JP5942339B2 - Artificial nail wearing kit and artificial nail wearing method - Google Patents
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Description
本発明は、抗菌人工爪、人工爪組成物、人工爪装着キット、及び人工爪の装着方法に関する。 The present invention relates to an antibacterial artificial nail, an artificial nail composition, an artificial nail attachment kit, and an artificial nail attachment method.
人工爪は、主に医療現場において、指先欠損などの形成外科治療の一つとして施術されてきたが、近年は、ネイルアートというファションの一つとして、幅広い年齢層に広がっている。これまではネイルサロンで医療知識を持った人が衛生管理をきちんとして施術してきたが、高価であるということもあり自分でネイルアートを楽しむキットが販売されており、ずさんな衛生管理のため「爪にカビが生えた」「接着剤が皮膚に誤って付着し火傷」などの健康に関わるトラブルの発生も報告され、国民生活センターは、2008年10月に注意を呼びかけている。また、厚生労働省は、2010年9月に「ネイルサロンにおける衛生管理に関する指針」(非特許文献1)を発令している。特に「爪カビ」と呼ばれるものの問題については、主な原因となるものに緑膿菌と白癬菌がある。緑膿菌は、常在菌として生活環境の中に普通に存在する。したがって、付け爪の装着乃至施術を行う時にいくら衛生的に行っても、日数経過で付け爪に浮き(人工爪が自爪から僅かでも剥離すること)がでれば、そこに運悪く緑膿菌が入り込む可能性はある。そのまま放置された場合、緑膿菌は、そこに水分と微量の栄養素(汚れなど)があれば繁殖し始める。白癬菌による爪カビは、爪水虫とも呼ばれ、足の指にできる水虫と同源である。 Artificial nails have been practiced as one of plastic surgery treatments such as fingertip defects mainly in the medical field, but in recent years, they have spread to a wide range of age groups as one of the facts of nail art. Until now, people who have medical knowledge at nail salons have practiced hygiene management properly, but because it is expensive, kits for enjoying nail art by yourself are sold, for sloppy hygiene management Occurrence of health-related problems such as “molds on nails” and “adhesives accidentally attached to the skin and burns” were reported, and the National Life Center called for attention in October 2008. The Ministry of Health, Labor and Welfare issued “Guidelines on Hygiene Management in Nail Salons” (Non-Patent Document 1) in September 2010. Especially for the problem of what is called “nail mold”, the main causes are Pseudomonas aeruginosa and ringworm. Pseudomonas aeruginosa is normally present in the living environment as a resident microorganism. Therefore, no matter how hygienic it is when attaching or performing artificial nail treatment, if the artificial nail floats over the artificial nail after a few days (even if the artificial nail peels even slightly from its own nail), it is unfortunately there. There is a possibility that bacteria may enter. If left as it is, Pseudomonas aeruginosa begins to reproduce if there are moisture and trace nutrients (such as dirt). Nail mold caused by ringworm is also called nail fungus and is the same source of athlete's foot on the toes.
したがって、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、及び装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つための、抗菌人工爪、及びその装着方法が求められているのが現状である。 Therefore, the artificial nail is attached while efficiently decomposing and removing bacteria, viruses, bacteria, etc. that cause infections on the artificial nail and the surface of the self nail, and continuous infection prevention is realized after wearing. In order to maintain cleanliness, antibacterial artificial nails and their mounting methods are currently required.
本発明は、前記従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、かつ装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つことを可能とする、抗菌人工爪、人工爪組成物、人工爪装着キット、及び人工爪の装着方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention attaches the artificial nail while efficiently decomposing and removing bacteria, viruses, bacteria, etc. that cause infections attached to the surface of the artificial nail or the self-nail, and continuously infects after the attachment. An object of the present invention is to provide an antibacterial artificial nail, an artificial nail composition, an artificial nail attachment kit, and an artificial nail attachment method capable of realizing prevention and maintaining cleanliness.
前記課題を解決するための手段としては、後述する付記に記載した通りである。即ち、
開示の抗菌人工爪は、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含む。
開示の人工爪組成物は、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含む。
開示の人工爪組成物は、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、皮膜形成剤と、溶剤とを含む。
開示の人工爪装着キットは、開示の抗菌人工爪と、開示の人工爪組成物とを有する。
開示の人工爪の装着方法は、前記人工爪組成物を塗布した塗布膜上に前記抗菌人工爪を設置する工程と、紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含む。
開示の人工爪の装着方法は、前記人工爪組成物を塗布した塗布膜を、紫外線を照射して硬化させ、人工爪を形成する工程を含む。
Means for solving the above-described problems are as described in the following supplementary notes. That is,
The disclosed antibacterial artificial nail includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, and a base material.
The disclosed artificial nail composition includes at least a photocatalyst powder containing apatite having photocatalytic activity, an ultraviolet curable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
The disclosed artificial nail composition includes at least a photocatalyst powder containing apatite having photocatalytic activity, a film forming agent, and a solvent.
The disclosed artificial nail attachment kit includes the disclosed antibacterial artificial nail and the disclosed artificial nail composition.
The disclosed artificial nail attachment method includes a step of installing the antibacterial artificial nail on a coating film coated with the artificial nail composition, and a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays.
The disclosed artificial nail attachment method includes a step of forming an artificial nail by irradiating the coating film coated with the artificial nail composition by irradiating with ultraviolet rays.
開示の抗菌人工爪によれば、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、かつ装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つことができる。
開示の人工爪組成物によれば、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、かつ装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つことができる。
開示の人工爪装着キットによれば、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、かつ装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つことができる。
開示の人工爪の装着方法によれば、人工爪や自爪表面に付着した感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌などを、効率的に分解除去しながら人工爪を装着し、かつ装着後も継続的な感染防止を実現し、清潔さを保つことができる。
According to the disclosed antibacterial artificial nail, the artificial nail is worn while effectively decomposing and removing bacteria, viruses and bacteria that cause infections attached to the surface of the artificial nail and the self-nail, and continues even after wearing. Can prevent infection and maintain cleanliness.
According to the disclosed artificial nail composition, the artificial nail is worn while effectively decomposing and removing bacteria, viruses, bacteria, and the like that cause infections attached to the artificial nail and the surface of the nail, and Realizing continuous infection prevention and maintaining cleanliness.
According to the disclosed artificial nail attachment kit, the artificial nail is attached while effectively decomposing and removing bacteria, viruses, bacteria, etc. that cause infections attached to the artificial nail and the surface of the self nail, and after the attachment. Realizing continuous infection prevention and maintaining cleanliness.
According to the disclosed artificial nail attachment method, the artificial nail is attached while efficiently decomposing and removing bacteria, viruses, bacteria, etc. that cause infections attached to the artificial nail or the surface of the self nail Can achieve continuous infection prevention and maintain cleanliness.
(抗菌人工爪)
本発明の抗菌人工爪は、少なくとも光触媒粉体と、基材とを含んでなり、更に必要に応じてその他の構成を含む。
一態様として、前記光触媒粉体が前記基材中に均一分散された態様が好ましく、また他の態様として、前記光触媒粉体が前記基材表面に均一塗布された態様が好ましい。
前記光触媒粉体が前記基材表面に均一塗布された抗菌人工爪としては、後述する人工爪組成物を前記基材表面に均一塗布したものであってよい。
該抗菌人工爪は、ネイルチップ、フルウェルなどの人工爪として用いることができる。
以下、本発明の抗菌人工爪について、詳細に説明する。
(Antibacterial artificial nail)
The antibacterial artificial nail of the present invention includes at least a photocatalytic powder and a base material, and further includes other configurations as necessary.
As an aspect, an aspect in which the photocatalyst powder is uniformly dispersed in the base material is preferable, and as another aspect, an aspect in which the photocatalyst powder is uniformly applied to the surface of the base material is preferable.
The antibacterial artificial nail in which the photocatalyst powder is uniformly applied to the surface of the substrate may be one in which an artificial nail composition described later is uniformly applied to the surface of the substrate.
The antibacterial artificial nail can be used as an artificial nail such as a nail chip or a full well.
Hereinafter, the antibacterial artificial nail of the present invention will be described in detail.
<光触媒粉体>
前記光触媒粉体としては、光触媒活性を有するアパタイトを含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記光触媒粉体の形態としては、バクテリア等の微生物との接触効率に優れる観点から、粉体であれば、特に制限はなく、その形状、大きさ、比重等については適宜選択することができる。
また、前記光触媒粉体は、更に表面に凹凸を有する、例えば、イガグリ形状であるのが好ましい。この場合、前記光触媒として機能する表面積が拡大し、前記微生物との接触効率がより向上する。
前記光触媒粉体の大きさとしては、特に制限はなく、分解除去目的の微生物の種類や大きさなどに対応して適宜選択することができるが、前記光触媒として機能する表面積が拡大し、微生物との接触効率を向上させることができるとともに、人工爪の表面の白色化を効果的に抑制することができる点で、体積平均粒子径が100μm以下が好ましく、後述する人工爪組成物に分散させたときに、前記光触媒粉体が沈殿せず、分散状態を好適に維持できる点で、10μm以下であるのがより好ましい。また、前記体積平均粒径の下限値としては、一次粒子の大きさが一般には50nm程度であり、現状ではこれ以上小さな光触媒粉体の製造は困難である点で、50nm以上であるのが好ましい。
前記体積平均粒子径が、100μmを超えると、光触媒粉体の表面積をあまり多くすることができず、微生物との接触性が低下したり、人工爪の表面が白色化することがある。なお、前記体積平均粒径は、例えば、粒度分布測定装置などにより測定することができ、該粒度分布測定装置の例としては、島津製作所製のSALD−2100レーザ解析式流動分布測定装置などが好適に挙げられる。
前記光触媒粉体の比重としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、小さいほど好ましく、後述する人工爪組成物中で均一に分散可能であることが好ましい。
前記光触媒粉体の粒度分布(粒子径分布)としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記粒度分布がシャープである(狭くなる)程、前記光触媒粉体を前記水中に、均一に分散させることができる。
<Photocatalyst powder>
The photocatalyst powder is not particularly limited as long as it contains apatite having photocatalytic activity, and can be appropriately selected according to the purpose.
The form of the photocatalyst powder is not particularly limited as long as it is a powder from the viewpoint of excellent contact efficiency with microorganisms such as bacteria, and the shape, size, specific gravity and the like can be appropriately selected.
Moreover, it is preferable that the photocatalyst powder further has a concavo-convex shape on the surface, for example, has a rugged shape. In this case, the surface area that functions as the photocatalyst is expanded, and the contact efficiency with the microorganism is further improved.
The size of the photocatalyst powder is not particularly limited and can be appropriately selected according to the type and size of microorganisms for the purpose of decomposition and removal. The volume-average particle diameter is preferably 100 μm or less, and can be dispersed in an artificial nail composition to be described later, in that the contact efficiency can be improved and whitening of the surface of the artificial nail can be effectively suppressed. Sometimes, the photocatalyst powder is more preferably 10 μm or less from the viewpoint that the photocatalyst powder does not precipitate and the dispersion state can be suitably maintained. The lower limit of the volume average particle diameter is preferably 50 nm or more because the size of the primary particles is generally about 50 nm, and it is difficult to produce a photocatalyst powder smaller than this at present. .
When the volume average particle diameter exceeds 100 μm, the surface area of the photocatalyst powder cannot be increased so much that the contact with microorganisms may be reduced, or the surface of the artificial nail may be whitened. The volume average particle size can be measured by, for example, a particle size distribution measuring device, and an example of the particle size distribution measuring device is a SALD-2100 laser analysis type flow distribution measuring device manufactured by Shimadzu Corporation. It is mentioned in.
There is no restriction | limiting in particular as specific gravity of the said photocatalyst powder, Although it can select suitably according to the objective, It is so preferable that it is small, and it is preferable that it can disperse | distribute uniformly in the artificial nail composition mentioned later.
The particle size distribution (particle size distribution) of the photocatalyst powder is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, the sharper (narrower) the particle size distribution, Can be uniformly dispersed in the water.
前記光触媒粉体の具体的な材質乃至組成としては、光触媒活性を有するアパタイトを含むものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。該光触媒粉体が、光触媒活性を有するアパタイトであると、該アパタイトの優れた吸着特性により、前記人工爪乃至人工爪組成物に付着した前記バクテリアなどの微生物に対する吸着特性に優れる点で有利であり、また、その光触媒活性(光触媒能)により、吸着した前記微生物を光触媒活性により効率的に分解除去可能である点で有利である。
これらの光触媒粉体の中でも、光触媒活性を有するアパタイトと、紫外光吸収性金属原子とを少なくとも含んでなるものが好ましく、更に可視光吸収性金属原子を含んでなるものがより好ましい。前記紫外光吸収性金属原子を含んでいると、紫外光の照射条件下での使用に好適な点で有利であり、前記光触媒粉体が、前記可視光吸収性金属原子を更に含んでなる場合には、蛍光灯下等の日常使用条件下での使用に好適な点で有利である。
なお、前記光触媒粉体は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
The specific material or composition of the photocatalyst powder is not particularly limited as long as it contains apatite having photocatalytic activity, and can be appropriately selected according to the purpose. When the photocatalyst powder is apatite having photocatalytic activity, it is advantageous in that it has excellent adsorption characteristics for microorganisms such as bacteria attached to the artificial nail or the artificial nail composition due to the excellent adsorption characteristics of the apatite. Also, the photocatalytic activity (photocatalytic activity) is advantageous in that the adsorbed microorganism can be efficiently decomposed and removed by the photocatalytic activity.
Among these photocatalyst powders, those containing at least apatite having photocatalytic activity and ultraviolet light absorbing metal atoms are preferred, and those containing visible light absorbing metal atoms are more preferred. When the ultraviolet light absorbing metal atom is contained, it is advantageous in terms of being suitable for use under ultraviolet light irradiation conditions, and the photocatalyst powder further comprises the visible light absorbing metal atom. Is advantageous in that it is suitable for use under daily use conditions such as under a fluorescent lamp.
In addition, the said photocatalyst powder may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
−光触媒活性を有するアパタイト−
前記光触媒活性を有するアパタイトとしては、光触媒活性(光触媒能)を有する限り特に制限は無く、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、アパタイトが、光触媒活性を有するのに必要な金属原子(以下、光触媒活性を発現可能な金属原子と称することがある。)を有してなるものなどが好適に挙げられる。前記アパタイトが該光触媒活性を有する金属原子を有すると、該アパタイトに光が照射されると、該光触媒活性を有する金属原子の作用により該アパタイトに光触媒活性が発現し、該アパタイトの表面に吸着している前記バクテリアなどの微生物(分解対象物)から電子を奪い取ることができ、該微生物を酸化し、分解させることができる。
-Apatite with photocatalytic activity-
The apatite having photocatalytic activity is not particularly limited as long as it has photocatalytic activity (photocatalytic activity), and can be appropriately selected according to the purpose. For example, the metal atom necessary for apatite to have photocatalytic activity is used. Preferred examples include those having (hereinafter, sometimes referred to as a metal atom capable of exhibiting photocatalytic activity). When the apatite has a metal atom having the photocatalytic activity, when the apatite is irradiated with light, the photocatalytic activity is expressed in the apatite by the action of the metal atom having the photocatalytic activity, and adsorbs on the surface of the apatite. Electrons can be taken away from microorganisms (degradation target) such as the bacteria, and the microorganisms can be oxidized and decomposed.
−アパタイト−
前記アパタイトとしては、特に制限は無く、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、下記一般式(1)で表されるものなどが好適に挙げられる。
There is no restriction | limiting in particular as said apatite, It can select suitably from well-known things, For example, what is represented by following General formula (1) etc. is mentioned suitably.
前記一般式(1)において、Aは、金属原子を表し、該金属原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カルシウム(Ca)、アルミニウム(Al)、ランタン(La)、マグネシウム(Mg)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、鉛(Pb)、カドミウム(Cd)、ユウロピウム(Eu)、イットリウム(Y)、セリウム(Ce)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)などが挙げられる。これらの中でも、吸着性の点で、カルシウム(Ca)が特に好ましい。
Bは、リン原子(P)及び硫黄原子(S)のいずれかを表し、これらの中でも、生体親和性の点でリン原子(P)が好ましい。
Oは、酸素原子を表す。
Xは、水酸基(OH)、CO3、及びハロゲン原子のいずれかを表し、これらの中でも、前記Aの金属原子と共に金属酸化物型の光触媒性部分構造を形成可能な点で、水酸基(OH)が特に好ましい。なお、前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
m、n、z、及びsは、整数を表し、例えば、電荷バランスの点で、mは8〜10が好ましく、nは3〜4が好ましく、zは5〜7が好ましく、sは1〜4が好ましい。
In the general formula (1), A represents a metal atom, and the metal atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, calcium (Ca), aluminum (Al), Lanthanum (La), magnesium (Mg), strontium (Sr), barium (Ba), lead (Pb), cadmium (Cd), europium (Eu), yttrium (Y), cerium (Ce), sodium (Na), Potassium (K) etc. are mentioned. Among these, calcium (Ca) is particularly preferable in terms of adsorptivity.
B represents either a phosphorus atom (P) or a sulfur atom (S), and among these, a phosphorus atom (P) is preferable in terms of biocompatibility.
O represents an oxygen atom.
X represents one of a hydroxyl group (OH), CO 3 , and a halogen atom, and among these, the hydroxyl group (OH) is capable of forming a metal oxide type photocatalytic partial structure together with the metal atom of A. Is particularly preferred. In addition, as said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom etc. are mentioned, for example.
m, n, z, and s represent integers. For example, in terms of charge balance, m is preferably 8 to 10, n is preferably 3 to 4, z is preferably 5 to 7, and s is 1 to 1. 4 is preferred.
前記一般式(1)で表されるアパタイトとしては、例えば、ハイドロキシアパタイト、フルオロアパタイト若しくはクロロアパタイト、又は、これらの金属塩、リン酸三カルシウム若しくはリン酸水素カルシウムなどが挙げられる。これらの中でも、上記一般式(1)における、Xが水酸基(OH)であるハイドロキシアパタイトが好ましく、上記一般式(1)における、Aがカルシウム(Ca)であり、Bがリン原子(P)であり、かつXが水酸基(OH)であるカルシウムハイドロキシアパタイト(CaHAP)、即ち、Ca10(PO4)6(OH)2が特に好ましい。 Examples of the apatite represented by the general formula (1) include hydroxyapatite, fluoroapatite, or chloroapatite, or metal salts thereof, tricalcium phosphate, calcium hydrogen phosphate, and the like. Among these, hydroxyapatite in which X in the general formula (1) is a hydroxyl group (OH) is preferable, A in the general formula (1) is calcium (Ca), and B is a phosphorus atom (P). Calcium hydroxyapatite (CaHAP) in which X is a hydroxyl group (OH), that is, Ca 10 (PO 4 ) 6 (OH) 2 is particularly preferred.
前記カルシウムハイドロキシアパタイト(CaHAP)は、カチオンに対してもアニオンに対してもイオン交換し易いため、各種の分解対象物に対する吸着特性に優れ、特にタンパク質等の有機物に対する吸着特性に優れており、加えて、本発明での分解対象物であるバクテリア、ウイルス、カビ、細菌等の微生物などに対する吸着特性にも優れ、これらの増殖を阻止乃至抑制し得る点で好ましい。 The calcium hydroxyapatite (CaHAP) easily exchanges ions with respect to cations and anions, so that it has excellent adsorption characteristics for various decomposition targets, especially adsorption characteristics for organic substances such as proteins. Thus, the present invention is preferable in that it has excellent adsorption characteristics for microorganisms such as bacteria, viruses, molds, and bacteria, which are decomposition targets in the present invention, and can prevent or suppress their growth.
なお、分解対象物である前記微生物としては、特に制限はなく、原核生物、真核生物のいずれであってもよいし、原生動物も含まれ、前記原核生物としては、例えば、白癬菌、緑膿菌、大腸菌、黄色ブドウ球菌等の細菌などが挙げられ、前記真核生物としては、例えば、酵母菌類、カビ、放線菌等の糸状菌類などが挙げられる。前記ウイルスとしては、例えば、DNAウイルス、RNAウイルスなど挙げられ、具体的にはインフルエンザウイルスなどが挙げられる。
また、前記微生物以外のその他の分解対象物としては、蛋白質、アミノ酸、脂質、糖質、などが挙げられる。
該分解対象物は、これらを1種単独で含んでいてもよいし、2種以上を含んでいてもよい。該分解対象物の具体例としては、一般に、人間の皮膚に由来する汚れ成分、ゴミ、埃、汚泥、不要成分、廃液成分、土壌中乃至空気中の有害成分、汚泥などが挙げられる。なお、前記有害物質としては、例えば、アセトアルデヒドガスなどが挙げられる。
The microorganism to be decomposed is not particularly limited and may be either a prokaryotic organism or a eukaryotic organism, and includes protozoa. Examples of the prokaryotic organism include, for example, ringworm, green Examples include bacteria such as Pseudomonas aeruginosa, Escherichia coli, and Staphylococcus aureus, and examples of the eukaryote include filamentous fungi such as yeasts, molds, and actinomycetes. Examples of the virus include DNA viruses and RNA viruses, and specific examples include influenza viruses.
Examples of other decomposition objects other than the microorganisms include proteins, amino acids, lipids, and carbohydrates.
The decomposition target object may contain one of these alone or two or more of them. Specific examples of the decomposition target include dirt components derived from human skin, dust, dust, sludge, unnecessary components, waste liquid components, harmful components in soil or air, and sludge. Examples of the harmful substance include acetaldehyde gas.
前記アパタイトの前記光触媒粉体における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、85mol%〜97mol%が好ましく、85mol%〜90mol%がより好ましい。
前記アパタイトの含有量が、85mol%未満であると、前記光触媒粉体の光触媒活性が十分でないことがあり、97mol%を超えても、それに見合う効果が得られず、また、該光触媒粉体の分解対象物に対する吸着特性や光吸収特性等が低下することがある。
なお、前記アパタイトの前記光触媒粉体における含有量は、例えば、ICP-AESによる定量分析をすることにより測定することができる。
There is no restriction | limiting in particular as content in the said photocatalyst powder of the said apatite, According to the objective, it can select suitably, For example, 85 mol%-97 mol% are preferable, and 85 mol%-90 mol% are more preferable.
If the content of the apatite is less than 85 mol%, the photocatalytic activity of the photocatalyst powder may not be sufficient, and if it exceeds 97 mol%, an effect commensurate with it cannot be obtained. Adsorption characteristics, light absorption characteristics, etc. with respect to the decomposition target object may deteriorate.
The content of the apatite in the photocatalyst powder can be measured by, for example, quantitative analysis using ICP-AES.
−−光触媒活性を付与する金属原子−−
前記光触媒活性を付与する金属原子としては、光触媒中心として機能し得る限り特に制限はなく、光触媒活性を付与するものとして公知のものの中から目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、光触媒活性に優れる点で、チタン(Ti)、亜鉛(Zn)、マンガン(Mn)、スズ(Sn)、インジウム(In)、鉄(Fe)などから選択される少なくとも1種が好適に挙げられる。これらの中でも、特に前記光触媒活性(光触媒活性)に優れる点で、チタン(Ti)が好ましい。
--Metal atom imparting photocatalytic activity--
The metal atom imparting the photocatalytic activity is not particularly limited as long as it can function as a photocatalytic center, and can be appropriately selected from those known to impart photocatalytic activity depending on the purpose. In terms of excellent activity, at least one selected from titanium (Ti), zinc (Zn), manganese (Mn), tin (Sn), indium (In), iron (Fe), and the like is preferably used. Among these, titanium (Ti) is particularly preferable from the viewpoint of excellent photocatalytic activity (photocatalytic activity).
前記光触媒活性を付与する金属原子の前記光触媒粉体における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記光触媒粉体における全金属原子に対し、5mol%〜15mol%が好ましく、8mol%〜12mol%がより好ましい。
前記光触媒活性を付与する金属原子の含有量が、5mol%未満であると、前記光触媒粉体の光触媒活性が十分でないことがあり、15mol%を超えても、それに見合う効果が得られず、また、該光触媒粉体の分解対象物に対する吸着特性や光吸収特性等が劣化することがある。
なお、前記光触媒活性を付与する金属原子の前記光触媒粉体における含有量は、例えば、ICP-AESによる定量分析をすることにより測定することができる。
There is no restriction | limiting in particular as content in the said photocatalyst powder of the metal atom which provides the said photocatalytic activity, For example, 5 mol% with respect to all the metal atoms in the said photocatalyst powder can be selected suitably. -15 mol% is preferable and 8 mol%-12 mol% are more preferable.
When the content of the metal atom imparting the photocatalytic activity is less than 5 mol%, the photocatalytic activity of the photocatalyst powder may not be sufficient, and even if it exceeds 15 mol%, an effect commensurate with it may not be obtained. The adsorption characteristics and light absorption characteristics of the photocatalyst powder with respect to the decomposition target object may be deteriorated.
In addition, content in the said photocatalyst powder of the metal atom which provides the said photocatalytic activity can be measured by performing the quantitative analysis by ICP-AES, for example.
前記光触媒活性を付与する金属原子が、前記アパタイトの結晶構造を構成する金属原子の一部として該アパタイトの結晶構造中に取り込まれる(置換等される)ことによって、該アパタイトの物性が酸化チタン同様の光半導体物質へと変化する。
このような光触媒物性を有する前記アパタイトは、吸着特性に優れ、光触媒活性を有する公知の金属酸化物よりも、分解対象物に対する吸着特性に優れるため、分解作用、抗菌作用、防汚作用、カビや細菌等の増殖阻止乃至抑制作用に優れる。
When the metal atom imparting the photocatalytic activity is incorporated (substituted) into the crystal structure of the apatite as part of the metal atom constituting the crystal structure of the apatite, the physical properties of the apatite are the same as those of titanium oxide. It changes to an optical semiconductor material.
The apatite having such photocatalytic properties is superior in adsorption properties, and more excellent in adsorption properties with respect to an object to be decomposed than known metal oxides having photocatalytic activity, and therefore has a decomposition action, antibacterial action, antifouling action, mold, Excellent in inhibiting or inhibiting the growth of bacteria and the like.
前記光触媒活性を有するアパタイトとしては、適宜合成したものを使用してもよいし、市販品を使用してもよい。
前記光触媒活性を有するアパタイトの合成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、公知の共沈法が好適に挙げられるが、具体的には、例えば、前記カルシウムハイドロキシアパタイトの場合、以下のようにして合成することができる。即ち、まず、前記アパタイトの原料であるカルシウム原子(Ca)を含む硝酸カルシウムを、脱炭酸ガス処理した純水中に溶解し、マグネティックスターラー等を用いて攪拌しながら、アパタイトの原料となる燐原子(P)を含む燐酸水溶液を滴下する。次に、アンモニア水等を加えてpHを9に調整した後、100℃にて5時間熟成を行い、濾過し、純水で洗浄し、乾燥させることなどにより合成することができる。
前記光触媒活性を有するアパタイトの市販品としては、例えば、前記カルシウム・チタンハイドロキシアパタイトでは、太平化学産業株式会社製の商品名「PCAP−100」などが好適に挙げられる。
As the apatite having photocatalytic activity, an appropriately synthesized product or a commercially available product may be used.
The method for synthesizing the apatite having photocatalytic activity is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose, and a known coprecipitation method is preferably exemplified. In the case of apatite, it can be synthesized as follows. That is, first, calcium nitrate containing calcium atoms (Ca), which is a raw material of apatite, is dissolved in decarbonized gas-treated pure water and stirred using a magnetic stirrer or the like. A phosphoric acid aqueous solution containing (P) is dropped. Next, ammonia water or the like is added to adjust the pH to 9, followed by aging at 100 ° C. for 5 hours, filtration, washing with pure water, and drying.
As a commercial item of the apatite having the photocatalytic activity, for example, the trade name “PCAP-100” manufactured by Taihei Chemical Industry Co., Ltd. is preferably used for the calcium / titanium hydroxyapatite.
−紫外光吸収性金属原子−
前記紫外光吸収性金属原子は、タングステン(W)及びバナジウム(V)の少なくともいずれかであり、これらは、前記光触媒粉体中に、1種単独で含まれていてもよいし、2種以上含まれていてもよい。
前記紫外光吸収性金属原子の含有量としては、全金属原子に対し、0.001mol%〜0.1mol%であるのが好ましい。
前記紫外光吸収性金属原子の含有量が、0.001mol%未満であると、前記光触媒粉体の紫外光の吸収能が十分でないことがあり、0.1mol%を超えてもそれに見合う効果が得られず、前記光触媒粉体の前記前記分解対象物に対する吸着性能が低下したり、可視光の吸収能が低下してしまうことがある。
なお、前記紫外光吸収性金属原子の前記光触媒粉体における含有量は、例えば、ICP-AESによる定量分析をすることにより測定することができる。
-Ultraviolet light absorbing metal atom-
The ultraviolet light-absorbing metal atom is at least one of tungsten (W) and vanadium (V), and these may be contained alone or in combination of two or more in the photocatalyst powder. It may be included.
The content of the ultraviolet light absorbing metal atom is preferably 0.001 mol% to 0.1 mol% with respect to all metal atoms.
If the content of the ultraviolet light-absorbing metal atom is less than 0.001 mol%, the photocatalyst powder may not have sufficient absorption capacity for ultraviolet light, and even if the content exceeds 0.1 mol%, an effect commensurate with it. In some cases, the adsorption performance of the photocatalyst powder with respect to the decomposition target may be reduced, or the ability to absorb visible light may be reduced.
In addition, content in the said photocatalyst powder of the said ultraviolet light absorptive metal atom can be measured by performing the quantitative analysis by ICP-AES, for example.
−可視光吸収性金属原子−
前記可視光吸収性金属原子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、波長400nm超の光に対し吸収を有するものなどが好適に挙げられ、具体的にはクロム(Cr)、及びニッケル(Ni)から選択される少なくとも1種などがより好ましく、可視光吸収特性に優れる点で、クロム(Cr)が特に好ましい。
前記可視光吸収性金属原子の前記光触媒粉体における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、全金属原子に対し、0.001mol%〜1mol%が好ましく、0.01mol%〜1mol%がより好ましい。
前記可視光吸収性金属原子の含有量が、0.001mol%未満であると、前記光触媒粉体の可視光の吸収能が十分でないことがあり、1mol%を超えてもそれに見合う効果が得られず、前記光触媒粉体の前記分解対象物に対する吸着性能が低下してしまったり、紫外光の吸収能が低下してしまうことがある。
なお、前記可視光吸収性金属原子の前記光触媒粉体における含有量は、例えば、ICP-AESによる定量分析をすることにより測定することができる。
-Visible light absorbing metal atom-
The visible light-absorbing metal atom is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include those having absorption with respect to light having a wavelength of more than 400 nm. Is more preferably at least one selected from chromium (Cr) and nickel (Ni), and chromium (Cr) is particularly preferable in terms of excellent visible light absorption characteristics.
There is no restriction | limiting in particular as content in the said photocatalyst powder of the said visible light absorptive metal atom, According to the objective, it can select suitably, For example, 0.001 mol%-1 mol% are with respect to all the metal atoms. Preferably, 0.01 mol% to 1 mol% is more preferable.
If the content of the visible light absorbing metal atom is less than 0.001 mol%, the photocatalyst powder may not have sufficient ability to absorb visible light, and even if it exceeds 1 mol%, an effect commensurate with it is obtained. However, the adsorption performance of the photocatalyst powder to the decomposition target may be reduced, or the ultraviolet light absorption ability may be reduced.
In addition, content in the said photocatalyst powder of the said visible light absorptive metal atom can be measured by performing the quantitative analysis by ICP-AES, for example.
本発明の前記光触媒粉体においては、前記光触媒活性を有するのに必要な金属原子と、前記紫外光吸収性金属原子と、前記可視光吸収性金属原子との含有量の合計としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、15mol%以下が好ましく、3mol%〜15mol%がより好ましい。
前記含有量の合計が、15mol%を超えてもそれに見合う光触媒活性の向上効果が得られず、却って光触媒活性の低下となることがある。
In the photocatalyst powder of the present invention, the total content of the metal atom necessary for having the photocatalytic activity, the ultraviolet light absorbing metal atom, and the visible light absorbing metal atom is particularly limited. However, for example, 15 mol% or less is preferable, and 3 mol% to 15 mol% is more preferable.
Even if the total content exceeds 15 mol%, a photocatalytic activity improvement effect commensurate with it cannot be obtained, and the photocatalytic activity may be lowered instead.
本発明の前記光触媒粉体の好ましい具体例としては、前記光触媒活性を付与する金属原子がチタン(Ti)であり、前記アパタイトがカルシウムハイドロキシアパタイト(CaHAP):Ca10(PO4)6(OH)2であり、前記紫外光吸収性金属原子がタングステン(W)及びバナジウム(V)の少なくともいずれかであり、前記可視光吸収性金属原子がクロム(Cr)であるものが挙げられる。
このような光触媒粉体は、可視光のみならず紫外光をも吸収可能であり広帯域な光吸収性を示し、光の利用効率に優れ、各種光の照射条件下における用途に好適に使用可能である。そして、該光触媒粉体は、可視光及び紫外光のいずれを照射した場合においても光触媒活性が飽和することがなく、長期間にわたって優れた光触媒活性を示し、特に紫外光を長期間にわたって照射した場合においても光触媒活性が飽和することがなく優れた光触媒活性を維持可能な点で有利である。
As a preferred specific example of the photocatalyst powder of the present invention, the metal atom imparting the photocatalytic activity is titanium (Ti), and the apatite is calcium hydroxyapatite (CaHAP): Ca 10 (PO 4 ) 6 (OH). 2 , the ultraviolet light absorbing metal atom is at least one of tungsten (W) and vanadium (V), and the visible light absorbing metal atom is chromium (Cr).
Such a photocatalyst powder can absorb not only visible light but also ultraviolet light, exhibits a broad light absorption, is excellent in light utilization efficiency, and can be suitably used for applications under various light irradiation conditions. is there. The photocatalytic powder does not saturate the photocatalytic activity when irradiated with either visible light or ultraviolet light, and exhibits excellent photocatalytic activity over a long period of time, particularly when irradiated with ultraviolet light over a long period of time. Is advantageous in that the photocatalytic activity is not saturated and an excellent photocatalytic activity can be maintained.
<基材>
前記基材は、爪状に型取りをし、人工爪を構成するものであれば、その材質などに特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記基材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などが挙げられる。これらの具体例としては、アクリル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合樹脂(ABS樹脂)、ナイロン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、成形性及び透明性の観点から、アクリル樹脂が好ましい。
<Base material>
The base material is not particularly limited as long as it forms a nail shape and forms an artificial nail, and can be appropriately selected according to the purpose.
There is no restriction | limiting in particular as a material of the said base material, According to the objective, it can select suitably, For example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ultraviolet curable resin etc. are mentioned. Specific examples thereof include acrylic resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer resin (ABS resin), nylon resin, and the like. Among these, an acrylic resin is preferable from the viewpoints of moldability and transparency.
(人工爪組成物)
本発明の人工爪組成物は、少なくとも前記光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含み、更に必要に応じて着色剤などのその他の成分を含む紫外線硬化型の人工爪組成物であることを一態様とする。
また、本発明の人工爪組成物は、少なくとも前記光触媒粉体と、皮膜形成剤と、可塑剤と、溶剤とを含み、更に必要に応じて着色剤などのその他の成分を含むネイルラッカー型の人工爪組成物であることを一態様とする。該ネイルラッカー型の人工爪組成物は、ネイルラッカーに加えて、ベースコート、トップコートとして用いることができる。
(Artificial nail composition)
The artificial nail composition of the present invention includes at least the photocatalyst powder, an ultraviolet curable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent, and further includes an ultraviolet curable type containing other components such as a colorant as necessary. An artificial nail composition is an embodiment.
The artificial nail composition of the present invention is a nail lacquer type containing at least the photocatalyst powder, a film-forming agent, a plasticizer, and a solvent, and further containing other components such as a colorant as necessary. One embodiment is an artificial nail composition. The nail lacquer type artificial nail composition can be used as a base coat and a top coat in addition to the nail lacquer.
(紫外線硬化型の人工爪組成物)
<光触媒粉体>
前記人工爪組成物における光触媒粉体としては、前述の前記抗菌人工爪における光触媒粉体を用いることができ、好ましい態様も同様である。
前記光触媒粉体の前記人工爪組成物における含有量としては、光触媒活性を有するアパタイトの光触媒活性が機能する限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、0.1質量%〜20質量%が好ましく、1質量%〜15質量%がより好ましい。
(UV curable artificial nail composition)
<Photocatalyst powder>
As the photocatalyst powder in the artificial nail composition, the photocatalyst powder in the antibacterial artificial nail described above can be used, and the preferred embodiment is also the same.
The content of the photocatalyst powder in the artificial nail composition is not particularly limited as long as the photocatalytic activity of the apatite having photocatalytic activity functions, and can be appropriately selected according to the purpose. % To 20% by mass is preferable, and 1% to 15% by mass is more preferable.
<紫外線硬化性化合物>
前記紫外線硬化性化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン単量体類;スチレン、α−メチルスチレン、クロルスチレンなどの芳香族ビニル単量体類;アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアン化ビニル単量体類;塩化ビニル、臭化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニリデンなどのハロゲン化ビニル及びビニリデン類;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類;以下に挙げる(メタ)アクリル酸(以下、アクリル酸とメタクリル酸の総称としてこのように記載する)エステル類;1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基を有する重合性単量体;1分子中に少なくとも1個のリン酸基乃至スルホン基を有する重合性単量体などが挙げられる。
<Ultraviolet curable compound>
The ultraviolet curable compound is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include conjugated diene monomers such as butadiene and isoprene; aromatics such as styrene, α-methylstyrene and chlorostyrene. Vinyl cyanides such as acrylonitrile and methacrylonitrile; vinyl halides and vinylidenes such as vinyl chloride, vinyl bromide, vinylidene chloride and vinylidene bromide; vinyl acetate and vinyl propionate Vinyl esters such as: (meth) acrylic acid listed below (hereinafter referred to as the generic name of acrylic acid and methacrylic acid) esters; polymerizable monomer having at least one carboxyl group in one molecule A polymerizable monomer having at least one phosphate group or sulfone group in one molecule And the like.
前記(メタ)アクリル酸エステル類としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸のn−又はi−プロピルエステル、(メタ)アクリル酸のn−又はi−又はt−ブチルエステル等の直鎖又はC1〜C4アルキルを持つ分岐アルキル(メタ)アクリレート;(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸メトキシエチル、(メタ)アクリル酸グリシジル、メチロール(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリル酸N,N−ジメチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸N,N−ジエチルアミノエチル、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸2又は3−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸2又は3−メトキシプロピル、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシペンタエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキプロピル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートなどの脂肪族エステル類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2又は3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキプロピル(メタ)アクリレート、メチロール(メタ)アクリルアミドなどの単官能(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸アミド類1モルのビスフェノールAと2モルのグリシジル(メタ)アクリレートの付加物などの水酸基含有の(メタ)アクリレート類;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラデカエチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート類;プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ノナプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート類;上記のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート及びポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート類のどちらか一方の(メタ)アクリロイル基がメチル基及びエチル基などに置換されたモノ(メタ)アクリレート類;ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネート又は2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート又は1,3,5−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの付加物などのウレタン結合を有する(メタ)アクリレート類;ビスフェノールAにオキシエチレンを付加させた生成物にさらに(メタ)アクリル酸を縮合させた2,2−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシポリエトキシフェニル)プロパン類などが挙げられる。 The (meth) acrylic acid esters are not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n of (meth) acrylic acid -Or i-propyl ester, branched alkyl (meth) acrylate with linear or C1-C4 alkyl such as n- or i- or t-butyl ester of (meth) acrylic acid; (meth) acrylic acid 2-ethylhexyl, Benzyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, methylol (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N- (meth) acrylate Diethylaminoethyl, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid 2 or 3-hydroxy Lopyl, (meth) acrylic acid 2 or 3-methoxypropyl, glycerol mono (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxytriethylene glycol mono (Meth) acrylate, pentaethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypentaethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl ( (Meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethyl Aliphatic esters such as propane propane tri (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2 or 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, diethylene glycol mono (meth) acrylate, triethylene glycol mono Monofunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate, pentaethylene glycol mono (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, methylol (meth) acrylamide or ( (Meth) acrylic acid amides Hydroxyl-containing (meth) acrylates such as an adduct of 1 mol of bisphenol A and 2 mol of glycidyl (meth) acrylate; ethylene glycol Di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, pentaethylene glycol di (meth) acrylate, nonaethylene glycol di (meth) acrylate, tetradecaethylene glycol di (meth) acrylate, etc. Polyethylene glycol di (meth) acrylates; polypropylene glycol di (meth) acrylates such as propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, and nonapropylene glycol di (meth) acrylate (Meth) acrylates; one of the above polyethylene glycol di (meth) acrylates and polypropylene glycol di (meth) acrylates Mono (meth) acrylates in which the (meth) acryloyl group is substituted with a methyl group or an ethyl group; butylene glycol di (meth) acrylate, propanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 2- (Meth) acryloyloxyethyl isocyanate or 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate or 1,3,5-trimethylhexamethylene diisocyanate and an adduct of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and other urethane bonds (meth) Acrylates: 2,2-bis (4- (meth) acryloyloxypolyethoxyphenyl) propanes obtained by further condensing (meth) acrylic acid to a product obtained by adding oxyethylene to bisphenol A, and the like.
前記1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基を有する重合性単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、モノカルボン酸、ジカルボン酸、トリカルボン酸及びテトラカルボン酸又はこれらの誘導体が挙げられる。例えば(メタ)アクリル酸、マレイン酸、p−ビニル安息香酸、11−(メタ)アクリロイルオキシ−1,1−ウンデカンジカルボン酸(MAC−10)、1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシエチルピロメリット酸、6−(メタ)アクリロイルオキシエチルナフタレン−1,2,6−トリカルボン酸、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルトリメリット酸及びその無水物、4−(メタ)アクリロイルオキシエチルトリメリット酸及びその無水物、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルトリメリット酸及びその無水物、4−[2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシ]ブチルトリメリット酸及びその無水物、2,3−ビス(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)プロピル(メタ)アクリレート、N,O−ジ(メタ)アクリロイルオキシチロシン、O−(メタ)アクリロイルオキシチロシン、N−(メタ)アクリロイルオキシチロシン、N−(メタ)アクリロイルオキシフェニルアラニン、N−(メタ)アクリロイルp−アミノ安息香酸、N−(メタ)アクリロイル−O−アミノ安息香酸、N−(メタ)アクリロイル5−アミノサリチル酸、N−(メタ)アクリロイル4−アミノサリチル酸、2又は3又は4−(メタ)アクリロイルオキシ安息香酸、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとピロメリット酸二無水物の付加生成物(PMDM)、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと無水マレイン酸又は3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)又は3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の付加反応物、2−(3,4−ジカルボキシベンゾイルオキシ)1,3−ジ(メタ)アクリロイルオキシプロパン、N−フェニルグリシン又はN−トリルグリシンとグリシジル(メタ)アクリレートとの付加物、4−[(2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル)アミノ]フタル酸、3又は4−[N−メチルN−(2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル)アミノ]フタル酸などが挙げられる。 The polymerizable monomer having at least one carboxyl group in one molecule is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include monocarboxylic acids, dicarboxylic acids, tricarboxylic acids, and tetracarboxylic acids. Carboxylic acid or derivatives thereof are mentioned. For example, (meth) acrylic acid, maleic acid, p-vinylbenzoic acid, 11- (meth) acryloyloxy-1,1-undecanedicarboxylic acid (MAC-10), 1,4-di (meth) acryloyloxyethyl pyromerit Acid, 6- (meth) acryloyloxyethylnaphthalene-1,2,6-tricarboxylic acid, 4- (meth) acryloyloxymethyl trimellitic acid and its anhydride, 4- (meth) acryloyloxyethyl trimellitic acid and its Anhydride, 4- (meth) acryloyloxybutyl trimellitic acid and its anhydride, 4- [2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxy] butyl trimellitic acid and its anhydride, 2,3-bis (3 , 4-Dicarboxybenzoyloxy) propyl (meth) acrylate, N, O-di (meth) acrylate Royloxytyrosine, O- (meth) acryloyloxytyrosine, N- (meth) acryloyloxytyrosine, N- (meth) acryloyloxyphenylalanine, N- (meth) acryloyl p-aminobenzoic acid, N- (meth) acryloyl- O-aminobenzoic acid, N- (meth) acryloyl 5-aminosalicylic acid, N- (meth) acryloyl 4-aminosalicylic acid, 2 or 3 or 4- (meth) acryloyloxybenzoic acid, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate And pyromellitic dianhydride addition product (PMDM), 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and maleic anhydride or 3,3 ′, 4,4′-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) or 3 , 3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride Addition product, 2- (3,4-dicarboxybenzoyloxy) 1,3-di (meth) acryloyloxypropane, N-phenylglycine or N-tolylglycine and glycidyl (meth) acrylate adduct, 4- [(2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl) amino] phthalic acid, 3 or 4- [N-methyl N- (2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxypropyl) amino] phthalic acid, etc. Can be mentioned.
前記1分子中に少なくとも1個のリン酸基乃至スルホン基を有する重合性単量体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルアシドホスフェート、2及び3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルアシドホスフェート、4−(メタ)アクリロイルオキシブチルアシドホスフェート、6−(メタ)アクリロイルオキシヘキシルアシドホスフェート、8−(メタ)アクリロイルオキシオクチルアシドホスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルアシドホスフェート、12−(メタ)アクリロイルオキシドデシルアシドホスフェート、ビス{2−(メタ)アクリロイルオキシエチル}アシドホスフェート、ビス{2又は3−(メタ)アクリロイルオキシプロピル}アシドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルアシドホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルp−メトキシフェニルアシドホスフェートなどが挙げられる。なお、これらの化合物におけるリン酸基は、チオリン酸基に置き換えることができる。このうち、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフェニルアシドホスフェート、10−(メタ)アクリロイルオキシデシルアシドホスフェート、2−スルホエチル(メタ)アクリレート、2又は1−スルホ−1又は2−プロピル(メタ)アクリレート、1又は3−スルホ−2−ブチル(メタ)アクリレート、3−ブロモ−2−スルホ−2−プロピル(メタ)アクリレート、3−メトキシ−1−スルホ−2−プロピル(メタ)アクリレート、1,1−ジメチル−2−スルホエチル(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。 The polymerizable monomer having at least one phosphate group or sulfone group in one molecule is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, 2- (meth) acryloyloxy Ethyl acid phosphate, 2 and 3- (meth) acryloyloxypropyl acid phosphate, 4- (meth) acryloyloxybutyl acid phosphate, 6- (meth) acryloyloxyhexyl acid phosphate, 8- (meth) acryloyloxyoctyl acid phosphate, 10- (meth) acryloyloxydecyl acid phosphate, 12- (meth) acryloyl oxide decyl acid phosphate, bis {2- (meth) acryloyloxyethyl} acid phosphate, bis {2 or 3- (meth) acryloyloxypropyl Acid phosphate, 2- (meth) acryloyloxyethyl phenyl acid phosphate, and 2 (meth) acryloyloxyethyl p- methoxyphenyl acid phosphate and the like. In addition, the phosphate group in these compounds can be replaced with a thiophosphate group. Among these, 2- (meth) acryloyloxyethyl phenyl acid phosphate, 10- (meth) acryloyloxydecyl acid phosphate, 2-sulfoethyl (meth) acrylate, 2 or 1-sulfo-1 or 2-propyl (meth) acrylate, 1 or 3-sulfo-2-butyl (meth) acrylate, 3-bromo-2-sulfo-2-propyl (meth) acrylate, 3-methoxy-1-sulfo-2-propyl (meth) acrylate, 1,1- Examples thereof include dimethyl-2-sulfoethyl (meth) acrylamide.
前記紫外線硬化性化合物の人工爪組成物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、1質量%〜99質量%が好ましい。 There is no restriction | limiting in particular as content in the artificial nail composition of the said ultraviolet curable compound, Although it can select suitably according to the objective, 1 mass%-99 mass% are preferable.
<光重合開始剤>
前記光重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジアセチルペルオキシド、ジプロピルペルオキシド、ジブチルペルオキシド、ジラウリルペルオキシド、過酸化ベンゾイル(BPO)、p,p’−ジクロルベンゾイルペルオキシド、p.p’−ジメトキシベンゾイルペルオキシド、p,p’−ジメチルベンゾイルペルオキシド、p,p’−ジニトロジベンゾイルペルオキシド等の有機過酸化物;トリアルキルボラン又はトリアルキルボランの部分酸化物等の有機ホウ素化合物などが挙げられる。
前記光重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記紫外線硬化性化合物100質量部に対し、通常、0.01質量部〜10質量部である。
<Photopolymerization initiator>
There is no restriction | limiting in particular as said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably, For example, diacetyl peroxide, dipropyl peroxide, dibutyl peroxide, dilauryl peroxide, benzoyl peroxide (BPO), p, p '-Dichlorobenzoyl peroxide, p. organic peroxides such as p'-dimethoxybenzoyl peroxide, p, p'-dimethylbenzoyl peroxide, p, p'-dinitrodibenzoyl peroxide; organoboron compounds such as trialkylborane or partial oxides of trialkylborane, etc. Can be mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as content of the said photoinitiator, According to the objective, it can select suitably, Usually, 0.01 mass part-10 mass parts with respect to 100 mass parts of said ultraviolet curable compounds. is there.
<溶剤>
前記紫外線硬化型の人工爪組成物に用いる溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、水;アセトン、エタノール等の水溶性有機溶剤などが挙げられる。
前記溶剤の前記紫外線硬化型の人工爪組成物における含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、5質量%〜95質量%が好ましい。
<Solvent>
There is no restriction | limiting in particular as a solvent used for the said ultraviolet curable artificial nail composition, According to the objective, it can select suitably, For example, water; Water-soluble organic solvents, such as acetone and ethanol, etc. are mentioned.
There is no restriction | limiting in particular as content in the said ultraviolet curable artificial nail composition of the said solvent, Although it can select suitably according to the objective, 5 mass%-95 mass% are preferable.
(ネイルラッカー型の人工爪組成物)
<皮膜形成剤>
前記皮膜形成剤としては、前記溶剤が蒸発した後に皮膜が形成されるものであれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ニトロセルロース、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂などが挙げられる。
(Nail lacquer type artificial nail composition)
<Film-forming agent>
The film forming agent is not particularly limited as long as the film is formed after the solvent evaporates, and can be appropriately selected according to the purpose. For example, nitrocellulose, alkyd resin, acrylic resin, A polyester resin, a polyurethane resin, etc. are mentioned.
<有機溶剤>
前記ネイルラッカー型の人工爪組成物に用いる有機溶剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール、ブタノールなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよく、また、希釈剤を含んでいてもよい。
前記希釈剤としては、例えば、トルエン、キシレン、脂肪族炭化水素などが挙げられる。
<Organic solvent>
The organic solvent used in the nail lacquer type artificial nail composition is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. Examples thereof include ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, isopropanol, and butanol. It is done. These may be used individually by 1 type, may use 2 or more types together, and may contain the diluent.
Examples of the diluent include toluene, xylene, aliphatic hydrocarbons, and the like.
<その他の成分>
前記人工爪組成物に含まれるその他の成分としては、着色剤や可塑剤の他、フィラー、変色防止剤などが挙げられる。
<<着色剤>>
前記着色剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無機顔料、有機顔料、染料などが挙げられる。
<Other ingredients>
Examples of other components contained in the artificial nail composition include a colorant and a plasticizer, a filler, a discoloration preventing agent, and the like.
<< Colorant >>
There is no restriction | limiting in particular as said colorant, According to the objective, it can select suitably, For example, an inorganic pigment, an organic pigment, dye, etc. are mentioned.
<<可塑剤>>
前記可塑剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、カンファー、フタル酸エステルなどが挙げられる。
<< Plasticizer >>
There is no restriction | limiting in particular as said plasticizer, According to the objective, it can select suitably, For example, camphor, a phthalate ester, etc. are mentioned.
<<フィラー>>
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜公知のフィラーを選択することができ、例えば、有機フィラー、無機フィラー、両者を含む有機質複合フィラーなどが挙げられる。
<< Filler >>
There is no restriction | limiting in particular as said filler, According to the objective, a well-known filler can be selected suitably, For example, an organic filler, an inorganic filler, the organic composite filler containing both, etc. are mentioned.
前記有機フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレートの単独重合体、共重合体等の溶解性の高分子量重合体;これらの高分子量重合体に架橋剤として5質量%以下のエチレングリコールジ(メタ)アクリレートを共重合させた重合体;ポリ酢酸ビニル、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリプロピレングリコール(PPG)、ポリビニルアルコール(PVA)などが挙げられる。 The organic filler is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose. For example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate alone Soluble high molecular weight polymers such as polymers and copolymers; polymers obtained by copolymerizing these high molecular weight polymers with 5% by mass or less of ethylene glycol di (meth) acrylate as a crosslinking agent; polyvinyl acetate, polyethylene Examples include glycol (PEG), polypropylene glycol (PPG), and polyvinyl alcohol (PVA).
前記無機フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、無定形シリカ、アルミナ、石英、アルミナ石英、シリカ−アルミナ化合物、シリカ−ジルコニア化合物、シリカ−チタニア化合物、酸化チタン、ガラス(バリウムガラスを含む)、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、クレー、雲母、硫酸アルミニウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、リン酸カルシウム、ハイドロキシアパタイトなどが挙げられる。これらの無機フィラーは予めシランカップリング剤やチタネートカップリング剤などで表面処理されていてもよい。 The inorganic filler is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended purpose.For example, amorphous silica, alumina, quartz, alumina quartz, silica-alumina compound, silica-zirconia compound, silica-titania compound, Examples thereof include titanium oxide, glass (including barium glass), zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, clay, mica, aluminum sulfate, barium sulfate, calcium sulfate, calcium phosphate, and hydroxyapatite. These inorganic fillers may be surface-treated with a silane coupling agent or a titanate coupling agent in advance.
前記有機質複合フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前述した無機質フィラー表面を重合性単量体で重合して被覆した後、粉砕して得られるフィラーが挙げられる。具体的には、無機質フィラーのうち、微粉末シリカをトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート(TMPT)を主成分とする重合性単量体で重合被覆し、得られた重合体を粉砕したフィラー(TMPT・f)が挙げられる。また、PMMAを溶解したアセトン等の溶液にシリカや酸化ジルコニウム等の無機フィラーを加えて分散し、溶媒を留去して乾燥した後に粉砕することによって得られるフィラーなどが挙げられる。 There is no restriction | limiting in particular as said organic composite filler, According to the objective, it can select suitably, For example, the filler obtained by superposing | polymerizing and coat | covering the surface of the inorganic filler mentioned above with a polymerizable monomer, and pulverizing Is mentioned. Specifically, among inorganic fillers, fine powdered silica is polymer-coated with a polymerizable monomer mainly composed of trimethylolpropane tri (meth) acrylate (TMPT), and a filler obtained by pulverizing the obtained polymer ( TMPT · f). Moreover, the filler etc. which are obtained by adding and disperse | distributing an inorganic filler, such as a silica and a zirconium oxide, in solutions, such as acetone which melt | dissolved PMMA, distilling a solvent off, drying, etc. are mentioned.
(人工爪装着キット)
本発明の人工爪装着キットは、抗菌人工爪と、人工爪組成物とを有し、更に必要に応じて適宜選択したその他の部材などを有する。
前記抗菌人工爪は、本発明の前記抗菌人工爪である。
前記人工爪組成物は、本発明の前記人工爪組成物である。
(Artificial nail wearing kit)
The artificial nail mounting kit of the present invention includes an antibacterial artificial nail and an artificial nail composition, and further includes other members appropriately selected as necessary.
The antibacterial artificial nail is the antibacterial artificial nail of the present invention.
The artificial nail composition is the artificial nail composition of the present invention.
(人工爪の装着方法)
本発明の人工爪の装着方法は、一態様として、少なくとも人工爪組成物を塗布した塗布膜上に抗菌人工爪を設置する工程と、紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
前記人工爪組成物は、本発明の前記人工爪組成物(紫外線硬化型の人工爪組成物)である。
前記抗菌人工爪は、本発明の前記抗菌人工爪である。
前記人工爪組成物を塗布する塗布対象としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自爪;チップネイル、フルウェルなどの人工爪;本発明の前記人工爪組成物などが挙げられる。
本発明の人工爪の装着方法は、前記人工爪組成物を自爪に塗布する工程を更に含むことが好ましく、前記人工爪組成物を自爪に塗布する工程と、前記人工爪組成物を塗布した塗布膜上に前記抗菌人工爪を設置する工程と、紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含むことが好ましい。
(How to wear artificial nails)
The artificial nail wearing method of the present invention includes, as one aspect, a step of installing an antibacterial artificial nail on a coating film coated with at least the artificial nail composition, a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays In addition, other steps are included as necessary.
The artificial nail composition is the artificial nail composition (ultraviolet curable artificial nail composition) of the present invention.
The antibacterial artificial nail is the antibacterial artificial nail of the present invention.
The application target for applying the artificial nail composition is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a self nail; an artificial nail such as a chip nail and a full well; and the artificial nail composition of the present invention. Such as things.
The artificial nail attachment method of the present invention preferably further includes a step of applying the artificial nail composition to the own nail, a step of applying the artificial nail composition to the own nail, and applying the artificial nail composition It is preferable to include a step of installing the antibacterial artificial nail on the coated film and a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays.
本発明の人工爪の装着方法は、他の態様として、人工爪組成物を塗布した塗布膜を、紫外線を照射して硬化させ、人工爪を形成する工程を含み、更に必要に応じてその他の工程を含む。
前記人工爪組成物は、本発明の前記人工爪組成物(紫外線硬化型の人工爪組成物)である。
前記人工爪組成物を塗布する塗布対象としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、自爪;チップネイル、フルウェルなどの人工爪;本発明の前記人工爪組成物などが挙げられる。
本発明の人工爪の装着方法は、前記人工爪組成物を自爪に塗布する工程を更に含むことが好ましく、前記人工爪組成物を自爪に塗布する工程と、紫外線を照射して硬化させ、人工爪を形成する工程を含むことが好ましい。
The artificial nail wearing method of the present invention includes, as another aspect, a step of forming an artificial nail by curing an application film coated with the artificial nail composition by irradiating with ultraviolet rays. Process.
The artificial nail composition is the artificial nail composition (ultraviolet curable artificial nail composition) of the present invention.
The application target for applying the artificial nail composition is not particularly limited and may be appropriately selected according to the purpose. Examples thereof include a self nail; an artificial nail such as a chip nail and a full well; and the artificial nail composition of the present invention. Such as things.
The artificial nail attachment method of the present invention preferably further includes a step of applying the artificial nail composition to the own nail, a step of applying the artificial nail composition to the own nail, and curing by irradiation with ultraviolet rays. It is preferable to include a step of forming an artificial nail.
本発明における紫外線硬化用光源としては、例えば、太陽光、ハロゲンランプ、キセノンランプ、プラズマアークランプ、発光ダイオード(LED)が挙げられる。これらの中でも、波長380〜420nmに放射ピークを有する発光ダイオード、波長379nmに放射ピークを有する蛍光管などが好ましい。 Examples of the ultraviolet curing light source in the present invention include sunlight, a halogen lamp, a xenon lamp, a plasma arc lamp, and a light emitting diode (LED). Among these, a light emitting diode having a radiation peak at a wavelength of 380 to 420 nm, a fluorescent tube having a radiation peak at a wavelength of 379 nm, and the like are preferable.
なお、自爪にネイルアートを施す際の一般的な流れは以下の通りである。フルウェルと呼ばれる自爪を全て覆ってしまうタイプの人工爪を使用する場合は、人工爪の形を調整し、同様の手順で人工爪に装飾を施した後に、上述の通り前記人工爪組成物を塗布した塗布膜上に貼り付ける。
(1)エメリーボード(やすり)などで自爪の形を整え、表面を滑らかにする。
(2)ベースコートを塗り、乾燥させる。
(3)ネイルラッカーを塗る。発色を良くするため単色の場合も二度塗りをしてもよい。
(4)トップコートを塗る前にストーンなどの固形の装飾を貼り付ける場合は、ネイルラッカーが乾く前にそれらを貼り付ける。
(5)トップコートを全体に塗る。
2〜3日に一度、トップコートを上塗りすると表面の艶や装飾が劣化しにくい。上記工程で使用している人工爪として本発明の抗菌人工爪を用いること、及びベースコート乃至トップコートとして、本発明の人工爪組成物を用いることの少なくともいずれかとすることにより、自然光、蛍光灯などに含まれる紫外線により光触媒活性を有するアパタイトが活性化され、感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌、カビ類などを不活化及び分解し、装着後も継続的な感染防止を実現することが可能となる。
更に、人工爪組成物として紫外線硬化型の人工爪組成物を用いた場合、紫外線を照射しながら施術(人工爪の装着)を行うことで、人工爪の装着時に効果的に感染症の原因となるバクテリア、ウイルス、細菌、カビ類などを不活化及び分解することができる。
The general flow when applying nail art to a self-nail is as follows. When using an artificial nail that covers all of its own nails, called full wells, adjust the shape of the artificial nail, decorate the artificial nail in the same procedure, and then apply the artificial nail composition as described above. Affixed on the applied coating film.
(1) Adjust the shape of your nails with an emery board (file) and smooth the surface.
(2) Apply base coat and dry.
(3) Apply nail lacquer. In order to improve color development, it may be applied twice even in the case of a single color.
(4) When applying solid decorations such as stones before applying the top coat, apply them before the nail lacquer dries.
(5) Apply a top coat on the entire surface.
If the top coat is overcoated once every 2-3 days, the gloss and decoration of the surface are unlikely to deteriorate. By using at least one of the antibacterial artificial nail of the present invention as an artificial nail used in the above process and the artificial nail composition of the present invention as a base coat or top coat, natural light, fluorescent lamp, etc. The apatite with photocatalytic activity is activated by the ultraviolet rays contained in it, inactivating and decomposing bacteria, viruses, bacteria, molds, etc. that cause infectious diseases, and realizing continuous infection prevention even after wearing It becomes possible.
Furthermore, when an ultraviolet curable artificial nail composition is used as an artificial nail composition, it is possible to effectively infect infection when wearing an artificial nail by performing treatment (wearing an artificial nail) while irradiating ultraviolet rays. Bacteria, viruses, bacteria, molds and the like can be inactivated and decomposed.
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に制限されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not restrict | limited to a following example.
(実施例1)
<人工爪組成物の作製>
紫外線硬化性化合物を含有する人工爪組成物であるクリアジェル(Calgel製)中に光触媒チタンアパタイト(光触媒活性を有するのに必要な金属としてチタンを有してなるアパタイト)を固形分10質量%混合し、人工爪組成物を作製した。
該光触媒チタンアパタイトとして、図1に示すカルシウム・チタンハイドロキシアパタイト(TiHAP;太平化学産業株式会社製、PCAP−100、体積平均粒径3μm〜8μmの白色粉体)を用いた。
Example 1
<Production of artificial nail composition>
Photocatalyst titanium apatite (apatite containing titanium as a metal necessary for having photocatalytic activity) is mixed in a solid content of 10% by mass in clear gel (manufactured by Calgel) which is an artificial nail composition containing an ultraviolet curable compound Then, an artificial nail composition was prepared.
As the photocatalytic titanium apatite, calcium / titanium hydroxyapatite (TiHAP; manufactured by Taihei Chemical Industrial Co., Ltd., PCAP-100, white powder having a volume average particle size of 3 μm to 8 μm) was used.
(実施例2)
<抗菌人工爪の作製>
実施例1において作製した人工爪組成物をアクリル樹脂から形成された人工爪上に塗布し、光源にて0.5mW/cm2の光量の近紫外光を2時間照射して硬化させて抗菌人工爪を作製した。
(Example 2)
<Production of antibacterial artificial nails>
The artificial nail composition prepared in Example 1 was applied onto an artificial nail formed from an acrylic resin, and cured by irradiation with near ultraviolet light of 0.5 mW / cm 2 for 2 hours with a light source. A nail was prepared.
(実施例3:抗菌試験)
実施例2において作製した抗菌人工爪をサンプルとし、以下の抗菌試験を行った。なお、ブランク(比較例)として、実施例2において、実施例1の人工爪組成物に代えて、光触媒チタンアパタイトを含有しない前記クリアジェル(Calgel製)を用いた以外は、実施例2と同様にして作製した人工爪を用いた。
これらのサンプル及びブランクに、白癬菌及び緑膿菌を含有する培養液を滴下した。次いで、滴下直後、及び紫外線照射6時間後の生菌数を観測し、比較した。具体的には、サンプル及びブランクを生理食塩水で洗い出した溶液中の生菌を、菌数測定用寒天培地を用いて培養し、発生したコロニー数から生菌数を測定し、サンプル又はブランク当たりの生菌数とした。結果を図2及び図3に示す。なお、紫外線照射は、ブラックライト光源を用い、光量0.5mW/cm2で行った。
その結果、本発明の抗菌人工爪には、概ね6時間で白癬菌及び緑膿菌のいずれも死滅させる効果があることが明らかとなった。これに対し、比較例では、6時間で白癬菌及び緑膿菌を死滅させることはできなかった。
(Example 3: Antibacterial test)
The antibacterial artificial nail produced in Example 2 was used as a sample, and the following antibacterial test was performed. In addition, it replaced with the artificial nail composition of Example 1 as a blank (comparative example), and it was the same as that of Example 2 except having used the said clear gel (product made from Calgel) which does not contain photocatalyst titanium apatite. The artificial nail produced as described above was used.
A culture solution containing ringworm and Pseudomonas aeruginosa was dropped onto these samples and blanks. Subsequently, the number of viable bacteria was observed and compared immediately after dropping and 6 hours after ultraviolet irradiation. Specifically, the viable bacteria in the solution in which the sample and the blank were washed out with physiological saline were cultured using an agar medium for counting the number of bacteria, and the number of viable bacteria was measured from the number of colonies generated. Of viable bacteria. The results are shown in FIGS. The ultraviolet irradiation was performed using a black light source with a light amount of 0.5 mW / cm 2 .
As a result, it was revealed that the antibacterial artificial nail of the present invention has an effect of killing both ringworm and Pseudomonas aeruginosa in about 6 hours. On the other hand, in the comparative example, ringworm and Pseudomonas aeruginosa could not be killed in 6 hours.
以上の実施例1〜3を含む実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1) 少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含むことを特徴とする抗菌人工爪。
(付記2) 光触媒粉体が基材中に均一分散された付記1に記載の抗菌人工爪。
(付記3) 光触媒粉体が基材表面に均一塗布された付記1に記載の抗菌人工爪。
(付記4) 光触媒活性を有するアパタイトが、光触媒チタンアパタイトである付記1から3のいずれかに記載の抗菌人工爪。
(付記5) 基材が、アクリル樹脂で形成された付記1から4のいずれかに記載の抗菌人工爪。
(付記6) 少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含むことを特徴とする人工爪組成物。
(付記7) 少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、皮膜形成剤と、有機溶剤とを含むことを特徴とする人工爪組成物。
(付記8) 光触媒活性を有するアパタイトが、光触媒チタンアパタイトである付記6から7のいずれかに記載の人工爪組成物。
(付記9) 付記1から5のいずれかに記載の抗菌人工爪と、付記6から8のいずれかに記載の人工爪組成物とを有することを特徴とする人工爪装着キット。
(付記10) 付記6に記載の人工爪組成物を塗布した塗布膜上に付記1から5のいずれかに記載の抗菌人工爪を設置する工程と、
紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含むことを特徴とする人工爪の装着方法。
(付記11) 付記6に記載の人工爪組成物を自爪に塗布する工程と、
前記人工爪組成物を塗布した塗布膜上に付記1から5のいずれかに記載の抗菌人工爪を設置する工程と、
紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含むことを特徴とする人工爪の装着方法。
(付記12) 付記6に記載の人工爪組成物を塗布した塗布膜を、紫外線を照射して硬化させ、人工爪を形成する工程を含むことを特徴とする人工爪の装着方法。
(付記13) 付記6に記載の人工爪組成物を自爪に塗布する工程と、
紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させ、人工爪を形成する工程とを含むことを特徴とする人工爪の装着方法。
(付記14) 光触媒活性を有するアパタイトが、光触媒チタンアパタイトである付記10から13のいずれかに記載の人工爪の装着方法。
The following appendices are further disclosed with respect to the embodiments including the first to third embodiments.
(Additional remark 1) The antibacterial artificial nail characterized by including the photocatalyst powder containing the apatite which has photocatalytic activity at least, and a base material.
(Supplementary note 2) The antibacterial artificial nail according to supplementary note 1, wherein the photocatalyst powder is uniformly dispersed in the substrate.
(Additional remark 3) The antibacterial artificial nail of Additional remark 1 with which photocatalyst powder was uniformly apply | coated to the base-material surface.
(Appendix 4) The antibacterial artificial nail according to any one of appendices 1 to 3, wherein the apatite having photocatalytic activity is photocatalytic titanium apatite.
(Supplementary note 5) The antibacterial artificial nail according to any one of supplementary notes 1 to 4, wherein the base material is formed of an acrylic resin.
(Additional remark 6) The artificial nail composition characterized by including the photocatalyst powder containing the apatite which has a photocatalytic activity at least, an ultraviolet curable compound, a photoinitiator, and a solvent.
(Additional remark 7) The artificial nail composition characterized by including the photocatalyst powder containing the apatite which has photocatalytic activity at least, the film formation agent, and the organic solvent.
(Appendix 8) The artificial nail composition according to any one of appendices 6 to 7, wherein the apatite having photocatalytic activity is photocatalytic titanium apatite.
(Supplementary note 9) An artificial nail attachment kit comprising the antibacterial artificial nail according to any one of supplementary notes 1 to 5 and the artificial nail composition according to any one of supplementary notes 6 to 8.
(Additional remark 10) The process which installs the antibacterial artificial nail in any one of Additional remarks 1-5 on the coating film which apply | coated the artificial nail composition of Additional remark 6,
And a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays.
(Appendix 11) A step of applying the artificial nail composition according to Appendix 6 to the own nail;
Installing the antibacterial artificial nail according to any one of appendices 1 to 5 on a coating film coated with the artificial nail composition;
And a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays.
(Additional remark 12) The mounting method of the artificial nail characterized by including the process of irradiating and hardening | curing the coating film which apply | coated the artificial nail composition of Additional remark 6 with an ultraviolet-ray, and forming an artificial nail.
(Supplementary note 13) The step of applying the artificial nail composition according to supplementary note 6 to the own nail,
And a step of curing the artificial nail composition by irradiating ultraviolet rays to form an artificial nail.
(Supplementary note 14) The artificial nail attachment method according to any one of supplementary notes 10 to 13, wherein the apatite having photocatalytic activity is photocatalytic titanium apatite.
Claims (4)
前記抗菌人工爪が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含み、The antibacterial artificial nail includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, and a base material,
前記人工爪組成物が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含む、The artificial nail composition includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, an ultraviolet curable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
ことを特徴とする人工爪装着キット。An artificial nail attachment kit characterized by this.
前記抗菌人工爪が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含み、The antibacterial artificial nail includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, and a base material,
前記人工爪組成物が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、皮膜形成剤と、有機溶剤とを含む、The artificial nail composition includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, a film forming agent, and an organic solvent.
ことを特徴とする人工爪装着キット。An artificial nail attachment kit characterized by this.
紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含み、Irradiating ultraviolet rays to cure the artificial nail composition,
前記抗菌人工爪が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含み、The antibacterial artificial nail includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, and a base material,
前記人工爪組成物が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含む、The artificial nail composition includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, an ultraviolet curable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
ことを特徴とする人工爪の装着方法。An artificial nail attachment method characterized by the above.
前記人工爪組成物を塗布した塗布膜上に抗菌人工爪を設置する工程と、Installing an antibacterial artificial nail on a coating film coated with the artificial nail composition;
紫外線を照射して前記人工爪組成物を硬化させる工程とを含み、Irradiating ultraviolet rays to cure the artificial nail composition,
前記抗菌人工爪が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、基材とを含み、The antibacterial artificial nail includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, and a base material,
前記人工爪組成物が、少なくとも光触媒活性を有するアパタイトを含む光触媒粉体と、紫外線硬化性化合物と、光重合開始剤と、溶剤とを含む、The artificial nail composition includes a photocatalyst powder containing at least apatite having photocatalytic activity, an ultraviolet curable compound, a photopolymerization initiator, and a solvent.
ことを特徴とする人工爪の装着方法。An artificial nail attachment method characterized by the above.
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