 whose ratio of m with respect to n is 0.5-5.0 in General formula (1). The ratio represents m / n. 一般式(1)中、m+nの合計数が3〜10である、請求項1〜のいずれか1項に記載の組成物。 The composition of any one of Claims 1-4 whose total number of m + n is 3-10 in General formula (1). 一般式(1)中、LおよびLが、それぞれ独立に、−S−、または、−S−と、−O−、−CO−、および、アルキレン基からなる群から選択される基とを組み合わせた基である、請求項1〜のいずれか1項に記載の組成物。 In General Formula (1), L 1 and L 2 are each independently a group selected from the group consisting of —S— or —S—, —O—, —CO—, and an alkylene group. The composition according to any one of claims 1 to 5 , which is a group in which さらに、重合性化合物を含む、請求項1〜のいずれか1項に記載の組成物。 Furthermore, the composition of any one of Claims 1-6 containing a polymeric compound. 前記重合性化合物が、重合性基を2つ以上有し、かつ、フルオレン骨格を有する重合性化合物を含む、請求項に記載の組成物。 The composition according to claim 7 , wherein the polymerizable compound includes a polymerizable compound having two or more polymerizable groups and having a fluorene skeleton. 請求項1〜のいずれか1項に記載の組成物より形成される膜。 The film | membrane formed from the composition of any one of Claims 1-8 . 請求項に記載の膜を含む光学機器。 An optical instrument comprising the film according to claim 9 . 一般式(1)で表される化合物。

一般式(1)中、Aは(m+n)価の連結基を表す。LおよびLは、それぞれ独立に、−S−を含む2価の連結基を表す。Xは、一般式(3)で表される化合物から1個の水素原子を除いた残基を表す。Yは、酸基、および、重合性基からなる群から選択される基を少なくとも1つ有する1価の有機基を表す。mは2以上の整数を表し、nは1〜4の整数を表す。

一般式(3)中、Ar〜Ar、および、Ar〜Arは、それぞれ独立に、芳香環基を表す。なお、Ar〜Arの少なくとも1つは多環芳香族基である。
The compound represented by General formula (1).

In general formula (1), A represents a (m + n) -valent linking group. L 1 and L 2 each independently represents a divalent linking group containing —S— . X represents a residue obtained by removing one hydrogen atom from the compound represented by the general formula (3). Y represents a monovalent organic group having at least one group selected from the group consisting of an acid group and a polymerizable group . m represents an integer of 2 or more, and n represents an integer of 1 to 4 .

In General Formula (3), Ar 1 to Ar 2 and Ar 5 to Ar 6 each independently represent an aromatic ring group. Note that at least one of Ar 5 to Ar 6 is a polycyclic aromatic group.
一般式(1)中、Aが第4級炭素原子を1つ以上含む、請求項11に記載の化合物。 The compound of Claim 11 in which A contains one or more quaternary carbon atoms in General formula (1). 一般式(1)中、Aが、一般式(4)で表される部分構造を有する基、または、一般式(5)で表される部分構造を有する基である、請求項11または12に記載の化合物。

一般式(5)中、Rはアルキル基を表す。なお、一般式(4)および(5)中、*は結合位置を表す。
In the formula (1), A is a group having a partial structure represented by the general formula (4) or, a group having a partial structure represented by the general formula (5), in claim 11 or 12 The described compound.

In general formula (5), R represents an alkyl group. In general formulas (4) and (5), * represents a bonding position.
一般式(1)中、nに対するmの比が0.5〜5.0である、請求項1113のいずれか1項に記載の化合物。なお、前記比は、m/nを表す。 In the general formula (1), the ratio of m for n is 0.5 to 5.0 A compound according to any one of claims 11 to 13. The ratio represents m / n. 一般式(1)中、m+nの合計数が3〜10である、請求項1114のいずれか1項に記載の化合物。 In the general formula (1), the total number of m + n is 3 to 10, A compound according to any one of claims 11 to 14. 一般式(1)中、LおよびLが、それぞれ独立に、−S−、または、−S−と、−O−、−CO−、および、アルキレン基からなる群から選択される基とを組み合わせた基である、請求項1115のいずれか1項に記載の化合物。 In General Formula (1), L 1 and L 2 are each independently a group selected from the group consisting of —S— or —S—, —O—, —CO—, and an alkylene group. The compound according to any one of claims 11 to 15 , which is a group in which
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