JP6177570B2 - Slurry coating device - Google Patents
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Description
本発明は、ハニカム基材にスラリーを塗布する装置に関する。 The present invention relates to an apparatus for applying a slurry to a honeycomb substrate.
エンジン等の内燃機関から排出される排気ガスには、炭化水素(HC)、一酸化炭素(CO)、窒素酸化物(NOx)等の有害な物質が含まれている。これらの物質は大気汚染の原因となるため、排気ガスを浄化することが必要とされる。 Exhaust gas discharged from an internal combustion engine such as an engine contains harmful substances such as hydrocarbons (HC), carbon monoxide (CO), and nitrogen oxides (NOx). Since these substances cause air pollution, it is necessary to purify the exhaust gas.
排気ガスを浄化するために、触媒金属を含むスラリーを、ハニカム基材のセルを構成するセル壁に塗布した排気ガス浄化用触媒が使用されている。ハニカム基材にスラリーを塗布する装置としては、例えば、特許文献1及び2に記載のものを挙げることができる。
In order to purify the exhaust gas, an exhaust gas purifying catalyst in which a slurry containing a catalytic metal is applied to the cell walls constituting the cells of the honeycomb substrate is used. Examples of the apparatus for applying the slurry to the honeycomb substrate include those described in
特許文献1は、浸漬なべに収容されたスラリーに基材の下方端面を浸し、真空を利用して基材の上方端面からスラリーを吸引することによって、基材にスラリーを塗布する装置を開示している。特許文献2は、基材の上方端面に供給されたスラリーを、真空を利用して基材の下方端面から吸引することによって、基材にスラリーを塗布する装置を開示している。
Patent Document 1 discloses an apparatus for applying a slurry to a substrate by immersing the lower end surface of the substrate in a slurry accommodated in a dipping pan and sucking the slurry from the upper end surface of the substrate using a vacuum. ing.
しかしながら、特許文献1に記載の装置では、基材をスラリーに浸すため、基材の外表面にスラリーが付着してしまう。外表面に付着したスラリーは排気ガスの浄化に対して有効に機能しないため、一部のスラリーは無駄になってしまう。また、基材の下方端面から上方にスラリーを吸引する方式では、全てのスラリーを吸引することが困難である。その結果、残りのスラリーを再利用することになり、操作が煩雑になる。更に、スラリーを吸引する力がそれぞれのセルにおいて異なるため、各セルにおけるスラリーのコート幅を均一に制御することが困難である。 However, in the apparatus described in Patent Document 1, since the base material is immersed in the slurry, the slurry adheres to the outer surface of the base material. Since the slurry adhering to the outer surface does not function effectively for exhaust gas purification, some of the slurry is wasted. Further, in the system in which the slurry is sucked upward from the lower end surface of the substrate, it is difficult to suck all the slurry. As a result, the remaining slurry is reused, and the operation becomes complicated. Furthermore, since the force for sucking the slurry is different in each cell, it is difficult to uniformly control the coating width of the slurry in each cell.
特許文献2に記載の装置では、スラリーを吸引するために利用する真空の度合いが制御されていないため、スラリーのコート幅を制御することが困難である。また、各セルにおけるスラリーのコート幅を均一に制御することも困難である。更に、真空の度合いによっては、基材の上方端面に供給されたスラリーが下方端面から漏れ出すおそれもある。
In the apparatus described in
そのため、本発明は、上述の問題点を解決するための新たな装置を提供することを目的とする。特に、本発明は、ハニカム基材の各セルにおけるスラリーのコート幅を均一に制御できる装置を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a new apparatus for solving the above-described problems. In particular, an object of the present invention is to provide an apparatus capable of uniformly controlling the slurry coating width in each cell of a honeycomb substrate.
本発明者らが鋭意検討した結果、真空タンクを用いて真空状態を予め形成しておき、当該真空状態を利用して、ハニカム基材の上方端面に供給されたスラリーを当該基材の下方端面から瞬間的に吸引することにより、各セルにおけるスラリーのコート幅を均一に制御できることを見出した。 As a result of intensive studies by the present inventors, a vacuum state is formed in advance using a vacuum tank, and the slurry supplied to the upper end surface of the honeycomb substrate is used as the lower end surface of the substrate using the vacuum state. It was found that the coating width of the slurry in each cell can be uniformly controlled by instantaneously sucking.
すなわち、本発明は以下を包含する。 That is, the present invention includes the following.
[1]複数のセルを有するハニカム基材の、当該セルを構成するセル壁にスラリーを塗布する装置であって、
ハニカム基材の下方端面が配置され、当該ハニカム基材の上方端面に供給されたスラリーを吸引する吸引部;
前記吸引部に連結された真空タンク;
前記吸引部と前記真空タンクとの間に設置された開閉バルブ;及び
前記真空タンクの内部を真空状態にする真空形成手段;
を備え、
前記開閉バルブを閉じた状態で前記真空形成手段が前記真空タンクの内部を真空状態にし、前記開閉バルブを開くことにより、前記吸引部が前記ハニカム基材の上方端面に供給されたスラリーを吸引して、前記セル壁にスラリーを塗布する装置。
[1] An apparatus for applying a slurry to a cell wall constituting a cell of a honeycomb substrate having a plurality of cells,
A suction part in which the lower end face of the honeycomb base material is disposed and sucks the slurry supplied to the upper end face of the honeycomb base material;
A vacuum tank connected to the suction section;
An on-off valve installed between the suction part and the vacuum tank; and vacuum forming means for bringing the inside of the vacuum tank into a vacuum state;
With
With the open / close valve closed, the vacuum forming means evacuates the vacuum tank and opens the open / close valve so that the suction part sucks the slurry supplied to the upper end face of the honeycomb substrate. An apparatus for applying a slurry to the cell wall.
[2]真空タンクの内部の圧力を検出する圧力センサを更に備える、[1]に記載の装置。 [2] The apparatus according to [1], further including a pressure sensor that detects a pressure inside the vacuum tank.
[3]真空タンクの内部の圧力を調節する圧力解放弁を更に備える、[1]又は[2]に記載の装置。 [3] The apparatus according to [1] or [2], further comprising a pressure release valve that adjusts the pressure inside the vacuum tank.
[4]圧力センサにより検出した真空タンクの内部の圧力が一定の値を上回る場合には、真空形成手段により当該圧力を下げるように、又は圧力センサにより検出した真空タンクの内部の圧力が一定の値を下回る場合には、圧力解放弁により当該圧力を上げるように、真空タンクの内部の圧力を制御する制御手段を更に含む、[3]に記載の装置。 [4] When the pressure inside the vacuum tank detected by the pressure sensor exceeds a certain value, the pressure is reduced by the vacuum forming means, or the pressure inside the vacuum tank detected by the pressure sensor is constant. The apparatus according to [3], further comprising control means for controlling the pressure inside the vacuum tank so that the pressure is increased by the pressure release valve when the value is below the value.
本発明によれば、各セルにおけるスラリーのコート幅を均一に制御することができる。 According to the present invention, the slurry coating width in each cell can be controlled uniformly.
以下、本発明に係るスラリー塗布装置について、図面を参照して説明する。 Hereinafter, a slurry coating apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
本発明の一実施形態では、例えば図1に示すように、スラリー塗布装置は、吸引部1、開閉バルブ2、配管3、真空タンク4、及び真空形成手段5から構成されている。ハニカム基材11は吸引部1の上方部に配置される。
In one embodiment of the present invention, for example, as shown in FIG. 1, the slurry application device includes a suction unit 1, an opening /
吸引部1は、開閉バルブ2及び配管3を介して、真空タンク4と連結している。真空タンク4の内部は真空形成手段5によって真空状態にすることができる。なお、本明細書において「真空状態」とは、周囲環境と比較して、圧力が低い状態、例えば−5〜−70kPa(相対圧力)を意味する。
The suction unit 1 is connected to a
吸引部1の上方部は、ハニカム基材11の下方端面の全体を配置できる内径(図1のX)を有する。吸引部1の好ましい内径は、基材の大きさによって異なるが、例えば、70〜280mmであることが好ましい。内径を70mm以上とすることにより、スラリーが過度の力で吸引されることを回避できる。これにより、コート幅を制御することが容易になる。また、内径を280mm以下とすることにより、スラリーが適度な力で吸引されるため、所望の長さまでコート幅を広げることができる。なお、吸引部1の内径がハニカム基材11の下方端面の外径よりも大きい場合には、ハニカム基材11の外周領域から吸引部1へ空気が流入しないように、パッキン等を使用することが好ましい。
The upper part of the suction part 1 has an inner diameter (X in FIG. 1) in which the entire lower end face of the
ハニカム基材11の下方端面と接触する吸引部1の上方部は、上記の通り、所定の内径を有している必要があるが、吸引部1の下方部の内径は特に限定されない。例えば、下方部の内径は、上方部の内径と比較して、小さくてもよいし(図2)、同じでもよいし(図3)、大きくてもよい(図示せず)。
The upper part of the suction part 1 that contacts the lower end surface of the
吸引部1の上方部の末端から下方部の末端までの直線距離(図1のY)は特に限定されないが、例えば、500〜2000mmであることが好ましく、800〜1200mmであることがより好ましい。直線距離を500mm以上とすることにより、ハニカム基材11のスラリーの下方液面全体に均一な静圧がかかるようになり、各セルにおいてスラリーをより均一に吸引することができる。また、直線距離を2000mm以下とすることにより、吸引部1の容積を小さくし、スラリーを十分に吸引することができる。
Although the linear distance (Y of FIG. 1) from the upper end of the suction part 1 to the lower end is not particularly limited, for example, it is preferably 500 to 2000 mm, and more preferably 800 to 1200 mm. By setting the linear distance to 500 mm or more, a uniform static pressure is applied to the entire lower liquid surface of the slurry of the
吸引部1の容積は特に限定されないが、例えば、2〜35Lであることが好ましい。容積を2L以上とすることにより、ハニカム基材11のスラリーの下方液面全体に均一な静圧がかかり、各セルにおいてスラリーをより均一に吸引することができる。また、容積を35L以下とすることにより、十分な静圧を確保することができ、スラリーを十分に吸引することができるため、所望の長さまでコート幅を広げることができる。
Although the volume of the suction part 1 is not specifically limited, For example, it is preferable that it is 2-35L. By setting the volume to 2 L or more, a uniform static pressure is applied to the entire lower liquid surface of the slurry of the
真空タンク4は、真空状態に耐えられるものであり、好ましくは−70kPa(相対圧力)の圧力に耐えられるものである。真空タンク4の容積は特に限定されないが、例えば、100〜1500Lであることが好ましい。また、開閉バルブ2から真空形成手段5までの間の空間(以下、「真空部」という)(図1のZ)の容積は特に限定されないが、200〜2000Lであることが好ましい。真空タンク4又は真空部の容積をそれぞれ100L又は200L以上とすることにより、スラリーを十分に吸引することのできる真空状態を確保することができる。また、真空タンク4又は真空部の容積をそれぞれ1500L又は2000L以下とすることにより、スラリーの吸引時間が短くなり、コート幅の制御が容易となる。
The
真空形成手段5は、真空タンク4の内部を真空状態にできるものであれば特に限定されない。例えば、ルーツブロア、エジェクター等を挙げることができる。
The vacuum forming means 5 is not particularly limited as long as the inside of the
図1に示すように構成された装置では、開閉バルブ2を閉じた状態で、真空タンク4の内部が真空形成手段5によって真空状態にされる。一方、吸引部1の上方部には、ハニカム基材11の下方端面が配置され、当該基材の上方端面にスラリーが供給される。次に、開閉バルブ2を開くことにより、真空部と吸引部との間の圧力差により、スラリーが吸引される。この方式では、大きな圧力差を利用してスラリーを瞬間的に吸引できるため、基材の各セルを通してスラリーを均一に吸引することができる。その結果、各セル壁にスラリーを均一な長さで塗布することができる。また、真空タンク4の内部の圧力を適宜調節することにより、スラリーのコート幅を所望の長さに調節することができる。更に、高度の真空状態を利用することにより、スラリーを急速に吸引できるため、短時間でスラリーを塗布することができる。つまり、排気ガス浄化用触媒の生産効率を上げることができる。
In the apparatus configured as shown in FIG. 1, the inside of the
また、図4に示すように、本発明の一実施形態では、スラリー塗布装置は、真空タンク4の内部の圧力を検出する圧力センサ6を更に備えていてもよい。圧力センサ6を備えることにより、所望のコート幅を実現できる真空状態を正確に確保することができる。また、スラリー塗布装置は、真空タンク4の内部の圧力を調節する圧力解放弁7を更に備えていてもよい。真空形成手段5と共に圧力解放弁7を備えることにより、真空タンク4の内部の圧力を容易に調節することができる。
Moreover, as shown in FIG. 4, in one embodiment of the present invention, the slurry application device may further include a pressure sensor 6 that detects the pressure inside the
また、図5に示すように、本発明の一実施形態では、スラリー塗布装置は、任意に設置した圧力センサ6により検出した真空タンク4の内部の圧力に基づいて真空形成手段5及び圧力解放弁7を制御する制御手段8を更に備えていてもよい。制御手段8は、圧力センサ6により検出した真空タンク4の内部の圧力が一定の値を上回る場合には、真空形成手段5を起動させて当該圧力を下げるような制御を行う。一方、圧力センサ6により検出した真空タンク4の内部の圧力が一定の値を下回る場合には、制御手段8は圧力解放弁7を開いて当該圧力を上げるような制御を行う。制御手段8としては、例えば、コンピュータ等を挙げることができる。コンピュータのRAM、HDD等に記憶されたプログラムが動作することによって、制御手段8の機能を実現することができる。
Further, as shown in FIG. 5, in one embodiment of the present invention, the slurry application device includes a vacuum forming means 5 and a pressure release valve based on the pressure inside the
また、図6に示すように、本発明の一実施形態では、スラリー塗布装置は、ハニカム基材11を固定する固定手段9を更に備えていてもよい。固定手段9としては、例えば、下治具等を挙げることができる。
Further, as shown in FIG. 6, in one embodiment of the present invention, the slurry application device may further include a fixing means 9 for fixing the
スラリー塗布装置は、スラリー12をハニカム基材11の上方端面に保持する保持手段10を更に備えていてもよい。保持手段10は、ハニカム基材11と液密に接触できる構造であることが好ましい。保持手段10としては、例えば、上治具等を挙げることができる。
The slurry coating apparatus may further include a holding
スラリー塗布装置は、ハニカム基材11の上方端面にスラリー12を供給する供給手段13を更に備えていてもよい。供給手段13は、ハニカム基材11の上方端面にスラリー12を均一に供給できる構造であることが好ましい。供給手段13としては、例えば、シャワー型のノズル等を挙げることができる。
The slurry coating apparatus may further include a supply unit 13 that supplies the
スラリー塗布装置は、ハニカム基材11の上方端面に供給されたスラリー12を均す均し手段(図示せず)を更に備えていてもよい。均し手段としては、例えば、上方端面にスラリー12が供給されたハニカム基材11を、軸方向を中心として回転させる回転装置等を挙げることができる。
The slurry application device may further include a leveling means (not shown) for leveling the
スラリー塗布装置は、吸引部と真空部との間にダンパー(図示せず)を更に備えていてもよい。ダンパーを備えることにより、開閉バルブ2を開いた際の吸引力を調節することができる。
The slurry coating apparatus may further include a damper (not shown) between the suction unit and the vacuum unit. By providing the damper, the suction force when the opening /
また、図示しないが、スラリー塗布装置は、複数の真空タンクを備えていてもよい。例えば、複数の真空タンクが、対応する複数の真空形成手段にそれぞれ連結されていてもよいし、単一の真空形成手段に連結されていてもよい。また、真空形成手段に連結された真空タンクに更なる真空タンクが連結されていてもよい。複数の真空タンクを備える場合には、バルブ等を設置して各真空タンクの間を遮断できるように構成することが好ましい。このように構成された装置では、必要に応じて複数の真空タンクを使用できるため、スラリーの塗布において求められる内容が様々に変化しても、柔軟に対応することができる。 In addition, although not shown, the slurry application device may include a plurality of vacuum tanks. For example, a plurality of vacuum tanks may be respectively connected to a plurality of corresponding vacuum forming means, or may be connected to a single vacuum forming means. Further, a further vacuum tank may be connected to the vacuum tank connected to the vacuum forming means. In the case where a plurality of vacuum tanks are provided, it is preferable to provide a valve or the like so that the vacuum tanks can be shut off. In the apparatus configured as described above, a plurality of vacuum tanks can be used as necessary, so that even if the contents required in the application of the slurry change variously, it is possible to flexibly cope with it.
なお、スラリーの種類は特に限定されない。一般的には、触媒金属(例えば、パラジウム、白金、ロジウム)、担体(例えば、アルミナ、セリア)、溶媒(例えば、水)等を含むスラリーが使用される。 In addition, the kind of slurry is not specifically limited. Generally, a slurry containing a catalyst metal (for example, palladium, platinum, rhodium), a support (for example, alumina, ceria), a solvent (for example, water) and the like is used.
以下、実施例及び比較例を用いて本発明をより詳細に説明するが、本発明の技術的範囲はこれに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example and a comparative example, the technical scope of this invention is not limited to this.
本発明に係るスラリー塗布装置を用いてハニカム基材のセル壁にスラリーを塗布した(実施例1〜3)。実施例1〜3では、様々な真空状態を用いてスラリーを吸引した。また、従来のスラリー塗布装置(図7)を用いてハニカム基材のセル壁にスラリーを塗布した(比較例1及び2)。従来のスラリー塗布装置は、真空タンクを使用せず、ターボブロア14を使用してスラリーを吸引した。吸引条件及び吸引結果をそれぞれ、表1及び表2に示す。
The slurry was apply | coated to the cell wall of the honeycomb base material using the slurry application | coating apparatus which concerns on this invention (Examples 1-3). In Examples 1 to 3, the slurry was sucked using various vacuum conditions. Moreover, the slurry was apply | coated to the cell wall of the honeycomb base material using the conventional slurry application apparatus (FIG. 7) (Comparative Examples 1 and 2). A conventional slurry application apparatus does not use a vacuum tank but sucks slurry using a
表1及び表2に示す通り、本発明に係るスラリー塗布装置を使用することにより、吸引時間を短縮することができる。また、真空タンクの内部の圧力を調節することにより、スラリーのコート幅を制御することができる。更に、各セルにおけるコート幅を均一に制御することができる。一方、従来のスラリー塗布装置では、各セルにおけるコート幅を均一に制御することが困難である。また、同一の吸引条件であっても、コート幅が大きく異なっている。 As shown in Tables 1 and 2, by using the slurry coating apparatus according to the present invention, the suction time can be shortened. Further, the coating width of the slurry can be controlled by adjusting the pressure inside the vacuum tank. Furthermore, the coat width in each cell can be controlled uniformly. On the other hand, in the conventional slurry coating apparatus, it is difficult to uniformly control the coating width in each cell. Further, even under the same suction conditions, the coat width is greatly different.
1・・吸引部、2・・開閉バルブ、3・・配管、4・・真空タンク、5・・真空形成手段、6・・圧力センサ、7・・圧力解放弁、8・・制御手段、9・・固定手段、10・・保持手段、11・・ハニカム基材、12・・スラリー、13・・供給手段、14・・ターボブロア
1 ....
Claims (2)
ハニカム基材の下方端面が配置され、当該ハニカム基材の上方端面に供給されたスラリーを吸引する吸引部;
前記吸引部に連結された真空タンク;
前記吸引部と前記真空タンクとの間に設置された開閉バルブ;
前記真空タンクの内部を真空状態にする真空形成手段;
前記真空タンクに設けられ、前記真空タンクの内部の圧力を検出する圧力センサ;及び
前記真空タンクに設けられ、前記真空タンクの内部の圧力を調節する圧力解放弁;
を備え、
前記開閉バルブを閉じた状態で前記真空形成手段が前記真空タンクの内部を真空状態にし、前記開閉バルブを開くことにより、前記吸引部が前記ハニカム基材の上方端面に供給されたスラリーを吸引して、前記セル壁にスラリーを塗布する装置。 An apparatus for applying a slurry to a cell wall constituting a cell of a honeycomb substrate having a plurality of cells,
A suction part in which the lower end face of the honeycomb base material is disposed and sucks the slurry supplied to the upper end face of the honeycomb base material;
A vacuum tank connected to the suction section;
An open / close valve installed between the suction part and the vacuum tank;
Means for forming a vacuum in the vacuum tank ;
A pressure sensor provided in the vacuum tank for detecting the pressure inside the vacuum tank; and
A pressure release valve provided in the vacuum tank, for adjusting a pressure inside the vacuum tank;
With
With the open / close valve closed, the vacuum forming means evacuates the vacuum tank and opens the open / close valve so that the suction part sucks the slurry supplied to the upper end face of the honeycomb substrate. An apparatus for applying a slurry to the cell wall.
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