JP5935726B2 - Deodorizing device - Google Patents

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Description

本発明は、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理装置に関する技術分野に属する。   The present invention belongs to a technical field related to a deodorization treatment apparatus that performs a deodorization treatment of a gas to be treated containing an organic substance.

例えば自動車のボディの塗装やその乾燥工程では、トルエンやキシレン等の有機物が排出されるが、そのような排出ガスは環境に悪影響を及ぼすため、脱臭処理装置により脱臭処理される。このような脱臭処理装置としては、被処理ガス中の臭気成分を触媒(例えばPt、Pd)によって燃焼(酸化)させる触媒燃焼式脱臭処理装置や、例えば特許文献1に示されているように、被処理ガス中の臭気成分を700℃〜800℃の高温で燃焼させるとともに、加熱した被処理ガスの熱を蓄熱材に蓄熱して、その蓄熱した熱を、処理前の被処理ガスの余熱に利用するようにした蓄熱式脱臭処理装置がある。   For example, organic substances such as toluene and xylene are exhausted in the painting of the body of an automobile and the drying process thereof. Since such exhaust gas adversely affects the environment, it is deodorized by a deodorizing apparatus. As such a deodorizing apparatus, a catalytic combustion type deodorizing apparatus that burns (oxidizes) an odorous component in the gas to be treated by a catalyst (for example, Pt, Pd), or as disclosed in Patent Document 1, for example, The odor component in the gas to be processed is burned at a high temperature of 700 ° C. to 800 ° C., the heat of the heated gas to be processed is stored in the heat storage material, and the stored heat is used as the residual heat of the gas to be processed before processing. There is a heat storage type deodorization treatment device that is used.

上記触媒燃焼式脱臭処理装置の触媒は、フィルター状部材に担持されており、被処理ガスがその部材を通過する際に酸化燃焼して脱臭処理が行われる。この触媒燃焼式脱臭処理装置では、上記触媒が触媒毒によって性能低下しないように、通常、触媒の上流側に、触媒毒を補足する前処理剤が設けられる。この前処理剤も、フィルター状部材に担持される。また、上記蓄熱式脱臭処理装置の蓄熱材は、ハニカム状に構成され、被処理ガスがそこを通過することで、被処理ガスと蓄熱材との間で熱の授受が行われる。このように脱臭処理装置(触媒燃焼式脱臭処理装置や蓄熱式脱臭処理装置)には、被処理ガスが通過するガス通過部材が設けられている。   The catalyst of the catalytic combustion type deodorizing apparatus is supported on a filter-like member, and deodorizing treatment is performed by oxidizing combustion when the gas to be processed passes through the member. In this catalytic combustion type deodorizing apparatus, a pretreatment agent for supplementing the catalyst poison is usually provided on the upstream side of the catalyst so that the performance of the catalyst does not deteriorate due to the catalyst poison. This pretreatment agent is also carried on the filter member. Moreover, the heat storage material of the said heat storage type deodorization processing apparatus is comprised by the honeycomb form, and transfer of heat is performed between a to-be-processed gas and a heat storage material, when a to-be-processed gas passes there. As described above, the deodorizing apparatus (catalytic combustion type deodorizing apparatus or heat storage type deodorizing apparatus) is provided with a gas passage member through which the gas to be processed passes.

上記脱臭処理装置においては、上記被処理ガス中の有機物のヤニ等の炭素分が燃焼カスとなり、これが上記ガス通過部材に付着する。このような燃焼カスにより、脱臭処理が進行すると、ガス通過部材に目詰まりが生じ、これにより、被処理ガスの通過風量が減少して、触媒(通常、被処理ガスを熱源として加熱する)を適切な温度に加熱することができなくなったり、処理前の被処理ガスに十分な余熱を与えることができなくなったりする。このようにガス通過部材に目詰まりが生じると、脱臭率が低下する。   In the deodorizing apparatus, carbon such as organic matter in the gas to be treated becomes combustion residue, which adheres to the gas passage member. When the deodorizing process proceeds due to such combustion debris, the gas passage member is clogged, thereby reducing the amount of air passing through the gas to be treated, and the catalyst (usually heating the gas to be treated as a heat source). It may not be possible to heat to an appropriate temperature, or sufficient residual heat may not be applied to the gas to be processed before processing. When the gas passage member is clogged in this way, the deodorization rate is lowered.

そこで、上記特許文献1に示されているように、脱臭率を回復させるために、定期的に、上記ガス通過部材に対し、被処理ガスの脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施して、ガス通過部材に付着した燃焼カスを燃焼ないし酸化分解させるようにしている。このような加熱処理は、空焼き処理とも呼ばれる。この加熱処理(空焼き処理)の後は再び脱臭処理が行われる。   Therefore, as shown in Patent Document 1, in order to recover the deodorization rate, the gas passage member is periodically heated to a temperature higher than the temperature during the deodorization process of the gas to be processed. The combustion residue adhering to the gas passage member is burned or oxidized and decomposed. Such a heat treatment is also called an empty baking process. After this heat treatment (empty baking treatment), deodorization treatment is performed again.

特開2008−45818号公報JP 2008-45818 A

ところで、上記脱臭処理と上記加熱処理(空焼き処理)とを繰り返し行う場合、経時的に後の加熱処理ほど、加熱処理による脱臭率の回復量(上昇量)が低下していく。これは、空焼きしても燃焼ないし酸化分解されない燃焼カスが存在し、このような燃焼カスが蓄積していくからである。また、触媒燃焼式脱臭処理装置では、触媒が触媒毒によって覆われることも、脱臭率の回復量が低下していく要因となる。   By the way, when performing the said deodorizing process and the said heat processing (empty baking process) repeatedly, the recovery | restoration amount (increase amount) of the deodorizing rate by heat processing falls as time-dependent heat processing. This is because there are combustion residues that are not burned or oxidatively decomposed even when burned, and such combustion residues accumulate. Further, in the catalytic combustion type deodorizing apparatus, the catalyst being covered with the catalyst poison also causes a reduction in the recovery amount of the deodorizing rate.

そこで、ガス通過部材の加熱時間を出来る限り長くして、蓄積した燃焼カスを燃焼ないし酸化分解させるようにすることが考えられる。   Therefore, it is conceivable to increase the heating time of the gas passage member as much as possible so that the accumulated combustion residue is burnt or oxidatively decomposed.

しかし、ガス通過部材を長時間加熱する(つまり、被処理ガスを長時間加熱する)と、脱臭処理装置が高温に晒されて熱劣化する可能性がある。特に触媒燃焼式脱臭処理装置では、触媒の温度が例えば550℃程度の温度を超えると触媒が熱劣化してしまう。また、たとえガス通過部材を長時間加熱したとしても、燃焼ないし酸化分解されない燃焼カスは存在し、燃焼カスの蓄積は避けられない。このため、上記加熱処理においてエネルギーを無駄に消費する可能性がある。   However, if the gas passage member is heated for a long time (that is, the gas to be processed is heated for a long time), the deodorizing apparatus may be exposed to a high temperature and thermally deteriorated. In particular, in a catalytic combustion type deodorizing apparatus, when the temperature of the catalyst exceeds a temperature of, for example, about 550 ° C., the catalyst is thermally deteriorated. Further, even if the gas passage member is heated for a long time, there is combustion residue that is not burned or oxidatively decomposed, and accumulation of combustion residue is inevitable. For this reason, energy may be wasted in the heat treatment.

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、上記脱臭処理と上記加熱処理(空焼き処理)とを繰り返し行う場合に、各回の加熱処理を効率良く行って、省エネルギー化を図るとともに、上記加熱処理に伴う脱臭処理装置の熱劣化を抑制しようとすることにある。   The present invention has been made in view of such points, and the object of the present invention is to efficiently perform each heat treatment when the deodorization treatment and the heat treatment (empty baking treatment) are repeated. Thus, it is intended to save energy and to suppress thermal deterioration of the deodorizing apparatus accompanying the heat treatment.

上記の目的を達成するために、本発明では、有機物を含む被処理ガスが通過するガス通過部材を有し、該被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段と、所定のタイミング毎に、該ガス通過部材に対し、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段とを備えた脱臭処理装置を対象として、上記脱臭率回復手段は、経時的に後の上記加熱処理において、先の上記加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定するように構成され、更に上記脱臭率回復手段は、上記ガス通過部材に対する前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定するように構成されている、という構成とした。 In order to achieve the above object, in the present invention, there is provided a gas passage member through which a gas to be treated containing an organic substance passes, and a deodorizing treatment means for performing a deodorizing treatment of the gas to be treated. For the deodorization treatment device provided with a deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization treatment by applying a heat treatment for heating the gas passage member to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorization treatment, The deodorization rate recovery means is configured to set the heat treatment time shorter in the heat treatment later in time than the previous heat treatment , and further, the deodorization rate recovery means is configured to The heat treatment time in the current heat treatment is set based on at least one of the amount of increase in the deodorization rate due to the heat treatment and the reduced state of the deodorization rate after the previous heat treatment. Is configured, it has a configuration that.

上記の構成により、経時的に後の加熱処理において、先の加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定するので、各回の加熱処理において、ガス通過部材に対して最適な熱エネルギーを付与することができる。すなわち、各回の加熱処理においては、加熱処理時間を長くしても、加熱処理開始から或る時間(経時的に後の加熱処理ほど短くなる)が経過した後は、ガス通過部材に付着した燃焼カスの燃焼ないし酸化分解は殆どしなくなり、エネルギーを無駄に消費することになる。また、脱臭処理装置の熱劣化を招く可能性があり、特に触媒燃焼式脱臭処理装置では、触媒が熱劣化する可能性が高くなる。しかし、本発明では、各回の加熱処理における加熱処理時間を、燃焼カスの燃焼ないし酸化分解を効率良く行える時間に設定することができ、エネルギーを無駄に消費することを防止することができる。また、加熱処理に伴う脱臭処理装置(特に触媒燃焼式脱臭処理装置の触媒)の熱劣化を抑制することができる。   With the above configuration, the heat treatment time is set shorter in the subsequent heat treatment over time than in the previous heat treatment, so that optimum heat energy is given to the gas passage member in each heat treatment. Can do. That is, in each heat treatment, even if the heat treatment time is lengthened, the combustion adhering to the gas passage member after a certain time has elapsed from the start of the heat treatment (the heat treatment becomes shorter with time). The waste is hardly burned or oxidatively decomposed, and energy is wasted. In addition, there is a possibility that the thermal degradation of the deodorizing apparatus will be caused. In particular, in the catalytic combustion type deodorizing apparatus, the possibility that the catalyst is thermally degraded becomes high. However, in the present invention, the heat treatment time in each heat treatment can be set to a time during which combustion residue combustion or oxidative decomposition can be efficiently performed, and wasteful consumption of energy can be prevented. Moreover, the thermal degradation of the deodorizing apparatus (especially the catalyst of a catalytic combustion type deodorizing apparatus) accompanying heat processing can be suppressed.

また、上記ガス通過部材に対する前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態(上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間であることが好ましい)の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定することで、これから実行しようとしている今回の加熱処理における加熱処理時間をより一層適切に設定することができる。The amount of increase in the deodorization rate due to the previous heat treatment on the gas passage member, and the state of decrease in the deodorization rate after the previous heat treatment (the rate of decrease in the deodorization rate with respect to time, or the deodorization rate is In this case, it is preferable to set the heat treatment time in the current heat treatment based on at least one of the time until the reference amount is reduced by a predetermined reference amount). The heat treatment time can be set more appropriately.

本発明の一実施形態によれば、上記脱臭処理手段は、上記脱臭処理時に、上記被処理ガスを所定温度に加熱するように構成され、上記脱臭率回復手段は、上記被処理ガスを上記所定温度よりも高温に加熱して上記ガス通過部材に通すことにより、該ガス通過部材に対し上記加熱処理を施すように構成されている。   According to an embodiment of the present invention, the deodorizing means is configured to heat the gas to be treated to a predetermined temperature during the deodorizing process, and the deodorizing rate recovery means is configured to cause the gas to be treated to be the predetermined temperature. By heating to a temperature higher than the temperature and passing through the gas passage member, the heat treatment is performed on the gas passage member.

このことにより、ガス通過部材は被処理ガスを介して加熱処理されることになり、ガス通過部材を直接加熱する加熱手段を設けることなく、ガス通過部材に対する加熱処理を容易に行うことができる As a result, the gas passage member is heated through the gas to be processed, and the heat treatment for the gas passage member can be easily performed without providing a heating means for directly heating the gas passage member .

本発明の他の実施形態によれば、上記脱臭率回復手段は、上記脱臭率が所定値まで低下したときに、上記加熱処理を行うように構成されている。 According to another embodiment of the present invention, the deodorization rate recovery means is configured to perform the heat treatment when the deodorization rate is reduced to a predetermined value.

このことにより、脱臭率が所定値未満に低下することを防止することができ、この結果、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度を常に低レベルに維持することができる。   As a result, it is possible to prevent the deodorization rate from falling below a predetermined value, and as a result, the odor concentration of the gas to be treated discharged to the atmosphere can be always maintained at a low level.

本発明の更に他の実施形態によれば、上記脱臭率回復手段は、上記加熱処理を所定時間間隔で行うとともに、経時的に後であるほど、上記所定時間間隔を短く設定するように構成されている。   According to still another embodiment of the present invention, the deodorization rate recovery means is configured to perform the heat treatment at a predetermined time interval and set the predetermined time interval to be shorter as time passes. ing.

すなわち、経時的に後であるほど、脱臭率の回復量が低下するので、脱臭率が加熱処理後の脱臭処理開始直後の値から上記所定値のような値になるまでの時間は短くなる。このことを考慮して、上記所定時間間隔を短く設定することで、脱臭率が大きく低下しないうちに加熱処理を行うようにすることができる。この結果、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度を低レベルに維持することができる。   That is, since the recovery amount of the deodorization rate decreases with time, the time until the deodorization rate becomes a value such as the predetermined value from the value immediately after the start of the deodorization treatment after the heat treatment is shortened. In consideration of this, by setting the predetermined time interval short, the heat treatment can be performed before the deodorization rate is largely reduced. As a result, the odor concentration of the gas to be processed discharged to the atmosphere can be maintained at a low level.

以上説明したように、本発明の脱臭処理装置によると、経時的に後の加熱処理において、先の加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定し、また、ガス通過部材に対する前回の加熱処理による脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定するようにしたことにより、各回の加熱処理を効率良く行って、エネルギーを無駄に消費することを防止することができるとともに、加熱処理に伴う脱臭処理装置(特に触媒燃焼式脱臭処理装置の触媒)の熱劣化を抑制することができる。また、これから実行しようとしている今回の加熱処理における加熱処理時間を適切に設定することができる。 As described above, according to the deodorizing apparatus of the present invention, in the subsequent heat treatment, the heat treatment time is set shorter than the previous heat treatment, and the previous heat treatment on the gas passage member is performed. By setting the heat treatment time in the current heat treatment based on at least one of the increase in the deodorization rate and the reduced state of the deodorization rate after the previous heat treatment , each heat treatment is performed. It can be performed efficiently and energy consumption can be prevented from being wasted, and thermal deterioration of a deodorizing apparatus (particularly a catalyst of a catalytic combustion type deodorizing apparatus) associated with heat treatment can be suppressed. Moreover, the heat treatment time in the current heat treatment to be performed can be set appropriately.

本発明の実施形態に係る脱臭処理装置(触媒燃焼式脱臭処理装置)を用いた脱臭処理システム全体の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the whole deodorizing processing system using the deodorizing processing apparatus (catalyst combustion type deodorizing processing apparatus) which concerns on embodiment of this invention. 脱臭処理装置の内部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inside of a deodorizing processing apparatus. 脱臭処理装置の制御系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control system of a deodorizing processing apparatus. 前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率と、今回の空焼き処理における加熱処理時間との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the deodorizing rate immediately after the deodorizing process start after the last baking process, and the heat processing time in this baking process. 脱臭率dの時間に対する変化の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the change with respect to time of the deodorizing rate d. 脱臭率dの時間に対する変化の別の例を示すグラフである。It is a graph which shows another example of the change with respect to time of the deodorizing rate d. コントローラによる処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation by a controller. 脱臭処理装置の別の例である蓄熱式脱臭処理装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the thermal storage type deodorizing processing apparatus which is another example of a deodorizing processing apparatus.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施形態に係る脱臭処理装置1を用いた脱臭処理システム全体の概略構成を示す。この脱臭処理システムは、塗装乾燥炉において発生する、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行うものである。上記被処理ガスの有機物(臭気成分)は、トルエン、キシレン、ベンゼン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等である。本実施形態では、脱臭処理装置1は、被処理ガス中の有機物(臭気成分)を触媒(例えばPt、Pd)によって燃焼(酸化)させる触媒燃焼式脱臭処理装置である。   FIG. 1 shows a schematic configuration of an entire deodorization processing system using a deodorization processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. This deodorization processing system performs the deodorization processing of the to-be-processed gas containing organic substance which generate | occur | produces in a coating drying furnace. The organic matter (odor component) of the gas to be treated is toluene, xylene, benzene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate or the like. In the present embodiment, the deodorization treatment apparatus 1 is a catalytic combustion type deodorization treatment apparatus that burns (oxidizes) an organic substance (odor component) in a gas to be treated with a catalyst (for example, Pt, Pd).

上記塗装乾燥炉からの被処理ガスは、脱臭処理装置1の入口部2に接続された導入管5を介して該入口部2から該脱臭処理装置1内に入る。そして、脱臭処理装置1内にて後述の如く脱臭処理がなされ、この脱臭処理後の被処理ガスが、出口部3(図2参照)から、該出口部3に接続された導出管6へと排出される(図2における被処理ガスの流れを示す矢印参照)。   The gas to be treated from the coating and drying furnace enters the deodorizing treatment apparatus 1 from the inlet portion 2 through the inlet pipe 5 connected to the inlet portion 2 of the deodorizing treatment apparatus 1. And the deodorizing process is made in the deodorizing apparatus 1 as described later, and the gas to be treated after the deodorizing process is passed from the outlet part 3 (see FIG. 2) to the outlet pipe 6 connected to the outlet part 3. The gas is discharged (see the arrow indicating the flow of the gas to be processed in FIG. 2).

上記導出管6には、上流側熱交換器7と下流側熱交換器8とが設けられている。上流側熱交換器7は、脱臭処理後の被処理ガス(反応熱により500℃程度になっている)により、導入管5を流れる処理前の被処理ガスを余熱するためのものである。また、下流側熱交換器8は、上流側熱交換器7を通過した後の被処理ガス(300℃程度になっている)により、上記塗装乾燥炉に熱風を供給するためのエアー供給管9を流れるエアーを加熱するためのものである。下流側熱交換器8を通過した後の被処理ガスは、大気に排出される。   The outlet pipe 6 is provided with an upstream heat exchanger 7 and a downstream heat exchanger 8. The upstream heat exchanger 7 preheats the gas to be processed before the treatment flowing through the introduction pipe 5 with the gas to be treated after the deodorization treatment (having a temperature of about 500 ° C. due to reaction heat). Further, the downstream heat exchanger 8 has an air supply pipe 9 for supplying hot air to the coating drying furnace by the gas to be treated (having a temperature of about 300 ° C.) after passing through the upstream heat exchanger 7. It is for heating the air which flows. The gas to be processed after passing through the downstream heat exchanger 8 is discharged to the atmosphere.

上記塗装乾燥炉からの被処理ガスは、上流側熱交換器7において、脱臭処理後の被処理ガスによって余熱された後、上記入口部2を通って脱臭処理装置1内の入口側室11に入る。脱臭処理装置1の入口側室11の側壁部には、図2に示すように、バーナー21が設けられており、このバーナー21によって、上記触媒を活性化させるべく、被処理ガスが所定温度(300℃〜400℃)に加熱される。   The gas to be treated from the coating drying furnace is preheated by the gas to be treated after the deodorizing treatment in the upstream heat exchanger 7 and then enters the inlet side chamber 11 in the deodorizing treatment apparatus 1 through the inlet portion 2. . As shown in FIG. 2, a burner 21 is provided on the side wall portion of the inlet side chamber 11 of the deodorizing treatment apparatus 1, and the gas to be treated is heated to a predetermined temperature (300 to activate the catalyst by the burner 21. To 400 ° C.).

また、脱臭処理装置1には、バーナー21によって加熱された被処理ガスが通過するフィルター状の上流側及び下流側ガス通過部材23,24が設けられている。これら上流側及び下流側ガス通過部材23,24は、脱臭処理装置1内を入口側室11と出口側室12とに区画する区画壁13に固定された複数の取付部材22のそれぞれに、ガス流動方向に並ぶように取り付けられている。そして、上記加熱された被処理ガスが、上流側及び下流側ガス通過部材23,24を順に通り抜けることで入口側室11から出口側室12に達し、この出口側室12の側壁部に設けられた出口部3から導出管6へと排出される。   The deodorizing apparatus 1 is provided with filter-like upstream and downstream gas passage members 23 and 24 through which the gas to be treated heated by the burner 21 passes. These upstream and downstream gas passage members 23, 24 are arranged in the direction of gas flow in each of a plurality of attachment members 22 fixed to a partition wall 13 that partitions the inside of the deodorizing apparatus 1 into an inlet side chamber 11 and an outlet side chamber 12. It is attached to line up. The heated gas to be processed passes through the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 in order to reach the outlet side chamber 12 from the inlet side chamber 11, and the outlet portion provided on the side wall portion of the outlet side chamber 12. 3 is discharged to the outlet pipe 6.

上記下流側ガス通過部材24に、上記触媒が担持されている。この触媒によって、被処理ガス中の臭気成分が酸化燃焼して、脱臭処理がなされる。この触媒は、上記バーナー21によって加熱された被処理ガスによって、該触媒が活性化する温度になる。また、上記上流側ガス通過部材23には、上記触媒の性能を低下させる触媒毒(特に有機シリコーン化合物や有機リン化合物)を補足する前処理剤が担持されている。被処理ガス中に有機シリコーン化合物や有機リン化合物が微量でも含有されていると、上記触媒によって酸化されて不揮発性のSiOやPを生成し、これらが触媒の表面を被覆することにより触媒の性能を低下させるので、下流側ガス通過部材24の上流側に、上記触媒毒を取り除くための上流側ガス通過部材23を設ける。本実施形態では、バーナー21、上流側及び下流側ガス通過部材23,24並びに後述のコントローラ51の脱臭処理実行部51aが、被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段を構成する。 The catalyst is supported on the downstream gas passage member 24. By this catalyst, the odor component in the gas to be treated is oxidized and burned to perform deodorization treatment. This catalyst has a temperature at which the catalyst is activated by the gas to be treated heated by the burner 21. The upstream gas passage member 23 carries a pretreatment agent that supplements a catalyst poison (especially an organic silicone compound or an organic phosphorus compound) that lowers the performance of the catalyst. If even a small amount of organosilicone compound or organophosphorus compound is contained in the gas to be treated, it is oxidized by the above catalyst to generate nonvolatile SiO 2 or P 2 O 5 , which covers the surface of the catalyst. Therefore, the upstream gas passage member 23 for removing the catalyst poison is provided on the upstream side of the downstream gas passage member 24. In the present embodiment, the burner 21, the upstream and downstream gas passage members 23 and 24, and the deodorization processing execution unit 51a of the controller 51 described later constitute deodorization processing means for performing the deodorization processing of the gas to be processed.

脱臭処理装置1には、図3に示すように、上記被処理ガスの脱臭処理時にバーナー21の出力を制御したり、後述の空焼き処理を実行したりするコントローラ51が設けられている。このコントローラ51は、周知のマイクロコンピュータをベースとするものであって、プログラムを実行する中央演算処理装置(CPU)と、例えばRAMやROMにより構成されてプログラム及びデータを格納するメモリと、電気信号の入出力をする入出力(I/O)部と、を備えている。   As shown in FIG. 3, the deodorizing apparatus 1 is provided with a controller 51 that controls the output of the burner 21 during the deodorizing process of the gas to be processed and performs an after-mentioned baking process. The controller 51 is based on a well-known microcomputer, and includes a central processing unit (CPU) that executes a program, a memory that includes, for example, a RAM or ROM, and stores a program and data, and an electrical signal. And an input / output (I / O) unit for inputting / outputting.

コントローラ51内には、上記被処理ガスの脱臭処理を実行する脱臭処理実行部51aと、上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対して空焼き処理を実行すべきか否かを判定する空焼き判定部51bと、この空焼き判定部51bにより空焼き処理を実行すべきと判定されたときに空焼き条件を設定する空焼き条件設定部51cと、空焼き処理を実行する空焼き処理実行部51dと、上流側及び下流側ガス通過部材23,24の点検及び保守が必要である旨の警報を出力すべきか否かを判定する点検・保守警報判定部51eと、点検・保守警報判定部51eにより上記警報を出力すべきと判定されたときに、警報装置52に、上記警報を出力させる警報出力部51fとが設けられている。   In the controller 51, a deodorizing process execution unit 51a that performs the deodorizing process of the gas to be processed, and an empty for determining whether or not the baking process should be performed on the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 are performed. Burn determination unit 51b, an empty firing condition setting unit 51c for setting an empty firing condition when it is determined by this empty firing determination unit 51b that an empty firing process should be executed, and an empty firing process execution for executing an empty firing process 51d, an inspection / maintenance alarm determination unit 51e for determining whether or not an alarm indicating that inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary, and an inspection / maintenance alarm determination unit When it is determined by 51e that the alarm should be output, the alarm device 52 is provided with an alarm output unit 51f that outputs the alarm.

コントローラ51には、温度センサ55、入口側HC濃度センサ56及び出口側HC濃度センサ57からの各検出情報が入力される。上記温度センサ55は、入口側室11に配設されていて、上記バーナー21によって加熱された後でかつ上流側ガス通過部材23に入る手前の被処理ガスの温度を検出するものである。   The controller 51 receives detection information from the temperature sensor 55, the inlet side HC concentration sensor 56, and the outlet side HC concentration sensor 57. The temperature sensor 55 is disposed in the inlet side chamber 11 and detects the temperature of the gas to be processed after being heated by the burner 21 and before entering the upstream side gas passage member 23.

上記脱臭処理実行部51aは、上記被処理ガスの脱臭処理時において、温度センサ55による検出温度が上記所定温度になるように上記バーナー21の出力を制御(本実施形態では、PID制御)する。   The deodorizing process execution unit 51a controls the output of the burner 21 (PID control in this embodiment) so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature during the deodorizing process of the gas to be processed.

上記空焼き処理は、上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対し、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる処理のことである。すなわち、脱臭処理装置1においては、上記被処理ガス中の有機物のヤニ等の炭素分が燃焼カスとなり、これが上流側及び下流側ガス通過部材23,24に付着する。脱臭処理が進行すると、このような燃焼カスにより、上流側及び下流側ガス通過部材23,24に目詰まり等が生じ、これにより、被処理ガスの通過風量が減少して、触媒を適切な温度に加熱することができなくなり、上記脱臭率が低下する。そこで、コントローラ51の空焼き処理実行部51dが、上記空焼き処理を実行する。本実施形態では、上記空焼き処理において、上記被処理ガスを上記所定温度よりも高温に加熱して上流側及び下流側ガス通過部材23,24に通すことにより、該上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対し上記加熱処理を施す。   The air baking process is a process of recovering the deodorization rate of the deodorizing process by performing a heating process for heating the upstream and downstream gas passage members 23, 24 to a temperature higher than the temperature during the deodorizing process. That is. That is, in the deodorizing apparatus 1, carbon such as organic matter in the gas to be treated becomes combustion residue, which adheres to the upstream and downstream gas passage members 23 and 24. As the deodorization process proceeds, such combustion debris causes clogging and the like in the upstream and downstream gas passage members 23, 24, thereby reducing the amount of air passing through the gas to be treated and keeping the catalyst at an appropriate temperature. Can no longer be heated and the deodorization rate is reduced. Therefore, the empty baking process execution unit 51d of the controller 51 executes the empty baking process. In the present embodiment, in the empty baking process, the gas to be processed is heated to a temperature higher than the predetermined temperature and passed through the upstream and downstream gas passage members 23 and 24, whereby the upstream and downstream gas passages are passed. The heat treatment is performed on the members 23 and 24.

上記脱臭率dは、以下の式(1)
d=(1−出口側臭気濃度/入口側臭気濃度)×100(%) …(1)
で表される。ここで、臭気濃度は、臭気のある気体を無臭の空気で希釈して、人の臭覚で臭いが感じられなくなる希釈倍数のことである。
The deodorization rate d is expressed by the following formula (1)
d = (1−outlet side odor concentration / inlet side odor concentration) × 100 (%) (1)
It is represented by Here, the odor concentration is a dilution factor in which an odorous gas is diluted with odorless air so that no odor can be felt by human odor.

入口側臭気濃度及び出口側臭気濃度は、入口側HC濃度及び出口側HC濃度とそれぞれ相関関係があるので、脱臭率dは、(1−出口側HC濃度/入口側HC濃度)の値と相関関係がある。この相関関係を予め関数fとして求めておけば、以下の式(2)
d=f(1−出口側HC濃度/入口側HC濃度) …(2)
より、脱臭率dを求めることができる。すなわち、入口側HC濃度及び出口側HC濃度から脱臭率dを求めることができる。
Since the inlet-side odor concentration and the outlet-side odor concentration are correlated with the inlet-side HC concentration and the outlet-side HC concentration, respectively, the deodorization rate d is correlated with the value of (1-outlet-side HC concentration / inlet-side HC concentration). There is a relationship. If this correlation is obtained in advance as a function f, the following equation (2)
d = f (1−outlet side HC concentration / inlet side HC concentration) (2)
Thus, the deodorization rate d can be obtained. That is, the deodorization rate d can be obtained from the inlet HC concentration and the outlet HC concentration.

そこで、本実施形態では、脱臭率dを検出するために、入口側HC濃度センサ56及び出口側HC濃度センサ57により、入口側HC濃度及び出口側HC濃度をそれぞれ検出する。入口側HC濃度センサ56は、入口側室11に配設されていて、上流側ガス通過部材23に入る手前の被処理ガスのHC濃度を検出する。出口側HC濃度センサ57は、出口側室12に配設されていて、下流側ガス通過部材24を通過した被処理ガスのHC濃度を検出する。   Therefore, in this embodiment, in order to detect the deodorization rate d, the inlet-side HC concentration and the outlet-side HC concentration are detected by the inlet-side HC concentration sensor 56 and the outlet-side HC concentration sensor 57, respectively. The inlet-side HC concentration sensor 56 is disposed in the inlet-side chamber 11 and detects the HC concentration of the gas to be processed before entering the upstream gas passage member 23. The outlet side HC concentration sensor 57 is disposed in the outlet side chamber 12 and detects the HC concentration of the gas to be processed that has passed through the downstream side gas passage member 24.

尚、脱臭率dは、(出口側ガス圧力/入口側ガス圧力)の値、又は、(初期の出入口差圧/現時点の出入口差圧)の値とも相関関係があるので、これらの関係を予め関数g又はhとして求めておけば、以下の式(3)又は式(4)
d=g(出口側ガス圧力/入口側ガス圧力) …(3)
d=h(初期の出入口差圧/現時点の出入口差圧) …(4)
より、脱臭率dを求めることができる。
The deodorization rate d has a correlation with the value of (exit side gas pressure / inlet side gas pressure) or the value of (initial inlet / outlet differential pressure / current inlet / outlet differential pressure). If it is obtained as a function g or h, the following formula (3) or formula (4)
d = g (outlet side gas pressure / inlet side gas pressure) (3)
d = h (initial inlet / outlet differential pressure / current inlet / outlet differential pressure) (4)
Thus, the deodorization rate d can be obtained.

この場合、入口側室11に、入口側ガス圧力(入口側の被処理ガスの圧力)を検出する入口側ガス圧力センサを配設し、出口側室12に、出口側ガス圧力(出口側の被処理ガスの圧力)を検出する出口側ガス圧力センサを配設して、これら入口側及び出口側ガス圧力センサにより、入口側ガス圧力及び出口側ガス圧力をそれぞれ検出するか、又は、該両圧力の差(出入口差圧)を検出することで、脱臭率dを求めることができる。   In this case, an inlet side gas pressure sensor for detecting the inlet side gas pressure (pressure of the gas to be processed on the inlet side) is disposed in the inlet side chamber 11, and the outlet side gas pressure (the outlet side gas to be processed) is disposed in the outlet side chamber 12. An outlet side gas pressure sensor for detecting the gas pressure) is provided, and the inlet side gas pressure sensor and the outlet side gas pressure sensor detect the inlet side gas pressure and the outlet side gas pressure, respectively. By detecting the difference (inlet / outlet differential pressure), the deodorization rate d can be obtained.

上記空焼き判定部51bは、式(2)より上記脱臭率dを算出して、該算出した脱臭率dが所定値d0まで低下したときに、空焼き処理を実行すべきと判定する。上記所定値d0は、脱臭率dが、該所定値d0よりも低下すると、環境に悪影響を及ぼすような値であって、予め上記メモリに記憶されている。   The empty baking determination unit 51b calculates the deodorization rate d from the equation (2), and determines that the empty baking process should be executed when the calculated deodorization rate d is reduced to a predetermined value d0. The predetermined value d0 is a value that adversely affects the environment when the deodorization rate d is lower than the predetermined value d0, and is stored in the memory in advance.

上記空焼き条件設定部51cは、上記記空焼き判定部51bにより空焼き処理を実行すべきと判定されたときに、空焼き条件を設定する。すなわち、被処理ガスの加熱温度(つまり上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対する加熱処理温度)と、空焼き処理の時間(上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対する加熱処理時間)とを設定する。   The empty baking condition setting unit 51c sets the empty baking condition when the empty baking determination unit 51b determines that the empty baking process should be executed. That is, the heating temperature of the gas to be processed (that is, the heat treatment temperature for the upstream and downstream gas passage members 23 and 24) and the time for the baking process (the heat treatment time for the upstream and downstream gas passage members 23 and 24) And set.

上記加熱処理時間は、経時的に後の空焼き処理(加熱処理)において、先の空焼き処理(加熱処理)に比べて短く設定される。上記被処理ガスの加熱温度は、上記所定温度(300℃〜400℃)よりも高い温度でかつ上記触媒の熱劣化発生開始温度(通常、550℃程度)よりも低い温度(例えば450℃〜500℃)である。この加熱温度は、加熱処理時間とは異なり、経時的な後先には関係なく一定である。   The heat treatment time is set shorter in the later baking process (heating process) over time than the previous baking process (heating process). The heating temperature of the gas to be treated is higher than the predetermined temperature (300 ° C. to 400 ° C.) and lower than the heat degradation start temperature (usually about 550 ° C.) of the catalyst (for example, 450 ° C. to 500 ° C.). ° C). Unlike the heat treatment time, this heating temperature is constant regardless of the time course.

空焼き条件設定部51cは、本実施形態では、前回の空焼き処理(加熱処理)による上記脱臭率の上昇量(回復量)に基づいて、これから実行しようとしている今回の加熱処理における加熱処理時間を設定する。前回の加熱処理開始直前における上記脱臭率は、基本的には上記所定値d0であるので、上記上昇量(回復量)が大きいほど、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が大きくなる。したがって、上記上昇量は、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率で代用することができる。今回の空焼き処理における加熱処理時間は、図4に示すように、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が小さくなるほど、短くなる。1回目の空焼き処理時の加熱処理時間は、t0とする。図4の加熱処理時間は、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率がd0ないしその近傍から100%までの間で設定されている。そして、経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量は小さくなる(図5参照)。したがって、上記空焼き条件設定部51cは、経時的に後の加熱処理(空焼き処理)において、先の加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定することになる。   In the present embodiment, the empty baking condition setting unit 51c is based on the amount of increase in the deodorization rate (recovery amount) due to the previous empty baking process (heating process), and the heating process time in the current heating process to be executed from now on. Set. Since the deodorization rate immediately before the start of the previous heat treatment is basically the predetermined value d0, the larger the increase amount (recovery amount), the more the deodorization rate immediately after the start of the deodorization treatment after the previous baking process. growing. Therefore, the amount of increase can be substituted by the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process. As shown in FIG. 4, the heat treatment time in the current baking process becomes shorter as the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process is smaller. The heat treatment time during the first baking process is t0. The heat treatment time in FIG. 4 is set so that the deodorization rate immediately after the start of the deodorization process after the previous baking process is between d0 and the vicinity thereof to 100%. And the amount of recovery | restoration becomes so small that it is the later baking process with time (refer FIG. 5). Therefore, the empty baking condition setting unit 51c sets the heat treatment time shorter in the subsequent heat treatment (empty baking process) over time than in the previous heat treatment.

経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量が小さくなるのは、空焼き処理しても燃焼ないし酸化分解されない燃焼カスが存在し、このような燃焼カスが上流側及び下流側ガス通過部材23,24に蓄積していくとともに、触媒が触媒毒によって覆われるからである。そして、各回の空焼き処理においては、加熱処理時間を長くしても、加熱処理開始から或る時間(経時的に後の加熱処理ほど短くなる)が経過した後は、上流側及び下流側ガス通過部材23,24に付着した燃焼カスの燃焼ないし酸化分解は殆どしなくなり、エネルギーを無駄に消費することになる。また、脱臭処理装置1において高温の被処理ガスが接触する部分(特に触媒)の熱劣化を招く可能性が高くなる。そこで、各回の空焼き処理における加熱処理時間を、燃焼カスの燃焼ないし酸化分解を効率良く行える時間に設定するべく、上記のように設定する。   The amount of recovery decreases with time of the subsequent baking process, because there is combustion residue that is not combusted or oxidatively decomposed even when the baking process is performed. This is because the catalyst is covered with the catalyst poison as it accumulates at 23 and 24. And in each baking process, even if the heat treatment time is lengthened, after a certain time has elapsed from the start of the heat treatment (the shorter the heat treatment with time), the upstream and downstream gasses Combustion or oxidative decomposition of the combustion residue adhering to the passage members 23 and 24 hardly occurs, and energy is wasted. Further, in the deodorizing apparatus 1, there is a high possibility of causing thermal deterioration of a portion (particularly a catalyst) in contact with a high temperature gas to be processed. Therefore, the heat treatment time in each empty baking process is set as described above in order to set the time during which combustion residue combustion or oxidative decomposition can be performed efficiently.

尚、上記前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量(前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率)に代えて、又は、該上昇量に加えて、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定するようにしてもよい。上記低下状態は、上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間等である。すなわち、経時的に後の空焼き処理ほど、脱臭率の低下度合いが大きくなるので、上記低下状態に応じて、加熱処理時間を適切に設定することができる。   In addition, instead of or in addition to the amount of increase, the amount of increase in the deodorization rate due to the previous heat treatment (deodorization rate immediately after the start of the deodorization treatment after the previous empty baking treatment) You may make it set the heat processing time in this heat processing based on the fall state of the said deodorizing rate. The reduced state is a decrease rate with respect to time of the deodorization rate or a time until the deodorization rate is decreased by a predetermined reference amount. That is, since the degree of decrease in the deodorization rate increases with time of the subsequent baking process, the heat treatment time can be appropriately set according to the above-described decrease state.

上記空焼き処理実行部51dは、上記空焼き条件設定部51cにより設定された空焼き条件に従って、空焼き処理を実行する。すなわち、空焼き処理実行部51dは、上記脱臭率dが上記所定値d0まで低下したときに、空焼き処理を上記空焼き条件に従って実行することになる。このとき、空焼き処理実行部51dは、温度センサ55による検出温度が、上記空焼き条件設定部51cにより設定された加熱温度になるようにバーナー21の出力を制御(本実施形態では、PID制御)する。   The empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process according to the empty baking conditions set by the empty baking condition setting unit 51c. That is, when the deodorization rate d is reduced to the predetermined value d0, the empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process according to the empty baking condition. At this time, the baking process execution unit 51d controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the heating temperature set by the baking condition setting unit 51c (in this embodiment, PID control). )

空焼き処理実行部51dは、上記空焼き処理を、上記設定された加熱処理時間だけ実行した後に終了する。これにより、脱臭処理実行部51aは、再び脱臭処理を実行する、つまり、温度センサ55による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー21の出力を制御する。   The air baking process execution unit 51d ends the air baking process after executing the air baking process for the set heat treatment time. Thereby, the deodorizing process execution part 51a performs a deodorizing process again, ie, controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

本実施形態では、コントローラ51の空焼き判定部51b、空焼き条件設定部51c及び空焼き処理実行部51d並びにバーナー21が、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段を構成する。   In the present embodiment, the empty baking determination unit 51b, the empty baking condition setting unit 51c, the empty baking process execution unit 51d, and the burner 21 of the controller 51 constitute deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization process.

図5は、脱臭処理の進行に伴う脱臭率dの変化の一例を示す。このように、脱臭率dが所定値d0に低下する毎に(所定のタイミング毎に)、空焼き処理が実行されて脱臭率dが回復する(上昇する)。但し、経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量(つまり、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率)は小さくなる。そして、本実施形態では、経時的に後の加熱処理(空焼き処理)において、先の加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定する。これにより、各回の空焼き処理における加熱処理時間を、燃焼カスの燃焼ないし酸化分解を効率良く行える時間に設定することができ、エネルギーを無駄に消費することを防止することができる。また、空焼き処理に伴う脱臭処理装置1(特に触媒)の熱劣化を抑制することができる。   FIG. 5 shows an example of a change in the deodorization rate d as the deodorization process proceeds. Thus, whenever the deodorization rate d falls to the predetermined value d0 (every predetermined timing), the baking process is executed and the deodorization rate d recovers (increases). However, the recovery amount (that is, the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the baking process) becomes smaller as the baking process is performed later. In this embodiment, the heat treatment time is set shorter in the later heat treatment (empty baking treatment) than in the previous heat treatment. Thereby, the heat treatment time in each empty baking process can be set to a time during which combustion residue combustion or oxidative decomposition can be performed efficiently, and wasteful consumption of energy can be prevented. Moreover, the thermal degradation of the deodorization processing apparatus 1 (especially catalyst) accompanying an empty baking process can be suppressed.

また、図5から分かるように、経時的に後であるほど、上記回復量が小さくて脱臭率dが早く所定値d0に達するために、空焼き処理が実行される周期T1、T2、…は、基本的に短くなる。すなわち、T1>T2>…となる。   Further, as can be seen from FIG. 5, since the recovery amount is smaller and the deodorization rate d quickly reaches the predetermined value d0 as the time passes, the periods T1, T2,. Basically shorter. That is, T1> T2>.

上記点検・保守警報判定部51eは、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率dが、予め設定されかつ上記メモリに記憶された設定値d1以下であるとき(図5の例では、3回目の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が設定値d1以下である)、上流側及び下流側ガス通過部材23,24の点検及び保守が必要である旨の警報を出力すべきと判定する。上記設定値d1は、上記所定値d0よりも大きい値であって、所定値d0に近い値である。   When the deodorization rate d immediately after the start of the deodorizing process after the empty baking process is equal to or less than the preset value d1 stored in the memory, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e (3 in the example of FIG. 5). The deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the first baking process is equal to or less than the set value d1), and an alarm indicating that the inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary. judge. The set value d1 is larger than the predetermined value d0 and close to the predetermined value d0.

上記警報出力部51fは、点検・保守警報判定部51eにより上記警報を出力すべきと判定されたときに、警報装置52に、上流側及び下流側ガス通過部材23,24の点検及び保守が必要である旨の警報を出力させる。警報装置52により上記警報が出力されたときには、作業者は、脱臭処理装置1の運転を停止して上流側及び下流側ガス通過部材23,24の点検及び保守を早期に実施する必要がある。すなわち、上流側及び下流側ガス通過部材23,24への燃焼カスや触媒毒の付着量が多くなりすぎたために、空焼き処理を実行しても、脱臭率dが殆ど回復せず、このまま放置しておけば、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度が高くなってしまうので、上流側及び下流側ガス通過部材23,24を薬液等によって洗浄して燃焼カスや触媒毒等を除去し、これによって上流側及び下流側ガス通過部材23,24を再生する。或いは、上流側及び下流側ガス通過部材23,24を新品のものに交換してもよい。こうして上流側及び下流側ガス通過部材23,24を再生又は新品のものに交換すれば、図5に二点鎖線で示すように、脱臭処理の開始直後と同様の高い脱臭率となり、こうして、脱臭処理の開始から上記再生又は交換までの動作と同様の動作を繰り返すことになる。   The alarm output unit 51f requires the alarm device 52 to inspect and maintain the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 when the inspection / maintenance alarm determination unit 51e determines that the alarm should be output. An alarm to the effect is output. When the alarm is output by the alarm device 52, the operator needs to stop the operation of the deodorizing apparatus 1 and inspect and maintain the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 at an early stage. That is, since the amount of combustion residue and catalyst poison attached to the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 has increased too much, the deodorization rate d is hardly recovered even if the baking process is performed, and the state is left as it is. If this is done, the odor concentration of the gas to be treated discharged to the atmosphere will increase, so the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are washed with chemicals to remove combustion debris, catalyst poisons, etc. As a result, the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 are regenerated. Alternatively, the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 may be replaced with new ones. If the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are regenerated or replaced with new ones as described above, as shown by the two-dot chain line in FIG. 5, the same high deodorization rate as that immediately after the start of the deodorization treatment is obtained. The same operation as the operation from the start of the process to the reproduction or exchange is repeated.

図6は、脱臭処理の進行に伴う脱臭率dの変化の別の例を示す。図6では、縦軸の脱臭率dは、図5とは逆に、上側に行くほど小さくなる。図6では、脱臭率dの低下の要因を併せて示しており、上流側及び下流側ガス通過部材23,24を再生する時刻taまでは、経時劣化による影響(触媒が触媒毒によって覆われる等)の分が徐々に増えていく。また、空焼き処理後における脱臭処理開始直後から次回の空焼き処理開始直前までは、目詰まりによる影響及びヤニ付着による影響の分が徐々に増えていき、これらの影響は空焼き処理によってなくなる。尚、経時劣化による影響、目詰まりによる影響及びヤニ付着による影響の分は明確には区別できない。   FIG. 6 shows another example of a change in the deodorization rate d as the deodorization process proceeds. In FIG. 6, the deodorization rate d on the vertical axis decreases as it goes upward, contrary to FIG. 5. FIG. 6 also shows the cause of the decrease in the deodorization rate d. Until the time ta at which the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 are regenerated, the influence of deterioration over time (the catalyst is covered by the catalyst poison, etc.) ) Will gradually increase. Further, immediately after the start of the deodorizing process after the baking process, immediately before the start of the next baking process, the influence of clogging and the influence of spear adhesion gradually increase, and these effects are eliminated by the baking process. It should be noted that the effects of deterioration over time, clogging, and influence due to spear adhesion cannot be clearly distinguished.

図5の例と同様に、空焼き処理が実行される周期T001、T002、…は、経時的に後であるほど、基本的に短くなる。上流側及び下流側ガス通過部材23,24の再生後の上記周期T101、T102、…も、経時的に後であるほど、基本的に短くなる。また、完全に再生するのは困難であるので、再生後の上記周期T101、T102、…は、対応する周期T001、T002、…よりも短くなる(T101<T001、T102<T002)。   As in the example of FIG. 5, the periods T001, T002,. The above-described periods T101, T102,... After the regeneration of the upstream side and downstream side gas passage members 23, 24 are basically shorter as the time passes. Further, since it is difficult to reproduce completely, the periods T101, T102,... After reproduction are shorter than the corresponding periods T001, T002,... (T101 <T001, T102 <T002).

ここで、上記コントローラ51による処理動作について、図7のフローチャートに基づいて説明する。   Here, the processing operation by the controller 51 will be described based on the flowchart of FIG.

最初のステップS1で、作業者の操作により脱臭処理装置1の運転が開始されたか否かを判定する。このステップS1の判定がNOであるときには、ステップS1の動作を繰り返し、ステップS1の判定がYESになると、ステップS2に進む。   In the first step S1, it is determined whether or not the operation of the deodorizing apparatus 1 has been started by the operator's operation. When the determination at step S1 is NO, the operation at step S1 is repeated. When the determination at step S1 is YES, the process proceeds to step S2.

上記ステップS2では、脱臭処理実行部51aが、脱臭処理を実行する。すなわち、脱臭処理実行部51aが、温度センサ55による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー21の出力を制御する。   In step S2, the deodorizing process execution unit 51a executes the deodorizing process. That is, the deodorizing process execution unit 51a controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

次のステップS3では、空焼き判定部51bが、入口側及び出口側HC濃度センサ56,57より入口側及び出口側HC濃度をそれぞれ入力して、式(2)より脱臭率dを算出する。   In the next step S3, the empty-burn determination unit 51b inputs the inlet side and outlet side HC concentrations from the inlet side and outlet side HC concentration sensors 56 and 57, respectively, and calculates the deodorization rate d from equation (2).

次のステップS4では、空焼き判定部51bが、上記メモリから所定値d0を読み出し、次のステップS5で、空焼き判定部51bが、d≦d0であるか否か(つまり、空焼き処理を実行すべきか否か)を判定する。このステップS5の判定がYESであるときには、ステップS6に進む一方、ステップS5の判定がNOであるときには、ステップS15に進む。   In the next step S4, the empty-burn determination unit 51b reads the predetermined value d0 from the memory, and in the next step S5, whether or not the empty-burn determination unit 51b satisfies d ≦ d0 (that is, the empty-burn process is performed). Whether or not to execute). When the determination at step S5 is YES, the process proceeds to step S6, while when the determination at step S5 is NO, the process proceeds to step S15.

上記ステップS6では、空焼き条件設定部51cが、空焼き条件(上記加熱温度及び上記加熱処理時間)を設定する。このとき、後述のステップS11で記憶した、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率daに基づいて、上記加熱処理時間を設定する。   In step S6, the baking condition setting unit 51c sets the baking conditions (the heating temperature and the heat treatment time). At this time, the heat treatment time is set based on the deodorization rate da immediately after the start of the deodorization process after the previous baking process, which is stored in step S11 described later.

次のステップS7では、空焼き処理実行部51dが、上記ステップS6で設定された空焼き条件に従って空焼き処理を実行し、次のステップS8では、空焼き処理実行部51dが、上記ステップS6で設定された加熱処理時間の経過後に空焼き処理を終了する。   In the next step S7, the empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process in accordance with the empty baking conditions set in step S6. In the next step S8, the empty baking process execution unit 51d performs the operation in step S6. After the set heat treatment time has elapsed, the baking process is terminated.

次のステップS9では、脱臭処理実行部51aが、脱臭処理を実行する、つまり、温度センサ55による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー21の出力を制御する。   In the next step S9, the deodorizing process execution unit 51a executes the deodorizing process, that is, controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

次のステップS10では、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率daを算出し、次のステップS11で、ステップS10で算出した脱臭率daを上記メモリに更新記憶する。   In the next step S10, the deodorization rate da immediately after the start of the deodorization process after the empty baking process is calculated, and in the next step S11, the deodorization rate da calculated in step S10 is updated and stored in the memory.

次のステップS12では、点検・保守警報判定部51eが、上記メモリから設定値d1を読み出し、次のステップS13で、点検・保守警報判定部51eが、da≦d1であるか否かを判定する。このステップS13の判定がYESであるときには、ステップS14に進む一方、ステップS13の判定がNOであるときには、ステップS15に進む。   In the next step S12, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e reads the set value d1 from the memory, and in the next step S13, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e determines whether da ≦ d1. . When the determination in step S13 is YES, the process proceeds to step S14. When the determination in step S13 is NO, the process proceeds to step S15.

上記ステップS14では、警報出力部51fが、警報装置52に、上流側及び下流側ガス通過部材23,24の点検及び保守が必要である旨の警報を出力させ、しかる後にステップS15に進む。   In step S14, the alarm output unit 51f causes the alarm device 52 to output an alarm indicating that inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary, and then proceeds to step S15.

上記ステップS15では、作業者の操作により脱臭処理装置1の運転を停止するか否かを判定する。このステップS15の判定がNOであるときには、上記ステップS2に戻る一方、ステップS15の判定がYESであるときには、本処理動作を終了する。   In step S15, it is determined whether or not to stop the operation of the deodorizing apparatus 1 by the operator's operation. When the determination in step S15 is NO, the process returns to step S2. On the other hand, when the determination in step S15 is YES, the processing operation is terminated.

したがって、本実施形態では、経時的に後の空焼き処理(加熱処理)において、先の空焼き処理(加熱処理)に比べて加熱処理時間を短く設定するようにしたので、各回の加熱処理を効率良く行って、エネルギーを無駄に消費することを防止することができるとともに、空焼き処理に伴う脱臭処理装置1(特に触媒)の熱劣化を抑制することができる。   Therefore, in the present embodiment, the heat treatment time is set shorter in the subsequent baking process (heating process) over time than the previous baking process (heating process). It is possible to efficiently perform energy consumption and prevent wasteful consumption of energy, and it is possible to suppress thermal deterioration of the deodorizing apparatus 1 (particularly a catalyst) associated with the empty baking process.

また、脱臭処理の脱臭率dが所定値d0まで低下したときに、上流側及び下流側ガス通過部材23,24に対し空焼き処理(加熱処理)を施すようにしたので、脱臭率が所定値d0未満に低下することを防止することができ、この結果、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度を常に低レベルに維持することができる。   In addition, when the deodorization rate d of the deodorization process is reduced to the predetermined value d0, the upstream side and the downstream side gas passage members 23 and 24 are subjected to the empty baking process (heating process). As a result, it is possible to keep the odor concentration of the gas to be processed discharged to the atmosphere at a low level.

尚、上記実施形態では、脱臭率dが所定値d0まで低下したときに、空焼き処理(加熱処理)を実行するようにしたが、空焼き処理(加熱処理)を所定時間間隔で行うようにしてもよい。空焼き処理の時間間隔である所定時間間隔は、経時的に後であるほど短くする。例えば図5のように、空焼き処理後における脱臭処理開始直後から脱臭率dが所定値d0まで低下する時間を予め調べておき、この調べた時間間隔(図5のT1,T2,…)で空焼き処理を行えばよい。或いは、最初の再生又は交換までは、上記実施形態と同様に、脱臭率dが所定値d0まで低下したときに、空焼き処理を実行し、その際の空焼き処理から次の空焼き処理までの時間T1,T2,…をメモリに記憶しておき、再生又は交換後は、そのメモリに記憶した時間間隔に基づいて上記所定時間間隔を設定して(再生後は、再生前の上記記憶した時間間隔よりも短く設定する)、その設定した所定時間間隔で空焼き処理を実行するようにしてもよい。   In the above embodiment, when the deodorization rate d decreases to the predetermined value d0, the baking process (heating process) is performed. However, the baking process (heating process) is performed at predetermined time intervals. May be. The predetermined time interval, which is the time interval for the baking process, is shortened as the time passes. For example, as shown in FIG. 5, the time during which the deodorization rate d decreases to the predetermined value d0 immediately after the start of the deodorization process after the empty baking process is checked in advance, and at the time intervals (T1, T2,... An empty baking process may be performed. Alternatively, until the first regeneration or replacement, as in the above-described embodiment, when the deodorization rate d is reduced to the predetermined value d0, an empty baking process is executed, and from the empty baking process at that time to the next empty baking process Are stored in a memory, and after playback or replacement, the predetermined time interval is set based on the time interval stored in the memory (after playback, the above-mentioned stored before playback is stored). It may be set shorter than the time interval), and the empty baking process may be executed at the set predetermined time interval.

或いは、空焼き処理を、脱臭率dが所定値d0まで低下したときに実行する代わりに、脱臭率の時間に対する低下率が、予め決められた基準値よりも大きくなったとき、又は、脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間が、予め決められた基準時間よりも短くなったときに、実行するようにしてもよい。   Alternatively, instead of performing the baking process when the deodorization rate d decreases to the predetermined value d0, when the decrease rate with respect to time of the deodorization rate becomes larger than a predetermined reference value, or the deodorization rate However, it may be executed when the time until it decreases by a predetermined reference amount becomes shorter than the predetermined reference time.

また、上記実施形態では、脱臭処理装置1を触媒燃焼式脱臭処理装置としたが、本発明は、例えば図8に示すような蓄熱式脱臭処理装置71にも適用することができる。この蓄熱式脱臭処理装置71は、第1蓄熱材76が配設された第1蓄熱槽72と、第2蓄熱材77が配設された第2蓄熱槽73とを有している。第1及び第2蓄熱槽72,73の長手方向の一端部同士は、上記実施形態のコントローラ51と同様のコントローラにより出力が制御されるバーナー81が配設された連結通路74で接続され、第1及び第2蓄熱槽72,73の他端部の各々には、2つの切替弁82が設けられている。上記コントローラは、これら切替弁82の開閉を制御して、被処理ガスの流動状態を、予め設定された設定時間間隔(例えば90s)で、第1状態と第2状態とに交互の切り替えるようになっている。上記第1及び第2蓄熱材76,77はハニカム状に構成され、被処理ガスがそこを通過することで、被処理ガスと第1又は第2蓄熱材76,77との間で熱の授受が行われる。第1及び第2蓄熱材76,77は、フィルター状のガス通過部材と見做すことが可能である。   Moreover, in the said embodiment, although the deodorizing processing apparatus 1 was made into the catalytic combustion type deodorizing processing apparatus, this invention is applicable also to the thermal storage type deodorizing processing apparatus 71 as shown, for example in FIG. The heat storage type deodorization processing device 71 includes a first heat storage tank 72 in which a first heat storage material 76 is disposed and a second heat storage tank 73 in which a second heat storage material 77 is disposed. One ends of the first and second heat storage tanks 72 and 73 in the longitudinal direction are connected to each other by a connecting passage 74 provided with a burner 81 whose output is controlled by a controller similar to the controller 51 of the above embodiment. Two switching valves 82 are provided in each of the other end portions of the first and second heat storage tanks 72 and 73. The controller controls the opening and closing of the switching valve 82 so that the flow state of the gas to be processed is alternately switched between the first state and the second state at a preset time interval (for example, 90 s). It has become. The first and second heat storage materials 76 and 77 are formed in a honeycomb shape. When the gas to be processed passes therethrough, heat is transferred between the gas to be processed and the first or second heat storage materials 76 and 77. Is done. The first and second heat storage materials 76 and 77 can be regarded as filter-like gas passage members.

上記第1状態では、第1蓄熱槽72に流入した被処理ガスが、第1蓄熱材76(前回の第2状態であったときに蓄熱されている)を通過することで余熱され、この被処理ガスがバーナー81で所定温度(本例では、700℃〜800℃)に加熱される。これにより、被処理ガスの臭気成分が熱分解されて、脱臭処理がなされる。この加熱された被処理ガスが第2蓄熱材77を通過することで第2蓄熱材77に蓄熱し、この後、被処理ガスが第2蓄熱槽73から流出する(上記第1状態での被処理ガスの流れを示す実線の矢印参照)。また、上記第2状態では、第2蓄熱槽73に流入した被処理ガスが、前回の第1状態であるときに蓄熱された第2蓄熱材77を通過することで余熱され、この被処理ガスがバーナー81で上記所定温度に加熱されて脱臭され、この加熱された被処理ガスが第1蓄熱材76を通過することで第1蓄熱材76に蓄熱し、この後、被処理ガスが第1蓄熱槽72から流出する(上記第2状態での被処理ガスの流れを示す破線の矢印参照)。本例では、第1及び第2蓄熱材76,77、バーナー81、切替弁82並びに上記コントローラが、被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段を構成する。   In the first state, the gas to be treated that has flowed into the first heat storage tank 72 is preheated by passing through the first heat storage material 76 (stored when it was in the second state of the previous time). The processing gas is heated to a predetermined temperature (in this example, 700 ° C. to 800 ° C.) by the burner 81. As a result, the odor component of the gas to be treated is thermally decomposed and deodorized. The heated gas to be processed passes through the second heat storage material 77 to store heat in the second heat storage material 77, and then the gas to be processed flows out of the second heat storage tank 73 (the gas to be processed in the first state). (See solid arrows for process gas flow). Moreover, in the said 2nd state, the to-be-processed gas which flowed into the 2nd heat storage tank 73 is preheated by passing the 2nd heat storage material 77 stored in the 1st last time, and this to-be-processed gas Is heated to the predetermined temperature by the burner 81 and deodorized, and the heated gas to be processed passes through the first heat storage material 76 to store heat in the first heat storage material 76. It flows out of the heat storage tank 72 (refer to the broken arrow indicating the flow of the gas to be treated in the second state). In this example, the 1st and 2nd thermal storage materials 76 and 77, the burner 81, the switching valve 82, and the said controller comprise the deodorizing process means which performs the deodorizing process of to-be-processed gas.

上記蓄熱式脱臭処理装置71においても、燃焼カスにより第1及び第2蓄熱材76,77に目詰まり等が生じ、これにより、処理前の被処理ガスに十分な余熱を与えることができなくなって、脱臭処理の脱臭率が低下する。そして、上記実施形態と同様に、脱臭率が所定値まで低下したとき、又は、所定時間間隔で、第1及び第2蓄熱材76,77に対し、脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理(空焼き処理)を実行する。このとき、上記コントローラの制御により、被処理ガスの流動状態を上記第1状態にして、バーナー81により、被処理ガスを上記所定温度よりも高温(例えば900℃〜1000℃)に加熱して上記第2蓄熱材77に通すことにより、該第2蓄熱材77に対し上記加熱処理を施し、次いで、被処理ガスの流動状態を上記第2状態にして、バーナー81により、被処理ガスを上記所定温度よりも高温(例えば900℃〜1000℃)に加熱して上記第1蓄熱材76に通すことにより、該第1蓄熱材76に対し上記加熱処理を施す。第1及び第2蓄熱材76,77に対する空焼き処理(加熱処理)の条件は、上記実施形態と同様であり(加熱処理時間及び加熱温度の値自体は異なる)、経時的に後の空焼き処理(加熱処理)において、先の空焼き処理(加熱処理)に比べて加熱処理時間を短く設定し、被処理ガスの加熱温度(つまり第1及び第2蓄熱材76,77に対する加熱処理温度)は、経時的な後先に関係なく一定とする。本例では、バーナー81、切替弁82及び上記コントローラが、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段を構成する。   Also in the heat storage deodorization processing device 71, the first and second heat storage materials 76 and 77 are clogged by the combustion residue, and as a result, sufficient residual heat cannot be given to the gas to be processed before the processing. The deodorizing rate of the deodorizing process is reduced. And like the said embodiment, when a deodorizing rate falls to a predetermined value, or at predetermined time intervals, with respect to the temperature at the time of a deodorizing process, it heats with respect to the 1st and 2nd thermal storage material 76,77. A heating process (empty baking process) is performed. At this time, under the control of the controller, the flow state of the gas to be processed is set to the first state, and the gas to be processed is heated to a temperature higher than the predetermined temperature (for example, 900 ° C. to 1000 ° C.) by the burner 81. By passing the second heat storage material 77 through the second heat storage material 77, the heat treatment is performed on the second heat storage material 77. Then, the flow state of the gas to be processed is changed to the second state, and the gas to be processed is supplied to the predetermined gas by the burner 81. The first heat storage material 76 is heated by heating to a temperature higher than the temperature (for example, 900 ° C. to 1000 ° C.) and passing through the first heat storage material 76. The conditions of the baking process (heating process) for the first and second heat storage materials 76 and 77 are the same as in the above-described embodiment (the heating process time and the heating temperature values themselves are different). In the process (heat treatment), the heat treatment time is set shorter than the previous baking process (heat process), and the heating temperature of the gas to be treated (that is, the heat treatment temperature for the first and second heat storage materials 76 and 77). Is constant regardless of the future over time. In this example, the burner 81, the switching valve 82, and the controller constitute deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization process.

したがって、上記蓄熱式脱臭処理装置71においても、上記実施形態の触媒燃焼式脱臭処理装置1と同様に、エネルギーを無駄に消費することを防止することができるとともに、加熱処理に伴う蓄熱式脱臭処理装置71(900℃〜1000℃という非常に高温の被処理ガスが接触する部分)の熱劣化を抑制することができる。   Accordingly, in the heat storage deodorization processing device 71 as well as in the catalytic combustion type deodorization processing device 1 of the above embodiment, energy can be prevented from being wasted and heat storage deodorization processing associated with heat treatment. Thermal degradation of the device 71 (a portion where a very high temperature target gas of 900 ° C. to 1000 ° C. is in contact) can be suppressed.

本発明は、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理装置(触媒燃焼式脱臭処理装置や蓄熱式脱臭処理装置)に有用である。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for a deodorization treatment device (a catalytic combustion type deodorization treatment device or a heat storage type deodorization treatment device) that performs a deodorization treatment of a gas to be treated containing organic matter.

1 脱臭処理装置(触媒燃焼式脱臭処理装置)
21 バーナー(脱臭処理手段)(脱臭率回復手段)
23 上流側ガス通過部材(脱臭処理手段)
24 下流側ガス通過部材(脱臭処理手段)
51 コントローラ
51a 脱臭処理実行部(脱臭処理手段)
51b 空焼き判定部(脱臭率回復手段)
51c 空焼き条件設定部(脱臭率回復手段)
51d 空焼き処理実行部(脱臭率回復手段)
71 蓄熱式脱臭処理装置
76 第1蓄熱材(脱臭処理手段)
77 第2蓄熱材(脱臭処理手段)
81 バーナー(脱臭処理手段)(脱臭率回復手段)
82 切替弁(脱臭処理手段)(脱臭率回復手段)
1 Deodorization treatment device (catalytic combustion deodorization treatment device)
21 Burner (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)
23 Upstream gas passage member (deodorizing means)
24 Downstream gas passage member (deodorizing means)
51 controller 51a deodorization processing execution unit (deodorization processing means)
51b Empty baking judgment part (deodorization rate recovery means)
51c Baking condition setting part (deodorization rate recovery means)
51d Empty baking processing execution part (deodorization rate recovery means)
71 Thermal Storage Deodorization Treatment Device 76 First Thermal Storage Material (Deodorization Treatment Means)
77 Second heat storage material (deodorizing means)
81 Burner (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)
82 Switching valve (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)

Claims (5)

有機物を含む被処理ガスが通過するガス通過部材を有し、該被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段と、所定のタイミング毎に、該ガス通過部材に対し、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段とを備えた脱臭処理装置であって、
上記脱臭率回復手段は、経時的に後の上記加熱処理において、先の上記加熱処理に比べて加熱処理時間を短く設定するように構成され
更に上記脱臭率回復手段は、上記ガス通過部材に対する前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定するように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。
A gas passage member through which a gas to be treated containing an organic substance passes, and a deodorization treatment means for performing a deodorization treatment of the gas to be treated; and at a predetermined timing, for the gas passage member, from a temperature at the time of the deodorization treatment. A deodorization treatment apparatus comprising a deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization treatment by performing a heat treatment that is also heated to a high temperature,
The deodorization rate recovery means is configured to set a heat treatment time shorter than the previous heat treatment in the later heat treatment over time ,
Further, the deodorization rate recovery means is based on at least one of the amount of increase in the deodorization rate due to the previous heat treatment on the gas passage member and the state of decrease in the deodorization rate after the previous heat treatment. A deodorizing treatment apparatus configured to set a heat treatment time in the treatment.
請求項1記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭処理手段は、上記脱臭処理時に、上記被処理ガスを所定温度に加熱するように構成され、
上記脱臭率回復手段は、上記被処理ガスを上記所定温度よりも高温に加熱して上記ガス通過部材に通すことにより、該ガス通過部材に対し上記加熱処理を施すように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。
In the deodorization processing apparatus of Claim 1,
The deodorization treatment means is configured to heat the gas to be treated to a predetermined temperature during the deodorization treatment,
The deodorization rate recovery means is configured to perform the heat treatment on the gas passage member by heating the gas to be treated to a temperature higher than the predetermined temperature and passing the gas through the gas passage member. A deodorizing treatment device.
請求項1又は2記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭率の低下状態は、上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間であることを特徴とする脱臭処理装置。
In the deodorization processing apparatus of Claim 1 or 2 ,
The reduced state of the deodorization rate is a reduction rate with respect to time of the deodorization rate or a time until the deodorization rate is reduced by a predetermined reference amount.
請求項1〜のいずれか1つに記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭率回復手段は、上記脱臭率が所定値まで低下したときに、上記加熱処理を行うように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。
In the deodorization processing apparatus as described in any one of Claims 1-3 ,
The deodorization rate recovery means is configured to perform the heat treatment when the deodorization rate is reduced to a predetermined value.
請求項1〜のいずれか1つに記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭率回復手段は、上記加熱処理を所定時間間隔で行うとともに、経時的に後であるほど、上記所定時間間隔を短く設定するように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。
In the deodorization processing apparatus as described in any one of Claims 1-3 ,
The deodorization rate recovery means is configured to perform the heat treatment at a predetermined time interval and to set the predetermined time interval to be shorter as time passes.
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Family Cites Families (8)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52131743U (en) * 1975-09-01 1977-10-06
DK156814C (en) * 1979-06-06 1990-02-26 Haldor Topsoe As PLANT FOR THE REMOVAL OF OXIDIZABLE INGREDIENTS FROM POLLUTANEOUS GASES, AS FROM POLLUTANEOUS AIR
JPH0760116A (en) * 1993-08-24 1995-03-07 Sharp Corp Deodorizing element and deodorizing device using the element
JPH0810571A (en) * 1994-06-28 1996-01-16 Babcock Hitachi Kk Waste gas purifying device and its operation
JP3551278B2 (en) * 1995-08-22 2004-08-04 三菱電機株式会社 Deodorizing method and device for kitchen waste treatment device
JPH09187624A (en) * 1996-01-10 1997-07-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd Deodorizing filter and its regenerating method and air purifying device or air-conditioning device having deodorizing filter
JP4095699B2 (en) * 1997-08-25 2008-06-04 日揮ユニバーサル株式会社 Adsorption decomposition deodorization element
JP5284773B2 (en) * 2008-12-26 2013-09-11 株式会社荏原製作所 Exhaust gas treatment method for increasing treatment temperature, operation method of exhaust gas treatment device, and exhaust gas treatment device

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