JP6109636B2 - Photocurable resin composition - Google Patents

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本発明は、光硬化性樹脂組成物及び該光硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射することによって得られる硬化物に関する。該光硬化性樹脂組成物および硬化物は、特に封止剤として有用である。   The present invention relates to a photocurable resin composition and a cured product obtained by irradiating the photocurable resin composition with active energy rays. The photocurable resin composition and the cured product are particularly useful as a sealant.

光硬化性樹脂組成物は、インキ、塗料、各種コーティング剤、接着剤、光学部材等の分野において用いられている。   Photocurable resin compositions are used in the fields of inks, paints, various coating agents, adhesives, optical members, and the like.

例えば、下記特許文献1〜4には、種々の光硬化性樹脂組成物が開示されているが、該光硬化性樹脂組成物は、電子機器用、半導体装置用接着剤として有用なもので、体積抵抗率や耐吸水性が十分でなかった。   For example, in the following Patent Documents 1 to 4, various photocurable resin compositions are disclosed, but the photocurable resin composition is useful as an adhesive for electronic devices and semiconductor devices. Volume resistivity and water absorption resistance were not sufficient.

特開2006−213872号公報JP 2006-213872 A 特開2008−074928号公報JP 2008-074928 A 特開2008−106231号公報JP 2008-106231 A 特開2008−258429号公報JP 2008-258429 A

従って、本発明の目的は、硬化性及び耐吸水性に優れ、高い体積抵抗値を有する光硬化性樹脂組成物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a photocurable resin composition that is excellent in curability and water absorption resistance and has a high volume resistance value.

即ち、本発明の光硬化性樹脂組成物は、(1)カチオン重合性有機物質として、下記一般式(I)で表される化合物と下記一般式(II)で表される化合物とを含む混合物100質量部と、(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤0.001〜10質量部と、
さらに、(1)カチオン重合性有機物質として、下記一般式(III)で表される化合物と、を含有することを特徴とするものである。

Figure 0006109636
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン原子を表し、nは0〜10の数である。) That is, the photocurable resin composition of the present invention comprises (1) a mixture containing a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II) as a cationically polymerizable organic substance. 100 parts by mass, (2) 0.001 to 10 parts by mass of an energy ray sensitive cationic polymerization initiator,
Furthermore, (1) the compound represented by the following general formula (III) is contained as a cationically polymerizable organic substance.
Figure 0006109636
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom, and n is a number from 0 to 10. is there.)

Figure 0006109636
(式中、Zは、単結合、又は、−CO−O−又は−O−CO−で中断されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキレン基を表し、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、a及びbは、それぞれ独立に、0〜10の数であり、pは、0〜5の数である。)
Figure 0006109636
Wherein Z 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may be interrupted by —CO—O— or —O—CO—, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and a and b are Each is independently a number from 0 to 10, and p is a number from 0 to 5.)

Figure 0006109636
Figure 0006109636

また、本発明の光硬化性樹脂組成物は、前記(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤が、[A]r+[B] t−(但し、rは1〜4の整数、tは1〜4の整数、sは電荷を中性に保つ係数である。)で表される陽イオンと陰イオンの塩であることが好ましい。 In the photocurable resin composition of the present invention, the (2) energy ray-sensitive cationic polymerization initiator is [A] r + [B] s t- (where r is an integer of 1 to 4, and t is 1). An integer of ˜4, s is a coefficient for keeping the charge neutral.) And a salt of a cation and an anion.

本発明の封止剤は、上記いずれかの光硬化性樹脂組成物からなることを特徴とするものである。   The sealing agent of this invention consists of one of the said photocurable resin compositions, It is characterized by the above-mentioned.

本発明の硬化物は、上記いずれかの光硬化性樹脂組成物を硬化してなることを特徴とするものである。   The cured product of the present invention is obtained by curing any of the above photocurable resin compositions.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、硬化性及び耐吸水性に優れ、高い体積抵抗値を有するため、封止剤用途として特に有用なものである。耐吸水性が高いことから、優れた耐はんだ性が期待でき、電子機器や半導体用途に好適に用いられ得る。   Since the photocurable resin composition of the present invention is excellent in curability and water absorption resistance and has a high volume resistance value, it is particularly useful as a sealant application. Since it has high water absorption resistance, it can be expected to have excellent solder resistance and can be suitably used for electronic equipment and semiconductor applications.

以下、本発明の光硬化性樹脂組成物及び該光硬化性樹脂組成物からなる封止剤について詳細に説明する。   Hereinafter, the photocurable resin composition of the present invention and the sealant comprising the photocurable resin composition will be described in detail.

本発明に使用する前記(1)カチオン重合性有機物質としては、光照射により活性化したエネルギー線感受性カチオン重合開始剤により高分子化または、架橋反応を起こす化合物である上記一般式(I)で表される化合物と(II)で表される化合物とを含む混合物である。さらに、一般式(III)で表される化合物も含むことが好ましい。それぞれの化合物の好適な含有割合は、モル比で、一般式(I)で表される化合物:一般式(II)で表される化合物=3:1〜1:3であり、より好ましくは2:1〜1:1である。また、一般式(III)で表される化合物を含む場合は、好ましくは、モル比で、(一般式(I)で表される化合物と一般式(II)で表される化合物との合計):一般式(III)で表される化合物=5:1〜1:5であり、より好ましくは、4:1〜1:1である。   The (1) cationically polymerizable organic substance used in the present invention is a compound that is polymerized by an energy ray-sensitive cationic polymerization initiator activated by light irradiation or a compound that causes a crosslinking reaction. It is a mixture containing the compound represented and the compound represented by (II). Furthermore, it is preferable that the compound represented by general formula (III) is also included. A suitable content ratio of each compound is a compound represented by the general formula (I): a compound represented by the general formula (II) = 3: 1 to 1: 3, more preferably 2 in terms of molar ratio. : 1-1: 1. Further, when the compound represented by the general formula (III) is included, it is preferably a molar ratio (total of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II)). : Compound represented by formula (III) = 5: 1 to 1: 5, more preferably 4: 1 to 1: 1.

上記一般式(I)中のR、上記一般式(II)中のR及びRがとりうる、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、クロロエチル、フルオロエチル、1−クロロプロピル、2−クロロプロピル、1−クロロブチル、2−クロロブチル等が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。 R 1 in the above general formula (I), R 2 and R 3 in the above general formula (II) can be a straight or branched chain carbon atom having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, t-butyl, chloroethyl, fluoroethyl, 1-chloropropyl, 2-chloropropyl, 1-chlorobutyl, 2-chlorobutyl and the like. Examples of the halogen atom include fluorine, chlorine, bromine and iodine.

上記一般式(II)中のZがとりうる、−CO−O−又は−O−CO−で中断されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキレン基中のアルキレン基としては、メチレン、エチレン、プロピレン、メチルエチレン、ブチレン、1−メチルプロピレン、2−メチルプロピレン等が挙げられる。 Alkylene in a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may be interrupted by —CO—O— or —O—CO—, which Z 1 in formula (II) may take Examples of the group include methylene, ethylene, propylene, methylethylene, butylene, 1-methylpropylene, 2-methylpropylene and the like.

上記一般式(I)及び(II)で表される化合物としては、市販品を用いることもできる。
上記一般式(I)で表される化合物としては、XD−1000、XD−1000−L、XD−1000−2L(日本化薬社製)、エピクロンHP−7200、エピクロンHP−7200H、エピクロンHP−7200HH、エピクロンHP−7200HHH、エピクロンHP−7200L(DIC社製)、Tactix556、Tactix71756(ハンツマン・アドバンスト・マテリアル社製)等が挙げられる。
上記一般式(II)で表される化合物としては、jER YL−6571、jER YL−6663、jER YX−8000、jER YX−8034、jER YX−8040(三菱化学社製)、エピクロンEXA−7015(DIC社製)、エポネックスDRH−151、エポネックスDRH−1510、エポネックス510(シェルケミカル社製)、デナコールEX−252(ナガセケムテックス社製)、アデカレジンEP−4080、アデカレジンEP−4080E、アデカレジンEP−4080S(ADEKA社製)等が挙げられる。
A commercial item can also be used as a compound represented by the said general formula (I) and (II).
Examples of the compound represented by the general formula (I) include XD-1000, XD-1000-L, XD-1000-2L (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Epicron HP-7200, Epicron HP-7200H, Epicron HP- 7200HH, Epicron HP-7200HHH, Epicron HP-7200L (manufactured by DIC), Tactix556, Tactix71756 (manufactured by Huntsman Advanced Materials), and the like.
Examples of the compound represented by the general formula (II) include jER YL-6571, jER YL-6663, jER YX-8000, jER YX-8034, jER YX-8040 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), Epicron EXA-7015 ( DIC), Eponex DRH-151, Eponex DRH-1510, Eponex 510 (manufactured by Shell Chemical), Denacol EX-252 (manufactured by Nagase ChemteX), Adeka Resin EP-4080, Adeka Resin EP-4080E, Adeka Resin EP-4080S (Made by ADEKA) etc. are mentioned.

上記(1)カチオン重合性有機物質としては、更に、上記一般式(I)〜(III)で表される化合物以外の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂あるいは脂肪族エポキシ樹脂を用いることができる。   As the above (1) cationic polymerizable organic substance, an aromatic epoxy resin, an alicyclic epoxy resin or an aliphatic epoxy resin other than the compounds represented by the general formulas (I) to (III) may be used. it can.

前記芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノール又は、そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、又はこれらに更にアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテルやエポキシノボラック樹脂等が挙げられる。   Specific examples of the aromatic epoxy resin include polyhydric phenol having at least one aromatic ring or polyglycidyl ether of an alkylene oxide adduct thereof, such as bisphenol A, bisphenol F, or further alkylene oxide added thereto. Examples thereof include glycidyl ethers and epoxy novolac resins of the above compounds.

前記脂環族エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテルまたはシクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。たとえば、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−1−メチルヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、プロパン−2,2−ジイル−ビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、2,2−ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロパンジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、1,2−エポキシ−2−エポキシエチルシクロヘキサン等が挙げられる。   Specific examples of the alicyclic epoxy resin include cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a polyglycidyl ether of polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring or a cyclohexene or cyclopentene ring-containing compound with an oxidizing agent. A cyclopentene oxide containing compound is mentioned. For example, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylhexanecarboxylate 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane Metageo Sun, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylcarboxylate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), propane-2,2-diyl-bis (3,4 -Epoxycyclohexane), 2,2-bis (3,4-epoxycyclohexyl) propanedicyclopentadiene diepoxide, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dioctyl epoxyhexahydrophthalate, epoxyhexahydrophthalic acid Examples thereof include di-2-ethylhexyl, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane, 1,2-epoxy-2-epoxyethylcyclohexane and the like.

前記脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル等が挙げられる。代表的な化合物として、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アルコールのグリシジルエーテル、また、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。更に、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、また、これらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化大豆油、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。   Specific examples of the aliphatic epoxy resin include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, and the like. As typical compounds, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, triglycidyl ether of glycerin, triglycidyl ether of trimethylolpropane, tetraglycidyl ether of sorbitol, dipentaerythritol One or more glycidyl ethers of polyhydric alcohols such as hexaglycidyl ether, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, and aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol, trimethylolpropane and glycerin Polyglycidyl ether of polyether polyol, diglycidyl ester of aliphatic long-chain dibasic acid obtained by adding an alkylene oxide of And the like. In addition, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, phenols, cresols, butylphenols, polyether alcohol monoglycidyl ethers obtained by adding alkylene oxides to these, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, epoxy Examples include octyl stearate, butyl epoxy stearate, epoxidized soybean oil, and epoxidized polybutadiene.

上記(1)カチオン重合性有機物質において、上記一般式(I)〜(III)で表される化合物以外のエポキシ樹脂の使用割合は特に限定されず、本発明の目的を阻害しない範囲内で概ね通常の使用割合で使用すればよい。例えば、(1)カチオン重合性有機物質100質量部に対して、上記一般式(I)〜(III)で表される化合物以外のエポキシ樹脂の量は、好ましくは0〜40質量部、より好ましくは0〜30質量部である。   In the above (1) cationically polymerizable organic substance, the use ratio of the epoxy resin other than the compounds represented by the general formulas (I) to (III) is not particularly limited, and is generally within the range not impairing the object of the present invention. What is necessary is just to use at a normal usage rate. For example, the amount of the epoxy resin other than the compounds represented by the above general formulas (I) to (III) is preferably 0 to 40 parts by mass, more preferably 100 parts by mass of the cationically polymerizable organic substance (1). Is 0-30 parts by mass.

本発明に使用する前記(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤は、エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であればいずれでもよい。好ましくは、エネルギー線の照射によってルイス酸を放出するオニウム塩である複塩、またはその誘導体である。かかる化合物の代表的なものとしては、下記一般式、[A]r+[B] t−(但し、rは1〜4の整数、tは1〜4の整数、sは電荷を中性に保つ係数である。)で表される陽イオンと陰イオンの塩を挙げることができる。 The energy beam sensitive cationic polymerization initiator (2) used in the present invention may be any compound that can release a substance that initiates cationic polymerization by irradiation with energy rays. Preferably, it is a double salt that is an onium salt that releases a Lewis acid upon irradiation with energy rays, or a derivative thereof. Typical examples of such compounds include the following general formula: [A] r + [B] s t- (where r is an integer of 1 to 4, t is an integer of 1 to 4, s is a neutral charge) Cation and anion salts represented by the formula (1).

ここで陽イオン[A]r+はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、[(RQ]r+で表すことができる。 Here, the cation [A] r + is preferably onium, and the structure thereof can be represented by, for example, the following general formula [(R 7 ) a Q] r + .

更にここで、Rは炭素原子数が1〜60であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでいてもよい有機の基である。aは1〜5のいずれかの整数である。a個のRは各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、Rの少なくとも1つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが好ましい。例えば、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアルコキシ基、ハロゲン原子、ベンジル基、チオフェノキシ基、4−ベンゾイルフェニルチオ基、2−クロロ−4−ベンゾイルフェニルチオ基等で置換されていてもよいフェニル基が挙げられる。QはS,N,Se,Te,P,As,Sb,Bi,O,I,Br,Cl,F,N=Nからなる群から選ばれる原子あるいは原子団である。また、陽イオン[A]r+中のQの原子価をqとしたとき、r=a−qなる関係が成り立つことが必要である(但し、N=Nは原子価0として扱う)。 Further, R 7 is an organic group having 1 to 60 carbon atoms and optionally containing any number of atoms other than carbon atoms. a is an integer of 1 to 5. The a R 7 s are independent and may be the same or different. In addition, at least one of R 7 is preferably an organic group as described above having an aromatic ring. For example, it may be substituted with an alkyl group, alkoxy group, hydroxy group, hydroxyalkoxy group, halogen atom, benzyl group, thiophenoxy group, 4-benzoylphenylthio group, 2-chloro-4-benzoylphenylthio group, etc. A phenyl group is mentioned. Q is an atom or atomic group selected from the group consisting of S, N, Se, Te, P, As, Sb, Bi, O, I, Br, Cl, F, and N = N. Further, when the valence of Q in the cation [A] r + is q, the relationship r = a−q needs to be established (however, N = N is treated as a valence of 0).

また、陰イオン[B]t−は、ハロゲン化物錯体であることが好ましく、その構造は、例えば、下記一般式、[LXt−で表すことができる。 Further, the anion [B] t- is preferably a halide complex, and the structure thereof can be represented by, for example, the following general formula, [LX b ] t- .

更にここで、Lはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属(Metalloid)であり、B,P,As,Sb,Fe,Sn,Bi,Al,Ca,In,Ti,Zn,Sc,V,Cr,Mn,Co等である。Xはハロゲン原子、または、ハロゲン原子やアルコキシ基等で置換されていてもよいフェニル基である。bは3〜7なる整数である。また、陰イオン[B]t−中のLの原子価をpとしたとき、t=b−pなる関係が成り立つことが必要である。 Further, here, L is a metal or metalloid which is a central atom of a halide complex, and B, P, As, Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ca, In, Ti, Zn, Sc, V, Cr, Mn, Co and the like. X is a halogen atom or a phenyl group which may be substituted with a halogen atom or an alkoxy group. b is an integer of 3-7. Further, when the valence of L in the anion [B] t− is p, it is necessary that the relationship t = b−p holds.

上記一般式の陰イオン[LXt−の具体例としては、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート、テトラ(3,5−ジフルオロ−4−メトキシフェニル)ボレート、テトラフルオロボレート(BF、ヘキサフルオロフォスフェート(PF、ヘキサフルオロアンチモネート(SbF、ヘキサフルオロアルセネート(AsF、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl等を挙げることができる。 Specific examples of the anion [LX b ] t- of the above general formula include tetrakis (pentafluorophenyl) borate, tetra (3,5-difluoro-4-methoxyphenyl) borate, tetrafluoroborate (BF 4 ) , Examples include hexafluorophosphate (PF 6 ) , hexafluoroantimonate (SbF 6 ) , hexafluoroarsenate (AsF 6 ) , hexachloroantimonate (SbCl 6 ) − and the like.

また、陰イオン[B]t−は、下記一般式、[LXb−1(OH)]t−で表される構造のものも好ましく用いることができる。L,X,bは上記と同様である。また、その他用いることのできる陰イオンとしては、過塩素酸イオン(ClO、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CFSO、フルオロスルホン酸イオン(FSO、トルエンスルホン酸陰イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルフォネート、ノナフロロブタンスルフォネート、ヘキサデカフロロオクタンスルフォネート、テトラアリールボレート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等を挙げることができる。 Moreover, the thing of the structure represented by the following general formula, [LXb -1 (OH)] t- can also be preferably used for the anion [B] t- . L, X, and b are the same as described above. Other anions that can be used include perchlorate ion (ClO 4 ) , trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 SO 3 ) , fluorosulfonate ion (FSO 3 ) , and toluenesulfonate anion. , Trinitrobenzenesulfonate anion, camphor sulfonate, nonafluorobutane sulfonate, hexadecafluorooctane sulfonate, tetraarylborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like.

本発明では、このようなオニウム塩の中でも、下記の(イ)〜(ハ)の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効であり、好ましい。これらの中から、その1種を単独で、または2種以上を混合して使用することができる。   In the present invention, among these onium salts, it is particularly effective and preferable to use the following aromatic onium salts (a) to (c). Among these, one of them can be used alone, or two or more of them can be mixed and used.

(イ)フェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、4−メトキシフェニルジアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−メチルフェニルジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩。   (I) Aryl diazonium salts such as phenyldiazonium hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyldiazonium hexafluoroantimonate, 4-methylphenyldiazonium hexafluorophosphate, and the like.

(ロ)ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジ(4−メチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジ(4−tert−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリルクミルヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等のジアリールヨードニウム塩。   (B) Diaryls such as diphenyliodonium hexafluoroantimonate, di (4-methylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, di (4-tert-butylphenyl) iodonium hexafluorophosphate, and tricumyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate Iodonium salt.

(ハ)トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス(4−メトキシフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ビス(ジフェニルスルフォニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、4,4’−ビス(ジフェニルスルフォニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、4,4’−ビス[ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフォニオ]フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、4,4’−ビス[ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニルスルフォニオ]フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、4−[4’−(ベンゾイル)フェニルチオ]フェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、4−[4’−(ベンゾイル)フェニルチオ]フェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、4−(2−クロロ−4−ベンゾイルフェニルチオ)フェニル−ジ−(4−フルオロフェニル)スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩及びジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートと4,4’−ビス(ジフェニルスルフォニオ)フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェートの混合物等のトリアリールスルホニウム塩。   (C) Triphenylsulfonium hexafluoroantimonate, tris (4-methoxyphenyl) sulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluorophosphate, 4, 4′-bis (diphenylsulfonio) phenyl sulfide-bis-hexafluoroantimonate, 4,4′-bis (diphenylsulfonio) phenyl sulfide-bis-hexafluorophosphate, 4,4′-bis [di ( β-hydroxyethoxy) phenylsulfonio] phenylsulfide-bis-hexafluoroantimonate, 4,4′-bis [di (β-hydroxyethoxy) phenylsulfonylio] f Phenylsulfide-bis-hexafluorophosphate, 4- [4 ′-(benzoyl) phenylthio] phenyl-di- (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate, 4- [4 ′-(benzoyl) phenylthio] phenyl-di Triarylsulfonium salts such as-(4-fluorophenyl) sulfonium hexafluorophosphate, 4- (2-chloro-4-benzoylphenylthio) phenyl-di- (4-fluorophenyl) sulfonium hexafluoroantimonate and diphenyl-4 A triarylsulfonium salt such as a mixture of thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate and 4,4′-bis (diphenylsulfonio) phenyl sulfide-bis-hexafluorophosphate.

また、その他好ましいものとしては、(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)〔(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベンゼン〕−アイアン−ヘキサフルオロホスフェート等の鉄−アレーン錯体や、トリス(アセチルアセトナト)アルミニウム、トリス(エチルアセトナトアセタト)アルミニウム、トリス(サリチルアルデヒダト)アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物等も挙げることができる。 Other preferable examples include (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(1-methylethyl) benzene] -iron. -Iron-arene complexes such as hexafluorophosphate, aluminum complexes such as tris (acetylacetonato) aluminum, tris (ethylacetonatoacetato) aluminum, tris (salicylaldehyde) aluminum and silanols such as triphenylsilanol The mixture of these can be mentioned.

これらの中でも、実用面と光感度の観点から、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、鉄−アレーン錯体を用いることが好ましい。   Among these, from the viewpoint of practical use and photosensitivity, it is preferable to use an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, or an iron-arene complex.

上記(1)カチオン重合性有機物質に対する(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の使用割合は特に限定されず、本発明の目的を阻害しない範囲内で概ね通常の使用割合で使用すればよい。好ましくは、(1)カチオン重合性有機物質100質量部に対して、(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤が0.001〜10質量部、より好ましくは0.1〜5質量部である。少なすぎると硬化が不十分となりやすく、多すぎると硬化物の吸水率や硬化物強度などの諸物性に悪影響を与える場合がある。   The use ratio of the (2) energy ray-sensitive cationic polymerization initiator to the (1) cationic polymerizable organic substance is not particularly limited, and may be used at a generally normal use ratio within a range not impairing the object of the present invention. Preferably, (1) the energy-sensitive cationic polymerization initiator is 0.001 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cationically polymerizable organic substance. If the amount is too small, curing tends to be insufficient, and if the amount is too large, various physical properties such as the water absorption rate and the strength of the cured product may be adversely affected.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、シランカップリング剤を含むことが好ましい。
シランカップリング剤としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシランなどのアルキル官能性アルコキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシランなどのアルケニル官能性アルコキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの(メタ)アクリル酸エステル官能性アルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン等のエポキシ官能性アルコキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ官能性アルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等のメルカプト官能性アルコキシシラン、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラノルマルブトキシドなどのチタンアルコキシド類、チタンジオクチロキシビス(オクチレングリコレート)、チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)などのチタンキレート類、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトネートなどのジルコニウムキレート類、ジルコニウムトリブトキシモノステアレートなどのジルコニウムアシレート類、メチルトリイソシアネートシランなどのイソシアネートシラン類等を用いることができる。
The photocurable resin composition of the present invention preferably contains a silane coupling agent.
Examples of the silane coupling agent include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, methylethyldimethoxysilane, methylethyldiethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, and ethyltrimethoxysilane. Alkyl-functional alkoxysilanes, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane and other alkenyl-functional alkoxysilanes, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 2-methacryloxypropyltrimethoxysilane Any (meth) acrylic acid ester functional alkoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- Epoxy-functional alkoxysilanes such as (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ- Aminofunctional alkoxysilanes such as aminopropyltrimethoxysilane, mercaptofunctional alkoxysilanes such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, titanium alkoxides such as titanium tetraisopropoxide, titanium tetranormal butoxide, titanium geo Titanium chelates such as tyroxybis (octylene glycolate), titanium diisopropoxybis (ethyl acetoacetate), zirconium chelates such as zirconium tetraacetylacetonate and zirconium tributoxymonoacetylacetonate, zirconium tributoxy monostearate, etc. Zirconium acylates, isocyanate silanes such as methyl triisocyanate silane, and the like can be used.

上記シランカップリング剤の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、光硬化性樹脂組成物中の固形物の全量100質量部に対して、1〜20質量部の範囲である。   Although the usage-amount of the said silane coupling agent is not specifically limited, Preferably, it is the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of whole quantity of the solid substance in a photocurable resin composition.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、必要に応じてチクソ剤を用いることができる。
チクソ剤としては、例えば、超微粒子シリカ、無水シリカ、コロイド状シリカ、ステアリン酸アルミニウム、表面処理ベントナイト、水素添加ヒマシ油等が挙げられる。
A thixotropic agent can be used for the photocurable resin composition of the present invention as necessary.
Examples of the thixotropic agent include ultrafine silica, anhydrous silica, colloidal silica, aluminum stearate, surface-treated bentonite, hydrogenated castor oil, and the like.

上記チクソ剤の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、光硬化性樹脂組成物中の固形物の全量100質量部に対して、1〜20質量部の範囲である。   Although the usage-amount of the said thixotropic agent is not specifically limited, Preferably, it is the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of whole quantity of the solid substance in a photocurable resin composition.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、必要に応じて熱重合開始剤を用いることができる。
熱重合開始剤とは、加熱によりカチオン種又はルイス酸を発生する化合物として、スルホニウム塩、チオフェニウム塩、チオラニウム塩、ベンジルアンモニウム、ピリジニウム塩、ヒドラジニウム塩等の塩;ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン等のポリアルキルポリアミン類;1,2−ジアミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノ−3,6−ジエチルシクロヘキサン、イソホロンジアミン等の脂環式ポリアミン類;m−キシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン等の芳香族ポリアミン類;前記ポリアミン類と、フェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、ビスフェノールA−ジグリシジルエーテル、ビスフェノールF−ジグリシジルエーテル等のグリシジルエーテル類又はカルボン酸のグリシジルエステル類等の各種エポキシ樹脂とを常法によって反応させることによって製造されるポリエポキシ付加変性物;前記有機ポリアミン類と、フタル酸、イソフタル酸、ダイマー酸などのカルボン酸類とを常法によって反応させることによって製造されるアミド化変性物;前記ポリアミン類とホルムアルデヒド等のアルデヒド類及びフェノール、クレゾール、キシレノール、第三ブチルフェノール、レゾルシン等の核に少なくとも一個のアルデヒド化反応性場所を有するフェノール類とを常法によって反応させることによって製造されるマンニッヒ化変性物;多価カルボン酸(シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、2−メチルコハク酸、2−メチルアジピン酸、3−メチルアジピン酸、3−メチルペンタン二酸、2−メチルオクタン二酸、3,8−ジメチルデカン二酸、3,7−ジメチルデカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸等の脂肪族ジカルボン酸類;フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸類;シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸類;トリメリット酸、トリメシン酸、ひまし油脂肪酸の三量体等のトリカルボン酸類;ピロメリット酸等のテトラカルボン酸類等)の酸無水物;ジシアンジアミド、イミダゾール類、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル、アミンイミド等を挙げることができる。
In the photocurable resin composition of the present invention, a thermal polymerization initiator can be used as necessary.
Thermal polymerization initiator is a compound that generates a cationic species or Lewis acid by heating, such as a salt of sulfonium salt, thiophenium salt, thiolanium salt, benzylammonium, pyridinium salt, hydrazinium salt; diethylenetriamine, triethylenetriamine, tetraethylenepenta Polyalkylpolyamines such as min; alicyclic polyamines such as 1,2-diaminocyclohexane, 1,4-diamino-3,6-diethylcyclohexane, isophoronediamine; m-xylylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone Aromatic polyamines such as; such polyamines; phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, bisphenol A-diglycidyl ether, bisphenol F-diglycidyl ether, etc. Polyepoxy addition-modified products produced by reacting various kinds of epoxy resins such as glycidyl ethers or glycidyl esters of carboxylic acids in a conventional manner; such organic polyamines as phthalic acid, isophthalic acid, dimer acid, etc. An amidation modified product produced by reacting carboxylic acids with a conventional method; at least one aldehyde reaction in the nucleus of polyamines and aldehydes such as formaldehyde and phenol, cresol, xylenol, tert-butylphenol, resorcin, etc. Mannich-modified products produced by reacting phenols having sex sites by a conventional method; polyvalent carboxylic acids (oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelain Acid, sebacic acid, Decanedioic acid, 2-methylsuccinic acid, 2-methyladipic acid, 3-methyladipic acid, 3-methylpentanedioic acid, 2-methyloctanedioic acid, 3,8-dimethyldecanedioic acid, 3,7-dimethyldecane Aliphatic dicarboxylic acids such as diacids, hydrogenated dimer acids and dimer acids; aromatic dicarboxylic acids such as phthalic acid, terephthalic acid, isophthalic acid and naphthalenedicarboxylic acid; alicyclic dicarboxylic acids such as cyclohexanedicarboxylic acid; trimellitic acid , Tricarboxylic acids such as trimesic acid and trimer of castor oil fatty acid; tetracarboxylic acids such as pyromellitic acid) acid anhydrides; dicyandiamide, imidazoles, carboxylic acid esters, sulfonic acid esters, amine imides, etc. .

上記熱重合開始剤としては、市販品を用いることもでき、例えば、アデカオプトン CP77、アデカオプトンCP66(ADEKA社製)、CI−2639、CI−2624(日本曹達社製)、サンエイド SI−60L、サンエイドSI−80L、サンエイド SI−100L(三新化学工業社製)などが挙げられる。   A commercial item can also be used as said thermal polymerization initiator, for example, Adeka Opton CP77, Adeka Opton CP66 (made by ADEKA), CI-2638, CI-2624 (made by Nippon Soda Co., Ltd.), Sun-Aid SI-60L, Sun-Aid SI -80L, Sun-Aid SI-100L (manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.

上記熱重合開始剤の使用量は、特に限定されないが、好ましくは、光硬化性樹脂組成物中の固形物の全量100質量部に対して、0.001〜10質量部の範囲であり、該熱重合開始剤を用いる場合には、本発明の光硬化性樹脂組成物を硬化させる際に130〜180℃で20分〜1時間加熱するのが好ましい。   The amount of the thermal polymerization initiator used is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.001 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of solids in the photocurable resin composition, When using a thermal polymerization initiator, it is preferable to heat at 130 to 180 ° C. for 20 minutes to 1 hour when the photocurable resin composition of the present invention is cured.

本発明の光硬化性樹脂組成物には、通常、必要に応じて前記(1)〜(5)の各成分を溶解または分散しえる溶媒、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、クロロホルム、塩化メチレン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、イソプロパノールを加えることができる。   In the photocurable resin composition of the present invention, a solvent capable of dissolving or dispersing each of the components (1) to (5) as necessary, for example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, Ethyl cellosolve, chloroform, methylene chloride, hexane, heptane, octane, cyclohexane, benzene, toluene, xylene, methanol, ethanol, isopropanol can be added.

本発明の光硬化性樹脂組成物は、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ガラス、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用される。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写すること、即ちドライフィルムの形態として使用することもでき、その適用方法に制限はない。   The photocurable resin composition of the present invention is applied on a supporting substrate such as glass, metal, paper, plastic, etc. by a known means such as a roll coater, a curtain coater, various printing, and immersion. Moreover, after applying on a support substrate such as a film, it can be transferred onto another support substrate, that is, used as a dry film, and the application method is not limited.

また、本発明の効果を損なわない限り、必要に応じて他のモノマー、他のエネルギー線感受性重合開始剤、無機フィラー、有機フィラー、顔料、染料などの着色剤、光増感剤、消泡剤、増粘剤、界面活性剤、レべリング剤、難燃剤、可塑剤、安定剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、静電防止剤、流動調整剤、接着促進剤等の各種樹脂添加物等を添加することができる。   In addition, as long as the effects of the present invention are not impaired, other monomers, other energy ray-sensitive polymerization initiators, inorganic fillers, organic fillers, pigments, dyes and other colorants, photosensitizers and antifoaming agents as necessary. , Thickeners, surfactants, leveling agents, flame retardants, plasticizers, stabilizers, polymerization inhibitors, UV absorbers, antioxidants, antistatic agents, flow regulators, adhesion promoters, etc. Resin additives and the like can be added.

本発明の光硬化性樹脂組成物は活性エネルギー線の照射により硬化するが、活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、X線、放射線、高周波などを挙げることができ、紫外線が経済的に最も好ましい。紫外線の光源としては、紫外線レーザ、水銀ランプ、キセノンレーザ、メタルハライドランプなどが挙げられる。   The photocurable resin composition of the present invention is cured by irradiation with active energy rays. Examples of active energy rays include ultraviolet rays, electron beams, X-rays, radiation, and high frequencies, and ultraviolet rays are the most economical. preferable. Examples of the ultraviolet light source include an ultraviolet laser, a mercury lamp, a xenon laser, and a metal halide lamp.

本発明の光硬化性樹脂組成物の具体的な用途としては、メガネ、撮像用レンズに代表される光学材料、塗料、コーティング剤、ライニング剤、インキ、レジスト、液状レジスト、接着剤、印刷版、絶縁ワニス、絶縁シート、積層板、プリント基盤、半導体装置用・LEDパッケージ用・液晶注入口用・有機EL用・光素子用・電気絶縁用・電子部品用・分離膜用等の封止剤、成形材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、半導体用・太陽電池用等のパッシベーション膜、層間絶縁膜、保護膜、液晶表示装置のバックライトに使用されるプリズムレンズシート、プロジェクションテレビ等のスクリーンに使用されるフレネルレンズシート、レンチキュラーレンズシート等のレンズシートのレンズ部、またはこのようなシートを用いたバックライト等、マイクロレンズ等の光学レンズ、光学素子、光コネクター、光導波路、光学的造形用注型剤等を挙げることができ、例えばコーティング剤として適用できる基材としては金属、木材、ゴム、プラスチック、ガラス、セラミック製品等を挙げることができる。   Specific applications of the photocurable resin composition of the present invention include glasses, optical materials represented by imaging lenses, paints, coating agents, lining agents, inks, resists, liquid resists, adhesives, printing plates, Insulating varnish, insulating sheet, laminate, printed circuit board, semiconductor device, LED package, liquid crystal inlet, organic EL, optical element, electrical insulation, electronic component, separation membrane, etc., Molding material, putty, glass fiber impregnating agent, sealant, passivation film for semiconductors and solar cells, interlayer insulating film, protective film, prism lens sheet used for backlight of liquid crystal display device, projection TV, etc. Lens parts of lens sheets such as Fresnel lens sheets and lenticular lens sheets used for screens, or backers using such sheets Optical lenses such as microlenses, optical elements, optical connectors, optical waveguides, casting agents for optical modeling, etc. Examples of substrates that can be applied as coating agents include metals, wood, rubber, plastics , Glass, ceramic products and the like.

以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. are given and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited to these Examples.

以下、本発明の光硬化性樹脂組成物及び該光硬化性樹脂組成物を硬化して得られる硬化物に関し、実施例、評価例及び比較例により具体的に説明する。なお、実施例及び比較例では部は質量部を意味する。   Hereinafter, the photocurable resin composition of the present invention and the cured product obtained by curing the photocurable resin composition will be specifically described with reference to examples, evaluation examples, and comparative examples. In Examples and Comparative Examples, “part” means “part by mass”.

[実施例1〜18、比較例1〜4、参考例1]
下記の[表1]〜[表5]に示す配合で樹脂を十分に混合して、各実施例、比較例および参考例の光硬化性樹脂組成物を得た。大きさ120×120×1.3mmのガラス基板の周辺に200μmの高さでポリイミドテープを貼り、ダイフリー(フッ素系離型剤;ダイキン工業社製)により離型処理を施し、得られた光硬化性樹脂組成物を塗布した。離型処理を施したガラス基板を重ねた。ガラス基板の両面に、高圧水銀灯を用いて2000mJ/cmずつ計4000mJ/cmのエネルギー量で紫外光を照射した。オーブン中175℃で30分加熱し、ポストキュアを行った。冷却後にガラス基板から取り出し、ガラス基板から樹脂硬化膜を剥離した。
[Examples 1 to 18, Comparative Examples 1 to 4, Reference Example 1]
Resins were sufficiently mixed in the formulations shown in [Table 1] to [Table 5] below to obtain photocurable resin compositions of Examples, Comparative Examples, and Reference Examples. Light obtained by pasting a polyimide tape at a height of 200 μm around a glass substrate having a size of 120 × 120 × 1.3 mm, and performing mold release treatment with a die-free (fluorine-based mold release agent; manufactured by Daikin Industries). A curable resin composition was applied. The glass substrate which gave the mold release process was piled up. On both surfaces of the glass substrate was irradiated with ultraviolet light at an energy amount of 2000 mJ / cm 2 by gauge 4000 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp. The film was heated in an oven at 175 ° C. for 30 minutes and post-cured. It took out from the glass substrate after cooling, and peeled the resin cured film from the glass substrate.

(1)カチオン重合性有機物質としては下記の化合物1−1〜1−9を用いた。   (1) The following compounds 1-1 to 1-9 were used as the cationically polymerizable organic substance.

化合物1−1:エポキシ当量:210〜280、n=0〜3

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Compound 1-1: Epoxy equivalent: 210-280, n = 0-3
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化合物1−2:エポキシ当量:210〜280、n=0〜3

Figure 0006109636
Compound 1-2: Epoxy equivalent: 210-280, n = 0-3
Figure 0006109636

化合物1−3:エポキシ当量:230〜250、p=0〜5

Figure 0006109636
Compound 1-3: Epoxy equivalent: 230 to 250, p = 0 to 5
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化合物1−8:エポキシ当量:230〜250、p=0〜5

Figure 0006109636
Compound 1-8: Epoxy equivalent: 230-250, p = 0-5
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(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤としては下記の化合物2−1〜2−6を用いた。   (2) The following compounds 2-1 to 2-6 were used as the energy ray-sensitive cationic polymerization initiator.

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*1:下記化合物A:
Figure 0006109636
*2:下記化合物B:
Figure 0006109636
*3:疎水性シリカ微粉末(平均粒径:16nm)
*4:親水性シリカ微粉末(平均粒径:4μm)
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* 1: Compound A:
Figure 0006109636
* 2: Compound B below:
Figure 0006109636
* 3: Hydrophobic silica fine powder (average particle size: 16 nm)
* 4: Hydrophilic silica fine powder (average particle size: 4 μm)

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Figure 0006109636

[実施例1〜18、比較例1〜4、参考例]
上記実施例1〜18、比較例1〜4、参考例で得られた樹脂硬化膜について、下記評価を行った。結果を上記[表1]〜[表5]に示す。
[Examples 1 to 18, Comparative Examples 1 to 4, Reference Example]
The following evaluation was performed about the resin cured film obtained by the said Examples 1-18, Comparative Examples 1-4, and the reference example. The results are shown in the above [Table 1] to [Table 5].

(体積抵抗値)
30秒電荷をチャージ後、デジタル超高抵抗/微小電流計(株式会社アドバンテスト社製:R8340A)を用いて測定した。
(Volume resistance value)
After charging for 30 seconds, the measurement was performed using a digital ultrahigh resistance / microammeter (manufactured by Advantest Corporation: R8340A).

(吸水率)
60mm×60mm×0.3mm厚の吸水率用試験片(硬化物)を作製し、JIS K7209(プラスチックの吸水率および沸騰水吸水率試験方法)に基づき試験片を恒温恒湿槽(EYELA製恒温恒湿器エンビロス)中、80℃、90%RHの条件で、重量増加がなくなるまでインキュベートした。初めの重量及び重量増加がなくなった時点での重量の重量差から吸水率を算出した。
(Water absorption rate)
A 60 mm × 60 mm × 0.3 mm thick water absorption rate test piece (cured product) was prepared, and the test piece was kept in a constant temperature and humidity chamber (constant temperature manufactured by EYELA) based on JIS K7209 (plastic water absorption rate and boiling water absorption rate test method). Incubation was performed at 80 ° C. and 90% RH until there was no weight increase. The water absorption was calculated from the weight difference between the initial weight and the weight when the weight increased.

(硬化性)
光化学反応熱熱量計(光DSC)を用い、光照射時の初期発熱量を測定して硬化性評価とした。試料は各2mg、光照射の条件は20mW/30℃とした。
(Curable)
The initial calorific value at the time of light irradiation was measured using a photochemical reaction calorimeter (Optical DSC) to evaluate the curability. Each sample was 2 mg, and the light irradiation conditions were 20 mW / 30 ° C.

上記[表1]〜[表5]より、本発明の光硬化性樹脂組成物は、硬化性及び耐吸水性に優れ、高い体積抵抗値を有することが明らかである。例えば、参考例と比較例1との比較から明らかなように、一般式(II)で表される化合物を含まない比較例1は、体積抵抗値、耐吸水性および硬化性の点で劣るものであった。同様に、比較例2は、参考例と比較すると、体積抵抗値および耐吸水性の面で劣っていた。   From the above [Table 1] to [Table 5], it is clear that the photocurable resin composition of the present invention is excellent in curability and water absorption resistance and has a high volume resistance value. For example, as is clear from the comparison between the reference example and the comparative example 1, the comparative example 1 not including the compound represented by the general formula (II) is inferior in terms of volume resistance, water absorption resistance and curability. Met. Similarly, Comparative Example 2 was inferior in terms of volume resistance value and water absorption resistance as compared with the Reference Example.

Claims (4)

(1)カチオン重合性有機物質として、下記一般式(I)で表される化合物と下記一般式(II)で表される化合物とを含む混合物100質量部と、
(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤0.001〜10質量部と、
さらに、(1)カチオン重合性有機物質として、下記一般式(III)で表される化合物と、
を含有することを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
Figure 0006109636
(式中、Rは水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、ハロゲン原子を表し、nは0〜10の数である。)
Figure 0006109636
(式中、Zは、単結合、又は、−CO−O−又は−O−CO−で中断されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキレン基を表し、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子で置換されていてもよい直鎖または分岐鎖の炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、a及びbは、それぞれ独立に、0〜10の数であり、pは、0〜5の数である。)
Figure 0006109636
(1) As a cationically polymerizable organic substance, 100 parts by mass of a mixture containing a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II);
(2) 0.001 to 10 parts by mass of an energy ray sensitive cationic polymerization initiator,
Further, (1) as a cationically polymerizable organic substance, a compound represented by the following general formula (III):
The photocurable resin composition characterized by containing.
Figure 0006109636
(In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, or a halogen atom, and n is a number from 0 to 10. is there.)
Figure 0006109636
Wherein Z 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may be interrupted by —CO—O— or —O—CO—, and R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, and a and b are Each is independently a number from 0 to 10, and p is a number from 0 to 5.)
Figure 0006109636
前記(2)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤が、[A]r+[B] t−(但し、rは1〜4の整数、tは1〜4の整数、sは電荷を中性に保つ係数である。)で表される陽イオンと陰イオンの塩である請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。 (2) The energy ray-sensitive cationic polymerization initiator is [A] r + [B] s t- (where r is an integer of 1 to 4, t is an integer of 1 to 4, and s keeps the charge neutral. coefficient is.) a cation and a salt of the anion represented by claim 1 Symbol placement of the photocurable resin composition. 請求項1または2記載の光硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする封止剤。 A sealant comprising the photocurable resin composition according to claim 1 . 請求項1または2記載の光硬化性樹脂組成物を硬化してなることを特徴とする硬化物。
A cured product obtained by curing the photocurable resin composition according to claim 1 .
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