JP6088105B1 - Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device - Google Patents
Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP6088105B1 JP6088105B1 JP2016164983A JP2016164983A JP6088105B1 JP 6088105 B1 JP6088105 B1 JP 6088105B1 JP 2016164983 A JP2016164983 A JP 2016164983A JP 2016164983 A JP2016164983 A JP 2016164983A JP 6088105 B1 JP6088105 B1 JP 6088105B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- meth
- ring
- substituent
- photosensitive composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 131
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 36
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 180
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 159
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 147
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 90
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 72
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 71
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 40
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 38
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 29
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 118
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 118
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 94
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 20
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 8
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 claims description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Chemical group 0.000 abstract description 42
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 23
- -1 oxime ester compound Chemical class 0.000 description 643
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 140
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 95
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 78
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 73
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 63
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 62
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 49
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 46
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 43
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 41
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 33
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 33
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 32
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 26
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 26
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 22
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 22
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 21
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 21
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 20
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 20
- 125000001326 naphthylalkyl group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000047 product Substances 0.000 description 20
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 19
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 19
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 18
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 17
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical group C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 16
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 15
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 15
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 15
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 14
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 13
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 13
- 125000000000 cycloalkoxy group Chemical group 0.000 description 13
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 0 *C1(*)c2ccccc2-c2ccccc12 Chemical compound *C1(*)c2ccccc2-c2ccccc12 0.000 description 12
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical group N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 12
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 12
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 12
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 11
- 125000001316 cycloalkyl alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000005322 morpholin-1-yl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 11
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 10
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 10
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 10
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 10
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 10
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 10
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 9
- 125000006517 heterocyclyl carbonyl group Chemical group 0.000 description 9
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 9
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 125000001038 naphthoyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C(=O)* 0.000 description 9
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 9
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 9
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 8
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical class 0.000 description 7
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 7
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 7
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N isothiazole Chemical group C=1C=NSC=1 ZLTPDFXIESTBQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000005359 phenoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 7
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical group C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004194 piperazin-1-yl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 7
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical group C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 6
- PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N indole Natural products CC1=CC=CC2=C1C=CN2 PZOUSPYUWWUPPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N indolenine Natural products C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 6
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 6
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 6
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical class OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 5
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 5
- WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N cinnoline Chemical compound N1=NC=CC2=CC=CC=C21 WCZVZNOTHYJIEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004663 dialkyl amino group Chemical group 0.000 description 5
- HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N indolizine Chemical compound C1=CC=CN2C=CC=C21 HOBCFUWDNJPFHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 5
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 5
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005999 2-bromoethyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 4
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 4
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical compound C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005727 Friedel-Crafts reaction Methods 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 4
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 4
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 4
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 4
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 4
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 4
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000005921 isopentoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005932 isopentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000006257 n-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000006256 n-propyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000003261 o-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000005922 tert-pentoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005934 tert-pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 3-methoxybutyl acetate Chemical compound COC(C)CCOC(C)=O QMYGFTJCQFEDST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006201 3-phenylpropyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N Maleimide Chemical compound O=C1NC(=O)C=C1 PEEHTFAAVSWFBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 3
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N biphenyl-2-ol Chemical class OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 LLEMOWNGBBNAJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 3
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- 125000001352 cyclobutyloxy group Chemical group C1(CCC1)O* 0.000 description 3
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 3
- 125000001887 cyclopentyloxy group Chemical group C1(CCCC1)O* 0.000 description 3
- 125000000131 cyclopropyloxy group Chemical group C1(CC1)O* 0.000 description 3
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 3
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 125000002510 isobutoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 3
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006609 n-nonyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002868 norbornyl group Chemical group C12(CCC(CC1)C2)* 0.000 description 3
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000004817 pentamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical group C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCCCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 DZZAHLOABNWIFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Chemical class 0.000 description 2
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N Isopropyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC(C)C FFOPEPMHKILNIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 230000010933 acylation Effects 0.000 description 2
- 238000005917 acylation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 2
- 125000000043 benzamido group Chemical group [H]N([*])C(=O)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 2
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N butyl butanoate Chemical compound CCCCOC(=O)CCC XUPYJHCZDLZNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N cefatrizine Chemical group S([C@@H]1[C@@H](C(N1C=1C(O)=O)=O)NC(=O)[C@H](N)C=2C=CC(O)=CC=2)CC=1CSC=1C=NNN=1 UOCJDOLVGGIYIQ-PBFPGSCMSA-N 0.000 description 2
- 239000012986 chain transfer agent Substances 0.000 description 2
- 125000000259 cinnolinyl group Chemical group N1=NC(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 125000003113 cycloheptyloxy group Chemical group C1(CCCCCC1)O* 0.000 description 2
- 125000004410 cyclooctyloxy group Chemical group C1(CCCCCCC1)O* 0.000 description 2
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCCCO GHLKSLMMWAKNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N ethyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC SHZIWNPUGXLXDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N heptan-3-one Chemical compound CCCCC(=O)CC NGAZZOYFWWSOGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N icos-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC=C VAMFXQBUQXONLZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 2
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 2
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000904 isoindolyl group Chemical group C=1(NC=C2C=CC=CC12)* 0.000 description 2
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxypropionate Chemical compound COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002004 n-butylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000004888 n-propyl amino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000005184 naphthylamino group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)N* 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical class OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N pentadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC YCOZIPAWZNQLMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003444 phase transfer catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1.CC(=C)C1=CC=CC=C1 FZYCEURIEDTWNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N propyl acetate Chemical compound CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N (+-)-Isoprenaline Chemical compound CC(C)NCC(O)C1=CC=C(O)C(O)=C1 JWZZKOKVBUJMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N (2-chlorophenyl)-phenylmethanone Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 VMHYWKBKHMYRNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N (2-methyl-4-phenylpent-4-en-2-yl)benzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)CC(=C)C1=CC=CC=C1 ZOKCNEIWFQCSCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy propan-2-yl carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(C)(C)C KDGNCLDCOVTOCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZHRHTZJDBLEX-UHFFFAOYSA-N (2-phenylphenyl) prop-2-enoate Chemical class C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZMZHRHTZJDBLEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N (3-methoxy-3-methylbutyl) acetate Chemical compound COC(C)(C)CCOC(C)=O RYNQKSJRFHJZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFJJYOKMAAQFHC-UHFFFAOYSA-N (4-methoxy-5,5-dimethylcyclohexa-1,3-dien-1-yl)-phenylmethanone Chemical compound C1C(C)(C)C(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 KFJJYOKMAAQFHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1 SVHAMPNLOLKSFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethenylbenzene Chemical compound FC(F)=C(F)C1=CC=CC=C1 SUTQSIHGGHVXFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC(Cl)=C1Cl AUHKVLIZXLBQSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXEOWWVZWWGBBQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-3-(2,3-dichlorophenoxy)benzene Chemical compound ClC1=CC=CC(OC=2C(=C(Cl)C=CC=2)Cl)=C1Cl WXEOWWVZWWGBBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 1
- PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 1,6-dichloro-3-methylhex-1-ene Chemical class ClC=CC(C)CCCCl PGRNEGLBSNLPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGYZMNBUZFHYRX-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound COCC(C)OCC(C)O WGYZMNBUZFHYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 1-(2-ethoxypropoxy)propan-2-ol Chemical compound CCOC(C)COCC(C)O QWOZZTWBWQMEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-5-propan-2-ylcyclohex-2-en-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1CC(C(C)C)CC=C1C DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVMCKAMKPIOBD-UHFFFAOYSA-N 1-(3-acridin-1-ylpropyl)acridine Chemical compound C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)CCCC1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12 NLVMCKAMKPIOBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-dodecylphenyl)-2-hydroxy-2-methylpropan-1-one Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 MLKIVXXYTZKNMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYFJYGWNYQCHOB-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 UYFJYGWNYQCHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]ethanone Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(C)=O)C=C1 HUDYANRNMZDQGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ONCICIKBSHQJTB-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(dimethylamino)phenyl]propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ONCICIKBSHQJTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1CC1=CC=CC=C1 MKRBAPNEJMFMHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQHNZXURJISVCT-UHFFFAOYSA-N 1-butoxyethane-1,2-diol Chemical compound CCCCOC(O)CO WQHNZXURJISVCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-(1,2,2-trichloroethenyl)benzene Chemical compound ClC(Cl)=C(Cl)C1=CC=CC=C1Cl XPXMCUKPGZUFGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWJXFPSRAUGLN-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OC=C RPWJXFPSRAUGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-propoxythioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(OCCC)=CC=C2Cl VKQJCUYEEABXNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-ethoxyethane Chemical compound CCOCCOC=C HWCLMKDWXUGDKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-methoxyethane Chemical compound COCCOC=C GXZPMXGRNUXGHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPGDWJYZCVCMOZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(OC=C)=CC=CC3=CC2=C1 ZPGDWJYZCVCMOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSOAQRMLVFRWIT-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxydecane Chemical compound CCCCCCCCCCOC=C NSOAQRMLVFRWIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical compound CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(OC=C)=CC=CC2=C1 OHSFPBQPZFLOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCCCCOC=C XXCVIFJHBFNFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-ethyl Chemical group C[CH]OC JQCSUVJDBHJKNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropane-1,2-diol Chemical compound COC(O)C(C)O OEYNWAWWSZUGDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 OAMHTTBNEJBIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004206 2,2,2-trifluoroethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C(F)(F)F 0.000 description 1
- CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 2,2-dibromoethenylbenzene Chemical compound BrC(Br)=CC1=CC=CC=C1 CYLVUSZHVURAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethenylbenzene Chemical compound ClC(Cl)=CC1=CC=CC=C1 CISIJYCKDJSTMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxyethenylbenzene Chemical compound COC(OC)=CC1=CC=CC=C1 PWESSVUYESFKBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 2,3-di(prop-2-enoyloxy)propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)COC(=O)C=C PUGOMSLRUSTQGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 DXUMYHZTYVPBEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFUCEQWAFQMGOR-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethyl-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 MFUCEQWAFQMGOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethyl-6-tert-butylphenol Chemical compound CC1=CC(C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 OPLCSTZDXXUYDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 2,6-dibromo-9,9-dimethylfluorene Chemical compound C1=C(Br)C=C2C(C)(C)C3=CC=C(Br)C=C3C2=C1 ASUQXIDYMVXFKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)CO WMDZKDKPYCNCDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCSGWEMRGIONEW-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-bis(2-methoxyphenyl)-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC=C1C1=C(C=2C(=CC=CC=2)OC)NC(C=2C(=CC=CC=2)Cl)=N1 UCSGWEMRGIONEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class ClC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 NSWNXQGJAPQOID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethenoxyethoxy)ethanol Chemical compound OCCOCCOC=C WULAHPYSGCVQHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound CCOCCOCCOC(C)=O FPZWZCWUIYYYBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-fluorophenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class FC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 UIHRWPYOTGCOJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLMZVBARAUTFJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropoxy)carbonylbenzoic acid Chemical compound C=CC(=O)OCC(O)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O WLMZVBARAUTFJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 HLIQLHSBZXDKLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound COCCOCCOC(C)=O BJINVQNEBGOMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class COC1=CC=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 XIOGJAPOAUEYJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethyl)butanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCOC(=O)C=C IEQWWMKDFZUMMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound CCCOC(C)COC(C)CO XYVAYAJYLWYJJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBYTTXAEDHUVAH-UHFFFAOYSA-N 2-(4-butoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OCCCC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XBYTTXAEDHUVAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical class C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)N1 SNFCQJAJPFWBDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 2-(ethenoxymethyl)oxolane Chemical compound C=COCC1CCCO1 UIUSRIAANRCPGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNYBOILAKBSWFG-UHFFFAOYSA-N 2-(phenylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1=CC=CC=C1 QNYBOILAKBSWFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OCC=C RCSBILYQLVXLJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 2-Propenyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC=C PZGMUSDNQDCNAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1COCC1OC1 JFWFAUHHNYTWOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 2-[(3-ethenylphenyl)methoxymethyl]oxirane Chemical compound C=CC1=CC=CC(COCC2OC2)=C1 OCKQMFDZQUFKRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(3,4-dimethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 ZJRNXDIVAGHETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLZAHSARJPHSO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-ethoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OCC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLZAHSARJPHSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(5-methylfuran-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound O1C(C)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 XOPKKHCDIAYUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(furan-2-yl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=CC=2OC=CC=2)=N1 PNDRGJCVJPHPOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxy]ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCCOCC1CO1 SEFYJVFBMNOLBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQXYAONREUURJF-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(dimethylamino)-2-ethylhexyl]benzoic acid Chemical compound CCC(N(C)C)CC(CC)CC1=CC=CC=C1C(O)=O LQXYAONREUURJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 2-benzoylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 FGTYTUFKXYPTML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1,3-dichloro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical group FC(F)(F)C1=CC(Cl)=C(Br)C(Cl)=C1 IQHSSYROJYPFDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1-ethenyl-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C=C)C(Br)=C1 XIHNGTKOSAPCSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRJYGQAACVZSEO-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 HRJYGQAACVZSEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylethenylbenzene Chemical compound C1CCCCC1C=CC1=CC=CC=C1 MENUHMSZHZBYMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CCOC=C PLWQJHWLGRXAMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxy-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCOC=C JWCDUUFOAZFFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 2-ethenoxyethanol Chemical compound OCCOC=C VUIWJRYTWUGOOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 2-ethylbut-1-enylbenzene Chemical compound CCC(CC)=CC1=CC=CC=C1 DDBYLRWHHCWVID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRHNZGZWMKMNE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[2-(2-methylpropyl)phenyl]-2-phenylethanone Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC=C1C(=O)C(O)C1=CC=CC=C1 WVRHNZGZWMKMNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-(4-propan-2-ylphenyl)propan-1-one Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 QPXVRLXJHPTCPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCO HXDLWJWIAHWIKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 2-iodoethenylbenzene Chemical compound IC=CC1=CC=CC=C1 OZPOYKXYJOHGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940054266 2-mercaptobenzothiazole Drugs 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethenylbenzene Chemical compound COC=CC1=CC=CC=C1 CTHJQRHPNQEPAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 LETDRANQSOEVCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATTLFLQPHSUNBK-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 ATTLFLQPHSUNBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)=CC1=CC=CC=C1 BTOVVHWKPVSLBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLDSRRGGACALMN-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyundecane-1,2-diol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)(CO)OC1=CC=CC=C1 WLDSRRGGACALMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQAAXANYWPZYJI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yl-9h-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 SQAAXANYWPZYJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 3,3,3-trifluoroprop-1-enylbenzene Chemical compound FC(F)(F)C=CC1=CC=CC=C1 HKADMMFLLPJEAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 3-aminopropyl carbamimidothioate;dihydrobromide Chemical compound Br.Br.NCCCSC(N)=N JBTDFRNUVWFUGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 3-butoxypropan-1-ol Chemical compound CCCCOCCCO NTKBNCABAMQDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 3-chloroprop-1-enylbenzene Chemical compound ClCC=CC1=CC=CC=C1 IWTYTFSSTWXZFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLGYSGTHHKRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxy-2,2-dimethylbutane Chemical compound CC(C)(C)C(C)OC=C FWLGYSGTHHKRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 3-ethenoxyoctane Chemical compound CCCCCC(CC)OC=C BJOWTLCTYPKRRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxyprop-1-enylbenzene Chemical compound CCOCC=CC1=CC=CC=C1 VCYDIDJFXXIUCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 3-ethylhex-1-ene Chemical compound CCCC(CC)C=C OLGHJTHQWQKJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-1-ene Chemical compound CCC(CC)C=C YPVPQMCSLFDIKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-ene Chemical compound CC(C)C=C YHQXBTXEYZIYOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-1-enylbenzene Chemical compound CC(C)C=CC1=CC=CC=C1 CEBRPXLXYCFYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-en-2-ylbenzene Chemical compound CC(C)=C(C)C1=CC=CC=C1 ZTHJQCDAHYOPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 3-methylpent-1-ene Chemical compound CCC(C)C=C LDTAOIUHUHHCMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJZDXJKPJSWNLQ-UHFFFAOYSA-N 3-phenoxydodecane-2,3-diol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)(C(C)O)OC1=CC=CC=C1 SJZDXJKPJSWNLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 3-phenylprop-1-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC=CC1=CC=CC=C1 AIMDYNJRXHEXEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUJVAMIXNUAJEY-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylhex-1-ene Chemical compound CCC(C)(C)CC=C SUJVAMIXNUAJEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethylpent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)CC=C KLCNJIQZXOQYTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQEGODYTGXKGEV-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)-2-(3-methylbutyl)benzoic acid Chemical compound CC(C)CCC1=CC(N(C)C)=CC=C1C(O)=O SQEGODYTGXKGEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)benzoic acid Chemical compound CN(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 YDIYEOMDOWUDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 4-Ethoxyphenol Chemical compound CCOC1=CC=C(O)C=C1 LKVFCSWBKOVHAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazin-2-yl]ethenyl]-n,n-diethyl-3-methylaniline Chemical compound CC1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 BLLOXKZNPPDLGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFJXZVGABUATED-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1-fluoro-2-(trifluoromethyl)benzene styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.FC1=C(C=C(C=C)C=C1)C(F)(F)F LFJXZVGABUATED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 4-ethenyl-1-methoxy-2-methylbenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1C GVGQXTJQMNTHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHMGQFGGUBDJI-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-(2-hydroxyethoxy)octan-2-ol Chemical compound CCCCC(CC)CC(O)COCCO KRHMGQFGGUBDJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-hexene Chemical compound CCC(CC)CC=C OPMUAJRVOWSBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HGYBBZZTDDEGTC-UHFFFAOYSA-N 4-ethyloctane-1,2-diol Chemical compound CCCCC(CC)CC(O)CO HGYBBZZTDDEGTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1CO1.OCCCCOC(=O)C=C NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRFAXWWHJWIUPI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxytriazine Chemical compound COC1=CC=NN=N1 PRFAXWWHJWIUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 4-methylhex-1-ene Chemical compound CCC(C)CC=C SUWJESCICIOQHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 5,6-dihydrodibenzo[2,1-b:2',1'-f][7]annulen-11-one Chemical compound C1CC2=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=CC=C21 BMVWCPGVLSILMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVICEEPAFUYBJG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2,2-difluoro-1,3-benzodioxole Chemical group C1=C(Cl)C=C2OC(F)(F)OC2=C1 CVICEEPAFUYBJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 5-cyclopenta-2,4-dien-1-ylcyclopenta-1,3-diene Chemical group C1=CC=CC1C1C=CC=C1 IZSHZLKNFQAAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 9-(5-acridin-9-ylpentyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 IPRFSEGUKLMSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 9-(7-acridin-9-ylheptyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 9-phenylacridine Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=C(C=CC=C2)C2=NC2=CC=CC=C12 MTRFEWTWIPAXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 9H-thioxanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3SC2=C1 PQJUJGAVDBINPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N Allyl benzoate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 LYJHVEDILOKZCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MKMFFPDTRYXBJO-UHFFFAOYSA-N C(C)(=O)O.C(C)(=O)OC(COCC)C Chemical compound C(C)(=O)O.C(C)(=O)OC(COCC)C MKMFFPDTRYXBJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVMAJMJFHRWZFG-ZNTNEXAZSA-N CC(O/N=C(/C(c1cccc(Sc2ccccc2)c1)=O)\c1ccccc1C)=O Chemical compound CC(O/N=C(/C(c1cccc(Sc2ccccc2)c1)=O)\c1ccccc1C)=O AVMAJMJFHRWZFG-ZNTNEXAZSA-N 0.000 description 1
- XGPNZGRGJSYIHR-OEAKJJBVSA-N CCC1(CC)c2cc(C(/C(/C)=N/OC(C)=O)=O)ccc2-c2ccccc12 Chemical compound CCC1(CC)c2cc(C(/C(/C)=N/OC(C)=O)=O)ccc2-c2ccccc12 XGPNZGRGJSYIHR-OEAKJJBVSA-N 0.000 description 1
- UEFBOQZZFKJTEN-QNKGDIEWSA-N CCCC(CCC)(c1c2)c(cc(cc3)C(c4ccccc4C)=O)c3-c1ccc2C(/C(/C)=N/OC(C)=O)=O Chemical compound CCCC(CCC)(c1c2)c(cc(cc3)C(c4ccccc4C)=O)c3-c1ccc2C(/C(/C)=N/OC(C)=O)=O UEFBOQZZFKJTEN-QNKGDIEWSA-N 0.000 description 1
- DVOZREUNLNRFQD-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCCCC=C.CCCCCCCCCCCCCCCCC=C Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C.CCCCCCCCCCCCCCCCC=C DVOZREUNLNRFQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKSAKMFHXPTVCD-WPWMEQJKSA-N CC[n]1c(cc(cc2)/C(/C)=N/OC(C)=O)c2c2c1ccc(C(c1ccccc1C)=O)c2 Chemical compound CC[n]1c(cc(cc2)/C(/C)=N/OC(C)=O)c2c2c1ccc(C(c1ccccc1C)=O)c2 KKSAKMFHXPTVCD-WPWMEQJKSA-N 0.000 description 1
- ODIXESDIGVUPHQ-QVIHXGFCSA-N CC[n]1c(ccc(/C(/c(cc2)c(C)cc2OC(C)COC)=N\OC(C)=O)c2)c2c2c1ccc(C)c2 Chemical compound CC[n]1c(ccc(/C(/c(cc2)c(C)cc2OC(C)COC)=N\OC(C)=O)c2)c2c2c1ccc(C)c2 ODIXESDIGVUPHQ-QVIHXGFCSA-N 0.000 description 1
- LUPCXYTWWYOROW-BSRQYYOTSA-N CC[n]1c(ccc(C#Cc(cc2)ccc2[N+]([O-])=O)c2)c2c2c1ccc(/C(/c(c(C)c1)ccc1OC(C)COC)=N\OC(C)=O)c2 Chemical compound CC[n]1c(ccc(C#Cc(cc2)ccc2[N+]([O-])=O)c2)c2c2c1ccc(/C(/c(c(C)c1)ccc1OC(C)COC)=N\OC(C)=O)c2 LUPCXYTWWYOROW-BSRQYYOTSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1[N+]([O-])=O Chemical compound Cc(cc1)ccc1[N+]([O-])=O ZPTVNYMJQHSSEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical class C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005863 Friedel-Crafts acylation reaction Methods 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N Methanethiol Chemical class SC LSDPWZHWYPCBBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXKHYNVANLEOEG-UHFFFAOYSA-N Methoxsalen Chemical group C1=CC(=O)OC2=C1C=C1C=COC1=C2OC QXKHYNVANLEOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 1
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N [(e)-2-bromoethenyl]benzene Chemical compound Br\C=C\C1=CC=CC=C1 YMOONIIMQBGTDU-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N [1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)carbazol-3-yl]ethylideneamino] acetate Chemical compound C=1C=C2N(CC)C3=CC=C(C(C)=NOC(C)=O)C=C3C2=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1C SEEVRZDUPHZSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009435 amidation Effects 0.000 description 1
- 238000007112 amidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(diethylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1 VYHBFRJRBHMIQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N but-1-enylbenzene Chemical compound CCC=CC1=CC=CC=C1 MPMBRWOOISTHJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N butyl 4-(dimethylamino)benzoate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FOYJYXHISWUSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006309 butyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N butyl propionate Chemical compound CCCCOC(=O)CC BTMVHUNTONAYDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001767 cationic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N cinnamyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC=CC1=CC=CC=C1 WJSDHUCWMSHDCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 150000001896 cresols Chemical class 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N dodec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 MSHALHDXRMDVAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N dodecahydrosqualene Natural products CC(C)CCCC(C)CCCC(C)CCCCC(C)CCCC(C)CCCC(C)C PRAKJMSDJKAYCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- LOVPPFWYZXMGGB-UHFFFAOYSA-N ethanol prop-2-enoic acid Chemical compound C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(C=C)(=O)O.C(O)C LOVPPFWYZXMGGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxybenzene Chemical compound C=COC1=CC=CC=C1 NHOGGUYTANYCGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N ethenoxymethylbenzene Chemical compound C=COCC1=CC=CC=C1 AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBCLTORTGNOIGM-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dichloroacetate Chemical compound ClC(Cl)C(=O)OC=C ZBCLTORTGNOIGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,2-dimethylpropanoate Chemical compound CC(C)(C)C(=O)OC=C YCUBDDIKWLELPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2,3,4,5-tetrachlorobenzoate Chemical compound ClC1=CC(C(=O)OC=C)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl YMQHXFNDANLQTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chloroacetate Chemical compound ClCC(=O)OC=C XJELOQYISYPGDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIHUSWGELHYBJ-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-chlorobenzoate Chemical compound ClC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C ZJIHUSWGELHYBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC=C CMXXMZYAYIHTBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OC=C MPOGZNTVZCEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methoxyacetate Chemical compound COCC(=O)OC=C AFIQVBFAKUPHOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N ethenyl 2-methylpropanoate Chemical compound CC(C)C(=O)OC=C WNMORWGTPVWAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N ethenyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OC=C ZEYMDLYHRCTNEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYATZCPFHGSBPG-UHFFFAOYSA-N ethenyl 3-phenylbutanoate Chemical compound C=COC(=O)CC(C)C1=CC=CC=C1 VYATZCPFHGSBPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N ethenyl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC=C LZWYWAIOTBEZFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGVWGPMAGMJLBU-UHFFFAOYSA-N ethenyl naphthalene-1-carboxylate Chemical class C1=CC=C2C(C(=O)OC=C)=CC=CC2=C1 BGVWGPMAGMJLBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N ethenyl pentanoate Chemical compound CCCCC(=O)OC=C BLZSRIYYOIZLJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006266 etherification reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-oxobutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)CC FJAKCEHATXBFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005816 fluoropropyl group Chemical group [H]C([H])(F)C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 1
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylbenzene Chemical compound CCCCC=CC1=CC=CC=C1 KETWBQOXTBGBBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N hexane Substances CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical class CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N lactic acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(1-methoxy-2-methyl-1-oxopropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)OC ZQMHJBXHRFJKOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N n-(2-ethenoxyethyl)butan-1-amine Chemical compound CCCCNCCOC=C IPUPLVNNJOGFHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003935 n-pentoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N n-tert-butylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)(C)NC(=O)C=C XFHJDMUEHUHAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005186 naphthyloxy group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)O* 0.000 description 1
- 125000005029 naphthylthio group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S* 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N oct-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 RCALDWJXTVCBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoindene-1,5-diyldimethanol Chemical compound C1C2C3C(CO)CCC3C1C(CO)C2 OTLDLKLSNZMTTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000006146 oximation reaction Methods 0.000 description 1
- LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N padimate a Chemical compound CCCCCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 LXTZRIBXKVRLOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M pent-4-enoate Chemical compound [O-]C(=O)CCC=C HVAMZGADVCBITI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CC(O)C(=O)OCC=C CYFIHPJVHCCGTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-oxobutanoate Chemical compound CC(=O)CC(=O)OCC=C AXLMPTNTPOWPLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMAPKVSTSACQB-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C ZQMAPKVSTSACQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAFZJTKIBGEQKT-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C HAFZJTKIBGEQKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPCIWDZYMSZAEZ-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC=C HPCIWDZYMSZAEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005767 propoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[#8]C([H])([H])* 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N propyl butyrate Chemical compound CCCOC(=O)CCC HUAZGNHGCJGYNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 235000021003 saturated fats Nutrition 0.000 description 1
- 125000005930 sec-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004001 thioalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C251/00—Compounds containing nitrogen atoms doubly-bound to a carbon skeleton
- C07C251/32—Oximes
- C07C251/62—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified
- C07C251/64—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids
- C07C251/66—Oximes having oxygen atoms of oxyimino groups esterified by carboxylic acids with the esterifying carboxyl groups bound to hydrogen atoms, to acyclic carbon atoms or to carbon atoms of rings other than six-membered aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/2012—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image using liquid photohardening compositions, e.g. for the production of reliefs such as flexographic plates or stamps
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/203—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure comprising an imagewise exposure to electromagnetic radiation or corpuscular radiation
Abstract
【課題】露光に対する感度が十分であり、硬化により透過率が十分な硬化物を与える感光性組成物と、感光性組成物を用いるパターン形成方法と、感光性組成物を用いて形成される硬化物と、硬化物を備える表示装置と、を提供する。【解決手段】ニトロ基を有しない式(1)で表される光重合開始剤(A1)、及び、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)を含む感光性組成物。式(1)中、R1は水素原子又は1価の有機基、R2及びR3は、それぞれ、置換基を有していてもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子であり、R2とR3とは相互に結合して環を形成してもよく、R4は特定の環状構造を有する有機基、R5は水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基、nは0〜4の整数である。【選択図】なし[PROBLEMS] To provide a photosensitive composition having sufficient sensitivity to exposure and providing a cured product having sufficient transmittance upon curing, a pattern forming method using the photosensitive composition, and curing formed using the photosensitive composition. And a display device including a cured product. A photosensitive composition comprising a photopolymerization initiator (A1) represented by the formula (1) having no nitro group and a photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. . In formula (1), R1 is a hydrogen atom or a monovalent organic group, R2 and R3 are each a chain alkyl group which may have a substituent, a cyclic organic group which may have a substituent, Or R2 and R3 may be bonded to each other to form a ring, R4 is an organic group having a specific cyclic structure, R5 is a hydrogen atom, or a carbon atom that may have a substituent. The alkyl group of number 1-11, or the aryl group which may have a substituent, n is an integer of 0-4. [Selection figure] None
Description
本発明は、感光性組成物、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法、当該感光性組成物を用いて形成される硬化物、並びに当該硬化物を備える表示装置に関する。 The present invention relates to a photosensitive composition, a pattern forming method using the photosensitive composition, a cured product formed using the photosensitive composition, and a display device including the cured product.
液晶表示装置のような表示装置では、絶縁膜や、スペーサーのような材料が、バックライトのような光源から発せられる光を効率よく透過させる必要がある。このため、絶縁膜やスペーサーのパターンを形成するために、露光により透明な硬化膜を与える感光性組成物が用いられる。このような、感光性組成物を選択的に露光することにより、透明な硬化膜のパターンを形成できる。 In a display device such as a liquid crystal display device, an insulating film or a material such as a spacer needs to efficiently transmit light emitted from a light source such as a backlight. For this reason, in order to form the pattern of an insulating film or a spacer, the photosensitive composition which gives a transparent cured film by exposure is used. By selectively exposing such a photosensitive composition, a transparent cured film pattern can be formed.
透明な硬化膜を形成可能な感光性組成物としては、例えば、樹脂と、重合性化合物と、特定の構造の重合開始剤と、溶剤とを含む組成物が提案されている(特許文献1)。具体的には、特許文献1の実施例には、メタクリル酸と脂環式エポキシ基を有するアクリレートとの共重合体と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートと、下記式のいずれかで表される重合開始剤と、3−メトキシ−1−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−エトキシプロピオン酸エチル、及び3−メトキシブチルアセテートからなる混合溶剤と、を含む感光性組成物が開示されている。 As a photosensitive composition capable of forming a transparent cured film, for example, a composition containing a resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator having a specific structure, and a solvent has been proposed (Patent Document 1). . Specifically, Examples of Patent Document 1 include a copolymer of methacrylic acid and an acrylate having an alicyclic epoxy group, dipentaerythritol hexaacrylate, and a polymerization start represented by any of the following formulas: A photosensitive composition comprising an agent and a mixed solvent comprising 3-methoxy-1-butanol, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, and 3-methoxybutyl acetate is disclosed.
感光性組成物は、その成分の一部として含まれる光重合開始剤が露光によってラジカルを発生させ、このラジカルが感光性組成物に含まれる重合性の化合物を重合させることによって硬化する。そのため、感光性組成物の感度は、それに含まれる光重合開始剤の種類によって影響を受けることが知られている。感光性組成物の感度を良好にすることのできる光重合開始剤として、特許文献2には、シクロアルキル基を有するオキシムエステル化合物が提案されている。特許文献2に記載された実施例では、下記化学式(a)及び(b)で表される化合物が具体的に開示されている。 The photosensitive composition is cured by the photopolymerization initiator contained as a part of its components generating radicals upon exposure and polymerizing the polymerizable compound contained in the photosensitive composition. Therefore, it is known that the sensitivity of the photosensitive composition is affected by the type of photopolymerization initiator contained therein. As a photopolymerization initiator capable of improving the sensitivity of the photosensitive composition, Patent Document 2 proposes an oxime ester compound having a cycloalkyl group. In the examples described in Patent Document 2, compounds represented by the following chemical formulas (a) and (b) are specifically disclosed.
しかし、特許文献1又は特許文献2に記載される感光性組成物は、露光に対する感度が十分でなく、当該感光性組成物を用いて形成される硬化膜は、透過率が十分でない。 However, the photosensitive composition described in Patent Document 1 or Patent Document 2 is not sufficiently sensitive to exposure, and a cured film formed using the photosensitive composition does not have sufficient transmittance.
本発明は、上記の課題に鑑みなされたものであって、露光に対する感度が十分であり、硬化により透過率が十分な硬化物を与える感光性組成物と、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法と、当該感光性組成物を用いて形成される硬化物と、当該硬化物を備える表示装置と、を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and is a photosensitive composition that provides a cured product with sufficient sensitivity to exposure and sufficient transmittance upon curing, and pattern formation using the photosensitive composition. An object is to provide a method, a cured product formed using the photosensitive composition, and a display device including the cured product.
本発明者らは、光重合開始剤を含む感光性組成物において、当該光重合開始剤として、特定の構造を有する光重合開始剤(A1)と、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)とを用いることにより、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 In the photosensitive composition containing a photopolymerization initiator, the present inventors have used a photopolymerization initiator (A1) having a specific structure as the photopolymerization initiator and light having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by using the polymerization initiator (A2), and the present invention has been completed.
本発明の第一の態様は、下記式(1)で表される光重合開始剤(A1)、及び、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)を含む、感光性組成物である。
本発明の第二の態様は、第一の態様に係る感光性組成物を用いて塗膜又は成形体を形成し、該塗膜又は成形体に対して所定パターン状に電磁波を照射し、現像することを含むパターン形成方法である。 The second aspect of the present invention is to form a coating film or a molded body using the photosensitive composition according to the first aspect, irradiate the coating film or the molded body with electromagnetic waves in a predetermined pattern, and develop It is a pattern formation method including doing.
本発明の第三の態様は、第一の態様に係る感光性組成物を用いて形成された硬化物である。 The third aspect of the present invention is a cured product formed using the photosensitive composition according to the first aspect.
本発明の第四の態様は、第三の態様に係る硬化物を備える表示装置である。 4th aspect of this invention is a display apparatus provided with the hardened | cured material which concerns on 3rd aspect.
本発明によれば、露光に対する感度が十分であり、硬化により透過率が十分な硬化物を与える感光性組成物と、当該感光性組成物を用いるパターン形成方法と、当該感光性組成物を用いて形成される硬化物と、当該硬化物を備える表示装置と、を提供することができる。 According to the present invention, a photosensitive composition that provides a cured product with sufficient sensitivity to exposure and sufficient transmittance upon curing, a pattern formation method using the photosensitive composition, and the photosensitive composition are used. And a display device provided with the cured product.
≪感光性組成物≫
本発明に係る感光性組成物は、上記式(1)で表される光重合開始剤(A1)、及び、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)を含む。以下、感光性組成物に含まれる各成分について説明する。
≪Photosensitive composition≫
The photosensitive composition according to the present invention includes a photopolymerization initiator (A1) represented by the above formula (1) and a photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. Hereinafter, each component contained in the photosensitive composition will be described.
<光重合開始剤(A)>
光重合開始剤の種類によっては、光重合開始剤を含む感光性組成物の透過率、及び、当該感光性組成物を用いて形成され、ポストベークを施されたパターンの透過率が低下する場合がある。また、光重合開始剤の種類によっては、光重合開始剤を含む感光性組成物の透過率が低下する場合もある。しかし、上記式(1)で表される光重合開始剤(A1)(以下、「光重合開始剤(A1)」又は「(A1)成分」ともいう。)を含む感光性組成物を用いる場合、加熱によるパターンの透過率の低下が生じにくい。同時に、感光性組成物の透過率の低下が生じにくい場合もある。また、光重合開始剤(A1)は、光に対して比較的高感度である。
一方、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)(以下、「光重合開始剤(A2)」又は「(A2)成分」ともいう。)は、光に対して高感度である。
本発明に係る感光性組成物は、光重合開始剤(A1)と光重合開始剤(A2)との組み合わせにより、光に対する感度に優れるとともに、高い透過率を維持する硬化物を与える。このため、本発明の感光性組成物を用いることで、低露光量で所望する形状のパターンを形成することが可能であり、形成されるパターンは、高い透過率を有する。また、感度に優れる本発明に係る感光性組成物を用いることで、パターン形成時のパターンはがれを抑制し、ラインパターンを形成する際のパターンのエッジに生じるがたつきの発生を抑制することができる。
<Photopolymerization initiator (A)>
Depending on the type of photopolymerization initiator, the transmittance of the photosensitive composition containing the photopolymerization initiator and the transmittance of the post-baked pattern formed using the photosensitive composition are reduced. There is. Moreover, the transmittance | permeability of the photosensitive composition containing a photoinitiator may fall depending on the kind of photoinitiator. However, when a photosensitive composition containing the photopolymerization initiator (A1) represented by the above formula (1) (hereinafter also referred to as “photopolymerization initiator (A1)” or “(A1) component”) is used. The pattern transmittance due to heating is unlikely to decrease. At the same time, the transmittance of the photosensitive composition may not easily decrease. Further, the photopolymerization initiator (A1) is relatively sensitive to light.
On the other hand, the photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded (hereinafter also referred to as “photopolymerization initiator (A2)” or “component (A2)”) is highly sensitive to light. It is.
The photosensitive composition which concerns on this invention gives the hardened | cured material which maintains the high transmittance | permeability while being excellent in the sensitivity with respect to light by the combination of a photoinitiator (A1) and a photoinitiator (A2). Therefore, by using the photosensitive composition of the present invention, it is possible to form a pattern having a desired shape with a low exposure amount, and the formed pattern has a high transmittance. Moreover, by using the photosensitive composition according to the present invention having excellent sensitivity, pattern peeling at the time of pattern formation can be suppressed, and occurrence of rattling that occurs at the edge of the pattern when forming a line pattern can be suppressed. .
[式(1)で表される光重合開始剤(A1)]
本発明に係る感光性組成物は、上記式(1)で表される光重合開始剤(A1)を含有する。光重合開始剤(A1)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Photoinitiator (A1) Represented by Formula (1)]
The photosensitive composition concerning this invention contains the photoinitiator (A1) represented by the said Formula (1). A photoinitiator (A1) can be used individually or in combination of 2 or more types.
式(1)中、R1は、水素原子又は1価の有機基である。R1は、式(1)中のフルオレン環上で、−CO−で表される基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。この条件を満たす限り、式(1)中、R1のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。光重合開始剤(A1)が1以上のR1を有する場合、光重合開始剤(A1)の合成が容易であること等から、1以上のR1のうちの1つがフルオレン環中の2位に結合するのが好ましい。R1が複数である場合、複数のR1は同一であっても異なっていてもよい。 In Formula (1), R 1 is a hydrogen atom or a monovalent organic group. R 1 is bonded to a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by —CO— on the fluorene ring in the formula (1). As long as this condition is satisfied, the bonding position of R 1 to the fluorene ring in formula (1) is not particularly limited. When the photopolymerization initiator (A1) has one or more R 1 , one of the one or more R 1 is in position 2 in the fluorene ring because the synthesis of the photopolymerization initiator (A1) is easy. It is preferable to bind to. When R 1 is plural, the plural R 1 may be the same or different.
R1が1価の有機基である場合、R1は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の1価の有機基から適宜選択される。R1が1価の有機基である場合の好適な例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。 When R 1 is a monovalent organic group, R 1 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various monovalent organic groups. Preferable examples when R 1 is a monovalent organic group include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. A phenyl group which may have a substituent, a phenoxy group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenoxycarbonyl group which may have a substituent, and a substituent A good benzoyloxy group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, An optionally substituted naphthoxycarbonyl group, an optionally substituted naphthoyloxy group, an optionally substituted naphthylalkyl group, and an optionally substituted heterocyclyl group , An optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, an amino group substituted with one or two organic groups, a morpholin-1-yl group, and a piperazin-1-yl group.
R1がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R1がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R1がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、R1がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkyl group, number of carbon atoms in the alkyl group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R 1 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, Examples thereof include an n-decyl group and an isodecyl group. When R 1 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
R1がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R1がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R1がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチオキシル基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、R1がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 If R 1 is an alkoxy group, number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably from 1 to 20, 1 to 6 is more preferable. Further, when R 1 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R 1 is an alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propyloxy, isopropyloxy, n-butyloxy, isobutyloxy, sec-butyloxy, tert-butyloxy, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When R 1 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.
R1がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。R1がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。R1がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples of when R 1 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples when R 1 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.
R1が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。R1が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。R1が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 1 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecane Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R 1 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.
R1がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。R1がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 1 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples in the case where R 1 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, i Examples include a sononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.
R1がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、R1がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。R1がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。R1がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。R1が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、R1は、フェニル基、又はナフチル基上に更に置換基を有していてもよい。 When R 1 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7 to 20, and more preferably 7 to 10. Moreover, when R < 1 > is a naphthyl alkyl group, 11-20 are preferable and, as for the carbon atom number of a naphthyl alkyl group, 11-14 are more preferable. Specific examples when R 1 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples in the case where R 1 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R 1 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 1 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.
R1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、及び/又はOを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合する環の数は3以下である。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イソインドール環、インドリジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、カルバゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、シンノリン環、キノキサリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピペリジン環、テトラヒドロピラン環、及びテトラヒドロフラン環等が挙げられる。R1がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は更に置換基を有していてもよい。 When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and / or O, such monocycles, or such monocycles and a benzene ring. And a condensed heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is 3 or less. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrazine Ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indole ring, isoindole ring, indolizine ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, carbazole ring, purine ring, quinoline ring , Isoquinoline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, piperidine ring, tetrahydropyran ring, tetrahydrofuran ring, etc. When R 1 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
R1がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、R1がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 1 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 1 is a heterocyclyl group.
R1が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、R1と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R 1 is an amino group substituted with an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, and carbon atoms. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R 1 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.
R1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン原子、及びシアノ基等が挙げられる。ハロゲン原子の具体例及び好適例は後述の通りである。R1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、1〜4が好ましい。R1に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 1 further have a substituent, the substituent is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen atom, and a cyano group. Specific examples and preferred examples of the halogen atom are as described later. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, and 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 1 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
以上説明した基の中でも、感度が向上する傾向がある点で、R1としては、R6−CO−で表される基が好ましい。R6は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。R6として好適な基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。R6として、これらの基の中では、2−メチルフェニル基、チオフェン−2−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、透明性が良好となる傾向がある点で、R1としては水素原子が好ましい。なお、R1が水素原子であり且つR4が後述の式(R4−2)で表される基であると透明性はより良好となる傾向がある。
Among the groups described above, R 1 is preferably a group represented by R 6 —CO— because the sensitivity tends to be improved. R 6 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Examples of a group suitable as R 6 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. Among these groups, R 6 is particularly preferably a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, or an α-naphthyl group.
In addition, as R 1 , a hydrogen atom is preferable because transparency tends to be good. When R 1 is a hydrogen atom and R 4 is a group represented by the following formula (R4-2), the transparency tends to be better.
式(1)中、R2及びR3は、それぞれ、置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状有機基、又は水素原子である。R2とR3とは相互に結合して環を形成してもよい。これらの基の中では、R2及びR3として、置換基を有してもよい鎖状アルキル基が好ましい。R2及びR3が置換基を有してもよい鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。 In formula (1), R 2 and R 3 are each a chain alkyl group that may have a substituent, a cyclic organic group that may have a substituent, or a hydrogen atom. R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring. Among these groups, R 2 and R 3 are preferably chain alkyl groups which may have a substituent. When R 2 and R 3 are chain alkyl groups which may have a substituent, the chain alkyl group may be a linear alkyl group or a branched alkyl group.
R2及びR3が置換基を持たない鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。R2及びR3が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、R2及びR3がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 2 and R 3 are chain alkyl groups having no substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. Specific examples in the case where R 2 and R 3 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group and the like. When R 2 and R 3 are alkyl groups, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
R2及びR3が置換基を有する鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有する鎖状アルキル基は、直鎖状であるのが好ましい。
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。シクロアルキル基の具体例としては、R1がシクロアルキル基である場合の好適な例と同様である。芳香族炭化水素基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。ヘテロシクリル基の具体例としては、R1がヘテロシクリル基である場合の好適な例と同様である。R1がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。
When R 2 and R 3 are a chain alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms of the chain alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The chain alkyl group having a substituent is preferably linear.
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, and an alkoxycarbonyl group. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable. Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. Specific examples of the cycloalkyl group are the same as the preferred examples in the case where R 1 is a cycloalkyl group. Specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group. Specific examples of the heterocyclyl group are the same as the preferred examples when R 1 is a heterocyclyl group. When R 1 is an alkoxycarbonyl group, the alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable.
鎖状アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1〜20であり、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。 When the chain alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, and more preferably 1-6.
R2及びR3が環状有機基である場合、環状有機基は、脂環式基であっても、芳香族基であってもよい。環状有機基としては、脂肪族環状炭化水素基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。R2及びR3が環状有機基である場合に、環状有機基が有してもよい置換基は、R2及びR3が鎖状アルキル基である場合と同様である。 When R 2 and R 3 are cyclic organic groups, the cyclic organic group may be an alicyclic group or an aromatic group. Examples of the cyclic organic group include an aliphatic cyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group. When R 2 and R 3 are cyclic organic groups, the substituents that the cyclic organic group may have are the same as when R 2 and R 3 are chain alkyl groups.
R2及びR3が芳香族炭化水素基である場合、芳香族炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R 2 and R 3 are aromatic hydrocarbon groups, is the aromatic hydrocarbon group a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via carbon-carbon bonds? A group formed by condensation of a plurality of benzene rings is preferred. When the aromatic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by combining or condensing a plurality of benzene rings, the number of benzene rings contained in the aromatic hydrocarbon group is not particularly limited, 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferable specific examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.
R2及びR3が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されず、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R 2 and R 3 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 10. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, Examples include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.
R2及びR3がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、及び/又はOを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合する環の数は3以下である。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イソインドール環、インドリジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、カルバゾール環、プリン環、キノリン環、イソキノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、シンノリン環、キノキサリン環、ピペリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、ピペリジン環、テトラヒドロピラン環、及びテトラヒドロフラン環等が挙げられる。 When R 2 and R 3 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and / or O, such monocycles, or such monocycles Is a heterocyclyl group in which a benzene ring is condensed. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is 3 or less. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, thiadiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrazine Ring, pyrimidine ring, pyridazine ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, indole ring, isoindole ring, indolizine ring, benzimidazole ring, benzotriazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, carbazole ring, purine ring, quinoline ring , Isoquinoline ring, quinazoline ring, phthalazine ring, cinnoline ring, quinoxaline ring, piperidine ring, piperazine ring, morpholine ring, piperidine ring, tetrahydropyran ring, tetrahydrofuran ring, etc.
R2とR3とは相互に結合して環を形成してもよい。R2とR3とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。R2とR3とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a ring. The group consisting of the ring formed by R 2 and R 3 is preferably a cycloalkylidene group. When R 2 and R 3 are bonded to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.
R2とR3とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R 2 and R 3 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.
以上説明したR2及びR3の中でも好適な基の例としては、式−A1−A2で表される基が挙げられる。式中、A1は直鎖アルキレン基であり、A2は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である。 Examples of a suitable group among R 2 and R 3 described above include a group represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.
A1の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。A2がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。A2がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。A2がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。A2が環状有機基である場合、環状有機基の例は、R2及びR3が置換基として有する環状有機基と同様である。A2がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、R2及びR3が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。 The number of carbon atoms in a straight chain alkylene group A 1 is 1 to 10 preferably 1 to 6 is more preferable. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable. When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear. When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R 2 and R 3 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group that R 2 and R 3 have as a substituent.
R2及びR3の好適な具体例としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基等のアルキル基;2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、5−メトキシ−n−ペンチル基、6−メトキシ−n−ヘキシル基、7−メトキシ−n−ヘプチル基、8−メトキシ−n−オクチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、5−エトキシ−n−ペンチル基、6−エトキシ−n−ヘキシル基、7−エトキシ−n−ヘプチル基、及び8−エトキシ−n−オクチル基等のアルコキシアルキル基;2−シアノエチル基、3−シアノ−n−プロピル基、4−シアノ−n−ブチル基、5−シアノ−n−ペンチル基、6−シアノ−n−ヘキシル基、7−シアノ−n−ヘプチル基、及び8−シアノ−n−オクチル基等のシアノアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、6−フェニル−n−ヘキシル基、7−フェニル−n−ヘプチル基、及び8−フェニル−n−オクチル基等のフェニルアルキル基;2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基、5−シクロヘキシル−n−ペンチル基、6−シクロヘキシル−n−ヘキシル基、7−シクロヘキシル−n−ヘプチル基、8−シクロヘキシル−n−オクチル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチル−n−プロピル基、4−シクロペンチル−n−ブチル基、5−シクロペンチル−n−ペンチル基、6−シクロペンチル−n−ヘキシル基、7−シクロペンチル−n−ヘプチル基、及び8−シクロペンチル−n−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、4−メトキシカルボニル−n−ブチル基、5−メトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−メトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−メトキシカルボニル−n−ヘプチル基、8−メトキシカルボニル−n−オクチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、4−エトキシカルボニル−n−ブチル基、5−エトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−エトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−エトキシカルボニル−n−ヘプチル基、及び8−エトキシカルボニル−n−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2−クロルエチル基、3−クロル−n−プロピル基、4−クロル−n−ブチル基、5−クロル−n−ペンチル基、6−クロル−n−ヘキシル基、7−クロル−n−ヘプチル基、8−クロル−n−オクチル基、2−ブロモエチル基、3−ブロモ−n−プロピル基、4−ブロモ−n−ブチル基、5−ブロモ−n−ペンチル基、6−ブロモ−n−ヘキシル基、7−ブロモ−n−ヘプチル基、8−ブロモ−n−オクチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferable specific examples of R 2 and R 3 include an alkyl group such as an ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl Group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group, 8-methoxy -N-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl group, 7- Alkoxyalkyl groups such as ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5-cyano-n -Pen Group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl-n-propyl group Phenylalkyl such as 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group Groups: 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7-cyclohexyl-n- Heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cyclopentyl- cycloalkylalkyl groups such as an n-butyl group, a 5-cyclopentyl-n-pentyl group, a 6-cyclopentyl-n-hexyl group, a 7-cyclopentyl-n-heptyl group, and an 8-cyclopentyl-n-octyl group; Methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxycarbonyl- n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n-pentyl Group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-ethoxycal Alkoxycarbonylalkyl groups such as nyl-n-heptyl and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl; 2-chloroethyl, 3-chloro-n-propyl, 4-chloro-n-butyl, 5-chloro -N-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4-bromo -N-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-trifluoro Examples thereof include a propyl group and a halogenated alkyl group such as 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.
R2及びR3として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−フェニルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基である。 Among R 2 and R 3 , preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5,5,5-hepta A fluoro-n-pentyl group;
式(1)中、R4は、下記式(R4−1)又は(R4−2)で表される基である。
式(R4−1)中のR7及びR8についての1価の有機基の例は、R1と同様である。R7としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。R7がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、R7はメチル基であるのが最も好ましい。R7とR8とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(R4−1)で表される基であって、R7とR8とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(R4−1)中、pは0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。 Examples of the monovalent organic group for R 7 and R 8 in formula (R4-1) are the same as those for R 1 . R 7 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R 7 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R 7 is most preferably a methyl group. When R 7 and R 8 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (R4-1) in which R 7 and R 8 form a ring include a naphthalen-1-yl group, 1, 2, 3, 4-tetrahydronaphthalen-5-yl group etc. are mentioned. In said formula (R4-1), p is an integer of 0-4, it is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.
上記式(R4−2)中、R9は1価の有機基である。1価の有機基としては、R1について説明した1価の有機基と同様の基が挙げられる。1価の有機基の中では、アルキル基が好ましい。アルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよい。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。R9としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (R4-2), R 9 is a monovalent organic group. Examples of the monovalent organic group include the same groups as the monovalent organic group described for R 1 . Of the monovalent organic groups, an alkyl group is preferable. The alkyl group may be linear or branched. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. R 9 is preferably exemplified by a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.
上記式(R4−2)中、rは1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(R4−2)中、sは0〜(r+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(R4−2)中、qは1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。 In said formula (R4-2), r is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (R4-2), s is 0- (r + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (R4-2), q is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.
式(1)中、R5は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。R5がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、R1がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In Formula (1), R 5 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be present when R 5 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. In addition, preferred examples of the substituent that R 1 may have when it is an aryl group include an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, and a halogen atom.
式(1)中、R5としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (1), preferred examples of R 5 include a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, and a naphthyl group. Among these, a methyl group or a phenyl group is more preferable.
式(1)中、nは0〜4の整数であり、0〜2の整数が好ましく、0又は1がより好ましく、0が特に好ましい。 In Formula (1), n is an integer of 0-4, the integer of 0-2 is preferable, 0 or 1 is more preferable, and 0 is especially preferable.
上述の通り、光重合開始剤(A1)は、ニトロ基を有しない。即ち、R1〜R5のいずれもニトロ基を有しない。 As described above, the photopolymerization initiator (A1) does not have a nitro group. That is, none of R 1 to R 5 has a nitro group.
光重合開始剤(A1)の含有量は、感光性組成物の固形分に対して0.001〜50質量%であることが好ましく、0.01〜30質量%であることがより好ましく、0.1〜20質量%が更により好ましく、1〜10質量%が特に好ましい。光重合開始剤(A1)の含有量が上記の範囲内であると、得られる組成物は、露光に対する良好な感度を維持しつつ、その組成物から得られる硬化物は、透過率が十分となりやすい。
光重合開始剤(A1)の含有量は、例えば、光重合開始剤(A)全体に対して1〜99.5質量%の範囲であればよく、好ましくは50〜99質量%であり、70〜98質量%であることがより好ましく、80〜97質量%であることが更により好ましい。
The content of the photopolymerization initiator (A1) is preferably 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 30% by mass, based on the solid content of the photosensitive composition. More preferably, 1-20 mass% is still more preferable, and 1-10 mass% is especially preferable. When the content of the photopolymerization initiator (A1) is within the above range, the obtained composition maintains good sensitivity to exposure, and the cured product obtained from the composition has sufficient transmittance. Cheap.
Content of a photoinitiator (A1) should just be the range of 1-99.5 mass% with respect to the whole photoinitiator (A), for example, Preferably it is 50-99 mass%, 70 More preferably, it is -98 mass%, and it is still more preferable that it is 80-97 mass%.
光重合開始剤(A1)の製造方法は特に限定されない。光重合開始剤(A1)は、好ましくは、下記式(2)で表される化合物に含まれるオキシム基(=N−OH)を、=N−O−COR5で表されるオキシムエステル基に変換する工程を含む方法により製造される。R5は、式(1)中のR5と同様である。
このため、上記式(2)で表される化合物は、光重合開始剤(A1)の合成用中間体として有用である。 For this reason, the compound represented by the above formula (2) is useful as an intermediate for synthesis of the photopolymerization initiator (A1).
オキシム基(=N−OH)を、=N−O−COR5で表されるオキシムエステル基に変換する方法は特に限定されない。典型的には、オキシム基中の水酸基に、−COR5で表されるアシル基を与えるアシル化剤を反応させる方法が挙げられる。アシル化剤としては、(R5CO)2Oで表される酸無水物や、R5COHal(Halはハロゲン原子)で表される酸ハライドが挙げられる。 The method for converting the oxime group (= N—OH) into the oxime ester group represented by ═N—O—COR 5 is not particularly limited. Typically, a method of reacting the hydroxyl group in the oxime group with an acylating agent that gives an acyl group represented by —COR 5 can be mentioned. Examples of the acylating agent include an acid anhydride represented by (R 5 CO) 2 O and an acid halide represented by R 5 COHal (Hal is a halogen atom).
光重合開始剤(A1)は、例えば、下記スキームに従って合成することができる。下記スキームでは、下記式(1−1)で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。R1が1価の有機基である場合、式(1−1)で表されるフルオレン誘導体は、9位をR2及びR3で置換されたフルオレン誘導体に、周知の方法によって、置換基R1を導入して得ることができる。9位をR2及びR3で置換されたフルオレン誘導体は、例えば、R2及びR3がアルキル基である場合、特開平06−234668号公報に記載されるように、アルカリ金属水酸化物の存在下に、非プロトン性極性有機溶媒中で、フルオレンとアルキル化剤とを反応させて得ることができる。また、フルオレンの有機溶媒溶液中に、ハロゲン化アルキルのようなアルキル化剤と、アルカリ金属水酸化物の水溶液と、ヨウ化テトラブチルアンモニウムやカリウムtert−ブトキシドのような相間移動触媒とを添加してアルキル化反応を行うことで、9,9−アルキル置換フルオレンを得ることができる。 A photoinitiator (A1) is compoundable according to the following scheme, for example. In the following scheme, a fluorene derivative represented by the following formula (1-1) is used as a raw material. When R 1 is a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (1-1) is substituted with a fluorene derivative substituted at the 9-position with R 2 and R 3 by a well-known method. 1 can be obtained. The fluorene derivative substituted at the 9-position with R 2 and R 3 is, for example, an alkali metal hydroxide as described in JP-A-06-234668 when R 2 and R 3 are alkyl groups. It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in the presence of an aprotic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene. By performing the alkylation reaction, 9,9-alkyl-substituted fluorene can be obtained.
式(1−1)で表されるフルオレン誘導体に、フリーデルクラフツアシル化反応により、−CO−CH2−R4で表されるアシル基を導入し、式(2−1)で表されるフルオレン誘導体が得られる。−CO−CH2−R4で表されるアシル基を導入するためのアシル化剤としては、式(1−8)で表されるカルボン酸ハライドが好ましい。式(1−8)中、Halはハロゲン原子である。フルオレン環上にアシル基が導入される位置は、フリーデルクラフツ反応の条件を適宜変更したり、アシル化される位置の他の位置に保護及び脱保護を施したりする方法で、選択することができる。 An acyl group represented by —CO—CH 2 —R 4 is introduced into the fluorene derivative represented by formula (1-1) by Friedel-Crafts acylation reaction, and represented by formula (2-1). A fluorene derivative is obtained. As the acylating agent for introducing the acyl group represented by —CO—CH 2 —R 4 , a carboxylic acid halide represented by the formula (1-8) is preferable. In formula (1-8), Hal is a halogen atom. The position at which the acyl group is introduced on the fluorene ring can be selected by changing the Friedel-Crafts reaction conditions as appropriate, or by performing protection and deprotection at other positions where acylation is performed. it can.
次いで、式(2−1)で表される化合物中の、R4とカルボニル基との間に存在するメチレン基をオキシム化して、下記式(2−3)で表されるケトオキシム化合物を得る。メチレン基をオキシム化する方法は特に限定されず、塩酸の存在下に下記式(2−2)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素数1〜6のアルキル基。)を反応させる方法が好ましい。次いで、下記式(2−3)で表されるケトオキシム化合物と、下記式(2−4)で表される酸無水物((R5CO)2O)、又は下記式(2−5)で表される酸ハライド(R5COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、下記式(2−6)で表される化合物を得ることができる。なお、下記式(1−1)、(1−8)、(2−1)、(2−3)、(2−4)、(2−5)、及び(2−6)において、R1、R2、R3、R4、及びR5は、式(1)と同様である。 Next, the methylene group present between R 4 and the carbonyl group in the compound represented by the formula (2-1) is oximed to obtain a ketoxime compound represented by the following formula (2-3). The method for oximation of the methylene group is not particularly limited, and a nitrite represented by the following formula (2-2) (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) is reacted in the presence of hydrochloric acid. The method is preferred. Next, a ketoxime compound represented by the following formula (2-3) and an acid anhydride ((R 5 CO) 2 O) represented by the following formula (2-4), or the following formula (2-5) A compound represented by the following formula (2-6) can be obtained by reacting with an acid halide (R 5 COHal, Hal is a halogen atom). In the following formulas (1-1), (1-8), (2-1), (2-3), (2-4), (2-5), and (2-6), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , and R 5 are the same as in formula (1).
また、下記スキームにおいて、式(1−8)、式(2−1)、及び式(2−3)それぞれに含まれるR4は、同一であっても異なってもいてもよい。つまり、式(1−8)、式(2−1)、及び式(2−3)中のR4は、下記スキームとして示される合成過程において、化学修飾を受けてもよい。化学修飾の例としては、エステル化、エーテル化、アシル化、アミド化、ハロゲン化、アミノ基中の水素原子の有機基による置換等が挙げられる。R4が受けてもよい化学修飾はこれらに限定されない。 In the following scheme, R 4 contained in each of formula (1-8), formula (2-1), and formula (2-3) may be the same or different. That is, R 4 in formula (1-8), formula (2-1), and formula (2-3) may undergo chemical modification in the synthesis process shown as the following scheme. Examples of chemical modification include esterification, etherification, acylation, amidation, halogenation, substitution of a hydrogen atom in an amino group with an organic group, and the like. The chemical modification that R 4 may undergo is not limited thereto.
<スキーム>
光重合開始剤(A1)の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
[ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)]
本発明に係る感光性組成物は、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)を含有する。光重合開始剤(A2)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded]
The photosensitive composition according to the present invention contains a photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. A photoinitiator (A2) can be used individually or in combination of 2 or more types.
光重合開始剤(A2)としては、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤である限り、特に限定されず、例えば、ニトロ基とオキシムエステル結合を有する基とが結合した芳香環骨格を有する化合物が挙げられる。
上記芳香環骨格は、フルオレン又はカルバゾール骨格の一部分であることが好ましく、フルオレン又はカルバゾール骨格の一部分である芳香環であってもよい。
また、光重合開始剤(A2)は、後述する式(A2−1C)で表される化合物、式(A2−1N)で表される化合物のようなニトロ基がアリーレン基、ヘテロアリーレン基に結合した化合物であってもよい。
光重合開始剤(A2)において、ニトロ基は、直接(即ち、アルキレン基等の連結基を介さずに)又はアルキレン基等の連結基を介して芳香環骨格に結合していることが好ましく、直接、芳香環骨格に結合していることがより好ましい。上記オキシムエステル結合を有する基は、直接又はカルボニル基を介して芳香環骨格に結合していることが好ましい。上記オキシムエステル結合を有する基としては、例えば、下記式(3)で表される基が挙げられる。
−C(R14)=N−O−C(R15)=O (3)
(式中、R14は1価の有機基であり、R15は水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。)
The photopolymerization initiator (A2) is not particularly limited as long as it is a photopolymerization initiator having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. For example, an aromatic ring in which a nitro group and a group having an oxime ester bond are bonded. Examples include compounds having a skeleton.
The aromatic ring skeleton is preferably a part of a fluorene or carbazole skeleton, and may be an aromatic ring that is a part of the fluorene or carbazole skeleton.
In addition, the photopolymerization initiator (A2) is a compound represented by the formula (A2-1C) described later, and a nitro group such as a compound represented by the formula (A2-1N) is bonded to an arylene group or a heteroarylene group. It may be a compound.
In the photopolymerization initiator (A2), the nitro group is preferably bonded to the aromatic ring skeleton directly (that is, not via a linking group such as an alkylene group) or via a linking group such as an alkylene group, More preferably, it is directly bonded to the aromatic ring skeleton. The group having an oxime ester bond is preferably bonded to the aromatic ring skeleton directly or via a carbonyl group. Examples of the group having an oxime ester bond include a group represented by the following formula (3).
-C (R 14) = N- O-C (R 15) = O (3)
(In the formula, R 14 is a monovalent organic group, and R 15 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. .)
光重合開始剤(A2)の具体例としては、下記式(a−1): Specific examples of the photopolymerization initiator (A2) include the following formula (a-1):
で表される基、下記式(a−3):
A group represented by formula (a-3):
で表される基、又は下記式(a−4):
Or a group represented by the following formula (a-4):
で表される基であり、R14は1価の有機基であり、R15は水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基であり、mは0又は1である。)
で表される化合物が挙げられる。
R 14 is a monovalent organic group, R 15 has a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or a substituent. And m is 0 or 1. )
The compound represented by these is mentioned.
R14の好適な1価の有機基の例としては、後述のR11と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。 Examples of suitable monovalent organic groups for R 14 include an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, and a saturated aliphatic group, as described later for R 11. Acyloxy group, phenyl group which may have a substituent, phenoxy group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, substituent A benzoyloxy group that may have a substituent, a phenylalkyl group that may have a substituent, a naphthyl group that may have a substituent, a naphthoxy group that may have a substituent, and a substituent May have a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, or a substituent Good Heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, 1, or an amino group substituted with two organic groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group.
R14がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R14がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R14がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、R14がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R < 14 > is an alkyl group, 1-20 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-6 are more preferable. Further, when R 14 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R 14 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R 14 is an alkyl group, the alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
R14がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R14がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R14がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチオキシル基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、R14がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R < 14 > is an alkoxy group, 1-20 are preferable and, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable. Further, when R 14 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R 14 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When R 14 is an alkoxy group, the alkoxy group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.
R14がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。R14がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。R14がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 14 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples when R 14 is a cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Specific examples of when R 14 is a cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.
R14が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。R14が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。R14が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 14 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R 14 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R 14 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.
R14がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。R14がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 14 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples when R 14 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, Examples include an isononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.
R14がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、R14がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。R14がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。R14がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。R14が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、R14は、フェニル基、又はナフチル基上に更に置換基を有していてもよい。 When R 14 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7-20, and more preferably 7-10. Further, when R 14 is naphthyl alkyl group, carbon atoms naphthyl alkyl group is preferably 11 to 20, 11 to 14 is more preferable. Specific examples when R 14 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group. Specific examples when R 14 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. . When R 14 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 14 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.
R14がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。R14がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は更に置換基を有していてもよい。 When R 14 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the ring number is up to 3. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline. When R 14 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
R14がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、R14がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 14 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 14 is a heterocyclyl group.
R14が1又は2の有機基で置換されたアミノ基である場合、有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。これらの好適な有機基の具体例は、R14と同様である。1、又は2の有機基で置換されたアミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、n−プロピルアミノ基、ジ−n−プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、n−ブチルアミノ基、ジ−n−ブチルアミノ基、n−ペンチルアミノ基、n−ヘキシルアミノ基、n−ヘプチルアミノ基、n−オクチルアミノ基、n−ノニルアミノ基、n−デシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基、アセチルアミノ基、プロパノイルアミノ基、n−ブタノイルアミノ基、n−ペンタノイルアミノ基、n−ヘキサノイルアミノ基、n−ヘプタノイルアミノ基、n−オクタノイルアミノ基、n−デカノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、α−ナフトイルアミノ基、及びβ−ナフトイルアミノ基等が挙げられる。 When R 14 is an amino group substituted by an organic group having 1 or 2, suitable examples of the organic group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a carbon atom. A saturated aliphatic acyl group having 2 to 21 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a benzoyl group which may have a substituent, a phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent A naphthyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, a heterocyclyl group, and the like. . Specific examples of these suitable organic groups are the same as those for R 14 . Specific examples of the amino group substituted with 1 or 2 organic groups include methylamino group, ethylamino group, diethylamino group, n-propylamino group, di-n-propylamino group, isopropylamino group, n- Butylamino group, di-n-butylamino group, n-pentylamino group, n-hexylamino group, n-heptylamino group, n-octylamino group, n-nonylamino group, n-decylamino group, phenylamino group, Naphthylamino group, acetylamino group, propanoylamino group, n-butanoylamino group, n-pentanoylamino group, n-hexanoylamino group, n-heptanoylamino group, n-octanoylamino group, n- Examples include a decanoylamino group, a benzoylamino group, an α-naphthoylamino group, and a β-naphthoylamino group.
R14に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。R14に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、1〜4が好ましい。R14に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 14 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 14 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, and 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 14 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
また、R14としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。フェノキシアルキル基、及びフェニルチオアルキル基が有していてもよい置換基は、R14に含まれるフェニル基が有していてもよい置換基と同様である。 R 14 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group which may have a substituent on the aromatic ring. The substituent that the phenoxyalkyl group and the phenylthioalkyl group may have is the same as the substituent that the phenyl group contained in R 14 may have.
1価の有機基の中でも、R14としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among monovalent organic groups, R 14 may be an alkyl group, a cycloalkyl group, a phenyl group which may have a substituent, a cycloalkylalkyl group, or a substituent on the aromatic ring. Good phenylthioalkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.
以上、R14について説明したが、R14としては、下記式(R2−1)又は(R2−2)で表される基が好ましい。
式(R2−1)中のR17及びR18についての有機基の例は、R14と同様である。R17としては、アルキル基又はフェニル基が好ましい。R17がアルキル基である場合、その炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましく、1が最も好ましい。つまり、R17はメチル基であるのが最も好ましい。R17とR18とが結合して環を形成する場合、当該環は、芳香族環でもよく、脂肪族環でもよい。式(R2−1)で表される基であって、R17とR18とが環を形成している基の好適な例としては、ナフタレン−1−イル基や、1,2,3,4−テトラヒドロナフタレン−5−イル基等が挙げられる。上記式(R2−1)中、p1は0〜4の整数であり、0又は1であるのが好ましく、0であるのがより好ましい。 Examples of the organic group for R 17 and R 18 in formula (R2-1) are the same as those for R 14 . R 17 is preferably an alkyl group or a phenyl group. When R 17 is an alkyl group, the number of carbon atoms is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, particularly preferably 1 to 3, and most preferably 1. That is, R 17 is most preferably a methyl group. When R 17 and R 18 are combined to form a ring, the ring may be an aromatic ring or an aliphatic ring. Preferable examples of the group represented by the formula (R2-1), in which R 17 and R 18 form a ring, include a naphthalen-1-yl group, 1, 2, 3, 4-tetrahydronaphthalen-5-yl group etc. are mentioned. In said formula (R2-1), p1 is an integer of 0-4, it is preferable that it is 0 or 1, and it is more preferable that it is 0.
上記式(R2−2)中、R19はアルキル基である。アルキル基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜5がより好ましく、1〜3が特に好ましい。R19としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基であることがより好ましい。 In the above formula (R2-2), R 19 is an alkyl group. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkyl group, 1-5 are more preferable, and 1-3 are especially preferable. R 19 is preferably exemplified by a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, and among these, a methyl group is more preferable.
上記式(R2−2)中、r1は1〜5の整数であり、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましい。上記式(R2−2)中、s1は0〜(r1+3)であり、0〜3の整数が好ましく、0〜2の整数がより好ましく、0が特に好ましい。上記式(R2−2)中、q1は1〜8の整数であり、1〜5の整数が好ましく、1〜3の整数がより好ましく、1又は2が特に好ましい。 In said formula (R2-2), r1 is an integer of 1-5, the integer of 1-3 is preferable and 1 or 2 is more preferable. In said formula (R2-2), s1 is 0- (r1 + 3), the integer of 0-3 is preferable, the integer of 0-2 is more preferable, and 0 is especially preferable. In said formula (R2-2), q1 is an integer of 1-8, the integer of 1-5 is preferable, the integer of 1-3 is more preferable, and 1 or 2 is especially preferable.
式(a−1)中、R15は、水素原子、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。R15がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。また、R15がアリール基である場合に有してもよい置換基としては、炭素原子数1〜5のアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子等が好ましく例示される。 In formula (a-1), R 15 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be contained when R 15 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group. As the substituent that may be possessed when R 15 is an aryl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group, a halogen atom and is preferably exemplified.
式(a−1)中、R15としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (a-1), R 15 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a phenyl group, a benzyl group, a methylphenyl group, a naphthyl group, or the like. Among them, a methyl group or a phenyl group is more preferable among these.
式(a−2)中、R11は、水素原子、ニトロ基又は1価の有機基である。R11は、式(a−2)中のフルオレン環上で、式(a−1)中の−(CO)m−で表される基に結合する6員芳香環とは、異なる6員芳香環に結合する。この条件を満たす限り、式(a−2)中、R11のフルオレン環に対する結合位置は特に限定されない。R11のフルオレン環に対する結合位置は、R100が式(a−2)で表される基である式(a−1)で表される化合物の合成が容易であること等から、フルオレン環中の2位であるのが好ましい。 In formula (a-2), R 11 represents a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R 11 is a 6-membered aromatic ring different from the 6-membered aromatic ring bonded to the group represented by — (CO) m — in the formula (a-1) on the fluorene ring in the formula (a-2). Bind to the ring. As long as this condition is satisfied, in the formula (a-2), the bonding position of R 11 to the fluorene ring is not particularly limited. The bonding position of R 11 to the fluorene ring is that the compound represented by the formula (a-1) in which R 100 is a group represented by the formula (a-2) can be easily synthesized. It is preferable that it is the 2nd position.
R11が1価の有機基である場合、R11は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から適宜選択される。R11が1価の有機基である場合の好適な例としては、R14と同様に、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。これらの基の具体例は、R14について説明したものと同様である。 When R 11 is a monovalent organic group, R 11 is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and is appropriately selected from various organic groups. Preferable examples when R 11 is a monovalent organic group are the same as R 14 , such as alkyl group, alkoxy group, cycloalkyl group, cycloalkoxy group, saturated aliphatic acyl group, alkoxycarbonyl group, saturated fat group. Group acyloxy group, optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, substituted A benzoyloxy group which may have a group, a phenylalkyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a naphthoxy group which may have a substituent, and a substituent A naphthoyl group which may have a substituent, a naphthoxycarbonyl group which may have a substituent, a naphthoyloxy group which may have a substituent, a naphthylalkyl group which may have a substituent, and a substituent Also There heterocyclyl group, an optionally substituted heterocyclyl group, 1, or an amino group substituted with two organic groups, morpholin-1-yl group, and piperazine-1-yl group. Specific examples of these groups are the same as those described for R 14 .
以上説明した基の中でも、R11としては、ニトロ基、又はR11a−CO−で表される基であると、感度が向上する傾向があり好ましい。但し、R11の少なくとも1個はニトロ基である。R11aは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、種々の有機基から選択できる。R11aとして好適な基の例としては、炭素原子数1〜20のアルキル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいナフチル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリル基が挙げられる。R11aとして、これらの基の中では、2−メチルフェニル基、チオフェン−2−イル基、及びα−ナフチル基が特に好ましい。
また、R11が水素原子であると、透明性が良好となる傾向があり好ましい。なお、R11が水素原子であり且つR14が前述の(R2−2)であると透明性はより良好となる傾向がある。
Among the groups described above, R 11 is preferably a nitro group or a group represented by R 11a —CO— because the sensitivity tends to be improved. However, at least one of R 11 is a nitro group. R 11a is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired, and can be selected from various organic groups. Examples of a group suitable as R 11a include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, and a substituent. Or a heterocyclyl group that may be used. Among these groups, R 11a is particularly preferably a 2-methylphenyl group, a thiophen-2-yl group, and an α-naphthyl group.
Further, it is preferable that R 11 is a hydrogen atom because transparency tends to be good. When R 11 is a hydrogen atom and R 14 is (R2-2) described above, the transparency tends to be better.
式(a−2)中、R12及びR13は、それぞれ、鎖状アルキル基、環状炭化水素基、又はヘテロアリール基である。これらの基の中では、R12及びR13として、鎖状アルキル基が好ましい。 In formula (a-2), R 12 and R 13 are each a chain alkyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heteroaryl group. Among these groups, R 12 and R 13 are preferably chain alkyl groups.
R12及びR13が鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は直鎖アルキル基でも分岐鎖アルキル基でもよい。R12及びR13が鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。R12及びR13が鎖状アルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、R12及びR13が鎖状アルキル基である場合、鎖状アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有する鎖状アルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 12 and R 13 are a chain alkyl group, the chain alkyl group may be a linear alkyl group or a branched alkyl group. When R 12 and R 13 are chain alkyl groups, the chain alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Specific examples when R 12 and R 13 are chain alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. N-pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl Group, isononyl group, n-decyl group, isodecyl group and the like. When R 12 and R 13 are chain alkyl groups, the chain alkyl group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the chain alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
R12及びR13が環状炭化水素基である場合、環状炭化水素基は、脂肪族環状炭化水素基であっても、芳香族環状炭化水素基であってもよい。 When R 12 and R 13 are cyclic hydrocarbon groups, the cyclic hydrocarbon group may be an aliphatic cyclic hydrocarbon group or an aromatic cyclic hydrocarbon group.
R12及びR13が芳香族環状炭化水素基である場合、芳香族環状炭化水素基は、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が炭素−炭素結合を介して結合して形成される基であるか、複数のベンゼン環が縮合して形成される基であるのが好ましい。芳香族環状炭化水素基が、フェニル基であるか、複数のベンゼン環が結合又は縮合して形成される基である場合、芳香族環状炭化水素基に含まれるベンゼン環の環数は特に限定されず、3以下が好ましく、2以下がより好ましく、1が特に好ましい。芳香族環状炭化水素基の好ましい具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。 When R 12 and R 13 are aromatic cyclic hydrocarbon groups, the aromatic cyclic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding a plurality of benzene rings via a carbon-carbon bond. It is preferably a group formed by condensation of a plurality of benzene rings. When the aromatic cyclic hydrocarbon group is a phenyl group or a group formed by bonding or condensing a plurality of benzene rings, the number of benzene rings included in the aromatic cyclic hydrocarbon group is particularly limited. 3 or less is preferable, 2 or less is more preferable, and 1 is particularly preferable. Preferable specific examples of the aromatic cyclic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.
R12及びR13が脂肪族環状炭化水素基である場合、脂肪族環状炭化水素基は、単環式であっても多環式であってもよい。脂肪族環状炭化水素基の炭素原子数は特に限定されず、3〜20が好ましく、3〜10がより好ましい。単環式の環状炭化水素基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基、及びアダマンチル基等が挙げられる。 When R 12 and R 13 are aliphatic cyclic hydrocarbon groups, the aliphatic cyclic hydrocarbon group may be monocyclic or polycyclic. The number of carbon atoms of the aliphatic cyclic hydrocarbon group is not particularly limited, preferably 3 to 20, and more preferably 3 to 10. Examples of monocyclic cyclic hydrocarbon groups are cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, isobornyl, tricyclononyl, tricyclodecyl, Examples include a tetracyclododecyl group and an adamantyl group.
R12及びR13がヘテロアリール基である場合、ヘテロアリール基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロアリール基である。ヘテロアリール基が縮合環である場合は、環数3までのものとする。かかるヘテロアリール基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等が挙げられる。 When R 12 and R 13 are heteroaryl groups, the heteroaryl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, O, such monocycles, or such monocycles It is a heteroaryl group condensed with a benzene ring. When the heteroaryl group is a condensed ring, the number of rings is limited to 3. Examples of the heterocyclic ring constituting the heteroaryl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, and indole. , Isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline and the like.
R12とR13とは相互に結合してスピロ環を形成してもよい。R12とR13とが形成するスピロ環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。R12とR13とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成するスピロ環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R 12 and R 13 may be bonded to each other to form a spiro ring. The group consisting of a spiro ring formed by R 12 and R 13 is preferably a cycloalkylidene group. When R 12 and R 13 are combined to form a cycloalkylidene group, the spiro ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring. .
R12とR13とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R 12 and R 13 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.
n1は、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましく、1であるのが特に好ましい。 n1 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
式(a−3)中、R20は、独立に1価の有機基、アミノ基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基である。R20が1価の有機基である場合、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。R20が1価の有機基である場合の好適な例としては、炭素数1〜6のアルキル基;炭素数1〜6のアルコキシ基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシル基;炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基;炭素数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基;フェニル基;ナフチル基;ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;炭素数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基;炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基;モルホリン−1−イル基;ピペラジン−1−イル基が挙げられる。 In formula (a-3), R 20 is independently a monovalent organic group, amino group, halogen atom, nitro group, or cyano group. When R 20 is a monovalent organic group, it can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples when R 20 is a monovalent organic group include: an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms; A C2-C7 saturated aliphatic acyloxy group; a phenyl group; a naphthyl group; a benzoyl group; a naphthoyl group; a C1-C6 alkyl group, a morpholin-1-yl group, a piperazine- A benzoyl group substituted by a group selected from the group consisting of a 1-yl group and a phenyl group; a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; a dialkylamino having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms Group; morpholin-1-yl group; piperazin-1-yl group.
R20の中では、ベンゾイル基;ナフトイル基;炭素数1〜6のアルキル基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、及びフェニル基からなる群より選択される基により置換されたベンゾイル基;ニトロ基が好ましく、ベンゾイル基;ナフトイル基;2−メチルフェニルカルボニル基;4−(ピペラジン−1−イル)フェニルカルボニル基;4−(フェニル)フェニルカルボニル基;ニトロ基がより好ましい。但し、R20の少なくとも1個はニトロ基である。 In R 20 , substituted by a group selected from the group consisting of a benzoyl group; a naphthoyl group; an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, and a phenyl group Benzoyl group; nitro group is preferred, benzoyl group; naphthoyl group; 2-methylphenylcarbonyl group; 4- (piperazin-1-yl) phenylcarbonyl group; 4- (phenyl) phenylcarbonyl group; nitro group is more preferred. However, at least one of R 20 is a nitro group.
また、n2は、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましく、1であるのが特に好ましい。n2が1である場合、R20の結合する位置は、R20が結合するフェニル基が原子Aと結合する結合手に対して、パラ位であるのが好ましい。
AはSであることが好ましい。
N2 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1. If n2 is 1, the binding position of R 20, to the bond to the phenyl group R 20 is bonded is bonded to the atom A, it is preferably in the para position.
A is preferably S.
式(a−4)中、R21は、1価の有機基である。R21は、本発明の目的を阻害しない範囲で、種々の有機基から選択できる。R21の好適な例としては、炭素数1〜20のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、炭素数2〜20の飽和脂肪族アシル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよい炭素数11〜20のナフチルアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、及び置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基等が挙げられる。 In formula (a-4), R 21 represents a monovalent organic group. R 21 can be selected from various organic groups as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of R 21 include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated aliphatic acyl group having 2 to 20 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 20 carbon atoms, Phenyl group which may have a substituent, benzoyl group which may have a substituent, phenoxycarbonyl group which may have a substituent, phenylalkyl having 7 to 20 carbon atoms which may have a substituent Group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoyl group, an optionally substituted naphthoxycarbonyl group, and an optionally substituted carbon number 11 to 20 Naphthylalkyl group, a heterocyclyl group which may have a substituent, a heterocyclylcarbonyl group which may have a substituent, and the like.
R21の中では、炭素数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素数1〜6のアルキル基がより好ましく、エチル基が特に好ましい。 Among R 21 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an ethyl group is particularly preferred.
R20又はR21に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合の置換基としては、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。R20又はR21に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されず、1〜4が好ましい。R20又はR21に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 20 or R 21 further have a substituent, the substituent is a C 1-6 alkyl group, a C 1-6 alkoxy group, carbon A saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, a monoalkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon number Examples thereof include a dialkylamino group having 1 to 6 alkyl groups, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 20 or R 21 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, and 1-4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 20 or R 21 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
式(a−4)中、R22は水素原子、ニトロ基、又は1価の有機基である。R22は、R11と同様であり、R22の少なくとも1個はニトロ基である。 In formula (a-4), R 22 represents a hydrogen atom, a nitro group, or a monovalent organic group. R 22 is the same as R 11, and at least one of R 22 is a nitro group.
n3は、1〜3の整数が好ましく、1又は2がより好ましく、1であるのが特に好ましい。 n3 is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
式(a−1)で表される化合物は、mが0である場合、例えば、下記スキームa1に従って合成することができる。スキームa1では、下記式(a1−1)で表される化合物を原料として用いる。例えば、R100が式(a−2)で表される基である場合、スキームa1では、下記式(a1−1−1)で表されるフルオレン誘導体を原料として用いる。R11がニトロ基又は1価の有機基である場合、式(a1−1−1)で表されるフルオレン誘導体は、9位をR12及びR13で置換されたフルオレン誘導体に、周知の方法によって、置換基R11を導入して得ることができる。9位をR12及びR13で置換されたフルオレン誘導体は、例えば、R12及びR13がアルキル基である場合、特開平06−234668号公報に記載されるように、アルカリ金属水酸化物の存在下に、非プロトン性極性有機溶媒中で、フルオレンとアルキル化剤とを反応させて得ることができる。また、フルオレンの有機溶媒溶液中に、ハロゲン化アルキルのようなアルキル化剤と、アルカリ金属水酸化物の水溶液と、ヨウ化テトラブチルアンモニウムやカリウムtert−ブトキシドのような相間移動触媒とを添加してアルキル化反応を行うことで、9,9−アルキル置換フルオレンを得ることができる。 When m is 0, the compound represented by the formula (a-1) can be synthesized according to the following scheme a1, for example. In Scheme a1, a compound represented by the following formula (a1-1) is used as a raw material. For example, when R 100 is a group represented by the formula (a-2), a fluorene derivative represented by the following formula (a1-1-1) is used as a raw material in the scheme a1. When R 11 is a nitro group or a monovalent organic group, the fluorene derivative represented by the formula (a1-1-1) is converted to a fluorene derivative substituted at the 9-position with R 12 and R 13. Can be obtained by introducing the substituent R 11 . The fluorene derivative substituted at the 9-position with R 12 and R 13 is, for example, an alkali metal hydroxide when R 12 and R 13 are alkyl groups, as described in JP-A-06-234668. It can be obtained by reacting fluorene with an alkylating agent in the presence of an aprotic polar organic solvent. In addition, an alkylating agent such as an alkyl halide, an aqueous solution of an alkali metal hydroxide, and a phase transfer catalyst such as tetrabutylammonium iodide or potassium tert-butoxide are added to an organic solvent solution of fluorene. By performing the alkylation reaction, 9,9-alkyl-substituted fluorene can be obtained.
式(a1−1)で表される化合物を、式(a1−2)で表されるハロカルボニル化合物を用いて、フリーデルクラフツ反応によりアシル化して、式(a1−3)で表されるケトン化合物が得られる。式(a1−2)中、Halはハロゲン原子である。R100中に含まれる芳香環上の式(a1−2)で表される化合物によりアシル化される位置は、フリーデルクラフツ反応の条件を適宜変更したり、当該芳香環上の式(a1−2)で表される化合物によりアシル化される位置の他の位置に保護及び脱保護を施したりする方法で、選択することができる。 A ketone represented by the formula (a1-3) is acylated by the Friedel-Crafts reaction with the halocarbonyl compound represented by the formula (a1-2), and the ketone represented by the formula (a1-3) A compound is obtained. In formula (a1-2), Hal is a halogen atom. Position is acylated by the compound represented by R 100 formula (a1-2) on the aromatic ring contained in the or by appropriately changing the Friedel-Crafts reaction conditions, formulas for the aromatic ring (a1- It can be selected by a method in which protection and deprotection are applied to other positions acylated by the compound represented by 2).
次いで、得られる式(a1−3)で表されるケトン化合物を、ヒドロキシルアミンによりオキシム化して下記式(a1−4)で表されるオキシム化合物を得る。式(a1−4)のオキシム化合物と、下記式(a1−5)で表される酸無水物((R15CO)2O)、又は下記式(a1−6)で表される酸ハライド(R15COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、下記式(a1−7)で表される化合物を得ることができる。 Next, the resulting ketone compound represented by formula (a1-3) is oximed with hydroxylamine to obtain an oxime compound represented by the following formula (a1-4). An oxime compound of the formula (a1-4) and an acid anhydride ((R 15 CO) 2 O) represented by the following formula (a1-5) or an acid halide represented by the following formula (a1-6) ( A compound represented by the following formula (a1-7) can be obtained by reacting R 15 COHal and Hal with a halogen atom.
なお、式(a1−1)、(a1−2)、(a1−3)、(a1−4)、(a1−5)、(a1−6)、(a1−7)、及び(a1−1−1)において、R100、R14、R15、R11、R12、及びR13は、式(a−1)及び式(a−2)と同様である。 In addition, Formula (a1-1), (a1-2), (a1-3), (a1-4), (a1-5), (a1-6), (a1-7), and (a1-1) -1), R 100 , R 14 , R 15 , R 11 , R 12 , and R 13 are the same as those in formula (a-1) and formula (a-2).
<スキームa1>
式(a−1)で表される化合物は、mが1である場合、例えば、下記スキームa2に従って合成することができる。スキームa2では、下記式(a2−1)で表される化合物を原料として用いる。式(a2−1)で表される化合物は、スキームa1と同様の方法によって、式(a1−1)で表される化合物をフリーデルクラフツ反応によってアシル化して得られる。式(a2−1)で表される化合物に、塩酸の存在下に下記式(a2−2)で表される亜硝酸エステル(RONO、Rは炭素数1〜6のアルキル基。)を反応させて、下記式(a2−3)で表されるケトオキシム化合物を得る。次いで、下記式(a2−3)で表されるケトオキシム化合物と、下記式(a2−4)で表される酸無水物((R15CO)2O)、又は下記式(a2−5)で表される酸ハライド(R15COHal、Halはハロゲン原子。)とを反応させて、下記式(a2−6)で表される化合物を得ることができる。なお、下記式(a2−1)、(a2−3)、(a2−4)、(a2−5)、及び(a2−6)において、R100、R14、及びR15は、式(a−1)と同様である。
mが1である場合、式(a−1)で表される化合物を含有する感光性組成物を用いて形成される硬化物中での異物の発生をより低減できる傾向がある。
When m is 1, the compound represented by the formula (a-1) can be synthesized, for example, according to the following scheme a2. In Scheme a2, a compound represented by the following formula (a2-1) is used as a raw material. The compound represented by the formula (a2-1) is obtained by acylating the compound represented by the formula (a1-1) by a Friedel-Crafts reaction in the same manner as in the scheme a1. The compound represented by the formula (a2-1) is reacted with a nitrite represented by the following formula (a2-2) (RONO, R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms) in the presence of hydrochloric acid. Thus, a ketoxime compound represented by the following formula (a2-3) is obtained. Next, a ketoxime compound represented by the following formula (a2-3) and an acid anhydride ((R 15 CO) 2 O) represented by the following formula (a2-4) or the following formula (a2-5) A compound represented by the following formula (a2-6) can be obtained by reacting with an acid halide (R 15 COHal, Hal is a halogen atom). In the following formulas (a2-1), (a2-3), (a2-4), (a2-5), and (a2-6), R 100 , R 14 , and R 15 are represented by the formula (a -1).
When m is 1, there exists a tendency which can reduce more the generation | occurrence | production of the foreign material in the hardened | cured material formed using the photosensitive composition containing the compound represented by Formula (a-1).
<スキームa2>
式(a−1)で表される化合物の好適な具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
また、光重合開始剤(A2)としては、下記式(A2−1C)で表される化合物も用いることもできる。
式(A2−1C)中のR6がアリーレン基である場合、当該アリーレン基は、芳香族炭化水素から2つの水素原子を除いた基であれば特に限定されない。アリーレン基は、1以上のベンゼン環からなる基が好ましい。アリーレン基が2以上のベンゼン環を含む場合、複数のベンゼン環は、単結合により互いに結合していてもよく、互いに縮合してナフタレン環等の縮合環を形成していてもよい。
アリーレン基は、1〜3のベンゼン環を含むのが好ましく、1又は2のベンゼン環を含むのがより好ましい。
When R 6 in formula (A2-1C) is an arylene group, the arylene group is not particularly limited as long as it is a group obtained by removing two hydrogen atoms from an aromatic hydrocarbon. The arylene group is preferably a group consisting of one or more benzene rings. When the arylene group includes two or more benzene rings, the plurality of benzene rings may be bonded to each other by a single bond or may be condensed with each other to form a condensed ring such as a naphthalene ring.
The arylene group preferably contains 1 to 3 benzene rings, more preferably 1 or 2 benzene rings.
アリーレン基の好適な例としては、p−フェニレン基、m−フェニレン基、o−フェニレン基、ナフタレン−1,2−ジイル基、ナフタレン−1,3−ジイル基、ナフタレン1,4−ジイル基、ナフタレン−1,5−ジイル基、ナフタレン−1,7−ジイル基、ナフタレン−1,8−ジイル基、ナフタレン−2,3−ジイル基、ナフタレン−2,6−ジイル基、ナフタレン−2,7−ジイル基、ビフェニル−4,4’−ジイル基、ビフェニル−3,3’−ジイル基、ビフェニル−2,2’−ジイル基、ビフェニル−3,4’−ジイル基、ビフェニル−3,2’−ジイル基、及びビフェニル−2,4’−ジイル基が挙げられる。 Preferred examples of the arylene group include p-phenylene group, m-phenylene group, o-phenylene group, naphthalene-1,2-diyl group, naphthalene-1,3-diyl group, naphthalene 1,4-diyl group, Naphthalene-1,5-diyl group, naphthalene-1,7-diyl group, naphthalene-1,8-diyl group, naphthalene-2,3-diyl group, naphthalene-2,6-diyl group, naphthalene-2,7 -Diyl group, biphenyl-4,4'-diyl group, biphenyl-3,3'-diyl group, biphenyl-2,2'-diyl group, biphenyl-3,4'-diyl group, biphenyl-3,2 ' -A diyl group and a biphenyl-2,4'-diyl group are mentioned.
式(A2−1C)中のR6がヘテロアリーレン基である場合、当該ヘテロアリーレン基は、芳香族複素環から2つの水素原子を除いた基であれば特に限定されない。ヘテロアリーレン基は、5員又は6員の芳香環からなる基であって、5員又は6員の芳香族複素環を少なくとも1つ含む基が好ましい。
ヘテロアリーレン基が5員又は6員の芳香環からなる基であって、5員又は6員の芳香族複素環を少なくとも1つ含む基である場合、複数の5員又は6員の芳香環は、単結合により互いに結合していてもよく、互いに縮合して縮合環を形成していてもよい。
ヘテロアリーレン基、1〜3の5員又は6員の芳香環を含むのが好ましく、1又は2の5員又は6員の芳香環を含むのがより好ましい。
When R 6 in formula (A2-1C) is a heteroarylene group, the heteroarylene group is not particularly limited as long as it is a group obtained by removing two hydrogen atoms from an aromatic heterocycle. The heteroarylene group is a group consisting of a 5-membered or 6-membered aromatic ring, and preferably a group containing at least one 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle.
When the heteroarylene group is a group consisting of a 5-membered or 6-membered aromatic ring and a group containing at least one 5-membered or 6-membered aromatic heterocycle, the plurality of 5-membered or 6-membered aromatic rings are These may be bonded to each other by a single bond or may be condensed with each other to form a condensed ring.
It preferably contains a heteroarylene group, 1 to 3 5-membered or 6-membered aromatic ring, more preferably 1 or 2 5-membered or 6-membered aromatic ring.
ヘテロアリーレン基の好適な例としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、及びキノキサリン等の芳香族複素環化合物から、炭素原子に結合する2つの水素原子を除いた基が挙げられる。 Suitable examples of the heteroarylene group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, iso Two hydrogens bonded to a carbon atom from an aromatic heterocyclic compound such as indole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, and quinoxaline Examples include groups other than atoms.
炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基について、その炭素原子数や、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
また、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状が好ましい。
The chain aliphatic hydrocarbon group containing one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond, the number of carbon atoms, the carbon-carbon double bond and the carbon-carbon triple The number of bonds is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
The chain aliphatic hydrocarbon group containing one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond may be linear or branched. Well, straight chain is preferred.
炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基の炭素原子数は、2〜10が好ましく、2〜6がより好ましく、2〜4が特に好ましい。
鎖状脂肪族炭化水素基は、1つの炭素−炭素二重結合を含むアルケニレン基であるか、1つの炭素−炭素三重結合を含むアルキニレン基であるのが好ましい。
The number of carbon atoms of the chain aliphatic hydrocarbon group containing one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 6, 2 to 4 are particularly preferable.
The chain aliphatic hydrocarbon group is preferably an alkenylene group containing one carbon-carbon double bond or an alkynylene group containing one carbon-carbon triple bond.
炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基の好適な例としては、エチレン−1,2−ジイル基、エチン−1,2−ジイル基、プロパ−1−エン−1,2−ジイル基、プロパルギレン基、ペンチニレン基が挙げられる。 Preferable examples of the chain aliphatic hydrocarbon group containing one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond include ethylene-1,2-diyl group, ethyne-1 , 2-diyl group, prop-1-ene-1,2-diyl group, propargylene group and pentynylene group.
例えば、アリーレン基と、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基の好ましい例としては、下記の2価の基が挙げられる。
ヘテロアリーレン基と、炭素−炭素二重結合及び炭素−炭素三重結合から選択される1以上の結合を1以上含む鎖状脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基の好ましい例としては、下記の2価の基に含まれるアリーレン基を、種々のヘテロアリーレン基に置き換えた基が挙げられる。
For example, as a preferable example of a group in which an arylene group is combined with a chain aliphatic hydrocarbon group including one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond, A divalent group is mentioned.
Preferable examples of the group in which the heteroarylene group is combined with a chain aliphatic hydrocarbon group containing one or more bonds selected from a carbon-carbon double bond and a carbon-carbon triple bond include the following 2 And groups in which the arylene group contained in the valent group is replaced with various heteroarylene groups.
式(A2−1C)中のR2及びR3が置換基を持たないアルキル基である場合、当該アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。R2及びR3がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。 When R 2 and R 3 in Formula (A2-1C) are an alkyl group having no substituent, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and 1-6 Is particularly preferred. Specific examples when R 2 and R 3 are alkyl groups include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n -Pentyl group, isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, Examples include an isononyl group, an n-decyl group, and an isodecyl group.
式(A2−1C)中のR2及びR3が置換基を有するアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜10がより好ましく、1〜6が特に好ましい。この場合、置換基の炭素原子数は、鎖状アルキル基の炭素原子数に含まれない。置換基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、直鎖状であるのが好ましい。 When R 2 and R 3 in Formula (A2-1C) are an alkyl group having a substituent, the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1-20, more preferably 1-10, and particularly preferably 1-6. preferable. In this case, the number of carbon atoms of the substituent is not included in the number of carbon atoms of the chain alkyl group. The alkyl group having a substituent may be linear or branched, and is preferably linear.
アルキル基が有してもよい置換基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。置換基の好適な例としては、シアノ基、ハロゲン原子、環状有機基、アルコキシ基、及びアルコキシカルボニル基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。これらの中では、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましい。
環状有機基としては、シクロアルキル基、芳香族炭化水素基、ヘテロシクリル基が挙げられる。
シクロアルキル基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、アントリル基、及びフェナントリル基等が挙げられる。
ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合する環の数は3以下である。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。R2及びR3がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は更に置換基を有していてもよい。
アルコキシ基としては、炭素原子数1〜10のアルコキシ基が好ましく、炭素原子数1〜6のアルコキシ基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルコキシ基が特に好ましい。具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、及びn−ヘキシルオキシ基が挙げられる。
アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシカルボニル基に含まれるアルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、及びn−ヘキシルオキシカルボニル基が挙げられる。
The substituent that the alkyl group may have is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired. Preferable examples of the substituent include a cyano group, a halogen atom, a cyclic organic group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. In these, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom are preferable.
Examples of the cyclic organic group include a cycloalkyl group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclyl group.
3-10 are preferable and, as for the carbon atom number of a cycloalkyl group, 3-6 are more preferable. Specific examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, an anthryl group, and a phenanthryl group.
The heterocyclyl group is a 5- or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or a heterocyclyl group in which such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is 3 or less. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R 2 and R 3 are heterocyclyl groups, the heterocyclyl group may further have a substituent.
As the alkoxy group, an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is more preferable, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable. Specific examples include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n-pentyloxy group, isopentyloxy group. , Sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, and n-hexyloxy group.
The alkoxy group contained in the alkoxycarbonyl group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable and, as for the carbon atom number of the alkoxy group contained in an alkoxycarbonyl group, 1-6 are more preferable. Specific examples include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyloxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group. N-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, and n-hexyloxycarbonyl group.
アルキル基が置換基を有する場合、置換基の数は特に限定されない。好ましい置換基の数は鎖状アルキル基の炭素原子数に応じて変わる。置換基の数は、典型的には、1〜20であり、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。 When the alkyl group has a substituent, the number of substituents is not particularly limited. The number of preferred substituents varies depending on the number of carbon atoms in the chain alkyl group. The number of substituents is typically 1-20, preferably 1-10, and more preferably 1-6.
式(A2−1C)中のR2とR3とは相互に結合して環を形成してもよい。R2とR3とが形成する環からなる基は、シクロアルキリデン基であるのが好ましい。R2とR3とが結合してシクロアルキリデン基を形成する場合、シクロアルキリデン基を構成する環は、5員環〜6員環であるのが好ましく、5員環であるのがより好ましい。 R 2 and R 3 in formula (A2-1C) may be bonded to each other to form a ring. The group consisting of the ring formed by R 2 and R 3 is preferably a cycloalkylidene group. When R 2 and R 3 are bonded to form a cycloalkylidene group, the ring constituting the cycloalkylidene group is preferably a 5-membered ring to a 6-membered ring, and more preferably a 5-membered ring.
R2とR3とが結合して形成する基がシクロアルキリデン基である場合、シクロアルキリデン基は、1以上の他の環と縮合していてもよい。シクロアルキリデン基と縮合していてもよい環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピラジン環、及びピリミジン環等が挙げられる。 When the group formed by combining R 2 and R 3 is a cycloalkylidene group, the cycloalkylidene group may be condensed with one or more other rings. Examples of the ring that may be condensed with the cycloalkylidene group include benzene ring, naphthalene ring, cyclobutane ring, cyclopentane ring, cyclohexane ring, cycloheptane ring, cyclooctane ring, furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, pyridine A ring, a pyrazine ring, and a pyrimidine ring.
以上説明したR2及びR3の中でも好適な基の例としては、式−A1−A2で表される基が挙げられる。式中、A1は直鎖アルキレン基であり、A2は、アルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、環状有機基、又はアルコキシカルボニル基である。 Examples of a suitable group among R 2 and R 3 described above include a group represented by the formula -A 1 -A 2 . In the formula, A 1 is a linear alkylene group, and A 2 is an alkoxy group, a cyano group, a halogen atom, a halogenated alkyl group, a cyclic organic group, or an alkoxycarbonyl group.
A1の直鎖アルキレン基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましい。A2がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。アルコキシ基の炭素原子数は、1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。
A2がハロゲン原子である場合、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。
A2がハロゲン化アルキル基である場合、ハロゲン化アルキル基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子、塩素原子、臭素原子がより好ましい。ハロゲン化アルキル基は、直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。
A2が環状有機基である場合、環状有機基の例は、R2及びR3が置換基として有する環状有機基と同様である。A2がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の例は、R2及びR3が置換基として有するアルコキシカルボニル基と同様である。
The number of carbon atoms in a straight chain alkylene group A 1 is 1 to 10 preferably 1 to 6 is more preferable. When A 2 is an alkoxy group, the alkoxy group may be linear or branched, and is preferably linear. 1-10 are preferable, as for the carbon atom number of an alkoxy group, 1-6 are more preferable, and 1-4 are especially preferable.
When A 2 is a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom are preferable, and a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom are more preferable.
When A 2 is a halogenated alkyl group, the halogen atom contained in the halogenated alkyl group is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom, and more preferably a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom. The halogenated alkyl group may be linear or branched, and is preferably linear.
When A 2 is a cyclic organic group, examples of the cyclic organic group are the same as the cyclic organic group that R 2 and R 3 have as a substituent. When A 2 is an alkoxycarbonyl group, examples of the alkoxycarbonyl group are the same as the alkoxycarbonyl group that R 2 and R 3 have as a substituent.
R2及びR3の好適な具体例としては、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、及びn−オクチル基等のアルキル基;2−メトキシエチル基、3−メトキシ−n−プロピル基、4−メトキシ−n−ブチル基、5−メトキシ−n−ペンチル基、6−メトキシ−n−ヘキシル基、7−メトキシ−n−ヘプチル基、8−メトキシ−n−オクチル基、2−エトキシエチル基、3−エトキシ−n−プロピル基、4−エトキシ−n−ブチル基、5−エトキシ−n−ペンチル基、6−エトキシ−n−ヘキシル基、7−エトキシ−n−ヘプチル基、及び8−エトキシ−n−オクチル基等のアルコキシアルキル基;2−シアノエチル基、3−シアノ−n−プロピル基、4−シアノ−n−ブチル基、5−シアノ−n−ペンチル基、6−シアノ−n−ヘキシル基、7−シアノ−n−ヘプチル基、及び8−シアノ−n−オクチル基等のシアノアルキル基;2−フェニルエチル基、3−フェニル−n−プロピル基、4−フェニル−n−ブチル基、5−フェニル−n−ペンチル基、6−フェニル−n−ヘキシル基、7−フェニル−n−ヘプチル基、及び8−フェニル−n−オクチル基等のフェニルアルキル基;2−シクロヘキシルエチル基、3−シクロヘキシル−n−プロピル基、4−シクロヘキシル−n−ブチル基、5−シクロヘキシル−n−ペンチル基、6−シクロヘキシル−n−ヘキシル基、7−シクロヘキシル−n−ヘプチル基、8−シクロヘキシル−n−オクチル基、2−シクロペンチルエチル基、3−シクロペンチル−n−プロピル基、4−シクロペンチル−n−ブチル基、5−シクロペンチル−n−ペンチル基、6−シクロペンチル−n−ヘキシル基、7−シクロペンチル−n−ヘプチル基、及び8−シクロペンチル−n−オクチル基等のシクロアルキルアルキル基;2−メトキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、4−メトキシカルボニル−n−ブチル基、5−メトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−メトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−メトキシカルボニル−n−ヘプチル基、8−メトキシカルボニル−n−オクチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、4−エトキシカルボニル−n−ブチル基、5−エトキシカルボニル−n−ペンチル基、6−エトキシカルボニル−n−ヘキシル基、7−エトキシカルボニル−n−ヘプチル基、及び8−エトキシカルボニル−n−オクチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基;2−クロロエチル基、3−クロロ−n−プロピル基、4−クロロ−n−ブチル基、5−クロロ−n−ペンチル基、6−クロロ−n−ヘキシル基、7−クロロ−n−ヘプチル基、8−クロロ−n−オクチル基、2−ブロモエチル基、3−ブロモ−n−プロピル基、4−ブロモ−n−ブチル基、5−ブロモ−n−ペンチル基、6−ブロモ−n−ヘキシル基、7−ブロモ−n−ヘプチル基、8−ブロモ−n−オクチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基等のハロゲン化アルキル基が挙げられる。 Preferable specific examples of R 2 and R 3 include alkyl groups such as ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl, n-hexyl group, n-heptyl group, and n-octyl group; 2-methoxyethyl group, 3-methoxy-n-propyl group, 4-methoxy-n-butyl group, 5-methoxy-n-pentyl group, 6-methoxy-n-hexyl group, 7-methoxy-n-heptyl group 8-methoxy-n-octyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-ethoxy-n-propyl group, 4-ethoxy-n-butyl group, 5-ethoxy-n-pentyl group, 6-ethoxy-n-hexyl Groups, alkoxyalkyl groups such as 7-ethoxy-n-heptyl group and 8-ethoxy-n-octyl group; 2-cyanoethyl group, 3-cyano-n-propyl group, 4-cyano-n-butyl group, 5 - Cyanoalkyl groups such as non-n-pentyl group, 6-cyano-n-hexyl group, 7-cyano-n-heptyl group, and 8-cyano-n-octyl group; 2-phenylethyl group, 3-phenyl- n-propyl group, 4-phenyl-n-butyl group, 5-phenyl-n-pentyl group, 6-phenyl-n-hexyl group, 7-phenyl-n-heptyl group, and 8-phenyl-n-octyl group A phenylalkyl group such as 2-cyclohexylethyl group, 3-cyclohexyl-n-propyl group, 4-cyclohexyl-n-butyl group, 5-cyclohexyl-n-pentyl group, 6-cyclohexyl-n-hexyl group, 7- Cyclohexyl-n-heptyl group, 8-cyclohexyl-n-octyl group, 2-cyclopentylethyl group, 3-cyclopentyl-n-propyl group, 4-cis Cycloalkylalkyl groups such as clopentyl-n-butyl, 5-cyclopentyl-n-pentyl, 6-cyclopentyl-n-hexyl, 7-cyclopentyl-n-heptyl, and 8-cyclopentyl-n-octyl; 2-methoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl group, 4-methoxycarbonyl-n-butyl group, 5-methoxycarbonyl-n-pentyl group, 6-methoxycarbonyl-n-hexyl group, 7-methoxy Carbonyl-n-heptyl group, 8-methoxycarbonyl-n-octyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 4-ethoxycarbonyl-n-butyl group, 5-ethoxycarbonyl-n -Pentyl group, 6-ethoxycarbonyl-n-hexyl group, 7 Alkoxycarbonylalkyl groups such as ethoxycarbonyl-n-heptyl group and 8-ethoxycarbonyl-n-octyl group; 2-chloroethyl group, 3-chloro-n-propyl group, 4-chloro-n-butyl group, 5- Chloro-n-pentyl group, 6-chloro-n-hexyl group, 7-chloro-n-heptyl group, 8-chloro-n-octyl group, 2-bromoethyl group, 3-bromo-n-propyl group, 4- Bromo-n-butyl group, 5-bromo-n-pentyl group, 6-bromo-n-hexyl group, 7-bromo-n-heptyl group, 8-bromo-n-octyl group, 3,3,3-tri Examples thereof include a halogenated alkyl group such as a fluoropropyl group and 3,3,4,4,5,5,5-heptafluoro-n-pentyl group.
R2及びR3として、上記の中でも好適な基は、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−メトキシエチル基、2−シアノエチル基、2−フェニルエチル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、及び3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロ−n−ペンチル基である。 Among R 2 and R 3 , preferred groups among the above are ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 2-methoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 2 -Phenylethyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, and 3,3,4,4,5, 5,5-Heptafluoro-n-pentyl group.
式(A2−1C)中のR4は、1価の有機基又は水素原子である。1価の有機基は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。
R4の好適な有機基の例としては、アルキル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シクロアルコキシ基、飽和脂肪族アシル基、アルコキシカルボニル基、飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいフェノキシ基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよいフェノキシカルボニル基、置換基を有してもよいベンゾイルオキシ基、置換基を有してもよいフェニルアルキル基、置換基を有してもよいフェノキシアルキル基、置換基を有してもよいフェニルチオアルキル基、N−置換アミノアルキル基、N,N−ジ置換アミノアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトキシ基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよいナフトキシカルボニル基、置換基を有してもよいナフトイルオキシ基、置換基を有してもよいナフチルアルキル基、置換基を有してもよいナフトキシアルキル基、置換基を有してもよいナフチルチオアルキル基、置換基を有してもよいヘテロシクリル基、置換基を有してもよいヘテロシクリルカルボニル基、1、又は2の有機基で置換されたアミノ基、モルホリン−1−イル基、及びピペラジン−1−イル基等が挙げられる。
また、R4としてはシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェノキシアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基、も好ましい。
R 4 in Formula (A2-1C) is a monovalent organic group or a hydrogen atom. The monovalent organic group is not particularly limited as long as the object of the present invention is not impaired.
Examples of suitable organic groups for R 4 may have an alkyl group, an alkoxy group, a cycloalkyl group, a cycloalkoxy group, a saturated aliphatic acyl group, an alkoxycarbonyl group, a saturated aliphatic acyloxy group, and a substituent. Phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted benzoyl group, optionally substituted phenoxycarbonyl group, optionally substituted benzoyloxy group, substituted Phenylalkyl group which may have a group, phenoxyalkyl group which may have a substituent, phenylthioalkyl group which may have a substituent, N-substituted aminoalkyl group, N, N-disubstituted amino An alkyl group, an optionally substituted naphthyl group, an optionally substituted naphthoxy group, an optionally substituted naphthoyl group, and an optionally substituted naphthoxyca Rubonyl group, naphthyloxy group which may have a substituent, naphthylalkyl group which may have a substituent, naphthoxyalkyl group which may have a substituent, naphthyl which may have a substituent Thioalkyl group, optionally substituted heterocyclyl group, optionally substituted heterocyclylcarbonyl group, amino group substituted with 1 or 2 organic group, morpholin-1-yl group, and piperazine A -1-yl group etc. are mentioned.
R 4 is also preferably a cycloalkylalkyl group, a phenoxyalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring, or a phenylthioalkyl group optionally having a substituent on the aromatic ring.
R4がアルキル基である場合、アルキル基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R4がアルキル基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R4がアルキル基である場合の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、sec−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、イソオクチル基、sec−オクチル基、tert−オクチル基、n−ノニル基、イソノニル基、n−デシル基、及びイソデシル基等が挙げられる。また、R4がアルキル基である場合、アルキル基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルキル基の例としては、メトキシエチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロピルオキシエトキシエチル基、及びメトキシプロピル基等が挙げられる。 When R 4 is an alkyl group, the alkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 6 carbon atoms. Further, when R 4 is an alkyl group, it may be linear or branched. Specific examples in the case where R 4 is an alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, and an n-pentyl group. , Isopentyl group, sec-pentyl group, tert-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, isooctyl group, sec-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, isononyl group, An n-decyl group, an isodecyl group, etc. are mentioned. When R 4 is an alkyl group, the alkyl group may include an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkyl group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethyl group, an ethoxyethyl group, a methoxyethoxyethyl group, an ethoxyethoxyethyl group, a propyloxyethoxyethyl group, and a methoxypropyl group.
R4がアルコキシ基である場合、アルコキシ基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、R4がアルコキシ基である場合、直鎖であっても、分岐鎖であってもよい。R4がアルコキシ基である場合の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、sec−ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、sec−ペンチルオキシ基、tert−ペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、sec−オクチオキシル基、tert−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、イソノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、及びイソデシルオキシ基等が挙げられる。また、R4がアルコキシ基である場合、アルコキシ基は炭素鎖中にエーテル結合(−O−)を含んでいてもよい。炭素鎖中にエーテル結合を有するアルコキシ基の例としては、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシエトキシ基、及びメトキシプロピルオキシ基等が挙げられる。 When R 4 is an alkoxy group, the number of carbon atoms of the alkoxy group is preferably 1-20, and more preferably 1-6. Further, when R 4 is an alkoxy group, it may be linear or branched. Specific examples when R 4 is an alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propyloxy group, isopropyloxy group, n-butyloxy group, isobutyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, n -Pentyloxy group, isopentyloxy group, sec-pentyloxy group, tert-pentyloxy group, n-hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, isooctyloxy group, sec-octoxyl group, Examples thereof include a tert-octyloxy group, an n-nonyloxy group, an isononyloxy group, an n-decyloxy group, and an isodecyloxy group. When R 4 is an alkoxy group, the alkoxy group may contain an ether bond (—O—) in the carbon chain. Examples of the alkoxy group having an ether bond in the carbon chain include a methoxyethoxy group, an ethoxyethoxy group, a methoxyethoxyethoxy group, an ethoxyethoxyethoxy group, a propyloxyethoxyethoxy group, and a methoxypropyloxy group.
R4がシクロアルキル基又はシクロアルコキシ基である場合、シクロアルキル基又はシクロアルコキシ基の炭素原子数は、3〜10が好ましく、3〜6がより好ましい。R4がシクロアルキル基である場合の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、及びシクロオクチル基等が挙げられる。R4がシクロアルコキシ基である場合の具体例としては、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、及びシクロオクチルオキシ基等が挙げられる。 When R 4 is a cycloalkyl group or a cycloalkoxy group, the number of carbon atoms of the cycloalkyl group or the cycloalkoxy group is preferably 3 to 10, and more preferably 3 to 6. Specific examples of R 4 is a cycloalkyl group include cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, and cyclooctyl group, and the like. Specific examples of R 4 is cycloalkoxy groups include cyclopropyloxy group, cyclobutyloxy group, cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, cycloheptyl group, and cyclooctyl group, and the like.
R4が飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基である場合、飽和脂肪族アシル基又は飽和脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、2〜21が好ましく、2〜7がより好ましい。R4が飽和脂肪族アシル基である場合の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、n−ブタノイル基、2−メチルプロパノイル基、n−ペンタノイル基、2,2−ジメチルプロパノイル基、n−ヘキサノイル基、n−ヘプタノイル基、n−オクタノイル基、n−ノナノイル基、n−デカノイル基、n−ウンデカノイル基、n−ドデカノイル基、n−トリデカノイル基、n−テトラデカノイル基、n−ペンタデカノイル基、及びn−ヘキサデカノイル基等が挙げられる。R4が飽和脂肪族アシルオキシ基である場合の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、n−ブタノイルオキシ基、2−メチルプロパノイルオキシ基、n−ペンタノイルオキシ基、2,2−ジメチルプロパノイルオキシ基、n−ヘキサノイルオキシ基、n−ヘプタノイルオキシ基、n−オクタノイルオキシ基、n−ノナノイルオキシ基、n−デカノイルオキシ基、n−ウンデカノイルオキシ基、n−ドデカノイルオキシ基、n−トリデカノイルオキシ基、n−テトラデカノイルオキシ基、n−ペンタデカノイルオキシ基、及びn−ヘキサデカノイルオキシ基等が挙げられる。 When R 4 is a saturated aliphatic acyl group or a saturated aliphatic acyloxy group, the number of carbon atoms of the saturated aliphatic acyl group or the saturated aliphatic acyloxy group is preferably 2 to 21, and more preferably 2 to 7. Specific examples when R 4 is a saturated aliphatic acyl group include acetyl group, propanoyl group, n-butanoyl group, 2-methylpropanoyl group, n-pentanoyl group, 2,2-dimethylpropanoyl group, n -Hexanoyl group, n-heptanoyl group, n-octanoyl group, n-nonanoyl group, n-decanoyl group, n-undecanoyl group, n-dodecanoyl group, n-tridecanoyl group, n-tetradecanoyl group, n-pentadecanyl group Examples include a noyl group and an n-hexadecanoyl group. Specific examples when R 4 is a saturated aliphatic acyloxy group include acetyloxy group, propanoyloxy group, n-butanoyloxy group, 2-methylpropanoyloxy group, n-pentanoyloxy group, 2, 2-dimethylpropanoyloxy group, n-hexanoyloxy group, n-heptanoyloxy group, n-octanoyloxy group, n-nonanoyloxy group, n-decanoyloxy group, n-undecanoyloxy group, n -Dodecanoyloxy group, n-tridecanoyloxy group, n-tetradecanoyloxy group, n-pentadecanoyloxy group, n-hexadecanoyloxy group and the like.
R4がアルコキシカルボニル基である場合、アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、2〜20が好ましく、2〜7がより好ましい。R4がアルコキシカルボニル基である場合の具体例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロピルオキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、n−ブチルオキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基、sec−ブチルオキシカルボニル基、tert−ブチルオキシカルボニル基、n−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、sec−ペンチルオキシカルボニル基、tert−ペンチルオキシカルボニル基、n−ヘキシルオキシカルボニル基、n−ヘプチルオキシカルボニル基、n−オクチルオキシカルボニル基、イソオクチルオキシカルボニル基、sec−オクチオキシルカルボニル基、tert−オクチルオキシカルボニル基、n−ノニルオキシカルボニル基、イソノニルオキシカルボニル基、n−デシルオキシカルボニル基、及びイソデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。 When R 4 is an alkoxycarbonyl group, the number of carbon atoms of the alkoxycarbonyl group is preferably 2-20, and more preferably 2-7. Specific examples when R 4 is an alkoxycarbonyl group include methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propyloxycarbonyl group, isopropyloxycarbonyl group, n-butyloxycarbonyl group, isobutyloxycarbonyl group, sec-butyl. Oxycarbonyl group, tert-butyloxycarbonyl group, n-pentyloxycarbonyl group, isopentyloxycarbonyl group, sec-pentyloxycarbonyl group, tert-pentyloxycarbonyl group, n-hexyloxycarbonyl group, n-heptyloxycarbonyl Group, n-octyloxycarbonyl group, isooctyloxycarbonyl group, sec-octyloxycarbonyl group, tert-octyloxycarbonyl group, n-nonyloxycarbonyl group, i Examples include a sononyloxycarbonyl group, an n-decyloxycarbonyl group, and an isodecyloxycarbonyl group.
R4がフェニルアルキル基である場合、フェニルアルキル基の炭素原子数は、7〜20が好ましく、7〜10がより好ましい。また、R4がナフチルアルキル基である場合、ナフチルアルキル基の炭素原子数は、11〜20が好ましく、11〜14がより好ましい。
R4がフェニルアルキル基である場合の具体例としては、ベンジル基、2−フェニルエチル基、3−フェニルプロピル基、及び4−フェニルブチル基が挙げられる。
R4がナフチルアルキル基である場合の具体例としては、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、2−(α−ナフチル)エチル基、及び2−(β−ナフチル)エチル基が挙げられる。
R4が、フェニルアルキル基、又はナフチルアルキル基である場合、R4は、フェニル基、又はナフチル基上に更に置換基を有していてもよい。
When R 4 is a phenylalkyl group, the number of carbon atoms of the phenylalkyl group is preferably 7-20, and more preferably 7-10. When R 4 is a naphthylalkyl group, the number of carbon atoms of the naphthylalkyl group is preferably 11-20, and more preferably 11-14.
Specific examples when R 4 is a phenylalkyl group include a benzyl group, a 2-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, and a 4-phenylbutyl group.
Specific examples when R 4 is a naphthylalkyl group include an α-naphthylmethyl group, a β-naphthylmethyl group, a 2- (α-naphthyl) ethyl group, and a 2- (β-naphthyl) ethyl group. .
When R 4 is a phenylalkyl group or a naphthylalkyl group, R 4 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.
R4がフェノキシアルキル基、フェニルチオアルキル基、ナフトキシアルキル基、及びナフチルチオアルキル基である場合に、これらの基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、当該アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよく、直鎖状が好ましい。
フェノキシアルキル基の具体例としては、2−フェノキシエチル基、3−フェノキシ−n−プロピル基、4−フェノキシ−n−ブチル基、5−フェノキシ−n−ペンチル基、及び6−フェノキシ−n−ヘキシル基が挙げられる。
フェニルチオアルキル基の具体例としては、2−フェニルチオエチル基、3−フェニルチオ−n−プロピル基、4−フェニルチオ−n−ブチル基、5−フェニルチオ−n−ペンチル基、及び6−フェニルチオ−n−ヘキシル基が挙げられる。
ナフトキシアルキル基の具体例としては、2−(α−ナフトキシ)エチル基、3−(α−ナフトキシ)−n−プロピル基、4−(α−ナフトキシ)−n−ブチル基、5−(α−ナフトキシ)−n−ペンチル基、6−(α−ナフトキシ)−n−ヘキシル基、2−(β−ナフトキシ)エチル基、3−(β−ナフトキシ)−n−プロピル基、4−(β−ナフトキシ)−n−ブチル基、5−(β−ナフトキシ)−n−ペンチル基、及び6−(β−ナフトキシ)−n−ヘキシル基が挙げられる。
ナフチルチオアルキル基の具体例としては、2−(α−ナフチルチオ)エチル基、3−(α−ナフチルチオ)−n−プロピル基、4−(α−ナフチルチオ)−n−ブチル基、5−(α−ナフチルチオ)−n−ペンチル基、6−(α−ナフチルチオ)−n−ヘキシル基、2−(β−ナフチルチオ)エチル基、3−(β−ナフチルチオ)−n−プロピル基、4−(β−ナフチルチオ)−n−ブチル基、5−(β−ナフチルチオ)−n−ペンチル基、及び6−(β−ナフチルチオ)−n−ヘキシル基が挙げられる。
R4が、フェノキシアルキル基、フェニルチオアルキル基、ナフトキシアルキル基、又はナフチルチオアルキル基である場合、R4は、フェニル基、又はナフチル基上に更に置換基を有していてもよい。
When R 4 is a phenoxyalkyl group, a phenylthioalkyl group, a naphthoxyalkyl group, and a naphthylthioalkyl group, the number of carbon atoms of the alkylene group contained in these groups is preferably 1-20, and 1-6 Is more preferable. The alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear.
Specific examples of the phenoxyalkyl group include 2-phenoxyethyl group, 3-phenoxy-n-propyl group, 4-phenoxy-n-butyl group, 5-phenoxy-n-pentyl group, and 6-phenoxy-n-hexyl. Groups.
Specific examples of the phenylthioalkyl group include 2-phenylthioethyl group, 3-phenylthio-n-propyl group, 4-phenylthio-n-butyl group, 5-phenylthio-n-pentyl group, and 6-phenylthio-n. -A hexyl group is mentioned.
Specific examples of the naphthoxyalkyl group include 2- (α-naphthoxy) ethyl group, 3- (α-naphthoxy) -n-propyl group, 4- (α-naphthoxy) -n-butyl group, 5- (α -Naphthoxy) -n-pentyl group, 6- (α-naphthoxy) -n-hexyl group, 2- (β-naphthoxy) ethyl group, 3- (β-naphthoxy) -n-propyl group, 4- (β- A naphthoxy) -n-butyl group, a 5- (β-naphthoxy) -n-pentyl group, and a 6- (β-naphthoxy) -n-hexyl group.
Specific examples of the naphthylthioalkyl group include 2- (α-naphthylthio) ethyl group, 3- (α-naphthylthio) -n-propyl group, 4- (α-naphthylthio) -n-butyl group, 5- (α -Naphthylthio) -n-pentyl group, 6- (α-naphthylthio) -n-hexyl group, 2- (β-naphthylthio) ethyl group, 3- (β-naphthylthio) -n-propyl group, 4- (β- A naphthylthio) -n-butyl group, a 5- (β-naphthylthio) -n-pentyl group, and a 6- (β-naphthylthio) -n-hexyl group.
When R 4 is a phenoxyalkyl group, a phenylthioalkyl group, a naphthoxyalkyl group, or a naphthylthioalkyl group, R 4 may further have a substituent on the phenyl group or naphthyl group.
R4がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は、1以上のN、S、Oを含む5員又は6員の単環であるか、かかる単環同士、又はかかる単環とベンゼン環とが縮合したヘテロシクリル基である。ヘテロシクリル基が縮合環である場合は、縮合する環の数は3以下である。ヘテロシクリル基は、芳香族基(ヘテロアリール基)であっても、非芳香族基であってもよい。かかるヘテロシクリル基を構成する複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、チアジアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、イソインドール、インドリジン、ベンゾイミダゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾオキサゾール、ベンゾチアゾール、カルバゾール、プリン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、フタラジン、シンノリン、キノキサリン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、ピペリジン、テトラヒドロピラン、及びテトラヒドロフラン等が挙げられる。R4がヘテロシクリル基である場合、ヘテロシクリル基は更に置換基を有していてもよい。 When R 4 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group is a 5-membered or 6-membered monocycle containing one or more N, S, and O, or such monocycles or such monocycles and a benzene ring are condensed. Heterocyclyl group. When the heterocyclyl group is a condensed ring, the number of condensed rings is 3 or less. The heterocyclyl group may be an aromatic group (heteroaryl group) or a non-aromatic group. Examples of the heterocyclic ring constituting the heterocyclyl group include furan, thiophene, pyrrole, oxazole, isoxazole, thiazole, thiadiazole, isothiazole, imidazole, pyrazole, triazole, pyridine, pyrazine, pyrimidine, pyridazine, benzofuran, benzothiophene, indole, Examples include isoindole, indolizine, benzimidazole, benzotriazole, benzoxazole, benzothiazole, carbazole, purine, quinoline, isoquinoline, quinazoline, phthalazine, cinnoline, quinoxaline, piperidine, piperazine, morpholine, piperidine, tetrahydropyran, and tetrahydrofuran. It is done. When R 4 is a heterocyclyl group, the heterocyclyl group may further have a substituent.
R4がヘテロシクリルカルボニル基である場合、ヘテロシクリルカルボニル基に含まれるヘテロシクリル基は、R4がヘテロシクリル基である場合と同様である。 When R 4 is a heterocyclylcarbonyl group, the heterocyclyl group contained in the heterocyclylcarbonyl group is the same as when R 4 is a heterocyclyl group.
R4がN−置換アミノアルキル基、又はN,N−ジ置換アミノアルキル基、である場合、窒素原子に結合する置換基としては有機基が好ましい。
有機基の好適な例は、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜10のシクロアルキル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜21の飽和脂肪族アシルオキシ基、置換基を有してもよいフェニル基、置換基を有してもよいベンゾイル基、置換基を有してもよい炭素原子数7〜20のフェニルアルキル基、置換基を有してもよいナフチル基、置換基を有してもよいナフトイル基、置換基を有してもよい炭素原子数11〜20のナフチルアルキル基、及びヘテロシクリル基等が挙げられる。
N−置換アミノアルキル基、又はN,N−ジ置換アミノアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜20が好ましく、1〜6がより好ましい。また、当該アルキレン基は、直鎖状であっても、分岐鎖状であってもよい。
N−置換アミノアルキル基の具体例としては、2−(メチルアミノ)エチル基、2−(エチルアミノ)エチル基、2−(n−プロピルアミノ)エチル基、2−(n−ブチルアミノ)エチル基、3−(メチルアミノ)n−プロピル基、3−(エチルアミノ)n−プロピル基、3−(n−プロピルアミノ)n−プロピル基、3−(n−ブチルアミノ)n−プロピル基、2−(メチルアミノ)n−プロピル基、2−(エチルアミノ)n−プロピル基、2−(n−プロピルアミノ)n−プロピル基、2−(n−ブチルアミノ)n−プロピル基、2−(アセチルアミノ)エチル基、2−(プロピオニルアミノ)エチル基、2−(アセトキシアミノ)エチル基、2−(プロピオニルオキシアミノ)エチル基、3−(アセチルアミノ)n−プロピル基、3−(プロピオニルアミノ)n−プロピル基、3−(アセトキシアミノ)n−プロピル基、3−(プロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基、2−(アセチルアミノ)n−プロピル基、2−(プロピオニルアミノ)n−プロピル基、2−(アセトキシアミノ)n−プロピル基、及び2−(プロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基が挙げられる。
N,N−ジ置換アミノアルキル基の具体例としては、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)エチル基、3−(N,N−ジメチルアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジエチルアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジメチルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジエチルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジ−n−プロピルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジ−n−ブチルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジアセチルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジプロピオニルアミノ)エチル基、2−(N,N−ジアセトキシアミノ)エチル基、2−(N,N−ジプロピオニルオキシアミノ)エチル基、3−(N,N−ジアセチルアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジプロピオニルアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジアセトキシアミノ)n−プロピル基、3−(N,N−ジプロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジアセチルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジプロピオニルアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジアセトキシアミノ)n−プロピル基、2−(N,N−ジプロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基、2−(N−アセチル−N−アセトキシアミノ)エチル基、2−(N−プロピオニル−N−プロピオニルオキシアミノ)エチル基、3−(N−アセチル−N−アセトキシアミノ)n−プロピル基、3−(N−プロピオニル−N−プロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基、2−(N−アセチル−N−アセトキシアミノ)n−プロピル基、及び2−(N−プロピオニル−N−プロピオニルオキシアミノ)n−プロピル基が挙げられる。
When R 4 is an N-substituted aminoalkyl group or an N, N-disubstituted aminoalkyl group, the substituent bonded to the nitrogen atom is preferably an organic group.
Suitable examples of the organic group include alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms, cycloalkyl groups having 3 to 10 carbon atoms, saturated aliphatic acyl groups having 2 to 21 carbon atoms, and saturation having 2 to 21 carbon atoms. An aliphatic acyloxy group, a phenyl group that may have a substituent, a benzoyl group that may have a substituent, a phenylalkyl group having 7 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and a substituent; A naphthyl group which may have a substituent, a naphthoyl group which may have a substituent, a naphthylalkyl group having 11 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a heterocyclyl group.
The number of carbon atoms of the alkylene group contained in the N-substituted aminoalkyl group or the N, N-disubstituted aminoalkyl group is preferably 1-20, and more preferably 1-6. The alkylene group may be linear or branched.
Specific examples of the N-substituted aminoalkyl group include 2- (methylamino) ethyl group, 2- (ethylamino) ethyl group, 2- (n-propylamino) ethyl group, 2- (n-butylamino) ethyl. Group, 3- (methylamino) n-propyl group, 3- (ethylamino) n-propyl group, 3- (n-propylamino) n-propyl group, 3- (n-butylamino) n-propyl group, 2- (methylamino) n-propyl group, 2- (ethylamino) n-propyl group, 2- (n-propylamino) n-propyl group, 2- (n-butylamino) n-propyl group, 2- (Acetylamino) ethyl group, 2- (propionylamino) ethyl group, 2- (acetoxyamino) ethyl group, 2- (propionyloxyamino) ethyl group, 3- (acetylamino) n-propyl group, 3- Propionylamino) n-propyl group, 3- (acetoxyamino) n-propyl group, 3- (propionyloxyamino) n-propyl group, 2- (acetylamino) n-propyl group, 2- (propionylamino) n- A propyl group, 2- (acetoxyamino) n-propyl group, and 2- (propionyloxyamino) n-propyl group are mentioned.
Specific examples of the N, N-disubstituted aminoalkyl group include 2- (N, N-dimethylamino) ethyl group, 2- (N, N-diethylamino) ethyl group, 2- (N, N-di-n). -Propylamino) ethyl group, 2- (N, N-di-n-butylamino) ethyl group, 3- (N, N-dimethylamino) n-propyl group, 3- (N, N-diethylamino) n- Propyl group, 3- (N, N-di-n-propylamino) n-propyl group, 3- (N, N-di-n-butylamino) n-propyl group, 2- (N, N-dimethylamino) ) N-propyl group, 2- (N, N-diethylamino) n-propyl group, 2- (N, N-di-n-propylamino) n-propyl group, 2- (N, N-di-n-) Butylamino) n-propyl group, 2- (N, N-diacetylamino) ethyl group, 2- ( , N-dipropionylamino) ethyl group, 2- (N, N-diacetoxyamino) ethyl group, 2- (N, N-dipropionyloxyamino) ethyl group, 3- (N, N-diacetylamino) n -Propyl group, 3- (N, N-dipropionylamino) n-propyl group, 3- (N, N-diacetoxyamino) n-propyl group, 3- (N, N-dipropionyloxyamino) n- Propyl group, 2- (N, N-diacetylamino) n-propyl group, 2- (N, N-dipropionylamino) n-propyl group, 2- (N, N-diacetoxyamino) n-propyl group, 2- (N, N-dipropionyloxyamino) n-propyl group, 2- (N-acetyl-N-acetoxyamino) ethyl group, 2- (N-propionyl-N-propionyloxyamino) ethyl group 3- (N-acetyl-N-acetoxyamino) n-propyl group, 3- (N-propionyl-N-propionyloxyamino) n-propyl group, 2- (N-acetyl-N-acetoxyamino) n-propyl Group, and 2- (N-propionyl-N-propionyloxyamino) n-propyl group.
R4に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合の置換基としては、炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシル基、炭素原子数2〜7のアルコキシカルボニル基、炭素原子数2〜7の飽和脂肪族アシルオキシ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するモノアルキルアミノ基、炭素原子数1〜6のアルキル基を有するジアルキルアミノ基、モルホリン−1−イル基、ピペラジン−1−イル基、ハロゲン、ニトロ基、及びシアノ基等が挙げられる。R4に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が更に置換基を有する場合、その置換基の数は、本発明の目的を阻害しない範囲で限定されないが、1〜4が好ましい。R4に含まれる、フェニル基、ナフチル基、及びヘテロシクリル基が、複数の置換基を有する場合、複数の置換基は、同一であっても異なっていてもよい。 In the case where the phenyl group, the naphthyl group, and the heterocyclyl group included in R 4 further have a substituent, the substituent includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a carbon atom. A monoalkylamino group having a saturated aliphatic acyl group having 2 to 7 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, a saturated aliphatic acyloxy group having 2 to 7 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms And a dialkylamino group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a morpholin-1-yl group, a piperazin-1-yl group, a halogen, a nitro group, and a cyano group. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group contained in R 4 further have a substituent, the number of the substituent is not limited as long as the object of the present invention is not impaired, but 1 to 4 is preferable. When the phenyl group, naphthyl group, and heterocyclyl group included in R 4 have a plurality of substituents, the plurality of substituents may be the same or different.
有機基の中でも、R4としては、アルキル基、シクロアルキル基、置換基を有していてもよいフェニル基、又はシクロアルキルアルキル基、芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、炭素原子数1〜8のアルキル基がより好ましく、炭素原子数1〜4のアルキル基が特に好ましく、メチル基が最も好ましい。置換基を有していてもよいフェニル基の中では、メチルフェニル基が好ましく、2−メチルフェニル基がより好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるシクロアルキル基の炭素原子数は、5〜10が好ましく、5〜8がより好ましく、5又は6が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。シクロアルキルアルキル基の中では、シクロペンチルエチル基が好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基に含まれるアルキレン基の炭素原子数は、1〜8が好ましく、1〜4がより好ましく、2が特に好ましい。芳香環上に置換基を有していてもよいフェニルチオアルキル基の中では、2−(4−クロロフェニルチオ)エチル基が好ましい。 Among organic groups, as R 4 , an alkyl group, a cycloalkyl group, an optionally substituted phenyl group, or a cycloalkylalkyl group, an optionally substituted phenylthio group on an aromatic ring. Alkyl groups are preferred. As the alkyl group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is particularly preferable, and a methyl group is most preferable. Among the phenyl groups that may have a substituent, a methylphenyl group is preferable, and a 2-methylphenyl group is more preferable. The number of carbon atoms of the cycloalkyl group contained in the cycloalkylalkyl group is preferably 5 to 10, more preferably 5 to 8, and particularly preferably 5 or 6. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in a cycloalkylalkyl group, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Of the cycloalkylalkyl groups, a cyclopentylethyl group is preferred. 1-8 are preferable, as for the carbon atom number of the alkylene group contained in the phenylthioalkyl group which may have a substituent on an aromatic ring, 1-4 are more preferable, and 2 is especially preferable. Among the phenylthioalkyl groups which may have a substituent on the aromatic ring, a 2- (4-chlorophenylthio) ethyl group is preferable.
また、R4としては、−A3−CO−O−A4で表される基も好ましい。A3は、2価の有機基であり、2価の炭化水素基であるのが好ましく、アルキレン基であるのがより好ましい。A4は、1価の有機基であり、1価の炭化水素基であるのが好ましい。 In addition, as R 4 , a group represented by —A 3 —CO—O—A 4 is also preferable. A 3 is a divalent organic group, preferably a divalent hydrocarbon group, and more preferably an alkylene group. A 4 is a monovalent organic group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group.
A3がアルキレン基である場合、アルキレン基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、直鎖状が好ましい。A3がアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素原子数は1〜10が好ましく、1〜6がより好ましく、1〜4が特に好ましい。 When A 3 is an alkylene group, the alkylene group may be linear or branched, and is preferably linear. If A 3 is an alkylene group, number of carbon atoms in the alkylene group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 6, 1 to 4 are particularly preferred.
A4の好適な例としては、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数7〜20のアラルキル基、及び炭素原子数6〜20の芳香族炭化水素基が挙げられる。A4の好適な具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、フェニル基、ナフチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、及びβ−ナフチルメチル基等が挙げられる。 Preferable examples of A 4 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. Preferred examples of A 4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, and n-hexyl. Group, phenyl group, naphthyl group, benzyl group, phenethyl group, α-naphthylmethyl group, β-naphthylmethyl group and the like.
−A3−CO−O−A4で表される基の好適な具体例としては、2−メトキシカルボニルエチル基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−n−プロピルオキシカルボニルエチル基、2−n−ブチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ペンチルオキシカルボニルエチル基、2−n−ヘキシルオキシカルボニルエチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基、2−フェノキシカルボニルエチル基、3−メトキシカルボニル−n−プロピル基、3−エトキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−プロピルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ブチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ペンチルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−n−ヘキシルオキシカルボニル−n−プロピル基、3−ベンジルオキシカルボニル−n−プロピル基、及び3−フェノキシカルボニル−n−プロピル基等が挙げられる。 Preferred examples of the group represented by —A 3 —CO—O—A 4 include 2-methoxycarbonylethyl group, 2-ethoxycarbonylethyl group, 2-n-propyloxycarbonylethyl group, 2-n -Butyloxycarbonylethyl group, 2-n-pentyloxycarbonylethyl group, 2-n-hexyloxycarbonylethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group, 2-phenoxycarbonylethyl group, 3-methoxycarbonyl-n-propyl Group, 3-ethoxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-propyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-butyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-n-pentyloxycarbonyl-n-propyl group , 3-n-hexyloxycarbonyl-n-propyl group, 3-benzyloxycarbonyl -n- propyl group, and 3-phenoxycarbonyl -n- propyl group and the like.
式(A2−1C)中、R5は、1価の有機基、又は水素原子である。1価の有機基としては、例えば、置換基を有してもよい炭素原子数1〜11のアルキル基、又は置換基を有してもよいアリール基である。R5がアルキル基である場合に有してもよい置換基としては、フェニル基、ナフチル基等が好ましく例示される。 In formula (A2-1C), R 5 represents a monovalent organic group or a hydrogen atom. Examples of the monovalent organic group include an alkyl group having 1 to 11 carbon atoms which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent. Preferred examples of the substituent that may be present when R 5 is an alkyl group include a phenyl group and a naphthyl group.
式(A2−1C)中、R5としては、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、メチルフェニル基、ナフチル基等が好ましく例示され、これらの中でも、メチル基又はフェニル基がより好ましい。 In formula (A2-1C), R 5 is preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, phenyl group, benzyl group, methylphenyl group, naphthyl group, or the like. Among them, a methyl group or a phenyl group is more preferable among these.
また、式(A2−1C)で表される化合物の中では、下記式(A2−1C−1)又は式(A2−1C−2)で表される化合物が好ましい。
また、光重合開始剤(A2)としては、下記式(A2−1N)で表される化合物も用いることができる。
また、式(A2−1N)で表される化合物の中では、下記式(A2−1N−1)又は(A2−1N−2)で表される化合物が好ましい。
式(A2−1C)で表される化合物及び式(A2−1N)で表される化合物の好適な具体例としては、以下の化合物1〜化合物71が挙げられる。
光重合開始剤(A2)の含有量は、感光性組成物の固形分に対して0.05〜2質量%であることが好ましく、0.07〜1.9質量%であることがより好ましく、0.1〜1.7質量%が更により好ましく、0.15〜1.5質量%が特に好ましい。光重合開始剤(A2)の含有量が上記の範囲内であると、得られる硬化物は、良好な透過率を維持しつつ、得られる組成物は、露光に対する感度が十分となりやすい。
光重合開始剤(A2)の含有量は、例えば、光重合開始剤(A)全体に対して0.1〜50質量%の範囲であればよく、好ましくは0.5〜30質量%であり、1〜20質量%であることがより好ましく、1.5〜18質量%であることが更により好ましい。
The content of the photopolymerization initiator (A2) is preferably 0.05 to 2% by mass and more preferably 0.07 to 1.9% by mass with respect to the solid content of the photosensitive composition. 0.1 to 1.7% by mass is even more preferable, and 0.15 to 1.5% by mass is particularly preferable. When the content of the photopolymerization initiator (A2) is within the above range, the resulting cured product is likely to have sufficient sensitivity to exposure while maintaining good transmittance.
Content of a photoinitiator (A2) should just be the range of 0.1-50 mass% with respect to the whole photoinitiator (A), for example, Preferably it is 0.5-30 mass%. 1 to 20% by mass is more preferable, and 1.5 to 18% by mass is even more preferable.
[他の光重合開始剤(A3)]
感光性組成物は、本発明の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、(A1)成分及び(A2)成分以外の他の光重合開始剤(A3)を含んでいてもよい。他の光重合開始剤(A3)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
[Other photopolymerization initiator (A3)]
The photosensitive composition may contain other photopolymerization initiators (A3) other than the component (A1) and the component (A2) as necessary, as long as the object of the present invention is not impaired. Another photoinitiator (A3) can be used individually or in combination of 2 or more types.
他の光重合開始剤(A3)の具体例としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、エタノン,1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾル−3−イル],1−(o−アセチルオキシム)、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4−ベンゾイル−4’−メチルジメチルスルフィド、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、4−ジメチルアミノ−2−エチルヘキシル安息香酸、4−ジメチルアミノ−2−イソアミル安息香酸、ベンジル−β−メトキシエチルアセタール、ベンジルジメチルケタール、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、o−ベンゾイル安息香酸メチル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、チオキサンテン、2−クロロチオキサンテン、2,4−ジエチルチオキサンテン、2−メチルチオキサンテン、2−イソプロピルチオキサンテン、2−エチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、アゾビスイソブチロニトリル、ベンゾイルパーオキシド、クメンパーオキシド、2−メルカプトベンゾイミダール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジ(メトキシフェニル)イミダゾール二量体、2−(o−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(o−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール二量体、2,4,5−トリアリールイミダゾール二量体、ベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン(即ち、ミヒラーズケトン)、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン(即ち、エチルミヒラーズケトン)、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、3,3−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノプロピオフェノン、ジクロロアセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−tert−ブチルトリクロロアセトフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、α,α−ジクロロ−4−フェノキシアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジベンゾスベロン、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、9−フェニルアクリジン、1,7−ビス−(9−アクリジニル)ヘプタン、1,5−ビス−(9−アクリジニル)ペンタン、1,3−ビス−(9−アクリジニル)プロパン、p−メトキシトリアジン、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(フラン−2−イル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−[2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル]−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−n−ブトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)フェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(3−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン、2,4−ビス−トリクロロメチル−6−(2−ブロモ−4−メトキシ)スチリルフェニル−s−トリアジン等が挙げられる。これらの中でも、オキシム系の光重合開始剤を用いることが、感度の面で特に好ましい。 Specific examples of the other photopolymerization initiator (A3) include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, and 1- [4- (2-hydroxyethoxy). Phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 1- (4-dodecylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- ( Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one , Ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl], 1- (o-acetyloxime), 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 4 -Benzoyl-4'-methyldimethylsulfide, 4-dimethylaminobenzoic acid, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, butyl 4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylamino-2-ethylhexylbenzoate Acid, 4-dimethylamino-2-isoamylbenzoic acid, benzyl-β-methoxyethyl acetal, benzyldimethyl ketal, 1-phenyl-1,2-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, o-benzoylbenzoic acid Acid methyl, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chloro Rothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, thioxanthene, 2-chlorothioxanthene, 2,4-diethylthioxanthene, 2-methylthioxanthene, 2-isopropylthioxanthene, 2-ethyl Anthraquinone, octamethylanthraquinone, 1,2-benzanthraquinone, 2,3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide, cumene peroxide, 2-mercaptobenzoimidar, 2-mercaptobenzoxazole, 2- Mercaptobenzothiazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-di (methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o- Fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer 2,4,5-triarylimidazole dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-bisdimethylaminobenzophenone (ie, Michler's ketone), 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone (ie, ethyl Michler's) Ketone), 4,4'-dichlorobenzophenone, 3,3-dimethyl-4-methoxybenzophenone, benzyl, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ester Ter, benzoin butyl ether, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloroacetophenone, trichloroacetophenone, p-tert-butylacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-tert -Butyltrichloroacetophenone, p-tert-butyldichloroacetophenone, α, α-dichloro-4-phenoxyacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, dibenzosuberone, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9- Phenylacridine, 1,7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1,5-bis- (9-acridinyl) pentane, 1,3-bis- ( -Acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- ( 5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -Ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis- Trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2,4- Bis-trichloromethyl-6- (3-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, etc. Is mentioned. Among these, it is particularly preferable in terms of sensitivity to use an oxime-based photopolymerization initiator.
感光性組成物が、(A1)成分及び(A2)成分以外の他の光重合開始剤(A3)を含む場合、他の光重合開始剤(A3)の含有量は、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されない。この場合、他の光重合開始剤(A3)の含有量は、典型的には、感光性組成物に含まれる光重合開始剤の総量に対して、99質量%以下が好ましく、50質量%以下がより好ましく、30質量%以下が更により好ましく、0〜10質量%が特に好ましい。 When the photosensitive composition contains a photopolymerization initiator (A3) other than the components (A1) and (A2), the content of the other photopolymerization initiator (A3) hinders the object of the present invention. The range is not particularly limited. In this case, the content of the other photopolymerization initiator (A3) is typically 99% by mass or less, preferably 50% by mass or less, based on the total amount of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition. Is more preferable, 30 mass% or less is still more preferable, and 0-10 mass% is especially preferable.
<重合性基材成分(B)>
本発明に係る感光性組成物は、更に、重合性基材成分(B)を含んでもよい。重合性基材成分(B)(以下、「(B)成分」とも記す。)は、感光性組成物に光重合性と膜形成能とを付与する成分である。重合性基材成分(B)は、光重合開始剤(A1)及び(A2)により重合可能な成分を含み、且つ膜形成可能な感光性組成物を調製可能な成分であれば特に限定されない。重合性基材成分(B)は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。
<Polymerizable substrate component (B)>
The photosensitive composition according to the present invention may further contain a polymerizable substrate component (B). The polymerizable substrate component (B) (hereinafter also referred to as “component (B)”) is a component that imparts photopolymerizability and film-forming ability to the photosensitive composition. The polymerizable substrate component (B) is not particularly limited as long as it includes components that can be polymerized by the photopolymerization initiators (A1) and (A2) and can prepare a photosensitive composition capable of forming a film. A polymeric base material component (B) can be used individually or in combination of 2 or more types.
重合性基材成分(B)は、典型的には、光重合性化合物、又は光重合性化合物と樹脂とを含む。光重合性化合物は、低分子化合物であってもよく、樹脂のような高分子化合物であってもよい。光重合性化合物及び樹脂の各々は、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 The polymerizable substrate component (B) typically contains a photopolymerizable compound or a photopolymerizable compound and a resin. The photopolymerizable compound may be a low molecular compound or a high molecular compound such as a resin. Each of a photopolymerizable compound and resin can be used individually or in combination of 2 or more types.
重合性基材成分(B)は、光重合性の点から、重合体でない低分子量の光重合性化合物(以下、「光重合性モノマー」とも記す。)、及び/又は架橋性基含有樹脂を含むことが好ましい。
また、重合性基材成分(B)が樹脂を含む場合、現像性の観点から、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。アルカリ可溶性樹脂は、架橋性基を含んでいてもよい。架橋性基を含む(構成単位中の置換基として架橋性基を含む)アルカリ可溶性樹脂は、光重合性とアルカリ現像性との双方の観点から好ましい。
From the viewpoint of photopolymerization, the polymerizable substrate component (B) is a low molecular weight photopolymerizable compound that is not a polymer (hereinafter also referred to as “photopolymerizable monomer”) and / or a crosslinkable group-containing resin. It is preferable to include.
Moreover, when a polymeric base material component (B) contains resin, it is preferable that alkali-soluble resin is included from a developable viewpoint. The alkali-soluble resin may contain a crosslinkable group. Alkali-soluble resins containing a crosslinkable group (containing a crosslinkable group as a substituent in the structural unit) are preferred from the viewpoints of both photopolymerizability and alkali developability.
以下、(B)成分に含まれる好適な成分である、光重合性モノマーと、架橋性基含有樹脂と、アルカリ可溶性樹脂とについて順に説明する。 Hereinafter, the photopolymerizable monomer, the crosslinkable group-containing resin, and the alkali-soluble resin, which are suitable components included in the component (B), will be described in order.
[光重合性モノマー]
感光性組成物に含有される光重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を好ましく用いることができる。このエチレン性不飽和二重結合を有する化合物には、単官能モノマーと多官能モノマーとがある。
[Photopolymerizable monomer]
As the photopolymerizable monomer contained in the photosensitive composition, a compound having an ethylenically unsaturated double bond can be preferably used. The compound having an ethylenically unsaturated double bond includes a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
単官能モノマーとしては、(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、エトキシメチル(メタ)アクリルアミド、プロポキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸、フマル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、無水シトラコン酸、クロトン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸、tert−ブチルアクリルアミドスルホン酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルフタレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノ(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、フタル酸誘導体のハーフ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの単官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 Monofunctional monomers include (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, ethoxymethyl (meth) acrylamide, propoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethoxymethyl (meth) acrylamide, N-methylol ( (Meth) acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, fumaric acid, maleic acid, maleic anhydride, itaconic acid, itaconic anhydride, citraconic acid, citraconic anhydride, crotonic acid, 2-acrylamide- 2-methylpropane sulfonic acid, tert-butylacrylamide sulfonic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxy-2-hydroxypropyl phthalate, glycerin mono (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, dimethylamino (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl ( And (meth) acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, and half (meth) acrylate of a phthalic acid derivative. These monofunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
一方、多官能モノマーとしては、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、1,10−デカンジオールジ(メタ)アクリレート、1,12−ドデカンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイロキシプロピル(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリ(エチレン−プロピレン)グリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシジエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ(メタ)アクリレート、グリセリントリアクリレート、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート(即ち、トリレンジイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートとヘキサメチレンジイソシアネート等と2−ビドロキシエチル(メタ)アクリレートとの反応物、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリルアミドメチレンエーテル、多価アルコールとN−メチロール(メタ)アクリルアミドとの縮合物、トリアクリルホルマール、2,4,6−トリオキソヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン−1,3,5−トリスエタノールトリアクリレート、及び2,4,6−トリオキソヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン−1,3,5−トリスエタノールジアクリレート等が挙げられる。これらの多官能モノマーは、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 On the other hand, as the polyfunctional monomer, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol Di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) Acryle Tripropylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, poly (ethylene-propylene) glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) ) Acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, Tetraethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, butyre Glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexane glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, penta Erythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxydiethoxypheny Propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl (meth) acrylate, ethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate , Diethylene glycol diglycidyl ether di (meth) acrylate, diglycidyl phthalate di (meth) acrylate, glycerin triacrylate, glycerin polyglycidyl ether poly (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate (ie tolylene diisocyanate), trimethyl Reaction product of hexamethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, etc. and 2-bidoxyethyl (meth) acrylate, methylenebis (meth) acrylamide, (meth) acrylic Amidomethylene ether, condensate of polyhydric alcohol and N-methylol (meth) acrylamide, triacryl formal, 2,4,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-tris Examples include ethanol triacrylate and 2,4,6-trioxohexahydro-1,3,5-triazine-1,3,5-trisethanol diacrylate. These polyfunctional monomers can be used alone or in combination of two or more.
これらのエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の中でも、強度と、基板への密着性とに優れる硬化物を与える感光性組成物が得られる点から、3官能以上の多官能モノマーが好ましい。
ガラス転移点(Tg)コントロールの観点で3官能以上の多官能モノマーと併用して単官能モノマーや2官能モノマーを用いてもよく、これらの中でも、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートが好ましい。
Among these compounds having an ethylenically unsaturated double bond, a polyfunctional monomer having three or more functional groups is preferable from the viewpoint of obtaining a photosensitive composition that provides a cured product excellent in strength and adhesion to a substrate.
From the viewpoint of controlling the glass transition point (Tg), a monofunctional monomer or a bifunctional monomer may be used in combination with a trifunctional or higher polyfunctional monomer. Among these, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate is preferable.
光重合性モノマーの含有量は、感光性組成物の固形分に対して5〜60質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。感光性組成物中の光重合性モノマーの含有量を上記の範囲とすることにより、感光性組成物の感度、現像性、及び解像性のバランスをとりやすい傾向がある。 5-60 mass% is preferable with respect to solid content of the photosensitive composition, and, as for content of a photopolymerizable monomer, 10-50 mass% is more preferable. By setting the content of the photopolymerizable monomer in the photosensitive composition within the above range, the sensitivity, developability, and resolution of the photosensitive composition tend to be easily balanced.
[架橋性基含有樹脂]
本発明に係る感光性組成物が架橋性基含有樹脂を含有すると、該感光性組成物を用いる硬化物の形成がより容易になる傾向にある。架橋性基含有樹脂は、架橋性基を有する樹脂であり、架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含むものが好ましい。架橋性基としては、主に加熱により架橋性基含有樹脂の架橋を可能する官能基であれば特に限定されず、エポキシ基、エチレン性不飽和二重結合が好ましい。架橋性基は、例えば、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位及びエチレン性不飽和二重結合を有する単位からなる群から選択される少なくとも1種を含むことにより、架橋性基含有樹脂に導入することができる。
[Crosslinkable group-containing resin]
When the photosensitive composition according to the present invention contains a crosslinkable group-containing resin, it tends to be easier to form a cured product using the photosensitive composition. The crosslinkable group-containing resin is a resin having a crosslinkable group, and preferably contains a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group. The crosslinkable group is not particularly limited as long as it is a functional group capable of crosslinking the crosslinkable group-containing resin mainly by heating, and an epoxy group or an ethylenically unsaturated double bond is preferable. The crosslinkable group includes, for example, at least one selected from the group consisting of a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group and a unit having an ethylenically unsaturated double bond. It can be introduced into the containing resin.
架橋性基含有樹脂としては、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂が好ましい。かかる単位を有することにより、感光性組成物を用いて形成される絶縁膜の基材への密着性や機械的強度を向上させることもできる。 As the crosslinkable group-containing resin, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is preferable. By having such a unit, the adhesiveness and mechanical strength of the insulating film formed using the photosensitive composition to the substrate can be improved.
エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、鎖状脂肪族エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルであっても、後述するような、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルであってもよい。 The (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group as described later, even if it is a (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group. There may be.
エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルは、芳香族基を有していてもよい。本明細書において、芳香族基は、芳香環を有する基である。芳香族基を構成する芳香環の例としては、ベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。芳香族基を有し、且つエポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、4−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、2−グリシジルオキシフェニル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート、及び2−グリシジルオキシフェニルメチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid ester having an epoxy group may have an aromatic group. In this specification, an aromatic group is a group having an aromatic ring. Examples of the aromatic ring constituting the aromatic group include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of the (meth) acrylic acid ester having an aromatic group and an epoxy group include 4-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenyl (meth) acrylate, 2-glycidyloxyphenyl (meta ) Acrylate, 4-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, 2-glycidyloxyphenylmethyl (meth) acrylate, and the like.
感光性組成物を用いて形成される膜が透明性を要求される場合、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸は、芳香族基を有さないものが好ましい。 When the film formed using the photosensitive composition is required to be transparent, the (meth) acrylic acid having an epoxy group preferably has no aromatic group.
鎖状脂肪族エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルの例としては、エポキシアルキル(メタ)アクリレート、及びエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレート等のような、エステル基(−O−CO−)中のオキシ基(−O−)に鎖状脂肪族エポキシ基が結合する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。このような(メタ)アクリル酸エステルが有する鎖状脂肪族エポキシ基は、鎖中に1又は複数のオキシ基(−O−)を含んでいてもよい。鎖状脂肪族エポキシ基の炭素原子数は、特に限定されず、3〜20が好ましく、3〜15がより好ましく、3〜10が特に好ましい。 Examples of (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group include an ester group (—O—CO—) such as epoxy alkyl (meth) acrylate and epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylate. (Meth) acrylic acid ester in which a chain aliphatic epoxy group is bonded to the oxy group (—O—). Such a chain aliphatic epoxy group possessed by the (meth) acrylate ester may contain one or a plurality of oxy groups (—O—) in the chain. The number of carbon atoms of the chain aliphatic epoxy group is not particularly limited, preferably 3 to 20, more preferably 3 to 15, and particularly preferably 3 to 10.
鎖状脂肪族エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、グリシジル(メタ)アクリレート、2−メチルグリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシブチル(メタ)アクリレート、6,7−エポキシヘプチル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキル(メタ)アクリレート;2−グリシジルオキシエチル(メタ)アクリレート、3−グリシジルオキシ−n−プロピル(メタ)アクリレート、4−グリシジルオキシ−n−ブチル(メタ)アクリレート、5−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート、6−グリシジルオキシ−n−ヘキシル(メタ)アクリレート等のエポキシアルキルオキシアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。 Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group include glycidyl (meth) acrylate, 2-methylglycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxybutyl (meth) acrylate, 6,7- Epoxyalkyl (meth) acrylates such as epoxyheptyl (meth) acrylate; 2-glycidyloxyethyl (meth) acrylate, 3-glycidyloxy-n-propyl (meth) acrylate, 4-glycidyloxy-n-butyl (meth) acrylate And epoxyalkyloxyalkyl (meth) acrylates such as 5-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate and 6-glycidyloxy-n-hexyl (meth) acrylate.
脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、例えば下記式(d2−1)〜(d2−16)で表される化合物が挙げられる。これらの中でも、感光性組成物の現像性を適度なものとするためには、下記式(d2−1)〜(d2−6)で表される化合物が好ましく、下記式(d2−1)〜(d2−4)で表される化合物がより好ましい。
また、これら各化合物に関し、脂環に対するエステル基の酸素原子の結合部位はここで示されているものに限られず、一部位置異性体を含んでいてもよい。
Specific examples of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group include compounds represented by the following formulas (d2-1) to (d2-16). Among these, in order to make the developability of the photosensitive composition appropriate, compounds represented by the following formulas (d2-1) to (d2-6) are preferable, and the following formulas (d2-1) to The compound represented by (d2-4) is more preferable.
In addition, regarding each of these compounds, the bonding site of the oxygen atom of the ester group to the alicyclic ring is not limited to that shown here, and a part of positional isomers may be included.
上記式中、Rd4は水素原子又はメチル基を示し、Rd5は炭素数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Rd6は炭素数1〜10の2価の炭化水素基を示し、nは0〜10の整数を示す。Rd5としては、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Rd6としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、フェニレン基、シクロヘキシレン基、−CH2−Ph−CH2−(Phはフェニレン基を示す)が好ましい。 In the above formula, R d4 represents a hydrogen atom or a methyl group, R d5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R d6 represents a divalent hydrocarbon having 1 to 10 carbon atoms. Represents a group, and n represents an integer of 0 to 10. R d5 is preferably a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group, or a hexamethylene group. As R d6 , for example, methylene group, ethylene group, propylene group, tetramethylene group, ethylethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, phenylene group, cyclohexylene group, —CH 2 —Ph—CH 2 — (Ph is A phenylene group) is preferred.
エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルが、上記のような脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルであると、鎖状脂肪族エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに比べ、該(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む架橋性基含有樹脂、ひいては感光性組成物の保管安定性に優れ、また、絶縁膜等の形成時にプリベーク可能な温度の範囲(プリベーク温度マージン)が広くなるため、好ましい。 When the (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group as described above, compared to a (meth) acrylic acid ester having a chain aliphatic epoxy group, A crosslinkable group-containing resin containing a unit derived from the (meth) acrylic acid ester, and thus excellent storage stability of the photosensitive composition, and a temperature range that can be pre-baked when forming an insulating film or the like (pre-baking temperature margin) Is preferable because it becomes wide.
架橋性基含有樹脂は、また、架橋性基としてエチレン性不飽和二重結合を有する単位を含む樹脂(本明細書において、「エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂」ということがある。)であってもよい。該エチレン性不飽和二重結合は、(メタ)アクリロイルオキシ基を構成する一部であることが好ましい。 The crosslinkable group-containing resin also includes a resin containing a unit having an ethylenically unsaturated double bond as a crosslinkable group (in this specification, sometimes referred to as “resin having an ethylenically unsaturated double bond”). It may be. The ethylenically unsaturated double bond is preferably a part constituting a (meth) acryloyloxy group.
エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂としては、例えば、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する樹脂を挙げることができる。
(メタ)アクリロイルオキシ基を有する樹脂は、例えば、不飽和カルボン酸に由来する単位を含む重合体に含まれるカルボキシ基の少なくとも一部と、上記脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステル及び/又は上記鎖状脂肪族エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルとを反応させることにより、調製することができる。
Examples of the resin having an ethylenically unsaturated double bond include a resin having a (meth) acryloyloxy group.
The resin having a (meth) acryloyloxy group is, for example, a (meth) acrylic acid ester having at least a part of a carboxy group contained in a polymer containing a unit derived from an unsaturated carboxylic acid and the alicyclic epoxy group. And / or it can prepare by making it react with the (meth) acrylic acid ester which has the said chain | strand-shaped aliphatic epoxy group.
架橋性基含有樹脂は、エチレン性不飽和二重結合を有する樹脂である場合、光重合性を有するものであってもよい。架橋性基含有樹脂は、かかるエチレン性不飽和二重結合を有する光重合性樹脂を含有することにより、感光性組成物の硬化性を向上させ、パターン形成を容易にすることができる。 When the crosslinkable group-containing resin is a resin having an ethylenically unsaturated double bond, it may have photopolymerizability. By containing the photopolymerizable resin having such an ethylenically unsaturated double bond, the crosslinkable group-containing resin can improve the curability of the photosensitive composition and facilitate the pattern formation.
架橋性基含有樹脂中において、該樹脂の質量に対して、架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、20〜80質量%が好ましく、30〜70質量%がより好ましく、33〜65質量%が更に好ましく、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、10〜80質量%が好ましく、15〜70質量%がより好ましく、20〜65質量%が更により好ましく、エチレン性不飽和二重結合を有する単位の量は、15〜40質量%が好ましく、20〜35質量%がより好ましい。架橋性基含有樹脂としては、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体が好ましく、該重合体である場合も、該重合体における、架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の含有量は、樹脂の質量に対して、上記と同様である。 In the crosslinkable group-containing resin, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group is preferably 20 to 80% by mass and more preferably 30 to 70% by mass with respect to the mass of the resin. Preferably, 33 to 65% by mass is more preferable, and the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an epoxy group is preferably 10 to 80% by mass, more preferably 15 to 70% by mass, and more preferably 20 to 65% by mass. % Is more preferable, and the amount of the unit having an ethylenically unsaturated double bond is preferably 15 to 40% by mass, and more preferably 20 to 35% by mass. As the crosslinkable group-containing resin, a polymer of at least one monomer selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is preferable, and even in the case of the polymer, Content of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having a crosslinkable group is the same as described above with respect to the mass of the resin.
架橋性基含有樹脂は、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、エチレン性不飽和二重結合を有する単位とを両方含むものであってもよいが、エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位又はエチレン性不飽和二重結合を有する単位のいずれかを含むものであってよく、架橋性基としてはエポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位のみを含むものが好ましい。 The crosslinkable group-containing resin may include both a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an epoxy group and a unit having an ethylenically unsaturated double bond, but has an epoxy group ( It may contain either a unit derived from a (meth) acrylate ester or a unit having an ethylenically unsaturated double bond, and a unit derived from a (meth) acrylate ester having an epoxy group as a crosslinkable group The one containing only is preferable.
架橋性基含有樹脂は、架橋性基を有する樹脂であるとともに、アルカリ可溶性樹脂でもあることが好ましい。感光性組成物は、かかるアルカリ可溶性樹脂を配合することで、感光性組成物にアルカリ現像性を付与することができる。 The crosslinkable group-containing resin is preferably a resin having a crosslinkable group and an alkali-soluble resin. The photosensitive composition can impart alkali developability to the photosensitive composition by blending such an alkali-soluble resin.
本明細書においてアルカリ可溶性樹脂とは、樹脂濃度20質量%の樹脂溶液(溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)により、膜厚1μmの樹脂膜を基板上に形成し、濃度0.05質量%のKOH水溶液に1分間浸漬した際に、膜厚0.01μm以上溶解するものをいう。 In this specification, the alkali-soluble resin means that a resin film having a film thickness of 1 μm is formed on a substrate with a resin solution (solvent: propylene glycol monomethyl ether acetate) having a resin concentration of 20% by mass, and KOH having a concentration of 0.05% by mass. When immersed in an aqueous solution for 1 minute, it means one that dissolves to a thickness of 0.01 μm or more.
架橋性基含有樹脂は、アルカリ可溶性樹脂でもある場合、通常、アルカリ可溶性基を有する。アルカリ可溶性基としては、架橋性基含有樹脂に上記のアルカリに対する溶解性を付与する官能基であれば特に限定されず、カルボキシ基又は脱保護してカルボキシ基を生じる基が好ましく、例えば、後述の不飽和カルボン酸に由来する単位を含むことにより、また、アルカリ可溶性基を付与する(メタ)アクリル酸エステルを含む単量体を重合することにより、架橋性基含有樹脂に導入することができる。本明細書において、アルカリ可溶性基を付与する(メタ)アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルを含まないものとする。 When the crosslinkable group-containing resin is also an alkali-soluble resin, it usually has an alkali-soluble group. The alkali-soluble group is not particularly limited as long as it is a functional group that imparts solubility to the alkali in the crosslinkable group-containing resin, and is preferably a carboxy group or a group that generates a carboxy group by deprotection. It can be introduced into the crosslinkable group-containing resin by including a unit derived from an unsaturated carboxylic acid and by polymerizing a monomer containing a (meth) acrylic acid ester that imparts an alkali-soluble group. In this specification, the (meth) acrylic acid ester that imparts the alkali-soluble group does not include the (meth) acrylic acid ester having the crosslinkable group described above.
架橋性基含有樹脂としては、アルカリ可溶性樹脂でもある場合、架橋性基含有樹脂の上記アルカリに対する溶解性を抑制ないし抑止する官能基(以下、「アルカリ溶解抑止基」又は「溶解抑止基」ということがある。)を有しない樹脂であってもよいが、アルカリ可溶性基及び溶解抑止基を有する樹脂が好ましい。溶解抑止基は、架橋性基含有樹脂のアルカリに対する溶解性を低下させる機能がある点で、アルカリ難溶解性基ともいえる。架橋性基含有樹脂は、アルカリ可溶性基及び溶解抑止基を有することで、アルカリに対する溶解性を調整することができ、これにより、感光性組成物のアルカリ現像性を調整することができる。溶解抑止基としては、例えば、後述のスチレン又はスチレン誘導体;不飽和イミド類;脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステル(但し、エポキシ基を有するものを除く。);ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族基を有する(メタ)アクリル酸エステル等が挙げられる。本明細書において、溶解抑止基を付与する(メタ)アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルを含まないものとする。 When the crosslinkable group-containing resin is also an alkali-soluble resin, a functional group that suppresses or inhibits the solubility of the crosslinkable group-containing resin in the alkali (hereinafter referred to as “alkali dissolution inhibiting group” or “dissolution inhibiting group”) However, a resin having an alkali-soluble group and a dissolution inhibiting group is preferable. The dissolution inhibiting group can be said to be an alkali hardly soluble group in that it has a function of reducing the solubility of the crosslinkable group-containing resin in alkali. Since the crosslinkable group-containing resin has an alkali-soluble group and a dissolution inhibiting group, the solubility in alkali can be adjusted, whereby the alkali developability of the photosensitive composition can be adjusted. Examples of the dissolution inhibiting group include styrene or styrene derivatives described later; unsaturated imides; (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton (excluding those having an epoxy group); benzyl (meth) acrylate And (meth) acrylic acid ester having an aromatic group such as In this specification, the (meth) acrylic acid ester that imparts the dissolution inhibiting group does not include the (meth) acrylic acid ester having the crosslinkable group described above.
架橋性基含有樹脂の中では、製膜性に優れる点や、単量体の選択によって樹脂の特性を調整しやすいこと等から、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体が好ましい。エチレン性不飽和二重結合を有する単量体としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸エステル;(メタ)アクリル酸アミド;クロトン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物;酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、及びアリルオキシエタノールのようなアリル化合物;ヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、1−メチル−2,2−ジメチルプロピルビニルエーテル、2−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、ビニルフェニルエーテル、ビニルトリルエーテル、ビニルクロロフェニルエーテル、ビニル−2,4−ジクロロフェニルエーテル、ビニルナフチルエーテル、及びビニルアントラニルエーテルのようなビニルエーテル;ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロロアセテート、ビニルジクロロアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルフエニルアセテート、ビニルアセトアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレート、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ安息香酸ビニル、テトラクロロ安息香酸ビニル、及びナフトエ酸ビニルのようなビニルエステル;スチレン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチルスチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルスチレン、クロロメチルスチレン、トリフルオロメチルスチレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルスチレン、メトキシスチレン、4−メトキシ−3−メチルスチレン、ジメトキシスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、トリクロロスチレン、テトラクロロスチレン、ペンタクロロスチレン、ブロモスチレン、ジブロモスチレン、ヨードスチレン、フルオロスチレン、トリフルオロスチレン、2−ブロモ−4−トリフルオロメチルスチレン、及び4−フルオロ−3−トリフルオロメチルスチレンのようなスチレン又はスチレン誘導体;エチレン、プロピレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、3−メチル−1−ブテン、3−メチル−1−ペンテン、3−エチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ペンテン、4−メチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ヘキセン、4,4−ジメチル−1−ペンテン、4−エチル−1−ヘキセン、3−エチル−1−ヘキセン、1−オクテン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、1−ヘキサデセン、1−オクタデセン、及び1−エイコセンのようなオレフィン;マレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類;が挙げられる。 Among the crosslinkable group-containing resins, a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond is obtained because of excellent film-forming properties and easy adjustment of resin properties by selecting a monomer. preferable. As monomers having an ethylenically unsaturated double bond, (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid ester; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, Itaconic acid, anhydrides of these dicarboxylic acids; such as allyl acetate, allyl caproate, allyl caprylate, allyl laurate, allyl palmitate, allyl stearate, allyl benzoate, allyl acetoacetate, allyl lactate, and allyloxyethanol Allyl compounds; hexyl vinyl ether, octyl vinyl ether, decyl vinyl ether, ethyl hexyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, 1-methyl-2,2-dimethylpropyl vinyl ether, 2- Tilbutyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, dimethylaminoethyl vinyl ether, diethylaminoethyl vinyl ether, butylaminoethyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, tetrahydrofurfuryl vinyl ether, vinyl phenyl ether, vinyl tolyl ether, vinyl chlorophenyl ether, vinyl-2,4 -Vinyl ethers such as dichlorophenyl ether, vinyl naphthyl ether, and vinyl anthranyl ether; vinyl butyrate, vinyl isobutyrate, vinyl trimethyl acetate, vinyl diethyl acetate, vinyl valerate, vinyl caproate, vinyl chloroacetate, vinyl dichloroacetate, Vinyl methoxyacetate, Vinyls such as nylbutoxy acetate, vinyl phenyl acetate, vinyl acetoacetate, vinyl lactate, vinyl-β-phenylbutyrate, vinyl benzoate, vinyl salicylate, vinyl chlorobenzoate, vinyl tetrachlorobenzoate, and vinyl naphthoate Esters: styrene, methyl styrene, dimethyl styrene, trimethyl styrene, ethyl styrene, diethyl styrene, isopropyl styrene, butyl styrene, hexyl styrene, cyclohexyl styrene, decyl styrene, benzyl styrene, chloromethyl styrene, trifluoromethyl styrene, ethoxymethyl styrene, Acetoxymethylstyrene, methoxystyrene, 4-methoxy-3-methylstyrene, dimethoxystyrene, chlorostyrene, dichlorostyrene , Trichlorostyrene, tetrachlorostyrene, pentachlorostyrene, bromostyrene, dibromostyrene, iodostyrene, fluorostyrene, trifluorostyrene, 2-bromo-4-trifluoromethylstyrene, and 4-fluoro-3-trifluoromethylstyrene Styrene or styrene derivatives such as: ethylene, propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 3-methyl-1-butene, 3-methyl-1-pentene, 3-ethyl-1-pentene, 4- Methyl-1-pentene, 4-methyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-hexene, 4,4-dimethyl-1-pentene, 4-ethyl-1-hexene, 3-ethyl-1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene 1-octadecene, and 1-olefins such as eicosene; maleimide, N- phenylmaleimide, unsaturated imides such as N- cyclohexyl maleimide; and the like.
架橋性基含有樹脂は、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体である場合、通常、不飽和カルボン酸に由来する単位を含む。不飽和カルボン酸の例としては、(メタ)アクリル酸;(メタ)アクリル酸アミド;クロトン酸;マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、これらジカルボン酸の無水物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂として使用されるエチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体に含まれる、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂が所望するアルカリ可溶性を有する限り特に限定されない。アルカリ可溶性樹脂として使用される樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、5〜25質量%が好ましく、8〜16質量%がより好ましく、架橋性基含有樹脂が後述の溶解抑止基を有する場合、特にこれらの量が好ましい。架橋性基含有樹脂が後述の溶解抑止基を有しない場合、該樹脂中の、不飽和カルボン酸に由来する単位の量は、樹脂の質量に対して、50〜80質量%が好ましく、60〜70質量%がより好ましい。 When the crosslinkable group-containing resin is a polymer of a monomer having an ethylenically unsaturated double bond, it usually contains units derived from an unsaturated carboxylic acid. Examples of the unsaturated carboxylic acid include (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid amide; crotonic acid; maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, and anhydrides of these dicarboxylic acids. The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid contained in the polymer of the monomer having an ethylenically unsaturated double bond used as the alkali-soluble resin is not particularly limited as long as the resin has the desired alkali solubility. . The amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid in the resin used as the alkali-soluble resin is preferably 5 to 25% by mass, more preferably 8 to 16% by mass with respect to the mass of the resin, and a crosslinkable group. These amounts are particularly preferred when the contained resin has a dissolution inhibiting group described below. When the crosslinkable group-containing resin does not have the below-described dissolution inhibiting group, the amount of the unit derived from the unsaturated carboxylic acid in the resin is preferably 50 to 80% by mass, and 60 to 60%. 70 mass% is more preferable.
以上例示した単量体から選択される1種以上の単量体の重合体である、エチレン性不飽和二重結合を有する単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体が好ましい。以下、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体について説明する。 Among the polymers of monomers having ethylenically unsaturated double bonds, which are polymers of one or more monomers selected from the monomers exemplified above, (meth) acrylic acid and (meta ) A polymer of one or more monomers selected from acrylic esters is preferred. Hereinafter, a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester will be described.
(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の調製に用いられる、(メタ)アクリル酸エステルは、本発明の目的を阻害しない範囲で特に限定されず、公知の(メタ)アクリル酸エステルから適宜選択される。 The (meth) acrylic acid ester used for the preparation of a polymer of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is particularly within the range not hindering the object of the present invention. It is not limited, It selects suitably from well-known (meth) acrylic acid ester.
(メタ)アクリル酸エステルの好適な例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、t−オクチル(メタ)アクリレート等の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル(メタ)アクリレート;クロロエチル(メタ)アクリレート、2,2−ジメチルヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等の芳香族基を有する(メタ)アクリル酸エステル;脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルの詳細については後述する。 Suitable examples of (meth) acrylic acid esters include linear or methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, t-octyl (meth) acrylate, and the like. Branched alkyl (meth) acrylate; chloroethyl (meth) acrylate, 2,2-dimethylhydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, furfuryl (meth) Acrylate; (meth) acrylic acid ester having an aromatic group such as benzyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton. Details of the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton will be described later.
また、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、感光性組成物を用いて透過率の高い絶縁膜を形成しやすいことから、脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む樹脂も好ましい。本明細書において、脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルは、上述の架橋性基を有する(メタ)アクリル酸エステルを含まないものとする。 Moreover, among polymers of one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid esters, it is easy to form an insulating film with high transmittance using a photosensitive composition. Therefore, a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton is also preferable. In this specification, the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton does not include the (meth) acrylic acid ester having the above-described crosslinkable group.
脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルにおいて、脂環式骨格を有する基は、脂環式炭化水素基を有する基であることが好ましい。脂環式骨格を構成する脂環式基は、単環であっても多環であってもよい。単環の脂環式基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。また、多環の脂環式基としては、ノルボルニル基、イソボルニル基、トリシクロノニル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等が挙げられる。 In the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton, the group having an alicyclic skeleton is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group. The alicyclic group constituting the alicyclic skeleton may be monocyclic or polycyclic. Examples of the monocyclic alicyclic group include a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Examples of the polycyclic alicyclic group include a norbornyl group, an isobornyl group, a tricyclononyl group, a tricyclodecyl group, and a tetracyclododecyl group.
脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルのうち、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば下記式(d1−1)〜(d1−8)で表される化合物が挙げられる。これらの中では、下記式(d1−3)〜(d1−8)で表される化合物が好ましく、下記式(d1−3)又は(d1−4)で表される化合物がより好ましい。 Among the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton, the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group is represented by, for example, the following formulas (d1-1) to (d1-8). Compounds. Among these, compounds represented by the following formulas (d1-3) to (d1-8) are preferable, and compounds represented by the following formula (d1-3) or (d1-4) are more preferable.
上記式中、Rd1は水素原子又はメチル基を示し、Rd2は単結合又は炭素原子数1〜6の2価の脂肪族飽和炭化水素基を示し、Rd3は水素原子又は炭素原子数1〜5のアルキル基を示す。Rd2としては、単結合、直鎖状又は分枝鎖状のアルキレン基、例えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、エチルエチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が好ましい。Rd3としては、メチル基、エチル基が好ましい。 In the above formula, R d1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R d2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and R d3 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group of ~ 5. R d2 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, an ethylethylene group, a pentamethylene group or a hexamethylene group. R d3 is preferably a methyl group or an ethyl group.
架橋性基含有樹脂は、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂であることが好ましい。かかる樹脂は、更に、脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位をも含む樹脂であってもよく、その場合、樹脂中の脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、10〜35質量%であってもよく、15〜30質量%であってもよく、20〜25質量%であってもよい。 The crosslinkable group-containing resin is a unit derived from one or more monomers selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, and (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group. It is preferable that it is resin containing the unit derived. Such a resin may further be a resin including a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton, and in that case, a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic skeleton in the resin. The amount of the unit derived from may be 10 to 35% by mass, 15 to 30% by mass, or 20 to 25% by mass.
また、脂環式骨格を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位を含む、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂が好ましい。このような架橋性基含有樹脂を含む感光性組成物を用いて形成される膜は、基材に対する密着性に優れる。また、このような樹脂を用いる場合、樹脂に含まれるカルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることが可能である。このため、このような樹脂を含む感光性組成物を用いると、膜を加熱する方法等を用いて、カルボキシ基と、脂環式エポキシ基との自己反応を生じさせることによって、形成される膜の硬度のような機械的物性を向上させることができる。 Moreover, in the polymer of the 1 or more types of monomer selected from the (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester containing the unit derived from the (meth) acrylic acid ester which has an alicyclic skeleton. A resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group is preferred. A film formed using a photosensitive composition containing such a crosslinkable group-containing resin is excellent in adhesion to a substrate. Further, when such a resin is used, it is possible to cause a self-reaction between a carboxy group contained in the resin and an alicyclic epoxy group. Therefore, when a photosensitive composition containing such a resin is used, a film formed by causing a self-reaction between a carboxy group and an alicyclic epoxy group using a method of heating the film or the like. It is possible to improve mechanical properties such as hardness.
(メタ)アクリル酸に由来する単位(架橋性基を有するものを除く。)と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、前者(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましい。該(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。 In the resin containing a unit derived from (meth) acrylic acid (excluding those having a crosslinkable group) and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group, the former in the resin 1-95 mass% is preferable and, as for the quantity of the unit derived from (meth) acrylic acid, 10-70 mass% is more preferable. In the resin containing the unit derived from the (meth) acrylic acid and the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group, the (meth) acrylic having an alicyclic epoxy group in the resin 1-95 mass% is preferable and, as for the quantity of the unit derived from an acid ester, 10-50 mass% is more preferable.
(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸エステルから選択される1種以上の単量体の重合体の中では、(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂であってもよい。 One type selected from (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester, including a unit derived from (meth) acrylic acid and a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group Among the above polymer of monomers, it has a unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from a (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and an alicyclic epoxy group. It may be a resin containing a unit derived from a (meth) acrylic acid ester.
(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、(メタ)アクリル酸に由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、10〜70質量%がより好ましい。(メタ)アクリル酸に由来する単位と、脂環式炭化水素基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位と、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位とを含む樹脂において、樹脂中の、脂環式エポキシ基を有する(メタ)アクリル酸エステルに由来する単位の量は、1〜95質量%が好ましく、30〜80質量%がより好ましい。 A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group In the resin to be included, the amount of the unit derived from (meth) acrylic acid in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 50% by mass. A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group In the resin to be included, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass. A unit derived from (meth) acrylic acid, a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic hydrocarbon group, and a unit derived from (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group In the resin to be included, the amount of the unit derived from the (meth) acrylic acid ester having an alicyclic epoxy group in the resin is preferably 1 to 95% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass.
架橋性基含有樹脂の質量平均分子量(Mw:ゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)のポリスチレン換算による測定値。本明細書において同じ。)は、2000〜200000であることが好ましく、2000〜18000であることがより好ましい。上記の範囲とすることにより、感光性組成物の膜形成能、露光後の現像性のバランスがとりやすい傾向がある。 The mass average molecular weight of the crosslinkable group-containing resin (Mw: measured value in terms of polystyrene of gel permeation chromatography (GPC). The same applies in the present specification) is preferably 2000 to 200000, and preferably 2000 to 18000. Is more preferable. By setting it as the above range, there is a tendency that the film forming ability of the photosensitive composition and the developability after exposure are easily balanced.
感光性組成物中の架橋性基含有樹脂の含有量は、感光性組成物の固形分中、15〜95質量%が好ましく、35〜85質量%がより好ましく、50〜70質量%が特に好ましい。 The content of the crosslinkable group-containing resin in the photosensitive composition is preferably 15 to 95% by mass, more preferably 35 to 85% by mass, and particularly preferably 50 to 70% by mass in the solid content of the photosensitive composition. .
[アルカリ可溶性樹脂]
アルカリ可溶性樹脂は、従来から種々の感光性組成物に配合されている樹脂から適宜選択できる。なお、本明細書において、アルカリ可溶性樹脂には、上述の架橋性基含有樹脂は含まれないものとする。感光性組成物にアルカリ可溶性樹脂を配合することで、感光性組成物のアルカリ現像性を高めることができる場合があるが、本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性樹脂を含有しなくても、アルカリ可溶性樹脂でもある上述の架橋性基含有樹脂を用いることにより、アルカリ現像性を有することができる。
[Alkali-soluble resin]
The alkali-soluble resin can be appropriately selected from resins conventionally blended in various photosensitive compositions. In the present specification, the alkali-soluble resin does not include the above-described crosslinkable group-containing resin. In some cases, the alkali developability of the photosensitive composition can be improved by blending the alkali-soluble resin with the photosensitive composition. However, the photosensitive composition of the present invention may contain no alkali-soluble resin. By using the above-mentioned crosslinkable group-containing resin which is also an alkali-soluble resin, it can have alkali developability.
好適なアルカリ可溶性樹脂としては、主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーが挙げられる。なお、本明細書において、主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーには、不飽和結合を有する単量体の重合体は、含まれないものとする。
以下、主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーについて説明する。
Suitable alkali-soluble resins include polymers containing structural units having a ring structure in the main chain. Note that in this specification, a polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain does not include a monomer polymer having an unsaturated bond.
Hereinafter, a polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain will be described.
(主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマー)
主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーを、所定の環構造を有するとともに所定のアルカリ可溶性を備える樹脂であれば特に限定されない。主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーの好適な例として、マレイミド由来の構成単位(以下、「構成単位(A2a)」ともいう。)を含有するポリマー(以下、「ポリマー(A2)」ともいう。)及び下記式(A−1)で表される構成単位(以下、「構成単位(A1a)」ともいう。)を含有するポリマー(以下、「ポリマー(A1)」ともいう。)を挙げることができる。
(Polymer containing structural units having a ring structure in the main chain)
The polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain is not particularly limited as long as it is a resin having a predetermined ring structure and a predetermined alkali solubility. As a suitable example of the polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain, a polymer containing a structural unit derived from maleimide (hereinafter also referred to as “structural unit (A2a)”) (hereinafter referred to as “polymer (A2)”). And a polymer containing a structural unit represented by the following formula (A-1) (hereinafter also referred to as “structural unit (A1a)”) (hereinafter also referred to as “polymer (A1)”). Can be mentioned.
ポリマー(A2)が有するマレイミド由来の構成単位(A2a)としては、マレイミド骨格を有するモノマーを重合して得られるものであれば特に限定されない。マレイミド骨格を有するモノマーとしては、例えば、N−ベンジルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等が挙げられる。 The maleimide-derived structural unit (A2a) contained in the polymer (A2) is not particularly limited as long as it is obtained by polymerizing a monomer having a maleimide skeleton. Examples of the monomer having a maleimide skeleton include N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide and the like.
特に、主鎖に環構造を有する構成単位(A1a)を含有するポリマー(A1)を含む感光性組成物は、現像液に対する溶解性が良好である。 In particular, the photosensitive composition containing the polymer (A1) containing the structural unit (A1a) having a ring structure in the main chain has good solubility in a developer.
式(A−1)中、環Aは、1個の酸素原子を環構成原子として有する炭素数4〜6の飽和脂肪族環式基である。環Aは、好ましくは、1個の酸素原子を環構成原子として有する炭素数4又は5の飽和脂肪族環式基であり、より好ましくは、テトラヒドロフラン環又はテトラヒドロピラン環であり、更に好ましくは、下記式(A−3)で表される構成単位(以下、「構成単位(A1a1)」ともいう。)におけるテトラヒドロピラン環又は下記式(A−4)で表される構成単位(以下、「構成単位(A1a2)」ともいう。)におけるテトラヒドロフラン環である。
主鎖に上記式(A−1)で表される構成単位を含有するポリマー(ポリマー(A1))は、通常、主鎖に上記式(A−1)で表される構成単位(構成単位(A1a))を複数個含有する。複数の構成単位(A1a)において、各構成単位(A1a)に含有される環Aはポリマー(A1)を構成する一の主鎖において相互に同一であってもよいし異なっていてもよい。具体的には、ポリマー(A1)を構成する一の主鎖は、該主鎖に含有される上記式(A−1)で表される構成単位として、例えば、上記式(A−3)で表される構成単位のみを有するものであってもよいし、上記式(A−4)で表される構成単位のみを有するものであってもよいし、上記式(A−3)で表される構成単位と上記式(A−4)で表される構成単位とを併有するものであってもよい。 The polymer containing the structural unit represented by the above formula (A-1) in the main chain (polymer (A1)) is usually a structural unit represented by the above formula (A-1) in the main chain (constituent unit ( A plurality of A1a)). In the plurality of structural units (A1a), ring A contained in each structural unit (A1a) may be the same or different from each other in one main chain constituting the polymer (A1). Specifically, one main chain constituting the polymer (A1) is a structural unit represented by the above formula (A-1) contained in the main chain, for example, the above formula (A-3). It may have only the structural unit represented, may have only the structural unit represented by the above formula (A-4), or may be represented by the above formula (A-3). And a structural unit represented by the above formula (A-4).
上記式(A−1)、式(A−3)及び式(A−4)において、Rb1及びRb2はそれぞれ独立に水素原子又は−COORb3であり、Rb3はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基である。Rb1及びRb2は、−COORb3であることが好ましい。上記式(A−1)で表される構成単位を含有するポリマー(ポリマー(A1))を構成する一の主鎖が複数個の環Aを含有する場合、各環Aに結合する−COORb3はそれぞれ独立であり、−COORb3として同一又は異なる基が各環Aに結合していてもよい。 In the above formula (A-1), formula (A-3) and formula (A-4), R b1 and R b2 are each independently a hydrogen atom or —COOR b3 , and R b3 is independently a hydrogen atom or It is a C1-C25 hydrocarbon group which may have a substituent. R b1 and R b2 are preferably —COOR b3 . -COOR b3 couple | bonded with each ring A, when one main chain which comprises the polymer (polymer (A1)) containing the structural unit represented by the said Formula (A-1) contains the some ring A Are independent of each other, and the same or different groups as -COOR b3 may be bonded to each ring A.
Rb1及びRb2で表される置換基を有していてもよい炭素数1〜25の炭化水素基としては、特に制限はない。炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、t−アミル、ステアリル、ラウリル、2−エチルヘキシル等の直鎖状又は分岐状のアルキル基;フェニル等のアリール基;シクロヘキシル、t−ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、2−メチル−2−アダマンチル等の脂環式基;1−メトキシエチル、1−エトキシエチル等のアルコキシで置換されたアルキル基;ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基;等が挙げられる。 Examples of the hydrocarbon group R b1 and R b2 may 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by is not particularly limited. Specific examples of the hydrocarbon group include linear or branched alkyl such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, t-butyl, t-amyl, stearyl, lauryl and 2-ethylhexyl. Group; aryl group such as phenyl; alicyclic group such as cyclohexyl, t-butylcyclohexyl, dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl, 2-methyl-2-adamantyl; 1-methoxyethyl, 1 -An alkyl group substituted with alkoxy such as ethoxyethyl; an alkyl group substituted with an aryl group such as benzyl; and the like.
Rb1及びRb2が炭化水素基である場合、炭化水素基の炭素原子数は8以下が好ましい。炭素原子数が8以下の炭化水素基としては、酸や熱で脱離しにくいことから、炭化水素基が有する方末端が自由な結合手が、1級炭素原子又は2級炭素原子と結合している炭化水素基が好ましい。このような炭化水素基としては、炭素原子数が1〜8の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、炭素原子数が1〜5の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましい。
このような炭化水素基の具体例としては、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等が挙げられ、メチル基が好ましい。
When R b1 and R b2 are hydrocarbon groups, the number of carbon atoms of the hydrocarbon group is preferably 8 or less. As a hydrocarbon group having 8 or less carbon atoms, it is difficult to desorb by an acid or heat, so that a free bond at the end of the hydrocarbon group is bonded to a primary carbon atom or a secondary carbon atom. The hydrocarbon group is preferred. As such a hydrocarbon group, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is preferable. .
Specific examples of such a hydrocarbon group include methyl, ethyl, cyclohexyl, benzyl and the like, and a methyl group is preferable.
上記式(A−1)で表される構成単位(構成単位(A1a))を含有するポリマー(ポリマー(A1))を構成する一の主鎖に構成単位(A1a)が複数個含有される場合、各構成単位(A1a)に結合しているRb1及びRb2は、各構成単位(A1a)間で同一であってもよいし異なっていてもよい。
該各構成単位(A1a)間で同一又は異なる環Aが含有される場合、Rb1及びRb2は結合する各環Aの種類に依存することなく相互に独立である。
When a plurality of structural units (A1a) are contained in one main chain constituting the polymer (polymer (A1)) containing the structural unit represented by formula (A-1) (structural unit (A1a)) R b1 and R b2 bonded to each structural unit (A1a) may be the same or different between the structural units (A1a).
When the same or different ring A is contained between the respective structural units (A1a), R b1 and R b2 are independent of each other without depending on the kind of each ring A to be bonded.
具体的には、ポリマー(A1)を構成する一の主鎖に、上記式(A−3)で表される構成単位(構成単位(A1a1))が複数個含有される場合、各構成単位(A1a1)におけるRb1及びRb2は各構成単位(A1a1)間で同一であってもよいし異なっていてもよい。 Specifically, when a plurality of structural units represented by the formula (A-3) (structural unit (A1a1)) are contained in one main chain constituting the polymer (A1), each structural unit ( R b1 and R b2 in A1a1) may be the same or different between the structural units (A1a1).
ポリマー(A1)を構成する一の主鎖に、上記式(A−4)で表される構成単位(構成単位(A1a2))が複数個含有される場合、各構成単位(A1a2)におけるRb1及びRb2は各構成単位(A1a2)間で同一であってもよいし異なっていてもよい。
更に、ポリマー(A1)を構成する一の主鎖に、上記式(A−3)で表される構成単位(構成単位(A1a1))と上記式(A−4)で表される構成単位(構成単位(A1a2))とが含有される場合、各構成単位(A1a1)におけるRb1及びRb2と各構成単位(A1a2)におけるRb1及びRb2とは同一であってもよいし異なっていてもよい。
When one main chain constituting the polymer (A1) contains a plurality of structural units represented by the above formula (A-4) (structural unit (A1a2)), R b1 in each structural unit (A1a2) And R b2 may be the same or different between the structural units (A1a2).
Furthermore, in one main chain constituting the polymer (A1), a structural unit represented by the above formula (A-3) (structural unit (A1a1)) and a structural unit represented by the above formula (A-4) ( If the structural unit (A1A2)) and is contained, the R b1 and R b2 in the R b1 and R b2 in each of the structural units (A1A1) each of the structural units (A1A2) or different may be the same Also good.
上記式(A−3)で表される構成単位(構成単位(A1a1))は、下記式(A−5)で表される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位(ar1)」ともいう。)の一部であってよい。上記式(A−4)で表される構成単位(構成単位(A1a2))は、下記式(A−6)で表される繰り返し単位(以下、「繰り返し単位(ar2)」ともいう。)の一部であってよい。
上記式(A−5)及び(A−6)で表される各繰り返し単位を与えるモノマーとしては、例えば、下記式で表される1,6−ジエン類が挙げられる。
主鎖に上記式(A−1)で表される構成単位(構成単位(A1a))を含有するポリマー(ポリマー(A1))を与えるモノマー組成物中、構成単位(A1a)を含有する繰り返し単位(上述の構成単位(A1a1)及び構成単位(A1a2)を含み得る。)を与えるモノマー(A1ma)の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは1質量%〜60質量%であり、より好ましくは5質量%〜50質量%であり、特に好ましくは10質量%〜40質量%である。 In a monomer composition that gives a polymer (polymer (A1)) containing a structural unit represented by the above formula (A-1) (structural unit (A1a)) in the main chain, a repeating unit containing the structural unit (A1a) The content ratio of the monomer (A1ma) that gives the structural unit (A1a1) and the structural unit (A1a2) is preferably 1% by mass to 60% by mass with respect to the total amount of monomers in the monomer composition. %, More preferably 5% by mass to 50% by mass, and particularly preferably 10% by mass to 40% by mass.
ポリマー(A1)は、好ましくは、側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)を有する。ポリマー(A1)が側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)を有していれば、アルカリ現像性に優れる感光性組成物を得ることができる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)を構成することとなるモノマー(A1mb)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、イタコン酸、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノアクリレート等のカルボキシル基を有するモノマー;無水マレイン酸、無水イタコン酸等のカルボン酸無水物基を有するモノマー等が挙げられる。なかでも好ましくは(メタ)アクリル酸である。 The polymer (A1) preferably has a repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain. If the polymer (A1) has a repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain, a photosensitive composition having excellent alkali developability can be obtained. As the monomer (A1mb) constituting the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain, for example, (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, itaconic acid, ω- Monomers having a carboxyl group such as carboxy-polycaprolactone monoacrylate; monomers having a carboxylic acid anhydride group such as maleic anhydride and itaconic anhydride. Of these, (meth) acrylic acid is preferred.
ポリマー(A1)を与えるモノマー組成物中、側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)を構成することとなるモノマー(A1mb)の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは1質量%〜50質量%であり、より好ましくは5質量%〜40質量%であり、更に好ましくは10質量%〜35質量%である。 In the monomer composition giving the polymer (A1), the content ratio of the monomer (A1mb) constituting the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is based on the total amount of monomers in the monomer composition. Preferably they are 1 mass%-50 mass%, More preferably, they are 5 mass%-40 mass%, More preferably, they are 10 mass%-35 mass%.
好ましくは、ポリマー(A1)は、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位(A1c)を有する。側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位(A1c)は、側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)の酸基の一部又は全部(好ましくは、一部)を反応点として、炭素二重結合を有する化合物を付加することにより、得ることができる。 Preferably, the polymer (A1) has a repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain. The repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain is formed by reacting part or all (preferably part) of the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain as a reaction point. It can be obtained by adding a compound having a heavy bond.
側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)の酸基がカルボキシル基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、エポキシ基と二重結合とを有する化合物、イソシアネート基と二重結合とを有する化合物等が用いられ得る。エポキシ基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレート、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテル、4−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。イソシアネート基と二重結合とを有する化合物としては2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)の酸基がカルボン酸無水物基である場合、炭素二重結合を有する化合物として、水酸基と二重結合とを有する化合物が用いられ得る。水酸基と二重結合とを有する化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 When the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is a carboxyl group, the compound having a carbon double bond is a compound having an epoxy group and a double bond, an isocyanate group and a double bond. Or the like. Examples of the compound having an epoxy group and a double bond include glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl (meth) acrylate, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, and p-vinyl. Examples include benzyl glycidyl ether and 4-hydroxybutyl acrylate glycidyl ether. Examples of the compound having an isocyanate group and a double bond include 2-isocyanatoethyl (meth) acrylate. When the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain is a carboxylic anhydride group, a compound having a hydroxyl group and a double bond can be used as the compound having a carbon double bond. Examples of the compound having a hydroxyl group and a double bond include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
ポリマー(A1)は、上記モノマー(A1ma)、モノマー(A1mb)及び/又はモノマー(A1mc)と共重合可能なその他のモノマー(A1me)由来のその他の繰り返し単位(A1e)を更に有し得る。 The polymer (A1) may further have other repeating units (A1e) derived from the monomer (A1ma), the monomer (A1mb) and / or another monomer (A1me) copolymerizable with the monomer (A1mc).
その他のモノマー(A1me)としては、例えば、側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位を更に有するものであってもよい。側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される繰り返し単位が挙げられる。
上記式中、Rb7、Rb8及びRb9はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基であり、好ましくは水素原子である。Rb10は、炭素数が1〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数が2〜20の直鎖状もしくは分岐状のアルケニル基又は炭素数が6〜20の芳香族炭化水素基であり、好ましくは水素原子、炭素数が1〜20の直鎖状のアルキル基、炭素数が2〜20の直鎖状のアルケニル基又は炭素数が6〜20の芳香族炭化水素基であり、より好ましくは炭素数が1〜10の直鎖状のアルキル基又は炭素数が6〜12の芳香族炭化水素基であり、更に好ましくは炭素数が1〜5の直鎖状のアルキル基、フェニル基又はビフェニル基であり、特に好ましくはメチル基、フェニル基又はビフェニル基である。なお、アルキル基、アルケニル基及び芳香族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。AOは、オキシアルキレン基を表す。AOで表されるオキシアルキレン基の炭素数は2〜20であり、好ましくは2〜10であり、より好ましくは2〜5であり、更に好ましくは2である。側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位は1種又は2種以上のオキシアルキレン基を含み得る。xは0〜2の整数を表す。yは0又は1を表す。zは、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表し、2以上であり、好ましくは2〜100であり、より好ましくは2〜50であり、更に好ましくは2〜15である。 In the above formula, R b7 , R b8 and R b9 are each independently a hydrogen atom or a methyl group, preferably a hydrogen atom. R b10 is a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. And preferably a hydrogen atom, a linear alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 20 carbon atoms. More preferably a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and still more preferably a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, A phenyl group or a biphenyl group, particularly preferably a methyl group, a phenyl group or a biphenyl group. The alkyl group, alkenyl group, and aromatic hydrocarbon group may have a substituent. AO represents an oxyalkylene group. The oxyalkylene group represented by AO has 2 to 20 carbon atoms, preferably 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms, and still more preferably 2. The repeating unit having two or more oxyalkylene groups in the side chain may contain one or more oxyalkylene groups. x represents an integer of 0-2. y represents 0 or 1; z represents the average addition mole number of an oxyalkylene group, is 2 or more, preferably 2 to 100, more preferably 2 to 50, and further preferably 2 to 15.
側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有する繰り返し単位は、側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有するモノマーにより構成される。該モノマーとしては、例えば、下記式で表されるモノマーが挙げられる。
上記側鎖に2以上のオキシアルキレン基を有するモノマーとしては、例えば、エトキシ化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート(EO2モル)、フェノキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO4モル)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO9モル)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO13モル)、メトキシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO4―17モル)、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート(PO5モル)、EO変性クレゾール(メタ)アクリレート(EO2モル)等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、又は2種以上組み合わせて用いてもよい。なかでも好ましくは、エトキシ化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート(EO2モル)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO9モル)、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート(EO13モル)である。更に好ましくは、エトキシ化o−フェニルフェノールアクリレート(EO2モル)、メトキシポリエチレングリコールアクリレート(EO9モル)、メトキシポリエチレングリコールアクリレート(EO13モル)である。なお、本明細書において、例えば「EO2モル」、「PO5モル」等の表記は、オキシアルキレン基の平均付加モル数を表す。 Examples of the monomer having two or more oxyalkylene groups in the side chain include ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate (EO 2 mol), phenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 4 mol). ), Methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 9 mol), methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 13 mol), methoxytriethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, butoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl diethylene glycol (meth) acrylate, methoxydipropylene glycol (meth) acrylate, methoxypolypropylene Examples include propylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 4-17 mol), nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate (PO 5 mol), EO-modified cresol (meth) acrylate (EO 2 mol), and the like. . These monomers may be used alone or in combination of two or more. Among them, ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate (EO 2 mol), methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 9 mol), and methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate (EO 13 mol) are preferable. More preferred are ethoxylated o-phenylphenol acrylate (EO 2 mol), methoxypolyethylene glycol acrylate (EO 9 mol), and methoxypolyethylene glycol acrylate (EO 13 mol). In the present specification, for example, “EO2 mole”, “PO5 mole” and the like represent the average number of moles added of the oxyalkylene group.
その他のモノマー(A1me)としては、また、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ビフェニル(メタ)アクリレート、メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチレングリコールル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ビフェノキシエチル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、トリシクロデシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデシルオキシエチル(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシプロピレングリコール、ベンジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシ化o−フェニルフェノール(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル類;(メタ)アクリロイルモルホリン(モルホリノ(メタ)アクリレート)、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−イソブチル(メタ)アクリルアミド、N−t−ブチル(メタ)アクリルアミド、N−t−オクチル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−シクロヘキシル(メタ)アクリルアミド、N−フェニル(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリルアミド、N−トリフェニルメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリル酸アミド類;スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物;ブタジエン、イソプレン等のブタジエン又は置換ブタジエン化合物;エチレン、プロピレン、塩化ビニル、アクリロニトリル等のエチレン又は置換エチレン化合物;酢酸ビニル等のビニルエステル類等が挙げられる。これらのモノマーは、単独で、又は2種以上組み合わせて用いてもよい。 As other monomer (A1me), for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) ) Acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, biphenyl (meth) acrylate, methoxy Ethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethylene glycol (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene Glycol (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, biphenoxyethyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, tricyclodecyl (meth) acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth) acrylate, Tricyclodecyloxyethyl (meth) acrylate, nonylphenoxyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypropylene glycol, benzyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, ethoxylated o-phenylphenol (meth) acrylate, etc. (Meth) acrylic acid esters; (meth) acryloylmorpholine (morpholino (meth) acrylate), (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylami N-isopropyl (meth) acrylamide, N-butyl (meth) acrylamide, N-isobutyl (meth) acrylamide, Nt-butyl (meth) acrylamide, Nt-octyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) Acrylamide, N-hydroxymethyl (meth) acrylamide, N-hydroxyethyl (meth) acrylamide, N-cyclohexyl (meth) acrylamide, N-phenyl (meth) acrylamide, N-benzyl (meth) acrylamide, N-triphenylmethyl ( (Meth) acrylic acid amides such as meth) acrylamide and N, N-dimethyl (meth) acrylamide; aromatic vinyl compounds such as styrene, vinyltoluene and α-methylstyrene; butadiene such as butadiene and isoprene or substituted butadiene Compounds, ethylene, propylene, vinyl chloride, ethylene, or substituted ethylene compound such as acrylonitrile, vinyl esters such as vinyl acetate and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
ポリマー(A1)を与えるモノマー組成物中、その他の繰り返し単位(A1e)を与えるモノマー(A1me)の含有割合は、モノマー組成物中のモノマーの全量に対して、好ましくは0質量%〜55質量%であり、より好ましくは5質量%〜50質量%であり、更に好ましくは10質量%〜45質量%である。 The content ratio of the monomer (A1me) giving other repeating units (A1e) in the monomer composition giving the polymer (A1) is preferably 0% by mass to 55% by mass with respect to the total amount of monomers in the monomer composition. More preferably, it is 5 mass%-50 mass%, More preferably, it is 10 mass%-45 mass%.
ポリマー(A1)は、ランダム共重合体であってもよく、ブロック共重合体であってもよい。ポリマー(A1)としては、単独又は2種以上組み合わせて用いることができる。 The polymer (A1) may be a random copolymer or a block copolymer. As a polymer (A1), it can use individually or in combination of 2 or more types.
ポリマー(A1)の重量平均分子量は、好ましくはテトラヒドロフラン(THF)溶媒によるゲル・パーミエーション・クロマトグラフ法(GPC)で測定した値が、好ましくは3,000〜200,000であり、より好ましくは3,500〜100,000であり、更に好ましくは4,000〜50,000である。このような範囲であれば、耐熱性を確保し、且つ、塗膜形成に適切な粘度を有する感光性組成物を得ることができる。 The weight average molecular weight of the polymer (A1) is preferably a value measured by gel permeation chromatography (GPC) with a tetrahydrofuran (THF) solvent, preferably 3,000 to 200,000, more preferably It is 3,500-100,000, More preferably, it is 4,000-50,000. If it is such a range, the photosensitive composition which can ensure heat resistance and has a viscosity suitable for film formation can be obtained.
ポリマー(A1)は、ポリマー(A1)を与えるモノマー組成物を、任意の適切な方法で重合して得ることができる。重合方法としては、例えば、溶液重合法が挙げられる。 The polymer (A1) can be obtained by polymerizing the monomer composition giving the polymer (A1) by any appropriate method. Examples of the polymerization method include a solution polymerization method.
ポリマー(A1)を与えるモノマー組成物は、任意の適切な溶媒を含み得る。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート等のエステル類;メタノール、エタノール等のアルコール類;トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;クロロホルム;ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で、又は2種以上組み合わせて用いてもよい。上記モノマー組成物を重合する際の重合濃度は、好ましくは5質量%〜90質量%であり、より好ましくは5質量%〜50質量%であり、更に好ましくは10質量%〜50質量%である。 The monomer composition that provides the polymer (A1) can comprise any suitable solvent. Examples of the solvent include ethers such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and 3-methoxybutyl. Examples include esters such as acetate; alcohols such as methanol and ethanol; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and ethylbenzene; chloroform; dimethyl sulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. The polymerization concentration when polymerizing the monomer composition is preferably 5% by mass to 90% by mass, more preferably 5% by mass to 50% by mass, and still more preferably 10% by mass to 50% by mass. .
ポリマー(A1)を与えるモノマー組成物は、任意の適切な重合開始剤を含み得る。重合開始剤としては、例えば、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−アミルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート等の有機過酸化物;2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)、1,1’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメチル2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)等のアゾ化合物等が挙げられる。重合開始剤の含有割合は、モノマー組成物中の全モノマー100質量部に対して、好ましくは0.1質量部〜15質量部、より好ましくは0.5質量部〜10質量部である。 The monomer composition that provides the polymer (A1) can comprise any suitable polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, di-t-butyl peroxide, lauroyl peroxide, benzoyl peroxide, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, and t-amyl peroxy-2. Organic peroxides such as ethylhexanoate and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate; 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile), Examples thereof include azo compounds such as 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and dimethyl 2,2′-azobis (2-methylpropionate). The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 parts by mass to 15 parts by mass, and more preferably 0.5 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all monomers in the monomer composition.
ポリマー(A1)を溶液重合法により重合する際の重合温度は、好ましくは40℃〜150℃であり、より好ましくは60℃〜130℃である。 The polymerization temperature when polymerizing the polymer (A1) by the solution polymerization method is preferably 40 ° C to 150 ° C, more preferably 60 ° C to 130 ° C.
側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位(A1c)を有するポリマー(A1)を得る場合、上記重合後、得られたポリマーに上記炭素二重結合を有する化合物を付加する。炭素二重結合を有する化合物を付加する方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、重合禁止剤及び触媒の存在下で、炭素二重結合を有する化合物を、側鎖に酸基を有する繰り返し単位(A1b)の酸基の一部又は全部(好ましくは、一部)に反応させて付加することにより、側鎖に炭素二重結合を有する繰り返し単位(A1c)を形成させることができる。 When obtaining the polymer (A1) having the repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain, the compound having the carbon double bond is added to the obtained polymer after the polymerization. Any appropriate method can be adopted as a method for adding a compound having a carbon double bond. For example, in the presence of a polymerization inhibitor and a catalyst, a compound having a carbon double bond is reacted with part or all (preferably part) of the acid group of the repeating unit (A1b) having an acid group in the side chain. Thus, a repeating unit (A1c) having a carbon double bond in the side chain can be formed.
上記炭素二重結合を有する化合物の付加量は、上記重合後のポリマー(即ち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のポリマー)100質量部に対して、好ましくは5質量部以上であり、より好ましくは10質量部以上であり、更に好ましくは15質量部以上であり、特に好ましくは20質量部以上である。このような範囲であれば、露光感度に優れる感光性組成物を得ることができる。このような感光性組成物を用いれば、緻密な硬化塗膜を形成しやすく、基板密着性にも優れたパターンが得られる傾向にある。また、炭素二重結合を有する化合物の付加量が上記範囲であれば、炭素二重結合を有する化合物の付加により水酸基が十分に生成され、アルカリ現像液に対する溶解性に優れる感光性組成物を得ることができる。上記炭素二重結合を有する化合物の付加量の上限は、上記重合後のポリマー(即ち、炭素二重結合を有する化合物を付加する前のポリマー)100質量部に対して、好ましくは170質量部以下であり、より好ましくは150質量部以下であり、更に好ましくは140質量部以下である。炭素二重結合を有する化合物の付加量が上記範囲内であれば、感光性組成物の保存安定性及び溶解性を維持することができる。 The addition amount of the compound having a carbon double bond is preferably 5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the polymer after the polymerization (that is, the polymer before adding the compound having a carbon double bond). More preferably, it is 10 mass parts or more, More preferably, it is 15 mass parts or more, Most preferably, it is 20 mass parts or more. If it is such a range, the photosensitive composition excellent in exposure sensitivity can be obtained. If such a photosensitive composition is used, it is easy to form a dense cured coating film, and a pattern excellent in substrate adhesion tends to be obtained. Further, when the addition amount of the compound having a carbon double bond is within the above range, a photosensitive composition having a sufficient hydroxyl group generated by the addition of the compound having a carbon double bond and having excellent solubility in an alkali developer is obtained. be able to. The upper limit of the amount of the compound having a carbon double bond is preferably 170 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the polymer after the polymerization (that is, the polymer before adding the compound having a carbon double bond). More preferably, it is 150 mass parts or less, More preferably, it is 140 mass parts or less. If the addition amount of the compound having a carbon double bond is within the above range, the storage stability and solubility of the photosensitive composition can be maintained.
重合禁止剤としては、例えば、6−tert−ブチル−2,4−キシレノール等のアルキルフェノール化合物が挙げられる。触媒としては、例えば、ジメチルベンジルアミン、トリエチルアミン等の3級アミンが挙げられる。 Examples of the polymerization inhibitor include alkylphenol compounds such as 6-tert-butyl-2,4-xylenol. Examples of the catalyst include tertiary amines such as dimethylbenzylamine and triethylamine.
以上説明した、アルカリ可溶性樹脂は、主鎖に環構造を有する構成単位を含有するポリマーとともに、このポリマー以外の樹脂を含んでいてもよい。
感光性組成物中のアルカリ可溶性樹脂の含有量は、感光性組成物の固形分の質量に対して、40質量%以下が好ましく、30〜10質量%がより好ましく、25〜15質量%が特に好ましい。また、重合性基材成分(B)中の、アルカリ可溶性樹脂の含有量は、80質量%以下が好ましく、60〜20質量%がより好ましく、50〜30質量%が特に好ましい。
The alkali-soluble resin described above may contain a resin other than this polymer together with a polymer containing a structural unit having a ring structure in the main chain.
The content of the alkali-soluble resin in the photosensitive composition is preferably 40% by mass or less, more preferably 30 to 10% by mass, and particularly preferably 25 to 15% by mass with respect to the mass of the solid content of the photosensitive composition. preferable. Moreover, 80 mass% or less is preferable, as for content of alkali-soluble resin in polymeric base material component (B), 60-20 mass% is more preferable, and 50-30 mass% is especially preferable.
<その他の成分>
本発明に係る感光性組成物には、必要に応じて、各種の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、溶剤、表面調整剤、増感剤、硬化促進剤、光架橋剤、光増感剤、分散助剤、充填剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、熱重合禁止剤、消泡剤、界面活性剤、連鎖移動剤等が例示される。いずれの添加剤も、従来公知のものを用いることができる。界面活性剤としては、アニオン系化合物、カチオン系化合物、ノニオン系化合物等が挙げられる。密着性向上剤としては、従来公知のシランカップリング剤が挙げられる。熱重合禁止剤としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノエチルエーテル等が挙げられる。消泡剤としては、シリコーン系化合物、フッ素系化合物等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、メルカプタン系化合物、ハロゲン系化合物、キノン系化合物、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。連鎖移動剤を含有することで、パターン形状(特に、ホールパターンのCD変化、露光マージン)を良好にコントロールすることができる。なかでも2,4−ジフェニル−4−メチル−1−ペンテン(α−メチルスチレンダイマー)は上記効果に加え、昇華物や着色、臭気が低減できる点で好ましい。
<Other ingredients>
The photosensitive composition according to the present invention may contain various additives as necessary. Specifically, a solvent, a surface conditioner, a sensitizer, a curing accelerator, a photocrosslinking agent, a photosensitizer, a dispersion aid, a filler, an adhesion promoter, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and an aggregation inhibitor. , Thermal polymerization inhibitors, antifoaming agents, surfactants, chain transfer agents and the like. Any additive can be used as the additive. Examples of the surfactant include an anionic compound, a cationic compound, and a nonionic compound. Examples of the adhesion improver include conventionally known silane coupling agents. Examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone and hydroquinone monoethyl ether. Examples of antifoaming agents include silicone compounds and fluorine compounds.
Examples of the chain transfer agent include mercaptan compounds, halogen compounds, quinone compounds, and α-methylstyrene dimer. By containing the chain transfer agent, the pattern shape (in particular, the CD change of the hole pattern and the exposure margin) can be controlled well. Of these, 2,4-diphenyl-4-methyl-1-pentene (α-methylstyrene dimer) is preferred in that it can reduce sublimation, coloring and odor in addition to the above effects.
本発明に係る感光性組成物に使用される溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等の他のエーテル類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノン等のケトン類;2−ヒドロキシプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル等の乳酸アルキルエステル類;2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチル部炭酸メチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルプロピオネート、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、蟻酸n−ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸n−ブチル、酪酸エチル、酪酸n−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸n−ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸n−プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸エチル等の他のエステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類等が挙げられる。これらの溶剤は、単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the solvent used in the photosensitive composition according to the present invention include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol. Monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl Ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol (Poly) alkylene glycol mono, such as coal monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether, dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monoethyl ether Alkyl ethers: (poly) alkylene glycol monoalkyl ethers such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate acetate Other ethers such as diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl ether and tetrahydrofuran; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone and 3-heptanone; methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate Alkyl lactates such as ethyl 2-hydroxy-2-methylpropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxyacetate, Hydroxyethyl acetate, 2-hydroxy-3-methyl methyl carbonate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl pro Pionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, isopropyl butyrate, n-butyl butyrate , Other esters such as methyl pyruvate, ethyl pyruvate, n-propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate and ethyl 2-oxobutanoate; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
上記溶剤の中でも、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、シクロヘキサノン、3−メトキシブチルアセテートは、上述の(A1)成分及び(A2)成分並びに任意に用いられる(B)成分に対して優れた溶解性を示すため好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテートを用いることが特に好ましい。溶剤の含有量は、感光性組成物の用途に応じて適宜決定すればよいが、一例として、感光性組成物の固形分の合計100質量部に対して、50〜900質量部程度が挙げられる。 Among the above solvents, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexanone and 3-methoxybutyl acetate are the above-mentioned (A1 ) Component, (A2) component, and optionally used component (B), since they exhibit excellent solubility, it is particularly preferable to use propylene glycol monomethyl ether acetate or 3-methoxybutyl acetate. The content of the solvent may be appropriately determined according to the use of the photosensitive composition. As an example, the solvent content is about 50 to 900 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the solid content of the photosensitive composition. .
<感光性組成物の調製方法>
本発明に係る感光性組成物は、上記各成分をマグネチックスターラーを用いて攪拌、混合溶解し、必要に応じて0.2μmメンブランフィルタ等のフィルタで濾過して調製することができる。
<Method for preparing photosensitive composition>
The photosensitive composition according to the present invention can be prepared by stirring, mixing and dissolving the above components using a magnetic stirrer, and filtering with a filter such as a 0.2 μm membrane filter as necessary.
本発明に係る感光性組成物は、得られる硬化物の透過率が十分となりやすいことから、光路長3μmで測定した波長400nmの光に対する透過率が95%以上であることが好ましく、98%以上であることがより好ましい。 In the photosensitive composition according to the present invention, since the transmittance of the obtained cured product is likely to be sufficient, the transmittance with respect to light having a wavelength of 400 nm measured with an optical path length of 3 μm is preferably 95% or more, and 98% or more. It is more preferable that
≪パターン形成方法、硬化物、及び表示装置≫
本発明に係るパターン形成方法は、上述の感光性組成物を用いることの他は、感光性組成物を用いて形成された従来のパターン形成方法と同様である。
≪Pattern forming method, cured product, and display device≫
The pattern forming method according to the present invention is the same as the conventional pattern forming method formed using the photosensitive composition except that the above-described photosensitive composition is used.
上述の感光性組成物を用いて、パターンを形成する方法は特に制限されず、従来より採用されている方法から適宜選択できる。好適なパターン形成方法としては、上述の感光性組成物を用いて塗膜又は成形体を形成する塗膜又は成形体形成工程と、上記塗膜又は成形体に対して所定パターン状に電磁波を照射する露光工程と、電磁波を照射された塗膜又は成形体を現像して、パターンを形成する現像工程と、を含む方法が挙げられる。 A method for forming a pattern using the above-described photosensitive composition is not particularly limited, and can be appropriately selected from conventionally employed methods. As a suitable pattern forming method, a coating film or molded body forming step for forming a coating film or a molded body using the above-described photosensitive composition, and electromagnetic waves are irradiated in a predetermined pattern on the coating film or the molded body. And a developing step of developing a coating film or molded body irradiated with electromagnetic waves to form a pattern.
まず、塗膜又は成形体形成工程では、例えば、パターンが形成されるべき基板上に、ロールコーター、リバースコーター、バーコーター等の接触転写型塗布装置やスピンナー(回転式塗布装置)、カーテンフローコーター等の非接触型塗布装置を用いて本発明に係る感光性組成物を塗布し、必要に応じて、乾燥(プリベーク)により溶媒を除去して、及び/又は、公知の成形法により上記感光性組成物を成形して、塗膜又は成形体を形成する。 First, in the coating film or molded body forming step, for example, a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater, bar coater, spinner (rotary coating device), curtain flow coater, etc. on a substrate on which a pattern is to be formed. The photosensitive composition according to the present invention is applied using a non-contact type coating apparatus such as the above, and if necessary, the solvent is removed by drying (prebaking) and / or the above photosensitive property is obtained by a known molding method. The composition is molded to form a coating film or molded body.
次いで、形成された塗膜又は成形体は、露光工程に供される。露光工程では、ネガ型のマスクを介して、塗膜又は成形体にArFエキシマレーザー、KrFエキシマレーザー、F2エキシマレーザー、極紫外線(EUV)、真空紫外線(VUV)、電子線、X線、軟X線、g線、i線、h線等の放射線ないし電磁波を照射し、塗膜又は成形体を所定パターン状に部分的に露光する。露光量は感光性組成物の組成によっても異なるが、例えば10〜600mJ/cm2程度が好ましい。 Next, the formed coating film or molded body is subjected to an exposure process. In the exposure process, an ArF excimer laser, KrF excimer laser, F 2 excimer laser, extreme ultraviolet (EUV), vacuum ultraviolet (VUV), electron beam, X-ray, softening is applied to the coating film or molded product through a negative mask. Radiation such as X-rays, g-rays, i-rays, and h-rays or electromagnetic waves are irradiated to partially expose the coating film or the molded body in a predetermined pattern. The amount of exposure varies depending on the composition of the photosensitive composition, but is preferably about 10 to 600 mJ / cm 2 , for example.
前述の感光性組成物は、露光後にアルカリ現像液に対して過度に溶解しにくい。このため、前述の感光性組成物を用いることにより、露光部を凸部とし、未露光部を凹部とする、良好な形状のパターンを形成しやすい。 The above-mentioned photosensitive composition is hardly dissolved in an alkali developer after exposure. For this reason, by using the above-mentioned photosensitive composition, it is easy to form a pattern having a good shape in which the exposed portion is a convex portion and the unexposed portion is a concave portion.
現像工程では、電磁波を照射された塗膜又は成形体を現像液で現像することにより、所定のパターンを形成する。現像方法は特に限定されず、浸漬法、スプレー法等を用いることができる。現像液の具体例としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の有機系のものや、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、4級アンモニウム塩等の水溶液が挙げられる。 In the developing step, a predetermined pattern is formed by developing the coating film or molded body irradiated with electromagnetic waves with a developer. The development method is not particularly limited, and an immersion method, a spray method, or the like can be used. Specific examples of the developer include organic ones such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia, and quaternary ammonium salts.
そして、必要に応じ、現像後のパターンにポストベークを施して加熱硬化することにより硬化したパターンを得ることができる。ポストベークの温度は150〜270℃が好ましい。 If necessary, a cured pattern can be obtained by subjecting the developed pattern to post baking and heat curing. The post-baking temperature is preferably 150 to 270 ° C.
本発明に係る硬化物は、前述の感光性組成物を用いて形成される。上記硬化物は、好ましくは、絶縁膜である、又は、ホトレジスト膜上に積層される保護膜である。上記硬化物は、厚さ3μm(光路長3μm)の試料としたときの波長400nmの光に対する透過率が、通常、95%以上、好ましくは98%以上である。このように、上記硬化物は、透過率に優れるため、インセルタッチパネル方式の液晶表示装置、UHA(Ultra High Aperture)パネル等の透明性に優れる絶縁膜を必要とする表示装置用の絶縁膜として好適に使用される。 The cured product according to the present invention is formed using the above-described photosensitive composition. The cured product is preferably an insulating film or a protective film laminated on a photoresist film. When the cured product is a sample having a thickness of 3 μm (optical path length of 3 μm), the transmittance for light with a wavelength of 400 nm is usually 95% or more, preferably 98% or more. As described above, since the cured product has excellent transmittance, it is suitable as an insulating film for a display device that requires an insulating film having excellent transparency, such as an in-cell touch panel type liquid crystal display device or a UHA (Ultra High Aperture) panel. Used for.
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these Examples.
〔感光性組成物の調製〕
架橋性基含有樹脂65質量部と、光重合性モノマー35質量部と、表1に示す種類及び量の光重合開始剤と、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルとプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートとの混合溶媒(質量比55:45)とを、混合して均一な溶液とし、固形分濃度24質量%の感光性組成物を調製した。なお、光重合開始剤の総量は、架橋性基含有樹脂及び光重合性モノマーの総量を100質量部として、実施例11では4.5質量部、実施例12では4質量部、それ以外の実施例及び全比較例では5質量部とした。
また、実施例1〜12及び比較例1〜22では、以下に示す架橋性基含有樹脂Aを用い、実施例13及び実施例14では、以下に示す架橋性基含有樹脂Bを用いた。
(Preparation of photosensitive composition)
65 parts by mass of a crosslinkable group-containing resin, 35 parts by mass of a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator of the type and amount shown in Table 1, and a mixed solvent (mass ratio) of diethylene glycol methyl ethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate 55:45) were mixed to obtain a uniform solution, and a photosensitive composition having a solid content concentration of 24% by mass was prepared. The total amount of the photopolymerization initiator is 4.5 parts by mass in Example 11, 4 parts by mass in Example 12, and the other implementations, with the total amount of the crosslinkable group-containing resin and the photopolymerizable monomer being 100 parts by mass. In the examples and all comparative examples, the amount was 5 parts by mass.
Moreover, in Examples 1-12 and Comparative Examples 1-22, the crosslinkable group containing resin A shown below was used, and in Example 13 and Example 14, the crosslinkable group containing resin B shown below was used.
架橋性基含有樹脂Aとしては、下記式で表される構成単位からなる樹脂を用いた。構成単位同士の質量比I−1:I−2:II−1:III−1は、25:20:14:41であった。ゲルパーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により求められる、架橋性基含有樹脂Aの質量平均分子量(Mw)は7000であった。 As the crosslinkable group-containing resin A, a resin composed of structural units represented by the following formula was used. The mass ratio I-1: I-2: II-1: III-1 between the structural units was 25: 20: 14: 41. The mass average molecular weight (Mw) of the crosslinkable group-containing resin A determined by gel permeation chromatography (GPC) was 7000.
架橋性基含有樹脂Bとしては、下記式で表される構成単位からなる樹脂を用いた。構成単位同士の質量比I−3:II−1:III−2は、71:12:17であった。ゲルパーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)により求められる、架橋性基含有樹脂Bの質量平均分子量(Mw)は10200であった。
なお、構成単位I−3としては、以下に示すI−3の構造のとともに一部位置異性体である、I−3αの構造を含むものを用いた。
As the crosslinkable group-containing resin B, a resin composed of structural units represented by the following formula was used. The mass ratio I-3: II-1: III-2 between the structural units was 71:12:17. The mass average molecular weight (Mw) of the crosslinkable group-containing resin B determined by gel permeation chromatography (GPC) was 10200.
As the structural unit I-3, a structural unit having the structure of I-3α which is a partially positional isomer with the structure of I-3 shown below was used.
光重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いた。 Dipentaerythritol hexaacrylate was used as the photopolymerizable monomer.
光重合開始剤としては、下記式で表される開始剤1〜11を準備し、開始剤1及び3〜11を、感光性組成物の調製、並びに、感度及び透過率の評価と測定に用いた。 As the photopolymerization initiator, initiators 1 to 11 represented by the following formula are prepared, and initiators 1 and 3 to 11 are used for the preparation of the photosensitive composition, and for evaluation and measurement of sensitivity and transmittance. It was.
光重合開始剤(A1)
・開始剤1:下記式(A1−1)で表される化合物
・開始剤2:下記式(A1−2)で表される化合物
Initiator 1: Compound represented by the following formula (A1-1) Initiator 2: Compound represented by the following formula (A1-2)
光重合開始剤(A2)
・開始剤3:下記式(A2−1)で表される化合物
・開始剤4:下記式(A2−2)で表される化合物
・開始剤5:下記式(A2−3)で表される化合物
・開始剤7:下記式(A2−4)で表される化合物
・開始剤9:下記式(A2−5)で表される化合物
・開始剤12:下記式(A2−6)で表される化合物
Initiator 3: Compound represented by the following formula (A2-1) Initiator 4: Compound represented by the following formula (A2-2) Initiator 5: Represented by the following formula (A2-3) Compound / initiator 7: Compound represented by the following formula (A2-4) / Initiator 9: Compound represented by the following formula (A2-5) / Initiator 12: Represented by the following formula (A2-6) Compound
他の光重合開始剤(A3)
・開始剤6:下記式(A3−1)で表される化合物
・開始剤8:下記式(A3−2)で表される化合物
・開始剤10:下記式(A3−3)で表される化合物
・開始剤11:下記式(A3−4)で表される化合物
Initiator 6: Compound represented by the following formula (A3-1) Initiator 8: Compound represented by the following formula (A3-2) Initiator 10: Represented by the following formula (A3-3) Compound / Initiator 11: Compound represented by the following formula (A3-4)
各実施例及び比較例で得た感光性組成物について、以下の方法に従って、感度及び透過率の評価と測定を行った。評価結果を表1に記す。 About the photosensitive composition obtained by each Example and the comparative example, the sensitivity and the transmittance | permeability were evaluated and measured according to the following method. The evaluation results are shown in Table 1.
(感度)
ガラス基板に、上記各実施例及び比較例で調製した感光性組成物を、スピンナー(ミカサスピンナーIH−360S、ミカサ株式会社製)でスピン塗布した後、塗膜を100℃で100秒間乾燥させて、感光性樹脂層を形成した。次いで、露光装置(MPA600FA、株式会社キヤノン製)により、実験ごとに露光量を変動させて、感光性樹脂層を露光した。次いで、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの濃度2.38質量%の水溶液を現像液として用い、23℃にて、100秒間パドル現像を行い、孔径10μmの範囲内のホールを有するホールパターンを形成した。現像後、パターンを230℃で20分間ポストベークした。ポストベーク後のパターンの膜厚は3μmであった。パターンの膜厚は、触針式表面形状測定器(Dektak 3st、株式会社アルバック製)を用いて測定した。ポストベーク処理した、ホールの底部の孔径が8μmになる露光量を適正感度と判定した。上記露光量が35mJ/cm2以下である場合、感度が良好であると評価し、上記露光量が35mJ/cm2超である場合、感度が不良であると評価した。上記露光量は30mJ/cm2以下であることが好ましい。
(sensitivity)
After spin-coating the photosensitive composition prepared in each of the above Examples and Comparative Examples on a glass substrate with a spinner (Mikasa Spinner IH-360S, manufactured by Mikasa Co., Ltd.), the coating film was dried at 100 ° C. for 100 seconds. A photosensitive resin layer was formed. Subsequently, the exposure amount was changed for every experiment with the exposure apparatus (MPA600FA, Canon Inc.), and the photosensitive resin layer was exposed. Next, paddle development was performed at 23 ° C. for 100 seconds using an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide having a concentration of 2.38% by mass as a developing solution to form a hole pattern having holes having a pore diameter of 10 μm. After development, the pattern was post-baked at 230 ° C. for 20 minutes. The film thickness of the pattern after post-baking was 3 μm. The film thickness of the pattern was measured using a stylus type surface shape measuring instrument (Dektak 3st, manufactured by ULVAC, Inc.). The exposure amount that the post-baking treatment and the hole diameter at the bottom of the hole was 8 μm was determined as the appropriate sensitivity. When the exposure amount was 35 mJ / cm 2 or less, it was evaluated that the sensitivity was good, and when the exposure amount was more than 35 mJ / cm 2 , the sensitivity was evaluated as poor. The exposure amount is preferably 30 mJ / cm 2 or less.
(透過率)
実験ごとに露光量を変動させて、感光性樹脂層を露光する代わりに、露光量を上記適正感度に固定して、感光性樹脂層を露光した以外は、感度の評価方法と同様にして、ポストベークされた感光性組成物の硬化膜を形成した。硬化膜の膜厚は3μmとした。形成された硬化膜の、波長400nmにおける透過率を、MCPD−3000(大塚電子(株)製)を用いて測定した。上記透過率が95%以上である場合、透過率が良好であると評価し、上記透過率が95%未満である場合、透過率が不良であると評価した。上記透過率は98%以上であることが好ましい。
(Transmittance)
Instead of exposing the photosensitive resin layer by varying the exposure amount for each experiment, the exposure amount was fixed at the appropriate sensitivity, and the photosensitive resin layer was exposed in the same manner as the sensitivity evaluation method. A cured film of the post-baked photosensitive composition was formed. The thickness of the cured film was 3 μm. The transmittance | permeability in wavelength 400nm of the formed cured film was measured using MCPD-3000 (made by Otsuka Electronics Co., Ltd.). When the transmittance was 95% or more, the transmittance was evaluated as good, and when the transmittance was less than 95%, the transmittance was evaluated as poor. The transmittance is preferably 98% or more.
表1から分かる通り、式(1)で表される光重合開始剤(A1)、及び、ニトロ基が結合した芳香環骨格を有する光重合開始剤(A2)を含む本発明の感光性組成物は、露光に対する感度が十分であり、硬化により透過率が十分な硬化物を与えることが確認された。 As can be seen from Table 1, the photosensitive composition of the present invention comprising a photopolymerization initiator (A1) represented by formula (1) and a photopolymerization initiator (A2) having an aromatic ring skeleton to which a nitro group is bonded. Was confirmed to give a cured product having sufficient sensitivity to exposure and sufficient transmittance by curing.
Claims (9)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201610743121.4A CN106483764B (en) | 2015-08-27 | 2016-08-26 | Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device |
KR1020160109362A KR102568121B1 (en) | 2015-08-27 | 2016-08-26 | Photosensitive composition, method for forming pattern, cured product, and display device |
TW105127562A TWI703405B (en) | 2015-08-27 | 2016-08-26 | Photosensitive composition, method for forming pattern, cured product, and display device |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015168175 | 2015-08-27 | ||
JP2015168175 | 2015-08-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6088105B1 true JP6088105B1 (en) | 2017-03-01 |
JP2017045056A JP2017045056A (en) | 2017-03-02 |
Family
ID=58186000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016164983A Active JP6088105B1 (en) | 2015-08-27 | 2016-08-25 | Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6088105B1 (en) |
KR (1) | KR102568121B1 (en) |
CN (1) | CN106483764B (en) |
TW (1) | TWI703405B (en) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101788399B1 (en) * | 2015-09-23 | 2017-10-19 | (주)경인양행 | Oxime ester compound having improved heat stability, photopolymerization initiator and photoresist composition comprising the same |
JP6788971B2 (en) * | 2016-01-14 | 2020-11-25 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition |
WO2018052024A1 (en) * | 2016-09-16 | 2018-03-22 | 三菱ケミカル株式会社 | Photosensitive resin composition, cured product and image display device |
JP6813398B2 (en) * | 2017-03-10 | 2021-01-13 | 東京応化工業株式会社 | Methods for Forming Photosensitive Compositions, Dry Films, and Patterned Hardened Films |
KR102033415B1 (en) * | 2017-03-17 | 2019-10-17 | 동우 화인켐 주식회사 | Colored Photosensitive Resin Composition for Red Pixel, Color Filter and Display Device |
JP7051321B2 (en) * | 2017-07-21 | 2022-04-11 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device |
JP7079581B2 (en) * | 2017-08-31 | 2022-06-02 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, cured product forming method, cured product, panel for image display device, and image display device |
JP6968633B2 (en) * | 2017-09-07 | 2021-11-17 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition and photopolymerization initiator used therein |
CN110066225B (en) * | 2018-01-23 | 2022-06-03 | 常州强力先端电子材料有限公司 | Dioxime ester photoinitiator, preparation method, photosensitive resin composition and application |
CN113454090A (en) * | 2018-02-13 | 2021-09-28 | 川崎化成工业株式会社 | Compound having polycyclic aromatic skeleton and endoperoxide compound thereof |
JPWO2021006315A1 (en) * | 2019-07-10 | 2021-01-14 | ||
JP7453024B2 (en) | 2020-03-12 | 2024-03-19 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive composition, transparent body, and method for producing transparent body |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007079120A (en) | 2005-09-14 | 2007-03-29 | Fujifilm Corp | Photosensitive composition, pattern forming material, photosensitive laminate, pattern forming apparatus, and pattern forming method |
JP5561136B2 (en) * | 2009-12-11 | 2014-07-30 | Jsr株式会社 | Radiation sensitive resin composition, spacer for liquid crystal display element and method for forming the same |
JP2012058728A (en) | 2010-08-10 | 2012-03-22 | Sumitomo Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JP5121912B2 (en) * | 2010-11-24 | 2013-01-16 | 富士フイルム株式会社 | Colored photosensitive resin composition, pattern forming method, color filter manufacturing method, color filter, and display device including the same |
JP5211307B2 (en) | 2011-03-04 | 2013-06-12 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | Photosensitive composition |
JP6113181B2 (en) * | 2011-12-07 | 2017-04-12 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | Oxime ester photoinitiator |
KR102130430B1 (en) * | 2012-08-08 | 2020-07-07 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | Photosensitive film laminate, flexible printed wiring board, and method for manufacturing same |
KR101531149B1 (en) * | 2012-09-28 | 2015-06-23 | 다이토 케믹스 코포레이션 | Fluorene-type compound, photopolymerization initiator comprising said fluorene-type compound, and photosensitive composition containing said photopolymerization initiator |
JP2014134763A (en) * | 2012-12-11 | 2014-07-24 | Jsr Corp | Radiation-sensitive resin composition, cured film for display element, method for forming cured film for display element, and display element |
JP6065596B2 (en) * | 2013-01-16 | 2017-01-25 | Jsr株式会社 | Radiation-sensitive coloring composition, colored cured film, and display element |
KR101508744B1 (en) | 2013-04-23 | 2015-04-07 | 대한민국 | Chloroplast DNA marker for distinguishing Brassica species and uses thereof |
TWI503301B (en) * | 2013-06-27 | 2015-10-11 | Takoma Technology Co Ltd | A high sensitivity oxime ester photopolymerization initiator and a photopolymerization composition comprising the same |
WO2015064958A1 (en) * | 2013-11-04 | 2015-05-07 | 한국화학연구원 | Novel oxime ester biphenyl compound, photo initiator and photosensitive resin composition containing same |
KR101435652B1 (en) * | 2014-01-17 | 2014-08-28 | 주식회사 삼양사 | NOVEL FLUORENYL β-OXIME ESTER COMPOUNDS, PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME |
US10539872B2 (en) * | 2014-07-15 | 2020-01-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive composition and compound |
JP6195584B2 (en) * | 2015-02-04 | 2017-09-13 | 東京応化工業株式会社 | Colorant dispersion, photosensitive resin composition containing the same, and dispersion aid |
JP6630154B2 (en) * | 2015-03-30 | 2020-01-15 | 東京応化工業株式会社 | Photosensitive resin composition, pattern forming method, cured film, insulating film, color filter, and display device |
-
2016
- 2016-08-25 JP JP2016164983A patent/JP6088105B1/en active Active
- 2016-08-26 TW TW105127562A patent/TWI703405B/en active
- 2016-08-26 KR KR1020160109362A patent/KR102568121B1/en active IP Right Grant
- 2016-08-26 CN CN201610743121.4A patent/CN106483764B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201715307A (en) | 2017-05-01 |
TWI703405B (en) | 2020-09-01 |
KR102568121B1 (en) | 2023-08-18 |
CN106483764B (en) | 2021-03-30 |
JP2017045056A (en) | 2017-03-02 |
KR20170026258A (en) | 2017-03-08 |
CN106483764A (en) | 2017-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6088105B1 (en) | Photosensitive composition, pattern forming method, cured product, and display device | |
JP6195590B2 (en) | Photosensitive composition, pattern forming method, cured film, insulating film, and display device | |
JP6847580B2 (en) | A photosensitive resin composition for a black column spacer, a black column spacer, a display device, and a method for forming the black column spacer. | |
JP6195645B2 (en) | Colored photosensitive composition | |
JP6309755B2 (en) | Photosensitive resin composition | |
JP2017198865A (en) | Photosensitive composition | |
KR102633985B1 (en) | Photosensitive composition, method for forming cured product, cured product, panel for display device, and display device | |
KR102116146B1 (en) | Photosensitive resin composition, insulation film, and display device | |
JP2016075853A (en) | Radiation-sensitive resin composition, method for producing pattern, transparent insulation film, and display device | |
JP6664164B2 (en) | Photosensitive composition | |
KR20170115954A (en) | Photosensitive resin composition | |
JP6437050B2 (en) | Photosensitive composition, pattern forming method, cured film, insulating film, and display device | |
JP2017049566A (en) | Photosensitive composition, method for producing photosensitive composition, method for forming film using photosensitive composition, method for suppressing thickening of photosensitive composition at the time of storage, photopolymerization initiator, and method for producing photopolymerization initiator | |
JP6470615B2 (en) | Photosensitive resin composition, pattern forming method, color filter, and display device | |
JP5890355B2 (en) | Photosensitive resin composition | |
KR102568122B1 (en) | Photosensitive composition, method of forming pattern, cured product, and display device | |
JP6541460B2 (en) | Pattern formation method | |
TW201523149A (en) | Photosensitive resin composition, method of forming resin pattern, and display device | |
JP2017151331A (en) | Photosensitive resin composition for black column spacer, black column spacer, display device, and method for forming black column spacer | |
JP2021096336A (en) | Colored photosensitive composition, colored film, method for producing colored film, and method for producing patterned colored film |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161130 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20161130 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20170105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170110 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170202 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6088105 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |