JP6130525B2 - 複数の制御チャンバを備えるベーンポンプ - Google Patents
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Description
本出願は、2013年3月13日に出願された米国実用出願第13/800,227号の優先権を主張するものであり、該実用出願は2012年11月27日に出願された米国特許出願第13/686,680号の一部継続出願であり、該一部継続出願は2010年9月10日に出願された米国特許出願第12/879,406号であって、2012年11月27日に発行された特許第8,317,486号の継続出願であり、該継続出願は2007年6月4日に出願された米国特許出願第11/720,787号であり、2010年9月14日に発行された特許第7,794,217号の継続出願であり、該継続出願は2005年12月21日に出願された国際出願PCT/CA2005/001946号の国内段階であり、2004年12月22日に出願された米国仮特許出願第60/639,185号の利益を主張するものである。上述の各出願の全ての開示は、参照によって本明細書に組み込まれる。
このようにして、平衡圧がポンプの出力で得られる。
Claims (14)
- 可変容量ベーンポンプであって、
ポンプチャンバを含むポンプケーシングと、
ポンプチャンバ内を移動可能であり、ポンプの容量を変化させるポンプ制御リングと、
ポンプ制御リングのキャビティ内に位置し、ポンプ制御リングのキャビティの中心からずれた軸線まわりに回転可能であるベーンポンプロータと、
ロータによって駆動され、ポンプ制御リングの内表面に係合するベーンと、
ポンプケーシングとポンプ制御リングの第1部分との間の第1制御チャンバであって、該ポンプ制御リングの第1部分が枢動ピンの両側に周方向に延び、該第1制御チャンバが、加圧された流体を受容し、ポンプ制御リングを移動させる力を生じさせて、ポンプの容量を減少させるように動作可能である第1制御チャンバと、
ポンプケーシングとポンプ制御リングの第2部分との間の第2制御チャンバであって、加圧された流体を受容し、ポンプ制御リングを移動させる力を生じさせて、ポンプの容量を減少させるように動作可能である第2制御チャンバと、
最大容量の位置に向けてポンプリングを付勢する伸縮ばねであって、第1および第2制御チャンバ内の加圧された流体によって生じる力に抗して作用する伸縮ばねと、
を含むことを特徴とする可変容量ベーンポンプ。 - 第1制御チャンバを少なくとも部分的に規定する移動可能な第1および第2シールと、回転のために制御リングを支持する枢動ピンとをさらに含み、第1シールが第2シールよりも枢動ピンの近くに位置することを特徴とする、請求項1に記載の可変容量ベーンポンプ。
- ポンプ制御リングは、横方向に延び、周方向に互いに離れた、第1および第2溝を含み、第1溝は第1シールを受容し、第2の移動可能な弾性シールは、ポンプケーシングに封止係合して第2溝内に位置することを特徴とする、請求項2に記載の可変容量ベーンポンプ。
- ポンプケーシングは、シールによって係合されるケーシング壁から離れた支柱を含み、枢動ピンは支柱に固定されることを特徴とする、請求項3に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 第1チャンバは、ポンプ出口圧力で流体を連続的に受容することを特徴とする、請求項1に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 第1シールは、第2シールから周方向に100度を超える角度で離れ、角度の頂点は、ポンプ制御リングのキャビティの中心であることを特徴とする、請求項2に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 可変容量ベーンポンプであって、
入口と出口とを有するポンプチャンバを含むポンプケーシングと、
ポンプチャンバ内を枢動可能に移動可能であり、ポンプの容量を変化させるポンプ制御リングと、
ポンプ制御リング内に回転可能に装着され、摺動可能に装着されたベーンを受容する放射状に延びる複数のスロットを有するベーンポンプロータであって、各ベーンの半径方向外端部がポンプ制御リングの内表面に係合し、ポンプ制御リングの中心から偏心して回転軸線まわりに回転可能であり、流体が入口から出口まで移動するとき、流体を加圧するように回転可能であるベーンポンプロータと、
ポンプケーシングとポンプ制御リングの外表面との間の第1制御チャンバであって、加圧された流体を受容し、ポンプ制御リングを移動する力を生じさせ、ポンプの容量を減少させるように動作可能である第1制御チャンバと、
ポンプケーシングとポンプ制御リングの外表面との間の第2制御チャンバであって、加圧された流体を受容し、ポンプ制御リングを移動させる力を生じさせ、ポンプの容量を減少させるように選択的に動作可能である第2制御チャンバと、
ポンプケーシングとポンプ制御リングの外表面との間の第3制御チャンバであって、ポンプの出口から加圧された流体を常に受容する第3制御チャンバと、
ケーシング内に位置し、ポンプリングとケーシングとの間に作用して、ポンプリングを最大容量の位置に向けて付勢する伸縮ばねであって、第1および第2制御チャンバ内に加圧された流体によって生じる力に抗して作用する伸縮ばねと、
を含むことを特徴とする可変容量ベーンポンプ。 - ケーシングとポンプ制御リングとの間に位置して、少なくとも部分的に第1、第2および第3制御チャンバを規定し、摺動可能にケーシングを横切って移動可能である、第1、第2、第3、および第4シールをさらに含むことを特徴とする、請求項7に記載の可変容量ベーンポンプ。
- ポンプ制御リングは、半径方向外方に突出する単一片の第1および第2突起を含み、各突起は溝部を含み、第1突起の溝部は第1および第2制御チャンバを分離するシールを受容し、第2突起の溝部は、第1および第3制御チャンバを分離するシールを受容することを特徴とする、請求項8に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 流体を第2制御チャンバに選択的に供給するように動作可能な制御機構をさらに含むことを特徴とする、請求項7に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 制御機構は、電磁弁を含むことを特徴とする、請求項10に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 第1および第4シールは、少なくとも部分的に第3制御チャンバを規定し、第1シールは、第4シールとは異なる、制御リング枢動軸に関するモーメントアーム長に位置することを特徴とする、請求項7に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 第1シールの位置は、第3チャンバ内の加圧された流体から制御リングに作用する合力が、制御リングを最小容量に向けて付勢するように、第4シールの位置によって規定されるモーメントアームよりも長いモーメントアームを規定することを特徴とする、請求項12に記載の可変容量ベーンポンプ。
- 第1シールは、第4シールから周方向に80度を超える角度で離れており、角度の頂点はポンプ制御リングの中心であることを特徴とする、請求項12に記載の可変容量ベーンポンプ。
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