JP6060341B2 - 安定化されたフェムト秒パルスレーザ及び安定化方法 - Google Patents
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Description
−分散性材料の中での一対のプラズマプレートの使用である。各プレートの機械的移動により、CEPを改良することができる(C. Grebing他の「等時間隔的及び等分散的キャリア−エンベロープ位相シフト補償器」、Applied Physics B 97、頁575−581、2009年)。しかしながら、機械的移動の必要性は、比較的緩慢な位相ドリフトの補正のみを可能にする。
−圧縮器又は伸長器のパラメータの修正であり、このパラメータは、2つの回折格子、又は2つのプリズムの間の距離とすることができる(Changの「回折格子ベースの伸長器及び圧縮器により引き起こされるキャリア−エンベロープ位相シフト」Applied Optics、45巻、32号、2006、頁8350−8353)。ここでも同様に、干渉計精度の機械的移動の必要性は、デバイスの速度を制限する。
−音響光学プログラム可能分散フィルタ(OAPDF)の使用である(P. Tournoisの「レーザシステムのグループ遅延時間分散の適用補償するための音響光学プログラム可能分散フィルタ」、Optics communications 140 245−249 (1997))。このような音響光学分散フィルタによって、速い応答時間(kHz)でプログラム可能位相シフトを引き起こすことができるが、このデバイスは高価である。
−液晶マトリクス(空間光調整器)を備える4fシステムの使用である(M.Kakehata他の「アクティブキャリア−エンベロープ位相シフタとしての4fパルス成形器の使用」、Conference paper、CLEO 2004、 CTuP、 CTuP31)。応答時間は重要であり、ショットバイショットでCEPドリフトを補正できない。
−レーザは、レーザパルスの偏光方向に対するポッケルス効果調整器の正常光軸及び/又は異常光軸を角度方向に位置合わせする手段を更に備え、
−ポッケルス効果調整器は、チャープパルス増幅手段の光学経路に配置される。
−電気光学調整手段は、数Hzから数MHzの間の作動周波数を有し、
−レーザは、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する手段を更に備え、及び/又は
−レーザは、エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として、電気光学手段によって引き起こされる調整を調節するためのフィードバックループを更に備える。
−エンベロープ周波数及びキャリア周波数を有する入力レーザパルス列を発生する段階と、
−入力レーザパルスをチャープパルス増幅する段階であって、該段階は、入力レーザパルスを時間伸長する段階と、伸長されたレーザパルスを光学増幅する段階と、伸長及び増幅されたレーザパルスを時間圧縮する段階とを含み、
−チャープパルス増幅する段階は、出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化する段階を含む。
−出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する段階と、
−エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として、フィードバック電気光学位相調整を調節する段階と、
を更に含む。
第1の実施形態は、1つだけのオプトエレクトロニクス部品を用いた光パルスのCEPの調整に基づく。詳細には、第1の実施形態は電気光学タイプの調整器の使用に基づき、その原理を以下に詳細に説明する。分散光学要素内を伝搬するレーザパルスを考察する。位相時間Tφ及び群遅延時間Tgは、それぞれ以下の式(1.a)及び(1.b)で定義される。
(1.a.)
(1.b)
ここで、cは真空中の光速、Lは光学ビームが分散要素内を移動する長さ、ω0はレーザの中心(角)周波数、n(ω0)及びng(ω0)はそれぞれ周波数ω0での媒体中の屈折率及び群屈折率を表す。
(2)
(3a)
これにより、群屈折率を屈折率及び波長λ0の関数として表現できる。
(3b)
(4)
(5.1)
(5.2.)
(6)
(7)
例えばニオブ酸リチウム(LiNbO3)クリスタルで構成される横ポッケルス電気光学調整器の性能を試験するために、2つの異なる実験用デバイスを使用した。方位Oyのクリスタル表面に電圧を印加することができる金メッキを施した。レーザ放射は、方位Oxに直線偏光される。
本説明は、スペクトル干渉法の測定に基づいている。例えば業務用モデル「SuperK(商標)Compact」といった広周波数スペクトルレーザ(11)は、NKT photonics社から販売されている。このレーザは、24kHzの繰り返し率で作動し、放射される放射線スペクトルは、600から900nmの幅があり、パルスの持続時間はns程度であり、照射平均出力は約100mWである。図2は、マッハツェンダータイプの干渉計に接続されるレーザ(11)を示し、図2のグラフに図式的に示す電場U(t)が印加される、ニオブ酸リチウムクリスタル(5)により引き起こされる放射線のスペクトルの位相の変動を測定するために使用される。電気光学位相調整器(5)は干渉計の一方のアームに挿入され、二次位相分散の影響は、適切な長さの分散性材料を備える他方のアームで補償される(一次位相は光学遅延ライン8a又は8bで補償される)。再結合後、ビームは、調整器によって引き起こされたCEP変動を直接取り出すことができる分光計に送られる。
第2のデバイスにおいて、横ポッケルス電気光学システム(5)は、チタンサファイヤタイプのチャープパルス増幅レーザの経路上に配置され、モードロック発振器のレーザはCEP安定化される。CEP変動は、印加された電場の関数として、kHzよりも高い周波数でショットバイショット測定を可能にする、内部で開発された高速f−2f干渉計によって、直接測定される。
本発明の第2の実施形態は、プリズム圧縮器の使用、及びCEPの制御のために電気光学作用による圧縮器のプリズムの屈折率の調整に基づいている。例えば、図9Aに概略的に示す二重経路構成のプリズム圧縮器を考察する。圧縮器(4)は、第1のプリズム(43)、第2のプリズム(44)、及びミラー(45)を備える。入力パルス(30)は、光学ビームの軸を横切る実線で概略的に示されている。分離ライン(6)により、入射ビームを圧縮器の出力ビームから分離することができる。本来知られているように、第1のプリズム(43)は、入力パルスをパルススペクトルに存在する波長の関数として空間的に分散する。第1のプリズムの出口において、3つの空間的に分離されたビーム(それぞれλ1、λ2、及びλ3)が示される。また、第2のプリズム(44)は、ビームの分散を引き起こす。ミラー(45)での反射後、第2のプリズム(44)及び第1のプリズム(43)を通過して、3つのビーム(λ1、λ2、及びλ3)は空間的に再結合するが、各々は同じ光学経路を辿らないので時間的にオフセットしている。従って、出力パルス(40)は、入力パルス(30)の分散のよって時間圧縮されることができる。
本発明の装置及び方法は従来のCPAレーザに使用できる。
2 伸長器
3a 増幅段
3b 増幅段
4 圧縮器
5 電気光学調整器
10 超短パルス
21 回折格子
22 回折格子
40 パルス
41 回折格子
42 回折格子
Claims (7)
- エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトに関して安定化される、高エネルギーフェムト秒パルスレーザであって、前記レーザは、
エンベロープ周波数(60)及びキャリア周波数(50)を有する入力レーザパルス(10)の列を生成するように構成され、増幅されることになるレーザパルスの供給源(1)と、
前記入力レーザパルス(10)を時間伸長するように構成された伸長手段(2)、伸長されたレーザパルス(20)を増幅するように構成された光増幅手段(3、3a、3b)、及び増幅されたレーザパルス(30)を時間圧縮し、そして出力レーザパルス(40)を供給するように構成された圧縮手段(4)を含むチャープパルス増幅手段と、
前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段と、
を備え、
前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを制御する手段は、前記伸長手段(2)と前記光増幅手段(3、3a、3b)の間に配置された横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)を備え、該横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)は、Ox方位に直線偏光されたレーザパルスの光路に配置され、ここで、前記横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)のクリスタルの異常軸に一致するOx方位に電場が印加され、該電場は、前記出力レーザパルス(40)のエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として安定化させるように、時間の関数で変化する振幅の電圧Uを有している
ことを特徴とする高エネルギーフェムト秒パルスレーザ。 - 前記レーザパルスの偏光方向に対する前記横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)の正常光軸及び/又は異常光軸を角度的に位置合わせする手段を更に備えることを特徴とする、請求項1に記載の超短パルスレーザ。
- 前記横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)は、前記チャープパルス増幅手段の光学経路上に配置されることを特徴とする、請求項2に記載の超短パルスレーザ。
- 前記横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)は、数Hzから数MHzの間の作動周波数を有することを特徴とする、請求項1から3のいずれかに記載の超短パルスレーザ。
- 前記出力レーザパルス(40)のエンベロープ周波数(60)とキャリア周波数(50)との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する手段と、
前記横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)によって引き起こされた調整を前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として調節するようになったフィードバックループと、
を更に備えることを特徴とする、請求項1から4のいずれかに記載の超短パルスレーザ。 - 高エネルギーフェムト秒パルスレーザのエンベロープ周波数(60)とキャリア周波数(50)との間の位相ドリフトの安定化方法であって、該方法は、
エンベロープ周波数(60)及びキャリア周波数(50)を有する入力レーザパルス(10)の列を生成する段階と、
前記入力レーザパルス(10)を時間伸長する段階、前記伸長されたレーザパルス(20)を光学増幅する段階、及び、出力レーザパルス(40)を供給するため、前記伸長及び増幅されたレーザパルス(30)を時間圧縮する段階を含む、前記入力レーザパルス(10)をチャープパルス増幅する段階と、
を含み、
前記チャープパルス増幅する段階は、出力レーザパルス(40)のエンベロープ周波数(60)とキャリア周波数(50)との間の位相ドリフトを安定化させる段階を含み、
前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを安定化させる段階は、前記時間伸長する段階の後であって、前記光学増幅する段階の前に、Ox方位に直線偏光されたレーザパルスを供給する段階、および横ポッケルス効果電気光学位相調整器(5)のクリスタルの異常軸に一致するOx方位に電場を印加する段階を備え、該電場は、電気光学位相調整を引き起こすように、また、前記出力レーザパルス(40)のエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として安定化させるように、時間の関数で変化する振幅の電圧Uを有している
ことを特徴とする安定化方法。 - 前記出力レーザパルスのエンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトを時間の関数として測定する段階と、
電気光学位相調整を前記エンベロープ周波数とキャリア周波数との間の位相ドリフトの測定値の関数として調節するフィードバックループ段階と、
を更に含むことを特徴とする、請求項6に記載の安定化方法。
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