JP5939946B2 - Polishing equipment - Google Patents

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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Description

本発明は、研磨対象物を目標の形状に研磨するためのガイド部材を備えた研磨装置に関する。   The present invention relates to a polishing apparatus including a guide member for polishing an object to be polished into a target shape.

下記特許文献1には、アイススケート用ブレード(刃)の研磨装置が記載されている(以下、上記アイススケート用ブレードを単にブレードと称することもある)。特許文献1に記載される研磨装置をはじめとして、一般的な研磨装置では、上記ブレードのような高い寸法精度を必要とする対象物を研磨する場合、熟練した技術を有する技術者でなければ要求に適う研磨加工を施すことができないという問題があった。   Patent Document 1 listed below describes an ice skating blade polishing device (hereinafter, the ice skating blade may be simply referred to as a blade). In general polishing apparatuses such as the polishing apparatus described in Patent Document 1, when polishing an object that requires high dimensional accuracy such as the above-described blade, it is required unless it is an engineer having skill. There was a problem that it was not possible to perform polishing suitable for the above.

特開2011−45971号公報JP 2011-45971 A

上記問題に鑑みて、本発明は、熟練した技術がなくても簡単に対象物を目標の形状に研磨することができる研磨装置を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a polishing apparatus that can easily polish an object into a target shape without skilled techniques.

上記課題を解決するために本発明にかかる研磨装置は、研磨対象物を研磨する研磨体と、この研磨体を支持する支持部材と、前記研磨対象物の研磨形状が目標とする形状となるように前記研磨体が支持された支持部材を案内するガイド部材と、を備え、前記ガイド部材は、基準となる方向である幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部と、前記目標とする形状に基づいて得られる曲線状に形成された第二ガイド部と、を有し、前記支持部材は、前記第一ガイド部に接触する第一接触部と、この第一接触部よりも前記研磨対象物と前記研磨体の接触点に近い位置に設けられた、前記第二ガイド部に接触する第二接触部と、を有し、前記第一ガイド部と前記第一接触部、および前記第二ガイド部と前記第二接触部を接触させながら、前記支持部材およびそれに支持された前記研磨体を前記幅方向に移動させることにより、前記研磨体と前記研磨対象物の接触点が前記目標とする形状と同じ軌跡で移動するように構成されていることを特徴とする。 Polishing apparatus according to the present invention in order to solve the above problems, a polishing body for polishing a Migaku Ken object, a supporting member for supporting the polishing body, a shape polishing shape of the object of polishing is to target A guide member for guiding the support member on which the polishing body is supported, wherein the guide member is formed in a linear shape along a width direction which is a reference direction, and the target A second guide portion formed in a curved shape obtained on the basis of the shape, and the support member is more in contact with the first guide portion than the first contact portion. A second contact part that contacts the second guide part provided at a position near the contact point between the polishing object and the polishing body, and the first guide part and the first contact part, and While supporting the second guide portion and the second contact portion, the support The contact point between the polishing body and the object to be polished is moved along the same locus as the target shape by moving the member and the polishing body supported by the member in the width direction. Features.

前記第二ガイド部の曲線形状y=F(x)は、前記目標とする形状y=f(x)から以下の式により算出される形状である。
F(x)=(f(x−m))×r
ただし、上記式において、xは前記幅方向の位置を、yは前記前後方向の位置を、
mは前記幅方向(x軸方向)における前記研磨体と前記研磨対象物の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの距離を、rは前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記研磨体と前記研磨対象物の接触点までの直線距離d1と、前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの直線距離d2の比、d2/d1を示す。
The curve shape y = F (x) of the second guide portion is a shape calculated from the target shape y = f (x) by the following equation.
F (x) = (f (x−m)) × r
However, in said formula, x is the position of the said width direction, y is the position of the said front-back direction,
m is the distance from the contact point between the polishing body and the object to be polished in the width direction (x-axis direction) to the contact point between the second guide part and the second contact part, and r is the first guide part. A linear distance d1 from the contact point of the first contact part to the contact point of the polishing body and the object to be polished, and the contact point of the first guide part and the first contact part to the second guide part and the first contact point. The ratio of the linear distance d2 to the contact point of the two contact portions, d2 / d1, is shown.

前記目標とする形状は凸形状であって、前記第二ガイド部は、前記幅方向に直交する前後方向において前記支持部材側に向かって凸となる曲線状に形成されていればよい。   The target shape may be a convex shape, and the second guide portion may be formed in a curved shape that is convex toward the support member in the front-rear direction orthogonal to the width direction.

前記ガイド部材は、前記第一ガイド部と前記第二ガイド部が前記幅方向および前記前後方向に直交する高さ方向に並べられて形成され、前記支持部材において、前記第一接触部と前記第二接触部が異なる高さに設けられていればよい。   The guide member is formed by arranging the first guide portion and the second guide portion in a height direction perpendicular to the width direction and the front-rear direction, and in the support member, the first contact portion and the first guide portion The two contact portions may be provided at different heights.

前記研磨体は、前記幅方向おいて前記第一接触部と前記第二接触部の間に位置する円筒状の部材であって、回転する円筒の側面が前記研磨対象物に接触することにより当該研磨対象物が研磨されるように前記支持部材に支持されていればよい。   The polishing body is a cylindrical member positioned between the first contact portion and the second contact portion in the width direction, and the side surface of the rotating cylinder contacts the polishing object. What is necessary is just to be supported by the said supporting member so that a grinding | polishing target object may be grind | polished.

上記本発明では、研磨体を支持する支持部材が、直線状である第一ガイド部に接触する第一接触部と、目標とする形状から得られる曲線状である第二ガイド部に接触する第二接触部とを備える。研磨加工時には、第一ガイド部と第一接触部が接触する箇所を基準としつつ、研磨対象物と研磨体が接触する箇所に近い側に設けられた第二接触部が第二ガイド部に沿って移動し、研磨体と研磨対象物の接触点が目標とする形状と同じ軌跡で移動することになる。つまり、研磨体と研磨対象物が接触する箇所が安定するため、より精密に目標となる形状を作り出せる。また、第一ガイド部に第一接触部を、第二ガイド部に第二接触部を接触させつつ、研磨体を支持する支持部材を移動させるだけでよいから、加工作業が簡単である。   In the present invention, the support member that supports the polishing body has the first contact portion that contacts the linear first guide portion and the second guide portion that contacts the curved second shape obtained from the target shape. A two-contact portion. At the time of polishing, the second contact portion provided on the side close to the location where the object to be polished and the polishing body contact is along the second guide portion, with the location where the first guide portion and the first contact portion are in contact as a reference. The contact point between the polishing body and the object to be polished moves along the same locus as the target shape. That is, since the location where the polishing body and the object to be polished are in contact is stabilized, the target shape can be created more precisely. Further, since the first contact portion is brought into contact with the first guide portion and the second contact portion is brought into contact with the second guide portion, the supporting member for supporting the polishing body has only to be moved, so that the processing operation is simple.

また、ガイド部材においてガイド部が異なる高さに位置するようにするとともに、これに合わせて支持部材において接触部が異なる高さに位置するようにすれば、支持部材をガイド部材に押し当てるだけで、第一ガイド部に第一接触部が接触し、第二ガイド部に第二接触部が接触した状態となるから、加工作業がより簡単になる。   In addition, if the guide member is positioned at different heights in the guide member, and the contact member is positioned at different heights in the support member in accordance with this, it is only necessary to press the support member against the guide member. Since the first contact portion comes into contact with the first guide portion and the second contact portion comes into contact with the second guide portion, the machining operation becomes easier.

本発明の一実施形態にかかる研磨装置の外観図である。1 is an external view of a polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. 支持部材とそれに支持されたモータおよび研磨体の外観図である。It is an external view of a support member, a motor supported on the support member, and a polishing body. 支持部材とそれに支持されたモータおよび研磨体を図2とは異なる方向から見た外観図である。It is the external view which looked at the support member, the motor supported by it, and the grinding | polishing body from the direction different from FIG. 支持部材とそれに支持されたモータおよび研磨体を研磨体側から見た図である。It is the figure which looked at the supporting member, the motor supported by it, and the grinding | polishing body from the grinding | polishing body side. 図5(a)はガイド部材の外観図であり、図5(b)はガイド部材の平面図である。FIG. 5A is an external view of the guide member, and FIG. 5B is a plan view of the guide member. 図6(a)は研磨対象物(スケートブレード)の外観図であり、図6(b)は研磨対象物の平面図である。FIG. 6A is an external view of an object to be polished (skate blade), and FIG. 6B is a plan view of the object to be polished. 固定台を幅方向右側から見た側面図(図1に示したA矢視図)である。It is the side view which looked at the fixed base from the width direction right side (A arrow line view shown in FIG. 1). 第一ローラ(第一接触部)と第一ガイド部の接触点p1、第二ローラ(第二接触部)と第二ガイド部の接触点p2、研磨体と研磨対象物の接触点p3の位置関係を示した図である。Position of contact point p1 between the first roller (first contact portion) and the first guide portion, contact point p2 between the second roller (second contact portion) and the second guide portion, and contact point p3 between the polishing body and the object to be polished It is the figure which showed the relationship. 目標とする形状(Q)から第二ガイド部の形状(R)を導出する手順を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the procedure which derives | leads-out the shape (R) of a 2nd guide part from the target shape (Q).

本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明における幅方向(左右方向)とは図示したx軸方向をいい、高さ方向(上下方向)とは図示したz軸方向をいい、前後方向とは幅方向および高さ方向に直交する方向であって図示したy軸方向(ガイド部材30側を前、研磨体(モータ40)側を後とする)をいうものとする。また、水平方向とは、左右方向および前後方向に広がる平面に沿う方向をいうものとする。   Embodiments of the present invention will be described in detail. In the following description, the width direction (left-right direction) refers to the illustrated x-axis direction, the height direction (up-down direction) refers to the illustrated z-axis direction, and the front-rear direction refers to the width direction and the height direction. It is an orthogonal direction and refers to the illustrated y-axis direction (the guide member 30 side is the front and the polishing body (motor 40) side is the rear). Further, the horizontal direction means a direction along a plane extending in the left-right direction and the front-rear direction.

(研磨装置の構成)
本実施形態にかかる研磨装置1は、研磨対象物90であるスケートブレード(図6参照)を目標とする形状に研磨加工するために用いられるものであって、研磨体10、この研磨体10を支持する支持部材20、およびこの支持部材20を案内するガイド部材30を備える。本実施形態の研磨対象物90であるスケートブレードの研磨面は凸形状(一部フラットな部分があるものを含む。すなわち凹んだ部分がないものであればよい)をなしている。以下各構成について説明する。
(Configuration of polishing equipment)
The polishing apparatus 1 according to the present embodiment is used for polishing a skate blade (see FIG. 6), which is an object to be polished 90, into a target shape, and includes a polishing body 10 and the polishing body 10. A support member 20 to be supported and a guide member 30 to guide the support member 20 are provided. The polishing surface of the skate blade, which is the polishing object 90 of the present embodiment, has a convex shape (including a part with a flat part, that is, any part without a concave part). Each configuration will be described below.

研磨体10(砥石)は、研磨対象物90に接触し当該研磨対象物90の所定部分を研磨する部材である。本実施形態では、円筒状の研磨体10を用いる。この円筒状の研磨体10は、底部を有し、当該底部に接続された接続部材41を介してモータ40の出力軸(ロータ)と接続されている。研磨体10は、モータ40が駆動することにより、その円筒の中心にある回転軸を回転中心軸として回転する。この研磨体10はその回転中心軸が略前後方向に沿うように設置され、研磨体10の前側の側面(断面円形の外周面に直交する面)が研磨対象物90に接触する部分(以下、接触面11と称することもある)となる。   The polishing body 10 (grinding stone) is a member that contacts the polishing object 90 and polishes a predetermined portion of the polishing object 90. In the present embodiment, a cylindrical polishing body 10 is used. The cylindrical polishing body 10 has a bottom, and is connected to an output shaft (rotor) of the motor 40 via a connection member 41 connected to the bottom. When the motor 40 is driven, the polishing body 10 rotates with the rotation axis at the center of the cylinder as the rotation center axis. The polishing body 10 is installed so that the rotation center axis thereof is substantially along the front-rear direction, and the front side surface of the polishing body 10 (the surface orthogonal to the outer peripheral surface having a circular cross section) is in contact with the object to be polished 90 (hereinafter, It may also be referred to as contact surface 11).

支持部材20は、上記研磨体10をモータ40とともに支持する部材であり、サブベース21、取り付けプレート22、第一ローラ23(本発明における第一接触部に相当する)、および第二ローラ24(本発明における第二接触部に相当する)を有する。サブベース21は、研磨体10が接続されたモータ40が載置されるプレートである。このサブベース21は、装置のベース50上に載置される。ベース50は、水平方向に設置され、サブベース21はこのベース50上にスライド可能に設置される。つまり、サブベース21は水平方向に自在にスライドさせること可能である。このサブベース21上には高さ方向に延びる連結プレート25の下端が接続されており、この連結プレート25の上端に取り付けプレート22が接続されている。モータ40は、サブベース21と取り付けプレート22の間に挟まれるようにしてサブベース21および取り付けプレート22の両方に接続されており、出力軸は連結プレート25に形成された図示されない貫通孔に通されている。   The support member 20 is a member that supports the polishing body 10 together with the motor 40, and includes a sub base 21, a mounting plate 22, a first roller 23 (corresponding to a first contact portion in the present invention), and a second roller 24 ( Corresponding to the second contact portion in the present invention). The sub base 21 is a plate on which the motor 40 to which the polishing body 10 is connected is placed. The sub-base 21 is placed on the base 50 of the apparatus. The base 50 is installed in the horizontal direction, and the sub-base 21 is installed on the base 50 so as to be slidable. That is, the sub base 21 can be freely slid in the horizontal direction. A lower end of a connecting plate 25 extending in the height direction is connected to the sub-base 21, and a mounting plate 22 is connected to the upper end of the connecting plate 25. The motor 40 is connected to both the sub base 21 and the mounting plate 22 so as to be sandwiched between the sub base 21 and the mounting plate 22, and the output shaft passes through a through hole (not shown) formed in the connecting plate 25. Has been.

さらに、サブベース21上には、研磨体10(モータ40)の幅方向外側に位置するブロック状の支持部(第一支持部211および第二支持部212)が設けられている。第一支持部211および第二支持部212にはそれぞれ第一ローラ支持軸261および第二ローラ支持軸262が支持されている。具体的には第一支持部211および第二支持部212には、前後方向に延びる貫通孔が形成されており、その貫通孔を通じて第一ローラ支持軸261および第二ローラ支持軸262が第一支持部211および第二支持部212を貫いた状態で各支持部に支持されている。第一ローラ支持軸261、第二ローラ支持軸262のそれぞれの先端には、回転方向が水平方向に沿う方向になるように(回転中心軸が上下方向となるように)第一ローラ23、第二ローラ24が接続されている。第一ローラ23は、第二ローラ24よりも低い位置に位置する。その高さの差h(図4参照)は、詳細を後述するガイド部材30におけるガイド部の高さの差と同じである。   Further, on the sub-base 21, block-like support portions (first support portion 211 and second support portion 212) located on the outer side in the width direction of the polishing body 10 (motor 40) are provided. A first roller support shaft 261 and a second roller support shaft 262 are supported on the first support portion 211 and the second support portion 212, respectively. Specifically, through holes extending in the front-rear direction are formed in the first support portion 211 and the second support portion 212, and the first roller support shaft 261 and the second roller support shaft 262 are first through the through holes. The support part 211 and the second support part 212 are supported by each support part in a state of penetrating the support part 211 and the second support part 212. The first roller 23, the first roller support shaft 261, and the second roller support shaft 262 are respectively provided at the tips of the first roller 23 and the second roller support shaft 262 so that the rotation direction is in the horizontal direction (the rotation center axis is the vertical direction). Two rollers 24 are connected. The first roller 23 is located at a position lower than the second roller 24. The difference in height h (see FIG. 4) is the same as the difference in height of the guide portions in the guide member 30 described later in detail.

ガイド部材30は、支持部材20を案内する幅方向に長いプレートである。ガイド部材30は、高さ方向(ガイド部材30の厚み方向)に並ぶ第一ガイド部31と第二ガイド部32が一体的に形成された部材である。下側には幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部31が形成されている。この第一ガイド部31の直線方向、すなわち幅方向は、本装置を用いた研磨加工において基準となる方向である。上側には研磨対象物90の研磨加工後の形状(目標とする形状)に基づいて得られた曲線状の第二ガイド部32が形成されている。この第二ガイド部32は、高さ方向から見て、前後方向において支持部材20側に向かって凸となる曲線状である。この第二ガイド部32の形状の設定方法については後述する。第一ガイド部31は、この第二ガイド部32の凸形状の頂部(最も後方側に位置する部分)を通る幅方向に沿う直線状に(上下左右方向に広がる平面に)形成されている。本実施形態にかかる研磨装置1は、この幅方向、すなわち第一ガイド部31の直線方向が基準となる方向として設定されるものである。ガイド部材30の第一ガイド部31と第二ガイド部32の境界において、上記頂部を通る部分には段差は存在せず、それ以外の箇所には段差が存在する。ガイド部材30における第一ガイド部31と第二ガイド部32が形成された端面の反対側の端面(前面)は、第一ガイド部31と平行な平面となっている。ガイド部材30の上下面は、前後左右方向に広がる平面となっている。   The guide member 30 is a plate that is long in the width direction for guiding the support member 20. The guide member 30 is a member in which a first guide portion 31 and a second guide portion 32 arranged in the height direction (thickness direction of the guide member 30) are integrally formed. On the lower side, a first guide portion 31 formed in a straight line along the width direction is formed. The linear direction, that is, the width direction of the first guide portion 31 is a reference direction in the polishing process using the present apparatus. On the upper side, a curved second guide portion 32 obtained based on the shape (target shape) after polishing of the object 90 is formed. The second guide portion 32 has a curved shape that is convex toward the support member 20 in the front-rear direction when viewed from the height direction. A method for setting the shape of the second guide portion 32 will be described later. The first guide portion 31 is formed in a straight line shape (in a plane extending in the vertical and horizontal directions) along the width direction passing through the convex top portion (the portion located on the most rear side) of the second guide portion 32. In the polishing apparatus 1 according to the present embodiment, the width direction, that is, the linear direction of the first guide portion 31 is set as a reference direction. At the boundary between the first guide portion 31 and the second guide portion 32 of the guide member 30, there is no step at the portion passing through the top portion, and there is a step at other locations. An end surface (front surface) opposite to the end surface on which the first guide portion 31 and the second guide portion 32 are formed in the guide member 30 is a plane parallel to the first guide portion 31. The upper and lower surfaces of the guide member 30 are flat surfaces extending in the front-rear and left-right directions.

このガイド部材30は、装置のベース50の前側に取り付けられた固定台60に固定されている。固定台60には、前後左右方向に広がる平面である第一位置決め面61とそれに直交する平面である第二位置決め面62が形成されており、ガイド部材30の下面を第一位置決め面61に、前面を第二位置決め面62に接触させることにより、固定台60に対してガイド部材30が前後方向および高さ方向に位置決めされる。固定台60には台の本体部分に対して回転自在に設けられたガイド固定プレート63が設けられており、ガイド部材30はこのガイド固定プレート63と第一位置決め面61との間に挟まれることにより固定されている。なお、図示しない別の位置決め要素によりガイド部材30は幅方向にも位置決めされる(ガイド部材30に形成された位置決め凹部33(図5参照)に係合する要素が固定台60に設けられている)。当該位置にガイド部材30を固定したとき、第一ガイド部31は第一ローラ23と同じ高さに位置し、第二ガイド部32は第二ローラ24と同じ高さに位置する。つまり、支持部材20をガイド部材30に近づけると、第一ローラ23は第一ガイド部31に、第二ローラ24は第二ガイド部32に接触する。   The guide member 30 is fixed to a fixing base 60 attached to the front side of the base 50 of the apparatus. The fixed base 60 is formed with a first positioning surface 61 that is a plane extending in the front-rear and left-right directions and a second positioning surface 62 that is a plane orthogonal to the first positioning surface 61. By bringing the front surface into contact with the second positioning surface 62, the guide member 30 is positioned in the front-rear direction and the height direction with respect to the fixed base 60. The fixed base 60 is provided with a guide fixing plate 63 provided so as to be rotatable with respect to the main body portion of the base, and the guide member 30 is sandwiched between the guide fixing plate 63 and the first positioning surface 61. It is fixed by. The guide member 30 is also positioned in the width direction by another positioning element (not shown) (an element that engages with a positioning recess 33 (see FIG. 5) formed in the guide member 30 is provided in the fixed base 60. ). When the guide member 30 is fixed at the position, the first guide portion 31 is located at the same height as the first roller 23, and the second guide portion 32 is located at the same height as the second roller 24. That is, when the support member 20 is brought close to the guide member 30, the first roller 23 comes into contact with the first guide portion 31 and the second roller 24 comes into contact with the second guide portion 32.

上記固定台60には、ガイド部材30を固定するための構成に加え、研磨対象物90を固定するための構成が設けられている。固定台60の上側には、固定台60の本体部分に対して回転自在に設けられた対象物固定部64が設けられており、この対象物固定部64と固定台60の本体部分に設けられた対象物支持部によって研磨対象物90を挟み込んで支持する。固定台60には、研磨対象物90の基準部位(研磨面91との相対的な位置関係の精度が高い部位)に接触する部分がいくつか設けられており、当該部分によって研磨対象物90は、幅方向、前後方向、および高さ方向に位置決めされる(当該位置決め要素は研磨対象物90の形状(基準となる部位)等に応じて適宜設定すればよい)。研磨対象物90は、研磨される面が固定台60の後面よりも後方に突出した状態とする。なお、以上説明した固定台60の構成は一例であり、ガイド部材30と研磨対象物90の相対的な位置関係が所定の関係となるように両部材を位置決めでき、かつ、ガイド部材30の両ガイド部31、32が支持部材のローラ23、24に接触する位置に位置決めできるものであればどのような構成であってもよい。   In addition to the structure for fixing the guide member 30, the fixing base 60 is provided with a structure for fixing the polishing object 90. On the upper side of the fixing base 60, an object fixing portion 64 is provided so as to be rotatable with respect to the main body portion of the fixing base 60. The object fixing portion 64 and the main body portion of the fixing base 60 are provided. The polishing object 90 is sandwiched and supported by the object support part. The fixed base 60 is provided with several portions that come into contact with the reference portion of the polishing object 90 (the portion having a high relative positional relationship with the polishing surface 91). The positioning element is positioned in the width direction, the front-rear direction, and the height direction (the positioning element may be appropriately set according to the shape of the object 90 to be polished (reference site)). The polishing object 90 is in a state in which the surface to be polished protrudes rearward from the rear surface of the fixed base 60. The configuration of the fixed base 60 described above is an example, and both the members can be positioned so that the relative positional relationship between the guide member 30 and the polishing object 90 is a predetermined relationship, and both of the guide members 30 can be positioned. Any configuration may be used as long as the guide portions 31 and 32 can be positioned at positions where they contact the rollers 23 and 24 of the support member.

(研磨装置を用いた研磨)
上記研磨装置1を用いた研磨方法(上記研磨装置1の作用)について説明する。まず、上記固定台60に研磨対象物90およびガイド部材30を固定する。かかる固定台60の固定により、両者の相対的な位置関係は予め定められた所定の関係に設定される。研磨体10を回転させた状態で支持部材20を前方へ移動させて研磨体10と研磨対象物90を接触させる。具体的には、図6(b)に示すように研磨対象物90における研磨面91の幅方向一方側(第二ローラ24側;本実施形態では右側)の端部に研磨体10の接触面11を接触させる。このように支持部材20を前方へ移動させると、図5(b)に示すように第一ローラ23は第一ガイド部31に、第二ローラ24は第二ガイド部32に接触した状態となる。つまり、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点は、第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点よりも、研磨対象物90と研磨体10の接触点に近い位置に位置する。上述したように、第一ローラ23と第一ガイド部31が同じ高さに、第二ローラ24と第二ガイド部32が同じ高さに位置するように設定されているため、第一ローラ23と第二ガイド部32が接触することはないし、第二ローラ24と第一ガイド部31が接触することはない。
(Polishing using polishing equipment)
A polishing method using the polishing apparatus 1 (operation of the polishing apparatus 1) will be described. First, the polishing object 90 and the guide member 30 are fixed to the fixing table 60. By fixing the fixing base 60, the relative positional relationship between the two is set to a predetermined relationship. With the polishing body 10 rotated, the support member 20 is moved forward to bring the polishing body 10 and the object to be polished 90 into contact. Specifically, as shown in FIG. 6 (b), the contact surface of the polishing body 10 at the end of one side in the width direction (second roller 24 side; right side in the present embodiment) of the polishing surface 91 in the polishing object 90. 11 is brought into contact. When the support member 20 is thus moved forward, the first roller 23 comes into contact with the first guide portion 31 and the second roller 24 comes into contact with the second guide portion 32 as shown in FIG. . That is, the contact point between the second roller 24 and the second guide part 32 is located closer to the contact point between the object 90 and the polishing body 10 than the contact point between the first roller 23 and the first guide part 31. . As described above, the first roller 23 and the first guide portion 31 are set at the same height, and the second roller 24 and the second guide portion 32 are set at the same height. And the second guide part 32 does not contact, and the second roller 24 and the first guide part 31 do not contact each other.

そのまま支持部材20を前方に押しつけることによって研磨体10の接触面11を研磨対象物90に接触させながら第一ローラ23を第一ガイド部31に、第二ローラ24を第二ガイド部32に接触させつつ、幅方向の他方側へ向けて支持部材20およびそれに支持された研磨体10を移動させていく。   The first roller 23 is brought into contact with the first guide portion 31 and the second roller 24 is brought into contact with the second guide portion 32 while the contact surface 11 of the polishing body 10 is brought into contact with the object 90 by pressing the support member 20 forward. The support member 20 and the polishing body 10 supported by the support member 20 are moved toward the other side in the width direction.

そうすると、第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点が幅方向に沿って移動していくとともに、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点が第二ガイド部32の形状に沿って移動していく。第二ローラ24側(第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点側)に位置する研磨体10と研磨対象物90の接触点は、第二ガイド部32の形状に類似する形状である目標となる凸形状と同じ軌跡で移動していく。つまり、幅方向に沿って移動する第一ローラ23と第一ガイド部31の接触点を支点として、研磨体10と研磨対象物90の接触点は、目標とする凸形状と軌跡で移動していくことになり、研磨対象物90は当該目標とする凸形状に研磨される。   Then, the contact point between the first roller 23 and the first guide part 31 moves along the width direction, and the contact point between the second roller 24 and the second guide part 32 follows the shape of the second guide part 32. And move. The contact point between the polishing body 10 and the object 90 to be polished located on the second roller 24 side (the contact point side between the second roller 24 and the second guide part 32) has a shape similar to the shape of the second guide part 32. It moves along the same trajectory as the target convex shape. That is, with the contact point of the first roller 23 moving along the width direction and the first guide portion 31 as a fulcrum, the contact point of the polishing body 10 and the polishing object 90 moves with the target convex shape and locus. Accordingly, the polishing object 90 is polished into the target convex shape.

このようにして研磨対象物90を目標とする凸形状に研磨することができる。ここで、本実施形態では、上記第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点と研磨体10と研磨対象物90の接触点は、前後方向および幅方向に所定量ずれた位置に位置することになる(以下、この「ずれ」を単にギャップと称することもある)ため、当該接触点の軌跡を目標とする凸形状にするため、第二ガイド部32の形状は次のように設定(補正)する必要がある。   In this manner, the polishing object 90 can be polished into a target convex shape. Here, in the present embodiment, the contact point between the second roller 24 and the second guide portion 32 and the contact point between the polishing body 10 and the polishing object 90 are located at positions shifted by a predetermined amount in the front-rear direction and the width direction. Therefore, in order to make the locus of the contact point a target convex shape, the shape of the second guide portion 32 is set as follows ( Correction).

(第二ガイド部の形状の設定)
図9には、研磨対象物90の目標とする凸形状に沿う曲線Q(y=f(x))を示している。なお、図9において、xは幅方向の位置を、yは前後方向の位置を示しており、図を分かりやすくするためy方向を拡大して示している。第二ガイド部32の曲線R(y=F(x))の形状は、以下に示す手順を実行することにより設定できる。
(Setting the shape of the second guide part)
FIG. 9 shows a curve Q (y = f (x)) along the target convex shape of the polishing object 90. In FIG. 9, x indicates a position in the width direction, and y indicates a position in the front-rear direction, and the y direction is shown enlarged for easy understanding of the drawing. The shape of the curve R (y = F (x)) of the second guide portion 32 can be set by executing the following procedure.

第一に、固定台60に研磨対象物90とガイド部材30を固定したときに相対的な位置関係が所定の関係にある両部材の幅方向(x軸方向)のギャップを補正するため、目標とする凸形状の曲線Qを、幅方向(x軸方向)における研磨体10と研磨対象物90の接触点p3から第二ガイド部32と第二接触部の接触点p2までの距離m(図8参照)分、幅方向に平行移動させる。この平行移動によって得られる曲線が、図9に示す曲線P(y=f(x−m))である。   First, in order to correct the gap in the width direction (x-axis direction) of both members having a predetermined relative positional relationship when the polishing object 90 and the guide member 30 are fixed to the fixing base 60, the target A convex curve Q is defined as a distance m from the contact point p3 of the polishing body 10 and the polishing object 90 to the contact point p2 of the second guide portion 32 and the second contact portion in the width direction (x-axis direction) (FIG. 8)) in the width direction. A curve obtained by this parallel movement is a curve P (y = f (x−m)) shown in FIG.

第二に、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1、すなわち基準点からのギャップ(基準点からの距離の差)を補正する。具体的には、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1から研磨体10と研磨対象物90の接触点p3までの直線距離(最短距離)d1(図8参照)と、第一ガイド部31と第一接触部の接触点p1から第二ガイド部32と第二接触部の接触点p2までの直線距離(最短距離)d2(図8参照)の比である(d2/d1)=rを上記曲線Pに乗ずることにより、図9に示す曲線R(y=F(x)=f(x−m)×r)を得る。この曲線Rが、目標とする凸形状によって得られる第二ガイド部32の形状となる。   Second, the contact point p1 between the first guide portion 31 and the first contact portion, that is, the gap from the reference point (the difference in distance from the reference point) is corrected. Specifically, the linear distance (shortest distance) d1 (see FIG. 8) from the contact point p1 between the first guide part 31 and the first contact part to the contact point p3 between the polishing body 10 and the object 90 to be polished, This is the ratio of the linear distance (shortest distance) d2 (see FIG. 8) from the contact point p1 between the guide part 31 and the first contact part to the contact point p2 between the second guide part 32 and the second contact part (d2 / d1). By multiplying = r by the curve P, a curve R (y = F (x) = f (x−m) × r) shown in FIG. 9 is obtained. This curve R becomes the shape of the second guide portion 32 obtained by the target convex shape.

このように、第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点p2と研磨体10と研磨対象物90の接触点p3のギャップを補正することにより、第二ガイド部32の形状を得る。したがって、このギャップが存在しない場合、すなわち幅方向および前後方向において第二ローラ24と第二ガイド部32の接触点p2と研磨体10と研磨対象物90の接触点p3が同じ位置に位置する場合(両接触点が上下方向に並ぶ場合)には、このような補正の必要がないことになる。例えば、研磨体10の上側に第二ローラ24および第二ガイド部32を位置させることにより、上記両接触点が上下方向に並ぶ関係とすることも可能である。   In this manner, the shape of the second guide portion 32 is obtained by correcting the gap between the contact point p2 between the second roller 24 and the second guide portion 32 and the contact point p3 between the polishing body 10 and the object 90 to be polished. Therefore, when this gap does not exist, that is, when the contact point p2 between the second roller 24 and the second guide portion 32 and the contact point p3 between the polishing body 10 and the polishing object 90 are located at the same position in the width direction and the front-rear direction. In the case where both contact points are arranged in the vertical direction, such correction is not necessary. For example, by placing the second roller 24 and the second guide portion 32 on the upper side of the polishing body 10, the contact points can be arranged in the vertical direction.

なお、上述したように、本手順によって得られる第二ガイド部32の形状は、装置の固定台60に取り付けられた状態にある研磨対象物90とガイド部材30の相対的な位置関係に基づいて設定される(当該位置関係が変われば設定すべき第二ガイド部32の形状も変わる)ものである。そのため、固定台60に設けられた研磨対象物90およびガイド部材30の位置決め要素によって幅方向および前後方向における研磨対象物90とガイド部材30の相対的な位置関係がどのようになるかを予め算出した上で、上記手順により第二ガイド部32の形状を設定する必要がある。   As described above, the shape of the second guide portion 32 obtained by this procedure is based on the relative positional relationship between the polishing object 90 and the guide member 30 that are attached to the fixed base 60 of the apparatus. It is set (if the positional relationship changes, the shape of the second guide portion 32 to be set also changes). Therefore, the relative positional relationship between the polishing object 90 and the guide member 30 in the width direction and the front-rear direction is calculated in advance by the positioning elements of the polishing object 90 and the guide member 30 provided on the fixed base 60. In addition, it is necessary to set the shape of the second guide portion 32 by the above procedure.

(本実施形態の主な効果)
以上説明した本実施形態にかかる研磨装置1によれば、次のような効果が奏される。
(Main effects of this embodiment)
According to the polishing apparatus 1 concerning this embodiment demonstrated above, there exist the following effects.

上記研磨装置1では、研磨体10を支持する支持部材20が、直線状である第一ガイド部31に接触する第一接触部と、目標とする凸形状から得られる曲線状である第二ガイド部32に接触する第二接触部とを備える。研磨加工時には、第一ガイド部31と第一接触部が接触する箇所を基準としつつ、研磨対象物90と研磨体10が接触する箇所に近い側に設けられた第二接触部が第二ガイド部32に沿って移動し、研磨体10と研磨対象物90の接触点が目標とする凸形状と同じ軌跡で移動することになる。つまり、研磨体10と研磨対象物90が接触する箇所が安定するため、より精密に目標となる形状を作り出せる。また、第一ガイド部31に第一接触部を、第二ガイド部32に第二接触部を接触させつつ、研磨体10を支持する支持部材20を移動させるだけでよいから、加工作業が簡単である。   In the polishing apparatus 1, the support member 20 that supports the polishing body 10 has a first contact portion that contacts the first guide portion 31 that is linear, and a second guide that is a curved shape obtained from a target convex shape. A second contact portion that contacts the portion 32. At the time of polishing, the second contact portion provided on the side close to the location where the object to be polished 90 and the polishing body 10 are in contact with each other is based on the location where the first guide portion 31 and the first contact portion are in contact with each other. It moves along the part 32, and the contact point of the grinding | polishing body 10 and the grinding | polishing target object 90 moves with the same locus | trajectory as the target convex shape. That is, since the location where the polishing body 10 and the object to be polished 90 are in contact with each other is stabilized, the target shape can be created more precisely. Further, since the first contact portion is brought into contact with the first guide portion 31 and the second contact portion is brought into contact with the second guide portion 32, it is only necessary to move the support member 20 that supports the polishing body 10, so that the processing operation is simple. It is.

また、ガイド部材30においてガイド部が異なる高さに位置するようにするとともに、これに合わせて支持部材20において接触部が異なる高さに位置するように設定されているため、支持部材20をガイド部材30に押し当てるだけで、第一ガイド部31に第一接触部が接触し、第二ガイド部32に第二接触部が接触した状態となるから、加工作業がより簡単になる。   In addition, the guide member 30 is positioned at different heights in the guide member 30, and the contact member is set at different heights in the support member 20 according to the guide member 30. By simply pressing against the member 30, the first contact portion comes into contact with the first guide portion 31 and the second contact portion comes into contact with the second guide portion 32, so that the machining operation becomes easier.

以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。   Although the embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention.

上記実施形態では、接触部としてローラ(第一ローラおよび第二ローラ)を用いていることを説明したが、このようなローラに限定されない。例えば、ガイド部に接触する部分を球面としてもよい。また、摺動性を高めるため適宜潤滑剤を供給することも可能である。また、第二ガイド部の形状(凹凸形状)に合わせて第二接触部(第二ローラ)の幅方向の大きさを変更することにより、様々な形状(目標とする形状)の研磨対象物を加工することができる。例えば、第二ガイド部の一部に凹部が存在している場合であっても、第二接触部の幅方向の大きさをその凹部の内側に入り込むことができるような大きさにすればよい。   In the above embodiment, it has been described that rollers (first roller and second roller) are used as the contact portions, but the present invention is not limited to such rollers. For example, the portion that contacts the guide portion may be a spherical surface. Moreover, it is also possible to supply a lubricant as appropriate in order to improve slidability. In addition, by changing the size of the second contact portion (second roller) in the width direction according to the shape of the second guide portion (uneven shape), various shapes (target shapes) of polishing objects can be obtained. Can be processed. For example, even when a recess is present in a part of the second guide part, the size of the second contact part in the width direction may be set so as to be able to enter the inside of the recess. .

1 研磨装置
10 研磨体
11 接触面
20 支持部材
23 第一ローラ
24 第二ローラ
30 ガイド部材
31 第一ガイド部
32 第二ガイド部
40 モータ
90 研磨対象物
91 研磨面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Polishing apparatus 10 Polishing body 11 Contact surface 20 Support member 23 First roller 24 Second roller 30 Guide member 31 First guide part 32 Second guide part 40 Motor 90 Polishing object 91 Polishing surface

Claims (5)

研磨対象物を研磨する研磨体と、
この研磨体を支持する支持部材と、
前記研磨対象物の研磨形状が目標とする形状となるように前記研磨体が支持された支持部材を案内するガイド部材と、
を備え、
前記ガイド部材は、
基準となる方向である幅方向に沿う直線状に形成された第一ガイド部と、
前記目標とする形状に基づいて得られる曲線状に形成された第二ガイド部と、
を有し、
前記支持部材は、
前記第一ガイド部に接触する第一接触部と、
この第一接触部よりも前記研磨対象物と前記研磨体の接触点に近い位置に設けられた、前記第二ガイド部に接触する第二接触部と、
を有し、
前記第一ガイド部と前記第一接触部、および前記第二ガイド部と前記第二接触部を接触させながら、前記支持部材およびそれに支持された前記研磨体を前記幅方向に移動させることにより、前記研磨体と前記研磨対象物の接触点が前記目標とする形状と同じ軌跡で移動するように構成されていることを特徴とする研磨装置。
A polishing body for polishing an object to be polished;
A support member for supporting the abrasive,
A guide member for guiding the support member on which the polishing body is supported so that the polishing shape of the object to be polished becomes a target shape;
With
The guide member is
A first guide portion formed in a straight line along the width direction which is a reference direction;
A second guide portion formed in a curved shape obtained based on the target shape;
Have
The support member is
A first contact portion that contacts the first guide portion;
A second contact portion that is provided at a position closer to a contact point between the object to be polished and the polishing body than the first contact portion, and that contacts the second guide portion;
Have
By moving the support member and the polishing body supported by the first guide portion and the first contact portion, and the second guide portion and the second contact portion in the width direction, A polishing apparatus, wherein a contact point between the polishing body and the object to be polished is moved along the same locus as the target shape.
前記第二ガイド部の曲線形状y=F(x)は、前記目標とする形状y=f(x)から以下の式により算出される形状であることを特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
F(x)=(f(x−m))×r
ただし、上記式において、
xは前記幅方向の位置を、
yは前記前後方向の位置を、
mは前記幅方向(x軸方向)における前記研磨体と前記研磨対象物の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの距離を、
rは前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記研磨体と前記研磨対象物の接触点までの直線距離d1と、前記第一ガイド部と前記第一接触部の接触点から前記第二ガイド部と前記第二接触部の接触点までの直線距離d2の比、d2/d1を示している。
2. The polishing according to claim 1, wherein the curve shape y = F (x) of the second guide portion is a shape calculated from the target shape y = f (x) by the following expression. apparatus.
F (x) = (f (x−m)) × r
However, in the above formula,
x is the position in the width direction,
y is the position in the front-rear direction,
m is the distance from the contact point between the polishing body and the object to be polished in the width direction (x-axis direction) to the contact point between the second guide part and the second contact part,
r is a linear distance d1 from a contact point between the first guide part and the first contact part to a contact point between the polishing body and the object to be polished, and a contact point between the first guide part and the first contact part. A ratio d2 / d1 of the linear distance d2 between the second guide part and the contact point of the second contact part is shown.
前記目標とする形状は凸形状であって、
前記第二ガイド部は、前記幅方向に直交する前後方向において前記支持部材側に向かって凸となる曲線状に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の研磨装置。
The target shape is a convex shape,
3. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the second guide portion is formed in a curved shape that protrudes toward the support member in a front-rear direction orthogonal to the width direction. .
前記ガイド部材は、前記第一ガイド部と前記第二ガイド部が前記幅方向および前記前後方向に直交する高さ方向に並べられて形成され、
前記支持部材において、前記第一接触部と前記第二接触部が異なる高さに設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の研磨装置。
The guide member is formed by arranging the first guide portion and the second guide portion in a height direction orthogonal to the width direction and the front-rear direction,
4. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the first contact portion and the second contact portion are provided at different heights in the support member. 5.
前記研磨体は、前記幅方向おいて前記第一接触部と前記第二接触部の間に位置する円筒状の部材であって、回転する円筒の側面が前記研磨対象物に接触することにより当該研磨対象物が研磨されるように前記支持部材に支持されていることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の研磨装置。   The polishing body is a cylindrical member positioned between the first contact portion and the second contact portion in the width direction, and the side surface of the rotating cylinder contacts the polishing object. The polishing apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the polishing object is supported by the support member so that the object to be polished is polished.
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