JP6008131B2 - Manufacturing method of optical member - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルム、レンズ、ディスプレイなど、表面に反射防止等の光学的機能を付与した光学部材の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an optical member, such as an optical film, a lens, or a display, having an optical function such as antireflection on the surface.

従来、構造体の微細加工には、半導体製造プロセスで一般に用いられるフォトリソグラフィ技術や電子線描画法が適用されてきた。微細加工を実現するためのパターン転写技術の一つであるフォトリソグラフィ法は、パターンの微細化に伴い、加工寸法が光露光の光源の波長に近づいてきたため、リソグラフィ技術の限界を迎えつつある。   Conventionally, a photolithography technique and an electron beam drawing method generally used in a semiconductor manufacturing process have been applied to fine processing of a structure. The photolithographic method, which is one of the pattern transfer technologies for realizing fine processing, is approaching the limit of the lithography technology because the processing dimension has approached the wavelength of the light source of light exposure as the pattern is miniaturized.

そのため、更なる微細化や高精度化を進めるために、荷電粒子線装置の一種である電子線描画(EB描画)装置が用いられるようになった。しかし、パターンの微細化及び描画数の増加が図られる一方で、装置の大型化や高精度な制御機構が必要になる等、装置の製造コストが高くなるという欠点がある。   Therefore, an electron beam drawing (EB drawing) apparatus, which is a kind of charged particle beam apparatus, has come to be used in order to achieve further miniaturization and higher precision. However, while miniaturizing the pattern and increasing the number of drawing, there is a disadvantage that the manufacturing cost of the apparatus becomes high, such as an increase in size of the apparatus and a highly accurate control mechanism.

一方、微細な凹凸パターンの形成を低コストで行うための技術が特許文献1,2に開示されている。
特許文献1は、基板上に形成したい凹凸パターンを反転させた反転凹凸パターンを有する金型を、基板の表面に形成されたレジスト膜層に対して型押しすることで、所定の凹凸パターンを転写するものである。
On the other hand, Patent Documents 1 and 2 disclose techniques for forming a fine uneven pattern at a low cost.
In Patent Document 1, a predetermined concavo-convex pattern is transferred by embossing a mold having an inverted concavo-convex pattern obtained by inverting a concavo-convex pattern to be formed on a substrate against a resist film layer formed on the surface of the substrate. To do.

また、特許文献2に記載のナノインプリント技術によれば、シリコンウエハを金型として用いて、型押し転写により、レジスト膜層に25nm以下の微細な凹凸パターンを形成することが可能である。
ところで、近年においては、例えば液晶ディスプレイに代表されるように光学部品の大面積化、かつ高性能化が望まれている。液晶ディスプレイで画像を見るための構造としては、その内部に光の屈折率を調整するための導光板や位相差フィルム等を内蔵したものが知られている。そして、これらの導光板や位相差フィルム等には、微細な凹凸パターンがその表面に転写された微細構造の実現が必要である。例えば液晶ディスプレイにおいて、この微細構造を実現しようとすると、一体物で継ぎ目がない大面積の微細構造体が必要となる。
しかしながら、特許文献1や特許文献2の様に一体物で大面積の微細構造体を製造するには、大面積原版を作製する装置コストや製造コストが莫大になるため、例えば、基材の上に複数の個片の基本微細構造体を並べて配置することで、継ぎ目の影響の少ない大面積の微視構造体としている(例えば、特許文献3参照)。
Further, according to the nanoimprint technique described in Patent Document 2, it is possible to form a fine uneven pattern of 25 nm or less on the resist film layer by means of die transfer using a silicon wafer as a mold.
By the way, in recent years, for example, a large area and high performance of an optical component are desired as represented by a liquid crystal display. As a structure for viewing an image on a liquid crystal display, a structure in which a light guide plate and a retardation film for adjusting the refractive index of light are incorporated is known. These light guide plates, retardation films, and the like need to have a fine structure in which a fine uneven pattern is transferred to the surface. For example, in a liquid crystal display, if this fine structure is to be realized, a large-sized fine structure having a single piece and no seam is required.
However, as in Patent Document 1 and Patent Document 2, in order to manufacture a large-area fine structure as a single unit, the apparatus cost and manufacturing cost for manufacturing a large-area original plate become enormous. By arranging a plurality of individual basic microstructures side by side, a microscopic structure having a large area with little influence of seams is formed (for example, see Patent Document 3).

特許文献3では、図9に示すように、先端に凹凸パターン61が形成され、端部がアンダーカットとなった基本微細構造体62を、基材63の上に並べて配置して、接着層64を介して接着させている。この基本微細構造体62を、隙間Dsを設けた状態で基材63の上に複数個並べて多面付けすることで、微細構造体65を構成している。このように構成された微細構造体65を利用して、導光板や位相差フィルム等の表面に微細な凹凸パターンを転写している。   In Patent Document 3, as shown in FIG. 9, a basic fine structure 62 having a concavo-convex pattern 61 formed at the tip and an undercut at the end is arranged side by side on a substrate 63, and an adhesive layer 64 is arranged. It is made to adhere through. A plurality of the basic fine structures 62 are arranged on the base material 63 in a state where the gaps Ds are provided, and the fine structure 65 is configured. Using the fine structure 65 configured as described above, a fine uneven pattern is transferred to the surface of a light guide plate, a retardation film or the like.

米国特許5259926号明細書US Pat. No. 5,259,926 米国特許5772905号明細書US Pat. No. 5,772,905 特開2010−80670号公報(図1)JP 2010-80670 A (FIG. 1)

しかしながら、従来の技術では、ナノインプリント技術を繰り返し行うことで、微細構造を大型化できる一方で、転写されたパターンの間にパターンが形成されていない部分が発生する。このパターンが形成されていない部分が発生して、繋ぎ目になり、性能を満たさない場合が発生するという課題がある。   However, in the conventional technique, by repeating the nanoimprint technique, the fine structure can be enlarged, but a portion where no pattern is formed is generated between the transferred patterns. There is a problem that a portion where the pattern is not formed is generated, becomes a joint, and does not satisfy the performance.

本発明は、従来の微細構造体の製造方法の課題を考慮し、複数の基本微細構造パターンを高い精度で並べて繋ぎ合わせることができる、光学部材の製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an optical member, in which a plurality of basic microstructure patterns can be arranged and connected with high accuracy in consideration of the problems of a conventional method for manufacturing a microstructure.

本発明の光学部材の製造方法は、表面に微細構造を有した微細構造金型を、基板上に配置された反応性硬化樹脂に繰り返し転写し、連続した微細構造を持つ光学部材であって、基板上に反応性硬化樹脂を塗布する第1塗布工程と、前記基板と微細構造金型とを接近して前記反応性硬化樹脂を前記微細構造金型の表面へ密着させる第1密着工程と、前記第1密着工程の前記微細構造金型の第1の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を硬化し、前記微細構造金型の第2の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を未硬化の状態で残す第1硬化工程と、前記微細構造金型を硬化状態および未硬化状態の樹脂から離型する第1離型工程と、前記第2の領域に対応した未硬化状態の樹脂と隣接した前記基板上に反応性硬化樹脂を塗布する第2塗布工程と、前記第1硬化工程の硬化状態の樹脂に前記微細構造金型の一部がオーバーラップするように、転写位置を移動させる転写位置変更工程と、前記第2塗布工程で塗布した前記反応性硬化樹脂を前記基板と微細構造金型とで挟んで前記反応性硬化樹脂を前記微細構造金型の表面へ密着させるように前記基板と微細構造金型を相対移動させる第2密着工程と、前記第2密着工程の前記微細構造金型の第3の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を硬化し、前記微細構造金型の第4の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を未硬化の状態で残す第2硬化工程と、前記微細構造金型を硬化状態および未硬化状態の樹脂から離型する第2離型工程とを有することを特徴とする。   The method for producing an optical member of the present invention is an optical member having a continuous fine structure by repeatedly transferring a microstructure mold having a microstructure on the surface to a reactive curable resin disposed on a substrate, A first application step of applying a reactive curable resin on the substrate; a first adhesion step of bringing the reactive curable resin into close contact with the surface of the microstructured mold by bringing the substrate and the microstructured mold closer to each other; The reactive curable resin corresponding to the first region of the microstructured mold in the first adhesion step is cured, and the reactive curable resin corresponding to the second region of the microstructured mold is uncured. A first curing step that remains in a state, a first mold release step for releasing the microstructured mold from the cured and uncured resin, and an uncured resin corresponding to the second region. A second application step of applying a reactive curable resin on the substrate; A transfer position changing step for moving the transfer position so that a part of the microstructured mold overlaps with the cured resin in the first curing step; and the reactive curable resin applied in the second coating step. A second contact step of moving the substrate and the microstructured mold relative to each other so that the reactive curable resin is in close contact with the surface of the microstructured mold sandwiched between the substrate and the microstructured mold; Curing the reactive curable resin corresponding to the third region of the microstructured mold in the process, leaving the reactive curable resin corresponding to the fourth region of the microstructured mold in an uncured state; It has 2 hardening processes and the 2nd mold release process which releases the said microstructure metal mold from the resin of a hardening state and an unhardened state, It is characterized by the above-mentioned.

また、前記第2塗布工程と転写位置変更工程と前記第2密着工程と前記第2硬化工程および前記第2離型工程を繰り返すことを特徴とする。   The second coating step, the transfer position changing step, the second adhesion step, the second curing step, and the second release step are repeated.

本発明によれば、小面積の微細構造金型の端部に掛かる転写圧力を低減させ、樹脂流動を制御しながら転写を繰り返すことで、目視上で不連続のない、大面積の微細構造体を得ることができる。   According to the present invention, a large-area microstructure having no visual discontinuity is obtained by reducing transfer pressure applied to the end of a small-area microstructure mold and repeating the transfer while controlling the resin flow. Can be obtained.

本発明の実施の形態1における製造装置の概略図Schematic of the manufacturing apparatus in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1における(a)モールドの概略側面図と(b)モールドの概略平面図(A) Schematic side view of mold and (b) Schematic plan view of mold in Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1における単独転写プロセスにおける(a)プレス時の断面図と(b)紫外線照射時の断面図(A) Cross-sectional view during pressing and (b) Cross-sectional view during ultraviolet irradiation in the single transfer process according to Embodiment 1 of the present invention 本発明の実施の形態1における(a)単独転写エリアの側面図と(b)モールドの遮光体と基板の上の樹脂の樹脂硬化領域と未硬化樹脂領域を示す拡大平面図(A) A side view of a single transfer area and (b) an enlarged plan view showing a resin light-cured area and an uncured resin area of a resin on a substrate in Embodiment 1 of the present invention. 本発明の実施の形態1における複数転写プロセスの工程図Step Diagram of Multiple Transfer Process in Embodiment 1 of the Present Invention 本発明の実施の形態1における繰り返し転写した基板の平面図Plan view of substrate repeatedly transferred in Embodiment 1 of the present invention 比較例の複数転写プロセスの工程図Process chart of multiple transfer process of comparative example 本発明の実施の形態2における製造装置の概略図Schematic of the manufacturing apparatus in Embodiment 2 of the present invention 特許文献3に記載された微細構造体の断面図Sectional drawing of the fine structure described in Patent Document 3

以下、本発明の各実施の形態を、図1〜図8に基づいて説明する。
(実施の形態1)
この実施の形態1は、図6に示したように基板4の表面に、複数回の転写プロセスによって反射防止膜が形成された光学部材と、この光学部材の製造方法を、具体的に説明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS.
(Embodiment 1)
In the first embodiment, as shown in FIG. 6, an optical member in which an antireflection film is formed on the surface of the substrate 4 by a plurality of transfer processes and a method for manufacturing the optical member will be described in detail. .

先ず、複数回の転写プロセスの基本となる単独転写プロセスを、図1〜図4に基づいて説明する。
図1は本発明の実施の形態1における製造装置の概略図である。図2(a)と図2(b)はモールドの概略図である。図3はモールドの単独転写プロセス説明図である。図4(a)と図4(b)は単独転写エリア説明図である。
First, a single transfer process that is the basis of a plurality of transfer processes will be described with reference to FIGS.
FIG. 1 is a schematic diagram of a manufacturing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. 2A and 2B are schematic views of the mold. FIG. 3 is an explanatory diagram of the single transfer process of the mold. 4 (a) and 4 (b) are illustrations of a single transfer area.

この製造装置は図1に示すように構成されている。
ステージ6の上面には、反射防止膜を形成しようとする基板4がセットされている。ステージ6の上方位置には、ステージ6の上面に対向してヘッド1が設けられている。ガラスや石英など光を高効率で透過する部材によって構成されているヘッド1は、ステージ6の上面に接近離間するように昇降駆動できるように取り付けられている。ヘッド1の上部には、紫外線照射ユニット2が取り付けられている。ヘッド1の下部には、表面に微細構造を有した微細構造金型としてのモールド3が、固定用治具(図示せず)を用いて取り付けられている。モールド3はガラスや石英など光を高効率で透過する部材で出来ており、上部より照射された紫外線をモールド3の下側へ透過することができる。さらに、モールド3の下面には、電子線描画およびドライエッチング法などを用いて図2(a)と図2(b)に示すように、微細構造パターン31が形成されている。モールド3の上面とヘッド1の下面との間には、図2(b)に示すように、L字形の板状の遮光体32が形成されている。遮光体32は、蒸着もしくはスパッタ法などを用いてクロムなどの金属層を形成したり、黒体塗料を印刷したり、もしくは黒体シートを接着シート(図示せず)を介し貼り付けなどして、モールド3の上面を部分的に覆うように配置されており、配置された領域のみ紫外線の通過光量を制限する。
This manufacturing apparatus is configured as shown in FIG.
A substrate 4 on which an antireflection film is to be formed is set on the upper surface of the stage 6. A head 1 is provided above the stage 6 so as to face the upper surface of the stage 6. The head 1 formed of a member that transmits light with high efficiency, such as glass or quartz, is attached so as to be driven up and down so as to approach and separate from the upper surface of the stage 6. An ultraviolet irradiation unit 2 is attached to the top of the head 1. A mold 3 as a microstructured mold having a microstructure on the surface is attached to the lower portion of the head 1 using a fixing jig (not shown). The mold 3 is made of a member that transmits light with high efficiency, such as glass or quartz, and can transmit ultraviolet rays irradiated from above to the lower side of the mold 3. Further, a fine structure pattern 31 is formed on the lower surface of the mold 3 as shown in FIGS. 2A and 2B by using electron beam drawing and dry etching. Between the upper surface of the mold 3 and the lower surface of the head 1, as shown in FIG. 2 (b), an L-shaped plate-shaped light shielding body 32 is formed. The light shielding body 32 is formed by forming a metal layer such as chromium using vapor deposition or sputtering, printing a black body paint, or pasting the black body sheet via an adhesive sheet (not shown). The upper surface of the mold 3 is partially covered, and the amount of ultraviolet light passing through is limited only in the arranged region.

また、モールド3は、ヘッド1に取り付ける前に、プラズマ洗浄など種々の方法で洗浄した後に、フッ素系の離型処理を施してある。
基板4は、ガラスやSUS、PETフィルムなど材料からなる薄型の板状で、この基板4の上面には、反応性硬化樹脂5が塗布または印刷によって配置されている。基板4の表面には、反応性硬化樹脂5との密着性を向上するためのカップリング処理を施している。反応性硬化樹脂5は、硬化前の液状の状態で配置されている。
Further, the mold 3 is subjected to fluorine-based mold release treatment after being cleaned by various methods such as plasma cleaning before being attached to the head 1.
The substrate 4 is a thin plate made of a material such as glass, SUS, or PET film, and a reactive curable resin 5 is disposed on the upper surface of the substrate 4 by coating or printing. The surface of the substrate 4 is subjected to a coupling process for improving the adhesion with the reactive curable resin 5. The reactive curable resin 5 is arranged in a liquid state before curing.

ヘッド1は、制御コントローラ(図示せず)により直交する3軸のX軸/Y軸/Z軸のX/Y/Zそれぞれの方向に1μm以下の送り精度で駆動でき、Z軸はモールド3が反応性硬化樹脂5に転写する際のプレス圧力を、ロードセル(図示せず)を用いてモニタリング可能である。   The head 1 can be driven by a control controller (not shown) with a feed accuracy of 1 μm or less in each of three orthogonal X-axis / Y-axis / Z-axis X / Y / Z directions. The press pressure at the time of transfer to the reactive curable resin 5 can be monitored using a load cell (not shown).

微細構造パターン31は、図2に示す中心線L1を中心にX方向にDX31、中心線L2を中心にY方向にDY31の幅をもって形成されている。微細構造パターン31のオーダーはマイクロおよびナノオーダーであり、ドットパターン、ラインパターンなど種々の構造が存在する。   The fine structure pattern 31 is formed with a width of DX31 in the X direction centering on the center line L1 shown in FIG. 2 and a width of DY31 in the Y direction centering on the center line L2. The order of the fine structure pattern 31 is micro and nano order, and there are various structures such as a dot pattern and a line pattern.

図2(b)の平面視で微細構造パターン31の一部を覆うように配置されている遮光体32は、中心線L1よりX方向に距離DX32、中心線L2よりY方向に距離DY32離れた位置から、それぞれの方向にモールド3の外形に至るまでLの字形状のエリアを遮光するように配置されている。具体的な数値事例として、モールド3の外形を約30mm角、微細構造パターン31のX方向の幅DX31を20mm、Y方向の幅DY31を20mm、X方向の距離DX32を5mm、Y方向の距離DY32を5mmとした。   The light shielding body 32 arranged so as to cover a part of the fine structure pattern 31 in a plan view of FIG. 2B is separated by a distance DX32 in the X direction from the center line L1 and a distance DY32 in the Y direction from the center line L2. From the position to the outer shape of the mold 3 in each direction, the L-shaped area is arranged to be shielded from light. As specific numerical examples, the outer shape of the mold 3 is about 30 mm square, the width DX31 in the X direction of the microstructure pattern 31 is 20 mm, the width DY31 in the Y direction is 20 mm, the distance DX32 in the X direction is 5 mm, and the distance DY32 in the Y direction. Was 5 mm.

図3(a)は、基板4の上に配置された液状の反応性硬化樹脂5の転写時の流動を示す。基板4の上のモールド3の対向する位置に滴下された液状の反応性硬化樹脂5は、図3(a)に示すように、下降したモールド3が接触した時点より、プレス圧力P1により横方向に流し出され、体積一定のまま所定の外形に至るまで押し広がる。具体的には、反応性硬化樹脂5がおおむね円形に押し広がる。   FIG. 3A shows the flow during transfer of the liquid reactive curable resin 5 disposed on the substrate 4. As shown in FIG. 3A, the liquid reactive curable resin 5 dropped on the substrate 4 on the opposite position of the mold 3 is laterally applied by the press pressure P1 from the time when the lowered mold 3 comes into contact. It is pushed out to reach a predetermined outer shape with a constant volume. Specifically, the reactive curable resin 5 spreads in a generally circular shape.

その後、図3(b)に示すように、モールド3の上部より紫外線21が照射されることで反応性硬化樹脂5が硬化することになるが、その際、遮光体32が配置された領域においてはその通過光量が制限される。   Thereafter, as shown in FIG. 3B, the reactive curable resin 5 is cured by irradiating the ultraviolet rays 21 from the upper part of the mold 3. In this case, in the region where the light shielding body 32 is disposed. The amount of light passing through is limited.

遮光体32が配置されていない領域の直下では、反応性硬化樹脂5が反応し硬化した硬化樹脂領域51が形成される。遮光体32が配置されている領域の直下では、反応性硬化樹脂5が完全に反応せず未硬化な未硬化樹脂領域52が形成される。   Immediately below the region where the light shield 32 is not disposed, a cured resin region 51 is formed in which the reactive cured resin 5 has reacted and cured. Immediately below the region where the light shielding body 32 is disposed, the reactive cured resin 5 does not react completely and an uncured uncured resin region 52 is formed.

図4(a)は、図2(b)に示した状態の側面図で、32Pが遮光体32で通過光量が制限される領域と紫外線が遮光体32によって制限されずに通過する領域との境界位置を示している。図4(b)は上記の反応プロセスにより転写された基板4上の領域32Pの反応性硬化樹脂5を、上面より示した拡大平面図である。モールド3によって押さえ付けられた反応性硬化樹脂5は、おおむね円形に押し広がり、硬化樹脂領域51と遮光体32が配置された領域における未硬化樹脂領域52とが、L字の境界を有し形成される。   4 (a) is a side view of the state shown in FIG. 2 (b), which shows a region where 32P is a light shielding body 32 and the amount of light passing through is restricted and a region where ultraviolet rays pass without being restricted by the light shielding body 32. The boundary position is shown. FIG. 4B is an enlarged plan view showing the reactive curable resin 5 in the region 32P on the substrate 4 transferred by the above reaction process from the upper surface. The reactive cured resin 5 pressed down by the mold 3 spreads in a generally circular shape, and the cured resin region 51 and the uncured resin region 52 in the region where the light shielding body 32 is disposed have an L-shaped boundary. Is done.

ここまでは、単独の転写プロセスについて述べたが、以降は、この単独の転写プロセスの繰り返しによって、単独の転写プロセスの場合よりも大きな面積の微細な凹凸パターンが形成された光学部材と、その製造装置を説明する。   Up to this point, a single transfer process has been described, but hereinafter, an optical member in which a fine uneven pattern having a larger area than that of a single transfer process is formed by repeating this single transfer process, and its manufacture. The apparatus will be described.

(実施例)
図5は、図3で説明した反応プロセスを繰り返している複数転写プロセスを示している。簡便のため、モールド3の下側に形成されている微細構造パターンの図示は省略している。
(Example)
FIG. 5 shows a multiple transfer process in which the reaction process described in FIG. 3 is repeated. For convenience, the illustration of the fine structure pattern formed on the lower side of the mold 3 is omitted.

図5のステップS1〜S4は単独転写における転写の様子を示している。図5のステップS5〜S9は、ステップS4で転写された未硬化樹脂領域52のパターンの隣接部に、次ステップの転写を実施して、同様に遮光体32を使用して紫外線照射した際の転写の様子を示している。   Steps S1 to S4 in FIG. 5 show the state of transfer in single transfer. Steps S5 to S9 in FIG. 5 are performed when the transfer of the next step is performed on the adjacent portion of the pattern of the uncured resin region 52 transferred in Step S4, and similarly, the light shielding body 32 is used for ultraviolet irradiation. The state of transcription is shown.

ステップS1〜S9を詳しく説明する。
図5のステップS1は第1塗布工程であり、基板4の上に反応性硬化樹脂5を塗布する。
Steps S1 to S9 will be described in detail.
Step S <b> 1 in FIG. 5 is a first application process, in which the reactive curable resin 5 is applied on the substrate 4.

図5のステップS2は第1密着工程であり、モールド3が下降して反応性硬化樹脂5をプレスする。あるいはステージ6をモールド3に近接させることでモールド3と基板4とで反応性硬化樹脂5を挟んでプレスしたりすることもでき、基板4とモールド3を相対移動させてプレスする。   Step S2 in FIG. 5 is a first contact process, in which the mold 3 descends and presses the reactive curable resin 5. Alternatively, the reactive curing resin 5 can be pressed between the mold 3 and the substrate 4 by placing the stage 6 close to the mold 3, and the substrate 4 and the mold 3 are moved relative to each other and pressed.

図5のステップS3は第1硬化工程であり、下降下位置で停止しているモールド3を通して反応性硬化樹脂5に紫外線を照射する。この紫外線を照射によって、モールド3の遮光体32が配置されていなかった第1領域E1に対応する位置に対応して、基板4の上の反応性硬化樹脂5が微細構造パターンに密着した状態で硬化して硬化樹脂領域51が形成され、遮光体32が配置されていた第2領域E2に対応する位置に対応した反応性硬化樹脂5は硬化していない未硬化樹脂領域52が形成される。   Step S3 in FIG. 5 is a first curing process, and the reactive curable resin 5 is irradiated with ultraviolet rays through the mold 3 stopped at the lowering position. By irradiation with this ultraviolet ray, the reactive curable resin 5 on the substrate 4 is in close contact with the fine structure pattern corresponding to the position corresponding to the first region E1 where the light shielding body 32 of the mold 3 is not disposed. The cured resin region 51 is formed by curing, and the uncured resin region 52 that is not cured is formed in the reactive cured resin 5 corresponding to the position corresponding to the second region E2 in which the light shielding body 32 is disposed.

図5のステップS4は第1離型工程であり、モールド3を上昇させて離型する。
次に、図5のステップS5は第2塗布工程であり、基板4の上に既に転写された硬化樹脂領域51、未硬化樹脂領域52の隣に、液状の反応性硬化樹脂53が塗布により新たに配置される。
Step S4 in FIG. 5 is a first release process, in which the mold 3 is raised and released.
Next, step S5 in FIG. 5 is a second coating process, and a liquid reactive cured resin 53 is newly applied by coating next to the cured resin region 51 and the uncured resin region 52 that have already been transferred onto the substrate 4. Placed in.

図5のステップS6は転写位置変更工程であり、ステップS4で転写された硬化樹脂領域51にモールド3の一部がオーバーラップするように、モールド3を次の転写位置に移動させる。または基板4とモールド3を相対移動させてもよい。   Step S6 in FIG. 5 is a transfer position changing step, and the mold 3 is moved to the next transfer position so that a part of the mold 3 overlaps the cured resin region 51 transferred in step S4. Alternatively, the substrate 4 and the mold 3 may be moved relative to each other.

なお、ここでは反応性硬化樹脂53をステップS5で基板4に塗布してからステップS6でモールド3を次の転写位置に移動させているが、モールド3を次の転写位置に移動させてから、反応性硬化樹脂53を基板4に塗布しても同様である。   Here, the reactive curable resin 53 is applied to the substrate 4 in step S5 and then the mold 3 is moved to the next transfer position in step S6. However, after the mold 3 is moved to the next transfer position, The same applies when the reactive curable resin 53 is applied to the substrate 4.

図5のステップS7は第2密着工程であり、ステップS2と同様に、モールド3の下降により反応性硬化樹脂53が押し広げられることになるが、押し広げられた反応性硬化樹脂53は隣接部の未硬化樹脂領域52で静止している樹脂と境界5Aで混ざり合い、流速が緩和される。速度が緩和された反応性硬化樹脂53は、硬化済みの樹脂が存在する領域51との境界5Bまで到達することはない。すなわち、境界5Aから境界5Bの間で流速がゼロとなるため、既に転写された反応性硬化樹脂5と次に転写される反応性硬化樹脂53の境界部分は安定的に充填され、平坦な転写面となる。   Step S7 in FIG. 5 is a second adhesion process. Like step S2, the reactive cured resin 53 is expanded by the lowering of the mold 3, but the expanded reactive cured resin 53 is adjacent to the adjacent portion. The resin that is stationary in the uncured resin region 52 is mixed at the boundary 5A, and the flow velocity is reduced. The reactive curable resin 53 whose speed has been relaxed does not reach the boundary 5B with the region 51 where the cured resin exists. That is, since the flow velocity becomes zero between the boundary 5A and the boundary 5B, the boundary portion between the reactive curable resin 5 that has already been transferred and the reactive curable resin 53 that is transferred next is stably filled, and the flat transfer It becomes a surface.

図5のステップS8は第2硬化工程であり、ステップS3と同様に、遮光体32を使用して紫外線21を照射する。この紫外線21を照射によって、モールド3の遮光体32が配置されていなかった第3領域E3に対応する位置に対応して、基板4の上の反応性硬化樹脂5が微細構造パターンに密着した状態で硬化して硬化樹脂領域51が形成され、遮光体32が配置されていた第4領域E4に対応する位置に対応した反応性硬化樹脂5は硬化していない未硬化樹脂領域52が形成される。つまり、ステップS4において未硬化樹脂領域52であった部分と、転写されたばかりの反応性硬化樹脂53が、モールド3と基板4とで、硬化樹脂領域51と同じ厚みに制限された状態で、紫外線照射を受けて硬化して硬化樹脂領域51になる。   Step S8 in FIG. 5 is the second curing process, and the ultraviolet light 21 is irradiated using the light shielding body 32 as in step S3. A state in which the reactive curable resin 5 on the substrate 4 is in close contact with the fine structure pattern corresponding to the position corresponding to the third region E3 where the light shielding body 32 of the mold 3 is not disposed by the irradiation of the ultraviolet ray 21. Is cured to form a cured resin region 51, and the reactive cured resin 5 corresponding to the position corresponding to the fourth region E4 where the light shielding body 32 is disposed forms an uncured resin region 52 that is not cured. . That is, in the state where the portion that was the uncured resin region 52 in step S4 and the reactive cured resin 53 that has just been transferred are limited to the same thickness as the cured resin region 51 in the mold 3 and the substrate 4, the ultraviolet light is transferred. The cured resin region 51 is cured by irradiation.

図5のステップS9では、ステップS4と同じように離型プロセスを実施する。
この図5のステップS1〜S9を基板4のX軸方向に繰り返し、またY軸方向に繰り返すことによって、図6に示すように基板4の広い範囲に連続して微細構造パターンを転写した光学部材を製造できる。この図6では、X方向に6回、Y方向に6回と、合計36回の複数転写を行っており、図面左下が第1番目の単独転写領域T1であり、図面右上が第36番目の単独転写領域T36である。各単独転写領域T1,T2,・・・,T36においては、硬化樹脂領域51と未硬化樹脂領域52が存在するが、複数転写によって各境界部分の未硬化樹脂領域52は消滅し、全転写領域の右辺の単独転写領域T6,T12,T18,T24,T30,T36、および上辺の単独転写領域T31〜T32にのみ未硬化領域が存在することになる。便宜上、各境界部分を実線で区切って表示しているが、本実線部分に目視上パターン不連続な部分は存在せず、全面にわたってパターン崩れのない面が形成されている。
In step S9 in FIG. 5, a mold release process is performed in the same manner as in step S4.
5 is repeated in the X-axis direction of the substrate 4 and in the Y-axis direction, thereby repeating the fine structure pattern on a wide range of the substrate 4 as shown in FIG. Can be manufactured. In FIG. 6, a total of 36 transfers are performed, 6 times in the X direction and 6 times in the Y direction. The lower left of the drawing is the first single transfer region T1, and the upper right of the drawing is the 36th. This is a single transfer region T36. In each of the single transfer regions T1, T2,..., T36, there are a cured resin region 51 and an uncured resin region 52. However, the uncured resin region 52 at each boundary portion disappears by a plurality of transfers, and the entire transfer region The uncured regions exist only in the single transfer regions T6, T12, T18, T24, T30, and T36 on the right side of this, and the single transfer regions T31 to T32 on the upper side. For the sake of convenience, each boundary portion is divided and displayed with a solid line, but there is no visually discontinuous pattern portion in the solid line portion, and a surface without pattern collapse is formed over the entire surface.

この実施例の大面積転写に向けた複数転写プロセスおよび複数の転写エリアの境界部が高い精度でパターン形成される理由を、次の図7に示した比較例と比べる。
(比較例)
図7のステップS1〜S3は単独転写における転写の様子を示す。図7のステップS4〜S6は前記プロセスにて転写されたパターンの隣接部において、次ステップの転写を実施した際の転写の様子を示している。
The reason why a plurality of transfer processes for large-area transfer in this embodiment and the boundary portions of a plurality of transfer areas are formed with high accuracy will be compared with the comparative example shown in FIG.
(Comparative example)
Steps S1 to S3 in FIG. 7 show the state of transfer in single transfer. Steps S4 to S6 in FIG. 7 show the state of transfer when the transfer of the next step is performed at the adjacent portion of the pattern transferred by the above process.

図7のステップS1では、基板4上に反応性硬化樹脂5を塗布する。
図7のステップS2では、モールド3を下降させて反応性硬化樹脂5を押し広げる。そして、紫外線照射により硬化する。その際、反応性硬化樹脂5は、押し広げられた全域に渡って完全硬化して、全部が硬化樹脂領域51となる。
In step S <b> 1 of FIG. 7, the reactive curable resin 5 is applied on the substrate 4.
In step S <b> 2 of FIG. 7, the mold 3 is lowered to spread the reactive curable resin 5. And it hardens | cures by ultraviolet irradiation. At that time, the reactive curable resin 5 is completely cured over the entire area that has been spread out, and the whole becomes the cured resin region 51.

図7のステップS3では、モールド3を上昇させる。
図7のステップS4では、モールド3を前ステップで転写された硬化樹脂領域51をオーバーラップするように移動させ、既に転写された硬化樹脂領域51の隣接部に新たに液状の反応性硬化樹脂53が塗布により配置される。
In step S3 of FIG. 7, the mold 3 is raised.
In step S4 in FIG. 7, the mold 3 is moved so as to overlap the cured resin region 51 transferred in the previous step, and a liquid reactive cured resin 53 is newly added to the adjacent portion of the already transferred cured resin region 51. Are arranged by application.

図7のステップS5では、モールド3の下降により反応性硬化樹脂53が押し広げられることになるが、押し広げられた反応性硬化樹脂53は既に転写され硬化している硬化樹脂領域51まで所定の流速で流れ込み境界位置を上昇させると、乗りあがった部分で段差dが発生する。   In step S5 of FIG. 7, the reactive cured resin 53 is pushed and expanded by the lowering of the mold 3, but the spread reactive cured resin 53 is predetermined up to the cured resin region 51 that has already been transferred and cured. When the flow-in boundary position is raised at a flow velocity, a step d is generated at the portion where the boarding is performed.

図7のステップS6では、モールド3を上昇させて離型する。
乗り上がりを回避するには、図7のステップS4において反応性硬化樹脂53の塗布を、前ステップで硬化した硬化樹脂領域51と十分離れた位置で実施する必要があるが、それでは押し広げられた樹脂が硬化樹脂領域51に到達せず、空隙すなわち転写抜けが生じてしまう。これら樹脂の乗り上がりまたは転写抜けは、目視上は不連続部分として認識され、重大な品質不良となる。
In step S6 of FIG. 7, the mold 3 is raised and released.
In order to avoid climbing, it is necessary to apply the reactive curable resin 53 in step S4 of FIG. 7 at a position sufficiently away from the cured resin region 51 cured in the previous step. The resin does not reach the cured resin region 51, and voids, that is, transfer omission occurs. The climbing of the resin or missing transfer is visually recognized as a discontinuous portion, resulting in a serious quality defect.

この比較例と本発明の実施例を比べて分かるように、本発明の実施例の場合は、図5で述べたように未硬化樹脂領域52が良好に作用し、反応性硬化樹脂53の流れ込みを抑制し充填性を確保するため、平坦で目視上連続なパターン面が形成できる。   As can be seen by comparing this comparative example with the example of the present invention, in the case of the example of the present invention, the uncured resin region 52 works well as described in FIG. In order to suppress filling and to ensure filling properties, a flat and visually continuous pattern surface can be formed.

以上のように、モールドの上面の遮光体により紫外線の光路を意図的に制御し未硬化部を形成させることで、繰り返し転写時の樹脂の盛り上がりや転写抜けを抑制することができ、大面積な微細構造体の安定な形成が可能となる。また、小面積のモールドから大面積名微細構造体を作製することは、モールドにかかるイニシャルコストを抑えるだけでなく、多品種の大面積微細構造体を得ることにも役立つ。   As described above, the light path on the upper surface of the mold is intentionally controlled to form the uncured portion by controlling the optical path of the ultraviolet rays. A stable formation of a fine structure is possible. Also, producing a large area fine structure from a small area mold not only reduces the initial cost of the mold, but also helps to obtain a large variety of large area fine structures.

(実施の形態2)
図8は本発明の実施の形態2を示す。
実施の形態1の製造装置では、遮光体32が、ヘッド1とモールド3の間に配置されていたが、実施の形態2では遮光体32の位置が実施の形態1とは異なる。
(Embodiment 2)
FIG. 8 shows a second embodiment of the present invention.
In the manufacturing apparatus of the first embodiment, the light shielding body 32 is disposed between the head 1 and the mold 3, but in the second embodiment, the position of the light shielding body 32 is different from that of the first embodiment.

なお、図1と同じ部分または相当する部分には同じ符号を付し、一部の説明を省略する。
図8では、ステージ6をガラスや石英など光を高効率に透過させるような部材によって構成し、このステージ6の下部に紫外線照射ユニット2を配置している。ステージ6の下面には、遮光体54が形成されている。遮光体54は、蒸着もしくはスパッタ法などを用いてクロムなどの金属層を形成したり、黒体塗料を印刷したり、もしくは黒体シートを接着シート(図示せず)を介し貼りつけるなどして、ステージ6を部分的に覆うように配置されており、配置された領域のみ紫外線の透過を制限する。
Note that the same or corresponding parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and a part of the description is omitted.
In FIG. 8, the stage 6 is configured by a member that transmits light with high efficiency, such as glass or quartz, and the ultraviolet irradiation unit 2 is disposed below the stage 6. A light shield 54 is formed on the lower surface of the stage 6. The light-shielding body 54 is formed by forming a metal layer such as chromium by vapor deposition or sputtering, printing a black body paint, or pasting the black body sheet via an adhesive sheet (not shown). The stage 6 is arranged so as to partially cover it, and the ultraviolet ray transmission is limited only in the arranged area.

これにより、モールド3は実施の形態1で説明したようなガラスや石英など光を透過する部材から選択する必要はなく、例えば安価なNiなどの金属モールドやSiモールドから選択するなど、その自由度を拡大することができる。   As a result, the mold 3 does not need to be selected from a light transmitting member such as glass or quartz as described in the first embodiment. For example, the mold 3 can be selected from an inexpensive metal mold such as Ni or Si mold. Can be enlarged.

なお、上記の各実施の形態では紫外線照射ユニット2をヘッド1の上に設け、ヘッド1の下面に遮光体32を配置した場合や、ステージ6の下部に紫外線照射ユニット2を設け、ステージ6と紫外線照射ユニット2の間に遮光体54を配置した場合を説明したが、紫外線の光路を制御し未硬化部を形成する製造装置ならびに製造方法はこの限りでない。   In each of the above embodiments, the ultraviolet irradiation unit 2 is provided on the head 1, and the light shielding body 32 is disposed on the lower surface of the head 1, or the ultraviolet irradiation unit 2 is provided below the stage 6. Although the case where the light-shielding body 54 is disposed between the ultraviolet irradiation units 2 has been described, the manufacturing apparatus and the manufacturing method for controlling the optical path of the ultraviolet rays to form the uncured portion are not limited to this.

また、上記の各実施の形態においては、反応性硬化樹脂51,53が紫外線硬化樹脂であって、この樹脂に紫外線照射ユニット2から発生した紫外線を照射して硬化させたが、反応性硬化樹脂51,53を熱エネルギーで硬化する熱硬化性樹脂とし、紫外線照射ユニット2に代わって赤外線照射ユニットを設けたり、または反応性硬化樹脂51,53を電子エネルギーで硬化する電子硬化性樹脂とし、紫外線照射ユニット2に代わって電子照射ユニットを設けたりして、構成することもできる。   In each of the above embodiments, the reactive curable resins 51 and 53 are ultraviolet curable resins, and these resins are cured by irradiation with ultraviolet rays generated from the ultraviolet irradiation unit 2. 51 and 53 are thermosetting resins that are cured by thermal energy, and an infrared irradiation unit is provided in place of the ultraviolet irradiation unit 2, or the reactive curable resins 51 and 53 are electron curable resins that are cured by electronic energy, and ultraviolet rays are used. Instead of the irradiation unit 2, an electron irradiation unit may be provided and configured.

また、上記の各実施の形態においては、反応性硬化樹脂51,53が紫外線硬化樹脂であって、この樹脂に遮蔽体32で部分的に光量を制限して照射したが、遮蔽体32で部分的に光量を制限して照射するのではなく、紫外線照射ユニット2が硬化させたい箇所にだけ光を照射するように走査して描画させて硬化させることもできる。また、反応性硬化樹脂51,53を電子エネルギーで硬化する電子硬化性樹脂とした場合には、電子量を制限する遮蔽体を使用せずに、硬化させたい箇所にだけ電子エネルギーを照射するように走査して描画させて硬化させることもできる。   Further, in each of the above embodiments, the reactive curable resins 51 and 53 are ultraviolet curable resins, and the resin is irradiated with the light amount partially limited by the shield 32. Instead of irradiating with the light amount limited, the ultraviolet irradiation unit 2 can be scanned and drawn so as to irradiate only the portion to be cured and cured. Further, when the reactive curable resins 51 and 53 are made of an electron curable resin that is cured by electron energy, the electron energy is irradiated only to a portion to be cured without using a shielding body that limits the amount of electrons. It can also be scanned and drawn to be cured.

本発明は、表面に無数の凹凸構造を有した光学部材の品質向上およびコストダウンに寄与できる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can contribute to quality improvement and cost reduction of an optical member having an infinite number of uneven structures on the surface.

1 ヘッド
2 紫外線照射ユニット
3 モールド
4 基板
5,53 液状反応性硬化樹脂
21 紫外線
31 微細構造パターン
32,54 遮光体
51 樹脂硬化領域
52 未硬化樹脂領域
E1 第1の領域
E2 第2の領域
E3 第3の領域
E4 第4の領域
DX31 微細構造パターン31のX方向の幅
DY31 微細構造パターン31のY方向の幅
DX32 遮光体32の形成位置の中心線からのX方向の距離
DY32 遮光体32の形成位置の中心線からのY方向の距離
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Head 2 Ultraviolet irradiation unit 3 Mold 4 Board | substrate 5,53 Liquid reactive cured resin 21 Ultraviolet 31 Microstructure pattern 32,54 Light-shielding body 51 Resin cured area 52 Uncured resin area E1 1st area E2 2nd area E3 1st Region 3 E4 Fourth region DX31 Width in the X direction of the fine structure pattern 31 DY31 Width in the Y direction of the fine structure pattern 31 DX32 Distance in the X direction from the center line of the formation position of the light shield 32 DY32 Formation of the light shield 32 Distance in the Y direction from the center line of the position

Claims (5)

表面に微細構造を有した微細構造金型を、基板上に配置された反応性硬化樹脂に繰り返し転写し、連続した微細構造を持つ光学部材であって、
基板上に反応性硬化樹脂を塗布する第1塗布工程と、
前記基板と微細構造金型とを接近して前記反応性硬化樹脂を前記微細構造金型の表面へ密着させる第1密着工程と、
前記第1密着工程の前記微細構造金型の第1の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を硬化し、前記微細構造金型の第2の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を未硬化の状態で残す第1硬化工程と、
前記微細構造金型を硬化状態および未硬化状態の樹脂から離型する第1離型工程と、
前記第2の領域に対応した未硬化状態の樹脂と隣接した前記基板上に反応性硬化樹脂を塗布する第2塗布工程と、
前記第1硬化工程の硬化状態の樹脂に前記微細構造金型の一部がオーバーラップするように、転写位置を移動させる転写位置変更工程と、
前記第2塗布工程で塗布した前記反応性硬化樹脂を前記基板と微細構造金型とで挟んで前記反応性硬化樹脂を前記微細構造金型の表面へ密着させるように前記基板と微細構造金型を相対移動させる第2密着工程と、
前記第2密着工程の前記微細構造金型の第3の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を硬化し、前記微細構造金型の第4の領域に対応する前記反応性硬化樹脂を未硬化の状態で残す第2硬化工程と、
前記微細構造金型を硬化状態および未硬化状態の樹脂から離型する第2離型工程とを有することを特徴とする、
光学部材の製造方法。
An optical member having a continuous microstructure, repeatedly transferring a microstructure mold having a microstructure on the surface to a reactive curable resin disposed on a substrate,
A first application step of applying a reactive curable resin on the substrate;
A first adhesion step of bringing the reactive curable resin into close contact with the surface of the microstructure mold by bringing the substrate and the microstructure mold close together;
The reactive curable resin corresponding to the first region of the microstructured mold in the first adhesion step is cured, and the reactive curable resin corresponding to the second region of the microstructured mold is uncured. A first curing step that remains in the state;
A first release step of releasing the microstructure mold from the cured and uncured resin;
A second application step of applying a reactive curable resin on the substrate adjacent to the uncured resin corresponding to the second region;
A transfer position changing step of moving the transfer position so that a part of the microstructure mold overlaps the cured resin in the first curing step;
The substrate and the microstructure mold so that the reactive curing resin applied in the second coating step is sandwiched between the substrate and the microstructure mold and the reactive cure resin is brought into close contact with the surface of the microstructure mold. A second contact step of relatively moving
The reactive curable resin corresponding to the third region of the microstructured mold in the second adhesion step is cured, and the reactive curable resin corresponding to the fourth region of the microstructured mold is uncured. A second curing step that remains in the state;
A second mold release step of releasing the microstructured mold from the cured and uncured resin,
Manufacturing method of optical member.
前記第2塗布工程と転写位置変更工程と前記第2密着工程と前記第2硬化工程および前記第2離型工程を繰り返すことを特徴とする、請求項1記載の光学部材の製造方法。   The method for manufacturing an optical member according to claim 1, wherein the second coating step, the transfer position changing step, the second adhesion step, the second curing step, and the second release step are repeated. 前記第2硬化工程は、
前記第1硬化工程にて既に転写の完了した前記第1の領域に、これから転写する第3の領域がオーバーラップするように転写することを特徴とする、
請求項2記載の光学部材の製造方法。
The second curing step includes
In the first curing step, the transfer is performed so that the third region to be transferred is overlapped with the first region which has already been transferred.
The manufacturing method of the optical member of Claim 2.
前記第1硬化工程および第2硬化工程で転写された微細構造転写領域の外周のうち、一部分が前記第2の領域および第4の領域であり、かつ残りの外周とその内部が前記第1の領域および第3の領域であることを特徴とする、
請求項2または3記載の光学部材の製造方法。
A part of the outer periphery of the fine structure transfer region transferred in the first curing step and the second curing step is the second region and the fourth region, and the remaining outer periphery and the inside thereof are the first region. A region and a third region,
The manufacturing method of the optical member of Claim 2 or 3.
前記反応性硬化樹脂が、紫外線硬化樹脂であることを特徴とする、
請求項1から4の何れかに記載の光学部材の製造方法。
The reactive curable resin is an ultraviolet curable resin,
The manufacturing method of the optical member in any one of Claim 1 to 4.
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