JP6091926B2 - Semiconductor light emitting device - Google Patents

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Description

本発明は、半導体発光装置に関するものであり、詳しくは、半導体レーザ素子と半導体レーザ素子からのレーザ光を波長変換する波長変換部材とを備えた半導体発光装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor light emitting device, and more particularly to a semiconductor light emitting device including a semiconductor laser element and a wavelength conversion member that converts the wavelength of laser light from the semiconductor laser element.

従来、この種の半導体発光装置としては、例えば、図12にあるような構造のものが特許文献1に開示されている。   Conventionally, as this type of semiconductor light-emitting device, for example, one having a structure as shown in FIG.

それは、リード電極81と、リード電極81を有する台座底部82と、台座底部82に設けられた台座柱部83とによって台座80が構成され、台座柱部83の側面には、接着部材を介して半導体レーザ素子84が載置されている。台座底部82の上面には、台座柱部83及び該台座柱部83に載置された半導体レーザ素子84を覆うように、台座底部82の上面の縁周近傍から垂直方向に延びる有底円筒状のキャップ(金属製)85が接着固定されている。   The pedestal 80 is constituted by a lead electrode 81, a pedestal bottom portion 82 having the lead electrode 81, and a pedestal column portion 83 provided on the pedestal bottom portion 82, and the side surface of the pedestal column portion 83 is interposed with an adhesive member. A semiconductor laser element 84 is mounted. On the upper surface of the pedestal bottom portion 82, a bottomed cylindrical shape that extends in the vertical direction from the periphery of the upper surface of the pedestal bottom portion 82 so as to cover the pedestal column portion 83 and the semiconductor laser element 84 mounted on the pedestal column portion 83. The cap (made of metal) 85 is adhered and fixed.

キャップ上部86には貫通孔87が設けられていると共に、該貫通孔87を覆うように該貫通孔87の上面に波長変換部材88が共晶接合によって或いは接着材を介して載置されており、貫通孔87はその中心軸が半導体レーザ素子84の出射光軸とほぼ重なるように位置している。   The cap upper portion 86 is provided with a through hole 87, and a wavelength conversion member 88 is mounted on the upper surface of the through hole 87 by eutectic bonding or via an adhesive so as to cover the through hole 87. The through-hole 87 is positioned so that its central axis substantially overlaps the outgoing optical axis of the semiconductor laser element 84.

これにより、半導体レーザ素子84から放射されたレーザ光は、キャップ85の貫通孔87を通過して波長変換部材88に照射され、波長変換部材88で波長変換された光と波長変換されない光(レーザ光)が波長変換部材88から出射してその混色光が外部に向けて照射される。   As a result, the laser light emitted from the semiconductor laser element 84 passes through the through-hole 87 of the cap 85 and is irradiated to the wavelength conversion member 88, and the light converted into the wavelength converted by the wavelength conversion member 88 and the light (laser not converted). Light) is emitted from the wavelength conversion member 88, and the mixed color light is irradiated to the outside.

特開2011−14587号公報JP 2011-14587 A

ところで、上記特許文献1の半導体発光装置は、例えば、外的な強い振動や衝撃を受ける環境下において波長変換部材88がキャップ上部86から離脱した場合、半導体レーザ素子84から放射されたレーザ光が貫通孔87を通過してそのまま外部に向けて照射されることになる。その結果、半導体発光装置を照明装置や表示装置の光源として用いた場合、観視者の目に対する安全性(アイセーフティ)を損なう恐れがある。   By the way, in the semiconductor light emitting device of Patent Document 1 described above, for example, when the wavelength conversion member 88 is detached from the cap upper portion 86 in an environment where external strong vibration or impact is received, the laser light emitted from the semiconductor laser element 84 is emitted. The light passes through the through hole 87 and is irradiated to the outside as it is. As a result, when the semiconductor light-emitting device is used as a light source for a lighting device or a display device, there is a risk that the safety (eye safety) for the eyes of the viewer is impaired.

そこで、本発明は上記問題に鑑みて創案なされたもので、その目的とするところは、半導体レーザ素子からのレーザ光を波長変換部材を通して外部に向けて照射する光学系を備えた半導体発光装置において、万一何らかの理由によって波長変換部材が光学系から離脱した場合においても、観視者に対するアイセーフティを確実に確保することができる構成を実現する。   Therefore, the present invention was devised in view of the above problems, and an object thereof is a semiconductor light emitting device including an optical system that irradiates laser light from a semiconductor laser element to the outside through a wavelength conversion member. Even if the wavelength conversion member is detached from the optical system for some reason, a configuration capable of reliably ensuring eye safety for the viewer is realized.

上記課題を解決するために、本発明の請求項1に記載された発明は、一対の電極を有する半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子を覆い、前記半導体レーザ素子からの光が通り抜けるための第一の貫通孔と前記第一の貫通孔を塞ぐように形成された透光性窓を備える保護キャップと、前記保護キャップ上に配置され、前記半導体レーザ素子からの光が通り抜けるための第二の貫通孔が形成された回路パターン形成基板と、前記半導体レーザ素子から放射されるレーザ光の放射方向であって前記回路パターン形成基板の前記第二の貫通孔を塞ぐように配置され、前記レーザ光で励起されて蛍光を放出するガラスあるいは光透過性セラミックに蛍光体粒子を混入してなる蛍光体プレートと、を備え、前記蛍光体プレートには前記半導体レーザ素子が照射される部分以外のいずれかの場所に導体が形成されており、前記は、前記回路パターン形成基板上に形成された回路パターンと電気的に接続されており、前記半導体レーザ素子は、電源から前記導体及び前記回路パターン形成基板上の回路パターンを介して前記一対の電極に電力が供給されることを特徴とするものである。 In order to solve the above-described problem, the invention described in claim 1 of the present invention includes a semiconductor laser element having a pair of electrodes, and a semiconductor laser element that covers the semiconductor laser element and allows light from the semiconductor laser element to pass through. A protective cap having a light-transmitting window formed so as to close the first through-hole and the first through-hole, and a second for allowing light from the semiconductor laser element to pass through the protective cap. A circuit pattern forming substrate in which a through hole is formed; and a laser beam radiated from the semiconductor laser element and disposed so as to close the second through hole of the circuit pattern forming substrate. in is excited with a phosphor plate made by mixing phosphor particles in glass or light transmitting ceramic emits fluorescence, and the the phosphor plate the semiconductor laser Child are conductors formed anywhere other than the portion to be irradiated, wherein is connected the circuit pattern formed on the circuit pattern electrically formed on the substrate, the semiconductor laser device, Power is supplied from the power source to the pair of electrodes via the conductor and the circuit pattern on the circuit pattern forming substrate .

また、本発明の請求項2に記載された発明は、請求項1において、前記導体は、Ag、Ag合金、Al、Al合金、Rh、Rh合金のいずれかから形成される金属膜を含むことを特徴とするものである。   In the invention described in claim 2 of the present invention, in claim 1, the conductor includes a metal film formed of any one of Ag, Ag alloy, Al, Al alloy, Rh, and Rh alloy. It is characterized by.

また、本発明の請求項3に記載された発明は、請求項1又は請求項2において、更に、基板と、前記基板の一方の面に形成された回路パターンとを有し、前記回路パターンと前記導体とがバンプ、共晶金属、ハンダのいずれかによって電気的に接続されていることを特徴とするものである。   In addition, the invention described in claim 3 of the present invention further comprises a substrate and a circuit pattern formed on one surface of the substrate in claim 1 or 2, wherein the circuit pattern and The conductor is electrically connected by any one of a bump, a eutectic metal, and solder.

また、本発明の請求項4に記載された発明は、請求項3において、前記基板は、AlN、アルミナ、SiC、SiNのいずれかによって形成されていることを特徴とするものである。   The invention described in claim 4 of the present invention is characterized in that, in claim 3, the substrate is formed of any one of AlN, alumina, SiC, and SiN.

本発明の半導体発光装置は、半導体レーザ素子を有する第1の回路と、半導体レーザ素子のレーザ光放射方向に位置し、導体パターンを備えると共に半導体レーザ素子からのレーザ光を波長変換して外部に向けて照射する蛍光体プレートを有する第2の回路とを接続して半導体レーザ素子に対する通電経路を形成し、万一、蛍光体プレートが離脱した場合は半導体レーザ素子に対する通電経路が切断されて半導体レーザ素子の発振が停止してレーザ光の放射が停止する。   A semiconductor light emitting device of the present invention is provided with a first circuit having a semiconductor laser element, a semiconductor pattern that is positioned in the direction of laser light emission of the semiconductor laser element, has a conductor pattern, and converts the wavelength of the laser light from the semiconductor laser element to the outside. A second circuit having a phosphor plate that irradiates toward the semiconductor laser element is connected to form a current-carrying path for the semiconductor laser element. If the phosphor plate is detached, the current-carrying path to the semiconductor laser element is cut and the semiconductor is The oscillation of the laser element stops and the emission of laser light stops.

その結果、レーザ光が直接観視者の目に入ることが防止される。それにより、観視者に対するアイセーフティを確実に確保することができる。   As a result, the laser beam is prevented from directly entering the eyes of the viewer. Thereby, the eye safety for the viewer can be reliably ensured.

実施形態の半導体発光装置の平面図である。It is a top view of the semiconductor light-emitting device of an embodiment. 図1のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 回路パターン形成基板の説明図である。It is explanatory drawing of a circuit pattern formation board | substrate. 反射電極付蛍光体プレートの平面図である。It is a top view of a fluorescent substance plate with a reflective electrode. 図4のB−B断面図である。It is BB sectional drawing of FIG. 反射電極付蛍光体プレートの実装方法の断面説明図である。It is sectional explanatory drawing of the mounting method of the fluorescent substance plate with a reflective electrode. 半導体レーザ素子の駆動回路図である。It is a drive circuit diagram of a semiconductor laser element. レーザ光の光線追跡図である。It is a ray tracing figure of a laser beam. 反射電極付蛍光体プレートの離脱状態の説明図である。It is explanatory drawing of the detached state of the fluorescent substance plate with a reflective electrode. 反射電極付蛍光体プレートの断面説明図である。It is sectional explanatory drawing of the fluorescent substance plate with a reflective electrode. 同じく、反射電極付蛍光体プレートの断面説明図である。Similarly, it is sectional explanatory drawing of the fluorescent substance plate with a reflective electrode. 従来例の説明図である。It is explanatory drawing of a prior art example.

以下、この発明の好適な実施形態を図1〜図11を参照しながら、詳細に説明する(同一部分については同じ符号を付す)。尚、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの実施形態に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 11 (the same parts are given the same reference numerals). The embodiments described below are preferable specific examples of the present invention, and thus various technically preferable limitations are given. However, the scope of the present invention particularly limits the present invention in the following description. Unless stated to the effect, the present invention is not limited to these embodiments.

図1は本実施形態の半導体発光装置の平面図、図2は図1のA−A断面図である。   FIG. 1 is a plan view of the semiconductor light emitting device of this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

本実施形態の半導体発光装置30は、図1及び図2に示すように、金属製で円盤状の台座1に一対の貫通孔1a、1bが設けられ、貫通孔1a、1bの夫々に一対の金属製のリード電極2、3が電気的に絶縁された状態で挿通固定されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the semiconductor light emitting device 30 of the present embodiment is provided with a pair of through holes 1 a and 1 b in a disk-shaped base 1 made of metal, and a pair of through holes 1 a and 1 b. The metal lead electrodes 2 and 3 are inserted and fixed in an electrically insulated state.

台座1の上面1cには、金属製で柱状のヒートシンク4が載設され、ヒートシンク4の側面には熱伝導性絶縁接着剤(図示せず)を介して半導体レーザ素子5が貼着固定されている。半導体レーザ素子5は一対の素子電極(図示せず)を有しており、夫々の素子電極は金属ワイヤ等の導電性接続部材(図示せず)によって各リード電極2、3の、台座1の上面1cから突出した突出部2a、3aに電気的に接続されている。   A metal-made columnar heat sink 4 is mounted on the upper surface 1c of the pedestal 1, and a semiconductor laser element 5 is adhered and fixed to a side surface of the heat sink 4 via a heat conductive insulating adhesive (not shown). Yes. The semiconductor laser element 5 has a pair of element electrodes (not shown), and each element electrode is formed on the pedestal 1 of the lead electrodes 2 and 3 by a conductive connecting member (not shown) such as a metal wire. It is electrically connected to the protruding portions 2a and 3a protruding from the upper surface 1c.

台座1の上面1cには更に、ヒートシンク4、ヒートシンク4に貼着固定された半導体レーザ素子5及び一対のリード電極2、3の夫々の突出部2a、3aを覆うように、上部中央に貫通孔6aを設けた金属製で円筒状の保護キャップ6が取り付けられている。   The upper surface 1c of the pedestal 1 is further provided with a through hole in the upper center so as to cover the heat sink 4, the semiconductor laser element 5 adhered and fixed to the heat sink 4, and the protruding portions 2a and 3a of the pair of lead electrodes 2 and 3, respectively. A metal protective cap 6 made of metal provided with 6a is attached.

保護キャップ6の上部内面6cには、保護キャップ6の貫通孔6aを塞ぐようにガラス窓7が取り付けられている。ガラス窓7は、半導体レーザ素子5から放射されたレーザ光を透過すると同時に水分、塵埃及びガス等の外部の異物が貫通孔6aを通って保護キャップ6内に侵入するのを阻止する働きを有している。   A glass window 7 is attached to the upper inner surface 6 c of the protective cap 6 so as to close the through hole 6 a of the protective cap 6. The glass window 7 has a function of transmitting laser light emitted from the semiconductor laser element 5 and at the same time preventing external foreign matters such as moisture, dust and gas from entering the protective cap 6 through the through hole 6a. doing.

以上、上記の台座1、一対のリード電極2、3、ヒートシンク4、半導体レーザ素子5、保護キャップ6及びガラス窓7により、半導体レーザ8が構成されている。   As described above, the pedestal 1, the pair of lead electrodes 2 and 3, the heat sink 4, the semiconductor laser element 5, the protective cap 6 and the glass window 7 constitute a semiconductor laser 8.

半導体レーザ8を構成する保護キャップ6の上部上面6bには、中央に貫通孔10aを設けた円盤状の回路パターン形成基板10が載設されている。回路パターン形成基板10は、基材部10dがAlN(窒化アルミニウム)で形成され、一方の面の、貫通孔10aを挟んだ両側に互いに電気的に分離された一対の回路パターン10b、10cが形成されており(図3(回路パターン形成基板の説明図)参照)、貫通孔10aの中心軸Xを保護キャップ6の貫通孔6aの中心軸Xに一致させると共に回路パターン10b、10cが形成された面を上にした状態で載設されている。 On the upper upper surface 6b of the protective cap 6 constituting the semiconductor laser 8, a disc-shaped circuit pattern forming substrate 10 provided with a through hole 10a in the center is mounted. The circuit pattern forming substrate 10 has a base portion 10d formed of AlN (aluminum nitride) and a pair of circuit patterns 10b and 10c that are electrically separated from each other on both sides of the through hole 10a. are (see FIG. 3 (illustration of the circuit pattern forming substrate)), the circuit pattern 10b with matching the central axis X 1 of the through hole 10a to the central axis X 2 of the through hole 6a of the protective cap 6, 10c is formed It is placed with its surface facing up.

回路パターン形成基板10の、回路パターン10b、10cが形成された側の面上には、保護キャップ6の貫通孔6a及び回路パターン形成基板10の貫通孔10aを塞ぐように反射電極付蛍光体プレート11が実装されている。   On the surface of the circuit pattern forming substrate 10 on which the circuit patterns 10b and 10c are formed, a phosphor plate with a reflective electrode so as to close the through hole 6a of the protective cap 6 and the through hole 10a of the circuit pattern forming substrate 10. 11 is implemented.

反射電極付蛍光体プレート11は、図4(平面図)及び図5(図4のB−B断面図)に示すように、ガラスあるいは光透過性セラミックに蛍光体粒子を混入してなる蛍光体基板11aの一方の面の中央以外の略全面に、光反射率が高く且つ電気伝導率が高いAg、Ag合金、Al、Al合金、Rh、Rh合金からなる光反射電極11bが形成され、中央には光反射電極11bが形成されていない円状の開口部11cを有すると共に開口部11cには蛍光体基板11aが露出している。   As shown in FIG. 4 (plan view) and FIG. 5 (BB sectional view of FIG. 4), the phosphor plate 11 with a reflective electrode is a phosphor formed by mixing phosphor particles in glass or light-transmitting ceramic. A light reflecting electrode 11b made of Ag, Ag alloy, Al, Al alloy, Rh, Rh alloy having high light reflectivity and high electrical conductivity is formed on substantially the entire surface other than the center of one surface of the substrate 11a. Has a circular opening 11c in which the light reflecting electrode 11b is not formed, and the phosphor substrate 11a is exposed in the opening 11c.

反射電極付蛍光体プレート11を回路パターン形成基板10に実装するに際しては、図6(反射電極付蛍光体プレートの実装方法の断面説明図)に示すように、反射電極付蛍光体プレート11の開口部11cの中心軸Xを回路パターン形成基板10の貫通孔10aの中心軸Xに一致させた状態で、反射電極付蛍光体プレート11の光反射電極11b側と回路パターン形成基板10の回路パターン10b、10c側とを対向させ、光反射電極11bと回路パターン10b、10cの夫々をAuバンプ12によって機械的且つ電気的に接合することにより実装が施されている。 When the phosphor plate 11 with a reflective electrode is mounted on the circuit pattern forming substrate 10, as shown in FIG. 6 (cross-sectional explanatory view of the mounting method of the phosphor plate with a reflective electrode), the opening of the phosphor plate 11 with the reflective electrode is opened. a central axis X 3 parts 11c in a state of being aligned with the center axis X 1 of the through hole 10a of the circuit pattern forming substrate 10, the circuit of the light reflective electrode 11b side and the circuit pattern forming substrate 10 of the reflective electrode with the phosphor plate 11 The patterns 10b and 10c are opposed to each other, and the light reflecting electrode 11b and the circuit patterns 10b and 10c are mechanically and electrically joined by Au bumps 12 to be mounted.

従って、回路パターン形成基板10の貫通孔10aの中心軸X、保護キャップ6の貫通孔6aの中心軸X及び反射電極付蛍光体プレート11の開口部11cの中心軸Xはいずれも一致して同一線上に位置すると共に、図示していない半導体レーザ素子の光軸とも一致している。 Accordingly, the central axis X 1 of the through hole 10a of the circuit pattern forming substrate 10, the central axis X 2 of the through hole 6a of the protective cap 6, and the central axis X 3 of the opening portion 11c of the phosphor plate 11 with the reflecting electrode are all one. In addition, they are located on the same line and coincide with the optical axis of a semiconductor laser element (not shown).

更に、図1及び図2に戻って、回路パターン形成基板10には、一端部を回路パターン形成基板10の回路パターン10b、10cの夫々に電気的に接続された一対の外部接続電極13、14が延設されている。   Further, referring back to FIGS. 1 and 2, the circuit pattern forming substrate 10 has a pair of external connection electrodes 13, 14 whose one end is electrically connected to each of the circuit patterns 10 b, 10 c of the circuit pattern forming substrate 10. Is extended.

上記構成からなる半導体発光装置30は、照明灯具あるいは表示灯具等の灯具の光源として用いる場合は、周辺回路との回路構成を図7(半導体レーザ素子の駆動回路図)に示すような構成とすることにより、半導体レーザ素子5に電力を供給して駆動させることができる。   When the semiconductor light emitting device 30 having the above configuration is used as a light source of a lamp such as an illumination lamp or a display lamp, the circuit configuration with a peripheral circuit is configured as shown in FIG. 7 (semiconductor laser element drive circuit diagram). Thus, the semiconductor laser element 5 can be driven by supplying power.

具体的には、一対のリード電極2、3のうちいずれか一方のリード電極(例えば、リード電極2)と一対の外部接続電極13、14のうちいずれか一方の外部接続電極(例えば、外部接続電極13)とを電気的に接続し、他方のリード電極3と他方の外部接続電極14との間に半導体レーザ素子5の駆動電圧を印加する。   Specifically, one of the pair of lead electrodes 2 and 3 (for example, lead electrode 2) and one of the pair of external connection electrodes 13 and 14 (for example, external connection) The electrode 13) is electrically connected, and a driving voltage of the semiconductor laser element 5 is applied between the other lead electrode 3 and the other external connection electrode.

この場合、リード電極3が半導体レーザ素子5のアノード電極に接続(リード電極2はカソード電極に接続)されているときは、リード電極3に(+)側の電圧を印加し、外部接続電極14に(−)側の電圧を印加する。反対に、リード電極3が半導体レーザ素子5のカソード電極に接続(リード電極2はアノード電極に接続)されているときは、リード電極3に(−)側の電圧を印加し、外部接続電極14に(+)側の電圧を印加する。   In this case, when the lead electrode 3 is connected to the anode electrode of the semiconductor laser element 5 (the lead electrode 2 is connected to the cathode electrode), a voltage on the (+) side is applied to the lead electrode 3 and the external connection electrode 14 (−) Side voltage is applied to. On the contrary, when the lead electrode 3 is connected to the cathode electrode of the semiconductor laser element 5 (the lead electrode 2 is connected to the anode electrode), a voltage on the (−) side is applied to the lead electrode 3, and the external connection electrode 14. (+) Side voltage is applied to.

本実施形態においては、リード電極3が半導体レーザ素子5のアノード電極に接続され、リード電極2が半導体レーザ素子5のカソード電極に接続されているものとし、リード電極3に(+)側の電圧を印加し、外部接続電極14に(−)側の電圧を印加する。   In this embodiment, it is assumed that the lead electrode 3 is connected to the anode electrode of the semiconductor laser element 5, the lead electrode 2 is connected to the cathode electrode of the semiconductor laser element 5, and the (+) side voltage is applied to the lead electrode 3. Is applied, and a voltage on the (−) side is applied to the external connection electrode 14.

すると、電源20の(+)出力端子から順次、リード電極3、半導体レーザ素子5、リード電極2、リード電極2と外部接続電極13とを電気的に接続するショートバー21、外部接続電極13、回路パターン形成基板10の回路パターン10b、Auバンプ12、反射電極付蛍光体プレート11の光反射電極11b、Auバンプ12、回路パターン形成基板10の回路パターン10c及び外部接続電極14を経て電源20の(−)出力端子に至る通電経路が形成され、この通電経路を半導体レーザ素子5の駆動電流が流れて該半導体レーザ素子5が発振状態となりレーザ光を放射する。   Then, in order from the (+) output terminal of the power supply 20, the lead electrode 3, the semiconductor laser element 5, the lead electrode 2, the short bar 21 for electrically connecting the lead electrode 2 and the external connection electrode 13, the external connection electrode 13, The circuit pattern 10b of the circuit pattern forming substrate 10, the Au bump 12, the light reflecting electrode 11b of the phosphor plate 11 with the reflecting electrode, the Au bump 12, the circuit pattern 10c of the circuit pattern forming substrate 10, and the external connection electrode 14 are used. An energization path to the (−) output terminal is formed, and the drive current of the semiconductor laser element 5 flows through this energization path, and the semiconductor laser element 5 enters an oscillation state and emits laser light.

半導体レーザ素子5から放射されたレーザ光(例えば、波長が450nmの青色光)Lは、図8(レーザ光の光線追跡図)に示すように、ガラス窓7を透過した後に、保護キャップ6の貫通孔6a、回路パターン形成基板10の貫通孔10a及び反射電極付蛍光体プレート11の開口部11cを順次通過して開口部11cに露出した蛍光体基板11aの光入射面11aaに至り、光入射面11aaから蛍光体基板11a内に入射する。 Laser light (for example, blue light having a wavelength of 450 nm) L 1 emitted from the semiconductor laser element 5 passes through the glass window 7 and then passes through the protective cap 6 as shown in FIG. Through the through-hole 6a, the through-hole 10a of the circuit pattern forming substrate 10 and the opening 11c of the phosphor plate 11 with the reflecting electrode to reach the light incident surface 11aa of the phosphor substrate 11a exposed to the opening 11c. The light enters the phosphor substrate 11a from the incident surface 11aa.

蛍光体基板11a内に入射した青色レーザ光は、その一部が蛍光体基板11a内に混入された蛍光体粒子を励起し、光出射面11abからは蛍光体基板11a内をそのまま透過した青色レーザ光と蛍光体粒子の励起によって波長変換された波長変換光との混色光が出射される。   The blue laser light incident on the phosphor substrate 11a partially excites phosphor particles mixed in the phosphor substrate 11a, and is transmitted through the phosphor substrate 11a as it is from the light emitting surface 11ab. Color mixed light of the light and wavelength converted light that has been wavelength-converted by excitation of the phosphor particles is emitted.

この場合、例えば、蛍光体基板11aに混入される蛍光体粒子を、青色光に励起されて青色光の補色となる黄色光に波長変換する黄色蛍光体粒子とすると、青色レーザ光の一部と青色レーザ光の一部が黄色蛍光体粒子を励起することにより波長変換された黄色光との加法混色で白色光に近い色相の光を得ることができる。   In this case, for example, if the phosphor particles mixed in the phosphor substrate 11a are yellow phosphor particles that are excited by blue light and converted into yellow light that is complementary to the blue light, Light of a hue close to white light can be obtained by additive color mixing with yellow light whose wavelength has been converted by exciting a portion of the blue laser light with the yellow phosphor particles.

また、黄色蛍光体粒子の代わりに、青色光に励起されて緑色光に波長変換する緑色蛍光体粒子と赤色光に波長変換する赤色蛍光体粒子との混合蛍光体粒子とし、青色レーザ光の一部と青色レーザ光の一部が緑色蛍光体粒子を励起することにより波長変換された緑色光と青色レーザ光の一部が赤色蛍光体粒子を励起することにより波長変換された赤色光との加法混色で白色光を得ることもできる。   Instead of yellow phosphor particles, mixed phosphor particles of green phosphor particles that are excited by blue light and converted to green light and red phosphor particles that convert wavelength to red light are used. Of green light whose wavelength is converted by exciting a green phosphor particle and a part of blue laser light and red light whose wavelength is converted by exciting red phosphor particles White light can also be obtained by mixing colors.

さらに、レーザ光の波長と蛍光体粒子の種類とを適宜に組み合わせることにより、白色光以外の種々な色相の光を得ることができる。   Furthermore, light of various hues other than white light can be obtained by appropriately combining the wavelength of the laser light and the type of phosphor particles.

なお、反射電極付蛍光体プレート11の蛍光体基板11a内におけるレーザ光及び蛍光体粒子による波長変換光は、直接光出射面11abから外部に向けて出射されるものと、内部反射や散乱によって光出射面11ab以外の方向に向かうものとが存在する。   In addition, the wavelength conversion light by the laser beam and the phosphor particles in the phosphor substrate 11a of the phosphor plate 11 with the reflecting electrode is emitted from the direct light emitting surface 11ab to the outside, and light by internal reflection or scattering. Some of them are directed in directions other than the exit surface 11ab.

そのうち、内部反射や散乱によって光反射電極11bに向かう光は、該光反射電極11bで反射されてその反射光が光出射面11abから外部に出射される。換言すると、反射電極付蛍光体プレート11に光反射機能と電極機能とを兼ねた光反射電極11bを設けたことにより光出射面11abからの出射光Lの光量が増大し、光の利用効率の向上を図ることができる。 Among them, the light traveling toward the light reflecting electrode 11b by internal reflection or scattering is reflected by the light reflecting electrode 11b, and the reflected light is emitted to the outside from the light emitting surface 11ab. In other words, the light quantity of the outgoing light L 2 from the light emitting surface 11ab is increased by providing the light-reflection electrode 11b which serves as a light reflecting function and electrode function on the reflective electrode with phosphor plate 11, the light use efficiency of Can be improved.

ところで、上記構成の半導体発光装置30において、外的な強い振動や衝撃等の何らかの理由によって反射電極付蛍光体プレート11が回路パターン形成基板10から離脱した場合、半導体レーザ素子5に電力を供給するための通電経路の一部を構成する反射電極付蛍光体プレート11が通電経路から除去されることになり、それによって、通電経路が遮断されて半導体レーザ素子5に対する通電が停止されて電力の供給が断たれ、半導体レーザ素子5の発振が停止してレーザ光の放射が停止する(図9(反射電極付蛍光体プレートの離脱状態の説明図)参照)。   By the way, in the semiconductor light emitting device 30 having the above configuration, when the phosphor plate 11 with the reflecting electrode is detached from the circuit pattern forming substrate 10 for some reason such as strong external vibration or impact, power is supplied to the semiconductor laser element 5. Accordingly, the reflecting electrode-equipped phosphor plate 11 constituting a part of the energization path is removed from the energization path, whereby the energization path is interrupted and the energization to the semiconductor laser element 5 is stopped to supply power. Is cut off, the oscillation of the semiconductor laser element 5 stops and the emission of the laser light stops (see FIG. 9 (an explanatory diagram of the detached state of the phosphor plate with a reflective electrode)).

また、反射電極付蛍光体プレート11が離脱までしなくとも、フラックが入ることによって光反射電極11bが破断する場合がある。この場合も、クラックを介してレーザ光が外部に直接漏出することを通電経路の切断によって未然に防ぐ点では同様である。   Moreover, even if the phosphor plate 11 with a reflective electrode does not come off, the light reflective electrode 11b may be broken by the entry of a flack. This is also the same in that the laser beam is prevented from leaking directly to the outside through the crack by cutting the energization path.

つまり、半導体レーザ素子5から放射されたレーザ光が外部に向けて照射されるまでの光学系の一部を構成する反射電極付蛍光体プレート11が回路パターン形成基板10から光学的に離脱したと同時に電気回路的な切断状態が形成されて半導体レーザ素子5からのレーザ光の放射が停止し、レーザ光が直接観視者の目に入ることが防止される。それにより、観視者に対するアイセーフティを確実に確保することができる。   That is, it is assumed that the phosphor plate 11 with a reflecting electrode that constitutes a part of the optical system until the laser beam emitted from the semiconductor laser element 5 is irradiated outward is optically detached from the circuit pattern forming substrate 10. At the same time, an electrical circuit cut state is formed, the emission of the laser light from the semiconductor laser element 5 is stopped, and the laser light is prevented from directly entering the eyes of the viewer. Thereby, the eye safety for the viewer can be reliably ensured.

なお、反射電極付蛍光体プレート11は、上記構成以外に、図10(断面図)のように、透明又は散乱プレート25を挟んで一方の側にガラスあるいは光透過性セラミックに蛍光体粒子を混入してなる蛍光体基板11aを設け、他方の側に中央の開口部11cを除いて光反射電極11bを形成した構成としてもよい。   In addition to the above configuration, the reflecting electrode-equipped phosphor plate 11 is mixed with glass or light-transmitting ceramic on one side with a transparent or scattering plate 25 sandwiched between them as shown in FIG. 10 (cross-sectional view). It is good also as a structure which provided the fluorescent substance substrate 11a formed in this way, and formed the light reflection electrode 11b except the center opening part 11c in the other side.

これにより、光反射電極11bの開口部11cを通過して透明又は散乱プレート25に入射したレーザ光は、透明又は散乱プレート25で拡散、散乱して蛍光体基板11aに入射する。そのため、蛍光体基板11aからは輝度ムラの少ない光が外部に向けて出射される。   As a result, the laser light that has passed through the opening 11c of the light reflecting electrode 11b and entered the transparent or scattering plate 25 is diffused and scattered by the transparent or scattering plate 25 and then enters the phosphor substrate 11a. Therefore, light with less luminance unevenness is emitted from the phosphor substrate 11a toward the outside.

あるいは、図11(断面図)のように、蛍光体基板11aを挟んで一方の側に透明又は散乱プレート25を設け、他方の側に中央の開口部11cを除いて光反射電極11bを形成した構成としてもよい。   Alternatively, as shown in FIG. 11 (cross-sectional view), a transparent or scattering plate 25 is provided on one side across the phosphor substrate 11a, and the light reflecting electrode 11b is formed on the other side except for the central opening 11c. It is good also as a structure.

これにより、光反射電極11bの開口部11cを通過して蛍光体基板11aに入射し、蛍光体基板11a内を導光されて出射した光は、透明又は散乱プレート25で拡散、散乱して輝度ムラの少ない光が外部に向けて出射される。それと同時に、透明又は散乱プレート25は、レーザ光が照射されて加熱された蛍光体基板11aの放熱に寄与するものとなる。そのため、蛍光体粒子の蛍光特性の低下が抑制され、出射光の光量低下が抑制される。   As a result, the light that passes through the opening 11c of the light reflecting electrode 11b, enters the phosphor substrate 11a, is guided through the phosphor substrate 11a, and is emitted is diffused and scattered by the transparent or scattering plate 25 to obtain luminance. Light with less unevenness is emitted toward the outside. At the same time, the transparent or scattering plate 25 contributes to heat dissipation of the phosphor substrate 11a heated by irradiation with the laser light. Therefore, a decrease in the fluorescence characteristics of the phosphor particles is suppressed, and a decrease in the amount of emitted light is suppressed.

なお、反射電極付蛍光体プレート11の光反射電極11bと回路パターン形成基板10の回路パターン10b、10cの夫々との電気的な接続は、上述のAuバンプ12に限られるものではなく、例えば、AuSn共晶やハンダによる接合でもよい。   The electrical connection between the light reflecting electrode 11b of the phosphor plate 11 with the reflecting electrode and each of the circuit patterns 10b and 10c of the circuit pattern forming substrate 10 is not limited to the Au bump 12 described above. Bonding with AuSn eutectic or solder may be used.

また、回路パターン形成基板11の基材部は、AlN(窒化アルミニウム)に限られるものではなく、例えば、熱伝導性の良好なアルミナセラミックやSiC(炭化珪素)、SiN(窒化珪素)で形成することも可能である。   Moreover, the base material part of the circuit pattern formation board | substrate 11 is not restricted to AlN (aluminum nitride), For example, it forms with an alumina ceramic with favorable heat conductivity, SiC (silicon carbide), SiN (silicon nitride). It is also possible.

更に、反射電極付蛍光体プレート11の光反射電極11bは、回路パターン形成基板10の回路パターン10b、10cの夫々とを接続する接合部材の接合性を向上させるために、多層構造にすることも可能である。その場合は、例えば、Ag/TiW/Auの三層構造とし、反射機能を持たせる側をAgとし、接合部材の接合側をAuとする。   Further, the light reflecting electrode 11b of the phosphor plate 11 with a reflecting electrode may be formed in a multilayer structure in order to improve the bonding property of the bonding member connecting the circuit patterns 10b and 10c of the circuit pattern forming substrate 10. Is possible. In that case, for example, a three-layer structure of Ag / TiW / Au is used, the side having a reflecting function is Ag, and the joining side of the joining member is Au.

また、反射電極付蛍光体プレート11の、光反射電極11bが形成されていない開口部11cは、上記円状に限られるものではなく、三角形、四角形あるいはその他の多角形であっても構わない。   Moreover, the opening part 11c in which the light reflection electrode 11b is not formed of the phosphor plate 11 with the reflection electrode is not limited to the circular shape, and may be a triangle, a quadrangle, or another polygon.

1… 台座
1a… 貫通孔
1b… 貫通孔
1c… 上面
2… リード電極
2a… 突出部
3… リード電極
3a… 突出部
4… ヒートシンク
5… 半導体レーザ素子
6… 保護キャップ
6a… 貫通孔
6b… 上部上面
6c… 上部内面
7… ガラス窓
8… 半導体レーザ
10… 回路パターン形成基板
10a… 貫通孔
10b… 回路パターン
10c… 回路パターン
10d… 基材部
11… 反射電極付蛍光体プレート
11a… 蛍光体基板
11aa… 光入射面
11ab… 光出射面
11b… 光反射電極
11c… 開口部
12… Auバンプ
13… 外部接続電極
14… 外部接続電極
20… 電源
21… ショートバー
25… 透明又は散乱プレート
30… 半導体発光装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base 1a ... Through-hole 1b ... Through-hole 1c ... Upper surface 2 ... Lead electrode 2a ... Projection part 3 ... Lead electrode 3a ... Projection part 4 ... Heat sink 5 ... Semiconductor laser element 6 ... Protection cap 6a ... Through-hole 6b ... Upper upper surface 6c ... Upper inner surface 7 ... Glass window 8 ... Semiconductor laser 10 ... Circuit pattern forming substrate 10a ... Through hole 10b ... Circuit pattern 10c ... Circuit pattern 10d ... Base material 11 ... Phosphor plate 11a with reflecting electrode 11a ... Phosphor substrate 11aa ... Light incident surface 11ab ... Light emitting surface 11b ... Light reflecting electrode 11c ... Opening 12 ... Au bump 13 ... External connection electrode 14 ... External connection electrode 20 ... Power supply 21 ... Short bar 25 ... Transparent or scattering plate 30 ... Semiconductor light emitting device

Claims (4)

一対の電極を有する半導体レーザ素子と、
前記半導体レーザ素子を覆い、前記半導体レーザ素子からの光が通り抜けるための第一の貫通孔と前記第一の貫通孔を塞ぐように形成された透光性窓を備える保護キャップと、
前記保護キャップ上に配置され、前記半導体レーザ素子からの光が通り抜けるための第二の貫通孔が形成された回路パターン形成基板と、
前記半導体レーザ素子から放射されるレーザ光の放射方向であって前記回路パターン形成基板の前記第二の貫通孔を塞ぐように配置され、前記レーザ光で励起されて蛍光を放出するガラスあるいは光透過性セラミックに蛍光体粒子を混入してなる蛍光体プレートと、を備え、
前記蛍光体プレートには前記半導体レーザ素子が照射される部分以外のいずれかの場所に導体が形成されており、
前記導体は、前記回路パターン形成基板上に形成された回路パターンと電気的に接続されており、
前記半導体レーザ素子は、電源から前記導体及び前記回路パターン形成基板上の回路パターンを介して前記一対の電極に電力が供給されることを特徴とする半導体発光装置。
A semiconductor laser element having a pair of electrodes;
A protective cap that covers the semiconductor laser element and includes a first through hole through which light from the semiconductor laser element passes and a translucent window formed so as to close the first through hole;
A circuit pattern forming substrate disposed on the protective cap and having a second through-hole for allowing light from the semiconductor laser element to pass through;
Glass or light transmission that is arranged in the radiation direction of the laser light emitted from the semiconductor laser element so as to close the second through hole of the circuit pattern forming substrate and is excited by the laser light to emit fluorescence. A phosphor plate formed by mixing phosphor particles in a ceramic ,
The phosphor plate is formed with a conductor at any place other than the portion irradiated with the semiconductor laser element,
The conductor is electrically connected to a circuit pattern formed on the circuit pattern forming substrate;
In the semiconductor laser device, power is supplied from a power source to the pair of electrodes via the conductor and a circuit pattern on the circuit pattern forming substrate .
前記導体は、Ag、Ag合金、Al、Al合金、Rh、Rh合金のいずれかから形成される金属膜を含むことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。   The semiconductor light emitting device according to claim 1, wherein the conductor includes a metal film formed of any one of Ag, Ag alloy, Al, Al alloy, Rh, and Rh alloy. 更に、基板と、前記基板の一方の面に形成された回路パターンとを有し、前記回路パターンと前記導体とがバンプ、共晶金属、ハンダのいずれかによって電気的に接続されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体発光装置。   And a circuit pattern formed on one surface of the substrate, wherein the circuit pattern and the conductor are electrically connected by any one of a bump, a eutectic metal, and solder. The semiconductor light-emitting device according to claim 1, wherein the light-emitting device is a semiconductor light-emitting device. 前記基板は、AlN、アルミナ、SiC、SiNのいずれかによって形成されていることを特徴とする請求項3に記載の半導体発光装置。   4. The semiconductor light emitting device according to claim 3, wherein the substrate is made of any one of AlN, alumina, SiC, and SiN.
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