JP6224458B2 - Plate film forming member and method for producing screen printing plate using plate film forming member - Google Patents

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Description

本発明は、スクリーン印刷版における版膜を形成するために用いられる版膜形成用部材及び版膜形成用部材を用いたスクリーン印刷版の製造方法に関する。 The present invention relates to a plate film forming member used for forming a plate film in a screen printing plate and a method for producing a screen printing plate using the plate film forming member .

スクリーン印刷用のスクリーン印刷版を製造する場合、一般的には、まずメッシュ状のスクリーンに感光性の樹脂液を塗布・乾燥することにより樹脂膜を形成し、パターンマスクを介して樹脂膜を露光し、続いて水等により現像することで、所定のパターン形状を有する版膜(レジスト)を形成している。   When manufacturing a screen printing plate for screen printing, generally, a resin film is first formed by applying and drying a photosensitive resin solution on a mesh screen, and then exposing the resin film through a pattern mask. Subsequently, the plate film (resist) having a predetermined pattern shape is formed by developing with water or the like.

しかし、この方法では、版膜の厚みにばらつきが生じやすく、このため、スクリーン印刷により形成される塗膜の厚みにもばらつきが生じやすくなる。また、スクリーンの凹凸がそのまま版膜に現れることで版膜の表面が粗くなりやすく、またこのためにスクリーン印刷により形成される塗膜のエッジが粗くなりやすくなって、印刷精度が悪化しやすくなる。   However, this method tends to cause variations in the thickness of the plate film, and thus tends to cause variations in the thickness of the coating film formed by screen printing. In addition, the unevenness of the screen appears in the plate film as it is, so that the surface of the plate film tends to become rough, and the edge of the coating film formed by screen printing tends to become rough, which tends to deteriorate the printing accuracy. .

このような問題を解決するため、版膜形成用部材を使用する手法もおこなわれている。この版膜形成用部材は、例えばPETフィルムなどの支持基材の上に感光性の樹脂膜を形成することで構成される。この版膜形成用部材を用いてスクリーン印刷版を製造する場合には、まず版膜形成用部材の樹脂膜をスクリーンに重ね、更に必要に応じてフィルムの裏側から水、感光性樹脂等を塗布する。予めスクリーンに水、感光性樹脂等を塗布しておいてもよい。これにより樹脂膜をスクリーンに密着させる。続いて支持基材を剥離することで、樹脂膜をスクリーンに転写する。これにより、スクリーン上の樹脂膜の表面が平滑に形成される。パターンマスクを介して樹脂膜を露光し、続いて水等により現像することで、スクリーンに所定のパターン形状を有する版膜(レジスト)を形成する。このように形成されるスクリーン印刷版では、版膜の表面が平滑で厚みのバラツキが抑制され、現像後のパターンのエッジがシャープになり、印刷精度の向上が可能となる。このようにしてスクリーン印刷版を作製する手法は、直間法と呼ばれ、この直間法に使用される版膜形成用部材はダイレクトフィルム又は直間法フィルムと呼ばれる(特許文献1参照)。   In order to solve such a problem, a technique using a plate film forming member has also been performed. This plate film forming member is formed by forming a photosensitive resin film on a support substrate such as a PET film. When producing a screen printing plate using this plate film-forming member, first the resin film of the plate film-forming member is overlaid on the screen, and if necessary, water, photosensitive resin, etc. are applied from the back side of the film. To do. You may apply | coat water, photosensitive resin, etc. to the screen previously. As a result, the resin film is brought into close contact with the screen. Subsequently, the resin film is transferred to the screen by peeling off the supporting substrate. Thereby, the surface of the resin film on the screen is formed smoothly. The resin film is exposed through a pattern mask and subsequently developed with water or the like, thereby forming a plate film (resist) having a predetermined pattern shape on the screen. In the screen printing plate formed in this way, the surface of the plate film is smooth and variation in thickness is suppressed, the edge of the pattern after development becomes sharp, and printing accuracy can be improved. A method for producing a screen printing plate in this manner is called a direct method, and a plate film forming member used in the direct method is called a direct film or a direct method film (see Patent Document 1).

しかし、版膜形成用部材を使用する方法でも、スクリーン上に転写された樹脂膜の表面にはタック性が発現しやすい。このため樹脂膜の露光時にパターンマスクの位置あわせがし難く、また露光後に樹脂膜からパターンマスクを剥がす際の作業性が悪化しやすい。また樹脂膜からパターンマスクを剥離する場合に樹脂膜の一部がパターンマスクに付着してしまうことで不良品が生じるおそれもある。   However, even in the method using the plate film forming member, tackiness is easily developed on the surface of the resin film transferred onto the screen. For this reason, it is difficult to align the pattern mask during the exposure of the resin film, and the workability when the pattern mask is peeled off from the resin film after the exposure is likely to deteriorate. Moreover, when peeling a pattern mask from a resin film, there exists a possibility that a defective product may arise because a part of resin film adheres to a pattern mask.

日本国特許公開公報特開2002−91018号(段落0020)Japanese Patent Publication No. 2002-91018 (paragraph 0020)

本発明は上記事由に鑑みてなされたものであり、スクリーン印刷版を作製するにあたり、作業性を向上すると共に歩留まりを向上することができる版膜形成用部材及び版膜形成用部材を用いたスクリーン印刷版の製造方法を提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned reasons, and in producing a screen printing plate, a plate film forming member capable of improving workability and improving yield and a screen using the plate film forming member. An object is to provide a method for producing a printing plate .

本発明の第1の態様に係る版膜形成用部材は、スクリーン印刷版における版膜を形成するために用いられる版膜形成用部材であって、前記版膜を形成するための、感光性を有する樹脂層と、前記樹脂層を支持する支持基材と、前記支持基材と前記樹脂層との間に介在し、水溶性或いは水分散性と透明性とを兼ね備える中間層とを具備する。   The plate film forming member according to the first aspect of the present invention is a plate film forming member used for forming a plate film in a screen printing plate, and has a photosensitivity for forming the plate film. And a support base material that supports the resin layer, and an intermediate layer that is interposed between the support base material and the resin layer and has both water-solubility or water-dispersibility and transparency.

本発明の第2の態様では、第1の態様において、前記中間層が、ポリビニルアルコールから形成されている。   In a second aspect of the present invention, in the first aspect, the intermediate layer is formed from polyvinyl alcohol.

本発明の第3の態様では、第1の態様において、前記中間層が、水溶性或いは水分散性のフッ素樹脂から形成されている。   In a third aspect of the present invention, in the first aspect, the intermediate layer is formed of a water-soluble or water-dispersible fluororesin.

本発明の第4の態様では、第1乃至第3のいずれか一の態様において、前記中間層が、添加剤としてフッ素化合物を含有する。   According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the intermediate layer contains a fluorine compound as an additive.

本発明の第5の態様では、第4の態様において、前記フッ素化合物が、エチレン性不飽和基を有するフッ素化合物を含む。   In a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the fluorine compound contains a fluorine compound having an ethylenically unsaturated group.

本発明の第6の態様に係る版膜形成用部材は、第1乃至第5のいずれか一の態様において、前記樹脂層の前記中間層とは反対側の面に重ねられている保護層を更に具備する。   The plate forming member according to the sixth aspect of the present invention is the plate forming member according to any one of the first to fifth aspects, wherein the protective layer is overlapped on the surface of the resin layer opposite to the intermediate layer. In addition.

本発明による版膜形成用部材を使用することで、スクリーン印刷版を作製するにあたり、作業性が向上すると共にスクリーン印刷版の歩留まりが向上する。   By using the plate film forming member according to the present invention, the workability is improved and the yield of the screen printing plate is improved in producing the screen printing plate.

本発明の一実施形態を示す、版膜形成用部材の概略の断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a plate forming member showing an embodiment of the present invention. 図1に示す版膜形成用部材から保護層を剥離した状態を示す概略の断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the state which peeled the protective layer from the member for plate film formation shown in FIG. (a)乃至(d)は、前記実施形態による版膜形成用部材を使用してスクリーン印刷版を作製する工程を示す断面図である。(A) thru | or (d) are sectional drawings which show the process of producing a screen printing plate using the plate film formation member by the said embodiment.

本実施形態による版膜形成用部材1は、図1に示されるように、感光性を有する樹脂層4と、この樹脂層4を支持する支持基材2と、水溶性或いは水分散性と透明性とを兼ね備える中間層3とを備える。すなわち、支持基材2と、中間層3と、樹脂層4とは、この順番に積層しており、支持基材2は中間層3及び樹脂層4を支持している。更に、版膜形成用部材1は保護層5を備える。保護層5は、樹脂層4の中間層3とは反対側の面に重ねられている。   As shown in FIG. 1, the plate film forming member 1 according to the present embodiment includes a resin layer 4 having photosensitivity, a support base 2 that supports the resin layer 4, and water-soluble or water-dispersible and transparent. And an intermediate layer 3 having both properties. That is, the support base material 2, the intermediate layer 3, and the resin layer 4 are laminated in this order, and the support base material 2 supports the intermediate layer 3 and the resin layer 4. Further, the plate film forming member 1 includes a protective layer 5. The protective layer 5 is overlaid on the surface of the resin layer 4 opposite to the intermediate layer 3.

支持基材2は、中間層3に対して離型性を有し、且つ可撓性のあるフィルムであることが好ましい。このような性質を発揮するかぎり、支持基材2の具体的な材質に制限はないが、材質の例としては、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル等が挙げられる。特に支持基材2が、ポリエチレンテレフタレートから形成されることが好ましい。   The support substrate 2 is preferably a flexible film having releasability from the intermediate layer 3. As long as such properties are exhibited, the specific material of the support substrate 2 is not limited, but examples of the material include polyethylene, polyvinyl chloride, and polyester. In particular, the support substrate 2 is preferably formed from polyethylene terephthalate.

支持基材2の厚みは、支持基材2によって中間層3及び樹脂層4を支持することができ、且つスクリーン印刷版10の製造時に中間層3から剥離されやすいように、適宜調整されるが、例えば5〜300μmの範囲であることが好ましく、10〜100μmの範囲であれば更に好ましい。   The thickness of the support substrate 2 is appropriately adjusted so that the intermediate layer 3 and the resin layer 4 can be supported by the support substrate 2 and can be easily peeled off from the intermediate layer 3 when the screen printing plate 10 is manufactured. For example, a range of 5 to 300 μm is preferable, and a range of 10 to 100 μm is more preferable.

中間層3は、上記の通り、水溶性或いは水分散性と透明性とを兼ね備える。この中間層3における透明性とは、樹脂層4を感光させる能力を有する波長の光を透過させることを意味する。すなわち、樹脂層4が可視光に感光する場合には中間層3は可視光透過性を有し、樹脂層4が紫外線に感光する場合には中間層3は紫外線透過性を有する。特に、中間層3の、樹脂層4を感光させる能力を有する波長の光の透過率が、50%以上であることが好ましく、70%以上であれば更に好ましく、80%以上であれば特に好ましい。   As described above, the intermediate layer 3 has both water solubility or water dispersibility and transparency. The transparency in the intermediate layer 3 means that light having a wavelength having the ability to sensitize the resin layer 4 is transmitted. That is, when the resin layer 4 is sensitive to visible light, the intermediate layer 3 is visible light transmissive, and when the resin layer 4 is sensitive to ultraviolet light, the intermediate layer 3 is ultraviolet transmissive. In particular, the transmittance of light having a wavelength capable of exposing the resin layer 4 of the intermediate layer 3 is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and particularly preferably 80% or more. .

また、中間層3は、その寸法が2cm×2cm×6μmである場合に、温度22℃、体積300mLのイオン交換水中に入れられて攪拌されることで、3分間以内にイオン交換水中に溶解又は分散するならば、水溶性或いは水分散性を有するといえる。この溶解又は分散する時間は、特に1分間以内であることが好ましい。   Moreover, when the dimension is 2 cm × 2 cm × 6 μm, the intermediate layer 3 is dissolved in the ion-exchanged water within 3 minutes by being put in ion-exchanged water having a temperature of 22 ° C. and a volume of 300 mL, and stirring. If dispersed, it can be said to have water solubility or water dispersibility. The dissolution or dispersion time is particularly preferably within 1 minute.

中間層3の材質に特に制限はないが、例えばポリビニルアルコールから形成されることが好ましい。中間層3がポリビニルアルコールから形成されると、中間層3は、優れた水溶性と透明性とを発揮する。   Although there is no restriction | limiting in particular in the material of the intermediate | middle layer 3, For example, forming from polyvinyl alcohol is preferable. When the intermediate layer 3 is formed from polyvinyl alcohol, the intermediate layer 3 exhibits excellent water solubility and transparency.

中間層3がポリビニルアルコールから形成される場合、ポリビニルアルコールの鹸化度は70%以上であることが好ましい。但し、水溶性が確保される限り、一部又は全部のポリビニルアルコールの鹸化度が70%以下であってもよい。ポリビニルアルコールの重合度は、特に限定されないが、300〜5000の範囲が好ましい。   When the intermediate layer 3 is formed from polyvinyl alcohol, the saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70% or more. However, as long as water solubility is ensured, the saponification degree of a part or all of the polyvinyl alcohol may be 70% or less. The polymerization degree of polyvinyl alcohol is not particularly limited, but is preferably in the range of 300 to 5000.

また、中間層3が、フッ素化合物を含有することも好ましい。この場合、スクリーン印刷版10を作製する際に現像後の樹脂層4の表面に中間層3からフッ素化合物を付着させることができ、これによりスクリーン印刷版10における版膜9の表面にフッ素化合物を付着させることができる。これにより、版膜9の耐溶剤性が向上し、スクリーン印刷版10をスクリーン印刷に使用する場合の版膜9の耐久性(耐刷性)が向上する。   Moreover, it is also preferable that the intermediate | middle layer 3 contains a fluorine compound. In this case, when producing the screen printing plate 10, the fluorine compound can be attached to the surface of the resin layer 4 after development from the intermediate layer 3, whereby the fluorine compound is attached to the surface of the plate film 9 in the screen printing plate 10. Can be attached. Thereby, the solvent resistance of the plate film 9 is improved, and the durability (press life) of the plate film 9 when the screen printing plate 10 is used for screen printing is improved.

中間層3がフッ素化合物を含有する場合としては、中間層3が水溶性或いは水分散性のフッ素樹脂から形成されている場合と、中間層3が添加剤としてフッ素化合物を含有する場合とが、挙げられる。中間層3が、水溶性或いは水分散性のフッ素樹脂から形成されると共に添加剤としてフッ素化合物を含有してもよい。   As the case where the intermediate layer 3 contains a fluorine compound, the case where the intermediate layer 3 is formed from a water-soluble or water-dispersible fluororesin, and the case where the intermediate layer 3 contains a fluorine compound as an additive, Can be mentioned. The intermediate layer 3 may be formed of a water-soluble or water-dispersible fluororesin and may contain a fluorine compound as an additive.

水分散性のフッ素樹脂としては、例えば互応化学工業株式会社製のプラスプリントEM−31(フッ素含有樹脂エマルジョン)が挙げられる。   Examples of the water-dispersible fluororesin include Plusprint EM-31 (fluorine-containing resin emulsion) manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd.

また、中間層3がフッ素化合物を添加物として含有する場合、フッ素化合物としては、株式会社ネオス製の、フタージェント2089などの「フタージェント」シリーズ、AGCセイミケミカル株式会社製のS−141、S−241などの界面活性剤、DIC株式会社製のメガファックF−552などが、挙げられる。   Further, when the intermediate layer 3 contains a fluorine compound as an additive, examples of the fluorine compound include “Fargent” series such as “Factent 2089” manufactured by Neos Co., Ltd., S-141, S manufactured by AGC Seimi Chemical Co., Ltd. Surfactants such as -241, Megafac F-552 manufactured by DIC Corporation, and the like.

また、中間層3がフッ素化合物を添加物として含有する場合に、このフッ素化合物にエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物が含まれていることも好ましい。この場合、スクリーン印刷版10を作製する際に、露光時に樹脂層4の表面にエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物を化学的に結合することができ、これによりスクリーン印刷版10における版膜9の表面にフッ素化合物を強固に付着させることができる。これにより、版膜9の耐溶剤性が更に向上する。このようなエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物としては、共栄社化学株式会社製のライトエステルFM−108、アクリレートFA−108等が挙げられる。   Moreover, when the intermediate layer 3 contains a fluorine compound as an additive, it is also preferable that the fluorine compound contains a fluorine compound having an ethylenically unsaturated group. In this case, when the screen printing plate 10 is produced, a fluorine compound having an ethylenically unsaturated group can be chemically bonded to the surface of the resin layer 4 at the time of exposure, whereby the plate film 9 in the screen printing plate 10 is obtained. The fluorine compound can be firmly attached to the surface of the film. Thereby, the solvent resistance of the plate film 9 is further improved. Examples of the fluorine compound having an ethylenically unsaturated group include Kyoeisha Chemical Co., Ltd. light ester FM-108, acrylate FA-108, and the like.

中間層3が添加剤としてフッ素化合物を含む場合、中間層3に対するフッ素化合物の割合は、特に制限されないが、版膜9の耐溶剤性を充分に向上するためには、中間層3の全固形分に対するフッ素化合物の割合が0.001〜50質量%の範囲であることが好ましい。   In the case where the intermediate layer 3 contains a fluorine compound as an additive, the ratio of the fluorine compound to the intermediate layer 3 is not particularly limited, but in order to sufficiently improve the solvent resistance of the plate film 9, It is preferable that the ratio of the fluorine compound to the minute is in the range of 0.001 to 50% by mass.

中間層3を形成する方法について、更に詳しく説明する。   The method for forming the intermediate layer 3 will be described in more detail.

中間層3を形成するための組成物の組成は、中間層3の組成に応じて適宜設定される。たとえば中間層3を形成するための組成物としては、ポリビニルアルコールを好ましくは1〜20質量%の範囲、更に好ましくは1〜10質量%の範囲で含有する水溶液が、挙げられる。この組成物は、更にフッ素系の界面活性剤とフッ素樹脂のうち少なくとも一方を、好ましくは0.01〜20質量%の範囲、更に好ましくは0.1〜10質量%の範囲で含有してもよい。中間層3を形成するための組成物が、ポリビニルアルコールを含有せずに、水溶性或いは水分散性のフッ素樹脂を含有してもよい。また、中間層3を形成するための組成物は、必要に応じて適量の消泡剤、レベリング剤等を更に含有してもよい。   The composition of the composition for forming the intermediate layer 3 is appropriately set according to the composition of the intermediate layer 3. For example, the composition for forming the intermediate layer 3 includes an aqueous solution containing polyvinyl alcohol in an amount of preferably 1 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass. This composition may further contain at least one of a fluorosurfactant and a fluororesin, preferably in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.1 to 10% by mass. Good. The composition for forming the intermediate layer 3 may contain a water-soluble or water-dispersible fluororesin without containing polyvinyl alcohol. Moreover, the composition for forming the intermediate | middle layer 3 may further contain an appropriate amount of antifoamers, a leveling agent, etc. as needed.

中間層3を形成するための組成物を、スリットコーター、カンマコーター、バーコーター、アプリケーター等の塗布装置を用いて、支持基材上に塗布し、乾燥することで、中間層3を形成することができる。   The intermediate layer 3 is formed by applying the composition for forming the intermediate layer 3 onto a support substrate using a coating device such as a slit coater, comma coater, bar coater, applicator, and drying. Can do.

中間層3の厚みは適宜設定されるが、タック防止、酸素障害防止、ハレーション防止等の観点、並びに中間層3が厚くなりすぎると現像に支障が出ることから、中間層3の厚みは0.01〜10μmの範囲であることが好ましく、0.1〜5μmの範囲であれば更に好ましい。   The thickness of the intermediate layer 3 is set as appropriate. However, the thickness of the intermediate layer 3 is set to 0. 0 from the viewpoints of tack prevention, oxygen failure prevention, halation prevention, and the like. A range of 01 to 10 μm is preferable, and a range of 0.1 to 5 μm is more preferable.

樹脂層4は、上記のとおり感光性を有する。この樹脂層4を形成するための感光性樹脂組成物は、可視光、紫外線、遠紫外線等のエネルギー線による光反応を利用するネガ型の感光性樹脂組成物(光硬化性樹脂組成物)であって、水又はアルカリ性水溶液により現像可能であることが、好ましい。   The resin layer 4 has photosensitivity as described above. The photosensitive resin composition for forming the resin layer 4 is a negative photosensitive resin composition (photo-curable resin composition) that uses a photoreaction by energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and far ultraviolet rays. It is preferable that development is possible with water or an alkaline aqueous solution.

本実施形態における感光性樹脂組成物としては、ジアゾ系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、及びジアゾ樹脂(感光剤)を含有する樹脂組成物)、ジアゾラジカル系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、感光性不飽和化合物、及びジアゾ樹脂を含有する樹脂組成物)、ラジカル系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、及び感光性不飽和化合物を含有する樹脂組成物)、SBQ系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、及びSBQ(スチルバゾリウム、光開始剤)を含有する樹脂組成物)、SBQラジカル系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、SBQ、及び感光性不飽和化合物を含有する樹脂組成物)、SBQジアゾラジカル系樹脂組成物(例えば水溶性重合体、SBQ、感光性不飽和化合物、及びジアゾ樹脂を含有する樹脂組成物)などが、挙げられる。   Examples of the photosensitive resin composition in the present embodiment include a diazo resin composition (for example, a resin composition containing a water-soluble polymer and a diazo resin (photosensitive agent)), and a diazo radical resin composition (for example, a water-soluble heavy resin). Resin composition containing coalescence, photosensitive unsaturated compound, and diazo resin), radical resin composition (for example, resin composition containing water-soluble polymer and photosensitive unsaturated compound), SBQ resin composition (For example, a resin composition containing a water-soluble polymer and SBQ (stilbazolium, photoinitiator)), an SBQ radical resin composition (for example, a resin composition containing a water-soluble polymer, SBQ, and a photosensitive unsaturated compound) Product), SBQ diazo radical resin composition (for example, a resin composition containing a water-soluble polymer, SBQ, a photosensitive unsaturated compound, and a diazo resin). .

特に感光性樹脂組成物としてジアゾラジカル系樹脂組成物、ラジカル系樹脂組成物、SBQラジカル系樹脂組成物、又はSBQジアゾラジカル系樹脂組成物が用いられる場合において、中間層3にエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物が含まれていると、感光性樹脂組成物が露光硬化する際にエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物がラジカル重合反応により感光性樹脂組成物と反応しやすくなり、このため、版膜9にエチレン性不飽和基を有するフッ素化合物が強固に付着しやすくなる。   In particular, when a diazo radical resin composition, radical resin composition, SBQ radical resin composition, or SBQ diazo radical resin composition is used as the photosensitive resin composition, an ethylenically unsaturated group is present in the intermediate layer 3. When a fluorine compound having a fluorine compound is contained, the fluorine compound having an ethylenically unsaturated group is likely to react with the photosensitive resin composition by a radical polymerization reaction when the photosensitive resin composition is cured by exposure. A fluorine compound having an ethylenically unsaturated group is likely to adhere firmly to the plate film 9.

尚、感光性樹脂組成物としてジアゾラジカル系樹脂組成物、ラジカル系樹脂組成物、SBQラジカル系樹脂組成物、又はSBQジアゾラジカル系樹脂組成物が使用される場合には、これらの組成物が液状の感光性不飽和化合物を含有することが多く、そのような場合には樹脂層4のタック性が特に強くなる。このような場合に、本実施形態のように樹脂層4に中間層3を重ねることが、特に有効となる。   When a diazo radical resin composition, radical resin composition, SBQ radical resin composition, or SBQ diazo radical resin composition is used as the photosensitive resin composition, these compositions are liquid. In such a case, the tackiness of the resin layer 4 is particularly strong. In such a case, it is particularly effective to overlay the intermediate layer 3 on the resin layer 4 as in this embodiment.

感光性樹脂組成物の構成について、更に詳しく説明する。   The structure of the photosensitive resin composition will be described in more detail.

本実施形態では、感光性樹脂組成物は、水溶性重合体を含有する水性エマルションであることが好ましい。感光性樹脂組成物は、水溶性重合体と非水溶性重合体とを共に含有してもよい。   In the present embodiment, the photosensitive resin composition is preferably an aqueous emulsion containing a water-soluble polymer. The photosensitive resin composition may contain both a water-soluble polymer and a water-insoluble polymer.

水溶性重合体としては、例えば酢酸ビニル重合体を従来周知のアルカリ加水分解によりケン化して得られる部分ケン化酢酸ビニル重合体が挙げられる。この部分ケン化酢酸ビニル重合体のケン化度は70モル%以上であることが好ましい。またこの部分ケン化酢酸ビニル重合体の重合度は300〜5000の範囲であることが好ましい。   Examples of the water-soluble polymer include a partially saponified vinyl acetate polymer obtained by saponifying a vinyl acetate polymer by known alkali hydrolysis. The saponification degree of this partially saponified vinyl acetate polymer is preferably 70 mol% or more. The degree of polymerization of the partially saponified vinyl acetate polymer is preferably in the range of 300 to 5,000.

部分ケン化酢酸ビニル重合体を得るための酢酸ビニル重合体としては、酢酸ビニルのホモポリマー、コポリマーおよびその誘導体が挙げられる。酢酸ビニル重合体の具体例としては、酢酸ビニルホモポリマー、酢酸ビニルと共重合可能なエチレン性不飽和単量体との酢酸ビニルコポリマー、ホルマール化やブチラール化等の低級(C1〜C4)アセタール化したポリ酢酸ビニル誘導体、p−ベンズアルデヒドスルホン酸、β−ブチルアルデヒドスルホン酸、o−ベンズアルデヒドスルホン酸、2,4−ベンズアルデヒドジスルホン酸等によってアセタール化したポリ酢酸ビニル誘導体、及び酢酸ビニル重合体の側鎖誘導体が挙げられる。なお、上述の酢酸ビニルコポリマーを与えるエチレン性不飽和単量体としては、エチレン、塩化ビニル、プロピレン、ブチレン、スチレン等のビニル化合物;メチルアクリレート、メチルメタクリレート等のアクリレート類;アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド等のアクリルアミド類;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸類;ジメチルアミノエチルメタクリレート、ビニルイミダゾール、ビニルピリジン、ビニルサクシミド等のカチオン性不飽和単量体類等が挙げられる。   Vinyl acetate polymers for obtaining partially saponified vinyl acetate polymers include vinyl acetate homopolymers, copolymers and derivatives thereof. Specific examples of vinyl acetate polymers include vinyl acetate homopolymers, vinyl acetate copolymers with ethylenically unsaturated monomers copolymerizable with vinyl acetate, lower (C1 to C4) acetalization such as formalization and butyralization. Polyvinyl acetate derivative, polyvinyl acetate derivative acetalized with p-benzaldehyde sulfonic acid, β-butyraldehyde sulfonic acid, o-benzaldehyde sulfonic acid, 2,4-benzaldehyde disulfonic acid, etc., and side chain of vinyl acetate polymer Derivatives. Examples of the ethylenically unsaturated monomer that gives the above-mentioned vinyl acetate copolymer include vinyl compounds such as ethylene, vinyl chloride, propylene, butylene, and styrene; acrylates such as methyl acrylate and methyl methacrylate; acrylamide, N, N- Acrylamides such as dimethylacrylamide; Unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid; Cationic unsaturated monomers such as dimethylaminoethyl methacrylate, vinylimidazole, vinylpyridine, and vinylsuccinimide Examples of the polymers.

感光性樹脂組成物が光硬化性を有する場合、感光性樹脂組成物は水溶性光架橋剤を含有することが好ましい。また、感光性樹脂組成物中の水溶性重合体が光架橋性基を有することも好ましい。   When the photosensitive resin composition has photocurability, the photosensitive resin composition preferably contains a water-soluble photocrosslinking agent. Moreover, it is also preferable that the water-soluble polymer in the photosensitive resin composition has a photocrosslinkable group.

水溶性光架橋剤としては、特に制限されないが、水溶性ジアゾ樹脂、及び重クロム酸塩が、例示される。特に水溶性ジアゾ樹脂が好適である。水溶性ジアゾ樹脂の具体例としては、p−ジアゾジアミン−パラホルムアルデヒド縮合物の硫酸塩、及びリン酸塩及び塩化亜鉛複塩等の陰イオン錯体とした水溶性ジアゾニウム樹脂が、例示される。更に具体的な例としては、パラアミノジフェニルアミン、4−アミノ−4’−メチルジフェニルアミン、4−アミノ−4’−メトキシジフェニルアミン、4−アミノ−4’−ニトロジフェニルアミン等のジフェニルアミン類のジアゾ化合物をパラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド類のアルデヒド類を用いて縮合したもの等が挙げられる。また、重クロム酸塩としては、重クロム酸アンモニウム、重クロム酸カリウム、重クロム酸ナトリウム等が挙げられる。   Although it does not restrict | limit especially as a water-soluble photocrosslinking agent, Water-soluble diazo resin and dichromate are illustrated. In particular, a water-soluble diazo resin is suitable. Specific examples of the water-soluble diazo resin include a water-soluble diazonium resin that is a sulfate of p-diazodiamine-paraformaldehyde condensate and an anion complex such as a phosphate and a zinc chloride double salt. More specific examples include diamino compounds of diphenylamines such as paraaminodiphenylamine, 4-amino-4′-methyldiphenylamine, 4-amino-4′-methoxydiphenylamine, 4-amino-4′-nitrodiphenylamine, and paraformaldehyde. And those condensed with aldehydes such as acetaldehydes. Examples of the dichromate include ammonium dichromate, potassium dichromate, sodium dichromate and the like.

水溶性光架橋剤の割合は、感光性樹脂組成物中の水溶性重合体と非水溶性重合体との合計100重量部に対して、0.1〜20重量部の範囲であることが好ましい。   The ratio of the water-soluble photocrosslinking agent is preferably in the range of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight in total of the water-soluble polymer and the water-insoluble polymer in the photosensitive resin composition. .

光架橋性基を有する水溶性重合体としては、スチリルピリジニウム基またはスチリルキノリニウム基を有する水溶性重合体が挙げられる。このような光架橋性基を有する水溶性重合体は、例えばポリビニルアルコール系重合体に含まれるアルコール性−OH基に、アセタール化反応によってホルミルスチリルピリジニウム塩若しくはホルミルスチリルキノリニウム塩を付加させることにより得られる。このような光架橋性基を有する水溶性重合体を合成する方法は公知であり、日本国特許公開公報特開昭55−23163号、日本国特許公開公報特開昭55−62905号、日本国特許公開公報特開昭56−11906号等に詳細に開示されている。水溶性重合体には、必要に応じて、単一種類または複数種類の光架橋性基が導入され得る。この光架橋性基は、水溶性重合体中に、0.3〜20モル%、特に0.5〜10モル%付加されていることが好ましい。   Examples of the water-soluble polymer having a photocrosslinkable group include water-soluble polymers having a styrylpyridinium group or a styrylquinolinium group. Such a water-soluble polymer having a photocrosslinkable group is obtained by, for example, adding a formylstyrylpyridinium salt or a formylstyrylquinolinium salt to an alcoholic —OH group contained in a polyvinyl alcohol polymer by an acetalization reaction. Is obtained. A method for synthesizing such a water-soluble polymer having a photocrosslinkable group is known, and Japanese Patent Publication No. 55-23163, Japanese Patent Publication No. 55-62905, Japan This is disclosed in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 56-11906. A single type or a plurality of types of photocrosslinkable groups may be introduced into the water-soluble polymer as necessary. This photocrosslinkable group is preferably added in an amount of 0.3 to 20 mol%, particularly 0.5 to 10 mol%, in the water-soluble polymer.

感光性樹脂組成物が非水溶性重合体を含有する場合、非水溶性重合体としては、ポリ酢酸ビニル、酢酸ビニル/エチレン共重合体、酢酸ビニル/アクリル酸エステル共重合体(ここでアクリル酸エステルとしてはアクリル酸メチル、アクリル酸2−エチルヘキシル等が例示される。)、スチレン/ブタジエン共重合体、メタクリル酸メチル/ブタジエン共重合体、アクリロニトリル/ブタジエン共重合体、クロロプレン重合体、イソプレン重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、シリコーン樹脂、ポリエチレン、ポリウレタン、フッ素樹脂などが挙げられる。この非水溶性重合体は、エマルションであることが好ましい。   When the photosensitive resin composition contains a water-insoluble polymer, examples of the water-insoluble polymer include polyvinyl acetate, vinyl acetate / ethylene copolymer, vinyl acetate / acrylic acid ester copolymer (here acrylic acid Examples of the ester include methyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, etc.), styrene / butadiene copolymer, methyl methacrylate / butadiene copolymer, acrylonitrile / butadiene copolymer, chloroprene polymer, isoprene polymer. , Poly (meth) acrylic acid, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, silicone resin, polyethylene, polyurethane, fluororesin and the like. This water-insoluble polymer is preferably an emulsion.

感光性樹脂組成物中における水溶性重合体と非水溶性重合体との質量比は、100:20〜100:4000の範囲であることが好ましい。この場合、感光性樹脂組成物の水による現像が、可能となり、且つ版膜9に適度な強度が、付与される。   The mass ratio of the water-soluble polymer to the water-insoluble polymer in the photosensitive resin composition is preferably in the range of 100: 20 to 100: 4000. In this case, development of the photosensitive resin composition with water becomes possible, and appropriate strength is imparted to the plate film 9.

感光性樹脂組成物は、更に光反応性のエチレン性不飽和基を有する化合物(感光性不飽和化合物)を含有してもよい。感光性不飽和化合物は、そのまま、あるいはプレポリマー化若しくはオリゴマー化されてから添加される。この感光性不飽和化合物の割合は、水溶性重合体および非水溶性重合体の合計100重量部に対して、5〜1000重量部の範囲であることが好ましく、20〜500重量部の範囲であれば更に好ましい。   The photosensitive resin composition may further contain a compound having a photoreactive ethylenically unsaturated group (photosensitive unsaturated compound). The photosensitive unsaturated compound is added as it is or after being prepolymerized or oligomerized. The proportion of the photosensitive unsaturated compound is preferably in the range of 5 to 1000 parts by weight, preferably in the range of 20 to 500 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the total of the water-soluble polymer and the water-insoluble polymer. More preferably.

感光性不飽和化合物としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、アクリルアミド基、メタアクリルアミド基等の光活性なエチレン性不飽和基を1個以上もつ化合物が挙げられる。この感光性不飽和化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2−ビス〔4−((メタ)アクリロキシ・ジエトキシ)フェニル〕プロパン、2−ヒドロキシ−1,3−ジ(メタ)アクリロキシプロパン、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、1−メトキシシクロドデカジエニル(メタ)アクリレート、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンフタレート、β−(メタ)アクロイルオキシエチルハイドロジェンサクシネート、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリアリルイソシアヌレート、メトキシエチルビニルエーテル、tert−ブチルビニルエーテル、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ビスフェノールA−ジエポキシアクリル酸付加物、トリレンジイソシアネ−トと2ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートとの反応生成物、フェニルイソシアヌレートと2ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応生成物等、多官能エポキシ樹脂にアクリル酸を付加したもの或いは更に多塩基酸(無水物)を付加したもの、マレイン酸グリコールエステル、(メタ)アクリルアミド、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2,2−ビス〔4−メタクリロイルオキシ・ポリエトキシフェニル〕プロパン等が、挙げられる。これらの化合物は一種単独で用いられ、或いは複数種が併用される。   Examples of the photosensitive unsaturated compound include compounds having one or more photoactive ethylenically unsaturated groups such as acryloyl group, methacryloyl group, allyl group, vinyl ether group, acrylamide group, and methacrylamide group. Specific examples of the photosensitive unsaturated compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa. (Meth) acrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [ 4-((meth) acryloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4-((meth) acryloxy-diethoxy) phenyl] propane, 2-hydroxy-1,3-di (meth) acryloxypropane, Echi Glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meta) ) Acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, 1-methoxycyclododecadienyl (meth) acrylate, β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, β- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen saxi Nate, 3-chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triallyl isocyanurate, methoxyethyl vinyl ether, tert-butyl Vinyl ether, lauryl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, bisphenol A-diepoxyacrylic acid adduct, tolylene diisocyanate Products obtained by adding acrylic acid to a polyfunctional epoxy resin such as a reaction product of 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and a reaction product of phenylisocyanurate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, or a polybasic acid (anhydrous) Product), maleic acid glycol ester, (meth) acrylamide, N-methoxymethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine, N-methylol (meth) ) Acrylamide, hydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2,2-bis [4-methacryloyloxy / polyethoxyphenyl] propane, etc. Is mentioned. These compounds are used individually by 1 type, or multiple types are used together.

感光性樹脂組成物は、光重合開始剤を含有してもよい。光重合開始剤としては、ベンゾイルアルキルエーテル、ミヒラーズケトン、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、トリブロモアセトフェノンの他に、tert−ブチルアントラキノンなどのアントラキノン誘導体、クロロチオキサントンなどのチオキサントン誘導体のような、光照射下にラジカルを発生しやすい物質が用いられる。更に、感光性樹脂組成物は、安息香酸系、又はp−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、2−ジメチルアミノエチルベンゾエート等の第三級アミン系等の公知の光重合促進剤、増感剤等を含有してもよい。光重合開始剤の割合は、感光性不飽和化合物100重量部に対して、0.1〜15重量部の範囲であることが好ましく、0.3〜10重量部の範囲であれば更に好ましい。   The photosensitive resin composition may contain a photopolymerization initiator. Photoinitiators include benzoyl alkyl ether, Michler's ketone, di-tert-butyl peroxide, tribromoacetophenone, anthraquinone derivatives such as tert-butylanthraquinone, and thioxanthone derivatives such as chlorothioxanthone. Substances that easily generate radicals are used. Furthermore, the photosensitive resin composition is a known light such as a benzoic acid type or a tertiary amine type such as p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, p-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, or 2-dimethylaminoethylbenzoate. You may contain a polymerization accelerator, a sensitizer, etc. The ratio of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 15 parts by weight and more preferably in the range of 0.3 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the photosensitive unsaturated compound.

感光性樹脂組成物は、更にワックス類を含有してもよい。この場合、感光性樹脂組成物から形成される版膜9の耐水性、耐溶剤性および撥水性が向上する。ワックス類としては、天然及び合成の炭化水素ワックス、グリセリド、及びロウ並びにこれらの酸化物や酸変性物等を挙げることができる。具体的には、天然ワックスとして、牛脂又は豚脂を水素添加した水添硬化油脂、蜜ロウ、水添鯨ロウ、カルナバワックス、キャンデリアワックス、木ロウ、ぬかロウ等の動物性ワックス、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、モンタンワックス、セリシンワックス等の鉱物性ワックスが挙げることができる。又、合成ワックスとして、低分子量のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックス、フィッシャートロプッシュ法によるワックス等が挙げられる。なお、上記のワックス類の中で、パラフィンワックス、低分子量のポリエチレンワックス、ポリプロピレンワックスが特に好ましい。感光性樹脂組成物にワックスを配合するにあたって、ワックスをエマルジョン化したワックスエマルジョンを使用することが好ましい。ワックスエマルジヨンは、必要に応じてカチオン系アニオン系、非イオン系および両イオン系の界面活性剤を含有してもよい。感光性樹脂組成物中のワックス類の割合は、感光性樹脂組成物中の固形分に対して0.2〜10質量%の範囲であることが好ましく、4〜10質量%の範囲であれば更に好ましい。   The photosensitive resin composition may further contain waxes. In this case, the water resistance, solvent resistance and water repellency of the plate film 9 formed from the photosensitive resin composition are improved. Examples of the waxes include natural and synthetic hydrocarbon waxes, glycerides, and waxes, and oxides and acid-modified products thereof. Specifically, as natural waxes, hydrogenated hydrogenated fats and oils, hydrogenated beef tallow or pork fat, beeswax, hydrogenated whale wax, carnauba wax, canderia wax, wood wax, bran wax, and other animal waxes, paraffin wax And mineral waxes such as microcrystalline wax, montan wax, and sericin wax. Examples of the synthetic wax include low molecular weight polyethylene wax, polypropylene wax, and wax by Fischer-Tropsch method. Among the above waxes, paraffin wax, low molecular weight polyethylene wax, and polypropylene wax are particularly preferable. In blending the wax into the photosensitive resin composition, it is preferable to use a wax emulsion obtained by emulsifying the wax. The wax emulsion may contain a cationic anionic, nonionic and amphoteric surfactant as required. The ratio of waxes in the photosensitive resin composition is preferably in the range of 0.2 to 10% by mass with respect to the solid content in the photosensitive resin composition, and is in the range of 4 to 10% by mass. Further preferred.

感光性樹脂組成物は、更に適宜の添加剤を含有してもよい。このような添加剤としては、水、有機溶剤等の溶媒;シリコーン、(メタ)アクリレート共重合体およびフッ素系界面活性剤等のレベリング剤;ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール、tert−ブチルカテコールおよびフェノチアジン等の重合禁止剤;ハレーション防止剤、消泡剤、酸化防止剤、有機もしくは無機の顔料及び染料等の着色剤、天然もしくは合成のゴム粉末等の各種添加剤;並びに分散安定性を向上させるための界面活性剤、高分子分散剤等が、挙げられる。   The photosensitive resin composition may further contain an appropriate additive. Examples of such additives include water, organic solvents and other solvents; leveling agents such as silicone, (meth) acrylate copolymers and fluorine-based surfactants; hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, pyrogallol, tert-butylcatechol, and phenothiazine. Polymerization inhibitors such as: antihalation agents, antifoaming agents, antioxidants, colorants such as organic or inorganic pigments and dyes, various additives such as natural or synthetic rubber powders; and to improve dispersion stability And surfactants, polymer dispersants, and the like.

尚、感光性樹脂組成物として、可視光、紫外線、遠紫外線等のエネルギー線による光反応を利用するポジ型の感光性樹脂組成物であって、水、アルカリ性水溶液等により現像可能なものが使用されてもよい。ポジ型の感光性樹脂組成物としては、ノボラック樹脂とα−ナフトキノンジアジド化合物を含有する感光性樹脂組成物、ノボラック樹脂とο−ナフトキノンジアジド化合物とを含有する感光性樹脂組成物等が、挙げられる。   As the photosensitive resin composition, a positive photosensitive resin composition that utilizes a photoreaction by energy rays such as visible light, ultraviolet rays, and far ultraviolet rays, and that can be developed with water, an alkaline aqueous solution, or the like is used. May be. Examples of the positive photosensitive resin composition include a photosensitive resin composition containing a novolak resin and an α-naphthoquinone diazide compound, a photosensitive resin composition containing a novolac resin and an o-naphthoquinone diazide compound, and the like. .

樹脂層4は、例えば、中間層3の上に感光性樹脂組成物を適宜の手法により塗布し、続いてこの感光性樹脂組成物を乾燥することで、形成される。樹脂層4の厚みは適宜調整されるが、樹脂層4の良好な光硬化性、耐久性(耐刷性)、印刷性、解像性、印刷厚さ、スクリーンへの貼りつき性(押し込み)等を確保するためには、5〜1000μmの範囲であることが好ましく、5〜50μmの範囲であれば更に好ましい。   The resin layer 4 is formed, for example, by applying a photosensitive resin composition on the intermediate layer 3 by an appropriate technique, and subsequently drying the photosensitive resin composition. Although the thickness of the resin layer 4 is adjusted as appropriate, the resin layer 4 has good photocurability, durability (printing durability), printability, resolution, printing thickness, and adhesion to a screen (indentation). In order to ensure the above, it is preferably in the range of 5 to 1000 μm, more preferably in the range of 5 to 50 μm.

保護層5は、樹脂層4を外部からの応力による傷付き等から保護するために、必要に応じて用いられる。保護層5の材質は、特に制限されないが、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、塩化ビニル等の可撓性のあるフィルムが挙げられる。例えばこのような材質から形成されるフィルムを樹脂層4上に貼着することにより、保護層5が形成される。また、保護層5の厚みは、特に制限されないが、例えば1〜100μmの範囲であることが好ましく、10〜30μmの範囲であれば更に好ましい。   The protective layer 5 is used as necessary in order to protect the resin layer 4 from being damaged by external stress. Although the material in particular of the protective layer 5 is not restrict | limited, Flexible films, such as polyethylene, a polypropylene, polyester, vinyl chloride, are mentioned. For example, the protective layer 5 is formed by sticking a film formed of such a material on the resin layer 4. The thickness of the protective layer 5 is not particularly limited, but is preferably in the range of 1 to 100 μm, for example, and more preferably in the range of 10 to 30 μm.

このような版膜形成用部材1を用いてスクリーン印刷版10を作製する方法の例について、説明する。   An example of a method for producing the screen printing plate 10 using such a plate film forming member 1 will be described.

まず、メッシュ状のスクリーン6を用意する。スクリーン6は、スクリーン印刷版10に適用され得るのであれば、特に制限されない。このスクリーン6は、アルミニウム製、木製等の枠7の内側に支持されることが好ましい。   First, a mesh-like screen 6 is prepared. The screen 6 is not particularly limited as long as it can be applied to the screen printing plate 10. The screen 6 is preferably supported inside a frame 7 made of aluminum or wood.

このスクリーン6に、必要に応じて樹脂層4との密着性を向上するために、水又は感光性樹脂組成物を塗布する。続いて、版膜形成用部材1から(保護層5を備える場合には)保護層5を剥離し、続いて版膜形成用部材1の樹脂層4をスクリーン6に重ねる。更に必要に応じてスクリーン6の樹脂層4とは反対側の面に水又は感光性樹脂組成物を塗布する。更に必要に応じて、適宜の条件で加熱乾燥する。これにより、スクリーン6に樹脂層4を密着させる。   Water or a photosensitive resin composition is applied to the screen 6 in order to improve adhesion to the resin layer 4 as necessary. Subsequently, the protective layer 5 is peeled from the plate film forming member 1 (when the protective layer 5 is provided), and then the resin layer 4 of the plate film forming member 1 is overlaid on the screen 6. Further, if necessary, water or a photosensitive resin composition is applied to the surface of the screen 6 opposite to the resin layer 4. Furthermore, it heat-drys on suitable conditions as needed. Thereby, the resin layer 4 is adhered to the screen 6.

次に、支持基材2を中間層3から剥離する。中間層3は、樹脂層4に重なったままにする。   Next, the support base material 2 is peeled from the intermediate layer 3. The intermediate layer 3 is left overlapping the resin layer 4.

次に、中間層3にパターンマスク8(マスクフィルム)を重ね、このパターンマスク8を介して樹脂層4を露光し、続いて樹脂層4からパターンマスク8を取り外す。この場合、中間層3は透明性を有するために、樹脂層4は中間層3を介して露光される。更に、中間層3があることでパターンマスク8が直接樹脂層4に接触しなくなり、このため、パターンマスク8が樹脂層4に貼り付いて剥がれにくくなったり、樹脂層4の一部がパターンマスク8に付着してしまったりするような不具合が、生じなくなる。   Next, the pattern mask 8 (mask film) is overlaid on the intermediate layer 3, the resin layer 4 is exposed through the pattern mask 8, and then the pattern mask 8 is removed from the resin layer 4. In this case, since the intermediate layer 3 has transparency, the resin layer 4 is exposed through the intermediate layer 3. Further, the presence of the intermediate layer 3 prevents the pattern mask 8 from coming into direct contact with the resin layer 4, which makes it difficult for the pattern mask 8 to adhere to the resin layer 4 and to peel off, or a part of the resin layer 4 may be part of the pattern mask. No troubles such as sticking to 8 occur.

次に、中間層3及び露光後の樹脂層4を、水、アルカリ性水溶液等の現像液に浸漬する。これにより、水溶性を有する中間層3が樹脂層4上から除去され、更に樹脂層4が現像される。これにより、スクリーン6上に、パターンマスク8に応じたパターン形状を有する版膜9が残存し、これにより、スクリーン印刷版10が得られる。   Next, the intermediate layer 3 and the exposed resin layer 4 are immersed in a developer such as water or an alkaline aqueous solution. Thereby, the water-soluble intermediate layer 3 is removed from the resin layer 4, and the resin layer 4 is further developed. As a result, a plate film 9 having a pattern shape corresponding to the pattern mask 8 remains on the screen 6, whereby a screen printing plate 10 is obtained.

以下、本発明の具体的な実施例を示す。尚、本発明が以下の実施例のみに制限されることはない。   Specific examples of the present invention will be described below. In addition, this invention is not restrict | limited only to a following example.

[実施例1]
支持基材として、厚み23μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
[Example 1]
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 23 μm was prepared as a supporting substrate.

この支持基材の上に、スリットコーターによりPVA−235(クラレ株式会社製)の6.5質量%水溶液を湿潤厚み20μmで塗工し、空気中で、80℃で10分間加熱することで、厚み1.3μmの中間層を形成した。   By applying a 6.5 wt% aqueous solution of PVA-235 (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) with a wet thickness of 20 μm on this supporting substrate with a slit coater, and heating in air at 80 ° C. for 10 minutes, An intermediate layer having a thickness of 1.3 μm was formed.

続いて、中間層の上にジアゾラジカル系の感光性樹脂組成物(互応化学工業株式会社製、プラスプリントPP500R−24)を、スリットコーターを用いて塗布し、続いて80℃で10分間加熱することで、厚み18μmの樹脂層を形成した。   Subsequently, a diazo radical photosensitive resin composition (manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., plus print PP500R-24) is applied on the intermediate layer using a slit coater, and then heated at 80 ° C. for 10 minutes. Thus, a resin layer having a thickness of 18 μm was formed.

続いて、樹脂層の上に保護層として厚み18μmのポリエチレンフィルムを貼着した。   Subsequently, a polyethylene film having a thickness of 18 μm was stuck as a protective layer on the resin layer.

これにより、版膜形成用部材を得た。   Thus, a plate film forming member was obtained.

[実施例2−8]
中間層を形成するための組成物の組成を、下記表に示すように変更した。それ以外は実施例1と同じ方法及び条件で、版膜形成用部材を得た。
[Example 2-8]
The composition of the composition for forming the intermediate layer was changed as shown in the following table. Otherwise, a plate film forming member was obtained in the same manner and under the same conditions as in Example 1.

[比較例1]
支持基材として、厚み23μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用意した。
[Comparative Example 1]
A polyethylene terephthalate film having a thickness of 23 μm was prepared as a supporting substrate.

この支持基材の上に、中間層を形成することなく、ジアゾラジカル系の感光性樹脂組成物(互応化学工業株式会社製、プラスプリントPP500R−24)をスリットコーターを用いて塗布し、続いて80℃、10分間加熱することで、厚み18μmの樹脂層を形成した。   A diazo radical-based photosensitive resin composition (manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd., plus print PP500R-24) was applied on the support substrate using a slit coater without forming an intermediate layer, and subsequently By heating at 80 ° C. for 10 minutes, a resin layer having a thickness of 18 μm was formed.

続いて、樹脂層の上に保護層として厚み18μmのポリエチレンフィルムを貼着した。   Subsequently, a polyethylene film having a thickness of 18 μm was stuck as a protective layer on the resin layer.

これにより、版膜形成用部材を得た。   Thus, a plate film forming member was obtained.

尚、下記表中に示されている成分を詳細は次の通りである。
・PVA−235:クラレ株式会社製のポリビニルアルコール、品番PVA−235、鹸化度88%、重合度3500。
・PVA−217:クラレ株式会社製のポリビニルアルコール、品番PVA−217、鹸化度88%、重合度1700。
・S−141:AGCセイミケミカル株式会社製の界面活性剤、品番S−141。
・F−2089:株式会社ネオス製の界面活性剤、品番F−2089。
・EM−31:互応化学工業株式会社製の(フッ素含有樹脂エマルジョン、品番EM−31、固形分26質量%。
The details of the components shown in the following table are as follows.
PVA-235: Kuraray Co., Ltd. polyvinyl alcohol, product number PVA-235, saponification degree 88%, polymerization degree 3500.
PVA-217: polyvinyl alcohol manufactured by Kuraray Co., Ltd., product number PVA-217, saponification degree 88%, polymerization degree 1700.
-S-141: AGC Seimi Chemical Co., Ltd. surfactant, product number S-141.
-F-2089: Neos Co., Ltd. surfactant, product number F-2089.
-EM-31: manufactured by Kyoyo Chemical Industry Co., Ltd. (fluorine-containing resin emulsion, product number EM-31, solid content 26 mass%.

尚、実施例1,4,6,及び8の各々において、中間層と同じ組成を有する厚み6μmの膜を形成し、その波長375nmでの光透過性を、株式会社島津製作所製のダブルビーム分光計UV−190を用いて測定した。その結果、実施例1,4,6,及び8での光透過率は、それぞれ91.1%、86.8%、89.2%、及び76.5%であった。従って、実際の中間層の光透過率は、これらよりも高いと評価できる。   In each of Examples 1, 4, 6, and 8, a 6 μm-thick film having the same composition as that of the intermediate layer was formed, and the light transmittance at a wavelength of 375 nm was determined by double beam spectroscopy manufactured by Shimadzu Corporation. Measurement was performed using a total of UV-190. As a result, the light transmittances in Examples 1, 4, 6, and 8 were 91.1%, 86.8%, 89.2%, and 76.5%, respectively. Therefore, it can be evaluated that the light transmittance of the actual intermediate layer is higher than these.

また、実施例1,4,6,及び8の各々において、中間層と同じ組成を有する2cm×2cm×6μmの寸法を有するサンプルを作製し、このサンプルを温度22℃、体積300mLのイオン交換水中に入れて攪拌した。その結果、実施例1,4及び6では1分以内にサンプルが完全に溶解又は分散した。また実施例8では、サンプルは1分間では完全には溶解又は分散しなかったが、2分以内に完全に溶解又は分散した。   In each of Examples 1, 4, 6, and 8, a sample having the same composition as the intermediate layer and a size of 2 cm × 2 cm × 6 μm was prepared, and this sample was ion-exchanged water having a temperature of 22 ° C. and a volume of 300 mL. And stirred. As a result, in Examples 1, 4 and 6, the sample was completely dissolved or dispersed within 1 minute. In Example 8, the sample was not completely dissolved or dispersed in 1 minute, but was completely dissolved or dispersed within 2 minutes.

[スクリーン印刷版の作製]
スクリーンとして300メッシュポリエステル紗を用意し、このスクリーンをアルミニウム製の枠の内側に張って設けた。
[Preparation of screen printing plate]
A 300 mesh polyester bag was prepared as a screen, and this screen was provided on the inside of an aluminum frame.

各実施例及び比較例で得られた版膜形成用部材から保護層を剥離してから、この版膜形成用部材の樹脂層をスクリーンに重ね、版膜形成用部材の支持基材側をローラーで押すと共に、貼付乳剤(プラスプリントPP500R−24)をバケットに入れてスクリーンの版膜形成用部材とは反対側から押しつけた。これにより、貼付乳剤で樹脂層の一部を溶解させることで、スクリーンに樹脂層を密着させた。続いてこの樹脂層を40℃で30分加熱することで十分に乾燥させた。続いて、版膜形成用部材から支持基材を剥離した。   After the protective layer is peeled from the plate film forming member obtained in each of the examples and comparative examples, the resin layer of the plate film forming member is overlaid on the screen, and the support substrate side of the plate film forming member is a roller. At the same time, the emulsified emulsion (plus print PP500R-24) was put in a bucket and pressed from the opposite side of the screen film forming member. Thereby, the resin layer was adhered to the screen by dissolving a part of the resin layer with the adhesive emulsion. Subsequently, this resin layer was sufficiently dried by heating at 40 ° C. for 30 minutes. Subsequently, the supporting substrate was peeled from the plate film forming member.

次に、ネガ型のパターンが描画されたマスクフィルムを、実施例1〜8の場合は中間層に、比較例1の場合には樹脂層に、それぞれ位置合わせして重ねた。この際、比較例1ではマスクフィルムが樹脂層に貼り付いてしまい、位置合わせが難しかったが、実施例1〜8では中間層上でマスクフィルムを容易に動かすことができ、このためマスクフィルムの位置の調節が容易であった。   Next, the mask film on which a negative pattern was drawn was aligned and overlaid on the intermediate layer in Examples 1 to 8 and on the resin layer in Comparative Example 1. At this time, in Comparative Example 1, the mask film adhered to the resin layer, and positioning was difficult, but in Examples 1 to 8, the mask film could be easily moved on the intermediate layer. Position adjustment was easy.

続いて、光源として3kWのメタルハライドランプを用い、光源と樹脂層との距離1m、照射時間60秒の条件で、樹脂層を露光した。   Subsequently, a 3 kW metal halide lamp was used as the light source, and the resin layer was exposed under the conditions of a distance of 1 m between the light source and the resin layer and an irradiation time of 60 seconds.

続いて、マスクフィルムを取り除いた。この場合、比較例1では樹脂層からマスクフィルムが剥がれにくく、かなり手間取った。一方、実施例1〜8では、中間層上からマスクフィルムを容易に取り除くことができた。   Subsequently, the mask film was removed. In this case, in Comparative Example 1, the mask film was hardly peeled off from the resin layer, and it took much time. On the other hand, in Examples 1 to 8, the mask film could be easily removed from the intermediate layer.

続いて、現像液として水を用いることで樹脂層を現像した。この現像時に、実施例1〜8では、樹脂層の非露光部分と共に中間層も除去された。これにより、スクリーン印刷版を得た。   Subsequently, the resin layer was developed by using water as a developer. During this development, in Examples 1 to 8, the intermediate layer was removed together with the non-exposed portion of the resin layer. Thereby, a screen printing plate was obtained.

[評価試験]
(タック性)
露光時の版膜形成用部材とマスクフィルムとの間の貼り付きやすさを示す指標として、次の通りタック性を評価した。
[Evaluation test]
(Tackiness)
As an index indicating the ease of sticking between the plate film forming member and the mask film during exposure, tackiness was evaluated as follows.

版膜形成用部材から保護層を剥離してから、40℃で30分間加熱乾燥させた後、これを室温(25℃)まで放冷した。続いて、試験者が指で樹脂層の表面を強く押して、その際に試験者自身が感じた指の感触と、指で押された後の樹脂層の外観に基づいて、タック性を評価した。その結果、指にベタ付きが感じられず、且つ樹脂層に指紋跡が認められない場合をAと評価し、指に僅かなベタ付きが感じられ、且つ樹脂層に指紋跡が認められる場合をBと評価し、指に顕著なベタ付きが感じられ、且つ樹脂層に指紋跡が認められる場合をCと評価した。   After the protective layer was peeled off from the plate film forming member, it was heated and dried at 40 ° C. for 30 minutes and then allowed to cool to room temperature (25 ° C.). Subsequently, the tester strongly pressed the surface of the resin layer with a finger, and the tackiness was evaluated based on the finger feel felt by the tester himself and the appearance of the resin layer after being pressed with the finger. . As a result, when the finger is not sticky and the fingerprint is not recognized on the resin layer, it is evaluated as A, and when the finger is slightly sticky and the fingerprint is found on the resin layer. Evaluation was B, and a case where a noticeable stickiness was felt on the finger and a fingerprint mark was observed on the resin layer was evaluated as C.

(撥水性)
印刷時の耐水性の指標として、版膜の撥水性を、次のように評価した。各実施例及び比較例で得られたスクリーン印刷版における版膜の表面上に、スポイトから水滴を一滴落とし、版膜上の水滴の様子を観察した。その結果、水滴が球状であった場合をA、水滴が版膜上でやや広がった場合をB、水滴が版膜上で大きく広がった場合をCと、評価した。
(Water repellency)
As an index of water resistance during printing, the water repellency of the plate film was evaluated as follows. One drop of water was dropped from the dropper on the surface of the plate film in the screen printing plate obtained in each example and comparative example, and the state of the water drop on the plate film was observed. As a result, the case where the water droplet was spherical was evaluated as A, the case where the water droplet spread slightly on the plate film was evaluated as B, and the case where the water droplet spread greatly on the plate film was evaluated as C.

(耐溶剤性(撥MEK性))
印刷時の耐溶剤性の指標として、版膜の撥MEK性を、次のように評価した。各実施例及び比較例で得られたスクリーン印刷版における版膜の表面上に、スポイトからMEK(メチルエチルケトン)の液滴を一滴落とし、版膜上の液滴の様子を観察した。その結果、液滴が球状であった場合をA、液滴が版膜上でやや広がった場合をB、液滴が版膜上で大きく広がった場合をCと、評価した。
(Solvent resistance (MEK repellency))
As an index of solvent resistance at the time of printing, MEK repellency of the plate film was evaluated as follows. A droplet of MEK (methyl ethyl ketone) was dropped from a dropper on the surface of the plate film in the screen printing plate obtained in each of the examples and comparative examples, and the state of the droplet on the plate film was observed. As a result, A was evaluated when the droplet was spherical, B was evaluated when the droplet spread slightly on the plate film, and C was evaluated when the droplet spread greatly on the plate film.

これらの結果を下記表に示す。   These results are shown in the table below.

Figure 0006224458
Figure 0006224458

Figure 0006224458
Figure 0006224458

1 版膜形成用部材
2 支持基材
3 中間層
4 樹脂層
5 保護層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Plate film forming member 2 Support base material 3 Intermediate | middle layer 4 Resin layer 5 Protective layer

Claims (6)

スクリーン印刷版における版膜を形成するために用いられる版膜形成用部材であって、
前記版膜を形成するための、感光性を有する樹脂層と、
前記樹脂層を支持する支持基材と、
前記支持基材と前記樹脂層との間に介在し、水溶性或いは水分散性と透明性とを兼ね備える中間層とを具備し、
前記中間層が、水溶性或いは水分散性のフッ素樹脂から形成されている
版膜形成用部材。
A plate film forming member used for forming a plate film in a screen printing plate,
A photosensitive resin layer for forming the plate film;
A support substrate for supporting the resin layer;
Intervening between the support substrate and the resin layer, comprising a water-soluble or water-dispersible and transparent intermediate layer ,
A plate film forming member , wherein the intermediate layer is formed of a water-soluble or water-dispersible fluororesin .
スクリーン印刷版における版膜を形成するために用いられる版膜形成用部材であって、A plate film forming member used for forming a plate film in a screen printing plate,
前記版膜を形成するための、感光性を有する樹脂層と、A photosensitive resin layer for forming the plate film;
前記樹脂層を支持する支持基材と、A support substrate for supporting the resin layer;
前記支持基材と前記樹脂層との間に介在し、水溶性或いは水分散性と透明性とを兼ね備える中間層とを具備し、Intervening between the support substrate and the resin layer, comprising a water-soluble or water-dispersible and transparent intermediate layer,
前記中間層が、添加剤としてフッ素化合物を含有するThe intermediate layer contains a fluorine compound as an additive
版膜形成用部材。Plate forming member.
前記中間層が、更にポリビニルアルコールを含有する請求項1又は2に記載の版膜形成用部材。 The plate film forming member according to claim 1, wherein the intermediate layer further contains polyvinyl alcohol. 前記フッ素化合物が、エチレン性不飽和基を有するフッ素化合物を含む請求項に記載の版膜形成用部材。 The plate film forming member according to claim 2 , wherein the fluorine compound contains a fluorine compound having an ethylenically unsaturated group. 前記樹脂層の前記中間層とは反対側の面に重ねられている保護層を更に具備する請求項1から4のいずれか一項に記載の版膜形成用部材。 Plate film forming member according to claim 1, any one of 4 said intermediate layer having a protective layer which is overlaid on the opposite side more of the resin layer. 請求項1から5のいずれか一項に記載の版膜形成用部材を用いたスクリーン印刷版の製造方法であって、A method for producing a screen printing plate using the plate film forming member according to any one of claims 1 to 5,
前記樹脂層をスクリーンに重ねる工程と、Overlaying the resin layer on a screen;
前記支持基材を前記中間層から剥離する工程と、Peeling the support substrate from the intermediate layer;
前記中間層にパターンマスクを重ね、前記パターンマスクを介して前記樹脂層を露光する工程と、Overlaying a pattern mask on the intermediate layer, exposing the resin layer through the pattern mask;
前記中間層を除去し、前記樹脂層を現像する工程と、Removing the intermediate layer and developing the resin layer;
を含む、スクリーン印刷版の製造方法。A method for producing a screen printing plate, comprising:
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