JP6303593B2 - Reactor - Google Patents

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Description

本発明は、リアクトルに関し、さらに詳しくは、コイルが収容されたケースに注型樹脂が注入されたリアクトルに関する。   The present invention relates to a reactor, and more particularly to a reactor in which a casting resin is injected into a case in which a coil is accommodated.

ハイブリッド自動車や、電気自動気車、燃料電池自動車等の車両に搭載されるDC−DCコンバータ等の電力変換装置には、コイルを備えてなるリアクトルが用いられる。リアクトルの構造は、例えば特許文献1に開示されている。この種の従来一般のリアクトルにおいては、磁心(コア)を挿通されたコイルがケースの中に収容され、ケース内部の空間には、注型樹脂(封止樹脂)が充填されている。注型樹脂は、コイルの絶縁性を維持する役割や、コイルの温度上昇を抑制する役割を有する。注型樹脂は、コイルターン間にも浸入している。   A reactor including a coil is used for a power conversion device such as a DC-DC converter mounted on a vehicle such as a hybrid vehicle, an electric air vehicle, or a fuel cell vehicle. The structure of the reactor is disclosed in Patent Document 1, for example. In this type of conventional general reactor, a coil through which a magnetic core (core) is inserted is accommodated in a case, and a space inside the case is filled with casting resin (sealing resin). The casting resin has a role of maintaining the insulating properties of the coil and a role of suppressing a temperature rise of the coil. The casting resin penetrates between the coil turns.

特開2012−253384号公報JP 2012-253384 A

リアクトルにおいて、コイルへの通電時、隣接するコイルターン間に働く相互作用やリアクトルが搭載される車両等の振動の影響により、コイルに振動が生じる。すると、コイルの振動によって注型樹脂に応力が印加され、コイルと注型樹脂の間に空隙が形成される場合がある。すると、空隙が形成された部位から注型樹脂に亀裂が発生したり、あるいは既に発生した亀裂が進展したりする。すると、コイルの温度上昇を抑制するという注型樹脂の役割が十分に果たされなくなる可能性や、リアクトルの外観が損なわれる可能性がある。   In the reactor, when the coil is energized, the coil is vibrated due to the interaction between adjacent coil turns and the influence of the vibration of the vehicle on which the reactor is mounted. Then, stress is applied to the casting resin due to the vibration of the coil, and a gap may be formed between the coil and the casting resin. Then, a crack occurs in the casting resin from a portion where the void is formed, or a crack that has already occurred progresses. Then, the role of the casting resin for suppressing the temperature rise of the coil may not be sufficiently fulfilled, and the appearance of the reactor may be impaired.

本発明の解決しようとする課題は、注型樹脂を有するリアクトルにおいて、コイルの振動によってコイルと注型樹脂の間に空隙が生じることが抑制されたリアクトルを提供することにある。   The problem to be solved by the present invention is to provide a reactor having a casting resin in which a void is prevented from being generated between the coil and the casting resin due to vibration of the coil.

上記課題を解決するため本発明にかかるリアクトルは、導体線の表面が絶縁被覆層に覆われた素線を巻き回してなるコイルと、前記コイルが収容されたケースと、前記ケースの内部に充填された注型樹脂と、前記素線の表面を被覆して、前記注型樹脂との間に形成された少なくとも1層の緩衝樹脂よりなる層と、を有し、前記緩衝樹脂は、50℃において、前記注型樹脂よりも低く、かつ2000MPa未満の引張弾性率を有し、前記注型樹脂よりも低いガラス転移温度を有することを要旨とする。   In order to solve the above-described problems, a reactor according to the present invention includes a coil formed by winding a wire in which the surface of a conductor wire is covered with an insulating coating layer, a case in which the coil is accommodated, and a filling in the case. And a layer made of at least one buffer resin formed between the casting resin and covering the surface of the strand, the buffer resin having a temperature of 50 ° C. The present invention is summarized in that it has a tensile elastic modulus lower than that of the casting resin and less than 2000 MPa, and has a glass transition temperature lower than that of the casting resin.

ここで、前記緩衝樹脂の50℃における引張弾性率は、500MPa以下であるとよい。   Here, the tensile elastic modulus at 50 ° C. of the buffer resin is preferably 500 MPa or less.

そして、前記緩衝樹脂のガラス転移温度は、−40℃以下であるとよい。   And the glass transition temperature of the said buffer resin is good in it being -40 degrees C or less.

また、前記緩衝樹脂よりなる層は、0.8〜50μmの範囲の厚さを有することが好ましい。   Moreover, it is preferable that the layer which consists of said buffer resin has the thickness of the range of 0.8-50 micrometers.

そして、前記緩衝樹脂は、硬化性樹脂を含んでなるとよい。   The buffer resin may contain a curable resin.

本発明にかかるリアクトルにおいては、注型樹脂とコイルを構成する素線の間に、緩衝樹脂よりなる層を有している。そして、緩衝樹脂は、上記のような引張弾性率を有しており、注型樹脂より軟質で、コイルの振動によって容易に変形する。これにより、コイルが振動を起こした際に、緩衝樹脂が、コイルから注型樹脂に印加される応力を緩和する。その結果、注型樹脂とコイルの間に、空隙が生じにくくなっている。また、緩衝樹脂が注型樹脂よりも低いガラス転移温度を有することで、低温環境においても、コイルと注型樹脂の間の空隙の形成を抑制する緩衝樹脂の機能が維持される。   In the reactor concerning this invention, it has a layer which consists of buffer resin between casting resin and the strand which comprises a coil. The buffer resin has the tensile modulus as described above, is softer than the casting resin, and is easily deformed by the vibration of the coil. Thus, when the coil vibrates, the buffer resin relieves stress applied from the coil to the casting resin. As a result, a gap is less likely to occur between the casting resin and the coil. Further, since the buffer resin has a glass transition temperature lower than that of the casting resin, the function of the buffer resin that suppresses the formation of a gap between the coil and the casting resin is maintained even in a low temperature environment.

ここで、緩衝樹脂の50℃における引張弾性率が、500MPa以下である場合には、緩衝樹脂によるコイル振動時の応力の緩和と、それによる空隙形成抑制の効果が、一層高められる。   Here, when the tensile elastic modulus at 50 ° C. of the buffer resin is 500 MPa or less, the effect of relaxation of stress during coil vibration by the buffer resin and the suppression of void formation by the buffer resin are further enhanced.

そして、緩衝樹脂のガラス転移温度が、−40℃以下である場合には、−40℃程度の低温の領域においても、注型樹脂とコイルの間の空隙形成を抑制する緩衝樹脂の機能がよく発揮される。   And when the glass transition temperature of the buffer resin is -40 ° C or lower, the function of the buffer resin to suppress the gap formation between the casting resin and the coil is good even in a low temperature region of about -40 ° C. Demonstrated.

また、緩衝樹脂よりなる層が、0.8〜50μmの範囲の厚さを有する場合には、コイルから樹脂に印加される応力を効果的に緩和できるとともに、緩衝樹脂がコイルターン間を埋めてしまうことで注型樹脂の充填に支障を与えることが防止される。   Further, when the layer made of the buffer resin has a thickness in the range of 0.8 to 50 μm, the stress applied from the coil to the resin can be effectively relieved, and the buffer resin fills the space between the coil turns. This prevents the filling of the casting resin from being hindered.

そして、緩衝樹脂が、硬化性樹脂を含んでなる場合には、緩衝樹脂を、コイルを構成する素線の表面に層状に被覆させやすい。   And when buffer resin contains curable resin, it is easy to coat | cover buffer resin in the layer form on the surface of the strand which comprises a coil.

本発明の一実施形態にかかるリアクトルを示す斜視図である。注型樹脂は除いて示している。It is a perspective view which shows the reactor concerning one Embodiment of this invention. The casting resin is not shown. 上記リアクトルの断面図である(断面を示すハッチングは適宜省略している)。It is sectional drawing of the said reactor (the hatching which shows a cross section is abbreviate | omitting suitably). 上記リアクトルを構成するコイルと磁心の組合体を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the assembly of the coil and magnetic core which comprise the said reactor. 上記コイルのA−A断面を模式的に示す図である。It is a figure which shows the AA cross section of the said coil typically.

以下、図面を用いて本発明の実施形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<リアクトルの全体構成>
図1〜4に、本発明の一実施形態にかかるリアクトル1および、リアクトル1を構成するコイル10を示す。リアクトル1は、後述する緩衝樹脂50の存在を除き、特許文献1に記載されリアクトルと同様の形状を有する。以下、簡単に、リアクトル1の全体構造について説明する。
<Overall structure of the reactor>
1-4, the reactor 1 concerning one Embodiment of this invention and the coil 10 which comprises the reactor 1 are shown. Reactor 1 has the same shape as the reactor described in Patent Document 1 except for the presence of buffer resin 50 described later. Hereinafter, the overall structure of the reactor 1 will be briefly described.

図1,2に示すように、リアクトル1は、コイル10と磁心20の組合体を、ケース30に収容した構造を基本としてなる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the reactor 1 basically has a structure in which a combination of a coil 10 and a magnetic core 20 is accommodated in a case 30.

図3,4に示すように、コイル10は、導体線11aの外周を絶縁被覆層11bによって被覆した素線11を、螺旋状に巻き回したものである。コイル10は、2本の直線部10a,10aを、巻き回し方向を揃えて2本並べた全体形状を有している。素線11の絶縁被覆層11bの外周には、さらに緩衝樹脂50よりなる層が設けられている。緩衝樹脂50については、後に詳しく説明する。   As shown in FIGS. 3 and 4, the coil 10 is formed by spirally winding an element wire 11 in which the outer periphery of a conductor wire 11 a is covered with an insulating coating layer 11 b. The coil 10 has an overall shape in which two straight portions 10a, 10a are aligned in the winding direction. A layer made of a buffer resin 50 is further provided on the outer periphery of the insulating coating layer 11 b of the strand 11. The buffer resin 50 will be described in detail later.

導体線11aは、例えば、銅または銅合金、アルミニウムまたはアルミニウム合金等の金属よりなる。絶縁被覆層11bは、例えば、ポリアミドイミドに代表されるエナメル材よりなる。また、素線11の形状としては、冷却(放熱)性を上げ、また巻き回しの密度を高める観点から、平角線であることが好ましい。そして、コイル10は、固定の容易性等の観点から、角柱の角を丸めた形状を有する角型コイルとして形成されることが好ましい。   The conductor wire 11a is made of metal such as copper or copper alloy, aluminum or aluminum alloy, for example. The insulating coating layer 11b is made of an enamel material typified by polyamideimide, for example. Moreover, as a shape of the strand 11, it is preferable that it is a flat wire from a viewpoint of raising cooling (heat dissipation) property and raising the density of winding. The coil 10 is preferably formed as a square coil having a shape obtained by rounding the corners of a prism, from the viewpoint of ease of fixing and the like.

コイル10は、各直線部10aの中空部に磁心20が挿入された組合体とされ、ケース30中に収容される。磁心20は、例えば、磁性材料よりなるコア部21と非磁性材料よりなるギャップ部22が交互に接続された構造を有する。組合体においては、さらに、コイル10と磁心20の間に適宜インシュレータが介在されてもよい(不図示)。   The coil 10 is a combined body in which the magnetic core 20 is inserted into the hollow portion of each linear portion 10 a and is accommodated in the case 30. The magnetic core 20 has a structure in which, for example, a core portion 21 made of a magnetic material and a gap portion 22 made of a nonmagnetic material are alternately connected. In the combined body, an insulator may be appropriately interposed between the coil 10 and the magnetic core 20 (not shown).

ケース30は、コイル10と磁心20の組合体が載置され、固定される底面31と、底面31の外周に立設された側壁面32を有し、底面31と対向する側壁面32の上部には、開口部33が設けられている。底面31は、高い熱伝導性を有するように、アルミニウムまたはアルミニウム合金等の金属よりなることが好ましく、側壁面32は、絶縁性等の観点から、樹脂材料よりなることが好ましい。また、底面31と側壁面32の間には、注型樹脂40の漏出を防止するパッキン(不図示)が適宜設けられる。   The case 30 has a bottom surface 31 on which a combination of the coil 10 and the magnetic core 20 is placed and fixed, and a side wall surface 32 erected on the outer periphery of the bottom surface 31, and an upper portion of the side wall surface 32 facing the bottom surface 31. Is provided with an opening 33. The bottom surface 31 is preferably made of a metal such as aluminum or an aluminum alloy so as to have high thermal conductivity, and the side wall surface 32 is preferably made of a resin material from the viewpoint of insulation. Further, between the bottom surface 31 and the side wall surface 32, a packing (not shown) for preventing the casting resin 40 from leaking is provided as appropriate.

コイル10と磁心20の組合体は、開口部33からケース30に収容され、底面31上に載置されて、底面31に対して一体的に固定される。底面31へのコイル10の固定は、接着性を有する樹脂材料を介して行われる。このように、コイル10がケース30の底面31に一体的に固定されることで、コイル10の冷却(放熱)の効率が高められる。   The combined body of the coil 10 and the magnetic core 20 is accommodated in the case 30 through the opening 33, is placed on the bottom surface 31, and is integrally fixed to the bottom surface 31. The coil 10 is fixed to the bottom surface 31 via a resin material having adhesiveness. As described above, the coil 10 is integrally fixed to the bottom surface 31 of the case 30, so that the efficiency of cooling (heat radiation) of the coil 10 is enhanced.

コイル10と磁心20の組合体を収容したケース30の内部の空間には、注型樹脂40が充填されている。注型樹脂40は、コイル10とケース30の側壁面32の間の空間を満たすとともに、コイル10のコイルターン(螺旋の各ピッチ)の間の空間を満たしている。注型樹脂40は、コイル10の絶縁を保つ効果と、通電時に発熱するコイル10を冷却(放熱)する効果を有する。ここで、コイル10の絶縁とは、コイル10全体の外部に対する絶縁のみならず、コイルターン間の絶縁も含むものである。   The space inside the case 30 that accommodates the combined body of the coil 10 and the magnetic core 20 is filled with a casting resin 40. The casting resin 40 fills the space between the coil 10 and the side wall surface 32 of the case 30 and also fills the space between the coil turns (each pitch of the spiral) of the coil 10. The casting resin 40 has an effect of maintaining insulation of the coil 10 and an effect of cooling (dissipating heat) the coil 10 that generates heat when energized. Here, the insulation of the coil 10 includes not only the insulation of the entire coil 10 but also the insulation between coil turns.

注型樹脂40は、いかなる絶縁性樹脂組成物よりなってもよいが、流動性の高い状態で、コイル10とケース30の側壁面32の間の空間や、コイルターン間の空間に、隙間なく浸透させて充填してから、固化させられる点において、硬化性樹脂を主成分としてなることが好ましい。硬化性樹脂としては、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂(特に紫外線硬化性樹脂)、湿気硬化性樹脂、二液反応硬化性樹脂等を挙げることができる。また、樹脂種としては、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂などを挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。さらに、硬化性樹脂には、着色用顔料、粘度調整剤、老化防止剤、フィラー(無機充填材)、保存安定剤、分散剤など、添加剤が加えられていても良い。特に、フィラーは、注型樹脂40の熱伝導性を高めるのに効果を有する。   The casting resin 40 may be made of any insulating resin composition, but in a highly fluid state, there is no gap in the space between the coil 10 and the side wall surface 32 of the case 30 or the space between the coil turns. It is preferable to use a curable resin as a main component in that it can be solidified after infiltrating and filling. Examples of the curable resin include a thermosetting resin, a photocurable resin (particularly an ultraviolet curable resin), a moisture curable resin, and a two-component reaction curable resin. Examples of the resin species include silicone resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, polyurea resin, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, additives such as coloring pigments, viscosity modifiers, anti-aging agents, fillers (inorganic fillers), storage stabilizers, and dispersants may be added to the curable resin. In particular, the filler is effective in increasing the thermal conductivity of the casting resin 40.

リアクトル1は他に、端子81、各種センサ82等、運転および制御に必要な部材を適宜備える。組み上げられたリアクトル1は、ケース30の底面31にて、DC−DCコンバータ中等、所定の取付部位に固定される。底面31と接触する取付部位には、適宜冷却機構が設けられてもよい。この場合、コイル10は、底面31と注型樹脂40を介して、冷却機構によって冷却されることになる。   In addition, the reactor 1 appropriately includes members necessary for operation and control, such as a terminal 81 and various sensors 82. The assembled reactor 1 is fixed to a predetermined attachment site such as in the DC-DC converter at the bottom surface 31 of the case 30. A cooling mechanism may be appropriately provided at the attachment site that contacts the bottom surface 31. In this case, the coil 10 is cooled by the cooling mechanism via the bottom surface 31 and the casting resin 40.

<緩衝樹脂>
本実施形態にかかるリアクトル1は、素線11の表面を被覆して、緩衝樹脂50よりなる層が形成され、素線11と注型樹脂40の間に緩衝樹脂50が介在されていることに特徴を有する。緩衝樹脂50は、絶縁性の樹脂組成物よりなり、50℃において、注型樹脂40よりも低く、かつ2000MPa未満の引張弾性率を有し、また、注型樹脂40よりも低いガラス転移温度を有する。
<Buffer resin>
The reactor 1 according to the present embodiment covers the surface of the strand 11, a layer made of the buffer resin 50 is formed, and the buffer resin 50 is interposed between the strand 11 and the casting resin 40. Has characteristics. The buffer resin 50 is made of an insulating resin composition, has a tensile elastic modulus lower than that of the casting resin 40 and less than 2000 MPa at 50 ° C., and has a glass transition temperature lower than that of the casting resin 40. Have.

リアクトル1において、コイル10に交流が入力されると、コイルターン間に相互作用が生じ、コイルターン相互の間に、振動が生じる。振動は、コイル10に入力される電流の大きさが変化する条件においては、一層大きくなる。また、リアクトル1が搭載される車両等の振動によっても、コイル10に振動が生じる。このような振動がコイル10に生じた場合に、もしコイル10が素線11の表面に緩衝樹脂50よりなる層を有さず、直接注型樹脂40と接触していれば、コイル10から注型樹脂40に応力が印加されて、コイル10の表面から注型樹脂40が剥離し、注型樹脂40とコイル10の間に空隙が生じやすい。このような空隙が生じると、空隙を起点として、注型樹脂40に亀裂が発生したり、既に生じている亀裂が進展したりする。すると、コイル10の冷却(放熱)を促進するという注型樹脂40の機能が損なわれるとともに、リアクトル1の外観が悪化してしまう。   In the reactor 1, when an alternating current is input to the coil 10, an interaction occurs between the coil turns, and a vibration occurs between the coil turns. The vibration is further increased under the condition that the magnitude of the current input to the coil 10 changes. Further, the coil 10 is also vibrated by the vibration of the vehicle or the like on which the reactor 1 is mounted. When such a vibration occurs in the coil 10, if the coil 10 does not have a layer made of the buffer resin 50 on the surface of the strand 11 and is in direct contact with the casting resin 40, the coil 10 Stress is applied to the mold resin 40, and the casting resin 40 is peeled off from the surface of the coil 10, and a gap is easily generated between the casting resin 40 and the coil 10. When such voids are generated, cracks occur in the casting resin 40 starting from the voids, or cracks that have already occurred are developed. Then, the function of the casting resin 40 that promotes cooling (heat radiation) of the coil 10 is impaired, and the appearance of the reactor 1 is deteriorated.

しかし、本リアクトル1においては、コイル10と注型樹脂40の間に、緩衝樹脂50が介在されていることで、コイル10が振動した際にコイル10と注型樹脂40の間に空隙が生じるのが抑制される。つまり、緩衝樹脂50は、注型樹脂40よりも低い引張弾性率を有していることで、注型樹脂40よりも軟質となっており、コイル10の振動によって力を加えられた際に、注型樹脂40よりも弾性変形を受けやすい。すると、コイル10が振動しても、緩衝樹脂50が弾性変形することで、振動が吸収または低減され、コイル10から注型樹脂40に印加される応力が緩和される。これにより、注型樹脂40が、緩衝樹脂50に被覆されたコイル10の素線11の表面から剥離しにくくなり、コイル10の素線11と注型樹脂40の間に空隙が形成されにくくなる。また、一般的なリアクトルにおいて、コイルに発生する振動の程度に鑑みると、緩衝樹脂50が50℃において2000MPa未満の引張弾性率を有していれば、このように、弾性変形することで、コイル10の振動による注型樹脂40への応力印加を緩和する効果を、十分に発揮することができる。ここで、引張弾性率に関する50℃との基準温度は、一般的な環境でリアクトル1を使用する際の温度を想定したものである。   However, in this reactor 1, since the buffer resin 50 is interposed between the coil 10 and the casting resin 40, a gap is generated between the coil 10 and the casting resin 40 when the coil 10 vibrates. Is suppressed. That is, the buffer resin 50 has a lower tensile elastic modulus than that of the casting resin 40, so that it is softer than the casting resin 40, and when force is applied by vibration of the coil 10, It is more susceptible to elastic deformation than the casting resin 40. Then, even if the coil 10 vibrates, the buffer resin 50 is elastically deformed, so that the vibration is absorbed or reduced, and the stress applied from the coil 10 to the casting resin 40 is relaxed. This makes it difficult for the casting resin 40 to be peeled off from the surface of the wire 11 of the coil 10 covered with the buffer resin 50, and makes it difficult to form a gap between the wire 11 of the coil 10 and the casting resin 40. . Further, in the case of a general reactor, in view of the degree of vibration generated in the coil, if the buffer resin 50 has a tensile modulus of elasticity of less than 2000 MPa at 50 ° C., the coil is elastically deformed in this manner. The effect of relaxing the stress application to the casting resin 40 due to the vibration of 10 can be sufficiently exhibited. Here, the reference temperature of 50 ° C. relating to the tensile modulus is assumed to be a temperature when the reactor 1 is used in a general environment.

また、緩衝樹脂50は、注型樹脂40よりも低いガラス転移温度を有している。樹脂材料の引張弾性率は、ガラス転移温度を境に、低温において著しく上昇するので、緩衝樹脂50が、注型樹脂40よりも低いガラス転移温度を有することで、おおむね緩衝樹脂50のガラス転移温度と同程度の低温領域においても、緩衝樹脂50が注型樹脂40よりも低い引張弾性率を有する状態が維持されやすく、注型樹脂40とコイル10の間における空隙の形成が抑制されやすい。また、低温と高温が交互に繰り返される冷熱衝撃を受けた際にも、同様の空隙の形成が抑制されやすい。なお、樹脂の引張弾性率は、温度に依存するパラメータであるが、2種の樹脂の引張弾性率の高低関係は、温度が変化しても維持されることが多く、50℃において注型樹脂40よりも低い引張弾性率を有する緩衝樹脂50は、緩衝樹脂50のガラス転移温度と同程度の低温まで、注型樹脂40よりも低い引張弾性率を有する状態を維持するとみなすことができる。   Further, the buffer resin 50 has a glass transition temperature lower than that of the casting resin 40. Since the tensile elastic modulus of the resin material is remarkably increased at a low temperature with the glass transition temperature as a boundary, the buffer resin 50 has a glass transition temperature lower than that of the casting resin 40, so that the glass transition temperature of the buffer resin 50 is almost the same. Even in a low temperature region similar to the above, the state in which the buffer resin 50 has a lower tensile elastic modulus than the casting resin 40 is easily maintained, and the formation of voids between the casting resin 40 and the coil 10 is easily suppressed. Also, when subjected to a thermal shock in which a low temperature and a high temperature are alternately repeated, the formation of similar voids is easily suppressed. The tensile modulus of the resin is a parameter depending on the temperature, but the relationship between the tensile modulus of the two types of resins is often maintained even when the temperature changes. The buffer resin 50 having a tensile elastic modulus lower than 40 can be regarded as maintaining a state having a tensile elastic modulus lower than that of the casting resin 40 up to a low temperature comparable to the glass transition temperature of the buffer resin 50.

コイル10と注型樹脂40の間の空隙形成を効果的に抑制する観点から、緩衝樹脂50は、50℃において、500MPa以下の引張弾性率を有していることが好ましく、15MPa以下の引張弾性率を有していることがさらに好ましい。緩衝樹脂50の引張弾性率が低いほど、上記効果を大きく発揮することができるので、好ましい値に下限は特に設けられないが、入手容易性等の観点からは、おおむね0.01MPa以上の引張弾性率を50℃において有する樹脂を使用することが現実的である。緩衝樹脂50および注型樹脂40の引張弾性率は、例えばASTM D638に規定される方法など、公知の方法で測定することができる。   From the viewpoint of effectively suppressing void formation between the coil 10 and the casting resin 40, the buffer resin 50 preferably has a tensile modulus of elasticity of 500 MPa or less at 50 ° C., and a tensile elasticity of 15 MPa or less. It is more preferable to have a rate. The lower the tensile elastic modulus of the buffer resin 50, the greater the above effect can be exhibited. Therefore, there is no particular lower limit on the preferred value, but from the viewpoint of availability, etc., the tensile elasticity is generally about 0.01 MPa or more. It is practical to use a resin having a rate at 50 ° C. The tensile elastic modulus of the buffer resin 50 and the casting resin 40 can be measured by a known method such as a method defined in ASTM D638.

緩衝樹脂50のガラス転移温度は、−40℃以下であることが好ましい。すると、−40℃程度の低温に至るまで、緩衝樹脂50の軟質状態(弾性変形しやすい状態)が維持され、緩衝樹脂50による注型樹脂40とコイル10の間の空隙形成を抑制する効果が維持されるからである。緩衝樹脂50および注型樹脂40のガラス転移温度は、公知の方法にて測定すればよく、とりわけ、引張弾性率の変化が正確に反映されるという点において、動的機械分析(DMA)によるtanδ法によって測定することが好ましい。   It is preferable that the glass transition temperature of the buffer resin 50 is −40 ° C. or lower. Then, the soft state of the buffer resin 50 (a state in which it is easily elastically deformed) is maintained until a low temperature of about −40 ° C., and the effect of suppressing the gap formation between the casting resin 40 and the coil 10 by the buffer resin 50 is achieved. It is because it is maintained. The glass transition temperatures of the buffer resin 50 and the casting resin 40 may be measured by a known method, and in particular, the change in the tensile elastic modulus is accurately reflected, and tan δ by dynamic mechanical analysis (DMA). It is preferable to measure by the method.

緩衝樹脂50よりなる層は、0.8μm以上の厚さを有していることが好ましい。これにより、緩衝樹脂50の弾性変形によって注型樹脂40とコイル10の間における空隙形成を抑制する効果が発揮されやすいからである。一方、一般的なリアクトルにおけるコイルターン間の距離を考えると、緩衝樹脂50よりなる層の厚さは50μm以下であることが好ましい。これよりも厚いと、緩衝樹脂50がコイルターン間の空間を埋めてしまい、注型樹脂40のコイルターン間への浸透に支障をきたす場合があるからである。緩衝樹脂50よりなる層が複数種積層して形成される場合には、好ましい厚さに関するこれらの値は、各層の合計に対して適用される。緩衝樹脂50よりなる層の厚さは、コイル10を構成する素線11の断面を顕微鏡等で観察することで、評価することができる。また、後述するように緩衝樹脂50を含有する液体を用いて緩衝樹脂50よりなる層を形成するに際し、用いる液体の量や、液体中の緩衝樹脂50の濃度を調節することで、層の厚さを制御することができる。   The layer made of the buffer resin 50 preferably has a thickness of 0.8 μm or more. This is because the effect of suppressing the formation of a gap between the casting resin 40 and the coil 10 is easily exhibited by the elastic deformation of the buffer resin 50. On the other hand, when considering the distance between coil turns in a general reactor, the thickness of the layer made of the buffer resin 50 is preferably 50 μm or less. If it is thicker than this, the buffer resin 50 fills the space between the coil turns, which may hinder the penetration of the casting resin 40 between the coil turns. When a plurality of layers made of the buffer resin 50 are formed by laminating, these values relating to the preferred thickness are applied to the total of each layer. The thickness of the layer made of the buffer resin 50 can be evaluated by observing the cross section of the wire 11 constituting the coil 10 with a microscope or the like. Moreover, when forming the layer which consists of buffer resin 50 using the liquid containing the buffer resin 50 so that it may mention later, the thickness of a layer is adjusted by adjusting the quantity of the liquid used and the density | concentration of the buffer resin 50 in a liquid. Can be controlled.

緩衝樹脂50に関して、具体的な樹脂種は、上記のような引張弾性率とガラス転移温度を有するものであれば、特に限定されない。例としてはシリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレア樹脂等を挙げることができる。これらは単独で用いてもよいし、2種以上組み合わせて用いてもよい。上記のうち、シリコーン樹脂が、硬化反応の制御が容易である、使用できる溶剤の種類が多い等の観点で、好適である。緩衝樹脂50にはさらに、着色用顔料、粘度調整剤、老化防止剤、フィラー(無機充填材)、保存安定剤、分散剤など、添加剤が加えられていても良い。なお、緩衝樹脂50にこれらの添加剤が添加される場合に、上記で規定される緩衝樹脂50の引張弾性率およびガラス転移温度は、添加剤を添加した状態で得られる値である。   With respect to the buffer resin 50, the specific resin species is not particularly limited as long as it has the above-described tensile elastic modulus and glass transition temperature. Examples include silicone resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, phenol resins, unsaturated polyester resins, polyurea resins, and the like. These may be used alone or in combination of two or more. Among the above, the silicone resin is preferable from the viewpoint of easy control of the curing reaction and many types of solvents that can be used. The buffer resin 50 may further contain additives such as coloring pigments, viscosity modifiers, anti-aging agents, fillers (inorganic fillers), storage stabilizers, and dispersants. In addition, when these additives are added to the buffer resin 50, the tensile elastic modulus and the glass transition temperature of the buffer resin 50 defined above are values obtained in a state where the additive is added.

また、緩衝樹脂50は、硬化性樹脂を含んでなることが好ましい。すると、未硬化の状態の緩衝樹脂50を、コイル10を構成する素線11の表面に接触させて膜を形成してから硬化させることで、簡便に、緩衝樹脂50よりなる層を素線11の表面に薄く形成することができる。具体的な方法としては、コイル10を成形した後、磁心20の挿入やケース30への収容を行う前に、コイル10を未硬化状態の緩衝樹脂50を含む液体に浸漬し、取り出し後、硬化させればよい。あるいは、コイル10を磁心20との組合体とし、ケース30に収容、固定した後に、ケース30内に未硬化状態の緩衝樹脂50を含む液体を注入し、余剰の液体をケース30から排出した後、硬化させればよい。コイル10を成形する前の長尺状の素線11に対して、緩衝樹脂50よりなる層を形成しておいてもよい。しかし、コイル10の成形時に緩衝樹脂50の層が剥がれるのを避けるため、緩衝樹脂50よりなる層を形成するのは、長尺状の素線11の段階よりも、コイル10成形後の方が望ましい。さらに、接着層を介したケース30の底面31へのコイル10の固定を、緩衝樹脂50が妨げることを避けるために、コイル10をケース30内に固定した状態で、緩衝樹脂50を含む液体をケース30内に注入してから排出する方法が最も好ましい。この場合、ケース30内部に露出するコイル10以外の部材にも緩衝樹脂50が付着するが、注型樹脂40の割れを防止するという観点において、特段の影響を及ぼさないため、問題にならない。   The buffer resin 50 preferably comprises a curable resin. Then, the buffer resin 50 in an uncured state is brought into contact with the surface of the wire 11 constituting the coil 10 to form a film and then cured, whereby a layer made of the buffer resin 50 is simply formed. It can be formed thin on the surface of the film. As a specific method, after the coil 10 is molded, the coil 10 is immersed in a liquid containing an uncured buffer resin 50 before being inserted into the case 20 or housed in the case 30, taken out, and then cured. You can do it. Alternatively, after the coil 10 is combined with the magnetic core 20 and accommodated and fixed in the case 30, the liquid containing the uncured buffer resin 50 is injected into the case 30 and the excess liquid is discharged from the case 30. It can be cured. A layer made of the buffer resin 50 may be formed on the long strand 11 before forming the coil 10. However, in order to avoid peeling of the buffer resin 50 layer at the time of forming the coil 10, the layer made of the buffer resin 50 is formed after the coil 10 is formed rather than at the stage of the long strand 11. desirable. Further, in order to prevent the buffer resin 50 from interfering with the fixing of the coil 10 to the bottom surface 31 of the case 30 through the adhesive layer, the liquid containing the buffer resin 50 is removed while the coil 10 is fixed in the case 30. The method of discharging after injecting into the case 30 is most preferable. In this case, the buffer resin 50 also adheres to members other than the coil 10 exposed inside the case 30, but this is not a problem because it does not have a special influence in terms of preventing cracking of the casting resin 40.

なお、緩衝樹脂50が硬化性樹脂を含まない場合にも、緩衝樹脂50を揮発性の溶剤で溶解、希釈した状態で、上記の硬化性樹脂の場合と同様の方法で、緩衝樹脂50を含む溶液を素線11の表面に接触させて膜を形成し、乾燥によって溶媒を除去することで、緩衝樹脂50よりなる層を素線11の表面に形成することができる。形成する緩衝樹脂50の層の厚さは、緩衝樹脂50が硬化性を有する場合も、有さない場合も、使用する液体中における緩衝樹脂50の濃度を調節することで、制御することができる。   Even when the buffer resin 50 does not contain a curable resin, the buffer resin 50 is included in the same manner as in the case of the curable resin in a state where the buffer resin 50 is dissolved and diluted with a volatile solvent. A layer made of the buffer resin 50 can be formed on the surface of the strand 11 by bringing the solution into contact with the surface of the strand 11 to form a film and removing the solvent by drying. The thickness of the buffer resin 50 layer to be formed can be controlled by adjusting the concentration of the buffer resin 50 in the liquid to be used, regardless of whether the buffer resin 50 is curable or not. .

上記では、1種の緩衝樹脂50を使用し、コイル10の素線11の表面に緩衝樹脂50よりなる層を1層のみ形成したが、2種以上の緩衝樹脂50を用いて、素線11の表面に2層以上で積層してもよい。また、素線11と注型樹脂40の間に、接着層等、別の樹脂層を介在させてもよい。   In the above, one type of buffer resin 50 is used, and only one layer made of the buffer resin 50 is formed on the surface of the strand 11 of the coil 10. Two or more layers may be laminated on the surface. Further, another resin layer such as an adhesive layer may be interposed between the wire 11 and the casting resin 40.

以下に本発明の実施例、比較例を示す。なお、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。   Examples of the present invention and comparative examples are shown below. In addition, this invention is not limited by these Examples.

<試験試料の作製>
図1のような構造を有するリアクトルを作製し、溶剤で希釈した緩衝樹脂の溶液をケースの内部に注入した。その後、緩衝樹脂をケースから排出し、ケース内部を乾燥させた。そして、ケース内に注型樹脂(エポキシ樹脂、新日鉄住金化学社製「EC−508」、50℃での引張弾性率:>4,000MPa、ガラス転移温度:125℃)を注入し、硬化させて、実施例1〜6および比較例2にかかるリアクトルを作製した。用いた緩衝樹脂の樹脂種と、50℃における引張弾性率、ガラス転移温度、緩衝樹脂層の厚さは、表1にまとめてある。緩衝樹脂層の厚さは、溶剤中の緩衝樹脂の濃度によって制御した。比較例1においては、緩衝樹脂を用いず、図1のリアクトルを作製後、そのまま注型樹脂をケースに注入した。
<Preparation of test sample>
A reactor having a structure as shown in FIG. 1 was prepared, and a buffer resin solution diluted with a solvent was injected into the case. Thereafter, the buffer resin was discharged from the case, and the inside of the case was dried. Then, a casting resin (epoxy resin, “EC-508” manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd., tensile elastic modulus at 50 ° C.:>4,000 MPa, glass transition temperature: 125 ° C.) is injected into the case and cured. Then, reactors according to Examples 1 to 6 and Comparative Example 2 were produced. Table 1 summarizes the types of the buffer resin used, the tensile modulus at 50 ° C., the glass transition temperature, and the thickness of the buffer resin layer. The thickness of the buffer resin layer was controlled by the concentration of the buffer resin in the solvent. In Comparative Example 1, a buffer resin was not used, and after casting the reactor of FIG.

使用した具体的な緩衝樹脂は、以下のとおりである。
・シリコーン樹脂(実施例1〜4):モメンティブ社製「TSE3062」
・スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体(SEPS)(実施例6):クラレ社製「セプトン2007」
・エポキシ樹脂(比較例2):新日鉄住金化学社製「EC−1200M」
The specific buffer resin used is as follows.
Silicone resin (Examples 1 to 4): “TSE3062” manufactured by Momentive
Styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer (SEPS) (Example 6): “Septon 2007” manufactured by Kuraray Co., Ltd.
Epoxy resin (Comparative Example 2): “EC-1200M” manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.

また、緩衝樹脂および注型樹脂の各物性値は、以下の方法によって測定したものである。
・引張弾性率(50℃):ASTM D638
・ガラス転移温度:DMAによるtanδ法
The physical property values of the buffer resin and the casting resin are measured by the following methods.
-Tensile modulus (50 ° C): ASTM D638
Glass transition temperature: tan δ method by DMA

<試験方法>
[冷熱衝撃による割れの評価]
各リアクトルについて、−40℃と150℃にて、各1.5時間の通電を行うサイクルを500回繰り返した。その後、目視にて、注型樹脂に割れ(亀裂)が発生しているかどうかを確認した。割れの有無は、注型樹脂の表面および、切断面において確認した。表面にも切断面にも割れが発生していなかったものを合格「○」とし、表面または切断面のいずれか少なくとも一方に割れが発生していたものを不合格「×」とした。
<Test method>
[Evaluation of cracks caused by thermal shock]
About each reactor, the cycle which energizes each 1.5 hours at -40 degreeC and 150 degreeC was repeated 500 times. Thereafter, it was visually confirmed whether or not the casting resin was cracked. The presence or absence of cracks was confirmed on the surface of the casting resin and on the cut surface. A case where no cracks occurred on the surface or the cut surface was judged as acceptable “◯”, and a case where cracks occurred on at least one of the surface or the cut surface was regarded as unacceptable “x”.

<試験結果>
表1に、各実施例および比較例にかかるリアクトルについて、緩衝樹脂の特性と、割れの評価の結果を示す。
<Test results>
In Table 1, about the reactor concerning each Example and a comparative example, the characteristic of buffer resin and the result of evaluation of a crack are shown.

Figure 0006303593
Figure 0006303593

表1によると、比較例1にかかる、緩衝樹脂よりなる層をコイルの素線表面に有さないリアクトルにおいては、冷熱衝撃印加後の割れの評価試験において、注型樹脂に割れが生じた。これに対し、実施例1〜6にかかるリアクトルにおいては、注型樹脂に割れが生じなかった。これは、実施例1〜6では、2000MPa未満の引張弾性率と−40℃以下のガラス転移温度を有する緩衝樹脂が、コイルと注型樹脂の間に介在されることで、コイルが通電時に振動しても、注型樹脂に印加される応力が、緩衝樹脂によって緩和されることによると解釈される。   According to Table 1, in the reactor according to Comparative Example 1 that does not have the layer made of the buffer resin on the surface of the coil wire, cracking occurred in the casting resin in the crack evaluation test after applying the thermal shock. On the other hand, in the reactors according to Examples 1 to 6, no cracking occurred in the casting resin. In Examples 1 to 6, a buffer resin having a tensile modulus of less than 2000 MPa and a glass transition temperature of −40 ° C. or less is interposed between the coil and the casting resin, so that the coil vibrates when energized. Even so, it is interpreted that the stress applied to the casting resin is relaxed by the buffer resin.

一方、比較例2にかかるリアクトルにおいては、コイルと注型樹脂の間に、注型樹脂よりは低い引張弾性率を有する緩衝樹脂が介在されるものの、その引張弾性率の値は2000MPaと大きく、またガラス転移温度が、冷熱衝撃試験の低温時の温度である−40℃よりも高くなっている。これにより、特に低温において、コイルが振動した際に注型樹脂に印加される応力を緩衝樹脂が十分に緩和できず、注型樹脂の割れにつながったと解釈される。   On the other hand, in the reactor according to Comparative Example 2, although a buffer resin having a lower tensile elastic modulus than the casting resin is interposed between the coil and the casting resin, the value of the tensile elastic modulus is as large as 2000 MPa, Further, the glass transition temperature is higher than −40 ° C., which is the temperature at the low temperature of the thermal shock test. This interprets that the stress applied to the casting resin when the coil vibrates, particularly at low temperatures, does not sufficiently relax the buffer resin, leading to cracking of the casting resin.

10 コイル
11 素線
20 磁心
30 ケース
31 底面
32 側壁面
40 注型樹脂
50 緩衝樹脂
10 Coil 11 Wire 20 Magnetic core 30 Case 31 Bottom surface 32 Side wall surface 40 Cast resin 50 Buffer resin

Claims (4)

導体線の表面が絶縁被覆層に覆われた素線を巻き回してなるコイルと、
前記コイルが収容されたケースと、
前記ケースの内部に充填され、前記コイルと前記ケースの側壁面の間の空間および前記コイルのコイルターンの間の空間を満たす注型樹脂と、
隣接する前記コイルターンが相互に対向する部位を含む前記素線の表面を被覆して、前記注型樹脂との間に形成された、前記絶縁被覆層とは別の少なくとも1層の緩衝樹脂よりなる層と、を有し、
前記緩衝樹脂は、50℃において、前記注型樹脂よりも低く、かつ2000MPa未満の引張弾性率を有し、前記注型樹脂よりも低いガラス転移温度を有する樹脂組成物よりなり、
前記緩衝樹脂よりなる層は、0.8〜50μmの範囲の厚さを有することを特徴とするリアクトル。
A coil formed by winding an element wire whose surface is covered with an insulating coating layer;
A case containing the coil;
A casting resin filled in the case and filling the space between the coil and the side wall surface of the case and the space between the coil turns of the coil ;
From at least one layer of buffer resin different from the insulating coating layer, which is formed between the casting resin and covering the surface of the wire including the portion where the adjacent coil turns face each other And a layer
The buffer resin, at 50 ° C., the lower than casting resin, and having a tensile modulus of less than 2000 MPa, Ri name of a resin composition having a glass transition temperature lower than the casting resin,
The reactor is characterized in that the layer made of the buffer resin has a thickness in the range of 0.8 to 50 μm .
前記緩衝樹脂の50℃における引張弾性率は、500MPa以下であることを特徴とする請求項1に記載のリアクトル。   The reactor according to claim 1, wherein the buffer resin has a tensile elastic modulus at 50 ° C. of 500 MPa or less. 前記緩衝樹脂のガラス転移温度は、−40℃以下であることを特徴とする請求項1または2に記載のリアクトル。   The reactor according to claim 1, wherein the buffer resin has a glass transition temperature of −40 ° C. or lower. 前記緩衝樹脂は、硬化性樹脂を含んでなることを特徴とする請求項1からのいずれか1項に記載のリアクトル。 The reactor according to any one of claims 1 to 3 , wherein the buffer resin includes a curable resin.
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