JP6145445B2 - Gate valve - Google Patents
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Description
本発明は、ゲートバルブ、特に半導体製造用のゲートバルブに関する。 The present invention relates to a gate valve, and more particularly to a gate valve for semiconductor manufacturing.
半導体製造用のゲートバルブは、半導体処理室よりも低温であるために、プロセス過程で生成された生成物が弁体表面およびゲートバルブ内部に付着することがあり、これを防止するためにヒータが設置される。 Since gate valves for semiconductor manufacturing are at a lower temperature than the semiconductor processing chamber, products generated in the process may adhere to the valve body surface and the inside of the gate valve, and a heater is used to prevent this. Installed.
特許文献1には、弁体支持部材のヒータ収納部に弁体を加熱するヒータを設置した構造が記載されている。 Patent Document 1 describes a structure in which a heater for heating a valve body is installed in a heater housing portion of a valve body support member.
特許文献2には、流路口の周りを循環するパターンをアウトラインとする扁平な幅広の浅い蟻溝を設け、この蟻溝にヒータを連続的に循環配置した構造が記載されている。ベローズに囲繞される形でヒータを設けることが記載されている。 Patent Document 2 describes a structure in which a flat and wide shallow dovetail having an outline of a pattern circulating around a channel opening is provided, and a heater is continuously circulated in the dovetail. It is described that the heater is provided so as to be surrounded by the bellows.
プロセス過程で生成された生成物が弁体表面およびゲートバルブ内部に付着することを防止するための各種のヒータおよびヒータ配置構造が提案されてきた。特許文献1に記載されたヒータは、弁体形状に合わせて矩形状の凹溝に形成されたヒータ収納部に収納されている。ヒータに面状のヒータが用いられ、蓋によって押圧支持されるようになっていて、ヒータが加熱することによる膨張によって派生する問題についての解決策が十分とはいえない。特許文献2には、扁平な幅広の浅い蟻溝を形成して、この中にシーズヒータを連続的に循環配置しており、特許文献1と同様にヒータが加熱することによる膨張によって派生する問題についての解決策が十分とはいえない。 Various heaters and heater arrangement structures have been proposed for preventing products generated during the process from adhering to the valve body surface and the inside of the gate valve. The heater described in Patent Document 1 is housed in a heater housing portion formed in a rectangular groove according to the shape of the valve body. A planar heater is used as the heater and is pressed and supported by a lid, and a solution for the problem derived from expansion caused by heating of the heater is not sufficient. In Patent Document 2, a flat and wide shallow dovetail groove is formed, and sheathed heaters are continuously circulated and disposed therein, and similarly to Patent Document 1, the problem is caused by expansion due to heating of the heater. The solution about is not enough.
本発明は、かかる点に鑑みヒータ収納部である溝構成によってシーズヒータを押圧支持してシーズヒータが加熱することによる膨張によって派生する問題、例えば弁全体についての加熱状態の均一化を達成して生成物の付着を防止し、ヒータ膨張に伴って派生する問題をなくし、ヒータ寿命を長くして、かつこれらの問題をヒータ収納部である溝構成の工夫によって解決することでシーズヒータに特別な加工を要することなく安価とすることのできる構造を提供することを目的とする。 In view of this point, the present invention achieves a problem derived from expansion due to the sheath heater being pressed and supported by the groove structure which is a heater housing portion, and heating the sheath heater, for example, uniformizing the heating state of the entire valve. It prevents the product from adhering, eliminates the problems derived from the expansion of the heater, extends the life of the heater, and solves these problems by devising the groove structure that is the heater storage part. An object of the present invention is to provide a structure that can be made inexpensive without requiring processing.
本発明は、弁座に対向して配置される弁板と、弁板に連結され、弁板を開閉操作するステムと、弁板を弁座に対して駆動する駆動装置とからなり、ステムに一体的にあるいは別体としてヒータベースが設けられ、該ヒータベースに溝が設けられ、該溝内にシーズヒータが配設されたゲートバルブにおいて、
前記溝が、溝幅一定で、規則正しく一律に山部と谷部が交互に形成された多数の波形状で、ヒータベースの弁板側面上に長手側端部から長手側端部に亘って巻回されて形成され、シーズヒータが、長手方向に対する双方の直角断面における溝の一方の山部と反対側の谷部間の間隔がシーズヒータの直径以下とされて、波形状の溝内に直線的に配置され、該波形状山部および谷部からの押圧力が作用する状態で溝に接触して、配設されたこと
を特徴とするゲートバルブを提供する。
The present invention comprises a valve plate disposed opposite to a valve seat, a stem connected to the valve plate, for opening and closing the valve plate, and a drive device for driving the valve plate with respect to the valve seat. In a gate valve in which a heater base is provided integrally or separately, a groove is provided in the heater base, and a sheathed heater is provided in the groove.
The groove has a constant groove width and has a number of corrugations in which crests and troughs are alternately formed regularly and uniformly, and is wound from the longitudinal end to the longitudinal end on the valve plate side surface of the heater base. The sheathed heater is formed so that the distance between one crest of the groove and the trough on the opposite side of the groove in both cross sections perpendicular to the longitudinal direction is equal to or less than the diameter of the sheathed heater. The gate valve is provided in such a manner that the gate valve is disposed in contact with the groove in a state in which the pressing force from the wave-shaped peak and trough acts.
本発明は、上述されたゲートバルブにおいて、ヒータベースが、ステムとは別体として形成されて弁板とステムとの間に配置され、溝が、該別体のヒータベースの弁板側面に設けられたことを特徴とするゲートバルブを提供する。
本発明は、上述されたゲートバルブにおいて、ヒータベースが、ステムに一体として形成され、溝が、ステムの弁板反対側側面に設けられたことを特徴とするゲートバルブを提供する。
本発明は、上述されたゲートバルブにおいて、溝が、ヒータベースまたはステムの面上に2回以上巻回されて形成され、シーズヒータの該溝に対する接触が実質的に溝長全域に亘って形成されることを特徴とするゲートバルブを提供する。
本発明は、上述されたゲートバルブにおいて、溝が、ヒータベースまたはステムの面上に1回巻回されて形成され、シーズヒータの該溝に対する接触が実質的に溝長全域に亘って形成されることを特徴とするゲートバルブを提供する。
According to the present invention, in the gate valve described above, the heater base is formed separately from the stem and disposed between the valve plate and the stem, and a groove is provided on a side surface of the valve plate of the separate heater base. A gate valve is provided.
The present invention provides a gate valve characterized in that, in the gate valve described above, a heater base is formed integrally with a stem, and a groove is provided on a side surface of the stem opposite to the valve plate.
According to the present invention, in the gate valve described above, the groove is formed by being wound twice or more on the surface of the heater base or stem, and the contact of the sheathed heater with the groove is formed substantially over the entire groove length. A gate valve is provided.
According to the present invention, in the gate valve described above, the groove is formed by being wound once on the surface of the heater base or stem, and the contact of the sheathed heater with the groove is formed substantially over the entire groove length. A gate valve is provided.
本発明は、上述したようにシーズヒータが、双方の直角断面方向における溝の一方の山部と反対側の谷部間の間隔がシーズヒータの直径以下とされて、波形状の溝内に直線的に配置され、該波形状山部および谷部に、各波形状山部から直接的に押圧力が作用する状態で接触して、配設された構造を特徴としているので、シーズヒータを各波形状山部および谷部によって、固着ではなく直接的に押圧支持することが出来、ヒータが加熱することによる膨張によって派生する問題、例えば弁全体についての加熱を効果的にして均一化を達成して生成物の付着を防止し、ヒータ膨張に伴って派生する線膨張を分散化して集積されることが内容にしてシーズヒータの寿命を長くすることが出来、かつこれらの解決をヒータ収納部である溝自体の工夫によって解決しているので、シーズヒータに特別な加工を要することなく安価となった構造を提供することが出来る。 In the present invention, as described above, in the sheathed heater, the distance between the one crest portion of the groove and the trough portion on the opposite side in both perpendicular cross-sectional directions is equal to or smaller than the diameter of the sheathed heater, Since each of the sheathed heaters is arranged in contact with the corrugated peaks and valleys in a state in which a pressing force is applied directly from each corrugated peak, Wave-shaped peaks and valleys can be directly pressed and supported rather than fixed, and problems derived from expansion caused by heating of the heater, for example, heating of the entire valve can be effectively achieved to achieve uniformity. This prevents the product from adhering, disperses and accumulates the linear expansion derived from the expansion of the heater, and extends the life of the sheathed heater. Ingenuity of a certain groove itself Since the resolution I, it is possible to provide an inexpensive By now, the structure without requiring any special processing to the sheath heater.
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
図1は、本発明の実施例であるゲートバルブ100の形態を示す正面図であり、図2は、図1のA―A断面を拡大して示す断面図である。図1において、本実施例の中心をなす溝10の構成が実線で示してあるが、これは本実施例の理解のための実線で示してあり、実際の構成は、図2に示す通りである。実施例では、図面の右側を弁座側、反対側を背面側とよぶ。また、本発明では、シーズヒータを用いるが、よく知られているようにシーズヒータは、シーズ管内に、電気絶縁物を介して埋め込んだ形態のヒータであり、シーズ管あるいはそれと同等物内に電気絶縁物を介してヒータを埋め込んだものを指し、加熱用ヒータとしての作用を持ち、ヒータと呼ばれることがある。
FIG. 1 is a front view showing a configuration of a
図1および図2において、ゲートバルブ100は、弁座1に対向して配置される弁体である弁板4、弁板4の弁座側表面に配置されたOリング5、弁板4の背面側に配置されたヒータベース6、ヒータベース6の背面側に配置されたステム7、ヒータベース7の弁座側側面の面上に形成された溝10、ヒータベース6と弁板4のとの間に配置され、溝10の開口を塞ぐヒータカバー8、溝10内に配設されるヒータ9とから形成される。このように、弁座に対向して配置される弁板と、弁板に連結され、弁板を開閉操作するステムと、弁板を弁座に対して駆動する駆動装置とからなり、ステムに一体的にあるいは別体としてヒータベースが設けられ、該ヒータベースに溝が設けられ、この溝内にシーズヒータが配設されたゲートバルブ100が形成される。
1 and 2, a
弁座2には、処理室(図示せず)に連通する開口3が形成され、弁座2は、弁板4によって閉鎖され、また開口される。 An opening 3 communicating with a processing chamber (not shown) is formed in the valve seat 2, and the valve seat 2 is closed and opened by a valve plate 4.
弁板4は、ヒータベース6と共にボルト11によってステム7に固定され、ステム7は、駆動部12に連結される。駆動部12は、図示しない駆動源を備え、弁板4を上下方向および遥動方向に駆動することが出来る。駆動部12による弁板4の駆動形態については各種の操作方法が提案、公開されている。
The valve plate 4 is fixed to the stem 7 by the
図1では、ヒータベース6とステム7との組み合わせ構造体は、左右2か所に形成される。ヒータベース6とステム7との組み合わせ構造体は、1か所に形成してもよいし、複数箇所に形成してもよい。
In FIG. 1, the combined structure of the
本例ではヒータベース6は、弁板4に別体として構成され、ボルト11によって一体化されているが、ステム自体に溝10を形成して、溝にシーズヒータ31(図5参照)を埋め込み、ヒータカバー8によって閉塞することが出来る。この場合、溝が設けられた部分のヒータベース部分がステム7に形成されることになる。ヒータベース一体のステムとされる。一体化されたステムは、ボルト13によって弁板4に固定される。ステムにヒータベースを一体化製作する場合、弁板4の反対側の側方の面上に溝を形成することができる。溝には溝カバーが取り付けられる。
In this example, the
シーズヒータ31は、ステム7内に設けた配管15内を配設され、駆動部12の外部に配置された電源(図示せず)に接続され、制御装置(図示せず)によって温度コントロールされ、弁板4の温度をコントロールする。
The sheathed
図3は、ヒータベース6に形成された溝10の全体形態を示す。
FIG. 3 shows an overall configuration of the
図3において、溝10が、溝幅一定で、規則正しく一律に山部21と谷部22が交互に形成された多数の波形状で、ヒータベース6の弁ゲート側面上に長手側端部23から長手側端部24に亘って巻回されて形成される。また、上下端部に亘って形成されている。山部21は、図に示すように上方に盛り上がった溝部を指し、谷部22は、図に示すように下方に窪んだ部分を指す。長手側端部23は、ヒータベース6の左方端部を指し、長手側端部24は、ヒータベース6の右方端部を指す。図で上下側端部を上下側端部と称する。これらの山部、谷部の加工は、制御された機械加工で行うことが出来、溝形成は容易に行うことが出来る。したがって山部、谷部の形状は、図3に記載された構造に限定されず、それぞれの頂点部、底点部を部分的に直線的あるいは円弧上とすることは容易である。
In FIG. 3, the
本例の場合、長手側端部から長手側端部に亘って2回巻回されている。各巻回された溝間には、これら2つの溝を区画する壁25が形成してある。26、27は、ボルト孔を示す。
In the case of this example, it is wound twice from the longitudinal end to the longitudinal end. Between each wound groove | channel, the
図4は、図3の一部詳細を示す。一つの溝の10の上側側面の盛り上がりを山部21Aとし、窪みを谷部22Aとし、下側側面の盛り上がりを山部21Bとし、窪みを谷部22Bとして区別すると、上述したように溝10が、溝幅一定で、規則正しく一律に山部21と谷部22が交互に形成された多数の波形状となる。
FIG. 4 shows a partial detail of FIG. When the bulge on the upper side surface of one
上側の谷部22Aの底点が下側山部21Bの頂点を超えて下方にまで至ることはない。双方の長手断面上において、底点と頂点間距離は、挿入されるシーズヒータ(図5参照)の太さ、すなわち直径等のシーズヒータの構造上の性質に依存して定められる。
The bottom point of the
ヒータベース6の下端部には、ヒータ導入用、導出用のヒータ溝14が形成され、また温度計測用の熱電対の制御用T/Cを設置するための溝30が形成される。溝30内に制御用T/Cを取り付ける取り付けねじ29が設けられる。
At the lower end of the
図5は、溝10にシーズヒータ31を配置した形態を示す。ここでは、図1に示されるヒータ9を本例におけるシーズヒータ31として示してある。
FIG. 5 shows a form in which the sheathed
図6は、シーズヒータ31の長手方向における断面を示し、図7は、図6のB−B断面を示す。これらの図において、シーズヒータ31は、外被61内に電気絶縁物63を介してヒータ線62を配して構成されており、全体的に弾性を有している。シーズヒータの構成は、他の構成であってもよい。
6 shows a cross section in the longitudinal direction of the sheathed
図5において、シーズヒータ31が、長手方向に対する双方の直角断面における溝の一方の山部21Bと反対側の谷部22A間の間隔がシーズヒータの直径以下とされて、波形状の溝内に一直線状に配置される。該波形状山部に、各波形状山部から弾性的に押圧力が作用する状態で接触して、配設される。接触配置することが重要で、接触配置後にあってもシーズヒータの弾性は失われないようにした直線状の配置になる。配置されるシーズヒータ31は、一直線状に配置操作されるので、配置に際して何らの加工がなされることを要さず、素材のまま、直線形状のまま、作業員によって溝10内にシーズヒータが持つ弾性を利用して強制的に配設される。器具が使用されて配設されてもよい。例えば、山部と山部との間隔、谷部と谷部の間隔、山部と谷部間隔、振幅、溝幅、長手方向に対する双方の直角断面における溝の一方の山部21Bと反対側の谷部22A間の間隔、シーズヒータ31の太さが設定される。 このように長手方向間隔が設定される。波形状の溝内に直線的に配置されたシーズヒータ31は、波形状山部および谷部から押圧力が作用する状態でこれらの部位に接触する。 接触状態は、弾性を利用した固定接触を形成し、何らの機械的固定手段を設けることなく、シーズヒータ31は、溝10に接触固定される。この接触固定の特徴は、押圧箇所が間隔一定という一律で、極めて短間隔で形成されるということにある。これによって、シーズヒータ31が、加熱によって膨張しようとした時にこの膨張は、これらの多数の短間隔押圧固定手段の形成によって局部的なものになって、累積あるいは集積されることがない。これによって累積回避することで派生していたヒータ断線故障を回避できることになる。本実施例のように、素材そのままの直線状のシーズヒータを使用することで、ヒータ曲げ加工作業者の技能に依存した影響を低減することが出来、ヒータ寿命を長くすることが容易に出来ることになる。
In FIG. 5, in the sheathed
ヒータベースの端部部分では、溝10は、波形形状ではなく、円弧状形態とされる。この円弧状溝10Aは、外径に比べて内径の曲率状態が大きくしてあって、ヒータベースの中央部のおける溝幅に比べて溝幅が大きくされる。シーズヒータ31は、この端部部分では溝の内壁に沿って配置され、加熱によるシーズヒータ31の膨張を吸収し易くしている。この溝幅は、上述した溝とシーズヒータ31との接触固定形態の採用によって中央部における溝幅と同等あるいはわずかに広いものとすれば済む形態とすることが出来る。
In the end portion of the heater base, the
シーズヒータ導入部31Aは、ヒータ溝14内を案内されて外巻き最下側の溝内から配置され、溝10内を外周から巻回され、内周に切り替えられ、溝10の巻回の終点31付近で溝内配置が終了する。この例では、溝10が、ヒータベース6の弁ゲート側面側に2回巻回されて形成され、シーズヒータ31の溝10に対する接触が実質的に溝長全域に亘って形成される。溝10は、2回以上巻回されてもよい。何回巻回するかは温度設定およびヒータ特性によって定められる。いずれにしてもシーズヒータの配置上、変曲箇所が形成されることは避け得ないが、これらの変曲箇所の形成による問題が解決される。
The sheathed heater introduction portion 31A is guided from the inside of the heater winding 14 and is disposed from the groove on the lowermost side of the outer winding, wound inside the
図8は、本実施例になるヒータベース形状と比較品ヒータベース形状を示す。 FIG. 8 shows a heater base shape and a comparative heater base shape according to this embodiment.
図8(A)は比較品ヒータベース形状を示し、図6(B9)は、本実施例ヒータベース形状を示す。比較品の直線状の溝の形状を10Mで示し、波形状シーズヒータの形状を31Mで示す。図8(A)の形状から分かるように、波形状シーズヒータ31Aの熱膨張は、集積され、端部の円周部において、あるいは膨張が集積され、溝外側内壁に強く接触する箇所あるいはシーズヒータ配線上の曲がりの変化が大きな箇所、例えば外周から内周への曲がりの変曲箇所でシーズヒータに応力集中が派生する。これに比べて、本実施例では、上述したようにシーズヒータ31の取り付け形態が熱伸びを拘束するようにしているので、これらの箇所での応力集中を回避することが出来、シーズヒータの寿命を長くすることが出来る。すなわち、本実施例によれば、シーズヒータの加熱による変位を少なくすることが出来、局所での応力集中を回避することが出来、シーズヒータの寿命を長くすることが出来る。
8A shows a comparative heater base shape, and FIG. 6B9 shows the heater base shape of this example. The shape of the comparative linear groove is indicated by 10M, and the shape of the corrugated sheathed heater is indicated by 31M. As can be seen from the shape of FIG. 8 (A), the thermal expansion of the corrugated sheathed heater 31A is accumulated, or at the circumferential portion of the end portion, or where the expansion is accumulated, or the portion where the expansion is concentrated and strongly contacts the groove outer wall. Stress concentration is derived in the sheathed heater at a location where the bending change on the wiring is large, for example, at a bending change location from the outer periphery to the inner periphery. In contrast, in the present embodiment, since the mounting configuration of the sheathed
比較品に示すような取り付けであると、シーズヒータの取り付けは組み立て作業員の作業技術に依存してシーズヒータの取り付けとなってシーズヒータの曲げ、溝との接触具合には配置後における個体差が発生し易い。本実施例によれば、個体差はなく、取り付け状態は一律のものとなり、複数の巻回構造を採用してもシーズヒータ配線上の曲がりの変化が大きな箇所での応力集中を回避することができる。また、シーズヒータの曲げ、溝との接触具合も一律ができるので、設計通りの熱伝達を達成することが可能になり、弁体全体の加温状態を一律とする効果がある。加温状態の一律化は、生成物の局所的な付着を防止することに有効となる。 If the installation is as shown in the comparison product, the installation of the sheathed heater will depend on the work skill of the assembly worker, and the sheathed heater will be installed. Is likely to occur. According to the present embodiment, there is no individual difference, the mounting state is uniform, and even if a plurality of winding structures are adopted, stress concentration can be avoided at a place where the bending change on the sheathed heater wiring is large. it can. In addition, since the sheath heater can be bent and contacted with the groove uniformly, it is possible to achieve heat transfer as designed, and there is an effect that the heating state of the entire valve body is uniform. Uniformity of the warmed state is effective in preventing local adhesion of the product.
図9は、溝10が、ヒータベース6の弁ゲート側面側に1回巻回されて形成され、シーズヒータ31の溝10に対する接触が実質的に溝長全域に亘って形成される例を示す。図8(A)に示したように溝の形状を11Aで示し、シーズヒータの形状を31Aで示している。これら比較結果は、図8について説明したと同様である。
FIG. 9 shows an example in which the
本実施例による形態が弁体表面の温度分布への影響について確認、検討した結果を説明する。 The result of having confirmed and examined about the influence by the form by a present Example on the temperature distribution of the valve body surface is demonstrated.
図10は、本評価試験に供されたヒータベースの測定点の箇所を示す図である。 FIG. 10 is a diagram showing locations of measurement points on the heater base used in this evaluation test.
・試験バルブ:ツインロールカムゲート弁
・ヒータベース:図8、図9に示す比較品および本実施例のヒータベース形状
・圧力:真空
・温調温度:設定温度120℃
・温度測定:ヒータベースに組み込まれた熱電対による。
・ Test valve: Twin roll cam gate valve ・ Heater base: Comparative product shown in FIGS. 8 and 9 and heater base shape of this example ・ Pressure: Vacuum ・ Temperature control temperature: Set temperature 120 ° C.
・ Temperature measurement: By a thermocouple built into the heater base.
・制御方法:ON−OFF制御(118℃―ON, 120℃―OFF制御)
・測定箇所:弁体表面、図8に示す10箇所
試験結果のまとめ
弁体表面測定の結果をまとめて示す。温調温度(120℃)における弁体表面温度のばらつきは(測定箇所10箇所の最大値―最小値)の平均値は、図8(A)、図8(B)に示す例を3台使用した時の測定結果は、それぞれ以下の通りであった。
・ Control method: ON-OFF control (118 ℃ -ON, 120 ℃ -OFF control)
Measurement location: valve body surface, summary of 10 location test results shown in FIG. As for the variation of the valve body surface temperature at the temperature control temperature (120 ° C.), the average value of (maximum value-minimum value at 10 measurement points) is the average of three examples shown in FIGS. The measurement results were as follows.
本実施例1…6.6℃
本実施例2…8.6℃
本実施例3…7.8℃
平均値 …7.8℃
以上の結果から、比較品および本実施例のヒータベースで3台ずつ測定した弁体表面温度のばらつきの平均値が、1〜2℃改善された。このように試験結果には、温度分布状態で改善がみられた。少なくとも大きな差異がなかったことが評価された。このように、比較品に比べて弁体の表面の温度分布への影響は良い方に行くことがあっても悪い方に行くことがないと判断された。
Example 1 ... 6.6 ° C
Example 2 ... 8.6 ° C
Example 3 ... 7.8 ° C
Average value: 7.8 ° C
From the above results, the average value of the variation in the valve body surface temperature measured three by three with the comparative product and the heater base of this example was improved by 1 to 2 ° C. Thus, the test results showed improvement in the temperature distribution state. It was assessed that there were at least no major differences. As described above, it was determined that the influence on the temperature distribution on the surface of the valve element may be better, but not worse, as compared with the comparative product.
以上のように、本実施例は、上述したようにシーズヒータが、双方の直角断面方向における溝の一方の山部と反対側の山部間の間隔がシーズヒータの直径以下とされて、波形状の溝内に直線的に配置され、該波形状山部および谷部に、各波形状山部から押圧力が弾性作用する状態で接触して、配設された構造を特徴とし、この特徴によって、直線形状のシーズヒータを各波形状山部および谷部によって、固定ではなく弾性押圧支持することが出来、シーズヒータが加熱することによる膨張によって派生する問題、例えば弁表面全体についての加熱の均一化を達成して生成物の付着を防止し、ヒータ膨張に伴って派生する線膨張を分散化して集積されることをなくしてヒータ寿命を長くすることが出来、かつこれらの解決をヒータ収納部である溝自体の工夫によって解決しているので、シーズヒータに特別な加工を要することなく安価となった構造を提供することが出来る。 As described above, in this embodiment, as described above, in the sheathed heater, the distance between the one ridge portion of the groove and the opposite ridge portion in both the perpendicular cross-sectional directions is set to be equal to or less than the diameter of the sheath heater. It is linearly arranged in a groove of a shape, and is characterized by a structure in which the corrugated peaks and troughs are arranged in contact with each corrugated peak in a state where a pressing force acts elastically. Therefore, the linear sheathed heater can be elastically pressed and supported by the corrugated peaks and valleys instead of being fixed, and problems derived from expansion caused by heating of the sheathed heater, for example, heating of the entire valve surface Uniformity is achieved to prevent product adhesion, linear expansion derived from the expansion of the heater is not dispersed and accumulated, the heater life can be extended, and these solutions can be stored in the heater. Part Because it is solved by the ingenuity of itself, it is possible to provide an inexpensive By now, the structure without requiring any special processing to the sheath heater.
2…弁座、4…弁板(弁体)、5…Oリング、6…ヒータベース、7…ステム、8…ヒータカバー、9…ヒータ、10…溝、12…駆動部、14…ヒータ溝、21、21A、21B…山部、22、22A,22B…谷部、25…壁、31…シーズヒータ、100…ゲートバルブ。 2 ... valve seat, 4 ... valve plate (valve element), 5 ... O-ring, 6 ... heater base, 7 ... stem, 8 ... heater cover, 9 ... heater, 10 ... groove, 12 ... drive part, 14 ... heater groove , 21, 21A, 21B ... mountain, 22, 22A, 22B ... valley, 25 ... wall, 31 ... sheath heater, 100 ... gate valve.
Claims (5)
前記溝が、溝幅一定で、規則正しく一律に山部と谷部が交互に形成された多数の波形状で、ヒータベースの弁ゲート側面上に長手側端部から長手側端部に亘って巻回されて形成され、シーズヒータが、長手方向に対する双方の直角断面における溝の一方の山部と反対側の谷部間の間隔がシーズヒータの直径以下とされて、波形状の溝内に直線的に配置され、該波形状山部および谷部からの押圧力が作用する状態で溝に接触して、配設されたこと
を特徴とするゲートバルブ。 It consists of a valve plate arranged opposite to the valve seat, a stem connected to the valve plate, for opening and closing the valve plate, and a drive unit for driving the valve plate with respect to the valve seat. In a gate valve in which a heater base is provided as a separate body, a groove is provided in the stem or the heater base, and a sheathed heater is provided in the groove,
The groove has a constant groove width, and has a number of corrugations in which crests and troughs are alternately formed regularly and uniformly, and is wound from the longitudinal end to the longitudinal end on the valve gate side surface of the heater base. The sheathed heater is formed so that the distance between one crest of the groove and the trough on the opposite side of the groove in both cross sections perpendicular to the longitudinal direction is equal to or less than the diameter of the sheathed heater. The gate valve is disposed in contact with the groove in a state where the pressing force from the wave-shaped peak and valley is applied.
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