JP6153148B1 - Process liquid treatment system - Google Patents

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Abstract

【課題】フィルタ装置に残留するプロセス液を削減することができるプロセス液の処理システムを提供する。【解決手段】フィルタ12を収容する容器11を備えたフィルタ装置10と、プロセス液をフィルタ装置10に供給する供給配管20と、プロセス液を圧送するための気体を供給配管20に供給する圧送手段30と、洗浄用流体をフィルタ装置10に供給する洗浄手段40と、を備え、供給配管20は、途中で分岐して、容器11の側部又は上部に接続された第1配管21、及び容器11の底部に接続された第2配管22を有し、圧送手段30により第1配管21及び第2配管22からフィルタ装置10内にプロセス液を圧送し、洗浄手段30によりフィルタ装置10へ供給した洗浄用流体を第2配管22からフィルタ装置10の外部へ排出する。【選択図】 図2A process liquid processing system capable of reducing process liquid remaining in a filter device is provided. A filter device having a container for containing a filter, a supply pipe for supplying a process liquid to the filter apparatus, and a pressure feeding means for supplying a gas for pumping the process liquid to the supply pipe. 30 and a cleaning means 40 for supplying a cleaning fluid to the filter device 10, the supply pipe 20 is branched in the middle, and is connected to the side or upper part of the container 11, and the container 11, the process liquid was pumped into the filter device 10 from the first pipe 21 and the second pipe 22 by the pressure feeding means 30, and supplied to the filter apparatus 10 by the cleaning means 30. The cleaning fluid is discharged from the second pipe 22 to the outside of the filter device 10. [Selection] Figure 2

Description

本発明は、フィルタ装置に残留するプロセス液を削減することができるプロセス液の処理システムに関する。   The present invention relates to a process liquid processing system capable of reducing process liquid remaining in a filter device.

従来、注射剤、点眼剤等の液状のプロセス液を処理するプラントにおいては、プロセス液をフィルタ装置で濾過することで殺菌する工程が実施されている。プロセス液は、通常、圧縮空気により、タンクからフィルタ装置へ圧送される。圧縮空気を供給して圧送する場合、製造終了後に配管内にプロセス液が残留する場合がある。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a plant that processes liquid process liquids such as injections and eye drops, a process of sterilization by filtering the process liquid with a filter device has been performed. The process liquid is usually pumped from the tank to the filter device by compressed air. When compressed air is supplied and pressure-fed, the process liquid may remain in the pipe after completion of production.

このような残留したプロセス液を回収するために、フィルタ装置よりも上流に設けられたバルブの開度を調整し、圧縮空気の流速を制御することで、配管内に残留するプロセス液を送液する送液方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。このような送液方法により、配管内に残留するプロセス液を低減することができる。   In order to recover such remaining process liquid, the opening degree of the valve provided upstream from the filter device is adjusted, and the flow rate of the compressed air is controlled so that the process liquid remaining in the pipe is sent. A liquid feeding method has been proposed (see, for example, Patent Document 1). By such a liquid feeding method, the process liquid remaining in the pipe can be reduced.

しかしながら、フィルタ装置に接続されたドレインへ接続された配管にプロセス液が残留する場合がある。図7に、従来のフィルタ装置の概略構成を示す。一般に、フィルタ装置110は、フィルタ112が配置された容器111を備えている。容器111の内部空間は、フィルタ112によって区画されており、上流側の空間が一次側113、下流側の空間が二次側114となっている。   However, the process liquid may remain in the pipe connected to the drain connected to the filter device. FIG. 7 shows a schematic configuration of a conventional filter device. In general, the filter device 110 includes a container 111 in which a filter 112 is disposed. The internal space of the container 111 is partitioned by the filter 112, and the upstream space is the primary side 113 and the downstream space is the secondary side 114.

また、フィルタ装置110には、底部にドレン151へ接続した排水管150が接続されている。排水管150には弁装置152が設けられている。排水管150は、フィルタ装置110の容器111の内部を洗浄した洗浄液や水蒸気等などを、容器111の内部からドレン151へ排出するために用いられる。   Further, a drain pipe 150 connected to a drain 151 is connected to the filter device 110 at the bottom. The drain pipe 150 is provided with a valve device 152. The drain pipe 150 is used to discharge cleaning liquid, water vapor, or the like that has cleaned the inside of the container 111 of the filter device 110 from the inside of the container 111 to the drain 151.

このようなフィルタ装置110は、上流からプロセス液が一次側113に供給され、プロセス液はフィルタ112により濾過され、二次側14から次の工程へ送られる。このようにフィルタ装置110でプロセス液を処理しているとき、弁装置152は閉鎖されている。   In such a filter device 110, the process liquid is supplied from the upstream to the primary side 113, the process liquid is filtered by the filter 112, and sent from the secondary side 14 to the next step. Thus, when the process liquid is processed by the filter device 110, the valve device 152 is closed.

プロセス液の全量をフィルタ装置110で処理し終えると、図中のハッチ部分に示すように、排水管150の一部(弁装置152から容器111との入口までの間の部分)には、プロセス液が残留してしまう。排水管150に残留したプロセス液は、弁装置152を開放し、ドレン151へ廃棄されている。特に注射剤等のプロセス液は、少量であっても非常に高価であることから、プロセス液を残留させ廃棄することは、大きな損失をもたらす。   When the entire amount of the process liquid has been processed by the filter device 110, as shown in the hatched portion in the figure, a part of the drain pipe 150 (the portion between the valve device 152 and the inlet of the container 111) has a process. Liquid will remain. The process liquid remaining in the drain pipe 150 opens the valve device 152 and is discarded to the drain 151. In particular, since a process liquid such as an injection is very expensive even if it is in a small amount, if the process liquid remains and is discarded, a great loss occurs.

なお、このような問題は、注射剤等の医薬に関する液状のプロセス液だけではなく、フィルタによる濾過を必要とするプロセス液について一般に存在する。   Such problems generally exist not only for liquid process liquids related to pharmaceuticals such as injections, but also for process liquids that require filtration with a filter.

特許第5205158号公報Japanese Patent No. 5205158

本発明は、このような事情に鑑み、フィルタ装置に残留するプロセス液を削減することができるプロセス液の処理システムを提供することを目的とする。   In view of such circumstances, an object of the present invention is to provide a process liquid processing system capable of reducing process liquid remaining in a filter device.

上記目的を達成するための第1の態様は、フィルタを収容する容器を備えたフィルタ装置と、プロセス液を前記フィルタ装置に供給する供給配管と、プロセス液を圧送するための気体を前記供給配管に供給する圧送手段と、洗浄用流体を前記フィルタ装置に供給する洗浄手段と、を備え、前記供給配管は、途中で分岐して、前記容器の側部又は上部に接続された第1配管、及び前記容器の底部に接続された第2配管を有し、前記圧送手段により前記第1配管及び前記第2配管から前記フィルタ装置内にプロセス液を圧送し、前記洗浄手段により前記フィルタ装置へ供給した洗浄用流体を前記第2配管から前記フィルタ装置の外部へ排出することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   A first aspect for achieving the above object includes a filter device including a container for storing a filter, a supply pipe for supplying a process liquid to the filter apparatus, and a gas for pumping the process liquid to the supply pipe. Pressure supply means for supplying to the filter device, and cleaning means for supplying the cleaning fluid to the filter device, the supply pipe is branched in the middle, the first pipe connected to the side or upper portion of the container, And a second pipe connected to the bottom of the container, the process liquid is pumped into the filter device from the first pipe and the second pipe by the pumping means, and supplied to the filter apparatus by the cleaning means In the process liquid processing system, the cleaned fluid is discharged from the second pipe to the outside of the filter device.

第1の態様では、第2配管が排水管と供給配管としての機能を兼用するので、洗浄用流体の排出を可能とし、かつ、供給配管に残留する薬液を低減することができる。   In the first aspect, since the second pipe also functions as a drain pipe and a supply pipe, the cleaning fluid can be discharged and the chemical solution remaining in the supply pipe can be reduced.

本発明の第2の態様は、第1の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記プロセス液を貯留する調製タンクを備え、前記調製タンクは、前記圧送手段から前記気体が供給されるとともに、前記供給配管を介して前記フィルタ装置に接続され、前記第1配管には、バルブが設けられ、前記圧送手段により前記調製タンクに貯留された前記プロセス液を前記第1配管及び前記第2配管から前記フィルタ装置内に圧送する際に、前記調製タンクに貯留された前記プロセス液の残量が所定値以下となったとき、前記第1配管に設けられた前記バルブを閉鎖することを特徴とするプロセス液の処理システムにある。 According to a second aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the first aspect, the preparation liquid includes a preparation tank that stores the process liquid, and the preparation tank is supplied with the gas from the pressure feeding unit. The first piping and the second piping are connected to the filter device via the supply piping, the first piping is provided with a valve, and the process liquid stored in the preparation tank by the pressure feeding means is supplied to the first piping and the second piping. wherein when feed pressure into the filter device, when the remaining amount of the process liquid stored in the preparation tank is equal to or less than a predetermined value, to close the valve provided in the first pipe from In the process liquid processing system.

第2の態様では、プロセス液をより早く確実にフィルタ装置へ送ることができる。   In the second aspect, the process liquid can be sent to the filter device more quickly and reliably.

本発明の第3の態様は、第1又は第2の態様に記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記第2配管の口径は、前記第1配管の口径よりも狭いことを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   According to a third aspect of the present invention, in the process liquid processing system according to the first or second aspect, the diameter of the second pipe is narrower than the diameter of the first pipe. In the processing system.

第3の態様では、第2配管の口径を、第1配管の口径よりも狭くすることで、送液速度を十分確保することができる。   In the third aspect, the liquid feeding speed can be sufficiently secured by making the diameter of the second pipe narrower than the diameter of the first pipe.

本発明の第4の態様は、第1から第3の何れか一つに記載するプロセス液の処理システムにおいて、前記プロセス液は、薬液であることを特徴とするプロセス液の処理システムにある。   A fourth aspect of the present invention is the process liquid processing system according to any one of the first to third aspects, wherein the process liquid is a chemical liquid.

第4の態様では、プロセス液として薬液を対象とする。特に薬液は高価であることから、供給配管に残留する薬液を低減することによる経済的な効果は顕著である。   In a 4th aspect, a chemical | medical solution is made into object as a process liquid. In particular, since the chemical solution is expensive, the economic effect of reducing the chemical solution remaining in the supply pipe is remarkable.

本発明によれば、フィルタ装置に残留するプロセス液を削減することができるプロセス液の処理システムが提供される。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the process liquid processing system which can reduce the process liquid which remains in a filter apparatus is provided.

プロセス液の処理システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the process liquid processing system. 薬液を送液している状態における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system in the state which is feeding the chemical | medical solution. 薬液を送液している状態における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system in the state which is feeding the chemical | medical solution. 薬液を送液している状態における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system in the state which is feeding the chemical | medical solution. 洗浄している状態における処理システムの概略図である。It is the schematic of the processing system in the state which is wash | cleaning. 別形態のプロセス液の処理システムの概略構成図である。It is a schematic block diagram of the processing system of the process liquid of another form. 従来のフィルタ装置の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the conventional filter apparatus.

〈実施形態1〉
図1は本実施形態に係るプロセス液の処理システムの概略構成図である。本実施形態の処理システム1は、プロセス液の一例として液状の医薬品(以下、薬液)を製造するプラントの一部である。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a process liquid processing system according to the present embodiment. The processing system 1 of the present embodiment is a part of a plant that manufactures liquid pharmaceutical products (hereinafter referred to as chemical solutions) as an example of a process liquid.

具体的には、処理システム1は、調製タンク2と、貯留タンク3と、フィルタ装置10と、供給配管20と、圧送手段30と、洗浄手段40とを備えている。   Specifically, the processing system 1 includes a preparation tank 2, a storage tank 3, a filter device 10, a supply pipe 20, a pressure feeding unit 30, and a cleaning unit 40.

調製タンク2は、薬液を調整するタンクである。特に図示しないが、調製タンク2は、製造する薬液の原料が投入される投入口、製造された薬液を排出する排出口を備えている。これらの投入口や排出口は、後述する制御装置からの制御信号により開閉可能となっている。   The preparation tank 2 is a tank for adjusting a chemical solution. Although not particularly illustrated, the preparation tank 2 includes an inlet for supplying a raw material of the chemical liquid to be manufactured and an outlet for discharging the manufactured chemical liquid. These inlets and outlets can be opened and closed by a control signal from a control device to be described later.

貯留タンク3は、フィルタ装置10で濾過された薬液を貯留するタンクである。特に図示しないが、圧送された薬液が投入される投入口、薬液を排出する排出口を備えている。これらの投入口や排出口は、後述する制御装置からの制御により開閉可能となっている。また、貯留タンク3は、薬液を容器に詰める充填機に接続されており、当該充填機の排出口から薬液を排出し、充填機に供給することが可能となっている。   The storage tank 3 is a tank that stores the chemical liquid filtered by the filter device 10. Although not shown in the drawing, it is provided with an inlet for feeding the pumped chemical and an outlet for discharging the chemical. These inlets and outlets can be opened and closed by control from a control device to be described later. In addition, the storage tank 3 is connected to a filling machine that fills the container with the chemical liquid, and the chemical liquid can be discharged from the discharge port of the filling machine and supplied to the filling machine.

フィルタ装置10は、箱状の容器11と、容器11の内部空間に設けられたフィルタ12とを備えている。フィルタ12は、液体を流通させ、薬液中の不純物や雑菌等を濾過するものである。ここでは、フィルタ12は円筒状に形成され、容器11の内部を二つに区分けしている。フィルタ12の外部、すなわち容器11の内部であり、かつフィルタ12の外側を一次側13とする。フィルタ12の内部を二次側14とする。   The filter device 10 includes a box-shaped container 11 and a filter 12 provided in the internal space of the container 11. The filter 12 circulates a liquid and filters impurities, germs and the like in the chemical solution. Here, the filter 12 is formed in a cylindrical shape, and the inside of the container 11 is divided into two. The outside of the filter 12, that is, the inside of the container 11 and the outside of the filter 12 is a primary side 13. The inside of the filter 12 is a secondary side 14.

供給配管20は、プロセス液を調製タンク2からフィルタ装置10へ供給する配管である。供給配管20は、鉛直方向において、容器11よりも下方に位置する分岐部25にて、二つに分岐している。供給配管20のうち、途中で分岐したそれぞれを第1配管21と第2配管22と称する。第1配管21及び第2配管22は、ともにフィルタ装置10の一次側13に接続している。   The supply pipe 20 is a pipe that supplies the process liquid from the preparation tank 2 to the filter device 10. The supply pipe 20 is branched into two at a branching portion 25 located below the container 11 in the vertical direction. Each of the supply pipes 20 branched in the middle is referred to as a first pipe 21 and a second pipe 22. Both the first pipe 21 and the second pipe 22 are connected to the primary side 13 of the filter device 10.

第1配管21は、供給配管20のうち分岐部25からフィルタ装置10の容器11の側部に接続された配管である。具体的な第1配管21の形状や配置に特に限定はないが、ここでは、第1配管21は、分岐部25から上方へほぼ垂直に立ち上がり、折れ曲がって容器11の側部に接続している。   The first pipe 21 is a pipe connected to the side part of the container 11 of the filter device 10 from the branch part 25 in the supply pipe 20. Although there is no particular limitation on the specific shape and arrangement of the first pipe 21, the first pipe 21 rises almost vertically upward from the branch portion 25 and is bent and connected to the side portion of the container 11. .

第2配管22は、供給配管20のうち分岐部25からフィルタ装置10の容器11の底部に接続された配管である。具体的な第2配管22の形状や配置に特に限定はないが、ここでは、第2配管22は、分岐部25から水平に延び、上方に傾斜して容器11の底部に接続している。   The second pipe 22 is a pipe connected to the bottom of the container 11 of the filter device 10 from the branch part 25 in the supply pipe 20. Although the shape and arrangement of the specific second pipe 22 are not particularly limited, here, the second pipe 22 extends horizontally from the branch portion 25 and is inclined upward and connected to the bottom of the container 11.

フィルタ装置10には、フィルタ装置10の二次側14に二次側配管26が接続されている。フィルタ12を透過したプロセス液は二次側14から二次側配管26を通り、貯留タンク3に送られる。   In the filter device 10, a secondary side pipe 26 is connected to the secondary side 14 of the filter device 10. The process liquid that has passed through the filter 12 passes from the secondary side 14 through the secondary side pipe 26 and is sent to the storage tank 3.

また、フィルタ装置10の上部には、輸送配管27が接続されている。輸送配管27は、フィルタ装置10の一次側に接続された配管であり、洗浄用流体を容器11内に輸送するための配管であり、フィルタ装置10から空気抜きされた空気の流路として用いられる配管でもある。   Further, a transport pipe 27 is connected to the upper part of the filter device 10. The transport pipe 27 is a pipe connected to the primary side of the filter device 10, a pipe for transporting the cleaning fluid into the container 11, and a pipe used as a flow path for air vented from the filter device 10. But there is.

圧送手段30は、調製タンク2の内部に圧縮空気を供給するものである。例えば、空気を取り込み圧縮するポンプ等の装置から構成されている。圧送手段30は、後述する制御装置からの制御により、指定された圧力の空気を調製タンク2に供給する。このような圧送手段30により、調製タンク2から薬液を供給配管20へ圧送することができる。   The pressure feeding means 30 supplies compressed air to the inside of the preparation tank 2. For example, it is comprised from apparatuses, such as a pump which takes in and compresses air. The pressure feeding means 30 supplies air having a specified pressure to the preparation tank 2 under the control of a control device described later. With such a pressure feeding means 30, the chemical solution can be pressure-fed from the preparation tank 2 to the supply pipe 20.

洗浄手段40は、洗浄用流体をフィルタ装置10に供給するものである。洗浄手段40は、洗浄用流体を供給する公知の装置から構成することができる。洗浄用流体とは、定置洗浄(Cleaning In Place;CIP)で用いる洗浄液や、定置滅菌(Sterilizing In Place;SIP)で用いる高温高圧の蒸気をいう。   The cleaning means 40 supplies a cleaning fluid to the filter device 10. The cleaning means 40 can be composed of a known device that supplies a cleaning fluid. The cleaning fluid refers to a cleaning solution used for cleaning in place (CIP) and a high-temperature and high-pressure steam used for stationary sterilization (SIP).

洗浄手段40は、輸送配管27を介して洗浄用流体をフィルタ装置10に供給し、フィルタ装置10を洗浄する。もちろん、輸送配管27を介してフィルタ装置10に洗浄用流体を供給する構成に限定されない。例えば、調製タンク2や貯留タンク3にも洗浄用流体を供給して、それらを洗浄する構成としてもよい。   The cleaning means 40 supplies the cleaning fluid to the filter device 10 via the transport pipe 27 and cleans the filter device 10. Of course, the present invention is not limited to the configuration in which the cleaning fluid is supplied to the filter device 10 via the transport pipe 27. For example, it is good also as a structure which supplies the fluid for washing | cleaning also to the preparation tank 2 and the storage tank 3, and wash | cleans them.

第1配管21には、第1弁装置61が設けられている。輸送配管27には第2弁装置62が設けられている。供給配管20にはドレン51へ分岐するドレン配管53が接続されており、ドレン配管53には第3弁装置63が設けられている。   A first valve device 61 is provided in the first pipe 21. A second valve device 62 is provided in the transport pipe 27. A drain pipe 53 that branches to a drain 51 is connected to the supply pipe 20, and a third valve device 63 is provided in the drain pipe 53.

また、処理システム1は、処理システム1の処理を制御するプログラマブルロジックコントローラ(PLC)などの制御装置(図示せず)を備えている。制御装置は、圧送手段30に圧縮空気を調製タンク2へ供給・停止させる制御や、洗浄手段40に洗浄用流体の供給・停止をさせる制御が可能である。その他に、制御装置は、調製タンク2及び貯留タンク3の投入口や排出口の開閉や、第1弁装置61、第2弁装置62、及び第3弁装置63の開閉を制御することが可能である。制御装置は、処理システム1を構成するこれらの各装置を制御することで、薬液の処理(濾過)や各種装置の洗浄などのプロセスを実現する。   In addition, the processing system 1 includes a control device (not shown) such as a programmable logic controller (PLC) that controls processing of the processing system 1. The control device can control the compressed-feed means 30 to supply and stop compressed air to the preparation tank 2 and can control the cleaning means 40 to supply and stop the cleaning fluid. In addition, the control device can control the opening and closing of the inlet and outlet of the preparation tank 2 and the storage tank 3, and the opening and closing of the first valve device 61, the second valve device 62, and the third valve device 63. It is. The control device controls each of these devices constituting the processing system 1 to realize processes such as chemical solution processing (filtration) and cleaning of various devices.

上述した構成の処理システム1の動作について説明する。図2は、調製タンク2から貯留タンク3に薬液を送液している状態における処理システム1の概略図である。なお、図3のハッチは薬液を表している。各弁装置が開放された状態を白塗りで表し、閉鎖された状態を黒塗りで表している。   The operation of the processing system 1 configured as described above will be described. FIG. 2 is a schematic diagram of the processing system 1 in a state where a chemical solution is being sent from the preparation tank 2 to the storage tank 3. In addition, the hatch of FIG. 3 represents the chemical | medical solution. A state in which each valve device is opened is represented by white, and a state in which each valve device is closed is represented by black.

送液時においては、制御装置は、第1弁装置61を開放し、第3弁装置63を閉鎖しておく。第2弁装置62については、当初は開放しておく。制御装置は、圧送手段30に圧縮空気を調製タンク2へ供給させる。このような制御により、調製タンク2から供給配管20を介してフィルタ装置10へ薬液が圧送される。第1配管21及び第2配管22は、何れも分岐部25から上方へ延びているが、圧縮空気の圧力により、薬液はフィルタ装置10へ圧送される。   At the time of liquid feeding, the control device opens the first valve device 61 and closes the third valve device 63. The second valve device 62 is initially opened. The control device causes the pressure feeding means 30 to supply compressed air to the preparation tank 2. By such control, the chemical solution is pumped from the preparation tank 2 to the filter device 10 via the supply pipe 20. The first pipe 21 and the second pipe 22 both extend upward from the branch portion 25, but the chemical solution is pumped to the filter device 10 by the pressure of the compressed air.

フィルタ装置10の容器11内に薬液が充填され始めると、容器11内の空気は輸送配管27から分岐した排出管(図示せず)から外部へ排出される。制御装置は、容器11内に所定量の薬液が充填されたとき、第2弁装置62を閉鎖する。   When the chemical solution starts to be filled in the container 11 of the filter device 10, the air in the container 11 is discharged to the outside from a discharge pipe (not shown) branched from the transport pipe 27. The control device closes the second valve device 62 when a predetermined amount of the chemical solution is filled in the container 11.

そして、制御装置は、圧送手段30に調製タンク2の圧縮空気を供給させ続ける。これにより、供給配管20からフィルタ装置10へ薬液が圧送され、フィルタ装置10で濾過され、貯留タンク3に圧送される。   Then, the control device keeps the compressed air in the preparation tank 2 supplied to the pressure feeding means 30. Thereby, the chemical solution is pumped from the supply pipe 20 to the filter device 10, filtered by the filter device 10, and pumped to the storage tank 3.

図3及び図4は、調製タンク2から貯留タンク3に薬液を送液している状態における処理システム1の概略図である。図3に示すように、制御装置は、圧送手段30に調製タンク2の圧縮空気を供給させ続けた結果、調製タンク2の薬液は空となり、第2配管22に薬液が満たされる程度となっている。   3 and 4 are schematic views of the processing system 1 in a state in which a chemical solution is being sent from the preparation tank 2 to the storage tank 3. As shown in FIG. 3, as a result of the control device continuing to supply the compressed air of the preparation tank 2 to the pressure feeding means 30, the chemical liquid in the preparation tank 2 becomes empty and the second pipe 22 is filled with the chemical liquid. Yes.

このように薬液の残量が所定量以下になったとき、制御装置は第1弁装置61を閉鎖する。第2配管22は、フィルタ装置10の底部よりも下方に位置しているが、圧送手段30からの圧縮空気により、薬液は第2配管22からフィルタ装置10へ圧送される。   As described above, when the remaining amount of the chemical solution becomes equal to or less than the predetermined amount, the control device closes the first valve device 61. Although the second pipe 22 is located below the bottom of the filter device 10, the chemical liquid is pumped from the second pipe 22 to the filter device 10 by the compressed air from the pumping means 30.

さらに、図4に示すように、制御装置が圧送手段30に圧縮空気の供給を続けると、第2配管22(供給配管20)からほとんどの薬液がフィルタ装置10へ圧送される。   Furthermore, as shown in FIG. 4, when the control device continues to supply compressed air to the pressure feeding means 30, most of the chemical liquid is pressure fed from the second pipe 22 (supply pipe 20) to the filter device 10.

図5は、洗浄手段40から洗浄用流体をフィルタ装置10へ供給している状態における処理システム1の概略図である。図5のハッチは洗浄用流体を表している。   FIG. 5 is a schematic view of the processing system 1 in a state where the cleaning fluid is supplied from the cleaning means 40 to the filter device 10. The hatch in FIG. 5 represents the cleaning fluid.

図5に示すように、制御装置は、第1弁装置61、第2弁装置62、及び第3弁装置63を開放し、洗浄手段40に洗浄用流体をフィルタ装置10へ供給させる。これにより、フィルタ装置10の容器11内は、洗浄用流体により洗浄される。そして、洗浄後、洗浄用流体は、第1配管21及び第2配管22を通り、ドレン51へ排出される。なお、ここでは、フィルタ装置10を洗浄する構成について説明したが、このような構成に限定されない。洗浄手段40は、調製タンク2に洗浄用流体を供給するようにし、調製タンク2、供給配管20を洗浄するようにしてもよい。   As shown in FIG. 5, the control device opens the first valve device 61, the second valve device 62, and the third valve device 63 and causes the cleaning means 40 to supply the cleaning fluid to the filter device 10. Thereby, the inside of the container 11 of the filter device 10 is cleaned with the cleaning fluid. Then, after cleaning, the cleaning fluid passes through the first pipe 21 and the second pipe 22 and is discharged to the drain 51. In addition, although the structure which wash | cleans the filter apparatus 10 was demonstrated here, it is not limited to such a structure. The cleaning means 40 may supply the cleaning fluid to the preparation tank 2 and clean the preparation tank 2 and the supply pipe 20.

上述したように、処理システム1では、調製タンク2からフィルタ装置10へ供給配管20を介して薬液の送液が行われる。また、洗浄手段40からフィルタ装置10へ洗浄用流体が供給され、洗浄用流体は、供給配管20を介してドレン51へ排出される。   As described above, in the processing system 1, the chemical solution is sent from the preparation tank 2 to the filter device 10 through the supply pipe 20. Further, a cleaning fluid is supplied from the cleaning means 40 to the filter device 10, and the cleaning fluid is discharged to the drain 51 through the supply pipe 20.

ここで、供給配管20から分岐した第2配管22は、フィルタ装置10の底部に接続した構成となっている。このような構成とすることで、第2配管22は、フィルタ装置10内に供給された洗浄用流体を外部へ排出するための排水管(図7の従来の排水管150に相当)として機能することができる(図5参照)。   Here, the second pipe 22 branched from the supply pipe 20 is connected to the bottom of the filter device 10. With this configuration, the second pipe 22 functions as a drain pipe (corresponding to the conventional drain pipe 150 in FIG. 7) for discharging the cleaning fluid supplied into the filter device 10 to the outside. (See FIG. 5).

そして、第2配管22は、供給配管20の一部であり、圧送手段30による圧縮空気が供給されるので、第2配管22に薬液を残留させることなく、フィルタ装置10へ薬液を圧送することができる(図3〜図4参照)。   The second pipe 22 is a part of the supply pipe 20 and is supplied with compressed air by the pressure feeding means 30, so that the chemical liquid is pumped to the filter device 10 without leaving the chemical liquid in the second pipe 22. (See FIGS. 3 to 4).

図7に示したように、従来では、排水管150が供給配管とは別であったので、排水管150に残留した薬液をフィルタ装置10へ圧送することができず、廃棄するしかなかった。しかしながら、本発明の処理システム1は、第2配管22が排水管と供給配管としての機能を兼用するので、洗浄用流体の排出を可能とし、かつ、供給配管20に残留する薬液を低減することができる。   As shown in FIG. 7, conventionally, since the drain pipe 150 is different from the supply pipe, the chemical solution remaining in the drain pipe 150 cannot be pumped to the filter device 10 and must be discarded. However, in the processing system 1 of the present invention, since the second pipe 22 functions as a drain pipe and a supply pipe, the cleaning fluid can be discharged and the chemical solution remaining in the supply pipe 20 can be reduced. Can do.

なお、供給配管20を分岐させずに、調製タンク2からフィルタ装置10の底部に接続した構成(第1配管21が無い構成)においても、上述した効果が得られるとも考えられる。しかし、第2配管22は、口径が広すぎると、圧送手段30による圧縮空気が薬液を圧送せずに抜けてしまい、薬液を十分にフィルタ装置10へ圧送できない。そのため、第2配管22をある程度狭くする必要がある。供給配管20が分岐していない場合は、狭い第2配管22のみで薬液を圧送することになり、薬液の送液速度が低下してしまう。   In addition, it is thought that the effect mentioned above is acquired also in the structure (structure without the 1st piping 21) connected to the bottom part of the filter apparatus 10 from the preparation tank 2 without branching the supply piping 20. FIG. However, if the diameter of the second pipe 22 is too wide, the compressed air generated by the pressure feeding means 30 escapes without pumping the chemical liquid, and the chemical liquid cannot be sufficiently pumped to the filter device 10. Therefore, it is necessary to narrow the second pipe 22 to some extent. When the supply pipe 20 is not branched, the chemical liquid is pumped only by the narrow second pipe 22 and the liquid feeding speed of the chemical liquid is reduced.

しかしながら、本実施形態の処理システム1は、供給配管20を分岐させたので、一方の第2配管22を狭くしても、他方の第1配管21を広くすることができるので、供給配管20の全体として送液できる薬液の送液速度を十分確保することができる。換言すれば、第2配管22の口径を、第1配管21の口径よりも狭くすることで、送液速度を十分確保することができる。なお、第2配管22の口径は、薬液の粘性などの物性や、圧送手段30による圧縮空気の圧力にもよるが、圧縮空気が薬液を抜けずに薬液を圧送できるよう、調整することが好ましい。   However, since the processing system 1 of the present embodiment branches the supply pipe 20, even if one of the second pipes 22 is narrowed, the other first pipe 21 can be widened. It is possible to secure a sufficient liquid feeding speed of the chemical liquid that can be fed as a whole. In other words, by making the diameter of the second pipe 22 smaller than the diameter of the first pipe 21, it is possible to ensure a sufficient liquid feeding speed. Although the diameter of the second pipe 22 depends on physical properties such as the viscosity of the chemical solution and the pressure of the compressed air by the pressure feeding means 30, it is preferable to adjust the compressed air so that the chemical solution can be pumped without passing through the chemical solution. .

また、第1配管21に設けられた第1弁装置61を、薬液の残量が所定値以下となったときに閉鎖するようにした。これにより、圧縮空気を第2配管22に集中的に送られるので、第2配管22に残留する薬液により強い圧力を掛けることができ、薬液をより早く確実にフィルタ装置10へ送ることができる。なお、第1弁装置61は、必ずしも第1配管21に設けなくてもよい。第1弁装置61がない場合でも、圧縮空気は第2配管22にも供給されるからである。   In addition, the first valve device 61 provided in the first pipe 21 is closed when the remaining amount of the chemical solution becomes a predetermined value or less. Thereby, since compressed air is sent intensively to the 2nd piping 22, a strong pressure can be applied to the chemical | medical solution which remains in the 2nd piping 22, and a chemical | medical solution can be reliably sent to the filter apparatus 10 earlier. Note that the first valve device 61 is not necessarily provided in the first pipe 21. This is because the compressed air is also supplied to the second pipe 22 even when the first valve device 61 is not provided.

また、第2配管22をフィルタ装置10へ取り付ける角度については、特に限定はないが、傾斜していることが好ましい。すなわち、第2配管22は、垂直に延設されてフィルタ装置10の底部に接続されるよりも、本実施形態のように傾斜して底部に接続されていることが好ましい。第2配管22を傾斜させることで、薬液を第2配管22からフィルタ装置10へ圧送しやすくすることができる。   The angle at which the second pipe 22 is attached to the filter device 10 is not particularly limited, but is preferably inclined. That is, it is preferable that the second pipe 22 is inclined and connected to the bottom as in the present embodiment, rather than extending vertically and connected to the bottom of the filter device 10. By tilting the second pipe 22, the chemical liquid can be easily pumped from the second pipe 22 to the filter device 10.

また、本実施形態の処理システム1は、プロセス液として薬液を対象とする。特に薬液は高価であることから、供給配管20(第2配管22)に残留する薬液を低減することによる経済的な効果は顕著である。   Moreover, the processing system 1 of the present embodiment targets a chemical liquid as a process liquid. In particular, since the chemical solution is expensive, the economic effect of reducing the chemical solution remaining in the supply pipe 20 (second pipe 22) is remarkable.

〈他の実施形態〉
以上、本発明の一実施形態について説明したが、勿論、本発明は、上述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨から逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
<Other embodiments>
As mentioned above, although one embodiment of the present invention has been described, of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and addition, omission, replacement, etc., of a configuration is possible without departing from the spirit of the present invention. And other changes are possible.

実施形態1に係る処理システム1は、調製タンク2から貯留タンク3へ薬液を送液した。しかし、供給配管20が接続される装置は調製タンク2に限定されず、フィルタ装置10の下流側に配置される装置は貯留タンク3に限定されない。熱交換器(殺菌器)や充填機など様々な装置を接続してもよい。   The processing system 1 according to the first embodiment sends a chemical solution from the preparation tank 2 to the storage tank 3. However, the device to which the supply pipe 20 is connected is not limited to the preparation tank 2, and the device arranged on the downstream side of the filter device 10 is not limited to the storage tank 3. Various devices such as a heat exchanger (sterilizer) and a filling machine may be connected.

実施形態1に係る処理システム1は、プロセス液として薬液を送液したが、これに限定されず、任意のプロセス液を送液する場合に適用できる。   The processing system 1 according to the first embodiment sends a chemical liquid as a process liquid, but is not limited thereto, and can be applied to a case where an arbitrary process liquid is fed.

実施形態1に係る処理システム1は、第2配管22は分岐部25から水平に延び、傾斜して上方に折り曲げた構成としたが、これに限定されない。例えば、第2配管22は、分岐部25から水平に延び、ほぼ垂直方向に折れ曲がってフィルタ装置10の底部に接続されていてもよい。また、第1配管21は、フィルタ装置10の容器11の側部に接続されていたが、容器11の上部に接続されていてもよい。   In the processing system 1 according to the first embodiment, the second pipe 22 extends horizontally from the branch portion 25 and is inclined and bent upward. However, the present invention is not limited to this. For example, the second pipe 22 may extend horizontally from the branch portion 25, bend in a substantially vertical direction, and be connected to the bottom portion of the filter device 10. The first pipe 21 is connected to the side portion of the container 11 of the filter device 10, but may be connected to the upper portion of the container 11.

また、本実施形態の処理システム1では、供給配管20の分岐部25が容器11の底部よりも鉛直方向において下方に位置しているが、このような態様に限定されない。図6に別形態の処理システム1を示す。例えば、容器11の底部よりも上方において、供給配管20を分岐部25で分岐させる。第2配管22を分岐部25から容器11の底部よりも下方に伸ばし、そこから折り返して容器11の底部に接続するようにしてもよい。この場合、第2配管22がローポイントとなるので、第2配管22にドレン51へ接続されるドレン配管53を設けておく。このような構成の供給配管20は、第2配管22が洗浄用流体をドレン51へ導く排水管として機能する。そして、圧送手段30からの圧縮空気により、第2配管22の薬液をフィルタ装置10へ送液することができるので、第2配管22に残留する薬液を低減することができる。   Moreover, in the processing system 1 of this embodiment, although the branch part 25 of the supply piping 20 is located below in the perpendicular direction rather than the bottom part of the container 11, it is not limited to such an aspect. FIG. 6 shows another type of processing system 1. For example, the supply pipe 20 is branched at the branch portion 25 above the bottom of the container 11. The second pipe 22 may be extended downward from the branch portion 25 than the bottom portion of the container 11, and may be folded back and connected to the bottom portion of the container 11. In this case, since the second pipe 22 becomes a low point, a drain pipe 53 connected to the drain 51 is provided in the second pipe 22. The supply pipe 20 having such a configuration functions as a drain pipe through which the second pipe 22 guides the cleaning fluid to the drain 51. And since the chemical | medical solution of the 2nd piping 22 can be sent to the filter apparatus 10 with the compressed air from the pressure sending means 30, the chemical | medical solution remaining in the 2nd piping 22 can be reduced.

1…プロセス液の処理システム、10…フィルタ装置、12…フィルタ、13…一次側、14…二次側、20…供給配管、21…第1配管、22…第2配管、30…圧送手段、40…洗浄手段
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Process liquid processing system, 10 ... Filter apparatus, 12 ... Filter, 13 ... Primary side, 14 ... Secondary side, 20 ... Supply piping, 21 ... 1st piping, 22 ... 2nd piping, 30 ... Pressure feeding means, 40. Cleaning means

Claims (4)

フィルタを収容する容器を備えたフィルタ装置と、
プロセス液を前記フィルタ装置に供給する供給配管と、
プロセス液を圧送するための気体を前記供給配管に供給する圧送手段と、
洗浄用流体を前記フィルタ装置に供給する洗浄手段と、を備え、
前記供給配管は、途中で分岐して、前記容器の側部又は上部に接続された第1配管、及び前記容器の底部に接続された第2配管を有し、
前記圧送手段により前記第1配管及び前記第2配管から前記フィルタ装置内にプロセス液を圧送し、
前記洗浄手段により前記フィルタ装置へ供給した洗浄用流体を前記第2配管から前記フィルタ装置の外部へ排出する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
A filter device comprising a container for accommodating the filter;
Supply piping for supplying the process liquid to the filter device;
A pumping means for supplying a gas for pumping the process liquid to the supply pipe;
Cleaning means for supplying a cleaning fluid to the filter device,
The supply pipe branches in the middle, and has a first pipe connected to the side or top of the container, and a second pipe connected to the bottom of the container,
The process liquid is pumped into the filter device from the first pipe and the second pipe by the pumping means,
The process fluid processing system, wherein the cleaning fluid supplied to the filter device by the cleaning means is discharged from the second pipe to the outside of the filter device.
請求項1に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記プロセス液を貯留する調製タンクを備え、
前記調製タンクは、前記圧送手段から前記気体が供給されるとともに、前記供給配管を介して前記フィルタ装置に接続され、
前記第1配管には、バルブが設けられ、
前記圧送手段により前記調製タンクに貯留された前記プロセス液を前記第1配管及び前記第2配管から前記フィルタ装置内に圧送する際に、前記調製タンクに貯留された前記プロセス液の残量が所定値以下となったとき、前記第1配管に設けられた前記バルブを閉鎖する
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 1,
A preparation tank for storing the process liquid;
The preparation tank is supplied with the gas from the pressure feeding means, and connected to the filter device via the supply pipe,
The first pipe is provided with a valve,
When feed pressure in the filter apparatus the process liquid stored in the preparation tank by the pumping means from the first pipe and the second pipe, the remaining amount of the process liquid stored in the preparation tank When it becomes below a predetermined value, the said valve provided in the said 1st piping is closed. The processing liquid processing system characterized by the above-mentioned.
請求項1又は請求項2に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記第2配管の口径は、前記第1配管の口径よりも狭い
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to claim 1 or 2,
The diameter of the second pipe is narrower than the diameter of the first pipe.
請求項1から請求項3の何れか一項に記載するプロセス液の処理システムにおいて、
前記プロセス液は、薬液である
ことを特徴とするプロセス液の処理システム。
In the process liquid processing system according to any one of claims 1 to 3,
The process liquid is a chemical liquid. The process liquid processing system according to claim 1, wherein the process liquid is a chemical liquid.
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