JP5936919B2 - 位置検出装置及びその制御方法、並びにそのシステム - Google Patents

位置検出装置及びその制御方法、並びにそのシステム Download PDF

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Description

本発明は、静電容量型の位置検出装置に関連し、例えばパネルへの物体(例えば指)の接触または非接触により、その座標を抽出する装置及びその制御方法ステム、並びにそのシステムに関する。尚、本明細書において、前記座標を抽出する装置を総称して「タッチパネル」と呼ぶが、それには非接触手段による座標の抽出も含まれる。
近年、スマートフォンに代表されるようなモバイル機器や、液晶表示装置、電子ボード、等の入力インターフェースとしてタッチパネルが利用されている。タッチパネルの技術には、静電容量型方式(サーフェース・キャパシティブ)や抵抗膜方式などが知られている。静電容量型方式は、一般に、ガラスやプラスチック等の透明基板の表面に透明な導電膜をコーティングし、透明基板に指を触れることで、静電容量(コンデンサ)を形成し、静電容量を介して流された微弱電流の変化分を検出することで位置(座標)を検出している。静電容量型方式は、抵抗膜方式のように2層の導電膜を必要とせず、透明な導電膜を成膜したガラス基板1枚で構成することができるため、抵抗膜方式に比べて部品点数が少なくかつ透過率も高い利点をもつ。
第1の基板と第2の基板との間に液晶を挟み、第2の基板の表面に透明導電膜を形成することで、静電容量結合方式のタッチパネル機能を備えた液晶モジュールが構成される(特許文献1、2)。このタッチパネルでは、透明導電膜の各コーナーの4点のノードにパルス電圧が印加され、指が接触されたとき、指の接触位置に応じて各コーナーのノードに現れる電圧波形は異なる時定数の電圧波形となり、これらの電圧波形に基づき接触位置(座標位置)を検出している。また、タッチパネルの対角を成す一方のコーナーにパルス電圧を印加したときの他方のコーナーに現れるパルス電圧の立ち上がり時間を計測し、次に、他方のコーナーにパルス電圧を印加したときの一方のコーナーに現れるパルス電圧の立ち上がり時間を計測し、それら2つの計測時間の時間差を利用して指の接触位置を検出するものもある(特許文献3)。更に、抵抗膜の4隅にの接続点に交流信号を印加し、その4隅のうち2点に流れる電流の差分をもとに座標を算出する表示装置が開示されるものもある。(特許文献4)。
特許文献1:特開2008−134522号公報
特許文献2:特開2009−116090号公報
特許文献3:特開2009−015492号公報
特許文献4:特開2007−207124号公報
尚、特許文献1〜3のそれぞれを本発明書に盛り込み、特許文献1〜4のそれぞれが開示する内容を本明細書の開示の一部とする。
本発明は、物体が基板に接触した位置、または物体が基板に非接触に近づいた位置を、正確(高精度)にかつ高速に検出することができる静電容量型の位置検出装置及びその制御方法(位置検出方法)、並びに位置検出装置を含むシステムが望まれる。また、特許文献4に開示される電流をもとに座標を算出する方式は、電流を電圧に変換することを開示するも平均電流をもとに算出するものであるから消費電力値が大きく又座標を算出する時間も長い。
本発明に係る位置検出装置は、導電膜と、前記導電膜上に形成された絶縁膜と、前記導電膜のX軸またはY軸の少なくともいずれか一方の軸上における少なくとも2点に接続された第1および第2のノードと、前記第1および第2のノードに、クロック信号を印加する第1の回路(印加回路)と、前記第1および第2のノードからそれぞれ得られた第1および第2の出力電圧の対数信号比を示す第1の対数信号比を生成する第2の回路(抽出回路)と、前記第1の対数信号比に基づき、前記絶縁膜に物体が接近または接触した前記少なくともいずれか一方の軸の座標位置を導く第3の回路(検出回路)と、を有する。
本発明の位置検出方法は、導電膜のX軸上の第1および第2のノード、並びに前記導電膜上のY軸上の第3および第4のノードに共通のクロック信号を印加し、X軸上の第1及び第2のノードの電圧に関連する対数信号比を示す第1の対数信号比を生成し、Y軸上の第3及び第4のノードの電圧に関連する対数信号比を示す第2の対数信号比を生成し、前記第1および第2の対数信号比に基づき、前記導電膜上に形成された絶縁膜のXY平面上に物体が接近または接触する位置の座標を導く。
本発明によれば、複数のノードにそれぞれ対応する複数の対数信号比を生成することにより、例えば、導電膜上に形成された絶縁膜のXY平面上に物体が接近または接触する位置の座標を正確にかつ高速に検出することができる。
図1(A)は、タッチパネルの基板の構成を示す断面図、図1(B)は、本発明の実施例のタッチパネルの全体構成を示す図である。 図2(A)は本発明の実施例に係るタッチパネルのノードA、Bから接触位置に至る抵抗と、接触位置における容量を示す図、図2(B)はノードA、BでのStep波形に対する応答カーブである。 本発明の実施例に係るタッチパネルのノードA、Bからタッチ位置に至る抵抗と距離、接触位置における容量を示す図である。 タッチパネルのノードA、Bでの出力波形の時間推移。飽和出力からの差異出力Vα、Vβ示す図である。 タッチパネルのノードA、Bでの飽和出力からの差異出力Vα、Vβの数式と、Vα、Vβの対数表示、及び両者の比を取った数式展開を示す図である。 タッチパネルのノードA、B間の電圧の測定原理を説明する図である。 タッチパネルのノードA、B間の電圧、およびノードA,D間の電圧の測定原理を説明する図である。 本発明の実施例に係るタッチパネルの位置情報抽出部の構成を示すブロック図である。 本発明の実施例による2点接触の検出原理を説明する図である。
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。なお、図面のスケールは、発明の特徴を分かり易くするために強調されており、必ずしも実際のデバイスのスケールと同一ではないことに留意すべきである。
図1(A)は、本実施例に係る静電容量型のタッチパネルが含む基板の概略構成を示す断面図である。タッチパネル10は、ガラス、プラスチック、またはその他の材の透明な基板12と、基板12の全面に形成されたITO(Indium Tin Oxide) 、またはその他の材の透明な導電膜14とを含んで構成される。導電膜14は、薄いシート状の透明な絶縁保護膜16、例えばポリエステルシートなどの樹脂シート、またはガラス(好ましくは強化ガラス、複層ガラス、多層ガラス)などの樹脂よりも高い弾性率、剛性率を有する硬度シートによって覆われていてもよい。典型的に、タッチパネル10は、表示ディスプレイ(例えば、液晶パネル、有機エレクトロルミネッセンス(Organic Electro-Luminescence) パネル、電子ボード)とモジュール化または一体化され、入力機能を有する表示装置を構成する。例えば、基板12は、液晶パネルなどで生成された画像情報を透過するように構成される。尚、本明細書において「タッチパネル」とは、物体がパネルに接触する(タッチング)ことに限られず、物体とパネルが所定の距離を介する非接触も含まれる。非接触の例えとして、物体(例えば指)がパネル上空をホバリングしながらムービングする場合も含まれる。更に、基板12はリジットであってもフレキシブルであってもよい。つまり、タッチパネル10は、表示ディスプレイの組成特性に対応してリジットであってもフレキシブルであってもよい。更に、タッチパネル10が表示ディスプレイと一体化される場合、タッチパネル10としての基板12を省略できる場合がある。
図1(B)は、タッチパネル10の全体の概略構成を示す図である。導電膜14上のX軸およびY軸の各コーナーには、ノードA、B、C、Dが形成され、各ノードA〜Dは、抵抗R0を介して基準電位発生回路20の共通ノードNに接続される。基準電位発生回路20は、好ましくは一定の周波数、例えば1MHzの基準パルス信号(後述する図2(B)に示される矩形波(Square wave))を生成するものであり、さらに基準パルス信号に一定の直流バイアスを付加するものであってもよい。これにより、各ノードA、B、C、Dには、抵抗R0を介して同時に、同相、同電位の基準クロック信号が供給される。
静電容量型のタッチパネルにおいて、指が導電膜14に接触され、あるいは保護膜16を介して導電膜14に接近されると(以下、このような接近を含めて接触という)、その接触位置P(図1(B)を参照)に静電容量Csが形成され、各ノードA〜Dから接触位置Pには微弱な電流が流れる。ノードAから接触位置Pまでの距離、ノードBから接触位置Pまでの距離に応じた抵抗Ra、Rbが形成されるため、各ノードA〜Dには、抵抗と静電容量の時定数で決まる電圧波形の電流が流れることになる。
各ノードA、B、C、Dに流れる信号は、位置情報抽出部30へ提供され、位置情報抽出部30は、後述するように、X軸のノードA、B間の対数信号比を抽出し、かつY軸のノードA、D間の対数信号比を抽出するような処理を行う。位置情報抽出部30によって抽出された情報は、位置検出部40へ提供され、抽出された位置情報に基づき接触位置Pを特定するための位置検出が行われる。位置情報検出部30および位置検出部40は、どのような形態によって構成されてもよく、ハードウエア、ソフトウエア、あるいはハードウエアとソフトウエアの双方を用いて構成することができる。好ましい態様では、位置情報検出部30は、アナログ信号を処理する回路等によって構成され、位置検出部40は、ディジタル信号を処理する回路やソフトウエアによって構成される。位置検出部40の出力は、表示装置、または表示装置を制御するシステムに提供される。
次に、本実施例に係るタッチパネルの位置検出原理について説明する。本実施例では、図1(B)に示すように、静電容量型のタッチパネルにおいて、X軸上の2点のノードA、B、Y軸上の2点のノードA、Dの対数信号比を利用して接触位置を検出する。
図2(A)に示すように、タッチパネル上の接触位置Pが接触されたとき、X軸のノードA、Bには、図2(B)に示すように、抵抗Ra、Rb、静電容量Cxyによる時定数で決まる電圧信号Va、Vbが生じる。ここには示していないが、Y軸のノードA、Dにも同様に、抵抗Ra、Rdによる時定数で決まる電圧信号Va、Vdが生じる。この電圧信号Va、Vdのそれぞれの遷移は、CR時定数による過渡領域(transient area)における所定時間の電位である。尚、図2(B)に示される矩形波は、基準電位発生回路20が各ノードA〜Dに供給する基準パルス信号(図1(B)の共通ノードN)を示す。矩形波の上辺が、飽和出力電位(5v)である。矩形波の底辺(下辺)が、0vである。0vと5vの間の電位の遷移期間が、非飽和出力電位である。
図3に示すように、タッチパネル上の接触位置P1がタッチ箇所の場合、X軸のノードA、BとP1間には、図に示すように、抵抗Ra、Rb、静電容量Cxyが生じる。抵抗Ra、Rbは一義的にノードA,BとP1間の距離Da、Dbに依存し、ほぼ比例関係にある。この比例係数はP1の位置に依存する。この比例係数は、P1がパネルの周辺部分に無いとき、ほぼ一定になる。
図4に示すように、ノードA,BにおけるStep波形応答の電圧信号Va、Vbは、静電容量Cxyと抵抗Ra、Rbによる時定数で決まる波形になるが、これと飽和出力からの差異出力をVα、Vβとして図4に示している。ここでVα、Vβはパルスの立ち上がりから一定時間(t0)後の出力を取る。
図5には、タッチパネルのノードA、Bでの飽和出力からの差異出力Vα、Vβの数式と、Vα、Vβの対数表示、及び両者の比を取った数式展開を示す。kは定数であり、対数の比を取ることでこの定数は消え、P1とノードA,B間の抵抗Ra、Rbの比になり、距離Da、Dbの比になる。これにより差異出力Vα、Vβの対数信号比を取ることにより、接触位置P1のノードA,Bから距離比が求まる。
図6は、電圧の測定原理を説明する図である。ノードA、B、C、Dに対して、図に示すように接触位置PがノードAに近く、ノードBから離れているとすると、接触位置PとノードA間の抵抗が小さいため、ノードAには接触位置Pの影響が強く現れ(電圧の低下が大きく)、反対に、ノードBには接触位置PとノードB間の抵抗が大きいため接触位置Pの影響が弱く現れる(電圧低下が小さい)。このため、ノードAからノードBの電圧変化を対数での比で見ると、ノードA、Bから見た接触位置Pまでの距離a、距離bの比が求まることになる。
次に、クロック信号を、抵抗R0を介してタッチパネルの4つのノードA、B、C、Dに同時に印加したときの2つのノード間の差動電圧測定モデルについて検討する。図7に示すように、Pを接触位置、a、b、c、dを接触位置Pから各ノードまでの距離とする。この時、各端子に現れる電圧をV(A)、V(B)、V(C)、V(D)とする。これらに対応した飽和出力からの差異出力を、それぞれVα、Vβ、Vγ、Vζとする。これらの対数を算出し、それぞれの比を取ることで、接触位置のX座標、Y座標が求まる。
本実施例による対数比を利用した位置検出アルゴリズムを整理すると次のようになる。4つのノードA〜Dに同時に基準パルス信号を入力し、そのうち、X軸、Y軸の2つのノードの出力波形を測定する。パルスの立ち上がりから一定時間(t0)後の飽和出力からの差異出力を取る。次にこれの対数を取り、X軸、Y軸に対しの2つのノードに対する対数比を取ることにより、距離の比がX軸、Y軸に対し求まる。これにより接触位置のX軸、Y軸に対する位置が求まる。サンプリング間隔を0.01s(秒)レベルで行い、2点測定と時間軸の2点測定からノイズキャンセルする。なおこのサンプリング動作ではサンプリング毎に例えば1MHzの基準クロック信号に合わせてX軸のノードA、BとノードC、Dの2点測定、Y軸のノードA、DとノードB、Cの2点測定を1つの単位としてノイズキャンセルを図るに必要な回数繰り返すことになる。
次に、本実施例のタッチパネルの好ましい構成について説明する。図8は、位置情報抽出部の好ましい構成を示すブロック図である。図1の位置情報抽出部30は、図8においては、4つのノードA〜Dの出力信号を入力し、その中から2つの出力信号を選択するセレクター100と、セレクター100によって選択された2つのノードの出力信号を入力する対数比回路102と、対数比回路102から出力された信号のノイズを除去するフィルター104と、ノイズが除去された対数比信号の出力信号をアナログ/ディジタル変換するA/Dコンバータ108と、各ノードに電流が流れたことに応答して指の接触があったことを検出する第3の回路(検出回路)110と、第3の回路(検出回路)110により接触が検出されると、セレクター100による選択の切替を行うフリップフロップ回路112と、基準電位発生回路20からの基準クロック信号を受け取り、信号バスBUSを介して種々のクロック信号を各部に供給するコントローラ114とを含んで構成される。
第3の回路(検出回路)110は、コントローラ114から供給されるクロック信号の立ち上がりに同期するタイミングで指の接触の有無を検出する。指の接触が検出された場合には、第3の回路(検出回路)110は、フリップフロップ回路112にイネーブル信号を供給し、フリップフロップ回路112を動作可能な状態にする。コントローラ114は、フリップフロップ回路112に信号バスBUSを介して一定周波数のクロック信号を供給し、フリップフロップ回路112はクロック信号に応答して第3の回路(検出回路)の検出状態を保持する信号をセレクター100に出力する。コントローラ114はまた、クロック信号に応答して選択状態に対応した切替クロック信号をセレクター100に出力する。セレクター100は、選択状態に応じて1対のノードの出力信号を選択する。例えば、最初の選択状態のとき、X軸上のノードA、Bの出力信号を選択し、次の状態のとき、Y軸上のノードA、Dの出力信号を選択し、というように順次必要な出力信号を選択しこれらの組み合わせが繰り返される。この選択の周期は、コントローラ114からのクロック信号の周波数により適宜選択されるが、好ましくは、指の接触時間は、典型的に0.1秒程度であるので、その間にセレクター100が少なくとも100回程度のノードのサンプリングができるようにする。
対数比回路102は、セレクター100によって選択された2つのノード(AとB、またはAとD)の出力信号の対数比信号を抽出する。ノイズが除去された対数比信号の出力信号をアナログ/ディジタル変換するA/Dコンバータ108の出力値を受け取り、これを所定のビット数のディジタル値に変換し、図1に示す位置検出部40へ提供する。位置検出部40は、後述するように受け取ったディジタル信号を処理することで、接触位置を検出する。
次に、本実施例の位置検出部について説明する。図1(B)に示す位置検出部40は、位置情報抽出部30により抽出されたデータに基づき、1点接触(シングルタッチ)、複数点接触(マルチタッチ)の判定を行い、その判定結果に基づき検出した接触位置に該当する座標情報を出力する。例えば、位置検出部40は、対数信号比(位置情報抽出部30により抽出されたデータ)が第1のしきい値以下であるとき接近または接触位置は1つであると判定し、前記第1の対数信号比が第1のしきい値より大きいとき前記接近または接触位置は少なくとも2つであると判定する。
次に、複数点接触(マルチタッチ)の位置検出方法について説明する。複数点接触の位置検出は、1点接触の重ね合わせから求めることができる。図9に示すように、接触点T2が接触点T1と重なったときを考える。ただし、信号量はノードA−Bから見た値とする。この場合、接触による静電容量がほぼ2倍になるため、信号量が増加する。但し、信号量の大きさは2倍にはならず、1点接触のときの1.3〜1.8程度である。接触点T2が接触点T1から離れてゆくと、図の例では、b2の抵抗変化は少ないが、a2の抵抗が大きく変化する。接触点T1の距離a1がノードAの近傍にあり、b1はノードBから離れているため、信号電圧はほとんどa1で決まる。接触点T2が接触点T1から離れると、距離a2が大きくなり、a2による信号量が低下し、接触点T2の移動により信号量が小さくなる。a2がよりノードAに近づくと、逆に信号量が大きくなる。この信号量の変化は、2点間の移動距離に対応した値になる。これが、2点接触の検出原理である。2点接触では、接触により静電容量が増加することにより信号量も増加するので、比較的感度が高い。他方、X軸のノードA−Bの感度が低下しても、Y軸のノードA−Dがそれを補完するため、検出することが可能である。同様にノードB−C、C−Dでも検知を行うことで、2つの接触点の座標を求めることが出来る。
以上、本発明の好ましい実施の形態について詳述したが、本発明は、特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
10:タッチパネル
12:基板
14:導電膜
16:保護膜
20:基準電位発生回路
30:位置情報抽出部
40:位置検出部
100:セレクター
102:対数比回路
104:フィルター
108:A/D変換器
110:タッチ第3の回路(検出回路)
112:フリップフロップ回路
114:コントローラ
P1、T1,T2:接触位置
A、B、C、D:ノード

Claims (5)

  1. 導電膜と、
    前記導電膜上に形成された絶縁膜と、
    前記導電膜のX軸またはY軸の少なくともいずれか一方の軸上における少なくとも2点に接続された第1および第2のノードと、
    前記第1および第2のノードに、クロック信号を印加する第1の回路(印加回路)と、
    前記第1および第2のノードからそれぞれ得られた第1および第2の出力電圧の対数信号比を示す第1の対数信号比を生成する第2の回路(抽出回路)と、
    前記第1の対数信号比に基づき、前記絶縁膜に物体が接近または接触した前記少なくともいずれか一方の軸の座標位置を導く第3の回路(検出回路)と、
    を有する位置検出装置。
  2. 前記クロック信号は矩形波であり、
    前記第1および第2の出力電圧のそれぞれは、前記クロック信号に対応し、時定数に関連する電圧である、請求項1に記載の位置検出装置。
  3. 位置検出装置はさらに、前記第1および第2のノードとは異なるX軸またはY軸の少なくともいずれか他方の軸上の少なくとも2点に接続された、前記クロック信号が印加された第3および第4のノードを含み、
    前記第2の回路(抽出回路)は、前記第3および第4のノードからそれぞれ得られた第3および第4の出力電圧の対数信号比を示す第2の対数信号比を生成し、
    前記第3の回路(検出回路)は、前記第1および第2の対数信号比に基づき前記絶縁膜に物体が接近または接触したXY平面上の座標位置を導く、請求項1または2に記載の位置検出装置。
  4. 前記第3の回路(検出回路)は、前記第1の対数信号比と第1のしきい値とを比較し、前記第1の対数信号比が第1のしきい値以下であるとき接近または接触位置は1つであると判定し、前記第1の対数信号比が第1のしきい値より大きいとき前記接近または接触位置は少なくとも2つであると判定する判定部を含む、請求項1または2に記載の位置検出装置。
  5. 前記第2の回路(抽出回路)は、前記第1の対数信号比のノイズを除去するフィルターを含む、請求項1または2に記載の位置検出装置。
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