JP6069989B2 - Method for producing photoelectric conversion element using perovskite compound - Google Patents

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Description

本願発明は光電変換層に有機無機混成ペロブスカイト化合物及び無機ペロブスカイト化合物を用いた固体接合型光電変換素子に関する。   The present invention relates to a solid junction photoelectric conversion element using an organic-inorganic hybrid perovskite compound and an inorganic perovskite compound in a photoelectric conversion layer.

近年、太陽エネルギーを電力に変換する光電変換素子として、pn接合型の太陽電池が活発に研究されている。このpn接合型太陽電池では、シリコン結晶やアモルファスシリコン薄膜、非シリコン系の化合物半導体の多層薄膜を用いる。しかし、これらの太陽電池は、高温もしくは真空下で製造するために、プラントのコストが高く、エネルギーペイバックタイムが長いという欠点がある。   In recent years, pn junction solar cells have been actively studied as photoelectric conversion elements that convert solar energy into electric power. In this pn junction type solar cell, a silicon crystal, an amorphous silicon thin film, or a non-silicon compound semiconductor multilayer thin film is used. However, since these solar cells are manufactured at a high temperature or under vacuum, there are disadvantages that the cost of the plant is high and the energy payback time is long.

これら従来の太陽電池を置き換える次世代太陽電池として、低温でより低コストで製造が可能な有機系太陽電池の開発が期待されている。そのひとつは大気中で低コストの量産が可能な色素増感型太陽電池であり、増感色素を担持した多孔質半導体微粒子層を用いる高効率の光電変換方法が提案されている(特許文献1)。色素増感型太陽電池は、電解液を採用する湿式太陽電池である。   As a next-generation solar cell that replaces these conventional solar cells, development of an organic solar cell that can be manufactured at a lower temperature and at a lower cost is expected. One of them is a dye-sensitized solar cell that can be mass-produced at low cost in the air, and a highly efficient photoelectric conversion method using a porous semiconductor fine particle layer carrying a sensitizing dye has been proposed (Patent Document 1). ). The dye-sensitized solar cell is a wet solar cell that employs an electrolytic solution.

色素増感型太陽電池は、透明導電性基板上に形成された二酸化チタンナノ粒子を代表とする金属酸化物半導体ナノ粒子からなる多孔質半導体微粒子層に増感色素を担持させた光作用極基板(光電極)と、導電性基板上に白金またはカーボンの対極層を形成した対極基板(対向電極)とを、互いに対向させて配置し、この基板間に電解質溶液を満たし、この電解質溶液を封止した構造からなる。この色素増感型太陽電池は製造工程が簡単であり低コストで製造できるメリットはあるが、電解液として液体を使用するため十分な耐久性が得られないという問題があった。   The dye-sensitized solar cell is a photoactive electrode substrate in which a sensitizing dye is supported on a porous semiconductor fine particle layer made of metal oxide semiconductor nanoparticles represented by titanium dioxide nanoparticles formed on a transparent conductive substrate ( A photoelectrode) and a counter electrode substrate (opposite electrode) in which a platinum or carbon counter electrode layer is formed on a conductive substrate are placed facing each other, and the electrolyte solution is filled between the substrates, and the electrolyte solution is sealed. It consists of the structure. This dye-sensitized solar cell has a merit that the manufacturing process is simple and can be manufactured at a low cost, but there is a problem that sufficient durability cannot be obtained because a liquid is used as the electrolytic solution.

非特許文献1には、増感色素を多孔質半導体微粒子(酸化チタン)層に吸着させ、電解液の代わりにホール移動型の無機ペロブスカイト化合物(CsSnI)を用いた色素増感型太陽電池(DSC)について開示されている。しかしながら、増感色素であるルテニウム色素は有機金属化合物であるため色素の脱着や分解に起因する太陽電池の耐久性に問題がある。また、非特許文献2には、有機無機混成ペロブスカイト化合物を増感色素に代えて使用することが開示されている。しかしながら、電解液を使用するために十分な耐久性が得られないという問題がある。 Non-Patent Document 1 discloses a dye-sensitized solar cell in which a sensitizing dye is adsorbed on a porous semiconductor fine particle (titanium oxide) layer and a hole-moving inorganic perovskite compound (CsSnI 3 ) is used instead of the electrolytic solution ( DSC). However, since the ruthenium dye, which is a sensitizing dye, is an organometallic compound, there is a problem in the durability of the solar cell due to desorption and decomposition of the dye. Non-Patent Document 2 discloses that an organic-inorganic hybrid perovskite compound is used instead of a sensitizing dye. However, there is a problem that sufficient durability cannot be obtained for using the electrolytic solution.

一方、増感色素を用いない有機薄膜太陽電池が一般に広く知られている。しかしながら、色素増感型太陽電池に比べて光電変換効率は低く、有機材料を用いていることから太陽電池の耐久性に懸念がある。また、これらの太陽電池モジュールのユニットの製造には多くの工程が必要であり、コストダウンのためには製造工程の簡略化が望まれている。   On the other hand, organic thin-film solar cells that do not use a sensitizing dye are generally widely known. However, the photoelectric conversion efficiency is lower than that of the dye-sensitized solar cell, and there is a concern about the durability of the solar cell because an organic material is used. Moreover, many processes are required for manufacturing these solar cell module units, and simplification of the manufacturing process is desired for cost reduction.

米国特許4927721号明細書US Pat. No. 4,927,721

Nature 2012年,485巻,486頁Nature 2012, 485, 486 Journal of the American Chemical Society 2009年,131巻,6050頁Journal of the American Chemical Society 2009, 131, 6050

本願発明では、光電変換層に有機無機混成ペロブスカイト化合物及び無機ペロブスカイト化合物からなるエネルギー変換効率の高い固体型光電変換素子を用いることで、増感色素の劣化や電解液の漏洩に起因する耐久性に問題がある色素増感型太陽電池、あるいは、耐光性、耐湿性に問題のある有機薄膜太陽電池の上述した課題を解決することを見出した。   In the present invention, by using a solid-type photoelectric conversion element having a high energy conversion efficiency composed of an organic-inorganic hybrid perovskite compound and an inorganic perovskite compound in the photoelectric conversion layer, durability due to deterioration of the sensitizing dye or leakage of the electrolytic solution is achieved. It has been found that the above-mentioned problems of a dye-sensitized solar cell having a problem or an organic thin-film solar cell having a problem with light resistance and moisture resistance are solved.

本願発明は、下記(1)乃至(6)の態様で実施できる。
(態様1) 透明基板と、前記透明基板上に形成された透明電極層からなる一対の透明電極基板間に光電変換層を有する光電変換素子であって、前記光電変換層が前記電極基板上に、カーボンナノチューブ表面に、下記一般式(1)または(2)のいずれかに示す有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを被膜形成または吸着させたカーボンナノチューブ層からなる第1半導体層と、下記一般式(3)に示す無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または下記一般式(4)若しくは(5)に示す有機無機混成ペロブスカイト化合物Cからなる被膜を形成した第2半導体層とを、接合したものであることを特徴とする固体接合型光電変換素子である。本願発明に用いるカーボンナノチューブは、第1半導体層の表面積を酸化チタン等の多孔質半導体微粒子以上に増加させことができ、太陽電池の特性向上に寄与するものである。
CHNH (1)
(式中、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(RNH14 (2)
(式中、Rは炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
CsM
(3)
(式中、M2は、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
CHNHSnX3
(4)
(式中、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(R2NH2SnX4 (5)
(式中、R2は炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
The present invention can be implemented in the following aspects (1) to (6).
(Aspect 1) A photoelectric conversion element having a photoelectric conversion layer between a pair of transparent electrode substrates formed of a transparent substrate and a transparent electrode layer formed on the transparent substrate, the photoelectric conversion layer on the electrode substrate A first semiconductor layer comprising a carbon nanotube layer in which an organic-inorganic hybrid perovskite compound A represented by either of the following general formula (1) or (2) is formed or adsorbed on the surface of the carbon nanotube, and the following general formula (3 ) And / or a second semiconductor layer formed with a film made of an organic-inorganic hybrid perovskite compound C represented by the following general formula (4) or (5): This is a solid junction photoelectric conversion element. The carbon nanotube used in the present invention can increase the surface area of the first semiconductor layer to be more than that of porous semiconductor fine particles such as titanium oxide, and contributes to the improvement of the characteristics of the solar cell.
CH 3 NH 3 M 1 X 3 (1)
(In the formula, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)
(R 1 NH 3 ) 2 M 1 X 4 (2)
(Wherein R 1 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, I.)
CsM 2 X 3
(3)
(In the formula, M 2 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)
CH 3 NH 3 SnX 3
(4)
(In the formula, X is F, Cl, Br, or I.)
(R 2 NH 3 ) 2 SnX 4 (5)
(Wherein R 2 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, and X is F, Cl, Br, or I.)

(態様2) 前記第1半導体層を構成する有機無機混成ペロブスカイト化合物Aからなる被膜または吸着体は、有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを構成し得る前駆体を含む溶液を用いて形成されたものであることを特徴とする前記(態様1)に記載した固体接合型光電変換素子である。前記溶液を用いることにより、大きな表面積を持つカーボンナノチューブから構成されるカーボンナノチューブ層の内部にも均一に有機無機混成ペロブスカイト化合物Aの被膜または吸着体を形成させることができる。 (Aspect 2) The film or adsorbent comprising the organic-inorganic hybrid perovskite compound A constituting the first semiconductor layer is formed using a solution containing a precursor that can constitute the organic-inorganic hybrid perovskite compound A. The solid junction photoelectric conversion element described in (Aspect 1). By using the solution, a coating or adsorbent of the organic / inorganic hybrid perovskite compound A can be uniformly formed inside the carbon nanotube layer composed of carbon nanotubes having a large surface area.

(態様3) 前記第2半導体層を構成する無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または有機無機混成ペロブスカイト化合物Cからなる被膜は、無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または有機無機混成ペロブスカイト化合物Cを構成し得る前駆体を含む溶液を用いて形成されたものであることを特徴とする前記(態様1)または(態様2)に記載した固体接合型光電変換素子である。 (Aspect 3) The film made of the inorganic perovskite compound B and / or the organic-inorganic hybrid perovskite compound C constituting the second semiconductor layer is a precursor that can constitute the inorganic perovskite compound B and / or the organic-inorganic hybrid perovskite compound C. It is formed using the solution which contains, It is a solid junction type photoelectric conversion element as described in the said (aspect 1) or (aspect 2) characterized by the above-mentioned.

(態様4) 前記有機無機混成ペロブスカイト化合物AおよびCが、それぞれ一般式(1)、一般式(4)に示す有機無機混成ペロブスカイト化合物であることを特徴とする前記(態様1)乃至(態様3)に記載した固体接合型光電変換素子である。 (Aspect 4) The above (Aspect 1) to (Aspect 3) are characterized in that the organic-inorganic hybrid perovskite compounds A and C are organic-inorganic hybrid perovskite compounds represented by the general formulas (1) and (4), respectively. ) Is a solid junction photoelectric conversion element.

(態様5) 前記カーボンナノチューブが、半導体性カーボンナノチューブを50%以上含むカーボンナノチューブであることを特徴とする前記(態様1)乃至(態様4)に記載した固体接合型光電変換素子である。 (Aspect 5) The solid junction photoelectric conversion element according to (Aspect 1) to (Aspect 4), wherein the carbon nanotube is a carbon nanotube containing 50% or more of semiconducting carbon nanotubes.

(態様6) 前記電極基板と前記第1半導体層の間および/又は前記電極基板と前記第2半導体層の間にバッファ層を形成したことを特徴とする前記(態様1)乃至(態様5)に記載した固体接合型光電変換素子である。 (Aspect 6) The (Aspect 1) to (Aspect 5), wherein a buffer layer is formed between the electrode substrate and the first semiconductor layer and / or between the electrode substrate and the second semiconductor layer. It is the solid junction type photoelectric conversion element described in 1.

本願発明は、色素増感型太陽電池に代表される湿式太陽電池の光電変換層に必要とされる電解液層を必要としない。このため、電解液漏洩により耐久性を損なうこともなく、電解液注入工程も不要であり、製造工程が非常に簡略さる。また、既存の有機薄膜太陽電池に比べても、光電変換効率が優れる固体接合型光電変換素子を提供できる。   The present invention does not require an electrolyte layer required for a photoelectric conversion layer of a wet solar cell typified by a dye-sensitized solar cell. For this reason, durability is not spoiled by electrolyte solution leakage, an electrolyte solution injection process is unnecessary, and the manufacturing process is greatly simplified. Moreover, the solid junction type photoelectric conversion element which is excellent in photoelectric conversion efficiency can be provided compared with the existing organic thin film solar cell.

本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の1例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the structure of the solid junction type photoelectric conversion element of this invention. 本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の他の1例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another example of the structure of the solid junction type photoelectric conversion element of this invention. 本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の他の1例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows another example of the structure of the solid junction type photoelectric conversion element of this invention. 本願発明の固体接合型光電変換素子のセル構造の1例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the cell structure of the solid junction type photoelectric conversion element of this invention. 本願発明の固体接合型光電変換素子の光電変換層を形成するため、透明導電性基板にマスクフィルムを貼合した1例を示す平面図(上段)および断面図(下段)である。It is the top view (upper stage) and sectional drawing (lower stage) which show one example which bonded the mask film to the transparent conductive substrate in order to form the photoelectric converting layer of the solid junction type photoelectric conversion element of this invention.

以下、本願発明の固体接合型光電変換素子の構造について説明する。   Hereinafter, the structure of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention will be described.

1.固体接合型光電変換素子の構造
図1は、本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の1例を示す模式図である。固体接合型光電変換素子1は、透明基板21上に透明導電層22を形成した一対の透明電極基板2の間に光電変換層3を有する。光電変換層3は、第1半導体層4と第2半導体層5から構成されている。第1半導体層4は、カーボンナノチューブ層41表面に有機無機混成ペロブスカイト化合物42が被膜として形成されている。第2半導体層5は、有機無機混成ペロブスカイト化合物および/または無機ペロブスカイト化合物が薄膜として形成されている。図2は、電極基板2と光電変換層3との間にバッファ層6が設けられている場合の本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の1例を示す模式図である。図3は、第1半導体層4が、カーボンナノチューブ層41表面に有機無機混成ペロブスカイト化合物42の吸着体が形成されている場合の本願発明の固体接合型光電変換素子の構造の1例を示す模式図である。
以下、透明電極基板2、光電変換層3、バッファ層6の順で説明する。
1. Structure of Solid Junction Photoelectric Conversion Device FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the structure of a solid junction photoelectric conversion device of the present invention. The solid junction photoelectric conversion element 1 includes a photoelectric conversion layer 3 between a pair of transparent electrode substrates 2 in which a transparent conductive layer 22 is formed on a transparent substrate 21. The photoelectric conversion layer 3 includes a first semiconductor layer 4 and a second semiconductor layer 5. In the first semiconductor layer 4, an organic / inorganic hybrid perovskite compound 42 is formed as a coating on the surface of the carbon nanotube layer 41. The second semiconductor layer 5 is formed of an organic-inorganic hybrid perovskite compound and / or an inorganic perovskite compound as a thin film. FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the structure of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention when the buffer layer 6 is provided between the electrode substrate 2 and the photoelectric conversion layer 3. FIG. 3 is a schematic view showing an example of the structure of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention when the first semiconductor layer 4 has an adsorbent of the organic / inorganic hybrid perovskite compound 42 formed on the surface of the carbon nanotube layer 41. FIG.
Hereinafter, the transparent electrode substrate 2, the photoelectric conversion layer 3, and the buffer layer 6 will be described in this order.

[1]透明電極基板
本願発明の透明電極基板は、透明基板上に透明導電層を形成したものである。
(1)透明基板
本願発明に用いる透明基板はガラス及びプラスチック基板が好ましい。プラスチック基板材料としては、無着色で透明性が高く、耐熱性が高く、耐薬品性及びガス遮断性に優れ、かつ低コストの材料が好適である。好適な材料としては、例えば、ポリエステル類(例、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)など)、スチレン類(例、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)など)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリカーボネート(PC)、ポリアリレート(PAr)、ポリスルホン(PSF)、ポリエステルスルホン(PES)、ポリエーテルイミド(PEI)、透明ポリイミド(PI)、シクロオレフィンコポリマー(商品名アートンなど)及び脂環式ポリオレフィン(商品名ゼオノアなど)などが用いられる。なかでも、化学的安定性とコストの点で、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、脂環式ポリオレフィンが特に好ましい。なお、これらのプラスチック基板の構造やその組成においては特に限定されず、本願発明の固体接合型光電変換素子を構成するに値するものであれば、利用することができる。また、ガラス基板材料としては、可視光線透過率80%を超えるものであればく、例えば、白板ガラス、ソーダガラス、硼珪酸ガラス等からなる無機質製基板がある。
[1] Transparent electrode substrate The transparent electrode substrate of the present invention is obtained by forming a transparent conductive layer on a transparent substrate.
(1) Transparent substrate The transparent substrate used in the present invention is preferably a glass or plastic substrate. As the plastic substrate material, an uncolored material having high transparency, high heat resistance, excellent chemical resistance and gas barrier properties, and low cost is preferable. Suitable materials include, for example, polyesters (eg, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), etc.), styrenes (eg, syndiotactic polystyrene (SPS), etc.), polyphenylene sulfide (PPS), polycarbonate, etc. (PC), polyarylate (PAr), polysulfone (PSF), polyestersulfone (PES), polyetherimide (PEI), transparent polyimide (PI), cycloolefin copolymer (trade name Arton, etc.) and alicyclic polyolefin (product) Name such as ZEONOR). Of these, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), and alicyclic polyolefin are particularly preferable in terms of chemical stability and cost. In addition, it does not specifically limit in the structure of these plastic substrates, or its composition, If it deserves to comprise the solid junction type photoelectric conversion element of this invention, it can utilize. The glass substrate material may be any material that has a visible light transmittance exceeding 80%, such as an inorganic substrate made of white plate glass, soda glass, borosilicate glass, or the like.

プラスチック基板の耐熱性は、ガラス転移温度(Tg)が100℃以上、及び、線熱膨張係数が40ppm/℃以下の少なくともいずれかの物性を満たすことが好ましい。なお、プラスチック基板のTg及び線膨張係数は、JIS K 7121に記載のプラスチックの転移温度測定方法、及び、JIS K 7197に記載のプラスチックの熱機械分析による線膨張率試験方法により測定する。プラスチックフィルムのTgや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。このような耐熱性に優れる熱可塑性樹脂として、例えば、ポリエチレンナフタレート(PEN:120℃)、ポリカーボネート(PC:140℃)、脂環式ポリオレフィン(例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア1600:160℃)、ポリアリレート(PAr:210℃)、ポリエーテルスルホン(PES:220℃)、ポリスルホン(PSF:190℃)、シクロオレフィンコポリマー(COC:特開2001−150584号公報の化合物:162℃)、フルオレン環変性ポリカーボネート(BCF−PC:特開2000−227603号公報の化合物:225℃)、脂環変性ポリカーボネート(IP−PC:特開2000−227603号公報の化合物:205℃)、アクリロイル化合物(特開2002−80616号公報の化合物:300℃以上)、ポリイミド等が挙げられ(括弧内はTgを示す)、これらは本願発明における基材として好適である。なかでも、特に透明性が求められる用途には、脂環式ポレオレフィンを使用することが好ましい。   The heat resistance of the plastic substrate preferably satisfies at least one of the physical properties of a glass transition temperature (Tg) of 100 ° C. or higher and a linear thermal expansion coefficient of 40 ppm / ° C. or lower. The Tg and linear expansion coefficient of the plastic substrate are measured by the plastic transition temperature measurement method described in JIS K 7121 and the linear expansion coefficient test method based on the thermomechanical analysis of plastic described in JIS K 7197. The Tg and linear expansion coefficient of the plastic film can be adjusted by additives. Examples of such a thermoplastic resin having excellent heat resistance include polyethylene naphthalate (PEN: 120 ° C.), polycarbonate (PC: 140 ° C.), and alicyclic polyolefin (for example, ZEONOR 1600: 160 ° C. manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.). , Polyarylate (PAr: 210 ° C.), polyether sulfone (PES: 220 ° C.), polysulfone (PSF: 190 ° C.), cycloolefin copolymer (COC: compound of JP 2001-150584 A, 162 ° C.), fluorene ring Modified polycarbonate (BCF-PC: compound of JP 2000-227603 A: 225 ° C.), alicyclic modified polycarbonate (IP-PC: compound of JP 2000-227603 A: 205 ° C.), acryloyl compound (JP 2002) Compound of No.-80616 300 ° C. or higher), polyimide and the like (in parentheses indicate the Tg), they are suitable as substrates in the present invention. Especially, it is preferable to use an alicyclic polyolefin for the use for which transparency is particularly required.

(2)透明導電層
本願発明の透明導電層の素材としては、導電性金属類(例、白金、金、銀、銅、アルミニウム、インジウム、チタン)、導電性炭素(カーボンブラック、カーボンナノファイバー、カーボンナノチューブ)、導電性金属酸化物(例、酸化スズ、酸化亜鉛)または導電性複合金属酸化物(例、インジウム‐スズ酸化物、インジウム−亜鉛酸化物)がある。高い光学的透明性を有するという点で、導電性金属酸化物、導電性複合金属酸化物が好ましく、耐熱性と化学安定性に優れるという点で、インジウム‐スズ複合酸化物(ITO)やインジウム‐亜鉛酸化物(IZO)が特に好ましい。その素材においては、組成内容は他の素材との混合でもよく、また形態なども限定されるものではない。また導電性層の形成においても、その方法は限定されるものではなく、スパッタ法、蒸着法さらには分散物を塗布する方法などが選定できる。透明基板上に透明電極層を設けた電極基板の光透過率(測定波長:500nm)は、60%以上が好ましく、75%以上であることがさらに好ましく、80%以上が最も好ましく、特には85%以上が好ましい。透明電極基板の導電性と透明性は、透明導電層の形成方法を最適化することで、例えば、蒸着時間、分散液塗布量などを最適化することで、両立させることができる。なお、本願発明では、一対の電極基板のいずれか一方を透明電極基板でないものとすることもできる。
(2) Transparent conductive layer The material of the transparent conductive layer of the present invention includes conductive metals (eg, platinum, gold, silver, copper, aluminum, indium, titanium), conductive carbon (carbon black, carbon nanofiber, Carbon nanotubes), conductive metal oxides (eg, tin oxide, zinc oxide) or conductive composite metal oxides (eg, indium-tin oxide, indium-zinc oxide). In terms of having high optical transparency, conductive metal oxides and conductive composite metal oxides are preferred, and in terms of heat resistance and chemical stability, indium-tin composite oxide (ITO) and indium- Zinc oxide (IZO) is particularly preferred. In the material, the composition may be mixed with other materials, and the form is not limited. In addition, the method for forming the conductive layer is not limited, and a sputtering method, a vapor deposition method, a method of applying a dispersion, and the like can be selected. The light transmittance (measurement wavelength: 500 nm) of the electrode substrate provided with the transparent electrode layer on the transparent substrate is preferably 60% or more, more preferably 75% or more, most preferably 80% or more, and particularly 85. % Or more is preferable. The conductivity and transparency of the transparent electrode substrate can be achieved by optimizing the formation method of the transparent conductive layer, for example, by optimizing the deposition time, the amount of dispersion applied, and the like. In the present invention, either one of the pair of electrode substrates may not be a transparent electrode substrate.

本願発明においては、低い表面抵抗値を達成するために、導電層に金属を用いることができる。金属メッシュ構造からなる透明導電性層を形成することにより高い透明性も達成できる。低抵抗の金属材料(例、銅、銀、アルミニウム、白金、金、チタン、ニッケルなど)を用いて金属メッシュ構造からなる透明導電性層を形成することが好ましい。この場合には、導電層には集電のための補助リードをパターニングなどにより配置させることができる。補助リードも導電層と同様に低抵抗の金属材料(例、銅、銀、アルミニウム、白金、金、チタン、ニッケルなど)によって形成される。補助リードを含めた表面の抵抗値は本発明の目的に有ったものであれば特に限定されない。ここで補助リードのパターンは透明基板に蒸着、スパッタリングなどにより形成し、さらにその上に酸化スズ、ITO膜、IZO膜などからなる透明導電層を設けることも好ましい。   In the present invention, a metal can be used for the conductive layer in order to achieve a low surface resistance value. High transparency can also be achieved by forming a transparent conductive layer having a metal mesh structure. It is preferable to form a transparent conductive layer having a metal mesh structure using a low-resistance metal material (eg, copper, silver, aluminum, platinum, gold, titanium, nickel, etc.). In this case, auxiliary leads for collecting current can be disposed on the conductive layer by patterning or the like. The auxiliary lead is also formed of a low-resistance metal material (eg, copper, silver, aluminum, platinum, gold, titanium, nickel, etc.) in the same manner as the conductive layer. The resistance value of the surface including the auxiliary lead is not particularly limited as long as it has the object of the present invention. Here, the auxiliary lead pattern is preferably formed on the transparent substrate by vapor deposition, sputtering, or the like, and a transparent conductive layer made of tin oxide, ITO film, IZO film or the like is further provided thereon.

[2]光電変換層
本願発明の光電変換層は、一対の透明電極基板の間に形成されるものであり、本願発明の固体接合型光電変換素子の電荷分離に寄与して、生じた電子および正孔を各々反対方向の電極に向かって輸送する機能を有する。本願発明の光電変換層は、第1半導体層と第2半導体層から構成されている。
[2] Photoelectric conversion layer The photoelectric conversion layer of the present invention is formed between a pair of transparent electrode substrates, and contributes to charge separation of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention. It has a function of transporting holes toward electrodes in opposite directions. The photoelectric conversion layer of the present invention is composed of a first semiconductor layer and a second semiconductor layer.

(A)第1半導体層
本願発明の第1半導体層は、n型半導体特性に近い機能を有するものであり、透明電極基板上に形成したカーボンナノチューブ層表面に、有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを被膜形成または吸着させたものである。
(A) 1st semiconductor layer The 1st semiconductor layer of this invention has a function close | similar to an n-type semiconductor characteristic, and coats the organic-inorganic hybrid perovskite compound A on the surface of the carbon nanotube layer formed on the transparent electrode substrate Formed or adsorbed.

(1)カーボンナノチューブ層
本願明のカーボンナノチューブ層は、半導体性カーボンナノチューブを50%以上含むカーボンナノチューブにより構成されている。以下、本願発明に用いられるカーボンナノチューブについて説明する。カーボンナノチューブは、マルチウォールカーボンナノチューブ(多層カーボンナノチューブ;MWCT)、シングルウォールカーボンナノチューブ(単層カーボンナノチューブ;SWCT)のいずれであってもよい。各々単独に用いても、混合してもよい。また、カーボンナノホーン、カーボンナノコイル、カーボンナノビーズを用いても良い。
カーボンナノチューブは、その伝導度によって金属性カーボンナノチューブと半導体性カーボンナノチューブに分類されるが用途に応じて、半導体性と金属性の混合比率を調整することが好ましい。導電性用途としてカーボンナノチューブ層を用いる場合には、金属性カーボンナノチューブの比率が高いほうが好ましく、半導体用途としてカーボンナノチューブ層を用いる場合には、半導体性カーボンナノチューブの比率が高いほうが好ましい。本願発明では光電変換素子の光電変換率を向上させるため、半導体性
カーボンナノチューブ の割合が多い方が好ましい。本願発明のカーボンナノチューブは、さらに金属などが内包されていてもよい。また、フラーレンが内包されたピーポッドナノチューブを用いても良い。カーボンナノチューブは、任意の方法、例えばアーク放電法、レーザーアブレーション法、CVD法、スーパーグロス法などによって合成することができる。
(1) Carbon nanotube layer The carbon nanotube layer of the present application is composed of carbon nanotubes containing 50% or more of semiconducting carbon nanotubes. Hereinafter, the carbon nanotube used in the present invention will be described. The carbon nanotube may be either a multi-wall carbon nanotube (multi-wall carbon nanotube; MWCT) or a single-wall carbon nanotube (single-wall carbon nanotube; SWCT). Each may be used alone or in combination. Carbon nanohorns, carbon nanocoils, and carbon nanobeads may also be used.
Carbon nanotubes are classified into metallic carbon nanotubes and semiconducting carbon nanotubes according to their conductivity, but it is preferable to adjust the mixing ratio of semiconducting properties and metallic properties according to the application. When the carbon nanotube layer is used as a conductive application, a higher ratio of metallic carbon nanotubes is preferable. When a carbon nanotube layer is used as a semiconductor application, a higher ratio of semiconductor carbon nanotubes is preferable. In the present invention, in order to improve the photoelectric conversion rate of the photoelectric conversion element, it is preferable that the ratio of semiconducting carbon nanotubes is large. The carbon nanotube of the present invention may further contain a metal or the like. Moreover, you may use the peapod nanotube in which fullerene was included. Carbon nanotubes can be synthesized by any method, for example, arc discharge method, laser ablation method, CVD method, super gloss method and the like.

本願発明に用いられるカーボンナノチューブは、表面を官能基で修飾されていてもよい。 官能基としては、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基が好ましい。これらの官能基は、上記易接着層との化学反応により、カーボンナノチューブ層と易接着層との密着性をより高めることに効果がある。これらの官能基は、任意の方法を利用して導入することが可能であり(例えば、特開2005−41835号公報を参照。)、官能基の導入量としては、用途に応じて適宜調整することが好ましい。   The surface of the carbon nanotube used in the present invention may be modified with a functional group. The functional group is preferably a hydroxy group, a carboxy group, or an amino group. These functional groups are effective in enhancing the adhesion between the carbon nanotube layer and the easy adhesion layer by a chemical reaction with the easy adhesion layer. These functional groups can be introduced using any method (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-41835), and the amount of functional groups introduced is appropriately adjusted depending on the application. It is preferable.

本願発明に用いられるカーボンナノチューブは、高い機械強度を与えてカーボンナノチューブ層含有構造体の特性を高める観点から、架橋されていることも好ましい。カーボンナノチューブの架橋については、カーボンナノチューブ表面に導入したヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基を利用して架橋剤と反応させる方法が好ましい。架橋反応としては、エステル化、エーテル化、アミド化反応が好適に用いられる(例えば、特開2005−41835号公報を参照。)。架橋密度は、用途に応じて調整することが好ましい。本願発明に用いられるカーボンナノチューブの直径としては、0.3nm以上100nm以下であることが好ましい。より好ましくは、1nm以上30nm以下である。本願発明に用いられるカーボンナノチューブの長さとしては、0.1μm以上100μm以下であることが好ましい。 The carbon nanotubes used in the present invention are preferably cross-linked from the viewpoint of giving high mechanical strength and enhancing the characteristics of the carbon nanotube layer-containing structure. As for the cross-linking of the carbon nanotube, a method of reacting with a cross-linking agent using a hydroxy group, a carboxy group, or an amino group introduced on the surface of the carbon nanotube is preferable. As the crosslinking reaction, esterification, etherification, or amidation reaction is preferably used (see, for example, JP-A-2005-41835). The crosslink density is preferably adjusted according to the application. The diameter of the carbon nanotube used in the present invention is preferably 0.3 nm or more and 100 nm or less. More preferably, they are 1 nm or more and 30 nm or less. The length of the carbon nanotube used in the present invention is preferably 0.1 μm or more and 100 μm or less.

本願発明のカーボンナノチューブ層含有構造体の製造方法は、透明支持体上にカーボンナノチューブ層を塗布することで作製することができる。この際に用いる、カーボンナノチューブを含有する塗布液については、用途に応じて、適宜、粘度、表面張力などの物性を調整することが好ましい。カーボンナノチューブを含有する塗布液の塗布に関しては、原崎勇次著、「コーティング方式」、慎書店1979年10月発行に示されているリバースコータ、グラビアコータ、ロッドコータ、エアドクタコータ、スピンコート、スプレー塗布などをはじめ、任意の塗布装置を用いることができる。カーボンナノチューブ層の厚さは、特に限定されないが、0.001〜10μmが好ましい。   The method for producing a carbon nanotube layer-containing structure of the present invention can be produced by applying a carbon nanotube layer on a transparent support. Regarding the coating solution containing carbon nanotubes used at this time, it is preferable to appropriately adjust physical properties such as viscosity and surface tension according to the application. Regarding the coating of coating solutions containing carbon nanotubes, reverse coaters, gravure coaters, rod coaters, air doctor coaters, spin coaters, sprays, as shown in Yuji Harasaki, “Coating Method”, published by Shinsho, October 1979 Arbitrary coating devices such as coating can be used. Although the thickness of a carbon nanotube layer is not specifically limited, 0.001-10 micrometers is preferable.

なお、本願発明では、カーボンナノチューブ以外の炭素材料、例えば、フラーレン、グラファイト等をカーボンナノチュウブの代わりに使用することもできる。   In the present invention, carbon materials other than carbon nanotubes, for example, fullerene, graphite and the like can be used instead of carbon nanotubes.

(2)有機無機混成ペロブスカイト化合物A
有機無機混成ペロブスカイト化合物とは、単一の分子スケール・コンポジット内に有機・無機両成分に特徴的な望ましい物理特性を組み合わせた(有機無機混成の)ペロブスカイト化合物をいう。ペロブスカイトの基本的構造形態は、ABX構造であり、頂点共有BX八面体の三次元ネットワークを有する。ABX構造のB成分は、Xアニオンの八面体配位をとることができる金属カチオンである。Aカチオンは、BX八面体間の12の配位孔に位置し、一般に無機カチオンである。Aを無機カチオンから有機カチオンに置換することにより、有機無機混成ペロブスカイト化合物を形成する。
(2) Organic-inorganic hybrid perovskite compound A
The organic / inorganic hybrid perovskite compound refers to a perovskite compound (organic / inorganic hybrid) in which desirable physical properties characteristic of both organic and inorganic components are combined in a single molecular scale composite. The basic structural form of perovskite is the ABX 3 structure, which has a three-dimensional network of vertex sharing BX 6 octahedrons. The B component of the ABX 3 structure is a metal cation that can take octahedral coordination of the X anion. A cations are located in 12 coordination holes between BX 6 octahedra and are generally inorganic cations. By substituting A from an inorganic cation to an organic cation, an organic-inorganic hybrid perovskite compound is formed.

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aは、下記一般式(1)または(2)のいずれかに示す化合物であり、特に、一般式(1)の化合物が好ましい。
CHNH (1)
(式中、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(RNH14 (2)
(式中、Rは炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
The organic-inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention is a compound represented by either the following general formula (1) or (2), and the compound of the general formula (1) is particularly preferable.
CH 3 NH 3 M 1 X 3 (1)
(In the formula, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)
(R 1 NH 3 ) 2 M 1 X 4 (2)
(Wherein R 1 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, I.)

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aにおける無機枠組みは、頂点を共有する金属ハロゲン化物八面体の層を有する。陽イオン性有機層からの正の電荷と平衡をとるため、陰イオン性金属ハロゲン化物層(例えば、M13 2-,M14 2-)は一般に2価の金属である。本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aの陰イオン性金属ハロゲン化物層を構成する金属は、具体的には、M(例、Cu2+,Ni2+,Mn2+,Fe2+、Co2+、Pd2+、Ge2+、Sn2+、Pb2+、Eu2+)である。 The inorganic framework in the organic-inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention has a metal halide octahedron layer sharing a vertex. Anionic metal halide layers (eg, M 1 X 3 2− , M 1 X 4 2− ) are generally divalent metals in order to balance the positive charge from the cationic organic layer. The metal constituting the anionic metal halide layer of the organic / inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention is specifically M 1 (eg, Cu 2+ , Ni 2+ , Mn 2+ , Fe 2+ , Co 2+ ). 2+ , Pd 2+ , Ge 2+ , Sn 2+ , Pb 2+ , Eu 2+ ).

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aの陰イオン性金属ハロゲン化物層を構成するハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、またはこれらの組合せである。このハロゲン化物は、臭化物、ヨウ化物が好ましい。   The halide constituting the anionic metal halide layer of the organic / inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention is fluoride, chloride, bromide, iodide, or a combination thereof. This halide is preferably bromide or iodide.

本願発明の上記一般式(2)のRとしては、炭素数2〜40の置換または未置換のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルキル鎖(好ましくは炭素数2〜30であり、より好ましくは炭素数2〜20であり、炭素数2〜18がもっとも好ましい)。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、イコサニル基、ドコサニル基、トリアコンタニル基、テトラアコンタニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 1 in the above general formula (2) of the present invention is a substituted or unsubstituted alkyl group having 2 to 40 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl chain (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more Preferably it is C2-C20, and C2-C18 is the most preferable). Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, isooctyl group, nonyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group Group, icosanyl group, docosanyl group, triacontanyl group, tetraacontanyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

炭素数2〜40の置換または未置換のアラルキル基としては、アリール基で置換されている低級アルキル基を意味し、アルキル部が直鎖状または分岐鎖状で、好ましい炭素数が1〜5、より好ましくは1であり、アリール部が好ましい炭素数が6〜10、より好ましくは6〜8である。具体的には、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。   The substituted or unsubstituted aralkyl group having 2 to 40 carbon atoms means a lower alkyl group substituted with an aryl group, the alkyl portion is linear or branched, and preferably has 1 to 5 carbon atoms, More preferably, it is 1, and the aryl part preferably has 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms. Specific examples include a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

アルケニル基は、好ましくは炭素数3〜30であり、より好ましくは炭素数3〜20であり、炭素数3〜12が最も好ましい。例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、オレイル基、アリル基等が挙げられる。アルキニル基としては、アセチレニル、プロパルギル基、3−ペンチニル基、2−ヘキシルニル、2−デカニルを挙げることが出来る。   The alkenyl group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, and most preferably 3 to 12 carbon atoms. For example, a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, oleyl group, allyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkynyl group include acetylenyl, propargyl group, 3-pentynyl group, 2-hexynyl, and 2-decanyl.

アリール基としては、好ましくは炭素数6〜30の単環または二環のアリール基(例えばフェニル、ナフチル等が挙げられる。)であり、より好ましくは炭素数6〜20のフェニル基または炭素数10〜24のナフチル基であり、更に好ましくは炭素数6〜12のフェニル基または炭素数10〜16のナフチル基である。例えばフェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。一般式(1)において、複素環基としては、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。   The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (for example, phenyl, naphthyl etc.), more preferably a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms or 10 carbon atoms. A naphthyl group having 24 to 24, more preferably a phenyl group having 6 to 12 carbon atoms or a naphthyl group having 10 to 16 carbon atoms. For example, a phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, xylyl group, anthryl group, azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group and the like can be mentioned. These groups may further have a substituent. In the general formula (1), examples of the heterocyclic group include a pyrrolidyl group, an imidazolidyl group, a morpholyl group, and an oxazolidyl group. These groups may further have a substituent.

芳香族複素環基としては、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、フタラジニル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。   Examples of the aromatic heterocyclic group include furyl, thienyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazinyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, quinazolinyl, carbazolyl, carbolinyl, diaza Examples thereof include a carbazolyl group (in which one of carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced with a nitrogen atom), a phthalazinyl group, and the like. These groups may further have a substituent.

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aの具体例としては、CHNHPbI、CHNHPbBr、(CH(CHCHCHNHPbI[n=5〜8]、(CNHPbBrがある。 Specific examples of the organic-inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention include CH 3 NH 3 PbI 3 , CH 3 NH 3 PbBr 3 , (CH 3 (CH 2 ) n CHCH 3 NH 3 ) 2 PbI 4 [n = 5 to 5 8], there are (C 6 H 5 C 2 H 4 NH 3) 2 PbBr 4.

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aは、前駆体溶液を用いた自己組織化反応により合成することができる。本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Aの被膜あるいは吸着体は、ペロブスカイト化合物Aを有機溶剤に溶解した後、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法等の塗布方法によって形成できる。   The organic / inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention can be synthesized by a self-assembly reaction using a precursor solution. The film or adsorbent of the organic / inorganic hybrid perovskite compound A of the present invention is obtained by dissolving the perovskite compound A in an organic solvent, and then gravure coating method, bar coating method, printing method, spraying method, spin coating method, dip method, die coating method. It can be formed by a coating method such as.

(3)有機無機混成ペロブスカイトAの溶液
本願発明に用いる有機無機混成ペロブスカイトAの溶液を調製するための溶剤としては、有機無機混成ペロブスカイトAを溶解できるものであれば特に限定するものではない。エステル類(例、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等)、ケトン類(例、γ-ブチロラクトン、Nメチル-2-ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等)、エーテル類(例、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、4−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等)、アルコール類(例、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール等)、グリコールエーテル(セロソルブ)類(例、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等)、アミド系溶剤(例、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等)、ニトリル系溶剤(例、アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等)、カーボート系剤(例、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム等)、炭化水素(例、n−ペンタン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、ジメチルスルホキシドがある。これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。エステル類、ケトン類、エーテル類およびアルコール類の官能基(即ち、−O−、−CO−、−COO−、−OH)のいずれかを二つ以上有していてもよい。エステル類、ケトン類、エーテル類およびアルコール類の炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子(特に、フッ素原子)で置換されていてもよい。
(3) Solution of organic / inorganic hybrid perovskite A The solvent for preparing the solution of organic / inorganic hybrid perovskite A used in the present invention is not particularly limited as long as it can dissolve the organic / inorganic hybrid perovskite A. Esters (eg, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketones (eg, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, acetone, Dimethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, etc.), ethers (eg, diethyl ether, methyl-tert-butyl ether, diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3- Dioxolane, 4-methyldioxolane, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, anisole, phenetole, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1 Butanol, 2-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-2-butanol, methoxypropanol, diacetone alcohol, cyclohexanol, 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2, 2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, etc.), glycol ethers (cellosolves) (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, triethylene glycol) Dimethyl ether, etc.), amide solvents (eg, N, N-dimethylformamide, acetamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), nitrile solvents (eg, acetonitrile, isobutyronitrile, pro Pionitrile, methoxyacetonitrile, etc.), carboat agents (eg, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, dichloromethane, chloroform, etc.), hydrocarbons (eg, n-pentane, cyclohexane, n- Hexane, benzene, toluene, xylene, etc.) and dimethyl sulfoxide. These may have a branched structure or a cyclic structure. Two or more functional groups of esters, ketones, ethers, and alcohols (that is, —O—, —CO—, —COO—, —OH) may be contained. The hydrogen atom in the hydrocarbon moiety of the esters, ketones, ethers and alcohols may be substituted with a halogen atom (particularly a fluorine atom).

(B)第2半導体層
本願発明の第2半導体層は、p型半導体特性に近い機能を有するものであり、透明電極基板またはバッファ層を塗布した透明電極基板上に、無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または有機無機混成ペロブスカイト化合物Cを被膜形成させたものである。
(B) Second Semiconductor Layer The second semiconductor layer of the present invention has a function close to p-type semiconductor characteristics, and an inorganic perovskite compound B and / or a transparent electrode substrate or a transparent electrode substrate coated with a buffer layer. Alternatively, an organic / inorganic hybrid perovskite compound C is formed into a film.

(1)無機ペロブスカイト化合物B
本願発明の無機ペロブスカイト化合物Bは、下記一般式(3)に示されるものである。
CsM (3)
(式中、M2は、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(1) Inorganic perovskite compound B
The inorganic perovskite compound B of the present invention is represented by the following general formula (3).
CsM 2 X 3 (3)
(In the formula, M 2 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)

本願発明の無機ペロブスカイト化合物Bの陰イオン性金属ハロゲン化物層を構成する金属は、具体的には、M(例、Cu2+,Ni2+,Mn2+,Fe2+、Co2+、Pd2+、Ge2+、Sn2+、Pb2+、Eu2+)である。 Specifically, the metal constituting the anionic metal halide layer of the inorganic perovskite compound B of the present invention is M 2 (eg, Cu 2+, Ni 2+, Mn 2+, Fe 2+, Co 2+, Pd 2+, Ge 2+, Sn 2+, Pb 2+, Eu 2+). ).

本願発明の無機ペロブスカイト化合物Bの陰イオン性金属ハロゲン化物層を構成するハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、またはこれらの組合せである。このハロゲン化物は、臭化物、ヨウ化物が好ましい。   The halide constituting the anionic metal halide layer of the inorganic perovskite compound B of the present invention is fluoride, chloride, bromide, iodide, or a combination thereof. This halide is preferably bromide or iodide.

本願発明の無機ペロブスカイト化合物Bの具体例としては、CsSnI、CsSnBrがある。 Specific examples of the inorganic perovskite compound B of the present invention include CsSnI 3 and CsSnBr 3 .

本願発明の無機ペロブスカイト化合物Bは、前駆体溶液を用いた自己組織化反応により合成することができる。本願発明の第2半導体層は、ペロブスカイト化合物Bを有機溶剤に溶解した後、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法等の塗布方法によって形成できる。   The inorganic perovskite compound B of the present invention can be synthesized by a self-organization reaction using a precursor solution. The second semiconductor layer of the present invention can be formed by dissolving a perovskite compound B in an organic solvent and then applying a gravure coating method, a bar coating method, a printing method, a spray method, a spin coating method, a dip method, a die coating method, or the like. .

(2)有機無機混成ペロブスカイト化合物C
本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Cは、下記一般式(4)および/または一般式(5)に示されるものである。
CHNHSnX3 (4)
(式中、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(R2NH2SnX4 (5)
(式中、R2は炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(2) Organic-inorganic hybrid perovskite compound C
The organic-inorganic hybrid perovskite compound C of the present invention is represented by the following general formula (4) and / or general formula (5).
CH 3 NH 3 SnX 3 (4)
(In the formula, X is F, Cl, Br, or I.)
(R 2 NH 3 ) 2 SnX 4 (5)
(Wherein R 2 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, and X is F, Cl, Br, or I.)

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Cにおける無機枠組みは、頂点を共有する金属ハロゲン化物八面体の層を有する。陽イオン性有機層からの正の電荷と平衡をとるため、陰イオン性金属ハロゲン化物層(例えば、M13 2-,M14 2-)は2価の金属(Sn2+)である。 The inorganic framework in the organic-inorganic hybrid perovskite compound C of the present invention has a metal halide octahedron layer sharing a vertex. In order to balance the positive charge from the cationic organic layer, the anionic metal halide layer (eg M 1 X 3 2− , M 1 X 4 2− ) is a divalent metal (Sn 2+ ). It is.

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Cの陰イオン性金属ハロゲン化物層を構成するハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物、またはこれらの組合せである。このハロゲン化物は、臭化物、ヨウ化物が好ましい。   The halide constituting the anionic metal halide layer of the organic / inorganic hybrid perovskite compound C of the present invention is fluoride, chloride, bromide, iodide, or a combination thereof. This halide is preferably bromide or iodide.

本願発明の上記一般式(5)のR2としては、炭素数2〜40の置換または未置換のアルキル基、直鎖、分岐または環状のアルキル鎖(好ましくは炭素数2〜30であり、より好ましくは炭素数2〜20であり、炭素数2〜18がもっとも好ましい)。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、ノニル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、イコサニル基、ドコサニル基、トリアコンタニル基、テトラアコンタニル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 2 in the general formula (5) of the present invention is a substituted or unsubstituted alkyl group having 2 to 40 carbon atoms, a linear, branched or cyclic alkyl chain (preferably having 2 to 30 carbon atoms, more Preferably it is C2-C20, and C2-C18 is the most preferable). Specifically, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, isooctyl group, nonyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group Group, icosanyl group, docosanyl group, triacontanyl group, tetraacontanyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.

炭素数2〜40の置換または未置換のアラルキル基としては、アリール基で置換されている低級アルキル基を意味し、アルキル部が直鎖状または分岐鎖状で、好ましい炭素数が1〜5、より好ましくは1であり、アリール部が好ましい炭素数が6〜10、より好ましくは6〜8である。具体的には、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。   The substituted or unsubstituted aralkyl group having 2 to 40 carbon atoms means a lower alkyl group substituted with an aryl group, the alkyl portion is linear or branched, and preferably has 1 to 5 carbon atoms, More preferably, it is 1, and the aryl part preferably has 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms. Specific examples include a benzyl group, a phenylethyl group, a phenylpropyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.

アルケニル基は、好ましくは炭素数3〜30であり、より好ましくは炭素数3〜20であり、炭素数3〜12が最も好ましい。例えば、ビニル基、1−プロペニル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、オレイル基、アリル基等が挙げられる。アルキニル基としては、アセチレニル、プロパルギル基、3−ペンチニル基、2−ヘキシルニル、2−デカニルを挙げることが出来る。   The alkenyl group preferably has 3 to 30 carbon atoms, more preferably 3 to 20 carbon atoms, and most preferably 3 to 12 carbon atoms. For example, a vinyl group, 1-propenyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, oleyl group, allyl group and the like can be mentioned. Examples of the alkynyl group include acetylenyl, propargyl group, 3-pentynyl group, 2-hexynyl, and 2-decanyl.

アリール基としては、好ましくは炭素数6〜30の単環または二環のアリール基(例えばフェニル、ナフチル等が挙げられる。)であり、より好ましくは炭素数6〜20のフェニル基または炭素数10〜24のナフチル基であり、更に好ましくは炭素数6〜12のフェニル基または炭素数10〜16のナフチル基である。例えばフェニル基、p−クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。一般式(1)において、複素環基としては、例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。   The aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group having 6 to 30 carbon atoms (for example, phenyl, naphthyl etc.), more preferably a phenyl group having 6 to 20 carbon atoms or 10 carbon atoms. A naphthyl group having 24 to 24, more preferably a phenyl group having 6 to 12 carbon atoms or a naphthyl group having 10 to 16 carbon atoms. For example, a phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, xylyl group, anthryl group, azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group and the like can be mentioned. These groups may further have a substituent. In the general formula (1), examples of the heterocyclic group include a pyrrolidyl group, an imidazolidyl group, a morpholyl group, and an oxazolidyl group. These groups may further have a substituent.

芳香族複素環基としては、例えばフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、トリアジニル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、キナゾリニル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基(前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する任意の炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す)、フタラジニル基等が挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。   Examples of the aromatic heterocyclic group include furyl, thienyl, pyridyl, pyridazinyl, pyrimidinyl, pyrazinyl, triazinyl, imidazolyl, pyrazolyl, thiazolyl, quinazolinyl, carbazolyl, carbolinyl, diaza Examples thereof include a carbazolyl group (in which one of carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced with a nitrogen atom), a phthalazinyl group, and the like. These groups may further have a substituent.

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Cの具体例としては、CHNHSnIがある。 A specific example of the organic / inorganic hybrid perovskite compound C of the present invention is CH 3 NH 3 SnI 3 .

本願発明の有機無機混成ペロブスカイト化合物Cは、前駆体溶液を用いた自己組織化反応により合成することができる。本願発明の第2半導体層は、ペロブスカイト化合物Cを有機溶剤に溶解した後、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法等の塗布方法によって形成できる。   The organic-inorganic hybrid perovskite compound C of the present invention can be synthesized by a self-assembly reaction using a precursor solution. The second semiconductor layer of the present invention can be formed by dissolving the perovskite compound C in an organic solvent and then applying a gravure coating method, a bar coating method, a printing method, a spray method, a spin coating method, a dip method, a die coating method, or the like. .

(5)無機ペロブスカイトBおよび有機無機混成ペロブスカイトCの溶液
本願発明に用いる有機無機混成ペロブスカイトCの溶液を調製するための溶剤としては、有機無機混成ペロブスカイトCを溶解できるものであり、第1半導体層を溶解し、分解し、あるいは膨潤しない溶剤であれば特に限定するものではない。エステル類(例、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテート等)、ケトン類(例、γ-ブチロラクトン、Nメチル-2-ピロリドン、アセトン、ジメチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等)、エーテル類(例、ジエチルエーテル、メチル−tert−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、4−メチルジオキソラン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール等)、アルコール類(例、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、メトキシプロパノール、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノール、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール等)、グリコールエーテル(セロソルブ)類(例、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールジメチルエーテル等)、アミド系溶剤(例、N,N-ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等)、ニトリル系溶剤(例、アセトニトリル、イソブチロニトリル、プロピオニトリル、メトキシアセトニトリル等)、カーボート系剤(例、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、ジクロロメタン、クロロホルム等)、炭化水素(例、n−ペンタン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等)、ジメチルスルホキシドがある。これらは分岐構造若しくは環状構造を有していてもよい。エステル類、ケトン類、エーテル類およびアルコール類の官能基(即ち、−O−、−CO−、−COO−、−OH)のいずれかを二つ以上有していてもよい。エステル類、ケトン類、エーテル類およびアルコール類の炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子(特に、フッ素原子)で置換されていてもよい。
(5) Solution of inorganic perovskite B and organic / inorganic hybrid perovskite C As a solvent for preparing the solution of organic / inorganic hybrid perovskite C used in the present invention, an organic / inorganic hybrid perovskite C can be dissolved, and the first semiconductor layer There is no particular limitation as long as it is a solvent that dissolves, decomposes, or does not swell. Esters (eg, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, pentyl acetate, etc.), ketones (eg, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, acetone, Dimethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, etc.), ethers (eg, diethyl ether, methyl-tert-butyl ether, diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3- Dioxolane, 4-methyldioxolane, tetrahydrofuran, methyltetrahydrofuran, anisole, phenetole, etc.), alcohols (eg, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, -Butanol, 2-butanol, tert-butanol, 1-pentanol, 2-methyl-2-butanol, methoxypropanol, diacetone alcohol, cyclohexanol, 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2 , 2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, etc.), glycol ethers (cellosolves) (eg, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, triethylene Glycol dimethyl ether), amide solvents (eg, N, N-dimethylformamide, acetamide, N, N-dimethylacetamide, etc.), nitrile solvents (eg, acetonitrile, isobutyronitrile, propylene, etc.) Pionitrile, methoxyacetonitrile, etc.), carboat agents (eg, ethylene carbonate, propylene carbonate, etc.), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, dichloromethane, chloroform, etc.), hydrocarbons (eg, n-pentane, cyclohexane, n- Hexane, benzene, toluene, xylene, etc.) and dimethyl sulfoxide. These may have a branched structure or a cyclic structure. Two or more functional groups of esters, ketones, ethers, and alcohols (that is, —O—, —CO—, —COO—, —OH) may be contained. The hydrogen atom in the hydrocarbon moiety of the esters, ketones, ethers and alcohols may be substituted with a halogen atom (particularly a fluorine atom).

第2半導体層の膜厚は、1〜1000nmが好ましい。   The film thickness of the second semiconductor layer is preferably 1 to 1000 nm.

[3]バッファ層
バッファ層は、透明電極基板と光電変換層との短絡を防止する役割を持つものである。また、透明電極基板と光電変換層との密着性を向上させる役割も持つものである。
[3] Buffer layer The buffer layer has a role of preventing a short circuit between the transparent electrode substrate and the photoelectric conversion layer. Moreover, it also has a role which improves the adhesiveness of a transparent electrode substrate and a photoelectric converting layer.

バッファ層の素材としては、高抵抗な半導体および絶縁物質であれば、特に限定はされない。例えば、酸化チタン、酸化ニオブ、酸化タングステン、酸化錫、酸化亜鉛等がある。また、バッファ層を形成する方法としては、上記素材を透明導電層に直接スパッタする方法、Electrochim.Acta 40、643‐652(1995)に記載されているスプレーパイロリシス法などがある。あるいは上記素材を溶媒に溶解した溶液、金属酸化物の前駆体である金属水酸化物を溶解した溶液、または有機金属化合物を、水を含む混合溶媒に溶解した金属水酸化物を含む溶液を、基板と導電層からなる導電性基板上に塗布、乾燥し、必要に応じて焼結する方法がある。バッファ層の好ましい膜厚は5〜100nmである。塗布方法としては、グラビア塗布法、バー塗布法、印刷法、スプレー法、スピンコーティング法、ディップ法、ダイコート法等が挙げられる。   The material of the buffer layer is not particularly limited as long as it is a high resistance semiconductor and insulating material. Examples include titanium oxide, niobium oxide, tungsten oxide, tin oxide, and zinc oxide. As a method for forming the buffer layer, a method of directly sputtering the above-mentioned material onto a transparent conductive layer, Electrochim. There is a spray pyrolysis method described in Acta 40, 643-652 (1995). Or the solution which melt | dissolved the said raw material in the solvent, the solution which melt | dissolved the metal hydroxide which is a precursor of a metal oxide, or the solution containing the metal hydroxide which melt | dissolved the organometallic compound in the mixed solvent containing water, There is a method of applying and drying on a conductive substrate composed of a substrate and a conductive layer, and sintering as necessary. The preferable film thickness of the buffer layer is 5 to 100 nm. Examples of the coating method include a gravure coating method, a bar coating method, a printing method, a spray method, a spin coating method, a dip method, and a die coating method.

2.固体接合型光電変換素子のセル構造
図4は、本願発明の固体接合型光電変換素子のセル構造の1例を示す断面図である。図4に基づいて、本願発明の固体接合型光電変換素子のセル構造について説明する。固体接合型光電変換素子のセル10は、透明基板21上に透明導電層22を形成した一対の透明電極基板2の間に光電変換層3を有する。光電変換層3は、第1半導体層4と第2半導体層5から構成されている。第1半導体層4は、カーボンナノチューブ層41表面に有機無機混成ペロブスカイト化合物42が被膜として形成されている。第2半導体層5は、有機無機混成ペロブスカイト化合物および/または無機ペロブスカイト化合物がバッファ層6を形成した透明電極基板2上に被膜として形成されている。また、透明電極基板2と光電変換層3との間にはバッファ層6を設けている。光電変換層3は、封止層7により側面を封止されている。一対の透明電極基板には、それぞれ集電性9と取出し電極8が設けられている。
2. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the cell structure of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention. Based on FIG. 4, the cell structure of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention will be described. A cell 10 of a solid junction photoelectric conversion element has a photoelectric conversion layer 3 between a pair of transparent electrode substrates 2 in which a transparent conductive layer 22 is formed on a transparent substrate 21. The photoelectric conversion layer 3 includes a first semiconductor layer 4 and a second semiconductor layer 5. In the first semiconductor layer 4, an organic / inorganic hybrid perovskite compound 42 is formed as a coating on the surface of the carbon nanotube layer 41. The second semiconductor layer 5 is formed as a film on the transparent electrode substrate 2 on which the buffer layer 6 is formed of an organic / inorganic hybrid perovskite compound and / or an inorganic perovskite compound. A buffer layer 6 is provided between the transparent electrode substrate 2 and the photoelectric conversion layer 3. The side surface of the photoelectric conversion layer 3 is sealed with a sealing layer 7. The pair of transparent electrode substrates are provided with current collecting 9 and extraction electrode 8, respectively.

図5上段は本願発明のマスクフィルムを貼合した透明導電性基板2の平面図であり、図5下段は本願発明のマスクフィルムを貼合した透明導電性基板2の断面図である。なお、図5は、本願発明の固体接合型光電変換素子のセルを6列並べて電池モジュールとする場合の態様である。図5に示すように、本願発明の固体接合型光電変換素子のセルは、先ず、バッファ層6を形成した透明導電性基板2上に、マスクフィルム11を貼合し、前記貼合したマスクフィルムの開放部分12上にカーボンナノチューブ分散液を塗布乾燥してカーボンナノチューブ層を形成した後に、有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを被覆または吸着させて第1半導体層を形成する。その後、形成した第1半導体層に、バッファ層を形成した透明電極基板上に無機ペロブスカイト化合物Bおよび/又は有機無機混成ペロブスカイト化合物Cからなる第2半導体層を被膜面側を合わせて密着させて製作する。前記マスクフィルムの開放部分は、本願発明の固体接合型光電変換素子のセルのひな型としての役割を持つ。マスクフィルムの開放部分12の平面形状は4つの角が丸みを持つ矩形であり、そのサイズは形成する多孔質半導体微粒子層の平面形状により決まる。以下、マスクフィルム、封止層、集電線、取出し電極の順で説明する。   The upper part of FIG. 5 is a plan view of the transparent conductive substrate 2 to which the mask film of the present invention is bonded, and the lower part of FIG. 5 is a cross-sectional view of the transparent conductive substrate 2 to which the mask film of the present invention is bonded. FIG. 5 shows an embodiment in which six rows of cells of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention are arranged to form a battery module. As shown in FIG. 5, in the cell of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention, first, a mask film 11 is bonded onto the transparent conductive substrate 2 on which the buffer layer 6 is formed, and the bonded mask film. After the carbon nanotube dispersion liquid is applied and dried on the open portion 12 to form a carbon nanotube layer, the organic / inorganic hybrid perovskite compound A is coated or adsorbed to form a first semiconductor layer. Thereafter, the second semiconductor layer made of the inorganic perovskite compound B and / or the organic / inorganic hybrid perovskite compound C is adhered to the first semiconductor layer thus formed on the transparent electrode substrate on which the buffer layer is formed with the film surface side aligned. To do. The open part of the mask film serves as a cell model of the solid junction photoelectric conversion element of the present invention. The planar shape of the open portion 12 of the mask film is a rectangle having four rounded corners, and the size is determined by the planar shape of the porous semiconductor fine particle layer to be formed. Hereinafter, it demonstrates in order of a mask film, a sealing layer, a current collection line, and an extraction electrode.

[1]マスクフィルム
本願発明のマスクフィルムは、その開放部分が本願発明の光電変換層のひな型としての役割を持つと同時に、透明導電性基板あるいはバッファ層を形成した透明導電性基板に容易に貼りつけることができ、カーボンナノチューブ分散液やペロブスカイト化合物溶液を塗布した後には、容易に剥がすことができる粘着層を有する粘着フィルムであれば、特に限定されるものではない。具体的には、基材フィルムの一方の面に微粘着剤層と剥離フィルム、もう一方の面に帯電防止層、防汚層を設けた積層フィルムであり、液晶表示装置に用いる偏光フィルムや位相差フィルムの表面保護フィルムに用いられている積層粘着フィルムである。使用時に剥離フィルムを剥離して、透明導電性基板あるいはバッファ層を形成した透明導電性基板にマスクフィルムを貼合する。ただし、カーボンナノチューブ層を形成するため加熱・乾燥処理する必要があることから、基材フィルムは、バッファ層を形成した透明導電性基板と同程度の熱収縮率であることが必要である。具体的には、加熱条件(150℃、30min)下での熱収縮率(MD・TD)は、0.5%以下、より好ましくは、0.2%以下である。
[1] Mask film The mask film of the present invention has an open portion serving as a model of the photoelectric conversion layer of the present invention, and at the same time, is easily attached to a transparent conductive substrate or a transparent conductive substrate on which a buffer layer is formed. The adhesive film is not particularly limited as long as the adhesive film has an adhesive layer that can be easily peeled off after the carbon nanotube dispersion or the perovskite compound solution is applied. Specifically, it is a laminated film in which a slightly adhesive layer and a release film are provided on one side of a base film, and an antistatic layer and an antifouling layer are provided on the other side. It is a laminated adhesive film used for a surface protective film of a phase difference film. At the time of use, a peeling film is peeled and a mask film is bonded to a transparent conductive substrate or a transparent conductive substrate on which a buffer layer is formed. However, since it is necessary to heat and dry to form the carbon nanotube layer, the base film needs to have a thermal contraction rate comparable to that of the transparent conductive substrate on which the buffer layer is formed. Specifically, the thermal contraction rate (MD · TD) under heating conditions (150 ° C., 30 min) is 0.5% or less, more preferably 0.2% or less.

本願発明のマスクフィルムは、粘着力の異なる複数のマスクフィルムを積層して用いることができる。多孔質半導体微粒子層を形成後に最上層を剥がし、ペロブスカイト化合物溶液塗布時に、透明導電性基板あるいはバッファ層を形成した透明導電性基板を保護した後、マスクフィルムを剥がし取ることができるからである。   The mask film of the present invention can be used by laminating a plurality of mask films having different adhesive forces. This is because the uppermost layer is peeled off after forming the porous semiconductor fine particle layer, and the mask film can be peeled off after protecting the transparent conductive substrate or the transparent conductive substrate on which the buffer layer is formed at the time of applying the perovskite compound solution.

固体接合型光電変換素子のセルの平面形状は、矩形であって、前記矩形の面積(S)が300mm2〜600mm2である。平面形状をかかる範囲内とすることで、固体接合型光電変換素子の単位面積当たりの内部抵抗が最も小さくすることができ、変換効率を最も高くすることができるからである。   The planar shape of the cell of the solid junction photoelectric conversion element is a rectangle, and the area (S) of the rectangle is 300 mm 2 to 600 mm 2. This is because by setting the planar shape within such a range, the internal resistance per unit area of the solid junction photoelectric conversion element can be minimized and the conversion efficiency can be maximized.

[2]封止層
本願発明の封止層は、光電変換層の周囲に設けられ、光電変換層を封止する機能を有する。前記封止層は、基本的には、一対の透明電極基板を接着するシール材と前記一対の透明電極基板との間に必要な隙間を調整し、光電変換層を形成するためのスペーサーにより構成されている。
[2] Sealing layer The sealing layer of the present invention is provided around the photoelectric conversion layer and has a function of sealing the photoelectric conversion layer. The sealing layer basically includes a spacer for forming a photoelectric conversion layer by adjusting a necessary gap between a sealing material for bonding a pair of transparent electrode substrates and the pair of transparent electrode substrates. Has been.

(1)シール材
本願発明のシール材は、一対の透明電極基板を接着し、光電変換層を封止することができるものであれば特に限定されるものではない。基板間の接着性、耐光性、高温高湿耐久性(耐湿熱性)に優れていることが好ましい。光電変換層を持続的に機能させるためには、接着性に加えて、耐光性と耐湿熱性に優れる必要があるからである。
(1) Sealing material The sealing material of the present invention is not particularly limited as long as it can bond a pair of transparent electrode substrates and seal the photoelectric conversion layer. It is preferable that it is excellent in the adhesiveness between board | substrates, light resistance, and high temperature, high humidity durability (moisture heat resistance). This is because, in order to make the photoelectric conversion layer function continuously, it is necessary to have excellent light resistance and moisture and heat resistance in addition to adhesiveness.

接着性、耐薬品性、耐湿熱性に優れたシール材としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、活性放射線(光、電子線)硬化性樹脂がある。素材としては、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂、シリコン系樹脂、オレフィン系樹脂、ポリアミド樹脂等がある。取扱い性に優れるという観点から、光硬化性アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the sealing material excellent in adhesiveness, chemical resistance, and wet heat resistance include thermoplastic resins, thermosetting resins, and active radiation (light, electron beam) curable resins. Examples of the material include acrylic resin, fluorine resin, silicon resin, olefin resin, and polyamide resin. From the viewpoint of excellent handleability, a photocurable acrylic resin is preferred.

(2)スペーサー
本願発明のスペーサーは、一対の透明電極基板間に必要な隙間を所望の範囲に調整できるものであれば特に限定されるものではない。通常、真円球樹脂粒子、無機粒子、ガラスビーズなどを適宜選択することができる。本願発明では、真円樹脂粒子を用いることが好ましい。粒径としては、1μm〜100μmが好ましく、1μm〜50μmがより好ましく、1μm〜20μmが特に好ましい。一対の透明電極基板が接することがなく、かつ、より短い間隙を均一に保つことで、光電変換効率が向上するからである。
(2) Spacer The spacer of the present invention is not particularly limited as long as the necessary gap between the pair of transparent electrode substrates can be adjusted to a desired range. Usually, spherical resin particles, inorganic particles, glass beads and the like can be appropriately selected. In the present invention, it is preferable to use perfect circle resin particles. As a particle size, 1 micrometer-100 micrometers are preferable, 1 micrometer-50 micrometers are more preferable, and 1 micrometer-20 micrometers are especially preferable. This is because the pair of transparent electrode substrates are not in contact with each other and the photoelectric conversion efficiency is improved by keeping the shorter gap uniform.

本願発明の封止層の厚みは、前記光電変換層の厚みと実質的に同一であることが好ましい。一対の透明電極基板との間隙が均一に保つことで、安定した発電効率を示すためである。また、本発明の封止層の幅長は、特に限定されるものではないが、例えば0.5mm〜5mmの範囲内、中でも0.8mm〜3mmの範囲内であることが好ましい。封止層の幅長が狭すぎると、光電変換層の保護機能を十分に発揮できない可能性があり、封止層の幅長が広ろすぎると、光電変換素子において発電に寄与する素子面積が減少するため、モジュール面積に対して有効な面積が低下し、有効発電効率が減少してしまう可能性があるからである。   It is preferable that the thickness of the sealing layer of the present invention is substantially the same as the thickness of the photoelectric conversion layer. This is because the gap between the pair of transparent electrode substrates is kept uniform to show stable power generation efficiency. Further, the width of the sealing layer of the present invention is not particularly limited, but for example, it is preferably in the range of 0.5 mm to 5 mm, particularly in the range of 0.8 mm to 3 mm. If the width of the sealing layer is too narrow, the protective function of the photoelectric conversion layer may not be sufficiently exhibited. If the width of the sealing layer is too wide, the element area that contributes to power generation in the photoelectric conversion element is large. This is because the effective area is reduced with respect to the module area and the effective power generation efficiency may be reduced.

[3]集電線
本願発明では、透明導電膜上に金属(良導体)からなる集電線を配設することにより、透明導電膜からなる透明透電極の表面抵抗率を下げている。集電線は、封止層により区分された光電変換層の外部に設けられることが好ましい。集電線の材料は、導電性を有していれば特に制限はないが、抵抗率が比較的低い金属材料、例えば、銀、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロムのうちから選ばれる少なくとも1つ以上の金属あるいはこれらの合金からなることが好ましく、抵抗率が低く、線として形成し易いという観点からは、銀がより好ましい。集電線は、透明導電層上に格子状に形成することもできる。集電線の形成方法としては、スパッタ法、蒸着法、メッキ法あるいはスクリーン印刷法などが用いられる。集電線の幅は、0.5mm〜5mm、より好ましくは、0.7mm〜3mmであり、集電線の厚さは、5μm〜50μm、より好ましくは、6μm〜20μmである。十分な線断面積当たりの電気伝導度を確保すると共に、後述する導電性微粒子と相俟って、一対の透明電極基板との間に必要な間隙を確保するために適切な幅と厚みを必要とするからである。
[3] Electric current collector In the present invention, the surface resistivity of the transparent transparent electrode made of a transparent conductive film is lowered by arranging a current collector made of a metal (good conductor) on the transparent conductive film. The current collector is preferably provided outside the photoelectric conversion layer separated by the sealing layer. The material of the current collector is not particularly limited as long as it has conductivity, but at least one selected from metal materials having a relatively low resistivity, for example, silver, copper, aluminum, tungsten, nickel, and chromium. It is preferably made of the above metals or alloys thereof, and silver is more preferable from the viewpoint of low resistivity and easy formation as a line. The current collector may be formed in a lattice shape on the transparent conductive layer. As a method for forming the current collector, sputtering, vapor deposition, plating, screen printing, or the like is used. The width of the current collector is 0.5 mm to 5 mm, more preferably 0.7 mm to 3 mm, and the thickness of the current collector is 5 μm to 50 μm, more preferably 6 μm to 20 μm. In addition to ensuring sufficient electrical conductivity per line cross-sectional area, it is necessary to have appropriate width and thickness in order to secure the necessary gap between the pair of transparent electrode substrates in combination with conductive fine particles described later. Because.

[4]取出し電極
本願発明では、光電変換素子は一対の取出し電極を備えている。後述する外装、バリアー包装体で光電変換素子を被覆するときは、前記取出し電極にリード材を取り付けることができる。取出し電極の材料としては、導電性を有していれば特に制限はない。抵抗率が比較的低い金属材料、例えば、金、白金、銀、銅、アルミニウム、ニッケル、亜鉛、チタン、クロムのうちから選ばれる少なくとも1つ以上の金属あるいはこれらの合金からなることが好ましい。取出し電極の厚さは、50nm〜100μmであることが好ましい。取出し電極の厚さは、断線により光電変換素子の歩留まりが低下しない程度に薄すぎないことが必要であり、コスト面から過度に厚くする必要なないからである。また、取出し電極の形状は、特に制限はない。例えば、金属箔、金属テープ、板状、紐状のいずれであってもよい。加工性の観点から金属テープが好ましい。
[4] Extraction Electrode In the present invention, the photoelectric conversion element includes a pair of extraction electrodes. When the photoelectric conversion element is covered with an exterior or barrier package described later, a lead material can be attached to the extraction electrode. The material of the extraction electrode is not particularly limited as long as it has conductivity. It is preferably made of a metal material having a relatively low resistivity, for example, at least one metal selected from gold, platinum, silver, copper, aluminum, nickel, zinc, titanium, and chromium, or an alloy thereof. The thickness of the extraction electrode is preferably 50 nm to 100 μm. This is because it is necessary that the thickness of the extraction electrode is not too thin so that the yield of the photoelectric conversion element does not decrease due to disconnection, and it is not necessary to increase the thickness excessively from the viewpoint of cost. The shape of the extraction electrode is not particularly limited. For example, any of metal foil, a metal tape, plate shape, and string shape may be sufficient. A metal tape is preferable from the viewpoint of workability.

[5]外装およびバリアー包装体
本願発明では、その基板が水蒸気やガスに対してその透過性を低減するように設計されているが、過酷な環境条件により出力の劣化が見られる可能性があり、特に高温度で高湿度での環境条件で耐久性付与が重要である。これらの改良方法としては、基板にガスや水蒸気に対するバリアー特性を有する基板にするか、あるいはバリアー性のある包装体で、本願発明の固体接合型光電変換素子を包み込むことで達成できる。以下に、本願発明で好ましく用いられるバリアフィルム、特に水蒸気バリアー性について以下に記述する。
[5] Exterior and barrier package In the present invention, the substrate is designed to reduce its permeability to water vapor and gas, but there is a possibility that output degradation may be seen due to severe environmental conditions. In particular, it is important to provide durability under high temperature and high humidity environmental conditions. These improvement methods can be achieved by making the substrate a substrate having a barrier property against gas or water vapor, or by enclosing the solid junction photoelectric conversion element of the present invention in a packaging body having a barrier property. Hereinafter, the barrier film preferably used in the present invention, particularly the water vapor barrier property will be described below.

前述したように、本願発明の固体接合型光電変換素子は、基板の外部にガスや水蒸気に対するバリアー性を有する層を有することも好ましい。さらに、水蒸気バリアー性のある包装材料で包装あるいは包み込まれていても好ましい。その際に、本願発明の固体接合型光電変換素子とハイバリア包装材料に間に空間があってもよく、また接着剤で本願発明の固体接合型光電変換素子を接着させてもよい。更には、水蒸気やガスを通しにくい液体や固体(例えば、液状またはゲル状のパラフィン、シリコン、リン酸エステル、脂肪族エステルなど)を用いて、本願発明の固体接合型光電変換素子を包装材料に包装してもよい。   As described above, the solid junction photoelectric conversion element of the present invention also preferably has a layer having a barrier property against gas and water vapor outside the substrate. Furthermore, it is preferable that it is packaged or wrapped with a packaging material having a water vapor barrier property. At that time, there may be a space between the solid junction photoelectric conversion element of the present invention and the high barrier packaging material, or the solid junction photoelectric conversion element of the present invention may be adhered with an adhesive. Furthermore, the solid junction photoelectric conversion element of the present invention is used as a packaging material by using a liquid or solid that is difficult to pass water vapor or gas (for example, liquid or gel paraffin, silicon, phosphate ester, aliphatic ester, etc.). It may be packaged.

本願発明で好ましく用いられるバリアー性のある基板あるいは包装材料の好ましい水蒸気透過度は、40℃、相対湿度90%(90%RH)の環境下で0.1g/m2/日以下であり、より好ましくは0.01g/m2/日以下であり、更に好ましくは0.0005g/m2/日以下であり、特に好ましくは0.00001g/m2/日以下である。また、環境温度が60℃、90%RHでのより過酷な場合でも、バリアー性のある基板あるいは包装材料の水蒸気透過度は、より好ましくは0.01g/m2/日以下であり、更に好ましくは0.0005g/m2/日以下であり、特に好ましくは0.00001g/m2/日以下である。またバリアー性のある基板あるいは包装材料の酸素透過率は25℃、0%RHの環境下において、好ましくは約0.001g/m2/日以下であり、より好ましくは0.00001g/m2/日が好ましい。   The preferable water vapor permeability of the substrate or packaging material having a barrier property preferably used in the present invention is 0.1 g / m 2 / day or less in an environment of 40 ° C. and a relative humidity of 90% (90% RH), more preferably. Is 0.01 g / m 2 / day or less, more preferably 0.0005 g / m 2 / day or less, and particularly preferably 0.00001 g / m 2 / day or less. Further, even when the environmental temperature is 60 ° C. and 90% RH, the water vapor permeability of the substrate or packaging material having a barrier property is more preferably 0.01 g / m 2 / day or less, and still more preferably. 0.0005 g / m 2 / day or less, particularly preferably 0.00001 g / m 2 / day or less. The oxygen permeability of the substrate or packaging material having a barrier property is preferably about 0.001 g / m 2 / day or less, more preferably 0.00001 g / m 2 / day in an environment of 25 ° C. and 0% RH. preferable.

これらの本願発明の固体接合型光電変換素子用バリアー性のある基板あるいは包装材料に、水蒸気やガスに対するバイア性付与は、特に限定されないが、本願発明の固体接合型光電変換素子に必要な光量を妨げないことが必要であるために透過性のあるバリアー性のある基板あるいは包装材料であり、その透過率は好ましくは50%以上であり、より好ましくは70%以上であり、更に好ましくは85%以上であり、特に好ましくは90%以上である。上記の特性を有するバリアー性のある基板あるいは包装材料は、その構成や材料において特に限定されることはなく、該特性を有するものであれば特に限定されない。   Although there is no particular limitation on imparting via properties to water vapor or gas to the barrier substrate or packaging material for the solid junction photoelectric conversion element of the present invention, the amount of light necessary for the solid junction photoelectric conversion element of the present invention is obtained. A substrate or packaging material that is permeable and has a barrier property because it needs to be unhindered, and its transmittance is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and still more preferably 85%. Above, particularly preferably 90% or more. The board | substrate or packaging material which has the said characteristic with a barrier property is not specifically limited in the structure and material, If it has this characteristic, it will not specifically limit.

本願発明の好ましいバリアフィルムのある基板あるいは包装材料は、プラスチック支持体上に水蒸気やガスの透過性が低いバリアー層を設置したフィルムであることが好ましい。ガスバリアフィルムの例としては、酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの(特公昭53−12953、特開昭58−217344)、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの(特開2000−323273、特開2004−25732)、無機層状化合物を有するもの(特開2001−205743)、無機材料を積層したもの(特開2003−206361、特開2006−263989)、有機層と無機層を交互に積層したもの(特開2007−30387、米国特許6413645、Affinitoら著
Thin Solid Films 1996年 290−291頁)、有機層と無機層を連続的に積層したもの(米国特許2004−46497)などが挙げられる。
A preferred substrate or packaging material having a barrier film of the present invention is preferably a film in which a barrier layer having low water vapor and gas permeability is provided on a plastic support. Examples of the gas barrier film include those obtained by vapor-depositing silicon oxide and aluminum oxide (Japanese Patent Publication No. Sho 53-12953, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 58-217344), and those having an organic-inorganic hybrid coating layer (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-323273, Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2004). 25732), those having an inorganic layered compound (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-205743), those obtained by laminating inorganic materials (Japanese Patent Laid-Open No. 2003-206361, Japanese Patent Laid-Open No. 2006-263389), those obtained by alternately laminating organic layers and inorganic layers (special No. 2007-30387, US Pat. No. 6413645, Affinito et al., Thin Solid Films 1996, pages 290-291), and organic layers and inorganic layers laminated continuously (US Pat. No. 2004-46497).

次に本願発明の効果を奏する実施態様を実施例として示す。
[1] 実施例1
(1)有機無機混成ペロブスカイト化合物A〔CHNHPbBr〕の合成
三口フラスコ内に、メチルアミン〔CHNH〕1gとメタノール〔CH3OH〕100mlを入れ、窒素バブリングを行いながら臭化水素酸〔HBr〕を加えてpHを3〜4程度に調整した後、マグネッチックスターラーにより1時間撹拌した。この溶液をエバポレーターで蒸留した後、40℃で乾燥し、再精製することにより臭化メチルアミン〔CHNHBr〕を合成した。次に合成した臭化メチルアミン〔CHNHBr〕と臭化鉛〔PbBr〕をモル比1:1の割合で、ジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕に5重量%濃度となるように混合して溶解し、有機無機混成ペロブスカイト化合物〔CHNHPbBr〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を調製した。
Next, an embodiment that exhibits the effect of the present invention will be shown as an example.
[1] Example 1
(1) Synthesis of organic-inorganic hybrid perovskite compound A [CH 3 NH 3 PbBr 3 ] In a three-necked flask, 1 g of methylamine [CH 3 NH 2 ] and 100 ml of methanol [CH 3 OH] are placed, and nitrogen bubbling is performed while smelling. Hydrochloric acid [HBr] was added to adjust the pH to about 3 to 4, followed by stirring with a magnetic stirrer for 1 hour. This solution was distilled with an evaporator, dried at 40 ° C., and purified again to synthesize methylamine bromide [CH 3 NH 3 Br]. Next, the synthesized methylamine bromide [CH 3 NH 3 Br] and lead bromide [PbBr 2 ] are in a molar ratio of 1: 1 to a concentration of 5% by weight in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO]. The resulting mixture was dissolved to prepare a dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] solution of an organic-inorganic hybrid perovskite compound [CH 3 NH 3 PbBr 3 ].

(2)無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕の合成
ヨウ化セシウム〔CsI〕とヨウ化錫〔SnI2〕をモル比1:1の割合で、ジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕に5重量%濃度となるように溶解し、無機ペロブスカイト化合物〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を調製した。
(2) Synthesis of inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] 5 weights of cesium iodide [CsI] and tin iodide [SnI 2 ] at a molar ratio of 1: 1 in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] % concentration dissolved so that, dimethylformamide inorganic perovskite compound [CsSnI 3] was prepared [(CH 3) 2 NCHO] solution.

(3)有機無機ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕の合成
三口フラスコ内に、メチルアミン〔CHNH〕1gとメタノール〔CH3OH〕100mlを入れ、窒素バブリングを行いながらヨウ化水素酸〔HI〕を加えてpHを3〜4程度に調整した後、マグネッチックスターラーにより1時間撹拌した。この溶液をエバポレーターで蒸留した後、40℃で乾燥し、再精製することによりヨウ化メチルアミン〔CHNHI〕を合成した。次に合成したヨウ化メチルアミン〔CHNHI〕とヨウ化錫(SnI2)をモル比1:1の割合で、ジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕に5重量%濃度となるように溶解し、有機無機混成ペロブスカイト化合物〔CH3NH3SnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を調製した。
(3) Synthesis of organic-inorganic perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ] Into a three- necked flask, 1 g of methylamine [CH 3 NH 2 ] and 100 ml of methanol [CH 3 OH] were placed and iodinated while performing nitrogen bubbling. Hydrochloric acid [HI] was added to adjust the pH to about 3 to 4, followed by stirring with a magnetic stirrer for 1 hour. This solution was distilled by an evaporator, dried at 40 ° C., and purified again to synthesize methylamine iodide [CH 3 NH 3 I]. Next, the synthesized methylamine [CH 3 NH 3 I] and tin iodide (SnI 2 ) are in a molar ratio of 1: 1 to a concentration of 5% by weight in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO]. Thus, a dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] solution of an organic-inorganic hybrid perovskite compound [CH 3 NH 3 SnI 3 ] was prepared.

(4)カーボンナノチューブ分散液の調製
上記で調整した5重量%濃度の有機無機混成ペロブスカイト化合物〔CHNHPbBr〕溶液中に、Aldrich製のカーボンナノチューブSG65(製品願号704148)を0.2重量%添加し、マイクロテック・ニチオン株式会社製の超音波ホモジナイザーNR−300Mを用い低温保存下20kHzで1時間分散してカーボンナノチューブの均一分散液を調整した。
(4) Preparation of Carbon Nanotube Dispersion Carbon nanotube SG65 (Product Application No. 704148) manufactured by Aldrich was added to the above-prepared 5 wt% organic / inorganic hybrid perovskite compound [CH 3 NH 3 PbBr 3 ] solution. 2% by weight was added and dispersed at 20 kHz for 1 hour under low temperature storage using an ultrasonic homogenizer NR-300M manufactured by Microtech Nichion Co., Ltd. to prepare a uniform dispersion of carbon nanotubes.

(5)第1半導体層の作製
透明基板(ポリエチレンナフタレートフィルム,厚み200μm)上に透明導電層〔インジウム‐スズ複合酸化物(ITO)〕をコートした透明導電性基板(シート抵抗13ohm/sq)上に、スクリーン印刷法により導電性銀ペースト(K3105、ペルノックス(株)製)を光電極セル幅に応じた間隔で印刷塗布し、150度の熱風循環型オーブン中で15分間加熱乾燥して集電線を形成した。バッファ層は、上記透明導電性基板の集電線形成面を上にして塗布コーターにセットし、1.6%に希釈したオルガチックPC−600溶液(マツモトファインケミカル製)をワイヤーバーにより掃引速度(10mm/秒)で塗布し、10分間室温乾燥した後、さらに10分間150℃で加熱乾燥して形成した。バッファ層を形成した透明導電性基板のバッファ層形成面に、光電極セル幅に応じた間隔でレーザー処理を行い、絶縁線を形成した。
ポリエステルフィルムに粘着層を塗工した保護フィルムを2段重ねしたマスクフィルム(下段:PC−542PA 藤森工業製、上段:NBO−0424 藤森工業製)を、カーボンナノチューブ層を形成するための開口部(長さ:60mm、幅5mm)を打ち抜き加工した。打ち抜き加工したマスクフィルムを、バッファ層を形成した透明導電性基板の集電線形成面に気泡が入らないようにして貼合した。高圧水銀ランプ(定格ランプ電力 400W)光源をマスク貼合面から10cmの距離に置き、電磁波を1分間照射後直ちに、前記で調整したカーボンナノチューブ分散液を約20ml/mでワイヤーバーにより塗布し、80℃で30分間乾燥させた後、マスクフィルムの上側の保護フィルム(NBO−0424 藤森工業製)を剥離除去し、ペロブスカイト化合物が被覆されたカーボンナノチューブ層(長さ:60mm、幅5mm)である第1半導体層を作製した。
(5) Production of first semiconductor layer Transparent conductive substrate (sheet resistance 13 ohm / sq) coated on transparent substrate (polyethylene naphthalate film, thickness 200 μm) with transparent conductive layer [indium-tin composite oxide (ITO)] On top of this, conductive silver paste (K3105, manufactured by Pernox Co., Ltd.) was printed and applied at intervals according to the photoelectrode cell width by screen printing, and heated and dried for 15 minutes in a 150 degree hot air circulation oven. An electric wire was formed. The buffer layer was set on a coating coater with the current collecting surface of the transparent conductive substrate facing up, and an organic PC-600 solution (manufactured by Matsumoto Fine Chemical) diluted to 1.6% was swept with a wire bar (10 mm). / Second), dried at room temperature for 10 minutes, and further dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes. On the buffer layer forming surface of the transparent conductive substrate on which the buffer layer was formed, laser treatment was performed at intervals according to the photoelectrode cell width to form insulating lines.
A mask film (bottom: PC-542PA manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd., upper: NBO-0424 manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) in which a protective film having an adhesive layer coated on a polyester film is stacked in two openings (for forming a carbon nanotube layer) (Length: 60 mm, width 5 mm) was punched out. The punched mask film was bonded so that air bubbles would not enter the current collecting surface of the transparent conductive substrate on which the buffer layer was formed. A high-pressure mercury lamp (rated lamp power: 400 W) is placed at a distance of 10 cm from the mask bonding surface, and immediately after irradiation with electromagnetic waves for 1 minute, the carbon nanotube dispersion prepared above is applied at about 20 ml / m 2 with a wire bar. After drying at 80 ° C. for 30 minutes, the protective film (NBO-0424 manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) on the upper side of the mask film is peeled off, and the carbon nanotube layer (length: 60 mm, width 5 mm) coated with the perovskite compound is used. A certain first semiconductor layer was produced.

(6)第2半導体層の作製
透明基板(ポリエチレンナフタレートフィルム,厚み200μm)上に透明導電層〔インジウム‐スズ複合酸化物(ITO)〕をコートした透明導電性基板(シート抵抗13ohm/sq)上に、スクリーン印刷法により導電性銀ペースト(K3105、ペルノックス(株)製)を光電極セル幅に応じた間隔で印刷塗布し、150度の熱風循環型オーブン中で15分間加熱乾燥して集電線を形成した。バッファ層は、上記透明導電性基板の集電線形成面を上にして塗布コーターにセットし、1.6%に希釈したオルガチックPC−600溶液(マツモトファインケミカル製)をワイヤーバーにより掃引速度(10mm/秒)で塗布し、10分間室温乾燥した後、さらに10分間150℃で加熱乾燥して形成した。バッファ層を形成した透明導電性基板のバッファ層形成面に、光電極セル幅に応じた間隔でレーザー処理を行い、絶縁線を形成した。
無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を、バッファ層を形成した透明電極基板上にワイヤーバーにより塗布し、80℃で30分間乾燥させ、無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕からなる第2半導体層を作製した。
(6) Production of second semiconductor layer Transparent conductive substrate (sheet resistance 13 ohm / sq) in which a transparent conductive layer [indium-tin composite oxide (ITO)] is coated on a transparent substrate (polyethylene naphthalate film, thickness 200 μm) On top of this, conductive silver paste (K3105, manufactured by Pernox Co., Ltd.) was printed and applied at intervals according to the photoelectrode cell width by screen printing, and heated and dried for 15 minutes in a 150 degree hot air circulation oven. An electric wire was formed. The buffer layer was set on a coating coater with the current collecting surface of the transparent conductive substrate facing up, and an organic PC-600 solution (manufactured by Matsumoto Fine Chemical) diluted to 1.6% was swept with a wire bar (10 mm). / Second), dried at room temperature for 10 minutes, and further dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes. On the buffer layer forming surface of the transparent conductive substrate on which the buffer layer was formed, laser treatment was performed at intervals according to the photoelectrode cell width to form insulating lines.
A solution of inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] is applied onto a transparent electrode substrate on which a buffer layer has been formed by a wire bar, dried at 80 ° C. for 30 minutes, and inorganic perovskite compound B A second semiconductor layer made of [CsSnI 3 ] was produced.

(7)光電変換素子の作製
上記第1半導体層の塗膜層形成面を上面として、アルミ製吸着板上に真空ポンプを使って固定し、液状の光硬化型封止剤((株)スリーボンド製)を自動塗布ロボットにより塗膜パターンの外周部分に塗布した。自動貼り合せ装置を用いて、第2層の塗膜形成面を第1半導体層の塗膜形成面に密着させて減圧環境中で重ね合せて貼合した。透明基板側からメタルハライドランプにより光照射を行って、封止剤を固化して封止層を形成した。取出し電極部分に導電性銅泊テープ(CU7636D、ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を貼ることで固体接合型光電変換素子を作製した。
(7) Manufacture of photoelectric conversion element With the coating layer forming surface of the first semiconductor layer as the upper surface, it is fixed on an aluminum adsorption plate using a vacuum pump, and a liquid photo-curing sealant (Three Bond Co., Ltd.) Manufactured by the automatic coating robot. Using an automatic laminating apparatus, the coating layer forming surface of the second layer was brought into close contact with the coating layer forming surface of the first semiconductor layer, and was laminated and bonded in a reduced pressure environment. Light irradiation was performed from the transparent substrate side with a metal halide lamp, and the sealing agent was solidified to form a sealing layer. A solid-junction photoelectric conversion element was produced by pasting a conductive copper anchor tape (CU7636D, manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.) to the extraction electrode portion.

(8)固体接合型光電変換素子の評価
光源として、150Wキセノンランプ光源装置にAM1.5Gフィルターを装着した擬似太陽光源(PEC−L11型、ペクセル・テクノロジーズ(株)製)を用いた。光量は、1sun(約10万lux AM1.5G、100mWcm−2(JIS C 8912のクラスA))に調整した。作製した固体接合型光電変換素子をソースメータ(2400型ソースメータ、Keithley社製)に接続した。電流電圧特性は、1sunの光照射下、バイアス電圧を、0Vから0.8Vまで、0.01V単位で変化させながら出力電流を測定した。同様にバイアス電圧を、逆方向に0.8Vから0Vまでステップさせる測定も行い、順方向と逆方向の測定の平均値を光電流データとして、変換効率を求めた。固体接合型光電変換素子の変換効率は4.7%であった。得られた変換効率は、従来知られている色素増感太陽電池と同等の変換効率であり、本願発明の光電変換素子は良好な光電変換能を有することがわかる。
(8) Evaluation of solid junction photoelectric conversion element As a light source, a pseudo solar light source (PEC-L11 type, manufactured by Pexel Technologies Co., Ltd.) in which an AM1.5G filter was mounted on a 150 W xenon lamp light source device was used. The amount of light was adjusted to 1 sun (about 100,000 lux AM1.5G, 100 mWcm-2 (JIS C 8912 class A)). The produced solid junction type photoelectric conversion element was connected to a source meter (2400 type source meter, manufactured by Keithley). For the current-voltage characteristics, the output current was measured while changing the bias voltage from 0 V to 0.8 V in units of 0.01 V under 1 sun light irradiation. Similarly, measurement was performed by stepping the bias voltage from 0.8 V to 0 V in the reverse direction, and the conversion efficiency was obtained using the average value of the measurement in the forward direction and the reverse direction as photocurrent data. The conversion efficiency of the solid junction photoelectric conversion element was 4.7%. The obtained conversion efficiency is equivalent to that of a conventionally known dye-sensitized solar cell, and it can be seen that the photoelectric conversion element of the present invention has a good photoelectric conversion ability.

[2]参考例2
(1)カーボンナノチューブ分散液の調製
Aldrich製のカーボンナノチューブSG65(製品願号704148)を0.2重量%、カルボキシメチルセルロースナトリウム0.05重量%になるようにエタノールを20%含む水溶液に添加し、マイクロテック・ニチオン株式会社製の超音波ホモジナイザーNR−300Mを用い低温保存下20kHzで1時間分散し、カーボンナノチューブの均一分散液を調整した。
[2] Reference example 2
(1) Preparation of carbon nanotube dispersion
Aldrich carbon nanotube SG65 (product application No. 704148) was added to an aqueous solution containing 20% ethanol so that the concentration was 0.2% by weight and sodium carboxymethylcellulose 0.05% by weight. Using a sonic homogenizer NR-300M, dispersion was performed at 20 kHz under low temperature storage for 1 hour to prepare a uniform dispersion of carbon nanotubes.

(2)第1半導体層の作製
透明基板(ポリエチレンナフタレートフィルム,厚み200μm)上に透明導電層〔インジウム‐スズ複合酸化物(ITO)〕をコートした透明導電性基板(シート抵抗13ohm/sq)上に、スクリーン印刷法により導電性銀ペースト(K3105、ペルノックス(株)製)を光電極セル幅に応じた間隔で印刷塗布し、150度の熱風循環型オーブン中で15分間加熱乾燥して集電線を形成した。バッファ層は、上記透明導電性基板の集電線形成面を上にして塗布コーターにセットし、1.6%に希釈したオルガチックPC−600溶液(マツモトファインケミカル製)をワイヤーバーにより掃引速度(10mm/秒)で塗布し、10分間室温乾燥した後、さらに10分間150℃で加熱乾燥して形成した。バッファ層を形成した透明導電性基板のバッファ層形成面に、光電極セル幅に応じた間隔でレーザー処理を行い、絶縁線を形成した。
ポリエステルフィルムに粘着層を塗工した保護フィルムを2段重ねしたマスクフィルム(下段:PC−542PA 藤森工業製、上段:NBO−0424 藤森工業製)を、カーボンナノチューブ層を形成するための開口部(長さ:60mm、幅5mm)を打ち抜き加工した。打ち抜き加工したマスクフィルムを、バッファ層を形成した透明導電性基板の集電線形成面に気泡が入らないようにして貼合した。高圧水銀ランプ(定格ランプ電力 400W)光源をマスク貼合面から10cmの距離に置き、電磁波を1分間照射後直ちに、前記で調整したカーボンナノチューブ分散液を約20ml/mでワイヤーバーにより塗布した。80℃で30分間乾燥させた後、マスクフィルムの上側の保護フィルム(NBO−0424 藤森工業製)を剥離除去し、カーボンナノチューブ層(長さ:60mm、幅5mm)を作製した。
カーボンナノチューブ層を形成した透明導電性基板上に、有機無機混成ペロブスカイト化合物A〔CHNHPbBr〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を0.2μmフィルター付きのシリンジで所定量滴下し、60度の熱風循環式オーブン中で10分間加熱乾燥して、第1半導体層を作製した。
(2) Production of first semiconductor layer Transparent conductive substrate (sheet resistance 13 ohm / sq) coated with a transparent conductive layer [indium-tin composite oxide (ITO)] on a transparent substrate (polyethylene naphthalate film, thickness 200 μm) On top of this, conductive silver paste (K3105, manufactured by Pernox Co., Ltd.) was printed and applied at intervals according to the photoelectrode cell width by screen printing, and heated and dried for 15 minutes in a 150 degree hot air circulation oven. An electric wire was formed. The buffer layer was set on a coating coater with the current collecting surface of the transparent conductive substrate facing up, and an organic PC-600 solution (manufactured by Matsumoto Fine Chemical) diluted to 1.6% was swept with a wire bar (10 mm). / Second), dried at room temperature for 10 minutes, and further dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes. On the buffer layer forming surface of the transparent conductive substrate on which the buffer layer was formed, laser treatment was performed at intervals according to the photoelectrode cell width to form insulating lines.
A mask film (bottom: PC-542PA manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd., upper: NBO-0424 manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) in which a protective film having an adhesive layer coated on a polyester film is stacked in two openings (for forming a carbon nanotube layer) (Length: 60 mm, width 5 mm) was punched out. The punched mask film was bonded so that air bubbles would not enter the current collecting surface of the transparent conductive substrate on which the buffer layer was formed. A high-pressure mercury lamp (rated lamp power 400 W) was placed at a distance of 10 cm from the mask bonding surface, and immediately after irradiation with electromagnetic waves for 1 minute, the carbon nanotube dispersion prepared above was applied at about 20 ml / m 2 with a wire bar. . After drying at 80 ° C. for 30 minutes, the protective film on the upper side of the mask film (NBO-0424, manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) was peeled off to produce a carbon nanotube layer (length: 60 mm, width 5 mm).
A predetermined amount of a dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] solution of an organic-inorganic hybrid perovskite compound A [CH 3 NH 3 PbBr 3 ] on a transparent conductive substrate on which a carbon nanotube layer is formed using a syringe with a 0.2 μm filter. The first semiconductor layer was prepared by dripping and drying by heating in a hot air circulation oven at 60 degrees for 10 minutes.

(3)第2半導体層の作製
無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を、バッファ層を形成した透明電極基板上にワイヤーバーにより塗布し、80℃で30分間乾燥させ、無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕からなる第2半導体層を作製した。
(3) Production of second semiconductor layer A solution of inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] was applied onto a transparent electrode substrate on which a buffer layer was formed, at 80 ° C. The film was dried for 30 minutes to produce a second semiconductor layer made of an inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ].

(4)光電変換素子の作製
上記第2半導体層で埋包した第1半導体層の塗膜層形成面を上面として、アルミ製吸着板上に真空ポンプを使って固定し、液状の光硬化型封止剤((株)スリーボンド製)を自動塗布ロボットにより塗膜パターンの外周部分に塗布した。自動貼り合せ装置を用いて、第2層の塗膜形成面を第1半導体層の塗膜形成面に密着させて減圧環境中で重ね合せて貼合した。透明基板側からメタルハライドランプにより光照射を行って、封止剤を固化して封止層を形成した。取出し電極部分に導電性銅泊テープ(CU7636D、ソニーケミカル&インフォメーションデバイス(株)製)を貼ることで固体接合型光電変換素子を作製した。
(4) Manufacture of photoelectric conversion element A liquid photo-curing type that is fixed on an aluminum adsorption plate using a vacuum pump with the coating layer forming surface of the first semiconductor layer embedded in the second semiconductor layer as an upper surface. A sealant (manufactured by Three Bond Co., Ltd.) was applied to the outer peripheral portion of the coating film pattern by an automatic application robot. Using an automatic laminating apparatus, the coating layer forming surface of the second layer was brought into close contact with the coating layer forming surface of the first semiconductor layer, and was laminated and bonded in a reduced pressure environment. Light irradiation was performed from the transparent substrate side with a metal halide lamp, and the sealing agent was solidified to form a sealing layer. A solid-junction photoelectric conversion element was produced by pasting a conductive copper anchor tape (CU7636D, manufactured by Sony Chemical & Information Device Co., Ltd.) to the extraction electrode portion.

(5)固体接合型光電変換素子の評価
光源として、150Wキセノンランプ光源装置にAM1.5Gフィルターを装着した擬似太陽光源(PEC−L11型、ペクセル・テクノロジーズ(株)製)を用いた。光量は、1sun(約10万lux AM1.5G、100mWcm−2(JIS C 8912のクラスA))に調整した。作製した固体接合型光電変換素子をソースメータ(2400型ソースメータ、Keithley社製)に接続した。電流電圧特性は、1sunの光照射下、バイアス電圧を、0Vから0.8Vまで、0.01V単位で変化させながら出力電流を測定した。同様にバイアス電圧を、逆方向に0.8Vから0Vまでステップさせる測定も行い、順方向と逆方向の測定の平均値を光電流データとして、変換効率を求めた。固体接合型光電変換素子の変換効率は4.3%であった。得られた変換効率は、従来知られている色素増感太陽電池と同等の変換効率であり、本願発明の光電変換素子は良好な光電変換能を有することがわかる。
(5) Evaluation of solid-junction photoelectric conversion element As a light source, a pseudo solar light source (PEC-L11 type, manufactured by Pexel Technologies Co., Ltd.) in which an AM1.5G filter was attached to a 150 W xenon lamp light source device was used. The amount of light was adjusted to 1 sun (about 100,000 lux AM1.5G, 100 mWcm-2 (JIS C 8912 class A)). The produced solid junction type photoelectric conversion element was connected to a source meter (2400 type source meter, manufactured by Keithley). For the current-voltage characteristics, the output current was measured while changing the bias voltage from 0 V to 0.8 V in units of 0.01 V under 1 sun light irradiation. Similarly, measurement was performed by stepping the bias voltage from 0.8 V to 0 V in the reverse direction, and the conversion efficiency was obtained using the average value of the measurement in the forward direction and the reverse direction as photocurrent data. The conversion efficiency of the solid junction photoelectric conversion element was 4.3%. The obtained conversion efficiency is equivalent to that of a conventionally known dye-sensitized solar cell, and it can be seen that the photoelectric conversion element of the present invention has a good photoelectric conversion ability.

[3]参考例3
第2半導体層を形成するペロブスカイト化合物として、有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を単独で用いた点を除き、参考例2と同様とした。
[3] Reference example 3
As perovskite compound forming the second semiconductor layer, except using dimethylformamide [(CH 3) 2 NCHO] solution of organic-inorganic hybrid perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3] alone, as in Reference Example 2 Same as above.

(1)固体接合型光電変換素子の評価
参考例2と同様とした。変換効率は3.9%であった。第2半導体層として、有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕を用いても、得られた変換効率は、従来知られている色素増感太陽電池と同等の変換効率であり、本願発明の光電変換素子は良好な光電変換能を有することがわかる。
(1) Evaluation of solid junction photoelectric conversion element
The same as Reference Example 2. The conversion efficiency was 3.9%. Even when an organic / inorganic hybrid perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ] is used as the second semiconductor layer, the obtained conversion efficiency is equivalent to that of a conventionally known dye-sensitized solar cell, It turns out that the photoelectric conversion element of this invention has favorable photoelectric conversion ability.

[4]参考例4
第2半導体層を形成するペロブスカイト化合物として、無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液と有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液とを7:3の割合で用いた点を除き、参考例2と同様とした。
[4] Reference example 4
As a perovskite compound for forming the second semiconductor layer, a dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] solution of an inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] and a dimethylformaldehyde [C 3 CH 3 NH 3 SnI 3 ] mixed organic perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ] (CH 3 ) 2 NCHO] solution was used in the same manner as Reference Example 2 except that the 7: 3 ratio was used.

(1)第2半導体層の作製
無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液と有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液とを7:3の割合で調整した後、バッファ層を形成した透明電極基板上にワイヤーバーにより塗布し、80℃で30分間乾燥させ、無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕と有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕からなる第2半導体層を作製した。
(1) Preparation of second semiconductor layer Dimethylformaldehyde [(CH 3 NH 3 SnI 3 ) solution of inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] and organic-inorganic hybrid perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ] 3 ) 2 NCHO] solution was adjusted at a ratio of 7: 3, and then applied to the transparent electrode substrate on which the buffer layer was formed by a wire bar, dried at 80 ° C. for 30 minutes, and inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] And a second semiconductor layer made of an organic / inorganic hybrid perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ].

(2)固体接合型光電変換素子の評価
参考例2と同様とした。変換効率は3.7%であった。無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕および有機無機混成ペロブスカイト化合物C〔CH3NH3SnI3〕からなる第2半導体層を用いても、得られた変換効率は、従来知られている色素増感太陽電池と同等の変換効率であり、本願発明の光電変換素子は良好な光電変換能を有することがわかる。
(2) Evaluation of solid junction photoelectric conversion element
The same as Reference Example 2. The conversion efficiency was 3.7%. Even when the second semiconductor layer comprising the inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] and the organic-inorganic hybrid perovskite compound C [CH 3 NH 3 SnI 3 ] is used, the conversion efficiency obtained is in the known dye-sensitized sun. It can be seen that the conversion efficiency is equivalent to that of the battery, and the photoelectric conversion element of the present invention has a good photoelectric conversion ability.

[5]参考例5
第1半導体層にバッファ層を形成しない点を除き、参考例2と同様とした。
[5] Reference example 5
It was the same as Reference Example 2 except that no buffer layer was formed in the first semiconductor layer.

(1)第1半導体層の作製
透明基板(ポリエチレンナフタレートフィルム,厚み200μm)上に透明導電層〔インジウム‐スズ複合酸化物(ITO)〕をコートした透明導電性基板(シート抵抗13ohm/sq)上に、スクリーン印刷法により導電性銀ペースト(K3105、ペルノックス(株)製)を光電極セル幅に応じた間隔で印刷塗布し、150度の熱風循環型オーブン中で15分間加熱乾燥して集電線を形成した。集電線を形成した透明導電性基板に、光電極セル幅に応じた間隔でレーザー処理を行い、絶縁線を形成した。ポリエステルフィルムに粘着層を塗工した保護フィルムを2段重ねしたマスクフィルム(下段:PC−542PA 藤森工業製、上段:NBO−0424 藤森工業製)を、カーボンナノチューブ層を形成するための開口部(長さ:60mm、幅5mm)を打ち抜き加工した。打ち抜き加工したマスクフィルムを、透明導電性基板の集電線形成面に気泡が入らないようにして貼合した。高圧水銀ランプ(定格ランプ電力 400W)光源をマスク貼合面から10cmの距離に置き、電磁波を1分間照射後直ちに、参考例2で調整したカーボンナノチューブ分散液を約20ml/mでワイヤーバーにより塗布した。80℃で30分間乾燥させた後、マスクフィルムの上側の保護フィルム(NBO−0424 藤森工業製)を剥離除去し、カーボンナノチューブ層(長さ:60mm、幅5mm)を形成した。カーボンナノチューブ層を形成した透明導電性基板上に、有機無機混成ペロブスカイト化合物A〔CHNHPbBr〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を0.2μmフィルター付きのシリンジで所定量滴下し、60度の熱風循環式オーブン中で10分間加熱乾燥して、第1半導体層を作製した。
(1) Production of first semiconductor layer Transparent conductive substrate (sheet resistance 13 ohm / sq) coated with a transparent conductive layer (indium-tin composite oxide (ITO)) on a transparent substrate (polyethylene naphthalate film, thickness 200 μm) On top of this, conductive silver paste (K3105, manufactured by Pernox Co., Ltd.) was printed and applied at intervals according to the photoelectrode cell width by screen printing, and heated and dried for 15 minutes in a 150 degree hot air circulation oven. An electric wire was formed. The transparent conductive substrate on which the current collector was formed was subjected to laser treatment at intervals according to the photoelectrode cell width to form an insulated wire. A mask film (bottom: PC-542PA manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd., upper: NBO-0424 manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) in which a protective film having an adhesive layer coated on a polyester film is stacked in two openings (for forming a carbon nanotube layer) (Length: 60 mm, width 5 mm) was punched out. The punched mask film was bonded so that air bubbles did not enter the current collector forming surface of the transparent conductive substrate. A high-pressure mercury lamp (rated lamp power: 400 W) is placed at a distance of 10 cm from the mask bonding surface, and immediately after irradiation with electromagnetic waves for 1 minute, the carbon nanotube dispersion prepared in Reference Example 2 is about 20 ml / m 2 using a wire bar. Applied. After drying at 80 ° C. for 30 minutes, the protective film on the upper side of the mask film (NBO-0424, manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd.) was peeled off to form a carbon nanotube layer (length: 60 mm, width 5 mm). A predetermined amount of a dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] solution of an organic-inorganic hybrid perovskite compound A [CH 3 NH 3 PbBr 3 ] on a transparent conductive substrate on which a carbon nanotube layer is formed using a syringe with a 0.2 μm filter. The first semiconductor layer was prepared by dripping and drying by heating in a hot air circulation oven at 60 degrees for 10 minutes.

(2)第2半導体層の作製
無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕のジメチルホルムアルデヒド〔(CH3)2NCHO〕溶液を、透明電極基板上にワイヤーバーにより塗布し、80℃で30分間乾燥させ、無機ペロブスカイト化合物B〔CsSnI3〕からなる第2半導体層を作製した。
(2) Production of second semiconductor layer A solution of inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] in dimethylformaldehyde [(CH 3 ) 2 NCHO] was applied onto a transparent electrode substrate with a wire bar and dried at 80 ° C. for 30 minutes. A second semiconductor layer made of an inorganic perovskite compound B [CsSnI 3 ] was produced.

(2)固体接合型光電変換素子の評価
参考例2と同様とした。変換効率は3.2%であった。第1半導体層、第2半導体層にバッファ層を形成しない場合でも、得られた変換効率は、従来知られている色素増感太陽電池と同等の変換効率であり、本願発明の光電変換素子は良好な光電変換能を有することがわかる。
(2) Evaluation of solid junction photoelectric conversion element
The same as Reference Example 2. The conversion efficiency was 3.2%. Even when the buffer layer is not formed in the first semiconductor layer and the second semiconductor layer, the obtained conversion efficiency is equivalent to that of a conventionally known dye-sensitized solar cell, and the photoelectric conversion element of the present invention is It turns out that it has favorable photoelectric conversion ability.

本願発明の固体接合型光電変換素子は、耐久性、耐光性、耐湿性に優れる太陽電池を提供できる。 The solid junction photoelectric conversion element of the present invention can provide a solar cell excellent in durability, light resistance and moisture resistance.

1 光電変換素子
2 透明電極基板
21 透明基板
22 透明導電層
3 光電変換層
4 第1半導体層
41 カーボンナノチューブ層
42 有機無機混成ペロブスカイト化合物A
5 第2半導体層(無機ペロブスカイト化合物B/有機無機混成ペロブスカイト化合物C)
6 バッファ層
7 封止層
8 取出し電極
9 集電線
10 固体接合型光電変換素子のセル
20 マスクフィルムを貼合した透明導電性基板
11 マスクフィルム
12 マスクフィルムの開放部分
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Photoelectric conversion element 2 Transparent electrode substrate 21 Transparent substrate 22 Transparent conductive layer 3 Photoelectric conversion layer 4 First semiconductor layer 41 Carbon nanotube layer 42 Organic / inorganic hybrid perovskite compound A
5 Second semiconductor layer (inorganic perovskite compound B / organic / inorganic hybrid perovskite compound C)
6 Buffer layer 7 Sealing layer 8 Extraction electrode 9 Current collector 10 Cell 20 of solid junction photoelectric conversion element Transparent conductive substrate 11 with mask film bonded Mask film 12 Open portion of mask film

Claims (6)

透明基板と、前記透明基板上に形成された透明電極層からなる一対の透明電極基板間に光電変換層を有する光電変換素子の製造方法であって、
前記透明電極基板上に、カーボンナノチューブおよび下記一般式(1)または(2)に示す有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを構成し得る前駆体を含む分散液を塗布して、前記カーボンナノチューブ表面に前記有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを被膜形成または吸着させたカーボンナノチューブ層からなる第1半導体層を形成する第1半導体層形成工程と、
前記第1半導体層と、下記一般式(3)に示す無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または下記一般式(4)若しくは(5)に示す有機無機混成ペロブスカイト化合物Cからなる被膜を形成した第2半導体層とを、接合する接合工程と、
を含む、固体接合型光電変換素子の製造方法
CHNH (1)
(式中、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(RNH14 (2)
(式中、Rは炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Mは、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
CsM (3)
(式中、M2は、2価の金属イオンであり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
CHNHSnX3 (4)
(式中、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
(R2NH2SnX4 (5)
(式中、R2は炭素数2以上のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、複素環基または芳香族複素環基であり、Xは、F,Cl,Br,Iである。)
A method for producing a photoelectric conversion element having a photoelectric conversion layer between a pair of transparent electrode substrates comprising a transparent substrate and a transparent electrode layer formed on the transparent substrate,
The transparent electrode substrate, by applying a dispersion containing the precursor capable of constituting the organic-inorganic hybrid perovskite compound A in the carbon nanotube and the following general formula (1) or (2), the organic to the carbon nanotube surface A first semiconductor layer forming step of forming a first semiconductor layer comprising a carbon nanotube layer formed by coating or adsorbing an inorganic hybrid perovskite compound A;
A second semiconductor layer in which a film composed of the first semiconductor layer and an inorganic perovskite compound B represented by the following general formula (3) and / or an organic-inorganic hybrid perovskite compound C represented by the following general formula (4) or (5) is formed: And a joining process for joining,
The manufacturing method of a solid junction type photoelectric conversion element containing this .
CH 3 NH 3 M 1 X 3 (1)
(In the formula, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)
(R 1 NH 3 ) 2 M 1 X 4 (2)
(Wherein R 1 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, M 1 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, I.)
CsM 2 X 3 (3)
(In the formula, M 2 is a divalent metal ion, and X is F, Cl, Br, or I.)
CH 3 NH 3 SnX 3 (4)
(In the formula, X is F, Cl, Br, or I.)
(R 2 NH 3 ) 2 SnX 4 (5)
(Wherein R 2 is an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, aryl group, heterocyclic group or aromatic heterocyclic group having 2 or more carbon atoms, and X is F, Cl, Br, or I.)
前記分散液の調製にあたり、前記カーボンナノチューブおよび前記有機無機混成ペロブスカイト化合物Aを構成し得る前駆体を超音波分散することを含む、請求項1に記載した固体接合型光電変換素子の製造方法 2. The method for producing a solid junction photoelectric conversion element according to claim 1, comprising, in preparing the dispersion, ultrasonically dispersing a precursor capable of constituting the carbon nanotube and the organic-inorganic hybrid perovskite compound A. 3. 前記無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または前記有機無機混成ペロブスカイト化合物Cを構成し得る前駆体を含む溶液を用いて、前記無機ペロブスカイト化合物Bおよび/または前記有機無機混成ペロブスカイト化合物Cからなる被膜を含む前記第2半導体層を形成することを含む、請求項1または請求項2に記載した固体接合型光電変換素子の製造方法With a solution containing the inorganic perovskite compounds B and / or the organic-inorganic hybrid perovskite compound precursors that C may constitute the containing said inorganic perovskite compounds B and / or coating of the organic-inorganic hybrid perovskite compound C No. The manufacturing method of the solid junction type photoelectric conversion element of Claim 1 or Claim 2 including forming 2 semiconductor layers . 前記有機無機混成ペロブスカイト化合物AおよびCが、それぞれ一般式(1)、一般式(4)に示す有機無機混成ペロブスカイト化合物である請求項1乃至請求項3の何れかに記載した固体接合型光電変換素子の製造方法The organic-inorganic hybrid perovskite compounds A and C, respectively general formula (1), an organic-inorganic hybrid perovskite compounds represented by the general formula (4), the solid junction type photoelectric described in any one of claims 1 to 3 A method for manufacturing a conversion element. 前記カーボンナノチューブが、半導体性カーボンナノチューブを50%以上含むカーボンナノチューブであることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れかに記載した固体接合型光電変換素子の製造方法The method for producing a solid junction photoelectric conversion element according to any one of claims 1 to 4 , wherein the carbon nanotube is a carbon nanotube containing 50% or more of semiconducting carbon nanotubes. 前記透明電極基板と前記第1半導体層の間および/又は前記透明電極基板と前記第2半導体層の間にバッファ層を形成するバッファ層形成工程を更に含む、請求項1乃至請求項5の何れかに記載した固体接合型光電変換素子の製造方法 Further comprising a buffer layer forming step of forming a buffer layer between the between the transparent electrode substrate and the first semiconductor layer and / or the transparent electrode substrate and the second semiconductor layer, any of claims 1 to 5 manufacturing method of the solid junction type photoelectric conversion element according to any.
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