JP5939946B2 - Polishing equipment - Google Patents
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Description
本発明は、研磨対象物を目標の形状に研磨するためのガイド部材を備えた研磨装置に関する。 The present invention relates to a polishing apparatus including a guide member for polishing an object to be polished into a target shape.
下記特許文献1には、アイススケート用ブレード(刃)の研磨装置が記載されている(以下、上記アイススケート用ブレードを単にブレードと称することもある)。特許文献1に記載される研磨装置をはじめとして、一般的な研磨装置では、上記ブレードのような高い寸法精度を必要とする対象物を研磨する場合、熟練した技術を有する技術者でなければ要求に適う研磨加工を施すことができないという問題があった。
上記問題に鑑みて、本発明は、熟練した技術がなくても簡単に対象物を目標の形状に研磨することができる研磨装置を提供することを目的とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a polishing apparatus that can easily polish an object into a target shape without skilled techniques.
上記課題を解決するために本発明にかかる研磨装置は、研磨対象物を研磨する研磨体と、この研磨体を支持する支持部材と、前記研磨対象物の研磨形状が目標とする形状となるように前記研磨体が支持された支持部材を案内するガイド部材と、を備え、前記ガイド部材は、基準となる方向である幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部と、前記目標とする形状に基づいて得られる曲線状に形成された第二ガイド部と、を有し、前記支持部材は、前記第一ガイド部に接触する第一接触部と、この第一接触部よりも前記研磨対象物と前記研磨体の接触点に近い位置に設けられた、前記第二ガイド部に接触する第二接触部と、を有し、前記第一ガイド部と前記第一接触部、および前記第二ガイド部と前記第二接触部を接触させながら、前記支持部材およびそれに支持された前記研磨体を前記幅方向に移動させることにより、前記研磨体と前記研磨対象物の接触点が前記目標とする形状と同じ軌跡で移動するように構成されていることを特徴とする。 Polishing apparatus according to the present invention in order to solve the above problems, a polishing body for polishing a Migaku Ken object, a supporting member for supporting the polishing body, a shape polishing shape of the object of polishing is to target A guide member for guiding the support member on which the polishing body is supported, wherein the guide member is formed in a linear shape along a width direction which is a reference direction, and the target A second guide portion formed in a curved shape obtained on the basis of the shape, and the support member is more in contact with the first guide portion than the first contact portion. A second contact part that contacts the second guide part provided at a position near the contact point between the polishing object and the polishing body, and the first guide part and the first contact part, and While supporting the second guide portion and the second contact portion, the support The contact point between the polishing body and the object to be polished is moved along the same locus as the target shape by moving the member and the polishing body supported by the member in the width direction. Features.
前記第二ガイド部の曲線形状y=F(x)は、前記目標とする形状y=f(x)から以下の式により算出される形状である。
F(x)=(f(x−m))×r
ただし、上記式において、xは前記幅方向の位置を、yは前記前後方向の位置を、
mは前記幅方向(x軸方向)における前記研磨体と前記研磨対象物の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの距離を、rは前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記研磨体と前記研磨対象物の接触点までの直線距離d1と、前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの直線距離d2の比、d2/d1を示す。
The curve shape y = F (x) of the second guide portion is a shape calculated from the target shape y = f (x) by the following equation.
F (x) = (f (x−m)) × r
However, in said formula, x is the position of the said width direction, y is the position of the said front-back direction,
m is the distance from the contact point between the polishing body and the object to be polished in the width direction (x-axis direction) to the contact point between the second guide part and the second contact part, and r is the first guide part. A linear distance d1 from the contact point of the first contact part to the contact point of the polishing body and the object to be polished, and the contact point of the first guide part and the first contact part to the second guide part and the first contact point. The ratio of the linear distance d2 to the contact point of the two contact portions, d2 / d1, is shown.
前記目標とする形状は凸形状であって、前記第二ガイド部は、前記幅方向に直交する前後方向において前記支持部材側に向かって凸となる曲線状に形成されていればよい。 The target shape may be a convex shape, and the second guide portion may be formed in a curved shape that is convex toward the support member in the front-rear direction orthogonal to the width direction.
前記ガイド部材は、前記第一ガイド部と前記第二ガイド部が前記幅方向および前記前後方向に直交する高さ方向に並べられて形成され、前記支持部材において、前記第一接触部と前記第二接触部が異なる高さに設けられていればよい。 The guide member is formed by arranging the first guide portion and the second guide portion in a height direction perpendicular to the width direction and the front-rear direction, and in the support member, the first contact portion and the first guide portion The two contact portions may be provided at different heights.
前記研磨体は、前記幅方向おいて前記第一接触部と前記第二接触部の間に位置する円筒状の部材であって、回転する円筒の側面が前記研磨対象物に接触することにより当該研磨対象物が研磨されるように前記支持部材に支持されていればよい。 The polishing body is a cylindrical member positioned between the first contact portion and the second contact portion in the width direction, and the side surface of the rotating cylinder contacts the polishing object. What is necessary is just to be supported by the said supporting member so that a grinding | polishing target object may be grind | polished.
上記本発明では、研磨体を支持する支持部材が、直線状である第一ガイド部に接触する第一接触部と、目標とする形状から得られる曲線状である第二ガイド部に接触する第二接触部とを備える。研磨加工時には、第一ガイド部と第一接触部が接触する箇所を基準としつつ、研磨対象物と研磨体が接触する箇所に近い側に設けられた第二接触部が第二ガイド部に沿って移動し、研磨体と研磨対象物の接触点が目標とする形状と同じ軌跡で移動することになる。つまり、研磨体と研磨対象物が接触する箇所が安定するため、より精密に目標となる形状を作り出せる。また、第一ガイド部に第一接触部を、第二ガイド部に第二接触部を接触させつつ、研磨体を支持する支持部材を移動させるだけでよいから、加工作業が簡単である。 In the present invention, the support member that supports the polishing body has the first contact portion that contacts the linear first guide portion and the second guide portion that contacts the curved second shape obtained from the target shape. A two-contact portion. At the time of polishing, the second contact portion provided on the side close to the location where the object to be polished and the polishing body contact is along the second guide portion, with the location where the first guide portion and the first contact portion are in contact as a reference. The contact point between the polishing body and the object to be polished moves along the same locus as the target shape. That is, since the location where the polishing body and the object to be polished are in contact is stabilized, the target shape can be created more precisely. Further, since the first contact portion is brought into contact with the first guide portion and the second contact portion is brought into contact with the second guide portion, the supporting member for supporting the polishing body has only to be moved, so that the processing operation is simple.
また、ガイド部材においてガイド部が異なる高さに位置するようにするとともに、これに合わせて支持部材において接触部が異なる高さに位置するようにすれば、支持部材をガイド部材に押し当てるだけで、第一ガイド部に第一接触部が接触し、第二ガイド部に第二接触部が接触した状態となるから、加工作業がより簡単になる。 In addition, if the guide member is positioned at different heights in the guide member, and the contact member is positioned at different heights in the support member in accordance with this, it is only necessary to press the support member against the guide member. Since the first contact portion comes into contact with the first guide portion and the second contact portion comes into contact with the second guide portion, the machining operation becomes easier.
本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明における幅方向(左右方向)とは図示したx軸方向をいい、高さ方向(上下方向)とは図示したz軸方向をいい、前後方向とは幅方向および高さ方向に直交する方向であって図示したy軸方向(ガイド部材30側を前、研磨体(モータ40)側を後とする)をいうものとする。また、水平方向とは、左右方向および前後方向に広がる平面に沿う方向をいうものとする。
Embodiments of the present invention will be described in detail. In the following description, the width direction (left-right direction) refers to the illustrated x-axis direction, the height direction (up-down direction) refers to the illustrated z-axis direction, and the front-rear direction refers to the width direction and the height direction. It is an orthogonal direction and refers to the illustrated y-axis direction (the
(研磨装置の構成)
本実施形態にかかる研磨装置1は、研磨対象物90であるスケートブレード(図6参照)を目標とする形状に研磨加工するために用いられるものであって、研磨体10、この研磨体10を支持する支持部材20、およびこの支持部材20を案内するガイド部材30を備える。本実施形態の研磨対象物90であるスケートブレードの研磨面は凸形状(一部フラットな部分があるものを含む。すなわち凹んだ部分がないものであればよい)をなしている。以下各構成について説明する。
(Configuration of polishing equipment)
The
研磨体10(砥石)は、研磨対象物90に接触し当該研磨対象物90の所定部分を研磨する部材である。本実施形態では、円筒状の研磨体10を用いる。この円筒状の研磨体10は、底部を有し、当該底部に接続された接続部材41を介してモータ40の出力軸(ロータ)と接続されている。研磨体10は、モータ40が駆動することにより、その円筒の中心にある回転軸を回転中心軸として回転する。この研磨体10はその回転中心軸が略前後方向に沿うように設置され、研磨体10の前側の側面(断面円形の外周面に直交する面)が研磨対象物90に接触する部分(以下、接触面11と称することもある)となる。
The polishing body 10 (grinding stone) is a member that contacts the
支持部材20は、上記研磨体10をモータ40とともに支持する部材であり、サブベース21、取り付けプレート22、第一ローラ23(本発明における第一接触部に相当する)、および第二ローラ24(本発明における第二接触部に相当する)を有する。サブベース21は、研磨体10が接続されたモータ40が載置されるプレートである。このサブベース21は、装置のベース50上に載置される。ベース50は、水平方向に設置され、サブベース21はこのベース50上にスライド可能に設置される。つまり、サブベース21は水平方向に自在にスライドさせること可能である。このサブベース21上には高さ方向に延びる連結プレート25の下端が接続されており、この連結プレート25の上端に取り付けプレート22が接続されている。モータ40は、サブベース21と取り付けプレート22の間に挟まれるようにしてサブベース21および取り付けプレート22の両方に接続されており、出力軸は連結プレート25に形成された図示されない貫通孔に通されている。
The
さらに、サブベース21上には、研磨体10(モータ40)の幅方向外側に位置するブロック状の支持部(第一支持部211および第二支持部212)が設けられている。第一支持部211および第二支持部212にはそれぞれ第一ローラ支持軸261および第二ローラ支持軸262が支持されている。具体的には第一支持部211および第二支持部212には、前後方向に延びる貫通孔が形成されており、その貫通孔を通じて第一ローラ支持軸261および第二ローラ支持軸262が第一支持部211および第二支持部212を貫いた状態で各支持部に支持されている。第一ローラ支持軸261、第二ローラ支持軸262のそれぞれの先端には、回転方向が水平方向に沿う方向になるように(回転中心軸が上下方向となるように)第一ローラ23、第二ローラ24が接続されている。第一ローラ23は、第二ローラ24よりも低い位置に位置する。その高さの差h(図4参照)は、詳細を後述するガイド部材30におけるガイド部の高さの差と同じである。
Further, on the
ガイド部材30は、支持部材20を案内する幅方向に長いプレートである。ガイド部材30は、高さ方向(ガイド部材30の厚み方向)に並ぶ第一ガイド部31と第二ガイド部32が一体的に形成された部材である。下側には幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部31が形成されている。この第一ガイド部31の直線方向、すなわち幅方向は、本装置を用いた研磨加工において基準となる方向である。上側には研磨対象物90の研磨加工後の形状(目標とする形状)に基づいて得られた曲線状の第二ガイド部32が形成されている。この第二ガイド部32は、高さ方向から見て、前後方向において支持部材20側に向かって凸となる曲線状である。この第二ガイド部32の形状の設定方法については後述する。第一ガイド部31は、この第二ガイド部32の凸形状の頂部(最も後方側に位置する部分)を通る幅方向に沿う直線状に(上下左右方向に広がる平面に)形成されている。本実施形態にかかる研磨装置1は、この幅方向、すなわち第一ガイド部31の直線方向が基準となる方向として設定されるものである。ガイド部材30の第一ガイド部31と第二ガイド部32の境界において、上記頂部を通る部分には段差は存在せず、それ以外の箇所には段差が存在する。ガイド部材30における第一ガイド部31と第二ガイド部32が形成された端面の反対側の端面(前面)は、第一ガイド部31と平行な平面となっている。ガイド部材30の上下面は、前後左右方向に広がる平面となっている。
The
このガイド部材30は、装置のベース50の前側に取り付けられた固定台60に固定されている。固定台60には、前後左右方向に広がる平面である第一位置決め面61とそれに直交する平面である第二位置決め面62が形成されており、ガイド部材30の下面を第一位置決め面61に、前面を第二位置決め面62に接触させることにより、固定台60に対してガイド部材30が前後方向および高さ方向に位置決めされる。固定台60には台の本体部分に対して回転自在に設けられたガイド固定プレート63が設けられており、ガイド部材30はこのガイド固定プレート63と第一位置決め面61との間に挟まれることにより固定されている。なお、図示しない別の位置決め要素によりガイド部材30は幅方向にも位置決めされる(ガイド部材30に形成された位置決め凹部33(図5参照)に係合する要素が固定台60に設けられている)。当該位置にガイド部材30を固定したとき、第一ガイド部31は第一ローラ23と同じ高さに位置し、第二ガイド部32は第二ローラ24と同じ高さに位置する。つまり、支持部材20をガイド部材30に近づけると、第一ローラ23は第一ガイド部31に、第二ローラ24は第二ガイド部32に接触する。
The
上記固定台60には、ガイド部材30を固定するための構成に加え、研磨対象物90を固定するための構成が設けられている。固定台60の上側には、固定台60の本体部分に対して回転自在に設けられた対象物固定部64が設けられており、この対象物固定部64と固定台60の本体部分に設けられた対象物支持部によって研磨対象物90を挟み込んで支持する。固定台60には、研磨対象物90の基準部位(研磨面91との相対的な位置関係の精度が高い部位)に接触する部分がいくつか設けられており、当該部分によって研磨対象物90は、幅方向、前後方向、および高さ方向に位置決めされる(当該位置決め要素は研磨対象物90の形状(基準となる部位)等に応じて適宜設定すればよい)。研磨対象物90は、研磨される面が固定台60の後面よりも後方に突出した状態とする。なお、以上説明した固定台60の構成は一例であり、ガイド部材30と研磨対象物90の相対的な位置関係が所定の関係となるように両部材を位置決めでき、かつ、ガイド部材30の両ガイド部31、32が支持部材のローラ23、24に接触する位置に位置決めできるものであればどのような構成であってもよい。
In addition to the structure for fixing the
(研磨装置を用いた研磨)
上記研磨装置1を用いた研磨方法(上記研磨装置1の作用)について説明する。まず、上記固定台60に研磨対象物90およびガイド部材30を固定する。かかる固定台60の固定により、両者の相対的な位置関係は予め定められた所定の関係に設定される。研磨体10を回転させた状態で支持部材20を前方へ移動させて研磨体10と研磨対象物90を接触させる。具体的には、図6(b)に示すように研磨対象物90における研磨面91の幅方向一方側(第二ローラ24側;本実施形態では右側)の端部に研磨体10の接触面11を接触させる。このように支持部材20を前方へ移動させると、図5(b)に示すように第一ローラ23は第一ガイド部31に、第二ローラ24は第二ガイド部32に接触した状態となる。つまり、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点は、第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点よりも、研磨対象物90と研磨体10の接触点に近い位置に位置する。上述したように、第一ローラ23と第一ガイド部31が同じ高さに、第二ローラ24と第二ガイド部32が同じ高さに位置するように設定されているため、第一ローラ23と第二ガイド部32が接触することはないし、第二ローラ24と第一ガイド部31が接触することはない。
(Polishing using polishing equipment)
A polishing method using the polishing apparatus 1 (operation of the polishing apparatus 1) will be described. First, the polishing
そのまま支持部材20を前方に押しつけることによって研磨体10の接触面11を研磨対象物90に接触させながら第一ローラ23を第一ガイド部31に、第二ローラ24を第二ガイド部32に接触させつつ、幅方向の他方側へ向けて支持部材20およびそれに支持された研磨体10を移動させていく。
The
そうすると、第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点が幅方向に沿って移動していくとともに、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点が第二ガイド部32の形状に沿って移動していく。第二ローラ24側(第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点側)に位置する研磨体10と研磨対象物90の接触点は、第二ガイド部32の形状に類似する形状である目標となる凸形状と同じ軌跡で移動していく。つまり、幅方向に沿って移動する第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点を支点として、研磨体10と研磨対象物90の接触点は、目標とする凸形状と軌跡で移動していくことになり、研磨対象物90は当該目標とする凸形状に研磨される。
Then, the contact point between the
このようにして研磨対象物90を目標とする凸形状に研磨することができる。ここで、本実施形態では、上記第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点と研磨体10と研磨対象物90の接触点は、前後方向および幅方向に所定量ずれた位置に位置することになる(以下、この「ずれ」を単にギャップと称することもある)ため、当該接触点の軌跡を目標とする凸形状にするため、第二ガイド部32の形状は次のように設定(補正)する必要がある。
In this manner, the polishing
(第二ガイド部の形状の設定)
図9には、研磨対象物90の目標とする凸形状に沿う曲線Q(y=f(x))を示している。なお、図9において、xは幅方向の位置を、yは前後方向の位置を示しており、図を分かりやすくするためy方向を拡大して示している。第二ガイド部32の曲線R(y=F(x))の形状は、以下に示す手順を実行することにより設定できる。
(Setting the shape of the second guide part)
FIG. 9 shows a curve Q (y = f (x)) along the target convex shape of the polishing
第一に、固定台60に研磨対象物90とガイド部材30を固定したときに相対的な位置関係が所定の関係にある両部材の幅方向(x軸方向)のギャップを補正するため、目標とする凸形状の曲線Qを、幅方向(x軸方向)における研磨体10と研磨対象物90の接触点p3から第二ガイド部32と第二接触部の接触点p2までの距離m(図8参照)分、幅方向に平行移動させる。この平行移動によって得られる曲線が、図9に示す曲線P(y=f(x−m))である。
First, in order to correct the gap in the width direction (x-axis direction) of both members having a predetermined relative positional relationship when the polishing
第二に、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1、すなわち基準点からのギャップ(基準点からの距離の差)を補正する。具体的には、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1から研磨体10と研磨対象物90の接触点p3までの直線距離(最短距離)d1(図8参照)と、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1から第二ガイド部32と第二接触部の接触点p2までの直線距離(最短距離)d2(図8参照)の比である(d2/d1)=rを上記曲線Pに乗ずることにより、図9に示す曲線R(y=F(x)=f(x−m)×r)を得る。この曲線Rが、目標とする凸形状によって得られる第二ガイド部32の形状となる。
Second, the contact point p1 between the
このように、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点p2と研磨体10と研磨対象物90の接触点p3のギャップを補正することにより、第二ガイド部32の形状を得る。したがって、このギャップが存在しない場合、すなわち幅方向および前後方向において第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点p2と研磨体10と研磨対象物90の接触点p3が同じ位置に位置する場合(両接触点が上下方向に並ぶ場合)には、このような補正の必要がないことになる。例えば、研磨体10の上側に第二ローラ24および第二ガイド部32を位置させることにより、上記両接触点が上下方向に並ぶ関係とすることも可能である。
In this manner, the shape of the
なお、上述したように、本手順によって得られる第二ガイド部32の形状は、装置の固定台60に取り付けられた状態にある研磨対象物90とガイド部材30の相対的な位置関係に基づいて設定される(当該位置関係が変われば設定すべき第二ガイド部32の形状も変わる)ものである。そのため、固定台60に設けられた研磨対象物90およびガイド部材30の位置決め要素によって幅方向および前後方向における研磨対象物90とガイド部材30の相対的な位置関係がどのようになるかを予め算出した上で、上記手順により第二ガイド部32の形状を設定する必要がある。
As described above, the shape of the
(本実施形態の主な効果)
以上説明した本実施形態にかかる研磨装置1によれば、次のような効果が奏される。
(Main effects of this embodiment)
According to the
上記研磨装置1では、研磨体10を支持する支持部材20が、直線状である第一ガイド部31に接触する第一接触部と、目標とする凸形状から得られる曲線状である第二ガイド部32に接触する第二接触部とを備える。研磨加工時には、第一ガイド部31と第一接触部が接触する箇所を基準としつつ、研磨対象物90と研磨体10が接触する箇所に近い側に設けられた第二接触部が第二ガイド部32に沿って移動し、研磨体10と研磨対象物90の接触点が目標とする凸形状と同じ軌跡で移動することになる。つまり、研磨体10と研磨対象物90が接触する箇所が安定するため、より精密に目標となる形状を作り出せる。また、第一ガイド部31に第一接触部を、第二ガイド部32に第二接触部を接触させつつ、研磨体10を支持する支持部材20を移動させるだけでよいから、加工作業が簡単である。
In the
また、ガイド部材30においてガイド部が異なる高さに位置するようにするとともに、これに合わせて支持部材20において接触部が異なる高さに位置するように設定されているため、支持部材20をガイド部材30に押し当てるだけで、第一ガイド部31に第一接触部が接触し、第二ガイド部32に第二接触部が接触した状態となるから、加工作業がより簡単になる。
In addition, the
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。 Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.
上記実施形態では、接触部としてローラ(第一ローラおよび第二ローラ)を用いていることを説明したが、このようなローラに限定されない。例えば、ガイド部に接触する部分を球面としてもよい。また、摺動性を高めるため適宜潤滑剤を供給することも可能である。また、第二ガイド部の形状(凹凸形状)に合わせて第二接触部(第二ローラ)の幅方向の大きさを変更することにより、様々な形状(目標とする形状)の研磨対象物を加工することができる。例えば、第二ガイド部の一部に凹部が存在している場合であっても、第二接触部の幅方向の大きさをその凹部の内側に入り込むことができるような大きさにすればよい。 In the above embodiment, it has been described that rollers (first roller and second roller) are used as the contact portions, but the present invention is not limited to such rollers. For example, the portion that contacts the guide portion may be a spherical surface. Moreover, it is also possible to supply a lubricant as appropriate in order to improve slidability. In addition, by changing the size of the second contact portion (second roller) in the width direction according to the shape of the second guide portion (uneven shape), various shapes (target shapes) of polishing objects can be obtained. Can be processed. For example, even when a recess is present in a part of the second guide part, the size of the second contact part in the width direction may be set so as to be able to enter the inside of the recess. .
1 研磨装置
10 研磨体
11 接触面
20 支持部材
23 第一ローラ
24 第二ローラ
30 ガイド部材
31 第一ガイド部
32 第二ガイド部
40 モータ
90 研磨対象物
91 研磨面
DESCRIPTION OF
Claims (5)
この研磨体を支持する支持部材と、
前記研磨対象物の研磨形状が目標とする形状となるように前記研磨体が支持された支持部材を案内するガイド部材と、
を備え、
前記ガイド部材は、
基準となる方向である幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部と、
前記目標とする形状に基づいて得られる曲線状に形成された第二ガイド部と、
を有し、
前記支持部材は、
前記第一ガイド部に接触する第一接触部と、
この第一接触部よりも前記研磨対象物と前記研磨体の接触点に近い位置に設けられた、前記第二ガイド部に接触する第二接触部と、
を有し、
前記第一ガイド部と前記第一接触部、および前記第二ガイド部と前記第二接触部を接触させながら、前記支持部材およびそれに支持された前記研磨体を前記幅方向に移動させることにより、前記研磨体と前記研磨対象物の接触点が前記目標とする形状と同じ軌跡で移動するように構成されていることを特徴とする研磨装置。 A polishing body for polishing an object to be polished;
A support member for supporting the abrasive,
A guide member for guiding the support member on which the polishing body is supported so that the polishing shape of the object to be polished becomes a target shape;
With
The guide member is
A first guide portion formed in a straight line along the width direction which is a reference direction;
A second guide portion formed in a curved shape obtained based on the target shape;
Have
The support member is
A first contact portion that contacts the first guide portion;
A second contact portion that is provided at a position closer to a contact point between the object to be polished and the polishing body than the first contact portion, and that contacts the second guide portion;
Have
By moving the support member and the polishing body supported by the first guide portion and the first contact portion, and the second guide portion and the second contact portion in the width direction, A polishing apparatus, wherein a contact point between the polishing body and the object to be polished is moved along the same locus as the target shape.
F(x)=(f(x−m))×r
ただし、上記式において、
xは前記幅方向の位置を、
yは前記前後方向の位置を、
mは前記幅方向(x軸方向)における前記研磨体と前記研磨対象物の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの距離を、
rは前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記研磨体と前記研磨対象物の接触点までの直線距離d1と、前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの直線距離d2の比、d2/d1を示している。 2. The polishing according to claim 1, wherein the curve shape y = F (x) of the second guide portion is a shape calculated from the target shape y = f (x) by the following expression. apparatus.
F (x) = (f (x−m)) × r
However, in the above formula,
x is the position in the width direction,
y is the position in the front-rear direction,
m is the distance from the contact point between the polishing body and the object to be polished in the width direction (x-axis direction) to the contact point between the second guide part and the second contact part,
r is a linear distance d1 from a contact point between the first guide part and the first contact part to a contact point between the polishing body and the object to be polished, and a contact point between the first guide part and the first contact part. A ratio d2 / d1 of the linear distance d2 between the second guide part and the contact point of the second contact part is shown.
前記第二ガイド部は、前記幅方向に直交する前後方向において前記支持部材側に向かって凸となる曲線状に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨装置。 The target shape is a convex shape,
3. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the second guide portion is formed in a curved shape that protrudes toward the support member in a front-rear direction orthogonal to the width direction. .
前記支持部材において、前記第一接触部と前記第二接触部が異なる高さに設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の研磨装置。 The guide member is formed by arranging the first guide portion and the second guide portion in a height direction orthogonal to the width direction and the front-rear direction,
4. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the first contact portion and the second contact portion are provided at different heights in the support member. 5.
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