JP6143684B2 - Prober - Google Patents

Prober Download PDF

Info

Publication number
JP6143684B2
JP6143684B2 JP2014016286A JP2014016286A JP6143684B2 JP 6143684 B2 JP6143684 B2 JP 6143684B2 JP 2014016286 A JP2014016286 A JP 2014016286A JP 2014016286 A JP2014016286 A JP 2014016286A JP 6143684 B2 JP6143684 B2 JP 6143684B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
circulation
circulation duct
dry air
prober
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014016286A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015144155A (en
Inventor
哲 森山
哲 森山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2014016286A priority Critical patent/JP6143684B2/en
Publication of JP2015144155A publication Critical patent/JP2015144155A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6143684B2 publication Critical patent/JP6143684B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

本発明は、プローバに関し、特に、チャンバ内の空気の清浄度を維持すると共にウェハの低温電気特性試験にも対応可能なプローバに関する。   The present invention relates to a prober, and more particularly to a prober capable of maintaining the cleanliness of air in a chamber and supporting a low-temperature electrical property test of a wafer.

従来より、ウェハ上に形成されたパッドにプローブを押し当てて、ウェーハの電気特性を検査するプローバが知られている。このようなプローバを用いて実施されるウェーハの電気特性検査は、常温で行う常温検査やウェハを常温から昇温させて行う高温検査の他に、ウェハを低温(例えば、−60℃)まで下げて行う低温検査が含まれる。   2. Description of the Related Art Conventionally, a prober that inspects electrical characteristics of a wafer by pressing a probe against a pad formed on the wafer is known. The electrical property inspection of a wafer performed using such a prober is performed at room temperature inspection performed at room temperature or high temperature inspection performed by raising the temperature of the wafer from room temperature, as well as lowering the wafer to a low temperature (for example, −60 ° C.). Low temperature inspection.

しかしながら、低温環境下でウェーハの電気特性検査を実施する場合、ウェハを保持するウェハチャックやプローブカードを収容するチャンバ内の空気が結露したり氷結して、ウェハに悪影響を及ぼす虞がある。そのため、チャンバと、チャンバに連結された循環ダクトと、循環ダクトの出口側に配設されたFFU(Fan Filter Unit)と、を備え、FFUが低露点の乾燥空気をチャンバ及び循環ダクト内で循環させるものが知られている(例えば、特許文献1を参照)。   However, when an electrical property inspection of a wafer is performed in a low temperature environment, air in a chamber holding a wafer chuck or a probe card that holds the wafer may condense or freeze, which may adversely affect the wafer. Therefore, a chamber, a circulation duct connected to the chamber, and an FFU (Fan Filter Unit) disposed on the outlet side of the circulation duct are provided, and the FFU circulates dry air having a low dew point in the chamber and the circulation duct. What is made to be known is known (for example, refer patent document 1).

特開2003−179109号公報。JP2003-179109A.

しかしながら、上述したようなプローバでは、プローブカードがテスタ等の機器に接続されるため、チャンバ内に僅かな隙間が生じがちであり、チャンバの排気口付近ではチャンバの内圧が外圧に比べて低くなりがちで、上述した隙間から高露点の外気が侵入することがあるため、循環する空気の露点が徐々に高くなってしまう虞があった。   However, in the prober as described above, since the probe card is connected to a device such as a tester, a slight gap tends to be generated in the chamber, and the internal pressure of the chamber is lower than the external pressure near the exhaust port of the chamber. Therefore, since the high dew point outside air may enter from the gaps described above, the dew point of the circulating air may gradually increase.

チャンバ内の空気の露点を下げるものとして、図8に示すように、チャンバ201及び循環ダクト202内の空気をFFU203で強制的に循環させ、チャンバ201内の空気に乾燥空気を直接供給するプローバ200が考えられる。しかしながら、このようなプローバでは、FFU203が形成する気流に沿って乾燥空気がチャンバ201内に拡散することにより、乾燥空気はチャンバ201の上部には拡散しにくくチャンバ201の下部に偏在しがちなため、チャンバ201と循環ダクト202内を繰り返し循環させて空気の露点を安定させる必要があり、電気特性試験を開始するまでに待機時間が長いという問題があった。また、空気と乾燥空気とが効率的に混ざり難く、空気の露点が高止まりしてチャンバ201内の空気の結露や氷結を抑制することができない虞があった。   As shown in FIG. 8, a prober 200 that forcibly circulates air in the chamber 201 and the circulation duct 202 by the FFU 203 and supplies dry air directly to the air in the chamber 201 as shown in FIG. 8 to lower the dew point of the air in the chamber. Can be considered. However, in such a prober, since the dry air diffuses into the chamber 201 along the air flow formed by the FFU 203, the dry air hardly diffuses in the upper part of the chamber 201 and tends to be unevenly distributed in the lower part of the chamber 201. It is necessary to circulate the chamber 201 and the circulation duct 202 repeatedly to stabilize the dew point of the air, and there is a problem that the waiting time is long before the electrical characteristic test is started. Further, the air and the dry air are not easily mixed efficiently, and the dew point of the air remains high, and there is a possibility that the dew condensation or icing of the air in the chamber 201 cannot be suppressed.

また、チャンバ内の空気の露点を下げるものとして、図9に示すように、チャンバ301に循環ダクト302内の空気をFFU303で吸引する際に、空気に乾燥空気を混入させるプローバ300も考えられる。しかしながら、このようなプローバ300では、プローバ200と比べると、乾燥空気がチャンバ301の上部に達し易いもののチャンバ301内に均一に拡散しにくいため、プローバ200と同様に、空気の露点を安定させるまでに長時間を要すると共に、空気の露点が高止まりしてチャンバ301内の空気の結露や氷結を抑制することができない虞があった。   Further, as shown in FIG. 9, a prober 300 that mixes dry air into the air when the air in the circulation duct 302 is sucked into the chamber 301 by the FFU 303 can be considered as a means for lowering the dew point of the air in the chamber. However, in such a prober 300, compared with the prober 200, dry air easily reaches the upper part of the chamber 301, but is difficult to uniformly diffuse into the chamber 301. Therefore, as with the prober 200, until the dew point of the air is stabilized. In addition, it takes a long time and the dew point of the air remains high, and there is a possibility that the dew condensation and icing of the air in the chamber 301 cannot be suppressed.

そこで、チャンバ内に高清浄度且つ低露点の空気を供給するために解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。   Therefore, a technical problem to be solved in order to supply high cleanliness and low dew point air into the chamber arises, and the present invention aims to solve this problem.

本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項1記載の発明は、ウェハチャックとプローブカードとを収容するチャンバと、該チャンバに吸気口と排気口とを介して接続されて空気の循環経路を形成する循環ダクトと、前記空気を前記循環経路内で循環させる空気循環手段と、を備えたプローバであって、前記空気の露点を低下させる乾燥空気を前記循環ダクト内に供給する乾燥空気供給手段と、前記循環ダクト内に設けられて、前記空気と前記乾燥空気とを撹拌する撹拌手段と、を備え、前記撹拌手段は、前記循環ダクト内を流れる空気の温度を検知する温度検知部と、前記空気の温度に基づいて、前記循環ダクト内の前記空気及び前記乾燥空気を撹拌可能な臨界レイノルズ数と該臨界レイノルズ数以上を維持可能な空気の乱流維持可能流量とを導出する演算部と、前記空気の乱流維持可能流量に応じて前記空気循環手段の循環流量を制御する制御部と、を備えているプローバを提供する。
The present invention has been proposed in order to achieve the above-mentioned object, and the invention according to claim 1 is connected to the chamber through which the wafer chuck and the probe card are accommodated, and to the chamber through an intake port and an exhaust port. A prober comprising: a circulation duct that forms a circulation path of air; and an air circulation means that circulates the air in the circulation path, wherein dry air that lowers the dew point of the air is contained in the circulation duct. Dry air supply means for supplying to the circulation duct, and stirring means provided in the circulation duct for stirring the air and the dry air, wherein the stirring means adjusts the temperature of the air flowing in the circulation duct. Based on the temperature detection unit for detecting, and the temperature of the air, a critical Reynolds number capable of stirring the air and the dry air in the circulation duct, and an empty space capable of maintaining the critical Reynolds number or more. Provided by the computing unit for deriving the turbulence can be maintained flow rate, a prober comprises a control unit for controlling the circulation flow rate of the air circulation means in accordance with the turbulent sustainable flow rate of the air.

この構成によれば、乾燥空気供給手段が循環ダクト内で空気に乾燥空気を混入することにより、空気が循環ダクト内を流れる際に空気と乾燥空気とが均一に混ざり合うため、循環ダクトを経てチャンバ内に供給される空気の露点を均一化すると共に空気の露点を下げることができる。   According to this configuration, the dry air supply means mixes the dry air into the air in the circulation duct, so that the air and the dry air are uniformly mixed when the air flows through the circulation duct. The dew point of air supplied into the chamber can be made uniform and the dew point of air can be lowered.

また、外部から密閉された循環ダクト内に乾燥空気を供給することにより、高露点の空気全体に乾燥空気が拡散して、空気の露点が効率的に下がるため、空気の到達露点を下げると共に、空気の到達露点まで短時間で降下させることができる。   In addition, by supplying dry air into the circulation duct sealed from the outside, the dry air diffuses throughout the air with a high dew point, and the dew point of the air is effectively lowered. It can be lowered in a short time to the air dew point.

さらに、空気の露点を効率的に下げることにより、乾燥空気の供給量が低減されるため、乾燥空気の省資源化及び空気の高清浄化を実現することができる。温度検知部が検知した空気の温度に応じて臨界レイノルズ数を維持するように空気の循環流量を調整することにより、空気の温度上昇に起因して空気のレイノルズ数が臨界レイノルズ数を下回ることを回避し、空気の温度変化にかかわらず循環ダクト内に乱流を生じさせて、空気と乾燥空気とが循環ダクト内で撹拌されるため、チャンバ内に供給される空気の露点を更に効率的に下げることができる。
Furthermore, since the supply amount of dry air is reduced by efficiently reducing the dew point of air, it is possible to achieve resource saving of dry air and high cleanness of air. By adjusting the air circulation flow rate so that the critical Reynolds number is maintained according to the temperature of the air detected by the temperature detector, the air Reynolds number is less than the critical Reynolds number due to an increase in the air temperature. To avoid turbulence in the circulation duct regardless of the temperature change of the air, and the air and dry air are agitated in the circulation duct, so that the dew point of the air supplied into the chamber is more efficiently Can be lowered.

請求項2記載の発明は、請求項1記載のプローバの構成に加えて、前記乾燥空気供給手段は、前記排気口に対して前記循環経路の下流側に配置された乾燥空気供給位置で前記乾燥空気を循環ダクト内に供給するプローバを提供する。   According to a second aspect of the present invention, in addition to the configuration of the prober according to the first aspect, the dry air supply means is configured to perform the drying at a dry air supply position disposed on the downstream side of the circulation path with respect to the exhaust port. A prober for supplying air into a circulation duct is provided.

この構成によれば、外部の空気が混入して最も露点が高くなりがちな吸気口に対して循環経路の下流側に乾燥空気供給位置が配置されることにより、乾燥空気が高い露点の空気全体に供給されるため、空気の露点を効率的に下げることができる。   According to this configuration, since the dry air supply position is arranged on the downstream side of the circulation path with respect to the intake port that tends to have the highest dew point due to external air being mixed in, the entire dew point air with high dry air is arranged. Therefore, the dew point of air can be lowered efficiently.

本発明は、循環ダクトを経てチャンバ内に供給される空気の露点を均一化すると共に、外部の空気の混入を抑制して空気全体の露点が効率的に下げるため、チャンバ内に高清浄度且つ低露点の空気を供給することができる。   The present invention makes the dew point of the air supplied into the chamber through the circulation duct uniform, and suppresses the mixing of external air to effectively lower the dew point of the entire air. Low dew point air can be supplied.

本発明の第1実施例に係るプローバを示す正面図。The front view which shows the prober which concerns on 1st Example of this invention. 図1に示す循環ダクトのレイノルズ数と従来のプローバに用いられた循環ダクトのレイノルズ数との比較結果を示す図。The figure which shows the comparison result of the Reynolds number of the circulation duct shown in FIG. 1, and the Reynolds number of the circulation duct used for the conventional prober. プローバ内を循環する空気の露点の推移を示す図。The figure which shows transition of the dew point of the air which circulates in the prober. プローバ内の空気の露点が安定するまでに要する時間を示す図。The figure which shows the time required until the dew point of the air in a prober is stabilized. 本発明の第2実施例に係るプローバを示す正面図。The front view which shows the prober which concerns on 2nd Example of this invention. 図5に示す循環ダクトのIV部拡大断面図。The IV section expanded sectional view of the circulation duct shown in FIG. 図6に示す撹拌手段の変形例を示す断面図。Sectional drawing which shows the modification of the stirring means shown in FIG. チャンバ内の空気に乾燥空気を供給する従来のプローバを示す正面図。The front view which shows the conventional prober which supplies dry air to the air in a chamber. FFU内の空気に乾燥空気を供給する従来のプローバを示す正面図。The front view which shows the conventional prober which supplies dry air to the air in FFU.

本発明は、チャンバ内に高清浄度且つ低露点の空気を供給するために、ウェハチャックとプローブカードとを収容するチャンバと、チャンバに吸気口と排気口とを介して接続されて空気の循環経路を形成する循環ダクトと、空気を循環経路内で循環させる空気循環手段と、を備えたプローバであって、空気の露点を低下させる乾燥空気を循環ダクト内に供給する乾燥空気供給手段と、循環ダクト内に設けられて、空気と乾燥空気とを撹拌する撹拌手段と、を備え、撹拌手段は、循環ダクト内を流れる空気の温度を検知する温度検知部と、空気の温度に基づいて、循環ダクト内の空気及び乾燥空気を撹拌可能な臨界レイノルズ数と臨界レイノルズ数以上を維持可能な空気の乱流維持可能流量とを導出する演算部と、空気の乱流維持可能流量に応じて空気循環手段の循環流量を制御する制御部と、を備えていることにより実現する。 In order to supply high cleanliness and low dew point air into the chamber, the present invention is connected to the chamber containing the wafer chuck and the probe card, and connected to the chamber via an intake port and an exhaust port to circulate the air. A prober comprising a circulation duct that forms a path and an air circulation means that circulates air in the circulation path, and a dry air supply means that supplies dry air that lowers the dew point of the air into the circulation duct ; A stirring means provided in the circulation duct and stirring the air and dry air, the stirring means based on the temperature of the temperature detection unit that detects the temperature of the air flowing in the circulation duct, and the temperature of the air; A calculation unit for deriving the critical Reynolds number that can agitate the air and dry air in the circulation duct and the turbulent flow sustainable flow rate that can maintain the critical Reynolds number or higher, Realized by that it comprises a control unit for controlling the circulation flow rate of the air circulating means, the Te.

以下、本発明の第1実施例に係るプローバ1について、図1に基づいて説明する。   Hereinafter, a prober 1 according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

プローバ1は、チャンバ2と、チャンバ2に両端を接続されて空気の循環経路Rを形成する循環ダクト3と、循環経路R内で空気を循環させる空気循環手段4と、空気の露点を下げる乾燥空気を供給する乾燥空気供給手段5と、を備えている。   The prober 1 includes a chamber 2, a circulation duct 3 that is connected to both ends of the chamber 2 to form an air circulation path R, an air circulation means 4 that circulates air in the circulation path R, and a drying that lowers the dew point of air. And a dry air supply means 5 for supplying air.

チャンバ2には、ウェハWを保持するウェハチャック21と、ウェハWの電気特性を検査するプローブ22aを有するプローブカード22と、が収容されている。   The chamber 2 accommodates a wafer chuck 21 for holding the wafer W and a probe card 22 having a probe 22a for inspecting the electrical characteristics of the wafer W.

ウェハチャック21は、ウェハWを載置面21a上に真空吸着して保持するようになっている。ウェハチャック21は、図示しない温度調整機構に接続されており、この温度調整機構を用いて、ウェハチャック21の温度を昇温又は降温させて、ウェハWの温度を検査条件に応じて任意に設定することができる。   The wafer chuck 21 holds the wafer W by vacuum suction on the mounting surface 21a. The wafer chuck 21 is connected to a temperature adjustment mechanism (not shown). Using this temperature adjustment mechanism, the temperature of the wafer chuck 21 is raised or lowered, and the temperature of the wafer W is arbitrarily set according to the inspection conditions. can do.

プローブカード22は、プローブカード22の周縁を支持されてチャンバ2の上部に固定されている。   The probe card 22 is supported on the periphery of the probe card 22 and fixed to the upper portion of the chamber 2.

プローブ22aは、プローブカード22の略中央に取り付けられており、ウェハWのパッドと図示しないテスタとを接続してウェーハの電気特性を検査する。プローブ22aは、ウェハチャック21が接近して押し当てられたウェーハを検査する。   The probe 22a is attached to the approximate center of the probe card 22, and inspects the electrical characteristics of the wafer by connecting a pad of the wafer W and a tester (not shown). The probe 22a inspects the wafer pressed against the wafer chuck 21.

また、チャンバ2には、ウェハチャック21を図1の紙面左右方向に一致するX軸方向に移動可能なX軸移動ステージ23と、ウェハチャック21を図1の紙面垂直方向に一致するY軸方向に移動可能なY軸移動ステージ24と、ウェハチャック21を図1の紙面上下方向に一致するZ軸方向に移動可能なZ軸移動ステージ25と、を備えている。   Further, the chamber 2 includes an X-axis moving stage 23 that can move the wafer chuck 21 in the X-axis direction that coincides with the left-right direction of FIG. 1 and the Y-axis direction that matches the wafer chuck 21 with the vertical direction of FIG. And a Z-axis moving stage 25 capable of moving the wafer chuck 21 in the Z-axis direction coinciding with the vertical direction of the drawing in FIG.

X軸移動ステージ23は、Y軸移動ステージ24を載置するスライドテーブル23aと、スライドテーブル23aの下方でベース26上にX軸方向に沿って敷設されたガイドレール23bと、スライドテーブル23aに連結されてガイドレール23b間にX軸方向に沿って延設された図示しないボールネジに螺合するスライド23cと、ボールネジを回転させる図示しないX方向駆動モータと、を備えている。なお、ボールネジの代わりにリニアモータを採択しても構わない。   The X-axis moving stage 23 is connected to the slide table 23a on which the Y-axis moving stage 24 is placed, the guide rail 23b laid along the X-axis direction on the base 26 below the slide table 23a, and the slide table 23a. A slide 23c that is screwed into a ball screw (not shown) that extends along the X-axis direction between the guide rails 23b and an X-direction drive motor (not shown) that rotates the ball screw are provided. A linear motor may be adopted instead of the ball screw.

X方向駆動モータが、ボールネジを回転させることにより、ボールネジ23cに螺合されたスライダ23cがX軸方向に移動し、スライドテーブル23aが、Y軸ステージ24に対して相対的にX軸方向に移動するようになっている。   When the X-direction drive motor rotates the ball screw, the slider 23c screwed to the ball screw 23c moves in the X-axis direction, and the slide table 23a moves relative to the Y-axis stage 24 in the X-axis direction. It is supposed to be.

Y軸移動ステージ24は、Z軸移動ステージ25を載置するスライドテーブル24aと、スライドテーブル24aの下方にY軸方向に沿って延設された一対のガイドレール24b、24bと、一対のガイドレール24b、24b間にY軸方向に沿って延設された図示しないボールネジと、スライドテーブル24aに連結されてボールネジと螺合するスライダと、ボールネジを回転させる図示しないY方向駆動モータと、を備えている。なお、ボールネジの代わりにリニアモータを採択しても構わない。   The Y-axis moving stage 24 includes a slide table 24a on which the Z-axis moving stage 25 is placed, a pair of guide rails 24b and 24b extending along the Y-axis direction below the slide table 24a, and a pair of guide rails A ball screw (not shown) extending along the Y-axis direction between 24b and 24b, a slider connected to the slide table 24a and screwed to the ball screw, and a Y-direction drive motor (not shown) for rotating the ball screw. Yes. A linear motor may be adopted instead of the ball screw.

Y方向駆動モータが、ボールネジを回転させることにより、ボールネジに螺合されたスライダがY軸方向に移動し、スライドテーブル23aが、X軸移動ステージ23に対して相対的にY軸方向に移動するようになっている。   When the Y-direction drive motor rotates the ball screw, the slider screwed to the ball screw moves in the Y-axis direction, and the slide table 23a moves in the Y-axis direction relative to the X-axis moving stage 23. It is like that.

Z軸移動ステージ25は、ウェハチャック21を載置している。Z軸移動ステージ25は、ウェハチャック21をZ軸方向に昇降させる図示しないZ方向駆動モータと、ウェハチャック21の中央を通ってZ軸方向に延びる回転軸回りにウェハチャック21を回転させる図示しないΘ方向駆動モータと、を備えている。   The Z-axis moving stage 25 has the wafer chuck 21 mounted thereon. The Z-axis moving stage 25 rotates the wafer chuck 21 around a rotation axis extending in the Z-axis direction through the center of the wafer chuck 21 and a Z-direction drive motor (not shown) that moves the wafer chuck 21 up and down in the Z-axis direction. And a Θ direction drive motor.

X軸移動ステージ23とY軸移動ステージ24とZ軸移動ステージ25とは、図示しない制御装置によって駆動制御されている。制御装置は、X方向駆動モータ、Y方向駆動モータ、Z方向駆動モータ及びΘ方向駆動モータに駆動信号を送り、各駆動モータの駆動量に応じてウェハチャック2を所望の位置に位置決めする。   The X axis movement stage 23, the Y axis movement stage 24, and the Z axis movement stage 25 are driven and controlled by a control device (not shown). The control device sends drive signals to the X direction drive motor, the Y direction drive motor, the Z direction drive motor, and the Θ direction drive motor, and positions the wafer chuck 2 at a desired position in accordance with the drive amount of each drive motor.

循環ダクト3は、断面円形状に形成された円管であり、一方端をチャンバ2の吸気口2aに接続され、他方端をチャンバ2の排気口2bに接続されている。排気口2bの付近では、空気の流路が狭まり流速が上がるため、空気の内圧が小さくなっており、循環経路R内で空気の露点が最も高くなっている。   The circulation duct 3 is a circular pipe having a circular cross section, and one end is connected to the air inlet 2 a of the chamber 2 and the other end is connected to the air outlet 2 b of the chamber 2. In the vicinity of the exhaust port 2b, since the air flow path is narrowed and the flow velocity is increased, the internal pressure of the air is small, and the dew point of the air is the highest in the circulation path R.

空気循環手段4は、チャンバ2の吸気口2aに取り付けられた吸引ファン41と吸引ファン41によって吸引された空気を通過させて防塵する図示しないフィルタとを有するFFU42と、チャンバ2の排気口2bを塞ぐように設けられる排気ファン43と、を備えている。吸引ファン41及び排気ファン43により、図1の紙面反時計回りの空気の循環経路Rが形成されている。以下、「上流側」、「下流側」とは、循環経路Rにおける上流側、下流側に対応するものとする。   The air circulation means 4 includes an FFU 42 having a suction fan 41 attached to the intake port 2a of the chamber 2 and a filter (not shown) that passes the air sucked by the suction fan 41 and prevents dust, and an exhaust port 2b of the chamber 2 And an exhaust fan 43 provided so as to be closed. The suction fan 41 and the exhaust fan 43 form an air circulation path R counterclockwise in FIG. Hereinafter, “upstream side” and “downstream side” correspond to the upstream side and the downstream side in the circulation path R, respectively.

乾燥空気供給手段5は、循環ダクト3内に乾燥空気を供給するノズル51と、ノズル51に接続された図示しない乾燥空気供給源と、を備えている。ノズル51から供給される乾燥空気の流量は、任意に調整することができる。   The dry air supply means 5 includes a nozzle 51 that supplies dry air into the circulation duct 3 and a dry air supply source (not shown) connected to the nozzle 51. The flow rate of the dry air supplied from the nozzle 51 can be arbitrarily adjusted.

ノズル51は、排気ファン43の下流側の乾燥空気供給位置Dに配置されている。なお、ノズル51は、外部から遮断された、即ち、密閉された循環ダクト3内であれば、どこに設けられても構わない。   The nozzle 51 is disposed at the dry air supply position D on the downstream side of the exhaust fan 43. The nozzle 51 may be provided anywhere as long as it is blocked from the outside, that is, in the sealed circulation duct 3.

プローバ1は、循環ダクト3内を流れる空気とノズル51を介して循環ダクト3内に供給された乾燥空気とを撹拌する撹拌手段6を備えている。撹拌手段6は、温度検知部61と、流速検知部62と、演算部63と、制御部64と、を備えている。   The prober 1 includes stirring means 6 for stirring the air flowing in the circulation duct 3 and the dry air supplied into the circulation duct 3 through the nozzle 51. The stirring means 6 includes a temperature detection unit 61, a flow velocity detection unit 62, a calculation unit 63, and a control unit 64.

温度検知部61は、循環ダクト3内を流れる空気の温度を検知する。温度検知部61は、乾燥空気供給位置Dより下流側で循環ダクト3に取り付けられている。   The temperature detector 61 detects the temperature of the air flowing through the circulation duct 3. The temperature detector 61 is attached to the circulation duct 3 on the downstream side of the dry air supply position D.

流速検知部62は、循環ダクト3内を流れる空気の流速を検知する。流速検知部62は、乾燥空気供給位置Dより下流側で温度検知部61と対向して循環ダクト3に取り付けられている。   The flow velocity detector 62 detects the flow velocity of the air flowing through the circulation duct 3. The flow velocity detector 62 is attached to the circulation duct 3 so as to face the temperature detector 61 on the downstream side of the dry air supply position D.

演算部63は、温度検知部61が検知した空気の温度に基づいて、循環ダクト3内を流れる空気の臨界レイノルズ数Recと、臨界レイノルズ数Rec以上を維持可能な空気の乱流維持可能流量を導出する。本実施例では、円管状の循環ダクト3の臨界レイノルズ数Recは、2300〜4000となる。また、演算部63は、乱流維持可能流量を導出する際には、温度検知部61が検知した空気の温度に基づいて、図示しない記憶部内に記憶された空気の動粘性係数を呼び出し、臨界レイノルズ数Recに対応する空気の臨界速度を導出し、乱流維持可能流量を導出するようになっている。   Based on the temperature of the air detected by the temperature detector 61, the calculation unit 63 calculates the critical Reynolds number Rec of the air flowing in the circulation duct 3 and the turbulent flow maintainable flow rate that can maintain the critical Reynolds number Rec or more. To derive. In the present embodiment, the critical Reynolds number Rec of the circular circulation duct 3 is 2300 to 4000. Further, when deriving the turbulent flow maintaining flow rate, the calculation unit 63 calls the kinematic viscosity coefficient of air stored in a storage unit (not shown) based on the air temperature detected by the temperature detection unit 61, The critical velocity of air corresponding to the Reynolds number Rec is derived, and the turbulent flow maintaining flow rate is derived.

ここで、「空気の臨界速度」とは、空気の温度に応じて変動するものであり、臨界レイノルズ数Recと動粘性係数との積を循環ダクト3の内径と循環ダクト3の断面積とで除したものである。本実施例における空気の臨界速度は、0.34845〜0.60600m/sとなっている。また、「空気の乱流維持可能流量」とは、空気の臨界速度に循環ダクト3の断面積を乗じたものである。本実施例における空気の乱流維持可能流量は、0.00266〜0.00462m^3/sとなっている。   Here, “the critical velocity of the air” varies depending on the temperature of the air, and the product of the critical Reynolds number Rec and the kinematic viscosity coefficient is expressed by the inner diameter of the circulation duct 3 and the cross-sectional area of the circulation duct 3. Divided. The critical velocity of air in this embodiment is 0.34845 to 0.60600 m / s. The “flow rate capable of maintaining turbulent air flow” is obtained by multiplying the critical velocity of air by the cross-sectional area of the circulation duct 3. The air turbulent flow rate that can be maintained in this embodiment is 0.00266 to 0.00462 m ^ 3 / s.

制御部64は、演算部63が導出した空気の乱流維持可能流量に基づいて、空気のレイノルズ数Reを臨界レイノルズ数Rec以上に維持するように吸引ファン41の回転数を調整して、空気の循環流量を調整する。また、流速検知部62で循環ダクト3内の空気の流速を検知することにより、空気の循環流量をフィードバック制御するのが好ましい。本実施例では、空気の循環流量を0.008333m^3/sに設定しており、空気のレイノルズ数Reが約7103に達し、空気のレイノルズ数Reは臨界レイノルズ数Rec以上であるため、循環ダクト3内に乱流を生じさせることができる。   The control unit 64 adjusts the number of rotations of the suction fan 41 so as to maintain the Reynolds number Re of the air to be equal to or higher than the critical Reynolds number Rec based on the turbulent flow maintainable flow rate derived by the calculation unit 63. Adjust the circulation flow rate. Further, it is preferable that the air flow rate is feedback-controlled by detecting the air flow rate in the circulation duct 3 by the flow rate detection unit 62. In this embodiment, the air circulation flow rate is set to 0.008333 m ^ 3 / s, the air Reynolds number Re reaches about 7103, and the air Reynolds number Re is greater than or equal to the critical Reynolds number Rec. Turbulence can be generated in the duct 3.

このようにして、図2に示すように、従来のプローバでは、空気の温度が上昇するにしたがって動粘性係数が上昇し、空気のレイノルズ数が下がり乱流を維持できない虞があったが、プローバ1では、空気の温度変化に応じて空気の循環流量を調整することにより、空気の温度にかかわらず空気のレイノルズ数Reを臨界レイノルズ数Rec以上で維持可能なため、空気と乾燥空気とを循環ダクト3内で撹拌することができる。   In this way, as shown in FIG. 2, in the conventional prober, the kinematic viscosity coefficient increases as the temperature of the air rises, and the Reynolds number of the air decreases, and there is a possibility that the turbulence cannot be maintained. In 1, the air Reynolds number Re can be maintained at or above the critical Reynolds number Rec regardless of the air temperature by adjusting the air circulation flow rate according to the temperature change of the air. Stirring in the duct 3 is possible.

また、空気の循環流量は乱流維持可能流量に近い値に調整されるのが好ましく、即ち、循環ダクト3内の乱流を維持可能な範囲で空気の循環流量を絞るのが好ましい。これにより、ウェハチャック2付近の気流の乱れが軽減されるため、電気特性検査の際にウェハチャック2の温度を局所的に低下させることなくウェハWを精度良く検査することができる。さらに、循環ダクト3内の乱流を維持可能な範囲で空気の循環流量を絞ることにより、露点の高い外気の流入を抑制して空気の露点を確保し易くなると共に、パラメトリックテスト等の微小電流測定の際のリーク電流を軽減することができる。   In addition, the air circulation flow rate is preferably adjusted to a value close to the turbulent flow maintainable flow rate, that is, the air circulation flow rate is preferably reduced within a range in which the turbulent flow in the circulation duct 3 can be maintained. As a result, the turbulence of the airflow in the vicinity of the wafer chuck 2 is reduced, so that the wafer W can be accurately inspected without locally lowering the temperature of the wafer chuck 2 during the electrical characteristic inspection. Further, by restricting the air circulation flow rate within a range in which the turbulent flow in the circulation duct 3 can be maintained, it becomes easier to secure the dew point of the air by suppressing the inflow of outside air having a high dew point, and a small current such as a parametric test. Leakage current during measurement can be reduced.

本実施例との比較例として乾燥空気を供給する場所を変えたプローバについて、本実施例及び比較例に係るプローバにおける空気の露点を比較したものを図3に示す。比較例1は、図8に示すように、チャンバ内に乾燥空気を直接供給するものであり、比較例2は、図9に示すように、チャンバ内に空気を吸引する際にFFU内で空気に乾燥空気を供給するものである。   FIG. 3 shows a comparison of the dew point of the air in the prober according to the present example and the comparative example with respect to the prober in which the place for supplying the dry air is changed as a comparative example with the present example. In Comparative Example 1, as shown in FIG. 8, dry air is directly supplied into the chamber. In Comparative Example 2, as shown in FIG. To supply dry air.

図3中におけるA、B、Cは、それぞれ空気の露点の計測場所を示しており、Aは、チャンバ2の吸気口2a付近の循環ダクト3の一方端であり、Bは、チャンバ2内であり、Cは、チャンバ2の吸気口2b付近の循環ダクト3の他方端である。本実施例及び各比較例に係るプローバのチャンバ内の空気の露点を比較すると、図3に示すように、比較例1では−28℃、比較例2では−34℃であるのに対して、本実施例では−55℃であることが分かる。   In FIG. 3, A, B, and C indicate measurement locations of the air dew point, respectively, A is one end of the circulation duct 3 near the air inlet 2 a of the chamber 2, and B is in the chamber 2 Yes, C is the other end of the circulation duct 3 in the vicinity of the air inlet 2 b of the chamber 2. Comparing the dew point of the air in the chamber of the prober according to the present example and each comparative example, as shown in FIG. 3, it is −28 ° C. in Comparative Example 1 and −34 ° C. in Comparative Example 2, whereas It turns out that it is -55 degreeC in a present Example.

また、本実施例及び各比較例に係るプローバにおいて、空気の露点に達するまでに要する時間を比較したものを図4に示す。図4によれば、比較例1では70分、比較例2では50分を要するのに対して、本実施例では30分で済むことが分かる。   FIG. 4 shows a comparison of the time required to reach the dew point of air in the probers according to the present example and each comparative example. According to FIG. 4, it can be seen that the comparative example 1 requires 70 minutes and the comparative example 2 requires 50 minutes, whereas the present example requires 30 minutes.

このようにして、本実施例に係るプローバ1は、乾燥空気供給手段5が循環ダクト3内で空気に乾燥空気を混入することにより、空気が循環ダクト3内を流れる際に空気と乾燥空気とが均一に混ざり合うため、循環ダクト3を経てチャンバ2内に供給される空気の露点を均一化すると共に空気の露点を下げることができる。   In this manner, the prober 1 according to this embodiment is configured so that the dry air supply means 5 mixes dry air into the air in the circulation duct 3, so that when the air flows in the circulation duct 3, Are uniformly mixed, so that the dew point of the air supplied into the chamber 2 through the circulation duct 3 can be made uniform and the dew point of the air can be lowered.

また、外部から密閉された循環ダクト3内に乾燥空気を供給することにより、高露点の空気全体に乾燥空気が拡散して、空気の露点が効率的に下がるため、空気の到達露点を下げると共に、空気の到達露点まで短時間で降下させることができる。   Further, by supplying dry air into the circulation duct 3 sealed from the outside, the dry air diffuses throughout the air having a high dew point, and the dew point of the air is effectively lowered. It can be lowered in a short time to the air dew point.

さらに、空気の露点を効率的に下げることにより、乾燥空気の供給量が低減されるため、乾燥空気の省資源化及び空気の高清浄化を実現することができる。   Furthermore, since the supply amount of dry air is reduced by efficiently reducing the dew point of air, it is possible to achieve resource saving of dry air and high cleanness of air.

また、空気の温度変化に応じて、空気のレイノルズ数が臨界レイノルズ数以上を維持するように空気の循環流量を調整することにより、空気の温度変化に起因したレイノルズ数の低下を抑制するため、空気と乾燥空気とを循環ダクト3内で撹拌して、チャンバ2内に供給される空気の露点を均一にすることができる。   In addition, in order to suppress a decrease in the Reynolds number due to the temperature change of the air by adjusting the circulating flow rate of the air so that the Reynolds number of the air maintains the critical Reynolds number or more according to the temperature change of the air, The dew point of the air supplied into the chamber 2 can be made uniform by stirring the air and the dry air in the circulation duct 3.

次に、本発明に第2実施例に係るプローバについて、図面に基づいて説明する。なお、本発明の第2実施例に係るプローバは、上述した第1実施例に係るプローバと比較すると、撹拌手段の具体的構成が異なっており、その他の構成については、基本的に何ら変わるところがないため、上述した第1実施例のプローバと同一部材については、同一の符号を付し、その重複する説明を省略する。   Next, a prober according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The prober according to the second embodiment of the present invention differs from the prober according to the first embodiment described above in the specific configuration of the stirring means, and the other configurations are basically different. Therefore, the same members as those of the above-described prober of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and redundant description thereof is omitted.

すなわち、撹拌手段6は、図6に示すように、乾燥空気供給位置Dより下流側で循環ダクト3の内周面に刻設された撹拌溝65である。撹拌溝65は、循環ダクト3の周方向に周設され、循環ダクト3の長手方向に沿って複数並設されている。撹拌溝65は、図6中の矢印に示すように、循環ダクト3内を流れる空気及び乾燥空気の流れを乱すことにより、空気と乾燥空気とを撹拌する。なお、撹拌溝65の具体的な形状は、空気の乱すものであれば、如何なるものであっても構わない。   That is, as shown in FIG. 6, the stirring means 6 is a stirring groove 65 formed on the inner peripheral surface of the circulation duct 3 on the downstream side from the dry air supply position D. The stirring groove 65 is provided in the circumferential direction of the circulation duct 3, and a plurality of the agitation grooves 65 are provided in parallel along the longitudinal direction of the circulation duct 3. As shown by the arrows in FIG. 6, the stirring groove 65 stirs the air and the dry air by disturbing the flow of the air and the dry air flowing through the circulation duct 3. The specific shape of the stirring groove 65 may be any shape as long as air is disturbed.

なお、撹拌手段6は、図7に示すように、乾燥空気供給位置Dより下流側で循環ダクト3の内周面から立設された撹拌壁66であっても構わない。撹拌壁66は、略円弧状に形成されており、循環ダクト3の上方及び下方から交互に延びて、図7中の矢印に示すように、空気の流れを妨げるラビリンス構造を形成するように配設されている。なお、撹拌壁66の具体的な形状は、空気の流れを妨げるものであれば、如何なるものであっても構わない。   As shown in FIG. 7, the stirring means 6 may be a stirring wall 66 erected from the inner peripheral surface of the circulation duct 3 on the downstream side from the dry air supply position D. The stirring wall 66 is formed in a substantially circular arc shape, and alternately extends from above and below the circulation duct 3 so as to form a labyrinth structure that prevents the flow of air, as indicated by arrows in FIG. It is installed. The specific shape of the stirring wall 66 may be any shape as long as it prevents air flow.

このようにして、本実施例に係るプローバ1は、循環ダクト3内に撹拌溝65または撹拌壁66を設けるだけで、簡単に空気と乾燥空気とを撹拌することができる。   In this way, the prober 1 according to the present embodiment can easily stir air and dry air simply by providing the stirring groove 65 or the stirring wall 66 in the circulation duct 3.

また、撹拌溝65又は撹拌壁66が、乾燥空気供給位置Dより下流側に配置されていることにより、空気に乾燥空気が混入された状態で空気と乾燥空気とを確実に撹拌されて、チャンバ2内に供給される空気の露点を更に効率的に下げることができる。   Further, since the stirring groove 65 or the stirring wall 66 is disposed on the downstream side from the dry air supply position D, the air and the dry air are reliably stirred in a state where the dry air is mixed in the air, and the chamber The dew point of the air supplied into 2 can be lowered more efficiently.

なお、本実施例に係る撹拌溝65又は撹拌壁66は、乾燥空気供給位置Dより下流側に配置されているものについて説明したが、撹拌溝65又は撹拌壁66は乾燥空気供給位置Dより上流に配置されても良く、予め循環ダクト3内の空気を乱流にした状態で乾燥空気を供給し乾燥空気を空気内に拡散させても構わない。   In addition, although the stirring groove 65 or the stirring wall 66 which concerns on a present Example demonstrated what is arrange | positioned downstream from the dry air supply position D, the stirring groove 65 or the stirring wall 66 is upstream from the dry air supply position D. Alternatively, the dry air may be supplied in a state where the air in the circulation duct 3 is turbulent in advance to diffuse the dry air into the air.

以上、上述したように、本発明は、乾燥空気供給手段5が循環ダクト3内で空気に乾燥空気を混入することにより、空気が循環ダクト3内を流れる際に空気と乾燥空気とが均一に混ざり合うため、循環ダクト3を経てチャンバ2内に供給される空気の露点を均一化すると共に空気の露点を下げることができる。   As described above, according to the present invention, the dry air supply means 5 mixes dry air into the air in the circulation duct 3, so that the air and the dry air are made uniform when the air flows in the circulation duct 3. Since they are mixed, the dew point of the air supplied into the chamber 2 through the circulation duct 3 can be made uniform and the dew point of the air can be lowered.

また、外部から密閉された循環ダクト3内に乾燥空気を供給することにより、高露点の空気全体に乾燥空気が拡散して、空気の露点を効率的に下げることができる。   Also, by supplying dry air into the circulation duct 3 sealed from the outside, the dry air diffuses throughout the high dew point air, and the dew point of the air can be lowered efficiently.

さらに、空気の露点を効率的に下げることにより、乾燥空気の供給量が低減されるため、乾燥空気の省資源化及び空気の高清浄化を実現することができる。   Furthermore, since the supply amount of dry air is reduced by efficiently reducing the dew point of air, it is possible to achieve resource saving of dry air and high cleanness of air.

上述した各実施例では、本発明を適用したプローバについて説明したが、本発明は、プローバに限定して適用されるものではなく、例えば、プローバに隣接して設けられるローダに適用しても構わない。   In each of the above-described embodiments, the prober to which the present invention is applied has been described. However, the present invention is not limited to the prober, and may be applied to, for example, a loader provided adjacent to the prober. Absent.

なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。   The present invention can be variously modified without departing from the spirit of the present invention, and the present invention naturally extends to the modified ones.

1 ・・・ プローバ
2 ・・・ チャンバ
2a・・・ 吸気口
2b・・・ 排気口
21・・・ ウェハチャック
22・・・ プローブカード
22a・・・プローブ
23・・・ X軸移動ステージ
23a・・・スライドテーブル
23b・・・ガイドレール
23c・・・スライド
24・・・ Y軸移動ステージ
24a・・・スライドテーブル
24b・・・ガイドレール
25・・・ Z軸移動ステージ
26・・・ ベース
3 ・・・ 循環ダクト
4 ・・・ 空気循環手段
41・・・ 吸引ファン
42・・・ FFU
43・・・ 排気ファン
5 ・・・ 乾燥空気供給手段
51・・・ ノズル
6 ・・・ 撹拌手段
61・・・ 温度検知部
62・・・ 速度検知部
63・・・ 演算部
64・・・ 制御部
65・・・ 撹拌溝
66・・・ 撹拌壁
D ・・・ 乾燥空気供給位置
R ・・・ 循環経路
W ・・・ ウェハ

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Probe 2 ... Chamber 2a ... Intake port 2b ... Exhaust port 21 ... Wafer chuck 22 ... Probe card 22a ... Probe 23 ... X-axis moving stage 23a ...・ Slide table 23b ・ ・ ・ Guide rail 23c ・ ・ ・ Slide 24 ・ ・ ・ Y axis movement stage 24a ・ ・ ・ Slide table 24b ・ ・ ・ Guide rail 25 ・ ・ ・ Z axis movement stage 26 ・ ・ ・ Base 3 ・ ・・ Circulation duct 4 ... Air circulation means 41 ... Suction fan 42 ... FFU
43 ... Exhaust fan 5 ... Dry air supply means 51 ... Nozzle 6 ... Stirring means 61 ... Temperature detection part 62 ... Speed detection part 63 ... Calculation part 64 ... Control Portion 65 ... Stirring groove 66 ... Stirring wall D ... Dry air supply position R ... Circulation path W ... Wafer

Claims (2)

ウェハチャックとプローブカードとを収容するチャンバと、該チャンバに吸気口と排気口とを介して接続されて空気の循環経路を形成する循環ダクトと、前記空気を前記循環経路内で循環させる空気循環手段と、を備えたプローバであって、
前記空気の露点を低下させる乾燥空気を前記循環ダクト内に供給する乾燥空気供給手段と、
前記循環ダクト内に設けられて、前記空気と前記乾燥空気とを撹拌する撹拌手段と、
を備え、
前記撹拌手段は、
前記循環ダクト内を流れる空気の温度を検知する温度検知部と、
前記空気の温度に基づいて、前記循環ダクト内の前記空気及び前記乾燥空気を撹拌可能な臨界レイノルズ数と該臨界レイノルズ数以上を維持可能な空気の乱流維持可能流量とを導出する演算部と、
前記空気の乱流維持可能流量に応じて前記空気循環手段の循環流量を制御する制御部と、
を備えていることを特徴とするプローバ。
A chamber for accommodating the wafer chuck and the probe card, a circulation duct connected to the chamber via an intake port and an exhaust port to form an air circulation path, and air circulation for circulating the air in the circulation path A prober comprising means,
Dry air supply means for supplying dry air for reducing the dew point of the air into the circulation duct ;
Agitating means provided in the circulation duct for agitating the air and the dry air;
With
The stirring means includes
A temperature detector for detecting the temperature of air flowing in the circulation duct;
A calculation unit for deriving a critical Reynolds number capable of stirring the air and the dry air in the circulation duct and a turbulent flow maintainable flow rate of air capable of maintaining the critical Reynolds number or more based on the temperature of the air; ,
A control unit for controlling the circulation flow rate of the air circulation means according to the flow rate capable of maintaining the turbulent flow of air;
Prober, characterized in that it comprises.
前記乾燥空気供給手段は、前記排気口に対して前記循環経路の下流側に配置された乾燥空気供給位置で前記乾燥空気を循環ダクト内に供給することを特徴とする請求項1記載のプローバ。
2. The prober according to claim 1, wherein the dry air supply means supplies the dry air into the circulation duct at a dry air supply position disposed on the downstream side of the circulation path with respect to the exhaust port.
JP2014016286A 2014-01-31 2014-01-31 Prober Active JP6143684B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014016286A JP6143684B2 (en) 2014-01-31 2014-01-31 Prober

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014016286A JP6143684B2 (en) 2014-01-31 2014-01-31 Prober

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017093284A Division JP6379253B2 (en) 2017-05-09 2017-05-09 Prober

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015144155A JP2015144155A (en) 2015-08-06
JP6143684B2 true JP6143684B2 (en) 2017-06-07

Family

ID=53889064

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014016286A Active JP6143684B2 (en) 2014-01-31 2014-01-31 Prober

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6143684B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106558512A (en) * 2015-10-22 2017-04-05 安徽超元半导体有限公司 A kind of prober air exhausting device
JP6945336B2 (en) 2017-04-24 2021-10-06 東京エレクトロン株式会社 Wafer inspection equipment
JP7433075B2 (en) 2020-02-19 2024-02-19 東京エレクトロン株式会社 Inspection equipment
KR102543896B1 (en) * 2020-12-31 2023-06-20 주식회사 쎄믹스 Air circulation apparatus
KR102639405B1 (en) * 2021-06-29 2024-02-22 주식회사 쎄믹스 Group prober compatible with non-clean facilities

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07111455B2 (en) * 1987-12-15 1995-11-29 東京エレクトロン株式会社 Probe device
JPH07111995B2 (en) * 1987-09-02 1995-11-29 東京エレクトロン株式会社 Probe device
JP5377915B2 (en) * 2008-09-30 2013-12-25 東京エレクトロン株式会社 Inspection apparatus and inspection method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015144155A (en) 2015-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6143684B2 (en) Prober
JP6379253B2 (en) Prober
US9070731B2 (en) Coating film forming apparatus, coating film forming method, and storage medium
CN208256628U (en) Substrate heating equipment
KR20150001638A (en) Coating film forming apparatus, coating film forming method, and recording medium
JP5969968B2 (en) Environmental test equipment
KR101207891B1 (en) Burn in test chamber for semiconductor component
US11181434B2 (en) Leakage inspection device
JP5452152B2 (en) Inspection device
KR102509238B1 (en) Inspection apparatus
TWI757473B (en) Wafer Inspection Device
KR101191309B1 (en) Cooling module for solid state disk and cooling apparatus that contains it
KR20200051315A (en) Probe station
CN111257605B (en) Probe card and WAT test machine
JP4217875B2 (en) Wafer transfer device
KR102543896B1 (en) Air circulation apparatus
CN219442735U (en) Wafer carrier assembly
US20180308730A1 (en) Processing apparatus, abnormality detection method, and storage medium
US20240066548A1 (en) Substrate processing apparatus
US20240066684A1 (en) Substrate processing apparatus
US11946858B2 (en) Examination device
US20240071793A1 (en) Substrate processing apparatus
CN116809525A (en) Wafer carrier assembly and wafer detection method
US20230307257A1 (en) Substrate processing apparatus
JP2009264896A (en) Environmental test device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160701

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170209

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170214

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170327

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170418

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170509

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6143684

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250