JP6303280B2 - Optical waveguide and integrated optical device - Google Patents

Optical waveguide and integrated optical device Download PDF

Info

Publication number
JP6303280B2
JP6303280B2 JP2013079374A JP2013079374A JP6303280B2 JP 6303280 B2 JP6303280 B2 JP 6303280B2 JP 2013079374 A JP2013079374 A JP 2013079374A JP 2013079374 A JP2013079374 A JP 2013079374A JP 6303280 B2 JP6303280 B2 JP 6303280B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical waveguide
region
waveguide region
width
junction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013079374A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014202936A (en
Inventor
後藤田 光伸
光伸 後藤田
高林 正和
正和 高林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP2013079374A priority Critical patent/JP6303280B2/en
Publication of JP2014202936A publication Critical patent/JP2014202936A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6303280B2 publication Critical patent/JP6303280B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
  • Lasers (AREA)

Description

本発明は、等価屈折率が異なる導波路領域を光結合する光導波路および当該光導波路を有する光集積素子に関する。   The present invention relates to an optical waveguide that optically couples waveguide regions having different equivalent refractive indexes and an optical integrated device having the optical waveguide.

近年、通信需要の飛躍的な増加に伴い、波長が異なる複数の信号光を多重化して1本の光ファイバで大容量伝送を可能とする波長分割多重通信システムが実用化されている。また、40Gbps以上の高速な信号光の変調方式には、従来用いられてきた光強度変調方式に加えて、信号強度を一定として光位相のみを変化させる光位相変調方式が実用化されつつある。   In recent years, with a dramatic increase in communication demand, a wavelength division multiplexing communication system that multiplexes a plurality of signal lights having different wavelengths and enables large-capacity transmission using a single optical fiber has been put into practical use. As a high-speed signal light modulation method of 40 Gbps or more, in addition to the conventionally used light intensity modulation method, an optical phase modulation method in which only the optical phase is changed while the signal intensity is constant is being put into practical use.

上記の波長分割多重通信システムに用いられる光源としては、少なくとも30〜40dB以上の高いサイドモード抑圧比(Side Mode Suppression Ratio:SMSR)が得られる単一モードのLD(Laser Diode)(以下、単一モードLDという)が好適である。単一モードLDには、例えば、分布帰還型LD(Distributed Feedback Laser Diode、以下、DFB−LDという)や、分布ブラッグ反射型LD(Distributed Bragg Reflector Laser Diode、以下、DBR−LDという)等がある。また、最近では、アレイ化した単一モードLDと、素子温度調整や電流注入による屈折率制御との併用、あるいは複数の反射ピークを有するDBRミラーペアによる波長の選択によって、長波光通信で用いる全波長帯域をカバーすることが可能な波長可変LDも開発されている。   As a light source used in the wavelength division multiplex communication system, a single mode LD (Laser Diode) (hereinafter referred to as a single diode) capable of obtaining a high side mode suppression ratio (SMSR) of at least 30 to 40 dB or more. (Referred to as mode LD). Examples of the single mode LD include a distributed feedback laser diode (hereinafter referred to as DFB-LD) and a distributed Bragg reflector laser diode (hereinafter referred to as DBR-LD). . Recently, all wavelengths used in long-wave optical communication can be obtained by using a combination of arrayed single mode LD and refractive index control by element temperature adjustment or current injection, or by selecting a wavelength by a DBR mirror pair having a plurality of reflection peaks. A wavelength tunable LD capable of covering the band has also been developed.

従来では、DFB−LDアレイと接続された多モード干渉(Multi Mode Interference)型の光合分波素子(以下、MMIという)の出射側に、半導体光増幅素子(Semiconductor Optical Amplifier、以下、SOAという)を集積することによって、出力増大や、導波路の分岐損失、接続損失、および散乱損失等の補償に用いる波長可変LDの構成(光集積素子)が開示されている(例えば、非特許文献1参照)。非特許文献1において、SOAは、LDと同様のエピタキシャル層で構成されており、電流注入を行うと入射光に対する増幅器として動作するが、単体で動作させた場合にはレーザ発振が生じないように設計されている。   Conventionally, a semiconductor optical amplifier (hereinafter referred to as SOA) is provided on the output side of a multi-mode interference type optical multiplexing / demultiplexing element (hereinafter referred to as MMI) connected to the DFB-LD array. (See, for example, Non-Patent Document 1). A wavelength tunable LD configuration (optical integrated device) used to compensate for output increase, waveguide branching loss, connection loss, scattering loss, etc. ). In Non-Patent Document 1, the SOA is composed of an epitaxial layer similar to an LD, and operates as an amplifier for incident light when current is injected. However, when operated alone, laser oscillation does not occur. Designed.

ここで、光集積素子の出力端側に、導波光に対する微小な反射点が存在する場合について考察する。なお、反射点とは、光集積素子の出力端面における導波光を反射する位置のことをいう。   Here, a case where a minute reflection point for guided light exists on the output end side of the optical integrated device will be considered. The reflection point refers to a position where the guided light is reflected on the output end face of the optical integrated device.

反射点で反射してDFB−LDに戻る導波光、すなわち反射点からの戻り光は、SOAで増幅されると無視できないレベルとなる。その結果、LDの動作が不安定となり、出射光の発振線幅が増大するなどの問題が生じる。特に、光位相変調方式を用いた通信システムでは、500kHz〜1MHz程度以下の狭発振線幅が必要とされているため、出射光の発振線幅の増大を抑制する必要がある。   Waveguide light reflected at the reflection point and returning to the DFB-LD, that is, return light from the reflection point, becomes a level that cannot be ignored when amplified by the SOA. As a result, the operation of the LD becomes unstable, causing problems such as an increase in the oscillation line width of the emitted light. In particular, in a communication system using an optical phase modulation method, a narrow oscillation line width of about 500 kHz to 1 MHz or less is required, and thus it is necessary to suppress an increase in the oscillation line width of emitted light.

このような問題の対策として、出射端面付近の導波路幅をテーパ状に広げることによって、出射端面の反射率を低減する技術が開示されている(例えば、特許文献1参照)。   As a countermeasure against such a problem, a technique for reducing the reflectance of the emission end face by widening the waveguide width in the vicinity of the emission end face has been disclosed (for example, see Patent Document 1).

また、非特許文献1では、SOAの出射側に曲がり導波路(曲線形状の導波路)を設けるとともに、無反射(Anti-Reflection)コート(以下、ARコートという)を併用する構成が開示されており、出射端面付近からの光の反射を−50dB程度以下まで低減し、反射点からの戻り光によるDFB−LDの発振線幅への影響を除去したことが報告されている。   Non-Patent Document 1 discloses a configuration in which a curved waveguide (curved waveguide) is provided on the exit side of the SOA, and an anti-reflection coating (hereinafter referred to as an AR coating) is used in combination. It has been reported that the reflection of light from the vicinity of the emission end face is reduced to about −50 dB or less, and the influence of the return light from the reflection point on the oscillation line width of the DFB-LD is removed.

一方、上記の光集積素子では、出射端面以外にも、屈折率がわずかに異なる導波路領域同士の接合界面での反射が生じる箇所など、出射端面以外の反射点が光集積素子内に複数存在している。   On the other hand, in the above-described optical integrated device, there are a plurality of reflection points in the optical integrated device other than the output end surface, such as a portion where reflection occurs at the junction interface between waveguide regions having slightly different refractive indexes in addition to the output end surface. doing.

これに対して、非特許文献1に開示される曲がり導波路は、出射端面以外の反射点に対して有効でないため適用できない。また、波長可変LDと、電界吸収(Electro Absorption:EA)型光変調器(以下、EA変調器という)やマッハツェンダ(Mach Zehnder:MZ)型光変調器(以下、MZ変調器という)などの外部変調器とを同一基板上に集積する場合においても、SOAの出射側で生じる反射を曲がり導波路によって低減することは不可能である。   On the other hand, the curved waveguide disclosed in Non-Patent Document 1 cannot be applied because it is not effective for reflection points other than the emission end face. In addition, the wavelength variable LD and the external such as an electro absorption (EA) type optical modulator (hereinafter referred to as EA modulator) and a Mach Zehnder (MZ) type optical modulator (hereinafter referred to as MZ modulator). Even when the modulator and the modulator are integrated on the same substrate, it is impossible to reduce the reflection generated on the exit side of the SOA by the bent waveguide.

一般的に、接合する2つの導波路の等価屈折率およびモード形状を完全に一致させることは困難であり、両者の微小な差に起因して接合界面において反射が生じる。接合界面にて反射された反射光がSOAを介したLDへの戻り光になると、当該戻り光がSOAで増幅されるため、上述の出射端面の場合と同様に出射光の発振線幅が増大するという問題が生じる。   In general, it is difficult to completely match the equivalent refractive index and mode shape of two waveguides to be joined, and reflection occurs at the joining interface due to a minute difference between the two waveguides. When the reflected light reflected at the bonding interface becomes the return light to the LD via the SOA, the return light is amplified by the SOA, so that the oscillation line width of the outgoing light increases as in the case of the above-described outgoing end face. Problem arises.

このような問題の対策として、導波路の接合界面に対する法線を、導波路を通過する光の進行方向を基準として角度φだけ傾けた斜め接合界面を有する構造が開示されている(例えば、非特許文献2参照)。非特許文献2では、斜め接合界面を垂直カプラーフィルター型(Vertical Coupler Filter:VCF)導波路に適用した場合において、接合面を傾けない場合と比較して反射が最大で4桁程度低減するという計算結果が示されている。   As a countermeasure against such a problem, a structure having an oblique junction interface in which a normal to the junction interface of the waveguide is inclined by an angle φ with respect to the traveling direction of light passing through the waveguide is disclosed (for example, non- Patent Document 2). According to Non-Patent Document 2, when an oblique junction interface is applied to a vertical coupler filter (vertical coupler filter: VCF) waveguide, the reflection is reduced by up to about four orders of magnitude compared to the case where the junction surface is not tilted. Results are shown.

特公平6−7603号公報Japanese Patent Publication No. 6-7603

Hiroyuki Ishii, Kazuo Kasaya, and Hiromi Oohashi, “Spectral Linewidth Reduction in Widely Wavelength Tunable DFB Laser Array”, IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, VOL.15, NO.3, MAY/JUNE 2009, p.514-520Hiroyuki Ishii, Kazuo Kasaya, and Hiromi Oohashi, “Spectral Linewidth Reduction in Widely Wavelength Tunable DFB Laser Array”, IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS, VOL.15, NO.3, MAY / JUNE 2009, p.514-520 M.-C. Amann, B. Borchert, S. Illek, and W. Steffens, “Widely tunable laser diodes with tapered index perturbations for reduced internal reflectaions and improved wavelength access”, ELECTRONICS LETTERS,1st February 1996, Vol.32, No.3, p.221-222M.-C. Amann, B. Borchert, S. Illek, and W. Steffens, “Widely tunable laser diodes with tapered index perturbations for reduced internal reflectaions and improved wavelength access”, ELECTRONICS LETTERS, 1st February 1996, Vol.32, No.3, p.221-222

本願の発明者らは、斜め接合界面を有する光集積素子を試作し、これを測定した結果、接合界面において反射が低減する効果は得られたものの、出射光(LD)の発振振幅への影響(すなわち、発振振幅の増大)は依然として無視できないものであることを見出した。従って、導波路の接合界面における反射を、従来の斜め接合界面よりもさらに低減する必要がある。   The inventors of the present application prototyped an optical integrated device having an oblique junction interface and measured it. As a result, although the effect of reducing reflection at the junction interface was obtained, the influence on the oscillation amplitude of the emitted light (LD) It has been found that (that is, the increase in oscillation amplitude) is still not negligible. Therefore, it is necessary to further reduce the reflection at the junction interface of the waveguide as compared with the conventional oblique junction interface.

本発明は、これらの問題を解決するためになされたものであり、単一モードLDの発振線幅の増大を抑制することが可能な光導波路および当該光導波路を有する光集積素子を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve these problems, and provides an optical waveguide capable of suppressing an increase in the oscillation line width of a single mode LD and an optical integrated device having the optical waveguide. With the goal.

上記の課題を解決するために、本発明による光導波路は、第1の光導波路領域と、第1の光導波路領域の等価屈折率とは異なる等価屈折率を有する第2の光導波路領域と、第1の光導波路領域と第2の光導波路領域とを接合し、第1の光導波路領域の導波路幅および第2の光導波路領域の導波路幅よりも広い一定の導波路幅を有する接合領域とを備え、第1の光導波路領域の光導波路幅および第2の光導波路領域の光導波路幅は、単一モードの光のみが存在可能な幅であって、第1の光導波路領域および第2の光導波路領域の各々は、接合領域にかけて導波路幅が徐々に広がるテーパ光導波路領域を有し、接合領域を通過する光の進行方向に対して垂直な断面における、第1の光導波路領域と第2の光導波路領域とが存在する割合は、光の進行方向に沿って連続的に変化し、接合領域における第1の光導波路領域と第2の光導波路領域との接合界面は、断面に対して予め定められた角度の方向に沿って直線的に形成され、接合界面は、断面に対して5度から30度まで、45度から65度まで、および80度の範囲内にある一定の角度を有することを特徴とする。 In order to solve the above problems, an optical waveguide according to the present invention includes a first optical waveguide region, a second optical waveguide region having an equivalent refractive index different from the equivalent refractive index of the first optical waveguide region, Joining the first optical waveguide region and the second optical waveguide region, and having a constant waveguide width wider than the waveguide width of the first optical waveguide region and the waveguide width of the second optical waveguide region The optical waveguide width of the first optical waveguide region and the optical waveguide width of the second optical waveguide region are such that only single mode light can exist, and the first optical waveguide region and Each of the second optical waveguide regions has a tapered optical waveguide region in which the waveguide width gradually increases over the junction region, and the first optical waveguide in a cross section perpendicular to the traveling direction of the light passing through the junction region The ratio of the area and the second optical waveguide area is the light progress. The junction interface between the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the junction region is linearly formed along the direction of a predetermined angle with respect to the cross section. And the bonding interface is characterized by having a certain angle within the range of 5 to 30 degrees, 45 to 65 degrees, and 80 degrees with respect to the cross-section.

本発明によると、第1の光導波路領域と、第1の光導波路領域の等価屈折率とは異なる等価屈折率を有する第2の光導波路領域と、第1の光導波路領域と第2の光導波路領域とを接合し、第1の光導波路領域の導波路幅および第2の光導波路領域の導波路幅よりも広い一定の導波路幅を有する接合領域とを備え、第1の光導波路領域の光導波路幅および第2の光導波路領域の光導波路幅は、単一モードの光のみが存在可能な幅であって、第1の光導波路領域および第2の光導波路領域の各々は、接合領域にかけて導波路幅が徐々に広がるテーパ光導波路領域を有し、接合領域を通過する光の進行方向に対して垂直な断面における、第1の光導波路領域と第2の光導波路領域とが存在する割合は、光の進行方向に沿って連続的に変化し、接合領域における第1の光導波路領域と第2の光導波路領域との接合界面は、断面に対して予め定められた角度の方向に沿って直線的に形成され、接合界面は、断面に対して5度から30度まで、45度から65度まで、および80度の範囲内にある一定の角度を有することを特徴とするため、単一モードLDの発振線幅の増大を抑制することが可能となる。 According to the present invention, the first optical waveguide region, the second optical waveguide region having an equivalent refractive index different from the equivalent refractive index of the first optical waveguide region, the first optical waveguide region, and the second optical waveguide. A first optical waveguide region, the first optical waveguide region having a fixed waveguide width wider than the waveguide width of the first optical waveguide region and the waveguide width of the second optical waveguide region. The optical waveguide width of the first optical waveguide region and the optical waveguide width of the second optical waveguide region are widths in which only single-mode light can exist, and each of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region is bonded. There is a tapered optical waveguide region in which the waveguide width gradually increases over the region, and there is a first optical waveguide region and a second optical waveguide region in a cross section perpendicular to the traveling direction of light passing through the junction region. The rate of the change varies continuously along the light traveling direction, Junction interface between the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in is predefined angle linearly formed along the direction of the relative cross section, the joint interface is 5 degrees with respect to section It is possible to suppress an increase in the oscillation line width of the single mode LD because it has a certain angle within the range of 30 degrees to 30 degrees, 45 degrees to 65 degrees, and 80 degrees. .

本発明の実施の形態1による光導波路の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical waveguide by Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態2による光導波路の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical waveguide by Embodiment 2 of this invention. 本発明の実施の形態1,2による接合界面の角度と反射量との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the angle of the joining interface by Embodiment 1, 2 of this invention, and reflection amount. 本発明の実施の形態3による光導波路の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical waveguide by Embodiment 3 of this invention. 本発明の実施の形態4による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical integrated device by Embodiment 4 of this invention. 本発明の実施の形態5による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical integrated device by Embodiment 5 of this invention. 前提技術による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。It is a top view which shows an example of a structure of the optical integrated element by a prerequisite technique. 前提技術による光導波路の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the optical waveguide by a premise technique. 前提技術による光導波路の構成の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of a structure of the optical waveguide by a premise technique.

本発明の実施の形態について、図面に基づいて以下に説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

なお、以下、各図において同一または同様の構成部分については同じ符号を付している。また、光損失を単に損失といい、光反射を単に反射という。   Hereinafter, the same or similar components are denoted by the same reference numerals in the respective drawings. Further, light loss is simply referred to as loss, and light reflection is simply referred to as reflection.

<前提技術>
まず、本発明の前提技術について説明する。
<Prerequisite technology>
First, the prerequisite technology of the present invention will be described.

図7は、前提技術による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。なお、図7では、非特許文献1の図1に示されているInP基板上に形成された光集積素子の構成を模式的に示している。   FIG. 7 is a top view showing an example of the configuration of the optical integrated device according to the base technology. FIG. 7 schematically shows the configuration of the optical integrated element formed on the InP substrate shown in FIG.

図7に示すように、集積チップ12(光集積素子)は、単一モードLD1と、受動曲がり導波路2と、MMI3と、受動直線導波路4と、SOAの直線導波路部5aと、SOAの曲がり導波路部5bと、InPで構成される窓領域6と、ARコート膜7とを備えている。   As shown in FIG. 7, the integrated chip 12 (optical integrated device) includes a single mode LD1, a passive bending waveguide 2, an MMI 3, a passive linear waveguide 4, a SOA linear waveguide portion 5a, and an SOA. The curved waveguide portion 5b, the window region 6 made of InP, and the AR coat film 7 are provided.

受動曲がり導波路2、MMI3、および受動直線導波路4は、LD出力光8に対して透明、すなわち吸収や増幅がない受動光導波路領域13を構成している。また、SOAの直線導波路部5aおよびSOAの曲がり導波路部5bは、活性光導波路領域14を構成している。受動光導波路領域13と活性光導波路領域14との接合部(受動直線導波路4とSOAの直線導波路部5aとの接合部)には、接合界面15が形成されている。   The passive bending waveguide 2, the MMI 3, and the passive linear waveguide 4 constitute a passive optical waveguide region 13 that is transparent to the LD output light 8, that is, has no absorption or amplification. Further, the SOA straight waveguide portion 5 a and the SOA bent waveguide portion 5 b constitute an active optical waveguide region 14. A junction interface 15 is formed at the junction between the passive optical waveguide region 13 and the active optical waveguide region 14 (the junction between the passive linear waveguide 4 and the SOA linear waveguide portion 5a).

なお、図7において、単一モードLD1は複数設けられている(単一モードLDアレイ)。また、電極の図示を省略している。   In FIG. 7, a plurality of single mode LD1 are provided (single mode LD array). Further, illustration of the electrodes is omitted.

各単一モードLD1から出力されたLD出力光8は、受動曲がり導波路2を経てMMI3で合成される。MMI3で合成して生成された導波光9は、受動直線導波路4を通過し、SOAの直線導波路部5aおよびSOA曲がり導波路部5bからなるSOAで増幅された後、窓領域6を通過して出射光10として出射される。   The LD output light 8 output from each single mode LD 1 is synthesized by the MMI 3 via the passive bending waveguide 2. The guided light 9 synthesized by the MMI 3 passes through the passive linear waveguide 4, is amplified by the SOA including the SOA linear waveguide portion 5 a and the SOA curved waveguide portion 5 b, and then passes through the window region 6. Then, it is emitted as the outgoing light 10.

図8は、前提技術による光導波路の構成の一例を示す図であり、図7の接合界面15の近傍(図7に示す破線丸印の拡大図)を示している。図8(a)は、光導波路の上面図を示しており、図8(b)は、図8(a)のA−A断面図を示している。   FIG. 8 is a diagram showing an example of the configuration of the optical waveguide according to the base technology, and shows the vicinity of the bonding interface 15 of FIG. 7 (enlarged view of the broken-line circles shown in FIG. 7). FIG. 8A shows a top view of the optical waveguide, and FIG. 8B shows a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 8A.

図8(b)に示すように、活性光導波路領域14は、InP基板17上に、InP下部クラッド層18、量子井戸活性層20、およびInP上部クラッド層19を順に積層して形成している。受動光導波路領域13は、InP基板17上に、InP下部クラッド層18、バルク導波層21、InP上部クラッド層19を順に積層して形成している。また、活性光導波路領域14と受動光導波路領域13との接合部には接合界面15が形成されている。接合界面15は、導波光9の進行方向に対して垂直方向に形成されている。   As shown in FIG. 8B, the active optical waveguide region 14 is formed by sequentially laminating an InP lower cladding layer 18, a quantum well active layer 20, and an InP upper cladding layer 19 on an InP substrate 17. . The passive optical waveguide region 13 is formed by sequentially laminating an InP lower cladding layer 18, a bulk waveguide layer 21, and an InP upper cladding layer 19 on an InP substrate 17. A junction interface 15 is formed at the junction between the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13. The bonding interface 15 is formed in a direction perpendicular to the traveling direction of the guided light 9.

なお、量子井戸活性層20およびバルク導波層21は、InGaAsP系またはInGaAlAs系の材料で構成される。   The quantum well active layer 20 and the bulk waveguide layer 21 are made of an InGaAsP-based or InGaAlAs-based material.

上述の通り、出射端面での反射11以外にも、接合界面15での反射16など、出射端面以外の反射点が複数存在しているが、図7に示す構成は、出射端面以外の反射点に対して有効でない。   As described above, there are a plurality of reflection points other than the emission end face such as the reflection 16 at the bonding interface 15 in addition to the reflection 11 at the emission end face. However, the configuration shown in FIG. Not valid for

次に、図8に示すような接合界面に代えて、非特許文献2に開示されているような斜め接合界面を適用する場合について考察する。   Next, a case where an oblique bonding interface as disclosed in Non-Patent Document 2 is applied instead of the bonding interface as shown in FIG. 8 will be considered.

図9は、斜め接合界面22を有する光導波路の構成の一例を示す図である。   FIG. 9 is a diagram illustrating an example of the configuration of an optical waveguide having an oblique junction interface 22.

図9に示すように、斜め接合界面22は、導波光9の進行方向に対して角度θだけ傾いて形成されている。なお、斜め接合界面22以外の構成は、図8と同様であるため説明を省略する。   As shown in FIG. 9, the oblique junction interface 22 is formed to be inclined by an angle θ with respect to the traveling direction of the guided light 9. Note that the configuration other than the oblique bonding interface 22 is the same as that shown in FIG.

上述の通り、本願の発明者らは、図9の斜め接合界面22を図7の集積チップ12(光集積素子)に適用しても、接合界面での反射の低減を確認することはできるものの、出射光10の発振線幅への影響(発振線幅の増大)は無視できないことを見出した。従って、発振線幅の増大をさらに抑制する必要がある。   As described above, the inventors of the present application can confirm the reduction in reflection at the bonding interface even when the oblique bonding interface 22 in FIG. 9 is applied to the integrated chip 12 (optical integrated device) in FIG. The inventors have found that the influence of the emitted light 10 on the oscillation line width (increase in the oscillation line width) cannot be ignored. Therefore, it is necessary to further suppress an increase in the oscillation line width.

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、以下詳細に説明する。   The present invention has been made to solve such problems, and will be described in detail below.

<実施の形態1>
まず、本発明の実施の形態1による光導波路の構成について説明する。
<Embodiment 1>
First, the configuration of the optical waveguide according to the first embodiment of the present invention will be described.

図1は、本実施の形態1による光導波路の構成の一例を示す上面図であり、2つの光導波路領域の接合部近傍を示している。   FIG. 1 is a top view showing an example of the configuration of the optical waveguide according to the first embodiment, and shows the vicinity of a junction between two optical waveguide regions.

図1に示すように、光導波路は、導波層構成が異なる2種類の埋め込み型導波路である、活性光導波路領域14(第1の光導波路領域)と受動光導波路領域13(第2の光導波路領域)とを備えている。また、活性光導波路領域14と受動光導波路領域13とは接合領域25で接合されている。   As shown in FIG. 1, the optical waveguide includes two types of buried waveguides having different waveguide layer configurations, ie, an active optical waveguide region 14 (first optical waveguide region) and a passive optical waveguide region 13 (second optical waveguide region). Optical waveguide region). Further, the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 are joined at a joining region 25.

活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々において、接合領域25から十分離れた箇所での導波路幅(図1の紙面上下方向の長さ)は、1つの基本横モード(単一モード)の導波光9のみが存在することができる導波路となるように、例えば1.5μm程度に設定されている。   In each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13, the waveguide width (length in the vertical direction of the drawing in FIG. 1) at a position sufficiently away from the junction region 25 is one basic transverse mode (single mode). ) Is set to about 1.5 μm, for example, so that only the guided light 9 can exist.

また、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々における基本横モードに対応する等価屈折率は、一般的にはわずかに異なっている。   In addition, the equivalent refractive index corresponding to the fundamental transverse mode in each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 is generally slightly different.

活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々は、接合領域25にかけて導波路幅が徐々に広がるように形成されたテーパ光導波路領域24を有している。テーパ光導波路領域24の導波路幅は、例えば1.5μmから5μmまで徐々に広がり、テーパ光導波路領域24の長さ(図1の紙面左右方向の長さ)は例えば100μm程度が好適である。すなわち、活性光導波路領域14の導波路幅および受動光導波路領域13の導波路幅は、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13から接合領域25に渡って連続的に広がっている。   Each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 has a tapered optical waveguide region 24 formed so that the waveguide width gradually increases toward the junction region 25. The waveguide width of the tapered optical waveguide region 24 gradually increases from, for example, 1.5 μm to 5 μm, and the length of the tapered optical waveguide region 24 (the length in the horizontal direction in FIG. 1) is preferably about 100 μm, for example. That is, the waveguide width of the active optical waveguide region 14 and the waveguide width of the passive optical waveguide region 13 continuously spread from the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 to the junction region 25.

接合領域25の導波路幅は一定であり、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の導波路幅よりも広い。   The waveguide width of the junction region 25 is constant and wider than the waveguide widths of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13.

また、接合領域25内には、導波光9の進行方向に対して垂直な方向から角度θだけ傾いた斜め接合界面23が形成されている。すなわち、接合領域25における活性光導波路領域14と受動光導波路領域13との接合界面である斜め接合界面23は、接合領域25を通過する導波光9の進行方向に対して垂直な断面に対して予め定められた角度θの方向に沿って直線的に形成される。   Further, in the junction region 25, an oblique junction interface 23 that is inclined by an angle θ from a direction perpendicular to the traveling direction of the guided light 9 is formed. That is, the oblique junction interface 23, which is the junction interface between the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 in the junction region 25, is perpendicular to the traveling direction of the guided light 9 that passes through the junction region 25. It is linearly formed along the direction of a predetermined angle θ.

次に、本実施の形態1による光導波路の動作について説明する。なお、以下では、導波光9が活性光導波路領域14から受動光導波路領域13に進行するものとして説明する。   Next, the operation of the optical waveguide according to the first embodiment will be described. In the following description, it is assumed that the guided light 9 travels from the active optical waveguide region 14 to the passive optical waveguide region 13.

活性光導波路領域14を進行する単一モード(基本導波モード)の導波光9は、テーパ光導波路領域24に入ると断熱的に拡大する。すなわち、導波光9は、高次モードを励起することなく、モード形状を保ったまま広がる。   The single mode (basic guided mode) guided light 9 traveling through the active optical waveguide region 14 expands adiabatically when entering the tapered optical waveguide region 24. That is, the guided light 9 spreads while maintaining the mode shape without exciting higher-order modes.

接合領域25において、導波光9の進行方向に対して垂直な断面では、活性光導波路領域14と受動光導波路領域13とが存在する割合が、導波光9の進行方向に沿って連続的に変化する。具体的には、接合領域25において、活性光導波路領域14側では活性光導波路領域14が存在する割合の方が高いが、受動光導波路領域13側では受動光導波路領域13が存在する割合の方が高くなる。このように、接合領域25において斜め接合界面23を設けることによって、接合界面が角度θ=0で形成される場合(例えば、図8参照)と比較して、導波モードに対応する等価屈折率の変化が緩やかになるため、接合界面における反射も低減される。   In the junction region 25, in a cross section perpendicular to the traveling direction of the guided light 9, the ratio of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 continuously changes along the traveling direction of the guided light 9. To do. Specifically, in the junction region 25, the ratio of the active optical waveguide region 14 existing on the active optical waveguide region 14 side is higher, but the ratio of the passive optical waveguide region 13 existing on the passive optical waveguide region 13 side is higher. Becomes higher. As described above, by providing the oblique bonding interface 23 in the bonding region 25, the equivalent refractive index corresponding to the waveguide mode is compared with the case where the bonding interface is formed at an angle θ = 0 (for example, see FIG. 8). Therefore, the reflection at the bonding interface is also reduced.

導波光9が接合領域25を通過すると、テーパ光導波路領域24の導波路幅は、例えば5μmから1.5μmまで狭くなる。このとき、活性光導波路領域14からテーパ光導波路領域24に入って拡大した導波光9の基本導波モードは、断熱的に縮小して元のモード断面積に戻る。   When the guided light 9 passes through the junction region 25, the waveguide width of the tapered optical waveguide region 24 becomes narrow from 5 μm to 1.5 μm, for example. At this time, the fundamental waveguide mode of the guided light 9 that has expanded from the active optical waveguide region 14 into the tapered optical waveguide region 24 is adiabatically reduced to return to the original mode cross-sectional area.

以上のことから、本実施の形態1によれば、テーパ光導波路領域24によって導波光9のモード形状を変えずに活性光導波路領域14と受動光導波路領域13とを接合(光結合)し、また、斜め接合界面23によって導波光9の反射を低減しているため、出射光(単一モードLD)の発振線幅の増大を抑制することが可能となる。   From the above, according to the first embodiment, the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 are joined (optically coupled) by the tapered optical waveguide region 24 without changing the mode shape of the guided light 9, Further, since the reflection of the guided light 9 is reduced by the oblique junction interface 23, an increase in the oscillation line width of the emitted light (single mode LD) can be suppressed.

なお、本実施の形態1では、活性光導波路領域と受動光導波路領域との接続について説明したが、これに限るものではなく、活性光導波路領域同士あるいは受動光導波路領域同士であって、両者の等価屈折率がわずかに異なる場合にも適用可能である。   In the first embodiment, the connection between the active optical waveguide region and the passive optical waveguide region has been described. However, the present invention is not limited to this, and the active optical waveguide regions or the passive optical waveguide regions may be connected to each other. The present invention is also applicable when the equivalent refractive indexes are slightly different.

また、活性光導波路領域14を第1の光導波路領域とし、受動光導波路領域13を第2の光導波路領域として説明したが、受動光導波路領域13を第1の光導波路領域とし、活性光導波路領域14を第2の光導波路領域としてもよい。   Further, the active optical waveguide region 14 is described as the first optical waveguide region and the passive optical waveguide region 13 is described as the second optical waveguide region. However, the passive optical waveguide region 13 is defined as the first optical waveguide region, and the active optical waveguide is illustrated. The region 14 may be a second optical waveguide region.

<実施の形態2>
図2は、本実施の形態2による光導波路の構成の一例を示す上面図であり、2つの光導波路領域の接合部近傍を示している。
<Embodiment 2>
FIG. 2 is a top view showing an example of the configuration of the optical waveguide according to the second embodiment, and shows the vicinity of the junction between the two optical waveguide regions.

図2に示すように、本実施の形態2では、活性光導波路領域14(第1の光導波路領域)と受動光導波路領域13(第2の光導波路領域)とを接合する接合領域25において、テーパ形状接合界面26を形成することを特徴としている。その他の構成および動作は、実施の形態1と同様であるため、ここでは説明を省略する。   As shown in FIG. 2, in the second embodiment, in the junction region 25 that joins the active optical waveguide region 14 (first optical waveguide region) and the passive optical waveguide region 13 (second optical waveguide region), A taper-shaped bonding interface 26 is formed. Other configurations and operations are the same as those of the first embodiment, and thus description thereof is omitted here.

なお、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々における基本横モードに対応する等価屈折率は、活性光導波路領域14の方が受動光導波路領域13よりもわずかに高いものとする。   The equivalent refractive index corresponding to the fundamental transverse mode in each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 is slightly higher in the active optical waveguide region 14 than in the passive optical waveguide region 13.

接合領域25において、活性光導波路領域14と受動光導波路領域13との接合界面であるテーパ形状接合界面26は、活性光導波路領域14から受動光導波路領域13に向かって活性光導波路領域14の導波路幅が線形的に狭くなるように形成される。   In the junction region 25, the tapered junction interface 26, which is a junction interface between the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13, guides the active optical waveguide region 14 from the active optical waveguide region 14 toward the passive optical waveguide region 13. The waveguide width is linearly narrowed.

以上のことから、本実施の形態2によれば、テーパ光導波路領域24によって導波光9のモード形状を変えずに活性光導波路領域14と受動光導波路領域13とを接合(光結合)し、また、テーパ形状接合界面26によって導波光9の反射を低減しているため、実施の形態1と同様に、出射光(単一モードLD)の発振線幅の増大を抑制することが可能となる。   From the above, according to the second embodiment, the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 are joined (optically coupled) by the tapered optical waveguide region 24 without changing the mode shape of the guided light 9. In addition, since the reflection of the guided light 9 is reduced by the tapered joint interface 26, it is possible to suppress an increase in the oscillation line width of the emitted light (single mode LD) as in the first embodiment. .

なお、本実施の形態2では、活性光導波路領域と受動光導波路領域との接続について説明したが、これに限るものではなく、活性光導波路領域同士あるいは受動光導波路領域同士であって、両者の等価屈折率がわずかに異なりその大小関係が実施の形態と同じ場合にも適用可能である。   In the second embodiment, the connection between the active optical waveguide region and the passive optical waveguide region has been described. However, the present invention is not limited to this, and the active optical waveguide regions or the passive optical waveguide regions may be connected to each other. The present invention is also applicable when the equivalent refractive index is slightly different and the magnitude relationship is the same as that of the embodiment.

また、図2において、テーパ形状接合界面26の先端部は、接合領域25の幅方向(図2の紙面上下方向)の中心を通る直線上に位置しているが、当該直線上に位置しなくてもよい(当該直線上からずれて位置してもよい)。すなわち、図2では、接合領域25を通過する導波光9の進行方向に対して垂直な断面に対する角度θ(テーパ形状接合界面26を形成する紙面上側の角度)と、当該角度θに対向する角度(テーパ形状接合界面26を形成する紙面下側の角度)とは同じ(角度θ)であるが、テーパ形状接合界面26の先端の位置が紙面上側にずれた場合は上側の角度θの方が下側の角度よりも大きくなり、テーパ形状接合界面26の先端の位置が紙面下側にずれた場合は上側の角度θの方が下側の角度よりも小さくなる。   In FIG. 2, the tip of the taper-shaped bonding interface 26 is located on a straight line passing through the center in the width direction of the bonding region 25 (the vertical direction in FIG. 2), but is not located on the straight line. (It may be displaced from the straight line). That is, in FIG. 2, an angle θ (an angle on the upper side of the paper forming the tapered bonding interface 26) with respect to a cross section perpendicular to the traveling direction of the guided light 9 passing through the bonding region 25, and an angle facing the angle θ. (The angle on the lower side of the paper forming the taper-shaped bonding interface 26) is the same (angle θ). However, when the position of the tip of the taper-shaped bonding interface 26 is shifted to the upper side of the paper, the upper angle θ is greater. When the tip angle of the taper-shaped bonding interface 26 is shifted to the lower side of the drawing, the upper angle θ is smaller than the lower angle.

また、図2において、テーパ形状接合界面26の先端部は、ある程度の幅を有するように形成してもよい。   In FIG. 2, the tip of the tapered bonding interface 26 may be formed to have a certain width.

また、図2において、テーパ形状接合界面26の先端部の位置は、受動光導波路領域13側のテーパ光導波路領域24と接合領域25との境界位置と必ずしも一致する必要はなく、活性光導波路領域14側のテーパ光導波路領域24によって広がった基本モードが維持される範囲内で、テーパ形状接合界面26の先端部を延ばしてもよい(テーパ形状接合界面26の先端部を、受動光導波路領域13側のテーパ光導波路領域24内に位置してもよい)。   In FIG. 2, the position of the tip of the tapered junction interface 26 does not necessarily match the boundary position between the tapered optical waveguide region 24 and the junction region 25 on the passive optical waveguide region 13 side. The tip of the tapered joint interface 26 may be extended within a range in which the fundamental mode expanded by the 14-side tapered optical waveguide region 24 is maintained (the tip of the tapered joint interface 26 is extended to the passive optical waveguide region 13). May be located in the side tapered optical waveguide region 24).

ここで、実施の形態1,2による光導波路における反射低減の効果について、定量的な検討を行う。   Here, a quantitative examination is performed on the effect of reflection reduction in the optical waveguide according to the first and second embodiments.

図3は、実施の形態1,2による接合界面の角度と反射量との関係を示すグラフである。なお、白抜きの丸印で付された点を結ぶグラフは、図9に示す前提技術における関係を示している。また、白抜きの四角印で付された点を結ぶグラフは、実施の形態1における関係を示している。また、黒塗りの四角印で付された点を結ぶグラフは、実施の形態2における関係を示している。   FIG. 3 is a graph showing the relationship between the angle of the bonding interface and the amount of reflection according to the first and second embodiments. In addition, the graph which connects the point attached | subjected with the white circle | round | yen mark has shown the relationship in the base technology shown in FIG. Further, a graph connecting points marked with white square marks shows the relationship in the first embodiment. A graph connecting points marked with black squares shows the relationship in the second embodiment.

また、TE基本モード(基本横モード)に対する等価屈折率として、活性光導波路領域14は3.185、受動光導波路領域13は3.174を用い、基本導波モードに対して反射量を厳密に計算している。なお、実施の形態2におけるテーパ形状接合界面26の先端部は、接合領域25の幅方向(図2の紙面上下方向)の中心を通る直線上に位置しているものとする。   As the equivalent refractive index for the TE fundamental mode (basic transverse mode), 3.185 is used for the active optical waveguide region 14 and 3.174 is used for the passive optical waveguide region 13, and the amount of reflection is strictly limited to the fundamental waveguide mode. I'm calculating. In addition, the front-end | tip part of the taper-shaped joining interface 26 in Embodiment 2 shall be located on the straight line which passes along the center of the width direction (paper surface up-down direction of FIG. 2) of the joining area | region 25. FIG.

接合界面における反射をどの程度改善すればよいのかは、LDの戻り光耐性やSOAの増幅利得にも依存するが、一般的な目安としては、例えば非特許文献1にも記載されているように、LD側への戻り光量を−50dBから−60dB以下に抑える必要がある。   How much the reflection at the junction interface should be improved depends on the return light resistance of the LD and the amplification gain of the SOA, but as a general guideline, for example, as described in Non-Patent Document 1 as well. The amount of light returning to the LD side needs to be suppressed from -50 dB to -60 dB or less.

図3に示すように、図9の前提技術の場合では、接合界面を傾けない場合(例えば、図8参照)と比較して、最大でも約10dBの改善にとどまる。例えば、SOAの増幅利得を15dBとすると、最良の場合でも‐50dBとなり反射の改善が不十分であることが分かる。   As shown in FIG. 3, in the case of the base technology of FIG. 9, the improvement is only about 10 dB at the maximum as compared with the case where the bonding interface is not inclined (for example, see FIG. 8). For example, if the amplification gain of the SOA is 15 dB, it can be seen that even in the best case, it is -50 dB, and the reflection improvement is insufficient.

一方、実施の形態1の場合では、特に、角度θ=20度、60度、80度のときに、図9の前提技術の最良値よりも20dB〜30dBの改善が可能である。また、実施の形態2の場合では、角度θ=60度、80度以外では図9の前提技術の最良値と同程度であるが、角度θ=60度、80度ではさらに10dB〜20dBの反射の改善が得られる。   On the other hand, in the case of the first embodiment, in particular, when the angle θ = 20 degrees, 60 degrees, and 80 degrees, the improvement of 20 dB to 30 dB is possible as compared with the best value of the base technology in FIG. Further, in the case of the second embodiment, the angle θ is equal to the best value of the base technology in FIG. 9 except for the angle θ = 60 degrees and 80 degrees, but when the angle θ is 60 degrees and 80 degrees, the reflection is further 10 dB to 20 dB. Improved.

なお、透過損失についても同様に計算を行った結果(図示せず)、実施の形態2は実施の形態1と比較して、透過損失が約0.2dB改善されることが分かった。   As a result of calculating the transmission loss in the same manner (not shown), it was found that the transmission loss of the second embodiment was improved by about 0.2 dB compared to the first embodiment.

以上のことから、前提技術(図9)に対する、実施の形態1,2の有効性を確認することができた。   From the above, the effectiveness of the first and second embodiments with respect to the base technology (FIG. 9) could be confirmed.

<実施の形態3>
図4は、本実施の形態3による光導波路の構成の一例を示す上面図であり、2つの光導波路領域の接合部近傍を示している。
<Embodiment 3>
FIG. 4 is a top view showing an example of the configuration of the optical waveguide according to the third embodiment, and shows the vicinity of the junction between two optical waveguide regions.

図4に示すように、本実施の形態3では、活性光導波路領域14(第1の光導波路領域)と受動光導波路領域13(第2の光導波路領域)とを接合する接合領域25において、曲線形状接合界面27を形成することを特徴としている。その他の構成および動作は、実施の形態1,2と同様であるため、ここでは説明を省略する。   As shown in FIG. 4, in the third embodiment, in the junction region 25 that joins the active optical waveguide region 14 (first optical waveguide region) and the passive optical waveguide region 13 (second optical waveguide region), It is characterized in that a curved joint interface 27 is formed. Other configurations and operations are the same as those in the first and second embodiments, and thus description thereof is omitted here.

なお、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々における基本横モードに対応する等価屈折率は、受動光導波路領域13よりも活性光導波路領域14の方がわずかに高いものとする。   Note that the equivalent refractive index corresponding to the fundamental transverse mode in each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 is slightly higher in the active optical waveguide region 14 than in the passive optical waveguide region 13.

接合領域25において、活性光導波路領域14と受動光導波路領域13との接合界面である曲線形状接合界面27は、活性光導波路領域14から受動光導波路領域13に向かって活性光導波路領域14の導波路幅が非線形的に狭くなるように形成される。   In the junction region 25, the curved junction interface 27, which is a junction interface between the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13, leads the active optical waveguide region 14 from the active optical waveguide region 14 toward the passive optical waveguide region 13. The waveguide width is formed to be non-linearly narrow.

なお、光導波路を作製する際には、境界線のマスク形状が直線であっても、エッチングあるいはエピタキシャル再成長後の形状が曲線状に変形する場合があり、このようにして形成された場合も曲線形状接合界面27に含まれる。   When manufacturing the optical waveguide, the shape after etching or epitaxial regrowth may be deformed into a curved shape even if the mask shape of the boundary line is a straight line. It is included in the curved joint interface 27.

曲線形状接合界面27をなす曲線は、当該曲線形状接合界面27の接線の角度θが導波光9の進行方向に沿って緩やかに変化しているのと等価である。従って、図3に示す結果からも分かるように、角度θ=20度〜80度にわたる広い範囲で反射の低減効果がある。   The curve forming the curved joint interface 27 is equivalent to the fact that the tangent angle θ of the curved joint interface 27 changes gently along the traveling direction of the guided light 9. Therefore, as can be seen from the results shown in FIG. 3, there is an effect of reducing reflection in a wide range from the angle θ = 20 degrees to 80 degrees.

以上のことから、本実施の形態3によれば、テーパ光導波路領域24によって導波光9のモード形状を変えずに活性光導波路領域14と受動光導波路領域13とを接合(光結合)し、また、曲線形状接合界面27によって導波光9の反射を低減しているため、実施の形態1,2と同様に、出射光(単一モードLD)の発振線幅の増大を抑制することが可能となる。   From the above, according to the third embodiment, the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 are joined (optically coupled) by the tapered optical waveguide region 24 without changing the mode shape of the guided light 9. Further, since the reflection of the guided light 9 is reduced by the curved joint interface 27, it is possible to suppress an increase in the oscillation line width of the emitted light (single mode LD) as in the first and second embodiments. It becomes.

<実施の形態4>
図5は、本発明の実施の形態4による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。
<Embodiment 4>
FIG. 5 is a top view showing an example of the configuration of the optical integrated device according to the fourth embodiment of the present invention.

図5に示すように、本実施の形態4による光集積素子は、活性光導波路領域14(第1の光導波路領域)の両端に受動光導波路領域13(第2の光導波路領域)を接合して配置している。   As shown in FIG. 5, in the optical integrated device according to the fourth embodiment, the passive optical waveguide region 13 (second optical waveguide region) is bonded to both ends of the active optical waveguide region 14 (first optical waveguide region). Arranged.

また、テーパ光導波路領域24と接合領域25とによって低反射接合導波路領域28が構成され、活性光導波路領域14と、当該活性光導波路領域14の両端に配置された低反射接合導波路領域28とによって光増幅領域29が構成されている。光増幅領域29は、単一モードの導波光9の出力を増幅する。   The tapered optical waveguide region 24 and the junction region 25 constitute a low reflection junction waveguide region 28, and the active optical waveguide region 14 and the low reflection junction waveguide region 28 disposed at both ends of the active optical waveguide region 14. Thus, an optical amplification region 29 is configured. The optical amplification region 29 amplifies the output of the single mode guided light 9.

なお、図5では、低反射接合導波路領域28に実施の形態2のテーパ形状接合界面26を用いた場合を一例として示している。また、活性光導波路領域14はSOAであるものとする。   FIG. 5 shows an example in which the tapered junction interface 26 according to the second embodiment is used in the low reflection junction waveguide region 28. The active optical waveguide region 14 is assumed to be SOA.

活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々において、低反射接合導波路領域28から十分離れた箇所での導波路幅(図1の紙面上下方向の長さ)は、1つの基本横モードのみが存在することができる単一モードの導波路となるように、例えば1.5μm程度に設定されている。また、活性光導波路領域14および受動光導波路領域13の各々は、接合領域25にかけて導波路幅が徐々に広がるように形成されたテーパ光導波路領域24を有している。   In each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13, the waveguide width (the length in the vertical direction in FIG. 1) at a position sufficiently away from the low reflection junction waveguide region 28 is one basic transverse mode. For example, it is set to about 1.5 μm so as to be a single-mode waveguide in which only one can exist. Each of the active optical waveguide region 14 and the passive optical waveguide region 13 has a tapered optical waveguide region 24 formed so that the waveguide width gradually increases toward the junction region 25.

次に、動作について説明する。なお、以下では、導波光9が図5の紙面右方向に進行するものとして説明する。   Next, the operation will be described. In the following description, it is assumed that the guided light 9 travels in the right direction in FIG.

導波光9は、テーパ光導波路領域24に入ると断熱的に拡大する。すなわち、導波光9は、高次モードを励起することなく、モード形状を保ったまま広がる。   The guided light 9 expands adiabatically when entering the tapered optical waveguide region 24. That is, the guided light 9 spreads while maintaining the mode shape without exciting higher-order modes.

接合領域25では、実施の形態2と同様に、等価屈折率の変化が緩やかになるため、接合界面における反射も低減される。   In the junction region 25, as in the second embodiment, since the change in the equivalent refractive index becomes gradual, reflection at the junction interface is also reduced.

導波光9が接合領域25を通過すると、テーパ光導波路領域24の導波路幅は、例えば5μmから1.5μmまで狭くなる。このとき、受動光導波路領域13からテーパ光導波路領域24に入って拡大した導波光9の基本導波モードは、断熱的に縮小して元のモード断面積に戻り、そのまま活性光導波路領域14に光結合する。   When the guided light 9 passes through the junction region 25, the waveguide width of the tapered optical waveguide region 24 becomes narrow from 5 μm to 1.5 μm, for example. At this time, the fundamental waveguide mode of the guided light 9 that has expanded from the passive optical waveguide region 13 into the tapered optical waveguide region 24 is adiabatically reduced to return to the original mode cross-sectional area, and directly enters the active optical waveguide region 14. Photocouple.

導波光9は、活性光導波路領域14を進行中に増幅され、その後、上記と同様に低反射接合導波路領域28を通過し、受動光導波路領域13から出力される。   The guided light 9 is amplified while traveling through the active optical waveguide region 14, and then passes through the low reflection junction waveguide region 28 and is output from the passive optical waveguide region 13 as described above.

以上のことから、本実施の形態4によれば、SOAである活性光導波路領域14の両端に反射点が存在しないため、SOAを含む光共振器が構成されることがなく、また、活性光導波路領域14が高い光増幅利得を有する場合であっても特定の波長で自然放出光の成分が増大することはない。従って、SOAから出射される自然放出光が戻り光としてLDに注入されることによって生じる、出射光(単一モードLD)の発振線幅の増大を抑制することが可能となる。   From the above, according to the fourth embodiment, since there are no reflection points at both ends of the active optical waveguide region 14 which is the SOA, an optical resonator including the SOA is not configured, and the active light Even when the waveguide region 14 has a high light amplification gain, the component of spontaneous emission light does not increase at a specific wavelength. Therefore, it is possible to suppress an increase in the oscillation line width of the emitted light (single mode LD) caused by spontaneous emission light emitted from the SOA being injected into the LD as return light.

なお、実施の形態4では、活性光導波路領域14の導波路幅は一定であるとしたが、これに限るものではない。   In the fourth embodiment, the waveguide width of the active optical waveguide region 14 is constant. However, the present invention is not limited to this.

また、活性光導波路領域14の両端に接合された各受動光導波路領域13の導波路幅は、同じである必要はない。   Further, the waveguide widths of the passive optical waveguide regions 13 bonded to both ends of the active optical waveguide region 14 do not have to be the same.

また、実施の形態4では、接合領域25において、実施の形態2のテーパ形状接合界面(図2参照)を形成する場合について説明したが、実施の形態1の斜め接合界面23(図1参照)、あるいは実施の形態3の曲線形状接合界面27(図4参照)を形成してもよい。   In the fourth embodiment, the case where the tapered bonding interface (see FIG. 2) according to the second embodiment is formed in the bonding region 25 is described. However, the oblique bonding interface 23 (see FIG. 1) according to the first embodiment. Alternatively, the curved joint interface 27 (see FIG. 4) of the third embodiment may be formed.

<実施の形態5>
図6は、本発明の実施の形態5による光集積素子の構成の一例を示す上面図である。
<Embodiment 5>
FIG. 6 is a top view showing an example of the configuration of the optical integrated device according to the fifth embodiment of the present invention.

図6に示すように、単一モードLD1は、受動光導波路領域13および光増幅領域29を介して、外部変調器であるMZ変調器30に接続されている。すなわち、MZ変調器30は光増幅領域29の光の出力端側に接続されている。   As shown in FIG. 6, the single mode LD 1 is connected to the MZ modulator 30 that is an external modulator via the passive optical waveguide region 13 and the optical amplification region 29. That is, the MZ modulator 30 is connected to the light output end side of the light amplification region 29.

なお、単一モードLD1は単一モードLDアレイであってもよい。   The single mode LD1 may be a single mode LD array.

ここで、光増幅領域29は、実施の形態4と同様に、SOAである活性光導波路領域14の両端に低反射接合導波路領域28を接合した構成となっている。   Here, as in the fourth embodiment, the optical amplification region 29 has a configuration in which the low reflection junction waveguide region 28 is joined to both ends of the active optical waveguide region 14 that is an SOA.

MZ変調器30は、受動光導波路領域13で構成され、2つに分岐した各導波路に配置された多重量子井戸(Multiple Quantum Well、以下、MQWという)で構成される屈折率制御部31に対して電界を印加することができる構造となっている。   The MZ modulator 30 includes a passive optical waveguide region 13 and includes a refractive index control unit 31 including a multiple quantum well (hereinafter referred to as MQW) disposed in each of the two branched waveguides. On the other hand, an electric field can be applied.

なお、電極、単一モードLDアレイの場合に必要となるMMI等の光合波器、およびARコート膜は、図示を省略している。   Note that illustration of electrodes, an optical multiplexer such as an MMI, and an AR coat film, which are necessary in the case of a single mode LD array, is omitted.

次に、動作について説明する。なお、以下では、導波光9が図6の紙面右方向に進行するものとして説明する。   Next, the operation will be described. In the following description, it is assumed that the guided light 9 travels in the right direction in FIG.

単一モードLD1からの出力光8は、導波光9として受動光導波路領域13を通過し、実施の形態4と同様に光増幅領域29で増幅される。   The output light 8 from the single mode LD 1 passes through the passive optical waveguide region 13 as the guided light 9 and is amplified in the optical amplification region 29 as in the fourth embodiment.

光増幅領域29で増幅された導波光9は、MZ変調器30で2つの導波路に分かれる。   The guided light 9 amplified in the optical amplification region 29 is divided into two waveguides by the MZ modulator 30.

屈折率制御部31は、印加される電界に応じた量子閉じ込めシュタルク効果によって、MQWの屈折率が変化し、分岐された2つの導波路の各々を通過する光の相対位相が変化する。具体的には、光の位相差が0の場合はMZ変調器30の出口で強め合った光が出力され、位相差がπの場合はMZ変調器30の出口で打ち消し合う(消光する)ため光は出力されない。   The refractive index control unit 31 changes the refractive index of the MQW due to the quantum confined Stark effect according to the applied electric field, and changes the relative phase of light passing through each of the two branched waveguides. Specifically, when the phase difference of light is 0, the strengthened light is output at the exit of the MZ modulator 30, and when the phase difference is π, the light cancels out (extinguishes) at the exit of the MZ modulator 30. No light is output.

MZ変調器30で変調して出力された光は、低反射接合導波路領域28を介して出射光10として外部に出力される。   The light modulated and output by the MZ modulator 30 is output to the outside as the emitted light 10 through the low reflection junction waveguide region 28.

以上のことから、本実施の形態5によれば、実施の形態4の光増幅領域29と、外部変調器とを用いた光集積素子であっても、出射光(単一モードLD)の発振線幅の増大を抑制することが可能となる。   From the above, according to the fifth embodiment, even in an optical integrated device using the optical amplification region 29 of the fourth embodiment and an external modulator, oscillation of the emitted light (single mode LD) An increase in line width can be suppressed.

なお、出射光10が出力される端部近傍に設けられた低反射接合導波路領域28は、端面の低反射化や、モード形状の制御を行うために受動光導波路領域13の形状を加工することが可能であり、窓構造を用いる場合よりも出射光10のビーム形状の制御の自由度が向上する。   The low reflection junction waveguide region 28 provided in the vicinity of the end from which the emitted light 10 is output is processed in the shape of the passive optical waveguide region 13 in order to reduce the reflection of the end surface and control the mode shape. Therefore, the degree of freedom in controlling the beam shape of the emitted light 10 is improved as compared with the case where a window structure is used.

また、単一モードLD1と受動光導波路領域13との接合領域に、低反射接合導波路領域28を設けてもよい。   Further, a low reflection junction waveguide region 28 may be provided in the junction region between the single mode LD 1 and the passive optical waveguide region 13.

また、本実施の形態5では、外部変調器としてMZ変調器30を用いているが、EA変調器を用いてもよい。   In the fifth embodiment, the MZ modulator 30 is used as the external modulator, but an EA modulator may be used.

なお、本発明の実施の形態1〜5において例示した各構成要素の寸法、材質、形状、それらの相対的な配置などは、実際の寸法と異なる場合があり、本発明が適用される装置の構成(光導波路、光集積素子)や各種条件により適宜変更されるものである。   It should be noted that the dimensions, materials, shapes, and relative arrangements of the constituent elements exemplified in the first to fifth embodiments of the present invention may differ from the actual dimensions, and the apparatus to which the present invention is applied. It is appropriately changed depending on the configuration (optical waveguide, optical integrated device) and various conditions.

また、本発明は、その発明の範囲内において、各実施の形態を自由に組み合わせたり、各実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。   Further, within the scope of the invention, the present invention can be freely combined with each other, or can be appropriately modified or omitted.

1 単一モードLD、2 受動曲がり導波路、3 MMI、4 受動直線導波路、5 SOA、5a SOAの直線導波路部、5b SOAの曲がり導波路部、6 窓領域、7 ARコート膜、8 LD出力光、9 導波光、10 出射光、11 反射、12 集積チップ、13 受動光導波路領域、14 活性光導波路領域、15 接合界面、16 反射、17 InP基板、18 InP下部クラッド層、19 InP上部クラッド層、20 量子井戸活性層、21 バルク導波層、22,23 斜め接合界面、24 テーパ光導波路領域、25 接合領域、26 テーパ形状接合界面、27 曲線形状接合界面、28 低反射接合導波路領域、29 光増幅領域、30 MZ変調器、31 屈折率制御部。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Single mode LD, 2 Passive bending waveguide, 3 MMI, 4 Passive linear waveguide, 5 SOA, 5a SOA linear waveguide part, 5b SOA bending waveguide part, 6 Window region, 7 AR coat film, 8 LD output light, 9 guided light, 10 outgoing light, 11 reflection, 12 integrated chip, 13 passive optical waveguide region, 14 active optical waveguide region, 15 junction interface, 16 reflection, 17 InP substrate, 18 InP lower cladding layer, 19 InP Upper cladding layer, 20 quantum well active layer, 21 bulk waveguide layer, 22, 23 oblique junction interface, 24 taper optical waveguide region, 25 junction region, 26 taper junction interface, 27 curved junction interface, 28 low reflection junction conductor Waveguide region, 29 optical amplification region, 30 MZ modulator, 31 refractive index control unit.

Claims (5)

第1の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域の等価屈折率とは異なる等価屈折率を有する第2の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とを接合し、前記第1の光導波路領域の導波路幅および前記第2の光導波路領域の導波路幅よりも広い一定の導波路幅を有する接合領域と、
を備え、
前記第1の光導波路領域の前記光導波路幅および前記第2の光導波路領域の前記光導波
路幅は、単一モードの光のみが存在可能な幅であって、
前記第1の光導波路領域および前記第2の光導波路領域の各々は、前記接合領域にかけて導波路幅が徐々に広がるテーパ光導波路領域を有し、
前記接合領域を通過する光の進行方向に対して垂直な断面における、前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とが存在する割合は、前記光の進行方向に沿って連続的に変化し、
前記接合領域における前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域との接合界面は、前記断面に対して予め定められた角度の方向に沿って直線的に形成され、
前記接合界面は、前記断面に対して5度から30度まで、45度から65度まで、および80度の範囲内にある一定の角度を有することを特徴とする、光導波路。
A first optical waveguide region;
A second optical waveguide region having an equivalent refractive index different from the equivalent refractive index of the first optical waveguide region;
A constant waveguide that joins the first optical waveguide region and the second optical waveguide region and is wider than the waveguide width of the first optical waveguide region and the waveguide width of the second optical waveguide region. A joining region having a width;
With
The optical waveguide width of the first optical waveguide region and the optical waveguide of the second optical waveguide region
The path width is the width where only single mode light can exist,
Each of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region has a tapered optical waveguide region in which a waveguide width gradually increases over the junction region,
The ratio of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the cross section perpendicular to the traveling direction of light passing through the junction region is continuous along the traveling direction of the light. Change to
The bonding interface between the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the bonding region is linearly formed along the direction of a predetermined angle with respect to the cross section,
The optical waveguide characterized in that the bonding interface has a certain angle within the range of 5 to 30 degrees, 45 to 65 degrees, and 80 degrees with respect to the cross section.
第1の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域の等価屈折率とは異なる等価屈折率を有する第2の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とを接合し、前記第1の光導波路領域の導波路幅および前記第2の光導波路領域の導波路幅よりも広い一定の導波路幅を有する接合領域と、
を備え、
前記第1の光導波路領域の前記光導波路幅および前記第2の光導波路領域の前記光導波
路幅は、単一モードの光のみが存在可能な幅であって、
前記第1の光導波路領域および前記第2の光導波路領域の各々は、前記接合領域にかけて導波路幅が徐々に広がるテーパ光導波路領域を有し、
前記接合領域を通過する光の進行方向に対して垂直な断面における、前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とが存在する割合は、前記光の進行方向に沿って連続的に変化し、
前記第1の光導波路領域の前記等価屈折率は、前記第2の光導波路領域の前記等価屈折率よりも高く、
前記接合領域における前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域との接合界面は、前記第1の光導波路領域から前記第2の光導波路領域に向かって前記第1の光導波路領域の前記導波路幅が線形的に狭くなるように形成され、
前記接合界面は、前記断面に対して60度から65度まで、および80度の範囲内にある一定の角度を有することを特徴とする、光導波路。
A first optical waveguide region;
A second optical waveguide region having an equivalent refractive index different from the equivalent refractive index of the first optical waveguide region;
A constant waveguide that joins the first optical waveguide region and the second optical waveguide region and is wider than the waveguide width of the first optical waveguide region and the waveguide width of the second optical waveguide region. A joining region having a width;
With
The optical waveguide width of the first optical waveguide region and the optical waveguide of the second optical waveguide region
The path width is the width where only single mode light can exist,
Each of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region has a tapered optical waveguide region in which a waveguide width gradually increases over the junction region,
The ratio of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the cross section perpendicular to the traveling direction of light passing through the junction region is continuous along the traveling direction of the light. Change to
The equivalent refractive index of the first optical waveguide region is higher than the equivalent refractive index of the second optical waveguide region;
The junction interface between the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the junction region is the first optical waveguide region from the first optical waveguide region toward the second optical waveguide region. The waveguide width is linearly narrowed,
The optical waveguide according to claim 1, wherein the bonding interface has a certain angle within a range of 60 degrees to 65 degrees and 80 degrees with respect to the cross section.
第1の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域の等価屈折率とは異なる等価屈折率を有する第2の光導波路領域と、
前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とを接合し、前記第1の光導波路領域の導波路幅および前記第2の光導波路領域の導波路幅よりも広い一定の導波路幅を有する接合領域と、
を備え、
前記第1の光導波路領域の前記光導波路幅および前記第2の光導波路領域の前記光導波
路幅は、単一モードの光のみが存在可能な幅であって、
前記第1の光導波路領域および前記第2の光導波路領域の各々は、前記接合領域にかけて導波路幅が徐々に広がるテーパ光導波路領域を有し、
前記接合領域を通過する光の進行方向に対して垂直な断面における、前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域とが存在する割合は、前記光の進行方向に沿って連続的に変化し、
前記第1の光導波路領域の前記等価屈折率は、前記第2の光導波路領域の前記等価屈折率よりも高く、
前記接合領域における前記第1の光導波路領域と前記第2の光導波路領域との接合界面は、前記第1の光導波路領域から前記第2の光導波路領域に向かって前記第1の光導波路領域の前記導波路幅が非線形的に狭くなるように形成され、
前記接合界面の接線は、前記断面に対して60度から65度まで、および80度の範囲内にある一定の角度を有することを特徴とする、光導波路。
A first optical waveguide region;
A second optical waveguide region having an equivalent refractive index different from the equivalent refractive index of the first optical waveguide region;
A constant waveguide that joins the first optical waveguide region and the second optical waveguide region and is wider than the waveguide width of the first optical waveguide region and the waveguide width of the second optical waveguide region. A joining region having a width;
With
The optical waveguide width of the first optical waveguide region and the optical waveguide of the second optical waveguide region
The path width is the width where only single mode light can exist,
Each of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region has a tapered optical waveguide region in which a waveguide width gradually increases over the junction region,
The ratio of the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the cross section perpendicular to the traveling direction of light passing through the junction region is continuous along the traveling direction of the light. Change to
The equivalent refractive index of the first optical waveguide region is higher than the equivalent refractive index of the second optical waveguide region;
The junction interface between the first optical waveguide region and the second optical waveguide region in the junction region is the first optical waveguide region from the first optical waveguide region toward the second optical waveguide region. The width of the waveguide is nonlinearly narrowed,
The optical waveguide according to claim 1, wherein a tangent of the bonding interface has a certain angle within a range of 60 degrees to 65 degrees and 80 degrees with respect to the cross section.
請求項1ないし3のいずれかに記載の光導波路を有し、
単一モードの光の出力を増幅し、前記第1の光導波路領域の両端に前記第2の光導波路領域を接合して形成された光増幅領域を備える、光集積素子。
An optical waveguide according to any one of claims 1 to 3 ,
An optical integrated device comprising: an optical amplification region formed by amplifying a single-mode light output and joining the second optical waveguide region to both ends of the first optical waveguide region.
前記光増幅領域の光の出射端側に接続した変調器をさらに備えることを特徴とする、請求項に記載の光集積素子。 The optical integrated device according to claim 4 , further comprising a modulator connected to a light emission end side of the light amplification region.
JP2013079374A 2013-04-05 2013-04-05 Optical waveguide and integrated optical device Active JP6303280B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013079374A JP6303280B2 (en) 2013-04-05 2013-04-05 Optical waveguide and integrated optical device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013079374A JP6303280B2 (en) 2013-04-05 2013-04-05 Optical waveguide and integrated optical device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014202936A JP2014202936A (en) 2014-10-27
JP6303280B2 true JP6303280B2 (en) 2018-04-04

Family

ID=52353402

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013079374A Active JP6303280B2 (en) 2013-04-05 2013-04-05 Optical waveguide and integrated optical device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6303280B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018216249A1 (en) * 2017-05-26 2018-11-29 三菱電機株式会社 Multi-mode interference multiplexer and demultiplexer, and optical element using same

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3070016B2 (en) * 1990-12-07 2000-07-24 日本電信電話株式会社 Optical waveguide device
JP2003014963A (en) * 2001-06-27 2003-01-15 Nec Corp Semiconductor optical integrated element and its manufacturing method and module for optical communication
JP3766637B2 (en) * 2002-03-04 2006-04-12 富士通株式会社 Optical coupling element and optical device
JP2010151973A (en) * 2008-12-24 2010-07-08 Fujitsu Ltd Optical semiconductor device, manufacturing method thereof, and optical transmission device
KR101754280B1 (en) * 2011-05-04 2017-07-07 한국전자통신연구원 Semiconductor optical devcies and methods of fabricating the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014202936A (en) 2014-10-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100842277B1 (en) Reflective semiconductor optical amplifierR-SOA and reflective superluminescent diodeR-SLD
JP6490705B2 (en) Semiconductor optical integrated device and manufacturing method thereof
JP6425631B2 (en) Semiconductor laser and optical integrated light source having the same
JP4983910B2 (en) Optical semiconductor element
JP2017219668A (en) Wavelength variable light source
JPWO2006077641A1 (en) Optical waveguide device and semiconductor device
JP6759739B2 (en) Optical devices, tunable light sources, and optical transmitters using them
JP6337960B2 (en) Optical transceiver module
US20140055842A1 (en) Semiconductor optical element, integrated semiconductor optical element, and semiconductor optical element module
US8548024B2 (en) Semiconductor laser module
JP6320192B2 (en) Wavelength variable light source and wavelength variable light source module
US9601906B2 (en) Wavelength-tunable light source and wavelength-tunable light source module
JP5228778B2 (en) Optical circuit element
JP2013137360A (en) Optical multiplexing/demultiplexing element and mach-zehnder optical modulator
JP2013118315A (en) Semiconductor laser device and semiconductor laser module
US7548574B2 (en) Integrated modulator/laser assembly and a method of producing same
JP6303280B2 (en) Optical waveguide and integrated optical device
JP6540097B2 (en) Wavelength tunable laser device
JP2016149529A (en) Wavelength-tunable light source and wavelength-tunable light source module
JP2003078209A (en) Optical semiconductor device
JP2010034114A (en) Laser device, laser module, and wavelength multiplexing optical communication system
JP6610834B2 (en) Tunable laser device
JP5092928B2 (en) Optical semiconductor device
JP2013251424A (en) Optical integrated device
JP6381507B2 (en) Optical coupler, wavelength tunable light source and wavelength tunable light source module

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151008

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161108

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161227

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170228

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20171003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171221

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20171228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180206

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180219

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6303280

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250