JP6072343B1 - Hydraulic transfer film for electroless plating - Google Patents

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Abstract

【課題】 本発明は、プラスチック等の触媒活性の無い非導電性基材に対して無電解めっきを行う技術を提供する。本発明は、水圧転写技術で利用できる無電解めっき用水圧転写フィルムを提供する。【解決手段】 水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層されてなる無電解めっき用水圧転写フィルムであって、前記触媒層が(1)金属粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子である、無電解めっき用水圧転写フィルム。【選択図】なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique for performing electroless plating on a non-conductive substrate having no catalytic activity such as plastic. The present invention provides a hydraulic transfer film for electroless plating that can be used in hydraulic transfer technology. SOLUTION: A hydraulic transfer film for electroless plating in which at least a catalyst layer is laminated on a substrate for hydraulic transfer film, wherein the catalyst layer is (1) a composite of metal particles and a dispersant, 2) A hydraulic transfer film for electroless plating comprising a catalyst composition containing a solvent and (3) a binder, wherein the metal particles are palladium particles, gold particles, silver particles or platinum particles. [Selection figure] None

Description

本発明は無電解めっき用水圧転写フィルムに関する。   The present invention relates to a hydraulic transfer film for electroless plating.

水圧転写技術は、一般に、
(ア)薄膜(フィルム)に装飾層(パターン)を印刷して水圧転写フィルムを作成し、
(イ)この薄膜を、転写用の装飾層を上にして液体表面(水面等)上に浮かべ、
(ウ)この薄膜に、溶剤(有機溶剤等の活性剤組成物等)を塗布して、装飾層を膨潤・粘着化(活性化)させ、
(エ)その装飾層を上に物体(被転写体となる物品)を押圧しつつ、その全部又は一部を液中に沈め、
(オ)液体の圧力(水圧)により装飾層を物体表面に転写し、
(カ)その後、薄膜を物体表面から除去して、装飾層を転写する、技術である。
Hydraulic transfer technology is generally
(A) Create a hydraulic transfer film by printing a decorative layer (pattern) on a thin film.
(I) Float this thin film on the liquid surface (water surface, etc.) with the decorative layer for transfer up.
(C) A solvent (an activator composition such as an organic solvent) is applied to the thin film to swell and stick (activate) the decorative layer,
(D) While pressing the object (article to be transferred) with the decoration layer on top, all or part of it is submerged in the liquid,
(E) The decorative layer is transferred to the object surface by the pressure of the liquid (water pressure),
(F) After that, the technique removes the thin film from the object surface and transfers the decoration layer.

水圧転写フィルムの薄膜として、一般に、水溶性薄膜が使用される。   In general, a water-soluble thin film is used as the thin film of the hydraulic transfer film.

水圧転写フィルムは曲面又は凹凸面等の複雑な外形形状を有する物体表面の化粧に適している。水溶性の薄膜(フィルム)を含む水圧転写フィルムでは、その水溶性の薄膜は転写中に水に溶けて消失し、装飾層が転写物の表面を覆って装飾効果を発揮する。   The hydraulic transfer film is suitable for makeup of an object surface having a complicated outer shape such as a curved surface or an uneven surface. In a hydraulic transfer film containing a water-soluble thin film (film), the water-soluble thin film dissolves and disappears in water during transfer, and the decorative layer covers the surface of the transferred material and exhibits a decorative effect.

特許文献1には、表面に着色印刷層、金属蒸着層等を有する水圧転写用シートが開示されている。その金属蒸着層は、例えば、Al、錫、銀、銅等の金属を真空蒸着することによって形成される。しかし、特許文献1では、水圧転写技術において、着色印刷層、金属蒸着層等のワレ等に対する検討が何もされていない。   Patent Document 1 discloses a hydraulic transfer sheet having a colored printing layer, a metal vapor deposition layer and the like on the surface. The metal vapor deposition layer is formed, for example, by vacuum vapor deposition of a metal such as Al, tin, silver, or copper. However, in Patent Document 1, no consideration is given to cracks such as a colored printing layer and a metal vapor deposition layer in the hydraulic transfer technique.

特許文献2には、水溶性フィルム上の透明樹脂層に蒸着金属層が形成され、それら蒸着金属層と透明樹脂層との間で透明樹脂層にエンボスが施されている水圧転写シートが開示されている。特許文献3には、金属薄膜層等を曲面加飾する水圧転写法が開示されている。特許文献4の水圧転写用フィルムには、金属顔料等のフレーク状顔料を含有する装飾層を用いることから、その金属調光沢はめっき品質とは異なる。   Patent Document 2 discloses a hydraulic transfer sheet in which a vapor-deposited metal layer is formed on a transparent resin layer on a water-soluble film, and the transparent resin layer is embossed between the vapor-deposited metal layer and the transparent resin layer. ing. Patent Document 3 discloses a hydraulic transfer method for decorating a metal thin film layer or the like with a curved surface. Since the decorative layer containing a flaky pigment such as a metal pigment is used for the hydraulic transfer film of Patent Document 4, the metallic gloss is different from the plating quality.

本出願人は、これまで、パラジウムコロイド等を含有する無電解めっき用塗料組成物を提供している(特許文献5〜7)。この無電解めっき用塗料組成物を用いると、被めっき物(非導電性基材)に対して、密着性及び外観皮膜に優れた無電解めっき皮膜を形成することができる。   The present applicant has so far provided a coating composition for electroless plating containing palladium colloid or the like (Patent Documents 5 to 7). When this electroless plating coating composition is used, an electroless plating film excellent in adhesion and appearance film can be formed on an object to be plated (non-conductive substrate).

本出願人は、更に、基材上に、パラジウム粒子等の金属粒子を含む触媒層が積層された、インモールド転写、熱ロール転写又は粘着剤転写に用いる無電解めっき用転写フィルムも提供している(特許文献8)。この無電解めっき用転写フィルムを用いると、非導電性基材に対して、触媒層を良好に転写することができ、平面材料の他に、3次元筐体への転写及び無電解めっきも可能となる。その非導電性基材に転写された触媒層により、表面が滑らかな無電解めっき皮膜を形成することができる。   The present applicant further provides a transfer film for electroless plating in which a catalyst layer containing metal particles such as palladium particles is laminated on a substrate, and used for in-mold transfer, hot roll transfer, or adhesive transfer. (Patent Document 8). Using this electroless plating transfer film, the catalyst layer can be transferred to a non-conductive substrate, and in addition to planar materials, transfer to a three-dimensional housing and electroless plating are also possible. It becomes. An electroless plating film having a smooth surface can be formed by the catalyst layer transferred to the non-conductive substrate.

特開平1-22378号公報JP-A-1-22378 特許第4382964号Patent No. 4382964 特開2013-893号公報JP 2013-893 特開2006-51672号公報JP 2006-51672 A 特許第5674561号Patent No.5674561 特許第5422812号Patent No. 5428812 特許第5458366号Patent No. 5458366 特許第5843992号Patent No. 5843992

本発明は、プラスチック等の触媒活性の無い非導電性基材に対して無電解めっきを行う技術を提供する。   The present invention provides a technique for performing electroless plating on a non-conductive substrate having no catalytic activity such as plastic.

本発明は、水圧転写技術で利用できる無電解めっき用水圧転写フィルムを提供する。   The present invention provides a hydraulic transfer film for electroless plating that can be used in hydraulic transfer technology.

本発明では、水圧転写技術により、無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、その非導電性基材に触媒物質(触媒組成物)を付着させ、次いで無電解めっきを行って、その非導電性基材に無電解めっき皮膜を形成させる技術を提供する。   In the present invention, by using a hydraulic transfer film for electroless plating, a catalytic substance (catalyst composition) is attached to the non-conductive substrate, followed by electroless plating, and the non-conductive A technique for forming an electroless plating film on a substrate is provided.

従来の技術では、転写フィルムを用いる転写技術において、転写後に露出した触媒表面は無電解めっき可能な材料ではなかった。従来技術では、転写後、触媒吸着工程が必要であった。従来技術では、透明ロール基材を用いて平面材料(プラズマディスプレー用電磁波シールド材等)への転写及びめっきのみが可能であった。   In the conventional technique, in the transfer technique using a transfer film, the catalyst surface exposed after transfer is not a material capable of electroless plating. In the prior art, a catalyst adsorption process is required after transfer. In the prior art, only transfer and plating to a flat material (such as an electromagnetic wave shielding material for plasma display) were possible using a transparent roll substrate.

上記の通り、従来、基材に対して金属光沢を付与するための水圧転写技術は、主に、蒸着金属層とエンボスとを組み合わせてホログラム効果を出す技術(特許文献2)や、光輝顔料としてフレーク状(鱗片状)の金属粒子を用いて光輝性を出す技術(特許文献4)であった。これら従来の水圧転写技術は、水圧転写方式(水圧転写シート)を採用するとしても、最終部品(筐体)に対して金属めっき光沢を施す技術ではない。   As described above, conventionally, the hydraulic transfer technology for imparting a metallic luster to a substrate is mainly a technology for producing a hologram effect by combining a vapor-deposited metal layer and embossing (Patent Document 2), or a bright pigment. This is a technique (Patent Document 4) for producing glitter using flake-like (scale-like) metal particles. These conventional water pressure transfer techniques are not techniques for applying a metal plating gloss to the final part (housing) even if a water pressure transfer method (water pressure transfer sheet) is adopted.

本出願人は、最終部品(筐体)に対して金属めっき光沢を施す技術として、パラジウム粒子等の金属粒子を含む触媒層が積層された無電解めっき用転写フィルムを提供している(特許文献8)。その転写技術は、インモールド転写、熱ロール転写又は粘着剤転写である。   The present applicant provides a transfer film for electroless plating in which a catalyst layer containing metal particles such as palladium particles is laminated as a technique for applying a metal plating gloss to the final part (housing) (Patent Document). 8). The transfer technique is in-mold transfer, hot roll transfer, or adhesive transfer.

この無電解めっき用転写フィルムを用いると、非導電性基材に対して、触媒層を良好に転写することができ、平面材料の他に、3次元筐体への転写及び無電解めっきも可能となる。その非導電性基材に転写された触媒層により、表面が滑らかな無電解めっき皮膜を形成することができる。   Using this electroless plating transfer film, the catalyst layer can be transferred to a non-conductive substrate, and in addition to planar materials, transfer to a three-dimensional housing and electroless plating are also possible. It becomes. An electroless plating film having a smooth surface can be formed by the catalyst layer transferred to the non-conductive substrate.

この時、転写や無電解めっきを施す3次元筐体が、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する場合がある。この場合、3次元筐体へ転写や無電解めっきを施す技術には、更に工夫が必要である。   At this time, the three-dimensional housing to which transfer or electroless plating is applied may have a larger (complex) cubic curved surface or a deeper cubic curved surface. In this case, further innovation is required for the technique of transferring or electroless plating to the three-dimensional housing.

本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の触媒組成物を水圧転写フィルムに適用することを見出した。本発明者らは、水圧転写技術により、その触媒層(触媒組成物)を有する水圧転写フィルムを用いて、非導電性基材に対して触媒層(触媒組成物)を良好に転写できることを見出した。   As a result of intensive studies, the present inventors have found that a specific catalyst composition is applied to a hydraulic transfer film. The present inventors have found that a catalyst layer (catalyst composition) can be satisfactorily transferred to a non-conductive substrate using a hydraulic transfer film having the catalyst layer (catalyst composition) by hydraulic transfer technology. It was.

本発明者ら、転写された触媒層(触媒組成物)により、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する3次元筐体に対しても、表面が滑らかな無電解めっき皮膜を形成できることを見出した。本発明者らは、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する3次元筐体に対して、金属めっき光沢を施すことが可能であり、これらの技術が優れた3次元加飾の無電解めっき技術に繋がることを見出した。   By the transferred catalyst layer (catalyst composition), the present inventors also have a larger (complex) cubic curved surface and a three-dimensional housing having a deeper cubic curved surface. It has been found that an electroless plating film having a smooth surface can be formed. The present inventors can apply a metallic plating gloss to a larger (complex) cubic curved surface or a three-dimensional housing having a deeper cubic curved surface. It has been found that this technology leads to excellent electroless plating technology with three-dimensional decoration.

即ち、本発明は、次の無電解めっき用水圧転写フィルム等である。   That is, the present invention is the following hydraulic transfer film for electroless plating.

項1.
水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層されてなる無電解めっき用水圧転写フィルムであって、
前記触媒層が(1)金属粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子である、
無電解めっき用水圧転写フィルム。
Item 1.
A hydraulic transfer film for electroless plating in which at least a catalyst layer is laminated on a hydraulic transfer film substrate,
The catalyst layer comprises (1) a composite of metal particles and a dispersant, (2) a solvent and (3) a catalyst composition containing a binder, and the metal particles are palladium particles, gold particles, silver particles or platinum particles. Is,
Hydraulic transfer film for electroless plating.

項2.
前記触媒組成物の分散剤が、ポリカルボン酸系高分子分散剤、ヒドロキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤及びカルボキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の分散剤である、前記項1に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。
Item 2.
The dispersant of the catalyst composition is at least selected from the group consisting of a polycarboxylic acid polymer dispersant, a block copolymer type polymer dispersant having a hydroxyl group, and a block copolymer type polymer dispersant having a carboxyl group. Item 2. The hydraulic transfer film for electroless plating according to Item 1, which is one type of dispersant.

項3.
前記触媒組成物の溶媒が、水;非プロトン性極性溶媒として、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド;ジメチルスルホキシド及びγ-ブチロラクトンからなる群から選ばれる非プロトン性極性溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-ブチルアルコール及びイソブチルアルコールからなる群から選ばれるアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール及びシクロヘキサノンからなる群から選ばれるケトン類;エチレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選ばれるグリコールエーテル類;安息香酸メチル、安息香酸エチル及びサリチル酸メチルからなる群から選ばれる芳香族カルボン酸エステル類;トルエン及びキシレンからなる群から選ばれる芳香族炭化水素類;n-へキサン、n-へプタン及びミネラルスピリットからなる群から選ばれる脂肪族炭化水素類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトールアセテート及びブチルカルビトールアセテートからなる群から選ばれるグリコールエーテルエステル類;酢酸エチル及び酢酸ブチルからなる群から選ばれるアルカノールエステル類;2-フェノキシエタノール、からなる群から選ばれる少なくとも1種の溶媒である、前記項1又は2に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。
Item 3.
The catalyst composition solvent is water; an aprotic polar solvent selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide; dimethyl sulfoxide and γ-butyrolactone Polar solvents; alcohols selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-butyl alcohol and isobutyl alcohol; ketones selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol and cyclohexanone; ethylene glycol Glycol ethers selected from the group consisting of monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; aromatic carboxylic acids selected from the group consisting of methyl benzoate, ethyl benzoate and methyl salicylate Sterols; aromatic hydrocarbons selected from the group consisting of toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons selected from the group consisting of n-hexane, n-heptane and mineral spirits; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, At least one selected from the group consisting of glycol ether esters selected from the group consisting of butyl cellosolve acetate, methyl carbitol acetate and butyl carbitol acetate; alkanol esters selected from the group consisting of ethyl acetate and butyl acetate; 2-phenoxyethanol Item 3. The hydraulic transfer film for electroless plating according to Item 1 or 2, which is a seed solvent.

項4.
前記触媒組成物のバインダーが、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、エステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、アミドイミド樹脂、シェラック樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、硝化綿、アルキド樹脂、石油樹脂、ロジン系樹脂、スチレン/マレイン酸樹脂、シリコン樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体、アクリルモノマー/オリゴマー及びオレフィン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種のバインダーである、前記項1〜3のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。
Item 4.
The catalyst composition binder is acetal resin, epoxy resin, ester resin, acrylic resin, urethane resin, amide resin, imide resin, amidoimide resin, shellac resin, melamine resin, urea resin, nitrified cotton, alkyd resin, petroleum resin, Any one of Items 1 to 3, which is at least one binder selected from the group consisting of a rosin resin, a styrene / maleic resin, a silicon resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, an acrylic monomer / oligomer, and an olefin resin. The hydraulic transfer film for electroless plating as described in 1.

項5.
前記水圧転写フィルム用基材が、水溶性フィルムからなる基材である、前記項1〜4のいずれかに記載の無電解めっき用転写フィルム。
Item 5.
Item 5. The transfer film for electroless plating according to any one of Items 1 to 4, wherein the hydraulic transfer film substrate is a substrate made of a water-soluble film.

項6.
前記水溶性フィルムを構成する樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、アセチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸アミド、ポリアクリル酸ナトリウム、アセチルブチルセルロース、ゼラチン、にかわ、アルギン酸ナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、カゼイン、シェラック、アラビアゴム、澱粉、蛋白質、メチルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリエチレンオキサイド及び酢酸ビニルとイタコン酸との共重合体、からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂である、前記項5に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。
Item 6.
The resin constituting the water-soluble film is polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl methyl ether, acetyl cellulose, polyacrylamide, polyacrylamide, sodium polyacrylate, acetylbutylcellulose, gelatin, glue, sodium alginate, methylcellulose, hydroxy Selected from the group consisting of ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, dextrin, casein, shellac, gum arabic, starch, protein, copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polyethylene oxide and copolymer of vinyl acetate and itaconic acid Item 6. The hydraulic transfer film for electroless plating according to Item 5, which is at least one resin.

項7.
前記項1〜6のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルムを製造する方法であって、
(1)水圧転写フィルム用基材上に、触媒組成物を塗布し、触媒層を設ける工程、
を含む、
無電解めっき用水圧転写フィルムの製造方法。
Item 7.
A method for producing a hydraulic transfer film for electroless plating according to any one of Items 1 to 6,
(1) A step of applying a catalyst composition on a hydraulic transfer film substrate and providing a catalyst layer;
including,
A method for producing a hydraulic transfer film for electroless plating.

項8.
前記項1〜6のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、無電解めっき物を製造する方法であって、
(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程、
(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程、
(3)転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程、
(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程、及び
(5)露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
を含む無電解めっき物の製造方法。
Item 8.
A method for producing an electroless plated product using the hydraulic transfer film for electroless plating according to any one of Items 1 to 6,
(1) A step of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the water surface, and dissolving the hydraulic transfer film substrate;
(2) A step of spraying a solvent onto the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating,
(3) Adhering the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating to the transfer substrate, and fixing the catalyst layer to the transfer substrate;
(4) A method for producing an electroless plated product, comprising: a step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed to expose the catalyst layer; and (5) a step of performing electroless plating on the exposed catalyst layer.

本発明は、水圧転写技術で利用できる無電解めっき用水圧転写フィルムである。   The present invention is a hydraulic transfer film for electroless plating that can be used in hydraulic transfer technology.

本発明は、水圧転写技術により、プラスチック等の触媒活性の無い非導電性基材に対して、特定の触媒層(触媒組成物)を有する水圧転写フィルム(無電解めっき用水圧転写フィルム)を用いて、触媒層を良好に転写(付着)できる。本発明は、次いで、無電解めっきを行って、その非導電性基材に無電解めっき皮膜を形成させることができる。   The present invention uses a hydraulic transfer film (hydraulic transfer film for electroless plating) having a specific catalyst layer (catalyst composition) with respect to a non-conductive substrate having no catalytic activity, such as plastic, by hydraulic transfer technology. Thus, the catalyst layer can be transferred (attached) satisfactorily. The present invention can then perform electroless plating to form an electroless plating film on the non-conductive substrate.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムの使用態様を説明する概略図である。It is the schematic explaining the usage aspect of the hydraulic transfer film for electroless plating of this invention. 本発明の無電解めっき用水圧転写フィルム(実施例)の写真である。It is a photograph of the hydraulic transfer film (Example) for electroless plating of the present invention. 本発明の無電解めっき用水圧転写フィルム(実施例)をABS樹脂成型品へ転写した後の写真である。It is the photograph after transcribe | transferring the hydraulic transfer film (Example) for electroless plating of this invention to an ABS resin molded product.

以下に本発明を詳細に説明する。但し、この実施の形態は、発明の趣旨をよく理解させため具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、発明内容を限定するものではない。   The present invention is described in detail below. However, this embodiment is specifically described for better understanding of the gist of the invention, and does not limit the content of the invention unless otherwise specified.

(1) 発明の説明
本発明は、水圧転写技術で利用できる無電解めっき用水圧転写フィルム(以下、「本発明の転写フィルム」とも記す)である。
(1) Description of the Invention The present invention is a hydraulic transfer film for electroless plating (hereinafter also referred to as "transfer film of the present invention") that can be used in the hydraulic transfer technique.

本発明は、水圧転写技術により、プラスチック等の触媒活性の無い非導電性基材に対して、特定の触媒層(触媒組成物)を有する水圧転写フィルム(無電解めっき用水圧転写フィルム)を用いて、触媒層を良好に転写(付着)できる。本発明は、次いで、無電解めっきを行って、その非導電性基材に無電解めっき皮膜を形成させることができる。   The present invention uses a hydraulic transfer film (hydraulic transfer film for electroless plating) having a specific catalyst layer (catalyst composition) with respect to a non-conductive substrate having no catalytic activity, such as plastic, by hydraulic transfer technology. Thus, the catalyst layer can be transferred (attached) satisfactorily. The present invention can then perform electroless plating to form an electroless plating film on the non-conductive substrate.

(i)大型の成形品に対する優れためっき技術
インモールドによる転写では、転写面積の大きさが制限される場合がある。ロールによる転写では、巾及び長手において、大きさが制限される場合がある。
(I) Excellent plating technology for large molded products In transfer by in-mold, the size of the transfer area may be limited. In transfer by a roll, the size may be limited in width and length.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、大型(大面積)の成形品(非導電性基材)に対して、触媒層を良好に転写(付着)でき、次いで、無電解めっきを行って、その成形品に無電解めっき皮膜を形成させることができる。   When the transfer film of the present invention is used, the catalyst layer can be transferred (attached) satisfactorily to a large (large area) molded product (non-conductive substrate) by hydraulic transfer technology, and then electroless plating is performed. It is possible to form an electroless plating film on the molded product.

(ii)複雑な形状の成形品に対する優れためっき技術
3次元筐体の具体例として、球状成形品、細かい凹凸を有する成形品、穴周りを有する成形品、薄肉な成形品等がある。球状成形品、細かい凹凸を有する成形品等に対して転写する際、その絞り深さ、穴周りの絞り後のめっき皮膜の密着性を確保することが困難である場合がある。また、薄肉な成形品等に対して転写する際、薄肉な成形品を加熱すると、変形(そり)が生じるため、めっき(加飾)することが困難である場合がある。
(Ii) Excellent plating technology for molded products with complex shapes
Specific examples of the three-dimensional housing include a spherical molded product, a molded product having fine irregularities, a molded product having a hole periphery, and a thin molded product. When transferring to a spherical molded product, a molded product having fine irregularities, etc., it may be difficult to ensure the drawing depth and adhesion of the plated film after drawing around the hole. In addition, when transferring a thin molded product or the like, if the thin molded product is heated, deformation (warping) occurs, so that plating (decoration) may be difficult.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、平面材料の他に、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する3次元筐体に対しても、表面が滑らかな無電解めっき皮膜を形成できる。本発明は、より複雑な3次曲面状の表面を有する3次元筐体に対して、金属めっき光沢を施すことが可能である。   When the transfer film of the present invention is used, a hydraulic transfer technique can be applied to a three-dimensional housing having a larger (complex) cubic curved surface or a deep cubic curved surface in addition to a planar material. However, an electroless plating film having a smooth surface can be formed. According to the present invention, metal plating gloss can be applied to a three-dimensional housing having a more complicated cubic curved surface.

(iii)加熱を必要としない優れためっき技術
勘合を有する製品に対して転写する際、製品を加熱すると、変形が生じ、その勘合が合わなくなる場合がある。
(Iii) When transferring to a product having an excellent plating technology fit that does not require heating, if the product is heated, deformation may occur and the fit may not be met.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、加熱する必要性が無く、勘合を有する製品に対しても良好に転写することができる。また、本発明の転写フィルムを用いると、薄肉な成形品に対して、加熱する必要性が無く、そり等の変形が発生しない。製品に対して、金属めっき光沢(加飾)を施すことが可能である。   When the transfer film of the present invention is used, there is no need to heat by the hydraulic transfer technique, and it is possible to transfer well to a product having a fit. Further, when the transfer film of the present invention is used, there is no need to heat a thin molded product, and deformation such as warpage does not occur. Metal plating luster (decoration) can be applied to the product.

水圧転写に使用する材料(転写被基材)は、転写作業で加熱する必要がないために、その材料(転写被基材)の選定幅が広く、耐熱性等を考慮せずに、柔軟な選定が可能である。   Since the material used for hydraulic transfer (transfer substrate) does not need to be heated during the transfer operation, the material (transfer substrate) has a wide selection range and is flexible without considering heat resistance. Selection is possible.

(iv)成型品の樹脂や材料に対して優れためっき技術
本発明の転写フィルムを用いると、インモールド転写技術や射出成型技術では採用できない種々の樹脂や材料を用いた成形品に対しても、水圧転写技術により、良好に転写(加飾)することができる。例えば、形状や密着の点で、一部のエンジニアプラスチック等、射出成型技術には適さない材料に対しても、本発明の転写フィルムを用いると、形状に制限されること無く、密着性が優れた転写(加飾)が可能である。
(Iv) Excellent plating technology for resin and materials of molded products Using the transfer film of the present invention, even for molded products using various resins and materials that cannot be adopted by in-mold transfer technology and injection molding technology. It is possible to transfer (decorate) satisfactorily by hydraulic transfer technology. For example, in terms of shape and adhesion, even for materials that are not suitable for injection molding technology, such as some engineer plastics, using the transfer film of the present invention provides excellent adhesion without being limited by shape. Transcription (decoration) is possible.

本発明の転写フィルムを用いると、セラミックや陶器等の基材に対して、接着剤を溶解させることで、それら基材への密着性を確保して、転写(加飾)することが可能である。   When the transfer film of the present invention is used, it is possible to transfer (decorate) the adhesive to the base material such as ceramics or earthenware by securing the adhesiveness to the base material by dissolving the adhesive. is there.

(v)転写後の成型品に対して優れためっき技術
従来のインモールド転写技術では、製造方法の仕様から、成型品に転写(加飾)した後、その転写後の成型品の表面に、新たに機能性表面を付与することは困難である。仮に、その転写後の成型品の表面に、新たに機能性表面を付与する場合、新たな塗装工程が必要となる。
(V) Excellent plating technology for molded product after transfer In the conventional in-mold transfer technology, after transferring (decorating) to the molded product from the specification of the manufacturing method, on the surface of the molded product after the transfer, It is difficult to newly provide a functional surface. If a functional surface is newly added to the surface of the molded product after the transfer, a new coating process is required.

水圧転写技術には、製造方法に塗装工程が含まれる。本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、製造工程の既存のラインを使用することで、転写後(加飾後)に成型品に、そのまま新たに耐指紋性(AF)等の性能を付与することが可能である。本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、従来のインモールド転写技術や、熱転写技術と比べて、低コストで、成型品の表面に機能性を付与することができる。   The hydraulic transfer technology includes a painting process in the manufacturing method. Using the transfer film of the present invention, by using the existing line of the manufacturing process by hydraulic transfer technology, it is possible to add new performance such as anti-fingerprint (AF) directly to the molded product after transfer (after decoration) Can be given. When the transfer film of the present invention is used, functionality can be imparted to the surface of a molded product at a lower cost by hydraulic transfer technology compared to conventional in-mold transfer technology and thermal transfer technology.

(vi)専用の治具や金型を要性としない優れためっき技術
本発明の転写フィルムを用いる水圧転写技術は、従来のインモールド転写技術や、熱転写技術と比べて、初期投資費用(イニシャルコスト)や運転費用(ランニングコスト)を低く抑えることができ、経済的である。
(Vi) Excellent plating technology that does not require special jigs and molds The hydraulic transfer technology using the transfer film of the present invention has an initial investment cost (initials) compared to the conventional in-mold transfer technology and thermal transfer technology. Cost) and operating costs (running costs) can be kept low, which is economical.

(vii)種々の仕様に対応可能な優れためっき技術
上記(i)〜(vi)を考えると、本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、一回の製造に必要な数量を抑えることができ、小ロット生産への対応が可能である。
(Vii) Excellent plating technology that can handle various specifications Considering the above (i) to (vi), when the transfer film of the present invention is used, the amount required for one-time production is suppressed by the hydraulic transfer technology. It is possible to handle small lot production.

本発明の転写フィルムを用いる水圧転写技術は、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン共重合合成樹脂(ABS樹脂)、ポリプロピレン(PP)、アクリル樹脂、ポリカーボネート(PC)等の汎用樹脂、これらの樹脂の組み合わせ(PC/ABS等)であるプラスチック製品に適用できる。   The hydraulic transfer technology using the transfer film of the present invention includes acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer synthetic resin (ABS resin), polypropylene (PP), acrylic resin, polycarbonate (PC) and other general-purpose resins, and combinations of these resins (PC / ABS etc.) It can be applied to plastic products.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、プラスチック等の素地(非導電性基材)の平面から円筒物等の3次曲面状の素地の表面に対して、パターンめっき又は部分めっきされためっき皮膜を形成することができる。めっき皮膜を載せた成形品(被めっき物)は、めっき皮膜の密着性に優れる。   When the transfer film of the present invention is used, pattern plating or partial plating is performed from the surface of a substrate such as plastic (non-conductive substrate) to the surface of a third-order curved substrate such as a cylindrical object by hydraulic transfer technology. A plated film can be formed. A molded product (plating object) on which a plating film is placed has excellent adhesion of the plating film.

めっき皮膜を載せた成形品は、例えば、携帯電話、パソコン、冷蔵庫等の電化製品の筐体、エンブレム、スイッチベース、ラジエータグリル、ドアハンドル、ホイールカバー等の自動車用部品等に使用することができる。   The molded product on which the plating film is placed can be used, for example, for automobile parts such as a casing, an emblem, a switch base, a radiator grille, a door handle, and a wheel cover of an electric appliance such as a mobile phone, a personal computer, and a refrigerator. .

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、パターンめっき等のめっきの反応性が高く、素地に対して、クロムめっきとの優れた密着性と装飾用めっきの優れた平滑性を発現することができる。そのめっきでは、パターンの拡がりを抑え、良好に部分めっきをすることが可能である。   When the transfer film of the present invention is used, the hydraulic transfer technology provides high plating reactivity such as pattern plating, and exhibits excellent adhesion to chrome plating and excellent smoothness of decorative plating to the substrate. be able to. In the plating, it is possible to suppress the spread of the pattern and to perform partial plating satisfactorily.

本発明のめっき転写フィルムを用いると、めっきの反応性を向上させる目的で、めっきにおける還元剤の濃度を高める必要が無く、まためっきの反応温度を上げる必要もない。更に、また有害な物質によるエッチング工程、煩雑な触媒付与工程等を必要としない。   When the plating transfer film of the present invention is used, it is not necessary to increase the concentration of the reducing agent in the plating and to increase the reaction temperature of the plating for the purpose of improving the reactivity of the plating. Furthermore, there is no need for an etching step with a harmful substance, a complicated catalyst application step, or the like.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、物品基材(素地)に対して厚みの均一性が優れためっき皮膜を形成させることができる。   When the transfer film of the present invention is used, a plating film having excellent thickness uniformity can be formed on the article substrate (substrate) by the hydraulic transfer technique.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、転写された触媒層により、表面が滑らかな無電解めっき皮膜を形成できる。   When the transfer film of the present invention is used, an electroless plating film having a smooth surface can be formed by the transferred catalyst layer by a hydraulic transfer technique.

本発明の転写フィルムを用いると、その無電解めっき皮膜の下地となる層には予め触媒が含まれており、触媒吸着工程が必要でなく、転写及び無電解めっき技術に含まれる工程を簡素化することができる。   When the transfer film of the present invention is used, the layer that becomes the base of the electroless plating film contains a catalyst in advance, and no catalyst adsorption process is required, and the processes included in the transfer and electroless plating technology are simplified. can do.

(2)水圧転写技術(図3)
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層されてなり、る無電解めっき用水圧転写フィルムであって、前記触媒層が(1)金属粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子であることを特徴とする。
(2) Hydraulic transfer technology (Figure 3)
The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention is a hydraulic transfer film for electroless plating, wherein at least a catalyst layer is laminated on a substrate for hydraulic transfer film, the catalyst layer comprising (1) a metal It consists of a catalyst composition containing a composite of particles and a dispersant, (2) a solvent, and (3) a binder, wherein the metal particles are palladium particles, gold particles, silver particles, or platinum particles.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、非導電性基材に触媒層(触媒組成物)、つまり無電解用めっきを施すための皮膜を形成(露出)させることができる。その無電解めっき用の皮膜(触媒層)が形成された非導電性基材に対して、無電解めっきを行うことで、非導電性基材に滑らかな無電解めっき皮膜を形成させることができる。   Using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention, a catalyst layer (catalyst composition), that is, a film for performing electroless plating can be formed (exposed) on a non-conductive substrate. By performing electroless plating on the nonconductive substrate on which the electroless plating film (catalyst layer) is formed, a smooth electroless plating film can be formed on the nonconductive substrate. .

電子機器のプリント配線板や3次元筐体の製造では、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する筐体への金属配線回路の形成に、本発明の「転写フィルム」を用いて、無電解めっきを行うことができる。   In the production of printed circuit boards and three-dimensional housings for electronic devices, the formation of metal wiring circuits on housings with larger (complex) cubic curved surfaces and deeper cubic curved surfaces, Electroless plating can be performed using the “transfer film” of the present invention.

本発明の水圧転写技術とは、水面に無電解めっき用水圧転写フィルム(触媒層)を浮かべ、無電解めっき用の触媒層(その後、無電解めっきにより絵柄が付けられる層)を付ける素地(転写被基材、非導電性基材)を上から沈めるないし、水中に沈めておき持ち上げ、無電解めっき用の触媒層を転写させる技術である。   The hydraulic transfer technology of the present invention is a substrate (transfer layer) in which a hydraulic transfer film (catalyst layer) for electroless plating is floated on the water surface, and a catalyst layer for electroless plating (the layer on which a pattern is subsequently applied by electroless plating) is applied. This is a technique for transferring the catalyst layer for electroless plating by submerging the substrate or non-conductive substrate) from above, or by submerging it in water.

本発明の水圧転写技術を用いると、複雑な形状でも、水圧が均一に掛かる事を利用して触媒層を付けることができる。その無電解めっき用の皮膜(触媒層)が形成された非導電性基材に対して、無電解めっきを行うことで、非導電性基材に滑らかな無電解めっき皮膜を形成させることができる。   When the hydraulic transfer technology of the present invention is used, a catalyst layer can be applied by utilizing the fact that the hydraulic pressure is applied even in a complicated shape. By performing electroless plating on the nonconductive substrate on which the electroless plating film (catalyst layer) is formed, a smooth electroless plating film can be formed on the nonconductive substrate. .

水圧転写技術は、平面状の板等だけでなく、3次曲面を有する筐体への転写が可能である。無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材を溶かすことで、従来のシールやラベルとは異なる柔らかな触媒層になり、この柔らかい状態で転写を行いことから、従来不可能であった3次曲面の素地(転写被基材)に対しても、シワなく転写加工を施すことができる。3次曲面状の素地の表面に、無電解めっき用皮膜(触媒層)を形成し、次いで、無電解めっき技術により、絵柄、金属調、パール、マット調等のデザインを付与する(加飾する)ことができる。   The hydraulic transfer technique can transfer not only to a flat plate, but also to a housing having a cubic curved surface. Dissolving the hydraulic transfer film substrate for electroless plating makes a soft catalyst layer that is different from conventional seals and labels. Transferring in this soft state was impossible in the past. Transfer processing can also be applied to a substrate having a cubic surface (transfer substrate) without wrinkles. A film for electroless plating (catalyst layer) is formed on the surface of the tertiary curved substrate, and then a design such as a pattern, metal tone, pearl, matte tone is applied (decorated) by electroless plating technology )be able to.

本発明の転写フィルムを用いると、水圧転写技術により、電子機器のプリント配線板や3次元筐体に対して、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する筐体への金属配線回路の形成に、無電解めっきを行うことも可能である。本発明の転写フィルムを用いて、配線板(非導電性基材)に触媒層(触媒組成物)、つまり無電解用めっきを施すための皮膜をパターン形成(露出)させる。その無電解めっき用の皮膜(触媒層)が形成された配線板に対して、無電解めっきを行うことで、配線板に電子回路形成用の無電解めっき皮膜を形成させる。   When the transfer film of the present invention is used, a larger (complex) cubic curved surface or a deeper cubic curved surface can be used for printed circuit boards and three-dimensional housings of electronic devices by hydraulic transfer technology. Electroless plating can also be performed to form a metal wiring circuit on a housing having a surface. The transfer film of the present invention is used to pattern-form (expose) a catalyst layer (catalyst composition), that is, a film for performing electroless plating on a wiring board (non-conductive substrate). An electroless plating film for forming an electronic circuit is formed on the wiring board by performing electroless plating on the wiring board on which the film (catalyst layer) for electroless plating is formed.

(3) 無電解めっき用水圧転写フィルム
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層されてなり、前記触媒層が(1)金属粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子であることを特徴とする。
(3) Hydraulic transfer film for electroless plating The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention comprises at least a catalyst layer laminated on a substrate for hydraulic transfer film, and the catalyst layer comprises (1) metal particles and It comprises a catalyst composition containing a composite with a dispersant, (2) a solvent, and (3) a binder, wherein the metal particles are palladium particles, gold particles, silver particles, or platinum particles.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、非導電性基材(成形品)の加飾を行う転写技術に適用できる。   The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention can be applied to a transfer technique for decorating a nonconductive substrate (molded product).

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、(1)水圧転写フィルム用基材上に、触媒組成物を塗布し、触媒層を設ける工程、を含む方法により、製造することができる。   The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention can be produced by a method comprising the steps of (1) applying a catalyst composition on a hydraulic transfer film substrate and providing a catalyst layer.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、
(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程、
(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程、
(3)転写被基材(素地、非導電性基材、成形品等)に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程、
(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程、及び
(5)露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
を含む方法により、無電解めっき物を製造することができる。
Using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention,
(1) A step of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the water surface, and dissolving the hydraulic transfer film substrate;
(2) A step of spraying a solvent onto the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating,
(3) Adhering the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating to a transfer substrate (substrate, non-conductive substrate, molded article, etc.), and fixing the catalyst layer to the transfer substrate;
(4) a step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed and exposing the catalyst layer; and (5) a method of performing electroless plating on the exposed catalyst layer, Can be manufactured.

電子機器のプリント配線板や3次元筐体が、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する筐体への回路製造では、本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、金属配線回路の形成を行うことができる。   In the case of printed circuit boards and three-dimensional housings for electronic devices, the electroless process of the present invention is suitable for circuit manufacturing on housings with larger (complex) cubic curved surfaces or deeper cubic curved surfaces. A metal wiring circuit can be formed using a hydraulic transfer film for plating.

水圧転写フィルム用基材
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層される。
Substrate for hydraulic transfer film In the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention, at least a catalyst layer is laminated on a substrate for hydraulic transfer film.

前記水圧転写フィルム用基材は、水溶性フィルムからなる基材であることが好ましい。水溶性フィルムは、水溶性を有するものであれば良い。   The hydraulic transfer film substrate is preferably a substrate made of a water-soluble film. The water-soluble film should just be water-soluble.

前記水溶性フィルムを構成する樹脂は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、アセチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸アミド、ポリアクリル酸ナトリウム、アセチルブチルセルロース、ゼラチン、にかわ、アルギン酸ナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、カゼイン、シェラック、アラビアゴム、澱粉、蛋白質、メチルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリエチレンオキサイド及び酢酸ビニルとイタコン酸との共重合体、からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。   The resin constituting the water-soluble film is polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl methyl ether, acetyl cellulose, polyacrylamide, polyacrylic acid amide, sodium polyacrylate, acetylbutyl cellulose, gelatin, glue, sodium alginate, methyl cellulose, hydroxy Selected from the group consisting of ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, dextrin, casein, shellac, gum arabic, starch, protein, copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polyethylene oxide and copolymer of vinyl acetate and itaconic acid At least one resin is preferred.

これらの樹脂は、単独で用いられても良く、2種以上が混合されて用いられても良い。また、水溶性フィルムには、マンナン、キサンタンガム、グアーガム等のゴム成分が添加されていても良い。   These resins may be used alone or in combination of two or more. In addition, rubber components such as mannan, xanthan gum and guar gum may be added to the water-soluble film.

水溶性フィルムの中で、特に生産安定性と水に対する溶解性及び経済性の点から、ポリビニルアルコール(PVA)系樹脂フィルムを用いることが好ましい。PVA系樹脂フィルムは、PVA以外に、澱粉やゴム等の添加剤を含有していても良い。   Among the water-soluble films, it is preferable to use a polyvinyl alcohol (PVA) resin film, particularly from the viewpoint of production stability, solubility in water and economy. The PVA resin film may contain additives such as starch and rubber in addition to PVA.

水溶性フィルム(PVA系樹脂フィルム)は、PVAの重合度、ケン化度、及び澱粉やゴム等の添加剤の配合量等を変えることにより、水溶性フィルムに対して転写用の触媒層を形成する際に必要な機械的強度を有する。   A water-soluble film (PVA-based resin film) forms a transfer catalyst layer on a water-soluble film by changing the polymerization degree, saponification degree, and compounding amount of additives such as starch and rubber. Has the necessary mechanical strength.

水溶性フィルムは、取り扱い中の耐湿性、水面に浮かべてからの吸水による柔軟化の速度、水中での延展又は拡散に要する時間、転写工程での変形のし易さ等を適宜調節することができる。   For water-soluble films, moisture resistance during handling, speed of softening due to water absorption after floating on the water surface, time required for spreading or spreading in water, ease of deformation in the transfer process, etc. can be adjusted as appropriate. it can.

PVA系樹脂フィルムからなる水溶性フィルムとして、例えば、PVA樹脂80質量%、高分子水溶性樹脂15質量%及び澱粉5質量%の混合組成からなり、平衡水分3質量%程度のものが好適である。   As the water-soluble film made of a PVA resin film, for example, a composition composed of a mixed composition of 80% by mass of PVA resin, 15% by mass of a polymer water-soluble resin and 5% by mass of starch and having an equilibrium water content of about 3% by mass is preferable. .

PVA系樹脂フィルムは水溶性ではあるが、水に溶解する前段階では水に膨潤して軟化しつつもフィルムとして存続することが好ましい。フィルムとして存続している状態にあるときに水圧転写を行なうことにより、水圧転写時の転写用の印刷層の過度の流動、変形を防止することができるからである。   Although the PVA-based resin film is water-soluble, it is preferable that the PVA-based resin film remain as a film while being swollen and softened in the water before being dissolved in water. This is because, by performing the hydraulic transfer while the film is still alive, it is possible to prevent an excessive flow and deformation of the printing layer for transfer during the hydraulic transfer.

水圧転写フィルム用基材(水溶性フィルム)の厚さは、1〜100μm程度が好ましい。水圧転写フィルム用基材(水溶性フィルム)の厚さが1μm以上であることで、膜の均一性が良好で、且つ生産安定性が高い。また、水圧転写フィルム用基材(水溶性フィルム)の厚さが100μm以下であることで、水に対する溶解性が適度であり、且つ印刷適性に優れる。水溶性フィルムの厚さは、2〜50μm程度の範囲がより好ましく、3〜20μm程度の範囲が更に好ましい。   The thickness of the hydraulic transfer film substrate (water-soluble film) is preferably about 1 to 100 μm. When the thickness of the hydraulic transfer film substrate (water-soluble film) is 1 μm or more, the uniformity of the film is good and the production stability is high. Further, when the thickness of the hydraulic transfer film substrate (water-soluble film) is 100 μm or less, the solubility in water is appropriate and the printability is excellent. The thickness of the water-soluble film is more preferably in the range of about 2 to 50 μm, and further preferably in the range of about 3 to 20 μm.

水圧転写フィルム用基材は、水溶性フィルムに、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)等のポリエステル;ポリプロピレン(PP)、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレン(PE)、ポリスチレン(PS)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリアミド(PA、ナイロン)、ポリイミド(PI)、ポリメチルメタアクリレート(PMMA)、ウレタン(PU)、セロファン、酢酸セルロース、アイオノマー等の樹脂フィルム等を用いた基材(台紙)と積層して使用することもできる。   The substrate for the hydraulic transfer film is a water-soluble film such as polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyester such as polybutylene terephthalate (PBT); polypropylene (PP), polycarbonate (PC), polyethylene (PE ), Polystyrene (PS), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride (PVDC), polyamide (PA, nylon), polyimide (PI), polymethyl methacrylate (PMMA), urethane (PU), cellophane, cellulose acetate It can also be used by being laminated with a base material (mounting paper) using a resin film such as an ionomer.

これらの中でも、薄膜化可能で安価な汎用性プラスチックであるポリエチレンテレフタレート(PET)が好ましい。   Among these, polyethylene terephthalate (PET), which is a versatile plastic that can be thinned and is inexpensive, is preferable.

PET等の基材(台紙)の厚みは、適宜調整することができる。通常の使用性の観点から、10〜60μm程度が好ましく、15〜50μm程度がより好ましい。例えば、ハンドリング、コスト等の点で、一般的に38μm程度の厚みを有するPETが好ましい。   The thickness of a substrate (mounting paper) such as PET can be adjusted as appropriate. From the viewpoint of normal usability, about 10 to 60 μm is preferable, and about 15 to 50 μm is more preferable. For example, PET having a thickness of about 38 μm is generally preferable in terms of handling, cost, and the like.

水溶性フィルムにPET等の基材(台紙)を積層した時は、水圧転写フィルム用基材を水面に浮かべる前に前記PET等の基材(台紙)を水溶性フィルムから分離させることが好ましい。或いは、水圧転写フィルム用基材を水面に浮かべた後、水の作用によって水溶性を有する水溶性フィルムから前記PET等の基材(台紙)が分離するように構成しておくことが好ましい。   When a base material (mounting paper) such as PET is laminated on the water-soluble film, the base material (mounting paper) such as PET is preferably separated from the water-soluble film before the hydraulic transfer film base material is floated on the water surface. Alternatively, it is preferable that the substrate (mounting paper) such as PET is separated from the water-soluble film having water solubility by the action of water after the hydraulic transfer film substrate is floated on the water surface.

水圧転写フィルム用基材の厚みは、無電解めっき用水圧転写フィルムの強度維持することができること、素地(非導電性基材)への形状追従性が良く触媒層を良好に転写することができること等の理由がある。また、無電解めっき用水圧転写フィルムのハンドリングやコスト等の点も考慮することができる。   The thickness of the hydraulic transfer film substrate can maintain the strength of the electroless plating hydraulic transfer film, has good shape followability to the substrate (non-conductive substrate), and can transfer the catalyst layer well. There are reasons such as. In addition, handling of the hydraulic transfer film for electroless plating, costs, and the like can be considered.

水圧転写フィルム用基材(水溶性フィルム)は、構成する樹脂をグラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビアリバースロールコーティング法等の公知の手段により、形成することができる。   Hydrostatic transfer film substrate (water-soluble film) is formed by known means such as gravure coating, roll coating, comma coating, gravure printing, screen printing, gravure reverse roll coating, etc. can do.

また、水溶性フィルムを、PET等の基材(台紙)等に、塗布・乾燥させて、積層することも可能である。   It is also possible to laminate a water-soluble film on a base material (mounting paper) such as PET by applying and drying.

触媒層
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層される。
Catalyst layer In the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention, at least a catalyst layer is laminated on a substrate for a hydraulic transfer film.

触媒層は(1)金属粒子と分散剤との複合体(金属複合体)、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子であることを特徴とする。   The catalyst layer comprises (1) a catalyst composition containing a composite of metal particles and a dispersant (metal composite), (2) a solvent, and (3) a binder, and the metal particles are palladium particles, gold particles, silver It is characterized by being particles or platinum particles.

触媒組成物の組成
金属粒子と分散剤との複合体(1)
触媒組成物は、金属粒子と分散剤との複合体を含む。
Composition of catalyst composition
Composite of metal particles and dispersant (1)
The catalyst composition includes a composite of metal particles and a dispersant.

複合体として、パラジウム粒子(Pd粒子)を含むパラジウム複合体(Pd複合体)が好ましい。Pd複合体は、例えばポリカルボン酸系高分子等の分散剤の存在下、塩化パラジウム(塩化Pd)等のパラジウム化合物(Pd化合物)から供給されるパラジウムイオン(Pdイオン)を、ヒドラジンヒドラート等の2級又は3級アミン類で還元することによって得ることができる。   As the complex, a palladium complex (Pd complex) containing palladium particles (Pd particles) is preferable. For example, Pd composites can be prepared from palladium ions (Pd ions) supplied from palladium compounds (Pd compounds) such as palladium chloride (Pd chloride) in the presence of dispersants such as polycarboxylic acid polymers, hydrazine hydrates, etc. Can be obtained by reduction with a secondary or tertiary amine.

分散剤
前記分散剤として、ポリカルボン酸系分散剤、ヒドロキシル基又はカルボキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤等を用いることが好ましい。分散剤は、市販品を使用することもできる。
Dispersant As the dispersant, it is preferable to use a polycarboxylic acid dispersant, a block copolymer type polymer dispersant having a hydroxyl group or a carboxyl group, and the like. A commercial item can also be used for a dispersing agent.

ポリカルボン酸系高分子分散剤として、ポリカルボン酸アンモニウム塩、ポリカルボン酸ナトリウム塩、ポリカルボン酸トリエチルアミン塩、ポリカルボン酸トリエタノールアミン塩等を使用することが好ましい。例えば、サンノプコ(株)製ノプコサントK, R, RFA、ノプコスパース44-C、SNディスパーサント5020, 5027, 5029, 5034, 5045, 5468、花王(株)製デモールP, EP、ポイズ520, 521, 530, 532A等を使用することができる。   As the polycarboxylic acid polymer dispersant, it is preferable to use polycarboxylic acid ammonium salt, polycarboxylic acid sodium salt, polycarboxylic acid triethylamine salt, polycarboxylic acid triethanolamine salt or the like. For example, Nopco Santo K, R, RFA, Nop Cospers 44-C, SN Dispersant 5020, 5027, 5029, 5034, 5045, 5468 manufactured by San Nopco Co., Ltd. 532A etc. can be used.

ヒドロキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤として、ポリオキシエチレンアルキルエーテルカルボン酸塩、アルキルヒドロキシエーテルカルボン酸塩等を使用することが好ましい。例えば、ビックケミー・ジャパン(株)製DISPERBYK190, 2010等を使用することができる。   As the block copolymer type polymer dispersant having a hydroxyl group, polyoxyethylene alkyl ether carboxylate, alkyl hydroxy ether carboxylate or the like is preferably used. For example, DISPERBYK190, 2010 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd. can be used.

カルボキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤として、アクリル酸−マレイン酸共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル酸−スルホン酸共重合体等を使用することが好ましい。例えば、ビックケミー・ジャパン(株)DISPERBYK180, 187, 191, 194、(株)日本触媒製アクアリックTL, GL, LSを使用することができる。   As the block copolymer type polymer dispersant having a carboxyl group, an acrylic acid-maleic acid copolymer, a styrene-maleic acid copolymer, an acrylic acid-sulfonic acid copolymer, or the like is preferably used. For example, Big Chemie Japan Co., Ltd. DISPERBYK180, 187, 191, 194, Nippon Shokubai Co., Ltd. Aquaric TL, GL, LS can be used.

分散剤は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。分散剤の中でも、カルボキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤が好ましい。   A dispersing agent can be used 1 type or in combination of 2 or more types. Among the dispersants, a block copolymer type polymer dispersant having a carboxyl group is preferable.

金属粒子
金属粒子は、無電解めっき触媒として機能するものであり、パラジウム粒子(Pd粒子)、金粒子(Au粒子)、銀粒子(Ag粒子)、白金粒子(Pt粒子)等の貴金属の超微粒子である。金属粒子として、特にPd粒子が好ましい。
Metal particles Metal particles function as an electroless plating catalyst. Ultra fine particles of noble metals such as palladium particles (Pd particles), gold particles (Au particles), silver particles (Ag particles), platinum particles (Pt particles), etc. It is. Pd particles are particularly preferable as the metal particles.

Pd粒子
Pd粒子は、分散剤の存在下、Pd化合物から供給されるPdイオンを、還元剤を用いて還元することによって得ることができる(液相還元法)。
Pd particles
Pd particles can be obtained by reducing Pd ions supplied from a Pd compound using a reducing agent in the presence of a dispersant (liquid phase reduction method).

Pdイオンを供給するPd化合物として、塩化パラジウム(塩化Pd)、硫酸パラジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム、安息香酸パラジウム、サリチル酸パラジウム、パラトルエンスルホン酸パラジウム、過塩素酸パラジウム、ベンゼンスルホン酸パラジウム等を用いることが好ましい。   As a Pd compound that supplies Pd ions, palladium chloride (Pd chloride), palladium sulfate, palladium nitrate, palladium acetate, palladium benzoate, palladium salicylate, palladium paratoluenesulfonate, palladium perchlorate, palladium benzenesulfonate, etc. are used. It is preferable.

Pd化合物は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Pd compounds can be used alone or in combination of two or more.

還元剤として、ヒドラジンヒドラート(ヒドラジン1水和物)、水素化ホウ素ナトリウム、N,Nジメチルエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の1級、2級又は3級アミン類、アスコルビン酸、2,3-ジヒドロキシマレイン酸等のエンジオール類を用いることが好ましい。   As a reducing agent, primary, secondary or tertiary amines such as hydrazine hydrate (hydrazine monohydrate), sodium borohydride, N, N dimethylethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, ascorbic acid, 2, It is preferable to use enediols such as 3-dihydroxymaleic acid.

還元剤としては、N,N-ジアルキルヒドロキシルアミン等のヒドロキシルアミン系化合物類;N,N-ジアルキルヒドラジン等のヒドラジン系化合物類;ハイドロキノン、アミノフェノール等のフェノール類、及びフェニレンジアミン類;2-ヒドロキシアセトン、2-ヒドロキシヘキサン-1,3-ジオン、クエン酸、リンゴ酸等のヒドロキシケトン類やヒドロキシカルボン酸類;アスコルビン酸や2,3-ジヒドロキシマレイン酸等のエンジオール類;ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、N,N-ジメチルエタノールアミン等のアミノアルコール類;1級アミン類、2級アミン類、3級アミン類等の各種アミン類;等を用いることが好ましい。   Examples of the reducing agent include hydroxylamine compounds such as N, N-dialkylhydroxylamine; hydrazine compounds such as N, N-dialkylhydrazine; phenols such as hydroquinone and aminophenol; and phenylenediamines; 2-hydroxy Hydroxy ketones and hydroxycarboxylic acids such as acetone, 2-hydroxyhexane-1,3-dione, citric acid and malic acid; enediols such as ascorbic acid and 2,3-dihydroxymaleic acid; diethanolamine, triethanolamine, It is preferable to use amino alcohols such as N, N-dimethylethanolamine; various amines such as primary amines, secondary amines and tertiary amines;

還元する際に使用される溶媒(分散剤及びPdイオンを存在させるための溶媒)は、次の(2)溶媒を使用することができる。溶媒は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The following (2) solvent can be used for the solvent (solvent for making a dispersing agent and Pd ion exist) used when reducing. A solvent can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

Pdイオンを還元する方法としては、溶媒中に分散剤及びPdイオンを存在させた後、還元剤を前記溶媒中に加える方法が挙げられる。これによりPdイオンと還元剤とが接触し、Pdイオンを還元することができる。   Examples of the method for reducing Pd ions include a method in which a dispersing agent and Pd ions are present in a solvent and then the reducing agent is added to the solvent. Thereby, Pd ion and a reducing agent contact and it can reduce Pd ion.

Pd粒子の多くは、分散剤の外側に付着していると考えられる。例えば、Pd複合体の形状(分散剤全体の形状)が密集した球状である場合、Pd粒子の多くは当該球状の表面側(外側)に付着していると考えられる。   Most of the Pd particles are considered to be attached to the outside of the dispersant. For example, when the shape of the Pd composite (the shape of the entire dispersant) is a dense sphere, it is considered that most of the Pd particles are attached to the spherical surface side (outside).

Pd複合体中のPd粒子と分散剤との重量比は、Pd粒子:分散剤=50:50〜95:5程度が好ましく、Pd粒子:分散剤=65:35〜85:15程度がより好ましい。   The weight ratio of the Pd particles to the dispersant in the Pd composite is preferably about Pd particles: dispersant = 50: 50 to 95: 5, more preferably about Pd particles: dispersant = 65: 35 to 85:15. .

例えば、精製水(89重量部程度)に塩化Pd(1重量部程度)を溶解し、更にクエン酸三ナトリウム(10重量部程度)を溶解して均一に攪拌する。次いで、水素化ホウ素ナトリウム(0.01重量部程度)を添加して、塩Pdを還元させることで、クエン酸で安定し、保護コロイド化されたパラジウムコロイド(Pdコロイド)を得ることができる。その後、限外濾過により濃縮脱塩を行い、Pd(0.5重量部程度)を含有するPdコロイドを得ることができる。   For example, Pd chloride (about 1 part by weight) is dissolved in purified water (about 89 parts by weight), and trisodium citrate (about 10 parts by weight) is further dissolved and stirred uniformly. Subsequently, sodium borohydride (about 0.01 part by weight) is added to reduce the salt Pd, whereby a palladium colloid (Pd colloid) that is stabilized with citric acid and is made into a protective colloid can be obtained. Thereafter, concentration desalting is performed by ultrafiltration to obtain a Pd colloid containing Pd (about 0.5 parts by weight).

Pd粒子単独の平均粒子径は、特に限定されず、2〜10nm程度が好ましい。Pd粒子の粒子径は、透過型電子顕微鏡を用いて測定することが可能である。Pd粒子単独の平均粒子径は、Pd粒子をランダムに10点選択し、そのPd粒子の粒子径を透過型電子顕微鏡で測定して、個数平均することで算出することができる(個数基準平均径)。   The average particle diameter of the Pd particles alone is not particularly limited, and is preferably about 2 to 10 nm. The particle diameter of the Pd particles can be measured using a transmission electron microscope. The average particle size of the Pd particles can be calculated by randomly selecting 10 Pd particles, measuring the particle size of the Pd particles with a transmission electron microscope, and averaging the number (number-based average diameter). ).

Pd複合体の平均粒子径は、特に限定されず、全体としては平均粒子径20〜300nm程度の球形状の構造を有していることが好ましい。Pd複合体の平均粒子径は、粒径アナライザー(大塚電子株式会社、FPAR-1000)で測定することが可能である(重量基準平均径)。   The average particle size of the Pd composite is not particularly limited, and preferably has a spherical structure with an average particle size of about 20 to 300 nm as a whole. The average particle diameter of the Pd composite can be measured with a particle size analyzer (Otsuka Electronics Co., Ltd., FPAR-1000) (weight-based average diameter).

その他の金属粒子
金属粒子として、その他、無電解めっき触媒として機能するものが好ましく、マイクロ波液中プラズマ法で製造される金属粒子、超音波法で製造される金属粒子、気相法(CVDレーザー等)で製造される金属粒子、貴金属担持微粒子等が好ましい。これらの金属粒子として、Pd粒子、Au粒子、Ag粒子、Pt粒子等の貴金属の超微粒子が好ましい。
Other metal particles Other metal particles that function as an electroless plating catalyst are preferable. Metal particles produced by a plasma method in a microwave liquid, metal particles produced by an ultrasonic method, gas phase method (CVD laser) Etc.) and noble metal-supported fine particles are preferred. These metal particles are preferably noble metal ultrafine particles such as Pd particles, Au particles, Ag particles, and Pt particles.

金属粒子がPt粒子である場合、分散剤の存在下、塩化白金(IV)等の白金化合物(Pt化合物、貴金属化合物)から供給される白金イオン(Ptイオン)を、ヒドラジンヒドラート等の2級又は3級アミン類で還元することによって得ることができる。複合体は、分散剤の存在下、Ptイオンを還元することによって得られるものが好ましい。   When the metal particles are Pt particles, platinum ions (Pt ions) supplied from platinum compounds (Pt compounds, noble metal compounds) such as platinum chloride (IV) in the presence of a dispersant are converted to secondary grades such as hydrazine hydrate. Alternatively, it can be obtained by reduction with a tertiary amine. The composite is preferably obtained by reducing Pt ions in the presence of a dispersant.

Ptイオンを供給するPt化合物(貴金属化合物)として、塩化白金(II)、塩化白金(IV)、ヘキサクロリド白金(IV)酸、テトラクロリド白金(II)酸、ヘキサクロリド白金(IV)酸カリウム、テトラクロリド白金(II)酸カリウム、ヘキサクロリド白金(IV)酸アンモニウム、酸化白金(IV)、臭化白金(II)、臭化白金(IV)、水酸化白金(II)、フッ化白金(VI)等を用いることが好ましい。   As Pt compounds (noble metal compounds) that supply Pt ions, platinum chloride (II), platinum chloride (IV), hexachloride platinum (IV) acid, tetrachloride platinum (II) acid, potassium hexachloride platinum (IV) acid, Potassium tetrachloride platinum (II), ammonium hexachloride platinum (IV), platinum (IV) oxide, platinum (II) bromide, platinum (IV) bromide, platinum (II) hydroxide, platinum fluoride (VI Etc.) are preferred.

その他の条件は、前記Pd粒子の場合と同じである。   Other conditions are the same as in the case of the Pd particles.

金属粒子として、特にPd粒子が好ましい。   Pd particles are particularly preferable as the metal particles.

溶媒(2)
触媒組成物は溶媒を含む。
Solvent (2)
The catalyst composition includes a solvent.

溶媒(分散媒)は、金属複合体(Pd複合体等)を分散させることができる。また、溶媒はバインダーとの親和性に優れている。   The solvent (dispersion medium) can disperse the metal complex (Pd complex or the like). Moreover, the solvent is excellent in affinity with the binder.

溶媒は、触媒組成物に含まれる(1)金属粒子と分散剤との複合体(金属複合体)の分散性、(3)バインダーの溶解性等を考慮し、更に触媒組成物の粘度、蒸発速度等の観点で選択することが好ましい。また、触媒組成物が、接着層を介して、非導電性基材(成形品、成型品(ABS樹脂等のプラスチック材料、ガラス板等)と良好に密着する点を満足させることが好ましい。   The solvent is determined by considering the (1) dispersibility of the composite of metal particles and dispersant (metal composite) contained in the catalyst composition, (3) the solubility of the binder, and the viscosity and evaporation of the catalyst composition. It is preferable to select from the viewpoint of speed or the like. Moreover, it is preferable to satisfy the point that the catalyst composition is in good contact with a non-conductive substrate (molded product, molded product (plastic material such as ABS resin, glass plate, etc.)) through the adhesive layer.

具体的には、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(IPA)、1-ブチルアルコール、イソブチルアルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、ジアセトンアルコール(4-ヒドロキシ-4-メチル-2-ペンタノン)、シクロヘキサノン等のケトン類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル等のグリコールエーテル類;安息香酸メチル、安息香酸エチル、サリチル酸メチル等の芳香族カルボン酸エステル類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;n-へキサン、n-へプタン、ミネラルスピリット等の脂肪族炭化水素類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のグリコールエーテルエステル類;酢酸エチル、酢酸ブチル等のアルカノールエステル類;2-フェノキシエタノール(エチレングリコールフェニルエーテル)等を追加で用いることが好ましい。   Specifically, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol (IPA), 1-butyl alcohol, isobutyl alcohol; acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), diacetone alcohol (4-hydroxy-4 -Methyl-2-pentanone), ketones such as cyclohexanone; glycol ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; aromatic carboxylic acid esters such as methyl benzoate, ethyl benzoate and methyl salicylate; toluene, Aromatic hydrocarbons such as xylene; Aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, n-heptane and mineral spirits; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, methyl carbitol acetate Over DOO, glycol ether esters such as butyl carbitol acetate; ethyl acetate, alkanol esters such as ethyl acetate and butyl acetate; 2-phenoxyethanol be used in addition (ethylene glycol phenyl ether) or the like.

特に、印刷性及び塗装性、印刷・塗装後のレベリング過程を考慮して、蒸発速度が遅い溶媒の使用が好ましい。蒸発速度が遅い溶媒として、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート及び2-フェノキシエタノールが例示される。これらの溶媒を用いることが好ましい。   In particular, it is preferable to use a solvent having a low evaporation rate in consideration of printability and paintability, and a leveling process after printing and painting. Examples of the solvent having a low evaporation rate include diacetone alcohol, cyclohexanone, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, methyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, and 2-phenoxyethanol. These solvents are preferably used.

触媒組成物中の金属複合体(Pd複合体等)を良好に分散させることができるという観点から、水及びN-メチルピロリドン等の非プロトン性極性溶媒からなる群から選ばれた少なくとも1種が好ましい。   From the viewpoint that the metal complex (Pd complex etc.) in the catalyst composition can be dispersed well, at least one selected from the group consisting of water and an aprotic polar solvent such as N-methylpyrrolidone is preferable.

非プロトン性極性溶媒として、N-メチルピロリドン(NMP)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)等の非プロトン性極性溶媒;ジメチルスルホキシド;γ-ブチロラクトン等を用いることが好ましい。非プロトン性極性溶媒の中でも、NMP、DMF及びDMAcからなる群から選ばれた少なくとも1種がより好ましい。   As aprotic polar solvents, aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone (NMP), N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc); dimethyl sulfoxide; γ-butyrolactone, etc. It is preferable to use it. Of the aprotic polar solvents, at least one selected from the group consisting of NMP, DMF and DMAc is more preferable.

溶媒は、金属イオン(Pdイオン等)の還元反応後に変換することが可能である。例えば、溶媒を水からNMPに変換することが可能である。   The solvent can be converted after the reduction reaction of metal ions (such as Pd ions). For example, the solvent can be converted from water to NMP.

溶媒は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   A solvent can be used 1 type or in combination of 2 or more types.

触媒組成物中の分散溶媒の含有量(2種以上の溶媒である時は合計量)は、特に限定されず、前記金属複合体(Pd複合体等)100重量部に対して、1×102〜1×106重量部程度が好ましい。前記金属複合体(Pd複合体等)が、分散溶媒中に1重量%程度含まれることが好ましい。分散溶媒は、前記金属複合体(Pd複合体等)100重量部に対して、5×102〜3×105重量部程度がより好ましく、1×103〜2×105重量部程度が更に好ましく、5×103〜2×104重量部程度が特に好ましい。 The content of the dispersion solvent in the catalyst composition (the total amount when two or more solvents are used) is not particularly limited, and is 1 × 10 4 with respect to 100 parts by weight of the metal composite (Pd composite etc.). About 2 to 1 × 10 6 parts by weight is preferable. The metal complex (Pd complex or the like) is preferably contained in about 1% by weight in the dispersion solvent. The dispersion solvent is more preferably about 5 × 10 2 to 3 × 10 5 parts by weight, more preferably about 1 × 10 3 to 2 × 10 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal composite (Pd composite etc.). More preferred is about 5 × 10 3 to 2 × 10 4 parts by weight.

バインダー(3)
触媒組成物はバインダーを含む。
Binder (3)
The catalyst composition includes a binder.

バインダーは、触媒組成物の粘度、触媒組成物と非導電性基材(成形品、成型品(ABS樹脂等のプラスチック材料、ガラス板等))との密着性、硬化条件等の観点から、良好に無電解めっきの反応性が得られるものを選択することが好ましい。バインダーは、前記溶媒に分散又は溶解するものである。   Binder is good from the viewpoint of viscosity of catalyst composition, adhesion between catalyst composition and non-conductive substrate (molded product, molded product (plastic material such as ABS resin, glass plate, etc.)), curing conditions, etc. It is preferable to select a material that can obtain electroless plating reactivity. The binder is dispersed or dissolved in the solvent.

具体的には、アセタール樹脂(POM)、エポキシ樹脂、エステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂(PA、ポリアミド、ナイロン)、イミド樹脂(ポリイミド)、アミドイミド樹脂(PAI、ポリアミドイミド)、シェラック樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、硝化綿、アルキド樹脂、石油樹脂、ロジン系樹脂、スチレン/マレイン酸樹脂、シリコン樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体、アクリルモノマー/オリゴマー及びオレフィン樹脂(ポリオレフィン)等を用いることが好ましい。   Specifically, acetal resin (POM), epoxy resin, ester resin, acrylic resin, urethane resin, amide resin (PA, polyamide, nylon), imide resin (polyimide), amideimide resin (PAI, polyamideimide), shellac resin , Melamine resin, urea resin, nitrified cotton, alkyd resin, petroleum resin, rosin resin, styrene / maleic acid resin, silicone resin, PVC-vinyl acetate copolymer, acrylic monomer / oligomer, olefin resin (polyolefin), etc. It is preferable.

塩ビ-酢ビ共重合体(塩化ビニル・酢酸ビニル系変性樹脂)とは、塩化ビニルと酢酸ビニル等との共重合樹脂である。   The vinyl chloride-vinyl acetate copolymer (vinyl chloride / vinyl acetate modified resin) is a copolymer resin of vinyl chloride and vinyl acetate.

アセタール樹脂(POM)は、ポリビニルアセタール等を用いることが好ましい。ポリビニルアセタールは、ポリビニルアルコールをアルデヒドでアセタール化した樹脂である。アルデヒドとしてホルマリン(ホルムアルデヒド37%水溶液)を用いてアセタール化したものがポリビニルホルマールである。アルデヒドとしてブタノール(ブチルアルコール)でアセタール化したものがポリビニルブチラール(ブチラール樹脂、PVB)である。   As the acetal resin (POM), polyvinyl acetal or the like is preferably used. Polyvinyl acetal is a resin obtained by acetalizing polyvinyl alcohol with an aldehyde. Polyvinyl formal is acetalized using formalin (formaldehyde 37% aqueous solution) as an aldehyde. Acetalized with butanol (butyl alcohol) as an aldehyde is polyvinyl butyral (butyral resin, PVB).

アミド樹脂は、ナイロン6(ε-カプロラクタム)、ナイロン11(ウンデカンラクタム)、ナイロン12(ラウリルラクタム)、ナイロン66(ヘキサメチレンジアミン+アジピン酸)、ナイロン610(ヘキサメチレンジアミン+セバシン酸)、ナイロン6T(ヘキサメチレンジアミン+テレフタル酸)、ナイロン6I(ヘキサメチレンジアミン+イソフタル酸)、ナイロン9T(ノナンジアミン+テレフタル酸)、ナイロンM5T(メチルペンタジアミン+テレフタル酸)、ナイロン612(カプロラクタムとラウリルラクタムとのωアミノ酸同士の共縮重合体)等を用いることが好ましい。   Amide resin is nylon 6 (ε-caprolactam), nylon 11 (undecane lactam), nylon 12 (lauryl lactam), nylon 66 (hexamethylenediamine + adipic acid), nylon 610 (hexamethylenediamine + sebacic acid), nylon 6T (Hexamethylenediamine + terephthalic acid), nylon 6I (hexamethylenediamine + isophthalic acid), nylon 9T (nonanediamine + terephthalic acid), nylon M5T (methylpentadiamine + terephthalic acid), nylon 612 (caprolactam and lauryl lactam ω It is preferable to use a co-condensation polymer of amino acids) or the like.

アミドイミド樹脂とは、ポリイミド主鎖にアミド結合を導入した樹脂であり、無水トリメリット酸とジイソシアネートとの反応や無水トリメリット酸クロライドとジアミンとの反応等で得られる樹脂を用いることが好ましい。   The amidoimide resin is a resin in which an amide bond is introduced into the polyimide main chain, and it is preferable to use a resin obtained by a reaction between trimellitic anhydride and diisocyanate, a reaction between trimellitic anhydride chloride and diamine, or the like.

エポキシ樹脂を用いることが好ましい。エポキシ樹脂を使用することにより、ABS樹脂等を含む物品上に無電解めっき用塗膜をより強固に密着させることができる。エポキシ樹脂は、無電解めっき用塗膜を構成する高分子母材(マトリックス樹脂)となる。   It is preferable to use an epoxy resin. By using an epoxy resin, an electroless plating coating film can be more firmly adhered to an article containing an ABS resin or the like. The epoxy resin becomes a polymer base material (matrix resin) constituting the coating film for electroless plating.

エポキシ樹脂は、1液性又は2液性エポキシ樹脂のいずれを用いることができる。エポキシ樹脂は、変性エポキシ樹脂を包含する。   As the epoxy resin, either a one-component or two-component epoxy resin can be used. Epoxy resins include modified epoxy resins.

1液性エポキシ樹脂として、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ノボラック型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、グリシジルエステル型、グリシジルエーテル型、ビフェニル型等を用いることが好ましい。   As the one-component epoxy resin, it is preferable to use bisphenol A type, bisphenol F type, novolak type, phenol novolak type, cresol novolak type, glycidyl ester type, glycidyl ether type, biphenyl type and the like.

1液性エポキシ樹脂は、例えば、DIC(株)製EPICLON830, 830-S, 835, 840, 840-S, 850, 850-S, N-730A, N-740A, N-770, N-775;ナガセケムテックス(株)製XNR-3053, XNR3505, XN1244, XN1278;荒川化学工業(株)製アラキード9201N, 9203N, 9205, 9208、モデピクス301,302,401;東亞合成(株)製アロンマイティAP-0786, AS-60, BX-60, AS-315等の市販されている商品を使用することができる。   Examples of the one-component epoxy resin include EPICLON830, 830-S, 835, 840, 840-S, 850, 850-S, N-730A, N-740A, N-770, and N-775 manufactured by DIC Corporation; Nagase ChemteX Co., Ltd. XNR-3053, XNR3505, XN1244, XN1278; Arakawa Chemical Industries Arakid 9201N, 9203N, 9205, 9208, Modix 301,302,401; Toagosei Co., Ltd. Aron Mighty AP-0786, AS- Commercially available products such as 60, BX-60, AS-315 can be used.

2液性エポキシ樹脂としては、前記エポキシ樹脂を本剤とする樹脂を使用することができる。本剤と共に使用する硬化剤として、ポリアミド、ポリアミン、ポリアミドアミン、ケチミン、イミダゾール、ジアミン、ジアミンジアミド、テトラヒドロフタル酸無水物等を用いることが好ましい。   As the two-component epoxy resin, a resin containing the above epoxy resin as a main agent can be used. As the curing agent used with this agent, it is preferable to use polyamide, polyamine, polyamidoamine, ketimine, imidazole, diamine, diaminediamide, tetrahydrophthalic anhydride and the like.

2液性エポキシ樹脂の本剤は、例えば、三菱化学(株)製jER-806, 807, 825, 827, 828, 1256, 4250, 4275, W2821R70;(株)ADEKA製アデカレジンEP-4100HF, EP-4088S, EPR-4030;ナガセケムテックス(株)製AV138-HV998, XNR3106-XNH3103;東亞合成(株)製アロンマイティAP-400BD等の市販されている商品を使用することができる。   The two-part epoxy resin is, for example, jER-806, 807, 825, 827, 828, 1256, 4250, 4275, W2821R70 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; Adeka Resin EP-4100HF, EP- manufactured by ADEKA Corporation Commercially available products such as 4088S, EPR-4030; AV138-HV998, XNR3106-XNH3103 manufactured by Nagase ChemteX Corporation; Aronmite AP-400BD manufactured by Toagosei Co., Ltd. can be used.

2液性エポキシ樹脂の硬化剤は、例えば、DIC(株)製ラッカマイド17-202, TD-961, TD-977, TD-992, WN-155, WN-170, WN-405, WN-505;三菱化学(株)製jERキュア-ST11, ST12, St13, ST14, LV11, DC11, RC11, FL11, QX11, H3, WD11M60;(株)ADEKA製アデカハードナーEH-3636AS, EH-5010S,EH-5015S; 日立化成(株)HN-2200, HN-2000, HN-5500;T&K TOKA(株)製トーマイド245, 275, 210, 241, フジキュア-5000, FXS-654, FXS-8077等の市販されている商品を使用することができる。   Examples of the curing agent for the two-component epoxy resin include lacamide 17-202, TD-961, TD-977, TD-992, WN-155, WN-170, WN-405, and WN-505 manufactured by DIC Corporation; Mitsubishi Chemical Corporation jER Cure-ST11, ST12, St13, ST14, LV11, DC11, RC11, FL11, QX11, H3, WD11M60; ADEKA Adeka Hardener EH-3636AS, EH-5010S, EH-5015S; Commercial products such as Hitachi Chemical Co., Ltd. HN-2200, HN-2000, HN-5500; T & K TOKA Co., Ltd. tomide 245, 275, 210, 241, Fuji Cure-5000, FXS-654, FXS-8077 Can be used.

エポキシ樹脂として、作業性、経時安定性等の観点から、1液性エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、1種又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The epoxy resin is preferably a one-component epoxy resin from the viewpoints of workability, stability over time, and the like. Epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂の硬化温度は、60〜200℃が好ましく、80℃〜150℃が更に好ましい。   The curing temperature of the epoxy resin is preferably 60 to 200 ° C, more preferably 80 to 150 ° C.

アミド樹脂は、ナイロン6(ε-カプロラクタム)、ナイロン11(ウンデカンラクタム)、ナイロン12(ラウリルラクタム)、ナイロン66(ヘキサメチレンジアミン+アジピン酸)、ナイロン610(ヘキサメチレンジアミン+セバシン酸)、ナイロン6T(ヘキサメチレンジアミン+テレフタル酸)、ナイロン6I(ヘキサメチレンジアミン+イソフタル酸)、ナイロン9T(ノナンジアミン+テレフタル酸)、ナイロンM5T(メチルペンタジアミン+テレフタル酸)、ナイロン612(カプロラクタムとラウリルラクタムとのωアミノ酸同士の共縮重合体)等を用いることが好ましい。   Amide resin is nylon 6 (ε-caprolactam), nylon 11 (undecane lactam), nylon 12 (lauryl lactam), nylon 66 (hexamethylenediamine + adipic acid), nylon 610 (hexamethylenediamine + sebacic acid), nylon 6T (Hexamethylenediamine + terephthalic acid), nylon 6I (hexamethylenediamine + isophthalic acid), nylon 9T (nonanediamine + terephthalic acid), nylon M5T (methylpentadiamine + terephthalic acid), nylon 612 (caprolactam and lauryl lactam ω It is preferable to use a co-condensation polymer of amino acids) or the like.

アミドイミド樹脂とは、ポリイミド主鎖にアミド結合を導入した樹脂であり、無水トリメリット酸とジイソシアネートとの反応や無水トリメリット酸クロライドとジアミンとの反応等で得られる樹脂を用いることが好ましい。   The amidoimide resin is a resin in which an amide bond is introduced into the polyimide main chain, and it is preferable to use a resin obtained by a reaction between trimellitic anhydride and diisocyanate, a reaction between trimellitic anhydride chloride and diamine, or the like.

アクリル樹脂は、アクリル酸エステルの重合体若しくはメタクリル酸エステルの重合体又はこれらをコモノマーとする共重合体であり、例えばポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリアクリル酸メチル樹脂、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体等を用いることが好ましい。   The acrylic resin is a polymer of an acrylate ester or a polymer of a methacrylic ester or a copolymer using these as a comonomer, for example, a polymethyl methacrylate resin, a polymethyl acrylate resin, an ethylene-methyl acrylate copolymer. It is preferable to use ethylene-methyl methacrylate copolymer.

バインダーは、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、エステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、アミドイミド樹脂、シェラック樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体及びオレフィン樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種が好ましい。バインダーは、2種以上を組み合わせて使用することができる。   The binder is selected from the group consisting of acetal resin, epoxy resin, ester resin, acrylic resin, urethane resin, amide resin, imide resin, amideimide resin, shellac resin, melamine resin, urea resin, PVC-vinyl acetate copolymer and olefin resin. At least one selected is preferred. Two or more binders can be used in combination.

バインダーの含有量は、金属複合体(Pd複合体等)100重量部に対して、1〜1×105重量部程度が好ましく、50〜5×104重量部程度がより好ましい。 The content of the binder is preferably about 1 to 1 × 10 5 parts by weight and more preferably about 50 to 5 × 10 4 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal composite (Pd composite or the like).

バインダーは、その固形分比は1〜50重量%程度であることが好ましい。   The binder preferably has a solid content ratio of about 1 to 50% by weight.

前記バインダーは、本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、水圧転写技術により、無電解めっき物を製造する方法において、適切である。   The binder is suitable in a method for producing an electroless plating product by a hydraulic transfer technique using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、無電解めっき物を製造する方法は、
(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程、
(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程、
(3)転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程、
(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程、及び
(5)露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
を含む。
Using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention, a method for producing an electroless plated product is as follows:
(1) A step of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the water surface, and dissolving the hydraulic transfer film substrate;
(2) A step of spraying a solvent onto the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating,
(3) Adhering the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating to the transfer substrate, and fixing the catalyst layer to the transfer substrate;
(4) a step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed and exposing the catalyst layer; and (5) a step of performing electroless plating on the exposed catalyst layer.

前記バインダーは、特に、無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤(有機溶剤、活性化剤)を吹き付ける際に(工程(2))、その溶剤により軟化・溶解し易く、その状態を比較的長い時間維持することができる。   In particular, when the solvent (organic solvent, activator) is sprayed on the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film (step (2)), the binder is easily softened and dissolved by the solvent, and the state is as follows. It can be maintained for a relatively long time.

前記バインダーは、特に、転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる(工程(3))際に、その溶解した面で、無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側が転写被基材に接着し易く、転写被基材に触媒層を定着し易い。   In particular, the binder is bonded to the transfer substrate when the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film is adhered, and the catalyst layer is fixed to the transfer substrate (step (3)). The catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film is easy to adhere to the transfer substrate, and the catalyst layer is easily fixed to the transfer substrate.

触媒組成物の製造方法
金属粒子(Pd粒子等)は、前述の通り、分散剤の存在下、金属化合物(Pd化合物等)から供給される金属イオン(Pdイオン等)を、還元剤を用いて還元することによって得ることができる。
Production method of catalyst composition As described above, metal particles (Pd particles, etc.) are prepared by using, as a reducing agent, metal ions (Pd ions, etc.) supplied from metal compounds (Pd compounds, etc.) in the presence of a dispersant. It can be obtained by reduction.

触媒組成物は、
(i)(2)溶媒中に、金属イオン(Pdイオン等)と分散剤とを存在させ、還元剤を用いてその金属イオン(Pdイオン等)を還元し、(1)金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体を作製する工程、
(ii)(2)溶媒中に、(3)バインダーを混合して混合物を作製する工程、並びに、
(iii)前記工程(i)で得られた(2)溶媒及び(1)金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体の混合物に、前記工程(ii)で得られた(2)溶媒及び(3)バインダーの混合物を混合する工程、
を含む製造方法により製造することが好ましい。
The catalyst composition is
(I) (2) A metal ion (Pd ion, etc.) and a dispersant are present in a solvent, and the metal ion (Pd ion, etc.) is reduced using a reducing agent. (1) Metal particles (Pd particles) Etc.) and a composite of a dispersant,
(Ii) (2) in a solvent, (3) a step of mixing a binder to produce a mixture, and
(Iii) (2) obtained in the step (ii) to the mixture of the complex of (2) the solvent obtained in the step (i) and (1) metal particles (Pd particles, etc.) and the dispersant. Mixing a solvent and (3) a mixture of binders;
It is preferable to manufacture by the manufacturing method containing.

工程(i)及び工程(ii)は、どちらが先の工程であっても良い。   Either step (i) or step (ii) may be the previous step.

前記製造方法によれば、転写技術で利用するめっき転写フィルムに適用できる触媒組成物を製造することができる。   According to the said manufacturing method, the catalyst composition applicable to the plating transfer film utilized with a transfer technique can be manufactured.

このめっき転写フィルムを用いて、非導電性基材に触媒層(触媒組成物)及びめっき皮膜を形成(露出)させることができる。   Using this plating transfer film, a catalyst layer (catalyst composition) and a plating film can be formed (exposed) on a non-conductive substrate.

本発明の触媒組成物は、めっき(無電解めっき又は電解めっき)の反応性が高く、めっきとの密着性が良好であり、良好な平滑性を発現できるめっき皮膜が形成することが可能である。   The catalyst composition of the present invention is highly reactive in plating (electroless plating or electrolytic plating), has good adhesion to plating, and can form a plating film that can exhibit good smoothness. .

めっき転写フィルムにより、更に、非導電性基材(成形品、成型品(ABS樹脂等のプラスチック材料、ガラス板等)上にパターンの拡がりを抑えつつ、部分めっきを形成することが可能である。めっき転写フィルムを用いると、更に、有害な物質によるエッチング工程、煩雑な触媒付与工程等を必要としない。   With the plating transfer film, it is possible to form a partial plating while suppressing the spread of the pattern on a non-conductive substrate (molded product, molded product (plastic material such as ABS resin, glass plate, etc.)). When a plating transfer film is used, an etching process using a harmful substance, a complicated catalyst application process, and the like are not required.

工程(i)
(2)溶媒中に、金属イオン(Pdイオン等)と分散剤とを存在させ、還元剤を用いてそのPdイオンを還元し、(1)金属粒子(Pd粒子)と分散剤との複合体を作製する。
Process (i)
(2) A metal ion (Pd ion, etc.) and a dispersant are present in a solvent, and the Pd ion is reduced using a reducing agent. (1) A complex of metal particles (Pd particles) and a dispersant. Is made.

先ず、金属イオン(Pdイオン等)と分散剤とを溶媒(分散媒)中に存在させる。金属イオン(Pdイオン等)として、供給源として前記金属イオン(Pdイオン)を供給する金属化合物(Pd化合物等)を使用することができる。   First, a metal ion (Pd ion or the like) and a dispersant are present in a solvent (dispersion medium). As a metal ion (Pd ion or the like), a metal compound (Pd compound or the like) that supplies the metal ion (Pd ion) as a supply source can be used.

各成分の使用量(重量部)は「金属化合物(Pd化合物等)」基準とする。   Use amount (parts by weight) of each component is based on “metal compound (Pd compound, etc.)”.

分散剤として、前記分散剤を使用することができる。金属イオン(Pdイオン等)と分散剤との使用比率(重量比)は、金属化合物(Pd化合物等)100重量部に対して、分散剤を10〜200重量部程度使用することが好ましく、30〜150重量部程度がより好ましく、50〜100重量部程度が更に好ましい。   As the dispersant, the dispersant can be used. The use ratio (weight ratio) between the metal ions (Pd ions, etc.) and the dispersant is preferably about 10-200 parts by weight of the dispersant with respect to 100 parts by weight of the metal compound (Pd compound, etc.), 30 About 150 parts by weight is more preferable, and about 50-100 parts by weight is even more preferable.

溶媒として、前記(2)溶媒を使用することができる。溶媒の使用量は、金属イオン(Pdイオン等)と分散剤を均一に存在させることができれば特に限定されず、金属化合物(Pd化合物等)100重量部に対して、1×104〜3×105重量部程度が好ましく、1×104〜1×105重量部程度がより好ましい。 As the solvent, the solvent (2) can be used. The amount of the solvent used is not particularly limited as long as the metal ions (Pd ions, etc.) and the dispersant can be uniformly present, and 1 × 10 4 to 3 × with respect to 100 parts by weight of the metal compound (Pd compound, etc.). About 10 5 parts by weight is preferable, and about 1 × 10 4 to 1 × 10 5 parts by weight is more preferable.

次に、金属イオン(Pdイオン等)と還元剤とを反応させることにより、金属イオン(Pdイオン等)が還元剤によって還元される。即ち、金属イオン(Pdイオン等)の還元反応が生じ、結果として前記(1)金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体(金属複合体(Pd複合体等))を得ることができる。その還元剤として、前記金属複合体(Pd複合体等)を作製するために使用される還元剤を使用することができる。還元剤の使用量は、特に限定されず、金属化合物(Pd化合物等)100重量部に対して、100〜800重量部程度が好ましく、200〜600重量部程度がより好ましい。   Next, a metal ion (Pd ion or the like) is reduced by the reducing agent by reacting the metal ion (Pd ion or the like) with a reducing agent. That is, a reduction reaction of metal ions (Pd ions, etc.) occurs, and as a result, a complex (metal complex (Pd complex, etc.)) of the above-mentioned (1) metal particles (Pd particles, etc.) and a dispersant can be obtained. it can. As the reducing agent, a reducing agent used for producing the metal complex (Pd complex or the like) can be used. The amount of the reducing agent to be used is not particularly limited, and is preferably about 100 to 800 parts by weight, more preferably about 200 to 600 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the metal compound (Pd compound or the like).

還元剤を用いる反応は、35〜45℃程度の温度で行うことが好ましく、50〜60℃程度まで昇温することが好ましい。反応時間は、特に限定されず、1〜5時間程度とすることが好ましい。   The reaction using the reducing agent is preferably carried out at a temperature of about 35 to 45 ° C, and preferably raised to about 50 to 60 ° C. The reaction time is not particularly limited, and is preferably about 1 to 5 hours.

反応の際の圧力及び雰囲気は、特に限定されず、大気圧下又は大気(空気)雰囲気下で行うことが好ましい。反応はビーカー等の開放系で行うことができる。反応方法として、金属イオン(Pdイオン等)(金属化合物(Pd化合物等))、分散剤及び還元剤を含有する溶液を羽根付き撹拌棒で撹拌することが好ましい。   The pressure and atmosphere during the reaction are not particularly limited, and the reaction is preferably performed under atmospheric pressure or air (air) atmosphere. The reaction can be carried out in an open system such as a beaker. As a reaction method, it is preferable to stir a solution containing a metal ion (Pd ion or the like) (metal compound (Pd compound or the like)), a dispersant and a reducing agent with a bladed stirring rod.

溶媒及び金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体を含む混合物(金属複合体含有液(Pd複合体含有液等))を限外濾過し、金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体を分離することが好ましい。この操作により、金属複合体含有液(Pd複合体含有液等)に含まれる無機塩や過剰の分散剤等を除去することができる。例えば、Pd複合体含有液に対して濾過処理を行い、分散溶媒を補填することが可能である。この処理は、操作を繰り返すことができる。   A mixture containing a complex of a solvent and metal particles (Pd particles, etc.) and a dispersant (metal complex-containing liquid (Pd complex-containing liquid, etc.)) is ultrafiltered to obtain metal particles (Pd particles, etc.) and a dispersant. It is preferable to separate the complex. By this operation, it is possible to remove inorganic salts, excess dispersants, and the like contained in the metal complex-containing liquid (Pd complex-containing liquid and the like). For example, the Pd complex-containing liquid can be filtered to make up for the dispersion solvent. This process can be repeated.

金属イオン(Pdイオン等)の還元反応後に溶媒を変換することが可能である。例えば、前記溶媒として水を使用し、その後、前記水をNMP等(溶媒、分散媒)に変換することにより、NMP((2)溶媒)及び(1)金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体の混合物を作製することが可能である。   It is possible to convert the solvent after the reduction reaction of metal ions (Pd ions, etc.). For example, by using water as the solvent and then converting the water to NMP or the like (solvent, dispersion medium), NMP ((2) solvent) and (1) metal particles (Pd particles etc.) and dispersant It is possible to make a mixture of

工程(ii)
(2)溶媒中に、(3)バインダーを混合して混合物を作製する。
Step (ii)
(2) A mixture is prepared by mixing (3) a binder in a solvent.

溶媒として、前記2-フェノキシエタノール、ジアセトンアルコール、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の(2)溶媒を使用することができる。溶媒の使用量は特に限定されない。   As the solvent, (2) solvent such as 2-phenoxyethanol, diacetone alcohol, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and the like can be used. The amount of solvent used is not particularly limited.

バインダーとして、前記(3)バインダーを使用することができる。バインダーの使用量は、触媒組成物の粘度を考慮することがこのましい。また、接着層を介して、触媒組成物と非導電性基材(ABS樹脂、ガラス板等)との密着性、硬化条件等を考慮することが好ましい。   As the binder, the above (3) binder can be used. It is preferable that the amount of the binder used considers the viscosity of the catalyst composition. Moreover, it is preferable to consider the adhesiveness between the catalyst composition and the non-conductive substrate (ABS resin, glass plate, etc.), curing conditions, and the like via the adhesive layer.

混合は、特に限定されず、大気圧下又は大気(空気)雰囲気下で行うことが好ましい。混合はビーカー等の開放系で行うことができる。混合方法として、溶媒及びバインダーを含有する混合物を羽根付き撹拌棒で撹拌することが好ましい。   The mixing is not particularly limited, and it is preferable to perform the mixing under atmospheric pressure or air (air) atmosphere. Mixing can be performed in an open system such as a beaker. As a mixing method, it is preferable to stir the mixture containing the solvent and the binder with a bladed stirring rod.

工程(iii)
前記工程(i)で得られた(2)溶媒及び(1)金属粒子(Pd粒子等)と分散剤との複合体の混合物に、前記工程(ii)で得られた(2)溶媒及び(3)バインダーの混合物を混合する。
Step (iii)
(2) The solvent obtained in the step (ii) and the mixture of the complex of (2) the solvent obtained in the step (i) and (1) the metal particles (Pd particles etc.) and the dispersant 3) Mix the binder mixture.

(4) 無電解めっき用水圧転写フィルムの製造方法
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、
(1)水圧転写フィルム用基材上に、触媒組成物を塗布し、触媒層を設ける工程、
を経ることで、製造することができる。
(4) Method for producing hydraulic transfer film for electroless plating The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention is:
(1) A step of applying a catalyst composition on a hydraulic transfer film substrate and providing a catalyst layer;
It can manufacture by going through.

水圧転写フィルム用基材
前記水圧転写フィルム用基材は、前述の通り、水溶性フィルムからなる基材であることが好ましい。水溶性フィルムは、水溶性又は水膨潤性を有するものであれば良い。
As described above, the hydraulic transfer film substrate is preferably a substrate made of a water-soluble film. The water-soluble film should just be water-soluble or water-swellable.

前記水溶性フィルムを構成する樹脂は、前述の通り、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、アセチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸アミド、ポリアクリル酸ナトリウム、アセチルブチルセルロース、ゼラチン、にかわ、アルギン酸ナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、カゼイン、シェラック、アラビアゴム、澱粉、蛋白質、メチルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリエチレンオキサイド及び酢酸ビニルとイタコン酸との共重合体、からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂であることが好ましい。   As described above, the resin constituting the water-soluble film is polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl methyl ether, acetyl cellulose, polyacrylamide, polyacrylic acid amide, sodium polyacrylate, acetylbutyl cellulose, gelatin, glue, sodium alginate. , Methylcellulose, hydroxyethylcellulose, carboxymethylcellulose, dextrin, casein, shellac, gum arabic, starch, protein, copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polyethylene oxide and copolymer of vinyl acetate and itaconic acid It is preferably at least one resin selected from the group.

その他、水圧転写フィルム用基材については、前述の通りである。   In addition, about the base material for hydraulic transfer films, it is as above-mentioned.

触媒層の形成
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムは、水圧転写フィルム用基材上に、触媒組成物を塗布し、触媒層を設けることで、製造することができる。
Formation of Catalyst Layer The hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention can be produced by applying a catalyst composition on a hydraulic transfer film substrate and providing a catalyst layer.

水圧転写技術により、この転写フィルムを素地(非導電性基材、成形品又は成型品)に貼り付け、素地に触媒層を露出させ、次いで無電解めっきにより、成形品又は成型品に無電解めっき皮膜を形成することができる。   This transfer film is applied to the substrate (non-conductive substrate, molded product or molded product) by hydraulic transfer technology, the catalyst layer is exposed on the substrate, and then electroless plating is applied to the molded product or molded product. A film can be formed.

触媒層を形成する触媒組成物を、グラビアコート法、ロールコート法、コンマコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、グラビアリバースロールコーティング法等の公知の手段により、水圧転写フィルム用基材上に、塗布・乾燥させて、触媒層を形成することができる。   The catalyst composition for forming the catalyst layer is applied onto the substrate for a hydraulic transfer film by a known means such as a gravure coating method, a roll coating method, a comma coating method, a gravure printing method, a screen printing method, or a gravure reverse roll coating method. The catalyst layer can be formed by coating and drying.

塗布には、バーコーター、グラビア印刷機(グラビアオフセット)、フレキソ印刷機、インクジェット印刷機、ディッピング、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、リバースコーター、スクリーン印刷機等を用いることができる。   For coating, a bar coater, a gravure printing machine (gravure offset), a flexographic printing machine, an ink jet printing machine, dipping, spraying, a spin coater, a roll coater, a reverse coater, a screen printing machine or the like can be used.

マスキングレスや生産効率の観点ではグラビアオフセット印刷やパッド印刷が好ましい。   Gravure offset printing and pad printing are preferable from the viewpoint of masking-less and production efficiency.

パターンによってはスプレー塗装が好ましい。   Depending on the pattern, spray coating is preferred.

塗布方法に合わせて、触媒組成物の粘度を調整することが好ましい。   It is preferable to adjust the viscosity of the catalyst composition in accordance with the coating method.

グラビアオフセット印刷やパッド印刷にて塗布する場合、触媒組成物の粘度は50〜1,000mPa・s程度が好ましい。マスキングを施した上で、スプレー塗装する場合、触媒組成物の粘度は100mPa・s程度以下が好ましい。   When applied by gravure offset printing or pad printing, the viscosity of the catalyst composition is preferably about 50 to 1,000 mPa · s. When spray coating is performed after masking, the viscosity of the catalyst composition is preferably about 100 mPa · s or less.

触媒層の厚みは、良好に無電解めっきを行い、素地にめっき皮膜を良好に形成することができること等から、0.01〜10μm程度が好ましく、0.02〜8μm程度がより好ましく、0.03〜5μm程度が更に好ましく、0.05μm(50nm)〜2μm程度が特に好ましい。   The thickness of the catalyst layer is preferably about 0.01 to 10 μm, more preferably about 0.02 to 8 μm, and more preferably about 0.03 to 5 μm because electroless plating can be satisfactorily performed and a plating film can be satisfactorily formed on the substrate. A thickness of about 0.05 μm (50 nm) to 2 μm is particularly preferable.

触媒層に対して、無電解めっきを施すことで素地に目的とする意匠を表現することができる。   By applying electroless plating to the catalyst layer, the target design can be expressed on the substrate.

乾燥及び硬化前の触媒組成物の膜厚は、使用用途によって適宜選択することができ、触媒組成物の粘度に依存する。その膜厚は、触媒組成物を良好に塗布できる観点から、1〜120μm程度が好ましい。その膜厚が120μmを超えると、触媒組成物が液垂れを引き起こす傾向がある。   The film thickness of the catalyst composition before drying and curing can be appropriately selected depending on the intended use, and depends on the viscosity of the catalyst composition. The film thickness is preferably about 1 to 120 μm from the viewpoint of satisfactorily applying the catalyst composition. When the film thickness exceeds 120 μm, the catalyst composition tends to cause dripping.

硬化処理
水圧転写フィルム用基材に触媒組成物を塗布した後、触媒組成物に含まれる溶媒(溶剤)を揮発及び/又は乾燥させ、次いで硬化処理を行う。
After the catalyst composition is applied to the substrate for the curing treatment hydraulic transfer film, the solvent (solvent) contained in the catalyst composition is volatilized and / or dried, and then the curing treatment is performed.

硬化処理により、バインダーが硬化される。   The binder is cured by the curing process.

水圧転写フィルム用基材に触媒組成物を塗布した後、乾燥処理を行うことができる。乾燥処理によって、無電解めっきを行う際に不必要な溶媒を効率的に除去するとともに、塗膜と基材との密着性及び塗膜の表面強度を向上させることができる。乾燥処理の温度は、60〜400℃程度が好ましく、80〜150℃程度がより好ましい。乾燥処理の時間は、乾燥温度に合わせて、6秒〜60分程度が好ましく、10分〜30分程度がより好ましい。   After apply | coating a catalyst composition to the base material for hydraulic transfer films, a drying process can be performed. The drying treatment can efficiently remove an unnecessary solvent when performing electroless plating, and can improve the adhesion between the coating film and the substrate and the surface strength of the coating film. The temperature for the drying treatment is preferably about 60 to 400 ° C, more preferably about 80 to 150 ° C. The time for the drying treatment is preferably about 6 seconds to 60 minutes, more preferably about 10 minutes to 30 minutes, in accordance with the drying temperature.

硬化処理の温度は触媒組成物に含まれる前記(3)バインダーの種類に合わせて調整することができる。硬化処理の温度は40〜400℃程度が好ましい。また、基材としてプラスチックを用いる場合、プラスチック素材の軟化温度を考慮し、硬化処理の温度を40〜200℃程度に設定することが好ましい。   The temperature of the curing treatment can be adjusted according to the type of the (3) binder contained in the catalyst composition. The temperature of the curing treatment is preferably about 40 to 400 ° C. Moreover, when using a plastic as a base material, it is preferable to set the temperature of a hardening process to about 40-200 degreeC in consideration of the softening temperature of a plastic raw material.

乾燥及び硬化後の触媒組成物の膜厚は、触媒組成物の固形分濃度に依存する。その膜厚は、無電解めっきを効率良く行うことができ、十分なめっき密着性が発揮されるという点から、0.05〜20μm程度が好ましい。その膜厚が0.05μm未満であっても、無電解めっきの反応性を得ることができるが、めっき密着性については十分に発揮されない傾向がある。その膜厚が20μmを超えると、無電解めっきの反応速度が劣る傾向がある。   The film thickness of the catalyst composition after drying and curing depends on the solid content concentration of the catalyst composition. The film thickness is preferably about 0.05 to 20 μm from the viewpoint that electroless plating can be efficiently performed and sufficient plating adhesion is exhibited. Even if the film thickness is less than 0.05 μm, the electroless plating reactivity can be obtained, but the plating adhesion tends not to be sufficiently exhibited. When the film thickness exceeds 20 μm, the reaction rate of electroless plating tends to be inferior.

触媒組成物に含まれる溶媒を揮発及び/又は乾燥させ、触媒組成物に含まれるバインダーを硬化させる。   The solvent contained in the catalyst composition is volatilized and / or dried, and the binder contained in the catalyst composition is cured.

水圧転写フィルム用基材上に触媒層(触媒膜)を形成することができる。触媒層には、金属複合体(Pd複合体等)が含まれる。金属複合体(Pd複合体等)は、塗膜に対して均一に分散された状態で存在する。そのため、触媒膜上に対して、より効率的に無電解めっきを行うことができる。   A catalyst layer (catalyst film) can be formed on the hydraulic transfer film substrate. The catalyst layer includes a metal complex (Pd complex or the like). A metal complex (Pd complex etc.) exists in the state uniformly disperse | distributed with respect to the coating film. Therefore, electroless plating can be performed more efficiently on the catalyst film.

素地(非導電性基材)に露出した触媒層に対して、無電解めっきを行うことで、無電解めっき物を製造することができる。その無電解めっきにより、素地(成形品又は成型品)に意匠性を付与することができる。素地に、模様、文字、パターン状の絵柄等を表現するための層である。素地に、例えば、木目、石目、布目、砂目、幾何学模様、文字、ストライプ状、グラデーションの絵柄等を付与することができる。   An electroless plated product can be produced by performing electroless plating on the catalyst layer exposed on the substrate (non-conductive substrate). By the electroless plating, design properties can be imparted to the substrate (molded product or molded product). It is a layer for expressing patterns, characters, pattern-like patterns, etc. on the substrate. For example, wood, stone, cloth, sand, geometric patterns, characters, stripes, gradation patterns and the like can be given to the substrate.

(5)めっきを形成する方法(水圧転写技術、図3)
本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、
(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程、
(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程、
(3)転写被基材(素地、非導電性基材、成形品等)に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程、及び
(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程、
を経ることで、水圧転写技術により、素地(非導電性基材)に触媒層が設けられる。
(5) Method of forming plating (hydraulic transfer technology, Fig. 3)
Using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention,
(1) A step of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the water surface, and dissolving the hydraulic transfer film substrate;
(2) A step of spraying a solvent onto the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating,
(3) Adhering the catalyst layer side of a hydraulic transfer film for electroless plating to a transfer substrate (substrate, non-conductive substrate, molded product, etc.), and fixing the catalyst layer to the transfer substrate; 4) A step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed to expose the catalyst layer,
Through this, the catalyst layer is provided on the substrate (non-conductive substrate) by the hydraulic transfer technique.

触媒層は、素地に設けれ、無電解めっきを行うための層である。   The catalyst layer is a layer for performing electroless plating provided on the substrate.

次いで、(5)その露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
を経ることで、無電解めっき物を製造することができる。
Next, (5) an electroless plated product can be manufactured by performing a process of performing electroless plating on the exposed catalyst layer.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用い、水圧転写技術により、非導電性基材に滑らかな無電解めっき皮膜を形成させることができる   By using the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention, a smooth electroless plating film can be formed on a non-conductive substrate by hydraulic transfer technology.

(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程
無電解めっき用水圧転写フィルムを、触媒層を上にして、水圧転写フィルム用基材側を下にして水に浮かべ、有機溶剤により触媒層を活性化し(活性化は水に浮かべる前に行っても良い)、触媒層を被転写体に転写し、支持体を除去する。
(1) The process of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the surface of the water and dissolving the hydraulic transfer film substrate with the catalyst layer facing upward, the hydraulic pressure Float in water with the transfer film substrate side down, activate the catalyst layer with an organic solvent (activation may be performed before floating in water), transfer the catalyst layer to the transfer target, Remove.

具体的には、無電解めっき用水圧転写フィルムを、水圧転写フィルム用基材側を下にして水槽中の水に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を水で溶解若しくは膨潤させる。   Specifically, the hydraulic transfer film for electroless plating is floated on the water in the water tank with the hydraulic transfer film substrate side down, and the hydraulic transfer film substrate is dissolved or swollen with water.

(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程
無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤(有機溶剤、活性化剤)を吹き付けることで、触媒層を活性化させる。触媒層に活性化剤となる有機溶剤を塗布又は噴霧する。触媒層の溶剤(有機溶剤)による活性化は、フィルムを水に浮かべる前又は後に行っても良い。
(2) Process of spraying the solvent on the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film Activate the catalyst layer by spraying the solvent (organic solvent, activator) on the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film Let An organic solvent serving as an activator is applied or sprayed on the catalyst layer. The activation of the catalyst layer with the solvent (organic solvent) may be performed before or after the film is floated on water.

溶剤(活性化剤)の吹き付け(塗布)工程は、水圧転写フィルムを水面に浮遊させる前又は後に、無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を塗布することで、触媒層の表面が荒れ、触媒層と転写被基材(被転写体、素地、非導電性基材、成形品等)とが密着し易くなる。   The step of spraying (coating) the solvent (activator) is to apply the solvent to the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film before or after the hydraulic transfer film is floated on the water surface, so that the surface of the catalyst layer is Roughness, the catalyst layer and the transfer substrate (transfer object, substrate, non-conductive substrate, molded product, etc.) are likely to be in close contact.

溶剤(有機溶剤、活性化剤)
溶剤は、無電解めっき用水圧転写フィルムの転写用の触媒層の表面を荒らすことができ成分であることが好ましい。溶剤は、触媒層を可溶化させる有機溶剤であることが好ましい。
Solvent (organic solvent, activator)
The solvent is preferably a component that can roughen the surface of the transfer catalyst layer of the electroless plating hydraulic transfer film. The solvent is preferably an organic solvent that solubilizes the catalyst layer.

溶剤は、転写被基材(被転写体、素地、非導電性基材、成形品等)の表面を溶解させる機能を有する成分であることが好ましい。   The solvent is preferably a component having a function of dissolving the surface of a transfer substrate (transfer body, substrate, non-conductive substrate, molded article, etc.).

溶剤は、転写被基材の被転写面に触媒層を転写させるまで、蒸発しないような性状を有することが好ましい。   The solvent preferably has such a property that it does not evaporate until the catalyst layer is transferred to the transfer surface of the transfer substrate.

溶剤として、一般の水圧転写に用いる活性化剤と同様なものを用いることができる。溶剤としては、例えばエステル類、アセチレングリコール類、エーテル類、樹脂等を含む組成物を用いることが好ましい。   As the solvent, the same activator as used in general hydraulic transfer can be used. As the solvent, it is preferable to use a composition containing, for example, esters, acetylene glycols, ethers, resins and the like.

エステル類として、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec-ブチル、酢酸tert-ブチル、シュウ酸ジブチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル、フタル酸ジイソオクチル等を用いることが好ましい。   As esters, use of ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, tert-butyl acetate, dibutyl oxalate, dibutyl phthalate, dimethyl phthalate, dioctyl phthalate, diisooctyl phthalate, etc. preferable.

アセチレングリコール類として、メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、エチルカルビトールアセテート、プロピルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート等を用いることが好ましい。   As acetylene glycols, it is preferable to use methoxybutyl acetate, ethoxybutyl acetate, ethyl carbitol acetate, propyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, or the like.

エーテル類として、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、イソアミルセロソルブ等を用いることが好ましい。   As ethers, it is preferable to use methyl cellosolve, butyl cellosolve, isoamyl cellosolve and the like.

溶剤として、トルエン、キシレン、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メトキシプロパノール、ブチルカルビトールアセテート、カルビトール、カルビトールアセテート、セロソルブアセテート、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン(MIBK)、酢酸アミル、酢酸イソアミル、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノール、メトキシブチルアセテート、ソルフィットアセテート、ダイアセトンアルコール等の溶剤、及びそれらの混合物を用いることが好ましい。   Solvents include toluene, xylene, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methoxypropanol, butyl carbitol acetate, carbitol, carbitol acetate, cellosolve acetate, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK), amyl acetate, isoamyl acetate, isobutyl alcohol, isopropyl It is preferable to use solvents such as alcohol, n-butanol, methoxybutyl acetate, sol-fit acetate, diacetone alcohol, and mixtures thereof.

樹脂としては、アクリレート系単量体の単独又は共重合体等の熱可塑性樹脂等を用いることが好ましい。溶剤に樹脂成分を含ませることで、印刷インキ又は塗料と成形品との密着性を高めることができる。   As the resin, it is preferable to use a thermoplastic resin such as an acrylate monomer alone or a copolymer. By including the resin component in the solvent, the adhesion between the printing ink or paint and the molded product can be enhanced.

樹脂として、ポリアミド、ポリエステル、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、フタル酸アルキッド樹脂、フタル酸ジアリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリウレタン等の熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。   As the resin, it is preferable to use a thermosetting resin such as polyamide, polyester, phenol resin, melamine resin, urea resin, epoxy resin, phthalic acid alkyd resin, diallyl phthalate resin, alkyd resin, or polyurethane.

樹脂として、熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。   It is preferable to use a thermosetting resin as the resin.

溶剤の好ましい組成(含有割合)は、エステル類を5〜40質量%程度含み、アセチレングリコール類を40〜80質量%程度含み、エーテル類を5〜30質量%程度、樹脂を1〜20質量%程度含むことが好ましい。   The preferred composition (content ratio) of the solvent includes about 5 to 40% by mass of esters, about 40 to 80% by mass of acetylene glycols, about 5 to 30% by mass of ethers, and 1 to 20% by mass of resin. It is preferable to include a degree.

溶剤の塗布は、スプレーコート法等により行うことができる。   The solvent can be applied by a spray coating method or the like.

溶剤の塗布量は通常1〜50g/m2程度であり、好ましくは3〜30g/m2程度であり、更に好ましくは10〜20g/m2程度である。 The application amount of the solvent is usually about 1 to 50 g / m 2 , preferably about 3 to 30 g / m 2 , and more preferably about 10 to 20 g / m 2 .

触媒組成物に含まれるバインダーは、特に、無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤(有機溶剤、活性化剤)を吹き付ける際に(工程(2))、その溶剤により軟化・溶解し易く、その状態を比較的長い時間維持することができる。   The binder contained in the catalyst composition is softened and dissolved by the solvent when spraying a solvent (organic solvent, activator) on the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating (step (2)). It is easy to maintain this state for a relatively long time.

(3)転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程
触媒層に転写被基材を押し付けながら、転写被基材と無電解めっき用水圧転写フィルムを水中に沈めて行き、水圧によって触媒層を転写被基材に密着させて転写する。
(3) The process of adhering the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating to the transfer substrate and fixing the catalyst layer to the transfer substrate While pressing the transfer substrate against the catalyst layer, A water pressure transfer film for electroless plating is submerged in water, and the catalyst layer is brought into close contact with the transfer substrate by water pressure and transferred.

転写被基材(被転写体、素地、非導電性基材、成形品等)
転写被基材は、無電解めっきを施す対象物である。
Transfer substrate (transfer body, substrate, non-conductive substrate, molded product, etc.)
The transfer substrate is an object to be subjected to electroless plating.

本発明で使用される転写被基材は、特に限定されない。転写被基材として、プラスチック(樹脂)、ガラス、セラミックス等の非導電性基材を用いることが好ましい。   The transfer substrate used in the present invention is not particularly limited. As the transfer substrate, it is preferable to use a non-conductive substrate such as plastic (resin), glass, or ceramic.

プラスチックとして、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)、ポリブタジエン、ポリブテン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、ポリイソブチレン、ポリイソプレン等のポリオレフィン等を用いることが好ましい。   As the plastic, it is preferable to use a polyolefin such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene (PS), polybutadiene, polybutene, polyisoprene, polychloroprene, polyisobutylene, and polyisoprene.

プラスチックとして、また、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレンの共重合樹脂(ABS樹脂)等を用いることが好ましい。   It is preferable to use an acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin (ABS resin) or the like as the plastic.

プラスチックとして、更に、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリ乳酸エステル等のポリエステル;ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のアクリル樹脂;ポリカーボネート(PC);ポリ塩化ビニル;ポリアミド;ポリイミド;ポリエーテルイミド;ポリアセタール;ポリエーテルエーテルケトン;ノルボルネン骨格を有する環状ポリオレフィン;ポリフェニレンスルファイド;液晶ポリマー;変性ポリフェニルエーテル;ポリスルホン;フェノール;ポリフタルアミド(PPA);ポリアリレート等を用いることが好ましい。   Polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polylactic acid ester; acrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA); polycarbonate (PC); polyvinyl chloride; polyamide; polyimide; It is preferable to use ether imide, polyacetal, polyether ether ketone, cyclic polyolefin having norbornene skeleton, polyphenylene sulfide, liquid crystal polymer, modified polyphenyl ether, polysulfone, phenol, polyphthalamide (PPA), polyarylate and the like.

セラミックスとしては、ガラス、アルミナ等が挙げられる。また、基材として不織布を使用する場合、木質繊維、ガラス繊維、石綿、ポリエステル繊維、ビニロン繊維、レーヨン繊維、ポリオレフィン繊維等の不織布が挙げられる。   Examples of ceramics include glass and alumina. Moreover, when using a nonwoven fabric as a base material, nonwoven fabrics, such as a wood fiber, glass fiber, asbestos, polyester fiber, vinylon fiber, rayon fiber, polyolefin fiber, are mentioned.

転写被基材の形状としては、特に限定されない。例えば、板状(又はフィルム状)、不織布状(又は織布状)、糸状、金型で成形された各種形状、等のいずれであってもよい。   The shape of the transfer substrate is not particularly limited. For example, it may be any of a plate shape (or film shape), a nonwoven fabric shape (or woven fabric shape), a thread shape, various shapes formed by a mold, and the like.

転写被基材によって、触媒組成物(転写フィルムの触媒層)に含まれる溶剤、バインダー等を適宜選択することができる。   Depending on the transfer substrate, a solvent, a binder, and the like contained in the catalyst composition (catalyst layer of the transfer film) can be appropriately selected.

触媒層を無電解めっき用水圧転写フィルムから転写被基材へ転写する際に、触媒層が柔軟化され、転写被基材の三次元曲面へ十分に追従できる程度に行われる。   When the catalyst layer is transferred from the electroless plating hydraulic transfer film to the transfer substrate, the catalyst layer is softened, and is performed to such a degree that it can sufficiently follow the three-dimensional curved surface of the transfer substrate.

水圧転写技術により、転写フィルムの触媒層を転写被基材(非導電性基材)に貼り付けることができる。   By the hydraulic transfer technique, the catalyst layer of the transfer film can be attached to the transfer substrate (non-conductive substrate).

水圧転写における水槽の水は、触媒層を転写する際に水圧転写用フィルムの触媒層を転写被基材の三次元曲面に密着させる水圧媒体として働く。   The water in the water tank in the hydraulic transfer works as a hydraulic medium for bringing the catalyst layer of the hydraulic transfer film into close contact with the three-dimensional curved surface of the transfer substrate when transferring the catalyst layer.

水圧転写フィルム用基材は、水溶性又は水膨潤性を有する水溶性フィルムからなることが好ましい。水圧転写における水槽の水は、その水圧転写フィルム用基材を膨潤又は溶解させることができる。無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層上に転写被基材を押圧し、水圧によって触媒層を転写被基材の被転写面に密着させる。   The substrate for a hydraulic transfer film is preferably made of a water-soluble film having water solubility or water swellability. The water in the water tank in the hydraulic transfer can swell or dissolve the hydraulic transfer film substrate. The transfer substrate is pressed onto the catalyst layer of the hydraulic transfer film for electroless plating, and the catalyst layer is brought into close contact with the transfer surface of the transfer substrate by water pressure.

水圧転写における水槽の水として、水道水、蒸留水、イオン交換水等の水を用いることが好ましい。水圧転写フィルム用基材を考慮して、水にホウ酸等の無機塩類を10質量%程度以下、又はアルコール類を50質量%程度以下溶解させても良い。   It is preferable to use water such as tap water, distilled water, or ion exchange water as water in the water tank in the hydraulic transfer. In consideration of the substrate for a hydraulic transfer film, inorganic salts such as boric acid or the like may be dissolved in water by about 10% by mass or less, or alcohols may be dissolved by about 50% by mass or less.

無電解めっき用水圧転写フィルムを浮かべ水圧を印加するための水は、無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材の種類等に応じ、適宣水温を調整することが好ましい。水の水温は、好ましくは25〜50℃程度であり、より好ましくは25〜35℃程度である。   The water for applying the floating water pressure to the electroless plating hydraulic transfer film is preferably adjusted to an appropriate water temperature according to the type of the hydraulic transfer film substrate of the electroless plating hydraulic transfer film. The water temperature is preferably about 25 to 50 ° C, more preferably about 25 to 35 ° C.

無電解めっき用水圧転写フィルムと転写被基材との転写時間は、20〜120秒程度が好ましく、より好ましくは30〜60秒程度である。転写時間は、無電解めっき用水圧転写フィルムを水に浮遊させてから、転写被基材への転写が完了するまでの時間である
クラック幅を広くするには、塗布量を多めにすることが好ましく、水温を高めに設定することが好ましく、転写時間を長めに設定することが好ましい。
The transfer time between the electroless plating hydraulic transfer film and the transfer substrate is preferably about 20 to 120 seconds, more preferably about 30 to 60 seconds. The transfer time is the time from when the electroless plating hydraulic transfer film is suspended in water until the transfer to the transfer substrate is completed. To increase the crack width, it is necessary to increase the coating amount. Preferably, the water temperature is set higher, and the transfer time is preferably set longer.

触媒組成物に含まれるバインダーは、特に、転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる(工程(3))際に、その溶解した面で、無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側が転写被基材に接着し易く、転写被基材に触媒層を定着し易い。   In particular, the binder contained in the catalyst composition adheres the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film to the transfer substrate, and fixes the catalyst layer to the transfer substrate (step (3)). On the dissolved surface, the catalyst layer side of the electroless plating hydraulic transfer film is easy to adhere to the transfer substrate, and the catalyst layer is easily fixed to the transfer substrate.

(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程
触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる。
(4) Step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed and exposing the catalyst layer The transfer substrate on which the catalyst layer is fixed is washed to expose the catalyst layer.

水から出した無電解めっき用水圧転写フィルムから水圧転写フィルム用基材を除去し、転写被基材に転写された水圧転写体(転写被基材+触媒層)を得る。   The hydraulic transfer film substrate is removed from the electroless plating hydraulic transfer film discharged from water to obtain a hydraulic transfer body (transfer substrate + catalyst layer) transferred to the transfer substrate.

転写被基材に触媒層を水圧転写した後、水圧転写フィルム用基材を水で溶解若しくは剥離して除去した後、乾燥させる。転写被基材からの水圧転写フィルム用基材の除去は、従来の水圧転写方法と同様に水流で水圧転写フィルム用基材を溶解若しくは剥離して除去する。   After the catalyst layer is hydraulically transferred to the transfer substrate, the hydraulic transfer film substrate is removed by dissolving or peeling with water and then dried. Removal of the hydraulic transfer film substrate from the transfer substrate is performed by dissolving or peeling the hydraulic transfer film substrate with a water flow in the same manner as in the conventional hydraulic transfer method.

水圧転写体は、転写被基材の表面に触媒層が十分密着する。転写被基材として、ABS樹脂やSBSゴム等の溶媒吸収性の高い樹脂成分を用いると、触媒層の密着性は良好である。   In the hydraulic transfer body, the catalyst layer is sufficiently adhered to the surface of the transfer substrate. When a resin component having high solvent absorbability such as ABS resin or SBS rubber is used as a transfer substrate, the adhesion of the catalyst layer is good.

その後、無電解めっき技術を用いて、その露出した触媒層に対して無電解めっきを行い、非導電性基材(成形品)を加飾することができる。   Thereafter, using the electroless plating technique, the exposed catalyst layer can be subjected to electroless plating to decorate the non-conductive substrate (molded product).

(5)その露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
無電解めっき処理
触媒層(触媒膜)が形成された素地に対して、無電解めっきを行うことで、基材の上にパターンめっきを形成することができる。触媒層が形成された素地は、金属を析出させるためのめっき液と接触し、これにより無電解めっき皮膜が形成される。
(5) A process of performing electroless plating on the exposed catalyst layer
By performing electroless plating on the substrate on which the electroless plating treatment catalyst layer (catalyst film) is formed, pattern plating can be formed on the substrate. The substrate on which the catalyst layer is formed comes into contact with a plating solution for depositing a metal, thereby forming an electroless plating film.

触媒組成物(転写フィルム)によって形成された触媒層は、無電解めっきの反応性がよく、得られた無電解めっき皮膜はむらがなく、密着性及び外観性に優れる。   The catalyst layer formed by the catalyst composition (transfer film) has good electroless plating reactivity, and the obtained electroless plating film has no unevenness and excellent adhesion and appearance.

めっき液は、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば特に限定されない。めっき液として、例えば、銅、金、銀、ニッケル等を用いることが好ましい。めっき液として、触媒層(触媒膜)との関係から、銅又はニッケルを含むめっき液を用いることが好ましい。   The plating solution is not particularly limited as long as it is a plating solution usually used for electroless plating. For example, copper, gold, silver, nickel or the like is preferably used as the plating solution. As the plating solution, it is preferable to use a plating solution containing copper or nickel in view of the relationship with the catalyst layer (catalyst film).

めっき条件は、常法に従うことができる。触媒層(触媒膜)は無電解めっきの反応性が非常に良好であるため、めっき液の還元剤濃度やアルカリ成分濃度を高める必要がない。そのため、めっき液の寿命が長持ちするだけでなく、触媒層のパターン通りにめっきが選択的に析出される。即ち、触媒組成物(転写フィルム)から形成される触媒(触媒膜)は、パターン形成能に優れる。   The plating conditions can follow a conventional method. Since the catalyst layer (catalyst film) has very good electroless plating reactivity, it is not necessary to increase the reducing agent concentration or alkali component concentration of the plating solution. Therefore, not only the life of the plating solution is prolonged, but the plating is selectively deposited according to the pattern of the catalyst layer. That is, the catalyst (catalyst film) formed from the catalyst composition (transfer film) is excellent in pattern forming ability.

めっき皮膜の厚みは、加飾用途の場合、素地に良好な意匠性を付与することができること等から、0.05〜10μm程度が好ましく、0.1〜6μm程度がより好ましく、0.2〜4μm程度が更に好ましく、0.3〜2μm程度が特に好ましい。めっきにより、素地に目的とする意匠を表現することができる。   The thickness of the plating film is preferably about 0.05 to 10 μm, more preferably about 0.1 to 6 μm, and still more preferably about 0.2 to 4 μm, because it can give a good design to the substrate in the case of decorative use. A thickness of about 0.3 to 2 μm is particularly preferable. The target design can be expressed on the substrate by plating.

無電解めっき処理で、無電解銅めっき浴を用いる場合、その処理温度は25〜65℃程度が好ましく、その処理時間は10〜20分程度が好ましい。この無電解めっき処理により、0.3〜1μm程度の析出膜厚を形成することができる。   When an electroless copper plating bath is used in the electroless plating treatment, the treatment temperature is preferably about 25 to 65 ° C., and the treatment time is preferably about 10 to 20 minutes. By this electroless plating treatment, a deposited film thickness of about 0.3 to 1 μm can be formed.

無電解めっき処理で、無電解ニッケルボロン浴を用いる場合、その処理温度は55〜70℃程度が好ましく、その析出速度は5μm/hr(60℃)程度が好ましい。   When an electroless nickel boron bath is used in the electroless plating treatment, the treatment temperature is preferably about 55 to 70 ° C., and the deposition rate is preferably about 5 μm / hr (60 ° C.).

無電解めっき処理で、無電解ニッケルりん浴を用いる場合、その処理温度は30〜95℃程度が好ましく、その析出速度は浴温30℃においては3μm/hr程度、90℃においては20μm/hr程度が好ましい。   When an electroless nickel phosphorus bath is used for electroless plating, the treatment temperature is preferably about 30 to 95 ° C., and the deposition rate is about 3 μm / hr at a bath temperature of 30 ° C. and about 20 μm / hr at 90 ° C. Is preferred.

触媒組成物(転写フィルム)を用いて、素地上にめっきを形成する技術は、パターンめっきを対象とすることが好ましい。しかし、本発明では、本発明の触媒組成物(転写フィルム)を全面めっきに使用しても良い。   The technique for forming plating on the substrate using the catalyst composition (transfer film) preferably targets pattern plating. However, in the present invention, the catalyst composition (transfer film) of the present invention may be used for the entire plating.

加飾を目的とする場合、無電解めっきの後、電解銅(Cu)めっき、半光沢ニッケル(Ni)めっき、光沢ニッケル(Ni)めっき、クロム(Cr)めっき等の一般的なプロセスを用いることが好ましい。   For decoration purposes, use general processes such as electrolytic copper (Cu) plating, semi-bright nickel (Ni) plating, bright nickel (Ni) plating, and chromium (Cr) plating after electroless plating. Is preferred.

加飾処理で、電解銅(Cu)めっき浴を用いる場合、その処理温度は20〜60℃程度が好ましく、電流密度は1〜10A/m2程度が好ましく、処理時間は10〜60分程度が好ましい。この加飾処理により、5〜40μm程度の析出膜厚を形成することができる。 When using an electrolytic copper (Cu) plating bath in the decorating treatment, the treatment temperature is preferably about 20 to 60 ° C., the current density is preferably about 1 to 10 A / m 2 , and the treatment time is about 10 to 60 minutes. preferable. By this decorating treatment, a deposited film thickness of about 5 to 40 μm can be formed.

加飾処理で、半光沢ニッケル(Ni)めっき浴を用いる場合、その処理温度は45〜55℃程度が好ましく、電流密度は1〜10A/m2程度が好ましく、処理時間は10〜60分程度が好ましい。この加飾処理により、5〜20μm程度の析出膜厚となる。 When using a semi-bright nickel (Ni) plating bath in the decorating treatment, the treatment temperature is preferably about 45 to 55 ° C., the current density is preferably about 1 to 10 A / m 2 , and the treatment time is about 10 to 60 minutes. Is preferred. By this decorating treatment, a deposited film thickness of about 5 to 20 μm is obtained.

加飾処理で、光沢ニッケル(Ni)めっき浴を用いる場合、その処理温度は45〜55℃程度が好ましく、電流密度は1〜10A/m2程度が好ましく、処理時間は10〜60分程度が好ましい。この加飾処理により、5〜20μm程度の析出膜厚となる。 When a bright nickel (Ni) plating bath is used in the decorating treatment, the treatment temperature is preferably about 45 to 55 ° C., the current density is preferably about 1 to 10 A / m 2 , and the treatment time is about 10 to 60 minutes. preferable. By this decorating treatment, a deposited film thickness of about 5 to 20 μm is obtained.

加飾処理で、クロム(Cr)めっき浴を用いる場合、その処理温度は40〜60℃程度が好ましい。電流密度は10〜60A/m2程度が好ましい。処理時間は1〜5分程度が好ましい。Crめっき浴を用いる加飾処理により、0.1〜0.3μm程度の析出膜厚となる。 When a chromium (Cr) plating bath is used in the decoration treatment, the treatment temperature is preferably about 40 to 60 ° C. Current density is preferably about 10~60A / m 2. The treatment time is preferably about 1 to 5 minutes. By the decorating process using a Cr plating bath, a deposited film thickness of about 0.1 to 0.3 μm is obtained.

(6)無電解めっき皮膜及び前記皮膜を載せた成形品
本発明の転写フィルムの触媒層を素地(非導電性基材、プラスチック(樹脂)等)に塗布し、触媒層(触媒膜)を形成し、無電解めっきを行う。これにより、パターンめっき又は部分めっきされた無電解めっき皮膜を形成することができる。無電解めっき皮膜を載せた成形品(被めっき物)は、めっき皮膜の密着性に優れる。非導電性基材に滑らかなめっき皮膜(無電解めっき皮膜又は電解めっき皮膜)を形成させることができる。
(6) Electroless plating film and molded product on which the film is mounted The catalyst layer of the transfer film of the present invention is applied to a substrate (non-conductive substrate, plastic (resin), etc.) to form a catalyst layer (catalyst film) Then, electroless plating is performed. Thereby, the electroless plating film by which pattern plating or partial plating was carried out can be formed. A molded product (to-be-plated object) on which an electroless plating film is placed has excellent adhesion of the plating film. A smooth plating film (electroless plating film or electrolytic plating film) can be formed on the non-conductive substrate.

無電解めっき皮膜を載せた成形品は、例えば、携帯電話、パソコン、冷蔵庫等の電化製品の筐体;エンブレム、スイッチベース、ラジエータグリル、ドアハンドル、ホイールカバー等の自動車用部品等に使用することができる。   Molded products with an electroless plating film should be used for automobile parts such as emblems, switch bases, radiator grills, door handles, wheel covers, etc. Can do.

触媒組成物を用いると、素地上に、パターンめっきを行う無電解めっきにおいて、無電解めっきの反応性が高く、クロムめっきとの優れた密着性と装飾用めっきの優れた平滑性を発現することができる。その無電解めっきでは、パターンの拡がりを抑え、良好に部分めっきをすることが可能である。   When the catalyst composition is used, electroless plating with pattern plating on the substrate has high electroless plating reactivity, excellent adhesion to chrome plating and excellent smoothness of decorative plating. Can do. In the electroless plating, it is possible to suppress the spread of the pattern and to perform partial plating satisfactorily.

触媒組成物(転写フィルム)を用いると、無電解めっきの反応性を向上させる目的で、無電解めっきにおける還元剤の濃度を高める必要が無く、また無電解めっきの反応温度を上げる必要もない。更に、また有害な物質によるエッチング工程、煩雑な触媒付与工程等を必要としない。   When the catalyst composition (transfer film) is used, it is not necessary to increase the concentration of the reducing agent in electroless plating and to increase the reaction temperature of electroless plating for the purpose of improving the reactivity of electroless plating. Furthermore, there is no need for an etching step with a harmful substance, a complicated catalyst application step, or the like.

無電解めっきの反応性及び密着性向上のメカニズムを説明する。   The mechanism for improving the reactivity and adhesion of electroless plating will be described.

素地(非導電性基材)に形成された触媒組成物(触媒層)の無電解めっきの触媒作用を持つ金属粒子(Pd粒子)と、無電解めっき液とが接触する。この現象により、触媒層(触媒膜)の表面から膜内部の深いところに存在する金属粒子(Pd粒子等)により無電解めっき液中の金属イオンが還元され、還元された金属が根をはうように膜内部から析出するため、触媒層(触媒膜)とめっき膜との高い密着性が得られる。   Metal particles (Pd particles) having a catalytic action of electroless plating of the catalyst composition (catalyst layer) formed on the substrate (non-conductive substrate) are brought into contact with the electroless plating solution. Due to this phenomenon, metal ions (Pd particles, etc.) existing deep inside the membrane from the surface of the catalyst layer (catalyst membrane) reduce the metal ions in the electroless plating solution, and the reduced metal takes root. Thus, since it precipitates from the inside of a film | membrane, the high adhesiveness of a catalyst layer (catalyst film | membrane) and a plating film is acquired.

本発明の触媒組成物は、特にABS等の素地(非導電性基材、プラスチック等)を対象とする時に、無電解めっきの反応性が高く、めっきまでの多層めっきに耐え得る良好な密着性を実現できる。ABS等の素地と触媒組成物との密着メカニズムを説明する。本発明の触媒組成物に含まれる溶媒(溶剤)成分により、素地表面が浸食され、触媒組成物のバインダー成分が基材に入り込み、素地と相溶し混成層を形成する。ABS樹脂に含まれるブタジエンゴムが溶解し、膨潤するので、触媒組成物のバインダー成分が基材に入り込む。   The catalyst composition of the present invention has a high electroless plating reactivity, particularly when it is applied to a base such as ABS (non-conductive substrate, plastic, etc.), and has good adhesion that can withstand multilayer plating up to plating. Can be realized. The adhesion mechanism between the base material such as ABS and the catalyst composition will be explained. The substrate surface is eroded by the solvent (solvent) component contained in the catalyst composition of the present invention, the binder component of the catalyst composition enters the substrate, and is mixed with the substrate to form a hybrid layer. Since the butadiene rubber contained in the ABS resin dissolves and swells, the binder component of the catalyst composition enters the substrate.

本発明の水圧転写技術は、非導電性基材に対して、従来不可能とされた3次元曲面、穴あき成形品、緩やかな凹凸面へのめっき(加飾)が可能である。ハードコート等の機能性材料と組み合わせることで、商品の付加価値を高めることができる。   The hydraulic transfer technology of the present invention can plate (decorate) a non-conductive substrate on a three-dimensional curved surface, a perforated molded product, and a gentle uneven surface, which has been impossible in the past. Combining with a functional material such as a hard coat can increase the added value of the product.

水圧転写技術は、工程の簡略化によりコストダウンが図れる。省エネ、省スペースが図れ、作業環境の改善に繋がる。水圧転写技術は、非導電性基材(成型品)に対して、3次曲面状の表面に様々な意匠性の高いデザイン(めっき)を、位置精度良く施す(加飾する)ことができる。   The hydraulic transfer technology can reduce the cost by simplifying the process. Energy saving and space saving can be achieved, which leads to improvement of working environment. The hydraulic transfer technology can perform (decorate) various highly designable designs (plating) on the surface of the cubic surface with high positional accuracy on a non-conductive substrate (molded product).

本発明のめっき転写フィルムを用いると、素地上にパターンめっきを行うめっきにおいて、無電解めっきの反応性が高く、優れた密着性と装飾用めっきの優れた平滑性を発現することができる。そのめっきでは、パターンの拡がりを抑え、良好に部分めっきをすることが可能である。   When the plating transfer film of the present invention is used, in the plating for pattern plating on the substrate, the electroless plating has high reactivity and can exhibit excellent adhesion and excellent smoothness of decorative plating. In the plating, it is possible to suppress the spread of the pattern and to perform partial plating satisfactorily.

本発明の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いると、無電解めっきの反応性を向上させる目的で、無電解めっきにおける還元剤の濃度を高める必要が無く、また無電解めっきの反応温度を上げる必要もない。更に、また有害な物質によるエッチング工程、煩雑な触媒付与工程等を必要としない。   When the hydraulic transfer film for electroless plating of the present invention is used, there is no need to increase the concentration of the reducing agent in electroless plating and the reaction temperature of electroless plating needs to be increased for the purpose of improving the electroless plating reactivity. Nor. Furthermore, there is no need for an etching step with a harmful substance, a complicated catalyst application step, or the like.

電子機器のプリント配線板や3次元筐体が、より大きな(複雑な)3次曲面状の表面や、より深い3次曲面状の表面を有する筐体への金属配線回路の形成に、本発明の転写フィルムを用いて、無電解めっきを行うことができる。本発明の転写フィルムを用いて、配線板(非導電性基材)に触媒層(触媒組成物)、つまり無電解用めっきを施すための皮膜をパターン形成(露出)させる。その無電解めっき用の皮膜(触媒層)が形成された配線板に対して、無電解めっきを行うことで、配線板に電子回路形成用の無電解めっき皮膜を形成させる。   The present invention is suitable for forming a metal wiring circuit on a case where a printed wiring board or a three-dimensional casing of an electronic device has a larger (complex) cubic curved surface or a deeper cubic curved surface. Electroless plating can be performed using the transfer film. The transfer film of the present invention is used to pattern-form (expose) a catalyst layer (catalyst composition), that is, a film for performing electroless plating on a wiring board (non-conductive substrate). An electroless plating film for forming an electronic circuit is formed on the wiring board by performing electroless plating on the wiring board on which the film (catalyst layer) for electroless plating is formed.

以下に、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. However, the present invention is not limited to the examples.

(1)インク(転写フィルム用触媒組成物)
1-1
Pd複合体含有液(Pd分12.75wt%、株式会社イオックス社製):1.96g、
塩ビ-酢ビ樹脂(固形分10wt%、DICグラフィックス社製):9.0g、及び
シクロヘキサン/MIBK/MEK 混合溶剤(溶媒)を、
Pd濃度が5,000ppm(0.5重量%)になるように混合して、金属めっき転写フィルム用触媒組成物を作製した。
(1) Ink (catalyst composition for transfer film)
1-1
Pd complex-containing liquid (Pd content 12.75 wt%, manufactured by Iox Corporation): 1.96 g,
Vinyl chloride-vinyl acetate resin (solid content 10 wt%, manufactured by DIC Graphics): 9.0 g, and cyclohexane / MIBK / MEK mixed solvent (solvent)
A catalyst composition for a metal plating transfer film was prepared by mixing so that the Pd concentration was 5,000 ppm (0.5 wt%).

1-2
Pd複合体含有液(Pd分16.7wt%、株式会社イオックス社製):0.075g、
アルキド樹脂(6%固形分 DICグラフィックス社製):0.75g、及び
シクロヘキサン/MIBK 混合溶剤(溶媒)を、
Pd濃度が6,000ppm(0.6重量%)になるように混合して、金属めっき転写フィルム用触媒組成物を作製した。
1-2
Pd complex-containing liquid (Pd content 16.7 wt%, manufactured by Iox Corporation): 0.075 g,
Alkyd resin (6% solid content manufactured by DIC Graphics): 0.75 g, and cyclohexane / MIBK mixed solvent (solvent)
A catalyst composition for a metal plating transfer film was prepared by mixing so that the Pd concentration was 6,000 ppm (0.6 wt%).

1-3
ML-100(株式会社イオックス社製) オフセット印刷、回路用インク
1-3
ML-100 (Iox Co., Ltd.) Offset printing, circuit ink

(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの形成
2-1
バーコーター#4(塗工厚み:4μm)を用いて、得られた金属めっき転写フィルム用触媒組成物1-1及び1-2を、水圧転写フィルム(商品名ソルブロン、PVA樹脂、アイセロ化学製)上に塗布した(塗工厚み:4μm)。
(2) Formation of hydraulic transfer film for electroless plating
2-1
Using bar coater # 4 (coating thickness: 4μm), the resulting metal plating transfer film catalyst compositions 1-1 and 1-2 were transferred to a hydraulic transfer film (trade name: Solvron, PVA resin, manufactured by Aicero Chemical). It was applied on top (coating thickness: 4 μm).

次いで乾燥用オーブン内で70℃、5分間乾燥させた。   Subsequently, it was dried in a drying oven at 70 ° C. for 5 minutes.

2-2
オフセット印刷方式で、得られた無電解めっき用転写フィルム用触媒組成物1-3を、水圧転写フィルム(商品名ソルブロン、PVA樹脂、アイセロ化学製)上に、印刷パターン版(図1)を用いて印刷塗布した。
2-2
Using the printing pattern plate (Fig. 1) on the hydraulic transfer film (trade name: Solvron, PVA resin, manufactured by Aicero Chemical) And printed.

次いで乾燥用オーブン内で80℃、15分間乾燥させた。   Next, it was dried at 80 ° C. for 15 minutes in a drying oven.

(3)水圧転写
べた面転写:3-1及び3-2
得られた金属メッキ用水圧転写フィルム2-1の水圧転写フィルム側を、水面(25℃、水道水、容積10L)に浮かべ、水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材(PVA樹脂)を水に溶解させた(1-2:約100sec、1-1:約40sec)。
(3) Hydraulic transfer
Solid surface transfer: 3-1 and 3-2
The water pressure transfer film side of the resulting water pressure transfer film for metal plating 2-1 is floated on the water surface (25 ° C, tap water, volume 10 L), and the water pressure transfer film base material (PVA resin) is placed in water. Dissolved (1-2: about 100 sec, 1-1: about 40 sec).

その際、触媒組成物塗布側に転写被基材を接着させるため、霧吹き(ザ・スプレー、マルハチ産業(株)製)を使用して、溶剤(トルエン:MIBK:酢酸エチル=3:3:3)を約3secに1回吹き付けた。   At that time, in order to adhere the transfer substrate to the catalyst composition application side, a spray (the spray, manufactured by Maruhachi Sangyo Co., Ltd.) is used and a solvent (toluene: MIBK: ethyl acetate = 3: 3: 3). ) Was sprayed once every 3 seconds.

所定の時間を経過した後、約45°〜80°の角度で成型物(ABS樹脂成形品、小森樹脂(株))をゆっくりと水圧転写フィルムに沈み込ませた。次いで、水中で定着させた後、ゆっくりと取り出し、流水により水洗した。   After a predetermined time, a molded product (ABS resin molded product, Komori Resin Co., Ltd.) was slowly submerged in the hydraulic transfer film at an angle of about 45 ° to 80 °. Subsequently, after fixing in water, it took out slowly and washed with running water.

回路形成:3-3.
得られた金属メッキ用水圧転写フィルム3-1の水圧転写フィルム側を、水面(25℃、水道水、容積10L)に浮かべ、水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材(PVA樹脂)を水に溶解させた(約40sec)。
Circuit formation: 3-3.
The water pressure transfer film side of the obtained water transfer film for metal plating 3-1 is floated on the water surface (25 ° C, tap water, volume 10 L), and the water pressure transfer film substrate (PVA resin) is used as water. Dissolved (about 40 sec).

フィルムを水面に浮かべた後、約30sec後、触媒組成物塗布側に転写被基材を接着させるため、霧吹き(ザ・スプレー、マルハチ産業(株))を使用して、溶剤(トルエン・MIBK・酢酸エチル=3:3:3)を約3secに1回印刷パターン部分に吹き付けた。   About 30 seconds after the film floats on the surface of the water, a solvent (toluene, MIBK, etc.) is used in order to adhere the transfer substrate to the catalyst composition application side using a spray (The Spray, Maruhachi Sangyo Co., Ltd.) Ethyl acetate = 3: 3: 3) was sprayed on the printed pattern portion once every 3 seconds.

所定の時間を経過した後、約45°〜80°の角度で成型物(ABS樹脂成形品、小森樹脂(株))をゆっくりと水圧転写フィルムに沈み込ませた。次いで、水中で定着させた後、ゆっくりと取り出し、定着させた後、流水により水洗した。   After a predetermined time, a molded product (ABS resin molded product, Komori Resin Co., Ltd.) was slowly submerged in the hydraulic transfer film at an angle of about 45 ° to 80 °. Next, after fixing in water, it was slowly taken out, fixed, and washed with running water.

水圧転写は問題なかった。   There was no problem with hydraulic transfer.

ABS樹脂成型品への転写後の画像を図2に示す。   Fig. 2 shows the image after transfer to an ABS resin molded product.

(4)無電解めっき
べた面転写:3-1及び3-2
無電解Cuめっき浴及び無電解Niめっき浴条件
無電解銅(Cu)めっき浴は、奥野工業株式会社製HFS(初期Cu濃度2.5g/L、浴容積500mL、40℃)を用いた。
(4) Electroless plating
Solid surface transfer: 3-1 and 3-2
Electroless Cu Plating Bath and Electroless Ni Plating Bath Conditions As an electroless copper (Cu) plating bath, HFS (initial Cu concentration 2.5 g / L, bath volume 500 mL, 40 ° C.) manufactured by Okuno Kogyo Co., Ltd. was used.

無電解ニッケル(Ni)めっき浴は、奥野工業株式会社製HX(初期Ni濃度6g/L、浴容積500mL、60℃)を用いた。   As the electroless nickel (Ni) plating bath, HX manufactured by Okuno Kogyo Co., Ltd. (initial Ni concentration 6 g / L, bath volume 500 mL, 60 ° C.) was used.

無電解めっき性の評価は次の通りである。
○:5分間めっき無電解めっきを行い、めっき浴に浸漬直後から良好な金属析出が起こり、銅(Cu)又はニッケル(Ni)のめっき皮膜が形成できた場合。
△:金属析出反応は起こるが、全面に均一なめっき被膜が形成できなかった場合。
The evaluation of electroless plating property is as follows.
◯: When electroless plating is performed for 5 minutes and good metal deposition occurs immediately after immersion in the plating bath, and a copper (Cu) or nickel (Ni) plating film can be formed.
Δ: A metal deposition reaction occurs, but a uniform plating film cannot be formed on the entire surface.

(5)導電率測定
回路形成:3-3
株式会社カスタム社製のKM-320Nテスターを用いて、水圧転写で得られた無電解めっき転写回路の表面抵抗を、めっきパターン又はめっき皮膜面の電極10mm間の電気抵抗を測定した。
(5) Conductivity measurement
Circuit formation: 3-3
Using a KM-320N tester manufactured by Custom Co., Ltd., the surface resistance of the electroless plating transfer circuit obtained by hydraulic transfer was measured and the electrical resistance between the electrodes of the plating pattern or plating film surface 10 mm.

いずれの場合も電気抵抗値は0.0Ωを示した。   In either case, the electric resistance value was 0.0Ω.

Claims (8)

水圧転写フィルム用基材上に、少なくとも触媒層が積層されてなる無電解めっき用水圧転写フィルムであって、
前記触媒層が(1)金属粒子と分散剤との複合体、(2)溶媒及び(3)バインダーを含有する触媒組成物からなり、前記金属粒子がパラジウム粒子、金粒子、銀粒子又は白金粒子である、
無電解めっき用水圧転写フィルム。
A hydraulic transfer film for electroless plating in which at least a catalyst layer is laminated on a hydraulic transfer film substrate,
The catalyst layer comprises (1) a composite of metal particles and a dispersant, (2) a solvent and (3) a catalyst composition containing a binder, and the metal particles are palladium particles, gold particles, silver particles or platinum particles. Is,
Hydraulic transfer film for electroless plating.
前記触媒組成物の分散剤が、ポリカルボン酸系高分子分散剤、ヒドロキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤及びカルボキシル基を有するブロック共重合体型高分子分散剤からなる群から選ばれる少なくとも1種の分散剤である、請求項1に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。   The dispersant of the catalyst composition is at least selected from the group consisting of a polycarboxylic acid polymer dispersant, a block copolymer type polymer dispersant having a hydroxyl group, and a block copolymer type polymer dispersant having a carboxyl group. The hydraulic transfer film for electroless plating according to claim 1, which is a kind of dispersant. 前記触媒組成物の溶媒が、水;非プロトン性極性溶媒として、N-メチルピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド;ジメチルスルホキシド及びγ-ブチロラクトンからなる群から選ばれる非プロトン性極性溶媒;メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1-ブチルアルコール及びイソブチルアルコールからなる群から選ばれるアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール及びシクロヘキサノンからなる群から選ばれるケトン類;エチレングリコールモノメチルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群から選ばれるグリコールエーテル類;安息香酸メチル、安息香酸エチル及びサリチル酸メチルからなる群から選ばれる芳香族カルボン酸エステル類;トルエン及びキシレンからなる群から選ばれる芳香族炭化水素類;n-へキサン、n-へプタン及びミネラルスピリットからなる群から選ばれる脂肪族炭化水素類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、メチルカルビトールアセテート及びブチルカルビトールアセテートからなる群から選ばれるグリコールエーテルエステル類;酢酸エチル及び酢酸ブチルからなる群から選ばれるアルカノールエステル類;2-フェノキシエタノール、からなる群から選ばれる少なくとも1種の溶媒である、請求項1又は2に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。   The catalyst composition solvent is water; an aprotic polar solvent selected from the group consisting of N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide; dimethyl sulfoxide and γ-butyrolactone Polar solvents; alcohols selected from the group consisting of methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 1-butyl alcohol and isobutyl alcohol; ketones selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol and cyclohexanone; ethylene glycol Glycol ethers selected from the group consisting of monomethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether; aromatic carboxylic acids selected from the group consisting of methyl benzoate, ethyl benzoate and methyl salicylate Sterols; aromatic hydrocarbons selected from the group consisting of toluene and xylene; aliphatic hydrocarbons selected from the group consisting of n-hexane, n-heptane and mineral spirits; methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, At least one selected from the group consisting of glycol ether esters selected from the group consisting of butyl cellosolve acetate, methyl carbitol acetate and butyl carbitol acetate; alkanol esters selected from the group consisting of ethyl acetate and butyl acetate; 2-phenoxyethanol The hydraulic transfer film for electroless plating according to claim 1 or 2, which is a seed solvent. 前記触媒組成物のバインダーが、アセタール樹脂、エポキシ樹脂、エステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、アミド樹脂、イミド樹脂、アミドイミド樹脂、シェラック樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、硝化綿、アルキド樹脂、石油樹脂、ロジン系樹脂、スチレン/マレイン酸樹脂、シリコン樹脂、塩ビ-酢ビ共重合体、アクリルモノマー/オリゴマー及びオレフィン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも1種のバインダーである、請求項1〜3のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。   The catalyst composition binder is acetal resin, epoxy resin, ester resin, acrylic resin, urethane resin, amide resin, imide resin, amidoimide resin, shellac resin, melamine resin, urea resin, nitrified cotton, alkyd resin, petroleum resin, The rosin resin, styrene / maleic acid resin, silicone resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic monomer / oligomer, and at least one binder selected from the group consisting of olefin resins. The hydraulic transfer film for electroless plating as described in 1. 前記水圧転写フィルム用基材が、水溶性フィルムからなる基材である、請求項1〜4のいずれかに記載の無電解めっき用転写フィルム。   The transfer film for electroless plating according to claim 1, wherein the hydraulic transfer film substrate is a substrate made of a water-soluble film. 前記水溶性フィルムを構成する樹脂が、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルメチルエーテル、アセチルセルロース、ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸アミド、ポリアクリル酸ナトリウム、アセチルブチルセルロース、ゼラチン、にかわ、アルギン酸ナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、カゼイン、シェラック、アラビアゴム、澱粉、蛋白質、メチルビニルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、ポリエチレンオキサイド及び酢酸ビニルとイタコン酸との共重合体、からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂である、請求項5に記載の無電解めっき用水圧転写フィルム。   The resin constituting the water-soluble film is polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl methyl ether, acetyl cellulose, polyacrylamide, polyacrylamide, sodium polyacrylate, acetylbutylcellulose, gelatin, glue, sodium alginate, methylcellulose, hydroxy Selected from the group consisting of ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, dextrin, casein, shellac, gum arabic, starch, protein, copolymer of methyl vinyl ether and maleic anhydride, polyethylene oxide and copolymer of vinyl acetate and itaconic acid The hydraulic transfer film for electroless plating according to claim 5, which is at least one resin. 請求項1〜6のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルムを製造する方法であって、
(1)水圧転写フィルム用基材上に、触媒組成物を塗布し、触媒層を設ける工程、
を含む、
無電解めっき用水圧転写フィルムの製造方法。
A method for producing a hydraulic transfer film for electroless plating according to any one of claims 1 to 6,
(1) A step of applying a catalyst composition on a hydraulic transfer film substrate and providing a catalyst layer;
including,
A method for producing a hydraulic transfer film for electroless plating.
請求項1〜6のいずれかに記載の無電解めっき用水圧転写フィルムを用いて、無電解めっき物を製造する方法であって、
(1)無電解めっき用水圧転写フィルムの水圧転写フィルム用基材側を水面に浮かべ、水圧転写フィルム用基材を溶解させる工程、
(2)無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側に溶剤を吹き付ける工程、
(3)転写被基材に無電解めっき用水圧転写フィルムの触媒層側を接着させ、転写被基材に触媒層を定着させる工程、
(4)触媒層が定着した転写被基材を洗浄し触媒層を露出させる工程、及び
(5)露出した触媒層に対して、無電解めっきを行う工程
を含む無電解めっき物の製造方法。
A method for producing an electroless plated product using the hydraulic transfer film for electroless plating according to any one of claims 1 to 6,
(1) A step of floating the hydraulic transfer film substrate side of the electroless plating hydraulic transfer film on the water surface, and dissolving the hydraulic transfer film substrate;
(2) A step of spraying a solvent onto the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating,
(3) Adhering the catalyst layer side of the hydraulic transfer film for electroless plating to the transfer substrate, and fixing the catalyst layer to the transfer substrate;
(4) A method for producing an electroless plated product, comprising: a step of washing the transfer substrate on which the catalyst layer is fixed to expose the catalyst layer; and (5) a step of performing electroless plating on the exposed catalyst layer.
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